KR102408709B1 - Antireflection Film and Organic Light Emitting Display Device - Google Patents
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- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 71
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 40
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 24
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 12
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 5
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 141
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 29
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 22
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 14
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 6
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 6
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 3
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KNDQHSIWLOJIGP-UMRXKNAASA-N (3ar,4s,7r,7as)-rel-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methanoisobenzofuran-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)[C@@H]2[C@H]1[C@]1([H])C=C[C@@]2([H])C1 KNDQHSIWLOJIGP-UMRXKNAASA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIJQFTSZBHDYKW-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyloxane-2,6-dione Chemical compound CC1(C)CC(=O)OC(=O)C1 HIJQFTSZBHDYKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical group CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 229940068984 polyvinyl alcohol Drugs 0.000 description 2
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- HOSJNFCDDCLEBM-UHFFFAOYSA-N (2-phenyloxetan-3-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1COC1C1=CC=CC=C1 HOSJNFCDDCLEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSHKWPIEJYAPCL-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1(CC)COC1 RSHKWPIEJYAPCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNDOSNMFHUSKGN-UHFFFAOYSA-N 1-(2-hydroxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound OC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O CNDOSNMFHUSKGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJDGDRYFCIHDPX-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound COC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O LJDGDRYFCIHDPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYOJZFBQEAZNEW-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=CC=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O QYOJZFBQEAZNEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWODHBPFOGXUFX-UHFFFAOYSA-N 1-(3-hydroxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound OC1=CC=CC(N2C(C=CC2=O)=O)=C1 YWODHBPFOGXUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNCUTNPWBZKJHD-UHFFFAOYSA-N 1-(3-methoxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound COC1=CC=CC(N2C(C=CC2=O)=O)=C1 UNCUTNPWBZKJHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLLFPKZTBLMEFG-UHFFFAOYSA-N 1-(4-hydroxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O BLLFPKZTBLMEFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAHCEMQKWSQGLQ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methoxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O XAHCEMQKWSQGLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCFXNGDHQPMIAQ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O KCFXNGDHQPMIAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZWAPCBQFFIPQH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-[2-[2-(2-ethenylphenyl)ethoxy]ethyl]benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1CCOCCC1=CC=CC=C1C=C OZWAPCBQFFIPQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPNAQFYNLSXBZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-[2-[2-(3-ethenylphenyl)ethoxy]ethyl]benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(CCOCCC=2C=C(C=C)C=CC=2)=C1 WUPNAQFYNLSXBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PECUPOXPPBBFLU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=CC(C=C)=C1 PECUPOXPPBBFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDCRIUHITXYHHC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-[2-[2-(4-ethenylphenyl)ethoxy]ethyl]benzene Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1CCOCCC1=CC=C(C=C)C=C1 VDCRIUHITXYHHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OENZCYOCXAUZOT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethenylphenyl)-1-[2-(2-ethenylphenyl)-1-(oxiran-2-yl)ethoxy]ethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1CC(C1OC1)OC(C1OC1)CC1=CC=CC=C1C=C OENZCYOCXAUZOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWMLFHKGLMSMPE-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3-ethenylphenyl)-1-[2-(3-ethenylphenyl)-1-(oxiran-2-yl)ethoxy]ethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC(CC(OC(CC=2C=C(C=C)C=CC=2)C2OC2)C2OC2)=C1 CWMLFHKGLMSMPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- UYCICMIUKYEYEU-ZHACJKMWSA-N 3-[(e)-dodec-2-enyl]oxolane-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCC\C=C\CC1CC(=O)OC1=O UYCICMIUKYEYEU-ZHACJKMWSA-N 0.000 description 1
- NMXSDUSRXRNRLK-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-4-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(C)=C1C1=CC=CC=C1 NMXSDUSRXRNRLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFATXMYLKPCSCX-UHFFFAOYSA-N 3-methylsuccinic anhydride Chemical compound CC1CC(=O)OC1=O DFATXMYLKPCSCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFKMLFDDYWABF-UHFFFAOYSA-N 3-phenyloxolane-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)CC1C1=CC=CC=C1 HDFKMLFDDYWABF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMMBJOWWRLZEMI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCCC2=C1C(=O)OC2=O HMMBJOWWRLZEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N Chalcone Natural products C=1C=CC=CC=1C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- FARWYUGFTNOIPS-UHFFFAOYSA-N [2-(trifluoromethyl)oxetan-3-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1COC1C(F)(F)F FARWYUGFTNOIPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDNJLJOPWXDNJW-UHFFFAOYSA-N [4-(trifluoromethyl)oxetan-2-yl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CC(C(F)(F)F)O1 IDNJLJOPWXDNJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 235000005513 chalcones Nutrition 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000012156 elution solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229960002428 fentanyl Drugs 0.000 description 1
- IVLVTNPOHDFFCJ-UHFFFAOYSA-N fentanyl citrate Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O.C=1C=CC=CC=1N(C(=O)CC)C(CC1)CCN1CCC1=CC=CC=C1 IVLVTNPOHDFFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFBTTWXNCQVIEC-UHFFFAOYSA-N o-Vinylanisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1C=C SFBTTWXNCQVIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- KRGGVEDZUSPSAC-UHFFFAOYSA-N oxetan-2-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCO1 KRGGVEDZUSPSAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMUUFLNQHMIHRP-UHFFFAOYSA-N oxetan-3-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1COC1 AMUUFLNQHMIHRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N succinic anhydride Chemical compound O=C1CCC(=O)O1 RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
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- G02—OPTICS
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Abstract
굴절율 조절층; 상기 굴절율 조절층 상에 형성된 블랙 매트릭스층; 및 상기 블랙 매트릭스층 사이와 블랙 매트리스층의 일부를 덮도록 형성된 착색층을 포함하는 반사방지 필름으로서, 상기 블랙 매트릭스층 상에 오버랩되어 형성되는 착색층의 폭은 블랙매트리스층의 하부 폭(BMCD: Black Matrix Critical Dimension)의 25 내지 75%인 반사방지 필름과 이를 포함하는 유기발광 표시장치가 개시된다.refractive index control layer; a black matrix layer formed on the refractive index control layer; and a colored layer formed to cover a portion of the black matrix layer and between the black matrix layers, wherein the width of the colored layer overlapped on the black matrix layer is the lower width of the black matrix layer (BMCD: An anti-reflection film having 25 to 75% of Black Matrix Critical Dimension and an organic light emitting display device including the same are disclosed.
Description
본 발명은 반사방지 필름 및 이를 포함하는 유기발광 표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유기발광 다이오드(organic light emitting diode, OLED)의 명암비를 개선하면서 동시에 휘도를 향상시킬 수 있는 반사방지 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflection film and an organic light emitting display device including the same, and more particularly, to an antireflection film capable of improving the luminance while improving the contrast ratio of an organic light emitting diode (OLED). will be.
유기발광다이오드(OLED)는 전극 노출로 인해 태양광, 조명 등과 같은 외광을 반사시킬 수 있고, 반사된 외광에 의해 시인성과 명암비가 저하되어 표시 품질이 떨어질 수 있다.The organic light emitting diode (OLED) may reflect external light, such as sunlight or illumination, due to electrode exposure, and visibility and contrast ratio may be deteriorated due to the reflected external light, and thus display quality may deteriorate.
이에, 대한민국 특허공개 제2009-0122138호에 개시된 바와 같이, 전원 off 상태에서 표면의 외광 반사를 차단하고 블랙 시감을 가지게 하기 위해, 선 편광자와 λ/4 위상차층을 조합한 원 편광판을 반사방지용 편광판으로서 OLED 패널의 시인측에 부착하여 사용할 수 있다. Accordingly, as disclosed in Korean Patent Laid-Open No. 2009-0122138, in order to block external light reflection on the surface in the power-off state and to have a black feeling, a circular polarizing plate combining a linear polarizer and a λ/4 retardation layer is used as an anti-reflection polarizing plate It can be used by attaching it to the viewer side of the OLED panel.
하지만, 이와 같은 반사방지용 편광판을 적용할 경우 투과율이 낮아 OLED 패널의 휘도 저하 문제가 발생한다. 따라서, OLED의 반사율을 낮추면서 휘도를 향상시킬 수 있는 반사방지 필름에 대한 개발이 절실히 요구되고 있다.However, when such an antireflection polarizing plate is applied, the transmittance is low, which causes a problem of lowering the luminance of the OLED panel. Therefore, there is an urgent need to develop an anti-reflection film capable of improving luminance while lowering the reflectivity of OLED.
아울러, OLED 패널로부터 방출되는 광의 색순도를 향상시키고 색차 발생을 방지할 수 있는 반사방지 필름에 대한 관심이 증대되고 있다.In addition, interest in an antireflection film capable of improving the color purity of light emitted from the OLED panel and preventing the occurrence of color difference is increasing.
본 발명의 한 목적은 반사율이 낮으면서 투과율이 높아 OLED의 명암비를 개선하면서 동시에 휘도를 향상시킬 수 있는 반사방지 필름 및 이를 포함하는 유기발광 표시장치를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION One object of the present invention is to provide an antireflection film capable of improving luminance while improving the contrast ratio of an OLED because of its low reflectance and high transmittance, and an organic light emitting display device including the same.
본 발명의 다른 목적은 투과율 균일도가 우수하여 색차 발생을 방지할 수 있는 반사방지 필름 및 이를 포함하는 유기발광 표시장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide an anti-reflection film capable of preventing color difference from occurring due to excellent transmittance uniformity, and an organic light emitting display device including the same.
한편으로 본 발명은 On the one hand, the present invention
굴절율 조절층;refractive index control layer;
상기 굴절율 조절층 상에 형성된 블랙 매트릭스층; 및a black matrix layer formed on the refractive index control layer; and
상기 블랙 매트릭스층 사이와 블랙 매트리스층의 일부를 덮도록 형성된 착색층을 포함하는 반사방지 필름으로서,An antireflection film comprising a colored layer formed to cover a portion of the black matrix layer and between the black matrix layers,
상기 블랙 매트릭스층 상에 오버랩되어 형성되는 착색층의 폭은 블랙매트리스층의 하부 폭(BMCD: Black Matrix Critical Dimension)의 25 내지 75%인 반사방지 필름을 제공한다.The width of the colored layer overlapped on the black matrix layer is 25 to 75% of the lower width of the black matrix layer (BMCD: Black Matrix Critical Dimension).
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 착색층은 유리전이온도(Tg)가 0 내지 -100℃인 알칼리 가용성 수지를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물로부터 형성될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the colored layer may be formed from a colored photosensitive resin composition comprising an alkali-soluble resin having a glass transition temperature (Tg) of 0 to -100°C.
상기 착색층의 두께는 1.0 내지 5.0㎛일 수 있다.The colored layer may have a thickness of 1.0 to 5.0 μm.
상기 굴절율 조절층은 1.52 내지 1.59의 굴절율을 가질 수 있다.The refractive index adjusting layer may have a refractive index of 1.52 to 1.59.
상기 굴절율 조절층은 자외선 흡수제를 포함할 수 있다.The refractive index control layer may include a UV absorber.
상기 굴절율 조절층의 두께는 0.5 내지 5㎛일 수 있다.The thickness of the refractive index control layer may be 0.5 to 5㎛.
상기 반사방지 필름은 산술 평균 조도(Ra)가 2.0nm 이하일 수 있다.The antireflection film may have an arithmetic mean roughness (Ra) of 2.0 nm or less.
다른 한편으로, 본 발명은 On the other hand, the present invention
상기 반사방지 필름; 및the anti-reflection film; and
상기 반사방지 필름에 결합된 디스플레이 패널을 포함하는 유기발광 표시장치를 제공한다.It provides an organic light emitting display device including a display panel coupled to the anti-reflection film.
상기 디스플레이 패널은The display panel is
기재필름;base film;
상기 기재필름 상의 박막 트랜지스터;a thin film transistor on the base film;
상기 박막 트랜지스터층 상의 유기발광 다이오드; 및an organic light emitting diode on the thin film transistor layer; and
상기 유기발광 다이오드 상의 봉지층을 포함할 수 있다.An encapsulation layer on the organic light emitting diode may be included.
또한, 상기 디스플레이 패널은 상기 봉지층 상에 터치센서층을 추가로 포함할 수 있다.In addition, the display panel may further include a touch sensor layer on the encapsulation layer.
본 발명에 따른 반사방지 필름은 반사율이 낮으면서 투과율이 높아 OLED의 외광반사를 감소시키고 명암비를 개선하면서 동시에 휘도를 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 반사방지 필름은 투과율 균일도가 우수하여 색차 발생을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 박형화가 가능하다.The anti-reflection film according to the present invention has a low reflectance and high transmittance, so that it is possible to reduce external light reflection of an OLED, improve contrast ratio, and improve luminance at the same time. In addition, the antireflection film according to the present invention is excellent in transmittance uniformity to prevent the occurrence of color difference, as well as thinning is possible.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사방지 필름의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 유기발광 표시장치의 단면도이다.
도 3a 내지 도 3g는 본 발명의 일 실시형태에 따른 유기발광 표시장치의 제조방법의 공정 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an anti-reflection film according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment.
3A to 3G are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 본 명세서에 첨부된 도면들은 본 발명을 설명하기 위한 예시일 뿐, 본 발명이 도면에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 설명 상의 편의를 위해 일부 구성요소들은 도면 상에서 과장되게 표현되거나, 축소 또는 생략되어 있을 수 있다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. The drawings attached to this specification are only examples for explaining the present invention, and the present invention is not limited by the drawings. In addition, for convenience of description, some components may be exaggerated, reduced, or omitted in the drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사방지 필름의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an anti-reflection film according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조로, 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사방지 필름은 굴절율 조절층(130); 상기 굴절율 조절층(130) 상에 형성된 블랙 매트릭스층(black matrix, BM)층(140); 및 상기 블랙 매트릭스층 사이와 블랙 매트리스층의 일부를 덮도록 형성된 착색층(150)을 포함하고, 상기 블랙 매트릭스층 상에 오버랩되어 형성되는 착색층의 폭(d)은 블랙매트리스층의 하부 폭(BMCD: Black Matrix Critical Dimension) (c)의 25 내지 75%, 바람직하게는 40 내지 60%일 수 있다.Referring to FIG. 1 , an anti-reflection film according to an embodiment of the present invention includes a refractive
본 발명의 일 실시형태에 따른 반사방지 필름은 상기 블랙 매트릭스층 상에 오버랩되어 형성되는 착색층의 폭(d)을 블랙매트리스층의 하부 폭(BMCD: Black Matrix Critical Dimension) (c)의 25 내지 75%로 조절하여 빛의 혼색 및 색차 발생을 방지할 수 있다. 상기 블랙매트리스층의 하부 폭에 대한 착색층의 폭(d/c x 100%)가 25% 미만일 경우 개구부 영역에서의 투과율 균일도가 저하되어 색차가 발생할 수 있고, 75% 초과일 경우 혼색 발생 가능성이 있다. In the antireflection film according to an embodiment of the present invention, the width (d) of the colored layer overlapped on the black matrix layer is 25 to 25 of the lower width (BMCD: Black Matrix Critical Dimension) (c) of the black matrix layer. By adjusting it to 75%, it is possible to prevent light mixing and color difference. When the width (d/
상기 반사방지 필름은 착색층의 두께가 1.0 내지 5.0㎛, 바람직하게는 1.5 내지 3.5㎛이고, 광 투과율이 50 내지 85%, 바람직하게는 65 내지 80%일 수 있다. The anti-reflection film may have a thickness of the colored layer of 1.0 to 5.0 μm, preferably 1.5 to 3.5 μm, and a light transmittance of 50 to 85%, preferably 65 to 80%.
상기 착색층의 두께는 개구부 영역에서의 두께를 의미하며, 광 투과율은 반사방지 필름 하부에 위치하는 OLED 광원의 중심 파장에서의 투과율을 의미한다.The thickness of the colored layer refers to the thickness in the opening region, and the light transmittance refers to transmittance at the center wavelength of the OLED light source positioned under the anti-reflection film.
상기 착색층의 두께가 1.0㎛ 미만일 경우 착색층 패턴이 밀착력 저하로 인해 소실될 수 있으며, 5.0㎛ 초과일 경우 광 투과율이 저하될 수 있다.When the thickness of the colored layer is less than 1.0 μm, the colored layer pattern may be lost due to a decrease in adhesion, and when it exceeds 5.0 μm, light transmittance may decrease.
본 발명의 일 실시형태에 따른 반사방지 필름은 산술 평균 조도(Ra)가 2.0nm 이하일 수 있다. The antireflection film according to an embodiment of the present invention may have an arithmetic mean roughness (Ra) of 2.0 nm or less.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 굴절율 조절층(130)은 상기 BM층 및 착색층보다 낮은 굴절율을 가짐으로써 전극 패턴의 시인성을 개선할 수 있다. 구체적으로, 상기 굴절율 조절층은 1.52 내지 1.59의 굴절율을 가질 수 있다. 굴절률이 1.52 미만이면 광 손실이 커질 수 있고, 굴절률이 1.59 초과하면 전극 패턴이 시인될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the refractive
상기 굴절율 조절층은 유기 절연막을 코팅 및 경화의 방법으로 사용하거나, 고분자수지로 이루어진 필름의 적어도 일면에 점착층을 포함하는 필름, 폴리프로필렌 등의 자가점착성을 가진 필름일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The refractive index control layer may be a film having a self-adhesive property such as polypropylene, a film including an adhesive layer on at least one surface of a film made of a polymer resin, or using an organic insulating film as a coating and curing method, but is not limited thereto. .
상기 굴절율 조절층은 자외선으로 인한 OLED 패널의 손상을 방지하기 위하여 자외선 흡수제를 포함할 수 있다.The refractive index control layer may include a UV absorber to prevent damage to the OLED panel due to UV rays.
상기 굴절율 조절층의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 0.5 내지 5㎛일 수 있다. 상기 두께가 0.5㎛ 미만이면 캐리어 기판으로부터 박리 시에 크랙이 발생할 수 있고, 5㎛ 초과이면 투과율이 저하될 수 있다.The thickness of the refractive index control layer is not particularly limited, and may be, for example, 0.5 to 5 μm. If the thickness is less than 0.5 μm, cracks may occur during peeling from the carrier substrate, and if it exceeds 5 μm, transmittance may be reduced.
상기 블랙 매트릭스층(140)은 화소 영역을 구획하며, 화소 영역을 제외한 부분의 빛을 차단하고, 각 착색층의 경계에서 혼색을 방지하는 역할을 하는 차광층이다. 따라서, 블랙 매트릭스층은 불투명 물질로 형성되며, 화소 영역을 둘러싸도록 패터닝되어 있다.The
상기 착색층(150)은 입사된 광 중에서 특정 파장 대역의 광은 선택적으로 차단하고 다른 특정 파장 대역의 광은 선택적으로 투과시키는 층으로, 통상적으로 적색(Red), 녹색(Green), 청색(Blue)이 패턴화되어 있으며, BM층(140) 사이의 화소 영역에 배치된다. 그러나, 착색층이 적색, 녹색, 청색의 패턴을 모두 포함하여야 하거나 적색, 녹색, 청색의 패턴만을 포함하여야 하는 것은 아니며, 디스플레이 장치의 색상 표현 방식에 따라 이 중 임의의 일부 색상의 패턴만이 포함되거나 백색(White) 패턴 등과 같은 다른 색상의 패턴이 더 포함될 수도 있다. The
상기 착색층은 착색 감광성 수지 조성물의 경화층일 수 있다. 예를 들어, 상기 착색층은 녹색 또는 적색 감광성 수지 조성물의 경화층일 수 있다. 이 경우, 상기 착색층은 청색 광원에 의한 청색 파장 대역의 광은 차단하고, 적색 및 녹색 파장 대역의 광은 투과시킬 수 있다. 따라서, 착색층을 후술하는 디스플레이 패널의 적색 화소층 및 녹색 화소층에 대응하는 영역에 형성하여, 적색 화소층 및 녹색 화소층에서 방출된 광에 청색 광원에 의한 청색 파장 대역의 광이 섞여 적색 및 녹색의 색 순도가 떨어지는 것을 방지하고, 적색 및 녹색 파장 대역의 광이 차단되어 광 효율이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 이때, 착색층의 면적은 대응하는 화소층의 면적과 같거나 크게 형성될 수 있다. 특히 착색층의 크기를 대응하는 화소층의 크기보다 3 내지 6㎛ 크게 형성하는 것이 색 순도 및 휘도 향상에 유리하다. The colored layer may be a cured layer of the colored photosensitive resin composition. For example, the colored layer may be a cured layer of a green or red photosensitive resin composition. In this case, the colored layer may block light of a blue wavelength band from a blue light source and transmit light of a red and green wavelength band. Accordingly, the colored layer is formed in the region corresponding to the red pixel layer and the green pixel layer of the display panel to be described later, and the light emitted from the red pixel layer and the green pixel layer is mixed with light in the blue wavelength band from the blue light source to produce red and It is possible to prevent a decrease in the color purity of green, and to prevent a decrease in light efficiency due to blocking of light in red and green wavelength bands. In this case, the area of the colored layer may be equal to or larger than the area of the corresponding pixel layer. In particular, it is advantageous to improve color purity and luminance to make the size of the colored layer 3 to 6 μm larger than the size of the corresponding pixel layer.
상기 착색 감광성 수지 조성물은 착색제, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함할 수 있다.The colored photosensitive resin composition may include a colorant, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a solvent.
상기 착색제로는 당해 기술분야에서 사용되는 안료 및 염료 중 하나 이상을 제한 없이 사용할 수 있다.As the colorant, one or more of pigments and dyes used in the art may be used without limitation.
상기 착색제는 입자 크기가 50 내지 150nm일 수 있다. 착색제의 입자 크기가 50nm 미만일 경우 반사방지 효과가 저하될 수 있으며, 150nm 초과인 경우 반사방지 필름의 표면 조도가 증가하고 투과율이 감소될 수 있다. The colorant may have a particle size of 50 to 150 nm. If the particle size of the colorant is less than 50 nm, the antireflection effect may be reduced, and if it is more than 150 nm, the surface roughness of the antireflection film may increase and transmittance may decrease.
상기 착색제는 녹색 패턴을 형성하는 경우 C.I. 피그먼트 그린 59, C.I. 피그먼트 옐로우 185 및 C.I. 피그먼트 블루 16을 포함할 수 있다. 착색제로서 C.I. 피그먼트 그린 59, C.I. 피그먼트 옐로우 185 및 C.I. 피그먼트 블루 16을 포함함으로써, 이를 사용하여 제조되는 반사방지 필름의 스펙트럼 투과율이 전체적으로 녹색 계열의 파장 영역으로 집중됨에 따라 GREEN 스펙트럼의 색순도를 보다 향상시킬 수 있다. When the colorant forms a green pattern, C.I. Pigment Green 59, C.I. Pigment Yellow 185 and C.I. Pigment Blue 16 may be included. As a colorant, C.I. Pigment Green 59, C.I. Pigment Yellow 185 and C.I. By including Pigment Blue 16, it is possible to further improve the color purity of the GREEN spectrum as the spectral transmittance of the anti-reflection film manufactured using the same is concentrated in the green-based wavelength region as a whole.
또한, 상기 착색제는 적색 패턴을 형성하는 경우 C.I. 피그먼트 레드 179 및 C.I. 피그먼트 레드 264로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 착색제로서 C.I. 피그먼트 레드 179 및 C.I. 피그먼트 레드 264로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함함으로써, 이를 사용하여 제조되는 반사방지 필름의 스펙트럼 투과율이 전체적으로 적색 파장 범위인 오른쪽으로 시프트(Shift)됨에 따라 RED 스펙트럼의 색순도를 보다 향상시킬 수 있다. In addition, when the colorant forms a red pattern, C.I. Pigment Red 179 and C.I. It may include one or more selected from the group consisting of Pigment Red 264. As a colorant, C.I. Pigment Red 179 and C.I. By including at least one selected from the group consisting of Pigment Red 264, as the spectral transmittance of the anti-reflection film produced using the same is shifted to the right of the red wavelength range as a whole, the color purity of the RED spectrum can be further improved. can
상기 착색제의 함량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 전체 100 중량%에 대하여 5 내지 80 중량%, 바람직하기로 10 내지 50 중량%일 수 있다. 상기 착색제의 함량이 5 중량% 미만이면 색 순도와 광 효율 향상 효과를 기대하기 어렵고, 80 중량%를 초과하면 잔사가 발생할 수 있다. The content of the colorant may be 5 to 80 wt%, preferably 10 to 50 wt%, based on 100 wt% of the total solid content in the colored photosensitive resin composition. If the content of the colorant is less than 5% by weight, it is difficult to expect the effect of improving color purity and light efficiency, and if it exceeds 80% by weight, residues may be generated.
상기 알칼리 가용성 수지는 통상적으로 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 갖고, 착색제의 분산매 역할을 한다. The alkali-soluble resin typically has reactivity and alkali solubility under the action of light or heat, and serves as a dispersion medium for a colorant.
상기 알칼리 가용성 수지는 유리전이온도(Tg)가 0 내지 -100℃의 범위일 수 있다. 알칼리 가용성 수지의 유리전이온도(Tg)가 상기 범위일 경우 반사방지 필름의 산술 평균 조도(Ra)가 2.0nm 이하로 제어될 수 있으며, 이에 의해 개구부 영역에서의 투과율 균일도를 향상시킬 수 있다. The alkali-soluble resin may have a glass transition temperature (Tg) in the range of 0 to -100°C. When the glass transition temperature (Tg) of the alkali-soluble resin is within the above range, the arithmetic mean roughness (Ra) of the antireflection film may be controlled to 2.0 nm or less, thereby improving the transmittance uniformity in the opening region.
상기 유리전이온도(Tg)가 0 내지 -100℃의 범위인 알칼리 가용성 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함한다. The alkali-soluble resin having a glass transition temperature (Tg) in the range of 0 to -100°C includes a repeating unit represented by the following formula (1).
[화학식 1][Formula 1]
상기 식에서,In the above formula,
R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이고,R 1 and R 2 are each independently hydrogen or methyl,
R3은 산무수물에 의해 유도된 카르복실산을 포함하는 잔기이다.R 3 is a residue containing a carboxylic acid derived from an acid anhydride.
본 명세서에서 사용되는 산무수물은 숙신산 무수물(succinic anhydride), 메틸숙신산 무수물(methylsuccinic anhydride), (2-도데켄-1-일)숙신산 무수물((2-dodecen-1-yl)succinic anhydride), 페닐숙신산 무수물(phenylsuccinic anhydride), 프탈산 무수물(phthalic anhydride), 말레산 무수물(maleic anhydride), 시트라콘산 무수물(citraconic anhydride), 글루타르산 무수물(glutaric anhydride), 3,3-디메틸글루타르산 무수물(3,3-dimethylglutaric anhydride), 이타콘산 무수물(itaconic anhydride), 3,4,5,6-테트라히드로프탈산 무수물(3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride), 트리멜리트산 무수물(trimellitic anhydride), 헥사히드로프탈산 무수물(hexahydrophthalic anhydride), 카르브산 무수물(carbic anhydride) 등을 포함하나, 이에 한정되는 것은 아니다. 반응의 용이성 면에서, 상기 산무수물로는 말레산 무수물, 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 숙신산 무수물, 헥사히드로프탈산 무수물 및/또는 카르브산 무수물을 사용하는 것이 바람직하며, 특히 트리멜리트산 무수물, 숙신산 무수물 및/또는 헥사히드로프탈산 무수물이 보다 바람직하다.Acid anhydride as used herein is succinic anhydride, methylsuccinic anhydride, (2-dodeken-1-yl) succinic anhydride ((2-dodecen-1-yl) succinic anhydride), phenyl Succinic anhydride, phthalic anhydride, maleic anhydride, citraconic anhydride, glutaric anhydride, 3,3-dimethylglutaric anhydride ( 3,3-dimethylglutaric anhydride, itaconic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, carbic anhydride, and the like. In terms of easiness of reaction, it is preferable to use maleic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, succinic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and/or carbic anhydride as the acid anhydride, in particular trimellitic anhydride, succinic acid Anhydride and/or hexahydrophthalic anhydride are more preferred.
본 발명의 일 실시형태에서, R2는 수소일 수 있다. R2가 수소인 경우, 반응성이 높고 유리전이온도를 낮추기 용이하다.In one embodiment of the present invention, R 2 may be hydrogen. When R 2 is hydrogen, the reactivity is high and it is easy to lower the glass transition temperature.
상기 화학식 1로 표시되는 반복단위는 상기 알칼리 가용성 수지에 광경화성 및 산가를 부여하는 역할을 한다. 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위는, 단량체로서 글리시딜 (메타)아크릴레이트를 사용하여 상기 알칼리 가용성 수지의 주쇄 내에 상기 글리시딜 (메타)아크릴레이트 유래 반복단위를 도입한 다음, 상기 글리시딜 (메타)아크릴레이트 유래 반복단위의 글리시딜기를 (메타)아크릴산과 반응시킨 후, 이로부터 생성된 히드록시기를 산무수물과 반응시켜 형성될 수 있다.The repeating unit represented by Formula 1 serves to impart photocurability and acid value to the alkali-soluble resin. The repeating unit represented by the formula (1) uses glycidyl (meth)acrylate as a monomer to introduce the glycidyl (meth)acrylate-derived repeating unit into the main chain of the alkali-soluble resin, and then, the glycidyl (meth)acrylate It can be formed by reacting the glycidyl group of the repeating unit derived from dil (meth)acrylate with (meth)acrylic acid, and then reacting the hydroxy group generated therefrom with an acid anhydride.
상기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 통해 알칼리 가용성 수지의 주쇄에 직접 카르복실산을 도입하지 않고도 산가를 부여할 수 있어 현상성을 확보할 수 있을 뿐만 아니라 유리전이온도를 0℃ 이하로 낮추기 용이하다.Through the repeating unit represented by the formula (1), it is possible to provide an acid value without introducing a carboxylic acid directly into the main chain of the alkali-soluble resin, thereby securing developability and easily lowering the glass transition temperature to 0° C. or less .
상기 화학식 1로 표시되는 반복단위는 상기 알칼리 가용성 수지를 구성하는 반복단위 전체 100 몰%에 대하여 50 몰% 이상, 바람직하게는 50 내지 90 몰%의 양으로 포함될 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위가 50 몰% 미만의 양으로 포함되면 유리전이온도를 0℃ 이하로 낮추기 어렵거나 감도가 부족하여 패턴의 단락이 발생하기 쉽다. 상기 화학식 1으로 표시되는 반복단위의 함량이 높을수록 감도가 좋아질 수 있으나, 90 몰% 초과인 경우에는 중합 중에 겔화가 되거나 중합되더라도 수지 자체의 저장 안정성이 떨어질 수 있어 바람직하지 않다.The repeating unit represented by Formula 1 may be included in an amount of 50 mol% or more, preferably 50 to 90 mol%, based on 100 mol% of the total repeating units constituting the alkali-soluble resin. When the repeating unit represented by the formula (1) is included in an amount of less than 50 mol%, it is difficult to lower the glass transition temperature to 0° C. or less, or the short circuit of the pattern tends to occur due to insufficient sensitivity. The higher the content of the repeating unit represented by the formula (1), the better the sensitivity may be, but if it exceeds 90 mol%, gelation during polymerization or storage stability of the resin itself may be deteriorated even if it is polymerized, which is not preferable.
또한, 상기 알칼리 가용성 수지는 불포화 이중결합을 포함하는 단량체로부터 유래된 반복단위를 추가로 포함할 수 있다.In addition, the alkali-soluble resin may further include a repeating unit derived from a monomer containing an unsaturated double bond.
상기 불포화 이중결합을 포함하는 단량체는 그 종류가 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물; The type of the monomer containing the unsaturated double bond is not particularly limited, and for example, styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p -Methoxystyrene, o-vinylbenzylmethyl ether, m-vinylbenzylmethylether, p-vinylbenzylmethylether, o-vinylbenzylglycidylether, m-vinylbenzylglycidylether, p-vinylbenzylglycidyl ether aromatic vinyl compounds such as dil ether;
N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-o-히드록시페닐말레이미드, N-m-히드록시페닐말레이미드, N-p-히드록시페닐말레이미드, N-o-메틸페닐말레이미드, N-m-메틸페닐말레이미드, N-p-메틸페닐말레이미드, N-o-메톡시페닐말레이미드, N-m-메톡시페닐말레이미드, N-p-메톡시페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드계 화합물; N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-o-hydroxyphenylmaleimide, N-m-hydroxyphenylmaleimide, N-p-hydroxyphenylmaleimide, N-o-methylphenylmaleimide, N-m -N-substituted maleimide compounds, such as methylphenylmaleimide, N-p-methylphenylmaleimide, N-o-methoxyphenylmaleimide, N-m-methoxyphenylmaleimide, and N-p-methoxyphenylmaleimide;
메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트류; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, alkyl (meth)acrylates such as sec-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate;
시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 2-디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트 등의 지환족(메타)아크릴레이트류; Cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl (meth) acrylate, dicyclo alicyclic (meth)acrylates such as fentanyl (meth)acrylate, 2-dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, and isobornyl (meth)acrylate;
2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류;2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate hydroxyalkyl (meth)acrylates;
페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아릴(메타)아크릴레이트류; aryl (meth)acrylates such as phenyl (meth)acrylate and benzyl (meth)acrylate;
3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)-4-트리플루오로메틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄 화합물 등을 포함한다.3-(methacryloyloxymethyl)oxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-3-ethyloxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-2-trifluoromethyloxetane; 3-(methacryloyloxymethyl)-2-phenyloxetane, 2-(methacryloyloxymethyl)oxetane, 2-(methacryloyloxymethyl)-4-trifluoromethyloxetane, etc. unsaturated oxetane compounds of
상기 단량체들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Each of the above monomers may be used alone or in combination of two or more.
상기 불포화 이중결합을 포함하는 단량체로부터 유래된 반복단위는 알칼리 가용성 수지를 구성하는 반복단위 전체 100 몰%에 대하여 50 몰% 이하, 바람직하게는 10 내지 50 몰%의 양으로 포함될 수 있다.The repeating unit derived from the monomer containing the unsaturated double bond may be included in an amount of 50 mol% or less, preferably 10 to 50 mol%, based on 100 mol% of the total repeating units constituting the alkali-soluble resin.
상기 알칼리 가용성 수지는 20 내지 200의 산가(KOH mg/g)를 갖는 것이 바람직하다. 산가가 상기 범위에 있으면 현상액 중의 용해성이 향상되어 비노출부가 쉽게 용해되고 감도가 증가하여, 결과적으로 노출부의 패턴이 현상시에 남아서 잔막율(film remaining raio)을 개선하게 되어 바람직하다. 산가란, 중합체 1g을 중화하는데 필요한 수산화칼륨(KOH)의 양(㎎)으로서 측정되는 값이며, 통상적으로 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다.The alkali-soluble resin preferably has an acid value (KOH mg/g) of 20 to 200. When the acid value is within the above range, solubility in the developer is improved, so that the unexposed portion is easily dissolved and the sensitivity is increased, and as a result, the pattern of the exposed portion remains at the time of development to improve the film remaining ratio, which is preferable. The acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide (KOH) required to neutralize 1 g of the polymer, and can be usually obtained by titration using an aqueous potassium hydroxide solution.
또한, 상기 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 테트라하이드로퓨란을 용출 용제로 사용함)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량은 3,000 내지 200,000인 것이 바람직하고, 5,000 내지 100,000인 것이 보다 바람직하다. 분자량이 상기 범위 내에 있으면, 코팅 필름의 경도가 향상되어 잔막율이 높고, 현상액 중의 비노출부의 용해성이 탁월하고 해상도가 향상되는 경향이 있다.In addition, the polystyrene equivalent weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC, using tetrahydrofuran as an elution solvent) of the alkali-soluble resin is preferably 3,000 to 200,000, and more preferably 5,000 to 100,000. When the molecular weight is within the above range, the hardness of the coating film is improved and the residual film rate is high, the solubility of the unexposed part in the developer is excellent, and the resolution tends to be improved.
상기 알칼리 가용성 수지의 함량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 총 중량에 대하여 5 내지 85중량%로 포함될 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지의 함량이 상기의 범위에 있으면, 현상액에의 용해성이 충분하여 비화소 부분의 기판상에 현상 잔사가 발생하기 어렵고, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 생기기 어려워 비화소 부분의 누락성이 양호해진다.The content of the alkali-soluble resin may be included in an amount of 5 to 85% by weight based on the total weight of the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the content of the alkali-soluble resin is within the above range, the solubility in the developer is sufficient, so that it is difficult to generate a developing residue on the substrate of the non-pixel portion, and it is difficult to reduce the film of the pixel portion of the exposed portion during development, so that the non-pixel portion omission property is improved.
상기 광중합성 화합물은 후술하는 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 단관능 광중합성 화합물, 2관능 광중합성 화합물 또는 3관능 광중합성 화합물 등을 들 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.The photopolymerizable compound is a compound capable of polymerization by the action of a photopolymerization initiator to be described later, and may include, but is not limited to, a monofunctional photopolymerizable compound, a bifunctional photopolymerizable compound, or a trifunctional photopolymerizable compound.
상기 광중합성 화합물은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 총 중량에 대하여 5 내지 50 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 화합물은 상기 범위에서 화소부의 강도나 평활성을 양호하게 할 수 있다.The photopolymerizable compound may be included in an amount of 5 to 50% by weight based on the total weight of the solid content in the colored photosensitive resin composition. The photopolymerizable compound may improve the strength or smoothness of the pixel portion within the above range.
상기 광중합 개시제는 광중합성 화합물을 중합시킬 수 있는 것이면 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator may be used without particularly limiting its type as long as it can polymerize the photopolymerizable compound.
특히, 상기 광중합 개시제는 중합특성, 개시효율, 흡수파장, 입수성 및 가격 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.In particular, the photopolymerization initiator is an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a triazine-based compound, a biimidazole-based compound, an oxime compound, and a thioxanthone-based compound from the viewpoint of polymerization characteristics, initiation efficiency, absorption wavelength, availability and price. It is preferable to use at least one compound selected from the group consisting of compounds.
상기 광중합 개시제는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 총 중량에 대하여 0.1 내지 30 중량% 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시제가 상기 범위의 함량으로 포함되면, 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상되며, 높은 해상도를 유지할 수 있다. 또한, 상기 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도와 상기 화소부의 표면에서의 평활성이 양호해질 수 있다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.1 to 30% by weight based on the total weight of the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is included in the content within the above range, the colored photosensitive resin composition is highly sensitive and exposure time is shortened, so that productivity is improved and high resolution can be maintained. In addition, the strength of the pixel portion formed by using the colored photosensitive resin composition and the smoothness on the surface of the pixel portion may be improved.
상기 용제는 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는데 효과적인 것이면, 통상의 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 용제를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있으며, 특히 에테르류, 아세테이트류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알코올류, 에스테르류 등이 바람직하다.As long as the solvent is effective in dissolving other components included in the colored photosensitive resin composition, the solvent used in the conventional colored photosensitive resin composition may be used without particular limitation, and in particular, ethers, acetates, aromatic hydrocarbons, ketones, Alcohols, esters, etc. are preferable.
상기 용제는 착색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 60 내지 90 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용제가 상기 범위로 포함되면 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해질 수 있다.The solvent may be included in an amount of 60 to 90% by weight based on the total weight of the colored photosensitive resin composition. When the solvent is included in the above range, the coating property may be improved when applied with an application device such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (sometimes referred to as a die coater), or an inkjet.
상기 착색 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 충진제, 다른 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제를 병용할 수 있다.The colored photosensitive resin composition may use additives such as fillers, other high molecular compounds, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, and aggregation inhibitors in combination, if necessary.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 반사방지 필름은 반사율이 5.5 이하일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the antireflection film may have a reflectance of 5.5 or less.
상기 반사방지 필름의 반사율을 낮추기 위해, 상기 굴절율 조절층(130), BM층(140) 및 착색층(150) 중 하나 이상은 저반사 재료로 형성될 수 있다. 특히, 착색층(150)의 재질로 반사율이 낮은 재료를 사용하는 것이 바람직하다. In order to lower the reflectivity of the anti-reflection film, at least one of the refractive
이제, 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사방지 필름을 포함하는 유기발광 표시장치를 설명한다. Now, an organic light emitting display device including an anti-reflection film according to an embodiment of the present invention will be described.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 유기발광 표시장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment.
도 2에 나타난 바와 같이, 본 발명의 일 실시형태에 따른 유기발광 표시장치는 반사방지 필름(100), 디스플레이 패널(200), 및 반사방지 필름(100)과 디스플레이 패널(200)을 접합하는 접착층(300)을 포함할 수 있다. As shown in FIG. 2 , the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention includes an
상기 반사방지 필름(100)은 굴절율 조절층(130) 및 컬러필터층(160)을 포함하며, 도 1을 참조로 하여 설명한 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사방지 필름과 동일 또는 유사한 것일 수 있다. 즉, 도 2의 컬러필터층(160)은 도 1에 나타난 바와 같은 BM층(140) 및 착색층(150)을 포함할 수 있다. The
상기 디스플레이 패널(200)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 기재필름(220), 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)층(230), 유기 발광 다이오드(organic light-emitting diode, OLED)층(240), 봉지(encapsulation)층(250) 및 터치센서층(260)이 순차적으로 적층된 구조를 가질 수 있다. 디스플레이 패널(200)은 기재필름(220) 상에 디스플레이 패널용 구성요소들이 형성된 것으로서, 반사방지 필름(100)과 마찬가지로 유연성을 가질 수 있으며, 따라서 유연성 유기발광 표시장치를 구성할 수 있다. As shown in FIG. 2, the
상기 기재필름(220)은 광학용 필름으로 통상 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있으며, 특히 굴곡성, 투명성, 열 안정성, 수분 차폐성 등이 우수한 필름을 사용하는 것이 바람직하다. The
도 2에 도시된 구조는 예로서 제시된 것이며, 유기발광 표시장치에 사용될 수 있는 것이라면 그 구조를 본 발명에서 특별히 한정하지 않는다. The structure shown in FIG. 2 is provided as an example, and the structure is not particularly limited in the present invention as long as it can be used in an organic light emitting display device.
상기 반사방지 필름(100)과 디스플레이 패널(200) 사이에는 이를 접합하는 접착층(300)이 형성되어 있다. 접착층(300)은 광경화 또는 열경화 타입의 OCA(optically clear adhesive) 또는 OCR(optically clear resin)로 이루어질 수 있다.An
상기 접착층의 두께는 1 내지 10.0㎛, 바람직하게는 3 내지 5㎛일 수 있다.The thickness of the adhesive layer may be 1 to 10.0 μm, preferably 3 to 5 μm.
다음으로, 본 발명의 일 실시형태에 따른 반사방지 필름을 포함하는 유기발광 표시장치의 제조 방법을 설명한다. Next, a method of manufacturing an organic light emitting display device including an anti-reflection film according to an exemplary embodiment of the present invention will be described.
도 3a 내지 도 3g는 본 발명의 일 실시형태에 따른 유기발광 표시장치의 제조방법의 공정 단면도이다.3A to 3G are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
먼저, 도 3a에 나타난 바와 같이, 제1 캐리어 기판(110) 상에 분리층 형성용 조성물을 도포하여 분리층(120)을 형성한다. First, as shown in FIG. 3A , the
제1 캐리어 기판(110)으로는 유리 기판을 사용하는 것이 바람직하지만, 이에 제한되지 않고 다른 재질을 사용할 수도 있다. 다만, 이후의 공정 온도를 견딜 수 있도록 고온에서도 변형이 되지 않는, 즉 평탄성을 유지할 수 있는 내열성을 가진 재료가 바람직하다.It is preferable to use a glass substrate as the
상기 분리층(120)의 재질로는 고분자 재질, 예를 들면 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리메타크릴레이트(polymethacrylate, 예를 들면 PMMA), 폴리이미드(polyimide), 폴리아미드(polyamide), 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol), 폴리아믹산(polyamic acid), 폴리올레핀(polyolefin, 예를 들면, PE, PP), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리노보넨(polynorbornene), 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer), 폴리아조벤젠(polyazobenzene), 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(polyester, 예를 들면, PET, PBT), 폴리아릴레이트(polyarylate), 신나메이트(cinnamate)계 고분자, 쿠마린(coumarin)계 고분자, 프탈리미딘(phthalimidine)계 고분자, 칼콘(chalcone)계 고분자 및 방향족 아세틸렌계 고분자로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 물질을 사용할 수 있다. As a material of the
상기 분리층 형성용 조성물을 도포하는 방법으로는 공지의 코팅 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 스핀 코팅, 다이 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 스크린 코팅, 슬릿 코팅, 딥 코팅, 그라비아 코팅 등을 들 수 있다. 또는 잉크젯 방식이 사용될 수도 있다. As a method of applying the composition for forming the separation layer, a known coating method may be used. For example, spin coating, die coating, spray coating, roll coating, screen coating, slit coating, dip coating, gravure coating, etc. are mentioned. Alternatively, an inkjet method may be used.
분리층 형성용 조성물은 코팅 후 경화시켜 분리층(120)을 형성한다. 이때 경화 공정은 열경화 또는 UV경화를 단독으로 사용하거나, 열경화 및 UV 경화를 조합하여 사용할 수 있다. 열경화를 사용할 경우 오븐, 핫 플레이트 등에 의해 가열할 수 있으며, 가열 온도 및 시간은 조성물에 따라 달라질 수 있으나 일례로 80 내지 250 ℃에서 10 내지 120 분의 조건으로 열처리할 수 있다.The composition for forming the separation layer is coated and cured to form the
상기 분리층(120)은 본 발명의 유기발광 표시장치의 제조공정에서 반사방지 필름(100)과 디스플레이 패널(200)의 접합이 완료된 후에 제1 캐리어 기판(110)과의 박리를 위해 형성하는 층으로, 굴절율 조절층과 대면하는 면의 박리력을 조절하여 굴절율 조절층과의 박리가 용이하도록 할 수 있다.The
다음으로, 도 3b에 나타난 바와 같이, 분리층(120) 상에 굴절율 조절층 형성용 조성물을 도포하여 굴절율 조절층(130)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 3B , the refractive
상기 굴절율 조절층 형성용 조성물의 코팅 방법 및 경화 공정은 분리층(120)의 형성 과정에서 설명한 바와 같다.The coating method and curing process of the composition for forming the refractive index adjusting layer are the same as described in the forming process of the
이제, 도 3c에 나타난 바와 같이, 굴절율 조절층(130) 상에 BM층(140)을 형성한다.Now, as shown in FIG. 3c , a
상기 BM층(140)은 카본 블랙을 포함하는 불투명 유기 재료를 사용하여 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 패터닝하여 형성할 수 있다. The
다음으로, 도 3d에 나타난 바와 같이, BM층(140)의 패턴 사이의 영역에 착색층(150)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 3D , a
상기 착색층(150)은 BM층(140)으로 구획된 화소 영역에 색상 표현을 위한 각각의 착색층 형성용 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상 및 경화하여 형성할 수 있다. 착색층을 구성하는 색상은 임의로 선택될 수 있으며, 각 색상별 형성의 순서 또한 임의로 선택할 수 있다.The
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 착색층(150)은 BM층(140)의 일부를 덮도록 형성할 수 있다. 상기 BM층 상에 오버랩되어 형성되는 착색층의 폭(d)은 BM층의 하부 폭(c)의 25 내지 75%, 바람직하게는 40 내지 60%일 수 있다. 상기 블랙매트리스층의 하부 폭에 대한 착색층의 폭(d/c x 100%)은 패턴 형성 과정에서 마스크에 형성된 패턴의 크기, 노광량 등의 공정 조건에 의해 조절될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the
한편, 이와 같이 형성된 BM층(140) 및 착색층(150)으로 이루어진 부분을 컬러필터층(160)으로 지칭할 수 있으며, 이하의 도면에서는 이를 하나의 층으로 도시하기로 한다. Meanwhile, the portion composed of the
이제, 도 3a 내지 도 3d를 참조로 하여 설명한 것과 별개의 공정으로, 도 3e에 나타난 바와 같이, 디스플레이 패널(200)을 제2 캐리어 기판(210) 상에 형성한다. 디스플레이 패널(200)은 디스플레이 기술 분야에서 공지된 임의의 방식으로 제조될 수 있으며, 그 제조 공정을 본 발명에서 특별히 한정하지 않는다. Now, as shown in FIG. 3E , in a process separate from that described with reference to FIGS. 3A to 3D , the
상기 제2 캐리어 기판(210)은 제1 캐리어 기판(110)과 마찬가지로 유리 기판을 사용하는 것이 바람직하지만, 이에 제한되지 않고 다른 재질을 사용할 수도 있다. 다만, 제1 캐리어 기판(110)의 경우와 마찬가지로, 이후의 TFT 및 OLED 제조를 위한 공정 온도를 견딜 수 있도록 고온에서도 변형이 되지 않는, 즉 평탄성을 유지할 수 있는 내열성을 가진 재료가 바람직하다.The
한편, 편의상 도 3a 내지 도 3d의 과정을 통해 반사방지 필름을 형성하는 과정을 설명하고, 도 3e를 참조하여 디스플레이 패널을 형성하는 과정을 설명하였으나, 반사방지 필름과 디스플레이 패널을 이와 같이 순차적으로 형성하여야 하는 것이 아님은 명백하다. Meanwhile, for convenience, the process of forming the anti-reflection film has been described through the process of FIGS. 3A to 3D, and the process of forming the display panel has been described with reference to FIG. 3E, but the anti-reflection film and the display panel are sequentially formed in this way It is clear that this is not something that should be done.
이제, 도 3f에 나타난 바와 같이, 도 3a 내지 도 3d의 과정을 거쳐 분리층(120), 굴절율 조절층(130), 및 컬러필터층(160)이 형성된 제1 캐리어 기판(110)과 도 3e에 도시된 바와 같이 디스플레이 패널(200)이 형성된 제2 캐리어 기판(210)을 접합한다. 접합은 OCA 또는 OCR을 이용하여 이루어질 수 있다. 기판의 접합은 디스플레이 기술 분야에서 공지된 임의의 방식으로 이루어질 수 있으며, 그 공정을 본 발명에서 특별히 한정하지 않는다. Now, as shown in Fig. 3f, through the process of Figs. 3a to 3d, the
이제, 도 3g에 나타난 바와 같이, 제1 캐리어 기판(110) 및 제2 캐리어 기판(210)을 분리한다. 이 때, 제1 캐리어 기판(110) 및 제2 캐리어 기판(210)을 동시에 분리하거나 순차적으로 분리할 수 있으며, 순차적으로 분리할 경우에는 임의의 순서로 분리할 수 있다. Now, as shown in FIG. 3G , the
한편, 제1 캐리어 기판(110)을 분리할 때에는 분리층(120)이 함께 분리될 수 있으며, 이에 따라 도 2에 도시된 바와 같은 본 발명의 일 실시형태에 따른 유기발광 표시장치가 형성된다. Meanwhile, when the
분리 공정은 상온에서 진행되며, 예를 들면 유리 기판인 제1 캐리어 기판(110) 및 제2 캐리어 기판(210)을 물리적으로 떼어내는 박리 방식에 의해 수행될 수 있다. 박리하는 방법은 리프트오프(Lift-off) 또는 필오프(Peel-off)의 방법이 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.The separation process is performed at room temperature, and for example, may be performed by a peeling method in which the
이하, 실시예, 비교예 및 실험예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예, 비교예 및 실험예는 오직 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 국한되지 않는다는 것은 당업자에게 있어서 자명하다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples, Comparative Examples and Experimental Examples. These Examples, Comparative Examples, and Experimental Examples are only for illustrating the present invention, and it is apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited thereto.
합성예Synthesis example 1: 알칼리 가용성 수지 A-1의 합성 1: Synthesis of alkali-soluble resin A-1
교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 100g 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르 100g을 넣고, 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후, 아조비스부티로니트릴 5g, 2-에틸헥실아크릴레이트 21.4g, 4-메틸스티렌 1.5g, 글리시딜메타크릴레이트 42.8g 및 n-도데칸티올 3.0g을 투입하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 80℃로 상승시키고 4시간 동안 반응시켰다. 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and 100 g of propylene glycol monomethyl ether were put into a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux cooling tube, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask was substituted from air to nitrogen, and then azobis 5 g of butyronitrile, 21.4 g of 2-ethylhexyl acrylate, 1.5 g of 4-methylstyrene, 42.8 g of glycidyl methacrylate, and 3.0 g of n-dodecanthiol were added. Then, while stirring, the temperature of the reaction solution was raised to 80° C. and reacted for 4 hours.
반응액의 온도를 상온으로 내리고 플라스크 분위기를 질소에서 공기로 치환한 후, 트리에틸아민 0.2g, 4-메톡시 페놀 0.1g, 아크릴산 21.7g을 투입한 다음, 100℃에서 6시간 동안 반응시켰다. 이 후 반응액의 온도를 상온으로 내리고, 숙신산 무수물 12.5g을 투입하고 80℃에서 6시간 동안 반응시켜 알칼리 가용성 수지 A-1을 얻었다. After lowering the temperature of the reaction solution to room temperature and replacing the atmosphere of the flask with air from nitrogen, 0.2 g of triethylamine, 0.1 g of 4-methoxyphenol, and 21.7 g of acrylic acid were added, followed by reaction at 100° C. for 6 hours. After that, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature, 12.5 g of succinic anhydride was added, and the reaction solution was reacted at 80° C. for 6 hours to obtain alkali-soluble resin A-1.
상기 알칼리 가용성 수지 A-1의 고형분 산가는 68.6㎎KOH/g이었고, GPC로 측정한 중량평균분자량(Mw)은 약 5,570이었으며, 시차주사열량계로 측정한 유리전이온도(Tg)는 -8.3℃이었다.The alkali-soluble resin A-1 had a solid content acid value of 68.6 mgKOH / g, a weight average molecular weight (Mw) measured by GPC was about 5,570, and a glass transition temperature (Tg) measured by differential scanning calorimetry was -8.3 ° C. .
합성예Synthesis example 2: 알칼리 가용성 수지 A-2의 합성 2: Synthesis of alkali-soluble resin A-2
교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 100g 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르 100g을 넣고, 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후, 아조비스부티로니트릴 5g, 2-에틸헥실아크릴레이트 23.0g, 4-메틸스티렌 1.6g, 글리시딜메타크릴레이트 46.0g 및 n-도데칸티올 3.0g을 투입하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 80℃로 상승시키고 4시간 동안 반응시켰다. 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and 100 g of propylene glycol monomethyl ether were put into a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux cooling tube, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask was substituted from air to nitrogen, and then azobis 5 g of butyronitrile, 23.0 g of 2-ethylhexyl acrylate, 1.6 g of 4-methylstyrene, 46.0 g of glycidyl methacrylate, and 3.0 g of n-dodecanthiol were added. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 80° C. with stirring and reacted for 4 hours.
반응액의 온도를 상온으로 내리고 플라스크 분위기를 질소에서 공기로 치환한 후, 트리에틸아민 0.2g, 4-메톡시 페놀 0.1g, 아크릴산 23.3g을 투입한 다음, 100℃에서 6시간 동안 반응시켰다. 이 후 반응액의 온도를 상온으로 내리고, 숙신산 무수물 6.0g을 투입하고 80℃에서 6시간 동안 반응시켜 알칼리 가용성 수지 A-2를 얻었다. After lowering the temperature of the reaction solution to room temperature and replacing the atmosphere of the flask with air from nitrogen, 0.2 g of triethylamine, 0.1 g of 4-methoxyphenol, and 23.3 g of acrylic acid were added, and then reacted at 100° C. for 6 hours. After that, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature, 6.0 g of succinic anhydride was added, and the reaction solution was reacted at 80° C. for 6 hours to obtain alkali-soluble resin A-2.
상기 알칼리 가용성 수지 A-2의 고형분 산가는 32.8㎎KOH/g이고, GPC로 측정한 중량평균분자량(Mw)은 약 6,350이었으며, 시차주사열량계로 측정한 유리전이온도(Tg)는 -12.0℃이었다.The alkali-soluble resin A-2 had a solid content acid value of 32.8 mgKOH/g, a weight average molecular weight (Mw) measured by GPC was about 6,350, and a glass transition temperature (Tg) measured by differential scanning calorimetry was -12.0 ° C. .
합성예Synthesis example 3: 알칼리 가용성 수지 A-3의 합성 3: Synthesis of alkali-soluble resin A-3
교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 100g 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르 100g을 넣고, 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후, 아조비스부티로니트릴 5g, 2-에틸헥실아크릴레이트 17.3g, 4-메틸스티렌 1.2g, 글리시딜메타크릴레이트 59.4g 및 n-도데칸티올 3.0g을 투입하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 80℃로 상승시키고 4시간 동안 반응시켰다. 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and 100 g of propylene glycol monomethyl ether were put into a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux cooling tube, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask was substituted from air to nitrogen, and then azobis 5 g of butyronitrile, 17.3 g of 2-ethylhexyl acrylate, 1.2 g of 4-methylstyrene, 59.4 g of glycidyl methacrylate, and 3.0 g of n-dodecanthiol were added. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 80° C. with stirring and reacted for 4 hours.
반응액의 온도를 상온으로 내리고 플라스크 분위기를 질소에서 공기로 치환한 후, 트리에틸아민 0.2g, 4-메톡시 페놀 0.1g, 아크릴산 17.6g을 투입한 다음, 100℃에서 6시간 동안 반응시켰다. 이 후 반응액의 온도를 상온으로 내리고, 숙신산 무수물 4.5g을 투입하고 80℃에서 6시간 동안 반응시켜 알칼리 가용성 수지 A-3를 얻었다. After lowering the temperature of the reaction solution to room temperature and replacing the atmosphere of the flask with air from nitrogen, 0.2 g of triethylamine, 0.1 g of 4-methoxyphenol, and 17.6 g of acrylic acid were added, and then reacted at 100° C. for 6 hours. After that, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature, 4.5 g of succinic anhydride was added, and the reaction solution was reacted at 80° C. for 6 hours to obtain alkali-soluble resin A-3.
상기 알칼리 가용성 수지 A-3의 고형분 산가는 24.98㎎KOH/g이고, GPC로 측정한 중량평균분자량(Mw)은 약 5,950이었으며, 시차주사열량계로 측정한 유리전이온도(Tg)는 -20.4℃이었다.The alkali-soluble resin A-3 had a solid content acid value of 24.98 mgKOH/g, a weight average molecular weight (Mw) measured by GPC of about 5,950, and a glass transition temperature (Tg) measured by a differential scanning calorimeter was -20.4 ° C. .
합성예Synthesis example 4: 알칼리 가용성 수지 A-4의 합성 4: Synthesis of alkali-soluble resin A-4
교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 120g, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 80g, AIBN 2g, 아크릴산 13.0g, 벤질메타크릴레이트 10g, 4-메틸스티렌 67.0g, 메틸메타크릴레이트 10g 및 n-도데실머캅탄 3g을 투입하고 질소 치환하였다. 그 후 교반하며 반응액의 온도를 80℃로 상승시키고 8시간 동안 반응시켜 알칼리 가용성 수지 A-4를 얻었다.In a flask equipped with a stirrer, thermometer, reflux cooling tube, dropping funnel and nitrogen inlet tube, propylene glycol monomethyl ether acetate 120 g, propylene glycol monomethyl ether 80 g, AIBN 2 g, acrylic acid 13.0 g, benzyl methacrylate 10 g, 4-methyl 67.0 g of styrene, 10 g of methyl methacrylate, and 3 g of n-dodecyl mercaptan were added and nitrogen substituted. Then, while stirring, the temperature of the reaction solution was raised to 80° C. and reacted for 8 hours to obtain alkali-soluble resin A-4.
상기 알칼리 가용성 수지 A-4의 고형분 산가는 81.6㎎KOH/g이었고, GPC로 측정한 중량평균분자량(Mw)은 약 16,110이었으며, 시차주사열량계로 측정한 유리전이온도(Tg)는 85.0℃이었다.The alkali-soluble resin A-4 had a solid content acid value of 81.6 mgKOH/g, a weight average molecular weight (Mw) measured by GPC of about 16,110, and a glass transition temperature (Tg) measured by a differential scanning calorimeter was 85.0 ° C.
제조예production example 1: 녹색 감광성 수지 조성물의 제조 1: Preparation of green photosensitive resin composition
착색제로 C.I. 피그먼트 그린 59 18부, C.I 피그먼트 옐로우 185 7부, C.I 피그먼트 블루 16 3부, 안료분산제로서 BYK-2001(BYK社) 5부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 67부를 혼합하고, 비드밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액 30부, 알칼리 가용성 수지로서 상기 합성예 1에서 제조된 알칼리 가용성 수지 A-1 10부, 광중합성 화합물로 A9550(신나카무라社) 5부, 광중합 개시제로 OXE-02(바스프社) 1부 및 용제로 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 54부를 혼합하여 녹색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.As a colorant, C.I. Pigment Green 59 18 parts, C.I Pigment Yellow 185 7 parts, C.I Pigment Blue 16 3 parts, BYK-2001 (BYK Corporation) 5 parts as a pigment dispersant and 67 parts propylene glycol monomethyl ether acetate were mixed, and a bead mill was mixed. 30 parts of a pigment dispersion in which the pigment was sufficiently dispersed using 02 (BASF) 1 part and propylene glycol monomethyl ether acetate 54 parts as a solvent were mixed to prepare a green photosensitive resin composition.
제조예production example 2: 녹색 감광성 수지 조성물의 제조 2: Preparation of green photosensitive resin composition
알칼리 가용성 수지로서 상기 합성예 2에서 제조된 알칼리 가용성 수지 A-2를 사용하는 것을 제외하고, 제조예 1과 동일한 방법으로 녹색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A green photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that the alkali-soluble resin A-2 prepared in Synthesis Example 2 was used as the alkali-soluble resin.
제조예production example 3: 녹색 감광성 수지 조성물의 제조 3: Preparation of green photosensitive resin composition
알칼리 가용성 수지로서 상기 합성예 3에서 제조된 알칼리 가용성 수지 A-3를 사용하는 것을 제외하고, 제조예 1과 동일한 방법으로 녹색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A green photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that the alkali-soluble resin A-3 prepared in Synthesis Example 3 was used as the alkali-soluble resin.
제조예production example 4: 녹색 감광성 수지 조성물의 제조 4: Preparation of green photosensitive resin composition
알칼리 가용성 수지로서 상기 합성예 4에서 제조된 알칼리 가용성 수지 A-4를 사용하는 것을 제외하고, 제조예 1과 동일한 방법으로 녹색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A green photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that the alkali-soluble resin A-4 prepared in Synthesis Example 4 was used as the alkali-soluble resin.
실시예Example 및 and 비교예comparative example : 반사방지 필름의 제조 : Preparation of anti-reflection film
두께 700㎛의 소다 라임 글래스(Soda Lime Glass)를 캐리어 기판으로 사용하고, 상기 캐리어 기판 상에 신나메이트계 수지를 포함하는 분리층 형성용 조성물을 두께 300nm로 도포하고, 150℃에서 20분간 건조 처리하여 분리층을 형성하였다.Soda lime glass with a thickness of 700 μm is used as a carrier substrate, a composition for forming a separation layer including a cinnamate-based resin is applied to a thickness of 300 nm on the carrier substrate, and dried at 150° C. for 20 minutes to form a separation layer.
상기 분리층 상에 시클로올레핀폴리머(COP)를 포함하는 굴절율 조절층 형성용 조성물을 두께 5㎛로 도포하고, 230℃에서 20분간 건조 처리하여 굴절율이 1.56인 굴절율 조절층을 형성하였다.A composition for forming a refractive index adjusting layer containing cycloolefin polymer (COP) on the separation layer was applied to a thickness of 5 μm, and dried at 230° C. for 20 minutes to form a refractive index adjusting layer having a refractive index of 1.56.
이후, 상기 굴절율 조절층 상에 카본 블랙을 포함하는 BM층을 형성하고, 제조예 1 내지 4의 녹색 감광성 수지 조성물을 이용하여 블랙매트리스층의 하부 폭에 대한 착색층의 폭(d/c x 100%)이 하기 표 1과 같은 두께 3㎛의 착색층을 형성하였다.Then, a BM layer including carbon black is formed on the refractive index control layer, and the width of the colored layer with respect to the lower width of the black mattress layer (d/c x 100%) using the green photosensitive resin composition of Preparation Examples 1 to 4 ) to form a colored layer having a thickness of 3 μm as shown in Table 1 below.
그런 다음, 캐리어 기판을 제거하여 반사방지 필름을 제조하였다.Then, the carrier substrate was removed to prepare an anti-reflection film.
실험예Experimental example 1: One:
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 반사방지 필름의 물성을 후술하는 방법으로 측정하고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.The physical properties of the anti-reflection films prepared in Examples and Comparative Examples were measured by the method described below, and the results are shown in Table 1 below.
(1) 산술 평균 조도(1) Arithmetic mean roughness
실시예 및 비교예에서 제조된 반사방지 필름의 산술 평균 조도(Ra)를 AFM(PSIA XE-100)을 이용하여 측정하였다. The arithmetic mean roughness (Ra) of the antireflection films prepared in Examples and Comparative Examples was measured using AFM (PSIA XE-100).
(2) 광 투과율 및 편차(2) light transmittance and deviation
실시예 및 비교예에서 제조된 반사방지 필름의 520nm에서의 투과율을 색도계(올림푸스사 제조, OSP-200)를 이용하여 측정하였다.The transmittance at 520 nm of the antireflection films prepared in Examples and Comparative Examples was measured using a colorimeter (manufactured by Olympus, OSP-200).
Surface roughness (nm)
상기 표 1에서 보듯이, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 5의 반사방지 필름은 표면 조도가 2.0nm 이하이고, 광 투과율 편차가 ±1.5% 이하이므로, 개구부 영역에서의 투과율 균일도가 우수하여 색차 발생을 방지할 수 있음을 알 수 있다.As shown in Table 1, the anti-reflection films of Examples 1 to 5 according to the present invention have a surface roughness of 2.0 nm or less and a light transmittance deviation of ±1.5% or less, so the transmittance uniformity in the opening region is excellent, resulting in color difference It can be seen that this can be prevented.
반면, 비교예 1의 반사방지 필름은 블랙 매트릭스 상 착색층의 오버랩 정도가 20%로 작아 블랙매트릭스층을 덮고 있는 착색층의 두께 저하로 개구부 영역의 중심 위치에서의 두께와 차이가 생겨 투과율 균일도가 감소되는 것으로 나타났다. 또한, 비교예 2의 반사방지 필름은 Tg가 85.0℃인 알칼리 가용성 수지를 사용하여 반사방지 필름의 산술 평균 조도(Ra)가 상승하고 광 투과율 편차가 상승하는 것으로 나타났다. On the other hand, in the anti-reflection film of Comparative Example 1, the overlap of the colored layer on the black matrix was small as 20%, and the thickness of the colored layer covering the black matrix layer was lowered, resulting in a difference from the thickness at the central position of the opening region, resulting in a decrease in transmittance uniformity. appeared to decrease. In addition, in the antireflection film of Comparative Example 2, using an alkali-soluble resin having a Tg of 85.0°C, the arithmetic mean roughness (Ra) of the antireflection film was increased and the light transmittance deviation was increased.
이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아님은 명백하다. 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.As the specific part of the present invention has been described in detail above, for those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains, it is clear that these specific techniques are only preferred embodiments, and the scope of the present invention is not limited thereto. do. Those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above contents.
따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 특허청구범위와 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.Accordingly, the substantial scope of the present invention will be defined by the appended claims and their equivalents.
100: 반사방지 필름 110: 제1 캐리어 기판
120: 분리층 130: 굴절율 조절층
140: 블랙 매트릭스층 150: 착색층
160: 컬러필터층 200: 디스플레이 패널
210: 제2 캐리어 기판 220: 기재필름
230: TFT층 240: OLED층
250: 봉지층 260: 터치센서층
300: 접착층100: anti-reflection film 110: first carrier substrate
120: separation layer 130: refractive index control layer
140: black matrix layer 150: colored layer
160: color filter layer 200: display panel
210: second carrier substrate 220: base film
230: TFT layer 240: OLED layer
250: encapsulation layer 260: touch sensor layer
300: adhesive layer
Claims (10)
상기 굴절율 조절층 상에 형성된 블랙 매트릭스층; 및
상기 블랙 매트릭스층 사이와 블랙 매트리스층의 일부를 덮도록 형성된 착색층을 포함하는 반사방지 필름으로서,
상기 블랙 매트릭스층 상에 오버랩되어 형성되는 착색층의 폭은 블랙매트리스층의 하부 폭(BMCD: Black Matrix Critical Dimension)의 25 내지 75%이고,
상기 착색층은 유리전이온도(Tg)가 0 내지 -100℃인 반응성 알칼리 가용성 수지를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물로부터 형성되며,
상기 반사방지 필름의 산술 평균 조도(Ra)는 2.0nm 이하이고,
상기 굴절율 조절층은 디스플레이 패널에 결합되는 면의 반대면에 배치되는 반사방지 필름.a refractive index adjusting layer having a refractive index of 1.52 to 1.59;
a black matrix layer formed on the refractive index control layer; and
An antireflection film comprising a colored layer formed to cover a portion of the black matrix layer and between the black matrix layers,
The width of the colored layer overlapped on the black matrix layer is 25 to 75% of the lower width of the black matrix layer (BMCD: Black Matrix Critical Dimension),
The colored layer is formed from a colored photosensitive resin composition comprising a reactive alkali-soluble resin having a glass transition temperature (Tg) of 0 to -100°C,
The arithmetic mean roughness (Ra) of the anti-reflection film is 2.0 nm or less,
The refractive index control layer is an anti-reflection film disposed on a surface opposite to the surface coupled to the display panel.
상기 반사방지 필름에 결합된 디스플레이 패널을 포함하는 유기발광 표시장치.An anti-reflection film according to any one of claims 1, 3, and 5 to 6; and
and a display panel coupled to the anti-reflection film.
기재필름;
상기 기재필름 상의 박막 트랜지스터층;
상기 박막 트랜지스터층 상의 유기발광 다이오드; 및
상기 유기발광 다이오드 상의 봉지층을 포함하는 유기발광 표시장치.The method of claim 8, wherein the display panel,
base film;
a thin film transistor layer on the base film;
an organic light emitting diode on the thin film transistor layer; and
and an encapsulation layer on the organic light emitting diode.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Family
ID=81980594
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| KR1020210097315A KR102408709B1 (en) | 2021-07-23 | 2021-07-23 | Antireflection Film and Organic Light Emitting Display Device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102408709B1 (en) |
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