KR20200026705A - Sheet comprising inline-laminated antistatic PMMA film and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

The present invention provides an antistatic sheet comprising a) a base layer of a transparent ABS resin, PMMA resin or impact-resistant PMMA resin; and b) an antistatic PMMA film laminated inline on both surfaces of the base layer. The antistatic sheet according to the present invention replaces a conventional polymer sheet on which an antistatic coating layer is formed, and is excellent in transparency and mechanical properties while having a very low range of a specific surface resistance value, and thus can be applied as packaging sheets of electronic parts such as semiconductor parts and especially of photomask storage cases, and also enables mass production due to a simple inline laminating process.

Description

인라인 라미네이팅 대전방지 PMMA 필름을 포함하는 시트 및 그 제조방법{Sheet comprising inline-laminated antistatic PMMA film and manufacturing method thereof}Sheet comprising inline-laminated antistatic PMMA film and manufacturing method

본 발명은 인라인 라미네이팅 대전방지 PMMA 필름을 포함하는 시트 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 투명 ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지의 기재층 위에, 인라인 라미네이팅에 의해 형성된 상하 대칭의 대전방지 PMMA 필름을 포함하는 시트 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a sheet comprising an in-line laminating antistatic PMMA film and a method of manufacturing the same, and more particularly, to anti-static symmetry of vertically formed on the base layer of the transparent ABS resin, PMMA resin or impact-resistant PMMA resin by in-line laminating A sheet containing a PMMA film and a method for producing the same.

일반적으로 반도체 클린룸 내 사용되는 소재들에서는 정전기적 방전 또는 인력 현상에 의한 장비 오작동 및 표면 오염 등의 문제가 발생할 수 있다. 즉, 반도체, 평판 디스플레이, 디스크 드라이브, 의료기구 산업의 많은 제조공정에서 사용되는 소재는 비전도체나 절연물질이 사용되는데, 이러한 소재들은 큰 전위의 전하를 띄거나 생성하여 운송과정에서 대기를 오염시키고 이렇게 오염된 물질들이 포토리소그래피, 코팅, 에칭 등의 공정에서 치명적인 영향을 미칠 수 있으므로 반도체 클린룸에서 사용되는 소재는 정전기를 발생시키지 않아야 한다.In general, materials used in semiconductor clean rooms may cause problems such as equipment malfunction and surface contamination caused by electrostatic discharge or attraction. In other words, materials used in many manufacturing processes in the semiconductor, flat panel display, disk drives, and medical device industries use non-conductors or insulating materials, which produce or discharge large potential charges and pollute the air during transportation. Since these contaminated materials can have a fatal effect in photolithography, coating, and etching processes, materials used in semiconductor clean rooms should not generate static electricity.

특히, 완성된 반도체부품의 보관 및 운반을 위한 케이스 등의 재료에는 대전방지 기능이 요구되는바, 이러한 대전방지 기능을 갖는 반도체부품 포장용 대전방지 포장재로서 필름 또는 시트는 절연체인 플라스틱 수지 기재 표면에 대전방지 필름을 압착하거나 하드 코팅 또는 인라인 코팅하는 방식 내지 플라스틱 수지 기재에 대전방지제를 혼입하는 방식을 채택하고 있다.In particular, an antistatic function is required for a material such as a case for storing and transporting a finished semiconductor component. As an antistatic packaging material for packaging a semiconductor component having such an antistatic function, the film or sheet is charged on the surface of the plastic resin substrate which is an insulator. The method of crimping, hard-coating, or inline-coating the prevention film to incorporating an antistatic agent into the plastic resin substrate is adopted.

그러나 상기 대전방지 필름을 압착하는 경우에는 필름 자체의 단가가 높음에도 다층으로 압착하여 생산하므로 투명성 및 접착성이 떨어지고 제조공정 상의 불량률이 높아 시트 자체의 단가가 상승하는 단점이 있으며, 한편 하드 코팅을 하는 경우에는 시트 생산 후 오프라인 공정이 추가로 진행됨으로써 단가 상승 및 전체공정이 지연되는 문제가 발생하고 시간이 지남에 따라 대전방지 기능이 크게 저하되는 현상이 나타날 수 있다. 또한, 인라인 코팅 공정을 채택하는 경우에도 수세척 이후 대전방지 기능이 급격히 떨어질 수 있는 단점이 알려져 있다.However, when the antistatic film is pressed, the film itself is pressed and produced in a multi-layer, even though the unit price of the film itself is high, resulting in a decrease in transparency and adhesiveness and a high defective rate in the manufacturing process. In this case, since the offline process is further performed after sheet production, a problem arises in that the unit cost increases and the entire process is delayed, and the antistatic function may deteriorate significantly over time. In addition, even when the in-line coating process is adopted, there is a known disadvantage that the antistatic function may drop sharply after washing.

한편, 상기 혼입방식으로서는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리비닐클로라이드, 폴리스티렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지 등의 전기 절연성이 뛰어난 절연소재에 카본 블랙 등의 대전방지제를 첨가하여 시트 형태로 성형한 대전방지 시트가 알려져 있으나, 카본 블랙의 분산성이 불균일한 경우에는 시트의 부위에 따라 대전방지 편차가 큰 문제가 발생할 수 있다. 또한, 고분자량 대전방지제로서 특정의 블록 공중합체를 수지 조성물에 혼입하여 성형함으로써 시트의 외관이나 투명성을 개선한 폴리올레핀계 수지 조성물이 공지된 바 있으나, 고분자량 대전방지제의 사용에 따른 시트 생산 원가의 상승이라는 새로운 문제가 있다.Meanwhile, as the mixing method, an antistatic sheet formed by adding an antistatic agent such as carbon black to an insulating material having excellent electrical insulation such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polystyrene, polyethylene terephthalate resin, and the like is known. In the case where the dispersibility of the carbon black is uneven, there may be a problem that the antistatic variation is large depending on the portion of the sheet. In addition, although a polyolefin resin composition has been known which improves the appearance and transparency of a sheet by incorporating a specific block copolymer into a resin composition as a high molecular weight antistatic agent, the cost of sheet production due to the use of a high molecular weight antistatic agent is known. There is a new problem of ascension.

따라서 본 발명자는 투명 ABS(아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체) 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지를 기재층으로 하고, PMMA 대전방지 필름을 간단한 인라인 라미네이팅 공정에 의해 상기 기재층의 양 표면에 적층하면, 복잡한 별도의 코팅 및 건조공정 없이 반도체부품을 비롯한 전자부품 등의 포장용 시트로 응용할 수 있음에 착안하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다. Therefore, the inventors made transparent ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer) resin, PMMA resin or impact resistant PMMA resin as a base layer, and laminated the PMMA antistatic film on both surfaces of the base layer by a simple in-line laminating process. The present invention has been completed by focusing on the fact that the present invention can be applied to packaging sheets such as electronic parts, including semiconductor parts, without complicated separate coating and drying processes.

특허문헌 1. 등록특허공보 제10-0650152호Patent Document 1. Registered Patent Publication No. 10-0650152 특허문헌 2. 공개특허공보 제10-2005-0053355호Patent Document 2. Publication No. 10-2005-0053355 특허문헌 3. 공개특허공보 제10-2012-0101592호Patent Document 3. Publication No. 10-2012-0101592

따라서 본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 간단한 인라인 라미네이팅 공정에 의해 투명 ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지의 기재층 위에 상하 대칭의 대전방지 PMMA 필름이 적층된 시트 및 그 제조방법을 제공하고, 이를 반도체부품을 비롯한 전자부품 등의 포장용 시트로 응용하고자 하는 것이다.Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a vertical anti-symmetric antistatic PMMA film laminated on a base layer of transparent ABS resin, PMMA resin or impact resistant PMMA resin by a simple inline laminating process. To provide a sheet and a method of manufacturing the same, and to apply it as a packaging sheet for electronic components, such as semiconductor components.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 a) 투명 ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지의 기재층; 및 b) 상기 기재층의 양쪽 표면에 인라인 라미네이트된 대전방지 PMMA 필름;을 포함하는 대전방지 시트를 제공한다.The present invention for achieving the above object is a) a base layer of a transparent ABS resin, PMMA resin or impact-resistant PMMA resin; And b) an antistatic PMMA film in-line laminated on both surfaces of the substrate layer.

상기 b)의 대전방지 PMMA 필름은 PMMA 수지 75~85 중량% 및 대전방지제 15~25 중량%로 이루어진 마스터 배치를 사출성형한 것을 특징으로 한다.The antistatic PMMA film of b) is characterized in that the injection molding a master batch consisting of 75 to 85% by weight PMMA resin and 15 to 25% by weight of the antistatic agent.

상기 대전방지제는 무기계 또는 유기계 화합물인 것을 특징으로 한다.The antistatic agent is characterized in that the inorganic or organic compound.

상기 무기계 화합물은 ZnO, ZnSb2O6, InSbO4, TiO2, ZrO2, SnO2, Sb2O3, Sb2O5, Al2O3, In2O3, SiO2, MgO, BaO, MoO3, BaSO4, SrSO4, MgSO4, MgCO3 및 CaCO3로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 것을 특징으로 한다.The inorganic compound may be ZnO, ZnSb 2 O 6 , InSbO 4 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , BaSO 4 , SrSO 4 , MgSO 4 , MgCO 3 And CaCO 3 It is characterized by one or more selected from the group consisting of.

상기 유기계 화합물은 비이온계, 음이온계, 양이온계 또는 양성이온계 계면활성제 또는 전도성 고분자인 것을 특징으로 한다. The organic compound may be a nonionic, anionic, cationic or zwitterionic surfactant or a conductive polymer.

상기 대전방지 시트는 전자부품의 포장용인 것을 특징으로 한다.The antistatic sheet is characterized in that for packaging of electronic components.

또한, 본 발명은 I) 투명 ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지를 압출기에 공급 및 용융·혼련하고 압출함으로써 기재층 시트를 형성하는 단계; 및 II) 상기 기재층 시트를 인라인 라미네이팅 장치로 이송하여 상기 기채층 시트의 양쪽 표면에 순차적으로 대전방지 PMMA 필름을 인라인 라미네이팅 시키는 단계;를 포함하는 대전방지 시트의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention comprises the steps of: I) supplying a transparent ABS resin, PMMA resin or impact-resistant PMMA resin to the extruder to melt, kneading and extruding to form a base layer sheet; And II) transferring the base layer sheet to an inline laminating apparatus to sequentially perform an inline lamination of an antistatic PMMA film on both surfaces of the base layer sheet.

본 발명에 따른 대전방지 시트는 종래 대전방지 코팅층이 형성된 고분자 시트를 대체하여, 투명성 및 기계적 물성이 우수하면서도 표면고유저항 값이 매우 낮은 범위로서 대전방지성이 뛰어나 반도체부품을 비롯한 전자부품, 특히 포토마스크 보관용 케이스 등의 포장용 시트로 응용할 수 있을 뿐만 아니라, 간단한 인라인 라미네이팅 공정으로 인하여 대량생산이 가능하다.The antistatic sheet according to the present invention replaces the polymer sheet having a conventional antistatic coating layer, and has excellent transparency and mechanical properties, and has a very low surface specific resistance value, and has excellent antistatic properties. Not only can be applied as a packing sheet such as a mask storage case, but also mass production is possible due to a simple in-line laminating process.

도 1은 본 발명에 따른 대전방지 시트의 단면도.1 is a cross-sectional view of the antistatic sheet according to the present invention.

이하에서는 본 발명에 따른 인라인 라미네이팅 대전방지 PMMA 필름을 포함하는 시트 및 그 제조방법에 관하여 첨부된 도면과 함께 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a sheet including an inline laminating antistatic PMMA film according to the present invention and a manufacturing method thereof will be described in detail with the accompanying drawings.

본 발명에서는 a) 투명 ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지의 기재층; 및 b) 상기 기재층의 양쪽 표면에 인라인 라미네이트된 대전방지 PMMA 필름;을 포함하는 대전방지 시트를 제공한다.In the present invention, a) a base layer of a transparent ABS resin, PMMA resin or impact-resistant PMMA resin; And b) an antistatic PMMA film in-line laminated on both surfaces of the substrate layer.

상기 기재층을 이루는 소재로서는 투명 ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지를 사용할 수 있는바, ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지는 기계적 물성이 양호하여 복층 구조의 시트에서 기재층으로 적절하다. 특히, 투명한 상태의 ABS 수지 또는 PMMA 수지를 사용하는 것은 반도체부품을 비롯한 전자부품 등의 포장용 시트에 적용 시 수용된 부품을 육안으로 확인할 수 있어 바람직하다.Transparent ABS resin, PMMA resin or impact-resistant PMMA resin can be used as a material for forming the substrate layer. ABS resin, PMMA resin or impact-resistant PMMA resin has good mechanical properties and is suitable as a substrate layer in a multilayer structure sheet. In particular, the use of ABS resin or PMMA resin in a transparent state is preferable because it can visually identify the parts accommodated when applied to packaging sheets such as electronic parts and the like.

도 1에 나타낸 대전방지 시트의 단면도에서 보는 바와 같이, 본 발명에 따른 대전방지 시트(100)의 기재층(10)을 구성하는 고분자 소재로서는 투명 ABS(아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌) 수지를 사용할 수 있는바, 일반적으로 ABS 수지는 아크릴로니트릴의 내약품성, 부타디엔의 내충격성 및 스티렌의 우수한 가공성을 보유한 공중합체로서 가구 또는 욕조 등의 소재로 많이 사용되고 있다.As shown in the cross-sectional view of the antistatic sheet shown in Fig. 1, a transparent ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene) resin is used as the polymer material constituting the base material layer 10 of the antistatic sheet 100 according to the present invention. Generally, ABS resin is a copolymer having chemical resistance of acrylonitrile, impact resistance of butadiene and excellent processability of styrene, and is widely used as a material for furniture or a bath.

이러한 ABS 수지는 부타디엔 고무 중합체에 아크릴로니트릴 단량체 및 스티렌 단량체가 그라프트 되어 있는 공중합체의 구조를 갖는 것으로서, 공중합체의 용도를 고려하여 공중합체를 제조할 때 아크릴로니트릴, 부타디엔 및 스티렌 단량체의 비율을 적절하게 조절할 수 있으나, 본 발명에서는 ABS 수지로서 아크릴로니트릴 단량체 15~35 중량%, 부타디엔 고무 5~30 중량% 및 스티렌 단량체 40~60 중량%를 포함하는 것을 바람직하게 사용한다.The ABS resin has a structure of a copolymer in which an acrylonitrile monomer and a styrene monomer are grafted to a butadiene rubber polymer, and when the copolymer is prepared in consideration of the use of the copolymer, an acrylonitrile, butadiene and styrene monomer may be used. Although the ratio can be appropriately adjusted, the present invention preferably uses 15 to 35% by weight of acrylonitrile monomer, 5 to 30% by weight of butadiene rubber and 40 to 60% by weight of styrene monomer as the ABS resin.

상기 ABS 수지를 구성하는 아크릴로니트릴 단량체의 함량이 15 중량% 미만이면 내약품성이 저하될 수 있고, 35 중량%를 초과하면 성형과정에서 열변색이 발생할 수 있다. 또한, 부타디엔 고무의 함량이 5 중량% 미만이면 충격강도가 떨어지고, 30 중량%를 초과하면 열안정성이 저하될 수 있다. 아울러 스티렌 단량체의 함량이 40 중량% 미만이면 가공성이 떨어지며, 60 중량%를 초과하면 내약품성이 저하되는 단점이 있다.When the content of the acrylonitrile monomer constituting the ABS resin is less than 15% by weight, the chemical resistance may be lowered. When the content of the acrylonitrile monomer is less than 15% by weight, thermal discoloration may occur during the molding process. In addition, when the content of butadiene rubber is less than 5% by weight, the impact strength is lowered, and when it exceeds 30% by weight, the thermal stability may be lowered. In addition, if the content of the styrene monomer is less than 40% by weight, the workability is inferior, and if it exceeds 60% by weight, there is a disadvantage that the chemical resistance is lowered.

아울러 상기 부타디엔 고무는 평균 입경이 0.05~0.5㎛인 것이 바람직한바, 부타디엔 고무의 평균 입경이 0.05㎛ 미만이면 내충격성이 떨어질 수 있고, 0.5㎛를 초과하면 부타디엔 고무 중합체 사슬에 아크릴로니트릴 단량체 및 스티렌 단량체가 그라프트 되는 정도가 낮아져 공중합체의 분자량이 감소할 수 있다.In addition, the butadiene rubber is preferably an average particle diameter of 0.05 ~ 0.5㎛ bar butadiene rubber may have a low impact resistance when the average particle diameter is less than 0.05㎛, if exceeding 0.5㎛ acrylonitrile monomer and styrene in the butadiene rubber polymer chain The degree to which the monomer is grafted is lowered, thereby reducing the molecular weight of the copolymer.

한편, 본 발명에 따른 대전방지 시트(100)의 기재층(10)을 구성하는 고분자 소재로서 PMMA 수지를 사용할 수도 있는바, 상기 PMMA 수지는 PMMA 고유의 물성을 그대로 갖고 있는 것으로서 기타 성분에 의하여 물성이 개질 되지 않은 상태의 것을 말한다. PMMA 수지는 투명성, 광택 및 성형가공성이 우수하여 플라스틱 제품의 소재로서 널리 이용되는데, 특히 내후성 및 내스크래치성을 가지므로 자외선에 잘 적응하여 쉽게 변색되지 않으며, 외부 자극의 긁힘에 대하여도 잘 견디는 성질을 갖고 있어 본 발명에 따른 대전방지 시트(100)의 기재층(10)에 사용되는 재료로서 적합하다.On the other hand, PMMA resin can also be used as the polymer material constituting the base layer 10 of the antistatic sheet 100 according to the present invention, the PMMA resin has the physical properties of PMMA intact as it is by other components This says that it is in an unmodified state. PMMA resin is widely used as a material for plastic products because of its excellent transparency, gloss, and molding processability. Especially, since it has weather resistance and scratch resistance, it is not easily discolored by being adapted to ultraviolet rays, and it is also resistant to scratches of external stimuli. It is suitable as a material used for the base material layer 10 of the antistatic sheet 100 which concerns on this invention.

또한, 본 발명에 따른 대전방지 시트(100)의 기재층(10)을 구성하는 고분자 소재로서 내충격 PMMA 수지를 사용할 수도 있는바, 내충격 PMMA 수지로서는 수지 내 PMMA 블록을 가지면서 고무상의 수지 성분이 함유되는 것으로 공중합체 또는 블렌드 형태의 것을 사용할 수 있다. 공중합체 형태의 것에는 MMA(메틸메타크릴레이트) 단량체와 에틸아크릴에이트 또는 부틸아크릴레이트 단량체의 공중합체 수지로서 PMMA 블록에 폴리아크릴레이트와 같은 아크릴 고무 블록이 혼성된 공중합체 수지를 바람직하게 사용할 수 있다. 한편, 블렌드 형태의 것에는 PMMA 수지와 MBS(메틸메타크릴레이트-부타디엔-스티렌) 수지, MABS(메틸메타크릴레이트-아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌) 수지, SBC(열가소성 스티렌 블록공중합체) 수지 또는 ABS(아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌) 수지의 블렌드 수지를 바람직하게 사용할 수 있고, 특히 PMMA 수지와 MBS 수지의 블렌드인 PMMA-MBS 수지를 사용하는 것이 더욱 바람직하다.Further, the impact-resistant PMMA resin may be used as the polymer material constituting the base layer 10 of the antistatic sheet 100 according to the present invention. The impact-resistant PMMA resin contains a rubbery resin component while having a PMMA block in the resin. It may be used in the form of a copolymer or blend. As the copolymer type, a copolymer resin of an MMA (methyl methacrylate) monomer and an ethyl acrylate or butyl acrylate monomer is preferably a copolymer resin in which an acrylic rubber block such as polyacrylate is mixed in a PMMA block. have. Blend forms include PMMA resins and MBS (methyl methacrylate-butadiene-styrene) resins, MABS (methyl methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene) resins, SBC (thermoplastic styrene block copolymer) resins, or The blend resin of ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene) resin can be used preferably, It is more preferable to use PMMA-MBS resin which is especially a blend of PMMA resin and MBS resin.

또한, 본 발명에 따른 대전방지 시트(100)는 상술한 기재층(10)의 양쪽 표면에 인라인 라미네이트된 대전방지 PMMA 필름(20, 30)을 포함하는바, 상기 대전방지 PMMA 필름은 PMMA 수지 75~85 중량% 및 대전방지제 15~25 중량%로 이루어진 마스터 배치를 사출성형하여 제조한 것을 사용하는 것이 바람직하다. In addition, the antistatic sheet 100 according to the present invention includes an antistatic PMMA film 20, 30 laminated inline on both surfaces of the substrate layer 10 described above, the antistatic PMMA film is a PMMA resin 75 Preference is given to using those produced by injection molding a master batch consisting of ˜85% by weight and an antistatic agent of 15-25% by weight.

상기 대전방지 PMMA 필름을 구성하는 대전방지제의 함량이 25 중량%를 초과하는 경우에는 마스터 배치를 얻는 과정에서 원료 수지인 PMMA 수지와의 분산성이 떨어져 사출성형 후 균일한 필름을 얻기 어렵고 과량의 대전방지제 사용에 따라 투명도가 저하될 우려가 있으며, 대전방지제의 함량이 15 중량% 미만인 경우에는 대전방지 특성이 떨어질 수 있다.When the content of the antistatic agent constituting the antistatic PMMA film is more than 25% by weight, it is difficult to obtain a uniform film after injection molding because the dispersibility with the raw material PMMA resin is poor in the process of obtaining a master batch, and the excessive charge Transparency may decrease depending on the use of the inhibitor, and when the content of the antistatic agent is less than 15% by weight, the antistatic property may be deteriorated.

이때, 상기 대전방지제로서는 무기계 또는 유기계 화합물인 것을 사용할 수 있는바, 상기 무기계 화합물은 결정성 금속 산화물 또는 미세한 분말상의 ZnO, ZnSb2O6, InSbO4, TiO2, ZrO2, SnO2, Sb2O3, Sb2O5, Al2O3, In2O3, SiO2, MgO, BaO, MoO3, BaSO4, SrSO4, MgSO4, MgCO3 및 CaCO3로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 것일 수 있다.In this case, as the antistatic agent, an inorganic or organic compound may be used. The inorganic compound may be a crystalline metal oxide or a fine powdery ZnO, ZnSb 2 O 6 , InSbO 4 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , Sb 2 At least one selected from the group consisting of O 3 , Sb 2 O 5 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , BaSO 4 , SrSO 4 , MgSO 4 , MgCO 3 and CaCO 3 It may be.

또한, 상기 유기계 화합물은 비이온계, 음이온계, 양이온계 또는 양성이온계 계면활성제를 사용할 수 있는바, 에톡실화 알킬아민, 글리세린 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르 또는 알킬 에탄올 아미드 등의 비이온계 계면활성제, 또는 알킬술폰산염, 알킬인산염 또는 알킬벤젠술폰산염 등의 음이온계 계면활성제, 또는 테트라알킬암모늄염 또는 트리알킬벤질암모늄염 등의 양이온계 계면활성제, 또는 알킬베타인, 알킬알라닌 또는 이미다졸린 등의 양성이온계 계면활성제를 사용할 수 있으며, 특히 투명도를 고려하여 바람직하게 선택할 수 있다.In addition, the organic compound may be a nonionic, anionic, cationic or zwitterionic surfactant, such as nonionic interfaces such as ethoxylated alkylamines, glycerin fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters or alkyl ethanol amides. Active agents or anionic surfactants such as alkylsulfonates, alkylphosphates or alkylbenzenesulfonates, or cationic surfactants such as tetraalkylammonium salts or trialkylbenzyl ammonium salts, or alkylbetaines, alkylalanine or imidazolines Zwitterionic surfactants can be used, and in particular, the transparency can be selected in consideration of transparency.

아울러 상기 유기계 화합물로서 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리티오펜 또는 PEDOT[폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)]과 같은 전도성 고분자를 사용하여도 좋다.In addition, a conductive polymer such as polyaniline, polypyrrole, polythiophene or PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)) may be used as the organic compound.

또한, 본 발명은 I) 투명 ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지를 압출기에 공급 및 용융·혼련하고 압출함으로써 기재층 시트를 형성하는 단계; 및 II) 상기 기재층 시트를 인라인 라미네이팅 장치로 이송하여 상기 기채층 시트의 양쪽 표면에 순차적으로 대전방지 PMMA 필름을 인라인 라미네이팅 시키는 단계;를 포함하는 대전방지 시트의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention comprises the steps of: I) supplying a transparent ABS resin, PMMA resin or impact-resistant PMMA resin to the extruder to melt, kneading and extruding to form a base layer sheet; And II) transferring the base layer sheet to an inline laminating apparatus to sequentially perform an inline lamination of an antistatic PMMA film on both surfaces of the base layer sheet.

