KR20200002510A - 반사방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치 - Google Patents

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Abstract

기재층 및 상기 기재층 상에 적층된 고굴절률층을 포함하고, 상기 고굴절률층은 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머를 포함하는 고굴절률층용 조성물로 형성된 것인, 반사방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치가 제공된다.

Description

반사방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치{ANTIREFLECTION FILM, POLARIZING PLATE COMPRISING THE SAME AND OPTICAL DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}
본 발명은 반사방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치에 관한 것이다.
광학표시장치는 외광이 입사하는 환경하에 사용된다. 외광의 입사는 광학표시장치의 화면 표시 품질을 저하시킬 수 있다. 따라서, 광학표시장치에서는 반사방지 필름이 사용되는 것이 일반적이다.
반사방지 필름은 굴절률이 서로 다른 두 층이 서로 적층되어 있으며 각 층의 경계면에서 반사되는 파장들이 서로 소멸 간섭을 일으키도록 함으로써 반사방지 효과를 내게 된다. 반사방지 필름의 반사율에 영향을 미치는 주요 인자는 각 층의 굴절률, 층 개수, 층 두께 등이 될 수 있으나, 각 층의 굴절율이 주로 영향을 주게 된다. 일반적으로 각 층간의 굴절률 차이가 클수록 반사율이 낮아지게 된다. 반사방지 필름은 광학표시장치의 최외곽에 위치되므로 경도도 높아야 한다. 이를 위해 반사방지 필름으로서 기재층에 하드코팅층, 고굴절률층, 저굴절률층이 순차적으로 적층된 필름을 사용하고 있다.
반사방지 필름의 반사율을 낮추기 위하여, 최근 기재층에 저굴절률층, 고굴절률층, 초저굴절률층을 적층하는 방법이 고려되고 있다. 저굴절률층은 고굴절률층 대비 굴절률이 낮고, 초저굴절률층은 저굴절률층 대비 굴절률이 낮다. 저굴절률층과 고굴절률층 간의 굴절률 차이, 고굴절률층과 초저굴절률층 간의 굴절률 차이를 확보하여 반사율을 낮출 수 있다. 하지만, 저굴절률층, 고굴절률층, 초저굴절률층의 굴절률 관계를 만족하면서도 반사방지 필름의 경도를 높이는데 한계가 있었다.
본 발명의 배경기술은 한국공개특허 제2015-0135662호에 개시되어 있다.
본 발명의 목적은 경도가 높고 반사율이 낮은 반사방지 필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 광 투과율이 높고 헤이즈가 낮아 광학적 투명성이 우수한 반사방지 필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 반사방지 필름은 기재층 및 상기 기재층 상에 적층된 고굴절률층을 포함하고, 상기 고굴절률층은 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머를 포함하는 고굴절률층용 조성물로 형성될 수 있다.
본 발명의 편광판은 편광자 및 상기 편광자의 적어도 일면에 형성된 본 발명의 반사방지 필름을 포함할 수 있다.
본 발명의 광학표시장치는 본 발명의 반사방지 필름 또는 편광판을 포함할 수 있다.
본 발명은 경도가 높고 반사율이 낮은 반사방지 필름을 제공하였다.
본 발명은 광 투과율이 높고 헤이즈가 낮아 광학적 투명성이 우수한 반사방지 필름을 제공하였다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 필름의 단면도이다.
첨부한 도면을 참고하여 실시예에 의해 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 명칭을 사용하였다.
본 명세서에서 "상부"와 "하부"는 도면을 기준으로 정의한 것으로서, 시 관점에 따라 "상부"가 "하부"로 "하부"가 "상부"로 변경될 수 있고, "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 구조를 개재한 경우도 포함할 수 있다. 반면, "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 구조를 개재하지 않은 것을 나타낸다.
본 명세서에서 "광 경화성 작용기"는 (메트)아크릴 또는 비닐 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
본 명세서에서 "(메트)아크릴"은 아크릴 및/또는 메타아크릴을 의미한다.
본 명세서에서 "직접적으로 형성"은 점착층, 접착층 또는 점 접착층 없이 바로 적층되는 것을 의미한다.
본 발명자는 기재층 및 기재층으로부터 제1저굴절률층, 고굴절률층 및 제2저굴절률층이 순차적으로 적층된 반사방지 필름에 있어서, 상기 고굴절률층을 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머를 포함하는 고굴절률층용 조성물로 형성하였다. 이를 통해, 제1저굴절률층과 고굴절률층 간의 굴절률 차이, 제2저굴절률층과 고굴절률층 간의 굴절률 차이를 확보하여 반사방지 필름의 반사율을 낮추고 고굴절률층용 조성물의 경화율을 높여 반사방지 필름의 경도를 높일 수 있고 반사방지 필름의 광학적 투명성도 확보할 수 있음을 확인하고 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 박형의 제1저굴절률층을 기재층과 고굴절률층 사이에 적층함으로써 반사방지 필름의 반사율을 더 낮추는 대신에 고굴절률층은 하기 상술되는 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머를 함유하는 고굴절률층 형성용 조성물로 형성함으로써 고굴절률층의 굴절률을 높여 반사방지 필름의 반사율을 낮추고 반사방지 필름의 경도를 확보할 수 있었다. 일 구체예에서, 반사방지 필름은 연필경도가 2H 이상, 예를 들면 2H 내지 6H이고, 반사율이 0.65% 이하, 예를 들면 0.6% 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서 광학 소자의 최 외곽에 부착시켜 사용될 수 있고 화면 품질도 좋게 할 수 있다.
