KR20200016198A - The manufacturing method of an image display apparatus, and the image display apparatus obtained by this manufacturing method - Google Patents
The manufacturing method of an image display apparatus, and the image display apparatus obtained by this manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- KR20200016198A KR20200016198A KR1020197029123A KR20197029123A KR20200016198A KR 20200016198 A KR20200016198 A KR 20200016198A KR 1020197029123 A KR1020197029123 A KR 1020197029123A KR 20197029123 A KR20197029123 A KR 20197029123A KR 20200016198 A KR20200016198 A KR 20200016198A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- polarizing plate
- film
- image display
- board
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 136
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 32
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 70
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 70
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 33
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 12
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 6
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000005562 fading Methods 0.000 abstract description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 148
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 38
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 38
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 27
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- -1 Na 2 O Chemical class 0.000 description 22
- 239000002585 base Substances 0.000 description 19
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 16
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 14
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229960002645 boric acid Drugs 0.000 description 13
- 235000010338 boric acid Nutrition 0.000 description 13
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 13
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 13
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 13
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 12
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 11
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 10
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 9
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 9
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 7
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 4
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N Iodine aqueous Chemical compound [K+].I[I-]I DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920000346 polystyrene-polyisoprene block-polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- BOGRNZQRTNVZCZ-AATRIKPKSA-N (3e)-3-methylpenta-1,3-diene Chemical compound C\C=C(/C)C=C BOGRNZQRTNVZCZ-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N (3e)-hexa-1,3-diene Chemical compound CC\C=C\C=C AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- BOGRNZQRTNVZCZ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethyl-butadiene Natural products CC=C(C)C=C BOGRNZQRTNVZCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTPNYMSKBPZSTF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C=C VTPNYMSKBPZSTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEOXIOXMKNFLQ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-prop-2-enylbenzene Chemical group CC1=CC=C(CC=C)C=C1 WAEOXIOXMKNFLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHKPXKGJFOKCGG-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-ene;styrene Chemical compound CC(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 UHKPXKGJFOKCGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920008790 Amorphous Polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- VCLWNCAUAKTVII-UHFFFAOYSA-N C=C.CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 Chemical group C=C.CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 VCLWNCAUAKTVII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000005156 Dehydration Diseases 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTACIUYXLGWTAE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 RTACIUYXLGWTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000010227 cup method (microbiological evaluation) Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- OGQVROWWFUXRST-UHFFFAOYSA-N hepta-1,3-diene Chemical class CCCC=CC=C OGQVROWWFUXRST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical group OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 150000003097 polyterpenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001935 styrene-ethylene-butadiene-styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
-
- H01L27/32—
-
- H01L51/50—
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
- H05B33/04—Sealing arrangements, e.g. against humidity
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
가습 환경 하에서도 우수한 광학 특성을 유지할 수 있고, 색빠짐이 방지된 기판 부착 편광판의 간편한 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 기판 부착 편광판의 제조 방법은 편광판과 편광판보다 큰 사이즈를 갖는 기판을 준비하는 것; 기판이 편광판의 외주로부터 연장-돌출하도록 하여 기판과 편광판을 적층하는 것; 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 형성하는 것; 및 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 기판 및 봉지부를 절단하여, 소정의 사이즈로 하는 것을 포함한다.Provided is a simple method for manufacturing a polarizing plate with a substrate that can maintain excellent optical properties even in a humidified environment and is prevented from fading. The manufacturing method of the polarizing plate with a board | substrate of this invention is preparing the board | substrate which has a larger size than a polarizing plate and a polarizing plate; Stacking the substrate and the polarizing plate such that the substrate extends-protrudes from the outer circumference of the polarizing plate; Forming an encapsulation portion covering a peripheral end face of the polarizing plate; And cutting the substrate and the encapsulation into a predetermined size, leaving an extension-protrusion portion of a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate.
Description
본 발명은 화상 표시 장치의 제조 방법 및 해당 제조 방법에 의해 얻어진 화상 표시 장치에 관한 것이다. This invention relates to the manufacturing method of an image display apparatus, and the image display apparatus obtained by this manufacturing method.
화상 표시 장치(예컨대, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 양자점 표시 장치)에는 그의 화상 형성 방식에 기인하여, 많은 경우, 표시 셀의 적어도 한쪽 측에 편광판이 배치되어 있다. 그러나 편광판은 실질적으로 편광판의 학 특광성을 지배하는 편광막의 광학 특성이 가습 환경 하에서 저하된다고 하는 내구성의 문제가 있다. 보다 구체적으로는, 편광막은 가습 환경 하에서 단부의 편광 성능이 소실되고, 결과로서 화상 표시 장치에 이른바 색빠짐이라고 하는 현상이 발생하는 경우가 있다.In many cases, a polarizing plate is disposed on at least one side of a display cell due to its image forming method in an image display device (for example, a liquid crystal display device, an organic EL display device, and a quantum dot display device). However, the polarizing plate has a problem of durability in that the optical properties of the polarizing film which substantially dominate the chemical specificity of the polarizing plate are degraded under a humidified environment. More specifically, in the polarizing film, the polarization performance of the end part is lost in a humidified environment, and as a result, a phenomenon called color fading may occur in the image display device.
일본 공개특허공보 제2000-338329호 Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2000-338329
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것이고, 그 주된 목적은 가습 환경 하에서도 우수한 광학 특성을 유지할 수 있고, 색빠짐이 방지된 화상 표시 장치 및 그의 간편한 제조 방법을 제공하는 것이다.This invention is made | formed in order to solve the said subject, The main objective is to provide the image display apparatus which can maintain the outstanding optical characteristic in a humidification environment, and was prevented from color fallout, and its simple manufacturing method.
본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법은 편광판과 해당 편광판보다 큰 사이즈를 갖는 기판을 준비하는 것; 해당 기판이 해당 편광판의 외주로부터 연장-돌출(延出)하도록 하여, 해당 기판과 해당 편광판을 적층하는 것; 해당 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 형성하는 것; 및 해당 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 해당 기판 및 해당 봉지부를 절단하여 소정의 사이즈로 하는 것;을 포함한다.A manufacturing method of the image display device of the present invention comprises preparing a polarizing plate and a substrate having a size larger than that of the polarizing plate; Stacking the substrate and the polarizing plate such that the substrate extends and protrudes from the outer periphery of the polarizing plate; Forming an encapsulation portion covering a peripheral end face of the polarizing plate; And cutting the substrate and the encapsulation portion into a predetermined size, leaving an extension-protrusion portion of a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate.
하나의 실시형태에서는, 상기 기판은 유리판이다. 다른 실시형태에서는 상기 기판은 수지 필름이다.In one embodiment, the said board | substrate is a glass plate. In another embodiment, the substrate is a resin film.
하나의 실시형태에서는, 상기 제조 방법은 상기 기판이 상기 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 연장-돌출하도록 하여, 해당 기판과 해당 편광판을 적층한다.In one embodiment, the said manufacturing method laminate | stacks the said board | substrate and this polarizing plate so that the said board | substrate may extend-protrude from all four sides which comprise the outer periphery of the said polarizing plate.
하나의 실시형태에서는, 상기 기판은 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 및 양자점 표시 장치로부터 선택되는 화상 표시 장치의 표시 셀 기판이다.In one embodiment, the substrate is a display cell substrate of an image display device selected from a liquid crystal display device, an organic EL display device, and a quantum dot display device.
하나의 실시형태에서는, 상기 절단은 레이저 광을 조사함으로써 수행된다.In one embodiment, said cutting is performed by irradiating laser light.
하나의 실시형태에서는, 상기 절단 후의 상기 봉지부의 연장-돌출 부분의 길이는 10㎛∼500㎛이다.In one embodiment, the length of the extension-protrusion part of the said sealing part after the said cutting | disconnection is 10 micrometers-500 micrometers.
하나의 실시형태에서는, 상기 절단 후의 봉지부의 투습도는 300g/㎡/24hr 이하이다.In one embodiment, the water vapor transmission rate of the sealing part after the said cutting | disconnection is 300 g / m <2> / 24hr or less.
본 발명의 다른 측면에 의하면, 화상 표시 장치가 제공된다. 이 화상 표시 장치는 편광판과 해당 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 갖는 기판과, 해당 연장-돌출 부분에 형성되어 해당 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 갖는다.According to another aspect of the present invention, an image display device is provided. This image display apparatus has a polarizing plate, a board | substrate which has the extension-protrusion part of predetermined length from the peripheral edge of this polarizing plate, and the sealing part formed in the said extension-protrusion part, and covering the peripheral end surface of the said polarizing plate.
본 발명에 의하면, 화상 표시 장치의 제조 방법에서, 기판의 편광판으로부터 연장-돌출한 부분에 봉지부를 형성하여 편광판의 주위 단면을 봉지하고, 봉지부 및 대응하는 기판의 연장-돌출 부분을 해당 편광판의 주위 가장자리로부터 소정의 길이를 남기고 절단함으로써 가습 환경 하에서도 우수한 광학 특성을 유지할 수 있어, 색빠짐이 방지된 화상 표시 장치를 간편하게 제조할 수 있다. According to the present invention, in the method for manufacturing an image display device, an encapsulation portion is formed in a portion extending-protruded from a polarizing plate of a substrate to enclose a peripheral end face of the polarizing plate, and the extension-protrusion portion of the encapsulation portion and the corresponding substrate is formed on the polarizing plate. By cutting away a predetermined length from the peripheral edge, excellent optical properties can be maintained even in a humidified environment, and an image display device in which color fading can be prevented can be easily manufactured.
도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 화상 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 개략도이다.
도 2는 색빠짐 양의 산출을 설명하기 위한 모식도이다.
도 3은 실시예 1의 화상 표시 장치 대체품으로서의 기판 부착 편광판의 가습 시험 후의 색빠짐 양을 나타내는 화상이다.
도 4는 비교예 1의 화상 표시 장치 대체품으로서의 기판 부착 편광판의 가습 시험 후의 색빠짐 양을 나타내는 화상이다.1 is a schematic view for explaining a method for manufacturing an image display device according to one embodiment of the present invention.
2 is a schematic diagram for explaining the calculation of the amount of color loss.
It is an image which shows the amount of color fading after the humidification test of the polarizing plate with a board | substrate as an image display apparatus alternative of Example 1. FIG.
It is an image which shows the amount of color fading after the humidification test of the polarizing plate with a board | substrate as an image display apparatus alternative of the comparative example 1. FIG.
이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시형태에는 한정되지 않는다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although embodiment of this invention is described, this invention is not limited to these embodiment.
A. 화상 표시 장치의 제조 방법A. Manufacturing Method of Image Display Device
본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법은, 편광판과 해당 편광판보다 큰 사이즈를 갖는 기판을 준비하는 것; 해당 기판이 해당 편광판의 외주로부터 연장-돌출 하도록 하여, 해당 기판과 해당 편광판을 적층하는 것; 해당 편광판의 주위 단면 을 덮는 봉지부를 형성하는 것; 및 해당 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 해당 기판 및 해당 봉지부를 절단하여, 소정의 사이즈로 하는 것을 포함한다.The manufacturing method of the image display apparatus of this invention is providing the polarizing plate and the board | substrate which has a size larger than this polarizing plate; Stacking the substrate and the polarizing plate such that the substrate extends and protrudes from the outer periphery of the polarizing plate; Forming an encapsulation portion covering a peripheral end face of the polarizing plate; And cutting | disconnecting the said board | substrate and the said sealing part, leaving the extension-protrusion part of predetermined length from the peripheral edge of the said polarizing plate, and making it a predetermined size.
본 발명은 화상 표시 장치에서의 기판과 편광판과의 임의의 적층 구조에 적용 가능하다. 기판은 대표적으로는 화상 표시 장치의 표시 셀 기판일 수 있다. 화상 표시 장치의 대표예로서는 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 양자점 표시 장치를 들 수 있다. 표시 셀 기판으로서는 예컨대, 액정 셀의 기판, 유기 EL 셀의 기판, 양자점 표시 셀의 기판, 액정 표시 장치에서 컬러 필터를 양면으로부터 봉지하는 기판을 들 수 있다. 본 발명의 제조 방법은 하나의 실시형태에서는, 기판과 편광판을 적층하고, 당해 적층체에 봉지부를 형성하여 기판 부착 편광판을 제작하며, 당해 기판 부착 편광판을 표시 셀 기판으로서 이용함으로써 화상 표시 장치를 얻을 수 있다. 본 발명의 제조 방법은, 다른 실시형태에서는 표시 셀을 제작하고, 당해 표시 셀의 기판에 편광판을 적층하며, 이어서 봉지부를 형성함으로써, 화상 표시 장치 를 얻을 수 있다. 이하, 대표예로서, 기판 부착 편광판을 표시 셀 기판으로서 이용하는 실시형태를 설명한다.This invention is applicable to arbitrary laminated structures of the board | substrate and polarizing plate in an image display apparatus. The substrate may typically be a display cell substrate of an image display device. Representative examples of the image display device include a liquid crystal display device, an organic EL display device, and a quantum dot display device. As a display cell substrate, the board | substrate which seals a color filter from both surfaces in the board | substrate of a liquid crystal cell, the board | substrate of an organic EL cell, the board | substrate of a quantum dot display cell, and a liquid crystal display device is mentioned, for example. In one embodiment, the manufacturing method of this invention laminates a board | substrate and a polarizing plate, forms a sealing part in the said laminated body, produces the polarizing plate with a board | substrate, and obtains an image display apparatus by using the said polarizing plate with a board | substrate as a display cell substrate. Can be. In the other embodiment, the manufacturing method of this invention can obtain an image display apparatus by manufacturing a display cell, laminating | stacking a polarizing plate on the board | substrate of the said display cell, and then forming a sealing part. Hereinafter, embodiment which uses a polarizing plate with a board | substrate as a display cell board | substrate is demonstrated as a representative example.
A-1. 편광판 및 기판의 준비A-1. Preparation of Polarizers and Substrates
먼저, 도 1(a)에 나타내는 바와 같이, 편광판(10) 및 기판(20)을 준비한다. 이하, 편광판 및 기판에 대하여 구체적으로 설명한다.First, as shown to Fig.1 (a), the polarizing
A-1-1. 편광판A-1-1. Polarizer
편광판은 편광막과 편광막의 적어도 편측에 배치된 보호 필름을 갖는다. 본 발명의 실시형태에서는 편광막은 요오드를 포함하는 폴리비닐알코올계 수지(이하, 'PVA계 수지'라 칭함) 필름으로 구성되어 있다. 편광막이 요오드를 포함하는 경우에, 봉지부를 설치하는 효과가 현저하게 된다. 편광막의 두께는 대표적으로는 8㎛ 이하 이다. 편광막이 요오드를 포함하고, 또한 그 두께가 이와 같이 매우 얇은 경우에는 편광막 중의 요오드 밀도가 높아져 가습에 의한 요오드의 안정성이 저하되기 쉽기 때문에 봉지부를 설치하는 효과가 더욱 현저하게 된다. 보호 필름은 편광막의 편측에 배치되어도 되고, 양측에 배치되어도 된다. 보호 필름이 편광막의 편측에 배치되는 경우, 표시 셀 측에 배치되어도 되고, 표시 셀과 반대측에 배치되어도 된다. 실용적으로는 편광판의 표시 셀 측 최외층으로서 점착제층이 설치되고, 편광판은 당해 점착제층을 개재하여 표시 셀에 첩합(貼合)된다. 또한, 본 명세서에서 간단히 보호 필름이라는 할 때에는 이와 같은 편광막을 보호하는 필름(편광판의 구성 요소)을 의미하고, 상기의 표면 보호 필름(작업 시에 편광판을 일시적으로 보호하는 필름)과는 상이한 것이다.The polarizing plate has a polarizing film and a protective film arranged on at least one side of the polarizing film. In embodiment of this invention, a polarizing film is comprised from the polyvinyl alcohol-type resin (henceforth "PVA-type resin") film containing iodine. When a polarizing film contains iodine, the effect of providing a sealing part becomes remarkable. The thickness of a polarizing film is typically 8 micrometers or less. In the case where the polarizing film contains iodine and its thickness is so thin, the iodine density in the polarizing film becomes high, and the stability of iodine due to humidification tends to be lowered. A protective film may be arrange | positioned at the one side of a polarizing film, and may be arrange | positioned at both sides. When a protective film is arrange | positioned at the one side of a polarizing film, it may be arrange | positioned at the display cell side and may be arrange | positioned at the opposite side to a display cell. Practically, an adhesive layer is provided as a display cell side outermost layer of a polarizing plate, and a polarizing plate is bonded to a display cell via the said adhesive layer. In addition, in this specification, when it says simply a protective film, it means the film (component of a polarizing plate) which protects such a polarizing film, and is different from said surface protection film (film which temporarily protects a polarizing plate at the time of operation).
A-1-1-1. 편광막A-1-1-1. Polarizer
편광막은 상기한 바와 같이, 요오드를 포함하는 PVA계 수지 필름으로 구성된다. 편광막은 단층의 수지 필름으로 형성되어도 되고, 2층 이상의 적층체로 형성되어도 된다.As above-mentioned, a polarizing film is comprised from the PVA system resin film containing iodine. The polarizing film may be formed of a single-layer resin film or may be formed of a laminate of two or more layers.
단층의 수지 필름으로 형성되는 편광막의 구체예로서는, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·초산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA의 탈수 처리물이나 폴리 염화 비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는 광학 특성이 우수한 점에서 PVA계 필름을 요오드로 염색하고 1축 연신하여 얻어진 편광막 이 이용된다. 상기 요오드에 의한 염색은 예컨대, PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지함으로써 수행된다. 상기 1축 연신의 연신 배율은 바람직하게는 3∼7배이다. 연신은 염색 처리 후에 수행하여도 되고, 염색하면서 수행하여도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색하여도 된다. 필요에 따라서 PVA계 필름에 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예컨대, 염색 전에 PVA계 필름을 물에 침지하여 수세함으로써 PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있을 뿐만 아니라, PVA계 필름을 팽윤시켜 염색 얼룩 등을 방지할 수 있다.As a specific example of the polarizing film formed from the resin film of a single | mono layer, hydrophilic polymer films, such as a polyvinyl alcohol (PVA) type film, a partially formalized PVA type film, and an ethylene vinyl acetate copolymerization type partial saponification film, such as an iodine or a dichroic dye, etc. And polyene-based alignment films such as those subjected to dyeing treatment and stretching treatment with a dichroic substance, dehydration treatment of PVA, and dehydrochlorination treatment of polyvinyl chloride. Preferably, a polarizing film obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching in terms of excellent optical properties is used. The dyeing with iodine is carried out by immersing the PVA film in an iodine aqueous solution. The draw ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after the dyeing treatment or may be performed while dyeing. Moreover, you may dye after extending | stretching. A swelling process, a crosslinking process, a washing process, a drying process, etc. are given to a PVA system film as needed. For example, by immersing the PVA-based film in water prior to dyeing and washing with water, not only can the contamination of the surface of the PVA-based film or an antiblocking agent be washed, but also the swelling of the PVA-based film can prevent staining and the like.
적층체를 이용하여 얻어지는 편광막의 구체예로서는 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)과의 적층체, 또는 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광막을 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층과의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광막은 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 상에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층과의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광막으로 하는 것에 의해 제작될 수 있다. 본 실시형태에서는, 연신은 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은 필요에 따라 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더 포함할 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광막의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 편광막의 보호 필름으로 하여도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고, 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호 필름을 적층하여 이용하여도 된다. 이와 같은 편광막의 제조 방법의 상세는 예컨대 일본 공개특허공보 제2012-73580호에 기재되어 있다. 당해 공보는 그의 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.As a specific example of the polarizing film obtained using a laminated body, the laminated body of a resin base material and the PVA system resin layer (PVA system resin film) laminated | stacked on the said resin base material, or the resin base material and the PVA system resin layer apply | coated and formed in the said resin base material The polarizing film obtained using a laminated body is mentioned. The polarizing film obtained using the laminated body of a resin base material and the PVA-type resin layer apply | coated to the said resin base material apply | coats a PVA system resin solution to a resin base material, it dries, and forms a PVA resin layer on a resin base material, for example, Obtaining a laminate of a resin substrate and a PVA resin layer; The laminate can be stretched and dyed to produce a PVA resin layer as a polarizing film. In this embodiment, extending | stretching typically includes extending | stretching and immersing a laminated body in boric-acid aqueous solution. In addition, the stretching may further include air stretching the laminate at a high temperature (eg, 95 ° C. or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution as necessary. The laminated body of the obtained resin base material / polarizing film may be used as it is (that is, the resin base material may be used as a protective film of a polarizing film), the resin base material is peeled from the laminated body of the resin base material / polarizer, and the said peeling surface is used for the objective. Any suitable protective film according to the present invention may be laminated and used. The detail of the manufacturing method of such a polarizing film is described, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-73580. This publication is incorporated herein by reference in its entirety.
상기 PVA계 수지 필름을 형성하는 PVA계 수지로서는 임의의 적절한 수지가 채용될 수 있다. 예컨대, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은 폴리초산비닐을 비누화함으로써 얻어진다. 에틸렌-비닐알코올 공중합체는 에틸렌-초산비닐 공중합체를 비누화함으로써 얻어진다. PVA계 수지의 비누화도는 통상적으로 85몰%∼100몰%이고, 바람직하게는 95.0몰%∼99.9몰%, 더욱 바람직하게는 99.0몰%∼99.5몰%이다. 비누화도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다. 이와 같은 비누화도의 PVA계 수지를 이용함으로써, 내구성이 우수한 편광막을 얻을 수 있다. 비누화도가 지나치게 높은 경우에는 겔화될 우려가 있다. Arbitrary appropriate resin can be employ | adopted as PVA system resin which forms the said PVA system resin film. For example, polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer are mentioned. Polyvinyl alcohol is obtained by saponifying polyvinyl acetate. The ethylene-vinyl alcohol copolymer is obtained by saponifying the ethylene-vinyl acetate copolymer. The saponification degree of the PVA-based resin is usually 85 mol% to 100 mol%, preferably 95.0 mol% to 99.9 mol%, and more preferably 99.0 mol% to 99.5 mol%. Saponification degree can be calculated | required according to JISK6726-1994. By using PVA-type resin of such saponification degree, the polarizing film excellent in durability can be obtained. If the degree of saponification is too high, there is a risk of gelation.
PVA계 수지의 평균 중합도는 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 평균 중합도는 통상적으로 1000∼10000이고, 바람직하게는 1200∼5000, 더욱 바람직하게는 1500∼4500이다. 또한, 평균 중합도는 JIS K 6726-1994에 준하여 구할 수 있다. The average degree of polymerization of the PVA-based resin may be appropriately selected according to the purpose. The average degree of polymerization is usually 1000 to 10,000, preferably 1200 to 5000, and more preferably 1500 to 4500. In addition, average polymerization degree can be calculated | required according to JISK6726-1994.
상기와 같이, 편광막은 요오드를 포함한다. 편광막은 실질적으로는 요오드가 흡착 배향된 PVA계 수지 필름이다. PVA계 수지 필름 중의 요오드 농도는, 예컨대 5.0중량%∼12.0중량%이다. 또한, PVA계 수지 필름 중의 붕산 농도는, 예컨대 12중량%∼25중량%이다. As described above, the polarizing film contains iodine. A polarizing film is a PVA system resin film in which iodine was adsorbed and oriented substantially. The iodine concentration in a PVA system resin film is 5.0 weight%-12.0 weight%, for example. In addition, the boric acid concentration in a PVA system resin film is 12 weight%-25 weight%, for example.
편광막의 두께는 상기와 같이 대표적으로는 8㎛ 이하이고, 바람직하게는 7㎛ 이하, 보다 바람직하게는 6㎛ 이하이다. 한편, PVA계 수지 필름의 두께는 바람직하게는 1.0㎛ 이상, 보다 바람직하게는 2.0㎛ 이상이다. The thickness of a polarizing film is typically 8 micrometers or less as mentioned above, Preferably it is 7 micrometers or less, More preferably, it is 6 micrometers or less. On the other hand, the thickness of a PVA system resin film becomes like this. Preferably it is 1.0 micrometer or more, More preferably, it is 2.0 micrometers or more.
상기 편광막은 바람직하게는 파장 380nm∼780nm 중 어느 파장에서 흡수 이색성(二色性)을 나타낸다. 편광막의 단체 투과율은 바람직하게는 40.0%∼46.0%이고, 보다 바람직하게는 41.0%∼45.0%이다. 편광막의 편광도는 바람직하게는 99.9% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.95% 이상이며, 더욱 바람직하게는 99.98% 이상이다. 편광판이 반사형 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치에 적용되는 경우에는 편광막의 편광도는 바람직하게는 90% 이상이고, 보다 바람직하게는 93% 이상이며, 더욱 바람직하게는 95% 이상이다. 후술하는 바와 같이, 편광막을 포함하는 화상 표시 패널의 주위 단면을 덮는 봉지부를 설치함으로써, 이와 같은 우수한 광학 특성(단체 투과율 및 편광도의 균형이 우수한 것)과 우수한 내구성(가습 환경 하에서도 이와 같은 우수한 광학 특성을 유지할 수 있는 것)을 양립할 수 있다. The polarizing film preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm. The single transmittance of the polarizing film is preferably 40.0% to 46.0%, more preferably 41.0% to 45.0%. The polarization degree of the polarizing film is preferably 99.9% or more, more preferably 99.95% or more, and still more preferably 99.98% or more. When a polarizing plate is applied to a reflective liquid crystal display device or an organic EL display device, the polarization degree of the polarizing film is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and still more preferably 95% or more. As will be described later, by providing the encapsulation portion covering the peripheral end face of the image display panel including the polarizing film, such excellent optical characteristics (excellent balance of single transmittance and polarization degree) and excellent durability (such excellent optical under humid environment) Capable of maintaining characteristics) can be compatible.
A-1-1-2. 보호 필름 A-1-1-2. Protective film
보호 필름은 편광막의 보호 필름으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 구성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리노보넨계, 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지 등을 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열 경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 이 외에도, 예컨대, 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본 공개특허공보 제2001-343529호(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로서는 예컨대, 측쇄에 치환 또는 비치환의 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측쇄에 치환 또는 비치환의 페닐기 및 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물이 사용될 수 있고, 예컨대, 이소부텐과 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교호 공중합체와, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 갖는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은 예컨대, 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다.The protective film consists of any suitable film which can be used as a protective film of a polarizing film. As a specific example of the material used as the main component of the said film, cellulose resins, such as triacetyl cellulose (TAC), polyester type, polyvinyl alcohol type, polycarbonate type, polyamide type, polyimide type, polyether sulfone type, and polysulfone Transparent resins, such as a phone type, a polystyrene type, a polynorbornene type, a polyolefin type, (meth) acrylic type, an acetate type, etc. are mentioned. Moreover, thermosetting resins, such as (meth) acrylic-type, urethane type, (meth) acrylic-type urethane type, an epoxy type, a silicone type, or ultraviolet curing type resin etc. are mentioned. In addition, glassy polymers, such as a siloxane polymer, are mentioned, for example. Moreover, the polymer film of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-343529 (WO01 / 37007) can also be used. As a material of this film, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in the side chain and a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and a nitrile group in the side chain can be used. For example, isobutene and N The resin composition which has the alternating copolymer which consists of -methyl maleimide, and an acrylonitrile styrene copolymer is mentioned. The polymer film may be, for example, an extrusion molded product of the resin composition.
본 발명의 실시형태에서는 상기한 바와 같이, 편광판의 제조에 이용되는 수지 기재를 그대로 보호 필름으로서 이용하여도 된다. In embodiment of this invention, as above-mentioned, you may use the resin base material used for manufacture of a polarizing plate as a protective film as it is.
시인측(視認側)에 배치되는 편광판에 있어서 보호 필름이 편광막의 시인측에 배치되는 경우에는 보호 필름에는 필요에 따라 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.When a protective film is arrange | positioned at the visual recognition side of a polarizing film in the polarizing plate arrange | positioned at the visual recognition side, the protective film has surface treatments, such as a hard-coat process, an anti-reflective process, an anti-sticking process, and an antiglare process, as needed. May be implemented.
보호 필름의 두께는 본 발명의 효과가 얻어지는 한에서, 임의의 적절한 두께가 채용될 수 있다. 보호 필름의 두께는 예컨대 10㎛∼40㎛이고, 바람직하게는 10㎛∼30㎛이다. 또한, 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 보호 필름의 두께는 표면 처리층의 두께를 포함한 두께이다.As long as the effect of this invention is acquired, the thickness of a protective film may employ | adopt an appropriate thickness. The thickness of a protective film is 10 micrometers-40 micrometers, for example, Preferably they are 10 micrometers-30 micrometers. In addition, when surface treatment is given, the thickness of a protective film is the thickness containing the thickness of a surface treatment layer.
편광막의 표시 셀 측에 보호 필름(내측 보호 필름)을 배치하는 경우, 하나의 실시형태에서는 당해 내측 보호 필름은 광학적으로 등방성인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서 '광학적으로 등방성인'이란, 면내 위상차 Re(550)이 0nm∼10nm이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550)이 -10nm∼+10nm인 것을 말한다. 내측 보호 필름의 Re(550)은 바람직하게는 0nm∼8nm이고, 보다 바람직하게는 0nm∼6nm이며, 더욱 바람직하게는 0nm∼3nm이다. 내측 보호 필름의 Rth(550)은 바람직하게는 -8nm∼+8nm이고, 보다 바람직하게는 -6nm∼+6nm이며, 더욱 바람직하게는 -3nm∼+3nm이다. 또한 'Re(550)'은 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(550)은 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식: Re=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다. 또한 'Rth(550)'은, 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식:Rth=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다. When arranging a protective film (inner protective film) on the display cell side of a polarizing film, in one embodiment, it is preferable that the said inner protective film is optically isotropic. In this specification, "optically isotropic" means that in-plane phase difference Re (550) is 0 nm-10 nm, and phase difference Rth (550) of thickness direction is -10 nm-+10 nm. Re (550) of the inner protective film is preferably 0 nm to 8 nm, more preferably 0 nm to 6 nm, still more preferably 0 nm to 3 nm. Rth (550) of the inner protective film is preferably -8 nm to +8 nm, more preferably -6 nm to +6 nm, and still more preferably -3 nm to +3 nm. 'Re (550)' is an in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. Re (550) can be calculated | required by Formula: Re = (nx-ny) xd, when the thickness of a layer (film) is d (nm). In addition, "Rth (550)" is a phase difference of the thickness direction measured with the light of wavelength 550nm in 23 degreeC. Rth (λ) can be obtained by the formula: Rth = (nx−nz) × d when the thickness of the layer (film) is d (nm).
다른 실시형태에서는, 내측 보호 필름은 소위 λ/4판으로서 기능할 수 있는 Re(550)을 가지고 있어도 된다. 이와 같은 실시형태는 예컨대, 편광판이 원편광판으로서 기능하고 반사형 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치의 반사 방지 필름으로서 이용되는 경우에 적용될 수 있다. 이 경우, Re(550)은 바람직하게는 120nm∼160nm이고, 보다 바람직하게는 약 140nm이다. 이 경우, 내측 보호 필름은 그의 지상축(遲相軸)이 편광막의 흡수축에 대하여 바람직하게는 40°∼50°, 보다 바람직하게는 약 45°의 각도를 이루도록 하여 배치될 수 있다.In another embodiment, the inner side protective film may have Re (550) which can function as what is called (lambda) / 4 plate. Such an embodiment can be applied, for example, when a polarizing plate functions as a circular polarizing plate and is used as an antireflection film of a reflective liquid crystal display device or an organic EL display device. In this case, Re (550) is preferably 120 nm to 160 nm, more preferably about 140 nm. In this case, the inner protective film may be arranged such that its slow axis is at an angle of preferably 40 ° to 50 °, more preferably about 45 ° with respect to the absorption axis of the polarizing film.
A-1-2. 기판A-1-2. Board
기판으로서는 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 예컨대, 기판은 유리판이어도 되고, 수지 필름이어도 된다. 기판은 편광판보다도 큰 사이즈를 갖는다. 기판은 편광판과 적층한 경우에 바람직하게는 편광판의 외주로부터 소정의 길이로 연장-돌출하는 사이즈를 갖고, 보다 바람직하게는 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 소정의 길이로 연장-돌출하는 사이즈를 갖는다.Arbitrary suitable structures can be employ | adopted as a board | substrate. For example, a glass plate may be sufficient as a board | substrate, and a resin film may be sufficient as it. The substrate has a larger size than the polarizing plate. When laminated | stacked with a polarizing plate, the board | substrate preferably has the size which extends and protrudes by the predetermined length from the outer periphery of a polarizing plate, More preferably, the size which extends and protrudes by the predetermined length from all four sides which comprise the outer periphery of a polarizing plate Has
유리판으로서는 임의의 적절한 유리판이 채용될 수 있다. 유리판을 구성하는 유리는 조성에 따른 분류에 의하면, 예컨대, 소다 석회 유리, 붕산 유리, 알루미노 규산 유리, 석영 유리를 들 수 있다. 또한, 알칼리 성분에 따른 분류에 의하면, 무알칼리 유리, 저알칼리 유리를 들 수 있다. 유리의 알칼리 금속 성분(예컨대, Na2O, K2O, Li2O)의 함유량은 바람직하게는 15중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 10중량% 이하이다.Arbitrary suitable glass plates may be employ | adopted as a glass plate. According to the classification according to the composition, the glass which comprises a glass plate can mention a soda-lime glass, a boric-acid glass, an alumino silicate glass, and a quartz glass, for example. Moreover, according to the classification according to an alkali component, an alkali free glass and a low alkali glass are mentioned. The content of alkali metal (e.g., Na 2 O, K 2 O, Li 2 O) in the glass is preferably not more than 15% by weight, more preferably 10% or less.
유리판의 파장 550nm에서의 광 투과율은 바람직하게는 85% 이상이다. 유리판의 파장 550nm에서의 굴절률은 바람직하게는 1.4∼1.65이다. 유리판의 밀도는 바람직하게는 2.3g/cm3∼3.0g/cm3이고, 더욱 바람직하게는 2.3g/cm3∼2.7g/cm3이다. The light transmittance at the wavelength of 550 nm of a glass plate becomes like this. Preferably it is 85% or more. The refractive index at the wavelength of 550 nm of a glass plate becomes like this. Preferably it is 1.4-1.65. The density of the glass sheet is preferably from 2.3g / cm 3 ~3.0g / cm 3 , more preferably from 2.3g / cm 3 ~2.7g / cm 3 .
유리판의 두께는 바람직하게는 0.1mm∼1.0mm이고, 보다 바람직하게는 0.2mm∼0.6mm이다.The thickness of the glass plate is preferably 0.1 mm to 1.0 mm, more preferably 0.2 mm to 0.6 mm.
유리판은 시판의 유리판을 그대로 이용하여도 되고, 시판의 유리판을 소망하는 두께가 되도록 연마하여 이용하여도 된다. 시판의 유리판으로서는 예컨대 코닝 사 제조의 '7059', '1737' 또는 'EAGLE2000', 아사히글라스사 제조의 'AN100', NH 테크노글라스사 제조의 'NA-35', 일본 전기 초자사 제조의 'OA-10', 쇼트사 제조의'D263' 또는 'AF45'를 들 수 있다.A glass plate may use a commercially available glass plate as it is, and may use it by grind | polishing a commercially available glass plate so that it may become a desired thickness. Examples of commercially available glass plates include Corning's 7059, 1737 or EAGLE2000, Asahi Glass's AN100, NH Technoglass's NA-35, and Japan Electric Co., Ltd.'s OA. -10 ', "D263" or "AF45" by the short company are mentioned.
수지 필름으로서는 임의의 적절한 수지 필름이 채용될 수 있다. 수지 필름 은 대표적으로 투명 수지 필름이다. 수지 필름을 구성하는 재료로서는 예컨대, 폴리이미드, 폴리아미드이미드를 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.Arbitrary suitable resin films can be employ | adopted as a resin film. The resin film is typically a transparent resin film. As a material which comprises a resin film, polyimide and polyamideimide are mentioned, for example. These may be used alone or in combination.
수지 필름의 두께는 바람직하게는 10㎛∼200㎛이고, 더욱 바람직하게는 20㎛∼100㎛이다. The thickness of the resin film is preferably 10 µm to 200 µm, more preferably 20 µm to 100 µm.
A-2. 편광판과 기판과의 적층A-2. Lamination of Polarizer and Substrate
다음으로, 도 1(a)에 나타내는 바와 같이, 편광판(10)과 기판(20)을 적층한다. 편광판(10)과 기판(20)은 대표적으로는 임의의 적절한 점착제층(도시하지 않음)을 개재하여 적층될 수 있다. 적층은 도 1(a)에 나타내는 바와 같이 기판이 편광판의 외주로부터 연장-돌출하도록 하여 수행되고, 바람직하게는 기판이 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 연장-돌출하도록 하여 수행된다.Next, as shown to Fig.1 (a), the
필요에 따라 편광판(10)의 기판(20)과 반대측의 표면에 표면 보호 필름(도시하지 않음)이 가착(假着)되어도 된다. 이에 따라 후술하는 봉지부의 형성 및 당해 봉지부와 기판의 절단에 있어서, 편광판이 적절하게 보호될 수 있다. 표면 보호 필름은 기판 부착 편광판(실질적으로는 화상 표시 장치)의 최종적인 사용 시에는 박리 제거된다. 표면 보호 필름의 박리 제거는 봉지부의 형성 및 봉지부와 기판의 절단 후의 임의의 적절한 타이밍에 수행될 수 있다.As needed, a surface protection film (not shown) may be temporarily attached to the surface on the opposite side to the
A-3. 봉지부 형성A-3. Encapsulation
다음으로, 도 1(b)에 나타내는 바와 같이, 편광판(10)의 주위 단면을 덮는 봉지부(30)를 형성한다. 봉지부로 편광판의 주위 단면을 덮음으로써 가습 환경 하에서도 편광판(편광막)의 광학 특성을 유지하고 결과로서, 화상 표시 장치의 내구성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 봉지부는 배리어 기능을 갖는 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서, '배리어 기능을 갖는'이란 편광막에 침입하는 산소 및/또는 수증기의 투과량을 제어하여 편광막을 이들로부터 실질적으로 차단하는 것을 의미한다.Next, as shown to FIG. 1 (b), the sealing
봉지부는 대표적으로는 점착제 조성물을 편광판의 주위 단면을 덮도록 배치함으로써 형성된다. 하나의 실시형태에서는, 봉지부는 점착제 조성물을 기판의 연장-돌출 부분에 배치(예컨대, 도포, 시트상 점착제의 배치)하여 형성될 수 있다. 봉지부는 편광판의 주위 단면을 덮고, 당해 주위 단면이 밀봉되어 있으면 되고, 당해 주위 단면에 밀착되어 있을 필요는 없다. 또한 봉지부는 편광판의 주위 단면을 덮고 있으면 되고, 따라서 주위 단면과 함께 주위 단면 이외의 부분을 덮고 있어도 된다. 예컨대, 봉지부는 주위 단면과 함께 편광판의 기판으로부터 떨어진 측의 면(도면에서는 상면)을 덮고 있어도 된다. 이 경우, 당해 면은 전체가 덮여 있어도 되고, 소정의 부분만이 덮여 있어도 된다.The sealing part is typically formed by arranging the pressure-sensitive adhesive composition to cover the peripheral end face of the polarizing plate. In one embodiment, the encapsulation portion can be formed by placing the pressure-sensitive adhesive composition on the extended-projection portion of the substrate (eg, application, placement of the sheet-like pressure sensitive adhesive). The sealing part covers the peripheral end surface of a polarizing plate, the said peripheral end surface should just be sealed, and does not need to be in close contact with the said peripheral end surface. Moreover, the sealing part should just cover the circumferential end surface of a polarizing plate, and therefore may cover the parts other than a circumferential end surface with a circumferential end surface. For example, the sealing portion may cover the surface (upper surface in the drawing) on the side away from the substrate of the polarizing plate together with the peripheral cross section. In this case, the whole surface may be covered and only predetermined part may be covered.
점착제 조성물로서는 예컨대 고무계 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 고무계 점착제 조성물을 들 수 있다.As an adhesive composition, the rubber adhesive composition which uses a rubber polymer as a base polymer is mentioned, for example.
고무계 폴리머로서는 예컨대, 1종의 공역 디엔(conjugated diene) 화합물을 중합함으로써 얻어지는 공역 디엔계 중합체, 2종 이상의 공역 디엔 화합물을 중합함으로써 얻어지는 공역 디엔계 공중합체, 공역 디엔 화합물과 방향족 비닐 화합물을 공중합함으로써 얻어지는 공역 디엔계 공중합체 및 이들의 수첨물을 들 수 있다.Examples of the rubber polymer include copolymerizing a conjugated diene polymer obtained by polymerizing one conjugated diene compound, a conjugated diene copolymer obtained by polymerizing two or more conjugated diene compounds, a conjugated diene compound and an aromatic vinyl compound. The conjugated diene copolymer obtained and these hydrogenated substances are mentioned.
공역 디엔 화합물로서는 중합 가능한 공역 디엔을 갖는 단량체이면 특별히 한정되지 않는다. 공역 디엔 화합물의 구체예로서는, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 1,3-펜타디엔, 3-메틸-1,3-펜타디엔, 1,3-헵타디엔, 1,3-헥사디엔을 들 수 있다. 이들 중에서도, 공업적 입수의 용이성의 관점에서, 1,3-부타디엔, 이소프렌이 바람직하다. 공역 디엔 화합물은 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.The conjugated diene compound is not particularly limited as long as it is a monomer having a polymerizable conjugated diene. Specific examples of the conjugated diene compound include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 3-methyl-1,3-pentadiene, 1,3-hepta Dienes and 1,3-hexadiene. Among these, 1,3-butadiene and isoprene are preferable from the viewpoint of industrial availability. The conjugated diene compound may be used alone or in combination.
방향족 비닐 화합물로서는 공역 디엔 화합물과 공중합 가능한 방향족 비닐 구조를 갖는 단량체이면 특별히 한정되지 않는다. 방향족 비닐 화합물의 구체예로서는 스티렌, p-메틸스티렌, α-메틸스티렌, 비닐에틸벤젠, 비닐크실렌, 비닐나프탈렌, 디페닐에틸렌 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 공업적 입수의 용이성의 관점에서 스티렌이 바람직하다. 방향족 비닐 화합물은 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.It will not specifically limit, if it is a monomer which has an aromatic vinyl structure copolymerizable with a conjugated diene compound as an aromatic vinyl compound. As an example of an aromatic vinyl compound, styrene, p-methylstyrene, (alpha) -methylstyrene, vinyl ethylbenzene, vinyl xylene, vinyl naphthalene, diphenylethylene, etc. are mentioned. Among these, styrene is preferable from the viewpoint of industrial availability. An aromatic vinyl compound may be used independently and may be used in combination.
디엔계 공중합체는 랜덤 공중합체이어도 블록 공중합체이어도 된다. 또한, 공역 디엔 화합물, 방향족 비닐 화합물 이외의 화합물을 공중합하여, 디엔계 공중합체를 얻어도 된다.The diene copolymer may be a random copolymer or a block copolymer. Moreover, you may copolymerize compounds other than a conjugated diene compound and an aromatic vinyl compound, and may obtain a diene type copolymer.
공역 디엔 화합물과 방향족 비닐 화합물을 공중합함으로써 얻어지는 공역 디엔계 공중합체는 공역 디엔 화합물과 방향족 비닐 화합물의 몰비가 공역 디엔 화합물/방향족 비닐 화합물=10/90∼90/10(몰%)인 것이 바람직하다.In the conjugated diene-based copolymer obtained by copolymerizing a conjugated diene compound and an aromatic vinyl compound, the molar ratio of the conjugated diene compound and the aromatic vinyl compound is preferably conjugated diene compound / aromatic vinyl compound = 10/90 to 90/10 (mol%). .
이와 같은 공역 디엔계 (공)중합체의 구체예로서는, 부타디엔 고무(BR), 이소프렌 고무(IR), 스티렌-부타디엔 공중합체(SBR), 부타디엔-이소프렌-스티렌 랜덤 공중합체, 이소프렌-스티렌 랜덤 공중합체, 스티렌-이소프렌 블록 공중합체(SIS), 부타디엔-스티렌 공중합체, 스티렌-에틸렌-부타디엔 블록 공중합체(SEBS), 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(NBR)를 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다. 이들 중에서도, 이소프렌-스티렌 공중합체가 바람직하다. 또한, 이들의 수첨물도 바람직하게 이용할 수 있다.Specific examples of such conjugated diene-based (co) polymers include butadiene rubber (BR), isoprene rubber (IR), styrene-butadiene copolymer (SBR), butadiene-isoprene-styrene random copolymers, isoprene-styrene random copolymers, Styrene-isoprene block copolymer (SIS), butadiene-styrene copolymer, styrene-ethylene-butadiene block copolymer (SEBS), and acrylonitrile-butadiene rubber (NBR). These may be used alone or in combination. Among these, an isoprene-styrene copolymer is preferable. Moreover, these hydrogenated substances can also be used preferably.
고무계 폴리머로서, 공역 디엔계 (공)중합체 외에도, 이소부틸렌(IB), 스티렌-이소부틸렌-스티렌 블록 공중합체(SIBS), 스티렌-에틸렌프로필렌 공중합체-스티렌 블록 공중합체 등도 이용할 수 있다. 고무계 폴리머는 단독으로 이용하여도 되고, 조합하여 이용하여도 된다.As the rubber polymer, in addition to the conjugated diene (co) polymer, isobutylene (IB), styrene-isobutylene-styrene block copolymer (SIBS), styrene-ethylene propylene copolymer-styrene block copolymer, and the like can also be used. The rubber polymer may be used alone or in combination.
본 발명에 이용될 수 있는 고무계 폴리머는 고무계 폴리머 전체 중에 상기 공역 디엔계 (공)중합체를 바람직하게는 50중량% 이상, 보다 바람직하게는 70중량% 이상, 더욱 바람직하게는 80중량% 이상, 특히 바람직하게는 90중량% 이상 포함한다. 공역 디엔계 (공)중합체의 함유량의 상한은 특별히 한정되는 것은 아니고, 100중량%(즉, 공역 디엔계 (공)중합체만으로 이루어지는 고무계 폴리머)이어도 된다.The rubber polymer which can be used in the present invention preferably contains at least 50% by weight, more preferably at least 70% by weight, still more preferably at least 80% by weight, in particular of the conjugated diene-based (co) polymer in the whole rubber polymer. Preferably it contains 90% by weight or more. The upper limit of the content of the conjugated diene-based (co) polymer is not particularly limited, and may be 100% by weight (that is, a rubber polymer composed of only the conjugated diene-based (co) polymer).
상기한 바와 같이, 점착제 조성물은 고무계 폴리머를 베이스 폴리머로서 포함한다. 점착제 조성물에서의 고무계 폴리머의 함유량은 바람직하게는 40중량% 이상, 보다 바람직하게는 50중량% 이상, 더욱 바람직하게는 60중량% 이상이다. 고무계 폴리머의 함유량의 상한은 특별히 한정되지 않고, 예컨대 90중량% 이하이다.As described above, the pressure-sensitive adhesive composition includes a rubber polymer as the base polymer. Content of the rubber polymer in an adhesive composition becomes like this. Preferably it is 40 weight% or more, More preferably, it is 50 weight% or more, More preferably, it is 60 weight% or more. The upper limit of the content of the rubber polymer is not particularly limited and is, for example, 90% by weight or less.
점착제 조성물은 고무계 폴리머에 더하여, 임의의 적절한 첨가제를 더 포함하고 있어도 된다. 첨가제의 구체예로서는, 가교제(예컨대, 폴리이소시아네이트, 에폭시 화합물, 알킬에테르화 멜라민 화합물 등), 점착 부여제(예컨대, 로진 유도체 수지, 폴리테르펜 수지, 석유 수지, 지용성 페놀 수지, 비닐톨루엔 수지 등), 가소제, 충전제(예컨대, 층상 실리케이트, 클레이 재료 등), 노화 방지제를 들 수 있다. 점착제 조성물에 첨가되는 첨가제의 종류, 조합, 첨가량 등은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 점착제 조성물에서의 첨가제의 함유량(총량)은 바람직하게는 60중량% 이하, 보다 바람직하게는 50중량% 이하, 더욱 바람직하게는 40중량% 이하이다.The pressure-sensitive adhesive composition may further include any suitable additive in addition to the rubber polymer. Specific examples of the additives include crosslinking agents (e.g., polyisocyanates, epoxy compounds, alkyletherized melamine compounds, etc.), tackifiers (e.g., rosin derivative resins, polyterpene resins, petroleum resins, fat-soluble phenol resins, vinyltoluene resins, etc.); Plasticizers, fillers (e.g., layered silicates, clay materials, etc.); and anti-aging agents. The kind, combination, addition amount, etc. of the additive added to an adhesive composition can be suitably set according to the objective. Content (total amount) of the additive in an adhesive composition becomes like this. Preferably it is 60 weight% or less, More preferably, it is 50 weight% or less, More preferably, it is 40 weight% or less.
이와 같이 하여 형성되는 봉지부(30)의 두께는 바람직하게는 30㎛∼1000㎛이고, 보다 바람직하게는 50㎛∼500㎛이다. 본 명세서에 있어서 '봉지부의 두께'란 특별히 명기하지 않는 한, 편광판의 주위 단면으로부터 외측으로 연장하는 방향의 두께이다(즉, 봉지부의 두께는 기판의 연장-돌출 부분의 길이에 대응한다). The thickness of the sealing
A-4. 봉지부 및 기판의 절단A-4. Cutting of encapsulation and substrate
다음으로, 도 1(c)에 나타내는 바와 같이, 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 봉지부(30) 및 기판(20)을 절단한다. 그 결과, 도 1(d)에 나타내는 바와 같이, 소정의 두께를 갖는 봉지부(40)가 형성된다. 절단 후의 봉지부(40)의 두께는 바람직하게는 10㎛∼500㎛이고, 보다 바람직하게는 20㎛∼300㎛이다.Next, as shown to Fig.1 (c), the sealing
절단은 기계적으로 수행하여도 되고, 레이저 광을 조사함으로써 수행하여도 된다.Cutting may be performed mechanically or may be performed by irradiating a laser beam.
기계적인 절단으로는 프라이스 가공, 엔드밀 가공을 들 수 있다.Mechanical cutting includes price processing and end mill processing.
레이저 광은 바람직하게는 적어도 1500nm 이하의 파장의 광을 포함한다. 레이저 광은 더욱 바람직하게는 100pm∼1000nm의 파장의 광을 포함하고, 더욱 바람직하게는 400nm∼900nm의 파장의 광을 포함하며, 특히 바람직하게는 420nm∼680nm의 파장의 광을 포함한다. 하나의 실시형태에서는, 레이저 광은 상기와 같은 범위에 피크 파장을 갖는다. 이와 같은 파장을 포함하는 레이저 광에 의하면, 봉지부의 상하의 두께 방향에 걸쳐 양호하게 절단할 수 있다.The laser light preferably comprises light of a wavelength of at least 1500 nm or less. The laser light more preferably includes light having a wavelength of 100 pm to 1000 nm, more preferably includes light having a wavelength of 400 nm to 900 nm, and particularly preferably includes light having a wavelength of 420 nm to 680 nm. In one embodiment, the laser light has a peak wavelength in the above range. According to the laser beam containing such a wavelength, it can cut | disconnect favorably over the thickness direction of the sealing part.
레이저로서는 예컨대, YAG 레이저, YLF 레이저, YVO4 레이저, 티타늄사파이어 레이저 등의 고체 레이저, 아르곤 이온 레이저, 크립톤 이온 레이저를 포함하는 가스 레이저, 파이버 레이저, 반도체 레이저, 색소 레이저를 들 수 있다. 바람직하게는 고체 레이저가 이용된다.Examples of the laser include solid lasers such as YAG lasers, YLF lasers, YVO 4 lasers, titanium sapphire lasers, gas lasers containing argon ion lasers and krypton ion lasers, fiber lasers, semiconductor lasers, and dye lasers. Preferably a solid state laser is used.
상기 레이저로서는 바람직하게는 단 펄스 레이저(1나노초 이하의 펄스 폭을 갖는 광을 조사하는 레이저, 예컨대, 피코초 레이저 또는 펨토초 레이저 등)가 이용된다. 봉지부로의 열 손상을 억제하는 목적으로는 500피코초 이하(예컨대, 10피코초∼50피코초)의 펄스 폭이 특히 바람직하다. 열 손상을 억제함으로써 아름답고 균일하며 평활한 절단면을 얻을 수 있다.As the laser, preferably, a short pulse laser (a laser for irradiating light having a pulse width of 1 nanosecond or less, for example, a picosecond laser or a femtosecond laser, etc.) is used. A pulse width of 500 picoseconds or less (for example, 10 picoseconds to 50 picoseconds) is particularly preferable for the purpose of suppressing thermal damage to the encapsulation portion. By suppressing thermal damage, beautiful, uniform and smooth cuts can be obtained.
레이저 광의 조사 조건은 임의의 적절한 조건으로 설정될 수 있다. 예컨대, 고체 레이저(YVO4 레이저)를 이용하는 경우, 펄스 에너지는 바람직하게는 10μJ∼150μJ, 보다 바람직하게는 25μJ∼71μJ이다. 스캔 속도는 바람직하게는 10mm/초∼10000mm/초이고, 보다 바람직하게는 100mm/초∼1000mm/초이다. 반복 주파수는 예컨대 100Hz∼12480Hz이다. 스캔 피치는 바람직하게는 10㎛∼50㎛이다. 레이저 광의 조사 위치에서의 빔 형상은 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 당해 빔 형상은 예컨대 원형이어도 되고, 라인상이어도 된다. 빔 형상을 소정의 형상으로 하는 수단으로서는 임의의 적절한 수단이 채용될 수 있다. 예컨대, 소정의 개구부를 갖는 마스크를 개재하여 레이저 조사하여도 되고, 회절 광학 소자 등을 이용하여 빔 정형하여도 된다. 예컨대, 빔 형상이 원형인 경우에는 초점경(스폿경)은 바람직하게는 50㎛∼60㎛이다. 또한, 펄스 레이저의 투입 에너지는 바람직하게는 20000μJ/m㎡∼100000μJ/m㎡이고, 보다 바람직하게는 25000μJ/m㎡∼75000μJ/m㎡이다. 또한, 투입 에너지 E(μJ/m㎡)는 다음의 식으로 구할 수 있다.Irradiation conditions of the laser light may be set to any suitable conditions. For example, when using a solid-state laser (YVO 4 laser), the pulse energy is preferably 10 µJ to 150 µJ, more preferably 25 µJ to 71 µJ. The scanning speed is preferably 10 mm / sec to 10000 mm / sec, more preferably 100 mm / sec to 1000 mm / sec. The repetition frequency is, for example, 100 Hz to 12480 Hz. The scan pitch is preferably 10 µm to 50 µm. The beam shape at the irradiation position of the laser light can be appropriately set according to the purpose. The beam shape may be circular, for example, or may be in a line shape. Arbitrary suitable means can be employ | adopted as a means which makes a beam shape into a predetermined shape. For example, laser irradiation may be carried out through the mask which has a predetermined opening, and beam shaping may be performed using a diffraction optical element or the like. For example, when the beam shape is circular, the focal diameter (spot diameter) is preferably 50 µm to 60 µm. Moreover, the input energy of a pulse laser becomes like this. Preferably it is 20000 microJ / m <2> -100000 microJ / m <2>, More preferably, it is 25000 microJ / m <2> -75000 microJ / m <2>. In addition, input energy E (microJ / m <2>) can be calculated | required by the following formula.
E=(e×M)/(V×p)E = (e × M) / (V × p)
e: 펄스 에너지(J) e: pulse energy (J)
M: 반복 주파수(Hz) M: Repetition Frequency (Hz)
V: 스캔 속도(mm/초) V: Scanning Speed (mm / sec)
p: 스캔 피치(mm) p: scan pitch (mm)
레이저 광의 조사 형태(주사 양식)는 목적에 따라 적절하게 설정될 수 있다. 레이저 광은 예컨대, 직선상으로 주사되어도 되고, S자상으로 주사되어도 되며, 소용돌이상으로 주사 되어도 되고, 이들을 조합하여도 된다.The irradiation form (scanning form) of the laser light can be appropriately set according to the purpose. For example, the laser light may be scanned in a straight line, may be scanned in a S-shape, may be scanned in a vortex, or a combination thereof.
상기와 같이 하여 형성된 봉지부(40)는 배리어성을 갖고, 대표적으로는 수분 및 가스(예컨대, 산소)에 대한 배리어성을 갖는다. 봉지부(40)의 40℃, 90% RH 조건 하에서의 수증기 투과율(투습도)은 바람직하게는 300g/㎡/24hr 이하이고, 보다 바람직하게는 100g/㎡/24hr 이하이며, 더욱 바람직하게는 50g/㎡/24hr 이하이고, 특히 바람직하게는 25g/㎡/24hr 이하이다. 투습도의 하한은, 예컨대 0.01g/㎡/24hr이고, 바람직하게는 검출 한계 미만이다. 봉지부(40)의 투습도가 이와 같은 범위이면, 화상 표시 패널을 공기 중의 수분 및 산소로부터 양호하게 보호할 수 있다. 또한, 투습도는 JIS Z0208에 준하여 측정될 수 있다.The
이상과 같이 하여, 도 1(d)에 나타내는 바와 같이, 소정의 사이즈를 갖는 기판 부착 편광판(100)이 제작될 수 있다.As described above, as shown in Fig. 1 (d), a
A-5. 화상 표시 장치의 제작 A-5. Production of image display device
본 실시형태에서는, 상기와 같이 하여 얻어진 기판 부착 편광판을 표시 셀 기판으로서 이용함으로써, 화상 표시 장치를 얻을 수 있다. 액정 표시 장치를 제작 하는 경우에는 일례로서 이하와 같은 순서를 채용할 수 있다: (1) 한 쌍의 기판 부착 편광판을 준비하고; (2) 한쪽의 기판 부착 편광판의 기판 표면에 스위칭 소자(예컨대, TFT)를 설치하고, 다른 쪽의 기판 부착 편광판의 기판 표면에 컬러 필터 를 설치하며; (3) 각각의 기판 표면에 배향막을 형성하여 당해 배향막에 배향 처리를 실시하고; (4) 각각의 기판이 대향하도록 하여(편광판이 외측에 배치되도록 하여) 스페이서를 개재하여 기판 부착 편광판을 첩합하고; (5) 액정을 기판 사이에 봉입한다. 이와 같이 하여 화상 표시 장치가 제작될 수 있다.In this embodiment, an image display apparatus can be obtained by using the polarizing plate with a board | substrate obtained as mentioned above as a display cell board | substrate. When manufacturing a liquid crystal display device, the following procedures can be employ | adopted as an example: (1) A pair of polarizing plate with a board | substrate is prepared; (2) providing a switching element (for example, a TFT) on the substrate surface of one polarizing plate with a substrate, and providing a color filter on the substrate surface of the polarizing plate with another substrate; (3) forming an alignment film on the surface of each substrate, and performing alignment treatment on the alignment film; (4) bonding the substrate polarizing plates with the spacers facing each other (with the polarizing plates disposed outside) through the spacers; (5) The liquid crystal is sealed between the substrates. In this way, an image display device can be manufactured.
A-6. 다른 실시형태A-6. Another embodiment
여기까지 기판 부착 편광판을 표시 셀 기판으로서 이용하는 실시형태에 대하여 설명해 왔지만, 상기한 바와 같이, 본 발명의 제조 방법은 표시 셀을 제작하고 당해 표시 셀의 기판에 편광판을 적층하며, 이어서, 봉지부를 형성함으로써 화상 표시 장치를 얻을 수 있다. 본 실시형태에서는, 일례로서 이하와 같은 순서를 채용할 수 있다:Although the embodiment which uses the polarizing plate with a board | substrate as a display cell substrate has been demonstrated so far, As mentioned above, the manufacturing method of this invention produces a display cell, laminate | stacks a polarizing plate on the board | substrate of the said display cell, and then forms the sealing part. By doing so, an image display device can be obtained. In this embodiment, the following procedure can be employ | adopted as an example:
(a-1) 한 쌍의 기판을 준비하고; (a-2) 한쪽의 기판 표면에 스위칭 소자(예컨대, TFT)를 설치하고, 다른 쪽의 기판 표면에 컬러 필터를 설치하며; (a-3) 각각의 기판 표면에 배향막을 형성하여 당해 배향막에 배향 처리를 실시하고; (a-4) 스페이서를 개재하여 기판을 첩합하고; (a-5) 액정을 기판 사이에 봉입하여 표시 셀 을 제작하고;(a-1) preparing a pair of substrates; (a-2) a switching element (for example, a TFT) is provided on one substrate surface, and a color filter is provided on the other substrate surface; (a-3) an alignment film is formed on each substrate surface, and the alignment film is subjected to an alignment treatment; (a-4) bonding the substrate via the spacer; (a-5) a liquid crystal is enclosed between substrates to produce a display cell;
(b) 표시 셀이 편광판의 외주로부터 연장-돌출하도록 하여(바람직하게는 표시 셀이 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 연장-돌출하도록 하여), 표시 셀의 각각의 기판의 외측에 편광판을 적층하고;(b) the display cells extend-protrude from the outer periphery of the polarizing plate (preferably the display cells extend-protrude from all four sides constituting the outer periphery of the polarizing plate), so that the polarizing plate is placed on the outside of each substrate of the display cell. Lamination;
(c) 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 형성하고; (c) forming an encapsulation portion covering a peripheral end face of the polarizing plate;
(d) 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 봉지부 및 표시 셀 테두리부를 절단한다. (d) The encapsulation portion and the display cell rim are cut off, leaving an extension-protrusion portion of a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate.
이와 같이 하여 화상 표시 장치가 제작될 수 있다. 또한, 공정 (b)∼(d)의 상세한 내용은 상기 A-2 항목∼A-4 항목에 기재한 바와 같다. 또한, 표시 셀 테두리부는 절단에 의한 악영향이 없도록 절단용 마진이 확보되어 있다.In this way, an image display device can be manufactured. In addition, the detail of process (b)-(d) is as having described in the said item A-2-item A-4. In addition, the margin for cutting is secured so that the display cell edge portion is not adversely affected by cutting.
상기에서 설명한 실시형태 이외에도, 본 발명이 화상 표시 장치에서의 기판과 편광판과의 임의의 적층 구조에 적용 가능하다는 것은 당업자에게 자명하다. 본 명세서를 읽으면, 당업자는 기판과 편광판과의 적층, 봉지부의 형성, 및 봉지부와 기판의 절단을, 화상 표시 장치에서의 기판과 편광판과의 임의의 적층 구조에 적용할 수 있다.In addition to the embodiments described above, it will be apparent to those skilled in the art that the present invention can be applied to any laminated structure of a substrate and a polarizing plate in an image display device. Reading this specification, a person skilled in the art can apply lamination | stacking of a board | substrate and a polarizing plate, formation of an sealing part, and cutting | disconnection of the sealing part and a board | substrate to arbitrary laminated structures of the board | substrate and a polarizing plate in an image display apparatus.
B. 화상 표시 장치B. Image Display
본 발명의 화상 표시 장치는 상기 A 항목에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진다. 따라서, 화상 표시 장치는 대표적으로는 도 1(d)에 나타내는 바와 같은 구조를 포함한다. 구체적으로는, 화상 표시 장치는 편광판과 해당 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 갖는 기판과, 해당 연장-돌출 부분에 형성되고 해당 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 갖는다.The image display apparatus of this invention is obtained by the manufacturing method as described in said A item. Therefore, the image display device typically includes a structure as shown in Fig. 1 (d). Specifically, the image display device has a polarizing plate, a substrate having an extension-protrusion portion of a predetermined length from the peripheral edge of the polarizing plate, and an encapsulation portion formed on the extension-protrusion portion and covering the peripheral end face of the polarizing plate.
화상 표시 장치는 85℃ 및 85% RH 환경 하에서 120시간 유지한 후의 색빠짐 양이 바람직하게는 100㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 50㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 30㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 25㎛ 이하이다. 색빠짐 양의 하한은 바람직하게는 0이고, 하나의 실시형태에서는 5㎛이다. 색빠짐 양은 화상 표시 장치 대체품(실질적으로는 기판 부착 편광판)을 85℃ 및 85% RH의 오븐 내에서 120시간 방치하여 가습한 후, 표준 편광판과 크로스 니콜의 상태로 배치하였을 때의 단부의 색빠짐 상태를 현미경으로 조사한다. 구체적으로는 편광판 또는 편광막 단부로부터의 색빠짐의 크기(색빠짐 양: ㎛)를 측정한다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 연신 방향의 단부로부터의 색빠짐 양(a) 및 연신 방향과 직교하는 방향의 단부로부터의 색빠짐 양(b) 중, 큰 쪽을 색빠짐 양으로 한다. 또한, 색빠짐된 영역은 편광 특성이 현저하게 낮고, 편광판으로서의 기능을 실질적으로 다하지 않는다. 따라서 색빠짐 양은 작으면 작을수록 바람직하다.The amount of color fading after holding for 120 hours in an 85 ° C. and 85% RH environment is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, even more preferably 30 μm or less, particularly preferably. Is 25 micrometers or less. The lower limit of the amount of color loss is preferably 0, and in one embodiment, 5 µm. The amount of color fading is the color fading at the end when the image display device substitute (substantially a polarizing plate with substrate) is left humidified for 120 hours in an oven at 85 ° C. and 85% RH, and then placed in a state of standard polarizing plate and cross nicol. Examine the condition under a microscope. Specifically, the magnitude | size (color fallout amount: micrometer) of color fallout from a polarizing plate or a polarizing film edge part is measured. As shown in FIG. 2, a larger one is made into the color fading amount among the color fading amount a from the edge part of an extending direction, and the color fading amount b from the edge part of the direction orthogonal to a drawing direction. In addition, the color-deprived area has a remarkably low polarization characteristic and does not substantially fulfill its function as a polarizing plate. Therefore, the smaller the amount of color loss, the more preferable.
[실시예]EXAMPLE
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다. Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited by these Examples. In addition, the measuring method of each characteristic is as follows.
(1) 두께(1) thickness
디지털 마이크로미터(안리츠사 제조의 KC-351C)를 이용하여 측정하였다.It measured using the digital micrometer (KC-351C by Anritsu Corporation).
(2) 투습도(2) moisture permeability
실시예 및 비교예에서 조제한 점착제 조성물을 이용하여 박리 라이너/점착 제층(실시예 또는 비교예의 두께를 갖음)/박리 라이너의 구성을 갖는 점착 시트를 형성하였다. 점착 시트의 한쪽의 박리 라이너를 박리하여 점착면을 노출시켜, 해당 점착면을 개재하여 점착 시트를 트리아세틸셀룰로오스 필름(TAC 필름, 두께: 25㎛, 코니카미놀타(주) 제조)에 첩합하여, 10cmΦ의 원상으로 절취하였다. 마지막으로, 다른 한쪽의 박리 라이너를 박리하여 측정용 샘플을 얻었다. 얻어진 측정용 샘플에 대하여 투습도 시험 방법(컵법, JIS Z 0208에 준함)에 의해 투습도(수증기 투과율)를 측정하였다. 또한, 측정 조건은 이하와 같았다. 또한, 측정 시에는 항온 항습조를 사용하였다.Using the adhesive composition prepared in the Example and the comparative example, the adhesive sheet which has a structure of a peeling liner / adhesive layer (having thickness of an Example or a comparative example) / peeling liner was formed. One peeling liner of the adhesive sheet is peeled off to expose the adhesive surface, and the adhesive sheet is bonded to a triacetyl cellulose film (TAC film, thickness: 25 µm, manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) via the adhesive surface, and 10 cm Φ. The original was cut off. Finally, the other release liner was peeled off to obtain a sample for measurement. The moisture permeability (water vapor transmission rate) was measured by the moisture permeability test method (cup method, according to JIS Z 0208) about the obtained measurement sample. In addition, the measurement conditions were as follows. In addition, the constant temperature and humidity tank was used for the measurement.
측정 온도: 40℃Measuring temperature: 40 ℃
상대 습도: 92%Relative Humidity: 92%
측정 시간: 24시간Measurement time: 24 hours
(3) 색빠짐 양(3) amount of color loss
실시예 및 비교예에서 얻어진 기판 부착 편광판을 화상 표시 장치 대체품으로서 85℃ 및 85% RH의 오븐 내에서 120시간 방치하여 가습한 후, 표준 편광판과 크로스 니콜의 상태로 배치했을 때의, 편광막의 단부의 색빠짐 상태를 현미경으로 조사하였다. 구체적으로는, 편광막 단부로부터의 색빠짐의 크기(색빠짐 양: ㎛)를 측정하였다. 현미경으로 Olympus사 제조의 MX61L을 이용하고, 배율 10배로 촬영한 화상에서 색빠짐 양을 측정하였다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 연신 방향의 단부로부터의 색빠짐 양(a) 및 연신 방향과 직교하는 방향의 단부로부터의 색빠짐 양(b) 중, 큰 쪽을 색빠짐 양으로 하였다. The edge part of the polarizing film at the time of arrange | positioning in the state of a standard polarizing plate and a cross nicol, after humidifying the polarizing plate with a board | substrate obtained by the Example and the comparative example in the oven of 85 degreeC and 85% RH for 120 hours as an image display apparatus replacement product. The color omission state of was examined under the microscope. Specifically, the magnitude | size (color fallout amount: micrometer) of the color fallout from the polarizing film edge part was measured. The amount of color fall-out was measured with the image image | photographed at 10 times magnification using the MX61L by Olympus company under the microscope. As shown in FIG. 2, the larger one was made into the color fading quantity among the color fading quantity a from the edge part of an extending direction, and the color fading quantity b from the edge part of the direction orthogonal to an extending direction.
[실시예 1]Example 1
수지 기재로서 두께 100㎛, Tg 75℃의 이소프탈산 유닛을 7몰% 갖는 비정질(amorphous)의 폴리에틸렌테레프탈레이트(IPA 공중합 PET) 필름을 준비하였다. 이 필름의 표면에 코로나 처리(55W/m2/min)를 실시하였다.An amorphous polyethylene terephthalate (IPA copolymer PET) film having 7 mol% of an isophthalic acid unit having a thickness of 100 μm and a Tg 75 ° C. as a resin substrate was prepared. Corona treatment (55 W / m <2> / min) was given to the surface of this film.
아세토아세틸 변성 PVA(일본합성화학공업사 제조, 상품명: 고세파이머(등록상표) Z200)와, PVA(평균 중합도: 4200, 비누화도: 99.2몰%)를 1:9의 비율로 포함하는 PVA계 수지를 준비하고, 해당 PVA계 수지 100중량부에 대하여 요오드화 칼륨 13중량부를 첨가하여 PVA계 수지 수용액을 조제하였다(PVA계 수지 농도: 5.5 중량%). 이 수용액을 건조 후의 막 두께가 13㎛가 되도록 수지 기재의 코로나 처리면에 도포하고, 60℃의 분위기 하에서 열풍 건조에 의해 10분간 건조하여, 수지 기재 상에 두께 9㎛의 PVA계 수지층을 형성하였다. 이와 같이 하여 적층체를 제작하였다.PVA-based resin containing acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., brand name: Gosefamer (registered trademark) Z200) and PVA (average degree of polymerization: 4200, saponification degree: 99.2 mol%) in a ratio of 1: 9. Was prepared, and 13 parts by weight of potassium iodide was added to 100 parts by weight of the PVA resin to prepare an aqueous PVA resin solution (PVA resin concentration: 5.5% by weight). This aqueous solution was applied to the corona treated surface of the resin substrate so that the film thickness after drying was 13 µm, and dried for 10 minutes by hot air drying under an atmosphere of 60 ° C to form a PVA resin layer having a thickness of 9 µm on the resin substrate. It was. Thus, the laminated body was produced.
얻어진 적층체를 공기 중 120℃에서 2.4배로 연신하였다(공중 보조 연신).The obtained laminate was stretched 2.4 times at 120 ° C. in air (air assisted stretching).
이어서, 적층체를 액체 온도 40℃의 붕산 수용액에 30초간 침지하여 PVA계 수지층을 불용화시켰다. 본 공정의 붕산 수용액은 붕산 함유량을 물 100중량부에 대하여 4중량부로 하였다.Subsequently, the laminated body was immersed in the boric acid aqueous solution of 40 degreeC of liquid temperature for 30 second, and the PVA system resin layer was insolubilized. The boric acid aqueous solution of this process made boric acid content 4 weight part with respect to 100 weight part of water.
이어서, 적층체를 액체 온도 30℃의 요오드 및 요오드화 칼륨을 포함하는 염색액에, 얻어지는 편광막의 단체 투과율이 42∼45% 정도가 되도록 임의의 시간, 침지하고 염색하였다. 염색액은 물을 용매로 하고, 요오드 농도를 0.1∼0.4중량%의 범위 내로 하고, 요오드화 칼륨 농도를 0.7∼2.8중량%의 범위 내로 하고, 요오드와 요오드화 칼륨의 농도의 비는 1:7로 하였다.Subsequently, the laminated body was immersed and dyed for an arbitrary time in a dyeing liquid containing iodine and potassium iodide at a liquid temperature of 30 ° C. such that the unitary transmittance of the resulting polarizing film was about 42 to 45%. The dyeing solution was water as a solvent, the iodine concentration was in the range of 0.1 to 0.4% by weight, the potassium iodide concentration was in the range of 0.7 to 2.8% by weight, and the ratio of the concentration of iodine and potassium iodide was 1: 7. .
