KR20190073746A - Fe-Ni BASED FOIL HAVING RESIN ADHESION, METHOD FOR PREPARING THE Fe-Ni BASED FOIL, MASK FOR DEPOSITION AND METHOD FOR PREPARING THE MASK - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 수지 밀착성이 우수한 Fe-Ni계 합금 포일, 그 제조방법, 증착용 마스크 및 상기 증착용 마스크 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an Fe-Ni alloy foil excellent in resin adhesion, a production method thereof, a vapor deposition mask and a process for producing the vapor deposition mask.
Fe-Ni계 합금 포일은 다양한 용도로 개발되어 가정/산업에 널리 이용되고 있다. Fe-Ni계 합금 포일의 경우 열 팽창 계수(CTE, Coefficient of Thermal Expansion)가 낮아 유기 EL 디스플레이장치(OLED, Organic Light Emitting Diodes)의 화소를 형성하는 증착용 마스크의 재료로 널리 사용되고 있는 것으로 알려져 있다. 또한, OLED 용 봉지재, 전자소자 기판 등으로 이용되기도 하고, 나아가 이차전지의 음극 집전체 및 리드 프레임으로도 각광받고 있는 상황이다.Fe-Ni alloy foil has been developed for various applications and is widely used in the home / industry. Fe-Ni based alloy foils have been known to be widely used as materials for vapor deposition masks forming pixels of OLED (Organic Light Emitting Diodes) because of low CTE (Coefficient of Thermal Expansion) . It is also used as an encapsulating material for an OLED, an electronic element substrate and the like, and is also attracting attention as a cathode current collector and a lead frame of a secondary battery.
최근 스마트기기의 대중화와 함께 VR(가상현실) 기기의 요구가 높아져 가고 있는 가운데, 응답속도가 빠르고, 시야각이 넓으며, 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 소비 전력의 낮은 유기 EL 디스플레이 장치가 주목 받고 있다. 특히 VR은 해상도가 높아질수록 더욱 높은 현실감을 제공해주기 때문에 향후 VR 기기들의 화질 향상이 더욱 요구되고 있다. In recent years, along with the popularization of smart devices, demands for VR (virtual reality) devices have been increasing, attention has been paid to organic EL display devices which have high response speed, wide viewing angle, excellent contrast and low power consumption. In particular, as VR provides higher realism as resolution increases, the picture quality of VR devices is required to be improved in the future.
고화질의 유기 EL 디스플레이를 제조하기 위해서는 디스플레이 장치 화소의 미세화가 요구된다. 이러한 유기 EL 디스플레이 장치의 화소를 형성하는 방법은 형성하고자 하는 패턴의 배열로 관통 홀을 갖는 증착용 마스크를 사용하여 원하는 패턴의 화소를 형성하는 방법이 알려져 있다. In order to manufacture a high-quality organic EL display, it is required to miniaturize pixels of a display device. A method of forming pixels of such an organic EL display device is known as a method of forming a pixel of a desired pattern by using an evaporation mask having through-holes as an array of patterns to be formed.
구체적으로는, 관통 홀의 배열들을 포함하는 증착용 마스크를 유기 EL 디스플레이 기판에 밀착하여 진공 증착 방식을 통해서 증착되는 유기 재료의 화소를 형성하는 것이다. Specifically, an evaporation mask including arrangements of through holes is brought into close contact with an organic EL display substrate to form pixels of an organic material deposited through a vacuum deposition method.
일반적으로 증착용 마스크는 합금 포일에 포토레지스트 막을 코팅하고 포토리소그래피 기술을 사용하여 포토레지스트의 패턴을 형성한 후, 습식 또는 건식 에칭을 통해 합금 포일에 관통하는 관통 홀을 형성함으로써 제조될 수 있다.Generally, a deposition mask can be produced by coating a photoresist film on an alloy foil, forming a pattern of photoresist using photolithography techniques, and then forming a through hole through the alloy foil by wet or dry etching.
이러한 에칭 방법을 통해 증착용 마스크를 제조하는 경우, 포토레지스트의 하부에서 측면 방향으로의 에칭이 나타나는 문제가 발생하게 된다. 이러한, 측면 에칭이 발생하면, 에칭의 깊이와 측면 에칭의 깊이와의 비를 나타내는 부식 계수(Etch Factor)가 낮을 경우 미세한 패턴을 갖는 증착용 마스크를 제조할 때 인접 관통홀의 형성에 영향을 미치기 때문에 고화소의 증착용 마스크를 제조할 수 없게 되는 문제점이 발생한다.When an evaporation mask is manufactured through such an etching method, there arises a problem that etching occurs in the lateral direction from the bottom of the photoresist. When side etching occurs, if the etch factor indicating the ratio of the depth of the etching to the depth of the side etching is low, it will affect the formation of the adjacent through hole when the mask having the fine pattern is manufactured There arises a problem that it becomes impossible to manufacture a mask for vapor deposition of a high-resolution pixel.
특히, 일반적으로 에칭 마스크로 사용되는 포토레지스트의 하부에서 합금 포일과 포토레지스트와의 접착력이 낮고 합금 포일의 표면 에칭 속도가 빠를 경우 포토레지스트 하부에서 측면 방향으로의 에칭이 나타나는 현상이 증가하여 인접 관통홀 간에 간섭을 야기하는 현상이 증가하게 된다.Particularly, when the adhesion force between the alloy foil and the photoresist is low at the lower portion of the photoresist used as an etching mask and the surface etching rate of the alloy foil is high, the phenomenon of etching in the lateral direction under the photoresist increases, The phenomenon of causing interference between holes increases.
본 발명은 상술한 과제를 해결하기 위하여 도출된 것으로, Fe-Ni계 합금 금속박의 표면의 특성을 개질시켜 금속박 상에 도포되는 수지에 대한 밀착성이 우수한 금속박을 제공하고자 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a metal foil having an excellent adhesion to a resin coated on a metal foil by modifying the surface characteristics of the Fe-Ni alloy metal foil.
본 발명은 수지밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일을 제공하고자 하는 것으로서, 본 발명의 일 구현예에 따르면, 평균 조성이 중량%로, Ni: 34~46%, 잔부 Fe 및 불가피한 불순물을 포함하는 철-니켈 합금 포일로서, 상기 합금 포일은 표면에 철 및 니켈의 산화물 층을 포함하고, 상기 철 및 니켈의 산화물 층의 니켈 함량은 상기 평균 조성의 니켈 함량보다 높은 것인 철-니켈 합금 포일이 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided an iron-nickel alloy foil excellent in resin adhesion, wherein an average composition contains iron in an amount of 34 to 46% by weight of Ni, the balance Fe and unavoidable impurities Nickel alloy foil, said alloy foil comprising an iron-nickel alloy foil comprising an oxide layer of iron and nickel on its surface, the nickel content of said iron and nickel being higher than the nickel content of said average composition do.
상기 산화물 층의 니켈 함량은 산화물층의 철 함량보다 높은 것이 바람직하다.The nickel content of the oxide layer is preferably higher than the iron content of the oxide layer.
상기 산화물 층의 니켈 함량은 53 내지 75중량%인 것이 바람직하다.The nickel content of the oxide layer is preferably 53 to 75 wt%.
상기 철-니켈 함금 포일은 10 내지 100㎛의 두께를 갖는 것일 수 있다.The iron-nickel-containing foil may have a thickness of 10 to 100 mu m.
상기 철-니켈 합금 포일은 전기주조에 의해 형성된 것일 수 있다.The iron-nickel alloy foil may be formed by electroforming.
본 발명은 또한 수지 밀착성이 우수한 합금 포일 제조방법을 제공하며, 본 발명의 일 구현예에 따르면, 평균 조성이 중량%로, Ni: 34~46%, 잔부 Fe 및 불가피한 불순물을 포함하는 철-니켈 합금 포일 표면의 산화물 층을 산을 포함하는 산 용액으로 표면 처리하는 산 처리 단계를 포함하며, 상기 산 처리 단계에 의해 산화물 층의 Ni 함량이 상기 철-니켈 합금 포일의 니켈 조성보다 높아지는 것인 수지 밀착성이 우수한 철-니켈 합금 포일 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method of producing an alloy foil excellent in resin adhesion. According to an embodiment of the present invention, there is provided a method for producing an alloy foil having an average composition of Ni: 34 to 46%, Fe- And an acid treatment step of surface-treating an oxide layer on an alloy foil surface with an acid solution containing an acid, wherein the acid treatment step causes the Ni content of the oxide layer to become higher than the nickel composition of the iron-nickel alloy foil A method of manufacturing an iron-nickel alloy foil excellent in adhesion is provided.
상기 산은 질산, 염산, 염화철 또는 이들의 혼합 산일 수 있다.The acid may be nitric acid, hydrochloric acid, iron chloride or a mixed acid thereof.
상기 혼합 산은 염산과 질산을 1:0.5 내지 3의 중량비로 포함하는 것일 수 있다.The mixed acid may include hydrochloric acid and nitric acid at a weight ratio of 1: 0.5 to 3.
상기 산 용액은 산 농도가 1 내지 20%일 수 있다.The acid solution may have an acid concentration of 1 to 20%.
상기 산 처리는 상기 산화물 층의 니켈 함량이 철 함량보다 높도록 수행하는 것이 바람직하다.The acid treatment is preferably carried out such that the nickel content of the oxide layer is higher than the iron content.
상기 산 처리는 산화물 층의 니켈 함량이 53 내지 75중량%가 되도록 수행하는 것이 바람직하다.The acid treatment is preferably carried out so that the nickel content of the oxide layer is 53 to 75% by weight.
상기 산 처리 단계는 1분 내지 10분 동안 수행하는 것이 바람직하다.The acid treatment step is preferably carried out for 1 minute to 10 minutes.
상기 철-니켈 합금 포일은 전기주조에 의해 형성된 것이 바람직하다.The iron-nickel alloy foil is preferably formed by electroforming.
본 발명의 다른 견지로는 상기 철-니켈 합금 포일로 된 증착용 마스크를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an evaporation mask comprising the iron-nickel alloy foil.
상기 철-니켈 합금 포일은 포토레지스트 형성 후의 부식지수가 2.0 이상일 수 있다.The iron-nickel alloy foil may have a corrosion index of not less than 2.0 after forming the photoresist.
본 발명의 또 다른 견지로는 증착용 마스크 제조방법을 제공하며, 상기 본 구현예로 제공되는 표면 개질된 합금 포일 표면에 소정 패턴의 포토레지스트를 형성하는 단계, 상기 포토레지스가 형성된 합금 포일을 습식 또는 건식 에칭하여 소정 패턴의 관통 홀을 형성하는 단계 및 상기 포토레지스트를 제거하는 단계를 포함하는 증착용 마스크 제조방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a deposition mask, comprising the steps of: forming a photoresist of a predetermined pattern on a surface of a surface-modified alloy foil provided in the present embodiment; Or dry etching to form through holes of a predetermined pattern, and removing the photoresist.
본 발명의 실시예에 따른 Fe-Ni계 합금 금속박은 수지 밀착성이 매우 우수하여, 습식 에칭 공정을 통해 제조되는 증착용 마스크의 관통 홀을 형성하는 공정에서, 포토레지스트 하부에서 측면 방향으로의 에칭을 억제하여 부식 계수(etch factor)를 향상시킬 수 있으며, 이로 인해 고화소의 증착용 마스크를 제조할 수 있다.The Fe-Ni-based alloy metal foil according to the embodiment of the present invention is excellent in resin adhesion so that etching in the lateral direction from the bottom of the photoresist in the process of forming the through holes of the evaporation mask produced through the wet etching process It is possible to improve the etch factor, thereby making it possible to manufacture a mask for evaporation of a high-resolution film.
도 1은 Fe-Ni계 합금 금속박의 표면에 대한 표면처리 전 및 후의 XPS O1s 측정 결과를 나타내는 그래프이다.Fig. 1 is a graph showing XPS O1s measurement results before and after surface treatment of a surface of an Fe-Ni based alloy metal foil.
본 발명은 수지 밀착성 및 에칭 지수가 우수한 Fe-Ni계 합금 포일 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 이에 의해 제공되는 합금 포일은 예를 들어, FMM(Fine Metal Mask), 전자소자용 유연 기판 또는 봉지재로 활용 가능하다.The present invention relates to an Fe-Ni alloy foil excellent in resin adhesion and an etching index, and a method for producing the same. The alloy foil provided thereby can be used, for example, as an FMM (Fine Metal Mask), a flexible substrate for an electronic device, or an encapsulating material.
일반적으로 에칭 마스크로 사용되는 포토레지스트의 하부에서 합금 포일과 포토레지스트와의 접착력이 낮고 합금 포일의 표면 에칭 속도가 빠를 경우 포토레지스트 하부에서 측면 방향으로의 에칭이 나타나는 문제가 있다. 이러한 측면방향으로의 에칭이 일어나는 경우, 즉, 부식계수(부식지수, Etch Factor)가 낮은 경우에는 인접 관통홀 간에 간섭을 야기하여 미세한 패턴을 갖는 고화소의 증착용 마스크 제조할 수 없는 문제가 있다.Generally, there is a problem that when the adhesion force between the alloy foil and the photoresist at the lower portion of the photoresist used as the etching mask is low and the surface etching rate of the alloy foil is high, the etching occurs in the lateral direction under the photoresist. When the etching is performed in the lateral direction, that is, when the corrosion coefficient (etch factor) is low, there arises a problem that it is impossible to manufacture an evaporation mask having a fine pattern due to interference between adjacent through holes.
이와 같은 측면 방향으로는 에칭은 합금 포일과 에칭 마스크인 포토레지스트와의 접착력이 낮은 경우에 더욱 현저하게 된다. 이에, 본 발명은 합금 포일의 표면 상태 변화를 통해 합금 포일과 포토레지스트와의 밀착력을 향상시켜 이와 같은 측면 방향으로의 에칭으로 인한 문제를 방지하고자 한다. In such a lateral direction, the etching is more conspicuous when the adhesion between the alloy foil and the photoresist as the etching mask is low. Accordingly, the present invention aims to improve the adhesion between the alloy foil and the photoresist by changing the surface state of the alloy foil, thereby preventing a problem caused by etching in the lateral direction.
본 발명자들은 연구를 거듭한 결과, 증착용 마스크로 사용되는 Fe-Ni 합금 포일은 합금 포일의 전체 조성과 동일한 조성의 철 산화물 및 니켈 산화물이 형성되며, 이중에서 철 산화물이 포토레지스트에 대한 밀착력을 저하시키는 원인임을 확인하였다. As a result of repeated research, the present inventors have found that Fe-Ni alloy foil used as an evaporation mask is formed of iron oxide and nickel oxide having the same composition as the entire composition of the alloy foil and iron oxide has adhesion to photoresist .
이에, 본 발명은 Fe-Ni 합금 포일의 표면을 개질하여 수지 밀착성을 향상시킴으로써 측면 방향으로의 에칭 현상을 억제하고, 이를 통해 보다 정밀한 관통 홀을 형성할 수 있다는 것으로부터 본 발명을 완성하였다.Accordingly, the present invention has been completed based on the fact that the surface of the Fe-Ni alloy foil is modified to improve the resin adhesion, thereby suppressing the etching phenomenon in the lateral direction and thereby forming more precise through holes.
이러한 표면에 열팽창율이 낮은 Invar와 같은 Fe-Ni 합금을 증착용 마스크로 사용하는 기술이 증가하고 있다. 이러한 Invar는 표면에 산화막이 형성되는데, 산화막 조성은 포토레지스트에 대한 접착력이 낮은 철 산화물의 함량이 높다. 이로 인해, 포토레지스트에 대한 밀착성이 낮아, 포토레지스트 하부에서 측면 방향으로의 에칭이 나타나는 현상이 높아 정밀한 관통 홀 형성에 방해 요소로 작용하고 있다.The use of Fe-Ni alloys such as Invar, which has a low thermal expansion coefficient on the surface, as an evaporation mask is increasing. In the Invar, an oxide film is formed on the surface. The oxide film composition has a high content of iron oxide having low adhesion to the photoresist. As a result, the adhesion to the photoresist is low, and the phenomenon of etching in the lateral direction from the bottom of the photoresist is high, which is an obstacle to precise through-hole formation.
본 발명이 적용되는 합금 포일은 Fe와 Ni의 합금 포일이라면 특별히 한정하지 않는다. 보다 바람직하게는 상기 합금 포일은 중량%로, Ni 34~46%, 잔부 Fe 및 불가피한 불순물을 포함하는 합금 포일에 적용될 수 있다. 즉, 이와 같은 Fe-Ni 합금 포일은 철의 함량이 높은 것으로서, 표면의 산화막 조성 역시 철 산화물량이 많다. 따라서, 철 산화물로 인해 표면에 수지 밀착성이 낮다. 따라서, 본 발명을 적용함으로써 수지 밀착성을 향상시킬 수 있다.The alloy foil to which the present invention is applied is not particularly limited as long as it is an alloy foil of Fe and Ni. More preferably, the alloy foil is applied to an alloy foil containing 34 to 46% Ni, balance Fe and unavoidable impurities, in weight percent. That is, the Fe-Ni alloy foil has a high iron content, and the oxide film composition on the surface also has a large amount of iron oxide. Therefore, the resin adhesion to the surface is low due to the iron oxide. Therefore, the resin adhesion can be improved by applying the present invention.
상기 합금 포일의 두께는 특별히 한정하지 않으나, 증착용 마스크로서의 용도로 제공되며, 최근의 고해상도의 구현을 위한 요구에 부응하는 측면에서 상기 합금 포일의 두께는 100㎛ 이하(0㎛ 제외한다), 보다 바람직하게는 10 내지 100㎛의 두께를 갖는 것일 수 있다. Although the thickness of the alloy foil is not particularly limited, it is provided for use as a vapor deposition mask. In order to meet the recent demand for high resolution, the thickness of the alloy foil is set to be less than 100 탆 (excluding 0 탆) And may preferably have a thickness of 10 to 100 mu m.
금속 포일의 두께가 100㎛를 초과하는 경우에는 관통 홀 패턴을 형성할 때 금속 박의 두께가 두껍기 때문에 에칭 과정에서 인접 패턴간의 간섭이 발생하여 정확한 패턴을 형성할 수 없는 등, 고해상도의 패턴을 얻기에 기술적 어려움이 있으며, 또, 10㎛ 미만의 두께의 합금 포일을 사용하는 경우에는 강도가 저하되어, 증착용 마스크를 제작할 때에 기판의 변형이 나타나는 등, 운용 및 취급에서의 어려움이 동반되는 문제점이 있다.When the thickness of the metal foil is more than 100 mu m, it is difficult to obtain a high-resolution pattern because the thickness of the metal foil is thick when the through-hole pattern is formed, The use of an alloy foil having a thickness of less than 10 mu m causes a decrease in strength and a problem in that it is accompanied with difficulties in operation and handling such as deformation of the substrate when the mask for vapor deposition is produced have.
이와 같은 Fe-Ni 합금 포일은 압연법(Rolling)에 의해 얻어진 것은 물론, 전기주조법(Electroforming, 전주법)에 의해 얻어진 것일 수 있는 것으로서, 특별히 한정하지 않는다. Such an Fe-Ni alloy foil can be obtained by rolling and electroforming (electroforming), and is not particularly limited.
상기 압연법은 Fe 및 Ni을 잉곳(Ingot)으로 주조한 후, 압연과 소둔을 반복 실시하여 합금 포일로 만드는 방법으로서, 이러한 압연법에 의해 제조된 Fe-Ni계 합금 포일은 신장율이 높고, 표면이 평활하기 때문에 크랙이 발생하기 어려운 장점이 있다. 그러나, 제조시 기계적인 제약에 의해 폭 1m 이상인 것은 제조가 곤란하며, 극박(50㎛ 이하)인 경우 제조 원가가 지나치게 많이 소요되는 단점이 있다. 또한, 이러한 제조 원가 측면에서의 불리함을 감수하고 압연법에 의해 합금 포일을 제조한다고 하더라도, 조직의 평균 결정립 크기가 조대하여 기계적 물성이 열위하게 나타나는 단점이 있다.The rolling method is a method of casting Fe and Ni into an ingot and then repeatedly performing rolling and annealing to obtain an alloy foil. The Fe-Ni alloy foil produced by such a rolling method has a high elongation percentage, There is an advantage that cracks are hardly generated. However, due to the mechanical limitations in manufacturing, it is difficult to manufacture with a width of 1 m or more, and the manufacturing cost is excessively large when the thickness is extremely small (50 μm or less). In addition, even if the alloy foil is produced by the rolling method while taking the disadvantage in terms of the manufacturing cost, there is a disadvantage that the average grain size of the structure is poor and the mechanical properties are poor.
한편, 전주법은 전해조 내에 설치되어 회전하는 원통형의 음극 드럼과 대향하는 한 쌍의 원호 형상의 양극에 둘러싸인 틈으로 급액 노즐을 통해 전해액을 공급하여 전류를 통전함으로써, 상기 음극 드럼의 표면에 금속을 전착시키고, 이를 떼어낸 후 권취함으로써 합금 포일로 만드는 방법이다. 이러한 전주법에 의해 제조된 합금 포일은 평균 결정립 크기가 미세하여 기계적 물성이 우수하다는 장점이 있으며, 더욱이 낮은 제조 비용으로도 제조가 가능하여 제조 원가가 낮다는 장점이 있다.On the other hand, in the electroforming method, an electrolytic solution is supplied through a liquid supply nozzle in a gap surrounded by a pair of circular arc-shaped positive and negative electrodes opposed to a rotating cylindrical negative electrode drum in the electrolytic bath, Electrodeposition, peeling it off, and winding it to make an alloy foil. The alloy foil manufactured by this electroforming method has an advantage that the average grain size is fine and the mechanical properties are excellent. Moreover, the alloy foil has an advantage of being manufactured at a low manufacturing cost and low in manufacturing cost.
본 발명은 상기와 같은 합금 포일의 적어도 일 표면을 개질함으로써 수지 밀착성을 향상시키고자 하는 것이다. 본 발명에 있어서, 상기 합금 포일의 표면 개질은 표면의 산화물층을 산으로 에칭함으로써 수행할 수 있다. The present invention intends to improve the resin adhesion by modifying at least one surface of the alloy foil. In the present invention, the surface modification of the alloy foil can be performed by etching the surface oxide layer with an acid.
본 발명에 있어서 상기 에칭은 산화물층을 모두 제거하는 것이 아니라, 에칭에 의해 산화물층의 일부, 보다 구체적으로는 산화물층을 구성하는 철 산화물을 일부 제거함으로써 철 산화물의 함량을 낮추는 것을 의미한다. 보다 구체적으로는 Fe-Ni 합금 포일의 니켈 함량에 비하여 산화물층의 니켈 함량이 증가하도록 에칭하는 것이다. 상기 에칭에 의해 산화물 층의 니켈 함량이 철 함량보다 많게 되는 것이 보다 바람직하며, 산화물층의 니켈 함량은 53 내지 75중량%로 되는 것이 더욱 더 바람직하다. In the present invention, the etching does not remove all of the oxide layer, but means that the content of the iron oxide is lowered by removing a part of the oxide layer by etching, more specifically, the iron oxide constituting the oxide layer. More specifically, to increase the nickel content of the oxide layer as compared to the nickel content of the Fe-Ni alloy foil. More preferably, the nickel content of the oxide layer is more than the iron content by the etching, and the nickel content of the oxide layer is more preferably 53 to 75 wt%.
이와 같은 Fe-Ni 합금 포일의 산화물층에 대한 표면 개질은 염산, 질산, 염화철 또는 혼합 산의 산 용액을 이용하여 수행할 수 있다. 상기 산 용액은 특별히 한정하지 않으나, 상기 산이 1 내지 10%의 농도로 포함하는 용액을 사용하는 것이 바람직하다. 산 농도가 1% 미만인 경우에는 충분한 표면 개질이 일어나지 않아 수지 밀착성 개선 효과가 미미하며, 20%를 초과하는 경우에는 산화물층이 부분적으로 또는 전면적으로 제거되어 오히려 표면 조도 증대를 초래하여 에칭 시 공경 형상의 불량을 초래할 수 있다. 보다 바람직하게는 상기 산 농도는 5 내지 20%일 수 있다.The surface modification of the oxide layer of the Fe-Ni alloy foil can be performed using an acid solution of hydrochloric acid, nitric acid, iron chloride, or a mixed acid. The acid solution is not particularly limited, but it is preferable to use a solution containing the acid in a concentration of 1 to 10%. When the acid concentration is less than 1%, sufficient surface modification does not occur and the effect of improving the resin adhesion is insignificant. When the acid concentration is more than 20%, the oxide layer is partially or wholly removed to increase the surface roughness, Which may lead to defects. More preferably, the acid concentration may be 5 to 20%.
본 발명에 있어서, 혼합 산을 사용하는 경우에는 염산과 질산의 혼합 산일 수 있으며, 염산과 질산을 1: 0.5 내지 3의 중량비로 혼합하여 사용할 수 있다.In the present invention, when a mixed acid is used, it may be a mixture of hydrochloric acid and nitric acid, and hydrochloric acid and nitric acid may be mixed at a weight ratio of 1: 0.5-3.
상기 산 용액을 사용하여 표면처리하는 경우, 표면처리 시간은 특별히 한정하지 않으나, 30초 내지 10분 동안 수행하는 것이 바람직하다. 30초 미만으로 수행하는 경우에는 충분한 표면 개질 효과가 일어나지 않아 수지 밀착성 개선 효과가 적으며, 10분을 초과하는 경우에는 산화물층이 부분적으로 또는 전면적으로 제거되어 오히려 표면 조도 증대를 초래하여 에칭 시 공경 형상의 불량을 초래할 수 있다.In the case of surface treatment using the acid solution, the surface treatment time is not particularly limited, but it is preferably carried out for 30 seconds to 10 minutes. If the treatment is carried out for less than 30 seconds, sufficient surface modification effect does not occur and the effect of improving the adhesion of the resin is small. If it exceeds 10 minutes, the oxide layer is partially or wholly removed to increase the surface roughness, Resulting in defective shape.
상기와 같은 표면 처리액은 Fe-Ni 합금 포일의 산화물층에 존재하는 철 산화물 및 니켈 산화물에 대하여 에칭성을 가지지만, 상대적으로 철 산화물에 대한 에칭성이 높은 반면, 니켈 산화물에 대하여는 에칭성이 낮아 철 산화물에 대한 선택성이 높다. 따라서, Fe-Ni 합금 포일의 산화물 층에 존재하는 철 산화물을 선택적으로 에칭 제거하여 산화물층의 니켈 산화물의 함량을 증대시킬 수 있다.Although the surface treatment solution has an etching property to iron oxide and nickel oxide existing in the oxide layer of the Fe-Ni alloy foil, the surface treatment solution has a relatively high etchability to the iron oxide, Low selectivity to iron oxide. Accordingly, the iron oxide present in the oxide layer of the Fe-Ni alloy foil can be selectively etched away to increase the content of nickel oxide in the oxide layer.
이와 같은 본 발명의 방법에 의해 Fe-Ni 합금 포일의 산화물 층의 조성을 변화시킬 수 있어 Fe-Ni 합금 포일의 표면을 개질할 수 있다. 이에 의해 Fe-Ni 합금 포일이 수지에 대한 밀착성을 향상시킬 수 있다. According to the method of the present invention, the composition of the oxide layer of the Fe-Ni alloy foil can be changed, and the surface of the Fe-Ni alloy foil can be modified. As a result, the adhesion of the Fe-Ni alloy foil to the resin can be improved.
이러한 수지 밀착성은 포토레지스트를 도포한 후에 두께 방향의 에칭 깊이와 측면 방향의 에칭 깊이의 비를 나타내는 부식지수(Etch Factor)로부터 확인할 수 있는 것으로서, 본 발명에 따른 Fe-Ni 합금 포일은 부식지수는 2.0 이상인 것이 바람직하다. 상기 부식지수가 2.0 미만이면 수지 밀착성이 열악하여 포토레지스트 하부에서 측면 방향으로의 에칭이 큰 문제가 있다. 상기 부식지수는 2.0 이상이라면 그 상한은 특별히 한정하지 않으며, 부식지수가 클수록 측면 방향으로의 에칭에 비하여 두께 방향으로의 에칭율이 큰 것인바, 보다 바람직하다. 예를 들면, 상기 부식지수의 상한은 4.0, 5.0, 6.0 또는 7.0일 수 있다.Such resin adhesion can be confirmed from the etch factor indicating the ratio of the etching depth in the thickness direction to the etching depth in the lateral direction after the photoresist is applied. The Fe-Ni alloy foil according to the present invention has a corrosion index 2.0 or more. If the corrosion index is less than 2.0, the resin adhesion is poor and the etching in the lateral direction from the bottom of the photoresist is problematic. If the corrosion index is 2.0 or more, the upper limit is not particularly limited, and it is more preferable that the larger the corrosion index, the larger the etching rate in the thickness direction as compared with the etching in the lateral direction. For example, the upper limit of the corrosion index may be 4.0, 5.0, 6.0, or 7.0.