블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머는 고굴절률의 모노머로서 고굴절률층의 굴절률을 높여 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다. 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머는 블록킹된 이소시아네이트기가 이소시아네이트기로 탈보호됨으로써 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기가 모두 경화 반응에 참여함으로써 경화율을 높이고 반사방지 필름의 경도를 높일 수 있다. 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머는 이소시아네이트기가 블록킹되어 있어 이소시아네이트기와 수분과의 반응을 차단함으로써 고굴절률층용 조성물의 도포성을 높이고 비용해성 유레아와 같은 겔 형성을 막아 고굴절률층용 조성물의 조액 안정성을 높일 수도 있다. 본 발명자는 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머를 사용할 경우 이소시아네이트기와 수분과의 반응으로 인하여 도포성, 조액 안정성에 문제가 있음을 확인하였다.
이하, 도 1을 참고하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 필름을 설명한다.
도 1을 참고하면, 반사방지 필름은 기재층(100), 제1저굴절률층(110), 고굴절률층(120), 제2저굴절률층(130)이 순차적으로 형성될 수 있다. 고굴절률층(120)은 고굴절률층 형성용 조성물로 형성될 수 있다.
기재층
기재층(100)은 반사방지 필름을 지지하고 반사방지 필름의 기계적 강도를 높일 수 있다.
기재층(100)은 굴절률이 1.40 내지 1.80, 예를 들면 1.45 내지 1.70이 될 수 있다. 상기 범위에서, 제1저굴절률층, 고굴절률층, 제2저굴절률층이 순차적으로 적층시 반사율을 낮출 수 있다.
기재층(100)은 광학적으로 투명한 수지로 형성될 수 있다. 구체적으로, 수지는 트리아세틸셀룰로스 등을 포함하는 셀룰로스 에스테르 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리메틸메타아크릴레이트 등을 포함하는 폴리(메트)아크릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 트리아세틸셀룰로스 등을 포함하는 셀룰로스 에스테르 수지가 될 수 있다. 기재층(100)은 두께가 10㎛ 내지 150㎛, 구체적으로 30㎛ 내지 100㎛, 더 구체적으로 40㎛ 내지 90㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서 반사방지 필름에 사용될 수 있다.
제1저굴절률층
제1저굴절률층(110)은 기재층(100)의 일면에 형성되어 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다. 제1저굴절률층(110)은 기재층(100)의 일면에 직접적으로 형성되어 있다.
제1저굴절률층(110)은 고굴절률층(120) 대비 굴절률이 낮다. 이를 통해 제1저굴절률층과 고굴절률층 간의 굴절률 차이를 확보함으로써 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다. 제1저굴절률층(110)과 고굴절률층(120) 간의 굴절률 차이는 0.1 이상, 예를 들면 0.1 내지 0.2, 0.12 내지 0.2가 될 수 있다. 상기 범위에서 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.
일 구체예에서, 제1저굴절률층은 굴절률이 1.50 이하, 예를 들면 1.45 내지 1.50, 1.46 내지 1.49가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.
제1저굴절률층(110)은 불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머를 포함하는 제1저굴절률층 형성용 조성물로 형성될 수 있다.
불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머는 경화되어 제1저굴절률층의 매트릭스를 형성하면서 제1저굴절률층의 굴절률을 낮출 수 있다. 일 구체예에서, 불소 함유 모노머는 불소 함유 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함할 수 있다. 불소 함유 모노머는 당업자에게 알려진 통상의 화합물을 포함할 수 있다.
일 구체예에서, 제1저굴절률층 형성용 조성물은 불소 비 함유 모노머 또는 그의 올리고머, 개시제 등을 더 포함할 수 있다. 불소 비 함유 모노머는 제1저굴절률층의 굴절률을 낮추지는 못하지만 불소 함유 모노머 등과 함께 경화됨으로써 제1저굴절률층의 매트릭스를 형성하는데 도움을 줄 수 있다. 불소 비 함유 모노머는 당업자에게 알려진 통상의 화합물을 포함할 수 있다. 개시제는 불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머, 불소 비 함유 모노머 또는 그의 올리고머 를 서로 경화시킴으로써 제1저굴절률층의 형성을 용이하게 할 수 있다. 개시제는 광 양이온성 개시제, 광 라디칼 개시제 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 광 양이온성 개시제, 광 라디칼 개시제는 당업자에게 알려진 통상의 종류를 사용할 수 있다.
일 구체예에서, 제1저굴절률층 형성용 조성물은 중공 실리카 입자 등을 포함하는 중공 입자 등의 입자를 포함하지 않을 수 있다. 중공 입자 등을 더 포함함으로써 제1저굴절률층의 굴절률을 낮출 수도 있으나 제1저굴절률층과 고굴절률층, 제2저굴절률층 간의 굴절률 관계를 확보하기 어려울 수 있다. 본 발명은 하기 상술한 고굴절률층 형성용 조성물로 고굴절률층을 형성함으로써 비-입자형 제1저굴절률층을 포함함에도 불구하고 반사방지 필름의 경도가 낮아지는 문제점을 해결할 수 있었다.
제1저굴절률층(110)은 박형으로서 두께가 5㎛ 내지 20㎛, 예를 들면 10㎛ 내지 15㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름에 사용될 수 있고, 반사방지 필름을 박형화시킬 수 있다.
고굴절률층
고굴절률층(120)은 제1저굴절률층(110)의 일면에 형성되어 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다. 고굴절률층(120)은 제1저굴절률층(110)에 직접적으로 형성되어 있다.
고굴절률층(120)은 제1저굴절률층(110), 제2저굴절률층(130) 각각 대비 굴절률이 높다. 이를 통해, 고굴절률층과 제1저굴절률층 간의 굴절률 차이, 고굴절률층과 제2저굴절률층 간의 굴절률 차이를 각각 확보함으로써 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.
고굴절률층(120)과 제1저굴절률층(110) 간의 굴절률 차이는 0.1 이상, 예를 들면 0.1 내지 0.2, 0.12 내지 0.2가 될 수 있다. 고굴절률층(120)과 제2저굴절률층(130) 간의 굴절률 차이는 0.15 이상, 예를 들면 0.2 내지 0.35가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.
일 구체예에서, 고굴절률층은 굴절률이 1.57 이상, 예를 들면 1.59 내지 1.65가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.
고굴절률층(120)은 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머를 포함하는 광 경화성 화합물을 함유하는 고굴절률층용 조성물로 형성될 수 있다.
하기 반응식 1을 참조하면, 블록킹된 이소시아네이트기는 열 처리에 의해 탈보호됨으로써 블록킹되지 않은 이소시아네이트기 및 이소시아네이트기 블록킹제를 만들 수 있다. 블록킹되지 않은 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머는 개시제에 의해 단독으로 경화하거나 다른 광 경화성 화합물과 함께 경화될 수 있다.
[반응식 1]
Figure pat00001
(상기 반응식 1에서, *은 상기 모노머 중 연결 부위를 나타내고, B-H는 이소시아네이트기 블록킹제를 나타낸다).
블록킹되지 않은 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머는 고굴절률의 모노머로서 고굴절률층의 굴절률을 높일 수 있고, 블록킹되지 않은 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기가 모두 경화 반응에 참여함으로써 고굴절률층 형성용 조성물의 경화율을 높일 수 있다. 이소시아네이트기와 광 경화성 작용기는 고굴절률층 형성용 조성물에 포함된 다른 광경화성 모노머와 가교 정도를 높임으로써 고굴절률층 형성용 조성물의 경화율을 높이고 따라서 고굴절률층과 반사방지 필름의 경도를 높일 수 있다. 따라서 본 발명은 제1저굴절률층의 경도를 높이지 않더라도 반사방지 필름의 경도를 충분히 높일 수 있다. 일 구체예에서, 고굴절률층 형성용 조성물의 경화율은 70% 이상, 예를 들면 75% 내지 100%가 될 수 있다. 또한, 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머는 이소시아네이트기가 블록킹되어 있어 수분과의 반응을 차단함으로써 고굴절률층 형성용 조성물의 도포성을 높이고 겔 형성을 막아 조액 안정성을 높일 수도 있다.
이소시아네이트기 블록킹제는 열 처리에 의해 이소시아네이트기로부터 탈보호될 수 있다. 예를 들면, 이소시아네이트기 블록킹제는 고굴절률층 형성용 조성물 또는 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머를 60℃ 내지 200℃, 바람직하게는 100℃ 내지 180℃로 0.5 시간 내지 1시간 동안 열 처리함으로써 탈보호될 수 있다.
이소시아네이트기 블록킹제는 이미다졸계 화합물, 다이알데히드계 화합물을 포함하는 알데히드계 화합물, 다이케톤계 화합물 등을 포함하는 케톤계 화합물, 옥심계 화합물을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 바람직하게는 이소시아네이트기 블록킹제로 이미다졸계 화합물을 사용함으로써 고굴절률층의 굴절률을 보다 높일 수 있다.
일 구체예에서, 이소시아네이트기 블록킹제는 하기 화학식 1, 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다:
<화학식 1>
Figure pat00002
(상기 화학식 1에서,
R1은 수소, 탄소 수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소 수 6 내지 20의 아릴기이고,
R2, R3, R4는 각각 독립적으로 수소, 탄소 수 1 내지 10의 알킬기, 탄소 수 6 내지 20의 아릴기 또는 할로겐이다).
<화학식 2>
Figure pat00003
(상기 화학식 2에서,
R1은 수소, 탄소 수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소 수 6 내지 20의 아릴기이고,
R2는 수소, 탄소 수 1 내지 10의 알킬기, 탄소 수 6 내지 20의 아릴기 또는 할로겐이다).
<화학식 3>
Figure pat00004
상기 화학식 3에서,
R1은 수소, 탄소 수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소 수 6 내지 20의 아릴기이고,
R2는 수소, 탄소 수 1 내지 10의 알킬기, 탄소 수 6 내지 20의 아릴기 또는 할로겐이다).
일 구체예에서, 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머는 이미다졸계 화합물로 이소시아네이트기가 블록킹된 이소시아네이토알킬 (메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다. 예를 들면, 이미다졸로 이소시아네이트기가 블록킹된 이소시아네이트에틸 (메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다.
블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머는 고굴절률층 형성용 조성물의 광 경화성 화합물 100중량부 중 10중량부 내지 100중량부, 바람직하게는 20중량부 내지 100중량부, 더 바람직하게는 20중량부 내지 80중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 고굴절률층의 경도를 높여 반사방지 필름의 경도를 높일 수 있고, 기재층과의 부착력 향상 효과가 있을 수 있다.
광 경화성 화합물은 티올계 화합물과 폴리엔계 화합물의 혼합물을 더 포함할 수 있다. 티올계 화합물은 폴리엔계 화합물과 함께 포함되어 고굴절률층의 굴절률을 높이고 고굴절률층 형성용 조성물의 경화율을 높일 수 있다. 티올계 화합물은 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,2-에탄디티올 중 하나 이상을 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 폴리엔계 화합물은 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아진-2,4,6-트리온, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않는다.
티올계 화합물과 폴리엔계 화합물의 혼합물은 고굴절률층 형성용 조성물의 광 경화성 화합물 100중량부 중 0중량부 내지 90중량부, 바람직하게는 0중량부 내지 80중량부, 20중량부 내지 80중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 고굴절률층의 경도를 높여 반사방지 필름의 경도를 높일 수 있다.
광 경화성 화합물은 폴리이소시아네이트를 더 포함할 수 있다. 상기 폴리이소시아네이트는 (메트)아크릴레이트기를 갖지 않는 비-(메트)아크릴레이트계 화합물일 수 있다. 예를 들면, 폴리이소시아네이트는 자일렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 이소포론 디이소시아네이트를 포함할 수 있다.
광 경화성 화합물은 이소시아네이트기가 없는 비-이소시아네이트계 광 경화성 모노머를 더 포함할 수 있다. 비-이소시아네이트계 광 경화성 모노머는 2관능 내지 6관능의 (메트)아크릴레이트를 포함하고, 예를 들면1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 (600) 디(메트)아크릴레이트 등을 포함하는 폴리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜아디페이트 디(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐 디(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디시클로펜테닐 디(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 디(메트)아크릴레이트, 디(메트)아크릴록시 에틸 이소시아누레이트, 알릴화 시클로헥실 디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올(메트)아크릴레이트, 디메틸롤 디시클로펜탄디(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 헥사히드로프탈산 디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸 디메탄올(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸프로판 디(메트)아크릴레이트, 아다만탄 디(메트)아크릴레이트 또는 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 등과 같은 2관능 (메트)아크릴레이트; 트리메틸롤프로판 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 트리(메트)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 트리메틸롤프로판 트리(메트)아크릴레이트, 에톡시레이티드 (6) 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트 등을 포함하는 에틸렌옥시드 변성 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 또는 트리스(메트)아크릴록시에틸이소시아누레이트 등의 3관능 (메트)아크릴레이트; 디글리세린 테트라(메트)아크릴레이트 또는 펜타에리쓰리톨테트라(메트)아크릴레이트 등의 4관능 (메트)아크릴레이트; 디펜타에리쓰리톨 펜타(메트)아크릴레이트 등의 5관능 (메트)아크릴레이트; 및 디펜타에리쓰리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리쓰리톨 헥사(메트)아크릴레이트 등의 6관능형 아크릴레이트 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, (메트)아크릴레이트 모노머는 에톡시레이티드 (6) 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트 등을 포함하는 에틸렌옥시드 변성 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트 등의 3관능 (메트)아크릴레이트를 사용할 수 있다.
고굴절률층 형성용 조성물은 개시제를 더 포함할 수 있다. 개시제는 광 경화성 성분을 경화시킬 수 있다. 개시제는 당업자에게 알려진 통상의 광 라디칼 개시제를 포함할 수 있다. 광 라디칼 개시제는 광 조사에 의해 라디칼을 발생시켜 경화를 촉매하는 것으로, 인계, 트리아진계, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 벤조인계, 옥심계, 페닐케톤계 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
개시제는 광 경화성 화합물 100중량부에 대해 1중량부 내지 10중량부, 예를 들면 2중량부 내지 10중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 광 경화성 성분이 충분히 경화될 수 있고, 잔량의 개시제가 남아서 고굴절률층의 광학적 투명성이 저하되는 것을 막을 수 있다.
고굴절률층 형성용 조성물은 고굴절률 입자를 더 포함할 수 있다. 고굴절률 입자는 고굴절률층의 굴절률을 높여주고 고굴절률층의 경도를 더 높일 수 있다.
고굴절률 입자는 굴절률 1.60 내지 2.60, 예를 들면 1.80 내지 2.20의 입자를 포함할 수 있다. 상기 범위에서, 고굴절률의 굴절률 저하를 방지할 수 있다. 고굴절률 입자는 비-중공 형태의 입자로서, 지르코니아, 티타니아, 실리카 중 1종 이상, 바람직하게는 지르코니아를 포함할 수 있다.
고굴절률 입자는 표면 처리되지 않은 것일 수도 있으나 표면 처리(예:(메트)아크릴레이트기)됨으로써 조성물 중 다른 성분과의 상용성을 좋게 하고 고굴절률층의 경도를 더 높일 수 있다. 표면 처리는 고굴절률 입자의 전체 표면적 중 5% 내지 50%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 경도 증가 효과가 있을 수 있다. 고굴절률 입자는 구형 또는 비 구형 입자로서 평균 입경(D50)이 1nm 내지 50nm, 구체적으로 5nm 내지 20nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 광 특성 저하가 없으면서 경도 증가 효과가 있을 수 있다.
고굴절률 입자는 광 경화성 화합물과 고굴절률 입자의 총합 중 20중량% 내지 80중량%, 바람직하게는 25중량% 내지 75중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 광 특성 저하 없이 경도 증가 효과가 있을 수 있다.
고굴절률층 형성용 조성물은 대전 방지제를 더 포함할 수 있다. 대전 방지제는 반사방지 필름의 표면 저항을 낮추는 것으로, 당업자에게 알려진 통상의 대전 방지제를 사용할 수 있다. 일 구체예에서, 대전 방지제는 4급 암모늄 양이온과 음이온을 구비하는 재료를 포함할 수 있다. 음이온으로는 할로겐 이온, HSO4 -, SO4 2-, NO3 -, PO4 3- 등이 될 수 있다. 대전 방지제는 4급 암모늄 양이온을 포함할 수도 있으나, 4급 암모늄 양이온을 관능기로서 분자 내에 포함하는 아크릴계 재료를 포함할 수 있다.
대전 방지제는 고형분 기준으로 고굴절률층 형성용 조성물 중 2중량% 내지 10중량%, 바람직하게는 3중량% 내지 7중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 대전방지 효과가 나올 수 있고 반사방지 필름의 경도 등에 영향을 주지 않을 수 있고, 경도 등의 물성 저하를 막고, 대전 방지제의 마이그레이션을 막을 수 있다.
고굴절률층 형성용 조성물은 당업자에게 알려진 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 소포제, 산화방지제, 자외선흡수제, 광안정제, 레벨링제 등을 더 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
고굴절률층 형성용 조성물은 용매를 더 포함하여 고굴절률층 형성용 조성물의 코팅성을 더 좋게 할 수 있다. 용매는 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 메틸에틸케톤 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
일 구체예에서, 고굴절률층 형성용 조성물은 고형분 기준, 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머 5중량% 내지 40중량%, 예를 들면 10중량% 내지 40중량%, 20중량% 내지 40중량%, 티올계 화합물과 폴리엔계 화합물의 혼합물 5중량% 내지 60중량% 예를 들면 5중량% 내지 40중량%, 개시제 1중량% 내지 10중량%, 고굴절률 입자 30중량% 내지 80중량% 예를 들면 30중량% 내지 70중량%를 포함할 수 있다. 상기 범위에서, 경도가 높아지고 반사율이 낮아질 수 있다.
고굴절률층(120)은 이소시아네이트기 블록킹제를 추가로 포함할 수 있다. 이소시아네이트기 블록킹제는 고굴절률층 중 3중량% 내지 30중량%, 예를 들면 5중량% 내지 20중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 고굴절률층의 경도와 광학적 투명성도 높일 수 있고 제 1저굴절률 층과의 기재층과의 부착에도 효과가 있다.
고굴절률층(120)은 두께가 5㎛ 내지 25㎛, 예를 들면 8㎛ 내지 15㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름에 사용될 수 있고, 반사방지 필름을 박형화시킬 수 있다.
제2저굴절률층
제2저굴절률층(130)은 고굴절률층(120)의 일면에 형성되어 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다. 제2저굴절률층(130)은 고굴절률층(120)의 일면에 직접적으로 형성되어 있다.
제2저굴절률층(130)은 고굴절률층(120) 대비 굴절률이 낮다. 이를 통해 제2저굴절률층과 고굴절률층 간의 굴절률 차이를 확보함으로써 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다. 고굴절률층(120)과 제2저굴절률층(130) 간의 굴절률 차이는 0.15 이상, 예를 들면 0.2 내지 0.35가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.
제2저굴절률층(130)은 제1저굴절률층(110) 대비 굴절률이 낮다. 이를 통해 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다. 제1저굴절률층(110)과 제2저굴절률층(130) 간의 굴절률 차이는 0.05 이상, 예를 들면 0.10 내지 0.20이 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.
일 구체예에서, 제2저굴절률층은 굴절률이 1.50 이하, 예를 들면 1.30 내지 1.40이 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.
제2저굴절률층(130)은 불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머; 및 저굴절률 입자를 포함하는 제2저굴절률층 형성용 조성물로 형성될 수 있다.
불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머는 경화되어 제2저굴절률층의 매트릭스를 형성하면서 제2저굴절률층의 굴절률을 낮출 수 있다. 불소 함유 모노머는 불소 함유 (메트)아크릴레이트계 화합물을 포함할 수 있다. 불소 함유 모노머는 당업자에게 알려진 통상의 화합물을 포함할 수 있다.
불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머는 제2저굴절률층 형성용 조성물 중 10중량% 내지 50중량%, 바람직하게는 20중량% 내지 40중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 저굴절률층의 굴절률을 낮출 수 있다.
저굴절률 입자는 고굴절률층 대비 굴절률이 낮은, 유기 입자, 무기 입자, 유기-무기 하이브리드 입자 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 일 구체예에서, 저굴절률 입자의 굴절률은 1.4 이하, 예를 들면 1.2 내지 1.38이 될 수 있다. 상기 범위에서, 저굴절률층의 굴절률을 낮추어 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.
저굴절률 입자는 중공 구조를 가져 굴절률이 낮음으로써 제2저굴절률층의 굴절률을 낮출 수 있다. 저굴절률 입자는 중공 실리카를 사용할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
저굴절률 입자는 표면 처리되지 않은 무처리 중공 입자를 사용하거나, 광 경화성 작용기로 표면 처리된 것일 수 있다. 저굴절률 입자는 구형 또는 비 구형 입자로서, 평균 입경(D50)은 제2저굴절률층의 두께 대비 같거나 적은데, 30nm 내지 150nm, 예를 들면 50nm 내지 100nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 저굴절률층에 포함될 수 있고, 헤이즈와 투과도 등의 광특성을 좋게 할 수 있다.
저굴절률 입자는 제2저굴절률층 형성용 조성물 중 20중량% 내지 70중량%, 바람직하게는 40중량% 내지 60중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 저굴절률층의 굴절률을 낮출 수 있다.
제2저굴절률층 형성용 조성물은 불소 비 함유 모노머, 그의 올리고머 또는 그의 폴리머, 개시제, 첨가제 중 1종 이상을 더 포함할 수 있다.
불소 비 함유 모노머는 제2저굴절률층의 굴절률을 낮추지는 못하지만 불소 함유 모노머 등과 함께 경화됨으로써 제2저굴절률층의 매트릭스를 형성하는데 도움을 줄 수 있다. 불소 비 함유 모노머는 당업자에게 알려진 통상의 화합물을 포함할 수 있다. 불소 비 함유 모노머는 2관능 이상 예를 들면 2관능 내지 10관능의 (메트)아크릴레이트계 화합물일 수 있다. 구체적으로, 불소 비함유 모노머는 다가 알코올과 (메트)아크릴산의 에스테르와 같은 다관능의 (메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다.
개시제는 불소 함유 모노머, 그의 올리고머 또는 그의 폴리머, 불소 비 함유 모노머, 그의 올리고머 또는 그의 폴리머를 서로 경화시킴으로써 제2저굴절층의 형성을 용이하게 할 수 있다. 개시제는 광 양이온성 개시제, 광 라디칼 개시제 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 광 양이온성 개시제, 광 라디칼 개시제는 당업자에게 알려진 통상의 종류를 사용할 수 있다.
첨가제는 제2저굴절률층에 방오성 기능 및 슬림성을 부가하는 것으로, 당업자에게 알려진 통상의 첨가제를 사용할 수 있다. 첨가제는 불소 함유 첨가제, 실리콘계 첨가제 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 불소 함유 첨가제는 UV 경화성 불소화된 아크릴계 화합물일 수 있다. 예를 들면, KY-1203을 포함하는 KY-1200 시리즈(신예츠사)를 사용할 수 있다.
제2저굴절률층용 조성물은 고형분 기준 저굴절률 입자 20중량% 내지 70중량%, 불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머 10중량% 내지 50중량%, 불소 비함유 모노머 또는 그의 올리고머 5중량% 내지 25중량%, 개시제 2중량% 내지 5중량%, 및 첨가제 1중량% 내지 10중량%를 포함할 수 있다. 상기 범위에서, 연필 경도 2H 이상, 지문 방지 효과를 얻을 수 있다. 바람직하게는, 제2저굴절률층용 조성물은 고형분 기준 저굴절률 입자 40중량% 내지 60중량%, 불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머 20중량% 내지 40중량%, 불소 비함유 모노머 또는 그의 올리고머 5중량% 내지 15중량%, 개시제 2중량% 내지 4중량%, 및 첨가제 2중량% 내지 7중량%를 포함할 수 있다.
제2저굴절률층용 조성물은 당업자에게 알려진 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 소포제, 산화방지제, 자외선흡수제, 광안정제, 레벨링제 등을 더 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
제2저굴절률층용 조성물은 용매를 더 포함하여 코팅성을 좋게 할 수 있다. 용매는 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
제2저굴절률층(130)은 두께가 50nm 내지 150nm, 예를 들면 70nm 내지 130nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름에 사용될 수 있고, 반사방지 필름을 박형화시킬 수 있다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 편광판을 설명한다.
본 실시예에 따른 편광판은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 필름을 포함할 수 있다. 편광판은 편광자, 상기 편광자의 적어도 일면에 형성된 반사방지 필름을 포함하고, 상기 반사방지 필름은 본 실시예에 따른 반사방지 필름을 포함할 수 있다. 상기 편광판은 반사방지 필름 이외에 통상의 광학보상 필름, 보호 필름 등을 더 포함할 수 있다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학표시장치를 설명한다.
본 실시예에 다른 광학표시장치는 본 실시예에 따른 반사방지 필름 또는 편광판을 포함할 수 있다. 상기 광학표시장치는 액정표시장치, 유기발광표시장치 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.
제조예: 제2저굴절률층용 조성물 제조
중공 실리카 함유 졸인 THRULYA 5320(JGC Catalyst and chemicals LTD) 61.3g에 불소 비함유 모노머인 M306(TOAGOSEI) 2.75g을 넣은 후 완전히 용해시켜 혼합물을 얻었다. 상기 혼합물에 불소 함유 모노머인 AR-110(DAIKIN) 5.17g을 넣은 후 5분간 교반하였다. 상기 혼합물에 불소 함유 첨가제인 KY-1203(Shinetsu) 3.75g을 넣은 후 5분간 교반하였다. 상기 혼합물에 개시제인 Irgacure 127(BASF) 0.75g을 넣은 후 완전히 용해시켰다. 상기 혼합물에 메틸에틸케톤(삼전화학) 585g, 메틸이소부틸케톤(삼전화학) 197g, 에틸렌글리콜 디메틸에테르(삼전화학) 97.5g을 넣은 후 30분간 교반하여, 제2저굴절률층용 조성물을 제조하였다. 제2저굴절률층용 조성물은 고형분 기준 중공 실리카 50중량%, 불소 비함유 모노머 10중량%, 불소 함유 모노머 32중량%, 불소 함유 첨가제 5중량% 및 개시제 3중량%를 포함한다.
실시예 1
이미다졸로 이소시아네이트기가 블록킹된 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트(SHOWA DENKO사, AOI-BM) 20중량부, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트)(MARUZEN CHEMICAL TRADING사)와 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온(BOC SCIENCES사)의 혼합물 80중량부, 광 개시제로서 인계 개시제 TPO 1중량부를 혼합하여 광 경화성 화합물과 개시제의 혼합물 101중량부를 제조하였다. 이미다졸로 이소시아네이트기가 블록킹된 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트는 100℃로 1시간 열처리함으로써 이미다졸기가 탈보호되며 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트로 될 수 있다. 상기 제조한 혼합물 101중량부 중 30중량부, 지르코니아 졸(PGMEA 용액 중 지르코니아 함유 졸, PIXELLIGENT사) 70중량부를 혼합하여, 고굴절률층 형성용 조성물을 제조하였다.
고굴절률층 형성용 형성용 조성물 중 고형분 기준으로, 이미다졸로 이소시아네이트기 블록킹된 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트 10중량%, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트)와 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온의 혼합물 22중량%, 개시제 3중량%, 지르코니아 65중량%를 포함한다.
기재층인 트리아세틸셀룰로스 필름(FUJI, TG60UL)에 불소계 아크릴레이트를 포함하는 제1저굴절률층 형성용 조성물(P4450A, SHINA TNC사)을 코팅하였다. 80℃에서 2분간 건조시킨 후, 질소 분위기에서 100mJ/cm2 이상의 광량으로 경화시켜, 기재층의 일면에 제1저굴절률층(두께:10㎛, 굴절률:1.475)을 형성하였다. 제1저굴절률층 일면에 상기 제조한 고굴절률층 형성용 조성물을 코팅하고 동일한 방법으로 경화시켜 제1저굴절률층의 일면에 고굴절률층(두께:10㎛, 굴절률:1.625)을 형성하였다. 고굴절률층 일면에 상기 제조예의 제2저굴절률층 형성용 조성물을 코팅하고 동일한 방법으로 경화시켜 고굴절률층의 일면에 제2저굴절률층(두께:120nm, 굴절률:1.30)을 형성하여 반사방지 필름을 제조하였다.
실시예 2
실시예 1에서 고굴절률층 형성용 형성용 조성물 중 고형분 기준으로, 이미다졸로 이소시아네이트기 블록킹된 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트 15중량%, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트)와 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온의 혼합물 17중량%, 개시제 3중량%, 지르코니아 65중량%를 포함하여 제조한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.
실시예 3
실시예 1에서 고굴절률층 형성용 형성용 조성물 중 고형분 기준으로, 이미다졸로 이소시아네이트기 블록킹된 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트 20중량%, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트)와 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온의 혼합물 12중량%, 개시제 3중량%, 지르코니아 65중량%를 포함하여 제조한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.
실시예 4
이미다졸로 이소시아네이트기 블록킹된 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트(SHOWA DENKO사, AOI-BM) 40중량부, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트) 와 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온의 혼합물 60중량부, 광 개시제로서 인계 개시제 TPO 1중량부를 혼합하여 광 경화성 화합물과 개시제의 혼합물 101중량부를 제조하였다. 광 경화성 성분과 개시제의 혼합물 101중량부 중 30중량부, 지르코니아 졸(PGMEA 용액 중 지르코니아 함유 졸, PIXELLIGENT사) 70중량부를 혼합하여 고굴절률층 형성용 형성용 조성물을 제조하였다.
고굴절률층 형성용 형성용 조성물 중 고형분 기준으로, 이미다졸로 이소시아네이트기 블록킹된 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트 10중량%, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트)와 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온의 혼합물 32중량%, 개시제 3중량%, 지르코니아 55중량%를 포함한다.
제조한 고굴절률층 형성용 조성물을 사용해서 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.
실시예 5
실시예 4에서 고굴절률층 형성용 형성용 조성물 중 고형분 기준으로, 이미다졸로 이소시아네이트기 블록킹된 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트 15중량%, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트)와 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온의 혼합물 27중량%, 개시제 3중량%, 지르코니아 55중량%를 포함하여 제조한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.
실시예 6
실시예 4에서 고굴절률층 형성용 형성용 조성물 중 고형분 기준으로, 이미다졸로 이소시아네이트기 블록킹된 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트 20중량%, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트)와 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온의 혼합물 22중량%, 개시제 3중량%, 지르코니아 55중량%를 포함하여 제조한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.
비교예 1
메틸메타아크릴레이트 40중량부, 하이드록시에틸메타아크릴레이트60중량부, 광 개시제로서 TPO 1중량부를 혼합하여 광 경화성 성분과 개시제의 혼합물 101중량부를 제조하였다. 상기 제조한 혼합물 101중량부 중 50중량부, 지르코니아 졸 50중량부를 혼합하여, 고굴절률층 형성용 조성물을 제조하였다. 제조한 고굴절률층 형성용 조성물을 사용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.
비교예 2
2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트 20중량부, 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트)와 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아지난-2,4,6-트리온의 혼합물 80중량부, 광 개시제로서 인계 개시제 TPO 1중량부를 혼합하여 광 경화성 성분과 개시제의 혼합물 101중량부를 제조하였다. 상기 제조한 혼합물 101중량부 중 30중량부, 지르코니아 졸 70중량부를 혼합하여, 고굴절률층 형성용 조성물을 제조하였다.
제조한 고굴절률층 형성용 조성물을 사용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.
실시예와 비교예의 고굴절률층용 조성물, 반사방지 필름에 대해 하기 물성을 평가하고 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
(1)고굴절률층 형성용 조성물의 경화율(단위:%): 경화 전/후 반사방지 필름의 IR Spectrum을 비교하여 반응에 따른 peak intensity 변화를 이용하여 하기 식 1의 경화율을 계산하였다.
<식 1>
Figure pat00005
(상기 식 1에서, I(C=C)는 고굴절률층 조성물의 C=C의 peak intensity)
I(C=O)는 고굴절률층 조성물의 C=O의 peak intensity)
(2)고굴절률층의 굴절률: 고굴절률층 형성용 조성물을 실시예, 비교예와 동일한 방법으로 경화시켜 두께 10㎛의 시편을 제조하였다. 제조한 시편에 대하여 아베 굴절률 측정기로 고굴절률층의 굴절률을 측정하였다.
(3)연필경도: HEIDON 기기를 이용하여 측정하며, 0.5mm/sec의 속도, 500g의 무게추, 2H 등의 해당 경도를 갖는 미쯔비시 연필을 이용하여 측정한다. 2H의 미쯔비시 연필을 이용하여 검사를 진행한 후 반사방지 필름의 표면(제2저굴절률층면)이 긁히지 않은 경우, 2H의 경도를 갖는다고 본다. 각 5회 측정하며, 5회 모두 긁히지 않은 경우 5/5로 표기, 5회 모두 긁힌 경우 0/5로 표기한다.
(4)반사율(단위:%): 실시예와 비교예의 반사방지 필름을 길이 x 폭 (4cm x 4cm)으로 절단하여 시편을 제조하였다. 시편의 기재층 쪽에 굴절율 1.46~1.50를 갖는 점착제가 형성된 Nitto 수지의 CL-885 블랙 아크릴 시트를 70℃에서 라미네이트(점착제와 기재층이 라미네이트됨)하고 제조된 시편에 대하여 반사율 측정기 Perkin Elmer사의 UV/VIS spectrometer Lambda 1050으로 측정하였다.
(5)이소시아네이트기 블록킹제의 검출 및 고굴절률층 중 함량(단위:중량%): 실시예와 비교예의 반사방지 필름 중 고굴절률층에서 이소시아네이트기 블록킹제인 이미다졸의 검출 여부를 확인하였다. 그리고, 고굴절률층 중 이소시아네이트기 블록킹제의 함량을 건조 전/후 반사방지 필름의 GC/MS 분자량 및 intensity 확인을 통해 구하였다.
경화율 고굴절률층의 굴절률 연필경도 반사율 이소시아네이트기 블록킹제의 검출 이소시아네이트기 블록킹제의 함량
실시예 1 83 1.625 2/5 0.45 X -
실시예 2 82 1.621 3/5 0.47 X -
실시예 3 80 1.619 4/5 0.49 O 15
실시예 4 88 1.612 4/5 0.57 X -
실시예 5 86 1.606 5/5 0.60 X -
실시예 6 85 1.604 5/5 0.63 O 18
비교예 1 72 1.565 1/5 0.67 X -
비교예 2 80 1.623 1/5 0.47 - -
상기 표 1에서와 같이, 본 발명의 반사방지 필름은 경도가 높고 반사율이 낮았다. 또한, 본 발명의 반사방지 필름에서 고굴절률층 형성시 사용된 고굴절률층 형성용 조성물은 경화율이 높았다. 반면에, 본 발명의 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머를 포함하지 않는 고굴절률층 형성용 조성물로 형성된 고굴절률층 함유 반사방지 필름은 경도가 낮거나 반사율이 높았다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims (16)

  1. 기재층 및 상기 기재층 상에 적층된 고굴절률층을 포함하고,
    상기 고굴절률층은 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머를 포함하는 고굴절률층용 조성물로 형성된 것인, 반사방지 필름.
  2. 제1항에 있어서, 상기 반사방지 필름은 상기 기재층 및 상기 기재층 상에 순차적으로 적층된, 제1저굴절률층, 상기 고굴절률층 및 제2저굴절률층을 포함하는 것인, 반사방지 필름.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제2저굴절률층은 상기 제1저굴절률층 대비 굴절률이 낮은 것인, 반사방지 필름.
  4. 제2항에 있어서, 상기 제1저굴절률층은 입자를 포함하지 않는 것인, 반사방지 필름.
  5. 제1항에 있어서, 상기 고굴절률층은 굴절률이 1.57 이상인 것인, 반사방지 필름.
  6. 제1항에 있어서, 상기 블록킹된 이소시아네이트기는 이미다졸계 화합물, 다이케톤계 화합물, 옥심계 화합물 중 1종 이상으로 이소시아네이트기가 블록킹된 것인, 반사방지 필름.
  7. 제1항에 있어서, 상기 모노머는 이미다졸계 화합물, 다이케톤계 화합물, 옥심계 화합물 중 1종 이상으로 이소시아네이트기가 블록킹된 이소시아네이토알킬 (메트)아크릴레이트를 포함하는 것인, 반사방지 필름.
  8. 제1항에 있어서, 상기 고굴절률층용 조성물은 티올계 화합물과 폴리엔계 화합물의 혼합물을 더 포함하는 것인, 반사방지 필름.
  9. 제8항에 있어서, 상기 티올계 화합물은 펜타에리트리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리트리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,2-에탄디티올 중 하나 이상을 포함하고, 상기 폴리엔계 화합물은 1,3,5-트리알릴-1,3,5-트리아진-2,4,6-트리온, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함하는 것인, 반사방지 필름.
  10. 제1항에 있어서, 상기 고굴절률층 형성용 조성물은 지르코니아, 티타니아, 실리카 중 1종 이상을 더 포함하는 것인, 반사방지 필름.
  11. 제1항에 있어서, 상기 고굴절률층은 이소시아네이트기 블록킹제를 추가로 포함하는 것인, 반사방지 필름.
  12. 제11항에 있어서, 상기 이소시아네이트기 블록킹제는 상기 고굴절률층 중 3중량% 내지 30중량%로 포함되는 것인, 반사방지 필름.
  13. 제1항에 있어서, 상기 고굴절률층 형성용 조성물은 고형분 기준, 상기 블록킹된 이소시아네이트기 및 광 경화성 작용기를 갖는 모노머 5중량% 내지 40중량%, 티올계 화합물과 폴리엔계 화합물의 혼합물 5중량% 내지 60중량%, 개시제 1중량% 내지 10중량%, 고굴절률 입자 30중량% 내지 80중량%를 포함하는 것인, 반사방지 필름.
  14. 제1항에 있어서, 상기 반사방지 필름은 연필경도가 2H 이상, 반사율이 0.65% 이하인 것인, 반사방지 필름.
  15. 편광자 및 상기 편광자의 적어도 일면에 형성된 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항의 반사방지 필름을 포함하는 편광판.
  16. 제15항의 편광판을 포함하는 광학표시장치.

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