이어서, 적층체를 40℃의 붕산 수용액에 60초간 침지하여, 요오드를 흡착시킨 PVA 수지층에 가교 처리를 실시하였다. 본 공정의 붕산 수용액은 붕산 함유량을 물 100중량부에 대하여 5중량부로 하고, 요오드화 칼륨 함유량을 물 100중량부에 대하여 3중량부로 하였다.Subsequently, the laminated body was immersed in 40 degreeC boric-acid aqueous solution for 60 second, and the crosslinking process was performed to the PVA resin layer which adsorbed iodine. The boric acid aqueous solution of this process made boric acid content 5 weight part with respect to 100 weight part of water, and made potassium iodide content 3 weight part with respect to 100 weight part of water.
또한, 적층체를 붕산 수용액 중에서 연신 온도 70℃로 하여, 앞의 공중 보조 연신과 동일한 방향으로 2.3배로 연신하였다(최종적인 연신 배율 5.50배). 본 공정의 붕산 수용액은 붕산 함유량을 물 100중량부에 대하여 3.5중량부로 하고, 요오드화 칼륨 함유량을 물 100중량부에 대하여 5중량부로 하였다.In addition, the laminated body was extended | stretched 2.3 times (final draw ratio 5.50 times) in the same direction as air-assisted extending | stretching at the drawing temperature of 70 degreeC in boric-acid aqueous solution. In the boric acid aqueous solution of this process, boric acid content was made into 3.5 weight part with respect to 100 weight part of water, and potassium iodide content was made into 5 weight part with respect to 100 weight part of water.
다음으로, 요오드화 칼륨 함유량이 물 100중량부에 대하여 4중량부로 한 수용액으로 적층체를 세정하고, 60℃의 온풍으로 건조하여, 수지 기재 상에 두께 5㎛의 편광막을 얻었다.Next, the laminated body was wash | cleaned with the aqueous solution which content potassium iodide was made into 4 weight part with respect to 100 weight part of water, and it dried by the warm air of 60 degreeC, and obtained the polarizing film of thickness 5micrometer on the resin base material.
얻어진 편광막의 표면(수지 기재와는 반대측의 면)에, UV 경화형 접착제를 개재하여 시클로올레핀계 필름(니폰제온사 제조, ZF-12, 23㎛)을 첩합하였다. 구체적으로는, 편광막 및 시클로올레핀계 필름의 각각에, UV 경화형 접착제를 총 두께 1.0㎛가 되도록 도공하고, 롤기를 사용하여 첩합하였다. 그 후, 자외선을 시클로올레핀계 필름 측으로부터 조사하여 경화형 접착제를 경화시켰다. 이어서, 수지 기재를 박리하여, 당해 박리면에 경화형 접착제를 개재하여 시클로올레핀계 필름의 λ/4판(니폰제온사 제조, ZD-12, 두께 23㎛, Re(550)=140nm)을 첩합하고, 시클로올레핀계 필름 ZD-12(보호 필름)/편광막/시클로올레핀계 필름 ZF-12(보호 필름)의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 또한, ZD-12 필름은 그의 지상축이 편광막의 흡수축에 대하여 45°의 각도를 이루도록 하여 첩합하였다. 이 편광판은 예컨대, 반사형 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치의 시인측 편광판(반사 방지 필름)으로서 이용 될 수 있다.On the surface (surface on the opposite side to a resin base material) of the obtained polarizing film, the cycloolefin type film (Nippon Xeon make, ZF-12, 23 micrometers) was bonded together through a UV hardening adhesive. Specifically, each of the polarizing film and the cycloolefin-based film was coated with a UV curable adhesive so as to have a total thickness of 1.0 μm, and bonded using a roll machine. Thereafter, ultraviolet rays were irradiated from the cycloolefin-based film side to cure the curable adhesive. Subsequently, the resin base material was peeled off, and (lambda) / 4 plate (Nippon Xeon company make, ZD-12, 23 micrometers in thickness, Re (550) = 140 nm) of a cycloolefin type film was bonded together through the hardening adhesive on the said peeling surface, And the polarizing plate which has a structure of cycloolefin type film ZD-12 (protective film) / polarizing film / cycloolefin type film ZF-12 (protective film) was obtained. Moreover, the ZD-12 film was bonded together so that the slow axis might make an angle of 45 degrees with respect to the absorption axis of a polarizing film. This polarizing plate can be used, for example, as a viewing side polarizing plate (antireflection film) of a reflective liquid crystal display device or an organic EL display device.
상기에서 얻어진 편광판을 편광막의 흡수축 방향이 장변 방향이 되도록 하여 90mm×40mm 사이즈로 절취하였다. 한편, 기판으로서 시판의 유리판(마츠나미 글라스사 제조, 두께 0.4mm)을 110mm×60mm 사이즈로 절취하였다. 절취한 편광판과 절취한 기판을 아크릴계 점착제를 개재하여 적층하였다. 여기서, 편광판과 기판은, 편광판의 ZD-12 필름(λ/4판)이 기판측에 배치되도록 하여 적층하였다. 또한, 편광판과 기판은 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 기판이 연장-돌출하도록 하여 적층하였다. 기판의 4개의 연장-돌출 부분의 길이는 각각 10mm이었다.The polarizing plate obtained above was cut into 90 mm x 40 mm size so that the absorption axis direction of a polarizing film might become a long side direction. On the other hand, a commercially available glass plate (manufactured by Matsunami Glass Co., Ltd., thickness 0.4 mm) was cut out to a size of 110 mm x 60 mm as a substrate. The cut polarizing plate and the cut substrate were laminated through an acrylic pressure sensitive adhesive. Here, the polarizing plate and the substrate were laminated so that the ZD-12 film (λ / 4 plate) of the polarizing plate was disposed on the substrate side. In addition, the polarizing plate and the board | substrate were laminated | stacked so that a board | substrate may extend-protrude from all four sides which comprise the outer periphery of a polarizing plate. The four extension-protrusion portions of the substrate were each 10 mm in length.
상기 연장-돌출 부분에 점착제를 배치하고, 편광판의 주위 단면을 밀봉하였다. 이와 같이 하여 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 형성하였다. 또한, 봉지부를 구성하는 점착제는 스티렌·에틸렌프로필렌 공중합체·스티렌의 블록 코폴리머(쿠라레사 제조, 상품명 '셉톤 2063', 스티렌 함유량: 13중량%) 100중량부에 대하여 폴리부텐(JX닛코닛세키 에너지사 제조, 상품명 '닛세키 폴리부텐 HV-300') 10중량부, 테르펜페놀 점착 부여제(야스하라케미컬사 제조, 상품명 'YS 폴리스타 TH130') 40중량부 및 방향족 점착 부여제(이스트만 케미컬사 제조, 상품명 '피콜라스틱A5')를 배합하여 제작하였다.A pressure-sensitive adhesive was placed on the extension-protrusion portion and the peripheral cross section of the polarizer was sealed. Thus, the sealing part which covers the peripheral end surface of a polarizing plate was formed. The pressure-sensitive adhesive constituting the encapsulating portion is polybutene (JX Nikko Niseki) based on 100 parts by weight of a block copolymer of styrene, ethylene propylene copolymer, styrene (manufactured by Kuraresa, brand name 'Septon 2063', styrene content: 13% by weight). 10 parts by weight of NESEK Polybutene HV-300, manufactured by Energy, 40 parts by weight of terpene phenol tackifier (Yashara Chemical, YS Polystar TH130) and aromatic tackifier (Eastman Chemical) Co., Ltd., the brand name "Picco stick A5") were mix | blended and produced.
이어서, 당해 점착제 및 기판에 레이저 광을 조사하고, 편광판의 주위 가장자리에서 100㎛을 남기도록 하여 당해 점착제를 절단하여 최종적인 봉지부를 형성하였다. 얻어진 봉지부의 투습도는 12g/㎡/24hr이었다. 레이저 광의 조사는 GCC사 제조의 'LaserPro Spirit'을 이용하여 수행하였다.Subsequently, the pressure-sensitive adhesive and the substrate were irradiated with laser light, and the pressure-sensitive adhesive was cut to leave 100 μm at the peripheral edge of the polarizing plate to form a final sealing portion. The water vapor transmission rate of the obtained sealing portion was 12 g / m 2/24 hr. Irradiation of the laser light was performed using 'LaserPro Spirit' manufactured by GCC.
이상과 같이 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판 을 상기 (3)에 기재된 색빠짐의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 색빠짐의 상태를 도 3에 나타낸다. The polarizing plate with a board | substrate was produced as mentioned above. The obtained polarizing plate with a board | substrate was used for evaluation of color fading as described in said (3). The results are shown in Table 1. In addition, the state of color loss is shown in FIG.
[실시예 2]Example 2
실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 수지 기재/편광막의 적층체의 편광막 표면에 실시예 1과 동일하게 하여 시클로올레핀계 필름(니폰제온사 제조, ZF-12, 13㎛)을 첩합하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하여 당해 박리면에 점착제(12㎛)를 개재하여 반사형 편광자(3M사 제조, APF-V3)를 첩합하고, 시클로올레핀계 필름 ZF-12(보호 필름)/편광막/반사형 편광자의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 또한, 반사 형 편광자는 그의 투과축과 편광막의 투과축이 0°의 각도를 이루도록 하여 첩합하였다. 이 편광판은 예컨대 배면측 편광판으로서 이용될 수 있다.Cycloolefin type film (Nippon Xeon make, ZF-12, 13 micrometers) was bonded together to Example 1 on the polarizing film surface of the laminated body of the resin base material / polarizing film obtained by carrying out similarly to Example 1. Subsequently, the resin base material was peeled off and a reflective polarizer (3M manufactured, APF-V3) was bonded to the peeling surface via an adhesive (12 micrometers), and cycloolefin type film ZF-12 (protective film) / polarizing film / The polarizing plate which has a structure of a reflective polarizer was obtained. In addition, the reflective polarizer was bonded so that its transmission axis and the transmission axis of the polarizing film had an angle of 0 degrees. This polarizing plate can be used, for example, as a back side polarizing plate.
이하의 순서는 실시예 1과 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 또한, 편광판과 기판은 편광판의 ZF-12 필름(보호 필름)이 기판측에 배치되도록 하여 적층하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. The following procedure was carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing plate with a board | substrate. In addition, the polarizing plate and the board | substrate were laminated | stacked so that the ZF-12 film (protective film) of a polarizing plate might be arrange | positioned at the board | substrate side. The obtained polarizing plate with a board | substrate was provided for evaluation similar to Example 1. The results are shown in Table 1.
[실시예 3]Example 3
실시예 1과 동일하게 하여 얻어진 수지 기재/편광막의 적층체의 편광막 표면에 실시예 1과 동일하게 하여 시클로올레핀계 필름(니폰제온사 제조, ZF-12, 13㎛)을 첩합하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하여 시클로올레핀계 필름 ZF-12(보호 필름)/편광막의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 이하의 순서는 실시예 1과 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 또한, 편광판과 기판은 편광막이 기판측에 배치되도록 하여 적층하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.A cycloolefin-based film (manufactured by Nippon Xeon, ZF-12, 13 µm) was bonded to the polarizing film surface of the laminate of the resin substrate / polarizing film obtained in the same manner as in Example 1 in the same manner as in Example 1. Next, the resin base material was peeled off and the polarizing plate which has a structure of cycloolefin type film ZF-12 (protective film) / polarizing film was obtained. The following procedure was carried out similarly to Example 1, and produced the polarizing plate with a board | substrate. In addition, the polarizing plate and the board | substrate were laminated | stacked so that a polarizing film might be arrange | positioned at the board | substrate side. The obtained polarizing plate with a board | substrate was provided for evaluation similar to Example 1. The results are shown in Table 1.
[실시예 4]Example 4
투습도가 24g/m2/24hr인 봉지부(두께 50㎛)를 형성한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시 예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. The polarizing plate with a board | substrate was produced like Example 1 except having formed the sealing part (50 micrometers in thickness) whose water vapor transmission rate is 24g / m <2> / 24hr. The obtained polarizing plate with a board | substrate was provided for evaluation similar to Example 1. The results are shown in Table 1.
[실시예 5]Example 5
투습도가 24g/m2/24hr인 봉지부(두께 50㎛)를 형성한 것 이외에는 실시예 2와 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. The polarizing plate with a board | substrate was produced like Example 2 except having formed the sealing part (50 micrometers in thickness) whose water vapor transmission rate is 24g / m <2> / 24hr. The obtained polarizing plate with a board | substrate was provided for evaluation similar to Example 1. The results are shown in Table 1.
[실시예 6]Example 6
투습도가 24g/m2/24hr인 봉지부(두께 50㎛)를 형성한 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. The polarizing plate with a board | substrate was produced like Example 3 except having formed the sealing part (50 micrometers in thickness) whose water vapor transmission rate is 24g / m <2> / 24hr. The obtained polarizing plate with a board | substrate was provided for evaluation similar to Example 1. The results are shown in Table 1.
[비교예 1]Comparative Example 1
봉지부를 형성하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 색빠짐의 상태를 도 4에 나타낸다. A polarizing plate with a substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that no sealing portion was formed. The obtained polarizing plate with a board | substrate was provided for evaluation similar to Example 1. The results are shown in Table 1. In addition, the state of color loss is shown in FIG.
[비교예 2] Comparative Example 2
통상적인 아크릴계 점착제를 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 봉지부(투습도: 1000g/m2/24hr를 초과, 두께: 25㎛)를 형성하고, 기판 부착 편광판을 제작하였다. 얻어진 기판 부착 편광판을 실시예 1과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. Except having used the normal acrylic adhesive, the sealing part (moisture permeability: more than 1000 g / m <2> / 24hr, thickness: 25 micrometers) was formed like Example 1, and the polarizing plate with a board | substrate was produced. The obtained polarizing plate with a board | substrate was provided for evaluation similar to Example 1. The results are shown in Table 1.
[표 1]TABLE 1
표 1로부터 분명한 바와 같이, 소정의 투습도를 갖는 봉지부를 편광판의 외주 단면에 형성함으로써 가습 환경 하에서도 우수한 광학 특성을 유지할 수 있는 기판 부착 편광판(최종적으로 화상 표시 장치)이 얻어지는 것을 알 수 있다. As is apparent from Table 1, it can be seen that a polarizing plate with a substrate (finally an image display device) capable of maintaining excellent optical properties even in a humidified environment is formed by forming an encapsulation portion having a predetermined moisture permeability on the outer peripheral end face of the polarizing plate.
본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 화상 표시 장치는 TV, 디스플레이, 휴대 전화, 휴대 정보 단말기, 디지털 카메라, 캠코더, 휴대용 게임기, 자동차 네비게이션, 복사기, 프린터, 팩스, 시계, 전자 레인지 등이 바람직하게 이용된다.As the image display device obtained by the manufacturing method of the present invention, a TV, a display, a mobile phone, a portable information terminal, a digital camera, a camcorder, a portable game machine, a car navigation machine, a copy machine, a printer, a fax machine, a clock, a microwave oven, etc. are preferably used. .
10 편광판
20 기판
30 봉지부
40 봉지부(최종)
100 기판 부착 편광판10 polarizer
20 substrates
30 bags
40 bags (final)
Polarizer with 100 substrate
Claims (9)
상기 기판이 상기 편광판의 외주로부터 연장-돌출하도록 하여 상기 기판과 상기 편광판을 적층하는 것,
상기 편광판의 주위 단면을 덮는 봉지부를 형성하는 것, 및
상기 편광판의 주위 가장자리로부터 소정 길이의 연장-돌출 부분을 남기고 상기 기판 및 상기 봉지부를 절단하여, 소정의 사이즈로 하는 것
을 포함하는, 화상 표시 장치의 제조 방법.Preparing a polarizing plate and a substrate having a size larger than that of the polarizing plate,
Stacking the substrate and the polarizing plate such that the substrate extends-protrudes from an outer circumference of the polarizing plate,
Forming an encapsulation portion covering a peripheral end face of the polarizing plate, and
Cutting the substrate and the encapsulation to a predetermined size leaving an extension-protrusion portion of a predetermined length from a peripheral edge of the polarizing plate
The manufacturing method of the image display apparatus containing a.
상기 기판이 유리판인, 제조 방법. The method of claim 1,
The substrate is a glass plate.
상기 기판이 수지 필름인, 제조 방법.The method of claim 1,
The substrate is a resin film.
상기 기판이 상기 편광판의 외주를 구성하는 4변 모두로부터 연장-돌출하도록하여, 상기 기판과 상기 편광판을 적층하는, 제조 방법.The method according to any one of claims 1 to 3,
The substrate and the polarizing plate are laminated so that the substrate extends-protrudes from all four sides constituting the outer circumference of the polarizing plate.
상기 기판이 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 및 양자점 표시 장치로부터 선택되는 화상 표시 장치의 표시 셀 기판인, 제조 방법. The method according to any one of claims 1 to 4,
And said substrate is a display cell substrate of an image display device selected from a liquid crystal display device, an organic EL display device, and a quantum dot display device.
상기 절단이 레이저 광을 조사함으로써 수행되는, 제조 방법. The method according to any one of claims 1 to 5,
And the cutting is performed by irradiating laser light.
상기 절단 후의 상기 봉지부의 연장-돌출 부분의 길이가 10㎛∼500㎛인, 제조 방법.The method according to any one of claims 1 to 6,
The length of the extension-protrusion part of the said sealing part after the said cutting is 10 micrometers-500 micrometers.
상기 절단 후의 봉지부의 투습도가 300g/m2/24hr 이하인, 제조 방법.The method according to any one of claims 1 to 7,
The water vapor transmission rate of the sealing part after the said cutting is 300g / m <2> / 24hr or less, The manufacturing method.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017122861 | 2017-06-23 | ||
| JPJP-P-2017-122861 | 2017-06-23 | ||
| PCT/JP2018/018846 WO2018235462A1 (en) | 2017-06-23 | 2018-05-16 | Manufacturing method for image display device, and image display device obtained according to said manufacturing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20200016198A true KR20200016198A (en) | 2020-02-14 |
| KR102343171B1 KR102343171B1 (en) | 2021-12-27 |
Family
ID=64735719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020197029123A KR102343171B1 (en) | 2017-06-23 | 2018-05-16 | Method for manufacturing an image display device and an image display device obtained by the manufacturing method |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6770646B2 (en) |
| KR (1) | KR102343171B1 (en) |
| CN (1) | CN110506307B (en) |
| TW (1) | TWI708968B (en) |
| WO (1) | WO2018235462A1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022145851A1 (en) * | 2020-12-28 | 2022-07-07 | 동우 화인켐 주식회사 | Window laminate and method for manufacturing same |
| WO2022211398A1 (en) * | 2021-03-29 | 2022-10-06 | 삼성에스디아이 주식회사 | Polarizing plate and optical display apparatus comprising same |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12117634B2 (en) * | 2019-04-16 | 2024-10-15 | Sharp Kabushiki Kaisha | Flexible display device, method for manufacturing flexible display device, and foldable display device |
| CN110208892B (en) * | 2019-05-29 | 2021-06-15 | 苏州清越光电科技股份有限公司 | Polaroid and preparation method thereof and display panel |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10206633A (en) * | 1997-01-22 | 1998-08-07 | Casio Comput Co Ltd | Polarizing plate and manufacture thereof |
| JP2000338329A (en) | 1999-06-01 | 2000-12-08 | Sanritsutsu:Kk | Polarizing plate and its production |
| JP2009069321A (en) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Hitachi Displays Ltd | Display device |
| JP2013228439A (en) * | 2012-04-24 | 2013-11-07 | Japan Display Inc | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
| KR20170015153A (en) * | 2015-07-30 | 2017-02-08 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Optical laminate and liquid crystal display device |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55138715A (en) * | 1979-04-18 | 1980-10-29 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display element |
| JPS58133128U (en) * | 1983-01-13 | 1983-09-08 | セイコーエプソン株式会社 | liquid crystal display |
| JP4218941B2 (en) * | 2003-02-25 | 2009-02-04 | 日東電工株式会社 | Optical member, manufacturing method thereof, adhesive optical member, and image display device |
| CN101051137A (en) * | 2006-04-07 | 2007-10-10 | 奇美电子股份有限公司 | Method for producing liquid crystal display |
| JP4918701B2 (en) * | 2006-12-18 | 2012-04-18 | 株式会社トプコン | Moisture-proof coating method for polarizing plate and polarizing plate produced by the method |
| JP2009139738A (en) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Sharp Corp | Method for manufacturing liquid crystal display panel, and liquid crystal display panel |
| US9334406B2 (en) * | 2009-02-25 | 2016-05-10 | Lg Chem, Ltd. | Composition for primer coating, optical film comprising the same, and polarizing plate comprising the same |
| JP2010243863A (en) * | 2009-04-08 | 2010-10-28 | Sony Corp | Polarizing plate and optical device |
| JP2011022202A (en) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Polarizing plate and image display device using the same |
| JP6166587B2 (en) * | 2013-05-20 | 2017-07-19 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Cutting method of resin plate attached to glass substrate |
| KR20150069705A (en) * | 2013-12-16 | 2015-06-24 | 동우 화인켐 주식회사 | Liquid Crystal Panel and Process for Preparing the Same |
| JP6803131B2 (en) * | 2014-02-18 | 2020-12-23 | 日東電工株式会社 | Laminate and image display device |
| WO2016072358A1 (en) * | 2014-11-04 | 2016-05-12 | 住友化学株式会社 | Method for manufacturing optical film provided with protective film |
| JP6689103B2 (en) * | 2015-03-12 | 2020-04-28 | 日東電工株式会社 | Polarizing film and its manufacturing method, optical film and image display device |
| WO2017006405A1 (en) * | 2015-07-03 | 2017-01-12 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | Method for dividing display member and method for manufacturing liquid crystal display device |
-
2018
- 2018-05-16 CN CN201880024691.5A patent/CN110506307B/en active Active
- 2018-05-16 JP JP2019525225A patent/JP6770646B2/en active Active
- 2018-05-16 KR KR1020197029123A patent/KR102343171B1/en active IP Right Grant
- 2018-05-16 WO PCT/JP2018/018846 patent/WO2018235462A1/en active Application Filing
- 2018-05-22 TW TW107117363A patent/TWI708968B/en active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10206633A (en) * | 1997-01-22 | 1998-08-07 | Casio Comput Co Ltd | Polarizing plate and manufacture thereof |
| JP2000338329A (en) | 1999-06-01 | 2000-12-08 | Sanritsutsu:Kk | Polarizing plate and its production |
| JP2009069321A (en) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Hitachi Displays Ltd | Display device |
| JP2013228439A (en) * | 2012-04-24 | 2013-11-07 | Japan Display Inc | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
| KR20170015153A (en) * | 2015-07-30 | 2017-02-08 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Optical laminate and liquid crystal display device |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022145851A1 (en) * | 2020-12-28 | 2022-07-07 | 동우 화인켐 주식회사 | Window laminate and method for manufacturing same |
| WO2022211398A1 (en) * | 2021-03-29 | 2022-10-06 | 삼성에스디아이 주식회사 | Polarizing plate and optical display apparatus comprising same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6770646B2 (en) | 2020-10-14 |
| TW201905508A (en) | 2019-02-01 |
| CN110506307B (en) | 2022-09-20 |
| CN110506307A (en) | 2019-11-26 |
| KR102343171B1 (en) | 2021-12-27 |
| JPWO2018235462A1 (en) | 2020-01-09 |
| WO2018235462A1 (en) | 2018-12-27 |
| TWI708968B (en) | 2020-11-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI663055B (en) | Polarizing plate and manufacturing method of polarizing plate | |
| JP6893904B2 (en) | Polarizer | |
| US20180039138A1 (en) | Liquid crystal panel and polarizing laminate for use in the liquid crystal panel | |
| KR102343171B1 (en) | Method for manufacturing an image display device and an image display device obtained by the manufacturing method | |
| CN110520770B (en) | Polarizing plate, image display device, and method for manufacturing image display device | |
| KR102535072B1 (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
| KR20170134220A (en) | Polarizing plate and liquid crystal display device | |
| KR102328502B1 (en) | Method for manufacturing an image display device and an image display device | |
| TWI690760B (en) | Image display device and method of manufacturing the image display device | |
| WO2008016093A1 (en) | Composite retardation plate, method for producing the same, composite optical member and liquid crystal display | |
| JPH08136731A (en) | Polarizing plate | |
| TWI842824B (en) | Image display device and manufacturing method thereof | |
| CN111868580B (en) | Method for producing laminated film | |
| WO2022209791A1 (en) | Manufacturing method for polarizing plate equipped with phase-difference layer and storage method for polarizing plate equipped with phase-difference layer | |
| KR20230145362A (en) | Manufacturing method of laminate and image display panel | |
| JP2024057834A (en) | Method of manufacturing optical laminate | |
| TW202229013A (en) | Phase difference layer-equipped phase difference layer-equipped polarizing plate and organic electroluminescence display device using same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| A302 | Request for accelerated examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |