KR20200079601A

KR20200079601A - Stretchable substrate

Info

Publication number: KR20200079601A
Application number: KR1020180168896A
Authority: KR
Inventors: 최경철; 손영헌; 임명섭; 남민우
Original assignee: 한국과학기술원
Priority date: 2018-12-26
Filing date: 2018-12-26
Publication date: 2020-07-06
Also published as: KR102167733B1

Abstract

The present invention relates to, in detail, a stretchable substrate mounted on a stretchable material having conductivity, wherein the stretchable substrate comprises: a first flat pattern; a second flat pattern spaced apart from the first flat pattern by a predetermined distance; and a bridge pattern connecting a first connection point of the first flat pattern and a second connection point of the second flat pattern. The first connection point is located on an adjacent surface adjacent to the second flat pattern of the surface of the first flat pattern and the second connection point may be located on a non-adjacent surface non-adjacent to the first flat pattern of the surface of the second flat pattern. Therefore, the present invention has an effect of reducing stress applied to an interconnection for connecting membranes when stretching is applied.

Description

STRETCHABLE SUBSTRATE

본 발명은 스트레처블 기판에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 신축성 소재에 탑재되며 도전성을 갖는 스트레처블 기판에 관한 것이다.The present invention relates to a stretchable substrate, and more particularly, to a stretchable substrate mounted on a stretchable material and having conductivity.

최근 데이터의 입력이나 출력, 연산, 통신 기능을 갖는 전자 기기를 신체에 근접 내지는 밀착한 상태로 사용하기 위한 웨어러블 전자 기기가 개발되고 있다. 웨어러블 전자 기기에는 손목시계, 안경, 이어폰과 같은 액세서리형의 외형을 갖는 기기, 의복에 전자 기능을 도입한 텍스타일 집적형 기기가 알려져 있다. 2. Description of the Related Art Recently, wearable electronic devices have been developed for using electronic devices having data input or output, calculation, and communication functions in close proximity to or close to the body. 2. Description of the Related Art Wearable electronic devices are known as devices having an external appearance of accessories such as watches, glasses, and earphones, and textile integrated devices incorporating electronic functions in clothing.

전자 기기에는, 전력 공급용이나 신호 전송용의 전기 배선이 필요하다. 특히 텍스타일 집적형 웨어러블 전자 기기에는, 신축하는 의복에 맞춰 전기 배선에도 신축성이 요구된다. 통상, 금속선이나 금속박으로 이루어지는 전기 배선에는, 본질적으로 실용적인 신축성은 없기 때문에, 금속선이나 금속박을 파형, 혹은 반복 말굽형으로 배치하여, 의사적으로 신축 기능을 갖게 하는 수법이 이용되고 있다.Electronic devices require electrical wiring for power supply or signal transmission. In particular, in the textile-integrated wearable electronic device, stretchability is also required for electrical wiring in accordance with stretch clothes. In general, since electric wires made of metal wires or metal foils have essentially no practical stretchability, a technique is used in which metal wires or metal foils are arranged in a wave shape or a repetitive horseshoe shape to provide a stretchable function intentionally.

금속선의 경우 금속선을 실과 같이 의복에 꿰매 붙임으로써 배선 형성이 가능하지만, 그 과정이 복잡하고 비용이 많이 요구되어 대량 생산에 적합하지 않다.In the case of a metal wire, it is possible to form a wire by stitching the metal wire to a garment like a thread, but the process is complicated and expensive, which is not suitable for mass production.

금속박의 에칭에 의해 배선을 형성하는 경우 포토 레지스트를 이용한 포토 공정을 통해 배선 패턴을 형성할 수 있다. 이러한 방법은 금속 패턴을 신축성이 있는 수지 시트에 접합하고, 프린트 배선판과 동일한 수법으로 파형 배선을 형성함으로써 이루어질 수 있다. When wiring is formed by etching the metal foil, a wiring pattern can be formed through a photo process using a photoresist. This method can be achieved by bonding a metal pattern to a stretchable resin sheet and forming a corrugated wiring in the same manner as a printed wiring board.

신축성을 가진 스트레처블(stretchable) 기판에 사용되는 종래의 패턴은 멤브레인과 멤브레인 간의 인터커넥션으로 구성될 수 있다. 이 때, 인터커넥션은 ㄷ자 형상 또는 각진 파형이 반복적으로 형성되는 패턴을 가짐으로써 구조적인 신축성을 보완할 수 있다. 하지만, 멤브레인과 인터커넥션 패턴에 대한 신축이 가해질 때 인터커넥션에 집중적으로 가해지는 압력에 의한 스트레스에 취약한 문제점이 있다.Conventional patterns used in stretchable stretchable substrates can consist of membranes and interconnections between membranes. At this time, the interconnection can complement the structural elasticity by having a pattern in which a U-shape or an angled waveform is repeatedly formed. However, there is a problem in that it is vulnerable to stress caused by pressure applied intensively to the interconnection when stretching of the membrane and the interconnection pattern is applied.

본 발명의 실시예에 따른 스트레처블 기판은 신축이 가해질 때 멤브레인 간을 연결하기 위한 인터커넥션에 가해지는 스트레스를 줄이는 것에 그 목적이 있다.The stretchable substrate according to an embodiment of the present invention has an object to reduce stress applied to an interconnect for connecting between membranes when stretching is applied.

본 발명의 실시예에 따른 스트레처블 기판은 신축이 가해질 때 멤브레인 간을 연결하기 위한 인터커넥션에 가해지는 스트레스를 줄임으로써 보다 외력에 저항할 수 있는 한계치를 향상시키고, 스트레처블 기판의 내구성을 증대시키는 것에 다른 목적이 있다.The stretchable substrate according to an embodiment of the present invention reduces the stress applied to the interconnection for connecting the membranes when expansion and contraction is applied, thereby improving the limit of resistance to external forces and improving the durability of the stretchable substrate. There is another purpose to augment.

