KR20200100041A - Hydroxy compounds, compositions, cured products and laminates - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 일반식(1)의 구조를 갖는 히드록시 화합물 A를 제공하는 것이다.

Figure pct00013

···(1)
(식(1) 중, Ar은 각각 독립해서 무치환 또는 치환기를 갖는 방향환을 갖는 구조를 나타내고,
R1 및 R2은 각각 독립해서 수소 원자 또는 탄소수 1∼2의 알킬기를 나타내고,
R3 및 R4은 각각 독립해서 수산기 또는 메틸기를 나타내고,
n은 11∼16의 정수이고, m은 반복수의 평균값으로 0.5∼10이다.
(단, 반복 단위 중에 존재하는 각 반복 단위는 각각 동일해도 되고 달라도 상관없다))The present invention provides a hydroxy compound A having a structure of general formula (1).
Figure pct00013

···(One)
(In formula (1), Ar each independently represents a structure having an unsubstituted or substituted aromatic ring,
R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms,
R 3 and R 4 each independently represent a hydroxyl group or a methyl group,
n is an integer of 11 to 16, and m is an average value of the number of repetitions, and is 0.5 to 10.
(However, each repeating unit present in the repeating unit may be the same or different.)

Description

히드록시 화합물, 조성물, 경화물 및 적층체Hydroxy compounds, compositions, cured products and laminates

본 발명은, 특정의 구조를 갖는 히드록시 화합물, 및 당해 히드록시 화합물을 갖는 조성물, 당해 조성물을 경화해서 이루어지는 경화물에 관한 것이다. 또한, 당해 경화물층을 갖는 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a hydroxy compound having a specific structure, a composition having the hydroxy compound, and a cured product obtained by curing the composition. Further, it relates to a laminate having the cured product layer.

CO2 삭감·연비 향상 등으로부터 자동차·비행기의 경량화는 점점 진행되고, 이것에 수반하여 스폿 용접수의 저감이나 섬유 강화 수지와 금속의 병용 등에 의한 경량화가 진행되고, 이들에게 사용되는 구조 재료용 접착제의 고성능화가 강하게 요구되고 있다. 특히, 열팽창차가 큰 금속과 섬유 강화 수지와의 가열 접착에 있어서는, 팽창과 수축에 수반하는, 계면 응력에 의한 휘어짐이나 물결 형상의 발생에 의한 접착력의 저하가 과제로 되어 있다.Weight reduction of automobiles and airplanes is gradually progressing due to reduction of CO 2 and improvement of fuel economy, and accordingly, reduction of the number of spot welding and the combination of fiber-reinforced resin and metal are in progress. There is a strong demand for high performance. In particular, in heat bonding between a metal having a large difference in thermal expansion and a fiber-reinforced resin, a problem is a decrease in the adhesive force due to the occurrence of warpage or wave shape due to interfacial stress accompanying expansion and contraction.

한편, 반도체 봉지(封止) 재료나 다층 프린트 기판용 절연층 등에 사용되는 첨단 전자 재료에도, 금속과 플라스틱이나 실리콘칩의 적층체가 사용되고 있다. 이때, 전송 속도 등의 관계로부터 표면이 평활한 금속을 사용할 필요가 있지만, 앵커 효과의 감소로부터 접착력의 저하가 심각한 문제로 되어 있고, 특히 접착이 어려운 금속측의 접착제나 접착제용 프라이머가 요구되고 있다.On the other hand, laminates of metal, plastic, and silicon chips are also used for cutting-edge electronic materials used for semiconductor encapsulation materials and insulating layers for multilayer printed circuit boards. At this time, it is necessary to use a metal with a smooth surface due to the relationship of the transmission speed, etc., but the decrease in the anchoring effect is a serious problem, and in particular, an adhesive on the metal side that is difficult to bond or an adhesive primer is required. .

한편, 산업상 이용하는 금속 표면은, 대기 중에 존재하는 유기물이나 무기물에 의해 오염되어 있는 경우가 많다. 이들 유기물이나 무기물은 산화물층의 위에 퇴적하고, 금속의 접착성을 더 저하시킨다. 따라서, 유기물 등에 의해서 오염된 상태여도 높은 접착성을 발휘하는 프라이머가 요구되고 있다.On the other hand, the metal surface used for industrial purposes is often contaminated by organic substances or inorganic substances existing in the air. These organic substances or inorganic substances are deposited on the oxide layer, further reducing the adhesion of the metal. Therefore, there is a demand for a primer that exhibits high adhesiveness even in a state contaminated with organic substances or the like.

예를 들면 특허문헌 1에서는, 비스페놀A형 에폭시 수지와, 노볼락형 에폭시 수지를 병용하는 금속용 프라이머 조성물이 개시되어 있다. 그러나, 이들과 같은 통상의 에폭시 수지를 사용한 프라이머는, 오염된 금속 표면에 대한 접착성이라는 과제는 해결되어 있지 않다.For example, in Patent Document 1, a primer composition for metals using a bisphenol A type epoxy resin and a novolac type epoxy resin in combination is disclosed. However, the problem of adhesion to a contaminated metal surface is not solved by the primers using such ordinary epoxy resins.

일본 특개2007-77358호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-77358

본 발명의 과제는, 금속 표면, 특히 오염된 금속 표면이어도 높은 접착성과 프라이머성을 발휘하는 화합물을 제공하는 것에 있다.An object of the present invention is to provide a compound that exhibits high adhesion and primer properties even on a metal surface, particularly a contaminated metal surface.

또한, 당해 화합물을 함유하는 조성물, 및 금속용 프라이머, 및 당해 조성물층과 기재를 갖는 것을 특징으로 하는 적층체를 제공하는 것에 있다.Further, it is to provide a composition containing the compound, a primer for metal, and a laminate comprising the composition layer and the substrate.

본 발명자들은, 예의 검토한 결과, 하기 식(1)으로 표시되는 히드록시 화합물 A를 제공함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아냈다. 즉 본 발명은, 일반식(1)의 구조를 갖는 히드록시 화합물 A를 제공하는 것이다.As a result of intensive examination, the present inventors found out that the above problem can be solved by providing the hydroxy compound A represented by the following formula (1). That is, the present invention is to provide a hydroxy compound A having a structure of general formula (1).

Figure pct00001
Figure pct00001

···(1)···(One)

식(1) 중, Ar은 각각 독립해서 무치환 또는 치환기를 갖는 방향환을 갖는 구조를 나타내고, In formula (1), Ar each independently represents a structure having an unsubstituted or substituted aromatic ring,

R1 및 R2은 각각 독립해서 수소 원자 또는 탄소수 1∼2의 알킬기를 나타내고, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms,

R3 및 R4은 각각 독립해서 수산기 또는 메틸기를 나타내고, R 3 and R 4 each independently represent a hydroxyl group or a methyl group,

n은 11∼16의 정수이고, m은 반복수의 평균값으로 0.5∼10이다.n is an integer of 11 to 16, and m is an average value of the number of repetitions, and is 0.5 to 10.

(단, 반복 단위 중에 존재하는 각 반복 단위는 각각 동일해도 되고 달라도 상관없다))(However, each repeating unit present in the repeating unit may be the same or different.)

추가로, 또한, 당해 히드록시 화합물 A를 함유하는 조성물, 또한, 당해 화합물을 함유하는 조성물, 및 금속용 프라이머, 및 당해 조성물층과 기재를 갖는 것을 특징으로 하는 적층체를 제공함으로써, 상기 과제를 해결한다.In addition, by providing a composition containing the hydroxy compound A, a composition containing the compound, and a primer for metal, and a laminate characterized by having the composition layer and the substrate, the above subject is solved. Solve.

본 발명의 히드록시 화합물 A는, 금속 표면, 특히 오염된 금속 표면이어도 높은 접착성과 프라이머성을 발휘할 수 있다.The hydroxy compound A of the present invention can exhibit high adhesion and primer properties even on a metal surface, particularly a contaminated metal surface.

<히드록시 화합물 A> 본 발명의 히드록시 화합물 A는, 하기 식(1)으로 표시되는 화합물이다.<Hydroxy compound A> The hydroxy compound A of this invention is a compound represented by following formula (1).

Figure pct00002
Figure pct00002

···(1)···(One)

(식(1) 중, Ar은 각각 독립해서 무치환 또는 치환기를 갖는 방향환을 갖는 구조를 나타내고, (In formula (1), Ar each independently represents a structure having an unsubstituted or substituted aromatic ring,

R1 및 R2은 각각 독립해서 수소 원자 또는 탄소수 1∼2의 알킬기를 나타내고, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms,

R3 및 R4은 각각 독립해서 수산기 또는 메틸기를 나타내고, R 3 and R 4 each independently represent a hydroxyl group or a methyl group,

n은 11∼16의 정수이고, m은 반복수의 평균값으로 0.5∼10이다.n is an integer of 11 to 16, and m is an average value of the number of repetitions, and is 0.5 to 10.

(단, 반복 단위 중에 존재하는 각 반복 단위는 각각 동일해도 되고 달라도 상관없다).(However, each repeating unit present in the repeating unit may be the same or different, respectively).

이들 중에서도, 상기 히드록시 화합물 A의 수산기 당량이 100∼10000g/eq인 것은 접착제층과의 반응성이나, 금속 표면에의 배위성이 적당하고, 유연강인성과 내열성을 겸비할 수 있는 점으로부터 바람직한 것이다. 또한, 상기 히드록시 화합물 A의 25℃에 있어서의 점도가 100∼20000Pa·s인 것이, 작업성이 양호하고, 경화물의 유연성과 밀착성이 우수한 점으로부터 바람직하고, 특히 2,000∼15,000Pa·s인 것이 바람직하다.Among these, those having a hydroxyl equivalent of the hydroxy compound A of 100 to 10000 g/eq are preferable from the viewpoint of reactivity with the adhesive layer, suitable coordination to the metal surface, and both flexible toughness and heat resistance. In addition, it is preferable that the viscosity of the hydroxy compound A at 25°C is 100 to 20000 Pa·s, from the viewpoint of good workability and excellent flexibility and adhesion of the cured product, particularly 2,000 to 15,000 Pa·s. desirable.

상기 일반식(1)에 있어서, 각각 독립해서 Ar은 무치환 또는 치환기를 갖는 방향환을 갖는 구조를 나타낸다. 여기에서 말하는 방향환이란, 예를 들면 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환, 페난트렌환, 플루오렌환을 들 수 있다. 이들 방향환을 갖는 구조인 Ar로서는, 바람직하게는 하기 식(2)으로 표시되는 구조를 나타낸다.In the general formula (1), each independently Ar represents a structure having an unsubstituted or substituted aromatic ring. The aromatic ring herein includes, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, and a fluorene ring. Ar, which is a structure having these aromatic rings, preferably shows a structure represented by the following formula (2).

Figure pct00003
Figure pct00003

···(2)···(2)

(식(2)에 있어서, 방향환은 치환 또는 무치환이어도 좋고, *는 결합점을 나타낸다)(In formula (2), the aromatic ring may be substituted or unsubstituted, and * represents a bonding point)

상기 식(2)에 있어서, 경화물의 유연성, 탄성률 및 접착성의 밸런스가 우수한 점으로부터, Ar의 구조로서는 이하의 것이 특히 바람직하다.In the above formula (2), from the viewpoint of excellent balance of flexibility, elastic modulus, and adhesiveness of the cured product, the structure of Ar is particularly preferably the following.

Figure pct00004
Figure pct00004

Ar이 치환기를 가질 경우, 치환기로서는 바람직하게는 알킬기, 할로겐 원자, 수산기 등을 들 수 있다. 바람직하게는 알킬기와 수산기이고, 수산기를 갖는 경우는 접착제층과의 반응성이나, 금속 표면에의 배위성이 우수하므로 특히 바람직하다.When Ar has a substituent, examples of the substituent include preferably an alkyl group, a halogen atom, and a hydroxyl group. Preferably, it is an alkyl group and a hydroxyl group, and when it has a hydroxyl group, since reactivity with an adhesive layer and coordination to a metal surface are excellent, it is especially preferable.

치환기를 갖는 Ar로서의 특히 바람직한 구조로서는, 이하의 구조를 들 수 있다.The following structures are mentioned as a particularly preferable structure as Ar having a substituent.

Figure pct00005
Figure pct00005

상기 식 1로 표시되는 히드록시 화합물 A에 있어서, 반복 단위 n으로서는, 11∼16의 정수이고, 바람직하게는 12∼15이다. n이 11 이상임으로써, 접착력이 향상하는데다, 기재의 팽창과 수축에 수반하는, 계면 응력에 의한 휘어짐이나 물결 형상을 완화할 수 있다. 또한, n이 16 이하임으로써, 가교 밀도의 저하를 억제할 수 있다.In the hydroxy compound A represented by the above formula 1, the repeating unit n is an integer of 11 to 16, and preferably 12 to 15. When n is 11 or more, adhesive strength is improved, and warpage or wavy shape due to interfacial stress accompanying expansion and contraction of the substrate can be alleviated. In addition, when n is 16 or less, a decrease in crosslinking density can be suppressed.

<히드록시 화합물 A의 제조 방법><Production method of hydroxy compound A>

본 발명의 히드록시 화합물 A의 제조 방법으로서는, 특히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 지방족계 디히드록시 화합물의 디글리시딜에테르(a1)와 방향족계 히드록시 화합물(a2)을, 몰비(a1)/(a2)가 1/1.01∼1/5.0인 범위에서 반응시켜서 얻어진다.The method for producing the hydroxy compound A of the present invention is not particularly limited, but for example, the diglycidyl ether (a1) of the aliphatic dihydroxy compound and the aromatic hydroxy compound (a2) are mixed in a molar ratio ( It is obtained by reacting in the range of 1/1.01 to 1/5.0 of a1)/(a2).

히드록시 화합물 A 중에는 미반응의 방향족계 히드록시 화합물(a2)이 포함되지만, 본 발명에서는 그대로 사용해도 좋고, 또한, 방향족계 히드록시 화합물(a2)을 제거해서 사용해도 좋다.The unreacted aromatic hydroxy compound (a2) is contained in the hydroxy compound A, but in the present invention, it may be used as it is, or may be used after removing the aromatic hydroxy compound (a2).

미반응의 상기 방향족계 히드록시 화합물(a2)의 제거 방법으로서는 각종 방법에 준거해서 행할 수 있다. 예를 들면, 극성의 차이를 이용하는 칼럼 크로마토그래피 분리법, 비점의 차이를 이용하는 증류 분류법, 알칼리수에의 용해도의 차이를 이용하는 알칼리수 용추출법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 열변질을 수반하지 않기 때문에, 알칼리수 용추출법이 효율 등의 점에서 바람직하고, 이때 목적물을 용해시키기 위해서 사용하는 유기 용매는 톨루엔이나 메틸이소부틸케톤 등 물과 혼합하지 않는 것이면 사용 가능하지만, 목적물과의 용해성의 관점에서 메틸이소부틸케톤이 바람직하다. 얻어지는 히드록시 화합물 A 중의 미반응의 상기 방향족계 히드록시 화합물(a2)의 존재율은 질량%로 0.1∼30인 것이 경화물의 강인성과 유연성과의 밸런스가 양호하게 되는 점으로부터 바람직하다.As a method for removing the unreacted aromatic hydroxy compound (a2), it can be carried out in accordance with various methods. For example, a column chromatography separation method using a difference in polarity, a distillation fractionation method using a difference in boiling point, an alkaline water extraction method using a difference in solubility in alkaline water, and the like may be mentioned. Among them, since it does not involve heat deterioration, the alkaline water extraction method is preferable in terms of efficiency, etc., and the organic solvent used to dissolve the target substance at this time can be used as long as it is not mixed with water such as toluene or methyl isobutyl ketone. , Methyl isobutyl ketone is preferable from the viewpoint of solubility with the target substance. It is preferable that the abundance of the unreacted aromatic hydroxy compound (a2) in the resulting hydroxy compound A is 0.1 to 30 in terms of mass %, from the viewpoint of a good balance between toughness and flexibility of the cured product.

상기 지방족계 디히드록시 화합물의 디글리시딜에테르(a1)로서는, 특히 한정되는 것은 아니며, 예를 들면 1,11-운데칸디올디글리시딜에테르, 1,12-도데칸디올디글리시딜에테르, 1,13-트리데칸디올, 1,14-테트라데칸디올디글리시딜에테르, 1,15-펜타데칸디올디글리시딜에테르, 1,16-헥사데칸디올디글리시딜에테르, 2-메틸-1,11-운데칸디올디글리시딜에테르, 3-메틸-1,11-운데칸디올디글리시딜에테르, 2,6,10-트리메틸-1,11-운데칸디올디글리시딜에테르 등을 들 수 있다. 이들은, 히드록시 화합물의 글리시딜에테르화에 있어서 생성하는 유기 염소 불순물을 함유하고 있어도 좋고, 하기 구조로 표시되는 1-클로로메틸-2-글리시딜에테르(클로로메틸체) 등의 유기 염소를 함유하고 있어도 좋다. 이들 디글리시딜에테르는 단독이어도 좋고, 2종류 이상을 병용해도 좋다.The diglycidyl ether (a1) of the aliphatic dihydroxy compound is not particularly limited, and for example, 1,11-undecanediol diglycidyl ether, 1,12-dodecanediol diglycidyl ether , 1,13-tridecanediol, 1,14-tetradecanediol diglycidyl ether, 1,15-pentadecandiol diglycidyl ether, 1,16-hexadecanediol diglycidyl ether, 2- Methyl-1,11-undecanediol diglycidyl ether, 3-methyl-1,11-undecanediol diglycidyl ether, 2,6,10-trimethyl-1,11-undecanediol diglycidyl ether, etc. Can be mentioned. These may contain organic chlorine impurities generated in the glycidyl etherification of the hydroxy compound, and organic chlorine such as 1-chloromethyl-2-glycidyl ether (chloromethyl form) represented by the following structure It may contain. These diglycidyl ethers may be used alone or in combination of two or more.

Figure pct00006
Figure pct00006

···클로로메틸체 ...Chloromethyl form

이들 중에서도, 얻어지는 경화물의 유연성과 내열성의 밸런스가 우수한 점으로부터 탄소수 12∼14의 알킬렌쇄의 양 말단에 에테르기를 개재해서 글리시딜기가 연결한 구조인 화합물인 것이 바람직하고, 1,12-도데칸디올디글리시딜에테르, 1,13-트리데칸디올, 1,14-테트라데칸디올디글리시딜에테르를 사용하는 것이 가장 바람직하다.Among these, a compound having a structure in which a glycidyl group is connected via an ether group at both ends of an alkylene chain having 12 to 14 carbon atoms is preferable from the viewpoint of excellent balance of flexibility and heat resistance of the resulting cured product, and 1,12-dodecanedi It is most preferable to use old diglycidyl ether, 1,13-tridecanediol, and 1,14-tetradecanediol diglycidyl ether.

상기 방향족계 히드록시 화합물(a2)로서는, 특히 한정되는 것은 아니며, 예를 들면, 하이드로퀴논, 레조르신, 카테콜 등의 디히드록시벤젠류, 피로갈롤, 1,2,4-트리히드록시벤젠, 1,3,5-트리히드록시벤젠 등의 트리히드록시벤젠류, 4,4',4"-트리히드록시트리페닐메탄 등의 트리페닐메탄형 페놀류, 1,6-디히드록시나프탈렌, 2,7-디히드록시나프탈렌, 1,4-디히드록시나프탈렌, 1,5-디히드록시나프탈렌, 2,3-디히드록시나프탈렌, 및 2,6-디히드록시나프탈렌 등의 디히드록시나프탈렌류, 디히드록시나프탈렌류를 커플링 반응시킨, 1,1'-메틸렌비스-(2,7-나프탈렌디올), 1,1'-비나프탈렌-2,2',7,7'-테트라올, 1,1'-옥시비스-(2,7-나프탈렌디올) 등의 4관능 페놀류, 비스(4-히드록시페닐)메탄, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(3-메틸-4-히드록시페닐)프로판, 1,1-비스(4-히드록시페닐)시클로헥산, 및 1,1-비스(4-히드록시페닐)-1-페닐에탄, 및 비스(4-히드록시페닐)설폰 등의 비스페놀류, 2,2'-비페놀, 4,4'-비페놀, (1,1'-비페닐)-3,4-디올, 3,3'-디메틸-(1,1'-비페닐)-4,4'-디올, 3-메틸-(1,1'-비페닐)-4,4'-디올, 3,3',5,5'-테트라메틸비페닐-2,2'-디올, 3,3',5,5'-테트라메틸비페닐-4,4'-디올, 5-메틸-(1,1'-비페닐)-3,4'디올, 3'-메틸-(1,1'-비페닐)-3,4'디올, 4'-메틸-(1,1'-비페닐)-3,4'디올 등의 비페놀류, 페놀과 디시클로펜타디엔과의 중부가물, 및 페놀과 테르펜계 화합물과의 중부가물 등의 지환식 구조 함유 페놀류, 비스(2-히드록시-1-나프틸)메탄, 및 비스(2-히드록시-1-나프틸)프로판 등의 나프톨류, 페놀과 페닐렌디메틸클로라이드 또는 비페닐렌디메틸클로라이드와의 축합 반응 생성물인 소위 자일록형 페놀 수지를 들 수 있고, 단독이어도 좋고, 2종 이상을 병용해서 사용해도 좋다. 또한, 상기한 각 화합물의 방향핵에 치환기로서 메틸기, t-부틸기, 또는 할로겐 원자가 치환한 구조의 2관능성 페놀 화합물도 들 수 있다. 또, 상기 지환식 구조 함유 페놀류나, 상기 자일록형 페놀 수지는, 2관능 성분뿐만 아니라, 3관능성 이상의 성분도 동시에 존재할 수 있지만, 본 발명에서는 그대로 사용해도 좋고, 또한, 칼럼 등의 정제 공정을 거쳐, 2관능 성분만을 취출해서 사용해도 좋다.The aromatic hydroxy compound (a2) is not particularly limited, and examples include dihydroxybenzenes such as hydroquinone, resorcin, and catechol, pyrogallol, and 1,2,4-trihydroxybenzene , Trihydroxybenzenes such as 1,3,5-trihydroxybenzene, triphenylmethane-type phenols such as 4,4',4"-trihydroxytriphenylmethane, 1,6-dihydroxynaphthalene, Dihydroxy, such as 2,7-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, and 2,6-dihydroxynaphthalene 1,1'-methylenebis-(2,7-naphthalenediol), 1,1'-binaphthalene-2,2',7,7'-tetra obtained by coupling reaction of naphthalenes and dihydroxynaphthalenes Tetrafunctional phenols such as ol, 1,1'-oxybis-(2,7-naphthalenediol), bis(4-hydroxyphenyl)methane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, 2, 2-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)propane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane, and 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-1-phenylethane, And bisphenols such as bis(4-hydroxyphenyl)sulfone, 2,2'-biphenol, 4,4'-biphenol, (1,1'-biphenyl)-3,4-diol, 3,3 '-Dimethyl-(1,1'-biphenyl)-4,4'-diol, 3-methyl-(1,1'-biphenyl)-4,4'-diol, 3,3',5,5 '-Tetramethylbiphenyl-2,2'-diol, 3,3',5,5'-tetramethylbiphenyl-4,4'-diol, 5-methyl-(1,1'-biphenyl)- Ratio of 3,4' diol, 3'-methyl-(1,1'-biphenyl)-3,4' diol, 4'-methyl-(1,1'-biphenyl)-3,4' diol, etc. Phenols containing alicyclic structures such as phenols, polyadditions of phenol and dicyclopentadiene, and polyadditions of phenol and terpene compounds, bis(2-hydroxy-1-naphthyl)methane, and bis( Naphthols such as 2-hydroxy-1-naphthyl)propane, and a so-called xyloxy phenol resin, which is a condensation reaction product of phenol and phenylene dimethyl chloride or biphenylene dimethyl chloride, may be used alone, or two types You may use the above in combination. In addition, as a substituent in the aromatic nucleus of each of the above compounds, methyl group, t-butyl A group or a difunctional phenol compound having a structure substituted with a halogen atom may also be mentioned. In addition, the alicyclic structure-containing phenols and the xylox-type phenol resin may be present at the same time as not only a bifunctional component, but also a component having a trifunctional or higher function. , You may take out and use only the bifunctional component.

이들 중에서도, 경화물로 했을 때의 유연성과 강인성의 밸런스가 우수한 점으로부터 비스페놀류가 바람직하고, 특히 인성 부여의 성능이 현저한 점으로부터 비스(4-히드록시페닐)메탄, 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판이 바람직하다. 또한, 경화물의 내습성을 중시하는 경우에는, 지환식 구조를 함유하는 페놀류를 사용하는 것이 바람직하다.Among these, bisphenols are preferred from the viewpoint of excellent balance of flexibility and toughness when used as a cured product. In particular, bis(4-hydroxyphenyl)methane and 2,2-bis(4) from the viewpoint of remarkable performance for imparting toughness. -Hydroxyphenyl)propane is preferred. In addition, when placing importance on the moisture resistance of the cured product, it is preferable to use phenols containing an alicyclic structure.

상기 지방족계 디히드록시 화합물의 디글리시딜에테르(a1)와 상기 방향족계 히드록시 화합물(a2)과의 반응 비율은, 얻어지는 화합물을 에폭시 수지의 경화제로서 사용하기 위하여, (a1)/(a2)가 1/1.01∼1/5.0(몰비)인 범위에서 반응시키는 것을 필수로 하고, 얻어지는 경화물의 유연성과 내열성을 밸런스 좋게 겸비하는 점으로부터, (a1)/(a2)가 1/1.1∼1/3.0(몰비)인 것이 바람직하다.The reaction ratio of the aliphatic dihydroxy compound to the diglycidyl ether (a1) and the aromatic hydroxy compound (a2) is, in order to use the obtained compound as a curing agent for the epoxy resin, (a1)/(a2 ) Is required to react in a range of 1/1.01 to 1/5.0 (molar ratio), and (a1)/(a2) is 1/1.1 to 1/ from the point that the obtained cured product has a good balance of flexibility and heat resistance. It is preferably 3.0 (molar ratio).

상기 지방족계 디히드록시 화합물의 디글리시딜에테르(a1)와 상기 방향족계 히드록시 화합물(a2)과의 반응은, 촉매의 존재 하에서 행하는 것이 바람직하다. 상기 촉매로서는, 각종 것을 사용할 수 있으며, 예를 들면, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 수산화칼슘 등의 알칼리(토류) 금속 수산화물, 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 알칼리 금속 탄산염, 트리페닐포스핀 등의 인계 화합물, DMP-30, DMAP, 테트라메틸암모늄, 테트라에틸암모늄, 테트라부틸암모늄, 벤질트리부틸암모늄 등의 클로라이드, 브로마이드, 아이오다이드, 테트라메틸포스포늄, 테트라에틸포스포늄, 테트라부틸포스포늄, 벤질트리부틸포스포늄 등의 클로라이드, 브로마이드, 아이오다이드 등의 4급 암모늄염, 트리에틸아민, N,N-디메틸벤질아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센, 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 등의 3급 아민류, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸 등의 이미다졸류 등을 들 수 있다. 이들은 2종 이상의 촉매를 병용해도 상관없다. 그 중에서도 반응이 신속히 진행하는 것, 및 불순물량의 저감 효과가 높은 점으로부터 수산화나트륨, 수산화칼륨, 트리페닐포스핀, DMP-30이 바람직하다. 이들 촉매의 사용량은 특히 한정되는 것은 아니지만, 상기 방향족계 히드록시 화합물(a2)의 페놀성 수산기 1몰에 대하여 0.0001∼0.01몰 사용하는 것이 바람직하다. 이들 촉매의 형태도 특히 한정되지 않으며, 수용액의 형태로 사용해도 좋고, 고형의 형태로 사용해도 상관없다.It is preferable that the reaction between the diglycidyl ether (a1) of the aliphatic dihydroxy compound and the aromatic hydroxy compound (a2) is performed in the presence of a catalyst. Various catalysts can be used, for example, alkali (earth) metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and calcium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, phosphorus such as triphenylphosphine Chlorides such as compounds, DMP-30, DMAP, tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrabutylammonium, benzyltributylammonium, bromide, iodide, tetramethylphosphonium, tetraethylphosphonium, tetrabutylphosphonium, benzyl Chlorides such as tributylphosphonium, quaternary ammonium salts such as bromide and iodide, triethylamine, N,N-dimethylbenzylamine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene, 1,4- Tertiary amines such as diazabicyclo[2.2.2]octane, imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-phenylimidazole, and the like. These may use 2 or more types of catalyst together. Among them, sodium hydroxide, potassium hydroxide, triphenylphosphine, and DMP-30 are preferred because the reaction proceeds rapidly and the effect of reducing the amount of impurities is high. Although the amount of these catalysts to be used is not particularly limited, it is preferable to use 0.0001 to 0.01 moles per mole of the phenolic hydroxyl groups of the aromatic hydroxy compound (a2). The form of these catalysts is also not particularly limited, and may be used in the form of an aqueous solution, or may be used in a solid form.

또한, 상기 지방족계 디히드록시 화합물의 디글리시딜에테르(a1)와 상기 방향족계 히드록시 화합물(a2)과의 반응은, 무용제 하에서, 혹은 유기 용제의 존재 하에서 행할 수 있다. 사용할 수 있는 유기 용제로서는, 예를 들면, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 톨루엔, 자일렌, 메틸이소부틸케톤, 디메틸설폭시드, 프로필알코올, 부틸알코올 등을 들 수 있다. 유기 용제의 사용량으로서는, 투입한 원료의 총질량에 대해서 통상 50∼300질량%, 바람직하게는 100∼250질량%이다. 이들 유기 용제는 단독으로, 혹은 수 종류를 혼합해서 사용할 수 있다. 반응을 신속히 행하기 위해서는 무용매가 바람직하고, 한편, 최종 생성물의 불순물을 저감할 수 있는 점으로부터는 디메틸설폭시드의 사용이 바람직하다.Further, the reaction of the aliphatic dihydroxy compound with the diglycidyl ether (a1) and the aromatic hydroxy compound (a2) can be carried out in a non-solvent or in the presence of an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be used include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, dimethyl sulfoxide, propyl alcohol, and butyl alcohol. The amount of the organic solvent used is usually 50 to 300% by mass, preferably 100 to 250% by mass, based on the total mass of the added raw material. These organic solvents can be used alone or in combination of several types. In order to carry out the reaction quickly, a solvent-free is preferred, while the use of dimethyl sulfoxide is preferred from the viewpoint of reducing impurities in the final product.

상기 반응을 행하는 경우의 반응 온도로서는, 통상 50∼180℃, 반응 시간은 통상 1∼10시간이다. 최종 생성물의 불순물을 저감할 수 있는 점으로부터는 반응 온도는 100∼160℃가 바람직하다. 또한, 얻어지는 화합물의 착색이 큰 경우는, 그것을 억제하기 위하여, 산화방지제나 환원제를 첨가해도 좋다. 산화방지제로서는 특히 한정되지 않지만, 예를 들면 2,6-디알킬페놀 유도체 등의 힌더드페놀계 화합물이나 2가의 황계 화합물이나 3가의 인 원자를 포함하는 아인산에스테르계 화합물 등을 들 수 있다. 환원제로서는 특히 한정되지 않지만, 예를 들면 차아인산, 아인산, 티오황산, 아황산, 하이드로설파이트 또는 이들 염 등을 들 수 있다.The reaction temperature when performing the above reaction is usually 50 to 180°C, and the reaction time is usually 1 to 10 hours. The reaction temperature is preferably 100 to 160°C from the viewpoint of reducing impurities in the final product. Moreover, when the coloring of the obtained compound is large, in order to suppress it, you may add an antioxidant or a reducing agent. Although it does not specifically limit as an antioxidant, For example, a hindered phenol type compound, such as a 2,6-dialkylphenol derivative, a divalent sulfur type compound, and a phosphorus acid ester type compound containing a trivalent phosphorus atom, etc. are mentioned. Although it does not specifically limit as a reducing agent, For example, hypophosphorous acid, phosphorous acid, thiosulfuric acid, sulfurous acid, hydrosulfite, these salts, etc. are mentioned.

상기 반응의 종료 후, 반응 혼합물의 pH값이 3∼7, 바람직하게는 5∼7로 될 때까지 중화 혹은 수세 처리를 행할 수도 있다. 중화 처리나 수세 처리는 통상의 방법에 따라서 행하면 좋다. 예를 들면 염기성 촉매를 사용한 경우는 염산, 제1인산수소나트륨, p-톨루엔설폰산, 옥살산 등의 산성 물질을 중화제로서 사용할 수 있다. 중화 혹은 수세 처리를 행한 후, 필요 시에는 감압 가열 하에서 용제를 증류 제거하고 생성물의 농축을 행하여, 화합물을 얻을 수 있다.After completion of the reaction, neutralization or washing with water may be performed until the pH value of the reaction mixture becomes 3 to 7, preferably 5 to 7. Neutralization treatment or water washing treatment may be performed according to an ordinary method. For example, when a basic catalyst is used, an acidic substance such as hydrochloric acid, monosodium hydrogen phosphate, p-toluenesulfonic acid, or oxalic acid can be used as the neutralizing agent. After neutralization or washing with water, if necessary, the solvent is distilled off under reduced pressure heating and the product is concentrated to obtain a compound.

상기 식(1)으로 표시되는 히드록시 화합물 A의 바람직한 구조로서는, 이하의 구조를 들 수 있다.As a preferable structure of the hydroxy compound A represented by the said formula (1), the following structures are mentioned.

Figure pct00007
Figure pct00007

Figure pct00008
Figure pct00008

Figure pct00009
Figure pct00009

상기 각 구조식에 있어서, R13은 수소 원자 및/또는 메틸기이고, n은 11∼16의 정수이고, m은 반복의 평균값이고, 0.5∼10이다.In each of the above structural formulas, R 13 is a hydrogen atom and/or a methyl group, n is an integer of 11 to 16, m is an average value of repetition, and is 0.5 to 10.

상기 각 구조식 중에서도, 얻어지는 경화물의 물성 밸런스가 우수한 점으로부터, 상기 구조식(A-1), (A-2), (A-3), (A-5), (A-8), (A-9), (A-10)으로 표시되는 것을 사용하는 것이 가장 바람직하다.Among the above structural formulas, since the physical property balance of the obtained cured product is excellent, the structural formulas (A-1), (A-2), (A-3), (A-5), (A-8), (A- It is most preferable to use those represented by 9) and (A-10).

<조성물><Composition>

본 발명의 조성물은, 본 발명의 히드록시 화합물 A를 함유하는 것이다.The composition of the present invention contains the hydroxy compound A of the present invention.

본 발명의 조성물로서는, 히드록시 화합물 A 이외에, 당해 히드록시 화합물 A와 반응하는 화합물을 함유하고 있어도 좋다. 당해 히드록시 화합물 A와 반응하는 화합물로서는, 에폭시 화합물, 및/또는 이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다.The composition of the present invention may contain, in addition to the hydroxy compound A, a compound that reacts with the hydroxy compound A. Examples of the compound reacting with the hydroxy compound A include an epoxy compound and/or an isocyanate compound.

병용할 수 있는 에폭시 화합물로서는, 하등 제한되는 것은 아니며, 예를 들면, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F형 에폭시 수지, 비스페놀S형 에폭시 수지, 비스페놀AD형 에폭시 수지, 레조르신형 에폭시 수지, 하이드로퀴논형 에폭시 수지, 카테콜형 에폭시 수지, 디히드록시나프탈렌형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 테트라메틸비페닐형 에폭시 수지 등의 액상 에폭시 수지, 브로모화페놀노볼락형 에폭시 수지 등의 브롬화 에폭시 수지, 고형 비스페놀A형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 트리페닐메탄형 에폭시 수지, 테트라페닐에탄형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔-페놀 부가 반응형 에폭시 수지, 페놀아랄킬형 에폭시 수지, 페닐렌에테르형 에폭시 수지, 나프틸렌에테르형 에폭시 수지, 나프톨노볼락형 에폭시 수지, 나프톨아랄킬형 에폭시 수지, 나프톨-페놀 공축 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨-크레졸 공축 노볼락형 에폭시 수지, 방향족 탄화수소포름알데히드 수지 변성 페놀 수지형 에폭시 수지, 비페닐 변성 노볼락형 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 단독이어도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋고, 목적으로 하는 용도나 경화물의 물성 등에 따라서 각종 선택해서 사용하는 것이 바람직하다. The epoxy compound that can be used in combination is not limited at all, and for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, resorcin type epoxy resin, hydroqui Liquid epoxy resins such as non-type epoxy resins, catechol-type epoxy resins, dihydroxynaphthalene-type epoxy resins, biphenyl-type epoxy resins, and tetramethylbiphenyl-type epoxy resins, and brominated epoxy resins such as bromophenol novolak-type epoxy resins, Solid bisphenol A type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type Epoxy resin, phenylene ether type epoxy resin, naphthylene ether type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol-phenol co-condensed novolac type epoxy resin, naphthol-cresol co-condensed novolac type epoxy resin, Aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenol resin-type epoxy resin, biphenyl-modified novolak-type epoxy resin, etc., may be used alone or in combination of two or more, and various selections depending on the intended use or physical properties of the cured product It is preferable to use it.

또한, 에폭시 화합물의 경화제로서 아민계 화합물, 산무수물계 화합물, 아미드계 화합물, 페놀계 화합물을 병용해도 상관없다. Further, as a curing agent for the epoxy compound, an amine compound, an acid anhydride compound, an amide compound, and a phenol compound may be used in combination.

본 발명의 조성물 중에 에폭시 화합물과 에폭시경화제를 함유하는 경우의 배합량으로서는, 특히 제한되는 것은 아니지만, 얻어지는 경화물의 기계적 물성 등이 양호한 점으로부터, 에폭시 화합물 전량 중의 에폭시기의 합계 1당량에 대해서, 히드록시 화합물 A의 수산기 및 경화제 중의 활성기의 합계가, 0.7∼1.5당량으로 되는 양이 바람직하다.The amount of the epoxy compound and the epoxy curing agent contained in the composition of the present invention is not particularly limited, but since the mechanical properties of the resulting cured product are good, based on the total amount of epoxy groups in the total amount of the epoxy compound, the hydroxy compound The total amount of the hydroxyl group of A and the active group in the curing agent is preferably 0.7 to 1.5 equivalents.

이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들면, 방향족 폴리이소시아네이트, 지환족 폴리이소시아네이트, 지방족 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.As an isocyanate compound, an aromatic polyisocyanate, an alicyclic polyisocyanate, an aliphatic polyisocyanate, etc. are mentioned, for example.

방향족 폴리이소시아네이트로서는, 예를 들면, 페닐렌디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 디메틸디페닐메탄디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 폴리메틸렌폴리페닐폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.As aromatic polyisocyanate, for example, phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, dimethyldiphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, naphthalene diisocyanate, polymethylene polyphenyl poly Isocyanate etc. are mentioned.

지환족 폴리이소시아네이트로서는, 예를 들면, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 메틸시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 디메틸디시클로헥실메탄디이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the alicyclic polyisocyanate include cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, and dimethyldicyclohexylmethane diisocyanate.

지방족 폴리이소시아네이트로서는, 예를 들면, 메틸렌디이소시아네이트, 에틸렌디이소시아네이트, 프로필렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등을 들 수 있다. As an aliphatic polyisocyanate, methylene diisocyanate, ethylene diisocyanate, propylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, etc. are mentioned, for example.

이들 이소시아네이트 화합물은 1종 혹은 2종 이상을 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상 혼합해서 사용해도 상관없다.These isocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more. These may be used individually or may be used by mixing two or more types.

<경화촉진제><hardening accelerator>

예를 들면, 본 발명의 조성물은 경화촉진제를 함유해도 상관없다. 상기 경화촉진제로서는 각종 것을 사용할 수 있지만, 예를 들면, 우레아 화합물, 인계 화합물, 제3급 아민, 이미다졸, 유기산 금속염, 루이스산, 아민 착염 등을 들 수 있다. 접착제 용도로서 사용하는 경우에는, 작업성, 저온경화성이 우수한 점으로부터, 우레아 화합물, 특히 3,4-디클로로페닐-디메틸우레아(DCMU)가 바람직하다. 반도체 봉지 재료 용도로서 사용하는 경우에는, 경화성, 내열성, 전기 특성, 내습신뢰성 등이 우수한 점으로부터, 인계 화합물에서는 트리페닐포스핀, 제3급 아민에서는 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-운데센이 바람직하다. For example, the composition of the present invention may contain a curing accelerator. Various types of curing accelerators can be used, but examples thereof include urea compounds, phosphorus compounds, tertiary amines, imidazoles, organic acid metal salts, Lewis acids, and amine complex salts. In the case of using as an adhesive, a urea compound, particularly 3,4-dichlorophenyl-dimethylurea (DCMU), is preferable from the viewpoint of excellent workability and low-temperature curing properties. When used as a semiconductor encapsulating material, it is excellent in curability, heat resistance, electrical properties, moisture resistance, and the like. Therefore, triphenylphosphine is triphenylphosphine for phosphorus compounds, and 1,8-diazabicyclo-[5.4.0] ]-Undecene is preferred.

<필러><filler>

본 발명의 조성물은, 필러를 더 함유해도 좋다. 필러로서는, 무기 필러와 유기 필러를 들 수 있다. 무기 필러로서는, 예를 들면 무기 미립자를 들 수 있다.The composition of the present invention may further contain a filler. As a filler, an inorganic filler and an organic filler are mentioned. As an inorganic filler, inorganic fine particles are mentioned, for example.

무기 미립자로서는, 예를 들면, 내열성이 우수한 것으로서는, 알루미나, 마그네시아, 티타니아, 지르코니아, 실리카(석영, 흄드 실리카, 침강성 실리카, 무수규산, 용융 실리카, 결정성 실리카, 초미분 무정형 실리카 등) 등; 열전도가 우수한 것으로서는, 질화붕소, 질화알루미늄, 산화알루미나, 산화티타늄, 산화마그네슘, 산화아연, 산화규소, 다이아몬드 등; 도전성이 우수한 것으로서는, 금속 단체(單體) 또는 합금(예를 들면, 철, 구리, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 백금, 아연, 망간, 스테인리스 등)을 사용한 금속 필러 및/또는 금속 피복 필러; 배리어성이 우수한 것으로서는, 마이카, 클레이, 카올린, 탈크, 제올라이트, 월라스토나이트, 스멕타이트 등의 광물 등이나 티탄산칼륨, 황산마그네슘, 세피오라이트, 조노라이트, 붕산알루미늄, 탄산칼슘, 산화티타늄, 황산바륨, 산화아연, 수산화마그네슘; 굴절률이 높은 것으로서는, 티탄산바륨, 산화지르코니아, 산화티타늄 등; 광촉매성을 나타내는 것으로서는, 티타늄, 세륨, 아연, 구리, 알루미늄, 주석, 인듐, 인, 탄소, 황, 테륨, 니켈, 철, 코발트, 은, 몰리브덴, 스트론튬, 크롬, 바륨, 납 등의 광촉매 금속, 상기 금속의 복합물, 그들의 산화물 등; 내마모성이 우수한 것으로서는, 실리카, 알루미나, 지르코니아, 산화마그네슘 등의 금속, 및 그들의 복합물 및 산화물 등; 도전성이 우수한 것으로서는, 은, 구리 등의 금속, 산화주석, 산화인듐 등; 절연성이 우수한 것으로서는, 실리카 등; 자외선 차폐가 우수한 것으로서는, 산화티타늄, 산화아연 등이다.Examples of the inorganic fine particles include alumina, magnesia, titania, zirconia, silica (quartz, fumed silica, precipitated silica, silicic anhydride, fused silica, crystalline silica, ultra-fine amorphous silica, etc.), etc., as inorganic fine particles having excellent heat resistance; Examples of excellent thermal conductivity include boron nitride, aluminum nitride, alumina oxide, titanium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, silicon oxide, diamond, and the like; Metal fillers and/or metal-coated fillers using a single metal or an alloy (for example, iron, copper, magnesium, aluminum, gold, silver, platinum, zinc, manganese, stainless steel, etc.) ; Examples of excellent barrier properties include minerals such as mica, clay, kaolin, talc, zeolite, wollastonite, and smectite, and potassium titanate, magnesium sulfate, sepiolite, zonolite, aluminum borate, calcium carbonate, titanium oxide, barium sulfate, Zinc oxide, magnesium hydroxide; Examples of the high refractive index include barium titanate, zirconia oxide, and titanium oxide; Photocatalytic metals such as titanium, cerium, zinc, copper, aluminum, tin, indium, phosphorus, carbon, sulfur, terium, nickel, iron, cobalt, silver, molybdenum, strontium, chromium, barium and lead , Composites of the metals, oxides thereof, and the like; Examples of excellent abrasion resistance include metals such as silica, alumina, zirconia, and magnesium oxide, and composites and oxides thereof; Examples of excellent conductivity include metals such as silver and copper, tin oxide, and indium oxide; Examples of excellent insulating properties include silica; Examples of excellent ultraviolet shielding are titanium oxide and zinc oxide.

이들 무기 미립자는, 용도에 따라서 적시 선택하면 좋고, 단독으로 사용해도 되고, 복수 종 조합해서 사용해도 상관없다. 또한, 상기 무기 미립자는, 예로 든 특성 이외에도 다양한 특성을 가지므로, 적시 용도에 맞춰서 선택하면 좋다.These inorganic fine particles may be appropriately selected depending on the application, may be used alone, or may be used in combination of multiple types. In addition, since the inorganic fine particles have various properties in addition to the exemplified properties, they can be selected according to the intended use.

예를 들면 무기 미립자로서 실리카를 사용할 경우, 특히 한정은 없으며 분말상의 실리카나 콜로이달 실리카 등 공지의 실리카 미립자를 사용할 수 있다. 시판의 분말상의 실리카 미립자로서는, 예를 들면, 니혼아에로질(주)제 아에로질50, 200, 아사히가라스(주)제 실덱스H31, H32, H51, H52, H121, H122, 니혼실리카고교(주)제 E220A, E220, 후지시리시아(주)제 SYLYSIA470, 니혼이타가라스(주)제 SG플레이크 등을 들 수 있다.For example, when silica is used as the inorganic fine particles, there is no particular limitation, and known fine silica fine particles such as powdered silica or colloidal silica can be used. As commercially available powdery silica fine particles, for example, Nippon Aerosil Co., Ltd. Aerozil 50, 200, Asahi Glass Co., Ltd. Sildex H31, H32, H51, H52, H121, H122, Nippon Silica High School Co., Ltd. E220A, E220, Fuji Sirisia Co., Ltd. SYLYSIA470, Nippon Ita Glass Co., Ltd. SG flake, etc. are mentioned.

또한, 시판의 콜로이달 실리카로서는, 예를 들면, 닛산가가쿠고교(주)제 메탄올 실리카졸, IPA-ST, MEK-ST, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL 등을 들 수 있다.In addition, as a commercially available colloidal silica, for example, Nissan Chemical Co., Ltd. methanol silica sol, IPA-ST, MEK-ST, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST- OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL, etc. are mentioned.

표면 수식을 한 실리카 미립자를 사용해도 좋고, 예를 들면, 상기 실리카 미립자를, 소수성기를 갖는 반응성 실란커플링제로 표면 처리한 것이나, (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물로 수식한 것을 들 수 있다. (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물로 수식한 시판의 분말상의 실리카로서는, 니혼아에로질(주)제 아에로질RM50, R711 등, (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물로 수식한 시판의 콜로이달 실리카로서는, 닛산가가쿠고교(주)제 MIBK-SD 등을 들 수 있다.Surface-modified silica fine particles may be used, and examples thereof include those obtained by surface-treating the silica fine particles with a reactive silane coupling agent having a hydrophobic group or a compound having a (meth)acryloyl group. As commercially available powdery silica modified with a compound having a (meth)acryloyl group, a commercially available powder modified with a compound having a (meth)acryloyl group, such as aerozyl RM50 and R711 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. Nissan Chemical Industries, Ltd. MIBK-SD etc. are mentioned as colloidal silica.

상기 실리카 미립자의 형상은 특히 한정은 없으며, 구상, 중공상, 다공질상, 봉상, 판상, 섬유상, 또는 부정형상의 것을 사용할 수 있다. 또한 일차입자경은, 5∼200㎚의 범위가 바람직하다. 5㎚ 미만이면, 분산체 중의 무기 미립자의 분산이 불충분하게 되고, 200㎚를 초과하는 직경에서는, 경화물의 충분한 강도를 유지할 수 없을 우려가 있다.The shape of the silica fine particles is not particularly limited, and a spherical shape, a hollow shape, a porous shape, a rod shape, a plate shape, a fiber shape, or an irregular shape may be used. Further, the primary particle diameter is preferably in the range of 5 to 200 nm. If it is less than 5 nm, dispersion of the inorganic fine particles in the dispersion becomes insufficient, and at a diameter exceeding 200 nm, there is a fear that sufficient strength of the cured product cannot be maintained.

산화티타늄 미립자로서는, 체질 안료뿐만 아니라 자외광 응답형 광촉매를 사용할 수 있고, 예를 들면 아나타제형 산화티타늄, 루틸형 산화티타늄, 브루카이트형 산화티타늄 등을 사용할 수 있다. 또한, 산화티타늄의 결정 구조 중에 이종(異種) 원소를 도핑시켜서 가시광에 응답시키도록 설계된 입자에 대해서도 사용할 수 있다. 산화티타늄에 도핑시키는 원소로서는, 질소, 황, 탄소, 불소, 인 등의 음이온 원소나, 크롬, 철, 코발트, 망간 등의 양이온 원소가 호적하게 사용된다. 또한, 형태로서는, 분말, 유기 용매 중 혹은 수중에 분산시킨 졸 혹은 슬러리를 사용할 수 있다. 시판의 분말상의 산화티타늄 미립자로서는, 예를 들면, 니혼아에로질(주)제 아에로질P-25, 테이카(주)제 ATM-100 등을 들 수 있다. 또한, 시판의 슬러리상의 산화티타늄 미립자로서는, 예를 들면, 테이카(주) TKD-701 등을 들 수 있다.As the titanium oxide fine particles, not only an extender pigment but also an ultraviolet light-responsive photocatalyst can be used, and for example, anatase type titanium oxide, rutile type titanium oxide, brookite type titanium oxide, and the like can be used. Further, it can also be used for particles designed to respond to visible light by doping a different element in the crystal structure of titanium oxide. As an element to be doped with titanium oxide, anionic elements such as nitrogen, sulfur, carbon, fluorine, and phosphorus, and cationic elements such as chromium, iron, cobalt, and manganese are suitably used. In addition, as a form, a powder, a sol or a slurry dispersed in an organic solvent or in water can be used. Examples of commercially available powdery titanium oxide fine particles include Nippon Aerozil Co., Ltd. Aerozil P-25, Teika Co., Ltd. ATM-100, and the like. Moreover, as a commercially available slurry-like titanium oxide fine particle, Teika Corporation TKD-701 etc. are mentioned, for example.

<섬유질 기질><Fibrous substrate>

본 발명의 조성물은, 섬유질 기질을 더 함유해도 좋다. 본 발명의 섬유질 기질은, 특히 한정은 없지만, 섬유 강화 수지에 사용되는 것이 바람직하고, 무기 섬유나 유기 섬유를 들 수 있다.The composition of the present invention may further contain a fibrous substrate. The fibrous substrate of the present invention is not particularly limited, but it is preferably used for a fiber-reinforced resin, and inorganic fibers and organic fibers are exemplified.

무기 섬유로서는, 카본 섬유, 유리 섬유, 보론 섬유, 알루미나 섬유, 탄화규소 섬유 등의 무기 섬유 외에, 탄소 섬유, 활성탄 섬유, 흑연 섬유, 유리 섬유, 텅스텐 카바이드 섬유, 실리콘 카바이드 섬유(탄화규소 섬유), 세라믹스 섬유, 알루미나 섬유, 천연 섬유, 현무암 등의 광물 섬유, 보론 섬유, 질화붕소 섬유, 탄화붕소 섬유, 및 금속 섬유 등을 들 수 있다. 상기 금속 섬유로서는, 예를 들면, 알루미늄 섬유, 구리 섬유, 황동 섬유, 스테인리스 섬유, 스틸 섬유를 들 수 있다.Examples of inorganic fibers include carbon fibers, activated carbon fibers, graphite fibers, glass fibers, tungsten carbide fibers, silicon carbide fibers (silicon carbide fibers), in addition to inorganic fibers such as carbon fibers, glass fibers, boron fibers, alumina fibers, and silicon carbide fibers. Ceramic fibers, alumina fibers, natural fibers, mineral fibers such as basalt, boron fibers, boron nitride fibers, boron carbide fibers, and metal fibers. Examples of the metal fiber include aluminum fiber, copper fiber, brass fiber, stainless fiber, and steel fiber.

유기 섬유로서는, 폴리벤자졸, 아라미드, PBO(폴리파라페닐렌벤즈옥사졸), 폴리페닐렌설피드, 폴리에스테르, 아크릴, 폴리아미드, 폴리올레핀, 폴리비닐알코올, 폴리아릴레이트 등의 수지 재료로 이루어지는 합성 섬유나, 셀룰로오스, 펄프, 면, 양모, 견과 같은 천연 섬유, 단백질, 폴리펩티드, 알긴산 등의 재생 섬유 등을 들 수 있다.As organic fibers, synthetic made of resin materials such as polybenzazole, aramid, PBO (polyparaphenylenebenzoxazole), polyphenylene sulfide, polyester, acrylic, polyamide, polyolefin, polyvinyl alcohol, and polyarylate And natural fibers such as fibers, cellulose, pulp, cotton, wool, and nuts, and regenerated fibers such as proteins, polypeptides, and alginic acid.

그 중에서도, 카본 섬유와 유리 섬유는, 산업상 이용 범위가 넓기 때문에, 바람직하다. 이들 중, 1종류만 사용해도 좋고, 복수 종을 동시에 사용해도 좋다.Among them, carbon fibers and glass fibers are preferable because they have a wide range of industrial applications. Among these, only one type may be used, and multiple types may be used simultaneously.

본 발명의 섬유질 기질은, 섬유의 집합체여도 좋고, 섬유가 연속하고 있어도, 불연속상이어도 상관없고, 직포상이어도, 부직포상이어도 상관없다. 또한, 섬유를 일 방향으로 정렬한 섬유 다발이어도 좋고, 섬유 다발을 나열한 시트상이어도 좋다. 또한, 섬유의 집합체에 두께를 갖게 한 입체 형상이어도 상관없다.The fibrous substrate of the present invention may be an aggregate of fibers, may be continuous or discontinuous, and may be a woven fabric or a nonwoven fabric. Further, it may be a fiber bundle in which the fibers are arranged in one direction, or a sheet shape in which the fiber bundles are arranged. Further, it may be a three-dimensional shape in which the aggregate of fibers has a thickness.

<분산매><Dispersion medium>

본 발명의 조성물은, 조성물의 고형분량이나 점도를 조정하는 목적으로 해서, 분산매를 사용해도 좋다. 분산매로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 액상 매체이면 좋고, 각종 유기 용제, 액상 유기 폴리머 등을 들 수 있다.The composition of the present invention may use a dispersion medium for the purpose of adjusting the solid content or viscosity of the composition. As the dispersion medium, any liquid medium that does not impair the effects of the present invention may be used, and various organic solvents and liquid organic polymers may be mentioned.

상기 유기 용제로서는, 예를 들면, 아세톤, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK) 등의 케톤류, 테트라히드로퓨란(THF), 디옥솔란 등의 환상 에테르류, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족류, 카르비톨, 셀로솔브, 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올류를 들 수 있고, 이들을 단독 또는 병용해서 사용 가능하지만, 그 중에서도 메틸에틸케톤이 도공 시의 휘발성이나 용매 회수의 면으로부터 바람직하다.Examples of the organic solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), and methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclic ethers such as tetrahydrofuran (THF) and dioxolane, methyl acetate, ethyl acetate, Esters such as butyl acetate, aromatics such as toluene and xylene, alcohols such as carbitol, cellosolve, methanol, isopropanol, butanol, and propylene glycol monomethyl ether, and these can be used alone or in combination. In particular, methyl ethyl ketone is preferable from the viewpoint of volatility during coating and solvent recovery.

상기 액상 유기 폴리머란, 경화 반응에 직접 기여하지 않는 액상 유기 폴리머이며, 예를 들면, 카르복시기 함유 폴리머 변성물(플로렌G-900, NC-500 : 교에이샤), 아크릴 폴리머(플로렌WK-20 : 교에이샤), 특수 변성 인산에스테르의 아민염(HIPLAAD ED-251 : 구스모토가세이), 변성 아크릴계 블록 공중합물(DISPERBYK2000; 빅케미) 등을 들 수 있다.The liquid organic polymer is a liquid organic polymer that does not directly contribute to the curing reaction. For example, a carboxyl group-containing polymer modified product (Floren G-900, NC-500: Kyoeisha), an acrylic polymer (Florene WK- 20: Kyoeisha), an amine salt of a special modified phosphate ester (HIPLAAD ED-251: Kusumoto Kasei), a modified acrylic block copolymer (DISPERBYK2000; Big Chemie), and the like.

<수지><resin>

또한, 본 발명의 조성물은, 본 발명의 전술한 각종 화합물 이외의 수지를 갖고 있어도 좋다. 수지로서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위이면 공지 관용의 수지를 배합하면 되며, 예를 들면 열경화성 수지나 열가소성 수지를 사용할 수 있다.Further, the composition of the present invention may have resins other than the aforementioned various compounds of the present invention. As the resin, a known and commonly used resin may be blended as long as the effect of the present invention is not impaired, and for example, a thermosetting resin or a thermoplastic resin can be used.

열경화성 수지란, 가열 또는 방사선이나 촉매 등의 수단에 의해서 경화될 때에 실질적으로 불용 또한 불융성으로 변화할 수 있는 특성을 가진 수지이다. 그 구체예로서는, 에폭시 수지, 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, 알키드 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 비닐에스테르 수지, 디알릴테레프탈레이트 수지, 실리콘 수지, 우레탄 수지, 퓨란 수지, 케톤 수지, 자일렌 수지, 열경화성 폴리이미드 수지, 벤조옥사진 수지, 활성 에스테르 수지, 아닐린 수지, 시아네이트에스테르 수지, 스티렌·무수말레산(SMA) 수지, 말레이미드 수지 등을 들 수 있다. 이들 열경화성 수지는 1종 또는 2종 이상을 병용해서 사용할 수 있다.The thermosetting resin is a resin having properties that can be changed substantially insoluble and infusible when cured by heating or by means such as radiation or catalyst. Specific examples thereof include epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, alkyd resin, unsaturated polyester resin, vinyl ester resin, diallyl terephthalate resin, silicone resin, urethane resin, furan resin, ketone resin. , Xylene resin, thermosetting polyimide resin, benzoxazine resin, active ester resin, aniline resin, cyanate ester resin, styrene maleic anhydride (SMA) resin, and maleimide resin. These thermosetting resins can be used alone or in combination of two or more.

열가소성 수지란, 가열에 의해 용융 성형 가능한 수지를 말한다. 그 구체예로서는 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리스티렌 수지, 고무 변성 폴리스티렌 수지, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS) 수지, 아크릴로니트릴-스티렌(AS) 수지, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 아크릴 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리염화비닐리덴 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 에틸렌비닐알코올 수지, 아세트산셀룰로오스 수지, 아이오노머 수지, 폴리아크릴로니트릴 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아세탈 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리젖산 수지, 폴리페닐렌에테르 수지, 변성 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리설폰 수지, 폴리페닐렌설피드 수지, 폴리에테르이미드 수지, 폴리에테르설폰 수지, 폴리아릴레이트 수지, 열가소성 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리에테르에테르케톤 수지, 폴리케톤 수지, 액정 폴리에스테르 수지, 불소 수지, 신디오택틱 폴리스티렌 수지, 환상 폴리올레핀 수지 등을 들 수 있다. 이들 열가소성 수지는 1종 또는 2종 이상을 병용해서 사용할 수 있다.The thermoplastic resin refers to a resin that can be melt-molded by heating. Specific examples thereof include polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, rubber-modified polystyrene resin, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, acrylonitrile-styrene (AS) resin, polymethyl methacrylate resin, acrylic resin, Polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyethylene terephthalate resin, ethylene vinyl alcohol resin, cellulose acetate resin, ionomer resin, polyacrylonitrile resin, polyamide resin, polyacetal resin, polybutylene terephthalate resin, Polylactic acid resin, polyphenylene ether resin, modified polyphenylene ether resin, polycarbonate resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyetherimide resin, polyethersulfone resin, polyarylate resin, thermoplastic polyimide resin , Polyamideimide resin, polyether ether ketone resin, polyketone resin, liquid crystal polyester resin, fluorine resin, syndiotactic polystyrene resin, cyclic polyolefin resin, and the like. These thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more.

