KR20190063099A - Apparatus for treating exhaust gas - Google Patents

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KR20190063099A
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우창규
한방우
김학준
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한국기계연구원
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    • B03C3/40—Electrode constructions
    • B03C3/45—Collecting-electrodes

Abstract

One embodiment of the present invention relates to an apparatus for treating exhaust gas, configured to improve efficiency of processing exhaust gas. The apparatus for treating exhaust gas comprises: an electrostatic spray unit; a first discharge unit; and a second discharge unit. The electrostatic spray unit is configured to spray exhaust gas and a first additive aqueous solution in a charged microdroplet form. The first discharge unit is connected to the electrostatic spray unit, includes a first electrode having a first collection passage, through which exhaust gas and microdroplets pass and from which first cleaning water flows down, and a second electrode formed in the first electrode, and causes corona discharge. The second discharge unit is installed below the first discharge unit and includes a second collection passage, from which the exhaust gas and microdroplets that have passed through the first discharge unit pass and from which second cleaning water flows down, and a third electrode having the second electrode formed therein and configured to cause the corona discharge. The electrostatic spray unit is connected to an upper portion of the first electrode and configured to guide the exhaust gas and the microdroplets to radially flow towards an upper portion of an inner circumference of the first electrode, such that the first and second cleaning water rotatably flows along inner circumferences of the first collection passage and the second collection passage, respectively, and accordingly, a water film is uniformly formed thereon.

Description

배기가스 처리장치{APPARATUS FOR TREATING EXHAUST GAS}[0001] APPARATUS FOR TREATING EXHAUST GAS [0002]

본 발명은 배기가스 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 배기가스의 처리 효율을 높일 수 있는 배기가스 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas treatment apparatus, and more particularly, to an exhaust gas treatment apparatus capable of enhancing treatment efficiency of exhaust gas.

일반적으로, 대규모 연소설비를 갖춘 발전소, 제철소, 소작장 등에서는 입자상 물질과 함께 질소산화물(NOx)과 황산화물(SOx) 등과 같은 2차 미세먼지를 생성시키는 전구물질이 발생될 수 있다. Generally, in power plants, steel mills, and culvert plants with large-scale combustion facilities, precursors that generate secondary fine dusts such as nitrogen oxides (NOx) and sulfur oxides (SOx) together with particulate matter may be generated.

특히 인체에 해롭다고 알려진 PM2.5의 미세먼지의 대부분이 2차 미세먼지로 이루어져 있기 때문에, 질소산화물과 황산화물에 대한 처리 방안은 더욱 중요해지고 있으며, 이를 처리하기 위하여 대규모 연소설비를 갖춘 발전소, 제철소, 소작장 등에는 배기가스 처리장치가 설치되어 있다.Especially, since most of PM2.5 fine dusts, which are known to be harmful to human body, are composed of secondary fine dusts, the treatment methods for nitrogen oxides and sulfur oxides are becoming more important. To deal with these, power plants, An exhaust gas treatment device is installed in steelworks, culvert, etc.

배기가스 처리장치는 질소산화물의 경우 선택적 촉매환원법(SCR)이 사용되고 있으며, 황산화물은 전기집진기로 입자상 물질을 처리한 후 배연탈황법(FGD)으로 처리하는 것이 널리 상용화되어 있다.In the exhaust gas treatment system, selective catalytic reduction (SCR) is used in the case of nitrogen oxide, and sulfuric acid is treated by the flue gas desulfurization (FGD) process after particulate matter is treated with an electrostatic precipitator.

도 1은 종래의 배기가스 처리장치의 일예를 나타낸 예시도이다.1 is an exemplary view showing an example of a conventional exhaust gas processing apparatus.

도 1에서 보는 바와 같이, 근래 사용되고 있는 배기가스 처리장치는 플라즈마 반응부(10) 및 전기집진부(20)를 가진다. As shown in Fig. 1, the exhaust gas processing apparatus which has been recently used has a plasma reaction section 10 and an electric dust collection section 20. Fig.

플라즈마 반응부(10)에서는 고전압 인가 방전극과 대응 접지극을 가진다. 방전극과 접지극 사이에 고전압 펄스전압이 인가되고, 암모니아(NH3) 또는 탄화수소(HC)와 같은 첨가제가 첨가되면 배기가스(G) 중의 질소산화물(NOx)은 질산염으로 변환되고 황산화물(SOx)은 황산염으로 변환된다. 변환된 질산염과 황산염은 질산암모늄, 황산암모늄 등의 입자상 물질로 변환되어 후단에 설치되어 있는 전기집진부(20)에서 포집하여 제거된다. The plasma reaction unit 10 has a high-voltage applied discharge electrode and a corresponding ground electrode. When a high voltage pulse voltage is applied between the discharge electrode and the earth electrode and an additive such as ammonia (NH 3 ) or hydrocarbon (HC) is added, the nitrogen oxide (NO x) in the exhaust gas G is converted into nitrate and the sulfur oxide Sulfate. The converted nitrate and sulfate are converted into particulate matter such as ammonium nitrate and ammonium sulfate, and are collected and removed by the electric dust collection unit 20 installed at the subsequent stage.

그러나, 종래의 배기가스 처리장치에서는 생성되는 황산염이 방전극 내부에 포집되어 방전극을 오염시키고, 이상방전을 야기시켜 장기 운전이 어렵게 되도록 하는 문제점이 있다. 그리고, 질소산화물은 질산염으로 변환되지 못하고 대부분이 가스상 물질로 배출되어 처리 효율이 낮은 문제점이 있다.However, in the conventional exhaust gas treatment apparatus, there is a problem that the generated sulfate is trapped in the discharge electrode to contaminate the discharge electrode, causing an abnormal discharge, making long-term operation difficult. In addition, nitrogen oxides can not be converted into nitrates, and most of them are discharged as gaseous substances, which lowers the treatment efficiency.

대한민국 공개특허공보 제2010-0136607호(2010.12.29. 공개)Korean Patent Laid-Open Publication No. 2010-0136607 (Dec. 29, 2010)

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 배기가스의 처리 효율을 높일 수 있는 배기가스 처리장치를 제공하는 것이다.In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide an exhaust gas processing apparatus capable of increasing exhaust gas treatment efficiency.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the precise form disclosed. There will be.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 배기가스와, 제1첨가수용액을 하전된 미세액적의 형태로 분사시키는 정전분무부; 수직방향으로 설치되고 상기 정전분무부와 연결되며 상기 배기가스 및 상기 미세액적이 통과하고 제1세정수가 흘러내리는 제1포집유로를 가지는 제1전극과, 상기 제1전극의 내부에 구비되는 제2전극을 가지며 코로나 방전을 일으키는 제1방전부; 그리고 상기 제1방전부의 하부에 수직방향으로 설치되고, 상기 제1방전부를 거친 상기 배기가스 및 상기 미세액적이 통과하며 제2세정수가 흘러내리는 제2포집유로를 가지고, 내부에 상기 제2전극이 구비되어 코로나 방전을 일으키는 제3전극을 가지는 제2방전부를 포함하고, 상기 정전분무부는 상기 제1전극의 상부에 연결되고, 상기 제1세정수 및 상기 제2세정수가 각각 상기 제1포집유로 및 상기 제2포집유로의 내주면에 회전되면서 흘러 균일한 수막이 형성되도록, 상기 배기가스 및 상기 미세액적을 상기 제1전극의 내주면의 상부에 원주방향으로 유입시키는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an electrostatic spraying apparatus including: an electrostatic spraying unit for spraying exhaust gas and a first addition aqueous solution in a charged microcavity form; A first electrode provided in a vertical direction and connected to the electrostatic spraying portion and having a first collecting flow passage through which the exhaust gas and the washing liquid pass and the first washing water flows down; A first discharger having an electrode and causing a corona discharge; And a second collecting passage provided in a vertical direction at a lower portion of the first discharger and through which the exhaust gas and the undiluted solution passing through the first discharger pass and the second washing water flows down, And a second discharge unit having a third electrode for generating a corona discharge, wherein the electrostatic atomization unit is connected to an upper portion of the first electrode, and the first clean water and the second wash water are respectively supplied to the first collecting channel And the exhaust gas and the undiluted liquid are introduced into the upper portion of the inner circumferential surface of the first electrode in the circumferential direction so that the exhaust gas and the undiluted solution flow into the second collecting passage while being rotated and formed to form a uniform water film. to provide.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 정전분무부는 상기 배기가스가 유입되어 이동되는 제1챔버부와, 상기 제1첨가수용액이 저장되는 제1수용액저장부와, 상기 제1수용액저장부와 연결되고, 상기 제1챔버부의 내측에 마련되어 상기 배기가스의 배출 방향으로 상기 제1첨가수용액이 분사되도록 하는 제1분사노즐부와, 상기 제1챔버부를 상기 제1전극에 연결하여 상기 배기가스 및 상기 미세액적이 상기 제1포집유로로 배출되도록 안내하는 제2챔버부를 가질 수 있다.In the embodiment of the present invention, the electrostatic spraying portion may include a first chamber portion in which the exhaust gas flows and is moved, a first aqueous solution storage portion in which the first added aqueous solution is stored, and a second aqueous solution storage portion connected to the first aqueous solution storage portion A first injection nozzle unit provided inside the first chamber unit to inject the first addition aqueous solution in a direction of exhausting the exhaust gas, and a second injection nozzle unit connected to the first chamber unit to connect the exhaust gas and the exhaust And a second chamber portion for guiding the amount of the liquid to be discharged into the first collecting passage.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제2챔버부는 상기 제1전극에 상기 제1전극의 접선 방향으로 연결될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the second chamber part may be connected to the first electrode in a tangential direction of the first electrode.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1분사노즐부 및 상기 제2챔버부에는 반대 극성이 형성될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first injection nozzle unit and the second chamber unit may have opposite polarities.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1전극의 상부에 구비되고, 상기 제1포집유로의 내주면을 따라 흐르도록 상기 제1세정수를 공급하는 제1세정수공급부; 상기 제1전극의 하부에 구비되고, 상기 제1전극을 통과하는 배기가스와 흘러 내려오는 상기 제1세정수를 분리하는 제1분리부; 그리고 상기 제1전극의 내주면의 상부에서 하부로 상기 제1세정수가 연속해서 흐르도록 상기 제1분리부의 제1세정수를 상기 제1세정수공급부로 순환시키는 제1순환부를 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, a first rinse water supply unit is provided on the first electrode and supplies the first rinse water to flow along the inner circumferential surface of the first collecting channel. A first separator provided below the first electrode and separating the exhaust gas passing through the first electrode and the first washing water flowing down; And a first circulation unit circulating the first rinse water of the first separation unit to the first rinse water supply unit so that the first rinse water flows continuously from the upper part of the inner circumferential surface of the first electrode to the lower part.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제3전극의 상부에 구비되고, 상기 제2포집유로의 내주면을 따라 흐르도록 상기 제2세정수를 공급하는 제2세정수공급부; 상기 제3전극의 하부에 구비되고, 상기 제3전극을 통과하는 배기가스와 흘러 내려오는 상기 제2세정수를 분리하는 제2분리부; 그리고 상기 제3전극의 내주면의 상부에서 하부로 상기 제2세정수가 연속해서 흐르도록 상기 제2분리부의 제2세정수를 상기 제2세정수공급부로 순환시키는 제2순환부를 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, a second rinse water supply unit is provided on the third electrode and supplies the second rinse water to flow along the inner circumferential surface of the second collecting channel. A second separator provided below the third electrode, for separating the exhaust gas passing through the third electrode and the second washing water flowing down; And a second circulation unit circulating the second rinse water of the second separation unit to the second rinse water supply unit so that the second rinse water flows continuously from the upper part of the inner circumferential surface of the third electrode to the lower part.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1첨가수용액은 요소수 및 암모니아수 중 어느 하나 이상이고, 상기 제1세정수에는 산화제가 포함되며, 상기 제2세정수에는 환원제가 포함될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first addition aqueous solution is at least one of urea water and ammonia water, the first washing water includes an oxidizing agent, and the second washing water may include a reducing agent.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제1첨가수용액은 산화제 수용액이고, 상기 제1세정수는 요소수 및 암모니아수 중 어느 하나 이상이며, 상기 제2세정수에는 환원제가 포함될 수 있다.In the embodiment of the present invention, the first addition aqueous solution is an oxidizing agent aqueous solution, the first washing water is at least one of urea water and ammonia water, and the second washing water may contain a reducing agent.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 제2분리부는 상기 제1전극의 내측에 구비되고 상기 제1포집유로를 통과하는 배기가스가 배출되는 제1분리관부를 가지고, 상기 제2포집유로는 상기 제1분리관부와 연결되어 연속적인 유로를 형성할 수 있다.In the embodiment of the present invention, the second separator has a first separator portion provided on the inner side of the first electrode and through which exhaust gas passing through the first collecting passage is discharged, 1 separating tube to form a continuous flow path.

본 발명의 실시예에 따르면, 정전분무부에서 하전된 미세액적이 분사되도록 함으로써, 미세액적이 반대 극성을 가지는 제2챔버부 및 제1전극에 정전기력에 의해 지속적으로 부착될 수 있고, 제1포집유로 및 제2포집유로의 상단부에는 지속적으로 수막이 형성될 수 있다. 이에 따라, 제1세정수 및 제2세정수의 흐름 초기부터 균일한 수막이 형성되도록 할 수 있으며, 이를 통해, 제1포집유로 및 제2포집유로의 내주면에는 각각 전체적으로 제1세정수 및 제2세정수에 의한 수막이 효과적으로 형성될 수 있으며, 이산화질소의 흡수율이 더욱 향상될 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the charged micro-droplet is injected in the electrostatic atomizing portion, whereby the micro-droplet can be continuously attached to the second chamber portion and the first electrode having the opposite polarity by the electrostatic force, A water film can be continuously formed on the upper end of the flow path and the second collecting flow path. Thus, a uniform water film can be formed from the beginning of the flow of the first washing water and the second washing water, whereby the inner circumferential surfaces of the first collecting flow path and the second collecting flow path are provided with the first washing water and the second washing water, The water film formed by the washing water can be effectively formed, and the absorption rate of nitrogen dioxide can be further improved.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 제1분사노즐부에서 분사되는 하전된 미세액적은 제1전극에 접선방향으로 유입될 수 있으며, 제1포집유로로 유입되는 배기가스 및 미세액적은 제1포집유로의 내주면을 따라 회전하면서 이동될 수 있다. 특히, 정전분무부에서 배출되는 배기가스 및 미세액적이 포집유로의 원주방향으로 이동하면서 발생되는 원심력은 제1세정수가 제1포집유로의 내주면을 따라 회전하면서 흐르도록 더욱 도울 수 있으며, 이를 통해, 제1포집유로의 내주면에는 전체적으로 제1세정수에 의한 수막이 효과적으로 형성될 수 있다. 또한, 배기가스와 하전된 미세액적의 회전 이동에 따라 제2세정수가 제2포집유로의 내주면을 따라 회전하면서 흐르도록 도울 수 있으며, 제2포집유로의 내주면에도 전체적으로 제2세정수에 의한 수막이 효과적으로 형성될 수 있다.In addition, according to the embodiment of the present invention, the charged fine droplets injected from the first injection nozzle can be introduced into the first electrode in a tangential direction, and the exhaust gas flowing into the first collecting flow channel and the first and second droplets And can be moved while rotating along the inner circumferential surface of the collecting flow path. Particularly, the centrifugal force generated while moving the exhaust gas discharged from the electrostatic atomizing unit and in the circumferential direction of the micro liquid collecting flow path can further help the first washing water to flow while rotating along the inner circumferential surface of the first collecting flow path, The water film formed by the first washing water can be effectively formed on the inner peripheral surface of the first collecting flow path. In addition, the second washing water can help the second washing water to flow while rotating along the inner circumferential surface of the second collecting flow channel in accordance with the rotational movement of the charged and untreated water with the exhaust gas, and the second washing water, Can be effectively formed.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the effects described above, but include all effects that can be deduced from the description of the invention or the composition of the invention set forth in the claims.

도 1은 종래의 배기가스 처리장치의 일예를 나타낸 예시도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치를 나타낸 예시도이다.
도 3은 도 2의 A-A선 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치의 정전분무를 설명하기 위한 예시도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치에서 하전된 미세액적의 분사흐름을 나타낸 예시도이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치에서 하전된 미세액적의 분사흐름에 따른 세정수의 흐름을 나타낸 예시도이다.1 is an exemplary view showing an example of a conventional exhaust gas processing apparatus.
2 is an exemplary view showing an exhaust gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a sectional view taken along the line AA in Fig.
4 is an exemplary view for explaining electrostatic spraying of an exhaust gas treating apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is an exemplary view illustrating a charged micro-droplet injection flow in an exhaust gas treating apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is an exemplary view showing flows of washing water according to a charged micro-droplet injection flow in an exhaust gas treating apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by like reference characters throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 “연결(접속, 접촉, 결합)”되어 있다고 할 때, 이는 “직접적으로 연결”되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 “간접적으로 연결”되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is referred to as being "connected" (connected, connected, coupled) with another part, it is not only the case where it is "directly connected" "Is included. Also, when an element is referred to as " comprising ", it means that it can include other elements, not excluding other elements unless specifically stated otherwise.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, the terms "comprises" or "having" and the like refer to the presence of stated features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치를 나타낸 예시도이고, 도 3은 도 2의 A-A선 단면도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치의 정전분무를 설명하기 위한 예시도이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치에서 하전된 미세액적의 분사흐름을 나타낸 예시도이고, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치에서 하전된 미세액적의 분사흐름에 따른 세정수의 흐름을 나타낸 예시도이다.2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view of an exhaust gas treating apparatus according to an embodiment of the present invention. And FIG. 5 is a view illustrating an injection flow of micro-droplets charged in the apparatus for treating an exhaust gas according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a view illustrating an exhaust gas flow according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a view showing a flow of washing water according to a charged micro-droplet jetting flow in the treatment apparatus.

도 2 내지 도 6에서 보는 바와 같이, 배기가스 처리장치는 제1방전부(100), 정전분무부(200) 그리고 제2방전부(600)를 포함할 수 있다.2 to 6, the exhaust gas treatment apparatus may include a first discharger 100, an electrostatic sprayer 200, and a second discharger 600.

제1방전부(100)는 제1전극(110) 및 제2전극(120)을 가질 수 있다.The first discharger 100 may have a first electrode 110 and a second electrode 120.

제1전극(110)은 수직방향으로 설치될 수 있으며, 제1포집유로(111)를 가질 수 있다. 제1포집유로(111)는 제1전극(110)의 내측에 제1전극(110)의 길이방향으로 형성될 수 있다. 제1전극(110)은 전류가 흐르는 금속 재질로 형성될 수 있다. The first electrode 110 may be installed in a vertical direction and may have a first collecting channel 111. The first collection channel 111 may be formed in the longitudinal direction of the first electrode 110 on the inner side of the first electrode 110. The first electrode 110 may be formed of a metallic material through which current flows.

제2전극(120)은 제1포집유로(111)의 내측에 구비될 수 있다. 제2전극(120)은 와이어형태로 형성될 수 있다. 제2전극(120)의 상단부는 제1전극(110)의 상측에 설치되는 상부지지부(130)에 연결될 수 있으며, 하단부는 제1전극(110)의 하측에 설치되는 하부지지부(131)에 연결될 수 있다. The second electrode 120 may be provided inside the first collecting channel 111. The second electrode 120 may be formed in a wire form. The upper end of the second electrode 120 may be connected to the upper supporting part 130 provided on the upper side of the first electrode 110 and the lower end may be connected to the lower supporting part 131 provided below the first electrode 110 .

제2전극(120)에는 제1전압인가부(140)로부터 플러스(+) 전압이 인가될 수 있으며, 제1전극(110)에는 제1전압인가부(140)로부터 마이너스(-) 전압이 인가될 수 있다. 또는, 제1전극(110)은 접지될 수 있다. 이를 통해, 제1전극(110)과 제2전극(120)의 사이, 즉, 제1포집유로(111)에서는 코로나 방전이 일어날 수 있으며, 다량의 산소(O), 수산화물(OH), 물(H2O) 등과 같은 라디칼 이온이 생성될 수 있다.A positive voltage may be applied to the second electrode 120 from the first voltage application unit 140 and a negative voltage may be applied to the first electrode 110 from the first voltage application unit 140 . Alternatively, the first electrode 110 may be grounded. Corona discharge may occur between the first electrode 110 and the second electrode 120, that is, the first collecting flow channel 111, and a large amount of oxygen (O), hydroxide (OH), water H 2 O) and the like can be produced.

정전분무부(200)는 제1챔버부(210), 제1수용액저장부(220), 제1분사노즐부(230) 및 제2챔버부(240)를 가질 수 있다.The electrostatic spraying unit 200 may have a first chamber portion 210, a first aqueous solution storage portion 220, a first injection nozzle portion 230, and a second chamber portion 240.

제1챔버부(210)는 배기가스(G)가 유입되어 이동되는 유로를 형성할 수 있다. The first chamber part 210 can form a flow path through which the exhaust gas G flows.

배기가스는 질소산화물 및 황산화물 중 하나 이상을 포함할 수 있다.The exhaust gas may comprise at least one of nitrogen oxides and sulfur oxides.

제1수용액저장부(220)에는 제1첨가수용액(221)이 저장될 수 있다. 제1첨가수용액(221)은 첨가제를 함유한 수용액으로, 첨가제의 종류에 대해서는 후술한다.The first aqueous solution storage unit 220 may store the first aqueous solution 221. The first addition aqueous solution 221 is an aqueous solution containing an additive, and the kind of the additive will be described later.

제1분사노즐부(230)는 제1챔버부(210)의 내측에 마련될 수 있다. 제1분사노즐부(230)는 제1수용액저장부(220)와 연결될 수 있으며, 제1수용액저장부(220)에 저장된 제1첨가수용액(221)은 제1분사노즐부(230)로 유입되어 이동된 후 제1분사노즐부(230)에서 분사될 수 있다. The first injection nozzle unit 230 may be provided inside the first chamber unit 210. The first injection nozzle unit 230 may be connected to the first aqueous solution storage unit 220 and the first addition aqueous solution 221 stored in the first aqueous solution storage unit 220 may be introduced into the first injection nozzle unit 230 And may be ejected from the first ejection nozzle unit 230. FIG.

제1분사노즐부(230)는 제1챔버부(210)의 길이방향으로 마련될 수 있으며, 제1첨가수용액(221)은 배기가스의 배출 방향으로 분사될 수 있다. The first injection nozzle unit 230 may be provided in the longitudinal direction of the first chamber unit 210 and the first addition aqueous solution 221 may be injected in the exhaust gas discharge direction.

제2챔버부(240)는 제1챔버부(210)의 후단에 연결될 수 있으며, 제1분사노즐부(230)에서 분사되는 제1첨가수용액(221)은 제2챔버부(240)로 유입되어 이동될 수 있다. The second chamber portion 240 may be connected to the rear end of the first chamber portion 210 and the first addition aqueous solution 221 injected from the first injection nozzle portion 230 may be introduced into the second chamber portion 240 .

이하에서는 설명의 편의상, 배기가스의 흐름 방향을 기준으로 전단/전단부, 후단/후단부로 설명한다. 즉, 배기가스가 제1지점에서 제2지점으로 이동되는 경우, 제1지점을 전단/전단부로, 제2지점을 후단/후단부로 하여 설명한다.Hereinafter, for the sake of convenience, the description will be made of the front end / front end portion and the rear end / rear end portion with reference to the flow direction of the exhaust gas. That is, when the exhaust gas moves from the first point to the second point, the first point is referred to as a front end / front end portion and the second point is referred to as a rear end / rear end portion.

그리고, 제1분사노즐부(230) 및 제2챔버부(240)에는 반대 극성이 형성될 수 있다. 여기서, 제1분사노즐부(230) 및 제2챔버부(240)에 반대 극성이 형성된다는 것은 제1분사노즐부(230)에는 플러스(+)극이 형성되고, 제2챔버부(240)에는 마이너스(-)극이 형성되거나, 또는, 제1분사노즐부(230)에는 플러스(+)극이 형성되고, 제2챔버부(240)는 접지된다는 의미일 수 있다.The first injection nozzle unit 230 and the second chamber unit 240 may have opposite polarities. The reason why the first and second chamber portions 240 and 240 are formed with the opposite polarity is that a positive pole is formed in the first injection nozzle portion 230 and a positive pole is formed in the second chamber portion 240, A negative pole may be formed in the first injection nozzle unit 230 or a positive pole may be formed in the first injection nozzle unit 230 and the second chamber unit 240 may be grounded.

제1분사노즐부(230)에는 제2전압인가부(250)에 의해 플러스(+) 전압이 인가될 수 있고, 제2챔버부(240)에는 제2전압인가부(250)에 의해 마이너스(-) 전압이 인가될 수 있다. 이하에서는 설명의 편의상, 제2챔버부(240)에 마이너스(-) 전압이 인가되는 것으로 설명한다.A positive voltage may be applied to the first injection nozzle unit 230 by the second voltage application unit 250 and a negative voltage may be applied to the second chamber unit 240 by the second voltage application unit 250 -) voltage can be applied. Hereinafter, it is assumed that a minus (-) voltage is applied to the second chamber part 240 for convenience of explanation.

제1분사노즐부(230)에는 플러스(+)극이 형성되고, 제2챔버부(240)에는 마이너스(-)극이 형성되도록 함으로써, 정전분무부(200)는 제1첨가수용액(221)을 하전된 미세액적(222)의 형태로 분사시킬 수 있다.The electrostatic atomizing unit 200 is provided with the first addition aqueous solution 221 and the second added aqueous solution 221 so that the positive atom is formed in the first injection nozzle unit 230 and the negative electrode is formed in the second chamber unit 240, May be injected in the form of charged microcavity 222.

도 4를 참조하면, 제2전압인가부(250)에 의해 제1분사노즐부(230)에 플러스(+)극의 전압이 인가되면, 제1분사노즐부(230) 내의 제1첨가수용액(221)은 하전되게 되고, 이에 따라, 하전된 미세액적(222)이 생성될 수 있다. 그리고, 플러스(+)로 하전된 미세액적(222)은 제1분사노즐부(230)에서 빌생되는 분사압력에 의해 제2챔버부(240) 방향으로 이동된다. 한편, 분사되어 이동되는 미세액적에서는 미세액적이 가지는 플러스(+) 극성에 의해 플러스(+) 극끼리 밀어내는 척력이 발생하게 되므로, 미세액적(222)은 제2챔버부(240) 방향으로 갈수록 넓게 퍼져나가게 된다. 그리고, 플러스(+)로 하전된 미세액적은 마이너스(-)극의 제2챔버부(240)와의 인력에 의해 효과적으로 제2챔버부(240)에 부착될 수 있다. 더욱이, 척력에 의해 미세액적끼리는 서로 멀어지게 되기 때문에, 제2챔버부(240)에 도달되는 미세액적(222)은 미스트 형태의 작은 입자크기를 가지게 되어 제2챔버부(240)에 얇으면서도 넓게 포집될 수 있다.4, when a positive (+) pole voltage is applied to the first injection nozzle unit 230 by the second voltage application unit 250, the first additive aqueous solution 221 are charged, and thus the charged microcavity 222 can be generated. The micro fluid 214 charged with the positive (+) is moved in the direction of the second chamber part 240 by the jetting pressure generated in the first jetting nozzle part 230. On the other hand, in the micro-droplet which is injected and moved, the repulsive force pushing the positive electrode (+) polarity due to the negative polarity of the micro-droplet occurs, It spreads widely. Further, the fine liquid charged with positive (+) can be effectively attached to the second chamber part 240 by attraction with the second chamber part 240 of minus (-) polarity. In addition, since the microcavities are separated from each other due to the repulsive force, the microcavity 222 reaching the second chamber portion 240 has a small particle size in the form of mist, so that the second chamber portion 240 is thin But can be collected widely.

제1챔버부(210)는 절연소재로 형성될 수 있다. 이를 통해, 하전된 미세액적(222)이 제1챔버부(210)에는 잘 달라붙지 않도록 하면서 제2챔버부(240) 방향으로 이동되도록 할 수 있다.The first chamber part 210 may be formed of an insulating material. Accordingly, the charged micro liquid droplets 222 can be moved toward the second chamber part 240 without being stuck to the first chamber part 210.

도 4에서는 설명의 편의 상, 제2챔버부(240)가 제1분사노즐부(230)에 대향되도록 마련된 것으로 도시되었다. 그러나, 제2챔버부(240)는 제1분사노즐부(230)와 동일한 방향으로 연장되도록 형성될 수 있다. 따라서, 제1분사노즐부(230)에서 분사되는 하전된 미세액적은 제2챔버부(240) 방향으로 치우치면서 이동될 수 있다.In FIG. 4, for convenience of explanation, the second chamber 240 is shown to be opposed to the first injection nozzle unit 230. However, the second chamber portion 240 may be formed to extend in the same direction as the first injection nozzle portion 230. Accordingly, the charged fine droplets ejected from the first injection nozzle unit 230 can be shifted toward the second chamber unit 240.

배기가스는 제1챔버부(210) 및 제2챔버부(240)를 통해 이동하면서 제1분사노즐부(230)에서 분사되는 미세액적(222)과 혼합될 수 있다. 전술한 바와 같이, 미세액적(222)은 미스트 형태를 이루기 때문에, 배기가스와의 접촉면적이 증가되어 배기가스와의 반응성이 높아질 수 있다. 이를 통해, 배기가스와 제1첨가수용액의 기액 접촉을 위한 별도의 믹싱(Mixing) 챔버와 같은 구성이 생략될 수 있다.The exhaust gas may be mixed with the microcapsule 222 injected from the first injection nozzle unit 230 while moving through the first chamber unit 210 and the second chamber unit 240. As described above, since the microcavity 222 has a mist shape, the contact area with the exhaust gas is increased and the reactivity with the exhaust gas can be increased. As a result, a configuration such as a separate mixing chamber for gas-liquid contact between the exhaust gas and the first addition aqueous solution can be omitted.

제2챔버부(240)는 제1챔버부(210)를 제1전극(110)에 연결할 수 있으며, 배기가스 및 미세액적(222)이 제1전극(110)의 제1포집유로(111)로 유입되도록 안내할 수 있다.The second chamber part 240 may connect the first chamber part 210 to the first electrode 110 and the exhaust gas and the microcavity 222 may be connected to the first collecting flow path 111 of the first electrode 110 As shown in FIG.

제2챔버부(240)는 제1전극(110)에 제1전극(110)의 접선 방향으로 연결될 수 있다. 즉, 제1전극(110)이 수직방향으로 마련된 상태에서 제2챔버부(240)는 수평방향으로 마련될 수 있다. The second chamber part 240 may be connected to the first electrode 110 in a tangential direction of the first electrode 110. That is, the second chamber part 240 may be provided in the horizontal direction in a state where the first electrode 110 is provided in the vertical direction.

따라서, 제2챔버부(240)의 길이방향 중심축(241)은 제1전극(110)의 길이방향 중심축(112)과 이격(D)되어 구비될 수 있으며, 제2챔버부(240)를 통해서 배출되는 배기가스 및 미세액적(222)은 제1포집유로(111)의 중심으로부터 벗어나 편심된 방향으로 유입될 수 있다.The longitudinal center axis 241 of the second chamber part 240 may be spaced apart from the longitudinal center axis 112 of the first electrode 110 and the second center part 240 of the second chamber part 240 may be spaced apart from the longitudinal center axis 112 of the first electrode 110, The exhaust gas and the micro liquid 222 discharged through the first collecting passage 111 can be introduced in a direction eccentric from the center of the first collecting passage 111.

그리고, 배기가스 처리장치는 제1세정수공급부(300), 제1분리부(400) 및 제1순환부(500)를 포함할 수 있다.The exhaust gas treatment apparatus may include a first rinse water supply unit 300, a first separation unit 400, and a first circulation unit 500.

제1세정수공급부(300)는 제1전극(110)의 상부에 구비될 수 있다.The first cleaning water supply unit 300 may be provided on the first electrode 110.

제1세정수공급부(300)는 제1전극(110)의 상부에 제1전극(110)의 원주방향을 따라 제1전극(110)을 감싸도록 구비될 수 있으며, 제1세정수공급부(300)에는 제1세정수(301)가 채워질 수 있다. The first cleaning water supply unit 300 may be provided on the first electrode 110 to surround the first electrode 110 along the circumferential direction of the first electrode 110. The first cleaning water supply unit 300 The first washing water 301 may be filled.

제1전극(110)의 상부에서 제1세정수공급부(300)에 의해 감싸진 부분에는 제1전극(110)의 원주방향을 따라 미리 정해진 간격으로 제1관통공(115)이 형성될 수 있다. 이에 따라, 제1세정수공급부(300)에 제1관통공(115)의 높이 이상으로 제1세정수(301)가 채워지면 제1세정수(301)는 제1관통공(115)을 통해 배출될 수 있으며, 제1관통공(115)을 통해 배출되는 제1세정수(301)는 제1포집유로(111)의 내주면을 따라 흐를 수 있게 된다.The first through hole 115 may be formed at a predetermined interval along the circumferential direction of the first electrode 110 at a portion surrounded by the first cleansing water supply unit 300 at an upper portion of the first electrode 110 . Accordingly, when the first washing water 301 is filled in the first washing water supply part 300 at a height equal to or more than the height of the first through hole 115, the first washing water 301 passes through the first through hole 115 And the first washing water 301 discharged through the first through hole 115 can flow along the inner circumferential surface of the first collecting passage 111.

제1분리부(400)는 제1전극(110)의 하부에 구비될 수 있다. The first separator 400 may be disposed under the first electrode 110.

제1분리부(400)는 제1세정수저장부(420) 및 제1분리관부(430)를 가질 수 있다.The first separator 400 may have a first rinse water reservoir 420 and a first separator 430.

제1세정수저장부(420)는 제1전극(110)의 하부와 연결될 수 있다. 제1세정수저장부(420)에는 제1세정수(301)가 저장될 수 있다. The first rinse water reservoir 420 may be connected to the lower portion of the first electrode 110. The first washing water 301 can be stored in the first washing water storage tank 420.

제1분리관부(430)는 제1세정수저장부(420)의 내측에 수직방향으로 마련될 수 있다. 제1분리관부(430)는 제1전극(110)과 동심축을 가지도록 마련될 수 있다. The first separator portion 430 may be provided in the vertical direction inside the first washing water reservoir holder 420. The first separator portion 430 may have a concentric axis with the first electrode 110.

그리고, 제1분리관부(430)의 상단부는 제1전극(110)의 하단부보다 상측에 위치될 수 있으며, 제1분리관부(430)는 제1전극(110)의 내측지름, 즉, 제1포집유로(111)의 지름보다 작은 외측 지름을 가질 수 있다. 이에 따라, 제1분리관부(430)의 외주면과 제1포집유로(111)의 내주면의 사이는 이격되어 제1틈(421)이 형성될 수 있다. 이를 통해, 제1세정수공급부(300)에서 제1관통공(115)으로 배출되어 제1포집유로(111)의 내주면을 따라 흘러내린 제1세정수(301)는 제1틈(421)을 통해 제1세정수저장부(420)로 유입되어 제1세정수저장부(420)에 채워질 수 있다. The upper end of the first separator tube 430 may be positioned above the lower end of the first electrode 110 and the first separator tube 430 may have an inner diameter of the first electrode 110, And may have an outside diameter smaller than the diameter of the collecting flow path 111. [ Accordingly, the first clearance 421 may be formed between the outer circumferential surface of the first separator portion 430 and the inner circumferential surface of the first collecting passage 111. The first cleansing water 301 discharged from the first cleansing water supply unit 300 through the first through hole 115 and flowing along the inner circumferential surface of the first trapping channel 111 is discharged through the first cleansing hole 421 May enter the first rinse water reservoir 420 and be filled in the first rinse water reservoir 420.

또한, 제1분리관부(430)는 상단부 및 하단부가 관통되도록 형성될 수 있으며, 이를 통해, 제1포집유로(111)를 통과하는 배기가스는 제1분리관부(430)를 통해 하측으로 배출될 수 있다. The first separator portion 430 may be formed to pass through the upper end portion and the lower end portion of the first separator portion 430 so that the exhaust gas passing through the first collecting passage 111 is discharged downward through the first separator portion 430 .

제1순환부(500)는 제1전극(110)의 하부로 배출되는 제1세정수를 제1세정수공급부(300)로 공급할 수 있다. The first circulation unit 500 may supply the first cleansing water discharged to the lower portion of the first electrode 110 to the first cleansing water supply unit 300.

제1순환부(500)는 제1펌프(510)를 가질 수 있으며, 제1펌프(510)는 제1세정수저장부(420)에 저장되는 제1세정수를 제1세정수공급부(300)로 공급할 수 있다. 이를 통해, 제1세정수는 순환될 수 있으며, 제1관통공(115)을 통해 배출되어 제1포집유로(111)의 내주면에 연속해서 흐를 수 있다. The first circulation unit 500 may have a first pump 510 and the first pump 510 may circulate the first rinse water stored in the first rinse water reservoir 420 to the first rinse water supply unit 300, . The first washing water can be circulated and discharged through the first through hole 115 and can flow continuously to the inner circumferential surface of the first collecting passage 111. [

제1순환부(500)는 제1세정수의 유량을 측정하기 위한 제1유량계(520)를 더 가질 수 있다.The first circulation unit 500 may further include a first flow meter 520 for measuring the flow rate of the first rinsing water.

제2방전부(600)는 제3전극(610) 및 제2전극(120)을 가질 수 있다.The second discharging unit 600 may have a third electrode 610 and a second electrode 120.

제3전극(610)은 수직방향으로 설치될 수 있으며, 제2포집유로(611)를 가질 수 있다. 제2포집유로(611)는 제3전극(610)의 내측에 제3전극(610)의 길이방향으로 형성될 수 있으며, 제3전극(610)은 제1전극(110)과 동심축을 가질 수 있다. 제3전극(610)은 전류가 흐르는 금속 재질로 형성될 수 있다. The third electrode 610 may be installed in a vertical direction and may have a second collecting channel 611. The second collecting channel 611 may be formed in the longitudinal direction of the third electrode 610 on the inner side of the third electrode 610 and the third electrode 610 may be formed on the inner side of the third electrode 610, have. The third electrode 610 may be formed of a metallic material through which current flows.

제3전극(610)의 내측에는 제2전극(120)이 연장되어 구비될 수 있다. 전술한 하부지지부(131)는 제3전극(610)의 하측에 설치될 수 있다.And the second electrode 120 may be extended inside the third electrode 610. The lower support portion 131 may be disposed below the third electrode 610.

제3전극(610)에는 제1전압인가부(140)로부터 마이너스(-) 전압이 인가되거나, 또는 접지될 수 있다. 이를 통해, 제3전극(610)과 제2전극(120)의 사이, 즉, 제2포집유로(611)에는 코로나 방전이 일어날 수 있으며, 다량의 산소(O), 수산화물(OH), 물(H2O) 등과 같은 라디칼 이온이 생성될 수 있다.A negative voltage may be applied to the third electrode 610 from the first voltage application unit 140 or may be grounded. Accordingly, a corona discharge may occur between the third electrode 610 and the second electrode 120, that is, the second collecting channel 611, and a large amount of oxygen (O), hydroxide (OH), water H2O) and the like can be produced.

또한, 제2포집유로(611)는 제1분리관부(430)와 연결되어 연속적인 유로를 형성할 수 있다. 이를 통해, 제1방전부(100)를 거친 배기가스 및 미세액적은 제2방전부(600)로 자연스럽게 유입될 수 있다. 제1포집유로(111)에서 제2포집유로(611)로 유입되는 배기가스 및 미세액적은 나선형태의 유체 흐름을 가질 수 있으며, 제2포집유로(611)에서도 나선형태의 유체 흐름이 유지될 수 있다.In addition, the second collecting passage 611 may be connected to the first separating tube portion 430 to form a continuous flow passage. As a result, the exhaust gas and the cleaning liquid passing through the first discharger 100 can flow into the second discharger 600 naturally. The exhaust gas flowing into the second collecting passage 611 from the first collecting passage 111 and the undiluted liquid may have a spiral fluid flow and the spiral fluid flow may be maintained in the second collecting passage 611 .

더하여, 제2포집유로(611)의 내측지름은 제1분리관부(430)의 내측지름과 동일하도록 형성될 수 있으며, 이를 통해, 제1포집유로(111)에서 제2포집유로(611)로 유입되는 배기가스 및 미세액적의 흐름저항이 감소될 수 있어 나선형태의 유체 흐름이 유지될 수 있다.In addition, the inner diameter of the second collecting passage 611 may be formed to be the same as the inner diameter of the first separating tube portion 430, and the first collecting passage 111 may be formed so as to extend from the first collecting passage 111 to the second collecting passage 611 The inflow exhaust gas and the micro fluidity flow resistance can be reduced, so that the spiral-shaped fluid flow can be maintained.

그리고, 배기가스 처리장치는 제2세정수공급부(700), 제2분리부(800) 및 제2순환부(900)를 포함할 수 있다.The exhaust gas treatment apparatus may include a second rinse water supply unit 700, a second separation unit 800, and a second circulation unit 900.

제2세정수공급부(700)는 제3전극(610)의 상부에 구비될 수 있다.The second cleaning water supply unit 700 may be provided on the third electrode 610.

제2세정수공급부(700)는 제3전극(610)의 상부에 제3전극(610)의 원주방향을 따라 제3전극(610)을 감싸도록 구비될 수 있으며, 제2세정수공급부(700)에는 제2세정수(701)가 채워질 수 있다. The second cleaning water supply unit 700 may be provided on the third electrode 610 to surround the third electrode 610 along the circumferential direction of the third electrode 610 and may include a second cleaning water supply unit 700 The second washing water 701 may be filled.

제3전극(610)의 상부에서 제2세정수공급부(700)에 의해 감싸진 부분에는 제3전극(610)의 원주방향을 따라 미리 정해진 간격으로 제2관통공(615)이 형성될 수 있다. 이에 따라, 제2세정수공급부(700)에 제2관통공(615)의 높이 이상으로 제2세정수(701)가 채워지면 제2세정수(701)는 제2관통공(615)을 통해 배출될 수 있으며, 제2관통공(615)을 통해 배출되는 제2세정수(701)는 제2포집유로(611)의 내주면을 따라 흐를 수 있게 된다.A second through hole 615 may be formed at a predetermined interval along the circumferential direction of the third electrode 610 in a portion surrounded by the second cleaning water supply unit 700 at the upper portion of the third electrode 610 . When the second washing water 701 is filled in the second washing water supply part 700 at a height equal to or more than the height of the second through hole 615, the second washing water 701 flows through the second through hole 615 And the second washing water 701 discharged through the second through hole 615 can flow along the inner circumferential surface of the second collecting passage 611.

제2분리부(800)는 제3전극(610)의 하부에 구비될 수 있다. The second separator 800 may be disposed below the third electrode 610.

제2분리부(800)는 덕트부(810), 제2세정수저장부(820) 및 제2분리관부(830)를 가질 수 있다.The second separation portion 800 may have a duct portion 810, a second washing water reservoir portion 820, and a second separation pipe portion 830.

덕트부(810)는 내부에 유로를 형성할 수 있으며, 유입되는 배기가스가 외부로 배출되도록 할 수 있다.The duct portion 810 can form a flow path therein and allow the exhaust gas flowing into the duct portion 810 to be discharged to the outside.

제2세정수저장부(820)는 덕트부(810)의 상부에 구비될 수 있으며, 제3전극(610)의 하부와 연결될 수 있다. 제2세정수저장부(820)에는 제2세정수(701)가 저장될 수 있다. The second washing water reservoir 820 may be provided on the upper portion of the duct portion 810 and may be connected to the lower portion of the third electrode 610. The second rinsing water reservoir 820 may store the second rinsing water 701.

제2분리관부(830)는 덕트부(810)의 상부에 구비될 수 있으며, 제2세정수저장부(820)의 내측에 수직방향으로 마련될 수 있다. 제2분리관부(830)는 제3전극(610)과 동심축을 가지도록 마련될 수 있다. The second separating tube portion 830 may be provided on the upper portion of the duct portion 810 and may be provided on the inner side of the second washing water retainer 820 in a vertical direction. The second separation tube portion 830 may be provided so as to have a concentric axis with the third electrode 610.

그리고, 제2분리관부(830)의 상단부는 제3전극(610)의 하단부보다 상측에 위치될 수 있으며, 제2분리관부(830)는 제3전극(610)의 내측지름, 즉, 제2포집유로(611)의 지름보다 작은 외측 지름을 가질 수 있다. 이에 따라, 제2분리관부(830)의 외주면과 제2포집유로(611)의 내주면의 사이는 이격되어 제2틈(821)이 형성될 수 있다. 이를 통해, 제2세정수공급부(700)에서 제2관통공(615)으로 배출되어 제2포집유로(611)의 내주면을 따라 흘러내린 제2세정수(701)는 제2틈(821)을 통해 제2세정수저장부(820)로 유입되어 제2세정수저장부(820)에 채워질 수 있다. The upper end of the second separating tube portion 830 may be positioned above the lower end of the third electrode 610 and the second separating tube portion 830 may be located on the inner diameter of the third electrode 610, And may have an outside diameter smaller than the diameter of the collecting flow path 611. Accordingly, the second gap 821 may be formed between the outer circumferential surface of the second separation pipe portion 830 and the inner circumferential surface of the second collection channel 611. The second cleansing water 701 discharged from the second cleansing water supply unit 700 through the second through hole 615 and flowing along the inner circumferential surface of the second collecting passage 611 is discharged through the second clearance 821 To the second rinse water reservoir 820 and filled in the second rinse water reservoir 820.

또한, 제2분리관부(830)는 상단부 및 하단부가 관통되도록 형성될 수 있으며, 제2분리관부(830)의 하단부는 덕트부(810)와 연통될 수 있다. 이를 통해, 제2포집유로(611)를 통과한 배기가스는 제2분리관부(830)를 통해 덕트부(810)로 유입된 후 덕트부(810)의 배출부(811)를 통해 외측으로 배출될 수 있다. The lower end of the second separation pipe 830 may communicate with the duct 810. The second separation pipe 830 may be formed to have an upper end and a lower end. The exhaust gas that has passed through the second collecting passage 611 flows into the duct portion 810 through the second separating tube portion 830 and is discharged to the outside through the discharging portion 811 of the duct portion 810 .

제2순환부(900)는 제3전극(610)의 하부로 배출되는 제2세정수(701)를 제3전극(610)의 상부로 순환시킬 수 있다. The second circulation unit 900 may circulate the second cleaning water 701 discharged to the lower portion of the third electrode 610 to the upper portion of the third electrode 610.

이를 위해, 제2순환부(900)는 제2펌프(910)를 가질 수 있다. 제2펌프(910)는 제2세정수저장부(820)에 저장되는 제2세정수를 제2세정수공급부(700)로 공급할 수 있다. 이를 통해, 제2세정수는 순환될 수 있으며, 제2포집유로(611)의 내주면에 연속해서 흐를 수 있다.To this end, the second circulation unit 900 may have a second pump 910. The second pump 910 can supply the second rinse water stored in the second rinse water holder 820 to the second rinse water supply unit 700. [ As a result, the second washing water can circulate and flow continuously to the inner circumferential surface of the second collecting passage 611.

제2순환부(900)는 제2세정수의 유량을 측정하기 위한 제2유량계(920)를 더 가질 수 있다.The second circulation unit 900 may further have a second flow meter 920 for measuring the flow rate of the second rinsing water.

이하에서는 정전분무부(200)가 제1세정수공급부(300)에서 배출되는 제1세정수(301) 및 제2세정수공급부(700)에서 배출되는 제2세정수(701)에 어떠한 영향을 제공하는 지에 대해 더욱 자세하게 설명한다.Hereinafter, how the electrostatic spraying unit 200 affects the first washing water 301 discharged from the first washing water supplying unit 300 and the second washing water 701 discharged from the second washing water supplying unit 700 We will explain in more detail what it provides.

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치에서 하전된 미세액적의 분사흐름을 나타낸 예시도이고, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 배기가스 처리장치에서 하전된 미세액적의 분사흐름에 따른 세정수의 흐름을 나타낸 예시도이다.FIG. 5 is an exemplary view showing a charged micro-droplet jetting flow in the apparatus for treating an exhaust gas according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a graph showing the relationship between the charged micro- FIG. 8 is an exemplary view showing the flow of washing water according to the injection flow.

도 5 및 도 6을 더 포함하여 보는 바와 같이, 제1분사노즐부(230)에서 분사되는 하전된 미세액적(222)은 제1전극(110)의 중심축(112)과 수직한 방향으로 유입되어 이동되되, 제1전극(110)의 중심축(112)에서 벗어난 방향으로 유입될 수 있다. 이에 따라, 제1포집유로(111)로 유입되는 배기가스(G) 및 미세액적(222)은 제1포집유로(111)의 내주면을 따라 회전하면서 이동될 수 있다.5 and 6, the charged microcracks 222 injected from the first injection nozzle unit 230 are injected in a direction perpendicular to the center axis 112 of the first electrode 110 And may be introduced in a direction deviating from the central axis 112 of the first electrode 110. [ The exhaust gas G and the undiluted solution 222 flowing into the first collecting passage 111 can be moved and rotated along the inner peripheral surface of the first collecting passage 111. [

한편, 제1세정수공급부(300)에서 제1관통공(115)을 통해 제1포집유로(111)의 내주면을 따라 수직방향으로 흐르는 제1세정수(301)는 배기가스(G) 및 미세액적(222)의 흐름에 의해 제1포집유로(111)의 내주면에서 원주방향으로 흐를 수 있게 된다. 특히, 정전분무부(200)에서 배출되는 배기가스(G) 및 미세액적(222)이 제1포집유로(111)의 원주방향으로 이동하면서 발생되는 원심력은 제1세정수(301)가 제1포집유로(111)의 내주면을 따라 회전하면서 흐르도록 더욱 도울 수 있다. The first washing water 301 flowing in the first washing water supply part 300 in the vertical direction along the inner circumferential surface of the first collecting passage 111 through the first through hole 115 passes through the exhaust gas G, It is possible to flow in the circumferential direction on the inner circumferential surface of the first collecting passage 111 by the flow of the washing solution 222. Particularly, the centrifugal force generated while the exhaust gas G discharged from the electrostatic spraying unit 200 and the undiluted liquid 222 move in the circumferential direction of the first collecting flow passage 111, 1 collecting flow path 111. [0051] As shown in FIG.

또한, 하전된 미세액적(222)은 반대 극성을 가지는 제2챔버부(240) 및 제1전극(110)에 정전기력에 의해 지속적으로 부착될 수 있기 때문에, 제1포집유로(111)의 상단부에 지속적으로 수막이 형성될 수 있도록 촉진될 수 있다.Since the charged microcapsule 222 can be continuously attached to the second chamber portion 240 having the opposite polarity and the first electrode 110 by the electrostatic force, So that the water film can be continuously formed.

이에 따라, 제1세정수(301)의 흐름 초기부터 균일한 수막이 형성되도록 할 수 있으며, 이를 통해, 제1포집유로(111)의 내주면에는 전체적으로 제1세정수(301)에 의한 수막이 효과적으로 형성될 수 있다.As a result, a uniform water film can be formed from the beginning of the flow of the first washing water 301, whereby the water film formed by the first washing water 301 can be efficiently and uniformly supplied to the inner circumferential surface of the first collecting passage 111 .

배기가스가 일산화질소(NO)인 경우, 제1방전부(100)를 통과하면서 산화되어 이산화질소(NO2)가 될 수 있는데, 이산화질소는 친수성을 가지기 때문에, 제1포집유로(111)의 내주면을 타고 흐르는 제1세정수(301)에 흡수될 수 있다. When the exhaust gas is nitrogen monoxide (NO), it can be oxidized to become nitrogen dioxide (NO 2 ) while passing through the first discharger 100. Since the nitrogen dioxide has hydrophilicity, the inner peripheral surface of the first collecting channel 111 And can be absorbed by the first rinsing water 301 flowing in the rush.

본 발명에 따르면, 정전분무부(200)에 의해 제1세정수(301)는 제1포집유로(111)의 내주면에 전체적으로 수막을 형성하면서 흐를 수 있기 때문에, 이산화질소의 흡수율이 더욱 향상될 수 있다.According to the present invention, since the first cleaning water 301 can flow while forming a water film as a whole on the inner peripheral surface of the first collecting passage 111 by the electrostatic spraying unit 200, the absorption rate of nitrogen dioxide can be further improved .

이격 형성되는 제1관통공(115)으로부터 공급되는 세정수는 물의 표면장력 때문에, 초기부터 횡방향으로의 퍼짐이 거의 없이 아래로 흐르게 된다. 즉, 각 제1관통공(115)에서 배출되어 흐르는 세정수의 흐름 사이에는 초기에 세정수가 흐르지 않는 영역(Dry Spot)(50)이 형성될 수 있다. 따라서, 본 발명의 정전분무부(200)의 구성이 없게 되면, 제1포집유로(111)의 원주방향으로 유체의 흐름이 발생하지 않게 되기 때문에, 포집유로의 내주면에는 세정수가 흐르지 않는 영역(50)이 넓게 형성될 수 있다. 이러한 세정수가 흐르지 않는 영역(50)이 넓어 지는 만큼, 포집유로의 내주면에 형성되는 수막의 면적은 작아지기 때문에, 이산화질소의 흡수율은 저하될 수 있다. The rinse water supplied from the first through hole 115 which is spaced apart flows downward almost without spreading in the transverse direction from the beginning due to the surface tension of water. That is, a region (dry spot) 50 in which washing water does not flow initially may be formed between the flows of the washing water flowing out from each of the first through holes 115. Therefore, when there is no configuration of the electrostatic spraying unit 200 of the present invention, the flow of the fluid does not occur in the circumferential direction of the first collecting flow channel 111. Therefore, in the inner circumferential face of the collecting flow channel, Can be formed widely. Since the area 50 in which the cleansing water does not flow is widened, the area of the water film formed on the inner circumferential surface of the trapping channel becomes small, and the water absorption rate of nitrogen dioxide can be lowered.

제1분리관부(430)를 통해 배출되는 배기가스(G) 및 미세액적(222)은 나선형태로 회전하면서 제2포집유로(611)로 유입될 수 있다.The exhaust gas G and the undiluted solution 222 discharged through the first separating tube portion 430 may flow into the second collecting passage 611 while rotating in the form of a spiral.

따라서, 제2세정수공급부(700)에서 제2관통공(615)을 통해 제2포집유로(611)의 내주면을 따라 수직방향으로 흐르는 제2세정수(701)는 배기가스(G) 및 미세액적(222)의 흐름에 의해 제2포집유로(611)의 내주면에서 원주방향으로 흐를 수 있게 된다. 특히, 제1분리관부(430)에서 배출되는 배기가스(G) 및 미세액적(222)이 나선형태로 이동하면서 발생되는 원심력은 제2세정수(701)가 제2포집유로(611)의 내주면을 따라 회전하면서 흐르도록 도울 수 있다. The second washing water 701 flowing in the second washing water supply portion 700 in the vertical direction along the inner circumferential surface of the second collecting passage 611 through the second through hole 615 passes through the exhaust gas G and the exhaust gas It is possible to flow in the circumferential direction on the inner circumferential surface of the second collecting passage 611 by the flow of the washing solution 222. Particularly, the centrifugal force generated while the exhaust gas G discharged from the first separating tube portion 430 and the micro liquid undulation 222 move in the form of a spiral is generated when the second washing water 701 flows into the second collecting passage 611 It can help to flow while rotating along the inner circumferential surface.

또한, 하전된 미세액적(222)은 반대 극성을 가지는 제3전극(610)에 정전기력에 의해 지속적으로 부착될 수 있기 때문에, 제2포집유로(611)의 상단부에 지속적으로 수막이 형성될 수 있도록 촉진될 수 있다.In addition, since the charged microcapsule 222 can be continuously attached to the third electrode 610 having an opposite polarity by electrostatic force, a water film can be continuously formed on the upper end of the second collecting channel 611 .

이에 따라, 제2세정수(701)의 흐름 초기부터 균일한 수막이 형성되도록 할 수 있으며, 이를 통해, 제2포집유로(611)의 내주면에는 전체적으로 제2세정수(701)에 의한 수막이 효과적으로 형성될 수 있다.As a result, a uniform water film can be formed from the beginning of the flow of the second washing water 701, whereby the water film formed by the second washing water 701 as a whole can be efficiently and efficiently supplied to the inner circumferential surface of the second collecting passage 611 .

제1방전부(100)에서 이산화질소로 산화되지 않은 일산화질소는 제2방전부(600)를 통과하면서 산화되어 이산화질소가 될 수 있기 때문에, 제2포집유로(611)의 내주면을 타고 흐르는 제2세정수(701)에 흡수될 수 있다. Since the nitrogen monoxide not oxidized by the nitrogen dioxide in the first discharger 100 can be oxidized and become nitrogen dioxide while passing through the second discharger 600, the second cleaning 611, which flows on the inner peripheral surface of the second collecting channel 611, Can be absorbed by the number 701.

본 발명에 따르면, 제1방전부(100) 및 제2방전부(600)가 다단으로 형성되기 때문에, 이산화질소의 흡수율이 더욱 향상될 수 있어 질소산화물의 처리효율이 높아질 수 있고, 황산화물의 처리효율도 높아질 수 있다.According to the present invention, since the first discharging unit 100 and the second discharging unit 600 are formed in multiple stages, the absorption rate of nitrogen dioxide can be further improved, the treatment efficiency of nitrogen oxides can be enhanced, Efficiency can also be increased.

한편, 본 실시예에서, 제1첨가수용액(221)은 요소수 및 암모니아수 중 어느 하나 이상일 수 있다. Meanwhile, in the present embodiment, the first addition aqueous solution 221 may be any one or more of urea water and ammonia water.

제1첨가수용액(221)을 요소수 및 암모니아수 중 어느 하나 이상으로 함으로써, 배기가스와 수소와의 기액 접촉을 더욱 촉진하여 배기가스와의 혼합효과가 향상될 수 있다. 또한, 암모니아 슬립(Slip) 현상 발생을 억제할 수 있다. 암모니아 슬립 현상은 공급되는 암모니아의 일부만이 배기가스와 작용하고 작용되지 않은 암모니아가 배출되는 현상을 말한다. 종래에는 암모니아 슬립 현상을 억제하기 위하여 더욱 많은 양의 암모니아를 공급하기도 하였다. 그러나, 제1첨가수용액을 요소수 및 암모니아수 중 어느 하나 이상으로 하고, 이를 하전된 미세액적으로 분사되도록 함으로써 제1방전부(100) 및 제2방전부(600) 내부에서 반응을 통해 황산화물이 황산염으로 변환되는 것이 더욱 촉진될 수 있으며, 질소산화물의 친수화도 더욱 촉진될 수 있다.By making the first addition aqueous solution 221 at least one of the urea water and the ammonia water, the gas-liquid contact between the exhaust gas and hydrogen can be further promoted and the mixing effect with the exhaust gas can be improved. In addition, the occurrence of the ammonia slip phenomenon can be suppressed. The ammonia slip phenomenon refers to a phenomenon in which only a part of the ammonia supplied acts on the exhaust gas and the ammonia that is not operated is discharged. Conventionally, a larger amount of ammonia was also supplied to suppress the ammonia slip phenomenon. However, when the first addition aqueous solution is made to be at least one of urea water and ammonia water, and the aqueous solution is injected with the charged microcapsule, the sulfuric acid is oxidized in the first discharge unit 100 and the second discharge unit 600, The conversion to the sulfate can be further promoted, and the hydrophilization of the nitrogen oxide can be further promoted.

그리고, 제1세정수(301)에는 산화제가 포함될 수 있다. 이에 따라, 제1세정수(301)는 산화제 수용액이 될 수 있다. 상기 산화제 수용액은 오존을 포함하는 오존수 및 과산화수소를 포함하는 과산화수소수 중 하나 이상일 수 있다.The first washing water 301 may contain an oxidizing agent. Accordingly, the first washing water 301 can be an oxidizing agent aqueous solution. The oxidant aqueous solution may be at least one of ozone water containing ozone and hydrogen peroxide containing hydrogen peroxide.

이를 통해, 배가가스는 제1방전부(100)를 거치면서 산화가 더욱 촉진될 수 있다. 즉, 정전분무부(200)를 거치면서 일산화질소의 일부는 이산화질소로 산화되고, 제1방전부(100)를 거치면서 나머지 일산화질소가 이산화질소로 산화되도록 할 수 있기 때문에, 제1세정수에 흡수되는 이산화질소의 양이 증가되도록 하여 질소산화물의 처리효율이 높아질 수 있다. 또한, 정전분무부(200)를 거치면서 일산화황의 일부가 이산화황으로 산화되도록 하고, 제1방전부(100)를 거치면서 이산화황이 황산염으로 산화되도록 함으로써, 황산화물이 황산염으로 생성되는 속도를 빨리 할 수 있어 황산화물의 처리효율도 높아질 수 있다.As a result, the oxidation can be further promoted through the first discharger 100. That is, part of the nitrogen monoxide is oxidized to nitrogen dioxide while passing through the electrostatic spraying unit 200, and the remaining nitrogen monoxide is oxidized to nitrogen dioxide while passing through the first discharger 100, So that the treatment efficiency of the nitrogen oxide can be increased. In addition, a part of the sulfur monoxide is oxidized into sulfur dioxide while passing through the electrostatic spraying unit 200, and the sulfur dioxide is oxidized to the sulfate by passing through the first discharge unit 100, So that the treatment efficiency of sulfur oxides can be increased.

또한, 제2세정수(701)에는 환원제가 포함될 수 있다. 상기 환원제는 수산화나트륨(NaOH), 황화수소나트륨(NaHS), 황화나트륨(Na2S), 아황산나트륨(Na2SO3), 싸이오황산나트륨(Na2S2O3) 중 하나 이상을 포함할 수 있다.In addition, the second washing water 701 may contain a reducing agent. The reducing agent may include at least one of sodium hydroxide (NaOH), sodium hydrosulfide (NaHS), sodium sulfide (Na 2 S), sodium sulfite (Na 2 SO 3 ), sodium thiosulfate (Na 2 S 2 O 3 ) have.

제2세정수(701)에 이산화질소가 계속해서 흡수되면 제2세정수(701)가 산성화되고, 그러면 이산화질소의 포집성능이 저하될 수 있다. 환원제는 제2세정수(701)에 흡수된 이산화질소의 흡수 환원 처리를 유도하여 제2세정수(701)를 중화시킬 수 있으며, 이를 통해, 제2세정수(701)에서 이산화질소가 계속해서 흡수될 수 있도록 해서 포집성능이 유지되도록 할 수 있다.When the nitrogen dioxide is continuously absorbed into the second rinse water 701, the second rinse water 701 is acidified, and the capturing performance of the nitrogen dioxide can be lowered. The reducing agent can induce the absorption and reduction treatment of the nitrogen dioxide absorbed in the second washing water 701 to neutralize the second washing water 701 so that nitrogen dioxide is continuously absorbed in the second washing water 701 So that the collection performance can be maintained.

또한, 제1방전부(100)를 거치면서 산화된 배기가스의 흡수 환원 처리가 유도될 수 있다. In addition, the absorption and reduction process of the oxidized exhaust gas can be induced through the first discharger 100.

한편, 본 실시예에서, 제1첨가수용액(221)은 산화제 수용액일 수 있으며, 산화제 수용액은 오존수 및 과산화수소수 중 하나 이상일 수 있다. Meanwhile, in the present embodiment, the first addition aqueous solution 221 may be an oxidizing agent aqueous solution, and the oxidizing agent aqueous solution may be one or more of ozone water and hydrogen peroxide solution.

제1첨가수용액(221)을 산화제 수용액으로 함으로써, 배가가스는 정전분무부(200)에서 미리 산화될 수 있어 배기가스의 산화가 더욱 촉진될 수 있다. 즉, 정전분무부(200)를 거치면서 일산화질소의 일부는 이산화질소로 산화되도록 하여 제1세정수(301) 및 제2세정수(701)에 흡수되는 이산화질소의 양이 증가되도록 하여 질소산화물의 처리효율이 높아질 수 있다. By making the first addition aqueous solution 221 an oxidizing agent aqueous solution, the doubling gas can be oxidized in advance in the electrostatic spraying portion 200, and oxidation of the exhaust gas can be further promoted. That is, a part of the nitrogen monoxide is oxidized to nitrogen dioxide while passing through the electrostatic spraying unit 200, so that the amount of nitrogen dioxide absorbed in the first washing water 301 and the second washing water 701 is increased, The efficiency can be increased.

그리고, 제1세정수(301)는 요소수 및 암모니아수 중 어느 하나 이상일 수 있다. 이를 통해, 제1방전부(100)에서 황산화물의 황산염화 및 질소산화물의 친수화가 촉진될 수 있다.The first washing water 301 may be any one of urea water and ammonia water. Thus, sulfation of sulfur oxides and hydrophilization of nitrogen oxides can be promoted in the first discharger 100.

또한, 제2세정수(701)는 환원제가 포함될 수 있다. 상기 환원제는 수산화나트륨, 황화수소나트륨, 황화나트륨, 아황산나트륨, 싸이오황산나트륨 중 하나 이상을 포함할 수 있다.In addition, the second washing water 701 may contain a reducing agent. The reducing agent may include at least one of sodium hydroxide, sodium hydrogen sulfide, sodium sulfide, sodium sulfite, and sodium thiosulfate.

제2세정수(701)에 환원제가 포함되도록 함으로써, 정전분무부(200) 및 제1방전부(100)에서 산화된 배기가스의 흡수 환원 처리가 유도될 수 있다. By including the reducing agent in the second washing water 701, the absorption and reduction treatment of the oxidized exhaust gas in the electrostatic atomizing unit 200 and the first discharging unit 100 can be induced.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 청구범위에 의하여 나타내어지며, 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

100: 제1방전부 110: 제1전극
120: 제2전극 200: 정전분무부
210: 제1챔버부 220: 제1수용액저장부
230: 제1분사노즐부 240: 제2챔버부
300: 제1세정수공급부 400: 제1분리부
500: 제1순환부 600: 제2방전부
610: 제3전극 611: 제2포집유로
700: 제2세정수공급부 800: 제2분리부
900: 제2순환부100: first discharger 110: first electrode
120: second electrode 200: electrostatic spraying part
210: first chamber part 220: first aqueous solution storage part
230: first injection nozzle part 240: second chamber part
300: first rinsing water supply part 400: first separation part
500: first circulation unit 600: second discharge unit
610: Third electrode 611: Second collecting channel
700: second rinsing water supply part 800: second separation part
900: second circulation part

Claims (9)

배기가스와, 제1첨가수용액을 하전된 미세액적의 형태로 분사시키는 정전분무부;
수직방향으로 설치되고 상기 정전분무부와 연결되며 상기 배기가스 및 상기 미세액적이 통과하고 제1세정수가 흘러내리는 제1포집유로를 가지는 제1전극과, 상기 제1전극의 내부에 구비되는 제2전극을 가지며 코로나 방전을 일으키는 제1방전부; 그리고
상기 제1방전부의 하부에 수직방향으로 설치되고, 상기 제1방전부를 거친 상기 배기가스 및 상기 미세액적이 통과하며 제2세정수가 흘러내리는 제2포집유로를 가지고, 내부에 상기 제2전극이 구비되어 코로나 방전을 일으키는 제3전극을 가지는 제2방전부를 포함하고,
상기 정전분무부는 상기 제1전극의 상부에 연결되고, 상기 제1세정수 및 상기 제2세정수가 각각 상기 제1포집유로 및 상기 제2포집유로의 내주면에 회전되면서 흘러 균일한 수막이 형성되도록, 상기 배기가스 및 상기 미세액적을 상기 제1전극의 내주면의 상부에 원주방향으로 유입시키는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리장치.An electrostatic atomizing unit for injecting the exhaust gas and the first addition aqueous solution in the form of charged untreated liquid;
A first electrode provided in a vertical direction and connected to the electrostatic spraying portion and having a first collecting flow passage through which the exhaust gas and the washing liquid pass and the first washing water flows down; A first discharger having an electrode and causing a corona discharge; And
And a second collecting flow passage provided vertically to a lower portion of the first discharging portion and through which the exhaust gas passing through the first discharging portion and the second washing water flows, And a second discharge unit having a third electrode for generating a corona discharge,
Wherein the electrostatic spraying portion is connected to an upper portion of the first electrode so that the first washing water and the second washing water are rotated on the inner circumferential surfaces of the first collecting passage and the second collecting passage to form a uniform water film, And the exhaust gas and the undiluted liquid are introduced into the upper portion of the inner circumferential surface of the first electrode in the circumferential direction. 제1항에 있어서,
상기 정전분무부는
상기 배기가스가 유입되어 이동되는 제1챔버부와,
상기 제1첨가수용액이 저장되는 제1수용액저장부와,
상기 제1수용액저장부와 연결되고, 상기 제1챔버부의 내측에 마련되어 상기 배기가스의 배출 방향으로 상기 제1첨가수용액이 분사되도록 하는 제1분사노즐부와,
상기 제1챔버부를 상기 제1전극에 연결하여 상기 배기가스 및 상기 미세액적이 상기 제1포집유로로 배출되도록 안내하는 제2챔버부를 가지는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리장치.The method according to claim 1,
The electrostatic atomizing unit
A first chamber portion through which the exhaust gas flows,
A first aqueous solution storage portion in which the first addition aqueous solution is stored,
A first spray nozzle part connected to the first aqueous solution storage part and provided inside the first chamber part to spray the first addition aqueous solution in a discharge direction of the exhaust gas,
And a second chamber portion connecting the first chamber portion to the first electrode and guiding the exhaust gas and the microcavity to be discharged to the first collecting passage. 제2항에 있어서,
상기 제2챔버부는 상기 제1전극에 상기 제1전극의 접선 방향으로 연결되는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리장치.3. The method of claim 2,
And the second chamber part is connected to the first electrode in a tangential direction of the first electrode. 제2항에 있어서,
상기 제1분사노즐부 및 상기 제2챔버부에는 반대 극성이 형성되는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리장치.3. The method of claim 2,
Wherein an opposite polarity is formed in the first injection nozzle unit and the second chamber unit. 제1항에 있어서,
상기 제1전극의 상부에 구비되고, 상기 제1포집유로의 내주면을 따라 흐르도록 상기 제1세정수를 공급하는 제1세정수공급부;
상기 제1전극의 하부에 구비되고, 상기 제1전극을 통과하는 배기가스와 흘러 내려오는 상기 제1세정수를 분리하는 제1분리부; 그리고
상기 제1전극의 내주면의 상부에서 하부로 상기 제1세정수가 연속해서 흐르도록 상기 제1분리부의 제1세정수를 상기 제1세정수공급부로 순환시키는 제1순환부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리장치.The method according to claim 1,
A first cleaning water supply unit provided on the first electrode to supply the first cleaning water to flow along the inner circumferential surface of the first collection channel;
A first separator provided below the first electrode and separating the exhaust gas passing through the first electrode and the first washing water flowing down; And
And a first circulation unit circulating the first rinse water of the first separation unit to the first rinse water supply unit so that the first rinse water flows continuously from the upper part to the lower part of the inner circumferential surface of the first electrode. Gas processing device. 제5항에 있어서,
상기 제3전극의 상부에 구비되고, 상기 제2포집유로의 내주면을 따라 흐르도록 상기 제2세정수를 공급하는 제2세정수공급부;
상기 제3전극의 하부에 구비되고, 상기 제3전극을 통과하는 배기가스와 흘러 내려오는 상기 제2세정수를 분리하는 제2분리부; 그리고
상기 제3전극의 내주면의 상부에서 하부로 상기 제2세정수가 연속해서 흐르도록 상기 제2분리부의 제2세정수를 상기 제2세정수공급부로 순환시키는 제2순환부를 포함하는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리장치.6. The method of claim 5,
A second cleansing water supply unit provided on the third electrode and supplying the second cleansing water to flow along the inner circumferential surface of the second collecting channel;
A second separator provided below the third electrode, for separating the exhaust gas passing through the third electrode and the second washing water flowing down; And
And a second circulation unit for circulating the second rinse water of the second separation unit to the second rinse water supply unit so that the second rinse water flows continuously from the upper part of the inner circumferential surface of the third electrode to the lower part. Gas processing device. 제6항에 있어서,
상기 제1첨가수용액은 요소수 및 암모니아수 중 어느 하나 이상이고, 상기 제1세정수에는 산화제가 포함되며, 상기 제2세정수에는 환원제가 포함되는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리장치.The method according to claim 6,
Wherein the first addition aqueous solution is at least one of urea water and ammonia water, the first washing water contains an oxidizing agent, and the second washing water contains a reducing agent. 제6항에 있어서,
상기 제1첨가수용액은 산화제 수용액이고, 상기 제1세정수는 요소수 및 암모니아수 중 어느 하나 이상이며, 상기 제2세정수에는 환원제가 포함되는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리장치.The method according to claim 6,
Wherein the first addition aqueous solution is an oxidizing agent aqueous solution, the first washing water is at least one of urea water and ammonia water, and the second washing water contains a reducing agent. 제6항에 있어서,
상기 제2분리부는 상기 제1전극의 내측에 구비되고 상기 제1포집유로를 통과하는 배기가스가 배출되는 제1분리관부를 가지고,
상기 제2포집유로는 상기 제1분리관부와 연결되어 연속적인 유로를 형성하는 것을 특징으로 하는 배기가스 처리장치.The method according to claim 6,
The second separator has a first separator portion provided on the inner side of the first electrode and exhausting the exhaust gas passing through the first collecting passage,
And the second collecting passage is connected to the first separating tube portion to form a continuous flow path.
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