KR20200015695A - Laminate, printed wiring board, flexible printed wiring board and molded article using the same - Google Patents

Laminate, printed wiring board, flexible printed wiring board and molded article using the same Download PDF

Info

Publication number
KR20200015695A
KR20200015695A KR1020207000073A KR20207000073A KR20200015695A KR 20200015695 A KR20200015695 A KR 20200015695A KR 1020207000073 A KR1020207000073 A KR 1020207000073A KR 20207000073 A KR20207000073 A KR 20207000073A KR 20200015695 A KR20200015695 A KR 20200015695A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
laminated body
printed wiring
resin
metal
Prior art date
Application number
KR1020207000073A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102372638B1 (en
Inventor
겐이치 히라바야시
와타루 후지카와
준 시라카미
노리마사 후카자와
Original Assignee
디아이씨 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 디아이씨 가부시끼가이샤 filed Critical 디아이씨 가부시끼가이샤
Publication of KR20200015695A publication Critical patent/KR20200015695A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102372638B1 publication Critical patent/KR102372638B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/042Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C08J7/0423Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder with at least one layer of inorganic material and at least one layer of a composition containing a polymer binder
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/098Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising condensation resins of aldehydes, e.g. with phenols, ureas or melamines
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/16Layered products comprising a layer of metal next to a particulate layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/043Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/10Esters; Ether-esters
    • C08K5/12Esters; Ether-esters of cyclic polycarboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D161/00Coating compositions based on condensation polymers of aldehydes or ketones; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D161/04Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
    • C09D161/06Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D161/00Coating compositions based on condensation polymers of aldehydes or ketones; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D161/34Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers covered by at least two of the groups C09D161/04, C09D161/18 and C09D161/20
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D163/00Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D163/00Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
    • C09D163/04Epoxynovolacs
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D201/00Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
    • C09D201/02Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

본 발명은, 지지체(A)의 위에, 프라이머층(B), 금속 나노 입자층(C) 및 금속 도금층(D)이 순차 적층된 적층체로서, 상기 프라이머층(B)이, 아미노트리아진환을 갖는 화합물(b1)을 함유하는 층인 것을 특징으로 하는 적층체, 그것을 사용한 프린트 배선판, 플렉서블 프린트 배선판 및 성형품을 제공한다. 당해 적층체는, 지지체 표면을 조화(粗化)하지 않고, 간편한 방법으로 제조할 수 있고, 지지체와 금속층(금속 도금층) 사이의 밀착성이 우수하다.The present invention is a laminate in which a primer layer (B), a metal nanoparticle layer (C), and a metal plating layer (D) are sequentially stacked on a support (A), wherein the primer layer (B) has an aminotriazine ring. It is a layer containing a compound (b1), The laminated body, the printed wiring board using this, a flexible printed wiring board, and the molded article are provided. The said laminated body can be manufactured by a simple method, without roughening the surface of a support body, and is excellent in the adhesiveness between a support body and a metal layer (metal plating layer).

Description

적층체, 그것을 사용한 프린트 배선판, 플렉서블 프린트 배선판 및 성형품Laminate, printed wiring board, flexible printed wiring board and molded article using the same

본 발명은, 프린트 배선판, 플렉서블 프린트 배선판, 성형품 등에 사용할 수 있는 적층체에 관한 것이다.This invention relates to the laminated body which can be used for a printed wiring board, a flexible printed wiring board, a molded article, etc.

전자기기의 소형화, 고속화에 의해, 프린트 배선 기판의 고밀도화, 고성능화가 요구되고 있고, 이 요구에 대응하기 위하여, 표면이 평활하며 충분히 얇은 도전층(금속층)을 갖는 프린트 배선판이 요구되고 있다. 또한, 이 프린트 배선 기판을 구성하는 것으로서 플렉서블 동장 적층판(이하, 「FCCL」로 약기한다)이 알려져 있다. FCCL은, 주로 내열성 고분자 필름과 동박을 에폭시 수지계 접착제를 사용해서 맞붙이는 방법으로 제조되고 있다.Due to the miniaturization and high speed of electronic devices, high-density and high-performance of printed wiring boards are required. In order to cope with this demand, printed wiring boards having smooth and sufficiently thin conductive layers (metal layers) are required. Moreover, the flexible copper clad laminated board (it abbreviates as "FCCL" hereafter) is known as what comprises this printed wiring board. FCCL is mainly manufactured by the method of bonding a heat resistant polymer film and copper foil together using an epoxy resin adhesive.

그러나, 이 동박을 사용한 FCCL에서는, 롤상으로 감긴 동박을 인출하면서 맞붙이므로, 취급상, 동박은 충분히 얇게 할 수 없다. 또한, 고분자 필름과의 밀착성을 높이기 위하여, 동박 표면을 조화(粗化)할 필요가 있으므로, 프린트 배선판의 고밀도화, 고성능화를 도모하기 위하여 필요한 고주파수(GHz대역), 고전송속도(수십 Gbps) 영역에서 전송 손실을 발생하는 문제가 있었다.However, in FCCL using this copper foil, since it sticks together, taking out the copper foil wound by roll shape, copper foil cannot be made thin enough in handling. In addition, in order to improve the adhesion with the polymer film, it is necessary to harmonize the surface of the copper foil. Therefore, in the high frequency (GHz band) and high transmission speed (tens of tens of Gbps) areas necessary for high density and high performance of the printed wiring board. There was a problem that caused transmission loss.

여기에서, FCCL의 동층을 박막화하는 방법으로서, 폴리이미드 필름의 표면에 금속 박막을 증착법 또는 스퍼터법에 의해 형성한 후, 그 금속 박막 상에 전기 도금법, 무전해 도금법 혹은 양자를 조합한 방법으로 구리를 형성하는 방법이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 그러나, 이 방법에서는, 금속 박막을 형성하기 위하여, 증착법 또는 스퍼터법을 사용하기 때문에, 대규모의 진공 설비가 필요하게 되고, 설비상, 기재 사이즈가 한정되는 등의 문제가 있다.Here, as a method for thinning the copper layer of FCCL, a metal thin film is formed on the surface of a polyimide film by vapor deposition or sputtering, and then copper is coated on the metal thin film by an electroplating method, an electroless plating method, or a combination thereof. A method of forming a metal is proposed (for example, refer patent document 1). However, in this method, in order to form a metal thin film, since a vapor deposition method or a sputtering method is used, a large-scale vacuum installation is needed, and there exists a problem that a base material size is limited on a facility.

그래서, 동박 등의 금속층의 표면을 조화하지 않고, 고분자 필름 등의 지지체와 충분한 밀착성을 갖고, 또한 그 금속층의 형성에 있어서, 대규모의 진공 설비를 필요로 하지 않고, 간편한 방법으로 제조할 수 있는 적층체가 요구되고 있었다.Therefore, without laminating the surface of metal layers, such as copper foil, and having sufficient adhesiveness with support bodies, such as a polymer film, and the formation of this metal layer, lamination | stacking which can be manufactured by a simple method, without requiring a large-scale vacuum installation. Sieve was required.

또한 종래, 플라스틱 성형품에의 장식 도금으로서는, 휴대전화, PC, 거울, 용기, 각종 스위치, 샤워헤드 등에 사용되어 왔다. 이들 용도의 지지체는, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체(이하, 「ABS」로 약기한다)나 ABS와 폴리카보네이트와의 폴리머 얼로이(이하, 「ABS-PC」로 약기한다)에만 한정되어 왔다. 이 이유로서, 기재와 도금막의 밀착성을 확보하기 위하여 기재 표면을 조화할 필요가 있고, 예를 들면 ABS이면, 폴리부타디엔 성분을 6가 크롬산, 과망간산염 등의 강력한 산화제로 에칭하고, 제거함으로써 표면 조화가 가능하다. 그러나, 6가 크롬산 등은, 환경 부하 물질이기 때문에, 사용하지 않는 것이 바람직하고, 대체 방법이 개발되어 왔다(예를 들면, 특허문헌 2 참조).Also, conventionally, decorative plating on plastic molded articles has been used for mobile phones, PCs, mirrors, containers, various switches, shower heads, and the like. Supports for these uses are limited to acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers (hereinafter abbreviated as "ABS") and polymer alloys of ABS and polycarbonate (hereinafter abbreviated as "ABS-PC"). come. For this reason, it is necessary to roughen the surface of the base material in order to secure the adhesion between the base material and the plated film. For example, in the case of ABS, the polybutadiene component is etched with a strong oxidizing agent such as hexavalent chromic acid and permanganate, and then surface removed. Is possible. However, since hexavalent chromic acid etc. are environmentally loaded substances, it is preferable not to use them, and the alternative method has been developed (for example, refer patent document 2).

이와 같이, 플라스틱 성형품에의 장식 등을 목적으로 한 도금에서는, 기재가 ABS 또는 ABS-PC로 한정되지 않으며, 다른 종류의 플라스틱이어도 밀착성이 우수한 도금막이 얻어지고, 또한 환경 부하 물질의 사용량을 저감하는 것이 요구되고 있었다.As described above, in plating for the purpose of decoration on a plastic molded article, the base material is not limited to ABS or ABS-PC, and even if other types of plastics, a plated film excellent in adhesion is obtained, and the amount of environmental load substance used is reduced. Was required.

일본 특개2015-118044호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-118044 일본 특허 제5830807호 공보Japanese Patent No. 5830807

본 발명이 해결하려고 하는 과제는, 지지체 표면을 조화하지 않고, 간편한 방법으로 제조할 수 있고, 지지체와 금속층(금속 도금층)과의 사이의 밀착성이 우수한 적층체, 그것을 사용한 프린트 배선판, 플렉서블 프린트 배선판 및 성형품을 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention can be produced by a simple method without harmonizing the surface of the support, a laminate having excellent adhesion between the support and the metal layer (metal plating layer), a printed wiring board using the same, a flexible printed wiring board, and It is to provide a molded article.

본 발명자들은, 상기한 과제를 해결하기 위하여 예의 연구한 결과, 지지체 상에, 프라이머층으로서, 아미노트리아진환을 갖는 화합물을 함유하는 층을 마련하고, 그 위에 금속 나노 입자에 의해 형성한 금속층과, 금속 도금층을 순차 적층한 적층체가 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly researching in order to solve the said subject, the present inventors provided the layer which contains the compound which has an amino triazine ring as a primer layer on a support body, and the metal layer formed by the metal nanoparticle on it, The laminated body which laminated | stacked the metal plating layer one by one was able to solve the said subject, and completed this invention.

즉, 본 발명은, 지지체(A)의 위에, 프라이머층(B), 금속 나노 입자층(C) 및 금속 도금층(D)이 순차 적층된 적층체로서, 상기 프라이머층(B)이, 아미노트리아진환을 갖는 화합물(b1)을 함유하는 층인 것을 특징으로 하는 적층체, 그것을 사용한 프린트 배선판, 플렉서블 프린트 배선판 및 성형품을 제공하는 것이다.That is, this invention is a laminated body in which the primer layer (B), the metal nanoparticle layer (C), and the metal plating layer (D) were laminated | stacked sequentially on the support body (A), The said primer layer (B) is an amino triazine ring. It is a layer containing the compound (b1) which has a laminated body, The printed wiring board, the flexible printed wiring board, and the molded article using the same are provided.

본 발명의 적층체는, 지지체 표면을 조화하지 않아도, 지지체와 금속층(금속 도금층)과의 사이의 밀착성이 우수한 것이다. 또한, 그 금속층의 박막화에 있어서, 대규모의 진공 설비를 사용하지 않아도, 표면이 평활하며 충분히 얇은 금속층을 갖는 적층체이다.The laminated body of this invention is excellent in adhesiveness between a support body and a metal layer (metal plating layer), even if it does not match a support surface. In addition, in the thinning of the metal layer, even if a large-scale vacuum equipment is not used, it is a laminate having a smooth and sufficiently thin metal layer.

또한, 본 발명의 적층체는, 금속층을 패터닝함에 의해, 예를 들면, 프린트 배선판, 플렉서블 프린트 배선판, 터치패널용 도전성 필름, 터치패널용 메탈 메시, 유기 태양전지, 유기 EL 소자, 유기 트랜지스터, 비접촉 IC 카드 등의 RFID, 전자파 실드, LED 조명 기재, 디지털 사이니지 등의 전자 부재로서 호적하게 사용할 수 있다. 특히, FCCL 등의 플렉서블 프린트 배선판 용도에 최적하다.In addition, the laminate of the present invention is, for example, by patterning a metal layer, for example, a printed wiring board, a flexible printed wiring board, a conductive film for a touch panel, a metal mesh for a touch panel, an organic solar cell, an organic EL element, an organic transistor, and a non-contact. It can be used suitably as electronic members, such as RFID, an electromagnetic shield, such as an IC card, an LED lighting base material, and a digital signage. In particular, it is suitable for the use of flexible printed wiring boards, such as FCCL.

또한, 성형품에 적용함에 의해, 광통신 등의 배선을 접속하는 커넥터, 전장 부재, 전기 모터 주변 부재, 전지 부재 등의 전자 부재; 자동차용 장식 부품, 램프 리플렉터, 휴대전화, PC, 거울, 용기, 가전, 각종 스위치, 수전(水栓) 부품, 샤워헤드 등의 장식에 호적하게 사용할 수 있다.Moreover, by applying to a molded article, Electronic members, such as a connector which connects wiring, such as optical communication, an electrical component, an electric motor peripheral member, a battery member; It can be favorably used for decoration of automobile decorative parts, lamp reflectors, mobile phones, PCs, mirrors, containers, home appliances, various switches, faucet parts, shower heads, and the like.

본 발명의 적층체는, 지지체(A)의 위에, 프라이머층(B), 금속 나노 입자층(C) 및 금속 도금층(D)이 순차 적층된 적층체로서, 상기 프라이머층(B)이, 아미노트리아진환을 갖는 화합물(b1)을 함유하는 층인 것이다.The laminate of the present invention is a laminate in which a primer layer (B), a metal nanoparticle layer (C), and a metal plating layer (D) are sequentially laminated on a support (A), wherein the primer layer (B) is an aminotria. It is a layer containing compound (b1) which has a ring substitution.

본 발명의 적층체는, 상기 지지체(A)의 편면에, 프라이머층(B) 등을 순차 적층한 적층체여도 되고, 상기 지지체(A)의 양면에 프라이머층(B) 등을 순차 적층한 적층체여도 된다.The laminate of the present invention may be a laminate obtained by sequentially laminating a primer layer (B) on one side of the support (A), or a laminate obtained by sequentially laminating a primer layer (B) on both surfaces of the support (A). You may lean.

상기 지지체(A)로서는, 예를 들면, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리아미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS) 수지, ABS와 폴리카보네이트와의 폴리머 얼로이, 폴리(메타)아크릴산메틸 등의 아크릴 수지, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리불화비닐리덴, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리우레탄, 액정 폴리머(LCP), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리페닐렌설피드(PPS), 폴리페닐렌설폰(PPSU), 에폭시 수지, 셀룰로오스 나노파이버, 실리콘, 세라믹스, 유리 등으로 이루어지는 지지체, 그들로 이루어지는 다공질의 지지체, 강판, 구리 등의 금속으로 이루어지는 지지체, 그들의 표면을 실리콘 카바이드, 다이아몬드 라이크 카본, 알루미늄, 구리, 티타늄 등을 증착 처리한 지지체 등을 들 수 있다.As the support (A), for example, polyimide, polyamideimide, polyamide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, ABS and polycarbonate Acrylic resins such as polymer alloy, poly (meth) acrylate, polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polyurethane, Liquid crystal polymer (LCP), polyether ether ketone (PEEK), polyphenylene sulfide (PPS), polyphenylene sulfone (PPSU), epoxy resin, cellulose nanofiber, silicon, ceramics, glass, etc. Porous supports, steel plates, supports made of metals such as copper, and the surfaces thereof are silicon carbide, diamond la The greater the carbon, aluminum, copper, titanium, etc. may be mentioned the vapor deposition process, such as a support.

또한, 본 발명의 적층체를 프린트 배선판 등에 사용하는 경우는, 상기 지지체(A)로서, 폴리이미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 액정 폴리머(LCP), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 유리, 셀룰로오스 나노파이버 등으로 이루어지는 지지체를 사용하는 것이 바람직하다.In addition, when using the laminated body of this invention for a printed wiring board etc., as said support body (A), a polyimide, a polyethylene terephthalate, a polyethylene naphthalate, a liquid crystal polymer (LCP), a polyether ether ketone (PEEK), glass, It is preferable to use a support made of cellulose nanofibers or the like.

또한, 본 발명의 적층체를 플렉서블 프린트 배선판 등에 사용하는 경우는, 상기 지지체(A)로서, 절곡 가능한 유연성을 갖는 필름상 또는 시트상의 지지체가 바람직하다.Moreover, when using the laminated body of this invention for a flexible printed wiring board etc., as the said support body (A), the film-form or sheet-like support body which can bend | folded is preferable.

상기 지지체(A)의 형상이 필름상 또는 시트상일 경우, 그 두께는, 통상적으로, 1㎛ 이상 5,000㎛ 이하가 바람직하고, 1㎛ 이상 300㎛ 이하가 보다 바람직하고, 1㎛ 이상 200㎛ 이하가 더 바람직하다.When the shape of the said support body A is a film form or a sheet form, 1 micrometer or more and 5,000 micrometers or less are preferable, as for the thickness, 1 micrometer or more and 300 micrometers or less are more preferable, and 1 micrometer or more and 200 micrometers or less More preferred.

또한, 상기 지지체(A)와 후술하는 프라이머층(B)과의 밀착성을 보다 향상할 수 있으므로, 필요에 따라서, 상기 지지체(A)의 표면에, 평활성을 잃지 않을 정도의 미세한 요철을 형성하거나, 그 표면에 부착한 오염을 세정하거나, 히드록시기, 카르보닐기, 카르복시기 등의 관능기의 도입을 위하여 표면 처리해도 된다. 구체적으로는, 코로나 방전 처리 등의 플라스마 방전 처리, 자외선 처리 등의 건식 처리, 물, 산·알칼리 등의 수용액 또는 유기 용제 등을 사용하는 습식 처리 등의 방법을 들 수 있다.Moreover, since the adhesiveness of the said support body A and the primer layer B mentioned later can be improved more, fine unevenness | corrugation of the grade which does not lose smoothness is formed in the surface of the said support body A as needed, The contamination adhering to the surface may be washed or surface treated for introduction of functional groups such as hydroxy, carbonyl and carboxyl groups. Specifically, methods such as plasma discharge treatment such as corona discharge treatment, dry treatment such as ultraviolet ray treatment, wet treatment using water, aqueous solutions such as acid and alkali or organic solvents, and the like can be given.

상기 프라이머층(B)은, 아미노트리아진환을 갖는 화합물(b1)을 함유하는 층이다. 상기 아미노트리아진환을 갖는 화합물(b1)은, 저분자량의 화합물이어도 되고, 보다 고분자량의 수지여도 된다.The said primer layer (B) is a layer containing the compound (b1) which has an amino triazine ring. A low molecular weight compound may be sufficient as the compound (b1) which has the said amino triazine ring, and a higher molecular weight resin may be sufficient as it.

상기 아미노트리아진환을 갖는 저분자량의 화합물로서는, 아미노트리아진환을 갖는 각종 첨가제를 사용할 수 있다. 시판품으로서는, 2,4-디아미노-6-비닐-s-트리아진(시코쿠가세이가부시키가이샤제 「VT」), 시코쿠가세이가부시키가이샤제 「VD-3」이나 「VD-4」(아미노트리아진환과 수산기를 갖는 화합물), 시코쿠가세이가부시키가이샤제 「VD-5」(아미노트리아진환과 에톡시실릴기를 갖는 화합물) 등을 들 수 있다. 이들 첨가제는, 1종으로 사용할 수도 있고 2종 이상 병용할 수도 있다.As the low molecular weight compound having the aminotriazine ring, various additives having an aminotriazine ring can be used. As a commercial item, 2, 4- diamino-6-vinyl-s-triazine ("VT" made by Shikoku Chemical Co., Ltd.), "VD-3" made by Shikoku Chemical Co., Ltd. and "VD-4" (The compound which has an amino triazine ring and a hydroxyl group), "VD-5" (compound which has an amino triazine ring and an ethoxysilyl group) by Shikoku Chemical Co., Ltd., etc. are mentioned. These additives may be used by 1 type and may be used together 2 or more types.

상기 아미노트리아진환을 갖는 저분자량의 화합물을 사용하는 경우는, 상기 프라이머층(B)을 형성하기 위하여 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 이때에 사용하는 수지로서는, 예를 들면, 우레탄 수지, 아크릴 수지, 우레탄-비닐 복합 수지, 에폭시 수지, 이미드 수지, 아미드 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 요소포름알데히드 수지, 페놀을 블록화제로서 사용한 블록 폴리이소시아네이트, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 이들 수지는, 1종으로 사용할 수도 있고 2종 이상 병용할 수도 있다. 이들 중에서도, 밀착성을 보다 향상할 수 있으므로, 에폭시 수지가 바람직하고, 노볼락 수지와 에폭시 수지를 병용하는 것이 보다 바람직하다.When using the low molecular weight compound which has the said amino triazine ring, it is preferable to use resin in order to form the said primer layer (B). As the resin used at this time, for example, a urethane resin, an acrylic resin, a urethane-vinyl composite resin, an epoxy resin, an imide resin, an amide resin, a melamine resin, a phenol resin, a urea formaldehyde resin, and a phenol are used as blocking agents. Block polyisocyanate, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, etc. are mentioned. These resin may be used by 1 type and may be used together 2 or more types. Among these, since adhesiveness can be improved more, an epoxy resin is preferable and it is more preferable to use a novolak resin and an epoxy resin together.

상기 아미노트리아진환을 갖는 저분자량의 화합물의 사용량으로서는, 수지 100질량부에 대하여, 0.1질량부 이상 50질량부 이하가 바람직하고, 0.5질량부 이상 10질량부 이하가 보다 바람직하다.As a usage-amount of the low molecular weight compound which has the said amino triazine ring, 0.1 mass part or more and 50 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of resin, and 0.5 mass part or more and 10 mass parts or less are more preferable.

상기 아미노트리아진환을 갖는 수지로서는, 수지의 폴리머쇄 중에 아미노트리아진환이 공유 결합으로 도입되어 있는 것을 들 수 있다. 구체적으로는, 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1)를 들 수 있다.As resin which has the said amino triazine ring, the thing in which the amino triazine ring was introduce | transduced by a covalent bond in the polymer chain of resin is mentioned. Specifically, aminotriazine modified novolak resin (b1-1) is mentioned.

상기 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1)는, 아미노트리아진환 구조와 페놀 구조가 메틸렌기를 개재해서 결합한 노볼락 수지이다. 상기 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1)는, 예를 들면, 멜라민, 벤조구아나민, 아세토구아나민 등의 아미노트리아진 화합물과, 페놀, 크레졸, 부틸페놀, 비스페놀A, 페닐페놀, 나프톨, 레조르신 등의 페놀 화합물과, 포름알데히드를 알킬아민 등의 약알칼리성 촉매의 존재 하 또는 무촉매로, 중성 부근에서 공축합 반응시키거나, 메틸에테르화멜라민 등의 아미노트리아진 화합물의 알킬에테르화물과, 상기 페놀 화합물을 반응시킴에 의해 얻어진다.The aminotriazine-modified novolak resin (b1-1) is a novolak resin in which an aminotriazine ring structure and a phenol structure are bonded via a methylene group. The aminotriazine-modified novolak resin (b1-1) is, for example, aminotriazine compounds such as melamine, benzoguanamine, acetoguanamine, phenol, cresol, butylphenol, bisphenol A, phenylphenol and naphthol. And alkyl ether compounds of phenol compounds such as resorcin and formaldehyde in the presence of a weakly alkaline catalyst such as alkylamine or non-catalytically, in the presence of a non-catalyzed cocondensation reaction, or of an aminotriazine compound such as methyl ether melamine It is obtained by reacting with the phenolic compound.

상기 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1)는, 메틸올기를 실질적으로 갖고 있지 않은 것이 바람직하다. 또한, 상기 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1)에는, 그 제조 시에 부생성물로서 발생하는 아미노트리아진 구조만이 메틸렌 결합한 분자, 페놀 구조만이 메틸렌 결합한 분자 등이 포함되어 있어도 상관없다. 또한, 약간의 미반응 원료가 포함되어 있어도 된다.It is preferable that the said aminotriazine modified novolak resin (b1-1) does not have a methylol group substantially. In addition, the aminotriazine-modified novolak resin (b1-1) may include a molecule in which only the aminotriazine structure generated as a by-product in the production of methylene bond, a molecule in which the phenol structure is methylene bond, or the like may be contained. . In addition, some unreacted raw material may be included.

상기 페놀 구조로서는, 예를 들면, 페놀 잔기, 크레졸 잔기, 부틸페놀 잔기, 비스페놀A 잔기, 페닐페놀 잔기, 나프톨 잔기, 레조르신 잔기 등을 들 수 있다. 또한, 여기에서의 잔기란, 방향환의 탄소에 결합하여 있는 수소 원자가 적어도 하나가 빠진 구조를 의미한다. 예를 들면, 페놀의 경우는, 히드록시페닐기를 의미한다.As said phenol structure, a phenol residue, a cresol residue, a butylphenol residue, a bisphenol A residue, a phenylphenol residue, a naphthol residue, a resorcin residue etc. are mentioned, for example. In addition, the residue here means the structure in which at least one hydrogen atom couple | bonded with the carbon of an aromatic ring was missing. For example, in the case of phenol, it means a hydroxyphenyl group.

상기 트리아진 구조로서는, 예를 들면, 멜라민, 벤조구아나민, 아세토구아나민 등의 아미노트리아진 화합물 유래의 구조를 들 수 있다.As said triazine structure, the structure derived from aminotriazine compounds, such as melamine, benzoguanamine, and acetoguanamine, is mentioned, for example.

상기 페놀 구조 및 상기 트리아진 구조는, 각각 1종으로 사용할 수도 있고 2종 이상 병용할 수도 있다. 또한, 밀착성을 보다 향상할 수 있으므로, 상기 페놀 구조로서는 페놀 잔기가 바람직하고, 상기 트리아진 구조로서는 멜라민 유래의 구조가 바람직하다.The said phenol structure and the said triazine structure may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types. Moreover, since adhesiveness can be improved more, a phenol residue is preferable as said phenol structure, and a structure derived from melamine is preferable as said triazine structure.

또한, 상기 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1)의 수산기가는, 밀착성을 보다 향상할 수 있으므로, 50mgKOH/g 이상 200mgKOH/g 이하가 바람직하고, 80mgKOH/g 이상 180mgKOH/g 이하가 보다 바람직하고, 100mgKOH/g 이상 150mgKOH/g 이하가 더 바람직하다.Moreover, since the hydroxyl value of the said aminotriazine modified novolak resin (b1-1) can improve adhesiveness more, 50 mgKOH / g or more and 200 mgKOH / g or less are preferable, 80 mgKOH / g or more and 180 mgKOH / g or less Preferably, 100 mgKOH / g or more and 150 mgKOH / g or less are more preferable.

상기 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1)는, 1종으로 사용할 수도 있고 2종 이상 병용할 수도 있다.The aminotriazine-modified novolak resin (b1-1) may be used in one kind or in combination of two or more kinds.

또한, 상기 아미노트리아진환을 갖는 화합물(b1)로서, 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1)를 사용할 경우, 에폭시 수지(b2)를 병용하는 것이 바람직하다.Moreover, when using an amino triazine modified novolak resin (b1-1) as a compound (b1) which has the said amino triazine ring, it is preferable to use an epoxy resin (b2) together.

상기 에폭시 수지(b2)로서는, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀A노볼락형 에폭시 수지, 알코올에테르형 에폭시 수지, 테트라브로모비스페놀A형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드 유도체 유래의 구조를 갖는 함인 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔 유도체 유래의 구조를 갖는 에폭시 수지, 에폭시화 대두유 등의 유지(油脂)의 에폭시화물 등을 들 수 있다. 이들 에폭시 수지는, 1종으로 사용할 수도 있고 2종 이상 병용할 수도 있다.As said epoxy resin (b2), a bisphenol-A epoxy resin, a bisphenol F-type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, a cresol novolak-type epoxy resin, a phenol novolak-type epoxy resin, a bisphenol A novolak-type epoxy resin, alcohol ether Epoxy compound having a structure derived from a type epoxy resin, a tetrabromobisphenol A type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, a 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide derivative, a dish Epoxy resins of fats and oils, such as the epoxy resin which has a structure derived from a clopentadiene derivative, and epoxidized soybean oil, etc. are mentioned. These epoxy resins may be used by 1 type and may be used together 2 or more types.

상기 에폭시 수지(b2) 중에서도, 밀착성을 보다 향상할 수 있으므로, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀A노볼락형 에폭시 수지가 바람직하고, 특히, 비스페놀A형 에폭시 수지가 바람직하다.Since the adhesiveness can be improved more among the said epoxy resin (b2), bisphenol-A epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, biphenyl-type epoxy resin, cresol novolak-type epoxy resin, phenol novolak-type epoxy resin, bisphenol A A novolak-type epoxy resin is preferable and a bisphenol A type epoxy resin is especially preferable.

또한, 상기 에폭시 수지(b2)의 에폭시 당량은, 밀착성을 보다 향상할 수 있으므로, 100g/당량 이상 300g/당량 이하가 바람직하고, 120g/당량 이상 250g/당량 이하가 보다 바람직하고, 150g/당량 이상 200g/당량 이하가 더 바람직하다.Moreover, since epoxy adhesive of the said epoxy resin (b2) can improve adhesiveness more, 100 g / equivalent or more and 300 g / equivalent or less are preferable, 120 g / equivalent or more and 250 g / equivalent or less are more preferable, 150 g / equivalent or more 200 g / equivalent or less is more preferable.

상기 프라이머층(B)이, 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1) 및 에폭시 수지(b2)를 함유하는 층으로 할 경우, 밀착성을 보다 향상할 수 있으므로, 상기 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1) 중의 페놀성 수산기(x)와 상기 에폭시 수지(b2) 중의 에폭시기(y)와의 몰비[(y)/(x)]가, 0.1 이상 5 이하가 바람직하고, 0.2 이상 3 이하가 보다 바람직하고, 0.3 이상 2 이하가 더 바람직하다.When the said primer layer (B) is made into the layer containing an aminotriazine modified novolak resin (b1-1) and an epoxy resin (b2), since adhesiveness can be improved more, the said aminotriazine modified novolak resin The molar ratio [(y) / (x)] between the phenolic hydroxyl group (x) in (b1-1) and the epoxy group (y) in the epoxy resin (b2) is preferably 0.1 or more and 5 or less, and 0.2 or more and 3 or less More preferably, 0.3 or more and 2 or less are more preferable.

상기 프라이머층(B)의 형성에는, 프라이머 조성물(b)을 사용한다. 상기 프라이머 조성물(b)은, 상기 아미노트리아진환을 갖는 화합물(b1)이나 에폭시 수지(b2)를 함유하는 것이지만, 필요에 따라서, 가교제(b3)를 더 함유해도 된다. 상기 가교제(b3)로서는, 다가 카르복시산을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 다가 카르복시산으로서는, 예를 들면, 무수트리멜리트산, 무수피로멜리트산, 무수말레산, 숙신산 등을 들 수 있다. 이들 가교제는, 1종으로 사용할 수도 있고 2종 이상 병용할 수도 있다. 또한, 이들 가교제 중에서도, 밀착성을 보다 향상할 수 있으므로, 무수트리멜리트산이 바람직하다.The primer composition (b) is used for formation of the said primer layer (B). Although the said primer composition (b) contains the compound (b1) and epoxy resin (b2) which have the said amino triazine ring, you may further contain a crosslinking agent (b3) as needed. It is preferable to use polyhydric carboxylic acid as said crosslinking agent (b3). As said polyhydric carboxylic acid, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, succinic acid etc. are mentioned, for example. These crosslinking agents may be used by 1 type, and may be used together 2 or more types. Moreover, in these crosslinking agents, since adhesiveness can be improved more, trimellitic anhydride is preferable.

또한, 상기 프라이머층(B)의 형성에 사용하는 프라이머 조성물(b)에는, 필요에 따라서, 상기한 성분(b1)∼(b3) 이외의 성분으로서, 그 밖의 수지(b4)를 배합해도 된다. 상기 그 밖의 수지(b4)로서는, 예를 들면, 우레탄 수지, 아크릴 수지, 블록 이소시아네이트 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지 등을 들 수 있다. 이들 그 밖의 수지는, 1종으로 사용할 수도 있고 2종 이상 병용할 수도 있다.In addition, you may mix | blend other resin (b4) with the primer composition (b) used for formation of the said primer layer (B) as components other than said component (b1)-(b3) as needed. As said other resin (b4), a urethane resin, an acrylic resin, a block isocyanate resin, a melamine resin, a phenol resin etc. are mentioned, for example. These other resins may be used by 1 type, or may be used together 2 or more types.

또한, 상기 프라이머 조성물(b)에는, 상기 지지체(A)에 도공할 때에, 도공하기 쉬운 점도로 하기 위하여, 유기 용제를 배합하는 것이 바람직하다. 상기 유기 용제로서는, 예를 들면, 톨루엔, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥산온, 이소프로필알코올 등을 들 수 있다.In addition, it is preferable to mix | blend an organic solvent with the said primer composition (b) in order to make it the viscosity which is easy to coat, when coating to the said support body (A). As said organic solvent, toluene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, isopropyl alcohol, etc. are mentioned, for example.

상기 유기 용제의 사용량은, 후술하는 상기 지지체(A)에 도공할 때에 사용하는 도공 방법, 상기 프라이머층(B)의 원하는 막두께에 따라, 적의(適宜) 조정하는 것이 바람직하다.It is preferable to adjust suitably the usage-amount of the said organic solvent according to the coating method used when coating to the said support body A mentioned later, and the desired film thickness of the said primer layer (B).

또한, 상기 프라이머 조성물(b)에는, 필요에 따라서, 피막형성조제(皮膜形成助劑), 레벨링제, 증점제, 발수제, 소포제, 산화방지제 등의 공지의 첨가제를 적의 첨가해서 사용해도 된다.Moreover, you may use the said primer composition (b) by adding appropriately well-known additives, such as a film formation aid, a leveling agent, a thickener, a water repellent, an antifoamer, antioxidant.

상기 프라이머층(B)은, 상기 지지체(A)의 표면의 일부 또는 전부에 상기 프라이머 조성물(b)을 도공하고, 상기 프라이머 조성물(b) 중에 포함되는 유기 용제를 제거함에 의해서 형성할 수 있다.The said primer layer (B) can be formed by coating the said primer composition (b) on one part or all part of the surface of the said support body (A), and removing the organic solvent contained in the said primer composition (b).

상기 프라이머 조성물(b)을 상기 지지체(A)의 표면에 도공하는 방법으로서는, 예를 들면, 그라비어 방식, 코팅 방식, 스크린 방식, 롤러 방식, 로터리 방식, 스프레이 방식, 캐필러리 방식 등의 방법을 들 수 있다.As a method of coating the said primer composition (b) on the surface of the said support body (A), methods, such as a gravure system, a coating system, a screen system, a roller system, a rotary system, a spray system, a capillary system, are mentioned, for example. Can be mentioned.

상기 프라이머 조성물(b)을 상기 지지체(A)의 표면에 도공한 후, 그 도공층에 포함되는 유기 용제를 제거하는 방법으로서는, 예를 들면, 건조기를 사용해서 건조시켜서, 유기 용제를 휘발시키는 방법이 일반적이다. 건조 온도로서는, 사용한 유기 용제를 휘발시키는 것이 가능하며, 또한 상기 지지체(A)에 열변형 등의 악영향을 끼치지 않는 범위의 온도로 설정하면 된다.After coating the said primer composition (b) on the surface of the said support body (A), as a method of removing the organic solvent contained in the coating layer, it is made to dry using a dryer, for example, and volatilizes an organic solvent. This is common. What is necessary is just to set it as temperature of the range which volatilizes the used organic solvent as a drying temperature, and does not adversely affect the said support body A, such as heat deformation.

상기 프라이머 조성물(b)을 사용해서 형성하는 프라이머층(B)의 막두께는, 본 발명의 적층체를 사용하는 용도에 따라서 서로 다르지만, 상기 지지체(A)와 후술하는 금속 나노 입자층(C)과의 밀착성을 보다 향상하는 범위가 바람직하고, 상기 프라이머층(B)의 막두께는, 10㎚ 이상 30㎛ 이하가 바람직하고, 10㎚ 이상 1㎛ 이하가 보다 바람직하고, 10㎚ 이상 500㎚ 이하가 더 바람직하다.Although the film thickness of the primer layer (B) formed using the said primer composition (b) differs according to the use using the laminated body of this invention, the said support body (A) and the metal nanoparticle layer (C) mentioned later, The range which improves the adhesiveness of this further is preferable, As for the film thickness of the said primer layer (B), 10 nm or more and 30 micrometers or less are preferable, 10 nm or more and 1 micrometer or less are more preferable, 10 nm or more and 500 nm or less More preferred.

상기 프라이머층(B)의 표면은, 상기 금속 나노 입자층(C)과의 밀착성을 보다 향상할 수 있으므로, 필요에 따라서, 코로나 방전 처리법 등의 플라스마 방전 처리법, 자외선 처리법 등의 건식 처리법, 물이나 산성 또는 알칼리성 약액, 유기 용제 등을 사용한 습식 처리법에 의해서, 표면 처리해도 된다.Since the surface of the said primer layer (B) can improve adhesiveness with the said metal nanoparticle layer (C) further, if necessary, the plasma discharge treatment methods, such as a corona discharge treatment method, dry treatment methods, such as an ultraviolet-ray treatment method, water, and acidity Or you may surface-treat by the wet processing method using alkaline chemical liquid, an organic solvent, etc.

상기 금속 나노 입자층(C)은, 상기 프라이머층(B) 상에 형성된 것이고, 상기 금속 나노 입자층(C)을 구성하는 금속으로서는, 천이 금속 또는 그 화합물을 들 수 있고, 그 중에서도 이온성의 천이 금속이 바람직하다. 이 이온성의 천이 금속으로서는, 구리, 은, 금, 니켈, 팔라듐, 백금, 코발트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 상기 금속 도금층(D)을 형성하기 쉬우므로 은이 바람직하다.The said metal nanoparticle layer (C) is formed on the said primer layer (B), As a metal which comprises the said metal nanoparticle layer (C), a transition metal or its compound is mentioned, Especially, an ionic transition metal is desirable. Copper, silver, gold, nickel, palladium, platinum, cobalt etc. are mentioned as this ionic transition metal. Among these, silver is preferable because it is easy to form the metal plating layer (D).

또한, 상기 금속 도금층(D)을 구성하는 금속으로서는, 구리, 금, 은, 니켈, 크롬, 코발트, 주석 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 전기 저항이 낮고, 부식에 강한 프린트 배선판에 사용할 수 있는 적층체가 얻어지므로 구리가 바람직하다.Moreover, as metal which comprises the said metal plating layer (D), copper, gold, silver, nickel, chromium, cobalt, tin, etc. are mentioned. Among these, copper is preferable since the laminated body which is low in electrical resistance and can be used for a printed wiring board resisting corrosion is obtained.

본 발명의 적층체의 제조 방법으로서는, 우선, 지지체(A)의 위에, 프라이머층(B)을 형성하고, 그 후, 나노 사이즈의 금속 나노 입자(c)를 함유하는 유동체를 도공하고, 유동체 중에 포함되는 유기 용제 등을 건조에 의해 제거함에 의해서, 금속 나노 입자층(C)을 형성한 후, 전해 도금 혹은 무전해 도금, 또는 그 양쪽에 의해 상기 금속 도금층(D)을 형성하는 방법을 들 수 있다.As a manufacturing method of the laminated body of this invention, first, a primer layer (B) is formed on the support body (A), and after that, the fluid containing a nano size metal nanoparticle (c) is coated, and it is in a fluid. The method of forming the said metal plating layer (D) by electrolytic plating, electroless plating, or both after forming the metal nanoparticle layer (C) by removing the organic solvent contained etc. by drying is mentioned. .

상기 금속 나노 입자층(C)의 형성에 사용하는 상기 금속 나노 입자(c)의 형상은, 입자상 또한 섬유상의 것이 바람직하다. 또한, 상기 금속 나노 입자(c)의 크기는 나노 사이즈의 것을 사용하지만, 구체적으로는, 상기 금속 나노 입자(c)의 형상이 입자상인 경우는, 미세한 도전성 패턴을 형성할 수 있고, 저항값을 보다 저감할 수 있으므로, 평균 입자경이 1㎚ 이상 100㎚ 이하가 바람직하고, 1㎚ 이상 50㎚ 이하가 보다 바람직하다. 또, 상기 「평균 입자경」은, 상기 도전성 물질을 분산량 용매로 희석하고, 동적 광산란법에 의해 측정한 체적 평균값이다. 이 측정에는 마이크로트랙샤제 「나노트랙UPA-150」을 사용할 수 있다.It is preferable that the shape of the said metal nanoparticle (c) used for formation of the said metal nanoparticle layer (C) is particulate or fibrous. In addition, although the size of the said metal nanoparticle (c) uses the thing of a nano size, Specifically, when the shape of the said metal nanoparticle (c) is a particulate form, a fine electroconductive pattern can be formed and a resistance value is changed. Since it can reduce more, 1 nm or more and 100 nm or less of an average particle diameter are preferable, and 1 nm or more and 50 nm or less are more preferable. In addition, said "average particle diameter" is a volume average value which diluted the said electroconductive substance with a dispersion amount solvent and measured by the dynamic light scattering method. The nanotrack "nanotrack UPA-150" can be used for this measurement.

한편, 상기 금속 나노 입자(c)의 형상이 섬유상인 경우도, 미세한 도전성 패턴을 형성할 수 있고, 저항값을 보다 저감할 수 있으므로, 섬유의 직경이 5㎚ 이상 100㎚ 이하가 바람직하고, 5㎚ 이상 50㎚ 이하가 보다 바람직하다. 또한, 섬유의 길이는, 0.1㎛ 이상 100㎛ 이하가 바람직하고, 0.1㎛ 이상 30㎛ 이하가 보다 바람직하다.On the other hand, even when the shape of the said metal nanoparticle (c) is fibrous, since a fine electroconductive pattern can be formed and a resistance value can be reduced more, the diameter of a fiber is 5 nm or more and 100 nm or less, 5 More preferably, they are more than 50 nm. Moreover, 0.1 micrometer or more and 100 micrometers or less are preferable, and, as for the length of a fiber, 0.1 micrometer or more and 30 micrometers or less are more preferable.

상기 유동체 중의 상기 금속 나노 입자(c)의 함유율은, 1질량% 이상 90질량% 이하가 바람직하고, 1질량% 이상 60질량% 이하가 보다 바람직하고, 1질량% 이상 10질량% 이하가 보다 더 바람직하다.1 mass% or more and 90 mass% or less are preferable, as for the content rate of the said metal nanoparticle (c) in the said fluid, 1 mass% or more and 60 mass% or less are more preferable, 1 mass% or more and 10 mass% or less are further more. desirable.

상기 유동체에 배합되는 성분으로서는, 상기 금속 나노 입자(c)를 용매 중에 분산시키기 위한 분산제나 용매, 또한 필요에 따라서, 후술하는 계면활성제, 레벨링제, 점도조정제, 성막조제, 소포제, 방부제 등을 들 수 있다.As a component mix | blended with the said fluid, the dispersing agent and solvent for disperse | distributing the said metal nanoparticle (c) in a solvent, and also surfactant mentioned later, a leveling agent, a viscosity modifier, a film forming adjuvant, an antifoamer, an antiseptic etc. are mentioned as needed. Can be.

상기 금속 나노 입자(c)를 용매 중에 분산시키기 위하여, 저분자량 또는 고분자량의 분산제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 분산제로서는, 예를 들면, 도데칸티올, 1-옥탄티올, 트리페닐포스핀, 도데실아민, 폴리에틸렌글리콜, 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌이민, 폴리비닐피롤리돈; 미리스트산, 옥탄산, 스테아르산 등의 지방산; 콜산, 글리시리진산, 아비에트산 등의 카르복시기를 갖는 다환식 탄화수소 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 상기 금속 나노 입자층(C)과 상기 금속 도금층(D)과의 밀착성을 향상할 수 있으므로, 고분자분산제가 바람직하고, 이 고분자분산제로서는, 폴리에틸렌이민, 폴리프로필렌이민 등의 폴리알킬렌이민, 상기 폴리알킬렌이민에 폴리옥시알킬렌이 부가한 화합물, 우레탄 수지, 아크릴 수지, 상기 우레탄 수지나 상기 아크릴 수지에 인산기를 함유하는 화합물 등을 들 수 있다.In order to disperse | distribute the said metal nanoparticle (c) in a solvent, it is preferable to use the dispersing agent of low molecular weight or high molecular weight. Examples of the dispersant include dodecanethiol, 1-octanethiol, triphenylphosphine, dodecylamine, polyethylene glycol, polyvinylpyrrolidone, polyethyleneimine and polyvinylpyrrolidone; Fatty acids such as myristic acid, octanoic acid and stearic acid; Polycyclic hydrocarbon compounds which have carboxyl groups, such as a cholic acid, glycyrrhizinic acid, and abiete acid, etc. are mentioned. Among these, since the adhesiveness of the said metal nanoparticle layer (C) and the said metal plating layer (D) can be improved, a polymer dispersing agent is preferable, As this polymer dispersing agent, Polyalkylene imines, such as polyethyleneimine and polypropylene imine, The compound which polyoxyalkylene added to the said polyalkylene imine, a urethane resin, an acrylic resin, the compound which contains a phosphoric acid group in the said urethane resin or the said acrylic resin, etc. are mentioned.

상기 금속 나노 입자(c)를 분산시키기 위해서 필요한 상기 분산제의 사용량은, 상기 금속 나노 입자(c) 100질량부에 대하여, 0.01질량부 이상 50질량부 이하가 바람직하고, 0.01질량부 이상 10질량부 이하가 보다 바람직하다.As for the usage-amount of the said dispersing agent required in order to disperse | distribute the said metal nanoparticle (c), 0.01 mass part or more and 50 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of said metal nanoparticles (c), 0.01 mass part or more and 10 mass parts The following is more preferable.

상기 유동체에 사용하는 용매로서는, 수성 매체나 유기 용제를 사용할 수 있다. 상기 수성 매체로서는, 예를 들면, 증류수, 이온 교환수, 순수, 초순수 등을 들 수 있다. 또한, 상기 유기 용제로서는, 알코올 화합물, 에테르 화합물, 에스테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다.As a solvent used for the said fluid, an aqueous medium and an organic solvent can be used. As said aqueous medium, distilled water, ion-exchange water, pure water, ultrapure water, etc. are mentioned, for example. Moreover, an alcohol compound, an ether compound, an ester compound, a ketone compound etc. are mentioned as said organic solvent.

상기 알코올 화합물로서는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로필알코올, n-부탄올, 이소부틸알코올, sec-부탄올, tert-부탄올, 헵탄올, 헥산올, 옥탄올, 노난올, 데칸올, 운데칸올, 도데칸올, 트리데칸올, 테트라데칸올, 펜타데칸올, 스테아릴알코올, 알릴알코올, 시클로헥산올, 테르피네올, 테르피네올, 디히드로테르피네올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 테트라에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노부틸에테르 등을 들 수 있다.Examples of the alcohol compound include methanol, ethanol, n-propanol, isopropyl alcohol, n-butanol, isobutyl alcohol, sec-butanol, tert-butanol, heptanol, hexanol, octanol, nonanol and decane. Ol, undecanol, dodecanol, tridecanol, tetradecanol, pentadecanol, stearyl alcohol, allyl alcohol, cyclohexanol, terpineol, terpineol, dihydroterpineol, ethylene glycol monomethyl ether , Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, tetraethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol Monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, propylene And the like can be recalled monobutyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether.

또한, 상기 유동체에는, 상기 금속 나노 입자(c), 용매 외에, 필요에 따라서 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 1,3-부탄디올, 이소프렌글리콜 등을 사용할 수 있다.In addition to the metal nanoparticle (c) and the solvent, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-butanediol, isoprene glycol, and the like may be used as the fluid.

상기 계면활성제로서는, 일반적인 계면활성제를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 디-2-에틸헥실설포숙신산염, 도데실벤젠설폰산염, 알킬디페닐에테르디설폰산염, 알킬나프탈렌설폰산염, 헥사메타인산염 등을 들 수 있다.As said surfactant, a general surfactant can be used, For example, di-2-ethylhexyl sulfosuccinate, dodecyl benzene sulfonate, alkyl diphenyl ether disulfonate, alkyl naphthalene sulfonate, hexamethaphosphate, etc. Can be mentioned.

상기 레벨링제로서는, 일반적인 레벨링제를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 실리콘계 화합물, 아세틸렌디올계 화합물, 불소계 화합물 등을 들 수 있다.As said leveling agent, a general leveling agent can be used, For example, a silicone type compound, an acetylene diol type compound, a fluorine type compound etc. are mentioned.

상기 점도조정제로서는, 일반적인 증점제를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 알칼리성으로 조정함에 의해서 증점 가능한 아크릴 중합체나 합성 고무 라텍스, 분자가 회합함에 의해서 증점 가능한 우레탄 수지, 히드록시에틸셀룰로오스, 카르복시메틸셀룰로오스, 메틸셀룰로오스, 폴리비닐알코올, 수첨가 피마자유, 아마이드 왁스, 산화폴리에틸렌, 금속 비누, 디벤질리덴소르비톨 등을 들 수 있다.As the viscosity modifier, a general thickener can be used, for example, an urethane resin, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, methyl which can be thickened by association of an acrylic polymer, a synthetic rubber latex, and a molecule which can be thickened by adjusting to alkaline. Cellulose, polyvinyl alcohol, hydrogenated castor oil, amide wax, polyethylene oxide, metal soap, dibenzylidene sorbitol and the like.

상기 성막조제로서는, 일반적인 성막조제를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 음이온계 계면활성제(디옥틸설포숙신산에스테르소다염 등), 소수성 비이온계 계면활성제(소르비탄모노올레에이트 등), 폴리에테르 변성 실록산, 실리콘오일 등을 들 수 있다.As the film forming aid, a general film forming aid can be used. For example, anionic surfactants (dioctylsulfosuccinic acid ester soda salt, etc.), hydrophobic nonionic surfactants (sorbitan monooleate, etc.), polyether modifications Siloxane, silicone oil, and the like.

상기 소포제로서는, 일반적인 소포제를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 실리콘계 소포제, 비이온계 계면활성제, 폴리에테르, 고급 알코올, 폴리머계 계면활성제 등을 들 수 있다.As the antifoaming agent, a general antifoaming agent can be used, and examples thereof include silicone antifoaming agents, nonionic surfactants, polyethers, higher alcohols, polymer surfactants, and the like.

상기 방부제로서는, 일반적인 방부제를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 이소티아졸린계 방부제, 트리아진계 방부제, 이미다졸계 방부제, 피리딘계 방부제, 아졸계 방부제, 요오도계 방부제, 피리티온계 방부제 등을 들 수 있다.As the preservative, general preservatives can be used, and examples thereof include isothiazoline preservatives, triazine preservatives, imidazole preservatives, pyridine preservatives, azole preservatives, iodo based preservatives, and pyrithione preservatives. have.

상기 유동체의 점도(25℃에서 B형 점도계를 사용해서 측정한 값)는, 0.1mPa·s 이상 500,000mPa·s 이하가 바람직하고, 0.2mPa·s 이상 10,000mPa·s 이하가 보다 바람직하다. 또한, 상기 유동체를, 후술하는 잉크젯 인쇄법, 볼록판 반전 인쇄 등의 방법에 의해서 도공(인쇄)하는 경우에는, 그 점도는 5mPa·s 이상 20mPa·s 이하가 바람직하다.0.1 mPa * s or more and 500,000 mPa * s or less are preferable, and, as for the viscosity (value measured using the Brookfield viscometer at 25 degreeC) of the said fluid, 0.2 mPa * s or more and 10,000 mPa * s or less are more preferable. Moreover, when apply | coating (printing) the said fluid by methods, such as the inkjet printing method and convex plate inversion printing mentioned later, the viscosity is 5 mPa * s or more and 20 mPa * s or less.

상기 프라이머층(B)의 위에 상기 유동체를 도공이나 인쇄하는 방법으로서는, 예를 들면, 잉크젯 인쇄법, 반전 인쇄법, 스크린 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 스핀 코트법, 스프레이 코트법, 바 코트법, 다이 코트법, 슬릿 코트법, 롤 코트법, 딥 코트법, 패드 인쇄법, 플렉소 인쇄법 등을 들 수 있다.As a method of coating and printing the said fluid on the said primer layer (B), the inkjet printing method, the reverse printing method, the screen printing method, the offset printing method, the spin coating method, the spray coating method, the bar coat method, Die coating, slit coating, roll coating, dip coating, pad printing, flexographic printing, and the like.

이들 도공 방법 중에서도, 전자 회로 등의 고밀도화를 실현할 때에 요구되는 0.01∼100㎛ 정도의 세선상으로 패턴화된 상기 금속 나노 입자층(C)을 형성하는 경우에는, 잉크젯 인쇄법, 반전 인쇄법을 사용하는 것이 바람직하다.Among these coating methods, when forming the said metal nanoparticle layer (C) patterned by the thin wire of about 0.01-100 micrometers required when realizing high density of an electronic circuit etc., the inkjet printing method and the reverse printing method are used. It is preferable.

상기 잉크젯 인쇄법으로서는, 일반적으로 잉크젯 프린터로 불리는 것을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 코니카미놀타EB100, XY100(코니카미놀타IJ가부시키가이샤제), 다이마틱스·머티리얼 프린터 DMP-3000, 다이마틱스·머티리얼 프린터 DMP-2831(후지필름가부시키가이샤제) 등을 들 수 있다.As said inkjet printing method, what is generally called an inkjet printer can be used. Specifically, Konica Minolta EB100, XY100 (manufactured by Konica Minolta IJ), Dymatics Printer DMP-3000, Dymatics Printer DMP-2831 (manufactured by Fujifilm Co., Ltd.), and the like can be given. have.

또한, 반전 인쇄법으로서는, 볼록판 반전 인쇄법, 오목판 반전 인쇄법이 알려져 있으며, 예를 들면, 각종 블랭킷의 표면에 상기 유동체를 도공하고, 비화선부(非畵線部)가 돌출한 판과 접촉시키고, 상기 비화선부에 대응하는 유동체를 상기 판의 표면에 선택적으로 전사시킴에 의해서, 상기 블랭킷 등의 표면에 상기 패턴을 형성하고, 다음으로, 상기 패턴을, 상기 지지체(A)의 위(표면)에 전사시키는 방법을 들 수 있다.Moreover, as the reverse printing method, the convex plate inversion printing method and the concave plate inversion printing method are known, For example, the said fluid is coated on the surface of various blankets, and it makes contact with the board which the non-fire line part protruded. By selectively transferring the fluid corresponding to the non-wire portion to the surface of the plate, the pattern is formed on the surface of the blanket or the like, and then the pattern is placed on the surface (surface) of the support A. And a method of transferring it.

또한, 입체 성형품에의 패턴의 인쇄에 대해서는, 패드 인쇄법이 알려져 있다. 이것은, 오목판의 위에 잉크를 올리고, 스퀴지로 긁어냄으로써 잉크를 균질하게 오목부에 충전하고, 잉크를 올린 판 상에, 실리콘 고무나 우레탄 고무제의 패드를 눌러대고, 패턴을 패드 상에 전사하여, 입체 성형품에 전사시키는 방법이다.Moreover, about the printing of the pattern to a three-dimensional molded article, the pad printing method is known. This puts the ink on the concave plate and scrapes it with a squeegee to fill the concave with the ink homogeneously, presses a pad made of silicone rubber or urethane rubber on the plate on which the ink is raised, transfers the pattern onto the pad, It is a method of transferring to a three-dimensional molded article.

상기 금속 나노 입자층(C)의 단위 면적당의 질량은, 1mg/㎡ 이상 30,000mg/㎡ 이하가 바람직하고, 1mg/㎡ 이상 5,000mg/㎡ 이하가 바람직하다. 상기 금속 나노 입자층(C)의 두께는, 상기 금속 도금층(D)의 형성할 때의 도금 처리 공정에 있어서의 처리 시간, 전류 밀도, 도금용 첨가제의 사용량 등을 제어함에 의해서 조정할 수 있다.The mass per unit area of the metal nanoparticle layer (C) is preferably 1 mg / m 2 or more and 30,000 mg / m 2 or less, and preferably 1 mg / m 2 or more and 5,000 mg / m 2 or less. The thickness of the said metal nanoparticle layer (C) can be adjusted by controlling the processing time, current density, the usage-amount of the additive for plating, etc. in the plating process at the time of forming the said metal plating layer (D).

본 발명의 적층체를 구성하는 금속 도금층(D)은, 예를 들면, 상기 적층체를 프린트 배선판 등에 사용할 경우에, 장기간에 걸쳐서 단선 등을 발생하지 않고, 양호한 통전성(通電性)을 유지 가능한 신뢰성이 높은 배선 패턴을 형성하는 것을 목적으로 해서 마련되는 층이다.The metal plating layer (D) constituting the laminate of the present invention is reliable, for example, when using the laminate in a printed wiring board or the like, without causing disconnection or the like over a long period of time, and maintaining good electrical conductivity. It is a layer provided for the purpose of forming this high wiring pattern.

상기 금속 도금층(D)은, 상기 금속 나노 입자층(C)의 위에 형성되는 층이지만, 그 형성 방법으로서는, 도금 처리에 의해서 형성하는 방법이 바람직하다. 이 도금 처리로서는, 간편하게 상기 금속 도금층(D)을 형성할 수 있는 전해 도금법, 무전해 도금법 등의 습식 도금법을 들 수 있다. 또한, 이들 도금법을 둘 이상 조합해도 된다. 예를 들면, 무전해 도금을 실시한 후, 전해 도금을 실시해서, 상기 금속 도금층(D)을 형성해도 된다.Although the said metal plating layer (D) is a layer formed on the said metal nanoparticle layer (C), as a formation method, the method of forming by a plating process is preferable. As this plating process, wet plating methods, such as an electrolytic plating method and an electroless plating method which can easily form the said metal plating layer (D), are mentioned. Moreover, you may combine 2 or more of these plating methods. For example, after electroless plating is performed, electrolytic plating may be performed to form the metal plating layer (D).

상기한 무전해 도금법은, 예를 들면, 상기 금속 나노 입자층(C)을 구성하는 금속에, 무전해 도금액을 접촉시킴으로써, 무전해 도금액 중에 포함되는 구리 등의 금속을 석출시켜서 금속 피막으로 이루어지는 무전해 도금층(피막)을 형성하는 방법이다.In the electroless plating method described above, for example, an electroless plating solution is brought into contact with the metal constituting the metal nanoparticle layer (C), thereby depositing a metal such as copper contained in the electroless plating solution to form an electroless film formed of a metal film. It is a method of forming a plating layer (film).

상기 무전해 도금액으로서는, 예를 들면, 구리, 은, 금, 니켈, 크롬, 코발트, 주석 등의 금속과, 환원제와, 수성 매체, 유기 용제 등의 용매를 함유하는 것을 들 수 있다.As said electroless plating liquid, what contains metals, such as copper, silver, gold, nickel, chromium, cobalt, tin, a reducing agent, and solvents, such as an aqueous medium and an organic solvent, is mentioned, for example.

상기 환원제로서는, 예를 들면, 디메틸아미노보란, 차아인산, 차아인산나트륨, 디메틸아민보란, 히드라진, 포름알데히드, 수소화붕소나트륨, 페놀 등을 들 수 있다.Examples of the reducing agent include dimethylaminoborane, hypophosphorous acid, sodium hypophosphite, dimethylamine borane, hydrazine, formaldehyde, sodium borohydride, phenol and the like.

또한, 상기 무전해 도금액으로서는, 필요에 따라서, 아세트산, 포름산 등의 모노카르복시산; 말론산, 숙신산, 아디프산, 말레산, 푸마르산 등의 디카르복시산 화합물; 말산, 젖산, 글리콜산, 글루콘산, 시트르산 등의 히드록시카르복시산 화합물; 글리신, 알라닌, 이미노디아세트산, 아르기닌, 아스파라긴산, 글루탐산 등의 아미노산 화합물; 이미노디아세트산, 니트릴로트리아세트산, 에틸렌디아민디아세트산, 에틸렌디아민테트라아세트산, 디에틸렌트리아민펜타아세트산 등의 아미노폴리카르복시산 화합물 등의 유기산, 또는 이들 유기산의 가용성염(나트륨염, 칼륨염, 암모늄염 등), 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민 등의 아민 화합물 등의 착화제를 함유하는 것을 사용할 수 있다.Moreover, as said electroless plating liquid, Monocarboxylic acids, such as an acetic acid and formic acid, as needed; Dicarboxylic acid compounds such as malonic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid, and fumaric acid; Hydroxycarboxylic acid compounds such as malic acid, lactic acid, glycolic acid, gluconic acid, citric acid; Amino acid compounds such as glycine, alanine, iminodiacetic acid, arginine, aspartic acid and glutamic acid; Organic acids such as aminopolycarboxylic acid compounds such as iminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, ethylenediaminediacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid and diethylenetriaminepentaacetic acid, or soluble salts of these organic acids (sodium salt, potassium salt, ammonium salt, etc.) And those containing complexing agents such as amine compounds such as ethylenediamine, diethylenetriamine and triethylenetetramine can be used.

상기 무전해 도금액은, 20℃ 이상 98℃ 이하에서 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use the said electroless plating liquid at 20 degreeC or more and 98 degrees C or less.

상기 전해 도금법은, 예를 들면, 상기 금속 나노 입자층(C)을 구성하는 금속, 또는, 상기 무전해 처리에 의해서 형성된 무전해 도금층(피막)의 표면에, 전해 도금액을 접촉한 상태에서 통전함에 의해, 상기 전해 도금액 중에 포함되는 구리 등의 금속을, 캐소드에 설치한 상기 금속 나노 입자층(C)을 구성하는 도전성 물질 또는 상기 무전해 처리에 의해서 형성된 무전해 도금층(피막)의 표면에 석출시켜서, 전해 도금층(금속 피막)을 형성하는 방법이다.The electroplating method is, for example, by energizing the metal constituting the metal nanoparticle layer (C) or the surface of the electroless plating layer (film) formed by the electroless treatment in a state where the electrolytic plating solution is in contact with the electrolytic plating solution. And depositing a metal such as copper contained in the electrolytic plating solution on the surface of the conductive material constituting the metal nanoparticle layer (C) provided on the cathode or the surface of the electroless plating layer (film) formed by the electroless treatment. It is a method of forming a plating layer (metal film).

상기 전해 도금액으로서는, 예를 들면, 구리, 니켈, 크롬, 코발트, 주석 등의 금속의 황화물과, 황산과, 수성 매체를 함유하는 것 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 황산구리와 황산과 수성 매체를 함유하는 것을 들 수 있다.Examples of the electrolytic plating solution include sulfides of metals such as copper, nickel, chromium, cobalt and tin, sulfuric acid, and an aqueous medium. Specifically, what contains copper sulfate, a sulfuric acid, and an aqueous medium is mentioned.

상기 전해 도금액은, 20℃ 이상 98℃ 이하에서 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use the said electrolytic plating liquid at 20 degreeC or more and 98 degrees C or less.

상기 금속 도금층(D)의 형성 방법으로서는, 상기 금속 도금층(D)의 막두께를, 박막부터 후막까지 원하는 막두께로 제어하기 쉬우므로, 무전해 도금을 실시한 후, 전해 도금을 실시하는 방법이 바람직하다.As the formation method of the said metal plating layer (D), since the film thickness of the said metal plating layer (D) is easy to control to a desired film thickness from a thin film to a thick film, the method of electroplating after electroless plating is preferable. Do.

상기 금속 도금층(D)의 막두께는, 1㎛ 이상 50㎛ 이하가 바람직하다. 상기 금속 도금층(D)의 막두께는, 상기 금속 도금층(D)의 형성할 때의 도금 처리 공정에 있어서의 처리 시간, 전류 밀도, 도금용 첨가제의 사용량 등을 제어함에 의해서 조정할 수 있다.As for the film thickness of the said metal plating layer (D), 1 micrometer or more and 50 micrometers or less are preferable. The film thickness of the said metal plating layer (D) can be adjusted by controlling the processing time, the current density, the usage-amount of the additive for plating, etc. in the plating process at the time of forming the said metal plating layer (D).

(실시예)(Example)

이하, 실시예에 의해 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples.

(제조예 1 : 아미노트리아진 변성 노볼락 수지의 제조) (Manufacture example 1: manufacture of aminotriazine modified novolak resin)

온도계, 냉각관, 분류관, 교반기를 부착한 플라스크에, 페놀 750질량부, 멜라민 75질량부, 41.5질량% 포르말린 346질량부, 및 트리에틸아민 1.5질량부를 더하고, 발열에 주의하면서 100℃까지 승온했다. 환류 하 100℃에서 2시간 반응시킨 후, 상압 하에서 물을 제거하면서 180℃까지 2시간 걸쳐서 승온했다. 다음으로, 감압 하에서 미반응의 페놀을 제거하여, 아미노트리아진 변성 노볼락 수지를 얻었다. 수산기 당량은 120g/당량이었다.750 mass parts of phenols, 75 mass parts of melamine, 346 mass parts of 41.5 mass% formalin, and 1.5 mass parts of triethylamines were added to the flask with a thermometer, a cooling tube, a dividing tube, and a stirrer, and it heated up to 100 degreeC, paying attention to heat generation. did. After reacting at 100 degreeC under reflux for 2 hours, it heated up to 180 degreeC over 2 hours, removing water under normal pressure. Next, the unreacted phenol was removed under reduced pressure to obtain an aminotriazine-modified novolak resin. The hydroxyl equivalent was 120 g / equivalent.

(조제예 1 : 프라이머 조성물(1)의 조제) Preparation Example 1: Preparation of Primer Composition (1)

노볼락 수지(DIC가부시키가이샤제 「PHENOLITE TD-2131」, 수산기 당량 104g/당량) 35질량부, 에폭시 수지(DIC가부시키가이샤제 「EPICLON 850-S」; 비스페놀A형 에폭시 수지, 에폭시기 당량 188g/당량) 64질량부, 및, 2,4-디아미노-6-비닐-s-트리아진(시코쿠가세이가부시키가이샤제 「VT」) 1질량부를 혼합 후, 메틸에틸케톤으로 불휘발분이 2질량%로 되도록 희석하고, 균일하게 혼합함으로써, 프라이머 조성물(1)을 얻었다.35 mass parts of novolak resin ("PHENOLITE TD-2131" made by DIC Corporation, hydroxyl group equivalent 104 g / equivalent), epoxy resin ("EPICLON 850-S" made by DIC Corporation; bisphenol A type epoxy resin, epoxy group equivalent 188 g) / Equivalent) 64 mass parts and 1 mass part of 2, 4- diamino-6-vinyl-s-triazine ("VT" by the Shikoku Chemical Co., Ltd.) are mixed, and a non volatile matter is substituted with methyl ethyl ketone. The primer composition (1) was obtained by diluting so that it may become 2 mass% and mixing uniformly.

(조제예 2 : 프라이머 조성물(2)의 조제) Preparation Example 2: Preparation of Primer Composition (2)

노볼락 수지(DIC가부시키가이샤제 「PHENOLITE TD-2131」, 수산기 당량 104g/당량) 35질량부, 에폭시 수지(DIC가부시키가이샤제 「EPICLON 850-S」; 비스페놀A형 에폭시 수지, 에폭시기 당량 188g/당량) 64질량부, 및, 트리아진환을 갖는 실란커플링제(시코쿠가세이가부시키가이샤제 「VD-5」) 1질량부를 혼합 후, 메틸에틸케톤으로 불휘발분이 2질량%로 되도록 희석하고, 균일하게 혼합함으로써, 프라이머 조성물(2)을 얻었다.35 mass parts of novolak resin ("PHENOLITE TD-2131" made by DIC Corporation, hydroxyl group equivalent 104 g / equivalent), epoxy resin ("EPICLON 850-S" made by DIC Corporation; bisphenol A type epoxy resin, epoxy group equivalent 188 g) / Equivalent) 64 mass parts and 1 mass part of silane coupling agents ("VD-5" by Shikoku Chemical Co., Ltd.) which have a triazine ring are mixed, and it diluted by methyl ethyl ketone so that a non volatile matter may be 2 mass%. And the primer composition (2) was obtained by mixing uniformly.

(조제예 3 : 프라이머 조성물(3)의 조제) Preparation Example 3: Preparation of Primer Composition (3)

제조예 1에서 얻어진 아미노트리아진노볼락 수지 65질량부, 및 에폭시 수지(DIC가부시키가이샤제 「EPICLON 850-S」; 비스페놀A형 에폭시 수지, 에폭시기 당량 188g/당량) 35질량부를 혼합 후, 메틸에틸케톤으로 불휘발분이 2질량%로 되도록 희석하고, 균일하게 혼합함으로써, 프라이머 조성물(3)을 얻었다.Methyl ethyl after mixing 65 mass parts of amino triazine novolak resin obtained by the manufacture example 1, and 35 mass parts of epoxy resins ("EPICLON 850-S" by DIC Corporation; bisphenol-A epoxy resin, epoxy group equivalent 188 g / eq.) The primer composition (3) was obtained by diluting so that a non volatile matter might be 2 mass% with ketone, and mixing uniformly.

(조제예 4 : 프라이머 조성물(4)의 조제) Preparation Example 4 Preparation of Primer Composition (4)

제조예 1에서 얻어진 아미노트리아진노볼락 수지 48질량부, 및 에폭시 수지(DIC가부시키가이샤제 「EPICLON 850-S」; 비스페놀A형 에폭시 수지, 에폭시기 당량 188g/당량) 52질량부를 혼합 후, 메틸에틸케톤으로 불휘발분이 2질량%로 되도록 희석하고, 균일하게 혼합함으로써, 프라이머 조성물(4)을 얻었다.Methyl ethyl after mixing 48 mass parts of amino triazine novolak resin obtained by the manufacture example 1, and 52 mass parts of epoxy resins ("EPICLON 850-S" by DIC Corporation; bisphenol-A epoxy resin, epoxy group equivalent 188 g / equivalent) The primer composition (4) was obtained by diluting so that a non volatile matter might be 2 mass% with ketone, and mixing uniformly.

(조제예 5 : 프라이머 조성물(5)의 조제) Preparation Example 5: Preparation of Primer Composition (5)

제조예 1에서 얻어진 아미노트리아진노볼락 수지 39질량부, 및 에폭시 수지(DIC가부시키가이샤제 「EPICLON 850-S」; 비스페놀A형 에폭시 수지, 에폭시기 당량 188g/당량) 61질량부를 혼합 후, 메틸에틸케톤으로 불휘발분이 2질량%로 되도록 희석하고, 균일하게 혼합함으로써 프라이머 조성물(5)을 얻었다.Methyl ethyl after mixing 39 mass parts of amino triazine novolak resin obtained by the manufacture example 1, and 61 mass parts of epoxy resins ("EPICLON 850-S" by DIC Corporation; bisphenol-A epoxy resin, epoxy group equivalent 188 g / equivalent) The primer composition (5) was obtained by diluting so that a non volatile matter might be 2 mass% with a ketone, and mixing uniformly.

(조제예 6 : 프라이머 조성물(6)의 조제) Preparation Example 6 Preparation of Primer Composition (6)

제조예 1에서 얻어진 아미노트리아진노볼락 수지 31질량부, 및 에폭시 수지(DIC가부시키가이샤제 「EPICLON 850-S」; 비스페놀A형 에폭시 수지, 에폭시기 당량 188g/당량) 69질량부를 혼합 후, 메틸에틸케톤으로 불휘발분이 2질량%로 되도록 희석하고, 균일하게 혼합함으로써, 프라이머 조성물(6)을 얻었다.31 mass parts of amino triazine novolak resin obtained by the manufacture example 1, and 69 mass parts of epoxy resins ("EPICLON 850-S" by DIC Corporation; bisphenol-A epoxy resin, epoxy group equivalent 188 g / equivalent), methyl ethyl, after mixing The primer composition (6) was obtained by diluting so that a non volatile matter might be 2 mass% with ketone, and mixing uniformly.

(조제예 7 : 프라이머 조성물(7)의 조제) Preparation Example 7: Preparation of Primer Composition (7)

제조예 1에서 얻어진 아미노트리아진노볼락 수지 47질량부, 및 에폭시 수지(DIC가부시키가이샤제 「EPICLON 850-S」; 비스페놀A형 에폭시 수지, 에폭시기 당량 188g/당량) 52질량부, 무수트리멜리트산 1질량부를 혼합 후, 메틸에틸케톤으로 불휘발분이 2질량%로 되도록 희석하고, 균일하게 혼합함으로써, 프라이머 조성물(7)을 얻었다.47 mass parts of amino triazine novolak resin obtained by the manufacture example 1, and 52 mass parts of epoxy resins ("EPICLON 850-S" by DIC Corporation; bisphenol-A epoxy resin, epoxy group equivalent 188 g / equivalent), trimellitic anhydride After mixing 1 part by mass, the mixture was diluted with methyl ethyl ketone so as to have a nonvolatile content of 2% by mass, and mixed uniformly to obtain a primer composition (7).

(조제예 8 : 프라이머 조성물(R1)의 조제) Preparation Example 8 Preparation of Primer Composition (R1)

블록 이소시아네이트 수지(수지분 25질량% 수용액)를 메틸에틸케톤으로 불휘발분이 2질량%로 되도록 희석해서, 프라이머 조성물(R1)을 얻었다.The block isocyanate resin (resin 25 mass% aqueous solution) was diluted with methyl ethyl ketone so that a non volatile matter might be 2 mass%, and the primer composition (R1) was obtained.

(조제예 9 : 프라이머 조성물(R2)의 조제) Preparation Example 9 Preparation of Primer Composition (R2)

에폭시 수지(DIC가부시키가이샤제 「EPICLON 850-S」; 비스페놀A형 에폭시 수지) 100질량부를, 메틸에틸케톤으로 불휘발분이 2질량%로 되도록 희석하고, 균일하게 혼합함으로써, 프라이머 조성물(R2)을 얻었다.Primer composition (R2) by diluting 100 mass parts of epoxy resins ("EPICLON 850-S" made by DIC Corporation; bisphenol-A epoxy resin) so that non volatile matter may be 2 mass% with methyl ethyl ketone, and it mixes uniformly. Got.

[유동체(1)의 조제] [Preparation of Fluid 1]

일본 특허 제4573138호 공보 기재의 실시예 1에 따라서, 은나노 입자와 양이온성기(아미노기)를 갖는 유기 화합물의 복합체인 회녹색의 금속 광택이 있는 플레이크상의 덩어리로 이루어지는 양이온성 은나노 입자를 얻었다. 그 후, 이 은나노 입자의 분말을, 에틸렌글리콜 45질량부와, 이온 교환수 55질량부와의 혼합 용매에 분산시켜서, 양이온성 은나노 입자가 5질량%인 유동체(1)를 조제했다.According to Example 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 4573138, the cationic silver nanoparticle which consists of flake-like flakes of gray-green metal luster which is a composite of silver nanoparticles and the organic compound which has a cationic group (amino group) was obtained. Then, the powder of this silver nanoparticle was disperse | distributed in the mixed solvent of 45 mass parts of ethylene glycol and 55 mass parts of ion-exchange water, and the fluid 1 which has 5 mass% of cationic silver nanoparticles was prepared.

(실시예 1) (Example 1)

폴리이미드 필름(도레·듀퐁가부시키가이샤제 「카프톤 150EN-C」; 두께 38㎛)의 표면에, 조제예 1에서 얻어진 프라이머 조성물(1)을, 탁상형 소형 코터(RK프린트코트인스트루먼트샤제 「K프린팅프로퍼」)를 사용해서, 그 건조 후의 두께가 100㎚로 되도록 도공했다. 다음으로, 열풍 건조기를 사용해서 150℃에서 5분간 건조함에 의해서, 폴리이미드 필름의 표면에 프라이머층을 형성했다.On the surface of a polyimide film (" Kapton 150EN-C " manufactured by Doré DuPont Co., Ltd .; 38 μm in thickness), the primer composition 1 obtained in Preparation Example 1 is placed on a table-type small coater (RK Print Coat Instruments Co., Ltd.) K printing prop "), and it coated so that the thickness after drying might be set to 100 nm. Next, the primer layer was formed on the surface of the polyimide film by drying at 150 degreeC for 5 minutes using a hot air dryer.

상기에서 형성한 프라이머층의 표면에, 상기에서 얻어진 유동체(1)를, 바 코터를 사용해서 도공했다. 다음으로, 150℃에서 5분간 건조함에 의해서, 상기 금속 나노 입자층(C)에 상당하는 은층(막두께 20㎚)을 형성했다.The fluid 1 obtained above was coated on the surface of the primer layer formed above using the bar coater. Next, the silver layer (film thickness 20nm) corresponded to the said metal nanoparticle layer (C) was formed by drying at 150 degreeC for 5 minutes.

상기에서 형성한 은층을 무전해 구리 도금액(오쿠노세이야쿠고교가부시키가이샤제 「OIC캇파」, pH 12.5) 중에 45℃에서 12분간 침지하고, 무전해 구리 도금을 행하여, 무전해 도금에 의한 구리 도금층(막두께 0.2㎛)을 형성했다.The silver layer formed above was immersed in an electroless copper plating solution ("OIC Kappa", pH 12.5, manufactured by Okuno Seiyaku Kogyo Co., Ltd.) at 45 ° C. for 12 minutes, electroless copper plating was performed, and copper by electroless plating. The plating layer (film thickness 0.2 micrometer) was formed.

상기에서 얻어진 무전해 구리 도금에 의한 구리 도금층을 캐소드측에 설정하고, 함인 구리를 애노드측에 설정하고, 황산구리를 함유하는 전해 도금액을 사용해서 전류 밀도 2.5A/d㎡로 30분간 전해 도금을 행함에 의해서, 무전해 구리 도금에 의한 구리 도금층의 표면에, 전해 구리 도금에 의한 구리 도금층(막두께 15㎛)을 형성했다. 상기 전해 도금액으로서는, 황산구리 70g/L, 황산 200g/L, 염소이온 50mg/L, 첨가제(오쿠노세이야쿠고교(주)제 「톱루티나SF-M」) 5ml/L를 사용했다. 또, 무전해 구리 도금에 의한 구리 도금층 및 그 위에 형성한 전해 구리 도금에 의한 구리 도금층을 합친 것이, 상기 금속 도금층(D)에 상당한다.The copper plating layer obtained by electroless copper plating obtained above was set on the cathode side, copper containing copper was set on the anode side, and electrolytic plating was carried out for 30 minutes at a current density of 2.5 A / dm 2 using an electrolytic plating solution containing copper sulfate. By this, the copper plating layer (film thickness 15 micrometers) by electrolytic copper plating was formed in the surface of the copper plating layer by electroless copper plating. As said electrolytic plating liquid, copper sulfate 70g / L, sulfuric acid 200g / L, chlorine ion 50mg / L, and 5 ml / L of additives ("Toprutina SF-M" by Okuno Seiyaku Kogyo Co., Ltd.) were used. Moreover, what combined the copper plating layer by electroless copper plating and the copper plating layer by electrolytic copper plating formed on it corresponds to the said metal plating layer (D).

이상의 방법에 의해서, 지지체(A), 프라이머층(B), 금속 나노 입자층(C), 및 금속 도금층(D)이 순차 적층된 적층체(1)를 얻었다.By the above method, the laminated body 1 in which the support body (A), the primer layer (B), the metal nanoparticle layer (C), and the metal plating layer (D) were laminated one by one was obtained.

(실시예 2∼7 및 비교예 1∼2) (Examples 2-7 and Comparative Examples 1-2)

실시예 1에서 사용한 프라이머 조성물(1) 대신에 프라이머 조성물(2)∼(7), (R-1) 또는 (R-2)을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해서, 적층체(2)∼(7), (R-1) 또는 (R-2)를 얻었다.Lamination | stacking by the method similar to Example 1 except having used primer composition (2)-(7), (R-1), or (R-2) instead of the primer composition (1) used in Example 1 Sieves (2) to (7), (R-1) or (R-2) were obtained.

상기한 실시예 1∼7 및 비교예 1∼2에서 얻어진 적층체(1)∼(7), (R1) 및 (R2)에 대하여, 하기의 측정 및 평가를 행했다.The following measurement and evaluation were performed about the laminated bodies (1)-(7), (R1), and (R2) obtained in said Example 1-7 and Comparative Examples 1-2.

[가열 전의 박리 강도의 측정] [Measurement of Peel Strength Before Heating]

상기에서 얻어진 각 적층체에 대하여, 가부시키가이샤시마즈세이사쿠죠제 「오토그래프AGS-X 500N」을 사용해서 박리 강도를 측정했다. 또, 측정에 사용하는 리드폭은 5㎜, 그 필의 각도는 90°로 했다. 또한, 필 강도는, 금속 도금층의 두께가 두꺼워질수록 높은 값을 나타내는 경향이 있지만, 본 발명에서의 필 강도의 측정은, 금속 도금층의 두께 15㎛에 있어서의 측정값을 기준으로 해서 실시했다.About each laminated body obtained above, peeling strength was measured using "autograph AGS-X 500N" by the company. In addition, the lead width used for the measurement was 5 mm, and the angle of the peel was 90 degrees. In addition, although the peeling strength tends to show a high value, so that the thickness of a metal plating layer becomes thick, the peeling strength in this invention was measured based on the measured value in 15 micrometers in thickness of a metal plating layer.

[밀착성의 평가] [Evaluation of Adhesiveness]

상기에서 측정한 가열 전의 박리 강도의 값으로부터, 하기의 기준에 따라서 밀착성을 평가했다.From the value of the peeling strength before the heating measured above, adhesiveness was evaluated according to the following criteria.

A : 박리 강도의 값이 650N/m 이상A: The value of peeling strength is 650 N / m or more

B : 박리 강도의 값이 450N/m 이상, 650N/m 미만B: Peel strength is 450 N / m or more but less than 650 N / m

C : 박리 강도의 값이 250N/m 이상, 450N/m 미만C: value of peeling strength is 250N / m or more and less than 450N / m

D : 박리 강도의 값이 250N/m 미만D: value of peeling strength is less than 250N / m

[가열 후의 박리 강도의 측정] [Measurement of Peel Strength After Heating]

상기에서 얻어진 각 적층체에 대하여, 각각 150℃로 설정한 건조기 내에 168 시간 보관해서 가열했다. 가열 후, 상기와 마찬가지의 방법으로 필 강도를 측정했다.About each laminated body obtained above, it stored in the dryer set to 150 degreeC for 168 hours, and heated. After heating, the peel strength was measured by the method similar to the above.

[내열성의 평가] [Evaluation of Heat Resistance]

상기에서 측정한 가열 전후의 필 강도값을 사용해서, 가열 전후에서의 유지율을 산출하고, 하기의 기준에 따라서 내열성을 평가했다.The retention rate before and after heating was computed using the peeling strength value before and behind the heating measured above, and heat resistance was evaluated according to the following reference | standard.

A : 유지율이 85% 이상A: The retention rate is 85% or more

B : 유지율이 70% 이상 85% 미만B: Retention rate is 70% or more but less than 85%

C : 유지율이 55% 이상 70% 미만C: The retention rate is 55% or more but less than 70%

D : 유지율이 55% 미만D: retention rate is less than 55%

실시예 1∼4, 비교예 1 및 2에서 사용한 프라이머 조성물의 조성, 가열 전후의 박리 강도의 측정 결과, 밀착성 및 내열성의 평가 결과를 표 1에 나타낸다. 또, 프라이머 조성물의 조성은, 불휘발분만을 나타낸다.Table 1 shows the results of measuring the composition of the primer compositions used in Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 and 2, the peel strength before and after heating, and the results of evaluation of adhesion and heat resistance. In addition, the composition of a primer composition shows only a non volatile matter.

[표 1] TABLE 1

Figure pct00001
Figure pct00001

본 발명의 적층체인 실시예 1∼7에서 얻어진 적층체(1)∼(7)는, 초기(가열 전)의 밀착성이 충분히 높고, 또한, 가열 후의 박리 강도의 저하도 적고 내열성도 우수한 것을 확인할 수 있었다.The laminates (1) to (7) obtained in Examples 1 to 7, which are the laminates of the present invention, were found to have sufficiently high initial adhesiveness (before heating), and also less degradation of peeling strength after heating and excellent heat resistance. there was.

한편, 비교예 1 및 2에서 얻어진 적층체(R1) 및 (R2)는, 초기(가열 전)의 밀착성은 충분하지만, 가열 후의 박리 강도의 저하가 크고, 내열성에 문제가 있는 것을 확인할 수 있었다.On the other hand, although the adhesiveness of initial stage (before heating) was sufficient for the laminated bodies R1 and R2 obtained by the comparative examples 1 and 2, the fall of the peeling strength after heating was large, and it was confirmed that there was a problem in heat resistance.

Claims (10)

지지체(A)의 위에, 프라이머층(B), 금속 나노 입자층(C) 및 금속 도금층(D)이 순차 적층된 적층체로서, 상기 프라이머층(B)이, 아미노트리아진환을 갖는 화합물(b1)을 함유하는 층인 것을 특징으로 하는 적층체.A compound (b1) in which the primer layer (B) has an aminotriazine ring as a laminate in which a primer layer (B), a metal nanoparticle layer (C), and a metal plating layer (D) are sequentially stacked on the support (A). It is a layer containing the laminated body characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서,
상기 아미노트리아진환을 갖는 화합물(b1)이, 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1)인 적층체.
The method of claim 1,
The laminated body whose compound (b1) which has the said amino triazine ring is aminotriazine modified novolak resin (b1-1).
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 프라이머층(B)이, 에폭시 수지(b2)를 더 함유하는 층인 적층체.
The method according to claim 1 or 2,
The laminated body whose said primer layer (B) is a layer which further contains an epoxy resin (b2).
제1항에 있어서,
상기 프라이머층(B)이, 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1) 및 에폭시 수지(b2)를 함유하는 층으로서, 상기 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1) 중의 페놀성 수산기(x)와 상기 에폭시 수지(b2) 중의 에폭시기(y)와의 몰비[(y)/(x)]가, 0.1∼5의 범위인 적층체.
The method of claim 1,
The said primer layer (B) is a layer containing an aminotriazine modified novolak resin (b1-1) and an epoxy resin (b2), The phenolic hydroxyl group in the said aminotriazine modified novolak resin (b1-1) ( The laminated body whose molar ratio [(y) / (x)] of x) and the epoxy group (y) in the said epoxy resin (b2) is the range of 0.1-5.
제2항 또는 제4항에 있어서,
상기 아미노트리아진 변성 노볼락 수지(b1-1)의 수산기가가, 50∼200mgKOH/g의 범위인 적층체.
The method according to claim 2 or 4,
The laminated body whose hydroxyl value of the said aminotriazine modified novolak resin (b1-1) is 50-200 mgKOH / g.
제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 에폭시 수지(b2)가, 비스페놀A형 에폭시 수지인 적층체.
The method according to any one of claims 3 to 5,
The laminated body whose said epoxy resin (b2) is a bisphenol-A epoxy resin.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 프라이머층(B)이, 다가 카르복시산의 가교제를 더 함유하는 층인 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 6,
Laminated body whose said primer layer (B) is a layer which further contains the crosslinking agent of polyhydric carboxylic acid.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 적층체를 사용한 것을 특징으로 하는 프린트 배선판.The laminated body of any one of Claims 1-7 was used, The printed wiring board characterized by the above-mentioned. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 적층체이고, 상기 지지체(A)가 필름인 적층체를 사용한 것을 특징으로 하는 플렉서블 프린트 배선판.The laminated body in any one of Claims 1-7, and the laminated body whose said support body (A) is a film was used, The flexible printed wiring board characterized by the above-mentioned. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 적층체를 사용한 것을 특징으로 하는 성형품.The laminated body of any one of Claims 1-7 was used. The molded article characterized by the above-mentioned.
KR1020207000073A 2017-07-10 2018-07-03 Laminate, printed wiring board, flexible printed wiring board and molded article using the same KR102372638B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2017-134606 2017-07-10
JP2017134606 2017-07-10
PCT/JP2018/025165 WO2019013038A1 (en) 2017-07-10 2018-07-03 Laminated body, printed wiring board using same, flexible printed wiring board, and molded article

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200015695A true KR20200015695A (en) 2020-02-12
KR102372638B1 KR102372638B1 (en) 2022-03-10

Family

ID=65001972

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207000073A KR102372638B1 (en) 2017-07-10 2018-07-03 Laminate, printed wiring board, flexible printed wiring board and molded article using the same

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6579295B2 (en)
KR (1) KR102372638B1 (en)
CN (1) CN110753617A (en)
TW (1) TWI707928B (en)
WO (1) WO2019013038A1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021000265A1 (en) * 2019-07-02 2021-01-07 山东圣泉新材料股份有限公司 Adhesion promoter and photosensitive resin composition containing same
KR20220119375A (en) * 2019-12-24 2022-08-29 디아이씨 가부시끼가이샤 Laminates, printed wiring boards, flexible printed wiring boards, electromagnetic shields and molded products
CN117561164A (en) 2021-07-15 2024-02-13 太阳油墨制造株式会社 Laminate and electronic device provided with laminate
CN117529403A (en) 2021-07-15 2024-02-06 太阳油墨制造株式会社 Laminate and electronic device provided with laminate

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5830807B2 (en) 1977-04-11 1983-07-01 松下電器産業株式会社 Grooving equipment for plate-shaped objects
KR20090117832A (en) * 2007-03-01 2009-11-12 아지노모토 가부시키가이샤 Process for producing circuit board
KR20100015339A (en) * 2007-03-01 2010-02-12 아지노모토 가부시키가이샤 Film for metal film transfer, method for transferring metal film, and method for manufacturing circuit board
JP2011025532A (en) * 2009-07-24 2011-02-10 Ajinomoto Co Inc Film with metal film
JP2015118044A (en) 2013-12-19 2015-06-25 住友金属鉱山株式会社 Method for determining adhesion strength of metal thin film/polyimide laminate and metalized polyimide film substrate using the same
CN105517788A (en) * 2013-09-10 2016-04-20 Dic株式会社 Stacked body, conductive pattern, electronic circuit, and production method for stacked body

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0877040B1 (en) * 1997-05-09 2000-04-12 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Phenol resin composition and method of producing phenol resin
JP2005029674A (en) * 2003-07-11 2005-02-03 Hitachi Chem Co Ltd Phenolic resin composition and copper-clad phenolic resin laminated board
JP2007231125A (en) * 2006-02-28 2007-09-13 Kaneka Corp Thermosetting resin composition and its use
CN101029165A (en) * 2006-03-01 2007-09-05 广东榕泰实业股份有限公司 Epoxy-resin mould plastic for packing IC circuit and its production
MY169438A (en) * 2006-04-28 2019-04-10 Hitachi Chemical Co Ltd Resin composition, prepreg, laminate, and wiring board
JP4502148B2 (en) * 2006-09-21 2010-07-14 住友ベークライト株式会社 Resin composition, prepreg and laminate
KR102142753B1 (en) * 2009-03-27 2020-09-14 히타치가세이가부시끼가이샤 Thermosetting resin composition, and prepreg, insulating film with support, laminate plate, and printed wiring board, each obtained using same
CN104221481B (en) * 2012-03-28 2017-08-22 Dic株式会社 Conductive pattern, circuit, the manufacture method of electromagnetic wave shielding thing and conductive pattern
TWI548524B (en) * 2012-09-28 2016-09-11 Dainippon Ink & Chemicals Laminated body, conductive pattern and circuit
JP5713223B2 (en) * 2013-03-13 2015-05-07 Dic株式会社 LAMINATE, CONDUCTIVE PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATE
JP6418435B2 (en) * 2014-02-21 2018-11-07 Dic株式会社 Laminate, conductive pattern and electronic circuit
JP6460383B2 (en) * 2014-12-11 2019-01-30 Dic株式会社 Conductive laminate and method for producing the same
CN107001583B (en) * 2014-12-16 2019-06-18 株式会社钟化 Light and hot curing resin composition, solidfied material and laminate
CN107708997A (en) * 2015-06-26 2018-02-16 Dic株式会社 Layered product, products formed, conductive pattern, electronic circuit and electromagnetic wave shield
CN105348742B (en) * 2015-12-07 2018-02-02 杭州华正新材料有限公司 Compositions of thermosetting resin, prepreg and the laminate of the benzoxazine colophony containing melamine-type

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5830807B2 (en) 1977-04-11 1983-07-01 松下電器産業株式会社 Grooving equipment for plate-shaped objects
KR20090117832A (en) * 2007-03-01 2009-11-12 아지노모토 가부시키가이샤 Process for producing circuit board
KR20100015339A (en) * 2007-03-01 2010-02-12 아지노모토 가부시키가이샤 Film for metal film transfer, method for transferring metal film, and method for manufacturing circuit board
JP2011025532A (en) * 2009-07-24 2011-02-10 Ajinomoto Co Inc Film with metal film
CN105517788A (en) * 2013-09-10 2016-04-20 Dic株式会社 Stacked body, conductive pattern, electronic circuit, and production method for stacked body
JP2015118044A (en) 2013-12-19 2015-06-25 住友金属鉱山株式会社 Method for determining adhesion strength of metal thin film/polyimide laminate and metalized polyimide film substrate using the same

Also Published As

Publication number Publication date
WO2019013038A1 (en) 2019-01-17
CN110753617A (en) 2020-02-04
JP6579295B2 (en) 2019-09-25
KR102372638B1 (en) 2022-03-10
JPWO2019013038A1 (en) 2019-11-07
TWI707928B (en) 2020-10-21
TW201908427A (en) 2019-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102372638B1 (en) Laminate, printed wiring board, flexible printed wiring board and molded article using the same
TWI808198B (en) Manufacturing method of printed wiring board
KR20210023791A (en) Laminate for printed wiring board and printed wiring board using the same
TW202002738A (en) Method of manufacturing printed wiring board
KR102364792B1 (en) Laminate, printed wiring board, flexible printed wiring board and molded article using the same
JP2017208540A (en) Plating transfer film
JP2019014188A (en) Laminate, and printed wiring board, flexible printed wiring board and molded article using the same
TW202300334A (en) Laminate and manufacturing method thereof characterized in that a thermoplastic resin layer, a primer layer, and a metal layer are sequentially laminated on the insulating substrate
JP2020059185A (en) Laminate, electronic device, and manufacturing method therefor
KR20220119375A (en) Laminates, printed wiring boards, flexible printed wiring boards, electromagnetic shields and molded products
JP7453632B1 (en) Transfer laminate and its manufacturing method
WO2023286873A1 (en) Multilayer body and electronic device that is provided with multilayer body
CN117561164A (en) Laminate and electronic device provided with laminate
TW202236916A (en) Laminate for semi-additive manufacturing and printed wiring board using same
TW202408797A (en) Laminated body for transfer and manufacturing method thereof
WO2019013039A1 (en) Laminate, printed wiring board in which same is used, flexible printed wiring board, and molded article
TW202233414A (en) Laminate for semi-additive manufacturing and printed wiring board using same
TW202236926A (en) Laminate for semi-additive manufacturing and printed wiring board using same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)