KR20200074253A - Active energy ray-curable composition, and film using same - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 활성 에너지선 경화성 화합물(A)과, 지환 구조 및 4급 암모늄염을 갖는 수지(B)와, 하기 일반식(1)으로 표시되는 유기 용제(c-1)를 0.1질량% 이상 15질량% 미만의 범위에서 포함하는 유기 용제(C)를 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화성 조성물 및 그것을 사용한 필름을 제공하는 것이다. 상기 유기 용제(C)는, 소수성 용제(c-2)를 더 함유하는 것이 바람직하다. 상기 수지(B)는, 원료로서 지환 구조를 갖는 중합성 단량체를 5∼55질량% 사용한 중합체인 것이 바람직하다. 상기 수지(B)의 배합량은, 상기 활성 에너지선 경화성 화합물(A) 100질량부에 대해서, 0.1∼30질량부의 범위인 것이 바람직하다. 상기 활성 에너지선 경화성 화합물(A)은, 굴절률이 1.55 이상인 고굴절률 중합성 단량체(A-1), 및/또는, 상기 (A-1) 이외의 중합성 단량체(A-2)를 함유하는 것이 바람직하다.In the present invention, the active energy ray-curable compound (A), a resin having an alicyclic structure and a quaternary ammonium salt (B), and an organic solvent represented by the following general formula (1) (c-1) 0.1 mass% or more 15 An active energy ray-curable composition containing an organic solvent (C) contained in a range of less than mass%, and a film using the same. It is preferable that the said organic solvent (C) further contains a hydrophobic solvent (c-2). It is preferable that the said resin (B) is a polymer which used 5 to 55 mass% of polymerizable monomer which has alicyclic structure as a raw material. It is preferable that the compounding quantity of the said resin (B) is 0.1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of said active energy ray-curable compounds (A). The active energy ray-curable compound (A) contains a high refractive index polymerizable monomer (A-1) having a refractive index of 1.55 or more, and/or a polymerizable monomer (A-2) other than the above (A-1). desirable.

Description

활성 에너지선 경화성 조성물, 및, 그것을 사용한 필름Active energy ray-curable composition, and film using same

본 발명은, 하드코트층을 형성할 수 있는 활성 에너지선 경화성 조성물 및 그것을 사용한 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an active energy ray-curable composition capable of forming a hard coat layer and a film using the same.

수지 필름은, 액정 디스플레이(LCD), 유기 EL 디스플레이(OLED), 플라스마 디스플레이(PDP) 등의 플랫패널 디스플레이(FPD) 표면의 흠집 발생 방지용 필름, 자동차의 내외장용 가식 필름(시트), 창용의 저반사 필름이나 열선 컷 필름 등 각종 용도에 사용되고 있다. 그러나, 수지 필름 표면은 유연하고 내찰상성(耐擦傷性)이 낮기 때문에, 이것을 보충할 목적으로, 활성 에너지선 경화성 조성물 등으로 이루어지는 하드코트제를 필름 표면에 도공, 경화시켜서 하드코트층을 필름 표면에 마련하는 것이 일반적으로 행해지고 있다.Resin film is a film for preventing scratches on the surface of flat panel displays (FPD) such as liquid crystal displays (LCD), organic EL displays (OLED), plasma displays (PDP), decorative films for interior and exterior of automobiles (sheets), low for windows It is used in various applications such as reflective films and hot wire cut films. However, since the resin film surface is flexible and has low scratch resistance, for the purpose of supplementing it, a hard coat agent made of an active energy ray-curable composition or the like is coated on the film surface and cured to form a hard coat layer on the film surface. It is generally done to prepare.

또한, 이들 용도에서는, 최근, 저코스트와 고정세의 요구가 높아지고 있지만, 하드코트제를 고속 도공하면 박리대전하기 쉬워, 공기 중의 부유 이물을 흡착해서 도막 결함을 유발하고, 수율 저하를 초래하는 문제가 발생하고 있다. 그래서, 이러한 수율 저하를 억제할 대책으로서, 대전방지성을 부여하는 방법이 널리 이용되고 있고, 특히 염가(廉價)이며 투명성이 높은 4급 암모늄염계의 대전방지제가 자주 사용되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1 및 2를 참조).In addition, in these applications, low-cost and high-definition demands have been increasing in recent years. However, when a hard coat agent is coated at high speed, it is easy to peel off and cause floating film adsorption by adsorbing airborne foreign matter, resulting in a decrease in yield. Is occurring. Therefore, as a countermeasure for suppressing such a decrease in yield, a method of imparting antistatic properties is widely used, and in particular, a quaternary ammonium salt-based antistatic agent having high transparency and low cost is frequently used (for example, a patent). References 1 and 2).

한편, FPD의 제조에 있어서 사용되는 수지 필름으로서는, 이때까지 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름이나 시클로올레핀 폴리머(COP) 필름이 주류였지만, 저코스트화의 흐름에 따라, 비교적 염가이며, 또한, 저투습성 및 고치수안정성을 갖는 폴리메틸메타크릴레이트 기재를 지지 기재로 한 하드코트층 부착 필름의 사용률이 증가하고 있다.On the other hand, as the resin film used in the production of FPD, triacetylcellulose (TAC) film or cycloolefin polymer (COP) film has been the mainstream until this time, but it is relatively inexpensive with the flow of low cost, and also has low moisture permeability. And a polymethylmethacrylate substrate having high dimensional stability as a supporting substrate, the use rate of the film with a hard coat layer is increasing.

그러나, 상기 폴리메틸메타크릴레이트 기재는, 비교적 높은 내용제성(내침식성)을 갖고 있고, 하드코트층과 기재와의 계면에 있어서 간섭호가 발생하기 쉽다는 문제가 있었다.However, the polymethyl methacrylate base material has a relatively high solvent resistance (erosion resistance), and there is a problem that interference is likely to occur at the interface between the hard coat layer and the base material.

일본 특개2004-143303호 공보Japanese Patent Publication No. 2004-143303 일본 특개2004-123924호 공보Japanese Patent Publication No. 2004-123924

본 발명이 해결하려고 하는 과제는, 도막 외관 및 대전방지성이 우수하며, 또한, 기재와의 계면에 있어서 간섭호를 발생하기 어려운 하드코트층을 형성할 수 있는 활성 에너지선 경화성 조성물 및 그것을 사용한 필름을 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention is an active energy ray-curable composition capable of forming a hard coat layer which is excellent in coating appearance and antistatic property and which is difficult to generate an interference signal at an interface with a substrate, and a film using the same Is to provide

본 발명은, 활성 에너지선 경화성 화합물(A)과, 지환 구조 및 4급 암모늄염을 갖는 수지(B)와, 하기 일반식(1)으로 표시되는 유기 용제(c-1)를 0.1질량% 이상 15질량% 미만의 범위에서 포함하는 유기 용제(C)를 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화성 조성물 및 그것을 사용한 필름을 제공하는 것이다.In the present invention, the active energy ray-curable compound (A), a resin having an alicyclic structure and a quaternary ammonium salt (B), and an organic solvent represented by the following general formula (1) (c-1) 0.1 mass% or more 15 An active energy ray-curable composition containing an organic solvent (C) contained in a range of less than mass%, and a film using the same.

Figure pct00001
Figure pct00001

(일반식(1) 중, R1은 탄소 원자수 1∼10의 직쇄상 혹은 분기 구조를 갖는 알킬기, 알릴기, 페닐기, 또는, 벤질기를 나타내고, n은 1∼3의 정수를 나타낸다)(In the general formula (1), R 1 represents an alkyl group having a straight or branched structure having 1 to 10 carbon atoms, an allyl group, a phenyl group, or a benzyl group, and n represents an integer of 1 to 3)

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물은, 도공안정성, 도막 외관 및 대전방지성이 우수하며, 또한, 기재와의 계면에 있어서 간섭호를 발생하기 어려운 하드코트층을 형성할 수 있는 것이다.The active energy ray-curable composition of the present invention is excellent in coating stability, coating film appearance and antistatic property, and is capable of forming a hard coat layer that is less likely to generate interference at the interface with the substrate.

따라서, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막으로 이루어지는 하드코트층을 갖는 필름은, 액정 디스플레이(LCD), 유기 EL 디스플레이(OLED), 플라스마 디스플레이(PDP) 등의 플랫패널 디스플레이(FPD)에 사용하는 광학 필름으로서 호적하게 사용할 수 있다.Accordingly, a film having a hard coat layer made of a cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention is used for flat panel displays (FPDs) such as liquid crystal displays (LCDs), organic EL displays (OLEDs), plasma displays (PDPs), etc. It can be used suitably as an optical film to be used.

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물은, 활성 에너지선 경화성 화합물(A)과, 지환 구조 및 4급 암모늄염을 갖는 수지(B)와, 특정의 유기 용제(c-1)를 특정량 포함하는 유기 용제(C)를 함유하는 것이다.The active energy ray-curable composition of the present invention is an organic solvent containing a specific amount of an active energy ray-curable compound (A), a resin (B) having an alicyclic structure and a quaternary ammonium salt, and a specific organic solvent (c-1). It contains (C).

상기 활성 에너지선 경화성 화합물(A)로서는, 예를 들면, 굴절률이 1.55 이상인 고굴절률 중합성 단량체(A-1), 상기 (A-1) 이외의 중합성 단량체(A-2) 등을 사용할 수 있다. 이들 단량체는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다. 이들 중에서도, 높은 굴절률이 요구되는 경우에는, 상기 (A-1)을 함유하는 것이 바람직하고, 그 이외의 경우에는, 상기 (A-1)을 함유하지 않아도 된다.As the active energy ray-curable compound (A), for example, a high-refractive-index polymerizable monomer (A-1) having a refractive index of 1.55 or more, and a polymerizable monomer (A-2) other than the above (A-1) can be used. have. These monomers may be used alone or in combination of two or more. Among these, when high refractive index is required, it is preferable to contain the said (A-1), and in other cases, it is not necessary to contain the said (A-1).

상기 중합성 단량체(A-1)로서는, 경화 전의 굴절률이 1.55 이상인 고굴절률의 것이면 되며, 예를 들면, 방향환을 2∼6개 갖는 방향족계 중합성 단량체, 플루오렌계 중합성 단량체 등을 바람직하게 들 수 있다. 또한, 상기 중합성 단량체(A)의 구체예로서는, 하기 일반식(1)으로 표시되는 화합물; o-페닐벤질(메타)아크릴레이트, p-페닐벤질(메타)아크릴레이트 등의 페닐벤질기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물; 페닐페놀EO아크릴레이트 등의 페닐페놀기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물; 프로폭시화비스페놀A디(메타)아크릴레이트, 에톡시화비스페놀A디(메타)아크릴레이트, 옥시에틸렌기를 갖는 비스페놀A디(메타)아크릴레이트, 옥시에틸렌기를 갖는 비스페놀A트리(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴로일기를 2∼4개의 범위에서 갖는 비스페놀 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중합성 단량체(A)는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.The polymerizable monomer (A-1) may be one having a high refractive index of 1.55 or higher before curing, and for example, aromatic polymerizable monomers having 2 to 6 aromatic rings, fluorene polymerizable monomers, and the like are preferable. It can be lifted. Moreover, as a specific example of the said polymerizable monomer (A), it is a compound represented by the following general formula (1); (meth)acrylate compounds having a phenylbenzyl group such as o-phenylbenzyl(meth)acrylate and p-phenylbenzyl(meth)acrylate; (Meth)acrylate compounds having a phenylphenol group such as phenylphenol EOacrylate; Propoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, bisphenol A di(meth)acrylate having an oxyethylene group, bisphenol A tri(meth)acrylate having an oxyethylene group, etc. And bisphenol compounds having a (meth)acryloyl group in the range of 2 to 4, and the like. These polymerizable monomers (A) may be used alone or in combination of two or more.

상기 중합성 단량체(A-1)로서는, 상기한 것 중에서도, 굴절률 제어의 점에서, 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물, 페닐벤질기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물, 및, (메타)아크릴로일기를 2∼4개의 범위에서 갖는 비스페놀 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 단량체를 사용하는 것이 바람직하고, 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물, 및/또는, 페닐벤질기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물과 페닐벤질기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물을 병용하는 경우에는, 그 질량비가, 30/70∼70/30의 범위인 것이 바람직하다.As said polymerizable monomer (A-1), the compound represented by the following general formula (3), the (meth)acrylate compound which has a phenylbenzyl group, and (meth)acrylic among the above-mentioned, from a point of refractive index control It is preferable to use one or more monomers selected from the group consisting of bisphenol compounds having a royl group in the range of 2 to 4, compounds represented by the following general formula (3), and/or (meth) having a phenylbenzyl group It is more preferable to use an acrylate compound. Moreover, when using together the compound represented by the following general formula (3) and the (meth)acrylate compound which has a phenylbenzyl group, it is preferable that the mass ratio is in the range of 30/70-70/30.

Figure pct00002
Figure pct00002

(식(3) 중, R1, R2은 각각 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, m, n은 각각 0∼5의 정수를 나타낸다)(In formula (3), R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and m and n each represent an integer of 0 to 5)

또, 본 발명에 있어서, 「(메타)아크릴레이트」란, 아크릴레이트와 메타크릴레이트의 한쪽 또는 양쪽을 말하며, 「(메타)아크릴로일」이란, 아크릴로일과 메타크릴로일의 한쪽 또는 양쪽을 말한다.In addition, in this invention, "(meth)acrylate" means one or both of acrylate and methacrylate, and "(meth)acryloyl" means one or both of acryloyl and methacryloyl. Says

상기 중합성 단량체(A-1)를 사용하는 경우의 함유량으로서는, 활성 에너지선 경화성 화합물(A) 중 3∼30질량%의 범위인 것이 바람직하고, 5∼20질량%의 범위가 보다 바람직하다.As content when using the said polymerizable monomer (A-1), it is preferable that it is the range of 3-30 mass% in active energy ray-curable compound (A), and the range of 5-20 mass% is more preferable.

상기 (A-1) 이외의 중합성 단량체(A-2)로서는, 예를 들면, 다관능 (메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 되고 2종 이상 병용해도 된다.As a polymerizable monomer (A-2) other than said (A-1), polyfunctional (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, etc. can be used, for example. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 다관능 (메타)아크릴레이트는, 1분자 중에 셋 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이며, 예를 들면, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 3-메틸-1,5-펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 2-메틸-1,8-옥탄디올디(메타)아크릴레이트, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 2가 알코올의 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트의 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 1몰에 4몰 이상의 에틸렌옥사이드 혹은 프로필렌옥사이드를 부가해서 얻은 디올의 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 1몰에 2몰의 에틸렌옥사이드 혹은 프로필렌옥사이드를 부가해서 얻은 디올의 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 트리스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헵타(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 다관능 (메타)아크릴레이트는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다. 또한, 이들 다관능 (메타)아크릴레이트 중에서도, 한층 더 우수한 내찰상성이 얻어지는 점에서, (메타)아크릴로일기를 셋 이상 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하고, 트리펜타에리트리톨옥타(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헵타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 및, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다.The polyfunctional (meth)acrylate is a compound having three or more (meth)acryloyl groups in one molecule, for example, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 3-methyl-1,5- Pentanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanedioldi(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 2-methyl-1,8-octanedioldi(meth)acrylate, 2 -Butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di(meth)acrylate, tricyclodecane dimethanol di(meth)acrylate, ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate Di(meth)acrylate of dihydric alcohols such as triethylene glycol di(meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, and tripropylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate Rate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, di(meth)acrylate of tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate, obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of neopentyl glycol Di(meth)acrylate of diol, di(meth)acrylate of diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of bisphenol A, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethylene oxide-modified trimethylol Propane tri(meth)acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropanetetra(meth)acrylate, tris(2-(meth) Acryloyloxyethyl)isocyanurate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth)acrylate, dipentaerythritol hexa (meth)acrylate, tripentaerythritol hexa (meth)acrylate, tripentaerythritol hepta (meth)acrylate, tripentaerythrate And itol octa (meth) acrylate. These polyfunctional (meth)acrylates may be used alone or in combination of two or more. Moreover, among these polyfunctional (meth)acrylates, it is preferable to use polyfunctional (meth)acrylates having three or more (meth)acryloyl groups from the viewpoint of obtaining superior scratch resistance, and tripentaerythritol Octa(meth)acrylate, tripentaerythritol hepta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritolpenta(meth)acrylate, pentaerythritoltetra(meth)acrylate, And, it is more preferable to use at least one compound selected from the group consisting of pentaerythritol tri(meth)acrylate.

상기 우레탄(메타)아크릴레이트는, 예를 들면, 폴리이소시아네이트(a2-1)와 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트(a2-2)를 반응시켜서 얻어진 것이고, (메타)아크릴로일기를 하나 또는 둘 갖는 것이다.The urethane (meth)acrylate is obtained by reacting, for example, polyisocyanate (a2-1) with (meth)acrylate (a2-2) having a hydroxyl group, and one or two (meth)acryloyl groups To have.

상기 폴리이소시아네이트(a2-1)로서는, 지방족 폴리이소시아네이트와 방향족 폴리이소시아네이트를 들 수 있지만, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막의 착색을 저감할 수 있으므로, 지방족 폴리이소시아네이트를 사용하는 것이 바람직하다.Although aliphatic polyisocyanate and aromatic polyisocyanate are mentioned as said polyisocyanate (a2-1), since coloring of the cured coating film of the active energy ray curable composition of this invention can be reduced, it is preferable to use an aliphatic polyisocyanate. .

상기 지방족 폴리이소시아네이트는, 이소시아네이트기를 제외한 부위가 지방족 탄화수소로 구성되는 화합물이다. 이 지방족 폴리이소시아네이트의 구체예로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 리신트리이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트; 노르보르난디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 메틸렌비스(4-시클로헥실이소시아네이트), 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 2-메틸-1,3-디이소시아나토시클로헥산, 2-메틸-1,5-디이소시아나토시클로헥산 등의 지환식 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다. 또한, 상기 지방족 폴리이소시아네이트 또는 지환식 폴리이소시아네이트를 3량화한 3량화물도 상기 지방족 폴리이소시아네이트로서 사용할 수 있다. 또한, 이들 지방족 폴리이소시아네이트는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.The aliphatic polyisocyanate is a compound composed of an aliphatic hydrocarbon except for an isocyanate group. Specific examples of the aliphatic polyisocyanate include aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, and lysine triisocyanate; Norbornane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 1,3-bis (isocyanatomethyl)cyclohexane, 2-methyl-1,3-diisocyanatocyclohexane, 2- And alicyclic polyisocyanates such as methyl-1,5-diisocyanatocyclohexane. In addition, the trimer obtained by trimerization of the aliphatic polyisocyanate or alicyclic polyisocyanate can also be used as the aliphatic polyisocyanate. In addition, these aliphatic polyisocyanates may be used alone or in combination of two or more.

이들 중에서도, 한층 더 우수한 내찰상성이 얻어지는 점에서, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 노르보르난디이소시아네이트, 및, 이소포론디이소시아네이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하다.Among these, it is preferable to use one or more types selected from the group consisting of hexamethylene diisocyanate, norbornane diisocyanate, and isophorone diisocyanate in view of obtaining superior scratch resistance.

상기 (메타)아크릴레이트(a2-2)는, 수산기와 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이다. 이 (메타)아크릴레이트(a2-2)의 구체예로서는, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 1,5-펜탄디올모노(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올모노(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜모노(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산네오펜틸글리콜모노(메타)아크릴레이트 등의 2가 알코올의 모노(메타)아크릴레이트; 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드(EO) 변성 트리메틸올프로판(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드(PO) 변성 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)히드록시에틸이소시아누레이트 등의 3가의 알코올의 모노 또는 디(메타)아크릴레이트, 혹은, 이들 알코올성 수산기의 일부를 ε-카프로락톤으로 변성한 수산기를 갖는 모노 및 디(메타)아크릴레이트; 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트 등의 1관능의 수산기와 3관능 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물, 혹은, 당해 화합물을 ε-카프로락톤으로 변성한 수산기를 더 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트; 디프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트 등의 옥시알킬렌쇄를 갖는 (메타)아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리옥시부틸렌-폴리옥시프로필렌모노(메타)아크릴레이트 등의 블록 구조의 옥시알킬렌쇄를 갖는 (메타)아크릴레이트; 폴리(에틸렌글리콜-테트라메틸렌글리콜)모노(메타)아크릴레이트, 폴리(프로필렌글리콜-테트라메틸렌글리콜)모노(메타)아크릴레이트 등의 랜덤 구조의 옥시알킬렌쇄를 갖는 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 (메타)아크릴레이트(a2-2)는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다. 이들 중에서도, 한층 더 우수한 내찰상성이 얻어지는 점에서, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 및, 트리펜타에리트리톨헵타(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종류 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.The (meth)acrylate (a2-2) is a compound having a hydroxyl group and a (meth)acryloyl group. As a specific example of this (meth)acrylate (a2-2), 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4- Hydroxybutyl (meth)acrylate, 1,5-pentanediol mono (meth)acrylate, 1,6-hexanediol mono (meth)acrylate, neopentyl glycol mono (meth)acrylate, hydroxypivalic acid neo Mono(meth)acrylates of dihydric alcohols such as pentyl glycol mono(meth)acrylate; Trimethylolpropanedi(meth)acrylate, ethylene oxide(EO) modified trimethylolpropane(meth)acrylate, propylene oxide(PO) modified trimethylolpropanedi(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, bis Mono or di(meth)acrylates of trivalent alcohols such as (2-(meth)acryloyloxyethyl)hydroxyethylisocyanurate, or hydroxyl groups obtained by modifying some of these alcoholic hydroxyl groups with ε-caprolactone Mono and di (meth) acrylate having; Trifunctional hydroxyl groups such as pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and trifunctional A compound having the above (meth)acryloyl group, or a polyfunctional (meth)acrylate having a hydroxyl group modified with the compound of ε-caprolactone; (Meth)acrylate having an oxyalkylene chain such as dipropylene glycol mono(meth)acrylate, diethylene glycol mono(meth)acrylate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, polyethylene glycol mono(meth)acrylate ; (Meth)acrylate having a block structure of oxyalkylene chains such as polyethylene glycol-polypropylene glycol mono(meth)acrylate and polyoxybutylene-polyoxypropylene mono(meth)acrylate; And (meth)acrylates having oxyalkylene chains with random structures such as poly(ethylene glycol-tetramethylene glycol) mono(meth)acrylate and poly(propylene glycol-tetramethylene glycol) mono(meth)acrylate. have. These (meth)acrylates (a2-2) may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the point that more excellent scratch resistance is obtained, in the group consisting of pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, and tripentaerythritol hepta (meth)acrylate It is preferable to use at least one compound selected.

상기 폴리이소시아네이트(a2-1)와 상기 (메타)아크릴레이트(a2-2)와의 반응은, 통상의 방법의 우레탄화 반응에 의해 행할 수 있다. 또한, 우레탄화 반응의 진행을 촉진하기 위하여, 우레탄화 촉매의 존재 하에서 우레탄화 반응을 행하는 것이 바람직하다. 상기 우레탄화 촉매로서는, 예를 들면, 피리딘, 피롤, 트리에틸아민, 디에틸아민, 디부틸아민 등의 아민 화합물; 트리페닐포스핀, 트리에틸포스핀 등의 인 화합물; 디부틸주석디라우레이트, 옥틸주석트리라우레이트, 옥틸주석디아세테이트, 디부틸주석디아세테이트, 옥틸산주석 등의 유기 주석 화합물, 옥틸산아연 등의 유기 아연 화합물 등을 들 수 있다.The reaction between the polyisocyanate (a2-1) and the (meth)acrylate (a2-2) can be performed by a urethanization reaction in a conventional method. Further, in order to accelerate the progress of the urethanization reaction, it is preferable to perform the urethanization reaction in the presence of a urethanization catalyst. Examples of the urethanization catalyst include amine compounds such as pyridine, pyrrole, triethylamine, diethylamine, and dibutylamine; Phosphorus compounds such as triphenylphosphine and triethylphosphine; And organic tin compounds such as dibutyl tin dilaurate, octyl tin trilaurate, octyl tin diacetate, dibutyl tin diacetate, and tin octylate, and organic zinc compounds such as zinc octylate.

상기 다관능 (메타)아크릴레이트와 우레탄(메타)아크릴레이트를 병용하는 경우에는, 한층 더 우수한 내찰상성이 얻어지는 점에서, 그 혼합 비율이, 40/60∼90/10의 범위인 것이 바람직하고, 50/50∼80/20의 범위가 보다 바람직하다.When the polyfunctional (meth)acrylate and urethane (meth)acrylate are used in combination, it is preferable that the mixing ratio is in the range of 40/60 to 90/10, from the viewpoint of obtaining superior scratch resistance. The range of 50/50 to 80/20 is more preferable.

상기 중합성 단량체(A-2)로서는, 기재 침식력이 강하다는 이유에 의해, 기재와의 계면에 있어서 간섭호를 한층 더 발생하기 어렵게 할 수 있는 점에서, 상기 다관능 (메타)아크릴레이트, 및/또는, 우레탄(메타)아크릴레이트에 더하여, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 페닐글리콜(메타)아크릴레이트, 및, 하기 일반식(2)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종류 이상의 화합물을 더 함유하는 것이 바람직하다.The polyfunctional (meth)acrylate, as the polymerizable monomer (A-2), can be more difficult to generate an interference signal at the interface with the substrate due to the strong substrate erosion force. And/or, in addition to urethane (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenyl glycol (meth)acrylate, and compounds represented by the following general formula (2) It is preferable to further contain at least one compound selected from the group consisting of.

Figure pct00003
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(일반식(2) 중, R2 및 R4은 각각 독립해서 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R3은 탄소 원자수 1∼10의 알킬렌기를 나타내고, m은 1∼4의 정수를 나타낸다)(In the general formula (2), R 2 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 4)

상기 일반식(2)으로 표시되는 화합물로서는, 기재와의 계면에 있어서 간섭호를 한층 더 발생하기 어렵게 할 수 있는 점에서, R3이 탄소 원자수 2∼6의 알킬렌기를 나타내고, m이 1∼4의 정수를 나타내는 것을 사용하는 것이 바람직하다.As the compound represented by the general formula (2), R 3 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and m is 1 in that it is more difficult to generate an interference signal at the interface with the substrate. It is preferable to use an integer showing an integer of ∼4.

상기 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 페닐글리콜(메타)아크릴레이트, 및, 일반식(2)으로 표시되는 화합물을 사용하는 경우의 합계 사용량으로서는, 기재와의 계면에 있어서 간섭호를 한층 더 발생하기 어렵게 할 수 있는 점에서, 상기 활성 에너지선 경화성 화합물(A) 중 0.1∼20질량%의 범위인 것이 바람직하고, 1∼10질량%의 범위가 보다 바람직하다.The total amount of the tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenyl glycol (meth)acrylate, and the compound in the case of using the compound represented by the general formula (2) is the interface with the substrate. From the viewpoint of making it more difficult to generate an interfering call, it is preferred that the active energy ray-curable compound (A) is in the range of 0.1 to 20% by mass, and more preferably 1 to 10% by mass.

또한, 필요에 따라서, 상기한 다관능 (메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 페닐글리콜(메타)아크릴레이트, 및, 일반식(2)으로 표시되는 화합물 이외의 활성 에너지선 경화성 화합물(A)로서, 에폭시(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리에테르(메타)아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.In addition, if necessary, the polyfunctional (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl glycol (meth) acrylate, and, As the active energy ray-curable compound (A) other than the compound represented by the general formula (2), epoxy (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, and the like can be used.

상기 수지(B)는, 우수한 대전방지성을 얻는데 있어서, 지환 구조 및 4급 암모늄염을 갖는 것이 필수이다.The resin (B) has an alicyclic structure and a quaternary ammonium salt in order to obtain excellent antistatic properties.

상기 수지(B)의 제조 방법으로서는, 예를 들면, 지환 구조를 갖는 중합성 단량체(b1) 및 4급 암모늄염을 갖는 중합성 단량체(b2)를 필수 성분으로 해서, 상기 중합성 단량체(b1) 및 상기 중합성 단량체(b2)와, 공중합 가능한 중합성 단량체(b3)를 공중합하는 방법을 들 수 있다. 이들 공중합 반응은, 후술하는 유기 용제(C)로 행할 수 있다.As the method for producing the resin (B), for example, the polymerizable monomer (b1) having an alicyclic structure and the polymerizable monomer (b2) having a quaternary ammonium salt are essential components, and the polymerizable monomer (b1) and The method of copolymerizing the said polymerizable monomer (b2) and the polymerizable polymerizable monomer (b3) is mentioned. These copolymerization reactions can be performed with an organic solvent (C) described later.

상기 중합성 단량체(b1)는, 지환 구조를 갖는 중합성 단량체이다. 상기 지환 구조로서는, 예를 들면, 시클로프로판환, 시클로부탄환, 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로헵탄환, 시클로옥탄환, 시클로노난환, 시클로데칸환 등의 단환 지환 구조; 비시클로운데칸환, 데카히드로나프탈렌(데칼린)환, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸환, 비시클로[4.3.0]노난환, 트리시클로[5.3.1.1]도데칸환, 트리시클로[5.3.1.1]도데칸환, 스피로[3.4]옥탄환 등의 다환 지환 구조 등을 들 수 있다. 또한, 상기 중합성 단량체(b1)의 구체예로서는, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 1,4-시클로헥산디메탄올모노(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중합성 단량체(b1)는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.The polymerizable monomer (b1) is a polymerizable monomer having an alicyclic structure. Examples of the alicyclic structure include monocyclic alicyclic structures such as cyclopropane ring, cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, cyclononane ring, and cyclodecane ring; Bicycloundecane ring, decahydronaphthalene (decalin) ring, tricyclo[5.2.1.0 2,6 ]decane ring, bicyclo[4.3.0]nonane ring, tricyclo[5.3.1.1]dodecane ring, tricyclo[5.3. 1.1] polycyclic alicyclic structures such as dodecane ring and spiro[3.4]octane ring. Further, specific examples of the polymerizable monomer (b1) include cyclohexyl (meth)acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, and dicyclopentenyl ( Meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, and the like. These polymerizable monomers (b1) may be used alone or in combination of two or more.

상기 중합성 단량체(b2)로서는, 예를 들면, 2-[(메타)아크릴로일옥시]에틸트리메틸암모늄클로라이드, 3-[(메타)아크릴로일옥시]프로필트리메틸암모늄클로라이드 등의 카운터 음이온이 클로라이드인 것; 2-[(메타)아크릴로일옥시]에틸트리메틸암모늄브로마이드, 3-[(메타)아크릴로일옥시]프로필트리메틸암모늄브로마이드 등의 카운터 음이온이 브로마이드인 것; 2-[(메타)아크릴로일옥시]에틸트리메틸암모늄메틸페닐설포네이트, 2-[(메타)아크릴로일옥시]에틸트리메틸암모늄메틸설포네이트, 3-[(메타)아크릴로일옥시]프로필트리메틸암모늄메틸페닐설포네이트, 3-[(메타)아크릴로일옥시]프로필트리메틸암모늄메틸설포네이트, 2-[(메타)아크릴로일옥시]에틸트리메틸암모늄메틸설페이트, 3-[(메타)아크릴로일옥시]프로필트리메틸암모늄메틸설페이트 등의 카운터 음이온이 비할로겐계인 것 등을 들 수 있다. 이들 중합성 단량체(b2)는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.As the polymerizable monomer (b2), counter anions such as 2-[(meth)acryloyloxy]ethyl trimethylammonium chloride and 3-[(meth)acryloyloxy]propyl trimethylammonium chloride are chlorides, for example. Being Counter anions such as 2-[(meth)acryloyloxy]ethyl trimethylammonium bromide and 3-[(meth)acryloyloxy]propyl trimethylammonium bromide are bromide; 2-[(meth)acryloyloxy]ethyltrimethylammoniummethylphenylsulfonate, 2-[(meth)acryloyloxy]ethyltrimethylammoniummethylsulfonate, 3-[(meth)acryloyloxy]propyltrimethylammonium Methylphenylsulfonate, 3-[(meth)acryloyloxy]propyltrimethylammoniummethylsulfonate, 2-[(meth)acryloyloxy]ethyltrimethylammoniummethylsulfate, 3-[(meth)acryloyloxy] The counter anion, such as propyl trimethyl ammonium methyl sulfate, is non-halogen type, etc. are mentioned. These polymerizable monomers (b2) may be used alone or in combination of two or more.

상기 중합성 단량체(b3)로서는, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, n-펜틸(메타)아크릴레이트, n-헥실(메타)아크릴레이트, n-헵틸(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트; 메톡시폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 옥톡시폴리에틸렌글리콜·폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 라우록시폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 스테아록시폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜·폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리(에틸렌글리콜·프로필렌글리콜)모노(메타)아크릴레이트 등의 폴리알킬렌글리콜의 모노(메타)아크릴레이트; 2-퍼플루오로헥실에틸(메타)아크릴레이트 등의 불소화알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중합성 단량체(b3)는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.As said polymerizable monomer (b3), for example, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth) Acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, n-heptyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, nonyl Alkyl (meth)acrylates such as (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, and dodecyl (meth)acrylate; Methoxypolyethylene glycol mono(meth)acrylate, octoxypolyethylene glycol/polypropylene glycol mono(meth)acrylate, lauroxypolyethylene glycol mono(meth)acrylate, stearoxypolyethylene glycol mono(meth)acrylate, phenoxy Polyethylene glycol mono(meth)acrylate, phenoxypolyethylene glycol, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, nonylphenoxy polypropylene glycol mono(meth)acrylate, nonylphenoxypoly(ethylene glycol, propylene glycol) mono( Mono(meth)acrylates of polyalkylene glycols such as meth)acrylates; And (meth)acrylates having a fluorinated alkyl group such as 2-perfluorohexylethyl (meth)acrylate. These polymerizable monomers (b3) may be used alone or in combination of two or more.

상기 중합성 단량체(b3) 중에서도, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막의 대전방지성을 보다 향상할 수 있으므로, 폴리알킬렌글리콜의 모노(메타)아크릴레이트가 바람직하고, 메톡시폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트가 보다 바람직하다. 또한, 불소화알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트도 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막의 대전방지성을 보다 향상할 수 있는 효과가 있으므로 바람직하다.Among the polymerizable monomers (b3), since the antistatic property of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention can be further improved, mono(meth)acrylate of polyalkylene glycol is preferable, and methoxypolyethylene glycol Mono (meth)acrylate is more preferable. Further, (meth)acrylate having a fluorinated alkyl group is also preferable because it has the effect of further improving the antistatic property of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention.

상기 폴리알킬렌글리콜의 모노(메타)아크릴레이트 중에서도, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막의 대전방지성을 더 향상할 수 있으므로, 상기 폴리알킬렌글리콜의 모노(메타)아크릴레이트의 원료로 되는 폴리알킬렌글리콜의 수 평균 분자량이 200∼8,000의 범위인 것이 바람직하고, 300∼6,000의 범위인 것이 보다 바람직하고, 400∼4,000의 범위인 것이 더 바람직하고, 400∼2,000의 범위인 것이 특히 바람직하다.Among the mono(meth)acrylates of the polyalkylene glycol, since the antistatic property of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention can be further improved, the raw material of the mono(meth)acrylate of the polyalkylene glycol It is preferable that the number average molecular weight of the polyalkylene glycol to be in the range of 200 to 8,000, more preferably in the range of 300 to 6,000, more preferably in the range of 400 to 4,000, and in the range of 400 to 2,000 Especially preferred.

상기 수지(B)의 원료 전량 중의 상기 중합성 단량체(b1)의 비율은, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막의 대전방지성을 보다 향상할 수 있으므로, 5∼55질량%의 범위가 바람직하고, 10∼50질량%의 범위가 보다 바람직하고, 12∼45질량%의 범위가 더 바람직하다.The proportion of the polymerizable monomer (b1) in the total amount of the raw material of the resin (B) can further improve the antistatic property of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention, so that the range of 5 to 55% by mass Preferably, the range of 10 to 50% by mass is more preferable, and the range of 12 to 45% by mass is more preferable.

또한, 상기 수지(B)의 원료 전량 중의 상기 중합성 단량체(b2)의 비율은, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막의 대전방지성을 보다 향상할 수 있으므로, 30∼90질량%의 범위가 바람직하고, 40∼80질량%의 범위가 보다 바람직하고, 45∼70질량%의 범위가 보다 바람직하다.In addition, the proportion of the polymerizable monomer (b2) in the total amount of the raw material of the resin (B) can further improve the antistatic properties of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention. The range is preferable, the range of 40 to 80 mass% is more preferable, and the range of 45 to 70 mass% is more preferable.

또한, 상기 중합성 단량체(b3)로서 상기 폴리알킬렌글리콜의 모노(메타)아크릴레이트를 사용하는 경우는, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막의 대전방지성을 보다 향상할 수 있으므로, 상기 수지(B)의 원료 전량 중의 폴리알킬렌글리콜의 모노(메타)아크릴레이트의 비율은, 5∼60질량%의 범위가 바람직하고, 10∼50질량%의 범위가 보다 바람직하고, 20∼40질량%의 범위가 더 바람직하다.In addition, when the mono(meth)acrylate of the polyalkylene glycol is used as the polymerizable monomer (b3), the antistatic property of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention can be further improved. The proportion of the mono (meth)acrylate of the polyalkylene glycol in the total amount of the raw material of the resin (B) is preferably in the range of 5 to 60 mass%, more preferably in the range of 10 to 50 mass%, and 20 to 40 The range of mass% is more preferable.

또한, 상기 중합성 단량체(b3)로서 상기 불소화알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용하는 경우는, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막의 대전방지성을 보다 향상할 수 있으므로, 상기 수지(B)의 원료 전량 중의 불소화알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트의 비율은, 0.1∼20질량%의 범위가 바람직하고, 0.5∼10질량%의 범위가 보다 바람직하고, 1∼5질량%의 범위가 더 바람직하다.In addition, when the (meth)acrylate having the fluorinated alkyl group is used as the polymerizable monomer (b3), since the antistatic property of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention can be further improved, the resin The proportion of (meth)acrylate having a fluorinated alkyl group in the total amount of raw materials of (B) is preferably in the range of 0.1 to 20% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 10% by mass, and in the range of 1 to 5% by mass Is more preferred.

상기 수지(B)의 중량 평균 분자량은, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막의 대전방지성을 보다 향상할 수 있으므로, 1,000∼100,000의 범위가 바람직하고, 2,000∼50,000의 범위가 보다 바람직하고, 3,000∼30,000의 범위가 더 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서의 중량 평균 분자량은, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산으로의 값이다.Since the weight average molecular weight of the resin (B) can further improve the antistatic property of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention, the range of 1,000 to 100,000 is preferable, and the range of 2,000 to 50,000 is more preferable. And more preferably 3,000 to 30,000. In addition, the weight average molecular weight in this invention is a value in polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography (GPC) method.

상기 수지(B)의 배합량은, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막의 대전방지성을 보다 향상할 수 있으므로, 상기 활성 에너지선 경화성 화합물(A) 100질량부에 대해서, 0.1∼30질량부의 범위가 바람직하고, 0.5∼20질량부의 범위가 보다 바람직하고, 1∼10질량부의 범위가 더 바람직하고, 1.5∼7질량부의 범위가 특히 바람직하다.Since the amount of the resin (B) compounded can further improve the antistatic property of the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention, 0.1 to 30 mass parts per 100 parts by mass of the active energy ray-curable compound (A) The range of parts is preferable, the range of 0.5 to 20 parts by mass is more preferable, the range of 1 to 10 parts by mass is more preferable, and the range of 1.5 to 7 parts by mass is particularly preferable.

상기 유기 용제(C)는, 기재와의 계면에 있어서 간섭호를 발생하기 어려운 하드코트층을 얻는데 있어서, 하기 일반식(1)으로 표시되는 유기 용제(c-1)를 포함하는 것이 필수이다.The organic solvent (C) is essential to include the organic solvent (c-1) represented by the following general formula (1) in obtaining a hard coat layer that is unlikely to generate an interference signal at the interface with the substrate.

Figure pct00004
Figure pct00004

(일반식(1) 중, R1은 탄소 원자수 1∼10의 직쇄상 혹은 분기 구조를 갖는 알킬기, 알릴기, 페닐기, 또는, 벤질기를 나타내고, n은 1∼3의 정수를 나타낸다)(In the general formula (1), R 1 represents an alkyl group having a straight or branched structure having 1 to 10 carbon atoms, an allyl group, a phenyl group, or a benzyl group, and n represents an integer of 1 to 3)

상기 (c-1)은, 비교적 높은 비점을 갖는 것이고, 수지(B)를 표면에 편석시키고, 또한, 활성 에너지선 경화성 화합물(A)과 수지(B)와의 상용화제로서 작용하기 때문에, 높은 대전방지성과 우수한 도막 외관을 얻을 수 있다. 또한, 상기 (c-1)의 높은 기재침식성에 의해 간섭호의 발생을 억제할 수 있다고 생각할 수 있다. 또, 상기 유기 용제(c-1)는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.The above (c-1) has a relatively high boiling point, segregates the resin (B) on the surface, and also acts as a compatibilizer for the active energy ray-curable compound (A) and the resin (B). It is possible to obtain a coating film appearance excellent in prevention properties. In addition, it can be considered that the occurrence of an interference call can be suppressed by the high erosion property of the above (c-1). Moreover, the said organic solvent (c-1) may be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 일반식(1) 중, R1이 탄소 원자수 1∼10의 직쇄상 혹은 분기 구조를 갖는 알킬기를 나타내는 유기 용제의 구체예로서는, 예를 들면, 메틸글리콜, 메틸디글리콜, 메틸트리글리콜, 이소프로필글리콜, 이소프로필디글리콜, 부틸글리콜, 부틸디글리콜, 부틸트리글리콜, 이소부틸글리콜, 이소부틸디글리콜, 헥실글리콜, 헥실디글리콜, 2-에틸헥실글리콜 등을 들 수 있다.In the general formula (1), specific examples of the organic solvent in which R 1 represents an alkyl group having a straight or branched structure having 1 to 10 carbon atoms include, for example, methyl glycol, methyl diglycol, methyl triglycol, and iso And propyl glycol, isopropyl diglycol, butyl glycol, butyl diglycol, butyl triglycol, isobutyl glycol, isobutyl diglycol, hexyl glycol, hexyl diglycol, 2-ethylhexyl glycol, and the like.

또한, 상기 (c-1)의 함유량은 상기 유기 용제(C) 중 0.1질량% 이상 15질량% 미만인 것이 필수이다. 상기 (c-1)의 함유량이, 0.1질량% 미만인 경우에는, 상기 효과의 영향이 적어지고, 간섭호가 발생하거나, 양호한 도막 외관을 얻을 수 없고, 15질량% 이상인 경우에는, 백화하기 쉬워져서 도막 외관이 손상되어 버린다. 상기 (c-1)의 함유량으로서는, 한층 더 우수한 도막 외관, 및, 간섭호의 억제 효과가 얻어지는 점에서, 상기 유기 용제(C) 중 1.5∼12질량%의 범위인 것이 바람직하고, 2∼10질량%의 범위가 보다 바람직하다.Moreover, it is essential that content of said (c-1) is 0.1 mass% or more and less than 15 mass% in the said organic solvent (C). When the content of the above (c-1) is less than 0.1% by mass, the effect of the above effect is less, an interference signal is generated or a good coating film appearance cannot be obtained, and when it is 15% by mass or more, it becomes easy to whiten and the coated film The appearance is damaged. As content of the said (c-1), it is preferable that it is the range of 1.5-12 mass% in the said organic solvent (C), and 2-10 mass by the point which the further excellent coating film appearance and the suppression effect of an interference arc are obtained. The range of% is more preferable.

상기 유기 용제(C)는 상기 (c-1)을 필수 성분으로서 함유하지만, 그 밖의 유기 용제로서는, 예를 들면, 소수성 용제(c-2), 상기 (c-1) 이외의 친수성 용제(c-3)를 사용할 수 있다.The organic solvent (C) contains (c-1) as an essential component, but as other organic solvents, for example, hydrophobic solvents (c-2) and hydrophilic solvents other than (c-1) (c) -3) can be used.

상기 소수성 용제(c-2)로서는, 예를 들면, 디에틸에테르, 벤젠, 톨루엔, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세틸아세톤, 자일렌, n-부탄올, 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 메틸에틸카보네이트, 클로로포름, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다. 이들 용제는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.As the hydrophobic solvent (c-2), for example, diethyl ether, benzene, toluene, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetyl acetone, xylene, n-butanol, dimethyl carbonate, And diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, chloroform, and propylene glycol monomethyl ether acetate. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

상기 친수성 용제(c-3)로서는, 예를 들면, 아세톤, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로필알코올, 다이아세톤알코올, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디옥솔란, 테트라히드로퓨란, 테트라히드로피란, 디메틸포름아미드 등을 들 수 있다. 이들 용제는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.Examples of the hydrophilic solvent (c-3) include acetone, methanol, ethanol, n-propanol, isopropyl alcohol, diacetone alcohol, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dioxolane, and tetrahydrofuran , Tetrahydropyran, dimethylformamide, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

또, 본 발명에 있어서, 상기 친수성 용제(c-3)란, 물에의 용해도가 10g/100ml 이상인 용제를 나타내고, 이것과 상기 (c-1) 이외의 것이 소수성 용제(c-2)로 된다. 또, 유기 용제의 물에의 용해도는, 100ml의 물(25℃)에의 용해도를 나타낸다.In addition, in this invention, the said hydrophilic solvent (c-3) means the solvent whose solubility in water is 10 g/100 ml or more, and this and the thing other than said (c-1) become a hydrophobic solvent (c-2). . In addition, the solubility of the organic solvent in water indicates solubility in 100 ml of water (25°C).

상기 친수성 용제(c-3)의 함유량으로서는, 활성 에너지선 경화성 조성물의 도공안정성을 한층 더 향상할 수 있고, 경화 도막에 금이 가는 것을 방지하고, 한층 더 우수한 도막 외관이 얻어지는 점에서, 상기 유기 용제(C) 중 5∼30질량%의 범위인 것이 바람직하고, 10∼25질량%의 범위가 보다 바람직하다.As the content of the hydrophilic solvent (c-3), it is possible to further improve the coating stability of the active energy ray-curable composition, prevent cracking of the cured coating film, and obtain an excellent coating film appearance. It is preferable that it is the range of 5-30 mass% in solvent (C), and the range of 10-25 mass% is more preferable.

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물 중의 상기 유기 용제(C)의 배합량은, 후술하는 도공 방법에 적합한 점도로 되는 양으로 하는 것이 바람직하다.It is preferable to make the compounding quantity of the said organic solvent (C) in the active energy ray curable composition of this invention into the quantity which becomes the viscosity suitable for the coating method mentioned later.

또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물은, 기재에 도공 후, 활성 에너지선을 조사함으로써 경화 도막으로 할 수 있다. 이 활성 에너지선이란, 자외선, 전자선, α선, β선, γ선 등의 전리 방사선을 말한다. 활성 에너지선으로서 자외선을 조사해서 경화 도막으로 하는 경우에는, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물 중에 광중합개시제(D)를 첨가하여, 경화성을 향상하는 것이 바람직하다. 또한, 필요하면 광증감제(E)를 더 첨가해서, 경화성을 향상할 수도 있다. 한편, 전자선, α선, β선, γ선 등의 전리 방사선을 사용하는 경우에는, 광중합개시제(D)나 광증감제(E)를 사용하지 않아도 신속히 경화하므로, 특히 광중합개시제(D)나 광증감제(E)를 첨가할 필요는 없다.Moreover, the active energy ray-curable composition of this invention can be made into a cured coating film by apply|coating an active energy ray after apply|coating to a base material. The active energy ray refers to ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. When irradiated with ultraviolet rays as an active energy ray to form a cured coating film, it is preferable to add a photopolymerization initiator (D) to the active energy ray curable composition of the present invention to improve the curability. Further, if necessary, a photosensitizer (E) may be further added to improve curability. On the other hand, in the case of using ionizing radiation such as electron beam, α-ray, β-ray, or γ-ray, it is cured quickly without using a photopolymerization initiator (D) or a photosensitizer (E), so it is particularly a photopolymerization initiator (D) or light It is not necessary to add a sensitizer (E).

상기 광중합개시제(D)로서는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 올리고{2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판온}, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-2-모르폴리노(4-티오메틸페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온 등의 아세토페논계 화합물; 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등의 벤조인계 화합물; 2,4,6-트리메틸벤조인디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드계 화합물; 벤질(디벤조일), 메틸페닐글리옥시에스테르, 옥시페닐아세트산2-(2-히드록시에톡시)에틸에스테르, 옥시페닐아세트산2-(2-옥소-2-페닐아세톡시에톡시)에틸에스테르 등의 벤질계 화합물; 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸-4-페닐벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 히드록시벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸-디페닐설파이드, 아크릴화벤조페논, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 2-이소프로필티오잔톤, 2,4-디메틸티오잔톤, 2,4-디에틸티오잔톤, 2,4-디클로로티오잔톤 등의 티오잔톤계 화합물; 미힐러케톤, 4,4'-디에틸아미노벤조페논 등의 아미노벤조페논계 화합물; 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포르퀴논, 1-[4-(4-벤조일페닐설파닐)페닐]-2-메틸-2-(4-메틸페닐설포닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다. 이들 광중합개시제는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.Examples of the photopolymerization initiator (D) include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and oligo{2-hydroxy-2-methyl-1-[4 -(1-methylvinyl)phenyl]propanone}, benzyldimethylketal, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4-(2-hydroxyethoxy )Phenyl-(2-hydroxy-2-propyl)ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-2-morpholino(4-thiomethylphenyl)propan-1-one, 2-benzyl-2 Acetophenone compounds such as -dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone; Benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin isopropyl ether; Acylphosphine oxide compounds such as 2,4,6-trimethylbenzoindiphenylphosphine oxide and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide; Benzyl such as benzyl (dibenzoyl), methylphenylglycoxyester, oxyphenylacetic acid 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl ester, and oxyphenylacetic acid2-(2-oxo-2-phenylacetoxyethoxy)ethyl ester. Compound; Benzophenone, o-benzoylbenzoate methyl-4-phenylbenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenylsulfide, acrylate benzophenone, 3,3' ,4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, etc. Benzophenone compounds; Thioxanthone compounds such as 2-isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone; Aminobenzophenone-based compounds such as mihila ketone and 4,4'-diethylaminobenzophenone; 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, 1-[4-(4-benzoylphenylsulfanyl)phenyl]-2-methyl-2 And -(4-methylphenylsulfonyl)propan-1-one. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

또한, 상기 광증감제(E)로서는, 예를 들면, 디에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, 트리부틸아민 등의 3급 아민 화합물, o-톨릴티오요소 등의 요소 화합물, 나트륨디에틸디티오포스페이트, s-벤질이소티우로늄-p-톨루엔설포네이트 등의 황 화합물 등을 들 수 있다. 이들 광증감제는 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.Further, as the photosensitizer (E), for example, tertiary amine compounds such as diethanolamine, N-methyldiethanolamine, tributylamine, urea compounds such as o-tolylthiourea, sodium diethyldithi And sulfur compounds such as phosphate and s-benzylisothiuronium-p-toluenesulfonate. These photosensitizers may be used alone or in combination of two or more.

상기한 광중합개시제(D) 및 광증감제(E)를 사용하는 경우의 합계 사용량으로서는, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물 중의 상기 활성 에너지선 경화성 조성물(A) 100질량부에 대하여, 각각 0.05∼20질량부가 바람직하고, 0.5∼10질량부가 보다 바람직하다.The total amount used when the above-mentioned photopolymerization initiator (D) and photosensitizer (E) is used is 0.05 to 0.05 parts by mass of the active energy ray-curable composition (A) in the active energy ray-curable composition of the present invention, respectively. 20 parts by mass is preferable, and 0.5 to 10 parts by mass is more preferable.

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물에는, 상기한 성분(A)∼(E) 이외의 그 밖의 배합물로서, 용도, 요구 특성에 따라서, 중합금지제, 표면조정제, 대전방지제, 소포제, 점도조정제, 내광안정제, 내후안정제, 내열안정제, 자외선 흡수제, 산화방지제, 레벨링제, 유기 안료, 무기 안료, 안료 분산제, 실리카 비드, 유기 비드 등의 첨가제; 산화규소, 산화알루미늄, 산화티타늄, 지르코니아, 오산화안티몬 등의 무기 충전제 등을 배합할 수 있다. 이들 그 밖의 배합물은 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다.In the active energy ray-curable composition of the present invention, as other blends other than the above-mentioned components (A) to (E), depending on the use and required properties, a polymerization inhibitor, a surface modifier, an antistatic agent, an antifoaming agent, a viscosity modifier, and light resistance Stabilizers, weathering stabilizers, heat stabilizers, ultraviolet absorbers, antioxidants, leveling agents, additives such as organic pigments, inorganic pigments, pigment dispersants, silica beads, organic beads; Inorganic fillers such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, zirconia, and antimony pentoxide can be blended. These other combinations may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 필름은, 필름 기재의 적어도 1면에, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물을 도공하고, 그 후 활성 에너지선을 조사해서 경화 도막으로 함으로써 얻어진 것이다.The film of the present invention is obtained by coating the active energy ray-curable composition of the present invention on at least one surface of the film substrate, and then irradiating the active energy ray to form a cured coating film.

본 발명의 필름에서 사용하는 상기 필름 기재의 재질로서는, 투명성이 높은 수지가 바람직하며, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리메틸펜텐-1 등의 폴리올레핀계 수지; 셀룰로오스아세테이트(디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등), 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스아세테이트부티레이트, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트부티레이트, 셀룰로오스아세테이트프탈레이트, 질산셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴 등의 염화비닐계 수지; 폴리비닐알코올; 에틸렌-아세트산비닐 공중합체; 폴리스티렌; 폴리아미드; 폴리카보네이트; 폴리설폰; 폴리에테르설폰; 폴리에테르에테르케톤; 폴리이미드, 폴리에테르이미드 등의 폴리이미드계 수지; 노르보르넨계 수지(예를 들면, 니혼제온가부시키가이샤제 「제오노아」), 변성 노르보르넨계 수지(예를 들면, JSR가부시키가이샤제 「아톤」), 환상 올레핀 공중합체(예를 들면, 미쓰이가가쿠가부시키가이샤제 「아펠」) 등을 들 수 있다. 또한, 이들 수지로 이루어지는 기재를 2종 이상 첩합한 것을 사용해도 상관없다.As the material of the film base material used in the film of the present invention, a resin having high transparency is preferable, and for example, polyester-based resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; Polyolefin-based resins such as polypropylene, polyethylene, and polymethylpentene-1; Cellulose-based resins such as cellulose acetate (diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, etc.), cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose nitrate; Acrylic resins such as polymethyl methacrylate; Vinyl chloride-based resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride; Polyvinyl alcohol; Ethylene-vinyl acetate copolymer; polystyrene; Polyamide; Polycarbonate; Polysulfone; Polyethersulfone; Polyether ether ketone; Polyimide-based resins such as polyimide and polyetherimide; Norbornene-based resin (for example, "Zeonoa" manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), modified norbornene-based resin (for example, "Atone" manufactured by JSR Corporation), cyclic olefin copolymer (for example, And Mitsui Chemical Co., Ltd. "Apel". Moreover, you may use what laminated|stacked 2 or more types of base materials which consist of these resins.

또, 본 발명에 있어서는, 상기 활성 에너지선 경화성 조성물을 사용함에 의해, 상기 필름 기재로서 폴리메틸메타크릴레이트를 사용한 경우에도, 도공안정성, 도막 외관 및 대전방지성이 우수하며, 또한, 간섭호 억제가 우수한 하드코트층을 형성할 수 있다.In addition, in the present invention, by using the active energy ray-curable composition, even when polymethyl methacrylate is used as the film substrate, coating stability, coating appearance and antistatic properties are excellent, and also interference suppression is suppressed. Can form an excellent hard coat layer.

상기 폴리메틸메타크릴레이트 기재(이하, 「PMMA」로 약기한다)는, 폴리메틸메타크릴레이트를 주성분(바람직하게는 100질량%)으로 하는 중합체에 의한 기재이며, 예를 들면, 스미토모가가쿠가부시키가이샤제 「테크노로이S014G」, 「테크노로이S001G」, 「테크노로이S000」, 미쓰비시케미컬가부시키가이샤제 「아크리프렌HBS006」, 「아크리프렌HBXN47」, 「아크리프렌HBS010」, 데이진가세이가부시키가이샤제 「판라이트 필름 PC-2151」 등을 시판품으로서 입수할 수 있다.The polymethyl methacrylate base material (hereinafter abbreviated as "PMMA") is a base material made of a polymer containing polymethyl methacrylate as a main component (preferably 100% by mass), for example, Sumitomo Chemical Co., Ltd. "Techno-Roy S014G", "Techno-Roy S001G", "Techno-Roy S000", Mitsubishi Chemical Corporation "Apripre HBS006", "Apripre HBXN47", "Apripre HBS010", Day "Panlite film PC-2151" manufactured by Jin Kasei Co., Ltd. can be obtained as a commercial product.

상기 필름 기재는, 필름상이어도 되며 시트상이어도 되고, 그 두께는, 예를 들면 20∼500㎛의 범위이다. 또한, 필름상의 기재 필름을 사용하는 경우에는, 그 두께는, 20∼200㎛의 범위가 바람직하고, 30∼150㎛의 범위가 보다 바람직하고, 40∼130㎛의 범위가 더 바람직하다. 필름 기재의 두께를 당해 범위로 함으로써, 필름의 편면에, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물에 의해 하드코트층을 마련한 경우에도 컬을 억제하기 쉬워진다.The film base material may be in the form of a film or a sheet, and its thickness is, for example, in the range of 20 to 500 µm. Moreover, when using a film-like base film, the thickness is preferably in the range of 20 to 200 μm, more preferably in the range of 30 to 150 μm, and more preferably in the range of 40 to 130 μm. By making the thickness of a film base material into the said range, even when a hard coat layer is provided with the active energy ray curable composition of this invention on one side of a film, it becomes easy to suppress curl.

상기 필름 기재에 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물을 도공하는 방법으로서는, 예를 들면, 다이 코트, 마이크로 그라비어 코트, 그라비어 코트, 롤 코트, 콤마 코트, 에어나이프 코트, 키스 코트, 스프레이 코트, 딥 코트, 스피너 코트, 브러쉬 도포, 실크 스크린에 의한 솔리드 코트, 와이어바 코트, 플로 코트 등을 들 수 있다.As a method of coating the film substrate with the active energy ray-curable composition of the present invention, for example, die coat, micro gravure coat, gravure coat, roll coat, comma coat, air knife coat, kiss coat, spray coat, dip coat , Spinner coat, brush coating, solid coat by silk screen, wire bar coat, flow coat and the like.

상기 활성 에너지선 경화성 조성물을 기재 필름에 도공한 후에는, 활성 에너지선을 조사하기 전에, 유기 용매(C)를 휘발시키고, 또한, 상기 수지(B)를 도막 표면에 편석시키기 위해서, 가열 또는 실온 건조하는 것이 바람직하다. 가열 건조의 조건으로서는, 예를 들면, 온도 50∼100℃의 범위에서, 시간은 0.5∼10분의 범위에서 가열 건조하는 것을 들 수 있다.After coating the active energy ray-curable composition on the base film, before irradiating the active energy ray, to volatilize the organic solvent (C), and to segregate the resin (B) on the surface of the coating film, heating or room temperature It is preferred to dry. As conditions for heat drying, heating and drying are mentioned in the range of temperature 50-50 degreeC, and time in the range of 0.5-10 minutes, for example.

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물을 경화시키는 활성 에너지선으로서는, 상기한 바와 같이, 자외선, 전자선, α선, β선, γ선 등의 전리 방사선이다. 여기에서, 활성 에너지선으로서 자외선을 사용할 경우, 그 자외선을 조사하는 장치로서는, 예를 들면, 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, 무전극 램프(퓨전 램프), 케미컬 램프, 블랙라이트 램프, 수은-제논 램프, 쇼트 아크등, 헬륨·카드미늄 레이저, 아르곤 레이저, 태양광, LED 램프 등을 들 수 있다.As the active energy ray for curing the active energy ray-curable composition of the present invention, as described above, it is ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. Here, in the case of using ultraviolet rays as the active energy ray, as a device for irradiating the ultraviolet rays, for example, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an electrodeless lamp (fusion lamp), and a chemical lamp , Black light lamp, mercury-xenon lamp, short arc lamp, helium cadmium laser, argon laser, sunlight, LED lamp and the like.

상기 필름 기재 상에 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막을 형성할 때의 경화 도막의 막두께는, 경화 도막의 경도를 충분한 것으로 하며, 또한 도막의 경화 수축에 의한 필름의 컬을 억제할 수 있으므로, 1∼30㎛의 범위가 바람직하고, 3∼15㎛의 범위가 보다 바람직하고, 4∼10㎛의 범위가 더 바람직하다.When the cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention is formed on the film substrate, the film thickness of the cured coating film is sufficient to set the hardness of the cured coating film, and also suppresses curling of the film due to curing shrinkage of the coating film. Therefore, the range of 1 to 30 µm is preferable, the range of 3 to 15 µm is more preferable, and the range of 4 to 10 µm is more preferable.

이상, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물은, 도공안정성, 도막 외관 및 대전방지성이 우수하며, 또한, 기재와의 계면에 있어서 간섭호를 발생하기 어려운 하드코트층을 형성할 수 있는 것이다.As described above, the active energy ray-curable composition of the present invention is excellent in coating stability, coating film appearance, and antistatic property, and can also form a hard coat layer that is less likely to generate interference at the interface with the substrate.

따라서, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막으로 이루어지는 하드코트층을 갖는 필름은, 액정 디스플레이(LCD), 유기 EL 디스플레이(OLED), 플라스마 디스플레이(PDP) 등의 플랫패널 디스플레이(FPD)에 사용하는 광학 필름으로서 호적하게 사용할 수 있다.Accordingly, a film having a hard coat layer made of a cured coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention is used for flat panel displays (FPDs) such as liquid crystal displays (LCDs), organic EL displays (OLEDs), plasma displays (PDPs), etc. It can be used suitably as an optical film to be used.

(실시예)(Example)

이하에 실시예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다.The present invention will be described in more detail by way of Examples below.

(제조예 1 : 우레탄아크릴레이트(A2-1) 조성물의 합성)(Production Example 1: Synthesis of urethane acrylate (A2-1) composition)

교반기, 가스 도입관, 냉각관, 및 온도계를 구비한 플라스크에, 아세트산부틸 55.5질량부, 이소포론디이소시아네이트(이하, 「IPDI」라 한다) 222질량부, p-메톡시페놀 0.5질량부, 디부틸주석디아세테이트 0.5질량부를 투입하고, 70℃로 승온한 후, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(이하, 「PE3A」라 한다)/펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(이하, 「PE4A」라 한다) 혼합물(질량비 75/25의 혼합물)의 80질량% 아세트산부틸 용액 993.4질량부를 1시간에 걸쳐서 적하했다. 적하 종료 후, 70℃에서 3시간 반응시키고, 이소시아네이트기를 나타내는 2250㎝-1의 적외선 흡수 스펙트럼이 소실할 때까지 반응을 더 행하고, 진공 건조에 의한 탈용제 후, 우레탄아크릴레이트(A2-1)/PE4A 혼합물(질량비 80/20의 혼합물, 불휘발분 100질량%, 이하, 「우레탄아크릴레이트(A2-1) 조성물」로 약기한다)을 얻었다. 또, 우레탄아크릴레이트(A2-1)의 분자량은 818이었다.In a flask equipped with a stirrer, a gas introduction tube, a cooling tube, and a thermometer, 55.5 parts by mass of butyl acetate, 222 parts by mass of isophorone diisocyanate (hereinafter referred to as "IPDI"), 0.5 parts by mass of p-methoxyphenol, di After adding 0.5 parts by mass of butyl tin diacetate and heating to 70°C, a mixture of pentaerythritol triacrylate (hereinafter referred to as "PE3A")/pentaerythritol tetraacrylate (hereinafter referred to as "PE4A") mixture ( 993.4 parts by mass of an 80% by mass butyl acetate solution of a mixture of a mass ratio of 75/25) was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the mixture was reacted at 70°C for 3 hours, and further reacted until the infrared absorption spectrum of 2250 cm -1 indicating an isocyanate group disappeared. After desolvation by vacuum drying, urethane acrylate (A2-1)/ A PE4A mixture (a mixture of a mass ratio of 80/20, a non-volatile content of 100% by mass, hereinafter abbreviated as "urethane acrylate (A2-1) composition") was obtained. Moreover, the molecular weight of the urethane acrylate (A2-1) was 818.

(제조예 2 : 지환 구조 및 4급 암모늄염을 갖는 수지(B-1)의 제조)(Production Example 2: Preparation of resin (B-1) having alicyclic structure and quaternary ammonium salt)

교반 장치, 환류 냉각관 및 질소 도입관을 구비한 플라스크 중에, 질소 가스를 도입해서, 플라스크 내의 공기를 질소 가스로 치환했다. 그 후, 플라스크에 2-(메타크릴로일옥시)에틸트리메틸암모늄클로라이드 54.2질량부, 시클로헥실메타크릴레이트 19.9질량부, 메톡시폴리에틸렌글리콜메타크릴레이트(니찌유가부시키가이샤제 「브렌마 PME-1000」; 반복 단위수 n≒23, 분자량 1,000) 24.9질량부, 메타크릴산 0.5질량부, 메탄올(이하, 「MeOH」로 약기한다) 50질량부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르(이하, 「PGME」로 약기한다) 10질량부를 더했다. 다음으로, 중합개시제(아조비스이소부티로니트릴) 0.1질량부를 PGME 2.4질량부로 용해한 용액을 30분에 걸쳐서 적하한 후, 65℃에서 3시간 반응시켰다. 다음으로, MeOH를 더해서 희석하여, 지환 구조 및 4급 암모늄염을 갖는 수지(B-1)의 43질량% 용액을 얻었다. 얻어진 수지(B-1)의 중량 평균 분자량은 1만이었다.Nitrogen gas was introduced into the flask provided with the stirring device, the reflux cooling tube, and the nitrogen introduction tube, and air in the flask was replaced with nitrogen gas. Subsequently, 54.2 parts by mass of 2-(methacryloyloxy)ethyl trimethylammonium chloride, 19.9 parts by mass of cyclohexyl methacrylate, and methoxy polyethylene glycol methacrylate (Brenma PME-made by Nichiyu Co., Ltd.) were added to the flask. 1000”; number of repeating units n≒23, molecular weight 1,000) 24.9 parts by mass, 0.5 parts by mass of methacrylic acid, 50 parts by mass of methanol (hereinafter abbreviated as “MeOH”), and propylene glycol monomethyl ether (hereinafter “PGME”) 10 parts by mass. Next, a solution in which 0.1 part by mass of the polymerization initiator (azobisisobutyronitrile) was dissolved in 2.4 parts by mass of PGME was added dropwise over 30 minutes, followed by reaction at 65°C for 3 hours. Next, MeOH was added and diluted to obtain a 43 mass% solution of the resin (B-1) having an alicyclic structure and a quaternary ammonium salt. The weight average molecular weight of the obtained resin (B-1) was 10,000.

상기에서 얻어진 수지(B-1)의 중량 평균 분자량은, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC)법에 의해, 하기의 조건에서 측정했다.The weight average molecular weight of the resin (B-1) obtained above was measured under the following conditions by a gel permeation chromatography (GPC) method.

측정 장치 : 고속 GPC 장치(도소가부시키가이샤제 「HLC-8220GPC」)Measuring device: High-speed GPC device ("HLC-8220GPC" manufactured by Tosoh Corporation)

칼럼 : 도소가부시키가이샤제의 하기의 칼럼을 직렬로 접속해서 사용했다.Column: The following columns manufactured by Tosoh Corporation were used in series.

「TSKgel G5000」(7.8㎜I.D.×30㎝)×1개 ``TSKgel G5000'' (7.8 mmI.D. x 30 cm) x 1

「TSKgel G4000」(7.8㎜I.D.×30㎝)×1개 ``TSKgel G4000'' (7.8 mmI.D. x 30 cm) x 1

「TSKgel G3000」(7.8㎜I.D.×30㎝)×1개 ``TSKgel G3000'' (7.8 mmI.D. x 30 cm) x 1

「TSKgel G2000」(7.8㎜I.D.×30㎝)×1개 ``TSKgel G2000'' (7.8 mmI.D. x 30 cm) x 1

검출기 : RI(시차 굴절계)Detector: RI (differential refractometer)

칼럼 온도 : 40℃Column temperature: 40℃

용리액 : 테트라히드로퓨란(THF)Eluent: Tetrahydrofuran (THF)

유속 : 1.0mL/분Flow rate: 1.0 mL/min

주입량 : 100μL(시료 농도 0.4질량%의 테트라히드로퓨란 용액)Injection volume: 100 μL (tetrahydrofuran solution with a sample concentration of 0.4 mass%)

표준 시료 : 하기의 표준 폴리스티렌을 사용해서 검량선을 작성했다.Standard sample: A calibration curve was prepared using the following standard polystyrene.

(표준 폴리스티렌)(Standard polystyrene)

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 A-500」"TSKgel standard polystyrene A-500" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 A-1000」"TSKgel standard polystyrene A-1000" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 A-2500」"TSKgel standard polystyrene A-2500" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 A-5000」"TSKgel standard polystyrene A-5000" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 F-1」"TSKgel standard polystyrene F-1" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 F-2」"TSKgel standard polystyrene F-2" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 F-4」"TSKgel standard polystyrene F-4" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 F-10」"TSKgel standard polystyrene F-10" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 F-20」"TSKgel standard polystyrene F-20" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 F-40」"TSKgel standard polystyrene F-40" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 F-80」"TSKgel standard polystyrene F-80" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 F-128」"TSKgel standard polystyrene F-128" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 F-288」"TSKgel standard polystyrene F-288" manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「TSKgel 표준 폴리스티렌 F-550」"TSKgel standard polystyrene F-550" manufactured by Tosoh Corporation

(실시예 1)(Example 1)

PE4A 65질량부, 제조예 1에서 얻어진 우레탄아크릴레이트(UA) 조성물 35질량부((UA)로서 28질량부, PE4A 7질량부), 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 10질량부, 제조예 2에서 얻어진 수지(B-1)의 고형분 5질량부를, 메틸에틸케톤(이하, 「MEK」로 약기한다), 디메틸카보네이트(이하, 「DMC」로 약기한다), PGME, 페닐글리콜(이하, 「PhG」로 약기한다)로 희석하고, 용제 조성이 MEK/DMC/PGME/MeOH/PhG=67.5/19.9/7.5/4.6/0.5(질량비)로 되도록 조정하고, 균일하게 혼합해서 활성 에너지선 경화성 조성물(1)을 얻었다.65 parts by mass of PE4A, 35 parts by mass of the urethane acrylate (UA) composition obtained in Production Example 1 (28 parts by mass as (UA), 7 parts by mass of PE4A), 10 parts by mass of 1-hydroxycyclohexylphenylketone, Production Example 2 5 parts by mass of the solid content of the resin (B-1) obtained from methyl ethyl ketone (hereinafter abbreviated as "MEK"), dimethyl carbonate (hereinafter abbreviated as "DMC"), PGME, and phenyl glycol (hereinafter, "PhG" And the solvent composition is adjusted to MEK/DMC/PGME/MeOH/PhG=67.5/19.9/7.5/4.6/0.5 (mass ratio), mixed uniformly, and active energy ray-curable composition (1 ).

(실시예 2∼19)(Examples 2 to 19)

표 1∼2에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(2)∼(19)을 얻었다.It carried out similarly to Example 1 except having changed to the composition shown in Tables 1-2, and obtained active energy ray curable compositions (2)-(19).

(비교예 1∼7)(Comparative Examples 1 to 7)

표 3에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(R1)∼(R7)을 얻었다.It carried out similarly to Example 1 except having changed to the composition shown in Table 3, and obtained active energy ray curable compositions (R1)-(R7).

상기한 실시예 및 비교예에서 얻어진 활성 에너지선 경화성 조성물(1)∼(19), (R1)∼(R7)을 사용해서, 하기의 시험, 측정을 행했다.The following tests and measurements were performed using the active energy ray-curable compositions (1) to (19) and (R1) to (R7) obtained in the above-mentioned Examples and Comparative Examples.

[평가용 샘플의 제작][Preparation of evaluation samples]

활성 에너지선 경화성 조성물을, 두께 60㎛의 PMMA 필름에, 바 코터로 막두께 5㎛로 되도록 도공하고, 25℃에서 15초간, 다음으로 60℃에서 1.5분간 건조한 후, 질소 분위기 하에서 자외선 조사 장치(아이그래픽스가부시키가이샤제, 고압 수은 램프)를 사용해서 조사광량 1kJ/㎡로 3회 조사하여, 경화 도막을 갖는 PMMA 필름을 평가용 샘플로서 얻었다.The active energy ray-curable composition was coated on a PMMA film having a thickness of 60 µm with a bar coater to have a film thickness of 5 µm, dried at 25°C for 15 seconds, and then at 1.5°C for 60 minutes, and then irradiated with ultraviolet light under a nitrogen atmosphere ( Using i-Graphics Co., Ltd., a high pressure mercury lamp) was irradiated three times with an irradiated light amount of 1 kJ/m 2 to obtain a PMMA film having a cured coating film as an evaluation sample.

[도막 외관의 평가 방법][Evaluation method of coating film appearance]

상기에서 얻어진 평가용 샘플을 목시 관찰하고, 이하와 같이 평가했다.The evaluation sample obtained above was visually observed and evaluated as follows.

(1) 시딩(seeding)이 없는 것을 「○」, 시딩이 있는 것을 「×」(1) ``○'' without seeding and ``×'' with seeding

(2) 백화가 없는 것을 「○」, 백화를 일부 확인할 수 있는 것을 「△」, 백화를 현저하게 확인할 수 있는 것을 「×」(2) "○" that there is no whitening, "△" that can partially confirm whitening, and "x" that which can significantly identify whitening.

(3) 도막에 깨짐이 발생하고 있지 않은 것을 「○」, 도막에 깨짐이 발생하고 있는 것을 「×」(3) "○" means that no crack is occurring in the coating film, and "x" indicates that crack is occurring in the coating film.

[PMMA 필름과 도막과의 계면에 있어서의 간섭호의 평가 방법][Method for evaluating interference codes at the interface between the PMMA film and the coating film]

상기에서 얻어진 평가용 샘플의 PMMA 필름측을 흑판에 첩부하고, 3파장 형광등 및 나트륨 램프를 대고, 목시로 간섭호의 유무를 판정하고 이하와 같이 평가했다.The PMMA film side of the evaluation sample obtained above was affixed to a black plate, and a three-wavelength fluorescent lamp and a sodium lamp were placed to judge the presence or absence of an interfering call, and evaluated as follows.

「◎」 : 3파장 형광등 및 나트륨 램프 하에서도 간섭호가 확인되지 않음「◎」: No interference was observed even under a 3-wavelength fluorescent lamp and sodium lamp.

「○」 : 나트륨 램프 하에서는 간섭호가 확인되지만, 3파장 형광등 하에서는 간섭호가 확인되지 않음「○」: Interference is confirmed under sodium lamp, but interference is not observed under 3-wavelength fluorescent lamp.

「×」 : 3파장 형광등 및 나트륨 램프 하에서 간섭호가 확인됨「×」: Interference is confirmed under a 3-wavelength fluorescent lamp and sodium lamp.

[표면 저항값의 측정(대전방지성의 평가) 방법][Measurement of surface resistance value (evaluation of antistatic property)]

상기에서 얻어진 평가용 샘플의 경화 도막의 표면에 대하여, JIS 시험 방법C2139:2008에 준거해서, 고저항률계(가부시키가이샤미쓰비시가가쿠애널리텍제 「하이레스터-UP MCP-HT450」)를 사용해서, 인가 전압 500V, 측정 시간 10초로 표면 저항값을 측정했다.For the surface of the cured coating film of the evaluation sample obtained above, using a high resistivity meter (a high-resistance MCP-HT450 manufactured by Kabushiki Chemical Co., Ltd.) according to JIS test method C2139:2008. , The surface resistance value was measured with an applied voltage of 500 V and a measurement time of 10 seconds.

[표 1][Table 1]

Figure pct00005
Figure pct00005

[표 2][Table 2]

Figure pct00006
Figure pct00006

[표 3][Table 3]

Figure pct00007
Figure pct00007

표 1∼3 중의 약어는 이하의 것을 나타낸다.The abbreviations in Tables 1 to 3 indicate the following.

「PhDG」; 페닐디글리콜"PhDG"; Phenyldiglycol

「BzG」; 벤질글리콜"BzG"; Benzyl glycol

「BzDG」; 벤질디글리콜"BzDG"; Benzyl diglycol

「BuG」; 부틸글리콜"BuG"; Butyl glycol

「BuDG」; 부틸디글리콜"BuDG"; Butyl diglycol

「MG」; 메틸글리콜"MG"; Methyl glycol

「THFA」; 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트"THFA"; Tetrahydrofurfurylacrylate

「BzA」; 벤질아크릴레이트"BzA"; Benzyl acrylate

「TAC」; 트리아세틸셀룰로오스 필름"TAC"; Triacetylcellulose film

표 1∼2에 나타낸 평가 결과로부터, 실시예 1∼19의 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막은, 도공안정성 및 도막 외관이 우수하고, 표면 저항값이 10의 8∼9승 오더이고 대전방지성도 높은 것을 확인할 수 있었다. 또한, 폴리메틸메타크릴레이트를 기재로 해도 간섭호가 발생하지 않는 것을 알 수 있었다.From the evaluation results shown in Tables 1 to 2, the cured coating films of the active energy ray-curable compositions of Examples 1 to 19 of the present invention had excellent coating stability and coating appearance, and had a surface resistance value of 8 to 9 power order of 10. It was confirmed that the antistatic property was also high. In addition, it was found that even when polymethyl methacrylate was used as the base material, no interference call was generated.

한편, 비교예 1∼2는, 수지(B) 및 유기 용제(c-1)를 함유하지 않는 활성 에너지선 경화성 조성물을 사용한 예이지만, 경화 도막에 시딩이나 깨짐이 발생하고 있고, 표면 저항값도 10의 13승을 초과하고 있고, 대전방지성도 불량이었다. 또한, 비교예 1에서는 폴리메틸메타크릴레이트 기재와의 계면에 간섭호도 확인되었다.On the other hand, Comparative Examples 1 to 2 are examples using an active energy ray-curable composition that does not contain a resin (B) and an organic solvent (c-1), but seeding or cracking occurs in the cured coating film, and the surface resistance value is also It exceeded 13 of 10 and the antistatic property was also poor. In addition, in Comparative Example 1, an interference signal was also confirmed at the interface with the polymethyl methacrylate substrate.

비교예 3∼4는, 유기 용제(c-1)를 함유하지 않는 활성 에너지선 경화성 조성물을 사용한 예이지만, 경화 도막에 백화나 깨짐이 발생하고 있었다. 또한, 비교예 4에서는 폴리메틸메타크릴레이트 기재와의 계면에 간섭호도 확인되었다.Comparative Examples 3 to 4 are examples in which an active energy ray-curable composition containing no organic solvent (c-1) was used, but whitening and cracking occurred in the cured coating film. In addition, in Comparative Example 4, an interference signal was also confirmed at the interface with the polymethyl methacrylate substrate.

비교예 5∼7은, 유기 용제(c-1)의 함유량이, 본 발명에서 규정하는 범위를 초과하는 태양이지만, 경화 도막에 백화가 발생하고 있었다. 또한, 표면 저항값도 10의 13승을 초과하고 있고, 대전방지성도 불량이었다.In Comparative Examples 5 to 7, the content of the organic solvent (c-1) exceeded the range specified in the present invention, but whitening occurred in the cured coating film. Moreover, the surface resistance value also exceeded 13 to 10, and the antistatic property was also poor.

(실시예 20)(Example 20)

고굴절률 중합성 단량체(9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌, 굴절률 1.616)(이하, 「고굴(1)」로 약기한다) 15질량부, PE4A 55질량부, 제조예 1에서 얻어진 우레탄아크릴레이트(UA) 조성물 45질량부((UA)로서 36질량부, PE4A 9질량부), 제조예 2에서 얻어진 수지(B-1)의 고형분 5질량부를, 메틸에틸케톤(이하, 「MEK」로 약기한다), 디메틸카보네이트(이하, 「DMC」로 약기한다), PGME, 페닐글리콜(이하, 「PhG」로 약기한다)로 희석하고, 용제 조성이 MEK/DMC/PGME/MeOH/PhG=67.5/19.9/7.5/4.6/0.5(질량비)로 되도록 조정하고, 균일하게 혼합해서 활성 에너지선 경화성 조성물(20)을 얻었다.15 parts by mass of high refractive index polymerizable monomer (9,9-bis[4-(2-acryloyloxyethoxy)phenyl]fluorene, refractive index 1.616) (hereinafter abbreviated as "high refractive index (1)"), PE4A 55 parts by mass, 45 parts by mass of the urethane acrylate (UA) composition obtained in Production Example 1 (36 parts by mass as (UA), 9 parts by mass of PE4A), and 5 parts by mass of the solid content of the resin (B-1) obtained in Production Example 2 , Diluted with methyl ethyl ketone (hereinafter abbreviated as "MEK"), dimethyl carbonate (hereinafter abbreviated as "DMC"), PGME, phenyl glycol (hereinafter abbreviated as "PhG"), and the solvent composition is MEK /DMC/PGME/MeOH/PhG = adjusted to 67.5/19.9/7.5/4.6/0.5 (mass ratio) and uniformly mixed to obtain an active energy ray-curable composition (20).

(실시예 21∼38)(Examples 21 to 38)

표 4∼5에 나타낸 조성으로 변경한 것 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(21)∼(38)을 얻었다.It carried out similarly to Example 1 except having changed to the composition shown in Tables 4-5, and obtained active energy ray curable compositions (21)-(38).

상기한 실시예 및 비교예에서 얻어진 활성 에너지선 경화성 조성물(20)∼(38)을 사용해서, 마찬가지의 시험, 측정, 및, 하기 굴절률의 측정을 행했다.The same test, measurement, and measurement of the following refractive index were performed using the active energy ray-curable compositions (20) to (38) obtained in the above-mentioned Examples and Comparative Examples.

[굴절률의 측정][Measurement of refractive index]

상기에서 얻어진 평가용 샘플에 대하여, JIS 시험 방법 K7142:2014의 A법에 준거해서, 압베 굴절률계(가부시키가이샤아타고제 「DR-M2」)를 사용해서 굴절률을 측정했다. 또, 굴절률이 1.55 이상이면, 높은 굴절률을 갖는다고 판단했다.About the obtained sample for evaluation, the refractive index was measured using the Abbe refractometer ("DR-M2" manufactured by Kabushiki Industries Co., Ltd.) according to JIS test method K7142:2014 A method. In addition, when the refractive index was 1.55 or more, it was judged to have a high refractive index.

[표 4][Table 4]

Figure pct00008
Figure pct00008

[표 5][Table 5]

Figure pct00009
Figure pct00009

표 4∼5에 나타낸 평가 결과로부터, 실시예 20∼38의 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막은, 도공안정성 및 도막 외관이 우수하고, 굴절률도 높고, 표면 저항값이 10의 8∼9승 오더이고 대전방지성도 높은 것을 확인할 수 있었다. 또한, 폴리메틸메타크릴레이트를 기재로 해도 간섭호가 발생하지 않는 것을 알 수 있었다.From the evaluation results shown in Tables 4 to 5, the cured coating films of the active energy ray-curable compositions of Examples 20 to 38 of the present invention had excellent coating stability and coating appearance, high refractive index, and surface resistance values of 8 to 10. It was confirmed that it was a 9th order and the antistatic property was high. In addition, it was found that even when polymethyl methacrylate was used as the base material, no interference call was generated.

Claims (12)

활성 에너지선 경화성 화합물(A)과, 지환 구조 및 4급 암모늄염을 갖는 수지(B)와, 하기 일반식(1)으로 표시되는 유기 용제(c-1)를 0.1질량% 이상 15질량% 미만의 범위에서 포함하는 유기 용제(C)를 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화성 조성물.
Figure pct00010

(일반식(1) 중, R1은 탄소 원자수 1∼10의 직쇄상 혹은 분기 구조를 갖는 알킬기, 알릴기, 페닐기, 또는, 벤질기를 나타내고, n은 1∼3의 정수를 나타낸다)An active energy ray-curable compound (A), a resin having an alicyclic structure and a quaternary ammonium salt (B), and an organic solvent represented by the following general formula (1) (c-1) of 0.1% by mass or more and less than 15% by mass Active energy ray-curable composition characterized by containing the organic solvent (C) contained in the range.
Figure pct00010

(In the general formula (1), R 1 represents an alkyl group having a straight or branched structure having 1 to 10 carbon atoms, an allyl group, a phenyl group, or a benzyl group, and n represents an integer of 1 to 3) 제1항에 있어서,
상기 유기 용제(C)가, 소수성 용제(c-2)를 더 함유하는 것인 활성 에너지선 경화성 조성물.According to claim 1,
The active energy ray-curable composition, wherein the organic solvent (C) further contains a hydrophobic solvent (c-2). 제2항에 있어서,
상기 유기 용제(C)가, 유기 용제(c-1) 이외의 친수성 용제(c-3)를 더 함유하는 것인 활성 에너지선 경화성 조성물.According to claim 2,
The active energy ray-curable composition, wherein the organic solvent (C) further contains a hydrophilic solvent (c-3) other than the organic solvent (c-1). 제3항에 있어서,
상기 친수성 용제(c-3)의 함유량이, 상기 유기 용제(C) 중 5∼30질량%의 범위인 활성 에너지선 경화성 조성물.According to claim 3,
The active energy ray-curable composition in which the content of the hydrophilic solvent (c-3) is in the range of 5 to 30% by mass in the organic solvent (C). 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지(B)가, 원료로서 지환 구조를 갖는 중합성 단량체를 5∼55질량% 사용한 중합체인 활성 에너지선 경화성 조성물.The method according to any one of claims 1 to 4,
The active energy ray-curable composition wherein the resin (B) is a polymer using 5 to 55% by mass of a polymerizable monomer having an alicyclic structure as a raw material. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지(B)의 배합량이, 상기 활성 에너지선 경화성 화합물(A) 100질량부에 대해서, 0.1∼30질량부의 범위인 활성 에너지선 경화성 조성물.The method according to any one of claims 1 to 5,
The active energy ray-curable composition in a range of 0.1 to 30 parts by mass based on 100 parts by mass of the active energy ray-curable compound (A). 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 활성 에너지선 경화성 화합물(A)이, 굴절률이 1.55 이상인 고굴절률 중합성 단량체(A-1), 및/또는, 상기 (A-1) 이외의 중합성 단량체(A-2)를 함유하는 것인 활성 에너지선 경화성 조성물.The method according to any one of claims 1 to 6,
The active energy ray-curable compound (A) contains a high refractive index polymerizable monomer (A-1) having a refractive index of 1.55 or more, and/or a polymerizable monomer (A-2) other than the above (A-1). Phosphorus active energy ray curable composition. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 중합성 단량체(A-2)가, (메타)아크릴로일기를 셋 이상 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트, 및/또는, 우레탄(메타)아크릴레이트를 함유하는 것인 활성 에너지선 경화성 조성물.The method according to any one of claims 1 to 7,
The active energy ray-curable composition wherein the polymerizable monomer (A-2) contains a polyfunctional (meth)acrylate having three or more (meth)acryloyl groups, and/or urethane (meth)acrylate. 제8항에 있어서,
상기 중합성 단량체(A-2)가, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 페닐글리콜(메타)아크릴레이트, 및, 하기 일반식(2)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 함유하는 것인 활성 에너지선 경화성 조성물.
Figure pct00011

(일반식(2) 중, R2 및 R4은 각각 독립해서 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R3은 탄소 원자수 1∼10의 알킬렌기를 나타내고, m은 1∼4의 정수를 나타낸다)The method of claim 8,
The polymerizable monomer (A-2) is composed of tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenyl glycol (meth)acrylate, and a compound represented by the following general formula (2) Active energy ray-curable composition further containing at least one compound selected from the group.
Figure pct00011

(In the general formula (2), R 2 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 4) 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화물.Hardened|cured material of the active energy ray curable composition in any one of Claims 1-9. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막을 갖는 것을 특징으로 하는 필름.A film comprising the cured coating film of the active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 9. 제11항에 있어서,
폴리메틸메타크릴레이트 기재의 적어도 한쪽의 면에 상기 경화 도막을 갖는 것인 필름.The method of claim 11,
A film having the cured coating film on at least one side of a polymethyl methacrylate base material.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004123924A (en) 2002-10-03 2004-04-22 Takemoto Oil & Fat Co Ltd Antistatic agent for synthetic polymer film, and method for preventing charging of synthetic polymer film with static electricity
JP2004143303A (en) 2002-10-25 2004-05-20 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Urethane (meth)acrylate-based compound and active energy ray-curable resin composition using the same
KR101466520B1 (en) * 2010-07-12 2014-11-27 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 Curable resin composition for antistatic layer, optical film, polarizing plate, and display panel
KR20170010314A (en) * 2014-06-27 2017-01-26 디아이씨 가부시끼가이샤 Active energy ray-curable composition and film using same

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19611812A1 (en) * 1996-03-26 1997-10-02 Herberts Gmbh Water-dilutable dispersion, process for its preparation and coating agents
JP2005200658A (en) * 2005-02-14 2005-07-28 Toppan Printing Co Ltd Resin composition and its moldings
JP5638250B2 (en) * 2010-01-28 2014-12-10 Ｋｊケミカルズ株式会社 Antistatic agent and antistatic composition comprising unsaturated quaternary ammonium salt compound
CN102844346B (en) * 2010-03-31 2014-10-15 Dic株式会社 Active energy ray curable resin composition, cured article and film thereof
JP6057121B2 (en) * 2012-11-02 2017-01-11 Dic株式会社 Active energy ray curable composition, cured product thereof and article having cured coating film thereof
CN109312012B (en) * 2016-06-27 2021-08-27 Dic株式会社 Active energy ray-curable composition and film using same
CN110402258B (en) * 2017-03-06 2021-11-30 Dic株式会社 Active energy ray-curable composition, cured product, and film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004123924A (en) 2002-10-03 2004-04-22 Takemoto Oil & Fat Co Ltd Antistatic agent for synthetic polymer film, and method for preventing charging of synthetic polymer film with static electricity
JP2004143303A (en) 2002-10-25 2004-05-20 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Urethane (meth)acrylate-based compound and active energy ray-curable resin composition using the same
KR101466520B1 (en) * 2010-07-12 2014-11-27 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 Curable resin composition for antistatic layer, optical film, polarizing plate, and display panel
KR20170010314A (en) * 2014-06-27 2017-01-26 디아이씨 가부시끼가이샤 Active energy ray-curable composition and film using same

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