KR20190100168A - Manufacturing Method of Optical Film, Polarizing Plate, and Display Device - Google Patents

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Abstract

복층 필름을 박리 처리에 제공하는 박리 공정을 포함하고, 상기 복층 필름은, 열가소성 수지 A로 이루어지는 필름(A), 및 상기 필름(A)의 일방 또는 양방의 면에 형성된 필름(B)를 포함하는 복층 필름이며, 상기 박리 처리는, 온도 Tov(℃)에 있어서, 상기 필름(A)로부터, 상기 필름(B)를, 상기 필름(A)의 두께 방향으로 힘이 가해지도록 박리하는 것을 포함하고, 상기 온도 Tov와, 상기 필름(A)의 유리 전이 온도 TgA(℃)는, Tov ≥ TgA의 관계를 충족하며, 상기 복층 필름에 있어서의, 온도 Tov에서의 상기 필름(A)와 상기 필름(B)의 박리력 Pa가, 0.03 N/50mm 이상 0.5 N/50mm 이하인, 광학 필름의 제조 방법; 및 그 광학 필름을 사용한 편광판 및 표시 장치.It includes the peeling process of providing a multilayer film to a peeling process, The said multilayer film contains the film (A) which consists of thermoplastic resin A, and the film (B) formed in the one or both surfaces of the said film (A). It is a multilayer film, The said peeling process includes peeling the said film (B) so that a force may be applied to the thickness direction of the said film (A) from the said film (A) in temperature Tov (degreeC), The said temperature Tov and the glass transition temperature TgA (degreeC) of the said film (A) satisfy | fill the relationship of Tov≥TgA, and the said film (A) and the said film (B) at the temperature Tov in the said multilayer film The peeling force Pa of) is 0.03 N / 50 mm or more and 0.5 N / 50 mm or less, the manufacturing method of an optical film; And a polarizing plate and a display device using the optical film.

Description

광학 필름의 제조 방법, 편광판, 및 표시 장치Manufacturing Method of Optical Film, Polarizing Plate, and Display Device

본 발명은, 광학 필름의 제조 방법, 편광판, 및 표시 장치에 관한 것이다.This invention relates to the manufacturing method of an optical film, a polarizing plate, and a display apparatus.

액정 표시 장치 등의 표시 장치에 있어서, 광학 보상 등의 목적으로, 위상차를 갖는 수지제의 광학 필름을 형성하는 것은 널리 행해지고 있다. 수지제의 필름에 위상차를 부여하는 방법으로는, 이러한 필름을 연신하는 것이 널리 행해지고 있다.In display devices, such as a liquid crystal display device, forming the optical film made of resin which has a phase difference for the purpose of optical compensation, etc. is widely performed. As a method of providing a phase difference to the resin film, extending | stretching such a film is widely performed.

그러한 광학 필름으로, NZ 계수 Nz가 0 < Nz < 1 을 충족하는 필름, 바람직하게는 0.4 < Nz < 1 의 필름, 보다 이상적으로는 Nz = 0.5 의 필름이 요구되는 경우가 있다. 그러나 필름을 통상의 방법으로 연신하면, NZ 계수의 값은 0 보다 작은 값이나, 1 보다 큰 값이 되므로, 0 < Nz < 1 의 필름을 얻는 것은 곤란하다.As such an optical film, a film in which the NZ coefficient Nz satisfies 0 <Nz <1, preferably a film of 0.4 <Nz <1, more preferably a film of Nz = 0.5, may be required. However, when the film is stretched by the usual method, the value of the NZ coefficient is smaller than 0 or greater than 1, and therefore it is difficult to obtain a film with 0 <Nz <1.

0 < Nz < 1 의 필름을 얻는 방법으로, 복수의 필름을 조합한 복층 필름을 채용하는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 보다 단순한 단층의 구조로, 0 < Nz < 1 의 필름을 실현하는 것이 요구되고 있다.As a method of obtaining the film of 0 <Nz <1, it is possible to employ | adopt the multilayer film which combined several films. However, it is required to realize a film of 0 <Nz <1 with a simpler single layer structure.

단층의 필름으로 0 < Nz < 1 의 필름을 실현하는 방법으로, 특허 문헌 1에 기재된 방법이 알려져 있다. 특허 문헌 1에서는, 가공 대상의 수지 필름에, 쉬링크 필름을 첩합하고, 그 후 쉬링크 필름을 수축시켜, 그에 의해 수지 필름을 수축시켜서, 그 결과 0 < Nz < 1 을 달성하고 있다.The method of patent document 1 is known as a method of realizing the film of 0 <Nz <1 by the film of a single | mono layer. In patent document 1, a shrink film is bonded to the resin film of a process target, a shrink film is shrunk after that, and a resin film is shrunk by that, and 0 <Nz <1 is achieved as a result.

(특허 문헌 1) 일본 공개 특허 공보 평 08 - 207119 호 공보(대응 타국 공보 : 유럽 특허 출원 공개 제 0707938 호 명세서)(Patent Document 1) Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 08-207119 (corresponding foreign publication: European Patent Application Publication No. 0707938)

그러나, 특허 문헌 1에 기재된 방법으로는, 쉬링크 필름의 수축력을 제어하는 것이 어렵고, 또한 쉬링크 필름을 수축시키는 공정이 번잡하며, 0 < Nz < 1 의 필름을 간편하게 제조하는 것은 곤란하다.However, with the method described in Patent Document 1, it is difficult to control the shrinkage force of the shrink film, the process of shrinking the shrink film is complicated, and it is difficult to easily manufacture a film of 0 <Nz <1.

따라서, 본 발명의 목적은, 0 < Nz < 1 의 광학 필름을 용이하게 제조하는 것이 가능한, 광학 필름의 제조 방법을 제공하는 데 있다. 본 발명의 가일층의 목적은, 용이하게 제조할 수 있고 또한 높은 광학 보상 기능을 구비하는 편광판, 및 용이하게 제조할 수 있고 또한 높은 광학 보상이 이루어진 표시 장치를 제공하는 데 있다.Therefore, the objective of this invention is providing the manufacturing method of an optical film which can manufacture easily the optical film of 0 <Nz <1. Another object of the present invention is to provide a polarizing plate which can be easily manufactured and has a high optical compensation function, and a display device which can be easily manufactured and has high optical compensation.

본 발명자는, 상기의 과제를 해결하기 위해 검토하였다. 그 결과, 본 발명자는, 지금까지는 없는 광학 필름의 제조 방법으로서, 필름의 박리력을 이용하여, 필름을 두께 방향으로 연신함으로써, 이러한 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내었다. 또한, 이러한 두께 방향으로의 연신을 실시하는 온도 및 박리에 제공되는 복층 필름의 특성을 특정의 것으로 함으로써, 양호한 두께 방향 연신의 조작을 실시할 수 있는 것을 알아내었다. 본 발명은, 이러한 지견에 기초하여 이루어진 것이다.This inventor examined in order to solve said subject. As a result, this inventor discovered that such a subject can be solved by extending | stretching a film to thickness direction using the peeling force of a film as a manufacturing method of the optical film which has not existed so far. Moreover, it was discovered that favorable thickness direction extending | stretching operation can be performed by making the characteristic of the temperature which performs extending | stretching in such a thickness direction, and the characteristic of the multilayer film provided to peeling specific. This invention is made | formed based on this knowledge.

즉, 본 발명은, 하기와 같다.That is, this invention is as follows.

[1] 복층 필름을 박리 처리에 제공하는 박리 공정을 포함하고,[1] including a peeling step of providing the multilayer film to the peeling treatment,

상기 복층 필름은, 열가소성 수지 A로 이루어지는 필름(A), 및 상기 필름(A)의 일방 또는 양방의 면에 형성된 필름(B)를 포함하는 복층 필름이며,The said multilayer film is a multilayer film containing the film (A) which consists of thermoplastic resin A, and the film (B) formed in the one or both surfaces of the said film (A),

상기 박리 처리는, 온도 Tov(℃)에서, 상기 필름(A)로부터, 상기 필름(B)를, 상기 필름(A)의 두께 방향으로 힘이 가해지도록 박리하는 것을 포함하고,The peeling treatment includes peeling the film (B) from the film (A) at a temperature Tov (° C.) so that a force is applied in the thickness direction of the film (A),

상기 온도 Tov와, 상기 필름(A)의 유리 전이 온도 TgA(℃)는, Tov ≥ TgA의 관계를 충족하며,The temperature Tov and the glass transition temperature TgA (° C.) of the film A satisfy a relationship of Tov ≧ TgA,

상기 복층 필름에 있어서의, 온도 Tov에서의 상기 필름(A)와 상기 필름(B)의 박리력 Pa가, 0.03 N/50mm 이상 0.5 N/50mm 이하인,In the said multilayer film, peeling force Pa of the said film (A) and the said film (B) in temperature Tov is 0.03 N / 50 mm or more and 0.5 N / 50 mm or less,

광학 필름의 제조 방법.Method for producing an optical film.

[2] 상기 열가소성 수지 A는, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는, [1]에 기재된 광학 필름의 제조 방법.[2] The method for producing an optical film according to [1], wherein the thermoplastic resin A contains an alicyclic structure-containing polymer.

[3] 상기 복층 필름을, 그 면 내의 방향으로 연신하는 연신 공정을 더 포함하는, [1] 또는 [2]에 기재된 광학 필름의 제조 방법.[3] The method for producing an optical film according to [1] or [2], further comprising an stretching step of stretching the multilayer film in the in-plane direction.

[4] [1] ~ [3] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 제조된 광학 필름과 편광자를 구비하는 편광판.[4] A polarizing plate comprising an optical film and a polarizer produced by the production method according to any one of [1] to [3].

[5] [1] ~ [3] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 제조된 광학 필름을 구비하는 표시 장치.[5] A display device comprising the optical film produced by the production method according to any one of [1] to [3].

본 발명에 의하면, 0 < Nz < 1의 광학 필름을 용이하게 제조할 수 있는, 광학 필름의 제조 방법; 용이하게 제조할 수 있고 또한 높은 광학 보상 기능을 구비하는 편광판; 및 용이하게 제조할 수 있고 또한 높은 광학 보상이 이루어진 표시장치가 제공된다.According to this invention, the manufacturing method of the optical film which can manufacture the optical film of 0 <Nz <1 easily; A polarizing plate which can be easily manufactured and has a high optical compensation function; And a display device which can be easily manufactured and has high optical compensation.

도 1은, 본 발명의 제조 방법에 있어서의 박리 공정을 실시하는 박리 장치 및 당해 장치를 사용한 박리 공정 조작의 일례를 모식적으로 나타낸 측면도이다.
도 2는, 본 발명의 제조 방법에 있어서의 박리 공정을 실시하는 박리 장치 및 당해 장치를 사용한 박리 공정 조작의 다른 일례를 모식적으로 나타낸 측면도이다.
1: is a side view which showed typically an example of the peeling apparatus which performs the peeling process in the manufacturing method of this invention, and the peeling process operation using the said apparatus.
FIG. 2: is a side view which showed typically the peeling apparatus which performs the peeling process in the manufacturing method of this invention, and another example of the peeling process operation using the said apparatus.

이하, 본 발명에 대한 실시 형태 및 예시물을 나타내며 상세하게 설명한다. 다만, 본 발명은 이하에 나타낸 실시 형태 및 예시물에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 청구 범위 및 그 균등의 범위를 벗어나지 않는 범위에서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment and illustration about this invention are shown and it demonstrates in detail. However, this invention is not limited to embodiment and illustration shown below, It can implement by changing arbitrarily in the range which does not deviate from the Claim of this invention, and the range of the equality.

이하의 설명에 있어서, 필름의 면내 리타데이션 Re는, 별도로 언급하지 않는 한, Re = (nx - ny) × d로 나타내어지는 값이고, 필름의 두께 방향의 리타데이션 Rth는, 별도로 언급하지 않는 한, Rth = {(nx + ny) / 2 - nz}× d로 나타내어지는 값이다. 또한 필름의 NZ 계수 Nz는, Nz = (nx - nz) / (nx - ny)로 나타내어지는 값이고, Nz = (Rth / Re) + 0.5로도 나타낼 수 있다. 여기서, nx는, 필름의 면내 방향 즉 두께 방향에 대하여 수직인 방향이고, 최대의 굴절률을 주는 방향의 굴절률을 나타낸다. ny는, 상기 면내 방향이고 nx의 방향에 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다. nz는 두께 방향의 굴절률을 나타낸다. d는, 필름의 두께를 나타낸다. 측정 파장은, 별도로 언급하지 않는 한, 590 nm이다.In the following description, unless otherwise indicated, in-plane retardation Re of a film is a value represented by Re = (nx-ny) xd, and unless otherwise mentioned, retardation Rth of the thickness direction of a film is mentioned. , Rth = {(nx + ny) / 2-nz'x d. In addition, NZ coefficient Nz of a film is a value represented by Nz = (nx-nz) / (nx-ny), and can also be represented by Nz = (Rth / Re) +0.5. Here, nx is a direction perpendicular | vertical to the in-plane direction of a film, ie, the thickness direction, and shows the refractive index of the direction which gives the largest refractive index. ny represents the refractive index of the said in-plane direction and the direction orthogonal to the direction of nx. nz represents the refractive index of the thickness direction. d represents the thickness of a film. The measurement wavelength is 590 nm unless otherwise noted.

