JP7375347B2 - Epoxy compounds, compositions, cured products and laminates - Google Patents

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JP7375347B2 JP2019121469A JP2019121469A JP7375347B2 JP 7375347 B2 JP7375347 B2 JP 7375347B2 JP 2019121469 A JP2019121469 A JP 2019121469A JP 2019121469 A JP2019121469 A JP 2019121469A JP 7375347 B2 JP7375347 B2 JP 7375347B2
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本発明は、特定の構造を有するエポキシ化合物、及び該エポキシ化合物を有する組成物、該組成物を硬化してなる硬化物に関する。また、該硬化物層を有する積層体に関する。 The present invention relates to an epoxy compound having a specific structure, a composition containing the epoxy compound, and a cured product obtained by curing the composition. The present invention also relates to a laminate having the cured material layer.

CO削減・燃費向上などから自動車・飛行機の軽量化は益々進み、これに伴いスポット溶接数の低減や繊維強化樹脂と金属の併用などによる軽量化が進められ、これらに用いられる構造材料用接着剤の高性能化が強く求められている。特に、熱膨張差の大きいアルミと繊維強化樹脂との加熱接着においては、膨張と収縮に伴う、界面応力による反りや波打ちの発生が問題視され,応力を緩和する接着剤が必要となる。
また、半導体封止材料や多層プリント基板用絶縁層などに用いられる先端電子材料にも、その極薄型化の影響からシリコンチップと金属の熱膨張差による反りが深刻な問題となっており、応力緩和機能がこれまで以上に求められている。
Automobiles and airplanes are becoming increasingly lighter due to CO2 reduction and fuel efficiency improvements, and along with this, weight reductions are progressing by reducing the number of spot welds and combining fiber-reinforced resin with metal. There is a strong demand for higher performance agents. In particular, when thermally adhering aluminum, which has a large difference in thermal expansion, and fiber-reinforced resin, warping and waving due to interfacial stress due to expansion and contraction are seen as a problem, and adhesives that alleviate stress are needed.
In addition, as advanced electronic materials used for semiconductor encapsulation materials and insulating layers for multilayer printed circuit boards become ultra-thin, warping due to the difference in thermal expansion between silicon chips and metals has become a serious problem, causing stress. Mitigation capabilities are needed now more than ever.

一方、硬化時の寸法安定性や電気絶縁性、耐薬品性を有することから、エポキシ樹脂が接着剤として多く利用されている。しかし、高い接着性を維持しようとすると固脆くなることから、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂をダイマー酸やセバシン酸のような脂肪族ジカルボン酸を分子鎖延長剤として反応させた高分子量化エポキシ化合物(例えば、特許文献1参照)や、脂肪族系炭化水素基を有するヒドロキシ化合物から誘導される高分子量化エポキシ化合物(特許文献2参照)といった、柔軟系エポキシ化合物が開示されている。しかし、柔軟系エポキシ化合物は、その変形モードが塑性変形であるため、全体の剛性を維持したまま、基材の膨張差に繰り返し追従することが出来ず、耐久性に課題があった。
以上より、弾性変形を前提とする高い伸び率と、基材の熱膨張差に耐えうる高い接着性を兼備する柔軟な硬化物を付与するエポキシ化合物が求められている。
On the other hand, epoxy resins are often used as adhesives because they have dimensional stability when cured, electrical insulation properties, and chemical resistance. However, when trying to maintain high adhesiveness, it becomes hard and brittle, so a high molecular weight epoxy compound ( For example, flexible epoxy compounds such as Patent Document 1) and high molecular weight epoxy compounds derived from hydroxy compounds having aliphatic hydrocarbon groups (Patent Document 2) have been disclosed. However, since the deformation mode of flexible epoxy compounds is plastic deformation, they cannot repeatedly follow the difference in expansion of the base material while maintaining the overall rigidity, which poses a problem in durability.
From the above, there is a need for an epoxy compound that provides a flexible cured product that has both a high elongation rate based on elastic deformation and high adhesiveness that can withstand the difference in thermal expansion of the base material.

特開平8-53533号公報Japanese Patent Application Publication No. 8-53533 特開2006-335796号公報Japanese Patent Application Publication No. 2006-335796

本発明の課題は、弾性変形を前提とする高い伸び率と、基材の熱膨張差に耐えうる高い接着性を兼備する柔軟な硬化物を付与するエポキシ化合物を提供することにある。
また、該エポキシ化合物を含有する組成物、及び該組成物を硬化してなる硬化物、該硬化物層と基材とを有することを特徴とする積層体を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an epoxy compound that provides a flexible cured product that has both a high elongation rate based on elastic deformation and high adhesiveness that can withstand differences in thermal expansion of base materials.
Another object of the present invention is to provide a laminate comprising a composition containing the epoxy compound, a cured product obtained by curing the composition, and a layer of the cured product and a base material.

本発明者らは、鋭意検討した結果、下記式(1)で表される構造Xと、グリシジルエーテル基または2-メチルグリシジルエーテル基を有することを特徴とする、エポキシ化合物Aを提供することで、前記課題が解決可能であることを見出した。すなわち本発明は、下記式(1)で表される構造Xと、グリシジルエーテル基または2-メチルグリシジルエーテル基を有することを特徴とする、エポキシ化合物Aを提供するものである。 As a result of extensive studies, the present inventors have found that by providing an epoxy compound A characterized by having a structure X represented by the following formula (1) and a glycidyl ether group or a 2-methylglycidyl ether group. It has been found that the above problem can be solved. That is, the present invention provides an epoxy compound A characterized by having a structure X represented by the following formula (1) and a glycidyl ether group or a 2-methylglycidyl ether group.

・・・(1) ...(1)

(式(1)中、Arは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表し、n=3~6の整数であって、mは繰り返しの平均値でありmは0.5~10であって、
Yは式(2-1)およびまたは式(2-2)で表される構造である
(但し、繰り返し単位中に存在する各繰り返し単位はそれぞれ同一であっても異なっていても構わない)
(In formula (1), Ar represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent, n is an integer of 3 to 6, m is the average value of repetitions, and m is 0.5 to 10 And,
Y is a structure represented by formula (2-1) and/or formula (2-2) (however, each repeating unit present in the repeating unit may be the same or different)

・・・(2-1) ...(2-1)

・・・(2-2) ...(2-2)

(式(2-1)及び式(2-2)中、p及びpはそれぞれ独立して4~16の整数であって、
~Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1または2のアルキル基を表し、
,R、Rは、それぞれ独立して水酸基、グリシジルエーテル基およびまたは2-メチルグリシジルエーテル基を表し、
、R、R10は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、
Arは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表す)。)。
(In formulas (2-1) and (2-2), p 1 and p 2 are each independently an integer of 4 to 16,
R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms,
R 1 , R 7 and R 8 each independently represent a hydroxyl group, a glycidyl ether group and/or a 2-methylglycidyl ether group,
R 2 , R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group,
Ar represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent). ).

本発明のエポキシ化合物Aは、弾性変形を前提とする高い伸び率と、基材の熱膨張差に耐えうる高い接着性を兼備する柔軟な硬化物を提供することができる。 Epoxy compound A of the present invention can provide a flexible cured product that has both a high elongation rate based on elastic deformation and high adhesiveness that can withstand the difference in thermal expansion of the base material.

<エポキシ化合物A>
本発明のエポキシ化合物Aは、下記式(1)で表される構造Xと、グリシジルエーテル基または2-メチルグリシジルエーテル基を有することを特徴とする。
<Epoxy compound A>
The epoxy compound A of the present invention is characterized by having a structure X represented by the following formula (1) and a glycidyl ether group or a 2-methylglycidyl ether group.

・・・(1) ...(1)

(式(1)中、Arは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表し、n=3~6の整数であって、mは繰り返しの平均値でありmは0.5~10であって、
Yは式(2-1)およびまたは式(2-2)で表される構造である
(但し、繰り返し単位中に存在する各繰り返し単位はそれぞれ同一であっても異なっていても構わない)
(In formula (1), Ar represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent, n is an integer of 3 to 6, m is the average value of repetitions, and m is 0.5 to 10 And,
Y is a structure represented by formula (2-1) and/or formula (2-2) (however, each repeating unit present in the repeating unit may be the same or different)

・・・(2-1) ...(2-1)

・・・(2-2) ...(2-2)

(式(2-1)及び式(2-2)中、p及びpはそれぞれ独立して4~16の整数であって、
~Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1または2のアルキル基を表し、
,R、Rは、それぞれ独立して水酸基、グリシジルエーテル基およびまたは2-メチルグリシジルエーテル基を表し、
、R、R10は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、
Arは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表す)。)
(In formulas (2-1) and (2-2), p 1 and p 2 are each independently an integer of 4 to 16,
R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms,
R 1 , R 7 and R 8 each independently represent a hydroxyl group, a glycidyl ether group and/or a 2-methylglycidyl ether group,
R 2 , R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group,
Ar represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent). )

上記構造を有するエポキシ化合物Aにおいて、構造Xが3つ以下であると、得られる硬化物の架橋密度が適当であり、柔軟強靭性と耐熱性とを兼備できる点から好ましい。好ましくは構造Xが2つ以下の場合であり、特に好ましくは構造Xが1つの場合である。 In the epoxy compound A having the above structure, it is preferable that the number of structures X is three or less because the resulting cured product has an appropriate crosslinking density and can have both flexibility and toughness and heat resistance. Preferably the number of structures X is two or less, particularly preferably one structure X.

前記エポキシ化合物Aにおいて、それぞれ独立してArは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表す。ここでいう芳香環とは、例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環が挙げられる。これら芳香環を有する構造であるArとしては、好ましくは下記式(5)で表される構造を表す。 In the epoxy compound A, Ar each independently represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent. The aromatic ring mentioned here includes, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, and a fluorene ring. Ar, which is a structure having these aromatic rings, preferably represents a structure represented by the following formula (5).

・・・(5) ...(5)

(式(5)において、芳香環は置換または無置換であってよく、式(1)及び式(3)中のArはそれぞれ独立してn=3~6の整数であって、式(2-2)および(式4-2)のArはn=2であって、*は結合点を表す。) (In formula (5), the aromatic ring may be substituted or unsubstituted, Ar in formula (1) and formula (3) is each independently an integer of n 1 = 3 to 6, and the formula ( 2-2) and (Formula 4-2), Ar is n 1 = 2, and * represents the bonding point.)

また、式(1)においては、以下のような式(5-1)で表される構造もArとして挙げられる。 Further, in formula (1), a structure represented by the following formula (5-1) can also be mentioned as Ar.

・・・(5-1) ...(5-1)

(式中、芳香環は置換または無置換であってよく、n=1~4あって、*は結合点を表す。) (In the formula, the aromatic ring may be substituted or unsubstituted, n 2 = 1 to 4, and * represents the bonding point.)

Arが有する芳香環は置換または無置換であってよく、Arが置換基を有する場合、置換基としては好ましくはアルキル基、ハロゲン原子、グリシジルエーテル基、2-メチルグリシジルエーテル基等が挙げられる。好ましくは無置換、あるいはアルキル基とグリシジルエーテル基、2-メチルグリシジルエーテル基である。置換基は芳香環あたり2つ以下であることが好ましく、さらに好ましくは1つ以下であり、特に好ましくは無置換である。 The aromatic ring that Ar has may be substituted or unsubstituted, and when Ar has a substituent, the substituent preferably includes an alkyl group, a halogen atom, a glycidyl ether group, a 2-methylglycidyl ether group, and the like. Preferably, it is unsubstituted, or an alkyl group, a glycidyl ether group, or a 2-methylglycidyl ether group. The number of substituents per aromatic ring is preferably two or less, more preferably one or less, and particularly preferably unsubstituted.

前記Arの構造としては以下のものが特に好ましい。 As the structure of Ar, the following is particularly preferable.

Figure 0007375347000009
Figure 0007375347000009

式(1)のArとしては以下の構造が特に好ましい。 As Ar in formula (1), the following structures are particularly preferable.

式(2-2)のArとしては以下の構造が好ましい。 Ar in formula (2-2) preferably has the following structure.

式(2-2)のArとしては以下の構造が特に好ましい。 As Ar in formula (2-2), the following structure is particularly preferable.

前記式(1)において、mは繰り返しの平均値でありmは0.5~10である。この繰り返しの平均値は、GPCで測定することで得ることが出来る。mとしては、柔軟強靭性と耐久性を兼備する点から、好ましくはmが0.6~5.0である。 In the above formula (1), m is the average value of repetitions, and m is 0.5 to 10. The average value of this repetition can be obtained by measuring with GPC. From the viewpoint of achieving both flexibility, toughness and durability, m is preferably 0.6 to 5.0.

また、前記式(2-1)及び式(2-2)中、p及びpはそれぞれ独立して4~16の整数である。柔軟強靭性と耐久性の観点から、6~15が好ましい。特に好ましくは6~12である。 Furthermore, in the formulas (2-1) and (2-2), p 1 and p 2 are each independently an integer of 4 to 16. From the viewpoint of flexibility, toughness and durability, the number is preferably 6 to 15. Particularly preferably 6 to 12.

また、前記式(2-1)及び式(2-2)において、R~Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1または2のアルキル基を表し、
,R、Rは、それぞれ独立して水酸基、グリシジルエーテル基およびまたは2-メチルグリシジルエーテル基を表し、
、R、R10は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を表す。
~Rとしては、好ましくは水素原子である。
,R、Rとしては、としては、好ましくは水酸基である。
、R、R10としては、としては、好ましくは水素原子である。
Furthermore, in the formulas (2-1) and (2-2), R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms,
R 1 , R 7 and R 8 each independently represent a hydroxyl group, a glycidyl ether group and/or a 2-methylglycidyl ether group,
R 2 , R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R 3 to R 6 are preferably hydrogen atoms.
R 1 , R 7 and R 8 are preferably hydroxyl groups.
R 2 , R 9 and R 10 are preferably hydrogen atoms.

本発明のエポキシ化合物Aの好ましい構造としては、下記式(3)で表される構造が挙げられる。 A preferred structure of the epoxy compound A of the present invention includes a structure represented by the following formula (3).

・・・(3)
(式(3)中、Arは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表し、n=3~6の整数であって、mは繰り返しの平均値でありmは0.5~10であって、
Yは式(2-1)およびまたは式(2-2)で表される構造であって、
Qはそれぞれ独立して水酸基、または式(4-1)または式(4-2)で表される構造のいずれかである
(但し、繰り返し単位中に存在する各繰り返し単位はそれぞれ同一であっても異なっていても構わない)
...(3)
(In formula (3), Ar represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent, n is an integer of 3 to 6, m is the average value of repetitions, and m is 0.5 to 10 And,
Y is a structure represented by formula (2-1) and/or formula (2-2),
Q is each independently a hydroxyl group or a structure represented by formula (4-1) or formula (4-2) (however, each repeating unit present in the repeating unit is the same) It doesn't matter if they are different)

・・・(4-1) ...(4-1)

・・・(4-2) ...(4-2)

(式(4-1)及び式(4-2)において、R11及びR12は水素原子またはメチル基を表し、
13は水酸基、グリシジルエーテル基およびまたは2-メチルグリシジルエーテル基を表し、
14は水素原子またはメチル基を表し、
Arは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表す)。)
(In formula (4-1) and formula (4-2), R 11 and R 12 represent a hydrogen atom or a methyl group,
R 13 represents a hydroxyl group, a glycidyl ether group and/or a 2-methylglycidyl ether group,
R 14 represents a hydrogen atom or a methyl group,
Ar represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent). )

前記式(3)において、mは繰り返しの平均値でありmは0.5~10である。この繰り返しの平均値は、ゲルパーミエーションクロマトグラフで測定することで得ることが出来る。mとしては、柔軟強靭性と耐久性を兼備する点から、好ましくはmが0.6~5.0である。 In the above formula (3), m is the average value of repetitions, and m is 0.5 to 10. The average value of this repetition can be obtained by measuring with gel permeation chromatography. From the viewpoint of achieving both flexibility, toughness and durability, m is preferably 0.6 to 5.0.

また、本発明のエポキシ化合物Aのさらに好ましい構造としては、以下の構造が挙げられる。 Moreover, the following structure is mentioned as a more preferable structure of the epoxy compound A of this invention.

Figure 0007375347000017
Figure 0007375347000017

Figure 0007375347000019
Figure 0007375347000019

Figure 0007375347000025
Figure 0007375347000025

上記各構造式の中でも、硬化性と耐熱性の観点からは以下で表されるものを用いることが好ましい。 Among the above structural formulas, it is preferable to use those represented by the following from the viewpoint of curability and heat resistance.

上記各構造式の中でも、得られる硬化物の物性バランスに優れる点から、以下で表されるものを用いることが最も好ましい。 Among the above-mentioned structural formulas, it is most preferable to use those represented by the following in view of the excellent balance of physical properties of the resulting cured product.

Figure 0007375347000028
Figure 0007375347000028

一方、以下で例示される構造を、性能を悪化させない範囲で含有することもできる。 On the other hand, the structure exemplified below can also be included within a range that does not deteriorate the performance.

<エポキシ化合物Aの製造方法>
本発明のエポキシ化合物Aの製造方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)と芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)とを、芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)のフェノール性水酸基1モルに対して、(a1)を1.01~3.0モルの範囲で反応させて得られるエポキシ化合物Cを得、これに更に芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)と反応させて得られるヒドロキシ化合物Bを更にエピハロヒドリン類(a4)と反応させる方法を用いることが、原料入手や反応が容易である点から好ましい。
<Method for producing epoxy compound A>
Although the method for producing the epoxy compound A of the present invention is not particularly limited, for example, the diglycidyl ether (a1) of an aliphatic dihydroxy compound and the aromatic hydroxy compound (a2) are An epoxy compound C obtained by reacting (a1) in a range of 1.01 to 3.0 moles with respect to 1 mole of phenolic hydroxyl group of the hydroxy compound (a2) is obtained, and an aromatic hydroxy compound ( It is preferable to use a method in which the hydroxy compound B obtained by reacting with a3) is further reacted with an epihalohydrin (a4) from the viewpoint of easy raw material acquisition and reaction.

<エポキシ化合物C>
脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)と芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)とを反応させて得られるエポキシ化合物Cを得、これに更に芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)と反応させて得られるヒドロキシ化合物Bを更にエピハロヒドリン類(a4)と反応させてエポキシ化合物Aを得る場合、エポキシ化合物Cとしては、芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)のフェノール性水酸基1モルに対して、(a1)を1.01~3.0モルの範囲で反応させることで得ることができる。
エポキシ化合物C中には未反応の脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)が含まれるが、本発明ではそのまま用いてもよく、また、脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)を取り除いて用いても良い。
未反応の前記脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)の除去方法としては種々の方法に準じて行うことができる。例えば、極性の違いを利用するカラムクロマトグラフィー分離法、沸点の違いを利用する蒸留分留法などが挙げられる。なかでも、簡便な方法として、蒸留分留法が好ましく、熱変質を抑制するために高真空下で減圧蒸留分留が特に好ましい。得られるヒドロキシ化合物B中の未反応の前記脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)の存在率は質量%で0.1~30であることが硬化物の強靱性と柔軟性とのバランスが良好となる点から好ましい。
<Epoxy compound C>
Epoxy compound C obtained by reacting the diglycidyl ether (a1) of an aliphatic dihydroxy compound with an aromatic hydroxy compound (a2) is obtained, and this is further reacted with an aromatic hydroxy compound (a3) to obtain an epoxy compound C. When epoxy compound A is obtained by further reacting hydroxy compound B with epihalohydrin (a4), as epoxy compound C, (a1) is added per mole of phenolic hydroxyl group of aromatic hydroxy compound (a2). It can be obtained by reacting in a range of 1.01 to 3.0 moles.
Although the epoxy compound C contains unreacted diglycidyl ether (a1) of an aliphatic dihydroxy compound, it may be used as it is in the present invention, or the diglycidyl ether (a1) of an aliphatic dihydroxy compound It may be removed and used.
The unreacted diglycidyl ether (a1) of the aliphatic dihydroxy compound can be removed by various methods. Examples include column chromatography separation methods that utilize differences in polarity, and distillation fractionation methods that utilize differences in boiling points. Among these, the distillation-fractionation method is preferred as a simple method, and vacuum distillation-fractionation under high vacuum is particularly preferred in order to suppress thermal alteration. The balance between toughness and flexibility of the cured product is such that the unreacted diglycidyl ether (a1) of the aliphatic dihydroxy compound in the resulting hydroxy compound B is in the range of 0.1 to 30% by mass. This is preferable because it provides good results.

前記脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)としては、特に限定されるものではなく、例えば1,11-ウンデカンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,9-ノナンジオールジグリシジルエーテル、1,12-ドデカンジオールジグリシジルエーテル、1,13-トリデカンジオール、1,14-テトラデカンジオールジグリシジルエーテル、1,15-ペンタデカンジオールジグリシジルエーテル、1,16-ヘキサデカンジオールジグリシジルエーテル、2-メチル-1,11-ウンデカンジオールジグリシジルエーテル、3-メチル-1,11-ウンデカンジオールジグリシジルエーテル、2,6,10-トリメチル-1,11-ウンデカンジオールジグリシジルエーテル等が挙げられる。これらは、ヒドロキシ化合物のグリシジルエーテル化において生成する有機塩素不純物を含有していても良く、下記構造で表される1-クロロメチル-2-グリシジルエーテル(クロルメチル体)等の有機塩素を含有していても良い。これらのジグリシジルエーテルは単独でも、2種類以上を併用しても良い。 The diglycidyl ether (a1) of the aliphatic dihydroxy compound is not particularly limited, and includes, for example, 1,11-undecanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, and 1,9-nonane. Diol diglycidyl ether, 1,12-dodecanediol diglycidyl ether, 1,13-tridecanediol, 1,14-tetradecanediol diglycidyl ether, 1,15-pentadecanediol diglycidyl ether, 1,16-hexadecanediol diglycidyl ether Glycidyl ether, 2-methyl-1,11-undecanediol diglycidyl ether, 3-methyl-1,11-undecanediol diglycidyl ether, 2,6,10-trimethyl-1,11-undecanediol diglycidyl ether, etc. Can be mentioned. These may contain organic chlorine impurities generated during glycidyl etherification of hydroxy compounds, and may contain organic chlorine such as 1-chloromethyl-2-glycidyl ether (chloromethyl form) represented by the structure below. It's okay. These diglycidyl ethers may be used alone or in combination of two or more.

・・・クロロメチル体 ...Chloromethyl form

これらの中でも、得られる硬化物の柔軟性と耐熱性のバランスに優れる点から炭素数4~16のアルキレン鎖の両末端にエーテル基を介してグリシジル基が連結した構造である化合物であることが好ましく、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,9-ノナンジオールジグリシジルエーテル、1,12-ドデカンジオールジグリシジルエーテル、1,13-トリデカンジオール、1,14-テトラデカンジオールジグリシジルエーテル、1,16-ヘキサデカンジオールジグリシジルエーテルを用いることが最も好ましい。 Among these, compounds with a structure in which a glycidyl group is connected to both ends of an alkylene chain having 4 to 16 carbon atoms via an ether group are preferred because of the excellent balance between flexibility and heat resistance of the resulting cured product. Preferably, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, 1,9-nonanediol diglycidyl ether, 1,12-dodecanediol diglycidyl ether, 1,13-tridecanediol, 1,14-tetradecanediol diglycidyl ether, Most preferably, 1,16-hexadecanediol diglycidyl ether is used.

前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)としては、フェノール性水酸基を3個以上有せば、特に限定されるものではなく、例えば、ピロガロール、1,2,4-トリヒドロキシベンゼン、1,3,5-トリヒドロキシベンゼン等のトリヒドロキシベンゼン類、4,4‘,4“-トリヒドロキシトリフェニルメタン等のトリフェニルメタン型フェノール類、1,3,6-トリヒドロキシナフタレン等のトリヒドロキシナフタレン類、ジヒドロキシナフタレン類をカップリング反応させた、1,1‘-メチレンビスー(2,7-ナフタレンジオール)、1,1’-ビナフタレン-2,2‘,7,7’-テトラオール、1,1‘-オキシビスー(2,7-ナフタレンジオール)等の4官能フェノール類、(1,1’―ビフェニル)―2,4,4’―トリオール、(1,1‘―ビフェニル)―3,4‘,5―トリオール、(1,1’―ビフェニル)―3,3‘,5,5’―テトラオール等のビフェノール類、フェノールノボラック、クレゾールノボラックなどのノボラック樹脂、フェノールとジシクロペンタジエンとの重付加物、及びフェノールとテルペン系化合物との重付加物等の脂環式構造含有フェノール類、ジヒドロキシナフタレンの脱水縮合反応から得られるナフチレンエーテル類、フェノールとフェニレンジメチルクロライド又はビフェニレンジメチルクロライドとの縮合反応生成物である所謂ザイロック型フェノール樹脂が挙げられ、単独でも、2種以上を併用して用いても良い。更に、上記の各化合物の芳香核に置換基としてメチル基、t-ブチル基、又はハロゲン原子が置換した構造の2官能性フェノール化合物も挙げられる。尚、前記脂環式構造含有フェノール類や、前記ザイロック型フェノール樹脂は、3官能性以上の成分のみならず、2官能性以下の成分も同時に存在し得るが、本発明ではそのまま用いてもよく、又、カラム等の精製工程を経て、2官能性以下の成分のみを取り除いて用いても良い。 The aromatic hydroxy compound (a2) is not particularly limited as long as it has three or more phenolic hydroxyl groups; for example, pyrogallol, 1,2,4-trihydroxybenzene, 1,3,5 - Trihydroxybenzenes such as trihydroxybenzene, triphenylmethane type phenols such as 4,4',4"-trihydroxytriphenylmethane, trihydroxynaphthalenes such as 1,3,6-trihydroxynaphthalene, dihydroxy 1,1'-methylene bis(2,7-naphthalenediol), 1,1'-binaphthalene-2,2',7,7'-tetraol, 1,1'-oxybis-2, which is a coupling reaction of naphthalenes. Tetrafunctional phenols such as (2,7-naphthalenediol), (1,1'-biphenyl)-2,4,4'-triol, (1,1'-biphenyl)-3,4',5-triol , (1,1'-biphenyl)-3,3',5,5'-tetraol and other biphenols, phenol novolac, cresol novolak and other novolac resins, polyadducts of phenol and dicyclopentadiene, and phenol. alicyclic structure-containing phenols such as polyadducts of and terpene compounds, naphthylene ethers obtained from the dehydration condensation reaction of dihydroxynaphthalene, and condensation reaction products of phenol and phenylene dimethyl chloride or biphenylene dimethyl chloride. Examples include so-called Zylock type phenolic resins, which may be used alone or in combination of two or more.Furthermore, the aromatic nucleus of each of the above compounds is substituted with a methyl group, t-butyl group, or a halogen atom as a substituent. Difunctional phenol compounds with a structure such as the above are also included.In addition, the above-mentioned alicyclic structure-containing phenols and the above-mentioned Zylock type phenol resin contain not only trifunctional or higher functional components but also bifunctional or lower functional components. However, in the present invention, it may be used as it is, or it may be used after undergoing a purification process using a column or the like to remove only components having less than two functionalities.

これらの中でも、硬化物にした際の柔軟性と強靭性のバランスに優れる点からトリヒドロキシベンゼン類が最も好ましく、耐熱性を重視する場合には、4,4‘,4“-トリヒドロキシトリフェニルメタン、1,1‘-メチレンビスー(2,7-ナフタレンジオール)が好ましい。又、硬化物の耐湿性を重視する場合には、脂環式構造を含有するフェノール類を用いることが好ましい。 Among these, trihydroxybenzenes are the most preferred because they have an excellent balance between flexibility and toughness when made into a cured product, and when heat resistance is important, 4,4',4"-trihydroxytriphenyl Methane and 1,1'-methylenebis(2,7-naphthalenediol) are preferable.In addition, when moisture resistance of the cured product is important, it is preferable to use phenols containing an alicyclic structure.

前記脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)と前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)との反応比率は、最終的なエポキシ化合物Aの流動性を維持するために、芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)のフェノール性水酸基1モルに対して、(a1)を1.01~3.0モルの範囲で反応させることが好ましく、得られる硬化物の柔軟性と耐熱性をバランスよく兼備する点から、芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)のフェノール性水酸基1モルに対して、(a1)を1.1~2.0モルであることがさらに好ましい。 The reaction ratio between the diglycidyl ether (a1) of the aliphatic dihydroxy compound and the aromatic hydroxy compound (a2) is such that the aromatic hydroxy compound ( It is preferable to react 1.01 to 3.0 moles of (a1) with respect to 1 mole of the phenolic hydroxyl group of a2), from the viewpoint of achieving a well-balanced combination of flexibility and heat resistance of the resulting cured product. More preferably, the amount of (a1) is 1.1 to 2.0 mol per 1 mol of the phenolic hydroxyl group of the aromatic hydroxy compound (a2).

前記脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)と前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)との反応は、触媒の存在下で行うことが好ましい。前記触媒としては、種々のものが使用でき、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム等のアルカリ(土類)金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、トリフェニルホスフィン等のリン系化合物、DMP-30、DMAP、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリブチルアンモニウム等のクロライド、ブロマイド、ヨーダイド、テトラメチルホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、ベンジルトリブチルホスホニウム等のクロライド、ブロマイド、ヨーダイド等の4級アンモニウム塩、トリエチルアミン、N,N-ジメチルベンジルアミン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の3級アミン類、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール等のイミダゾール類等が挙げられる。これらは2種以上の触媒を併用しても構わない。なかでも反応が速やかに進行すること、および不純物量の低減効果が高い点から水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリフェニルホスフィン、DMP-30が好ましい。これら触媒の使用量は特に限定されるものではないが、前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)のフェノール性水酸基1モルに対し0.0001~0.01モル用いるのが好ましい。これら触媒の形態も特に限定されず、水溶液の形態で使用してもよいし、固形の形態で使用しても構わない。
また、前記脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)と前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)との反応は、無溶剤下で、あるいは有機溶剤の存在下で行うことができる。用いうる有機溶剤としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、ジメチルスルホキシド、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどが挙げられる。有機溶剤の使用量としては、仕込んだ原料の総質量に対して通常50~300質量%、好ましくは100~250質量%である。これらの有機溶剤は単独で、あるいは数種類を混合して用いることが出来る。反応を速やかに行うためには無溶媒が好ましく、一方、最終生成物の不純物を低減できる点からはジメチルスルホキシドの使用が好ましい。
The reaction between the diglycidyl ether (a1) of the aliphatic dihydroxy compound and the aromatic hydroxy compound (a2) is preferably carried out in the presence of a catalyst. Various catalysts can be used as the catalyst, including alkali (earth) metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and calcium hydroxide; alkali metals such as sodium carbonate and potassium carbonate; Carbonates, phosphorus compounds such as triphenylphosphine, DMP-30, DMAP, chlorides such as tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrabutylammonium, benzyltributylammonium, bromide, iodide, tetramethylphosphonium, tetraethylphosphonium, tetrabutylphosphonium , chlorides such as benzyltributylphosphonium, quaternary ammonium salts such as bromide and iodide, triethylamine, N,N-dimethylbenzylamine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene, 1,4-diazabicyclo[2. 2.2] Tertiary amines such as octane, imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-phenylimidazole, and the like. Two or more types of these catalysts may be used in combination. Among these, sodium hydroxide, potassium hydroxide, triphenylphosphine, and DMP-30 are preferred because the reaction proceeds quickly and they are highly effective in reducing the amount of impurities. The amount of these catalysts used is not particularly limited, but it is preferably used in an amount of 0.0001 to 0.01 mol per 1 mol of the phenolic hydroxyl group of the aromatic hydroxy compound (a2). The form of these catalysts is not particularly limited either, and they may be used in the form of an aqueous solution or in the form of a solid.
Further, the reaction between the diglycidyl ether (a1) of the aliphatic dihydroxy compound and the aromatic hydroxy compound (a2) can be carried out in the absence of a solvent or in the presence of an organic solvent. Examples of organic solvents that can be used include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, dimethyl sulfoxide, propyl alcohol, butyl alcohol, and the like. The amount of organic solvent used is usually 50 to 300% by weight, preferably 100 to 250% by weight based on the total weight of the raw materials charged. These organic solvents can be used alone or in combination. In order to carry out the reaction quickly, it is preferable to use no solvent, and on the other hand, it is preferable to use dimethyl sulfoxide in terms of reducing impurities in the final product.

前記反応を行う場合の反応温度としては、通常50~180℃、反応時間は通常1~10時間である。最終生成物の不純物を低減できる点からは反応温度は100~160℃が好ましい。また、得られる化合物の着色が大きい場合は、それを抑制するために、酸化防止剤や還元剤を添加しても良い。酸化防止剤としては特に限定されないが、例えば2,6-ジアルキルフェノール誘導体などのヒンダードフェノール系化合物や2価のイオウ系化合物や3価のリン原子を含む亜リン酸エステル系化合物などを挙げることができる。還元剤としては特に限定されないが、例えば次亜リン酸、亜リン酸、チオ硫酸、亜硫酸、ハイドロサルファイトまたはこれら塩などが挙げられる。 The reaction temperature when carrying out the above reaction is usually 50 to 180°C, and the reaction time is usually 1 to 10 hours. From the viewpoint of reducing impurities in the final product, the reaction temperature is preferably 100 to 160°C. Furthermore, if the resulting compound is highly colored, an antioxidant or a reducing agent may be added to suppress it. Antioxidants are not particularly limited, but examples include hindered phenol compounds such as 2,6-dialkylphenol derivatives, divalent sulfur compounds, and phosphite compounds containing trivalent phosphorus atoms. I can do it. The reducing agent is not particularly limited, but includes, for example, hypophosphorous acid, phosphorous acid, thiosulfuric acid, sulfite, hydrosulfite, or salts thereof.

前記反応の終了後、反応混合物のpH値が3~7、好ましくは5~7になるまで中和あるいは水洗処理を行うこともできる。中和処理や水洗処理は常法にしたがって行えばよい。例えば塩基性触媒を用いた場合は塩酸、第一リン酸水素ナトリウム、p-トルエンスルホン酸、シュウ酸等の酸性物質を中和剤として用いることができる。中和あるいは水洗処理を行った後、必要時には減圧加熱下で溶剤を留去し生成物の濃縮を行い、化合物を得ることが出来る。 After the completion of the reaction, neutralization or washing with water may be carried out until the pH value of the reaction mixture becomes 3 to 7, preferably 5 to 7. Neutralization treatment and water washing treatment may be carried out according to conventional methods. For example, when a basic catalyst is used, an acidic substance such as hydrochloric acid, monobasic sodium hydrogen phosphate, p-toluenesulfonic acid, or oxalic acid can be used as a neutralizing agent. After neutralization or washing with water, if necessary, the solvent is distilled off under reduced pressure and heating to concentrate the product to obtain a compound.

エポキシ化合物Cの好ましい構造としては、以下の構造が挙げられる。 Preferred structures of epoxy compound C include the following structures.

Figure 0007375347000031
Figure 0007375347000031

<ヒドロキシ化合物B>
脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)と芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)とを反応させて得られるエポキシ化合物Cを得、これに更に芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)と反応させて得られるヒドロキシ化合物Bを更にエピハロヒドリン類(a4)と反応させてエポキシ化合物Aを得る場合、ヒドロキシ化合物Bとしては、前記エポキシ化合物Cと芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)とを、芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)のフェノール性水酸基1モルに対して、(a3)を1.01~3.0モルの範囲で反応させることで得ることができる。
<Hydroxy compound B>
Epoxy compound C obtained by reacting the diglycidyl ether (a1) of an aliphatic dihydroxy compound with an aromatic hydroxy compound (a2) is obtained, and this is further reacted with an aromatic hydroxy compound (a3) to obtain an epoxy compound C. When the hydroxy compound B is further reacted with an epihalohydrin (a4) to obtain the epoxy compound A, the epoxy compound B is prepared by combining the epoxy compound C and the aromatic hydroxy compound (a3) with an aromatic hydroxy compound ( It can be obtained by reacting 1.01 to 3.0 moles of (a3) with respect to 1 mole of the phenolic hydroxyl group of a2).

ヒドロキシ化合物B中には未反応の芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)が含まれるが、本発明ではそのまま用いてもよく、また、芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)を取り除いて用いても良い。 Although the hydroxy compound B contains an unreacted aromatic hydroxy compound (a3), it may be used as is in the present invention, or may be used after removing the aromatic hydroxy compound (a3).

未反応の前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)の除去方法としては種々の方法に準じて行うことができる。例えば、極性の違いを利用するカラムクロマトグラフィー分離法、沸点の違いを利用する蒸留分留法、アルカリ水への溶解度の違いを利用するアルカリ水溶抽出法などが挙げられる。なかでも、熱変質を伴わないため、アルカリ水溶抽出法が効率などの点で好ましく、この時目的物を溶解させるために使用する有機溶媒はトルエンやメチルイソブチルケトンなど水と混合しないものなら使用可能であるが、目的物との溶解性の観点からメチルイソブチルケトンが好ましい。得られるヒドロキシ化合物B中の未反応の前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)の存在率は質量%で0.1~60であることが硬化物の強靱性と柔軟性とのバランスが良好となる点から好ましい。 The unreacted aromatic hydroxy compound (a3) can be removed according to various methods. Examples include a column chromatography separation method that utilizes differences in polarity, a distillation fractionation method that utilizes differences in boiling point, and an aqueous alkaline extraction method that utilizes differences in solubility in alkaline water. Among these, the aqueous alkaline extraction method is preferred in terms of efficiency because it does not involve thermal alteration, and the organic solvent used to dissolve the target product at this time can be any organic solvent that does not mix with water, such as toluene or methyl isobutyl ketone. However, from the viewpoint of solubility with the target substance, methyl isobutyl ketone is preferred. The abundance ratio of the unreacted aromatic hydroxy compound (a3) in the obtained hydroxy compound B is 0.1 to 60% by mass, so that the cured product has a good balance between toughness and flexibility. Preferable from this point of view.

前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)としては、特に限定されるものではなく、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール等のジヒドロキシベンゼン類、ピロガロール、1,2,4-トリヒドロキシベンゼン、1,3,5-トリヒドロキシベンゼン等のトリヒドロキシベンゼン類、4,4‘,4“-トリヒドロキシトリフェニルメタン等のトリフェニルメタン型フェノール類、1,6-ジヒドロキシナフタレン、2,7-ジヒドロキシナフタレン、1,4-ジヒドロキシナフタレン、1,5-ジヒドロキシナフタレン、2,3-ジヒドロキシナフタレン、及び2,6-ジヒドロキシナフタレン等のジヒドロキシナフタレン類、ジヒドロキシナフタレン類をカップリング反応させた、1,1‘-メチレンビスー(2,7-ナフタレンジオール)、1,1’-ビナフタレン-2,2‘,7,7’-テトラオール、1,1‘-オキシビスー(2,7-ナフタレンジオール)等の4官能フェノール類、ビス(4-ヒドロキシフェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、及び1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-1-フェニルエタン、及びビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン等のビスフェノール類、2,2’―ビフェノール、4,4‘-ビフェノール、(1,1’-ビフェニル)-3,4-ジオール、3,3’-ジメチル-(1,1‘-ビフェニル)-4,4’-ジオール、3-メチル-(1,1‘-ビフェニル)-4,4’-ジオール、3,3’、5,5’-テトラメチルビフェニル-2,2’-ジオール、3,3’、5,5’-テトラメチルビフェニル-4,4’-ジオール、5-メチル-(1,1‘-ビフェニル)-3,4’ジオール、3‘-メチル-(1,1‘-ビフェニル)-3,4’ジオール、4’-メチル-(1,1‘-ビフェニル)-3,4’ジオール等のビフェノール類、フェノールとジシクロペンタジエンとの重付加物、及びフェノールとテルペン系化合物との重付加物等の脂環式構造含有フェノール類、ビス(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)メタン、及びビス(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)プロパン等のナフトール類、フェノールとフェニレンジメチルクロライド又はビフェニレンジメチルクロライドとの縮合反応生成物である所謂ザイロック型フェノール樹脂が挙げられ、単独でも、2種以上を併用して用いても良い。更に、上記の各化合物の芳香核に置換基としてメチル基、t-ブチル基、又はハロゲン原子が置換した構造の2官能性フェノール化合物も挙げられる。尚、前記脂環式構造含有フェノール類や、前記ザイロック型フェノール樹脂は、2官能成分のみならず、3官能性以上の成分も同時に存在し得るが、本発明ではそのまま用いてもよく、又、カラム等の精製工程を経て、2官能成分のみを取り出して用いても良い。 The aromatic hydroxy compound (a3) is not particularly limited, and includes, for example, hydroquinone, resorcinol, dihydroxybenzenes such as catechol, pyrogallol, 1,2,4-trihydroxybenzene, 1,3,5 - Trihydroxybenzenes such as trihydroxybenzene, triphenylmethane type phenols such as 4,4',4"-trihydroxytriphenylmethane, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 1,4 1,1'-methylene bis(2, 7-naphthalene diol), 1,1'-binaphthalene-2,2',7,7'-tetraol, 1,1'-oxybis(2,7-naphthalene diol), -hydroxyphenyl)methane, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, 2,2-bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)propane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane, and Bisphenols such as 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)-1-phenylethane and bis(4-hydroxyphenyl)sulfone, 2,2'-biphenol, 4,4'-biphenol, (1,1' -biphenyl)-3,4-diol, 3,3'-dimethyl-(1,1'-biphenyl)-4,4'-diol, 3-methyl-(1,1'-biphenyl)-4,4' -diol, 3,3',5,5'-tetramethylbiphenyl-2,2'-diol, 3,3',5,5'-tetramethylbiphenyl-4,4'-diol, 5-methyl-( 1,1'-biphenyl)-3,4'diol, 3'-methyl-(1,1'-biphenyl)-3,4'diol, 4'-methyl-(1,1'-biphenyl)-3, Biphenols such as 4' diol, phenols containing alicyclic structures such as polyadducts of phenol and dicyclopentadiene, and polyadducts of phenol and terpene compounds, bis(2-hydroxy-1-naphthyl) Examples include methane, naphthols such as bis(2-hydroxy-1-naphthyl)propane, and so-called Zylock-type phenolic resins, which are condensation reaction products of phenol and phenylene dimethyl chloride or biphenylene dimethyl chloride. The above may be used in combination. Furthermore, bifunctional phenol compounds having a structure in which the aromatic nucleus of each of the above compounds is substituted with a methyl group, t-butyl group, or a halogen atom as a substituent may also be mentioned. In addition, in the alicyclic structure-containing phenols and the Zylock type phenol resin, not only bifunctional components but also trifunctional or higher functional components may be present at the same time, but they may be used as they are in the present invention, and Only the bifunctional components may be extracted and used after a purification process using a column or the like.

これらの中でも、硬化物にした際の柔軟性と強靭性のバランスに優れる点からビスフェノール類が好ましく、特に靱性付与の性能が顕著である点からビス(4-ヒドロキシフェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンが好ましい。又、硬化物の硬化性や耐熱性を重視する場合には、ジヒドロキシナフタレン類が好ましく,特に速硬化性の付与が顕著である点から2,7-ジヒドロキシナフタレンが好ましい。又、硬化物の耐湿性を重視する場合には、脂環式構造を含有するフェノール類を用いることが好ましい。 Among these, bisphenols are preferable because they have an excellent balance between flexibility and toughness when made into a cured product, and bis(4-hydroxyphenyl)methane, 2,2- Bis(4-hydroxyphenyl)propane is preferred. In addition, when curability and heat resistance of the cured product are important, dihydroxynaphthalenes are preferable, and 2,7-dihydroxynaphthalene is particularly preferable since it imparts remarkable fast curing properties. Furthermore, when moisture resistance of the cured product is important, it is preferable to use phenols containing an alicyclic structure.

前記エポキシ化合物Cと前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)との反応比率は、得られる化合物をエポキシ樹脂の硬化剤として用いるために、芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)のフェノール性水酸基1モルに対して、(a3)を1.01~3.0モルの範囲で反応させることを必須とし、得られる硬化物の柔軟性と耐熱性をバランスよく兼備する点から、芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)のフェノール性水酸基1モルに対して、(a3)を1.1~2.0モルであることが好ましい。 In order to use the obtained compound as a curing agent for epoxy resin, the reaction ratio of the epoxy compound C and the aromatic hydroxy compound (a3) is set to 1 mole of phenolic hydroxyl group of the aromatic hydroxy compound (a2). Therefore, it is essential to react with (a3) in a range of 1.01 to 3.0 mol, and from the viewpoint of achieving a well-balanced combination of flexibility and heat resistance of the resulting cured product, aromatic hydroxy compound (a2) It is preferable that (a3) be used in an amount of 1.1 to 2.0 mol per 1 mol of phenolic hydroxyl groups.

前記エポキシ化合物Cと前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)との反応は、触媒の存在下で行うことが好ましい。前記触媒としては、種々のものが使用でき、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム等のアルカリ(土類)金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、トリフェニルホスフィン等のリン系化合物、DMP-30、DMAP、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリブチルアンモニウム等のクロライド、ブロマイド、ヨーダイド、テトラメチルホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、ベンジルトリブチルホスホニウム等のクロライド、ブロマイド、ヨーダイド等の4級アンモニウム塩、トリエチルアミン、N,N-ジメチルベンジルアミン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の3級アミン類、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール等のイミダゾール類等が挙げられる。これらは2種以上の触媒を併用しても構わない。なかでも反応が速やかに進行すること、および不純物量の低減効果が高い点から水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリフェニルホスフィン、DMP-30が好ましい。これら触媒の使用量は特に限定されるものではないが、前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)のフェノール性水酸基1モルに対し0.0001~0.01モル用いるのが好ましい。これら触媒の形態も特に限定されず、水溶液の形態で使用してもよいし、固形の形態で使用しても構わない。 The reaction between the epoxy compound C and the aromatic hydroxy compound (a3) is preferably carried out in the presence of a catalyst. Various catalysts can be used as the catalyst, including alkali (earth) metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and calcium hydroxide; alkali metals such as sodium carbonate and potassium carbonate; Carbonates, phosphorus compounds such as triphenylphosphine, DMP-30, DMAP, chlorides such as tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrabutylammonium, benzyltributylammonium, bromide, iodide, tetramethylphosphonium, tetraethylphosphonium, tetrabutylphosphonium , chlorides such as benzyltributylphosphonium, quaternary ammonium salts such as bromide and iodide, triethylamine, N,N-dimethylbenzylamine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene, 1,4-diazabicyclo[2. 2.2] Tertiary amines such as octane, imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 2-phenylimidazole, and the like. Two or more types of these catalysts may be used in combination. Among these, sodium hydroxide, potassium hydroxide, triphenylphosphine, and DMP-30 are preferred because the reaction proceeds quickly and they are highly effective in reducing the amount of impurities. The amount of these catalysts used is not particularly limited, but it is preferably used in an amount of 0.0001 to 0.01 mol per 1 mol of the phenolic hydroxyl group of the aromatic hydroxy compound (a3). The form of these catalysts is not particularly limited either, and they may be used in the form of an aqueous solution or in the form of a solid.

また、前記エポキシ化合物Cと前記芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)との反応は、無溶剤下で、あるいは有機溶剤の存在下で行うことができる。用いうる有機溶剤としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、ジメチルスルホキシド、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどが挙げられる。有機溶剤の使用量としては、仕込んだ原料の総質量に対して通常50~300質量%、好ましくは100~250質量%である。これらの有機溶剤は単独で、あるいは数種類を混合して用いることが出来る。反応を速やかに行うためには無溶媒が好ましく、一方、最終生成物の不純物を低減できる点からはジメチルスルホキシドの使用が好ましい。 Further, the reaction between the epoxy compound C and the aromatic hydroxy compound (a3) can be carried out without a solvent or in the presence of an organic solvent. Examples of organic solvents that can be used include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, dimethyl sulfoxide, propyl alcohol, butyl alcohol, and the like. The amount of organic solvent used is usually 50 to 300% by weight, preferably 100 to 250% by weight based on the total weight of the raw materials charged. These organic solvents can be used alone or in combination. In order to carry out the reaction quickly, it is preferable to use no solvent, and on the other hand, it is preferable to use dimethyl sulfoxide in terms of reducing impurities in the final product.

前記反応を行う場合の反応温度としては、通常50~180℃、反応時間は通常1~10時間である。最終生成物の不純物を低減できる点からは反応温度は100~160℃が好ましい。また、得られる化合物の着色が大きい場合は、それを抑制するために、酸化防止剤や還元剤を添加しても良い。酸化防止剤としては特に限定されないが、例えば2,6-ジアルキルフェノール誘導体などのヒンダードフェノール系化合物や2価のイオウ系化合物や3価のリン原子を含む亜リン酸エステル系化合物などを挙げることができる。還元剤としては特に限定されないが、例えば次亜リン酸、亜リン酸、チオ硫酸、亜硫酸、ハイドロサルファイトまたはこれら塩などが挙げられる。 The reaction temperature when carrying out the above reaction is usually 50 to 180°C, and the reaction time is usually 1 to 10 hours. From the viewpoint of reducing impurities in the final product, the reaction temperature is preferably 100 to 160°C. Furthermore, if the resulting compound is highly colored, an antioxidant or a reducing agent may be added to suppress it. Antioxidants are not particularly limited, but examples include hindered phenol compounds such as 2,6-dialkylphenol derivatives, divalent sulfur compounds, and phosphite compounds containing trivalent phosphorus atoms. I can do it. The reducing agent is not particularly limited, but includes, for example, hypophosphorous acid, phosphorous acid, thiosulfuric acid, sulfite, hydrosulfite, or salts thereof.

前記反応の終了後、反応混合物のpH値が3~7、好ましくは5~7になるまで中和あるいは水洗処理を行うこともできる。中和処理や水洗処理は常法にしたがって行えばよい。例えば塩基性触媒を用いた場合は塩酸、第一リン酸水素ナトリウム、p-トルエンスルホン酸、シュウ酸等の酸性物質を中和剤として用いることができる。中和あるいは水洗処理を行った後、必要時には減圧加熱下で溶剤を留去し生成物の濃縮を行い、化合物を得ることが出来る。 After the completion of the reaction, neutralization or washing with water may be carried out until the pH value of the reaction mixture becomes 3 to 7, preferably 5 to 7. Neutralization treatment and water washing treatment may be carried out according to conventional methods. For example, when a basic catalyst is used, an acidic substance such as hydrochloric acid, monobasic sodium hydrogen phosphate, p-toluenesulfonic acid, or oxalic acid can be used as a neutralizing agent. After neutralization or washing with water, if necessary, the solvent is distilled off under reduced pressure and heating to concentrate the product to obtain a compound.

ヒドロキシ化合物Bの好ましい構造としては、以下の構造が挙げられる。 Preferred structures of hydroxy compound B include the following structures.

<グリシジルエーテル化反応>
本発明のエポキシ化合物Aの製造方法において、ヒドロキシ化合物Bのグリシジルエーテル化反応の手法については特に限定は無く、フェノール性水酸基とエピハロヒドリン類とを反応させる方法や、フェノール性水酸基をオレフィン化し、オレフィンの炭素―炭素二重結合を酸化剤で酸化する方法等が挙げられる。これらの中でも、エピハロヒドリン類を用いた方法を用いることが、原料入手や反応が容易である点から好ましい。
<Glycidyl etherification reaction>
In the method for producing epoxy compound A of the present invention, there are no particular limitations on the method of the glycidyl etherification reaction of hydroxy compound B. Examples include a method of oxidizing a carbon-carbon double bond with an oxidizing agent. Among these, it is preferable to use a method using epihalohydrins because it is easy to obtain raw materials and the reaction is easy.

エピハロヒドリン類(a4)を用いる方法にとしては、例えば、前記で得られたヒドロキシ化合物Bのフェノール性水酸基1モルに対し、エピハロヒドリン類(a4)0.3~20モルを添加し、この混合物に、該ヒドロキシ化合物Bのフェノール性水酸基1モルに対し0.9~2.0モルの塩基性触媒を一括添加または徐々に添加しながら20~120℃の温度で0.5~10時間反応させる方法が挙げられる。このエピハロヒドリン類(a4)の添加量は、エピハロヒドリン類(a4)の過剰量が多くなる程、得られるエポキシ化合物は理論構造に近いものとなり、未反応フェノール性水酸基とエポキシ基との反応で生じる2級水酸基の生成を抑制することができる。かかる観点から中でも2.5~20当量の範囲であることが好ましい。この塩基性触媒は固形でもその水溶液を使用してもよく、水溶液を使用する場合は、連続的に添加すると共に、反応混合物中から減圧下、または常圧下、連続的に水及びエピハロヒドリン類(a4)を留出させ、更に分液して水は除去しエピハロヒドリン類(a4)は反応混合物中に連続的に戻す方法でもよい。 As a method using epihalohydrin (a4), for example, 0.3 to 20 mol of epihalohydrin (a4) is added to 1 mol of phenolic hydroxyl group of hydroxy compound B obtained above, and to this mixture, A method of reacting at a temperature of 20 to 120° C. for 0.5 to 10 hours while adding 0.9 to 2.0 mol of a basic catalyst all at once or gradually to 1 mol of the phenolic hydroxyl group of the hydroxy compound B is a method. Can be mentioned. The amount of epihalohydrin (a4) to be added is such that the larger the excess amount of epihalohydrin (a4), the closer the resulting epoxy compound will be to the theoretical structure, and the more The production of hydroxyl groups can be suppressed. From this point of view, the range of 2.5 to 20 equivalents is particularly preferable. This basic catalyst may be used as a solid or as an aqueous solution. When an aqueous solution is used, it is added continuously, and water and epihalohydrins (a4 ) may be distilled off, water may be removed by further liquid separation, and the epihalohydrin (a4) may be continuously returned to the reaction mixture.

なお、工業生産を行う際は、エポキシ化合物生産の初バッチでは仕込みエピハロヒドリン類(a4)の全てを新しいものを使用するが、次バッチ以降は、粗反応生成物から回収されたエピハロヒドリン類(a4)と、反応で消費される分及で消失する分に相当する新しいエピハロヒドリン類(a4)とを併用することが好ましい。この時、使用するエピハロヒドリン類(a4)は特に限定されないが、例えばエピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン等が挙げられる。なかでも入手が容易なことからエピクロルヒドリンが好ましい。 In addition, when performing industrial production, all of the charged epihalohydrins (a4) are used new in the first batch of epoxy compound production, but from the next batch onward, epihalohydrins (a4) recovered from the crude reaction product are used. It is preferable to use a new epihalohydrin (a4) in an amount corresponding to the amount consumed in the reaction and the amount that disappears due to the amount consumed in the reaction. At this time, the epihalohydrin (a4) used is not particularly limited, and examples include epichlorohydrin and epibromohydrin. Among them, epichlorohydrin is preferred because it is easily available.

また、塩基性触媒も特に限定されないが、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属水酸化物等が挙げられる。特にエポキシ樹脂合成反応の触媒活性に優れる点からアルカリ金属水酸化物が好ましく、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、等が挙げられる。使用に際しては、これらのアルカリ金属水酸化物を10~55質量%程度の水溶液の形態で使用してもよいし、固形の形態で使用しても構わない。 Further, the basic catalyst is not particularly limited, but examples include alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates, and alkali metal hydroxides. In particular, alkali metal hydroxides are preferred from the viewpoint of excellent catalytic activity for epoxy resin synthesis reactions, such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like. When used, these alkali metal hydroxides may be used in the form of an aqueous solution of about 10 to 55% by mass, or in the form of a solid.

また、有機溶媒を併用することにより、エポキシ化合物の合成における反応速度を高めることができる。このような有機溶媒としては特に限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、1-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1-ブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、ジエトキシエタン等のエーテル類、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらの有機溶媒は、それぞれ単独で使用してもよいし、また、極性を調整するために適宜二種以上を併用してもよい。 Further, by using an organic solvent in combination, the reaction rate in the synthesis of the epoxy compound can be increased. Such organic solvents are not particularly limited, but include, for example, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol, 1-butanol, secondary butanol, and tertiary butanol, and methyl Examples include cellosolves such as cellosolve and ethyl cellosolve, ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane and diethoxyethane, and aprotic polar solvents such as acetonitrile, dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more to adjust polarity.

これらのグリシジル化反応の反応物を水洗後、加熱減圧下、蒸留によって未反応のエピハロヒドリン類(a4)や併用する有機溶媒を留去する。また更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ化合物とするために、得られたエポキシ化合物を再びトルエン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどの有機溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えてさらに反応を行うこともできる。この際、反応速度の向上を目的として、4級アンモニウム塩やクラウンエーテル等の相間移動触媒を存在させてもよい。
相間移動触媒を使用する場合のその使用量としては、用いるエポキシ樹脂に対して0.1~3.0質量%の範囲が好ましい。反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に、加熱減圧下トルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤を留去することにより高純度のエポキシ化合物を得ることができる。
After washing the reaction products of the glycidylation reaction with water, unreacted epihalohydrins (a4) and the organic solvent used in combination are distilled off by distillation under heating and reduced pressure. Furthermore, in order to obtain an epoxy compound with even less hydrolyzable halogen, the obtained epoxy compound is dissolved again in an organic solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, or methyl ethyl ketone, and an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added. Further reaction can be carried out by adding an aqueous solution of the substance. At this time, a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt or crown ether may be present for the purpose of improving the reaction rate.
When a phase transfer catalyst is used, the amount used is preferably in the range of 0.1 to 3.0% by mass based on the epoxy resin used. After the reaction is completed, a highly purified epoxy compound can be obtained by removing the generated salt by filtration, washing with water, etc., and then distilling off a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone under heating and reduced pressure.

<組成物>
本発明の組成物は、本発明のエポキシ化合物Aを含有するものである。
<Composition>
The composition of the present invention contains the epoxy compound A of the present invention.

組成物としては、エポキシ化合物A以外を含んでいても良い。例えば、エポキシ化合物と反応可能な硬化剤を含有することは好ましい。 The composition may contain substances other than epoxy compound A. For example, it is preferable to contain a curing agent that can react with an epoxy compound.

硬化剤としては、エポキシ化合物と反応可能なものであれば特に限定は無いが、例えば
アミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノ-ル系化合物、カルボン酸系化合物や、前述のヒドロキシ化合物Bなどが挙げられる。
The curing agent is not particularly limited as long as it can react with the epoxy compound, but examples include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenol compounds, carboxylic acid compounds, and the above-mentioned curing agents. Examples include hydroxy compound B.

例えばアミン系化合物としては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ポリプロピレングリコールジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ペンタエチレンヘキサミンなどの脂肪族ポリアミン類や、メタキシリレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、フェニレンジアミンなどの芳香族ポリアミン類や、1、3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、イソホロンジアミン、ノルボルナンジアミンなどの脂環族ポリアミン類等や、ジシアンジアミドが挙げられる。 For example, amine compounds include aliphatic polyamines such as ethylenediamine, propylene diamine, butylene diamine, hexamethylene diamine, polypropylene glycol diamine, diethylene triamine, triethylene tetramine, and pentaethylene hexamine, metaxylylene diamine, diaminodiphenylmethane, and phenylene diamine. Examples include aromatic polyamines such as 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, alicyclic polyamines such as isophoronediamine, norbornanediamine, and dicyandiamide.

酸無水物系化合物としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、無水マレイン酸ポリプロピレングリコール、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸などが挙げられる。 Examples of acid anhydride compounds include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, polypropylene glycol maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, and hexahydroanhydride. Examples include phthalic acid and methylhexahydrophthalic anhydride.

フェノール系化合物としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール-フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール-クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂やこれらの変性物等が挙げられる。また潜在性触媒として、イミダゾ-ル、BF3-アミン錯体、グアニジン誘導体なども挙げられる。 Phenolic compounds include phenol novolak resin, cresol novolak resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin, dicyclopentadiene phenol addition type resin, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, trimethylolmethane resin, tetraphenylolethane resin. , naphthol novolak resin, naphthol-phenol co-condensed novolak resin, naphthol-cresol co-condensed novolak resin, biphenyl-modified phenol resin, aminotriazine-modified phenol resin, and modified products thereof. Further, examples of latent catalysts include imidazole, BF3-amine complexes, guanidine derivatives, and the like.

アミド系化合物としては、例えばポリカルボン酸とポリアミンより合成される脂肪族ポリアミド、またはこれに芳香族環を導入した芳香族ポリアミド、ポリアミドにエポキシ化合物を付加してなる脂肪族ポリアミドアダクト、芳香族ポリアミドアダクト等が挙げられる。 Examples of amide compounds include aliphatic polyamide synthesized from polycarboxylic acid and polyamine, aromatic polyamide with an aromatic ring introduced therein, aliphatic polyamide adduct obtained by adding an epoxy compound to polyamide, and aromatic polyamide. Examples include adduct.

カルボン酸系化合物としては、カルボン酸末端ポリエステル、ポリアクリル酸、マレイン酸変性ポリプロピレングリコール等のカルボン酸ポリマー等が挙げられる。 Examples of the carboxylic acid compound include carboxylic acid polymers such as carboxylic acid-terminated polyester, polyacrylic acid, and maleic acid-modified polypropylene glycol.

これらの硬化剤を用いる場合、硬化剤は1種類のみで用いてもよく、2種以上を混合してもよい。尚、アンダーフィル材等の用途や一般塗料用途においては、前記アミン系化合物、カルボン酸系化合物、及びまたは酸無水物系化合物を用いることが好ましい。また、接着剤やフレキシブル配線基板用途においてはアミン系化合物、特にジシアンジアミドが作業性、硬化性、長期安定性の点から好ましい。また、半導体封止材料用途においては硬化物の耐熱性の点から固形タイプのフェノール系化合物が好ましい。 When using these curing agents, only one type of curing agent may be used, or two or more types may be mixed. In addition, in applications such as underfill materials and general paint applications, it is preferable to use the above-mentioned amine compounds, carboxylic acid compounds, and/or acid anhydride compounds. Furthermore, in applications such as adhesives and flexible wiring boards, amine compounds, particularly dicyandiamide, are preferred from the viewpoint of workability, curability, and long-term stability. Furthermore, in applications for semiconductor encapsulation materials, solid type phenolic compounds are preferred from the viewpoint of heat resistance of the cured product.

<その他のエポキシ化合物>
本発明の組成物は、前記エポキシ化合物A以外に、本発明の効果を損なわない範囲において、その他のエポキシ化合物を併用しても良い。このとき、本発明の組成物中におけるエポキシ化合物Aの使用割合としては、全エポキシ化合物中30質量%以上であることが好ましく、特に40質量%以上であることが好ましい。
<Other epoxy compounds>
In addition to the epoxy compound A, the composition of the present invention may contain other epoxy compounds as long as the effects of the present invention are not impaired. At this time, the proportion of epoxy compound A used in the composition of the present invention is preferably 30% by mass or more, particularly preferably 40% by mass or more based on the total epoxy compounds.

併用できるエポキシ化合物としては、なんら制限されるものではなく、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂等の液状エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂等の臭素化エポキシ樹脂、固形ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン-フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、フェニレンエーテル型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール-フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール-クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられ、単独でも、2種以上を併用してもよく、目的とする用途や硬化物の物性等に応じて種々選択して用いることが好ましい。 Epoxy compounds that can be used in combination are not limited in any way, and include, for example, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, bisphenol AD epoxy resin, resorcinol epoxy resin, and hydroquinone epoxy resin. , liquid epoxy resins such as catechol type epoxy resins, dihydroxynaphthalene type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, and tetramethylbiphenyl type epoxy resins, brominated epoxy resins such as brominated phenol novolak type epoxy resins, solid bisphenol A type epoxy resins, Phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, phenylene ether type epoxy resin, naphthi Renether type epoxy resin, naphthol novolac type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol-phenol cocondensed novolac type epoxy resin, naphthol-cresol cocondensed novolac type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenolic resin type epoxy resin , biphenyl-modified novolac type epoxy resins, etc., and they may be used alone or in combination of two or more types, and it is preferable to use various selections depending on the intended use, physical properties of the cured product, etc.

本発明の組成物中におけるエポキシ化合物と硬化剤の配合量としては、特に制限されるものではないが、得られる硬化物の機械的物性等が良好である点から、エポキシ化合物Aを含むエポキシ化合物全量中のエポキシ基の合計1当量に対して、硬化剤中の活性基が0.7~1.5当量になる量が好ましい The amounts of the epoxy compound and curing agent in the composition of the present invention are not particularly limited, but from the viewpoint of good mechanical properties of the resulting cured product, an epoxy compound containing epoxy compound A may be used. The amount of active groups in the curing agent is preferably 0.7 to 1.5 equivalents relative to the total 1 equivalent of epoxy groups in the total amount.

<硬化促進剤>
例えば、本発明の組成物は硬化促進剤を含有しても構わない。前記硬化促進剤としては種々のものが使用できるが、例えば、ウレア化合物、リン系化合物、第3級アミン、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。接着剤用途として使用する場合には、作業性、低温硬化性に優れる点から、ウレア化合物、特に3-(3,4-ジクロロフェニル)-1,1-ジメチルウレア(DCMU)が好ましい。半導体封止材料用途として使用する場合には、硬化性、耐熱性、電気特性、耐湿信頼性等に優れる点から、リン系化合物ではトリフェニルホスフィン、第3級アミンでは1,8-ジアザビシクロ-[5.4.0]-ウンデセンが好ましい。
<Curing accelerator>
For example, the composition of the present invention may contain a curing accelerator. Various types of curing accelerator can be used, and examples thereof include urea compounds, phosphorus compounds, tertiary amines, imidazole, organic acid metal salts, Lewis acids, and amine complex salts. When used as an adhesive, urea compounds, particularly 3-(3,4-dichlorophenyl)-1,1-dimethylurea (DCMU), are preferred because of their excellent workability and low-temperature curability. When used as a semiconductor encapsulation material, triphenylphosphine is used as a phosphorus compound, and 1,8-diazabicyclo-[ 5.4.0]-undecene is preferred.

<フィラー>
本発明の組成物は、更にフィラーを含有してもよい。フィラーとしては、無機フィラーと有機フィラーが挙げられる。無機フィラーとしては、例えば無機微粒子が挙げられる。
<Filler>
The composition of the present invention may further contain a filler. Examples of fillers include inorganic fillers and organic fillers. Examples of the inorganic filler include inorganic fine particles.

無機微粒子としては、例えば、耐熱性に優れるものとしては、アルミナ、マグネシア、チタニア、ジルコニア、シリカ(石英、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、無水ケイ酸、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ等)等;熱伝導に優れるものとしては、窒化ホウ素、窒化アルミ、酸化アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ケイ素、ダイヤモンド等;導電性に優れるものとしては、金属単体又は合金(例えば、鉄、銅、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、白金、亜鉛、マンガン、ステンレスなど)を用いた金属フィラー及び/又は金属被覆フィラー、;バリア性に優れるものとしては、マイカ、クレイ、カオリン、タルク、ゼオライト、ウォラストナイト、スメクタイト等の鉱物等やチタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、セピオライト、ゾノライト、ホウ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛、水酸化マグネシウム;屈折率が高いものとしては、チタン酸バリウム、酸化ジルコニア、酸化チタン等;光触媒性を示すものとしては、チタン、セリウム、亜鉛、銅、アルミニウム、錫、インジウム、リン、炭素、イオウ、テリウム、ニッケル、鉄、コバルト、銀、モリブデン、ストロンチウム、クロム、バリウム、鉛等の光触媒金属、前記金属の複合物、それらの酸化物等;耐摩耗性に優れるものとしては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化マグネシウム等の金属、及びそれらの複合物及び酸化物等;導電性に優れるものとしては、銀、銅などの金属、酸化錫、酸化インジウム等;絶縁性に優れるものとしては、シリカ等;紫外線遮蔽に優れるものとしては、酸化チタン、酸化亜鉛等である。
これらの無機微粒子は、用途によって適時選択すればよく、単独で使用しても、複数種組み合わせて使用してもかまわない。また、上記無機微粒子は、例に挙げた特性以外にも様々な特性を有することから、適時用途に合わせて選択すればよい。
Examples of inorganic fine particles with excellent heat resistance include alumina, magnesia, titania, zirconia, silica (quartz, fumed silica, precipitated silica, silicic anhydride, fused silica, crystalline silica, ultrafine amorphous powder) Examples of materials with excellent thermal conductivity include boron nitride, aluminum nitride, alumina oxide, titanium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, silicon oxide, diamond, etc.; materials with excellent conductivity include single metals or alloys ( For example, metal fillers and/or metal-coated fillers using iron, copper, magnesium, aluminum, gold, silver, platinum, zinc, manganese, stainless steel, etc.; Examples of materials with excellent barrier properties include mica, clay, kaolin, Minerals such as talc, zeolite, wollastonite, smectite, potassium titanate, magnesium sulfate, sepiolite, zonolite, aluminum borate, calcium carbonate, titanium oxide, barium sulfate, zinc oxide, magnesium hydroxide; materials with a high refractive index Examples include barium titanate, zirconia oxide, titanium oxide, etc.; those exhibiting photocatalytic properties include titanium, cerium, zinc, copper, aluminum, tin, indium, phosphorus, carbon, sulfur, terium, nickel, iron, cobalt, Photocatalytic metals such as silver, molybdenum, strontium, chromium, barium, and lead, composites of the above metals, and their oxides; those with excellent wear resistance include metals such as silica, alumina, zirconia, and magnesium oxide; Compounds and oxides of these materials; those with excellent conductivity include metals such as silver and copper, tin oxide, indium oxide, etc.; those with excellent insulation properties include silica; those with excellent ultraviolet shielding properties include: Titanium oxide, zinc oxide, etc.
These inorganic fine particles may be appropriately selected depending on the intended use, and may be used alone or in combination. Moreover, since the above-mentioned inorganic fine particles have various properties other than those listed in the examples, they may be selected depending on the application at the appropriate time.

例えば無機微粒子としてシリカを用いる場合、特に限定はなく粉末状のシリカやコロイダルシリカなど公知のシリカ微粒子を使用することができる。市販の粉末状のシリカ微粒子としては、例えば、日本アエロジル(株)製アエロジル50、200、旭硝子(株)製シルデックスH31、H32、H51、H52、H121、H122、日本シリカ工業(株)製E220A、E220、富士シリシア(株)製SYLYSIA470、日本板硝子(株)製SGフレ-ク等を挙げることができる。
また、市販のコロイダルシリカとしては、例えば、日産化学工業(株)製メタノ-ルシリカゾル、IPA-ST、MEK-ST、NBA-ST、XBA-ST、DMAC-ST、ST-UP、ST-OUP、ST-20、ST-40、ST-C、ST-N、ST-O、ST-50、ST-OL等を挙げることができる。
For example, when using silica as the inorganic fine particles, there is no particular limitation, and known fine silica particles such as powdered silica and colloidal silica can be used. Examples of commercially available powdered silica fine particles include Aerosil 50 and 200 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., Sildex H31, H32, H51, H52, H121, and H122 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., and E220A manufactured by Nippon Silica Kogyo Co., Ltd. , E220, SYLYSIA470 manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd., and SG flake manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd., and the like.
In addition, commercially available colloidal silica includes, for example, methanol silica sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., IPA-ST, MEK-ST, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, Examples include ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL, and the like.

表面修飾をしたシリカ微粒子を用いてもよく、例えば、前記シリカ微粒子を、疎水性基を有する反応性シランカップリング剤で表面処理したものや、(メタ)アクリロイル基を有する化合物で修飾したものがあげられる。(メタ)アクリロイル基を有する化合物で修飾した市販の粉末状のシリカとしては、日本アエロジル(株)製アエロジルRM50、R711等、(メタ)アクリロイル基を有する化合物で修飾した市販のコロイダルシリカとしては、日産化学工業(株)製MIBK-SD等が挙げられる。 Surface-modified silica fine particles may be used; for example, the silica fine particles may be surface-treated with a reactive silane coupling agent having a hydrophobic group, or modified with a compound having a (meth)acryloyl group. can give. Examples of commercially available powdered silica modified with a compound having a (meth)acryloyl group include Aerosil RM50 and R711 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.; commercially available colloidal silica modified with a compound having a (meth)acryloyl group include: Examples include MIBK-SD manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.

前記シリカ微粒子の形状は特に限定はなく、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、または不定形状のものを用いることができる。また一次粒子径は、5~200nmの範囲が好ましい。5nm未満であると、分散体中の無機微粒子の分散が不十分となり、200nmを超える径では、硬化物の十分な強度が保持できないおそれがある。 The shape of the silica fine particles is not particularly limited, and may be spherical, hollow, porous, rod-like, plate-like, fibrous, or irregularly shaped. Further, the primary particle diameter is preferably in the range of 5 to 200 nm. If the diameter is less than 5 nm, the inorganic fine particles in the dispersion will not be sufficiently dispersed, and if the diameter exceeds 200 nm, the cured product may not maintain sufficient strength.

酸化チタン微粒子としては、体質顔料のみならず紫外光応答型光触媒が使用でき、例えばアナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタンなどが使用できる。更に、酸化チタンの結晶構造中に異種元素をドーピングさせて可視光に応答させるように設計された粒子についても用いることができる。酸化チタンにドーピングさせる元素としては、窒素、硫黄、炭素、フッ素、リン等のアニオン元素や、クロム、鉄、コバルト、マンガン等のカチオン元素が好適に用いられる。また、形態としては、粉末、有機溶媒中もしくは水中に分散させたゾルもしくはスラリーを用いることができる。市販の粉末状の酸化チタン微粒子としては、例えば、日本アエロジル(株)製アエロジルP-25、テイカ(株)製ATM-100等を挙げることができる。また、市販のスラリー状の酸化チタン微粒子としては、例えば、テイカ(株)TKD-701等が挙げられる。 As the titanium oxide fine particles, not only extender pigments but also ultraviolet light-responsive photocatalysts can be used, such as anatase-type titanium oxide, rutile-type titanium oxide, brookite-type titanium oxide, and the like. Furthermore, particles designed to respond to visible light by doping a different element into the crystal structure of titanium oxide can also be used. As the element to be doped into titanium oxide, anion elements such as nitrogen, sulfur, carbon, fluorine, and phosphorus, and cation elements such as chromium, iron, cobalt, and manganese are suitably used. Moreover, as for the form, a powder, a sol or a slurry dispersed in an organic solvent or water can be used. Examples of commercially available powdered titanium oxide fine particles include Aerosil P-25 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. and ATM-100 manufactured by Teika Co., Ltd. Furthermore, examples of commercially available slurry-like titanium oxide fine particles include TKD-701 manufactured by Teika Corporation.

<繊維質基質>
本発明の組成物は、更に繊維質基質を含有してもよい。本発明の繊維質基質は、特に限定はないが、繊維強化樹脂に用いられるものが好ましく、無機繊維や有機繊維が挙げられる。
<Fibrous matrix>
The composition of the invention may further contain a fibrous matrix. The fibrous substrate of the present invention is not particularly limited, but those used for fiber-reinforced resins are preferred, and examples thereof include inorganic fibers and organic fibers.

無機繊維としては、カーボン繊維、ガラス繊維、ボロン繊維、アルミナ繊維、炭化ケイ素繊維等の無機繊維のほか、炭素繊維、活性炭繊維、黒鉛繊維、ガラス繊維、タングステンカーバイド繊維、シリコンカーバイド繊維(炭化ケイ素繊維)、セラミックス繊維、アルミナ繊維、天然繊維、玄武岩などの鉱物繊維、ボロン繊維、窒化ホウ素繊維、炭化ホウ素繊維、及び金属繊維等を挙げることができる。上記金属繊維としては、例えば、アルミニウム繊維、銅繊維、黄銅繊維、ステンレス繊維、スチール繊維を挙げることができる。 Inorganic fibers include inorganic fibers such as carbon fiber, glass fiber, boron fiber, alumina fiber, and silicon carbide fiber, as well as carbon fiber, activated carbon fiber, graphite fiber, glass fiber, tungsten carbide fiber, and silicon carbide fiber (silicon carbide fiber). ), ceramic fibers, alumina fibers, natural fibers, mineral fibers such as basalt, boron fibers, boron nitride fibers, boron carbide fibers, and metal fibers. Examples of the metal fibers include aluminum fibers, copper fibers, brass fibers, stainless steel fibers, and steel fibers.

有機繊維としては、ポリベンザゾール、アラミド、PBO(ポリパラフェニレンベンズオキサゾール)、ポリフェニレンスルフィド、ポリエステル、アクリル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、ポリアリレート等の樹脂材料からなる合成繊維や、セルロース、パルプ、綿、羊毛、絹といった天然繊維、タンパク質、ポリペプチド、アルギン酸等の再生繊維等を挙げる事ができる。 Organic fibers include synthetic fibers made of resin materials such as polybenzazole, aramid, PBO (polyparaphenylenebenzoxazole), polyphenylene sulfide, polyester, acrylic, polyamide, polyolefin, polyvinyl alcohol, polyarylate, cellulose, pulp, Examples include natural fibers such as cotton, wool, and silk, and regenerated fibers such as proteins, polypeptides, and alginic acid.

中でも、カーボン繊維とガラス繊維は、産業上利用範囲が広いため、好ましい。これらのうち、一種類のみ用いてもよく、複数種を同時に用いてもよい。 Among them, carbon fibers and glass fibers are preferred because they have a wide range of industrial applications. Among these, only one type may be used, or a plurality of types may be used simultaneously.

本発明の繊維質基質は、繊維の集合体であってもよく、繊維が連続していても、不連続状でもかまわず、織布状であっても、不織布状であってもかまわない。また、繊維を一方方向に整列した繊維束でもよく、繊維束を並べたシート状であってもよい。また、繊維の集合体に厚みを持たせた立体形状であってもかまわない。 The fibrous substrate of the present invention may be an aggregate of fibers, and the fibers may be continuous or discontinuous, and may be woven or nonwoven. Further, it may be a fiber bundle in which the fibers are aligned in one direction, or it may be in the form of a sheet in which the fiber bundles are arranged. Further, the fiber aggregate may have a three-dimensional shape with a thickness.

<分散媒>
本発明の組成物は、組成物の固形分量や粘度を調整する目的として、分散媒を使用してもよい。分散媒としては、本発明の効果を損ねることのない液状媒体であればよく、各種有機溶剤、液状有機ポリマー等が挙げられる。
<Dispersion medium>
A dispersion medium may be used in the composition of the present invention for the purpose of adjusting the solid content and viscosity of the composition. The dispersion medium may be any liquid medium that does not impair the effects of the present invention, and includes various organic solvents, liquid organic polymers, and the like.

前記有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等のケトン類、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキソラン等の環状エーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族類、カルビトール、セロソルブ、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール類が挙げられ、これらを単独又は併用して使用可能であるが、中でもメチルエチルケトンが塗工時の揮発性や溶媒回収の面から好ましい。 Examples of the organic solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), and methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclic ethers such as tetrahydrofuran (THF), and dioxolane, and esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate. , aromatics such as toluene and xylene, and alcohols such as carbitol, cellosolve, methanol, isopropanol, butanol, and propylene glycol monomethyl ether.These can be used alone or in combination, but among them, methyl ethyl ketone is It is preferable from the viewpoint of volatility during processing and solvent recovery.

前記液状有機ポリマーとは、硬化反応に直接寄与しない液状有機ポリマーであり、例えば、カルボキシル基含有ポリマー変性物(フローレンG-900、NC-500:共栄社)、アクリルポリマー(フローレンWK-20:共栄社)、特殊変性燐酸エステルのアミン塩(HIPLAAD ED-251:楠本化成)、変性アクリル系ブロック共重合物(DISPERBYK2000;ビックケミー)などが挙げられる。 The liquid organic polymer is a liquid organic polymer that does not directly contribute to the curing reaction, such as carboxyl group-containing polymer modified products (Floren G-900, NC-500: Kyoei-sha), acrylic polymers (Floren WK-20: Kyoei-sha). , a special modified phosphoric acid ester amine salt (HIPLAAD ED-251: Kusumoto Kasei), a modified acrylic block copolymer (DISPERBYK2000; BYK Chemie), and the like.

<樹脂>
また、本発明の組成物は、本発明の前述した各種化合物以外の樹脂を有していてもよい。樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲であれば公知慣用の樹脂を配合すればよく、例えば熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を用いることができる。
<Resin>
Furthermore, the composition of the present invention may contain resins other than the various compounds of the present invention mentioned above. As the resin, any known and commonly used resin may be blended as long as it does not impair the effects of the present invention, and for example, thermosetting resins and thermoplastic resins can be used.

熱硬化性樹脂とは、加熱または放射線や触媒などの手段によって硬化される際に実質的に不溶かつ不融性に変化し得る特性を持った樹脂である。その具体例としては、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂、ジアリルテレフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、ケトン樹脂、キシレン樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、活性エステル樹脂、アニリン樹脂、シアネートエステル樹脂、スチレン・無水マレイン酸(SMA)樹脂、マレイミド樹脂などが挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は1種または2種以上を併用して用いることができる。 A thermosetting resin is a resin that has the property of becoming substantially insoluble and infusible when cured by means such as heating, radiation, or a catalyst. Specific examples include phenolic resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, alkyd resin, unsaturated polyester resin, vinyl ester resin, diallyl terephthalate resin, silicone resin, urethane resin, furan resin, ketone resin, xylene resin, thermal Examples include curable polyimide resin, benzoxazine resin, active ester resin, aniline resin, cyanate ester resin, styrene-maleic anhydride (SMA) resin, and maleimide resin. These thermosetting resins can be used alone or in combination of two or more.

熱可塑性樹脂とは、加熱により溶融成形可能な樹脂を言う。その具体例としてはポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ゴム変性ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン(ABS)樹脂、アクリロニトリル-スチレン(AS)樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、酢酸セルロース樹脂、アイオノマー樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリ乳酸樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリケトン樹脂、液晶ポリエステル樹脂、フッ素樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂などが挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は1種または2種以上を併用して用いることができる。 Thermoplastic resin refers to resin that can be melt-molded by heating. Specific examples include polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, rubber-modified polystyrene resin, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, acrylonitrile-styrene (AS) resin, polymethyl methacrylate resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, Polyvinylidene chloride resin, polyethylene terephthalate resin, ethylene vinyl alcohol resin, cellulose acetate resin, ionomer resin, polyacrylonitrile resin, polyamide resin, polyacetal resin, polybutylene terephthalate resin, polylactic acid resin, polyphenylene ether resin, modified polyphenylene ether resin, polycarbonate Resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyetherimide resin, polyethersulfone resin, polyarylate resin, thermoplastic polyimide resin, polyamideimide resin, polyether ether ketone resin, polyketone resin, liquid crystal polyester resin, fluororesin, syndication Examples include tactic polystyrene resin and cyclic polyolefin resin. These thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more.

<その他の配合物>
本発明の組成物は、その他の配合物を有していてもかまわない。例えば、触媒、重合開始剤、無機顔料、有機顔料、体質顔料、粘土鉱物、ワックス、界面活性剤、安定剤、流動調整剤、カップリング剤、染料、レベリング剤、レオロジーコントロール剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、難燃剤、可塑剤、反応性希釈剤等が挙げられる。
<Other formulations>
The compositions of the present invention may also contain other ingredients. For example, catalysts, polymerization initiators, inorganic pigments, organic pigments, extender pigments, clay minerals, waxes, surfactants, stabilizers, flow regulators, coupling agents, dyes, leveling agents, rheology control agents, ultraviolet absorbers, Examples include antioxidants, flame retardants, plasticizers, and reactive diluents.

<硬化物>
本発明の組成物においては、脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテルと芳香族系ヒドロキシ化合物との反応物を適用することで、従来になく柔軟で強靱な硬化物を得ることが可能となる。例えば、前記した液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂をダイマー酸やセバシン酸のような脂肪族ジカルボン酸を分子鎖延長剤として反応させた高分子量化エポキシ化合物は、柔軟な構造の硬化物を与えるが、エステル基の凝集によりその効果は十分なものではない。
<Cured product>
In the composition of the present invention, by applying a reaction product of diglycidyl ether of an aliphatic dihydroxy compound and an aromatic hydroxy compound, it becomes possible to obtain a cured product that is more flexible and tough than ever before. For example, a high molecular weight epoxy compound obtained by reacting the liquid bisphenol A type epoxy resin described above with an aliphatic dicarboxylic acid such as dimer acid or sebacic acid as a molecular chain extender gives a cured product with a flexible structure, but ester The effect is not sufficient due to aggregation of the groups.

これに対して本発明では脂肪族系化合物から生じる骨格が、柔軟性を付与する所謂ソフトセグメントとして機能するため、本発明のエポキシ化合物Aを硬化させて得られる硬化物は極めて柔軟なものとなる。一方、芳香族系ヒドロキシ化合物から生じる骨格が、本発明のエポキシ化合物Aに剛直性を付与する所謂ハードセグメントとして機能するため、柔軟性と靭性とを兼備する硬化物を与えることができる。更に3官能性芳香族系ヒドロキシ化合物がソフトセグメント中心を結束するため,通常は相反する高い弾性率と優れた伸び率を両立できることから、耐クリープ性に優れる柔軟接着層を提供できる。 On the other hand, in the present invention, the skeleton generated from the aliphatic compound functions as a so-called soft segment that imparts flexibility, so the cured product obtained by curing the epoxy compound A of the present invention is extremely flexible. . On the other hand, since the skeleton generated from the aromatic hydroxy compound functions as a so-called hard segment that imparts rigidity to the epoxy compound A of the present invention, a cured product having both flexibility and toughness can be provided. Furthermore, since the trifunctional aromatic hydroxy compound binds the centers of the soft segments, it is possible to achieve both a high elastic modulus and an excellent elongation rate, which are usually contradictory, and therefore a flexible adhesive layer with excellent creep resistance can be provided.

特に本発明のエポキシ化合物Aの場合は、ハードセグメントとして機能する部分と、ソフトセグメントとして機能する部分とが結合することにより、エポキシ化合物構造に柔軟性を付与すると共に優れた耐湿性を発現させることができる。更に、本発明では芳香核に直接グリシジルオキシ基が結合することにより、エポキシ硬化物の靱性が極めて優れたものとなる。即ち、例えば、低分量タイプの液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂をエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドで変性して得られるジオール化合物をグリシジルエーテル化した構造の汎用のエポキシ樹脂は、エポキシ樹脂骨格自体が柔軟になるものの、エポキシ基自体の活性に劣り、硬化時に靱性を発現するに充分な架橋が得られないものであったところ、本発明のエポキシ化合物Aは、グリシジルオキシ基が直接芳香核に結合することによりエポキシ基の活性が高くなる為、樹脂自体が柔軟であるにも拘わらず、硬化反応時には適度な架橋を形成して優れた靱性を発現する。更に、前記ハードセグメントが架橋点となるエポキシ基に隣接することで架橋点における物理的な強度が高まり靱性が向上するものである。 In particular, in the case of the epoxy compound A of the present invention, the part that functions as a hard segment and the part that functions as a soft segment combine to impart flexibility to the epoxy compound structure and exhibit excellent moisture resistance. I can do it. Furthermore, in the present invention, the glycidyloxy group is directly bonded to the aromatic nucleus, so that the toughness of the cured epoxy product is extremely excellent. That is, for example, a general-purpose epoxy resin has a structure in which a diol compound obtained by modifying a low-volume liquid bisphenol A type epoxy resin with ethylene oxide or propylene oxide is converted into a glycidyl ether, although the epoxy resin skeleton itself becomes flexible. , the activity of the epoxy group itself is poor, and sufficient crosslinking to develop toughness during curing cannot be obtained. However, the epoxy compound A of the present invention has a glycidyloxy group directly bonding to the aromatic nucleus, thereby forming an epoxy compound. Because the activity of the group increases, even though the resin itself is flexible, it forms appropriate crosslinks during the curing reaction and exhibits excellent toughness. Furthermore, since the hard segment is adjacent to the epoxy group serving as a crosslinking point, the physical strength at the crosslinking point is increased and toughness is improved.

本発明の組成物を硬化させる場合には、常温または加熱による硬化をおこなえばよい。硬化する際には、公知慣用の硬化触媒を用いても構わない。
熱硬化を行う場合、1回の加熱で硬化させてもよいし、多段階の加熱工程を経て硬化させてもかまわない。
When curing the composition of the present invention, curing may be performed at room temperature or by heating. When curing, a known and commonly used curing catalyst may be used.
When thermal curing is performed, it may be cured by one heating process or may be cured through a multi-step heating process.

硬化触媒を用いる場合には、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸類;p-トルエンスルホン酸、燐酸モノイソプロピル、酢酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の無機塩基類;テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート等のチタン酸エステル類;1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、トリ-n-ブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、モノエタノールアミン、イミダゾール、2-エチル-4-メチル-イミダゾール、1-メチルイミダゾール、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン(DMAP)等の各種の塩基性窒素原子を含有する化合物類;テトラメチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩、ジラウリルジメチルアンモニウム塩等の各種の4級アンモニウム塩類であって、対アニオンとして、クロライド、ブロマイド、カルボキシレートもしくはハイドロオキサイドなどを有する4級アンモニウム塩類;ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクトエート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、オクチル酸錫又はステアリン酸錫など錫カルボン酸塩、;過酸化ベンゾイル、クメンハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、過酸化ラウロイル、ジ-t-ブチルパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド、メチルエチルケトン過酸化物、t-ブチルパーベンゾエートなどの有機過酸化物等を使用することができる。触媒は単独で使用しても良いし、2種以上併用しても良い。 When using a curing catalyst, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid; organic acids such as p-toluenesulfonic acid, monoisopropyl phosphate, and acetic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide or potassium hydroxide; Titanate esters such as isopropyl titanate and tetrabutyl titanate; 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene-5 (DBN) , 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (DABCO), tri-n-butylamine, dimethylbenzylamine, monoethanolamine, imidazole, 2-ethyl-4-methyl-imidazole, 1-methylimidazole, N , N-dimethyl-4-aminopyridine (DMAP) and other compounds containing various basic nitrogen atoms; various quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium salt, tetrabutylammonium salt, dilauryldimethylammonium salt, etc. and quaternary ammonium salts having chloride, bromide, carboxylate or hydroxide as a counter anion; dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctoate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetylacetonate, tin octylate or tin stearate. Tin carboxylates, such as; benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, dicumyl peroxide, lauroyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, methyl ethyl ketone peroxide, t-butyl perbenzoate Organic peroxides such as, for example, can be used. The catalysts may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明の組成物は、活性エネルギー線にて硬化させることも可能である。その際には、重合開始剤として光カチオン重合開始剤を用いればよい。活性エネルギー線としては、可視光線、紫外線、X線、電子線等を用いることができる。 Moreover, the composition of the present invention can also be cured with active energy rays. In that case, a photocationic polymerization initiator may be used as the polymerization initiator. As the active energy ray, visible light, ultraviolet rays, X-rays, electron beams, etc. can be used.

光カチオン重合開始剤としては、アリール-スルフォニウム塩、アリール-ヨードニウム塩等が挙げられ、具体的には、アリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、アリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、アリールスルホニウムテトラキス(ペンタフルオロ)ホウ酸塩、ジアルキルフェナクシルスルホニウムヘキサフルオロフォスフェート等を用いることができる。光カチオン重合開始剤は単独で使用しても良いし、2種以上併用しても良い。 Examples of the photocationic polymerization initiator include aryl-sulfonium salts, aryl-iodonium salts, etc. Specifically, arylsulfonium hexafluorophosphate, arylsulfonium hexafluoroantimonate, arylsulfonium tetrakis(pentafluoro)borate , dialkylphenaxylsulfonium hexafluorophosphate, etc. can be used. The photocationic polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

<積層体>
本発明の硬化物は基材と積層することで積層体とすることができる。
積層体の基材としては、金属やガラス等の無機材料や、プラスチックや木材といった有機材料等、用途によって適時使用すればよく、積層体の形状としても、平板、シート状、あるいは三次元構造を有していても立体状であってもかまわない。全面にまたは一部に曲率を有するもの等目的に応じた任意の形状であってよい。また、基材の硬度、厚み等にも制限はない。また、本発明の硬化物を基材とし、更に本発明の硬化物を積層してもかまわない。
<Laminated body>
The cured product of the present invention can be made into a laminate by laminating it with a base material.
The base material for the laminate may be an inorganic material such as metal or glass, or an organic material such as plastic or wood, depending on the application, and the shape of the laminate may be a flat plate, sheet, or three-dimensional structure. It does not matter if it has a three-dimensional shape. It may have any shape depending on the purpose, such as having curvature on the entire surface or in part. Furthermore, there are no restrictions on the hardness, thickness, etc. of the base material. Further, the cured product of the present invention may be used as a base material, and the cured product of the present invention may be further laminated.

本発明の組成物は、金属及びまたは金属酸化物に対する接着性が特に高い為、金属用のプライマーとして特に良好に使用可能である。金属としては銅、アルミ、金、銀、鉄、プラチナ、クロム、ニッケル、錫、チタン、亜鉛、各種合金、及びこれらを複合した材料が挙げられ、金属酸化物としてはこれら金属の単独酸化物及びまたは複合酸化物が挙げられる。特に鉄、銅、アルミに対しての接着力に優れる為、鉄、銅、アルミ用の接着剤として良好に使用可能である。 Since the composition of the present invention has particularly high adhesion to metals and/or metal oxides, it can be used particularly well as a primer for metals. Examples of metals include copper, aluminum, gold, silver, iron, platinum, chromium, nickel, tin, titanium, zinc, various alloys, and composite materials of these metals, and examples of metal oxides include single oxides and materials of these metals. Or a composite oxide can be mentioned. In particular, it has excellent adhesion to iron, copper, and aluminum, so it can be used well as an adhesive for iron, copper, and aluminum.

本発明の積層体において、硬化物層は、基材に対し直接塗工や成形により形成してもよく、すでに成形したものを積層させてもかまわない。直接塗工する場合、塗工方法としては特に限定は無く、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、ドクターブレード法、カーテンコート法、スリットコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法等が挙げられる。直接成形する場合は、インモールド成形、インサート成形、真空成形、押出ラミネート成形、プレス成形等が挙げられる。
成形された組成物を積層する場合、未硬化または半硬化された組成物層を積層してから硬化させてもよいし、組成物を完全硬化した硬化物層を基材に対し積層してもよい。
また、本発明の硬化物に対して、基材となりうる前駆体を塗工して硬化させることで積層させてもよく、基材となりうる前駆体または本発明の組成物が未硬化あるいは半硬化の状態で接着させた後に硬化させてもよい。基材となりうる前駆体としては特に限定はなく、各種硬化性樹脂組成物等が挙げられる。
In the laminate of the present invention, the cured material layer may be formed by direct coating or molding on the base material, or may be formed by laminating already molded layers. In the case of direct coating, there are no particular limitations on the coating method, including spray method, spin coating method, dip method, roll coating method, blade coating method, doctor roll method, doctor blade method, curtain coating method, slit coating method, Examples include screen printing method, inkjet method, and the like. In the case of direct molding, examples include in-mold molding, insert molding, vacuum molding, extrusion lamination molding, press molding, and the like.
When laminating molded compositions, uncured or semi-cured composition layers may be laminated and then cured, or a completely cured composition layer may be laminated on the base material. good.
Furthermore, the cured product of the present invention may be laminated by coating and curing a precursor that can serve as a base material, and the precursor that can serve as a base material or the composition of the present invention may be uncured or semi-cured. It may be hardened after adhering in this state. There are no particular limitations on the precursor that can serve as the base material, and examples include various curable resin compositions.

<繊維強化樹脂>
本発明の組成物が繊維質基質を有し、該繊維質基質が強化繊維の場合、繊維質基質を含有する組成物は繊維強化樹脂として用いることができる。
組成物に対し繊維質基質を含有させる方法は、本発明の効果を損なわない範囲であればとくに限定はなく、繊維質基質と組成物とを、混練、塗布、含浸、注入、圧着、等の方法で複合化する方法が挙げられ、繊維の形態及び繊維強化樹脂の用途によって適時選択することができる。
<Fiber reinforced resin>
When the composition of the present invention has a fibrous matrix and the fibrous matrix is a reinforcing fiber, the composition containing the fibrous matrix can be used as a fiber reinforced resin.
The method of incorporating the fibrous matrix into the composition is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention. Examples include a method of compositing, which can be appropriately selected depending on the form of the fiber and the use of the fiber-reinforced resin.

本発明の繊維強化樹脂を成形する方法については、特に限定されない。板状の製品を製造するのであれば、押し出し成形法が一般的であるが、平面プレスによっても可能である。この他、押し出し成形法、ブロー成形法、圧縮成形法、真空成形法、射出成形法等を用いることが可能である。またフィルム状の製品を製造するのであれば、溶融押出法の他、溶液キャスト法を用いることができ、溶融成形方法を用いる場合、インフレーションフィルム成形、キャスト成形、押出ラミネーション成形、カレンダー成形、シート成形、繊維成形、ブロー成形、射出成形、回転成形、被覆成形等が挙げられる。また、活性エネルギー線で硬化する樹脂の場合、活性エネルギー線を用いた各種硬化方法を用いて硬化物を製造する事ができる。特に、熱硬化性樹脂をマトリクス樹脂の主成分とする場合には、成形材料をプリプレグ化してプレスやオートクレーブにより加圧加熱する成形法が挙げられ、この他にもRTM(Resin Transfer Molding)成形、VaRTM(Vaccum assist Resin Transfer Molding)成形、積層成形、ハンドレイアップ成形等が挙げられる。 There are no particular limitations on the method for molding the fiber-reinforced resin of the present invention. If a plate-shaped product is to be manufactured, extrusion molding is generally used, but flat pressing is also possible. In addition, extrusion molding, blow molding, compression molding, vacuum molding, injection molding, and the like can be used. In addition, if a film-shaped product is to be manufactured, a solution casting method can be used in addition to the melt extrusion method.When using the melt molding method, blown film molding, cast molding, extrusion lamination molding, calendar molding, and sheet molding can be used. , fiber molding, blow molding, injection molding, rotational molding, coating molding, etc. Further, in the case of a resin that is cured by active energy rays, a cured product can be produced using various curing methods using active energy rays. In particular, when a thermosetting resin is the main component of the matrix resin, there is a molding method in which the molding material is made into a prepreg and heated under pressure using a press or an autoclave.In addition, RTM (Resin Transfer Molding) molding, Examples include VaRTM (Vaccum assist Resin Transfer Molding) molding, lamination molding, hand lay-up molding, and the like.

<プリプレグ>
本発明の繊維強化樹脂は、未硬化あるいは半硬化のプリプレグと呼ばれる状態を形成することができる。プリプレグの状態で製品を流通させた後、最終硬化をおこなって硬化物を形成してもよい。積層体を形成する場合は、プリプレグを形成した後、その他の層を積層してから最終硬化を行うことで、各層が密着した積層体を形成できるため、好ましい。
この時用いる組成物と繊維質基質の質量割合としては、特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が20~60質量%となるように調製することが好ましい。
<Prepreg>
The fiber-reinforced resin of the present invention can form an uncured or semi-cured prepreg. After distributing the product in the prepreg state, final curing may be performed to form a cured product. When forming a laminate, it is preferable to form a prepreg, laminate other layers, and then perform final curing, since it is possible to form a laminate in which each layer is in close contact with each other.
The mass ratio of the composition used at this time to the fibrous substrate is not particularly limited, but it is usually preferable to prepare the prepreg so that the resin content is 20 to 60% by mass.

<耐熱材料および電子材料>
本発明の組成物は、その硬化物が、ガラス転移温度が高く、耐熱分解性に優れることから、耐熱部材に好適に使用可能である。また、基材への密着性に優れることから、特に電子部材に好適に使用可能である。特に、半導体封止材、回路基板、ビルドアップフィルム、ビルドアップ基板等や、接着剤やレジスト材料に好適に使用可能である。また、繊維強化樹脂のマトリクス樹脂にも好適に使用可能であり、高耐熱性のプリプレグとして特に適している。こうして得られる耐熱部材や電子部材は、各種用途に好適に使用可能であり、例えば、産業用機械部品、一般機械部品、自動車・鉄道・車両等部品、宇宙・航空関連部品、電子・電気部品、建築材料、容器・包装部材、生活用品、スポーツ・レジャー用品、風力発電用筐体部材等が挙げられるが、これらに限定される物ではない。
<Heat-resistant materials and electronic materials>
The composition of the present invention can be suitably used for heat-resistant members because its cured product has a high glass transition temperature and excellent heat decomposition resistance. Moreover, since it has excellent adhesion to a base material, it can be particularly suitably used for electronic components. In particular, it can be suitably used for semiconductor sealing materials, circuit boards, build-up films, build-up substrates, adhesives, and resist materials. Further, it can be suitably used as a matrix resin of fiber reinforced resin, and is particularly suitable as a highly heat resistant prepreg. The heat-resistant components and electronic components thus obtained can be suitably used for various purposes, such as industrial mechanical parts, general mechanical parts, automobile/railway/vehicle parts, space/aviation related parts, electronic/electrical parts, etc. Examples include, but are not limited to, building materials, containers/packaging members, household goods, sports/leisure goods, wind power generation casing members, etc.

以下、代表的な製品について例を挙げて説明する。 Below, representative products will be explained using examples.

1.半導体封止材料
本発明の組成物から半導体封止材料を得る方法としては、前記組成物、及び硬化促進剤、及び無機充填剤等の配合剤とを必要に応じて押出機、ニ-ダ、ロ-ル等を用いて均一になるまで充分に溶融混合する方法が挙げられる。その際、無機充填剤としては、通常、溶融シリカが用いられるが、パワートランジスタ、パワーIC用高熱伝導半導体封止材として用いる場合は、溶融シリカよりも熱伝導率の高い結晶シリカ,アルミナ,窒化ケイ素などの高充填化、または溶融シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、窒化ケイ素などを用いるとよい。その充填率は硬化性樹脂組成物100質量部当たり、無機充填剤を30~95質量%の範囲で用いることが好ましく、中でも、難燃性や耐湿性や耐ハンダクラック性の向上、線膨張係数の低下を図るためには、70質量部以上がより好ましく、80質量部以上であることがさらに好ましい。
1. Semiconductor Encapsulation Material As a method for obtaining a semiconductor encapsulant material from the composition of the present invention, the composition and compounding agents such as a curing accelerator and an inorganic filler may be mixed in an extruder, a kneader, Examples include a method of sufficiently melting and mixing using a roll or the like until the mixture becomes uniform. At that time, fused silica is usually used as the inorganic filler, but when used as a highly thermally conductive semiconductor encapsulant for power transistors and power ICs, crystalline silica, alumina, nitride, etc., which have higher thermal conductivity than fused silica, It is preferable to use highly filled silicon or the like, or use fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, or the like. The filling rate is preferably 30 to 95% by mass of the inorganic filler per 100 parts by mass of the curable resin composition. In order to reduce the amount, the amount is more preferably 70 parts by mass or more, and even more preferably 80 parts by mass or more.

2.半導体装置
本発明の硬化性樹脂組成物から半導体装置を得る半導体パッケージ成形としては、上記半導体封止材料を注型、或いはトランスファー成形機、射出成形機などを用いて成形し、さらに50~250℃で2~10時間の間、加熱する方法が挙げられる。
2. Semiconductor device For molding a semiconductor package to obtain a semiconductor device from the curable resin composition of the present invention, the semiconductor encapsulating material is molded using a casting, transfer molding machine, injection molding machine, etc., and then heated at 50 to 250°C. A method of heating for 2 to 10 hours is mentioned.

3.プリント回路基板
本発明の組成物からプリント回路基板を得る方法としては、上記プリプレグを、常法により積層し、適宜銅箔を重ねて、1~10MPaの加圧下に170~300℃で10分~3時間、加熱圧着させる方法が挙げられる。
3. Printed circuit board A method for obtaining a printed circuit board from the composition of the present invention is to laminate the prepregs described above by a conventional method, overlay copper foil as appropriate, and then under a pressure of 1 to 10 MPa at 170 to 300°C for 10 minutes to A method of heat-pressing for 3 hours may be mentioned.

4.ビルドアップ基板
本発明の組成物からビルドアップ基板を得る方法は、例えば以下の工程が挙げられる。まず、ゴム、フィラーなどを適宜配合した上記組成物を、回路を形成した回路基板にスプレーコーティング法、カーテンコーティング法等を用いて塗布した後、硬化させる工程(工程1)。その後、必要に応じて所定のスルーホール部等の穴あけを行った後、粗化剤により処理し、その表面を湯洗することによって凹凸を形成させ、銅などの金属をめっき処理する工程(工程2)。このような操作を所望に応じて順次繰り返し、樹脂絶縁層及び所定の回路パターンの導体層を交互にビルドアップして形成する工程(工程3)。なお、スルーホール部の穴あけは、最外層の樹脂絶縁層の形成後に行う。また、本発明のビルドアップ基板は、銅箔上で当該樹脂組成物を半硬化させた樹脂付き銅箔を、回路を形成した配線基板上に、170~300℃で加熱圧着することで、粗化面を形成、メッキ処理の工程を省き、ビルドアップ基板を作製することも可能である。
4. Buildup Substrate A method for obtaining a buildup substrate from the composition of the present invention includes, for example, the following steps. First, the above-mentioned composition containing rubber, filler, etc. as appropriate is applied to a circuit board on which a circuit is formed using a spray coating method, a curtain coating method, etc., and then cured (step 1). After that, after drilling a predetermined through-hole section as necessary, the surface is treated with a roughening agent, and the surface is washed with hot water to form unevenness, and the process of plating metal such as copper (process 2). A step (step 3) of repeatedly repeating such operations as desired to alternately build up and form a resin insulating layer and a conductor layer of a predetermined circuit pattern. Note that the through-hole portions are formed after the outermost resin insulating layer is formed. In addition, the build-up board of the present invention can be produced by heat-pressing a resin-coated copper foil obtained by semi-curing the resin composition on the copper foil at 170 to 300°C onto a wiring board on which a circuit has been formed. It is also possible to fabricate a build-up board by omitting the steps of forming a chemical surface and plating.

5.ビルドアップフィルム
本発明の組成物からビルドアップフィルムを得る方法としては、基材である支持フィルム(Y)の表面に、上記組成物を塗布し、更に加熱、あるいは熱風吹きつけ等により有機溶剤を乾燥させて組成物の層(X)を形成させることにより製造することができる。
5. Build-up film A method for obtaining a build-up film from the composition of the present invention is to apply the above-mentioned composition onto the surface of the support film (Y) as a base material, and then apply an organic solvent by heating or blowing hot air. It can be manufactured by drying to form the layer (X) of the composition.

ここで用いる有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類、セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等を用いることが好ましく、また、不揮発分30~60質量%となる割合で使用することが好ましい。 Examples of the organic solvent used here include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone, acetic acid esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and carbitol acetate, cellosolve, butyl carbitol, and the like. It is preferable to use carbitols, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, etc., and it is also preferable to use them in a proportion such that the nonvolatile content is 30 to 60% by mass. preferable.

形成される層(X)の厚さは、通常、導体層の厚さ以上とする。回路基板が有する導体層の厚さは通常5~70μmの範囲であるので、樹脂組成物層の厚さは10~100μmの厚みを有するのが好ましい。なお、本発明における上記組成物の層(X)は、後述する保護フィルムで保護されていてもよい。保護フィルムで保護することにより、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができる。 The thickness of the formed layer (X) is usually greater than or equal to the thickness of the conductor layer. Since the thickness of a conductor layer included in a circuit board is usually in the range of 5 to 70 μm, the thickness of the resin composition layer is preferably in the range of 10 to 100 μm. In addition, the layer (X) of the said composition in this invention may be protected with the protective film mentioned later. By protecting with a protective film, it is possible to prevent dust and the like from adhering to the surface of the resin composition layer and from scratching it.

前記した支持フィルム及び保護フィルムは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(以下「PET」と略称することがある。)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、更には離型紙や銅箔、アルミニウム箔等の金属箔などを挙げることができる。なお、支持フィルム及び保護フィルムはマッド処理、コロナ処理の他、離型処理を施してあってもよい。支持フィルムの厚さは特に限定されないが、通常10~150μmであり、好ましくは25~50μmの範囲で用いられる。また保護フィルムの厚さは1~40μmとするのが好ましい。 The support film and protective film described above are made of polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride, polyesters such as polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as "PET"), polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyimide, and even release materials. Examples include paper patterns and metal foils such as copper foil and aluminum foil. Note that the support film and the protective film may be subjected to a release treatment in addition to mud treatment and corona treatment. The thickness of the support film is not particularly limited, but is usually 10 to 150 μm, preferably 25 to 50 μm. Further, the thickness of the protective film is preferably 1 to 40 μm.

上記した支持フィルム(Y)は、回路基板にラミネートした後に、或いは加熱硬化することにより絶縁層を形成した後に、剥離される。ビルドアップフィルムを構成する硬化性樹脂組成物層が加熱硬化した後に支持フィルム(Y)を剥離すれば、硬化工程でのゴミ等の付着を防ぐことができる。硬化後に剥離する場合、通常、支持フィルムには予め離型処理が施される。 The support film (Y) described above is peeled off after being laminated onto the circuit board or after forming an insulating layer by heating and curing. If the support film (Y) is peeled off after the curable resin composition layer constituting the build-up film is cured by heating, it is possible to prevent dust and the like from adhering during the curing process. When peeling is performed after curing, the support film is usually subjected to a release treatment in advance.

上記のようにして得られたビルドアップフィルムを用いて多層プリント回路基板を製造することができる。例えば、層(X)が保護フィルムで保護されている場合はこれらを剥離した後、層(X)を回路基板に直接接するように回路基板の片面又は両面に、例えば真空ラミネート法によりラミネートする。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。また必要により、ラミネートを行う前にビルドアップフィルム及び回路基板を必要により加熱(プレヒート)しておいてもよい。ラミネートの条件は、圧着温度(ラミネート温度)を70~140℃とすることが好ましく、圧着圧力を1~11kgf/cm2(9.8×104~107.9×104N/m2)とすることが好ましく、空気圧を20mmHg(26.7hPa)以下の減圧下でラミネートすることが好ましい。 A multilayer printed circuit board can be manufactured using the build-up film obtained as described above. For example, when the layer (X) is protected by a protective film, after peeling off these layers, the layer (X) is laminated on one or both sides of the circuit board so as to be in direct contact with the circuit board, for example, by a vacuum laminating method. The lamination method may be a batch method or a continuous method using rolls. Moreover, if necessary, the build-up film and the circuit board may be heated (preheated) before lamination. As for lamination conditions, it is preferable that the pressure bonding temperature (laminate temperature) be 70 to 140°C, and the pressure bonding pressure be 1 to 11 kgf/cm2 (9.8 x 104 to 107.9 x 104 N/m2). It is preferable to laminate under reduced air pressure of 20 mmHg (26.7 hPa) or less.

6.導電ペースト
本発明の組成物から導電ペーストを得る方法としては、例えば、導電性粒子を該組成物中に分散させる方法が挙げられる。上記導電ペーストは、用いる導電性粒子の種類によって、回路接続用ペースト樹脂組成物や異方性導電接着剤とすることができる。
6. Conductive Paste A method for obtaining a conductive paste from the composition of the present invention includes, for example, a method of dispersing conductive particles in the composition. The above-mentioned conductive paste can be made into a paste resin composition for circuit connection or an anisotropic conductive adhesive depending on the type of conductive particles used.

次に本発明を実施例、比較例により具体的に説明するが、以下において「部」及び「%」は特に断わりのない限り質量基準である。 Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples and Comparative Examples. In the following, "parts" and "%" are based on mass unless otherwise specified.

FD-MSスペクトル、GPCは以下の条件にて測定した。 FD-MS spectrum and GPC were measured under the following conditions.

<マススペクトル>
FD-MS:日本電子株式会社製「JMS-T100GC AccuTOF」
測定範囲:m/z=50.00~2000.00
変化率:25.6mA/min
最終電流値:40mA
カソード電圧:-10kV
<Mass spectrum>
FD-MS: “JMS-T100GC AccuTOF” manufactured by JEOL Ltd.
Measurement range: m/z=50.00-2000.00
Rate of change: 25.6mA/min
Final current value: 40mA
Cathode voltage: -10kV

<ゲルパーミエーションクロマトグラフ>
GPC:東ソー株式会社製「HLC-8320GPC」
カラム:東ソー株式会社製「TSK-GEL G2000HXL」+「TSK-GEL G3000HXL」+「TSK-GEL G4000HXL」
検出器:RI(示唆屈折率計)
測定条件:40℃
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1ml/min
標準:東ソー株式会社製「PStQuick A」「PStQuick B」「PStQuick E」「PStQuick F」
<Gel permeation chromatograph>
GPC: “HLC-8320GPC” manufactured by Tosoh Corporation
Column: Tosoh Corporation "TSK-GEL G2000HXL" + "TSK-GEL G3000HXL" + "TSK-GEL G4000HXL"
Detector: RI (suggestion refractometer)
Measurement conditions: 40℃
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1ml/min
Standard: "PStQuick A", "PStQuick B", "PStQuick E", "PStQuick F" manufactured by Tosoh Corporation

合成したエポキシ化合物のエポキシ当量については、JIS K7236に則って測定を行ない、エポキシ当量(g/eq)を算出した。 The epoxy equivalent of the synthesized epoxy compound was measured in accordance with JIS K7236, and the epoxy equivalent (g/eq) was calculated.

繰り返し単位数の算出方法としては、GPC分子量測定や、FD-MS等の適切な各種の機器分析結からの算出が例示できる。 Examples of methods for calculating the number of repeating units include GPC molecular weight measurement and calculation from various appropriate instrumental analyzes such as FD-MS.

合成例1 エポキシ化合物C-1の合成 Synthesis Example 1 Synthesis of epoxy compound C-1

温度計、撹拌機を取り付けたフラスコに1,12-ドデカンジオールのジグリシジルエーテル(四日市合成株式会社製:エポキシ当量210g/eq)630質量部(1.5モル当量)と1,3,5-トリヒドロキシベンゼン(水酸基当量42g/eq)42質量部(0.33モル当量)を仕込み、140℃まで30分間要して昇温した後、4%水酸化ナトリウム水溶液3.4質量部を仕込んだ。その後、30分間要して150℃まで昇温し、さらに150℃で3時間反応させた。その後、中和量のリン酸ソーダを添加し、エポキシ化合物C-1を含む反応物C-1を660質量部得た。 In a flask equipped with a thermometer and a stirrer, 630 parts by mass (1.5 molar equivalent) of diglycidyl ether of 1,12-dodecanediol (manufactured by Yokkaichi Gosei Co., Ltd.: epoxy equivalent 210 g/eq) and 1,3,5- 42 parts by mass (0.33 molar equivalent) of trihydroxybenzene (hydroxyl equivalent: 42 g/eq) was charged, the temperature was raised to 140°C over 30 minutes, and then 3.4 parts by mass of a 4% aqueous sodium hydroxide solution was charged. . Thereafter, the temperature was raised to 150°C over 30 minutes, and the reaction was further carried out at 150°C for 3 hours. Thereafter, a neutralizing amount of sodium phosphate was added to obtain 660 parts by mass of reactant C-1 containing epoxy compound C-1.

合成例2 エポキシ化合物C-2の合成 Synthesis Example 2 Synthesis of epoxy compound C-2

Figure 0007375347000036
Figure 0007375347000036

合成例1における1,3,5-トリヒドロキシベンゼン(0.33モル当量)をトリフェニロールメタン(群栄化学工業株式会社「TPM-100」、水酸基当量97g/eq)97質量部(0.33モル当量)に変えた以外は合成例1と同様に反応し、エポキシ化合物C-2を含有する反応物C-2を720質量部得た。 1,3,5-trihydroxybenzene (0.33 molar equivalent) in Synthesis Example 1 was added to 97 parts by mass (0. The reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the amount was changed to (33 molar equivalent), and 720 parts by mass of reactant C-2 containing epoxy compound C-2 was obtained.

合成例3 ヒドロキシ化合物B-1の合成 Synthesis Example 3 Synthesis of hydroxy compound B-1

温度計、撹拌機を取り付けたフラスコに反応物C-1を360質量部とビスフェノールA(水酸基当量114g/eq)342質量部(1.5モル当量)を仕込み、140℃まで30分間要して昇温した後、4%水酸化ナトリウム水溶液1.7質量部を仕込んだ。その後、30分間要して150℃まで昇温し、さらに150℃で3時間反応させた。その後、中和量のリン酸ソーダを添加し、反応物B-1を680質量部得た。反応物B-1は、FD-MSスペクトル解析にてM+=1754のピークが確認されたことから、目的物である1,3,5-トリヒドロキシベンゼンと1,12-ドデカンジオールのジグリシジルエーテルとビスフェノールAが1.0モル:3.0モル:3.0モルで反応したヒドロキシ化合物B-1が存在することを確認した。 360 parts by mass of reactant C-1 and 342 parts by mass (1.5 molar equivalent) of bisphenol A (hydroxyl equivalent: 114 g/eq) were placed in a flask equipped with a thermometer and a stirrer, and the mixture was heated to 140°C for 30 minutes. After raising the temperature, 1.7 parts by mass of a 4% aqueous sodium hydroxide solution was charged. Thereafter, the temperature was raised to 150°C over 30 minutes, and the reaction was further carried out at 150°C for 3 hours. Thereafter, a neutralizing amount of sodium phosphate was added to obtain 680 parts by mass of reactant B-1. Reactant B-1 was identified as the diglycidyl ether of 1,3,5-trihydroxybenzene and 1,12-dodecanediol, which is the target product, because a peak of M+ = 1754 was confirmed in FD-MS spectrum analysis. It was confirmed that there was a hydroxy compound B-1, which was obtained by reacting 1.0 mol: 3.0 mol: 3.0 mol with bisphenol A.

合成例4 ヒドロキシ化合物B-2の合成 Synthesis Example 4 Synthesis of hydroxy compound B-2

合成例3における反応物C-1を360質量部から、反応物C-2を410質量部に変えた以外は合成例3と同様に反応し、反応物B-2を730質量部得た。反応物B-2は、FD-MSスペクトル解析にてM+=1920のピークが確認されたことから、目的物であるトリフェニロールメタンと1,12-ドデカンジオールのジグリシジルエーテルとビスフェノールAが1.0モル:3.0モル:3.0モルで反応したヒドロキシ化合物B-2が存在することを確認した。 The reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 3, except that 360 parts by mass of reactant C-1 was changed to 410 parts by mass of reactant C-2, and 730 parts by mass of reactant B-2 was obtained. Reactant B-2 was confirmed to have a peak of M+=1920 in FD-MS spectrum analysis, so it was found that the target products triphenylolmethane, diglycidyl ether of 1,12-dodecanediol, and bisphenol A were 1 It was confirmed that hydroxy compound B-2 reacted in a ratio of .0 mol: 3.0 mol: 3.0 mol.

合成例5 ヒドロキシ化合物B-3の合成 Synthesis Example 5 Synthesis of hydroxy compound B-3

合成例3におけるビスフェノールAを342質量部から(1.5モル当量)を2、7-ジヒドロキシナフタレン240質量部(1.5モル当量)に変えた以外は合成例3と同様に反応し、反応物B-3を830質量部得た。ヒドロキシ化合物B-3を730g得た。反応物B-3は、FD-MSスペクトル解析にてM+=1549のピークが確認されたことから、目的物である1,3,5-トリヒドロキシベンゼンと1,12-ドデカンジオールのジグリシジルエーテルと2,7-ジヒドロキシナフタレンが1.0モル:3.0モル:3.0モルで反応したヒドロキシ化合物B-3が存在することを確認した。 The reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 3, except that 342 parts by mass (1.5 molar equivalent) of bisphenol A in Synthesis Example 3 was changed to 240 parts by mass (1.5 molar equivalent) of 2,7-dihydroxynaphthalene. 830 parts by mass of Product B-3 was obtained. 730g of hydroxy compound B-3 was obtained. Reactant B-3 is a diglycidyl ether of 1,3,5-trihydroxybenzene and 1,12-dodecanediol, which is the target product, because a peak of M+ = 1549 was confirmed in FD-MS spectrum analysis. It was confirmed that there was a hydroxy compound B-3 in which 2,7-dihydroxynaphthalene was reacted with 1.0 mol: 3.0 mol: 3.0 mol.

合成例6 ヒドロキシ化合物B-4の合成 Synthesis Example 6 Synthesis of hydroxy compound B-4

Figure 0007375347000040
Figure 0007375347000040

温度計、撹拌機を取り付けたフラスコに1,12-ドデカンジオールのジグリシジルエーテル(四日市合成株式会社製:エポキシ当量210g/eq)210質量部(0.5モル当量)とビスフェノールA(水酸基当量114g/eq)228質量部(1.0モル当量)を仕込み、140℃まで30分間要して昇温した後、4%水酸化ナトリウム水溶液1.0質量部を仕込んだ。その後、30分間要して150℃まで昇温し、さらに150℃で3時間反応させた。その後、中和量のリン酸ソーダを添加し、反応物B-4を430質量部得た。反応物B-4は、FD-MSスペクトル解析にてM+=771のピークが確認されたことから、目的物であるヒドロキシ化合物B-4が存在することを確認した。 In a flask equipped with a thermometer and a stirrer, 210 parts by mass (0.5 molar equivalent) of diglycidyl ether of 1,12-dodecanediol (manufactured by Yokkaichi Gosei Co., Ltd.: epoxy equivalent 210 g/eq) and bisphenol A (hydroxyl equivalent 114 g) were added. /eq) 228 parts by mass (1.0 molar equivalent) was charged, the temperature was raised to 140° C. over 30 minutes, and then 1.0 parts by mass of a 4% aqueous sodium hydroxide solution was charged. Thereafter, the temperature was raised to 150°C over 30 minutes, and the reaction was further carried out at 150°C for 3 hours. Thereafter, a neutralizing amount of sodium phosphate was added to obtain 430 parts by mass of Reactant B-4. Regarding reaction product B-4, a peak of M+=771 was confirmed in FD-MS spectrum analysis, so it was confirmed that the target compound hydroxy compound B-4 existed.

合成例7 ヒドロキシ化合物B-5の合成 Synthesis Example 7 Synthesis of hydroxy compound B-5

合成例6においてビスフェノールAの228質量部(1.0モル当量)をピロガロール126質量部(1.0モル当量)に変えた以外は合成例6と同様に反応し、反応物B-5を330質量部得た。反応物B-5は、FD-MSスペクトル解析にてM+=567のピークが確認されたことから、目的物であるヒドロキシ化合物B-5が存在することを確認した。 The reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 6, except that 228 parts by mass (1.0 molar equivalent) of bisphenol A was changed to 126 parts by mass (1.0 molar equivalent) of pyrogallol, and reactant B-5 was converted to 330 parts by mass (1.0 molar equivalent). Part by mass obtained. Regarding reaction product B-5, a peak of M+=567 was confirmed in FD-MS spectrum analysis, so it was confirmed that the target compound hydroxy compound B-5 existed.

実施例1 エポキシ化合物A-1の合成及び評価 Example 1 Synthesis and evaluation of epoxy compound A-1

Figure 0007375347000042
Figure 0007375347000042

(エポキシ化合物A-1の合成)
温度計、滴下ロート、冷却管、撹拌機を取り付けたフラスコに、窒素ガスパージを施しながら、合成例3で得られたヒドロキシ化合物B-1を680質量部、エピクロルヒドリン1110質量部(12.0モル当量)、n-ブタノール280質量部を仕込み溶解させた。65℃に昇温した後、共沸する圧力まで減圧して、49%水酸化ナトリウム水溶液122質量部(1.5モル当量)を5時間かけて滴下した。その後、同条件で0.5時間撹拌を続けた。この間、共沸によって留出してきた留出分をディーンスタークトラップで分離し、水層を除去し、油層を反応系内に戻しながら、反応を行った。その後、未反応のエピクロルヒドリンを減圧蒸留によって留去させた。それで得られた反応物にメチルイソブチルケトン1000質量部とn-ブタノール100質量部とを加え溶解した。更にこの溶液に10%水酸化ナトリウム水溶液20質量部を添加して80℃で2時間反応させた後に洗浄液のpHが中性となるまでで水洗を行った。次いで共沸によって系内を脱水し、精密濾過を経た後に、溶媒を減圧下で留去して、反応物A-1を730質量部得た。得られた反応物A-1は、FD-MSスペクトル解析にてM+=1921のピークが確認されたことから、目的物であるエポキシ化合物Aー1が存在することを確認した。
(Synthesis of epoxy compound A-1)
In a flask equipped with a thermometer, dropping funnel, cooling tube, and stirrer, while purging with nitrogen gas, 680 parts by mass of hydroxy compound B-1 obtained in Synthesis Example 3 and 1110 parts by mass of epichlorohydrin (12.0 molar equivalents) were added. ) and 280 parts by mass of n-butanol were charged and dissolved. After raising the temperature to 65° C., the pressure was reduced to an azeotropic pressure, and 122 parts by mass (1.5 molar equivalent) of a 49% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 5 hours. Thereafter, stirring was continued for 0.5 hour under the same conditions. During this time, the distillate distilled out by azeotropy was separated using a Dean-Stark trap, the aqueous layer was removed, and the reaction was carried out while the oil layer was returned to the reaction system. Thereafter, unreacted epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure. 1000 parts by mass of methyl isobutyl ketone and 100 parts by mass of n-butanol were added and dissolved in the resulting reaction product. Further, 20 parts by mass of a 10% aqueous sodium hydroxide solution was added to this solution and reacted at 80° C. for 2 hours, followed by washing with water until the pH of the washing solution became neutral. Next, the system was dehydrated by azeotropy, and after passing through precision filtration, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 730 parts by mass of reactant A-1. In the obtained reaction product A-1, a peak of M+=1921 was confirmed by FD-MS spectrum analysis, so it was confirmed that the target product, epoxy compound A-1, existed.

(樹脂組成物、硬化物の製造及び評価)
表1に従った配合で、反応物A-1、硬化剤および硬化促進剤を、混合機(株式会社シンキー製「あわとり練太郎ARV-200」)にて均一混合して,エポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物を,シリコンチューブをスペーサーとしてアルミニウム鏡面板(株式会社エンジニアリングテストサービス製「JIS H 4000 A1050P」)にて挟み込み,170℃で30分間加熱硬化を行い,厚さ0.8mmの樹脂硬化物を得た。
(Production and evaluation of resin compositions and cured products)
The reactant A-1, curing agent, and curing accelerator were uniformly mixed in a mixer ("Awatori Rentaro ARV-200" manufactured by Thinky Co., Ltd.) according to Table 1, and an epoxy resin composition was prepared. I got it. This epoxy resin composition was sandwiched between aluminum mirror plates ("JIS H 4000 A1050P" manufactured by Engineering Test Service Co., Ltd.) using a silicone tube as a spacer, and heated and cured at 170°C for 30 minutes to form a resin with a thickness of 0.8 mm. A cured product was obtained.

<引張試験>
樹脂硬化物を打抜き刃にてダンベル形状(JIS K 7161-2-1BA)に打ち抜き,これを試験片とした。この試験片を引張試験機(株式会社島津製作所製「オートグラフAG-IS」)を用いて、JIS K 7162-2に従って引張強度、伸び率、弾性率を評価した(試験速度:2mm/min)。
<Tensile test>
The cured resin was punched out into a dumbbell shape (JIS K 7161-2-1BA) using a punching blade, and this was used as a test piece. This test piece was evaluated for tensile strength, elongation, and elastic modulus according to JIS K 7162-2 using a tensile tester ("Autograph AG-IS" manufactured by Shimadzu Corporation) (test speed: 2 mm/min). .

<引張せん断試験>
樹脂組成物を、2枚の冷間圧延鋼板(TP技研株式会社製「SPCC-SB」、1.0mm×25mm×100mm)のうち1枚に塗布し、スペーサーとしてガラスビーズ(ポッターズ・バロティーニ株式会社製「J-80」)を添加し,もう1枚のSPCC-SBを貼り合わせた(接着面積:25mm×12.5mm)。これを170℃で1時間加熱硬化を行い、試験片を得た。その試験片を用いて引張りせん断試験を行うことで接着性を評価した。試験はJIS K 6850に従って行い,最大点応力を比較した。
<Tensile shear test>
The resin composition was applied to one of two cold-rolled steel plates (SPCC-SB manufactured by TP Giken Co., Ltd., 1.0 mm x 25 mm x 100 mm), and glass beads (Potters Ballotini Co., Ltd.) were applied as spacers. "J-80" manufactured by the company) was added, and another sheet of SPCC-SB was bonded (adhesion area: 25 mm x 12.5 mm). This was heated and cured at 170° C. for 1 hour to obtain a test piece. Adhesion was evaluated by performing a tensile shear test using the test piece. The test was conducted according to JIS K 6850, and the maximum point stress was compared.

実施例2 エポキシ化合物A-2の合成及び評価 Example 2 Synthesis and evaluation of epoxy compound A-2

Figure 0007375347000043
Figure 0007375347000043

実施例1において、合成例3で得られたヒドロキシ化合物B-1の680質量部の代わりに、合成例4で得られたヒドロキシ化合物B-2の730質量部に変えた以外は実施例1と同様にして反応し、反応物A-2を780質量部得た。得られた反応物A-2は、FD-MSスペクトル解析にてM+=2087のピークが確認されたことから、目的物であるエポキシ化合物A-2が存在することを確認した。得られた反応物については、実施例1と同様にして評価を行った。 Example 1 was the same as Example 1 except that 680 parts by mass of hydroxy compound B-1 obtained in Synthesis Example 3 was replaced with 730 parts by mass of hydroxy compound B-2 obtained in Synthesis Example 4. The reaction was carried out in the same manner to obtain 780 parts by mass of reactant A-2. In the obtained reaction product A-2, a peak of M+=2087 was confirmed in FD-MS spectrum analysis, so it was confirmed that the target product, epoxy compound A-2, existed. The obtained reaction product was evaluated in the same manner as in Example 1.

実施例3 エポキシ化合物Aー3の合成 Example 3 Synthesis of epoxy compound A-3

実施例1において、合成例3で得られたヒドロキシ化合物B-1の680質量部の代わりに、合成例5で得られたヒドロキシ化合物B-3の830質量部に変えた以外は実施例1と同様にして反応し、反応物A-3を870質量部得た。得られた反応物A-3は、FD-MSスペクトル解析にてM+=1717のピークが確認されたことから、目的物であるエポキシ化合物A-3が存在することを確認した。得られた反応物については、実施例1と同様にして評価を行った。 Example 1 was the same as Example 1 except that 680 parts by mass of hydroxy compound B-1 obtained in Synthesis Example 3 was replaced with 830 parts by mass of hydroxy compound B-3 obtained in Synthesis Example 5. The reaction was carried out in the same manner to obtain 870 parts by mass of Reactant A-3. In the obtained reaction product A-3, a peak of M+=1717 was confirmed in FD-MS spectrum analysis, so it was confirmed that the target product, epoxy compound A-3, existed. The obtained reaction product was evaluated in the same manner as in Example 1.

比較例1 エポキシ化合物A-4の合成 Comparative Example 1 Synthesis of epoxy compound A-4

実施例1において、合成例3で得られたヒドロキシ化合物B-1の680質量部の代わりに、合成例6で得られたヒドロキシ化合物B-4の330質量部に変えた以外は実施例1と同様にして反応し、反応物A-4を350質量部得た。得られた反応物A-4は、FD-MSスペクトル解析にてM+=883のピークが確認されたことから、目的物であるエポキシ化合物A-4が存在することを確認した。得られた反応物については、実施例1と同様にして評価を行った。 In Example 1, 680 parts by mass of hydroxy compound B-1 obtained in Synthesis Example 3 was replaced with 330 parts by mass of hydroxy compound B-4 obtained in Synthesis Example 6. The reaction was carried out in the same manner to obtain 350 parts by mass of Reactant A-4. In the obtained reaction product A-4, a peak of M+=883 was confirmed in FD-MS spectrum analysis, so it was confirmed that the target product, epoxy compound A-4, existed. The obtained reaction product was evaluated in the same manner as in Example 1.

比較例2 エポキシ化合物A-5の合成 Comparative Example 2 Synthesis of epoxy compound A-5

Figure 0007375347000046
Figure 0007375347000046

実施例1において、合成例3で得られたヒドロキシ化合物B-1の680質量部の代わりに、合成例7で得られたヒドロキシ化合物B-5の121質量部に変えた以外は実施例1と同様にして反応し、反応物A-5を160質量部得た。得られた反応物A-5は、FD-MSスペクトル解析にてM+=790のピークが確認されたことから、目的物であるエポキシ化合物A-5が存在することを確認した。得られた反応物については、実施例1と同様にして評価を行った。 In Example 1, 680 parts by mass of hydroxy compound B-1 obtained in Synthesis Example 3 was replaced with 121 parts by mass of hydroxy compound B-5 obtained in Synthesis Example 7. The reaction was carried out in the same manner to obtain 160 parts by mass of Reactant A-5. In the obtained reaction product A-5, a peak of M+=790 was confirmed in FD-MS spectrum analysis, so it was confirmed that the target product, epoxy compound A-5, existed. The obtained reaction product was evaluated in the same manner as in Example 1.

表中にて使用した材料は以下の通り。
DICY:ジシアンジアミド(三菱ケミカル株式会社製「DICY7」)
DCMU:3-(3,4-ジクロロフェニル)-1,1-ジメチルウレア(DIC株式会社製「B-605-IM」)
The materials used in the table are as follows.
DICY: dicyandiamide (“DICY7” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
DCMU: 3-(3,4-dichlorophenyl)-1,1-dimethylurea (“B-605-IM” manufactured by DIC Corporation)

本発明のエポキシ化合物Aは、弾性変形を前提とする高い伸び率と、基材の熱膨張差に耐えうる高い接着性を兼備する柔軟な硬化物を提供することができる。特に、構造材料用の接着剤や、半導体封止材料や多層プリント基板用絶縁層などの先端電子材料に好適に使用可能である。 Epoxy compound A of the present invention can provide a flexible cured product that has both a high elongation rate based on elastic deformation and high adhesiveness that can withstand the difference in thermal expansion of the base material. In particular, it can be suitably used for adhesives for structural materials, advanced electronic materials such as semiconductor sealing materials and insulating layers for multilayer printed circuit boards.

Claims (12)

式(1)で表される構造Xと、グリシジルエーテル基または2-メチルグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物Aを含有する組成物であって、
前記エポキシ化合物Aが、下記式(A-1)、(A-2)及び(A-3)からなる群より選ばれる1種以上であることを特徴とする、組成物
・・・(1)
(式(1)中、Arは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表し、n=3であって、mは繰り返しの平均値でありmはであって、
Yは式(2-1)およびまたは式(2-2)で表される構造である
(但し、繰り返し単位中に存在する各繰り返し単位はそれぞれ同一であっても異なっていても構わない)
・・・(2-1)
・・・(2-2)
(式(2-1)及び式(2-2)中、p及びpはそれぞれ独立して12であって、
~Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1または2のアルキル基を表し、
,R、Rは、それぞれ独立して水酸基、グリシジルエーテル基およびまたは2-メチルグリシジルエーテル基を表し、
、R、R10は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、
Arは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表す)。)
・・・(A-1)
・・・(A-2)
・・・(A-3)
A composition containing a structure X represented by formula (1) and an epoxy compound A having a glycidyl ether group or a 2-methylglycidyl ether group,
A composition, wherein the epoxy compound A is one or more selected from the group consisting of the following formulas (A-1), (A-2) and (A-3).
...(1)
(In formula (1), Ar represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent, n = 3 , m is the average value of repetitions, m is 1 ,
Y is a structure represented by formula (2-1) and/or formula (2-2) (however, each repeating unit present in the repeating unit may be the same or different)
...(2-1)
...(2-2)
(In formula (2-1) and formula (2-2), p 1 and p 2 are each independently 12 ,
R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms,
R 1 , R 7 and R 8 each independently represent a hydroxyl group, a glycidyl ether group and/or a 2-methylglycidyl ether group,
R 2 , R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group,
Ar represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent). )
...(A-1)
...(A-2)
...(A-3)
更に、硬化剤を含有する、請求項に記載の組成物。 The composition according to claim 1 , further comprising a curing agent. 前記硬化剤がアミン系化合物、フェノール系化合物、カルボン酸系化合物およびまたは酸無水物系化合物から選ばれる少なくともひとつである、請求項に記載の組成物。 The composition according to claim 2 , wherein the curing agent is at least one selected from amine compounds, phenol compounds, carboxylic acid compounds, and/or acid anhydride compounds. 更に、フィラーを含有する、請求項1又は2記載の組成物。 The composition according to claim 1 or 2 , further comprising a filler. 請求項1~4のいずれかに記載の組成物を硬化してなる硬化物。 A cured product obtained by curing the composition according to any one of claims 1 to 4 . 基材と請求項に記載の硬化物層とを有することを特徴とする積層体。 A laminate comprising a base material and the cured material layer according to claim 5 . 基材が金属または金属酸化物である、請求項に記載の積層体。 The laminate according to claim 6 , wherein the base material is a metal or a metal oxide. 基材と請求項に記載の硬化物層と第2基材とがこの順に積層してなる積層体であって、基材が金属または金属酸化物であって、第2基材がプラスチック層である、請求項またはに記載の積層体。 A laminate formed by laminating a base material, the cured product layer according to claim 5 , and a second base material in this order, wherein the base material is a metal or a metal oxide, and the second base material is a plastic layer. The laminate according to claim 6 or 7 . 請求項のいずれかに記載の積層体を含有することを特徴とする電子部材。 An electronic component comprising the laminate according to any one of claims 6 to 8 . 式(1)で表される構造Xと、グリシジルエーテル基または2-メチルグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物Aを含有する、金属または金属酸化物用接着剤であって、
前記エポキシ化合物Aが、下記式(A-1)、(A-2)及び(A-3)からなる群より選ばれる1種以上であることを特徴とする、金属または金属酸化物用接着剤。
・・・(1)
(式(1)中、Arは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表し、n=3であって、mは繰り返しの平均値でありmは1であって、
Yは式(2-1)およびまたは式(2-2)で表される構造である
(但し、繰り返し単位中に存在する各繰り返し単位はそれぞれ同一であっても異なっていても構わない)
・・・(2-1)
・・・(2-2)
(式(2-1)及び式(2-2)中、p 及びp はそれぞれ独立して12であって、
~R はそれぞれ独立して水素原子または炭素数1または2のアルキル基を表し、
,R 、R は、それぞれ独立して水酸基、グリシジルエーテル基およびまたは2-メチルグリシジルエーテル基を表し、
、R 、R 10 は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、
Arは無置換または置換基を有する芳香環を有する構造を表す)。)
・・・(A-1)
・・・(A-2)
・・・(A-3)
An adhesive for metals or metal oxides, comprising a structure X represented by formula (1) and an epoxy compound A having a glycidyl ether group or a 2-methylglycidyl ether group,
An adhesive for metals or metal oxides, characterized in that the epoxy compound A is one or more selected from the group consisting of the following formulas (A-1), (A-2) and (A-3). .
...(1)
(In formula (1), Ar represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent, n = 3, m is the average value of repetitions, m is 1,
Y is a structure represented by formula (2-1) and or formula (2-2)
(However, each repeating unit that exists in a repeating unit may be the same or different.)
...(2-1)
...(2-2)
(In formula (2-1) and formula (2-2), p 1 and p 2 are each independently 12,
R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms,
R 1 , R 7 and R 8 each independently represent a hydroxyl group, a glycidyl ether group and/or a 2-methylglycidyl ether group,
R 2 , R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group,
Ar represents a structure having an aromatic ring that is unsubstituted or has a substituent). )
...(A-1)
...(A-2)
...(A-3)
脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)と芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)とを反応させエポキシ化合物Cを得る工程と、
エポキシ化合物Cと芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)とを反応させヒドロキシ化合物Bを得る工程と、
ヒドロキシ化合物Bにエピハロヒドリン類(a4)を反応させて前記エポキシ化合物Aを得る工程とを有することを特徴とする、
請求項1記載の組成物の製造方法。
a step of reacting diglycidyl ether (a1) of an aliphatic dihydroxy compound with an aromatic hydroxy compound (a2) to obtain an epoxy compound C;
A step of reacting epoxy compound C and aromatic hydroxy compound (a3) to obtain hydroxy compound B;
A step of reacting the hydroxy compound B with an epihalohydrin (a4) to obtain the epoxy compound A,
A method for producing the composition according to claim 1 .
脂肪族系ジヒドロキシ化合物のジグリシジルエーテル(a1)と芳香族系ヒドロキシ化合物(a2)とを反応させエポキシ化合物Cを得る工程と、
エポキシ化合物Cと芳香族系ヒドロキシ化合物(a3)とを反応させヒドロキシ化合物Bを得る工程と、
ヒドロキシ化合物Bにエピハロヒドリン類(a4)を反応させて前記エポキシ化合物Aを得る工程とを有することを特徴とする、
請求項10記載の金属または金属酸化物用接着剤の製造方法。
a step of reacting diglycidyl ether (a1) of an aliphatic dihydroxy compound with an aromatic hydroxy compound (a2) to obtain an epoxy compound C;
A step of reacting epoxy compound C and aromatic hydroxy compound (a3) to obtain hydroxy compound B;
A step of reacting the hydroxy compound B with an epihalohydrin (a4) to obtain the epoxy compound A,
The method for producing an adhesive for metal or metal oxide according to claim 10 .
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