KR20200012551A - 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치 - Google Patents

배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치에 관한 것이고, 구체적으로 웨이퍼와 같은 기판에 대한 공정이 진행되는 진공 챔버 내부를 효율적으로 진공 상태로 형성하는 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치에 관한 것이다. 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치는 공정 챔버(C)에 연결된 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c); 및 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)의 적어도 하나에 연결된 진공 펌프(13, 13a, 13b, 13c)를 포함하고, 상기 공정 챔버(C) 내부의 기체는 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)을 통하여 분산되어 배출된다.

Description

배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치{An Apparatus for Exhausting a Gas from a Processing Chamber with an Improved Venting Efficiency}
본 발명은 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치에 관한 것이고, 구체적으로 웨이퍼와 같은 기판에 대한 공정이 진행되는 진공 챔버 내부를 효율적으로 진공 상태로 형성하는 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치에 관한 것이다.
반도체 공정 중 에칭 또는 식각 공정과 같이 기체 또는 플라즈마가 주입되는 공정 챔버는 미리 진공 상태로 만들어질 수 있다. 공정 챔버를 진공 또는 이와 유사한 상태로 만드는 과정은 예를 들어 진공 펌프와 같은 수단에 연결된 배출 수단을 통하여 신속하게 기체가 배출되도록 하면서 이와 함께 입자 형태(particle)의 오염 물질을 남기지 않도록 진행될 필요가 있다. 특허공개번호 10-2007-0075935는 웨이퍼 또는 기판의 처리를 위한 기판 처리 장치의 진공 시스템에 대하여 개시한다. 특허공개번호 10-2018-0054336은 공정 설비의 공정 챔버와 진공 펌프를 연결하는 진공 라인의 진공도를 고려하여 진공 펌프를 제어하는 기술에 대하여 개시한다. 국제공개번호 WO 2007/044298은 가변하는 유동 속도 및 압력으로 고진공을 제어하고 정밀하게 제어하는 방법 및 장치에 대하여 개시한다. 또한 특허공개번호 10-2005-0071354는 다중 챔버용 고진공을 제공하고 제어하는 방법 및 장치에 대하여 개시한다. 선행기술은 공간 효율성, 서로 다른 챔버 사이의 진공 유지 시간의 제어 또는 저비용 구조에 대하여 신속하게 진공 상태를 만들면서 내부에서 존재할 수 있는 입자 형태의 오염 물질의 제거가 가능한 공정 챔버 배출 장치에 대하여 개시하지 않는다.
본 발명은 선행기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로 아래와 같은 목적을 가진다.
선행기술 1: 특허공개번호 10-2007-0075935(주성엔지니어링(주), 2007년07월24일 공개) 기판처리장치의 진공펌핑 시스템 및 이를 이용한 이송 챔버의 진공펌핑 방법 선행기술 2: 특허공개번호 10-2018-0054336(주식회사 에이치티, 2018년05월24일 공개) 공정 챔버 진공 제어 시스템 및 방법 선행기술 3: WO 2007/044298(THE BOC GROUP, INC., 2007년04월19일 공개) WIDE RANGE PRESSURE CONTROL USING TURBO PUMP 선행기술 4: 특허공개번호 10-2005-0071354(에드워즈 배큠 인코포레이티드, 2005년07월07일 공개) 처리 진공 챔버로부터 가스를 배기하는 방법 및 진공 배기 장치
본 발명의 목적은 기체의 배출 시간을 감소시키면서 내부에 존재할 수 있는 입자 형태의 오염 물질이 잔존하지 않도록 하는 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 적절한 실시 형태에 따르면, 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치는 공정 챔버에 연결된 다수 개의 진공 형성 라인; 및 진공 형성 라인의 적어도 하나에 연결된 진공 펌프를 포함하고, 상기 공정 챔버 내부의 기체는 다수 개의 진공 형성 라인을 통하여 분산되어 배출된다.
본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 다수 개의 진공 형성 라인의 이동 경로 또는 배출 입구에 형성된 확산 유닛을 더 포함한다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 다수 개의 진공 형성 라인의 경로에 형성된 버퍼 공간을 더 포함하고, 버퍼 공간에서 유동되는 기체의 압력이 변한다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 확산 유닛은 다수 개의 유동 홀이 형성된 확산 판 및 확산 판에 결합되는 체류 공간으로 이루어진다.
본 발명에 따른 공정 챔버 배출 장치는 공정 챔버의 기체 배출에 따른 진공 형성 시간이 감소되도록 하고, 예를 들어 공지의 장치에서 12 내지 15초가 소요되는 배출 시간이 5 내지 8초로 감소되도록 한다. 이에 따라 기판 처리를 위한 공정 효율이 감소되도록 하면서 예를 들어 결빙으로 인한 물 또는 이와 유사한 세정액이 남지 않도록 한다. 또한 와류 발생에 따른 입자 형태의 오염 물질의 잔존을 방지하기 위하여 확산 유닛을 배치하는 것에 의하여 공정 과정에서 입자 오염물에 의한 불량이 방지되도록 한다.
도 1은 본 발명에 따른 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 공정 챔버 배출 장치의 다른 실시 예를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명에 따른 공정 챔버 배출 장치가 적용된 실시 예를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 공정 챔버 배출 장치에 적용되는 확산 유닛의 실시 예를 도시한 것이다.
아래에서 본 발명은 첨부된 도면에 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되지만 실시 예는 본 발명의 명확한 이해를 위한 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 아래의 설명에서 서로 다른 도면에서 동일한 도면 부호를 가지는 구성요소는 유사한 기능을 가지므로 발명의 이해를 위하여 필요하지 않는다면 반복하여 설명이 되지 않으며 공지의 구성요소는 간략하게 설명이 되거나 생략이 되지만 본 발명의 실시 예에서 제외되는 것으로 이해되지 않아야 한다.
도 1은 본 발명에 따른 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치의 실시 예를 도시한 것이다.
도 1을 참조하면, 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치는 기판에 대한 공정이 진행되는 공정 챔버로부터 기체를 배출시키고, 공정 챔버(C)에 연결된 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c); 및 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)의 적어도 하나에 연결된 진공 펌프(13, 13a, 13b, 13c)를 포함하고, 상기 공정 챔버(C) 내부의 기체는 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)을 통하여 분산되어 배출된다.
공정 챔버(C)는 반도체 공정 또는 엘시디 공정을 위한 공정 챔버가 될 수 있고, 예를 들어 웨이퍼에 대한 에칭 공정 또는 증착 공정이 진행될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 공정 챔버(C)의 내부에 공정이 진행되기 전 또는 공정이 진행된 이후 진공 상태로 만들어질 수 있다. 또한 본 발명에 따른 배출 장치는 로드 락(load lock) 챔버와 같은 웨이퍼 로딩 챔버와 같이 기판에 대한 공정 과정에서 설치되는 다양한 형태의 진공 공간의 형성에 적용될 수 있고, 이에 의하여 제한되지 않는다. 공정 챔버(C)의 내부에 적어도 하나의 공정 척(VC1, VC2)이 설치될 수 있고, 공정 척(VC1, VC2)은 예를 들어 웨이퍼와 같은 기판이 고정되는 척 유닛이 될 수 있다. 공정 챔버(C)의 내부는 미리 결정된 조건에 따라 진공으로 만들어질 수 있고, 공정 챔버(C)에 진공 형성을 위한 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)이 형성될 수 있고, 구체적으로 두 개 또는 그 이상의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)이 진공 챔버(C)에 연결될 수 있다. 예를 들어 하나의 진공 챔버(C)에 서로 다른 두 개의 진공 형성 라인(11a, 11b)이 연결되거나, 세 개의 서로 다른 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)이 연결될 수 있다. 서로 다른 진공 형성 라인(예를 들어 11a, 11b)은 하나의 진공 펌프와 같은 진공 펌프(13)에 연결되거나 또는 서로 다른 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)은 각각 서로 다른 진공 펌프(13a, 13b, 13c)에 연결될 수 있다. 공정 챔버(C)의 내부 공간이 내부에 배치된 공정 척(VC1, VC2)의 위치에 기초하여 두 개 이상의 부분으로 분리가 될 수 있다. 그리고 분리된 부분을 기초로 적어도 두 개 또는 그 이상의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)의 배출 위치가 결정될 수 있다. 예를 들어 도 1에 제시된 공정 챔버(C)의 바닥 면(C_B)에서 서로 다른 두 개의 진공 형성 라인(11a, 11b)의 입구(111a, 111b)는 (i) 기체가 유동되는 바닥 면(C_B)의 중심으로부터 최대한 이격된 지점 및 (ii) 서로 다른 입구(111a, 111b) 사이에 최대한 이격된 지점에 위치할 수 있다. 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)은 이와 같이 배치되는 것에 의하여 공정 챔버(C) 내부의 기체가 효율적으로 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)을 통하여 외부로 배출로 배출될 수 있고, 예를 들어 스크러버와 같은 세정 장치로 유도될 수 있다. 예를 들어 이와 같은 배출 구조에 의하여 와류의 발생이 감소되면서 기체가 정체되는 공간이 형성되지 않을 수 있다.
도 1의 좌측에 배치된 것처럼, 서로 다른 진공 형성 라인(11a, 11b)은 하나의 진공 펌프(13)에 연결될 수 있다. 또는 도 1의 우측에 배치된 것처럼, 서로 다른 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)은 서로 다른 진공 펌프(13a, 13b, 13c)에 연결될 수 있다. 서로 다른 진공 형성 라인(11a, 11b)이 하나의 진공 펌프(13)에 연결되면, 각각의 진공 형성 라인(11a, 11b)에 압력 조절 수단(12a, 12b)이 결합될 수 있다. 이에 비하여 각각의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)에 각각 진공 펌프(13a, 13b, 13c)가 연결되면, 압력 조절 수단(12a, 12b)은 별도로 설치되지 않을 수 있다. 하나의 진공 펌프(13)에 의하여 서로 다른 진공 형성 라인(11a, 11b)을 통하여 배출이 되는 경우 압력 조절 수단(11a, 11b)의 유동 압력이 조절될 수 있다. 이에 비하여 각각의 진공 펌프(13a, 13b, 13c)에 의하여 서로 다른 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)을 통하여 배출이 되는 경우 진공 펌프(13a, 13b, 13c)의 작동 수준을 조절하는 것에 의하여 각각의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)을 따라 유동되는 기체의 압력이 조절될 수 있다. 각각의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)을 따라 유동되는 기체의 압력은 동일하거나 서로 다를 수 있고, 시간의 경과에 따라 적절하게 유동 압력이 설정될 수 있다. 그리고 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)을 따라 유도된 기체는 배출 라인(14)을 통하여 배출되어 처리될 수 있다.
다양한 수의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)이 다양한 수의 진공 펌프(13a, 13b, 13c)에 연결될 수 있고, 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
도 2는 본 발명에 따른 공정 챔버 배출 장치의 다른 실시 예를 도시한 것이다.
도 2를 참조하면, 진공 형성 라인(11a, 11b)의 배출 입구에 확산 유닛(23a, 23b)이 설치될 수 있고, 확산 유닛(23a, 23b)은 공정 챔버(C) 내부의 기체가 균일하게 진공 형성 라인(11a, 11b)으로 유입되도록 하는 기능을 가질 수 있다. 그리고 이에 의하여 유입 과정에서 소용돌이 또는 와류가 같이 공정 챔버(C) 내부의 공기 유동을 교란시키는 흐름이 발생되지 않도록 한다. 확산 유닛(23a, 23b)은 균일하게 형성된 유동 홀을 가진 판 형상이 될 수 있고, 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)의 다양한 경로에 형성될 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
본 발명의 하나의 실시 예에 따르면, 진공 형성 라인(11a, 11b)과 진공 펌프(13) 사이에 버퍼 공간(21a, 21b)이 형성되고, 버퍼 공간(21a, 21b)에서 유동되는 기체의 압력이 변할 수 있다. 구체적으로 각각의 진공 형성 라인(11a, 11b)에 적어도 하나의 버퍼 공간(21a, 21b)이 형성될 수 있고, 버퍼 공간(21a, 21b)의 기체의 유동 경로에 대하여 수직이 되는 단면적은 진공 형성 라인(11a, 11b)의 동일한 방향의 단면적에 비하여 충분히 클 수 있다. 예를 들어 버퍼 공간(21a, 21b)의 유동 단면적은 진공 형성 라인(11a, 11b)의 유동 단면적에 비하여 1.5 내지 10배가 될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 버퍼 공간(21a, 21b)의 유동 길이는 다양하게 설정될 수 있고, 버퍼 공간(21a, 21b)의 유동 단면적은 연장 방향을 따라 점차로 커지는 구조로 만들어질 수 있다. 버퍼 공간(21a, 21b)은 압력 가변 구조로 만들어질 수 있고, 예를 들어 내부의 압력에 따라 내부 공간의 부피가 변하는 구조로 만들어질 수 있다. 예를 들어 버퍼 공간(21a, 21b)의 내부 벽이 신축성 소재로 만들어질 수 있고, 이에 의하여 유입되는 기체의 양에 따라 버퍼 공간(21a, 21b)의 부피가 변할 수 있다. 또한 서로 다른 버퍼 공간(21a, 21b)은 압력 조절 라인(25)에 의하여 서로 연결될 수 있고, 이에 의하여 서로 다른 버퍼 공간(21a, 21b)이 동일한 압력으로 유지될 수 있다. 버퍼 공간(21a, 21b)은 진공 형성 라인(11a, 11b)의 다양한 위치에 형성될 수 있고, 버퍼 공간(21a, 21b)의 형성에 의하여 진공 형성 초기에 공정 챔버(C) 내부의 기체가 빠른 속도로 배출될 수 있다. 이후 일정한 유동 압력으로 기체가 배출되도록 하면서 공정 챔버(C) 내부의 기체가 안정적으로 배출되도록 한다. 버퍼 공간(21a, 21b)은 다양한 구조로 형성될 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
진공 형성 라인(11a, 11b)의 다양한 위치에 압력 레귤레이터(24a, 24b)가 배치될 수 있고, 예를 들어 버퍼 공간(21a, 21b)의 아래쪽 또는 진공 형성 라인(11a, 11b)의 다른 위치에 배치될 수 있다. 각각의 버퍼 공간(21a, 21b)은 각각의 유도 도관(22a, 22b)에 의하여 진공 펌프(13)에 연결될 수 있다. 위에서 이미 설명이 된 것처럼, 각각의 유도 도관(22a, 22b)에 진공 펌프(13)가 연결될 수 있고, 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b)이 하나의 공정 챔버(C)에 연결될 수 있다. 진공 형성 라인(11a, 11b)의 유동 압력을 조절하는 다양한 수단이 결합될 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
도 3은 본 발명에 따른 공정 챔버 배출 장치가 적용된 실시 예를 도시한 것이다.
도 3을 참조하면, 하나의 공정 챔버에 한 쌍의 척 유닛(35a, 35b)이 배치될 수 있고, 척 유닛(35a, 35b)은 정전 척과 같은 것이 될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 각각의 척 유닛(35a, 35b)에 웨이퍼와 같은 기판이 고정되고, 애싱(Ashing)이 진행될 수 있다. 각각의 척 유닛(35a, 35b)은 챔버 몸체(34a, 34b)의 내부에 배치될 수 있고, 챔버 리드(32a, 32b)에 의하여 챔버 몸체(34a, 34b)가 밀폐될 수 있다. 웨이퍼와 같은 기판은 개폐 유닛(37a, 37b)을 통하여 각각의 척 유닛(35a, 35b)에 로딩이 되거나 또는 언-로딩이 될 수 있다. 또한 플라즈마 생성 모듈과 같은 기체 유도 또는 생성을 위한 기체 공급 모듈(31a, 31b)로부터 배플(baffle)과 같은 분산 유닛(36a, 36b)이 배치되어 기체가 공정 챔버의 내부로 균일하게 분산되도록 할 수 있다. 공정 챔버는 다양한 구조로 만들어질 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
챔버 몸체(34a, 34b)는 기체 유동이 가능하도록 서로 연결되거나 또는 서로 분리될 수 있고, 각각의 척 유닛(35a, 35b)에 로딩이 된 기판에 대한 공정은 동시에 또는 독립적으로 이루어질 수 있다. 각각의 챔버 몸체(34a, 34b)에 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c, 11d)가 연결될 수 있고, 공정 전 또는 공정 후 각각의 챔버 몸체(34a, 34b)의 내부가 진공 상태로 만들어질 수 있다. 그리고 각각의 챔버 몸체(34a, 34b)에 연결된 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c, 11d)에 진공 펌프(13a, 13b)가 연결될 수 있다. 그리고 서로 다른 챔버 몸체(34a, 34b)에 연결된 진공 펌프(13a, 13b)를 통하여 배출되는 기체는 하나의 배출 라인(14)을 통하여 처리 장치로 배출되어 처리될 수 있다. 배출 장치는 다양한 구조를 가지는 공정 챔버에 적용될 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
도 4는 본 발명에 따른 공정 챔버 배출 장치에 적용되는 확산 유닛의 실시 예를 도시한 것이다.
도 4를 참조하면, 확산 유닛(23a)은 다수 개의 유동 홀이 형성된 확산 판(41) 및 확산 판(41)에 결합되는 체류 공간(46)으로 이루어질 수 있다. 위에서 설명이 된 것처럼 확산 유닛(23a)은 각각의 진공 형성 라인(11a)에 설치될 수 있고, 공정 챔버 내부의 기체가 균일하게 진공 형성 라인으로 유도되도록 한다. 확산 판(41)은 원판 형상이 될 수 있고, 진공 형성 라인(11a)에서 기체가 유입되는 부분에 설치될 수 있다. 확산 판(41)의 중심에 제한 영역(42)이 형성될 수 있고, 제한 영역(42)은 기체의 유입이 제한되는 영역에 해당되고 이와 같이 중심을 통하여 기체의 유입이 제한되는 것에 의하여 예를 들어 와류와 같은 기체 유동의 불균일성이 제한될 수 있다. 또한 이에 의하여 공정 챔버의 내부의 입자 형태의 오염 물질이 완전히 제거될 수 있도록 한다. 제한 영역(42)의 주위로 또는 확산 판(41)의 중심을 기준으로 서로 다른 직경을 가지는 다수 개의 균일 라인(431, 432)이 형성될 수 있다. 그리고 각각의 균일 라인(431, 432)을 따라 배출 홀(H1 내지 HK)이 형성될 수 있고, 확산 판(41)의 테두리를 따라 고정 영역이 형성될 수 있다. 각각의 균일 라인(431, 432)에 다수 개의 배출 홀(H1 내지 HK)이 형성될 수 있고, 배출 홀(H1 내지 HK)은 동일하거나 서로 다른 직경을 가질 수 있다. 그리고 고정 영역에 정렬 홀(44_1 내지 44_3)이 형성되어 확산 유닛(23a)이 정해진 방향으로 공정 챔버의 바닥 면 또는 진공 형성 라인(11a)에 결합되도록 한다.
확산 유닛(23a)은 두께 면을 따라 확산 판(41) 및 확산 판(41)의 아래쪽에 형성되는 체류 공간(46)으로 이루어질 수 있다. 정렬 홀(44_1 내지 44_3)은 확산 판(41)이 결합되는 기준이 되면서 이와 함께 확산 유닛(23a)을 고정시키는 고정 홀이 될 수 있고, 정렬 홀(44_1 내지 44_3)은 확산 판(41)의 평면에 대하여 정삼각형 형태로 배치될 수 있다. 진공 형성 라인(11a)은 체류 공간(46)의 중심에 연결될 수 있고, 배출 홀(H1 내지 HK)은 진공 형성 라인(11a)의 길이 방향의 중심선(CL)에 대하여 대칭이 되도록 형성될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 각각의 배출 홀(H1 내지 HK)은 확산 판(41)의 중심에 대하여 경사진 구조로 형성되면서 체류 공간(46)을 향하여 직경이 점점 커지는 구조가 될 수 있다. 그리고 체류 공간(46)은 기체의 유동이 가능한 빈 공간이 될 수 있고, 이와 같은 구조에 의하여 공정 챔버 내부의 기체가 빠른 속도로 체류 공간(46)으로 유도될 수 있다. 확산 유닛(23a)은 다양한 구조로 만들어질 수 있고 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
본 발명에 따른 공정 챔버 배출 장치는 공정 챔버의 기체 배출에 따른 진공 형성 시간이 감소되도록 하고, 예를 들어 공지의 장치에서 12 내지 15초가 소요되는 배출 시간이 5 내지 8초로 감소되도록 한다. 이에 따라 기판 처리를 위한 공정 효율이 감소되도록 하면서 예를 들어 결빙으로 인한 물 또는 이와 유사한 세정액이 남지 않도록 한다. 또한 와류 발생에 따른 입자 형태의 오염 물질의 잔존을 방지하기 위하여 확산 유닛을 배치하는 것에 의하여 공정 과정에서 입자 오염물에 의한 불량이 방지되도록 한다.
위에서 본 발명은 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되었지만 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 제시된 실시 예를 참조하여 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형 및 수정 발명을 만들 수 있을 것이다. 본 발명은 이와 같은 변형 및 수정 발명에 의하여 제한되지 않으며 다만 아래에 첨부된 청구범위에 의하여 제한된다.
11a, 11b, 11c: 진공 형성 라인 12a, 12b: 압력 조절 수단
13, 13a, 13b, 13c: 진공 펌프 14: 배출 라인
21a, 21b: 버퍼 공간 22a, 22b: 유도 도관
23a, 23b: 확산 유닛 24a, 24b: 압력 레귤레이터
25: 압력 조절 라인 31a, 31b: 기체 공급 모듈
32a, 32b: 챔버 리드 34a, 34b: 챔버 몸체
35a, 35b: 척 유닛 36a, 36b: 분산 유닛
37a, 37b: 개폐 유닛 41: 확산 판
42: 제한 영역 44_1 내지 44_3: 정렬 홀
46: 체류 공간 111a, 111b: 입구
431, 432: 균일 라인 C: 공정 챔버
CL: 중심선 C_B: 바닥 면
H1 내지 HK: 배출 홀 VC1, VC2: 공정 척

Claims (4)

  1. 기판에 대한 공정이 진행되는 공정 챔버로부터 기체를 배출시키는 배출 장치에 있어서,
    공정 챔버(C)에 연결된 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c); 및
    진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)의 적어도 하나에 연결된 진공 펌프(13, 13a, 13b, 13c)를 포함하고,
    상기 공정 챔버(C) 내부의 기체는 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)을 통하여 분산되어 배출되는 것을 특징으로 하는 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치.
  2. 청구항 1에 있어서, 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)의 이동 경로 또는 배출 입구에 형성된 확산 유닛(23a, 23b)을 더 포함하는 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치.
  3. 청구항 1에 있어서, 다수 개의 진공 형성 라인(11a, 11b, 11c)의 경로에 형성된 버퍼 공간(21a, 21b)을 더 포함하고, 버퍼 공간(21a, 21b)에서 유동되는 기체의 압력이 변하는 것을 특징으로 하는 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치.
  4. 청구항 2에 있어서, 확산 유닛(23a, 23b)은 다수 개의 유동 홀이 형성된 확산 판(41) 및 확산 판(41)에 결합되는 체류 공간(46)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 배출 효율 개선 구조의 공정 챔버 배출 장치.
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