KR20190085768A - A binder resin, a colored photo resist composition, a bank comprising the same and a display device comprising the same - Google Patents
A binder resin, a colored photo resist composition, a bank comprising the same and a display device comprising the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20190085768A KR20190085768A KR1020180004020A KR20180004020A KR20190085768A KR 20190085768 A KR20190085768 A KR 20190085768A KR 1020180004020 A KR1020180004020 A KR 1020180004020A KR 20180004020 A KR20180004020 A KR 20180004020A KR 20190085768 A KR20190085768 A KR 20190085768A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- alkyl
- pigment
- colorant
- binder resin
- resin composition
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/66—Polyesters containing oxygen in the form of ether groups
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- H01L51/525—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/842—Containers
- H10K50/8428—Vertical spacers, e.g. arranged between the sealing arrangement and the OLED
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 바인더 수지, 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 격벽 구조물 및 이를 포함하는 표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to a binder resin, a colored photosensitive resin composition, a barrier structure including the same, and a display device including the same.
디스플레이는 현대사회에서 가장 보편적인 정보전달의 수단이 되어가고 있다. 때문에 많은 연구에서 디스프레이 장치에 대한 개발이 이뤄지고 있으며 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 현재 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나로서, 화소 전극이 형성된 박막 트랜지스터 기판과 공통 전극이 형성된 컬러 필터 기판이 상호 대향되고, 그 사이에 액정층이 삽입되어 구성된다. 이러한 액정 표시 장치는 화소 전극과 공통 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴으로써 액정층에 투과되는 빛의 양을 조절하는 방식으로 화상을 표시한다. 또한 차세대 디스플레이로 관심을 받는 유기발광디스플레이 (OLED)는 상기에서와 같이 액정을 사용하지 않고 자발광 소자를 사용하기 때문에 유연한 디스플레이 개발에 유리한 점이 있다. Display is becoming the most common means of information delivery in modern society. Therefore, a liquid crystal display (LCD) is one of widely used flat panel display devices, and a thin film transistor substrate having a pixel electrode and a color filter substrate having a common electrode formed thereon Facing each other and a liquid crystal layer interposed therebetween. In such a liquid crystal display device, a voltage is applied to the pixel electrode and the common electrode to rearrange the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer, thereby displaying an image by adjusting the amount of light transmitted through the liquid crystal layer. The organic light emitting display (OLED) that is attracted attention as a next generation display is advantageous in the development of a flexible display because it uses a self-luminous element without using a liquid crystal as described above.
정보화 사회에서는 소비 패턴의 다양화가 추구되면서 저소비전력, 경량박형화, 고화질 구현이 가능하여 공간활용을 극대화하고 휴대가 용이한 디스플레이가 필요하게 되었다. 이에 따라 좀 더 박형화 하려는 여러 새로운 시도들이 병행되고 있다. 따라서 액정 표시 장치의 컬러 필터층을 TFT 구조물 내에 직접 포토공정을 이용해 감광성 조성물로부터 형성된다. 상기 패턴은 착색 안료와 함께 액정 표시 장치의 컬러필터로 사용되거나 투명한 오버코트 내지는 스페이서로의 이용이 가능하고 유기발광디스플레이의 격벽 구조물로의 이용이 가능하다. In the information society, as consumption pattern is diversified, low power consumption, light weight, thinness and high image quality can be realized, and it is necessary to maximize the space utilization and to carry the display easily. As a result, several new attempts have been made to make it more thinner. Therefore, the color filter layer of the liquid crystal display device is formed from the photosensitive composition using a photo process directly in the TFT structure. The pattern can be used as a color filter of a liquid crystal display device together with a colored pigment, as a transparent overcoat or as a spacer, and can be used as a barrier structure of an organic light emitting display.
일반적인 LCD 내지 OLED 디스플레이에서도 휘도 내지 명암비를 향상시키기 위한 노력을 많이 하고 있는데, 대표적인 예로 QD퀀텀닷입자를 사용하여 휘도를 향상시키거나 색재현율을 증가시키거나 OLED로의 착색 격벽 구조물의 적용을 통한 명암비 향상등의 연구들이 진행되고 있다. In general LCD and OLED displays, efforts have been made to improve the brightness and contrast ratio. For example, QD quantum dot particles are used to improve the luminance or increase the color reproducibility, or to improve the contrast ratio by applying the colored barrier structure to the OLED And so on.
한국 등록특허 제10-1751646호는 고투과성을 목적으로 하는 화합물 구조의 바인더 수지를 개발하여, 이를 포함한 착색 감광성 수지 조성물을 통해 유기발광 디스플레이의 성능 개선을 위한 연구를 진행 하였다. 통상적으로 가시광선 영역은 380㎚에서 780 ㎚의 범위를 눈으로 보는 가시광선영역으로 언급된다. 즉 종래 수지의 투과율이 380㎚에서 가장 낮은 투과도를 보이며, 투과도도 80% 수준으로 형성되어, 디스플레이 재료로 사용하기 위하여 투명한 수지를 제조하기 위한 발명이다. 또한, 이러한 투명한 수지를 제조하는 경우 일반적으로 사용하는 착색제를 사용하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하는 것에 목적을 두고 있는 것이다. Korean Patent No. 10-1751646 has developed a binder resin having a compound structure aimed at high transparency and has conducted studies for improving the performance of an organic light emitting display through a colored photosensitive resin composition containing the binder resin. Typically, the visible light region is referred to as the visible light region visible from 380 nm to 780 nm. That is, the transmittance of the conventional resin shows the lowest transmittance at 380 nm, and the transmittance is also set at 80%, which is an invention for producing a transparent resin for use as a display material. Further, in the case of producing such a transparent resin, it is an object to produce a colored photosensitive resin composition using a colorant generally used.
한편, 본 발명은 수지에 특정 파장에서 높은 흡광도를 도입하여 투과도가 낮은 수지를 제조하는 것을 목적으로 한다. 이렇게 제조된 수지는 착색 감광성 수지 조성물을 제조하는데 있어서 색재를 구성하는 성분을 적게 또는 넣지 않고도 색상을 가지는 패턴을 형성하는데 유리하다. 이에 기존에 수지가 가지지 못한 새로운 바인더 수지를 합성하는 것을 그 목적으로 하는 것이다.On the other hand, the object of the present invention is to produce a resin having a low transmittance by introducing a high absorbance at a specific wavelength into a resin. The resin thus prepared is advantageous for forming a pattern having a color in the production of the colored photosensitive resin composition, with little or no constituent of the color material. Therefore, it is an object of the present invention to synthesize a new binder resin which the resin does not have.
본 발명은 가시광선 영역을 흡수하는 구조를 바인더 수지에 포함함으로써, 가시광선 영역을 적극적으로 흡수하여 투과도가 낮은 신규한 바인더 수지를 제공 하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a novel binder resin which actively absorbs a visible light region and has a low transmittance by incorporating a structure absorbing a visible light region into a binder resin.
또한 본 발명은 상술한 바인더 수지를 포함함으로써, 추가로 투입되는 착색제의 함량을 감소 가능하여, 우수한 휘도 및 밝기를 나타내면서도, 잔사 문제가 발생하지 않고, 내열성 및 분산안전성이 우수하며, 아웃가스 발생률이 현저히 낮아 우수한 기능을 갖는 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로한다.Further, the present invention can reduce the content of the added coloring agent by including the above-mentioned binder resin, exhibits excellent brightness and brightness, exhibits no residue problems, is excellent in heat resistance and dispersion stability, Is remarkably low, thereby providing a photosensitive resin composition having excellent functions.
또한, 본 발명은 휘도 및 밝기 특성이 우수하며, 아웃가스 발생률이 현저히 낮아 불량률이 낮은 고기능성 효과를 갖는 감광성 수지 조성물을 포함하는 패턴 및 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a pattern and display device comprising a photosensitive resin composition having a high functionality and a low defective rate because of excellent brightness and brightness characteristics and significantly low outgassing rate.
본 발명은 하기 화학식 I 의 구조를 갖는 화합물 및;The present invention relates to compounds having the structure of formula (I)
가시광선 영역의 파장을 흡수하는 단량체를 반응시켜 제조되는 바인더 수지:A binder resin prepared by reacting a monomer absorbing a wavelength in a visible light region:
[화학식 I](I)
상기 화학식 I에서, In the formula (I)
X1과 X2는 각각 독립적으로, , 또는 이며;X 1 and X 2 are each independently , , or ;
상기 R1 , , , , 또는이며; The R 1 , , , , or ;
*은 결합손을 의미하며; * Denotes a combined hand;
A는 하기 화학식 I-i 인, 바인더수지를 제공한다.A is a group represented by the following formula (I-i).
[화학식 I-i] (I-i)
본 발명은 착색제; 상술한 바인더수지; 광중합성 단량체; 옥심계 광 개시제; 및 용매를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다. The present invention relates to a colorant; The above-mentioned binder resin; Photopolymerizable monomers; Oxime-based photoinitiators; And a coloring photosensitive resin composition comprising a solvent.
본 발명은 상술한 착색 감광성 수지 조성물을 포함하는 디스플레이 격벽 구조물을 제공한다.The present invention provides a display barrier structure including the above-mentioned colored photosensitive resin composition.
본 발명은 상술한 디스플레이 격벽 구조물을 포함하는 표시장치를 제공한다.The present invention provides a display device including the above-described display barrier rib structure.
본 발명의 바인더 수지는 가시광선 영역을 흡수하는 구조를 바인더 수지에 도입함으로써, 가시광선 영역을 적극적으로 흡수하여 투과도가 낮은 신규한 바인더 수지를 제공 하는 효과를 달성한다. The binder resin of the present invention achieves the effect of providing a novel binder resin having a low transmittance by actively absorbing a visible light region by introducing a structure absorbing a visible light region into the binder resin.
또한, 본 발명의 바인더 수지를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물은 추가로 투입되는 착색제의 함량을 감소 시키는 효과를 달성하며, 우수한 휘도 및 밝기를 나타내면서도, 잔사 문제가 발생하지 않고, 내광성, 내열성 및 분산안전성이 우수하며, 아웃가스 발생률이 현저히 낮아 우수한 기능을 갖는 효과를 달성 한다.Further, the colored photosensitive resin composition containing the binder resin of the present invention achieves the effect of reducing the content of the added coloring agent, and exhibits excellent brightness and brightness, does not cause a residue problem, and has excellent light resistance, The safety is excellent, and the outgas generation rate is remarkably low, so that an effect having a superior function is achieved.
또한, 이렇게 제조된 패턴 및 표시장치는 휘도 및 밝기 특성이 우수하며, 내광성, 내열성 및 분산 안정성이 우수하며, 아웃가스 발생률이 현저히 낮아 불량률이 낮은 고기능성 효과를 달성한다. In addition, the pattern and display device manufactured as described above have excellent brightness and brightness characteristics, excellent light resistance, heat resistance, and dispersion stability, and have a remarkably low outgas generation rate, thereby achieving a high functionality effect with a low defect rate.
도 1은 잔사 평가에 대한 평가 기준에 관한 도로, (a)는 잔사가 없어 우수한 경우, (b)는 잔사가 과도하여 매우 나쁜 경우에 관한 도이다.Fig. 1 is a diagram relating to an evaluation criterion for residue evaluation. Fig. 1 (a) shows a case where the residue is not available, and Fig. 2 (b) shows a case where the residue is excessively bad.
본 발명은 가시광선 영역을 흡수하는 구조를 포함하는 바인더 수지를 제공함으로써, 투과도가 낮은 신규한 바인더 수지를 할 수 있으며, 이를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물은 추가로 투입되는 착색제의 함량을 감소 시킬 수 있어, 우수한 휘도 및 밝기를 나타내면서도, 잔사 문제가 발생하지 않고, 내광성, 내열성 및 분산안전성이 우수하며, 아웃가스 발생률이 현저히 낮아 고기능성의 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다. The present invention can provide a novel binder resin having low transmittance by providing a binder resin having a structure absorbing a visible light region, and the colored photosensitive resin composition containing the binder resin can reduce the content of the added colorant The present invention provides a colored photosensitive resin composition which exhibits excellent brightness and brightness and does not cause a residue problem, has excellent light resistance, heat resistance, and dispersion stability, and significantly low outgas generation rate.
본 발명은 착색제; 상술한 바인더수지; 광중합성 단량체; 옥심계 광 개시제; 및 용매를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다. The present invention relates to a colorant; The above-mentioned binder resin; Photopolymerizable monomers; Oxime-based photoinitiators; And a coloring photosensitive resin composition comprising a solvent.
착색제coloring agent
본 발명의 착색제에 있어서, 착색제는 유기 착색제 및/또는 무기 착색제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있고, 상기 유기 착색제는 유기안료 및/또는 유기염료를 들 수 있으며, 무기 착색제는 무기안료 및/또는 무기염료를 들 수 있다. 상기 착색제는 밀베이스의 형태로 존재할 수 있다. 상기 유기안료 및/또는 유기염료는 합성 색소 또는 천연 색소일 수 있다. 상기 유기 안료는 필요한 경우, 로진 처리, 산성 기 또는 염기성 기가 도입되어 있는 안료 유도체를 사용하는 표면 처리, 중합체 화합물 등을 사용하는 안료의 표면에 대한 그라프트 처리, 황산 미세 입자화 방법 등에 의한 미세 입자화 처리, 또는 불순물을 제거하기 위해 유기 용매 또는 물 등에 의한 세정 처리를 실시할 수 있다. 상기 무기 안료는 금속 산화물, 금속 착염, 황산바륨(체질 안료)의 무기염 등일 수 있다. 이때, 상기 밀베이스의 주목적인 색을 띠는 층은 기존의 밀베이스에서 사용되는 안료와 동일하다. In the colorant of the present invention, the colorant may include at least one selected from the group consisting of an organic colorant and / or an inorganic colorant, and the organic colorant may include an organic pigment and / or an organic dye, Inorganic pigments and / or inorganic dyes. The colorant may be present in the form of a mill base. The organic pigments and / or organic dyes may be synthetic or natural pigments. If necessary, the organic pigment may be subjected to a surface treatment using a pigment derivative in which a rosin treatment, an acidic group or a basic group is introduced, a graft treatment on the surface of a pigment using a polymer compound or the like, A cleaning treatment with an organic solvent or water or the like may be carried out to remove impurities. The inorganic pigment may be a metal oxide, a metal complex salt, an inorganic salt of barium sulfate (extender pigment), or the like. At this time, the main coloring layer of the mill base is the same as the pigment used in the conventional mill base.
상기 착색제는 보다 구체적으로, C.I. 피그먼트 옐로우 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185;More specifically, the colorant is a colorant selected from the group consisting of C.I. Pigment Yellow 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 and 185 ;
C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71;C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, and 71;
C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264 및 279;C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264 and 279;
C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38;C.I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38;
C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6등), 16, 21, 28, 60, 64 및 76;C.I. Pigment Blue 15 (15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), 16, 21, 28, 60, 64 and 76;
C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47 및 58;C.I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36, 47 and 58;
C.I 피그먼트 브라운 28;C.I. Pigment Brown 28;
C.I 피그먼트 블랙 1, 31, 32, 및 C.I. Pigment Black 1, 31, 32, and
유기블랙 안료 등을 들 수 있다. Organic black pigments and the like.
상기 유기 블랙 안료(Organic black pigment, OBP)는 Basf사의 Lumogen® Black FK 4280 및/또는 Basf사의 100 CF가 보다 바람직 할 수 있으며,The organic black pigment (OBP) may be more preferably Lumogen Black FK 4280 from Basf and / or 100 CF from Basf,
상기 피그먼트 C.I.레드는 254가 바람직 할 수 있으며,The Pigment C.I. red may be preferably 254,
상기 피그먼트 C.I.블루는 B15:6 가 바람직 할 수 있으며,The Pigment C.I. Blue may be B 15: 6,
C.I 피그먼트 바이올렛은 23, 32 및/또는 29가 보다 바람직 할 수 있다. C. I. Pigment violet may be more preferably 23, 32 and / or 29.
상기 착색제는 입자 크기가 상기 착색제의 입자 크기가 3 내지 150nm일 수 있으며, 상기 범위에 속할 경우 액상에 분산된 상태로 유지되는데 유리하다. 보다 구체적으로 착색제중 유기착색제는 입자의 크기가 20 내지 100nm일 경우 바람직하다. 유기착색제가 상기 범위를 만족할 경우 분산 안정성 측면에서 좋다. 이는 만약 상기 범위 미만 크기를 가지게 되면 착색제의 표면적이 급격하게 증가되어 분산안정성이 떨어지고 착색제 사이의 뭉침 현상이 발생하게 될 수 있고, 상기 범위를 초과하는 크기를 가지게 되면 착색제의 중량이 증가하기 때문에 분산안정성이 떨어지고 침전이 발생하기 쉽기 때문이다. 착색제중 무기 착색제는 입자의 크기가 3내지 20nm 일 수 있다. 무기착색제가 상기 범위 크기를 가지게 되면 분산성이 우수하여 보관안정성이 증가되는 측면에서 바람직하다. The colorant may advantageously have a particle size of 3 to 150 nm when the particle size of the colorant is in a range of 3 to 150 nm. More specifically, the organic colorant in the colorant is preferable when the particle size is 20 to 100 nm. When the organic colorant satisfies the above range, the dispersion stability is good. If the size of the colorant is less than the above range, the surface area of the colorant may increase sharply, resulting in poor dispersion stability and aggregation between the colorants. If the size exceeds the above range, the weight of the colorant may increase This is because stability is poor and sedimentation is easy to occur. The inorganic colorant in the colorant may have a particle size of 3 to 20 nm. When the inorganic colorant has the above-mentioned range size, it is preferable from the viewpoint of excellent dispersibility and storage stability.
상기 착색제는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 총 중량에 대하여, 상기 착색제를 5 내지 50 중량부 포함될 수 있으며, 보다 바람직하게는 10 내지 45 중량부 포함 될 수 있다. 상기 범위 내로 포함될 경우 착색을 발현하기 유리하며, 패턴 형성이 유리하다는 점에서 바람직하다. The colorant may be contained in an amount of 5 to 50 parts by weight, more preferably 10 to 45 parts by weight, based on the total weight of the solid components in the colored photosensitive resin composition. If it is included in the above range, it is advantageous to exhibit coloration, and pattern formation is advantageous.
본 발명에서 "고형분"은, 착색 감광성 수지 조성물의 총 구성에서, 용제를 제외한 성분을 의미한다. In the present invention, "solid content" means a component excluding the solvent in the total constitution of the colored photosensitive resin composition.
바인더 수지Binder resin
본 발명은 하기 화학식 I 의 구조를 갖는 화합물 및; 가시광선 영역의 파장을 흡수하는 단량체를 반응시켜 제조되는 바인더 수지를 제공한다.The present invention relates to compounds having the structure of formula (I) And a monomer which absorbs a wavelength in the visible light region.
[화학식 I](I)
[화학식 I](I)
상기 화학식 I에서, In the formula (I)
X1과 X2는 각각 독립적으로, , 또는 이며;X 1 and X 2 are each independently , , or ;
상기 R1 , , , , 또는이며; The R 1 , , , , or ;
*은 결합손을 의미하며; * Denotes a combined hand;
A는 하기 화학식 I-i 인, 바인더수지를 제공한다.A is a group represented by the following formula (I-i).
[화학식 I-i] (I-i)
본 발명에서, 상기 바인더 수지를 포함할 경우 투과도가 낮은 신규한 바인더 수지를 포함하는 것으로, 바인더 수지내 가시광선 영역의 파장을 흡수하는 단량체를 포함하여 추가로 투입되는 착색제의 함량을 감소 시킬 수 있어, 우수한 휘도 및 밝기를 나타내면서도, 잔사 문제가 발생하지 않고, 내광성, 내열성 및 분산안전성이 우수하며, 아웃가스 발생률이 현저히 낮아 고기능성의 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조되는 패턴의 형성을 가능하다. In the present invention, when the binder resin is included, it includes a novel binder resin having a low transmittance, so that it is possible to reduce the content of a further added coloring agent, including a monomer absorbing a wavelength in the visible light region in the binder resin , It exhibits excellent brightness and brightness, does not cause a residue problem, has excellent light resistance, heat resistance and dispersion stability, and has a remarkably low outgas generation rate, so that a highly functional colored photosensitive resin composition and a pattern can be formed using the same Do.
본 발명에 있어서, 상기 가시광선 영역의 파장을 흡수하는 단량체는 바람직하게 산 무수물(anhydride acid) 구조를 포함할 수 있으며, 페릴렌(perylene) 구조를 포함함이 더 바람직 할 수 있다. In the present invention, the monomer absorbing the wavelength of the visible light region may preferably include an anhydride acid structure, and may further include a perylene structure.
보다 구체적으로 상기 가시광선 영역의 파장을 흡수하는 단량체는 하기 화학식 II의 구조를 갖는 화합물 일 수 있으며, More specifically, the monomer absorbing the wavelength of the visible light region may be a compound having a structure of the following formula (II)
[화학식 II]≪ RTI ID = 0.0 &
상기 화학식 II의 구조를 갖는 화합물을 포함할 경우 바인더 수지가 착색제의 역할을 함으로써 착색제의 함량을 저감시킬 수 있다는 점에서 보다 바람직할 수 있다. When the compound having the structure of the above formula (II) is included, it is more preferable that the binder resin serves as a colorant to reduce the content of the colorant.
본 발명에서 바인더 수지는 하기 화학식 III으로 표시되는 것일 수 있으며, 하기 화학식 III-1 및 화학식 III-2으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 경우 보다 바람직 할 수 있다.In the present invention, the binder resin may be represented by the following formula (III), and it may be more preferable to include at least one selected from the group consisting of the following formulas (III-1) and (III-2).
[화학식 III](III)
상기 화학식 III에서, In the formula (III)
R3 와 R4는 각각 독립적으로, ,, 또는 이며;R 3 and R 4 are each independently , , , or ;
상기 R1 , , , , 또는이며; The R 1 , , , , or ;
D는 이며;D is ;
*은 결합손을 의미하며;* Denotes a combined hand;
상기 p는 1 내지 30의 정수이다.P is an integer of 1 to 30;
상기 화학식 III의 구체예는 하기 화학식 III-1 및 화학식 III-2를 들 수 있다. Specific examples of the formula (III) include the following formulas (III-1) and (III-2).
[화학식 III-1][Formula III-1]
[화학식 III-2][Formula III-2]
상기 화학식 III, III-1 및 III-2에서 p는 1 내지 30의 정수이다.In the above formulas (III), (III-1) and (III-2), p is an integer of 1 to 30.
상기 바인더 수지는 착색 감광성 수지 조성물 고형분 총 중량에 대하여, 5 내지 50중량부 포함될수 있으며, 상기 범위 내로 포함될 경우 착색제의 성능이 높게 발현된다는 점에서 바람직하다.The binder resin may be contained in an amount of 5 to 50 parts by weight based on the total weight of the solids content of the colored photosensitive resin composition. When the binder resin is included within the above range, the performance of the colorant is preferably high.
광중합성Photopolymerization 단량체 Monomer
상기 광중합성 단량체는 광조사에 의해 광 개시제로부터 발생되는 활성 라디칼 등에 의해 중합될 수 있는 단량체이다.The photopolymerizable monomer is a monomer that can be polymerized by an active radical generated from a photoinitiator by light irradiation.
상기 광중합성 단량체의 구체적인 예로는, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크 릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 노볼락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 상기 예시한 광중합성 단량체는 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Specific examples of the photopolymerizable monomer include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, But are not limited to, glycol acrylate, glycol acrylate, glycol acrylate, glycol acrylate, lithol acrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate , Bisphenol A diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, novolak epoxy acrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, and the like. . The above-mentioned photopolymerizable monomers may be used singly or in combination of two or more thereof.
상기 광중합성 단량체의 함량은 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 총 중량에 대하여 5 내지 50 중량부 포함될 수 있으며 바람직하게는 10 내지 30중량부, 보다 바람직하게는 15 내지 30중량부로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 단량체의 함량이 상기 범위 내로 포함될 경우 패턴 특성이 양호하게 형성되므로 바람직하다.The content of the photopolymerizable monomer may be 5 to 50 parts by weight, preferably 10 to 30 parts by weight, more preferably 15 to 30 parts by weight based on the total weight of the solid content of the colored photosensitive resin composition of the present invention. When the content of the photopolymerizable monomer is within the above range, pattern characteristics are preferably formed, which is preferable.
광 ore 개시제Initiator
본 발명에서 광 개시제를 포함함으로써 더 안정적인 패턴 형성 효과를 나타낼 수 있다.By including a photoinitiator in the present invention, a more stable pattern formation effect can be exhibited.
상기 광 개시제는 구체적으로 옥심계 화합물, 옥심에스테르계 화합물, 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물 및 비이미다졸계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용할 수 있으며, 옥심계 화합물을 포함하는 광 개시제가 보다 바람직 할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 하기 화학식 II로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다. The photoinitiator may specifically include at least one compound selected from the group consisting of oxime compounds, oxime ester compounds, triazine compounds, acetophenone compounds and nonimidazole compounds, A photoinitiator may be more preferable, and more preferably, at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by the following formula (II) may be used.
[화학식 II]≪ RTI ID = 0.0 &
상기 화학식 II에서, In the above formula (II)
R1, R2, R3, R4는 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, OR15, 할로겐, 또는 NO2이거나; R 1 , R 2 , R 3 and R 4 independently of one another are hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, OR 15 , halogen, or NO 2 ;
또는 R1 및 R2, R2 및 R3, R3 및 R4는 서로 독립적으로 함께 으로서, 이들이 부착되어 있는 탄소 원자와 함께 6-원 고리를 형성하고;Or R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , Together with the carbon atoms to which they are attached form a 6-membered ring;
R11, R12, R13, R14는 서로 독립적으로 수소, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, CN, OH, SH, C1-C4-알콕시, (CO)OH에 의해 또는 (CO)O(C1-C4알킬)에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나;R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently of the other hydrogen, unsubstituted or substituted by one or more halogen, phenyl, CN, OH, SH, C 1 -C 4 -alkoxy, CO) O (C 1 -C 4 alkyl) in the substituted C 1 -C 20 alkyl, or by;
또는 R11, R12, R13, R14는 서로 독립적으로 비 치환된 페닐 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, 할로겐, CN, OR15에 의해 또는 NR17R18에 의해 치환된 페닐이거나;Or R 11 , R 12 , R 13 and R 14 independently of one another are unsubstituted phenyl or phenyl substituted by one or more C 1 -C 6 alkyl, halogen, CN, OR 15 or NR 17 R 18 ;
또는 R11, R12, R13, R14는 서로 독립적으로 할로겐, CN, OR15, SR16, SOR16, SO2R16 또는 NR17R18이고, 여기서 치환기 OR15, SR16 또는 NR17R18은 임의로 나프틸 고리의 탄소 원자 중 1개와 함께 라디칼 R15, R16, R17 및/또는 R18을 통해 5- 또는 6-원 고리를 형성하고; Or R 11 , R 12 , R 13 and R 14 independently of one another are halogen, CN, OR 15 , SR 16 , SOR 16 , SO 2 R 16 or NR 17 R 18 in which substituents OR 15 , SR 16 or NR 17 R 18 together with one of the carbon atoms of the naphthyl ring optionally form a 5- or 6-membered ring via the radicals R 15 , R 16 , R 17 and / or R 18 ;
R5는, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, R15, COOR15, OR15, SR16, CONR17R18, NR17R18에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나;R 5 is C 1 -C 20 alkyl unsubstituted or substituted by one or more halogens, R 15 , COOR 15 , OR 15 , SR 16 , CONR 17 R 18 , NR 17 R 18 ;
또는 R5는 1개 이상의 O, S, SO, SO2, NR23 또는 CO가 개재된 C2-C20알킬이거나,Or R 5 is C 2 -C 20 alkyl interrupted by one or more O, S, SO, SO 2 , NR 23 or CO,
또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, CO 또는 NR23이 개재된 C2-C12알케닐이고,Or a non-intervening or one or more O, CO or NR 23 she is a C2-C12 alkenyl interposed,
여기서 개재된 C2-C20알킬 및 비개재 또는 개재된 C2-C12알케닐은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐에 의해 치환되거나;Wherein the intervening C 2 -C 20 alkyl and the non-interrupted or interrupted C 2 -C 12 alkenyl are unsubstituted or substituted by one or more halogens;
또는 R5는 C4-C8시클로알케닐, C2-C12알키닐, 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR23이 개재된 C3-C10시클로알킬이거나;Or R 5 is C 4 -C 8 cycloalkenyl, C 2 -C 12 alkynyl, or C 3 -C 10 cycloalkyl which is interrupted or interrupted by one or more O, S, CO or NR 23 ;
또는 R5는 페닐 또는 나프틸이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 OR15, SR16, NR17R18, COR22, CN, NO2, 할로겐, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR23이 개재된 C2-C20알킬에 의해 치환되거나, 또는 이들 각각은 C3-C10시클로알킬에 의해 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR24이 개재된 C3-C10시클로알킬에 의해 치환되고;Or R 5 is phenyl or naphthyl each of which is unsubstituted or substituted by one or more of OR 15 , SR 16 , NR 17 R 18 , COR 22 , CN, NO 2 , halogen, C 1 -C 20 alkyl, C 1 C 4 haloalkyl, C 2 -C 20 alkyl substituted with one or more O, S, CO or NR 23 , or each of which may be substituted by C 3 -C 10 cycloalkyl or by one or more O, S, CO, or NR 24 is interposed a C 3 -C 10 cycloalkyl which is substituted by alkyl;
R6, R7, R8, R9, R10은 수소, 페닐-C1-C3알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OH, SH, CN, C3-C6알켄옥시, OCH2CH2CN, OCH2CH2(CO)O(C1-C4알킬), O(CO)-(C1-C4알킬), O(CO)-(C2-C4)알케닐, O(CO)-페닐, (CO)OH, (CO)O(C1-C4알킬), C3-C20시클로알킬, SO2-(C1-C4할로알킬), O(C1-C4할로알킬)에 의해 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나; R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are independently selected from hydrogen, phenyl-C 1 -C 3 alkyl, unsubstituted or substituted with one or more of halogen, OH, SH, CN, C 3 -C 6 alkenoxy, OCH 2 CH 2 CN, OCH 2 CH 2 (CO) O (C 1 -C 4 alkyl), O (CO) - ( C 1 -C 4 alkyl), O (CO) - ( C 2 -C 4) alkenyl (C 1 -C 4 alkyl), C 3 -C 20 cycloalkyl, SO 2 - (C 1 -C 4 haloalkyl), O (C) -C 1 -C 4 haloalkyl), or C 1 -C 20 alkyl substituted by one or more O interrupted C 3 -C 20 cycloalkyl;
또는 R6, R7, R8, R9, R10은 1개 이상의 O, S 또는 NR24이 개재된 C2-C20알킬이거나;Or R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 are C 2 -C 20 alkyl interrupted by one or more O, S or NR 24 ;
또는 R6, R7, R8, R9, R10은 (CH2CH2O)n+1H, (CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8알킬), C1-C8알카노일, C2-C12알케닐, C3-C6알케노일, 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR23이 개재된 C3-C20시클로알킬이거나;Or R 6, R 7, R 8 , R 9, R 10 is (CH 2 CH 2 O) n + 1 H, (CH 2 CH 2 O) n (CO) - (C 1 -C 8 alkyl), C C 1 -C 8 alkanoyl, C 2 -C 12 alkenyl, C 3 -C 6 alkenoyl, or C 3 -C 20 cycloalkyl which is interrupted or interrupted by one or more O, S, CO or NR 23 ;
또는 R6, R7, R8, R9, R10은, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C1-C8알킬-C3-C10시클로알킬이거나;Or R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 are C 1 -C 8 alkyl-C 3 -C 10 cycloalkyl which is interrupted or interrupted by one or more O;
또는 R6, R7, R8, R9, R10은, 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, 할로겐, OH 또는 C1-C3알콕시에 의해 치환된 벤조일이거나;Or R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 are benzoyl which is unsubstituted or substituted by one or more C 1 -C 6 alkyl, halogen, OH or C 1 -C 3 alkoxy;
또는 R6, R7, R8, R9, R10은 페닐, 나프틸 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OH, C1-C12알킬, C1-C12알콕시, CN, NO2, 페닐-C1-C3알킬옥시, 페녹시, C1-C12알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C12알킬)2, 디페닐아미노에 의해 치환되고;Or R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are phenyl, naphthyl or C 3 -C 20 heteroaryl, each of which is unsubstituted or substituted by one or more of halogen, OH, C 1 -C 12 alkyl C 1 -C 12 alkoxy, CN, NO 2 , phenyl-C 1 -C 3 alkyloxy, phenoxy, C 1 -C 12 alkylsulfanyl, phenylsulfanyl, N (C 1 -C 12 alkyl) 2 , Substituted by diphenylamino;
R15는 수소, 페닐-C1-C3알킬, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OH, SH, CN, C3-C6알켄옥시, OCH2CH2CN, OCH2CH2(CO)O(C1-C4알킬), O(CO)-(C1-C4알킬), O(CO)-(C2-C4)알케닐, O(CO)-페닐, (CO)OH, (CO)O(C1-C4알킬), C3-C20시클로알킬, SO2-(C1-C4할로알킬), O(C1-C4할로알킬)에 의해 또는 1개 이상의 O가 개재된 C3-C20시클로알킬에의해 치환된 C1-C20알킬이거나;R 15 is hydrogen, phenyl -C 1 -C 3 alkyl, unsubstituted or substituted by one or more halogen, OH, SH, CN, C 3 -C 6 alkenyl-oxy, OCH 2 CH 2 CN, OCH 2 CH 2 (CO) O (C 1 -C 4 alkyl), O (CO) - (C 1 -C 4 alkyl), O (CO) - (C 2 -C 4 ) alkenyl, O , (CO) O (C 1 -C 4 alkyl), C 3 -C 20 cycloalkyl, SO 2 - (C 1 -C 4 haloalkyl), O (C 1 -C 4 haloalkyl) or more O is interposed a C 3 -C 20 cycloalkyl substituted by C 1 -C 20 alkyl;
또는 R15는 1개 이상의 O, S 또는 NR23이 개재된 C2-C20알킬이거나;Or R 15 is C 2 -C 20 alkyl interrupted by one or more O, S or NR 23 ;
또는 R15는 (CH2CH2O)n+1H, (CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8알킬), C1-C8알카노일, C2-C12알케닐, C3-C6알케노일, 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR23이 개재된 C3-C20시클로알킬이거나;Or R 15 is (CH 2 CH 2 O) n + 1 H, (CH 2 CH 2 O) n (CO) - (C 1 -C 8 alkyl), C 1 -C 8 alkanoyl, C 2 -C 12 C 3 -C 6 alkenoyl, or C 3 -C 20 cycloalkyl which is interrupted or interrupted by one or more O, S, CO or NR 23 ;
또는 R15는, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O가 개재된 C1-C8알킬-C3-C10시클로알킬이거나;Or R 15 is C 1 -C 8 alkyl-C 3 -C 10 cycloalkyl which is interrupted or interrupted by one or more O;
또는 R15는, 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, 할로겐, OH 또는 C1-C3알콕시에 의해 치환된 벤조일이거나;Or R 15 is benzoyl which is unsubstituted or substituted by one or more C 1 -C 6 alkyl, halogen, OH or C 1 -C 3 alkoxy;
또는 R15는 페닐, 나프틸 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, OH, C1-C12알킬, C1-C12알콕시, CN, NO2, 페닐-C1-C3알킬옥시, 페녹시, C1-C12알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C12알킬)2, 디페닐아미노 또는 에 의해 치환되고;Or R 15 is phenyl, naphthyl or C 3 -C 20 heteroaryl, each of which is unsubstituted or substituted by one or more of halogen, OH, C 1 -C 12 alkyl, C 1 -C 12 alkoxy, CN, NO 2 , Phenyl-C 1 -C 3 alkyloxy, phenoxy, C 1 -C 12 alkylsulfanyl, phenylsulfanyl, N (C 1 -C 12 alkyl) 2 , diphenylamino or Lt; / RTI >
R16은 수소, C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 페닐-C1-C3알킬이고, 여기서 C2-C12알케닐, C3-C20시클로알킬 또는 페닐-C1-C3알킬은 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO, NR23 또는 COOR15가 개재되거나;R 16 is hydrogen, C 2 -C 12 alkenyl, C 3 -C 20 cycloalkyl or phenyl-C 1 -C 3 alkyl, wherein C 2 -C 12 alkenyl, C 3 -C 20 cycloalkyl or phenyl- C 1 -C 3 alkyl is interrupted or interrupted by one or more O, S, CO, NR 23 or COOR 15 ;
또는 R16은, 비치환되거나 또는 1개 이상의 OH, SH, CN, C3-C6알켄옥시, OCH2CH2CN, OCH2CH2(CO)O(C1-C4알킬), O(CO)-(C2-C4)알케닐, O(CO)-(C1-C4알킬), O(CO)-페닐 또는 (CO)OR15에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나;Or R 16 is unsubstituted or substituted with one or more of OH, SH, CN, C 3 -C 6 alkenoxy, OCH 2 CH 2 CN, OCH 2 CH 2 (CO) O (C 1 -C 4 alkyl) (CO) - (C 2 -C 4) alkenyl, O (CO) - (C 1 -C 4 alkyl), O (CO) - phenyl, or (CO) substituted by a C 1 -C 20 alkyl oR 15 ;
또는 R16은 1개 이상의 O, S, CO, NR23 또는 COOR15이 개재된 C2-C20알킬이거나;Or R 16 is C 2 -C 20 alkyl interrupted by one or more O, S, CO, NR 23 or COOR 15 ;
또는 R16은 (CH2CH2O)nH, (CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8알킬), C2-C8알카노일 또는 C3-C6알케노일이거나;Or R 16 is (CH 2 CH 2 O) n H, (CH 2 CH 2 O) n (CO) - (C 1 -C 8 alkyl), C 2 -C 8 alkanoyl or C 3 -C 6 alkenoyl ;
또는 R16은, 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C6알킬, 할로겐, OH, C1-C4알콕시 또는 C1-C4알킬술파닐에 의해 치환된 벤조일이거나;Or R 16 is benzoyl which is unsubstituted or substituted by one or more C 1 -C 6 alkyl, halogen, OH, C 1 -C 4 alkoxy or C 1 -C 4 alkylsulfanyl;
또는 R16은 페닐, 나프틸 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C12알킬, C1-C4할로알킬, C1-C12알콕시, CN, NO2, 페닐-C1-C3알킬옥시, 페녹시, C1-C12알킬술파닐, 페닐술파닐, N(C1-C12알킬)2, 디페닐아미노, (CO)O(C1-C8알킬), (CO)-C1-C8알킬, (CO)N(C1-C8알킬)2 또는 에 의해 치환되고;Or R 16 is phenyl, naphthyl or C 3 -C 20 heteroaryl, each of which is unsubstituted or substituted by one or more of halogen, C 1 -C 12 alkyl, C 1 -C 4 haloalkyl, C 1 -C 12 alkoxy, CN, NO 2, phenyl, -C 1 -C 3 alkyloxy, phenoxy, C 1 -C 12 alkyl sulfanyl, phenylsulfanyl, N (C 1 -C 12 alkyl) 2, diphenylamino, (CO ) O (C 1 -C 8 alkyl), (CO) -C 1 -C 8 alkyl, (CO) N (C 1 -C 8 alkyl) 2 or Lt; / RTI >
R17 및 R18은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C2-C4히드록시알킬, C2-C10알콕시알킬, C2-C5알케닐, C3-C20시클로알킬, 페닐-C1-C3알킬, C1-C8알카노일, C1-C8알카노일옥시, C3-C12알케노일, SO2-(C1-C4할로알킬) 또는 벤조일이거나;R 17 and R 18 independently of one another are hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, C 2 -C 4 hydroxyalkyl, C 2 -C 10 alkoxyalkyl, C 2 -C 5 alkenyl, C 3 -C 20 cycloalkyl , phenyl, -C 1 -C 3 alkyl, C 1 -C 8 alkanoyl, C 1 -C 8 alkanoyloxy, C 3 -C 12 alkenyl alkanoyl, SO 2 - (C 1 -C 4 haloalkyl), or benzoyl, or ;
또는 R17 및 R18은 페닐, 나프틸 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, C1-C4할로알킬, C1-C20알콕시, C1-C12알킬, 벤조일 또는 C1-C12알콕시에 의해 치환되거나;Or R 17 and R 18 are phenyl, naphthyl or C 3 -C 20 heteroaryl, each of which is unsubstituted or substituted by one or more of halogen, C 1 -C 4 haloalkyl, C 1 -C 20 alkoxy, C 1 -C 12 alkyl, benzoyl or C 1 -C 12, or substituted by alkoxy;
또는 R17 및 R18은 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 비개재되거나 또는 O, S 또는 NR15이 개재된 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하고, 상기 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, C1-C20알콕시, =O, OR15, SR16, NR19R20, (CO)R21, NO2, 할로겐, C1-C4-할로알킬, CN, 페닐에 의해 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR15이 개재된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환되거나;Or R 17 and R 18 together with the N-atom to which they are attached form a 5- or 6-membered saturated or unsaturated ring which is non-interrupted or interrupted by O, S or NR 15 , membered saturated or unsaturated ring is unsubstituted or substituted, or one or more C 1 -C 20 alkyl 1, C 1 -
또는 R17 및 R18은 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, C1-C20알콕시, =O, OR15, SR16, NR19R20, (CO)R21, 할로겐, NO2, CN, 페닐에 의해 또는 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, S, CO 또는 NR15이 개재된 C3-C20시클로알킬에 의해 치환된 헤테로방향족 고리계를 형성하고;Or R 17 and R 18 together with the N-atom to which they are attached are unsubstituted or substituted by one or more C 1 -C 20 alkyl, C 1 -C 4 haloalkyl, C 1 -C 20 alkoxy, ═O, OR 15, SR 16, NR 19 R 20, (CO) R 21, halogen, NO 2, CN, or sandwiched by a phenyl or a non-or at least one O, S, CO or NR 15 is a C 3 -C 20 interposed Form a heteroaromatic ring system substituted by cycloalkyl;
R19 및 R20은 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, C3-C10시클로알킬 또는 페닐이거나;R 19 and R 20 are independently of each other hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, C 1 -C 4 haloalkyl, C 3 -C 10 cycloalkyl or phenyl;
또는 R19 및 R20은 이들이 부착되어 있는 N-원자와 함께, 비개재되거나 또는 O, S 또는 NR23이 개재된 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리를 형성하고, 상기 5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리는 축합되지 않거나 또는 상기5- 또는 6-원 포화 또는 불포화 고리에 벤젠 고리가 축합되고;Or R 19 and R 20 together with the N-atom to which they are attached form a 5- or 6-membered saturated or unsaturated ring which is non-interrupted or interrupted by O, S or NR 23 , The unsubstituted or unsaturated rings are not condensed or the benzene ring is condensed to the 5- or 6-membered saturated or unsaturated ring;
R21은 수소, OH, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O, CO 또는 NR24이 개재된 C2-C20알킬, 비개재되거나 또는 O, S, CO 또는 NR24이 개재된 C3-C20시클로알킬이거나,R 21 is hydrogen, OH, C 1 -C 20 alkyl, C 1 -C 4 haloalkyl, C 2 -C 20 alkyl which is interrupted or interrupted by one or more O, CO or NR 24 , , S, CO or C 3 -C 20 cycloalkyl interrupted by NR 24 ,
또는 R21은 페닐, 나프틸, 페닐-C1-C4알킬, OR15, SR16 또는 NR19R20이고;Or R 21 is phenyl, naphthyl, phenyl-C 1 -C 4 alkyl, OR 15 , SR 16 or NR 19 R 20 ;
R22는 C6-C20아릴 또는 C3-C20헤테로아릴이고, 이들 각각은 비치환되거나 또는 1개 이상의 페닐, 할로겐, C1-C4할로알킬, CN, NO2, OR15, SR16, NR17R18에 의해 또는 1개 이상의 O, S 또는 NR23이 개재된 C1-C20알킬에 의해 치환되거나, 또는 이들 각각은, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, COOR15, CONR17R18, 페닐, C3-C8시클로알킬, C3-C20헤테로아릴, C6-C20아릴옥시카르보닐, C3-C20헤테로아릴옥시카르보닐, OR15, SR16 또는 NR17R18에 의해 치환된 1개 이상의 C1-C20알킬에 의해 치환되거나;R 22 is C 6 -C 20 aryl or C 3 -C 20 heteroaryl, each of which is unsubstituted or substituted by one or more of phenyl, halogen, C 1 -C 4 haloalkyl, CN, NO 2 , OR 15 , SR 16 , NR 17 R 18 , or C 1 -C 20 alkyl interrupted by one or more O, S or NR 23 , or each of which is unsubstituted or substituted by one or more of halogen, COOR 15 , CONR 17 R 18, phenyl, C 3 -C 8 cycloalkyl, C 3 -C 20 heteroaryl, C 6 -C 20 aryloxycarbonyl, C 3 -C 20 heteroaryloxy carbonyl, oR 15, SR 16 or NR 17 or more 1 substituted by R 18 C 1 -C 20 optionally substituted by alkyl;
또는 R22는 수소, 비치환되거나 또는 1개 이상의 할로겐, 페닐, OH, SH, CN, C3-C6알켄옥시, OCH2CH2CN, OCH2CH2(CO)O(C1-C4알킬), O(CO)-(C1-C4알킬), O(CO)-페닐, (CO)OH 또는 (CO)O(C1-C4알킬)에 의해 치환된 C1-C20알킬이거나;Or R 22 is hydrogen, unsubstituted or substituted by one or more halogen, phenyl, OH, SH, CN, C 3 -C 6 alkenyl-oxy, OCH 2 CH 2 CN, OCH 2 CH 2 (CO) O (C 1 -C 4 alkyl), O (CO) - ( C 1 -C 4 alkyl), O (CO) - phenyl, (CO) OH or (CO) O (C 1 -C 4 alkyl) C 1 -C substituted by 20 alkyl;
또는 R22는 1개 이상의 O, S 또는 NR24가 개재된 C2-C12알킬이거나;Or R 22 is C 2 -C 12 alkyl interrupted by one or more O, S or NR 24 ;
또는 R22는 (CH2CH2O)n+1H, (CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8알킬), C2-C12알케닐 또는 C3-C8시클로알킬이거나;Or R 22 is (CH 2 CH 2 O) n + 1 H, (CH 2 CH 2 O) n (CO) - (C 1 -C 8 alkyl), C 2 -C 12 alkenyl or C 3 -C 8 Cycloalkyl;
또는 R22는 SR16에 의해 치환된 페닐이고, 여기서 라디칼 R16은 CO R22 기가 부착되어 있는 카르바졸 모이어티의 페닐 또는 나프틸 고리에 대한 직접 결합을 나타내고;Or R < 22 > is phenyl substituted by SR < 16 & gt ;, wherein the radical R < 16 > represents a direct bond to the phenyl or naphthyl ring of the carbazole moiety to which the CO R < 22 >
n은 1-20이고;n is 1-20;
R23은 수소, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 1개 이상의 O 또는 CO가 개재된 C2-C20알킬이거나, 또는 페닐-C1-C4알킬, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O 또는 CO가 개재된 C3-C8시클로알킬이거나, 또는 (CO)R17이거나, 또는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, 할로겐, C1-C4할로알킬, OR15, SR16, NR17R18 또는 에 의해 치환된 페닐이고; R 23 is hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, C 1 -C 4 haloalkyl, C 2 -C 20 alkyl interrupted by one or more O or CO, or phenyl-C 1 -C 4 alkyl, Or C 3 -C 8 cycloalkyl interrupted by one or more O or CO, or (CO) R 17 , or is phenyl which is unsubstituted or substituted by one or more C 1 -C 20 alkyl, halogen, C 1 -C 4 halo alkyl, oR 15, SR 16, NR 17 R 18 or Lt; / RTI >;
R24는 수소, C1-C20알킬, C1-C4할로알킬, 1개 이상의 O 또는 CO가 개재된 C2-C20알킬이거나, 또는 페닐-C1-C4알킬, 비개재되거나 또는 1개 이상의 O 또는 CO가 개재된 C3-C8시클로알킬이거나, 또는 (CO)R17이거나, 또는 비치환되거나 또는 1개 이상의 C1-C20알킬, 할로겐, C1-C4할로알킬, OR15, SR16, NR17R18 또는 에 의해 치환된 페닐이다.R 24 is hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, C 1 -C 4 haloalkyl, C 2 -C 20 alkyl interrupted by one or more O or CO, or phenyl-C 1 -C 4 alkyl, Or C 3 -C 8 cycloalkyl optionally interrupted by one or more O or CO, or (CO) R 17 , or is unsubstituted or substituted by one or more C 1 -C 20 alkyl, halogen, C 1 -C 4 haloalkyl, OR 15 , SR 16 , NR 17 R 18 or Lt; / RTI >
상기 옥심계 광 개시제는 상기 화학식 1에서 R1, R2, R3, R4는 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, OR15, 할로겐, 또는 NO2인 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the oxime-based photoinitiator comprises a compound wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 independently of one another are hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, OR 15 , halogen, or NO 2 .
상기 옥심계 광 개시제는 상기 화학식 에서 R1 및 R2, R2 및 R3, R3 및 R4는 서로 독립적으로 함께 으로서, 이들이 부착되어 있는 탄소 원자와 함께 6-원 고리를 형성하는 것인 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.Wherein the oxime-based photoinitiator is represented by the formula: wherein R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 are, Together with the carbon atoms to which they are attached, form a 6-membered ring.
상기 옥심계 광 개시제는 상기 화학식 1에서 R1, R2, R3, R4는 서로 독립적으로 수소, C1-C20알킬, OR15, 할로겐, 또는 NO2인 화합물; 및 R1 및 R2, R2 및 R3, R3 및 R4는 서로 독립적으로 함께 으로서, 이들이 부착되어 있는 탄소 원자와 함께 6-원 고리를 형성하는 것인 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다.Wherein the oxime-based photoinitiator is a compound wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are independently of each other hydrogen, C 1 -C 20 alkyl, OR 15 , halogen, or NO 2 ; And R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , , Together with the carbon atoms to which they are attached, form a 6-membered ring.
상기 옥심계 광 개시제는 OXE-03 (BASF社) 및 NCI-831 (아데카社)등일 수 있다.The oxime-based photoinitiator may be OXE-03 (BASF) and NCI-831 (ADEKA).
이러한 옥심계 광 개시제는 착색 감광성 수지 조성물 중 고형분 총 중량에 대하여 1 내지 20 중량부, 바람직하게는 2.5 내지 5 중량부로 사용할 수 있다. 상기 범위는 광중합성 화합물의 광중합 속도 및 최종 얻어지는 도막의 물성을 고려한 것으로, 상기 범위 내로 포함될 경우 적절한 중합속도로 중합 되어 전체적인 바람직한 공정 시간을 확보 할 수 있으며, 과도한 반응을 억제하여 우수한 도막의 물성을 나타낼 수 있다.The oxime-based photoinitiator may be used in an amount of 1 to 20 parts by weight, preferably 2.5 to 5 parts by weight, based on the total weight of the solid components in the colored photosensitive resin composition. The above range takes into consideration the photopolymerization rate of the photopolymerizable compound and the physical properties of the resulting coating film. When the content is within the above range, it is possible to ensure the entire desired process time by polymerizing at a proper polymerization rate, and to suppress the excessive reaction, .
나아가, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 광중합 개시 보조제가 더 포함될 수 있으며, 바람직하게는 아민계 화합물 및 카르복실산계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 광중합 개시 보조제로 사용될 수 있다. Further, the colored photosensitive resin composition of the present invention may further contain a photopolymerization initiator, and preferably at least one compound selected from the group consisting of an amine compound and a carboxylic acid compound may be used as a photopolymerization initiator.
상기 아민계 화합물은, 예를 들면, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민 및 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물; 4-디메틸아미노벤조산 메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논 및 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물; 등을 들 수 있으며, 이 중에서도 방향족 아민 화합물이 바람직하다. Examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine; 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4- Aromatic amine compounds such as bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; Among them, aromatic amine compounds are preferable.
상기 카르복실산계 화합물은, 예를 들면, 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신 및 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류 등을 들 수 있다.The carboxylic acid compound may be, for example, phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthio And aromatic heteroacetic acids such as acetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine and naphthoxyacetic acid.
이들 광중합 개시 보조제를 사용하는 경우, 광 개시제 1몰당 통상적으로 10몰 이하, 바람직하게는 0.01 내지 5몰의 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다. 상기의 범위에 있으면 흑색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 막의 생산성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.When these photopolymerization initiators are used, they are preferably used in an amount of usually not more than 10 mol, preferably 0.01 to 5 mol, per mol of the photoinitiator. Within the above range, the sensitivity of the black photosensitive resin composition is higher, and the productivity of the film formed using the composition tends to be improved, which is preferable.
첨가제additive
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 첨가제를 더 포함할 수 있다. The colored photosensitive resin composition of the present invention may further comprise an additive.
구체적인 예로는, 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 포함할 수 있다. 실란 커플링제의 구체적인 예로서는 트리메톡시실릴벤조산, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들 중 1종 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용하는 것이 좋다. Specific examples thereof may include a silane coupling agent having a reactive substituent such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, or an epoxy group in order to improve adhesion to a substrate. Specific examples of the silane coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane,? -Isocyanatepropyltriethoxysilane,? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, Trimethoxysilane, and? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Of these, one kind or two or more kinds of them may be used together.
상기 실란 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대해 0.001 내지 20 중량부로 포함되는 것이 바람직하다.The silane coupling agent is preferably contained in an amount of 0.001 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 또한 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제를 포함할 수 있다. 상기 계면 활성제로는 BM-1000, BM-1100(BM Chemie사 제품), 메카 팩 F 142D, 동 F 172, 동 F 173, 동 F183, 동 F475(다이닛폰잉키 가가꾸 고교(주) 제품), 프로라드 FC-135, 동 FC-170C, 동 FC-430, 동 FC-431(스미토모 스리엠(주) 제품), 사프론 S-112, 동 S-113, 동 S-131, 동 S-141, 동 S-145(아사히 가라스(주) 제품), SH-28PA, 동-190, 동-193, SZ-6032, SF-8428(도레 시리콘(주) 제품), S-510 (치소(Chisso)사 제품) 등의 계면 활성제를 들 수 있으며, 이들 중 1종 단독으로 또는 2종 이상을 함께 사용하는 것이 좋다.The photosensitive resin composition of the present invention may also contain a surfactant for improving coatability and preventing defect formation. Examples of the surfactant include BM-1000, BM-1100 (manufactured by BM Chemie), Mequacup F 142D, Copper F 172, Copper F 173, Copper F183, Copper F475 (available from Dainippon Ink & S-113, S-131, S-141 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Sapron S-112, Copper S- S-145 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), SH-28PA, S-190, S-6032, SF-8428 Chisso). These surfactants may be used alone or in combination of two or more thereof.
상기 계면 활정제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대해 0.001 내지 20 중량부로 포함되는 것이 바람직하다.The surfactant is preferably included in an amount of 0.001 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition.
용매menstruum
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 용매는 특별히 제한되지 않으며 착색 감광성 수지 조성물의 분야에서 사용되고 있는 각종 유기 용제를 사용할 수 있다. 그의 구체적인 예로서는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트,프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트 및 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논등의 케톤류, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류, γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다. 상기의 용제 중, 도포성, 건조성면에서 바람직하게는 상기 용제 중에서 비점이 100 내지 200℃인 유기 용제를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산 에틸이나, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등을 들 수 있다. 이들 용제는 각각 단독으로 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent contained in the colored photosensitive resin composition of the present invention is not particularly limited and various organic solvents used in the field of the colored photosensitive resin composition can be used. Specific examples thereof include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol Propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate, and the like, and alkylene oxide such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, But are not limited to, glycol alkyl ether acetates, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene, ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, , Cyclohexanol, Ethylene glycol, and the like in alcohols, such as glycerin 3-ethoxypropionate, ethyl 3-methoxy-esters such as methyl propionate, γ- portion Tyrol cyclic esters such as lactones. Among the above-mentioned solvents, an organic solvent having a boiling point of 100 to 200 ° C in the solvent is preferably used from the viewpoint of coatability and dryness, more preferably an alkylene glycol alkyl ether acetate, a ketone, a 3-ethoxypropionic acid Ethyl, and 3-methoxypropionate, and more preferred examples thereof include propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl 3-ethoxypropionate, 3- Methyl propoxypropionate, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
상기 용매는 착색 감광성 수지 조성물의 총 중량에 대하여 30 내지 95 %의 용매로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 조성의 분산 안정성 및 제조 공정에서의 공정 용이성(예, 도포성) 향상에 있어서 바람직하다. The solvent may be contained in a solvent of 30 to 95% based on the total weight of the colored photosensitive resin composition. When the solvent is contained within the above range, the dispersion stability of the composition and the ease of processing in the production process (for example, coatability) are preferably improved.
본 발명에서 상기 착색 감광성 수지 조성물을 포함하는 구성성분을 중량부로 함량을 표기하였으며 이는 용매를 제외하고 고형분을 기준으로 중량부로 기입하였다. In the present invention, the content of the component containing the colored photosensitive resin composition is expressed in parts by weight, and it is written in parts by weight based on the solid content excluding the solvent.
<격벽 구조물 및 화상표시장치><Barrier structure and image display device>
본 발명의 또 다른 양태는 착색 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 패턴층을 포함하는 격벽 구조물에 관한 것이다.Another embodiment of the present invention relates to a barrier structure including a pattern layer containing a cured product of a colored photosensitive resin composition.
본 발명에 따른 격벽 구조물은 해상도가 우수하고 현상액에 대한 용해성이 우수하며, 내열성, 내광성 등이 우수하며 아웃가스 발생률이 현저히 낮아 고성능의 착색패턴이 형성 가능한 착색 감광성 수지 조성물로부터 형성되어, 고성능, 고기능성의 격벽 구조물을 제공 한다.The barrier rib structure according to the present invention is formed from a colored photosensitive resin composition having excellent resolution, excellent solubility in a developing solution, excellent heat resistance, light resistance, and remarkably low outgas generation rate to form a high performance coloring pattern, Functional barrier structure.
상기 기판은 상기 격벽 구조물 자체 기판일 수 있으며, 또는 디스플레이 장치 등에 격벽 구조물이 위치되는 부위일 수도 있는 것으로, 특별히 제한되지 않는다. 상기 기판은 유리, 실리콘(Si), 실리콘 산화물(SiOx) 또는 고분자 기판일 수 있으며, 상기 고분자 기판은 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES) 또는 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 등일 수 있다.The substrate may be a substrate of the barrier structure itself, or may be a portion where a barrier structure is located on a display device or the like, and is not particularly limited. The substrate may be glass, silicon (Si), silicon oxide (SiOx), or a polymer substrate. The polymer substrate may be polyethersulfone (PES) or polycarbonate (PC).
상기 패턴층은 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물로서 제조되는 층으로, 상기 패턴층 형성용 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상 및 열경화하여 형성된 층일 수 있으며, 상기 패턴층은 당업계에서 통상적으로 알려진 방법을 수행함으로써 형성할 수 있다. The pattern layer may be a layer formed as a colored photosensitive resin composition of the present invention, and may be a layer formed by applying the colored photosensitive resin composition for forming a pattern layer and exposing, developing, and thermally curing the composition in a predetermined pattern. May be formed by carrying out a method commonly known in the art.
상기와 같은 기판 및 패턴층을 포함하는 패턴층은 각 패턴 사이에 형성된 격벽 구조물을 더 포함할 수 있으며, 착색제를 포함할 수 있으나 이에 한정되지는 않는다.The pattern layer including the substrate and the pattern layer as described above may further include a barrier structure formed between each pattern, and may include, but not limited to, a colorant.
본 발명의 또 다른 양태는, 전술한 격벽 구조물; 및 광발생부;를 포함하는 화상표시장치에 관한 것이다. 요컨대, 본 발명에 따른 화상표시장치는 전술한 착색 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 패턴층을 포함하는 격벽 구조물과 광을 방출하는 광발생부를 포함한다.Another aspect of the present invention is a method of manufacturing a semiconductor device comprising the above-described barrier structure; And an image display device including the light generating portion. In short, the image display apparatus according to the present invention includes a barrier structure including a pattern layer containing a cured product of the above-mentioned colored photosensitive resin composition and a light generating portion for emitting light.
본 발명의 격벽 구조물은 통상의 액정 표시 장치뿐만 아니라, 전계 발광 표시장치, 플라스마 표시 장치, 전계 방출 표시 장치 등 각종 화상 표시 장치에 적용이 가능하다.The barrier structure of the present invention is applicable not only to a general liquid crystal display but also to various image display devices such as an electroluminescence display device, a plasma display device, and a field emission display device.
상기 표시장치가 본 발명에 따른 패턴층을 포함하는 격벽 구조물과 상기 광원을 포함하는 경우 고기능성 및 고성능을 달성가능한 이점이 있다.The above-described display device has an advantage that high functionality and high performance can be achieved when the display device includes the barrier rib structure including the pattern layer according to the present invention and the light source.
이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세히 설명한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지는 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 또한, 이하에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples to illustrate the present invention. However, the embodiments according to the present disclosure can be modified in various other forms, and the scope of the present specification is not construed as being limited to the above-described embodiments. Embodiments of the present disclosure are provided to more fully describe the present disclosure to those of ordinary skill in the art. In the following, "%" and "part" representing the content are by weight unless otherwise specified.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are only a preferred embodiment of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.
<< 합성예Synthetic example >>
합성예Synthetic example 1: 화학식 I-1의 구조를 갖는 단량체의 합성 1: Synthesis of Monomer Having Structure of Formula I-1
[화학식 I-1](I-1)
3-Neck flask에 reflux condenser와 온도계를 setting한 후, 9,9-Bisphenolfluorene 42.5g를 넣고 2-(chloromethyl)oxirane 220mL를 정량한 후 주입하였다. Tetrabutylammonium bromide 100mg을 넣은 후, 교반을 시작하면서 온도를 90℃로 승온하였다. 미반응물 함량이 0.3% 미만임을 확인 후 감압증류 하였다. 온도를 30℃로 낮춘 후, dichloromethane를 주입하고, NaOH를 서서히 투입하였다. 생성물이 96% 이상인 것을 고성능액체크로마토그래피(HPLC)방법으로 확인한 후 5% HCl를 적하하여 반응을 종결하였다. 반응물은 추출하여 층분리한 후, 유기층을 물로 씻어주고 중성이 되도록 세척하였다. 유기층은 MgSO4로 건조한 후 회전증발기로 감압 증류하여 농축하였다. 농축된 생성물에 dichloromethane를 넣고 40℃까지 온도를 올리면서 교반하면서 methanol를 투입한 후 용액온도를 낮추고 교반하고 생성된 고체를 여과한 후, 상온에서 진공 건조하여 흰색 고체 분말 52.7g(화학식I-1)을 얻는다. After setting the reflux condenser and thermometer in a 3-neck flask, 42.5 g of 9,9-bisphenolfluorene was added and 220 mL of 2- (chloromethyl) oxirane was injected. After adding 100 mg of tetrabutylammonium bromide, the temperature was raised to 90 캜 while stirring was started. After confirming that the unreacted content was less than 0.3%, it was distilled under reduced pressure. After the temperature was lowered to 30 ° C, dichloromethane was added, and NaOH was slowly added. The product was confirmed to be 96% or more by a high performance liquid chromatography (HPLC) method, and 5% HCl was added dropwise to terminate the reaction. The reaction product was extracted and layered, and the organic layer was washed with water and neutralized. The organic layer was dried over MgSO4 and concentrated under reduced pressure using a rotary evaporator. Dichloromethane was added to the concentrated product, and methanol was added thereto while the temperature was raised to 40 ° C. The solution temperature was lowered and stirred, and the resulting solid was filtered and vacuum-dried at room temperature to obtain 52.7 g of a white solid powder ).
합성예Synthetic example 2: 화학식 I-2의 구조를 갖는 단량체의 합성 2: Synthesis of Monomer Having Structure of Formula I-2
[화학식 A](A)
[화학식 I-2][Formula I-2]
3-Neck flask에 reflux condenser와 온도계를 setting한 후 화학식 A (1000g), thiophenol 524g, 에탄올 617g을 넣고 교반하였다. 반응 용액에 triethylamine 328g을 천천히 적가하였다. 고성능액체크로마토그래피(HPLC)방법으로 출발물질이 사라진 것을 확인한 후, 반응을 종료하였다. 반응 완료 후, 에탄올을 감압증류하여 제거하였다. 유기물을 dichloromethane에 녹인 후 물로 세척한 후 dichloromethane을 감압증류를 통해 제거하였다. 농축된 유기물은 ethyl acetate에 녹인 후 에테르 용매를 적가하고 30분 동안 교반하였다. 화합물을 감압증류하여 pale yellow oil 945 g (수율 64%, 화학식 I-2)을 수득하였다. After setting the reflux condenser and thermometer on a 3-neck flask, the mixture was stirred with 1000 g of formula A, 524 g of thiophenol and 617 g of ethanol. 328 g of triethylamine was slowly added dropwise to the reaction solution. After confirming that the starting material disappeared by high performance liquid chromatography (HPLC) method, the reaction was terminated. After completion of the reaction, the ethanol was distilled off under reduced pressure. The organics were dissolved in dichloromethane, washed with water and then dichloromethane was removed by distillation under reduced pressure. The concentrated organic material was dissolved in ethyl acetate, ether solvent was added dropwise, and the mixture was stirred for 30 minutes. The compound was distilled under reduced pressure to obtain 945 g of pale yellow oil (yield: 64%, formula I-2).
<< 제조예Manufacturing example >>
제조예Manufacturing example 1: 화학식 1의 바인더 수지의 제조 1: Preparation of binder resin of formula (1)
[화학식 I-1](I-1)
[화학식 1][Chemical Formula 1]
화학식 I-1의 흰색 고체 분말을 3-Neck flask에 넣고, thiophenol 27g, 에탄올32g을 넣고 교반하였다. 반응 용액에 triethylamine 16.3g을 천천히 적가하였다. 반응 완료 후, 에탄올을 감압증류하여 제거하고 유기물을 dichloromethane에 녹인 후 물로 세척한 후 dichloromethane을 감압증류를 통해 제거하였다. 3-Neck flask에 동량의 PGMEA 용제를 투입하여 50% 용액으로 제조한 뒤, 115℃까지 승온시켰다. 115℃에서 3,3',4,4'-Biphenyltetracarboxylic dianhydride 31.1g을 적하한 후, 6시간 동안 115℃를 유지하면서 교반시켰다. Phthalic anhydride 7.35g를 넣고 2시간 더 교반한 후, 반응을 종료하였다. 냉각 후 중량평균 분자량 3,500 g/mol인 화학식1의 수지를 얻었다.A white solid powder of Formula I-1 was placed in a 3-neck flask, and 27 g of thiophenol and 32 g of ethanol were added and stirred. To the reaction solution, 16.3 g of triethylamine was slowly added dropwise. After completion of the reaction, the ethanol was distilled off under reduced pressure. The organic matter was dissolved in dichloromethane, washed with water, and then dichloromethane was removed by distillation under reduced pressure. The same amount of PGMEA solvent was added to the 3-neck flask to make a 50% solution, and then the temperature was raised to 115 ° C. 31.1 g of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was added dropwise at 115 DEG C, and the mixture was stirred at 115 DEG C for 6 hours. Phthalic anhydride (7.35 g) was added thereto, followed by further stirring for 2 hours, and the reaction was terminated. After cooling, a resin of formula (1) having a weight average molecular weight of 3,500 g / mol was obtained.
제조예Manufacturing example 2: 화학식 2의 바인더 수지의 제조 2: Preparation of binder resin of formula (2)
[화학식 I-2][Formula I-2]
[화학식 2](2)
3-Neck flask에 reflux condenser와 온도계를 setting한 후, 화학식 I-2로 표시되는 화합물 51.5g과 PGMEA를 50.0g를 넣고 115℃도 까지 승온하여 3,3',4,4'-Biphenyltetracarboxylic dianhydride를 31.0g을 적하하고 6시간 후에 추가적으로 Phthalic anhydride를 7.3g을 넣고 2시간 더 교반하여 반응을 진행하였다. 반응이 완료된 후, 화학식 2 구조를 갖는 분자량 3,860 g/mol인 바인더 용액을 얻었다. After setting a reflux condenser and a thermometer on a 3-neck flask, 51.5 g of the compound represented by the formula I-2 and 50.0 g of PGMEA were added and the temperature was raised to 115 ° C to obtain 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride And 6 hours later, 7.3 g of phthalic anhydride was further added thereto, followed by further stirring for 2 hours. After the reaction was completed, a binder solution having a molecular weight of 3,860 g / mol having the structure of Formula 2 was obtained.
제조예Manufacturing example 3: 화학식 III-1의 바인더 수지의 제조 3: Preparation of binder resin of formula (III-1)
[화학식 I-1](I-1)
[화학식 II]≪ RTI ID = 0.0 &
[화학식 III-1][Formula III-1]
제조예 1에서 3,3',4,4'-Biphenyltetracarboxylic dianhydride대신에 화학식II의Perylenetetracarboxylic dianhydride (시그마알드리치社, PTCDA)를 사용하는 것을 제외하고 동일한 방법을 사용하여 합성을 진행하였다. 냉각 후 중량평균 분자량 3,550 g/mol인 바인더 화학식4을 얻었다.Synthesis was carried out in the same manner as in Preparation Example 1, except that Perylenetetracarboxylic dianhydride (Sigma Aldrich, PTCDA) of Formula II was used instead of 3,3 ', 4,4'-Biphenyltetracarboxylic dianhydride. After cooling, a binder of formula (4) having a weight average molecular weight of 3,550 g / mol was obtained.
제조예Manufacturing example 4: 화학식 III-2의 바인더 수지의 제조 4: Preparation of binder resin of formula (III-2)
[화학식 I-2][Formula I-2]
[화학식 II]≪ RTI ID = 0.0 &
[화학식 III-2][Formula III-2]
제조예 2에서 3,3',4,4'-Biphenyltetracarboxylic dianhydride 대신에 화학식II의Perylenetetracarboxylic dianhydride (시그마알드리치社, PTCDA)를 사용하는 것을 제외하고 동일한 방법을 사용하여 합성을 진행하였다. 냉각 후 중량평균 분자량 3,550 g/mol인 바인더 화학식 III-2을 얻었다.Synthesis was carried out in the same manner as in Preparation Example 2, except that Perylenetetracarboxylic dianhydride (Sigma Aldrich, PTCDA) of Formula II was used instead of 3,3 ', 4,4'-Biphenyltetracarboxylic dianhydride. After cooling, the binder III-2 having a weight average molecular weight of 3,550 g / mol was obtained.
<< 실시예Example 및 And 비교예Comparative Example >>
상기에서 기재한 방법에 의하여 제조된 화학식 1, 화학식 2, 화학식 4 및 화학식 5의 바인더 수지를 사용하여 하기 표 1의 조성으로 각각 실시예 1 내지 6 및 표 2의 조성으로 비교예 1 내지 6의 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다. Using the binder resins of formulas (1), (2), (4) and (5) prepared by the method described above, the compositions of Examples 1 to 6 and Table 2, Thereby preparing a colored photosensitive resin composition.
[표 1][Table 1]
[표 2][Table 2]
착색제 :Colorant:
R254(pigment red 254로 DCI사의 FASTOGEN SUPER RED 254 226-5254)R254 (FASTOGEN SUPER RED 254 226-5254 from DCI with pigment red 254)
B15:6(pigment blue 15:6로 DCI사의 FASTOGEN BLUE AE-8)B15: 6 (FASTOGEN BLUE AE-8 from DCI with pigment blue 15: 6)
OBP(Organic Black pigment로 Basf사의 100cf)OBP (Organic Black pigment, 100f of Basf)
광중합성 단량체 : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA, 일본화약社)Photopolymerizable monomer: dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.)
바인더 수지 : 실시예 내지 비교예의 합성수지Binder resin: Synthetic resin of Examples and Comparative Examples
옥심계 광 개시제 : OXE-03, BASF社Oxime photoinitiator: OXE-03, BASF
용매 : 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMEA)Solvent: Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)
첨가제 :F475, DIC社/S-510, Chisso社Additives: F475, DIC / S-510, Chisso
<< 실험예Experimental Example >>
시편 제작Psalm making
코팅기기(Mikasa社, Opticoat MS-A150)를 사용하여 상기 실시예 1 내지 실시예 3, 비교예 1 내지 비교예 2에서 얻어진 감광성 수지 조성물마다 일정 두께를 나타낼 수 있는 rpm으로 코팅을 진행한 후, 90℃ 열판(hot-plate)에서 1분 내지 10분 동안 사전 굽기를 진행하여, 도막을 형성하였다. After coating the photosensitive resin composition obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 2 at rpm which can exhibit a predetermined thickness using a coating machine (Mikasa, Opticoat MS-A150) Pre-baking was performed for 1 minute to 10 minutes on a hot-plate at 90 占 폚 to form a coating film.
이후, 상기 도막에 패턴을 형성하기 위한 마스크를 개재한 뒤, 노광기(Ushio社, HB-50110AA)에서 500mJ/㎠의 노광 조건(365nm 센서에 의함)으로, UV를 조사하면서, 패턴 노광을 진행하였다. 상기 노광 후, 현상액 수용액으로 불필요한 부분을 용해시켜 제거해, 노광 부분만을 잔존시켜 패턴을 형성하고, convection 오븐에서 220℃의 온도로 30분 간 열경화를 진행하여, 시편 제작을 완료하였다.Thereafter, a mask for forming a pattern was interposed in the coating film, and then pattern exposure was carried out with an exposure apparatus (Ushio, HB-50110AA) under an exposure condition of 500 mJ / cm 2 (by a 365 nm sensor) . After the above exposure, unnecessary portions were dissolved and removed by an aqueous solution of the developer to leave only the exposed portions to form a pattern. Thermal curing was performed at 220 캜 for 30 minutes in a convection oven to complete the preparation of the specimen.
착색 감광성 수지조성물의 착색제의 분산 안정성을 분석하고 형성된 패턴의 내열성과 내광성을 평가하여 하기의 표에 기입하였다. 그에 따른 비교예는 상기 B-A 바인더를 사용하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하여 평가를 진행하였다. The dispersion stability of the coloring agent of the colored photosensitive resin composition was analyzed and the heat resistance and light resistance of the formed pattern were evaluated and written in the following table. In the comparative example, the colored photosensitive resin composition was prepared using the B-A binder described above and evaluated.
1. One. 잔사Residue 평가( evaluation( TMAHTMAH ))
상기 방법으로 제조된 기판을 현상액을 두종류를 사용하여 상온에서 40초간 침지하여 기판에 잔존하는 잔막을 전자주사현미경(SEM)을 사용하여 분석하였다. 현상액은 TMAH 2.38% 의 현상액을 사용하였다. 평가 기준은 하기 [표 3]에, 평가 결과는 하기 [표 4]에 기재하였다.The substrate prepared by the above method was immersed for 40 seconds at room temperature using two kinds of developing solutions, and the remaining film remaining on the substrate was analyzed using a scanning electron microscope (SEM). The developing solution used was TMAH 2.38%. The evaluation criteria are shown in Table 3 below, and the evaluation results are shown in Table 4 below.
2. 2. 잔사Residue 평가 (KOH) Evaluation (KOH)
상기 방법으로 제조된 기판을 현상액을 두종류를 사용하여 상온에서 40초간 침지하여 기판에 잔존하는 잔막을 전자주사현미경(SEM)을 사용하여 분석하였다. 현상액은 KOH 0.06%의 현상액을 사용하였다. 평가 기준은 하기 [표 3]에, 평가 결과는 하기 [표 4]에 기재하였다.The substrate prepared by the above method was immersed for 40 seconds at room temperature using two kinds of developing solutions, and the remaining film remaining on the substrate was analyzed using a scanning electron microscope (SEM). The developing solution used was 0.06% KOH. The evaluation criteria are shown in Table 3 below, and the evaluation results are shown in Table 4 below.
3. 내열성 평가3. Evaluation of heat resistance
상기 방법으로 제조된 기판을 230℃에서 60min동안 방치하여 각각의 변화하는 OD 값을 확인하였다. 측정된 OD값은 xrite사의 301 Transmission Densitometer를 사용하여 측정하였다. 평가 기준은 하기 [표 3]에, 평가 결과는 하기 [표 4]에 기재하였다. The substrate prepared by the above method was allowed to stand at 230 DEG C for 60 minutes to determine the respective changing OD values. The measured OD values were measured using a 301 Transmission Densitometer from xrite. The evaluation criteria are shown in Table 3 below, and the evaluation results are shown in Table 4 below.
4. 분산안정성 평가 4. Evaluation of dispersion stability
분산된 분산용액의 방치를 통한 분산안정성 평가로, 분산용액의 방치를 통해 상부 5%의 분산 안정성이 파괴되는데 걸리는 시간을 측정하였다. 평가 기준은 하기 [표 3]에, 평가 결과는 하기 [표 4]에 기재하였다. The evaluation of the dispersion stability by allowing the dispersed dispersion solution to stand showed that the time taken for the dispersion stability of the upper 5% to break through the dispersion solution was measured. The evaluation criteria are shown in Table 3 below, and the evaluation results are shown in Table 4 below.
5. 아웃가스 평가5. Outgassing
상기의 방법으로 제조된 기판을 100㎠의 면적으로 2㎛의 두께로 제조하고 230℃ 에서 60min동안 발생한 Outgas량을 gas chromatography mass spectrometry를 사용하여 측정하였다. 측정된 값은 각각의 mass에서 측정된 수치를 모두 합한 값을 계산 하였다. 평가 기준은 하기 [표 3]에, 평가 결과는 하기 [표 4]에 기재하였다. The substrate prepared by the above method was prepared to have a thickness of 2 μm at an area of 100 cm 2 and the amount of outgas generated at 230 ° C. for 60 minutes was measured by gas chromatography mass spectrometry. The measured values were calculated by summing the measured values in each mass. The evaluation criteria are shown in Table 3 below, and the evaluation results are shown in Table 4 below.
6. 흡광도 평가6. Absorbance evaluation
상기 방법으로 제조된 기판을 자외선/가시광선 분광광도계를 사용하여 450㎚/580㎚/700㎚파장에서의 흡광도를 측정하여 기입하였다.The substrate prepared by the above method was measured by measuring the absorbance at a wavelength of 450 nm / 580 nm / 700 nm using an ultraviolet / visible ray spectrophotometer.
흡광도 =-log(기판을 통과한 빛의 세기/원래 빛의 세기)Absorbance = -log (intensity of light passing through the substrate / intensity of original light)
7. 7. 색변화평가Color change evaluation
상기 방법으로 제조된 기판을 230℃에서 60min동안 추가 열처리를 진행하여 추가 열처리전의 값과 열처리 후의 값의 변화를 하기의 수식에 따른 변화값을 측정하였다.The substrate prepared by the above method was subjected to an additional heat treatment at 230 ° C for 60 minutes to measure changes in values before and after the heat treatment according to the following formulas.
[수식][Equation]
[표 3][Table 3]
[표 4][Table 4]
Claims (14)
가시광선 영역의 파장을 흡수하는 단량체를 반응시켜 제조되는 바인더 수지:
[화학식 I]
상기 화학식 I에서,
X1과 X2는 각각 독립적으로, , 또는 이며;
상기 R1 , , , , 또는이며;
*은 결합손을 의미하며;
A는 [화학식 I-i] 이다.
[화학식 I-i]
A compound having the structure of formula < RTI ID = 0.0 >
A binder resin prepared by reacting a monomer absorbing a wavelength in a visible light region:
(I)
In the formula (I)
X 1 and X 2 are each independently , , or ;
The R 1 , , , , or ;
* Denotes a combined hand;
A is [formula Ii].
(Ii)
상기 가시광선 영역의 파장을 흡수하는 단량체는 산무수물(anhydride)를 포함하는 것을 특징으로 하는 바인더 수지. The method according to claim 1,
Wherein the monomer absorbing the wavelength of the visible light region comprises an acid anhydride.
상기 가시광선 영역의 파장을 흡수하는 단량체는 산무수물을 1 내지 2개를 가지는 것을 특징으로 하는, 바인더 수지. The method of claim 2,
Wherein the monomer absorbing the wavelength of the visible light region has from 1 to 2 acid anhydrides.
상기 가시광선 영역의 파장을 흡수하는 단량체는 페릴렌(perylene) 구조를 포함하는, 바인더 수지. The method according to claim 1,
Wherein the monomer absorbing the wavelength of the visible light region comprises a perylene structure.
상기 가시광선 영역의 파장을 흡수하는 단량체는 하기 화학식 II로 표시되는 화합물인, 바인더 수지.
[화학식 II]
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the monomer absorbing the wavelength of the visible light region is a compound represented by the following general formula (II).
≪ RTI ID = 0.0 &
상기 착색제는 C.I. 피그먼트 옐로우, C.I. 피그먼트 오렌지, C.I. 피그먼트 레드, C.I. 피그먼트 바이올렛, C.I. 피그먼트 블루, C.I. 피그먼트 그린, C.I. 피그먼트 브라운, C.I. 피그먼트 블랙 및 유기블랙 안료로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 착색 감광성 수지 조성물.The method of claim 6,
Wherein the colorant is selected from the group consisting of CI Pigment Yellow, CI Pigment Orange, CI Pigment Red, CI Pigment Violet, CI Pigment Blue, CI Pigment Green, CI Pigment Brown, CI Pigment Black, Wherein the coloring photosensitive resin composition is at least one selected from the group consisting of a colorant,
상기 광중합성 단량체는 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크 릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 노볼락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 및 1,6-헥산디올디메타크릴레이트로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인, 착색 감광성 수지 조성물.The method of claim 6,
The photopolymerizable monomer is selected from the group consisting of ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, pentaerythritol acrylate, Pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, bisphenol A di Acrylate, trimethylolpropane triacrylate, novolac epoxy acrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, 1,4- Butanediol dimethacrylate, and 1,6-hexanediol dimethacrylate. At least one selected from the group consisting of a colorant and a colorant.
상기 광 개시제는 옥심에스테르계 화합물, 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물 및 비이미다졸계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인, 착색 감광성 수지 조성물.The method of claim 6,
Wherein the photoinitiator comprises at least one member selected from the group consisting of an oxime ester compound, a triazine compound, an acetophenone compound, and a nonimidazole compound.
상기 용매는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 방향족 탄화수소류, 에스테르류 및 환상 에스테르류로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 착색 감광성 수지 조성물. The method of claim 6,
Wherein the solvent is at least one selected from the group consisting of alkylene glycol alkyl ether acetates, aromatic hydrocarbons, esters and cyclic esters.
실란 커플링제 및 계면활성제 중 하나 이상의 첨가제를 더 포함하는 것인, 착색 감광성 수지 조성물.The method of claim 6,
A silane coupling agent, and / or a surfactant.
상기 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 총 중량에 대하여,
착색제 5 내지 50 중량부;
청구항 1의 바인더수지 5 내지 50 중량부;
광중합성 단량체 5 내지 50 중량부; 및
옥심계 광 개시제 1 내지 20 중량부를 포함하며,
착색 감광성 수지 조성물의 총 중량에 대하여 30 내지 95 중량%의 용매를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물.The method of claim 6,
Based on the total solid weight of the colored photosensitive resin composition,
5 to 50 parts by weight of a colorant;
5 to 50 parts by weight of the binder resin of claim 1;
5 to 50 parts by weight of a photopolymerizable monomer; And
1 to 20 parts by weight of an oxime-based photoinitiator,
And a solvent in an amount of 30 to 95% by weight based on the total weight of the colored photosensitive resin composition.
A display device comprising the barrier structure of claim 13.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180004020A KR102377268B1 (en) | 2018-01-11 | 2018-01-11 | A binder resin, a colored photo resist composition, a bank comprising the same and a display device comprising the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180004020A KR102377268B1 (en) | 2018-01-11 | 2018-01-11 | A binder resin, a colored photo resist composition, a bank comprising the same and a display device comprising the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190085768A true KR20190085768A (en) | 2019-07-19 |
KR102377268B1 KR102377268B1 (en) | 2022-03-22 |
Family
ID=67511968
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180004020A KR102377268B1 (en) | 2018-01-11 | 2018-01-11 | A binder resin, a colored photo resist composition, a bank comprising the same and a display device comprising the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102377268B1 (en) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000511216A (en) * | 1996-05-23 | 2000-08-29 | クラリアント、ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | Chiral CLCP containing colored monomer |
KR20050050590A (en) * | 2003-11-26 | 2005-05-31 | 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 | Photosensitive resin composition and color filter using the same |
KR20100003531A (en) * | 2008-07-01 | 2010-01-11 | 동우 화인켐 주식회사 | A colored photo resist composition, a pattern forming method using the same and a color filter fabricated by the method |
JP2010062124A (en) * | 2008-08-06 | 2010-03-18 | Mitsubishi Chemicals Corp | Photosensitive composition for barrier rib of active driving type organic electroluminescent element, and active driving type organic electroluminescent display device |
KR20140072067A (en) * | 2011-09-28 | 2014-06-12 | 후지필름 가부시키가이샤 | Coloring composition, colored cured film, color filter, manufacturing method of the same, and solid state imaging device |
KR101751646B1 (en) | 2015-10-01 | 2017-07-11 | 타코마테크놀러지 주식회사 | Binder resin and photosensitive resin composition containing the same |
-
2018
- 2018-01-11 KR KR1020180004020A patent/KR102377268B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000511216A (en) * | 1996-05-23 | 2000-08-29 | クラリアント、ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | Chiral CLCP containing colored monomer |
KR20050050590A (en) * | 2003-11-26 | 2005-05-31 | 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 | Photosensitive resin composition and color filter using the same |
KR20100003531A (en) * | 2008-07-01 | 2010-01-11 | 동우 화인켐 주식회사 | A colored photo resist composition, a pattern forming method using the same and a color filter fabricated by the method |
JP2010062124A (en) * | 2008-08-06 | 2010-03-18 | Mitsubishi Chemicals Corp | Photosensitive composition for barrier rib of active driving type organic electroluminescent element, and active driving type organic electroluminescent display device |
KR20140072067A (en) * | 2011-09-28 | 2014-06-12 | 후지필름 가부시키가이샤 | Coloring composition, colored cured film, color filter, manufacturing method of the same, and solid state imaging device |
KR101751646B1 (en) | 2015-10-01 | 2017-07-11 | 타코마테크놀러지 주식회사 | Binder resin and photosensitive resin composition containing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102377268B1 (en) | 2022-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6816067B2 (en) | Colored photosensitive resin composition, color filter containing the same, and display device containing the same. | |
JP7036346B2 (en) | Polymer resin compound and photosensitive resin composition for black bank containing the same | |
KR102349690B1 (en) | Coloring composition, coloring cured film and display device | |
TWI732379B (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and color filter | |
KR101664121B1 (en) | Photosensitive resin composition for color filter and color filter using the same | |
KR101997656B1 (en) | Xanthene-based compound and photosensitive resin composition comprising the same | |
KR20190078311A (en) | Photosensitive resin composition and photosensitive resin layer using the same, color filter and display device | |
KR101609634B1 (en) | Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same | |
KR102131992B1 (en) | Compound and photo-sensitive resin composition comprising the same | |
KR20190077944A (en) | Xanthene-based compound and photosensitive resin composition comprising the same | |
JP2020517791A (en) | Compound, coloring material composition containing the same, and resin composition containing the same | |
KR102377266B1 (en) | A binder resin, a colored photo resist composition, a display partition wall structure comprising the same and a self-luminous display device comprising the same | |
KR101767079B1 (en) | Black photosensitive resin composition and black matrix using the same | |
KR101745062B1 (en) | Resin composition, photosensitive material, color filter and display appratus | |
KR20180094655A (en) | Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device | |
KR20180062771A (en) | Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device | |
KR102377268B1 (en) | A binder resin, a colored photo resist composition, a bank comprising the same and a display device comprising the same | |
KR102377423B1 (en) | A binder resin, a colored photo resist composition, a bank comprising the same and a display device comprising the same | |
KR102377269B1 (en) | A binder resin, a colored photo resist composition, a display partition wall structure comprising the same and a self-luminous display device comprising the same | |
KR102288575B1 (en) | A binder resin, a colored photo resist composition, a display partition wall structure comprising the same and a self-luminous display device comprising the same | |
KR102356879B1 (en) | A binder resin, a colored photo resist composition, a display partition wall structure comprising the same and a self-luminous display device comprising the same | |
TWI714122B (en) | Compound, polymer, colorant composition, resin composition, color filter and display device | |
KR102387414B1 (en) | A binder resin, a colored photo resist composition, a color filter comprising the same and a display device comprising the same | |
KR102268233B1 (en) | Compound, polymer, colorant composition, resin composition, photo resist, color filter and display device | |
KR102055724B1 (en) | Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |