KR20190067411A - Thermosetting resin composition - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a thermosetting resin composition which comprises a copolymer comprising a carboxyl group or an epoxy group together with an oxazoline group-containing resin as a crosslinking agent to satisfy properties required conventionally as a protective film, and at the same time, to effectively improve a crosslink density, thereby having excellent mechanical properties and heat resistance, and being able to provide a yellowing-free cured film at a high temperature.

Description

열경화성 수지 조성물{Thermosetting resin composition}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thermosetting resin composition,

본 발명은 열경화성 수지 분야의 기술로, 구체적으로는 광디바이스(device)용 보호막을 형성하기 위한 재료로 사용되며, 기계적 물성 및 내열성이 우수한 열경화성 수지 조성물 및 상기 조성물로 제조된 경화막에 관한 것이다.The present invention relates to a thermosetting resin composition, specifically a thermosetting resin composition which is used as a material for forming a protective film for an optical device and which has excellent mechanical properties and heat resistance, and a cured film made of the composition.

액정 표시 소자와 같은 광디바이스(device)는 제조공정 중에 유기용제, 산, 알칼리 용액 등에 침지 처리되거나, 배선 전극층을 제막할 경우 스퍼터링에 의해 표면에 국부적인 고온 가열 등의 가혹한 처리를 받게 된다. 따라서 이들 소자에는 제조시의 변질을 막기 위해 그 표면에 보호막(Overcoat)이 설치되는 경우가 있다.When an optical device such as a liquid crystal display device is immersed in an organic solvent, an acid, an alkali solution or the like during the manufacturing process, or when a wiring electrode layer is formed, the surface is subjected to severe treatment such as local heating at a high temperature by sputtering. Therefore, in these devices, a protective film (Overcoat) may be provided on the surface thereof in order to prevent deterioration at the time of manufacturing.

보호막은 상기와 같은 처리에 견디는 동시에 기판 또는 하층과의 밀착성이 뛰어나고, 평활도, 표면경도가 높고, 투명성이 뛰어나고, 장기에 걸쳐 착색, 황변, 백화 등의 변질이 없도록 내열성 및 내광성이 뛰어나고, 내용제성, 내산성, 내알칼리성 등의 내약품성이나 내수성 등이 뛰어난 것이 요구된다. 또한, 이와 같은 보호막을 컬러 액정 표시 소자의 컬러 필터에 적용할 경우에는, 바탕기판으로 일반적인 컬러 필터의 단차를 평탄화할 수 있는 것이 바람직하다.The protective film is excellent in heat resistance and light fastness so that it can withstand the above-described treatments and is excellent in adhesion with the substrate or the under layer, has a high smoothness and surface hardness, is excellent in transparency and does not deteriorate over a long period of time such as coloration, yellowing, whitening, , Acid resistance, alkali resistance, and other chemical resistance and water resistance. Further, when such a protective film is applied to a color filter of a color liquid crystal display device, it is preferable that a step of an ordinary color filter can be flattened as a base substrate.

상기 보호막은 경화성 수지 조성물의 경화막으로 구성되는데, 여기서 경화성 수지 조성물은 크게는 열경화성과 광경화성(감광성)으로 나뉠 수 있다. 보호막의 패턴 형성이 필요할 경우에는 감광성 수지 조성물이 요구되지만, 그렇지 않을 경우에는 열경화성 수지 조성물이 사용된다. 이는 열경화성 수지 조성물이 감광성 수지 조성물에 비하여 공정상 편리하고, 가교 밀도를 높일 수 있어 기계적 물성 및 내열성이 우수하기 때문이다.The protective film is composed of a cured film of a curable resin composition, wherein the curable resin composition can be largely divided into a thermosetting property and a light curable property (photosensitive property). When a protective film pattern is required, a photosensitive resin composition is required. Otherwise, a thermosetting resin composition is used. This is because the thermosetting resin composition is convenient in the process in comparison with the photosensitive resin composition, can increase the crosslinking density, and is excellent in mechanical properties and heat resistance.

이러한 열경화성 수지 조성물로 제조되는 보호막과 관련된 기술들의 일예로는 일본특허공개 제2000-103937호, 제2000-119472호, 제2000-143772호에 기재된 기술들을 들 수 있다. Examples of technologies related to a protective film made of such a thermosetting resin composition include the techniques described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2000-103937, 2000-119472, and 2000-143772.

보호막 형성에 사용되는 열경화성 수지 조성물의 일예로는 카르복실기나 에폭시기를 함유하는 아크릴 수지, 가교제의 역할을 하는 에틸렌성 불포화기를 함유하는 다관능성 모노머 및 열중합개시제를 포함하는 조성물이 주로 사용되고 있으며, 이의 일예로는 대한민국공개특허공보상 공개번호 제10-2001-0085203호, 및 대한민국특허 등록번호 제10-1062250호에 기재된 기술들을 들 수 있다.As an example of the thermosetting resin composition used for forming the protective film, a composition comprising an acrylic resin containing a carboxyl group or an epoxy group, a polyfunctional monomer containing an ethylenically unsaturated group serving as a crosslinking agent, and a thermal polymerization initiator is mainly used. Include the techniques described in Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2001-0085203 and Korean Patent Registration No. 10-1062250.

그러나 이러한 조성을 갖는 종래의 열경화성 수지 조성물은 기계적 물성이 우수하지 못하고, 특히 고온에서 내열성이 좋지 않아서 황변 현상을 나타내는 경우가 많았다. 이러한 현상을 방지하기 위한 일환으로 에틸렌성 불포화기를 함유하는 다관능성 모노머를 과다하게 사용할 수 있으나, 이러한 과다 사용은 고온에서의 황변 현상을 심화시키는 문제가 있다.However, conventional thermosetting resin compositions having such a composition are not excellent in mechanical properties, and in many cases, exhibit yellowing due to poor heat resistance at high temperatures. In order to prevent such a phenomenon, a polyfunctional monomer containing an ethylenic unsaturated group may be used in excess, but such an excessive use has a problem of exacerbating yellowing at a high temperature.

본 발명의 목적은 상술한 바와 같은 종래기술의 문제점을 고려한 것으로서 종래로부터 요구되는 특성들을 만족시키는 동시에, 가교밀도를 효과적으로 향상시켜 기계적 물성 및 내열성이 우수하고, 광 디바이스용 보호막 형성 재료로 매우 적합하며, 고온에서의 황변 현상이 없는 열경화성 수지 조성물을 제공하는 것이다. DISCLOSURE OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the problems of the prior art as described above and to provide a resin composition which satisfies the characteristics required in the prior art and effectively improves the crosslinking density and is excellent in mechanical properties and heat resistance, , And to provide a thermosetting resin composition free from yellowing at a high temperature.

본 발명의 상술한 첫번째 기술적 과제를 해결하기 위하여 제공되는 열경화성 수지 조성물은 (a1) 불포화 카르복시산 또는 불포화 카르복시산 무수물, (a2) 에폭시기 함유 불포화 화합물, (a3) 상기 (a1) 또는 (a2) 이외의 올레핀계 불포화 화합물의 공중합체[A]; 및 옥사졸린기 함유 수지[B]를 포함하는 열경화성 수지 조성물일 수 있다.(A2) an epoxy group-containing unsaturated compound, (a3) an olefin other than the above-mentioned (a1) or (a2), an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride, Copolymer [A] of the unsaturated compound; And an oxazoline group-containing resin [B].

이와 같은 옥사졸린기 함유 수지는 하기 [화학식 1]로 표시되는 화합물이다.Such an oxazoline group-containing resin is a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에서, n은 1~100의 정수, m은 0~100의 정수, l은 0~100의 정수에서 선택되며, 상기 X는 탄소수 1 내지 6개의 선형 또는 환형의 알킬기, 탄소수 2 내지 6개의 선형 또는 환형의 알킬렌기, 탄소수 6 내지 20개의 아릴기, 탄소수 7 내지 20개의 아릴렌기 중에서 선택된다.In Formula 1, n is an integer of 1 to 100, m is an integer of 0 to 100, 1 is an integer of 0 to 100, X is a linear or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms A linear or cyclic alkylene group having 6 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an arylene group having 7 to 20 carbon atoms.

본 발명의 또 다른 실시예에 의하면, 상기 열경화성 수지 조성물은 상기 공중합체[A] 100중량부에 대하여 에틸렌성 불포화결합을 갖는 중합성 화합물 150중량부 이하로 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the thermosetting resin composition may include up to 150 parts by weight of a polymerizable compound having an ethylenic unsaturated bond per 100 parts by weight of the copolymer [A].

본 발명의 또 다른 실시예에 의하면, 상기 열경화성 수지 조성물은 상기 공중합체[A] 100중량부에 대하여 열 래디칼 중합개시제를 20중량부 이하로 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the thermosetting resin composition may contain 20 parts by weight or less of a thermal radical polymerization initiator per 100 parts by weight of the copolymer [A].

또한, 본 발명은 상기 열경화성 수지 조성물로 제조된 경화막을 포함할 수 있다.In addition, the present invention may include a cured film made of the thermosetting resin composition.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른면, 상기 경화막은 광디바이스(device)의 컬러필터 보호막일 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the cured film may be a color filter protective film of an optical device.

본 발명에 따른 열경화성 수지 조성물은 카르복실기나 에폭시기를 함유하고 있는 공중합체와 함께 가교제의 역할을 하는 옥사졸린기 함유 수지를 포함함으로써 상기 열경화성 수지 조성물 이용하여 제조된 경화막은 보호막으로 종래로부터 요구된 특성들을 만족시키는 동시에, 가교밀도를 효과적으로 향상시켜 기계적 물성 및 내열성이 우수하고, 고온에서의 황변이 없는 광디바이스(device)용 경화막을 제공하는 것이다. The thermosetting resin composition according to the present invention contains a carboxyl group or a copolymer containing an epoxy group together with an oxazoline group-containing resin serving as a crosslinking agent, so that the cured film produced by using the thermosetting resin composition has characteristics And at the same time, it is possible to effectively improve the crosslinking density and to provide a cured film for an optical device which is excellent in mechanical properties and heat resistance and has no yellowing at high temperature.

이하, 본 발명에 따른 열경화성 수지 조성물 및 이를 이용한 광디바이스(device)용 경화막에 대하여 자세하게 설명하도록 한다. 그러나 하기 설명들은 본 발명에 대한 예시적인 기재일 뿐, 하기 설명에 의하여 뿐, 하기 설명에 의하여 본 발명의 기술사상이 국한되는 것은 아니며, 본 발명에 속하는 기술분야의 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Hereinafter, the thermosetting resin composition according to the present invention and the cured film for an optical device using the same will be described in detail. It will be apparent to those skilled in the art from this disclosure that the following description is only illustrative of the present invention and is not intended to limit the scope of the present invention. It will be understood that various modifications and equivalent embodiments are possible. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

본 발명의 일 구현예에 따르면, [A] (a1) 불포화 카르복시산 또는 불포화 카르복시산 무수물(이하 화합물 (a1)이라 함), (a2) 에폭시기 함유 불포화 화합물(이하 화합물 (a2)라 함), (a3) 상기 (a1) 또는 (a2) 이외의 올레핀계 불포화 화합물(이하 화합물 (a3)라 함)의 공중합체 및; [B] 옥사졸린기 함유 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물을 제공하는 것이다. (A2) an epoxy group-containing unsaturated compound (hereinafter referred to as a compound (a2)), (a3) an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride ) A copolymer of an olefinically unsaturated compound other than the above (a1) or (a2) (hereinafter referred to as a compound (a3)); [B] The oxazoline group-containing resin And a thermosetting resin composition containing the thermosetting resin composition.

먼저, 공중합체 [A]는 공지되어 있는 중합 방법에 의해서 얻어지는데, 즉 화합물 (a1), 화합물 (a2), 및 화합물 (a3)를 용매 중에서 중합개시제의 존재 하에 래디칼 중합하여 합성할 수 있다.First, the copolymer [A] is obtained by a known polymerization method, that is, the compound (a1), the compound (a2) and the compound (a3) can be synthesized by radical polymerization in a solvent in the presence of a polymerization initiator.

상기 공중합체 [A]는 화합물 (a1)을 5 내지 40중량%, 바람직하게는 10 내지 30중량%로 함유할 수 있는데, 이러한 점은 얻어지는 경화막의 내열성, 내약품성, 표면경도 및 공중합체의 보존안정성을 고려하여 결정될 수 있다.The copolymer [A] may contain 5 to 40% by weight, preferably 10 to 30% by weight, of the compound (a1). This is because the heat resistance, chemical resistance, surface hardness, Can be determined in consideration of stability.

상기 화합물 (a1)으로는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산 등의 모노카르복시산; 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복시산 또는 이들 디카르복시산의 무수물을 들 수 있다. 이 중, 아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산 등이 공중합 반응성, 내열성 및 입수가 용이한 점에서 바람직하게 사용된다. 이러한 화합물들 중에서 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the compound (a1) include monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid; Dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid and itaconic acid, and anhydrides of these dicarboxylic acids. Of these, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and the like are preferably used because they are excellent in copolymerization reactivity, heat resistance and availability. These compounds may be used alone or in combination.

또한, 공중합체 [A]는 화합물 (a2)를 10 내지 70중량%, 바람직하게는 20 내지 60중량%로 함유할 수 있는데, 이는 얻어지는 경화막의 내열성, 표면경도를 고려하거나 공중합체의 보존안정성을 고려하여 결정될 수 있다.The copolymer [A] may contain 10 to 70% by weight, preferably 20 to 60% by weight, of the compound (a2), considering the heat resistance and surface hardness of the resulting cured film or the storage stability of the copolymer . ≪ / RTI >

상기 화합물 (a2)로는, 예를 들면 아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, α에틸 아크릴산 글리시딜, αn프로필 아크릴산 글리시딜, αn부틸 아크릴산 글리시딜, 아크릴산3,4에폭시 부틸, 메타크릴산3,4에폭시 부틸, 아크릴산6,7에폭시 헵틸, 메타크릴산6,7에폭시 헵틸, α에틸 아크릴산6,7에폭시 헵틸, o비닐 벤질 글리시딜 에테르, m비닐 벤질 글리시딜 에테르, p비닐 벤질 글리시딜 에테르 등이 공중합 반응성 및 얻어지는 보호막의 내열성, 경도를 높인다는 점에서 바람직하게 사용될 수 있다. 이러한 화합물 중에서 선택하여 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the compound (a2) include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl α-ethyl acrylate, glycidyl α-propyl acrylate, glycidyl α-n-butyl acrylate, Epoxy heptyl methacrylate, 6,7 epoxy heptyl methacrylate, 6,7 epoxy heptyl ethyl acrylate, o vinyl benzyl glycidyl ether, m vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether and the like can be preferably used in view of improving the copolymerization reactivity and the heat resistance and hardness of the resulting protective film. These compounds may be used alone or in combination.

상기 공중합체 [A]는 화합물 (a3)를 10 내지 70중량%, 바람직하게는 20 내지 50중량%로 함유할 수 있는데, 이는 공중합체의 보존안정성과 경화막이 내열성 및 표면경도를 고려하여 결정될 수 있다. The copolymer [A] may contain 10 to 70% by weight, preferably 20 to 50% by weight, of the compound (a3), because the storage stability of the copolymer and the cured film can be determined in consideration of heat resistance and surface hardness have.

상기 화합물 (a3)로는, 예를 들면 메틸 메타크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, n부틸 메타크릴레이트, sec부틸 메타크릴레이트, t부틸 메타크릴레이트 등의 메타크릴산 알킬 에스테르; 메틸 아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트 등의 아크릴산 알킬 에스테르; 시클로헥실 메타크릴레이트, 2메틸 시클로헥실 메타크릴레이트, 디시클로펜테닐 메타크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸 메타크릴레이트, 이소보로닐 메타크릴레이트 등의 메타크릴산 시클로알킬 에스테르; 시클로헥실 아크릴레이트, 2메틸 시클로헥실 아크릴레이트, 디시클로펜테닐 아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸 아크릴레이트, 이소보로닐 아크릴레이트 등의 아크릴산 시클로알킬 에스테르; 페틸 메타크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트 등의 메타크릴산 아릴 에스테르; 페닐 아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트 등의 아크릴산 아릴 에스테르; 말레산 디에틸, 푸마르산 디에틸, 이타콘산 디에틸 등의 디카르복시산 디에스테르; 2히드록시 에틸 메타크릴레이트, 2히드록시 프로필 메타크릴레이트 등의 히드록시알킬 에스테르; 및 스티렌, o메틸 스티렌, m메틸 스티렌, p메틸 스티렌, 비닐 톨루엔, p메톡시 스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화 비닐, 염화 비닐리덴, 아크릴 아미드, 메타크릴 아미드, 초산 비닐, 1,3부타디엔, 이소프렌, 2,3디메틸1,3부타디엔 등을 들 수 있다. 이 중 스티렌, t부틸 메타크릴레이트, 디시클로펜테닐 메타크릴레이트, p메톡시 스티렌, 2메틸 시클로헥실 아크릴레이트, 1,3부타디엔 등이 공중합 반응성 및 내열성 측면에서 바람직할 수 있다. 이러한 화합물 중에서 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the compound (a3) include methacrylic acid alkyl esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, sec butyl methacrylate and t-butyl methacrylate; Alkyl acrylate esters such as methyl acrylate and isopropyl acrylate; Methacrylic acid cycloalkyl esters such as cyclohexyl methacrylate, 2-methylcyclohexyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate and isobornyl methacrylate; Acrylic acid cycloalkyl esters such as cyclohexyl acrylate, 2-methylcyclohexyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate and isobornyl acrylate; Methacrylic acid aryl esters such as methyl methacrylate, butyl methacrylate and benzyl methacrylate; Acrylic acid aryl esters such as phenyl acrylate and benzyl acrylate; Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate and diethyl itaconate; 2 hydroxyalkyl esters such as hydroxyethyl methacrylate and 2 hydroxypropyl methacrylate; And styrene, o methylstyrene, m methylstyrene, p methylstyrene, vinyltoluene, p methoxystyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, vinyl acetate, , 3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl 1,3-butadiene and the like. Of these, styrene, t-butyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, p-methoxystyrene, 2-methylcyclohexyl acrylate, and 1,3-butadiene may be preferable from the viewpoint of copolymerization reactivity and heat resistance. These compounds may be used alone or in combination.

이와 같은 공중합체 [A]는 카르복실기, 카르복시산 무수물기 또는 에폭시기를 갖고 있으며, 특별한 경화제를 병용하지 않더라도 가열에 의하여 용이하게 경화시키는 것이 가능하다.Such a copolymer [A] has a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group or an epoxy group, and can be easily cured by heating even if a special curing agent is not used in combination.

상기 공중합체 [A]의 합성에 사용할 수 있는 용매의 일예로는 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 테트라하이드로퓨란, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 에테르류; 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 프로펠렌 글리콜 프로필 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬 에테르 아세테이트류 등을 들 수 있다.Examples of the solvent usable for the synthesis of the copolymer [A] include alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; And propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate and propylene glycol butyl ether acetate.

상기 공중합체 [A]의 합성에 사용할 수 있는 중합개시제로는, 일반적으로 래디칼 중합개시제로서 알려져 있는 것을 사용할 수 있다. 예를 들면 2,2'아조비스 이소부티로니트릴, 2,2'아조비스(2,4디메틸발레로니트릴), 2,2'아조비스(4메톡시2,4디메틸발레로니트릴) 등의 아조 화합물; 벤조일 퍼옥시드, t부틸 퍼옥시 피바레이트, 1,1'비스(t부틸 퍼옥시) 시클로 헥산 등의 유기 과산화물; 및 과산화수소를 들 수 있다. 래디칼 중합 개시제로서 과산화물을 이용한 경우에는 과산화물을 환원제와 함께 이용하여 레독스(Redox) 개시제로 사용해도 좋다.As the polymerization initiator that can be used in the synthesis of the copolymer [A], those generally known as radical polymerization initiators can be used. Azo compounds such as 2,2 'azobisisobutyronitrile, 2,2' azobis (2,4 dimethylvaleronitrile) and 2,2 'azobis (4 methoxy 2,4 dimethylvaleronitrile) Azo compounds; Organic peroxides such as benzoyl peroxide, t-butyl peroxypivalate, 1,1 'bis (t-butylperoxy) cyclohexane; And hydrogen peroxide. When a peroxide is used as the radical polymerization initiator, the peroxide may be used as a redox initiator together with a reducing agent.

본 발명의 열경화성 수지 조성물에는 공중합체 [A]와 함께 옥사졸린기 함유 수지 [B]를 포함하는 바, 옥사졸린기 함유 수지 [B]는 공중합체 [A]에 대하여 경화제로서 작용할 수 있다. The thermosetting resin composition of the present invention contains an oxazoline group-containing resin [B] together with the copolymer [A], and the oxazoline group-containing resin [B] can act as a curing agent for the copolymer [A].

상기 옥사졸린기 함유 수지는 반응성이 우수하고 이로부터 얻은 경화막은 보다 높은 경화밀도를 확보할 수 있으며, 결과적으로 경화막의 내열성, 내UV성, 내화학성의 저하를 막을 수 있다.The oxazoline group-containing resin is excellent in reactivity, and the cured film obtained from the oxazoline group-containing resin can secure a higher curing density, and as a result, deterioration of the heat resistance, UV resistance, and chemical resistance of the cured film can be prevented.

이와 같은 옥사졸린기 함유 수지는 하기 [화학식 1]로 표시되는 화합물이다.Such an oxazoline group-containing resin is a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 1에서, n은 1~100의 정수, m은 0~100의 정수, l은 0~100의 정수에서 선택되며, 상기 X는 탄소수 1 내지 6개의 선형 또는 환형의 알킬기, 탄소수 2 내지 6개의 선형 또는 환형의 알킬렌기, 탄소수 6 내지 20개의 아릴기, 탄소수 7 내지 20개의 아릴렌기 중에서 선택된다.In Formula 1, n is an integer of 1 to 100, m is an integer of 0 to 100, 1 is an integer of 0 to 100, X is a linear or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms A linear or cyclic alkylene group having 6 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an arylene group having 7 to 20 carbon atoms.

상기 옥사졸린기 함유 수지[B]의 함량은 공중합체 [A] 100 중량부에 대하여 0.1 내지 50중량부, 바람직하게는 0.1 내지 40중량부인 것이 가교밀도가 높은 경화막을 형성하거나, 경화막의 각종 내성을 충족시키는 측면 및 경화막 내부에 옥사졸린기 함유 수지[B]의 잔존을 방지하여, 경화막의 성질이 불안정해지거나 밀착성이 저하되는 문제를 방지하는 측면에서 유리할 수 있다.The content of the oxazoline group-containing resin [B] is 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.1 to 40 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the copolymer [A], to form a cured film having a high crosslinking density, Of the oxazoline group-containing resin [B] is prevented from remaining in the cured film and the oxazoline group-containing resin [B] is prevented from remaining in the cured film, thereby preventing the problem of unstable property of the cured film or deterioration of adhesion.

상기 옥사졸린기 함유 수지의 예로는 일본촉매의 EPOCROS K-2010E, K-2020E, K-2030E, RPS-1005 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Examples of the oxazoline group-containing resin include, but are not limited to, EPOCROS K-2010E, K-2020E, K-2030E and RPS-1005.

한편, 본 발명의 다른 일 구현예에서는 공중합체 [A] 및 옥사졸린기 함유 수지 [B] 이외에, [C] 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물 (이하 중합성 화합물 [C]라 함), [D] 열 래디칼 중합개시제(이하 열 래디칼 중합개시제 [D]라 함)를 함유하고 있어도 좋다.In another embodiment of the present invention, in addition to the copolymer [A] and the oxazoline group-containing resin [B], a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond [hereinafter referred to as "polymerizable compound [C] [D] thermal radical polymerization initiator (hereinafter referred to as thermal radical polymerization initiator [D]).

상기 중합성 화합물 [C]로는 단관능, 2관능, 또는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트가 중합성이 양호하고, 얻어지는 경화막의 내열성, 표면경도가 향상되는 측면에서 바람직할 수 있다. As the polymerizable compound [C], a monofunctional, bifunctional, or trifunctional or more functional (meth) acrylate may be preferable from the viewpoints of good polymerizability and improved heat resistance and surface hardness of the resulting cured film.

상기 단관능 (메타)아크릴레이트로는, 예를 들면, 2히드록시 에틸 (메타)아크릴레이트, 카비톨 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 3메톡시 부틸 (메타)아크릴레이트, 2(메타)아크릴로일 옥시 에틸 2히드록시 프로필 프탈레이트 등을 들 수 있다.Examples of the monofunctional (meth) acrylate include 2 hydroxyethyl (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, 3 methoxybutyl , 2 (meth) acryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, and the like.

상기 2관능 (메타)아크릴레이트로는, 예를 들면, 1,6헥산디올 (메타)아크릴레이트, 1,9노난디올 (메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 비스페녹시 에틸알콜 플루오렌 디아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the bifunctional (meth) acrylate include 1,6 hexanediol (meth) acrylate, 1,9 nonanediol (meth) acrylate, propylene glycol (meth) acrylate, tetraethylene glycol ) Acrylate, bisphenoxy ethyl alcohol fluorene diacrylate, and the like.

상기 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트로는, 예를 들면 에텔렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the trifunctional or more (meth) acrylate include (meth) acrylic acid esters such as ethylene glycol (meth) acrylate, trishydroxy ethylisocyanurate tri (meth) acrylate, trimethylpropane tri Tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like.

이러한 단관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트 중에서 선택하여 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. These monofunctional, bifunctional or trifunctional (meth) acrylates may be used alone or in combination.

열경화성 수지 조성물 중에 중합성 화합물 [C]를 포함하는 경우 그 함량은 공중합체 [A] 100 중량부에 대하여 150중량부 이하, 바람직하게는 120중량부 이하, 보다 바람직하게는 0.1 내지 100중량부인 것이 경화막의 밀착성 측면에서 유리할 수 있다. When the polymerizable compound [C] is contained in the thermosetting resin composition, the content thereof is not more than 150 parts by weight, preferably not more than 120 parts by weight, more preferably 0.1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer [A] It may be advantageous from the viewpoint of the adhesion of the cured film.

상기 열 래디칼 중합개시제 [D]의 일예로는 2,2'아조비스 이소부티로니트릴, 2,2'아조비스(2,4디메틸발레로니트릴), 2,2'아조비스(4메톡시2,4디메틸발레로니트릴), 1,1'아조비스1시클로헥실니트릴 등의 아조 화합물; 벤조일 퍼옥시드, t부틸 퍼옥시드, 1,1'비스(t부틸 퍼옥시) 시클로 헥산 등의 유기 과산화물 등을 들 수 있다.Examples of the thermal radical polymerization initiator [D] include 2,2 'azobisisobutyronitrile, 2,2' azobis (2,4 dimethylvaleronitrile), 2,2 'azobis (4 methoxy 2 , 4-dimethylvaleronitrile), and 1,1 'azobis 1 cyclohexyl nitrile; Organic peroxides such as benzoyl peroxide, t-butyl peroxide, and 1,1 'bis (t-butylperoxy) cyclohexane.

상기 열 래디칼 중합개시제 [D]의 함량은 공중합체 [A] 100 중량부에 대하여 20중량부 이하, 바람직하게는 15중량부 이하, 보다 바람직하게는 0.1 내지 12중량부인 것이 경화막의 내열성 및 평탄화성 측면에서 유리할 수 있다.The content of the thermal radical polymerization initiator [D] is 20 parts by weight or less, preferably 15 parts by weight or less, more preferably 0.1 to 12 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer [A] It can be advantageous from the side.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 상기의 공중합체 [A] 및 옥사졸린기 함유 수지 [B], 필요에 따라 중합성 화합물 [C] 및 열 래디칼 중합개시제 [D] 각 성분을 균일하게 혼합하여 제조할 수 있다. 보통, 본 발명의 열경화성 수지 조성물은 적당한 용매에 용해되어 용액 상태로 사용된다. 즉, 공중합체 [A], 옥사졸린기 함유 수지 [B], 중합성 화합물 [C], 열 래디칼 중합개시제 [D] 및 그 밖의 첨가제를 소정의 비율로 혼합하여 용액 상태로 열경화성 수지 조성물을 조제하게 된다. 본 발명의 조성물은 공중합체 [A]와 옥사졸린기 함유 수지 [B]는 반드시 포함하고 있어야 한다.The thermosetting resin composition of the present invention is prepared by homogeneously mixing the components [A] and oxazoline group-containing resin [B], and if necessary, the respective components of the polymerizable compound [C] and the thermal radical polymerization initiator [D] . Usually, the thermosetting resin composition of the present invention is dissolved in a suitable solvent and used in a solution state. That is, the thermosetting resin composition is prepared in a solution state by mixing the copolymer [A], the oxazoline group-containing resin [B], the polymerizable compound [C], the thermal radical polymerization initiator [D] . The composition of the present invention must contain the copolymer [A] and the oxazoline group-containing resin [B].

본 발명의 열경화성 수지 조성물의 조제에 사용된 용매로는 공중합체 [A], 옥사졸린기 함유 수지 [B], 중합성 화합물 [C], 열 래디칼 중합개시제 [D]의 각 성분을 균일하게 용해할 수 있으며, 어느 한 성분과도 반응하지 않는 것이면 무방하다. 구체적으로 예를 들면, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 테트라하이드로퓨란, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 에테르류; 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 프로펠렌 글리콜 프로필 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬 에테르 아세테이트류 등을 들 수 있다. As the solvent used for preparing the thermosetting resin composition of the present invention, the respective components of the copolymer [A], the oxazoline group-containing resin [B], the polymerizable compound [C] and the thermal radical polymerization initiator [D] And it is acceptable if it does not react with any one component. Specifically, for example, alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; And propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate and propylene glycol butyl ether acetate.

이러한 용매 가운데에서 용해성, 각 성분과의 반응성 및 도막 형성의 편리성의 측면에서 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 프로펠렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트가 바람직할 수 있다.Of these solvents, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and propylene glycol methyl ether acetate may be preferable in terms of solubility, reactivity with each component, and convenience of forming a coating film.

