KR20200052847A - Polyimide Composite Film with Superior Performance for Dielectric Property and Method for Preparing the Same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a polyimide composite film with excellent dielectric properties and a manufacturing method thereof. More specifically, provided is a polyimide composite film comprising: a core layer containing a first polyimide resin; and at least one skin layer containing a second polyimide resin and a fluorine-based resin and formed in a state bonded to at least one surface of the core layer.

Description

유전특성이 우수한 폴리이미드 복합 필름 및 이를 제조하는 방법 {Polyimide Composite Film with Superior Performance for Dielectric Property and Method for Preparing the Same}Polyimide Composite Film with Superior Performance for Dielectric Property and Method for Preparing the Same}

본 발명은 유전특성이 우수한 폴리이미드 복합 필름 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polyimide composite film having excellent dielectric properties and a method for manufacturing the same.

폴리이미드(polyimide, PI)는, 강직한 방향족 주쇄와 함께 화학적 안정성이 매우 우수한 이미드 고리를 기초로 하여, 유기 재료들 중에서도 최고 수준의 내열성, 내약품성, 전기 절연성, 내화학성, 내후성을 가지는 고분자 재료이다. 따라서, 폴리이미드는 전술의 특성들이 강력하게 요구되는 미소 전자 부품의 절연 소재로서 각광받고 있다.Polyimide (PI) is a polymer having the highest level of heat resistance, chemical resistance, electrical insulation, chemical resistance, and weather resistance among organic materials, based on an imide ring with excellent chemical stability along with a rigid aromatic backbone It is material. Therefore, polyimide has been spotlighted as an insulating material for microelectronic components in which the aforementioned properties are strongly required.

특히, 폴리이미드 특유의 절연 특성으로 인해 FPCB(Flexible Printed Circuit Board), TAB(Tape Automated Bonding), COF(Chip on Film) 등의 전자재료용 소재로서 사용되고 있다.In particular, it is used as a material for electronic materials such as flexible printed circuit board (FPCB), tape automated bonding (TAB), and chip on film (COF) due to insulation characteristics peculiar to polyimide.

미소 전자 부품을 예로는 전자제품의 경량화와 소형화에 대응 가능하도록 회로 집적도가 높고 유연한 박형 회로기판을 들 수 있으며, 상기 폴리이미드가 박형 회로기판의 절연 필름으로 널리 이용되고 있다.Examples of the microelectronic component include a thin circuit board having high circuit density and being flexible so as to be able to cope with the weight reduction and miniaturization of electronic products, and the polyimide is widely used as an insulating film for thin circuit boards.

한편, 최근 전자 기기에 다양한 기능들이 내재됨에 따라 상기 전자기기에 빠른 연산 속도와 통신 속도가 요구되고 있으며, 이를 충족하기 위해 2 GHz 이상의 고주파로 고속 통신이 가능한 박형 회로기판이 개발되고 있다.On the other hand, as various functions are embedded in electronic devices, a fast computing speed and a communication speed are required for the electronic devices, and a thin circuit board capable of high-speed communication at a high frequency of 2 GHz or more has been developed to meet this.

고주파 고속 통신을 실현하기 위해서는, 고주파에서도 전기 절연성을 유지할 수 있는 높은 임피던스(impedance)를 가지는 절연체가 필요하다. In order to realize high-speed high-speed communication, an insulator having a high impedance capable of maintaining electrical insulation even at high frequencies is required.

임피던스는 절연체에 형성되는 주파수 및 유전상수(dielectric constant, 유전율, Dk)와 반비례 관계인 바, 고주파에서도 절연성을 유지하기 위해서는 유전상수가 가능한 낮아야 한다.Impedance is inversely related to the frequency and dielectric constant (dielectric constant, Dk) formed on the insulator, so the dielectric constant should be as low as possible to maintain insulation even at high frequencies.

그러나, 통상의 폴리이미드의 경우 유전상수가 3.4 내지 3.6 정도로 고주파 통신에서 충분한 절연성을 유지할 수 있을 정도로 우수한 수준은 아니며, 예컨대, 2 GHz 이상의 고주파 통신이 진행되는 박형 회로기판에서 절연성을 부분적으로 또는 전체적으로 상실할 가능성이 존재한다.However, in the case of a conventional polyimide, the dielectric constant is not high enough to maintain sufficient insulation in high-frequency communication with a degree of 3.4 to 3.6, for example, partially or wholly insulation in a thin circuit board in which high-frequency communication of 2 GHz or higher is performed. There is a possibility of loss.

또한, 절연체의 유전상수가 낮을수록 박형 회로기판에서 바람직하지 않은 부유 용량(stray capacitance)과 노이즈의 발생을 감소시킬 수 있어, 통신 지연의 원인을 상당부분 해소할 수 있는 것으로 알려져 있는 바, 폴리이미드의 유전상수를 가능한 낮게 하는 것은 박형 회로기판의 성능에 무엇보다 중요한 요인으로 인식되고 있는 실정이다.In addition, it is known that the lower the dielectric constant of the insulator, the less the occurrence of undesirable stray capacitance and noise in a thin circuit board, and thus, it is known that the cause of communication delay can be substantially eliminated. As low as possible, the dielectric constant of is recognized as the most important factor in the performance of a thin circuit board.

따라서, 절연 필름으로서 보다 개선된 성능을 내재하기 위하여, 더욱 낮은 유전상수를 내재한 폴리이미드 필름의 개발이 필요한 실정이다.Therefore, in order to embed more improved performance as an insulating film, it is necessary to develop a polyimide film having a lower dielectric constant.

본 발명은 유전율, 유전상수 및 흡습율이 우수한 폴리이미드 복합 필름을 제공한다.The present invention provides a polyimide composite film having excellent dielectric constant, dielectric constant and moisture absorption.

본 발명의 일 측면에서, 본 발명의 폴리이미드 복합 필름은, 코어층과 스킨층을 필수적인 인자로서 포함하고, 스킨층은 폴리이미드 복합 필름이 낮은 흡습율과 유전상수를 내재하는데 이롭게 작용할 수 있다.In one aspect of the present invention, the polyimide composite film of the present invention includes a core layer and a skin layer as essential factors, and the skin layer may advantageously act to impart a low moisture absorption rate and dielectric constant of the polyimide composite film.

본 발명에서 스킨층은 제2 폴리이미드 수지를 포함하며, 이는 예컨대, 열가소성 폴리이미드 또는 금속박과의 접착에 적합한 열팽창계수를 가질 수 있으며, 이에 기반하여 폴리이미드 복합 필름은 열가소성 폴리이미드 또는 금속박과의 접착시, 치수 안정성이 우수한 이점을 가진다. 다른 측면에서 제2 폴리이미드 수지는, 그의 분자 구조에 기반하여 스킨층이 우수한 유전특성, 예컨대 낮은 유전상수를 내재하는데 이롭게 작용할 수 있다.In the present invention, the skin layer includes a second polyimide resin, which may have a coefficient of thermal expansion suitable for adhesion to, for example, a thermoplastic polyimide or metal foil, and based on this, the polyimide composite film is formed from a thermoplastic polyimide or metal foil. When bonding, it has the advantage of excellent dimensional stability. In another aspect, the second polyimide resin, based on its molecular structure, may advantageously have a skin layer having excellent dielectric properties, such as low dielectric constant.

스킨층은 또한, 그것의 표면을 통한 수분 침투 및/또는 그 내부에서 수분이 확산되는 현상을 억제할 수 있는 불소계 수지를 포함한다. 이는 유전특성에 악영향을 미칠 수 있는 흡습율을 저하시킬 수 있으며 이로 인해 폴리이미드 복합 필름은 유전특성이 바람직한 형태로 내재될 수 있고, 상세하게는 낮은 유전상수를 가질 수 있다.The skin layer also includes a fluorine-based resin capable of inhibiting moisture penetration through its surface and / or diffusion of moisture therein. This can lower the moisture absorption rate, which can adversely affect the dielectric properties, and as a result, the polyimide composite film may have inherent dielectric properties in a desirable form, and in particular, have a low dielectric constant.

본 발명의 폴리이미드 복합 필름은 기계적 강성이 우수한 제1 폴리이미드 수지를 포함하는 코어층을 더 포함한다. 이러한 코어층에 기반하여 폴리이미드 복합 필름은 우수한 기계적 물성, 예컨대 인장강도 및 모듈러스가 소망하는 수준으로 발현될 수 있다. The polyimide composite film of the present invention further includes a core layer comprising a first polyimide resin having excellent mechanical rigidity. Based on this core layer, the polyimide composite film can be exhibited with excellent mechanical properties, such as tensile strength and modulus, at desired levels.

본 발명의 다른 측면에서, 본 발명은 이상과 같은 이점을 갖는 신규한 폴리이미드 복합 필름의 구현에 적합한 제조방법을 제공한다.In another aspect of the present invention, the present invention provides a production method suitable for implementing a novel polyimide composite film having the above advantages.

본 발명의 또 다른 측면에서, 본 발명은 이상과 가은 이점을 갖는 신규한 폴리이미드 복합 필름을 포함하는 연성금속박적층판을 제공한다. In another aspect of the present invention, the present invention provides a flexible metal foil-clad laminate comprising a novel polyimide composite film having the above and a few advantages.

이러한 측면들에 따라 앞선 종래의 문제가 해결될 수 있을 것이며, 이에 본 발명은 이의 구체적 실시예를 제공하는데 실질적인 목적이 있다.According to these aspects, the above-mentioned conventional problems can be solved, and the present invention has a practical purpose in providing a specific embodiment thereof.

하나의 실시양태에서, 본 발명은 In one embodiment, the invention

제1 폴리이미드 수지를 포함하는 코어층; 및A core layer comprising a first polyimide resin; And

제2 폴리이미드 수지 및 불소계 수지를 포함하고, 상기 코어층의 적어도 하나의 면에 접합된 상태로 형성되어 있는 적어도 하나의 스킨층을 포함하며,A second polyimide resin and a fluorine-based resin, and at least one skin layer formed in a state bonded to at least one surface of the core layer,

상기 스킨층은 이의 전체 중량에 대해 60 중량% 이하의 불소계 수지를 포함하고, The skin layer contains 60% by weight or less of a fluorine-based resin based on the total weight of the skin layer,

유전손실이 0.003이하이고, 유전상수(Dk)가 3.2 이하이고, 흡습율이 0.6 이하인, 폴리이미드 복합 필름을 제공한다.A polyimide composite film having a dielectric loss of 0.003 or less, a dielectric constant (Dk) of 3.2 or less, and a moisture absorption rate of 0.6 or less.

하나의 실시양태에서, 본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름은 신율이 30% 이상, 상세하게는 40 % 이상일 수 있다. In one embodiment, the polyimide composite film according to the present invention may have an elongation of 30% or more, specifically 40% or more.

하나의 실시양태에서, 본 발명은 상기 폴리이미드 복합 필름을 제조하는데 특화된 방법을 제공한다.In one embodiment, the present invention provides a method specialized in preparing the polyimide composite film.

하나의 실시양태에서, 본 발명은 상기 폴리이미드 복합 필름을 포함하는 연성금속박적층판, 상기 연성금속박적층판을 전기적 신호 전송 회로로서 포함하는 전자 부품을 제공하며, 상기 전기적 신호 전송 회로는, 적어도 2 GHz의 고주파로 신호를 전송하는 전자 부품일 수 있다.In one embodiment, the present invention provides a flexible metal thin laminate plate comprising the polyimide composite film, an electronic component including the flexible metal thin laminate plate as an electrical signal transmission circuit, wherein the electrical signal transmission circuit is at least 2 GHz. It may be an electronic component that transmits a signal at a high frequency.

이하에서는 본 발명에 따른 "폴리이미드 복합 필름", "폴리이미드 복합 필름의 제조방법" 및 "연성금속박적층판"의 순서로 발명의 실시양태를 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail in the order of “polyimide composite film”, “method for producing polyimide composite film” and “soft metal foil laminate” according to the present invention.

이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Prior to this, the terms or words used in the present specification and claims should not be interpreted as being limited to ordinary or dictionary meanings, and the inventor appropriately explains the concept of terms in order to explain his or her invention in the best way. Based on the principle that it can be defined, it should be interpreted as meanings and concepts consistent with the technical spirit of the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예의 구성은 본 발명의 가장 바람직한 하나의 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the configuration of the embodiments described herein is only one of the most preferred embodiments of the present invention and does not represent all of the technical spirit of the present invention, and various equivalents and modifications that can replace them at the time of this application It should be understood that examples may exist.

본 명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 구성 요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 구성 요소, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In this specification, a singular expression includes a plural expression unless the context clearly indicates otherwise. In this specification, the terms "comprises", "haves" or "have" are intended to indicate the presence of implemented features, numbers, steps, elements or combinations thereof, one or more other features or It should be understood that the existence or addition possibilities of numbers, steps, elements, or combinations thereof are not excluded in advance.

본 명세서에서 "디안하이드라이드(이무수물; dianhydride)"는 그 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디안하이드라이드가 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디아민과 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.As used herein, "dianhydride (dianhydride)" is intended to include its precursors or derivatives, which may not technically be dianhydrides, but nevertheless react with diamines to form polyamic acids. And this polyamic acid can be converted back to polyimide.

본 명세서에서 "디아민(diamine)"은 그의 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디아민이 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디안하이드라이드와 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.“Diamine” as used herein is intended to include precursors or derivatives thereof, which may not technically be diamines, but will nevertheless react with dianhydrides to form polyamic acids, which are polyamic The acid can be converted back to polyimide.

본 명세서에서 양, 농도, 또는 다른 값 또는 파라미터가 범위, 바람직한 범위 또는 바람직한 상한 값 및 바람직한 하한 값의 열거로서 주어지는 경우, 범위가 별도로 개시되는지에 상관없이 임의의 한 쌍의 임의의 위쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값 및 임의의 아래쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값으로 형성될 수 있는 모든 범위를 구체적으로 개시하는 것으로 이해되어야 한다. 수치 값의 범위가 본 명세서에서 언급될 경우, 달리 기술되지 않는다면, 그 범위는 그 종점 및 그 범위 내의 모든 정수와 분수를 포함하는 것으로 의도된다. 본 발명의 범주는 범위를 정의할 때 언급되는 특정 값으로 한정되지 않는 것으로 의도된다.Where an amount, concentration, or other value or parameter herein is given as an enumeration of ranges, preferred ranges, or preferred upper and lower limits, any upper limit of any pair of any pair, regardless of whether the ranges are disclosed separately or It should be understood to specifically disclose all ranges that can be formed with preferred values and any lower range limits or desirable values. When a range of numerical values is referred to herein, unless stated otherwise, that range is intended to include the endpoints and all integers and fractions within the range. It is intended that the scope of the invention not be limited to the specific values recited when defining a range.

본 발명의 폴리이미드 복합 필름은 유전율, 유전상수 및 흡습율이 우수하다.The polyimide composite film of the present invention is excellent in dielectric constant, dielectric constant and moisture absorption.

본 발명의 폴리이미드 복합 필름은, 코어층과 스킨층을 필수적인 인자로서 포함하고, 스킨층은 폴리이미드 복합 필름이 낮은 흡습율과 유전상수를 내재하는데 이롭게 작용할 수 있다.The polyimide composite film of the present invention includes a core layer and a skin layer as essential factors, and the skin layer can advantageously act to impart a low moisture absorption and dielectric constant of the polyimide composite film.

본 발명에서 스킨층은 제2 폴리이미드 수지를 포함하며, 이는 예컨대, 열가소성 폴리이미드 또는 금속박과의 접착에 적합한 열팽창계수를 가질 수 있으며, 이에 기반하여 폴리이미드 복합 필름은 열가소성 폴리이미드 또는 금속박과의 접착시, 치수 안정성이 우수한 이점을 가진다. 다른 측면에서 제2 폴리이미드 수지는, 그의 분자 구조에 기반하여 스킨층이 우수한 유전특성, 예컨대 낮은 유전상수를 내재하는데 이롭게 작용할 수 있다.In the present invention, the skin layer includes a second polyimide resin, which may have a coefficient of thermal expansion suitable for adhesion to, for example, a thermoplastic polyimide or metal foil, and based on this, the polyimide composite film is formed from a thermoplastic polyimide or metal foil. When bonding, it has the advantage of excellent dimensional stability. In another aspect, the second polyimide resin, based on its molecular structure, may advantageously have a skin layer having excellent dielectric properties, such as low dielectric constant.

스킨층은 또한, 그것의 표면을 통한 수분 침투 및/또는 그것의내부에서 수분이 확산되는 현상을 억제할 수 있는 불소계 수지를 포함한다. 이는 유전특성에 악영향을 미칠 수 있는 흡습율을 저하시킬 수 있으며 이로 인해 폴리이미드 복합 필름은 유전특성이 바람직한 형태로 내재될 수 있고, 상세하게는 낮은 유전상수를 가질 수 있다.The skin layer also includes a fluorine-based resin capable of inhibiting moisture penetration through its surface and / or diffusion of moisture therein. This can lower the moisture absorption rate, which can adversely affect the dielectric properties, and as a result, the polyimide composite film may have inherent dielectric properties in a desirable form, and in particular, have a low dielectric constant.

본 발명의 폴리이미드 복합 필름은 기계적 강성이 우수한 제1 폴리이미드 수지를 포함하는 코어층을 더 포함한다. 이러한 코어층에 기반하여 폴리이미드 복합 필름은 우수한 기계적 물성, 예컨대 인장강도 및 모듈러스가 소망하는 수준으로 발현될 수 있다. The polyimide composite film of the present invention further includes a core layer comprising a first polyimide resin having excellent mechanical rigidity. Based on this core layer, the polyimide composite film can be exhibited with excellent mechanical properties, such as tensile strength and modulus, at desired levels.

도 1은 공압출기의 모식도이다.1 is a schematic view of a co-extruder.

폴리이미드 복합 필름Polyimide composite film

본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름은, 두께가 10 내지 100 ㎛, 상세하게는 10 내지 75 ㎛, 더욱 상세하게는 10 내지 50 ㎛인 다층 복합 필름일 수 있다.The polyimide composite film according to the present invention may be a multilayer composite film having a thickness of 10 to 100 μm, specifically 10 to 75 μm, and more specifically 10 to 50 μm.

본 발명의 폴리이미드 복합 필름은,The polyimide composite film of the present invention,

제1 폴리이미드 수지를 포함하는 코어층; 및A core layer comprising a first polyimide resin; And

제2 폴리이미드 수지 및 불소계 수지를 포함하고, 상기 코어층의 적어도 하나의 면에 접합된 상태로 형성되어 있는 적어도 하나의 스킨층을 포함할 수 있다.It may include a second polyimide resin and a fluorine-based resin, and may include at least one skin layer formed in a state bonded to at least one surface of the core layer.

하나의 구체적인 예에서, 상기 제1 폴리이미드 수지 및 제2 폴리이미드 수지는 각각 디아민 단량체 및 디안하이드 단량체의 중합으로 제조될 수 있다.In one specific example, the first polyimide resin and the second polyimide resin may be prepared by polymerization of a diamine monomer and a dianhydride monomer, respectively.

하나의 구체적인 예에서, 상기 디아민 단량체는, In one specific example, the diamine monomer,

1,4-디아미노벤젠(또는 파라페닐렌디아민, PDA, PPD), 1,3-디아미노벤젠, 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노벤조익 애시드(또는 DABA), 4,4'-디아미노디페닐에테르(또는 옥시디아닐린, ODA), 3,4'-디아미노디페닐에테르 등의 디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메탄(또는 4,4'-메틸렌디아민, MDA), 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-비스(트라이플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디카르복시-4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 4,4'-디아미노벤즈아닐라이드, 3,3'-디메틸벤지딘(또는 o-톨리딘), 2,2'-디메틸벤지딘(또는 m-톨리딘), 3,3'-디메톡시벤지딘, 2,2'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐설파이드, 3,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디메톡시벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 3,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2-비스(3-아미노페닐)프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로판, 2,2-비스(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 3,3'-디아미노디페닐설폭사이드, 3,4'-디아미노디페닐설폭사이드, 4,4'-디아미노디페닐설폭사이드, 1,3-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(4-아미노 페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-R), 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-Q) 1,3-비스(3-아미노페녹시)-4-트라이플루오로메틸벤젠, 3,3'-디아미노-4-(4-페닐)페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디(4-페닐페녹시)벤조페논, 1,3-비스(3-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설파이 드)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(3-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 3,3'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 3,3'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(4-아미노 페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스 〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕메탄, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕메탄, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕메탄, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕메탄, 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕프로판, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕프로판, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕프로판, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕프로판(BAPP), 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 및 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2 이상의 성분을 포함할 수 있다.1,4-diaminobenzene (or paraphenylenediamine, PDA, PPD), 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, 3,5-diaminobenzo Diaminodiphenyl ethers, such as diacid (or DABA), 4,4'-diaminodiphenyl ether (or oxidianiline, ODA), 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-dia Minodiphenylmethane (or 4,4'-methylenediamine, MDA), 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl , 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dicarboxy- 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, bis (4-aminophenyl) sulfide, 4,4'-dia Minobenzanilide, 3,3'-dimethylbenzidine (or o-tolidine), 2,2'-dimethylbenzidine (or m-tolidine), 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dime Thoxybenzidine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenylsulfide, 3,4'-diaminodiphenylsulfide, 4,4'-dia Minodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4, 4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dimethoxybenzophenone, 3,3'-diamino Diphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis (3-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) Propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1,1,3 , 3,3-hexafluoropropane, 3,3'-diaminodiphenylsulfoxide, 3,4'-diaminodiphenylsulfoxide, 4,4'-diaminodiphenylsulfoxide, 1,3- Bis (3-aminophenyl) benzene, 1,3-bis (4-aminophenyl) benzene, 1,4-bis (3-ah Nophenyl) benzene, 1,4-bis (4-amino phenyl) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (or TPE-R), 1,4-bis (3-aminophenoxy) Benzene (or TPE-Q) 1,3-bis (3-aminophenoxy) -4-trifluoromethylbenzene, 3,3'-diamino-4- (4-phenyl) phenoxybenzophenone, 3, 3'-diamino-4,4'-di (4-phenylphenoxy) benzophenone, 1,3-bis (3-aminophenylsulfide) benzene, 1,3-bis (4-aminophenylsulfide) benzene , 1,4-bis (4-aminophenylsulfide) benzene, 1,3-bis (3-aminophenylsulfone) benzene, 1,3-bis (4-aminophenylsulfone) benzene, 1,4-bis (4 -Aminophenylsulfone) benzene, 1,3-bis [2- (4-aminophenyl) isopropyl] benzene, 1,4-bis [2- (3-aminophenyl) isopropyl] benzene, 1,4-bis [2- (4-aminophenyl) isopropyl] benzene, 3,3'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 3,3'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4 ' -Bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, Bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- ( 4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy ) Phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [3- ( 4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [3- (3-aminophenoxy ) Phenyl] methane, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2 , 2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP), 2,2-bis [3- (3 -Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3 , 3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane may include two or more components selected from the group consisting of.

하나의 구체적인 예에서, 상기 디안하이드라이드 단량체는, 피로멜리틱 디안하이드라이드(또는 PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 s-BPDA), 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 a-BPDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(또는 ODPA), 디페닐설폰-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 DSDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)설파이드 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 디안하이드라이드, 2,3,3',4'- 벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 BTDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 디안하이드라이드, p-페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), p-바이페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), m-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, p-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 1,3-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)바이페닐 디안하이드라이드, 2,2-비스〔(3,4-디카르복시 페녹시)페닐〕프로판 디안하이드라이드(BPADA), 2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산 디안하이드라이드, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭 디안하이드라이드 및 4,4'-(2,2-헥사플루오로아이소프로필리덴)디프탈산 디안하이드라이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 이상의 성분을 포함할 수 있다.In one specific example, the dianhydride monomer is pyromellitic dianhydride (or PMDA), 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or s-BPDA), 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or a-BPDA), oxydiphthalic dianhydride (or ODPA), diphenylsulfone-3,4,3', 4 ' -Tetracarboxylic dianhydride (or DSDA), bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfide dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3 , 3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,3,3 ', 4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dian Hydride (or BTDA), bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, p-phenylenebis (trimelitic Monoester Acid Hydride), p-biphenylenebis (trimeric monoester acid anhydride), m-terphenyl-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl- 3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxy Phenoxy) benzene dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) biphenyl dianhydride, 2,2-bis [(3,4-dicarboxy phenoxy) phenyl] propane dianhydride Ride (BPADA), 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 4,4 '-(2,2-hexafluoro It may include one or more components selected from the group consisting of isopropylidene) diphthalic acid dianhydride.

상기 제1 폴리이미드 수지 및/또는 제2 폴리이미드 수지를 구현할 수 있는 단량체들은 상대적으로 강직한 분자 구조를 갖는 성분들일 수 있고, 이는 제1 폴리이미드 수지 및/또는 제2 폴리이미드 수지가 우수한 기계적 강도, 예컨대 우수한 인장강도 및 모듈러스를 내재하는데 직접적으로 관계될 수 있다. 결과적으로, 제1 폴리이미드 수지를 포함하는 코어층 및 코어층을 포함하는 폴리이미드 복합 필름에서 상기 인장강도와 모듈러스가 바람직한 수준으로 발현되는 것으로 이어질 수 있다. The monomers capable of implementing the first polyimide resin and / or the second polyimide resin may be components having a relatively rigid molecular structure, which is excellent in mechanical properties of the first polyimide resin and / or the second polyimide resin. Strength, such as good tensile strength and inherent modulus, can be directly related. As a result, the tensile strength and modulus of the core layer including the first polyimide resin and the polyimide composite film including the core layer may lead to being expressed at a desired level.

하나의 구체적인 예에서, 상기 디아민 단량체는 m-톨리딘, O-톨리딘, ODA 및 PPD로 이루어진 군으로부터 선택되는 2종 이상의 성분을 포함할 수 있으며, 더욱 상세하게는 m-톨리딘 및 O-톨리딘 중 하나와 ODA 및 PPD 중 1종 이상의 성분을 포함할 수 있다.In one specific example, the diamine monomer may include two or more components selected from the group consisting of m-tolidine, O-tolidine, ODA and PPD, and more specifically m-tolidine and O- It may include one of tolidine and one or more components of ODA and PPD.

m-톨리딘 및 O-톨리딘이 갖는 벤지딘 구조는 스킨층으로의 수분 침투, 수분 확산 등을 최소화하여, 폴리이미드 복합 필름의 흡습율 향상에 주요하게 작용할 수 있다. 이에 더해, 스킨층은 상대적으로 소수성으로 분류되는 불소계 수지를 포함하고 있는 바, 이러한 벤지딘 구조를 갖는 제2 폴리이미드 수지와 불소계 수지가 시너지 효과를 발현함에 따라, 스킨층을 통한 흡습 현상이 현저히 억제될 수 있다.The benzidine structure possessed by m-tolidine and O-tolidine minimizes water penetration into the skin layer, water diffusion, and the like, and can mainly act to improve the moisture absorption rate of the polyimide composite film. In addition, the skin layer contains a fluorine-based resin that is classified as relatively hydrophobic, and as the second polyimide resin and the fluorine-based resin having such a benzidine structure exhibit a synergistic effect, moisture absorption through the skin layer is significantly suppressed. Can be.

따라서, 제2 폴리이미드 수지 및 불소계 수지를 포함하는 스킨층은, 유전특성에 악영향을 미칠 수 있는 흡습율을 개선하여 폴리이미드 복합 필름의 유전특성이 소망하는 양태로 구현되는데 이롭게 작용할 수 있다.Accordingly, the skin layer including the second polyimide resin and the fluorine-based resin may improve the moisture absorption rate that may adversely affect the dielectric properties and may advantageously be implemented in a desired aspect of the dielectric properties of the polyimide composite film.

하나의 구체적인 예에서, 상기 디안하이드라이드 단량체는 상대적으로 강직한 분자 구조를 갖는 것일 수 있고, 상세하게는 PMDA, s-BPDA, a-BPDA 및 BTDA으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 성분을 포함할 수 있고, 더욱 상세하게는 PMDA, s-BPDA 및 a-BPDA으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2종 이상을 포함할 수 있다.In one specific example, the dianhydride monomer may have a relatively rigid molecular structure, and specifically include one or more components selected from the group consisting of PMDA, s-BPDA, a-BPDA and BTDA. It may be, and more specifically, may include two or more selected from the group consisting of PMDA, s-BPDA and a-BPDA.

본 발명의 코어층 및/또는 스킨층을 구현할 수 있는 단량체의 조합은, 상대적으로 강직한 분자 구조를 갖는 성분들로서, 코어층 및/또는 스킨층이 우수한 기계적 강도, 예컨대 우수한 인장강도 및 모듈러스를 내재하는데 유리하게 작용할 수 있다.The combination of monomers capable of implementing the core layer and / or skin layer of the present invention are components having a relatively rigid molecular structure, and the core layer and / or skin layer have excellent mechanical strength, such as excellent tensile strength and modulus. It can work to your advantage.

또한, 상기 단량체 조합에 의해 제조된 제1 폴리이미드 수지 및/또는 제2 폴리이미드 수지는, 낮은 흡습율에 관련한 이점도 있지만, 폴리이미드 복합 필름의 전기 절연성에 영향을 미치는 유전특성, 예컨대 낮은 유전상수가 발현되는데도 유리하게 작용할 수 있다. In addition, the first polyimide resin and / or the second polyimide resin prepared by the monomer combination has advantages related to low moisture absorption, but has dielectric properties that affect the electrical insulation properties of the polyimide composite film, such as low dielectric constant. Can be advantageously expressed.

상기 불소계 수지는 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 퍼플루오로알콕시(PFA), 불소화(fluorinated)된 에틸렌프로필렌(FEP) 및 에틸렌테트라플루오로에틸렌(ETFE)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있고, 상세하게는 제2 폴리이미드 수지와 상용성이 우수하며, 접착력 저하를 유발하지 않는 폴리테트라플루오로에틸렌일 수 있다.The fluorine-based resin is at least one selected from the group consisting of polytetrafluoroethylene (PTFE), perfluoroalkoxy (PFA), fluorinated ethylene propylene (FEP) and ethylenetetrafluoroethylene (ETFE). It may include, in detail, it may be a polytetrafluoroethylene that is excellent in compatibility with the second polyimide resin and does not cause a decrease in adhesion.

상기 불소계 수지는 하기에서 선택되는 적어도 하나의 상태로 스킨층에 존재할 수 있다:The fluorine-based resin may be present in the skin layer in at least one state selected from:

(a) 제2 폴리이미드 수지의 고분자 사슬에 물리적으로 결착된 제1 상태; 및 (a) a first state physically bound to the polymer chain of the second polyimide resin; And

(b) 제2 폴리이미드 수지의 고분자 사슬의 극성기에 수소 결합된 제2 상태. (b) Second state hydrogen-bonded to the polar group of the polymer chain of the second polyimide resin.

상기 제1 상태로 존재하는 불소계 수지는 제2 폴리이미드 수지의 고분자 사슬에 물리적으로 얽혀있을 수 있고, 이는 스킨층으로의 수분 침투 및/또는 스킨층내에서의 수분 확산을 억제하는데 이롭게 작용할 수 있다.The fluorine-based resin present in the first state may be physically entangled in the polymer chain of the second polyimide resin, which may advantageously inhibit water penetration into the skin layer and / or diffusion of water within the skin layer.

상기 제2 상태로 존재하는 불소계 수지는 제2 폴리이미드 수지의 고분자 사슬 중의 극성기, 예컨대 이미드기에 수소 결합된 것으로서, 상기 제2 상태와 유사한 이점을 제공할 수 있다.The fluorine-based resin present in the second state is hydrogen bonded to a polar group in the polymer chain of the second polyimide resin, such as an imide group, and may provide advantages similar to the second state.

다만, 소정의 양으로 존재하는 불소계 수지는 앞선 설명과 같이 제1 상태 및 제2 상태로 각각 존재하면서 긍정적으로 작용하기도 하지만, 과량으로 포함되는 경우에는 스킨층의 기계적 물성의 저하, 상세하게는 인장강도와 모듈러스의 현저한 저하를 유발할 수 있고, 제조된 필름의 표면 특성을 크게 저하시킬 수 있다. 이러한 표면 특성은 예를 들어, 열 주름 등을 들 수 있다. 이와 반대로, 불소계 수지가 너무 적게 포함된 스킨층은 수분에 대한 상기한 이점들을 내재하기 어렵다. However, the fluorine-based resin present in a predetermined amount, while present in the first state and the second state, respectively, acts positively as described above, but when included in an excessive amount, deterioration of mechanical properties of the skin layer, in particular, tensile It can cause a significant decrease in strength and modulus, and can significantly decrease the surface properties of the produced film. The surface properties include, for example, thermal wrinkles. On the contrary, the skin layer containing too little fluorine-based resin is difficult to embed the above-mentioned advantages for moisture.

따라서, 상술한 이점의 발현이 가능하면서도, 스킨층, 나아가 폴리이미드 복합 필름의 물성 저하가 없는 범위에서 불소계 수지의 함유량이 결정되어야 하며, 이에 본 발명에서 상기 불소계 수지는 스킨층 하나의 전체 중량에 대해 10 내지 60 중량%, 상세하게는 20 내지 50 중량% 포함될 수 있다.Therefore, while the above-mentioned advantages can be expressed, the content of the fluorine-based resin should be determined in a range in which there is no deterioration in the physical properties of the skin layer and further the polyimide composite film. Accordingly, in the present invention, the fluorine-based resin is added to the total weight of one skin layer. With respect to 10 to 60% by weight, specifically 20 to 50% by weight may be included.

상기 스킨층이 코어층의 일면에 형성되는 제1 스킨층 및 상기 코어층의 타면에 형성되는 제2 스킨층을 포함할 때, 상기 제1 스킨층은 이의 전체 중량에 대해 10 내지 60 중량%, 상세하게는 30 내지 60 중량%, 특히 상세하게는 40 내지 60 중량%의 불소계 수지를 포함하며, 상기 제2 스킨층은 이의 전체 중량에 대해 10 내지 60 중량%, 상세하게는 30 내지 60 중량%, 특히 상세하게는 40 내지 60 중량%의 불소계 수지를 포함할 수 있다.When the skin layer includes a first skin layer formed on one surface of the core layer and a second skin layer formed on the other surface of the core layer, the first skin layer is 10 to 60% by weight relative to the total weight thereof, Specifically, 30 to 60% by weight, in particular 40 to 60% by weight of a fluorine-based resin, and the second skin layer is 10 to 60% by weight relative to its total weight, specifically 30 to 60% by weight , In particular, it may include 40 to 60% by weight of a fluorine-based resin.

한편, 본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름은, 스킨층 및 코어층으로 이루어진 다층 복합 필름인 바, 각 층을 이루는 폴리이미드 수지가 각각 특정한 조성을 가질 수 있고, 이에 따라 스킨층과 코어층 각각 임의의 소망하는 물성을 내재할 수 있다.Meanwhile, since the polyimide composite film according to the present invention is a multi-layered composite film composed of a skin layer and a core layer, the polyimide resins constituting each layer may each have a specific composition, and accordingly, the skin layer and the core layer may have any Desired physical properties can be inherent.

구체적으로 본 발명의 스킨층은 이를 구성하는 제2 폴리이미드 수지 및 불소계 수지에 기반하여 폴리이미드 복합 필름이 낮은 흡습율과 유전상수를 갖는데 직접적으로 관계될 수 있고, 코어층은 폴리이미드 복합 필름의 형태를 지지하면서 절연 필름에 요구되는 다양한 기계적 물성을 충족하는데 유리할 수 있다.Specifically, the skin layer of the present invention may be directly related to the polyimide composite film having a low moisture absorption rate and a dielectric constant based on the second polyimide resin and fluorine resin constituting the same, and the core layer of the polyimide composite film While supporting the shape, it may be advantageous to meet various mechanical properties required for the insulating film.

이와 비교를 위한 대조적인 예시는 스킨층 및 코어층을 포함하지 않는 통상적인 폴리이미드 단층 필름이 불소계 수지를 포함한 것을 예로 들 수 있다.As a contrasting example for comparison, a conventional polyimide monolayer film that does not include a skin layer and a core layer may include, for example, a fluorine-based resin.

이러한 폴리이미드 단층 필름은 수분 침투의 억제 목적으로 불소계 수지를 포함하더라도, 폴리이미드 필름의 내측, 예컨대 필름의 중심부에 불소계 수지가 다량 존재할 수 있고, 필름 중심부로부터 필름의 표면 방향으로 불소계 수지의 농도가 점차 감소하는 농도구배가 나타날 수 있다. 따라서, 통상의 폴리이미드 단층 필름은 불소계 수지를 함유하더라도 표면을 통한 수분의 침투를 억제하는데 한계가 있다. Even if the polyimide monolayer film contains a fluorine-based resin for the purpose of suppressing moisture permeation, a large amount of fluorine-based resin may be present inside the polyimide film, for example, in the center of the film, and the concentration of the fluorine-based resin in the surface direction of the film from the center of the film A gradually decreasing concentration gradient may appear. Therefore, a conventional polyimide monolayer film has a limit to suppress the penetration of moisture through the surface even if it contains a fluorine-based resin.

이러한 이유로, 상기 폴리이미드 단층 필름은 필름의 표면 및 이에 인접한 부위에 불소계 수지가 다수 존재할 수 있도록 불소계 수지를 상대적으로 고함량으로 함유하는 것이 요구되었다. 그러나, 불소계 수지는 폴리이미드 필름의 기계적 물성을 상당히 저하시킬 수 있으므로 상기 폴리이미드 필름은 상기 기계적 물성을 희생하여 흡습율 개선을 기대할 수 있을 것이다. For this reason, the polyimide monolayer film has been required to contain a relatively high content of a fluorine-based resin so that a large number of fluorine-based resins may be present on the surface of the film and adjacent portions thereof. However, since the fluorine-based resin can significantly degrade the mechanical properties of the polyimide film, the polyimide film can be expected to improve the moisture absorption rate at the expense of the mechanical properties.

또한, 단층 폴리이미드 필름은, 임의의 하나의 단량체 조합에 의해 제조된 단일 폴리이미드 수지로 이루어지므로, 바람직한 수준의 기계적 물성뿐만 아니라, 서로 관련성이 흡습율, 유전상수 및 열팽창계수가 바람직한 수준에 이르기는 어렵다.In addition, since the single-layer polyimide film is composed of a single polyimide resin produced by any one monomer combination, not only the desired level of mechanical properties, but also the correlation with each other to the desired level of moisture absorption, dielectric constant, and thermal expansion coefficient Is difficult.

정리하면, 본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름은 이의 특별한 구조에 기반하여 서로 관련성이 적은 다양한 물성들이 바람직한 수준으로 양립될 수 있고, 이는 통상의 단층 폴리이미드 필름에서 발현될 수 없는 점에서 특이적인 효과로 인식될 수 있을 것이다.In summary, the polyimide composite film according to the present invention can be compatible with a variety of properties that are less related to each other based on its special structure, which is a specific effect in that it cannot be expressed in a conventional single-layer polyimide film. It can be recognized as.

하나의 구체적인 예에서, 상기 폴리이미드 복합 필름은 스킨층이 코어층의 일면에 형성되는 제1 스킨층 및 상기 코어층의 타면에 형성되는 제2 스킨층을 포함할 수 있고, In one specific example, the polyimide composite film may include a first skin layer having a skin layer formed on one surface of the core layer and a second skin layer formed on the other surface of the core layer,

상기 제1 스킨층은 이의 전체 중량에 대해 10 내지 60 중량%의 불소계 수지를 포함하며, 상기 제2 스킨층은 이의 전체 중량에 대해 10 내지 60 중량%의 불소계 수지를 포함하고,The first skin layer contains 10 to 60% by weight of fluorine-based resin based on the total weight thereof, and the second skin layer contains 10 to 60% by weight of fluorine-based resin based on its total weight,

상기 제1 스킨층 및 제2 스킨층의 두께의 합에 대한 상기 코어층의 두께의 비율(=코어층/(제1 스킨층 + 제2 스킨층))이 1 내지 5, 상세하게는 1.5 내지 4, 더욱 상세하게는 2.0 내지 3.0일 수 있다.The ratio of the thickness of the core layer to the sum of the thicknesses of the first skin layer and the second skin layer (= core layer / (first skin layer + second skin layer)) is 1 to 5, specifically 1.5 to 4, more specifically, may be 2.0 to 3.0.

상기 제1 스킨층 및 제2 스킨층 각각은 하나의 층으로 이루어진 단일층일 수 있고, 경우에 따라서는 복수의 단위층들이 접합된 상태로 적층된 복합층의 형태로 이루어질 수 있다.Each of the first skin layer and the second skin layer may be a single layer composed of one layer, and in some cases, may be formed in the form of a composite layer laminated with a plurality of unit layers bonded together.

상기 제1 스킨층 및 제2 스킨층의 두께 합과 코어층의 두께 비율은 폴리이미드 복합 필름의 기계적 물성이 소정의 수준으로 유지되면서, 소망하는 수준의 흡습율 및 유전특성이 발현되는데 특히 중요할 수 있다.The sum of the thicknesses of the first skin layer and the second skin layer and the thickness ratio of the core layer are particularly important when the mechanical properties of the polyimide composite film are maintained at a predetermined level, while the desired level of moisture absorption and dielectric properties are expressed. Can be.

상기 범위를 하회하여 제1 스킨층과 제2 스킨층 전체가 상대적으로 두꺼워지고, 코어층이 상대적으로 얇은 구조일 때, 폴리이미드 복합 필름의 기계적 물성이 크게 저하될 수 있으므로 바람직하지 않다.Below the above range, when the entire first skin layer and the second skin layer are relatively thick and the core layer has a relatively thin structure, it is not preferable because the mechanical properties of the polyimide composite film may be significantly reduced.

반대로 상기 범위를 상회하여 제1 스킨층과 제2 스킨층 전체가 과도하게 얇게 구성되면, 불소계 수지를 제외하면 스킨층을 구성하는 제2 폴리이미드 수지의 고분자 사슬이 과도하게 감소되어 실질적으로 층의 형태를 이루기 어렵고, 층을 이루더라도 구조가 깨질 수 있다.Conversely, when the entire first skin layer and the second skin layer are excessively thin above the above range, the polymer chains of the second polyimide resin constituting the skin layer are excessively reduced to exclude the fluorine-based resin, thereby substantially reducing the It is difficult to form, and the structure can break even if layered.

상기 제1 스킨층과 제2 스킨층의 두께는 서로 동일하거나 상이할 수 있으며, 상이할 때, 5:5를 제외하고 7:3 내지 3:7(제1 스킨층:제2 스킨층)의 두께 비를 가질 수 있다.The thickness of the first skin layer and the second skin layer may be the same or different from each other, and when different, 7: 3 to 3: 7 (first skin layer: second skin layer) except 5: 5 It can have a thickness ratio.

이상의 이점에 기반하여 본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름은 유전손실(Df)이 0.003이하이고, 유전상수(Dk)가 3.2 이하이고, 흡습율이 0.6 중량%이하일 수 있다.Based on the above advantages, the polyimide composite film according to the present invention may have a dielectric loss (Df) of 0.003 or less, a dielectric constant (Dk) of 3.2 or less, and a moisture absorption of 0.6% by weight or less.

절연 필름으로서 본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름이 활용될 때를 가정하면, 상기 물성중에서도 유전상수, 흡습율 및 열팽창계수에 특히 주목해야 한다.Assuming when the polyimide composite film according to the present invention is used as the insulating film, particular attention should be paid to the dielectric constant, moisture absorption, and coefficient of thermal expansion among the above properties.

일반적으로 유전율(Permittivity)이란 유전체(또는 절연체), 즉, 부도체의 전기적인 특성을 나타내는 중요한 특성 값으로 유전율은 DC전류에 대한 전기적 특성을 나타내는 것이 아니라 AC 전류, 특히 교류 전자기파의 특성과 직접적인 관련이 있는 것으로 알려져 있다. In general, the permittivity is an important characteristic value indicating the electrical properties of a dielectric (or insulator), that is, a nonconductor. The dielectric constant is not directly related to the electrical properties of DC current, but is directly related to the properties of AC current, especially AC electromagnetic waves. It is said to be.

절연체(예컨대, 폴리이미드 필름)에서 평상 시 무작위 방향으로 각자 흩어져있던 +, - moment 성분은, 외부에서 걸린 전자계의 교류 변화에 맞추어 정렬된다. 즉 moment성분들이 전자계의 변화방향에 맞추어 따라 변함으로써, 부도체이면서도 건너편에 내부에 전자기파의 진행을 가능하게 할 수 있다.In the insulator (for example, a polyimide film), + and-moment components, which are normally scattered in random directions, are aligned with changes in the electromagnetic field applied from the outside. That is, by changing the moment components in accordance with the changing direction of the electromagnetic field, it is possible to enable the propagation of electromagnetic waves inside the non-conductor yet on the other side.

이러한 외부의 전자계의 변화에 대해, 물질 내부의 moment가 얼마나 민감하게 잘 반응하여 움직이느냐의 정도를 유전율이라고 표현할 수 있다.The extent of how sensitively the moment inside the material reacts and moves to this change in the external electromagnetic field can be expressed as the dielectric constant.

이러한 유전율은 통상적으로 비유전율(Relative Permittivity)을 통해 직관적 해석이 가능하도록 하는데, 비유전율이란 공기를 1로 하고, 그에 비례한 각 유전체의 유전율을 의미하는 것이며, 그 중에서도 비유전율의 산정에서 허수를 배제하고 실수로 표현한 것이 유전상수(Dk)이다. Such dielectric constants allow an intuitive interpretation through relative permittivity, and the relative permittivity is air, which means the dielectric constant of each dielectric in proportion, and among them, imaginary numbers in the calculation of relative permittivity Excluded and expressed by mistake is the dielectric constant (Dk).

유전상수가 높다는 것은 전기에너지가 잘 전달된다는 것을 의미하므로, 폴리이미드 필름과 같은 절연체는 유전상수가 낮을수록 바람직하다.Since a high dielectric constant means that electrical energy is well transmitted, an insulator such as a polyimide film is preferable as the dielectric constant is lower.

그럼에도 불구하고, 통상의 폴리이미드 필름은 고주파 통신에서 충분한 절연성을 유지할 수 있을 정도의 수준은 아님을 이미 설명한 바 있다. 이는 액정 고분자(liquid crystal polymer)의 유전상수와 비교할 때 분명해지는데, 액정 고분자의 경우 유전상수가 대략 2.9에서 3.3으로 알려져 있어, 대부분이 그 이상의 유전상수를 가지는 통상의 폴리이미드 대비 절연체로서는 더 우수한 것으로 볼 수 있다.Nevertheless, it has been already explained that the conventional polyimide film is not at a level sufficient to maintain sufficient insulation in high-frequency communication. This becomes evident when compared with the dielectric constant of liquid crystal polymers. In the case of liquid crystal polymers, the dielectric constant is known to be approximately 2.9 to 3.3, and most of them are superior to insulators compared to conventional polyimides having higher dielectric constants. can see.

반면, 본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름은 상기 액정 고분자의 유전상수에 육박하거나, 또는 그 보다 낮은 유전상수, 구체적으로 유전상수가 3.2 이하, 상세하게는 3.0 이하일 수 있고, 그 하한은 2.0 일 수 있다. 이는 폴리이미드가 엔지니어링 특성이 최고 수준인 점을 상기할 때, 절연체로서 이상적인 형태임을 알 수 있다. On the other hand, the polyimide composite film according to the present invention is close to the dielectric constant of the liquid crystal polymer, or a lower dielectric constant, specifically, the dielectric constant may be 3.2 or less, in particular, 3.0 or less, and the lower limit may be 2.0 have. It can be seen that polyimide is an ideal form as an insulator when recalling that the engineering properties are at the highest level.

이러한 유전상수가 가지는 의미를 구체적으로 설명한다. The meaning of the dielectric constant will be described in detail.

모든 도체는 서로 떨어져 있더라도 그 사이에는 전기장에 의한 정전결합(capacitive coupling)이 항상 존재하여, 다층기판의 층과 층 사이도 서로 전기적으로 떨어져 있다고 하더라도 이는 직류에 대해 개방 회로(open circuit)일 뿐 실제로는 그 사이에 어떤 값의 커패시터가 연결되어 있는 것으로 볼 수 있다. Even though all conductors are separated from each other, there is always capacitive coupling by an electric field, so even if the layers and layers of the multi-layer substrate are also electrically separated from each other, this is only an open circuit to DC. Can be seen as a capacitor with a value connected between them.

한편, 커패시터는 그 양단의 전류나 전압의 주파수가 높을수록 임피던스가 낮아지는 성질이 있으며, 그 값은 다음 식과 같이 표현될 수 있다.On the other hand, a capacitor has a property that an impedance decreases as a frequency of a current or a voltage across the capacitor increases, and the value can be expressed by the following equation.

-임피던스 = 1/(2*π*f*C); 여기서, f는 주파수이고 C=커패시턴스이다.-Impedance = 1 / (2 * π * f * C); Where f is the frequency and C = capacitance.

-C = e*S/d; 여기서 e는 유전상수이고, S는 도체의 면적이며, d는 거리이다.-C = e * S / d; Where e is the dielectric constant, S is the area of the conductor, and d is the distance.

일반적으로, 눈에 보이고 맨손으로 다룰 수 있는 정도의 규모에서는 두 도체를 아무리 가까이 가져다 놓아도 그 사이의 커패시턴스 값(패럿, farad)이 피코(pico) 단위를 벗어나기 어려우며, 일반 PCB도 마찬가지로 층 간의 C가 워낙 작아서 회로가 어느 정도 높은 주파수로 동작한다 해도 층 간의 절연이 잘 유지될 수 있다. In general, at a level that is visible and can be handled with bare hands, no matter how close the two conductors are, the capacitance value (farad) between them is difficult to escape from the pico unit. It is so small that the insulation between layers can be maintained even if the circuit is operating at a somewhat higher frequency.

반면에, 기가(GIGA) 단위의 주파수, 예컨대 2 GHz 이상의 초고주파로 동작하는 통신장비 등의 특수한 경우에는 상기 식에서와 같이 주파수가 워낙 높아서 임피던스가 낮아지기 때문에 절연이 유지되기 어려울 수 있다. On the other hand, in special cases, such as a communication device operating at a frequency of giga (GIGA) unit, for example, an ultra-high frequency of 2 GHz or more, since the frequency is very high as shown in the above formula, impedance may be lowered, so it may be difficult to maintain insulation.

따라서, 절연체를 선택할 때, 가능한 유전상수가 낮은 물질을 사용하여 정전결합과 커패시턴스(즉, 임피던스)를 최소화하여야 하는 것이다. Therefore, when selecting an insulator, it is necessary to minimize electrostatic coupling and capacitance (ie, impedance) by using a material having a low dielectric constant.

이에, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은, 전술한 바와 같이 상대적으로 낮은 유전상수를 가짐으로써, 기가(GIGA) 단위의 주파수, 예컨대 2 GHz 이상의 초고주파로 동작하는 통신장비 등에도 절연 유지가 용이한 이점이 있다. Accordingly, the polyimide film according to the present invention has a relatively low dielectric constant as described above, and thus it is easy to maintain insulation even in communication equipment operating at a frequency of giga (GIGA) unit, for example, ultra-high frequency of 2 GHz or more. There is this.

상기 흡습율은, 재료가 흡습하고 있는 수분량을 나타내는 비율로서, 일반적으로 흡습율이 높을 때 유전상수와 유전 손실률이 증가하는 것으로 알려져 있다. The moisture absorption rate is a rate indicating the amount of moisture the material is absorbing, and is generally known to increase the dielectric constant and dielectric loss rate when the moisture absorption rate is high.

일반적으로, 물이 고체의 상태일 때, 유전상수가 100 이상이고, 액체 상태일 때, 약 80이며, 기체 상태의 수증기일 때, 1.0059로 알려져 있다. Generally, when the water is in a solid state, the dielectric constant is 100 or more, when it is in the liquid state, it is about 80, and when it is in the gaseous state, it is known as 1.0059.

즉, 폴리이미드 필름 외에서 수증기 상태로 존재하는 물은 폴리이미드 필름의 유전상수와 유전 손실률에 실질적으로 영향을 끼치지 않는다. 그러나 수증기 등이 폴리이미드 필름에 흡습된 상태에서는 물은 액체 상태로 존재하는데, 이 경우, 폴리이미드 필름의 유전상수와 유전 손실률은 비약적으로 증가할 수 있다. 즉, 미량의 수분 흡습만으로도 폴리이미드 필름의 유전상수와 유전 손실률은 급변할 수 있다. That is, water existing in a water vapor state other than the polyimide film does not substantially affect the dielectric constant and dielectric loss rate of the polyimide film. However, in a state in which water vapor or the like is absorbed by the polyimide film, water exists in a liquid state, and in this case, the dielectric constant and dielectric loss rate of the polyimide film may increase dramatically. In other words, the dielectric constant and dielectric loss rate of the polyimide film may change rapidly even with a small amount of moisture absorption.

따라서, 흡습율을 낮게 하는 것은, 절연 필름으로서의 폴리이미드 필름에 매우 중요한 요소로 볼 수 있다. Therefore, lowering the moisture absorption rate can be regarded as a very important factor for a polyimide film as an insulating film.

본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름은, 흡습율이 1.0 중량% 이하, 상세하게는 0.7 중량% 이하, 보다 상세하게는 0.6 중량%이하 일 수 있으며, 이의 달성은 본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름의 구성적 특징에 기인한다. 요약하면, 본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름은 스킨층이 수분의 침투를 억제할 수 있는 불소계 수지를 포함하고 있고, 제2 폴리이미드 수지의 고분자 구조상으로도 수분에 친화적이지 않은 벤지딘을 포함하여 이들이 시너지 효과를 발현함에 따른 것으로 추측된다.The polyimide composite film according to the present invention may have a moisture absorption rate of 1.0% by weight or less, specifically 0.7% by weight or less, and more specifically 0.6% by weight or less, and the achievement of the polyimide composite film of the present invention It is due to the constitutional characteristics. In summary, the polyimide composite film according to the present invention includes a fluorine-based resin in which the skin layer can inhibit the penetration of moisture, and includes benzidine, which is not water-friendly due to the polymer structure of the second polyimide resin. It is presumed to be due to the manifestation of a synergistic effect.

한편, 연성금속박적층판의 구현을 위해, 폴리이미드 복합 필름을 금속박과 라미네이트할때, 열왜곡 발생을 억제하기 위해서는, 300 내지 350 ℃에서의 폴리이미드 필름의 열팽창 계수가 금속박의 열팽창 계수와 동일한 것이 가장 이상적이다. 다만, 폴리이미드 필름의 열팽창 계수를 금속박과 동일하게 설정하는 것이 현실적으로 용이하지 않으며, 열왜곡 발생을 억제한다는 측면에서, 폴리이미드 필름의 열팽창 계수와 금속박의 열팽창 계수와의 차가 ㅁ10 ppm 이내, 상세하게는 ㅁ5 ppm 이내가 되는 것이 바람직하다.On the other hand, in order to suppress the occurrence of thermal distortion when the polyimide composite film is laminated with the metal foil for the implementation of the flexible metal foil-clad laminate, the thermal expansion coefficient of the polyimide film at 300 to 350 ° C is the same as the thermal expansion coefficient of the metal foil. Ideal. However, it is not practically easy to set the thermal expansion coefficient of the polyimide film to be the same as the metal foil, and in view of suppressing the occurrence of thermal distortion, the difference between the thermal expansion coefficient of the polyimide film and the thermal expansion coefficient of the metal foil is within ㅁ 10 ppm, detailed It is preferable to be within ㅁ 5 ppm.

그러나, 폴리이미드 필름과 금속박 사이에서 접착성을 가지는 접착층이 형성될 때, 상기 접착층의 열팽창계수와의 차이도 고려해야 할 것이다.However, when an adhesive layer having adhesiveness is formed between the polyimide film and the metal foil, the difference from the thermal expansion coefficient of the adhesive layer should also be considered.

따라서, 열가소성 폴리이미드를 접착층으로 사용할 경우에, 상기 폴리이미드 필름의 340℃에서의 열팽창계수가 7 ppm/℃ 이상일 때 치수 변화가 최소화될 수 있고, 그 미만에서는 금속박 및 접착층과의 관계에서 치수 변화가 과도하게 나타나 외관 불량을 유발할 수 있다.Therefore, when the thermoplastic polyimide is used as the adhesive layer, the dimensional change can be minimized when the thermal expansion coefficient at 340 ° C of the polyimide film is 7 ppm / ° C or higher, and less, the dimensional change in the relationship with the metal foil and the adhesive layer Can appear excessively and cause bad appearance.

또한, 이 경우에도 열팽창계수는 15 ppm/℃ 이하가 바람직하며, 이를 초과할 때에는 MD와 TD 방향으로 팽창 정도가 과도하여 역시 외관 불량을 유발할 수 있다. 이에 대해 보다 바람직한 범위는 열팽창계수가 8 ppm/℃ 이상 내지 15 ppm/℃ 이하, 특히 바람직하게는 8 ppm/℃ 이상 내지 3 ppm/℃ 이하일 수 있고, 본 발명에 따른 폴리이미드 복합 필름은 열팽창계수가 상기 바람직한 범위에 속하여, 연성금속박적층판의 구현에 유리한 점이 있음을 예상할 수 있다.Also, in this case, the thermal expansion coefficient is preferably 15 ppm / ° C. or less, and when it exceeds this, the degree of expansion in the MD and TD directions is excessive, which may also cause poor appearance. A more preferable range for this may be a thermal expansion coefficient of 8 ppm / ° C or more to 15 ppm / ° C or less, particularly preferably 8 ppm / ° C or more to 3 ppm / ° C or less, and the polyimide composite film according to the present invention has a thermal expansion coefficient Is within the above preferred range, it can be expected that there is an advantage in the implementation of the flexible metal foil laminate.

폴리이미드 복합 필름의 제조방법Manufacturing method of polyimide composite film

본 발명의 폴리이미드 복합 필름을 제조하는 방법은, Method for producing a polyimide composite film of the present invention,

제1 폴리아믹산 용액을 포함하는 제1 조성물과 제2 폴리아믹산 용액 및 불소계 수지를 포함하는 제2 조성물이 인접호여 적층되도록 제막하는 단계; 및 Depositing a first composition comprising a first polyamic acid solution and a second composition comprising a second polyamic acid solution and a fluorine-based resin so as to be stacked adjacent to each other; And

제막된 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 이미드화 하는 단계를 포함하고, And imidizing the film-formed first composition and second composition,

상기 폴리이미드 복합 필름은 제1 조성물에서 유래되는 코어층 및 제2 조성물에서 유래되는 스킨층을 포함할 수 있다.The polyimide composite film may include a core layer derived from the first composition and a skin layer derived from the second composition.

상기 제1 폴리아믹산 용액 및 제2 폴리아믹산 용액 각각은 폴리아믹산이 용해 가능한 유기용매를 포함할 수 있다.Each of the first polyamic acid solution and the second polyamic acid solution may include an organic solvent in which polyamic acid is soluble.

상기 유기용매는 폴리아믹산이 용해될 수 있는 용매라면 특별히 한정되지는 않으나, 하나의 예로서, 비양성자성 극성 용매(aprotic polar solvent)일 수 있다.The organic solvent is not particularly limited as long as it is a solvent in which the polyamic acid can be dissolved, but as an example, the organic solvent may be an aprotic polar solvent.

상기 비양성자성 극성 용매의 비제한적인 예로서, N,N'-디메틸포름아미드(DMF), N,N'-디메틸아세트아미드(DMAc) 등의 아미드계 용매, p-클로로페놀, o-클로로페놀 등의 페놀계 용매, N-메틸-피롤리돈(NMP), 감마 브티로 락톤(GBL) 및 디그림(Diglyme) 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합되어 사용될 수 있다. As a non-limiting example of the aprotic polar solvent, amide solvents such as N, N'-dimethylformamide (DMF), N, N'-dimethylacetamide (DMAc), p-chlorophenol, o-chloro And phenol-based solvents such as phenol, N-methyl-pyrrolidone (NMP), gamma brotirolactone (GBL) and digrime, and these may be used alone or in combination of two or more.

경우에 따라서는 톨루엔, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메탄올, 에탄올, 물 등의 보조적 용매를 사용하여, 폴리아믹산의 용해도를 조절할 수도 있다. In some cases, the solubility of the polyamic acid may be controlled by using auxiliary solvents such as toluene, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, and water.

하나의 예에서, 본 발명의 제1 폴리아믹산 용액 및 제2 폴리아믹산 용액의 제조에 특히 바람직하게 사용될 수 있는 유기용매는 아미드계 용매인 N,N'-디메틸포름아미드 및 N,N'-디메틸아세트아미드일 수 있다.In one example, organic solvents that can be particularly preferably used in the preparation of the first polyamic acid solution and the second polyamic acid solution of the present invention are amide solvents N, N'-dimethylformamide and N, N'-dimethyl Acetamide.

상기 제1 폴리아믹산 용액 및 제2 폴리아믹산 용액을 중합하는 방법은 이하와 같은 방법을 통해 각각 제조될 수 있다:The method of polymerizing the first polyamic acid solution and the second polyamic acid solution may be respectively prepared through the following methods:

(1) 디아민 단량체 전량을 유기용매 중에 넣고, 그 후 디안하이드라이드 단량체를 디아민 단량체와 실질적으로 등몰이 되도록 첨가하여 중합하는 방법;(1) a method in which the total amount of the diamine monomer is placed in an organic solvent, and then the dianhydride monomer is added to be substantially equimolar with the diamine monomer and polymerized;

(2) 디안하이드라이드 단량체 전량을 유기용매 중에 넣고, 그 후 디아민 단량체를 디안하이드라이드 단량체와 실질적으로 등몰이 되도록 첨가하여 중합하는 방법; (2) a method in which the total amount of the dianhydride monomer is placed in an organic solvent, and then the diamine monomer is added to be substantially equimolar with the dianhydride monomer to polymerize;

(3) 디아민 단량체 중 일부 성분을 유기용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대해서 디안하이드라이드 단량체 중 일부 성분을 약 95 몰% 내지 105 몰%의 비율로 혼합한 후, 나머지 디아민 단량체 성분을 첨가하고 이에 연속해서 나머지 디안하이드라이드 단량체 성분을 첨가하여, 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체가 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법; (3) After adding some components of the diamine monomer in an organic solvent, after mixing some components of the dianhydride monomer with respect to the reaction component at a ratio of about 95 mol% to 105 mol%, the remaining diamine monomer components are added thereto. A method in which the remaining dianhydride monomer components are added successively to make the diamine monomer and the dianhydride monomer substantially equimolar;

(4) 디안하이드라이드 단량체를 유기용매 중에 넣은 후, 반응 성분에 대해서 디아민 화합물 중 일부 성분을 95 몰% 내지 105 몰의 비율로 혼합한 후, 다른 디안하이드라이드 단량체 성분을 첨가하고 연속해서 나머지 디아민 단량체 성분을 첨가하여, 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체가 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법; 및(4) After placing the dianhydride monomer in an organic solvent, after mixing some components of the diamine compound with respect to the reaction component in a ratio of 95 mol% to 105 mol, other dianhydride monomer components are added and successively the remaining diamine A method of polymerization by adding a monomer component such that the diamine monomer and the dianhydride monomer become substantially equimolar; And

(5) 유기용매 중에서 일부 디아민 단량체 성분과 일부 디안하이드라이드 단량체 성분을 어느 하나가 과량이 되도록 반응시켜, 제1 중합물을 형성하고, 또 다른 유기용매 중에서 일부 디아민 단량체 성분과 일부 디안하이드라이드 단량체 성분을 어느 하나가 과량이 되도록 반응시켜 제2 중합물을 형성한 후, 제1, 제2 중합물들을 혼합하고, 중합을 완결하는 방법으로서, 이 때 제1 중합물을 형성할 때 디아민 단량체 성분이 과잉일 경우, 제2 중합물에서는 디안하이드라이드 단량체 성분을 과량으로 하고, 제1 중합물에서 디안하이드라이드 단량체 성분이 과잉일 경우, 제2 중합물에서는 디아민 단량체 성분을 과량으로 하여, 제1, 제2 중합물들을 혼합하여 이들 반응에 사용되는 전체 디아민 단량체 성분과 디안하이드라이드 단량체 성분이 실질적으로 등몰이 되도록 하여 중합하는 방법.(5) Some diamine monomer components and some dianhydride monomer components are reacted so as to be in excess in one of the organic solvents to form a first polymer, and some diamine monomer components and some dianhydride monomer components are formed in another organic solvent. As a method for reacting such that one is in excess to form a second polymer, mixing the first and second polymers, and completing the polymerization, wherein the diamine monomer component is excessive when forming the first polymer. , In the second polymerized product, an excess of the dianhydride monomer component, and in the first polymerized product, if the dianhydride monomer component is excessive, in the second polymerized product, the diamine monomer component is added in excess, and the first and second polymerized products are mixed. All diamine monomer components and dianhydride monomer components used in these reactions are substantially equimolar. How to polymerize as possible.

다만, 상기 방법은 본 발명의 실시를 돕기 위한 예시로서, 본 발명의 범주가 이들로서 한정되는 것은 아니며, 공지된 어떠한 방법을 사용할 수 있음은 물론이다.However, the above method is an example for helping the implementation of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to them, and it is of course possible to use any known method.

상기 제1 폴리아믹산 용액 및 제2 폴리아믹산 용액에 함유되는 폴리아믹산은 각각 중량평균분자량이 150,000 g/mole 이상 내지 1,000,000 g/mole 이하일 수 있고, 상세하게는 260,000 g/mole 이상 내지 700,000 g/mole 이하일 수 있으며, 더욱 상세하게는 280,000 g/mole 이상 내지 500,000 g/mole 이하일 수 있다. Each of the polyamic acid contained in the first polyamic acid solution and the second polyamic acid solution may have a weight average molecular weight of 150,000 g / mole or more to 1,000,000 g / mole or less, and more specifically, 260,000 g / mole or more to 700,000 g / mole It may be the following, and more specifically, may be 280,000 g / mole or more to 500,000 g / mole or less.

이러한 중량평균분자량을 갖는 폴리아믹산은, 보다 우수한 내열성과 기계적 물성을 갖는 폴리이미드 복합 필름의 제조에 바람직할 수 있다. Polyamic acid having such a weight average molecular weight may be preferable for the production of a polyimide composite film having better heat resistance and mechanical properties.

일반적으로 폴리아믹산의 중량평균분자량은, 폴리아믹산과 유기용매를 포함하는 폴리아믹산 용액의 점도에 비례할 수 있는 바, 상기 점도를 조절하여 폴리아믹산의 중량평균분자량을 상기 범위로 제어할 수 있다.In general, the weight average molecular weight of the polyamic acid can be proportional to the viscosity of the polyamic acid solution containing the polyamic acid and the organic solvent, and the weight average molecular weight of the polyamic acid can be controlled within the above range by adjusting the viscosity.

이는 폴리아믹산 용액의 점도가 폴리아믹산 고형분의 함량, 상세하게는 중합 반응에 사용된 디안하이드라이드 단량체와 디아민 단량체의 총량과 비례하기 때문이다. 다만, 중량평균분자량이 점도에 대해 일 차원의 선형적인 비례 관계를 나타내는 것은 아니며, 로그 함수의 형태로 비례한다. This is because the viscosity of the polyamic acid solution is proportional to the content of the polyamic acid solid content, in particular, the total amount of the dianhydride monomer and the diamine monomer used in the polymerization reaction. However, the weight average molecular weight does not represent a linear linear relationship with respect to viscosity, but is proportional to the logarithmic function.

즉, 보다 높은 중량평균분자량의 폴리아믹산을 얻기 위해 점도를 증가시켜도 중량평균분자량이 증가할 수 있는 범위가 제한적인 반면에 점도를 지나치게 높게 하는 경우, 공압출을 위한 제막공정에서 다층 다이를 통한 폴리아믹산 용액의 토출 시, 다이 내부의 압력 상승 등으로 인한 공정성의 문제를 야기할 수 있다. That is, although the range in which the weight average molecular weight can be increased is limited while increasing the viscosity in order to obtain a higher weight average molecular weight polyamic acid, when the viscosity is too high, polya through a multi-layer die in the film forming process for coextrusion When discharging the mixed acid solution, it may cause a processability problem due to an increase in pressure inside the die.

이에 본 발명의 제1 폴리아믹산 용액 및 제2 폴리아믹산 용액 각각은 15 중량% 내지 20 중량%의 폴리아믹산 고형분 및 80 중량% 내지 85 중량%의 유기용매를 포함할 수 있고, 이 경우 점도가 90,000 cP 이상 내지 300,000 cP 이하, 상세하게는 100,000 cP 이상 내지 250,000 cP일 수 있다. 이러한 점도 범위 내에서 폴리아믹산의 중량평균분자량이 상기 범위에 속할 수 있고, 폴리아믹산 용액은 앞서 설명한 제막공정 상의 문제를 유발하지 않을 수 있다. Accordingly, each of the first polyamic acid solution and the second polyamic acid solution of the present invention may include 15% to 20% by weight of a polyamic acid solid content and 80% to 85% by weight of an organic solvent, in which case the viscosity is 90,000 It may be cP or more to 300,000 cP or less, specifically 100,000 cP or more to 250,000 cP. Within this viscosity range, the weight average molecular weight of the polyamic acid may fall within the above range, and the polyamic acid solution may not cause problems in the film forming process described above.

한편, 폴리이미드 복합 필름의 접동성, 열전도성, 도전성, 코로나 내성, 루프 경도 등의 필름의 여러 가지 특성을 개선할 목적으로 제1 조성물 및 제2 조성물의 제조 시, 충전재를 첨가할 수도 있다. 첨가되는 충전재는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직한 예로는 실리카, 산화티탄, 알루미나, 질화규소, 질화붕소, 인산수소칼슘, 인산칼슘, 운모 등을 들 수 있다.On the other hand, fillers may be added during the production of the first composition and the second composition for the purpose of improving various properties of the film such as sliding property, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, and loop hardness of the polyimide composite film. The filler to be added is not particularly limited, and preferred examples include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, and mica.

충전재의 평균 입경은 특별히 한정되는 것은 아니고, 개질하고자하는 폴리이미드 복합 필름 특성과 첨가하는 충전재의 종류과 따라서 결정할 수 있다. 하나의 예에서, 상기 충전재의 평균 입경은 0.05 ㎛ 내지 100 ㎛, 상세하게는 0.1 ㎛ 내지 75 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.1 ㎛ 내지 50 ㎛, 특히 상세하게는 0.1 ㎛ 내지 25 ㎛일 수 있다.The average particle diameter of the filler is not particularly limited, and can be determined according to the characteristics of the polyimide composite film to be modified and the type of filler to be added. In one example, the average particle diameter of the filler may be 0.05 μm to 100 μm, specifically 0.1 μm to 75 μm, more preferably 0.1 μm to 50 μm, and particularly specifically 0.1 μm to 25 μm.

평균 입경이 이 범위를 하회하면 개질 효과가 나타나기 어려워지고, 이 범위를 상회하면 충전재가 폴리이미드 복합 필름의 표면성을 크게 손상시키거나, 복합 필름의 기계적 특성 저하를 유발할 수 있다.If the average particle diameter is less than this range, the modification effect is unlikely to appear, and if it exceeds this range, the filler may significantly impair the surface properties of the polyimide composite film or cause mechanical properties of the composite film to deteriorate.

또한, 충전재의 첨가량에 대해서도 특별히 한정되는 것은 아니고, 개질하고자 하는 폴리이미드 필름 특성이나 충전재 입경 등에 의해 결정할 수 있다.In addition, the addition amount of the filler is not particularly limited, and can be determined by the characteristics of the polyimide film to be modified, the particle size of the filler, and the like.

하나의 예에서, 충전재의 첨가량은 폴리아믹산 용액 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 100 중량부, 바람직하게는 0.01 중량부 내지 90 중량부, 더욱 바람직하게는 0.02 중량부 내지 80 중량부이다.In one example, the amount of the filler added is 0.01 to 100 parts by weight, preferably 0.01 to 90 parts by weight, and more preferably 0.02 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyamic acid solution.

충전재 첨가량이 이 범위를 하회하면, 충전재에 의한 개질 효과가 나타나기 어렵고, 이 범위를 상회하면 폴리이미드 필름의 기계적 특성이 크게 저하될 수 있다. 충전재의 첨가 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지된 어떠한 방법을 이용할 수 있음은 물론이다.When the amount of the filler added is less than this range, the modification effect by the filler is unlikely to appear, and when it exceeds this range, the mechanical properties of the polyimide film may be greatly deteriorated. The method for adding the filler is not particularly limited, and any known method can be used.

하나의 구체적인 예에서, 상기 제막하는 단계는 제2 조성물, 제1 조성물 및 제2 조성물의 순서로 적층되도록 지지체상에 공압출하는 단계 및 공압출된 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 50 ℃ 내지 200 ℃의 온도 범위에서 열처리하는 단계를 포함할 수 있다.In one specific example, the step of forming the film is co-extruded on a support so as to be laminated in the order of the second composition, the first composition and the second composition, and the coextruded first composition and the second composition are 50 ° C to It may include the step of heat treatment in a temperature range of 200 ℃.

또 다른 구체적인 예에서, 상기 제막하는 단계는 제1 조성물 및 제2 조성물의 순서로 적층되도록 지지체상에 공압출하는 단계 및 공압출된 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 50 ℃ 내지 200 ℃의 온도 범위에서 열처리하는 단계를 포함할 수 있다.In another specific example, the step of forming the film is co-extruded on a support so as to be laminated in the order of the first composition and the second composition, and the temperature of the co-extruded first composition and the second composition is 50 ° C to 200 ° C. It may include a step of heat treatment in the range.

이상과 같이 전구체 조성물이 열처리되면, 전구체 조성물이 폴리아믹산으로부터 폴리이미드로의 변환에 대해 중간 단계에서 자기 지지성을 가지는 형태로 변환될 수 있다.When the precursor composition is heat-treated as described above, the precursor composition may be converted into a form having self-support in an intermediate step with respect to conversion from polyamic acid to polyimide.

경우에 따라서는 폴리이미드 복합 필름의 두께 및 크기를 조절하고 배향성을 향상시키기 위하여 상기 열처리하는 단계 이후에, 열처리된 전구체 조성물을 연신시키는 공정이 수행될 수 있으며, 연신은 기계반송방향(MD) 및 기계반송방향에 대한 횡방향(TD) 중 적어도 하나의 방향으로 수행될 수 있다.In some cases, after adjusting the thickness and size of the polyimide composite film and improving the orientation, a process of stretching the heat-treated precursor composition may be performed, and the stretching may be performed in a machine conveying direction (MD) and It may be performed in at least one of the transverse direction (TD) with respect to the machine transport direction.

이후, 이미드화 단계를 진행함으로써, 폴리아믹산을 이루는 아믹산기의 적어도 90 몰%, 상세하게는 95 몰% 이상, 더욱 상세하게는 98 몰% 이상, 특히 상세하게는 99 몰% 이상을 이미드기로 변환하여 폴리이미드 복합 필름을 제조할 수 있다. 상기 이미드화 단계는 열처리된 상태의 제1 조성물과 제2 조성물을 200 ℃ 내지 700 ℃의 온도로 다시 열처리하는 단계를 포함할 수 있다.Thereafter, by proceeding the imidization step, at least 90 mol%, more specifically 95 mol% or more, more specifically 98 mol% or more, and particularly 99 mol% or more of the amic acid group constituting the polyamic acid is an imide group. Converting to produce a polyimide composite film. The imidization step may include heat-treating the first composition and the second composition in a heat-treated state to a temperature of 200 ° C to 700 ° C again.

여기서 이미드화란 열 및/또는 촉매를 매개로 폴리아믹산을 이루는 아믹산기의 폐환 및 탈수 반응을 유도하여 상기 아믹산기가 이미드기로 변환되는 현상, 과정 또는 방법을 의미한다.Here, imidization refers to a phenomenon, process, or method in which the amic acid group is converted to an imide group by inducing a ring-closure and dehydration reaction of an amic acid group forming a polyamic acid through heat and / or a catalyst.

상기 이미드화 방법은 열 이미드화법, 화학 이미드화법 또는 상기 열 이미드화법과 화학 이미드화법을 병용하는 복합 이미드화법을 통해 수행될 수 있다.The imidization method may be performed through a thermal imidization method, a chemical imidization method, or a complex imidization method using a combination of the thermal imidization method and a chemical imidization method.

상기 열 이미드화법은, 화학적 촉매를 배제하고, 열풍이나 적외선 건조기 등의 열원을 이용하여 200 ℃ 내지 700 ℃의 온도로 열처리하는 방법일 수 있다.The thermal imidization method may be a method of excluding chemical catalysts and performing heat treatment at a temperature of 200 ° C to 700 ° C using a heat source such as hot air or an infrared dryer.

경우에 따라서는 상기와 같이 수득한 폴리이미드 복합 필름을 400 ℃ 내지 700 ℃의 온도로 5 초 내지 400 초간 가열 마감하여 폴리이미드 복합 필름을 더욱 경화시킬 수도 있으며, 수득한 폴리이미드 복합 필름에 잔류할 수도 있는 내부 응력을 완화시키기 위해서 소정의 장력 하에서 이를 수행할 수도 있다.In some cases, the polyimide composite film obtained as described above may be heated to a temperature of 400 ° C to 700 ° C for 5 seconds to 400 seconds to further harden the polyimide composite film, and may remain in the obtained polyimide composite film. This may be done under a given tension to relieve any internal stresses that may be present.

상기 화학 이미드화법은 제1 조성물 및 제2 조성물 각각에 탈수제 및/또는 이미드화제를 첨가하여, 이미드화 과정에서 아믹산기의 이미드화를 촉진하는 방법이다.The chemical imidization method is a method of promoting imidization of an amic acid group in the imidization process by adding a dehydrating agent and / or an imidizing agent to each of the first composition and the second composition.

여기서 "탈수제"란, 폴리아믹산에 대한 탈수 작용을 통해 폐환 반응을 촉진하는 물질 의미하고, 이에 대한 비제한적인 예로서, 지방족의 애시드 안하이드라이드, 방향족의 애시드 안하이드라이드, N,N'-디알킬카르보디이미드, 할로겐화 저급 지방족, 할로겐화 저급 패티 애시드 안하이드라이드, 아릴 포스포닉 디할라이드, 및 티오닐 할라이드 등을 들 수 있다. 이중에서도 입수의 용이성, 및 비용의 관점에서 지방족 애시드 안하이드라이드가 바람직할 수 있고, 이의 비제한적인 예로서, 아세틱 안하이드라이드(AA), 프로피온 애시드 안하이드라이드, 및 락틱 애시드 안하이드라이드 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Here, the term “dehydrating agent” refers to a substance that promotes a cyclization reaction through dehydration of a polyamic acid, and includes, without limitation, aliphatic acid anhydrides, aromatic acid anhydrides, N, N'- Dialkyl carbodiimide, halogenated lower aliphatic, halogenated lower patty acid anhydride, aryl phosphonic dihalide, thionyl halide, and the like. Of these, aliphatic acid anhydrides may be preferred from the viewpoint of ease of availability and cost, and non-limiting examples include acetic anhydride (AA), propionic acid anhydride, and lactic acid anhydride. Etc. are mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, "이미드화제"란 폴리아믹산에 대한 폐환 반응을 촉진하는 효과를 갖는 물질을 의미하고, 예컨대 지방족 3급 아민, 방향족 3급 아민, 및 복소환식 3급 아민 등의 이민계 성분일 수 있다. 이중에서도 촉매로서의 반응성의 관점에서 복소환식 3급 아민이 바람직할 수 있다. 복소환식 3급 아민의 비제한적인 예로서, 퀴놀린, 이소퀴놀린, β-피콜린(BP), 피리딘 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In addition, "imide agent" means a substance having an effect of promoting a ring-closure reaction to polyamic acid, and may be, for example, imine-based components such as aliphatic tertiary amine, aromatic tertiary amine, and heterocyclic tertiary amine. . Of these, heterocyclic tertiary amines may be preferable from the viewpoint of reactivity as a catalyst. Non-limiting examples of heterocyclic tertiary amines include quinoline, isoquinoline, β-picoline (BP), pyridine and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

제1 조성물 및 제2 조성물 각각에서, 탈수제의 첨가량은 조성물에 함유된 폴리아믹산 중 아믹산기 1 몰에 대하여 0.5 내지 5 몰의 범위 내인 것이 바람직하고, 1.0 몰 내지 4 몰의 범위 내인 것이 특히 바람직하다. 또한, 제1 조성물 및 제2 조성물 각각에서, 이미드화제의 첨가량은 조성물에 함유된 폴리아믹산 중 아믹산기 1 몰에 대하여 0.05 몰 내지 2 몰의 범위 내인 것이 바람직하고, 0.2 몰 내지 1 몰의 범위 내인 것이 특히 바람직할 수 있다.In each of the first composition and the second composition, the amount of the dehydrating agent added is preferably in the range of 0.5 to 5 moles, and particularly preferably in the range of 1.0 to 4 moles, per 1 mole of the amic acid group in the polyamic acid contained in the composition. . In addition, in each of the first composition and the second composition, the amount of the imidizing agent added is preferably in the range of 0.05 mol to 2 mol with respect to 1 mol of the amic acid group in the polyamic acid contained in the composition, and in the range of 0.2 mol to 1 mol It may be particularly desirable to be scented.

상기 탈수제 및 이미드화제가 상기 범위를 하회하면 화학적 이미드화가 불충분하고, 제조되는 폴리이미드 복합 필름에 크랙이 형성될 수 있고, 복합 필름의 기계적 강도도 저하될 수 있다. 또한, 이들 첨가량이 상기 범위를 상회하면 이미드화가 과도하게 빠르게 진행될 수 있으며, 이 경우, 다층 필름 형태로 캐스팅하기 어렵거나 제조된 폴리이미드 복합 필름이 브리틀(brittle)한 특성을 보일 수 있어, 바람직하지 않다. When the dehydrating agent and the imidizing agent fall below the above range, chemical imidization is insufficient, cracks may be formed in the polyimide composite film to be produced, and mechanical strength of the composite film may also be lowered. In addition, if these addition amounts exceed the above range, imidization may proceed excessively rapidly, and in this case, it may be difficult to cast in the form of a multi-layer film, or the produced polyimide composite film may exhibit brittle characteristics. It is not desirable.

상기 복합 이미드화 법은 이상의 화학 이미드화법에 연계하여, 열 이미드화법을 추가로 수행하는 것일 수 있다.The composite imidization method may be to perform a thermal imidization method in addition to the above chemical imidization method.

연성금속박적층판Ductile metal laminate

본 발명은 앞선 실시양태에서 설명한 폴리이미드 복합 필름을 포함하는 연성금속박적층판을 제공한다. The present invention provides a flexible metal foil-clad laminate comprising the polyimide composite film described in the previous embodiment.

본 발명의 연성금속박적층판은, 폴리이미드 복합 필름의 스킨층에 금속박이 라미네이트되어 있거나, 또는 상기 폴리이미드 복합 필름의 스킨층에 열가소성 폴리이미드를 함유하는 접착층이 부가되어 있고, 상기 금속박이 접착층에 부착된 상태에서 라미네이트되어있는 구조일 수 있다.In the flexible metal foil-clad laminate of the present invention, a metal foil is laminated to the skin layer of the polyimide composite film, or an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide is added to the skin layer of the polyimide composite film, and the metal foil is attached to the adhesive layer. It may be a laminated structure in the state.

상기 금속박은 특별히 한정되는 것은 아니며, 예컨대 구리, 구리 합금, 스테인레스강, 스테인레스강 합금, 니켈, 니켈 합금, 알루미늄 또는 알루미늄 합금일 수 있다. 또한 상기 금속박의 표면에는 방청층, 내열층 또는 접착층이 도포되어 있을 수 있다.The metal foil is not particularly limited, and may be, for example, copper, copper alloy, stainless steel, stainless steel alloy, nickel, nickel alloy, aluminum or aluminum alloy. In addition, an anti-rust layer, a heat-resistant layer, or an adhesive layer may be coated on the surface of the metal foil.

상기 금속박의 두께는 그 용도에 따라서 충분한 기능을 발휘할 수 있는 두께일 수 있으며, 실시를 돕기 위한 비제한적인 예시로서, 상기 금속박의 두께는 0.1 ㎛ 내지 1000 ㎛일 수 있다.The thickness of the metal foil may be a thickness capable of exerting a sufficient function depending on its use, and as a non-limiting example to aid implementation, the thickness of the metal foil may be 0.1 μm to 1000 μm.

상기 접착제는 폴리이미드 복합 필름과의 치수 안정성 측면에서 바람직할 수 있는 열가소성 폴리이미드 열가소성 폴리아미드이미드, 열가소성 폴리에테르이미드, 및 열가소성 폴리에스테르이미드 등의 열가소성 폴리이미드계 물질일 수 있으나, 이는 본 발명의 실시를 돕기 위한 예시이며, 이로만 한정되는 것은 아니다.The adhesive may be a thermoplastic polyimide-based material such as a thermoplastic polyimide thermoplastic polyamideimide, a thermoplastic polyetherimide, and a thermoplastic polyesterimide, which may be preferred in terms of dimensional stability with a polyimide composite film. This is an example to aid implementation, and is not limited thereto.

본 발명에 따른 연성금속박적층판은 기재 필름으로서 폴리이미드 복합 필름에 금속박을 접합시키는 열 라미네이트 방법으로 제조될 수 있다.The flexible metal foil-clad laminate according to the present invention can be produced by a thermal lamination method of bonding a metal foil to a polyimide composite film as a base film.

상기 방법은, 예컨대, 둘 이상의 금속 히팅롤(heating roll)을 포함하는 롤 라미네이트 장치에 기재 필름 및 금속박('피적층체')을 연속적으로 통과하도록 하고, 이 과정에서 인가되는 열과 압력으로 상기 피적층체를 열 라미네이트 시키는 과정을 포함할 수 있다.The method allows, for example, to continuously pass a base film and a metal foil ('coated body') to a roll laminate device including two or more metal heating rolls, and the heat and pressure applied in the process may It may include a process of thermal lamination of the laminate.

상기 열 라미네이트를 수행할 때, 수득되는 연성금속박적층판의 외관을 양호하게 하기 위해서 히팅롤과 피적층체 사이, 상세하게는 히팅롤과 금속박 사이에 보호 재료를 배치할 수 있다.When performing the thermal lamination, a protective material may be disposed between the heating roll and the object to be laminated, in particular between the heating roll and the metal foil, in order to improve the appearance of the obtained flexible metal foil-clad laminate.

상기 보호 재료는, 열 라미네이트의 가열 온도를 견딜 수 있는 재료라면 특별히 한정되지는 않지만, 비열가소성 폴리이미드 등의 내열성 플라스틱, 또는 동박, 알루미늄박, 스테인레스박 등의 금속박일 수 있다. 이중에서도, 내열성이 매우 우수하고, 재사용성도 가능한 비열가소성 폴리이미드가 바람직할 수 있다.The protective material is not particularly limited as long as it is a material that can withstand the heating temperature of the thermal laminate, but may be a heat-resistant plastic such as non-thermoplastic polyimide, or a metal foil such as copper foil, aluminum foil, stainless steel foil. Among them, a non-thermoplastic polyimide having excellent heat resistance and reusability may be preferable.

상기 보호 재료의 두께가 과도하게 얇을 경우, 열 라미네이트 시, 완충 및 보호의 역할이 불충분할 수 있는 바, 보호 재료의 두께는 적어도 70 ㎛, 상세하게는 75 ㎛ 이상일 수 있다.When the thickness of the protective material is excessively thin, when heat-laminating, the role of cushioning and protection may be insufficient, and the thickness of the protective material may be at least 70 μm, in particular, 75 μm or more.

또한, 보호 재료는 1층일 수도 있으나, 경우에 따라서는 2층 이상의 다층 형태로도 사용할 수 있다.Further, the protective material may be one layer, but in some cases, it may be used in a multi-layered form of two or more layers.

한편, 주목할 것은, 열 라미네이트에 요구되는 가열 온도가 상당한 고온이므로, 대략 상온에 근접한 온도의 보호 재료를 그대로 열 라미네이트에 이용하면, 이의 급격한 열팽창에 의해 수득되는 연성금속박적층판의 외관 또는 치수 안정성이 좋지 못할 수 있다. On the other hand, it should be noted that, since the heating temperature required for thermal lamination is quite high, if a protective material having a temperature close to room temperature is used as it is for thermal lamination, the appearance or dimensional stability of the flexible metal foil laminate obtained by its rapid thermal expansion is poor. May not.

이에 따라 열 라미네이트 공정 이전에 보호 재료에 예비 가열을 실시할 수 있다. 이와 같이, 보호 재료의 예비 가열을 행한 후 열 라미네이트 공정을 수행하면, 보호 재료의 열팽창이 종료될 수 있어, 이상의 폐해를 방지할 수 있다. This allows preheating of the protective material prior to the thermal lamination process. As described above, if the thermal lamination process is performed after the preliminary heating of the protective material, thermal expansion of the protective material can be terminated, thereby preventing abnormal damage.

상기 열 라미네이트에서 피적층체의 가열 방식은 특별히 한정되는 것은 아니며, 예컨대 열 순환 방식, 열풍 가열 방식, 유도 가열 방식 등, 소정의 온도로 가열할 수 있는 가열 수단을 사용할 수 있다. 마찬가지로 상기 열 라미네이트에서 피적층체의 가압 방식도 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들면 유압 방식, 공기압 방식, 갭간 압력 방식 등 소정의 압력을 가할 수 있는 방식을 선택하여 사용할 수 있다. The heating method of the layered object in the thermal laminate is not particularly limited, and for example, a heating means capable of heating to a predetermined temperature, such as a thermal circulation method, a hot air heating method, or an induction heating method, may be used. Similarly, the method of pressing the layered object in the thermal laminate is not particularly limited, and for example, a method capable of applying a predetermined pressure, such as a hydraulic method, an air pressure method, and a gap-to-gap pressure method, may be selected and used.

상기 열 라미네이트에서 가열 온도, 즉 라미네이트 온도는 기재 필름의 폴리이미드 필름 유리전이온도(Tg)의 +50 ℃ 이상일 수 있고, 더욱 상세하게는, 라미네이트 속도를 증가시킬 수 있도록, 폴리이미드 필름 유리전이온도(Tg)의 +100 ℃ 이상일 수 있다.In the thermal laminate, the heating temperature, that is, the laminate temperature may be + 50 ° C or higher of the polyimide film glass transition temperature (T g ) of the base film, and more specifically, to increase the lamination rate, the polyimide film glass transition It may be more than +100 ℃ of the temperature (T g ).

이하, 발명의 구체적인 실시예를 통해, 발명의 작용 및 효과를 보다 상술하기로 한다. 다만, 이러한 실시예는 발명의 예시로 제시된 것에 불과하며, 이에 의해 발명의 권리범위가 정해지는 것은 아니다. Hereinafter, the operation and effects of the invention will be described in more detail through specific examples of the invention. However, these examples are only presented as examples of the invention, and the scope of the invention is not thereby determined.

제조예 1: 코어층 (제1 조성물)의 제조Preparation Example 1: Preparation of core layer (first composition)

25 ℃ 및 질소 분위기하의 300 L 반응기에 DMF 197.9 kg, m-톨리딘 16.06 kg, ODA 1.89 kg, PPD 1.02 kg을 순차적으로 용해한 뒤, BPDA 11.12 kg, PMDA 11.78 kg을 반응시킨 후, PMDA 0.56 kg를 투입하면서 점도를 조절하여 약 11 만 cP의 점도를 갖는 제1 폴리아믹산 용액을 포함하는 제1 조성물을 수득하였다.After sequentially dissolving 197.9 kg of DMF, 16.06 kg of m-tolidine, 1.89 kg of ODA, and 1.02 kg of PPD in a 300 L reactor at 25 ° C. and a nitrogen atmosphere, reacted 11.12 kg of BPDA, 11.78 kg of PMDA, and 0.56 kg of PMDA. The viscosity was adjusted while introducing to obtain a first composition comprising a first polyamic acid solution having a viscosity of about 110,000 cP.

제조예 2: 스킨층 (제2 조성물)의 제조Preparation Example 2: Preparation of skin layer (second composition)

25 ℃ 및 질소 분위기하의 300 L 반응기에 DMF 221.0 kg을 넣고 m-톨리딘 9.05 kg, ODA 1.6 kg, PPD 0.29 kg을 순차적으로 용해한 뒤, BPDA 9.4 kg, PMDA 4.3 kg을 반응시킨 후, PMDA 0.12 kg를 투입하면서 점도를 조절하여 약 5 만 cP의 점도를 갖는 제2 폴리아믹산 용액을 수득하였고, 여기에 미쯔비시펜슬사 PTFE 40% 용액을 41.7kg을 투입하여 점도기 약 3 만 cP의 제2 조성물을 수득하였다. After adding DMF 221.0 kg into a 300 L reactor under a 25 ° C. and nitrogen atmosphere, 9.05 kg of m-tolidine, 1.6 kg of ODA, and 0.29 kg of PPD were sequentially dissolved, followed by reacting 9.4 kg of BPDA and 4.3 kg of PMDA, and then 0.12 kg of PMDA. While adjusting the viscosity to obtain a second polyamic acid solution having a viscosity of about 50,000 cP, 41.7 kg of Mitsubishi Pencil's 40% PTFE solution was added thereto to obtain a second composition having a viscosity of about 30,000 cP. Obtained.

<실시예 1><Example 1>

도 1에 도시된 구조의 공압출 다이(100)의 제1 저장조(101)에 상기 제조예 1에서 제조한 제1 조성물을 투입하고, 제2 저장조(102)에 상기 제조예 2에서 제조한 제2 조성물을 투입하였다. The first composition prepared in Preparation Example 1 is introduced into the first storage tank 101 of the coextrusion die 100 having the structure shown in FIG. 1, and the second prepared storage tank 102 is manufactured in Preparation Example 2 2 The composition was added.

그 후, 무단벨트(105) 상에 제2 조성물, 제1 조성물 및 제2 조성물의 순서로 공압출하여 약 25 마이크로미터 두께로 전구체 조성물을 제막하였다. 이때, 제1 저장조(101)로부터 제1 조성물이 압출될 때에 촉매 저장조(103)으로부터 이소퀴놀린, 디메틸포름아마이드 및 아세틱안하이드라이드 혼합물이 혼합되도록 하였다. Thereafter, the second composition, the first composition, and the second composition were coextruded on the endless belt 105 to form a precursor composition with a thickness of about 25 micrometers. At this time, when the first composition was extruded from the first storage tank 101, a mixture of isoquinoline, dimethylformamide and acetic anhydride was mixed from the catalyst storage tank 103.

이어서, 약 150℃의 온도에서 열처리하고, 이를 다시 고온 텐터에서 150℃부터 600℃까지 가열한 후 25℃에서 냉각시켜 스킨층/코어층/스킨층 구조를 갖는 폴리이미드 복합 필름을 수득하였다. 코어층을 제조하기 위한 제2 폴리아믹산과 PTFE 고형분의 함량, 폴리이미드 복합 필름의 두께(코어층/스킨층) 및 그 비율을 하기 표 1에 나타내었다. Subsequently, heat treatment was performed at a temperature of about 150 ° C., which was again heated from 150 ° C. to 600 ° C. in a high-temperature tenter, and then cooled at 25 ° C. to obtain a polyimide composite film having a skin layer / core layer / skin layer structure. The content of the second polyamic acid and the PTFE solid content for preparing the core layer, the thickness of the polyimide composite film (core layer / skin layer), and the ratio thereof are shown in Table 1 below.

<실시예 2 내지 4><Examples 2 to 4>

제조예 2에서 제2 폴리아믹산 용액과 PTFE 용액의 혼합 비율을 제어하여 제2 조성물 중의 제2 폴리아믹산 고형분 및 PTFE 고형분의 함량을 하기 표 1에 기재된 바와 같이 변경하거나, 및/또는 폴리이미드 복합 필름의 두께 및 코어층과 스킨층의 두께의 비율이 하기 표 1에 기재된 바와 갖도록 공압출기의 압출량을 제어한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 복합 필름을 제조하였다. By controlling the mixing ratio of the second polyamic acid solution and the PTFE solution in Preparation Example 2, the contents of the second polyamic acid solid content and the PTFE solid content in the second composition are changed as described in Table 1 below, and / or the polyimide composite film A polyimide composite film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the extrusion amount of the coextruder was controlled to have the ratio of the thickness and the thickness of the core layer and the skin layer as shown in Table 1 below.

<비교예 1><Comparative Example 1>

제조예 1에서 제조된 제1 조성물에 촉매로서 이소퀴놀린과 아세틱안하이드라이드를 혼합한 전구체 조성물을 SUS plate상에 도포하였다. 이후, 100 ℃ 내지 200 ℃의 온도범위에서 열처리하고, 고온 텐터에서 200 ℃부터 600 ℃까지 가열한 후 25 ℃에서 냉각시켜 폴리이미드 필름을 수득하였다. A precursor composition obtained by mixing isoquinoline and acetic anhydride as a catalyst was applied to the first composition prepared in Preparation Example 1 on a SUS plate. Thereafter, heat treatment was performed in a temperature range of 100 ° C to 200 ° C, heating was performed from 200 ° C to 600 ° C in a high-temperature tenter, and then cooled at 25 ° C to obtain a polyimide film.

<비교예 2 내지 4><Comparative Examples 2 to 4>

제조예 2에서 제2 폴리아믹산 용액과 PTFE 용액의 혼합 비율을 제어하여 제2 조성물 중의 제2 폴리아믹산 고형분 및 PTFE 고형분의 함량을 하기 표 1에 기재된 바와 같이 변경하거나, 및/또는 폴리이미드 복합 필름의 두께 및 코어층과 스킨층의 두께의 비율이 하기 표 1에 기재된 바와 갖도록 공압출기의 압출량을 제어한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 복합 필름을 제조하였다. By controlling the mixing ratio of the second polyamic acid solution and the PTFE solution in Preparation Example 2, the contents of the second polyamic acid solid content and the PTFE solid content in the second composition are changed as described in Table 1 below, and / or the polyimide composite film A polyimide composite film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the extrusion amount of the coextruder was controlled to have the ratio of the thickness and the thickness of the core layer and the skin layer as shown in Table 1 below.

<비교예 5><Comparative Example 5>

제조예 2에서 제조된 제2 조성물에 촉매로서 이소퀴놀린, 디메틸포름아마이드와 아세틱안하이드라이드를 혼합한 전구체 조성물을 SUS plate상에 도포하였다. 이후, 약 150℃의 온도범위에서 열처리하고, 이를 다시 고온 텐터에서 150℃부터 600℃까지 가열한 후 25℃에서 냉각시켜 폴리이미드 필름을 수득하였다. A precursor composition obtained by mixing isoquinoline, dimethylformamide and acetic anhydride as a catalyst was applied to the second composition prepared in Preparation Example 2 on a SUS plate. Then, heat treatment was performed in a temperature range of about 150 ° C, and this was heated again from 150 ° C to 600 ° C in a high-temperature tenter, and then cooled at 25 ° C to obtain a polyimide film.

제2폴리아믹산Second polyamic acid
고형분 함량Solid content
(중량%)(weight%)
PTFEPTFE
고형분 함량Solid content
(중량%)(weight%)
PI 복합 필름 두께PI composite film thickness
(㎛)(㎛)
코어층 두께Core layer thickness
(㎛)(㎛)
스킨층두께*Skin layer thickness *
(㎛)(㎛)
두께비**Thickness Ratio **
실시예 1Example 1 6060 4040 2525 1717 88 2.132.13 실시예 2Example 2 5050 5050 2525 1717 88 2.132.13 실시예 3Example 3 7070 3030 2525 1717 88 2.132.13 실시예 4Example 4 4040 6060 2525 1717 88 2.132.13 비교예 1Comparative Example 1 100100 00 2525 2525 -- -- 비교예 2Comparative Example 2 3535 6565 2525 1717 88 2.132.13 비교예 3Comparative Example 3 6060 4040 2424 88 1616 0.500.50 비교예 4Comparative Example 4 6060 4040 2525 2121 44 5.255.25 비교예 5Comparative Example 5 6060 4040 2525 -- -- --

* 제1 스킨층 두께 + 제2 스킨층 두께* First skin layer thickness + second skin layer thickness

** 코어층 두께 / (제1 스킨층 두께 + 제2 스킨층 두께)** Core layer thickness / (first skin layer thickness + second skin layer thickness)

<실험예: 폴리이미드 필름의 특성 평가><Experimental Example: Characteristic evaluation of polyimide film>

실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 비교예 5에서 각각 제조된 폴리이미드 복합 필름의 특성 평가를 위해, 하기 방법을 이용하여 유전율, 유전손실, 흡습율, 제막성 및 신율을 측정하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.For the evaluation of the properties of the polyimide composite films prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5, respectively, the dielectric constant, dielectric loss, moisture absorption, film forming property and elongation were measured using the following methods, and the results were It is shown in Table 2 below.

-유전율 및 유전손실: E5063A 장비에 SPDR(10GHz)에 연결하여 유전율 및 유전손실을 측정하였다.-Dielectric constant and dielectric loss : The dielectric constant and dielectric loss were measured by connecting the E5063A to SPDR (10GHz).

-흡습율: ASTM D570 분석방법에 따라 물에 24시간 담군 후 처리 전후의 무게를 측정하여 흡습율을 평가하였다.-Hygroscopicity: After absorbing water for 24 hours according to the ASTM D570 analysis method, the moisture absorption rate was evaluated by measuring the weight before and after treatment.

-제막성: 육안으로 관찰하였다. -Film forming property : It was observed with the naked eye.

-신율: ASTM D 882 측정방법에 따라 인스트론(Instron 3365SER) 장비를 이용하여 측정하였다. - Elongation at break was measured according to the ASTM D 882 method measured using an Instron (Instron 3365SER) equipment.

유전율permittivity 유전손실Dielectric loss 흡습율Moisture absorption rate
(%)(%)
제막성*Filmmaking * 신율Elongation
(%)(%)
실시예 1Example 1 3.043.04 0.00280.0028 0.50.5 양호Good 4444 실시예 2Example 2 3.013.01 0.00270.0027 0.50.5 양호Good 4242 실시예 3Example 3 3.083.08 0.00290.0029 0.40.4 양호Good 4545 실시예 4Example 4 2.982.98 0.00250.0025 0.60.6 양호Good 4040 비교예 1Comparative Example 1 3.43.4 0.00350.0035 1.01.0 양호Good 5050 비교예 2Comparative Example 2 2.862.86 0.00250.0025 0.30.3 불량Bad 3434 비교예 3Comparative Example 3 2.832.83 0.00250.0025 0.30.3 불량Bad 3434 비교예 4Comparative Example 4 3.223.22 0.00320.0032 0.80.8 양호Good 4747 비교예 5Comparative Example 5 2.82.8 0.00250.0025 0.30.3 불량Bad 2020

표 2의 결과로부터, 실시예는 유전율, 유전상수, 흡습율, 제막성 및 신율 모두 준수한 성능을 나타내었다. 반면에, 비교예 1 내지 4는 이들 특성 중 적어도 하나가 불량함을 알 수 있다.From the results in Table 2, the Examples exhibited performance in compliance with all of the dielectric constant, dielectric constant, moisture absorption, film forming properties and elongation. On the other hand, it can be seen that Comparative Examples 1 to 4 have at least one of these characteristics defective.

한편, 본 발명의 범위를 벗어나 과량의 PTFE를 포함한 비교예 2는 자기 지지성을 갖는 겔 필름이 잘 형성되지 않았으며, 또한 주름이나 균열 등 외관이 매우 불량하여 박형 회로기판에 적용 가능한 수준이 아닌 것으로 확인되었다.On the other hand, in Comparative Example 2, which included an excess of PTFE outside the scope of the present invention, a gel film having a self-supporting property was not well formed, and the appearance of wrinkles or cracks was very poor, which was not applicable to a thin circuit board. Was confirmed.

또한, 비교예 5의 경우 특히 신율이 현저히 불량하다는 것을 알 수 있으며, 이는 본 발명과 같이 스킨층과 코어층이 조합되는 복합 필름이 스킨층 구조만 갖는 단층 필름 대비 연성금속박적층판의 필름으로서 유리하게 활용될 수 있다는 것을 반증한다. In addition, it can be seen that, in the case of Comparative Example 5, the elongation is remarkably poor, which is advantageous as a film of a flexible metal foil-clad laminate compared to a single-layer film in which the composite film in which the skin layer and the core layer are combined has only a skin layer structure as in the present invention. Disprove that it can be utilized.

이상 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 상기 내용을 바탕을 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.Although described above with reference to embodiments of the present invention, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above.

Claims (18)

제1 폴리이미드 수지를 포함하는 코어층; 및
제2 폴리이미드 수지 및 불소계 수지를 포함하고, 상기 코어층의 적어도 하나의 면에 접합된 상태로 형성되어 있는 적어도 하나의 스킨층을 포함하며,
상기 스킨층에는 이의 전체 중량에 대해 60 중량% 이하의 불소계 수지가 포함되고,
유전손실(Df)이 0.003이하이고, 유전상수(Dk)가 3.2 이하이고, 흡습율이 0.6 중량% 이하인, 폴리이미드 복합 필름.
A core layer comprising a first polyimide resin; And
A second polyimide resin and a fluorine-based resin, and at least one skin layer formed in a state bonded to at least one surface of the core layer,
The skin layer contains 60% by weight or less of a fluorine-based resin based on the total weight thereof,
A polyimide composite film having a dielectric loss (Df) of 0.003 or less, a dielectric constant (Dk) of 3.2 or less, and a moisture absorption rate of 0.6% by weight or less.
제1항에 있어서,
상기 제1 폴리이미드 수지 및 제2 폴리이미드 수지는 각각 디아민 단량체 및 디안하이드 단량체의 중합으로 제조되는, 폴리이미드 복합 필름.
According to claim 1,
The first polyimide resin and the second polyimide resin are each prepared by polymerization of a diamine monomer and a dianhydride monomer, a polyimide composite film.
제2항에 있어서,
상기 디아민 단량체는,
1,4-디아미노벤젠(또는 파라페닐렌디아민, PDA, PPD), 1,3-디아미노벤젠, 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노벤조익 애시드(또는 DABA), 4,4'-디아미노디페닐에테르(또는 옥시디아닐린, ODA), 3,4'-디아미노디페닐에테르 등의 디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메탄(또는 4,4'-메틸렌디아민, MDA), 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-비스(트라이플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디카르복시-4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 4,4'-디아미노벤즈아닐라이드, 3,3'-디메틸벤지딘(또는 o-톨리딘), 2,2'-디메틸벤지딘(또는 m-톨리딘), 3,3'-디메톡시벤지딘, 2,2'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐설파이드, 3,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디메톡시벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 3,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2-비스(3-아미노페닐)프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로판, 2,2-비스(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 3,3'-디아미노디페닐설폭사이드, 3,4'-디아미노디페닐설폭사이드, 4,4'-디아미노디페닐설폭사이드, 1,3-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(4-아미노 페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-R), 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-Q) 1,3-비스(3-아미노페녹시)-4-트라이플루오로메틸벤젠, 3,3'-디아미노-4-(4-페닐)페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디(4-페닐페녹시)벤조페논, 1,3-비스(3-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설파이 드)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(3-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 3,3'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 3,3'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(4-아미노 페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스 〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕메탄, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕메탄, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕메탄, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕메탄, 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕프로판, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕프로판, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕프로판, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕프로판(BAPP), 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 및 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2 이상의 성분을 포함하는, 폴리이미드 복합 필름.
According to claim 2,
The diamine monomer,
1,4-diaminobenzene (or paraphenylenediamine, PDA, PPD), 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, 3,5-diaminobenzo Diaminodiphenyl ethers, such as diacid (or DABA), 4,4'-diaminodiphenyl ether (or oxidianiline, ODA), 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-dia Minodiphenylmethane (or 4,4'-methylenediamine, MDA), 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl , 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dicarboxy- 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, bis (4-aminophenyl) sulfide, 4,4'-dia Minobenzanilide, 3,3'-dimethylbenzidine (or o-tolidine), 2,2'-dimethylbenzidine (or m-tolidine), 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dime Thoxybenzidine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenylsulfide, 3,4'-diaminodiphenylsulfide, 4,4'-dia Minodiphenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4, 4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dimethoxybenzophenone, 3,3'-diamino Diphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis (3-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) Propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1,1,3 , 3,3-hexafluoropropane, 3,3'-diaminodiphenylsulfoxide, 3,4'-diaminodiphenylsulfoxide, 4,4'-diaminodiphenylsulfoxide, 1,3- Bis (3-aminophenyl) benzene, 1,3-bis (4-aminophenyl) benzene, 1,4-bis (3-ah Nophenyl) benzene, 1,4-bis (4-amino phenyl) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (or TPE-R), 1,4-bis (3-aminophenoxy) Benzene (or TPE-Q) 1,3-bis (3-aminophenoxy) -4-trifluoromethylbenzene, 3,3'-diamino-4- (4-phenyl) phenoxybenzophenone, 3, 3'-diamino-4,4'-di (4-phenylphenoxy) benzophenone, 1,3-bis (3-aminophenylsulfide) benzene, 1,3-bis (4-aminophenylsulfide) benzene , 1,4-bis (4-aminophenylsulfide) benzene, 1,3-bis (3-aminophenylsulfone) benzene, 1,3-bis (4-aminophenylsulfone) benzene, 1,4-bis (4 -Aminophenylsulfone) benzene, 1,3-bis [2- (4-aminophenyl) isopropyl] benzene, 1,4-bis [2- (3-aminophenyl) isopropyl] benzene, 1,4-bis [2- (4-aminophenyl) isopropyl] benzene, 3,3'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 3,3'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4 ' -Bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, Bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- ( 4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy ) Phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [3- ( 4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [3- (3-aminophenoxy ) Phenyl] methane, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2 , 2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP), 2,2-bis [3- (3 -Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3 , 3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] A polyimide composite film comprising two or more components selected from the group consisting of -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane.
제1항에 있어서,
상기 디안하이드라이드 단량체는, 피로멜리틱 디안하이드라이드(또는 PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 s-BPDA), 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 a-BPDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(또는 ODPA), 디페닐설폰-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 DSDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)설파이드 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 디안하이드라이드, 2,3,3',4'- 벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 BTDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 디안하이드라이드, p-페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), p-바이페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), m-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, p-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 1,3-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)바이페닐 디안하이드라이드, 2,2-비스〔(3,4-디카르복시 페녹시)페닐〕프로판 디안하이드라이드(BPADA), 2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산 디안하이드라이드, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭 디안하이드라이드 및 4,4'-(2,2-헥사플루오로아이소프로필리덴)디프탈산 디안하이드라이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 이상의 성분을 포함하는, 폴리이미드 복합 필름.
According to claim 1,
The dianhydride monomer is pyromellitic dianhydride (or PMDA), 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or s-BPDA), 2,3,3' , 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or a-BPDA), oxydiphthalic dianhydride (or ODPA), diphenylsulfone-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dian Hydride (or DSDA), bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfide dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexa Fluoropropane dianhydride, 2,3,3 ', 4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (or BTDA) , Bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, p-phenylenebis (trimeric monoester acid anhydride ), p-bipe Renbis (trimeric monoester acid anhydride), m-terphenyl-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl-3,4,3', 4 '-Tetracarboxylic dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) biphenyl dianhydride, 2,2-bis [(3,4-dicarboxy phenoxy) phenyl] propane dianhydride (BPADA), 2,3 , 6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 4,4 '-(2,2-hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride A polyimide composite film comprising at least one component selected from the group consisting of rides.
제1항에 있어서,
상기 불소계 수지가 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 퍼플루오로알콕시(PFA), 불소화(fluorinated)된 에틸렌프로필렌(FEP) 및 에틸렌테트라플루오로에틸렌(ETFE)으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는, 폴리이미드 복합 필름.
According to claim 1,
The fluorine-based resin is at least one selected from the group consisting of polytetrafluoroethylene (PTFE), perfluoroalkoxy (PFA), fluorinated (fluorinated) ethylene propylene (FEP) and ethylene tetrafluoroethylene (ETFE) The polyimide composite film containing.
제5항에 있어서,
상기 불소계 수지가 폴리테트라플로오로에틸렌인, 폴리이미드 복합 필름.
The method of claim 5,
The polyimide composite film, wherein the fluorine-based resin is polytetrafluoroethylene.
제1항에 있어서,
상기 스킨층은 코어층의 일면에 형성되는 제1 스킨층 및 상기 코어층의 타면에 형성되는 제2 스킨층을 포함하고,
상기 제1 스킨층은 이의 전체 중량에 대해 10 내지 60 중량%의 불소계 수지를 포함하며,
상기 제2 스킨층은 이의 전체 중량에 대해 10 내지 60 중량%의 불소계 수지를 포함하고,
상기 제1 스킨층 및 제2 스킨층의 두께의 합에 대한 상기 코어층의 두께의 비율(=코어층/(제1 스킨층 + 제2 스킨층))이 1 내지 5인, 폴리이미드 복합 필름.
According to claim 1,
The skin layer includes a first skin layer formed on one surface of the core layer and a second skin layer formed on the other surface of the core layer,
The first skin layer contains 10 to 60% by weight of a fluorine-based resin based on the total weight of the first skin layer,
The second skin layer contains 10 to 60% by weight of a fluorine-based resin based on the total weight thereof,
The ratio of the thickness of the core layer to the sum of the thicknesses of the first skin layer and the second skin layer (= core layer / (first skin layer + second skin layer)) is 1 to 5, polyimide composite film .
제1항에 있어서,
신율이 30 % 이상인, 폴리이미드 복합 필름.
According to claim 1,
A polyimide composite film having an elongation of 30% or more.
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 복합 필름의 두께가 10 내지 100 ㎛인, 폴리이미드 복합 필름.
According to claim 1,
The polyimide composite film having a thickness of 10 to 100 μm of the polyimide composite film.
제1항에 있어서,
상기 불소계 수지가 하기에서 선택되는 적어도 하나의 상태로 존재하는, 폴리이미드 복합 필름:
제2 폴리이미드 수지의 고분자 사슬에 물리적으로 결착된 제1 상태; 및
제2 폴리이미드 수지의 고분자 사슬의 극성기에 수소 결합된 제2 상태.
According to claim 1,
The polyimide composite film, wherein the fluorine-based resin is present in at least one state selected from:
A first state physically bound to the polymer chain of the second polyimide resin; And
Second state hydrogen-bonded to the polar group of the polymer chain of the second polyimide resin.
제1항에 따른 폴리이미드 복합 필름을 제조하는 방법으로서,
제1 폴리아믹산 용액을 포함하는 제1 조성물과 제2 폴리아믹산 용액 및 불소계 수지를 포함하는 제2 조성물이 인접호여 적층되도록 제막하는 단계; 및
제막된 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 이미드화 하는 단계를 포함하고,
상기 폴리이미드 복합 필름은 제1 조성물에서 유래되는 코어층 및 제2 조성물에서 유래되는 스킨층을 포함하는, 제조방법.
A method for manufacturing the polyimide composite film according to claim 1,
Depositing a first composition comprising a first polyamic acid solution and a second composition comprising a second polyamic acid solution and a fluorine-based resin so as to be stacked adjacent to each other; And
And imidizing the film-formed first composition and second composition,
The polyimide composite film comprises a core layer derived from the first composition and a skin layer derived from the second composition.
제11항에 있어서,
상기 제막하는 단계는 제2 조성물, 제1 조성물 및 제2 조성물의 순서로 적층되도록 지지체 상에 공압출하는 단계 및 공압출된 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 50 ℃ 내지 200 ℃의 온도 범위에서 열처리하는 단계를 포함하는, 제조방법.
The method of claim 11,
The film forming step is a step of co-extrusion on a support so as to be laminated in the order of the second composition, the first composition and the second composition, and the coextruded first composition and the second composition in a temperature range of 50 ° C to 200 ° C. Manufacturing method comprising the step of heat treatment.
제11항에 있어서,
상기 제막하는 단계는 제1 조성물 및 제2 조성물의 순서로 적층되도록 지지체 상에 공압출하는 단계 및 공압출된 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 50 ℃ 내지 200 ℃의 온도 범위에서 열처리하는 단계를 포함하는, 제조방법.
The method of claim 11,
The film forming step comprises co-extruding on a support so as to be laminated in the order of the first composition and the second composition, and heat treating the coextruded first composition and the second composition in a temperature range of 50 ° C to 200 ° C. The manufacturing method comprising.
제11항에 있어서,
상기 이미드화하는 단계는 200 ℃ 내지 700 ℃의 온도로 열처리하는 단계를 포함하는, 제조방법.
The method of claim 11,
The imidizing step comprises a step of heat treatment to a temperature of 200 ℃ to 700 ℃, the manufacturing method.
제1항에 따른 폴리이미드 복합 필름을 포함하는, 연성금속박적층판.A flexible metal foil laminate comprising the polyimide composite film according to claim 1. 제15항에 있어서,
상기 폴리이미드 복합 필름의 스킨층에 금속박이 라미네이트되어 있거나, 또는 상기 폴리이미드 복합 필름의 스킨층에 열가소성 폴리이미드를 함유하는 접착층이 부가되어 있고, 상기 금속박이 접착층에 부착된 상태에서 라미네이트되어있는, 연성금속박적층판.
The method of claim 15,
A metal foil is laminated to the skin layer of the polyimide composite film, or an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide is added to the skin layer of the polyimide composite film, and the metal foil is laminated while attached to the adhesive layer, Flexible metal laminate.
제15항에 따른 연성금속박적층판을 전기적 신호 전송 회로로서 포함하는 전자 부품.An electronic component comprising the flexible metal foil laminate according to claim 15 as an electrical signal transmission circuit. 제17항에 있어서, 상기 전기적 신호 전송 회로는, 적어도 2 GHz의 고주파로 신호를 전송하는 전자 부품.The electronic component according to claim 17, wherein the electrical signal transmission circuit transmits a signal at a high frequency of at least 2 GHz.
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