KR20200038574A - Plasma generating device having double structure of dielectric pipe - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a plasma generating device having a structure capable of generating a large amount of ozone and active radicals by sufficiently plasma-processing the air passing through a dielectric pipe in a discharge region. A plasma generating device of the present invention includes an outer dielectric pipe in which an air flow path is formed between the outer dielectric pipe and an inner dielectric pipe; an inner discharge electrode wound in a spiral trajectory along a longitudinal direction of the inner dielectric pipe; an outer discharge electrode extended in a spiral trajectory along a longitudinal direction of the outer dielectric pipe; a cooling water supply member for supplying cooling water to flow inside the inner dielectric pipe and outside the outer dielectric pipe; a counter electrode electrically connected to the cooling water; and a power source for generating plasma by creeping discharge around the inner discharge electrode on the outer surface of the inner dielectric pipe and around the outer discharge electrode on the inner surface of the outer dielectric pipe.

Description

이중 유전체관 구조를 가지는 플라즈마 발생장치{PLASMA GENERATING DEVICE HAVING DOUBLE STRUCTURE OF DIELECTRIC PIPE}Plasma generator with double dielectric tube structure {PLASMA GENERATING DEVICE HAVING DOUBLE STRUCTURE OF DIELECTRIC PIPE}

본 발명은 이중 유전체관 구조를 가지는 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서, 내측유전체관과 그 내측유전체관을 둘러싸는 외측유전체관 사이에서 플라즈마를 발생시켜 공기를 플라즈마처리하고 플라즈마처리된 공기를 수질정화처리 등에 이용할 수 있는 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma generator having a double dielectric tube structure, which generates plasma between an inner dielectric tube and an outer dielectric tube surrounding the inner dielectric tube, plasma-processing air, plasma-treated air, water purification, etc. It relates to a plasma generator that can be used.

최근, 플라즈마에 의해 발생된 오존, 활성라디칼 등의 기체와 수중의 오염물질을 반응시킴으로써 오염물질의 분해, 산화를 유도하고 수질을 개선하는 수처리장치가 활발히 개발되고 있다.Recently, a water treatment device that induces decomposition and oxidation of pollutants and improves water quality by reacting gases such as ozone and activated radicals generated by plasma with pollutants in water has been actively developed.

플라즈마를 이용한 수처리장치는, 공기를 플라즈마처리함으로써 발생한 오존과 OH, H2O2, UV, HO2 등이 수중에 존재하는 각종 유해물질을 산화 및 분해시킴으로써 오폐수를 정화한다.A water treatment device using plasma purifies wastewater by oxidizing and decomposing various harmful substances present in water such as ozone, OH, H2O2, UV, and HO2 generated by plasma treatment of air.

도 1은 등록특허공보 제10-1236202호에 기재된 것으로서, 플라즈마 수처리장치의 구성을 도시하고 있다.1, which is described in Korean Patent Publication No. 10-1236202, shows a structure of a plasma water treatment device.

도 1을 참조하면, 유전체관인 석영관(2)이 수조(8) 내에 설치되고 대향전극(4)이 수중에 설치된다.Referring to FIG. 1, a dielectric tube, a quartz tube 2, is installed in a water tank 8, and a counter electrode 4 is installed in water.

헤드(6)의 공기주입구(6a)를 통해 공기를 석영관(2) 내로 공급하면, 석영관(2) 내에서 방전극(3)에서 발생되는 플라즈마에 의해 공기가 플라즈마처리되어 오존, 활성라디컬 등이 다량 발생한다.When air is supplied into the quartz tube 2 through the air inlet 6a of the head 6, air is plasma-treated by the plasma generated by the discharge electrode 3 in the quartz tube 2, and ozone and active radicals are generated. A lot of back occurs.

이러한 공기가 버블발생기(7)를 통과하면서 미세기포형태로 수중에 분산되고 수중의 오염물질은 미세기포 중의 오존, 활성라디컬과 반응하여 분해, 산화됨으로써 정화작용이 이루어진다.As this air passes through the bubble generator 7, it is dispersed in water in the form of micro-bubbles, and contaminants in the water are reacted with ozone and active radicals in the micro-bubbles to decompose and oxidize, thereby purifying.

상기 석영관(2) 내에 플라즈마를 발생시키기 위해 설치되는 방전극(3)은, 코일형상(3a)으로 이루어져 석영관(2)의 내주면에 밀착되어 있다.The discharge electrode 3 installed to generate plasma in the quartz tube 2 is made of a coil shape 3a and is in close contact with the inner peripheral surface of the quartz tube 2.

석영관(2)의 내주면에 밀착된 코일형상(3a)의 방전극(3)은 석영관(2)의 내주면을 따라 연면방전을 발생시킴으로써 공기를 플라즈마처리한다.The discharge electrode 3 of the coil shape 3a in close contact with the inner circumferential surface of the quartz tube 2 generates plasma discharge along the inner circumferential surface of the quartz tube 2 to plasma the air.

석영관(2) 내부를 유동하는 공기는 연면방전영역을 따라 플라즈마와 반응하고 그 연면방전영역이 석영관(2)의 길이방향을 따라 연속됨으로써 공기가 석영관(2)을 통과하는 동안 폭넓은 플라즈마 반응이 발생할 수 있다.The air flowing inside the quartz tube 2 reacts with the plasma along the creeping discharge area, and the creeping discharge area is continuous along the longitudinal direction of the quartz tube 2, so that the air passes through the quartz tube 2 while being wide. Plasma reactions may occur.

그러나, 전술한 종래의 플라즈마 발생장치는 석영관(2)의 내주면에서 연면방전이 발생하므로, 석영관(2)의 내부로 공급되는 공기 중, 석영관(2)의 중심부를 따라 이동하는 공기는 연면방전영역에 접하지 못하여 플라즈마처리되지 못하는 문제가 있다.However, in the above-described conventional plasma generating apparatus, since creeping discharge occurs on the inner circumferential surface of the quartz tube 2, the air moving along the center of the quartz tube 2 among the air supplied into the quartz tube 2 There is a problem that plasma treatment is not possible because it does not contact the creeping discharge region.

더욱이 공기의 공급속도가 빠른 경우, 공기가 연면방전영역에서 충분히 플라즈마처리되지 못하고 통과함으로써 발생되는 오존, 활성라디컬 등의 물질양이 충분하지 않은 상황이 발생할 수 있다.Moreover, when the supply speed of air is fast, there may be a situation in which the amount of substances such as ozone and active radicals generated due to the passage of the air through the plasma discharge region is not sufficiently performed.

본 발명은 상기와 같은 관점에서 도출된 것으로서, 본 발명의 목적은 유전체관을 통과하는 공기가 방전영역에서 충분히 플라즈마처리되어 다량의 오존, 활성라디컬을 발생시킬 수 있는 구조의 플라즈마 발생장치를 제공하는 것이다.The present invention has been derived from the above viewpoint, and an object of the present invention is to provide a plasma generator having a structure capable of generating a large amount of ozone and active radicals by sufficiently plasma-processing the air passing through the dielectric tube in the discharge region. Is to do.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 발생장치는, 중공관 형상의 내측유전체관과, 상기 내측유전체관을 외측에서 감싸도록 설치되며 상기 내측유전체관과의 사이에 공기유동로가 형성되는 외측유전체관과, 상기 내측유전체관의 외표면에 밀착한 도전성 와이어로서 상기 내측유전체관의 길이방향을 따라 나선궤적으로 감긴 내측방전극과, 상기 외측유전체관의 내표면에 밀착한 도전성 와이어로서 상기 외측유전체관의 길이방향을 따라 나선궤적으로 연장되는 외측방전극과, 상기 내측유전체관의 내표면과 상기 외측유전체관의 외표면에 냉각수가 접촉하면서 상기 내측유전체관의 내부와 상기 외측유전체관의 외부에서 유동하도록 냉각수를 공급하는 냉각수공급부재와, 상기 냉각수에 전기적으로 접속된 대향전극과, 상기 내측방전극 및 외측방전극과, 상기 대향전극에 연결되어 상기 내측유전체관의 외표면에서 상기 내측방전극의 주위와, 상기 외측유전체관의 내표면에서 상기 외측방전극 주위에 연면방전에 의한 플라즈마를 발생시키는 전원을 포함하는 것을 특징으로 한다.The plasma generating apparatus of the present invention for achieving the above object is installed to surround the inner dielectric tube in the shape of a hollow tube and the inner dielectric tube from the outside, and an outer side where an air flow path is formed between the inner dielectric tube A dielectric tube, an inner discharge electrode wound in a spiral trajectory along the longitudinal direction of the inner dielectric tube as a conductive wire in close contact with the outer surface of the inner dielectric tube, and the outer dielectric as a conductive wire in close contact with the inner surface of the outer dielectric tube The outer discharge electrode extending in a spiral trajectory along the longitudinal direction of the tube, the coolant contacting the inner surface of the inner dielectric tube and the outer surface of the outer dielectric tube, flows inside the inner dielectric tube and outside the outer dielectric tube A cooling water supply member for supplying cooling water, a counter electrode electrically connected to the cooling water, and the inner discharge electrode And an outer discharge electrode and a power source connected to the counter electrode to generate plasma by creeping discharge around the inner discharge electrode on the outer surface of the inner dielectric tube and around the outer discharge electrode on the inner surface of the outer dielectric tube. It is characterized by.

또한, 본 발명의 플라즈마 발생장치는, 상기 외측방전극이 상기 내측방전극보다 큰 외경을 가지고, 나선궤적으로 연장되어 있는 상기 외측방전극의 사이사이에서 상기 내측방전극이 나선궤적으로 연장되는 것을 다른 특징으로 한다.In addition, the plasma generating apparatus of the present invention is characterized in that the outer discharge electrode has a larger outer diameter than the inner discharge electrode, and the inner discharge electrode extends spirally between the outer discharge electrodes extending in a spiral trajectory. .

또한, 본 발명의 플라즈마 발생장치는, 상기 외측방전극의 내경이 상기 내측방전극의 외경보다 작게 설치되어, 상기 내측유전체관의 길이방향에서 볼 때, 상기 외측방전극의 일부와 상기 내측방전극의 일부가 서로 겹치는 것을 또 다른 특징으로 한다.In addition, in the plasma generating apparatus of the present invention, when the inner diameter of the outer discharge electrode is smaller than the outer diameter of the inner discharge electrode, when viewed in the longitudinal direction of the inner dielectric tube, a portion of the outer discharge electrode and a portion of the inner discharge electrode are mutually Another feature is overlapping.

또한, 본 발명의 플라즈마 발생장치는, 상기 냉각수공급부재가, 내부에서 유동하는 상기 냉각수와 접촉하고 상기 외측유전체관을 둘러싸는 원통형의 도전성 커버를 포함하고, 상기 대향전극은 상기 도전성 커버이며, 상기 내측유전체관의 내부로 공급되는 냉각수는 상기 도전성 커버의 내부에서부터 공급되는 것이고, 상기 도전성 커버의 중심선과 상기 외측유전체관의 중심선이 일치하도록 설치되어, 상기 도전성 커버의 내주면과 상기 외측유전체관의 외주면과의 거리가 둘레를 따라 일정한 것을 또 다른 특징으로 한다.In addition, the plasma generating apparatus of the present invention, the cooling water supply member includes a cylindrical conductive cover that contacts the cooling water flowing therein and surrounds the outer dielectric tube, wherein the counter electrode is the conductive cover, and the Cooling water supplied to the inside of the inner dielectric tube is supplied from the inside of the conductive cover, and is installed to coincide with the center line of the conductive cover and the center line of the outer dielectric tube, so that the inner peripheral surface of the conductive cover and the outer peripheral surface of the outer dielectric tube Another feature is that the distance of the fruit is constant along the perimeter.

본 발명에 따른 플라즈마 발생장치는, 내측유전체관의 외표면에서 내측방전극의 주위와, 외측유전체관의 내표면에서 외측방전극 주위에 연면방전에 의한 플라즈마를 발생시키고, 내측유전체관과 외측유전체관 사이의 공기유동로를 유동하는 공기가 외측방전극과 내측방전극을 교번해서 타고 넘는 과정에서 전체적으로 공기가 고르게 플라즈마처리될 수 있다.The plasma generating apparatus according to the present invention generates plasma by creeping discharge around the inner discharge electrode on the outer surface of the inner dielectric tube and around the outer discharge electrode on the inner surface of the outer dielectric tube, between the inner dielectric tube and the outer dielectric tube. In the process of the air flowing through the air flow path of the alternately riding the outer and inner electrodes, the air can be plasma-treated evenly.

이는 공기유동로를 따라 공기가 직진 유동하는 경우와 비교하여, 본 발명은 지그재그 유동궤적을 형성함으로써 매우 긴 유동궤적을 형성할 수 있는 바, 공기가 플라즈마에 의해 충분히 처리되고, 공기 중에 오존, OH라디컬 등 활성종 들이 풍부하게 생성될 수 있다.Compared to the case where air flows straight along the air flow path, the present invention can form a very long flow trajectory by forming a zigzag flow trajectory, where the air is sufficiently treated by plasma, and ozone and OH in the air. Active species such as radicals can be produced abundantly.

또한, 본 발명의 외측방전극 및 내측방전극은 나선궤적으로 감긴 형상을 이루고 있으므로, 공기유동로의 공기가 외측방전극 및 내측방전극에 부딪히면 나선궤적의 방향으로도 유동이 안내됨으로써, 공기가 외측방전극과 내측방전극을 교번하여 만나면서 지그재그의 유동궤적을 형성할 뿐 아니라, 내측방전극을 중심으로 회전하는 나선형의 유동궤적이 추가적으로 복합된 궤적을 형성할 수 있는 바, 좁은 공간에서도 플라즈마처리되는 공기의 경로를 매우 길게 형성할 수 있는 구조이다.In addition, since the outer discharge electrode and the inner discharge electrode of the present invention have a spiral wound shape, when air in the air flow path hits the outer discharge electrode and the inner discharge electrode, the flow is also guided in the direction of the spiral trajectory, so that the air discharges from the outer discharge electrode and the inner discharge electrode. In addition to forming a zigzag flow trajectory while alternating the discharge electrodes, a spiral flow trajectory that rotates around the inner discharge electrode can form an additional complex trajectory. It is a structure that can be formed.

또한, 본 발명은 내측유전체관을 외측유전체관이 감싸는 이중 유전체관 구조를 가지고, 상기 내측유전체관의 내표면과 외측유전체관의 외표면에 냉각수가 접촉하면서 유동하도록 공급하고 있는 바, 플라즈마가 발생하는 공간의 내외부에서 함께 냉각이 이루어짐으로써, 냉각성능이 향상되어 유전체관의 파손을 방지할 수 있다.In addition, the present invention has a dual dielectric tube structure in which the outer dielectric tube wraps the inner dielectric tube, and supplies the fluid to flow while the coolant contacts the inner surface of the inner dielectric tube and the outer surface of the outer dielectric tube. By cooling together inside and outside of the space, the cooling performance is improved to prevent damage to the dielectric tube.

도 1는 종래 플라즈마 수처리장치의 전체적 구성을 도시하는 구성설명도
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치를 분해한 구성을 도시하는 분해사시도
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치가 조립된 상태의 단면구조를 도시하는 단면구성도
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치에서 내측유전체관과 외측유전체관 사이에서 방전이 발생하는 작용 및 공기가 처리되는 작용을 설명하는 작용설명도
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치에서 내측방전극과 외측방전극의 일부가 겹친 구조를 내측유전체관의 길이방향에서 도시한 단면구성도
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치가 설치된 수처리장치의 구성 및 작용설명도1 is a configuration explanatory diagram showing the overall configuration of a conventional plasma water treatment device
2 is an exploded perspective view showing an exploded configuration of a plasma generator according to an embodiment of the present invention
3 is a cross-sectional configuration diagram showing a cross-sectional structure in a state where the plasma generating device according to an embodiment of the present invention is assembled
4 is an operation explanatory diagram for explaining an action in which discharge is generated between an inner dielectric tube and an outer dielectric tube and an air is processed in the plasma generator according to the embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional configuration diagram showing a structure in which a part of the inner discharge electrode and the outer discharge electrode overlap in the longitudinal direction of the inner dielectric tube in the plasma generating apparatus according to the embodiment of the present invention
6 is a diagram illustrating the configuration and operation of a water treatment device in which a plasma generator is installed according to an embodiment of the present invention

이하, 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치는, 중공관 형상의 내측유전체관(20)과, 상기 내측유전체관(20)을 외측에서 감싸도록 설치되며 내측유전체관(20)과의 사이에 공기유동로(71)가 형성되는 외측유전체관(30)과, 상기 내측유전체관(20)의 외표면에 밀착한 도전성 와이어로서 내측유전체관(20)의 길이방향을 따라 나선궤적으로 감긴 내측방전극(41)과, 상기 외측유전체관(30)의 내표면에 밀착한 도전성 와이어로서 외측유전체관(30)의 길이방향을 따라 나선궤적으로 연장되는 외측방전극(43)과, 상기 내측유전체관(20)의 내표면과 외측유전체관(30)의 외표면에 냉각수가 접촉하면서 내측유전체관(20)의 내부와 외측유전체관(30)의 외부에서 유동하도록 냉각수를 공급하는 냉각수공급부재(50)와, 상기 냉각수에 전기적으로 접속된 대향전극과, 상기 내측방전극(41) 및 외측방전극(43)과, 상기 대향전극에 연결되어 내측유전체관(20)의 외표면에서 내측방전극(41)의 주위와, 상기 외측유전체관(30)의 내표면에서 외측방전극(43) 주위에 연면방전에 의한 플라즈마를 발생시키는 전원(60)을 포함한다.2 and 3, the plasma generating apparatus according to the embodiment of the present invention is installed to surround the inner dielectric tube 20 of the hollow tube shape and the inner dielectric tube 20 from the outside, and the inner dielectric tube The outer dielectric tube 30 in which the air flow path 71 is formed between the (20) and the conductive dielectric wires in close contact with the outer surface of the inner dielectric tube 20, the longitudinal direction of the inner dielectric tube 20 The inner discharge electrode 41 wound in a spiral trajectory along with the outer discharge electrode 43 extending in a spiral trajectory along the longitudinal direction of the outer dielectric tube 30 as a conductive wire in close contact with the inner surface of the outer dielectric tube 30, , Cooling water is supplied to flow inside the inner dielectric tube 20 and outside the outer dielectric tube 30 while the coolant contacts the inner surface of the inner dielectric tube 20 and the outer surface of the outer dielectric tube 30. A cooling water supply member (50) and an opposite electrically connected to the cooling water A pole, the inner discharge electrode 41 and the outer discharge electrode 43, and the surrounding of the inner discharge electrode 41 on the outer surface of the inner dielectric tube 20 connected to the counter electrode, and the outer dielectric tube 30 It includes a power supply 60 for generating plasma by creepage discharge around the outer discharge electrode 43 on the inner surface.

상기 내측유전체관(20)은 중공관 형상의 석영관이 채택되고 외측유전체관(30)의 내부에 외측유전체관(30)과 동심이 되도록 설치된다.The inner dielectric tube 20 is a hollow tube-shaped quartz tube is adopted and is installed to be concentric with the outer dielectric tube 30 inside the outer dielectric tube 30.

내측유전체관(20)과 외측유전체관(30)은 석영관이 가장 바람직하나, 유리관이나 세라믹관이 채택될 수도 있다.The inner dielectric tube 20 and the outer dielectric tube 30 are most preferably a quartz tube, but a glass tube or a ceramic tube may be employed.

외측유전체관(30)은 내측유전체관(20)을 외측에서 둘러싸도록 내측유전체관(20)의 외측에 위치하며, 내측유전체관(20)과의 사이에 간격이 형성됨으로써 공기가 유동할 수 있는 공기유동로(71)가 형성된다.The outer dielectric tube 30 is positioned outside the inner dielectric tube 20 so as to surround the inner dielectric tube 20 from the outside, and air is allowed to flow by forming a gap between the inner dielectric tube 20. The air flow path 71 is formed.

내측유전체관(20)과 외측유전체관(30)이 동심의 형태로 설치됨으로써 공기유동로(71)는 내측유전체관(20)을 중심으로 일정한 두께(높이)를 가지는 환형의 공간인 것이 가장 바람직하다. 이는 공기유동로(71)를 유동하는 공기가 내측유전체관(20)의 외측 둘레를 따라 균일하게 플라즈마처리될 수 있도록 한다.Since the inner dielectric tube 20 and the outer dielectric tube 30 are installed in a concentric form, it is most preferable that the air flow path 71 is an annular space having a constant thickness (height) around the inner dielectric tube 20. Do. This allows air flowing through the air flow path 71 to be uniformly plasma-treated along the outer circumference of the inner dielectric tube 20.

내측유전체관(20)과 외측유전체관(30)은 이중의 유전체관의 구조를 가지도록 설치되고, 내측유전체관(20)의 내부와 외측유전체관(30)의 외부에는 냉각수가 유동하여 냉각작용이 발생하고, 내측유전체관(20)과 외측유전체관(30) 사이의 공기유동로(71)에서 플라즈마가 발생하여 공기를 플라즈마처리한다.The inner dielectric tube 20 and the outer dielectric tube 30 are installed to have a structure of a double dielectric tube, and cooling water flows inside the inner dielectric tube 20 and outside the outer dielectric tube 30 to cool. This occurs, and plasma is generated in the air flow path 71 between the inner dielectric tube 20 and the outer dielectric tube 30 to plasma the air.

상기 내측방전극(41)은 내측유전체관(20)의 외표면에 밀착한 도전성 와이어로서 내측유전체관(20)의 길이방향을 따라 나선궤적으로 감기도록 설치된다.The inner discharge electrode 41 is a conductive wire that is in close contact with the outer surface of the inner dielectric tube 20 and is installed to be wound spirally along the longitudinal direction of the inner dielectric tube 20.

이에 따라, 내측방전극(41)은 코일형상을 이루고, 내측유전체관(20)의 외표면에 밀착하여, 전원(60)의 공급시 내측유전체관(20)의 외표면에서 연면방전에 의한 플라즈마를 발생시킨다.Accordingly, the inner discharge electrode 41 forms a coil shape, adheres to the outer surface of the inner dielectric tube 20, and generates plasma by creeping discharge from the outer surface of the inner dielectric tube 20 when the power supply 60 is supplied. Occurs.

또한, 외측방전극(43)도 코일형상을 이루고, 외측유전체관(30)의 내표면에 밀착한 도전성 와이어로서 외측유전체관(30)의 길이방향을 따라 나선궤적으로 연장된다.In addition, the outer discharge electrode 43 also has a coil shape, and is a conductive wire that adheres to the inner surface of the outer dielectric tube 30 and extends in a spiral trajectory along the longitudinal direction of the outer dielectric tube 30.

외측방전극(43)도 외측유전체관(30)의 내주면에 밀착하여, 전원(60)의 공급시 외측유전체관(30)의 내표면에서 연면방전에 의한 플라즈마를 발생시킨다.The outer discharge electrode 43 is also in close contact with the inner circumferential surface of the outer dielectric tube 30 to generate plasma by creeping discharge on the inner surface of the outer dielectric tube 30 when the power supply 60 is supplied.

상기 연면방전은 이종의 유전체가 서로 상접하고 있는 경우 그 경계면을 따라 생기는 방전현상을 말하는 것으로서, 유동하는 공기와 방전극이 유전체관의 일측 표면에 상접하고, 유전체관의 다른 측 표면에 물(대전체)이 접하고 있는 본 실시예와 같은 복합 유전체 영역에서 발생할 수 있다.The creeping discharge refers to a discharge phenomenon that occurs along a boundary surface when heterogeneous dielectrics are in contact with each other. Flowing air and a discharge electrode are in contact with one surface of the dielectric tube, and water on the other surface of the dielectric tube. ) May occur in the composite dielectric region as in the present embodiment.

내측방전극(41)과 외측방전극(43)은 서로 이격된 상태로 각각의 나선궤적을 따라 연장되도록 배열되되, 외측방전극(43)이 내측방전극(41)보다 큰 외경을 가지고, 외측방전극(43)의 사이사이에서 내측방전극(41)이 나선궤적으로 연장된다.The inner discharge electrode 41 and the outer discharge electrode 43 are arranged to extend along each spiral trajectory in a spaced state from each other, but the outer discharge electrode 43 has an outer diameter greater than the inner discharge electrode 41, and the outer discharge electrode 43 Between the inner discharge electrode 41 extends in a spiral trajectory.

즉, 직경이 큰 외측방전극(43)의 나선궤적은 피치(pitch)를 형성하게 될 간격을 가지고, 그 간격은 1회 권회하는 부분과 다음회 권회하는 부분이 이격되도록 한다.That is, the spiral trajectory of the outer electrode 43 having a large diameter has an interval to form a pitch, and the interval is such that the part wound once and the part wound next are spaced apart.

작은 직경의 내측방전극(41)도 외측방전극(43)과 동일한 피치를 가지고 상기 간격이 위치하는 부분을 따라서 나선궤적으로 연장된다. 이에 따라, 내측방전극(41)은 외측방전극(43)을 직접 대향하는 위치가 아니고 외측방전극(43)과 엇갈려 외측방전극(43)의 사이사이의 공간을 대향하도록 위치하는 것이다.The small diameter inner discharge electrode 41 also has the same pitch as the outer discharge electrode 43 and extends in a spiral trajectory along the portion where the gap is located. Accordingly, the inner discharge electrode 41 is not positioned to directly face the outer discharge electrode 43, but is positioned to cross the outer discharge electrode 43 and face the space between the outer discharge electrodes 43.

이러한 구조는 공기유동로(71)를 유동해가는 공기의 흐름을 원활히 하면서도 규칙적으로 내측방전극(41)과 외측방전극(43)을 교번해서 타고 넘어 지그재그의 길게 연장되는 유동궤적이 이루어지도록 한다.This structure facilitates the flow of air flowing through the air flow path 71, but regularly flows the inner discharge electrode 41 and the outer discharge electrode 43 alternately so that a long extended trajectory of the zigzag is made.

공기유동로(71)를 통과하는 공기가 보다 확실하게 지그재그의 유동궤적을 그리면서 긴 유동거리를 형성하도록 하기 위해, 외측방전극(43)의 내경이 내측방전극(41)의 외경보다 작게 설치되어, 내측유전체관(20)의 길이방향에서 볼 때, 도 5와 같이, 외측방전극(43)의 일부와 내측방전극(41)의 일부가 서로 겹치는 것이 바람직하다.In order to allow air passing through the air flow path 71 to more reliably draw a zigzag flow trajectory and form a long flow distance, the inner diameter of the outer discharge electrode 43 is installed smaller than the outer diameter of the inner discharge electrode 41, When viewed from the longitudinal direction of the inner dielectric tube 20, as shown in FIG. 5, it is preferable that a portion of the outer discharge electrode 43 and a portion of the inner discharge electrode 41 overlap each other.

그 겹치는 정도는 외측방전극(43) 또는 내측방전극(41)을 이루는 와이어직경의 1~10% 범위가 바람직하다.The degree of overlap is preferably in the range of 1 to 10% of the wire diameter constituting the outer discharge electrode 43 or the inner discharge electrode 41.

너무 많은 면적에서 겹칠 경우, 공기의 유동을 방해하여 공기처리효율을 저하시킬 수 있고, 외측방전극(43)과 내측방전극(41)이 겹지지 않는 경우, 외측유전체관(30)의 내주면과 내측유전체관(20)의 외주면에서 발생하는 플라즈마영역을 충분히 접촉하지 못하고 통과하는 공기의 양이 증가할 수 있다.When overlapping in too many areas, the flow of air may be prevented to reduce air treatment efficiency, and when the outer discharge electrode 43 and the inner discharge electrode 41 do not overlap, the inner peripheral surface and the inner dielectric of the outer dielectric tube 30 The amount of air passing through the plasma region generated on the outer circumferential surface of the tube 20 may not be sufficiently contacted and may increase.

한편, 상기 냉각수공급부재(50)는 내측유전체관(20)의 내표면과 외측유전체관(30)의 외표면에 냉각수가 접촉하면서 내측유전체관(20)의 내부와 외측유전체관(30)의 외부에서 유동하도록 냉각수를 공급한다.On the other hand, the cooling water supply member 50 is the inner surface of the inner dielectric tube 20 and the outer surface of the outer dielectric tube 30 while the coolant is in contact with the inner and outer dielectric tube 30 of the inner dielectric tube 20 Cooling water is supplied to flow from the outside.

냉각수공급부재(50)는 내부에서 유동하는 상기 냉각수와 접촉하고 외측유전체관(30)을 둘러싸는 원통형의 도전성 커버(51)를 포함하고, 도전성 커버(51)의 내부로 냉각수가 공급된다.The cooling water supply member 50 includes a cylindrical conductive cover 51 that contacts the cooling water flowing therein and surrounds the outer dielectric tube 30, and cooling water is supplied into the conductive cover 51.

이에 따라, 냉각수공급부재(50)는 도전성 커버(51)의 일측에 설치된 냉각수유입구(52)와, 타측에 설치된 냉각수배출구(53)를 포함함으로써 도전성 커버(51)의 내부에서 냉각수유입구(52)로 공급된 냉각수가 외측유전체관(30)의 외표면을 따라 유동한 후 냉각수배출구(53)를 통해 배출될 수 있다.Accordingly, the cooling water supply member 50 includes a cooling water inlet 52 installed on one side of the conductive cover 51 and a cooling water outlet 53 installed on the other side, thereby cooling water inlet 52 inside the conductive cover 51. Cooling water supplied as may flow through the outer surface of the outer dielectric tube 30 and then discharged through the cooling water discharge port 53.

또한, 냉각수공급부재(50)는 도전성 커버(51)의 일측의 일부분에서 냉각수가 분기하여 내측유전체관(20)의 내부로 유입될 수 있도록 연결하는 연결관체(55)를 포함한다.In addition, the cooling water supply member 50 includes a connecting pipe 55 that connects the cooling water from a portion of one side of the conductive cover 51 to be branched and introduced into the inner dielectric tube 20.

연결관체(55)는 도전성 커버(51)의 내부를 유동하는 냉각수를 일부 분기시켜 내측유전체관(20)의 내부로 냉각수를 공급하고 있다.The connecting tube 55 partially cools the cooling water flowing inside the conductive cover 51 to supply cooling water to the inside of the inner dielectric tube 20.

이에 따라, 냉각수유입구(52)를 통해 유입된 냉각수는 냉각수배출구(53)와 연결관체(55)를 통해 동시에 배출된다.Accordingly, the cooling water introduced through the cooling water inlet 52 is simultaneously discharged through the cooling water discharge port 53 and the connecting tube 55.

냉각수유입구(52)를 통해 유입된 냉각수가 외측유전체관(30)의 외주면을 따라 유동하면서, 외측유전체관(30)의 내주면에서 플라즈마가 발생함에 따른 열이 냉각될 수 있고, 연결관체(55)를 통해 내측유전체관(20)의 내부에서도 냉각수가 유동함으로써, 내측유전체관(20)의 외주면에서 플라즈마발생가 발생함에 따른 열이 냉각될 수 있다.As the cooling water flowing through the cooling water inlet 52 flows along the outer circumferential surface of the outer dielectric tube 30, heat may be cooled as plasma is generated on the inner circumferential surface of the outer dielectric tube 30, and the connecting tube 55 The cooling water flows through the inside of the inner dielectric tube 20 through which heat can be cooled as plasma is generated on the outer circumferential surface of the inner dielectric tube 20.

상기 내측유전체관(20) 및 외측유전체관(30)은 냉각작용없이 내면 또는 외면에서 플라즈마가 지속적으로 발생시, 열에 의해 피로가 누적되어 파손된다.When the plasma is continuously generated on the inner or outer surface of the inner dielectric tube 20 and the outer dielectric tube 30 without cooling, fatigue is accumulated and damaged by heat.

한편, 상기 대향전극은 냉각수에 전기적으로 접속되는 것으로서, 냉각수가 내측유전체관(20) 및 외측유전체관(30)에서, 내측방전극(41) 및 외측방전극(43)의 반대편 표면에 접촉하고 있으므로 냉각수에 대향전극을 전기적으로 연결한다. 즉, 유전체를 사이에 두고 유전체관의 양쪽 표면에 방전극과 대향전극이 각각 접촉한 구조인 것이다.On the other hand, since the counter electrode is electrically connected to the cooling water, the cooling water contacts the opposite surfaces of the inner discharge electrode 41 and the outer discharge electrode 43 in the inner dielectric tube 20 and the outer dielectric tube 30. The counter electrode is electrically connected to. That is, it is a structure in which the discharge electrode and the counter electrode are respectively contacted on both surfaces of the dielectric tube with the dielectric interposed therebetween.

이에 따라, 내측유전체관(20) 및 외측유전체관(30)은 내부와 외부에서 방전극과 대향전극이 전기적으로 대향접촉하고 있는 구조를 이룬다.Accordingly, the inner dielectric tube 20 and the outer dielectric tube 30 form a structure in which the discharge electrode and the counter electrode are in electrical contact with each other from inside and outside.

본 실시예에서 대향전극은 냉각수공급부재(50)의 도전성 커버(51)가 되는 것이 바람직하다.In this embodiment, the counter electrode is preferably the conductive cover 51 of the cooling water supply member 50.

상기 전원(60)은 내측방전극(41)과 대향전극에 사이에 연결되고, 외측방전극(43)과 대향전극 사이에 연결되어, 내측유전체관(20)의 외표면(21)에서 내측방전극(41)의 주위와, 상기 외측유전체관(30)의 내표면(31)에서 외측방전극(43) 주위에 연면방전에 의한 플라즈마를 발생시킨다.The power supply 60 is connected between the inner discharge electrode 41 and the counter electrode, and is connected between the outer discharge electrode 43 and the counter electrode, so that the inner discharge electrode 41 is formed on the outer surface 21 of the inner dielectric tube 20. Plasma due to creeping discharge is generated around the outside and around the outer discharge electrode 43 on the inner surface 31 of the outer dielectric tube 30.

이를 위해, 내측방전극(41)과 외측방전극(43)은 전원(60)의 하나의 단자에 공통으로 연결된 구조를 가지고, 대향전극은 전원(60)의 다른 하나의 단자에 냉각수가 연결되며, 그 냉각수가 대향전극이 내측유전체관(20)의 내주면과 외측유전체관(30)의 외주면에 전기적으로 동시에 연결되도록 매개하는 것이다.To this end, the inner discharge electrode 41 and the outer discharge electrode 43 have a structure commonly connected to one terminal of the power source 60, and the counter electrode is connected to the cooling water to the other terminal of the power source 60. The cooling water is mediated so that the counter electrode is electrically and simultaneously connected to the inner circumferential surface of the inner dielectric tube 20 and the outer circumferential surface of the outer dielectric tube 30.

전원(60)은 고전압 펄스교류전원을 가지는 상용 전자식 네온트랜스를 사용할 수도 있다.The power supply 60 may use a commercial electronic neon transformer having a high voltage pulsed AC power.

상기 도전성 커버(51)는 도전성 커버(51)의 중심선과 외측유전체관(30)의 중심선이 일치하도록 설치되어, 도전성 커버(51)의 내주면과 외측유전체관(30)의 외주면과의 거리가 둘레를 따라 일정하도록 구성한다.The conductive cover 51 is installed so that the center line of the conductive cover 51 and the center line of the outer dielectric tube 30 coincide, and the distance between the inner peripheral surface of the conductive cover 51 and the outer peripheral surface of the outer dielectric tube 30 is circumferential. It is configured to be constant.

이는 외측유전체관(30)의 내부에서 발생하는 플라즈마가 전체 방사방향에서 비교적 균일하도록 유도할 수 있다.This can induce that the plasma generated inside the outer dielectric tube 30 is relatively uniform in the entire radial direction.

상기 외측유전체관(30)의 일단부는 일단지지부재(72)에 끼워져 파지되고, 외측유전체관(30)의 타단부는 타단지지부재(73)에 끼워져 파지된다.One end of the outer dielectric tube 30 is gripped by being inserted into one end support member 72, and the other end of the outer dielectric tube 30 is gripped by being inserted into the other end support member 73.

일단지지부재(72)는 내측유전체관(20)의 일단부를 감싸는 상태로 내측유전체관(20)과 조립되고, 내측유전체관(20)의 일단부는 연결관체(55)에 연결됨으로써 냉각수를 공급받는다.Once the support member 72 is assembled with the inner dielectric tube 20 in a state surrounding one end of the inner dielectric tube 20, one end of the inner dielectric tube 20 is connected to the connecting tube body 55 to receive cooling water. .

타단지지부재(73)도 내측유전체관(20)의 타단부를 감싸는 상태로 내측유전체관(20)과 조립되고, 내측유전체관(20)의 타단부에서 냉각수를 외부로 배출한다.The other end support member 73 is also assembled with the inner dielectric tube 20 in a state surrounding the other end of the inner dielectric tube 20, and discharges cooling water from the other end of the inner dielectric tube 20 to the outside.

일단지지부재(72)에는 공기가 흡입되어 공기유동로(71)로 공급되는 공기흡입로(72a)가 설치되어 있고, 타단지지부재(73)에는 공기유동로(71)에서 플라즈마처리되어 배출하는 공기의 공기배출로(73a)가 설치된다.One end support member 72 is provided with an air suction path 72a through which air is sucked and supplied to the air flow path 71, and the other end support member 73 is plasma treated and discharged from the air flow path 71. The air discharge path 73a for air to be said is provided.

이하, 본 발명의 실시예에 따라 내측유전체관(20)과 외측유전체관(30)의 사이에 플라즈마가 발생하고 공기가 플라즈마 처리되는 과정을 설명한다.Hereinafter, a process in which plasma is generated between the inner dielectric tube 20 and the outer dielectric tube 30 and air is plasma treated according to an embodiment of the present invention will be described.

도 4를 참조하면, 전원(60)에서 내측방전극(41) 및 외측방전극(43)과, 대향전극에 전압을 인가하여 내측유전체관(20)의 외표면(21) 및 외측유전체관(30)의 내표면(31)에 플라즈마를 발생시킨다.Referring to FIG. 4, voltages are applied to the inner and outer discharge electrodes 41 and 43 from the power supply 60, and the outer surface 21 and the outer dielectric tube 30 of the inner dielectric tube 20 by applying voltages Plasma is generated on the inner surface (31).

내측유전체관(20)의 외표면(21)에서는 내측방전극(41)과 만나는 부분의 주위에서 내측유전체관(20)의 외표면(21)을 타고 표면상에서 퍼지는 연면방전이 발생한다.On the outer surface 21 of the inner dielectric tube 20, creeping discharges spread on the surface by riding on the outer surface 21 of the inner dielectric tube 20 around the portion where the inner discharge electrode 41 meets.

따라서, 내측유전체관(20)의 외주면에서 연면방전에 의한 플라즈마영역(P1)을 형성하여 내측유전체관(20)의 외주면 근방을 유동하는 공기를 플라즈마처리한다.Accordingly, the plasma region P1 is formed on the outer circumferential surface of the inner dielectric tube 20 by creeping discharge to plasma the air flowing near the outer circumferential surface of the inner dielectric tube 20.

또한, 외측유전체관(30)의 내표면(31)에서는 외측방전극(43)과 만나는 부분의 주위에서 외측유전체관(30)의 내표면(31)을 타고 표면상에서 퍼지는 연면방전에 의한 플라즈마영역(P2)이 발생한다.In addition, in the inner surface 31 of the outer dielectric tube 30, the plasma region by creeping discharge spreading on the surface by riding on the inner surface 31 of the outer dielectric tube 30 around the portion where the outer discharge electrode 43 meets ( P2) occurs.

따라서, 외측유전체관(30)의 내주면에서 연면방전에 의한 플라즈마영역을 형성하여 외측유전체관(30)의 내주면 근방을 유동하는 공기를 플라즈마처리한다.Accordingly, a plasma region is formed by creeping discharge on the inner circumferential surface of the outer dielectric tube 30 to plasma the air flowing near the inner circumferential surface of the outer dielectric tube 30.

본 실시예에서 외측방전극(43)이 내측방전극(41)보다 큰 외경을 가지고, 나선궤적으로 연장되어 있는 외측방전극(43)의 사이사이에서 내측방전극(41)이 나선궤적으로 연장되도록 구성되어 있다.In this embodiment, the outer discharge electrode 43 has a larger outer diameter than the inner discharge electrode 41, and is configured to extend the inner discharge electrode 41 between the outer discharge electrodes 43 extending in a spiral trajectory. .

이에 도 4에서 도시하는 바와 같이, 공기유동로(71)를 유동하는 공기가 외측방전극(43)과 내측방전극(41)을 교번해서 타고 넘음으로써, 지그재그의 유동궤적을 형성하고, 내측유전체관(20)의 외표면(21)에 형성된 플라즈마영역과 외측유전체관(30)의 내표면(31)에 형성된 플라즈마영역을 교번해서 통과한다.As shown in FIG. 4, air flowing through the air flow path 71 alternately rides over the outer discharge electrode 43 and the inner discharge electrode 41 to form a zigzag flow trajectory, and the inner dielectric tube ( The plasma region formed on the outer surface 21 of 20) and the plasma region formed on the inner surface 31 of the outer dielectric tube 30 alternately pass.

이는 유동하는 공기가 내외측에서 교번하여 플라즈마처리될 수 있도록 하고, 외측방전극(43) 또는 내측방전극(41)을 타고 넘는 과정에서 유동변화에 의해 공기가 교반될 수 있는 바, 전체적으로 공기가 고르게 플라즈마처리될 수 있다.This allows the flowing air to be alternately plasma-processed from the inside and outside, and the air can be stirred by the flow change in the process of riding over the outer discharge electrode 43 or the inner discharge electrode 41, so that the air as a whole is evenly plasmad. Can be processed.

또한, 공기유동로(71)를 따라 공기가 직진 유동하는 경우와 비교하여, 지그재그 유동궤적을 형성함으로써 매우 긴 유동궤적을 형성함으로써, 공기가 플라즈마에 의해 충분히 처리될 수 있으므로, 공기 중에 오존, OH라디컬 등 활성종 들이 풍부하게 생성될 수 있다.In addition, compared to the case where air flows straight along the air flow path 71, by forming a very long flow trajectory by forming a zigzag flow trajectory, the air can be sufficiently processed by plasma, and thus ozone, OH in the air Active species such as radicals can be produced abundantly.

더욱이, 본 실시예의 외측방전극(43) 및 내측방전극(41)은 나선궤적으로 감긴 형상을 이루고 있으므로, 공기유동로(71)의 공기가 외측방전극(43) 및 내측방전극(41)에 부딪히면 나선궤적의 방향으로도 유동이 안내됨으로써, 공기가 유동하는 유동궤적을 보다 더 증가시키게 된다.Moreover, since the outer discharge electrode 43 and the inner discharge electrode 41 of this embodiment have a spiral wound shape, when the air of the air flow path 71 hits the outer discharge electrode 43 and the inner discharge electrode 41, the spiral trajectory As the flow is also guided in the direction of, the flow trajectory through which the air flows is further increased.

즉, 공기유동로(71)의 공기는 외측방전극(43)과 내측방전극(41)을 교번하여 만나면서 지그재그의 유동궤적을 형성할 뿐 아니라, 내측방전극(41)을 중심으로 회전하는 나선형의 유동궤적이 복합된 궤적을 이룰 수 있는 것이다.That is, the air in the air flow path 71 forms a zigzag flow trajectory while alternately meeting the outer discharge electrode 43 and the inner discharge electrode 41, and also the spiral flow trajectory rotating around the inner discharge electrode 41 This composite trajectory can be achieved.

이에 따라, 본 실시예의 구성은, 좁은 공간에서도 플라즈마처리되는 공기의 경로를 매우 길게 형성할 수 있는 바, 본 실시예의 플라즈마 발생장치가 설치된 수질정화장치 등에서 플라즈마처리되어 풍부한 활성종을 가진 공기를 수중에 분산시킴으로써, 수처리 효율을 보다 높일 수 있다.Accordingly, the configuration of the present embodiment can form a very long path of the plasma-treated air even in a narrow space, and the plasma-treated water treatment device equipped with the plasma generating device of the present embodiment is plasma-treated so that the air having abundant active species is underwater. By dispersing in, water treatment efficiency can be further improved.

플라즈마처리된 공기는 오존, 활성라디컬 물질이 풍부하게 포함되어 처리대상수의 내부에 기포의 형태로 공급된다.The plasma-treated air is rich in ozone and active radicals, and is supplied in the form of bubbles inside the water to be treated.

즉, 도 6과 같이, 유동관(81)을 유동하는 처리대상수의 유동단면적이 좁아지는 넥부(82)를 통과하는 과정에서, 처리대상수의 속도가 빨라지고 압력이 낮아져 연결되어 있는 플라즈마 발생장치(10)의 공기를 자연흡입함으로써, 플라즈마처리된 공기가 처리대상수 내에 기포형태로 분산된다.That is, as shown in FIG. 6, in the process of passing through the neck portion 82, where the flow cross-section of the target water flowing through the flow pipe 81 is narrowed, the speed of the target water is increased and the pressure is lowered to connect the plasma generating device ( By naturally absorbing the air of 10), the plasma-treated air is dispersed in a bubble form in the water to be treated.

상기 유동관(81)은 냉각수공급부재(50)의 냉각수유입구(52)로 유입되도록 하고, 냉각수배출구(53)와 내측유전체관(20)의 타단부에서 냉각수가 배출되어 수조(83)로 공급되도록 구성된다.The flow pipe 81 is to be introduced into the cooling water inlet 52 of the cooling water supply member 50, and cooling water is discharged from the other ends of the cooling water outlet 53 and the inner dielectric tube 20 to be supplied to the water tank 83. It is composed.

상기 공기에는 플라즈마영역을 통과하는 동안 생성된 다량의 오존, 활성라디컬이 포함되어 있다.The air contains a large amount of ozone and active radicals generated while passing through the plasma region.

이에 따라, 처리대상수에 기포의 형태로 공기가 흡입되고, 기포를 포함하는 처리대상수는 유동관(81)을 유동하는 과정과, 냉각수공급부재(50)의 내부를 유동하는 과정, 및 수조(83)에 진입한 상태에서 기포와 함께 계속적으로 접촉유동하면서 오존, 활성라디컬물질이 오염물질을 분해, 산화시키는 정화작용이 이루어진다.Accordingly, air is sucked in the form of air bubbles to the water to be treated, and the water to be treated including air bubbles flows through the flow pipe 81, and flows through the inside of the cooling water supply member 50, and the water tank ( 83) In the state of entering, ozone and active radicals decompose and oxidize pollutants while continuously contacting and flowing with bubbles.

정화된 처리대상수는 배출구(84)를 통해 배출된다.The purified water to be treated is discharged through the discharge port 84.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 상기의 실시예는 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에 있는 일 실시예에 불과하며, 동업계의 통상의 기술자에 있어서는, 본 발명의 기술적인 사상 내에서 다른 변형된 실시가 가능함은 물론이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the above embodiments are only one embodiment within the scope of the technical spirit of the present invention, and those skilled in the art within the technical spirit of the present invention. Of course, other modified implementations are possible.

10; 플라즈마 발생장치 20; 내측유전체관
21; 내측유전체관 외표면 30; 외측유전체관
31; 외측유전체관 내표면 41; 내측방전극
43; 외측방전극 50; 냉각수공급부재
51; 도전성 커버 52; 냉각수유입구
53; 냉각수배출구 55; 연결관체
60; 전원 71; 공기유동로
72; 일단지지부재 72a; 공기흡입로
73; 타단지지부재 73a; 공기배출로
81; 유동관 82; 넥부
83; 수조 84; 배출구
P1,P2; 플라즈마영역10; Plasma generator 20; Inside dielectric tube
21; Inner dielectric tube outer surface 30; External dielectric tube
31; Outer dielectric tube inner surface 41; Inner discharge electrode
43; Outer discharge electrode 50; Cooling water supply member
51; Conductive cover 52; Cooling water inlet
53; Cooling water outlet 55; Connector
60; Power 71; Air flow path
72; First support member 72a; Air intake furnace
73; The other end supporting member 73a; Air exhaust furnace
81; Flow tube 82; Neck
83; Water tank 84; outlet
P1, P2; Plasma area

Claims (4)

중공관 형상의 내측유전체관(20)과,
상기 내측유전체관(20)을 외측에서 감싸도록 설치되며 상기 내측유전체관(20)과의 사이에 공기유동로(71)가 형성되는 외측유전체관(30)과,
상기 내측유전체관(20)의 외표면(21)에 밀착한 도전성 와이어로서 상기 내측유전체관(20)의 길이방향을 따라 나선궤적으로 감긴 내측방전극(41)과,
상기 외측유전체관(30)의 내표면(31)에 밀착한 도전성 와이어로서 상기 외측유전체관(30)의 길이방향을 따라 나선궤적으로 연장되는 외측방전극(43)과,
상기 내측유전체관(20)의 내표면과 상기 외측유전체관(30)의 외표면에 냉각수가 접촉하면서 상기 내측유전체관(20)의 내부와 상기 외측유전체관(30)의 외부에서 유동하도록 냉각수를 공급하는 냉각수공급부재(50)와,
상기 냉각수에 전기적으로 접속된 대향전극과,
상기 내측방전극(41) 및 외측방전극(43)과, 상기 대향전극에 연결되어 상기 내측유전체관(20)의 외표면(21)에서 상기 내측방전극(41)의 주위와, 상기 외측유전체관(30)의 내표면(31)에서 상기 외측방전극(43) 주위에 연면방전에 의한 플라즈마를 발생시키는 전원(60)을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치Hollow tube-shaped inner dielectric tube 20,
The outer dielectric tube 30 is installed to wrap the inner dielectric tube 20 from the outside, and an air flow path 71 is formed between the inner dielectric tube 20,
An inner discharge electrode (41) wound in a spiral trajectory along the longitudinal direction of the inner dielectric tube (20) as a conductive wire in close contact with the outer surface (21) of the inner dielectric tube (20),
An outer discharge electrode (43) extending in a spiral trajectory along the longitudinal direction of the outer dielectric tube (30) as a conductive wire in close contact with the inner surface (31) of the outer dielectric tube (30),
Cooling water is allowed to flow inside the inner dielectric tube 20 and outside the outer dielectric tube 30 while cooling water contacts the inner surface of the inner dielectric tube 20 and the outer surface of the outer dielectric tube 30. Cooling water supply member 50 to supply,
A counter electrode electrically connected to the cooling water,
The inner discharge electrode 41 and the outer discharge electrode 43 are connected to the counter electrode, the outer surface 21 of the inner dielectric tube 20 around the inner discharge electrode 41, and the outer dielectric tube 30 Plasma generator characterized in that it comprises a power supply 60 for generating plasma by creeping discharge around the outer discharge electrode 43 on the inner surface 31 of) 제1항에 있어서,
상기 외측방전극(43)이 상기 내측방전극(41)보다 큰 외경을 가지고, 나선궤적으로 연장되어 있는 상기 외측방전극(43)의 사이사이에서 상기 내측방전극(41)이 나선궤적으로 연장되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치According to claim 1,
The outer discharge electrode 43 has a larger outer diameter than the inner discharge electrode 41, and the inner discharge electrode 41 extends between the outer discharge electrodes 43 extending in a spiral trajectory. Plasma generator 제2항에 있어서,
상기 외측방전극(43)의 내경이 상기 내측방전극(41)의 외경보다 작게 설치되어, 상기 내측유전체관(20)의 길이방향에서 볼 때, 상기 외측방전극(43)의 일부와 상기 내측방전극(41)의 일부가 서로 겹치는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치According to claim 2,
When the inner diameter of the outer discharge electrode 43 is smaller than the outer diameter of the inner discharge electrode 41, and viewed from the longitudinal direction of the inner dielectric tube 20, a part of the outer discharge electrode 43 and the inner discharge electrode 41 Plasma generator, characterized in that part of the overlap with each other 제1항에 있어서,
상기 냉각수공급부재(50)는,
내부에서 유동하는 상기 냉각수와 접촉하고 상기 외측유전체관(30)을 둘러싸는 원통형의 도전성 커버(51)를 포함하고,
상기 대향전극은 상기 도전성 커버(51)이며,
상기 내측유전체관(20)의 내부로 공급되는 냉각수는 상기 도전성 커버(51)의 내부에서부터 공급되는 것이고,
상기 도전성 커버(51)의 중심선과 상기 외측유전체관(30)의 중심선이 일치하도록 설치되어, 상기 도전성 커버(51)의 내주면과 상기 외측유전체관(30)의 외주면과의 거리가 둘레를 따라 일정한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치According to claim 1,
The cooling water supply member 50,
It includes a cylindrical conductive cover 51 in contact with the cooling water flowing in the interior and surrounding the outer dielectric tube 30,
The counter electrode is the conductive cover 51,
The cooling water supplied to the inside of the inner dielectric tube 20 is supplied from the inside of the conductive cover 51,
The center line of the conductive cover 51 and the center line of the outer dielectric tube 30 are installed so that the distance between the inner circumferential surface of the conductive cover 51 and the outer circumferential surface of the outer dielectric tube 30 is constant along the circumference. Plasma generator characterized in that
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