KR20200076177A - Low dielectric adhesive composition and coverlay film comprising the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an adhesive composition comprising a polyimide resin, an epoxy resin, and an inorganic filler, and a coverlay film comprising the same. The present invention can provide low dielectric properties as well as adhesion, heat resistance, hole reliability, resin flowability, etc. required for PCB, especially FPCB. Therefore, the adhesive composition of the present invention can be applied to a flexible copper clad laminate (FCCL) having a conductive pattern, a bonding sheet of a multilayer FPCB, etc. Furthermore, the electric loss efficiency is excellent even when the adhesive composition is applied to an electronic product.

Description

저유전 접착제 조성물 및 이를 포함하는 커버레이 필름{Low dielectric adhesive composition and coverlay film comprising the same}Low dielectric adhesive composition and coverlay film comprising the same

본 명세서는 유전 특성이 개선된 접착제 조성물과 이를 포함하는 커버레이 필름에 관하여 기술한다.The present specification describes an adhesive composition having improved dielectric properties and a coverlay film comprising the same.

최근 인쇄회로기판(Printed Circuit Board; PCB)을 사용하는 전자기기 제품의 고집적화, 고미세화, 고성능화 등에 대한 요구가 높아짐과 동시에 대용량 고속 전송이 주요 화두가 되고 있다. 이를 위하여 연성회로기판(Flexible Printed Circuit Board; FPCB)이 전자기기 제품의 핵심기판으로 채택되고 있다. 연성회로기판은 유연성을 갖는 절연성 필름의 표면에 금속박을 붙여 제작한 적층판(Laminated plate)을 기재로 사용하기 때문에 얇고 쉽게 구부러지는 특성이 있어 3차원 배선이 가능하므로 기기의 소형화 및 경량화에 유리하다.In recent years, demands for high integration, high microscopy, and high performance of electronic devices using a printed circuit board (PCB) have increased, and high-capacity high-speed transmission has become a major topic. To this end, a flexible printed circuit board (FPCB) has been adopted as a core substrate for electronic products. Flexible circuit boards are thin and easily bendable because they use a laminated plate made by attaching a metal foil to the surface of a flexible insulating film as a base material, and are capable of three-dimensional wiring, which is advantageous for downsizing and weight reduction of devices.

상기와 같은 고속전송을 하는 고주파 전자부품을 이용하는 PCB의 경우 동(copper)회로 주위의 절연층 외측의 커버레이 필름(coverlay film)에 사용되는 접착제에도 우수한 전기 특성, 저유전율 및 저유전손실율 등이 요구되고 있다. 그러나 지금까지 제안된 접착제 조성물은 에폭시 수지와 아크릴로 니트릴부타디엔 고무(NBR), 아크릴, 폴리에스터 등의 배합물이 대부분으로, 접착강도 및 내열성은 탁월한데 반해 여전히 미세 패턴으로 인한 전기적 간섭의 최소화하지 못하고, 유전율이 높아서 고속 전송 소재로는 충분하지 않다는 문제가 있다. 또한, 이외 현재 도입된 저유전 절연소재들의 경우 저극성소재이며, 전기전송 소재인 동박 또한 전송손실을 최소화하기 위해 조조도의 동박을 사용하기 때문에 접착제와의 접착력이 약하고 내열성이 좋지 않아, FPCB 제조에 어려움이 있다. In the case of a PCB using a high-frequency electronic component having high-speed transmission as described above, it has excellent electrical properties, low dielectric constant, and low dielectric loss rate even in the adhesive used for the coverlay film outside the insulating layer around the copper circuit. Is required. However, the adhesive composition proposed so far is mostly composed of an epoxy resin and acrylonitrile butadiene rubber (NBR), acrylic, polyester, etc., while the adhesive strength and heat resistance are excellent, but still cannot minimize the electrical interference due to the fine pattern. , There is a problem that a high-speed transmission material is not sufficient due to a high dielectric constant. In addition, since the low-dielectric insulating materials currently introduced are low-polarity materials, and copper foil, which is an electrical transmission material, also uses copper foil of roughness to minimize transmission loss, the adhesive strength with the adhesive is weak and the heat resistance is poor, making FPCB Have difficulty.

대한민국 등록특허공보 제10-0829382호Republic of Korea Registered Patent Publication No. 10-0829382 대한민국 특허공개공보 제10-2013-0083317호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2013-0083317 대한민국 특허공개공보 제10-2014-0084415호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2014-0084415

일 관점에서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 연성회로기판 등에 적용하기 위하여 내열성 및 접착강도가 우수하면서도 낮은 유전율과 유전 손실율을 갖는 커버레이용 접착제 조성물을 제공하는 것이다.In one aspect, the problem to be solved by the present invention is to provide an adhesive composition for a coverlay having a low dielectric constant and a dielectric constant, while having excellent heat resistance and adhesive strength for application to a flexible circuit board.

일 측면에서, 본 발명은 폴리이미드계 수지, 에폭시 수지, 에폭시 수지용 경화제 및 무기 필러를 포함하는 커버레이 필름용 접착제 조성물을 제공한다.In one aspect, the present invention provides an adhesive composition for a coverlay film comprising a polyimide resin, an epoxy resin, a curing agent for an epoxy resin, and an inorganic filler.

다른 일 측면에서, 본 발명은 폴리이미드계 수지를 포함하는 전기 절연성 기재 필름층; 및 상기 전기 절연성 기재 필름층 상에 코팅된 상기 접착제 조성물을 포함하는 접착제 조성물층을 포함하는 커버레이 필름을 제공한다.In another aspect, the present invention is an electrically insulating base film layer comprising a polyimide-based resin; And an adhesive composition layer comprising the adhesive composition coated on the electrically insulating base film layer.

일 관점에서, 본 발명에 따른 접착제 조성물은 밀착력과 내열성이 우수한 에폭시 수지와 함께 폴리이미드계 수지 및 무기 필러를 더 포함함으로써, 낮은 유전율과 유전손실율을 갖는 조성물을 제공할 수 있다. 따라서, 상기 조성물은 PCB, 특히 FPCB에 요구되는 밀착력, 내열성, hole 신뢰성(PTH 가공시 열변형의 최소화), 레진 흐름성 등과 동시에 저유전 특성을 구비하므로, 도전성 패턴을 가지는 연성동박적층체(FCCL), 다층 FPCB의 본딩시트 등에도 적용 가능하다. 나아가 전자제품에 적용시도 전기 손실 효율이 우수하고, 특히 소형 전자제품의 적용이 용이하다.In one aspect, the adhesive composition according to the present invention may further provide a composition having a low dielectric constant and a dielectric loss ratio by further comprising a polyimide-based resin and an inorganic filler together with an epoxy resin excellent in adhesion and heat resistance. Accordingly, the composition has low dielectric properties at the same time as adhesion, heat resistance, hole reliability (minimization of heat distortion during PTH processing), and resin flowability required for PCB, especially FPCB, and thus, a flexible copper foil laminate having a conductive pattern (FCCL) ), multi-layer FPCB bonding sheet, etc. Furthermore, when applied to electronic products, electric loss efficiency is excellent, and particularly, small electronic products are easy to apply.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따라 전기 절연성 기재 필름층(30)의 상부에 접착제 조성물층(20)이 코팅된 커버레이 필름을 나타낸 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 구현예에 따라 전기 절연성 기재 필름층(30)의 상부에 접착제 조성물층(20)이 코팅되고, 접착제 조성물층(20)의 상부에 이형지층(10)이 합지된 커버레이 필름을 나타낸 개략도이다.
1 is a schematic view showing a coverlay film coated with an adhesive composition layer 20 on top of an electrically insulating base film layer 30 according to one embodiment of the present invention.
2 is an adhesive composition layer 20 is coated on the top of the electrically insulating base film layer 30 according to an embodiment of the present invention, the release paper layer 10 on the top of the adhesive composition layer 20 is laminated cover It is a schematic diagram showing a ray film.

이하, 본 발명의 구현예들을 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

본 발명의 일 구현예는 폴리이미드계 수지, 에폭시 수지, 에폭시 수지용 경화제 및 무기 필러를 포함하는 접착제 조성물을 제공한다. One embodiment of the present invention provides an adhesive composition comprising a polyimide-based resin, an epoxy resin, a curing agent for an epoxy resin, and an inorganic filler.

일 구현예로서, 상기 폴리이미드계 수지는 산 무수물과 방향족 디아민의 반응생성물일 수 있으며, 상기 반응으로 인해 생성된 폴리이미드계 수지는 내열성, 기계적 특성, 전기 절연성 등이 뛰어나다는 장점이 있다. 상기 산 무수물과 방향족 디아민은 반응을 통해 폴리이미드계 수지를 생성할 수 있는 것이면 그 종류가 제한되지 않고 모두 포함될 수 있다. 보다 구체적으로, 일 구현예로서 상기 폴리이미드계 수지는 방향족 테트라 카르복실산 무수물 및 다이머 디아민을 30몰% 이상 포함하는 방향족 디아민의 반응생성물로, 수평균분자량은 예를 들어 3,000~50,000, 보다 바람직하게는 5,000~15000이다.As an embodiment, the polyimide-based resin may be a reaction product of an acid anhydride and an aromatic diamine, and the polyimide-based resin produced by the reaction has an advantage of excellent heat resistance, mechanical properties, electrical insulation, and the like. The acid anhydride and the aromatic diamine may be included without limitation, as long as they are capable of producing a polyimide-based resin through a reaction. More specifically, as one embodiment, the polyimide-based resin is a reaction product of an aromatic diamine containing 30 mol% or more of aromatic tetracarboxylic acid anhydride and dimer diamine, and the number average molecular weight is, for example, 3,000 to 50,000. It is 5,000~15000.

구체적으로, 상기 산 무수물은 방향족 테트라 카르복실산 무수물일 수 있으며, 보다 구체적으로는 피로멜리트산 이무수물, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논 테트라 카르복실산 이무수물, 3,3', 4,4'-디페닐 에테르 테트라 카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐 술폰 테트라 카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-벤젠 테트라 카르복실산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌 테트라 카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐 테트라 카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,3', 4'-비페닐 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,3', 4'-벤조 페논테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3', 4'-디페닐 에테르 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,3',4'-디페닐 술폰 테트라 카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,3', 4,4'-테트라 카르복시 페닐)테트라 플루오로 프로판 이무수물, 2,2'-비스(3,4-디카르복시 페녹시페닐)술폰 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시 페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시 페닐)프로판 이무수물 및 4,4'[프로판-2,2-디일비스(1,4-페닐렌옥시)]디프탈산 이무수물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. Specifically, the acid anhydride may be an aromatic tetracarboxylic acid anhydride, more specifically pyromellitic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone Tetra carboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyl ether Tetra carboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenyl sulfone tetra carboxylic dianhydride, 1,2 ,3,4-benzene tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride Water, 2,3,3', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3',4' -Diphenyl sulfone tetra carboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,3', 4,4'-tetra carboxy phenyl) tetra fluoro propane dianhydride, 2,2'-bis (3,4-di Carboxyphenoxyphenyl)sulfone dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxy phenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxy phenyl)propane dianhydride and 4,4'[ Propane-2,2-diylbis(1,4-phenyleneoxy)]diphthalic acid dianhydride.

구체적으로, 상기 방향족 디아민은 페닐렌디아민(PDA), 옥시디아닐린(ODA), o-페닐렌디아민(OPD), 메타페닐렌디아민(MPD), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPER), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPEQ), 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐(m-TB-HG)(TFDB), 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘), 1,3'-비스(3-아미노페녹시)벤젠(APBN), 3,5-디아미노벤조트리플루오라이드(DABTF) 및 2,2-비스(4-[4-아미노페녹시]-페닐)프로판(BAPP)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.Specifically, the aromatic diamine is phenylenediamine (PDA), oxydianiline (ODA), o-phenylenediamine (OPD), metaphenylenediamine (MPD), 1,3-bis (4-aminophenoxy) Benzene (TPER), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPEQ), 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl (m-TB-HG) (TFDB), 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine), 1,3'-bis(3-aminophenoxy)benzene (APBN), 3,5-diaminobenzotrifluoride (DABTF) and 2,2 -Bis(4-[4-aminophenoxy]-phenyl)propane (BAPP).

일 구현예로서, 상기 폴리이미드계 수지는 조성물 총 중량에 대하여 10 내지 70 중량부, 보다 구체적으로는 40 내지 50 중량부로 포함될 수 있다. 폴리이미드계 수지가 10 중량부 미만으로 포함될 경우 폴리이미드계 수지의 비율이 적어 만족할만한 저유전 특성이 나타나지 않으며, 중량부 70을 초과하여 포함될 경우에는 밀착력, 내열성, 레진 흐름성 등이 저하되어 PCB에 적용하기 어렵다는 문제가 있다. 보다 구체적으로, 상기 폴리이미드계 수지는 조성물 총 중량에 대하여 고형분으로 10 중량부 이상, 12 중량부 이상, 14 중량부 이상, 16 중량부 이상, 18 중량부 이상, 20 중량부 이상, 22 중량부 이상, 24 중량부 이상, 26 중량부 이상, 28 중량부 이상, 30 중량부 이상, 32 중량부 이상, 34 중량부 이상, 36 중량부 이상, 38 중량부 이상, 40 중량부 이상, 42 중량부 이상, 44 중량부 이상, 46 중량부 이상, 48 중량부 이상, 50 중량부 이상, 52 중량부 이상, 54 중량부 이상, 56 중량부 이상, 58 중량부 이상, 60 중량부 이상, 62 중량부 이상, 64 중량부 이상, 66 중량부 이상, 68 중량부 이상 또는 70 중량부로 포함될 수 있다. 또한, 상기 폴리이미드계 수지는 조성물 총 중량에 대하여 고형분으로 70 중량부 이하, 68 중량부 이하, 66 중량부 이하, 64 중량부 이하, 62 중량부 이하, 60 중량부 이하, 58 중량부 이하, 56 중량부 이하, 54 중량부 이하, 52 중량부 이하, 50 중량부 이하, 48 중량부 이하, 46 중량부 이하, 44 중량부 이하, 42 중량부 이하, 40 중량부 이하, 38 중량부 이하, 36 중량부 이하, 34 중량부 이하, 32 중량부 이하, 30 중량부 이하, 28 중량부 이하, 26 중량부 이하, 24 중량부 이하, 22 중량부 이하, 20 중량부 이하, 18 중량부 이하, 16 중량부 이하, 14 중량부 이하, 12 중량부 이하 또는 10 중량부로 포함될 수 있다.As an embodiment, the polyimide-based resin may be included in an amount of 10 to 70 parts by weight, more specifically 40 to 50 parts by weight based on the total weight of the composition. When the polyimide-based resin is contained in less than 10 parts by weight, the ratio of the polyimide-based resin is small, so that satisfactory low dielectric properties are not exhibited, and when it is included in excess of 70 parts by weight, the adhesion, heat resistance, and resin flow properties are lowered, resulting in PCB There is a problem that it is difficult to apply to. More specifically, the polyimide-based resin is 10 parts by weight or more, 12 parts by weight or more, 14 parts by weight or more, 16 parts by weight or more, 18 parts by weight or more, 20 parts by weight or more, 22 parts by weight based on the total weight of the composition Above, above 24 parts by weight, above 26 parts by weight, above 28 parts by weight, above 30 parts by weight, above 32 parts by weight, above 34 parts by weight, above 36 parts by weight, above 38 parts by weight, above 40 parts by weight, above 42 parts by weight Above, above 44 parts by weight, above 46 parts by weight, above 48 parts by weight, above 50 parts by weight, above 52 parts by weight, above 54 parts by weight, above 56 parts by weight, above 58 parts by weight, above 60 parts by weight, above 62 parts by weight Or more, 64 parts by weight or more, 66 parts by weight or more, 68 parts by weight or more, or 70 parts by weight or more. In addition, the polyimide resin is 70 parts by weight or less, 68 parts by weight or less, 66 parts by weight or less, 64 parts by weight or less, 62 parts by weight or less, 60 parts by weight or less, 58 parts by weight or less, based on the total weight of the composition 56 parts by weight or less, 54 parts by weight or less, 52 parts by weight or less, 50 parts by weight or less, 48 parts by weight or less, 46 parts by weight or less, 44 parts by weight or less, 42 parts by weight or less, 40 parts by weight or less, 38 parts by weight or less, 36 parts by weight or less, 34 parts by weight or less, 32 parts by weight or less, 30 parts by weight or less, 28 parts by weight or less, 26 parts by weight or less, 24 parts by weight or less, 22 parts by weight or less, 20 parts by weight or less, 18 parts by weight or less, 16 parts by weight or less, 14 parts by weight or less, 12 parts by weight or less, or 10 parts by weight may be included.

일 구현예로서, 상기 에폭시 수지는 조성물의 접착성 및 내열성을 구현하기 위한 것으로, 구체적으로 페놀 노볼락형 에폭시 화합물, 크레졸 노볼락형 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 비스페놀 S형 에폭시 화합물, 수첨 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 수첨 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 스틸벤형 에폭시 화합물, 트리아진 골격 함유 에폭시 화합물, 플루오렌 골격 함유 에폭시 화합물, 선상 지방족 에폭시 화합물, 지환식 에폭시 화합물, 글리시딜 아민형 에폭시 화합물, 트리페놀 메탄형 에폭시 화합물, 알킬 변성 트리페놀 메탄형 에폭시 화합물, 비페닐형 에폭시 화합물, 디사이클로 펜타디엔 골격 함유 에폭시 화합물, 나프탈렌 골격 함유 에폭시 화합물, 아릴 알킬렌형 에폭시 화합물, 테트라 글리시딜 크실렌 디아민, 이들 에폭시 화합물을 다이머 산에서 변성하여 된 변성 에폭시 화합물 및 다이머산 디글리시딜 에스터로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 일 구현예에 따르면 상기 에폭시 수지는 조성물의 접착력을 강화함과 동시에, 함께 포함되는 폴리이미드계 수지의 저유전 특성을 유지하기 위한 관점에서 당량이 낮은 에폭시 수지일 수 있다. 또한, 폴리이미드계 수지의 경우 2~3%의 수분 흡습량을 나타내지만, 상기와 같이 폴리이미드계 수지에 에폭시 수지 및/또는 에폭시 수지용 경화제를 결합하여 포함할 경우 상기 폴리이미드계 수지의 수분 흡습을 제어할 수 있다.As an embodiment, the epoxy resin is for realizing the adhesive and heat resistance of the composition, specifically, a phenol novolac type epoxy compound, a cresol novolac type epoxy compound, a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, and a bisphenol S type epoxy compound, hydrogenated bisphenol A type epoxy compound, hydrogenated bisphenol F type epoxy compound, stilbene type epoxy compound, triazine skeleton-containing epoxy compound, fluorene skeleton-containing epoxy compound, linear aliphatic epoxy compound, alicyclic epoxy compound, glycylic Dill amine type epoxy compound, triphenol methane type epoxy compound, alkyl-modified triphenol methane type epoxy compound, biphenyl type epoxy compound, dicyclopentadiene skeleton-containing epoxy compound, naphthalene skeleton-containing epoxy compound, aryl alkylene type epoxy compound, tetra Glycidyl xylene diamine, a modified epoxy compound obtained by modifying these epoxy compounds in dimer acid, and dimer acid diglycidyl ester may include one or more selected from the group consisting of, but is not limited thereto. According to one embodiment, the epoxy resin may be an epoxy resin having a low equivalent in terms of enhancing the adhesive strength of the composition and maintaining the low dielectric properties of the polyimide-based resin included therein. In addition, in the case of a polyimide-based resin, it exhibits a moisture absorption amount of 2-3%, but when the polyimide-based resin is combined with a curing agent for an epoxy resin and/or an epoxy resin as described above, the moisture of the polyimide-based resin is included. Moisture absorption can be controlled.

또한, 상기 관점에서 일 구현예에 따른 상기 에폭시 수지는 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 20 중량부, 보다 구체적으로는 3 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 상기 에폭시 수지의 중량부가 1 미만인 경우 가교 밀도 및 접착제 조성물의 응집력이 약해져, 밀착력이 저하되고 내열성이 저하될 수 있으며, 20 중량부를 초과할 경우에는 상대적으로 폴리이미드계 수지의 함량이 낮아져 조성물의 유전율이 높아질 수 있다. 구체적으로, 상기 에폭시 수지는 조성물 총 중량에 대하여 고형분으로 0.1 중량부 이상, 0.2 중량부 이상, 0.3 중량부 이상, 0.4 중량부 이상, 0.5 중량부 이상, 0.6 중량부 이상, 0.7 중량부 이상, 0.8 중량부 이상, 0.9 중량부 이상, 1 중량부 이상, 2 중량부 이상, 3 중량부 이상, 4 중량부 이상, 5 중량부 이상, 6 중량부 이상, 7 중량부 이상, 8 중량부 이상, 9 중량부 이상, 10 중량부 이상, 11 중량부 이상, 12 중량부 이상, 13 중량부 이상, 14 중량부 이상, 15 중량부 이상, 16 중량부 이상, 17 중량부 이상, 18 중량부 이상, 19 중량부 이상 또는 20 중량부로 포함될 수 있다. 또한, 상기 에폭시는 조성물 총 중량에 대하여 고형분으로 20 중량부 이하, 19 중량부 이하, 18 중량부 이하, 17 중량부 이하, 16 중량부 이하, 15 중량부 이하, 14 중량부 이하, 13 중량부 이하, 12 중량부 이하, 11 중량부 이하, 10 중량부 이하, 9 중량부 이하, 8 중량부 이하, 7 중량부 이하, 6 중량부 이하, 5 중량부 이하, 4 중량부 이하, 3 중량부 이하, 2 중량부 이하, 1 중량부 이하, 0.9 중량부 이하, 0.8 중량부 이하, 0.7 중량부 이하, 0.6 중량부 이하, 0.5 중량부 이하, 0.4 중량부 이하, 0.3 중량부 이하, 0.2 중량부 이하 또는 0.1 중량부로 포함될 수 있다.일 구현예로서, 상기 에폭시 수지용 경화제는 에폭시 수지를 경화시키는 역할을 수행하는 것으로, 에폭시 수지 경화반응에 의해 조성물의 내열성 및 접착 특성이 보다 개선될 수 있다. 상기 에폭시 수지용 경화제로는 예를 들어 아민계 경화제가 포함될 수 있으며, 저유전 특성을 강화하기 위하여는 페놀계 경화제, 이소시아네이트계 경화제, 활성 에스테르 경화제 등이 포함될 수 있다. 일 구현예로서 상기 에폭시 수지용 경화제의 첨가량은 에폭시 수지의 당량에 활성수소량을 계산해서 첨가할 수 있으며, 예를 들어 에폭시 수지 100 중량부에 대해 50 내지 300 중량부, 보다 구체적으로는 100 내지 200 중량부로 포함될 수 있다. 또한, 필요에 따라서, 에폭시 수지와 에폭시 수지용 경화제의 반응을 촉진하는 경화 촉매가 선택적으로 사용될 수 있으며, 상기 경화 촉매로는 이미다졸을 예로 들 수 있다. In addition, the epoxy resin according to one embodiment from the viewpoint may be included in 1 to 20 parts by weight, more specifically 3 to 10 parts by weight based on the total weight of the composition. When the weight part of the epoxy resin is less than 1, the crosslinking density and the cohesive force of the adhesive composition become weak, the adhesion strength may decrease and the heat resistance may decrease, and when it exceeds 20 parts by weight, the content of the polyimide resin is relatively low and the dielectric constant of the composition This can be high. Specifically, the epoxy resin is 0.1 parts by weight or more, 0.2 parts by weight or more, 0.3 parts by weight or more, 0.4 parts by weight or more, 0.5 parts by weight or more, 0.6 parts by weight or more, 0.7 parts by weight or more, 0.8 More than parts by weight, more than 0.9 parts by weight, more than 1 part by weight, more than 2 parts by weight, more than 3 parts by weight, more than 4 parts by weight, more than 5 parts by weight, more than 6 parts by weight, more than 7 parts by weight, more than 8 parts by weight, 9 More than 10 parts by weight, more than 10 parts by weight, more than 11 parts by weight, more than 12 parts by weight, more than 13 parts by weight, more than 14 parts by weight, more than 15 parts by weight, more than 16 parts by weight, more than 17 parts by weight, more than 18 parts by weight, 19 It may be included in more than 20 parts by weight or 20 parts by weight. In addition, the epoxy is 20 parts by weight or less, 19 parts by weight or less, 18 parts by weight or less, 17 parts by weight or less, 16 parts by weight or less, 15 parts by weight or less, 14 parts by weight or less, 13 parts by weight based on the total weight of the composition Or less, 12 parts by weight or less, 11 parts by weight or less, 10 parts or less, 9 parts or less, 8 parts or less, 7 parts or less, 6 parts or less, 5 parts or less, 4 parts or less, 3 parts by weight Below, 2 parts by weight or less, 1 part by weight or less, 0.9 part by weight or less, 0.8 part by weight or less, 0.7 part by weight or less, 0.6 part by weight or less, 0.5 part by weight or less, 0.4 part by weight or less, 0.3 part by weight or less, 0.2 part by weight Or it may be included in 0.1 parts by weight. As an embodiment, the curing agent for the epoxy resin serves to cure the epoxy resin, and the heat resistance and adhesive properties of the composition may be further improved by an epoxy resin curing reaction. As the curing agent for the epoxy resin, for example, an amine curing agent may be included, and in order to enhance low dielectric properties, a phenolic curing agent, an isocyanate curing agent, an active ester curing agent, and the like may be included. As an embodiment, the amount of the curing agent for the epoxy resin may be added by calculating the amount of active hydrogen to the equivalent of the epoxy resin, for example, 50 to 300 parts by weight, more specifically 100 to 100 parts by weight of the epoxy resin 200 parts by weight may be included. In addition, if necessary, a curing catalyst that accelerates the reaction between the epoxy resin and the curing agent for the epoxy resin may be selectively used, and examples of the curing catalyst include imidazole.

일 구현예로서, 상기 조성물은 무기필러(inorganic filler)를 포함함으로써 조성물의 열팽창 계수(Coefficient of Thermal Expansion, CTE) 값을 저하시킬 수 있다. 상기 무기필러의 종류는 제한되지 않으나, 예를 들어 일 구현예에 따르면 실리카, 알루미나, 산화마그네슘, 탈크, 산화티탄, 질화 붕소, 지르코니아, 탄산칼슘, 탄산마그네슘 및 수산화 알루미늄로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 또한, 일 구현예로서 상기 무기필러의 입자 평균 크기는 0.5 내지 10㎛일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 구체적으로, 상기 무기필러의 입자 평균 크기는 0.5㎛ 이상, 0.6㎛ 이상, 0.7㎛ 이상, 0.8㎛ 이상, 0.9㎛ 이상, 1㎛ 이상, 2㎛ 이상, 3㎛ 이상, 4㎛ 이상, 5㎛ 이상, 6㎛ 이상, 7㎛ 이상, 8㎛ 이상, 9㎛ 이상 또는 10㎛일 수 있다. 또한, 상기 무기필러의 입자 평균 크기는 10㎛ 이하, 9 ㎛ 이하, 8㎛ 이하, 7㎛ 이하, 6㎛ 이하, 5㎛ 이하, 4㎛ 이하, 3㎛ 이하, 2㎛ 이하, 1㎛ 이하, 0.9㎛ 이하, 0.8㎛ 이하, 0.7㎛ 이하, 0.6㎛ 이하 또는 0.5㎛ 일 수 있다.In one embodiment, the composition may lower the coefficient of thermal expansion (CTE) value of the composition by including an inorganic filler. The type of the inorganic filler is not limited, for example, according to one embodiment, one selected from the group consisting of silica, alumina, magnesium oxide, talc, titanium oxide, boron nitride, zirconia, calcium carbonate, magnesium carbonate and aluminum hydroxide It may include the above. In addition, as an embodiment, the average particle size of the inorganic filler may be 0.5 to 10 μm, but is not limited thereto. Specifically, the average particle size of the inorganic filler is 0.5 µm or more, 0.6 µm or more, 0.7 µm or more, 0.8 µm or more, 0.9 µm or more, 1 µm or more, 2 µm or more, 3 µm or more, 4 µm or more, 5 µm or more , 6 μm or more, 7 μm or more, 8 μm or more, 9 μm or more, or 10 μm or more. In addition, the average particle size of the inorganic filler is 10 µm or less, 9 µm or less, 8 µm or less, 7 µm or less, 6 µm or less, 5 µm or less, 4 µm or less, 3 µm or less, 2 µm or less, 1 µm or less, It may be 0.9 μm or less, 0.8 μm or less, 0.7 μm or less, 0.6 μm or less, or 0.5 μm.

일 구현예로서 상기 무기필러는 조성물 총 중량에 대하여 10 내지 70 중량부로 포함될 수 있다. 상기 무기필러가 10 중량부 미만으로 포함되면 조성물의 열평창 계수(CTE) 값이 높아지며, 레진 흐름성이 떨어질 수 있다. 70 중량부 초과시에는 조성물 자체의 밀착력이 저하되고, 분산성 및 점도 문제로 인해 작업성이 저하된다는 문제가 있다. 보다 구체적으로, 상기 무기필러는 조성물 총 중량에 대하여 10 중량부 이상, 12 중량부 이상, 14 중량부 이상, 16 중량부 이상, 18 중량부 이상, 20 중량부 이상, 22 중량부 이상, 24 중량부 이상, 26 중량부 이상, 28 중량부 이상, 30 중량부 이상, 32 중량부 이상, 34 중량부 이상, 36 중량부 이상, 38 중량부 이상, 40 중량부 이상, 42 중량부 이상, 44 중량부 이상, 46 중량부 이상, 48 중량부 이상, 50 중량부 이상, 52 중량부 이상, 54 중량부 이상, 56 중량부 이상, 58 중량부 이상, 60 중량부 이상, 62 중량부 이상, 64 중량부 이상, 66 중량부 이상, 68 중량부 이상 또는 70 중량부로 포함될 수 있다. 또한, 상기 무기필러는 조성물 총 중량에 대하여 70 중량부 이하, 68 중량부 이하, 66 중량부 이하, 64 중량부 이하, 62 중량부 이하, 60 중량부 이하, 58 중량부 이하, 56 중량부 이하, 54 중량부 이하, 52 중량부 이하, 50 중량부 이하, 48 중량부 이하, 46 중량부 이하, 44 중량부 이하, 42 중량부 이하, 40 중량부 이하, 38 중량부 이하, 36 중량부 이하, 34 중량부 이하, 32 중량부 이하, 30 중량부 이하, 28 중량부 이하, 26 중량부 이하, 24 중량부 이하, 22 중량부 이하, 20 중량부 이하, 18 중량부 이하, 16 중량부 이하, 14 중량부 이하, 12 중량부 이하 또는 10 중량부로 포함될 수 있다.As an embodiment, the inorganic filler may be included in 10 to 70 parts by weight based on the total weight of the composition. When the inorganic filler is included in less than 10 parts by weight, the coefficient of thermal expansion (CTE) of the composition is increased, and resin flowability may be deteriorated. When the content exceeds 70 parts by weight, the adhesive force of the composition itself decreases, and there is a problem that workability deteriorates due to dispersibility and viscosity problems. More specifically, the inorganic filler is 10 parts by weight or more, 12 parts by weight or more, 14 parts by weight or more, 16 parts by weight or more, 18 parts by weight or more, 20 parts by weight or more, 22 parts by weight or more, 24 parts by weight based on the total weight of the composition Part by weight, 26 parts by weight or more, 28 parts by weight or more, 30 parts by weight or more, 32 parts by weight or more, 34 parts by weight or more, 36 parts by weight or more, 38 parts by weight or more, 40 parts by weight or more, 42 parts by weight or more, 44 parts by weight or more Part or more, 46 part or more, 48 part or more, 50 part or more, 52 part or more, 54 part or more, 56 part or more, 58 part or more, 60 part or more, 62 part or more, 64 part or more Part by weight, 66 parts by weight or more, 68 parts by weight or more, or 70 parts by weight may be included. In addition, the inorganic filler is 70 parts by weight or less, 68 parts by weight or less, 66 parts by weight or less, 64 parts by weight or less, 62 parts by weight or less, 60 parts by weight or less, 58 parts by weight or less, 56 parts by weight or less based on the total weight of the composition , 54 parts by weight or less, 52 parts by weight or less, 50 parts by weight or less, 48 parts by weight or less, 46 parts by weight or less, 44 parts by weight or less, 42 parts by weight or less, 40 parts by weight or less, 38 parts by weight or less, 36 parts by weight or less , 34 parts by weight or less, 32 parts by weight or less, 30 parts by weight or less, 28 parts by weight or less, 26 parts by weight or less, 24 parts by weight or less, 22 parts by weight or less, 20 parts by weight or less, 18 parts by weight or less, 16 parts by weight or less , 14 parts by weight or less, 12 parts by weight or less, or 10 parts by weight.

일 구현예로서 상기 조성물은 필요에 따라 조성물에 포함되는 유기물과 무기물의 혼합을 위한 첨가제를 더 포함할 수 있다. 또는, 필요에 따라 탈수제, 가소제, 내후제, 산화 방지제, 열 안정제, 윤활제, 대전 방지제, 표백제, 착색제, 표면 처리제, 점도 조절제, 분산제, 인계 난연제, 난연 필러, 불소 필러 등을 적절한 양으로 더 포함할 수 있다.As an embodiment, the composition may further include additives for mixing organic and inorganic substances included in the composition, if necessary. Or, if necessary, further include a suitable amount of dehydrating agent, plasticizer, weathering agent, antioxidant, heat stabilizer, lubricant, antistatic agent, bleach, colorant, surface treatment agent, viscosity modifier, dispersant, phosphorus flame retardant, flame retardant filler, fluorine filler, etc. can do.

폴리이미드의 수분흡습을 낮추기 위해 일부 탈수제, 필러와 유기물의 분산을 위한 표면처리제 및 분산제가 일부 첨가될 수 있으며, 난연 특성을 주기 위해 인계 난연제가 추가될 수 있다.In order to lower the moisture absorption of the polyimide, some dehydrating agents, surface treatment agents for dispersing fillers and organic substances, and dispersing agents may be added, and phosphorus-based flame retardants may be added to give flame retardant properties.

본 발명의 구현예들에 따르면, 상기 접착제 조성물은 다음의 방법에 따라 제조될 수 있다. 일 구현예로서, 조성물에 포함되는 각 수지를 유기 용제에 희석해서 사용한다. 예를 들어, 폴리이미드 수지는 사이클로헥사논, 엑폭시 수지 및 경화제는 MEK(methyl Ethyl Ketone) 및 톨루엔 등에 희석해서 사용할 수 있다. 경화 촉매는 PGME(Propylene glycol mono methyl ether)에 희석해서 사용할 수 있다. 무기 필러는 분산하여 사용할 수 있으며, 상기 분산은 비드(Beads) 분산기, 쓰리롤(3Roll) 분산기 등을 사용할 수 있다. 그 다음, 상기 폴리이미드 수지와 분산된 무기 필러를 혼합하고, 에폭시 수지와 에폭시 수지용 경화제를 혼합한다. 이후 희석된 경화 촉매를 투입하여 혼합하여 접착제 조성물을 제조한다.According to embodiments of the present invention, the adhesive composition may be prepared according to the following method. As an embodiment, each resin contained in the composition is diluted with an organic solvent and used. For example, the polyimide resin can be used by diluting cyclohexanone, an epoxy resin, and a curing agent such as MEK (methyl ethyl ketone) and toluene. The curing catalyst can be used by diluting in PGME (Propylene glycol mono methyl ether). The inorganic filler may be used by dispersing, and the dispersion may be a beads disperser, a 3 roll disperser, or the like. Then, the polyimide resin and the dispersed inorganic filler are mixed, and the epoxy resin and the curing agent for the epoxy resin are mixed. Then, the diluted curing catalyst is added and mixed to prepare an adhesive composition.

본 발명의 구현예들에 따르면 종래의 아크릴로 니트릴부타디엔 고무가 아닌, 폴리이미드계 수지를 에폭시 수지와 함께 조성물에 포함함으로써, 에폭시 수지의 우수한 내열성과 밀착력을 유지하면서도 저유전 특성을 나타낼 수 있다. 따라서, 상기 조성물을 연성인쇄회로기판의 커버레이 필름 또는 본딩시트 등에 적용시 고속 전송을 가능하게 하고 전송손실을 감소시킬 수 있다.According to embodiments of the present invention, by including a polyimide-based resin in a composition together with an epoxy resin, not a conventional acrylonitrile-butadiene rubber, it is possible to exhibit low dielectric properties while maintaining excellent heat resistance and adhesion of the epoxy resin. Therefore, when the composition is applied to a coverlay film or a bonding sheet of a flexible printed circuit board, high-speed transmission is possible and transmission loss can be reduced.

본 발명의 구현예들에 따르면 상기 조성물은 유전율이 3.0 Dk 이하, 구체적으로는 2.5~3.0 Dk일 수 있다. 보다 구체적으로는 유전율이 0 Dk 초과, 0.1 Dk 이상, 0.5 Dk 이상, 1.0 Dk 이상, 1.5 Dk 이상, 2.0 Dk 이상, 2.1 Dk 이상, 2.2 Dk 이상, 2.3 Dk 이상, 2.4 Dk 이상, 2.5 Dk 이상, 2.6 Dk 이상, 2.7 Dk 이상, 2.8 Dk 이상 또는 2.9 Dk 이상이고, 3.0 Dk 미만, 2.9 Dk 이하, 2.8 Dk 이하, 2.7 Dk 이하, 2.6 Dk 이하, 2.5 Dk 이하, 2.4 Dk 이하, 2.3 Dk 이하, 2.2 Dk 이하, 2.1 Dk 이하, 2.0 Dk 이하, 1.5 Dk 이하, 1.0 Dk 이하 또는 0.5 Dk 이하일 수 있다. 이는 종래 에폭시 수지와 NBR을 포함하는 접착제 조성물의 유전율이 3.2 Dk 이상인 것보다 현저히 개선된 것이다.According to embodiments of the present invention, the composition may have a dielectric constant of 3.0 Dk or less, specifically 2.5 to 3.0 Dk. More specifically, the dielectric constant is more than 0 Dk, 0.1 Dk or more, 0.5 Dk or more, 1.0 Dk or more, 1.5 Dk or more, 2.0 Dk or more, 2.1 Dk or more, 2.2 Dk or more, 2.3 Dk or more, 2.4 Dk or more, 2.5 Dk or more, 2.6 Dk or more, 2.7 Dk or more, 2.8 Dk or more, or 2.9 Dk or more, and less than 3.0 Dk, 2.9 Dk or less, 2.8 Dk or less, 2.7 Dk or less, 2.6 Dk or less, 2.5 Dk or less, 2.4 Dk or less, 2.3 Dk or less, 2.2 Dk or less, 2.1 Dk or less, 2.0 Dk or less, 1.5 Dk or less, 1.0 Dk or less, or 0.5 Dk or less. This is a significantly improved dielectric constant than the conventional epoxy resin and NBR adhesive composition of 3.2 Dk or more.

또한, 본 발명의 구현예들에 따르면 상기 조성물은 유전손실율, 즉 유전정접이 0.01Df 미만, 구체적으로는 0.002 내지 0.005 Df일 수 있다. 보다 구체적으로는, 0 Df 초과, 0.001 Df 이상, 0.002 Df 이상, 0.003 Df 이상, 0.004 Df 이상, 0.005 Df 이상, 0.006 Df 이상, 0.007 Df 이상, 0.008 Df 이상 또는 0.009 Df 이상이고, 0.01 Df 미만, 0.009 Df 이하, 0.008 Df 이하, 0.007 Df 이하, 0.006 Df 이하, 0.005 Df 이하, 0.004 Df 이하, 0.003 Df 이하, 0.002 Df 이하 또는 0.001 Df 이하일 수 있다. 이는 종래 에폭시 수지와 NBR을 포함하는 접착제 조성물의 유전정접이 0.01이상 나타나는 것 보다 현저히 개선된 것이다.In addition, according to embodiments of the present invention, the composition may have a dielectric loss rate, that is, a dielectric loss tangent of less than 0.01 Df, specifically 0.002 to 0.005 Df. More specifically, more than 0 Df, 0.001 Df or more, 0.002 Df or more, 0.003 Df or more, 0.004 Df or more, 0.005 Df or more, 0.006 Df or more, 0.007 Df or more, 0.008 Df or more, or 0.009 Df or more, and less than 0.01 Df, 0.009 Df or less, 0.008 Df or less, 0.007 Df or less, 0.006 Df or less, 0.005 Df or less, 0.004 Df or less, 0.003 Df or less, 0.002 Df or less, or 0.001 Df or less. This is a significant improvement over the dielectric loss tangent of the conventional epoxy resin and the adhesive composition comprising NBR more than 0.01.

다른 구현예에 따르면, 본 발명은 상기 접착제 조성물을 포함하는 커버레이 필름에 관한 것으로, 이하, 본 발명의 구현예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.According to another embodiment, the present invention relates to a coverlay film comprising the adhesive composition, hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도 1 및 도 2는 본 발명의 예시적인 형태를 도시한 것이다. 도 1을 참조하여 설명하면, 일 구현예에 따른 커버레이 필름은 2개 층을 포함할 수 있으며, 구체적으로, 전기 절연성 기재 필름층(30); 및 상기 전기 절연성 기재 필름층(30) 상에 코팅된 접착제 조성물층(20)을 포함할 수 있다. 또는, 도 2를 참조하여 설명하면, 일 구현예에 따른 커버레이 필름은 3개 층을 포함할 수 있으며, 구체적으로, 전기 절연성 기재 필름층(30); 상기 전기 절연성 기재 필름층(30) 상에 코팅된 접착제 조성물층(20); 및 상기 접착제 조성물층(20) 상에 형성된 이형지층(10)을 포함할 수 있다. 1 and 2 show an exemplary form of the present invention. Referring to Figure 1, the coverlay film according to an embodiment may include two layers, specifically, an electrically insulating base film layer 30; And an adhesive composition layer 20 coated on the electrically insulating base film layer 30. Or, referring to Figure 2, the coverlay film according to an embodiment may include three layers, specifically, an electrically insulating base film layer 30; An adhesive composition layer 20 coated on the electrically insulating base film layer 30; And it may include a release paper layer 10 formed on the adhesive composition layer 20.

일 구현예로서 상기 전기 절연성 기재 필름층은 고내열 및 난연특성을 구비한 필름층으로, 전기 절연성 기재로는 폴리이미드계 수지를 포함할 수 있다. 일 구현예로서 상기 전기 절연성 기재 필름층의 두께는 예를 들어 12 내지 50㎛일 수 있다. 상기 두께가 12㎛ 이하이면 필름이 얇아 FPCB 제조시 작업성이 저하되고, 절연특성이 저하될 수 있다. 상기 두께가 50㎛ 초과일 경우 원가 상승의 요인이 되며, FPCB에 적용하기에는 두꺼워서 굴곡성이 감소될 수 있다. As one embodiment, the electrically insulating base film layer is a film layer having high heat resistance and flame retardant properties, and the electrically insulating base may include a polyimide resin. As an embodiment, the thickness of the electrically insulating base film layer may be, for example, 12 to 50 μm. When the thickness is 12 µm or less, the film is thin, and thus workability is reduced during FPCB manufacturing, and insulation properties may be deteriorated. If the thickness is more than 50㎛, it is a factor of cost increase, and it is thick enough to be applied to FPCB, so the flexibility can be reduced.

일 구현예로서, 상기 전기 절연성 기재 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지는 산 무수물과 방향족 디아민의 반응생성물일 수 있으며, 상기 산 무수물과 방향족 디아민은 반응을 통해 폴리이미드계 수지를 생성할 수 있는 것이면 그 종류가 제한되지 않고 모두 포함될 수 있다. 구체적으로, 상기 산 무수물은 방향족 테트라 카르복실산 무수물일 수 있으며, 보다 구체적으로는 피로멜리트산 이무수물, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논 테트라 카르복실산 이무수물, 3,3', 4,4'-디페닐 에테르 테트라 카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐 술폰 테트라 카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-벤젠 테트라 카르복실산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌 테트라 카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐 테트라 카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,3', 4'-비페닐 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,3', 4'-벤조 페논테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3', 4'-디페닐 에테르 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,3',4'-디페닐 술폰 테트라 카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,3', 4,4'-테트라 카르복시 페닐)테트라 플루오로 프로판 이무수물, 2,2'-비스(3,4-디카르복시 페녹시페닐)술폰 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시 페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시 페닐)프로판 이무수물 및 4,4'[프로판-2,2-디일비스(1,4-페닐렌옥시)]디프탈산 이무수물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 방향족 디아민은 페닐렌디아민(PDA), 옥시디아닐린(ODA), o-페닐렌디아민(OPD), 메타페닐렌디아민(MPD), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPER), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPEQ), 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐(m-TB-HG)(TFDB), 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘), 1,3'-비스(3-아미노페녹시)벤젠(APBN), 3,5-디아미노벤조트리플루오라이드(DABTF) 및 2,2-비스(4-[4-아미노페녹시]-페닐)프로판(BAPP)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.As an embodiment, the polyimide-based resin included in the electrically insulating base film may be a reaction product of acid anhydride and aromatic diamine, and the acid anhydride and aromatic diamine can produce a polyimide-based resin through reaction. The type is not limited and can be included. Specifically, the acid anhydride may be an aromatic tetracarboxylic acid anhydride, more specifically pyromellitic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone Tetra carboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyl ether Tetra carboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenyl sulfone tetra carboxylic dianhydride, 1,2 ,3,4-benzene tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride Water, 2,3,3', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3',4' -Diphenyl sulfone tetra carboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,3', 4,4'-tetra carboxy phenyl) tetra fluoro propane dianhydride, 2,2'-bis (3,4-di Carboxyphenoxyphenyl)sulfone dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxy phenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxy phenyl)propane dianhydride and 4,4'[ Propane-2,2-diylbis(1,4-phenyleneoxy)]diphthalic acid dianhydride. Specifically, the aromatic diamine is phenylenediamine (PDA), oxydianiline (ODA), o-phenylenediamine (OPD), metaphenylenediamine (MPD), 1,3-bis (4-aminophenoxy) Benzene (TPER), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPEQ), 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl (m-TB-HG) (TFDB), 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine), 1,3'-bis(3-aminophenoxy)benzene (APBN), 3,5-diaminobenzotrifluoride (DABTF) and 2,2 -Bis(4-[4-aminophenoxy]-phenyl)propane (BAPP).

일 구현예로서 상기 전기 절연성 기재 필름층은 상기 필름층 상에 코팅되는 접착제 조성물과의 밀착력을 높이기 위하여, 추가적으로 프라이머 처리, 표면처리, 코로나처리 또는 플라즈마 처리가 더 포함될 수 있다. 일 구현예로서, 프라이머 처리는 기재와 접착제의 접착력을 높이기 위해, 통상적으로 아크릴, 우레탄 수지 등을 소량 코팅하는 것을 포함할 수 있다. 표면처리는 기재와 접착력의 밀착력을 높이기 위해 통상적으로 실란 코팅, 예를 들어 아미노, 머캅토, 에폭시 실란 등을 표면에 코팅하는 것을 포함할 수 있다. 코로나 처리 및 플라즈마 처리는 강한 에너지와 이온 결합으로 기재의 비표면적을 높이고 이온 결합을 통한 화학적 결합을 높여 밀착력을 증가시킬 수 있다.In one embodiment, the electrically insulating base film layer may further include primer treatment, surface treatment, corona treatment, or plasma treatment in order to increase adhesion with the adhesive composition coated on the film layer. In one embodiment, the primer treatment may include coating a small amount of acrylic, urethane resin, and the like, in order to increase adhesion between the substrate and the adhesive. The surface treatment may include coating a surface with a silane coating, for example, amino, mercapto, epoxy silane, and the like, to increase adhesion between the substrate and the adhesive force. Corona treatment and plasma treatment can increase the specific surface area of the substrate with strong energy and ionic bonding, and increase the adhesion by increasing chemical bonding through ionic bonding.

일 구현예로서 상기 접착제 조성물층은 상기 전기 절연성 기재 필름층 상에 접착제 조성물을 코팅하여 형성된 층으로, 이때 상기 접착제 조성물은 상술된 본 발명의 구현예들에 따른 접착제 조성물을 포함할 수 있다.As an embodiment, the adhesive composition layer is a layer formed by coating an adhesive composition on the electrically insulating base film layer, wherein the adhesive composition may include an adhesive composition according to the embodiments of the present invention described above.

일 구현예로서 상기 코팅되는 접착제 조성물층의 두께는 예를 들어 5 내지 50㎛일 수 있으며, 보다 구체적으로는 20 내지 30㎛일 수 있다. 상기 접착제 조성물 층의 두께가 5㎛ 미만이면 동(copper)회로나 상기 전기 절연성 기재 필름층에 접착시 충분한 접착력을 제공하지 못하며, 동 회로 영역에서 충진이 되지 않아 내열성이 저하될 수 있다. 상기 접착제 조성물 층의 두께가 50㎛ 초과이면, 원가 상승의 요인이 되며, 굴곡성이 필요한 박막 FPCB에는 고 두께로 인해 굴곡반경이 작아서 굴곡성의 저하가 발생할 수 있다. As an embodiment, the thickness of the coated adhesive composition layer may be, for example, 5 to 50 μm, and more specifically, 20 to 30 μm. When the thickness of the adhesive composition layer is less than 5 µm, sufficient adhesion is not provided when bonding to a copper circuit or the electrically insulating base film layer, and heat resistance may be deteriorated because it is not filled in the copper circuit region. When the thickness of the adhesive composition layer is more than 50 μm, it is a factor of cost increase, and a thin film FPCB requiring flexibility may have a small bending radius due to high thickness, and thus a decrease in flexibility may occur.

일 구현예로서 상기 이형지층은 "이형필름층"이라고도 하며, 이물로부터 상기 접착제 조성물층을 보호하기 위한 역할을 한다. 일 구현예로서, 상기 이형지층은 종이에 합성수지 코팅층을 더 포함할 수 있으며, 예를 들어 폴리에틸렌(PE)계 또는 폴리프로필렌(PP)계 코팅층을 더 포함할 수 있다. 또는, 필요에 따라 박리를 위하여 이형제를 더 코팅한 것일 수 있다. 상기 이형제는 상기 이형지층의 보호용 이형소재로서, 타발성과 박리력 등을 고려하여 사용자가 코팅되는 두께, 소재 등을 적절히 선정할 수 있다. 일 구현예로서 상기 상기 이형지층의 두께는 50 내지 150㎛일 수 있다. 이형지층의 두께가 50㎛ 미만일 경우, 가공시 낮은 두께로 인해 작업성이 좋지 않으며, 두께가 150㎛ 이상일 경우, 두꺼운 기재에 의한 열전달 부족으로 제조 공정 합지에서 원활하지 않으며, 가격 상승의 단점이 있다.In one embodiment, the release paper layer is also referred to as a “release film layer”, and serves to protect the adhesive composition layer from foreign matter. As an embodiment, the release paper layer may further include a synthetic resin coating layer on paper, and may further include, for example, a polyethylene (PE)-based or polypropylene (PP)-based coating layer. Alternatively, a release agent may be further coated for peeling as necessary. The release agent is a release material for protection of the release paper layer, and the thickness, material, and the like to be coated by the user may be appropriately selected in consideration of punchability and peeling force. As an embodiment, the thickness of the release paper layer may be 50 to 150 μm. When the thickness of the release paper layer is less than 50 μm, the workability is poor due to the low thickness during processing, and when the thickness is 150 μm or more, it is not smooth in the manufacturing process due to the lack of heat transfer by the thick substrate, and there is a disadvantage of price increase. .

일 구현예로서, 상기 커버레이 필름은 전기 절연성 기재 필름층에 접착제 조성물층을 코팅한 후, 선택적으로 상기 접착제 조성물층 상부에 이형지층을 합지시킴으로써 제조될 수 있으며, 상기 코팅 또는 합지 공정은 본 발명의 기술분야에서 통상적으로 사용되는 방법이 적용될 수 있다. 예를 들어, 상기 접착제 조성물층은 상기 전기 절연성 기재 필름층에 그라비아 코팅, 마이크로 그라비아 코팅, 스핀 코팅, 스크린 프린팅, 코마 코팅(comma coating), 다이 코팅(die coating) 등의 코팅 공정을 하나 이상 이용하여 접착제 조성물을 상기 전기 절연성 기재 필름층 상부에 도포하고 건조시켜 형성될 수 있다. 일 구현예로서, 코팅과 합지는 한번의 공정으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 합지는 1급지에 폴리이미드 필름을 적용하여, 접착제 조성물을 코팅한 후, 건조시킨 다음, 건조된 폴리이미드 필름 위에 코팅된 접착제면과 2급지에서 적용되는 이형지를 약간의 열라미네이팅 롤로 합지할 수 있다.As an embodiment, the coverlay film may be prepared by coating an adhesive composition layer on an electrically insulating base film layer, and then selectively laminating a release paper layer on the adhesive composition layer, wherein the coating or laminating process is performed by the present invention. The methods commonly used in the technical field of can be applied. For example, the adhesive composition layer uses one or more coating processes such as gravure coating, micro gravure coating, spin coating, screen printing, comma coating, and die coating on the electrically insulating base film layer. By applying the adhesive composition on the electrically insulating base film layer may be formed by drying. As an embodiment, the coating and lamination can be done in a single process. For example, the lamination paper is coated with an adhesive composition by applying a polyimide film to the first paper, dried, and then coated with the adhesive surface coated on the dried polyimide film and the release paper applied in the second paper with a slight heat laminating roll. Can be lazy.

일 구현예에 따른 상기 커버레이 필름은 연성회로기판(FPCB) 제조시 회로를 보호하는 절연층에 적용될 수 있다. 예를 들어, 상기 절연층에 적용시에는 상기 커버레이 필름의 이형지층을 박리하여, 접착제 조성물 외측면을 FPCB의 회로면(동박 면)에 부착하여 전기 절연성 기재 필름층을 적층하는데 사용할 수 있다. 적층이 완료된 시편은 열 압착(Hot press) 공정을 통해 압착하여 제품을 제조할 수 있으며, 상기 열 압착 공정 조건은 150~180℃ 온도 하에 약 30분 내지 2시간, 약 20~45kg 면압 조건을 포함할 수 있다. The coverlay film according to an embodiment may be applied to an insulating layer that protects a circuit when manufacturing a flexible circuit board (FPCB). For example, when applied to the insulating layer, the release paper layer of the coverlay film may be peeled off, and the outer surface of the adhesive composition may be attached to the circuit surface (copper surface) of the FPCB to be used to laminate the electrically insulating base film layer. After the lamination is completed, the specimen may be compressed through a hot press process to produce a product, and the conditions for the thermocompression process include a surface pressure condition of about 30 minutes to 2 hours under a temperature of 150 to 180° C., and about 20 to 45 kg. can do.

이하, 실시예, 비교예 및 시험예를 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들은 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이 실시예, 비교예 및 시험예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, Comparative Examples and Test Examples. These are only provided by way of example to illustrate the present invention in more detail, the scope of the present invention is not limited by these examples, comparative examples and test examples for those skilled in the art It will be self-evident.

[실시예 1][Example 1]

본 발명의 일 구현예에 따른 접착제 조성물을 하기의 방법에 따라 제조하였다.An adhesive composition according to one embodiment of the present invention was prepared according to the following method.

폴리이미드 수지 39중량부에 에폭시 수지 5중량부, 경화제 9중량부를 혼합하고, 경화촉매는 0.1중량부 미만으로 혼합하고, 필러는 구상실리카로 40중량부 혼합하여 접착제 조성물을 제조하였다.An adhesive composition was prepared by mixing 39 parts by weight of polyimide resin with 5 parts by weight of epoxy resin and 9 parts by weight of curing agent, mixing less than 0.1 parts by weight of curing catalyst, and mixing 40 parts by weight of filler with spherical silica.

[비교예][Comparative example]

종래 기술로서 폴리이미드계 수지가 아닌 아크릴로 니트릴부타디엔 고무를 에폭시 수지와 함께 포함하는 접착제 조성물을 다음의 방법에 따라 제조하였다.As a prior art, an adhesive composition containing acrylonitrile butadiene rubber, together with an epoxy resin, which is not a polyimide resin, was prepared according to the following method.

비교예 1Comparative Example 1

종래 기술인 대한민국 특허공개공보 제10-2013-0083317호(비할로겐계 난연성 접착제 조성물 및 이를 이용한 커버레이 필름)의 조성물로서, 당량 320의 에폭시 수지 60중량부, 비스페놀 A계 에폭시 수지 40중량부에 NBR 50중량부, 방향족 디아민계 경화제 4,4-디아미노디페닐술폰 4중량부, 경화촉진제 2에틸-4메틸 이미다졸 0.4중량부, 인계 난연제 5중량부 첨가하여 접착제 조성물을 제조하였다.As a composition of the prior art Republic of Korea Patent Publication No. 10-2013-0083317 (non-halogen-based flame retardant adhesive composition and a coverlay film using the same), 60 parts by weight of epoxy resin of equivalent weight 320, 40 parts by weight of bisphenol A-based epoxy resin NBR An adhesive composition was prepared by adding 50 parts by weight, 4 parts by weight of the aromatic diamine curing agent 4,4-diaminodiphenylsulfone, 0.4 parts by weight of the curing accelerator 2ethyl-4 methyl imidazole, and 5 parts by weight of the phosphorus flame retardant.

비교예 2Comparative Example 2

종래 기술인 대한민국 특허공개공보 제10-2014-0084415호(비할로겐계 속경화 접착제 조성물 및 이를 이용한 커버레이 필름)의 조성물로서, 비스페놀 A계 에폭시 수지 100중량부에 NBR 60중량부, 무기충전제로 수산화알루미늄 30중량부, 인계 난연제 20중량부, 경화제로 3,3-디아미노디페닐술폰 10중량부, 경화촉매 2에틸-4메틸이미다졸 2중량부를 혼합하여 접착제 조성물을 제조하였다.As a composition of the prior art Republic of Korea Patent Publication No. 10-2014-0084415 (non-halogen-based fast-curing adhesive composition and coverlay film using the same), 100 parts by weight of bisphenol A-based epoxy resin, 60 parts by weight of NBR, hydroxylated with inorganic filler An adhesive composition was prepared by mixing 30 parts by weight of aluminum, 20 parts by weight of a phosphorus-based flame retardant, 10 parts by weight of 3,3-diaminodiphenylsulfone as a curing agent, and 2 parts by weight of a curing catalyst 2ethyl-4methylimidazole.

비교예 3Comparative Example 3

폴리이미드 수지 39중량부에 에폭시 수지 5중량부, 경화제 9중량부를 혼합하고, 경화촉매는 0.1중량부 미만으로 혼합하고, 필러는 제외하여 접착제 조성물을 제조하였다. 5 parts by weight of an epoxy resin and 9 parts by weight of a curing agent were mixed with 39 parts by weight of the polyimide resin, and the curing catalyst was mixed with less than 0.1 parts by weight, and an adhesive composition was prepared except for the filler.

[시험예 1][Test Example 1]

본 발명의 일 구현예에 따른 접착제 조성물의 저유전 특성을 확인하기 위하여, 아래의 실험을 실시하였다.In order to confirm the low dielectric properties of the adhesive composition according to an embodiment of the present invention, the following experiment was performed.

실험에 앞서, 상기 실시예 1에서 무기필러의 종류를 제외하고는 동일한 방법으로 실시예 2(판상실리카 필러), 실시예 3(수산화알미늄) 및 실시예 4(알루미나)를 제조하였다.Prior to the experiment, Example 2 (plate silica filler), Example 3 (aluminum hydroxide), and Example 4 (alumina) were prepared in the same manner as in Example 1, except for the type of the inorganic filler.

유전율(Dk) 및 유전정접(Df)는 IPC TM-650 2.5.5.9 규격에 따라 측정하였다.Dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) were measured according to the IPC TM-650 2.5.5.9 standard.

구 분division 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 유전율(Dk)Dielectric constant (Dk) 2.82.8 2.82.8 2.92.9 2.92.9 3.23.2 3.43.4 2.72.7 유전정접(Df)Dielectric tangent (Df) 0.0040.004 0.0040.004 0.0070.007 0.0090.009 0.010.01 0.010.01 0.010.01 밀착력Adhesion 1.11.1 0.60.6 1.01.0 1.01.0 1.21.2 1.21.2 1.21.2

그 결과, 상기 표 1에 나타난 바와 같이 본 발명의 일 구현예들에 따른 실시예 1 내지 4는 모두 유전율이 3.0 Dk 이하이면서 유전정접이 0.01 Dk 미만인 저유전 특성을 나타냄을 확인할 수 있었다.As a result, as shown in Table 1, it was confirmed that all of Examples 1 to 4 according to the embodiments of the present invention exhibit low dielectric constant with a dielectric constant of 3.0 Dk or less and a dielectric loss tangent of less than 0.01 Dk.

유전율(Dk)이 3이상에서는 회로에서 신호속도 지연 시간의 단축을 할 수 없어, 고주파수의 고속전송이 어려워진다. 또한 유전정접(Df)가 0.01이상에서는 전송손실이 커져서, 고속전송의 장애가 발생한다.When the dielectric constant (Dk) is 3 or more, the signal speed delay time cannot be shortened in the circuit, making high-speed high-speed transmission difficult. In addition, when the dielectric loss tangent (Df) is 0.01 or more, a transmission loss becomes large, which causes a failure of high-speed transmission.

[시험예 2] [Test Example 2]

본 발명의 일 구현예에 따른 접착제 조성물이 포함하는 무기필러의 함량에 따른 저유전 특성, 밀착력 및 내열성을 비교, 확인하기 위하여, 아래의 실험을 실시하였다.In order to compare and confirm low dielectric properties, adhesion and heat resistance according to the content of the inorganic filler contained in the adhesive composition according to an embodiment of the present invention, the following experiment was conducted.

실험에 앞서, 상기 실시예 1에서 무기필러의 함량을 제외하고는 동일한 방법으로 실시예 5(무기 필러 20 중량% 포함), 실시예 6(무기 필러 30 중량% 포함), 실시예 7(무기 필러 50 중량% 포함) 및 실시예 8(무기 필러 60 중량% 포함)을 제조하였다. 이때 상기 조성물에 포함되는 폴리이미드계 수지와 에폭시 수지, 에폭시 수지용 경화제의 비율은 실시예 1과 동일하게 유지하였다.Prior to the experiment, Example 5 (including 20% by weight of the inorganic filler), Example 6 (including 30% by weight of the inorganic filler), and Example 7 (Inorganic filler) in the same manner except for the content of the inorganic filler in Example 1 above 50% by weight) and Example 8 (including 60% by weight of inorganic filler) were prepared. At this time, the ratio of the polyimide-based resin, the epoxy resin, and the curing agent for the epoxy resin contained in the composition was maintained in the same manner as in Example 1.

상기 시험예 1과 동일한 방법으로 유전율과 유전정접을 측정하였다.The dielectric constant and dielectric loss tangent were measured in the same manner as in Test Example 1.

밀착력은 하기와 같이 측정하였다.The adhesion was measured as follows.

두께가 25um인 폴리이미드 필름에 앞서 제조된 각각의 접착제를 바코터나 어플리케이터를 사용해 두께 25um의 접착제를 코팅하였다. 건조를 위해 온도 140의 오븐을 사용해 2분간 건조하였다. 건조된 접착필름을 롤라미네이터를 사용해 이형지와 합지시켰다. Each adhesive prepared before the polyimide film having a thickness of 25 um was coated with an adhesive having a thickness of 25 um using a bar coater or an applicator. For drying, the oven was dried at a temperature of 140 for 2 minutes. The dried adhesive film was laminated with release paper using a roll laminator.

앞서 제조된 각 접착제 조성물을 적층(코팅)한 커버레이 필름을 제조하고, 상기 필름의 이형지를 제거하고, 커버레이의 접착제면을 연성 동박 적층제(FCCL)의 동박면과 합지 후, 고온 프레스로 접착하였다.(온도 170~180℃, 압력 45kgF/cm2, 가압시간 60분) 상기와 같이 제작된 시편을 폭 10mm폭으로 절단하여 밀착력 측정용 시편을 제조하였다. 이후 인장강도 시험기를 사용하여 90도 측정 각도로 50mm/min의 속도로 박리시키면서 밀착강도를 측정하였다.내열성은 상기와 같이 제작된 시편을 가로 20mm, 세로 20mm 크기로 절단하고, 288℃에 용융되어 있는 납조 위에 띄워 1분 동안 시편의 변형 및 기포 생성 여부를 가지고 하기와 같은 기준으로 평가하였다.A coverlay film is prepared by laminating (coating) each adhesive composition prepared above, removing the release paper of the film, and laminating the adhesive surface of the coverlay with the copper foil surface of the flexible copper foil laminate (FCCL), followed by hot press. Bonded. (Temperature 170~180°C, pressure 45kgF/cm 2 , pressurization time 60 minutes) The specimen prepared as above was cut to a width of 10 mm to prepare a specimen for measuring adhesion. Then, the tensile strength was measured using a tensile strength tester while peeling at a rate of 50 mm/min at a 90-degree measurement angle. The heat resistance was cut to a size of 20 mm in width and 20 mm in length, and melted at 288°C. It was floated on a lead bath and evaluated for the following criteria with or without deformation and bubble formation of the specimen for 1 minute.

O : 기포생성 또는 표면변형이 전혀 없음.(양호)O: No bubble formation or surface deformation at all (good)

X : 기포 생성 및 표면 변형 관찰됨.(불량)X: Bubble formation and surface deformation were observed (poor).

구 분division 실시예 1Example 1 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 실시예 7Example 7 실시예 8Example 8 유전율(Dk)Dielectric constant (Dk) 2.82.8 2.72.7 2.752.75 2.92.9 3.03.0 유전정접(Df)Dielectric tangent (Df) 0.0040.004 0.0060.006 0.0050.005 0.0030.003 0.0020.002 밀착력(kgF)Adhesion (kgF) 1.11.1 1.11.1 1.11.1 1.01.0 0.70.7 내열성Heat resistance OO OO OO OO XX

그 결과, 상기 표 2와 같이 무기 필러를 포함하는 본 발명의 실시예들 모두 유전율 및 유전정접이 우수하여, 저유전 특성을 갖는 것으로 나타났으며, 무기 필러의 함량이 증가할수록 유전율은 상승하는데 반해 유전정접은 낮아졌다. 다만, 무기 필러의 함량이 증가할수록 에폭시 수지의 함량 비율이 낮아짐으로 인해 밀착력, 즉 접착성과 내열성이 저하됨을 확인하였다.As a result, as shown in Table 2, the embodiments of the present invention including the inorganic filler are excellent in dielectric constant and dielectric loss tangent, and have been shown to have low dielectric properties, whereas the dielectric constant increases as the content of the inorganic filler increases. The genetic tangent was lowered. However, as the content of the inorganic filler increased, it was confirmed that the adhesive force, that is, the adhesiveness and the heat resistance were lowered because the content ratio of the epoxy resin was lowered.

[시험예 3] [Test Example 3]

본 발명의 일 구현예에 따른 접착제 조성물이 포함하는 무기필러의 입자 평균 크기에 따른 저유전 특성, 밀착력 및 내열성을 비교, 확인하기 위하여, 아래의 실험을 실시하였다.In order to compare and confirm low dielectric properties, adhesion and heat resistance according to the average particle size of the inorganic filler contained in the adhesive composition according to the embodiment of the present invention, the following experiment was conducted.

실험에 앞서, 상기 실시예 1에서 무기필러의 평균 입자 크기를 제외하고는 동일한 방법으로 실시예 9(평균 입자 크기 0.3㎛), 실시예 1(평균 입자 크기 0.7㎛), 실시예 10(평균 입자 크기 1.0 ㎛), 실시예 11(평균 입자 크기 3.0㎛) 및 실시예 12(평균 입자 크기 10㎛)을 제조하였다. Prior to the experiment, Example 9 (average particle size 0.3 µm), Example 1 (average particle size 0.7 µm), and Example 10 (average particle) in the same manner as in Example 1 except for the average particle size of the inorganic filler. Size 1.0 μm), Example 11 (average particle size 3.0 μm) and Example 12 (average particle size 10 μm) were prepared.

상기 시험예 2와 동일한 방법으로 유전율, 유전정접, 밀착력 및 내열성을 측정하였다.Dielectric constant, dielectric loss tangent, adhesion and heat resistance were measured in the same manner as in Test Example 2.

구 분division 0.3㎛0.3㎛ 0.7㎛0.7㎛ 1㎛1㎛ 3㎛3 10㎛10㎛ 유전율(Dk)Dielectric constant (Dk) 2.52.5 2.82.8 2.92.9 2.92.9 2.92.9 유전정접(Df)Dielectric tangent (Df) 0.0030.003 0.0040.004 0.0060.006 0.0080.008 0.010.01 밀착력(kgF)Adhesion (kgF) 0.60.6 1.11.1 1.21.2 1.21.2 1.31.3 내열성Heat resistance XX OO OO OO OO

그 결과, 무기 필러의 평균 입자 크기가 작을수록 저유전 특성이 나타난 반면, 조성물 자체의 밀착력과 내열성은 감소하였다. 이는 무기필러의 비표면적 증가로 인해 접착제 조성물의 제조시 이외 성분들의 분산이 효과적으로 일어나지 않아, 에폭시 수지의 함침량이 증가되면서 에폭시 수지의 기능이 저하되었기 때문으로 판단된다.As a result, the smaller the average particle size of the inorganic filler, the lower the dielectric properties, whereas the adhesion and heat resistance of the composition itself decreased. This is because the function of the epoxy resin was deteriorated as the impurity amount of the epoxy resin increased because the dispersion of the other components did not occur effectively during the preparation of the adhesive composition due to the increase in the specific surface area of the inorganic filler.

10: 이형지층
20: 접착제 조성물층
30: 전기 절연성 기재 필름층
10: release layer
20: adhesive composition layer
30: electrically insulating base film layer

Claims (16)

폴리이미드계 수지, 에폭시 수지, 에폭시 수지용 경화제 및 무기 필러를 포함하는 접착제 조성물.An adhesive composition comprising a polyimide resin, an epoxy resin, a curing agent for an epoxy resin, and an inorganic filler. 제1항에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지는 산 무수물과 방향족 디아민의 반응생성물이며,
상기 산 무수물 성분은 피로멜리트산 이무수물, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논 테트라 카르복실산 이무수물, 3,3', 4,4'-디페닐 에테르 테트라 카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐 술폰 테트라 카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-벤젠 테트라 카르복실산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌 테트라 카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐 테트라 카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,3', 4'-비페닐 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,3', 4'-벤조 페논테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3', 4'-디페닐 에테르 테트라 카르복실산 이무수물, 2,3,3',4'-디페닐 술폰 테트라 카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,3', 4,4'-테트라 카르복시 페닐)테트라 플루오로 프로판 이무수물, 2,2'-비스(3,4-디카르복시 페녹시페닐)술폰 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시 페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시 페닐)프로판 이무수물 및 4,4'[프로판-2,2-디일비스(1,4-페닐렌옥시)]디프탈산 이무수물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하고,
상기 방향족 디아민은 페닐렌디아민(PDA), 옥시디아닐린(ODA), o-페닐렌디아민(OPD), 메타페닐렌디아민(MPD), 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPER), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPEQ), 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐(m-TB-HG)(TFDB), 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘), 1,3'-비스(3-아미노페녹시)벤젠(APBN), 3,5-디아미노벤조트리플루오라이드(DABTF) 및 2,2-비스(4-[4-아미노페녹시]-페닐)프로판(BAPP)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 접착제 조성물.
The method of claim 1, wherein the polyimide resin is a reaction product of an acid anhydride and an aromatic diamine,
The acid anhydride component is pyromellitic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4' -Diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenyl sulfone tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzene tetracarboxylic dianhydride, 1,4 ,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2, 2',3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-benzophenonetetracar Acidic dianhydride, 2,3,3', 4'-diphenyl ether tetra carboxylic dianhydride, 2,3,3',4'-diphenyl sulfone tetra carboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,3', 4,4'-tetra carboxy phenyl) tetra fluoro propane dianhydride, 2,2'-bis(3,4-dicarboxy phenoxyphenyl) sulfone dianhydride, 2,2-bis(2 ,3-dicarboxy phenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxy phenyl)propane dianhydride and 4,4'[propane-2,2-diylbis(1,4-phenyleneoxy) )]Diphthalic dianhydride contains at least one selected from the group consisting of,
The aromatic diamine is phenylenediamine (PDA), oxydianiline (ODA), o-phenylenediamine (OPD), metaphenylenediamine (MPD), 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPER) ), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)benzene (TPEQ), 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl (m-TB-HG) (TFDB), 2,2 '-Bis(trifluoromethyl)benzidine), 1,3'-bis(3-aminophenoxy)benzene (APBN), 3,5-diaminobenzotrifluoride (DABTF) and 2,2-bis( An adhesive composition comprising at least one member selected from the group consisting of 4-[4-aminophenoxy]-phenyl)propane (BAPP).
제1항에 있어서, 상기 무기필러는 실리카, 알루미나, 산화마그네슘, 탈크, 산화티탄, 질화 붕소, 지르코니아, 탄산칼슘, 탄산마그네슘 및 수산화 알루미늄로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 접착제 조성물.The adhesive composition of claim 1, wherein the inorganic filler comprises at least one selected from the group consisting of silica, alumina, magnesium oxide, talc, titanium oxide, boron nitride, zirconia, calcium carbonate, magnesium carbonate, and aluminum hydroxide. 제1항에 있어서, 상기 무기필러의 입자 평균 크기는 0.5 내지 10㎛인, 접착제 조성물.According to claim 1, The average particle size of the inorganic filler is 0.5 to 10㎛, adhesive composition. 제1항에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지는 조성물 총 중량에 대하여 10 내지 70 중량부로 포함되는, 접착제 조성물.The adhesive composition of claim 1, wherein the polyimide-based resin is included in an amount of 10 to 70 parts by weight based on the total weight of the composition. 제1항에 있어서, 상기 에폭시 수지는 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 20 중량부로 포함되는, 접착제 조성물.The adhesive composition of claim 1, wherein the epoxy resin is included in an amount of 0.1 to 20 parts by weight based on the total weight of the composition. 제1항에 있어서, 상기 에폭시 수지용 경화제는 에폭시 수지 100 중량부에 대해 0.1 내지 5 중량부로 포함되는, 접착제 조성물.The adhesive composition of claim 1, wherein the curing agent for the epoxy resin is included in an amount of 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. 제1항에 있어서, 상기 무기필러는 조성물 총 중량에 대하여 10 내지 70 중량부로 포함되는, 접착제 조성물.The adhesive composition of claim 1, wherein the inorganic filler is included in an amount of 10 to 70 parts by weight based on the total weight of the composition. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 유전율(Dk)가 3.0 Dk 이하인, 접착제 조성물.The adhesive composition of claim 1, wherein the composition has a dielectric constant (Dk) of 3.0 Dk or less. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 유전정접(Df)이 0.01 미만인, 접착제 조성물.The adhesive composition of claim 1, wherein the composition has a dielectric loss tangent (Df) of less than 0.01. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 연성인쇄회로기판의 커버레이 필름 또는 본딩시트용인, 접착제 조성물.The adhesive composition of claim 1, wherein the composition is for a coverlay film or bonding sheet of a flexible printed circuit board. 폴리이미드계 수지를 포함하는 전기 절연성 기재 필름층; 및
상기 전기 절연성 기재 필름층 상에 코팅된, 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 조성물을 포함하는 접착제 조성물층을 포함하는 커버레이 필름.
An electrically insulating base film layer comprising a polyimide resin; And
A coverlay film comprising an adhesive composition layer comprising the composition of claim 1 coated on the electrically insulating base film layer.
제12항에 있어서, 상기 전기 절연성 기재 필름층의 두께는 12 내지 50㎛인, 커버레이 필름.The coverlay film of claim 12, wherein the thickness of the electrically insulating base film layer is 12 to 50 μm. 제12항에 있어서, 상기 접착제 조성물층의 두께는 5 내지 50㎛인, 커버레이 필름.The coverlay film of claim 12, wherein the adhesive composition layer has a thickness of 5 to 50 μm. 제12항에 있어서, 상기 접착제 조성물층 상에 형성된 이형지층을 더 포함하는, 커버레이 필름.The coverlay film of claim 12, further comprising a release paper layer formed on the adhesive composition layer. 제15항에 있어서, 상기 이형지층의 두께는 50 내지 150㎛인, 커버레이 필름.The coverlay film of claim 15, wherein the release paper layer has a thickness of 50 to 150 μm.
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