KR20190094092A - Laser oscillator - Google Patents

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켄타 타나카
조이치 카와무라
마사후미 요로즈
야스히로 오카다
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스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
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Abstract

Provided is a laser oscillator, which is less susceptible to the thermal deformation of a chamber. A laser medium gas is received in a chamber. One pair of discharge electrodes generates discharge in discharge space inside the chamber. One pair of resonator mirrors disposed in the inner space of the chamber is supported for the chamber and the resonator mirrors constitute an optical resonator with an optical axis passing through the discharge space.

Description

레이저발진기{Laser oscillator}Laser Oscillator

본 출원은 2018년 2월 2일에 출원된 일본 특허출원 제2018-016925호에 근거하여 우선권을 주장한다. 그 출원의 전체 내용은 이 명세서 중에 참고로 원용되어 있다.This application claims the priority based on Japanese Patent Application No. 2018-016925 for which it applied on February 2, 2018. The entire contents of that application are incorporated herein by reference.

본 발명은, 레이저발진기에 관한 것이다.The present invention relates to a laser oscillator.

챔버 내에 레이저매질가스를 수용한 가스레이저발진기의 광공진기를 구성하는 한 쌍의 미러는, 일반적으로 챔버의 벽면에 장착되어 있다(특허문헌 1 등). 미러는, 레이저매질가스가 수용된 공간과, 외부 공간을 구획하는 챔버의 벽면의 일부로서도 기능한다.The pair of mirrors constituting the optical resonator of the gas laser oscillator containing the laser medium gas in the chamber is generally attached to the wall surface of the chamber (Patent Document 1, etc.). The mirror also functions as a part of the wall in which the laser medium gas is accommodated and the wall surface of the chamber partitioning the external space.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2003-298154호Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-298154

레이저발진기의 동작 중에, 방전에 의한 발열로 챔버가 변형되는 경우가 있다. 챔버가 변형되면, 챔버의 벽면에 장착되어 있는 한 쌍의 미러의 상대위치관계가 변화한다. 그 결과, 레이저빔의 중심위치, 사출방향, 품질 등이 변동된다.During operation of the laser oscillator, the chamber may be deformed due to heat generated by discharge. When the chamber is deformed, the relative positional relationship of the pair of mirrors mounted on the wall of the chamber changes. As a result, the center position of the laser beam, the injection direction, the quality, and the like change.

본 발명의 목적은, 챔버의 열변형의 영향을 받기 어려운 레이저발진기를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a laser oscillator that is less susceptible to thermal deformation of the chamber.

본 발명의 일 관점에 의하면,According to one aspect of the present invention,

레이저매질가스를 수용하는 챔버와,A chamber containing the laser medium gas,

상기 챔버의 내부의 방전공간에 방전을 발생시키는 한 쌍의 방전전극과,A pair of discharge electrodes generating a discharge in a discharge space inside the chamber;

상기 챔버의 내부공간에 배치되며, 상기 챔버에 대하여 지지되고, 상기 방전공간을 통과하는 광축을 갖는 광공진기를 구성하는 한 쌍의 공진기미러를 갖는 레이저발진기가 제공된다.A laser oscillator is provided in the interior space of the chamber, the laser oscillator having a pair of resonator mirrors supported by the chamber and constituting an optical resonator having an optical axis passing through the discharge space.

공진기미러로 구성되는 광공진기의 광축의 위치가, 챔버의 열변형의 영향을 받기 어려워지는 구성을 채용하는 것이 용이하다.It is easy to adopt a configuration in which the position of the optical axis of the optical resonator constituted by the resonator mirror is less likely to be affected by the thermal deformation of the chamber.

도 1은, 실시예에 의한 레이저발진기의 광축을 따르는 단면도이다.
도 2는, 도 1에 나타낸 실시예에 의한 레이저발진기의 광축으로 수직인 단면도이다.
도 3은, 도 1에 나타낸 레이저발진기의 챔버의 돌출부분의 바닥판보다 위의 측면 및 천장판을 제거한 상태의 개략 사시도이다.
도 4는, 비교예에 의한 레이저발진기의 광축을 포함하는 단면도이다.
도 5는, 도 4에 나타낸 비교예에 의한 레이저발진기의 광축으로 수직인 단면도이다.
도 6은, 다른 실시예에 의한 레이저발진기의 광축을 포함하는 단면도이다.
도 7은, 또 다른 실시예에 의한 레이저가공장치의 개략도이다.1 is a cross-sectional view along the optical axis of the laser oscillator according to the embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis of the laser oscillator according to the embodiment shown in FIG. 1.
FIG. 3 is a schematic perspective view of a state where the side surface and the ceiling plate above the bottom plate of the protruding portion of the chamber of the laser oscillator shown in FIG. 1 are removed.
4 is a cross-sectional view including an optical axis of a laser oscillator according to a comparative example.
FIG. 5 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis of the laser oscillator according to the comparative example shown in FIG. 4.
6 is a sectional view including an optical axis of a laser oscillator according to another embodiment.
7 is a schematic view of a laser processing apparatus according to still another embodiment.

도 1~도 3을 참조하여, 실시예에 의한 레이저발진기에 대하여 설명한다.With reference to FIGS. 1-3, the laser oscillator by an Example is demonstrated.

도 1은, 실시예에 의한 레이저발진기의 광축을 포함하는 단면도이다. 챔버(10)에 레이저매질가스가 수용된다. 챔버(10)의 내부공간에, 한 쌍의 방전전극(11) 및 한 쌍의 공진기미러(12)가 배치되어 있다. 한 쌍의 방전전극(11)은, 상하방향으로 간격을 두고 배치되며, 양자의 사이에 방전공간(13)이 획정(劃定)된다. 방전전극(11)은, 챔버(10)의 내부의 방전공간(13)에 방전을 발생시킴으로써, 레이저매질가스를 여기한다.1 is a cross-sectional view including an optical axis of the laser oscillator according to the embodiment. The laser medium gas is accommodated in the chamber 10. In the inner space of the chamber 10, a pair of discharge electrodes 11 and a pair of resonator mirrors 12 are arranged. The pair of discharge electrodes 11 are arranged at intervals in the vertical direction, and the discharge space 13 is defined between them. The discharge electrode 11 excites the laser medium gas by generating a discharge in the discharge space 13 inside the chamber 10.

한 쌍의 공진기미러(12)는, 챔버(10)의 내부공간에 배치된 지지부재(14)를 통하여 챔버(10)에 지지되어 있다. 공진기미러(12)는, 방전공간(13)을 통과하는 광축을 갖는 광공진기를 구성한다. 지지부재(14)는, 챔버(10)를 구성하는 재료의 열팽창계수보다 낮은 열팽창계수를 갖는 저열팽창재로 형성되어 있다. 예를 들면, 챔버(10)는 스테인리스강, 알루미늄 등으로 형성되며, 지지부재(14)는 인바(invar, 등록상표) 등으로 형성된다. 하나의 저열팽창재에, 한 쌍의 공진기미러(12)가 고정되어 있다.The pair of resonator mirrors 12 are supported by the chamber 10 via a support member 14 disposed in the inner space of the chamber 10. The resonator mirror 12 constitutes an optical resonator having an optical axis passing through the discharge space 13. The support member 14 is formed of a low thermal expansion material having a thermal expansion coefficient lower than that of the materials constituting the chamber 10. For example, the chamber 10 is formed of stainless steel, aluminum, or the like, and the support member 14 is formed of an invar (registered trademark) or the like. A pair of resonator mirrors 12 are fixed to one low thermal expansion material.

또한, 챔버(10)의 내부공간에, 챔버(10)의 내부의 레이저매질가스를 순환시키는 블로어(15)가 배치되어 있다. 레이저매질가스가 순환하는 경로에, 방전공간(13)이 포함된다.In addition, a blower 15 for circulating the laser medium gas inside the chamber 10 is disposed in the inner space of the chamber 10. The discharge space 13 is included in a path through which the laser medium gas circulates.

챔버(10)는, 적어도 2개소의 챔버지지점(30)에서 외부의 베이스에 지지된다. 이 베이스에는, 레이저발진기로부터 출력된 레이저빔이 통과하는 다양한 광학장치가 지지된다.The chamber 10 is supported by an external base at at least two chamber support points 30. On this base, various optical devices through which the laser beam output from the laser oscillator passes are supported.

공진기미러(12) 및 방전전극(11)은, 챔버지지점(30)보다 상방의 공간에 배치되어 있으며, 블로어(15)는, 챔버지지점(30)보다 하방의 블로어실(16)에 배치되어 있다. 한 쌍의 공진기미러(12)는, 방전공간(13)을 광공진기의 광축에 평행한 2방향(양방향)으로 연신시킨 돌출부분(17)에 각각 수용되어 있다. 돌출부분(17)은, 블로어실(16)의 벽면으로부터 광축방향으로 돌출되어 있다. 챔버지지점(30)은, 돌출부분(17)의 바닥판(17A)에 위치하고 있다. 블로어실(16)은 챔버지지점(30)의 하방으로 매달린 상태로 유지된다. 공진기미러(12) 및 방전전극(11)은, 돌출부분(17)의 바닥판(17A)의 내면에 지지되어 있다.The resonator mirror 12 and the discharge electrode 11 are disposed in a space above the chamber support point 30, and the blower 15 is disposed in the blower chamber 16 below the chamber support point 30. . The pair of resonator mirrors 12 are accommodated in the protruding portions 17 in which the discharge space 13 is elongated in two directions (bidirectional) parallel to the optical axis of the optical resonator. The protruding portion 17 protrudes from the wall surface of the blower chamber 16 in the optical axis direction. The chamber support point 30 is located at the bottom plate 17A of the protruding portion 17. The blower chamber 16 is kept in a suspended state below the chamber support point 30. The resonator mirror 12 and the discharge electrode 11 are supported on the inner surface of the bottom plate 17A of the protruding portion 17.

광공진기의 광축을 일 방향(도 1에 있어서 좌측방향)으로 연신시킨 연장선과 챔버(10)의 벽면의 교차개소에, 레이저빔을 투과시키는 광투과창(18)이 장착되어 있다. 광공진기 내에서 여진된 레이저빔이 광투과창(18)을 투과하여 외부에 방사된다.The light transmission window 18 which transmits a laser beam is attached to the intersection of the extension line which extended the optical axis of the optical resonator to one direction (left direction in FIG. 1), and the wall surface of the chamber 10. As shown in FIG. The laser beam excited in the optical resonator passes through the light transmission window 18 and is radiated to the outside.

챔버(10) 내에 구획판(20)이 배치되어 있다. 구획판(20)은, 블로어실(16) 및 방전공간(13)을 포함하는 레이저매질가스의 순환경로와, 공진기미러(12)가 배치된 공간(미러수용공간)(27)을 구획한다. 구획판(20)에는, 광공진기의 광축과 교차하는 개소에 개구(21)가 마련되어 있다. 이 개구(21)를 통과하는 레이저광이 광공진기에 갇힌다.The partition plate 20 is arranged in the chamber 10. The partition plate 20 partitions the circulation path of the laser medium gas including the blower chamber 16 and the discharge space 13 and the space (mirror accommodation space) 27 in which the resonator mirror 12 is disposed. The partition plate 20 is provided with the opening 21 in the position which intersects the optical axis of an optical resonator. Laser light passing through the opening 21 is trapped in the optical resonator.

도 2는, 본 실시예에 의한 레이저발진기의 광축으로 수직인 단면도이다. 챔버(10)의 돌출부분(17)(도 1)의 바닥판(17A)보다 상방의 공간에 지지부재(14) 및 방전전극(11)이 배치되어 있다. 방전전극(11) 및 지지부재(14)는, 돌출부분(17)의 바닥판(17A)의 내면에 지지되어 있다. 예를 들면, 방전전극(11)은, 공진기미러(12)(도 1)를 지지하는 지지부재(14)를 걸쳐 올라타도록 배치된 문형(門型)의 지지부재(23)를 통하여 바닥판(17A)에 지지되어 있다.2 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis of the laser oscillator according to the present embodiment. The support member 14 and the discharge electrode 11 are arrange | positioned in the space above the bottom plate 17A of the protrusion part 17 (FIG. 1) of the chamber 10. As shown in FIG. The discharge electrode 11 and the support member 14 are supported on the inner surface of the bottom plate 17A of the protruding portion 17. For example, the discharge electrode 11 is a bottom plate through the door-shaped support member 23 arranged to ride over the support member 14 supporting the resonator mirror 12 (FIG. 1). It is supported by 17A.

챔버(10) 내에 구획판(20)이 배치되어 있다. 구획판(20)은, 블로어실(16), 블로어실(16)부터 방전공간(13)까지의 제1 가스유로(24), 방전공간(13), 및 방전공간(13)부터 블로어실(16)까지의 제2 가스유로(25)로 구성되는 레이저매질가스의 순환경로를 획정한다. 블로어(15)는, 이 순환경로를 레이저매질가스가 순환하도록, 레이저매질가스의 흐름을 발생시킨다. 구획판(20)은, 이 순환경로와, 공진기미러(12)(도 1)가 배치된 미러수용공간(27)을 구획한다. 구획판(20)에, 레이저광을 통과시키기 위한 개구(21)가 마련되어 있다.The partition plate 20 is arranged in the chamber 10. The partition plate 20 includes the blower chamber 16, the first gas passage 24 from the blower chamber 16 to the discharge space 13, the discharge space 13, and the discharge space 13 to the blower chamber ( The circulation path of the laser medium gas comprised of the 2nd gas flow path 25 to 16) is defined. The blower 15 generates the flow of the laser medium gas so that the laser medium gas circulates through this circulation path. The partition plate 20 partitions this circulation path and the mirror accommodation space 27 in which the resonator mirror 12 (FIG. 1) is arrange | positioned. The partition plate 20 is provided with an opening 21 for passing the laser light.

레이저매질가스의 순환경로 중, 블로어(15)로부터 방전공간(13)을 향하는 부분의 구획판(20)에, 순환경로로부터 미러수용공간(27)에 레이저매질가스를 유출시키는 유출구멍(28)이 마련되어 있다. 블로어(15)에 의하여 제1 가스유로(24)를 향하는 레이저매질가스의 흐름에 포함되는 일부의 레이저매질가스는, 유출구멍(28)을 통과하여 미러수용공간(27)으로 유출된다. 유출구멍(28)에는, 파티클을 제거하는 필터(29)가 마련되어 있다. 예를 들면, 필터(29)는 유출구멍(28)을 차폐하고 있으며, 블로어실(16)로부터 미러수용공간(27)에 유입되는 레이저매질가스는, 필터(29)를 통과함으로써 여과된다.Outflow hole 28 for causing the laser medium gas to flow out of the circulation path of the laser medium gas into the partition plate 20 in the portion facing the discharge space 13 from the blower 15 and from the circulation path to the mirror accommodation space 27. This is provided. Part of the laser medium gas included in the flow of the laser medium gas directed to the first gas passage 24 by the blower 15 flows out through the outlet hole 28 to the mirror accommodation space 27. The outflow hole 28 is provided with a filter 29 for removing particles. For example, the filter 29 shields the outflow hole 28, and the laser medium gas flowing into the mirror accommodation space 27 from the blower chamber 16 is filtered by passing through the filter 29.

도 3은, 챔버(10)의 돌출부분(17)의 바닥판(17A)보다 위의 측면 및 천장판을 제거한 상태의 레이저발진기의 개략 사시도이다. 구획판(20)이, 돌출부분(17)의 바닥판(17A)을 챔버(10)의 내측을 향하여 연장한 가상평면을 따르는 제1 부분(20A), 상측의 방전전극(11)에 연속하는 제2 부분(20B), 하측의 방전전극(11)(도 3에는 나타나 있지 않음)에 연속하는 제3 부분(20C), 및 한 쌍의 제4 부분(20D)으로 구성된다. 도 3에 있어서, 제1 부분(20A)을 해칭했다.3 is a schematic perspective view of the laser oscillator in a state where the side surface and the top plate above the bottom plate 17A of the protrusion 17 of the chamber 10 are removed. The partition plate 20 is continuous with the first portion 20A along the imaginary plane extending from the bottom plate 17A of the protruding portion 17 toward the inner side of the chamber 10 and the discharge electrode 11 on the upper side. It consists of the 2nd part 20B, the 3rd part 20C continuous to the lower discharge electrode 11 (not shown in FIG. 3), and a pair of 4th part 20D. In FIG. 3, 20 A of 1st parts were hatched.

제2 부분(20B) 및 상측의 방전전극(11)을 외주측의 벽면으로 하고, 제3 부분(20C) 및 하측의 방전전극(11)(도 2)을 내주측의 벽면으로 하여, 광축에 대하여 수직인 단면이 U자형상의 공간이 형성된다. U자형상의 공간의 광축방향의 양단이, 각각 제4 부분(20D)에 의하여 차폐되어 있다. 한 쌍의 제4 부분(20D)에는, 각각 개구(21)가 마련되어 있다.On the optical axis, the second portion 20B and the upper discharge electrode 11 are the wall surface on the outer circumferential side, and the third portion 20C and the lower discharge electrode 11 (FIG. 2) are the wall surface on the inner circumference side. The cross section perpendicular to the U-shaped space is formed. Both ends in the optical axis direction of the U-shaped space are shielded by the fourth portion 20D, respectively. The openings 21 are provided in the pair of fourth portions 20D, respectively.

제1 부분(20A)에, 광축방향으로 긴 직사각형의 한 쌍의 개구(22)가 마련되어 있다. U자형상의 공간의 둘레방향의 양단이, 각각 한 쌍의 개구(22)를 통하여 블로어실(16)에 연속하고 있다. 블로어실(16)로부터 일방의 개구(22)를 통과하여 U자형상의 공간에 레이저매질가스가 유입되고, U자형상의 공간으로부터 타방의 개구(22)를 통과하여 블로어실(16)에 레이저매질가스가 회수된다. 도 3에 있어서, 개구(22)를 레이저매질가스가 통과하는 방향을, 화살표로 나타내고 있다. 블로어실(16)로부터 U자형상의 공간에 레이저매질가스가 유입되는 측의 개구(22)의 외측에, 제1 부분(20A)을 관통하는 유출구멍(28)이 마련되어 있다. 순환하는 레이저매질가스의 일부는, 유출구멍(28)을 통과하여 제1 부분(20A)의 상측의 미러수용공간(27)(도 1, 도 2)에 유입된다. 도 3에 있어서, 유출구멍(28)을 레이저매질가스가 통과하는 방향을 화살표로 나타내고 있다.A pair of rectangular openings 22 long in the optical axis direction are provided in the first portion 20A. Both ends in the circumferential direction of the U-shaped space are continuous to the blower chamber 16 through the pair of openings 22, respectively. The laser medium gas flows through the opening 22 from the blower chamber 16 into the U-shaped space, and the laser medium gas passes through the other opening 22 from the U-shaped space and into the blower chamber 16. Is recovered. In FIG. 3, the direction in which the laser medium gas passes through the opening 22 is indicated by an arrow. The outflow hole 28 which penetrates the 1st part 20A is provided in the outer side of the opening 22 of the side where the laser medium gas flows into the U-shaped space from the blower chamber 16. As shown in FIG. A part of the circulating laser medium gas passes through the outflow hole 28 and flows into the mirror accommodation space 27 (FIGS. 1 and 2) above the first portion 20A. 3, the direction through which the laser medium gas passes through the outflow hole 28 is shown by the arrow.

다음으로, 본 실시예에 의한 레이저발진기의 구성을 채용함으로써 얻어지는 우수한 효과에 대하여 설명한다.Next, the excellent effect obtained by employ | adopting the structure of the laser oscillator which concerns on a present Example is demonstrated.

공진기미러가 챔버(10)의 벽면에 장착되어 있는 구조이면, 챔버(10)에 열변형이 발생하면, 공진기미러의 위치 및 자세가 변화된다. 본 실시예에서는, 공진기미러(12)가 챔버(10)의 벽면에 직접 장착되어 있지 않으며, 챔버(10)의 내부공간에 배치되어 있다. 이로 인하여, 공진기미러가 챔버(10)의 벽면에 장착되어 있는 구조와 비교하여, 챔버(10)가 열변형했다고 해도, 공진기미러(12)의 위치 및 자세가 챔버(10)의 열변형의 영향을 직접적으로는 받지 않는다. 이로 인하여, 공진기미러(12)의 상대적인 위치어긋남이 발생하기 어렵다. 또한, 한 쌍의 공진기미러(12)가 하나의 저열팽창재로 이루어지는 지지부재(14)에 고정되어 있기 때문에, 공진기미러(12)의 상대적인 위치어긋남이 더 발생하기 어려워진다.If the resonator mirror is mounted on the wall surface of the chamber 10, when heat deformation occurs in the chamber 10, the position and attitude of the resonator mirror are changed. In this embodiment, the resonator mirror 12 is not directly attached to the wall surface of the chamber 10 but is disposed in the inner space of the chamber 10. For this reason, even if the chamber 10 is thermally deformed compared with the structure in which the resonator mirror is mounted on the wall surface of the chamber 10, the position and attitude of the resonator mirror 12 are influenced by the thermal deformation of the chamber 10. Is not directly received. For this reason, the relative position shift of the resonator mirror 12 hardly occurs. In addition, since the pair of resonator mirrors 12 are fixed to the supporting member 14 made of one low thermal expansion material, the relative positional shift of the resonator mirrors 12 is less likely to occur.

다음으로, 본 실시예에 의한 레이저발진기의 구성을 채용함으로써 얻어지는 우수한 효과에 대하여, 도 4 및 도 5에 나타낸 비교예에 의한 레이저발진기와 비교하면서 설명한다.Next, the excellent effect obtained by employ | adopting the structure of the laser oscillator which concerns on a present Example is demonstrated, comparing with the laser oscillator by the comparative example shown to FIG. 4 and FIG.

도 4는, 비교예에 의한 레이저발진기의 광축을 포함하는 단면도이다. 챔버(50)가, 그 바닥면의 챔버지지점(59)에 있어서 외부의 베이스에 지지된다. 챔버(50)의 내부에 방전전극(51)이 배치되어 있다. 방전전극(51)은, 그 양단에 있어서 챔버(50)의 측벽에 지지되어 있다. 방전전극(51)과 챔버(50)의 바닥면의 사이에 블로어(61)가 배치되어 있다.4 is a cross-sectional view including an optical axis of a laser oscillator according to a comparative example. The chamber 50 is supported by the external base at the chamber support point 59 of the bottom surface. The discharge electrode 51 is disposed in the chamber 50. The discharge electrode 51 is supported by the side wall of the chamber 50 at both ends. A blower 61 is disposed between the discharge electrode 51 and the bottom surface of the chamber 50.

챔버(50)의 상면의 위에 지지부재(54)가 챔버(50)에 대하여 지지되어 있다. 지지부재(54)는 광축방향으로 길고, 그 양단에 공진기미러부(55)가 각각 장착되어 있다. 공진기미러부(55)에 공진기미러(52)가 장착되어 있다. 방전공간(53)을 광축방향으로 연신한 연신영역과, 챔버(50)의 벽면이 교차하는 위치에 개구(56)가 마련되어 있다. 방전공간(53)을 챔버(50)의 외측까지 더 연신시킨 위치에 공진기미러(52)가 배치되어 있다. 개구(56)의 가장자리와 공진기미러(52)가 벨로즈(57)로 접속되어 있다. 벨로즈(57)와 공진기미러(52)에 의하여, 개구(56)가 차폐된다.The support member 54 is supported with respect to the chamber 50 on the upper surface of the chamber 50. The support member 54 is long in the optical axis direction, and resonator mirrors 55 are mounted at both ends thereof. The resonator mirror 52 is attached to the resonator mirror portion 55. An opening 56 is provided at a position where the stretched region in which the discharge space 53 is stretched in the optical axis direction and the wall surface of the chamber 50 intersect. The resonator mirror 52 is disposed at a position where the discharge space 53 is further extended to the outside of the chamber 50. The edge of the opening 56 and the resonator mirror 52 are connected by bellows 57. The opening 56 is shielded by the bellows 57 and the resonator mirror 52.

도 5는, 비교예에 의한 레이저발진기의 광축으로 수직인 단면도이다. 챔버(50) 내에 방전전극(51) 및 블로어(61)가 배치되어 있다. 방전공간(53)부터 블로어(61)의 흡인부까지 레이저매질가스를 유도하는 덕트(62)가 배치되어 있다.5 is a cross-sectional view perpendicular to the optical axis of the laser oscillator according to the comparative example. The discharge electrode 51 and the blower 61 are disposed in the chamber 50. The duct 62 which guides a laser medium gas from the discharge space 53 to the suction part of the blower 61 is arrange | positioned.

비교예(도 4, 도 5)에서는, 공진기미러(52)가 챔버(50)의 벽면에 직접 장착되어 있는 것은 아니기 때문에, 챔버(50)의 열변형의 영향을 직접적으로는 받기 어렵다. 단, 챔버(50)의 상면의 위에 배치된 지지부재(54)의 지지점이, 챔버(50)의 바닥면의 챔버지지점(59)으로부터, 챔버(50)의 높이방향의 치수만큼 떨어져 있다. 챔버(50)가 열변형하면, 챔버지지점(59)에 대하여, 지지부재(54)의 지지점의 위치가 변동한다. 지지부재(54)의 지지점의 위치의 변동에 따라, 공진기미러(52)의 위치도, 챔버지지점(59)에 대하여 변동된다.In the comparative example (FIGS. 4 and 5), since the resonator mirror 52 is not directly attached to the wall surface of the chamber 50, it is hard to be directly affected by the thermal deformation of the chamber 50. As shown in FIG. However, the support point of the support member 54 arrange | positioned on the upper surface of the chamber 50 is separated by the dimension of the height direction of the chamber 50 from the chamber support point 59 of the bottom surface of the chamber 50. When the chamber 50 is thermally deformed, the position of the support point of the support member 54 with respect to the chamber support point 59 fluctuates. As the position of the support point of the support member 54 changes, the position of the resonator mirror 52 also changes with respect to the chamber support point 59.

본 실시예에서는, 챔버(10)가, 돌출부분(17)의 바닥판에 위치하는 챔버지지점(30)으로 지지되며, 방전전극(11) 및 공진기미러(12)가, 돌출부분(17)의 바닥판에 지지되어 있다. 이와 같이, 방전전극(11) 및 공진기미러(12)를 지지하는 개소가, 챔버(10)를 지지하는 챔버지지점(30)에 가깝다. 이로 인하여, 챔버(10)가 열변형해도, 방전전극(11) 및 공진기미러(12)의, 챔버지지점(30)에 대한 위치어긋남이 발생하기 어렵다. 레이저빔의 빔위치의 챔버지지점(30)에 대한 변화량도 작아진다.In the present embodiment, the chamber 10 is supported by the chamber support point 30 positioned on the bottom plate of the protruding portion 17, and the discharge electrode 11 and the resonator mirror 12 are formed of the protruding portion 17. It is supported on the bottom plate. In this way, the portion supporting the discharge electrode 11 and the resonator mirror 12 is close to the chamber support point 30 supporting the chamber 10. For this reason, even if the chamber 10 thermally deforms, positional displacement of the discharge electrode 11 and the resonator mirror 12 with respect to the chamber support point 30 is unlikely to occur. The change amount with respect to the chamber support point 30 of the beam position of a laser beam also becomes small.

또한, 본 실시예에서는, 블로어실(16)이 챔버지지점(30)으로부터 하방으로 늘어진 구조가 채용되어 있으며, 블로어실(16)의 하단은 기계적으로 고정되지 않고 자유로운 상태이다. 이로 인하여, 블로어실(16)의 열변형이 공진기미러(12)나 방전전극(11)의 위치에 영향을 미치지 않는다.In this embodiment, the structure in which the blower chamber 16 extends downward from the chamber support point 30 is adopted, and the lower end of the blower chamber 16 is not fixed mechanically and is free. For this reason, the thermal deformation of the blower chamber 16 does not affect the position of the resonator mirror 12 or the discharge electrode 11.

방전전극(11) 및 공진기미러(12)의 위치어긋남을 발생하기 어렵게 하기 위하여, 챔버지지점(30)이 위치하는 평판과 공통의 평판에, 방전전극(11) 및 공진기미러(12)를 지지하는 구조로 하면 된다. 이와 같은 구조를 채용하면, 평판이 면내방향으로 신축해도, 방전전극(11) 및 공진기미러(12)의 높이방향의 위치는 거의 변화하지 않는다.In order to make it difficult to cause displacement of the discharge electrode 11 and the resonator mirror 12, the discharge electrode 11 and the resonator mirror 12 are supported on a flat plate common to the flat plate on which the chamber support points 30 are located. The structure is good. By adopting such a structure, even if the flat plate is stretched in the in-plane direction, the position of the discharge electrode 11 and the resonator mirror 12 in the height direction hardly changes.

지지부재(14)(도 1)를 광공진기의 광축방향으로 떨어진 2점에서 지지하는 경우, 일방의 지지점에 있어서 지지부재(14)를 챔버(10)에 고정하고, 타방의 지지점에 있어서는, 광축방향에 관하여 이동 가능하게 지지하면 된다. 이와 같은 구조를 채용하면, 지지부재(14)에 대하여 챔버(10)가 광축방향으로 신축 가능하기 때문에, 지지부재(14)가 챔버(10)의 열변형의 영향을 받기 어려워진다. 마찬가지로, 방전전극(11)도, 일방의 지지점에 있어서 챔버(10)에 고정하고, 타방의 지지점에 있어서는, 챔버(10)에 대하여 광축방향으로 이동 가능하게 지지하면 된다.When supporting the support member 14 (FIG. 1) at two points apart in the optical axis direction of the optical resonator, the support member 14 is fixed to the chamber 10 at one support point, and the optical axis is provided at the other support point. What is necessary is to support so that a movement with respect to a direction is possible. By adopting such a structure, since the chamber 10 can be expanded and contracted with respect to the support member 14 in the optical axis direction, the support member 14 is less susceptible to the heat deformation of the chamber 10. Similarly, the discharge electrode 11 may be fixed to the chamber 10 at one support point, and may be supported to be movable in the optical axis direction with respect to the chamber 10 at the other support point.

방전전극(11) 및 공진기미러(12)가 챔버(10)의 열변형의 영향을 받기 어렵게 하기 위하여, 방전전극(11)을 지지하는 챔버(10)의 벽면 상의 전극지지점(31), 공진기미러(12)를 지지하는 챔버(10)의 벽면 상의 미러지지점(32)을, 챔버지지점(30)에 근접시키는 것이 바람직하다. 예를 들면, 높이방향에 관하여, 방전전극(11)의 전극지지점(31), 공진기미러(12)의 미러지지점(32), 챔버지지점(30)의 최대간격을, 챔버(10)의 높이방향의 치수의 20% 이하로 하는 것이 바람직하다.In order to make the discharge electrode 11 and the resonator mirror 12 difficult to be affected by the thermal deformation of the chamber 10, the electrode support points 31 and the resonator mirror on the wall surface of the chamber 10 supporting the discharge electrode 11. It is preferable to bring the mirror support point 32 on the wall surface of the chamber 10 supporting 12 to the chamber support point 30. For example, with respect to the height direction, the maximum distance between the electrode support point 31 of the discharge electrode 11, the mirror support point 32 of the resonator mirror 12, and the chamber support point 30 is determined in the height direction of the chamber 10. It is preferable to set it as 20% or less of the dimension of.

또한, 본 실시예에서는, 공진기미러(12)의 미러지지점(32)과, 방전전극(11)의 전극지지점(31)이 근접하고 있기 때문에, 광공진기의 광축과, 방전전극(11)의 중심축과의 미스얼라이먼트가 발생하기 어렵다.In this embodiment, since the mirror support point 32 of the resonator mirror 12 and the electrode support point 31 of the discharge electrode 11 are close to each other, the optical axis of the optical resonator and the center of the discharge electrode 11 Misalignment with the shaft is unlikely to occur.

도 4 및 도 5에 나타낸 비교예에서는, 레이저매질가스가 순환하는 공간과, 공진기미러(52)가 면하는 공간이 구획되어 있지 않다. 이로 인하여, 레이저매질가스 중의 파티클이 공진기미러(52)에 부착되기 쉽다.In the comparative examples shown in FIGS. 4 and 5, the space in which the laser medium gas circulates and the space in which the resonator mirror 52 faces are not divided. As a result, particles in the laser medium gas easily adhere to the resonator mirror 52.

도 1 및 도 2에 나타낸 실시예에서는, 레이저매질가스의 순환경로와, 미러수용공간(27)이 구획판(20)으로 구획되어 있다. 이로 인하여, 레이저매질가스 중의 파티클이 공진기미러(12)에 부착되기 어렵다는 효과가 얻어진다.In the embodiment shown in Figs. 1 and 2, the circulation path of the laser medium gas and the mirror accommodation space 27 are partitioned by the partition plate 20. As a result, an effect that particles in the laser medium gas are hard to adhere to the resonator mirror 12 is obtained.

또한, 레이저매질가스의 순환경로가 미러수용공간(27)에 대하여 양압(陽壓)이 되는 개소의 구획판(20)에, 유출구멍(28)이 마련되어 있다. 이로 인하여, 레이저매질가스가, 순환경로로부터 유출구멍(28)을 통과하여 미러수용공간(27)에 유입된다. 그 결과, 미러수용공간(27)의 압력이 상승한다. 미러수용공간(27)의 압력이 상승하면, 방전공간(13)으로부터 개구(21)를 통과하여 공진기미러(12)를 향하는 레이저매질가스의 흐름이 억제된다. 이로써, 방전공간(13) 내의 파티클이 개구(21)를 통과하여 공진기미러(12)에 부착되기 어려워진다는 효과가 얻어진다.In addition, an outlet hole 28 is provided in the partition plate 20 at a position where the circulation path of the laser medium gas becomes positive with respect to the mirror accommodation space 27. As a result, the laser medium gas passes through the outflow hole 28 from the circulation path and flows into the mirror accommodation space 27. As a result, the pressure in the mirror accommodation space 27 rises. When the pressure in the mirror accommodation space 27 rises, the flow of the laser medium gas from the discharge space 13 through the opening 21 toward the resonator mirror 12 is suppressed. Thereby, the effect that the particle in the discharge space 13 passes through the opening 21 and becomes difficult to adhere to the resonator mirror 12 is obtained.

순환경로로부터 미러수용공간(27)에 유입되는 레이저매질가스가 필터(29)에 의하여 여과되기 때문에, 순환경로로부터 미러수용공간(27)에 대한 파티클의 유입을 억제할 수 있다.Since the laser medium gas flowing into the mirror accommodation space 27 from the circulation path is filtered by the filter 29, the inflow of particles into the mirror accommodation space 27 from the circulation path can be suppressed.

또한, 도 1, 도 2에 나타낸 실시예에서는, 저열팽창재로 형성된 지지부재(14)가 챔버(10)의 내부공간에 배치되어 있으며, 공진기미러(12)도 내부공간에 배치되어 있다. 이로 인하여, 지지부재(54)(도 4)를 챔버(50)의 외측에 배치한 비교예와 비교하여, 구조를 간소화할 수 있다.1 and 2, the support member 14 formed of the low thermal expansion material is disposed in the inner space of the chamber 10, and the resonator mirror 12 is also disposed in the inner space. For this reason, compared with the comparative example which arrange | positioned the support member 54 (FIG. 4) outside the chamber 50, a structure can be simplified.

다음으로, 도 6을 참조하여 다른 실시예에 의한 레이저발진기에 대하여 설명한다. 이하, 도 1 및 도 2에 나타낸 실시예에 의한 레이저발진기의 구성과 공통의 구성에 대해서는 설명을 생략한다.Next, a laser oscillator according to another embodiment will be described with reference to FIG. 6. Hereinafter, the description of the structure common to the structure of the laser oscillator by the Example shown to FIG. 1 and FIG. 2 is abbreviate | omitted.

도 6은, 본 실시예에 의한 레이저발진기의 광축을 포함하는 단면도이다. 도 1 및 도 2에 나타낸 실시예에 의한 레이저발진기에서는, 공진기미러(12)가 지지부재(14)를 통하여, 돌출부분(17)의 바닥판(17A)에 지지되며, 방전전극(11)은, 문형의 지지부재(23)에 의하여 돌출부분(17)의 바닥판(17A)에 지지되어 있었다. 도 6에 나타낸 실시예에서는, 방전전극(11)도 지지부재(14)를 통하여 돌출부분(17)의 바닥판(17A)에 지지되어 있다. 즉, 공진기미러(12) 및 방전전극(11) 모두, 지지부재(14)에 지지된다.6 is a cross-sectional view including an optical axis of the laser oscillator according to the present embodiment. In the laser oscillator according to the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the resonator mirror 12 is supported by the support member 14 on the bottom plate 17A of the protruding portion 17, and the discharge electrode 11 is The bottom plate 17A of the protruding portion 17 was supported by a door-shaped support member 23. In the embodiment shown in FIG. 6, the discharge electrode 11 is also supported by the bottom plate 17A of the protruding portion 17 via the support member 14. That is, both the resonator mirror 12 and the discharge electrode 11 are supported by the support member 14.

다음으로, 도 6에 나타낸 레이저발진기의 구성을 채용함으로써 얻어지는 우수한 효과에 대하여 설명한다. 본 실시예에서는, 공진기미러(12)와 방전전극(11)이, 공통의 지지부재(14)에 지지되기 때문에, 방전전극(11)의 중심축과 광공진기의 광축의 미스얼라이먼트가 더 발생하기 어려워진다. 지지부재(14)와 방전전극(11)과의 열팽창율의 차에 기인하는 변형을 억제하기 위하여, 방전전극(11)을 지지부재(14)에 대하여 광축방향으로 열팽창 가능하게 지지하면 된다.Next, the excellent effect obtained by employ | adopting the structure of the laser oscillator shown in FIG. 6 is demonstrated. In this embodiment, since the resonator mirror 12 and the discharge electrode 11 are supported by the common support member 14, misalignment of the central axis of the discharge electrode 11 and the optical axis of the optical resonator is further generated. Becomes difficult. In order to suppress deformation caused by the difference in thermal expansion coefficient between the support member 14 and the discharge electrode 11, the discharge electrode 11 may be supported by the support member 14 in a thermal axis direction so as to be thermally expandable.

다음으로, 도 7을 참조하여, 또 다른 실시예에 의한 레이저가공장치에 대하여 설명한다.Next, with reference to FIG. 7, the laser processing apparatus by another Example is demonstrated.

도 7은, 본 실시예에 의한 레이저가공장치의 개략도이다. 레이저가공장치는, 베이스(80)에 지지된 레이저발진기(70), 광학계(72), 및 스테이지(74)를 포함한다. 레이저발진기(70)로서 도 1, 도 2에 나타낸 실시예, 또는 도 6에 나타낸 실시예에 의한 레이저발진기가 이용된다. 레이저발진기(70)는, 챔버지지점(30)에 의하여 베이스(80)에 지지되어 있다.7 is a schematic diagram of a laser processing apparatus according to the present embodiment. The preliminary laser includes a laser oscillator 70 supported by the base 80, an optical system 72, and a stage 74. As the laser oscillator 70, the laser oscillator according to the embodiment shown in Figs. 1 and 2 or the embodiment shown in Fig. 6 is used. The laser oscillator 70 is supported by the base 80 by the chamber support point 30.

광학계(72)는, 레이저발진기(70)로부터 출력된 레이저빔의 빔프로파일의 정형, 수령, 주사 등을 행하고, 스테이지(74)에 유지된 가공대상물(75)에 레이저빔을 입사시킨다. 가공대상물(75)은, 예를 들면 프린트 배선기판이며, 레이저빔에 의하여 펀칭가공이 행해진다. 스테이지(74)로서, 예를 들면 XY스테이지가 이용된다.The optical system 72 performs shaping, reception, scanning, etc. of the beam profile of the laser beam output from the laser oscillator 70, and injects a laser beam into the object 75 held by the stage 74. FIG. The object 75 is a printed wiring board, for example, and is punched out by a laser beam. As the stage 74, for example, an XY stage is used.

다음으로, 도 7에 나타낸 레이저가공장치의 구성을 채용함으로써 얻어지는 우수한 효과에 대하여 설명한다. 본 실시예에서는, 레이저발진기(70)로서 도 1, 도 2, 도 6 등에 나타낸 실시예에 의한 레이저발진기가 이용된다. 이로 인하여, 레이저발진기(70)의 챔버(10)(도 1, 도 2, 도 7)이 열변형해도, 베이스(80)에 대한 레이저빔의 빔위치의 변동이 발생하기 어렵다. 광학계(72)도 베이스(80)에 고정되어 있기 때문에, 레이저발진기(70)로부터 출력되는 레이저빔의 빔위치와, 광학계(72)의 상대위치관계의 어긋남이 발생하기 어렵다.Next, the excellent effect obtained by employ | adopting the structure of the laser processing apparatus shown in FIG. 7 is demonstrated. In this embodiment, the laser oscillator according to the embodiment shown in Figs. 1, 2, 6, etc. is used as the laser oscillator 70. For this reason, even if the chamber 10 (FIGS. 1, 2, 7) of the laser oscillator 70 thermally deforms, variations in the beam position of the laser beam with respect to the base 80 hardly occur. Since the optical system 72 is also fixed to the base 80, the deviation of the relative positional relationship between the beam position of the laser beam output from the laser oscillator 70 and the optical system 72 hardly occurs.

레이저빔의 빔위치와, 광학계(72)의 상대위치관계의 어긋남이 발생하기 어렵기 때문에, 빔프로파일의 정형불량이 발생하기 어렵다. 이로 인하여, 정형불량에 의한 가공품질의 저하를 억제할 수 있다.Since the deviation between the beam position of the laser beam and the relative positional relationship of the optical system 72 hardly occurs, shaping defects of the beam profile are less likely to occur. For this reason, the fall of the processing quality by a mold defect can be suppressed.

상술한 각 실시예는 예시이며, 다른 실시예에 나타낸 구성의 부분적인 치환 또는 조합이 가능한 것은 말할 필요도 없다. 복수의 실시예의 동일한 구성에 의한 동일한 작용 효과에 대해서는 실시예마다 따로 언급하지 않는다. 또한, 본 발명은 상술한 실시예에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 다양한 변경, 개량, 조합 등이 가능한 것은 당업자에게 자명할 것이다.Each embodiment mentioned above is an illustration, It goes without saying that partial substitution or combination of the structure shown in the other embodiment is possible. The same operation effect by the same structure of several embodiment is not mentioned separately for every embodiment. In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, it will be apparent to those skilled in the art that various changes, improvements, combinations, and the like are possible.

10 챔버
11 방전전극
12 공진기미러
13 방전공간
14 지지부재
15 블로어
16 블로어실
17 돌출부분
17A 돌출부분의 바닥판
18 광투과창
20 구획판
20A 구획판의 제1 부분
20B 구획판의 제2 부분
20C 구획판의 제3 부분
20D 구획판의 제4 부분
21, 22 개구
23 문형의 지지부재
24 제1 가스유로
25 제2 가스유로
27 미러수용공간
28 유출구멍
29 필터
30 챔버지지점
31 전극지지점
32 미러지지점
50 챔버
51 방전전극
52 공진기미러
53 방전공간
54 지지부재
55 공진기미러부
56 개구
57 벨로즈
59 챔버지지점
61 블로어
62 덕트
70 레이저발진기
72 광학계
74 스테이지
75 가공대상물
80 베이스10 chamber
11 discharge electrode
12 resonator mirror
13 discharge space
14 support member
15 blowers
16 blower room
17 protrusion
Bottom plate of 17A protrusion
18 light transmission window
20 partition plate
First part of 20A partition plate
Second part of 20B partition plate
Third part of 20C partition plate
4th part of 20D partition plate
21, 22 opening
23 door-shaped support member
24 First gas passage
25 2nd gas flow path
27 Mirror accommodation space
28 outflow holes
29 filters
30 chamber support points
31 electrode support points
32 mirror support points
50 chamber
51 discharge electrode
52 resonator mirror
53 discharge space
54 support member
55 resonator mirror part
56 opening
57 bellows
59 Chamber Support Points
61 blowers
62 duct
70 Laser Oscillator
72 optical system
74 stages
75 Object
80 base

Claims (11)

레이저매질가스를 수용하는 챔버와,
상기 챔버의 내부의 방전공간에 방전을 발생시키는 한 쌍의 방전전극과,
상기 챔버의 내부공간에 배치되며, 상기 챔버에 대하여 지지되고, 상기 방전공간을 통과하는 광축을 갖는 광공진기를 구성하는 한 쌍의 공진기미러를 갖는 레이저발진기.A chamber containing the laser medium gas,
A pair of discharge electrodes generating a discharge in a discharge space inside the chamber;
And a pair of resonator mirrors disposed in the interior space of the chamber, the pair of resonator mirrors being supported with respect to the chamber and constituting an optical resonator having an optical axis passing through the discharge space. 제1항에 있어서,
상기 챔버의 내부공간에 배치되며, 상기 공진기미러를 상기 챔버에 대하여 지지하는 지지부재를 더 갖는 레이저발진기.The method of claim 1,
The laser oscillator is disposed in the interior space of the chamber, and further comprising a support member for supporting the resonator mirror with respect to the chamber. 제2항에 있어서,
상기 지지부재는, 상기 챔버를 구성하는 재료의 열팽창계수보다 낮은 열팽창계수를 갖는 재료로 형성된 저열팽창재를 포함하고,
상기 공진기미러가 상기 저열팽창재에 고정되어 있는 레이저발진기.The method of claim 2,
The support member includes a low thermal expansion material formed of a material having a thermal expansion coefficient lower than that of a material constituting the chamber,
And the resonator mirror is fixed to the low thermal expansion material. 제3항에 있어서,
상기 광공진기의 광축방향에 관하여, 상기 챔버가 상기 저열팽창재에 대하여 신축 가능하게, 상기 저열팽창재가 상기 챔버에 대하여 지지되어 있는 레이저발진기.The method of claim 3,
A laser oscillator in which the low thermal expansion material is supported with respect to the chamber so that the chamber can expand and contract with respect to the low thermal expansion material with respect to the optical axis direction of the optical resonator. 제3항 또는 제4항에 있어서,
상기 방전전극은, 상기 저열팽창재에 지지되어 있는 레이저발진기.The method according to claim 3 or 4,
The discharge electrode is a laser oscillator supported by the low thermal expansion material. 제5항에 있어서,
상기 방전전극은, 상기 광공진기의 광축방향으로 열팽창 가능하게, 상기 저열팽창재에 대하여 지지되어 있는 레이저발진기.The method of claim 5,
And the discharge electrode is supported by the low thermal expansion material so as to be thermally expandable in the optical axis direction of the optical resonator. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 챔버의 내부공간에 수용되어, 상기 챔버의 내부의 레이저매질가스를 순환시키는 블로어를 더 가지며,
상기 챔버가 챔버지지점에서 지지되어 있고,
상기 블로어를 수용하는 블로어실이, 상기 챔버지지점으로부터 하방으로 매달린 레이저발진기.The method according to any one of claims 1 to 4,
It is accommodated in the interior space of the chamber, and further has a blower for circulating the laser medium gas inside the chamber,
The chamber is supported at the chamber support point,
And a blower chamber accommodating the blower is suspended downward from the chamber support point. 제7항에 있어서,
상기 방전전극은, 상기 챔버의 벽면 상의 전극지지점에 있어서 지지되어 있으며, 상기 공진기미러는, 상기 챔버의 벽면 상의 미러지지점에 있어서 지지되어 있고, 상기 챔버의 높이방향에 관하여, 상기 전극지지점, 상기 미러지지점, 및 상기 챔버지지점의 최대간격이, 상기 챔버의 높이의 20% 이하인 레이저발진기.The method of claim 7, wherein
The discharge electrode is supported at an electrode support point on the wall surface of the chamber, and the resonator mirror is supported at a mirror support point on the wall surface of the chamber, and the electrode support point and the mirror in the height direction of the chamber. And a maximum spacing between the support points and the chamber support points is 20% or less of the height of the chamber. 제7항에 있어서,
상기 챔버 내에 배치되며, 상기 블로어실, 상기 블로어실부터 상기 방전공간까지의 제1 가스유로, 상기 방전공간, 및 상기 방전공간부터 상기 블로어실까지의 제2 가스유로로 구성되는 레이저매질가스의 순환경로와, 상기 공진기미러가 수용된 공간을 구획함과 함께, 상기 광공진기의 광축과 교차하는 개소에 개구가 마련되어 있는 구획판을 더 갖는 레이저발진기.The method of claim 7, wherein
Circulation of the laser medium gas disposed in the chamber, the first gas passage from the blower chamber, the blower chamber to the discharge space, the discharge space, and the second gas passage from the discharge space to the blower chamber. A laser oscillator further comprising a partition plate, which divides a path and a space in which the resonator mirror is accommodated, and has an opening provided at a position crossing the optical axis of the optical resonator. 제9항에 있어서,
상기 순환경로 중, 상기 블로어부터 상기 방전공간까지의 부분의 상기 구획판에, 상기 순환경로로부터 상기 공진기미러가 수용된 공간에 레이저매질가스를 유출시키는 유출구멍이 마련되어 있는 레이저발진기.The method of claim 9,
A laser oscillator having an outlet hole through which the laser medium gas flows out from the circulation path into a space in which the resonator mirror is accommodated in the partition plate of the portion from the blower to the discharge space. 제10항에 있어서,
상기 유출구멍에, 파티클을 제거하는 필터가 마련되어 있는 레이저발진기.The method of claim 10,
And a filter for removing particles in the outflow hole.
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