이하의 설명에서, 「편광판」은, 별도로 언급하지 않는 한, 강직한 부재뿐만 아니라, 예를 들어 수지제의 필름과 같이 가요성을 갖는 부재도 포함한다.In the following description, unless otherwise stated, a "polarizing plate" includes not only a rigid member but also a member having flexibility, such as a film made of resin, for example.

이하의 설명에서, 「장척」의 필름은, 폭에 대하여, 5 배 이상의 길이를 갖는 필름을 말하고, 바람직하게는 10 배 또는 그 이상의 길이를 가지며, 구체적으로는 롤 상에 권취되어 보관 또는 운반되는 정도의 길이를 갖는 필름을 말한다. 장척의 필름의 길이의 상한은, 특별히 제한은 없으나, 예를 들어, 폭에 대하여 10만 배 이하로 할 수 있다.In the following description, a "long" film refers to a film having a length of 5 times or more with respect to a width, and preferably has a length of 10 times or more, and specifically, is wound and stored or transported on a roll. Refers to a film having a length of about. Although the upper limit of the length of a long film does not have a restriction | limiting in particular, For example, it can be 100,000 times or less with respect to width.

당해 기술분야에서, 필름의 「연신」이란, 통상 필름의 면내 방향의 일 이상의 방향으로 필름의 형상을 확장시키도록 필름을 변형시키는 조작을 의미한다. 그러나 본원에 있어서는, 필름의 「연신」은 이에 한정되지 않고, 필름의 형상을, 면내 방향 이외의 방향(필름의 면 방향과 비평행한 방향, 예를 들어 두께 방향 등)으로 확장시키도록 필름을 변형시키는 조작도 포함한다. 이하의 설명에서는, 문맥상 명백한 경우는, 통상의, 필름의 면내 방향의 일 이상의 방향으로 필름의 형상을 확장시키도록 필름을 변형시키는 조작을, 단순히 「연신」이라고 부른다. 한편, 이러한 통상의 「연신」과 구별하여, 필름의 형상을, 면내 방향 이외의 방향으로 확장시키도록 필름을 변형시키는 처리를 「두께 방향 연신」이라고 부르며, 이러한 처리를 거친 필름을 「두께 방향 연신 필름」이라고 한다.In the art, "stretching" of a film usually means an operation of deforming the film so as to expand the shape of the film in one or more directions of the in-plane direction of the film. However, in this application, the "stretching" of a film is not limited to this, The film is deformed so that the shape of a film may be extended to directions other than the in-plane direction (direction parallel to the surface direction of a film, for example, thickness direction etc.). It also includes the operation to make it. In the following description, when it is clear from the context, the operation of deforming the film so as to expand the shape of the film in one or more directions in the in-plane direction of the film is simply referred to as "stretching". On the other hand, the process of deforming the film so as to extend the shape of the film in a direction other than the in-plane direction is referred to as "thickness direction stretching" to distinguish it from such normal "stretching", and the film which passed this process is "thickness direction stretching". Film ”.

[1. 광학 필름의 제조 방법][One. Manufacturing Method of Optical Film]

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 특정 복층 필름을, 특정 박리 처리에 제공하는 박리 공정을 포함한다.The manufacturing method of the optical film of this invention includes the peeling process of providing a specific multilayer film to a specific peeling process.

[1. 1. 복층 필름][One. 1. Multilayer Film]

박리 공정에 제공하는 복층 필름은, 열가소성 수지 A로 이루어지는 필름(A), 및 필름(A)의 일방 또는 양방에 마련된 필름(B)를 포함하는 복층 필름이다.The multilayer film provided to a peeling process is a multilayer film containing the film (A) which consists of thermoplastic resin A, and the film (B) provided in one or both of the film (A).

[1. 1. 1. 필름(A)][One. 1. 1. Film (A)]

필름(A)를 구성하는 열가소성 수지 A는, 특별히 한정되지 않고, 광학 필름으로서의 원하는 물성을 부여할 수 있는, 각종의 중합체를 포함하는 수지를 적당히 선택하여 채용할 수 있다. The thermoplastic resin A constituting the film (A) is not particularly limited, and a resin containing various polymers capable of imparting desired physical properties as an optical film can be appropriately selected and adopted.

열가소성 수지 A에 포함되는 중합체의 바람직한 예로는, 지환식 구조 함유 중합체를 들 수 있다.As a preferable example of the polymer contained in the thermoplastic resin A, an alicyclic structure containing polymer is mentioned.

지환식 구조 함유 중합체는, 반복 단위 중에 지환식 구조를 갖는 중합체이고, 주쇄 중에 지환식 구조를 함유하는 중합체 및 측쇄에 지환식 구조를 함유하는 중합체를 모두 사용할 수 있다. 지환식 구조 함유 중합체는, 결정성의 수지 및 비정성의 중합체를 포함할 수 있다. 본 발명의 원하는 효과를 얻는 관점 및 제조 비용의 관점에서는, 비정성의 지환식 구조 함유 중합체가 바람직하다.The alicyclic structure-containing polymer is a polymer having an alicyclic structure in the repeating unit, and both a polymer containing an alicyclic structure in the main chain and a polymer containing an alicyclic structure in the side chain can be used. An alicyclic structure containing polymer can contain crystalline resin and an amorphous polymer. From the viewpoint of obtaining the desired effect of the present invention and the production cost, an amorphous alicyclic structure-containing polymer is preferable.

비정성의 지환식 구조 함유 중합체가 갖는 지환식 구조로는, 예를 들어, 시클로알칸 구조, 시클로알켄 구조를 들 수 있으나, 열안정성 등의 관점에서 시클로알칸 구조가 바람직하다.As an alicyclic structure which an amorphous alicyclic structure containing polymer has, a cycloalkane structure and a cycloalkene structure are mentioned, for example, A cycloalkane structure is preferable from a viewpoint of thermal stability.

하나의 지환식 구조의 반복 단위를 구성하는 탄소수에 특별히 제한은 없으나, 통상 4 개 ~ 30 개, 바람직하게는 5 개 ~ 20 개, 보다 바람직하게는 6 개 ~ 15 개이다.Although there is no restriction | limiting in particular in the carbon number which comprises the repeating unit of one alicyclic structure, Usually, 4-30, Preferably it is 5-20, More preferably, it is 6-15.

지환식 구조 함유 중합체 중의 지환식 구조를 갖는 반복 단위의 비율은 사용 목적에 따라 적당히 선택되나, 통상 50 중량% 이상, 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 90 중량% 이상이다. 지환식 구조를 갖는 반복 단위를 이와 같이 많게 함으로써, 기재 필름의 내열성을 높일 수 있다.The proportion of the repeating unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is appropriately selected depending on the intended use, but is usually at least 50% by weight, preferably at least 70% by weight, more preferably at least 90% by weight. By increasing the number of repeating units which have an alicyclic structure in this way, the heat resistance of a base film can be improved.

지환식 구조 함유 중합체는, 구체적으로는, (1) 노보넨 중합체, (2) 단환의 환상 올레핀 중합체, (3) 환상 공액 디엔 중합체, (4) 비닐 지환식 탄화수소 중합체, 및 이들의 수소화물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 투명성 및 성형성의 관점에서, 노보넨 중합체 및 이들의 수소화물이 보다 바람직하다.Specific examples of the alicyclic structure-containing polymer include (1) norbornene polymers, (2) monocyclic cyclic olefin polymers, (3) cyclic conjugated diene polymers, (4) vinyl alicyclic hydrocarbon polymers, and hydrides thereof. Can be mentioned. Among these, norbornene polymers and their hydrides are more preferable from the viewpoint of transparency and moldability.

노보넨 중합체로는, 예를 들어, 노보넨 모노머의 개환 중합체, 노보넨 모노머와 개환 공중합 가능한 기타 모노머의 개환 공중합체, 및 이들의 수소화물; 노보넨 모노머의 부가 중합체, 노보넨 모노머와 공중합 가능한 기타 모노머의 부가 중합체 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 투명성의 관점에서, 노보넨 모노머의 개환 중합체 수소화물이 특히 바람직하다.As a norbornene polymer, For example, the ring-opening polymer of a norbornene monomer, the ring-opening copolymer of the other monomer which can ring-open copolymerize with a norbornene monomer, and these hydrides; The addition polymer of a norbornene monomer, the addition polymer of the other monomer copolymerizable with a norbornene monomer, etc. are mentioned. Among these, the ring-opening polymer hydride of a norbornene monomer is especially preferable from a transparency viewpoint.

상기 지환식 구조 함유 중합체의 예로는, 예를 들어 일본 공개 특허 공보 2002 - 321302 호에 개시된 중합체를 들 수 있다.As an example of the said alicyclic structure containing polymer, the polymer disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-321302 is mentioned, for example.

또한, 결정성의 지환식 구조 함유 중합체의 예로는, 일본 공개 특허 공보 2016 - 26909 호에 개시된 중합체를 들 수 있다.Moreover, the polymer disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-26909 is mentioned as an example of a crystalline alicyclic structure containing polymer.

열가소성 수지 A에 포함되는 중합체의 다른 예로는, 트리아세틸 셀룰로오스, 폴리스티렌계 중합체 등의 범용 중합체를 들 수 있다. 특히, 폴리스티렌계 중합체 중, 특히 신디오택틱 구조를 갖는 폴리스티렌계 중합체를 바람직하게 채용할 수 있다. 신디오택틱 구조를 갖는 폴리스티렌계 중합체의 예로는, 일본 공개 특허 공보 2014 - 186273 호에 개시된 중합체를 들 수 있다.As another example of the polymer contained in the thermoplastic resin A, general purpose polymers, such as a triacetyl cellulose and a polystyrene polymer, are mentioned. In particular, among the polystyrene-based polymers, in particular, a polystyrene-based polymer having a syndiotactic structure can be preferably employed. As an example of the polystyrene polymer which has a syndiotactic structure, the polymer disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-186273 is mentioned.

열가소성 수지 A에 포함되는 중합체의 중량 평균 분자량은, 특별히 한정되지 않으나, 바람직하게는 10,000 이상, 보다 바람직하게는 20,000 이상이고, 한편 바람직하게는 300,000 이하, 보다 바람직하게는 250,000 이하이다. 중량 평균 분자량이 이러한 범위 내인 경우, 기계적 강도 및 성형 가공성이 우수한 열가소성 수지 A를 용이하게 얻을 수 있다.Although the weight average molecular weight of the polymer contained in the thermoplastic resin A is not specifically limited, Preferably it is 10,000 or more, More preferably, it is 20,000 or more, On the other hand, Preferably it is 300,000 or less, More preferably, it is 250,000 or less. When the weight average molecular weight is within this range, the thermoplastic resin A excellent in mechanical strength and molding processability can be easily obtained.

열가소성 수지 A는, 상술한 것 등의 주성분인 중합체만으로 이루어져도 되지만, 본 발명의 효과를 현저하게 해치지 않는 한, 임의의 배합제를 포함해도 된다. 수지 중의, 주성분인 중합체의 비율은, 바람직하게는 70 중량% 이상, 보다 바람직하게는 80 중량% 이상이다.Although thermoplastic resin A may consist only of polymers which are main components, such as those mentioned above, as long as the effect of this invention is not impaired remarkably, you may include arbitrary compounding agents. The ratio of the polymer which is a main component in resin becomes like this. Preferably it is 70 weight% or more, More preferably, it is 80 weight% or more.

열가소성 수지 A로는, 다양한 시판의 상품 중, 원하는 특성을 갖는 것을 적당히 선택하여 채용할 수 있다. 이러한 시판품의 예로는, 상품명 「제오노아」(닛폰 제온 주식회사 제조), 상품명 「토파스」(폴리플라스틱스 주식회사 제조), 및 상품명「아톤」(JSR 주식회사 제조)의 제품군을 들 수 있다.As the thermoplastic resin A, those having desired characteristics can be appropriately selected from various commercial products. As an example of such a commercial item, the brand name "Zeo Noah" (made by Nippon Xeon Corporation), a brand name "Topas" (made by Polyplastics Corporation), and a brand name "Aton" (made by JSR Corporation) are mentioned.

열가소성 수지 A의 유리 전이 온도 TgA는, 바람직하게는 100 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 110 ℃ 이상이고, 한편 바람직하게는 180 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 170 ℃ 이하이다. TgA가 이러한 범위인 경우, 두께 방향 연신 등의 처리를 원활하게 실시하고, 원하는 광학체 특성을 갖는 광학 필름을 용이하게 얻을 수 있다.Glass transition temperature TgA of thermoplastic resin A becomes like this. Preferably it is 100 degreeC or more, More preferably, it is 110 degreeC or more, On the other hand, Preferably it is 180 degrees C or less, More preferably, it is 170 degrees C or less. When TgA is such a range, the process of thickness direction extending | stretching etc. can be performed smoothly, and the optical film which has a desired optical body characteristic can be obtained easily.

필름(A)의 두께는, 바람직하게는 10 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 이상이고, 한편 바람직하게는 200 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 190 ㎛ 이하이다. 필름(A)의 두께가 이러한 범위인 경우, 두께 방향 연신 등의 처리를 원활하게 실시하고, 원하는 광학체 특성을 갖는 광학 필름을 용이하게 얻을 수 있다. Preferably the thickness of the film (A) is 10 micrometers or more, More preferably, it is 20 micrometers or more, On the other hand, Preferably it is 200 micrometers or less, More preferably, it is 190 micrometers or less. When the thickness of the film A is such a range, the process of thickness direction extending | stretching etc. can be performed smoothly, and the optical film which has a desired optical body characteristic can be obtained easily.

필름(A)를 제조하는 방법은, 특별히 한정되지 않고 임의의 제조 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 열가소성 수지 A를 원하는 형상으로 성형함으로써, 필름(A)를 제조할 수 있다. 수지 A를 성형하기 위한 성형 방법의 바람직한 예로는, 압출 성형을 들 수 있다. 압출 성형을 실시함으로써, 원하는 치수를 갖는 필름(A)를 효율적으로 제조할 수 있다.The method of manufacturing a film (A) is not specifically limited, Any manufacturing method can be employ | adopted. For example, the film A can be manufactured by shape | molding thermoplastic resin A to a desired shape. Preferable examples of the molding method for molding the resin A include extrusion molding. By performing extrusion molding, the film (A) having a desired dimension can be efficiently produced.

[1. 1. 2. 필름(B)][One. 1. 2. Film (B)]

필름(B)를 구성하는 재료로는, 특별히 한정되지 않고, 본 발명의 실시에 적합한, 각종 중합체를 포함하는 수지를 적당히 선택하여 채용할 수 있다. 이하에서, 이 수지를, 단순히 「수지 B」라고 한다.It does not specifically limit as a material which comprises a film (B), Resin containing various polymers suitable for implementation of this invention can be selected suitably, and can be employ | adopted. Hereinafter, this resin is simply called "resin B."

수지 B로는, 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 수지 B에 포함되는 중합체의 예 및 그 분자량의 바람직한 범위로는, 열가소성 수지 A에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체 및 기타 중합체의 예로 위에서 든 것과 동일한 예를 들 수 있다.As the resin B, a thermoplastic resin can be used. Examples of the polymer contained in the resin B and the preferred range of the molecular weight thereof include the same examples as those described above for the alicyclic structure-containing polymer and other polymers contained in the thermoplastic resin A.

수지 B에 포함되는 지환식 구조 함유 중합체의 가일층의 예로는, 환식 탄화수소기 함유 화합물 수소화물 단위 [I]을 갖는, 둘 이상의 중합체 블록과, 쇄상 탄화수소 화합물 수소화물 단위 [II], 또는 단위 [1] 및 단위 [II]의 조합을 갖는 하나 이상의 중합체 블록을 포함하는 수소화 블록 공중합체를 들 수 있다. 이러한 수소화 블록 공중합체의 구체예로는, 예를 들어 국제 공개 제 WO 2016 / 152871 호에 개시된 중합체를 들 수 있다.Examples of the further layer of the alicyclic structure-containing polymer contained in the resin B include at least two polymer blocks having a cyclic hydrocarbon group-containing compound hydride unit [I], and a chain hydrocarbon compound hydride unit [II], or a unit [1] And hydrogenated block copolymers comprising at least one polymer block having a combination of] and unit [II]. Specific examples of such hydrogenated block copolymers include polymers disclosed in WO 2016/152871.

수지 B에 포함되는 중합체의 가일층의 예로는, 폴리프로필렌, (메트)아크릴레이트 중합체, 폴리이미드 등의 범용 중합체를 들 수 있다. 수지 B로는, 다양한 시판의 상품 중, 원하는 특성을 갖는 것을 적당히 선택하여 채용할 수 있다. 이러한 시판품의 예로는, 자기 점착성 연신 폴리프로필렌 필름(예를 들어 후타무라 화학 주식회사 제조, 상품명「FSA 010M #30」)을 들 수 있다.As an example of the further layer of the polymer contained in resin B, general-purpose polymers, such as a polypropylene, a (meth) acrylate polymer, and a polyimide, are mentioned. As resin B, what has a desired characteristic can be suitably selected among the various commercial items, and it can employ | adopt. As an example of such a commercial item, the self-adhesive stretched polypropylene film (For example, Fitamura Chemical Co., Ltd. make, brand name "FSA 010M # 30") is mentioned.

필름(B)의 두께는 바람직하게는 10 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15 ㎛ 이상이고, 한편 바람직하게는 100 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 90 ㎛ 이하이다. 필름(B)의 두께가 이러한 범위인 경우, 두께 방향 연신 등의 처리를 원활하게 실시하고, 원하는 광학체 특성을 갖는 광학 필름을 용이하게 얻을 수 있다.Preferably the thickness of the film (B) is 10 micrometers or more, More preferably, it is 15 micrometers or more, On the other hand, Preferably it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 90 micrometers or less. When the thickness of the film (B) is such a range, the process of thickness direction extending | stretching etc. can be performed smoothly, and the optical film which has a desired optical body characteristic can be obtained easily.

필름(B)를 제조하는 방법은, 특별히 한정되지 않고, 임의의 제조 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 수지 B를 원하는 형상으로 형성함으로써, 필름(B)를 제조할 수 있다. 수지 B를 형성하기 위한 성형 방법의 바람직한 예로는, 압출 성형을 들 수 있다. 압출 성형을 실시함으로써, 원하는 치수를 갖는 필름(B)를 효율적으로 제조할 수 있다.The method of manufacturing the film (B) is not particularly limited, and any manufacturing method can be adopted. For example, the film B can be manufactured by forming resin B in a desired shape. Preferable examples of the molding method for forming the resin B include extrusion molding. By performing extrusion molding, the film (B) having a desired dimension can be efficiently produced.

[1. 1. 3. 기타 층][One. 1. 3. Other layers]

복층 필름은, 필름(A) 및 (B)에 더하여, 임의의 층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 점착제 층을 포함할 수 있다. 점착제 층을 구성하는 점착제로는, 시판의 각종 점착제를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 주성분인 중합체로서, 아크릴 중합체를 포함하는 점착제를 사용할 수 있다. 예를 들어, 시판의 점착제 층을 갖는 필름(예를 들어 후지모리 공업 제조 「마스택 시리즈」)으로부터, 필름(A) 또는 필름(B)에 점착제 층을 전사하여, 이것을 복층 필름에서의 점착제 층으로서 이용할 수 있다.The multilayer film may include any layer in addition to the films (A) and (B). For example, it may include an adhesive layer. As an adhesive which comprises an adhesive layer, various adhesives commercially available can be used. Specifically, the adhesive containing an acrylic polymer can be used as a polymer which is a main component. For example, an adhesive layer is transferred to a film (A) or a film (B) from the film (for example, Fujimori Industrial Co., Ltd. "Mastack series") which has a commercially available adhesive layer, and this is an adhesive layer in a multilayer film. It is available.

복층 필름이, 필름(A) 및 (B)의 사이에 점착제 층을 갖는 경우, 이러한 점착제 층의 필름(B)에 대한 점착력은, 필름(A)에 대한 점착력보다 높은 것이 바람직하다. 이러한 점착력의 차를 가짐으로써, 광학 필름에 대한 풀의 잔여를 저감하고, 고품질의 광학 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 이러한 점착력의 차는, 점착제 층의 재질을 적당히 선택하고, 또한 필요에 따라 필름(A) 및 (B)의 표면에 적절한 표면 처리를 실시함으로써 얻을 수 있다.When a multilayer film has an adhesive layer between films (A) and (B), it is preferable that the adhesive force with respect to the film (B) of such an adhesive layer is higher than the adhesive force with respect to the film (A). By having such a difference of adhesive force, the remainder of the paste with respect to an optical film can be reduced, and a high quality optical film can be obtained easily. Such a difference in adhesive force can be obtained by appropriately selecting the material of the pressure-sensitive adhesive layer and by performing appropriate surface treatment on the surfaces of the films (A) and (B) as necessary.

[1. 1. 4. 박리력][One. 1. 4. Peeling force]

본 발명의 제조 방법에서는, 복층 필름으로, 온도 Tov에서의 필름(A)와 필름(B)의 박리력 Pa가 특정 범위내의 값인 것을 사용한다. 여기서, 온도 Tov는, 본 발명 제조 방법의 박리 공정에서의 필름의 온도이다.In the manufacturing method of this invention, as a multilayer film, the peeling force Pa of the film (A) and the film (B) in temperature Tov uses what is a value within a specific range. Here, temperature Tov is the temperature of the film in the peeling process of the manufacturing method of this invention.

박리력 Pa는, 0.03 N/50mm 이상, 바람직하게는 0.035 N/50mm 이상, 보다 바람직하게는 0.04 N/50mm 이상이고, 한편 0.5 N/50mm 이하, 바람직하게는 0.4 N/50mm 이하, 보다 바람직하게는 0.3 N/50mm 이하이다. 박리력이 이러한 범위 내임으로써, 박리 공정까지의 공정에서의 주름의 발생을 억제하고, 박리 공정보다 이전의 단계에서의 의도하지 않은 필름(B)의 박리를 억제하며, 또한 필름(A)의 표면에서의 양호한 박리를 달성하여, 양호한 품질의 광학 필름을 원활하게 제조할 수 있다.Peel force Pa is 0.03 N / 50 mm or more, preferably 0.035 N / 50 mm or more, more preferably 0.04 N / 50 mm or more, while 0.5 N / 50 mm or less, preferably 0.4 N / 50 mm or less, more preferably Is 0.3 N / 50 mm or less. By the peeling force being in this range, generation | occurrence | production of the wrinkle in the process to a peeling process is suppressed, the unintentional peeling of the film B in the step before a peeling process is suppressed, and also the surface of the film A Good peeling in can be achieved and the optical film of a good quality can be manufactured smoothly.

박리력 Pa는, 복층 필름에 대해 180° 박리 시험을 실시함으로써 구할 수 있다. 180° 박리 시험은, 복층 필름을 잘라내고, 길이 방향 × 폭 방향 = 300 mm × 50 mm의 절편으로 하고, 항온 항습조 장착 인장 시험기(예를 들어 인스트론사 제조 「5564 형」)에 넣고, 온도 Tov에서 실시 할 수 있다. 구체적으로는, 측정 장치의 한쪽의 척으로 필름(A)를 파지하고, 다른 한쪽의 척으로 필름(B)를 파지하여, 인장 속도 300 mm/min의 조건으로, 박리 시험을 실시할 수 있다.Peeling force Pa can be calculated | required by performing a 180 degree peeling test with respect to a multilayer film. The 180 degree peeling test cuts out a multilayer film, makes it into the slice of the longitudinal direction x width direction = 300 mm x 50 mm, and puts it in the constant temperature / humidity tank mounting tensile tester (for example, "5564 type made by Instron"), Can be carried out at a temperature Tov. Specifically, the film A is gripped by one chuck of the measuring device, the film B is gripped by the other chuck, and the peel test can be performed under conditions of a tensile speed of 300 mm / min.

[1. 1. 5. 복층 필름의 조제 방법][One. 1. 5. Preparation method of multilayer film]

본 발명의 제조 방법에 제공하는 복층 필름을 조제하는 방법은, 특별히 한정되지 않고, 임의의 방법을 채용할 수 있다. 이러한 조제는, 예를 들어 필름(A)와 필름(B)를 첩합함으로써 실시할 수 있다. 첩합에 앞서, 필요에 따라, 필름(A) 및/또는 필름(B)에, 코로나 처리 등의 표면 처리를 실시할 수 있다. 또한, 첩합에 앞서, 필요에 따라, 필름(A) 및/또는 필름(B)의 표면에 점착제 층을 형성하고, 이 점착제 층을 개재하여, 첩합을 실시할 수 있다. 첩합은, 장척의 필름(A)와, 장척의 필름(B)를, 길이 방향을 맞추어 롤·투·롤로 첩합함으로써 실시할 수 있다.The method of preparing the multilayer film provided for the manufacturing method of this invention is not specifically limited, Arbitrary methods can be employ | adopted. Such preparation can be performed, for example by bonding together the film (A) and the film (B). Prior to bonding, if necessary, the film A and / or the film B may be subjected to surface treatment such as corona treatment. In addition, prior to bonding, an adhesive layer can be formed in the surface of the film (A) and / or the film (B) as needed, and bonding can be performed through this adhesive layer. Bonding can be performed by bonding a long film (A) and a long film (B) with a roll-to-roll along the longitudinal direction.

[1. 2. 박리 공정][One. 2. Peeling process

본 발명의 제조 방법에서의 박리 공정에 있어서는, 복층 필름을 박리 처리에 제공한다. 박리 처리는, 필름(A)로부터, 필름(B)를 박리하는 것을 포함한다. 이러한 박리 처리를 실시함으로써, 필름(A)를 두께 방향으로 견인하는 힘을 가할 수 있으며, 그 결과, 필름(A)의 두께 방향 연신을 달성할 수 있다. 복층 필름이, 필름(B)를 복수층 갖는 경우, 복수층의 필름(B)는, 통상 동시에 박리한다.In the peeling process in the manufacturing method of this invention, a multilayer film is provided to a peeling process. The peeling process includes peeling the film (B) from the film (A). By performing such peeling process, the force which pulls the film A in the thickness direction can be applied, and as a result, the thickness direction extending | stretching of the film A can be achieved. When a multilayer film has two or more layers of film (B), the film (B) of multiple layers peels normally simultaneously.

도 1은, 본 발명의 제조 방법에서의 박리 공정을 실시하는 박리 장치 및 당해 장치를 사용한 박리 공정 조작의 일례를 모식적으로 나타낸 측면도이다. 도 1에 있어서, 장척의 복층 필름(100)은, 화살표(A11) 방향으로 반송되고, 그 후, 박리 영역(P)에서의 박리 공정에 제공된다.1: is a side view which showed typically an example of the peeling apparatus which performs the peeling process in the manufacturing method of this invention, and the peeling process operation using the said apparatus. In FIG. 1, the long multilayer film 100 is conveyed in the arrow A11 direction, and is provided to the peeling process in the peeling area | region P after that.

복층 필름(100)은, 필름(A)(131)와, 필름(A)(131)의 일방의 면에 형성된 필름(B)(111)와, 필름(A)(131)의 또 다른 일방의 면에 형성된 필름(B)(112)를 포함한다. 복층 필름(100)은 또한, 필름(A) 및 (B)의 사이에 개재하는 점착제 층(121 및 122)을 포함한다. 복층 필름에서의 필름(A)(131)의 두께는, 화살표(A14)로 나타내어진다.The multilayer film 100 has a film (A) 131, a film (B) 111 formed on one surface of the film (A) 131, and another one of the film (A) 131. Film (B) 112 formed in the surface is included. The multilayer film 100 also includes the pressure-sensitive adhesive layers 121 and 122 interposed between the films (A) and (B). The thickness of the film (A) 131 in a multilayer film is shown by the arrow A14.

박리 공정에서의 박리 처리는, 필름(B)를, 반송되는 필름(A)의 면내 방향과는 다른 방향으로 견인함으로써 실시할 수 있다. 도 1의 예에서는, 박리 영역(P)에 있어서, 필름(B)(111)를, 그 길이 방향을 따라서 화살표(A12) 방향으로 견인하고, 또한 필름(B)(112)를 그 길이 방향을 따라 화살표(A13) 방향으로 견인하고 있다. 이에 의해, 복층 필름의 반송 방향의 하류로부터 상류를 향해 박리가 진행되어, 필름(B)(111 및 112)를, 필름(A)(131)의 두께 방향으로 힘이 가해지도록 박리할 수 있다. 여기서 말하는 필름의 두께 방향의 힘이란, 필름의 면내 방향과 비평행한 방향의 힘이고, 필름의 면과 수직인 방향에 가까운 방향인 것이 바람직하다. 이러한 박리 공정의 결과, 두께 방향 연신된 광학 필름(132)이 얻어진다. 또한, 화살표(A12) 방향의 견인력과, 화살표(A13) 방향의 견인력을 균형이 잡히게 함으로써, 이들의 견인을, 복층 필름(100) 및 광학 필름(132)에, 원하지 않는 면내 방향의 장력을 부여하지 않고 실시할 수 있다.The peeling process in a peeling process can be performed by pulling the film B in the direction different from the in-plane direction of the film A conveyed. In the example of FIG. 1, in the peeling area | region P, the film (B) 111 is pulled in the arrow A12 direction along the longitudinal direction, and the film B (112) is further extended in the longitudinal direction. A tow is pulled in the direction of the arrow A13. Thereby, peeling advances from the downstream of the conveyance direction of a multilayer film to an upstream, and it can peel so that a force may be applied to the film (B) 111 and 112 in the thickness direction of the film (A) 131. The force in the thickness direction of the film here is a force in a direction parallel to the in-plane direction of the film, and is preferably a direction close to the direction perpendicular to the plane of the film. As a result of this peeling process, the optical film 132 extended | stretched in the thickness direction is obtained. In addition, by bringing the traction force in the direction of the arrow A12 and the traction force in the direction of the arrow A13 to be balanced, these tractions are imparted to the multilayer film 100 and the optical film 132 in an undesired in-plane direction. It can be done without.

도 1의 예에 있어서, 광학 필름(132)의 두께는, 화살표(A15)로 나타내어진다. 광학 필름(132)는, 두께 방향 연신의 결과, 복층 필름(100)에서의 필름(A)(131)보다 두꺼운 두께를 갖고 있다. 그러나 본 발명의 제조 방법은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 박리 공정이, 면내 방향으로의 연신도 수반하는 경우, 광학 필름의 두께는, 반드시 필름(A)의 두께보다 두껍게 되는 것은 아니지만, 그러한 경우에 있어서도, 0 < Nz < 1의 광학 필름이 얻어지는 경우가 있을 수 있다.In the example of FIG. 1, the thickness of the optical film 132 is shown by the arrow A15. The optical film 132 has thickness thicker than the film (A) 131 in the multilayer film 100 as a result of the thickness direction extending | stretching. However, the production method of the present invention is not limited thereto. For example, when a peeling process also involves extending | stretching to an in-plane direction, the thickness of an optical film does not necessarily become thicker than the thickness of the film A, but even in such a case, the optical film of 0 <Nz <1 This may be obtained.

박리 영역(P)에서의 박리 공정의 결과 얻어지는 광학 필름(132)은, 화살표(A11) 방향으로 더 반송된다. 복층 필름(100) 및 광학 필름(132)은, 박리 영역 상류의 닙롤(151 및 152), 및 박리 영역 하류의 닙롤(161 및 162)에 파지된 상태로 반송된다. 이들 닙롤의 주속을 적당히 조정함으로써 반송 속도를 조정할 수 있다.The optical film 132 obtained as a result of the peeling process in the peeling region P is further conveyed in the arrow A11 direction. The multilayer film 100 and the optical film 132 are conveyed in the state held by the nip rolls 151 and 152 upstream of a peeling area | region, and the nip rolls 161 and 162 downstream of a peeling area | region. By adjusting the peripheral speed of these nip rolls suitably, a conveyance speed can be adjusted.

또한, 필요에 따라, 하류의 닙롤의 주속을, 상류의 닙롤의 주속보다 빠른 속도로 조정할 수 있다. 이러한 조정을 실시함으로써, 복층 필름(100) 및 광학 필름(132)에, 원하는 장력을 부여할 수 있다. 필요하다면, 이러한 장력을 조정함으로써, 박리 공정에 수반한, 필름 길이 방향으로의 연신 공정을 실시할 수 있다. 또는, 필요에 따라, 박리 공정과 함께, 또는 박리 영역(P)의 상류 또는 하류에서, 필름 면내 임의의 방향으로의 연신을 실시해도 된다.In addition, if necessary, the peripheral speed of the downstream nip roll can be adjusted at a speed faster than the peripheral speed of the upstream nip roll. By performing such adjustment, desired tension can be provided to the multilayer film 100 and the optical film 132. If necessary, by adjusting such tension, the stretching step in the film length direction with the peeling step can be performed. Or you may extend | stretch to arbitrary directions in a film plane with a peeling process or upstream or downstream of the peeling area | region P as needed.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 있어서, 두께 방향 연신에 더하여 면내 방향의 연신을 실시하는 경우의 연신 배율은, 광학 필름에 부여하는 것이 요구되는 원하는 광학 성능에 맞추어, 적당하게 조정할 수 있다. 구체적인 연신 배율은, 바람직하게는 1 배 이상, 보다 바람직하게는 1.01 배 이상이고, 한편 바람직하게는 2 배 이하, 보다 바람직하게는 1.8 배 이하이다. 면내 방향의 연신 배율이 이러한 범위인 경우, 원하는 광학 성능을 용이하게 얻을 수 있다.In the manufacturing method of the optical film of this invention, in addition to thickness direction extending | stretching, the draw ratio at the time of performing extending | stretching of an in-plane direction can be adjusted suitably according to the desired optical performance requested | required to give to an optical film. The specific draw ratio is preferably 1 or more times, more preferably 1.01 times or more, while preferably 2 times or less, and more preferably 1.8 times or less. When the draw ratio of in-plane direction is such a range, desired optical performance can be obtained easily.

박리 장치에 있어서, 장척의 복층 필름에 대하여 연속적으로 박리 공정을 실시하는 경우, 복층 필름의 반송 속도와 박리 속도를 균형이 잡히게 함으로써, 박리 영역(P)을 박리 장치가 있는 위치로 설정할 수 있다. 이 경우, 복층 필름의 반송 속도가 박리 속도가 된다. 박리 속도는, 광학 필름에 부여하는 것이 요구되는 원하는 광학 성능에 맞추어, 적당하게 조정할 수 있다. 구체적인 박리 속도는, 바람직하게는 1 m/분 이상, 보다 바람직하게는 2 m/분 이상이고, 한편 바람직하게는 50 m/분 이하, 보다 바람직하게는 40 m/분 이하이다. 박리 속도가 이러한 범위인 경우, 원하는 광학 성능을 용이하게 얻을 수 있다.In a peeling apparatus WHEREIN: When performing a peeling process continuously with respect to a long multilayer film, peeling area | region P can be set to the position with a peeling device by making the conveyance speed and peeling speed of a multilayer film balanced. In this case, the conveyance speed of a multilayer film becomes a peeling speed. The peeling speed can be suitably adjusted in accordance with desired optical performance required to give to an optical film. The specific peeling speed is preferably 1 m / min or more, more preferably 2 m / min or more, while preferably 50 m / min or less, and more preferably 40 m / min or less. When the peeling rate is in this range, desired optical performance can be easily obtained.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 있어서, 박리 공정은, 온도 Tov(℃)에서 실시한다. 온도 Tov와, 필름(A)의 유리 전이 온도 TgA(℃)는, Tov ≥ TgA의 관계를 충족한다. Tov는, 바람직하게는 (TgA + 3) ℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 (TgA + 5) ℃ 이상이다. Tov를 이러한 범위로 조정함으로써, 광학 필름에 원하는 NZ 계수 등의 광학 특성을 용이하게 부여할 수 있다. Tov의 상한은, 특별히 한정되어 있지 않으나, 예를 들어 (TgA + 40) ℃ 이하로 할 수 있다. 박리 공정에서의 온도 Tov는, 박리 장치에 있어서, 박리 영역을 포함하는 영역을 위요하는 오븐(도시하지 않음) 내의 온도를, 적절한 가열 장치에 의해 가열함으로써 조정할 수 있다. In the manufacturing method of the optical film of this invention, a peeling process is performed at temperature Tov (degreeC). The temperature Tov and the glass transition temperature TgA (° C.) of the film A satisfy the relationship of Tov ≧ TgA. Tov becomes like this. Preferably it is (TgA + 3) degreeC or more, More preferably, it is (TgA + 5) degreeC or more. By adjusting Tov in such a range, optical characteristics, such as desired NZ coefficient, can be easily given to an optical film. Although the upper limit of Tov is not specifically limited, For example, it can be set to (TgA + 40) degrees C or less. The temperature Tov in a peeling process can be adjusted by heating the temperature in oven (not shown) which is important for the area | region containing a peeling area with a suitable heating apparatus.

도 2는, 본 발명의 제조 방법에서의 박리 공정을 실시하는 박리 장치 및 당해 장치를 사용한 박리 공정 조작의 다른 일례를 모식적으로 나타낸 측면도이다. 도 2에 있어서, 장척의 복층 필름(200)은, 화살표(A21) 방향으로 반송되고, 그 후, 박리 영역(P)에서의 박리 공정에 제공된다. 복층 필름(200)은, 필름(A)(231)와, 필름(A)(231)의 일방의 면에 형성된 필름(B)(211)를 포함하나, 필름(A)(231)의 또 다른 일방의 면에는 필름(B)는 형성되어 있지 않다. 복층 필름(200)은 또한, 필름(A) 및 (B)의 사이에 개재하는 점착제 층(221)을 포함한다. 복층 필름에서의 필름(A)(231)의 두께는, 화살표(A24)로 나타내어진다.FIG. 2: is a side view which showed typically the peeling apparatus which performs the peeling process in the manufacturing method of this invention, and another example of the peeling process operation using the said apparatus. In FIG. 2, the long multilayer film 200 is conveyed in the direction of an arrow A21, and is then provided to a peeling step in the peeling region P. The multilayer film 200 includes a film (A) 231 and a film (B) 211 formed on one surface of the film (A) 231, but another film (A) 231 The film B is not formed in one surface. The multilayer film 200 also includes the pressure-sensitive adhesive layer 221 interposed between the films (A) and (B). The thickness of the film (A) 231 in a multilayer film is shown by the arrow A24.

이 예에 있어서, 복층 필름(200)은, 그 일방의 면에만 필름(B)(211)를 갖기 때문에, 박리 공정에서의 박리 처리는, 이러한 필름(B)(211)를, 반송되는 필름(A)의 면내 방향과는 다른 방향인, 화살표(A22) 방향으로 견인함으로써 실시한다. 그 때문에, 박리 영역 상류의 닙롤(151 및 152), 및 박리 영역 하류의 닙롤(161 및 162)에 의해, 복층 필름(200) 및 박리 공정 후의 광학 필름(232)에 장력을 부여하고, 이러한 장력에 의해, 필름(B)(211)의 견인에 대항하고 있다. 이러한 박리 공정의 결과, 필름(A)(231)이 두께 방향 연신되고, 광학 필름(232)이 얻어진다. 광학 필름(232)은, 필름(A)(231)보다 두꺼운, 화살표(A25)로 나타내어지는 두께를 갖는다.In this example, since the multilayer film 200 has the film (B) 211 only on one surface, the peeling process in a peeling process carries out the film (B) 211 which conveys such a film (B) 211. It carries out by pulling to the arrow A22 direction which is a direction different from the in-plane direction of A). Therefore, the nip rolls 151 and 152 upstream of the peeling region and the nip rolls 161 and 162 downstream of the peeling region give tension to the multilayer film 200 and the optical film 232 after the peeling process, and this tension By this, the traction of the film (B) 211 is opposed. As a result of this peeling process, the film (A) 231 is extended in the thickness direction, and the optical film 232 is obtained. The optical film 232 has the thickness shown by the arrow A25 thicker than the film (A) 231.

[2. 광학 필름][2. Optical film]

본 발명의 제조 방법에 의하면, 그 NZ 계수 Nz가 0 < Nz < 1인 광학 필름을 용이하게 제조할 수 있다. Nz는, 보다 바람직하게는 0.4 < Nz < 1이고, 이상적으로는 Nz = 0.5이다. 이러한 NZ 계수를 갖는 광학 필름은, 통상의 면내 방향으로의 필름의 연신으로 제조하는 것은 곤란한 반면, 표시 장치의 광학 보상 등의 목적으로 유용하게 사용할 수 있다. 따라서, 본 발명의 제조 방법은, 제조가 곤란하면서도 유용한 제품을 용이하게 제조할 수 있는 관점에서 높은 효과를 나타낸다.According to the manufacturing method of this invention, the optical film whose NZ coefficient Nz is 0 <Nz <1 can be manufactured easily. Nz is more preferably 0.4 <Nz <1, and ideally Nz = 0.5. Although it is difficult to manufacture the optical film which has such an NZ coefficient by extending | stretching a film to a normal in-plane direction, it can be usefully used for the purpose of optical compensation of a display apparatus. Therefore, the manufacturing method of this invention shows a high effect from a viewpoint which can manufacture easily a useful product while being difficult to manufacture.

광학 필름의 면내 리타데이션 Re는, 바람직하게는 100 nm 이상, 보다 바람직하게는 120 nm 이상이고, 한편 바람직하게는 350 nm 이하, 보다 바람직하게는 300 nm 이하이다. Re가 이러한 범위인 경우, 광학 보상 등의 용도로 유용하게 사용할 수 있는 광학 필름을 구성할 수 있다. 광학 필름의 두께 방향의 리타데이션 Rth는, 바람직하게는 - 80 nm 이상, 보다 바람직하게는 - 70 nm 이상이고, 한편 바람직하게는 80 nm 이하, 보다 바람직하게는 70 nm 이하이다. Re가 이러한 범위인 경우, 원하는 Nz 계수 등의 특성을 갖고, 광학 보상 등의 용도로 유용하게 사용할 수 있는 광학 필름을 구성할 수 있다. In-plane retardation Re of an optical film becomes like this. Preferably it is 100 nm or more, More preferably, it is 120 nm or more, On the other hand, Preferably it is 350 nm or less, More preferably, it is 300 nm or less. When Re is such a range, the optical film which can be usefully used for uses, such as optical compensation, can be comprised. Retardation Rth of the thickness direction of an optical film becomes like this. Preferably it is -80 nm or more, More preferably, it is -70 nm or more, On the other hand, Preferably it is 80 nm or less, More preferably, it is 70 nm or less. When Re is such a range, the optical film which has characteristics, such as desired Nz coefficient, can be usefully used for uses, such as optical compensation, can be comprised.

[3. 광학 필름의 용도 : 편광판 및 표시 장치][3. Use of optical film: polarizer and display device]

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어진 광학 필름은, 표시 장치 등의 광학적인 장치의 구성 요소로서 사용할 수 있다. 예를 들어, 광학 필름과 다른 부재를 조합하여, 편광판 등의 광학적인 부품을 구성할 수 있다.The optical film obtained by the manufacturing method of this invention can be used as a component of optical apparatuses, such as a display apparatus. For example, optical components, such as a polarizing plate, can be comprised combining an optical film and another member.

본 발명의 편광판은, 상기 본 발명의 제조 방법에 의해 제조된 광학 필름과 편광자를 구비한다. 본 발명의 편광판은, 광학 필름과 편광자를 첩합함으로써 제조할 수 있다.The polarizing plate of this invention is equipped with the optical film and polarizer manufactured by the manufacturing method of the said invention. The polarizing plate of this invention can be manufactured by bonding an optical film and a polarizer.

편광판과의 첩합에 앞서, 광학 필름의 표면에는, 임의의 층을 형성할 수 있다. 임의의 층의 예로는, 필름의 표면 경도를 높이는 하드 코트층, 필름의 미끄럼성을 좋게하는 매트층, 및 반사 방지층을 들 수 있다.Prior to bonding with a polarizing plate, arbitrary layers can be formed in the surface of an optical film. As an example of arbitrary layers, the hard-coat layer which raises the surface hardness of a film, the mat layer which improves the slidability of a film, and an antireflection layer are mentioned.

본 발명의 편광판은 또한, 광학 필름으로부터 잘라내어진 필름과 편광자의 사이에, 이들을 접착하기 위한 접착제 층을 구비해도 된다.The polarizing plate of this invention may further be equipped with the adhesive bond layer for bonding these between the film cut out from the optical film and the polarizer.

편광자는, 특별히 한정되지 않고, 임의의 편광자를 사용할 수 있다. 편광자의 예로는, 폴리 비닐 알코올 필름에, 요오드, 이색성 염료 등의 부재를 흡착시킨 후, 연신 가공한 것을 들 수 있다. 접착제 층을 구성하는 접착제로는, 각종 중합체를 베이스 폴리머로 한 것을 들 수 있다. 이러한 베이스 폴리머의 예로는, 예를 들어, 아크릴 중합체, 실리콘 중합체, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리에테르, 및 합성 고무를 들 수 있다.The polarizer is not particularly limited, and any polarizer can be used. As a polarizer, what carried out extending | stretching after adsorbing members, such as an iodine and a dichroic dye, to a polyvinyl alcohol film is mentioned. As an adhesive agent which comprises an adhesive bond layer, what made various polymers the base polymer is mentioned. Examples of such base polymers include, for example, acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyethers, and synthetic rubbers.

편광판은, 보호 필름을 구비할 수 있다. 편광판이 구비하는 편광자와 보호 필름의 수는 임의이나, 본 발명의 편광판은, 통상, 1 층의 편광자와, 그 양면에 형성된 2 층의 보호 필름을 구비할 수 있다. 이러한 2 층의 보호 필름 중, 양방이 본 발명의 광학 필름으로부터 잘라내어진 필름이어도 되고, 어느 일방만이 본 발명의 광학 필름으로부터 잘라내어진 필름이어도 된다.A polarizing plate can be equipped with a protective film. Although the number of polarizers and protective films with which a polarizing plate is equipped is arbitrary, the polarizing plate of this invention can be normally equipped with one layer of polarizer and two layers of protective films formed on both surfaces. Among these two layers, the film cut out from the optical film of this invention may be sufficient as both, and the film cut out from the optical film of this invention may be sufficient as either one.

본 발명의 표시 장치는, 상기 본 발명의 제조 방법에 의해 제조된 광학 필름을 구비한다. 본 발명의 표시 장치는, 바람직하게는, 상기 본 발명의 편광판을 구비할 수 있다. 본 발명의 표시 장치는, 본 발명의 광학 필름을, 표시 장치의 다른 구성 요소와 조합함으로써 적당히 구성할 수 있다.The display apparatus of this invention is equipped with the optical film manufactured by the manufacturing method of the said invention. The display device of the present invention may preferably include the polarizing plate of the present invention. The display device of the present invention can be appropriately configured by combining the optical film of the present invention with other components of the display device.

본 발명의 표시 장치는, 바람직하게는 액정 표시 장치이다. 액정 표시 장치로는, 예를 들어, 인플레인 스위칭(IPS) 모드, 버티컬 얼라인먼트(VA) 모드, 멀티 도메인 버티컬 얼라인먼트(MVA) 모드, 컨티뉴어스 핀 휠 얼라인먼트(CPA) 모드, 하이브리드 얼라인먼트 네마틱(HAN) 모드, 트위스티드 네마틱(TN) 모드, 슈퍼 트위스티드 네마틱(STN) 모드, 옵티컬 컴펜세이티드 벤드(OCB) 모드 등의 구동 방식의 액정 셀을 구비하는 액정 표시 장치를 들 수 있다.The display device of the present invention is preferably a liquid crystal display device. As the liquid crystal display device, for example, in-plane switching (IPS) mode, vertical alignment (VA) mode, multi-domain vertical alignment (MVA) mode, continuous pin wheel alignment (CPA) mode, hybrid alignment nematic (HAN) And a liquid crystal cell of a driving method such as a) mode, a twisted nematic (TN) mode, a super twisted nematic (STN) mode, and an optically compounded bend (OCB) mode.

본 발명의 표시 장치가 액정 표시 장치인 경우, 편광판은, 액정 셀에 입사하는 광 및 액정 셀로부터 출사하는 광 중, 원하는 특정의 편광만을 투과시키기 위한 층으로 형성할 수 있다. 편광판은 또한, 외광의 반사 방지를 위한 구성 요소의 일부로서 형성할 수 있다.When the display device of the present invention is a liquid crystal display device, the polarizing plate can be formed as a layer for transmitting only desired specific polarized light among light incident on the liquid crystal cell and light emitted from the liquid crystal cell. The polarizing plate can also be formed as part of a component for preventing reflection of external light.

본 발명의 표시 장치는 또한, 유기 일렉트로 루미네센스 표시 장치여도 된다. 이 경우에 있어서는, 예를 들어, 상기 본 발명의 편광판이, 외광의 반사 방지를 위한 구성 요소의 일부로서 형성된다.The display device of the present invention may also be an organic electroluminescent display device. In this case, for example, the polarizing plate of the present invention is formed as part of a component for preventing reflection of external light.

실시예Example

이하, 실시예를 나타내어 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다. 다만, 본 발명은 이하에 나타내는 실시예에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 청구 범위 및 그 균등한 범위를 벗어나지 않는 범위에서 임의로 변경하여 실시할 수 있다.Hereinafter, an Example is shown and this invention is demonstrated concretely. However, this invention is not limited to the Example shown below, It can implement by changing arbitrarily in the range which does not deviate from the Claim of this invention, and its equal range.

이하의 설명에 있어서, 양을 나타내는 「%」 및 「부」는, 별도로 언급하지 않는 한 중량 기준이다. 또한, 이하에 설명하는 조작은, 별도로 언급하지 않는 한, 상온 및 상압의 조건에서 실시하였다.In the following description, "%" and "part" indicating the amount are by weight unless otherwise indicated. In addition, the operation demonstrated below was performed on the conditions of normal temperature and normal pressure, unless otherwise stated.

[평가 방법][Assessment Methods]

(수지의 유리 전이 온도의 측정 방법)(Measurement Method of Glass Transition Temperature of Resin)

측정 대상 수지의 펠렛을 준비하고, 시차 주사 열량계(세이코 인스트러먼트사 제조 「DSC 6220」)를 사용하여, 그 수지 펠렛의 유리 전이 온도를 측정하였다. 조건은, 샘플 중량 10 mg, 승온 속도 20 ℃/분으로 하였다.Pellets of the measurement target resin were prepared, and the glass transition temperature of the resin pellets was measured using a differential scanning calorimeter ("DSC 6220" manufactured by Seiko Instruments Inc.). The conditions were 10 mg of sample weight and 20 degree-C / min of temperature increase rate.

(위상차와 NZ 계수의 측정 방법)(Measurement of phase difference and NZ coefficient)

파장 590 nm에서 위상차 측정 장치(Axometric사 제조 제품명「Axoscan」)을 사용하여, Re 및 Rth를 측정하고, 그것에 기초하여 NZ 계수를 구하였다.Re and Rth were measured using the phase difference measuring apparatus (product name "Axoscan" by the Axometric company) at wavelength 590 nm, and NZ coefficient was calculated | required based on it.

(필름(A)와 필름(B) 사이의 박리력 Pa의 측정 방법)(Measurement Method of Peel Force Pa Between Film (A) and Film (B))

측정 대상의 장척의 복층 필름을 잘라 내고, 길이 방향 × 폭 방향 = 300 mm × 50 mm의 절편을 얻었다. 절편을, 항온 항습조 구비의 인장 시험기(인스트론사 제조 「5564 형」)에 넣고, 소정의 오븐 온도 Tov로 승온하였다. 당해 온도를 유지한 상태에서, 180° 박리 시험을 실시하였다. 180° 박리 시험은, 측정 장치 한쪽의 척으로 필름(A)를 파지하고, 다른 한쪽의 척으로 필름(B)를 파지하여, 인장 속도 300 mm/min의 조건에서 실시하였다. 안정한 인장 거리 50 mm에서의 박리력 Pa(N/50mm)의 측정값의 평균값을, 박리력 Pa의 값으로 채용하였다.The long multilayer film of the measurement object was cut out, and the slice of longitudinal direction x width direction = 300 mm x 50 mm was obtained. The slice was put into the tensile tester (type "5564" by Instron Co., Ltd.) with a constant temperature and humidity chamber, and it heated up at predetermined oven temperature Tov. The 180 degree peeling test was done in the state which maintained the said temperature. The 180 ° peeling test was carried out on the conditions of the tensile velocity of 300 mm / min by holding the film A with the chuck of one measuring apparatus, holding the film B with the other chuck. The average value of the measured value of peeling force Pa (N / 50mm) in stable tensile distance 50mm was employ | adopted as the value of peeling force Pa.

