KR20190044333A - Method of manufacturing laminate - Google Patents

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KR20190044333A
KR20190044333A KR1020170136640A KR20170136640A KR20190044333A KR 20190044333 A KR20190044333 A KR 20190044333A KR 1020170136640 A KR1020170136640 A KR 1020170136640A KR 20170136640 A KR20170136640 A KR 20170136640A KR 20190044333 A KR20190044333 A KR 20190044333A
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서대한
김재진
송민수
한상철
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주식회사 엘지화학
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Abstract

According to the present application, a method for manufacturing a laminate can provide a manufacturing method capable of manufacturing a holographic diffractive optical device layer which is included in the laminate and is impossible to be manufactured in the air. The laminate of the present application can be used for recognizing a height pattern of an object being in contact with the laminate.

Description

적층체의 제조방법{Method of manufacturing laminate}[0001] The present invention relates to a method of manufacturing a laminate,

본 출원은 적층체의 제조방법에 관한 것이다.The present application relates to a method for producing a laminate.

최근 스마트폰, 태블릿 PC 등 개인휴대기기에 대한 보안이 화두가 되고 있다. 사용자들의 휴대기기 사용빈도가 증가하면서 휴대기기를 통한 전자상거래 등에 있어서의 보안이 요구되고, 이러한 요구에 따라 지문, 홍채, 안면, 음성, 혈관 등의 생체 정보를 이용하고 있다. 다양한 생체 정보 인증 기술 중 가장 보편적으로 사용되고 있는 기술은 지문을 통한 인증 기술이다. 최근에는 스마트폰 및 태블릿 PC 등에 지문인식 및 이를 통한 인증 기술이 적용된 제품이 출시되었다. Recently, security for personal mobile devices such as smart phones and tablet PCs has become a hot topic. As the frequency of users' use of mobile devices increases, security in electronic commerce or the like through mobile devices is required. Biometric information such as fingerprints, irises, facial expressions, voices, and blood vessels are used in response to these demands. The most commonly used technology among various biometric information authentication technologies is fingerprint authentication technology. In recent years, smartphone and tablet PCs have been introduced with fingerprint recognition and authentication technology.

지문 인식은 일반적으로 광학식, 초음파식, 정전용량방식, 전기장 측정방식, 열감지 방식 등이 있다. 이중 광학식은 간단한 구조와 우수한 성능으로 다른 수단에 비해 일반화된 인증 수단이 되어 있다.Fingerprint recognition generally includes optical, ultrasonic, capacitive, electric field measurement, and thermal sensing. Dual optics is a generalized authentication means compared to other means with a simple structure and excellent performance.

종래의 광학식 지문 인식 장치는 지문 인식용 광을 조사하는 광원과 손가락으로 접촉하는 프리즘, 프리즘에서 출사되는 지문 영상을 결상하기 위한 렌즈 및 렌즈에 결상된 지문 영상을 전기적인 신호로 변환하는 이미지 센서로 구성된다. 그러나 이러한 광학식 지문 인식 장치는 지문 인식을 위한 센서 및 프리즘 등이 별도로 장착되어야 하며, 대면적의 광원이 요구되므로 이에 따라 휴대 기기의 부피가 늘어나는 등의 문제점이 있었다.A conventional optical fingerprint recognition device includes a prism that contacts a light source for irradiating fingerprint recognition light with a finger, a lens for imaging a fingerprint image emitted from the prism, and an image sensor that converts a fingerprint image formed on the lens into an electrical signal . However, such an optical fingerprint recognition device requires a separate sensor and prism for fingerprint recognition, and a large-sized light source is required, thereby increasing the volume of the portable device.

이에 지문을 인식하고자 하는 영역에서 전반사하며 도파하는 광을 이용함으로써, 광원의 크기를 줄이는 광학적 지문 인식 방법이 연구되고 있다.Therefore, an optical fingerprint recognition method that reduces the size of a light source by using light that totally reflects and guides in a region where a fingerprint is to be recognized is being studied.

본 출원은 적층체의 제조방법을 제공한다. 본 출원의 적층체는, 예를 들면, 광학식 지문 인식 장치에 사용될 수 있다.The present application provides a method for producing a laminate. The laminate of the present application can be used, for example, in an optical fingerprint recognition apparatus.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 첨부된 도면은 본 발명의 예시적인 실시형태를 도시한 것으로, 이는 본 발명의 이해를 돕도록 하기 위해 제공된다. 첨부된 도면에서, 도시한 광로는 이해를 돕기 위한 것일 뿐이므로, 두 매질의 계면을 통과하면서 발생하는 굴절은 생략될 수 있다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The accompanying drawings illustrate exemplary embodiments of the invention and are provided to aid in the understanding of the invention. In the accompanying drawings, the optical paths shown are for the sake of understanding only, so that the refraction generated while passing through the interfaces of the two media can be omitted.

본 명세서에서 각도의 단위는 특별히 달리 규정하지 않는 한 도(degree, °)이다. 본 명세서에서 어떠한 매질의 굴절률을 정의하는 데 있어서 상기 굴절률이 온도 및/또는 압력에 의해 변경될 수 있는 것이라면, 상기 굴절률은 특별히 달리 규정하지 않는 한 10°C 내지 50°C의 온도 및/또는 0.90atm 내지 1.10atm의 압력에서 파장이 500nm 내지 600nm인 광에 대해 측정된 굴절률일 수 있으며, 바람직하게는 25°C 및 1atm에서 파장이 532nm인 광에 대해 측정된 굴절률일 수 있다.In this specification, the units of angles are degrees (degrees) unless otherwise specified. If the refractive index can be changed by temperature and / or pressure in defining the refractive index of any medium in this specification, the refractive index may be a temperature of 10 ° C to 50 ° C and / or a temperature of 0.90 the refractive index may be a measured refractive index for light having a wavelength of 500 nm to 600 nm at a pressure of atm to 1.10 atm and preferably a refractive index measured for light having a wavelength of 532 nm at 25 ° C and 1 atm.

본 출원의 적층체의 제조방법은 굴절률 보정액에 침지된 감광재료와 굴절률 보정액의 계면에 제 1 광선 및 제 2 광선을 입사시켜 감광재료에 홀로그램을 기록하여 홀로그래픽 회절 광학소자를 제조하는 단계를 포함할 수 있다.In the method of manufacturing a laminate of the present application, a first light ray and a second light ray are incident on an interface between a photosensitive material immersed in a refractive index compensation and a refractive index compensation, and a hologram is recorded on the photosensitive material to manufacture a holographic diffraction optical element . ≪ / RTI >

상기 적층체는 순차로 적층된 제 1 기재층, 홀로그래픽 회절 광학소자층 및 제 2 기재층을 포함할 수 있다. 예를 들면, 도 1에 도시한 것과 같이 제 1 기재층(101), 홀로그래픽 회절 광학소자층(102) 및 제 2 기재층(103)이 순차로 적층될 수 있다.The laminate may include a first base layer, a holographic diffraction optical element layer and a second base layer sequentially laminated. For example, the first base layer 101, the holographic diffraction optical element layer 102, and the second base layer 103 may be sequentially laminated as shown in Fig.

본 출원의 적층체의 제조방법은 높낮이 패턴을 가지는 물체의 높낮이 패턴을 인식하는 용도로 사용되는 적층체의 제조방법이다. 본 명세서에서 「높낮이 패턴을 가지는 물체」란 표면에 돌출된 마루(ridge)와 함몰된 골(valley)이 존재하고, 상기 마루 부분과 골 부분이 형성한 소정의 패턴을 가지는 물체를 의미할 수 있다. 예를 들면, 상기 높낮이 패턴을 가지는 물체는 지문일 수 있고, 본 출원의 적층체의 제조방법은 지문 인식용 적층체의 제조방법일 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 적층체는 빛의 전반사를 이용하여 지문을 인식하는 지문 인식용 적층체일 수 있다. The method of producing a laminate of the present application is a method of producing a laminate used for recognizing a height pattern of an object having a height pattern. In the present specification, the term " object having a height pattern " means an object having a ridge protruding from the surface and a valley embedded in it, and having a predetermined pattern formed by the floor portion and the valley portion . For example, the object having the elevation pattern may be a fingerprint, and the method of manufacturing the laminate of the present application may be a method of manufacturing a laminate for fingerprint recognition. In one example, the laminate may be a laminate for fingerprint recognition that recognizes a fingerprint using total reflection of light.

도 1을 참고하면, 본 출원의 적층체 제조방법이 제조한 적층체(100)는 적층체 내부를 소정 광로로 진행하는 광(106, 107)을 이용하여 제 1 기재층에 접촉한 지문의 마루(104)와 골(105)을 인식할 수 있다. 제 1 광로로 진행하는 광(106)은 공기와 제 1 기재층의 계면, 지문의 마루(104)와 제 1 기재층(101)의 계면 및 홀로그래픽 회절 광학 소자층(102)과 제 2 기재층(103)의 계면에서 전반사를 한다. 본 명세서에서 「제 1 광로로 진행하는 광」 및 「트랩된 광」은 상술한 것과 같이 적층체 내에서 공기와 제 1 기재층의 계면, 지문의 마루(104)와 제 1 기재층(101)의 계면 및 홀로그래픽 회절 광학 소자층(102)과 제 2 기재층(103)의 계면에서 전반사를 하는 광로로 진행하는 광을 의미할 수 있다. 제 2 광로로 진행하는 광(107)은 공기와 제 1 기재층(101)의 계면에서 전반사를 한다. 제 2 광로로 진행하는 광이 상기와 같이 전반사를 하므로, 제 1 기재층에 접촉한 지문의 골(105) 부분에서도 전반사를 하게 된다. 또한, 제 2 광로로 진행하는 광(107)은 지문의 마루(105)와 제 1 기재층의 계면에서는 투과 또는 산란하며, 홀로그래픽 회절 광학소자층(102)과 제 2 기재층(103)의 계면에서는 투과한다. 본 명세서에서 「제 2 광로로 진행하는 광」 및 「선택적으로 전반사하는 광」은 상술한 것과 같이 적층체 내에서 공기와 제 1 기재층(101)의 계면에서 전반사하고, 지문의 마루(105)와 제 1 기재층의 계면에서는 투과 또는 산란하며, 홀로그래픽 회절 광학소자층(102)과 제 2 기재층(103)의 계면에서는 투과하는 광로로 진행하는 광을 의미할 수 있다.Referring to FIG. 1, the laminate 100 produced by the method of producing a laminate of the present application is a laminate obtained by using light (106, 107) propagating in a laminate through a predetermined optical path, (104) and the goal (105). Light 106 traveling to the first optical path travels through the interface between the air and the first base layer, between the floor 104 of the fingerprint and the first base layer 101, and between the holographic diffraction optics layer 102 and the second substrate Lt; RTI ID = 0.0 > 103 < / RTI > Herein, the term " light traveling to the first optical path " and " trapped light " refer to the interface between air and the first base layer, the floor 104 of the fingerprint and the first base layer 101, And light traveling to the optical path for total reflection at the interface between the holographic diffraction optical element layer 102 and the second base layer 103. [ The light 107 traveling to the second optical path totally reflects at the interface between the air and the first base layer 101. Since the light traveling to the second optical path is totally reflected as described above, total reflection is also performed in the trough 105 of the fingerprint that comes into contact with the first base layer. The light 107 traveling to the second optical path is transmitted or scattered at the interface between the floor 105 of the fingerprint and the first base layer and is transmitted or scattered at the interface between the holographic diffraction optical element layer 102 and the second base layer 103 At the interface, it permeates. In the present specification, the term " light traveling to the second optical path " and " selectively total reflection light " are totally reflected at the interface between air and the first base layer 101 in the laminate, May be transmitted or scattered at the interface between the holographic diffraction optical element layer 102 and the first base layer 103 and light traveling through the optical path passing through the interface between the holographic diffraction optic element layer 102 and the second base layer 103.

상술한 전반사가 가능하도록, 상기 제 1 기재층(101), 홀로그래픽 회절 광학소자층 및 제 2 기재층(103)은 하기 일반식 2 내지 4를 만족할 수 있다.The first base layer 101, the holographic diffraction optical element layer, and the second base layer 103 may satisfy the following general formulas 2 to 4 so as to enable total reflection as described above.

[일반식 2][Formula 2]

n1>nair n 1 > n air

[일반식 3][Formula 3]

nhoe>n2 n hoe > n 2

[일반식 4][Formula 4]

n1>no n 1 > n o

일반식 2 내지 4에서, n1은 제 1 기재층의 굴절률이고, nair 공기의 굴절률이고, nhoe는 홀로그래픽 광학소자층의 굴절률이며, n2는 제 2 기재층의 굴절률이고, no는 높낮이 패턴을 갖는 물체 중 제 1 기재층과 직접 접촉하는 부분의 굴절률이다. 상기 높낮이 패턴을 갖는 물체 중 제 1 기재층과 직접 접촉하는 부분은 상기 물체의 마루 부분일 수 있으며, 예를 들면, 제 1 기재층과 접촉한 지문의 마루 부분일 수 있다. In the general formula 2 to 4, n 1 is the refractive index of the layer a first substrate, a refractive index of n air air, n hoe is the refractive index of the graphics-optic medium layer alone, n 2 is a refractive index of the second substrate layer, n o Is a refractive index of a portion of an object having a height pattern directly contacting the first base layer. The portion of the object having the height pattern directly contacting the first base layer may be a floor portion of the object, for example, a floor portion of the fingerprint in contact with the first base layer.

도 1에 도시한 것과 같이, 제 1 광로로 진행하는 광(106)은 본 출원의 적층체의 제조방법이 제조한 적층체 내부에 트랩되어 있다. 제 1 광로로 진행하는 광(106)이 제 1 기재층에 높낮이 패턴을 가지는 물체, 예를 들면, 지문이 접촉하였는지 여부와 관계없이 적층체 내부의 영역에 트랩되어 진행하므로, 제 1 광로로 진행하는 광(106)은 적층체 내부의 전 영역에서 제 2 광로로 진행하는 광(107)을 생성하기 위한 광원으로 기능할 수 있으며, 따라서 상기 적층체는 적층체에 광을 입사하는 광원(미도시)의 크기를 줄일 수 있다.As shown in Fig. 1, the light 106 traveling to the first optical path is trapped inside the laminate produced by the method of manufacturing the laminate of the present application. The light 106 traveling to the first optical path is trapped in the region inside the laminate regardless of whether or not an object having a height pattern, for example, a fingerprint, is in contact with the first base layer, The light 106 can function as a light source for generating light 107 that travels from the entire area inside the laminate to the second optical path. Accordingly, the laminate is a light source (not shown) ) Can be reduced.

도 1에서 도시한 것과 같이, 제 1 광로로 진행하는 광(106)은 본 출원의 적층체의 제조방법이 제조한 적층체 내부에 트랩되어 있다. 적층체 내부에 광이 트랩되어 있다는 것은, 광이 적층체 내부에서 전반사를 반복하여 외부로 유출되지 않는다는 것을 의미한다. 보다 구체적로는, 상술한 것과 같이 제 1 광로로 진행하는 광(106)은 공기와 제 1 기재층의 계면, 지문의 마루(104)와 제 1 기재층(101)의 계면 및 홀로그래픽 회절 광학 소자층(102)과 제 2 기재층(103)의 계면에서 전반사를 하며, 제 2 광로로 진행하는 광(107)은 공기와 제 1 기재층(101)의 계면에서 전반사를 한다.As shown in Fig. 1, the light 106 traveling to the first optical path is trapped inside the laminate manufactured by the method of manufacturing the laminate of the present application. The fact that the light is trapped inside the laminate means that the light does not flow out to the outside by repeating the total internal reflection inside the laminate. More specifically, as described above, the light 106 traveling to the first optical path is incident on the interface between the air and the first base layer, the interface between the base 104 of the fingerprint and the first base layer 101, The light 107 is totally reflected at the interface between the element layer 102 and the second base layer 103 and the light 107 traveling to the second optical path is totally reflected at the interface between the air and the first base layer 101. [

상기 제 1 광로로 진행하는 광(106)은, 예를 들면, 적층체가 포함된 지문 인식 장치에 별도로 마련된 광원에 의하여 생성될 수 있다. 하나의 예시에서, 광원(미도시)을 상기 광원으로부터 방출된 광이 도 1에 도시한 각도 A로 제 1 기재층과 공기의 계면에 입사하도록 적층체의 일 모서리 측에 배치하여 제 1 광로로 진행하는 광(106)을 생성할 수 있다. 상기 광원은 광학식 지문 인식에 적합한 광을 출사하는 것이면 그 종류가 제한되는 것은 아니며, 예를 들면, 레이저 다이오드나 발광 다이오드를 사용할 수 있다.The light 106 traveling to the first optical path may be generated by a light source separately provided in, for example, a fingerprint recognition device including a laminate. In one example, a light source (not shown) is disposed on one edge side of the laminate so that the light emitted from the light source is incident on the interface between the first base layer and the air at the angle A shown in Fig. 1, Progressive light 106 can be generated. The light source is not limited as long as it emits light suitable for optical fingerprint recognition. For example, a laser diode or a light emitting diode can be used.

상기 홀로그래픽 회절 광학소자층은, 예를 들면, 공기와 제 1 기재층의 계면에 각도 A로 입사하는 제 1 광로로 진행하는 광의 일부를 공기와 제 2 계면에 각도 B로 입사하는 제 2 광로로 진행하도록 회절시킬 수 있다. 상기 회절은 홀로그래픽 회절 광학소자층에 기록된 홀로그램에 의해 수행될 수 있다. 도 1에 도시한 것과 같이, 제 1 광로로 진행하는 광(106)은 공기와 제 1 기재층(101)의 계면에 각도 A로 입사하는 광로로 진행하는 광이고, 제 2 광로로 진행하는 광(107)은 공기와 제 1 기재층(101)의 계면에 각도 B로 입사하는 광로로 진행하는 광이다.The holographic diffraction optical element layer is formed by, for example, forming a part of light traveling to the first optical path incident on the interface between the air and the first base layer at an angle A to the second optical path Lt; / RTI > The diffraction may be performed by a hologram recorded in the holographic diffraction optical element layer. As shown in Fig. 1, the light 106 traveling to the first optical path travels to the optical path incident on the interface between the air and the first base layer 101 at an angle A, and the light traveling to the second optical path (107) is light traveling to an optical path incident at an angle B to the interface between air and the first base layer (101).

하나의 예시에서, 상기 제 1 광로는 공기와 제 1 기재층의 계면에서 전반사하고, 제 1 기재층과 홀로그래픽 회절 광학 소자층의 계면에서 전반사하지 않으며, 홀로그래픽 회절 광학소자층과 제 2 기재층의 계면에서 전반사하는 광로일 수 있다. 상기 예시에서, 제 1 광로로 진행하는 광은 적층체 내부에 트랩될 수 있으며, 전반사를 반복하는 과정에서 홀로그래픽 회절 광학소자층에 입사하게 된다.In one example, the first optical path is totally reflected at the interface of the air and the first base layer, and is not totally reflected at the interface of the first base layer and the holographic diffraction optical element layer, and the holographic diffraction optical element layer and the second substrate Lt; RTI ID = 0.0 > interface. ≪ / RTI > In the above example, the light traveling to the first optical path can be trapped inside the laminate, and is incident on the holographic diffraction optical element layer in the course of repeating total reflection.

상기 제 1 광로가 상술한 것과 같이 진행하는 광로이기 위해서는, 제 1 광로로 진행하는 광이 공기와 제 1 기재층의 계면에 입사하는 각도 A가 하기 일반식 5 내지 7을 만족하여야 한다.In order for the first optical path to travel as described above, the angle A at which light traveling to the first optical path enters the interface between air and the first base layer must satisfy the following formulas 5 to 7.

[일반식 5][Formula 5]

A > sin-1(no/n1) × 180°/π A> sin -1 (n o / n 1 ) × 180 ° / π

[일반식 6][Formula 6]

A < sin-1(nhoe/n1) × 180°/πA <sin -1 (n hoe / n 1 ) × 180 ° / π

[일반식 7][Formula 7]

A > sin-1(n2/n1) × 180°/πA> sin -1 (n 2 / n 1 ) × 180 ° / π

상기 일반식 5 내지 7에서, n1은 제 1 기재층의 굴절률이고, n2는 제 2 기재층의 굴절률이며, nhoe는 홀로그래픽 회절 광학소자층의 굴절률이고, no는 높낮이 패턴을 갖는 물체 중 제 1 기재층과 직접 접촉하는 부분, 예를 들면, 지문의 마루의 굴절률이다. In the general formulas 5 to 7, n 1 is the refractive index of the first base layer, n 2 is the refractive index of the second base layer, n hoe is the refractive index of the holographic diffractive optical element layer, and n o is the refractive index The refractive index of the portion of the object directly contacting the first base layer, for example, the refractive index of the floor of the fingerprint.

하나의 예시에서, 상기 제 2 광로는 공기와 제 1 기재층의 계면에서 전반사하며, 높낮이 패턴을 갖는 물체 중 제 1 기재층과 직접 접촉하는 부분, 예를 들면, 지문의 마루와 제 1 기재층의 계면에서 전반사하지 않고, 제 1 기재층과 홀로그래픽 회절광학소자층의 계면에서 전반사하지 않으며, 홀로그래픽 회절 광학소자층과 제 2 기재층의 계면에서 전반사하지 않는 광로일 수 있다. 상기 예시에서, 제 2 광로로 진행하는 광은 제 1 기재층의 상면부에서 접촉한 지문의 높낮이 패턴 양상에 따라 선택적으로 전반사하므로, 제 1 기재층에 접촉한 지문의 높낮이 패턴의 정보를 적층체 외부로 전달할 수 있게 된다. 예를 들면, 제 2 기재층의 하부에 위치한 포토 센서 어레이를 통하여 제 1 기재층에 접촉한 지문의 높낮이 패턴의 이미지를 형성할 수 있다.In one example, the second optical path is totally reflected at the interface between the air and the first base layer, and is a portion of the object having a height pattern directly contacting the first base layer, for example, And may not be totally reflected at the interface between the first base layer and the holographic diffraction optical element layer and may not be totally reflected at the interface between the holographic diffraction optical element layer and the second base layer. In the above example, the light traveling to the second optical path selectively totally reflects the height pattern pattern of the fingerprint in contact with the upper surface portion of the first base layer, so that the information of the height pattern of the fingerprint in contact with the first base layer, So that it can be transmitted to the outside. For example, an image of a height pattern of a fingerprint in contact with the first base layer can be formed through a photosensor array disposed under the second base layer.

상기 제 2 광로가 상술한 것과 같이 진행하는 광로이기 위해서는, 제 2 광로로 진행하는 광이 공기와 제 2 기재층의 계면에 입사하는 각도 B가 하기 일반식 8 내지 10을 만족하여야 한다.In order for the second optical path to travel as described above, the angle B at which the light traveling to the second optical path enters the interface of the air and the second base layer should satisfy the following formulas 8 to 10.

[일반식 8][Formula 8]

sin-1(nair/n1) × 180°/π < B < sin-1(no/n1) × 180°/πsin -1 (n air / n 1 ) × 180 ° / π <B <sin -1 (n o / n 1 ) × 180 ° /

[일반식 9][Formula 9]

B < sin-1(nhoe/n1) × 180°/πB <sin -1 (n hoe / n 1 ) × 180 ° / π

[일반식 10][Formula 10]

B < sin-1(n2/n1) × 180°/πB <sin -1 (n 2 / n 1 ) × 180 ° / π

상기 일반식 8 내지 10에서, n1은 제 1 기재층의 굴절률이고, n2는 제 2 기재층의 굴절률이며, nhoe는 홀로그래픽 회절 광학소자층의 굴절률이고, nair는 공기의 굴절률이며, no는 높낮이 패턴을 갖는 물체 중 제 1 기재층과 직접 접촉하는 부분, 예를 들면, 지문의 마루 부분의 굴절률이다.In the general formulas 8 to 10, n 1 is the refractive index of the first base layer, n 2 is the refractive index of the second base layer, n hoe is the refractive index of the holographic diffraction optical element layer, n air is the refractive index of air , and n o is the refractive index of a portion of the object having the height pattern directly contacting the first base layer, for example, the floor portion of the fingerprint.

제 1 기재층에 접촉한 물체의 높낮이 패턴의 정보를 전달하는, 제 2 광로로 진행하는 광(107)은 홀로그래픽 회절 광학소자층(107)이 제 1 광로로 진행하는 광(106)의 일부를 회절시킴으로서 생성된다. 즉, 제 1 광로로 진행하는 광(106)은 제 2 광로로 진행하는 광(107)의 광원으로서의 역할을 수행한다. 제 2 광로로 진행하는 광(107)의 광원 역할을 하는 제 1 광로로 진행하는 광(106)이 적층체 내부에 트랩되어 진행하므로, 제 2 광로로 진행하는 광(107)이 적층체 내부의 전 영역에서 홀로그래픽 회절 광학소자층에 의하여 생성될 수 있다. 따라서, 본 출원의 적층체의 제조방법에 의해 제조된 적층체는 홀로그래픽 회절 광학소자층을 이용하여 광원의 크기를 줄일 수 있으며, 광원 상부에서만 지문 인식이 가능했던 광학식 지문 인식 장치와 달리 디스플레이 상에서도 지문 인식이 가능하다.The light 107 traveling to the second optical path, which conveys the information of the height pattern of the object in contact with the first base layer, is a part of the light 106 traveling through the first optical path of the holographic diffraction optical element layer 107 . &Lt; / RTI &gt; That is, the light 106 traveling to the first optical path functions as a light source of the light 107 traveling to the second optical path. The light 106 traveling to the first optical path serving as the light source of the light 107 traveling to the second optical path travels trapped inside the stacked body and proceeds so that the light 107 traveling to the second optical path travels inside the stacked body Can be generated by the holographic diffraction optical element layer in the entire region. Therefore, the laminate produced by the method of producing a laminate of the present application can reduce the size of the light source by using the holographic diffraction optical element layer, and unlike an optical type fingerprint recognition device capable of fingerprint recognition only at the upper portion of the light source, Fingerprint recognition is possible.

상기 적층체의 제 1 기재층 및 제 2 기재층의 종류는 상술한 일반식 2 내지 4를 만족하면 특별히 제한되지 않으며, 바람직하게는, 상술한 일반식 2 내지 4를 만족하면서 광학적으로 투명한 것을 사용할 수 있다. 하나의 예시에서, 제 1 기재층은 디스플레이 장치의 커버글래스로 사용될 수 있는 재료로 구성될 수 있으며, 제 2 기재층은 디스플레이 분야에서 사용되는 광학 점착제일 수 있다.The kinds of the first base layer and the second base layer of the laminate are not particularly limited as long as they satisfy the above-described general formulas 2 to 4, and preferably optically transparent ones satisfying the above-mentioned general formulas 2 to 4 are used . In one example, the first substrate layer can be composed of a material that can be used as a cover glass of a display device, and the second substrate layer can be an optical adhesive used in the display field.

본 출원의 적층체의 제조방법은 홀로그래픽 회절 광학소자를 제조하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 홀로그래픽 회절 광학소자에는 투과형 또는 반사형 홀로그램이 기록될 수 있다. The manufacturing method of the laminate of the present application may include a step of manufacturing a holographic diffraction optical element. A transmissive or reflective hologram may be recorded in the holographic diffraction optical element.

도 2는 일반적인 투과형 홀로그램의 기록방법(200)을 도시한 것이다. 투과형 홀로그램의 기록은 도 2에 도시한 것처럼 감광재료(201)의 어느 일면상에 제 1 광(202) 및 제 2 광(203)을 조사하여 감광재료를 노광하고, 그 결과 감광재료(201)에 간섭패턴(204)이 형성되어 이루어진다. 본 명세서에서 「노광」이라 함은 감광재료 내부를 서로 다른 광로를 가지는 두 광이 진행하고, 두 광의 간섭에 의하여 감광재료 내부에 간섭패턴이 형성되는 과정을 의미할 수 있다. FIG. 2 shows a general transmission type hologram recording method 200. FIG. 2, the first light 202 and the second light 203 are irradiated on one surface of the photosensitive material 201 to expose the photosensitive material, and as a result, the photosensitive material 201 is irradiated with the first light 202 and the second light 203, An interference pattern 204 is formed. In the present specification, the term &quot; exposure &quot; may refer to a process in which two light beams having different optical paths propagate in the photosensitive material, and an interference pattern is formed in the photosensitive material due to interference of the two light beams.

반사형 홀로그램의 기록은 투과형 홀로그램과 유사하게 제 1 광 및 제 2 광을 이용하나, 제 1광 및 제 2광이 감광재료의 어느 일면상에 조사되는 것이 아니라, 어느 일면 및 상기 일면의 반대면에 조사되어 간섭패턴을 형성한다는 점에서 차이가 있다. The recording of the reflection type hologram uses the first light and the second light similarly to the transmission type hologram, but the first light and the second light are not irradiated on one surface of the photosensitive material, but are incident on one surface and the opposite surface So that an interference pattern is formed.

본 출원의 적층체의 제조방법에서 사용되는 감광재료는, 조사된 광선의 간섭에 의하여 간섭패턴이 형성될 수 있는 것이라면 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 홀로그램의 기록 분야에서는 홀로그램을 기록할 수 있는 다양한 감광재료가 공지되어 있으며, 본 출원에서는 상기 감광재료의 감광 성능 등을 고려하여 적절한 감광재료를 선택하여 사용할 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 감광재료로는 유리 또는 트리아세틸셀룰루오스(TAC) 기판 상에 형성되어 있는 감광물질층일 수 있다.The type of the photosensitive material used in the method for producing a laminate of the present application is not particularly limited as long as it can form an interference pattern due to the interference of irradiated light rays. In the field of hologram recording, various photosensitive materials capable of recording holograms are known. In this application, a suitable photosensitive material can be selected and used in consideration of the photosensitive performance of the photosensitive material. In one example, the photosensitive material may be a photosensitive material layer formed on a glass or triacetylcellulose (TAC) substrate.

본 출원의 적층체의 제조방법에 사용되는 제 1 광선 및 제 2 광선은 선택된 감광재료에 간섭패턴을 형성할 수 있는 것이라면 그 종류가 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 레이저를 사용할 수 있다. 바람직하게는, 제 1 광선 및 제 2 광선으로 연속파 레이저(continuous wave lase: CW laser)를 사용할 수 있다. 연속파 레이저는 시간적으로 일정한 출력으로 연속적인 빔을 발진할 수 있는 레이저를 의미할 수 있다. 또한, 제 1 광선 및 제 2 광선으로 종모드(longitudinal mode) 레이저를 사용할 수 있다. 종모드 레이저란 공진기 축과 평행한 진동을 가지는 레이저로, 진동방향과 진행방향이 같은 레이저를 의미할 수 있다. 보다 바람직하게는, 제 1 광선 및 제 2 광선은 단일 종모드(single longitudinal mode) 레이저일 수 있다. 단일 모드라는 것은 레이저의 공진기가 1개의 밴드만을 선택하여 증폭한다는 것을 의미할 수 있다.The kind of the first and second light beams used in the method of manufacturing the laminate of the present application is not particularly limited as long as it can form an interference pattern on the selected photosensitive material. For example, a laser can be used. Preferably, continuous wave lasers (CW lasers) can be used as the first and second light beams. A continuous wave laser may mean a laser capable of oscillating a continuous beam with a constant output in time. Also, longitudinal mode lasers can be used as the first and second light beams. The longitudinal mode laser is a laser having a vibration parallel to the resonator axis, and may mean a laser having the same vibration direction and traveling direction. More preferably, the first light beam and the second light beam may be a single longitudinal mode laser. Single mode can mean that the resonator of the laser selects and amplifies only one band.

본 출원의 적층체 제조방법에 의해 제조되는 적층체는 상술한 제 1 및 2 광로로 진행하는 광을 이용한다. 상술하였듯이 제 2 광로로 진행하는 광은 적층체 내에 트랩된 제 1 광로로 진행하는 광의 일부를 홀로그래픽 회절 광학소자층이 회절시켜 형성될 수 있다. The laminate produced by the laminate production method of the present application uses light traveling to the above-described first and second optical paths. As described above, the light traveling to the second optical path can be formed by diffracting a part of the light traveling to the first optical path trapped in the laminate, by the holographic diffraction optical element layer.

상기와 같이 트랩된 광으로부터 선택적으로 전반사하는 광을 형성하는 홀로그래픽 회절 광학소자층으로 기능할 수 있는 것은, 예를 들면, 홀로그래픽 회절 광학소자일 수 있다. What can function as a holographic diffractive optical element layer that forms light selectively reflecting from the trapped light as described above can be, for example, a holographic diffractive optical element.

본 출원의 적층체의 제조 방법은, 예를 들면, 상기 홀로그래픽 회절 광학소자를 제조하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 홀로그래픽 회절 광학소자를 제조하는 단계는 굴절률 보정액에 침지된 감광재료와 굴절률 보정액의 계면에 제 1 광선 및 제 2 광선을 입사시켜 감광재료에 홀로그램을 기록할 수 있다. 상기 감광재료가 굴절률 보정액에 침지되었다는 것은, 감광재료의 전부 또는 일부가 굴절률 보정액에 담가진 상태를 의미할 수 있다.The manufacturing method of the laminate of the present application may include, for example, a step of manufacturing the holographic diffraction optical element. The step of fabricating the holographic diffractive optical element may include irradiating the first light beam and the second light beam to the interface between the photosensitive material immersed in the refractive index compensation and the refractive index compensation to record the hologram in the photosensitive material. The fact that the photosensitive material is immersed in the refractive index compensation means that all or a part of the photosensitive material is contained in the refractive index compensation.

본 명세서에서 「감광재료와 굴절률 보정액의 계면에 제 1 광선 및 제 2 광선을 입사시킨다」는 것은 제 1 광선 및 제 2 광선 중 적어도 하나 이상은 굴절률 보정액을 통과하여, 상기 제 1 광선 및 제 2 광선이 굴절률 보정액과 감광재료가 접하는 어느 하나의 계면에 조사되도록 제 1 광선 및 제 2 광선을 조사한다는 것을 의미할 수 있다. In the present specification, &quot; incident first light ray and second light ray at the interface between the photosensitive material and the refractive index compensation &quot; means that at least one of the first light ray and the second light ray passes through the refractive index compensation, It may mean that the second light beam irradiates the first light beam and the second light beam such that the second light beam is irradiated at either interface where the refractive index adjustment and the photosensitive material are in contact with each other.

상기 홀로그래픽 회절 광학소자를 제조하기 위해서는, 예를 들면, 도 2에 도시한 것과 같이 감광재료(201) 내부에서 제 1 광(202) 및 제 2 광(203)이 소정의 광로로 진행하도록 해야한다. 특히, 상술한 것과 같이 트랩된 광으로부터 선택적으로 전반사하는 광을 형성하는 홀로그래픽 회절 광학소자를 제조하기 위해서는, 트랩된 광이 홀로그래픽 회절 광학소자층 내에서 진행하는 각도와 대응되는 각도로 감광재료 내부에서 진행하도록 감광재료에 입사되는 광선 및 선택적으로 전반사하는 광이 홀로그래픽 광학소자층 내에서 진행하는 각도와 대응되는 각도로 감광재료 내부에서 진행하도록 감광재료에 입사되는 광선이 감광재료에 조사되어야 한다.In order to manufacture the holographic diffraction optical element, for example, as shown in FIG. 2, the first light 202 and the second light 203 should travel in a predetermined optical path within the photosensitive material 201 do. Particularly, in order to manufacture a holographic diffractive optical element that forms light selectively and totally reflected from the trapped light as described above, it is preferable that the angle at which the trapped light travels in the holographic diffractive optical element layer, A light beam incident on the photosensitive material so that the light rays incident on the photosensitive material progress inside the photosensitive material and the light propagating in the photosensitive material progresses at an angle corresponding to the angle at which the selectively reflected light advances in the holographic optical element layer do.

예를 들면, 도 2에 기재한 것과 유사한 방식으로 감광재료(201)에 간섭패턴(204)을 기록하고자 할 때, 제 1 광(202) 및 제 2 광(203)이 각각 감광재료(201) 내에서 도 1 에 도시된 예시적인 적층체에서 트랩된 광(106)이 홀로그래픽 회절 광학소자층(102) 내에서 진행하는 각도와 선택적으로 전반사하는 광(107)이 홀로그래픽 회절 광학소자층(102) 내에서 진행하는 각도에 대응되는 각도로 진행하도록 제 1 광(202) 및 제 2 광(203)이 감광재료(201)에 조사되어야 한다.For example, when the interference pattern 204 is to be recorded on the photosensitive material 201 in a manner similar to that described in Fig. 2, the first light 202 and the second light 203 are respectively incident on the photosensitive material 201, In the exemplary stack shown in FIG. 1, the angle at which the trapped light 106 travels in the holographic diffractive optical element layer 102 and optionally the total reflected light 107 travels through the holographic diffractive optical element layer The first light 202 and the second light 203 must be irradiated to the photosensitive material 201 so as to proceed at an angle corresponding to an angle that advances within the photosensitive material 201. [

그러나, 공기 중에서는 어떠한 각도로 감광재료에 광을 조사하더라도 공기와 감광재료의 굴절률의 차이에 의하여 제 1 광(202) 및 제 2 광(203) 중 하나 이상은 감광재료 내에서 상술한 각도로 진행할 수 없다. 공기와 감광재료의 굴절률 차이에 의한 상기 문제점을 해결하기 위하여, 본 출원의 적층체의 제조방법에서는 굴절률 보정액을 이용한다.However, even if the photosensitive material is irradiated with light at any angle in the air, at least one of the first light 202 and the second light 203 is diffracted at the above-mentioned angle in the photosensitive material due to the difference in refractive index between air and the photosensitive material I can not proceed. In order to solve the above problem caused by the refractive index difference between the air and the photosensitive material, the method of manufacturing the laminate of the present application uses a refractive index compensation.

도 3은 예시적인 본 출원의 홀로그래픽 회절 광학소자 제조단계를 나타낸 도면이다. 도 3에 도시한 것과 같이, 예시적인 적층체의 제조방법은 감광재료(301)와 굴절률 보정액(302)이 접촉하고 있는 계면에 제 1 광선(303) 및 제 2 광선(304)을 입사시킬 수 있다.Fig. 3 is a diagram showing the steps of manufacturing the exemplary holographic diffractive optical element of the present application. Fig. As shown in FIG. 3, a method of manufacturing an exemplary laminated body includes a step of irradiating a first light ray 303 and a second light ray 304 to an interface at which the photosensitive material 301 and the refractive index adjuster 302 are in contact with each other .

하나의 예시에서, 도 4에 도시한 것과 같이 굴절률 보정액(401)은 감광재료를 고정할 수 있는 고정 수단(402) 및 감광재료에 조사되는 광의 각도를 조절할 수 있는 입사각 조절 수단(403)이 마련된 용기(400)에 담겨있을 수 있고, 상기 용기에 마련된 고정 수단에 감광재료를 고정시킴으로써, 감광재료를 굴절률 보정액에 안정적으로 침지시킬 수 있다. In one example, as shown in FIG. 4, the refractive index adjustment unit 401 includes fixing means 402 for fixing the photosensitive material and incident angle adjusting means 403 for adjusting the angle of light irradiated to the photosensitive material And the photosensitive material can be stably immersed in the refractive index adjustment by fixing the photosensitive material to the fixing means provided in the container.

상기 제 1 광선 및 제 2 광선 중 하나 이상은, 하기 일반식 1을 만족할 수 있다.At least one of the first light ray and the second light ray may satisfy the following general formula (1).

[일반식 1][Formula 1]

θpp>sin-1(nair/npp) × 180°/πθ pp > sin -1 (n air / n pp ) × 180 ° / π

상기 일반식 1에서, θpp는 입사 평면 상에서 광선이 감광재료 내에서 진행하는 각도이며, nair는 25°C 및 1기압에서의 공기의 굴절률이고, npp는 감광재료의 굴절률이다. 도 3에 도시한 것과 같이, 상술한 홀로그래픽 회절 광학소자를 제조하기 위해서 제 1 광선 및 제 2 광선 중 하나 이상은 감광재료(301) 내에서 상기 일반식 1을 만족할 수 있다. 제 1 광선 및 제 2 광선 중 하나 이상이 상기 일반식 1을 만족한다는 것은, 제 1 광선 및 제 2 광선 중 하나 이상이 감광재료 내부에서 공기와 감광재료의 계면에서 입사하였을 경우에는 공기와 감광재료의 굴절률에 의하여 진행할 수 없는 광로로 진행한다는 것을 의미한다.In the above general formula (1),? Pp is the angle at which the light beam travels in the photosensitive material on the incident plane, n air is the refractive index of air at 25 ° C and 1 atmosphere, and n pp is the refractive index of the photosensitive material. As shown in Fig. 3, at least one of the first light beam and the second light beam may satisfy Formula 1 in the photosensitive material 301 in order to manufacture the holographic diffractive optical element described above. The fact that at least one of the first light ray and the second light ray satisfy Formula 1 means that when at least one of the first light ray and the second light ray is incident at the interface between air and the photosensitive material inside the photosensitive material, The optical path of the laser beam can not proceed due to the refractive index of the laser beam.

상기 굴절률 보정액의 굴절률은 상술한 문제점을 해결할 수 있는 범위 내에서 선택될 수 있으며, 예를 들면, 하기 일반식 7 및 8을 만족할 수 있다.The refractive index of the refractive index compensation can be selected within a range that can solve the above-described problems, and for example, the following general formulas 7 and 8 can be satisfied.

[일반식 7][Formula 7]

nl > npp × sinAn l > pp × sinA

[일반식 8][Formula 8]

nl > npp × sinBn l > pp × sinB

상기 일반식 7 및 8에서, nl은 굴절률 보정액의 굴절률이고, npp는 감광재료의 굴절률이며, A 및 B는 각각 상술한 일반식 5 및 6을 설명한 부분에서 정의한 각도이다. 상기 일반식 7 및 8을 만족하는 굴절률을 가지는 굴절률 보정액을 사용함으로써, 제 1 및 2 광선 중 어느 하나가 상술한 일반식 1의 조건을 만족하더라도 홀로그램의 기록이 가능하며, 제 1 광로로 진행하는 광의 일부를 회절시켜 제 2 광로로 진행하게 하는 홀로그래픽 광학 소자를 제작할 수 있다.In the above general formulas 7 and 8, n 1 is the refractive index of the refractive index compensation, n pp is the refractive index of the photosensitive material, and A and B are the angles defined in the above-described general formulas 5 and 6, respectively. By using a refractive index compensation having a refractive index satisfying the above general formulas 7 and 8, it is possible to record a hologram even if any one of the first and second light beams satisfies the condition of the general formula 1 described above, A part of the diffracted light is diffracted so as to proceed to the second optical path.

상기 굴절률 보정액은 상술한 굴절률을 만족하여 공기중에서 기록이 불가능한 홀로그램을 기록할 수 있게 할 수 있는 것이면 그 종류는 특별히 제한되지는 않으나, 예를 들면, 물, 실리콘오일, 알코올, 폴리올 등을 사용할 수 있다.The kind of the refractive index is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned refractive index and can record a hologram which can not be recorded in the air. For example, water, silicone oil, alcohol, .

본 출원의 적층체의 제조방법은 본 출원의 제조방법에 의해 홀로그램이 기록된 홀로그래픽 회절 광학소자를 복제용 감광재료에 복제하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 도 5 는 예시적인 투과형 홀로그래픽 회절 광학소자의 복제단계를 도시한 도면이다. 도 5 에 도시한 것처럼, 본 출원의 적층체의 제조방법의 복제단계(500)는 홀로그래픽 회절 광학소자(501) 및 복제용 감광재료(502)가 순차적으로 적층된 적층체에 복제광(503)을 조사하여 홀로그래픽 회절 광학소자(501)에 기록된 홀로그램을 복제용 감광재료(502)에 복제하는 단계일 수 있다. 도 5는 비록 홀로그래픽 회절 광학소자(501)와 복제용 감광재료(502)가 이격되어 있으나, 홀로그래픽 회절 광학소자(501)와 복제용 감광재료(502)는 서로 접해 있을 수 있다. 투과형 홀로그래픽 회절 광학소자를 이용한 도 5의 예시적인 복제단계와 달리, 반사형 홀로그래픽 회절 광학소자를 이용할 경우, 당업자라면 상기 적층체에 조사하는 복제광의 방향을 다르게 해야한다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 도 5에 도시한 것과 같이, 홀로그래픽 회절 광학소자(501)와 복제용 감광재료(502)의 적층체에 복제광(503)을 조사할 경우, 홀로그래픽 회절 광학소자(501)가 복제광(503)의 일부를 회절시켜 회절된 복제광(504)을 형성한다. 따라서, 복제용 감광재료(502)가 홀로그래픽 회절 광학소자(501)를 투과한 복제광(503)과, 회절된 복제광(504)에 의하여 노광되어 복제용 감광재료(502)에 간섭패턴이 형성될 수 있다.The manufacturing method of the laminate of the present application may further include the step of replicating the holographic diffractive optical element on which the hologram is recorded by the manufacturing method of the present application, to the photosensitive material for duplication. FIG. 5 is a diagram showing a reproduction step of an exemplary transmission type holographic diffraction optical element. FIG. 5, the copying step 500 of the method of manufacturing a laminate according to the present application is a method in which the holographic diffraction optical element 501 and the copying photosensitive material 502 are sequentially laminated, ) And copying the hologram recorded in the holographic diffraction optical element 501 to the photographic material 502 for copying. Although the holographic diffractive optical element 501 and the photographic photosensitive material 502 for copying are spaced apart from each other, the holographic diffractive optical element 501 and the photographic photosensitive material for copying 502 may be in contact with each other. Unlike the exemplary replication step of FIG. 5 using a transmissive holographic diffractive optical element, it will be understood by those skilled in the art that the direction of the diffracted light irradiated to the stack must be different when using a reflective holographic diffractive optical element. 5, when the duplicated light 503 is irradiated onto the laminate of the holographic diffraction optical element 501 and the photographic material 502 for copying, the holographic diffraction optical element 501 is irradiated with the duplicated light 503 503 are diffracted to form diffracted diffracted light 504. The photosensitive material 502 for copying is exposed by the duplicated light 503 transmitted through the holographic diffraction optical element 501 and the diffracted duplicated light 504 so that an interference pattern is formed on the photosensitive material 502 for duplication .

본 명세서에서 홀로그래픽 회절 광학소자에 기록된 홀로그램을 「복제」한다는 것은, 예를 들면, 상기 홀로그래픽 회절 광학소자가 입사평면 상에서 X 각도로 입사한 광의 일부를 입사평면 상에서 Y 각도로 진행하도록 회절시키는 홀로그래픽 회절 광학소자일 경우, 상기 홀로그래픽 회절 광학소자와 복제용 감광재료의 적층체에 복제광을 조사하여 복제용 감광재료에 홀로그램을 기록함으로써, 상기 복제용 감광재료 또한 입사평면 상에서 X 각도로 입사한 광의 일부를 입사평면 상에서 Y 각도로 회절시키는 홀로그래픽 회절 광학소자가 되도록 하는 것을 의미할 수 있다. 또한, 상기 「복제」는 상기 홀로그래픽 회절 광학소자와 상기 복제용 감광재료가 투과된 광과 회절된 광 전체 세기에 대한 회절된 광의 세기의 비율로 정의되는 회절효율이 동일한 경우뿐만 아니라, 회절 효율이 상이한 경우도 포함할 수 있다.The term &quot; duplicating &quot; the hologram recorded in the holographic diffractive optical element in this specification means, for example, that the holographic diffractive optical element diffracts a part of the light incident at the X- The hologram is recorded in the photosensitive material for copying by irradiating the layered product of the holographic diffraction optical element and the photographic material for copying with a copying light so that the photographic material for copying is also irradiated with X angle May be a holographic diffraction optical element which diffracts a part of the light incident on the incident plane at a Y angle. The &quot; copying &quot; is not limited to the case where the holographic diffraction optical element and the copying photosensitive material have the same diffraction efficiency defined by the ratio of the intensity of the diffracted light to the total intensity of the diffracted light and the diffracted light, But also different cases may be included.

본 명세서에서는 복제에 사용되는 홀로그래픽 회절 광학소자를 「마스터」라고 지칭할 수 있으며, 상기 홀로그래픽 회절 광학소자에 의해 복제된 홀로그래픽 회절 광학소자는 「카피」라고 지칭할 수 있다.In the present specification, the holographic diffractive optical element used for duplication may be referred to as a &quot; master &quot;, and the holographic diffractive optical element duplicated by the holographic diffractive optical element may be referred to as &quot; copy &quot;.

상기와 같이 마스터를 복제하여 카피를 제조할 경우, 본 출원의 적층체의 제조방법에 의해 제조되는 적층체의 대량생산이 용이할 수 있다. 상기 대량생산은, 예를 들면, 카피를 제조하기 위한 복제용 감광재료가 롤에 의해 이송되고, 복제용 감광재료와 마스터가 적층된 적층체에 스캔 방식으로 광을 조사하는 롤 투 롤 공정에 의해 수행될 수 있다.When copying is made by duplicating the master as described above, mass production of the laminate produced by the production method of the laminate of the present application can be facilitated. The mass production is, for example, carried out by a roll-to-roll process in which a photosensitive material for copying for making a copy is conveyed by a roll, and the photosensitive material for copying and the master are stacked and the light is irradiated in a scanning manner .

본 출원의 적층체의 제조방법은 공기 중에서는 제작이 불가능한 상기 적층체에 포함되는 홀로그래픽 회절 광학소자층을 제조할 수 있는 제조방법을 제공할 수 있다.The manufacturing method of the laminate of the present application can provide a manufacturing method capable of manufacturing a holographic diffraction optical element layer included in the laminate which is impossible to manufacture in air.

도 1은 본 출원의 예시적인 적층체를 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 예시적인 투과형 홀로그램 기록방법을 나타낸 도면이다.
도 3은 본 출원의 예시적인 홀로그래픽 회절 광학소자를 제조하는 단계를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 출원의 예시적인 용기를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 출원의 예시적인 복제단계를 나타낸 도면이다.
도 6은 실시예에서 제조한 홀로그래픽 회절 광학소자의 입사각에 따른 회절각도를 측정한 결과이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a diagram schematically showing an exemplary laminate of the present application. Fig.
2 is a diagram showing an exemplary transmission type hologram recording method.
3 is a diagram illustrating a step of manufacturing an exemplary holographic diffractive optical element of the present application.
Figure 4 shows an exemplary container of the present application.
5 is a diagram illustrating an exemplary replication step of the present application.
6 shows the result of measurement of the diffraction angle according to the incident angle of the holographic diffraction optical element manufactured in the embodiment.

이하 본 출원의 적층체의 제조방법을 실시예를 통하여 설명하나, 본 출원의 적층체의 제조방법이 상기 실시예로 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the method for producing the laminate of the present application will be described with reference to Examples, but the method for producing the laminate of the present application is not limited to the above Examples.

실시예. 굴절률 보정액을 이용한 홀로그래픽 회절 광학소자의 제조Examples. Manufacture of holographic diffractive optical element using refractive index compensation

도 3에 도시한 것과 같이, 굴절률 보정액(302)에 감광재료(301)를 침지하였다. 상기 감광재료는 굴절률이 1.5이다. 굴절률 보정액으로 폴리올을 사용하였으며, 상기 폴리올의 굴절률은 25°C에서 1.45이다.The photosensitive material 301 is immersed in the refractive index adjuster 302 as shown in Fig. The photosensitive material has a refractive index of 1.5. A polyol was used as a refractive index compensator, and the refractive index of the polyol was 1.45 at 25 ° C.

상기 폴리올에 침지된 감광재료에 제 1 광선 및 제 2 광선을 조사하여, 제 1 광선 및 제 2 광선에 의해 감광재료를 노광하였다. 제 1 광선 및 제 2 광선으로 단일종모드이며 파장이 532nm인 레이저를 이용하였다. 폴리올 내부에서 제 1 광선은 폴리올과 감광재료의 계면에 47°로 입사하였으며, 제 2 광선은 폴리올과 감광재료의 계면에 80°로 입사하였다. 상기 제 1 광선은 감광재료 내의 입사평면 상에서 45°의 각도로 진행하며, 제 2 광선은 감광재료 내의 입사평면 상에서 72°의 각도로 진행하게 된다. 따라서, 일반식 1을 참고할 때, nair는 1이며, npp는 1.5이므로, 일반식 1의 우변이 약 41.8°가 되므로 제 1 및 2 광선은 상술한 일반식 1을 만족하는 것을 알 수 있다.A first light ray and a second light ray were irradiated to the photosensitive material immersed in the polyol, and the photosensitive material was exposed by the first light ray and the second light ray. A single mode laser with a wavelength of 532 nm was used as the first and second light beams. Inside the polyol, the first ray was incident at the interface between the polyol and the photosensitive material at 47 degrees, and the second ray was incident at the interface between the polyol and the photosensitive material at 80 degrees. The first light beam travels at an angle of 45 [deg.] On the incident plane in the photosensitive material, and the second light ray travels at an angle of 72 [deg.] On the incident plane in the photosensitive material. Therefore, when referring to the general formula 1, since n air is 1 and n pp is 1.5, since the right side of the general formula 1 becomes about 41.8 °, it can be seen that the first and second rays satisfy the above-mentioned general formula 1 .

제조한 홀로그래픽 회절광학소자의 입사각에 따른 회절각도를 측정한 결과는 도 6과 같다. 측정 결과 72°로 입사한 각을 45°로 회절시키는 것을 알 수 있었다.The result of measuring the diffraction angle according to the incident angle of the manufactured holographic diffraction optical element is shown in FIG. As a result of the measurement, it was found that the angle of incidence at 72 ° was diffracted at 45 °.

비교예. 홀로그래픽 회절 광학소자의 제조Comparative Example. Manufacture of holographic diffractive optical element

굴절률 보정액을 사용하지 않고 제 1 광선이 감광재료 내에서 72°의 각도로 진행하고, 제 2 광선이 감광재료 내에서 45°의 각도로 진행할 수 있도록 공기와 감광재료의 계면에 제 1 및 2 광선을 조사하려 하였다. 그러나, 공기(nair=1)와 감광재료(npp=1.5) 사이의 전반사 임계각은 41.8°이므로, 공기중에서 광선을 어떠한 각도로 조사하여도 조사된 광선이 감광재료 내에서 41.8°의 각도로 진행하도록 할 수 없어 72°의 각도로 입사하는 광선을 45°로 회절시키는 회절광학소자를 제조할 수 없었다.The first and second light beams are incident on the interface of the air and the photosensitive material so that the first light ray advances at an angle of 72 ° in the photosensitive material without using the refractive index compensation and the second light ray can travel at an angle of 45 ° in the photosensitive material. I tried to investigate the ray. However, since the critical angle of total reflection between the air (n air = 1) and the photosensitive material (n pp = 1.5) is 41.8 °, even if the light is irradiated at any angle in the air, So that it was impossible to manufacture a diffractive optical element that diffracts a light ray incident at an angle of 72 degrees at 45 degrees.

100: 적층체
101: 제 1 기재층
102: 홀로그래픽 회절 광학소자층
103: 제 2 기재층
104: 지문의 마루
105: 지문의 골
106: 제 1 광로로 진행하는 광
107: 제 2 광로로 진행하는 광
200: 투과형 홀로그램 기록방법
201: 감광재료
202: 제 1 광
203: 제 2 광
204: 간섭패턴
300: 홀로그래픽 회절 광학소자 제조단계
301: 감광재료
302: 굴절률 보정액
303: 제 1 광선
304: 제 2 광선
400: 용기
401: 굴절률 보정액
402: 고정 수단
403: 입사각 조절 수단
500: 복제단계
501: 홀로그래픽 회절 광학소자
502: 복제용 감광재료
503: 복제광
504: 회절된 복제광
100:
101: a first substrate layer
102: holographic diffraction optical element layer
103: a second substrate layer
104: The floor of the fingerprint
105: Fingerprints
106: Light traveling to the first optical path
107: Light traveling to the second optical path
200: transmission type hologram recording method
201: Photosensitive material
202: First light
203: second light
204: interference pattern
300: Holographic diffraction optical element manufacturing step
301: Photosensitive material
302: Refractive index correction
303: 1st ray
304: 2nd ray
400: container
401: Refractive index correction
402: Fixing means
403: Incident angle adjusting means
500: Replication step
501: holographic diffraction optical element
502: Photosensitive material for reproduction
503: Replication light
504: diffracted diffracted light

Claims (6)

순차로 적층된 제 1 기재층, 홀로그래픽 회절 광학소자층 및 제 2 기재층을 포함하는 적층체의 제조방법에 있어서,
굴절률 보정액에 침지된 감광재료와 굴절률 보정액의 계면에 제 1 광선 및 제 2 광선을 입사시켜 감광재료에 홀로그램을 기록하여 홀로그래픽 회절 광학소자를 제조하는 단계를 포함하는 적층체의 제조방법.
A method for manufacturing a laminate including a first base layer, a holographic diffraction optical element layer and a second base layer sequentially laminated,
And forming a holographic diffraction optical element by irradiating a first light beam and a second light beam at an interface between the photosensitive material immersed in the refractive index compensation and the refractive index compensation to record a hologram in the photosensitive material.
제 1항에 있어서, 제 1 광선 및 제 2 광선 중 하나 이상은 하기 일반식 1을 만족하는 적층체의 제조방법:
[일반식 1]
θpp>sin-1(nair/npp) × 180°/π
상기 일반식 1에서, θpp는 입사 평면 상에서 광선이 감광재료 내에서 진행하는 각도이며, nair는 공기의 굴절률이고, npp는 감광재료의 굴절률이다.
The method for producing a laminate according to claim 1, wherein at least one of the first light ray and the second light ray satisfies the following general formula (1)
[Formula 1]
θ pp > sin -1 (n air / n pp ) × 180 ° / π
In the general formula (1),? Pp is the angle at which the light beam travels in the photosensitive material on the incident plane, n air is the refractive index of air, and n pp is the refractive index of the photosensitive material.
제 1항에 있어서, 적층체는 하기 일반식 2 내지 일반식 4를 만족하는 적층체의 제조방법:
[일반식 2]
n1>nair
[일반식 3]
nhoe>n2
[일반식 4]
n1>no
일반식 2 내지 4에서, n1은 제 1 기재층의 굴절률이고, nair는 25°C 및 1기압에서의 공기의 굴절률이고, nhoe는 홀로그래픽 광학소자층의 굴절률이며, n2는 제 2 기재층의 굴절률이고, no는 높낮이 패턴을 갖는 물체 중 제 1 기재층과 직접 접촉하는 부분의 굴절률이다.
The method for producing a laminate according to claim 1, wherein the laminate satisfies the following formulas 2 to 4:
[Formula 2]
n 1 > n air
[Formula 3]
n hoe > n 2
[Formula 4]
n 1 > n o
In the general formula 2 to 4, n 1 is the refractive index of the first base material and the refractive index of the layer, n air is 25 ° C and 1 atmosphere, in which the refractive index of air, n hoe is a holographic optical element in a layer, n 2 is the 2 is the refractive index of the base layer, and n o is the refractive index of the portion of the object having the height pattern directly contacting the first base layer.
제 1항에 있어서, 홀로그래픽 회절 광학소자층은, 공기와 제 1 기재층의 계면에 각도 A로 입사하는 제 1 광로로 진행하는 광의 일부를 공기와 제 2 계면에 각도 B로 입사하는 제 2 광로로 진행하도록 회절시키며,
상기 제 1 광로는 공기와 제 1 기재층의 계면에서 전반사하고, 제 1 기재층과 홀로그래픽 회절 광학 소자층의 계면에서 전반사하지 않으며, 홀로그래픽 회절 광학소자층과 제 2 기재층의 계면에서 전반사하는 광로이고,
상기 제 2 광로는 공기와 제 1 기재층의 계면에서 전반사하며, 높낮이 패턴을 갖는 물체 중 제 1 기재층과 직접 접촉하는 부분과 제 1 기재층의 계면에서 전반사하지 않고, 제 1 기재층과 홀로그래픽 회절광학소자층의 계면에서 전반사하지 않으며, 홀로그래픽 회절 광학소자층과 제 2 기재층의 계면에서 전반사하지 않는 광로이고,
상기 각도 A 는 하기 일반식 5 내지 7을 만족하고, 상기 각도 B는 하기 일반식 8 내지 10을 만족하는 적층체의 제조방법:
[일반식 5]
A > sin-1(no/n1) × 180°/π
[일반식 6]
A < sin-1(nhoe/n1) × 180°/π
[일반식 7]
A > sin-1(n2/n1) × 180°/π
[일반식 8]
sin-1(nair/n1) × 180°/π < B < sin-1(no/n1) × 180°/π
[일반식 9]
B < sin-1(nhoe/n1) × 180°/π
[일반식 10]
B < sin-1(n2/n1) × 180°/π
상기 일반식 5 내지 10에서, n1은 제 1 기재층의 굴절률이고, n2는 제 2 기재층의 굴절률이며, nhoe는 홀로그래픽 회절 광학소자층의 굴절률이고, nair는 공기의 굴절률이며, no는 높낮이 패턴을 갖는 물체 중 제 1 기재층과 직접 접촉하는 부분의 굴절률이다.
2. A holographic diffractive optical element according to claim 1, wherein the holographic diffractive optical element layer comprises a first portion of light incident on the interface between the air and the first base layer at an angle A, Diffracted to proceed to the optical path,
The first optical path is totally reflected at the interface between the air and the first base layer and is totally reflected at the interface between the first base layer and the holographic diffraction optical element layer, Lt; / RTI >
The second optical path is totally reflected at the interface between the air and the first base layer and is totally reflected from the portion of the object having the height pattern directly contacting the first base layer and the interface of the first base layer, The optical path is not totally reflected at the interface of the graphic diffraction optical element layer and is not totally reflected at the interface between the holographic diffraction optical element layer and the second base layer,
Wherein the angle A satisfies the following general formulas 5 to 7 and the angle B satisfies the following general formulas 8 to 10:
[Formula 5]
A> sin -1 (n o / n 1 ) × 180 ° / π
[Formula 6]
A <sin -1 (n hoe / n 1 ) × 180 ° / π
[Formula 7]
A> sin -1 (n 2 / n 1 ) × 180 ° / π
[Formula 8]
sin -1 (n air / n 1 ) × 180 ° / π <B <sin -1 (n o / n 1 ) × 180 ° /
[Formula 9]
B <sin -1 (n hoe / n 1 ) × 180 ° / π
[Formula 10]
B <sin -1 (n 2 / n 1 ) × 180 ° / π
In the general formulas 5 to 10, n 1 is the refractive index of the first base layer, n 2 is the refractive index of the second base layer, n hoe is the refractive index of the holographic diffractive optical element layer, n air is the refractive index of air , and n o is a refractive index of a portion of the object having a height pattern directly contacting the first base layer.
제 4항에 있어서, 굴절률 보정액의 굴절률은 하기 일반식 11 및 12을 만족하는 적층체의 제조방법:
[일반식 11]
nl > npp × sinA
[일반식 12]
nl > npp × sinB
상기 일반식 11 및 12에서, nl은 굴절률 보정액의 굴절률이고, npp는 감광재료의 굴절률이다.
The method for producing a laminate according to claim 4, wherein the refractive index of the refractive index compensation satisfies the following formulas 11 and 12:
[Formula 11]
n l > pp × sinA
[Formula 12]
n l > pp × sinB
In the above general formulas 11 and 12, n 1 is the refractive index of the refractive index compensation and n pp is the refractive index of the photosensitive material.
제 1항에 있어서, 홀로그래픽 회절 광학소자 및 복제용 감광재료가 순차적으로 적층된 적층체에 복제광을 조사하여 홀로그래픽 회절 광학소자에 기록된 홀로그램을 복제용 감광재료에 복제하는 단계를 추가로 포함하는 적층체의 제조방법.The method according to claim 1, further comprising the step of irradiating the layered product in which the holographic diffraction optical element and the photographic material for copying are sequentially laminated to reproduce the hologram recorded in the holographic diffraction optical element, By weight.
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