본 발명에 의해 얻어진 표면 개질된 Fe-Ni 합금 포일은 증착용 마스크로 사용할 수 있다. 상기 증착용 마스크로 사용함에 있어서는 소정 패턴의 관통홀을 갖는다. The surface-modified Fe-Ni alloy foil obtained by the present invention can be used as an evaporation mask. When used as the vapor deposition mask, the through hole has a predetermined pattern.
상기 관통홀은 상기 Fe-Ni 합금 포일 표면에 소정의 관통홀 패턴으로 포토레지스트를 도포하고, 습식 또는 건식법에 의해 에칭함으로써 상기 소정의 관통홀 패턴을 형성할 수 있다. 이후, 상기 포토레지스트를 제거하여 증착용 마스크를 제조할 수 있다. 본 발명에 의해 얻어진 증착용 마스크는 수지와의 밀착성이 우수하여 측면으로의 에칭이 적어 인접 관통홀과의 간섭 현상을 방지할 수 있어, 고 정밀도의 관통홀 패턴을 갖는 증착용 마스크를 얻을 수 있다.The through-hole can form the predetermined through-hole pattern by applying a photoresist to the surface of the Fe-Ni alloy foil in a predetermined through-hole pattern and etching it by a wet or dry method. Thereafter, the photoresist is removed to produce a mask for vapor deposition. The mask for vapor deposition obtained by the present invention is excellent in adhesion to a resin, so that it is possible to prevent interference with adjacent through holes due to a small amount of etching to the side face, and thus an evaporation mask having a high-precision through hole pattern can be obtained .
실시예Example
이하, 본 발명을 실시예를 들어 보다 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 구현예에 대한 것으로서, 이에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The following examples relate to a preferred embodiment of the present invention, but the present invention is not limited thereto.
실시예 1Example 1
전기주조에 의해 얻어진 Ni 함량이 40중량%인 30㎛ 두께의 Fe-Ni 합금 포일을 준비하였다. 상기 전주 Fe-Ni 합금 포일의 표면 조성을 분석하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다. 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 표면에 Ni 조성이 40중량%임을 알 수 있었다. A Fe-Ni alloy foil having a Ni content of 40% by weight obtained by electroforming and having a thickness of 30 탆 was prepared. The surface composition of the electrodeposited Fe-Ni alloy foil was analyzed and the results are shown in Table 1. As can be seen from Table 1, it was found that the Ni composition on the surface was 40% by weight.
나아가, Fe-Ni 합금 포일의 표면에 대하여 XPS O1s를 측정하고 그 결과를 도 1에 나타내었다(bare). 도 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 철 산화물층과 니켈 산화물층이 존재함을 확인하였다. 따라서, Fe-Ni 합금 포일은 표면에 Fe-Ni 합금 포일의 평균 조성과 동등한 조성 비율로 Fe2O3와 Ni2O3의 산화물이 존재함을 알 수 있었다. Further, XPS O1s was measured on the surface of the Fe-Ni alloy foil, and the results are shown in FIG. 1 (bare). As can be seen from Fig. 1, it was confirmed that the iron oxide layer and the nickel oxide layer existed. Therefore, it was found that the Fe-Ni alloy foil had Fe 2 O 3 and Ni 2 O 3 oxides on the surface thereof at a composition ratio equivalent to the average composition of the Fe-Ni alloy foil.
상기 Fe-Ni 합금 포일을 표 1에 나타낸 바와 같은 산을 포함하는 산 용액을 사용하여 5분 동안 표면 개질하였다(단, 발명예 1은 1분 동안 표면 개질하였다). The Fe-Ni alloy foil was surface-modified for 5 minutes using an acid solution containing an acid as shown in Table 1, except that Example 1 was surface-modified for 1 minute.
표면 개질된 Fe-Ni 합금 포일 표면의 니켈 조성을 측정하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다.The nickel composition of the surface-modified Fe-Ni alloy foil surface was measured, and the results are shown in Table 1.
나아가, 발명예 3의 산 용액을 사용하여 1분, 5분 및 10분 동안 산처리하고, 그에 의해 얻어진 Fe-Ni 합금 포일의 표면 산화물층을 XPS 01s 측정을 수행하고, 그 결과를 도 1에 나타내었다.Further, acid treatment was performed for 1 minute, 5 minutes, and 10 minutes using the acid solution of Inventive Example 3, and the surface oxide layer of the Fe-Ni alloy foil thus obtained was subjected to
도 1로부터 알 수 있는 바와 같이 비교예 1의 Fe-Ni 합금 포일은 표면 산화물층에 Ni 성분보다 Fe 성분이 많기 때문에 표면에 Fe2O3 피크가 높게 나타났다. 반면, 본 발명에 따른 산 용액에 의한 표면 처리된 Fe-Ni 합금 포일은 Fe2O3 피크에 비하여 Ni2O3 피크가 높아짐을 확인할 수 있으며, 상기 표면 처리 시간이 증가할수록 Ni2O3 피크가 더 크게 나타남을 확인할 수 있다. 이는 합금 포일 표면의 산 처리에 의해서 Fe2O3가 먼저 용해가 되고 Ni2O3는 상대적으로 적게 용해가 이루어진 결과이다.As can be seen from Fig. 1, the Fe-Ni alloy foil of Comparative Example 1 had a Fe 2 O 3 peak on the surface because the surface oxide layer contained more Fe component than Ni component. On the other hand, it can be seen that the Fe-Ni alloy foil surface-treated with the acid solution according to the present invention has a higher Ni 2 O 3 peak than the Fe 2 O 3 peak, and as the surface treatment time increases, the Ni 2 O 3 peak Of the total population. This is the result that the acid treatment of the alloy foil surface first dissolves Fe 2 O 3 and Ni 2 O 3 relatively less.
아래 표 1에 나타낸 바와 같이, 각종의 산 용액에 의해 산처리된 Fe-Ni 합금 포일 표면에 대하여 소정 관통홀 패턴으로 포토레지스트를 도포하였다. 상기 Fe-Ni 합금 포일에 대한 포토레지스트의 밀착성을 에칭 공정 중에 테스트하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다. As shown in Table 1 below, the photoresist was applied to the surface of the Fe-Ni alloy foil subjected to the acid treatment with various acid solutions in a predetermined through-hole pattern. The adhesion of the photoresist to the Fe-Ni alloy foil was tested during the etching process, and the results are shown in Table 1.
상기 수지 밀착성은 에칭 공정이 완료될 때까지 합금 포일에 정상적으로 부착되어 있는지 또는 탈락하는지 여부로 평가하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다. 평가 기준은 다음과 같다.The resin adhesion was evaluated by whether or not the alloy foil was normally adhered to or removed from the alloy foil until the etching process was completed, and the results are shown in Table 1. The evaluation criteria are as follows.
◎: 패턴영역과 미패턴 영역 모두 부착◎: Attachment of both pattern area and non-pattern area
○: 패턴영역은 문제 없으나, 미패턴 영역에서 탈락○: There is no problem in the pattern area, but the pattern area is eliminated
△: 패턴영역에서 탈락 발생DELTA: Drop out from the pattern area
상기 소정 관통홀 패턴으로 포토레지스트가 도포된 Fe-Ni 합금 포일에 대하여 에칭액(FeCl3, 염화 제Ⅱ철 용액)으로 분무 에칭(Spray etching)하여 Fe-Ni 합금 포일에 포일 두께의 2/3 수준까지 관통홀을 형성하였다. 상기 에칭 후에 포토레지스트를 제거한 후, 부식지수를 측정하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다. The Fe-Ni alloy foil coated with the photoresist with the predetermined through-hole pattern is spray-etched with an etchant (FeCl 3 , ferric chloride solution) to form a Fe-Ni alloy foil having a thickness of 2/3 Through holes were formed. After the etching, the photoresist was removed, and the corrosion index was measured. The results are shown in Table 1.
부식지수는 에칭 후 포토레지스트의 개구부 크기를 측정하고, 포토레지스트를 제거한 후 포일의 에칭부의 개구부를 측정하여 단일부 크기(포토레지스트 하부에서 측면방향으로 에칭이 진행된 크기)를 얻은 후 에칭 깊이와의 비를 계산하여 기재하였다.The corrosion index is obtained by measuring the size of the opening of the photoresist after etching, measuring the opening of the etching portion of the foil after removing the photoresist, obtaining a partial size (size in which the etching progresses laterally in the lower portion of the photoresist) The ratio was calculated and described.
상기 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따라 Fe-Ni 합금 포일 표면을 에칭함으로써 표면의 Ni 조성을 높일 수 있으며, 이에 따라 수지 밀착성이 향상됨을 알 수 있다. 이와 같은 결과에 의해 에칭에 대한 부식지수를 향상시킬 수 있다. As can be seen from the above Table 1, it can be seen that the Ni composition of the surface can be increased by etching the surface of the Fe-Ni alloy foil according to the present invention, thereby improving the resin adhesion. As a result, the corrosion index for etching can be improved.
그러나, 산처리를 수행하지 않은 경우에는 표면 Ni 조성이 낮기 때문에 상대적으로 수지 밀착성이 낮고, 부식지수가 낮아서 메탈 마스크를 제작하는 공정에 직접 사용하기에 어려움이 있다.However, in the case where the acid treatment is not carried out, since the surface Ni composition is low, the resin adhesion is relatively low and the corrosion index is low, so that it is difficult to directly use it in the process of manufacturing a metal mask.
Claims (16)
상기 포토레지스가 형성된 합금 포일을 습식 또는 건식 에칭하여 소정 패턴의 관통 홀을 형성하는 단계; 및
상기 포토레지스트를 제거하는 단계
를 포함하는 증착용 마스크 제조방법.Forming a predetermined pattern of photoresist on the surface of the alloy foil of any one of claims 1 to 4;
Wet or dry etching the alloy foil on which the photoresist is formed to form through holes of a predetermined pattern; And
Removing the photoresist
≪ / RTI >
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