KR20190047321A - Apparatus for treating substrate - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 포토 마스크 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photomask processing apparatus.
포토 마스크(또는, 리소그라피 마스크(lithography mask), 레티클(reticle))은 감광막 패턴을 전사하기 위해 사용된다. 이러한 포토 마스크가 리소그라피 스테이션, 공정 스테이션, 저장 스테이션 사이를 이동할 때, 포토 마스크는 컨테이너(container)(또는, 캐리어(carrier), 카세트(cassette))에 보관되어 이동된다.A photomask (or a lithography mask, a reticle) is used to transfer the photoresist pattern. When such a photomask moves between a lithography station, a processing station and a storage station, the photomask is stored and transported in a container (or carrier, cassette).
한편, 포토 마스크와 관련된 정보(즉, 식별 정보(identification information))는 포토 마스크 자체에 기계 가독 형태(machine readable type)로 표시된다. 여기서, 기계 가독 형태는 바코드, OCR 등일 수 있다. 따라서, 포토 마스크를 식별하기 위해서, 포토 마스크에 대한 비전 검사(vision inspection)를 해야 한다. 마스크 소터 시스템(mask sorter system)은 컨테이너를 오픈하여 포토 마스크를 꺼내고, 이러한 비전 검사를 수행한다. Meanwhile, the information related to the photomask (i.e., identification information) is displayed in a machine readable type in the photomask itself. Here, the machine readable form may be barcode, OCR, and the like. Therefore, in order to identify the photomask, vision inspection of the photomask should be performed. The mask sorter system opens the container to take out the photomask and performs such vision inspection.
한편, 포토 마스크는 다양한 종류의 컨테이너에 의해 보관되고 이동될 수 있다. 예를 들어, RSP(Reticle SMIF POD) 또는 EUV 레티클 포드 등에 보관될 수 있다. 따라서, 다양한 종류의 컨테이너로 이동된 포토 마스크에 대응하여, 비전 검사를 수행할 수 있는 포토 마스크 처리 장치(마스크 소터 시스템)의 개발이 필요하다. On the other hand, the photomask can be stored and moved by various kinds of containers. For example, RSP (Reticle SMIF POD) or EUV reticle pods. Accordingly, it is necessary to develop a photomask processing apparatus (mask sorter system) capable of performing vision inspection corresponding to photomasks moved to various kinds of containers.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 다양한 종류의 컨테이너로 이동된 포토 마스크를 처리할 수 있는 포토 마스크 처리 장치를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a photomask processing apparatus capable of processing a photomask moved to various types of containers.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 포토 마스크 처리 장치의 일 면(aspect)은, 포토 마스크가 내부에 보관된 컨테이너를 제공받고, 상기 컨테이너를 오픈하여 상기 포토 마스크를 노출시키는 로딩 영역; 상기 로딩 영역과 연결되고, 상기 노출된 포토 마스크와 관련된 정보를 리드하여, 상기 포토 마스크의 종류를 판단하는 검사 영역; 및 상기 로딩 영역 및 검사 영역을 제어하는 제어 모듈을 포함하되, 상기 제어 모듈은, 상기 컨테이너가 제1 종류에 해당하는지 제2 종류에 해당하는지를 체크하고, 상기 컨테이너가 제1 종류인 경우 제1 순서에 따라 상기 컨테이너를 오픈하고, 상기 컨테이너가 제2 종류인 경우 상기 제1 순서와 다른 제2 순서에 따라 상기 컨테이너를 오픈하도록 제어하는 것을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a photomask processing apparatus comprising: a loading region which is provided with a container in which a photomask is stored and exposes the photomask by opening the container; An inspection area connected to the loading area and reading information related to the exposed photomask to determine the type of the photomask; And a control module for controlling the loading area and the inspection area, wherein the control module checks whether the container corresponds to the first kind or the second kind, and when the container is the first kind, And opening the container according to a second order different from the first order when the container is of the second kind.
상기 로딩 영역은 상기 컨테이너가 안착되는 플레이트와, 상기 플레이트 상에 설치되어 상기 컨테이너의 사이즈를 확인하기 위한 센서 모듈을 포함하고, 상기 제어 모듈은, 상기 컨테이너의 사이즈를 통해서 상기 컨테이너의 종류를 체크한다. The loading area includes a plate on which the container is placed and a sensor module installed on the plate to check the size of the container. The control module checks the type of the container through the size of the container .
상기 로딩 영역은 서로 이격되어 배치된 제1 안테나와 제2 안테나를 더 포함하되, 상기 제1 안테나는 상기 제1 종류의 컨테이너 내에 설치된 제1 태그와 통신하고, 상기 제2 안테나는 상기 제2 종류의 컨테이너 내에 설치된 제2 태그와 통신하고, 상기 제어 모듈은 상기 제1 안테나와 상기 제1 태그의 통신 결과 또는 상기 제2 안테나와 상기 제2 태그의 통신 결과에 따라, 상기 컨테이너의 종류를 체크한다. Wherein the loading area further comprises a first antenna and a second antenna spaced apart from each other, wherein the first antenna communicates with a first tag installed in the first type of container, and the second antenna communicates with the second type And the control module checks the type of the container according to the communication result of the first antenna and the first tag or the communication result of the second antenna and the second tag .
상기 제1 종류의 컨테이너는, 제1 아우터 베이스, 제1 아우터 커버, 이너 베이스 및 이너 커버를 포함하되, 상기 제1 아우터 베이스와 상기 제1 아우터 커버에 의해 정의된 제1 보관 공간 내에 상기 이너 베이스와 상기 이너 커버가 배치되고, 상기 이너 베이스와 상기 이너 커버 내에 포토 마스크가 보관되고, 상기 제2 종류의 컨테이너는, 제2 아우터 베이스 및 제2 아우터 커버를 포함하되, 제2 아우터 베이스 및 제2 아우터 커버에 의해 정의된 제2 보관 공간 내에 포토 마스크가 보관된다. Wherein the first type of container includes a first outer base, a first outer cover, an inner base, and an inner cover, wherein the first inner base and the inner cover define a first storage space defined by the first outer base and the first outer cover, And the inner cover and the photomask are stored in the inner base and the inner cover, and the second type of container includes a second outer base and a second outer cover, wherein the second outer base and the second outer cover The photomask is stored in the second storage space defined by the outer cover.
상기 로딩 영역은 상기 컨테이너가 안착되며, 이동가능한 플레이트와, 상기 컨테이너의 아우터 커버를 그립(grip)하기 위한 제1 그립퍼와, 상기 컨테이너의 이너 커버를 그립하기 위한 제2 그립퍼를 포함한다. The loading area includes a movable plate, a first gripper for gripping the outer cover of the container, and a second gripper for gripping the inner cover of the container.
상기 컨테이너가 제1 종류인 경우, 상기 제1 그립퍼와 상기 제2 그립퍼를 사용하여 상기 아우터 커버와 상기 이너 커버를 오픈함으로써 상기 포토 마스크를 노출시키고, 상기 컨테이너가 제2 종류인 경우, 상기 제1 그립퍼를 사용하고 상기 제2 그립퍼는 미사용함으로써, 상기 아우터 커버를 오픈함으로써 상기 포토 마스크를 노출시킨다. Exposing the photomask by opening the outer cover and the inner cover using the first gripper and the second gripper when the container is of the first type and when the container is of the second kind, By using a gripper and disposing the second gripper, the photomask is exposed by opening the outer cover.
상기 제1 종류의 컨테이너는, 제1 아우터 베이스, 제1 아우터 커버, 이너 베이스 및 이너 커버를 포함하고, 상기 제1 순서는, 상기 컨테이너가 안착된 플레이트가 제1 위치에 있을 때, 상기 제1 그립퍼는 상기 제1 아우터 커버를 그립하고, 상기 플레이트가 상기 제1 위치에서, 상기 제1 위치보다 낮은 제2 위치로 이동함으로써, 상기 제1 아우터 커버를 오픈하고, 상기 플레이트가 상기 제2 위치에 있을 때, 상기 제2 그립퍼는 상기 이너 커버를 그립하고, 상기 플레이트가 상기 제2 위치에서, 상기 제2 위치보다 낮은 제3 위치로 이동함으로써, 상기 이너 커버를 오픈하여 상기 포토 마스크를 노출하는 것을 포함한다.Wherein the first type of container includes a first outer base, a first outer cover, an inner base, and an inner cover, wherein the first order is set such that when the plate on which the container is placed is in the first position, The gripper grips the first outer cover, and the plate is moved from the first position to a second position lower than the first position to open the first outer cover, and the plate is moved to the second position The second gripper grips the inner cover and moves the plate from the second position to a third position lower than the second position to open the inner cover to expose the photomask .
상기 로딩 영역은, 상기 노출된 포토 마스크를 그립하기 위한 제3 그립퍼를 더 포함하고, 상기 제1 순서는, 상기 플레이트가 상기 제3 위치에서, 상기 제3 그립퍼가 상기 노출된 포토 마스크를 그립(grip)하고, 상기 제3 그립퍼가 상기 노출된 포토 마스크를 그립한 후에, 상기 플레이트는 상기 제3 위치보다 더 낮은 제4 위치로 이동하는 것을 더 포함한다. Wherein the loading region further comprises a third gripper for gripping the exposed photomask, wherein the first order is selected such that the plate is held in the third position and the third gripper grips the exposed photomask gripping the exposed photomask after the third gripper grips the exposed photomask and moving the plate to a fourth position lower than the third position.
상기 제2 종류의 컨테이너는, 제2 아우터 베이스 및 제2 아우터 커버를 포함하고, 상기 제2순서는, 상기 컨테이너가 안착된 플레이트가 제1 위치에 있을 때, 상기 제1 그립퍼는 상기 제2 아우터 커버를 홀드하고, 상기 플레이트가 상기 제1 위치에서, 상기 제1 위치보다 낮은 상기 제3 위치로 이동함으로써, 상기 제2 아우터 커버를 오픈하여 상기 포토 마스크를 노출하고, 상기 포토 마스크가 노출된 후에, 제3 그립퍼가 상기 노출된 포토 마스크를 그립하고, 상기 제3 그립퍼가 상기 노출된 포토 마스크를 그립한 후에, 상기 플레이트는 상기 제3 위치보다 더 낮은 제4 위치로 이동하는 것을 포함한다.Wherein the second type of container includes a second outer base and a second outer cover, and the second order is such that when the plate on which the container is mounted is in the first position, The cover is held and the plate is moved from the first position to the third position lower than the first position so that the second outer cover is opened to expose the photomask and after the photomask is exposed , A third gripper grips the exposed photomask, and after the third gripper grips the exposed photomask, the plate moves to a fourth position lower than the third position.
상기 검사 영역은 상기 노출된 포토 마스크를 이송하는 이송 로봇과, 상기 이송된 포토 마스크의 방향을 회전시키는 얼라이너와, 상기 이송된 포토 마스크를 반전시키는 반전 모듈과, 상기 이송된 포토 마스크로부터 정보를 획득하거나, 검사하기 위한 비전 모듈을 포함한다. Wherein the inspection area comprises a transfer robot for transferring the exposed photomask, an aligner for rotating the direction of the transferred photomask, an inversion module for inverting the transferred photomask, and a controller for acquiring information from the transferred photomask Or a vision module for inspection.
상기 비전 모듈은 상기 포토 마스크의 이미지를 생성하고, 상기 제어 모듈은 상기 포토 마스크의 이미지를 통해서, 상기 포토 마스크의 종류를 검사하는 것을 포함한다. The vision module generates an image of the photomask, and the control module includes examining the type of the photomask through an image of the photomask.
상기 포토 마스크는, 펠리클 프레임(pellicle frame)이 설치된 포토 마스크일 수 있다. The photomask may be a photomask provided with a pellicle frame.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 포토 마스크 처리 장치의 다른 면(aspect)은, 포토 마스크가 내부에 보관된 컨테이너를 제공받고, 상기 컨테이너를 오픈하여 상기 포토 마스크를 노출시키는 로딩 영역; 상기 로딩 영역과 연결되고, 상기 노출된 포토 마스크와 관련된 정보를 리드하여, 상기 포토 마스크의 종류를 판단하는 검사 영역; 및 상기 로딩 영역 및 검사 영역을 제어하는 제어 모듈을 포함하되, 상기 로딩 영역은, 상기 컨테이너가 안착되며, 상하로 이동가능한 플레이트와, 상기 플레이트의 이동 공간의 주변에 형성된 제1 패널과, 상기 플레이트의 이동 공간의 주변에 형성되고, 상기 제1 패널의 아래에 설치된 제2 패널과, 상기 제1 패널 상에 설치되어 아우터 커버를 그립하는 제1 그립퍼와, 상기 제2 패널 상에 설치되어 이너 커버를 그립하는 제2 그립퍼와, 상기 제2 패널 상에 설치되고, 상기 제2 그립퍼보다 하부에 설치되며 포토 마스크를 그립하는 제3 그립퍼를 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a photomask processing apparatus comprising: a loading region provided with a container in which a photomask is stored and exposing the photomask by opening the container; An inspection area connected to the loading area and reading information related to the exposed photomask to determine the type of the photomask; And a control module for controlling the loading area and the inspection area, wherein the loading area includes: a plate on which the container is mounted, the plate being movable up and down; a first panel formed around the moving space of the plate; A second panel provided below the first panel and formed on the periphery of the moving space of the first panel, a first gripper installed on the first panel and gripping the outer cover, And a third gripper provided on the second panel and provided below the second gripper for gripping the photomask.
상기 제어 모듈은 상기 포토 마스크의 종류에 따라서, 상기 제2 그립퍼의 사용 여부를 결정한다. The control module determines whether or not the second gripper is used according to the type of the photomask.
상기 로딩 영역은, 상기 제1 패널 상에, 상기 이동 공간을 중심으로 제1 방향의 양측에 설치되고, 상기 컨테이너에 내장된 태크와 통신하기 위한 제1 안테나와 제2 안테나를 더 포함한다. The loading area further includes a first antenna and a second antenna disposed on both sides of the moving space in the first direction on the first panel and communicating with a tag embedded in the container.
상기 제1 그립퍼는, 상기 제1 패널 상에, 상기 이동 공간을 중심으로 제2 방향의 양측에 설치된다.The first gripper is provided on both sides of the first panel in the second direction around the moving space.
상기 제2 그립퍼는, 상기 제2 패널 상에, 상기 이동 공간을 중심으로 상기 제1 방향의 양측에 설치되어 상기 이너 커버의 상기 제1 방향의 양측을 그립하고 상기 제3 그립퍼는, 상기 제2 패널 상에, 상기 이동 공간을 중심으로 상기 제1 방향의 양측에 설치되어 상기 포토 마스크의 상기 제1 방향의 양측을 그립한다. Wherein the second gripper is provided on both sides of the moving space in the first direction on the second panel so as to grip both sides of the inner cover in the first direction and the third gripper grips the second On both sides of the moving space in the first direction on the panel to grip both sides of the photomask in the first direction.
상기 제2 패널은 상기 제1 방향으로 길게 연장된 제1 부분과, 상기 제1 부분에서 분지되어 상기 제2 방향으로 길게 연장된 제2 부분을 포함하고, 상기 제2 그립퍼는 상기 제1 부분에 설치하기 위한 설치부와, 상기 설치부로부터 분지되어 상기 제2 방향으로 길게 연장된 제1 연장부와, 상기 제1 연장부에 설치되어 상기 이너 커버와 접촉하는 제1 접촉부를 포함하고, 상기 제3 그립퍼는 상기 제2 부분에 설치되고 상기 제2 방향으로 길게 연장된 제2 연장부와, 상기 제2 연장부의 하부에 설치되어 상기 포토 마스크와 접촉하는 제2 접촉부를 포함한다. Wherein the second panel includes a first portion extending lengthwise in the first direction and a second portion branched at the first portion and elongated in the second direction, A first extending portion branched from the mounting portion and elongated in the second direction; and a first contact portion provided in the first extending portion and contacting the inner cover, 3 gripper includes a second extension portion provided on the second portion and extended in the second direction and a second contact portion provided below the second extension portion and contacting the photomask.
상기 제2 연장부와 상기 제1 연장부 사이의 수직 거리보다, 상기 제2 접촉부와 상기 제1 접촉부 사이의 수직 거리가 더 길다.The vertical distance between the second contact portion and the first contact portion is longer than the vertical distance between the second extending portion and the first extending portion.
상기 로딩 영역은, 상기 플레이트 상에 설치되고, 상기 컨테이너가 제1 사이즈인지 확인하기 위해 제1 간격을 두고 배치된 한 쌍의 제1 센서를 포함하는 제1 센서 모듈과, 상기 플레이트 상에 설치되고, 상기 컨테이너가 제2 사이즈인지 확인하기 위해 제2 간격을 두고 배치된 한 쌍의 제2 센서를 포함하는 제2 센서 모듈을 포함한다. Wherein the loading area comprises a first sensor module mounted on the plate and including a pair of first sensors disposed at a first distance to ensure that the container is of a first size, And a second sensor module including a pair of second sensors disposed at a second interval to determine whether the container is of a second size.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 포토 마스크 처리 장치의 예시적인 사시도, 평면도 및 블록도이다.
도 4 및 도 5는 각각 제1 종류의 컨테이너(EUV 레티클 포드)를 설명하기 위한 사시도 및 분해사시도이다.
도 6 및 도 7은 각각 제2 종류의 컨테이너(RSP)를 설명하기 위한 사시도 및 평면도이다.
도 8은 도 2에 도시된 포토 마스크 처리 장치의 로딩 영역을 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 승강 유닛을 설명하기 위한 도면이다.
도 10 및 도 11은 제1 종류의 컨테이너를 오픈하는 제1 순서를 설명하기 위한 개념도 및 순서도이다.
도 12 및 도 13은 제2 종류의 컨테이너를 오픈하는 제2 순서를 설명하기 위한 개념도 및 순서도이다.
도 14 및 도 15는 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 포토 마스크 처리 장치에 사용되는 로딩 영역을 설명하기 위한 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 is an exemplary perspective, plan view, and block diagram of a photomask processing apparatus in accordance with some embodiments of the present invention.
4 and 5 are a perspective view and an exploded perspective view for explaining a first type of container (EUV reticle pod), respectively.
6 and 7 are a perspective view and a plan view for explaining a container RSP of the second kind, respectively.
FIG. 8 is a view for explaining a loading area of the photomask processing apparatus shown in FIG. 2. FIG.
9 is a view for explaining an elevating unit.
Figs. 10 and 11 are a conceptual diagram and a flowchart for explaining a first procedure for opening a first type of container. Fig.
12 and 13 are a conceptual diagram and a flowchart for explaining a second procedure for opening a container of the second kind.
14 and 15 are views for explaining a loading area used in a photomask processing apparatus according to some embodiments of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.
소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층의 "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 다른 소자 또는 층의 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다.It is to be understood that when an element or layer is referred to as being " on " or " on " of another element or layer, All included. On the other hand, a device being referred to as " directly on " or " directly above " indicates that no other device or layer is interposed in between.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)" 또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.The terms spatially relative, "below", "beneath", "lower", "above", "upper" May be used to readily describe a device or a relationship of components to other devices or components. Spatially relative terms should be understood to include, in addition to the orientation shown in the drawings, terms that include different orientations of the device during use or operation. For example, when inverting an element shown in the figures, an element described as "below" or "beneath" of another element may be placed "above" another element. Thus, the exemplary term " below " can include both downward and upward directions. The elements can also be oriented in different directions, so that spatially relative terms can be interpreted according to orientation.
비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various elements, components and / or sections, it is needless to say that these elements, components and / or sections are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one element, element or section from another element, element or section. Therefore, it goes without saying that the first element, the first element or the first section mentioned below may be the second element, the second element or the second section within the technical spirit of the present invention.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 다수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In this specification, the singular forms include plural forms unless otherwise specified in the text. It is noted that the terms "comprises" and / or "comprising" used in the specification are intended to be inclusive in a manner similar to the components, steps, operations, and / Or additions.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms (including technical and scientific terms) used herein may be used in a sense commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Also, commonly used predefined terms are not ideally or excessively interpreted unless explicitly defined otherwise.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어 도면 부호에 상관없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 제1 종류의 컨테이너를 지칭할 때에는 1100을, 제2 종류의 컨테이너를 지칭할 때에는 1200를 부여하고, 종류에 관계없이 컨테이너를 지칭할 때에는 1001 을 부여한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to the like elements throughout. A description thereof will be omitted. 1100 when designating a first type of container, 1200 when designating a second type of container, and 1001 when referring to a container regardless of the type.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 포토 마스크 처리 장치의 예시적인 사시도, 평면도 및 블록도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 is an exemplary perspective, plan view, and block diagram of a photomask processing apparatus in accordance with some embodiments of the present invention.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 포토 마스크 처리 장치는 로딩 영역(I), 검사 영역(II), 및 제어 모듈(600) 등을 포함한다.1 to 3, a photomask processing apparatus according to some embodiments of the present invention includes a loading area I, an inspection area II, and a
로딩 영역(I)은 예를 들어, 제1 방향(X)으로 길게 연장되도록 형성된다. 도시된 것과 같이, 로딩 영역(I) 내에는 다수의 로드 포트(100, 101)(예를 들어, 2개의 로드 포트)가 예를 들어, 제1 방향(X)으로 배치될 수 있다. The loading area I is formed to extend in the first direction X, for example. As shown, a plurality of
로딩 영역(I)은 다수의 로드 포트(100, 101)를 통해서, 포토 마스크(PM)가 내부에 보관된 컨테이너(container)(또는, 캐리어(carrier), 카세트(cassette))(1001)를 제공받는다. 이어서, 로딩 영역(I)은 컨테이너(1001)에 포함된 정보를 인식하여, 컨테이너(1001) 및/또는 포토 마스크(PM)와 관련된 정보를 리드(read)한다. 예를 들어, 로딩 영역(I)에서 컨테이너(1001)가 제1 종류에 해당하는지 제2 종류에 해당하는지를 체크할 수 있다. 컨테이너(1001)의 종류가 다르면, 컨테이너(1001) 내의 포토 마스크(PM)의 종류도 서로 다를 수 있다. 여기에서, 로딩 영역(I)은 서로 다른 종류의 다수의 컨테이너(1001)로부터 정보를 인식할 수 있도록, 다양한 종류의 리드 방법을 사용할 수 있다. 또는, 한 종류의 리드 방법을 다수회에 걸쳐서 사용할 수도 있다. The loading region I is provided with a
사용될 수 있는 컨테이너(1001)는 예를 들어, RSP(Reticle Standard mechanical interface Pod), EUV 레티클 포드(EUV reticle pod) 등일 수 있다. 이러한 컨테이너(1001)의 구체적인 설명은 도 4 내지 도 7을 참조하여 후술하도록 한다. RSP 에 보관되는 포토 마스크(즉, RSP 포토 마스크)와 EUV 레티클 포드에 보관되는 포토 마스크(즉, EUV 포토 마스크)는 서로 다를 수 있다. The
전술한 리드 동작을 통해서 컨테이너(1001) 및/또는 포토 마스크(PM)와 관련된 정보를 인식한 후에, 로딩 영역(I)은 인식된 정보에 따라서 서로 다른 순서로 컨테이너(1001)를 오픈할 수 있다. 컨테이너(1001)는 승강 유닛(110, 111)에 의해서 제3 방향(Z)으로(즉, 상하 방향으로) 이동할 수 있다. 컨테이너(1001)는 승강 유닛(110, 111)에 의해서 아래로 이동되면서, 컨테이너(1001)의 오픈 과정이 진행될 수 있다. 컨테이너(1001)가 오픈되면, 내부의 포토 마스크(PM)가 노출된다. 예를 들어, 컨테이너(도 4의 1100 참조)가 제1 종류인 경우, 제1 순서에 따라 오픈하고, 컨테이너(도 6의 1200 참조)가 제2 종류인 경우 제1 순서와 다른 제2 순서에 따라 오픈할 수 있다. 구체적인 순서는 도 10 내지 도 13을 참조하여 후술하도록 한다. After recognizing the information related to the
로딩 영역(I)과 검사 영역(II)은 제2 방향(Y)으로 접하도록 배치될 수 있다. 검사 영역(II)은, 예를 들어, 제1 방향(X)으로 길게 연장되도록 형성될 수 있다. The loading area I and the inspection area II may be arranged to contact with each other in the second direction Y. [ The inspection region II may be formed to extend in the first direction X, for example.
이러한 검사 영역(II)에는 이송 로봇(200), 얼라이너(aligner)(또는 로테이터(rotator))(300), 반전 모듈(400) 및 비전 모듈(500)을 포함할 수 있다. 여기서, 이송 로봇(200), 얼라이너(300), 반전 모듈(400) 및 비전 모듈(500) 등은 포토 마스크(PM)의 종류에 관계없이 사용될 수 있다. The inspection area II may include a
이송 로봇(200)은 포토 마스크(PM)를 그립(grip)하여, 포토 마스크(PM)를 로딩 영역(I)에서 검사 영역(II) 내부로 이송하거나, 반대로 포토 마스크(PM)를 검사 영역(II)에서 로딩 영역(I)으로 이송할 수 있다. 또는, 이송 로봇(200)은 검사 영역(II) 내에서 포토 마스크(PM)를 이송하는 데 사용할 수 있다. 이송 로봇(200)은 다수의 링크를 포함하여, 각 링크마다 개별 회전이 가능하다. 따라서 허용된 리치(reach) 범위 내에서는, 이송 로봇(200)은 전 방향으로 움직일 수 있고 다각도 제어가 가능하다. The
얼라이너(300)는 이송 로봇(200)으로부터 포토 마스크(PM)를 이송받고, 회전함으로써 포토 마스크(PM)의 방향을 정방향으로 정렬한다. 예를 들어, 컨테이너(1001)에 포토 마스크(PM)가 정방향으로 보관되어 있지 않았기 때문에 얼라이너(300)가 정방향이 아닌 포토 마스크(PM)를 전달받을 수 있다. 이러한 경우, 얼라이너(300)는 포토 마스크(PM)가 정방향이 되도록 회전한다. 얼라이너(300)는 예를 들어, 90도, 180도, 270도 회전할 수 있으나, 회전각도는 이에 한정되지 않는다. 얼라이너(300)는 포토 마스크(PM)를 에어 척(air chuck) 방식으로 홀드할 수 있다. 얼라이너(300)는 제3 방향(Z)으로(즉, 상하 방향으로) 이동할 수 있다.The
반전 모듈(400)은 포토 마스크(PM)를 반전시킨다. 즉, 반전 모듈(400)은 뒷면이 위로 향하는 포토 마스크(PM)를 반전시켜, 앞면이 위로 향하도록 할 수 있다. 반전 모듈(400)은 포토 마스크(PM)를 에어 척 방식으로 홀드할 수 있다.The
비전 모듈(500)은 포토 마스크(PM)를 촬영하여, 포토 마스크(PM)로부터 정보를 획득하거나 검사를 한다. 예를 들어, 포토 마스크(PM)의 종류를 확인하거나 포토 마스크(PM)의 위치(방향)을 검사한다.The
구체적으로, 얼라이너(300)에 포토 마스크(PM)가 안착되면, 비전 모듈(500)은 포토 마스크(PM)를 촬영하고 제어 모듈(600)은 촬영된 이미지(정지사진 및 동영상 포함)로부터 포토 마스크(PM)가 정방향으로 배치되어 있는지 확인한다. 정방향으로 배치되지 않은 경우 얼라이너(300)가 포토 마스크(PM)를 회전시킨다. 그 후, 비전 모듈(500)은 포토 마스크(PM)를 재촬영하여 다시 한번 정방향 배치를 확인한다.Specifically, when the photomask PM is placed on the
또는, 비전 모듈(500)이 포토 마스크(PM)를 촬영하고 제어 모듈(600)이 촬영된 이미지로부터 포토 마스크(PM)의 뒷면이 위로 향하고 있다고 판단한 경우, 반전 모듈(400)은 포토 마스크(PM)를 반전시킨다. 반전 시킨 후에는, 비전 모듈(500)은 포토 마스크(PM)를 재촬영할 수도 있고, 재촬영하지 않을 수도 있다. Or when the
또는, 비전 모듈(500)은 포토 마스크(PM)를 촬영하고, 제어 모듈(600)은 촬영된 이미지로부터 포토 마스크와 관련된 정보(즉, 식별 정보(identification information))를 얻을 수 있다. 식별 정보는 예를 들어, 트래킹 번호(tracking number), 유형 분류(type classification), 리소그라피 툴 분류(lithography tool classification)일 수 있다. 이러한 식별 정보는 포토 마스크(PM) 자체에 기계 가독 형태(machine readable type)으로 표시된다. 여기서, 기계 가독 형태는 바코드, OCR 등일 수 있다. 예를 들어, 제어 모듈(600)은 RSP 포토 마스크를 촬영한 이미지로부터 RSP 포토 마스크의 바코드, 얼라인 마크(align mark) 등을 인식한다. 또한, 제어 모듈(600)은 EUV 포토 마스크를 촬영한 이미지로부터, EUV 포토 마스크의 공통 쉐이딩(shading) 등을 인식할 수 있다. Alternatively, the
제어 모듈(600)의 내부 또는 제어 모듈(600)과 연결된 메모리에는, 포토 마스크(PM)와 관련된 정보가 저장되어 있다. 메모리에는, 예를 들어, 포토 마스크(PM)를 36종류로 구분해 두고, 각 종류마다의 특징이 저장되어 있다. 따라서, 제어 모듈(600)은 포토 마스크를 촬영한 이미지로부터 정보를 취득하고, 취득된 정보와 메모리에 저장된 정보와 비교하여, 포토 마스크의 종류를 확정할 수 있다. 이와 같이 확정된 포토 마스크(PM)의 종류에는, 펠리클 프레임(pellicle frame)이 설치된 포토 마스크일 수도 있다.Information related to the photomask (PM) is stored in the
또한, 제어 모듈(600)은 로딩 영역(I)과 검사 영역(II)을 제어한다. 이러한 제어 모듈(600)은 검사 영역(II) 내부에 설치될 수도 있다. 또한, 제어 서버와 무선 또는 유선으로 연결될 수 있다. 제어 서버는 설비 자동화를 위해서 공정 전체에 대한 정보를 가지는 상위 시스템이다. 따라서, 제어 서버는 이러한 정보를 기초로 제어 모듈(600)에 동작 명령을 내릴 수 있다. In addition, the
포토 마스크 처리 장치는 다양한 동작 모드로 동작할 수 있다. 예를 들어, 오토 모드(auto mode), 세미 오토 모드, 매뉴얼 모드 등이 있을 수 있다.The photomask processing apparatus can operate in various operation modes. For example, there may be an auto mode, a semi auto mode, a manual mode, and the like.
예를 들어, 오토 모드에서, 제어 모듈(600)은 제어 서버로부터 지시를 받고, 그 지시에 따라 로딩 영역(I) 및 검사 영역(II)을 제어할 수 있다.For example, in the AUTO mode, the
또한, 매뉴얼 모드에서, 제어 모듈(600)은 작업자에 의해 직접 지시를 받을 수 있다. 즉, 작업자는 제어판(660)을 통해서 구체적인 지시를 할 수 있다. 제어판(660)의 형태는 도시된 것과 같이, 포토 마스크 처리 장치(1)의 일측에 설치된 디스플레이 패널 형태일 수도 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 제어판(660)은 포토 마스크 처리 장치와 분리 가능하고, 유선 또는 무선의 통신을 통해서 제어 모듈(600)과 연결될 수도 있다. Also, in the manual mode, the
도 1을 참조하면, 로딩 영역(I)에는, 오버헤드 운반 로봇(Overhead Hoist Transport, OHT)에 의해 컨테이너(1001)가 운반 될 때, 오버헤드 운반 로봇이 컨테이너를 인입/인출하기 위한 컨테이너 입출구(800)가 설치된다. 1, when the
컨테이너(1001)를 인입/인출할 때, 오버헤드 운반 로봇은 로드 포트(100 또는 101)와 정확하게 정렬되어야 한다. 이를 위해서, 오버헤드 운반 로봇의 핀은 가이드 어셈블리(180, 181)의 가이드홀(180a, 181a)에 도킹(docking)된다. When loading / unloading the
도 4 내지 도 7을 참조하여, 포토 마스크를 이동하기 위한 컨테이너를 설명한다. 여기에서, EUV 레티클 포드와 RSP를 각각 설명하나, 다른 종류의 컨테이너가 사용될 수 있음은 당업자에게 자명하다.4 to 7, a container for moving the photomask will be described. Here, although the EUV reticle pod and the RSP are described respectively, it is apparent to those skilled in the art that other kinds of containers can be used.
도 4 및 도 5는 각각 제1 종류의 컨테이너(EUV 레티클 포드)를 설명하기 위한 사시도 및 분해사시도이다.4 and 5 are a perspective view and an exploded perspective view for explaining a first type of container (EUV reticle pod), respectively.
도 4 및 도 5를 참조하면, 제1 종류의 컨테이너(1100)는 듀얼 포드(duel pod) 형태로 설계된 것으로, 2겹의 쉘(shell)(1110a, 1112a)에 의해서 포토 마스크를 보호할 수 있다. 아우터 쉘(1110a)는 제1 아우터 베이스(1110), 제1 아우터 커버(1120)를 포함하고, 이너 쉘(1112a)은 이너 베이스(1112) 및 이너 커버(1122)를 포함한다. 제1 아우터 베이스(1110)와 제1 아우터 커버(1120)에 의해 정의된 제1 보관 공간 내에 이너 베이스(1112)와 이너 커버(1122)가 배치된다. 이너 베이스(1112)와 이너 커버(1122) 내에 포토 마스크가 보관된다. 포토 마스크는 2겹의 쉘에 의해서 보호되고 있으므로, 포토 마스크의 오염 확률이 낮아진다. 반면, 포토 마스크 처리 장치(1)에서 제1 종류의 컨테이너(1100)로부터 포토 마스크를 꺼내기 위해서는, 2겹의 쉘을 제거해야만 한다. 4 and 5, the first type of
한편, 제1 종류의 컨테이너(1100)에는 일측에 제1 태그(1130)(예를 들어, RFID 태그)가 설치된다. 포토 마스크 처리 장치(1)는 제1 태그(1130)와 통신함으로써, 컨테이너(1100)의 종류를 체크할 수 있다. On the other hand, a first tag 1130 (for example, an RFID tag) is installed on one side of the
도 6 및 도 7은 각각 제2 종류의 컨테이너(RSP)를 설명하기 위한 사시도 및 평면도이다.6 and 7 are a perspective view and a plan view for explaining a container RSP of the second kind, respectively.
도 6 및 도 7을 참조하면, 제2 종류의 컨테이너(1200)는 제2 아우터 베이스(1210) 및 제2 아우터 커버(1220)를 포함한다. 제2 아우터 베이스(1210) 및 제2 아우터 커버(1220)에 의해 정의된 제2 보관 공간 내에 포토 마스크가 보관된다. 즉, 제2 종류의 컨테이너(1200)는 싱글 포드(single pod) 형태로 설계된 것으로, 별도의 이너 쉘(inner shell)을 포함하지 않는다. 포토 마스크 처리 장치(1)가 제2 종류의 컨테이너(1200)로부터 포토 마스크를 꺼내기 위해서는 1겹의 쉘을 제거하면 된다. Referring to FIGS. 6 and 7, the second type of
한편, 제2 종류의 컨테이너(1200)에는 타측에 제2 태그(1230)(예를 들어, RFID 태그)가 설치된다. 포토 마스크 처리 장치(1)는 제2 태그(1230)와 통신함으로써, 컨테이너(1200)의 종류를 체크할 수 있다.On the other hand, a second tag 1230 (for example, an RFID tag) is provided on the other side of the
여기서, 도 4 및 도 7을 참조하면, 제1 태그(1130)는 제1 종류의 컨테이너(1100)의 일측(예를 들어, 왼쪽)에 설치된 반면, 제2 태그(1230)는 제2 종류의 컨테이너(1200)의 타측(예를 들어, 오른쪽)에 설치됨을 알 수 있다.4 and 7, the
도 8은 도 2에 도시된 포토 마스크 처리 장치의 로딩 영역을 설명하기 위한 도면이다. 도 9는 승강 유닛을 설명하기 위한 도면이다. 설명의 편의상, 도 8은 제1 로드 포트를 도시하고, 도 9는 도 8에 도시한 플레이트(150)를 제3 방향(Z)으로(상하로) 이동시키기 위한 승강 유닛을 도시한다. FIG. 8 is a view for explaining a loading area of the photomask processing apparatus shown in FIG. 2. FIG. 9 is a view for explaining an elevating unit. 8 shows a first load port, and Fig. 9 shows an elevating unit for moving the
도 8 및 도 9를 참조하면, 제1 로드 포트(100)는 플레이트(150), 승강 유닛(110), 다층의 패널(3100, 도 15의 3200 참조), 다수의 그립퍼(gripper)(161, 도 15의 162, 163 참조), 언락 유닛(unlock unit)(151), 제1 센서 모듈(156a, 156b), 제2 센서 모듈(155a, 155b), 제3 센서 모듈(152, 153), 제1 안테나(158), 제2 안테나(159) 등을 포함한다.8 and 9, the
플레이트(150)는 컨테이너(1001)가 안착되는 영역이고, 승강 유닛(110)에 의해서 플레이트(150)는 상하로 이동될 수 있다. The
플레이트(150) 상에는, 언락 유닛(151), 제1 센서 모듈(156a, 156b), 제2 센서 모듈(155a, 155b), 제3 센서 모듈(152, 153)이 배치될 수 있다. The
플레이트(150) 상에 컨테이너(1001)가 안착되면, 언락 유닛(151)이 컨테이너(1001)의 하부와 결합하고 회전한다. 그에 따라 컨테이너(1001)의 아우터 커버(예를 들어, 1120, 1220)를 오픈할 수 있다.When the
제3 센서 모듈(152, 153)은 컨테이너(1001)가 플레이트(150) 상에 안착되었는지를 확인하기 위한 것이다(즉, 존재 여부 확인). 예를 들어, 제3 센서 모듈(152, 153) 중 어느 하나(152)는 수직 방향을, 다른 하나(153)는 수직이 아닌 기울어진 방향을 센싱할 수 있다. The
제1 센서 모듈(156a, 156b), 제2 센서 모듈(155a, 155b)은 플레이트(150) 상에 안착되는 컨테이너(1001)의 사이즈를 확인하기 위한 것이다. 제어 모듈(600)은, 이와 같이 확인된 컨테이너(1001)의 사이즈를 통해서 컨테이너(1001)의 종류를 체크할 수 있다(즉, 1차 체크). 예를 들어, 제1 센서 모듈(156a, 156b)은 제1 종류의 컨테이너(예를 들어, EUV 레티클 포드)를 확인하고, 제2 센서 모듈(155a, 155b)은 제2 종류의 컨테이너(예를 들어, RSP)를 확인할 수 있다. 즉, 각 센서 모듈(156a, 156b, 155a, 155b)은 대응되는 컨테이너를 확인하기 위한 전용 모듈일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 제1 센서 모듈(156a, 156b)은 컨테이너(1001)가 제1 사이즈인지(즉, 제1 종류의 컨테이너(1100)인지) 확인하기 위해 제1 간격을 두고 배치된 한 쌍의 제1 센서(156a, 156b)를 포함한다. 제2 센서 모듈(155a, 155b)은 컨테이너(1001)가 제2 사이즈인지 확인하기 위해(즉, 제2 종류의 컨테이너(1200)인지) 제1 간격과 다른 제2 간격을 두고 배치된 한 쌍의 제2 센서(155a, 155b)를 포함한다.The
또한, 플레이트(150)의 주변에는(즉, 플레이트(150)의 이동 공간의 주변에는) 제1 패널(3100)이 형성된다. 플레이트(150)의 이동 공간의 주변에는, 다층의 패널(3100, 도 15의 3200 참조)이 배치된다. In addition, a
플레이트(150)의 주변에, 제1 패널(3100) 상에 서로 이격되어 배치된 제1 안테나(158)와 제2 안테나(159)를 더 포함한다. 구체적으로, 제1 안테나(158)와 제2 안테나(159)는 제1 패널(3100) 상에 플레이트(150)의 이동 공간을 중심으로 제1 방향(X)의 양측에 설치된다. 제1 안테나(158)는 플레이트(150)의 이동 공간을 중심으로 제1 방향(X)의 일측(즉, 도면에서 왼쪽)에 배치되고, 제2 안테나(159)는 플레이트(150)의 이동 공간을 중심으로 제1 방향(X)의 타측(즉, 도면에서 오른쪽)에 배치될 수 있다.And further includes a
도 4에 도시한 것과 같이, 제1 종류의 컨테이너(1100)에는 일측에 제1 태그(1130)(예를 들어, RFID 태그)가 설치된다. 따라서, 제1 안테나(158)는 제1 종류의 컨테이너(1100)의 제1 태그(1130)와 통신할 수 있다. 도 7에 도시한 것과 같이, 제2 종류의 컨테이너(1200)에는 타측에 제2 태그(1230)(예를 들어, RFID 태그)가 설치된다. 따라서, 제2 안테나(159)는 제2 종류의 컨테이너(1200)의 제2 태그(1230)와 통신할 수 있다. 즉, 플레이트(150) 상에 안착되는 컨테이너(1001)가 제1 종류이면, 제1 안테나(158)와 통신이 이루어질 수 있고, 제2 종류이면 제2 안테나(159)와 통신이 이루어질 수 있다. 그 결과, 제어 모듈(600)은 제1 안테나(158)와 제1 태그(1130)의 통신 결과 또는 제2 안테나(159)와 제2 태그(1230)의 통신 결과에 따라, 컨테이너(1001)의 종류를 체크한다(즉, 2차 체크). As shown in FIG. 4, a first tag 1130 (for example, an RFID tag) is provided on one side of the
이와 같은 2번의 체크(센서 모듈에 의한 1차 체크, 태크/안테나 통신에 의한 2차 체크)를 통해서, 제어 모듈(600)은 컨테이너(1001)가 제1 종류에 해당하는지 제2 종류에 해당하는지 체크한다. 체크 결과를 기초로, 제어 모듈(600)은 컨테이너(1001)의 오픈 순서를 결정한다. 도 10 내지 도 13을 참조하여, 컨테이너(1001)의 오픈 순서를 구체적으로 후술한다. Through such two checks (the first check by the sensor module and the second check by the tag / antenna communication), the
한편, 도 9에 도시된 것과 같이, 승강 유닛(110)은 플레이트(150)를 상하로 이동시켜서, 플레이트(150)를 다수의 위치에 위치시킬 수 있다. 예를 들어, 승강 유닛(110)은 플레이트(150)를 위에서부터 아래로 제1 위치(P1), 제2 위치(P2), 제3 위치(P3), 제4 위치(P4)로 이동시킬 수 있다.9, the
또한, 제1 그립퍼(161)는, 제1 패널(3100) 상에, 플레이트(150)를 중심으로((즉, 플레이트(150)의 이동 공간을 중심으로)) 제2 방향(Y)의 양측에 설치된다. 제1 그립퍼(161)는 아우터 커버(예를 들어, 1120, 1220)를 그립하여, 아우터 커버(1120, 1220)를 오픈할 때 사용된다. The
후술하겠으나, 제1 그립퍼(161)의 하부에는 이너 커버(1122)를 오픈할 때 사용되는 제2 그립퍼(162)가 배치되고, 제2 그립퍼(162)의 하부에는 노출된 포토 마스크(PM)를 그립하는 제3 그립퍼(163)가 배치된다(도 15 참조). A second gripper 162 used for opening the
도 10 및 도 11은 제1 종류의 컨테이너를 오픈하는 제1 순서를 설명하기 위한 개념도 및 순서도이다. Figs. 10 and 11 are a conceptual diagram and a flowchart for explaining a first procedure for opening a first type of container. Fig.
도 4, 도 5, 도 10 및 도 11을 참조하면, 전술한 것과 같이, 제1 종류의 컨테이너(1100)는 듀얼 포드 형태로 설계된 것으로, 2겹의 쉘(1110a, 1112a)을 포함할 수 있다. 제1 종류의 컨테이너(1100)는 제1 아우터 베이스(1110), 제1 아우터 커버(1120), 이너 베이스(1112) 및 이너 커버(1122)를 포함한다.4, 5, 10, and 11, as described above, the first type of
제1 순서는 다음과 같다.The first sequence is as follows.
컨테이너(1100)가 안착된 플레이트(150)가 제1 위치(P1)에 있을 때, 언락 유닛(도 8의 151 참조)이 컨테이너(1100)의 하부와 결합되고 회전한다. 제1 아우터 커버(1120)가 언락된다. 제1 그립퍼(161)는 제1 아우터 커버(1120)를 그립한다(GR1 참조)(S810). When the
플레이트(150)가 제1 위치(P1)에서, 제1 위치(P1)보다 낮은 제2 위치(P2)로 이동함으로써, 제1 아우터 커버(1120)를 오픈한다(S820). 즉, 제1 아우터 커버(1120)와 제1 아우터 베이스(1110)는 서로 분리된다. The
플레이트(150)가 제2 위치(P2)에 있을 때, 제2 그립퍼(162)는 이너 커버(1122)를 그립한다(GR2 참조)(S830).When the
플레이트(150)가 제2 위치(P2)에서, 제2 위치(P2)보다 낮은 제3 위치(P3)로 이동함으로써, 이너 커버(1122)를 오픈하여 포토 마스크(PM)를 노출한다(S840). 즉, 이너 커버(1122)와 이너 베이스(1112)가 서로 분리된다. The
플레이트(150)가 제3 위치(P3)에서, 제3 그립퍼(163)가 노출된 포토 마스크(PM)를 그립한다(GR3 참조)(S850).The
제3 그립퍼(163)가 노출된 포토 마스크(PM)를 그립한 후에, 플레이트(150)는 제1 아우터 베이스(1110) 및 이너 베이스(1112)와 함께 제3 위치(P3)보다 더 낮은 제4 위치(P4)로 이동한다(S860). 그 결과, 포토 마스크(PM)는 2겹의 쉘로부터 완전히 분리된다.After the
이송 로봇(200)은 제3 그립퍼(163)로부터 포토 마스크(PM)를 전달받아, 포토 마스크(PM)를 얼라이너(300)에 제공한다.The
도 12 및 도 13은 제2 종류의 컨테이너를 오픈하는 제2 순서를 설명하기 위한 개념도 및 순서도이다.12 and 13 are a conceptual diagram and a flowchart for explaining a second procedure for opening a container of the second kind.
도 6, 도 7, 도 12 및 도 13을 참조하면, 전술한 것과 같이, 제2 종류의 컨테이너(1200)는 싱글 포드 형태로 설계된 것이다. Referring to Figures 6, 7, 12 and 13, as described above, the second type of
제2 순서는 다음과 같다. The second sequence is as follows.
컨테이너(1200)가 안착된 플레이트(150)가 제1 위치(P1)에 있을 때, 언락 유닛(도 8의 151 참조)이 컨테이너(1001)의 하부와 결합되고 회전한다. 제2 아우터 커버(1220)가 언락된다. 제1 그립퍼(161)는 제2 아우터 커버(1220)를 그립한다(GR1 참조)(S811). The unlock unit (see 151 in Fig. 8) is engaged with the lower portion of the
플레이트(150)가 제1 위치(P1)에서, 제1 위치(P1)보다 낮은 제3 위치(P3)로 이동함으로써, 제2 아우터 커버(1220)를 오픈한다(S841). 즉, 제2 아우터 커버(1220)와 제2 아우터 베이스(1210)는 서로 분리된다. 특히, 플레이트(150)는 제2 위치(P2)를 스킵(skip)하여 제3 위치(P3)로 이동한다. 제2 종류의 컨테이너(1200)는 이너 쉘(inner shell)을 포함하지 않기 때문에, 제2 그립퍼(162)를 사용할 필요가 없기 때문이다. 제어 모듈(600)은 포토 마스크(PM)의 종류에 따라서, 제2 그립퍼(162)의 사용 여부를 결정하게 된다.The
플레이트(150)가 제3 위치(P3)에서, 제3 그립퍼(163)가 노출된 포토 마스크(PM)를 그립한다(GR3 참조)(S851).At the third position P3, the
제3 그립퍼(163)가 노출된 포토 마스크(PM)를 그립한 후에, 플레이트(150)는 제2 아우터 베이스(1210)와 함께 제3 위치(P3)보다 더 낮은 제4 위치(P4)로 이동한다(S861). 그 결과, 포토 마스크(PM)는 1겹의 쉘로부터 완전히 분리된다.After the
이송 로봇(200)은 제3 그립퍼(163)로부터 포토 마스크(PM)를 전달받아, 포토 마스크(PM)를 얼라이너(300)에 제공한다. The
도 14 및 도 15는 본 발명의 몇몇 실시예에 따른 포토 마스크 처리 장치에 사용되는 로딩 영역을 설명하기 위한 도면이다. 도 14 및 도 15는 도 10 내지 도 13을 이용하여 설명한 제1 순서, 제2 순서를 실행하기 위한 구체적인 구현예이다. 14 and 15 are views for explaining a loading area used in a photomask processing apparatus according to some embodiments of the present invention. Figs. 14 and 15 are specific implementations for executing the first and second procedures described with reference to Figs. 10 to 13. Fig.
도 14 및 도 15를 참조하면, 로딩 영역(I)은 플레이트(150)의 이동 공간(MA)의 주변에, 다층의 패널(3100, 3200)이 배치된다. 다층의 패널(3100, 3200)은 제1 패널(3100)과, 제1 패널(3100)의 아래에 설치된 제2 패널(3200)을 포함한다.14 and 15, the loading region I is provided with a plurality of layers of
전술한 것과 같이, 제1 패널(3100)에는 이동 공간(MA)을 중심으로 제1 방향(X)의 양측에 제1 안테나(158)와 제2 안테나(159)가 설치되고, 이동 공간(MA)을 중심으로 제2 방향(Y)의 양측에 제1 그립퍼(161)가 설치된다. 제1 그립퍼(161)는 제1 아우터 커버(1120) 및 제2 아우터 커버(1220)를 그립한다. As described above, the
제2 패널(3200)에는, 이너 커버를 그립하는 제2 그립퍼(162)와, 제2 그립퍼(162)보다 하부에 설치되며 포토 마스크(PM)를 그립하는 제3 그립퍼(163)를 포함한다. 공간을 효율적으로 사용하기 위해서, 하나의 패널(즉, 제2 패널(3200)에) 다른 종류의 그립퍼(즉, 제2 그립퍼(162)와 제3 그립퍼(163))를 설치한다. The
구체적으로, 제2 그립퍼(162)는, 제2 패널(3200) 상에, 이동 공간을 중심으로 제1 방향(X)의 양측에 설치되어 이너 커버(1122)의 제1 방향(X)의 양측을 그립한다.Specifically, the second gripper 162 is disposed on the
제2 패널(3200)은 제1 방향(X)으로 길게 연장된 제1 부분(3201)과, 제1 부분(3201)에서 분지되어 제2 방향(Y)으로 길게 연장된 제2 부분(3202)을 포함한다. The
제2 그립퍼(162)는 제1 부분(3201)에 설치하기 위한 설치부(162a)와, 설치부(162a)로부터 분지되어 제2 방향(Y)으로 길게 연장된 제1 연장부(162b)와, 제1 연장부(162b)에 설치되어 이너 커버(1122)와 접촉하는 제1 접촉부(162c)를 포함한다. The second gripper 162 includes a mounting portion 162a for mounting the
제3 그립퍼(163)는, 제2 패널(3200) 상에, 이동 공간(MA)을 중심으로 제1 방향(X)의 양측에 설치되어 포토 마스크(PM)의 제1 방향(X)의 양측을 그립한다. The
제3 그립퍼(163)는 제2 부분(3202)에 설치되고 제2 방향(Y)으로 길게 연장된 제2 연장부(163a)와, 제2 연장부(163a)의 하부에 설치되어 포토 마스크(PM)와 접촉하는 제2 접촉부(163b)를 포함한다. The
제2 연장부(163a)와 제1 연장부(162b) 사이의 수직 거리(G2)보다, 제2 접촉부(163b)와 제1 접촉부(162c) 사이의 수직 거리(G1)가 더 길다. 전술한 것과 같이, 공간을 효율적으로 사용하기 위해서, 제2 패널(3200)에 제2 그립퍼(162)와 제3 그립퍼(163)를 설치한다. 이러한 구조에서, 수직 거리(G1)을 충분히 확보함으로써, 제2 그립퍼(162)와 제3 그립퍼(163)의 안정적인 동작을 보장할 수 있다.The vertical distance G1 between the
이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.
I: 로딩 영역
II: 검사 영역
100: 제1 로드 포트
101: 제2 로드 포트
156a, 156b: 제1 센서 모듈
155a, 155b: 제2 센서 모듈
152, 153: 제3 센서 모듈
158: 제1 안테나
159: 제2 안테나
161: 제1 그립퍼
162: 제2 그립퍼
163: 제3 그립퍼
200: 이송 로봇
300: 얼라이너
400: 반전 모듈
500: 비전 모듈
600: 제어 모듈I: Loading area II: Inspection area
100: first load port 101: second load port
156a, 156b:
152, 153: third sensor module 158: first antenna
159: second antenna 161: first gripper
162: second gripper 163: third gripper
200: transfer robot 300: aligner
400: inverting module 500: vision module
600: control module
Claims (19)
상기 로딩 영역과 연결되고, 상기 노출된 포토 마스크와 관련된 정보를 리드하여, 상기 포토 마스크의 종류를 판단하는 검사 영역; 및
상기 로딩 영역 및 검사 영역을 제어하는 제어 모듈을 포함하되,
상기 제어 모듈은,
상기 컨테이너가 제1 종류에 해당하는지 제2 종류에 해당하는지를 체크하고,
상기 컨테이너가 제1 종류인 경우 제1 순서에 따라 상기 컨테이너를 오픈하고, 상기 컨테이너가 제2 종류인 경우 상기 제1 순서와 다른 제2 순서에 따라 상기 컨테이너를 오픈하도록 제어하는 것을 포함하는, 포토 마스크 처리 장치.A loading region provided with a container in which a photomask is stored and exposing the photomask by opening the container;
An inspection area connected to the loading area and reading information related to the exposed photomask to determine the type of the photomask; And
And a control module for controlling the loading area and the inspection area,
The control module includes:
Whether the container corresponds to the first kind or the second kind,
Opening the container according to a first order when the container is a first kind and controlling the container to open according to a second order different from the first order when the container is a second kind, Mask processing device.
상기 컨테이너가 안착되는 플레이트와,
상기 플레이트 상에 설치되어 상기 컨테이너의 사이즈를 확인하기 위한 센서 모듈을 포함하고,
상기 제어 모듈은, 상기 컨테이너의 사이즈를 통해서 상기 컨테이너의 종류를 체크하는, 포토 마스크 처리 장치.2. The apparatus of claim 1,
A plate on which the container is seated,
And a sensor module installed on the plate for checking the size of the container,
Wherein the control module checks the type of the container through the size of the container.
서로 이격되어 배치된 제1 안테나와 제2 안테나를 더 포함하되, 상기 제1 안테나는 상기 제1 종류의 컨테이너 내에 설치된 제1 태그와 통신하고, 상기 제2 안테나는 상기 제2 종류의 컨테이너 내에 설치된 제2 태그와 통신하고,
상기 제어 모듈은 상기 제1 안테나와 상기 제1 태그의 통신 결과 또는 상기 제2 안테나와 상기 제2 태그의 통신 결과에 따라, 상기 컨테이너의 종류를 체크하는, 포토 마스크 처리 장치.2. The apparatus of claim 1,
Wherein the first antenna and the second antenna are spaced apart from each other and the first antenna communicates with a first tag installed in the container of the first type and the second antenna is installed in the container of the second type Communicating with a second tag,
Wherein the control module checks the type of the container according to a communication result of the first antenna and the first tag or a communication result of the second antenna and the second tag.
상기 제1 종류의 컨테이너는, 제1 아우터 베이스, 제1 아우터 커버, 이너 베이스 및 이너 커버를 포함하되, 상기 제1 아우터 베이스와 상기 제1 아우터 커버에 의해 정의된 제1 보관 공간 내에 상기 이너 베이스와 상기 이너 커버가 배치되고, 상기 이너 베이스와 상기 이너 커버 내에 포토 마스크가 보관되고,
상기 제2 종류의 컨테이너는, 제2 아우터 베이스 및 제2 아우터 커버를 포함하되, 제2 아우터 베이스 및 제2 아우터 커버에 의해 정의된 제2 보관 공간 내에 포토 마스크가 보관되는 포토 마스크 처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the first type of container includes a first outer base, a first outer cover, an inner base, and an inner cover, wherein the first inner base and the inner cover define a first storage space defined by the first outer base and the first outer cover, And the inner cover are disposed, and the photomask is stored in the inner base and the inner cover,
Wherein the second type of container includes a second outer base and a second outer cover, wherein the photomask is stored in a second storage space defined by the second outer base and the second outer cover.
상기 컨테이너가 안착되며, 이동가능한 플레이트와,
상기 컨테이너의 아우터 커버를 그립(grip)하기 위한 제1 그립퍼와,
상기 컨테이너의 이너 커버를 그립하기 위한 제2 그립퍼를 포함하는 포토 마스크 처리 장치.2. The apparatus of claim 1,
The container is seated, a movable plate,
A first gripper for gripping the outer cover of the container,
And a second gripper for gripping the inner cover of the container.
상기 컨테이너가 제1 종류인 경우, 상기 제1 그립퍼와 상기 제2 그립퍼를 사용하여 상기 아우터 커버와 상기 이너 커버를 오픈함으로써 상기 포토 마스크를 노출시키고,
상기 컨테이너가 제2 종류인 경우, 상기 제1 그립퍼를 사용하고 상기 제2 그립퍼는 미사용함으로써, 상기 아우터 커버를 오픈함으로써 상기 포토 마스크를 노출시키는, 포토 마스크 처리 장치.6. The method of claim 5,
Exposing the photomask by opening the outer cover and the inner cover using the first gripper and the second gripper when the container is the first type,
And exposing the photomask by opening the outer cover by using the first gripper and the second gripper when the container is of the second type.
상기 제1 종류의 컨테이너는, 제1 아우터 베이스, 제1 아우터 커버, 이너 베이스 및 이너 커버를 포함하고,
상기 제1 순서는,
상기 컨테이너가 안착된 플레이트가 제1 위치에 있을 때, 상기 제1 그립퍼는 상기 제1 아우터 커버를 그립하고,
상기 플레이트가 상기 제1 위치에서, 상기 제1 위치보다 낮은 제2 위치로 이동함으로써, 상기 제1 아우터 커버를 오픈하고,
상기 플레이트가 상기 제2 위치에 있을 때, 상기 제2 그립퍼는 상기 이너 커버를 그립하고,
상기 플레이트가 상기 제2 위치에서, 상기 제2 위치보다 낮은 제3 위치로 이동함으로써, 상기 이너 커버를 오픈하여 상기 포토 마스크를 노출하는 것을 포함하는, 포토 마스크 처리 장치.6. The method of claim 5,
Wherein the first type of container includes a first outer base, a first outer cover, an inner base, and an inner cover,
Wherein the first order comprises:
The first gripper grips the first outer cover when the plate on which the container is mounted is in the first position,
The plate is moved from the first position to a second position lower than the first position to open the first outer cover,
When the plate is in the second position, the second gripper grips the inner cover,
Exposing the photomask by opening the inner cover by moving the plate from the second position to a third position lower than the second position.
제 1항에 있어서, 상기 로딩 영역은,
상기 노출된 포토 마스크를 그립하기 위한 제3 그립퍼를 더 포함하고,
상기 제1 순서는,
상기 플레이트가 상기 제3 위치에서, 상기 제3 그립퍼가 상기 노출된 포토 마스크를 그립(grip)하고,
상기 제3 그립퍼가 상기 노출된 포토 마스크를 그립한 후에, 상기 플레이트는 상기 제3 위치보다 더 낮은 제4 위치로 이동하는 것을 더 포함하는, 포토 마스크 처리 장치.8. The method of claim 7,
2. The apparatus of claim 1,
Further comprising a third gripper for gripping the exposed photomask,
Wherein the first order comprises:
The plate grips the exposed photomask in the third position, and the third gripper grips the exposed photomask,
Further comprising moving the plate to a fourth position lower than the third position after the third gripper grips the exposed photomask.
상기 제2 종류의 컨테이너는, 제2 아우터 베이스 및 제2 아우터 커버를 포함하고,
상기 제2순서는,
상기 컨테이너가 안착된 플레이트가 제1 위치에 있을 때, 상기 제1 그립퍼는 상기 제2 아우터 커버를 홀드하고,
상기 플레이트가 상기 제1 위치에서, 상기 제1 위치보다 낮은 상기 제3 위치로 이동함으로써, 상기 제2 아우터 커버를 오픈하여 상기 포토 마스크를 노출하고,
상기 포토 마스크가 노출된 후에, 제3 그립퍼가 상기 노출된 포토 마스크를 그립하고,
상기 제3 그립퍼가 상기 노출된 포토 마스크를 그립한 후에, 상기 플레이트는 상기 제3 위치보다 더 낮은 제4 위치로 이동하는 것을 포함하는, 포토 마스크 처리 장치.6. The method of claim 5,
Wherein the second type of container includes a second outer base and a second outer cover,
The second order may include:
When the plate on which the container is mounted is in the first position, the first gripper holds the second outer cover,
The plate is moved from the first position to the third position lower than the first position to open the second outer cover to expose the photomask,
After the photomask is exposed, a third gripper grips the exposed photomask,
The third gripper gripping the exposed photomask and then moving the plate to a fourth position lower than the third position.
상기 노출된 포토 마스크를 이송하는 이송 로봇과,
상기 이송된 포토 마스크의 방향을 회전시키는 얼라이너와,
상기 이송된 포토 마스크를 반전시키는 반전 모듈과,
상기 이송된 포토 마스크로부터 정보를 획득하거나, 검사하기 위한 비전 모듈을 포함하는 포토 마스크 처리 장치.The apparatus of claim 1,
A transfer robot for transferring the exposed photomask,
An aligner for rotating the direction of the transferred photomask,
A reversing module for reversing the transferred photomask,
And a vision module for acquiring or inspecting information from the transferred photomask.
상기 비전 모듈은 상기 포토 마스크의 이미지를 생성하고,
상기 제어 모듈은 상기 포토 마스크의 이미지를 통해서, 상기 포토 마스크의 종류를 검사하는 것을 포함하는 포토 마스크 처리 장치.11. The method of claim 10,
Wherein the vision module generates an image of the photomask,
Wherein the control module includes inspecting the type of the photomask through an image of the photomask.
상기 포토 마스크는, 펠리클 프레임(pellicle frame)이 설치된 포토 마스크인 포토 마스크 처리 장치.12. The method of claim 11,
Wherein the photomask is a photomask provided with a pellicle frame.
상기 로딩 영역과 연결되고, 상기 노출된 포토 마스크와 관련된 정보를 리드하여, 상기 포토 마스크의 종류를 판단하는 검사 영역; 및
상기 로딩 영역 및 검사 영역을 제어하는 제어 모듈을 포함하되,
상기 로딩 영역은,
상기 컨테이너가 안착되며, 상하로 이동가능한 플레이트와,
상기 플레이트의 이동 공간의 주변에 형성된 제1 패널과,
상기 플레이트의 이동 공간의 주변에 형성되고, 상기 제1 패널의 아래에 설치된 제2 패널과,
상기 제1 패널 상에 설치되어 아우터 커버를 그립하는 제1 그립퍼와,
상기 제2 패널 상에 설치되어 이너 커버를 그립하는 제2 그립퍼와,
상기 제2 패널 상에 설치되고, 상기 제2 그립퍼보다 하부에 설치되며 포토 마스크를 그립하는 제3 그립퍼를 포함하는, 포토 마스크 처리 장치.A loading region provided with a container in which a photomask is stored and exposing the photomask by opening the container;
An inspection area connected to the loading area and reading information related to the exposed photomask to determine the type of the photomask; And
And a control module for controlling the loading area and the inspection area,
Wherein the loading region comprises:
A plate on which the container is seated,
A first panel formed around the moving space of the plate,
A second panel formed around the moving space of the plate and provided below the first panel,
A first gripper installed on the first panel to grip the outer cover,
A second gripper installed on the second panel to grip the inner cover,
And a third gripper provided on the second panel and provided below the second gripper and gripping the photomask.
상기 제어 모듈은 상기 포토 마스크의 종류에 따라서, 상기 제2 그립퍼의 사용 여부를 결정하는, 반도체 제어 모듈.14. The method of claim 13,
Wherein the control module determines whether to use the second gripper according to the type of the photomask.
상기 제1 패널 상에, 상기 이동 공간을 중심으로 제1 방향의 양측에 설치되고, 상기 컨테이너에 내장된 태크와 통신하기 위한 제1 안테나와 제2 안테나를 더 포함하는, 포토 마스크 처리 장치.14. The apparatus of claim 13,
Further comprising a first antenna and a second antenna disposed on the first panel on both sides in a first direction around the moving space and for communicating with a tag embedded in the container.
상기 제1 그립퍼는, 상기 제1 패널 상에, 상기 이동 공간을 중심으로 제2 방향의 양측에 설치되는 포토 마스크 처리 장치. 16. The method of claim 15,
Wherein the first gripper is provided on both sides of the first panel in a second direction around the moving space.
상기 제2 그립퍼는, 상기 제2 패널 상에, 상기 이동 공간을 중심으로 상기 제1 방향의 양측에 설치되어 상기 이너 커버의 상기 제1 방향의 양측을 그립하고
상기 제3 그립퍼는, 상기 제2 패널 상에, 상기 이동 공간을 중심으로 상기 제1 방향의 양측에 설치되어 상기 포토 마스크의 상기 제1 방향의 양측을 그립하는, 포토 마스크 처리 장치. 17. The method of claim 16,
The second gripper is provided on both sides of the moving panel in the first direction on the second panel so as to grip both sides of the inner cover in the first direction
And the third gripper is provided on the second panel on both sides in the first direction around the moving space to grip both sides of the photomask in the first direction.
상기 제2 패널은 상기 제1 방향으로 길게 연장된 제1 부분과, 상기 제1 부분에서 분지되어 상기 제2 방향으로 길게 연장된 제2 부분을 포함하고,
상기 제2 그립퍼는 상기 제1 부분에 설치하기 위한 설치부와, 상기 설치부로부터 분지되어 상기 제2 방향으로 길게 연장된 제1 연장부와, 상기 제1 연장부에 설치되어 상기 이너 커버와 접촉하는 제1 접촉부를 포함하고,
상기 제3 그립퍼는 상기 제2 부분에 설치되고 상기 제2 방향으로 길게 연장된 제2 연장부와, 상기 제2 연장부의 하부에 설치되어 상기 포토 마스크와 접촉하는 제2 접촉부를 포함하고,
상기 제2 연장부와 상기 제1 연장부 사이의 수직 거리보다, 상기 제2 접촉부와 상기 제1 접촉부 사이의 수직 거리가 더 긴, 포토 마스크 처리 장치.18. The method of claim 17,
Wherein the second panel includes a first portion extending in the first direction and a second portion branched in the first portion and extending in the second direction,
The second gripper includes a mounting portion for mounting the first portion, a first extending portion branched from the mounting portion and extending in the second direction, and a second extending portion provided on the first extending portion, And a second contact portion which contacts the first contact portion,
The third gripper may include a second extension portion provided at the second portion and extended in the second direction and a second contact portion provided at a lower portion of the second extension portion and contacting the photomask,
Wherein a vertical distance between the second contact portion and the first contact portion is longer than a vertical distance between the second extending portion and the first extending portion.
상기 플레이트 상에 설치되고, 상기 컨테이너가 제1 사이즈인지 확인하기 위해 제1 간격을 두고 배치된 한 쌍의 제1 센서를 포함하는 제1 센서 모듈과,
상기 플레이트 상에 설치되고, 상기 컨테이너가 제2 사이즈인지 확인하기 위해 제2 간격을 두고 배치된 한 쌍의 제2 센서를 포함하는 제2 센서 모듈을 포함하는, 포토 마스크 처리 장치.
14. The apparatus of claim 13,
A first sensor module installed on the plate and including a pair of first sensors disposed at a first interval to check whether the container is the first size,
And a second sensor module mounted on the plate, the second sensor module including a pair of second sensors disposed at a second interval to ensure that the container is of a second size.
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