상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 스트레처블 기판은 제1 평판형 패턴; 상기 제1 평판형 패턴과 소정 거리 이격된 제2 평판형 패턴; 및 상기 제1 평판형 패턴의 제1 연결점과 상기 제2 평판형 패턴의 제2 연결점을 연결하는 브릿지 패턴; 을 포함하고, 상기 제1 연결점은 상기 제1 평판형 패턴의 면 중 상기 제2 평판형 패턴과 인접한 인접면에 위치하고, 상기 제2 연결점은 상기 제2 평판형 패턴의 면 중 상기 제1 평판형 패턴과 비인접하는 비인접면에 위치할 수 있다.The stretchable substrate according to an embodiment of the present invention for solving the above problems is a first flat plate pattern; A second flat plate pattern spaced a predetermined distance from the first flat plate pattern; And a bridge pattern connecting the first connection point of the first flat plate pattern and the second connection point of the second flat plate pattern. The first connection point is located on an adjacent surface adjacent to the second flat pattern among the surfaces of the first flat pattern, and the second connection point is the first flat type among the surfaces of the second flat pattern. It may be located on a non-adjacent surface that is non-adjacent to the pattern.

상기 제1 평판형 패턴과 상기 제2 평판형 패턴은 원형 또는 다각형의 평판 형상으로 형성될 수 있다.The first flat plate pattern and the second flat plate pattern may be formed in a circular or polygonal flat plate shape.

상기 제1 평판형 패턴과 상기 제2 평판형 패턴은 상기 제1 평판형 패턴과 상기 제2 평판형 패턴 간의 거리가 신장되면, 상기 제1 연결점과 상기 제2 연결점의 위치에 대응하여 소정 방향으로 회전될 수 있다.When the distance between the first flat plate pattern and the second flat plate pattern is extended, the first flat plate pattern and the second flat plate pattern are in a predetermined direction corresponding to the positions of the first connection point and the second connection point. Can be rotated.

상기 제1 평판형 패턴과 상기 제2 평판형 패턴은 상기 제1 평판형 패턴과 상기 제2 평판형 패턴 각각의 하부에 연결된 실리콘 탄성체를 축으로 하여 상기 소정 방향으로 회전할 수 있다.The first flat plate pattern and the second flat plate pattern may rotate in the predetermined direction with a silicone elastic body connected to the lower portions of the first flat plate pattern and the second flat plate pattern as an axis.

상기 제1 평판형 패턴, 상기 제2 평판형 패턴 및 상기 브릿지 패턴은 포토 레지스트를 이용한 포토 공정을 통해 패턴이 형성될 수 있다.The first flat plate pattern, the second flat plate pattern, and the bridge pattern may be formed through a photo process using a photoresist.

상기 브릿지 패턴은 상기 제1 연결점부터 중간점까지 연장되는 제1 구간; 상기 제2 연결점부터 상기 중간점까지 연장되는 제2 구간; 을 포함하고, 상기 제1 구간과 상기 제2 구간은 상기 중간점에서 연장 방향이 변경되며, 상기 제1 연결점부터 상기 제2 연결점까지 동일한 형상의 패턴이 반복될 수 있다.The bridge pattern may include a first section extending from the first connection point to an intermediate point; A second section extending from the second connection point to the intermediate point; Including, the first section and the second section is changed in the extending direction from the intermediate point, the pattern of the same shape may be repeated from the first connection point to the second connection point.

반복되는 상기 동일한 형상의 패턴은 직각으로 각진 파형, 지그재그형, 곡선 파형 및 말굽 파형 중 하나일 수 있다.The repeating pattern of the same shape may be one of an angled waveform, a zigzag shape, a curved waveform, and a horseshoe waveform.

상기 제1 구간의 길이는 상기 제2 구간의 길이보다 짧을 수 있다.The length of the first section may be shorter than the length of the second section.

상기 제1 구간의 진행 방향과 상기 제2 구간의 진행 방향은 서로 수직할 수 있다.The traveling direction of the first section and the traveling direction of the second section may be perpendicular to each other.

상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 스트레처블 기판은 복수의 제1 평판형 패턴; 상기 복수의 제1 평판형 패턴과 소정 거리 이격된 복수의 제2 평판형 패턴; 및 상기 제1 평판형 패턴의 제1 연결점과 상기 제2 평판형 패턴의 제2 연결점을 연결하는 복수의 브릿지 패턴; 을 포함하고, 상기 제1 연결점은 상기 제1 평판형 패턴의 면 중 상기 제2 평판형 패턴과 인접한 인접면에 위치하고, 상기 제2 연결점은 상기 제2 평판형 패턴의 면 중 상기 제1 평판형 패턴과 비인접하는 비인접면에 위치할 수 있다.A stretchable substrate according to another embodiment of the present invention for solving the above problems includes a plurality of first flat plate patterns; A plurality of second flat plate-shaped patterns spaced a predetermined distance from the plurality of first flat plate-shaped patterns; And a plurality of bridge patterns connecting the first connection point of the first flat plate pattern and the second connection point of the second flat plate pattern. The first connection point is located on an adjacent surface adjacent to the second flat pattern among the surfaces of the first flat pattern, and the second connection point is the first flat type among the surfaces of the second flat pattern. It may be located on a non-adjacent surface that is non-adjacent to the pattern.

상기 복수의 제1 평판형 패턴과 상기 복수의 제2 평판형 패턴은 격자형으로 서로 교차 배열될 수 있다.The plurality of first flat plate patterns and the plurality of second flat plate patterns may be arranged to cross each other in a lattice shape.

본 발명의 실시예에 따른 스트레처블 기판은 신축이 가해질 때 멤브레인 간을 연결하기 위한 인터커넥션에 가해지는 스트레스를 줄이는 효과가 있다.The stretchable substrate according to an embodiment of the present invention has an effect of reducing stress applied to an interconnect for connecting between membranes when stretching is applied.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 스트레처블 기판은 신축이 가해질 때 멤브레인 간을 연결하기 위한 인터커넥션에 가해지는 스트레스를 줄임으로써 보다 외력에 저항할 수 있는 한계치를 향상시키고, 스트레처블 기판의 내구성을 증대시킬 수 있다.In addition, the stretchable substrate according to an embodiment of the present invention reduces the stress applied to the interconnection for connecting the membranes when expansion and contraction is applied, thereby improving the limit of resistance to external forces, and of the stretchable substrate. Durability can be increased.

본 발명에 관한 이해를 돕기 위해 상세한 설명의 일부로 포함되는, 첨부도면은 본 발명에 대한 실시예를 제공하고, 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술적 사상을 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 스트레처블 기판의 패턴을 설명하기 위한 도면이다.
도 2와 도 3은 도 1의 실시예에서 제1 연결점과 제2 연결점이 변형된 다른 실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 4A와 도 4B는 도 1의 실시예에서 스트레처블 기판에 신축이 가해짐에 따라 스트레처블 기판의 패턴 형상이 변형되는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 스트레처블 기판의 패턴이 반복 형성되는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 도 5의 실시예에 따른 스트레처블 기판에 대해 신축이 가해짐에 따라 스트레처블 기판의 패턴 형상이 변형되는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 7 내지 도 10은 스트레처블 기판의 브릿지 패턴이 가질 수 있는 형상들을 예시하여 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 본 발명의 실시예에 따른 스트레처블 기판의 평판형 패턴이 가질 수 있는 다른 형상과 그에 따른 브릿지 패턴의 형상을 예시하여 설명하기 위한 도면이다.
도 12는 본 발명의 실시예에 따른 스트레처블 기판과 실리콘 탄성체를 설명하기 위한 도면이다.The accompanying drawings, which are included as part of the detailed description to aid understanding of the present invention, provide embodiments of the present invention and describe the technical spirit of the present invention together with the detailed description.
1 is a view for explaining a pattern of a stretchable substrate according to an embodiment of the present invention.
2 and 3 are views for explaining another embodiment in which the first connection point and the second connection point are modified in the embodiment of FIG. 1.
4A and 4B are diagrams for explaining that a pattern shape of a stretchable substrate is deformed as stretch and stretch is applied to the stretchable substrate in the embodiment of FIG. 1.
5 is a view for explaining that the pattern of the stretchable substrate is repeatedly formed.
6 is a view for explaining that the pattern shape of the stretchable substrate is deformed as stretch is applied to the stretchable substrate according to the embodiment of FIG. 5.
7 to 10 are views for explaining shapes that the bridge pattern of the stretchable substrate may have.
11 is a view for explaining another shape that the flat pattern of the stretchable substrate according to an embodiment of the present invention may have and the shape of the bridge pattern accordingly.
12 is a view for explaining a stretchable substrate and a silicon elastic body according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 이하에서는 특정 실시예들을 첨부된 도면을 기초로 상세히 설명하고자 한다.The present invention can be applied to various conversions and can have various embodiments. Hereinafter, specific embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하의 실시예는 본 명세서에서 기술된 방법, 장치 및/또는 시스템에 대한 포괄적인 이해를 돕기 위해 제공된다. 그러나 이는 예시에 불과하며 본 발명은 이에 제한되지 않는다.The following examples are provided to aid in a comprehensive understanding of the methods, devices and/or systems described herein. However, this is only an example and the present invention is not limited thereto.

본 발명의 실시예들을 설명함에 있어서, 본 발명과 관련된 공지기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다. 그리고, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다. 상세한 설명에서 사용되는 용어는 단지 본 발명의 실시 예들을 기술하기 위한 것이며, 결코 제한적이어서는 안 된다. 명확하게 달리 사용되지 않는 한, 단수 형태의 표현은 복수 형태의 의미를 포함한다. 본 설명에서, "포함" 또는 "구비"와 같은 표현은 어떤 특성들, 숫자들, 단계들, 동작들, 요소들, 이들의 일부 또는 조합을 가리키기 위한 것이며, 기술된 것 이외에 하나 또는 그 이상의 다른 특성, 숫자, 단계, 동작, 요소, 이들의 일부 또는 조합의 존재 또는 가능성을 배제하도록 해석되어서는 안 된다.In describing the embodiments of the present invention, when it is determined that a detailed description of known technology related to the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, terms to be described later are terms defined in consideration of functions in the present invention, which may vary according to a user's or operator's intention or practice. Therefore, the definition should be made based on the contents throughout this specification. The terminology used in the detailed description is only for describing embodiments of the present invention and should not be limiting. Unless expressly used otherwise, a singular form includes a plural form. In this description, expressions such as “including” or “equipment” are intended to indicate certain characteristics, numbers, steps, actions, elements, parts or combinations thereof, and one or more other than described. It should not be interpreted to exclude the presence or likelihood of other features, numbers, steps, actions, elements, or parts or combinations thereof.

또한, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되는 것은 아니며, 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Further, terms such as first and second may be used to describe various components, but the components are not limited by the terms, and the terms are used to distinguish one component from other components. Used only.

이하에서는, 본 발명을 예시한 실시 형태들이 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 스트레처블 기판(10)의 패턴을 설명하기 위한 도면이다. 도 1을 참조하면, 스트레처블 기판(10)은 제1 평판형 패턴(100), 제2 평판형 패턴(200) 및 브릿지 패턴(300)을 포함할 수 있다.1 is a view for explaining the pattern of the stretchable substrate 10 according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the stretchable substrate 10 may include a first flat plate pattern 100, a second flat plate pattern 200 and a bridge pattern 300.

스트레처블 기판(10)은 외부에서 가해지는 신축에 대응하여 기판의 길이를 늘릴 수 있다. 스트레처블 기판(10)의 각 패턴들(100, 200, 300)은 포토레지스트(photo-resist)를 이용한 포토 공정을 통해 형성될 수 있다. The stretchable substrate 10 may increase the length of the substrate in response to stretching applied from the outside. Each pattern (100, 200, 300) of the stretchable substrate 10 may be formed through a photo process using a photo-resist (photo-resist).

포토레지스트는 감광성, 접착성, 내부식성을 갖춘 고분자 화합물이며, 포토 에칭 공정에 사용될 수 있다. 포토레지스트는 기판의 시료 표면에 도표되어 건조된 후, 소정의 패턴이 형성된 포토마스크를 밀착시켜 자외선을 쪼이거나 자외선을 사용한 광학계로 포토마스크 상을 투영함으로써 노광될 수 있다.The photoresist is a polymer compound having photosensitivity, adhesion, and corrosion resistance, and can be used in a photo etching process. After the photoresist is plotted and dried on the sample surface of the substrate, the photomask formed with a predetermined pattern may be exposed to the photomask by attaching ultraviolet rays or projecting the photomask onto an optical system using ultraviolet rays.

상기한 방법으로 제1 평판형 패턴(100), 제2 평판형 패턴(200) 및 브릿지 패턴(300)을 포함하는 스트레처블 기판(10)이 형성될 수 있다.The stretchable substrate 10 including the first flat pattern 100, the second flat pattern 200, and the bridge pattern 300 may be formed by the above-described method.

