KR20200016357A - 각막 문신을 준비하고 수행하는 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 환자의 눈(3)의 각막(22)의 외과적 문신을 준비하기 위한 치료 장치(1)에 대한 제어 데이터를 결정하기 위한 계획 장치(P)와, 눈(3)의 각막(22)의 외과적 문신에 관한 제어 데이터를 준비 및 생성하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 목적은, 미용적 관점에서 자연 홍채와 거의 구별할 수 없고, 의학적 관점에서 각막(22)에 거의 부작용이 없으면서 자연 홍채의 최대한 많은 기능들을 충족시킬 수 있는 인공 홍채를 제공하기 위하여 각막 문신을 준비하고 실행하는 장치 및 방법을 기술하는 것이다. 이러한 목적은, 도입된 측정 데이터 및 기능적 데이터에 기초하여, 각막(22) 내에 위치되고 내부 직경을 갖는 전체적으로 원형인 내부 에지(15) 및 외부 직경을 갖는 전체적으로 원형인 외부 에지(16)에 의해 제한되는 전체적으로 환형인 표면(32)을 한정하고, 환형 표면(32)은 각막(23)의 표면에 대해 거리 및 경사를 가지며, 환형 표면(32)에 대해, 천공 구역들(4)이 부분적으로 또는 완전이 중첩되는 각막(22)의 목표 지점들(6)의 패턴을 한정하는 레이저 장치(L)의 제어를 위한 제어 데이터 세트를 생성하며, 펄스된 레이저 빔(2)을 인가함으로써 각막의 조직이 절단되고 환형 표면(32)의 외부 에지(16)는 홍채(14)의 외부 에지에 대해 일정한 거리를 갖는, 해당 장치 및 방법에 의해 달성된다.

Description

각막 문신을 준비하고 수행하는 장치 및 방법
본 발명은 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치에 대한 제어 데이터를 결정하기 위한 계획 장치, 대응하는 치료 장치, 및 눈의 각막의 외과적 문신을 위한 방법들 뿐만 아니라 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 위한 치료 장치에 대한 제어 데이터를 준비 및 생성하는 방법에 관한 것이다.
홍채는 인간의 눈 전방 부분에 있는 해부학적 구조이다. 홍채의 가장 중요한 기능은 동공의 크기를 제어하는 것이다. 이러한 과정은 망막 상에 생성된 이미지의 밝기로 인해 무의식적으로 발생한다. 덜 알려진 기능은 동공의 크기가 또한 조절 반사(accommodation reflex) 동안 무의식적으로 감소하고, 조절(수정체의 곡률의 변화) 및 수렴에 의해 근거리 시력에 기여한다는 것이다. 또한, 인간 홍채는 개별적인 색과 구조를 가지므로, 미적 관점에서 매우 중요하다.
시력 과정에 대한 기능적 장애, 특히 눈부심 현상은 일반적으로 홍채의 정상적인 작동과 편차를 일으킨다. 홍채의 시각적 외관이 표준에서 벗어나거나 개별적인 미적(beauty) 이상은 고통을 유발할 수 있다.
수술 방법들로 인한 홍채의 변화는 눈 수술에서 가장 까다로운 목표들 중 하나이다. 이러한 절차들은 대부분 부상 후 재건, 기능적 및 미용적 교정 모두를 위해 종종 발생한다. 홍채의 수술은 일련의 의료적 위험들과 관련이 있으며 비교적 드물게 이루어지며, 대부분의 경우 합병증들의 관리가 가능한 광범위한 지식과 장비를 갖춘 전문 안과 의사들만이 수행한다.
홍채 수술은 각막에서 적절한 문신이 수행될 때, 많은 경우들에서, 피할 수 있다. 이를 위해, 각막의 수술 절차 동안, 상응하는 안료들이 각막 내에 도입된다. 이로써, 안료들에 의해 구성된 홍채에 둘러싸인 동공 내에서 각막이 형성된다. 이러한 각막 홍채는 기능적 및 미용적 관점 모두로부터 자연 홍채와 유사하다. 이의 미용적 외관은 정밀 관찰을 제외하고는 자연 홍채와 구별될 수 없다.
"종래의" 방법들은 Superficial Automated Keratopigmentation (SAK) (J. L. Alio 외, "Femtosecond-assisted keratopigmentation for functional and cosmetic restoration in essential irisatrophy", Br J Ophthalmol 2010 94: 245-249)라는 이름으로 Jorge L. Alio에 의해 사용 및 기재된 방법과 같은 각막 문신들에 대해 존재한다. 안료는 눈의 각막에 미세 천공 장치(Vissum Eye MP System, 미세천공 장치)로 도포된다. 이러한 방법은 종래의 문신 기술을 각막 문신의 성능에 맞게 조정하므로, 분명히 장인적이고 예술적인 측면들이 있다. 물론, 이는 의료 관점으로부터 보다 안전하고 효과적인 방법을 포함하지만, 미용 결과에 관한 예측 정확도는 외과의의 기술에 크게 좌우된다. 따라서 이러한 방법은 많은 사용자들이나 환자들에게 적합하지 않다.
불투명한 각막들에도 사용될 수 있는 유사한 방법이 Jin H. Park 외 (Jin H. Park 외, Int J Ophthalmol. 2015; 8(5): 928-932)에 의해 기재된다. 카본 블랙을 함유하는 현탁액 중의 염료가 사용되며, 이는 오토클레이브에서 먼저 멸균된다. 염료는 200 nm 크기의 카본 블랙 안료들을 함유한다. 외과용 현미경을 사용하여 관찰하는 동안, 상피를 제거하지 않고 상피 상 경로를 통해 주사기를 사용하여 염료가 전방 기질에 주사된다. 그 다음, 문신은 약 1 mm의 프리크들(pricks) 간의 거리들을 두고 통상적으로 수행되고, 직경이 약 1.5 내지 2 mm인 주입 표면이 각각의 프리크에 채워진다. 각 프리크 후, 생리 식염수 용액으로 헹굼이 수행된다. 프리크들의 수는 수술자가 각막에서 관찰하는 조건들의 요소에 따라 다르지만 30보다 크지는 않다. 각 프리크 시, 각막을 뚫지 않도록 매우 조심해야 한다. 수술 후에는 치료용 콘택트 렌즈를 먼저 눈에 착용해야 한다.
따라서, 본 발명의 목적은 인공 홍채를 생성하기 위해 각막 문신들을 준비 및 수행하기 위한 장치들 및 방법들을 기재하는 것이며, 이들은 위에서 언급한 문제들을 피하며, 자연 홍채와 거의 구별될 수 없고, 적은 부작용들과 함께 의학적 관점에서 자연 홍채에 의해 충족되는 최대 기능들의 수를 충족시키는 각막 내 인공 홍채를 생성할 수 있다.
본 발명은 청구항 1 및 종속항들에 의해 정의된다.
이러한 목적은, 예를 들어 문서 US 2014/0107631에 기재된 바와 같이, 각막 문신 방법의 자체 관행에 의해 발명자에 의해 달성된다: 첫 번째 단계에서, fs 레이저 시스템으로, 각막 내부에서 환형 절단이 이루어지며, 적어도 하나의 액세스 절단(절개)이 이루어진다. 여전히 존재하는 조직 브리지들은 수술 도구(예를 들어 플랩 리프터(flap lifter))를 사용하여 수동으로 분리되며, 이는 환형 절단부로의 절개를 통해 이러한 목적으로 도입된다. 다음으로, 적절한 안료를 갖는 염료의 액체 용액이 이렇게 준비된 환형 절단부에 도입된다. 안료들은 조직 내에 남아있으며, 영구적인 착색을 야기하며, 이는 나중에 헹굼에 의해 현재 이용가능한 염료들에 대해서만 부분적으로 가역적이다.
레이저 시스템으로 적어도 하나의 액세스 절단부가 이루어진다. 그러나, 현재, 2개의 액세스 절단부들이 일반적으로 이루어지며, 이는 환형 절단부의 전체 폭에 걸쳐 반경 방향으로 각막 표면을 향해 연장된다.
본 발명의 기초인 이러한 방법에서, VisuMax(Carl Zeiss Meditec에 의한 굴정 교정을 위한 펨토초 레이저를 갖는 치료 장치)의 ICR 옵션, 눈의 각막 내부에서 정밀한 절단들을 가능하게 하는 가능성이 환형 절단 표면을 생성하는 데 사용되므로, 궁극적으로 각막 내부에 환형 터널이 형성된다. 이러한 환형 절단 표면은 내부 직경 및 외부 직경뿐만 아니라 각막 내 그의 깊이 및 각막 표면에 대한 기울기를 특징으로 하는 거리를 특징으로 한다. 측방 포지셔닝은, 광학적 고려사항들을 고려하여, 각막 표면 상의 식별된 지점, 예를 들어 시각 축 또는 동공의 축의 통과 지점에서 중심 방식으로 발생한다.
환자의 눈의 각막 내에 미용 상의 이유들로 인공 홍채를 만들고 싶다면, 원하는 홍채 색상을 얻거나 의료 상의 이유들로 손상된 홍채의 작업을 가능한 한 완전히 대체하고 가능한 한 자연 홍채에 접근하려면, 일련의 조건들이 충족되어야 한다:
인간의 눈은 완벽하게 대칭적인 구조를 가지고 있지 않다: 예를 들어, 기술적으로 말하면 광 축이 없다. 눈의 다양한 광학 요소들은 여전히 서로에 대해 상당히 풀어지며, 완벽하게 둥글지 않으며, 즉, 정확한 회전 대칭이 없다. 현재까지, 문신이 만들어져야 하는 환형 절단 표면의 내부 에지 및 외부 에지는 여전히 완벽하게 원형으로 만들어졌다. 이는 눈을 정밀하게 볼 때 자연스러운 효과가 없다.
홍채는 특정 색상뿐만 아니라 특정 구조로 특징지어진다. 종래의 방법들은 임의의 균질한 채색만을 얻을 수 있게 하지만, 각막 문신 동안 자연 홍채의 채색의 미세한 구조를 모방할 수는 없다.
각막 문신은 자연스러운 홍채와 달리 움직일 수 없다. 그러나 특정 안과 검사들이나 치료들(예: 홍채절개술)은 눈의 뒤쪽 부분에 더 잘 접근하기 위해 자연 홍채의 이동성이 필요하다. 대부분의 경우, 이는 적절한 의약품(예: 아트로핀)을 사용하여 발생한다. 이러한 방법은 나중에 적절하게 실행될 수 없기 때문에, 각막 문신의 경우에는 불가능하며, 특히 홍채 절개술의 경우 문제가 된다.
액세스 절단부들은 현재 환형 절단부의 전체 폭에 걸쳐 반경 방향으로 연장된다. 따라서 이들은 수술 전 광학 구역 내에 위치하며, 각막 문신에 의해 만들어진 동공으로부터 반경방향 외측으로 출발한다. 따라서 이들은 수술 중에 동일한 감소된 수술 후 광학 영역에 닿는다.
인공 동공의 광학 작용이 요구되는 경우, 이러한 각막 동공은 현재 각막 인레이(예를 들어 AccuFocus의 KAMRZ)로 만들어진다. 이는 근거리 시력을 향상시키기 위해 수행되며, 매우 작은 가변되지 않는 동공을 사용하여 초점 범위를 확대한다. 사용된 주입물들은 제조가 매우 어렵고, 그들의 주입은 종종 각막의 대사 과정들에 상당한 영향을 미친다. 때로는 심각한 건강 위험들을 초래할 수 있다. 결과적으로 설명들은 얼마 후에 종종 필요하다.
기재된 목적은 본 발명에 따라, 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 준비하기 위한 치료 장치에 대한 제어 데이터를 결정하기 위해 계획 장치를 사용하여 달성된다. 이러한 계획 장치는 특히 수술될 눈의 파라미터들의 측정치들로부터 유도된 데이터 및 수술될 눈에 적용가능한 미용 또는 의료 기능들을 반영하는 기능적 데이터를 기초로 한다. 본 발명에서, 이러한 데이터 모두는 수술될 구역을 규정하고, 수술을 수행하는 레이저 장치를 제어하도록 고려된다.
수술될 목표 구역에 레이저 빔을 인가하는 것은 공지되어 있지만(예를 들어 US 2015/0305927에 개시되어 있지만) 본 발명의 것들과 동일한 구조적 및 기하학적 특성들을 따르는 목표 구역에는 인가되지 않으며, 또한 위에서 언급한 파라미터들을 기반으로 하지 않는다.
요컨대, 본 발명의 계획 장치는 규정된 바와 같이, 즉 치료 장치를 위해 의도된 환자에 연관된 의료 및 개인 현실을 고려하여 제어 데이터를 생성하도록 설계되고, 상기 치료 장치는 펄스된 레이저 빔을 방출함으로써 각막의 조직을 절단하는 레이저 장치를 포함한다.
그러한 치료 장치는 바람직하게는 펄스된 레이저 빔, 예를 들어, 펨토초 또는 피코 초 레이저 빔을 생성하기 위한 레이저 빔 소스, 각막에 레이저 펄스들을 포커싱하기 위한 렌즈, x-y 스캐닝 시스템 및 z 스캐닝 시스템, 및 레이저 빔 소스, 렌즈, 및 스캐닝 시스템들을 제어하는 제어 시스템을 포함한다. 레이저 빔은 각막 상의 패턴에서 발견된 목표 지점들에 초점을 맞춘다.
본 발명에 따르면, 계획 장치는 눈의 각막 문신에 의해 달성될 기능들에 대한 기능 데이터 및 눈의 파라미터들에 관한 측정 데이터를 도입하기 위한 인터페이스를 포함한다. 기능적 데이터는 각막의 외과적 문신을 사용하여 인공 홍채를 생산할 때, 어떤 미용적 및/또는 의학적 기능들 또는 파라미터들이 얻어져야 하는지 나타내며; 따라서, 이들은 나타낸 기능 데이터에서 추출된 기하학적 요구사항들 또는 기하학적 파라미터들도 포함한다.
계획 장치는, 도입된 측정 데이터 및 기능 데이터로부터, 각막 내부에 위치하며 내부 직경을 갖는 전체적으로 원형 내부 에지 및 외부 직경을 갖는 전체적으로 원형 외부 에지에 의해 제한되는 전체적으로 환형 표면을 형성하며, 내부 직경 및 외부 직경은 각막 표면 상의 식별된 위치 및/또는 식별된 구조에 위치되고, 환형 표면은 각막 표면에 대해 거리 및 경사를 갖는다. 전체적으로 환형인 표면은 편평하거나 구부러질 수 있다. 이러한 환형 표면은 방법이 끝난 후 문신된 표면, 즉 착색된 염료를 함유해야 한다.
계획 장치는 이러한 전체적으로 환형 표면에 대해 각막의 목표 지점들의 패턴을 결정하는 레이저 장치 제어를 위한 일련의 제어 데이터를 생성하며, 이들은 환형 표면에 위치되고, 제어 지점들의 세트에 따라 펄스된 레이저 빔을 인가한 후, 절단 표면의 형태로 환형 표면이 형성되도록 배열된다.
이러한 환형 표면은 각 목표 지점에서 펄스된 레이저 빔의 인가 동안 각막 조직이 분리되는 천공 구역을 포함한다. 따라서, 이러한 천공 구역은 레이저 빔의 포커싱 구역에서 펄스된 레이저의 광-분열 작용으로 인해 조직이 분리되는 구역이다. 이러한 구역을 집중된 작용 구역이라고도 한다. 인접한 표적 지점들의 천공 구역들은 부분적으로 또는 완전히 중첩 또는 교차할 수 있으며, 천공 구역들의 부분적 중첩 또는 교차는 이러한 구역들 사이에 조직 브리지들이 남아있음을 의미하며, 반면에 완전한 중첩 또는 교차는 어떠한 조직 브리지도 남기지 않아, 절단 표면이 큰 표면 영역을 완전히 통과하게 된다.
전체적으로 환형 표면의 외부 에지는 홍채의 외부 에지에 대해 거시적 관점으로부터 일정한 거리를 갖는다. 따라서, 외부 에지는 각막 마진을 기준으로 중앙에 중심이 위치한다. 홍채의 외부 에지에 대한 거리는 또한 0과 동일할 수 있다: 미용 측면의 경우, 최종 문신의 외부 에지와 홍채의 외부 에지 간의 거리를 대략 일정하게 유지하는 것이 중요하다. 이는, 절단부의 중심이 각막 마진에 대해 중앙에 위치하는 것이 바람직하고, 문신의 외부 에지와 홍채의 외부 에지 사이의 거리가 거시적인 의미에서 일정하게 유지되는 이유이며, 그러므로 외부 에지의 형상은 이상적인 원형과 상이할 수 있으며, 따라서 약간 타원형이다. 거시적인 의미에서 거리를 일정하게 유지한다는 것은, 외부 에지가 세밀한 미세 구조를 포함할 수 있다는 것을 의미하며, 그 거리는 홍채의 외부 에지에 대해 크게 변한다. 그러나, 평활 기능이 그 위에 중첩되면, 홍채의 (거시적인) 외부 에지에 대해 일정한 거리를 갖는 외부 에지의 구조를 초래한다.
이러한 측정은 관찰자의 눈에 시각적 강조를 유발하고 심미적 효과를 증가시킨다.
계획 장치에 의해 결정된 (전체적으로) 환형 표면은 유리하게는 펄스된 레이저 빔의 인가 후 착색된 염료를 흡수하도록 더욱 설계된다. 사용가능한 착색된 염료들(문신, 문신 염료)은, 예를 들어, Laboratoires BIOTIC Phocea(프랑스 마르세이유)의 BioChromaEyes®이다. 이들은 많은 색조들에서 사용가능하다. 환형 표면의 최적의 문신을 보장하기 위해, 환형 표면의 생성 및 따라서 각막의 목표 지점들의 패턴을 결정하는 레이저 장치의 제어를 위한 이들은 환형 표면에 위치되고, 제어 지점들의 세트에 따라 펄스된 레이저 빔을 인가한 후, 절단 표면의 형태로 환형 표면이 형성되도록 배열되는 모든 제어 데이터의 생성은 착색된 염료의 특성들, 보다 특히 생성된 환형 절단 표면에서의 그의 분포 특성들에 대해 적합하다.
일 설계에서, 펄스된 레이저 빔의 인가 동안 만들어진 천공 구역들은 환형 절단 표면의 추가 처리없이 착색된 염료들, 바람직하게는 액체 용액에서 착색된 미세입자들을 흡수할 수 있다. 또 다른 설계에서, 환형 표면에서, 환형 표면 위 및 아래의 조직 구역들의 완전한 분리는 먼저 천공 구역들 사이에 여전히 존재하는 조직 브리지들의 기계적 분리에 의해 수행된다. 세 번째 설계에서, 천공 구역들은 너무 강하게 교차하여 이러한 조직 구역들 사이에 조직 브리지가 남아있지 않는다. 수동 천공이 필요한 경우, 플랩 리프터와 같은 수술 도구를 사용하여 이를 수행할 수 있으며, 이는 예를 들어, 액세스 절단을 사용하여 도입된다.
바람직한 실시예에서, 계획 장치에 의해 결정된 (전체적으로) 환형 표면은, 펄스된 레이저 빔의 인가 후 환형 표면의 상이한 구역들에서 상이한 천공을 포함한다. 이러한 상이한 천공은 바람직하게는 환형 표면의 상이한 구역들에서 문신의 원하는 정도의 채색의 함수로서 결정된다.
조직의 채색은 천공 두께의 함수로서 발생하는 것으로 입증되었다. 천공이 덜된 절단 구역은, 치료 및 치유 후에 상이한 생상을 갖는, 조직의 층들을 서로 완전히 분리하기 위해, 수동 수술 중에, 레이처 처리 후에, 압설자(spatula)를 사용하여 보다 집중적인 치료를 요구한다. 그러므로 각막 절단들은 본 발명의 본 실시예의 레이저 장치를 사용하여 이루어지며, 따라서 절단부들의 천공이 상이한 구역들에서 상이하게 발생한다. 이는 각막 문신의 미세한 구조를 얻는 것을 가능하게 하며, 이는 관찰자의 눈에 특히 자연스럽게 보인다. 보다 구체적으로, 따라서 방사형 패턴 구조가 생성되어야 한다.
또 다른 실시예에서, 계획 장치에 의해 결정되는 (전체적으로) 환형의 표면 및 착생된 염료는, 펄스된 레이저 빔의 인가 후 및 착색된 염료의 흡수 후, 환형 표면으로 설계 및 생성되며, 환형 표면은 가시광 선의 흡수율이 50 % 이상, 바람직하게는 80 % 이상이다. 예를 들어, 포커싱된 레이저 빔의 목표 지점들의 패턴에 관한 것뿐만 아니라 레이저 자체의 파라미터들에 관한 환형 절단 표면은 사용된 착색된 염료에 적합하여, 원하는 흡수 효과가 가시 스펙트럼 범위에서 얻어진다.
또 다른 바람직한 실시예에서, 계획 장치에 의해 결정된 환형 표면은, 바람직하게는 환형 표면의 외부 에지 상에 위치된 여분의 구역(spared zone)을 포함하며; 여분의 구역은 바람직하게는 0.2 mm² 초과 및 바람직하게는 5 mm² 미만의 표면적을 가지며, 이상적으로는 원호형 에지를 포함한다. 치료용 레이저의 레이저 빔에 대한 자연 홍채의 접근성을 예방적으로 보장하기 위해, 그 단부에 필요한 구역이 절약되어 여분의 구역이 생성된다. 이러한 구역은 바람직하게는 전체적으로 환형 표면의 상단에 위치된다. 따라서, 홍채 절개술은 나중에 적절하게 수행될 수 있다.
각막 문신이 미용상의 이유들로 시력에 영향을 미치지 않으면서 생산되어야 하는 계획 장치의 한 설계에서, 상응하는 제어 데이터를 사용하여 계획 장치에 의해 생성된 환형 표면은 4 mm보다 큰 내부 직경을 갖는 내부 에지를 포함한다: 예컨대, 중심에서 벗어난 동공으로 인한 시각적 문제들을 방지하기 위해, 각막 절단부의 내부 에지의 크기는, 문신에 의해 형성된 홍채, 및 따라서 각막 동공이 시력에 영향을 주지 않도록 선택된다. 그러나, 이러한 타협은 결정된 시각적 효과가 획득되어야 할 때 문제가 된다.
·시각적 효과가 획득되어야 하고 인공 동공이 생성되지 않아야 하는 계획 장치의 대안적인 일 설계에서, 대응하는 제어 데이터를 사용하여 설계 장치에 의해 생성된 환형 표면은 내부 직경이 3 mm보다 작은 내부 에지를 갖는다.
· 사용 중에 가시광선의 바람직하게는 적어도 50 %의 흡수율을 유발하는 적절한 염료의 사용 동안, 추가 인공 동공의 형태로 광학 효과가 획득된다: 이러한 각막 동공은 초점 범위를 증가시킴으로써 시력을 증가시킨다. 상기 효과는 근거리 시력 개선을 위한 각막 인레이의 효과와 유사하다. 그러나, 이는 고정된 주입물을 포함하지 않지만, 부적절한 착색된 염료(따라서 액체 용액에서 발견되는 채색된 미립자들)로 구성된 문신을 포함하며, 이는 고체보다 눈의 각막 내부 신진대사에 적은 영향을 미친다. 본 발명의 이러한 실시예에서, 환형 절단 표면은, 이러한 환형 절단 표면의 내부 에지, 및 따라서, 각막 문신의 내부 에지가 착색된 염료의 도입 후에 전체적으로 둥근 형상을 갖도록, 레이저 장치에 의해 생성된다. 동공의 표면적은, 시력에 상응하는 효과를 얻기 위해, 7 mm² 미만을 나타낸다. 바람직하게는, 동공은 약 2 mm²의 표면적을 갖는다. 착색된 염료의 도입 후 각막 문신을 통한 가시광선의 흡수율은 바람직하게는 적어도 50 %, 보다 바람직하게는 적어도 80 %을 나타낸다.
또 다른 실시예에서, 계획 장치에 의해 결정된 환형 표면은, 원형 내부 에지의 중심과 원형 외부 에지의 중심이 일치하지 않으므로, 에지의 중심은 외부 에지의 중심의 (측방향) 위치와 상이한 (측방향 위치)에 있는 것을 특징으로 한다. 따라서, 내부 에지의 중심은, 환자가 최적화된 시력을 얻도록, 바람직하게는 각막 표면 상의 식별된 지점, 예를 들어, 시축 또는 동공의 축의 통과 지점에 중심을 두고 위치된다. 외부 에지의 중심은, 예를 들어, 자연 홍채의 에지에 대해 균일한 거리로, 환자에 대한 미용 결과를 획득하기 위해 포지셔닝된다.
일 설계에서, 계획 장치에 의해 결정된 환형 표면은 외부 에지 및/또는 내부 에지가 매끄러운 곡선을 갖지 않는 것을 특징으로 한다. 이 대신에, 외부 에지 및/또는 내부 에지는 바람직하게는 임의의 변조들을 갖는다. 따라서, 관찰자의 눈에 외부 에지 및/또는 내부 에지의 특히 자연스러운 외관이 획득된다.
상이하게 설계된 일 실시예에서, 계획 장치는, 도입된 측정 및 기능적 데이터로부터 각막 내부에 위치된 또 다른 환형 표면을 형성하며, 이후, 적어도 2개의 환형 표면들은 각막의 표면에 대해 상이한 거리를 가지며, 이러한 적어도 2개의 환형 표면들은 중첩되며, 각막의 표면에 대해 가장 작은 거리를 갖는 환형 표면은 바람직하게는 외부 직경과 내부 직경 사이의 가장 작은 간극을 가지며, 적어도 2개의 환형 표면들은 내부 에지들 또는 외부 에지들에 대해 서로에 대해 중심을 가짐을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명의 이러한 특별한 설계에서, 레이저 장치는 눈의 각막에 적어도 2개의 환형 절단 표면들을 생성하여 이들이 중첩되도록 한다. 그리고 나서, 입사 광은 망막에 도달하기 위해 하나 초과의 문신 층을 투과해야 한다. 층들은 상이한 형상들을 가질 수 있고 상이하게 위치될 수 있다. 문신에 동일한 채색된 염료들 또는 상이한 색소들을 가진 염료들을 사용할 수 있다. 따라서, 문신들은 일반적인 광학 기능, 예를 들어 단계적 또는 스펙트럼의 기능으로서 가변적인 광학 흡수율을 충족시킨다. 하나의 특별한 실시예에서, 직경이 1.5 mm이고 70 %의 흡수율인 원형 내부 에지를 갖는 문신은, 예를 들어, 직경이 2 mm이고 흡수율이 70 %인 원형 내부 에지를 갖는 제 2 문신에 의해 완성될 수 있다. 제 1 문신은 예를 들어 180 μm의 깊이에 위치하고 제 2 문신은 각막의 표면 아래에서 140 μm의 깊이에 있다. 중첩시, 이는 내부 구역(직경 1.5 mm)에서 100 % 투과율, 1.5 mm와 2 mm 사이에서 70 % 투과율, 및 2 mm 초과에서 9 % 투과율을 갖는 계단식 동공을 초래한다.
계획 장치의 특히 바람직한 하나의 설계는, 도입된 측정 및 기능적 데이터로부터 각막 표면으로부터 환형 표면을 향해 가는 적어도 하나의 액세스 표면을 형성하며, 이러한 액세스 표면에 대해, 레이저 장치를 제어하기 위한 제어 데이터 세트를 생성하며, 레이저 장치는 각막 내에서 목표 지점들의 패턴을 추적하며, 목표 지점들은 액세스 표면 내에 존재하며, 제어 데이터 세트에 따라 펄스된 레이저 빔의 인가 후에 액세스 절단 표면의 형태로 액세스 표면이 이루어지도록 배열되며, 상기 액세스 표면의 목표 지점들은, 환형 표면의 내부 직경의 절반보다 큰 내부 에지의 중심에 대해 반경방향 거리를 갖는다.
따라서, 눈의 각막에서 인공 홍채의 동공의 수술과 같은 수술이 방해받지 않도록, 액세스 절단부들은 그들의 내부 제한이 각막 문신의 내부 에지에 도달하지 않도록 이루어져야 한다. 환형 표면 당 2개의 액세스 절단부들이 일반적으로 이루어진다; 본 발명의 일 변형예에서, 2개 초과의 액세스 절단 표면들이 천공된다.
계획 장치의 또 다른 설계에서, 액세스 표면은 반경방향으로 배향되고, 그의 반경방향 연장은 외부 직경의 절반과 내부 직경의 절반 사이의 간극보다 작게 유지되거나 또는 액세스 표면은 외부 에지를 따라 또는 외부 에지에 평행하게 배향된다. 이를 위해, 이는 더욱 구체적으로 외부 에지를 따라 또는 외부 에지와 평행 한 원호 형태로 절단된다.
일 설계에서, 계획 장치에 의해 결정된 환형 표면은 주입물의 하우징을 위한 펄스된 레이저 빔의 인가 후에 만들어지는 것을 특징으로 한다.
계획 장치의 또 다른 중요한 변형예는, 환형 표면이 눈의 각막 조직의 렌티큘에 형성되며, 상기 렌티큘은 펄스된 레이저 빔의 인가 후에 외식된다는 점이 특징이다.
본 발명의 이러한 변형예에서, 대응하는 환형 절단 표면은 눈의 이식될 각막 조직의 렌티큘 내에 준비되어, 렌티큘 내부에 위치되어, 따라서 이식될 조직의 체적 내부에 위치된다. 조직의 체적 내부에 위치된 이러한 환형 절단 표면은 바람직하게는 결정된 위치에 특정 특성, 예를 들어 오목부를 포함한다. 수술자가 인식하기 어려운 이식물의 두께 변조가 식별되도록 위치가 선택되면, 따라서 예를 들어 SMILE 수술 중에 렌티큘이 제거된 경우의 난시 축은, 수용자 눈에서 이식 수술 동안 정밀도의 개선을 얻을 수 있다. 이를 위해, 이하에서, 예를 들어, 외식(explantation) 후, 채색된 염료가 절단부 내에 도입되며, 이는 심미적 및/또는 기능성 의학적 목적을 제공할 수 있다. 본 발명의 이러한 실시예 변형예에서, 난시를 수반하는 근시를 교정하기 위해 환자로부터 제거된 렌티큘에는, 예를 들어 내부 직경이 약 2 mm이고 외부 직경이 6 mm인 내부 환형 절단 표면을 가지며, 외부 원주 상에서 난시 광학 축이 발견되는 오목부를 갖는다. 난시가 있는 적절한 원시 눈에 주입하는 동안, 렌티큘은 교정될 난시 축에 대해 오목부가 적절하게 배향되도록 배향된다. 따라서 난시 교정의 정확성이 향상되고, 문신의 동공 기능은 단순히 눈의 초점 범위를 더욱 증가시킨다. 렌티큘에 또 다른 마킹으로, 이식 동안 렌티큘의 측방 인식을 얻는 것이 또한 가능하다. 예를 들어 셀들에서 이를 없애거나 (예를 들어, 방사선으로), 형상을 변경하기 위해(예를 들어, 표면 제거), 이는 외식과 주입 사이에 렌티큘을 치료할 때 더 중요할 수 있다.
하나의 유리한 설계에서, 계획 장치는 환형 표면이 기록된 이미지를 사용하여 위치되는 것을 특징으로 한다. 레이저 장치로 형성될 환형 절단 표면들 또는 다른 절단 표면들의 정확한 포지셔닝을 확인하고 임의의 이동을 피하기 위해, 형성될 환형 표면 또는 다른 절단 표면들을 기록된 이미지를 사용하여 포지셔닝하는 것이 유리하다. 이를 위해, 각막 마진을 사용하거나 동공을 사용하여 기록을 사용할 수 있다.
또한, 계획 장치가, 눈의 측정치로부터 오는 측정 데이터를 생성하고, 이들은 계획 장치에 도입하는 측정 장치의 인터페이스에 연결되는 것이 유리하며, 상기 측정 장치는 선택적으로 다음 장치들 중 하나 또는 여러 개를 포함한다: 자동굴절계(autorefractometer), 굴절계, 각막계(keratometer), 수차계(aberrometer), 파면 측정 장치(wave front measuring device), 광간섭단층촬영장치(optical coherence tomograph, OCT).
데이터링크 또는 데이터 매체를 위한 계획 장치가, 계획 장치를 통해 레이저 장치 또는 전체 치료 장치로 제어 데이터 세트를 전송하기 위해 제공되는 것이 또한 유리하다. 이는 궁극적으로 치료 장치에 의해 눈의 각막에 펄스된 레이저 빔의 인가를 제어하는 것을 가능하게 하는 데이터의 체계적인 전송을 보장할 수 있게 한다.
제어 데이터의 시각적 표현을 위한 디스플레이 장치 및 계획 장치의 하나의 유리한 설계로 제공되는 제어 데이터 세트의 후속 수정을 위한 입력 장치는, 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치에 대한 제어 데이터의 결정을 용이하게 한다.
또한, 하나의 바람직한 계획 장치는, 목표 지점들의 패턴을 포함하는 제어 데이터 세트를 생성하는 동안, 보다 특히는 환자와의 인터페이스, 선택적으로 환자와의 콘택트 렌즈 또는 액체 인터페이스를 사용하여, 펄스된 레이저의 인가 동안 발생하는 눈의 각막의 변형을 고려하며, 이를 사용하여 환자의 눈의 위치는 일반적으로 외과적 문신에 대한 치료 장치에 대해 고정된다는 것을 더욱 특징으로 한다. 고정이 분리된 후, 환형 표면은 이제 변형되지 않은 각막에 있게 된다.
본 발명의 목적은, 눈의 파라미터들에 관한 측정 데이터 및 눈의 각막의 문신에 의해 충족될 기능들에 관한 기능적 데이터를 도입하기 위한 인터페이스를 포함하는 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 위한 치료 장치, 펄스된 레이저 빔을 인가하여 각막 조직을 절단하는 레이저 장치, 및 각막의 패턴을 규정하는 목표 지점들에 집중되는 레이저 빔, 및 전술된 계획 장치를 사용하여 더욱 달성된다.
보다 구체적으로, 이를 위한 치료 장치는, 펄스된 레이저 빔, 예를 들어 펨토초 레이저 빔 또는 피코초 레이저 빔을 생성하기 위한 레이저 빔 소스를 포함하는 레이저 장치, 각막 상에 레이저 펄스들을 집중시키기 위한 렌즈, x-y 스캐닝 시스템 및 z 스캐닝 시스템, 및 레이저 빔 소스, 렌즈, 및 스캐닝 시스템을 제어하는 제어 시스템을 포함하는 것이 바람직하다.
치료 장치는, 바람직하게는 각막에 레이저 펄스들을 집중시키기위한 렌즈 및 x-y 스캐닝 시스템 및 z 스캐닝 시스템을 사용하여 눈의 각막 내부를 절단하기 위한 펨토초 레이저 각막계이다. 또한, 치료 장치는 초점 거리를 제어하기 위한 시스템이 제공되며, 바람직하게는 레이저 펄스들의 에너지가 제어될 수 있고, 보다 특히 펄스들이 스캐닝 경로 상에서 활성화 및 비활성화될 수 있다. 따라서, 예를 들어 여분의 구역에 거의 모든 모양과 크기를 부여할 수 있다. 예를 들어, 각막 환형 절단 표면의 외부 에지의 근접도의 조절은 또한 외부 에지를 조절하는 것을 가능하게 한다.
본 발명의 목적은 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치에 대해 제어 데이터를 준비 및 생성하는 방법을 사용하여 추가로 달성되며, 치료 장치는 펄스된 레이저 빔을 인가함으로써 상기 각막의 조직을 절단하는 레이저 장치을 포함하며, 상기 레이저 장치는 수술 동안 제어 데이터에 따라 상기 각막의 패턴에서 발견되는 목표 지점들 상으로 상기 레이저 빔을 포커싱한다. 상기 방법은,
- 상기 눈의 파라미터들에 관한 측정 데이터 및 상기 눈의 문신에 의해 달성될 기능들에 관한 기능적 데이터를 결정하는 단계,
- 상기 측정 데이터 및 상기 기능적 데이터로부터 전체적으로 환형, 편평한, 또는 가능하다면 만곡된 표면을 형성하는 단계로서,
· 상기 환형 표면은 상기 각막 내부에 위치하며, 내부 직경을 갖는 전체적으로 원형인 내부 에지 및 외부 직경을 갖는 전체적으로 원형인 외부 에지에 의해 제한되며,
· 상기 내부 직경 및 상기 외부 직경은 상기 각막의 표면 상의 식별된 지점에 및/또는 식별된 구조와 함께 위치되며,
· 상기 환형 표면은 상기 각막의 표면에 대해 거리 및 경사를 갖는, 상기 환형 표면을 형성하는 단계,
- 상기 각막에서 목표 지점들의 패턴을 규정하는 단계로서,
· 상기 목표 지점들은 상기 전체적으로 환형 표면에 위치되며, 상기 레이저 빔의 인가 후 상기 환형 표면이 상기 제어 데이터에 따라 절단 표면의 형상으로 만들어지도록 배열되며,
· 상기 환형 표면은 상기 펄스된 레이저 빔의 인가 동안 상기 각막 조직이 절단되는 천공 구역을 각 목표 지점에서 포함하며, 인접한 목표 지점들의 상기 천공 구역들은 서로 부분적으로 또는 완전히 중첩되며,
· 상기 전체적으로 환형 표면의 상기 외부 에지는 거시적인 의미에서 홍채의 외부 에지에 대해 일정한 거리를 갖는, 상기 목표 지점들의 패턴을 규정하는 단계, 및
- 상기 레이저 장치의 제어를 위해 2차원 또는 3차원 패턴을 포함하는 제어 데이터 세트를 생성하는 단계에 의해 특징지어진다.
방법의 다른 설계의 주요 특성들은 계획 장치의 설명에서 이미 상세하게 설명되어 있다. 따라서 상기 주요 특성들은 여기에서 요약될 것이다.
특정 설계들에서, 상기 방법은,
- 상기 환형 표면의 상기 목표 지점들이, 상기 환형 표면이 상기 펄스된 레이저 빔의 인가 후에 적절한 착색된 염료의 흡수를 위해 추가로 설계되도록 배열되도록;
- 상기 환형 표면의 지점들이, 상기 환형 표면이 상기 펄스된 레이저 빔의 인가 후에 상기 환형 표면의 상이한 구역들에서 상이한 천공들을 갖도록 배열되도록;
- 상기 환형 표면이 바람직하게는 상기 환형 표면의 상기 외부 에지 상에 배열되는 여분의 구역을 포함하며; 상기 여분의 구역은 바람직하게는 0.2 mm²보다 큰 표면적을 갖도록;
- 상기 환형 표면은 내부 직경이 4 mm보다 큰 내부 에지를 포함하거나, 상기 환형 표면은 내부 직경이 3 mm보다 작은 내부 에지를 포함하도록;
- 상기 원형 내부 에지의 중심과 원형 외부 에지의 중심이 일치하지 않도록;
- 상기 외부 에지 및/또는 상기 내부 에지가 매끄러운 곡선을 갖거나 갖지 않도록;
- 상기 환형 표면이 펄스된 레이저 빔의 인가 후에 주입물를 수용하도록 설계되도록;
- 상기 환형 표면이 눈의 각막 조직의 렌티큘 내에 형성되며, 상기 렌티큘은 상기 펄스된 레이저 빔의 인가 후에 외식(explanted)되도록; 및
- 상기 환형 표면이 기록된 이미지를 사용하여 위치되도록 상기 환형 표면이 더욱 형성되거나 상기 각막 내 상기 목표 지점들의 패턴이 규정됨을 특징으로 한다.
또한, 상기 방법의 하나의 바람직한 설계는, 상기 측정 데이터 및 기능적 데이터로부터, 상기 각막 내부에 위치되는 적어도 하나의 다른 환형 표면이 형성되며, 상기 적어도 2개의 환형 표면들은 상기 각막의 표면에 대해 상이한 거리들을 가지며, 상기 적어도 2개의 환형 표면들은 서로 중첩되며, 바람직하게는 환형 표면은 외부 직경과 내부 직경 사이의 가장 작은 간극을 가지며, 바람직하게는, 적어도 2개의 환형 표면들은 내부 에지들 또는 외부 에지들과 관련하여 서로에 대해 중심을 갖는다.
상기 방법의 또 다른 바람직한 설계는, 측정 데이터 및 기능적 데이터로부터, 상기 각막의 표면으로부터 상기 환형 표면으로 가는, 적어도 하나의 액세스 표면이 추가로 형성되며, 상기 액세스 표면에 대해, 상기 레이저 장치를 제어하기 위한 제어 데이터 세트가 생성되며, 상기 레이저 장치는 상기 각막 내에서 목표 지점들의 패턴을 규정하며, 상기 목표 지점들은 상기 액세스 표면 내에 존재하며, 상기 제어 데이터 세트에 따라 상기 펄스된 레이저 빔의 인가 후에 액세스 절단 표면의 형태로 상기 액세스 표면이 이루어지도록 배열되며, 상기 액세스 표면의 상기 목표 지점들은 상기 환형 표면의 내부 직경의 절반보다 큰 상기 내부 에지의 중심에 대해 반경방향 거리를 갖는 것을 특징으로 한다.
선택적으로, 상기 방법은 또한, 상기 액세스 표면이 반경방향으로 배향되며, 그의 반경방향 연장은 상기 외부 직경의 절반과 상기 내부 직경의 절반 사이의 간극보다 작거나, 또는 상기 액세스 표면은 상기 외부 에지를 따라 또는 상기 외부 에지에 평행하게 배향되는 것을 특징으로 한다.
유리하게는, 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치에 대한 제어 데이터를 준비 및 생성하는 방법은,
- 눈의 측정치로부터 오는 측정 데이터가 생성되며, 자동 굴절계, 굴절계, 각막계, 수차계, 파면 측정 장치, 광간섭 단층 촬영 장치(OCT) 중 하나 또는 여러 개가 선택적으로 측정 장치로 사용되며/사용되거나
- 생성된 제어 데이터는 치료 장치로 전송되고; 이러한 데이터는 데이터링크 또는 데이터 매체를 통해 레이저 장치로 전송된다는 것을 더욱 특징으로 한다.
외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치에 대한 환자의 눈의 위치는 일반적으로 고정되기 때문에, 이를 위해 사용되는 환자와의 인터페이스, 선택적으로 환자와의 콘택트 렌즈 또는 액체 인터페이스는, 눈을 치료 장치에 고정시키는 동안, 눈의 각막을 변형시키며, 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치에 대한 제어 데이터를 준비 및 생성하기 위한 하나의 바람직한 방법에서, 이후에 변형되지 않은 각막 내에서 환형 표면이 존재하도록, 목표 지점들의 패턴을 포함하는 제어 데이터를 생성하는 동안, 펄스된 레이저 빔의 인가 중에 발생하는 눈의 각막의 변형이 고려된다.
또한, 본 발명의 목적은, 컴퓨터 상에서 실행되는 동안 상기 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치에 대한 제어 데이터를 준비 및 생성하기 위한 방법을 실행하는 프로그램 코드를 갖는 소프트웨어 제품 및 그러한 소프트웨어 제품을 갖는 데이터 매체에 의해 더욱 달성된다.
본 발명의 목적은 다음 단계들을 갖는, 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 하는 방법에 의해 달성된다:
- 상기 환자의 눈의 상기 각막의 외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치에 대한 제어 데이터를 준비하고 생성하는 방법을 실행하는 단계로서, 상기 치료 장치는 레이저 장치를 포함하며, 상기 레이저 장치는 상기 언급된 환자의 눈의 각막의 외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치에 대한 제어 데이터를 준비 및 생성하는 방법에 따라 펄스된 레이저 빔을 인가함으로써 상기 각막의 조직을 절단하는, 상기 제어 데이터를 준비하고 생성하는 방법을 실행하는 단계,
- 생성된 제어 데이터를 사용하여 상기 치료 장치로 상기 눈의 상기 각막의 외과적 레이저 치료를 수행하는 단계,
- 예를 들어 플랩 리프터(flap lifter)와 같은 수술 도구를 사용하는 상기 외과적 레이저 치료 동안 만들어진 표면들에서 상기 레이저 치료로 남아있는 조직 브리지들을 선택적으로 기계적으로 절단하는 단계, 및
- 예를 들어 액세스 표면들을 사용하여 상기 환형 표면 내로 적어도 하나의 착색된 염료를 주입하는 단계.
본 발명은 다음을 나타내는 예시적인 실시예들을 사용하여 설명된다:
- 도 1는 계획 장치를 갖는 치료 장치이다;
- 도 2는 치료 장치, 보다 구체적으로, 레이저 장치의 요소들이다;
- 도 3은 위에서 본 여분의 구역을 갖는 각막 문신의 제 1 예시적 실시예이다;
- 도 4a 및 4b는 위에서 및 단면도에서 보이는 상이한 에지들의 중심을 갖는 각막 문신의 제 2 예시적인 실시예이다;
- 도 5a 및 5b는 평면도 및 단면도에서 중첩된 2개의 환형 표면들을 갖는 각막 문신의 제 3 예시적인 실시예이다;
- 도 6a 및 6b는 측면도 및 평면도에서 렌티큘의 각막 문신의 제 4 예시적인 실시예이다;
- 도 7a는 절단 표면에서 부분적으로 교차하는 관통 구역들이다;
- 도 7b는 절단 표면에서 완전히 교차하는 관통 구역들이다.
도 1은 치료 장치(1)를 개략적으로 도시한다. 이러한 변형예에서, 치료 장치(1)는 적어도 2개의 장치들 또는 모듈들을 포함한다. 레이저 장치(L)는 레이저 빔(2)을 눈(3)을 향해 방출한다. 레이저 장치(L)의 작동은 완전히 자동으로 일어나며, 즉, 레이저 장치(L)는 대응하는 시작 신호 시, 레이저 빔(2)을 가리키기 시작하고, 각막(22) 내에 기재될 방식으로 절단 표면들을 만든다. 자세히 기재되지 않은 데이터 라인들에 의해 제어 데이터의 세트의 형태로 동작에 필요한 계획 장치(P)로부터 오는 제어 데이터는 레이저 장치(L)에 의해 미리 수신된다. 투과는 바람직하게는 레이저 장치(L)의 작동 전에 일어난다. 물론, 통신은 무선으로도 이루어질 수 있다. 직접 통신을 하는 변형예에서, 계획 유닛이 레이저 유닛(L)으로부터 물리적으로 분리되고, 대응하는 데이터 전송 채널을 제공하는 것이 또한 가능하다.
바람직하게는, 제어 데이터 세트는 치료 장치(1)로 전송되고, 바람직하게는 유효 제어 데이터 세트가 레이저 장치(L)에 도달할 때까지 레이저 장치(L)의 동작이 차단된다. 유효 제어 데이터 세트는 원칙적으로 치료 장치(1)의 레이저 장치(L)와 함께 사용하기에 적합한 제어 데이터 세트일 수 있다. 그러나, 예를 들어, 제어 데이터 세트에서, 예를 들어 치료 장치 상에서 판독되거나 환자가 레이저 장치(L)의 작동을 위한 올바른 위치에 있게 되면 개별적으로 입력되는, 다른 정보와 매칭되는, 치료 장치(1)에 대한 추가 정보, 예를 들어, 장치 일련 번호, 또는 환자, 예를 들어, 환자 식별 번호가 발견되는 경우, 유효성은 몇가지 검사들이 성공적이라는 사실과 연관될 수 있다.
계획 유닛은 제어 데이터를 모두 생성하며, 이는 치료될 눈에 대해 결정된 측정 데이터뿐만 아니라, 눈의 각막의 문신에 의해 수행될 기능들, 예를 들어 자연 홍채를 대체하기 위한 기술 및 동공 기술의 성능에 대한 기능적 데이터로부터 레이저 유닛(L)이 동작을 수행하는 것을 가능하도록 한다. 이들은 인터페이스(S)를 사용하여 계획 유닛에 도입된다. 예시된 예에서, 측정 데이터는 환자(4)의 눈을 미리 측정한 측정 장치(M)로부터 온다. 물론, 측정 장치(M)는 임의의 방식으로 대응하는 측정 데이터를 계획 유닛에 전송할 수 있다.
전송은 메모리 칩들(예: USB 키 또는 메모리 스틱), 자기 메모리들(예: 디스크들), 라디오(예: WLAN, UMTS, Bluetooth), 또는 케이블(예: USB, FireWire, RS232, ADC 버스, 이더넷 등)에 의해 발생할 수 있다. 물론, 전송은 계획 장치(P)와 레이저 장치(L) 간의 데이터 전송에 대해서도 유효하다.
변형예에서 사용될 수 있는 데이터 전송에 관한 치료 장치(1)와의 측정 장치(M)의 직접 라디오 또는 케이블 링크는, 부정확한 측정 데이터의 사용이 가능한 최대 가능성으로 배제되는 이점을 갖는다.
도 2는 초점의 조정을 이해하는 데 필요한 정도로만 치료 장치(1)의 요소들을 도입한다. 레이저 빔(2)은 각막(22)의 초점(7)에 집중되고, 각막(22) 내의 초점(7)의 위치는 절단 표면을 생성하기 위해 레이저 빔들의 펄스들로부터 오는 에너지가 각막(22)의 조직의 상이한 위치들에 집중되는 방식으로 인가되도록 조정된다. 레이저 빔(2)은 펄스된 빔의 형태의 레이저(8)에 의해 제공된다. 눈(3)의 각막(22)은 환자(13), 보다 특히 콘택트 렌즈와의 인터페이스를 사용하여 치료 장치(1)에 고정된다. 변형예에서, 전체적으로 직교 편차들을 갖는 2개의 검류 거울들(galvanometric mirros)을 사용하여 이루어진 x-y 스캐너(9)는 레이저 빔(10)이 x-y 스캐너(9) 뒤에 존재하도록 레이저(8)로부터 오는 레이저 빔을 2차원 방식으로 향하게 한다. 따라서, x-y 스캐너(9)는 각막(22) 내에서 레이저 빔(2)의 메인 입사 방향에 전체적으로 수직인 방식으로 초점(7)의 조정을 가능하게 한다. 깊이 위치의 조정을 위해, x-y 스캐너(9) 외에, 예를 들어 조정가능한 망원경으로서 설계된 z 스캐너(11)가 제공된다. z 스캐너(11)는 초점(7)의 z 위치, 즉 입사의 광 축 상의 위치를 변경할 수 있게 한다. z 스캐너(11)는 x-y 스캐너(9) 이후 또는 이전에 배열될 수 있다. 이하, x, y, z로 지칭되는 좌표들은 초점(7)의 위치의 편차를 지칭한다.
치료 장치(1)의 작동 원리에 있어서, 공간 방향들에 대한 상이한 좌표들의 할당은 중요하지 않지만, 설명을 용이하게 하기 위해, 이하에서, z는 항상 레이저 빔(2)의 입사의 광 축을 따라 좌표를 지정하며, x 및 y는 레이저 빔의 입사 방향에 수직인 평면에서 서로 직교하는 2개의 좌표들을 지정한다. 당업자는 각막(22)에서의 초점(7)의 위치에 대한 3차원 설명이 다른 좌표계들을 사용하여 이루어질 수 있음을 물론 알고 있다; 보다 구체적으로, 이는 수직 좌표들의 시스템을 포함하지 않을 수 있다. 따라서, x-y 스캐너(9)가 서로 직교하는 축들 주위에서 작동하는 것이 필수는 아니지만, 광학 방사선의 입사 축이 위치하지 않는 평면에서 초점(7)을 이동시킬 수 있는 임의의 스캐너가 사용될 수 있다. 따라서, 비스듬한 각도들의 좌표계들 또는 데카르트 좌표계들이 사용될 수도 있다.
초점(7)의 위치를 제어하기 위해, 3차원 초점 조정 장치의 구체적인 예를 함께 정의하는 x-y 스캐너(9) 및 z 스캐너(11)는 자세히 기재되지 않는 라인들에 의해 제어 장치(12)에 의해 제어된다. 이는 레이저(8)에 대해서도 유효하다. 각막(22)에서의 초점(7)의 위치가 조정되도록, 제어 장치(12)는 레이저(8)의 적절한 동기 동작뿐만 아니라, 예를 들어 x-y 스캐너(9) 및 z 스캐너(11)에 의해 정의된 초점의 조정 장치를 보장하며, 이로써, 최종적으로 구부러질 수 있고, 나중에 색소 염료들을 관찰해야 하는 환형 절단 표면이 사전결정된 목표 지점들의 스캐닝에 의해 및 이러한 목표 지점들에서의 펄스된 레이저 빔의 인가에 의해 도달된다.
제어 장치(12)는 사전결정된 제어 데이터에 따라 동작하며, 상기 제어 데이터는 초점의 조정을 위한 목표 지점들을 결정한다. 제어 데이터는 일반적으로 제어 데이터 세트에 함께 그룹화된다. 제어 데이터 세트는, 일 실시예에서, 목표 지점들의 좌표들을 패턴으로서 결정하고, 초점의 위치들의 연속을 규정하는 제어 데이터 세트에서의 목표 지점들의 순서, 따라서 궁극적으로 경로를 결정한다. 일 실시예에서, 제어 데이터 세트는 초점의 위치를 조정하기 위한 메커니즘, 예를 들어 x-y 스캐너(9) 및 z 스캐너(11)에 대한 구체적인 조정 값들의 형태의 목표 지점들을 포함한다. 안구 수술 방법을 준비하기 위해, 따라서, 엄격히 말해 수술 절차가 수행되기 전에, 목표 지점들 및 바람직하게는 패턴들에서의 이들의 순서가 정의된다. 그러나, 치료 장치(1)에 대해 환자(4)에 대한 각막의 최적의 문신을 얻을 수 있게 하는 제어 데이터를 결정함으로써 절차의 사전 계획이 이루어져야 한다.
도 3은 YAG 레이저를 이용한 홍채 절개술에 사용될 수 있는, 여분의 구역(17)을 포함하는 각막 문신의 제 1 예시적인 실시예를 눈(3)의 평면도로 도시한다. 이러한 예에서, 내부 에지(15)는 5 mm의 큰 직경을 가지며, 약간의 불규칙한 융기부(ridge)를 포함하는데, 이는 대응하는 각막 문신(15)은 미용 목적들로만 사용되기 때문이다. 외부 에지(16)는 자연 홍채를 세부적으로 매우 정밀하게 나타내기 위해 매우 불규칙적인 융기부를 포함한다. 이러한 불규칙한 융기부들의 평활화 후, 거시적 방향으로, 외부 에지(16)와 홍채의 외부 에지 간의 거리는 윤부(limbus)(14)에 대해 일정하다. 여분의 구역은 눈(3)의 상측 부분에 만들어졌으며, 이는 일반적으로 눈꺼풀에 의해 덮여 있어서, 여분의 구역(17)은 관찰자가 보기 어려워진다.
도 4a 및 도 4b는 외부 에지(16)와 내부 에지(15)가 상이한 중심을 갖는, 전체적으로 환형 표면(32) 상의 각막 문신의 제 2 예시적인 실시예를 평면도 및 단면도로 도시한다. 외부 에지(16)의 중심(36)은 윤부(14)에 대해 발생하는 반면, 내부 에지(15)는 자연 명소시(photopic) 동공(34)의 중심(37)에 대해 중심이 정해졌다. 단면도에서, 각막(24), 상피(25), 내피(26), 및 기질(27)의 뒤로부터 각막(23)의 표면의 위치를 더 볼 수 있다. 액세스 표면(35)은 각막(23)의 표면으로부터 착색된 염료가 주입되어야 하는 표면(32)을 향해 연장된다. 이러한 액세스 표면(35)은 환형 표면(32)의 외부 에지(16)에 대해 평행하고, 원호로 배열된다.
도 5a 및 5b는 다른 하나의 상단에 위치되고, 각막(23)의 표면에 대해 상이한 거리로 배열된 2개의 중첩된 환형 표면들(32 및 33)을 갖는 각막 문신의 제 3 예시적인 실시예의 평면도 및 단면도를 도시한다. 따라서, 각막 문신은 제 1 환형 표면(32) 상의 제 1 문신 및 제 2 환형 표면(33) 상의 제 2 문신으로 구성되며, 2개의 문신들은 그들의 외부 에지들(16)에 대하여 서로에 대해 중심이 설정된다. 제 2 문신은 각막(23)의 표면에 더 가까우며, 즉, 제 1 문신이 가장 좁기 때문에 눈의 내측으로부터 외측으로 볼 때 제 1 문신보다 위에 있으며, 제 2 문신은 외부 에지(16)의 동일한 직경에 대해 제 1 문신의 직경보다 훨씬 큰 내부 에지(15)의 직경을 갖는다. 따라서, 2개의 표면들(32 및 33)이 평면도에서 적어도 부분적으로 가시적이기 때문에, 제 1 환형 표면(32) 및 제 2 환형 표면(33) 둘 모두로부터 독립적인 액세스 표면(35)(도시되지 않음)이 또한 만들어질 수 있다.
본 도면에 도시된 예시적인 실시예에서, 입사 광은 망막에 도달하기 위해 하나 이상의 문신 층을 통과할 수 있다. 문신에는 동일한 안료들 또는 상이한 안료들이 사용될 수 있다. 두 문신들 모두는 일반적인 광학 기능, 예를 들어 스펙트럼에 따라 계단형 또는 가변형 광 흡수율을 얻을 수 있다. 1.5 mm의 매우 작은 직경을 갖는 제 1 문신의 원형 내부 에지(15)를 갖는 본 도면에 도시된 문신은 70 %의 흡수율을 가지며, 2 mm의 원형 내부 에지(15)를 갖는 제 2 문신은 또한 70 %의 흡수율을 갖는다. 제 1 문신의 깊이는 180 μm이고, 제 2 문신의 깊이는 각막(23)의 표면 아래에서 140 μm이다. 중첩은 내측 부분 (직경 1.5 mm)에서 100 %의 투과율, 1.5 mm와 2 mm 사이에서 70 %의 투과율, 및 2 mm 초과에서 9 %의 투과율을 갖는 계단형 동공(34)을 얻을 수 있게 한다.
도 6a 및 6b는 각막 문신의 제 4 예시적인 실시예의 측면도 및 평면도를 도시하며, 각막 문신은 외식될(explanted) 렌티큘(28)에서 행해진다. 이어서, 이러한 렌티큘(28)은 환자의 눈(3)에 이식될 수 있으며, 여기서 이는 대응하는 시력 결함을 동시에 교정할 것이다. 렌티큘(28)은 무색 중심(30)을 포함하며, 외측 부분에서 환형으로 채색(29)되며, 그러므로, 이는 환형 표면(32)의 상이한 구역들에서 상이한 천공(6)을 사용하여 획득된 미세 채색 구조(31)를 갖는다.
도 7a는 절단 표면에서 청공들이 부분적으로 서로 교차하는 구역들로 이해되어야 하는 펄스된 레이저 빔의 초점(7)의 목표 지점들(6) 주위를 도시하며, 이는 이러한 레이저 빔(2)의 인가 동안, 천공 구역(4)에서, 특히 맥동의 주파수 및 펄스된 레이저 빔의 파워에 의존하는 연장을 야기한다. 천공 구역의 에지들은 본 도면에서 단지 부분적으로만 서로 교차하며, 조직 브리지들(5)은 천공 구역들(4) 사이에 남는다.
도 7b는 절단 표면에서 서로 완전히 교차하는 천공 구역들(4)을 도시하며, 이로써 조직 브리지(5)는 더 이상 남아있지 않으며, 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후에, 광-차단에 의해 분리된 가변 구역을 갖는 절단 표면을 통해, 각막의 조직은 청공 구역(4) 사이, 위, 아래에 위치된다.
상술되고 다양한 예시적인 실시예들에서 설명된 본 발명의 특징들은 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서, 예로서 기재된 조합들뿐만 아니라 다른 조합들 또는 단독으로 사용될 수 있다. 방법의 특징들이 기재된 장치의 대응하는 기능적 특징들을 나타내는 한, 방법의 특징들과 관련된 장치의 기재는, 이러한 특징들에 대해, 해당 방법과 유사하게 유효하다.

Claims (30)

  1. 환자의 눈(3)의 각막(22)의 외과적 문신을 준비하기 위한 치료 장치(1)에 대한 제어 데이터를 결정하기 위한 계획 장치(P)로서,
    상기 계획 장치(P)는 펄스된 레이저 빔(2)을 인가함으로써 각막의 조직을 절단하는 레이저 장치(L)를 포함하는 치료 장치(1)에 대한 제어 데이터를 생성하도록 형성되며,
    상기 레이저 빔(2)은 각막(22) 내에 패턴으로 배열되는 목표 지점들(6)에 초점이 맞춰지며,
    상기 계획 장치(P)는:
    - 눈(3)의 파라미터들에 관한 측정 데이터 및 눈(3)의 각막(22)의 문신에 의해 수행될 기능들에 관한 기능적 데이터를 도입하기 위한 인터페이스(S)를 포함하고,
    - 상기 도입된 측정 데이터 및 기능적 데이터로부터, 각막(22) 내부에 위치되는 전체적으로 환형인 표면(32)으로서 내부 직경을 갖는 전체적으로 원형인 내부 에지(15) 및 외부 직경을 갖는 전체적으로 원형인 외부 에지(16)에 의해 제한되고, 상기 내부 직경 및 외부 직경은 각막(23)의 표면의 식별된 위치 내 및/또는 식별된 구조 상에 위치되는 전체적으로 환형인 표면(32)을 한정하며, 환형 표면(32)은 각막(23)의 표면에 대해 거리 및 경사를 가지며,
    - 상기 전체적으로 환형인 표면(32)에 대해, 상기 레이저 장치(L)의 제어를 위한 제어 데이터 세트를 생성하며, 상기 레이저 장치(L)는 각막(22)에서 환형 표면(32)에 존재하는 목표 지점들(6)의 패턴을 규정하며, 상기 환형 표면(32)이 상기 제어 데이터 세트에 따라 상기 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후 절단 표면의 형태로 이루어지도록 배열되며,
    · 상기 환형 표면(32)은 각 목표 지점(6)에서 상기 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 동안 상기 각막 조직이 절단되는 천공 구역(4)을 포함하며,
    · 인접한 목표 지점들(6)의 천공 구역들(4)은 부분적으로 또는 완전이 중첩될 수 있으며,
    · 상기 전체적으로 환형인 표면(32)의 외부 에지(16)는 거시적인 의미에서 홍채(14)의 외부 에지에 대해 일정한 거리를 갖는, 계획 장치(P).
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 환형 표면(32)은 레이저 빔(2)의 인가 후에 적절하게 착색된 염료를 흡수하도록 형성되는, 계획 장치(P).
  3. 제 1 항에 있어서,
    펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후의 환형 표면(32)은 상기 환형 표면(32)의 상이한 구역들에서 상이한 천공(6)을 가지며,
    상기 천공(6)은 바람직하게는 상기 환형 표면의 상이한 구역들에서 문신의 원하는 채색의 정도의 함수로서 결정되는, 계획 장치(P).
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 환형 표면(32) 및 착색된 염료는, 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후 및 환형 표면(32)에서의 착색된 염료(2)의 흡수 후에, 상기 환형 표면(32)가 50 % 이상의 흡수율, 바람직하게는 80 % 이상의 흡수율을 갖도록 형성되는, 계획 장치(P).
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 환형 표면(32)은, 바람직하게는 외부 에지(16)에 배열되는 여분의 구역(17)을 포함하며,
    상기 여분의 구역(17)은 바람직하게는 0.2 mm²보다 큰 표면적을 갖는, 계획 장치(P).
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 내부 에지(15)는 4 mm보다 큰 내부 직경을 갖는, 계획 장치(P).
  7. 제 1 항 또는 제 5 항에 있어서,
    상기 내부 에지(15)는 3 mm보다 작은 내부 직경을 갖는, 계획 장치(P).
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 원형인 내부 에지의 중심과 원형인 외부 에지의 중심은 일치하지 않는, 계획 장치(P).
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 외부 에지 및/또는 내부 에지는 매끄러운 곡선을 갖거나 갖지 않는, 계획 장치(P).
  10. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 도입된 측정 데이터 및 기능적 데이터로부터, 각막(22) 내부에 위치되는 적어도 하나의 추가적인 전체적으로 환형인 표면(33)을 한정하고,
    적어도 두 개의 환형 표면(32, 33)은 각막(23)의 표면에 대해 상이한 거리를 가지며, 적어도 두 개의 환형 표면(32, 33)은 중첩되며, 적어도 두 개의 환형 표면(32, 33)은 바람직하게는 그들의 내부 에지들(15) 또는 외부 에지들(16)와 관련하여 서로에 대해 중심이 놓이며, 바람직하게는 각막(23)의 표면에 대해 가장 작은 거리를 갖는 환형 표면(33)은 외부 직경과 내부 직경 간의 간격이 가장 작은, 계획 장치(P).
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 도입된 측정 데이터 및 기능적 데이터로부터, 각막(23)의 표면으로부터 환형 표면(32)으로 가는, 적어도 하나의 액세스 표면(35)을 추가로 한정하며,
    상기 액세스 표면(35)에 대해, 상기 레이저 장치(L)를 제어하기 위한 제어 데이터 세트를 생성하며, 상기 레이저 장치(L)는 각막(22) 내에서 액세스 표면(35) 내에 존재하는 목표 지점들(6)의 패턴을 규정하고, 상기 액세스 표면(35)이 상기 제어 데이터 세트에 따라 상기 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후에 액세스 절단 표면의 형태로 이루어지도록 배열되며, 상기 액세스 표면(35)의 목표 지점들(6)은 상기 환형 표면(32)의 내부 직경의 절반보다 큰 내부 에지(15)의 중심에 대한 반경방향 거리를 갖는, 계획 장치(P).
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 액세스 표면(35)은 반경방향으로 배향되고, 반경방향 연장부가 상기 외부 직경의 절반과 내부 직경의 절반 사이의 간극보다 작거나,
    상기 액세스 표면(35)은 상기 외부 에지(16)를 따라 또는 상기 외부 에지(16)에 평행하게 배향되는, 계획 장치(P).
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 환형 표면(32)은, 상기 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후에 주입물을 수용하도록 형성되는, 계획 장치(P).
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 환형 표면(32)은, 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후에 외식(explant)되는, 눈(3)의 각막(22) 조직의 렌티큘(28) 내에 형성되는, 계획 장치(P).
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 환형 표면(32)은 기록된 이미지를 사용하여 포지셔닝되는, 계획 장치(P).
  16. 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인터페이스(S)에 연결되는 측정 장치(M)는 눈(3)의 측정치로부터 측정 데이터를 생성하고, 상기 측정 데이터를 계획 장치(P)로 도입하며,
    상기 측정 장치(M)는 선택적으로, 자동굴절계(autorefractometer), 굴절계, 각막계(keratometer), 수차계(aberrometer), 파면 측정 장치(wave front measuring device), 광간섭단층촬영장치(optical coherence tomograph, OCT) 중 하나 또는 다수를 포함하는, 계획 장치(P).
  17. 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 데이터 세트를 계획 장치(P)로부터 레이저 장치(L)로 전송하기 위해 데이터 링크 또는 데이터 매체가 제공되는, 계획 장치(P).
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 데이터 세트의 제어 데이터의 시각적 표현을 위한 디스플레이 장치 및 상기 제어 데이터 세트의 후속 변경을 위한 입력 장치가 제공되는, 계획 장치(P).
  19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 계획 장치(P)는, 한정된 환형 표면(32) 자체가 변형되지 않은 각막(22)에서 존재하도록, 상기 목표 지점들(6)의 패턴을 포함하는 상기 제어 데이터 세트를 생성하는 동안, 특히 환자(13)와의 인터페이스, 선택적으로 환자와의 콘택트 렌즈 또는 액체 인터페이스를 사용하여, 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 동안 발생하는 눈(3)의 각막(22)의 변형을 고려하는, 계획 장치(P).
