KR20190126651A

KR20190126651A - 잔향 챔버

Info

Publication number: KR20190126651A
Application number: KR1020180050827A
Authority: KR
Inventors: 심동욱; 곽상일; 권종화
Original assignee: 한국전자통신연구원
Priority date: 2018-05-02
Filing date: 2018-05-02
Publication date: 2019-11-12
Also published as: US10928432B2; KR102656384B1; US20190339315A1

Abstract

본 발명은 잔향 챔버에 관한 것으로, 자세하게, 잔향 챔버는 송수신 안테나로부터 출력되는 전자파가 워크 볼륨으로의 빔 방향을 반사하는 반사판을 송수신 안테나와 한쌍으로 배치시킴으로써, 잔향 챔버 내 워크 볼륨(working volume)의 필드 균일도(field uniformity)가 개선되고, 이를 통해 잔향 챔버의 활용성을 높일 수 있다.

Description

잔향 챔버{REVERBERATION CHAMBER}

아래의 설명은 잔향 챔버에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 잔향 챔버 내 필드 균일도를 개선하여 잔향 챔버의 성능을 향상시키기 위한 잔향 챔버에 관한 것이다.

IT의 발전에 따라 무선 통신을 활용한 전자기기의 사용이 여러 주파수 대역에서 급증하였다. 그래서, 무선 통신의 사용이 증가함에 따라 무선 통신의 전자파 장해 및 복사 내성을 규제하는 규제 범위도 과거에 비해 규제 범위가 확장되었다. 이에 따라, 다양한 서비스를 제공하는 전자 기기에 관한 적절한 전자파 사양의 측정이 요구되고 있다.

최근에는 전자 기기의 전자파 사향을 측정하기 위한 대용 시설로써, 잔향 챔버에 대한 정의와 사양, 그리고 EMC(Electromagnetic compatibility) 응용에 관한 기술이 연구되고 있다. 일반적으로 잔향 챔버의 외형은 직육면체뿐만 아니라 다면체의 형태를 띨 수 있고, 잔향 챔버의 내부는 한 개 이상의 모드 교반기(mode stirrer)를 포함하도록 제안하고 있다.

또한, 모드 교반기는 잔향 챔버의 성능을 좌우하는 중요한 요소이고 모드 교반기의 효율성을 평가하는 방법과 그로 인한 잔향 챔버의 성능을 평가하는 절차를 기술하고 있다. 이로부터 모드 교반기의 형상, 크기, 개수, 설치 위치 등의 물리적 파라미터들은 잔향 챔버의 설계에 있어 매우 중요한 변수임을 알 수 있다.

따라서, 잔향 챔버의 내부 구조에 따른 워킹 볼륨의 표준 편차 분석을 통해 잔향 챔버의 필드 균일도를 개선하는 연구가 필요하다.

본 발명은 잔향 챔버 내 필드 균일도를 확보하기 위하여 잔향 챔버에 여러 가지 구조로 반사판을 배치하는 것을 제안한다.

본 발명은 잔향 챔버에 배치된 반사판을 이용하여 잔향 챔버의 성능을 향상시킬 수 있는 필드 균일도를 개선하는 방법을 제안한다.

일실시예에 따른 잔향 챔버는 복수의 금속 판넬로 형성되는 모드 교반기; 잔향 챔버의 내부에 형성되는 워킹 볼륨(working volume)과 일정 거리로 이격 배치되는 송수신 안테나; 및 워킹 볼륨과 송수신 안테나 사이에 배치되는 반사판를 포함하고, 반사판은, 송수신 안테나와 한 쌍으로 이루어지며, 워킹 볼륨의 일면으로부터 이격 배치되며, 모드 교반기는, 잔향 챔버의 천장과 바닥 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 기둥형 모드 교반기; 잔향 챔버의 두 벽면의 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 천장형 모드 교반기; 잔향 챔버의 벽면에 위치하는 피라미달 고정형 모드 교반기; 및 피라미달 고정형 모드 교반기가 위치하는 벽면과 다른 벽면에 평행하게 배치되는 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나일 수 있다.

일실시예에 따른 송수신 안테나는 잔향 챔버의 워킹 볼륨과 비가시선(non-line of sight)을 가지는 방향으로 전자파를 방사할 수 있다.

일실시예에 따른 반사판은 송수신 안테나로부터 발생되는 전자파가 잔향 챔버 내 워킹 볼륨에 전파되기 까지의 전자파 필드의 경로를 제어할 수 있다.

일실시예에 따른 반사판은 워킹 볼륨의 위치를 기반으로 상기 잔향 챔버 내 빈 공간에 대한 잔향 챔버의 고유 모드가 나타내는 전자파의 분포 형태에 따라 반사판의 형태, 크기, 모양 및 배치 공간 중 적어도 하나가 조절될 수 있다.

일실시예에 따른 잔향 챔버의 고유 모드는 기둥형 모드 교반기, 천장형 모드 교반기, 피라미달 고정형 모드 교반기 및 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나의 모드 교반기에 의해 변화될 수 있다.

일실시예에 따른 반사판의 형태는, 송수신 안테나로부터 발생되는 전자파를 반사하기 위한 곡면, 꺽인면 중 하나의 형태로 구현될 수 있다.

일실시예에 따른 반사판의 크기는, 워킹 볼륨의 일면이 나타내는 크기보다 클 수 있다.

일실시예에 따른 잔향 챔버는, 복수의 금속 판넬로 형성되는 모드 교반기; 잔향 챔버의 내부에 형성되는 워킹 볼륨과 일정 거리로 이격 배치되는 송수신 안테나들; 및 워킹 볼륨과 송수신 안테나 사이에 배치되는 반사판들를 포함하고, 반사판들 각각은, 송수신 안테나들 각각과 쌍을 이루어지며, 상기 워킹 볼품의 일면으로부터 복수의 쌍이 이격 배치되며, 모드 교반기는, 잔향 챔버의 천장과 바닥 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 기둥형 모드 교반기; 잔향 챔버의 두 벽면의 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 천장형 모드 교반기; 잔향 챔버의 벽면에 위치하는 피라미달 고정형 모드 교반기; 및 피라미달 고정형 모드 교반기가 위치하는 벽면과 다른 벽면에 평행하게 배치되는 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나일 수 있다.

일실시예에 따른 반사판들은, 워킹 볼륨의 일면으로부터 동일한 이격 거리 또는, 상이한 이격 거리로 배치될 수 있다.

일실시예에 따른 반사판들은, 워킹 볼륨의 일면으로부터 1) 동일한 라인 상에 나란히 배치되거나, 2) 서로 어긋나게 배치되거나, 3) 서로 번갈아가면서 배치되거나 또는, 4) 상하 방향으로 배치될 수 있다.

일실시예에 따른 반사판들은, 동일한 크기 또는, 서로 다른 크기를 가지며, 워킹 볼륨의 일면이 나타내는 크기보다 크거나 작을 수 있다.

일실시예에 따른 잔향 챔버는 복수의 금속 판넬로 형성되는 모드 교반기; 잔향 챔버의 내부에 형성되는 워킹 볼륨과 일정 거리로 이격 배치되는 송수신 안테나들; 및 워킹 볼륨과 송수신 안테나 사이에 배치되는 반사판들을 포함하고, 반사판들 각각은, 송수신 안테나들 각각과 한 쌍으로 이루어지며, 워킹 볼륨의 적어도 두 면으로부터 이격되어 배치되며, 모드 교반기는, 잔향 챔버의 천장과 바닥 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 기둥형 모드 교반기; 잔향 챔버의 두 벽면의 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 천장형 모드 교반기; 잔향 챔버의 벽면에 위치하는 피라미달 고정형 모드 교반기; 및 피라미달 고정형 모드 교반기가 위치하는 벽면과 다른 벽면에 평행하게 배치되는 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나일 수 있다.

일실시예에 따른 반사판들은, 워킹 볼륨의 적어도 두 면에서 동일한 개수이거나 또는, 서로 다른 개수로 배치될 수 있다.

일실시예에 따른 반사판들은, 워킹 볼륨의 일면에서 복수의 쌍이 배치되는 경우, 1) 동일한 라인 상에 나란히 배치되거나, 2) 서로 어긋나게 배치되거나, 3) 서로 번갈아가면서 배치되거나 또는, 4) 상하 방향으로 배치될 수 있다.

일실시예에 따른 반사판들은, 워킹 볼륨의 일면에서 복수의 쌍이 배치되는 경우, 상기 워킹 볼륨의 일면으로부터 동일한 이격 거리 또는, 상이한 이격 거리로 배치될 수 있다.

일실시예에 따른 반사판들은 동일한 크기 또는, 서로 다른 크기를 가지며, 워킹 볼륨의 일면이 나타내는 크기보다 크거나 작을 수 있다.

일실시예에 따른 반사판들은, 상기 송수신 안테나로부터 발생되는 전자파를 반사하기 위한 곡면, 꺽인면 중 하나의 형태로 구현되거나 또는, 특정 형태의 슬롯이 포함된 형태로 구현될 수 있다.

일실시예에 따른 반사판들은, 잔향 챔버의 고유 모드가 나타내는 전자파의 분포 형태에 따라 잔향 챔버 내 배치되는 기울기가 조절될 수 있다.

본 발명에 따르면, 국제 표준 규격인 IEC 61000-4-21에서 제안한 잔향 챔버의 구성 요소와 성능 평가 방법을 기반으로 기존 잔향 챔버의 고유 모드 주파수 분포를 더 크게 변화시킬 수 있는 방법과 최종 구조를 제안함으로써 기존 잔향 챔버의 working volume이 갖는 표준 편차를 낮게 하여 최종적으로 잔향 챔버의 field uniformity 성능을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

이는 결과적으로 EMC 측정이나 스마트폰과 같은 무선기기의 성능 평가에 있어 잔향 챔버의 측정 결과에 대한 불확정도를 감소시켜 재현성을 높힘으로써 잔향 챔버의 측정 신뢰도를 높이는 효과가 있다.

또한, 동일한 크기의 잔향 챔버이더라도 내부 working volume의 field uniformity 즉, 표준 편차를 더 낮게 할 수 있다는 것은 기존 표준 편차 기준 대비 working volume을 더 크게 할 수 있는 효과가 있고 working volume을 크기를 고정할 경우 잔향 챔버 전체 크기를 축소할 수 있는 소형화 효과가 있다.

따라서, 본 발명에 의해 종래 잔향 챔버 제품보다 소형화된 고성능의 잔향 챔버를 구현할 수 있는 효과가 있다.

도 1은 일실시예에 따른 반사판을 포함하는 잔향 챔버의 구조를 도시한 도면이다.
도 2는 일실시예에 따른 반사판을 포함하는 잔향 챔버의 평면도 및 정면도를 도시한 도면이다.
도 3은 일실시예에 따른 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버 및 반사판을 포함하는 잔향 챔버 각각에서 공통된 빈 cavity의 고유 모드 분포 기준, 모드 교반기와 반사파 구조의 존재로 인한 고유 모드 분포의 변화량을 나타낸 그래프이다.
도 4는 일실시예에 따른 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버내 고유 모드 분포에 의한 워킹 볼륨의 표준 편차 성능을 나타낸 그래프이다.
도 5는 일실시예에 따른 반사판을 포함하는 잔향 챔버내 고유 모드 분포에 의한 워킹 볼륨의 표준 편차 성능을 나타낸 그래프이다.
도 6은 다른 실시예에 따른 반사판을 포함하는 잔향 챔버의 구조를 도시한 도면이다.
도 7은 일실시예에 따른 잔향 챔버에 배치되는 워킹 볼륨을 기준으로 송수신 안테나와 반사판이 배치되는 위치를 나타낸 도면이다.
도 8은 또 다른 일실시예에 따른 반사판을 포함하는 잔향 챔버의 구조를 도시한 도면이다.
도 9는 일실시예에 따른 반사판의 형태를 나타낸 도면이다.

이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 상세하게 설명한다. 그러나, 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있어서 특허출원의 권리 범위가 이러한 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 실시예들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물이 권리 범위에 포함되는 것으로 이해되어야 한다.

실시예에서 사용한 용어는 단지 설명을 목적으로 사용된 것으로, 한정하려는 의도로 해석되어서는 안된다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

또한, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 실시예의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.

도 1은 일실시예에 따른 반사판을 포함하는 잔향 챔버의 구조를 도시한 도면이다.

도1을 참고하면, 잔향 챔버(Reverberation chamber, 101)은 전자파 장해(EMI: Electromagnetic Interference) 및 복사 내성(Radiation immunity) 등의 EMC 측정 및 스마트폰과 같은 무선 단말기의 성능 측정을 위한 대용 시험 시설이다. 잔향 챔버(101)은 대용 시험시설로서 사용되기 위해서 내부에 배치되는 워킹 볼륨 내 필드 균일도를 유지해야 한다.

잔향 챔버(101)의 내부에는 측정 대상이 놓일 수 있는 직육면체의 워킹 볼륨(working volume, 102)을 정의할 수 있다. 그리고, 잔향 챔버(101)의 내부에 배치되는 한 개 이상의 모드 교반기(mode stirrer)가 일정 간격 또는 연속으로 1바퀴 회전하는 동안, 잔향 챔버(101)의 내부에 배치되는 송수신 안테나(104)로부터 발생된 전자기장을 워킹 볼륨(102)의 8개의 꼭지점에서 관측한 후, 관측된 데이터들로부터 계산된 표준 편차(Standard deviation)를 잔향 챔버(101)의 기본 성능을 나타내는 척도로 사용할 수 있다.

여기서, 표준 편차는 잔향 챔버(101) 내 워킹 볼륨(102)의 필드 균일도(field uniformity)를 나타낼 수 있다. 잔향 챔버의 기본 성능을 만족하는 전자파의 표준편차는 대부분의 주파수 영역에서 3dB 이하를 요구할 수 있다. 전자파의 표준편차가 작을수록 잔향 챔버(101) 내 워킹 볼륨(102)에서 측정된 필드값들은 균일한 값을 나타내는 것으로 판단될 수 있다. 이는 워킹 볼륨(102) 내 어느 위치에서 측정된 값들의 편차가 작다는 것을 의미할 수 있다.

필드 균일도는 잔향 챔버(101) 내 측정 대상을 측정에 있어 측정 값에 대한 측정 불확정도 및 재현성에도 중요한 영향을 미친다. 다시 말해, 필드 균일도가 우수할수록 측정 대상인 기기의 측정값은 작은 편차로 재현될 확률이 높다. 실제로 EMC 측정뿐만 아니라, 스마트폰과 같은 무선기기의 측정 평가에 있어 재현성은 잔향 챔버(101)의 측정 시설로써의 활용 여부를 결정하는 매우 중요한 성능 지표일 수 있다.

따라서, 본 발명은 전자파의 표준편차가 3dB 이하인 경우에도 잔향 챔버(101)의 필드 균일도에 대한 신뢰도를 향상시키 위한 잔향 챔버(101)의 필드 균일도를 개선하기 위한 방법을 제안한다. 잔향 챔버(101)의 필드 균일도를 개선하는 것은 잔향 챔버(101)의 활용성을 향상시키는 중요한 일이라 할 수 있다.

잔향 챔버(101)의 외형 구조는 다양한 다면체의 형태를 가질 수 있다. 일례로, 잔향 챔버(101)의 외형 구조는 직육면체의 형태를 가질 수 있다. 구체적으로, 직육면체의 형태를 가질 경우, 직육면체는 바닥, 천장, 4개의 벽면으로 표현될 수 있다.

잔향 챔버(101)의 내부의 모드 교반기는 필드 균일도의 향상을 위해 적어도 한 개 이상의 모드 교반기를 포함할 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따르면, 모드 교반기는 기둥형 모드 교반기(106), 천장형 모드 교반기(107), 피라미달 고정형 모드 교반기(105), 요철식 고정형 모드 교반기(108) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 모드 교반기는 전자파를 반사할 수 있다.

이 때, 모드 교반기의 종류에 따라 모드 교반기가 고정된 상태로 전자파를 반사할 수 있다. 또는, 모드 교반기의 종류에 따라 모드 교반기가 회전하는 상태로 전자파를 반사할 수 있다. 일례로, 기둥형 모드 교반기(106)와 천장형 모드 교반기(107)는 회전하며 전자파를 반사할 수 있고, 피라미드 고정형 모드 교반기(105)와 요철식 고정형 모드 교반기(108)는 잔향 챔버 내부에 고정된 상태로 전자파를 반사할 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 전자파를 반사할 수 있는 다양한 실시예를 포함할 수 있다.

또한, 모드 교반기는 다양한 구조를 나타내는 복수의 금속 판넬로 구성될 수 있다. 금속 판넬은 금속과 같은 전자파를 반사할 수 있는 소재로 만들어지며, 모드 교반기에 입사하는 전자파를 여러 각도로 반사할 수 있다. 일례로, 금속 판넬의 종류는 금속으로 이루어지며, 모드 교반기에 입사하는 전자파를 반사할 수 있다.

금속 판넬은 다양한 구조를 나타낼 수 있다. 일례로, 다양한 구조는 전자파를 여러 각도로 반사하기 위해서 판상 형태, 피라미드 형태와 같은 구조 및 판넬이 일정 간격으로 겹쳐 배치되는 이중 구조일 수 있으며, 본 발명은 이러한 구조에 한정되지 않고 다양한 실시예를 포함할 수 있다.

기둥형 모드 교반기(106) 및 천장형 모드 교반기(108)를 구성하는 금속 판넬은 모두 서로 다른 각도로 꺾여서 배치될 수 있다. 또한, 금속 판넬의 중심 사이의 간격은 같거나, 또는 다를 수 있다. 그리고, 금속 판넬의 크기는 모두 같거나 다를 수 있다.

기둥형 모드 교반기(106)는 잔향 챔버(101)의 천장 또는, 바닥에 설치된 금속 기둥에 의해 복수의 금속 판넬이 연결될 수 있으며, 천장형 모드 교반기(108)는 잔향 챔버(101)의 벽면에 설치된 금속 기둥에 의해 복수의 금속 판넬이 연결되고, 잔향 챔버(101)의 천장과 인접하여 배치될 수 있다.

모드 교반기의 개수, 모양, 크기, 설치 위치 등의 물리적 파라미터는 잔향 챔버(101)의 내부에서 고유 모드의 변화를 크게 하는 최적화 과정에서 값들이 결정될 수 있다. 모드 교반기를 구성하는 금속 판넬의 크기, 형태, 간격, 설치 위치 등의 물리적 파라미터 역시 같은 원리에 의해 값들이 결정될 수 있다.

모드 교반기의 설치 위치 등의 물리적 파라미터들은 잔향 챔버(101)의 성능을 개선하는데 중요한 변수일 수 있다. 일례로, 기둥형 모드 교반기(106)와 천장형 모드 교반기(107)가 설치되는 위치는 전자파 균일도를 향상할 수 있도록 결정된 위치에 배치될 수 있다.

모드 교반기의 개수 등의 물리적 파라미터들은 잔향 챔버(101)의 성능을 개선하는데 중요한 변수 일 수 있다. 일례로, 기둥형 모드 교반기(106)와 천장형 모드 교반기(107)는 적어도 1개가 설치될 수 있다.

모드 교반기를 구성하는 판넬의 크기 등의 물리적 파라미터들은 잔향 챔버(101)의 성능을 개선하는데 중요한 변수 일 수 있다. 일례로, 기둥형 모드 교반기(106)와 천장형 모드 교반기(107)를 구성하는 판넬의 크기는 같거나 다르게 선택할 수 있다.

피라미달 고정형 모드 교반기(105) 및 요철식 고정형 모드 교반기(108)는 잔향 챔버(101)의 두 면에 배치되며, 서로 다른 면에 각각 배치될 수 있다. 피라미달 고정형 모드 교반기105)는 피라미드 형태의 금속 판넬로 구성되며, 잔향 챔버의 성능을 최대화 할 수 있도록 크기, 개수, 설치 위치 등이 결정될 수 있다. 피라미달 고정형 모드 교반기(105)는 잔향 챔버의 내부 전자파를 반사할 수 있다.

복수의 판넬로 구성되는 요철식 고정형 모드 교반기(108)의 크기는 잔향 챔버(101)의 크기에 따라 조절되며, 요철식 고정형 모드 교반기(108)를 구성하는 복수개의 판넬은 금속 판넬의 종류이며, 금속 판넬의 모양은 판상 형태 뿐만 아니라 다양한 형태를 가질 수 있다

송수신 안테나(104)는 LPDA(Log-periodic dipole array) 기반의 송수신 안테나뿐만 아니라, 혼 안테나, 패치 안테나, 다이폴 안테나 등 다양한 송수신 안테나가 사용될 수 있다. 본 발명의 일실시예에 의하면, 송수신 안테나(104)는 LPDA 기반의 송수신 안테나(104)를 사용하였으며, 송수신 안테나(104)는 잔향 챔버(101)내 워킹 볼륨(102)과 일정 거리 이상 이격되어야 하고, 빔 패턴 방향은 워킹 볼륨(102)과 비가시선(nonline of sight)을 갖는 위치에 배치될 수 있다.

이때, 본 발명은 잔향 챔버(101)의 필드 균일도를 개선하기 위하여 송수신 안테나(104)와 워킹 볼륨(102) 사이에 반사판(103)을 구비할 수 있다. 반사판(103)은 안테나로부터 발생되는 전자파가 잔향 챔버 내 워킹 볼륨에 전파되기 까지의 전자파 필드의 경로를 제어할 수 있다. 자세하게, 일반적으로 송수신 안테나(104)의 빔 패턴은 전방, 후방, 측면 모두 존재하고 각 방향에서 출력되는 빔의 세기가 서로 상이하다. 또한, 송수신 안테나(104)의 빔 패턴이 워킹 볼륨(102)을 향하지 않더라도 잔향 챔버(101) 내에는 필드가 워킹 볼륨(102)에 전파되는 짧은 경로부터 긴 경로까지 수많은 경로가 존재하게 된다.

이러한 점들을 고려할 때, 워킹 볼륨(102)의 필드 균일도를 높이기 위해서는 송신 안테나(104)로부터 방사된 필드가 가급적 많은 반사와 충분히 긴 경로를 거쳐 워킹 볼륨(102)에 도달하는게 하는 것이 유리할 것이다.

따라서, 본 발명은 잔향 챔버(101)의 필드 균일도를 개선하기 위한 목적을 달성하기 위하여, 반사판(103)을 배치시킴으로써, 송수신 안테나(104)로부터 워킹 볼륨(102)을 직접 향하여 필드를 반사하고, 워킹 볼륨까지의 전파 경로를 내우 복잡하고 다반사를 포함하도록 할 수 있다.

본 발명의 일실시예로서, 명세서에서 본 발명의 효과를 증명하기 위해 선택된 도 1의 잔향 챔버(101)의 크기는 1.4 m x 1.95 m x 1.85 m 이고, 기둥형 모드 교반기(106)의 판넬 크기는 가로 세로 0.46 m x 0.46 m, 천장형 모드 교반기(108)의 판넬 크기는 0.40 m x 0.40 m 이다.

도 2는 일실시예에 따른 반사판을 포함하는 잔향 챔버의 평면도 및 정면도를 도시한 도면이다.

도 2의 (a)의 도면은 잔향 챔버(201)의 평면도를 도시한 도면이다. 잔향 챔버(201)의 내부에는 측정 대상이 놓일 수 있는 직육면체의 워킹 볼륨(202)이 정의될 수 있다. 잔향 챔버(201)의 내부에는 잔향 챔버(201)의 필드 균일도를 측정하기 위한 송수신 안테나(203)가 배치될 수 있으며, 송수신 안테나(203)는 전자파를 반사할 수 있는 금속 판넬로 구현되는 한 개 이상의 모드 교반기가 설치된 방향으로 배치될 수 있다. 본 발명의 일실시예에 의하면, 송수신 안테나(203)는 기둥형 모드 교반기 또는 요철식 고정형 모드 교반기가 배치된 공간 또는 벽면으로 전자파가 출력될 수 있도록 배치될 수 있다.

그리고, 송수신 안테나(203)은 워킹 볼륨(202)과 nonline of sight로 배치될 수 있다. 이때, 반사판(204)은 송수신 안테나(203)로부터 워킹 볼륨(202)을 직접 향하는 필드를 반사하고, 워킹 볼륨(202)까지의 전파 경로를 매우 복잡하고 다반사를 포함하도록 하는 역할을 수행할 수 있다.

도 2의 (b)의 도면은 잔향 챔버(201)의 정면도를 도시한 도면이다. 여기서, 반사판(204)은 워킹 볼륨(202)의 위치를 기반으로 잔향 챔버(201) 내 빈 공간에 대한 잔향 챔버(201)의 고유 모드(Eigenmode) 분포를 가장 잘 변화시킬 수 있는 방향으로 반사판(204)의 형태, 크기, 모양 및 배치 공간 중 적어도 하나가 조절될 수 있다.

여기서, 잔향 챔버(201)의 고유 모드는 기둥형 모드 교반기, 천장형 모드 교반기, 피라미달 고정형 모드 교반기 및 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나의 모드 교반기에 의해 변화될 수 있다.

반사판(204)의 형태는, 송수신 안테나(203)로부터 발생되는 전자파를 반사하기 위한 곡면, 꺽인면 중 하나의 형태로 구현될 수 있으며, 자세한 구성은 도 9를 통해 설명하도록 한다. 또한, 반사판(204)의 크기는 워킹 볼륨의 일면이 나타내는 크기보다 크게 설정될 수 있다.

도 3은 일실시예에 따른 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버 및 반사판을 포함하는 잔향 챔버 각각에서 공통된 빈 공간(cavity)의 고유 모드 분포를 기준으로, 모드 교반기와 반사파 구조의 존재로 인한 고유 모드 분포의 변화량을 나타낸 그래프이다.

잔향 챔버에 배치되는 반사판은 잔향 챔버 내 송수신 안테나와 워킹 볼륨의 위치를 고려하여 형태, 크기, 위치 등의 물리적 파라미터들의 다양한 조건에 의해 구성될 수 있다. 반사판에 관한 파라미터들은 잔향 챔버내 고유 모드 분포 변화에 따른 표준 편차 결과가 반사판이 없을 때보다 개선될 수 있도록 결정될 수 있다. 다시 말해, 필드 균일도는 더 낮은 표준 편차 특성을 얻기 위해서 보다 근복적으로는 잔향 챔버의 내부의 구조 변화가 빈 cavity일때의 고유 모드(Eigenmode)를 크게 변화시키는 방향으로 이뤄질 때 가능한 것으로 알려져 있다.

본 발명의 효과를 검증하기 위해, 본 발명은 잔향 챔버에서 반사판의 크기를 몇 가지 조건으로 나누어 시뮬레이션을 수행하였다. 반사판의 크기는 x축 방향으로의 길이 * z축 방향으로의 길이로 정의할 수 있다.

도 3의 그래프를 통해 본 발명은 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버에 비해 반사판을 포함한 잔향 챔버의 고유 모드 분포가 빈 cavity의 고유 모드 분포를 더 크게 변화시킨다는 것을 확인 할 수 있으며, 이는 반사판을 포함한 잔향 챔버가 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버보다 전자파에 대한 필드 균일성이 높다는 것을 나타낼 수 있다. 즉, 반사판을 포함한 잔향 챔버의 성능이 우수하다는 것을 의미할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 반사판은1.3 m x 0.72 m의 크기를 가지며, 도3의 그래프로 나타낸 결과에서 x축에 나타낸 모드 넘버 중 일부를 제외한 대부분의 모드 넘버에서 고유 모드 주파수의 변화량은 증가되었음을 확인할 수 있다. 물론 본 결과는 반사판의 크기나 형상에 대해 수많은 조건중에서 최적화된 결과가 아님에도 불구하고, 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버의 필드 균일도가 반사판을 포함함으로써, 개선된다는 점을 시사하고 있다.

도 4는 일실시예에 따른 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버 내 고유 모드가 나타내는 전자파의 분포 현황에 의한 워킹 볼륨의 표준 편차 성능을 나타낸 그래프이다.

도 4의 그래프는 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버의 고유 모드에 따른 분포 변화에 의한 잔향 챔버의 표준 편차 성능을 나타낸 그래프이다. 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버의 필드 균일도는 전체 주파수에서 평균적이지 않으며, 표준 편차가 높은 것을 확인할 수 있다.

도 5는 일실시예에 따른 반사판을 포함한 잔향 챔버 내 고유 모드가 나타내는 전자파의 분포 현황에 의한 워킹 볼륨의 표준 편차 성능을 나타낸 그래프이다.

도5의 그래프는 반사판을 포함한 잔향 챔버의 고유 모드에 따른 분포 변화에 의한 잔향 챔버의 표준 편차 성능을 나타낸 그래프이다. 본 발명은 도 4의 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버와 동일한 조건에서 시뮬레이션을 하였다. 그리고, 반사판을 포함하지 않는 잔향 챔버에서의 주파수는 모두 3 dB 이하의 성능을 보이고, 각 주파수에 대한 표준 편차 요소들간의 편차도 감소하였음을 확인할 수 있다.

결론적으로 본 발명의 반사판을 포함한 잔향 챔버의 필드 균일도는 반사판을 포함하지 않은 잔향 챔버의 필드 균일도를 개선된 것을 알 수 있다.

도 6은 다른 실시예에 따른 반사판을 포함하는 잔향 챔버의 구조를 도시한 도면이다.

도 6을 참고하면, 잔향 챔버(601) 내 송수신 안테나와 반사판은 복수 개로 존재할 수 있다. 본 발명은 잔향 챔버(601)에서 송수신 안테나를 다수로 사용할 때, 다수의 송수신 안테나(603', 603'', 603''') 각각에 대응하여 다수의 반사판(604', 604'', 604''')가 한 쌍으로 배치될 수 있다. 즉, 다수의 송수신 안테나(603', 603'', 603''')는 개별적인 반사판(604', 604'', 604''')이 각각 배치될 수 있다. 이는 큰 반사판을 배치할 여건이 되지 않을 경우에 매우 효율적으로 활용될 수 있다.

여기서, 송수신 안테나(603', 603'', 603''')와 반사판(604', 604'', 604''')은 워킹 볼품(602)의 일면으로부터 복수의 쌍이 이격 배치될 수 있다. 다시 말해, 워킹 볼품(602)은 직사각형의 형태를 가질 수 있으며, 워킹 볼품(602)이 직사각형의 형태를 가질 경우, 워킹 볼륨(602)은 바닥, 천장, 제1 벽면, 제2 벽면, 제3 벽면, 제4 벽면으로 표현될 수 있다.

송수신 안테나(603', 603'', 603''')는 잔향 챔버의 내부에서 고유 모드의 변화를 크게 하는 최적화 과정에서의 필드 균일도를 향상시키기 위한 위치에 배치될 수 있다. 그리고, 본 발명의 일실시예에 의하면, 송수신 안테나(603', 603'', 603''')는 워킹 볼품(602)의 바닥을 제외한 나머지 면(천장, 제1 벽면, 제2 벽면, 제3 벽면, 제4 벽면) 중 한 면으로부터 이격 배치될 수 있다.

송수신 안테나(603', 603'', 603''')는 잔향 챔버의 내부의 천장, 바닥, 벽면 등 다양한 위치에 배치될 수 있다. 그리고, 반사판(604', 604'', 604''')은 워킹 볼품(602)의 한 면에 다수로 배치된 송수신 안테나(603', 603'', 603''') 각각에 대응하여 한쌍으로 배치될 수 있으며, 송수신 안테나(603', 603'', 603''')와 반사판(604', 604'', 604''')의 배치 순서는 워킹 볼품(602)의 일면을 기준으로 '반사판 - 안테나' 순으로 배치될 수 있다. 반사판은 워킹 볼륨(602)과 송수신 안테나 간 전자파의 이동을 차단하기 위해 워킹 볼륨(602)과 송수신 안테나 사이에 배치될 수 있다.

반사판(604', 604'', 604''')은 잔향 챔버의 고유 모드가 나타내는 전자파의 분포 형태에 따라 잔향 챔버 내 배치되는 기울기가 조절될 수 있다. 다시 말해, 반사판(604', 604'', 604''')은 송수신 안테나(603', 603'', 603''')가 배치되는 각도 및 빔 방향에 따라 워킹 볼륨(602)으로 출력되는 전자파를 직접적으로 차단하기 위하여 잔향 챔버 내 배치되는 기울기가 조절될 수 있다.

또한, 잔향 챔버 내 다수의 송수신 안테나(603', 603'', 603''')가 배치되는 경우, 송수신 안테나(603', 603'', 603''')와 반사판(604', 604'', 604''')은 1) 동일한 라인 상에 나란히 배치되거나, 2) 서로 어긋나게 배치되거나, 3) 서로 번갈아가면서 배치되거나 또는, 4) 상하 방향으로 배치될 수 있다. 자세한 구성은 도 7을 통해 자세히 설명하도록 한다.

도 7은 일실시예에 따른 잔향 챔버에 배치되는 워킹 볼륨을 기준으로 송수신 안테나와 반사판이 배치되는 위치를 나타낸 도면이다.

도 7을 참고하면, 본 발명은 잔향 챔버 내 복수의 반사판(704', 704'')이 배치될 수 있다. 복수의 반사판(704', 704'')은 1) 동일한 라인 상에 나란히 배치되거나, 2) 서로 어긋나게 배치되거나, 3) 서로 번갈아가면서 배치되거나 또는, 4) 상하 방향으로 배치될 수 있다.

도 7의 (a)를 살펴보면, 복수의 반사판(704', 704'')은 워킹 볼륨(702)의 일면을 기준으로 서로 어긋나게 배치될 수 있다. 다시 말해, 복수의 반사판(704', 704'')은 잔향 챔버(701)에 배치되는 송수신 안테나(703', 703'')의 위치에 대응하여 워킹 볼륨(702) 사이에 배치될 수 있다. 이때, 송수신 안테나(703', 703'')는 모드 교반기로 출력하는 전자파의 방향 및 위치에 따라 상이한 위치에 배치될 수 있으며, 복수의 반사판(704', 704'')은 상이하게 배치되는 송수신 안테나(703', 703'')의 위치에 대응하여 배치될 수 있다.

즉, 반사판(704', 704'')은 잔향 챔버 내 동일 선상에 배치되지 않고, 서로 어긋하게 배치될 수 있다. 이때, 복수의 반사판(704', 704'')은 워킹 볼륨(702)의 일면으로부터 이격 거리가 상이할 수 있다. 일례로, 반사판(704')은 워킹 볼륨(702)의 일면으로부터 d2만큼 이격되어 배치되고, 반사판(704'')은 워킹 볼륨(702)의 일면으로부터 d1만큼 이격되어 배치될 수 있다. 이때, d1은 d2보다 짧은 거리 일 수 있다.

도 7의 (b)를 살펴보면, 복수의 반사판(704', 704'')은 워킹 볼륨(702)의 일면을 기준으로 동일한 라인 상에 나란히 배치될 수 있다. 여기서, 반사판(704')과 워킹 볼륨(702)의 일면과의 이격 거리(d1)와 반사판(704'')과 워킹 볼륨(702)의 일면과의 이격 거리(d1)는 동일할 수 있다.

도 7의 (c)를 살펴보면, 복수의 반사판(704', 704'')은 워킹 볼륨(702)의 일면을 기준으로 서로 번갈아가면서 배치될 수 있다. 다시 말해, 복수의 반사판(704', 704'')과 송수신 안테나(703', 703'')이 각각 한 쌍을 이루고, 복수의 쌍이 서로 번갈아가면서 배치될 수 있다.

도 7의 (d)를 살펴보면, 복수의 반사판(704', 704'')은 워킹 볼륨(702)의 일면으로부터 서로 다른 공간 상에 배치될 수 있다. 다시 말해, 워킹 볼륨(702)의 일면을 기준으로 송수신 안테나(703')은 잔향 챔버의 바닥면에 인접하여 배치될 수 있고, 송수신 안테나(703'')은 잔향 챔버의 천장면에 인접하여 배치될 수 있다. 이에 반사판(704')은 바닥면에 배치된 송수신 안테나(703')과 워킹 볼륨(702)의 일면 사이에 배치되고, 반사판(704'')은 천장면에 배치된 송수신 안테나(703'')과 워킹 볼륨(702)의 일면 사이에 배치될 수 있다.

또한, 본 발명은 상술한 반사판들의 배치 형태가 조합된 형태로도 표현이 가능할 수 있다. 일례로, 반사반은 동일한 라인 상에 나란히 배치되면서, 반사반의 위치가 천정면과 바닥면에 각각 인접한 형태로 배치될 수 있다.

도 8은 또 다른 일실시예에 따른 반사판을 포함하는 잔향 챔버의 구조를 도시한 도면이다.

도 8을 참고하면, 잔향 챔버(801) 내 송수신 안테나와 반사판은 복수 개로 존재할 수 있다. 본 발명은 잔향 챔버(801)에서 송수신 안테나를 다수로 사용할 때, 다수의 송수신 안테나(803', 803'', 803''') 각각에 대응하여 다수의 반사판(804', 804'', 804''')가 한 쌍으로 배치될 수 있다. 즉, 다수의 송수신 안테나(803', 803'', 803''')는 개별적인 반사판(804', 804'', 804''')이 각각 배치될 수 있다.

여기서, 송수신 안테나(803', 803'', 803''')와 반사판(804', 804'', 804''')은 워킹 볼품(802)의 적어도 두면으로부터 복수의 쌍이 이격 배치될 수 있다. 다시 말해, 워킹 볼품(802)은 직사각형의 형태를 가질 수 있으며, 워킹 볼품(802)이 직사각형의 형태를 가질 경우, 워킹 볼륨(802)은 바닥, 천장, 제1 벽면, 제2 벽면, 제3 벽면, 제4 벽면으로 표현될 수 있다.

송수신 안테나(803', 803'', 803''')는 잔향 챔버의 내부에서 고유 모드의 변화를 크게 하는 최적화 과정에서의 필드 균일도를 향상시키기 위한 위치에 배치될 수 있다. 그리고, 본 발명의 일실시예에 의하면, 송수신 안테나(803', 803'', 803''')는 워킹 볼품(802)의 바닥을 제외한 적어도 두 면 (천장, 제1 벽면, 제2 벽면, 제3 벽면, 제4 벽면)으로부터 이격 배치될 수 있다.

송수신 안테나(803', 803'', 803''')는 잔향 챔버의 내부의 천장, 바닥, 벽면 등 다양한 위치에 배치될 수 있다. 그리고, 반사판(804', 804'', 804''')은 워킹 볼품(802)의 적어도 두 면에 다수로 배치된 송수신 안테나(803', 803'', 803''') 각각에 대응하여 한쌍으로 배치될 수 있다.

이 때, 본 발명은 워킹 볼륨(802)의 적어도 두 면에서 송수신 안테나와 반사판이 동일한 개수이거나 또는, 서로 다른 개수로 배치될 수 있다. 다시 말해, 워킹 볼륨의 제1 벽면으로부터 송수신 안테나(803'''), (803'')이 배치되고, 워킹 볼륨의 제 3 벽면으로부터 송수신 안테나(803')가 배치된다고 가정할 때, 본 발명은 워킹 볼륨의 제1 벽면으로부터 배치되는 송수신 안테나(803'''), (803'')의 개수와 워킹 볼륨의 제 3 벽면으로부터 송수신 안테나(803')가 상이할 수 있다. 또한, 워킹 볼륨의 제 3 벽면으로부터 송수신 안테나(미도시)가 추가 배치되는 경우, 본 발명은 워킹 볼륨(802)의 적어도 두 면에서 송수신 안테나와 반사판이 동일한 개수가 동일할 수 있다. 결국, 본 발명은 잔향 챔버의 필드 균일도를 개선하기 위한 목적을 이루기 위해 워킹 볼륨을 기준으로 다양한 위치에 송수신 안테나와 반사판이 한 쌍으로 배치될 수 있다.

그리고, 본 발명은 워킹 볼륨(802)의 적어도 두 면에서 배치된 송수신 안테나(803', 803'', 803''') 각각에 반사판(804', 804'', 804''')이 개별적으로 배치될 수 있다. 여기서, 송수신 안테나(803', 803'', 803''')와 반사판(804', 804'', 804''')의 배치 순서는 워킹 볼품(802)의 일면을 기준으로 '반사판 - 안테나' 순으로 배치될 수 있다. 반사판은 워킹 볼륨(802)과 송수신 안테나 간 전자파의 이동을 차단하기 위해 워킹 볼륨(802)과 송수신 안테나 사이에 배치될 수 있다.

반사판(804', 804'', 804''')은 잔향 챔버의 고유 모드가 나타내는 전자파의 분포 형태에 따라 잔향 챔버 내 배치되는 기울기가 조절될 수 있다. 다시 말해, 반사판(804', 804'', 804''')송수신 안테나(803', 803'', 803''')이 배치되는 각도 및 빔 방향에 따라 워킹 볼륨(802)으로 출력되는 전자파를 직접적으로 차단하기 위하여 잔향 챔버 내 배치되는 기울기가 조절될 수 있다.

또한, 잔향 챔버 내 다수의 송수신 안테나(803', 803'', 803''')가 배치되는 경우, 송수신 안테나(803', 803'', 803''')와 반사판(804', 804'', 804''')은 1) 동일한 라인 상에 나란히 배치되거나, 2) 서로 어긋나게 배치되거나, 3) 서로 번갈아가면서 배치되거나 또는, 4) 상하 방향으로 배치될 수 있다. 도 7에서 상술한 바를 참고한다.

도 9는 일실시예에 따른 반사판의 형태를 나타낸 도면이다.

도 9를 참고하면, 반사판은 다양한 형태로 구현되어 동일한 효과 또는 그 이상의 효과를 제공할 수 있다. 다시 말해, 반사판은 송수신 안테나로부터 출력되는 전자파의 반사 각도를 다양하게 변화시키기 위한 표면을 가질 수 있으며, 다양한 모양의 슬롯을 포함할 수 있다. 이러한, 반사판의 형태는 반사판이 포함되지 않은 잔향 챔버의 고유 모드의 분포에서 하이브리드 모드를 생성할 수 있으며, 이에 따라 반사판이 포함된 잔향 챔버의 고유 모드의 큰 변화량을 도출하여 결과적으로 필드 균일도를 개선할 수 있다.

일례로, 반사판은 도 9의 (a)와 같이 일반적인 평면 형태로 구현될 수 있다. 평면 형태의 반사판은 송수신 안테나로부터 출력된 전자파가 입사된 방향의 반대 방향으로 전자파를 반사시킬 수 있으며, 반사된 전자파는 직선 형태로 나타날 수 잇다.

다른 일례로, 반사판은 도 9의 (b)와 같이 곡선 형태를 가질 수 있으며, 이때, 곡선 형태는 오목 라인 또는 볼록 라인으로 구현될 수 있다. 또한, 반사판은 도 9의 (c)와 같이 꺽인 형태를 가질 수 있다. 그리고, 반사판은 도 9의 (d)와 같이 지그재그 형태로 구현될 수 있다. 도 9의 (b) 내지 (d)와 같은 형태로 구현된 반사판은 송수신 안테나로부터 출력된 전자파가 입사된 방향에 따라 서로 상이한 각도로 전자파를 반사시킴으로써, 좀 더 많은 반사와 잔향 챔버 내 긴 경로를 갖도록 유도할 수 있다.

또한, 도 9에 도시되어 있지 않지만, 반사판은 도 9의 (a) 내지 (d)와 같은 면 형태로 구현될 수 있을 뿐만 아니라, 반사판의 내부에 특정 모양의 슬롯을 포함한 형태로도 구현이 가능할 수 있다. 자세하게, 본 발명은 잔향 챔버 내 배치되는 반사판 구조 즉, 형태에 따라 전자파의 입사 및 반사가 다양한 방법으로 이루질 수 있다. 이때, 본 발명은 반사판에 의한 전자파의 반사 효과를 보다 다양화하기 위하여 반사판의 중 내부에 특정 모양의 슬롯을 형성할 수 있다. 여기서, 특정 모양의 슬롯은 동그라미, 세모, 네모 등 다양한 형태로 나타날 수 있으며, 반사판은 특정 모양의 슬롯에 따라 반사판의 일정 영역이 관통된 상태(구멍)로 형성될 수 있다.

특정 모양의 슬롯이 형성된 반사판은 송수신 안테나로부터 발생된 전자파가 워킹 볼륨에 직접적으로 입사되지 않도록 잔향 챔버 내 워킹 볼륨과 송수신 안테나 사이에 배치될 수 있다.

본 발명은 특정 모양의 슬롯을 포함한 반사판을 이용하여 송수신 안테나로부터 발생된 전자파를 반사시킴으로서, 면 형태로 구현된 반사판보다 다양한 각도, 방향 등으로 전자파를 반사시킬 수 있는 효과를 제공할 수 있다.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 청구범위의 범위에 속한다.

101: 잔향 챔버 102: 워킹 볼륨
103: 반사판 104: 송수신 안테나
105: 피라미달 고정형 모드 교반기 106: 기둥형 모드 교반기
107: 천장형 모드 교반기 108: 요철식 고정형 모드 교반기

Claims

잔향 챔버에 있어서,
복수의 금속 판넬로 형성되는 모드 교반기;
상기 잔향 챔버의 내부에 형성되는 워킹 볼륨(working volume)과 일정 거리로 이격 배치되는 송수신 안테나; 및
상기 워킹 볼륨과 송수신 안테나 사이에 배치되는 반사판
를 포함하고,
상기 반사판은,
상기 송수신 안테나와 한 쌍으로 이루어지며, 상기 워킹 볼륨의 일면으로부터 이격 배치되며,
상기 모드 교반기는,
상기 잔향 챔버의 천장과 바닥 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 기둥형 모드 교반기;
상기 잔향 챔버의 두 벽면의 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 천장형 모드 교반기;
상기 잔향 챔버의 벽면에 위치하는 피라미달 고정형 모드 교반기; 및
상기 피라미달 고정형 모드 교반기가 위치하는 벽면과 다른 벽면에 평행하게 배치되는 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나인 잔향 챔버.
제1항에 있어서,
상기 송수신 안테나는,
상기 잔향 챔버의 워킹 볼륨과 비가시선(non-line of sight)을 가지는 방향으로 전자파를 방사하는 잔향 챔버.
제1항에 있어서,
상기 반사판은,
상기 송수신 안테나로부터 발생되는 전자파가 잔향 챔버 내 워킹 볼륨에 전파되기 까지의 전자파 필드의 경로를 제어하는 잔향 챔버.
제1항에 있어서,
상기 반사판은,
상기 워킹 볼륨의 위치를 기반으로 상기 잔향 챔버 내 빈 공간에 대한 잔향 챔버의 고유 모드(Eigenmode) 분포를 고려하여 반사판의 형태, 크기, 모양 및 배치 공간 중 적어도 하나가 조절되는 잔향 챔버.
제4항에 있어서,
상기 잔향 챔버의 고유 모드는,
상기 기둥형 모드 교반기, 천장형 모드 교반기, 피라미달 고정형 모드 교반기 및 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나의 모드 교반기에 의해 변화되는 잔향 챔버.
제4항에 있어서,
상기 반사판의 형태는,
상기 송수신 안테나로부터 발생되는 전자파를 반사하기 위한 곡면, 꺽인면 중 하나의 형태로 구현되는 잔향 챔버.
제4항에 있어서,
상기 반사판의 크기는,
상기 워킹 볼륨의 일면이 나타내는 크기보다 큰 잔향 챔버.
잔향 챔버에 있어서,
복수의 금속 판넬로 형성되는 모드 교반기;
상기 잔향 챔버의 내부에 형성되는 워킹 볼륨(working volume)과 일정 거리로 이격 배치되는 송수신 안테나들; 및
상기 워킹 볼륨과 송수신 안테나 사이에 배치되는 반사판들
를 포함하고,
상기 반사판들 각각은,
상기 송수신 안테나들 각각과 쌍을 이루어지며, 상기 워킹 볼품의 일면으로부터 복수의 쌍이 이격 배치되며,
상기 모드 교반기는,
상기 잔향 챔버의 천장과 바닥 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 기둥형 모드 교반기;
상기 잔향 챔버의 두 벽면의 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 천장형 모드 교반기;
상기 잔향 챔버의 벽면에 위치하는 피라미달 고정형 모드 교반기; 및
상기 피라미달 고정형 모드 교반기가 위치하는 벽면과 다른 벽면에 평행하게 배치되는 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나인 잔향 챔버.
제8항에 있어서,
상기 반사판들은,
상기 워킹 볼륨의 일면으로부터 동일한 이격 거리 또는, 상이한 이격 거리로 배치되는 잔향 챔버.
제8항에 있어서,
상기 반사판들은,
상기 워킹 볼륨의 일면으로부터 1) 동일한 라인 상에 나란히 배치되거나, 2) 서로 어긋나게 배치되거나, 3) 서로 번갈아가면서 배치되거나 또는, 4) 상하 방향으로 배치되는 잔향 챔버.
제8항에 있어서,
상기 반사판들은,
동일한 크기 또는, 서로 다른 크기를 가지며,
상기 워킹 볼륨의 일면이 나타내는 크기보다 크거나 작은 잔향 챔버.
잔향 챔버에 있어서,
복수의 금속 판넬로 형성되는 모드 교반기;
상기 잔향 챔버의 내부에 형성되는 워킹 볼륨(working volume)과 일정 거리로 이격 배치되는 송수신 안테나들; 및
상기 워킹 볼륨과 송수신 안테나 사이에 배치되는 반사판들
를 포함하고,
상기 반사판들 각각은,
상기 송수신 안테나들 각각과 한 쌍으로 이루어지며, 상기 워킹 볼륨의 적어도 두 면으로부터 이격되어 배치되며,
상기 모드 교반기는,
상기 잔향 챔버의 천장과 바닥 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 기둥형 모드 교반기;
상기 잔향 챔버의 두 벽면의 사이에 이중 구조를 가지는 복수의 금속 판넬이 연결된 형태로 배치되는 천장형 모드 교반기;
상기 잔향 챔버의 벽면에 위치하는 피라미달 고정형 모드 교반기; 및
상기 피라미달 고정형 모드 교반기가 위치하는 벽면과 다른 벽면에 평행하게 배치되는 요철식 고정형 모드 교반기 중 적어도 하나인 잔향 챔버.
제12항에 있어서,
상기 반사판들은,
상기 워킹 볼륨의 적어도 두 면에서 동일한 개수이거나 또는, 서로 다른 개수로 배치되는 잔향 챔버.
제12항에 있어서,
상기 반사판들은,
상기 워킹 볼륨의 일면에서 복수의 쌍이 배치되는 경우, 1) 동일한 라인 상에 나란히 배치되거나, 2) 서로 어긋나게 배치되거나, 3) 서로 번갈아가면서 배치되거나 또는, 4) 상하 방향으로 배치되는 잔향 챔버.
제12항에 있어서,
상기 반사판들은,
상기 워킹 볼륨의 일면에서 복수의 쌍이 배치되는 경우, 상기 워킹 볼륨의 일면으로부터 동일한 이격 거리 또는, 상이한 이격 거리로 배치되는 잔향 챔버.
제12항에 있어서,
상기 반사판들은
동일한 크기 또는, 서로 다른 크기를 가지며,
상기 워킹 볼륨의 일면이 나타내는 크기보다 크거나 작은 잔향 챔버.
제12항에 있어서,
상기 반사판들은,
상기 송수신 안테나로부터 발생되는 전자파를 반사하기 위한 곡면, 꺽인면 중 하나의 형태로 구현되거나 또는, 특정 형태의 슬롯이 포함된 형태로 구현되는 잔향 챔버.
제12항에 있어서,
상기 반사판들은,
상기 잔향 챔버의 고유 모드가 나타내는 전자파의 분포 형태에 따라 잔향 챔버 내 배치되는 기울기가 조절되는 잔향 챔버.