제1 평판형 패턴(100), 제2 평판형 패턴(200) 및 브릿지 패턴(300)은 같은 소재로 구성될 수 있으며, 보다 상세하게, 에폭시 기반 네거티브 포토레지스트(epoxy-based negative photoresist)에 사용되는 SU-8로 구성될 수 있다. The first flat pattern 100, the second flat pattern 200, and the bridge pattern 300 may be composed of the same material, and more specifically, used for an epoxy-based negative photoresist. Can be composed of SU-8.

제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)은 소정의 형상으로 이루어진 평판형의 패턴일 수 있다. 예를 들어, 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)은 삼각형이나 사각형, 육각형과 같은 다각형의 형상을 가지거나 원형으로 이루어질 수 있다. 본 발명의 실시예는 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)이 정사각형의 형상을 가진 것을 예시하여 설명하기로 한다. The first flat plate pattern 100 and the second flat plate pattern 200 may be flat plate patterns formed in a predetermined shape. For example, the first flat pattern 100 and the second flat pattern 200 may have a polygonal shape such as a triangle, a square, or a hexagon, or may be formed in a circle. An embodiment of the present invention will be described by exemplifying that the first flat plate pattern 100 and the second flat plate pattern 200 have a square shape.

제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)은 소정 거리 이격될 수 있으며, 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)의 사이에 개재되는 공간을 중간 영역(M)으로 정의할 수 있다. The first flat plate pattern 100 and the second flat plate pattern 200 may be spaced apart a predetermined distance, and the space interposed between the first flat plate pattern 100 and the second flat plate pattern 200 may be intermediate. It can be defined as the area M.

도 1을 참조하면, 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)을 서로 연결하기 위한 브릿지 패턴(300)이 형성된 것을 알 수 있다. 브릿지 패턴(300)은 제1 평판형 패턴(100)의 제1 연결점(310)에서 시작되어 제2 평판형 패턴(200)의 제2 연결점(320)까지 연장되는 형상을 가질 수 있다. 본 발명의 실시예에서 브릿지 패턴(300)은 평판형 패턴 간의 전기적 연결을 유지하기 위한 인터커넥션으로 이해될 수 있다.Referring to FIG. 1, it can be seen that the bridge pattern 300 for connecting the first flat pattern 100 and the second flat pattern 200 is formed. The bridge pattern 300 may have a shape starting from the first connection point 310 of the first flat plate pattern 100 and extending to the second connection point 320 of the second flat plate pattern 200. In an embodiment of the present invention, the bridge pattern 300 may be understood as an interconnection for maintaining electrical connections between flat patterns.

브릿지 패턴(300)은 스트레처블 기판(10)의 신축에 대응하여 인가되는 압력에 따른 스트레스를 줄이기 위해서, 소정의 패턴이 반복 형성되는 형상을 가질 수 있다. 도 1에서는 직각으로 각진 파형의 형상이 반복 형성되는 것을 예시하여 설명하기로 한다. The bridge pattern 300 may have a shape in which a predetermined pattern is repeatedly formed in order to reduce stress caused by pressure applied in response to stretching and stretching of the stretchable substrate 10. In Figure 1 will be described by illustrating that the shape of the angled waveform is repeatedly formed at a right angle.

본 발명의 실시예에서 제1 연결점(310)은 제1 평판형 패턴(100)의 일면에 위치할 수 있다. 보다 상세하게, 제1 연결점(310)은 제1 평판형 패턴(100)을 둘러싸는 변 중 제2 평판형 패턴(100)과 인접한 인접면(110)에 위치할 수 있다. 그리고 제2 연결점(320)은 제2 평판형 패턴(200)을 둘러싸는 변 중 제1 평판형 패턴(100)과 비인접하는 비인접면(220, 230, 240) 중 하나에 위치할 수 있다. In an embodiment of the present invention, the first connection point 310 may be located on one surface of the first flat plate pattern 100. In more detail, the first connection point 310 may be located on an adjacent surface 110 adjacent to the second flat plate pattern 100 among the sides surrounding the first flat plate pattern 100. In addition, the second connection point 320 may be located on one of the non-adjacent surfaces 220, 230, and 240 that are non-adjacent to the first flat plate pattern 100 among the sides surrounding the second flat plate pattern 200.

복수의 제1 평판형 패턴(100)과 복수의 제2 평판형 패턴(200)이 격자 배열되고 서로 연결되기 위한 브릿지 패턴(300)의 공간을 확보하기 위하여, 제2 연결점(320)은 제2 평판형 패턴(200)의 비인접면(220, 230, 240) 중 비인접면(220)과 비인접면(240)에 위치하는 것이 바람직하다. 그러나 스트레처블 기판(10)의 설계에 따라 제2 연결점(320)은 다른 비인접면(240)에 위치할 수 도 있다.In order to secure a space of the bridge pattern 300 in which the plurality of first flat plate patterns 100 and the plurality of second flat plate patterns 200 are arranged in a grid and connected to each other, the second connection point 320 is the second It is preferable to be located on the non-adjacent surface 220 and the non-adjacent surface 240 among the non-adjacent surfaces 220, 230, and 240 of the flat plate pattern 200. However, depending on the design of the stretchable substrate 10, the second connection point 320 may be located at another non-adjacent surface 240.

도 1에서 제1 평판형 패턴(100)의 인접면(110)과 제2 평판형 패턴(200)의 인접면(210)은 두 평판형 패턴이 서로 마주보는 면을 기준으로 설정될 수 있다. 평판형 패턴의 형상이 도 1과 같이 사각형이 아닌 다각형인 경우, 이격 배치된 두 평판형 패턴의 중심을 연결하는 선에 대응하는 면이 인접면으로 설정될 수 있다. 또한, 평판형 패턴이 원형인 경우, 소정의 각도에 따라 분할되는 호에 따라 인접면이 설정될 수 있다. In FIG. 1, adjacent surfaces 110 of the first flat plate pattern 100 and adjacent surfaces 210 of the second flat plate pattern 200 may be set based on surfaces facing the two flat plate patterns. When the shape of the plate-shaped pattern is a polygon other than a square as shown in FIG. 1, a surface corresponding to a line connecting the centers of the two flat-shaped patterns spaced apart may be set as an adjacent surface. In addition, when the flat pattern is circular, an adjacent surface may be set according to an arc divided according to a predetermined angle.

