KR20190116178A - Micro LED Package and Method for Manufacturing Thereof - Google Patents

Micro LED Package and Method for Manufacturing Thereof

Info

Publication number
KR20190116178A
KR20190116178A KR1020190115870A KR20190115870A KR20190116178A KR 20190116178 A KR20190116178 A KR 20190116178A KR 1020190115870 A KR1020190115870 A KR 1020190115870A KR 20190115870 A KR20190115870 A KR 20190115870A KR 20190116178 A KR20190116178 A KR 20190116178A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
led
fine
tft
micro
bonding
Prior art date
Application number
KR1020190115870A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102486735B1 (en
Inventor
김진모
김영우
김정현
문성재
고명진
Original Assignee
한국광기술원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020180039318A external-priority patent/KR102041270B1/en
Application filed by 한국광기술원 filed Critical 한국광기술원
Priority to KR1020190115870A priority Critical patent/KR102486735B1/en
Publication of KR20190116178A publication Critical patent/KR20190116178A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102486735B1 publication Critical patent/KR102486735B1/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/005Processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L24/14Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/36Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/44Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages

Abstract

Disclosed are a micro-LED package capable of being quickly and easily controlled and a manufacturing method thereof. According to one aspect of the present invention, the manufacturing method of a micro-LED package comprises: a making process of making a thin film transistor (TFT) including a bonding electrode, a rear electrode disposed on the opposite side of the bonding electrode, and a bump disposed on the bonding electrode; a deposition process of depositing a micro-LED including the bonding electrode on a temporary substrate; a bonding process of bonding the bonding electrode of the micro-LED on the bump of the TFT; an underfill process of underfilling a space between the micro-LED and the TFT; a separation process of separating the micro-LED from the temporary substrate; a passivation process of passivating the micro-LED separated from the temporary substrate; a production process of performing dicing to include one micro-LED and one TFT to produce a micro-LED package; and a transfer process of transferring each micro-LED package produced in the production process to each corresponding substrate.

Description

미세 LED 패키지 및 그의 생산방법{Micro LED Package and Method for Manufacturing Thereof}Micro LED Package and Method for Manufacturing Thereof}

본 발명은 마이크로 LED 등 미세 크기의 LED 패키지 및 그의 생산방법에 관한 것이다.The present invention relates to a LED package of a micro size, such as micro LED, and a production method thereof.

이 부분에 기술된 내용은 단순히 본 실시예에 대한 배경 정보를 제공할 뿐 종래기술을 구성하는 것은 아니다.The contents described in this section merely provide background information on the present embodiment and do not constitute a prior art.

최근 부각되는 디스플레이 기술로서, 마이크로 LED가 있다. 미세 크기의 RGB LED를 이용하여 제작되는 디스플레이 패널로서, 작으면서도 반응속도와 밝기가 높고 저전력을 소모하기 때문에 많은 각광을 받고 있다.One of the emerging display technologies is micro LEDs. As a display panel manufactured by using a small size RGB LED, it has received much attention because of its small size, high response speed, high brightness, and low power consumption.

이러한 마이크로 LED를 생산하는 방법에 있어서 종래에는 COB(Chip on Board) 방식이 이용되었다. COB 방식은 각각의 미세 RGB LED를 TFT 또는 PCB 등의 제어기판에 직접 배치하고 와이어 본딩을 수행하는 방식이다. 상대적으로 간편한 생산방식으로 인해 시간과 비용적인 측면에 있어 우수한 특성이 있어 많이 사용되고 있다.In the method of producing such a micro LED, a conventional COB (Chip on Board) method has been used. The COB method is a method in which each fine RGB LED is directly disposed on a control board such as a TFT or a PCB and wire bonding is performed. Due to its relatively simple production method, it is widely used because of its excellent characteristics in terms of time and cost.

종래에는 하나의 제어장치(TFT 등)가 제어 기판에 배치된 RGB LED를 제어했다. 문제는 LED 크기가 작아지며, 제어 기판 상에 배치되는 LED의 개수가 많아지는 것에 있다. 수 많은 미세 크기의 LED가 제어 기판 상에 배치되기 때문에, 제어장치가 각각을 일일이 제어하기에는 오랜 시간이 소모되는 문제가 있었다.Conventionally, one controller (TFT etc.) controlled the RGB LED arrange | positioned on a control board. The problem is that the LED size becomes smaller, and the number of LEDs disposed on the control board increases. Since a large number of fine sized LEDs are disposed on the control board, there is a problem that the control device takes a long time to control each one individually.

이에 따라, 제어 기판에 배치되는 미세 LED 각각을 구동하기 위한 화소 구동형 드라이버가 내장된 미세 LED에 관한 수요가 늘어나고 있다.Accordingly, there is an increasing demand for fine LEDs incorporating pixel-driven drivers for driving each of the fine LEDs disposed on the control board.

본 발명의 일 실시예는, 미세 크기 LED 내 구동 드라이버가 포함된 미세 LED 패키지 및 그를 생산하는 방법을 제공하는 데 일 목적이 있다.One embodiment of the present invention is to provide a fine LED package and a method of producing the same, including a drive driver in the fine size LED.

본 발명의 일 측면에 의하면, 미세 LED 패키지의 제작 방법에 있어서, 본딩(Bonding) 전극, 상기 본딩 전극의 반대 편에 배치된 후면 전극 및 상기 본딩 전극 상에 배치된 범프를 포함하는 TFT를 제작하는 제작공정과 본딩 전극을 포함하는 미세 LED를 임시 기판 상에 증착하는 증착공정과 상기 미세 LED의 본딩 전극을 상기 TFT의 범프 상에 본딩시키는 본딩공정과 상기 미세 LED와 상기 TFT 사이를 언더필(Underfill)하는 언더필공정과 상기 미세 LED를 상기 임시 기판상에서 분리하는 분리공정과 상기 임시 기판으로부터 분리된 미세 LED 상에 코팅 박막을 증착하는 패시베이션 공정과 상기 미세 LED와 상기 TFT가 각각 하나씩 포함되도록 다이싱하여 미세 LED 패키지를 생성하는 생성공정 및 상기 생성과정에서 생성된 각 미세 LED 패키지를 각각 상대 기판으로 이동시키는 이동공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 LED 패키지 생산 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, in the method of manufacturing a fine LED package, manufacturing a TFT comprising a bonding electrode, a rear electrode disposed on the opposite side of the bonding electrode and a bump disposed on the bonding electrode A deposition process for depositing a fine LED including a fabrication process and a bonding electrode on a temporary substrate, a bonding process for bonding the bonding electrode of the fine LED on a bump of the TFT, and an underfill between the fine LED and the TFT An underfill process, a separation process of separating the fine LED on the temporary substrate, a passivation process of depositing a coating thin film on the fine LED separated from the temporary substrate, and dicing the fine LED and the TFT to include one by one, respectively. A process of generating an LED package and moving each of the minute LED packages generated in the process to a counter substrate It provides a method for producing a fine LED package, characterized in that it comprises a moving process.

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 미세 LED는 플립 칩(Flip Chip)으로 구현되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the invention, the fine LED is characterized in that implemented as a flip chip (Flip Chip).

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 본딩공정은 레이저 리플로우(Laser Reflow)를 이용하여 상기 미세 LED의 본딩 전극을 상기 TFT의 범프 상에 본딩시키는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, the bonding process is characterized in that the bonding electrode of the fine LED is bonded on the bump of the TFT using a laser reflow (Laser Reflow).

본 발명의 일 측면에 의하면, 본딩 전극, 상기 본딩 전극의 반대 편에 배치된 후면 전극 및 상기 본딩 전극 상에 배치된 범프를 포함하는 TFT 및 상기 TFT의 범프 상에 본딩된 본딩 전극을 포함하여, 상기 TFT와 하나의 패키지를 형성하는 미세 LED를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 LED 패키지를 제공한다.According to an aspect of the invention, comprising a bonding electrode, a rear electrode disposed opposite the bonding electrode and a TFT comprising a bump disposed on the bonding electrode and a bonding electrode bonded on the bump of the TFT, It provides a fine LED package comprising a fine LED to form one package with the TFT.

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 미세 LED는 플립 칩(Flip Chip)으로 구현되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the invention, the fine LED is characterized in that implemented as a flip chip (Flip Chip).

본 발명의 일 측면에 의하면, 상기 미세 LED는 레이저 리플로우(Laser Reflow)를 이용하여 상기 상기 TFT의 범프 상에 본딩되는 것을 특징으로 한다.According to one aspect of the invention, the fine LED is characterized in that bonded on the bump of the TFT using a laser reflow (Laser Reflow).

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 일 측면에 따르면, 미세 크기 LED 내 구동 드라이버가 포함된 미세 LED 패키지를 생산함으로써, 미세 LED를 신속하고 용이하게 제어할 수 있는 장점이 있다.As described above, according to an aspect of the present invention, by producing a fine LED package including a drive driver in the fine size LED, there is an advantage that can be quickly and easily control the fine LED.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 LED 패키지를 도시한 도면이다.
도 2 내지 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 LED가 제작되는 공정을 도시한 도면이다.
도 8 내지 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 TFT가 제작되는 공정을 도시한 도면이다.
도 13 내지 16은 본 발명의 일 실시예에 따라 제작된 미세 LED와 TFT가 결합되어 미세 LED 패키지가 제작되는 공정을 도시한 도면이다.
도 17은 본 발명의 일 실시예에 따라 미세 LED 패키지를 생산하는 방법을 도시한 순서도이다.
1 is a view showing a fine LED package according to an embodiment of the present invention.
2 to 7 is a view showing a process for producing a fine LED according to an embodiment of the present invention.
8 to 12 illustrate a process for manufacturing a TFT according to an embodiment of the present invention.
13 to 16 illustrate a process of fabricating a fine LED package by combining a fine LED and a TFT manufactured according to an embodiment of the present invention.
17 is a flowchart illustrating a method of producing a fine LED package according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다.As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the written description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, it should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the drawings, similar reference numerals are used for similar elements.

제1, 제2, A, B 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.Terms such as first, second, A, and B may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component. The term and / or includes a combination of a plurality of related items or any item of a plurality of related items.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에서, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.When a component is referred to as being "connected" or "connected" to another component, it may be directly connected to or connected to that other component, but it may be understood that other components may be present in between. Should be. On the other hand, when a component is said to be "directly connected" or "directly connected" to another component, it should be understood that there is no other component in between.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서 "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. It is to be understood that the term "comprises" or "having" in the present application does not exclude in advance the possibility of the presence or addition of features, numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof described in the specification. .

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해서 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art.

일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 LED 패키지를 도시한 도면이다.1 is a view showing a fine LED package according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 LED 패키지(100)는 미세 LED(110)와 TFT(120)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the micro LED package 100 according to an embodiment of the present invention includes a micro LED 110 and a TFT 120.

미세 LED(110)는 컬러 필터 없이 스스로 발광한다. 미세 LED(110)는 색을 생성하기 위한 컬러 필터없이 스스로 출력하고자 하는 색의 광을 생성하여 출력하는 초소형 LED를 의미한다. 미세 LED(110)는 대표적으로 마이크로(Micro) LED가 있다.The fine LED 110 emits light without a color filter. The fine LED 110 refers to an ultra-small LED that generates and outputs light of a color to be output by itself without a color filter for generating color. The fine LED 110 typically has a micro LED.

TFT(120)는 미세 LED(110)의 하단에 배치되며 상대 기판(130)과 연결되어, 미세 LED(110) 각각을 제어한다. 미세 LED 패키지(100) 내에서 TFT(120)는 각 미세 LED(110)(예를 들어, 미세 R LED, 미세 G LED 또는 미세 B LED 중 어느 하나일 수 있음)의 하단에 배치되어 각 미세 LED(110)의 동작을 제어한다. 각 미세 LED 패키지(100) 내에 미세 LED(110)를 제어하기 위한 TFT(120)가 각각 배치됨에 따라, 미세 LED 패키지(100)는 보다 용이하게 각 미세 LED(110)를 제어할 수 있고, 보다 신속하게 각 미세 LED(110)를 제어할 수 있다.The TFT 120 is disposed at the bottom of the fine LED 110 and is connected to the counter substrate 130 to control each of the fine LEDs 110. In the fine LED package 100, the TFT 120 is disposed at the bottom of each fine LED 110 (for example, may be any one of a fine R LED, a fine G LED, or a fine B LED), so that each fine LED Control the operation of (110). As the TFTs 120 for controlling the fine LEDs 110 are disposed in the respective fine LED packages 100, the fine LED packages 100 can more easily control each fine LED 110, and more. Each fine LED 110 can be controlled quickly.

미세 LED 패키지(100)가 제작되어 상대 기판(130), 특히, 솔더(Solder, 135) 상으로 전사된다.The fine LED package 100 is fabricated and transferred onto the counter substrate 130, in particular the solder 135.

상대기판(130)은 표면에 솔더(135)를 포함한다.The counter substrate 130 includes a solder 135 on the surface.

솔더(135)는 납땜 등을 하는 데 사용되는 합금으로서, 미세 LED 패키지(100)의 전극과 연결되어 전원을 공급할 수 있도록 하는 전극의 역할을 한다. 예를 들어, 솔더(135)는 AgSn 또는 SnAgCu 등의 합금으로 구현될 수 있다. 이와 동시에, 솔더(135)는 필름 또는 임시 시트의 접착력보다 높은 접착력을 가질 수 있다. 미세 LED 패키지(510)가 솔더(135)로 접근하거나 접촉하는 경우, 미세 LED 패키지(510)가 성장된 필름 또는 임시 시트로부터 분리되어 솔더(135)로 전사될 수 있도록 한다. The solder 135 is an alloy used for soldering and the like, and serves as an electrode that is connected to the electrodes of the micro LED package 100 to supply power. For example, the solder 135 may be implemented with an alloy such as AgSn or SnAgCu. At the same time, the solder 135 may have a higher adhesive force than that of the film or the temporary sheet. When the micro LED package 510 approaches or contacts the solder 135, the micro LED package 510 may be separated from the grown film or the temporary sheet and transferred to the solder 135.

솔더(135)는 상대기판(130) 상에 미세 LED 패키지(510)가 전사될 위치마다 배치된다. 통상적으로 복수 개의 미세 LED 패키지(100)가 일정 간격마다 상대 기판(130)에 전사되므로, 이에 대응되는 솔더(135) 역시 일정 간격마다 상대 기판(130) 상에 배치된다. 또한, 솔더(135)는 미세 LED 패키지(100) 내에 포함된 각 TFT(120)의 전극과 연결될 개수만큼 배치된다.The solder 135 is disposed at each position where the micro LED package 510 is transferred on the counter substrate 130. Typically, since the plurality of fine LED packages 100 are transferred to the counter substrate 130 at regular intervals, the solder 135 corresponding thereto is also disposed on the counter substrate 130 at regular intervals. In addition, the solder 135 is disposed as many as to be connected to the electrodes of each TFT 120 included in the fine LED package 100.

솔더(135)는 솔더 볼(Solder Ball) 형태로 구현될 수 있다.The solder 135 may be implemented in the form of a solder ball.

도 2 내지 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세 LED가 제작되는 공정을 도시한 도면이다.2 to 7 is a view showing a process for producing a fine LED according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 임시기판(230) 상에 발광을 위한 발광층(210, 220)을 성장시키는 발광층 성장공정이 수행된다. 여기서, 발광층(210, 220)은 질화 갈륨(GaN)으로 구현될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 미세 LED가 발광하고자 하는 색상 또는 제작되는 미세 LED의 크기에 따라 다양한 재질로 구현될 수 있다.Referring to FIG. 2, a light emitting layer growth process of growing light emitting layers 210 and 220 for emitting light on the temporary substrate 230 is performed. Here, the light emitting layers 210 and 220 may be implemented with gallium nitride (GaN), but are not necessarily limited thereto, and may be implemented with various materials according to the color of the fine LED to emit light or the size of the manufactured fine LED. .

도 3을 참조하면, 제1 발광층(210)과 제2 발광층(220)의 일부분(310)을 식각하는 발광층 식각 공정이 수행된다. 생성되는 각 미세 LED를 전기적으로 절연시켜 용이하게 구분하고 다이싱할 수 있도록, 일정 간격마다 제2 발광층(220)의 일부분(310)이 식각된다. Referring to FIG. 3, a light emitting layer etching process of etching a portion 310 of the first light emitting layer 210 and the second light emitting layer 220 is performed. A portion 310 of the second light emitting layer 220 is etched at regular intervals so that each of the generated fine LEDs can be electrically insulated and easily separated and diced.

N 전극이 배치될 수 있도록, 제1 발광층(210)의 일부분(320)이 식각된다. 제2 발광층(220)과 연결되는 N 전극이 배치될 수 있도록, 제1 발광층(210)의 일부분(320)이 식각된다. A portion 320 of the first light emitting layer 210 is etched so that the N electrode can be disposed. A portion 320 of the first light emitting layer 210 is etched so that the N electrode connected to the second light emitting layer 220 may be disposed.

도 4를 참조하면, 도 4를 참조하면, 제1 발광층(210)의 상단에 반사막(410)을 증착하는 반사막(410) 증착공정이 수행된다. 반사막(410)은 제1 발광층의 상단에 증착되어 P 전극의 역할을 수행하는 동시에, 제1 발광층(210)에서 방사되는 빛을 반사시켜 빛이 일정방향(상단)으로 방사되도록 한다.Referring to FIG. 4, referring to FIG. 4, a deposition process of the reflective film 410 is performed to deposit the reflective film 410 on the top of the first emission layer 210. The reflective film 410 is deposited on the top of the first light emitting layer to serve as a P electrode, and at the same time reflects the light emitted from the first light emitting layer 210 to emit light in a predetermined direction (upper).

반사막(410)은 Ni/Ag로 구현될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고 전술한 효과를 가져올 수 있는 재료는 어떠한 것으로 대체될 수 있다.The reflective film 410 may be implemented with Ni / Ag, but is not limited thereto, and any material capable of producing the above-described effects may be replaced with any material.

도 5를 참조하면, 제1 발광층(210)의 식각된 부분으로 N 전극(510)을 배치하는 전극 배치공정이 수행된다. 이에 따라, 전원이 각 전극(410, 510)을 거쳐 각 발광층(210, 220)에 인가될 수 있다. Referring to FIG. 5, an electrode arrangement process of arranging the N electrode 510 as an etched portion of the first emission layer 210 is performed. Accordingly, power may be applied to each of the light emitting layers 210 and 220 via the electrodes 410 and 510.

N 전극(510)은 Cr/Au로 구현될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The N electrode 510 may be implemented as Cr / Au, but is not limited thereto.

도 6(a)를 참조하면, 외부 및 상부에 증착될 구성과 분리하기 위해 절연막(610)을 증착하는 절연막 증착공정이 수행된다. 기 성장되거나 증착된 구성(발광층, 전극)을 외부로부터 보호하고, 상부에 증착될 다른 구성과 분리하기 위해, 기 성장되거나 증착된 구성의 상부에 절연막(610)이 증착된다.Referring to FIG. 6A, an insulating film deposition process for depositing an insulating film 610 is performed to separate the components to be deposited on the outside and the top. An insulating film 610 is deposited on top of the previously grown or deposited configuration to protect the previously grown or deposited composition (light emitting layer, electrode) from the outside and to separate it from other components to be deposited thereon.

도 6(b)를 참조하면, 증착된 절연막 상으로 이후 본딩 전극이 증착될 수 있도록, 표면을 평탄화하는 연마 공정이 수행된다. 연마 공정은 일 예로, CMP(Chemical Mechanical Polishing)이 수행될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. P 전극의 역할을 하는 반사막(410)과 N 전극(510)은 높이 차이가 발생할 수 있기 때문에, 절연막과 함께 연마 함으로써 전극 간에 발생할 수 있는 높이 차이를 제거한다. Referring to FIG. 6B, a polishing process for planarizing a surface is performed so that a bonding electrode may be subsequently deposited on the deposited insulating film. The polishing process may be, for example, chemical mechanical polishing (CMP), but is not limited thereto. Since the height difference may occur between the reflective film 410 and the N electrode 510 serving as the P electrode, the height difference between the electrodes may be eliminated by grinding together with the insulating film.

도 7을 참조하면, 증착된 절연막(610) 상에 본딩을 위한 본딩 전극(710)을 증착하는 본딩 전극 증착공정이 수행된다. 절연막(610) 상에 증착된 본딩 전극(710)은 각각 반사막(410) 및 N 전극(510)과 연결된다. 본딩 전극(710)은 각 전극(410, 510)의 면적이 작기 때문에 각 전극의 면적을 확장하는 역할을 하고, 외부에서 용이하게 본딩 전극(710)을 이용하여 발광층(210, 220)으로 전원을 공급할 수 있도록 하는 역할을 한다. Referring to FIG. 7, a bonding electrode deposition process for depositing a bonding electrode 710 for bonding on the deposited insulating layer 610 is performed. The bonding electrode 710 deposited on the insulating layer 610 is connected to the reflective layer 410 and the N electrode 510, respectively. Since the bonding electrodes 710 have a small area of each electrode 410 and 510, the bonding electrodes 710 expand the area of each electrode, and easily supply power to the light emitting layers 210 and 220 using the bonding electrodes 710 from the outside. It serves to supply.

도 2 내지 7에 도시된 각 공정을 거치며 미세 LED(100)가 제작된다. 임시 기판(230) 상에 동일한 색을 발광하는, 복수의 미세 LED(100) 각각이 제작된다. The fine LED 100 is manufactured through each process shown in FIGS. 2 to 7. Each of the plurality of fine LEDs 100, which emit the same color on the temporary substrate 230, is fabricated.

도 8 내지 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 TFT가 제작되는 공정을 도시한 도면이다.8 to 12 illustrate a process for manufacturing a TFT according to an embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 웨이퍼(820) 상에 TFT(Thin Film Transistor, 810)를 증착하는 TFT 증착 공정이 수행된다.Referring to FIG. 8, a TFT deposition process for depositing a thin film transistor (TFT) 810 on a wafer 820 is performed.

도 9를 참조하면, 증착된 TFT(810)를 식각하는 식각공정이 수행된다. 각 미세 LED(100)에 배치될 TFT를 분리하기 위해, TFT(810)가 일정한 간격(910)마다 식각된다. Referring to FIG. 9, an etching process of etching the deposited TFT 810 is performed. In order to separate the TFTs to be disposed in each fine LED 100, the TFTs 810 are etched at regular intervals 910.

도 10을 참조하면, TFT(810) 상에 본딩 전극(1010)을 증착하는 증착 공정이 수행된다. 본딩 전극(1010)은 미세 LED(100)의 본딩 전극(710)과 본딩되어 미세 LED(100)를 제어할 수 있도록 한다.Referring to FIG. 10, a deposition process of depositing a bonding electrode 1010 on a TFT 810 is performed. The bonding electrode 1010 is bonded with the bonding electrode 710 of the fine LED 100 to control the fine LED 100.

도 11을 참조하면, 미세 LED 패키지(100) 내 포함되기에 적합한 두께를 가질 수 있도록 TFT(810)의 웨이퍼(820)를 그라인딩(Grinding)하는 그라인딩 공정이 수행된다. Referring to FIG. 11, a grinding process of grinding the wafer 820 of the TFT 810 may be performed to have a thickness suitable for inclusion in the micro LED package 100.

이후, 웨이퍼(820)의 TFT(810)가 증착된 반대 편에 상대 기판(130), 특히, 솔더(135)와 연결되기 위한 전극(1110)을 증착하는 전극 증착공정이 수행된다.Thereafter, an electrode deposition process for depositing an electrode 1110 to be connected with the counter substrate 130, in particular, the solder 135, is performed on the opposite side where the TFT 810 of the wafer 820 is deposited.

도 12를 참조하면, TFT에 증착된 각 본딩 전극(1010) 상에 범프 볼(1210)을 증착시키는 범프볼 증착 공정이 수행된다. 본딩 전극(1010)이 미세 LED(100)의 본딩 전극(710)과 본딩됨에 있어, 본딩 효율을 증가시키기 위해 본딩 전극(1010) 상에 범프 볼(1210)이 증착된다.Referring to FIG. 12, a bump ball deposition process for depositing a bump ball 1210 on each bonding electrode 1010 deposited on a TFT is performed. As the bonding electrode 1010 is bonded with the bonding electrode 710 of the fine LED 100, a bump ball 1210 is deposited on the bonding electrode 1010 to increase the bonding efficiency.

도 13 내지 16은 본 발명의 일 실시예에 따라 제작된 미세 LED와 TFT가 결합되어 미세 LED 패키지가 제작되는 공정을 도시한 도면이다.13 to 16 illustrate a process of manufacturing a fine LED package by combining a fine LED and a TFT manufactured according to an embodiment of the present invention.

도 13을 참조하면, 레이저 리플로우(Laser Reflow)를 이용하여 미세 LED(110)를 TFT(120) 상에 본딩하는 본딩공정이 수행된다. 특히, 미세 LED(110) 내 본딩 전극(710)이 TFT(120) 내 본딩 전극(1010) 또는 범프 볼(1210) 상에 본딩된다. 이때, 본딩 과정에서 레이저 리플로우가 이용될 수 있다. 레이저 리플로우가 이용됨에 따라, 미세 LED(110) 내 본딩 전극(710)이 TFT(120) 내 범프 볼(1210) 상에 본딩될 수 있다. 미세 LED(110)는 TFT(120)에 별도의 중간매체 없이 전극이 직접 연결되는 플립 칩(Flip Chip)의 형태로 구현된다.Referring to FIG. 13, a bonding process of bonding the fine LEDs 110 onto the TFTs 120 using laser reflow is performed. In particular, the bonding electrode 710 in the fine LED 110 is bonded onto the bonding electrode 1010 or bump ball 1210 in the TFT 120. In this case, laser reflow may be used in the bonding process. As laser reflow is used, a bonding electrode 710 in the fine LED 110 may be bonded onto the bump ball 1210 in the TFT 120. The fine LED 110 is implemented in the form of a flip chip in which electrodes are directly connected to the TFT 120 without a separate intermediate medium.

도 14를 참조하면, 미세 LED(110)와 TFT(120) 사이를 절연 소재(1410)로 언더필(Underfill)하는 언더필 공정이 수행된다. 언더필 공정 이후, 임시 기판(230)이 미세 LED(110), 특히, 발광층(210, 220) 사이 계면에서 분리되는데, 이때, 충격파(Shock Wave)가 발생하며 계면에 큰 압력이 가해진다. 이 압력에 의해 계면이 분리되는데, 이때, 미세 LED(110), 특히, 발광층(210, 220)은 충격파에 의해 큰 충격을 받는다. 이 충격은 발광층(210, 220)에도 일정부분 영향을 미치며, 미세 LED(110)와 TFT(120) 간에 큰 영향을 미치게 된다. 이러한 영향에 의해 미세 LED(110), 특히, 발광층(210, 220)이 파손되는 문제가 발생할 수 있다. 이에, 저점도 특성을 갖는 절연 소재(1410)가 미세 LED(110)와 TFT(120) 사이로 주입되고 경화됨에 따라, 임시 기판(230)이 미세 LED(110)로부터 분리되며 발생하는 충격파를 완충한다. 추가적으로, 언더필 공정이 수행됨에 따라, 미세 LED(110) 및 TFT(120)를 외부의 물리적 충격이나, 열, 먼지 등에 의해 발생할 수 있는 화학적 변이가 방지된다. Referring to FIG. 14, an underfill process of underfilling an insulating material 1410 is performed between the fine LED 110 and the TFT 120. After the underfill process, the temporary substrate 230 is separated at the interface between the fine LEDs 110, in particular, the light emitting layers 210 and 220, where shock waves are generated and a large pressure is applied to the interfaces. The interface is separated by this pressure. At this time, the fine LED 110, in particular, the light emitting layers 210 and 220 are subjected to a large shock by the shock wave. This impact also partially affects the light emitting layers 210 and 220, and has a great influence between the fine LED 110 and the TFT 120. Due to such an effect, a problem may occur in which the fine LED 110, in particular, the light emitting layers 210 and 220 are damaged. Accordingly, as the insulating material 1410 having the low viscosity property is injected and cured between the fine LED 110 and the TFT 120, the temporary substrate 230 is separated from the fine LED 110 to buffer shock waves generated. . In addition, as the underfill process is performed, chemical shifts that may occur due to external physical shock, heat, dust, etc. of the fine LED 110 and the TFT 120 are prevented.

도 15(a)를 참조하면, 언더필 공정이 완료된 후, 미세 LED(110)를 임시기판(230)으로부터 분리하는 분리공정이 수행된다. 미세 LED(110)를 제조하여 TFT(120)로 본딩하는 공정에 대해서는 모두 수행되었기 때문에, 미세 LED(110)로부터 임시기판(230)이 분리된다. Referring to FIG. 15A, after the underfill process is completed, a separation process of separating the fine LEDs 110 from the temporary substrate 230 is performed. Since all of the processes of manufacturing the fine LED 110 and bonding the TFT 120 are performed, the temporary substrate 230 is separated from the fine LED 110.

도 15(b)를 참조하면, 임시 기판(230)이 분리된 후, 미세 LED(110)를 패시베이션(Passivation)하는 패시베이션 공정이 수행된다. 분리 공정이 수행된 후, 임시 기판(230)에 증착되어 있던 미세 LED(110)의 일 면이 외부로 드러나게 된다. 이에 따라, 물리적, 화학적 변형이나 손상이 미세 LED(110)에 발생할 수 있어, 이를 방지하기 위해 임시 기판(230)이 분리된 미세 LED(110)의 일면에 패시베이션 공정이 수행된다. 패시베이션 공정에서는 미세 LED(110)를 보호하기 위해 굴절률이 낮고 고경도를 갖는 코팅 박막(1510)이 미세 LED(110) 상에 증착된다. 증착되는 코팅 박막(1510)은 굴절률로서 1.4 내지 1.6의 값을 가질 수 있다. Referring to FIG. 15B, after the temporary substrate 230 is separated, a passivation process of passivating the fine LEDs 110 is performed. After the separation process is performed, one surface of the fine LED 110 deposited on the temporary substrate 230 is exposed to the outside. Accordingly, physical and chemical deformation or damage may occur in the fine LED 110, so that the passivation process is performed on one surface of the fine LED 110 from which the temporary substrate 230 is separated. In the passivation process, a coating thin film 1510 having a low refractive index and high hardness is deposited on the fine LEDs 110 to protect the fine LEDs 110. The deposited coating thin film 1510 may have a value of 1.4 to 1.6 as a refractive index.

도 16(a)를 참조하면, 패시베이션 공정이 완료된 후, 각 미세 LED 패키지들(100a, 100b, 100c)로 분리하기 위한 다이싱공정이 수행된다. 패시베이션이 완료된 경우, 완성된 미세 LED 패키지들이 각 미세 LED 패키지로 분리된다. 미세 LED(110)와 TFT(120)가 각 미세 LED 패키지 내에 각각 하나씩 포함되도록, 패시베이션이 완료된 복수의 미세 LED 패키지들이 다이싱된다. 전술한 바와 같이, 미세 LED(110)와 TFT(120)는 일정 간격을 가지며 식각된 후, 증착되어 생성된다. 이에 따라, 각 미세 LED 패키지(100a, 100b, 100c)들이 제작된다.Referring to FIG. 16A, after the passivation process is completed, a dicing process for separating the fine LED packages 100a, 100b, and 100c is performed. When passivation is complete, the completed fine LED packages are separated into each fine LED package. The plurality of fine LED packages passivated are diced so that the fine LEDs 110 and the TFTs 120 are each included in each fine LED package. As described above, the fine LEDs 110 and the TFTs 120 are etched at regular intervals, and then are deposited and generated. Accordingly, each fine LED package 100a, 100b, 100c is manufactured.

도 16(b)는 각 미세 LED 패키지들(100a, 100b, 100c)이 상대 기판(130)으로 전사되는 전사 공정이 수행된다. 레이저 전사를 이용하여, 각 미세 LED 패키지들(100a, 100b, 100c)은 상대 기판(130)의 정해진 위치로 전사된다. 특히, 상대 기판(130) 상의 솔더(135) 상으로 전사된다.FIG. 16B illustrates a transfer process in which the respective fine LED packages 100a, 100b, and 100c are transferred to the counter substrate 130. Using laser transfer, each of the fine LED packages 100a, 100b, 100c is transferred to a predetermined position of the counter substrate 130. In particular, it is transferred onto the solder 135 on the counter substrate 130.

도 17은 본 발명의 일 실시예에 따라 미세 LED 패키지를 생산하는 방법을 도시한 순서도이다.17 is a flowchart illustrating a method of producing a fine LED package according to an embodiment of the present invention.

레이저를 이용하여 미세 LED(110)를 TFT(120) 상으로 본딩하는 본딩 공정이 수행된다(S1710). 도 2 내지 7에 도시된 제작공정을 거쳐 제작된 미세 LED(110)가 TFT(120) 상으로 본딩된다. 이때, 레이저 리플로우가 이용되어, 범프 볼(1210)의 제거없이 미세 LED(110)가 TFT(120) 상으로 본딩될 수 있다.A bonding process of bonding the fine LEDs 110 onto the TFTs 120 using a laser is performed (S1710). The fine LED 110 manufactured through the manufacturing process illustrated in FIGS. 2 to 7 is bonded onto the TFT 120. In this case, laser reflow may be used, such that the fine LED 110 may be bonded onto the TFT 120 without removing the bump ball 1210.

미세 LED(110)와 TFT(120) 사이를 언더필하는 언더필 공정이 수행된다(S1720). 절연 소재에 의해 미세 LED(110)와 TFT(120) 사이가 언더필된다.An underfill process of underfilling between the fine LEDs 110 and the TFTs 120 is performed (S1720). The insulating material underfills between the fine LED 110 and the TFT 120.

미세 LED(110)가 성장한 임시 기판(230)을 분리하는 분리 공정이 수행된다(S1730). 미세 LED(110)를 제조하여 TFT(120)로 본딩하는 공정에 대해서는 모두 수행되었기 때문에, 미세 LED(110)로부터 임시기판(230)이 분리된다. A separation process of separating the temporary substrate 230 in which the fine LEDs 110 are grown is performed (S1730). Since all of the processes of manufacturing the fine LED 110 and bonding the TFT 120 are performed, the temporary substrate 230 is separated from the fine LED 110.

미세 LED(110)와 TFT(120)가 각각 하나씩 포함되도록 다이싱을 하여 각 미세 LED 패키지를 분리한 후, 상대 기판(130)으로 전사하는 다이싱 공정 및 전사 공정이 수행된다(S1740).After dicing so that each of the fine LEDs 110 and the TFTs 120 are included, each fine LED package is separated, and then a dicing process and a transfer process of transferring to the counter substrate 130 are performed (S1740).

도 17에서는 각각의 과정을 순차적으로 실행하는 것으로 기재하고 있으나, 이는 본 발명의 일 실시예의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것이다. 다시 말해, 본 발명의 일 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 일 실시예의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 각각의 도면에 기재된 과정의 순서를 변경하여 실행하거나 과정 중 하나 이상의 과정을 병렬적으로 실행하는 것으로 다양하게 수정 및 변형하여 적용 가능할 것이므로, 도 17은 시계열적인 순서로 한정되는 것은 아니다.In FIG. 17, each process is described as being sequentially executed, but this is merely illustrative of the technical idea of the exemplary embodiment of the present invention. In other words, a person of ordinary skill in the art to which an embodiment of the present invention belongs may change the order of the processes described in each drawing or execute one or more of the processes without departing from the essential characteristics of the embodiment of the present invention. 17 is not limited to the time series since the processes may be applied in various ways.

한편, 도 17에 도시된 과정들은 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체에 컴퓨터가 읽을 수 있는 코드로서 구현하는 것이 가능하다. 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체는 컴퓨터 시스템에 의하여 읽혀질 수 있는 데이터가 저장되는 모든 종류의 기록장치를 포함한다. 즉, 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체는 마그네틱 저장매체(예를 들면, 롬, 플로피 디스크, 하드디스크 등), 광학적 판독 매체(예를 들면, 시디롬, 디브이디 등) 및 캐리어 웨이브(예를 들면, 인터넷을 통한 전송)와 같은 저장매체를 포함한다. 또한 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템에 분산되어 분산방식으로 컴퓨터가 읽을 수 있는 코드가 저장되고 실행될 수 있다.Meanwhile, the processes illustrated in FIG. 17 may be embodied as computer readable codes on a computer readable recording medium. The computer-readable recording medium includes all kinds of recording devices in which data that can be read by a computer system is stored. That is, the computer-readable recording medium may be a magnetic storage medium (for example, ROM, floppy disk, hard disk, etc.), an optical reading medium (for example, CD-ROM, DVD, etc.) and a carrier wave (for example, the Internet Storage medium). The computer readable recording medium can also be distributed over network coupled computer systems so that the computer readable code is stored and executed in a distributed fashion.

이상의 설명은 본 실시예의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 실시예들은 본 실시예의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 실시예의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 실시예의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 실시예의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present embodiment, and those skilled in the art to which the present embodiment belongs may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present embodiment. Therefore, the present embodiments are not intended to limit the technical idea of the present embodiment but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present embodiment is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present embodiment should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present embodiment.

100: 미세 LED 패키지
110: 미세 LED
120: TFT
130: 상대 기판
135: 솔더
210, 220: 발광층
230: 임시 기판
410: 반사막
510: N 전극
610: 절연막
710, 1010: 본딩 전극
810: TFT
820: 웨이퍼
1110: 전극
1210: 범프 볼
1410: 절연 소재
1510: 코팅 박막
100: Fine LED Package
110: fine LED
120: TFT
130: counter substrate
135: solder
210, 220: light emitting layer
230: temporary substrate
410: reflecting film
510: N electrode
610: an insulating film
710, 1010: bonding electrode
810: TFT
820: wafer
1110: electrode
1210: bump ball
1410: insulation material
1510: coated thin film

Claims (1)

본딩 전극, 상기 본딩 전극의 반대 편에 배치된 후면 전극 및 상기 본딩 전극 상에 배치된 범프를 포함하는 TFT; 및
상기 TFT의 범프 상에 본딩된 본딩 전극을 포함하여, 상기 TFT와 하나의 패키지를 형성하는 미세 LED를 포함하며,
상기 미세 LED는 컬러 필터없이 스스로 발광하며,
상기 TFT는 각 미세 LED 패키지 내에 미세 LED의 동작을 각각 제어하는 것을 특징으로 하는 미세 LED 패키지.

A TFT comprising a bonding electrode, a rear electrode disposed opposite the bonding electrode, and a bump disposed on the bonding electrode; And
Including a bonding electrode bonded on the bump of the TFT, and comprises a fine LED to form a package with the TFT,
The fine LED emits light without a color filter,
The TFT is a fine LED package, characterized in that for controlling the operation of the fine LED in each fine LED package.

KR1020190115870A 2018-04-04 2019-09-20 Micro LED Package and Method for Manufacturing Thereof KR102486735B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190115870A KR102486735B1 (en) 2018-04-04 2019-09-20 Micro LED Package and Method for Manufacturing Thereof

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180039318A KR102041270B1 (en) 2018-04-04 2018-04-04 Method for Manufacturing Micro LED Chips and Packages
KR1020190115870A KR102486735B1 (en) 2018-04-04 2019-09-20 Micro LED Package and Method for Manufacturing Thereof

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180039318A Division KR102041270B1 (en) 2018-04-04 2018-04-04 Method for Manufacturing Micro LED Chips and Packages

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190116178A true KR20190116178A (en) 2019-10-14
KR102486735B1 KR102486735B1 (en) 2023-01-10

Family

ID=84893742

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190115870A KR102486735B1 (en) 2018-04-04 2019-09-20 Micro LED Package and Method for Manufacturing Thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102486735B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112309967A (en) * 2020-10-16 2021-02-02 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Backlight module and manufacturing method thereof
KR20210077145A (en) * 2019-12-17 2021-06-25 한국광기술원 Laser Light Package with Uniform Alignment and Method for Manufacturing thereof
CN113764546A (en) * 2021-08-30 2021-12-07 东莞市中麒光电技术有限公司 Mini-LED device, LED display module and manufacturing method thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101476207B1 (en) * 2012-06-08 2014-12-24 엘지전자 주식회사 Display device using semiconductor light emitting device
KR20170026954A (en) * 2015-08-31 2017-03-09 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus and method of manufacturing the same
KR20170099025A (en) * 2016-02-22 2017-08-31 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus
KR20180022683A (en) * 2015-07-23 2018-03-06 서울반도체 주식회사 Display device and manufacturing method thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101476207B1 (en) * 2012-06-08 2014-12-24 엘지전자 주식회사 Display device using semiconductor light emitting device
KR20180022683A (en) * 2015-07-23 2018-03-06 서울반도체 주식회사 Display device and manufacturing method thereof
KR20170026954A (en) * 2015-08-31 2017-03-09 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus and method of manufacturing the same
KR20170099025A (en) * 2016-02-22 2017-08-31 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210077145A (en) * 2019-12-17 2021-06-25 한국광기술원 Laser Light Package with Uniform Alignment and Method for Manufacturing thereof
CN112309967A (en) * 2020-10-16 2021-02-02 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Backlight module and manufacturing method thereof
CN112309967B (en) * 2020-10-16 2022-03-08 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Backlight module and manufacturing method thereof
WO2022077704A1 (en) * 2020-10-16 2022-04-21 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Backlight module and manufacturing method therefor
CN113764546A (en) * 2021-08-30 2021-12-07 东莞市中麒光电技术有限公司 Mini-LED device, LED display module and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR102486735B1 (en) 2023-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10340257B2 (en) Display device using semiconductor light emitting device and fabrication method thereof
USRE42422E1 (en) Light emitting diode having a transparent substrate
KR102486735B1 (en) Micro LED Package and Method for Manufacturing Thereof
JP4416731B2 (en) Light emitting diode package and manufacturing method thereof
EP3806168B1 (en) Light-emitting component
US11616050B2 (en) Manufacturing method of micro light emitting diode device including different-type epitaxial structures having respective connection portions of different thicknesses
US9461213B2 (en) LED sub-mount and method for manufacturing light emitting device using the sub-mount
KR20180059249A (en) Display device using semiconductor light emitting device and method for manufacturing
TW201442559A (en) LED display and manufacturing method thereof
US20220367771A1 (en) Display device using micro led, and manufacturing method therefor
KR101968527B1 (en) Display device using semiconductor light emitting device and method for manufacturing
TW201947737A (en) Light-emitting device and manufacturing method thereof
US20200287110A1 (en) Led array package and manufacturing method thereof
KR102041270B1 (en) Method for Manufacturing Micro LED Chips and Packages
WO2021063035A1 (en) Micro light-emitting diode chip and display panel
JP2022532327A (en) Luminous chip
CN104979447A (en) Flip LED packaging structure and manufacturing method
US8674594B2 (en) Flip-chip type light-emitting device with curved reflective layer
CN111129062B (en) LED display module, LED display screen and manufacturing method
CN111129235A (en) Batch transfer method of micro-elements
KR102022310B1 (en) Micro LED Chips Integrated Active Element and Method for Manufacturing Thereof
TWI241728B (en) Semiconductor light-emitting device and production method thereof
US8227271B1 (en) Packaging method of wafer level chips
JP2022532154A (en) LED chip and its manufacturing method
JP2022532328A (en) Luminous package

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant