KR20190051119A - Apparatus and method for generating evaporation amount prediction model - Google Patents

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Abstract

Disclosed is an apparatus for generating a chemical liquid evaporation amount prediction model. The apparatus for generating a chemical liquid evaporation amount prediction model includes: a temperature measuring unit measuring temperature in a chamber; a pressure control unit adding background gas into the chamber to control pressure in the chamber; a chemical liquid evaporation amount measuring unit measuring the evaporation amount of the chemical liquid in the chamber; and a model generating unit calculating the number of evaporated molecules of the chemical liquid based on the evaporation amount of the chemical liquid, converting the number of evaporated molecule of the chemical liquid in accordance with the temperature and the pressure in the chamber into a database, and generating an evaporation amount prediction model of the chemical liquid in accordance with a process condition.

Description

약액의 증발량 예측 모델 생성 장치 및 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법{APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING EVAPORATION AMOUNT PREDICTION MODEL}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an apparatus for predicting evaporation amount of a chemical liquid and a method for predicting evaporation amount of a chemical liquid,

본 발명은 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치 및 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 챔버 내 온도 및 압력에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치 및 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for generating a predictive model of a chemical liquid evaporation amount and a method for predicting a chemical liquid evaporation amount model and, more particularly, to an apparatus for predicting a chemical liquid evaporation amount model that generates a chemical evaporation prediction model corresponding to a temperature and a pressure in a chamber. And a method for predicting evaporation amount of a chemical liquid.

반도체 공정 중 약액의 증발은 물 반점(Water Mark), 패턴 기울어짐(Pattern Leaning)과 같은 불량과 밀접한 관련이 있어서, 약액의 증발 메커니즘을 명확히 규명할 수 있는 분자동역학 시뮬레이션을 필요로 한다.Evaporation of the chemical liquid during the semiconductor process is closely related to defects such as water mark and pattern leaning, and thus requires a molecular dynamics simulation that can clearly clarify the mechanism of vaporization of the chemical liquid.

다만, 종래의 약액의 증발을 해석하는 분자동역학 시뮬레이션은 온도에 대한 제어만 있을 뿐, 압력을 제어할 수 없었다. 이에 따라, 특정 압력 하에서 약액의 증발에 대한 시뮬레이션을 구현할 수 없었다. 또한, 증발된 약액의 온도를 조절할 수 없었으므로, 시뮬레이션 상에서 실제 약액의 증발량보다 더 많은 양의 약액이 증발되는 현상이 나타나는 문제가 있었다.However, the conventional molecular dynamics simulation for analyzing the chemical liquid evaporation has only the temperature control, and the pressure can not be controlled. As a result, a simulation for evaporation of the chemical liquid under a specific pressure could not be implemented. Further, since the temperature of the vaporized chemical liquid can not be controlled, there is a problem that a greater amount of chemical liquid is evaporated than the actual chemical liquid evaporation amount in the simulation.

본 발명의 목적은 챔버 내에 배경 기체를 추가하여 챔버 내의 압력을 제어하고, 챔버 내의 온도 및 압력에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성할 수 있는 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치 및 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법을 제공함에 있다.An object of the present invention is to provide an apparatus for predicting the amount of chemical liquid evaporation and a method for predicting the amount of chemical liquid evaporation, which can control the pressure in the chamber by adding background gas in the chamber, Method.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시 예에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치는, 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치에 있어서, 챔버 내 온도를 측정하는 온도 측정부, 상기 챔버 내에 배경 기체를 추가하여 상기 챔버 내의 압력을 제어하는 압력 제어부, 상기 챔버 내 약액의 증발량을 측정하는 약액 증발량 측정부 및 상기 약액의 증발량에 기초하여 상기 약액의 증발된 분자수를 산출하고, 상기 챔버 내 온도 및 압력에 따른 상기 약액의 증발된 분자수를 데이터 베이스화하여, 상기 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성하는 모델 생성부를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for generating a predicted evaporation amount model of a chemical liquid according to process conditions, the apparatus comprising: a temperature measurement unit for measuring a temperature in the chamber; A chemical liquid evaporation amount measuring unit for measuring an evaporation amount of the chemical liquid in the chamber, and a controller for calculating the evaporated molecular number of the chemical liquid based on the evaporation amount of the chemical liquid, And a model generating unit for converting the evaporated molecular number of the chemical liquid into a database based on the temperature and the pressure to generate a model for predicting evaporation amount of the chemical liquid according to the processing conditions.

여기서, 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치는, 상기 배경 기체의 온도를 기설정된 간격마다 상기 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정하는 배경 기체 온도 조절부를 더 포함할 수 있다.Here, the chemical liquid evaporation amount predicting model generation apparatus may further include a background gas temperature regulating unit for correcting the temperature of the background gas to match the temperature in the chamber at predetermined intervals.

여기서, 상기 압력 제어부는, 기저장된 상기 배경 기체의 특정 온도에 따른 밀도 및 상기 온도 측정부에서 측정되는 온도에 기초하여 상기 배경 기체의 분자수를 산출하는 배경 기체 분자수 산출부를 포함할 수 있다.Here, the pressure control unit may include a background gas molecule number calculation unit for calculating the molecular number of the background gas based on the density of the background gas previously stored in accordance with the specific temperature and the temperature measured by the temperature measurement unit.

여기서, 상기 압력 제어부는, 상기 챔버 내에 공급되는 상기 배경 기체의 분자수를 조절하여 상기 챔버 내의 압력을 제어할 수 있다.Here, the pressure control unit may control the pressure in the chamber by adjusting the molecular number of the background gas supplied into the chamber.

또한, 상기 모델 생성부는, 상기 챔버의 상단에 제거 영역을 설정하고, 상기 제거 영역 내에서 상기 증발된 약액 분자를 제거하여, 상기 약액의 증발 현상을 구현할 수 있다.The model generation unit may set a removal region at the upper end of the chamber and remove the evaporated chemical molecules in the removal region to realize the evaporation phenomenon of the chemical liquid.

여기서, 상기 모델 생성부는, 상기 챔버의 상단에 상기 배경 기체의 온도 보정 영역을 설정하고, 상기 배경 기체 온도 조절부는, 상기 온도 보정 영역 내의 상기 배경 기체의 온도를 상기 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정할 수 있다.Here, the model generator sets a temperature correction area of the background gas at the top of the chamber, and the background gas temperature controller adjusts the temperature of the background gas in the temperature correction area to match the temperature in the chamber .

여기서, 상기 배경 기체의 온도 보정 영역은, 상기 제거 영역을 포함하되, 상기 제거 영역보다 큰 영역일 수 있다.Here, the temperature correction region of the background gas may include a region that is larger than the removal region, including the removal region.

또한, 상기 약액은 IPA일 수 있다.Further, the chemical liquid may be IPA.

한편, 본 발명의 일 실시 예에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법은, 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법에 있어서, 챔버 내 온도를 측정하는 단계, 상기 챔버 내에 배경 기체를 추가하여 상기 챔버 내의 압력을 제어하는 단계, 상기 챔버 내 약액의 증발량을 측정하는 단계, 상기 약액의 증발량에 기초하여 상기 약액의 증발된 분자수를 산출하는 단계 및 상기 챔버 내 온도 및 압력에 따른 상기 약액의 증발된 분자수를 데이터 베이스화하여, 상기 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of generating a predictive model of evaporation amount of a chemical liquid according to a process condition, the method comprising: measuring a temperature in a chamber; Controlling the pressure in the chamber, measuring the evaporation amount of the chemical solution in the chamber, calculating the evaporated molecular number of the chemical solution based on the evaporation amount of the chemical solution, and calculating the evaporated molecular number of the chemical solution according to the temperature and pressure in the chamber And generating a model of evaporation amount prediction of the chemical liquid according to the process conditions by converting the molecular numbers into a database.

여기서, 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법은, 상기 챔버 내의 압력을 제어하는 단계 이후, 상기 배경 기체의 온도를 기설정된 간격마다 상기 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정하는 단계를 더 포함할 수 있다.Here, the method of generating the predicted evaporation amount model of the chemical liquid may further include, after the step of controlling the pressure in the chamber, correcting the temperature of the background gas to match the temperature in the chamber at predetermined intervals.

여기서, 상기 챔버 내의 압력을 제어하는 단계는, 기저장된 상기 배경 기체의 특정 온도에 따른 밀도 및 상기 측정된 온도에 기초하여 상기 배경 기체의 분자수를 산출하는 단계를 포함할 수 있다.Here, the step of controlling the pressure in the chamber may include calculating the molecular number of the background gas based on the density and the measured temperature of the pre-stored background gas at a specific temperature.

여기서, 상기 챔버 내의 압력을 제어하는 단계는, 상기 챔버 내에 공급되는 상기 배경 기체의 분자수를 조절하여 상기 챔버 내의 압력을 제어할 수 있다.Here, the step of controlling the pressure in the chamber may control the pressure in the chamber by adjusting the molecular number of the background gas supplied into the chamber.

또한, 상기 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성하는 단계는, 상기 챔버의 상단에 제거 영역을 설정하는 단계 및 상기 제거 영역 내에서 상기 증발된 약액 분자를 제거하여, 상기 약액의 증발 현상을 구현하는 단계를 포함할 수 있다.The step of generating a predictive model of evaporation amount of the chemical solution according to the process conditions may include a step of setting a removal region at the top of the chamber and a step of removing the evaporated chemical molecules in the removal region, May be implemented.

여기서, 상기 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성하는 단계는, 상기 챔버의 상단에 상기 배경 기체의 온도 보정 영역을 설정하는 단계를 더 포함하고, 상기 챔버 내의 압력을 제어하는 단계는, 상기 온도 보정 영역 내의 상기 배경 기체의 온도를 상기 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정할 수 있다.Here, the step of generating the evaporation amount prediction model of the chemical liquid according to the process conditions may further include setting a temperature correction area of the background gas at the top of the chamber, and the step of controlling the pressure in the chamber may include: The temperature of the background gas in the temperature correction region can be corrected to coincide with the temperature in the chamber.

여기서, 상기 배경 기체의 온도 보정 영역은, 상기 제거 영역을 포함하되, 상기 제거 영역보다 큰 영역일 수 있다.Here, the temperature correction region of the background gas may include a region that is larger than the removal region, including the removal region.

또한, 상기 약액은 IPA일 수 있다.Further, the chemical liquid may be IPA.

이상과 같이 본 발명의 다양한 실시 예에 따르면, 챔버 내에 배경 기체를 추가하여 챔버 내의 압력을 제어할 수 있으므로, 챔버 내 온도뿐만 아니라 압력에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성할 수 있다.As described above, according to the various embodiments of the present invention, it is possible to control the pressure in the chamber by adding the background gas in the chamber, so that it is possible to generate the predicted evaporation amount of the chemical liquid depending on the pressure as well as the temperature in the chamber.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치의 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치의 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 배경 기체에 따른 약액의 증발된 분자수를 나타내는 그래프이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 다른 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법을 나타내는 흐름도이다.1 is a block diagram showing the construction of an apparatus for predicting the amount of chemical liquid evaporated according to an embodiment of the present invention.
2 is a block diagram showing the construction of an apparatus for predicting evaporation amount of a chemical liquid according to another embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a view for explaining a method of generating a model of evaporation amount prediction of a chemical solution according to an embodiment of the present invention.
4 is a graph showing the number of molecules of the chemical liquid evaporated according to the background gas according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a flowchart illustrating a method of generating a predicted evaporation amount model of a chemical liquid according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부되는 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치의 구성을 나타내는 블럭도이다.1 is a block diagram showing the construction of an apparatus for predicting the amount of chemical liquid evaporated according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치(100)는 온도 측정부(110), 압력 제어부(120), 약액 증발량 측정부(130) 및 모델 생성부(140)를 포함한다.Referring to FIG. 1, an apparatus 100 for predicting a chemical liquid evaporation amount includes a temperature measuring unit 110, a pressure controller 120, a chemical liquid evaporation amount measuring unit 130, and a model generating unit 140.

온도 측정부(110)는 챔버 내 온도를 측정한다. 일 예로, 온도 측정부(110)는 챔버 내 일측에 배치되는 온도 센서로 구현될 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않고, 온도 측정부(110)는 챔버의 외측에 배치될 수 있으며, 챔버 내 온도를 측정할 수 있는 다양한 측정 장치로 구현될 수 있다.The temperature measuring unit 110 measures the temperature in the chamber. For example, the temperature measuring unit 110 may be implemented as a temperature sensor disposed on one side of the chamber. However, the present invention is not limited to this, and the temperature measuring unit 110 may be disposed outside the chamber, and may be implemented by various measuring apparatuses capable of measuring the temperature in the chamber.

압력 제어부(120)는 챔버 내에 배경 기체를 추가하여 챔버 내의 압력을 제어한다. 구체적으로, 챔버 내 추가되는 배경 기체의 양을 조절하여 원하는 압력 조건을 구현할 수 있으며, 베이퍼(vapor) 영역에서 증발된 약액 분자 사이, 증발된 약액 분자와 배경 기체 분자 사이 및 배경 기체 분자 사이의 상호 작용에 의하여 약액의 증발량이 결정될 수 있다. 압력 제어부(120)는 기저장된 배경 기체의 특정 온도에 따른 밀도 및 온도 측정부(110)에서 측정되는 온도에 기초하여 배경 기체의 분자수를 산출하고, 챔버 내에 공급되는 배경 기체의 분자수를 조절하여 챔버 내의 압력을 제어할 수 있다. 예를 들어, 온도 측정부(110)에서 측정되는 온도에 대응되는 배경 기체의 밀도에 챔버의 부피를 곱한 값을 배경 기체의 한 분자당 질량으로 나누어 배경 기체의 분자 수를 산출할 수 있다.The pressure control unit 120 adds background gas in the chamber to control the pressure in the chamber. Specifically, the amount of the background gas added in the chamber can be adjusted to realize a desired pressure condition, and it is possible to achieve a desired pressure condition between vaporized chemical liquid molecules in the vapor region, between the vaporized chemical liquid molecules and the background gas molecules, The evaporation amount of the chemical liquid can be determined by the action. The pressure control unit 120 calculates the number of molecules of the background gas based on the density of the pre-stored background gas and the temperature measured by the temperature measurement unit 110, adjusts the number of molecules of the background gas supplied in the chamber, Can be controlled. For example, the number of molecules of the background gas can be calculated by dividing the density of the background gas corresponding to the temperature measured by the temperature measuring unit 110 by the volume of the chamber, divided by the mass per molecule of the background gas.

약액 증발량 측정부(130)는 챔버 내 약액의 증발량을 측정한다. 구체적으로, 약액 증발량 측정부(130)는 챔버 내 일측에 배치되는 센서로 구현되어 약액 증발량을 직접 측정하거나 베이퍼 영역에서 증발된 약액 분자 사이, 증발된 약액 분자와 배경 기체 분자 사이 및 배경 기체 분자 사이의 상호 작용에 기초하여 약액 증발량을 산출할 수 있다.The chemical liquid evaporation amount measurement unit 130 measures the evaporation amount of the chemical liquid in the chamber. Specifically, the chemical liquid evaporation amount measurement unit 130 is implemented as a sensor disposed on one side of the chamber to measure the chemical liquid evaporation amount directly or between the chemical liquid molecules evaporated in the vapor region, between the evaporated chemical liquid molecules and the background gas molecules, The amount of chemical liquid evaporation can be calculated based on the interaction of the chemical liquids.

모델 생성부(140)는 약액의 증발량에 기초하여 약액의 증발된 분자수를 산출하고, 챔버 내 온도 및 압력에 따른 약액의 증발된 분자수를 데이터 베이스화하여 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성할 수 있다. 일 예로, 제1 온도 및 제1 압력에 따른 약액의 증발된 분자수가 시간에 따라 변화하는 데이터를 저장하고, 제2 온도 및 제1 압력에 따른 약액의 증발된 분자수가 시간에 따라 변화하는 데이터, 제1 온도 및 제2 압력에 따른 약액의 증발된 분자수가 시간에 따라 변화하는 데이터, 제2 온도 및 제2 압력에 따른 약액의 증발된 분자수가 시간에 따라 변화하는 데이터를 저장하여, 온도와 압력의 변화에 따른 약액의 증발된 분자수의 변화를 데이터 베이스화할 수 있다. 이에 따라, 온도 및 압력의 변화에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성할 수 있다. 즉, 본 발명은 챔버 내 배경 기체를 추가하여 온도뿐만 아니라 압력의 변화에 따른 약액의 증발량을 측정할 수 있다.The model generation unit 140 calculates the evaporated molecular number of the chemical liquid based on the evaporation amount of the chemical liquid and creates a database for estimating the evaporation amount of the chemical liquid according to the processing conditions by converting the evaporated molecular numbers of the chemical liquid depending on the temperature and pressure in the chamber . In one example, data in which the evaporated molecular number of the chemical liquid varies with time according to the first temperature and the first pressure, data in which the evaporated molecular numbers of the chemical liquid with the second temperature and the first pressure change with time, Data in which the number of molecules of vaporized molecules of the chemical liquid varies with time in accordance with the first temperature and the second pressure, data in which the vaporized molecular number of the chemical liquid varies with time according to the second temperature and the second pressure, The change in the molecular number of the chemical solution due to the change of the chemical number can be converted into a database. Accordingly, it is possible to generate a predictive model of the evaporation amount of the chemical liquid according to the change of the temperature and the pressure. That is, the present invention can measure the evaporation amount of the chemical liquid as well as the temperature by adding the background gas in the chamber.

또한, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치(100')는 도 2와 같이, 배경 기체 온도 조절부(150)를 더 포함할 수 있다.In addition, the apparatus 100 'for predicting the amount of chemical solution vapor according to another embodiment of the present invention may further include a background gas temperature controller 150 as shown in FIG.

배경 기체 온도 조절부(150)는 챔버 내에 추가되는 배경 기체의 온도를 기설정된 간격마다 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정할 수 있다. 이에 따라, 배경 기체와 약액의 표면 사이의 온도 차이가 약액의 증발량에 미치는 영향을 최소화할 수 있다.The background gas temperature regulator 150 may correct the temperature of the background gas added in the chamber to match the temperature in the chamber at predetermined intervals. Thus, the effect of the temperature difference between the background gas and the surface of the chemical liquid on the evaporation amount of the chemical liquid can be minimized.

모델 생성부(140)는 챔버의 상단에 제거 영역을 설정하고, 제거 영역 내에서 증발된 약액 분자를 제거하여, 약액의 증발 현상을 구현할 수 있다. 또한, 모델 생성부(140)는 챔버의 상단에 배경 기체의 온도 보정 영역을 설정할 수 있으며, 배경 기체 온도 조절부(150)는 온도 보정 영역 내의 배경 기체의 온도를 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정할 수 있다. 즉, 배경 기체 온도 조절부(150)는 챔버 내 모든 배경 기체의 온도를 조절하지 않고, 온도 보정 영역 내의 배경 기체의 온도를 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정하므로, 배경 기체의 온도 보정이 약액의 표면에 미치는 영향을 최소화할 수 있다.The model generation unit 140 may set the removal region at the top of the chamber and remove the evaporated chemical molecules in the removal region to realize the evaporation phenomenon of the chemical liquid. Also, the model generator 140 may set a temperature correction area of the background gas at the top of the chamber, and the background gas temperature controller 150 may correct the temperature of the background gas in the temperature correction area to match the temperature in the chamber . In other words, the background gas temperature regulator 150 does not adjust the temperature of all the background gases in the chamber and corrects the temperature of the background gas in the temperature correction region to match the temperature in the chamber, Can be minimized.

또한, 압력 제어부(120)는 기저장된 배경 기체의 특정 온도에 따른 밀도 및 온도 측정부(110)에서 측정되는 온도에 기초하여 배경 기체의 분자수를 산출하는 배경 기체 분자수 산출부(121)를 포함할 수 있다.The pressure control unit 120 includes a background gas molecule number calculation unit 121 that calculates the molecular number of the background gas based on the density of the background gas stored in advance and the temperature measured by the temperature measurement unit 110 .

일 예로, 모델 생성부(140)는 도 3과 같은 약액의 증발량 예측 모델을 생성할 수 있다. 챔버(200)의 하단에서 약액의 온도를 제어하고, 챔버의 상단에는 증발된 약액 분자를 제거하는 제거 영역(240)을 설정할 수 있다. 또한, 배경 기체(220)의 온도를 챔버(200) 내의 온도와 일치하도록 배경 기체의 온도를 보정하는 배경 기체(220)의 온도 보정 영역(250)을 설정할 수 있다. 즉, 챔버(200) 내 모든 배경 기체(220)의 온도를 조절하지 않고, 온도 보정 영역(250) 내의 배경 기체(220)의 온도를 챔버(200) 내의 온도와 일치하도록 보정하므로, 배경 기체(220)의 온도 보정이 약액의 표면에 미치는 영향을 최소화할 수 있다.For example, the model generating unit 140 may generate a chemical vapor evaporation prediction model as shown in FIG. The temperature of the chemical liquid is controlled at the lower end of the chamber 200 and the removal region 240 for removing the vaporized chemical liquid molecules can be set at the upper end of the chamber. The temperature correction region 250 of the background substrate 220, which corrects the temperature of the background gas so that the temperature of the background substrate 220 coincides with the temperature of the chamber 200, can be set. In other words, the temperature of the background gas 220 in the temperature correction region 250 is corrected to match the temperature in the chamber 200 without adjusting the temperature of all the background gases 220 in the chamber 200, 220) on the surface of the chemical liquid can be minimized.

여기서, 배경 기체(220)의 온도 보정 영역(250)은 제거 영역(240)을 포함할 수 있으며, 제거 영역(240)보다 크게 설정될 수 있다.Here, the temperature correction region 250 of the background substrate 220 may include a removal region 240 and may be set larger than the removal region 240.

모델 생성부(140)는 특정 온도 및 압력하에서 약액의 증발된 분자수가 시간에 따라 변화하는 데이터에 기초하여 도 4와 같은 그래프를 생성할 수 있다. 예를 들어, 약액이 IPA이고, 챔버 내의 온도가 323K인 경우, 배경 기체의 압력에 따른 약액의 증발된 분자수의 변화량은 도 4와 같다. 즉, 배경 기체의 압력이 증가할 수록 약액의 증발된 분자수는 감소하게 된다. 즉, 본 발명은 챔버 내에 배경 기체를 추가하여 특정 압력 조건에서 약액의 증발량을 예측할 수 있는 약액의 증발량 예측 모델을 생성할 수 있다.The model generation unit 140 can generate the graph as shown in FIG. 4 based on data in which the evaporated molecular numbers of the chemical liquid change with time under a specific temperature and pressure. For example, when the chemical liquid is IPA and the temperature in the chamber is 323K, the amount of change in the evaporated molecular number of the chemical liquid depending on the pressure of the background gas is as shown in Fig. That is, as the pressure of the background gas increases, the vaporized molecular number of the chemical solution decreases. That is, the present invention can generate a vaporization prediction model of a chemical liquid that can predict the amount of chemical liquid evaporated under specific pressure conditions by adding a background gas in the chamber.

도 5는 본 발명의 일 실시 예에 다른 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법을 나타내는 흐름도이다.FIG. 5 is a flowchart illustrating a method of generating a predicted evaporation amount model of a chemical liquid according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 우선, 챔버 내 온도를 측정한다(S510).Referring to FIG. 5, first, the temperature in the chamber is measured (S510).

이어서, 챔버 내에 배경 기체를 추가하여 챔버 내의 압력을 제어한다(S520). 구체적으로, 기저장된 배경 기체의 특정 온도에 따른 밀도 및 측정된 온도에 기초하여 배경 기체의 분자수를 산출하고, 챔버 내에 공급되는 배경 기체의 분자수를 조절하여 챔버 내의 압력을 제어할 수 있다.A backside gas is then added to the chamber to control the pressure in the chamber (S520). Specifically, it is possible to calculate the molecular number of the background gas based on the density and the measured temperature of the pre-stored background gas, and to control the pressure in the chamber by controlling the number of molecules of the background gas supplied into the chamber.

이어서, 챔버 내 약액의 증발량을 측정한다(S530).Next, the evaporation amount of the chemical liquid in the chamber is measured (S530).

이어서, 약액의 증발량에 기초하여 약액의 증발된 분자수를 산출한다(S540).Subsequently, the evaporated molecular number of the chemical liquid is calculated based on the evaporation amount of the chemical liquid (S540).

이어서, 챔버 내 온도 및 압력에 따른 약액의 증발된 분자수를 데이터베이스화하여 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성한다(S540). 일 실시 예로, 챔버의 상단에 제거 영역을 설정하는 단계 및 제거 영역 내에서 증발된 약액 분자를 제거하여, 약액의 증발 현상을 구현하는 단계를 포함할 수 있다. 또한, S540 단계는 챔버의 상단에 배경 기체의 온도 보정 영역을 설정하는 단계를 더 포함할 수 있으며, S520 단계는 온도 보정 영역 내의 배경 기체의 온도를 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정할 수 있다. 여기서, 배경 기체의 온도 보정 영역은 제거 영역을 포함하되, 제거 영역보다 큰 영역일 수 있다.Subsequently, the evaporated molecular number of the chemical liquid according to the temperature and pressure in the chamber is converted into a database, and a model for predicting the chemical evaporation amount according to the process conditions is generated (S540). In one embodiment, the method may include the steps of setting a removal region at the top of the chamber and removing evaporated chemical molecules in the removal region, thereby realizing evaporation of the chemical liquid. The step S540 may further include setting a temperature correction area of the background gas at the top of the chamber, and step S520 may correct the temperature of the background gas in the temperature correction area to match the temperature in the chamber. Here, the temperature correction region of the background gas includes a removal region, but may be a region larger than the removal region.

이상과 같이 본 발명의 다양한 실시 예에 따르면, 챔버 내에 배경 기체를 추가하여 챔버 내의 압력을 제어할 수 있으므로, 챔버 내 온도뿐만 아니라 압력에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성할 수 있다.As described above, according to the various embodiments of the present invention, it is possible to control the pressure in the chamber by adding the background gas in the chamber, so that it is possible to generate the predicted evaporation amount of the chemical liquid depending on the pressure as well as the temperature in the chamber.

한편, 본 발명의 일 실시 예에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법을 순차적으로 수행하는 프로그램이 저장된 비일시적 컴퓨터 판독 가능 매체(non-transitory computer readable medium)가 제공될 수 있다.Meanwhile, a non-transitory computer readable medium storing a program for sequentially performing the method of predicting the evaporation amount of a chemical liquid according to an embodiment of the present invention may be provided.

비일시적 컴퓨터 판독 가능 매체란 레지스터, 캐쉬, 메모리 등과 같이 짧은 순간 동안 데이터를 저장하는 매체가 아니라 반영구적으로 데이터를 저장하며, 컴퓨터에 의해 판독(reading)이 가능한 매체를 의미한다. 구체적으로는, 상술한 다양한 어플리케이션 또는 프로그램들은 CD, DVD, 하드 디스크, 블루레이 디스크, USB, 메모리카드, ROM 등과 같은 비일시적 판독 가능 매체에 저장되어 제공될 수 있다.Non-transitory computer readable medium is not a medium for storing data for a short time such as a register, a cache, a memory, etc., but means a medium that semi-permanently stores data and is readable by a computer. In particular, the various applications or programs described above may be stored on non-volatile readable media such as CD, DVD, hard disk, Blu-ray disk, USB, memory card, ROM,

이상의 실시 예들은 본 발명의 이해를 돕기 위하여 제시된 것으로, 본 발명의 범위를 제한하지 않으며, 이로부터 다양한 변형 가능한 실시 예들도 본 발명의 범위에 속할 수 있음을 이해하여야 한다. 예를 들어, 본 발명의 실시 예에 도시된 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 반대로 여러 개로 분산된 구성 요소들은 결합되어 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이며, 본 발명의 기술적 보호범위는 특허청구범위의 문언적 기재 그 자체로 한정되는 것이 아니라 실질적으로는 기술적 가치가 균등한 범주의 발명에 대하여까지 미치는 것임을 이해하여야 한다.It is to be understood that the above-described embodiments are provided to facilitate understanding of the present invention, and do not limit the scope of the present invention, and it is to be understood that various modified embodiments may be included within the scope of the present invention. For example, each component shown in the embodiment of the present invention may be distributed and implemented, and conversely, a plurality of distributed components may be combined. Therefore, the technical protection scope of the present invention should be determined by the technical idea of the claims, and the technical protection scope of the present invention is not limited to the literary description of the claims, The invention of a category.

100: 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치
110: 온도 측정부
120: 압력 제어부
130: 약액 증발량 측정부
140: 모델 생성부100: Model generation device for predicting evaporation amount of chemical liquid
110: Temperature measuring unit
120:
130: chemical liquid evaporation amount measuring unit
140:

Claims (16)

공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치에 있어서,
챔버 내 온도를 측정하는 온도 측정부;
상기 챔버 내에 배경 기체를 추가하여 상기 챔버 내의 압력을 제어하는 압력 제어부;
상기 챔버 내 약액의 증발량을 측정하는 약액 증발량 측정부; 및
상기 약액의 증발량에 기초하여 상기 약액의 증발된 분자수를 산출하고, 상기 챔버 내 온도 및 압력에 따른 상기 약액의 증발된 분자수를 데이터 베이스화하여, 상기 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성하는 모델 생성부;를 포함하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치.An apparatus for predicting evaporation amount of a chemical liquid according to process conditions,
A temperature measuring unit for measuring a temperature in the chamber;
A pressure control unit for controlling a pressure in the chamber by adding a background gas in the chamber;
A chemical liquid evaporation amount measuring unit for measuring an evaporation amount of the chemical liquid in the chamber; And
A model for calculating the evaporated molecular number of the chemical liquid based on the evaporation amount of the chemical liquid and a database for calculating the evaporated molecular number of the chemical liquid according to the temperature and pressure in the chamber to generate an evaporation amount predicting model of the chemical liquid according to the processing conditions And a generating unit for generating a model of evaporation amount of the chemical liquid. 제1항에 있어서,
상기 배경 기체의 온도를 기설정된 간격마다 상기 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정하는 배경 기체 온도 조절부;를 더 포함하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치.The method according to claim 1,
And a background gas temperature regulator for correcting the temperature of the background gas to match the temperature in the chamber at predetermined intervals. 제2항에 있어서,
상기 압력 제어부는,
기저장된 상기 배경 기체의 특정 온도에 따른 밀도 및 상기 온도 측정부에서 측정되는 온도에 기초하여 상기 배경 기체의 분자수를 산출하는 배경 기체 분자수 산출부;를 포함하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치.3. The method of claim 2,
The pressure control unit includes:
And a background gas molecule number calculation unit for calculating the molecular number of the background gas based on the density of the background gas stored at a specific temperature and the temperature measured by the temperature measurement unit. 제3항에 있어서,
상기 압력 제어부는,
상기 챔버 내에 공급되는 상기 배경 기체의 분자수를 조절하여 상기 챔버 내의 압력을 제어하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치.The method of claim 3,
The pressure control unit includes:
And controlling the pressure in the chamber by controlling the number of molecules of the background gas supplied into the chamber. 제2항에 있어서,
상기 모델 생성부는,
상기 챔버의 상단에 제거 영역을 설정하고, 상기 제거 영역 내에서 상기 증발된 약액 분자를 제거하여, 상기 약액의 증발 현상을 구현하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치.3. The method of claim 2,
The model generation unit may generate,
An apparatus for generating a chemical liquid evaporation amount prediction model that sets a removal region at an upper end of the chamber and removes the vaporized chemical liquid molecules in the removal region to realize evaporation of the chemical liquid. 제5항에 있어서,
상기 모델 생성부는,
상기 챔버의 상단에 상기 배경 기체의 온도 보정 영역을 설정하고,
상기 배경 기체 온도 조절부는,
상기 온도 보정 영역 내의 상기 배경 기체의 온도를 상기 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치.6. The method of claim 5,
The model generation unit may generate,
Setting a temperature correction area of the background substrate at an upper end of the chamber,
Wherein the background gas temperature regulator comprises:
And corrects the temperature of the background gas in the temperature correction region to coincide with the temperature in the chamber. 제6항에 있어서,
상기 배경 기체의 온도 보정 영역은, 상기 제거 영역을 포함하되, 상기 제거 영역보다 큰 영역인 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치.The method according to claim 6,
Wherein the temperature correction region of the background gas is a region including the removal region, the region being larger than the removal region. 제1항에 있어서,
상기 약액은 IPA인 약액의 증발량 예측 모델 생성 장치.The method according to claim 1,
Wherein the chemical liquid is IPA. 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법에 있어서,
챔버 내 온도를 측정하는 단계;
상기 챔버 내에 배경 기체를 추가하여 상기 챔버 내의 압력을 제어하는 단계;
상기 챔버 내 약액의 증발량을 측정하는 단계;
상기 약액의 증발량에 기초하여 상기 약액의 증발된 분자수를 산출하는 단계; 및
상기 챔버 내 온도 및 압력에 따른 상기 약액의 증발된 분자수를 데이터 베이스화하여, 상기 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성하는 단계;를 포함하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법.A method for predicting evaporation amount of a chemical liquid according to a process condition,
Measuring a temperature in the chamber;
Adding a background gas in the chamber to control the pressure in the chamber;
Measuring an evaporation amount of the chemical liquid in the chamber;
Calculating an evaporated molecular number of the chemical liquid based on the evaporation amount of the chemical liquid; And
And calculating a vaporization amount prediction model of the chemical liquid based on the process conditions by databaseing the evaporated molecular numbers of the chemical liquid according to the temperature and pressure in the chamber. 제9항에 있어서,
상기 챔버 내의 압력을 제어하는 단계 이후, 상기 배경 기체의 온도를 기설정된 간격마다 상기 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정하는 단계;를 더 포함하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법.10. The method of claim 9,
And correcting the temperature of the background gas so that the temperature of the background gas coincides with the temperature in the chamber at a predetermined interval after the step of controlling the pressure in the chamber. 제10항에 있어서,
상기 챔버 내의 압력을 제어하는 단계는,
기저장된 상기 배경 기체의 특정 온도에 따른 밀도 및 상기 측정된 온도에 기초하여 상기 배경 기체의 분자수를 산출하는 단계;를 포함하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법.11. The method of claim 10,
Wherein controlling the pressure in the chamber comprises:
And calculating the molecular number of the background gas based on the density of the pre-stored background gas at a specific temperature and the measured temperature. 제11항에 있어서,
상기 챔버 내의 압력을 제어하는 단계는,
상기 챔버 내에 공급되는 상기 배경 기체의 분자수를 조절하여 상기 챔버 내의 압력을 제어하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법.12. The method of claim 11,
Wherein controlling the pressure in the chamber comprises:
And controlling a pressure in the chamber by controlling a molecular number of the background gas supplied into the chamber. 제10항에 있어서,
상기 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성하는 단계는,
상기 챔버의 상단에 제거 영역을 설정하는 단계; 및
상기 제거 영역 내에서 상기 증발된 약액 분자를 제거하여, 상기 약액의 증발 현상을 구현하는 단계;를 포함하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법.11. The method of claim 10,
Wherein the step of generating the evaporation amount prediction model of the chemical liquid according to the process conditions comprises:
Setting a removal area at the top of the chamber; And
And removing the vaporized chemical liquid molecules in the removal region to realize an evaporation phenomenon of the chemical liquid. 제13항에 있어서,
상기 공정 조건에 따른 약액의 증발량 예측 모델을 생성하는 단계는,
상기 챔버의 상단에 상기 배경 기체의 온도 보정 영역을 설정하는 단계;를 더 포함하고,
상기 챔버 내의 압력을 제어하는 단계는,
상기 온도 보정 영역 내의 상기 배경 기체의 온도를 상기 챔버 내의 온도와 일치하도록 보정하는 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법.14. The method of claim 13,
Wherein the step of generating the evaporation amount prediction model of the chemical liquid according to the process conditions comprises:
And setting a temperature correction region of the background gas at the top of the chamber,
Wherein controlling the pressure in the chamber comprises:
And correcting the temperature of the background gas in the temperature correction region to coincide with the temperature in the chamber. 제14항에 있어서,
상기 배경 기체의 온도 보정 영역은, 상기 제거 영역을 포함하되, 상기 제거 영역보다 큰 영역인 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법.15. The method of claim 14,
Wherein the temperature correction region of the background gas is a region including the removal region but larger than the removal region. 제9항에 있어서,
상기 약액은 IPA인 약액의 증발량 예측 모델 생성 방법.


10. The method of claim 9,
Wherein the chemical liquid is IPA.


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