<그 밖의 배합물><Other formulations>

본 발명의 조성물은, 그 밖의 배합물을 갖고 있어도 상관없다. 예를 들면, 촉매, 중합개시제, 무기 안료, 유기 안료, 체질 안료, 점토 광물, 왁스, 계면활성제, 안정제, 유동조정제, 커플링제, 염료, 레벨링제, 레올로지 컨트롤제, 자외선 흡수제, 산화방지제, 난연제, 가소제 등을 들 수 있다.The composition of the present invention may have other formulations. For example, catalysts, polymerization initiators, inorganic pigments, organic pigments, extender pigments, clay minerals, waxes, surfactants, stabilizers, flow regulators, coupling agents, dyes, leveling agents, rheology control agents, ultraviolet absorbers, antioxidants, Flame retardants, plasticizers, etc. are mentioned.

<경화물><hardened cargo>

본 발명의 조성물에 있어서는, 지방족계 디히드록시 화합물의 디글리시딜에테르와 방향족계 히드록시 화합물과의 반응물을 적용함으로써, 종래에 없는 유연하고 강인한 경화물을 얻는 것이 가능하게 된다. 예를 들면, 상기한 액상 비스페놀A형 에폭시 수지를 다이머산이나 세바스산과 같은 지방족 디카르복시산을 분자쇄연장제로서 반응시킨 고분자량화 에폭시 화합물은, 유연한 구조의 경화물을 부여하지만, 에스테르기의 응집에 의해 그 효과는 충분한 것은 아니다.In the composition of the present invention, by applying a reaction product of a diglycidyl ether of an aliphatic dihydroxy compound and an aromatic hydroxy compound, it becomes possible to obtain a flexible and tough cured product that is not conventional. For example, a high molecular weight epoxy compound obtained by reacting the above liquid bisphenol A epoxy resin with an aliphatic dicarboxylic acid such as dimer acid or sebacic acid as a molecular chain extender gives a cured product of a flexible structure, but The effect is not sufficient by aggregation.

이것에 대해서 본 발명에서는 지방족계 화합물로부터 발생하는 골격이, 유연성을 부여하는 소위 소프트 세그먼트로서 기능하기 때문에, 본 발명의 히드록시 화합물 A를 경화시켜서 얻어지는 경화물은 극히 유연한 것으로 된다. 한편, 방향족계 히드록시 화합물로부터 발생하는 골격이, 본 발명의 히드록시 화합물 A에 강직성을 부여하는 소위 하드 세그먼트로서 기능하기 때문에, 유연성과 인성을 겸비하는 경화물을 부여할 수 있다.On the other hand, in the present invention, since the skeleton generated from the aliphatic compound functions as a so-called soft segment that imparts flexibility, the cured product obtained by curing the hydroxy compound A of the present invention is extremely flexible. On the other hand, since the skeleton generated from the aromatic hydroxy compound functions as a so-called hard segment that imparts rigidity to the hydroxy compound A of the present invention, a cured product having both flexibility and toughness can be provided.

특히 본 발명의 히드록시 화합물 A의 경우는, 하드 세그먼트로서 기능하는 부분과, 소프트 세그먼트로서 기능하는 부분이 결합함에 의해, 히드록시 화합물 구조에 유연성을 부여함과 함께 우수한 내습성을 발현시킬 수 있다. 또한, 본 발명에서는 방향핵에 직접 히드록시기가 결합함에 의해, 경화물의 인성이 극히 우수한 것으로 된다. 즉, 예를 들면, 저분자량 타입의 액상 비스페놀A형 에폭시 수지를 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드로 변성해서 얻어지는 히드록시 화합물 골격 자체가 유연하게 되지만, 히드록시기 자체의 활성이 떨어지고, 경화 시에 인성을 발현하는데 충분한 가교가 얻어지지 못하는 것이었지만, 본 발명의 히드록시 화합물 A는, 히드록시기가 직접 방향핵에 결합함에 의해 히드록시기의 활성이 높아지기 때문에, 수지 자체가 유연함에도 상관없이, 경화 반응 시에는 적당한 가교를 형성해서 우수한 인성을 발현한다. 또한, 상기 하드 세그먼트가 가교점으로 되는 히드록시기에 인접함으로써 가교점에 있어서의 물리적인 강도가 높아져서 인성이 향상하는 것이다.In particular, in the case of the hydroxy compound A of the present invention, by bonding a portion functioning as a hard segment and a portion functioning as a soft segment, it is possible to impart flexibility to the structure of the hydroxy compound and exhibit excellent moisture resistance. . Further, in the present invention, the toughness of the cured product is extremely excellent because the hydroxy group is directly bonded to the aromatic nucleus. That is, for example, the hydroxy compound skeleton itself obtained by modifying a liquid bisphenol A type epoxy resin of a low molecular weight type with ethylene oxide or propylene oxide becomes flexible, but the activity of the hydroxy group itself decreases, and toughness is expressed during curing. Although sufficient crosslinking could not be obtained, the hydroxy compound A of the present invention increases the activity of the hydroxy group by directly binding the hydroxy group to the aromatic nucleus, and therefore forms an appropriate crosslink during the curing reaction, regardless of the flexibility of the resin itself. Thus, excellent toughness is expressed. Further, when the hard segment is adjacent to the hydroxy group serving as the crosslinking point, the physical strength at the crosslinking point increases, thereby improving the toughness.

본 발명의 조성물을 경화시키는 경우에는, 상온 또는 가열에 의한 경화를 행하면 좋다. 경화할 때에는, 공지 관용의 경화 촉매나, 경화제로서 에폭시 화합물이나 이소시아네이트 화합물을 사용하면 좋다.In the case of curing the composition of the present invention, curing by room temperature or heating may be performed. When curing, an epoxy compound or an isocyanate compound may be used as a known and commonly used curing catalyst or a curing agent.

열경화를 행할 경우, 1회의 가열로 경화시켜도 좋고, 다단계의 가열 공정을 거쳐 경화시켜도 상관없다.In the case of thermal curing, it may be cured with one heating or may be cured through a multi-stage heating process.

경화 촉매를 사용하는 경우에는, 예를 들면, 염산, 황산, 인산 등의 무기산류; p-톨루엔설폰산, 인산모노이소프로필, 아세트산 등의 유기산류; 수산화나트륨 또는 수산화칼륨 등의 무기염기류; 테트라이소프로필티타네이트, 테트라부틸티타네이트 등의 티탄산에스테르류; 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7(DBU), 1,5-디아자비시클로[4.3.0]노넨-5(DBN), 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄(DABCO), 트리-n-부틸아민, 디메틸벤질아민, 모노에탄올아민, 이미다졸, 2-에틸-4-메틸-이미다졸, 1-메틸이미다졸, N,N-디메틸-4-아미노피리딘(DMAP) 등의 각종 염기성 질소 원자를 함유하는 화합물류; 테트라메틸암모늄염, 테트라부틸암모늄염, 디라우릴디메틸암모늄염 등의 각종 4급 암모늄염류이고, 상대 음이온으로서, 클로라이드, 브로마이드, 카복실레이트 혹은 하이드로옥사이드 등을 갖는 4급 암모늄염류; 디부틸주석디아세테이트, 디부틸주석디옥토에이트, 디부틸주석디라우레이트, 디부틸주석디아세틸아세토네이트, 옥틸산주석 또는 스테아르산주석 등 주석카르복시산염; 과산화벤조일, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 과산화라우로일, 디-t-부틸퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 메틸에틸케톤과산화물, t-부틸퍼벤조에이트 등의 유기 과산화물 등을 사용할 수 있다. 촉매는 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상 병용해도 좋다.In the case of using a curing catalyst, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid; organic acids such as p-toluenesulfonic acid, monoisopropyl phosphate, and acetic acid; Inorganic bases such as sodium hydroxide or potassium hydroxide; Titanic acid esters such as tetraisopropyl titanate and tetrabutyl titanate; 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene-5 (DBN), 1,4-diazabicyclo[2.2.2 ]Octane (DABCO), tri-n-butylamine, dimethylbenzylamine, monoethanolamine, imidazole, 2-ethyl-4-methyl-imidazole, 1-methylimidazole, N,N-dimethyl-4- Compounds containing various basic nitrogen atoms such as aminopyridine (DMAP); Various quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium salt, tetrabutylammonium salt, and dilauryldimethylammonium salt, and quaternary ammonium salts having chloride, bromide, carboxylate, or hydroxide as counter anions; Tin carboxylates such as dibutyl tin diacetate, dibutyl tin dioctoate, dibutyl tin dilaurate, dibutyl tin diacetylacetonate, tin octylate or tin stearate; Use peroxides such as benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, dicumyl peroxide, lauroyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl hydroperoxane, methyl ethyl ketone peroxide, and t-butyl perbenzoate. I can. The catalyst may be used alone or in combination of two or more.

<적층체><Laminate>

본 발명의 조성물은 기재와 적층함으로써 적층체로 할 수 있다.The composition of the present invention can be formed into a laminate by laminating with a substrate.

적층체의 기재로서는, 금속이나 유리 등의 무기 재료나, 플라스틱이나 목재와 같은 유기 재료 등, 용도에 따라서 적시 사용하면 되고, 적층체의 형상으로서도, 평판, 시트상, 혹은 삼차원 구조를 갖고 있어도 되고 입체상이어도 상관없다. 전면(全面)에 또는 일부에 곡률을 갖는 것 등 목적에 따른 임의의 형상이어도 좋다. 또한, 기재의 경도, 두께 등에도 제한은 없다.As the base material of the laminate, an inorganic material such as metal or glass, or an organic material such as plastic or wood may be used in a timely manner depending on the application, and the shape of the laminate may also have a flat plate, sheet shape, or a three-dimensional structure. It does not matter if it is a three-dimensional image. Any shape according to the purpose, such as having a curvature on the entire surface or in part, may be used. In addition, there are no restrictions on the hardness and thickness of the substrate.

본 발명의 조성물은, 금속 및/또는 금속 산화물에 대한 접착성이 특히 높기 때문에, 금속용의 프라이머로서 특히 양호하게 사용 가능하다. 금속으로서는 구리, 알루미늄, 금, 은, 철, 플래티나, 크롬, 니켈, 주석, 티타늄, 아연, 각종 합금, 및 이들을 복합한 재료를 들 수 있고, 금속 산화물로서는 이들 금속의 단독 산화물 및/또는 복합 산화물을 들 수 있다. 특히 철, 구리, 알루미늄에 대해서의 접착력이 우수하기 때문에, 철, 구리, 알루미늄용의 프라이머로서 양호하게 사용 가능하다.Since the composition of the present invention has particularly high adhesion to metals and/or metal oxides, it can be particularly favorably used as a primer for metals. Examples of metals include copper, aluminum, gold, silver, iron, platinum, chromium, nickel, tin, titanium, zinc, various alloys, and materials in which these metals are combined, and as metal oxides, single oxides and/or composites of these metals Oxides are mentioned. In particular, since it has excellent adhesion to iron, copper and aluminum, it can be favorably used as a primer for iron, copper and aluminum.

본 발명의 적층체에 있어서, 조성물층은, 기재에 대하여 직접 도공이나 성형에 의해 형성해도 좋고, 미리 성형한 것을 적층시켜도 상관없다. 직접 도공할 경우, 도공 방법으로서는 특히 한정은 없으며, 스프레이법, 스핀 코트법, 딥법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 닥터 롤법, 닥터 블레이드법, 커튼 코트법, 슬릿 코트법, 스크린 인쇄법, 잉크젯법 등을 들 수 있다. 직접 성형하는 경우는, 인몰드 성형, 인서트 성형, 진공 성형, 압출 라미네이트 성형, 프레스 성형 등을 들 수 있다.In the laminate of the present invention, the composition layer may be formed by direct coating or molding on the substrate, or may be laminated in advance. In the case of direct coating, the coating method is not particularly limited, and the spray method, spin coat method, dip method, roll coat method, blade coat method, doctor roll method, doctor blade method, curtain coat method, slit coat method, screen printing method, inkjet And the law. In the case of direct molding, in-mold molding, insert molding, vacuum molding, extrusion laminate molding, press molding, and the like are mentioned.

<제2 기재 및 접착제층><Second substrate and adhesive layer>

본 발명의 적층체는, 기재와 조성물층에 대하여, 제2 기재를 더 형성해도 상관없다. 이때 제2 기재의 재질에는 특히 한정은 없으며, 상기 기재에서 들어진 각종 재질에 대하여 이용 가능하다. 바람직하게는, 기재와 제2 기재의 조합이, 금속 또는 금속 산화물과 플라스틱과의 어느 하나의 조합인 경우이다.The laminate of the present invention may further form a second substrate with respect to the substrate and the composition layer. At this time, the material of the second substrate is not particularly limited, and can be used for various materials contained in the substrate. Preferably, the combination of the base material and the second base material is a case where the combination of metal or metal oxide and plastic is any one.

또한, 본 발명의 적층체는, 기재와, 본 발명의 조성물층과, 접착제층과, 제2 기재가 이 순서로 적층해서 이루어지는 적층체여도 좋다. 본 발명의 조성물은, 금속 또는 금속 산화물의 프라이머로서 양호하게 작용하므로, 기재가 금속 또는 금속 산화물일 때에 특히 양호하다. 접착제층을 형성하는 접착제로서는 특히 한정은 없지만, 에폭시 수지계의 접착제이면 접착성이 양호하므로 바람직하다.Further, the laminate of the present invention may be a laminate obtained by laminating a substrate, a composition layer of the present invention, an adhesive layer, and a second substrate in this order. Since the composition of the present invention works well as a primer for a metal or metal oxide, it is particularly good when the substrate is a metal or metal oxide. The adhesive for forming the adhesive layer is not particularly limited, but an epoxy resin-based adhesive is preferable because adhesiveness is good.

<섬유 강화 수지><Fiber Reinforced Resin>

본 발명의 조성물이 섬유질 기질을 갖고, 당해 섬유질 기질이 강화 섬유일 경우, 섬유질 기질을 함유하는 조성물은 섬유 강화 수지로서 사용할 수 있다.When the composition of the present invention has a fibrous substrate, and the fibrous substrate is a reinforcing fiber, the composition containing the fibrous substrate can be used as a fiber-reinforced resin.

조성물에 대하여 섬유질 기질을 함유시키는 방법은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위이면 특히 한정은 없으며, 섬유질 기질과 조성물을, 혼련(混練), 도포, 함침, 주입, 압착 등의 방법으로 복합화하는 방법을 들 수 있고, 섬유의 형태 및 섬유 강화 수지의 용도에 따라서 적시 선택할 수 있다.The method of containing the fibrous substrate in the composition is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, and the fibrous substrate and the composition are combined by a method such as kneading, coating, impregnation, injection, or compression. The method is mentioned, and it can be selected in a timely manner according to the shape of the fiber and the application of the fiber-reinforced resin.

본 발명의 섬유 강화 수지를 성형하는 방법에 대해서는, 특히 한정되지 않는다. 판상의 제품을 제조하는 것이면, 압출 성형법이 일반적이지만, 평면 프레스에 의해서도 가능하다. 이 외에, 압출 성형법, 블로 성형법, 압축 성형법, 진공 성형법, 사출 성형법 등을 사용하는 것이 가능하다. 또한 필름상의 제품을 제조하는 것이면, 용융 압출법 외에, 용액 캐스트법을 사용할 수 있고, 용융 성형 방법을 사용할 경우, 인플레이션 필름 성형, 캐스트 성형, 압출 라미네이션 성형, 캘린더 성형, 시트 성형, 섬유 성형, 블로 성형, 사출 성형, 회전 성형, 피복 성형 등을 들 수 있다. 또한, 활성 에너지선으로 경화하는 수지의 경우, 활성 에너지선을 사용한 각종 경화 방법을 사용해서 경화물을 제조할 수 있다. 특히, 열경화성 수지를 매트릭스 수지의 주성분으로 하는 경우에는, 성형 재료를 프리프레그화해서 프레스나 오토클레이브에 의해 가압 가열하는 성형법을 들 수 있고, 이 외에도 RTM(Resin Transfer Molding) 성형, VaRTM(Vaccum assist Resin Transfer Molding) 성형, 적층 성형, 핸드 레이업 성형 등을 들 수 있다.The method for molding the fiber-reinforced resin of the present invention is not particularly limited. In the case of manufacturing a plate-shaped product, the extrusion molding method is common, but it is also possible by a flat press. In addition to this, it is possible to use an extrusion molding method, a blow molding method, a compression molding method, a vacuum molding method, an injection molding method, or the like. In addition, if it is to manufacture a film-like product, in addition to the melt extrusion method, a solution cast method can be used. If the melt molding method is used, inflation film molding, cast molding, extrusion lamination molding, calender molding, sheet molding, fiber molding, blown Molding, injection molding, rotational molding, and coating molding. Further, in the case of a resin cured with an active energy ray, a cured product can be produced using various curing methods using an active energy ray. In particular, in the case of using a thermosetting resin as the main component of the matrix resin, a molding method in which a molding material is prepreged and heated by press or autoclave is mentioned.In addition, RTM (Resin Transfer Molding) molding, VaRTM (Vaccum assist Resin Transfer Molding) molding, lamination molding, and hand layup molding.

<프리프레그><Prepreg>

본 발명의 섬유 강화 수지는, 미경화 혹은 반경화의 프리프레그라 불리는 상태를 형성할 수 있다. 프리프레그의 상태에서 제품을 유통시킨 후, 최종 경화를 행해서 경화물을 형성해도 좋다. 적층체를 형성하는 경우는, 프리프레그를 형성한 후, 그 밖의 층을 적층하고 나서 최종 경화를 행함으로써, 각층이 밀착한 적층체를 형성할 수 있기 때문에, 바람직하다.The fiber-reinforced resin of the present invention can form a state called uncured or semi-cured prepreg. After passing the product in the state of a prepreg, final curing may be performed to form a cured product. In the case of forming a layered product, it is preferable to form a layered product in which each layer is in close contact by forming a prepreg and then laminating other layers and then performing final curing.

이때 사용하는 조성물과 섬유질 기질의 질량 비율로서는, 특히 한정되지 않지만, 통상적으로, 프리프레그 중의 수지분이 20∼60질량%로 되도록 조제하는 것이 바람직하다.The mass ratio of the composition to be used at this time and the fibrous substrate is not particularly limited, but it is usually preferably prepared so that the resin content in the prepreg is 20 to 60 mass%.

<내열 재료 및 전자 재료><Heat-resistant materials and electronic materials>

본 발명의 조성물은, 그 경화물이, 유리 전이 온도가 높고, 내열분해성이 우수하므로, 내열 부재에 호적하게 사용 가능하다. 또한, 기재에의 밀착성이 우수하므로, 특히 전자 부재에 호적하게 사용 가능하다. 특히, 반도체 봉지재, 회로 기판, 빌드업 필름, 빌드업 기판 등이나, 접착제나 레지스트 재료에 호적하게 사용 가능하다. 또한, 섬유 강화 수지의 매트릭스 수지에도 호적하게 사용 가능하고, 고내열성의 프리프레그로서 특히 적합하다. 이렇게 해서 얻어지는 내열 부재나 전자 부재는, 각종 용도에 호적하게 사용 가능하며, 예를 들면, 산업용 기계 부품, 일반 기계 부품, 자동차·철도·차량 등 부품, 우주·항공 관련 부품, 전자·전기 부품, 건축 재료, 용기·포장 부재, 생활용품, 스포츠·레저용품, 풍력발전용 케이싱 부재 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.The composition of the present invention can be suitably used for a heat-resistant member because the cured product has a high glass transition temperature and excellent thermal decomposition resistance. In addition, since it is excellent in adhesion to the substrate, it can be particularly suitably used for an electronic member. In particular, it can be suitably used for semiconductor encapsulants, circuit boards, build-up films, build-up substrates, etc., as well as adhesives and resist materials. Further, it can be suitably used for a matrix resin of a fiber-reinforced resin, and is particularly suitable as a high heat-resistant prepreg. The heat-resistant member and the electronic member obtained in this way can be suitably used for various applications, and for example, industrial machinery parts, general mechanical parts, parts such as automobiles, railroads, vehicles, aerospace related parts, electronic and electrical parts, Building materials, containers and packaging members, daily necessities, sports and leisure articles, and casing members for wind power generation may be mentioned, but are not limited thereto.

이하, 대표적인 제품에 대하여 예를 들어서 설명한다.Hereinafter, a representative product will be described by way of example.

1. 반도체 봉지 재료1. Semiconductor encapsulation material

본 발명의 조성물로부터 반도체 봉지 재료를 얻는 방법으로서는, 상기 조성물, 및 경화촉진제, 및 무기충전제 등의 배합제를 필요에 따라서 압출기, 니더, 롤 등을 사용해서 균일하게 될 때까지 충분히 용융 혼합하는 방법을 들 수 있다. 그때, 무기충전제로서는, 통상적으로, 용융 실리카가 사용되지만, 파워 트랜지스터, 파워 IC용 고열전도 반도체 봉지재로서 사용하는 경우는, 용융 실리카보다도 열전도율이 높은 결정 실리카, 알루미나, 질화규소 등의 고충전화, 또는 용융 실리카, 결정성 실리카, 알루미나, 질화규소 등을 사용하면 좋다. 그 충전율은 경화성 수지 조성물 100질량부당, 무기충전제를 30∼95질량%의 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 그 중에서도, 난연성이나 내습성이나 내솔더크랙성의 향상, 선팽창 계수의 저하를 도모하기 위해서는, 70질량부 이상이 보다 바람직하고, 80질량부 이상인 것이 더 바람직하다.As a method of obtaining a semiconductor encapsulation material from the composition of the present invention, a method of sufficiently melt-mixing the composition and a blending agent such as a curing accelerator and an inorganic filler, if necessary, using an extruder, a kneader, or a roll until uniform Can be mentioned. At that time, fused silica is usually used as the inorganic filler, but when used as a high thermal conductivity semiconductor encapsulant for power transistors and power ICs, high fillers such as crystalline silica, alumina, silicon nitride, etc., which have higher thermal conductivity than fused silica, or Fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, or the like may be used. The filling ratio is preferably used in the range of 30 to 95% by mass of the inorganic filler per 100 parts by mass of the curable resin composition.In particular, in order to improve flame retardancy, moisture resistance, solder crack resistance, and decrease the linear expansion coefficient, It is more preferable that it is 70 mass parts or more, and it is still more preferable that it is 80 mass parts or more.

2. 반도체 장치2. Semiconductor device

본 발명의 경화성 수지 조성물로부터 반도체 장치를 얻는 반도체 패키지 성형으로서는, 상기 반도체 봉지 재료를 주형, 혹은 트랜스퍼 성형기, 사출 성형기 등을 사용해서 성형하고, 추가로 50∼250℃에서 2∼10시간 동안, 가열하는 방법을 들 수 있다.In the semiconductor package molding for obtaining a semiconductor device from the curable resin composition of the present invention, the semiconductor encapsulating material is molded using a mold or a transfer molding machine, an injection molding machine, etc., and further heated at 50 to 250°C for 2 to 10 hours. How to do it.

3. 프린트 회로 기판3. Printed circuit board

본 발명의 조성물로부터 프린트 회로 기판을 얻는 방법으로서는, 상기 프리프레그를, 통상의 방법에 의해 적층하고, 적의(適宜) 동박을 겹치고, 1∼10MPa의 가압 하에 170∼300℃에서 10분∼3시간, 가열 압착시키는 방법을 들 수 있다.As a method of obtaining a printed circuit board from the composition of the present invention, the prepreg is laminated by a conventional method, and an appropriate copper foil is overlapped, and under pressure of 1 to 10 MPa at 170 to 300°C for 10 minutes to 3 hours. , A method of heat-pressing.

4. 빌드업 기판4. Build-up board

본 발명의 조성물로부터 빌드업 기판을 얻는 방법은, 예를 들면 이하의 공정을 들 수 있다. 우선, 고무, 필러 등을 적의 배합한 상기 조성물을, 회로를 형성한 회로 기판에 스프레이 코트법, 커튼 코트법 등을 사용해서 도포한 후, 경화시키는 공정(공정 1). 그 후, 필요에 따라서 소정의 스루홀부 등의 구멍 뚫기를 행한 후, 조화제(粗化劑)에 의해 처리하고, 그 표면을 탕세함에 의해서 요철을 형성시키고, 구리 등의 금속을 도금 처리하는 공정(공정 2). 이와 같은 조작을 소망에 따라서 순차 반복, 수지 절연층 및 소정의 회로 패턴의 도체층을 교호로 빌드업해서 형성하는 공정(공정 3). 또, 스루홀부의 구멍 뚫기는, 최외층의 수지 절연층의 형성 후에 행한다. 또한, 본 발명의 빌드업 기판은, 동박 상에서 당해 수지 조성물을 반경화시킨 수지 부착 동박을, 회로를 형성한 배선 기판 상에, 170∼300℃에서 가열 압착함으로써, 조화면을 형성, 도금 처리의 공정을 생략하고, 빌드업 기판을 제작하는 것도 가능하다.As a method of obtaining a build-up substrate from the composition of the present invention, the following steps may be mentioned, for example. First, a step of curing after applying the composition in which a rubber, a filler, or the like is appropriately blended, to a circuit board on which a circuit is formed using a spray coating method, a curtain coating method, or the like (Step 1). After that, if necessary, a predetermined through-hole is drilled, and then treated with a roughening agent, the surface is washed to form irregularities, and metal such as copper is plated. (Step 2). A step of sequentially repeating such an operation as desired, and alternately building up and forming a resin insulating layer and a conductor layer of a predetermined circuit pattern (Step 3). In addition, drilling of the through-hole portion is performed after formation of the outermost resin insulating layer. In addition, in the build-up substrate of the present invention, a roughened surface is formed and a plating treatment is performed by heat-pressing a copper foil with a resin obtained by radiating the resin composition on a copper foil at 170 to 300°C on a circuit-formed wiring board. It is also possible to omit the process and manufacture a build-up substrate.

5. 빌드업 필름5. Build-up film

본 발명의 조성물로부터 빌드업 필름을 얻는 방법으로서는, 기재인 지지 필름(Y)의 표면에, 상기 조성물을 도포하고, 추가로 가열, 혹은 열풍 분사 등에 의해 유기 용제를 건조시켜서 조성물의 층(X)을 형성시킴에 의해 제조할 수 있다.As a method of obtaining a build-up film from the composition of the present invention, the composition is applied to the surface of the support film (Y) as a substrate, and the organic solvent is further dried by heating or hot air spraying, and the layer (X) of the composition It can be produced by forming.

여기에서 사용하는 유기 용제로서는, 예를 들면, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥산온 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 카르비톨아세테이트 등의 아세트산에스테르류, 셀로솔브, 부틸카르비톨 등의 카르비톨류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등을 사용하는 것이 바람직하고, 또한, 불휘발분 30∼60질량%로 되는 비율로 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the organic solvent used herein include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and acetic acid esters such as carbitol acetate. , Carbitols such as cellosolve and butylcarbitol, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, etc. are preferably used, and non-volatile content 30 It is preferable to use it in a ratio of -60 mass%.

형성되는 층(X)의 두께는, 통상적으로, 도체층의 두께 이상으로 한다. 회로 기판이 갖는 도체층의 두께는 통상 5∼70㎛의 범위이므로, 수지 조성물층의 두께는 10∼100㎛의 두께를 갖는 것이 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서의 상기 조성물의 층(X)은, 후술하는 보호 필름으로 보호되어 있어도 좋다. 보호 필름으로 보호함에 의해, 수지 조성물층 표면에의 먼지 등의 부착이나 흠집을 방지할 수 있다.The thickness of the formed layer (X) is usually equal to or larger than the thickness of the conductor layer. Since the thickness of the conductor layer of the circuit board is usually in the range of 5 to 70 µm, the thickness of the resin composition layer is preferably 10 to 100 µm. Moreover, the layer (X) of the said composition in this invention may be protected with the protective film mentioned later. By protecting with a protective film, it is possible to prevent adhesion and scratches of dust or the like on the surface of the resin composition layer.

상기한 지지 필름 및 보호 필름은, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐 등의 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트(이하 「PET」로 약칭하는 경우가 있다), 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 또한 이형지나 동박, 알루미늄박 등의 금속박 등을 들 수 있다. 또, 지지 필름 및 보호 필름은 매드 처리, 코로나 처리 외에, 이형 처리를 실시하고 있어도 좋다. 지지 필름의 두께는 특히 한정되지 않지만, 통상 10∼150㎛이고, 바람직하게는 25∼50㎛의 범위에서 사용된다. 또한 보호 필름의 두께는 1∼40㎛로 하는 것이 바람직하다.The above supporting film and protective film are polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as ``PET''), polyester such as polyethylene naphthalate, polycarbonate, and polyimide. And also metal foils such as release paper, copper foil, and aluminum foil. In addition, the support film and the protective film may be subjected to mold release treatment in addition to the mad treatment and corona treatment. Although the thickness of the supporting film is not particularly limited, it is usually 10 to 150 µm, and is preferably used in the range of 25 to 50 µm. In addition, the thickness of the protective film is preferably 1 to 40 µm.

상기한 지지 필름(Y)은, 회로 기판에 라미네이트한 후에, 혹은 가열 경화함에 의해 절연층을 형성한 후에, 박리된다. 빌드업 필름을 구성하는 경화성 수지 조성물층이 가열 경화한 후에 지지 필름(Y)을 박리하면, 경화 공정에서의 먼지 등의 부착을 방지할 수 있다. 경화 후에 박리할 경우, 통상적으로, 지지 필름에는 미리 이형 처리가 실시된다.The above-described support film (Y) is peeled off after laminating on a circuit board or after forming an insulating layer by heat curing. When the support film (Y) is peeled after the curable resin composition layer constituting the build-up film is heat-cured, adhesion of dust or the like in the curing step can be prevented. In the case of peeling after curing, the support film is usually subjected to a release treatment in advance.

상기와 같이 해서 얻어진 빌드업 필름을 사용해서 다층 프린트 회로 기판을 제조할 수 있다. 예를 들면, 층(X)이 보호 필름으로 보호되어 있는 경우는 이들을 박리한 후, 층(X)을 회로 기판에 직접 접하도록 회로 기판의 편면 또는 양면에, 예를 들면 진공 라미네이트법에 의해 라미네이트한다. 라미네이트의 방법은 배치(batch)식이어도 좋고 롤로의 연속식이어도 좋다. 또한 필요에 따라, 라미네이트를 행하기 전에 빌드업 필름 및 회로 기판을 필요에 따라 가열(프리히트)해 두어도 된다. 라미네이트의 조건은, 압착 온도(라미네이트 온도)를 70∼140℃로 하는 것이 바람직하고, 압착 압력을 1∼11kgf/㎠(9.8×104∼107.9×104N/㎡)로 하는 것이 바람직하고, 공기압을 20㎜Hg(26.7hPa) 이하의 감압 하에서 라미네이트하는 것이 바람직하다.A multilayer printed circuit board can be manufactured using the build-up film obtained as described above. For example, if the layer (X) is protected by a protective film, after peeling them, the layer (X) is laminated on one or both sides of the circuit board in direct contact with the circuit board, for example by a vacuum lamination method. do. The method of laminating may be a batch type or continuous roll type. Further, if necessary, the build-up film and the circuit board may be heated (preheated) as necessary before performing lamination. As for the conditions of the lamination, it is preferable that the pressing temperature (lamination temperature) be 70 to 140°C, the pressing pressure is preferably 1 to 11 kgf/cm 2 (9.8×10 4 to 107.9×10 4 N/m 2 ), It is preferable to laminate the air pressure under reduced pressure of 20 mmHg (26.7 hPa) or less.

6. 도전 페이스트6. Conductive paste

본 발명의 조성물로부터 도전 페이스트를 얻는 방법으로서는, 예를 들면, 도전성 입자를 당해 조성물 중에 분산시키는 방법을 들 수 있다. 상기 도전 페이스트는, 사용하는 도전성 입자의 종류에 따라서, 회로 접속용 페이스트 수지 조성물이나 이방성 도전접착제로 할 수 있다.As a method of obtaining a conductive paste from the composition of the present invention, for example, a method of dispersing electroconductive particles in the composition may be mentioned. The said conductive paste can be made into a paste resin composition for circuit connection or an anisotropic conductive adhesive depending on the kind of electroconductive particle to be used.

(실시예)(Example)

다음으로 본 발명을 실시예, 비교예에 의해 구체적으로 설명하지만, 이하에 있어서 「부」 및 「%」는 특히 한정하지 않는 한 질량 기준이다.Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but in the following, "parts" and "%" are based on mass unless otherwise limited.

1H 및 13C-NMR, FD-MS 스펙트럼, GPC는 이하의 조건에서 측정했다. 1 H and 13 C-NMR, FD-MS spectrum, and GPC were measured under the following conditions.

1H-NMR : JEOL RESONANCE제 「JNM-ECA600」 1 H-NMR: JEOL RESONANCE ``JNM-ECA600''

자장 강도 : 600MHzMagnetic field strength: 600MHz

적산 횟수 : 32회Total number of times: 32 times

용매 : DMSO-d6 Solvent: DMSO-d 6

시료 농도 : 30질량%Sample concentration: 30% by mass

13C-NMR : JEOL RESONANCE제 「JNM-ECA600」 13 C-NMR: JEOL RESONANCE ``JNM-ECA600''

자장 강도 : 150MHzMagnetic field strength: 150MHz

적산 횟수 : 320회Total number of times: 320 times

용매 : DMSO-d6 Solvent: DMSO-d 6

시료 농도 : 30질량%Sample concentration: 30% by mass

FD-MS : 니혼덴시가부시키가이샤제 「JMS-T100GC AccuTOF」FD-MS: "JMS-T100GC AccuTOF" manufactured by Nihon Denshi Co., Ltd.

측정 범위 : m/z=50.00∼2000.00Measurement range: m/z=50.00∼2000.00

변화율 : 25.6mA/minRate of change: 25.6mA/min

최종 전류값 : 40mAFinal current value: 40mA

캐소드 전압 : -10kVCathode voltage: -10kV

GPC : 도소가부시키가이샤제 「HLC-8320GPC」GPC: ``HLC-8320GPC'' manufactured by Tosoh Corporation

칼럼 : 도소가부시키가이샤제 「TSK-GEL G2000HXL」+「TSK-GEL G3000HXL」+「TSK-GEL G4000HXL」Column: Tosoh Corporation "TSK-GEL G2000HXL" + "TSK-GEL G3000HXL" + "TSK-GEL G4000HXL"

검출기 : RI(시차 굴절률계)Detector: RI (differential refractometer)

측정 조건 : 40℃Measurement conditions: 40℃

이동상 : 테트라히드로퓨란Mobile phase: tetrahydrofuran

유속 : 1ml/minFlow rate: 1ml/min

표준 : 도소가부시키가이샤제 「PStQuick A」「PStQuick B」「PStQuick E」「PStQuick F」Standard: 「PStQuick A」「PStQuick B」「PStQuick E」「PStQuick F」 made by Tosoh Corporation

수산기 당량 및 반복 단위수의 산출 방법으로서는, GPC 분자량 측정이나, FD-MS, NMR 등의 적절한 각종 기기 분석 결과로부터의 산출을 예시할 수 있다.As a method of calculating the hydroxyl group equivalent and the number of repeating units, calculations from GPC molecular weight measurement and appropriate analysis results of various instruments such as FD-MS and NMR can be exemplified.

실시예 1 C12형(BPA)의 히드록시 화합물 Ph-1Example 1 C12 type (BPA) hydroxy compound Ph-1

온도계, 교반기를 부착한 플라스크에 1,12-도데칸디올의 디글리시딜에테르(욧카이치고세이가부시키가이샤제 : 에폭시 당량 210g/eq) 210g(0.5몰)과 비스페놀A(수산기 당량 114g/eq) 228g(1.0몰)을 투입하고, 140℃까지 30분간에 걸쳐서 승온한 후, 4% 수산화나트륨 수용액 1g을 투입했다. 그 후, 30분간에 걸쳐서 150℃까지 승온하고, 추가로 150℃에서 3시간 반응시켰다. 그 후, 중화량의 인산소다를 첨가하여, 히드록시 화합물(Ph-1)을 430g 얻었다. 이 히드록시 화합물(Ph-1)은 매스 스펙트럼에서 상기 일반식(1)의 m이 1의 이론 구조에 상당하는 M+=771의 피크가 얻어진 것으로부터 상기 구조식(A-1)으로 표시되는 구조의 히드록시 화합물을 함유하는 것이 확인되었다. 이 히드록시 화합물(Ph-1)의 GPC로부터 산출한 수산기 당량은 330g/eq, 수산기 당량으로부터 산출한 상기 구조식(A-1) 중의 m의 평균값은 0.8이었다.In a flask equipped with a thermometer and stirrer, diglycidyl ether of 1,12-dodecanediol (Epoxy equivalent 210g/eq) 210g (0.5 mole) and bisphenol A (hydroxyl equivalent 114g) /eq) 228 g (1.0 mol) was added, the temperature was raised to 140°C over 30 minutes, and then 1 g of a 4% aqueous sodium hydroxide solution was added. Then, the temperature was raised to 150°C over 30 minutes, and further reacted at 150°C for 3 hours. Then, a neutralized amount of sodium phosphate was added to obtain 430 g of a hydroxy compound (Ph-1). This hydroxy compound (Ph-1) has a structure represented by the structural formula (A-1) from the obtained peak of M + = 771 in which m in the general formula (1) corresponds to the theoretical structure of 1 in the mass spectrum. It was confirmed to contain a hydroxy compound. The hydroxyl group equivalent of this hydroxy compound (Ph-1) calculated from GPC was 330 g/eq, and the average value of m in the structural formula (A-1) calculated from the hydroxyl group equivalent was 0.8.

실시예 2 C12형(피로갈롤)의 히드록시 화합물 Ph-2Example 2 C12 type (pyrogallol) hydroxy compound Ph-2

실시예 1에 있어서의 비스페놀A 228g(1.0몰)을 피로갈롤 126g(1.0몰)으로 바꾼 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 반응하여, 히드록시 화합물 Ph-2를 330g 얻었다. 이 히드록시 화합물(Ph-2)은 매스 스펙트럼에서 상기 일반식(1)의 m이 1의 이론 구조에 상당하는 M+=567의 피크가 얻어진 것으로부터 상기 구조식(A-8)으로 표시되는 구조의 히드록시 화합물을 함유하는 것이 확인되었다. 이 히드록시 화합물(Ph-2)의 GPC로부터 산출한 수산기 당량은 121g/eq, 수산기 당량으로부터 산출한 상기 구조식(A-8) 중의 m의 평균값은 0.8이었다.The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 228 g (1.0 mol) of bisphenol A in Example 1 was replaced with 126 g (1.0 mol) of pyrogallol, thereby obtaining 330 g of a hydroxy compound Ph-2. This hydroxy compound (Ph-2) has a structure represented by the structural formula (A-8) from the obtained peak of M + = 567 corresponding to the theoretical structure of 1 in the general formula (1) in the mass spectrum. It was confirmed to contain a hydroxy compound. The hydroxyl equivalent of this hydroxy compound (Ph-2) calculated from GPC was 121 g/eq, and the average value of m in the structural formula (A-8) calculated from the hydroxyl equivalent was 0.8.

실시예 3 C12형(비페놀, 테트라메틸비페놀 병용)의 히드록시 화합물 Ph-3Example 3 C12 type (biphenol, tetramethylbiphenol combined use) hydroxy compound Ph-3

실시예 1에 있어서의 비스페놀A 228g(1.0몰)을, 4,4'-비페놀 93g(0.5몰)과, 3,3',5,5'-테트라메틸비페닐-4,4'-디올 121g(0.5몰)으로 바꾼 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 반응하여, 히드록시 화합물 Ph-3을 415g 얻었다. 이 히드록시 화합물(Ph-3)은 매스 스펙트럼에서 상기 일반식(1)의 m이 1의 이론 구조에 상당하는 M+=687, 744, 800의 피크가 얻어진 것으로부터 상기 구조식(A-3)으로 표시되는 구조의 히드록시 화합물을 함유하는 것이 확인되었다. 이 히드록시 화합물(Ph-1)의 GPC로부터 산출한 수산기 당량은 318g/eq, 수산기 당량으로부터 산출한 상기 구조식(A-3) 중의 m의 평균값은 0.8이었다.228 g (1.0 mol) of bisphenol A in Example 1, 93 g (0.5 mol) of 4,4'-biphenol, and 3,3',5,5'-tetramethylbiphenyl-4,4'-diol Except having changed to 121 g (0.5 mol), it reacted like Example 1, and 415 g of hydroxy compounds Ph-3 were obtained. This hydroxy compound (Ph-3) is represented by the structural formula (A-3) from the obtained peaks of M + = 687, 744, 800 corresponding to the theoretical structure of 1 in the general formula (1) in the mass spectrum. It was confirmed that it contained a hydroxy compound of the structure shown. The hydroxyl group equivalent calculated from GPC of this hydroxy compound (Ph-1) was 318 g/eq, and the average value of m in the structural formula (A-3) calculated from the hydroxyl group equivalent was 0.8.

실시예 4 C12형(테트라메틸비페놀)의 히드록시 화합물 Ph-4Example 4 C12 type (tetramethylbiphenol) hydroxy compound Ph-4

실시예 1에 있어서의 비스페놀A 228g(1.0몰)을, 3,3',5,5'-테트라메틸비페닐-4,4'-디올 242g(1.0몰)으로 바꾼 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 반응하여, 히드록시 화합물 Ph-4를 458g 얻었다. 이 히드록시 화합물(Ph-4)은 매스 스펙트럼에서 상기 일반식(1)의 m이 1의 이론 구조에 상당하는 M+=800의 피크가 얻어진 것으로부터 상기 구조식(A-3)으로 표시되는 구조의 히드록시 화합물을 함유하는 것이 확인되었다. 이 히드록시 화합물(Ph-4)의 GPC로부터 산출한 수산기 당량은 342g/eq, 수산기 당량으로부터 산출한 상기 구조식(A-3) 중의 m의 평균값은 0.8이었다.As in Example 1 except that 228 g (1.0 mol) of bisphenol A in Example 1 was replaced with 242 g (1.0 mol) of 3,3',5,5'-tetramethylbiphenyl-4,4'-diol. It reacted similarly, and 458g of hydroxy compounds Ph-4 were obtained. This hydroxy compound (Ph-4) is of the structure represented by the above structural formula (A-3) from the obtained peak of M + = 800 corresponding to the theoretical structure of 1 in the general formula (1) m in the mass spectrum. It was confirmed to contain a hydroxy compound. The hydroxyl equivalent of this hydroxy compound (Ph-4) calculated from GPC was 342 g/eq, and the average value of m in the structural formula (A-3) calculated from the hydroxyl equivalent was 0.8.

실시예 5 C12형(2,7-디히드록시나프탈렌)의 히드록시 화합물 Ph-5Example 5 C12 type (2,7-dihydroxynaphthalene) hydroxy compound Ph-5

실시예 1에 있어서의 비스페놀A 228g(1.0몰)을, 2,7-디히드록시나프탈렌160g(1.0몰)으로 바꾼 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 반응하여, 히드록시 화합물 Ph-5를 361g 얻었다. 이 히드록시 화합물(Ph-5)은 매스 스펙트럼에서 상기 일반식(1)의 m이 1의 이론 구조에 상당하는 M+=635의 피크가 얻어진 것으로부터 상기 구조식(A-5)으로 표시되는 구조의 히드록시 화합물을 함유하는 것이 확인되었다. 이 히드록시 화합물(Ph-5)의 GPC로부터 산출한 수산기 당량은 271g/eq, 수산기 당량으로부터 산출한 상기 구조식(A-5) 중의 m의 평균값은 0.8이었다.The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 228 g (1.0 mol) of bisphenol A in Example 1 was replaced with 160 g (1.0 mol) of 2,7-dihydroxynaphthalene, thereby obtaining 361 g of a hydroxy compound Ph-5. . This hydroxy compound (Ph-5) is of the structure represented by the above structural formula (A-5) from the obtained peak of M+=635 corresponding to the theoretical structure of 1 in the general formula (1) in the mass spectrum. It was confirmed to contain a hydroxy compound. The hydroxyl group equivalent of this hydroxy compound (Ph-5) calculated from GPC was 271 g/eq, and the average value of m in the structural formula (A-5) calculated from the hydroxyl group equivalent was 0.8.

실시예 6 C12형(트리페닐올메탄)의 히드록시 화합물 Ph-6 Example 6 C12 type (triphenylolmethane) hydroxy compound Ph-6

실시예 1에 있어서의 비스페놀A 228g(1.0몰)을, 트리페닐올메탄(군에이가가쿠고교가부시키가이샤 「TPM-100」) 292g(1.0몰)으로 바꾼 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 반응하여, 히드록시 화합물 Ph-6을 498g 얻었다. 이 히드록시 화합물(Ph-6)은 매스 스펙트럼에서 상기 일반식(1)의 m이 1의 이론 구조에 상당하는 M+=900의 피크가 얻어진 것으로부터 상기 구조식(A-9)으로 표시되는 구조의 히드록시 화합물을 함유하는 것이 확인되었다. 이 히드록시 화합물(Ph-6)의 GPC로부터 산출한 수산기 당량은 192g/eq, 수산기 당량으로부터 산출한 상기 구조식(A-9) 중의 m의 평균값은 0.8이었다.The same as in Example 1 except that 228 g (1.0 mol) of bisphenol A in Example 1 was replaced with 292 g (1.0 mol) of triphenylolmethane (“TPM-100”, manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd.). By reaction, 498 g of hydroxy compounds Ph-6 were obtained. This hydroxy compound (Ph-6) is of the structure represented by the above structural formula (A-9) from the obtained peak of M + = 900 corresponding to the theoretical structure of 1 in the general formula (1) m in the mass spectrum. It was confirmed to contain a hydroxy compound. The hydroxyl equivalent of this hydroxy compound (Ph-6) calculated from GPC was 192 g/eq, and the average value of m in the structural formula (A-9) calculated from the hydroxyl equivalent was 0.8.

실시예 7 C12형(비스-나프탈렌디올)의 히드록시 화합물 Ph-7 Example 7 C12 type (bis-naphthalenediol) hydroxy compound Ph-7

실시예 1에 있어서의 비스페놀A 228g(1.0몰)을, 1,1'-메틸렌비스-(2,7-나프탈렌디올) 332g(1.0몰)으로 바꾼 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 반응하여, 히드록시 화합물 Ph-7을 522g 얻었다. 이 히드록시 화합물(Ph-7)은 매스 스펙트럼에서 상기 일반식(1)의 m이 1의 이론 구조에 상당하는 M+=979의 피크가 얻어진 것으로부터 상기 구조식(A-10)으로 표시되는 구조의 히드록시 화합물을 함유하는 것이 확인되었다. 이 히드록시 화합물(Ph-7)의 GPC로부터 산출한 수산기 당량은 139g/eq, 수산기 당량으로부터 산출한 상기 구조식(A-10) 중의 m의 평균값은 0.8이었다.The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 228 g (1.0 mol) of bisphenol A in Example 1 was replaced with 332 g (1.0 mol) of 1,1′-methylenebis-(2,7-naphthalenediol), 522 g of the oxy compound Ph-7 was obtained. This hydroxy compound (Ph-7) has a structure represented by the structural formula (A-10) from the obtained peak of M + = 979 in which m in the general formula (1) corresponds to the theoretical structure of 1 in the mass spectrum. It was confirmed to contain a hydroxy compound. The hydroxyl equivalent of this hydroxy compound (Ph-7) calculated from GPC was 139 g/eq, and the average value of m in the structural formula (A-10) calculated from the hydroxyl equivalent was 0.8.

비교예 1 C6형(BPA)의 히드록시 화합물 Ph-8Comparative Example 1 Hydroxy compound Ph-8 of C6 type (BPA)

실시예 1에 있어서의 1,12-도데칸디올의 디글리시딜에테르 210g(0.5몰)을 1,6-헥산디올의 디글리시딜에테르(DIC가부시키가이샤제 : 상품명 EPICLON 726D, 에폭시 당량 124g/eq) 124g(0.5몰)으로 바꾼 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 반응하여, 히드록시 화합물 Ph-8을 340g 얻었다. 이 히드록시 화합물 Ph-8은, 매스 스펙트럼에서 M+=687의 피크가 확인되었다. 이 히드록시 화합물 Ph-8의 GPC로부터 산출한 수산기 당량은 262g/eq였다.210 g (0.5 mol) of diglycidyl ether of 1,12-dodecanediol in Example 1 was added to diglycidyl ether of 1,6-hexanediol (manufactured by DIC Corporation: brand name EPICLON 726D, epoxy equivalent) 124 g/eq) Except having changed it to 124 g (0.5 mol), it reacted like Example 1, and 340 g of hydroxy compounds Ph-8 were obtained. As for this hydroxy compound Ph-8, a peak of M+=687 was confirmed in the mass spectrum. The hydroxyl group equivalent calculated from GPC of this hydroxy compound Ph-8 was 262 g/eq.

비교예 2 C9형(BPA)의 히드록시 화합물 Ph-9Comparative Example 2 Hydroxy compound Ph-9 of type C9 (BPA)

실시예 1에 있어서의 1,12-도데칸디올의 디글리시딜에테르 210g(0.5몰)을 1,9-노난디올의 디글리시딜에테르(사카모토야쿠힌고교가부시키가이샤제 : 에폭시 당량 156g/eq) 156g(0.5몰)으로 바꾼 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 반응하여, 히드록시 화합물 Ph-9를 350g 얻었다. 이 히드록시 화합물 Ph-9는, 매스 스펙트럼에서 M+=729의 피크가 확인되었다. 이 히드록시 화합물 Ph-9의 GPC로부터 산출한 수산기 당량은 328g/eq였다.210 g (0.5 mol) of diglycidyl ether of 1,12-dodecanediol in Example 1 was added to diglycidyl ether of 1,9-nonanediol (manufactured by Sakamoto Yakuhin Kogyo Co., Ltd.: epoxy equivalent 156 g/eq) Except having changed to 156 g (0.5 mol), it reacted similarly to Example 1, and obtained 350 g of hydroxy compounds Ph-9. As for this hydroxy compound Ph-9, a peak of M+=729 was confirmed in the mass spectrum. The hydroxyl group equivalent calculated from GPC of this hydroxy compound Ph-9 was 328 g/eq.

배합예 1 접착제 조성물의 작성Formulation Example 1 Preparation of adhesive composition

에폭시 수지로서 에피크론850S(DIC가부시키가이샤제, 비스페놀A형 에폭시 수지)를 100부, 경화제로서 DICY(미쓰비시케미컬가부시키가이샤제, 「DICY7」)를 5.59부, 및 경화촉진제로서 DCMU(DIC가부시키가이샤제, B-605-IM) 0.85부를 혼합기(가부시키가이샤신키제 「아와토리렌타로ARV-200」)로 균일 혼합해서, 접착제 조성물을 얻었다.100 parts of Epicron 850S (manufactured by DIC Corporation, bisphenol A type epoxy resin) as an epoxy resin, 5.59 parts of DICY (manufactured by Mitsubishi Chemical, ``DICY7'') as a curing agent, and DCMU (DIC Corporation) as a curing accelerator. 0.85 parts of B-605-IM, manufactured by Shiki Corporation, were uniformly mixed with a mixer ("Awatori Rentaro ARV-200" manufactured by Shinki Corporation) to obtain an adhesive composition.

〔실시예 8∼14 및 비교예 3∼5〕[Examples 8 to 14 and Comparative Examples 3 to 5]

<프라이머 처리><Primer treatment>

실시예 1∼7 및 비교예 1, 2에서 합성한 각 히드록시 화합물의 3% 에탄올 용액을 조제했다. 냉간 압연 강판(TP기켄가부시키가이샤제 「SPCC-SB」)을 탈지하지 않고 실온에서 60분간 침적시킨 후에, 실온에서 5시간 건조시켰다.A 3% ethanol solution of each hydroxy compound synthesized in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 was prepared. The cold rolled steel sheet ("SPCC-SB" manufactured by TP Kiken Co., Ltd.) was immersed at room temperature for 60 minutes without degreasing, and then dried at room temperature for 5 hours.

<인장 전단 시험><Tensile shear test>

배합예 1에서 얻어진 접착제층을, 프라이머 처리를 실시한 2매의 냉간 압연 강판(TP기켄가부시키가이샤제 「SPCC-SB」,1.0㎜×25㎜×100㎜) 중 1매에 도포하고, 스페이서로서 유리 비드(포터즈·발로티니가부시키가이샤제 「J-80」)를 첨가하고, 다른 1매의 알루미늄판을 첩합했다(접착 면적 : 25㎜×12.5㎜). 이것을 170℃에서 30분 가열 경화를 행하여, 시험편을 얻었다. 그 시험편을 사용해서 인장 전단 시험을 행함으로써 접착성을 평가했다. 시험은 JIS K 6850에 따라서 행하고, 최대점 응력 및 최대점 변형률을 비교했다.The adhesive layer obtained in Formulation Example 1 was applied to one of two cold-rolled steel sheets subjected to primer treatment ("SPCC-SB" manufactured by TP Kiken Co., Ltd., 1.0 mm×25 mm×100 mm), and a spacer As a result, glass beads ("J-80" manufactured by Porters Balotini Corporation) were added, and another aluminum plate was bonded (adhesive area: 25 mm x 12.5 mm). This was heated and cured at 170° C. for 30 minutes to obtain a test piece. Adhesiveness was evaluated by performing a tensile shear test using the test piece. The test was performed according to JIS K 6850, and the maximum point stress and the maximum point strain were compared.

또한, 비교예 5로서는, 프라이머를 사용하지 않고 접착제 조성물만으로 적층체를 작성했다.In addition, as Comparative Example 5, a laminate was prepared only with the adhesive composition without using a primer.

<T형 박리 시험><T-type peeling test>

배합예 1에서 얻어진 접착제층을, 프라이머 처리를 실시한 2매의 냉간 압연 강판(TP기켄가부시키가이샤제 「SPCC-SB」, 0.5㎜×25㎜×200㎜) 중 1매에 도포하고, 스페이서로서 유리 비드(포터즈·발로티니가부시키가이샤제 「J-80」)를 첨가하고, 다른 1매의 알루미늄판을 첩합했다(접착 면적 : 25㎜×150㎜). 이것을 170℃에서 30분 가열 경화를 행하여, 시험편을 얻었다. 그 시험편을 사용해서 T형 박리 시험을 행함으로써 접착성을 평가했다. 시험은 JIS K 6854-3에 따라서 행하고, 평균 응력을 비교했다.The adhesive layer obtained in Formulation Example 1 was applied to one of two cold-rolled steel sheets subjected to primer treatment ("SPCC-SB" manufactured by TP Kiken Co., Ltd., 0.5 mm×25 mm×200 mm), and a spacer As a result, a glass bead ("J-80" manufactured by Porters Balotini Corporation) was added, and another aluminum plate was bonded (adhesive area: 25 mm x 150 mm). This was heated and cured at 170° C. for 30 minutes to obtain a test piece. Adhesiveness was evaluated by performing a T-type peeling test using the test piece. The test was performed according to JIS K 6854-3, and the average stress was compared.

또한, 비교예 5로서는, 프라이머를 사용하지 않고 접착제 조성물만으로 적층체를 작성했다.In addition, as Comparative Example 5, a laminate was prepared only with the adhesive composition without using a primer.

[표 1][Table 1]

Figure pct00010
Figure pct00010

실시예 8∼14에 나타내는 바와 같이, 본 발명은 인장 전단 시험 및 T형 박리 시험에 있어서의 높은 접착력을 갖는다. 또한, 인장 전단 시험에 있어서 높은 변형률을 갖고, 우수한 응력완화성을 갖는다.As shown in Examples 8-14, the present invention has a high adhesive force in a tensile shear test and a T-type peeling test. In addition, it has a high strain rate in a tensile shear test and has excellent stress relaxation properties.

본 발명의 히드록시 화합물 A는, 금속 표면, 특히 오염된 금속 표면이어도 높은 접착성과 프라이머성을 발휘할 수 있다.The hydroxy compound A of the present invention can exhibit high adhesion and primer properties even on a metal surface, particularly a contaminated metal surface.

Claims (14)

일반식(1)의 구조를 갖는 히드록시 화합물 A.
Figure pct00011

···(1)
(식(1) 중, Ar은 각각 독립해서 무치환 또는 치환기를 갖는 방향환을 갖는 구조를 나타내고,
R1 및 R2은 각각 독립해서 수소 원자 또는 탄소수 1∼2의 알킬기를 나타내고,
R3 및 R4은 각각 독립해서 수산기 또는 메틸기를 나타내고,
n은 11∼16의 정수이고, m은 반복수의 평균값으로 0.5∼10이다.
(단, 반복 단위 중에 존재하는 각 반복 단위는 각각 동일해도 달라도 상관없다))
Hydroxy compound A having the structure of general formula (1).
Figure pct00011

···(One)
(In formula (1), Ar each independently represents a structure having an unsubstituted or substituted aromatic ring,
R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms,
R 3 and R 4 each independently represent a hydroxyl group or a methyl group,
n is an integer of 11 to 16, and m is an average value of the number of repetitions, and is 0.5 to 10.
(However, it does not matter if each repeating unit present in the repeating unit is the same or different))
제1항에 있어서,
식(1) 중, Ar이 하기 식(2)으로 표시되는 어느 하나의 구조인, 히드록시 화합물 A.
Figure pct00012

···(2)
(식(2)에 있어서, 방향환은 치환 또는 무치환이어도 좋고, *는 결합점을 나타낸다)
The method of claim 1,
In formula (1), Ar is any one structure represented by the following formula (2), hydroxy compound A.
Figure pct00012

···(2)
(In formula (2), the aromatic ring may be substituted or unsubstituted, and * represents a bonding point)
제1항 또는 제2항에 있어서,
식(1) 중, Ar이 수산기를 더 갖는 것인, 히드록시 화합물 A.
The method according to claim 1 or 2,
In formula (1), the hydroxy compound A in which Ar further has a hydroxyl group.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 히드록시 화합물 A를 함유하는 것을 특징으로 하는, 조성물.A composition comprising the hydroxy compound A according to any one of claims 1 to 3. 제4항에 있어서,
또한, 히드록시 화합물 A와 반응하는 화합물을 함유하는, 조성물.
The method of claim 4,
In addition, a composition containing a compound that reacts with the hydroxy compound A.
제5항에 있어서,
상기 히드록시 화합물 A와 반응하는 화합물이, 에폭시 화합물 및/또는 이소시아네이트 화합물인, 조성물.
The method of claim 5,
The composition, wherein the compound reacting with the hydroxy compound A is an epoxy compound and/or an isocyanate compound.
제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
또한, 필러를 함유하는, 조성물.
The method according to any one of claims 4 to 6,
In addition, a composition containing a filler.
제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 경화해서 이루어지는 경화물.A cured product obtained by curing the composition according to any one of claims 4 to 7. 기재와 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 조성물층을 갖는 것을 특징으로 하는 적층체.A laminate comprising a substrate and a layer of the composition according to any one of claims 4 to 7. 제9항에 있어서,
기재가 금속 또는 금속 산화물인, 적층체.
The method of claim 9,
The laminate, wherein the substrate is a metal or metal oxide.
제8항 또는 제9항에 있어서,
기재와, 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 조성물층과, 제2 기재가 이 순서로 적층해서 이루어지는 적층체이고, 기재가 금속 또는 금속 산화물이고, 제2 기재가 플라스틱층인, 적층체.
The method according to claim 8 or 9,
The substrate, the composition layer according to any one of claims 4 to 7, and the second substrate is a laminate formed by laminating in this order, the substrate is a metal or metal oxide, and the second substrate is a plastic layer, Laminate.
제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
기재와, 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 조성물층과, 접착제층과, 제2 기재가 이 순서로 적층해서 이루어지는 적층체이고, 기재가 금속 또는 금속 산화물이고, 제2 기재가 플라스틱층인, 적층체.
The method according to any one of claims 8 to 10,
The substrate, the composition layer according to any one of claims 4 to 7, and the adhesive layer and the second substrate are laminated in this order, and the substrate is a metal or metal oxide, and the second substrate is A plastic layer, a laminate.
제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 적층체를 함유하는 것을 특징으로 하는 전자 부재.An electronic member comprising the laminate according to any one of claims 8 to 10. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 히드록시 화합물 A를 함유하는 것을 특징으로 하는, 금속 또는 금속 산화물용 프라이머.A primer for metal or metal oxide, comprising the hydroxy compound A according to any one of claims 1 to 3.
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