  20. 환자의 눈의 각막(22)의 외과적 문신을 위한 치료 장치(1)로서,
    - 눈(3)의 파라미터들에 관한 측정 데이터 및 눈(3)의 각막(22)의 문신에 의해 달성될 기능들에 관한 기능적 데이터의 도입을 위한 인터페이스(S),
    - 펄스된 레이저 빔(2)을 인가함으로써 각막 조직을 절단하는 레이저 장치(L)로서, 상기 레이저 빔(2)은 각막(22)의 패턴에서 발견된 목표 지점들(6)에 초점을 맞추어지는, 상기 레이저 장치(L), 및
    - 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 따른 계획 장치(P)를 포함하는, 치료 장치(1).
  21. 제 20 항에 있어서,
    펄스된 레이저 빔을 생성하기 위한 레이저 빔 소스, 특히 펨토초 레이저 소스(femtosecond laser source), 상기 펄스된 레이저 빔을 각막에 포커싱하기 위한 렌즈, x-y 스캐닝 시스템, z 스캐닝 시스템, 및 제어 시스템을 포함하는, 치료 장치(1).
  22. 환자의 눈(3)의 각막(22)의 외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치(1)로서, 펄스된 레이저 빔(2)을 인가함으로써 각막의 조직을 절단하는 레이저 장치(L)을 포함하며, 상기 레이저 장치(L)는 수술 동안 제어 데이터에 따라 상기 각막(22)의 패턴에서 발견되는 목표 지점들(6) 상으로 상기 레이저 빔(2)을 포커싱하는, 상기 치료 장치(1)에 대해 제어 데이터를 준비 및 생성하는 방법으로서,
    - 눈의 파라미터들(3)에 관한 측정 데이터 및 눈(3)의 문신에 의해 달성될 기능들에 관한 기능적 데이터를 결정하는 단계,
    - 상기 측정 데이터 및 기능적 데이터로부터 전체적으로 환형인 표면(32)을 형성하는 단계로서,
    · 환형 표면(32)은 각막(22) 내부에 위치되고, 내부 직경을 갖는 전체적으로 원형인 내부 에지(15) 및 외부 직경을 갖는 전체적으로 원형인 외부 에지(16)에 의해 제한되며,
    · 상기 내부 직경 및 외부 직경은 각막(23)의 표면 상의 식별된 지점에 및/또는 식별된 구조를 따라 위치되며,
    · 상기 환형 표면(32)은 각막(23)의 표면에 대해 거리 및 경사를 갖는,
    상기 환형 표면(32)을 한정하는 단계,
    - 각막(22)에 목표 지점들(6)의 패턴을 규정하는 단계로서,
    · 상기 목표 지점들(6)은 상기 전체적으로 환형인 표면(32)에 위치되고, 상기 레이저 빔(2)의 인가 동안 환형 표면(32)이 제어 데이터에 따라 절단 표면의 형상으로 만들어지도록 배열되며,
    · 상기 환형 표면(32)은 상기 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 동안 각막 조직이 절단되는 천공 구역(4)을 각 목표 지점(6)에서 포함하며, 인접한 목표 지점들(6)의 천공 구역들(4)은 서로 부분적으로 또는 완전히 중첩되며,
    · 상기 전체적으로 환형인 표면(32)의 외부 에지(16)는 거시적인 의미에서 홍채의 외부 에지(14)에 대해 일정한 거리를 갖는,
    상기 목표 지점들(6)의 패턴을 규정하는 단계, 및
    - 상기 레이저 장치(L)의 제어를 위해 2차원 또는 3차원 패턴을 포함하는 제어 데이터 세트를 생성하는 단계를 포함하는, 제어 데이터의 준비 및 생성 방법.
  23. 제 22 항에 있어서,
    - 상기 환형 표면(32)이 상기 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후에 적절한 착색된 염료를 흡수하게 형성되도록, 상기 환형 표면(32)의 목표 지점들이 배열되는 것;
    - 상기 환형 표면(32)이 상기 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후에 환형 표면(32)의 상이한 구역들에서 상이한 천공들(4)을 갖도록, 환형 표면(32)의 지점들이 배열되는 것;
    - 상기 환형 표면(32)이 바람직하게는 상기 환형 표면(32)의 외부 에지(16) 상에 배열되는 여분의 구역(17)을 포함하고, 상기 여분의 구역(17)은 바람직하게는 0.2 mm²보다 큰 표면적을 갖는 것;
    - 상기 환형 표면(32)은 내부 직경이 4 mm보다 큰 내부 에지(15)를 포함하거나, 상기 환형 표면(32)은 내부 직경이 3 mm보다 작은 내부 에지(15)를 포함하는 것;
    - 상기 원형 내부 에지(15)의 중심과 원형 외부 에지(16)의 중심이 일치하지 않는 것;
    - 상기 외부 에지(16) 및/또는 내부 에지(15)는 매끄러운 곡선을 갖거나 갖지 않는 것;
    - 상기 환형 표면(32)은 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후에 주입물을 수용하도록 형성되는 것;
    - 상기 환형 표면(32)은 눈(3)의 각막 조직의 렌티큘(28) 내에 형성되며, 상기 렌티큘(28)은 상기 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후에 외식(explanted)되는 것; 및
    - 상기 환형 표면(32)이 기록된 이미지를 사용하여 위치되는 것;
    중 하나 이상에 기초하여 상기 환형 표면(32)이 형성되거나 상기 각막(22) 내 목표 지점들(6)의 패턴이 규정되는, 제어 데이터의 준비 및 생성 방법.
  24. 제 22 항 또는 제 23 항에 있어서,
    상기 측정 데이터 및 기능적 데이터로부터, 각막(22) 내부에 위치되는 추가의 환형 표면(33)이 형성되고, 적어도 두 개의 환형 표면(32, 33)은 각막(23)의 표면에 대해 상이한 거리를 가지며, 적어도 두 개의 환형 표면(32, 33)은 서로 중첩되며, 적어도 두 개의 환형 표면(32, 33)은 바람직하게는 그들의 내부 에지들(15) 또는 외부 에지들(16)와 관련하여 서로에 대해 중심이 놓이며, 바람직하게는 각막(23)의 표면에 대해 가장 작은 거리를 갖는 환형 표면(33)은 외부 직경과 내부 직경 간의 간격이 가장 작은, 제어 데이터의 준비 및 생성 방법.
  25. 제 22 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 도입된 측정 데이터 및 기능적 데이터로부터, 각막(23)의 표면으로부터 환형 표면(32)로 가는 적어도 하나의 액세스 표면(35)이 한정되며,
    상기 액세스 표면(35)에 대해, 상기 레이저 장치(L)를 제어하기 위한 제어 데이터 세트가 생성되며, 상기 레이저 장치(L)는 각막(22) 내에 목표 지점들(6)의 패턴을 규정하고 상기 목표 지점들(6)은 상기 액세스 표면(35) 내에 존재하며 상기 제어 데이터 세트에 따라 상기 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 후에 액세스 절단 표면의 형태로 상기 액세스 표면(35)이 이루어지도록 배열되며, 상기 액세스 표면(35)의 목표 지점들(6)은 상기 환형 표면(32)의 내부 직경의 절반보다 큰 내부 에지(15)의 중심에 대해 반경방향 거리를 가지며,
    선택적으로 상기 액세스 표면(35)은 반경방향으로 배향되고 반경방향 연장부가 상기 외부 직경의 절반과 내부 직경의 절반 사이의 간극보다 작거나, 또는 상기 액세스 표면(35)은 상기 외부 에지(16)를 따라 또는 상기 외부 에지(16)에 평행하게 배향되는, 제어 데이터의 준비 및 생성 방법.
  26. 제 22 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 상기 측정 데이터는 눈(3)의 측정치로부터 생성되고, 사용된 측정 장치(M)는 선택적으로, 자동 굴절계, 굴절계, 각막계, 수차계, 파면 측정 장치, 광간섭 단층 촬영 장치(OCT) 중 하나 또는 다수이며, 및/또는,
    - 상기 생성된 제어 데이터는 상기 치료 장치(1)로 전송되고; 상기 생성된 제어 데이터는 선택적으로 데이터링크 또는 데이터 매체를 통해 레이저 장치(L)로 전송되는, 제어 데이터의 준비 및 생성 방법.
  27. 제 22 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 목표 지점(6)의 패턴을 포함하는 제어 데이터 세트를 생성하는 동안, 한정된 환형 표면(32)이 변형되지 않은 각막(22)에 존재하도록, 특히 환자(13)와의 인터페이스, 선택적으로 환자와의 콘택트렌즈 또는 액체 인터페이스를 사용하여, 상기 펄스된 레이저 빔(2)의 인가 동안 발생하는 눈(3)의 각막(22)의 변형이 고려되는, 제어 데이터의 준비 및 생성 방법.
  28. 컴퓨터 상에서 실행될 때 제 22 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 따른 방법을 실행하는 프로그램 코드를 포함하는 소프트웨어 제품.
  29. 제 28 항에 따른 소프트웨어 제품을 포함하는 데이터 매체.
  30. 환자의 눈(3)의 각막(22)에 외과적 문신을 실행하는 방법으로서,
    - 제 22 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항의 방법에 따라 펄스된 레이저 빔(2)을 인가함으로써 각막의 조직을 절단하는 레이저 장치(L)를 포함하고 환자의 눈(3)의 각막(22)의 외과적 문신을 가능하게 하는 치료 장치(1)에 대한 제어 데이터를 준비하고 생성하는 방법을 실행하는 단계,
    - 생성된 제어 데이터를 사용하여 상기 치료 장치(1)로 눈(3)의 각막(22)의 외과적 레이저 치료를 수행하는 단계,
    - 예를 들어 플랩 리프터(flap lifter)와 같은 수술 도구를 사용하는 외과적 레이저 치료 동안 만들어진 표면들에서 레이저 치료로 남아있는 조직 브리지들(5)을 선택적으로 기계적으로 절단하는 단계, 및
    - 예를 들어 액세스 표면들(35)을 사용하여 상기 환형 표면(32) 내로 적어도 하나의 착색된 염료를 주입하는 단계를 포함하는, 방법.

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