KR20200110988A - Coating composition and multilayer film comprising same - Google Patents

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KR20200110988A KR1020190030635A KR20190030635A KR20200110988A KR 20200110988 A KR20200110988 A KR 20200110988A KR 1020190030635 A KR1020190030635 A KR 1020190030635A KR 20190030635 A KR20190030635 A KR 20190030635A KR 20200110988 A KR20200110988 A KR 20200110988A
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Abstract

The present invention relates to a coating composition and a multi-layer film comprising the same and, more specifically, a coating composition comprising a resin compound and an aromatic compound having a repeating unit of a binaphthalene structure, and to a multi-layer film comprising the same. The coating composition according to the present invention comprises a resin compound and an aromatic compound, and the multi-layer film improves physical properties such as heat resistance, durability, etching resistance, and an oligomer blocking function by controlling the content thereof.

Description

코팅용 조성물 및 이를 포함하는 다층 필름{COATING COMPOSITION AND MULTILAYER FILM COMPRISING SAME}Coating composition and multilayer film containing the same TECHNICAL FIELD [COATING COMPOSITION AND MULTILAYER FILM COMPRISING SAME}

본 발명은 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 다층 필름에 관한 것으로, 구체적으로 수지 화합물 및 방향족 화합물을 포함하는 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 다층 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a coating composition and a multilayer film comprising the same, and specifically to a coating composition comprising a resin compound and an aromatic compound and a multilayer film comprising the same.

종래 필름의 제조방법에 있어서, 필름의 물성을 향상시키기 위한 방법으로 접착제를 사용하여 다른 기재 필름과 합지하는 방법 또는 기재 필름에 코팅 처리하는 방법이 사용되어 왔다. 그러나, 다른 기재 필름과 합지하는 방법은 일반적으로 용제형 접착제를 사용하여 환경적인 문제가 대두되며, 장시간의 건조 과정이 별도로 필요하여 에너지 손실이 많고, 건조 과정 동안 필름이 변형될 수 있는 문제점이 있다.In the conventional film manufacturing method, a method of laminating with another base film using an adhesive or a method of coating a base film has been used as a method for improving the physical properties of the film. However, the method of laminating with other base films generally raises environmental problems by using a solvent-type adhesive, and requires a separate long drying process, resulting in a lot of energy loss, and the film may be deformed during the drying process. .

또한, 코팅 처리하는 방법에 있어서, 필름의 물성 향상을 위해 단층 코팅보다는 다층의 코팅 방법이 수행되어 왔으나, 이 경우 층간 상용성, 후막화 등에 있어 여러 문제가 야기된다. 이를 해결하기 위한 방법으로서, 인라인 공정으로 기재 필름에 하드코팅액을 도포하여 경화시키는 방법이 제시되었다(한국 공개특허공보 제2012-0077904호). 그러나, 여전히 하나의 층에 내열성, 내충격성, 내화학성 등 필름의 물성을 향상시키기 위한 다기능을 구현할 수 있는 기술의 제시가 필요한 실정이다.In addition, in the coating treatment method, a multilayer coating method has been performed rather than a single layer coating in order to improve the physical properties of the film, but in this case, various problems arise in interlayer compatibility, thickening, and the like. As a method to solve this problem, a method of curing by applying a hard coating solution to a base film in an in-line process has been proposed (Korean Patent Publication No. 2012-0077904). However, there is still a need to present a technology capable of implementing multifunctionality to improve the physical properties of a film such as heat resistance, impact resistance, and chemical resistance in one layer.

한국 공개특허공보 제2012-0077904호(2012.07.10)Korean Patent Application Publication No. 2012-0077904 (2012.07.10)

이에 본 발명자들은 수지 화합물 및 바이나프탈렌 구조의 반복단위를 갖는 방향족 화합물을 혼합한 코팅용 조성물을 기재 필름의 표면에 코팅하여, 종래 다층으로 구현 가능한 성능을 단층으로 구현할 수 있음을 확인하고, 본 발명을 완성하였다.Accordingly, the present inventors confirmed that a coating composition in which a resin compound and an aromatic compound having a repeating unit of a binaphthalene structure can be mixed on the surface of a base film can be implemented in a single layer to realize the performance that can be realized in conventional multi-layers. Was completed.

따라서, 본 발명의 목적은 수지 화합물 및 바이나프탈렌 구조의 반복단위를 갖는 방향족 화합물을 혼합한 코팅용 조성물을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a coating composition in which a resin compound and an aromatic compound having a repeating unit of a binaphthalene structure are mixed.

또한, 본 발명의 목적은 상기 코팅용 조성물을 포함하는 다층 필름 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.In addition, it is an object of the present invention to provide a multilayer film comprising the coating composition and a method of manufacturing the same.

일 실시예에 따르면, 하기 화학식 1 및 하기 화학식 2로 표시되는 반복단위를 갖는 방향족 화합물을 포함하는, 코팅용 조성물이 제공된다.According to an embodiment, a coating composition comprising an aromatic compound having a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1 and the following Chemical Formula 2 is provided.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 식에서,In the above formula,

A는

Figure pat00003
이며, A is
Figure pat00003
Is,

여기서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 히드록시기, -OR(이때, R은 C1-10 알킬기 또는 C6-10 아릴기이다), C1-5 알킬기, C6-10 아릴기, 니트로기(-NO2), -NR'R"(이때, R' 및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-5 알킬기이다) 또는 할로겐 원소이고; Here, R 1 and R 2 are each independently hydrogen, a hydroxy group, -OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group or a C 6-10 aryl group), a C 1-5 alkyl group, a C 6-10 aryl group, A nitro group (-NO 2 ), -NR'R" (wherein R'and R" are each independently hydrogen or a C 1-5 alkyl group) or a halogen element;

B는

Figure pat00004
,
Figure pat00005
Figure pat00006
로 이루어진 군으로부터 선택되며,B is
Figure pat00004
,
Figure pat00005
And
Figure pat00006
It is selected from the group consisting of,

여기서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 히드록시기, -OR(이때, R은 C1-10 알킬기 또는 C6-10 아릴기이다), C1-5 알킬기, C6-10 아릴기, 니트로기(-NO2), -NR'R"(이때, R' 및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-5 알킬기이다) 또는 할로겐 원소이고;Here, R 3 and R 4 are each independently hydrogen, a hydroxy group, -OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group or a C 6-10 aryl group), a C 1-5 alkyl group, a C 6-10 aryl group, A nitro group (-NO 2 ), -NR'R" (wherein R'and R" are each independently hydrogen or a C 1-5 alkyl group) or a halogen element;

X는 -CH2- 또는

Figure pat00007
이며, X is -CH 2 -or
Figure pat00007
Is,

여기서, R5는 수소, 히드록시기, -OR(이때, R은 C1-10 알킬기 또는 C6-10 아릴기이다), C1-5 알킬기, C6-10 아릴기, 니트로기(-NO2), -NR'R"(이때, R' 및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-5 알킬기이다) 또는 할로겐 원소이고;Here, R 5 is hydrogen, a hydroxy group, -OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group or a C 6-10 aryl group), a C 1-5 alkyl group, a C 6-10 aryl group, a nitro group (-NO 2 ), -NR'R" (wherein R'and R" are each independently hydrogen or a C 1-5 alkyl group) or a halogen element;

m 및 n은 상기 화학식 1 및 상기 화학식 2로 표시되는 반복단위의 몰 분율을 나타내며, m+n=1이다.m and n represent the molar fraction of the repeating unit represented by Formula 1 and Formula 2, and m+n=1.

다른 실시예에 따르면, 기재 필름; 및 상기 코팅용 조성물로부터 형성된 코팅층을 포함하는, 다층 필름이 제공된다.According to another embodiment, the base film; And comprising a coating layer formed from the coating composition, a multilayer film is provided.

또 다른 실시예에 따르면, (1) 상기 코팅용 조성물을 기재 필름의 일면에 코팅한 후 열처리하여 제 1 코팅층을 형성하는 단계; 및According to another embodiment, (1) forming a first coating layer by coating the coating composition on one surface of a base film and then heat treatment; And

(2) 상기 코팅용 조성물을 상기 기재 필름의 타면에 코팅한 후 열처리하여 제 2 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는, 다층 필름의 제조방법이 제공된다.(2) There is provided a method for producing a multilayer film comprising the step of forming a second coating layer by coating the coating composition on the other surface of the base film and then heat treatment.

상기 실시예에 따른 코팅용 조성물은 가열, 에칭, 증착 등과 같은 필름의 제조공정에서 기재 필름을 보호할 수 있으면서도, 기재 필름의 변형 없이 물성을 향상시킬 수 있다. 상기 코팅용 조성물은 수지 화합물 및 방향족 화합물을 포함하고, 이들의 함량을 조절함으로써, 필름의 제조 공정에 유용하게 사용할 수 있으며, 다양한 적층 공정에도 적용할 수 있다.The coating composition according to the above embodiment can protect the base film in a film manufacturing process such as heating, etching, deposition, etc., and improve physical properties without deforming the base film. The coating composition includes a resin compound and an aromatic compound, and by adjusting the content thereof, it can be usefully used in the manufacturing process of a film, and can be applied to various lamination processes.

또한, 상기 실시예에 따른 다층 필름은 상기 코팅용 조성물을 이용하여 내열성, 내구성, 내에칭성, 올리고머 블록킹 기능 면에 있어서 향상된 물성을 가질 수 있다. 또한, 상기와 같은 향상된 물성을 확보함으로써, 각종 공정에 적용 가능한 다층 필름을 제공할 수 있다. 더욱이, 상기 다층 필름은 산업용, 포장용, 디스플레이용, 윈도우용 등 다양한 분야에 유용하게 사용될 수 있다.In addition, the multilayer film according to the embodiment may have improved physical properties in terms of heat resistance, durability, etch resistance, and oligomer blocking function by using the coating composition. In addition, by securing the improved physical properties as described above, it is possible to provide a multilayer film applicable to various processes. Moreover, the multilayer film can be usefully used in various fields such as industrial, packaging, display, and window.

이상의 본 발명의 목적, 특징 및 이점은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제 1 구성요소는 제 2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제 2 구성요소도 제 1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.Objects, features, and advantages of the present invention will be easily understood through the following preferred embodiments related to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. In describing each drawing, similar reference numerals have been used for similar elements. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown to be enlarged than actual for clarity of the present invention. Terms such as first and second may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. These terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another component. For example, without departing from the scope of the present invention, a first element may be referred to as a second element, and similarly, a second element may be referred to as a first element. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise.

본 출원에서, "포함하다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. In the present application, terms such as "comprise" are intended to designate the existence of features, numbers, steps, actions, components, parts, or a combination thereof described in the specification, and one or more other features, numbers, and steps It is to be understood that it does not preclude the possibility of addition or presence of, operations, components, parts, or combinations thereof.

이하에서는 본 발명을 더욱 자세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

일 실시예에 따르면, 하기 화학식 1 및 하기 화학식 2로 표시되는 반복단위를 갖는 방향족 화합물을 포함하는, 코팅용 조성물이 제공된다.According to an embodiment, a coating composition comprising an aromatic compound having a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1 and the following Chemical Formula 2 is provided.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00008
Figure pat00008

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00009
Figure pat00009

상기 식에서,In the above formula,

A는

Figure pat00010
이며, A is
Figure pat00010
Is,

여기서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 히드록시기, -OR(이때, R은 C1-10 알킬기 또는 C6-10 아릴기이다), C1-5 알킬기, C6-10 아릴기, 니트로기(-NO2), -NR'R"(이때, R' 및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-5 알킬기이다) 또는 할로겐 원소이고; Here, R 1 and R 2 are each independently hydrogen, a hydroxy group, -OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group or a C 6-10 aryl group), a C 1-5 alkyl group, a C 6-10 aryl group, A nitro group (-NO 2 ), -NR'R" (wherein R'and R" are each independently hydrogen or a C 1-5 alkyl group) or a halogen element;

B는

Figure pat00011
,
Figure pat00012
Figure pat00013
로 이루어진 군으로부터 선택되며,B is
Figure pat00011
,
Figure pat00012
And
Figure pat00013
It is selected from the group consisting of,

여기서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 히드록시기, -OR(이때, R은 C1-10 알킬기 또는 C6-10 아릴기이다), C1-5 알킬기, C6-10 아릴기, 니트로기(-NO2), -NR'R"(이때, R' 및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-5 알킬기이다) 또는 할로겐 원소이고;Here, R 3 and R 4 are each independently hydrogen, a hydroxy group, -OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group or a C 6-10 aryl group), a C 1-5 alkyl group, a C 6-10 aryl group, A nitro group (-NO 2 ), -NR'R" (wherein R'and R" are each independently hydrogen or a C 1-5 alkyl group) or a halogen element;

X는 -CH2- 또는

Figure pat00014
이며, X is -CH 2 -or
Figure pat00014
Is,

여기서, R5는 수소, 히드록시기, -OR(이때, R은 C1-10 알킬기 또는 C6-10 아릴기이다), C1-5 알킬기, C6-10 아릴기, 니트로기(-NO2), -NR'R"(이때, R' 및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-5 알킬기이다) 또는 할로겐 원소이고;Here, R 5 is hydrogen, a hydroxy group, -OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group or a C 6-10 aryl group), a C 1-5 alkyl group, a C 6-10 aryl group, a nitro group (-NO 2 ), -NR'R" (wherein R'and R" are each independently hydrogen or a C 1-5 alkyl group) or a halogen element;

m 및 n은 상기 화학식 1 및 상기 화학식 2로 표시되는 반복단위의 몰 분율을 나타내며, m+n=1이다.m and n represent the molar fraction of the repeating unit represented by Formula 1 and Formula 2, and m+n=1.

구체적으로, 상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 히드록시기이고, 상기 R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 히드록시기 또는 -OR(이때, R은 C1-10 알킬기이다)이며, R5는 수소일 수 있다.Specifically, R 1 and R 2 are each independently hydrogen or a hydroxy group, and R 3 and R 4 are each independently hydrogen, a hydroxy group or -OR (where R is a C 1-10 alkyl group), and R 5 Can be hydrogen.

더욱 구체적으로, 상기 A는

Figure pat00015
이고, 상기 B는
Figure pat00016
,
Figure pat00017
또는
Figure pat00018
이며, 상기 X는 -CH2- 또는
Figure pat00019
일 수 있다.More specifically, A is
Figure pat00015
And B is
Figure pat00016
,
Figure pat00017
or
Figure pat00018
And, X is -CH 2 -or
Figure pat00019
Can be

상기 방향족 화합물은 1,000 g/mol 이상 내지 30,000 g/mol 이하의 중량 평균 분자량을 가질 수 있으며, 구체적으로 1,000 g/mol 내지 25,000 g/mol, 1,000 g/mol 내지 20,000 g/mol, 5,000 g/mol 내지 15,000 g/mol, 5,000 g/mol 내지 10,000 g/mol, 10,000 g/mol 내지 30,000 g/mol, 15,000 g/mol 내지 30,000 g/mol, 10,000 g/mol 내지 20,000 g/mol, 또는 15,000 g/mol 내지 20,000 g/mol일 수 있다.The aromatic compound may have a weight average molecular weight of 1,000 g/mol or more and 30,000 g/mol or less, and specifically 1,000 g/mol to 25,000 g/mol, 1,000 g/mol to 20,000 g/mol, and 5,000 g/mol To 15,000 g/mol, 5,000 g/mol to 10,000 g/mol, 10,000 g/mol to 30,000 g/mol, 15,000 g/mol to 30,000 g/mol, 10,000 g/mol to 20,000 g/mol, or 15,000 g/mol mol to 20,000 g/mol.

보다 구체적으로, 상기 방향족 화합물은 1,000 g/mol 이상 내지 10,000 g/mol 미만, 또는 5,000 g/mol 이상 내지 10,000 g/mol 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 경우, 상기 m 및 n이 각각 0.25≤m≤0.5 및 0.5≤n≤0.75일 수 있다.More specifically, when the aromatic compound has a weight average molecular weight of 1,000 g/mol or more to less than 10,000 g/mol, or 5,000 g/mol to less than 10,000 g/mol, each of m and n is 0.25≦m≦ 0.5 and 0.5≤n≤0.75 may be.

상기 방향족 화합물이 10,000 g/mol 이상 내지 30,000 g/mol 이하, 10,000 g/mol 이상 내지 25,000 g/mol 이하, 또는 15,000 g/mol 이상 내지 20,000 g/mol 이하의 중량 평균 분자량을 갖는 경우, 상기 m 및 n이 각각 0.75≤m≤0.95 및 0.05≤n≤0.25일 수 있다.When the aromatic compound has a weight average molecular weight of 10,000 g/mol or more and 30,000 g/mol or less, 10,000 g/mol or more and 25,000 g/mol or less, or 15,000 g/mol or more and 20,000 g/mol or less, the m And n may be 0.75≦m≦0.95 and 0.05≦n≦0.25, respectively.

일 실시예에 따른 코팅용 조성물은 아크릴레이트계 수지 또는 에폭시계 수지를 더 포함할 수 있으며, 상기 아크릴레이트계 수지는 부틸 아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 히드록시에틸 아크릴레이트, 에틸헥실 아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다.The coating composition according to an embodiment may further include an acrylate-based resin or an epoxy-based resin, and the acrylate-based resin is butyl acrylate, methyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, ethylhexyl acrylate, Glycidyl methacrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate And it may include one or more compounds selected from the group consisting of a mixture thereof.

또한, 상기 에폭시계 수지는 비스페놀 F형 에폭시, 비스페놀 A형 에폭시, 페놀 노볼락형 에폭시, 크레졸 노볼락형 에폭시 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다. In addition, the epoxy resin may include at least one compound selected from the group consisting of bisphenol F type epoxy, bisphenol A type epoxy, phenol novolak type epoxy, cresol novolak type epoxy, and mixtures thereof.

또한, 상기 조성물은 상기 조성물 총 중량을 기준으로 1 내지 30 중량%의 상기 방향족 화합물 및 70 내지 99 중량%의 아크릴레이트계 수지 또는 에폭시계 수지를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 조성물 총 중량을 기준으로 1 내지 30 중량%. 1 내지 25 중량%, 5 내지 30 중량%, 10 내지 25 중량% 또는 10 내지 20 중량%의 상기 방향족 화합물을 포함할 수 있으며, 상기 조성물 총 중량을 기준으로 70 내지 99 중량%, 75 내지 99 중량%, 70 내지 95 중량%, 75 내지 95 중량% 또는 80 내지 90 중량%의 아크릴레이트계 수지 또는 에폭시계 수지를 포함할 수 있다. In addition, the composition may include 1 to 30% by weight of the aromatic compound and 70 to 99% by weight of an acrylate resin or an epoxy resin based on the total weight of the composition. Specifically, 1 to 30% by weight based on the total weight of the composition. 1 to 25% by weight, 5 to 30% by weight, 10 to 25% by weight, or 10 to 20% by weight of the aromatic compound may be included, based on the total weight of the composition, 70 to 99% by weight, 75 to 99% by weight %, 70 to 95% by weight, 75 to 95% by weight, or 80 to 90% by weight of an acrylate resin or an epoxy resin.

일 실시예에 따른 코팅용 조성물은 메틸에틸케톤(MEK), 에틸락테이트(EL), 에틸아세테이트(EA), γ-부티로락톤(GBL), 톨루엔, 클로로포름, 프로필린글리콜 모노에틸에테르(PGME), 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 및 이의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 용매를 더 포함할 수 있다.Coating composition according to an embodiment is methyl ethyl ketone (MEK), ethyl lactate (EL), ethyl acetate (EA), γ-butyrolactone (GBL), toluene, chloroform, propylene glycol monoethyl ether (PGME ), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), and a solvent selected from the group consisting of a mixture thereof may be further included.

또한, 일 실시예에 따른 코팅용 조성물은 브룩필드(Brookfield) 점도계를 사용하여 70 ℃에서 측정시 30 내지 300 cps의 점도, 구체적으로 30 내지 200 cps의 점도 또는 50 내지 100 cps의 점도를 가질 수 있다.In addition, the coating composition according to an embodiment may have a viscosity of 30 to 300 cps, specifically 30 to 200 cps or a viscosity of 50 to 100 cps when measured at 70° C. using a Brookfield viscometer. have.

또한, 일 실시예에 따르면, 상기 코팅용 조성물로부터 형성된 코팅층을 포함하는, 다층 필름이 제공된다.In addition, according to an embodiment, a multilayer film is provided, including a coating layer formed from the coating composition.

일 실시예에 따른 다층 필름은 상기 기재 필름의 일면에 형성된 제 1 코팅층; 및 상기 기재 필름의 타면에 형성된 제 2 코팅층을 포함할 수 있다.A multilayer film according to an embodiment includes a first coating layer formed on one surface of the base film; And a second coating layer formed on the other surface of the base film.

상기 기재 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리사이클로헥산테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 나일론6, 나일론66, 불화비닐리덴, 폴리스티렌, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리염화비닐, 트리아세틸 셀룰로오스 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물 일 수 있다. The base film is polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexane terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, nylon 6, nylon 66, vinylidene fluoride, Polystyrene, polyimide, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose And at least one compound selected from the group consisting of mixtures thereof Can be

또한, 상기 기재 필름은 10 내지 500 ㎛의 두께, 구체적으로, 10 내지 400 ㎛, 10 내지 300 ㎛, 10 내지 200 ㎛ 또는 10 내지 150 ㎛의 두께일 수 있다.In addition, the base film may have a thickness of 10 to 500 µm, specifically, 10 to 400 µm, 10 to 300 µm, 10 to 200 µm, or 10 to 150 µm.

이때, 상기 제 1 코팅층은 0.1 내지 50 ㎛의 두께를 가질 수 있으며, 구체적으로 0.1 내지 40 ㎛, 0.1 내지 30 ㎛, 0.1 내지 20 ㎛, 0.1 내지 10 ㎛, 1 내지 10 ㎛ 또는 1 내지 5 ㎛의 두께를 가질 수 있다.At this time, the first coating layer may have a thickness of 0.1 to 50 ㎛, specifically 0.1 to 40 ㎛, 0.1 to 30 ㎛, 0.1 to 20 ㎛, 0.1 to 10 ㎛, 1 to 10 ㎛ or 1 to 5 ㎛ It can have a thickness.

또한, 상기 제 2 코팅층은 0.1 내지 50 ㎛의 두께를 가질 수 있으며, 구체적으로 0.1 내지 40 ㎛, 0.1 내지 30 ㎛, 0.1 내지 20 ㎛, 0.1 내지 10 ㎛, 0.1 내지 5 ㎛ 또는 1 내지 5 ㎛의 두께를 가질 수 있다.In addition, the second coating layer may have a thickness of 0.1 to 50 ㎛, specifically 0.1 to 40 ㎛, 0.1 to 30 ㎛, 0.1 to 20 ㎛, 0.1 to 10 ㎛, 0.1 to 5 ㎛ or 1 to 5 ㎛ It can have a thickness.

상기 코팅층은 당업계에 널리 공지된 방법으로 형성될 수 있으며, 예를 들어 상기 코팅층은 바(Bar) 코팅, 스핀-온-코팅, 슬릿 코팅 또는 스프레이 코팅법으로 형성될 수 있다. 구체적으로, 바 코팅법으로 90 내지 150℃, 90 내지 130℃, 95 내지 130℃ 또는 95 내지 120℃에서 1 내지 5분 동안 열처리함으로써 코팅층을 형성할 수 있다. The coating layer may be formed by a method well known in the art, for example, the coating layer may be formed by bar coating, spin-on-coating, slit coating, or spray coating. Specifically, a coating layer may be formed by heat treatment at 90 to 150°C, 90 to 130°C, 95 to 130°C, or 95 to 120°C for 1 to 5 minutes by a bar coating method.

일 실시예에 따른 다층 필름은 150℃에서 60분 동안 열처리될 때 상기 기재 필름이 0.5 내지 1.3%의 열수축률을 가지며, 1 ㎛ 미만의 두께 편차를 갖고, 상기 기재 필름과 코팅층 사이에 박리가 발생하지 않을 수 있다. 보다 구체적으로, 일 실시예에 따른 다층 필름은 150℃에서 60분 동안 열처리될 때 1.1% 미만, 1.0% 미만, 0.9% 미만 또는 0.8% 미만의 열수축률을 가질 수 있으며, 0.8 ㎛ 미만, 0.6 ㎛ 미만, 0.4 ㎛ 미만 또는 0.2 ㎛ 미만의 두께 편차를 가질 수 있다.When the multilayer film according to an embodiment is heat-treated at 150° C. for 60 minutes, the base film has a heat shrinkage of 0.5 to 1.3%, has a thickness deviation of less than 1 μm, and peeling occurs between the base film and the coating layer. I can't. More specifically, the multilayer film according to an embodiment may have a heat shrinkage of less than 1.1%, less than 1.0%, less than 0.9%, or less than 0.8% when heat-treated at 150° C. for 60 minutes, and less than 0.8 μm, 0.6 μm It may have a thickness variation of less than, less than 0.4 μm, or less than 0.2 μm.

또한, 일 실시예에 따른 다층 필름은 열수 80℃에 20분 동안 담지 후 9pt의 두께 측정시, 열수 담지 후 다층 필름 두께와 담지 전 다층 필름 두께의 차이가 1 ㎛ 미만, 0.8 ㎛ 이하, 0.6 ㎛ 이하, 0.5 ㎛ 이하 또는 0.3 ㎛ 이하일 수 있다. In addition, the multilayer film according to an embodiment has a difference between the thickness of the multilayer film after the hot water support and the multilayer film thickness before the support is less than 1 µm, 0.8 µm or less, 0.6 µm Hereinafter, it may be 0.5 μm or less or 0.3 μm or less.

또한, 상기 다층 필름은 1.3% 이하, 예를 들어 1.1% 이하의 헤이즈(haze)를 갖고, 150℃에서 3시간 동안 열처리 후 1.5% 이하, 예를 들어 1.3% 이하의 헤이즈 변화율을 가질 수 있다. In addition, the multilayer film may have a haze of 1.3% or less, for example, 1.1% or less, and a haze change rate of 1.5% or less, for example, 1.3% or less after heat treatment at 150°C for 3 hours.

또한, 일 실시예에 따른 다층 필름은 그 일면 또는 양면에 투명전극소재층을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 다층 필름은 기재 필름의 일면에 형성된 제 1 코팅층, 상기 기재 필름의 타면에 형성된 제2 코팅층을 포함하고, 상기 제 1 코팅층, 제 2 코팅층 또는 둘 다의 타면에 투명전극소재층을 더 포함할 수 있다. 상기 투명전극소재층의 두께는 특별히 한정하지는 않지만, 예를 들어 50 nm 내지 300 ㎛, 50 nm 내지 200 ㎛ 또는 50 nm 내지 50 ㎛일 수 있다.In addition, the multilayer film according to an embodiment may further include a transparent electrode material layer on one or both sides thereof. For example, the multilayer film includes a first coating layer formed on one surface of a base film, a second coating layer formed on the other surface of the base film, and a transparent electrode material layer is formed on the other surface of the first coating layer, the second coating layer, or both. It may contain more. The thickness of the transparent electrode material layer is not particularly limited, but may be, for example, 50 nm to 300 µm, 50 nm to 200 µm, or 50 nm to 50 µm.

상기 투명전극소재층은 인듐(In), 주석(Sn), 아연(Zn), 티탄(Ti) 및 주석(Sn)으로부터 선택된 1종 이상의 혼합물을 포함하는 금속 산화물; 폴리아세틸렌, 폴리피롤, 폴리티오펜 및 폴리아닐린으로부터 선택된 1종 이상의 혼합물을 포함하는 전도성 고분자; 및 탄소 나노튜브, 그라펜 및 탄소 나노입자로부터 선택된 1종 이상의 혼합물을 포함하는 탄소소재; 로 부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. The transparent electrode material layer may include a metal oxide including at least one mixture selected from indium (In), tin (Sn), zinc (Zn), titanium (Ti), and tin (Sn); A conductive polymer comprising a mixture of at least one selected from polyacetylene, polypyrrole, polythiophene and polyaniline; And a carbon material including a mixture of at least one selected from carbon nanotubes, graphene and carbon nanoparticles; It may contain one or more selected from.

일 실시예에 따르면, (1) 상기 코팅용 조성물을 기재 필름의 일면에 코팅한 후 열처리하여 제 1 코팅층을 형성하는 단계; 및 (2) 상기 코팅용 조성물을 상기 기재 필름의 타면에 코팅한 후 열처리하여 제 2 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는, 다층 필름의 제조방법이 제공된다.According to an embodiment, (1) forming a first coating layer by coating the coating composition on one surface of a base film and then heat treatment; And (2) coating the coating composition on the other surface of the base film and then heat-treating to form a second coating layer.

상기 코팅용 조성물의 코팅 두께나 열처리 조건 등은 특별히 한정되지는 않지만, 상기 코팅용 조성물은 기재 필름의 일면, 구체적으로 기재 필름의 상층부에 1 내지 10 ㎛의 두께로 기재 위에 도포될 수 있으며, 95 내지 120℃에서 1 내지 5분동안 열처리함으로써 제 1 코팅층을 형성할 수 있다.The coating thickness or heat treatment conditions of the coating composition are not particularly limited, but the coating composition may be applied on one side of the base film, specifically, on the upper layer of the base film in a thickness of 1 to 10 μm, and 95 The first coating layer may be formed by heat treatment at 120° C. for 1 to 5 minutes.

또한, 상기 코팅용 조성물은 기재 필름의 타면, 구체적으로 기재 필름의 하층부에 0.1 내지 5 ㎛의 두께로 기재 위에 도포될 수 있으며, 95 내지 120℃에서 1 내지 5분동안 열처리함으로써 제 2 코팅층을 형성할 수 있다.In addition, the coating composition may be applied on the substrate to a thickness of 0.1 to 5 μm on the other side of the substrate film, specifically on the lower layer of the substrate film, and heat treatment at 95 to 120° C. for 1 to 5 minutes to form a second coating layer can do.

또한, 일 실시예에 따른 다층 필름의 일면 또는 양면, 예를 들어 상기 제1 코팅층, 제 2 코팅층 또는 둘 다의 일면에 투명전극소재층을 더 포함할 경우 일반적인 증착법, 예를 들어 AMAT사의 ENDURA-5500을 이용하여 투명전극소재층을 증착할 수 있다. In addition, when a transparent electrode material layer is further included on one side or both sides of the multilayer film according to an embodiment, for example, the first coating layer, the second coating layer, or both, a general deposition method, for example, AMAT's ENDURA- Using the 5500, a transparent electrode material layer may be deposited.

이렇게 제조된 다층 필름은 우수한 내열성, 내구성, 내에칭성, 올리고머 블록킹 기능을 가짐으로써, 산업용, 포장용, 디스플레이용, 윈도우용 등 다양한 분야에 유용하게 사용될 수 있다.The multilayer film thus prepared has excellent heat resistance, durability, etch resistance, and oligomer blocking function, and thus can be usefully used in various fields such as industrial, packaging, display, and window use.

이하, 본 발명을 하기 실시예에 의하여 더욱 상세하게 설명한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by the following examples. However, the following examples are for illustrative purposes only, and the scope of the present invention is not limited thereto.

합성예 1. 코팅용 수지 화합물의 제조Synthesis Example 1. Preparation of resin compound for coating

1 L 3구 둥근 플라스크에 온도계, 콘덴서, 적가깔대기, 기계식 교반기를 구비하여 준비한 후, 80℃의 항온조에 담구었다. 상기 항온조에 에틸아세테이트 300 g 및 라디칼 중합개시제 AIBN(Azobisisobutyronitrile) 1.5 g을 투입한 후 분당 100회로 회전교반하여 반응을 진행하였다. 이때, 반응기의 온도를 10℃로 유지하였다. A 1 L 3-neck round flask was prepared with a thermometer, a condenser, a dropping funnel, and a mechanical stirrer, and then immersed in a thermostat at 80°C. After adding 300 g of ethyl acetate and 1.5 g of a radical polymerization initiator AIBN (Azobisisobutyronitrile) to the thermostat, the reaction was carried out by rotating agitating 100 times per minute. At this time, the temperature of the reactor was maintained at 10°C.

또 다른 플라스크에 부틸 아크릴레이트 210 g, 메틸메타크릴레이트 30 g, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 60 g을 투입하고, 30분간 교반하여 혼합한 후 적가깔대기로 옮겨 담았다. 이후, 2시간에 걸쳐 상기 3구 둥근 플라스크에 천천히 투입하였다. 투입을 완료한 후 반응기의 온도를 80℃로 유지하였다. To another flask, 210 g of butyl acrylate, 30 g of methyl methacrylate, and 60 g of 2-hydroxyethyl acrylate were added, stirred for 30 minutes, mixed, and transferred to a dropping funnel. Then, it was slowly added to the three-necked round flask over 2 hours. After the addition was completed, the temperature of the reactor was maintained at 80°C.

반응이 진행되는 동안에, 상기 반응 혼합물로부터 시료를 채취하여 그 시료의 중량 평균 분자량을 측정하였다. 원하는 중량 평균 분자량에 도달하였을 때를 반응 완료 시점으로 결정하였으며, 반응물을 상온에서 서서히 냉각하여 반응을 종료시켰다.While the reaction was in progress, a sample was taken from the reaction mixture and the weight average molecular weight of the sample was measured. When the desired weight average molecular weight was reached was determined as the reaction completion point, and the reaction was gradually cooled at room temperature to terminate the reaction.

수득한 화합물을 겔 투과 크로마토그래피(Gel permeation chromatoghaphy, GPC)로 측정한 결과, 상기 화합물의 중량 평균 분자량은 200,000 g/mol이었고, 분산도는 4.1이었다.As a result of measuring the obtained compound by gel permeation chromatography (GPC), the weight average molecular weight of the compound was 200,000 g/mol, and the dispersion degree was 4.1.

합성예 2. 코팅용 방향족 화합물의 제조Synthesis Example 2. Preparation of aromatic compound for coating

Figure pat00020
Figure pat00020

1 L 3구 둥근 플라스크에 온도계, 콘덴서, 적가깔대기, 기계식 교반기를 구비하여 준비한 후 100℃의 항온조에 담구었다. 이때, 콘덴서의 냉각수 온도를 10℃로 고정하였다. 상기 3구 플라스크에 0.42 mol의 비나프톨(1,1'-Bi-2-Naphthol) 120 g, 0.12 mol의 삼치환 부톡시-비나프톨(2'-(tert-butoxy)-[1,1'-binaphthalen]-2-ol) 41 g, 0.7 mol의 벤조알데히드 75 g 및 용매로서 350 g의 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)를 넣고 상기 혼합물을 녹였다. 이어서, 42 mmol의 파라톨루엔술폰산(p-Toluenesulfonic acid monohydrate) 8 g을 첨가하여 교반하에 반응을 진행하였다. 이때, 반응기의 온도를 100℃로 유지하였다. A 1 L 3-neck round flask was prepared with a thermometer, a condenser, a dropping funnel, and a mechanical stirrer, and then immersed in a constant temperature bath at 100°C. At this time, the temperature of the cooling water of the condenser was fixed at 10°C. To the three-necked flask, 0.42 mol of binaftol (1,1'-Bi-2-Naphthol) 120 g, 0.12 mol of trisubstituted butoxy-binaftol (2'-(tert-butoxy)-[1,1') -binaphthalen]-2-ol) 41 g, 0.7 mol of benzoaldehyde 75 g and 350 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent were added to dissolve the mixture. Subsequently, 8 g of 42 mmol of p-Toluenesulfonic acid monohydrate was added, and the reaction was carried out under stirring. At this time, the temperature of the reactor was maintained at 100°C.

반응이 진행되는 동안에 상기 반응 혼합물로부터 시료를 채취하여 그 시료의 중량 평균 분자량을 측정하였다. 원하는 중량 평균 분자량에 도달하였을 때를 반응 완료 시점으로 결정하였으며, 반응물을 상온에서 서서히 냉각하여 반응을 종료시켰다.During the reaction, a sample was taken from the reaction mixture and the weight average molecular weight of the sample was measured. When the desired weight average molecular weight was reached was determined as the reaction completion point, and the reaction was gradually cooled at room temperature to terminate the reaction.

80:20 중량비의 노말헥산:에탄올 혼합용액 1 L를 준비한 후, 여기에 상기에서 수득한 반응물을 교반하에 적가하였다. 이때, 상등액을 제거하고 플라스크 바닥면에 응집된 중합체만을 분리하였다. 이어서, 진공 오븐에서 80℃ 및 24시간 조건하에서 건조시켜 잔류 용매와 불순물을 제거하여 방향족 화합물을 수득하였다. After preparing 1 L of an 80:20 weight ratio of a normal hexane:ethanol mixed solution, the reaction product obtained above was added dropwise thereto under stirring. At this time, the supernatant was removed and only the polymer aggregated on the bottom of the flask was separated. Subsequently, it was dried in a vacuum oven under conditions of 80° C. and 24 hours to remove residual solvents and impurities to obtain an aromatic compound.

수득한 화합물을 겔 투과 크로마토그래피(Gel permeation chromatoghaphy, GPC)로 측정한 결과, 상기 화합물의 중량 평균 분자량은 5,600 g/mol이었고, 분산도는 2.1이었다.As a result of measuring the obtained compound by gel permeation chromatography (GPC), the weight average molecular weight of the compound was 5,600 g/mol, and the dispersion degree was 2.1.

합성예 3. 코팅용 방향족 화합물의 제조Synthesis Example 3. Preparation of aromatic compound for coating

Figure pat00021
Figure pat00021

상기 합성예 2에서 0.12 mol의 삼치환 부톡시-비나프톨(2'-(tert-butoxy)-[1,1'-binaphthalen]-2-ol) 41 g 대신 0.14 mol의 히드록시페닐나프톨(1-(2-hydroxyphenyl)naphthalen-2-ol) 33 g을 반응기에 투입한 것과 0.7 mol의 벤조알데히드 75 g 대신 0.73 mol의 1,3,5-트리옥산 66 g을 투입한 것을 제외하고는, 상기 합성예 2와 동일한 방식으로 화합물을 제조하였다. In Synthesis Example 2, 0.12 mol of trisubstituted butoxy-binaphthol (2'-(tert-butoxy)-[1,1'-binaphthalen]-2-ol) 41 g instead of 0.14 mol of hydroxyphenylnaphthol (1 -(2-hydroxyphenyl)naphthalen-2-ol) 33 g was added to the reactor and 0.73 mol of 1,3,5-trioxane 66 g was added instead of 0.7 mol of benzoaldehyde 75 g. A compound was prepared in the same manner as in Synthesis Example 2.

수득한 화합물을 GPC로 측정한 결과, 상기 화합물의 중량 평균 분자량은 4,800 g/mol이었고 분산도는 2.2였다.As a result of measuring the obtained compound by GPC, the weight average molecular weight of the compound was 4,800 g/mol and the dispersion degree was 2.2.

합성예 4. 코팅용 방향족 화합물의 제조Synthesis Example 4. Preparation of aromatic compound for coating

Figure pat00022
Figure pat00022

상기 합성예 3에서 0.14 mol의 히드록시페닐나프톨(1-(2-hydroxyphenyl)naphthalen-2-ol) 33 g 대신 0.15 mol의 비페놀([1,1'-biphenyl]-2,2'-diol) 28 g을 반응기에 투입한 것을 제외하고는, 상기 합성예 3과 동일한 방식으로 화합물을 제조하였다.In Synthesis Example 3, 0.15 mol of biphenol ([1,1'-biphenyl]-2,2'-diol) instead of 33 g of 0.14 mol of hydroxyphenylnaphthol (1-(2-hydroxyphenyl)naphthalen-2-ol) ) A compound was prepared in the same manner as in Synthesis Example 3, except that 28 g was added to the reactor.

수득한 화합물을 GPC로 측정한 결과, 상기 화합물의 중량 평균 분자량은 4,100 g/mol이었고 분산도는 1.9였다.As a result of measuring the obtained compound by GPC, the weight average molecular weight of the compound was 4,100 g/mol and the dispersion degree was 1.9.

합성예 5. 코팅용 방향족 화합물의 제조Synthesis Example 5. Preparation of aromatic compound for coating

Figure pat00023
Figure pat00023

1L 3구 둥근 플라스크에 온도계, 콘덴서, 적가깔대기, 기계식 교반기를 구비하여 준비한 후 120℃의 항온조에 담두었다. 이때, 콘덴서의 냉각수 온도를 10℃로 고정하였다. 상기 3구 플라스크에 0.23 mol의 비나프톨(1,1'-Bi-2-Naphthol) 66 g, 0.46 mol의 히드록시페닐나프톨(1-(2-hydroxyphenyl)naphthalen-2-ol) 87 g, 1 mol의 1,3,5-트리옥산 90 g 및 용매로서 300 g의 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)를 넣고 상기 혼합물을 녹였다. 이어서, 80 mmol의 파라톨루엔술폰산(p-Toluenesulfonic acid monohydrate) 15 g을 첨가하여 교반하에 반응을 진행하였다. 이때, 반응기의 온도를 120℃로 유지하였다. A 1L 3-neck round flask was prepared with a thermometer, a condenser, a dropping funnel, and a mechanical stirrer, and then immersed in a thermostat at 120°C. At this time, the temperature of the cooling water of the condenser was fixed at 10°C. In the three-necked flask, 0.23 mol of binaftol (1,1'-Bi-2-Naphthol) 66 g, 0.46 mol of hydroxyphenylnaphthol (1-(2-hydroxyphenyl)naphthalen-2-ol) 87 g, 1 90 g of 1,3,5-trioxane and 300 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent were added to dissolve the mixture. Then, 15 g of 80 mmol of p-Toluenesulfonic acid monohydrate was added, and the reaction was carried out under stirring. At this time, the temperature of the reactor was maintained at 120°C.

반응이 진행되는 동안에 상기 반응 혼합물로부터 시료를 채취하여 그 시료의 중량 평균 분자량을 측정하였다. 원하는 중량 평균 분자량에 도달하였을 때를 반응 완료 시점으로 결정하였으며, 반응물을 상온에서 서서히 냉각하여 반응을 종료시켰다.During the reaction, a sample was taken from the reaction mixture and the weight average molecular weight of the sample was measured. When the desired weight average molecular weight was reached was determined as the reaction completion point, and the reaction was gradually cooled at room temperature to terminate the reaction.

80:20 중량비의 노말헥산:에탄올 혼합용액 1 L를 준비한 후, 여기에 상기에서 수득한 반응물을 교반하에 적가하였다. 이때, 상등액을 제거하고 플라스크 바닥면에 응집된 중합체만 분리하였다. 이어서, 진공 오븐에서 80℃ 및 24시간 조건하에서 건조시켜 잔류 용매와 불순물을 제거하여 방향족 화합물을 수득하였다. After preparing 1 L of an 80:20 weight ratio of a normal hexane:ethanol mixed solution, the reaction product obtained above was added dropwise thereto under stirring. At this time, the supernatant was removed and only the polymer aggregated on the bottom of the flask was separated. Subsequently, it was dried in a vacuum oven under conditions of 80° C. and 24 hours to remove residual solvents and impurities to obtain an aromatic compound.

수득한 화합물을 겔 투과 크로마토그래피(Gel permeation chromatoghaphy, GPC)로 측정한 결과, 중량 평균 분자량은 6,200 g/mol이었고 분산도는 2.2였다.As a result of measuring the obtained compound by gel permeation chromatography (GPC), the weight average molecular weight was 6,200 g/mol and the dispersion degree was 2.2.

제조예 1. 코팅용 조성물의 제조Preparation Example 1. Preparation of coating composition

상기 합성예 1의 수지 화합물 90중량부 및 상기 합성예 2의 방향족 화합물 10 중량부를 믹서로 혼합하여 코팅용 조성물을 제조하였다.Resin of Synthesis Example 1 90 parts by weight of the compound and 10 parts by weight of the aromatic compound of Synthesis Example 2 were mixed with a mixer to prepare a coating composition.

제조예 2. 코팅용 조성물의 제조Preparation Example 2. Preparation of coating composition

상기 합성예 1의 수지 화합물 80중량부 및 상기 합성예 3의 방향족 화합물 20 중량부를 믹서로 혼합하여 코팅용 조성물을 제조하였다.Resin of Synthesis Example 1 80 parts by weight of the compound and 20 parts by weight of the aromatic compound of Synthesis Example 3 were mixed with a mixer to prepare a coating composition.

제조예 3. 코팅용 조성물의 제조Preparation Example 3. Preparation of coating composition

상기 합성예 1의 수지 화합물 90중량부 및 상기 합성예 3의 방향족 화합물 10 중량부를 믹서로 혼합하여 코팅용 조성물을 제조하였다.Resin of Synthesis Example 1 90 parts by weight of the compound and 10 parts by weight of the aromatic compound of Synthesis Example 3 were mixed with a mixer to prepare a coating composition.

제조예 4. 코팅용 조성물의 제조Preparation Example 4. Preparation of coating composition

상기 합성예 1의 수지 화합물 90중량부 및 상기 합성예 4의 방향족 화합물 10 중량부를 믹서로 혼합하여 코팅용 조성물을 제조하였다.Resin of Synthesis Example 1 90 parts by weight of the compound and 10 parts by weight of the aromatic compound of Synthesis Example 4 were mixed with a mixer to prepare a coating composition.

제조예 5. 코팅용 조성물의 제조Preparation Example 5. Preparation of coating composition

상기 합성예 1의 수지 화합물 90중량부 및 상기 합성예 5의 방향족 화합물 10 중량부를 믹서로 혼합하여 코팅용 조성물을 제조하였다.Resin of Synthesis Example 1 90 parts by weight of the compound and 10 parts by weight of the aromatic compound of Synthesis Example 5 were mixed with a mixer to prepare a coating composition.

실시예 1: 다층 필름의 제조Example 1: Preparation of multilayer film

상기 제조예 1의 코팅용 조성물을 각각 125 ㎛ 두께의 기재 필름(PET 필름)의 일면(상층부)에 바(Bar) 코팅방식으로 도포한 후, 100℃에서 3분간 건조시켜 5 ㎛의 두께의 코팅층을 형성시켰다.The coating composition of Preparation Example 1 was applied by a bar coating method on one side (upper layer) of a base film (PET film) having a thickness of 125 µm, respectively, and dried at 100°C for 3 minutes to a coating layer having a thickness of 5 µm. Formed.

이어서, 상기 기재 필름의 타면(하층부)에 동일한 방식으로 제조예 1의 코팅용 조성물을 도포 및 건조하여 1 ㎛ 두께의 코팅층을 형성시켜 다층 필름을 수득하였다.Subsequently, the coating composition of Preparation Example 1 was applied and dried in the same manner on the other side (lower layer) of the base film to form a 1 µm-thick coating layer to obtain a multilayer film.

실시예 2: 다층 필름의 제조Example 2: Preparation of multilayer film

상기 실시예 1에서 제조예 1의 코팅용 조성물 대신 제조예 2의 코팅용 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방식으로 다층 필름을 수득하였다.In Example 1, a multilayer film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating composition of Preparation Example 2 was used instead of the coating composition of Preparation Example 1.

실시예 3: 다층 필름의 제조Example 3: Preparation of multilayer film

상기 실시예 1에서 제조예 1의 코팅용 조성물 대신 제조예 3의 코팅용 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방식으로 다층 필름을 수득하였다.A multilayer film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating composition of Preparation Example 3 was used instead of the coating composition of Preparation Example 1 in Example 1.

실시예 4: 다층 필름의 제조Example 4: Preparation of multilayer film

상기 실시예 1에서 제조예 1의 코팅용 조성물 대신 제조예 4의 코팅용 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방식으로 다층 필름을 수득하였다.In Example 1, a multilayer film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating composition of Preparation Example 4 was used instead of the coating composition of Preparation Example 1.

실시예 5: 다층 필름의 제조Example 5: Preparation of multilayer film

상기 실시예 1에서 제조예 1의 코팅용 조성물 대신 제조예 5의 코팅용 조성물을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방식으로 다층 필름을 수득하였다.A multilayer film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating composition of Preparation Example 5 was used instead of the coating composition of Preparation Example 1 in Example 1.

실험예 1. 내열성 평가Experimental Example 1. Heat resistance evaluation

상기 수득한 다층 필름(실시예 1 내지 5) 및 미처리 PET 필름(비교예 1)을 가로 및 세로 각 200 mm 길이로 절단하여 시편을 제조하였다. 상기 시편 당 9 point씩 최대-최소값의 두께편차와 MD(종방향)의 폭 길이를 측정하였다. 이후, 오븐에서 150℃ 및 60분 조건하에서 방치한 후 상기와 동일한 방식으로 두께편차를 측정하였고, MD의 폭 길이를 비교하여 열수축율을 확인하였다. 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.The obtained multilayer films (Examples 1 to 5) and untreated PET films (Comparative Example 1) were cut into lengths of 200 mm in length and width to prepare a specimen. The maximum-minimum thickness deviation and the width and length of MD (longitudinal) were measured by 9 points per specimen. Thereafter, after standing in an oven under conditions of 150° C. and 60 minutes, the thickness deviation was measured in the same manner as above, and the width and length of the MD were compared to check the heat shrinkage. The results are shown in Table 1 below.

구분division 두께(㎛)Thickness(㎛) 두께(최대-최소값)Thickness (maximum-minimum value) 열수축율(MD, %)Heat shrinkage rate (MD, %) 제조 후After manufacture 150℃, 60분 가열 후150℃, after 60 minutes heating 150℃, 60분 가열 후150℃, after 60 minutes heating 실시예 1Example 1 1.51.5 1.71.7 0.20.2 1.11.1 실시예 2Example 2 1.41.4 1.51.5 0.10.1 1.01.0 실시예 3Example 3 1.41.4 1.51.5 0.10.1 1.01.0 실시예 4Example 4 1.21.2 1.31.3 0.10.1 0.80.8 실시예 5Example 5 1.31.3 1.41.4 0.10.1 1.01.0 비교예 1Comparative Example 1 1.01.0 2.22.2 1.21.2 1.41.4

상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 수지 화합물 및 방향족 화합물을 함유한 코팅층을 포함하는 다층 필름(실시예 1 내지 5)에서는 기재 필름과의 박리 현상이 발생하지 않았으며, 두께편차의 차이가 미비한 것으로 나타났다. 또한, 열수축 또한 거의 발생하지 않았다. 이를 통해, 수지 화합물 및 방향족 화합물을 함유한 코팅층을 포함하는 다층 필름은 코팅층을 포함하지 않는 필름(비교예 1)에 비해 내열성(열변형, 열수축, 열안정성)이 우수한 것을 확인하였다.As shown in Table 1, in the multilayer film (Examples 1 to 5) including a coating layer containing a resin compound and an aromatic compound, no peeling phenomenon from the base film occurred, and the difference in thickness deviation was found to be insufficient. . In addition, hardly any heat shrinkage occurred. Through this, it was confirmed that the multilayer film including a coating layer containing a resin compound and an aromatic compound has excellent heat resistance (heat deformation, heat shrinkage, and thermal stability) compared to a film without a coating layer (Comparative Example 1).

실험예 2. ITO 증착 후 외형 평가Experimental Example 2. Appearance evaluation after ITO deposition

상기 실시예 1 내지 5의 다층 필름 일면(5 ㎛ 두께의 코팅층이 형성된 상층부) 및 타면(1 ㎛ 두께의 코팅층이 형성된 하층부)에 각각 AMAT사의 ENDURA-5500을 이용하여 ITO(indium tin oxide)를 100 nm의 두께로 증착하였다. 또한, 미처리 PET 필름(비교예 1)의 일면 및 타면에 상기와 동일한 방식으로 ITO를 증착하였다. 상기와 같이 ITO를 증착한 후 각 필름의 외형을 관찰한 결과를 하기 표 2에 나타내었다.100 indium tin oxide (ITO) was applied to one side of the multilayer film of Examples 1 to 5 (the upper layer with a 5 μm-thick coating layer) and the other side (the lower layer with a 1 μm-thick coating layer) using AMAT's ENDURA-5500. It was deposited to a thickness of nm. In addition, ITO was deposited on one side and the other side of the untreated PET film (Comparative Example 1) in the same manner as described above. The results of observing the appearance of each film after depositing ITO as described above are shown in Table 2 below.

구분division 외형Appearance 상층부Upper part 하층부Lower part 실시예 1Example 1 ITO 증착층 고유색(옅은 노란빛),
변색없음/평탄성 양호
Intrinsic color of the ITO deposition layer (pale yellow),
No discoloration/good flatness
증착 전후 변화없음No change before and after deposition
실시예 2Example 2 상동Homology 상동Homology 실시예 3Example 3 상동Homology 상동Homology 실시예 4Example 4 상동Homology 상동Homology 실시예 5Example 5 상동Homology 상동Homology 비교예 1Comparative Example 1 미세한 변색,
미세하게 굴곡/수축된 형상
Fine discoloration,
Finely curved/constricted shape
변색,
미세하게 수축된 형상
discoloration,
Finely shrunk shape

상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 내지 5에서는 ITO 증착 과정에서 양호한 외형을 보인 반면, 비교예 1에서는 변색되고 굴곡 및 수축이 일어나는 등 현저히 저하된 외형 특성을 나타냈다. 이를 통해, 수지 화합물 및 방향족 화합물을 함유한 코팅층이 증착 과정에서 발생하는 국부적인 충격 에너지 및 열에 대해 안정적이며, 하드코팅 및 올리고머 블록킹 기능을 잘 수행하고 있음을 확인하였다.As shown in Table 2, in Examples 1 to 5, a good appearance was shown in the ITO deposition process, whereas in Comparative Example 1, discoloration, bending, and contraction occurred, and the appearance characteristics were significantly reduced. Through this, it was confirmed that the coating layer containing the resin compound and the aromatic compound was stable against the local impact energy and heat generated during the deposition process, and well performed the hard coating and oligomer blocking functions.

실험예 3.Experimental Example 3. 플라즈마 에칭 후 외형 평가Appearance evaluation after plasma etching

상기 실험예 2에서와 같이 ITO를 증착한 실시예 1 내지 5의 상층부에 i-Line용 감광성 레지스트를 코팅하고 110℃에서 60초 동안 베이킹하였다. 이후, 1 ㎛ 선폭의 패턴(1 ㎛의 Line & Space, Density 비율 1:1)으로 노광한 다음 2.38% 테트라메틸암모늄 히드록시드(Tetramethyl ammonium hydroxide, TMAH) 수용액을 사용하여 현상하였다. 이후, CH2F2 및 CF4 혼합 가스를 이용하여 플라즈마 에칭을 실시하였다. 비교예 2는 상기와 동일한 방법으로 진행하되 플라즈마 에칭 시간을 3배로 과에칭을 실시한 실시예 4의 시편을 나타낸다.As in Experimental Example 2, a photosensitive resist for i-Line was coated on the upper layers of Examples 1 to 5 in which ITO was deposited, and baked at 110° C. for 60 seconds. Thereafter, exposure was performed with a 1 µm line width pattern (1 µm line & space, density ratio 1:1), and then developed using a 2.38% tetramethyl ammonium hydroxide (TMAH) aqueous solution. Thereafter, plasma etching was performed using a mixed gas of CH 2 F 2 and CF 4 . Comparative Example 2 shows the specimen of Example 4 in which the plasma etching time was over-etched in the same manner as described above.

상기와 같이 플라즈마 에칭을 수행한 후, FE-SEM으로 필름의 단면을 관찰한 결과를 하기 표 3에 나타내었다.After performing the plasma etching as described above, the results of observing the cross section of the film with FE-SEM are shown in Table 3 below.

구분division 외형(상층부)Appearance (upper part) 실시예 1Example 1 ITO 패턴 양호(측면 수직모양, 노출면 잔존물 없이 양호),
코팅층 90% 이상 잔존
Good ITO pattern (vertical shape on the side, good without residue on the exposed side),
90% or more of the coating layer remains
실시예 2Example 2 상동Homology 실시예 3Example 3 상동Homology 실시예 4Example 4 상동Homology 실시예 5Example 5 상동Homology 비교예 2Comparative Example 2 코팅층 노출, ITO 패턴 일부 변형(측면 거칠기 큼)Exposed coating layer, partially modified ITO pattern (large side roughness)

상기 표 3에 나타낸 바와 같이, 수지 화합물 및 방향족 화합물을 함유한 코팅층을 포함하는 실시예 1 내지 5의 경우, 플라즈마 에칭 공정에서 양호한 패턴형성 및 선택비(Selectivity)를 확인한 반면, 과에칭하여 코팅층을 노출한 경우, 플라즈마 에칭 공정 중 PET 필름의 내구성이 부족하여 ITO 패턴이 변형됨을 확인하였다. 이를 통해, 수지 화합물 및 방향족 화합물을 함유한 코팅층을 포함함으로써, PET 기재를 보호할 수 있으며 플라즈마 에칭이 사용되는 다양한 응용분야에 적용이 가능함을 확인하였다.As shown in Table 3, in the case of Examples 1 to 5 including a coating layer containing a resin compound and an aromatic compound, good pattern formation and selectivity were confirmed in the plasma etching process, whereas the coating layer was overetched. When exposed, it was confirmed that the ITO pattern was deformed due to insufficient durability of the PET film during the plasma etching process. Through this, it was confirmed that the PET substrate can be protected by including a coating layer containing a resin compound and an aromatic compound, and can be applied to various applications in which plasma etching is used.

실험예 4. 열수 평가 Experimental Example 4. Hot water evaluation

상기 실시예 1 내지 5의 다층 필름 및 비교예 1의 미처리 PET 필름의 층간 결합력 및 코팅층의 팽윤현상을 확인하기 위해 열수(80℃)에서 20분 동안 담근 후 9pt의 두께를 측정하여 평균값을 구하였다. In order to check the interlayer bonding strength and swelling of the coating layer of the multilayer films of Examples 1 to 5 and the untreated PET film of Comparative Example 1, the thickness of 9pt was measured after soaking in hot water (80°C) for 20 minutes to obtain an average value. .

구분division 두께(㎛) 평균값Average thickness (㎛) 두께(노출전후 차)
(㎛)
Thickness (difference before and after exposure)
(㎛)
제조 후After manufacture 80℃, 20분 노출 후80℃, after 20 minutes exposure 실시예 1Example 1 131.5131.5 131.8131.8 0.30.3 실시예 2Example 2 131.4131.4 132.0132.0 0.60.6 실시예 3Example 3 131.4131.4 132.2132.2 0.80.8 실시예 4Example 4 131.2131.2 132.0132.0 0.80.8 실시예 5Example 5 131.3131.3 131.8131.8 0.50.5 비교예 1Comparative Example 1 131.0131.0 132.4 (일부박리)132.4 (partial peeling) 1.41.4

상기 표 4에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 내지 5의 다층 필름은 열수 80℃에서 20분 동안 노출(담지) 후 두께와 노출 전 두께의 차이가 1 ㎛ 미만으로, 비교예 1의 미처리 PET 필름에 비해 현저히 낮은 것으로 나타났다. 더욱이, 비교예 1의 미처리 PET 필름의 경우 80℃에서 노출 후 필름의 일부가 박리된 것을 확인할 수 있었으며, 노출 전후 두께 차이가 실시예 1의 다층 필름에 비해 4배 이상 현저히 증가함을 확인하였다. As shown in Table 4, the multilayer films of Examples 1 to 5 had a difference between the thickness after exposure (supporting) at 80° C. for 20 minutes at hot water and the thickness before exposure to less than 1 μm, so that the untreated PET film of Comparative Example 1 It was found to be significantly lower than that. Moreover, in the case of the untreated PET film of Comparative Example 1, it was confirmed that part of the film was peeled off after exposure at 80°C, and it was confirmed that the difference in thickness before and after exposure significantly increased by 4 times or more compared to the multilayer film of Example 1.

Claims (22)

하기 화학식 1 및 하기 화학식 2로 표시되는 반복단위를 갖는 방향족 화합물을 포함하는, 코팅용 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00024

[화학식 2]
Figure pat00025

상기 식에서,
A는
Figure pat00026
이며,
여기서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 히드록시기, -OR(이때, R은 C1-10 알킬기 또는 C6-10 아릴기이다), C1-5 알킬기, C6-10 아릴기, 니트로기(-NO2), -NR'R"(이때, R' 및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-5 알킬기이다) 또는 할로겐 원소이고;
B는
Figure pat00027
,
Figure pat00028
Figure pat00029
로 이루어진 군으로부터 선택되며,
여기서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 히드록시기, -OR(이때, R은 C1-10 알킬기 또는 C6-10 아릴기이다), C1-5 알킬기, C6-10 아릴기, 니트로기(-NO2), -NR'R"(이때, R' 및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-5 알킬기이다) 또는 할로겐 원소이고;
X는 -CH2- 또는
Figure pat00030
이며,
여기서, R5는 수소, 히드록시기, -OR(이때, R은 C1-10 알킬기 또는 C6-10 아릴기이다), C1-5 알킬기, C6-10 아릴기, 니트로기(-NO2), -NR'R"(이때, R' 및 R"는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-5 알킬기이다) 또는 할로겐 원소이고;
m 및 n은 상기 화학식 1 및 상기 화학식 2로 표시되는 반복단위의 몰 분율을 나타내며, m+n=1이다.
A coating composition containing an aromatic compound having a repeating unit represented by the following Formula 1 and the following Formula 2:
[Formula 1]
Figure pat00024

[Formula 2]
Figure pat00025

In the above formula,
A is
Figure pat00026
Is,
Here, R 1 and R 2 are each independently hydrogen, a hydroxy group, -OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group or a C 6-10 aryl group), a C 1-5 alkyl group, a C 6-10 aryl group, A nitro group (-NO 2 ), -NR'R" (wherein R'and R" are each independently hydrogen or a C 1-5 alkyl group) or a halogen element;
B is
Figure pat00027
,
Figure pat00028
And
Figure pat00029
It is selected from the group consisting of,
Here, R 3 and R 4 are each independently hydrogen, a hydroxy group, -OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group or a C 6-10 aryl group), a C 1-5 alkyl group, a C 6-10 aryl group, A nitro group (-NO 2 ), -NR'R" (wherein R'and R" are each independently hydrogen or a C 1-5 alkyl group) or a halogen element;
X is -CH 2 -or
Figure pat00030
Is,
Here, R 5 is hydrogen, a hydroxy group, -OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group or a C 6-10 aryl group), a C 1-5 alkyl group, a C 6-10 aryl group, a nitro group (-NO 2 ), -NR'R" (wherein R'and R" are each independently hydrogen or a C 1-5 alkyl group) or a halogen element;
m and n represent the molar fraction of the repeating unit represented by Formula 1 and Formula 2, and m+n=1.
제1항에 있어서,
상기 방향족 화합물이 1,000 g/mol 이상 내지 30,000 g/mol 이하의 중량 평균 분자량을 갖는, 코팅용 조성물.
The method of claim 1,
The aromatic compound has a weight average molecular weight of 1,000 g / mol or more to 30,000 g / mol or less, a coating composition.
제2항에 있어서,
상기 방향족 화합물이 1,000 g/mol 이상 내지 10,000 g/mol 미만의 중량 평균 분자량을 갖고, 상기 m 및 n이 각각 0.25≤m≤0.5 및 0.5≤n≤0.75인, 코팅용 조성물.
The method of claim 2,
The aromatic compound has a weight average molecular weight of 1,000 g/mol or more to less than 10,000 g/mol, and m and n are 0.25≦m≦0.5 and 0.5≦n≦0.75, respectively.
제2항에 있어서,
상기 방향족 화합물이 10,000 g/mol 이상 내지 30,000 g/mol 이하의 중량 평균 분자량을 갖고, 상기 m 및 n이 각각 0.75≤m≤0.95 및 0.05≤n≤0.25인, 코팅용 조성물.
The method of claim 2,
The aromatic compound has a weight average molecular weight of 10,000 g/mol or more and 30,000 g/mol or less, and m and n are 0.75≦m≦0.95 and 0.05≦n≦0.25, respectively.
제1항에 있어서,
상기 R1 및 R2가 각각 독립적으로 수소 또는 히드록시기이고,
상기 R3 및 R4가 각각 독립적으로 수소, 히드록시기 또는 -OR(이때, R은 C1-10 알킬기이다)이며,
R5가 수소인, 코팅용 조성물.
The method of claim 1,
R 1 and R 2 are each independently hydrogen or a hydroxy group,
R 3 and R 4 are each independently hydrogen, a hydroxy group or -OR (wherein R is a C 1-10 alkyl group),
R 5 is hydrogen, the coating composition.
제1항에 있어서,
상기 A는
Figure pat00031
이고,
상기 B는
Figure pat00032
,
Figure pat00033
또는
Figure pat00034
이며,
상기 X는 -CH2- 또는
Figure pat00035
인, 코팅용 조성물.
The method of claim 1,
A is
Figure pat00031
ego,
B is
Figure pat00032
,
Figure pat00033
or
Figure pat00034
Is,
X is -CH 2 -or
Figure pat00035
Phosphorus, a composition for coating.
제1항에 있어서,
상기 조성물이 아크릴레이트계 수지 또는 에폭시계 수지를 더 포함하는, 코팅용 조성물.
The method of claim 1,
The composition further comprises an acrylate-based resin or an epoxy-based resin, a coating composition.
제7항에 있어서,
상기 아크릴레이트계 수지가 부틸 아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 히드록시에틸 아크릴레이트, 에틸헥실 아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 포함하는, 코팅용 조성물.
The method of claim 7,
The acrylate resin is butyl acrylate, methyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, ethylhexyl acrylate, glycidyl methacrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate And a coating composition comprising at least one compound selected from the group consisting of a mixture thereof.
제7항에 있어서,
상기 에폭시계 수지가 비스페놀 F형 에폭시, 비스페놀 A형 에폭시, 페놀 노볼락형 에폭시, 크레졸 노볼락형 에폭시 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 포함하는, 코팅용 조성물.
The method of claim 7,
The epoxy-based resin comprises at least one compound selected from the group consisting of bisphenol F-type epoxy, bisphenol A-type epoxy, phenol novolac-type epoxy, cresol novolac-type epoxy, and mixtures thereof.
제7항에 있어서,
상기 조성물이 상기 조성물 총 중량을 기준으로 1 내지 30 중량%의 상기 방향족 화합물 및 70 내지 99 중량%의 아크릴레이트계 수지 또는 에폭시계 수지를 포함하는, 코팅용 조성물.
The method of claim 7,
The composition comprises 1 to 30% by weight of the aromatic compound and 70 to 99% by weight of acrylate-based resin or epoxy-based resin based on the total weight of the composition, a coating composition.
제1항에 있어서,
상기 조성물이 메틸에틸케톤(MEK), 에틸락테이트(EL), 에틸아세테이트(EA), γ-부티로락톤(GBL), 톨루엔, 클로로포름, 프로필린글리콜 모노에틸에테르(PGME), 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 및 이의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 용매를 더 포함하는, 코팅용 조성물.
The method of claim 1,
The composition is methyl ethyl ketone (MEK), ethyl lactate (EL), ethyl acetate (EA), γ-butyrolactone (GBL), toluene, chloroform, propylline glycol monoethyl ether (PGME), propylene glycol monomethyl Ether acetate (PGMEA), and a coating composition further comprising a solvent selected from the group consisting of a mixture thereof.
기재 필름; 및
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 코팅용 조성물로부터 형성된 코팅층을 포함하는, 다층 필름.
Base film; And
A multilayer film comprising a coating layer formed from the coating composition according to any one of claims 1 to 11.
제12항에 있어서,
상기 기재 필름의 일면에 형성된 제 1 코팅층; 및
상기 기재 필름의 타면에 형성된 제 2 코팅층을 포함하는, 다층 필름.
The method of claim 12,
A first coating layer formed on one surface of the base film; And
A multilayer film comprising a second coating layer formed on the other surface of the base film.
제12항에 있어서,
상기 기재 필름이 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리사이클로헥산테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 나일론6, 나일론66, 불화비닐리덴, 폴리스티렌, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리염화비닐, 트리아세틸 셀룰로오스 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 포함하는, 다층 필름.
The method of claim 12,
The base film is polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexane terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, nylon 6, nylon 66, vinylidene fluoride, polystyrene, polyimide, polyvinyl Alcohol, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose And, a multilayer film comprising at least one compound selected from the group consisting of a mixture thereof.
제13항에 있어서,
상기 기재 필름이 10 내지 500 ㎛의 두께를 갖는, 다층 필름.
The method of claim 13,
The base film has a thickness of 10 to 500 μm, a multilayer film.
제13항에 있어서,
상기 제 1 코팅층이 0.1 내지 50 ㎛의 두께를 갖고, 상기 제 2 코팅층이 0.1 내지 50 ㎛의 두께를 갖는, 다층 필름.
The method of claim 13,
The first coating layer has a thickness of 0.1 to 50 ㎛, the second coating layer has a thickness of 0.1 to 50 ㎛, multilayer film.
제12항에 있어서,
상기 코팅층이 바(Bar) 코팅, 스핀-온-코팅, 슬릿 코팅 또는 스프레이 코팅법으로 형성된, 다층 필름.
The method of claim 12,
The coating layer is formed by a bar coating, spin-on-coating, slit coating or spray coating method.
제12항에 있어서,
상기 다층 필름이 150℃에서 60분 동안 열처리될 때 상기 기재 필름이 0.5 내지 1.3%의 열수축률을 갖는, 다층 필름.
The method of claim 12,
When the multilayer film is heat-treated at 150° C. for 60 minutes, the base film has a heat shrinkage of 0.5 to 1.3%.
제12항에 있어서,
상기 다층 필름이 150℃에서 60분 동안 열처리될 때 1 ㎛ 미만의 두께 편차를 갖는, 다층 필름.
The method of claim 12,
A multilayer film having a thickness variation of less than 1 μm when the multilayer film is heat-treated at 150° C. for 60 minutes.
제12항에 있어서,
상기 다층 필름이 150℃에서 60분 동안 열처리될 때 상기 기재 필름과 코팅층 사이에 박리가 발생하지 않는, 다층 필름.
The method of claim 12,
When the multilayer film is heat-treated at 150° C. for 60 minutes, peeling does not occur between the base film and the coating layer.
제12항에 있어서,
상기 다층 필름이 열수 80℃에서 20분 동안 담지될 때, 담지 후 다층 필름의 두께와 담지 전 다층 필름의 두께의 차이가 1 ㎛ 미만인, 다층 필름.
The method of claim 12,
When the multilayer film is supported at 80° C. for 20 minutes in hot water, the difference between the thickness of the multilayer film after support and the thickness of the multilayer film before support is less than 1 μm.
(1) 제1항에 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 코팅용 조성물을 기재 필름의 일면에 코팅한 후 열처리하여 제 1 코팅층을 형성하는 단계; 및
(2) 상기 코팅용 조성물을 상기 기재 필름의 타면에 코팅한 후 열처리하여 제 2 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는, 다층 필름의 제조방법.
(1) forming a first coating layer by coating the coating composition according to any one of claims 1 to 11 on one surface of a base film and then heat treatment; And
(2) A method of manufacturing a multilayer film comprising the step of forming a second coating layer by coating the coating composition on the other surface of the base film and then heat treatment.
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