KR20200120645A - Curable resin composition for forming cured resin film with heat resistance and easy peelability, and method for producing same - Google Patents

Curable resin composition for forming cured resin film with heat resistance and easy peelability, and method for producing same Download PDF

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Abstract

글래스 기판의 표면에 도포하여 경화 수지 박막을 증착할 수 있고, 230 ℃ ~ 300 ℃의 소성에 견디며 보드에서 무리없이 쉽게 박리할 수 있는 경화성 수지 조성물이 개시되어 있다. 상기 조성물은 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 사슬 모양 고분자와 가교제를 포함하여 이루어지는 경화성 수지 조성물로서 (a) 상기 사슬상 폴리머가 식 A1 [상기 식에서 R1a, L1, L2, R2a, R3a 및 R4a는 본 명세서에 기재된 바와 같다]로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것이며, (b) 상기 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체, 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체 및 이미다졸리 디논계 화합물 및/또는 그의 축합체로 이루어진 군에서 선택되는 경화성 수지 조성물이다.There is disclosed a curable resin composition that can be applied to the surface of a glass substrate to deposit a cured resin thin film, withstands sintering at 230°C to 300°C, and can be easily peeled off the board without difficulty. The composition is a curable resin composition comprising a chain-shaped polymer having a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group and a crosslinking agent, wherein (a) the chain polymer is formula A1 [wherein R 1a , L 1 , L 2 , R 2a , R 3a and R 4a are as described herein], and (b) the crosslinking agent is a triazine-based compound and/or a condensate thereof , A glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, and an imidazolidinone-based compound and/or a condensate thereof.

Description

내열성과 용이 박리성의 경화수지막을 형성하는 경화성 수지 조성물 및 그의 제조 방법Curable resin composition for forming cured resin film with heat resistance and easy peelability, and method for producing same

본 발명은 경화성 수지 조성물, 보다 상세하게는 용이 박리성의 경화수지막을 형성하는 경화성 수지 조성물에 관한 것이다. 특히 글래스 등의 기판 위에 도포하고 경화시켜 박막으로 증착할 수 있으며 그 후 기판으로부터 무리없이 쉽게 박리할 수 있는 박막을 부여하는 경화성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 다양한 광학 성질을 지니는 내열성과 용이 박리성의 경화수지막을 형성할 수 있는 경화성 수지 조성물에 관한 것이다. The present invention relates to a curable resin composition, and more particularly, to a curable resin composition for forming an easily peelable cured resin film. In particular, it relates to a curable resin composition that can be deposited as a thin film by coating and curing on a substrate such as glass, and then providing a thin film that can be easily peeled off from the substrate. The present invention also relates to a curable resin composition capable of forming a cured resin film having heat resistance and easy peelability having various optical properties.

디스플레이 장치 등의 표시 장치에 사용하는 기판의 일례인 베이스 필름은 해마다 박형화가 요구되고 있지만, 박형화에 따라 베이스 필름의 내열성이 저하된다. 따라서 회로의 성능을 유지하도록 높은 온도에서 소성을 견딜 수 있는 베이스 필름 재료가 요구되고 있다.The base film, which is an example of a substrate used in a display device such as a display device, is required to be thinner every year, but the heat resistance of the base film decreases as the thickness decreases. Therefore, there is a need for a base film material that can withstand firing at a high temperature to maintain the performance of the circuit.

또한, 박형화에 따라 베이스 필름은 300nm 정도의 매우 얇은 막을 이용하는 것이 바람직하고, 그러기 위해서는 다른 기판(글래스 기판 등)에 베이스 필름 재료인 수지 조성물을 도포하고 열 경화 등에 의해 경화시켜 성막하는 방법으로 베이스 필름을 제작하는 것이 필요하다. 글래스 등의 기판에 형성된 이 매우 얇은 베이스 필름에 금속 배선 등의 회로 구성 요소를 순차적으로 적층시켜 형성하고, 이방성 도전 막의 설치, 프린트 기판(PCB) 배선의 적층, 회로 연결 등 또한 목적에 따라 수행하고 절연 보호막의 적층을 수행한 후, 글래스 등의 기판에서 베이스 필름을 그 위에 형성된 각 층과 함께 일체의 적층체로서 떼어내면 회로 부품으로서의 적층체를 수득할 수 있다. In addition, according to the thickness reduction, it is preferable to use a very thin film of about 300 nm. To do this, the base film is formed by applying a resin composition, which is a base film material, to another substrate (glass substrate, etc.) and curing it by heat curing. It is necessary to make it. Circuit components such as metal wiring are sequentially stacked on this very thin base film formed on a substrate such as glass, and anisotropic conductive film is installed, printed circuit board (PCB) wiring is stacked, and circuit connection is also performed according to the purpose. After lamination of the insulating protective film is performed, the base film is removed from a substrate such as glass as an integral laminate together with each layer formed thereon, whereby a laminate as a circuit component can be obtained.

여기서, 글래스 등의 기판의 적층체를 당겨 떼어내는 것은 무리없이 용이하여야 한다. 그렇지 않으면, 당겨 떼어낼 때의 부하에 의해 적층체에 큰 뒤틀림이 발생하고 그로 인하여 금속 배선의 단선 및 회로 연결의 박리가 발생하여 제품의 현저한 수율 악화를 초래하기 때문이다.Here, it should be easy without unreasonableness to pull out the laminated body of the substrate such as glass. Otherwise, a large warpage occurs in the stacked body due to the load when pulling-off, resulting in disconnection of metal wiring and peeling of circuit connections, resulting in a remarkable deterioration in yield of the product.

특히, 기판 재료 자체는 박막 형태에서 기존보다 높은 온도에서의 열처리에 견딜 수 있어도, 그 위에 배선을 제조하는 공정에서의 소성이 그만큼 높은 온도에서 이루어지면 기판 재료와 그것이 놓여 있는 기판 표면과의 고착이 쉬워진다. 그렇기 때문에 기판 재료로는 박막 형태에서 기존보다 고온에서의 소성에 견디는 것 만으로는 부족하며, 이러한 고온 소성 후에도 기판에서 무리없이 쉽게 박리할 수 있다는 특성을 지녀야 한다.In particular, although the substrate material itself can withstand heat treatment at a higher temperature than before in the form of a thin film, if the sintering in the process of manufacturing the wiring thereon is performed at that high temperature, adhesion between the substrate material and the surface of the substrate on which it is placed It gets easier. Therefore, it is not enough to withstand firing at a higher temperature than before in the form of a thin film as a substrate material, and it must have the characteristic that it can be easily peeled off the substrate even after such high temperature firing.

특허문헌 1 : 국제특허공보 2015/016532호Patent Document 1: International Patent Publication No. 2015/016532 특허문헌 2 : 일본 특허공개 특개평9-105896호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 9-105896 특허문헌 3 : 일본 특허 5200538호 공보Patent Document 3: Japanese Patent No. 5200538

본 발명자들은 특정 폴리머 및 가교제를 포함하는 경화성 수지 조성물을 사용하면 다양한 광학 성질을 지니는 내열성과 용이 박리성의 경화수지막을 형성할 수 있음을 발견했다. 본 발명자들은 본 발명의 경화수지막이 높은 온도에서의 소성을 견디고 고온 소성 후에 기판에서 쉽게 박리할 수 있으며 또한 양호한 성질(투과성 및 고속 경화 등)을 지니는 것을 발견하여 본 발명을 완성하게 된 것이다.The present inventors have found that the use of a curable resin composition containing a specific polymer and a crosslinking agent can form a cured resin film having various optical properties with heat resistance and easy peelability. The present inventors have completed the present invention by finding that the cured resin film of the present invention withstands firing at a high temperature, can be easily peeled off from a substrate after firing at a high temperature, and has good properties (permeability and high speed curing, etc.).

예를 들어, 본 발명은 다음 항목을 제공한다.For example, the present invention provides the following items.

(항목 1)(Item 1)

알코올성 제2급 및 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 구비한 사슬상 고분자와 가교제를 포함하여 이루어지는 경화성 수지 조성물에 있어서,In the curable resin composition comprising a crosslinking agent and a chain polymer having side chains having alcoholic secondary and tertiary OH-containing groups or phenolic OH-containing groups,

(a) 상기 사슬상 폴리머가 식 A1 :(a) the chain polymer is formula A1:

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

[상기 식에서, [In the above formula,

R1a는 수소, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택되고,R 1a is selected from the group consisting of hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group,

L1은 단일 결합, 치환 또는 비치환 알킬렌기 및 치환 또는 비치환 알케닐렌기로 이루어진 군에서 선택되고,L 1 is selected from the group consisting of a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, and a substituted or unsubstituted alkenylene group,

L2는 O 또는 NH이고,L 2 is O or NH,

R2a, R3a 및 R4a는 서로 독립적으로 수소 및 치환 또는 비치환 탄화수소 라디칼로 이루어진 군에서 선택되고, 단 R2a, R3a 및 R4a 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기거나, 또는 R2a, R3a 및 R4a 중 적어도 두 개가 합체되어 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 또는 페놀성 OH를 함유하는 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기, 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기, 또는 이들을 포함하는 다환체를 형성한다.]R 2a , R 3a and R 4a are each independently selected from the group consisting of hydrogen and a substituted or unsubstituted hydrocarbon radical, provided that at least one of R 2a , R 3a and R 4a is a substituted or unsubstituted alcoholic secondary or secondary A substituted or unsubstituted cycloalkyl group containing a tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group, or at least two of R 2a , R 3a and R 4a combined to contain alcoholic secondary or tertiary OH or phenolic OH , To form a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, a substituted or unsubstituted heteroaromatic group, or a polycyclic body containing them.]

로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것이며,It includes a monomer unit represented by,

(b) 상기 가교제는 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체, 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체 및 이미다졸리디논계 화합물 및/또는 그의 축합체(b) The crosslinking agent is a triazine-based compound and/or a condensate thereof, a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, and an imidazolidinone-based compound and/or a condensate thereof

로 구성된 군에서 선택되는 것인Which is selected from the group consisting of

경화성 수지 조성물.Curable resin composition.

(항목 2)(Item 2)

상기 사슬상 폴리머가 식 A2 :The chain polymer is formula A2:

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

[상기 식에서[In the above formula

R1a, L1 및 L2는 상기 항목에 기재된 바와 같고,R 1a , L 1 and L 2 are as described in the above items,

R5a ~ R14a는 서로 독립적으로 수소, 히드록시기 및R 5a to R 14a are independently of each other hydrogen, a hydroxy group, and

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

으로 구성된 군으로부터 선택되거나 합체되어 고리를 형성하고, 단 R5a ~ R14a 또는 상기 고리의 치환기 중 적어도 하나가 히드록시기이며,It is selected from the group consisting of or is combined to form a ring, provided that at least one of R 5a to R 14a or a substituent of the ring is a hydroxy group,

R15a는 치환 또는 비치환 알킬기, 치환 또는 비치환 알케닐기, 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기 및 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기로 구성된 군에서 선택된다.]R 15a is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, and a substituted or unsubstituted heteroaromatic group. .]

로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것인 상기 항목의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition of the above item comprising a monomer unit represented by.

(항목 3) (Item 3)

상기 사슬상 폴리머가 식 A2 :The chain polymer is formula A2:

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

[상기 식에서[In the above formula

R1a 및 L1은 항목 1에 기재된 바와 같고,R 1a and L 1 are as described in item 1,

R5a ~ R14a는 서로 독립적으로 수소, 히드록시기 및R 5a to R 14a are independently of each other hydrogen, a hydroxy group, and

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

로 구성된 군으로부터 선택되거나 합체되어 고리를 형성하고, 단 R5a ~ R14a 또는 상기 고리의 치환기 중 적어도 하나가 히드록시기이며,It is selected from the group consisting of or is combined to form a ring, provided that at least one of R 5a to R 14a or a substituent of the ring is a hydroxy group,

R15a는 치환 또는 비치환 알킬기, 치환 또는 비치환 알케닐기, 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기 및 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기로 구성된 군에서 선택된다.]R 15a is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, and a substituted or unsubstituted heteroaromatic group. .]

로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.Curable resin composition in any one of the above items comprising a monomer unit represented by.

(항목 4)(Item 4)

L1은 치환 또는 비치환 알킬렌기 및 치환 또는 비치환 알케닐렌기로 이루어진 군에서 선택되는 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.L 1 is the curable resin composition of any one of the above items selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkylene group and a substituted or unsubstituted alkenylene group.

(항목 5)(Item 5)

L1은 치환 또는 비치환 알킬렌기인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.L 1 is a substituted or unsubstituted alkylene group, the curable resin composition of any one of the above items.

(항목 6)(Item 6)

L1은 메틸렌기인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.L 1 is a methylene group, the curable resin composition according to any one of the above items.

(항목 7)(Item 7)

상기 사슬상 폴리머가 식 A5 :The chain polymer is formula A5:

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

[상기 식에서[In the above formula

R1a 및 L1은 항목 1에 기재된 바와 같고,R 1a and L 1 are as described in item 1,

R19a는 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기 및 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기로 이루어진 군에서 선택된다.]R 19a is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, and a substituted or unsubstituted heteroaromatic group.]

로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.Curable resin composition in any one of the above items comprising a monomer unit represented by.

(항목 8)(Item 8)

L1은 치환 또는 비치환 알킬렌기인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.L 1 is a substituted or unsubstituted alkylene group, the curable resin composition of any one of the above items.

(항목 9)(Item 9)

L1은 메틸렌기인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.L 1 is a methylene group, the curable resin composition according to any one of the above items.

(항목 10)(Item 10)

R19a는 페닐기인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.R 19a is a phenyl group, the curable resin composition according to any one of the above items.

(항목 11)(Item 11)

상기 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the above items, wherein the crosslinking agent is a triazine-based compound and/or a condensation thereof.

(항목 12)(Item 12)

상기 가교제가,The crosslinking agent,

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the above items.

(항목 13)(Item 13)

L1은 단일 결합인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.L 1 is a single bond, the curable resin composition of any one of the above items.

(항목 14)(Item 14)

R5a ~ R14a 중 2 개 이상이 히드록시기이며, 다른 것은 수소인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the above items, wherein at least two of R 5a to R 14a are hydroxy groups, and the other is hydrogen.

(항목 15)(Item 15)

R5a ~ R14a중 하나가 히드록시기이며, 다른 것은 수소인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.One of R 5a to R 14a is a hydroxy group, and the other is hydrogen. The curable resin composition according to any one of the above items.

(항목 16)(Item 16)

R5a ~ R13a는 수소이고, R14a는 히드록시기인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.R 5a to R 13a are hydrogen, and R 14a is a hydroxy group. The curable resin composition according to any one of the above items.

(항목 17)(Item 17)

상기 가교제가 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the above items, wherein the crosslinking agent is a glycoluril-based compound and/or a condensation thereof.

(항목 18)(Item 18)

상기 가교제가,The crosslinking agent,

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the above items.

(항목 19)(Item 19)

상기 가교제가,The crosslinking agent,

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the above items.

(항목 20)(Item 20)

상기 조성물은 용액으로 제공되는 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The composition is the curable resin composition of any one of the above items provided as a solution.

(항목 21)(Item 21)

용액의 용매는 알코올을 포함하는 상기 항목의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition of the above item, wherein the solvent of the solution contains alcohol.

(항목 22)(Item 22)

상기 알코올은 일급 알코올을 포함하는 상기 항목의 경화성 수지 조성물.The alcohol is the curable resin composition of the above item containing a primary alcohol.

(항목 23)(Item 23)

상기 알코올은 에탄올을 포함하는 상기 항목의 경화성 수지 조성물.The alcohol is the curable resin composition of the item containing ethanol.

(항목 24)(Item 24)

상기 알코올은 상기 용매의 총량의 10 중량 % 이상으로 존재하는 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition of any one of the above items, wherein the alcohol is present in an amount of 10% by weight or more of the total amount of the solvent.

(항목 25)(Item 25)

상기 가교제가 전체 또는 부분 알콕시메틸화 멜라민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 구아나민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 아세토구아나민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 벤조구아나민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 글리콜우릴 및/또는 그의 축합체, 및 전체 또는 부분 알콕시메틸화 이미다졸리디논 및/또는 그의 축합체로 이루어진 군에서 선택되는 것인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The crosslinking agent is wholly or partially alkoxymethylated melamine and/or condensate thereof, wholly or partially alkoxymethylated guanamine and/or condensate thereof, wholly or partially alkoxymethylated acetoguanamine and/or condensate thereof, wholly or partially alkoxymethylated Among the above items selected from the group consisting of benzoguanamine and/or condensates thereof, wholly or partially alkoxymethylated glycoluril and/or condensates thereof, and wholly or partially alkoxymethylated imidazolidinone and/or condensates thereof Any one curable resin composition.

(항목 26)(Item 26)

상기 가교제가 식 B1 :The crosslinking agent formula B1:

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

[상기 식에서[In the above formula

R1b는 탄소 원자 1~25 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기, 치환 또는 비치환 알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기, 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기 및R 1b has 1 to 25 carbon atoms, and is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, a substituted or unsubstituted heteroaromatic group, and

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

로 표시되는 2치환 아민으로 이루어진 군에서 선택되고,It is selected from the group consisting of disubstituted amines represented by,

R2b ~ R7b는 서로 독립적으로 탄소수 1~10 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기 이루어진 군에서 선택된다.]R 2b to R 7b each independently have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group.]

로 표시되는 화합물 및/또는 그의 축합체,A compound represented by and/or a condensate thereof,

식 B2 :Equation B2:

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

[상기 식에서 R8b ~ R11b는 서로 독립적으로 탄소수 1~10 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택된다.][In the above formula, R 8b to R 11b each independently have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group.]

로 표시되는 화합물 및/또는 그의 축합체, 및A compound represented by and/or a condensate thereof, and

식 B3 :Equation B3:

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

[상기 식에서[In the above formula

R12b 및 R13b는 서로 독립적으로 탄소수 1~10 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택되고,R 12b and R 13b independently of each other have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group,

R14b 및 R15b는 서로 독립적으로 수소이거나 또는 탄소 원자 1~10 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기 이루어진 군에서 선택된다.]R 14b and R 15b are each independently hydrogen or have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group.]

로 표시되는 화합물 및/또는 그의 축합체Compound represented by and/or condensate thereof

로 구성된 군에서 선택되는 것인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition of any one of the above items is selected from the group consisting of.

(항목 27)(Item 27)

상기 축합체가 식 B1, 식 B2, 또는 식 B3로 표시되는 상기 화합물의 중합체를 포함하는 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the above items, wherein the condensate contains a polymer of the compound represented by formula B1, formula B2, or formula B3.

(항목 28)(Item 28)

상기 축합체가 식 B1, 식 B2, 또는 식 B3로 표시되는 상기 화합물의 이량체, 삼량체 및 보다 고차의 중합체 중 적어도 하나를 포함하는 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the above items, wherein the condensate contains at least one of a dimer, a trimer and a higher order polymer of the compound represented by Formula B1, Formula B2, or Formula B3.

(항목 29)(Item 29)

상기 가교제가 식 B1, 식 B2, 또는 식 B3로 표시되는 상기 화합물에 대하여 1.3에서 1.8까지의 중량 평균 중합도를 각각 지니는 것인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the preceding items, wherein the crosslinking agent has a weight average polymerization degree of 1.3 to 1.8 with respect to the compound represented by Formula B1, Formula B2, or Formula B3, respectively.

(항목 30)(Item 30)

R1b가 치환 또는 비치환 방향족기 및R 1b is a substituted or unsubstituted aromatic group and

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

로 표시되는 2치환 아민으로 이루어진 군에서 선택되고, R2b ~ R13b는 서로 독립적으로, 치환 또는 비치환 알킬기이고, R14b 및 R15b는 서로 독립적으로 수소인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition of any one of the above items is selected from the group consisting of disubstituted amines represented by, R 2b to R 13b are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 14b and R 15b are each independently hydrogen .

(항목 31)(Item 31)

상기 조성물 중에 있어서 상기 직쇄상 고분자의 질량과 상기 가교제의 질량의 비율이 1:2 ~ 1:0.05인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.In the composition, the ratio of the mass of the linear polymer and the mass of the crosslinking agent is 1:2 to 1:0.05, the curable resin composition in any one of the above items.

(항목 32)(Item 32)

산 촉매를 더욱 포함하는 것인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition of any one of the above items further comprising an acid catalyst.

(항목 33)(Item 33)

상기 산 촉매가 브뢴스테드 산 및/또는 루이스 산으로부터 선택되는 화합물, 또는 그의 염 또는 그의 용매화물인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the above items, wherein the acid catalyst is a compound selected from Bronsted acid and/or Lewis acid, or a salt or solvate thereof.

(항목 34)(Item 34)

상기 산 촉매가 p-톨루엔설폰산(PTS), 도데실 벤젠술폰산, 피리디늄-p-톨루엔설포네이트 및 열산 발생제 선에이드 SI-100L(삼신화학공업(주))로 이루어진 군에서 선택되는 화합물, 또는 그의 염 또는 그의 용매화물인 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The acid catalyst is a compound selected from the group consisting of p-toluenesulfonic acid (PTS), dodecyl benzenesulfonic acid, pyridinium-p-toluenesulfonate, and thermal acid generator Sunade SI-100L (Samshin Chemical Industry Co., Ltd.) , Or a salt thereof or a solvate thereof, the curable resin composition according to any one of the above items.

(항목 35)(Item 35)

계면활성제, 필러, 첨가제 및 발포제 중 적어도 하나를 더욱 포함하는 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition of any one of the above items further comprising at least one of a surfactant, a filler, an additive, and a foaming agent.

(항목 36)(Item 36)

계면활성제를 더욱 포함하는 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition of any one of the above items further comprising a surfactant.

(항목 37)(Item 37)

발포제를 더욱 포함하는 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition of any one of the above items further comprising a foaming agent.

(항목 38)(Item 38)

150 ℃에서 1 분의 가열에 의해 경화되는 경화성을 지니는 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물.The curable resin composition according to any one of the above items having curability that is cured by heating at 150° C. for 1 minute.

(항목 39)(Item 39)

상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화수지막.A cured resin film obtained by curing the curable resin composition of any one of the above items.

(항목 40)(Item 40)

상기 경화수지막은 400nm에서 99 % 이상의 투과율(% T) 및 0.1 이하의 b*을 지니는 상기 항목의 경화수지막.The cured resin film of the above item has a transmittance (% T) of 99% or more at 400 nm and b* of 0.1 or less.

(항목 41)(Item 41)

230 ℃~300 ℃의 내열성을 지니는 상기 항목 중 어느 하나의 경화수지막.The cured resin film of any one of the above items having heat resistance of 230 ℃ to 300 ℃.

(항목 42)(Item 42)

230 ℃~260 ℃에서 1~2 시간, 내열성을 지니는 상기 항목 중 어느 하나의 경화수지막.The cured resin film of any one of the above items having heat resistance for 1 to 2 hours at 230°C to 260°C.

(항목 43)(Item 43)

230 ℃에서 8 시간 이상, 내열성을 지니는 상기 항목 중 어느 하나의 경화수지막.The cured resin film of any one of the above items having heat resistance at 230° C. for 8 hours or more.

(항목 44)(Item 44)

230 ℃에서 1~2 시간, 내열성을 지니는 상기 항목 중 어느 하나의 경화수지막.The cured resin film of any one of the above items having heat resistance at 230° C. for 1 to 2 hours.

(항목 45)(Item 45)

상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물을 기판 표면에 막 형태로 경화시켜 이루어지는 용이 박리성 경화수지막.An easily peelable cured resin film obtained by curing the curable resin composition of any one of the above items in a film form on the surface of a substrate.

(항목 46)(Item 46)

0.5 N/mm2 이하의 소다 글래스 기판 또는 무알칼리 글래스 기판에 있어서 박리력을 지니는 상기 항목 중 어느 하나의 경화수지막.The cured resin film of any one of the above items having a peeling force in a soda glass substrate of 0.5 N/mm 2 or less or an alkali-free glass substrate.

(항목 47)(Item 47)

0.1 N/mm2 이하의 소다 글래스 기판 또는 무알칼리 글래스 기판에 있어서 박리력을 지니는 상기 항목 중 어느 하나의 경화수지막.The cured resin film of any one of the above items having a peeling force in a soda glass substrate of 0.1 N/mm 2 or less or an alkali-free glass substrate.

(항목 48)(Item 48)

상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물로부터의 경화수지막 제조 방법에 있어서,In the method for producing a cured resin film from the curable resin composition according to any one of the above items,

(ⅰ) 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 상기 사슬상 폴리머와 상기 가교제를 준비하는 단계;(I) preparing the chain polymer and the crosslinking agent having a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group;

(ⅱ) 상기 사슬상 폴리머와 상기 가교제를 포함하는 상기 경화성 수지 조성물을 기판 위에 도포하고 경화 수지 조성물 도막을 형성하는 단계;(Ii) applying the curable resin composition containing the chain polymer and the crosslinking agent on a substrate and forming a curable resin composition coating film;

(ⅲ) 상기 경화성 수지 조성물 도막에 있어서 중합 반응을 진행시켜 경화시킴으로써 경화수지막을 형성하는 단계;(Iii) forming a cured resin film by performing a polymerization reaction in the curable resin composition coating film to cure it;

를 포함하는 제조 방법.Manufacturing method comprising a.

(항목 49)(Item 49)

(ⅳ) 상기 기판 상에 형성되는 상기 경화수지막을 상기 기판으로부터 박리하는 단계를 더욱 포함하는 상기 항목 중 어느 하나의 제조 방법.(Iv) The method for manufacturing any one of the above items, further comprising the step of peeling the cured resin film formed on the substrate from the substrate.

(항목 50)(Item 50)

상기 사슬상 고분자를 구성하는 모노머 단위의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 모노머 단위가 점유하는 비율이 30~100 몰%인 상기 항목 중 어느 하나의 제조 방법.The production method according to any one of the above items, wherein the ratio of the monomer unit having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group of the monomer unit constituting the chain polymer is 30 to 100 mol%.

(항목 51)(Item 51)

상기 가교제가 전체 또는 부분 알콕시메틸화 멜라민, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 구아나민, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 아세토구아나민, 또는 전체 또는 부분 알콕시메틸화 벤조구아나민 및 전체 또는 부분 알콕시메틸화 글리콜우릴로 이루어진 군에서 선택되는 것인 상기 항목 중 어느 하나의 제조 방법.The crosslinking agent is selected from the group consisting of wholly or partially alkoxymethylated melamine, wholly or partially alkoxymethylated guanamine, wholly or partially alkoxymethylated acetoguanamine, or wholly or partially alkoxymethylated benzoguanamine and wholly or partially alkoxymethylated glycoluril The manufacturing method of any one of the above items.

(항목 52)(Item 52)

상기 조성물의 상기 직쇄상 고분자의 질량과 상기 가교제의 질량의 비율이 1:2 ~ 1:0.05인 상기 항목 중 어느 하나의 제조 방법.The method for producing any one of the above items wherein the ratio of the mass of the linear polymer and the mass of the crosslinking agent in the composition is 1:2 to 1:0.05.

(항목 53) 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 포함하는 포토리소그래피 법에 의한 회로의 제조를 위한 조성물.(Item 53) A composition for producing a circuit by a photolithography method comprising the curable resin composition or cured resin film of any one of the above items.

(항목 54) 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 포함하는 시트 형태의 유연한 전기·전자 회로 부품 또는 유연한 디스플레이 장치의 제조를 위한 조성물.(Item 54) A composition for manufacturing a flexible electric/electronic circuit component or a flexible display device in the form of a sheet comprising the curable resin composition or cured resin film of any one of the above items.

(항목 55) 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 포함하는 합성수지, 펠렛, 필름, 플레이트, 섬유, 튜브, 고무, 엘라스토머 등에 사용되며, 이륜차(자전거, 오토바이 등) 자동차, 비행기, 기차, 선박, 로켓, 우주선, 운송, 레저, 가구(예를 들어, 테이블, 의자, 책상, 선반 등), 침구(예를 들면, 침대, 해먹 등), 의류, 보호복, 스포츠용품, 욕조, 주방, 식기, 조리 도구, 용기 및 포장재(식품 용기, 화장품 용기, 화물 컨테이너, 휴지통 등), 건축(건물, 도로, 건축 부품 등), 농업 필름, 공업 필름, 상하수도, 도료, 화장료, 전기 산업 및 전자 산업 분야(전자 제품, 컴퓨터 부품, 프린트 기판, 절연체, 전도체, 배선 피막 재료, 발전 소자, 스피커, 마이크, 노이즈 캔슬러, 트랜스듀서 등), 광통신 케이블, 의료용 재료 및 기구 (카테터, 가이드 와이어, 인공 혈관, 인공 근육, 인공 장기, 투석막, 내시경 등), 소형 펌프, 액츄에이터, 로봇 재료(산업용 로봇 등에 사용되는 센서), 에너지 생성 장치 및 플랜트(태양광 발전, 풍력 발전 등)의 제조를 위한 조성물.(Item 55) Used for synthetic resins, pellets, films, plates, fibers, tubes, rubbers, elastomers, etc. including the curable resin composition or cured resin film of any one of the above items, and used for motorcycles (bicycles, motorcycles, etc.) automobiles, airplanes, trains , Ships, rockets, spacecraft, transport, leisure, furniture (eg, tables, chairs, desks, shelves, etc.), bedding (eg, beds, hammocks, etc.), clothing, protective clothing, sports equipment, bathtubs, kitchens , Tableware, cooking utensils, containers and packaging (food containers, cosmetics containers, cargo containers, trash, etc.), construction (buildings, roads, construction parts, etc.), agricultural films, industrial films, water and sewage, paints, cosmetics, electrical industry and electronics Industrial fields (electronic products, computer parts, printed circuit boards, insulators, conductors, wiring coating materials, power generation elements, speakers, microphones, noise cancellers, transducers, etc.), optical communication cables, medical materials and devices (catheter, guide wire, artificial Compositions for the manufacture of blood vessels, artificial muscles, artificial organs, dialysis membranes, endoscopes, etc.), small pumps, actuators, robotic materials (sensors used in industrial robots, etc.), energy generating devices and plants (solar power generation, wind power generation, etc.).

(항목 56) 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 포함하는 전자 재료, 의료 재료, 의료 재료, 생명 과학 재료, 또는 로봇 재료의 제조를 위한 조성물.(Item 56) A composition for manufacturing an electronic material, medical material, medical material, life science material, or robot material comprising the curable resin composition or cured resin film of any one of the above items.

(항목 57) 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 포함하는 카테터, 가이드 와이어, 의약품 용기 또는 튜브 등 재료의 제조를 위한 조성물.(Item 57) A composition for manufacturing a material such as a catheter, a guide wire, a pharmaceutical container, or a tube comprising the curable resin composition or cured resin film of any one of the above items.

(항목 58) 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 포함하는 자동차 부품(차체 패널, 범퍼 벨트, 로커 패널, 사이드 몰, 엔진 부품, 구동 부품, 전도 부품, 조종 장치 부품, 안정기 부품, 현가·제동장치 부품, 브레이크 부품, 샤프트 부품, 파이프류, 탱크류, 바퀴, 시트, 시트 벨트 등)의 제조를 위한 조성물.(Item 58) Automobile parts (car body panels, bumper belts, rocker panels, side malls, engine parts, drive parts, conduction parts, steering device parts, stabilizer parts, and parts) containing the curable resin composition or curable resin film of any one of the above items, Composition for manufacturing suspension/braking device parts, brake parts, shaft parts, pipes, tanks, wheels, seats, seat belts, etc.).

(항목 59) 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 포함하는 자동차용 방진재, 자동차용 도료, 자동차용 합성수지의 제조를 위한 조성물.(Item 59) A composition for producing a vibration isolator for automobiles, paints for automobiles, and synthetic resins for automobiles comprising the curable resin composition or cured resin film of any one of the above items.

(항목 60) 포토리소그래피 법에 의한 회로의 제조를 위한 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막의 사용.(Item 60) Use of the curable resin composition or cured resin film according to any one of the above items for manufacturing a circuit by photolithography.

(항목 61) 시트 모양의 유연한 전기·전자 회로 부품 또는 유연한 디스플레이 장치의 제조를 위한 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막의 사용.(Item 61) Use of the curable resin composition or cured resin film according to any of the above items for manufacturing a sheet-shaped flexible electric/electronic circuit component or a flexible display device.

(항목 62) 합성수지, 펠렛, 필름, 플레이트, 섬유, 튜브, 고무, 엘라스토머 등에 사용되며, 이륜차(자전거, 오토바이 등), 자동차, 비행기, 기차, 선박, 로켓, 우주선, 운송, 레저, 가구(예를 들어, 테이블, 의자, 책상, 선반 등), 침구(예를 들면, 침대, 해먹 등), 의류, 보호복, 스포츠용품, 욕조, 주방, 식기, 조리 도구, 용기 및 포장재(식품 용기, 화장품 용기, 화물 컨테이너, 휴지통 등), 건축(건물, 도로, 건축 부품 등), 농업 필름, 공업 필름, 상하수도, 도료, 화장료, 전기 산업 및 전자 산업 분야(전자 제품, 컴퓨터 부품, 프린트 기판, 절연체, 전도체, 배선 피막 재료, 발전 소자, 스피커, 마이크, 노이즈 캔슬러, 트랜스듀서 등), 광통신 케이블, 의료용 재료 및 기구(카테터, 가이드 와이어, 인공 혈관, 인공 근육, 인공 기관, 투석막, 내시경 등), 소형 펌프, 액츄에이터, 로봇 재료(산업용 로봇 등에 사용되는 센서), 에너지 생성 장치 및 플랜트(태양광 발전, 풍력 발전 등)의 제조를 위한 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막의 사용.(Item 62) Synthetic resin, pellet, film, plate, fiber, tube, rubber, elastomer, etc., used for two-wheeled vehicles (bicycles, motorcycles, etc.), automobiles, airplanes, trains, ships, rockets, spacecraft, transport, leisure, furniture (e.g. For example, tables, chairs, desks, shelves, etc.), bedding (e.g., beds, hammocks, etc.), clothing, protective clothing, sports goods, bathtubs, kitchenware, tableware, cooking utensils, containers and packaging (food containers, cosmetics Containers, cargo containers, trash cans, etc.), construction (buildings, roads, construction parts, etc.), agricultural films, industrial films, water and sewage, paints, cosmetics, electrical and electronic industries (electronic products, computer parts, printed circuit boards, insulators, etc.) Conductors, wiring coating materials, power generation elements, speakers, microphones, noise cancellers, transducers, etc.), optical communication cables, medical materials and devices (catheter, guide wire, artificial blood vessels, artificial muscles, artificial organs, dialysis membranes, endoscopes, etc.), Use of the curable resin composition or curable resin film according to any of the above items for the manufacture of small pumps, actuators, robotic materials (sensors used in industrial robots, etc.), energy generating devices and plants (solar power generation, wind power generation, etc.).

(항목 63) 전자 재료, 의료 재료, 의료 재료, 생명 과학 재료, 또는 로봇 재료의 제조를 위한 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막의 사용.(Item 63) Use of the curable resin composition or cured resin film of any of the above items for the manufacture of electronic materials, medical materials, medical materials, life science materials, or robotic materials.

(항목 64) 카테터, 가이드 와이어, 의약품 용기 또는 튜브 등 재료의 제조를 위한 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막의 사용.(Item 64) Use of the curable resin composition or cured resin film according to any of the above items for the manufacture of materials such as catheters, guide wires, pharmaceutical containers or tubes.

(항목 65) 자동차 부품(차체 패널, 범퍼 벨트, 로커 패널, 사이드 몰, 엔진 부품, 구동 부품, 전도 부품, 조종 장치 부품, 안정기 부품, 현가·제동 장치 부품, 브레이크 부품, 샤프트 부품, 파이프류, 탱크류, 바퀴, 시트, 시트 벨트 등)의 제조를 위한 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막의 사용.(Item 65) Auto parts (body panels, bumper belts, rocker panels, side malls, engine parts, drive parts, conduction parts, steering parts, ballast parts, suspension/braking parts, brake parts, shaft parts, pipes, Tanks, wheels, seats, seat belts, etc.) using any one of the above-described curable resin composition or curable resin film.

(항목 66) 자동차용 방진재, 자동차용 도료, 자동차용 합성수지의 제조를 위한 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막의 사용.(Item 66) Use of the curable resin composition or cured resin film according to any one of the above items for the production of an automobile dust-proof material, automobile paint, and automobile synthetic resin.

(항목 67) 포토리소그래피 법에 의한 회로를 제작하는 방법에 있어서, 중합 반응을 통해 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 형성하는 단계를 포함하는 방법.(Item 67) A method of manufacturing a circuit by a photolithography method, comprising the step of forming a curable resin composition or a cured resin film according to any one of the above items through a polymerization reaction.

(항목 68) 시트 모양의 유연한 전기·전자 회로 부품 또는 플렉서블 디스플레이 장치를 제조하는 방법에 있어서, 중합 반응을 통해 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 형성하는 단계를 포함하는 방법.(Item 68) A method for manufacturing a sheet-shaped flexible electric/electronic circuit component or a flexible display device, comprising the step of forming a curable resin composition or a cured resin film according to any one of the above items through a polymerization reaction.

(항목 69) 합성수지, 펠렛, 필름, 플레이트, 섬유, 튜브, 고무, 엘라스토머 등에 사용되며, 이륜차(자전거, 오토바이 등), 자동차, 비행기, 기차, 선박, 로켓, 우주선, 운송, 레저, 가구(예를 들어, 테이블, 의자, 책상, 선반 등), 침구(예를 들면, 침대, 해먹 등), 의류, 보호복, 스포츠용품, 욕조, 주방, 식기, 조리 도구, 용기 및 포장재(식품 용기, 화장품 용기, 화물 컨테이너, 휴지통 등), 건축(건물, 도로, 건축 부품 등), 농업 필름, 공업 필름, 상하수도, 도료, 화장료, 전기 산업 및 전자 산업 분야(전자 제품, 컴퓨터 부품, 프린트 기판, 절연체, 전도체, 배선 피막 재료, 발전 소자, 스피커, 마이크, 노이즈 캔슬러, 트랜스듀서 등), 광통신 케이블, 의료용 재료 및 기구(카테터, 가이드 와이어, 인공 혈관, 인공 근육, 인공 기관, 투석막, 내시경 등), 소형 펌프, 액츄에이터, 로봇 재료(산업용 로봇 등에 사용되는 센서), 에너지 생성 장치 및 플랜트(태양광 발전, 풍력 발전 등)을 제조하는 방법에 있어서, 중합 반응을 통해 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 형성하는 단계를 포함하는 방법.(Item 69) Used for synthetic resins, pellets, films, plates, fibers, tubes, rubber, elastomers, etc., motorcycles (bicycles, motorcycles, etc.), automobiles, airplanes, trains, ships, rockets, spacecraft, transport, leisure, furniture (e.g. For example, tables, chairs, desks, shelves, etc.), bedding (e.g., beds, hammocks, etc.), clothing, protective clothing, sports goods, bathtubs, kitchenware, tableware, cooking utensils, containers and packaging (food containers, cosmetics Containers, cargo containers, trash cans, etc.), construction (buildings, roads, construction parts, etc.), agricultural films, industrial films, water and sewage, paints, cosmetics, electrical and electronic industries (electronic products, computer parts, printed circuit boards, insulators, etc.) Conductors, wiring coating materials, power generation elements, speakers, microphones, noise cancellers, transducers, etc.), optical communication cables, medical materials and devices (catheter, guide wire, artificial blood vessels, artificial muscles, artificial organs, dialysis membranes, endoscopes, etc.), In a method of manufacturing a small pump, an actuator, a robot material (sensor used in industrial robots, etc.), an energy generating device and a plant (solar power generation, wind power generation, etc.), the curable resin composition of any one of the above items through a polymerization reaction Or a method comprising the step of forming a cured resin film.

(항목 70) 전자 재료, 의료 재료, 의료 재료, 생명 과학 재료, 또는 로봇 재료를 제조하는 방법에 있어서, 중합 반응을 통해 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 형성하는 단계를 포함하는 방법.(Item 70) A method of manufacturing an electronic material, a medical material, a medical material, a life science material, or a robot material, comprising the step of forming a curable resin composition or a cured resin film of any one of the above items through a polymerization reaction. Way.

(항목 71) 카테터, 가이드 와이어, 의약품 용기 또는 튜브 등의 재료를 제조하는 방법에 있어서, 중합 반응을 통해 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 형성 하는 공정을 포함하는 방법.(Item 71) A method for manufacturing a material such as a catheter, a guide wire, a pharmaceutical container, or a tube, comprising a step of forming a curable resin composition or a cured resin film according to any one of the above items through a polymerization reaction.

(항목 72) 자동차 부품(차체 패널, 범퍼 벨트, 로커 패널, 사이드 몰, 엔진 부품, 구동 부품 전도 부품, 조종 장치 부품, 안정기 부품, 현가·제동 장치 부품, 브레이크 부품, 샤프트 부품, 파이프류, 탱크류, 바퀴, 시트, 시트 벨트 등)을 제조하는 방법에 있어서, 중합 반응을 통해 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 형성하는 단계를 포함하는 방법.(Item 72) Auto parts (body panels, bumper belts, rocker panels, side malls, engine parts, drive parts, conduction parts, steering system parts, ballast parts, suspension/braking parts, brake parts, shaft parts, pipes, tanks In the method of manufacturing a kind, wheel, seat, seat belt, etc.), a method comprising the step of forming a curable resin composition or a cured resin film of any one of the above items through a polymerization reaction.

(항목 73) 자동차용 방진재, 자동차용 도료, 자동차용 합성수지를 제조하는 방법에 있어서, 중합 반응을 통해 상기 항목 중 어느 하나의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막을 형성 하는 공정을 포함하는 방법.(Item 73) A method for manufacturing an automobile anti-vibration material, automobile paint, or automobile synthetic resin, comprising a step of forming a curable resin composition or a cured resin film according to any one of the above items through a polymerization reaction.

본 발명에 따라 양호한 성질을 지니는 경화수지막을 제조하기 위한 특정 폴리머 및 가교제를 포함하는 경화성 수지 조성물이 개발되었다. 이 경화성 수지 조성물을 가열 처리함으로써 내열성 및 용이 박리성이며 또 다른 양호한 성질(투과성 및 고속 경화성 등)을 지니는 경화수지막의 형성이 달성된다.According to the present invention, a curable resin composition comprising a specific polymer and a crosslinking agent for preparing a cured resin film having good properties has been developed. By heat-treating this curable resin composition, formation of a cured resin film having heat resistance, easy peelability, and other good properties (permeability and high-speed curing properties, etc.) is achieved.

이하, 본 발명을 최선의 형태를 나타내면서 설명한다. 본 명세서 전체에 걸쳐, 단수의 표현은 특별히 언급하지 않는 한, 그 복수형의 개념도 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 따라서 단수 관사(예를 들어, 영어의 경우 "a", "an", "the" 등)는 특별히 언급하지 않는 한, 그 복수형의 개념도 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 용어는 특별히 언급하지 않는 한 해당하는 분야에서 통상적으로 사용되는 의미로 사용되는 것으로 이해되어야 한다. 따라서 다르게 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어 및 과학 기술 용어는 본 발명이 속하는 분야의 당업자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 지닌다. 상충하는 경우에는 본 명세서(정의 포함)가 우선한다. 본 명세서에 기재되는 화합물 이름은 ChemDraw Professional 등의 소프트웨어에 따라 지정될 수 있다. 특정 실시예에서 일반명을 사용할 수 있으며 이러한 일반명은 당업자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 지닌다. 본 명세서에 나타난 화합물 이름은 반드시 IUPAC 명명법에 적용되지는 않는다.Hereinafter, the present invention will be described while showing the best mode. Throughout this specification, expressions in the singular are to be understood as including the concept of the plural unless otherwise specified. Therefore, a singular article (eg, "a", "an", "the", etc. in English) should be understood to include the concept of its plural form, unless otherwise noted. In addition, terms used in the present specification should be understood as being used in the meanings commonly used in the corresponding field unless otherwise specified. Accordingly, unless otherwise defined, all terms and scientific and technical terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In case of conflict, the present specification (including definitions) shall control. Compound names described herein can be assigned according to software such as ChemDraw Professional. In certain embodiments, common names may be used, and these common names have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Compound names appearing herein do not necessarily apply to the IUPAC nomenclature.

용어의 정의 Definition of Terms

본 명세서에서 "내열성"은 경화성 수지 조성물을 경화시켜 수득된 필름에 대해 150 ℃까지의 가열에 견디는 것으로, 바람직하게는 230 ℃의 가열을 견디는 것이며 더욱 바람직하게는 300 ℃의 가열을 견딜 수 있으며 실질적으로 분해되거나 기타 열화를 일으키지 않는 것을 말한다. 또한, 230 ℃라는 온도는 포토리소그래피 법에 의한 전자 회로의 제조에서 소성 온도로 사용하기에 충분한 고온이다. 또한 300 ℃의 온도보다 가혹한 조건에서의 전자 회로의 제조에서 또한 더 얇은 막을 형성하기 위해 필요한 소성 온도로 충분히 고온이다.In the present specification, "heat resistance" refers to a film obtained by curing the curable resin composition to withstand heating up to 150° C., preferably withstands heating at 230° C., more preferably, withstands heating at 300° C., and substantially It does not decompose into or cause other deterioration. Further, the temperature of 230°C is a high enough temperature to be used as a firing temperature in the manufacture of electronic circuits by photolithography. It is also high enough for the firing temperature required to form a thinner film in the manufacture of electronic circuits under conditions harsher than the temperature of 300°C.

본 명세서에서 "용이 박리막"은 기판, 특히 글래스 기판에 도포·경화에 의해 형성된 막이 기판에서 막을 손상하지 않고 (즉 무리없이) 쉽게 벗겨낼 수 있는 것을 말하며, "용이 박리성"과 같은 막의 성질을 말한다. 글래스 기판으로는 예를 들면, 소다 글래스 기판, 무알칼리 글래스 기판 등 적절히 글래스 기판을 들 수 있다. 소다 글래스 기판은 특히 바람직한 일례이다.In the present specification, "easy release film" refers to a film formed by coating and curing on a substrate, in particular, a glass substrate, which can be easily peeled off without damaging the film from the substrate (that is, without difficulty), and properties of a film such as "easy peelability" Say. Examples of the glass substrate include a glass substrate such as a soda glass substrate and an alkali-free glass substrate. A soda glass substrate is a particularly preferred example.

본 명세서에서 "용이 박리 내열성"은 상기 "내열성"과 "용이 박리성"을 겸비한 성질을 말한다. 특히 글래스 기판에 도포·가열 처리에 의해 형성된 경화수지막에서 프리 베이크(예를 들어, 100 ℃에서 2분) 후 박리력 및 추가 가열(예를 들어, 230 ℃에서 1시간) 후의 박리력을 비교한 것으로, 추가 가열 전후의 박리력의 증가가 약 500% 이하(즉, 가열 전의 박리력의 약 5배 이하)인 것을 말한다.In the present specification, "easy peeling heat resistance" refers to a property that combines the "heat resistance" and "easy peelability". In particular, the peeling force after pre-baking (for example, 2 minutes at 100°C) and the peeling force after additional heating (for example, 1 hour at 230°C) in the cured resin film formed by coating and heating treatment on the glass substrate is compared. As one, it means that the increase of the peeling force before and after additional heating is about 500% or less (that is, about 5 times or less of the peeling force before heating).

본 명세서에서 "고속 경화성"은 경화성 수지 조성물을 기판 위에 도포하고 가열되어 경화할 때 짧은 가열 시간으로 경화하는 조성물의 성질을 말하며, 본 명세서 는 150 ℃ 이하에서 1분 이내의 가열 경화에 의해 형성된 막이 용이 박리성이 있는 경우, 고속 경화성으로 본다.In this specification, "high-speed curing" refers to the property of a composition that cures with a short heating time when a curable resin composition is applied on a substrate and cured by heating. In this specification, a film formed by heat curing at 150° C. or less within 1 minute When there is easy peelability, it is regarded as high speed curing.

본 명세서에서 "스퍼터링 공정 내성"은 스퍼터링 공정의 주된 용도(예를 들면, 투명 전극, 하드 코트, 광선 제어, 배선, 반사 방지 필름, 투명 배리어 필름, 광촉매, 장식 등)에 사용될 수 있거나 또는 이 용도에 대한 내성을 갖는 성질이다. 경화성 수지 조성물을 기판 위에 도포하고 가열 경화하여(예를 들어, 150℃/15분) 경화수지막을 형성한 후 그 막 위에 오버코트 재료(OC 재)로서 광 경화성 레지스트를 도포하고, 프리 베이크(예를 들어, 90℃/100초)하고 노광(예 : 20mW, 100mJ)하고, 다시 포스트 베이크(예를 들어, 230℃/30분)하고 ITO 스퍼터링 프로세스를 수행한 후의 경화수지막이 양호한 박리성을 지니는 것을 말한다. In the present specification, "sputtering process resistance" may be used in the main use of the sputtering process (eg, transparent electrode, hard coat, light control, wiring, anti-reflection film, transparent barrier film, photocatalyst, decoration, etc.), or It is a property that has resistance to A curable resin composition is applied on a substrate and cured by heating (e.g., 150°C/15 minutes) to form a cured resin film, and then a photocurable resist is applied as an overcoat material (OC material) on the film, followed by prebaking (e.g. For example, it is determined that the cured resin film after exposure (e.g., 20mW, 100mJ), post-baking (e.g., 230°C/30min) and performing the ITO sputtering process has good peelability. Say.

ITO 스퍼터링 프로세스는 해당하는 분야에 공지된 스퍼터링 법에 의해 ITO(In2O3-SnO2(인듐주석산화물) 막을 형성하는 방법이며, 해당하는 분야에 공지된 ITO 스퍼터링 프로세스가 본 발명의 경화수지막에 대해 실시될 수 있다. ITO 스퍼터링 프로세스의 일례로는 경화수지막을 감압 환경에 일정 시간 정치(예를 들어, 0.5 Pa, 3 시간)시키고 경화수지막에 Ar를 도입(예를 들면 50 sccm)하고, O2를 도입(예를 들면 50 sccm)하고 가열 하(예를 들면 90℃)에서 스퍼터링(예를 들면 압력 : 0.67 Pa, DC 전력 : 110W)을 실시한다. 각 공정은 ITO의 조성과 ITO의 두께 등에 따라 변경될 수 있다.The ITO sputtering process is a method of forming an ITO (In 2 O 3 -SnO 2 (indium tin oxide) film by a sputtering method known in the relevant field, and the ITO sputtering process known in the relevant field is the cured resin film of the present invention. As an example of the ITO sputtering process, the cured resin film is allowed to stand in a reduced pressure environment for a certain period of time (eg, 0.5 Pa, 3 hours) and Ar is introduced into the cured resin film (eg, 50 sccm). , O 2 is introduced (for example, 50 sccm) and sputtering (for example, pressure: 0.67 Pa, DC power: 110W) under heating (for example, 90°C) is carried out. It can be changed according to the thickness of the.

본 명세서에서 "보존 안정성"은 용액으로 형성한 경화성 수지 조성물의 보존성이며, 특별히 한정하지 않는 한, 일반 시험(20℃에서 9개월 또는 12개월 저장) 및 가속 시험(50℃에서 2주 저장) 후에 보존 전에 비해 용액에 시각적으로 백탁·고화 등이 없고 용액의 성질(점도, 또는 N.V. 등), 성막시의 성질(박리력 또는 투과율 등)에 큰 변화가 없는 것을 말한다. "보존 안정성"은 "포트라이프"로 기재되어 있다.In the present specification, "preservation stability" refers to the preservability of the curable resin composition formed as a solution, unless specifically limited, after a general test (storage at 20°C for 9 months or 12 months) and an accelerated test (storage at 50°C for 2 weeks) It means that there is no visual turbidity or solidification in the solution compared to before storage, and there is no significant change in the properties of the solution (viscosity, NV, etc.) and properties (peelability or transmittance, etc.) during film formation. "Storage stability" is described as "Port Life".

본 명세서에서 "경화수지막"에 대하여 그 두께('막후'라고도 한다)는 한정되지 않는다. 회로 제조를 위한 베이스 필름으로 사용하는 경우에 바람직한 두께는 200~400nm, 예를 들면 약 300nm인데, 이는 전자 부품으로 하는 경우에 있어서 현재의 박막화의 요청에 대응한 것이며 경화수지막 자체의 성능이 두께 범위에 한정되는 것은 아니기 때문에 경화수지막의 두께는 선택적이다. 본 명세서에서 "경화 수지 박막"은 "경화수지막"과 같은 의미로 사용된다.In the present specification, the thickness of the "cured resin film" (also referred to as "film thickness") is not limited. When used as a base film for circuit manufacturing, the preferred thickness is 200 to 400 nm, for example, about 300 nm, which is in response to the current request for thinning in the case of electronic components, and the performance of the cured resin film itself is thick. Since it is not limited to the range, the thickness of the cured resin film is optional. In the present specification, "cured resin thin film" is used in the same meaning as "cured resin film".

본 명세서에서 사슬상 고분자에 있어서 "측쇄"라는 단어는 주쇄에서 분지한 구조 부분을 의미하며, "주쇄"는 폴리머 구조 중에 있어서 반복 모노머 단위의 일차원 방향으로 연결 하고 있는 원자로 이루어진 사슬을 말한다. 따라서 예를 들어 폴리머가 (메타)아크릴레이트 중합체인 경우, 각 모노머에 에스테르 결합의 형성에 관련된 부분으로 "-COO-"는 "측쇄"의 일부에 포함된다. 또한 "(메타)아크릴레이트"의 표기는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 구별없이 나타낸다. 마찬가지로, "(메타)아크릴"의 표기는 아크릴 및 메타크릴을 구별없이 나타내며 "(메타)아크릴레이트"는 아크릴산 및 메타크릴산을 구별하지 않고 나타낸다. In the present specification, the word "side chain" in the chain polymer refers to a structural part branched from the main chain, and the "main chain" refers to a chain consisting of atoms connected in a one-dimensional direction of repeating monomer units in the polymer structure. Therefore, for example, when the polymer is a (meth)acrylate polymer, "-COO-" is included in a part of the "side chain" as a part related to the formation of an ester bond in each monomer. In addition, the notation of "(meth)acrylate" indicates acrylate and methacrylate without distinction. Likewise, the notation of "(meth)acrylic" refers to acrylic and methacrylic without distinction, and "(meth)acrylate" refers to acrylic acid and methacrylic acid without distinction.

본 명세서에서 "알킬"은 메탄, 에탄, 프로판과 같은 지방족 탄화수소(알칸)로부터 수소 원자가 하나 소실되어 발생하는 1가의 기를 말하며, 일반적으로 CnH2n+1-로 표시된다(여기서 n은 양의 정수이다). 알킬은 직쇄 또는 측쇄일 수 있다. 탄소원자 수 1~4의 알킬(C1~4 알킬)기로서, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다. 탄소 원자 수 1 내지 6의 알킬(C1~6 알킬)기로서, 예를 들면, 탄소 원자 수 1~4의 알킬기, tert-부틸, sec-부틸, n-펜틸기, 이소아밀기, n - 헥실기, 이소핵실기, 시클로헥실기 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다. 탄소 원자 수 1~10의 알킬 (C1~10 알킬) 기로서 예를 들면 탄소 원자 수 1~6의 알킬기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데카닐기 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다.In the present specification, "alkyl" refers to a monovalent group generated by the loss of one hydrogen atom from an aliphatic hydrocarbon (alkane) such as methane, ethane, and propane, and is generally represented by C n H 2n+1- (where n is a positive Is an integer). Alkyl can be straight or branched. As an alkyl (C 1-4 alkyl) group having 1 to 4 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, sec- Butyl group and the like may be mentioned, but the present invention is not limited to these examples. As an alkyl (C 1-6 alkyl) group having 1 to 6 carbon atoms, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, tert-butyl, sec-butyl, n-pentyl group, isoamyl group, n- A hexyl group, an isohexyl group, a cyclohexyl group, and the like, but the present invention is not limited to these examples. As an alkyl (C 1-10 alkyl) group having 1 to 10 carbon atoms, for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, n-octyl group, n-nonyl group, n-decanyl group, etc. may be mentioned. Is not limited to these examples.

본 명세서에서 "알케닐기"는 에텐, 프로펜, 부텐과 같은 이중 결합을 적어도 하나 함유하는 지방족 탄화수소(알켄)에서 수소 원자가 하나 소실되어 발생하는 1가의 기를 말하며 일반적으로 CmH2m-1로 표시된다(여기서 m은 2 이상의 정수이다). 알케닐기는 직쇄 또는 측쇄일 수 있다. 탄소 원자 수 2~6의 알케닐기로서는 예를 들면 에테닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정 되는 것은 아니다. 탄소 원자 수 2~10의 알케닐기로서는 예를 들면 탄소 원자 수 2~6의 알케닐기, 헵테닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다.In the present specification, "alkenyl group" refers to a monovalent group generated by the loss of one hydrogen atom in an aliphatic hydrocarbon (alkene) containing at least one double bond such as ethene, propene, and butene, and is generally expressed as C m H 2m-1 (Where m is an integer greater than or equal to 2). The alkenyl group may be straight or branched. Examples of the alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms include ethenyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, butenyl group, pentenyl group, and hexenyl group, but the present invention is not limited to these examples. . Examples of the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms include an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, a heptenyl group, an octenyl group, a nonenyl group, and a decenyl group, but the present invention is not limited to these examples. .

본 명세서에서 "알킬렌기"는 메탄, 에탄, 프로판과 같은 지방족 탄화수소(알칸)로부터 수소 원자가 2개 소실되어 발생하는 2 가의 기를 말하며, 일반적으로 -(CmH2m)-로 표시된다(여기서 m은 양의 정수이다). 알킬기은 직쇄 또는 측쇄일 수 있다. 탄소 원자 수 1~10의 알킬렌기로서는 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, 이소프로필렌기, n-부틸기, 이소부틸렌기, tert-부틸기, n-펜텐기, n-헥실렌기, 이소헥실렌기 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다. 탄소 원자 수 1~6의 알킬렌기가 바람직하고 탄소 원자 수 1~4의 알킬렌기보다 바람직하고 메틸렌기 및 에틸렌기가 더욱 바람직하며 에틸렌기가 가장 바람직하다.In the present specification, "alkylene group" refers to a divalent group generated by the loss of two hydrogen atoms from aliphatic hydrocarbons (alkanes) such as methane, ethane, and propane, and is generally represented by -(C m H 2m )- (where m Is a positive integer). The alkyl group may be straight or branched. Examples of the alkylene group having 1 to 10 carbon atoms include methylene group, ethylene group, n-propylene group, isopropylene group, n-butyl group, isobutylene group, tert-butyl group, n-pentene group, and n-hexyl group. A silene group, an isohexylene group, and the like may be mentioned, but the present invention is not limited to these examples. An alkylene group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, more preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group and an ethylene group are more preferable, and an ethylene group is most preferable.

본 명세서에서 "알케닐렌기"는 에테닐렌, 뿌로페닐렌, 부테닐렌 같은 이중 결합을 적어도 하나 함유하는 지방족 탄화수소(알켄)에서 수소 원자가 2개 소실되어 발생하는 2가의 기를 말하며, 일반적으로 -(CmH2m-2)-로 표시된다(여기서 m은 2 이상의 정수이다). 알케닐렌기는 직쇄 또는 측쇄일 수 있다. 탄소 원자 수 2~10의 알케닐렌기로서 예를 들면 에테닐렌기, n-프로페닐렌기, 이소페닐렌기, n-부테닐렌기, 이소부테닐렌기, n-펜테닐렌기, n-헥세닐렌기, 이소헥세닐렌기 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다. 탄소 원자 수 2~6의 알케닐렌기가 바람직하고, 탄소 원자 수 2~4의 알케닐렌기가 보다 바람직하고, 에테닐렌기 및 n-프로페닐렌기가 더욱 바람직하고, 에테닐렌기가 가장 바람직하다.In the present specification, "alkenylene group" refers to a divalent group generated by the loss of two hydrogen atoms in an aliphatic hydrocarbon (alkene) containing at least one double bond such as ethenylene, purophenylene, butenylene, and generally -(C m H2 m-2 )- (where m is an integer greater than or equal to 2). The alkenylene group may be straight or branched. As an alkenylene group having 2 to 10 carbon atoms, for example, ethenylene group, n-propenylene group, isophenylene group, n-butenylene group, isobutenylene group, n-pentenylene group, n-hexenylene group, Isohexenylene group, etc., but the present invention is not limited to these examples. An alkenylene group having 2 to 6 carbon atoms is preferable, an alkenylene group having 2 to 4 carbon atoms is more preferable, an ethenylene group and n-propenylene group are more preferable, and an ethenylene group is most preferable.

본 명세서에서 "알콕시"는 알콜의 히드록시기의 수소 원자가 소실되어 발생하는 1가의기를 말하며 일반적으로 CnH2n+1O-로 표시된다(여기서 n은 1 이상의 정수 이다). 탄소 원자 수 1~6의 알콕시기로서는 예를 들면, 메톡시, 에톡시, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, tert-부틸옥시기, sec-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소아밀옥시기, n-헥실옥시기, 이소헥실옥시기 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다.In the present specification, "alkoxy" refers to a monovalent group generated by the loss of a hydrogen atom in the hydroxy group of an alcohol, and is generally represented by C n H 2n+10- (where n is an integer greater than or equal to 1). As an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, for example, methoxy, ethoxy, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, tert-butyloxy group, sec- Butyloxy group, n-pentyloxy group, isoamyloxy group, n-hexyloxy group, isohexyloxy group, and the like, but the present invention is not limited to these examples.