[제조예 1. 필름(A) - 1의 제조]Production Example 1. Preparation of Film (A) -1

지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지(유리 전이 온도 126 ℃의 노보넨 중합체의 수지, 상품명 「제오노아」, 닛폰 제온 주식회사 제조)의 펠렛을 100 ℃에서 5 시간 건조시켰다. 그 후, 건조시킨 수지의 펠렛을, 단축의 압출기에 공급하였다. 수지를 압출기 내에서 용융시킨 후, 폴리머 파이프 및 폴리머 필터를 거쳐, T 다이로부터 캐스팅 드럼상에 시트상으로 압출하고, 냉각하였다. 이에 의해, 두께 80 ㎛, 폭 1000 mm의 장척 필름(A) - 1을 얻었다. 제조된 필름(A) - 1은, 롤상으로 권취하여 회수하였다.The pellet of resin (The resin of the norbornene polymer of glass transition temperature of 126 degreeC, brand name "Xeonoa", the Nippon Xeon Co., Ltd. product) containing an alicyclic structure containing polymer was dried at 100 degreeC for 5 hours. Then, the pellet of dried resin was supplied to the single screw extruder. After the resin was melted in an extruder, it was extruded in a sheet form onto a casting drum from a T die, through a polymer pipe and a polymer filter, and cooled. This obtained the elongate film (A) -1 of thickness 80micrometer, and width 1000mm. Manufactured film (A) -1 was wound up and collect | recovered in roll shape.

[제조예 2. 필름(A) - 2의 제조]Production Example 2. Preparation of Film (A) -2]

T 다이의 구금의 개구의 넓이를 변경한 것 외에는, 제조예 1과 동일한 조작을 실시하였다. 이에 의해, 두께 185 ㎛, 폭 1000 mm의 장척 필름(A) - 2를 얻어, 롤상으로 권취하여 회수하였다.The same operation as in Production Example 1 was carried out except that the area of the opening of the T die was changed. As a result, a long film (A) -2 having a thickness of 185 µm and a width of 1000 mm was obtained, wound up in a roll, and recovered.

[제조예 3. 필름(A) - 3의 제조]Production Example 3. Production of Film (A) -3]

T 다이의 구금의 개구의 넓이를 변경한 것 외에는, 제조예 1과 동일한 조작을 실시하였다. 이에 의해, 두께 133 ㎛, 폭 1000 mm의 장척 필름(A) - 3을 얻어, 롤상으로 권취하여 회수하였다.The same operation as in Production Example 1 was carried out except that the area of the opening of the T die was changed. Thereby, the elongate film (A) -3 of thickness 133 micrometers and width 1000mm was obtained, it wound up in roll shape, and it collect | recovered.

[제조예 4. 필름(A) - 4의 제조]Production Example 4. Production of Film (A) -4

제조예 1에서 얻은 필름(A) - 1을, 롤로부터 권출하고, 필름(A) - 1의 양면에 코로나 처리를 실시하였다. 이에 의해, 필름(A) - 4를 얻었다. 얻어진 필름(A) - 4는, 코로나 처리면을 권취내측으로 하여 롤상으로 권취하여 회수하였다.The film (A) -1 obtained in the manufacture example 1 was unwound from a roll, and the corona treatment was given to both surfaces of the film (A) -1. This obtained the film (A) -4. The obtained film (A) -4 was wound up and collect | recovered in the roll shape, making the corona treatment surface into the winding inner side.

[제조예 5. 필름(B)의 원료 필름의 제조]Production Example 5. Production of Raw Material Film of Film (B)

폴리에스테르 수지(이스트만사 제조 「PET - G 6763」)의 펠렛을, 120 ℃에서 5 시간 건조하였다. 건조한 펠렛을 압출기에 공급하고, 압출기 내에서 용융시켜, 수지 온도 260 ℃의 조건에서 폴리머 파이프 및 폴리머 필터를 거쳐, T 다이로부터 캐스팅 드럼상에 시트상으로 압출하고, 냉각하였다. 이에 의해, 두께 60 ㎛, 폭 1400 mm의 원료 필름을 얻었다.The pellet of the polyester resin ("PET-G 6763" by the Eastman company) was dried at 120 degreeC for 5 hours. The dried pellets were fed to the extruder, melted in the extruder, extruded in a sheet form onto the casting drum from the T die, through a polymer pipe and a polymer filter at a resin temperature of 260 ° C., and cooled. This obtained the raw material film of thickness 60micrometer and width 1400mm.

[제조예 6. 필름(B) - 1의 제조]Production Example 6. Preparation of Film (B) -1]

제조예 5에서 얻어진 원료 필름을, 연속하여, 텐터식의 횡연신 장치에 공급하였다. 이 횡연신기를 사용하여, 연신 온도 80 ℃, 연신 배율 2 배의 조건에서, 원료 필름을 폭 방향으로 연신하였다. 연신된 필름 폭 방향의 양단을 트리밍하고, 편측의 면에 코로나 처리를 더 실시하였다. 이에 의해, 폭 900 mm, 두께 42 ㎛의 장척 필름(B) - 1을 얻었다. 이 필름(B)는, 코로나 처리면을 권취내측으로 하여 롤상으로 권취하여 회수하였다.The raw material film obtained by the manufacture example 5 was continuously supplied to the tenter type lateral stretch apparatus. Using this lateral stretch machine, the raw material film was stretched in the width direction on the conditions of extending | stretching temperature 80 degreeC, and draw ratio twice. Both ends of the stretched film width direction were trimmed, and the corona treatment was further given to the surface on one side. This obtained the elongate film (B) -1 of 900 mm in width and 42 micrometers in thickness. This film (B) was wound up and collect | recovered in the shape of a roll with the corona treatment surface as the winding inside.

[제조예 7. 복층 필름(C) - 1의 제조]Production Example 7. Preparation of Multilayer Film (C) -1

제조예 6에서 얻어진 필름(B) - 1을 롤로부터 권출하고, 점착제 층(후지모리 공업 제조 「마스택 시리즈」의 점착제 층)을 필름(B) - 1의 코로나 처리된 면에 전사시켰다. 또한, 제조예 1에서 얻은 필름(A) - 1의 양면에, 필름(B) - 1을 점착제 층을 개재하여 통상적인 방법으로 첩합하였다. 이에 의해, (필름(B) - 1) / (점착제 층) / (필름(A) - 1) / (점착제 층)) / (필름(B) - 1)의 층 구성을 갖는, 장척의 복층 필름(C) - 1을 얻었다. 이 복층 필름(C) - 1은, 롤상으로 권취하여 회수하였다. 각 층의 두께는, 42 ㎛ / 25 ㎛ / 80 ㎛ / 25 ㎛ / 42 ㎛이었다.The film (B) -1 obtained in the manufacture example 6 was unwound from the roll, and the adhesive layer (pressure-sensitive adhesive layer of Fujimori Industrial Co., Ltd. "Mastack series") was transferred to the corona-treated surface of the film (B) -1. Moreover, the film (B) -1 was bonded together by the usual method through the adhesive layer on both surfaces of the film (A) -1 obtained by the manufacture example 1. Thereby, the elongate multilayer film which has a laminated constitution of (film (B) -1) / (adhesive layer) / (film (A) -1) / (adhesive layer)) / (film (B) -1) (C) -1 was obtained. This multilayer film (C) -1 was wound up and collect | recovered in roll shape. The thickness of each layer was 42 micrometers / 25 micrometers / 80 micrometers / 25 micrometers / 42 micrometers.

[제조예 8. 복층 필름(C) - 2의 제조]Production Example 8. Production of Multilayer Film (C) -2

제조예 6에서 얻어진 필름(B) - 1을 롤로부터 권출하고, 점착제 층(후지모리 공업 제조「마스택 시리즈」의 점착제 층)을 필름(B) - 1의 코로나 처리된 면으로 전사시켰다. 또한, 제조예 4에서 얻은 필름(A) - 4의 양면에, 필름(B) - 1을 점착제 층을 개재하여 통상의 방법으로 첩합하였다. 이에 의해, (필름(B) - 1) / (점착제 층) / (필름(A) - 4) / (점착제 층) / (필름(B) - 1)의 층 구성을 갖는, 장척의 복층 필름(C) - 2를 얻었다. 이 복층 필름(C) - 2는, 롤상으로 권취하여 회수하였다. 각 층의 두께는, 42 ㎛ / 25 ㎛ / 80 ㎛ / 25 ㎛ / 42 ㎛이었다.The film (B) -1 obtained in the manufacture example 6 was unwound from the roll, and the adhesive layer (pressure-sensitive adhesive layer of Fujimori Industrial Co., Ltd. "Mastack series") was transferred to the corona-treated surface of the film (B) -1. Moreover, the film (B) -1 was bonded together by the normal method through the adhesive layer on both surfaces of the film (A) -4 obtained by the manufacture example 4. Thereby, the elongate multilayer film which has the laminated constitution of (film (B) -1) / (adhesive layer) / (film (A) -4) / (adhesive layer) / (film (B) -1) C)-2 was obtained. This multilayer film (C) -2 was wound up and collect | recovered in roll shape. The thickness of each layer was 42 micrometers / 25 micrometers / 80 micrometers / 25 micrometers / 42 micrometers.

[제조예 9. 복층 필름(C) - 3의 제조]Production Example 9. Fabrication of Multilayer Film (C) -3]

필름(B) - 2로서, 자기 점착성 연신 폴리프로필렌 필름(후타무라 화학사 제조 「FSA 010M #30」)을 준비하였다. 제조예 1에서 얻은 필름(A) - 1의 양면에, 필름(B) - 2를 통상적인 방법으로 첩합하였다. 이에 의해, (필름(B) - 2) / (필름(A) - 1) / (필름(B) - 2)의 층 구성을 갖는, 장척의 복층 필름(C) - 3을 얻었다. 이 복층 필름(C) - 3은, 롤상으로 권취하여 회수하였다. 각 층의 두께는, 30 ㎛ / 80 ㎛ / 30 ㎛이었다.As film (B) -2, the self-adhesive stretched polypropylene film ("FSA 010M # 30" by Futura Chemical Co., Ltd.) was prepared. The film (B) -2 was bonded to both surfaces of the film (A) -1 obtained by the manufacture example 1 by a conventional method. This obtained the long multilayer film (C) -3 which has a laminated constitution of (film (B) -2) / (film (A) -1) / (film (B) -2). This multilayer film (C) -3 was wound up and collect | recovered in roll shape. The thickness of each layer was 30 micrometers / 80 micrometers / 30 micrometers.

[제조예 10. 복층 필름(C) - 4의 제조]Production Example 10 Preparation of Multilayer Film (C) -4]

필름(A) - 1에 대신하여 제조예 2에서 얻은 필름(A) - 2를 사용한 것 외에는, 제조예 9와 동일한 조작에 의해, (필름(B) - 2) / (필름(A) - 2) / (필름(B) - 2)의 층 구성을 갖는, 장척의 복층 필름(C) - 4를 얻었다. 이 복층 필름(C) - 4는, 롤상으로 권취하여 회수하였다. 각 층의 두께는, 30 ㎛ / 185 ㎛ / 30 ㎛이었다.Except having used the film (A) -2 obtained by the manufacture example 2 instead of the film (A) -1, by the same operation as the manufacture example 9, it is (film (B) -2) / (film (A) -2) A long multilayer film (C) -4 having a layer structure of) / (film (B) -2) was obtained. This multilayer film (C) -4 was wound up and collect | recovered in roll shape. The thickness of each layer was 30 micrometers / 185 micrometers / 30 micrometers.

[제조예 11. 복층 필름(C) - 5의 제조]Production Example 11. Preparation of Multilayer Film (C) -5]

필름(A) - 1에 대신하여 제조예 3에서 얻은 필름(A) - 3을 사용한 것 외에는, 제조예 9와 동일한 조작에 의해, (필름(B) - 2) / (필름(A) - 3) / (필름(B) - 2)의 층 구성을 갖는, 장척의 복층 필름(C) - 5를 얻었다. 이 복층 필름(C) - 5는, 롤상으로 권취하여 회수하였다. 각 층의 두께는, 30 ㎛ / 133 ㎛ / 30 ㎛이었다.Except for using the film (A) -3 obtained in the manufacturing example 3 instead of the film (A) -1, by the same operation as the manufacturing example 9, it is (film (B) -2) / (film (A) -3) A long multilayer film (C) -5 having a layer structure of) / (film (B) -2) was obtained. This multilayer film (C) -5 was wound up and collect | recovered in roll shape. The thickness of each layer was 30 micrometers / 133 micrometers / 30 micrometers.

[제조예 12. 복층 필름(C) - 6의 제조]Production Example 12 Preparation of Multilayer Film (C) -6]

제조예 6에서 얻어진 필름(B) - 1을 롤로부터 권출하고, 점착제 층(후지모리 공업 제조 「마스택 시리즈」의 점착제 층)을 필름(B) - 1의 코로나 처리된 면으로 전사시켰다. 또한 전사한 점착제 층의 표면에 코로나 처리를 실시하였다. 제조예 4에서 얻은 필름(A) - 4의 양면에, 코로나 처리된 점착제 층을 갖는 필름(B) - 1을, 점착제 층을 개재하여 통상적인 방법으로 첩합하였다. 이에 의해, (필름(B) - 1) / (점착제 층) / (필름(A) - 4) / (점착제 층) / (필름(B) - 1)의 층 구성을 갖는, 장척의 복층 필름(C) - 6을 얻었다. 이 복층 필름(C) - 6은, 롤상으로 권취하여 회수하였다. 각 층의 두께는, 42 ㎛ / 25 ㎛ / 80 ㎛ / 25 ㎛ / 42 ㎛이었다.The film (B) -1 obtained in the manufacture example 6 was unwound from the roll, and the adhesive layer (pressure-sensitive adhesive layer of Fujimori Industrial Co., Ltd. "Mastack series") was transferred to the corona-treated surface of the film (B) -1. Moreover, the corona treatment was given to the surface of the adhesive layer which was transferred. On both surfaces of the film (A) -4 obtained in the manufacture example 4, the film (B) -1 which has a corona-treated adhesive layer was bonded together through the adhesive layer by a conventional method. Thereby, the elongate multilayer film which has the laminated constitution of (film (B) -1) / (adhesive layer) / (film (A) -4) / (adhesive layer) / (film (B) -1) C)-6 was obtained. This multilayer film (C) -6 was wound up and collect | recovered in roll shape. The thickness of each layer was 42 micrometers / 25 micrometers / 80 micrometers / 25 micrometers / 42 micrometers.

[실시예 1]Example 1

플로팅 방식의 종연신기를 준비하였다. 이 연신기는, 온도가 조절된 오븐 내에서, 반송되는 장척의 필름을 그 길이 방향으로 연신할 수 있는 연신기이다. 제조예 8에서 얻은 복층 필름(C) - 2를 롤로부터 권출하고, 필름 길이 방향으로 반송하여, 상기 종연신기에 공급하였다. 복층 필름(C) - 2를 종연신기의 오븐 내에서 반송하였다. 반송시에, 오븐 내 온도 Tov를 135 ℃로 하고, 연신 배율 1.07 배로 연신을 실시하였다. Floating longitudinal drawing machine was prepared. This stretching machine is a stretching machine which can stretch the elongate film conveyed in the longitudinal direction in the oven by which temperature was adjusted. The multilayer film (C) -2 obtained in the manufacture example 8 was unwound from a roll, it was conveyed in the film longitudinal direction, and was supplied to the said longitudinal drawing machine. The multilayer film (C) -2 was conveyed in the oven of a longitudinal drawing machine. At the time of conveyance, the oven temperature Tov was 135 degreeC and it extended | stretched by the draw ratio 1.07 times.

또한, 오븐 내의 출구 근방에서, 박리 공정을 실시하였다. 박리 공정은, 복층 필름(C) - 2의 양측의 필름(B) - 1을 견인하고, 필름(A) - 4로부터 필름(B) - 1을 연속적으로 박리함으로써 실시하였다. 2 매의 필름(B) - 1을 견인하는 방향은, 반송되는 필름(A) - 4의 면에 수직인 방향이고, 또한 서로 역방향인 방향으로 하였다. 이에 의해, 필름(A) - 4의 두께 방향으로 힘이 가해지는 박리를 실시하고, 필름(A) - 4를 두께 방향으로 연신하였다. 박리 속도는, 5 m/min이었다. 그 결과, 두께 방향 연신된 필름(A) - 4를, 광학 필름으로서 얻었다.Moreover, the peeling process was performed in the vicinity of the exit in oven. The peeling process was performed by pulling the film (B) -1 of both sides of multilayer film (C) -2, and peeling film (B) -1 continuously from film (A) -4. The direction of pulling two films (B) -1 was the direction perpendicular | vertical to the surface of the film (A) -4 to be conveyed, and also made it the direction opposite to each other. Thereby, peeling to which force was applied in the thickness direction of the film (A) -4 was performed, and the film (A) -4 was extended | stretched in the thickness direction. Peeling rate was 5 m / min. As a result, film direction stretched film (A) -4 was obtained as an optical film.

얻어진 광학 필름의 면내 리타데이션 Re, 두께 및 NZ 계수를 측정하였다. 또한, 이 실시예의 Tov에서의, 복층 필름에서의 필름(A)와 필름(B) 사이의 박리력 Pa를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 표 1의 결과로부터 알 수 있듯이, 얻어진 광학 필름은, 그 NZ 계수가 0에서 1 사이였다.In-plane retardation Re, thickness, and NZ coefficient of the obtained optical film were measured. In addition, the peel force Pa between the film (A) and the film (B) in a multilayer film in Tov of this Example was measured. The results are shown in Table 1. As can be seen from the results in Table 1, the obtained optical film had a NZ coefficient between 0 and 1.

[실시예 2]Example 2

제조예 9에서 얻은 복층 필름(C) - 3을 롤로부터 권출하고, 필름 길이 방향으로 반송하여, 실시예 1에서 사용한 것과 동일한 종연신기에 공급하였다. 복층 필름(C) - 3을 종연신기의 오븐 내에서 반송하였다. 반송시에, 오븐 내 온도 Tov를 126 ℃로 하였다. 또한 연신 배율은 1.00 배로 하고, 즉 연신을 수반하지 않는 반송을 실시하였다.The multilayer film (C) -3 obtained in the manufacture example 9 was unwound from a roll, it was conveyed in the film longitudinal direction, and was supplied to the same longitudinal stretcher as used in Example 1. The multilayer film (C) -3 was conveyed in the oven of a longitudinal drawing machine. At the time of conveyance, oven-temperature Tov was 126 degreeC. In addition, the draw ratio was 1.00 times, that is, conveyance which does not involve drawing was performed.

또한, 오븐 내의 출구 근방에서, 박리 공정을 실시하였다. 박리 공정은, 복층 필름(C) - 3의 양측의 필름(B) - 2를 견인하고, 필름(A) - 1로부터 필름(B) - 2를 연속적으로 박리함으로써 실시하였다. 2 매의 필름(B) - 2를 견인하는 방향은, 반송되는 필름(A) - 1의 면에 수직인 방향이고, 또한 서로 역방향인 방향으로 하였다. 이에 의해, 필름(A) - 1의 두께 방향으로 힘이 가해지는 박리를 실시하고, 필름(A) - 1을 두께 방향으로 연신하였다. 박리 속도는, 1 m/min이었다. 그 결과, 두께 방향 연신된 필름(A) - 1을, 광학 필름으로 얻었다.Moreover, the peeling process was performed in the vicinity of the exit in oven. The peeling process was performed by pulling the film (B) -2 of both sides of multilayer film (C) -3, and peeling film (B) -2 continuously from film (A) -1. The direction of pulling two films (B) -2 was the direction perpendicular | vertical to the surface of the film (A) -1 conveyed, and also made it the direction opposite to each other. Thereby, peeling to which force was applied in the thickness direction of the film (A) -1 was performed, and the film (A) -1 was extended | stretched in the thickness direction. Peeling rate was 1 m / min. As a result, the film (A) -1 stretched in the thickness direction was obtained as an optical film.

얻어진 광학 필름의 면내 리타데이션 Re, 두께 및 NZ 계수를 측정하였다. 또한, 이 실시예의 Tov에서의, 복층 필름에서의 필름(A)와 필름(B) 사이의 박리력 Pa를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 표 1의 결과로부터 알 수 있듯이, 얻어진 광학 필름은, 그 NZ 계수가 0에서 1 사이였다.In-plane retardation Re, thickness, and NZ coefficient of the obtained optical film were measured. In addition, the peel force Pa between the film (A) and the film (B) in a multilayer film in Tov of this Example was measured. The results are shown in Table 1. As can be seen from the results in Table 1, the obtained optical film had a NZ coefficient between 0 and 1.

[실시예 3]Example 3

오븐 내 온도 Tov를 126 ℃에서 130 ℃로 변경하고, 연신 배율을 1.00 배에서 1.02 배로 변경하여 연신을 실시한 것 외에는, 실시예 2와 동일한 조작에 의해, 광학 필름을 얻고 평가하였다. 박리 공정에서의 박리 속도는, 1 m/min이었다. 결과를 표 1에 나타낸다. 표 1의 결과로부터 알 수 있듯이, 얻어진 광학 필름은, 그 NZ 계수가 0에서 1 사이였다.The optical film was obtained and evaluated by the same operation as Example 2 except having changed the temperature Tov in oven from 126 degreeC to 130 degreeC, and extending | stretching by changing draw ratio from 1.00 times to 1.02 times. The peeling rate in the peeling process was 1 m / min. The results are shown in Table 1. As can be seen from the results in Table 1, the obtained optical film had a NZ coefficient between 0 and 1.

[실시예 4]Example 4

제조예 10에서 얻은 복층 필름(C) - 4를 롤로부터 권출하고, 필름 길이 방향으로 반송하여, 실시예 1에서 사용한 것과 동일한 종연신기에 공급하였다. 복층 필름(C) - 4를 종연신기의 오븐 내에서 반송하였다. 반송시에, 오븐 내 온도 Tov를 135 ℃로 하고, 연신 배율 1.07 배로 연신을 실시하였다.The multilayer film (C) -4 obtained in the manufacture example 10 was unwound from a roll, it was conveyed in the film longitudinal direction, and was supplied to the same longitudinal stretcher as used in Example 1. The multilayer film (C) -4 was conveyed in the oven of a longitudinal drawing machine. At the time of conveyance, the oven temperature Tov was 135 degreeC and it extended | stretched by the draw ratio 1.07 times.

또한, 오븐 내의 출구 근방에서, 박리 공정을 실시하였다. 박리 공정은, 복층 필름(C) - 4의 양측의 필름(B) - 2를 견인하고, 필름(A) - 2로부터 필름(B) - 2를 연속적으로 박리함으로써 실시하였다. 2 매의 필름(B) - 2를 견인하는 방향은, 반송되는 필름(A) - 2의 면에 수직인 방향이고, 또한 서로 역방향인 방향으로 하였다. 이에 의해, 필름(A) - 2의 두께 방향으로 힘이 가해지는 박리를 실시하고, 필름(A) - 2를 두께 방향으로 연신하였다. 박리 속도는, 1 m/min이었다. 그 결과, 두께 방향 연신된 필름(A) - 2를, 광학 필름으로서 얻었다.Moreover, the peeling process was performed in the vicinity of the exit in oven. The peeling process was performed by pulling the film (B) -2 of both sides of multilayer film (C) -4, and peeling film (B) -2 continuously from film (A) -2. The direction of pulling two films (B) -2 was the direction perpendicular | vertical to the surface of the film (A) -2 conveyed, and also made it the direction opposite to each other. Thereby, peeling to which force was applied in the thickness direction of the film (A) -2 was performed, and the film (A) -2 was extended | stretched in the thickness direction. Peeling rate was 1 m / min. As a result, film (A) -2 stretched in the thickness direction was obtained as an optical film.

얻어진 광학 필름의 면내 리타데이션 Re, 두께 및 NZ 계수를 측정하였다. 또한, 이 실시예의 Tov에서의, 복층 필름에서의 필름(A)와 필름(B) 사이의 박리력 Pa를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 표 1로부터 알 수 있듯이, 얻어진 광학 필름은, 그 NZ 계수가 0에서 1 사이였다.In-plane retardation Re, thickness, and NZ coefficient of the obtained optical film were measured. In addition, the peel force Pa between the film (A) and the film (B) in a multilayer film in Tov of this Example was measured. The results are shown in Table 1. As can be seen from Table 1, the obtained optical film had a NZ coefficient between 0 and 1.

[실시예 5]Example 5

오븐 내 온도 Tov를 126 ℃에서 135 ℃로 변경하고, 연신 배율을 1.00 배에서 1.07 배로 변경하여 연신을 실시한 것 외에는, 실시예 2와 동일한 조작에 의해, 광학 필름을 얻고 평가하였다. 박리 공정에서의 박리 속도는, 5 m/min이었다. 결과를 표 1에 나타낸다. 표 1의 결과로부터 알 수 있듯이, 얻어진 광학 필름은, 그 NZ 계수가 0에서 1 사이였다.The optical film was obtained and evaluated by the same operation as Example 2 except having changed the temperature Tov in oven from 126 degreeC to 135 degreeC, and extending | stretching and changing draw ratio from 1.00 time to 1.07 time. The peeling rate in the peeling process was 5 m / min. The results are shown in Table 1. As can be seen from the results in Table 1, the obtained optical film had a NZ coefficient between 0 and 1.

[실시예 6]Example 6

제조예 11에서 얻은 복층 필름(C) - 5를 롤로부터 권출하고, 필름 길이 방향으로 반송하여, 실시예 1에서 사용한 것과 동일한 종연신기에 공급하였다. 복층 필름(C) - 5를 종연신기의 오븐 내에서 반송하였다. 반송시에, 오븐 내 온도 Tov를 140 ℃로 하고, 연신 배율 1.07 배로 연신을 실시하였다. The multilayer film (C) -5 obtained in the manufacture example 11 was unwound from a roll, it was conveyed in the film longitudinal direction, and was supplied to the same longitudinal stretcher as used in Example 1. The multilayer film (C) -5 was conveyed in the oven of a longitudinal drawing machine. At the time of conveyance, the oven temperature Tov was 140 degreeC and it extended | stretched by the draw ratio 1.07 times.

또한, 오븐 내의 출구 근방에서, 박리 공정을 실시하였다. 박리 공정은, 복층 필름(C) - 5의 양측의 필름(B) - 2를 견인하고, 필름(A) - 3으로부터 필름(B) - 2를 연속적으로 박리함으로써 실시하였다. 2 매의 필름(B) - 2를 견인하는 방향은, 반송되는 필름(A) - 3의 면에 수직인 방향이고, 또한 서로 역방향인 방향으로 하였다. 이에 의해, 필름(A) - 3의 두께 방향으로 힘이 가해지는 박리를 실시하고, 필름(A) - 3을 두께 방향으로 연신하였다. 박리 속도는, 1 m/min이었다. 그 결과, 두께 방향 연신된 필름(A) - 3을, 광학 필름으로서 얻었다.Moreover, the peeling process was performed in the vicinity of the exit in oven. The peeling process was performed by pulling the film (B) -2 of both sides of multilayer film (C) -5, and peeling film (B) -2 continuously from film (A) -3. The direction of pulling two films (B) -2 was the direction perpendicular | vertical to the surface of the film (A) -3 to be conveyed, and also made it the direction opposite to each other. Thereby, peeling to which force was applied in the thickness direction of the film (A) -3 was performed, and the film (A) -3 was extended in the thickness direction. Peeling rate was 1 m / min. As a result, film (A) -3 stretched in the thickness direction was obtained as an optical film.

얻어진 광학 필름의 면내 리타데이션 Re, 두께 및 NZ 계수를 측정하였다. 또한, 이 실시예의 Tov에서의, 복층 필름에서의 필름(A)와 필름(B) 사이의 박리력 Pa를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 표 1의 결과로부터 알 수 있듯이, 얻어진 광학 필름은, 그 NZ 계수가 0에서 1 사이였다.In-plane retardation Re, thickness, and NZ coefficient of the obtained optical film were measured. In addition, the peel force Pa between the film (A) and the film (B) in a multilayer film in Tov of this Example was measured. The results are shown in Table 1. As can be seen from the results in Table 1, the obtained optical film had a NZ coefficient between 0 and 1.

[비교예 1]Comparative Example 1

제조예 7에서 얻은 복층 필름(C) - 1을 롤로부터 권출하고, 필름 길이 방향으로 반송하여, 실시예 1에서 사용한 것과 동일한 종연신기에 공급하였다. 복층 필름(C) - 1을 종연신기의 오븐 내에서 반송하였다. 반송시에, 오븐 내 온도 Tov를 135 ℃로 하고, 연신 배율 1.07 배로 연신을 실시하였다.The multilayer film (C) -1 obtained in the manufacture example 7 was unwound from a roll, it was conveyed in the film longitudinal direction, and was supplied to the same longitudinal stretcher as used in Example 1. The multilayer film (C) -1 was conveyed in the oven of a longitudinal drawing machine. At the time of conveyance, the oven temperature Tov was 135 degreeC and it extended | stretched by the draw ratio 1.07 times.

또한, 오븐 내의 출구 근방에서, 박리 공정을 실시하는 것을 시도해보았으나, 오븐 내의 출구 근방에 도달한 복층 필름(C) - 1에서 필름(B) - 1의 벗겨짐이 발생하고, 필름(A) - 1의 전면에 주름이 발생하여, 박리 공정을 실시할 수 없었다.Moreover, although the peeling process was tried in the vicinity of the exit in oven, peeling of the film (B) -1 occurs in the multilayer film (C) -1 which reached the exit in the oven, and film (A)- Wrinkles generate | occur | produced in the whole surface of 1, and the peeling process was not able to be performed.

또한, 이 실시예의 Tov에서의, 복층 필름에서의 필름(A)와 필름(B) 사이의 박리력 Pa를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.In addition, the peel force Pa between the film (A) and the film (B) in a multilayer film in Tov of this Example was measured. The results are shown in Table 1.

[비교예 2]Comparative Example 2

제조예 12에서 얻은 복층 필름(C) - 6을 롤로부터 권출하고, 필름 길이 방향으로 반송하여, 실시예 1에서 사용한 것과 동일한 종연신기에 공급하였다. 복층 필름(C) - 6을 종연신기의 오븐 내에서 반송하였다. 반송시에, 오븐 내 온도 Tov를 135 ℃로 하고, 연신 배율 1.07 배로 연신을 실시하였다.The multilayer film (C) -6 obtained in the manufacture example 12 was unwound from a roll, it conveyed in the film longitudinal direction, and was supplied to the same longitudinal stretcher as used in Example 1. The multilayer film (C) -6 was conveyed in the oven of a longitudinal drawing machine. At the time of conveyance, the oven temperature Tov was 135 degreeC and it extended | stretched by the draw ratio 1.07 times.

또한, 오븐 내의 출구 근방에서, 박리 공정을 실시하는 것을 시도해보았으나, 필름(A)와 점착제 층의 계면에서의 박리가 원활하게 실시되지 않고, 박리 후의 필름(A)의 표면에 점착제가 잔존하여, 양호한 광학 필름의 제조를 실시할 수 없었다.Moreover, although the peeling process was tried in the vicinity of the exit inside oven, peeling at the interface of a film (A) and an adhesive layer is not performed smoothly, but an adhesive remains on the surface of the film (A) after peeling. The manufacture of the favorable optical film was not able to be performed.

또한, 이 실시예의 Tov에서의, 복층 필름에서의 필름(A)와 필름(B) 사이의 박리력 Pa를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.In addition, the peel force Pa between the film (A) and the film (B) in a multilayer film in Tov of this Example was measured. The results are shown in Table 1.

[비교예 3]Comparative Example 3

오븐 내 온도 Tov를 126 ℃에서 120 ℃로 변경한 것 외에는, 실시예 2와 동일한 조작에 의해, 광학 필름을 얻고 평가하였다. 박리 공정에서의 박리 속도는, 5 m/min이었다. 결과를 표 1에 나타낸다. 표 1의 결과로부터 알 수 있듯이, 얻어진 광학 필름은, 그 NZ 계수가 1.6 이고, 1을 상회하는 값이었다.An optical film was obtained and evaluated by the same operation as Example 2 except having changed the temperature Tov in oven from 126 degreeC to 120 degreeC. The peeling rate in the peeling process was 5 m / min. The results are shown in Table 1. As can be seen from the results in Table 1, the obtained optical film had a value of NZ coefficient of 1.6 and higher than 1.

또한, 이 실시예의 Tov에서의, 복층 필름에서의 필름(A)와 필름(B) 사이의 박리력 Pa를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.In addition, the peel force Pa between the film (A) and the film (B) in a multilayer film in Tov of this Example was measured. The results are shown in Table 1.

실시예 및 비교예의 결과를, 표 1에 정리하여 나타낸다.The result of an Example and a comparative example is put together in Table 1, and is shown.

Figure pct00001
Figure pct00001

표 중의 약어의 의미는, 하기와 같다.The meaning of the abbreviation in a table | surface is as follows.

COP : 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는 수지(유리 전이 온도 126 ℃의 노보넨 중합체의 수지, 상품명 「제오노아」, 닛폰 제온 주식회사 제조).COP: Resin containing an alicyclic structure containing polymer (resin of the norbornene polymer of glass transition temperature of 126 degreeC, brand name "Zenooa", the Nippon Xeon Corporation make).

PET : 폴리에스테르 수지(이스트만사 제조 「PET - G 6763」).PET: Polyester resin ("PET-G 6763" by Eastman).

OPP : 자기 점착성 연신 폴리프로필렌 필름(후타무라 화학사 제조 「FSA 010M #30」).OPP: Self-adhesive stretched polypropylene film ("FSA 010M # 30" by Futamura Chemical Corporation).

표 1의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, Tov와 TgA의 관계 및 Pa의 값이 본원의 요건을 충족하는 조건에서 연신을 실시한 본원 실시예에서는, 0 < Nz < 1의 광학 필름을 용이하게 제조할 수 있다.As can be seen from the results in Table 1, in the present examples where the relationship between Tov and TgA and the value of Pa meets the requirements of the present application, an optical film of 0 <Nz <1 can be easily produced. Can be.

100 : 복층 필름
111 : 필름(B)
112 : 필름(B)
121 : 점착제 층
122 : 점착제 층
131 : 필름(A)
132 : 광학 필름
151 : 박리 영역 상류의 닙롤
152 : 박리 영역 상류의 닙롤
161 : 박리 영역 하류의 닙롤
162 : 박리 영역 하류의 닙롤
200 : 복층 필름
231 : 필름(A)
211 : 필름(B)
221 : 점착제 층
232 : 광학 필름
P : 박리 영역
100: multilayer film
111: film (B)
112: film (B)
121: adhesive layer
122: pressure-sensitive adhesive layer
131: film (A)
132: optical film
151: nip roll upstream of the peeling region
152: nip roll upstream of the peeling region
161: nip roll downstream of peeling area
162: nip roll downstream of the peeling area
200: multilayer film
231 film (A)
211: film (B)
221: adhesive layer
232: optical film
P: peeling area

Claims (5)

복층 필름을 박리 처리에 제공하는 박리 공정을 포함하고,
상기 복층 필름은, 열가소성 수지 A로 이루어지는 필름(A), 및 상기 필름(A)의 일방 또는 양방의 면에 형성된 필름(B)를 포함하는 복층 필름이며,
상기 박리 처리는, 온도 Tov(℃)에 있어서, 상기 필름(A)로부터, 상기 필름(B)를, 상기 필름(A)의 두께 방향으로 힘이 가해지도록 박리하는 것을 포함하고,
상기 온도 Tov와, 상기 필름(A)의 유리 전이 온도 TgA(℃)는, Tov ≥ TgA의 관계를 충족하며,
상기 복층 필름에 있어서의, 온도 Tov에서의 상기 필름(A)와 상기 필름(B)의 박리력 Pa가, 0.03 N/50mm 이상 0.5 N/50mm 이하인,
광학 필름의 제조 방법.
Including peeling process which provides multilayer film to peeling process,
The said multilayer film is a multilayer film containing the film (A) which consists of thermoplastic resin A, and the film (B) formed in the one or both surfaces of the said film (A),
The peeling treatment includes peeling the film (B) from the film (A) at a temperature Tov (° C.) so that a force is applied in the thickness direction of the film (A),
The temperature Tov and the glass transition temperature TgA (° C.) of the film A satisfy a relationship of Tov ≧ TgA,
In the said multilayer film, peeling force Pa of the said film (A) and the said film (B) in temperature Tov is 0.03 N / 50 mm or more and 0.5 N / 50 mm or less,
Method for producing an optical film.
제 1 항에 있어서,
상기 열가소성 수지 A는, 지환식 구조 함유 중합체를 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.
The method of claim 1,
The said thermoplastic resin A is a manufacturing method of the optical film containing an alicyclic structure containing polymer.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 복층 필름을, 그 면내 방향으로 연신하는 연신 공정을 더 포함하는, 광학 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2,
The manufacturing method of the optical film further including the extending process of extending | stretching the said multilayer film to the in-plane direction.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 제조된 광학 필름과 편광자를 구비하는 편광판.
The polarizing plate provided with the optical film and polarizer manufactured by the manufacturing method in any one of Claims 1-3.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 제조된 광학 필름을 구비하는 표시 장치.
The display apparatus provided with the optical film manufactured by the manufacturing method in any one of Claims 1-3.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08207119A (en) 1994-10-19 1996-08-13 Diafoil Co Ltd Production of thermoplastic resin sheet or film
JP2016194720A (en) * 2015-03-31 2016-11-17 住友化学株式会社 Laminated film, method for producing laminated film, method for producing polarizing laminated film, and method for producing polarizing plate

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08146217A (en) * 1994-11-15 1996-06-07 Sekisui Chem Co Ltd Production of phase difference film
JP2010007036A (en) * 2008-06-30 2010-01-14 Fujifilm Corp Norbornene-based polymer mixture and method for producing the same, and optical material using the norbornene-based polymer mixture
JP2010102288A (en) * 2008-09-29 2010-05-06 Sumitomo Chemical Co Ltd Member for manufacturing retardation film
JP2010085574A (en) * 2008-09-30 2010-04-15 Konica Minolta Opto Inc Saponification processing method of optical-compensation film, optical-compensation film, polarizing plate, and liquid crystal display device
JP2011039343A (en) * 2009-08-13 2011-02-24 Nippon Zeon Co Ltd Method for manufacturing retardation plate, retardation plate and polarizing plate
JP2012180494A (en) * 2011-02-10 2012-09-20 Nitto Denko Corp Spontaneously rolling adhesive sheet, and method of manufacturing cut piece
JP2013187377A (en) * 2012-03-08 2013-09-19 Nitto Denko Corp Dicing die bond film
JP5906840B2 (en) * 2012-03-14 2016-04-20 東レ株式会社 Laminated sheet
TWI695874B (en) * 2013-06-21 2020-06-11 日商日東電工股份有限公司 Optical film laminate
US20150076719A1 (en) * 2013-08-09 2015-03-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of manufacturing polymer film and polymer film stretching apparatus therefor
JP6073263B2 (en) * 2014-03-31 2017-02-01 日東電工株式会社 Die bond film with dicing sheet and method for manufacturing semiconductor device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08207119A (en) 1994-10-19 1996-08-13 Diafoil Co Ltd Production of thermoplastic resin sheet or film
JP2016194720A (en) * 2015-03-31 2016-11-17 住友化学株式会社 Laminated film, method for producing laminated film, method for producing polarizing laminated film, and method for producing polarizing plate

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