먼저, 본 발명에서와 같이 투명 ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지와 같은 열가소성 수지를 원료로 하여 평판 시트를 제조하는 데에는 일반적으로 사출성형, 압출성형, 압축성형 등 공지의 성형방법을 모두 이용할 수 있는데, 상기 I) 단계에서는 공지의 압출성형 방법을 더욱 바람직하게 이용한다. First, in order to prepare a flat sheet using a thermoplastic resin such as a transparent ABS resin, a PMMA resin, or an impact-resistant PMMA resin, as in the present invention, all known molding methods such as injection molding, extrusion molding and compression molding can be generally used. In the step I), a known extrusion molding method is more preferably used.

한편, 열가소성 수지의 대전방지 처리에 의하여 대전방지 효과를 얻기 위해서는, 대전방지제를 성형 전의 열가소성 수지 조성물에 첨가하여 압출 또는 사출 성형함으로써 열가소성 수지의 내부에 대전방지제를 혼입하거나, 또는 성형 후 열가소성 수지 제품의 표면에 대전방지제를 도포할 수도 있다. 전자는 대전방지제가 열가소성 수지 제품의 내부에 혼입되어 있어 대전방지 효과가 지속적인 반면, 후자는 열가소성 수지 제품의 표면에 대전방지제가 도포되어 있으므로 마찰 또는 세척 등에 의하여 시간이 지남에 따라 대전방지 효과가 약해질 수 있고, 대전방지제의 복잡한 코팅 및 건조공정이 수반되어 생산원가의 상승이라는 단점이 있다.On the other hand, in order to obtain an antistatic effect by the antistatic treatment of the thermoplastic resin, by adding an antistatic agent to the thermoplastic resin composition before molding and extruding or injection molding, the antistatic agent is mixed into the thermoplastic resin, or after molding the thermoplastic resin product It is also possible to apply an antistatic agent to the surface of the. The former has an antistatic effect because the antistatic agent is incorporated into the thermoplastic resin product, while the latter has an antistatic agent applied to the surface of the thermoplastic product, and thus the antistatic effect is weak with time due to friction or washing. There is a disadvantage that the production cost can be increased, accompanied by complicated coating and drying process of the antistatic agent.

따라서 본 발명에서는 상기 I) 단계에서 형성된 기재층 시트를 인라인 라미네이팅 장치로 이송하여 간단한 인라인 라미네이팅 공정에 의하여 상기 기채층 시트의 양쪽 표면에 순차적으로 대전방지 PMMA 필름을 인라인 라미네이팅 시킴으로써 지속적인 대전방지 효과를 거둘 수 있는바, 상술한 본 발명의 제조방법에 따라 얻어지는 대전방지 시트(100)는 표면고유저항 값이 매우 낮은 범위로서 반도체부품을 비롯한 전자부품 등의 포장용 시트로 응용할 수 있다.Therefore, in the present invention, the substrate layer sheet formed in step I) is transferred to an inline laminating apparatus to achieve continuous antistatic effect by sequentially inline laminating antistatic PMMA films on both surfaces of the base layer sheet by a simple inline laminating process. As can be seen, the antistatic sheet 100 obtained according to the manufacturing method of the present invention described above can be applied to packaging sheets, such as electronic components, such as semiconductor components in a very low surface specific resistance value range.

이하 구체적인 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, specific embodiments will be described in detail.

(실시예 1)(Example 1)

투명 ABS 수지 펠렛 100kg을 압출기의 호퍼부에 공급 및 용융·혼련하고 압출함으로써 시트(기재층)를 형성하였다. 한편으로, PMMA 수지 80 중량% 및 대전방지제 20 중량%로 이루어진 마스터 배치를 사출성형하여 대전방지 PMMA 필름을 얻었다. 이어서, 상기 형성된 시트를 인라인 라미네이팅 장치로 이송하고, 상기 시트의 양쪽 표면에 순차적으로 대전방지 PMMA 필름을 인라인 라미네이팅 시킴으로써 대전방지 시트(대전방지 PMMA 필름/투명 ABS 기재층/대전방지 PMMA 필름)를 제조하였다.A sheet (base layer) was formed by supplying 100 kg of transparent ABS resin pellets to the hopper of the extruder, melting and kneading them, and extruding them. On the other hand, a master batch consisting of 80% by weight of PMMA resin and 20% by weight of antistatic agent was injection molded to obtain an antistatic PMMA film. Subsequently, the formed sheet is transferred to an inline laminating apparatus, and an antistatic sheet (antistatic PMMA film / transparent ABS base layer / antistatic PMMA film) is produced by sequentially inline laminating an antistatic PMMA film on both surfaces of the sheet. It was.

(실시예 2)(Example 2)

시트(기재층)를 형성하기 위하여 PMMA 수지 펠렛을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 대전방지 시트(대전방지 PMMA 필름/PMMA 기재층/대전방지 PMMA 필름)를 제조하였다.An antistatic sheet (antistatic PMMA film / PMMA base layer / antistatic PMMA film) was prepared in the same manner as in Example 1 except that PMMA resin pellets were used to form a sheet (base layer).

(실시예 3)(Example 3)

시트(기재층)를 형성하기 위하여 내충격 PMMA 수지 펠렛을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 대전방지 시트(대전방지 PMMA 필름/내충격 PMMA 기재층/대전방지 PMMA 필름)를 제조하였다.An antistatic sheet (antistatic PMMA film / impact resistant PMMA base layer / antistatic PMMA film) was prepared in the same manner as in Example 1 except that impact resistant PMMA resin pellets were used to form a sheet (base layer).

(비교예 1)(Comparative Example 1)

PMMA 수지 70 중량% 및 대전방지제 30 중량%로 이루어진 마스터 배치를 사출성형하여 대전방지 PMMA 필름을 얻은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 대전방지 시트(대전방지 PMMA 필름/투명 ABS 기재층/대전방지 PMMA 필름)를 제조하였다.An antistatic sheet (antistatic PMMA film / transparent ABS substrate layer /) in the same manner as in Example 1, except that an antistatic PMMA film was obtained by injection molding a master batch consisting of 70% by weight of PMMA resin and 30% by weight of antistatic agent. Antistatic PMMA film).

(비교예 2)(Comparative Example 2)

PMMA 수지 90 중량% 및 대전방지제 10 중량%로 이루어진 마스터 배치를 사출성형하여 대전방지 PMMA 필름을 얻은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 대전방지 시트(대전방지 PMMA 필름/투명 ABS 기재층/대전방지 PMMA 필름)를 제조하였다.An antistatic sheet (antistatic PMMA film / transparent ABS substrate layer /) in the same manner as in Example 1, except that an antistatic PMMA film was obtained by injection molding a master batch consisting of 90% by weight of PMMA resin and 10% by weight of an antistatic agent. Antistatic PMMA film).

(시험예)(Test example)

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1, 2로부터 제조된 대전방지 시트의 전광선투과율(Tt) 및 헤이즈(Hz)는 ASTM D1003 방법에 따라 헤이즈미터를 이용하여 측정하였고, 표면고유저항은 JIS K6911 방법에 따라 UPMCP-HT450을 이용하여 인가전압 500V에서의 표면고유저항 값(시트 제조 직후 및 1년 후의 것)을 측정하였다.Total light transmittance (Tt) and haze (Hz) of the antistatic sheets prepared from Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were measured using a haze meter according to ASTM D1003 method, and surface specific resistance was JIS K6911 method. According to the UPMCP-HT450, the surface intrinsic resistance value at the applied voltage of 500V (after the sheet manufacturing and after one year) was measured.

하기 [표 1]에 상기 시험예로부터 측정된 전광선투과율(Tt), 헤이즈(Hz) 및 표면고유저항 값을 나타내었다.Table 1 shows the total light transmittance (Tt), haze (Hz) and surface specific resistance values measured from the test examples.

샘플Sample Tt(%)Tt (%) Hz(%)Hz (%) 표면고유저항(Ω/cm)Surface specific resistance (Ω / cm) 시트 제조 직후Immediately after sheet manufacturing 1년 후1 year later 실시예 1Example 1 85.085.0 10.010.0 1.1 x 107 1.1 x 10 7 1.2 x 107 1.2 x 10 7 실시예 2Example 2 87.187.1 11.211.2 1.0 x 107 1.0 x 10 7 1.1 x 107 1.1 x 10 7 실시예 3Example 3 84.584.5 12.112.1 1.1 x 107 1.1 x 10 7 1.2 x 107 1.2 x 10 7 비교예 1Comparative Example 1 80.280.2 14.114.1 1.2 x 107 1.2 x 10 7 1.5 x 107 1.5 x 10 7 비교예 2Comparative Example 2 84.584.5 11.511.5 1.3 x 108 1.3 x 10 8 1.5 x 108 1.5 x 10 8

상기 [표 1]에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따라 제조된 실시예 1 내지 3의 대전방지 시트는 투명도가 우수하면서도 표면고유저항 값이 107 오더를 나타내어 종래 통상의 대전방지 시트에서 보이는 109 내지 1010 오더의 표면고유저항 값에 비하여 현저하게 낮아 대전방지 성능이 탁월함을 확인할 수 있다(심지어 대전방지제 함량에서만 실시예 1과 상이한 비교예 1, 2의 경우에도 인라인 라미네이트된 대전방지 PMMA 필름이 형성되기 때문에 대전방지 성능에서는 종래 통상의 대전방지 시트보다 우수하다). As can be seen in Table 1, the antistatic sheet of Examples 1 to 3 manufactured according to the present invention exhibits excellent transparency and a surface intrinsic resistance value of 10 7 , which is seen in conventional conventional antistatic sheets. It can be confirmed that the antistatic performance is excellent compared to the surface intrinsic resistance value of the order of 10 9 to 10 10 (excellent antistatic performance even in Comparative Examples 1 and 2 different from Example 1 only in the antistatic agent content Since the film is formed, the antistatic performance is superior to the conventional antistatic sheet).

