KR20190075393A - Colored photosensitive composition, color filter and image display device - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a colored photosensitive composition comprising: an alkali-soluble resin including at least two resins, wherein the resin has the glass transition temperature of less than 0°C; a colorant; and a solvent. A colored pattern which prevents film shrinkage and improves mechanical reliability is formed from the colored photosensitive composition.

Description

착색 감광성 조성물, 컬러필터 및 화상 표시 장치{COLORED PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER AND IMAGE DISPLAY DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a colored photosensitive composition, a color filter, and an image display device.

본 발명은 착색 감광성 조성물, 컬러필터 및 화상 표시 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 착색 감광성 조성물, 이로부터 형성된 컬러필터, 상기 컬러필터를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive composition, a color filter, and an image display device. More particularly, the invention relates to a colored photosensitive composition, a color filter formed therefrom, and an image display device including the color filter.

예를 들면, 백라이트(backlight)와 같은 별도 광원을 사용하는 액정 표시(liquid crystal display: LCD) 장치와 같은 화상 표시 장치에 있어, 화소별로 원하는 색상을 구현하기 위해 컬러 필터가 사용된다. 상기 컬러 필터는 RGB 각각의 화소에 대응되는 착색제를 포함하는 감광성 조성물을 도포 및 패터닝하여 형성될 수 있다. 상기 착색제는 염료 및/또는 안료를 포함할 수 있으며, 특정 파장에 대해 흡수 또는 흡광 특성을 가질 수 있다. For example, in an image display device such as a liquid crystal display (LCD) device using a separate light source such as a backlight, a color filter is used to realize a desired color for each pixel. The color filter may be formed by applying and patterning a photosensitive composition containing a colorant corresponding to each pixel of RGB. The colorant may comprise a dye and / or pigment and may have absorbing or absorbing properties for a particular wavelength.

최근 고해상도, 고휘도의 색재현 특성이 요구됨에 따라, 상기 착색제의 함량을 증가시킬 필요가 있다. 이 경우, 상기 감광성 조성물의 도포, 경화 시 막 또는 패턴의 주름, 수축 현상이 발생하며, 경화도 저하 등의 기계적 특성 저하가 초래될 수 있다.In recent years, as the color reproduction characteristics of high resolution and high luminance are required, it is necessary to increase the content of the coloring agent. In this case, wrinkles and shrinkage of the film or pattern may occur during application and curing of the photosensitive composition, and mechanical properties such as a decrease in curability may be lowered.

또한, 최근 화상 표시 장치에 포함되는 절연막 형성 시, 공정 신뢰성 향상을 위해 예를 들면, 약 200℃ 이하의 저온 경화 공정이 채용되고 있다. 그러나, 상기 저온 경화의 경우 경화도 부족으로 인한 밀착력 감소, 감도 부족에 따른 패턴 불량 등이 초래될 수 있다.In order to improve the process reliability at the time of forming the insulating film included in the image display apparatus in recent years, for example, a low temperature curing process of about 200 DEG C or less has been adopted. However, in the case of the low-temperature curing, adherence may be reduced due to insufficient curing, and pattern defects due to lack of sensitivity may be caused.

따라서, 저온 경화를 통해서도 고 색재현, 고 신뢰성의 착색 패턴 형성을 위한 착색 감광성 조성물의 개발이 필요하다.Therefore, it is necessary to develop a colored photosensitive composition for forming a colored pattern with high color reproducibility and high reliability even through low-temperature curing.

예를 들면, 대한민국 공개특허 제10-2009-0072754호는 안료 및 바인더 수지를 포함하는 컬러필터용 조성물을 개시하고 있으나, 상술한 고해상도의 색 특성 및 기계적 특성을 모두 만족하기에는 한계가 있다.For example, Korean Patent Laid-Open No. 10-2009-0072754 discloses a composition for a color filter containing a pigment and a binder resin, but has limitations in satisfying both of the above-described high resolution color characteristics and mechanical properties.

한국공개특허 제10-2009-0072754호Korean Patent Publication No. 10-2009-0072754

본 발명의 일 과제는 향상된 색 재현 특성 및 도막 형성 특성을 갖는 착색 감광성 조성물을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a colored photosensitive composition having improved color reproduction characteristics and film-forming properties.

본 발명의 일 과제는 상기 착색 감광성 조성물로부터 형성되며 향상된 색재현 특성 및 기계적 신뢰성을 갖는 컬러필터를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a color filter formed from the colored photosensitive composition and having improved color reproduction characteristics and mechanical reliability.

본 발명의 일 과제는 상기 컬러필터를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an image display device including the color filter.

1. 적어도 2종의 수지를 포함하며 유리 전이 온도가 0℃ 미만의 수지를 포함하는 알칼리 가용성 수지, 착색제 및 용제를 포함하는, 착색 감광성 조성물.1. A colored photosensitive composition comprising an alkali-soluble resin comprising at least two resins and a resin having a glass transition temperature of less than 0 占 폚, a colorant and a solvent.

2. 위 1에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지는 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 제1 수지 및 상기 제1 수지와 다른 유리 전이 온도를 갖는 제2 수지를 포함하는, 착색 감광성 조성물.2. The colored photosensitive composition of 1 above, wherein the alkali-soluble resin comprises a first resin having a glass transition temperature of less than 0 ° C and a second resin having a glass transition temperature different from that of the first resin.

3. 위 2에 있어서, 상기 제1 수지 및 상기 제2 수지의 유리 전이 온도 차이는 30℃ 이하인, 착색 감광성 조성물.3. The colored photosensitive composition according to 2 above, wherein the glass transition temperature difference between the first resin and the second resin is 30 DEG C or lower.

4. 위 2에 있어서, 상기 제1 수지는 하기의 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 포함하는, 착색 감광성 조성물:4. The colored photosensitive composition according to 2 above, wherein the first resin comprises a repeating unit represented by the following formula (1)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(상기 화학식 1 중, R1은 수소 또는 메틸기이고, R2는 탄소수 1 내지 12의 알킬기임)(Wherein R 1 is hydrogen or a methyl group, and R 2 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms)

5. 위 4에 있어서, 상기 화학식 1 중, R2는 비고리형 알킬기인, 착색 감광성 조성물.5. The colored photosensitive composition according to 4 above, wherein R < 2 > is a non-cyclic alkyl group.

6. 위 4에 있어서, 상기 제1 수지 또는 상기 제2 수지는 하기의 화학식 2로 표시되는 반응성 반복단위를 포함하는, 착색 감광성 조성물:6. The colored photosensitive composition according to 4 above, wherein the first resin or the second resin comprises a reactive repeating unit represented by the following formula (2):

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

(화학식 2 중, R3은 수소 또는 메틸기임).(Wherein R 3 is hydrogen or a methyl group).

7. 위 6에 있어서, 상기 제1 수지 또는 상기 제2 수지는 아릴 링 함유 단위 또는 카르복실산 함유 단위를 더 포함하는, 착색 감광성 조성물.7. The colored photosensitive composition according to 6 above, wherein the first resin or the second resin further comprises an aryl ring-containing unit or a carboxylic acid-containing unit.

8. 위 2에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지 총 중량 중 상기 제1 수지의 함량은 30중량% 이상인, 착색 감광성 조성물.8. The colored photosensitive composition according to 2 above, wherein the content of the first resin in the total weight of the alkali-soluble resin is 30% by weight or more.

9. 위 1 내지 8 중 어느 한 항의 착색 감광성 조성물로부터 형성된 착색 패턴을 포함하는, 컬러 필터.9. A color filter comprising a coloring pattern formed from a colored photosensitive composition according to any one of claims 1 to 8.

10. 위 9의 컬러필터를 포함하는, 화상 표시 장치.10. An image display device comprising the above 9 color filters.

본 발명의 실시예들에 따르는 착색 감광성 조성물은 상이한 유리전이온도(Tg)를 갖는 적어도 2종의 알칼리 가용성 수지를 포함할 수 있다. 상기 착색 감광성 조성물은 유리 전이 온도가 0℃ 미만인 알칼리 가용성 수지를 포함하여, 조성물의 흐름성 및 코팅성이 향상될 수 있다. 따라서, 착색제의 함량이 증가되는 경우에도 막 수축, 주름 발생을 방지하고 균일한 도막이 형성될 수 있다.The colored photosensitive compositions according to embodiments of the present invention may include at least two alkali-soluble resins having different glass transition temperatures (Tg). The colored photosensitive composition includes an alkali-soluble resin having a glass transition temperature of less than 0 캜, whereby the flowability and coating property of the composition can be improved. Therefore, even when the content of the colorant is increased, film shrinkage and wrinkling can be prevented and a uniform coating film can be formed.

상기 착색 감광성 조성물에 포함된 상기 알칼리 가용성 수지들에 포함된 임의의 수지들 사이의 유리 전이 온도 차이는 30℃ 이하일 수 있다. 따라서, 수지들 사이의 유리 전이 온도 편차에 따른 패턴 특성 저하를 방지할 수 있으며, 경화도, 경도, 밀착성 등과 같은 착색 패턴의 기계적 특성이 확보될 수 있다.The glass transition temperature difference between any of the resins contained in the alkali-soluble resins contained in the colored photosensitive composition may be 30 DEG C or less. Therefore, it is possible to prevent deterioration of the pattern property due to the glass transition temperature deviation between the resins, and to secure the mechanical characteristics of the coloring pattern such as hardness, hardness, adhesion and the like.

상기 착색 감광성 조성물을 사용하여 고 휘도 및 고 신뢰성의 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 화상 표시 장치(예를 들면, LCD 장치)를 제조할 수 있다.By using the colored photosensitive composition, an image display device (for example, an LCD device) including the color filter of high luminance and high reliability and the color filter can be manufactured.

본 발명의 실시예들에 따르면, 상이한 유리전이온도(Tg)를 갖는 적어도 2종의 알칼리 가용성 수지를 포함하며, 유리 전이 온도가 0℃ 미만인 알칼리 가용성 주지를 포함하고, 막 형성 특성 및 패턴 신뢰성이 향상된 착색 감광성 조성물이 제공된다. 또한, 상기 착색 감광성 조성물로부터 형성된 컬러필터 및 화상 표시 장치가 제공된다.According to embodiments of the present invention, there is provided an ink composition comprising an alkali-soluble binder having at least two alkali-soluble resins having different glass transition temperatures (Tg) and having a glass transition temperature of less than 0 ° C, An improved colored photosensitive composition is provided. Further, a color filter and an image display device formed from the colored photosensitive composition are provided.

이하에서, 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

<착색 감광성 조성물>&Lt; Coloring Photosensitive composition >

본 발명의 실시예들에 따른 착색 감광성 조성물은 현상성을 갖는 수지 조성물일 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 상기 착색 감광성 조성물은 알칼리 가용성 수지, 착색제 및 용제를 포함할 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 착색 감광성 조성물은 광중합 개시제를 더 포함할 수 있으며, 광중합성 화합물, 기타 첨가제 등을 더 포함할 수도 있다.The colored photosensitive composition according to the embodiments of the present invention may be a resin composition having developability. According to exemplary embodiments, the colored photosensitive composition may include an alkali-soluble resin, a colorant, and a solvent. In some embodiments, the colored photosensitive composition may further include a photopolymerization initiator, and may further include a photopolymerizable compound, other additives, and the like.

알칼리 가용성 수지Alkali-soluble resin

상기 착색 감광성 조성물은 노광 및 현상 공정을 통해 수지 패턴을 형성하기 위해 사용될 수 있으며, 상기 현상 공정에 의해 선택적으로 제거될 수 있는 알칼리 가용성 수지를 포함할 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지는 착색 감광성 조성물의 바인더 수지로서 제공될 수도 있다. 예를 들면, 상기 알칼리 가용성 수지는 네거티브 톤 감광성 수지를 포함할 수 있다.The colored photosensitive composition may be used for forming a resin pattern through an exposure and development process, and may include an alkali-soluble resin that can be selectively removed by the developing process. The alkali-soluble resin may be provided as a binder resin of the colored photosensitive composition. For example, the alkali-soluble resin may include a negative tone photosensitive resin.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 알칼리 가용성 수지는 서로 다른 유리 전이 온도를 갖는 적어도 2종의 수지들을 포함할 수 있다. 상기 적어도 2종의 수지들 중 적어도 하나는 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 수지일 수 있다. 이하에서는, 상기 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 수지를 제1 수지로 지칭한다.According to exemplary embodiments, the alkali-soluble resin may comprise at least two resins having different glass transition temperatures. At least one of the at least two resins may be a resin having a glass transition temperature of less than 0 ° C. Hereinafter, the resin having a glass transition temperature of less than 0 ° C is referred to as a first resin.

일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 수지는 하기의 화학식 1로 표시되는 구조의 반복단위를 포함할 수 있다.In some embodiments, the first resin may include a repeating unit having a structure represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 화학식 1 중, R1은 수소 또는 메틸기일 수 있다. R2는 탄소수 1 내지 12의 알킬기일 수 있다. R2는 직쇄형 또는 분지형 알킬기일 수 있으며, 사슬내에 헤테로 원자(O, S 또는 N)가 포함될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, R2는 비고리형(비지환족) 알킬기일 수 있다.In the above formula (1), R 1 may be hydrogen or a methyl group. R 2 may be an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. R 2 may be a linear or branched alkyl group and may contain heteroatoms (O, S or N) in the chain. In some embodiments, R 2 may be a non-cyclic (non-nitrogen) alkyl group.

예를 들면, 상기 화학식 1의 반복단위는 하기 화학식 1-1의 단량체로부터 유래될 수 있다.For example, the repeating unit of the above formula (1) may be derived from the monomer of the following formula (1-1).

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00004
Figure pat00004

예시적인 실시예들에 있어서, R2는 상기 제1 수지의 유리 전이 온도의 조절 단위로서 제공될 수 있다.In exemplary embodiments, R 2 may be provided as a unit of adjustment of the glass transition temperature of the first resin.

예를 들면, R2의 사슬길이가 길어질수록 상기 제1 수지의 유리 전이 온도가 낮아질 수 있으며, 상기 착색 감광성 조성물의 흐름성, 코팅성이 향상될 수 있다.For example, the longer the chain length of R 2 , the lower the glass transition temperature of the first resin, and the flowability and coatability of the colored photosensitive composition can be improved.

따라서, 후술하는 착색제의 양이 증가되는 경우에도 상기 착색 감광성 조성물의 도막 특성이 유지 혹은 향상되어 막 주름, 수축 등을 억제할 수 있다.Therefore, even when the amount of the coloring agent to be described later is increased, the film properties of the colored photosensitive composition can be maintained or improved to suppress film wrinkling and shrinkage.

일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 수지의 유리 전이 온도는 0℃ 미만이며, -30℃ 이상일 수 있다. 상기 제1 수지의 유리 전이 온도가 -30℃ 미만인 경우, 상기 착색 감광성 조성물로부터 형성된 도막 혹은 패턴의 기계적 신뢰성(밀착성, 경도 등)이 지나치게 열화될 수 있다.In some embodiments, the glass transition temperature of the first resin is less than 0 占 폚, and may be greater than or equal to -30 占 폚. If the glass transition temperature of the first resin is less than -30 占 폚, the mechanical reliability (adhesion, hardness, etc.) of the coating film or pattern formed from the colored photosensitive composition may be excessively deteriorated.

상기 알칼리 가용성 수지는 상기 제1 수지와 다른 수지를 더 포함할 수 있으며, 이하에서는 상기 제1 수지와 다른 수지를 제2 수지로 지칭한다.The alkali-soluble resin may further comprise a resin different from the first resin. Hereinafter, the resin different from the first resin is referred to as a second resin.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 제2 수지는 상기 제1 수지와 서로 다른 유리 전이 온도를 가지며, 상기 제1 수지 및 제2 수지의 유리 전이 온도의 차이(절대값 기준)는 30℃ 이하일 수 있다. 상기 유리 전이 온도의 차이가 30℃를 초과하는 경우, 수지들의 경화도, 경도 등의 차이 증가에 따른 막 수축이 심화될 수 있다.According to exemplary embodiments, the second resin has a glass transition temperature different from that of the first resin, and the difference (based on the absolute value) of the glass transition temperature of the first resin and the second resin is 30 占 폚 or less have. If the glass transition temperature difference exceeds 30 占 폚, film shrinkage due to an increase in difference in hardness, hardness, etc. of the resins may be intensified.

상기 제2 수지는 상기 착색 감광성 조성물로부터 형성된 도막 혹은 패턴의 기계적 신뢰성을 향상시키기 위해 상기 제1 수지와 함께 포함될 수 있다. 상술한 바와 같이, 상기 제1 수지를 통해 상기 착색 감광성 조성물의 흐름성, 코팅성을 확보하고, 상기 제2 수지를 통해 경화 특성 및 밀착성을 보완할 수 있다.The second resin may be included with the first resin to improve the mechanical reliability of the coating or pattern formed from the colored photosensitive composition. As described above, the flowability and coating property of the colored photosensitive composition can be ensured through the first resin, and the curing property and adhesion can be complemented through the second resin.

일 실시예에 있어서, 상기 제2 수지는 상기 제1 수지보다 높은 유리 전이 온도를 가질 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 제2 수지는 0℃ 이상의 유리 전이 온도를 가질 수 있다.In one embodiment, the second resin may have a higher glass transition temperature than the first resin. In one embodiment, the second resin may have a glass transition temperature of 0 ° C or higher.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제2 수지는 하기 화학식 2로 표시되는 반응성 반복단위를 포함할 수 있다.In exemplary embodiments, the second resin may include a reactive repeating unit represented by the following formula (2).

[화학식 2](2)

Figure pat00005
Figure pat00005

화학식 2 중, R3은 수소 또는 메틸기일 수 있다. 상기 화학식 2의 반복단위는 말단의 (메타)아크릴레이트기를 포함하므로, 광경화 또는 열경화 특성을 부여할 수 있다. 또한, 상기 화학식 2의 반복단위에 포함된 히드록실기에 의해 도막 또는 패턴의 밀착성, 및 현상액과의 반응성이 향상될 수 있다.In the formula (2), R 3 may be hydrogen or a methyl group. The repeating unit of the above-mentioned formula (2) contains a terminal (meth) acrylate group, so that it is possible to impart photocuring or thermosetting properties. Further, the adhesion of the coating film or pattern and the reactivity with the developing solution can be improved by the hydroxyl group contained in the repeating unit of the formula (2).

일부 실시예들에 있어서, 상기 제2 수지는 아릴 링 함유 단위 및/또는 카르복실산 함유 단위를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 제2 수지를 통한 기재에의 밀착성 및 패턴의 내열성이 더욱 향상될 수 있다.In some embodiments, the second resin may further comprise an aryl ring containing unit and / or a carboxylic acid containing unit. In this case, the adhesion to the substrate through the second resin and the heat resistance of the pattern can be further improved.

예를 들면, 상기 아릴 링 함유 단위는 하기 화학식 3의 단량체로부터 유래할 수 있다.For example, the aryl ring-containing unit may be derived from a monomer of the following formula (3).

[화학식 3](3)

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 화학식 3 중, R4는 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 4 내지 8의 시클로알킬기일 수 있다. In Formula 3, R 4 may be a hydrogen atom, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 4 to 8 carbon atoms.

예를 들면, 상기 카르복실산 함유 단위는 아크릴산 또는 메타크릴산과 같은 단량체로부터 유래할 수 있다.For example, the carboxylic acid containing unit may be derived from a monomer such as acrylic acid or methacrylic acid.

일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 수지 역시 상기 화학식 2로 표시되는 반복단위를 포함할 수 있으며, 이 경우 상기 제1 수지에서도 경화 반응성이 구현될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 제1 수지 역시 상기 아릴 링 함유 단위 및/또는 카르복실산 함유 단위를 포함할 수도 있다.In some embodiments, the first resin may also include a repeating unit represented by the formula (2), in which case the first resin may also exhibit curing reactivity. In one embodiment, the first resin may also comprise the aryl ring containing unit and / or the carboxylic acid containing unit.

일부 실시예들에 있어서, 상기 제2 수지 역시 상술한 화학식 1의 반복단위를 함께 포함할 수도 있다.In some embodiments, the second resin may also include a repeating unit of the above-described formula (1).

상기 알칼리 가용성 수지의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 조성물 총 중량 중, 약 5 내지 50중량%, 바람직하게는 약 10 내지 20중량%일 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지의 함량이 약 5중량% 미만인 경우, 패턴 신뢰성 및 밀착력이 지나치게 저하될 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지의 함량이 약 50중량%를 초과하는 경우, 조성물 점도가 지나치게 상승하여 도포성이 열화될 수 있다.The content of the alkali-soluble resin is not particularly limited and may be, for example, about 5 to 50% by weight, and preferably about 10 to 20% by weight, based on the total weight of the composition. When the content of the alkali-soluble resin is less than about 5% by weight, pattern reliability and adhesion may be excessively lowered. When the content of the alkali-soluble resin is more than about 50% by weight, the viscosity of the composition may excessively increase and the coating property may be deteriorated.

상기 알칼리 가용성 수지의 고형분 총 중량 중, 상기 제1 수지의 함량은 약 30중량%, 바람직하게는 약 40중량% 이상일 수 있다. 상기 제1 수지의 함량이 약 30중량% 미만인 경우, 착색제 함량이 증가되는 경우 막 수축 방지 효과를 충분히 구현하지 못할 수 있다.Among the total weight of solids of the alkali-soluble resin, the content of the first resin may be about 30 wt%, preferably about 40 wt% or more. If the content of the first resin is less than about 30% by weight, the film shrinkage preventing effect may not be sufficiently realized when the content of the colorant is increased.

일부 실시예들에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지에 포함된 수지들은 모두 0℃ 미만의 유리전이 온도를 가질 수도 있다. 이 경우, 가장 낮은 유리 전이 온도를 갖는 수지를 제1 수지로 지칭할 수 있으며, 상기 제1 수지 및 다른 수지의 유리 전이 온도 차이는 30℃ 이하일 수 있다.In some embodiments, the resins included in the alkali-soluble resin may all have a glass transition temperature of less than 0 ° C. In this case, the resin having the lowest glass transition temperature may be referred to as a first resin, and the glass transition temperature difference between the first resin and the other resin may be 30 캜 or less.

상기 알칼리 가용성 수지는 상술한 반복 단위 또는 단량체와 공중합 가능한 적어도 하나의 다른 단량체를 더 사용하여 중합될 수도 있다. 상기 다른 단량체의 비제한적인 예들은 스티렌, 비닐톨루엔, 메틸스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐 벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물; N-시클로헥실 말레이미드, N-벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-o-히드록시페닐말레이미드, N-m-히드록시페닐말레이미드, N-p-히드록시페닐말레이미드, N-o-메틸페닐말레이미드, N-m-메틸페닐말레이미드, N-p-메틸페닐말레이미드, N-o-메톡시페닐말레이미드, N-m-메톡시페닐말레이미드, N-p-메톡시페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드계 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트류; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트 등의 지환족(메타)아크릴레이트류; 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아릴(메타)아크릴레이트류; 3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)-4-트리플루오로메틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄 화합물; 글리시딜(메타)크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 옥시란 화합물 등을 포함할 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The alkali-soluble resin may be polymerized by further using at least one other monomer copolymerizable with the repeating unit or monomer described above. Non-limiting examples of such other monomers include styrene, vinyl toluene, methyl styrene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o- vinylbenzyl methyl ether, Aromatic vinyl compounds such as benzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether and p-vinyl benzyl glycidyl ether; N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, No-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide, Np-hydroxyphenylmaleimide, No-methylphenylmaleimide, Nm N-substituted maleimide-based compounds such as methylphenyl maleimide, Np-methylphenyl maleimide, No-methoxyphenyl maleimide, Nm-methoxyphenyl maleimide and Np-methoxyphenyl maleimide; Propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylates such as sec-butyl (meth) acrylate and t-butyl (meth) acrylate; (Meth) acrylate such as cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, 2-dicyclopentanyloxyethyl (Meth) acrylates; Aryl (meth) acrylates such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate; 3- (methacryloyloxymethyl) -2-trifluoromethyl oxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) 2- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 2- (methacryloyloxymethyl) -4-trifluoromethyloxetane, and the like Unsaturated oxetane compounds; Unsaturated oxiranes such as glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate and methyl glycidyl Compounds and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

예를 들면, 상기 알칼리 가용성 수지의 산가는 약 20 내지 200(KOH㎎/g)일 수 있다. 상기 산가 범위에서 현상액에 대한 용해성이 향상될 수 있으며, 이에 따라 패턴 해상도가 증가할 수 있다. 적절한 현상, 패턴 특성 및 착색제 안정성 등을 고려하여 약 30 내지 150(KOH㎎/g)일 수 있다.For example, the acid value of the alkali-soluble resin may be about 20 to 200 (KOH mg / g). The solubility in the developing solution can be improved in the acid value range, and thus the pattern resolution can be increased. And may be about 30 to 150 (KOH mg / g) in view of proper development, pattern characteristics, stability of the colorant, and the like.

상기 알칼리 가용성 수지의 중량 평균 분자량(예를 들면, 겔투과 크로마토그래피(GPC)로 측정한 폴리스티렌 환산 Mw)은 약 3,000 내지 50,000, 바람직하게는 3,000 내지 10,000일 수 있다. 상기 분자량 범위 내에서 현상 공정에서의 막 손실 및 패턴 안정성이 향상될 수 있다.The weight average molecular weight of the alkali-soluble resin (for example, Mw in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC)) may be about 3,000 to 50,000, preferably 3,000 to 10,000. The film loss and pattern stability in the developing process can be improved within the above molecular weight range.

상기 알칼리 가용성 수지의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]는 약 1.5 내지 6.0, 바람직하게는 현상 및 패턴 안정성 등을 고려하여 약 1.8 내지 4.0일 수 있다. The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the alkali-soluble resin may be about 1.5 to 6.0, preferably about 1.8 to 4.0 in consideration of development and pattern stability.

착색제coloring agent

예시적인 실시예들에 따른 착색 감광성 조성물은 착색제로서 적어도 1종의 안료, 염료 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. The colored photosensitive compositions according to exemplary embodiments may include at least one pigment, dye or mixtures thereof as a colorant.

상기 안료는 당해 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료를 사용할 수 있다. 예를 들면, 유기 안료의 예로서 구체적으로는 수용성 아조 안료, 불용성 아조 안료, 프타로시아닌안료, 퀴나크리돈 안료, 이소인돌리논 안료, 이소인돌린 안료, 페리렌 안료, 페리논 안료, 디옥사진 안료, 안트라퀴논 안료, 디안트라퀴노닐 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론(anthanthrone) 안료, 인단트론(indanthrone) 안료, 프라반트론 안료, 피란트론(pyranthrone) 안료, 디케토피로로피롤 안료 등을 들 수 있다. The pigment may be an organic pigment or an inorganic pigment generally used in the art. Specific examples of the organic pigments include water-soluble azo pigments, insoluble azo pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, isoindolinone pigments, isoindolin pigments, perylene pigments, perinone pigments, Anthraquinone pigments, anthraquinone pigments, anthrapyrimidine pigments, anthanthrone pigments, indanthrone pigments, pravantron pigments, pyranthrone pigments, diketopyrrolopyrroles, Pigments, and the like.

상기 무기 안료는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 포함할 수 있고, 예를 들면 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등과 같은 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물 등을 들 수 있다. The inorganic pigments may include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts and may be oxides or complexes of metals such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, Metal oxides and the like.

구체적인 예로서, 상기 유기 안료 및 무기 안료로는 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 하기에 나열된 색지수(C.I.) 번호의 안료를 사용할 수 있다. As a specific example, the organic pigments and inorganic pigments include compounds classified as pigments in the color index (The society of Dyers and Colourists), and pigments of the color index (CI) number listed below can be used have.

상기의 C.I. 피그먼트 안료 등 중, 예를 들면 C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 185, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 208, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 블루 15:3, 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 58 등이 사용될 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다.The above C.I. Pigment pigments and the like, for example, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 185, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 208, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 255, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Blue 15: 3, Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 58 and the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

상기의 안료의 예들은 단지 예시적인 것들이며, 원하는 색도를 고려하여 적절한 것을 선택 및 조합합하여 사용할 수 있다.The examples of the above pigments are merely illustrative, and appropriate ones can be selected and combined in consideration of the desired chromaticity.

일부 실시예들에 있어서, 안료의 조성물 내 균일한 분산을 위해 안료 분산제를 함께 포함시킬 수 있다. 예를 들면, 상기 안료 분산제 내에 안료를 분산시켜 균일한 입경을 갖는 안료 분산액을 형성하고, 상기 안료 분산액을 착색 감광성 조성물에 혼합할 수 있다.In some embodiments, a pigment dispersant may be included together for uniform dispersion of the pigment in the composition. For example, the pigment dispersion may be dispersed in the pigment dispersant to form a pigment dispersion having a uniform particle diameter, and the pigment dispersion may be mixed with the colored photosensitive composition.

상기의 안료 분산제의 예로서, BMA(부틸메타아크릴레이트) 또는 DMAEMA(N,N-디메틸아미노에틸메타아크릴레이트)와 같은 아크릴레이트계 분산제, 폴리에스테르계 분산제, 폴리아민계 분산제, (메트)아크릴산-스티렌 코폴리머, (메트)아크릴산-(메트)아크릴레이트 에스테르 코폴리머, 스티렌-말레산 코폴리머, 폴리비닐 알코올 또는 폴리비닐 피롤리돈과 같은 수지 타입 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the pigment dispersant include an acrylate-based dispersant such as BMA (butyl methacrylate) or DMAEMA (N, N-dimethylaminoethyl methacrylate), a polyester dispersant, a polyamine dispersant, a (meth) Styrene copolymers, resin type surfactants such as (meth) acrylic acid- (meth) acrylate ester copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyvinyl alcohol or polyvinylpyrrolidone. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 염료는 유기용매 및 알칼리 현상액에 대한 용해성 및 내용매성, 경시안정성 등을 고려하여 선택될 수 있다. The dye may be selected in consideration of solubility and solvent resistance to an organic solvent and an alkaline developer, stability with time, and the like.

상기 염료로는 설폰산이나 카복실산 등의 산성기를 갖는 산성 염료 또는 이의 유도체, 아조계, 크산텐계, 프탈로시아닌계의 산성염료 및 이들의 유도체 등을 사용할 수 있다.As the dye, an acidic dye having an acidic group such as a sulfonic acid or a carboxylic acid or a derivative thereof, an azoic acid, a xanthene-based acid, a phthalocyanine-based acidic dye or a derivative thereof may be used.

상기 염료는 예를 들면 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)내에 염료로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(색염사)에 기재되어 있는 공지의 염료를 포함할 수 있다. Such dyes may include, for example, compounds classified as dyes in the color index (The Society of Dyers and Colourists publication), or known dyes described in dyeing notes (color dyes).

상기 염료의 구체적인 예로는, C.I. 솔벤트 계열, 또한, C.I. 애시드 계열, C.I.다이렉트 계열, C.I. 모단토 계열 염료들을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다.Specific examples of the dye include C.I. Solvent series, also C.I. Acid series, C.I. Direct series, C.I. And dendritic dyes, which may be used alone or in combination of two or more.

상기 착색제의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 착색 감광성 수지 조성물 고형분 총 중량 중, 약 3 내지 60중량%, 바람직하게는 5 내지 50중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서 착색제의 외부 유출을 초래하지 않으면서 원하는 색 재현성을 구현할 수 있다.The content of the colorant is not particularly limited, but may be about 3 to 60% by weight, preferably 5 to 50% by weight, based on the total weight of the solid matter of the colored photosensitive resin composition. The desired color reproducibility can be realized without causing the coloring agent to flow out in the above range.

광중합성 화합물Photopolymerizable compound

일부 예시적인 실시예들에 있어서, 상기 착색 감광성 조성물은 노광 공정에 의해 추가 가교 혹은 중합되어 착색 패턴의 기계적 특성을 향상시키기 위해 예를 들면, 추가 단량체로서 광중합성 화합물을 더 포함할 수도 있다.In some exemplary embodiments, the colored photosensitive composition may further comprise a photopolymerizable compound as an additional monomer, for example, to further crosslink or polymerize by the exposure process to improve the mechanical characteristics of the color pattern.

상기 광중합성 화합물은 단관능 단량체, 2관능 단량체 또는 다관능 단량체를 사용할 수 있으며, 충분한 경화특성 구현을 위해 2관능 이상의 단량체를 사용할 수 있다.The photopolymerizable compound may be a monofunctional monomer, a bifunctional monomer or a polyfunctional monomer, and a bifunctional or higher functional monomer may be used for realizing sufficient curing characteristics.

상기 단관능 단량체의 예로서 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 2관능 단량체의 예로서 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Examples of the monofunctional monomer include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, N-vinylpyrrolidone And the like. Examples of bifunctional monomers include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A (Acryloyloxyethyl) ether, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, and the like.

기타 다관능 단량체의 예로서 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다.Examples of other multifunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 광중합성 화합물의 함량은 예를 들면, 조성물 고형분 총 중량 중, 약 5 내지 50중량%일 수 있다. 상기 범위 내에서, 착색제의 색 재현성을 저하시키 않으면서 착색 패턴의 강도 및 기계적 신뢰성을 향상시킬 수 있으며, 바람직하게는 약 7 내지 45중량%로 포함될 수 있다.The content of the photopolymerizable compound may be, for example, about 5 to 50% by weight based on the total weight of the solid composition. Within the above range, the strength and mechanical reliability of the color pattern can be improved without lowering the color reproducibility of the colorant, and preferably about 7 to 45% by weight.

광중합 개시제Photopolymerization initiator

상술한 광중합성 화합물이 포함되는 경우, 상기 착색 감광성 조성물은 노광 공정에 의해 상기 광중합성 화합물의 가교 혹은 중합을 유도하기 위해 광중합 개시제를 더 포함할 수 있다.When the above-mentioned photopolymerizable compound is included, the colored photosensitive composition may further include a photopolymerization initiator to induce crosslinking or polymerization of the photopolymerizable compound by an exposure process.

예를 들면, 상기 광중합 개시제는 아세토페논계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 옥심에스테르계 화합물 등에서 선택된 선택된 적어도 1종의 화합물을 포함할 수 있다. 바람직하게는 상기 광중합 개시제는 아세토페톤계 화합물을 포함할 수 있다.For example, the photopolymerization initiator may be at least one compound selected from an acetophenone compound, a benzoin compound, a benzophenone compound, a triazine compound, a nonimidazole compound, a thioxanthone compound, an oxime ester compound, . &Lt; / RTI &gt; Preferably, the photopolymerization initiator may include an acetopetone-based compound.

상기 아세토페논계 화합물의 예로서, 디에톡시아세토페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. Examples of the acetophenone-based compounds include diethoxyacetophenone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan- 1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, (1-methylvinyl) phenyl] propane-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy- On oligomers and the like.

상기 광중합 개시제의 함량은 예를 들면, 조성물 고형분 총 중량 중 약 1 내지 30중량%, 바람직하게는 약 1 내지 20중량%일 수 있다. 상기 범위 내에서 착색제의 색 재현 특성을 저해하지 않으면서 노광 공정에 대한 감도를 증가시킬 수 있다.The content of the photopolymerization initiator may be, for example, about 1 to 30% by weight, preferably about 1 to 20% by weight, based on the total weight of the composition. The sensitivity to the exposure process can be increased without hindering the color reproduction characteristics of the colorant within the above range.

일 실시예에 있어서, 상기 광중합 개시제에 의해 중합이 개시된 후, 중합 진행을 촉진시키기 위해 광중합 보조제를 함께 사용할 수도 있다. 상기 광중합 보조제는 예를 들면, 아민계 화합물, 알콕시안트라센계 화합물을 포함할 수 있다.In one embodiment, a photopolymerization assistant may be used together with the photopolymerization initiator to promote the progress of polymerization after polymerization is initiated by the photopolymerization initiator. The photopolymerization assistant may include, for example, an amine compound or an alkoxyanthracene compound.

상기 아민계 화합물의 예로서, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 벤조산2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(미힐러즈케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the amine compound include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, Dimethylaminobenzoic acid, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (Michler's ketone), 4,4'- , 4,4'-bis (ethylmethylamino) benzophenone, and the like.

상기 알콕시안트라센계 화합물의 예로서 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센,9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. Examples of the alkoxyanthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, .

기타 첨가제Other additives

일부 실시예들에 있어서, 상기 착색 감광성 조성물은 코팅성, 밀착성, 경도 등의 막 특성 향상을 위한 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 예를 들면, 기타 고분자 화합물, 경화제, 계면 활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등이 추가될 수 있다.In some embodiments, the colored photosensitive composition may further include an additive for improving film properties such as coatability, adhesion, hardness, and the like. For example, other polymer compounds, a curing agent, a surfactant, an adhesion promoter, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an anti-aggregation agent and the like may be added.

상기 기타 고분자 화합물은 착색 패턴의 경도, 밀착성 등을 고려하여 추가될 수 있으며, 예를 들면, 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 열경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 포함할 수 있다.The other polymeric compound may be added in consideration of the hardness and adhesion of the color pattern, and examples thereof include thermosetting resins such as epoxy resin and maleimide resin, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, A thermoplastic resin such as polyacrylate, polyacrylate, polyester, polyurethane, and the like.

상기 경화제는 착색 패턴의 심부 경화를 통한 강도 증진을 위해 포함될 수 있으며, 예를 들면 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물 또는 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.The curing agent may be included for enhancing the strength through deep curing of the coloring pattern, and examples thereof include an epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a melamine compound, and an oxetane compound.

상기 계면 활성제로서 실리콘계 계면 활성제, 불소계 계면 활성제, 불소 원자를 가지는 실리콘계 계면활성제 등이 사용될 수 있다, As the surfactant, a silicone surfactant, a fluorinated surfactant, a silicon surfactant having a fluorine atom, and the like can be used.

상기 습윤제로는 예를 들면 글리세린, 디에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜 등이 사용될 수 있다.As the wetting agent, for example, glycerin, diethylene glycol, ethylene glycol and the like can be used.

상기 밀착 촉진제의 구체적인 예로서는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.Specific examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- ( 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3- 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, and the like.

상기 산화 방지제의 예로서 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. 상기 자외선 흡수제의 예로서 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. 상기 응집 방지제의 예로서 예컨대 폴리아크릴산 혹은 이의 염을 들 수 있다.Examples of the antioxidant include 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol. Examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole and alkoxybenzophenone. Examples of the anti-aggregation agent include polyacrylic acid or a salt thereof.

용제solvent

용제는 상술한 광중합성 화합물 및 알칼리 가용성 수지를 충분히 용해시키며, 착색제의 석출을 야기하지 않은 유기 용매를 포함할 수 있다.The solvent may include an organic solvent which sufficiently dissolves the photopolymerizable compound and the alkali-soluble resin described above and does not cause precipitation of the colorant.

상기 용제의 예로서, 글리콜 에테르계, 알코올계(메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 프로필렌글리콜 메톡시 알코올 등), 케톤계(메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤 등), 아세테이트계(메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 프로필렌글리콜 메톡시 아세테이트 등), 셀로솔브계(메틸 셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 프로필 셀로솔브 등), 탄화수소계(노말 헥산, 노말 헵탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등), 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류, 감마-부티롤락톤 등의 용매들이 사용될 수 있으며, 이들은 단독으로 혹은 2종 이상이 조합되어 사용될 수 있다. Examples of the solvent include glycol ethers, alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, propylene glycol methoxy alcohol and the like), ketones (methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, di Methylcellosolve, ethylcellosolve and propylcellosolve), hydrocarbons (n-hexane, n-octane, n-hexane and the like) Esters such as ethyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, and gamma-butyrolactone may be used. These solvents may be used alone or in combination of two or more kinds thereof. Can be used in combination.

도포성 및 건조성을 고려하여 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제가 사용될 수 있으며, 바람직하게는, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 에틸락테이트, 부탈락테이트, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등을 이용할 수 있다.An organic solvent having a boiling point of 100 占 폚 to 200 占 폚 may be used in consideration of the coating property and the drying property, and preferably an organic solvent such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl lactate, Ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, and the like can be used.

상기 용제는 상술한 조성물의 성분들을 제외한 잔량으로 포함될 수 있으며, 예를 들면 조성물 총 중량 중 약 60 내지 90 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 스핀 코터, 슬릿 앤 스핀 코터, 슬릿 코터, 다이 코터, 커튼플로우 코터, 잉크젯 등을 이용한의 도포 방법을 통해 용이하게 도막이 형성될 수 있다. The solvent may be included in the balance excluding the components of the above-mentioned composition, for example, about 60 to 90% by weight of the total weight of the composition. When the above range is satisfied, a coating film can be easily formed through a coating method using a spin coater, a slit-and-spin coater, a slit coater, a die coater, a curtain flow coater, an ink jet or the like.

<컬러필터 및 화상표시 장치 >&Lt; Color filter and image display device >

상술한 착색 감광성 조성물을 이용해 착색 패턴을 형성할 수 있으며, 상기 착색 패턴은 후술하는 바와 같이 예를 들면 화상 표시 장치의 컬러 필터로 사용될 수 있다.A coloring pattern can be formed using the above-described colored photosensitive composition, and the coloring pattern can be used, for example, as a color filter of an image display device, as described later.

예시적인 실시예들에 따르면, 예를 들면 유리 기판 상에 블랙 매트릭스를 형성하여 색상별 화소 영역을 정의할 수 있다. 이후, 상기 유리 기판 및 블랙 매트릭스 상에 상기 착색 감광성 조성물을 도포 및 경화시켜 예비 착색막을 형성할 수 있다.According to exemplary embodiments, for example, a black matrix may be formed on a glass substrate to define a pixel region for each color. Thereafter, the colored photosensitive composition is applied and cured on the glass substrate and the black matrix to form a pre-colored film.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 경화 공정은 약 200℃ 이하, 혹은 약 150℃ 이하의 온도에서 수행될 수 있다. 상기 착색 감광성 조성물은 상술한 유리 전이 온도를 조건에 따른 제1 수지 및 제2 수지를 포함하므로, 상기 저온 조건의 경화 공정을 통해서도 충분한 기계적 신뢰성을 구현할 수 있다.In exemplary embodiments, the curing process may be performed at a temperature of about 200 ° C or less, or about 150 ° C or less. Since the colored photosensitive composition includes the first resin and the second resin according to the above-mentioned glass transition temperature, sufficient mechanical reliability can be realized even through the curing process at the low temperature condition.

이후, 상기 예비 착색막을 노광 및 현상하여 각 화소에 대응하는 착색 패턴이 형성될 수 있다. Thereafter, the preliminary coloring film is exposed and developed to form a coloring pattern corresponding to each pixel.

상기 노광 공정은 상기 화소 영역을 선택적으로 노출시키는 마스크를 사용한 자외선 노광을 포함할 수 있다. 이후, 비노광 영역을 현상액을 사용하여 선택적으로 제거함으로써 상기 착색패턴을 형성할 수 있다.The exposure process may include ultraviolet exposure using a mask that selectively exposes the pixel region. Thereafter, the colored pattern can be formed by selectively removing the non-exposed region using a developing solution.

상기 현상액은 예를 들면, 무기 또는 유기 알칼리성 화합물을 포함할 수 있다. 상기 무기 알칼리성 화합물의 예로서 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 상기 유기 알칼리성 화합물의 예로서 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. The developing solution may contain, for example, an inorganic or organic alkaline compound. Examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, , Potassium hydrogencarbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonia. Examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropyl Amine, diisopropylamine, ethanolamine, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 현상 공정 이후, 예를 들면 150 내지 230℃에서 포스트 베이킹 공정을 수행할 수 있다.After the development step, a post-baking process may be performed at, for example, 150 to 230 ° C.

이후, 상기 블랙 매트릭스 및 상기 착색패턴들을 덮는 오버 코팅층을 형성하고, 상기 오버 코팅층 상에 전극층을 형성할 수 있다. 상기 전극층은 예를 들면, 인듐 주석 산화물(ITO)와 같은 투명 도전성 산화물을 사용하여 형성되며, 후술하는 화상 표시 장치의 공통 전극으로 제공될 수도 있다.Thereafter, an overcoat layer covering the black matrix and the coloring patterns may be formed, and an electrode layer may be formed on the overcoat layer. The electrode layer is formed using, for example, a transparent conductive oxide such as indium tin oxide (ITO), and may be provided as a common electrode of an image display device described later.

상기 공정들에 의해 착색 패턴을 포함하는 컬러필터가 제조될 수 있다. 상술한 바와 같이, 유리 전이 온도 조건을 만족하는 알칼리 가용성 수지를 사용하여 착색제의 함량을 증가시키더라도 막 수축이 억제된 고 색 재현성 및 고휘도를 갖는 컬러필터를 형성할 수 있다. By the above processes, a color filter including a coloring pattern can be manufactured. As described above, even when the content of the colorant is increased by using the alkali-soluble resin satisfying the glass transition temperature condition, it is possible to form a color filter having high color reproducibility and high brightness with suppressed film shrinkage.

예시적인 실시예들에 따르면, 상기 컬러필터를 포함하는 화상 표시 장치가 제공된다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 화상 표시 장치는 백 라이트를 포함하는 LCD 장치일 수 있다.According to exemplary embodiments, an image display apparatus including the color filter is provided. In some embodiments, the image display device may be an LCD device including a backlight.

상기 LCD 장치는 백라이트 유닛, 하부 편광판 및 TFT 어레이 기판이 순차적으로 적층된 하부 기판을 포함할 수 있다. 상기 하부 기판 상에 화소 전극이 형성되며, 상기 화소 전극이 형성된 상기 TFT 어레이 기판 상에 액정층이 형성될 수 있다.The LCD device may include a lower substrate on which a backlight unit, a lower polarizer, and a TFT array substrate are sequentially stacked. A pixel electrode is formed on the lower substrate, and a liquid crystal layer may be formed on the TFT array substrate on which the pixel electrode is formed.

이후, 상기 액정층을 사이에 두고 상기 TFT 어레이 기판과 대향하도록 상술한 컬러필터를 배치할 수 있다. 예를 들면, 상기 전극층이 상기 화소 전극과 대향하도록 컬러필터를 적층할 수 있다.Then, the above-described color filter can be disposed so as to face the TFT array substrate with the liquid crystal layer interposed therebetween. For example, the color filter may be laminated such that the electrode layer faces the pixel electrode.

상기 컬러필터 상에는 상부 편광판, 보호 기판 등이 적층될 수 있다.An upper polarizer, a protective substrate, and the like may be stacked on the color filter.

일부 실시예들에 있어서, 상기 컬러필터는 백색 유기발광다이오드(Whited OLED) 장치에 적용될 수도 있다. 예를 들면, 백색 OLED 소자 기판 상에 상기 컬러필터가 적층될 수 있으며, OELD의 자발광에 대한 내광성 역시 향상될 수 있다.In some embodiments, the color filter may be applied to a white organic light emitting diode (Whited OLED) device. For example, the color filter can be laminated on a white OLED element substrate, and the light resistance of the OELD to self-emission can also be improved.

상기 착색 감광성 조성물을 사용한 컬러필터를 예시적으로 설명하였으나, 상기 착색 감광성 조성물은 착색제의 타입에 따라, 블랙 매트릭스, 스페이서, 화소 정의막 등 화상 표시 장치에 포함되는 다양한 절연 구조 형성을 위해 사용될 수도 있다.Although the color filter using the colored photosensitive composition is exemplarily described, the colored photosensitive composition may be used for forming various insulating structures included in an image display device such as a black matrix, a spacer, and a pixel defining layer depending on the type of the colorant .

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 구체적인 실시예 및 비교예들을 포함하는 실험예를 제시하나, 이는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited by the scope of the appended claims, It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made in the embodiments within the scope of the claims, and such variations and modifications are within the scope of the appended claims.

실험예Experimental Example

합성예 1: 알칼리 가용성 수지(A-1)의 합성Synthesis Example 1: Synthesis of alkali-soluble resin (A-1)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 120부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 80부, AIBN 2부, 에틸헥실메타아크릴레이트 10부, 트리싸이클로데실메타아크릴레이트 30부, 아크릴산 35부, 글리시딜메타아크릴레이트 25부를 투입하고 질소 치환하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 80℃로 상승시키고 8시간 반응하였다. 이후 반응액의 온도를 상온으로 내렸다. 상술한 공정을 통해 Tg는 -4℃이며, 고형분 산가는 35.2㎎KOH/g 이며 GPC로 측정한 중량 평균 분자량 Mw는 약 3560의 알칼리 가용성 수지를 수득하였다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was charged with 120 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, 80 parts of propylene glycol monomethyl ether, 2 parts of AIBN, 10 parts of ethylhexyl methacrylate, 30 parts of methacrylate, 35 parts of acrylic acid and 25 parts of glycidyl methacrylate were charged and replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 80 DEG C with stirring, and the reaction was carried out for 8 hours. Thereafter, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature. Through the above-described process, an alkali-soluble resin having a Tg of -4 캜, a solid content of 35.2 mgKOH / g and a weight-average molecular weight Mw of about 3560 as measured by GPC was obtained.

합성예 2: 알칼리 가용성 수지(A-2)의 합성Synthesis Example 2: Synthesis of alkali-soluble resin (A-2)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 120부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 80부, AIBN 2부, 에틸실헥실메타아크릴레이트 25부, 트리싸이클로데실메타아크릴레이트 25부, 아크릴산 30부, 글리시딜메타아크릴레이트 20부를 투입하고 질소 치환하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 80℃로 상승시키고 8시간 반응하였다. 이후 반응액의 온도를 상온으로 내렸다. 상술한 공정을 통해 Tg는 -14℃이며, 고형분 산가는 32.0㎎KOH/g 이며 GPC로 측정한 중량 평균 분자량 Mw는 약 3420의 알칼리 가용성 수지를 수득하였다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was charged with 120 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, 80 parts of propylene glycol monomethyl ether, 2 parts of AIBN, 25 parts of ethylhexyl methacrylate, 25 parts of decylmethacrylate, 30 parts of acrylic acid and 20 parts of glycidyl methacrylate were charged and replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 80 DEG C with stirring, and the reaction was carried out for 8 hours. Thereafter, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature. Through the above-mentioned process, an alkali-soluble resin having a Tg of -14 캜, a solid content of 32.0 mgKOH / g and a weight-average molecular weight Mw of about 3420 as measured by GPC was obtained.

합성예 3: 알칼리 가용성 수지(A-3)의 합성Synthesis Example 3: Synthesis of alkali-soluble resin (A-3)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 120부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 80부, AIBN 2부, 라우릴메타아크릴레이트 25부, 트리싸이클로데실메타아크릴레이트 25부, 아크릴산 30부, 글리시딜메타아크릴레이트 20부를 투입하고 질소 치환하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 80℃로 상승시키고 8시간 반응하였다. 이후 반응액의 온도를 상온으로 내렸다. 상술한 공정을 통해 Tg는 -28℃이며, 고형분 산가는 33.4㎎KOH/g 이며 GPC로 측정한 중량 평균 분자량 Mw는 약 3658의 알칼리 가용성 수지를 수득하였다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was charged with 120 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, 80 parts of propylene glycol monomethyl ether, 2 parts of AIBN, 25 parts of lauryl methacrylate, 25 parts of methacrylate, 30 parts of acrylic acid and 20 parts of glycidyl methacrylate were charged and replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 80 DEG C with stirring, and the reaction was carried out for 8 hours. Thereafter, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature. Through the above-mentioned process, an alkali-soluble resin having a Tg of -28 캜, a solid content of 33.4 mgKOH / g and a weight-average molecular weight Mw of about 3658 as measured by GPC was obtained.

합성예 4: 알칼리 가용성 수지(A-4)의 합성Synthesis Example 4: Synthesis of alkali-soluble resin (A-4)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 120부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 80부, AIBN 2부, 스타이렌 25부, 트리싸이클로데실메타아크릴레이트 25부, 아크릴산 30부, 글리시딜메타아크릴레이트 20부를 투입하고 질소 치환하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 80℃로 상승시키고 8시간 반응시켰다. 이후 반응액의 온도를 상온으로 내렸다. 상술한 공정을 통해 Tg는 +104℃이며, 고형분 산가는 31.7㎎KOH/g 이며 GPC로 측정한 중량 평균 분자량 Mw는 약 3469의 알칼리 가용성 수지를 수득하였다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was charged with 120 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, 80 parts of propylene glycol monomethyl ether, 2 parts of AIBN, 25 parts of styrene, 25 parts of acrylic acid, 30 parts of acrylic acid and 20 parts of glycidyl methacrylate were charged and replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 80 DEG C with stirring, and the reaction was carried out for 8 hours. Thereafter, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature. Through the above-described process, an alkali-soluble resin having a Tg of +104 占 폚, a solid content of 31.7 mgKOH / g and a weight-average molecular weight Mw of about 3469 as measured by GPC was obtained.

합성예 5: 알칼리 가용성 수지(A-5)의 합성Synthesis Example 5: Synthesis of alkali-soluble resin (A-5)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 120부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 80부, AIBN 2부, 벤질메타아크릴레이트 25부, 트리싸이클로데실메타아크릴레이트 25부, 아크릴산 30부, 글리시딜메타아크릴레이트 20부를 투입하고 질소 치환하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 80℃로 상승시키고 8시간 반응하였다. 이후 반응액의 온도를 상온으로 내렸다. 상술한 공정을 통해 Tg는 +58℃이며, 고형분 산가는 36.1㎎KOH/g 이며 GPC로 측정한 중량 평균 분자량 Mw는 약 3785의 알칼리 가용성 수지를 수득하였다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was charged with 120 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, 80 parts of propylene glycol monomethyl ether, 2 parts of AIBN, 25 parts of benzylmethacrylate, 25 parts of acrylate, 30 parts of acrylic acid and 20 parts of glycidyl methacrylate were charged and replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 80 DEG C with stirring, and the reaction was carried out for 8 hours. Thereafter, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature. Through the above-mentioned process, an alkali-soluble resin having a Tg of + 58 占 폚, a solid content of 36.1 mgKOH / g and a weight average molecular weight Mw of about 3785 as measured by GPC was obtained.

합성예 6: 알칼리 가용성 수지(A-6)의 합성Synthesis Example 6: Synthesis of alkali-soluble resin (A-6)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 아세테이트 120부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 80부, AIBN 2부, 싸이클로헥실메타아크릴레이트 25부, 트리싸이클로데실메타아크릴레이트 25부, 아크릴산 30부, 글리시딜메타아크릴레이트 20부를 투입하고 질소 치환하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 80℃로 상승시키고 8시간 반응하였다. 이후 반응액의 온도를 상온으로 내렸다. 상술한 공정을 통해 Tg는 +12℃이며, 고형분 산가는 29.8㎎KOH/g 이며 GPC로 측정한 중량 평균 분자량 Mw는 약 3027의 알칼리 가용성 수지를 수득하였다.A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was charged with 120 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, 80 parts of propylene glycol monomethyl ether, 2 parts of AIBN, 25 parts of cyclohexyl methacrylate, 25 parts of methacrylate, 30 parts of acrylic acid and 20 parts of glycidyl methacrylate were charged and replaced with nitrogen. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 80 DEG C with stirring, and the reaction was carried out for 8 hours. Thereafter, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature. Through the above-described process, an alkali-soluble resin having a Tg of +12 DEG C, a solid content of 29.8 mgKOH / g and a weight-average molecular weight Mw of about 3027 as measured by GPC was obtained.

실시예 및 비교예Examples and Comparative Examples

하기 표 1 및 표 2에 기재된 성분 및 함량(중량부)로 실시예 및 비교예의 착색 감광성 조성물을 제조하였다.The colored photosensitive compositions of Examples and Comparative Examples were prepared with the components and the contents (parts by weight) shown in Tables 1 and 2 below.

실시예Example 1One 22 33 44 55 66 알칼리
가용성
수지
alkali
Availability
Suzy
A-1A-1 1.961.96 1.961.96 -- 1.961.96 -- 1.31.3
A-2A-2 2.562.56 -- 1.961.96 -- 1.961.96 -- A-3A-3 -- 2.562.56 2.562.56 -- -- -- A-4A-4 -- -- -- -- -- -- A-5A-5 -- -- -- -- -- -- A-6A-6 -- -- -- 2.562.56 2.562.56 3.223.22 광중합성
화합물
Photopolymerization
compound
B-1B-1 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12
광중합 개시제Photopolymerization initiator C-1C-1 1.341.34 1.341.34 1.341.34 1.341.34 1.341.34 1.341.34 착색제coloring agent D-1D-1 3.933.93 3.933.93 3.933.93 3.933.93 3.933.93 3.933.93 D-2D-2 1.921.92 1.921.92 1.921.92 1.921.92 1.921.92 1.921.92 용제solvent E-1E-1 8585 8585 8585 8585 8585 8585 첨가제additive F-1F-1 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 F-2F-2 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 F-3F-3 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20

비교예Comparative Example 1One 22 33 44 55 알칼리
가용성
수지
alkali
Availability
Suzy
A-1A-1 1.961.96 1.961.96 -- -- --
A-2A-2 -- -- 1.961.96 -- -- A-3A-3 -- -- -- -- 1.961.96 A-4A-4 2.562.56 -- -- -- -- A-5A-5 -- 2.562.56 2.562.56 1.961.96 -- A-6A-6 -- -- -- 2.562.56 2.562.56 광중합성
화합물
Photopolymerization
compound
B-1B-1 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12 3.123.12
광중합 개시제Photopolymerization initiator C-1C-1 1.341.34 1.341.34 1.341.34 1.341.34 1.341.34 착색제coloring agent D-1D-1 3.933.93 3.933.93 3.933.93 3.933.93 3.933.93 D-2D-2 1.921.92 1.921.92 1.921.92 1.921.92 1.921.92 용제solvent E-1E-1 8585 8585 8585 8585 8585 첨가제additive F-1F-1 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 F-2F-2 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 F-3F-3 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20

표 1 및 표 2에 기재된 성분들은 하기와 같다.The components shown in Table 1 and Table 2 are as follows.

A-1) 합성예 1의 알칼리 가용성 수지A-1) The alkali-soluble resin of Synthesis Example 1

A-2) 합성예 2의 알칼리 가용성 수지A-2) The alkali-soluble resin of Synthesis Example 2

A-3) 합성예 3의 알칼리 가용성 수지A-3) The alkali-soluble resin of Synthesis Example 3

A-4) 합성예 4의 알칼리 가용성 수지A-4) The alkali-soluble resin of Synthesis Example 4

A-5) 합성예 5의 알칼리 가용성 수지A-5) The alkali-soluble resin of Synthesis Example 5

A-6) 합성예 6의 알칼리 가용성 수지 A-6) The alkali-soluble resin of Synthesis Example 6

B-1) 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 닛본 카야꾸 ㈜ 제조)B-1) dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

C-1) 2-벤질-2-디메틸아미노-1(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(Irgacure 369; Ciba SpecialtyChemical 사 제조)C-1) 2-Benzyl-2-dimethylamino-1 (4-morpholinophenyl) butan-1-one (Irgacure 369; Ciba Specialty Chemicals)

D-1) C.I.피그먼트 그린 58D-1) C.I. Pigment Green 58

D-2) C.I.피그먼트 엘로우 138D-2) C.I. Pigment Yellow 138

E-1) 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트E-1) Propylene glycol monomethyl ether acetate

F-1) 계면활성제(SH-8400토레이 실리콘 제조)F-1) Surfactant (SH-8400 manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.)

F-2) 에폭시 수지(SUMI-EPOXY ESCN-195XL; 스미또모 카가꾸 고교 ㈜ 제조)F-2) epoxy resin (SUMI-EPOXY ESCN-195XL; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)

F-3) 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란F-3) 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane

컬러필터 제조Manufacture of color filters

실시예 및 비교예에서 제조된 착색 감광성 조성물을 스핀 코팅법으로 유리 기판(#1737, 코닝사 제조) 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 3분 동안 유지하여 박막을 형성시켰다. The colored photosensitive compositions prepared in Examples and Comparative Examples were applied on a glass substrate (# 1737, Corning) by spin coating, and then placed on a heating plate and held at a temperature of 100 ° C for 3 minutes to form a thin film.

상기 박막 위에 투과율 1 내지 100%의 범위에서 계단 형상 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 배치하고 시험 포토마스크와의 간격을 1000㎛로 하고, 초고압 수은 램프(USH-250D, 우시오 덴끼(주) 제조)를 이용하여 대기 분위기 하에서 40mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 광조사하였다. 자외선이 조사된 상기 박막을 pH 12.5의 KOH 수용액 현상 용액에 스프레이 현상기를 이용하여 70초 동안 현상하였다. A test photomask having a step-like pattern was placed on the thin film in a transmittance of 1 to 100%, and an ultra-high pressure mercury lamp (USH-250D, manufactured by Ushio DENKI Co., Ltd.) (365 nm) at 40 mJ / cm &lt; 2 &gt; in an air atmosphere. The thin film irradiated with ultraviolet rays was developed in a KOH aqueous solution of pH 12.5 for 70 seconds using a spray developing machine.

상기 박막이 코팅된 유리 기판을 증류수를 사용하여 씻어준 다음, 질소가스를 불어서 건조하고, 230℃의 가열 오븐에서 20분 동안 가열하여 컬러필터를 제조하였다. 제조된 컬러필터의 패턴(박막) 두께는 2.0 내지 2.5㎛였다.The glass substrate coated with the thin film was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 230 ° C for 20 minutes to prepare a color filter. The pattern (thin film) thickness of the manufactured color filter was 2.0 to 2.5 占 퐉.

(1) 현상 속도 및 감도 평가(1) Development speed and sensitivity evaluation

상술한 컬러필터의 제조 과정 중, 현상 시 비노광부의 제거/박리가 개시되는 시간을 측정하여 현상 속도를 측정하였다. 또한, 상기 컬러필터의 제조과정 중 현상 후 패턴의 뜯김이 없는 박막을 형성하기 위해 필요한 최저 노광량(mJ/㎠)을 측정하여 감도를 평가하였다.During the above-described manufacturing process of the color filter, the time at which the removal / peeling of the non-exposed portion started at the time of development was measured to measure the developing speed. Further, during the manufacturing process of the color filter, the minimum exposure amount (mJ / cm 2) required to form a thin film without peeling of the pattern after development was measured to evaluate the sensitivity.

(2) 얼룩(막 주름 평가)(2) Smear (Evaluation of film wrinkles)

제작된 컬러필터 패턴 표면 표면 상태를 육안으로 관찰하여 막주름에 의한 세로선 얼룩이 발생하는지의 여부를 판단하고, 하기의 기준에 의해 평가하였다.The state of the surface of the fabricated color filter pattern was visually observed to determine whether vertical line unevenness due to film wrinkles occurred or not, and evaluated according to the following criteria.

○: 패턴 표면에 세로선의 얼룩이 인지되지 않음.○: Vertical line stains are not recognized on the pattern surface.

△: 패턴 표면에 세로선의 얼룩이 미세하게 인지됨.?: The unevenness of the vertical lines on the pattern surface is finely recognized.

X: 패턴 표면에 세로선의 얼룩이 선명하게 인지됨.X: Vertical stain on the pattern surface is clearly recognized.

(3) 밀착성 평가(3) Evaluation of adhesion

상기에 제조된 컬러필터를 10×10mm의 영역내에서 100개의 매트릭스 구조로 절개한 후, 그 위에 테이프를 접착하고 수직으로 강하게 이형시키면서 박리되어 나온 매트릭스의 개수를 세어 밀착성을 평가하였다(박리된 개수/100).The color filter prepared above was cut into 100 matrix structures in an area of 10 x 10 mm, and the adherence was evaluated by counting the number of matrices peeled off while vertically and strongly adhering the tape on the tape. / 100).

(4) 내열성(4) Heat resistance

상기에 제조된 컬러필터에 대해 230℃/2hr 열처리 전후의 색변화(내열성)를 비교 평가하였다. 구체적으로 L*, a*, b* 로 정의되는 3차원 색도계에서의 색변화를 나타내는 하기 수식 1을 사용하여, 색변화치가 작을수록 내열성이 높음을 의미한다.The color filters (heat resistance) before and after the heat treatment at 230 deg. C for 2 hours were compared and evaluated with respect to the color filters prepared above. Specifically, by using the following expression (1) representing the color change in the three-dimensional colorimeter defined by L *, a *, b *, the smaller the color change value, the higher the heat resistance.

[수식 1][Equation 1]

△Eab* =[(△L*)2+(△a*)2+(△b*)2]1/2 ? Eab * = [(? L *) 2 + (? A *) 2 + (? B *) 2 ] 1/2

(5) NMP 내용제성(5) NMP content

상기에 제조된 컬러필터를 3x3cm로 자른 후, 14.6ml의 NMP 용액에 80℃에서 40분간 침지시켰다. 이후 재수집된 NMP 용액의 흡광도를 UV-Vis spectrometer로 평가하였다.The color filter prepared above was cut into 3 x 3 cm, and then immersed in 14.6 ml of NMP solution at 80 DEG C for 40 minutes. The absorbance of the re-collected NMP solution was then evaluated by UV-Vis spectrometer.

평가 결과는 하기의 표 3 및 표 4에 나타낸다.The evaluation results are shown in Tables 3 and 4 below.

실시예
1
Example
One
실시예
2
Example
2
실시예
3
Example
3
실시예
4
Example
4
실시예
5
Example
5
실시예
6
Example
6
감도(mJ/cm2)Sensitivity (mJ / cm 2 ) 2020 2020 2020 2525 2525 2525 현상속도Development speed 1818 1313 2121 2323 2525 2121 얼룩 (세로선)Stain (vertical line) OO OO OO OO OO 밀착성Adhesiveness 100/100100/100 100/100100/100 95/10095/100 95/10095/100 95/10095/100 97/10097/100 내열성Heat resistance 1.091.09 0.750.75 1.761.76 2.352.35 1.261.26 2.412.41 NMP
내용제성
NMP
Solvent resistance
0.330.33 0.160.16 0.670.67 0.500.50 0.920.92 0.610.61

비교예
1
Comparative Example
One
비교예
2
Comparative Example
2
비교예
3
Comparative Example
3
비교예
4
Comparative Example
4
비교예
5
Comparative Example
5
감도(mJ/cm2)Sensitivity (mJ / cm 2 ) 2525 2525 2525 2525 2525 현상속도Development speed 2424 1010 2020 2828 1414 얼룩 (세로선)Stain (vertical line) XX XX 밀착성Adhesiveness 90/10090/100 85/10085/100 90/10090/100 90/10090/100 100/100100/100 내열성Heat resistance 1.341.34 0.750.75 2.602.60 2.262.26 1.421.42 NMP
내용제성
NMP
Solvent resistance
1.931.93 0.160.16 2.262.26 2.772.77 0.160.16

표 3 및 표 4를 참조하면, 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 수지를 포함하며, 수지들 사이의 유리 전이 온도 차이가 30℃이하로 조절된 실시예들은 비교예들에 비해 현저히 향상된 기계적/화학적 신뢰성(밀착성, 내열성, 내용제성)을 나타내면서 착색제 또는 막 수축에 따른 얼룩 역시 관찰되지 않았다. 실시예 6의 경우, 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 수지(제1 수지)의 함량이 다소 감소함에 따라, 미소한 얼룩이 관찰되었다.Referring to Tables 3 and 4, the examples including the resin having a glass transition temperature of less than 0 占 폚, wherein the glass transition temperature difference between the resins was adjusted to 30 占 폚 or less, showed remarkably improved mechanical / No staining due to colorant or film shrinkage was observed while showing chemical reliability (adhesion, heat resistance, solvent resistance). In the case of Example 6, minute unevenness was observed as the content of the resin (first resin) having a glass transition temperature of less than 0 캜 was somewhat reduced.

비교예 4와 같이 수지들의 유리 전이 온도가 모두 0℃를 초과하는 경우, 얼룩 현상이 심화되었으며, 수지들 사이의 유리 전이 온도가 30℃를 초과하면서 얼룩 현상 방지 효과도 저하되면서 기계적/화학적 신뢰성이 저하되었다.When all of the glass transition temperatures of the resins exceeded 0 占 폚 as in Comparative Example 4, the smear phenomenon was intensified and the glass transition temperature between the resins exceeded 30 占 폚, .

Claims (10)

적어도 2종의 수지를 포함하며 유리 전이 온도가 0℃ 미만의 수지를 포함하는 알칼리 가용성 수지;
착색제; 및
용제를 포함하는, 착색 감광성 조성물.
An alkali-soluble resin containing at least two resins and including a resin having a glass transition temperature of less than 0 占 폚;
coloring agent; And
Wherein the coloring photosensitive composition comprises a solvent.
청구항 1에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지는 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 제1 수지 및 상기 제1 수지와 다른 유리 전이 온도를 갖는 제2 수지를 포함하는, 착색 감광성 조성물.
The colored photosensitive composition according to claim 1, wherein the alkali-soluble resin comprises a first resin having a glass transition temperature of less than 0 ° C and a second resin having a glass transition temperature different from that of the first resin.
청구항 2에 있어서, 상기 제1 수지 및 상기 제2 수지의 유리 전이 온도 차이는 30℃ 이하인, 착색 감광성 조성물.
3. The colored photosensitive composition according to claim 2, wherein the glass transition temperature difference between the first resin and the second resin is 30 DEG C or lower.
청구항 2에 있어서, 상기 제1 수지는 하기의 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 포함하는, 착색 감광성 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00007

(상기 화학식 1 중, R1은 수소 또는 메틸기이고, R2는 탄소수 1 내지 12의 알킬기임)
The colored photosensitive composition according to claim 2, wherein the first resin comprises a repeating unit represented by the following formula (1):
[Chemical Formula 1]
Figure pat00007

(Wherein R 1 is hydrogen or a methyl group, and R 2 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms)
청구항 4에 있어서, 상기 화학식 1 중, R2는 비고리형 알킬기인, 착색 감광성 조성물.
5. The colored photosensitive composition according to claim 4, wherein R &lt; 2 &gt; is a non-cyclic alkyl group.
청구항 4에 있어서, 상기 제1 수지 또는 상기 제2 수지는 하기의 화학식 2로 표시되는 반응성 반복단위를 포함하는, 착색 감광성 조성물:
[화학식 2]
Figure pat00008

(화학식 2 중, R3은 수소 또는 메틸기임).
5. The colored photosensitive composition according to claim 4, wherein the first resin or the second resin comprises a reactive repeating unit represented by the following formula (2)
(2)
Figure pat00008

(Wherein R 3 is hydrogen or a methyl group).
청구항 6에 있어서, 상기 제1 수지 또는 상기 제2 수지는 아릴 링 함유 단위 또는 카르복실산 함유 단위를 더 포함하는, 착색 감광성 조성물.
7. The colored photosensitive composition according to claim 6, wherein the first resin or the second resin further comprises an aryl ring-containing unit or a carboxylic acid-containing unit.
청구항 2에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지 총 중량 중 상기 제1 수지의 함량은 30중량% 이상인, 착색 감광성 조성물.
The colored photosensitive composition according to claim 2, wherein the content of the first resin in the total weight of the alkali-soluble resin is 30% by weight or more.
청구항 1 내지 8 중 어느 한 항의 착색 감광성 조성물로부터 형성된 착색 패턴을 포함하는, 컬러 필터.
A color filter comprising a colored pattern formed from the colored photosensitive composition of any one of claims 1 to 8.
청구항 9의 컬러필터를 포함하는, 화상 표시 장치.An image display device comprising the color filter of claim 9.
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