KR20190084376A - 얼굴 피부 관리기 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 고주파가 인가되는 마스크가 얼굴의 각 영역별로 구분되어 있고, 구분되는 각 영역별로 개별 제어되는 전극부가 구비되어 있어 각 영역별 피부 상태에 따른 최적화된 관리가 가능한 얼굴 피부 관리기 및 이를 이용한 관리 방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 얼굴 피부 관리기 및 이를 이용한 관리 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 피부에 고주파를 인가하여 피부 트러블을 개선하고 탄력을 회복시켜주는 장치 및 피부 관리 방법으로써 얼굴의 구분되는 영역별로 서로 다른 고주파 자극을 전달할 수 있도록 구성된 마스크 형태의 피부 관리기 및 이를 통한 관리 방법에 관한 것이다.
일반적으로 인체의 피부는 20대 후반을 전후하여 탄력을 잃게 되면서 노화되기 시작한다. 의복에 의해 가려지는 다른 부위의 피부와 달리 얼굴 피부는 항시 노출된 상태이므로, 피부가 노화되기 시작하면 대부분의 사람들은 얼굴에 형성되는 주름을 없애거나 주름형성을 억제하기 위한 피부미용에 각별히 신경을 쓰게 된다.
얼굴 피부 미용의 대표적인 방법으로는 영양크림이나 기능성 오일을 바르거나 눈가나 입 주위와 같이 주름이 쉽게 형성되는 부위를 마사지 하는 방법 등이 주로 이용되어 왔다. 하지만 이와 같이 얼굴 피부에 영양분을 공급하거나 얼굴 피부를 마사지하는 방법은 장기간 동안 사용하여야만 어느 정도의 효과를 거둘 수 있기 때문에 즉각적인 피부 개선 효과를 보고자 하는 이용자에게는 적합하지 못했다.
좀 더 빠른 효과를 얻기 위해 피하조직에 에너지를 가하여 온도를 상승시킴으로써 조직을 재생하는 방법이 있는데, 그 에너지원으로는 적외선, 초음파, 고주파 등이 사용된다. 그 중 고주파는 주름 개선, 흉터 치료, 피부 트러블 개선 효과가 커 많이 이용되고 있다.
고주파 전류가 인체 내에 통전되면 조직 내에서 열이 발생하는데, 이를 심부열이라 한다. 이는 고주파의 전기에너지가 인체 조직에 가해지면서 전류의 방향이 바뀔 때마다 조직을 구성하는 분자들이 진동하고 서로 마찰하게 되어 생체열을 발생시킴으로써 일어나는 것이다. 심부열은 조직의 온도를 상승시켜 세포 기능을 증진하고 혈류량을 증가시켜 피부 재생을 촉진한다.
고주파는 인체 조직에 통전될 때 진동 폭이 매우 짧기 때문에 이온 운동을 야기하지 않으며, 전기화학적 반응이나 전기분해 현상을 일으키지 않는 장점이 있다. 또한, 다른 에너지원과 달리 감각신경 및 운동신경을 자극하지 않아 불편함이 없고 근수축을 일으키지 않는 장점이 있다.
종래 고주파 피부관리기의 일 예로써 대한민국 특허 공개 제10-2015-0140906호는 고주파를 이용한 피부 맛사지기를 개시하고 있다. 이에 개시된 피부 맛사지기는 고주파를 생성하는 RF발생부(80)와, 발생된 고주파를 피부에 전달하는 헤드(30) 등을 포함하여 구성된다. 이러한 종래의 피부 맛사지기는 작은 면적의 헤드(30)부를 통해서 고주파가 전달되기 때문에 사용자는 관리가 필요한 넓은 부위에 반복적으로 문지르는 방식으로 사용하였다.
따라서 반복적으로 문지르는 동작으로 인해 사용이 번거롭고, 10 ~ 20분 이상 사용시 관리사나 사용자의 피로가 증가하는 문제가 있었다. 또한, 피부에 문지르는 동작으로 인해 피부를 과도하게 자극하거나 상처를 일으킬 수 있는 문제가 있었다.
본 발명은 이러한 문제를 개선하여 사용이 편리하고, 편안한 착용감을 제공할 수 있는 얼굴 피부 관리기 및 이를 이용한 관리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 얼굴 피부의 일부를 집중적으로 관리하거나 서로 다른 고주파로 각 영역을 구분하여 관리할 수 있는 얼굴 피부 관리기 및 이를 이용한 관리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기는 고주파 전류를 출력하는 고주파 생성부와, 상기 고주파 생성부에 전원을 공급하는 전원공급부와, 상기 고주파 생성부로부터 고주파 전류를 공급 받아 시술 대상 얼굴 피부에 인가하는 전극부와, 시술 대상 얼굴 피부의 상태를 진단하는 피부 진단 센서를 포함하는 센서부와, 상기 전극부 및 상기 센서부가 나누어져 각각 분포되며, 시술 대상 얼굴의 소정 위치에 대응하여 구분되는 복수의 영역을 가져 피시술자의 얼굴에 착용되는 마스크와, 상기 센서부를 통해 상기 마스크상의 복수의 각 영역에서 센싱되는 피부 상태에 따라 각 영역에 인가할 고주파 시술 조건을 설정하고, 설정된 시술 조건에 따라 상기 전극부로 고주파가 공급되도록 상기 고주파 생성부를 제어하는 제어부를 포함한다.
또한, 상기 센서부는 상기 전극부의 과열 여부를 센싱하기 위하여 상기 전극부의 온도를 측정하는 온도 센서를 더 포함할 수 있다.
또한, 전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기를 이용한 관리 방법은 피시술자의 얼굴 상의 소정 위치에 대응하는 마스크 상의 각 영역의 센서부를 통해 피부 상태를 센싱하는 피부 상태 진단 단계와, 제어부를 통해 상기 피부 상태 진단 단계에서 센싱된 피부 상태에 따라 마스크 상의 각 영역에 인가할 고주파의 주파수, 강도 및 시술 시간을 설정하는 시술 조건 설정 단계와, 마스크 상의 각 영역에 배치된 전극부를 통해 상기 시술 조건 설정 단계에서 설정된 고주파 인가 조건에 따라 얼굴 피부에 고주파를 인가하는 고주파 시술 단계와, 제어부를 통해 상기 시술 조건 설정 단계에서 설정된 시술 시간의 경과 여부를 판단하는 시술 시간 경과 여부 판단 단계를 포함하고, 상기 시술 시간 경과 여부 판단 단계에서 시술 시간이 경과된 것으로 판단되면 시술을 종료하고, 시술 시간이 경과되지 않은 것으로 판단하면 고주파 시술 단계를 계속 수행하는 것일 수 있다.
또한, 상기 얼굴 피부 관리 방법은 센서부의 온도 센서를 통해 전극부의 온도를 센싱하여 전극부가 설정된 온도 이상으로 과열되었는지 여부를 판단하는 과열 여부 판단 단계를 더 포함하고, 상기 과열 여부 판단 단계에서 전극부가 과열된 것으로 판단되면 전극부로의 고주파 인가를 중단하고, 과열되지 않은 것으로 판단되면 고주파 시술 단계를 계속 수행하는 것일 수 있다.
또한, 전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기를 이용한 관리 방법은 피시술자의 얼굴 상의 소정 위치에 대응하는 마스크 상의 각 영역의 센서부를 통해 피부 상태를 센싱하는 피부 상태 진단 단계와, 제어부를 통해 상기 피부 상태 진단 단계에서 센싱된 피부 상태에 따라 마스크 상의 각 영역에 인가할 고주파의 주파수, 강도 및 시술 시간을 설정하는 시술 조건 설정 단계와, 마스크 상의 각 영역에 배치된 전극부를 통해 상기 시술 조건 설정 단계에서 설정된 고주파 인가 조건에 따라 얼굴 피부에 고주파를 인가하는 고주파 시술 단계와, 상기 고주파 시술 단계가 수행되는 동안 센서부를 통해 피부 상태를 센싱하는 피부 상태 모니터링 단계와, 제어부를 통해 상기 피부 상태 모니터링 단계에서 센싱된 피부 상태가 기설정된 조건에 도달하였는지 여부를 판단하는 피부 상태 개선 여부 판단 단계를 포함하고,
상기 피부 상태 개선 여부 판단 단계에서 센싱된 피부 상태가 기설정된 조건 이상으로 개선되었을 경우 시술을 중단하고, 피부 상태가 기설정된 조건에 도달하지 못하였을 경우는 고주파 시술을 계속 수행하는 것일 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기는 사용자가 얼굴에 착용할 수 있는 마스크가 구비되고 고주파를 인가하는 전극부가 이 마스크 상에 구비되어 있어, 종래 사용자의 얼굴에 문지르던 방식과 달리 사용자가 착용하는 방식으로 고주파 시술이 수행될 수 있다.
따라서, 종래 얼굴 문지름에 의한 피부 손상 등의 문제가 방지될 수 있고, 피시술자가 편안한 자세로 시술을 받을 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기를 이용하는 얼굴 피부 관리 방법에 따르면 고주파가 인가되는 마스크가 얼굴의 각 영역별로 구분되어 있고, 구분되는 각 영역별로 개별 제어되는 전극부가 구비되어 있어 각 영역별 피부 상태에 따른 최적화된 관리가 가능할 수 있다.
도1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 얼굴 피부 관리기의 구성을 도시한 블록도
도2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 얼굴 피부 관리기를 구성하는 마스크의 일 예를 도시한 도면.
도3 내지 도5는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 얼굴 피부 관리기를 이용한 관리 방법을 도시한 순서도.
도2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 얼굴 피부 관리기를 구성하는 마스크의 일 예를 도시한 도면.
도3 내지 도5는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 얼굴 피부 관리기를 이용한 관리 방법을 도시한 순서도.
이하에서는 본 발명의 다양한 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이하에서 설명되는 실시예는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형이 가해질 수 있다. 이하에서 설명되는 실시예는 본 발명을 해당 실시예로 한정하기 위해 기술되는 것이 아니다. 본 발명은 이하의 실시예뿐만 아니라 본 명세서 전체로부터 이해되는 기술 사상의 범위 내에서 다양한 변형물, 대체물, 균등물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
이하에서 사용될 수 있는 “포함한다”, “구성된다”, “가진다” 등의 표현은 추가적인 구성 요소나 기능을 배제하지는 않은 것으로 이해되어야 한다.
이하에서 사용될 수 있는 “제1…”, “제2…”, “첫째”, “둘째”등의 표현은 명시적으로 언급되지 않는 한 구성 요소들 사이의 순서나 중요도 등을 한정하는 의미로 해석되어서는 안 된다.
이하에서 사용될 수 있는 “결합된다”, “연결된다” 등의 표현은 명시적으로 언급되지 않는 한 직접적으로 결합되거나 연결되어 있는 경우뿐만 아니라 중간에 다른 구성 요소가 존재하거나 개재될 수도 있는 것으로 이해되어야 한다.
이하에서 용어의 사용에 있어서 단수의 표현은 명시적으로 언급되지 않는 한 복수의 표현을 배제하지 않은 것으로 이해되어야 한다.
다양한 실시예에 따른 장치(예: 모듈들 또는 그 기능들) 또는 방법(예: 동작들)의 적어도 일부는, 예를 들어, 프로그래밍 모듈의 형태로 컴퓨터로 읽을 수 있는 저장매체(computer-readable storage media)에 저장된 명령어로 구현될 수 있다. 상기 명령어는, 하나 이상의 제어 모듈에 의해 실행될 경우, 상기 하나 이상의 프로세서가 상기 명령어에 해당하는 기능을 수행할 수 있다. 상기 프로그래밍 모듈의 적어도 일부는 하나 이상의 기능을 수행하기 위한, 예를 들면, 모듈, 프로그램, 루틴, 명령어 세트(sets of instructions) 또는 프로세스 등을 포함할 수 있다.
상기 컴퓨터로 판독 가능한 기록 매체에는 하드디스크, 플로피디스크 및 자기 테이프와 같은 마그네틱 매체(magnetic media)와, CD-ROM(compact disc read only memory), DVD(digital versatile disc)와 같은 광기록 매체(optical media)와, 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media)와, 그리고 ROM(read only memory), RAM(random access memory), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령(예: 프로그래밍 모듈)을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함될 수 있다. 또한, 프로그램 명령에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함할 수 있다. 상술한 하드웨어 장치는 본 발명의 다양한 실시예의 동작을 수행하기 위해 하나 이상의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지다.
본 발명의 다양한 실시예에 따른 모듈 또는 프로그래밍 모듈은 전술한 구성요소들 중 적어도 하나 이상을 포함하거나, 일부가 생략되거나, 또는 추가적인 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 다양한 실시예에 따른 모듈, 프로그래밍 모듈 또는 다른 구성요소에 의해 수행되는 동작들은 순차적, 병렬적, 반복적 또는 휴리스틱(heuristic)한 방법으로 실행될 수 있다. 또한, 일부 동작은 다른 순서로 실행되거나, 생략되거나, 또는 다른 동작이 추가될 수 있다.
본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기는 얼굴 피부를 관리하는 미용 도구로, 전극 소자를 통해 자극 신호를 인가하여 피부를 재생시킬 수 있다. 자극 신호는 고주파일 수 있다. 얼굴 피부 관리기는 얼굴 피부의 각 영역별로 독립적으로 자극 신호를 전달하여 피부 각 영역에 최적의 관리 조건에 맞게 고주파를 전달할 수 있다. 이를 통해 피부의 처짐이나 주름을 개선하고 탄력 있는 피부로 복원할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기는 얼굴의 각 영역별 피부 상태를 센싱하여 피부 상태에 최적화된 관리 조건에 따라 고주파 시술을 수행할 수 있다.
본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기를 통해 피부에 제공되는 고주파는 피부 탄력을 복원하고, 잔주름을 제거하며, 모공을 축소하는 작용을 한다. 또한, 피부 노화를 방지할 수 있고, 경직된 근육을 이완시키는 작용을 한다. 또한, 과도한 지방세포 용해 효과를 제공한다. 또한, 전극 주변 부위의 조직에 이온 마찰을 통한 심부열을 발생시켜 진피층에 콜라겐 성분을 단단히 뭉치게 하고 새로운 콜라겐 형성을 촉진하여 피부 탄력을 복원하고 주름을 개선할 수 있다.
도1은 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기의 구성을 도시한 것이다. 이를 참조하면, 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기는 제어부(11), 전원공급부(12), 인터페이스부(13), 고주파 생성부(14), 전극부(15), 센서부(16) 등을 포함한다.
제어부(11)는 얼굴 피부 관리기의 전체적인 동작을 제어한다.
전원공급부(12)는 통상의 100 ~ 220 V(볼트) 교류 전원을 소정의 직류(DC) 전류로 변환하여 고주파 생성부(14)에 제공한다.
인터페이스부(13)는 조작 버튼, 표시화면, 터치스크린 등으로 구성될 수 있다. 인터페이스부(13)는 얼굴 피부 관리기의 온/오프 상태, 작동 상태 등을 화면을 통해 표시할 수 있다. 또한, 인터페이스부(13)는 운전 시작, 종료 등의 제어 명령을 사용자로부터 입력 받을 수 있다.
고주파 생성부(14)는 전원공급부(12)에서 공급된 직류 구동 전류를 스위칭 변환하여 소정의 고주파 전류를 출력한다. 출력된 고주파 전류는 전극부(15)로 공급된다. 고주파 생성부(14)에서 생성되는 고주파 전류는 예를 들어 0.3 ~ 3 MHz의 주파수를 가질 수 있다.
전극부(15)는 얼굴 피부에 접촉되어 고주파 생성부(14)에서 전달받은 고주파를 피부에 인가하여 심부열을 발생시킨다. 전극부(15)는 모노폴라(Monopolar) 방식 또는 바이폴라(Bipolar) 방식으로 구현될 수 있다. 모노폴라 방식으로 구현되는 경우는 그라운드(Ground) 전극이 별도로 형성되어 얼굴 이외의 피부에 접촉될 수 있다. 접촉된 그라운드 전극은 고주파를 환류하는 기능을 제공한다. 한편, 바이폴라 방식으로 구현되는 경우는 플러스(+) 전극과 그라운드(-)전극이 인접하여 배치되도록 구성될 수 있다. 플러스 전극은 고주파 생성부에서 공급되는 고주파 전류를 피부로 흘려 보내는 기능을 제공하고, 그라운드 전극은 플러스 전극을 통해 피부로 흘러나온 전류를 다시 환류하는 기능을 제공한다. 플러스 전극을 통해 흘러나온 고주파 에너지는 피부 표피에 손상을 주지 않으면서 피하 진피층의 온도만 순간적으로 상승시킴으로써 혈액 순환을 촉진하고 노화된 콜라겐을 활성화시켜 피부 탄력을 회복시키고, 새로운 콜라겐의 생성을 유도하여 손상된 피부를 치료할 수 있다.
센서부(16)는 시술 대상 피부의 상태를 센싱하기 위한 피부 진단 센서를 포함할 수 있다. 피부 진단 센서는 피부의 수분 및/또는 유분 함량을 측정하는 센서일 수 있다. 이러한 피부 진단 센서는 생체 전기를 이용해 피부의 수분 및/또는 유분 함량을 센싱한다. 즉, 피부에 전류를 흘려서 생체의 임피던스를 측정하는 것이다. 피부에 존재하는 수분은 피부를 탄력 있고 부드럽게 해주어 외부 자극으로부터 생체를 보호할 수 있도록 한다. 일반적으로 피부 탄력이 유지되려면 피부 각질층에 10% 이상의 수분 함유가 필수적인 것으로 알려져 있다. 센서부(16)는 시술 대상 피부의 수분 및/또는 유분 함량을 센싱하며 이를 통해 피부 탄력 상태가 파악될 수 있다.
또한, 센서부(16)는 전극부(15)의 온도를 측정할 수 있는 온도 센서를 더 포함할 수 있다. 온도 센서는 고주파 시술 시 전극부(15) 온도를 센싱하여 과열로 인해 피부가 화상을 입거나 손상되는 것을 방지하기 위해 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기는 도2에 도시된 바와 같이 안면에 착용할 수 있도록 얼굴 형태를 따라 가공된 마스크(20)를 갖는다. 마스크(20)는 그 위치에 따라 구분되는 제1,2,3영역(20A, 20B, 20C)을 갖는다. 각 영역(20A, 20B, 20C)은 얼굴 상의 특정 위치에 대응하는 것으로써, 예를 들어 제1영역(20A)은 이마, 제2영역(20B)은 눈밑, 제3영역(20C)은 팔자주름 부위 일 수 있다. 이들 각 영역(20A, 20B, 20C)이 고주파에 의한 관리 대상 영역으로, 전술한 전극부(15)는 이들 각 영역(20A, 20B, 20C)에 각각 분포된다. 즉 전극부(15)는 분포되는 각 영역에 따라서 제1영역(20A)에 배치되는 제1영역 전극부(15A), 제2영역(20B)에 배치되는 제2영역 전극부(15B), 제3영역(20C)에 분포되는 제3영역 전극부(15C)로 구분될 수 있다.
또한, 센서부(16)도 각 영역(20A, 20B, 20C) 별로 구분되어 배치된다. 즉 제1영역(20A)에 배치되는 제1영역 센서부(16A), 제2영역(20B)에 배치되는 제2영역 센서부(16B), 제3영역(16C)에 배치되는 제3영역 센서부(16C)로 구분될 수 있다.
마스크(20)상의 각 영역(20A, 20B, 20C)에는 이에 대응되는 전극부(15A, 15B, 15C)와 센서부(16A, 16B, 16C)가 각각 구성되어 있어 각 영역(20A, 20B, 20C) 별 피부 상태가 센싱되고 그에 따라 각기 최적화된 조건의 고주파가 인가될 수 있다. 즉, 각 영역(20A, 20B, 20C)에 인가되는 고주파의 주파수나 강도 또는 시술 시간이 각각 다르게 정해질 수 있다.
본 실시예에 있어서 고주파가 인가되는 영역(20A, 20B, 20C)은 이마, 눈밑, 팔자 주름 3개소로 기술하였으나, 이러한 고주파 인가 영역의 개수나 위치는 필요에 따라 달라질 수 있다.
이러한 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기는 고주파를 인가하는 마스크가 구비되어 있어 사용자가 이를 착용함으로써 고주파 시술이 가능하다. 따라서 얼굴 피부에 반복적으로 문지르지 않고 피시술자가 착용한 상태로 편안히 시술을 받을 수 있다.
다음은 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기를 이용한 얼굴 피부 관리 방법에 대하여 설명한다.
본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기를 이용한 얼굴 피부 관리 방법은 얼굴의 각 영역별 피부 상태를 진단하고, 진단 결과에 따라 각 영역별 상태에 최적화된 고주파 시술을 가능하게 한다.
도3을 참조하면 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리 방법은 피부 상태 진단 단계(S11)를 포함한다. 피시술자가 마스크(20)를 착용한 상태에서 시술을 시작하면 마스크(20) 상의 각 영역(20A, 20B, 20C)에 배치된 센서부(16A, 16B, 16C)는 각 영역(20A, 20B, 20C) 피부의 수분 및/또는 유분 상태를 센싱하여 제어부(11)로 전달한다. 제어부(11)는 센싱된 수분 및/또는 유분 정도를 통해 각 영역(20A, 20B, 20C)의 피부 상태를 판단한다. 피부 상태는 예를 들어 좋음, 보통, 나쁨의 3단계로 구분되거나, 또는 그 보다 세분화된 단계로 판단될 수 있다.
다음으로 피부 상태 진단 단계(S11)에서 파악된 피부 상태에 대응하여 각 영역(20A, 20B, 20C)별 시술 조건을 설정하는 시술 조건 설정 단계(S12)가 수행된다. 시술 조건은 시술할 고주파의 주파수(frequency), 강도(intensity), 시술 시간(time)일 수 있다. 제어부(11)는 피부 상태 진단 단계(S11)에서 파악된 각 영역(20A, 20B, 20C) 피부의 상태에 따라 시술할 고주파의 주파수(frequency), 강도(intensity), 시술 시간(time)을 설정한다. 예를 들어 제1영역(20A)의 피부 상태가 보통이고, 제2,3영역(20B, 20C)의 피부 상태가 나쁨인 경우, 제2,3영역(20B, 20C)에 조사할 고주파의 강도를 제1영역(20A)에 조사할 고주파의 강도보다 더 세게 하거나 또는 조사 시간을 더 길게 설정할 수 있다.
다음으로 고주파 시술 단계(S13)가 수행된다. 고주파 시술 단계(S13)에서 제어부(11)는 시술 조건 설정 단계(S12)에서 설정된 시술조건에 따른 고주파가 생성되도록 고주파 생성부(14)를 제어한다. 생성된 고주파는 전극부(15)로 전달되고 마스크(20) 착용자의 얼굴 피부에 인가된다. 이때 전극부(15)에 전달되는 고주파는 각 영역 전극부(15A, 15B, 15C) 별로 그 주파수, 강도, 시간(시술 시간)이 다르게 설정될 수 있다.
다음으로 설정 시간 경과 여부 판단 단계(S14)가 수행된다. 제어부(11)는 전술한 시술 조건 설정 단계(S12)에서 설정된 시술 시간이 경과하였는지 판단하여 설정 시간이 경과 되었으면 시술을 종료하고, 그렇지 않으면 고주파 시술 단계(S13)를 계속 수행한다. 시술 조건 설정 단계(S12)에서 설정된 시술 시간은 마스크(20)의 각 영역(20A, 20B, 20C) 별로 다를 수 있으므로, 설정 시간 경과 여부 판단 단계(S14)는 영역(20A, 20B, 20C) 별로 각각 판단된다.
또 다른 실시예로써 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기를 이용한 얼굴 피부 관리 방법은 도4에 도시된 바와 같이 과열 여부 판단 단계(S15)를 더 포함할 수 있다. 전술한 바와 같이 센서부(16)는 온도 센서를 포함하고 있어 각 영역 전극부(15A, 15B, 15C)의 온도를 센싱한다. 제어부(11)는 센싱된 온도가 설정된 값 이상으로 상승할 경우 과열로 판단할 수 있다. 과열 여부 판단을 위한 설정 온도는 예를 들어 40℃(도씨)일 수 있다. 과열로 판단되면, 시술 중단 단계(S16)가 수행된다. 제어부(11)는 고주파 생성부(14)를 제어하여 과열로 판단된 영역의 전극부(15A, 15B, 15C)로 고주파 인가가 중단되도록 한다. 제어부(11)는 전극부(15A, 15B, 15C)가 다시 설정 온도 이하로 내려가면 과열이 아닌 것으로 판단하여 고주파 시술 단계(S13)를 수행한다.
한편, 전극부(15)는 자연 냉각 또는 강제 냉각 방식에 의해 냉각될 수 있으며, 열전달율을 높여 냉각을 속도를 빠르게 하기 위한 수단이 구비될 수도 있다.
또 다른 일 실시예로써 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기를 이용한 얼굴 피부 관리 방법은 고주파 시술을 하는 동안 피부 상태를 모니터링하고 피부 상태가 개선되었는지 여부를 판단하여 시술을 종료하는 단계를 더 포함할 수 있다. 도5를 참조하면, 본 발명에 따른 피부 관리 방법은 피부 상태 모니터링 단계(S17)를 더 포함한다. 이 단계에서 센서부(16)는 고주파 시술이 수행되는 동안 각 영역(20A, 20B, 20C)별 피부 상태를 모니터링하여 제어부(11)로 전달한다. 센서부(16)는 피부의 수분 및/또는 유분 등 피부 탄력과 관련된 인자들을 센싱하여 제어부(11)에 전달한다.
다음으로 피부 상태 개선 여부 판단(S14`) 단계가 수행된다. 제어부(11)는 피부 상태가 기설정된 조건에 도달하였는지 여부를 판단하여, 기설정된 조건 이상으로 피부 상태가 개선되었을 경우 시술을 중단하고, 그렇지 않으면 고주파 시술을 계속 수행할 수 있다. 피부 상태 개선 여부 판단(S14')은 마스크(20)의 각 영역(20A, 20B, 20C) 별로 수행될 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기는 사용자가 얼굴에 착용할 수 있는 마스크가 구비되고 고주파를 인가하는 전극부가 이 마스크 상에 구비되어 있어, 종래 사용자의 얼굴에 문지르던 방식과 달리 사용자가 착용하는 방식으로 고주파 시술이 수행될 수 있다.
따라서, 종래 얼굴 문지름에 의한 피부 손상 등의 문제가 방지될 수 있고, 피시술자가 편안한 자세로 시술을 받을 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 얼굴 피부 관리기를 이용하는 얼굴 피부 관리 방법에 따르면 고주파가 인가되는 마스크가 얼굴의 각 영역별로 구분되어 있고, 구분되는 각 영역별로 개별 제어되는 전극부가 구비되어 있어 각 영역별 피부 상태에 따른 최적화된 관리가 가능할 수 있다.
11 : 제어부
12 : 전원 공급부
13 : 인터페이스부
14 : 고주파 생성부
15 : 전극부
16 : 센서부
20 : 마스크
S11 : 피부 상태 진단 단계
S12 : 시술 조건 설정 단계
S13 : 고주파 시술 단계
S14 : 설정 시간 경과 여부 판단
S14` : 피부 상태 개선 여부 판단
S15 : 과열 여부 판단 단계
S16 : 시술 중단 단계
S17 : 피부 상태 모니터링 단계
12 : 전원 공급부
13 : 인터페이스부
14 : 고주파 생성부
15 : 전극부
16 : 센서부
20 : 마스크
S11 : 피부 상태 진단 단계
S12 : 시술 조건 설정 단계
S13 : 고주파 시술 단계
S14 : 설정 시간 경과 여부 판단
S14` : 피부 상태 개선 여부 판단
S15 : 과열 여부 판단 단계
S16 : 시술 중단 단계
S17 : 피부 상태 모니터링 단계
Claims (5)
- 고주파 전류를 출력하는 고주파 생성부와,
상기 고주파 생성부에 전원을 공급하는 전원공급부와,
상기 고주파 생성부로부터 고주파 전류를 공급 받아 시술 대상 얼굴 피부에 인가하는 전극부와,
시술 대상 얼굴 피부의 상태를 진단하는 피부 진단 센서를 포함하는 센서부와,
상기 전극부 및 상기 센서부가 나누어져 각각 분포되며, 시술 대상 얼굴의 소정 위치에 대응하여 구분되는 복수의 영역을 가져 피시술자의 얼굴에 착용되는 마스크와,
상기 센서부를 통해 상기 마스크상의 복수의 각 영역에서 센싱되는 피부 상태에 따라 각 영역에 인가할 고주파 시술 조건을 설정하고, 설정된 시술 조건에 따라 상기 전극부로 고주파가 공급되도록 상기 고주파 생성부를 제어하는 제어부를 포함하는 얼굴 피부 관리기. - 제1항에 있어서,
상기 센서부는 상기 전극부의 과열 여부를 센싱하기 위하여 상기 전극부의 온도를 측정하는 온도 센서를 더 포함하는 얼굴 피부 관리기. - 피시술자의 얼굴 상의 소정 위치에 대응하는 마스크 상의 각 영역의 센서부를 통해 피부 상태를 센싱하는 피부 상태 진단 단계와,
제어부를 통해 상기 피부 상태 진단 단계에서 센싱된 피부 상태에 따라 마스크 상의 각 영역에 인가할 고주파의 주파수, 강도 및 시술 시간을 설정하는 시술 조건 설정 단계와,
마스크 상의 각 영역에 배치된 전극부를 통해 상기 시술 조건 설정 단계에서 설정된 고주파 인가 조건에 따라 얼굴 피부에 고주파를 인가하는 고주파 시술 단계와,
제어부를 통해 상기 시술 조건 설정 단계에서 설정된 시술 시간의 경과 여부를 판단하는 시술 시간 경과 여부 판단 단계를 포함하고,
상기 시술 시간 경과 여부 판단 단계에서 시술 시간이 경과된 것으로 판단되면 시술을 종료하고, 시술 시간이 경과되지 않은 것으로 판단하면 고주파 시술 단계를 계속 수행하는 얼굴 피부 관리 방법. - 제3항에 있어서,
상기 얼굴 피부 관리 방법은 센서부의 온도 센서를 통해 전극부의 온도를 센싱하여 전극부가 설정된 온도 이상으로 과열되었는지 여부를 판단하는 과열 여부 판단 단계를 더 포함하고,
상기 과열 여부 판단 단계에서 전극부가 과열된 것으로 판단되면 전극부로의 고주파 인가를 중단하고, 과열되지 않은 것으로 판단되면 고주파 시술 단계를 계속 수행하는 얼굴 피부 관리 방법. - 피시술자의 얼굴 상의 소정 위치에 대응하는 마스크 상의 각 영역의 센서부를 통해 피부 상태를 센싱하는 피부 상태 진단 단계와,
제어부를 통해 상기 피부 상태 진단 단계에서 센싱된 피부 상태에 따라 마스크 상의 각 영역에 인가할 고주파의 주파수, 강도 및 시술 시간을 설정하는 시술 조건 설정 단계와,
마스크 상의 각 영역에 배치된 전극부를 통해 상기 시술 조건 설정 단계에서 설정된 고주파 인가 조건에 따라 얼굴 피부에 고주파를 인가하는 고주파 시술 단계와,
상기 고주파 시술 단계가 수행되는 동안 센서부를 통해 피부 상태를 센싱하는 피부 상태 모니터링 단계와,
제어부를 통해 상기 피부 상태 모니터링 단계에서 센싱된 피부 상태가 기설정된 조건에 도달하였는지 여부를 판단하는 피부 상태 개선 여부 판단 단계를 포함하고,
상기 피부 상태 개선 여부 판단 단계에서 센싱된 피부 상태가 기설정된 조건 이상으로 개선되었을 경우 시술을 중단하고, 피부 상태가 기설정된 조건에 도달하지 못하였을 경우는 고주파 시술을 계속 수행하는 얼굴 피부 관리 방법.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020180002042A KR20190084376A (ko) | 2018-01-08 | 2018-01-08 | 얼굴 피부 관리기 |
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KR20190084376A true KR20190084376A (ko) | 2019-07-17 |
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ID=67512506
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102231932B1 (ko) * | 2019-10-23 | 2021-03-24 | 인하대학교 산학협력단 | 휴대용 세안장치 |
KR20210101606A (ko) * | 2020-02-10 | 2021-08-19 | 한국기술교육대학교 산학협력단 | 피부 마사지 장치 |
CN114681793A (zh) * | 2022-03-16 | 2022-07-01 | 深圳市宗匠科技有限公司 | 射频仪、电极触点控制方法及计算机可读存储介质 |
KR20220112486A (ko) * | 2021-02-04 | 2022-08-11 | 주식회사 에스앤엠메디칼 | 고주파 핸드피스를 이용한 치료 장치 및 그 제어 방법 |
-
2018
- 2018-01-08 KR KR1020180002042A patent/KR20190084376A/ko not_active Application Discontinuation
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