브릿지 패턴(300)은 제1 연결점(310)으로부터 제2 연결점(320)까지 연장되어 형성될 수 있다. 제1 연결점(310)이 위치하는 제1 평판형 패턴(100)의 인접면(110)과 제2 연결점(320)이 위치하는 제2 평판형 패턴(200)의 비인접면(220)의 위치에 대응하여 브릿지 패턴(300)은 중간에 연장 방향이 변경될 수 있다. 브릿지 패턴(300)의 연장 방향이 변경되는 지점을 중간점(330)으로 정의할 수 있다.The bridge pattern 300 may be formed to extend from the first connection point 310 to the second connection point 320. The position of the non-adjacent surface 220 of the second flat plate pattern 200 where the first connection point 310 is located adjacent to the first surface 110 of the first flat plate pattern 100 and the second connection point 320 is located In response, the extension direction of the bridge pattern 300 may be changed in the middle. The point at which the extension direction of the bridge pattern 300 is changed may be defined as the midpoint 330.

제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200) 간의 거리가 신장되면 브릿지 패턴(300)이 연결하는 제1 연결점(310)과 제2 연결점(320)의 위치로 인하여 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)의 소정 방향으로 회전된다. 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)의 일부 회전됨에 따라 브릿지 패턴(300)에 가해지는 스트레스가 줄어들게 된다. 이에 대한 보다 상세한 설명은 후술하기로 한다.When the distance between the first flat plate pattern 100 and the second flat plate pattern 200 is extended, the first flat plate is formed due to the positions of the first connection point 310 and the second connection point 320 to which the bridge pattern 300 connects. The mold pattern 100 and the second flat plate pattern 200 are rotated in a predetermined direction. As some of the first flat plate pattern 100 and the second flat plate pattern 200 are rotated, stress applied to the bridge pattern 300 is reduced. This will be described later in more detail.

브릿지 패턴(300)의 제1 연결점(310)부터 중간점(330)까지의 구간을 제1 구간(A1)으로 정의하고, 중간점(330)부터 제2 연결점(320)까지의 구간을 제2 구간(B1)으로 정의할 수 있다. The section from the first connecting point 310 to the intermediate point 330 of the bridge pattern 300 is defined as the first section A1, and the section from the intermediate point 330 to the second connecting point 320 is second. It can be defined as the section B1.

제1 구간(A1)의 길이와 제2 구간(B1)의 길이의 합은 일정할 수 있다. 즉, 제1 연결점(310)의 위치에 대응하여 제1 구간(A1)의 길이가 길어지면, 그만큼 제2 구간(B1)의 길이가 짧아지고, 제2 연결점(320)의 상대적인 위치도 변경된다. 보다 구체적으로 도 2와 도 3을 참조하여 설명하기로 한다.The sum of the length of the first section A1 and the length of the second section B1 may be constant. That is, when the length of the first section A1 is increased corresponding to the position of the first connection point 310, the length of the second section B1 is shortened, and the relative position of the second connection point 320 is also changed. . More specifically, it will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

도 2와 도 3은 도 1의 실시예에서 제1 연결점과 제2 연결점이 변형된 다른 실시예를 설명하기 위한 도면이다. 도 2와 도 3에 있어서, 도 1과 중복되는 구성 또는 효과에 대한 설명은 생략하기로 한다. 도 2와 도 3의 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)은 도 1과 동일한 크기를 가질 수 있고, 도 1과 동일한 위치에 배치되며, 평판형 패턴(200)간의 거리도 도 1과 동일할 수 있다. 2 and 3 are views for explaining another embodiment in which the first connection point and the second connection point are modified in the embodiment of FIG. 1. In FIGS. 2 and 3, descriptions of the overlapping configuration or effect of FIG. 1 will be omitted. The first flat plate pattern 100 and the second flat plate pattern 200 of FIGS. 2 and 3 may have the same size as in FIG. 1, are disposed in the same position as in FIG. 1, and are between the flat plate patterns 200. The distance may also be the same as in FIG. 1.

도2는 도 1과 비교할 때, 제1 연결점(311)과 제2 연결점(321)의 위치가 다른 것을 알 수 있다. 보다 상세하게, 제1 연결점(311)은 제1 평판형 패턴(100)에서 제2 평판형 패턴(200)과 인접한 인접면(110) 상에 위치하나, 도 1의 제1 연결점(310)보다 좌측에 위치할 수 있다. 여기서 좌측이란 도 2를 도 1과 비교 설명하기 위한 도면상의 방향을 의미한다. 즉, 도 2의 실시예에서 제1 연결점(311)은 제1 평판형 패턴(100)의 인접면(110) 상에서 도 1의 제1 연결점(310)보다 제1 평판형 패턴(100)의 중심에 가까운 곳에 위치할 수 있다.FIG. 2 shows that the positions of the first connection point 311 and the second connection point 321 are different when compared with FIG. 1. More specifically, the first connection point 311 is located on the adjacent surface 110 adjacent to the second flat plate pattern 200 in the first flat plate pattern 100, but is less than the first connection point 310 of FIG. It can be located on the left. Here, the left side means a direction in the drawing for comparing and explaining FIG. 2 with FIG. 1. That is, in the embodiment of FIG. 2, the first connection point 311 is the center of the first flat plate pattern 100 than the first connection point 310 of FIG. 1 on the adjacent surface 110 of the first flat plate pattern 100. Can be located close to.

그리고 도 2의 실시예에서 제2 연결점(321)은 제2 평판형 패턴(200)에서 제1 평판형 패턴(100)과 비인접한 비인접면(220) 상에 위치하나, 도 1의 제2 연결점(320) 보다 하측에 위치할 수 있다. 여기서 하측이란 도 2를 도 1과 비교 설명하기 위한 도면 상의 방향을 의미한다. 즉, 도 2의 실시예에서 제2 연결점(321)은 제2 평판형 패턴(200)의 비인접면(220) 상에서 도 1의 제2 연결점(320)보다 제2 평판형 패턴(200)의 중심에 가까운 곳에 위치할 수 있다. Also, in the embodiment of FIG. 2, the second connection point 321 is located on the non-adjacent surface 220 that is not adjacent to the first flat plate pattern 100 in the second flat plate pattern 200, but the second connection point of FIG. It may be located below the connection point 320. Here, the lower side means a direction on the drawing to compare FIG. 2 with FIG. 1. That is, in the embodiment of FIG. 2, the second connection point 321 of the second flat plate pattern 200 is greater than the second connection point 320 of FIG. 1 on the non-adjacent surface 220 of the second flat plate pattern 200. It can be located close to the center.

따라서, 도 2의 실시예에서 제1 구간(A2)과 제2 구간(B2)의 길이차는 도 1의 제1 구간(A1)과 제2 구간(B1)의 길이차 보다 적을 수 있다.Accordingly, in the embodiment of FIG. 2, the length difference between the first section A2 and the second section B2 may be less than the length difference between the first section A1 and the second section B1 of FIG. 1.

도 3은 도 2 또는 도 1과 비교할 때, 제1 연결점(312)과 제2 연결점(322)의 위치가 다른 것을 알 수 있다. 보다 상세하게, 제1 연결점(312)은 제1 평판형 패턴(100)에서 제2 평판형 패턴(200)과 인접한 인접면(110) 상에 위치하나, 도 1의 제1 연결점(310) 또는 도 2의 제1 연결점(311)보다 좌측에 위치할 수 있다. 여기서 좌측이란 도 3을 도 2 또는 도 1과 비교 설명하기 위한 도면 상의 방향을 의미한다. 즉, 도 3의 실시예에서 제1 연결점(312)은 제1 평판형 패턴(100)의 인접면(110) 상에서 도 1의 제1 연결점(310) 또는 도 2의 제1 연결점(311) 보다 제1 평판형 패턴(100)의 중심에 가까운 곳 또는 인접면(110) 상의 중심에 위치할 수 있다.3, it can be seen that the positions of the first connection point 312 and the second connection point 322 are different when compared with FIG. 2 or 1. In more detail, the first connection point 312 is located on the adjacent surface 110 adjacent to the second flat pattern 200 in the first flat pattern 100, but the first connection point 310 of FIG. 1 or It may be located on the left side of the first connection point 311 of FIG. 2. Here, the left side means a direction on the drawing for comparing and explaining FIG. 3 with FIG. 2 or FIG. 1. That is, in the embodiment of FIG. 3, the first connection point 312 is greater than the first connection point 310 of FIG. 1 or the first connection point 311 of FIG. 2 on the adjacent surface 110 of the first flat plate pattern 100. It may be located near the center of the first flat plate pattern 100 or at the center on the adjacent surface 110.

그리고 도 3의 실시예에서 제2 연결점(322)은 제2 평판형 패턴(200)에서 제1 평판형 패턴(100)과 비인접한 비인접면(220) 상에 위치하나, 도 2의 제2 연결점(321) 보다 하측에 위치할 수 있다. 여기서 하측이란 도 3을 도 2와 비교 설명하기 위한 도면 상의 방향을 의미한다. 즉, 도 3의 실시예에서 제2 연결점(322)은 제2 평판형 패턴(200)의 비인접면(220) 상에서 도 2의 제2 연결점(321)보다 제2 평판형 패턴(200)의 중심에 가까운 곳에 위치할 수 있다. Also, in the embodiment of FIG. 3, the second connection point 322 is located on the non-adjacent surface 220 that is not adjacent to the first flat plate pattern 100 in the second flat plate pattern 200, but the second connection point of FIG. It may be located below the connection point 321. Here, the lower side means a direction on the drawing for comparing and explaining FIG. 3 with FIG. 2. That is, in the embodiment of FIG. 3, the second connection point 322 of the second flat plate pattern 200 is greater than the second connection point 321 of FIG. 2 on the non-adjacent surface 220 of the second flat plate pattern 200. It can be located close to the center.

따라서, 도 3의 실시예에서 제1 구간(A3)과 제2 구간(B3)의 길이차는 도 2의 제1 구간(A2)과 제2 구간(B2)의 길이차 보다 적을 수 있다.Therefore, in the embodiment of FIG. 3, the length difference between the first section A3 and the second section B3 may be less than the length difference between the first section A2 and the second section B2 of FIG. 2.

상기한 바와 같이, 도 1 내지 도 3과 같이, 또는 다른 위치에 제1 연결점과 제2 연결점을 설정하여 브릿지 패턴(300)을 형성함으로써 패턴 형성 환경에 따라 브릿지 패턴의 위치 변화가 가능해진다. As described above, as shown in FIGS. 1 to 3, or by setting the first connection point and the second connection point at different positions to form the bridge pattern 300, it is possible to change the position of the bridge pattern according to the pattern formation environment.

도 4A와 도 4B는 도 1의 실시예에서 스트레처블 기판(10)에 신축이 가해짐에 따라 스트레처블 기판(10)의 패턴 형상이 변형되는 것을 설명하기 위한 도면이다.4A and 4B are diagrams for explaining that the pattern shape of the stretchable substrate 10 is deformed as the stretchable substrate 10 is stretched in the embodiment of FIG. 1.

도 4A는 앞선 도 1의 실시예와 같은 구성으로 이루어질 수 있고, 스트레처블 기판(10)에 신축이 가해지기 전의 상태를 예시할 수 있다. 도 4B는 도 4A의 실시예의 스트레처블 기판(10)이 F방향으로 신장되는 것을 예시하기 위한 도면이다.4A may have the same configuration as in the previous embodiment of FIG. 1, and may illustrate a state before stretch and stretch are applied to the stretchable substrate 10. 4B is a diagram for illustrating that the stretchable substrate 10 of the embodiment of FIG. 4A is stretched in the F direction.

제1 평판형 패턴(100)의 중심점(D1)과 제2 평판형 패턴(200)의 중심점(D2)의 거리를 C1이라 할 때, 도 4B에서 외력 F에 의하여 중심점(D1)과 중심점(D2) 간의 거리가 C2로 늘어난 것을 알 수 있다. 제1 연결점(310) 및 제2 연결점(320)과 연결된 브릿지 패턴(300)은 평판형 패턴의 중심점 간의 거리가 늘어남에 따라 같이 신장된다. 브릿지 패턴(300)의 양단에 가해지는 장력에 대응하여 브릿지 패턴(300)은 각각의 연결점들(310, 320)을 통해 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)을 당기게 된다. 그에 따라 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)은 E 방향으로 회전하게 된다. 이 때, 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)이 회전되는 정도는 평판형 패턴 간의 거리나 제1 연결점(310) 및 제2 연결점(320)의 상대적 위치에 따라 달라질 수 있다.When the distance between the center point D1 of the first flat plate pattern 100 and the center point D2 of the second flat plate pattern 200 is C1, the center point D1 and the center point D2 by the external force F in FIG. 4B. It can be seen that the distance between) is increased to C2. The bridge pattern 300 connected to the first connection point 310 and the second connection point 320 is elongated as the distance between the center points of the flat pattern increases. In response to the tension applied to both ends of the bridge pattern 300, the bridge pattern 300 pulls the first flat pattern 100 and the second flat pattern 200 through respective connection points 310 and 320. do. Accordingly, the first flat plate pattern 100 and the second flat plate pattern 200 are rotated in the E direction. At this time, the degree to which the first flat plate pattern 100 and the second flat plate pattern 200 are rotated depends on the distance between the flat plate patterns or the relative positions of the first connection point 310 and the second connection point 320. Can be.

평판형 패턴들의 회전에 따라 브릿지 패턴(300)에 가해지는 스트레스가 상대적으로 감소하게 되는 효과가 있다. 이를 통해 브릿지 패턴(300)이 스트레처블 기판(10)의 신장에 대한 내구성이 증가하게 된다.There is an effect that the stress applied to the bridge pattern 300 is relatively reduced according to the rotation of the flat plate patterns. Through this, the durability of the bridge pattern 300 to the stretch of the stretchable substrate 10 is increased.

도 5는 스트레처블 기판(11)의 패턴이 반복 형성되는 것을 설명하기 위한 도면이다. 5 is a view for explaining that the pattern of the stretchable substrate 11 is repeatedly formed.

도 5를 참조하면, 도 1에서 예시된 평판형 패턴들이 격자형으로 서로 소정 거리 이격되어 배열된 것을 예시한다. 도 5에서 하나의 제1 평판형 패턴(100)은 주변에 위치한 4개의 제2 평판형 패턴(200)들과 각각 브릿지 패턴들을 통해 연결될 수 있다. 마찬가지로 하나의 제2 평판형 패턴(200)은 주변에 위치한 4개의 제1 평판형 패턴(100)들과 각각 브릿지 패턴들을 통해 연결될 수 있다. 도 5에서 각 평판형 패턴들 간의 연결은 도 1 내지 도 3에 예시된 바와 같이 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 5, it is illustrated that the flat plate patterns illustrated in FIG. 1 are arranged at a predetermined distance from each other in a grid shape. In FIG. 5, one first flat plate pattern 100 may be connected to four second flat plate patterns 200 positioned around each other through bridge patterns. Likewise, one second flat plate pattern 200 may be connected to four first flat plate patterns 100 positioned around each other through bridge patterns. In FIG. 5, connections between the respective flat plate patterns may be made as illustrated in FIGS. 1 to 3.

도 6은 도 5의 실시예에 따른 스트레처블 기판(11)에 대해 신축이 가해짐에 따라 스트레처블 기판(11)의 패턴 형상이 변형되는 것을 설명하기 위한 도면이다. 앞서, 도 4A와 도 4B에서 설명된 바와 같이, 제1 평판형 패턴(100)과 제2 평판형 패턴(200)은 기판의 신장에 대응하여 소정의 방향으로 회전할 수 있다.6 is a view for explaining that the pattern shape of the stretchable substrate 11 is deformed as the stretchable substrate 11 is stretched according to the embodiment of FIG. 5. 4A and 4B, the first flat plate pattern 100 and the second flat plate pattern 200 may rotate in a predetermined direction corresponding to the elongation of the substrate.

도 6은 복수의 제1 평판형 패턴(100)과 복수의 제2 평판형 패턴(200)이 연결된 스트레처블 기판(11)이 F 방향으로 신장될 때 각각의 평판형 패턴간 거리가 신장되고, 평판형 패턴들 회전된 상태를 예시하기 위한 도면이다.6 is when the stretchable substrate 11 to which the plurality of first flat plate patterns 100 and the plurality of second flat plate patterns 200 are connected is stretched in the F direction, the distance between each flat plate pattern is extended and , It is a diagram for illustrating the rotated state of the flat pattern.

도 7 내지 도 10은 스트레처블 기판의 브릿지 패턴(300)이 가질 수 있는 형상들을 예시하여 설명하기 위한 도면이다. 브릿지 패턴(300)은 기판의 신장에 대응하여 인가되는 스트레스를 브릿지 패턴(300)의 특정한 위치에 집중시키지 않고 전체에 분산시키기 위하여, 소정의 패턴이 반복되는 형상을 가질 수 있다. 7 to 10 are views for explaining shapes that the bridge pattern 300 of the stretchable substrate may have. The bridge pattern 300 may have a shape in which a predetermined pattern is repeated in order to disperse the stress applied in response to the elongation of the substrate over the entire location without focusing on a specific location of the bridge pattern 300.

도 7은 각진 파형, 도 8은 지그재그형, 도 9는 곡선 파형, 도 10은 말굽 파형 인 것을 예시한다. 브릿지 패턴(300)의 형상은 도 7 내지 도 10에 예시된 형태 중 하나가 반복되어 형성될 수 있다. 본 발명은 도 7 내지 도 10에 예시된 바에 한하지 않으며, 스트레스를 분산시키기 위한 다른 패턴이 사용될 수 있다. 브릿지 패턴(300)을 구성하는 반복 패턴의 크기나 두께는 기판의 크기나 평판형 패턴 간의 거리나 배치 방법에 따라 달리 설정될 수 있다.7 illustrates an angled waveform, FIG. 8 is a zigzag shape, FIG. 9 is a curved waveform, and FIG. 10 is a horseshoe waveform. The shape of the bridge pattern 300 may be formed by repeating one of the shapes illustrated in FIGS. 7 to 10. The present invention is not limited to that illustrated in FIGS. 7 to 10, and other patterns for dispersing stress may be used. The size or thickness of the repeating patterns constituting the bridge pattern 300 may be set differently according to the size of the substrate or the distance between the flat patterns or the arrangement method.

도 11은 본 발명의 실시예에 따른 스트레처블 기판의 평판형 패턴이 가질 수 있는 다른 형상과 그에 따른 브릿지 패턴의 형상을 예시하여 설명하기 위한 도면이다. 도 11을 참조하면, 평판형 패턴이 서로 교차 배열되나 도 5와 같은 바둑판식 격자형이 아니고, 하나의 행을 이루는 평판형 패턴들과 다른 하나의 행을 이루는 평판형 패턴들 이 비스듬하게 이루어진 것을 알 수 있다.11 is a view for explaining another shape that a flat pattern of a stretchable substrate according to an embodiment of the present invention may have and a shape of a bridge pattern accordingly. Referring to FIG. 11, the plate-shaped patterns are arranged to cross each other, but are not a checkerboard lattice type as shown in FIG. 5, but the plate-shaped patterns forming one row and the plate-shaped patterns forming another row are made obliquely. Able to know.

도 12는 본 발명의 실시예에 따른 스트레처블 기판(11)과 실리콘 탄성체(20)를 설명하기 위한 도면이다. 12 is a view for explaining the stretchable substrate 11 and the silicon elastic body 20 according to an embodiment of the present invention.

도 12를 참조하면, 도 6과 같은 스트레처블 기판(11)의 하부에 실리콘 탄성체(20)가 연결된 것을 알 수 있다. 실리콘 탄성체(20)는 기판(21)과 연결부(22)로 구성될 수 있다. 기판(21)은 의복과 같은 신축성 소재에 집적적으로 결합될 수 있고, 연결부(22)는 기판(21)과 스트레처블 기판(11)을 연결하기 위한 기둥 형태로 구성되어 스트레처블 기판(11)의 각 평판형 패턴 마다 복수 개 연결될 수 있다. 실리콘 탄성체(20)는 PDMS(Polydimethylsiloxane)처럼 신축성을 가진 실리콘 재질로 구성될 수 있다.Referring to FIG. 12, it can be seen that the silicon elastic body 20 is connected to the lower portion of the stretchable substrate 11 as shown in FIG. 6. The silicone elastic body 20 may be composed of a substrate 21 and a connecting portion 22. The substrate 21 may be integrally coupled to a stretchable material such as a garment, and the connecting portion 22 is formed in a columnar shape for connecting the substrate 21 and the stretchable substrate 11, so that the stretchable substrate ( A plurality of 11) may be connected to each flat plate pattern. The silicone elastomer 20 may be made of a stretchable silicone material, such as polydimethylsiloxane (PDMS).

실리콘 탄성체(20)의 연결부(22)는 평판형 패턴의 중심에 연결될 수 있고, 이를 통하여 스트레처블 기판(11)의 평판형 패턴은 기판의 신장에 대응하여 연결부(22)를 축으로 회전될 수 있다.The connecting portion 22 of the silicone elastic body 20 may be connected to the center of the flat plate pattern, through which the flat plate pattern of the stretchable substrate 11 may be rotated axially in connection with the elongation of the substrate. Can.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명에 기재된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의해서 해석되어야 하며, 그와 균등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments described in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain, and are not limited to these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical spirits within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

100: 제1 평판형 패턴 110: 인접면
200: 제2 평판형 패턴 210: 인접면
220, 230, 240: 비인접면
300: 브릿지 패턴 310: 제1 연결점
320: 제2 연결점 330: 중간점100: first flat plate pattern 110: adjacent surface
200: second flat pattern 210: adjacent surface
220, 230, 240: non-adjacent
300: bridge pattern 310: first connection point
320: second connection point 330: midpoint

Claims

A first flat plate pattern;
A second flat plate pattern spaced a predetermined distance from the first flat plate pattern; And
A bridge pattern connecting the first connection point of the first flat plate pattern and the second connection point of the second flat plate pattern; Including,
The first connection point is located on an adjacent surface adjacent to the second flat pattern among the surfaces of the first flat pattern,
The second connection point is a stretchable substrate, characterized in that located on a non-adjacent surface that is non-adjacent to the first flat-panel pattern among the surfaces of the second flat-panel pattern;

The method of claim 1, wherein the first flat plate pattern and the second flat plate pattern
Stretchable substrate, characterized in that formed in a circular or polygonal plate shape.

The method of claim 1, wherein the first flat plate pattern and the second flat plate pattern
When the distance between the first flat plate pattern and the second flat plate pattern is extended, the stretchable substrate is rotated in a predetermined direction corresponding to the position of the first connection point and the second connection point.

The method of claim 3, wherein the first flat plate pattern and the second flat plate pattern
A stretchable substrate, characterized in that rotating in the predetermined direction with a silicon elastic body connected to the lower portion of each of the first flat plate pattern and the second flat plate pattern.

The method of claim 1, wherein the first flat plate pattern, the second flat plate pattern and the bridge pattern
A stretchable substrate characterized in that a pattern is formed through a photo process using a photoresist.

The method of claim 1, wherein the bridge pattern
A first section extending from the first connection point to the midpoint;
A second section extending from the second connection point to the intermediate point; Including,
In the first section and the second section, an extension direction is changed at the midpoint,
The stretchable substrate is characterized in that the pattern of the same shape is repeated from the first connection point to the second connection point.

The method of claim 6,
The repeatable pattern of the same shape is a stretchable substrate, characterized in that one of an angled waveform, a zigzag shape, a curved waveform and a horseshoe waveform.

The method of claim 6,
The stretchable substrate is characterized in that the length of the first section is shorter than the length of the second section.

The method of claim 6, wherein the first direction and the second direction are
Stretchable substrate, characterized in that perpendicular to each other.

A plurality of first flat plate patterns;
A plurality of second flat plate-shaped patterns spaced a predetermined distance from the plurality of first flat plate-shaped patterns; And
A plurality of bridge patterns connecting the first connection point of the first flat plate pattern and the second connection point of the second flat plate pattern; Including,
The first connection point is located on an adjacent surface adjacent to the second flat pattern among the surfaces of the first flat pattern,
The second connection point is a stretchable substrate, characterized in that located on a non-adjacent surface that is non-adjacent to the first flat-panel pattern among the surfaces of the second flat-panel pattern.

The method of claim 10, wherein the plurality of first flat plate patterns and the plurality of second flat plate patterns
A stretchable substrate, characterized in that they are arranged in a cross with each other in a lattice shape.