게다가 1년이 경과한 후에도 표면고유저항 값에 거의 변화가 없어 장시간 경과 후에도 대전방지 효과가 그대로 유지됨으로써 장기간 안정적으로 사용할 수 있으며, 통상의 반도체부품을 비롯한 전자부품 등의 포장용 시트에 요구되는 표면고유저항 값이 매우 낮은 범위를 유지하는 것으로 확인되었다.In addition, even after one year has elapsed, the surface intrinsic resistance is almost unchanged, and thus the antistatic effect is maintained even after a long time, so that it can be used stably for a long time. It was found that the resistance value remained in a very low range.

그러므로 본 발명에 따른 대전방지 시트는 종래 대전방지 코팅층이 형성된 고분자 시트를 대체하여, 투명성 및 기계적 물성이 우수하면서도 표면고유저항 값이 매우 낮은 범위로서 대전방지성이 뛰어나 반도체부품을 비롯한 전자부품, 특히 포토마스크 보관용 케이스 등의 포장용 시트로 응용할 수 있을 뿐만 아니라, 간단한 인라인 라미네이팅 공정으로 인하여 대량생산이 가능하다.Therefore, the antistatic sheet according to the present invention replaces the polymer sheet having a conventional antistatic coating layer, and has excellent transparency and mechanical properties and a very low surface intrinsic resistance value. Not only can be applied as a packing sheet such as a photomask storage case, but also mass production is possible due to a simple in-line laminating process.

10. 기재층
20(30). 인라인 라미네이트된 대전방지 PMMA 필름
100. 대전방지 시트
10. Base layer
20 (30). In-line Laminated Antistatic PMMA Film
100. Antistatic Sheet

Claims (7)

a) 투명 ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지의 기재층; 및
b) 상기 기재층의 양쪽 표면에 인라인 라미네이트된 대전방지 PMMA 필름;을 포함하는 대전방지 시트.
a) a base layer of transparent ABS resin, PMMA resin or impact resistant PMMA resin; And
b) an antistatic PMMA film in-line laminated on both surfaces of the substrate layer.
제1항에 있어서, 상기 b)의 대전방지 PMMA 필름은 PMMA 수지 75~85 중량% 및 대전방지제 15~25 중량%로 이루어진 마스터 배치를 사출성형한 것을 특징으로 하는 대전방지 시트.[Claim 2] The antistatic sheet according to claim 1, wherein the antistatic PMMA film of b) is injection molded into a master batch consisting of 75 to 85 wt% of the PMMA resin and 15 to 25 wt% of the antistatic agent. 제2항에 있어서, 상기 대전방지제는 무기계 또는 유기계 화합물인 것을 특징으로 하는 대전방지 시트.The antistatic sheet according to claim 2, wherein the antistatic agent is an inorganic or organic compound. 제3항에 있어서, 상기 무기계 화합물은 ZnO, ZnSb2O6, InSbO4, TiO2, ZrO2, SnO2, Sb2O3, Sb2O5, Al2O3, In2O3, SiO2, MgO, BaO, MoO3, BaSO4, SrSO4, MgSO4, MgCO3 및 CaCO3로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 것을 특징으로 하는 대전방지 시트.The method of claim 3, wherein the inorganic compound is ZnO, ZnSb 2 O 6 , InSbO 4 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , BaSO 4 , SrSO 4 , MgSO 4 , MgCO 3 and at least one member selected from the group consisting of CaCO 3 antistatic sheet. 제3항에 있어서, 상기 유기계 화합물은 비이온계, 음이온계, 양이온계 또는 양성이온계 계면활성제 또는 전도성 고분자인 것을 특징으로 하는 대전방지 시트.The antistatic sheet according to claim 3, wherein the organic compound is a nonionic, anionic, cationic or zwitterionic surfactant or a conductive polymer. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 대전방지 시트는 전자부품의 포장용인 것을 특징으로 하는 대전방지 시트.The antistatic sheet according to any one of claims 1 to 5, wherein the antistatic sheet is for packaging electronic components. I) 투명 ABS 수지, PMMA 수지 또는 내충격 PMMA 수지를 압출기에 공급 및 용융·혼련하고 압출함으로써 기재층 시트를 형성하는 단계; 및
II) 상기 기재층 시트를 인라인 라미네이팅 장치로 이송하여 상기 기채층 시트의 양쪽 표면에 순차적으로 대전방지 PMMA 필름을 인라인 라미네이팅 시키는 단계;를 포함하는 대전방지 시트의 제조방법.
I) forming a base layer sheet by feeding, melting, kneading and extruding a transparent ABS resin, PMMA resin or impact resistant PMMA resin into an extruder; And
II) transferring the base layer sheet to an inline laminating device to sequentially in-line laminating the antistatic PMMA film on both surfaces of the base layer sheet.
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