본 명세서에서 "할로기"는 상기 알킬기의 1개 또는 복수 개의 수소 원자가 할로겐 원자로 치환된 알킬기를 말한다. 또한 "퍼할로겐화 알킬"은 상기 알킬기의 모든 수소 원자가 할로겐 원자로 치환된 알킬기를 말한다. 탄소수 1~6의 할로기로서 예를 들면 트리플루오로메틸기, 트리플루오로에틸기, 퍼플루오로에틸기, 트리플루오로 n-프로필기, 퍼플루오로 n-프로필기, 트리플루오로이소프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 트리플루오로n-부틸기, 퍼플루오로 n-부틸기, 트리플루오로이소부틸기, 퍼플루오로이소부틸기, 트리플루오로 tert-부틸기, 퍼플루오로 tert-부틸기, 트리플루오로 n-펜틸기, 퍼플루오로 n-펜틸기, 트리플루오로 n-헥실기, 퍼플루오로 n-헥실기 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다.In the present specification, "halo group" refers to an alkyl group in which one or more hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with halogen atoms. Further, "perhalogenated alkyl" refers to an alkyl group in which all hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with halogen atoms. As a C1-C6 halo group, for example, trifluoromethyl group, trifluoroethyl group, perfluoroethyl group, trifluoro n-propyl group, perfluoro n-propyl group, trifluoroisopropyl group, purple Luoroisopropyl group, trifluoro n-butyl group, perfluoro n-butyl group, trifluoroisobutyl group, perfluoroisobutyl group, trifluoro tert-butyl group, perfluoro tert-butyl Group, trifluoro n-pentyl group, perfluoro n-pentyl group, trifluoro n-hexyl group, perfluoro n-hexyl group, and the like, but the present invention is not limited to these examples.

본 명세서에서 "시클로알킬기"는 단환 또는 다환식 포화 탄화수소기를 의미하고, 가교 된 구조의 것도 포함된다. 예를 들어, "C3-12 시클로알킬"은 탄소 원자 수가 3~12의 고리형 알킬기를 의미한다. 구체적인 예로서 "C6-12 시클로알킬기"의 경우에는 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 아다만틸기, 이소보르닐기 등을 들 수 있다. "C3-12 시클로알킬기"의 경우에는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 펜틸기, C6-12 시클로알킬기 등을 들 수 있다. 바람직하게는 "C6-12 시클로알킬기"를 들 수 있다.In the present specification, "cycloalkyl group" refers to a monocyclic or polycyclic saturated hydrocarbon group, and also includes a crosslinked structure. For example, "C 3-12 cycloalkyl" means a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms. As a specific example, in the case of a "C 6-12 cycloalkyl group", a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, an adamantyl group, an isobornyl group, and the like are mentioned. In the case of a "C 3-12 cycloalkyl group", a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a pentyl group, a C 6-12 cycloalkyl group, and the like can be mentioned. Preferably, a "C 6-12 cycloalkyl group" is used.

본 명세서에서 "시클로알케닐기"는 이중 결합을 포함하는 단환 또는 다환식 불포화 탄화수소기를 의미하고, 가교된 구조의 것도 포함된다. 상기 "시클로알킬기"의 탄소간 결합의 하나 이상이 이중 결합으로 된 것을 들 수 있다. 예를 들어, "C3-12 시클로알케닐기"는 탄소 원자 수가 3~12의 고리형 알케닐기를 의미한다. 구체적인 예로서 "C6-12 시클로알케닐기"의 경우에는 1-시클로헥세닐기, 2-시클로헥세닐기, 3-시클로헥세닐기, 시클로헵테닐기, 시클로옥테닐기, 시클로노네닐기 등을 들 수 있다. "C3-12 시클로알킬기"의 경우에는 시클로프로페닐기, 시클로부테닐기, 시클로펜테닐기, C6-12 시클로알케닐기 등을 들 수 있다. 바람직하게는 "C6-12 시클로알케닐기"를 들 수 있다. In the present specification, "cycloalkenyl group" refers to a monocyclic or polycyclic unsaturated hydrocarbon group including a double bond, and a crosslinked structure is also included. One or more of the inter-carbon bonds of the "cycloalkyl group" may be a double bond. For example, "C 3-12 cycloalkenyl group" means a cyclic alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms. As a specific example, in the case of "C 6-12 cycloalkenyl group", 1-cyclohexenyl group, 2-cyclohexenyl group, 3-cyclohexenyl group, cycloheptenyl group, cyclooctenyl group, cyclononenyl group, etc. I can. In the case of a "C 3-12 cycloalkyl group", a cyclopropenyl group, a cyclobutenyl group, a cyclopentenyl group, a C 6-12 cycloalkenyl group, and the like can be mentioned. Preferably, "C 6-12 cycloalkenyl group" is mentioned.

본 명세서에서 "탄화수소기"는 탄소와 수소만으로 구성되는 화합물에서 수소 원자가 하나 소실되어 발생하는 1가의 기를 말한다. 탄화수소기는 상기 "알킬", "알케닐기", "알킬렌기", "알케닐렌기", "시클로알킬기" 및 "시클로알케닐기" 및 하기의 "방향족기" 및 "지환식기" 등을 포함한다. 탄화수소기는 포화 또는 불포화일 수 있다. 탄화수소기는 탄소의 결합 방법에 따라 사슬형 탄화수소기와 고리형 탄화수소기로 분류되며 고리형 탄화수소기는 더욱 지환식 탄화수소기와 방향족 탄화수소기로 분류된다. 포화 또는 불포화 탄화수소기의 예로는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 시클로헥실, 디시클로펜타디에닐, 데카리닐, 아다만틸, 부테닐, 헥세닐, 시클로헥세닐, 데실 및 기타이며 측쇄의 탄소 원자 수의 한도 범위 내에서 다양한 직쇄상, 분지쇄상, 단환상, 축합환상의 기를 들 수 있으나 이들에 한정되지 않는다. 그 각 그룹은 말단에 위치하지 않은 경우에는 다른 그룹과의 결합 관계에 따라 2가 이상의 기일 수 있다.In the present specification, the "hydrocarbon group" refers to a monovalent group generated by the loss of one hydrogen atom in a compound consisting of only carbon and hydrogen. The hydrocarbon group includes the above "alkyl", "alkenyl group", "alkylene group", "alkenylene group", "cycloalkyl group" and "cycloalkenyl group" and the following "aromatic group" and "alicyclic group" and the like. Hydrocarbon groups can be saturated or unsaturated. The hydrocarbon group is classified into a chain hydrocarbon group and a cyclic hydrocarbon group according to the carbon bonding method, and the cyclic hydrocarbon group is further classified into an alicyclic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group. Examples of saturated or unsaturated hydrocarbon groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl, dicyclopentadienyl, decarinyl, adamantyl, butenyl, hexenyl, cyclohex Senyl, decyl, and others, and various linear, branched, monocyclic, and condensed cyclic groups within the limit of the number of carbon atoms in the side chain, but are not limited thereto. Each group may be a divalent or higher group depending on a bonding relationship with another group when not positioned at the terminal.

본 명세서에서 "방향족기"는 방향족 탄화수소 고리에 결합하는 수소 원자가 1 개 이탈되어 발생하는 기를 말한다. 예를 들어 벤젠에서 페닐기(C6H5-), 톨루엔에서 토릴기(CH3C6H4-), 크실렌에서 크시릴기((CH3)2C6H3-), 나프탈렌에서 나프틸기(C10H8-)가 유도된다. 또한 본 명세서에서 "헤테로방향족기"는 단환식 또는 다환식의 헤테로 원자 함유 방향족기를 의미하고 상기 기는 질소 원자, 황 원자 및 산소 원자로부터 선택되는 동종 또는 이종의 헤테로 원자를 1 개 이상(예를 들어 1~4 개) 포함한다. In the present specification, "aromatic group" refers to a group generated when one hydrogen atom bonded to an aromatic hydrocarbon ring is removed. For example, phenyl group in benzene (C 6 H 5 -), toluene group (CH 3 C 6 H 4 -), xylene to xylyl group ((CH 3 ) 2 C 6 H 3 -), naphthalene to naphthyl group (C 10 H 8 -) is induced. In addition, in the present specification, "heteroaromatic group" refers to a monocyclic or polycyclic hetero atom-containing aromatic group, and the group contains one or more homogeneous or heterogeneous heteroatoms selected from a nitrogen atom, a sulfur atom, and an oxygen atom (for example, 1~4 pieces) included.

상기 "방향족기"는 또한 "헤테로방향족기"를 포함한다. 방향족기의 예로는 페닐, 비페닐, 나프틸 등과 같은 탄소환식 방향족기(단환기 및 축합환기) 및 피리딜, 피리미디닐, 퀴놀리닐, 트리아지닐 등의 헤테로 방향족기(단환기 및 축합환기)를 들 수 있고 각 방향족기가 말단에 위치하지 않은 경우에는 다른 기와의 결합 관계에 따라 2가 이상의 기일 수 있다. 또한 본 명세서에서 방향족 고리 부분과 함께 고리를 형성하는 포화 또는 불포화 탄화수소 사슬 부분을 갖는 기(예를 들면 테트라하이드로나프틸 또는 디하이드로나프틸)는 방향족기 포화 또는 불포화 탄화수소기와의 결합으로 판단된다.The "aromatic group" also includes "heteroaromatic group". Examples of the aromatic group include carbocyclic aromatic groups (monocyclic and condensed cyclic groups) such as phenyl, biphenyl, and naphthyl, and heteroaromatic groups such as pyridyl, pyrimidinyl, quinolinyl, and triazinyl (monocyclic and condensed cyclic groups). ), and when each aromatic group is not located at the terminal, it may be a divalent or higher group depending on a bonding relationship with another group. In addition, in the present specification, a group having a saturated or unsaturated hydrocarbon chain moiety forming a ring together with an aromatic ring moiety (for example, tetrahydronaphthyl or dihydronaphthyl) is considered to be a bond with an aromatic group saturated or unsaturated hydrocarbon group.

본 명세서에서 "지환식(기)"는 탄소와 수소만으로 구성된 방향족 특성이 없는 고리에 결합하는 수소 원자가 1 개 이탈되어 발생하는 부분(또는 기)을 말한다. 지환식기는 상기 '시클로알킬기'및 '시클로알케닐기'를 포함한다. 지환식기는 포화 또는 불포화일 수 있다. 포화 또는 불포화 지환식기의 예로는 시클로헥실, 디시클로펜타디에닐, 데카리닐, 아다만틸, 시클로헥세닐, 기타 측쇄의 탄소 원자 수의 한도 범위 내에서 다양한 단 환상, 축합환상의 기가 있으나 이에 한정되지 않는다. 그 각각의 기는 말단에 위치하지 않은 경우에는 다른 기와의 결합 관계에 따라 2가 이상의 기일 수 있다.In the present specification, "alicyclic (group)" refers to a portion (or group) generated by the separation of one hydrogen atom bonded to a ring having no aromatic properties composed of only carbon and hydrogen. The alicyclic group includes the above'cycloalkyl group' and'cycloalkenyl group'. Alicyclic groups can be saturated or unsaturated. Examples of saturated or unsaturated alicyclic groups include cyclohexyl, dicyclopentadienyl, decarinyl, adamantyl, cyclohexenyl, and various monocyclic or condensed cyclic groups within the limit of the number of carbon atoms in the side chain. Not limited. When each group is not located at the terminal, it may be a divalent or higher group depending on the bonding relationship with other groups.

일반적으로 용어 "치환(되는/되었다)"는 특정 치환기 라디칼이 주어진 구조에서 하나 이상의 수소 라디칼로 바뀐 것을 나타낸다. 본 명세서에서 "치환(되는/한)"를 사용하여 정의된 기의 치환기의 수는 치환 가능하다면 특별히 한정되지 않으나 1 이상이다. 또한 특별히 언급한 경우를 제외하고 각 기의 설명은 그 기가 다른 기의 일부 또는 치환기인 경우에도 해당한다. 또한 본 명세서에서 "치환(되는/한) "이라는 용어를 특히 명시하지 않은 치환기에 대해서는 "치환되지 않은" 치환기를 의미한다. 또한 본 명세서에서 어구 "치환 또는 비치환(들)"은 어구 "치환되어 있어도 좋다"와 호환되어 사용되는 것으로 인식된다.In general the term "substituted (becomes/become)" denotes that a particular substituent radical has been replaced with one or more hydrogen radicals in a given structure. In the present specification, the number of substituents in a group defined using "substituted (to/one)" is not particularly limited, but is 1 or more, as long as it can be substituted. In addition, except in the case of special mention, the description of each group applies even when the group is part of another group or a substituent. In addition, in the present specification, the term “substituted (to/one)” refers to a “unsubstituted” substituent for a substituent not specifically specified. In addition, it is recognized that the phrase "substituted or unsubstituted(s)" is used interchangeably with the phrase "may be substituted" in this specification.

"치환 알킬기", "치환 알케닐기", "치환 시클로알킬기", "치환 시클로알케닐기", "치환 탄화수소기", "치환 방향족기", "치환 헤테로방향족기", "치환 알킬렌기 ", "치환 알케닐렌기" 및 "치환 또는 비치환의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기"를 포함한 본 명세서에 기재된 기준 상의 치환기 의 예로는 할로겐, 하이드록시, C1~10 알킬기, C1~10 알콕시기, C2~10 알케닐기, C6-12 시클로알킬기, C6-12 시클로알케닐기, C1~10 할로기, C2~10 할로알케닐기, C6~18 탄화수소기, C6~18 방향족기, C6~18 헤테로방향족기, C6~12 방향족기로 치환된 C1~10 알킬기, C6~12 탄화수소기로 치환된 C1~10 알킬기, C6~12 방향족기로 치환된 C2~10 알케닐기, C6~12 탄화수소기로 치환된 C2-10 알케닐기, -CN, 옥소기(=O), -O(CH2)2O-, -OC(CH3)2O-, -OCH2O-, -O-, 에스테르기(-COO- 또는 -O-CO-), C6~12 탄화수소기로 치환된 에스테르기, C6~12 방향족기로 치환된 에스테르기, 에스테르기로 치환된 C6~18 탄화수소기, 에스테르기로 치환된 C1~10 알킬기, C1~6 알킬렌기, C2~6 알케닐렌기 등을 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다."Substituted alkyl group", "substituted alkenyl group", "substituted cycloalkyl group", "substituted cycloalkenyl group", "substituted hydrocarbon group", "substituted aromatic group", "substituted heteroaromatic group", "substituted alkylene group", " Examples of the substituents on the criteria described herein, including a substituted alkenylene group" and a "substituted or unsubstituted alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group" include halogen, hydroxy, C 1-10 Alkyl group, C 1-10 alkoxy group, C 2-10 alkenyl group, C 6-12 cycloalkyl group, C 6-12 cycloalkenyl group, C 1-10 halo group, C 2-10 haloalkenyl group, C 6-18 hydrocarbon group, C 6 ~ 18 aromatic group, C 6 ~ 18 heteroaromatic group, C 6-12 aromatic group-substituted C 1 ~ 10 alkyl group, C a 6-12 hydrocarbon group-substituted C 1 ~ 10 alkyl group, C 6-12 a C 2 ~ 10 substituted by an aromatic alkenyl group, C 6 ~ 12 hydrocarbon group substituted C 2-10 alkenyl group, -CN, an oxo group (= O), -O (CH 2) 2 O-, -OC (CH 3 ) 2 O-, -OCH 2 O-, -O-, ester group (-COO- or -O-CO-), ester group substituted with C 6-12 hydrocarbon group, ester substituted with C 6-12 aromatic group group, an ester group-substituted C 6 ~ 18 hydrocarbon group, an alkyl group of C 1 ~ 10 substituted by an ester, C 1 ~ 6 alkyl group, C 2 ~ 6-alkenyl can be a group including, but the present invention is not limited to this example no.

상기 치환기의 바람직한 예로는 히드록시기, C6~18 탄화수소 기, C1~10 알킬기, C6~12 방향족기로 치환된 C1~10 알킬기, C6~12 탄화수소기로 치환된 C1~10 알킬기, 에스테르기로 치환된 C6~18 탄화수소기, 에스테르기로 치환된 C1~10알킬기, 에스테르기(-COO- 또는 -O-CO-), C6~12 탄화수소기로 치환된 에스테르기, C6~12 방향족기로 치환된 에스테르기, C2~10 알케닐기, C6~12 방향족기로 치환된 C2-10 알케닐기, C6~12 탄화수소기로 치환된 C2~10 알케닐기, C1~10 알콕시기, C6-12 시클로알킬기, C6-12 시클로알케닐기를 들 수 있으며 더욱 구체적인 예로는 벤조일옥시기, 페닐기, 시클로헥실기, 시클로헥세닐기, 아다만틸기, 히드록시기로 치환된 아다만틸기를 들 수 있다. Preferred examples of the substituent include a hydroxy group, C 6 ~ 18 hydrocarbon groups, C 1 ~ 10 alkyl group, C 6 ~ 12 aromatic group-substituted C 1 ~ 10 alkyl group, C 6 ~ 12 hydrocarbons of C 1 ~ 10 alkyl, the ester substituted with a C 6-18 hydrocarbon group substituted with a group, C 1-10 alkyl group substituted with an ester group, ester group (-COO- or -O-CO-), ester group substituted with a C 6-12 hydrocarbon group, C 6-12 aromatic group substituted with an ester group, C 2 ~ 10 alkenyl group, C 6 ~ 12 aromatic group-substituted C 2-10 alkenyl group, C 6 ~ C 2 ~ 10 the substituted hydrocarbon 12 alkenyl group, C 1 ~ 10 alkoxy group, C 6-12 cycloalkyl, C 6-12 cycloalkenyl group can be mentioned, and more specific examples include benzoyl oxy group, a phenyl group, a cyclohexyl group in, cyclohexenyl group, adamantyl substituted by an O group, a hydroxy group-adamantyl group I can.

본 명세서에서 "알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기"는 알코올성 제2급 또는 제3급 히드록시(OH)기 또는 페놀성 히드록시(OH)기를 1개 또는 2개 이상 함유하는 기를 나타낸다. 따라서 "알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기"는 알코올성 제2급 또는 제3급 히드록시기 또는 페놀성 히드록시기 자체도 포함한다. "치환 또는 비치환의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기"에서 "치환 또는 비치환"은 알코올성 제2급 또는 제3급 히드록시(OH)기 또는 페놀성 히드록시(OH)기를 1개 또는 2개 이상 함유하는 기에서 상기 히드록시기 이외의 기 부분이 치환되어 있거나 또는 치환되지 않은 것을 나타내는 것이지, 상기 히드록시기가 치환되어 있거나 또는 치환되지 않은 것을 나타내는 것은 아니다.In the present specification, "an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group" refers to one or two alcoholic secondary or tertiary hydroxy (OH) groups or phenolic hydroxy (OH) groups. It represents a group containing two or more. Thus, "an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group" also includes an alcoholic secondary or tertiary hydroxy group or a phenolic hydroxy group itself. In "substituted or unsubstituted alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or phenolic OH-containing group", "substituted or unsubstituted" means alcoholic secondary or tertiary hydroxy (OH) group or phenolic hydroxy In the group containing one or two or more (OH) groups, it indicates that a group portion other than the hydroxy group is substituted or not substituted, but does not indicate that the hydroxy group is substituted or unsubstituted.

본 명세서에서 "용매화물"은 특별히 한정되지 않는다면 비공유 분자간 힘에 의해 결합된 일정비 또는 부정비 양의 용매를 더욱 포함하는 화합물 또는 그의 염을 의미한다. 용매가 물이면, 상기 용매화물은 수화물이다.In the present specification, the "solvate" refers to a compound or a salt thereof that further includes a certain ratio or an indefinite amount of a solvent bonded by non-covalent intermolecular force unless specifically limited. If the solvent is water, the solvate is a hydrate.

본 명세서에서 "용제"는 "용매"와 동의어로 사용된다.In this specification, "solvent" is used synonymously with "solvent".

본 명세서에서 "모노머"는 그것이 2 개 이상의 중합하여 고분자를 형성하는 화합물을 말한다. "모노머 단위"란 고분자를 형성하는 단위가 되는 모노머를 칭한다.In the present specification, "monomer" refers to a compound in which two or more polymers are formed to form a polymer. The "monomer unit" refers to a monomer that becomes a unit forming a polymer.

본 명세서에 있어서, "폴리머"는 여러 모노머가 중합하여 생긴 화합물을 말한다. 본 명세서에서 "호모폴리머(단독 중합체)"라 함은 1종만의 모노머가 중합하여 생긴 화합물이며, "코폴리머(공중합체)"는 2종 또는 2종 이상의 모노머가 중합하여 생긴 화합물이다. 본 명세서에 기재된 폴리머는 호모폴리머와 코폴리머를 모두 포함한다. 폴리머 구조식에 기재하는 경우, 호모폴리머는In the present specification, "polymer" refers to a compound formed by polymerization of several monomers. In the present specification, "homopolymer (single polymer)" is a compound formed by polymerization of only one type of monomer, and "copolymer (copolymer)" is a compound formed by polymerization of two or more types of monomers. The polymers described herein include both homopolymers and copolymers. When described in the polymer structural formula, the homopolymer is

- [모노머 단위 A] n- (식 중에서, n ≥ 2)-[Monomer unit A] n- (in the formula, n ≥ 2)

로 기재되며Is written as

코폴리머는The copolymer is

- [모노머 단위 A] n- [모노머 단위 B] m- (식 중에서, n ≥ 1, m ≥ 1 단, n + m ≥ 2)-[Monomer unit A] n- [monomer unit B] m- (in the formula, n ≥ 1, m ≥ 1 stage, n + m ≥ 2)

로 기재되고, 모노머 단위 (A) 및 모노머 단위 B는 각각 임의의 모노머 단위를 나타내고, 단, 모노머 단위 (A) 및 모노머 단위 B는 서로 상이하다. 본 명세서에서 사용된 폴리머가 사슬상이면 "사슬상 폴리머"라고 한다. 본 명세서에서 "중합체"는 "폴리머"와 동의어로 사용된다.And the monomer unit (A) and the monomer unit B each represent an arbitrary monomer unit, provided that the monomer unit (A) and the monomer unit B are different from each other. When the polymer used in the present specification is a chain, it is referred to as a "chain polymer". In the present specification, "polymer" is used synonymously with "polymer".

본 명세서에서 "가교제"는 동일한 또는 상이한 폴리머 사이에서 공유 결합성 결합을 형성하여 물리적, 화학적 성질을 변화시키는 물질을 말한다.As used herein, "crosslinking agent" refers to a material that changes physical and chemical properties by forming covalent bonds between the same or different polymers.

본 명세서에 있어서, "N.V."(단위 : %)는 용액의 가열 잔분(Non Volatile Organic Compound)을 나타내며 용액의 고체 농도와 동의어이다. N.V는 JIS K 5601-1-2 등의 기준에 따라 해당하는 분야에 공지된 가열 잔분법에 의해 측정된다.In this specification, "N.V." (unit: %) represents the heating residue (Non Volatile Organic Compound) of the solution and is synonymous with the solid concentration of the solution. N.V is measured by a heating residual method known in the field according to standards such as JIS K 5601-1-2.

본 명세서에서 '또는'은 문장 중에 열거 된 사항의 '적어도 하나 이상'을 채용할 때 사용된다. '혹은'도 마찬가지이다. 본 명세서에서 '두 값의 범위'라고 명기 한 경우, 그 범위는 두 값 자체도 포함한다. 따라서 범위를 나타내는 'X~Y'는 'X 이상, Y 이하'를 의미한다. 또한 특별한 고지가 없는 한, '중량'과 '질량', '중량 %'또는 'wt %'와 '질량 %'은 각각 동의어로 취급한다. '약'이라는 표현은 특히 거절하지 않는 한, 10 %의 허용 오차를 지니며 측정값인 경우에는 유효 숫자 또는 표시되는 숫자 한 자리 아래 자리를 반올림하여 얻어지는 모든 범위의 수치를 말한다.In this specification,'or' is used when employing'at least one or more' of the items listed in the sentence. The same goes for'or'. In the present specification, when specified as'a range of two values', the range includes the two values themselves. Therefore,'X to Y'indicating a range means'X or more and Y or less'. In addition, unless otherwise noted,'weight' and'mass','weight %', or'wt %'and'mass%' are treated as synonyms respectively. The expression'about' has a tolerance of 10%, unless specifically rejected, and in the case of a measurement value, it refers to the whole range of values obtained by rounding off a significant digit or one digit to the displayed digit.

〔2〕 바람직한 실시형태에 대한 설명[2] Description of preferred embodiments

다음에 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명한다. 다음에 제공되는 실시형태는 본 발명의 더 나은 이해를 위해 제공되는 것이며 본 발명의 범위는 다음의 기재에 한정되어서는 안된다는 것으로 이해된다. 따라서 당업자는 본 명세서의 기재를 참작하여 본 발명의 범위 내에서 적절하게 수정을 할 수 있는 것이 분명하다. 또한, 본 발명의 이하의 실시형태는 단독으로 사용되거나 조합하여 사용될 수 있는 것으로 이해된다.Next, a preferred embodiment of the present invention will be described. It is understood that the embodiments provided below are provided for a better understanding of the present invention, and the scope of the present invention should not be limited to the following description. Therefore, it is clear that those skilled in the art can make appropriate corrections within the scope of the present invention, taking into account the description of the present specification. In addition, it is understood that the following embodiments of the present invention may be used alone or in combination.

(2-1) 경화성 수지 조성물 (2-1) curable resin composition

첫 번째 측면에서, 본 발명은 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 사슬상 고분자와 가교제를 포함하여 이루어지는 경화성 수지 조성물에 있어서,In a first aspect, the present invention provides a curable resin composition comprising a chain polymer having a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group and a crosslinking agent,

(a) 상기 사슬상 폴리머가 식 A1 :(a) the chain polymer is formula A1:

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

[상기 식에서, [In the above formula,

R1a는 수소, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택되고,R 1a is selected from the group consisting of hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group,

L1은 단일 결합, 치환 또는 비치환 알킬렌기 및 치환 또는 비치환 알케닐렌기로 이루어진 군에서 선택되고,L 1 is selected from the group consisting of a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, and a substituted or unsubstituted alkenylene group,

L2는 O 또는 NH이고,L 2 is O or NH,

R2a, R3a 및 R4a는 서로 독립적으로 수소 및 치환 또는 비치환 탄화수소기로 이루어진 군에서 선택되고, 단 R2a, R3a 및 R4a 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기이거나, 또는 R2a, R3a 및 R4a 중 적어도 두 개가 합체되어 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 또는 페놀성 OH를 함유하는 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기, 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기 또는 이들을 포함하는 다환체이다.]R 2a , R 3a and R 4a are each independently selected from the group consisting of hydrogen and a substituted or unsubstituted hydrocarbon group, provided that at least one of R 2a , R 3a and R 4a is a substituted or unsubstituted alcoholic secondary or tertiary A substituted or unsubstituted cycloalkyl group containing an alcoholic secondary or tertiary OH or a phenolic OH by combining a class OH-containing group or a phenolic OH-containing group, or at least two of R 2a , R 3a and R 4a , It is a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, a substituted or unsubstituted heteroaromatic group, or a polycyclic body containing them.]

로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것이며,It includes a monomer unit represented by,

(b) 상기 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체, 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체 및 이미다졸리디논계 화합물 및/또는 그의 축합체(b) The crosslinking agent is a triazine-based compound and/or a condensate thereof, a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, and an imidazolidinone-based compound and/or a condensate thereof

로 구성된 군으로부터 선택되는 것인 경화성 수지 조성물을 제공한다.It provides a curable resin composition selected from the group consisting of.

상기 제 1 측면에서 바람직하게는 식 A1에 있어서 L2는 O이다.In the first aspect, preferably, in the formula A1, L 2 is O.

제 2 측면에서 본 발명은 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 사슬상 고분자와 가교제를 포함하여 이루어지는 경화성 수지 조성물로서, 상기 사슬상 폴리머가 식 A2 :In a second aspect, the present invention is a curable resin composition comprising a chain polymer having a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group and a crosslinking agent, wherein the chain polymer is formula A2:

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

[상기 식에서, [In the above formula,

R1a, L1 및 L2는 상기에서 설명한 바와 같고,R 1a , L 1 and L 2 are as described above,

R5a ~ R14a는 서로 독립적으로 수소, 히드록시기 및R 5a to R 14a are independently of each other hydrogen, a hydroxy group, and

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

로 구성된 군으로부터 선택되거나 합체되어 고리를 형성하고, 단 R5a ~ R14a 또는 상기 환의 치환기 중 적어도 하나가 히드록시기이며,It is selected from the group consisting of or is combined to form a ring, provided that at least one of R 5a to R 14a or a substituent of the ring is a hydroxy group,

R15a는 치환 또는 비치환 알킬기, 치환 또는 비치환 알케닐기, 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기 및 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기로 구성된 군에서 선택된다.]R 15a is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, and a substituted or unsubstituted heteroaromatic group. .]

로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것이며,It includes a monomer unit represented by,

(b) 상기 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체, 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체, 및 이미다졸리디논계 화합물 및/또는 그의 축합체(b) the crosslinking agent is a triazine-based compound and/or a condensate thereof, a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, and an imidazolidinone-based compound and/or a condensate thereof

로 구성된 군으로부터 선택되는 것인 경화성 수지 조성물을 제공한다.It provides a curable resin composition selected from the group consisting of.

상기 제2 측면에 있어서, 바람직하게는 식 A2에서 L2는 O이다.In the second aspect, preferably L 2 is O in formula A2.

제 3 측면에 있어서, 보다 바람직하게는 본 발명은 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 사슬상 고분자와 가교제를 포함하여 이루어지는 경화성 수지 조성물로서, 상기 사슬상 폴리머가 식 A2 :In a third aspect, more preferably, the present invention is a curable resin composition comprising a chain polymer having a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group and a crosslinking agent, the chain Phase polymer is formula A2:

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

[상기 식에서,[In the above formula,

R1a는 수소 및 치환 또는 비치환 알킬기로 이루어진 군에서 선택되고,R 1a is selected from the group consisting of hydrogen and a substituted or unsubstituted alkyl group,

L1은 치환 또는 비치환 알킬렌기 및 치환 또는 비치환 알케닐렌기로 이루어진 군에서 선택되고,L 1 is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkylene group and a substituted or unsubstituted alkenylene group,

R5a ~ R14a는 서로 독립적으로 수소, 히드록시기 및R 5a to R 14a are independently of each other hydrogen, a hydroxy group, and

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

로 구성된 군으로부터 선택되고, 단 R5a ~ R14a또는 상기 환의 치환기 중 적어도 하나가 히드록시기이며,It is selected from the group consisting of, provided that R 5a to R 14a or at least one of the substituents of the ring is a hydroxy group,

R15a는 치환 또는 비치환 알킬기, 치환 또는 비치환 알케닐기, 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기 및 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기로 구성된 군에서 선택된다.]R 15a is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, and a substituted or unsubstituted heteroaromatic group. .]

로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것이며,It includes a monomer unit represented by,

(b) 상기 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체, 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체, 및 이미다졸리디논계 화합물 및/또는 그의 축합체로 이루어진 군에서 선택되는 것인 경화성 수지 조성물을 제공한다.(b) the crosslinking agent is selected from the group consisting of a triazine-based compound and/or a condensate thereof, a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, and an imidazolidinone-based compound and/or a condensate thereof. Provides.

상기 제3 측면에서 더욱 바람직하게는, L1은 치환 또는 비치환 알킬렌기며, 가장 바람직하게는, L1은 메틸렌기이다.More preferably in the third aspect, L 1 is a substituted or unsubstituted alkylene group, and most preferably, L 1 is a methylene group.

제4 측면에서, 서보다 바람직하게는 본 발명은 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 사슬상 고분자와 가교제를 포함하여 이루어지는 경화성 수지 조성물에 있어서, 상기 사슬상 폴리머가 식 A5 :In a fourth aspect, more preferably, the present invention is a curable resin composition comprising a chain polymer having a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group and a crosslinking agent, Chain polymer is formula A5:

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

[상기 식에서,[In the above formula,

R1a는 수소 및 치환 또는 비치환 알킬기로 이루어진 군에서 선택되고,R 1a is selected from the group consisting of hydrogen and a substituted or unsubstituted alkyl group,

L1은 치환 또는 비치환 알킬렌기 및 치환 또는 비치환 알케닐렌기로 이루어진 군에서 선택되고,L 1 is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkylene group and a substituted or unsubstituted alkenylene group,

R19a는 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기 및 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기로 이루어진 군에서 선택된다.]R 19a is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, and a substituted or unsubstituted heteroaromatic group.]

로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것이며,It includes a monomer unit represented by,

 

(b) 상기 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체, 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체, 및 이미다졸리디논계 화합물 및/또는 그의 축합체로 이루어진 군에서 선택되는 것인 경화성 수지 조성물을 제공한다. (b) the crosslinking agent is selected from the group consisting of a triazine-based compound and/or a condensate thereof, a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, and an imidazolidinone-based compound and/or a condensate thereof. Provides.

상기 제4 측면에서, 바람직하게는 식 A5에서 L1은 치환 또는 비치환 알킬렌기이며, 가장 바람직하게는, L1은 메틸렌기이다.In the fourth aspect, preferably, in the formula A5, L 1 is a substituted or unsubstituted alkylene group, and most preferably, L 1 is a methylene group.

상기 제4 측면에서, 바람직하게는 식 A5에서 R19a는 페닐기이다.In the fourth aspect, preferably R 19a in formula A5 is a phenyl group.

상기 제4 측면에서, 바람직하게는 상기 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체이다. 더욱 바람직하게는 상기 가교제가,In the fourth aspect, preferably, the crosslinking agent is a triazine-based compound and/or a condensate thereof. More preferably, the crosslinking agent,

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

이다.to be.

제5 측면에서, 보다 바람직하게는 본 발명은 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 사슬상 고분자와 가교제를 포함하여 이루어지는 경화성 수지 조성물로서, 상기 사슬상 폴리머가 식 A2 :In a fifth aspect, more preferably, the present invention is a curable resin composition comprising a chain polymer having a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group and a crosslinking agent, Polymer Formula A2:

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

[상기 식에서,[In the above formula,

R1a는 수소 및 치환 또는 비치환 알킬기로 이루어진 군에서 선택되고,R 1a is selected from the group consisting of hydrogen and a substituted or unsubstituted alkyl group,

L1은 단일 결합, 및 치환 또는 비치환 알킬렌기 이루어진 군에서 선택되고,L 1 is selected from the group consisting of a single bond and a substituted or unsubstituted alkylene group,

R5a ~ R14a는 서로 독립적으로 수소 및 히드록시기R 5a to R 14a are independently of each other hydrogen and hydroxy groups

로 구성된 군으로부터 선택되며, 단 R5a ~ R14a 또는 상기 환의 치환기 중 적어도 하나가 히드록시기이다.]It is selected from the group consisting of, provided that R 5a to R 14a or at least one of the substituents of the ring is a hydroxy group.]

로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것이며,It includes a monomer unit represented by,

(b) 상기 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체, 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체, 및 이미다졸리디논계 화합물 및/또는 그의 축합체로 이루어진 군에서 선택되는 것인 경화성 수지 조성물을 제공한다.(b) the crosslinking agent is selected from the group consisting of a triazine-based compound and/or a condensate thereof, a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, and an imidazolidinone-based compound and/or a condensate thereof. Provides.

상기 제5 측면에서, 바람직하게는 식 A2에 있어서, L1은 단일 결합이다.In the fifth aspect, preferably in formula A2, L 1 is a single bond.

상기 제5 측면에서, 하나의 실시형태에서 바람직하게는 식 A2에 있어서, R5a ~ R14a 중 2개 이상이 히드록시기이고, 다른 것은 수소이다. 다른 실시형태에서, 바람직하게는 R5a ~ R14a 중 하나가 히드록시기이고, 다른 것은 수소이다. 추가 실시형태에서 바람직하게는 R5a ~ R13a는 수소이고, R14a는 히드록시기이다.In the fifth aspect, in one embodiment, preferably in formula A2, at least two of R 5a to R 14a are hydroxy groups, and the other is hydrogen. In another embodiment, preferably one of R 5a to R 14a is a hydroxy group and the other is hydrogen. In a further embodiment preferably R 5a to R 13a are hydrogen and R 14a is a hydroxy group.

상기 제5 측면에서, 하나의 실시형태에서 바람직하게는 상기 가교제는 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체이다. 더욱 바람직하게는 상기 가교제는,In the fifth aspect, in one embodiment, preferably the crosslinking agent is a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof. More preferably, the crosslinking agent,

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00023
Figure pct00023

이다.to be.

상기 제5 측면에서, 다른 실시형태에서 바람직하게는 상기 가교제는 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체이다. 더욱 바람직하게는 상기 가교제는,In the fifth aspect, in another embodiment, preferably, the crosslinking agent is a triazine-based compound and/or a condensate thereof. More preferably, the crosslinking agent,

[화학식 24][Formula 24]

Figure pct00024
Figure pct00024

이다.to be.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 가열 처리에 의해 경화하는 열경화성 수지 조성물이라고 할 수 있다.The curable resin composition of the present invention can be said to be a thermosetting resin composition cured by heat treatment.

본 발명의 경화성 수지 조성물의 구성 요소의 하나인 사슬상 폴리머는 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 포함한다.The chain polymer, which is one of the constituent elements of the curable resin composition of the present invention, includes a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group.

본 발명에 있어서, 사슬상 고분자의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄에 포함된 탄소 원자의 수는 바람직하게는 3~30개 이다. 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄에서 해당하는 히드록시기의 개수는 1개 또는 2개 이상일 수 있다.In the present invention, the number of carbon atoms contained in the side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group of the chain polymer is preferably 3 to 30. The number of corresponding hydroxy groups in the side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group may be one or two or more.

본 발명에서 측쇄의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기는 본 발명의 경화성 수지 조성물을 글래스 기판 상에 도포하고 경화시켜 성막한 경화 수지 박막이 소성 후에도 기판으로부터의 용이 박리성을 유지할 수 있기 때문에 실질적으로 결정적인 요소이다. 또한 측쇄의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기가 측쇄에 지환식 부분에 결합하는 것이 더욱 바람직하고, 측쇄의 지환식 부분도 경화수지 박막의 용이 박리성을 유지할 수 있기 때문에 사실상 결정적인 요소이다. 이러한 측쇄를 지닌 사슬상 폴리머는 적절한 가교제 특히 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체, 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체, 또는 이미다졸리디논계 화합물 및/또는 그의 축합체 중 어느 것 과의 수지 조성물로, 박막의 형태로 경화시켰을 때 내열성의 용이 박리막을 제공할 수 있다. In the present invention, the side chain alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or phenolic OH-containing group is easily peeled from the substrate even after the cured resin thin film formed by coating and curing the curable resin composition of the present invention on a glass substrate It's actually a decisive factor because you can maintain your sex. In addition, it is more preferable that the side chain alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or the phenolic OH-containing group be bonded to the alicyclic portion in the side chain, and the alicyclic portion of the side chain can also maintain the easy peelability of the cured resin thin film. This is, in fact, a decisive factor. The chain polymer having such a side chain is a suitable crosslinking agent, in particular, a triazine-based compound and/or a condensate thereof, a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, or an imidazolidinone-based compound and/or a condensate thereof. When cured in the form of a thin film with a resin composition, it is possible to provide a heat-resistant easy release film.

사슬상 고분자에 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 제공하는 모노머의 바람직한 예로는 다음의 것을 들 수 있으나 이에 한정되지 않는다.Preferred examples of monomers that provide a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group to the chain polymer include the following, but are not limited thereto.

2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-(시클로헥실카르보닐옥시)프로필(메타)아크릴레이트, 3-벤조일옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-벤조일옥시-3-히드록시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 1,3- 아다만틸디올모노(메타)아크릴레이트 및 2-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-운데카노일옥시-3-히드록시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 4-부타노일옥시-3-히드록시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트.2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-(cyclohexylcarbonyloxy)propyl (meth)acrylate, 3-benzoyloxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4- Benzoyloxy-3-hydroxycyclohexylmethyl (meth)acrylate, 1,3-adamantyldiol mono (meth)acrylate and 2-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 4-undecanoyloxy-3 -(Meth)acrylates such as hydroxycyclohexylmethyl(meth)acrylate and 4-butanoyloxy-3-hydroxycyclohexylmethyl(meth)acrylate.

본 발명의 사슬상 고분자는 상기 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 모노머 이외에 히드록시기를 지니지 않고 측쇄의 탄소 원자 수가 1~15인 (메타)아크릴계 모노머, 비닐에스테르계 모노머, 비닐에테르계 모노머 및 이들 이외의 비닐계 모노머 중에서 어떤 적어도 1종을 추가의 모노머 단위로 포함하는 것일 수 있다. The chain polymer of the present invention does not have a hydroxy group other than the monomer having the alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or the phenolic OH-containing group, and the side chain has 1 to 15 carbon atoms (meth)acrylic monomers, vinyl esters It may be one containing at least one of a monomer, a vinyl ether-based monomer, and a vinyl-based monomer other than these as an additional monomer unit.

상기 히드록시기를 지니지 않는 모노머 단위의 바람직한 예로는 다음과 같은 것을 들 수 있으나 이에 한정되지 않는다.Preferred examples of the monomer unit not having a hydroxy group include the following, but are not limited thereto.

(1) 메틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트.(1) Methyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, tetra Hydrofurfuryl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, dicyclopentadienyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, N ,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, etc. Meth)acrylate.

(2) 아세트산 비닐에스테르, 부탄산 비닐에스테르, 펜탄산 비닐에스테르, 헥산산 비닐에스테르, 시클로헥산카르복실산 비닐에스테르, 안식향산 비닐에스테르, 시클로펜타디에닐카르복실산 비닐에스테르, 노난산 비닐에스테르 등의 비닐에스테르. (2) Vinyl acetate, vinyl butanoic acid, vinyl pentanoic acid, vinyl hexanoic acid, vinyl cyclohexanecarboxylic acid, vinyl benzoate, vinyl cyclopentadienylcarboxylic acid, vinyl nonanoic acid, etc. Vinyl ester.

(3) 프로필비닐에테르, 부틸비닐에테르, 에톡시에틸비닐에테르, 글리시딜비닐에테르, 펜틸비닐에테르, 테트라히드로푸르푸릴 닐에테르, 시클로헥실비닐에테르, 페닐비닐에테르, 시클로펜타디에닐비닐에테르, 옥틸비닐에테르, 벤질비닐에테르, 2-(비닐옥시)에틸디메틸아민, 3-(비닐옥시)프로필디메틸아민 등의 비닐에테르.(3) propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, pentyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl yl ether, cyclohexyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, cyclopentadienyl vinyl ether, Vinyl ethers, such as octyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, 2-(vinyloxy)ethyldimethylamine, and 3-(vinyloxy)propyldimethylamine.

(4) 1-부텐, 4-에톡시-1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 비닐시클로헥산, 스티렌, 비닐톨루엔, 1-노넨, 3-페닐프로펜 등의 비닐 유도체.(4) Vinyl derivatives, such as 1-butene, 4-ethoxy-1-butene, 1-pentene, 1-hexene, vinylcyclohexane, styrene, vinyltoluene, 1-nonene, and 3-phenylpropene.

(5) 말레산 무수물, 메틸말레산 무수물, 부틸말레산 무수물, 헥실말레산 무수물, 시클로헥실말레산 무수물, 페닐말레산 무수물, 옥틸말레산 무수물 등의 말레산 무수물 유도체.(5) Maleic anhydride derivatives such as maleic anhydride, methylmaleic anhydride, butylmaleic anhydride, hexylmaleic anhydride, cyclohexylmaleic anhydride, phenylmaleic anhydride, and octylmaleic anhydride.

(6) 말레이미드, 메틸말레이미드, 에틸말레이미드, 부틸말레이미드, 헥실말레이미드, 시클로헥실말레이미드, 페닐말레이미드, 벤질말레이미드, 옥틸말레이미드 등의 말레이미드 유도체.(6) Maleimide derivatives such as maleimide, methyl maleimide, ethyl maleimide, butyl maleimide, hexyl maleimide, cyclohexyl maleimide, phenyl maleimide, benzyl maleimide, and octyl maleimide.

본 발명의 사슬상 폴리머는 모노머 단위의 단독 중합체 이어도 좋고, 2종 또는 3종 또는 더 많은 종류의 모노머 단위를 포함하는 공중합체 일 수 있으나, 단 공중합체의 상기 모노머 단위의 적어도 1종은 알코올성 제2급 또는 제3 급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 모노머 단위이다. 바람직하게는 상기 공중합체는 1종 이상의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 모노머 단위와 적어도 1종의 히드록시기를 지니지 않는 추가 모노머 단위를 포함한다.The chain polymer of the present invention may be a homopolymer of monomer units, or may be a copolymer including two or three or more types of monomer units, provided that at least one of the monomer units of the copolymer is an alcoholic agent. It is a monomeric unit with a side chain having a secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group. Preferably, the copolymer comprises a monomer unit having a side chain having at least one alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group and an additional monomeric unit not having at least one hydroxy group.

본 발명의 사슬상 폴리머 중에서 알코올성 제2급 또는 제3 급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 모노머 단위가 차지하는 비율은 특별히 한정되지 않으나 바람직하게는 30~100 몰%, 더욱 바람직하게는 50~100 몰%, 더욱 바람직하게는 60~100 몰%, 더욱 바람직하게는 80~100 몰%, 특히 바람직하게는 90~100 몰% 이다.The proportion of the monomer unit having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group in the chain polymer of the present invention is not particularly limited, but is preferably 30 to 100 mol%, more preferably 50 to It is 100 mol%, more preferably 60 to 100 mol%, more preferably 80 to 100 mol%, and particularly preferably 90 to 100 mol%.

본 발명에서 사슬상 고분자는 그 원료 모노머를 사용하여 통상적인 방법으로 예를 들면, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 등의 관용의 라디칼 중합 촉매를 사용하여 중합 반응을 수행시킴으로써 제조할 수 있다. 사슬상 고분자의 중량 평균 분자량(Mw)은 10000~100000의 범위(겔 투과 크로마토그래피에 의한 측정)인 것이 보통 바람직하지만, 특히 이 범위에 한정되는 것은 아니다. 겔 투과 크로마토그래피의로서는 해당 분야에서 공지의 프로세스 및 장치를 사용하는 해당 분야에 공지된 방법을 들 수 있다.In the present invention, the chain polymer is carried out by carrying out a polymerization reaction using a conventional radical polymerization catalyst such as 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) in a conventional manner using the raw material monomer. Can be manufactured. The weight average molecular weight (Mw) of the chain polymer is usually preferably in the range of 10000 to 100000 (measured by gel permeation chromatography), but is not particularly limited to this range. Examples of gel permeation chromatography include methods known in the art using processes and apparatus known in the art.

겔 투과 크로마토그래피의 예로는 폴리머를 포함하는 혼합물을 적당한 용매(예를 들면 테트라하이드로퓨란)에 희석하여 샘플을 제조하고(예를 들면 수득된 혼합물의 고형분이 0.1 중량 %가 되도록 희석) 희석액을 적절한 온도(예를 들면 40 ℃)로 유지한 시판의 겔 투과 크로마토그래피 컬럼에 주입한다. 이어서 희석액이 주입된 겔 투과 크로마토그래피 컬럼에 용리액(예를 들면 테트라하이드로퓨란)을 적절한 유속(예를 들면 1 ml/분)으로 주입함으로써 리머를 포함하는 용리액을 추출하여 검출기(예를 들면 시차 굴절률 검출기)에 의해 폴리머의 분자량을 측정한다. 폴리머의 종류에 따라 상기 조건은 적당히 선택할 수 있다.An example of gel permeation chromatography is to prepare a sample by diluting a mixture containing a polymer in a suitable solvent (e.g. tetrahydrofuran) (e.g., diluting the obtained mixture to a solid content of 0.1% by weight), and then diluting the diluted solution with an appropriate solvent. It is injected into a commercially available gel permeation chromatography column maintained at a temperature (eg, 40° C.). Then, the eluent (e.g., tetrahydrofuran) is injected into the gel permeation chromatography column into which the diluted solution is injected at an appropriate flow rate (e.g., 1 ml/min) to extract the eluent containing the reamer, and a detector (e.g., differential refractive index Detector) to measure the molecular weight of the polymer. Depending on the type of polymer, the above conditions can be appropriately selected.

본 발명의 경화성 수지 조성물의 가교제로는 트리아진계 가교제, 글리콜우릴계 가교제 또는 이미다졸리디논계 가교제가 바람직하다. 보다 구체적으로는 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체, 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체, 및 이미다졸리디논계 화합물 및/또는 그의 축합체로 이루어진 군에서 선택되는 것이 바람직하다. The crosslinking agent of the curable resin composition of the present invention is preferably a triazine crosslinking agent, a glycoluril crosslinking agent, or an imidazolidinone crosslinking agent. More specifically, it is preferable that the crosslinking agent is selected from the group consisting of a triazine-based compound and/or a condensate thereof, a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, and an imidazolidinone-based compound and/or a condensate thereof.

이러한 가교제의 바람직한 구체예로는 전체 또는 부분 알콕시(예: 메톡시, 에톡시)메틸화 멜라민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시(예: 메톡시, 에톡시)메틸화 구아나민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시(예: 메톡시, 에톡시)메틸화 아세트구아나민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 벤조구아나민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시(예: 메톡시, 에톡시)메틸화 글리콜우릴 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시 메틸화 이미다졸리디논 및/또는 그의 축합체를 들 수 있다. Preferred examples of such crosslinking agents include wholly or partially alkoxy (e.g., methoxy, ethoxy) methylated melamine and/or condensates thereof, and wholly or partially alkoxy (e.g. methoxy, ethoxy) methylated guanamine and/or their Condensates, wholly or partially alkoxy (e.g. methoxy, ethoxy) methylated acetguanamine and/or condensates thereof, wholly or partially alkoxymethylated benzoguanamine and/or condensates thereof, wholly or partially alkoxy (e.g. Oxy, ethoxy) methylated glycoluril and/or a condensation product thereof, and a wholly or partially alkoxy methylated imidazolidinone and/or a condensation product thereof.

상기 식에서, "알콕시"는 탄소 원자 수 1~4인 것이 바람직하다. 그러한 가교제로서 바람직한 화합물로서 보다 구체적으로는 예를 들면 헥사메톡시메틸멜라민, 헥사에톡시메틸멜라민, 테트라메톡시메틸메틸올멜라민, 테트라메톡시메틸멜라민, 헥사부톡시메틸멜라민, 테트라메톡시메틸구아나민, 테트라메톡시메틸아세트구아나민, 테트라메톡시메틸벤조구아나민, 트리메톡시메틸벤조구아나민, 테트라에톡시메틸벤조구아나민, 테트라메틸올벤조구아나민, 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(부톡시메틸) 글리콜우릴, 4,5-디히드록시-1,3-디메톡시메틸-2-이미다졸리디논, 4,5-디메톡시-1,3-디메톡시메틸-2-이미다졸리디논 등을 들 수 있으나 이에 한정되지 않는다.In the above formula, "alkoxy" preferably has 1 to 4 carbon atoms. As a preferable compound as such a crosslinking agent, more specifically, for example, hexamethoxymethylmelamine, hexaethoxymethylmelamine, tetramethoxymethylmethylolmelamine, tetramethoxymethylmelamine, hexabutoxymethylmelamine, tetramethoxymethylgua Namin, tetramethoxymethylacetguanamine, tetramethoxymethylbenzoguanamine, trimethoxymethylbenzoguanamine, tetraethoxymethylbenzoguanamine, tetramethylolbenzoguanamine, 1,3,4,6-tetra Kis (methoxymethyl) glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) glycoluril, 4,5-dihydroxy-1,3-dimethoxymethyl-2-imidazolidinone, 4,5-dimethoxy-1,3-dimethoxymethyl-2-imidazolidinone, and the like, but are not limited thereto.

하나의 실시형태에서 바람직하게는 상기 가교제는 식 B1:In one embodiment preferably the crosslinking agent is formula B1:

[화학식 25][Formula 25]

Figure pct00025
Figure pct00025

[상기 식에서,[In the above formula,

R1b는 탄소 원자 1~25개를 지니고 치환 또는 비치환 알킬기, 치환 또는 비치환 알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기, 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기 및R 1b has 1 to 25 carbon atoms and is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, a substituted or unsubstituted heteroaromatic group, and

[화학식 26][Formula 26]

Figure pct00026
Figure pct00026

로 표시되는 2치환 아민으로 이루어진 군에서 선택되고,It is selected from the group consisting of disubstituted amines represented by,

R2b ~ R7b는 서로 독립적으로 탄소수 1~10개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택된다.]R 2b to R 7b each independently have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group.]

로 표시되는 화합물 및/또는 그의 축합체Compound represented by and/or condensate thereof

로 이루어진 군에서 선택되는 것이다.It is selected from the group consisting of.

보다 바람직하게는 본 발명의 상기 가교제는 식 B1에 있어서,More preferably, the crosslinking agent of the present invention in formula B1,

R1b는 치환 또는 비치환 알킬기, 치환 또는 비치환 방향족기 및R 1b is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, and

[화학식 27][Formula 27]

Figure pct00027
Figure pct00027

로 표시되는 2치환 아민으로 이루어진 군에서 선택되고,It is selected from the group consisting of disubstituted amines represented by,

R2b ~ R7b는 서로 독립적으로, 치환 또는 비치환 알킬기에서 선택되는,R 2b to R 7b are each independently selected from a substituted or unsubstituted alkyl group,

화합물 및/또는 그의 축합체이다.It is a compound and/or a condensate thereof.

또 다른 실시형태에 있어서, 바람직하게는 상기 가교제는 식 B2 :In another embodiment, preferably the crosslinking agent is formula B2:

[화학식 28][Formula 28]

Figure pct00028
Figure pct00028

[상기 식에서, R8b ~ R11b는 서로 독립적으로 탄소수 1~10개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택된다.][In the above formula, R 8b to R 11b each independently have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group.]

로 표시되는 화합물 및/또는 그의 축합체Compound represented by and/or condensate thereof

로 이루어진 군에서 선택되는 것이다.It is selected from the group consisting of.

보다 바람직하게는 본 발명의 상기 가교제는 식 B2에 있어서,More preferably, the crosslinking agent of the present invention in Formula B2,

R8b ~ R11b는 서로 독립적으로 치환 또는 비치환 알킬기에서 선택되는,R 8b to R 11b are each independently selected from a substituted or unsubstituted alkyl group,

화합물 및/또는 그의 축합체이다.It is a compound and/or a condensate thereof.

또 다른 실시형태에 있어서, 바람직하게는 상기 가교제는 식 B3:In another embodiment, preferably the crosslinking agent is formula B3:

[화학식 29][Chemical Formula 29]

Figure pct00029
Figure pct00029

[상기 식에서, [In the above formula,

R12b 및 R13b는 서로 독립적으로 탄소수 1~10개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택되고,R 12b and R 13b each independently have 1 to 10 carbon atoms and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group,

R14b 및 R15b는 서로 독립적으로 수소이거나 또는 탄소 원자 1~10 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택된다.]R 14b and R 15b are each independently hydrogen or have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group.]

로 표시되는 화합물 및/또는 그의 축합체Compound represented by and/or condensate thereof

로 이루어진 군에서 선택되는 것이다.It is selected from the group consisting of.

보다 바람직하게는 본 발명의 상기 가교제는 식 B3에 있어서,More preferably, the crosslinking agent of the present invention in formula B3,

R12b 및 R13b는 서로 독립적으로, 치환 또는 비치환 알킬기에서 선택되고,R 12b and R 13b are each independently selected from a substituted or unsubstituted alkyl group,

R14b 및 R15b는 서로 독립적으로 수소 및 치환 또는 비치환 알킬기로 이루어진 군에서 선택되는,R 14b and R 15b are each independently selected from the group consisting of hydrogen and a substituted or unsubstituted alkyl group,

화합물 및/또는 그의 축합체이다.It is a compound and/or a condensate thereof.

더욱 바람직하게는 식 B3에 있어서 R14b 및 R15b는 서로 독립적으로 수소이다.More preferably, in formula B3, R 14b and R 15b are each independently hydrogen.

본 발명의 경화성 수지 조성물의 가교제의 더욱 바람직한 구체예로는 다음의 구조식에 표시된 것 또는 다음에 열거한 화합물 이름의 화합물 및/또는 그의 축합체를 들 수 있다:Further preferred specific examples of the crosslinking agent of the curable resin composition of the present invention include those represented by the following structural formulas or compounds having the following compound names and/or condensates thereof:

[화학식 30][Formula 30]

Figure pct00030
Figure pct00030

헥사메톡시메틸멜라민;Hexamethoxymethylmelamine;

헥사부톡시메틸멜라민;Hexabutoxymethylmelamine;

1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴;1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril;

1,3,4,6-테트라키스(부톡시메틸)글리콜우릴;1,3,4,6-tetrakis(butoxymethyl)glycoluril;

테트라메톡시메틸벤조구아나민;Tetramethoxymethylbenzoguanamine;

4,5-디히드록시-1,3-비스(알콕시메틸)이미다졸리딘-2-온.4,5-dihydroxy-1,3-bis(alkoxymethyl)imidazolidin-2-one.

상기 축합체로서 바람직하게는 상기에 표시되는 화합물의 중합체를 들 수 있으며, 보다 바람직하게는 상기에 표시되는 화합물의 이량체, 삼량체 또는 보다 고차의 중합체를 들 수 있다. 본 발명의 경화성 수지 조성물의 가교제는 상기에 표시되는 화합물 및 그의 축합체일 수 있으며, 즉, 화합물 및 상기 화합물의 중합체(즉, 이량체, 삼량체, 또는 보다 고차의 중합체)의 혼합물일 수 있다. 다른 실시형태에서는 상기 축합체가 상기 화합물의 이량체, 삼량체 및 보다 고차의 중합체 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. As the condensate, preferably a polymer of the compound represented above is mentioned, and more preferably, a dimer, a trimer or a higher order polymer of the compound represented above is used. The crosslinking agent of the curable resin composition of the present invention may be a compound represented above and a condensate thereof, that is, may be a mixture of a compound and a polymer of the compound (ie, a dimer, a trimer, or a higher order polymer). . In other embodiments, the condensate may comprise at least one of a dimer, a trimer and a higher order polymer of the compound.

다른 관점에서는 상기 가교제가 상기에 설명된 상기 화합물에 있어서 1보다 크고 3 또는 그보다 큰 중량 평균 중합도를 지니는 것으로서도 좋고, 바람직하게는 1보다 크고 1.8까지, 더욱 바람직하게는 1.3에서 1.8 까지, 더욱 바람직하게는 1.5의 중량 평균 중합도를 지닐 수도 있으나 이에 한정되지 않는다. 또한, 상기 화합물의 상기 축합체의 중량 평균 중합도가 1인 경우, 그의 축합체는 그 화합물 자체임을 의미한다. 상기 중량 평균 중합도는 상기 범위의 숫자이며, 바람직하게는 1.1, 1.2, 1.3, 1.4, 1.5, 1.6, 1.7, 1.8, 1.9, 2, 3, 4 또는 그보다 큰 값이며, 보다 바람직하게는 1.3, 1.4, 1.5, 1.6, 1.7, 1.8이며, 또한 바람직하게는 1.5이다.In another aspect, the crosslinking agent may be one having a weight average polymerization degree greater than 1 and 3 or greater in the compound described above, preferably greater than 1 and up to 1.8, more preferably 1.3 to 1.8, more preferably It may have a weight average polymerization degree of 1.5, but is not limited thereto. In addition, when the weight average polymerization degree of the condensate of the compound is 1, it means that the condensate is the compound itself. The weight average degree of polymerization is a number in the above range, preferably 1.1, 1.2, 1.3, 1.4, 1.5, 1.6, 1.7, 1.8, 1.9, 2, 3, 4 or higher, more preferably 1.3, 1.4 , 1.5, 1.6, 1.7, 1.8, and preferably 1.5.

본 발명의 경화성 수지 조성물에 있어서 사슬상 폴리머와 가교제와 질량의 비는 바람직하게는 1:0.03 ~ 1:2, 더욱 바람직하게는 1:0.05 ~ 1:2, 1:0.05 ~ 1:1, 1:0.03 ~ 1:1, 더욱 바람직하게는 1:0.09 ~ 1:1, 1:0.1 ~ 1:0.5, 더욱 더 바람직하게는 1:0.09 ~ 1:0.3, 1:0.1 ~ 1:0.3이다.In the curable resin composition of the present invention, the ratio of the mass of the chain polymer and the crosslinking agent is preferably 1:0.03 to 1:2, more preferably 1:0.05 to 1:2, 1:0.05 to 1:1, 1 :0.03 to 1:1, more preferably 1:0.09 to 1:1, 1:0.1 to 1:0.5, even more preferably 1:0.09 to 1:0.3, 1:0.1 to 1:0.3.

본 발명에 있어서, 경화성 수지 조성물은 또한 산 촉매를 포함한다. 상기 산 촉매는 모노머 단위와 가교제와의 반응에서 중합 촉매로서 필요에 따라 포함된다. 상기 산 촉매는 중합 촉매로서 관용의 것을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 상기 산 촉매는 브뢴스테드 산 및/또는 루이스 산으로부터 선택되는 화합물, 또는 그의 염 또는 그 용매화물 이어도 좋다. In the present invention, the curable resin composition also contains an acid catalyst. The acid catalyst is included as necessary as a polymerization catalyst in the reaction between the monomer unit and the crosslinking agent. The acid catalyst can be appropriately selected and used as a polymerization catalyst. The acid catalyst may be a compound selected from Bronsted acid and/or Lewis acid, or a salt thereof or a solvate thereof.

상기 산 촉매로는 예를 들면 디노닐나프탈렌디설폰산, 디노닐나프탈렌(모노)설폰산, 도데실벤젠설폰산, 도데실벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산(PTS), 인산, 황산 및 아세트산 등 양성자 산, 및 선에이드 SI-100L, SI-150L, SI-110L, SI-60L 및 SI-80L(삼신화학공업(주)) 등의 열산 발생제로 이루어진 군에서 선택되는 화합물, 또는 그의 염 또는 그 용매화물을 들 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 바람직하게는 상기 산 촉매는 p-톨루엔설폰산(PTS), 도데실벤젠설폰산 및 열산 발생제 선에이드 SI-100L(삼신화학공업(주))로 이루어진 군에서 선택되는 화합물, 또는 그의 염, 또는 그 용매화물이다. 보다 바람직하게는 상기 산 촉매는 피리디늄-p-톨루엔설폰산, p-톨루엔설폰산 또는 그의 수화물이다.Examples of the acid catalyst include dinonylnaphthalenedisulfonic acid, dinonylnaphthalene (mono)sulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid (PTS), phosphoric acid, sulfuric acid and acetic acid. A compound selected from the group consisting of thermal acid generators such as protonic acid and sun-aid SI-100L, SI-150L, SI-110L, SI-60L and SI-80L (Samshin Chemical Industries, Ltd.), or a salt thereof, or a salt thereof Solvates may be mentioned, but are not limited thereto. Preferably, the acid catalyst is a compound selected from the group consisting of p-toluenesulfonic acid (PTS), dodecylbenzenesulfonic acid, and thermal acid generator Sunade SI-100L (Samshin Chemical Industry Co., Ltd.), or a salt thereof, Or its solvate. More preferably, the acid catalyst is pyridinium-p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid or a hydrate thereof.

본 발명의 경화성 수지 조성물이 산 촉매를 더 포함하면 상기 산 촉매의 양은 경화성 수지 조성물의 사슬상 고분자와 가교제와의 질량의 비율에 따라 적절하게 결정될 수 있으나, 바람직하게는 경화성 수지 조성물의 사슬상 고분자와 가교제 및 산 촉매의 질량의 비는 바람직하게는 1:0.03:0.05 ~ 1:2:0.1, 보다 바람직하게는 1:0.05:0.05 ~ 1:2:0.1, 더욱 바람직하게는 1:0.09:0.05 ~ 1:1:0.08이다. 또는 본 발명의 경화성 수지 조성물이 산 촉매를 더욱 포함하면 상기 산 촉매의 양은 경화성 수지 조성물의 사슬상 고분자와 가교제와의 질량의 비율에 따라 적절하게 결정될 수 있으나 용매를 포함한 전체 중량에 대하여 바람직하게는 0.5 중량%, 0.45 중량%, 0.4 중량%, 0.35 중량%, 0.3 중량%, 0.25 중량%, 0.2 중량%, 0.15 중량% 또는 0.10 중량%이며, 보다 바람직하게는 0.3 중량% 또는 0.25 중량%이다.If the curable resin composition of the present invention further includes an acid catalyst, the amount of the acid catalyst may be appropriately determined according to the ratio of the mass of the chain polymer of the curable resin composition to the crosslinking agent, but preferably the chain polymer of the curable resin composition The ratio of the mass of the crosslinking agent and the acid catalyst is preferably 1:0.03:0.05 to 1:2:0.1, more preferably 1:0.05:0.05 to 1:2:0.1, more preferably 1:0.09:0.05 ~ 1:1:0.08. Alternatively, if the curable resin composition of the present invention further includes an acid catalyst, the amount of the acid catalyst may be appropriately determined according to the ratio of the mass of the chain polymer and the crosslinking agent of the curable resin composition, but is preferably based on the total weight including the solvent. 0.5 wt%, 0.45 wt%, 0.4 wt%, 0.35 wt%, 0.3 wt%, 0.25 wt%, 0.2 wt%, 0.15 wt% or 0.10 wt%, more preferably 0.3 wt% or 0.25 wt%.

본 발명에 있어서, 경화성 수지 조성물은 용제에 따라 적절한 농도로 희석된 것일 수 있다. 즉 본 발명에 있어서 경화성 수지 조성물은 더욱 용제를 포함한다. 비점이 지나치게 낮거나 높은 것 등에 의해 경화성 수지 조성물을 글래스 등의 기판에 경화성 수지 조성물을 도포한 후 건조에 의한 균일한 도막 형성에 불편함이 없는 한, 관용의 비 양성자 용매를 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 예를 들어 프로필렌글리콜모노메틸에테르가 적당한 용제이지만 이에 한정되지 않는다. 용제에 의한 희석은 모노머의 중합 반응시와 가교제, 촉매를 첨가한 경화성 수지 조성물의 도포시 등의 취급에서 편의를 위한 것이기 때문에 희석 정도에 특정한 상한, 하한은 없다.In the present invention, the curable resin composition may be diluted to an appropriate concentration according to a solvent. That is, in the present invention, the curable resin composition further contains a solvent. As long as there is no inconvenience in forming a uniform coating film by drying after applying the curable resin composition to a substrate such as glass due to an excessively low or high boiling point, a conventional aprotic solvent can be appropriately selected and used. have. For example, propylene glycol monomethyl ether is a suitable solvent, but is not limited thereto. Since dilution with a solvent is for convenience in handling such as during the polymerization reaction of the monomer and when applying a crosslinking agent and a curable resin composition to which a catalyst is added, there is no specific upper or lower limit on the degree of dilution.

본 발명 하나의 실시형태에서 상기 조성물은 용액으로 제공된다. 바람직하게는 용액의 용매는 알코올을 포함한다. 보다 바람직하게는 상기 알코올은 1급 알콜을 포함하고, 바람직하게는 에탄올, 프로판올, 1-부탄올, 1-프로판올, 1-헥산올, 1-헵탄올, 1-옥탄올, 1-노난올 및 도데칸올로 이루어진 군으로부터 선택된 하는 일급 알코올을 포함한다, 보다 바람직하게는 에탄올, 프로판올, 1- 부탄올, 1- 프로판올 및 1- 도데칸올로 이루어진 군에서 선택되는 1급 알콜을 포함하며, 가장 바람직하게는 에탄올을 포함한다. 바람직하게는 상기 알코올은 상기 용매의 총량의 10 중량% 이상으로 존재한다. 이론에 구속되는 것을 바라지 않지만 알코올에 의해 보존 안정성이 향상되기 때문이다.In one embodiment of the invention the composition is provided as a solution. Preferably, the solvent of the solution contains alcohol. More preferably, the alcohol includes a primary alcohol, preferably ethanol, propanol, 1-butanol, 1-propanol, 1-hexanol, 1-heptanol, 1-octanol, 1-nonanol, and dode It includes a primary alcohol selected from the group consisting of canol, more preferably a primary alcohol selected from the group consisting of ethanol, propanol, 1-butanol, 1-propanol and 1-dodecanol, and most preferably Contains ethanol. Preferably, the alcohol is present in at least 10% by weight of the total amount of the solvent. Although we do not wish to be bound by theory, it is because the storage stability is improved by alcohol.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 원하는 기능의 부여와 특성의 향상을 목적으로 또한 계면활성제, 필러, 첨가제 및 발포제 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The curable resin composition of the present invention may also contain at least one of a surfactant, a filler, an additive, and a foaming agent for the purpose of imparting a desired function and improving properties.

계면활성제를 포함하는 경우 예를 들어 경화성 수지 조성물의 기판에 대한 습윤성을 향상시키고 경화성 수지 조성물을 경화시켜 형성되는 경화수지막의 두께를 얇거나 균일하게 한다. 계면활성제로는 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양성 계면활성제 및 변성 실리콘 등을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.When a surfactant is included, for example, the wettability of the curable resin composition to the substrate is improved, and the thickness of the cured resin film formed by curing the curable resin composition is made thin or uniform. Surfactants include anionic surfactants, cationic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants, and modified silicones, and these may be used alone or in combination of two or more.

음이온성 계면활성제로는 바람직하게는 폴리옥시에틸렌알킬에테르 황산염, 도데실벤젠설폰산나트륨, 스티렌-아크릴산 공중합체의 알칼리염, 알킬나프탈렌설폰산나트륨, 알킬디페닐디설폰산나트륨, 라우릴황산모노에탄올아민, 라우릴황산트리에탄올아민, 라우릴황산암모늄, 스테아르산모노에탄올아민, 스테아르산나트륨, 라우릴황산나트륨, 스티렌-아크릴산 공중합체의 모노에탄올아민, 폴리옥시에틸렌알킬에테르인산에스테르 등의 폴리 옥시에틸렌올레일에테르, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 폴리옥시에틸렌알킬에테르인산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노스테아레이트, 폴리에틸렌글리콜모노라우레이트 등을 들 수 있다.As the anionic surfactant, preferably, polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, alkali salt of styrene-acrylic acid copolymer, sodium alkylnaphthalene sulfonate, sodium alkyldiphenyldisulfonate, monoethanol lauryl sulfate Polyoxyethylene ole, such as amine, triethanolamine lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, monoethanolamine stearate, sodium stearate, sodium lauryl sulfate, monoethanolamine of styrene-acrylic acid copolymer, and polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester Il ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyethylene glycol monolaurate, etc. are mentioned.

양이온성 계면활성제로는 알킬 4급 암모늄염 및 그의 에틸렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있다.Examples of cationic surfactants include alkyl quaternary ammonium salts and ethylene oxide adducts thereof.

비이온성 계면활성제로는 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌도데실페닐에테르, 폴리옥시에틸렌올레일에테르, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬에테르 등의 에테르계 비이온성 계면활성제, 폴리옥시에틸렌올레인산에스테르, 폴리옥시에틸렌디스테아린산 에스테르, 소르비탄라우레이트, 소르비탄모노스테아레이트, 소르비탄모노올레에이트, 소르비탄세스퀴올레에이트, 폴리옥시에틸렌모노올레에이트, 폴리옥시에틸렌스테아레이트 등의 에스테르계, 3,5-디메틸-1-헥신-3-올 등의 아세틸렌 알코올계 비이온성 계면활성제, 2,4,7,9-테트라메틸-5-데신-4,7-디올, 3,6-디메틸-4-옥틴-3,6-디올 등을 들 수 있다.Nonionic surfactants include ethers such as polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene dodecylphenyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, and polyoxyethylene alkyl ether. Nonionic surfactant, polyoxyethylene oleic acid ester, polyoxyethylene distearic acid ester, sorbitan laurate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, sorbitan sesquioleate, polyoxyethylene monooleate, Esters such as polyoxyethylene stearate, acetylene alcohol-based nonionic surfactants such as 3,5-dimethyl-1-hexin-3-ol, 2,4,7,9-tetramethyl-5-decine-4, 7-diol, 3,6-dimethyl-4-octine-3,6-diol, etc. are mentioned.

양성 계면활성제로는 알킬디메틸아미노아세트산베타인 등의 알킬베타인, 알킬이미다졸린 등을 들 수 있다.Examples of amphoteric surfactants include alkyl betaines such as alkyldimethylamino acetate betaine, and alkyl imidazoline.

변성 실리콘은 폴리에테르변성 폴리실록산, 카르복시변성 폴리실록산, 에폭시변성 폴리실록산 및 아미노변성 폴리실록산 등을 들 수 있다.The modified silicones include polyether-modified polysiloxane, carboxy-modified polysiloxane, epoxy-modified polysiloxane, and amino-modified polysiloxane.

필러를 포함하는 경우, 예를 들면 경화수지막의 경도 및 내습윤성을 향상시키거나 전기 절연성 또는 전기 전도성을 부여하거나 개선 할 수 있다. 전기 절연성을 부여하거나 개선할 수 있는 필러로는 알루미나, 산화규소, 산화베릴륨, 산화구리, 아산화구리 등의 금속 산화물, 질화붕소, 질화알루미늄, 질화규소 등의 금속 질화물, 탄화규소 등의 금속 탄화물, 탄산마그네슘 등의 금속 탄산염, 다이아몬드 등의 절연성 탄소 재료, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 등의 금속수산화물 등을 예시할 수 있다. 전기 전도성을 부여하거나 개선할 수 있는 필러로 흑연, 탄소 섬유 등의 탄소 재료, 금속 규소, 알루미늄, 마그네슘 등의 금속 재료를 예시할 수 있다. 전기 절연성 또는 전기 전도성을 부여하거나 개선할 수 있는 필러는 열전 도성 향상을 목적으로 경화수지막에 포함시킬 수도 있다. When the filler is included, for example, the hardness and wettability of the cured resin film may be improved, or electrical insulation or electrical conductivity may be provided or improved. Fillers that can impart or improve electrical insulation include metal oxides such as alumina, silicon oxide, beryllium oxide, copper oxide, and nitrous oxide, metal nitrides such as boron nitride, aluminum nitride, and silicon nitride, metal carbides such as silicon carbide, and carbonic acid. Examples include metal carbonates such as magnesium, insulating carbon materials such as diamond, and metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide. Examples of fillers that can impart or improve electrical conductivity include carbon materials such as graphite and carbon fiber, and metal materials such as metallic silicon, aluminum, and magnesium. A filler that can impart or improve electrical insulation or electrical conductivity may be included in the cured resin film for the purpose of improving thermal conductivity.

열전도성 향상을 목적으로 필러를 첨가하는 경우에는 전기 절연성을 부여하거나 개선할 수 있는 필러와 전기 전도성을 부여하거나 개선할 수 있는 필러를 조합할 수 있다. 필러의 형상은 예를 들면 입자상, 미립자 나노 입자 응집 입자상 와이어 모양, 막대 모양, 바늘 모양, 판 모양 부정형, 럭비 공 모양, 육면체 모양 큰 입자와 미세 입자와 이를 복합화한 복합 미립자 등 다양한 형상의 것을 적용 가능하다. 또한 이러한 필러는 천연물이어도 좋고, 합성된 것이어도 좋다. 천연물의 경우, 산지 등에는 특히 한정이 없고, 적당히 선택할 수 있다. 또한, 필러를 포함시키는 목적은 특별히 한정되지 않고, 특성의 향상이나 기능의 부여를 목적으로 이러한 목적을 달성할 수 있는 필러를 선택할 수 있다. 포함된 필러의 종류는 1 종류로도 좋고, 2 종류 이상으로 할 수 있다.When a filler is added for the purpose of improving thermal conductivity, a filler capable of imparting or improving electrical insulation and a filler capable of imparting or improving electrical conductivity may be combined. The shape of the filler is, for example, a variety of shapes such as particulate, fine particle nanoparticle agglomerated particulate wire shape, rod shape, needle shape, plate shape irregular shape, rugby ball shape, hexahedral shape large particles and fine particles and composite fine particles combined with the same. It is possible. In addition, such a filler may be a natural product or a synthetic one. In the case of a natural product, there is no particular limitation on the place of origin, and it can be appropriately selected. In addition, the purpose of including the filler is not particularly limited, and a filler capable of achieving this purpose may be selected for the purpose of improving properties or imparting functions. The type of included filler may be one, or two or more.

첨가제를 포함하는 경우, 예를 들면 경화수지막의 내후성 등을 향상시킬 수 있다. 첨가제로는 산화 방지제 및 자외선 흡수제 등을 들 수 있다. 첨가제를 포함시키는 목적은 특별히 한정되지 않고, 특성의 향상이나 기능의 부여를 목적으로 이러한 목적을 달성할 수 있는 공지의 첨가제를 선택할 수 있다. 포함 된 첨가제의 종류는 1 종류로도 좋고, 2 종류 이상으로 할 수 있다.When the additive is included, for example, the weather resistance of the cured resin film can be improved. Examples of the additives include antioxidants and ultraviolet absorbers. The purpose of including the additive is not particularly limited, and known additives capable of achieving this purpose may be selected for the purpose of improving properties or imparting functions. The type of additives contained may be one or two or more.

하나의 실시형태에서, 바람직하게는 본 발명의 경화성 수지 조성물은 또한 계면활성제를 포함한다. 다른 실시형태에서, 바람직하게는 본 발명의 경화성 수지 조성물은 또한 발포제를 포함한다. 발포제를 포함하는 경우, 경화성 수지 조성물을 경화시켜 형성되는 경화수지막을 쉽게 제거할 수 있다. 바람직한 발포제로는 용융 온도 이상으로 분해하여 발포하는 화합물이나 산과 반응하여 발포하는 화합물과 산의 조합 등을 사용할 수 있다. 본 발명에서 사용될 수 있는 발포제로는, 예를 들면, 아조계 화합물의 아조디카르복실아미드, 바륨아조디카카르복실레이트, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 디메틸 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2'-아조비스(N-부틸-2-메틸프로피온아미드 등의 아조화합물, 디니트로소펜타메틸렌테트라민, 트리니트로트리메틸트리아민 등의 니트로소 화합물, p,p'-옥시비스벤젠설포닐히드라지드 등의 히드라지드계 화합물, p,p'-옥시비스벤젠설포닐세미카바지드 등의 설포닐세미카바지드계 화합물, 톨루엔설포닐세미카바지드 등을들 수 있다.In one embodiment, preferably the curable resin composition of the present invention also comprises a surfactant. In another embodiment, preferably the curable resin composition of the present invention also includes a blowing agent. When the foaming agent is included, the cured resin film formed by curing the curable resin composition can be easily removed. As a preferable foaming agent, a compound that decomposes and foams above a melting temperature, or a combination of a compound that foams by reacting with an acid and an acid can be used. Foaming agents that can be used in the present invention include, for example, azodicarboxylamide, barium azodicarboxylate, 2,2'-azobisisobutyronitrile, dimethyl 2,2'-azo of azo compounds. Azo compounds such as bis(2-methylpropionate), 2,2'-azobis(N-butyl-2-methylpropionamide, etc.), nitroso compounds such as dinitrosopentamethylenetetramine and trinitrotrimethyltriamine, Hydrazide compounds such as p,p'-oxybisbenzenesulfonylhydrazide, sulfonyl semicarbazide compounds such as p,p'-oxybisbenzenesulfonyl semicarbazide, toluenesulfonyl semicarbazide, etc. Can be lifted.

산과 반응하여 발포하는 화합물과 산의 조합에서 산과 반응하여 발포하는 화합물로는, 예를 들면, 알칼리 금속 탄산염 또는 중탄산염, 예를 들면, 나트륨, 칼륨, 리튬 또는 루비듐, 탄산염 또는 탄산수소산염 등의 탄산염 화합물을 들 수 있고 산으로는 유기산, 산성 인산나트륨 또는 칼륨을 포함한 산 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 유기산으로는 예를 들면, 구연산, 주석산, 호박산, 푸마르산, 또는 이들의 혼합물 등을 들 수 있다.As a compound that foams by reacting with an acid and a compound that foams by reacting with an acid in the combination of an acid, for example, an alkali metal carbonate or bicarbonate, for example, a carbonate such as sodium, potassium, lithium or rubidium, carbonate or hydrogen carbonate. Compounds, and the acids include organic acids, acids containing acidic sodium or potassium phosphate, and mixtures thereof. Examples of the organic acid include citric acid, tartaric acid, succinic acid, fumaric acid, or a mixture thereof.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 상기 "고속 경화성"을 지니며, 150 ℃ 이하에서, 바람직하게는 90 ℃, 100 ℃, 110 ℃, 120 ℃, 130 ℃, 140 ℃ 또는 150 ℃의 가열 온도에서 몇 분 이내, 바람직하게는 10 초, 20 초, 30 초, 40 초, 50 초, 1 분 또는 2 분의 가열 시간의 가열, 보다 바람직하게는 150 ℃에서 1 분의 가열에 의해 경화된 막은 용이 박리성을 지닌다. The curable resin composition of the present invention has the above "high-speed curing property", and is preferably at a heating temperature of 90°C, 100°C, 110°C, 120°C, 130°C, 140°C or 150°C for several minutes. Within, preferably 10 seconds, 20 seconds, 30 seconds, 40 seconds, 50 seconds, 1 minute or 2 minutes of heating time, more preferably 150 ℃ 1 minute by heating the cured film easily peelable Has.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 상기 "보존 안정성"을 지니고, 용액으로 형성한 경화성 수지 조성물이 예를 들어, 적절한 온도(예를 들면, 20 ℃ 또는 50 ℃)에서 장기간 (예를 들어, 1 주 2 주 3 주, 4 주, 1 개월, 2 개월, 3 개월, 4 개월, 6 개월, 9 개월, 12 개월 또는 14 개월 등) 보존한 후 보존 전에 비해 용액에 시각적으로 백탁·고화 등이 없고, 용액의 성질(점도, 또는 N.V. 등), 성막시의 성질(박리력 또는 투과율 등)에 큰 변화가 없다. 바람직하게는 특별히 한정하지 않는 일반 시험(20 ℃에서 9 개월 또는 12 개월 저장) 및 가속 시험(50 ℃에서 2 주 저장) 후 보존 전에 비해 용액에 상기 변화가 없다.The curable resin composition of the present invention has the above "storage stability", and the curable resin composition formed as a solution is, for example, at an appropriate temperature (eg, 20° C. or 50° C.) for a long period of time (eg, 1 week 2 3 weeks, 4 weeks, 1 month, 2 months, 3 months, 4 months, 6 months, 9 months, 12 months or 14 months, etc.)After storage, there is no visual cloudiness or solidification in the solution compared to before storage. There is no significant change in the properties of (viscosity, NV, etc.) and properties (peel force or transmittance, etc.) during film formation. Preferably, there is no change in the solution compared to before storage after a general test (storage at 20° C. for 9 months or 12 months) and an accelerated test (storage at 50° C. for 2 weeks), not particularly limited.

(2-2) 경화수지막 (2-2) Cured resin film

하나의 측면에서, 본 발명은 상기 (2-1)의 경화성 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 경화수지막을 제공한다.In one aspect, the present invention provides a cured resin film formed by curing the curable resin composition of (2-1).

다른 측면에서, 본 발명은 상기 (2-1)의 경화성 수지 조성물을 기판 표면에 막 형태로 경화시켜 이루어지는 용이 박리성 경화수지막을 제공한다.In another aspect, the present invention provides an easily peelable cured resin film formed by curing the curable resin composition of (2-1) on a substrate surface in a film form.

본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 형성된 경화수지막은 상기 "내열성"의 의미에서 내열성이고 또한 내열성인 온도 범위에서 가열 처리 후에도 용이 박리성을 지닌다. The cured resin film formed from the curable resin composition of the present invention is heat-resistant in the sense of "heat resistance" and has easy peelability even after heat treatment in a temperature range that is heat-resistant.

바람직하게는 본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 형성된 경화수지막은 상기 '용이 박리성'을 지닌다. 구체적으로는, 경화성 수지 조성물의 글래스 기판에 도포·가열 처리에 의해 형성된 경화수지막에서 프리 베이크(예를 들어, 100 ℃에서 2 분) 후 박리력이 10 N/mm2 이하, 1 N/mm2 이하, 0.5 N/mm2 이하 또는 0.1 N/mm2 이하이다.Preferably, the cured resin film formed from the curable resin composition of the present invention has the'easy peelability'. Specifically, after pre-baking (for example, 2 minutes at 100° C.) in a cured resin film formed by coating and heating treatment on a glass substrate of a curable resin composition, the peel force is 10 N/mm 2 or less, 1 N/mm 2 or less, 0.5 N/mm 2 or less, or 0.1 N/mm 2 or less.

바람직하게는 본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 형성된 경화수지막은 상기 "용이 박리 내열성"을 지닌다. 구체적으로는, 경화성 수지 조성물의 글래스 기판에 도포·가열 처리에 의해 형성된 경화수지막에서 프리 베이크(예를 들어, 100 ℃에서 2 분) 후 박리력 및 추가 가열(예: 230 ℃에서 1 시간) 후 박리력을 비교하면 추가 가열 전후의 박리력의 증가는 약 500 % 이하, 450 % 이하, 400 % 이하, 350 % 이하, 300 % 이하, 약 250 % 이하, 200 % 이하, 150 % 이하, 100 % 이하 또는 50 % 이하이다. 추가 가열 조건(가열 온도 및 가열 시간)은 경화성 수지 조성물 및 형성된 경화수지막에 따라 적절히 변경할 수 있다. 보다 구체적으로는, 경화성 수지 조성물의 글래스 기판에 도포·가열 처리에 의해 형성된 경화수지막에서 프리 베이크(예를 들어, 100 ℃에서 2 분) 후 박리력 및 추가 가열(예를 들면, 230 ℃에서 1 시간) 후 박리력을 비교하면 추가 가열 전후의 박리력의 증가는 1 N/mm2 이하, 0.5 N/mm2 이하 또는 0.1 N/mm2 이하이다.Preferably, the cured resin film formed from the curable resin composition of the present invention has the above "easy peeling heat resistance". Specifically, after pre-baking (for example, 2 minutes at 100°C) in a cured resin film formed by coating and heating a curable resin composition on a glass substrate, peeling force and additional heating (eg, 1 hour at 230°C) After comparing the peel force, the increase in peel force before and after additional heating is about 500% or less, 450% or less, 400% or less, 350% or less, 300% or less, about 250% or less, 200% or less, 150% or less, 100 % Or less or 50% or less. Additional heating conditions (heating temperature and heating time) can be appropriately changed depending on the curable resin composition and the formed cured resin film. More specifically, in a cured resin film formed by coating and heating treatment on a glass substrate of a curable resin composition, after pre-baking (for example, 2 minutes at 100° C.), peeling force and additional heating (eg, at 230° C.) When comparing the peeling force after 1 hour), the increase in peeling force before and after additional heating is 1 N/mm 2 or less, 0.5 N/mm 2 or less, or 0.1 N/mm 2 or less.

바람직하게는 본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 형성된 경화수지막은 상기 "스퍼터링 공정 내성"을 지닌다. 구체적으로는, 경화성 수지 조성물을 기판 위에 도포하고 가열 경화하여 (예를 들어, 150℃ / 15분) 경화수지막을 형성한 후 그 막 위에 오버코트 재료 (OC 재료)로 광경화성 레지스트를 도포하고, 프리 베이크(예를 들면, 90℃ / 100초)하고 노광(예 : 20mW, 100mJ)하고, 포스트 베이크(예를 들어, 230℃ / 30분)하고 ITO 스퍼터링 공정을 실시한 후 경화수지막이 용이 박리성을 지니는 것을 말한다. ITO 스퍼터링 공정은 해당하는 분야에 공지된 스퍼터링 법에 의해 ITO(In2O3-SnO2(인듐 주석 산화물) 막을 형성하는 방법이며, 해당하는 분야에 공지된 ITO 스퍼터링 공정이 본 발명의 경화수지막에 대해 수행될 수 있다. ITO 스퍼터링 공정의 일례로는 경화수지막을 스퍼터링 장치에 설치하고, 장치 내를 감압(예 : 0.5 Pa)하고 장치에 공기를 도입(예 : 50 sccm)하고 장치에 O2를 도입(예 : 50 sccm)하고 장치에서 가열(예를 들면 90 ℃)하여 스퍼터링(예를 들면 압력 : 0.67 Pa, DC 전력 : 110 W)을 실시한다. 각 공정은 ITO의 조성과 ITO의 두께 등에 의해 변경될 수 있다. 또한, 프리 베이크, 노광 및 포스트 베이크의 상기 조건은 일례이며, 해당하는 경화수지막이 사용되는 분야에서 공지된 방법이 적용되고 있다.Preferably, the cured resin film formed from the curable resin composition of the present invention has the above "sputtering process resistance". Specifically, a curable resin composition is applied on a substrate and cured by heating (for example, 150°C / 15 minutes) to form a cured resin film, and then a photocurable resist is applied as an overcoat material (OC material) on the film, and free After baking (e.g., 90℃ / 100sec), exposure (e.g., 20mW, 100mJ), post-baking (e.g., 230℃ / 30min) and ITO sputtering process, the cured resin film is easily peelable. It says Gini. The ITO sputtering process is a method of forming an ITO (In 2 O 3 -SnO 2 (indium tin oxide) film by a sputtering method known in the relevant field, and the ITO sputtering process known in the relevant field is the cured resin film of the present invention. As an example of the ITO sputtering process, a cured resin film is installed in the sputtering device, the inside of the device is depressurized (eg 0.5 Pa), air is introduced into the device (eg 50 sccm), and the device is O 2 Introduced (eg 50 sccm) and heated in a device (eg 90° C.) to perform sputtering (eg pressure: 0.67 Pa, DC power: 110 W) Each process includes the composition of ITO and the thickness of ITO. In addition, the above conditions of pre-baking, exposure, and post-baking are examples, and a known method in the field in which the corresponding cured resin film is used is applied.

본 발명의 경화성 수지 조성물은 대표적으로 사슬상 고분자, 가교제 및 필요에 따라 더욱 산촉매, 계면활성제, 필러, 첨가제 및 발포제를 포함하고, 이들을 용제에 용해시킨 용액을 글래스 기판(바람직하게는 소다라임 글래스) 위에 도포하고 열처리(100 ℃ ~ 230 ℃, 1분 이상)하여 경화 시킴으로써, 수백 nm 두께(바람직하게는 약 200nm ~ 약 300nm의 두께)의 용이 박리성 경화수지막을 투명 박막으로 증착시킬 수 있다. 이론에 구속되는 것을 바라지 않지만, 기구로서는 사슬상 고분자의 측쇄의 히드록시기와 가교제가 가열에 의해 가교시의 경화 수축에 박리 가능한 막이다.The curable resin composition of the present invention typically comprises a chain polymer, a crosslinking agent, and, if necessary, an acid catalyst, a surfactant, a filler, an additive, and a foaming agent, and a solution obtained by dissolving them in a solvent is used as a glass substrate (preferably soda lime glass). By coating on top and curing by heat treatment (100 ℃ ~ 230 ℃, 1 minute or more), it is possible to deposit an easily peelable cured resin film having a thickness of several hundred nm (preferably about 200 nm to about 300 nm) as a transparent thin film. Although not wishing to be bound by theory, as a mechanism, the hydroxy group of the side chain of the chain polymer and the crosslinking agent are a film which can be peeled off due to curing shrinkage during crosslinking by heating.

[화학식 31][Formula 31]

Figure pct00031
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상기 글래스 기판에 도포하는 방법으로는 공지의 코팅 방법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 스핀 코팅, 스핀리스 코팅, 다이 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 스크린 코팅, 슬릿 코팅, 딥 코팅 및 그라비아 코팅 등을 들 수 있다. 바람직하게는 스핀 코팅을 들 수 있다. As a method of applying to the glass substrate, a known coating method may be used. Examples include spin coating, spinless coating, die coating, spray coating, roll coating, screen coating, slit coating, dip coating and gravure coating. Preferably, spin coating is used.

이렇게 기판 상에 증착된 박막은 150 ℃까지 가열에 견딜 수 있으며, 바람직하게는 230 ℃의 가열(소성)에도 견딜 수 있고, 더욱 바람직하게는 300 ℃의 가열(소성)에도 견딜 수 있다. 또한, 본 발명의 경화성 수지 조성물에 의해 형성된 박막은 이러한 온도에서 가열 후에도 용이 박리성을 지니고 있기 때문에, 박막 임에도 불구하고 기존에 비해 고온에서 소성 단계를 포함하는 회로 제작 프로세스에 부착할 수 있기 때문에 회로의 특성 유지에 유리하며, 또한 회로 제작 후에도 기판에서 무리없이 쉽게 박리할 수 있다. 따라서 우수한 특징의 베이스 필름으로 시트 모양의 유연한 각종 전기·전자 회로 부품의 제조에 폭넓게 사용될 수 있으며, 예를 들면 플렉서블 디스플레이 장치 등의 제작에도 이용할 수 있다.The thin film deposited on the substrate can withstand heating up to 150° C., preferably 230° C., and more preferably 300° C. heating (baking). In addition, since the thin film formed by the curable resin composition of the present invention has easy peelability even after heating at such a temperature, although it is a thin film, it can be attached to a circuit manufacturing process including a firing step at a higher temperature than the conventional circuit. It is advantageous in maintaining the characteristics of the circuit, and can be easily peeled off from the substrate even after circuit fabrication. Accordingly, as a base film having excellent characteristics, it can be widely used for manufacturing various kinds of flexible electric/electronic circuit parts in a sheet shape, and for example, it can be used for manufacturing a flexible display device.

본 발명의 경화수지막은 바람직하게는 230~300 ℃의 가열(소성)에서 일정 시간(몇 초에서 몇 시간 이상 등)의 가열에 견딜 수 있는 내열성을 지닌다. 하나의 실시형태에서, 바람직하게는 230~300 ℃에서 8시간 이상 내열성을 지닌다. 다른 실시형태에서, 바람직하게는 230~260 ℃에서 1~2시간 내열성을 지닌다. 추가 실시형태에서 보다 바람직하게는 230 ℃에서 8 시간 이상 내열성을 지닌다. 또 다른 실시형태에서 보다 바람직하게는 230 ℃에서 1~2 시간 내열성을 지닌다. 또 다른 실시형태에서 보다 바람직하게는 300 ℃에서 1 시간 내열성을 지닌다. 또 다른 실시형태에서 보다 바람직하게는 300 ℃에서 30 분 내열성을 지닌다. The cured resin film of the present invention preferably has heat resistance capable of withstanding heating for a certain period of time (several seconds to several hours or more, etc.) at 230 to 300°C (baking). In one embodiment, it preferably has heat resistance at 230 to 300° C. for 8 hours or more. In another embodiment, it preferably has heat resistance at 230 to 260°C for 1 to 2 hours. In a further embodiment, it more preferably has heat resistance at 230° C. for 8 hours or more. In another embodiment, more preferably, it has heat resistance at 230° C. for 1 to 2 hours. In yet another embodiment, more preferably, it has heat resistance at 300° C. for 1 hour. In yet another embodiment, more preferably, it has heat resistance at 300° C. for 30 minutes.

본 발명의 경화수지막은 다음 [3] 경화수지막의 제조 방법에 기재된 방법에 따라 제조할 수 있다.The cured resin film of the present invention can be produced according to the method described in [3] Method for producing a cured resin film.

본 발명의 경화수지막의 박리력은 예를 들어 다음의 측정 방법으로 측정할 수 있다. 본 발명의 경화성 수지 조성물을 대표적으로 사슬상 고분자 가교제 및 필요에 따라 더욱 산촉매를 용제에 녹인 용액으로 준비하고 글래스 기판(바람직하게는 소다라임 글래스)에 도포하고 열처리(100~230 ℃, 1분 이상)하여 경화 시킴으로써, 글래스 기판 상에 경화수지막을 제작한다. 측정 장치로서 예를 들면, TENSILON RTG-1310 ((주) A&데이) 로드셀로 UR-100N-D 형을 사용한다. 글래스 기판 상에 경화수지막 니치반 테이프 (24mm 폭)을 붙여 글래스 기판에 박리 각도 90ㅀ에서 30 0mm/분의 일정한 속도로 당겨 박리에 필요한 힘(박리력)의 크기를 상기 장치에서 측정한다.The peel force of the cured resin film of the present invention can be measured, for example, by the following measuring method. The curable resin composition of the present invention is typically prepared as a solution in which a chain polymer crosslinking agent and an acid catalyst are dissolved in a solvent, if necessary, and applied to a glass substrate (preferably soda lime glass), and heat treated (100-230° C., for 1 minute or more). ) And cured to prepare a cured resin film on the glass substrate. As a measuring device, for example, the UR-100N-D type is used as a load cell of TENSILON RTG-1310 (A&D Co., Ltd.). The cured resin film Nichiban tape (24 mm wide) is attached to the glass substrate and pulled to the glass substrate at a constant speed of 30 0 mm/min at a peel angle of 90°, and the magnitude of the force (peel force) required for peeling is measured in the above apparatus.

본 발명의 경화수지막은 바람직하게는 0.5 N/mm2 이하의 소다 글래스 기판 또는 무알칼리 글래스 기판에서의 박리력을 지닌다. 본 발명의 경화수지막은 더욱 바람직하게는 0.1 N/mm2 이하의 소다 글래스 기판 또는 무알칼리 글래스 기판에서의 박리력을 지닌다. 본 발명의 경화수지막은 더욱 바람직하게는 0.09 N/mm2 이하의 소다 글래스 기판 또는 무알칼리 글래스 기판에서의 박리력을 지닌다. 소다 글래스 기판에서의 박리력은 바람직한 수치로는 0.5 N/mm2 이하, 0.4 N/mm2 이하, 0.3 N/mm2 이하, 0.2 N/mm2 이하, 0.1 N/mm2 이하, 0.09 N/mm2 이하, 0.08 N/mm2 이하, 0.07 N/mm2 이하, 0.06 N/mm2 이하, 0.05 N/mm2 이하, 0.04 N/mm2 이하, 0.03 N/mm2 이하, 0.02 N/mm2 이하, 0.01 N/mm2 이하이다. 무알칼리 글래스 기판의 박리력은 바람직하게는 0.5 N/mm2 이하, 0.4 N/mm2 이하, 0.3 N/mm2 이하, 0.2 N/mm2 이하, 0.1 N/mm2 이하, 0.09 N/mm2 이하, 0.08 N/mm2 이하, 0.07 N/mm2 이하, 0.06 N/mm2 이하, 0.05 N/mm2 이하, 0.04 N/mm2 이하, 0.03 N/mm2 이하, 0.02 N/mm2 이하, 0.01 N/mm2 이하이다. 소다 글래스 기판 또는 무알칼리 글래스 기판에서의 상기 박리력이 0.5 N/mm2 이하인 경우 상기 경화수지막은 용이 박리성인 것으로 간주할 수 있다.The cured resin film of the present invention preferably has a peeling force on a soda glass substrate or an alkali-free glass substrate of 0.5 N/mm 2 or less. The cured resin film of the present invention more preferably has a peeling force of 0.1 N/mm 2 or less on a soda glass substrate or an alkali-free glass substrate. The cured resin film of the present invention more preferably has a peeling force of 0.09 N/mm 2 or less on a soda glass substrate or an alkali-free glass substrate. Peeling force on the soda glass substrate is preferably 0.5 N/mm 2 or less, 0.4 N/mm 2 or less, 0.3 N/mm 2 or less, 0.2 N/mm 2 or less, 0.1 N/mm 2 or less, 0.09 N/ mm 2 or less, 0.08 N/mm 2 or less, 0.07 N/mm 2 or less, 0.06 N/mm 2 or less, 0.05 N/mm 2 or less, 0.04 N/mm 2 or less, 0.03 N/mm 2 or less, 0.02 N/mm 2 or less and 0.01 N/mm 2 or less. The peel strength of the alkali-free glass substrate is preferably 0.5 N/mm 2 or less, 0.4 N/mm 2 or less, 0.3 N/mm 2 or less, 0.2 N/mm 2 or less, 0.1 N/mm 2 or less, 0.09 N/mm 2 or less, 0.08 N/mm 2 or less, 0.07 N/mm 2 or less, 0.06 N/mm 2 or less, 0.05 N/mm 2 or less, 0.04 N/mm 2 or less, 0.03 N/mm 2 or less, 0.02 N/mm 2 Hereinafter, it is 0.01 N/mm 2 or less. When the peeling force on the soda glass substrate or the alkali-free glass substrate is 0.5 N/mm 2 or less, the cured resin film may be considered to be easily peelable.

본 발명의 경화수지막의 두께는 예를 들면 글래스 기판 상에 도포한 본 발명의 경화수지막의 일부를 칼이나 면도날 등으로 긁어서 글래스 기판을 노출시켜 글래스 기판의 표면에서 잔존하는 경화수지막의 표면까지의 높이를 측정 장치로 측정함으로써 측정할 수 있다. 측정 장비로는 촉침식 단차막후계(예를 들어 TP-10, KLA-Tencor Corporation사 제조)를 사용할 수 있다. 본 발명의 경화수지막의 두께는 바람직하게는 200~400nm, 보다 바람직하게는 200nm, 250nm 또는 300nm를 들 수 있으나 이들에 한정되지 않는다.The thickness of the cured resin film of the present invention is the height from the surface of the glass substrate to the surface of the remaining cured resin film by exposing the glass substrate by scratching a part of the cured resin film of the present invention applied on the glass substrate with a knife or a razor blade, etc. It can be measured by measuring with a measuring device. As a measuring device, a stylus type step thickness meter (for example, TP-10, manufactured by KLA-Tencor Corporation) can be used. The thickness of the cured resin film of the present invention is preferably 200 to 400 nm, more preferably 200 nm, 250 nm or 300 nm, but is not limited thereto.

본 발명의 경화수지막의 투과율은 예를 들어 다음의 측정 방법으로 측정할 수 있다. 측정 장비로는 V-660((주)일본분광)을 사용하여 본 발명의 경화수지막을 도포한 글래스 기판에 400~700nm의 파장의 광 투과도를 측정함으로써 투과율(% T)을 수득한다. 본 발명의 경화수지막의 투과율은 막의 백미/탁한 정도를 나타내고, 바람직하게는 95 % 이상이며, 보다 바람직하게는 99 % 이상이다. 또한, 본 발명의 경화수지막의 광학 특성으로 CIELAB 공간에서 L*, a*, b* 값을 측정할 수 있다. 본 발명의 경화수지막의 b*는 막의 황색을 나타내고, 바람직하게는 0.2 이하, 보다 바람직하게는 0.1 이하를 들 수 있다.The transmittance of the cured resin film of the present invention can be measured, for example, by the following measuring method. The transmittance (% T) is obtained by measuring the light transmittance of a wavelength of 400 to 700 nm on a glass substrate coated with the cured resin film of the present invention using V-660 (Japan Spectroscopy) as a measuring equipment. The transmittance of the cured resin film of the present invention indicates the degree of whiteness/cloudiness of the film, preferably 95% or more, and more preferably 99% or more. In addition, L*, a*, and b* values can be measured in the CIELAB space as the optical properties of the cured resin film of the present invention. B* of the cured resin film of the present invention represents the yellow color of the film, preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less.

본 발명의 용액으로 제조된 경화성 수지 조성물의 액체 점도를 다음의 방법으로 측정할 수 있다. 즉, 측정 장비로 ELD ((주)도쿄계기) 등의 점도계를 이용하여 용액의 점도를 측정할 수 있다. 본 발명의 경화성 수지 조성물의 점도로는 바람직하게는 3 mPa·s(cps) 이하, 보다 바람직하게는 2.5 mPa·s 이하, 2.4 mPa·s 이하, 2.3 mPa·s 이하, 2 .2 mPa·s 이하 또는 2.1 mPa·s 이하를 들 수 있다. The liquid viscosity of the curable resin composition prepared from the solution of the present invention can be measured by the following method. That is, the viscosity of the solution can be measured using a viscometer such as ELD (Tokyo Instruments Co., Ltd.) as a measuring device. The viscosity of the curable resin composition of the present invention is preferably 3 mPa·s (cps) or less, more preferably 2.5 mPa·s or less, 2.4 mPa·s or less, 2.3 mPa·s or less, and 2.2 mPa·s Or less, or 2.1 mPa·s or less.

[3] 경화수지막의 제조 방법[3] Method for producing cured resin film

하나의 측면에서, 본 발명은 상기 (2-1)의 경화성 수지 조성물의 경화수지막의 제조 방법에 있어서,In one aspect, the present invention is a method for producing a cured resin film of the curable resin composition of (2-1),

(ⅰ) 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 사슬상 고분자와 가교제를 준비하는 단계;(I) preparing a chain polymer having a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group and a crosslinking agent;

(ⅱ) 상기 사슬상 폴리머와 상기 가교제를 포함하는 상기 경화성 수지 조성물을 기판 위에 도포하고 경화 수지 조성물 도막을 형성하는 단계;(Ii) applying the curable resin composition containing the chain polymer and the crosslinking agent on a substrate and forming a curable resin composition coating film;

(ⅲ) 상기 경화성 수지 조성물 도막에서 중합 반응을 진행시켜 경화시킴으로써 경화수지막을 수득하는 단계를 포함하는(Iii) comprising the step of obtaining a cured resin film by curing by proceeding a polymerization reaction in the curable resin composition coating film

제조 방법을 제공한다.Provides a manufacturing method.

상기 제조 방법은 (ⅳ) 상기 기판 상에 형성되는 상기 경화수지막을 상기 기판으로부터 박리하는 단계를 더욱 포함한다.The manufacturing method further includes (iv) peeling the cured resin film formed on the substrate from the substrate.

상기 제조 방법은 하기 실시예에 기재된 방법 및/또는 당업자에게 공지된 동일한 방법으로 실시된다.The manufacturing method is carried out by the method described in the following examples and/or the same method known to those skilled in the art.

하나의 실시형태에서 상기 제조 방법은 단계 (ⅰ)의 전에 (ⅰ') 적어도 1 종의 원료 모노머를 중합시켜 상기 사슬상 중합체를 제조하는 단계를 더욱 포함한다.In one embodiment, the production method further comprises the step of (i') polymerizing at least one raw material monomer to prepare the chain polymer before step (i).

모노머를 중합시키는 방법으로는 예를 들면 괴상 중합법, 용액 중합법, 유화 중합법, 현탁 중합법 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다. 이러한 중합법 중에서는 괴상 중합법 및 용액 중합법이 바람직하다.As a method of polymerizing the monomer, for example, a bulk polymerization method, a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, and the like may be mentioned, but the present invention is not limited to these examples. Among these polymerization methods, the bulk polymerization method and the solution polymerization method are preferable.

또한 모노머의 중합은 예를 들면 라디칼 중합법, 리빙 라디칼 중합법, 음이온 중합법, 양이온 중합법, 부가 중합법, 중축합법 등의 방법으로 할 수 있다.In addition, the polymerization of the monomer can be performed by a method such as a radical polymerization method, a living radical polymerization method, an anionic polymerization method, a cationic polymerization method, an addition polymerization method, and a polycondensation method.

모노머를 용액 중합법에 의해 중합시키는 경우, 예를 들어 모노머를 용매에 용해시켜 수득된 용액을 교반하면서 중합 개시제를 해당하는 용액에 첨가하여 모노머를 중합시킬 수 있으며, 중합 개시제를 용매에 용해시켜 수득된 용액을 교반하면서 모노머를 해당하는 용액에 첨가하여 모노머를 중합시킬 수 있다. 용매는 모노머와 상용하는 유기 용매인 것이 바람직하다.When the monomer is polymerized by a solution polymerization method, for example, the monomer can be polymerized by adding a polymerization initiator to the corresponding solution while stirring the solution obtained by dissolving the monomer in a solvent, and obtained by dissolving the polymerization initiator in the solvent. The monomer can be polymerized by adding the monomer to the corresponding solution while stirring the resulting solution. The solvent is preferably an organic solvent compatible with the monomer.

모노머를 중합시킬 때 분자량을 조정하는 연쇄 이동제를 사용할 수 있다. 연쇄 이동제는 일반적으로 모노머와 혼합하여 사용할 수 있다. 연쇄 이동제로는, 예를 들면 2-(도데실티오카르보노티오일티오)-2-메틸프로피온산, 2-(도데실티오카르보노티오일티오)프로피온산, 메틸 2-(도데실티오카르보노티오일티오)-2-메틸프로피오네이트, 2-(도데실티오카르보노티오일티오)-2-메틸프로피온산 3-아지도-1-프로판올에스테르, 2-(도데실티오카르보노티오일티오)-2-메틸프로피온산 펜타플루오로페닐에스테르, 라우릴메르캅탄, 도데실메르캅탄, 티오글리세롤 등의 메르캅탄기 함유 화합물, 차아인산염나트륨, 아황산수소나트륨 등의 무기염 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다. 이러한 연쇄 이동제는 각각 단독으로 사용해도 좋고 2 종류 이상을 병용해도 좋다. 연쇄 이동제의 양은 특별히 한정되지 않으나 일반적으로 전체 모노머 100 중량부 당 약 0.01 중량부 ~ 10 중량부이다.When polymerizing the monomer, a chain transfer agent that adjusts the molecular weight can be used. The chain transfer agent can generally be used in combination with a monomer. Examples of the chain transfer agent include 2-(dodecylthiocarbonylthio)-2-methylpropionic acid, 2-(dodecylthiocarbonylthioylthio)propionic acid, and methyl 2-(dodecylthiocarbonylthio). Oilthio)-2-methylpropionate, 2-(dodecylthiocarbonothioylthio)-2-methylpropionic acid 3-azido-1-propanol ester, 2-(dodecylthiocarbonylthioylthio) -2-methylpropionic acid pentafluorophenyl ester, lauryl mercaptan, dodecyl mercaptan, and mercaptan group-containing compounds such as thioglycerol, inorganic salts such as sodium hypophosphite and sodium hydrogen sulfite, etc., but the present invention It is not limited to these examples. These chain transfer agents may be used individually, respectively, and 2 or more types may be used together. The amount of the chain transfer agent is not particularly limited, but is generally about 0.01 parts by weight to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the total monomer.

모노머를 중합시킬 때, 중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 중합 개시제로는 예를 들어 열 중합 개시제, 광 중합 개시제, 레독스 중합 개시제, ATRP(원자 이동 라디칼 중합) 개시제, ICAR ATRP 개시제, ARGET ATRP 개시제, RAFT(가역 추가 -분열 연쇄 이동 중합)제, NMP(니트록사이드를 통한 중합)제, 고분자 중합 개시제 등을 들 수 있다. 이러한 중합 개시제는 각각 단독으로 사용해도 좋고 2 종류 이상을 병용해도 좋다.When polymerizing the monomer, it is preferable to use a polymerization initiator. Polymerization initiators include, for example, thermal polymerization initiators, photopolymerization initiators, redox polymerization initiators, ATRP (atomic transfer radical polymerization) initiators, ICAR ATRP initiators, ARGET ATRP initiators, RAFT (reversible addition-split chain transfer polymerization) agents, NMP (Polymerization through nitroxide) agents, polymer polymerization initiators, and the like. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

열 중합 개시제로는 예를 들면 아조이소부티로니트릴, 아조이소부티르산메틸, 아조비스디메틸발레로니트릴 등의 아조계 중합 개시제, 과산화 벤조일, 과황산칼륨, 과황산암모늄 등의 과산화물계 중합 개시제 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다. 이러한 중합 개시제는 각각 단독으로 사용해도 좋고 2 종류 이상을 병용해도 좋다.Examples of thermal polymerization initiators include azo-based polymerization initiators such as azoisobutyronitrile, methyl azoisobutyrate, and azobisdimethylvaleronitrile, and peroxide-based polymerization initiators such as benzoyl peroxide, potassium persulfate, and ammonium persulfate. However, the present invention is not limited to these examples. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

중합 개시제로서 열 중합 개시제를 사용하는 경우, 해당 열 중합 개시제의 양은 전체 모노머 100 중량부 당 일반적으로 약 0.01 중량부 ~ 20 중량부인 것이 바람직하다.When a thermal polymerization initiator is used as the polymerization initiator, the amount of the thermal polymerization initiator is generally about 0.01 parts by weight to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the total monomer.

광중합 개시제로서는 예를 들면 2-옥소글루타르산, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-메틸[4-(메틸티오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 벤조페논, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)부탄-1-온, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다. 이러한 중합 개시제는 각각 단독으로 사용해도 좋고 2 종류 이상을 병용해도 좋다.As a photoinitiator, for example, 2-oxoglutaric acid, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl[4-(methylthio) Phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, benzophenone, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl ]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, bis(2,6-dime Oxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, and the like, but the present invention is not limited to these examples. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

중합 개시제로서 광중합 개시제를 사용하는 경우 해당하는 광중합 개시제의 양은 전체 모노머 100 중량부 당 일반적으로 약 0.01 중량부 ~ 20 중량부인 것이 바람직하다.When a photopolymerization initiator is used as the polymerization initiator, the amount of the photopolymerization initiator is generally about 0.01 parts by weight to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the total monomer.

본 발명에서 사용 가능한 다른 중합 개시제로는 예를 들면 과산화수소와 철(II) 염, 과황산염 및 아황산수소나트륨 등의 산화 환원 중합 개시제, 금속 촉매 하에서 알킬할라이드를 사용하는 ATRP(원자 이동 라디칼 중합) 개시제, 금속과 질소 함유 리간드를 사용하는 ICAR ATRP 개시제와 ARGET ATRP 개시제, RAFT(가역적추가-개열연쇄이동중합)제, NMP(니트록사이드를 통해 중합)제, 폴리디메틸실록산 유니트 함유 고분자 아조 중합 개시제, 폴리에틸렌글리콜 유니트 함유 고분자 아조 중합 개시제 등의 고분자 중합 개시제 등을 들 수 있으나 본 발명은 이러한 예시에만 한정되는 것은 아니다. 이러한 중합 개시제는 각각 단독으로 사용해도 좋고 2 종류 이상을 병용해도 좋다.Other polymerization initiators usable in the present invention include redox polymerization initiators such as hydrogen peroxide and iron (II) salts, persulfates and sodium hydrogen sulfite, and ATRP (atomic transfer radical polymerization) initiators using alkyl halides under a metal catalyst. , ICAR ATRP initiator and ARGET ATRP initiator using metal and nitrogen-containing ligands, RAFT (reversible addition-cleavage chain transfer polymerization) agent, NMP (polymerization through nitroxide) agent, polydimethylsiloxane unit-containing polymer azo polymerization initiator, Polymer polymerization initiators, such as a polyethylene glycol unit-containing polymer azo polymerization initiator, etc., but the present invention is not limited to these examples. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

중합 개시제로서 상기 사용 가능한 중합 개시제를 사용하는 경우, 해당 중합 개시제의 양은 전체 모노머 100 중량부 당 일반적으로 약 0.01 중량부 ~ 20 중량부인 것이 바람직하다.When using the available polymerization initiator as the polymerization initiator, the amount of the polymerization initiator is generally about 0.01 parts by weight to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the total monomer.

하나의 실시형태에서 모노머에 전자선을 조사함으로써 전자선 중합이 진행된다.In one embodiment, electron beam polymerization proceeds by irradiating the monomer with electron beams.

모노머를 중합시킬 때의 중합 반응 온도 및 분위기에 대해서는 특별히 한정되지 않는다. 일반적으로 중합 반응 온도는 약 50 ℃ 내지 약 120 ℃이다. 중합 반응시의 분위기는 예를 들면 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기인 것이 바람직하다. 또한 모노머의 중합 반응 시간은 중합 반응 온도 등에 따라 다르기 때문에 일률적으로 결정할 수는 없으나 일반적으로 약 3~20 시간이다.It does not specifically limit about the polymerization reaction temperature and atmosphere when polymerizing a monomer. In general, the polymerization reaction temperature is about 50 °C to about 120 °C. The atmosphere during the polymerization reaction is preferably an inert gas atmosphere such as nitrogen gas. In addition, the polymerization reaction time of the monomer cannot be determined uniformly because it varies depending on the polymerization reaction temperature, etc., but is generally about 3 to 20 hours.

하나의 실시형태에서 상기 제조 방법의 단계 (ⅱ)에서 상기 기판은 바람직하게는 글래스 기판이며, 보다 바람직하게는 소다 글래스(소다 라임 글래스라고도 한다) 또는 무알칼리 글래스(예 EAGLE- XG 코닝)이며 더욱 바람직하게는 소다 글래스이다.In one embodiment, in step (ii) of the manufacturing method, the substrate is preferably a glass substrate, more preferably soda glass (also referred to as soda lime glass) or alkali-free glass (eg EAGLE-XG Corning). It is preferably a soda glass.

하나의 실시형태에서 상기 제조 방법의 단계 (ⅱ)에서 상기 경화성 수지 조성물을 상기 기판에 도포하는 방법으로는 공지의 코팅 방법을 사용할 수 있다. 예를 들어 스핀 코팅, 다이 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 스크린 코팅, 슬릿 코팅, 딥 코팅, 그라비아 코팅 등을 들 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 바람직하게는 스핀 코팅을 사용하여 도포할 수 있다.In one embodiment, a known coating method may be used as a method of applying the curable resin composition to the substrate in step (ii) of the manufacturing method. For example, spin coating, die coating, spray coating, roll coating, screen coating, slit coating, dip coating, gravure coating, and the like may be mentioned, but are not limited thereto. Preferably, it can be applied using spin coating.

다른 실시형태에서 상기 제조 방법의 단계 (ⅱ)에서 바람직하게는 상기 조성물은 또한 산 촉매를 포함한다. 이론에 구속되는 것을 바라지 않으나 상기 경화성 수지 조성물 도막은 산 촉매를 포함하는 것에 의해 산 촉매가 단계 (ⅲ)에서의 중합 반응에서 중합 촉매 역할을 하며 반응을 촉진할 수 있기 때문이다. 따라서 다른 실시형태에서 상기 제조 방법의 단계 (ⅰ)가 산 촉매를 구비하는 단계를 더욱 포함한다.In another embodiment in step (ii) of the preparation method preferably the composition also comprises an acid catalyst. Without wishing to be bound by theory, it is because the coating film of the curable resin composition contains an acid catalyst, so that the acid catalyst acts as a polymerization catalyst in the polymerization reaction in step (iii) and can accelerate the reaction. Accordingly, in another embodiment, step (i) of the production method further comprises providing an acid catalyst.

다른 실시형태에서 상기 제조 방법에서 단계 (ⅲ)은 상기 경화성 수지 조성물 도막을 가열 처리하는 단계를 더욱 포함한다. 상기 가열처리 온도로는 바람직하게는 100 ℃~300 ℃, 보다 바람직하게는 150 ℃~300 ℃가 꼽힌다. 상기 가열처리 시간은 바람직하게는 1 분 이상, 보다 바람직하게는 10 분, 20 분, 30 분, 40 분, 50 분, 1 시간, 2 시간, 3 시간, 4 시간, 5 시간, 6 시간 등을 들 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 특히 바람직한 상기 가열처리 시간은 10 분에서 2 시간이다.In another embodiment, step (iii) in the manufacturing method further includes a step of heat treating the curable resin composition coating film. The heat treatment temperature is preferably 100°C to 300°C, more preferably 150°C to 300°C. The heat treatment time is preferably 1 minute or more, more preferably 10 minutes, 20 minutes, 30 minutes, 40 minutes, 50 minutes, 1 hour, 2 hours, 3 hours, 4 hours, 5 hours, 6 hours, etc. But is not limited thereto. A particularly preferred heat treatment time is 10 minutes to 2 hours.

상기 제조 방법에 의해 제조된 경화수지막은 상기 (2-2)의 경화수지막의 특성을 지니며 용이 박리막, 보다 바람직하게는 용이 박리 내열성 막으로 수득할 수 있다.The cured resin film prepared by the above manufacturing method has the characteristics of the cured resin film of (2-2) and can be obtained as an easily peelable film, more preferably an easily peelable heat-resistant film.

[4] 용도 [4] Use

본 발명의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막은 합성수지, 펠렛, 필름, 플레이트, 섬유, 튜브, 고무, 엘라스토머 등에 사용되며, 이륜차(자전거, 오토바이 등), 자동차, 비행기, 기차, 선박 로켓, 우주선, 운송, 레저, 가구(예를 들어 테이블, 의자, 책상, 선반 등), 침구(예를 들어 침대, 해먹 등), 의류, 보호복, 스포츠용품, 욕조, 주방, 식기, 조리 도구 용기 및 포장재(식품 용기, 화장품 용기, 화물 컨테이너, 휴지통 등), 건축(건물, 도로, 건축 부품 등), 농업 필름, 공업 필름, 상하수도, 도료, 화장료, 전기 산업 및 전자 산업 분야(전자 제품, 컴퓨터 부품, 프린트 기판, 절연체, 전도체, 배선 피막 재료, 발전 소자, 스피커, 마이크, 노이즈 캔슬러, 트랜스듀서 등), 광통신 케이블, 의료용 재료 및 기구(카테터, 가이드 와이어, 인공 혈관, 인공 근육, 인공 장기, 투석막, 내시경 등), 소형 펌프, 액츄에이터, 로봇 재료(산업용 로봇 등에 사용되는 센서) 에너지 생성 장치 및 플랜트(태양광, 풍력 발전 등) 등 다양한 분야에 응용할 수 있다.The curable resin composition or curable resin film of the present invention is used for synthetic resins, pellets, films, plates, fibers, tubes, rubber, elastomers, and the like, and is used for two-wheeled vehicles (bicycles, motorcycles, etc.), automobiles, airplanes, trains, ship rockets, spacecraft, transportation, Leisure, furniture (e.g. tables, chairs, desks, shelves, etc.), bedding (e.g. beds, hammocks, etc.), clothing, protective clothing, sporting goods, bathtubs, kitchenware, tableware, cookware containers and packaging (food containers) , Cosmetic containers, cargo containers, trash bins, etc.), construction (buildings, roads, construction parts, etc.), agricultural films, industrial films, water and sewage, paints, cosmetics, electrical and electronic industries (electronic products, computer parts, printed circuit boards, etc.) Insulators, conductors, wiring coating materials, power generation elements, speakers, microphones, noise cancellers, transducers, etc.), optical communication cables, medical materials and devices (catheter, guide wire, artificial blood vessels, artificial muscles, artificial organs, dialysis membranes, endoscopes, etc.) ), small pumps, actuators, robotic materials (sensors used in industrial robots, etc.), energy generating devices, and plants (solar power, wind power generation, etc.).

본 발명의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막은 전자 재료, 의료 재료, 의료 재료, 생명 과학 재료, 또는 로봇 재료 등에 사용될 수 있다. 본 발명의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막은 예를 들면, 카테터, 가이드 와이어, 의약품 용기, 튜브 등의 재료로 사용될 수 있다.The curable resin composition or cured resin film of the present invention can be used for electronic materials, medical materials, medical materials, life science materials, robot materials, and the like. The curable resin composition or cured resin film of the present invention can be used as a material, such as a catheter, a guide wire, a pharmaceutical container, and a tube.

본 발명의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막은 자동차 부품(차체 패널, 범퍼 벨트, 로커 패널, 사이드몰, 엔진 부품, 구동 부품 전도 부품, 조종 장치 부품, 안정기 부품, 현가·제동 장치 부품. 브레이크 부품, 샤프트 부품, 파이프류, 탱크류, 바퀴, 시트, 시트 벨트 등)에 사용될 수 있다. 본 발명의 폴리머는 자동차 방진재, 자동차용 도료, 자동차용 합성수지 등에 사용될 수 있다.The curable resin composition or cured resin film of the present invention is used for automobile parts (car body panels, bumper belts, rocker panels, side malls, engine parts, driving parts conduction parts, steering device parts, ballast parts, suspension/braking parts, brake parts, and shaft parts). Parts, pipes, tanks, wheels, seats, seat belts, etc.). The polymer of the present invention can be used for automobile vibration isolators, automobile paints, automobile synthetic resins, and the like.

본 발명의 경화성 수지 조성물 또는 경화수지막은 특히 디스플레이 장치(예를 들면 액정 디스플레이 장치) 등의 표시 장치에 사용된다.The curable resin composition or cured resin film of the present invention is particularly used in display devices such as display devices (eg, liquid crystal display devices).

액정 디스플레이 장치 등의 표시 장치는 발매기, ATM 스마트폰 등의 휴대용 단말기, 컴퓨터 등의 기타 각종 전기·전자기기에 폭넓게 이용될 수 있다. 그 디스플레이 장치의 스크린은 일반적으로 강직한 평판형이다. 이에 대해 표시 장치의 잠재적 용도의 확대를 반영하여 어느 정도의 변형이 가능한 스크린을 지닌 유연한 디스플레이 장치의 개발이 이루어지고 있다. 구부릴 수 있는 회로를 구성하는 기판으로는 수지 베이스 필름이 있으나 디스플레이 장치의 스크린 중에서 사용하는 경우, 미세한 회로를 제작할 수 있거나 투명하고 가능한 한 얇고 가벼운 것이 요구된다.Display devices such as liquid crystal display devices can be widely used in vending machines, portable terminals such as ATM smartphones, and other various electric and electronic devices such as computers. The screen of the display device is generally a rigid flat panel. On the other hand, the development of a flexible display device having a screen that can be deformed to some extent is being developed by reflecting the expansion of potential uses of the display device. As a substrate constituting a bendable circuit, there is a resin base film, but when used in a screen of a display device, it is required to be able to produce a fine circuit or to be transparent and as thin and light as possible.

수지 베이스 필름 상에 여러 가지 미세한 전기·전자 회로의 제작은 예를 들면, 포토리소그래피 법이 사용되고, 베이스 필름 위의 금속막 형성, 포토레지스트 막을 코팅, 프리베이크, 회로 패턴의 노광, 레지스트 용해에 의한 현상, 린스, 소성, 에칭, 포토레지스트 제거 등의 공정이 목적과 방법에 따라 결합되고 반복되어 회로가 제작된다. 또한 이와 같이하여 제작되는 층 위와 층 사이에는 필요에 따라 이방성 도전막(ACF)이 배치되고, 그 위에 필요한 부위에 프린트 배선 기판이 배치되고, 가열, 가압 하여 이방성 도전막을 통해 프린트 회로 기판과 금속 배선 사이의 회로 연결이 이루어진다. For the production of various fine electric and electronic circuits on a resin base film, for example, photolithography is used, and a metal film is formed on the base film, a photoresist film is coated, prebaked, and the circuit pattern is exposed, and the resist is dissolved. Processes such as developing, rinsing, firing, etching, photoresist removal, etc. are combined and repeated according to the purpose and method to produce a circuit. In addition, an anisotropic conductive film (ACF) is arranged as necessary between the layers produced in this way, and a printed wiring board is arranged on the required part, and heated and pressurized to pass the printed circuit board and metal wiring through the anisotropic conductive film. The circuit connection between is made.

이렇게 라미네이트로 회로 전체가 제작되는 경우에는 일반적으로 여러 번의 소성 단계가 포함된다. 회로의 성능을 위해서는 소성은 충분한 높이의 온도(230 ℃ 부근)에서 실시하는 것이 바람직하지만, 베이스 필름의 내열성 수준에 따라 소성 가능한 온도 상한이 제약을 받는다. 즉, 베이스 필름이 견딜 수 있는 한도 이하의 저온 측의 영역에 있지 않으면 각 단계에서의 소성을 할 수 없다. 이러한 저온에서 소성 가능한 금속 배선으로 다른 재료(은나노 입자 등)를 사용하는 것이 가능하기는 하나 이를 이용한 저온 소성에 의해 제작되는 배선은 ITO를 이용한 기존의 배선에 비해 특성이 떨어지기 때문에 기술적으로 바람직하지 않다.In this case, the entire circuit is made of laminate, which usually involves several firing steps. For the performance of the circuit, firing is preferably carried out at a sufficient temperature (around 230°C), but the upper limit of the firing temperature is limited depending on the heat resistance level of the base film. That is, firing in each step cannot be performed unless the base film is in a region on the low-temperature side that is less than the tolerable limit. Although it is possible to use other materials (silver nanoparticles, etc.) for the metal wiring that can be fired at such low temperatures, the wiring produced by low temperature firing using this is technically not desirable because its characteristics are lower than that of conventional wiring using ITO. not.

게다가 베이스 필름은 해마다 박형화가 요구되고 있으나 박형화에 따라 베이스 필름의 내열성이 저하된다. 그 결과 현재는 열처리 온도의 상한이 100 ℃ 정도까지 저하되고 있어 향후 더욱 박형화 요청에 따라 베이스 필름의 가열 처리에 견딜 수 있는 온도의 상한이 더욱 감소하는 것으로 가정하면 회로의 성능을 유지할 수 있는 온도에서 소성에 대응할 수 있는 베이스 필름 재료가 눈에 띄지 않는다는 문제가 있다.In addition, the base film is required to be thinner every year, but the heat resistance of the base film decreases with the thinning. As a result, the upper limit of the heat treatment temperature is currently lowering to about 100 ℃, and assuming that the upper limit of the temperature that can withstand the heat treatment of the base film is further reduced in response to further thinning requests in the future, the temperature at which the performance of the circuit can be maintained. There is a problem that the base film material that can cope with firing is not conspicuous.

따라서 더 높은 온도를 견디는 베이스 필름 재료가 요구되고 있다.Therefore, there is a need for a base film material that withstands higher temperatures.

또한 박형화에 따라 베이스 필름은 300nm 정도의 매우 얇은 막을 이용하는 것이 바람직하고, 그러기 위해서는 다른 기판(글래스 기판 등)에 베이스 필름 재료인 수지 조성물을 도포하고 열 경화 등에 의해 경화시켜 성막하는 방법으로 베이스 필름을 제조하는 것이 필요하다. 글래스 등의 기판에 형성된 이 매우 얇은 베이스 필름에 금속 배선 등의 회로 구성 요소를 순차적으로 층상에 형성하고, 이방성 도전막 설치, 프린트 기판 배선의 적층, 회로 연결 등도 목적에 따라 수행하고 절연 보호막의 적층을 수행한 후, 글래스 등의 기판에서 베이스 필름을 그 위에 형성된 각 층과 함께 일체의 적층체로서 떼어내면 회로 부품으로서의 적층체를 수득할 수 있다. In addition, according to the thickness reduction, it is preferable to use a very thin film of about 300 nm. To do this, the base film is formed by applying a resin composition, which is a base film material, to another substrate (glass substrate, etc.) and curing it by heat curing. It is necessary to manufacture. Circuit components such as metal wiring are sequentially formed in layers on this very thin base film formed on a substrate such as glass, and anisotropic conductive film is installed, printed circuit board wiring is laminated, and circuit connection is also performed according to the purpose, and insulating protective film is laminated. After performing the process, the base film is removed from a substrate such as glass as an integral laminate together with each layer formed thereon, whereby a laminate as a circuit component can be obtained.

여기서 글래스 등의 기판으로부터 적층체를 떼어내는 것은 무리없이 용이해야 한다. 그렇지 않으면 당겨 떼어낼 때의 부하에 의해 적층체에 큰 왜곡이 발생하고 그로 인하여 금속 배선의 단선 및 회로 연결의 박리가 발생하여 제품의 현저한 수율 악화를 초래하기 때문이다.Here, it should be easy without difficulty to remove the laminated body from the substrate such as glass. Otherwise, a large distortion occurs in the stacked body due to the load when pulling and removing it, resulting in disconnection of the metal wiring and separation of the circuit connection, leading to a significant deterioration in yield of the product.

특히 기판 재료 자체는 박막 형태에서 기존보다 높은 온도에서의 열처리에 견딜 수 있어도, 그 위에 배선을 제작하는 공정에서의 소성이 그만큼 높은 온도에서 이루어지면 기판 재료와 그것이 실려있는 기판 표면은 고착하기 쉬워진다. 이 때문에 기판 재료로는 박막 형태에서 기존보다 고온에서의 소성에 견디는 것만으로는 부족하며 이러한 고온 소성 후에도 기판에서 무리없이 쉽게 박리할 수 있는 특성을 지녀야 한다.In particular, although the substrate material itself can withstand heat treatment at a higher temperature than before in the form of a thin film, the substrate material and the surface of the substrate on which it is mounted become easier to adhere if the firing in the process of manufacturing the wiring on it is performed at that high temperature . For this reason, it is not enough to withstand firing at high temperatures in the form of a thin film as a substrate material, and it must have a characteristic that can be easily peeled off the substrate even after such high temperature firing.

더욱이 상기와 같이 베이스 필름은 매우 얇은 것이기 때문에 이를 형성하기 위한 수지 재료는 기판(글래스 기판 등)에 도포했을 때, 기판에 튕기지 않고 매우 얇고 균일하게 확대될 수 있는 성질의 것(예를 들어 습윤성을 지니는 것)이어야 한다. 기판에 대한 이러한 친화성은 반면에 소성 공정에서 기판과의 고착을 가져올 수 있으므로 용이박리성을 잃게 할 수 있는 요인 중 하나이기도 하다.Moreover, since the base film is very thin as described above, the resin material for forming it is very thin and uniformly expandable without being bounced on the substrate when it is applied to a substrate (such as a glass substrate) (for example, wettability. Have). This affinity for the substrate, on the other hand, is also one of the factors that can cause the easy peelability to be lost because it can lead to sticking with the substrate in the firing process.

본 발명은 경화성 수지 조성물을 기판(글래스 등)의 표면에 매우 얇게 도포하여 가열 경화시켜 경화수지박막을 증착할 수 있고, 그 위에 패턴화 등으로 회로를 제작하는 과정에서의 소성에서 230 ℃ ~ 300 ℃의 고온에 견딜 수 있으며 게다가 그러한 고온에 노출된 후에도 기판에서 무리없이 쉽게 박리할 수 있는 경화성 수지 조성물 및 경화수지막을 제공함으로써 상기 열거한 용도 등 다양한 분야에 응용할 수 있다.In the present invention, a curable resin composition can be applied very thinly to the surface of a substrate (glass, etc.) and cured by heating to deposit a curable resin thin film. In the firing process of producing a circuit by patterning, etc., 230 ℃ ~ 300 By providing a curable resin composition and a cured resin film that can withstand a high temperature of °C and can be easily peeled off a substrate even after being exposed to such a high temperature, it can be applied to various fields such as the above-mentioned uses.

본 명세서에서 인용된 과학 문헌, 특허, 특허출원 등의 참고 문헌은 그 전체가 각각 구체적으로 기재된 것과 동일한 정도로 본 명세서에서 참고로 원용된다.References such as scientific literature, patents, patent applications, etc. cited in this specification are incorporated herein by reference to the same extent as those in which the whole is specifically described.

이상, 본 발명을 이해의 용이성을 위해 바람직한 실시형태를 나타내고 설명해 왔다. 이하에서는 실시예에 따라 본 발명을 설명하지만 상술한 설명 및 이하의 실시예는 예시의 목적으로만 제공되며 본 발명을 한정할 목적으로 제공하는 것은 아니다. 따라서 본 발명의 범위는 본 명세서에 구체적으로 기재된 실시형태와 실시예에 의해 한정되지 않으며 특허청구범위에 의해서만 한정된다.In the above, preferred embodiments of the present invention have been shown and described for ease of understanding. Hereinafter, the present invention will be described according to examples, but the above description and the following examples are provided for illustrative purposes only and are not intended to limit the present invention. Accordingly, the scope of the present invention is not limited by the embodiments and examples specifically described in the present specification, but only by the claims.

(실시예) (Example)

이하, 실시예를 참조하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명이 그러한 실시예에 의해 한정되는 것은 의도하지 않는다. 그리고 각 실시예에 개시된 기술적 수단을 적절하게 조합하여 얻어지는 실시예도 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but it is not intended that the present invention be limited by such Examples. Further, examples obtained by appropriately combining the technical means disclosed in each of the examples are also included in the scope of the present invention.

<방법 및 재료><Method and material>

본 실시예, 시험예 및 비교예에서 사용된 방법 및 재료는 별도의 언급이 없는 한 다음의 것을 사용하였다.The methods and materials used in this Example, Test Example, and Comparative Example were the following unless otherwise noted.

<겔 투과 크로마토그래피><Gel permeation chromatography>

폴리머를 포함하는 혼합물을 테트라하이드로퓨란 혼합물의 고형분이 0.1 중량 %가 되도록 희석하여 샘플을 준비하고 희석액을 40 ℃로 유지한 겔 투과 크로마토그래피 컬럼 (TSK GEL 5000HXL, TSK GEL 3000HXL (도소(주) 제조; 상품명)의 총 2 개를 이러한 순서로 직렬로 연결(5000HXL이 상류))에 주입하였다. 이어 희석액이 주입된 겔 투과 크로마토그래피 칼럼에 용리액으로 테트라하이드로퓨란을 1ml/분으로 주입하여 폴리머를 포함하는 용리액을 추출하고 시차 굴절률 검출기(도소(주) 제조)에 의해 폴리머 분자량을 측정하였다.Gel permeation chromatography columns (TSK GEL 5000HXL, TSK GEL 3000HXL (manufactured by Tosoh Corporation) were prepared by diluting the mixture containing the polymer so that the solid content of the tetrahydrofuran mixture was 0.1% by weight, and maintaining the diluted solution at 40°C. ; Brand name) was injected in series (5000HXL is upstream) in this order. Then, tetrahydrofuran was injected as an eluent at 1 ml/min into the gel permeation chromatography column into which the diluent was injected to extract the eluent containing the polymer, and the polymer molecular weight was measured by a differential refractive index detector (manufactured by Tosoh Corporation).

<가교제><crosslinking agent>

MW-30 : 헥사메톡시메틸멜라민, 상품명 니카락 MW-30, (주)삼화화학MW-30: Hexamethoxymethylmelamine, brand name Nikarak MW-30, Samwha Chemical Co., Ltd.

MX-270 : 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴, 상품명 니카락 MW-270, (주)삼화화학MX-270: 1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl) glycoluril, brand name Nikarak MW-270, Samwha Chemical Co., Ltd.

BX-4500 : 테트라메톡시메틸벤조구아나민, 상품명 니카락 BX-4500, (주)삼화화학BX-4500: Tetramethoxymethylbenzoguanamine, brand name Nikarak BX-4500, Samwha Chemical Co., Ltd.

<산 촉매> p-톨루엔설폰산피리디늄, (주)도쿄화학공업<Acid catalyst> pyridinium p-toluenesulfonic acid, Tokyo Chemical Industries, Ltd.

<용제> 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10<Solvent> Propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10

<중합체><polymer>

경화성 수지 조성물의 구성 요소를 형성하는 공중합체는 다음의 제조예에 기재된 바와 같이 제조하였다.The copolymer forming the constituent elements of the curable resin composition was prepared as described in the following Preparation Examples.

(제조예 1) 중합체 A-1의 제조(Production Example 1) Preparation of Polymer A-1

하기 식 (1-1)The following formula (1-1)

[화학식 32][Formula 32]

Figure pct00032
Figure pct00032

의 2-히드록시프로필메타크릴레이트를 모노머로 사용하여 그의 100 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME) 30 중량%가 되도록 용해시켰다. 수득된 용액에 질소 가스를 불어넣으면서 80 ℃까지 승온하고 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN)을 모노머 총량에 대해 5 몰% 첨가한 후 80 ℃에서 8시간 동안 반응을 수행함으로써 중합체 A-1Using 2-hydroxypropyl methacrylate as a monomer, 100 parts by mass thereof was dissolved so as to be 30% by weight of propylene glycol monomethyl ether (PGME). The resulting solution was heated to 80° C. while blowing nitrogen gas, 2,2′-azobisisobutyronitrile (AIBN) was added 5 mol% based on the total amount of the monomer, and the reaction was carried out at 80° C. for 8 hours. A-1

[화학식 33][Formula 33]

Figure pct00033
Figure pct00033

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량(MW)을 측정한 결과, 25,000이었다.Was obtained. It was 25,000 as a result of measuring the weight average molecular weight (MW) of this polymer by gel permeation chromatography.

(제조예 2) 중합체 A-2의 제조(Production Example 2) Preparation of Polymer A-2

하기 식 (1-2)The following formula (1-2)

[화학식 34][Formula 34]

Figure pct00034
Figure pct00034

의 3-벤조일옥시-2-히드록시프로필메타크릴레이트를 모노머로 사용한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 중합체 A-2Polymer A-2 in the same manner as in Preparation Example 1 except that 3-benzoyloxy-2-hydroxypropyl methacrylate was used as a monomer.

[화학식 35][Formula 35]

Figure pct00035
Figure pct00035

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량(MW)을 측정한 결과, 22,000이었다.Was obtained. It was 22,000 when the weight average molecular weight (MW) of this polymer was measured by gel permeation chromatography.

(제조예 3) 중합체 A-3의 제조(Production Example 3) Preparation of Polymer A-3

하기 식 (1-3)The following formula (1-3)

[화학식 36][Formula 36]

Figure pct00036
Figure pct00036

의 4-벤조일옥시-3-히드록시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 모노머로 사용한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 중합체 A-3Polymer A-3 in the same manner as in Preparation Example 1, except that 4-benzoyloxy-3-hydroxycyclohexylmethylmethacrylate was used as a monomer.

[화학식 37][Formula 37]

Figure pct00037
Figure pct00037

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량 (MW)을 측정한 결과, 32,000이었다.Was obtained. It was 32,000 when the weight average molecular weight (MW) of this polymer was measured by gel permeation chromatography.

(제조예 4) 중합체 A-4의 제조(Production Example 4) Preparation of Polymer A-4

하기 식 (1-4)The following formula (1-4)

[화학식 38][Formula 38]

Figure pct00038
Figure pct00038

의 1,3-아다만틸디올모노메타크릴레이트를 모노머로 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 중합체 A-4Polymer A-4 in the same manner as in Example 1 except that 1,3-adamantyldiol monomethacrylate of

[화학식 39][Formula 39]

Figure pct00039
Figure pct00039

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량(MW)을 측정한 결과, 18,000이었다.Was obtained. It was 18,000 when the weight average molecular weight (MW) of this polymer was measured by gel permeation chromatography.

(제조예 5) 중합체 A-5의 제조(Production Example 5) Preparation of Polymer A-5

하기 식 (1-5)The following formula (1-5)

[화학식 40][Formula 40]

Figure pct00040
Figure pct00040

의 2-히드록시시클로헥실메타크릴레이트를 모노머로 사용한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 중합체 A-5Polymer A-5 in the same manner as in Preparation Example 1 except that 2-hydroxycyclohexyl methacrylate was used as a monomer.

[화학식 41][Formula 41]

Figure pct00041
Figure pct00041

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량 (MW)을 측정한 결과, 36,000이었다.Was obtained. It was 36,000 when the weight average molecular weight (MW) of this polymer was measured by gel permeation chromatography.

(제조예 6) 중합체 A-6의 제조(Production Example 6) Preparation of Polymer A-6

하기 식 (1-6)The following formula (1-6)

[화학식 42][Formula 42]

Figure pct00042
Figure pct00042

의 4-히드록시시클로헥실메타크릴레이트를 모노머로 사용한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 중합체 A-6Polymer A-6 was carried out in the same manner as in Preparation Example 1 except that 4-hydroxycyclohexyl methacrylate was used as a monomer.

[화학식 43][Formula 43]

Figure pct00043
Figure pct00043

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량 (MW)을 측정한 결과, 33,000이었다.Was obtained. It was 33,000 when the weight average molecular weight (MW) of this polymer was measured by gel permeation chromatography.

(제조예 7) 중합체 A-7의 제조(Production Example 7) Preparation of Polymer A-7

하기 식 (1-7)Equation (1-7)

[화학식 44][Formula 44]

Figure pct00044
Figure pct00044

의 4-히드록시페닐메타크릴레이트를 모노머로 사용한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 중합체 A-7Polymer A-7 in the same manner as in Preparation Example 1 except that 4-hydroxyphenyl methacrylate was used as a monomer.

[화학식 45][Formula 45]

Figure pct00045
Figure pct00045

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량 (MW)을 측정한 결과, 30,000이었다.Was obtained. It was 30,000 when the weight average molecular weight (MW) of this polymer was measured by gel permeation chromatography.

(제조예 8) 중합체 A-8의 제조(Production Example 8) Preparation of Polymer A-8

하기 식 (1-8)Equation (1-8)

[화학식 46][Chemical Formula 46]

Figure pct00046
Figure pct00046

의 4-(4-메톡시페닐프로페노일)옥시-3-히드록시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 모노머로 사용한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 중합체 A-8Polymer A-8 in the same manner as in Preparation Example 1 except that 4-(4-methoxyphenylpropenoyl)oxy-3-hydroxycyclohexylmethylmethacrylate was used as a monomer.

[화학식 47][Chemical Formula 47]

Figure pct00047
Figure pct00047

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량 (MW)을 측정한 결과, 27,700이었다.Was obtained. It was 27,700 when the weight average molecular weight (MW) of this polymer was measured by gel permeation chromatography.

(제조예 9) 중합체 A-9의 제조(Production Example 9) Preparation of Polymer A-9

하기 식 (1-9)Equation (1-9)

[화학식 48][Formula 48]

Figure pct00048
Figure pct00048

의 4-아다만탄카르복시옥시-3-히드록시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 모노머로 사용한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 중합체 A-9Polymer A-9 was carried out in the same manner as in Preparation Example 1 except that 4-adamantanecarboxyoxy-3-hydroxycyclohexylmethylmethacrylate was used as a monomer.

[화학식 49][Chemical Formula 49]

Figure pct00049
Figure pct00049

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량 (MW)을 측정한 결과, 31,700이었다.Was obtained. It was 31,700 as a result of measuring the weight average molecular weight (MW) of this polymer by gel permeation chromatography.

(제조예 10) 중합체 A-10의 제조(Production Example 10) Preparation of Polymer A-10

하기 식 (1-10)The following formula (1-10)

[화학식 50][Formula 50]

Figure pct00050
Figure pct00050

의 2-히드록시에틸메타크릴레이트를 모노머로 사용한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 중합체 A-10Polymer A-10 was carried out in the same manner as in Preparation Example 1 except that 2-hydroxyethyl methacrylate was used as a monomer.

[화학식 51][Formula 51]

Figure pct00051
Figure pct00051

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량 (MW)을 측정한 결과, 42,000이었다.Was obtained. It was 42,000 when the weight average molecular weight (MW) of this polymer was measured by gel permeation chromatography.

(제조예 11) 중합체 A-11의 제조(Production Example 11) Preparation of Polymer A-11

하기 식 (1-11)Equation (1-11)

[화학식 52][Formula 52]

Figure pct00052
Figure pct00052

의 4-(히드록시메틸)시클로헥실메틸아크릴레이트를 모노머로 사용한 것 이외에는 제조예 1과 동일하게 하여 중합체 A-11Polymer A-11 was carried out in the same manner as in Preparation Example 1 except that 4-(hydroxymethyl)cyclohexylmethylacrylate was used as a monomer.

[화학식 53][Formula 53]

Figure pct00053
Figure pct00053

을 수득하였다. 겔 투과 크로마토그래피에 의해 이 중합체의 중량 평균 분자량 (MW)을 측정한 결과, 18,000이었다.Was obtained. It was 18,000 as a result of measuring the weight average molecular weight (MW) of this polymer by gel permeation chromatography.

본 발명의 경화성 수지 조성물을 다음과 같이 제조하였다.The curable resin composition of the present invention was prepared as follows.

(실시예 1)(Example 1)

중합체 A-1 45 질량부, 가교제로서 하기 식 (B-1)45 parts by mass of polymer A-1, the following formula (B-1) as a crosslinking agent

[화학식 54][Chemical Formula 54]

Figure pct00054
Figure pct00054

의 헥사메톡시메틸멜라민(니카락 MW-30, (주)삼화화학) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).50 parts by mass of hexamethoxymethylmelamine (Nicarac MW-30, Samwha Chemical Co., Ltd.) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 Dissolving in solution gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 2)(Example 2)

중합체 A-1 45 질량부, 가교제로서 하기 식 (B-2)45 parts by mass of polymer A-1, the following formula (B-2) as a crosslinking agent

[화학식 55][Chemical Formula 55]

Figure pct00055
Figure pct00055

의 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(니카락 MX-270, (주)삼화화학) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).Of 1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl) glycoluril (Nikarak MX-270, Samwha Chemical Co., Ltd.)50 parts by mass and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol The composition was obtained as a solution by dissolving in a solution of monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 (NV = 5%).

(실시예 3)(Example 3)

중합체 A-1 45 질량부, 가교제로서 하기 식 (B-3)45 parts by mass of polymer A-1, the following formula (B-3) as a crosslinking agent

[화학식 56][Formula 56]

Figure pct00056
Figure pct00056

의 테트라메톡시메틸벤조구아나민(니카락 BX-4500, (주)삼화화학) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).50 parts by mass of tetramethoxymethylbenzoguanamine (Nikarac BX-4500, Samwha Chemical Co., Ltd.) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90 The composition was obtained as a solution by dissolving in /10 solution (NV = 5%).

(실시예 4)(Example 4)

중합체 A-2 45 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-2, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 5)(Example 5)

중합체 A-2 45 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-2, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 6)(Example 6)

중합체 A-2 45 질량부, 가교제 테트라메톡시메틸벤조구아나민(식 (B-3)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-2, 50 parts by mass of crosslinking agent tetramethoxymethylbenzoguanamine (formula (B-3)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ Dissolving in a solution of ethanol = 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 7)(Example 7)

중합체 A-3 45 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-3, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 8)(Example 8)

중합체 A-3 45 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-3, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 9)(Example 9)

중합체 A-3 45 질량부, 가교제 테트라메톡시메틸벤조구아나민(식 (B-3)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-3, 50 parts by mass of crosslinking agent tetramethoxymethylbenzoguanamine (formula (B-3)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ Dissolving in a solution of ethanol = 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 10)(Example 10)

중합체 A-4 45 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-4, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 11)(Example 11)

중합체 A-4 45 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-4, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 12)(Example 12)

중합체 A-4 45 질량부, 가교제 테트라메톡시메틸벤조구아나민(식 (B-3)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-4, 50 parts by mass of crosslinking agent tetramethoxymethylbenzoguanamine (formula (B-3)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ Dissolving in a solution of ethanol = 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 13)(Example 13)

중합체 A-5 45 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-5, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 14)(Example 14)

중합체 A-5 45 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-5, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 15)(Example 15)

중합체 A-5 45 질량부, 가교제 테트라메톡시메틸벤조구아나민(식 (B-3)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-5, 50 parts by mass of crosslinking agent tetramethoxymethylbenzoguanamine (Formula (B-3)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ Dissolving in a solution of ethanol = 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 16)(Example 16)

중합체 A-6 45 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-6, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (Formula (B-1)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 17)(Example 17)

중합체 A-6 45 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-6, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 18)(Example 18)

중합체 A-6 45 질량부, 가교제 테트라메톡시메틸벤조구아나민(식 (B-3)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-6, 50 parts by mass of crosslinking agent tetramethoxymethylbenzoguanamine (Formula (B-3)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ Dissolving in a solution of ethanol = 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 19)(Example 19)

중합체 A-7 45 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-7, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 20)(Example 20)

중합체 A-7 45 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-7, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 21)(Example 21)

중합체 A-7 45 질량부, 가교제 테트라메톡시메틸벤조구아나민(식 (B-3)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-7, 50 parts by mass of crosslinking agent tetramethoxymethylbenzoguanamine (Formula (B-3)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ Dissolving in a solution of ethanol = 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 22)(Example 22)

중합체 A-8 45 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-8, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 23) (Example 23)

중합체 A-8 45 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-8, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 24) (Example 24)

중합체 A-8 45 질량부, 가교제 테트라메톡시메틸벤조구아나민(식 (B-3)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-8, 50 parts by mass of crosslinking agent tetramethoxymethylbenzoguanamine (Formula (B-3)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ Dissolving in a solution of ethanol = 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 25)(Example 25)

중합체 A-9 45 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-9, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 26)(Example 26)

중합체 A-9 45 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-9, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 27)(Example 27)

중합체 A-9 45 질량부, 가교제 테트라메톡시메틸벤조구아나민(식 (B-3)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-9, 50 parts by mass of crosslinking agent tetramethoxymethylbenzoguanamine (formula (B-3)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ Dissolving in a solution of ethanol = 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 28)(Example 28)

중합체 A-1 30 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 65 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).Polymer A-1 30 parts by mass, crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)) 65 parts by mass, and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 29)(Example 29)

중합체 A-1 70 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 25 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).70 parts by mass of polymer A-1, 25 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 30)(Example 30)

중합체 A-1 30 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 65 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).Polymer A-1 30 parts by mass, crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) 65 parts by mass and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 31)(Example 31)

중합체 A-1 70 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 25 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).70 parts by mass of polymer A-1, 25 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 32)(Example 32)

중합체 A-2 30 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 65 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).Polymer A-2 30 parts by mass, crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (Formula (B-1)) 65 parts by mass, and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 33)(Example 33)

중합체 A-2 70 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 25 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).70 parts by mass of polymer A-2, 25 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 34)(Example 34)

중합체 A-2 30 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 65 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).Polymer A-2 30 parts by mass, crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) 65 parts by mass and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(실시예 35)(Example 35)

중합체 A-2 70 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 25 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).70 parts by mass of polymer A-2, 25 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(비교예 1)(Comparative Example 1)

중합체 A-10 45 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-10, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(비교예 2)(Comparative Example 2)

중합체 A-10 45 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-10, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(비교예 3)(Comparative Example 3)

중합체 A-10 45 질량부, 가교제 테트라메톡시메틸벤조구아나민(식 (B-3)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-10, 50 parts by mass of crosslinking agent tetramethoxymethylbenzoguanamine (formula (B-3)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ Dissolving in a solution of ethanol = 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(비교예 4)(Comparative Example 4)

중합체 A-11 45 질량부, 가교제 헥사메톡시메틸멜라민(식 (B-1)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-11, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethoxymethylmelamine (formula (B-1)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(비교예 5)(Comparative Example 5)

중합체 A-11 45 질량부, 가교제 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴(식 (B-2)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-11, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril (formula (B-2)) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst Part was dissolved in a solution of propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 to obtain a composition as a solution (NV = 5%).

(비교예 6)(Comparative Example 6)

중합체 A-11 45 질량부, 가교제 테트라메톡시메틸벤조구아나민(식 (B-3)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-11, 50 parts by mass of crosslinking agent tetramethoxymethylbenzoguanamine (formula (B-3)), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ Dissolving in a solution of ethanol = 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(비교예 7)(Comparative Example 7)

중합체 A-1 45 질량부, 가교제 톨루엔디이소시아네이트(TDI, 미쓰이화학(주)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-1, 50 parts by mass of crosslinking agent toluene diisocyanate (TDI, Mitsui Chemical Co., Ltd.) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluene sulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = 90 Dissolution in a solution of /10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(비교예 8)(Comparative Example 8)

중합체 A-1 45 질량부, 가교제 이소포론디이소시아네이트(IPDI, 미쓰이화학(주)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-1, 50 parts by mass of crosslinking agent isophorone diisocyanate (IPDI, Mitsui Chemical Co., Ltd.), and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonate as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(비교예 9)(Comparative Example 9)

중합체 A-1 45 질량부, 가교제 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI, 미쓰이화학(주)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-1, 50 parts by mass of crosslinking agent hexamethylenediisocyanate (HDI, Mitsui Chemical Co., Ltd.) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol monomethyl ether (PGME)/ethanol = Dissolving in a solution of 90/10 gave the composition as a solution (NV = 5%).

(비교예 10)(Comparative Example 10)

중합체 A-1 45 질량부, 가교제 1,3-비스(이소시아네이트메틸)벤젠(타케네토 500, 미쓰이화학(주)) 50 질량부 및 중합 촉매로서 p-톨루엔설폰산피리디늄 5 질량부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PGME)/에탄올 = 90/10의 용액에 용해시켜 조성물을 용액으로 수득하였다 (N.V. = 5 %).45 parts by mass of polymer A-1, 50 parts by mass of crosslinking agent 1,3-bis(isocyanate methyl)benzene (Takeneto 500, Mitsui Chemical Co., Ltd.) and 5 parts by mass of pyridinium p-toluenesulfonic acid as a polymerization catalyst propylene glycol mono The composition was obtained as a solution by dissolving in a solution of methyl ether (PGME)/ethanol = 90/10 (NV = 5%).

(측정 실시예 1) 박리력 및 투과율의 평가(Measurement Example 1) Evaluation of peel strength and transmittance

상기 각 실시예 및 각 비교예의 조성물을 0.7mm의 소다 글래스에 각각 스핀 코팅에 의해 도포하고, 100 ℃에서 2분 가열한 후 150 ℃에서 5분 가열하고 230 ℃에서 2시간, 230 ℃에서 8시간, 260 ℃에서 2시간 또는 300 ℃에서 30분간 가열 처리하여 약 300nm 두께의 막을 형성하였다. 또는 상기의 각 실시예 및 각 비교예의 조성물을 0.7mm의 소다 글래스에 각각 스핀 코팅에 의해 도포하고, 100 ℃에서 30초 가열하여 약 300nm 두께의 막을 형성하였다. 그리고 각각의 글래스 기판 위에 제작된 경화 수지 박막에 대한 투과율 (λ = 400nm) 및 그들을 글래스 기판으로부터 박리시키는데 필요한 힘의 크기(박리력)에 대해 평가한 박리력, 투과율 측정 방법은 하기에 나타내었다. 박리력과 투과율의 측정 결과를 표 1 ~ 표 5에 나타내었다.The compositions of each of the Examples and Comparative Examples were applied to 0.7 mm of soda glass by spin coating, heated at 100° C. for 2 minutes, heated at 150° C. for 5 minutes, and heated at 230° C. for 2 hours, and at 230° C. for 8 hours. , A film having a thickness of about 300 nm was formed by heating at 260° C. for 2 hours or 300° C. for 30 minutes. Alternatively, the compositions of each of the Examples and Comparative Examples were applied to 0.7 mm of soda glass by spin coating, and heated at 100° C. for 30 seconds to form a film having a thickness of about 300 nm. And the transmittance (λ = 400 nm) of the cured resin thin film prepared on each glass substrate and the peel force and transmittance measurement method evaluated for the magnitude of the force required to peel them off the glass substrate (peel force) are shown below. The measurement results of the peel force and transmittance are shown in Tables 1 to 5.

박리력 (N/mm2) : 측정 장비로 TENSILON RTG-1310((주) A&데이) 로드셀로 UR-100N-D 형을 사용한 측정은 글래스 기판 위의 경화수지박막에 니치반 테이프 (24mm 폭)를 붙여 글래스 기판에 박리 각도 90 ㅀ에서 300 mm/분의 일정한 속도로 당겨 박리에 필요한 힘(박리력)의 크기를 상기 장치로 측정하여 실시하였다. 또한 각각의 실시예 및 각각의 비교예에서 글래스 기판으로부터 박리되지 않은 것에 대해서는 투과율을 측정하지 않았다.Peeling force (N/mm 2 ): Measurement using TENSILON RTG-1310 (A&D Co., Ltd.) as a load cell, UR-100N-D type as a load cell, a nichiban tape (24mm width) on the cured resin thin film on the glass substrate The glass substrate was pulled at a constant speed of 300 mm/min at a peeling angle of 90° to measure the magnitude of the force (peel force) required for peeling with the above apparatus. In addition, the transmittance was not measured for what was not peeled off from the glass substrate in each Example and each Comparative Example.

투과율 (%) : 측정 장치로서, V-660((주)일본분광)를 이용하여 동일한 글래스 기판에 400 ~ 700nm의 파장의 광 투과도를 측정했다.Transmittance (%): As a measuring device, the light transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm was measured on the same glass substrate using V-660 (Japan Spectroscopy).

Figure pct00057
Figure pct00057

Figure pct00058
Figure pct00058

Figure pct00059
Figure pct00059

Figure pct00060
Figure pct00060

Figure pct00061
Figure pct00061

표 1 ~ 표 5에서 다음을 알 수 있다.From Tables 1 to 5, the following can be seen.

실시예 1 내지 35에 나타내는 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 사슬상 폴리머를 포함하는 경화성수지막은 비교예 1 ~ 6의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 사슬상 폴리머를 포함하지 않는 경화성수지막에 비해 용이 박리 내열성 및 고속경화성이 높다는 것을 알 수 있다.The curable resin film comprising a chain polymer having a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group as shown in Examples 1 to 35 is an alcoholic secondary or tertiary It can be seen that the easy peeling heat resistance and high speed curing property are higher than that of the curable resin film not containing a chain polymer having a side chain having a grade OH-containing group or a phenolic OH-containing group.

또한 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체 및 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체로 이루어진 군에서 선택되는 것인 실시예 1 ~ 35는 가교제로 이소시아네이트를 사용한 비교예 7 ~ 10에 비해 용이 박리 내열성이 높은 것을 알 수 있다. 특히 동일한 사슬상 폴리머를 포함하고 가교제가 상이한 실시예 1 ~ 3 및 비교예 7 ~ 10을 비교하면, 가교제가 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체 및 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체로 이루어진 군에서 선택되는 것이 용이 박리 내열성 및 고속경화성이 높다는 것을 알 수 있다.In addition, Examples 1 to 35, wherein the crosslinking agent is selected from the group consisting of a triazine-based compound and/or a condensate thereof and a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, are easily peeled compared to Comparative Examples 7 to 10 using isocyanate as a crosslinking agent It can be seen that the heat resistance is high. In particular, when comparing Examples 1 to 3 and Comparative Examples 7 to 10 containing the same chain polymer and different crosslinking agents, the crosslinking agent is a group consisting of a triazine-based compound and/or a condensate thereof and a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof. It can be seen that those selected from are high in easy peeling heat resistance and high speed curing properties.

이상과 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 이용하여 본 발명을 예시하여 왔지만, 본 발명은 특허청구범위에 의해서만 그 범위가 해석되어야 하는 것으로 이해된다. 본 명세서에서 인용한 특허, 특허출원 및 다른 문헌은 그 내용 자체가 구체적으로 본 명세서에 기재되어있는 것과 마찬가지로 그 내용이 본원에 참고로 원용되는 것으로 이해된다.As described above, although the present invention has been illustrated by using the preferred embodiments of the present invention, it is understood that the scope of the present invention should be interpreted only by the claims. Patents, patent applications, and other documents cited in this specification are understood to be incorporated herein by reference in their contents as if they were specifically described herein.

(산업상 이용가능성)(Industrial availability)

본 발명은 글래스 등의 기판에 매우 얇게 도포되고 도포 후 건조 경화시킴으로써 극히 얇은 경화수지박막을 증착할 수 있고 그 위에 패턴화 등으로 회로를 제작하는 공정에서의 소성에서 230 ℃ ~ 300 ℃의 고온에서 내구성이 있고 또한 그러한 고온에 노출된 후에도 보드에서 무리없이 박리할 수 있는 경화성 수지 조성물에 관한 것으로, 필름형 전기·전자회로 부품의 제조에 유용하다.The present invention is applied very thinly to a substrate such as glass, and then dried and cured after application to deposit an extremely thin curable resin thin film. In the firing process in the process of manufacturing a circuit by patterning, etc., at a high temperature of 230 ℃ to 300 ℃ It relates to a curable resin composition that is durable and can be peeled off the board without difficulty even after being exposed to such high temperatures, and is useful for manufacturing film-type electric/electronic circuit parts.

Claims (50)

알코올성 제2급 및 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 구비한 사슬상 고분자와 가교제를 포함하여 이루어지는 경화성 수지 조성물에 있어서,
(a) 상기 사슬상 폴리머가 식 A1 :
[화학식 1]
Figure pct00062

[상기 식에서,
R1a는 수소, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택되고,
L1은 단일 결합, 치환 또는 비치환 알킬렌기 및 치환 또는 비치환 알케닐렌기로 이루어진 군에서 선택되고,
L2는 O 또는 NH이고,
R2a, R3a 및 R4a는 서로 독립적으로 수소 및 치환 또는 비치환 탄화수소 라디칼로 이루어진 군에서 선택되고, 단 R2a, R3a 및 R4a 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기거나, 또는 R2a, R3a 및 R4a 중 적어도 두 개가 합체되어 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 또는 페놀성 OH를 함유하는 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기, 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기, 또는 이들을 포함하는 다환체를 형성한다.]
로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것이며,
(b) 상기 가교제는 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체, 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체 및 이미다졸리디논계 화합물 및/또는 그의 축합체
로 구성된 군에서 선택되는 것인
경화성 수지 조성물.
In the curable resin composition comprising a crosslinking agent and a chain polymer having side chains having alcoholic secondary and tertiary OH-containing groups or phenolic OH-containing groups,
(a) the chain polymer is formula A1:
[Formula 1]
Figure pct00062

[In the above formula,
R 1a is selected from the group consisting of hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group,
L 1 is selected from the group consisting of a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, and a substituted or unsubstituted alkenylene group,
L 2 is O or NH,
R 2a , R 3a and R 4a are each independently selected from the group consisting of hydrogen and a substituted or unsubstituted hydrocarbon radical, provided that at least one of R 2a , R 3a and R 4a is a substituted or unsubstituted alcoholic secondary or secondary A substituted or unsubstituted cycloalkyl group containing a tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group, or at least two of R 2a , R 3a and R 4a combined to contain alcoholic secondary or tertiary OH or phenolic OH , To form a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, a substituted or unsubstituted heteroaromatic group, or a polycyclic body containing them.]
It includes a monomer unit represented by,
(b) The crosslinking agent is a triazine-based compound and/or a condensate thereof, a glycoluril-based compound and/or a condensate thereof, and an imidazolidinone-based compound and/or a condensate thereof
Which is selected from the group consisting of
Curable resin composition.
제 1항에 있어서, 상기 사슬상 폴리머가 식 A2 :
[화학식 2]
Figure pct00063

[상기 식에서
R1a, L1 및 L2는 청구항 1항에 기재된 바와 같고,
R5a ~ R14a는 서로 독립적으로 수소, 히드록시기 및
[화학식 3]
Figure pct00064

으로 구성된 군으로부터 선택되거나 합체되어 고리를 형성하고, 단 R5a ~ R14a 또는 상기 고리의 치환기 중 적어도 하나가 히드록시기이며,
R15a는 치환 또는 비치환 알킬기, 치환 또는 비치환 알케닐기, 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기 및 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기로 구성된 군에서 선택된다.]
로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것인 경화성 수지 조성물.
The method of claim 1, wherein the chain polymer is formula A2:
[Formula 2]
Figure pct00063

[In the above formula
R 1a , L 1 and L 2 are as described in claim 1,
R 5a to R 14a are independently of each other hydrogen, a hydroxy group, and
[Formula 3]
Figure pct00064

It is selected from the group consisting of or is combined to form a ring, provided that at least one of R 5a to R 14a or a substituent of the ring is a hydroxy group,
R 15a is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, and a substituted or unsubstituted heteroaromatic group. .]
Curable resin composition containing a monomer unit represented by.
제 1항 또는 제 2항에 있어서, L1은 치환 또는 비치환 알킬렌기 및 치환 또는 비치환 알케닐렌기로 이루어진 군에서 선택되는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to claim 1 or 2, wherein L 1 is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkylene group and a substituted or unsubstituted alkenylene group.
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, L1은 치환 또는 비치환 알킬렌기인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein L 1 is a substituted or unsubstituted alkylene group.
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, L1은 메틸렌기인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein L 1 is a methylene group.
제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 사슬상 폴리머가 식 A5 :
[화학식 4]
Figure pct00065

[상기 식에서
R1a 및 L1은 청구항 1항에 기재된 바와 같고,
R19a는 치환 또는 비치환 시클로알킬기, 치환 또는 비치환 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기 및 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기로 이루어진 군에서 선택된다.]
로 표시되는 모노머 단위를 포함하는 것인 경화성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the chain polymer is formula A5:
[Formula 4]
Figure pct00065

[In the above formula
R 1a and L 1 are as described in claim 1,
R 19a is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, and a substituted or unsubstituted heteroaromatic group.]
Curable resin composition containing a monomer unit represented by.
제 6항에 있어서, L1은 치환 또는 비치환 알킬렌기인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to claim 6, wherein L 1 is a substituted or unsubstituted alkylene group.
제 6항 또는 제 7항에 있어서, L1은 메틸렌기인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to claim 6 or 7, wherein L 1 is a methylene group.
제 6항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, R19a는 페닐기인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 6 to 8, wherein R 19a is a phenyl group.
제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서, 가교제는 트리아진계 화합물 및/또는 그의 축합체인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 9, wherein the crosslinking agent is a triazine-based compound and/or a condensation thereof.
제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 가교제는
[화학식 5]
Figure pct00066

인 경화성 수지 조성물.
The method of any one of claims 1 to 10, wherein the crosslinking agent
[Formula 5]
Figure pct00066

Phosphorus curable resin composition.
제 1항 또는 제 2항에 있어서, L1은 단일 결합인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to claim 1 or 2, wherein L 1 is a single bond.
제 2항 내지 제 5항 또는 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, R5a ~ R14a 중 2 개 이상이 히드록시기이며, 다른 것은 수소인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 2 to 5 or 12, wherein at least two of R 5a to R 14a are hydroxy groups, and the other is hydrogen.
제 2항 내지 제 5항 또는 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, R5a ~ R14a 중 하나가 히드록시기이며, 다른 것은 수소인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 2 to 5 or 12, wherein one of R 5a to R 14a is a hydroxy group, and the other is hydrogen.
제 2항 내지 제 5항 또는 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, R5a ~ R13a는 수소이고, R14a는 히드록시기인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 2 to 5 or 12, wherein R 5a to R 13a are hydrogen and R 14a is a hydroxy group.
제 1항 내지 제 9항 또는 제 12항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 있어서, 가교제는 글리콜우릴계 화합물 및/또는 그의 축합체인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 9 or 12 to 15, wherein the crosslinking agent is a glycoluril-based compound and/or a condensation thereof.
제 1항 내지 제 9항 또는 제 12항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 있어서, 가교제는
[화학식 6]
Figure pct00067

인 경화성 수지 조성물.
The method of any one of claims 1 to 9 or 12 to 15, wherein the crosslinking agent
[Formula 6]
Figure pct00067

Phosphorus curable resin composition.
제 1항 내지 제 10항 또는 제 12항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 있어서, 가교제는
[화학식 7]
Figure pct00068

인 경화성 수지 조성물.
The method of any one of claims 1 to 10 or 12 to 15, wherein the crosslinking agent
[Formula 7]
Figure pct00068

Phosphorus curable resin composition.
제 1항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물은 용액으로 제공되는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 18, wherein the composition is provided as a solution.
제 19항에 있어서, 용액의 용매는 알코올을 포함하는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to claim 19, wherein the solvent of the solution contains alcohol.
제 20항에 있어서, 상기 알코올은 일급 알코올을 포함하는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to claim 20, wherein the alcohol contains primary alcohol.
제 20항에 있어서, 상기 알코올은 에탄올을 포함하는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition of claim 20, wherein the alcohol contains ethanol.
제 20항 내지 제 22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 알코올은 용매의 총량의 10 중량 % 이상으로 존재하는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 20 to 22, wherein the alcohol is present in an amount of 10% by weight or more of the total amount of the solvent.
제 1항 내지 제 23항 중 어느 한 항에 있어서, 가교제는 전체 또는 부분 알콕시메틸화 멜라민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 구아나민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 아세토구아나민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 벤조구아나민 및/또는 그의 축합체, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 글리콜우릴 및/또는 그의 축합체, 및 전체 또는 부분 알콕시메틸화 이미다졸리디논 및/또는 그의 축합체로 이루어진 군에서 선택되는 것인 경화성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 23, wherein the crosslinking agent is wholly or partially alkoxymethylated melamine and/or condensates thereof, wholly or partially alkoxymethylated guanamine and/or condensates thereof, wholly or partially alkoxymethylated acetogua Namine and/or condensates thereof, wholly or partially alkoxymethylated benzoguanamine and/or condensates thereof, wholly or partially alkoxymethylated glycoluril and/or condensates thereof, and wholly or partially alkoxymethylated imidazolidinone and/or Curable resin composition that is selected from the group consisting of condensates thereof.
제 1항 내지 제 24항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가교제는 식 B1 :
[화학식 8]
Figure pct00069

[상기 식에서
R1b는 탄소 원자 1~25 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기, 치환 또는 비치환 알케닐기, 치환 또는 비치환 방향족기, 치환 또는 비치환 헤테로 방향족기 및
[화학식 9]
Figure pct00070

로 표시되는 2치환 아민으로 이루어진 군에서 선택되고,
R2b ~ R7b는 서로 독립적으로 탄소수 1~10 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기 이루어진 군에서 선택된다.]
로 표시되는 화합물 및/또는 그의 축합체,
식 B2 :
[화학식 10]
Figure pct00071

[상기 식에서 R8b ~ R11b는 서로 독립적으로 탄소수 1~10 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택된다.]
로 표시되는 화합물 및/또는 그의 축합체, 및
식 B3 :
[화학식 11]
Figure pct00072

[상기 식에서
R12b 및 R13b는 서로 독립적으로 탄소수 1~10 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기로 이루어진 군에서 선택되고,
R14b 및 R15b는 서로 독립적으로 수소이거나 또는 탄소 원자 1~10 개를 지니고, 치환 또는 비치환 알킬기 및 치환 또는 비치환 알케닐기 이루어진 군에서 선택된다.]
로 표시되는 화합물 및/또는 그의 축합체
로 구성된 군에서 선택되는 것인 경화성 수지 조성물.
The method of any one of claims 1 to 24, wherein the crosslinking agent is formula B1:
[Formula 8]
Figure pct00069

[In the above formula
R 1b has 1 to 25 carbon atoms, and is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aromatic group, a substituted or unsubstituted heteroaromatic group, and
[Formula 9]
Figure pct00070

It is selected from the group consisting of disubstituted amines represented by,
R 2b to R 7b each independently have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group.]
A compound represented by and/or a condensate thereof,
Equation B2:
[Formula 10]
Figure pct00071

[In the above formula, R 8b to R 11b each independently have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group.]
A compound represented by and/or a condensate thereof, and
Equation B3:
[Formula 11]
Figure pct00072

[In the above formula
R 12b and R 13b independently of each other have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group,
R 14b and R 15b are each independently hydrogen or have 1 to 10 carbon atoms, and are selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group and a substituted or unsubstituted alkenyl group.]
Compound represented by and/or condensate thereof
Curable resin composition that is selected from the group consisting of.
제 1항 내지 제 25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 축합체는 식 B1, 식 B2, 또는 식 B3로 표시되는 화합물의 중합체를 포함하는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 25, wherein the condensation product contains a polymer of a compound represented by formula B1, formula B2, or formula B3.
제 1항 내지 제 25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 축합체는 식 B1, 식 B2, 또는 식 B3로 표시되는 화합물의 이량체, 삼량체 및 보다 고차의 중합체 중 적어도 하나를 포함하는 경화성 수지 조성물.
The curable resin according to any one of claims 1 to 25, wherein the condensate comprises at least one of a dimer, a trimer, and a higher order polymer of a compound represented by Formula B1, Formula B2, or Formula B3. Composition.
제 1항 내지 제 27항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가교제는 식 B1, 식 B2, 또는 식 B3로 표시되는 화합물에 대하여 1.3 내지 1.8 까지의 중량 평균 중합도를 각각 지니는 것인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 27, wherein the crosslinking agent has a weight average polymerization degree of 1.3 to 1.8 with respect to the compound represented by Formula B1, Formula B2, or Formula B3, respectively.
제 25항 내지 제 28항 중 어느 한 항에 있어서, R1b는 치환 또는 비치환 방향족기 및
[화학식 12]
Figure pct00073

로 표시되는 2치환 아민으로 이루어진 군에서 선택되고, R2b ~ R13b는 서로 독립적으로, 치환 또는 비치환 알킬기이고, R14b 및 R15b는 서로 독립적으로 수소인 경화성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 25 to 28, wherein R 1b is a substituted or unsubstituted aromatic group and
[Formula 12]
Figure pct00073

Is selected from the group consisting of a disubstituted amine represented by, R 2b to R 13b are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 14b and R 15b are each independently hydrogen.
제 1항 내지 제 29항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물 중에 있어서 직쇄상 고분자의 질량과 가교제의 질량의 비율이 1:2 ~ 1:0.05 인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 29, wherein a ratio of the mass of the linear polymer and the mass of the crosslinking agent in the composition is 1:2 to 1:0.05.
제 1항 내지 제 30항 중 어느 한 항에 있어서, 산 촉매를 더욱 포함하는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 30, further comprising an acid catalyst.
제 31항에 있어서, 상기 산 촉매가 브뢴스테드 산 및/또는 루이스 산으로부터 선택되는 화합물, 또는 그의 염 또는 그의 용매화물인 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to claim 31, wherein the acid catalyst is a compound selected from Bronsted acid and/or Lewis acid, or a salt thereof or a solvate thereof.
제 1항 내지 제 32항 중 어느 한 항에 있어서, 계면활성제, 필러, 첨가제 및 발포제 중 적어도 하나를 더욱 포함하는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 32, further comprising at least one of a surfactant, a filler, an additive, and a foaming agent.
제 1항 내지 제 32항 중 어느 한 항에 있어서, 계면활성제를 더욱 포함하는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 32, further comprising a surfactant.
제 1항 내지 제 32항 중 어느 한 항에 있어서, 발포제를 더욱 포함하는 경화성 수지 조성물.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 32, further comprising a foaming agent.
제 1항 내지 제 35항 중 어느 한 항에 있어서, 150 ℃에서 1 분의 가열에 의해 경화되는 경화성을 지니는 경화성 수지 조성물.
36. The curable resin composition according to any one of claims 1 to 35, which has curability that is cured by heating at 150° C. for 1 minute.
제 1항 내지 제 36항 중 어느 한 항에 따른 경화성 수지 조성물을 경화시켜 된 경화수지막.
A cured resin film obtained by curing the curable resin composition according to any one of claims 1 to 36.
제 37항에 있어서, 상기 경화수지막은 400nm 에서 99 % 이상의 투과율(% T) 및 0.1 이하의 b*을 지니는 경화수지막.
The cured resin film of claim 37, wherein the cured resin film has a transmittance (% T) of 99% or more and b* of 0.1 or less at 400 nm.
제 37항에 있어서, 230 ℃ ~ 300 ℃의 내열성을 지니는 경화수지막.
The cured resin film according to claim 37, having heat resistance of 230°C to 300°C.
제 39항에 있어서, 230 ℃ ~ 260 ℃에서 1~2 시간, 내열성을 지니는 경화수지막.
The cured resin film according to claim 39, having heat resistance at 230° C. to 260° C. for 1 to 2 hours.
제 39항에 있어서, 230 ℃에서 8 시간 이상, 내열성을 지니는 경화수지막.
The cured resin film according to claim 39, having heat resistance at 230° C. for 8 hours or more.
제 39항에 있어서, 230 ℃에서 1~2 시간, 내열성을 지니는 경화수지막.
The cured resin film according to claim 39, having heat resistance at 230° C. for 1 to 2 hours.
제 1항 내지 제 36항 중 어느 한 항에 따른 경화성 수지 조성물을 기판 표면에 막 형태로 경화시켜 된 용이 박리성 경화수지막.
An easily peelable cured resin film obtained by curing the curable resin composition according to any one of claims 1 to 36 in the form of a film on the surface of a substrate.
제 37항 내지 제 43항 중 어느 한 항에 있어서, 0.5 N/mm2 이하의 소다 글래스 기판 또는 무알칼리 글래스 기판에 있어서 박리력을 지니는 경화수지막.
The cured resin film according to any one of claims 37 to 43, which has a peeling force in a soda glass substrate of 0.5 N/mm 2 or less or an alkali-free glass substrate.
제 37항 내지 제 44항 중 어느 한 항에 있어서, 0.1 N/mm2 이하의 소다 글래스 기판 또는 무알칼리 글래스 기판에 있어서 박리력을 지니는 경화수지막.
The cured resin film according to any one of claims 37 to 44, which has a peeling force in a soda glass substrate of 0.1 N/mm 2 or less or an alkali-free glass substrate.
제 1항 내지 제 36항 중 어느 한 항에 따른 경화성 수지 조성물로부터의 경화수지막 제조 방법에 있어서,
(ⅰ) 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 측쇄를 지닌 사슬상 폴리머와 가교제를 준비하는 단계;
(ⅱ) 사슬상 폴리머와 가교제를 포함하는 경화성 수지 조성물을 기판 위에 도포하고 경화 수지 조성물 도막을 형성하는 단계;
(ⅲ) 경화성 수지 조성물 도막에 있어서 중합 반응을 진행시켜 경화시킴으로써 경화수지막을 형성하는 단계;
를 포함하는 제조 방법.
In the method for producing a cured resin film from the curable resin composition according to any one of claims 1 to 36,
(I) preparing a chain polymer having a side chain having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group and a crosslinking agent;
(Ii) applying a curable resin composition containing a chain polymer and a crosslinking agent on a substrate and forming a curable resin composition coating film;
(Iii) forming a cured resin film by performing a polymerization reaction in the curable resin composition coating film to cure it;
Manufacturing method comprising a.
제 46항에 있어서, (ⅳ) 기판 상에 형성되는 경화수지막을 기판으로부터 박리하는 단계를 더욱 포함하는 제조 방법.
The manufacturing method according to claim 46, further comprising: (iv) peeling the cured resin film formed on the substrate from the substrate.
제 46항 또는 제 47항에 있어서, 사슬상 고분자를 구성하는 모노머 단위의 알코올성 제2급 또는 제3급 OH 함유기 또는 페놀성 OH 함유기를 지니는 모노머 단위가 점유하는 비율이 30~100 몰%인 제조 방법.
The proportion of the monomer units constituting the chain polymer according to claim 46 or 47, wherein the monomer unit having an alcoholic secondary or tertiary OH-containing group or a phenolic OH-containing group occupies 30 to 100 mol%. Manufacturing method.
제 46항 내지 제 48항 중 어느 한 항에 있어서, 가교제는 전체 또는 부분 알콕시메틸화 멜라민, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 구아나민, 전체 또는 부분 알콕시메틸화 아세토구아나민, 또는 전체 또는 부분 알콕시메틸화 벤조구아나민 및 전체 또는 부분 알콕시메틸화 글리콜우릴로 이루어진 군에서 선택되는 것인 제조 방법.
The method of any one of claims 46 to 48, wherein the crosslinking agent is wholly or partially alkoxymethylated melamine, wholly or partially alkoxymethylated guanamine, wholly or partially alkoxymethylated acetoguanamine, or wholly or partially alkoxymethylated benzoguanamine and The manufacturing method that is selected from the group consisting of whole or partially alkoxymethylated glycoluril.
제 46항 내지 제 49항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물의 직쇄상 고분자의 질량과 가교제의 질량의 비율이 1:2 ~ 1:0.05 인 제조 방법.The production method according to any one of claims 46 to 49, wherein a ratio of the mass of the linear polymer and the mass of the crosslinking agent in the composition is 1:2 to 1:0.05.
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