또한, 상기 용매와 함께 고비등점 용매를 병용한 것도 가능하다. 병용할 수 있는 고비등점 용매로서는, 예를 들면 N메틸 포름아미드, N,N디메틸 포름아미드, N메틸 아세트아미드, N,N디메틸 아세트아미드, N메틸 피롤리돈, 디메틸 설폭시드, 벤질 에틸 에테르 등을 들 수 있다.It is also possible to use a high boiling point solvent together with the above-mentioned solvent. Examples of the high boiling point solvent which can be used in combination include N, N, N dimethylformamide, Nmethylacetamide, N, N dimethylacetamide, Nmethylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, benzylethylether .

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위에서 필요에 의해 상기 이외의 다른 성분을 함유하고 있어도 좋다. 여기에서 다른 성분으로는 도포성을 향상하기 위한 계면활성제를 들 수 있다. The thermosetting resin composition of the present invention may contain other components than those described above as needed within the range not impairing the object of the present invention. The other component may be a surfactant for improving the coatability.

상기 계면활성제로는 불소 및 실리콘계 계면활성제를 들 수 있는데, 예를 들면 3M사의 FC129, FC170C, FC430, 신에츠실리콘사의 KP322, KP323, KP340, KP341 등을 들 수 있다. Examples of the surfactant include fluorine and silicon surfactants such as FC129, FC170C and FC430 of 3M, KP322, KP323, KP340 and KP341 of Shinetsu Silicones.

이러한 계면활성제는 공중합체 [A] 100 중량부에 대하여 5 중량부 이하, 바람직하게는 2중량부 이하, 보다 바람직하게는 0.1 내지 1.5중량부의 양으로 사용하는 것이 열경화성 수지 조성물 도포시에 거품 발생을 방지하는 측면에서 유리할 수 있다. Such a surfactant is preferably used in an amount of 5 parts by weight or less, preferably 2 parts by weight or less, more preferably 0.1 to 1.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer [A]. This is because when the thermosetting resin composition is applied, It may be advantageous in terms of prevention.

상기와 같이 조제된 조성물 용액은 구멍지름 0.1~5 ㎛ 정도의 필터 등을 이용하여 여과한 후 사용할 수 있다.The composition solution prepared as described above can be used after filtration using a filter having a pore size of about 0.1 to 5 탆.

본 발명의 열경화성 수지 조성물을 바탕기판에 도포하고, 오븐에서 150~300℃로 10~100분간 처리한 것에 의하여 목적으로 하는 보호막을 얻을 수 있다.The target protective film can be obtained by applying the thermosetting resin composition of the present invention to a base substrate and treating the film in an oven at 150 to 300 DEG C for 10 to 100 minutes.

이하 본 발명을 실시예를 참조로 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명의 범주가 이들 예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to these Examples.

<제조예><Production Example>

냉각관과 교반기가 구비된 반응 용기에 공중합체의 합성에 사용되는 단량체(화합물 (al), 화합물 (a2), 화합물 (a3)) 총 함량 100중량부에 대하여, 중합개시제로서 2,2'아조비스 이소부티로니트릴 5중량부를 용매로서 디에틸렌글리콜디메틸에테르 200중량부에 녹였다. The reaction vessel equipped with a cooling tube and a stirrer was charged with 100 parts by weight of monomers (compound (al), compound (a2), and compound (a3)) used in the synthesis of the copolymer, And 5 parts by weight of bisisobutyronitrile as a solvent were dissolved in 200 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether.

계속해서 스티렌 20중량%, 메타크릴산 30중량%, 메타크릴산 글리시딜 40중량% 및 디시클로펜테닐옥시에틸 메타크릴레이트 10중량%를 투입하고, 질소 치환한 후 부드럽게 교반을 시작하여, 교반속도 80rpm을 유지하였다.Subsequently, 20 wt% of styrene, 30 wt% of methacrylic acid, 40 wt% of glycidyl methacrylate, and 10 wt% of dicyclopentenyloxyethyl methacrylate were charged, and after purging with nitrogen, And a stirring speed of 80 rpm was maintained.

용액의 온도를 80℃로 상승시키고 이 온도를 4시간 동안 유지하여 공중합체 [A1]을 포함한 중합체 용액을 얻었다. 용액의 고형분 농도를 측정하기 위해서, 용액 1g을 칭량하여 220℃ 오븐에 60분 동안 방치하고, 용매를 모두 제거한 후 고형분의 무게를 측정하여, 고형분 무게를 용액 무게로 나누어 백분율을 취하여 중량%를 계산하였다. 얻어진 중합체 용액의 고형분 농도는 33중량%이었다. The temperature of the solution was raised to 80 캜 and maintained at this temperature for 4 hours to obtain a polymer solution containing the copolymer [A1]. To measure the solid content of the solution, 1 g of the solution was weighed and placed in an oven at 220 ° C. for 60 minutes. After removing all of the solvent, the weight of the solid was weighed, and the solid weight was divided by the weight of the solution to calculate the percentage by weight Respectively. The solid concentration of the obtained polymer solution was 33% by weight.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

상기 제조예에서 얻어진 공중합체 [A] 100중량부(고형분 함량기준), 상기 공중합체 [A] 100중량부를 기분으로 하여 옥사졸린기 함유 수지 [B]로서 화학식 1로 표시되는 화합물중 일본촉매의 EPOCROS K-2010E 20중량부 및 계면활성제로서 3M社 FC430 (불소계 계면활성제) 0.1중량부를 혼합하여 디에틸렌글리콜디메틸에테르와 N메틸 피롤리돈 혼합용매(중량비 80:20)에 용해시킨 후, 고형분 농도가 25중량% 되도록 하였다. 100 parts by weight (based on the solid content) of the copolymer [A] obtained in the above Production Example and 100 parts by weight of the copolymer [A] were used as a base to prepare the oxazoline group- 20 parts by weight of EPOCROS K-2010E and 0.1 part by weight of 3M Company FC430 (fluorine surfactant) as a surfactant were dissolved in a mixed solvent of diethylene glycol dimethyl ether and N-methylpyrrolidone (weight ratio 80:20) Was 25 wt%.

그 후, 구멍지름 0.45㎛의 필터로 여과하여 열경화성 수지 조성물 용액(S1)을 조제하였다.Thereafter, the solution was filtered with a filter having a pore diameter of 0.45 mu m to prepare a thermosetting resin composition solution (S1).

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

상기 제조예에서 얻어진 공중합체 [A] 100중량부(고형분 함량 기준), 상기 공중합체 [A] 100중량부를 기분으로 하여 옥사졸린기 함유 수지 [B]로서 화학식 1로 표시되는 화합물중 일본촉매의 EPOCROS K-2020E 20중량부, 계면활성제로서 신에츠실리콘社 KP341(실리콘계 계면활성제) 0.1중량부를 혼합하여 디에틸렌글리콜디메틸에테르와 N메틸 피롤리돈의 혼합용매(중량비 80:20)에 용해시킨 후, 고형분 농도가 25중량% 되도록 하였다. 100 parts by weight (based on the solid content) of the copolymer [A] obtained in the above Production Example and 100 parts by weight of the copolymer [A] were used as a base to prepare the oxazoline group- , 20 parts by weight of EPOCROS K-2020E and 0.1 part by weight of a surfactant, Shin-Etsu Silicones KP341 (silicone surfactant) were mixed and dissolved in a mixed solvent of diethylene glycol dimethyl ether and N-methylpyrrolidone (weight ratio 80:20) So that the solid concentration was 25 wt%.

그 후, 구멍지름 0.45㎛의 필터로 여과하여 열경화성 수지 조성물 용액 (S2)을 조제하였다.Thereafter, the solution was filtered with a filter having a pore diameter of 0.45 mu m to prepare a thermosetting resin composition solution (S2).

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

상기 제조예에서 얻어진 공중합체 [A] 100중량부(고형분 함량 기준), 상기 공중합체 [A] 100중량부를 기분으로 하여 옥사졸린기 함유 수지 [B]로서 화학식 1으로 표시되는 화합물중 일본촉매의 EPOCROS K-2030E 20중량부, 중합성 화합물 [C]로서 트리메틸프로판 트리메타아크릴레이트 100중량부, 열 래디칼 중합개시제 [D]로서 벤조일 퍼옥시드 5중량부 및 계면활성제로서 3M社 FC430(불소계 계면활성제 0.1중량부를 혼합하여 디에틸렌글리콜디메틸에테르와 N메틸 피롤리돈의 혼합용매(중량비 80:20)에 용해시킨 후, 고형분 농도가 25중량% 되도록 하였다. 100 parts by weight (based on the solid content) of the copolymer [A] obtained in the above Production Example and 100 parts by weight of the copolymer [A] were used as a base to prepare the oxazoline group- , 20 parts by weight of EPOCROS K-2030E, 100 parts by weight of trimethylpropane trimethacrylate as polymerizable compound [C], 5 parts by weight of benzoyl peroxide as thermal radical polymerization initiator [D], and 3 parts by weight of 3M Company FC430 (fluorochemical surfactant Were dissolved in a mixed solvent of diethylene glycol dimethyl ether and N-methylpyrrolidone (weight ratio 80:20), and then the solid concentration was adjusted to 25% by weight.

그 후, 구멍지름 0.45㎛의 필터로 여과하여 열경화성 수지 조성물 용액 (S3)을 조제하였다.Thereafter, the solution was filtered with a filter having a pore diameter of 0.45 mu m to prepare a thermosetting resin composition solution (S3).

<실시예 4><Example 4>

상기 제조예에서 얻어진 공중합체 [A] 100중량부(고형분 함량 기준), 상기 공중합체 [A] 100중량부를 기분으로 하여 옥사졸린기 함유 수지 [B]로서 화학식 1으로 표시되는 화합물중 일본촉매의 EPOCROS K-2020E 50중량부, 중합성 화합물 [C]로서 트리메틸프로판 트리메타아크릴레이트 150중량부, 열 래디칼 중합개시제 [D]로서 벤조일 퍼옥시드 5중량부 및 계면활성제로서 3M社 FC430(불소계 계면활성제 0.1중량부를 혼합하여 디에틸렌글리콜디메틸에테르와 N메틸 피롤리돈의 혼합용매(중량비 80:20)에 용해시킨 후, 고형분 농도가 25중량% 되도록 하였다. 100 parts by weight (based on the solid content) of the copolymer [A] obtained in the above Production Example and 100 parts by weight of the copolymer [A] were used as a base to prepare the oxazoline group- 50 parts by weight of EPOCROS K-2020E, 150 parts by weight of trimethylpropane trimethacrylate as the polymerizable compound [C], 5 parts by weight of benzoyl peroxide as a thermal radical polymerization initiator [D], and 3 parts by weight of a surfactant Were dissolved in a mixed solvent of diethylene glycol dimethyl ether and N-methylpyrrolidone (weight ratio 80:20), and then the solid concentration was adjusted to 25% by weight.

그 후, 구멍지름 0.45㎛의 필터로 여과하여 열경화성 수지 조성물 용액(S4)을 조제하였다.Thereafter, the solution was filtered with a filter having a pore diameter of 0.45 mu m to prepare a thermosetting resin composition solution (S4).

<실시예 5>&Lt; Example 5 >

상기 제조예에서 얻어진 공중합체 [A] 100중량부(고형분 함량 기준), 상기 공중합체 [A] 100중량부를 기분으로 하여 옥사졸린기 함유 수지 [B]로서 화학식 1로 표시되는 화합물중 일본촉매의 EPOCROS RPS-1005 10중량부, 중합성 화합물 [C]로서 펜타에리스리톨 테트라메타아크릴레이트 100중량부, 열 래디칼 중합개시제 [D]로서 1,1'아조비스1시클로헥실니트릴 5중량부, 계면활성제로서 신에츠실리콘社 KP341 (실리콘계 계면활성제) 0.1중량부를 혼합하여 디에틸렌글리콜디메틸에테르와 N메틸 피롤리돈의 혼합용매(중량비 80:20)에 용해시킨 후, 고형분 농도가 25중량% 되도록 하였다. 100 parts by weight (based on the solid content) of the copolymer [A] obtained in the above Production Example and 100 parts by weight of the copolymer [A] were used as a base to prepare the oxazoline group- 10 parts by weight of EPOCROS RPS-1005, 100 parts by weight of pentaerythritol tetramethacrylate as the polymerizable compound [C], 5 parts by weight of 1,1 'azobis 1 cyclohexyl nitrile as a thermal radical polymerization initiator [D] And 0.1 part by weight of Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. KP341 (silicone surfactant) were mixed and dissolved in a mixed solvent of diethylene glycol dimethyl ether and N-methylpyrrolidone (weight ratio 80:20) so that the solid concentration was 25 wt%.

그 후, 구멍지름 0.45㎛의 필터로 여과하여 열경화성 수지 조성 용액(S5)을 조제하였다.Thereafter, the solution was filtered through a filter having a pore diameter of 0.45 mu m to prepare a thermosetting resin composition solution S5.

<실시예 6>&Lt; Example 6 >

상기 제조예에서 얻어진 공중합체 [A] 100중량부(고형분 함량 기준), 상기 공중합체 [A] 100중량부를 기분으로 하여 옥사졸린기 함유 수지 [B]로서 화학식 1로 표시되는 화합물중 일본촉매의 EPOCROS RPS-1005 20중량부, 중합성 화합물 [C]로서 디펜타에리스리톨 펜타메타아크릴레이트 100중량부, 열 래디칼 중합개시제 [D]로서 1,1'아조비스1시클로헥실니트릴 5중량부, 계면활성제로서 신에츠실리콘社 KP341 (실리콘계 계면활성제) 0.1중량부를 혼합하여 디에틸렌글리콜디메틸에테르와 N메틸 피롤리돈의 혼합용매(중량비 80:20)에 용해시킨 후, 고형분 농도가 25중량% 되도록 하였다. 100 parts by weight (based on the solid content) of the copolymer [A] obtained in the above Production Example and 100 parts by weight of the copolymer [A] were used as a base to prepare the oxazoline group- 20 parts by weight of EPOCROS RPS-1005, 100 parts by weight of dipentaerythritol penta methacrylate as the polymerizable compound [C], 5 parts by weight of 1,1 'azobis 1 cyclohexyl nitrile as a thermal radical polymerization initiator [D] , 0.1 part by weight of Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. KP341 (silicone surfactant) were mixed and dissolved in a mixed solvent of diethylene glycol dimethyl ether and N-methylpyrrolidone (weight ratio 80:20) to give a solid concentration of 25% by weight.

그 후, 구멍지름 0.45㎛의 필터로 여과하여 열경화성 수지 조성물 용액(S6)을 조제하였다.Thereafter, the solution was filtered with a filter having a pore diameter of 0.45 mu m to prepare a thermosetting resin composition solution (S6).

<실시예 7>&Lt; Example 7 >

상기 제조예에서 얻어진 공중합체 [A] 100중량부(고형분 함량 기준), 상기 공중합체 [A] 100중량부를 기분으로 하여 옥사졸린기 함유 수지 [B]로서 화학식 1으로 표시되는 화합물중 일본촉매의 EPOCROS K-2020E 0.1중량부, 중합성 화합물 [C]로서 트리메틸프로판 트리메타아크릴레이트 150중량부, 열 래디칼 중합개시제 [D]로서 벤조일 퍼옥시드 5중량부 및 계면활성제로서 3M社 FC430(불소계 계면활성제 0.1중량부를 혼합하여 디에틸렌글리콜디메틸에테르와 N메틸 피롤리돈의 혼합용매(중량비 80:20)에 용해시킨 후, 고형분 농도가 25중량% 되도록 하였다. 100 parts by weight (based on the solid content) of the copolymer [A] obtained in the above Production Example and 100 parts by weight of the copolymer [A] were used as a base to prepare the oxazoline group- , 0.1 part by weight of EPOCROS K-2020E, 150 parts by weight of trimethylpropane trimethacrylate as polymerizable compound [C], 5 parts by weight of benzoyl peroxide as thermal radical polymerization initiator [D], and 3 parts by weight of 3M Company FC430 Were dissolved in a mixed solvent of diethylene glycol dimethyl ether and N-methylpyrrolidone (weight ratio 80:20), and then the solid concentration was adjusted to 25% by weight.

그 후, 구멍지름 0.45㎛의 필터로 여과하여 열경화성 수지 조성물 용액(S7)을 조제하였다.Thereafter, the solution was filtered with a filter having a pore diameter of 0.45 mu m to prepare a thermosetting resin composition solution (S7).

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 열경화성 수지조성물 용액을 조제하되, 다만 옥사졸린기 함유 수지 [B]를 첨가하지 않았다.A thermosetting resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the oxazoline group-containing resin [B] was not added.

<비교예 2>&Lt; Comparative Example 2 &

상기 실시예 3과 동일한 방법으로 열경화성 수지조성물 용액을 조제하되, 다만 옥사졸린기 함유 수지 [B]를 첨가하지 않았다.A thermosetting resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 3, except that the oxazoline group-containing resin [B] was not added.

<비교예 3>&Lt; Comparative Example 3 &

상기 실시예 3과 동일한 방법으로 열경화성 수지조성물 용액을 조제하되, 다만 옥사졸린기 함유 수지 [B]를 55중량부로 하였다.A thermosetting resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 3 except that the oxazoline group-containing resin [B] was changed to 55 parts by weight.

<비교예 4>&Lt; Comparative Example 4 &

상기 실시예 3과 동일한 방법으로 열경화성 수지 조성물 용액을 조제하되, 다만 중합성 화합물 [C]의 함량을 160중량부로 하였다.A thermosetting resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 3 except that the content of the polymerizable compound [C] was 160 parts by weight.

<경화막의 형성>&Lt; Formation of cured film &

스핀코터를 이용하여 유리기판 위에 상기의 열경화성 수지 조성물을 막두께가 2㎛로 되도록 도포하고, 이를 클린 오븐에서 220℃로 30분 동안 소성하여 유리기판 위에 경화막을 형성하였다.The above-mentioned thermosetting resin composition was coated on a glass substrate so as to have a film thickness of 2 탆 by using a spin coater and then fired in a clean oven at 220 캜 for 30 minutes to form a cured film on the glass substrate.

상기 실시예 및 비교예에 대한 평가 방법은 하기와 같다.Evaluation methods for the above Examples and Comparative Examples are as follows.

(1) 밀착성 (1) Adhesiveness

바둑판 무늬 테이프 법에 따라 경화막에 커터 나이프를 이용하여 간격 1mm의 11줄의 칼집을 유리기판 상면 깊이까지 내고, 이에 수직방향으로 다시 간격 1mm의 11줄의 칼집을 유리기판 상면 깊이까지 내어 100개의 바둑판 무늬를 형성시킨 후, 점착테이프(Elcometer사, Part Number K0001539M001)를 바둑판 무늬 위에 붙였다가 떼어내는 밀착성 시험을 행하여, 박리된 바둑판 무늬의 수를 측정하고 다음 기준에 의하여 경화막의 밀착성을 평가하였다.According to a checkerboard tape method, 11 lines of cuts having a spacing of 1 mm were cut out to a depth of the upper surface of the glass substrate using a cutter knife using a cutter knife, After forming a checkerboard pattern, an adhesive tape (Elcometer Co., Part Number K0001539M001) was placed on a checkerboard pattern and peeled off. The number of peeled checkerboard patterns was measured, and the adhesion of the cured film was evaluated according to the following criteria.

○ : 박리된 바둑판 무늬의 수 5개 이하○: Number of peeled checkered patterns No more than 5

△ : 박리된 바둑판 무늬의 수 6~49개B: Number of peeled checkered patterns 6 to 49

× : 박리된 바둑판 무늬의 수 50개 이상X: Number of peeled checkered patterns 50 or more

(2) 표면경도(2) Surface hardness

경화막에 대하여 연필경도법(시험규격 : ASTM D3363)에 따라 연필경도 시험법을 행하여 표면경도를 평가하였다.The cured film was subjected to the pencil hardness test according to the pencil hardness method (test standard: ASTM D3363) to evaluate the surface hardness.

(3) 투명성(3) Transparency

분광 광도계(UV-3101PC, 시마쯔사 제품)를 이용하여 400~700nm 파장범위에서의 경화막의 투과율을 측정하고 다음 기준에 의하여 경화막의 투명성을 평가하였다.The transmittance of the cured film in a wavelength range of 400 to 700 nm was measured using a spectrophotometer (UV-3101PC, manufactured by Shimadzu Corporation) and the transparency of the cured film was evaluated according to the following criteria.

○ : 최저 투과율 95% 이상 ○: Minimum transmittance of 95% or more

△ : 최저 투과율 90% 이상, 95% 미만 ?: Minimum transmittance of 90% or more and less than 95%

× : 최저 투과율 90% 미만×: Minimum transmittance less than 90%

(4) 평탄화성(4) Flatness

경화막의 표면 요철을 α스텝(제조사 : KLA Tencor사, 장비명 : AS-500)을 이용하여 조사하고 기판의 단차를 측정하였다.The surface irregularities of the cured film were irradiated using an? Step (manufacturer: KLA Tencor, equipment name: AS-500) and the step height of the substrate was measured.

(5) 내UV성(5) UV resistance

분광 광도계(UV-3101PC, 시마쯔사 제품)를 이용하여 400~700nm에서 보호막의 투과율을 측정하였다. 이와는 별도로, 경화막에 UV(파장 254nm, 조사량 200mJ/㎠)를 조사하고 같은 방법으로 투과율을 측정하였다. 각각의 투과율로부터 다음 기준에 의하여 보호막의 내UV성을 평가하였다.The transmittance of the protective film was measured at 400 to 700 nm using a spectrophotometer (UV-3101PC, manufactured by Shimadzu Corporation). Separately, the cured film was irradiated with UV (wavelength: 254 nm, irradiation amount: 200 mJ / cm 2), and the transmittance was measured by the same method. From each transmittance, the UV resistance of the protective film was evaluated according to the following criteria.

○ : 투과 스펙트럼의 변화가 1% 이내?: Transmission spectrum change within 1%

× : 투과 스펙트럼의 변화가 1% 초과X: Change in transmission spectrum exceeds 1%

(6) 내열성(황변 정도)(6) Heat resistance (yellowing degree)

분광 광도계(UV-3101PC, 시마쯔사 제품)를 이용하여 400~700nm에서 보호막의 투과율을 측정하였다. 이와는 별도로, 경화막을 클린 오븐 240℃, 60분 동안 가열하고 같은 방법으로 투과율을 측정하였다. 각각의 투과율로부터 다음 기준에 의하여 보호막의 내열성을 평가하였다.The transmittance of the protective film was measured at 400 to 700 nm using a spectrophotometer (UV-3101PC, manufactured by Shimadzu Corporation). Separately, the cured film was heated in a clean oven at 240 캜 for 60 minutes and the transmittance was measured in the same manner. The heat resistance of the protective film was evaluated from each transmittance by the following criteria.

○ : 투과 스펙트럼의 변화가 1% 이내?: Transmission spectrum change within 1%

× : 투과 스펙트럼의 변화가 1% 초과X: Change in transmission spectrum exceeds 1%

(7) 내산성(7) Acid resistance

경화막이 형성된 유리기판을 25 중량% 염산 수용액 중에 30℃, 20분간 침지한 후, 경화막의 외관 변화를 관찰하여 내산성을 평가하였다.The glass substrate on which the cured film was formed was immersed in a 25 wt% hydrochloric acid aqueous solution at 30 DEG C for 20 minutes, and then the appearance change of the cured film was observed to evaluate the acid resistance.

(8) 내알칼리성(8) Alkalinity

경화막이 형성된 유리기판을 10 중량% 수산화나트륨 수용액 중에 30℃, 60분간 침지한 후, 경화막의 외관 변화를 관찰하여 내알칼리성을 평가하였다.The glass substrate on which the cured film was formed was immersed in a 10 wt% aqueous solution of sodium hydroxide at 30 DEG C for 60 minutes, and then the appearance change of the cured film was observed to evaluate the alkali resistance.

평가 결과는 다음 표 1과 같다. The evaluation results are shown in Table 1 below.

구분division 실시예
1
Example
One
실시예
2
Example
2
실시예
3
Example
3
실시예 4Example 4 실시예
5
Example
5
실시예
6
Example
6
실시예
7
Example
7
비교예
1
Comparative Example
One
비교예
2
Comparative Example
2
비교예
3
Comparative Example
3
비교예
4
Comparative Example
4
밀착성Adhesiveness ×× 표면경도Surface hardness 5H5H 5H5H 5H5H 5H5H 5H5H 5H5H 5H5H 3H3H 3H3H 3H3H 5H5H 투명성Transparency 평탄화성Planarization property 0.1㎛
이하
0.1 탆
Below
0.1㎛
이하
0.1 탆
Below
0.1㎛
이하
0.1 탆
Below
0.1㎛
이하
0.1 탆
Below
0.1㎛
이하
0.1 탆
Below
0.1㎛
이하
0.1 탆
Below
0.1㎛
이하
0.1 탆
Below
0.3㎛
이하
0.3 탆
Below
0.3㎛
이하
0.3 탆
Below
0.3㎛
이하
0.3 탆
Below
0.1㎛
이하
0.1 탆
Below
내UV성UV resistance ×× ×× 내열성
(황변정도)
Heat resistance
(Yellowing degree)
×× ×× ××
내산성Acid resistance 변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
내알칼리성Alkali resistance 변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none
변화
없음
change
none

상기 표 1의 결과로부터, 공중합체[A] 100 중량부에 대하여, 옥사졸린기 함유 수지를 50 중량부 이하로 포함하는 경우, 가교밀도를 효과적으로 높임에 따라 표면경도가 향상되고 평탄화성이 향상되며, 아울러 내UV성 및 내열성이 향상됨을 알 수 있다. From the results shown in Table 1, when the oxazoline group-containing resin is contained in an amount of 50 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the copolymer [A], the surface hardness is improved and the planarization property is improved as the crosslinking density is effectively increased , And the UV resistance and heat resistance are improved.

그러나, 비교예 3에서와 같이 공중합체[A] 100 중량부에 대하여, 옥사졸린기 함유 수지를 50 중량부를 초과하여 포함하는 경우, 표면경도, 밀착성 및 평탄화성이 저하됨을 알 수 있다. However, when the oxazoline group-containing resin is contained in an amount of more than 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer [A] as in Comparative Example 3, the surface hardness, adhesiveness and planarizing property are lowered.

한편, 비교예 4에서와 같이 공중합체[A] 100 중량부에 대하여, 다관능성 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물을 150중량부를 초과하여 과량으로 사용하게 되면, 표면경도가 5H 정도로 단단한 경화막을 형성한 점은 대등해질 수 있으나, 내열성이 떨어져 황변현상이 심화되는 결과를 나타내었다. On the other hand, when a compound having a polyfunctional ethylenic unsaturated group is used in an excess amount exceeding 150 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer [A] as in Comparative Example 4, a hardened film having a surface hardness of about 5H is formed Can be equalized, but the heat resistance is lowered and yellowing phenomenon is intensified.

Claims (7)

(a1) 불포화 카르복시산 또는 불포화 카르복시산 무수물, (a2) 에폭시기 함유 불포화 화합물, (a3) 상기 (a1) 또는 (a2) 이외의 올레핀계 불포화 화합물의 공중합체[A]; 및
옥사졸린기 함유 수지[B]를 포함하는 열경화성 수지 조성물.
(a1) an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride, (a2) an epoxy group-containing unsaturated compound, (a3) an olefinically unsaturated compound other than the above (a1) or (a2); And
And an oxazoline group-containing resin [B].
제1항에 있어서,
상기 옥사졸린기 함유 수지[B]는 하기 [화학식 1]로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 열경화성 수지 조성물.
[화학식 1]
Figure pat00003

상기 화학식 1에서, n은 1~100의 정수, m은 0~100의 정수, l은 0~100의 정수에서 선택되며, 상기 X는 탄소수 1 내지 6개의 선형 또는 환형의 알킬기, 탄소수 2 내지 6개의 선형 또는 환형의 알킬렌기, 탄소수 6 내지 20개의 아릴기 및 탄소수 7 내지 20개의 아릴렌기 중에서 선택된다.
The method according to claim 1,
Wherein the oxazoline group-containing resin [B] comprises a compound represented by the following formula (1).
[Chemical Formula 1]
Figure pat00003

In Formula 1, n is an integer of 1 to 100, m is an integer of 0 to 100, 1 is an integer of 0 to 100, X is a linear or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 6 carbon atoms A linear or cyclic alkylene group having 6 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and an arylene group having 7 to 20 carbon atoms.
제1항에 있어서,
상기 옥사졸린기 함유 수지[B]는 상기 공중합체[A] 100중량부에 대하여, 0.1 내지 50중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 열경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the oxazoline group-containing resin [B] is contained in an amount of 0.1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer [A].
제1항에 있어서,
상기 열경화성 수지 조성물은 상기 공중합체[A] 100중량부에 대하여, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물 150중량부 이하를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 열경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the thermosetting resin composition further comprises 150 parts by weight or less of a polymerizable compound having an ethylenic unsaturated bond per 100 parts by weight of the copolymer [A].
제1항에 있어서,
상기 열경화성 수지 조성물은 상기 공중합체[A] 100중량부에 대하여, 열 래디칼 중합개시제 20 중량부 이하를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 열경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the thermosetting resin composition further comprises 20 parts by weight or less of a thermal radical polymerization initiator per 100 parts by weight of the copolymer [A].
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 열경화성 수지 조성물로 제조된 경화막.A cured film made from the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 5. 제6항에 있어서, 상기 경화막은 광디바이스(device)의 컬러필터 보호막인 것을 특징으로 하는 경화막.The curing film according to claim 6, wherein the cured film is a color filter protective film of an optical device.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011079949A (en) * 2009-10-07 2011-04-21 Aica Kogyo Co Ltd Water-dispersed pressure-sensitive adhesive composition and resistive touch panel
KR101062250B1 (en) * 2004-06-03 2011-09-06 코오롱인더스트리 주식회사 Thermosetting resin composition for optical device protective film formation
KR20160150105A (en) * 2011-03-07 2016-12-28 후지필름 가부시키가이샤 Readily adhesive sheet and protective sheet for solar cell

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101062250B1 (en) * 2004-06-03 2011-09-06 코오롱인더스트리 주식회사 Thermosetting resin composition for optical device protective film formation
JP2011079949A (en) * 2009-10-07 2011-04-21 Aica Kogyo Co Ltd Water-dispersed pressure-sensitive adhesive composition and resistive touch panel
KR20160150105A (en) * 2011-03-07 2016-12-28 후지필름 가부시키가이샤 Readily adhesive sheet and protective sheet for solar cell

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