KR20190043528A - 피부 재활을 증가시키는데 유용한 미용 장치 및 그 방법 - Google Patents

피부 재활을 증가시키는데 유용한 미용 장치 및 그 방법 Download PDF

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KR20190043528A
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Abstract

본 발명은, 펄스형 전자기 주파수 발생기 RF 조직 열치료 디바이스 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스와 통신하는 복수 개의 전극을 포함하고, 적어도 하나의 전극이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 유지되는 동안 적어도 하나의 제 2 전극이 미리 결정된 온도 범위 T2에서 유지되는 점막 조직의 재활을 위한 디바이스를 제공한다.

Description

피부 재활을 증가시키는데 유용한 미용 장치 및 그 방법
본 발명은 일반적으로 관련 점막 조직의 활력 및 재활을 개선하기 위하여 사용되는 미용 디바이스, 및 이러한 디바이스를 사용하는 방법에 관한 것이다.
여성이 노화됨에 따라, 질 내의 조직과 같은 점막 조직이 외피 조직의 노화와 유사한 방식으로 노화되어, 콜라겐 생성의 감소와 탄력이 떨어지는 것을 겪게 된다. 이렇게 탄력이 떨어지면 질이 호르몬 변화에 적절하게 대응하지 않게 될 수 있다. 그러면, 조직이 적절하게 팽창되지 않으면 삽입이 고통스러울 수 있고, 또는 조직이 적절하게 수축되지 않으면 삽입 중 성감이 떨어질 수 있다.
이러한 조직을 팽팽하게 하기 위한 몇 가지 주된 접근법이 현재 널리 사용된다. 외과적 접근법은 마취, 외과적 합병증, 및 치유 과정과 관련된 단점을 가지고 있으며, 흉터를 남길 수 있다. 화학적 박피법은 보통 피부의 가장 바깥 층-표피-에 손상을 가져오고 탈색을 일으킬 수 있다. 콜라겐 섬유가 피부의 피하층인 진피에서 발견되고, 열이 이러한 섬유를 수축시키고 생성되게 하는 것으로 밝혀졌기 때문에[Zelickson BD, Kist D, Bernstein E, Brown DB, Ksenzenko S, Burns J, Kilmer S, Mehregan D, Pope K. Histological and ultrastructural evaluation of the effects of a radiofrequency-based nonablative dermal remodeling device: a pilot study. Arch Dermatol. 2004 Feb;140(2):204-9], 진피(심조직 열치료)를 차등적으로 가열하는 방법이 최근에 나타났다.
진피를 처치하는 고유한 방법은 펄스형 전자기장(Pulsed Electromagnetic Field; PEMF) 치료라고 불린다. 이러한 방법은 펄스 내에 부여되는, 정적 자기장으로부터 시작하여 극히 낮은 주파수로부터 더 높은 무선 주파수(RF)까지의 범위를 가지는 상이한 주파수의 전자기 방사선을 채용한다.
PEMF는 두 가지 이상의 방식으로 동작한다. 조직에 의해 흡수되는 방사선은 조직을, 인가된 파워, 송신된 주파수, 및 더 중요하게는 조직 특성에 따라 달라지는 요구되는 온도로 가열할 수 있다. 예를 들어, 조직은 변성 온도까지 가열될 수 있는데, 그러면 조직 손상 및 응고 괴사가 생긴다. 또한, 조직은 더 낮은 온도로 가열될 수 있는데, 그러면 콜라겐 섬유의 앞서 언급된 수축이 초래될 수 있다.
다른 방식은 비-열 효과를 수반하는데, 이것은 인가된 방사선의 특성에 대한 특정 조직 성분의 반응에 따라 달라진다. 이러한 효과는, 하전된 대분자 및 다양한 주파수 및 그 고조파에 대한 그들의 반응, 세포 기능에 영향을 주는 세포막 내의 하전된 소이온 및 호르몬 및 화학 신호에 대한 반응, 세포외 공간 내의 하전된 소이온 및 다른 아직 잘 모르는 메커니즘에 기인할 수 있다.
더욱이, 방사선을 펄스로 인가하는 것도 비-열 효과를 가지는 것이 발견되었다. 더 많은, 주파수, 듀티 사이클 및 송신된 파워의 특정 조합이 특정한 조직 반응을 초래할 수 있다. 최근의 과학적 연구는 PEMF 특성이 요구되는 생물물리학적 응답을 초래할 수 있다고 결정했다.
펄스 내에 부여된 약한 전자기장(EMF)이 골절, 다발성 경화증 및 파킨슨병의 다양한 치유 과정을 개시할 수 있고, 진통제도 전달할 수 있다는 것이 이제 널리 받아 들여진다 그러나 PEMF에 가장 많이 반응하는 것으로 여겨지는 조건들 거의 모두는 근골격일 것으로 보인다. 20여년 전, FDA는 표피 연조직의 통증과 부종을 치료하기 위하여 펄스형 무선주파수 전자기장을 사용하도록 허용했다. [Rosch, P.J., Markov, M.S., eds. Bioelectromagnetic Medicine, 2004; Marcel Dekker, NY, 251- 264].
PEMF는 전술된 바와 같은 조직 재활(rejuvenation) 또는 재활성화(revitalization)를 위해서도 사용될 수 있다. 많은 연구들이 피부 성분에 대한 PEMF의 영향을 다뤄 왔다. 예를 들어, 생체내 시험은 특정 필드 세기 및 주파수의 펄스형 전자기장이 표피 콜라겐 합성을 증가시켰다는 것을 보여줬다[Ahmadian S, Zarchi SR, Bolouri B. Effects of extremely-low-frequency pulsed electromagnetic fields on collagen synthesis in rat skin. Biotechnol Appl Biochem. 2006 Feb; 43(Pt 2):71-75]. 이러한 새롭게-형성된 콜라겐이 피부 탄력을 증가시키고 피부의 모양을 재활시킨다.
체외 시험은, PEMF가 주로 FGF-2의 내피 방출을 자극하고 주변 조직에서의 파라크린(paracrine) 및 오토크린(autocrine) 변화를 유도함으로써, 내피 세포 조관(tubulization) 및 증식을 증가시켰고, 혈관형성을 증강시켰다는 것을 보여줬다[Tepper OM 등, Electromagnetic fields increase in vitro and in vivo angiogenesis through endothelial release of FGF -2. FASEB J. 2004 Aug; 18(11):1231-3. Epub 2004 Jun 18]. 새 혈관이 생성되는 혈관형성은 조직으로 가는 혈액 흐름을 증가시키고, 그러면 산소 및 영양 물질이 조직으로 전달되는 것을 증가시킨다. 이러한 효과는 손상된 조직에 대해서 가장 유익하며, 신속하고 개선된 치유를 촉진한다. 방출되는 성장 인자가 개선의 품질 및 속도 양자 모두에서 치유 과정을 더욱 향상시킨다.
조직에 대한 PEMF의 효과의 과학적 증거는 다양한 응용분야에서 활용되었다. 예를 들어, US20050182462A1 는 피부를 수축하고 팽팽하게 하기 위해서 PEMF를 사용하는 건강한 심조직 가열법을 개시한다.
PEMF는 피부 부상 치료를 위해서도 사용되어 왔다. 예를 들어, WO08064272 는 PEMF를 사용하여 중증 당뇨성 궤양을 치료하는 방법을 개시한다. 이 특허는 간헐적 압박 요법(ICT)을 추가하고 저강도 초음파(50 W/cm2 까지)를 사용하는 것도 개시하는데, 후자는 미생물 생육을 방지하는 것이 목적이다.
진피를 가열하는 다른 방법은 안테나 또는 전극에 의해 인가되는 비펄스형 RF 방사선을 사용했다. 예를 들어, WO98005380 은 RF 전자기 에너지 전달 디바이스를 사용하여 피부를 팽팽하게 하는 방법을 개시한다.
피부를 팽팽하게 하는 결과를 진피 열치료에 기초하여 개선시키는 것이 미용 및 치료 목적 양자 모두를 위하여 여전히 오랫동안 필요하다고 여겨진다.
본 발명의 목적은 점막 조직의 적어도 하나의 부위를 재활하는 디바이스로서,
펄스형 전자기장 요법을 점막 조직의 상기 부위에 적용하기 위한 펄스형 전자기 주파수 발생기; 및
RF 조직 열치료 디바이스와 통신하는 복수 개의 전극을 포함하고,
상기 RF 조직 열치료 디바이스는 상기 전극을 통해 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위를 가열하는, 재활 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부가 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 다른 적어도 일부는 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1 은 T2와 동일하거나 상이함;
b. 상기 디바이스는 상기 복수 개의 전극 중 적어도 하나에 인접한 적어도 하나의 온도 센서를 더 포함함;
c. 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위는 질 내에 있음; 및
d. 상기 디바이스는 상기 적어도 하나의 온도 센서 및 상기 데이터베이스와 통신하는 프로세서를 더 포함하고, 상기 적어도 하나의 온도 센서는 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택됨;
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 상기 프로세서는, 상기 온도 프로파일이 상기 디바이스 외부의 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 유지가능하도록, 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스로의 RF 출력을 피드백 제어하도록 구성됨; 및,
b. 각각의 상기 적어도 하나의 온도는 점막 조직의 상기 부위의 상기 적어도 하나의 부분 내에서 측정가능함;
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 펄스의 지속기간은 약 3 ms 내지 약 1000 ms의 범위 안에 있음;
b. 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 상기 펄스의 주파수 F는 약 1 Hz 내지 약50 Hz의 범위 안에 있음; 및
c. 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 펄스형 전자기 파워는 콜라겐 생성을 자극하도록 구성됨;
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 상기 펄스형 전자기 파워는 혈관형성을 유도하도록 구성됨; 및
b. 상기 펄스형 전자기 파워는 약 15 Hz의 주파수 F 및 약 12 가우스의 자기장 세기 B의 펄스를 포함함;
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
상기 온도 프로파일 내의 상기 적어도 하나의 온도, 상기 미리 결정된 온도 범위 T1, 상기 미리 결정된 온도 범위 T1 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 원소는, 섭씨 30 도 내지 약 섭씨 80 도 및 약 섭씨 40 도 내지 약 섭씨 50 도로 이루어진 군에서 선택된 범위 안에 있는, 전술된 바와 같은 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 환자의 점막 조직의 적어도 하나의 부위의 재활을 증가시키는 집적 시스템으로서,
상기 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 배치되도록 구성되는 적어도 두 개의 전극;
전자기장 펄스를 발생시키고 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 상기 전자기장 펄스를 인가하도록 구성되는 전자기장 발생기; 및
제어 시스템을 포함하고,
상기 전극 중 어느 것도 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위를 관통하도록 구성되지 않고,
상기 전극 각각은 상기 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 RF를 통전시키도록 구성되며, 전극은 상기 점막 조직을 섭씨 30 도 내지 섭씨 80 도의 범위 내의 온도 T까지 가열하도록 구성되고,
상기 제어 시스템은 상기 전자기장 발생기 및 상기 전극에 의한 상기 열의 인가를 제어하도록 구성되는, 집적 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분은 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1 은 T2와 동일하거나 상이함;
b. 상기 적어도 하나의 점막 조직 부위는 질 내에 있음; 및
c. 상기 시스템은 적어도 하나의 온도 프로파일을 저장하도록 구성되는 데이터베이스를 더 포함하고, 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 미리 결정된 부분을 포함함;
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 집적 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 상기 시스템은 상기 데이터베이스 및 적어도 하나의 온도 센서와 통신하는 프로세서를 더 포함함;
b. 상기 제어 시스템(6)은 물리적 조직 파라미터를 모니터링하고, 상기 인가된 열, 상기 전자기 펄스 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 상응하도록 변경함;
c. 상기 시스템에 의해 인가되는 각각의 펄스의 지속기간은 약3 ms 내지 약 1000 ms의 범위를 가짐;
d. 상기 시스템의 전자기 펄스에 의해 인가되는 주파수 F는 약 1 Hz 내지 약 50 Hz의범위를 가짐;
e. 상기 시스템의 RF 펄스에 의해 인가되는 주파수는 약 200 kHz 내지 약 10 MHz의 범위를 가짐; 및
f. 상기 시스템의 상기 RF에 의해 인가되는 파워 P는 약 1 W 내지 약 100 W RMS 평균 파워의 범위를 가짐;
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 집적 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 각각의 상기 적어도 하나의 온도 센서는 상기 환자의 상기 적어도 하나의 점막 부위의 상기 미리 결정된 부분의 적어도 하나의 온도를 측정하도록 구성됨; 및
b. 상기 적어도 하나의 온도 센서는 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택됨;
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 집적 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 환자의 점막 조직의 적어도 하나의 부위의 재활을 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위로의 열 및 펄스형 전자기장(PEMF)의 시너지 인가(synergistic application)에 의하여 증가시키도록 구성되는 시스템(10)으로서,
미리 결정된 프로토콜에 따라 상기 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위로 전자기 펄스를 제공하기 위한 펄스형 전자기장(PEMF) 주파수(2)를 생성하기 위한 펄스형 전자기장 발생기; 및
복수 개의 전극을 동작시키도록 구성되는 RF 발생기 - 상기 전극의 상기 동작은 조직 열치료를 유도하도록 구성됨 -;를 포함하고,
상기 시스템은 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 재활을 상기 PEMF 및 상기 조직 열치료의 시너지 조합을 통해 제공하도록 구성되며,
상기 복수 개의 전극(41)은 상기 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 배치될 수 있도록 구성되는, 재활 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 점막 조직의 적어도 하나의 상기 부위는 질 내에 있음;
b. 상기 시스템은 적어도 하나의 온도 센서를 더 포함하고, 상기 적어도 하나의 온도 센서는 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택됨;
c. 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분은 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1 은 T2와 동일하거나 상이함;
d. 상기 시스템은 적어도 하나의 온도 프로파일을 저장하도록 구성되는 데이터베이스를 더 포함하고, 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 상기 점막 조직 부위의 적어도 하나의 부분을 포함함;
e. 제어 시스템(6)은 점막 조직의 상기 부위를 냉각하기 위한 냉각 메커니즘을 포함함; 및
f. 상기 시스템(10)은 적어도 하나의 플랫폼 내에 둘러싸임(encased);
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 상기 시스템은 상기 적어도 하나의 온도 센서 및 상기 데이터베이스와 통신하는 프로세서를 더 포함함; 및
b. 상기 온도, 상기 온도 범위 T1, 상기 온도 범위 T2 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소는 약 섭씨 30 도보다 높고 약 섭씨 80 도보다 낮음;
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 상기 프로세서는 상기 온도 프로파일이 상기 디바이스 외부의 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 유지될 수 있도록 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 발생기를 피드백 제어하도록 구성됨; 및,
b. 각각의 상기 적어도 하나의 온도는 점막 조직의 상기 부위의 상기 적어도 하나의 부분 내에서 측정가능함;
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 전극 모두가 상기 RF 파워를 점막 조직의 상기 부위에 동시에 인가하도록 구성되는, 전술된 바와 같은 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 환자의 점막 조직의 적어도 하나의 부위의 점막 조직 재활을 증가시키는 방법(400)으로서,
a. (i) 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 (ii) RF 조직 열치료 디바이스를 획득하는 단계; 및,
b. 동시에 또는 배치(batch)식으로, (a) 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위 내의 점막 조직의 적어도 일부에 온도 T까지 열을 (b) 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부에 전자기장의 펄스를 및 이들의 임의의 조합을 인가하는 단계를 포함하고,
점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 상기 재활의 상기 증가는, 상기 점막 조직에 열을 인가하는 상기 단계에 기인한 증가 및 펄스 전자기 치료를 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 인가하는 상기 단계에 기인한 증가의 합보다 큰, 재활 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부를 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지하면서 점막 조직의 상기 부위의 적어도 하나의 다른 부분을 미리 결정된 온도 범위 T2에 적어도 일시적으로 유지하는 단계 - T1은 T2와 동일하거나 상이함 -;
b. 점막 조직의 상기 부위가 질 내에 있도록 선택하는 단계;
c. 상기 펄스형 전자기장 및 상기 열을 동시에 인가하는 것, 상기 펄스형 전자기장 및 상기 열을 순차적으로 인가하는 것 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 단계;
d. (a) 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)에 의해 인가되는 각각의 펄스의 지속기간이 약 3 ms보다 길고 1000 ms보다 짧음 (b) 펄스형 전자기 치료를 상기 부위에 인가하는 상기 단계에 의해 인가된 각각의 펄스의 자기장 세기 B는 0 내지 15 가우스의 범위 안에 있음 (c) 펄스형 전자기 치료를 상기 부위에 인가하는 상기 단계에 의해 인가된 펄스에 의해 인가된 주파수 F는 약 1 Hz보다 높고 50 Hz보다 낮음 (d) 펄스형 전자기 치료를 상기 부위에 인가하는 상기 단계에 의해 인가된 파워 P는 약 1 W보다 크고 100 W RMS 평균 파워보다 작음 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나의 파라미터를 선택하는 단계;
e. 상기 열의 인가에 대한 지속기간이 약 0.01 분 내지 약 60 분의 범위 내에 있도록 선택하는 단계; 및
f. 상기 열 및 상기 펄스형 전자기 치료를 인가하는 방식을, 동시에, 순차적으로, 별개로 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택하는 단계 중 적어도 하나를 더 포함하고,
g. 조직에 열을 인가하는 상기 단계는,
i. 적어도 두 개의 전극을 상기 RF 조직 열치료 디바이스에 전기적으로 커플링하는 단계;
ii. 상기 적어도 두 개의 전극을 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 배치하는 단계; 및,
iii. 상기 전자기 펄스, 상기 전극 중 적어도 하나를 통한 상기 RF 파워, 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 인가하는 단계를 포함하는, 전술된 바와 같은 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. (a) 적어도 하나의 온도 프로파일을 포함하는 데이터베이스를 제공하는 단계 - 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 점막 조직의 적어도 하나의 미리 결정된 부위를 포함함 -; (b) 점막 조직의 상기 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 상기 적어도 하나의 온도를 측정하는 단계 및 (c) 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스로의 RF 출력을 피드백 제어하여 상기 적어도 하나의 미리 결정된 부위 내에서 상기 온도 프로파일을 유지하는 단계를 포함하는 단계들의 세트; 및
b. (a) 원위부 및 근위부를 포함하는 질치료 디바이스를 제공하는 단계 - 상기 원위부 및 상기 근위부는 거꾸로 연결가능하고, 상기 근위부는 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기, 상기 RF 조직 열치료 디바이스 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소와 통신하며, 상기 원위부는 적어도 두 개의 전극을 포함함 -; (b) 상기 원위부를 적어도 부분적으로 상기 질 내에 배치하는 단계 (c) 상기 원위부의 적어도 일부를 약 1 분 내지 약 20 분의 범위 내의 시간 기간 동안 상기 질 내에 실질적으로 정지되게 유지하는 단계 (d) 상기 시간 기간의 적어도 일부 동안, 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기, 상기 RF 조직 열치료 디바이스 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 활성화시키는 단계 - 상기 활성화시키는 단계는 펄스형 전자기장, 열 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 상기 질 내의 조직에 인가함 -; 및 (e) 상기 시간 기간의 적어도 일부 동안, 상기 질 내의 상기 조직의 온도를 측정하는 단계를 포함하는 단계들의 세트 중 적어도 하나를 포함하는, 전술된 바와 같은 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, (a) 상기 원위부에 적어도 두 개의 쌍의 전극을 제공하는 단계 및 (b) 각각의 쌍을 별개로 제어하여, 상기 질의 적어도 일부 내에서 상기 온도 프로파일을 유지하는 단계를 더 포함하는, 전술된 바와 같은 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 환자의 적어도 하나의 부위의 재활을 증가시키는 집적 시스템으로서,
상기 적어도 하나의 부위는 상기 환자의 피부, 상기 환자의 점막 조직 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되고, 상기 집적 시스템은,
상기 환자의 상기 적어도 하나의 부위에 배치되도록 구성되는 적어도 두 개의 전극;
전자기장 펄스를 생성하도록 구성되는 전자기장 발생기;
RF 파워를 생성하도록 구성되는 발생기; 및
제어 시스템을 포함하며,
상기 적어도 두 개의 전극 중 어느 것도 상기 적어도 하나의 부위를 관통하도록 구성되지 않고,
상기 적어도 두 개의 전극 각각은 상기 적어도 하나의 부위에 RF 펄스를 제공하도록 구성되며, 상기 RF 파워는 약 섭씨 30 도 내지 약 섭씨 80 도의 범위 내의 온도 T까지 열을 인가하도록 구성되고,
상기 제어 시스템은, 상기 전자기장 발생기, 상기 전극에 의한 상기 열의 인가 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 제어하도록 구성되며,
동시에, 순차적으로, 별개로 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 방식으로, 상기 전자기 펄스는 상기 적어도 하나의 부위에 인가될 수 있고 상기 열은 상기 적어도 하나의 부위에 인가될 수 있는, 집적 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분은 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1 은 T2와 동일하거나 상이함;
b. 상기 환자의 상기 적어도 하나의 부위는 질 내에 있음;
c. 상기 시스템은 적어도 하나의 온도 프로파일을 저장하도록 구성되는 데이터베이스를 더 포함하고, 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 상기 환자의 적어도 하나의 미리 결정된 부위를 포함함;
d. 상기 환자의 상기 부위에 인가되는 상기 열은 조직에 의해 흡수되는 RF 방사선을 방출하거나 전류를 생성함을 통하여 획득가능함;
e. 상기 시스템은 상기 전자기 펄스의 크기가 시간에 따라 변할 수 있도록 동적 자기장을 제공하도록 구성됨;
f. 물리적 조직 파라미터가 상기 제어 시스템(6)에 의해 모니터링될 수 있고, 상기 인가된 열, 상기 전자기 펄스 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소는 상응하여 변경될 수 있음;
g. 상기 시스템에 의해 인가되는 각각의 펄스의 지속기간은 약3 ms 내지 약 1000 ms의 범위를 가짐;
h. 상기 시스템의 펄스에 의해 인가되는 주파수 F는 약 200 kHz 내지 약 1MHz의 범위를 가짐; 및
i. 상기 시스템의 펄스에 의해 인가되는 파워 P는 약 1 W 내지 약 100 W RMS 평균 파워의 범위를 가짐;
중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 전술된 바와 같은 집적 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
상기 데이터베이스 및 적어도 하나의 온도 센서와 통신하는 프로세서를 더 포함하고,
상기 적어도 하나의 온도 센서는 상기 환자의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부에서 적어도 하나의 온도를 측정하도록 구성되며,
상기 적어도 하나의 온도 센서는 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는, 전술된 바와 같은 집적 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 점막 조직의 적어도 하나의 부위를 재활시키는 디바이스로서,
펄스형 전자기 주파수 발생기;
RF 조직 열치료 디바이스; 및
상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스와 통신하는 복수 개의 전극을 포함하고,
상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스는, 상기 전극을 통해, 상기 점막 조직의의 적어도 하나의 부위를 가열하며,
점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부는 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 다른 적어도 일부는 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1은 T2와 동일하거나 상이한, 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 복수 개의 전극 중 적어도 하나에 인접한 적어도 하나의 온도 센서를 더 포함하는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 온도 센서가 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위가 질 내에 있는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 프로파일을 저장하도록 구성되는 데이터베이스를 더 포함하고, 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분을 포함하는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 센서 및 상기 데이터베이스와 통신하는 프로세서를 더 포함하는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 프로세서가 상기 온도 프로파일이 상기 디바이스 외부의 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 유지될 수 있도록 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스로의 출력을 피드백 제어하도록 구성되는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 각각의 상기 적어도 하나의 온도가 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분에서 측정될 수 있는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 펄스형 전자기 파워의 펄스 형상이 구형파, 삼각파, 톱니파, 램프파(ramp wave), 스파이크파(spiked wave) 및 이들의 임의의 조합에서 선택되는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 펄스형 전자기 파워의 펄스의 지속기간이 약 3 ms 내지 약 1000 ms의 범위 안에 있는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 펄스의 상기 펄스형 전자기 파워의 주파수F가 약 1 Hz 내지 약 1 MHz의범위 안에 있는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 펄스형 전자기 파워는 혈관형성을 유도하도록 구성되는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 펄스형 전자기 파워는 약 15 Hz의 주파수 F, 약 5 ms의 펄스 지속기간 내지 약 12 가우스의 자기장 세기 B의 펄스를 포함하는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 펄스형 전자기 파워가 콜라겐 생성을 자극하도록 구성되는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 펄스형 전자기 파워는 약 10 Hz 내지 약25 Hz의 주파수 F 내지 약 20 가우스의 세기 I의 펄스를 포함하는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 온도 프로파일 내의 상기 적어도 하나의 온도는 약 섭씨 30 도 내지 약 섭씨 80 도의 범위 안에 있는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 온도 프로파일 내의 상기 적어도 하나의 온도는 약 섭씨 40 도 내지 약 섭씨 50 도의 범위 안에 있는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 펄스형 전자기 파워 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스로부터의 열이 점막 조직의 적어도 하나의 부위를 상승효과를 가지고 재활하여, 상기 펄스형 전자기 파워 및 상기 열을 이용한 재활이 상기 펄스형 전자기 파워 및 상기 열 각각을 단독으로 이용하는 재활의 합보다 더 커지게 하는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 석션 유닛을 더 포함하고, 상기 적어도 하나의 석션 유닛은 상기 디바이스 내의 적어도 하나의 포트와 유체 소통 상태이며, 상기 포트는 그를 통한 공기의 통과를 허용하도록 구성되는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 포트가 상기 조직을 견인하여 상기 디바이스와 접촉하게 하도록 구성되는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 석션 유닛이 연속적으로 또는 펄스식으로 동작하도록 구성되는 디바이스를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 환자의 점막 조직의 적어도 하나의 부위의 재활을 증가시키기 위한 집적 시스템으로서,
상기 적어도 하나의 부위 상에 배치되도록 구성되는 적어도 두 개의 전극;
전자기장 펄스를 생성하도록 구성되는 전자기장 발생기; 및,
제어 시스템을 포함하고,
상기 적어도 두 개의 전극 중 어느 것도 상기 적어도 하나의 부위를 관통하도록 구성되지 않으며,
상기 적어도 두 개의 전극 각각은 상기 적어도 하나의 부위에 전자기 펄스를 제공하도록 구성되고,
상기 적어도 두 개의 전극 각각은 약 섭씨 30 도 내지 약 섭씨 80 도의 범위 내의 온도 T까지의 열을 인가하도록 구성되며,
상기 제어 시스템은 상기 전자기장 발생기 및 상기 적어도 두 개의 전극에 의한 상기 열의 인가를 제어하도록 구성되고,
상기 적어도 두 개의 전극 각각은 상기 전자기 펄스를 상기 적어도 하나의 부위에 제공하고 및 상기 열을 상기 적어도 하나의 부위에 인가하도록 구성되며, 상기 전자기 펄스의 상기 제공과 상기 열의 인가는 동시에, 순차적으로, 별개로 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군에서 선택된 방식으로 발생되는, 집적 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분은 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1은 T2와 동일하거나 상이한 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위가 질 내에 있는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 프로파일을 저장하도록 구성되는 데이터베이스를 더 포함하고, 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 미리 결정된 부분을 포함하는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 복수 개의 전극 중 적어도 하나에 인접한 적어도 하나의 온도 센서를 더 포함하는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 온도 센서가 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 센서 및 상기 데이터베이스와 통신하는 프로세서를 더 포함하는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 프로세서가 상기 온도 프로파일이 상기 디바이스 외부의 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 유지될 수 있도록 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스로의 출력을 피드백 제어하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 각각의 상기 적어도 하나의 온도가 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 상기 적어도 하나의 미리 결정된 부분에서 측정될 수 있는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 온도 센서가 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 인가된 상기 열이 피하 조직에 의해 흡수되는 RF 방사선을 방출함으로써 또는 전류를 생성함으로써 획득되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 전자기 펄스가 약 10 Hz 내지 약 25 Hz 주파수 내지 약 20 가우스의 세기의 파형 또는 약 15 Hz의 주파수, 약 5 밀리초의 지속기간 내지 약 12 가우스의 세기의 파형 중에서 선택되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 시스템이 상기 전자기 펄스가 시간에 따라 변하도록 동적 자기장을 제공하도록 구성되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 전자기 펄스 각각이 구형파, 사인 파, 삼각파, 톱니파, 램프파, 스파이크파 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군으로부터 선택된 형상을 가지는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 제어 시스템(6)이 물리적 조직 파라미터를 모니터링하고, 상기 인가된 열 및 상기 전자기 펄스를 상응하게 변경하는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 시스템에 의해 인가된 각각의 펄스의 지속기간이 약 3 내지 약 1000 밀리초의 범위를 가지는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 시스템에 의해 인가되는 펄스의 주파수 F는 약 1 Hz 내지 약 1 MHz의 범위를 가지는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 시스템의 펄스에 의해 인가되는 파워 P가 펄스당 약 1 W 내지 약 100 W 파워의 범위를 가지는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 석션 유닛을 더 포함하고, 상기 적어도 하나의 석션 유닛은 상기 시스템 내의 적어도 하나의 포트와 유체 소통 상태이며, 상기 포트는 그를 통한 공기의 통과를 허용하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 포트가 상기 조직을 견인하여 상기 시스템과 접촉하게 하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 석션 유닛이 연속적으로 또는 펄스식으로 동작하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 환자의 점막 조직의 적어도 하나의 부위의 재활을 열 및 펄스형 전자기장(PEMF)의상기 부위로의 시너지인가(synergistic application)에 의하여 증가시키도록 구성되는 시스템(10)으로서,
a. 미리 결정된 프로토콜에 따라 상기 적어도 하나의 부위로 전자기 펄스를 제공하기 위한 펄스형 전자기장(PEMF) 주파수(2)를 생성하기 위한 펄스형 전자기장 발생기; 및
b. 복수 개의 전극을 동작시키도록 구성되는 RF 발생기를 포함하고,
상기 시스템은 상기 부위의 재활을 PEMF 및 RF 조직 열치료의 시너지 조합을 통해 제공하도록 구성되며,
상기 복수 개의 전극(41)은 상기 부위에 배치될 수 있도록 구성되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 센서를 더 포함하는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 온도 센서가 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분은 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1은 T2와 동일하거나 상이한 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 각각의 상기 적어도 하나의 온도가 상기 적어도 하나의 부위의 상기 적어도 하나의 부분에서 측정될 수 있는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위가 질 내에 있는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 미리 결정된 프로토콜이, 약 10 Hz 내지 약 25 Hz의 주파수 및 약 20 가우스의 세기의 일련의 펄스 약 5 ms의 지속기간 및 약 12 가우스의 세기이며 약 15 Hz의 주파수에서 반복되는 일련의 펄스 및, 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 복수 개의 전극 각각이 (i) 상기 적어도 하나의 부위에 전자기 펄스를 제공하는 것 및, (ii) 약 섭씨 80 도까지의 열을 상기 적어도 하나의 부위에 인가하는 것 양자 모두를 수행하도록 구성되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 복수 개의 전극 각각이, 상기 적어도 하나의 부위에 상기 전자기 펄스를 제공하고 상기 적어도 하나의 부위에 동시에, 순차적으로, 별개로 및 이들의 임의의 조합으로 열을 인가하도록 구성되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 프로파일을 저장하도록 구성되는 데이터베이스를 더 포함하고, 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 미리 결정된 부분을 포함하는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 센서 및 상기 데이터베이스와 통신하는 프로세서를 더 포함하는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 프로세서가 상기 온도 프로파일이 상기 디바이스 외부의 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 유지될 수 있도록 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 발생기로의 출력을 피드백 제어하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 RF 발생기가 RF 조직 열치료 디바이스인 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 RF 조직 열치료 디바이스(4)가, 피하 조직에 의해 흡수되는 전류를 생성하도록 구성되는 전류 생성 수단, 전자기 유도, 및 직접 가열 기구로 이루어진 군으로부터 선택되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 RF 발생기(4)가,
a. RF 전자기 파워 또는 전류를 생성하도록 구성되는 적어도 하나의 전기 출력 디바이스; 및
b. 상기 복수 개의 전극이 상기 RF 파워, 상기 전류 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 상기 부위에 동시에 인가하도록 구성되게 하는, 상기 적어도 하나의 전기 출력 디바이스와 상기 복수 개의 전극 사이의 전기적 커플링을 더 포함하는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기가 상기 전자기 펄스가 시간에 따라 변하도록 동적 자기장을 제공하도록 구성되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, (a) 상기 전자기 펄스의 형상이 구형파, 사인 파, 삼각파, 톱니파, 램프파, 스파이크파 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택됨 (b) 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)에 의해 인가되는 각각의 펄스의 지속기간이 약 3 ms 내지 약 1000 ms의 범위를 가짐 (c) 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)의 펄스에 의해 인가되는 주파수가 약 1 Hz 내지 약 1 MHz의 범위를 가짐 (d) 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)의 펄스에 의해 인가되는 파워가 펄스당 약 1 W 내지 약 100 W의 범위를 가짐 및 이들의 임의의 조합 중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 온도가 약 섭씨 30 도보다 높고 약 섭씨 80 도보다 낮은, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 파워 공급 및 제어 시스템(6)이 상기 적어도 하나의 부위를 냉각하기 위한 냉각 수단을 포함하는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 시스템(10)이 적어도 하나의 플랫폼 내에 둘러싸이는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기(2) 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스(4)가 두개 이상의 부위를 동시에 치료하기 위한 두 개 이상의 인가기(applicator)를 포함하고 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)가 정전기 실드를 가지는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 시스템이IEC 60601-2-33, IEC 60601-2-3, IEC 60601-1-8, IEC 60601-1-6, IEC 60601-1-4, IEC 60601-1-2, IEC 60601-1-1, 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 IEC 프로토콜에 따라 동작하도록 구성되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 석션 유닛을 더 포함하고, 상기 적어도 하나의 석션 유닛은 상기 시스템 내의 적어도 하나의 포트와 유체 소통 상태이며, 상기 포트는 그를 통한 공기의 통과를 허용하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 포트가 상기 조직을 견인하여 상기 시스템과 접촉하게 하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 석션 유닛이 연속적으로 또는 펄스식으로 동작하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 환자의 점막 조직의 적어도 하나의 부위의 재활을 증가시키는 방법(400)으로서,
a. (i) 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 (ii) RF 조직 열치료 디바이스를 획득하는 단계; 및,
b. (a) 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부 내의 피하 조직에 온도 T까지 열을 인가하고 또는 (b) 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부에 전자기장의 펄스를 인가하며 이들의 임의의 조합을 인가하는 단계를 포함하고,
상기 적어도 하나의 부위의 상기 재활의 상기 증가는, 상기 피하 조직에 열을 인가하는 상기 단계에 기인한 증가 및 상기 펄스 전자기 치료를 상기 적어도 하나의 부위에 인가하는 상기 단계에 기인한 증가의 합보다 더 큰, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분을 미리 결정된 온도 범위 T1에 적어도 일시적으로 유지하는 반면에 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분을 미리 결정된 온도 범위 T2에 적어도 일시적으로 유지하는 단계를 더 포함하고, T1은 T2와 상이하거나 동일한, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 점막 조직이 질 내에 있도록 선택하는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 센서를 제공하는 단계를 더 포함하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 서미스터, 열전대및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 상기 적어도 하나의 온도 센서를 선택하는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, (a) 적어도 하나의 온도 프로파일을 포함하는 데이터베이스를 제공하는 단계 - 상기 적어도 하나의 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 적어도 하나의 미리 결정된 부위를 포함함 -; (b) 상기 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 상기 적어도 하나의 온도를 측정하는 단계; 및 (c) 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스로의 출력을 피드백 제어하여 상기 적어도 하나의 미리 결정된 부위 내에서 상기 온도 프로파일을 유지하는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, (i) 상기 시스템을 사용하여 부작용 을 감소시켜서, 상기 부작용 의 상기 감소가 상기 전자기 펄스에만 기인한 부작용 의 감소와 상기 RF 조직 열치료에만 기인한 부작용 의 감소의 합보다 커지게 하는 단계, 및 (ii) 상기 시스템을 사용하여 해로운 작용 을 감소시켜서, 상기 해로운 작용 의 감소가 상기 전자기 펄스에만 기인한 해로운 작용의 감소와 상기 RF 조직 열치료에만 기인한 해로운 작용 의 감소의 합보다 커지게 하는 단계 중 적어도 하나를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위 내의 피하 조직에 열을 인가하는 상기 단계를 모니터링하는 단계, 상기 적어도 하나의 부위 내의 피하 조직에 열을 인가하는 상기 단계를 제어하는 단계, 펄스형전자기 치료를 상기 적어도 하나의 부위에 인가하는 상기 단계를 모니터링하는 단계, 펄스형 전자기 치료를 상기 적어도 하나의 부위에 인가하는 상기 단계를 제어하는 단계, 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위에 동적 자기장을 인가하는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은,
a. 통신가능 데이터베이스 내에 (i) 안전 처치 파라미터 및 (ii) 불안전 처치 파라미터를 규정하는 미리 결정된 파라미터를 저장하는 단계 - 상기 파라미터는, 상기 처치의 총 지속기간 시간 tt, 전자기장의 펄스가 인가되는 시간 tp, 상기 조직의 온도 T, 듀티 사이클 tp/tt, 주파수 F, 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기에 의해 인가되는 펄스의 파워 P, 상기 처치된 조직의 깊이 D, 자기장 세기 B, 조직 임피던스, 전자파 인체 흡수율(SAR), 처치 깊이, 표피 근육 수축 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택됨 -;
b. 상기 처치의 총 지속기간 시간 tt, 전자기장의 펄스가 인가되는 시간 tp, 상기 조직의 온도 T, 듀티 사이클 tp/tt, 주파수 F, 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기에 의해 인가되는 펄스의 파워 P, 상기 처치된 조직의 깊이 D, 자기장 세기 B, 조직 임피던스, 전자파 인체 흡수율(SAR), 처치 깊이, 표피 근육 수축 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 전자기 방사 및 열 방사 파라미터를 감지하는 단계; 및
c. 상기 파라미터가 상기 안전 처치 파라미터 내에 있으면 상기 전자기 방사 및 상기 열 방사를 허용하고, 상기 방사선 파라미터가 상기 불안전 처치 파라미터 내에 있으면 상기 전자기 방사 및 상기 열 방사를 중단하는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 구형파, 사인 파, 삼각파, 톱니파, 램프파, 스파이크파 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 상기 전자기 펄스의 형상을 선택하는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, (a) 약 10 Hz 내지 약 25 Hz의 주파수 및 약 20 가우스의 세기의 전자기 펄스 (b) 약 15 Hz의 주파수, 약 5 ms의 지속기간 및 약 12 가우스의 세기의 전자기 펄스로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 인가하는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, RF 방사선을 방출하는 디바이스, 조직 내에 전자기장을 유도하는 디바이스 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 상기 RF 조직 열치료 디바이스를 선택하는 단계를 더 포함하는, 방법을제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 피하 조직에 열을 인가하는 상기 단계는,
a. RF 전자기 파워 또는 전류를 생성하도록 구성되는 적어도 하나의 전기 출력 디바이스를 획득하는 단계;
b. 적어도 두 개의 전극을 상기 전기 출력 디바이스에 전기적으로 커플링하는 단계;
c. 상기 적어도 두 개의 전극을 점막 조직의 상기 부위에 배치하는 단계; 및,
d. 상기 전극 모두를 통해 상기 RF 파워 또는 상기 전류를 점막 조직의 상기 부위에 동시에 인가하는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, (a) 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)에 의해 인가되는 각각의 펄스의 지속기간이 약 3 ms보다 길고 약 1000 ms 미만임 (b) 상기 부위에 펄스형 전자기 치료를 인가하는 상기 단계에 의해 인가되는 상기 펄스에 의해 인가되는 주파수 F가 약 1 Hz보다 높고 약 1 MHz 미만임 (c) 상기 적어도 하나의 부위에 펄스형 전자기 치료를 인가하는 상기 단계에 의해 인가되는 파워 P가 펄스당 약 1 W보다 크고 약 100 W 미만임으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나의 파라미터를 선택하는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 열을 인가하는 상기 단계 중에, 상기 열이 약 0.01 분보다 길고 약 60 분보다 짧은 시간 동안 인가되는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 열 및 상기 펄스형 전자기장은 동시에, 순차적으로, 별개로 및 이들의 임의의 조합으로 인가되는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 열을 인가하는 상기 단계가 RF 조직 열치료, 전자기 유도, 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 디바이스에 의해 수행되는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 석션 유닛을 더 포함하고, 상기 적어도 하나의 석션 유닛은 상기 시스템 내의 적어도 하나의 포트와 유체 소통 상태이며, 상기 포트는 그를 통한 공기의 통과를 허용하도록 구성되는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 포트 및 상기 석션 유닛을 이용하여, 상기 시스템과 접촉하도록 상기 조직을 끌어당기는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 석션 유닛을 연속적으로 또는 펄스식으로 동작시키는 단계를 더 포함하는, 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 환자의 적어도 하나의 부위의 재활을 증가시키기 위한 집적 시스템으로서, 상기 적어도 하나의 부위는, 상기 환자의 피부, 상기 환자의 점막 조직 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되고, 상기 시스템은,
상기 적어도 하나의 부위 상에 배치되도록 구성되는 적어도 두 개의 전극;
전자기장 펄스를 생성하도록 구성되는 전자기장 발생기; 및
제어 시스템을 포함하고,
상기 적어도 두 개의 전극 중 어느 것도 상기 적어도 하나의 부위를 관통하도록 구성되지 않으며, 상기 적어도 두 개의 전극 각각은 상기 적어도 하나의 부위에 전자기 펄스를 제공하도록 구성되고,
상기 적어도 두 개의 전극 각각은 약 섭씨 30 도 내지 약 섭씨 80 도의 범위 내의 온도 T까지의 열을 인가하도록 구성되며,
상기 제어 시스템은 상기 전자기장 발생기 및 상기 적어도 두 개의 전극에 의한 상기 열의 인가를 제어하도록 구성되고,
상기 전극은 상기 전자기 펄스를, 동시에, 순차적으로, 별개로 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군에서 선택된 방식으로 상기 적어도 하나의 부위에 제공하고 및 상기 열을 상기 적어도 하나의 부위에 인가하도록 구성되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분은 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1 은 T2와 동일하거나 상이한 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위가 질 내에 있는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분은 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1 은 T2와 동일하거나 상이한 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 센서를 더 포함하는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 온도 센서가 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 센서 및 상기 데이터베이스와 통신하는 프로세서를 더 포함하는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 프로세서가 상기 온도 프로파일이 상기 디바이스 외부의 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 유지될 수 있도록 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스로의 출력을 피드백 제어하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 온도 프로파일을 저장하도록 구성되는 데이터베이스를 더 포함하고, 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 상기 부위의 적어도 하나의 미리 결정된 부분을 포함하는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 각각의 상기 적어도 하나의 온도가 상기 부위의 상기 적어도 하나의 부분에서 측정될 수 있는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 적어도 하나의 부위에 인가된 상기 열이 피하 조직에 의해 흡수되는 RF 방사선을 방출함으로써 또는 전류를 생성함으로써 획득되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 전자기 펄스가 약 10 Hz보다 크고 약 25 Hz보다 적은 주파수 및 약 20 가우스의 세기의 파형 및 약 15 Hz의주파수, 약 5 ms의 지속기간 및 약 12 가우스의 세기의 파형 중에서 선택되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 시스템이 상기 전자기 펄스의 평균 세기가 시간에 따라 변하도록 동적 자기장을 제공하도록 구성되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 전자기 펄스 각각이 구형파, 사인 파, 삼각파, 톱니파, 램프파, 스파이크파 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군으로부터 선택된 형상을 가지는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 제어 시스템(6)이 물리적 조직 파라미터를 모니터링하고, 상기 인가된 열 및 상기 전자기 펄스를 상응하게 변경하도록 구성되는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 시스템에 의해 인가된 각각의 펄스의 지속기간이 약 3 내지 약 1000 ms의 범위 안에 있는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 시스템에 의해 인가된 펄스의 주파수 F가 약 1 Hz 내지 약 1 MHz의 범위 안에 있는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 시스템의 펄스에 의해 인가되는 RMS 평균 파워 P가 펄스당 약 1 W 내지 약100 W의 범위 안에 있는, 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 적어도 하나의 석션 유닛을 더 포함하고, 상기 적어도 하나의 석션 유닛은 상기 시스템 내의 적어도 하나의 포트와 유체 소통 상태이며, 상기 포트는 그를 통한 공기의 통과를 허용하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 포트가 상기 조직을 견인하여 상기 시스템과 접촉하게 하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 석션 유닛이 연속적으로 또는 펄스식으로 동작하도록 구성되는 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명을 이해하고 이것이 실제로 어떻게 구현될 수 있는지를 이해하기 위해서, 몇 개의 실시예들이 비한정적인 예들에 지나지 않는 첨부 도면들을 참조하여 설명될 것이다:
도 1a 내지 도 1d 는 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 조직 열치료 디바이스를 포함하는, 피부 또는 점막 조직 활력 개선 시스템을 개략적으로 제공한다
도 2 는 펄스형 전자기 주파수 발생기, 조직 열치료 디바이스 및 파워 공급 및 제어 시스템을 포함하는, 피부 활력 개선 시스템을 개략적으로 제공한다
도 3 내지 도 8 은 피부 또는 점막 조직의 활력을 개선하는 방법을 개략적으로 제공한다
도 9 는 질 내의 점막 조직을 처치하기 위한 디바이스의 일 실시예의 단면을 개략적으로 도시한다
도 10 은 질 내의 점막 조직을 처치하기 위한 디바이스의 일 실시예에 대한 온도 프로파일을 개략적으로 도시한다 그리고
도 11a 내지 도 11f 는 디바이스와 접촉하도록 조직을 끌어당기기 위한 석션(suction)을 허용하도록 구성되는 포트의 실시예를 개략적으로 도시한다.
후속하는 상세한 설명은, 임의의 당업자가 본 발명을 사용할 수 있게 하기 위해서 본 발명의 모든 챕터들과 함께 제공되고, 본 발명을 수행하기 위해서 발명자에 의해 고찰되는 최선의 모드를 제시한다. 그러나, 본 발명의 일반적인 원리가 점막 조직을 적어도 일시적으로 재활하고 조직 병변을 처치하기 위한 수단 및 방법을 제공하도록 특정하게 규정되었기 때문에, 다양한 변형예가 당업자에게 명백하게 이해될 것이다. 더 나아가, 본 발명은 질을 팽팽하게 하고 재활하기 위한 수단 및 시스템을 제공한다.
본 발명의 한 가지 목적은, 조직 열치료, 특히 RF 조직 열치료가 PEMF의 인가와 결합된 상승 효과를 일으키는 접근법에 의해서, 점막 조직, 예컨대 질 조직을 적어도 일시적으로 재활하기 위해 사용되는 디바이스를 개시하는 것인데, 여기에는 조직 재활을 위한 적어도 두 개의 메커니즘이 포함되고, 이들 중 하나는 PEMF 치료에 기초한다. 후자는 적어도 하나의 조직 열치료 디바이스에 의해 개시된 치유 과정을 개선한다.
"펄스형 전자기장(PEMF)"이란 용어는 아래에서 비한정적인 방식으로, 펄스 내에 부여된 상이한 주파수 - 정적 자기장으로부터 극저 주파수를 거쳐 무선 주파수까지의 범위를 가짐 - 의 전자기 방사선을 지칭한다.
"무선 주파수(RF)"란 용어는 아래에서 비한정적인 방식으로, 약 3 Hz 내지 300 GHz의 주파수 범위를 가지는 전자기 스펙트럼의 일부를 지칭한다.
"콜라겐"이란 용어는 아래에서 비한정적인 방식으로, 거의 모든 조직을 지지하고 세포 구조체를 제공하는 세포외 기질의 주성분인 긴 섬유상 구조 단백질을 지칭한다. 이것은 피부 및 점막 조직의 강도 및 탄력을 담당하고, 이것이 열화되면 노화를 초래하는 주름과 탄력 상실이 생긴다.
"표피"라는 용어는 아래에서 비한정적인 방식으로 피부의 가장 바깥층을 가리킨다.
"진피"라는 용어는 아래에서 비한정적인 방식으로 표피 또는 점막 표면아래의, 결합 조직을 이루고, 스트레스 및 압박으로부터 신체를 완충시키는 조직의 층을 가리킨다.
"심조직 열치료(deep tissue diathermy)" 또는 "조직 열치료"라는 용어는 아래에서 비한정적인 방식으로, 표피 또는 점막 조직의 표면 아래의 조직을 가열하는 디바이스를 가리킨다.
"전기적 열치료"라는 용어는 아래에서 비한정적인 방식으로, 유도에 의한 부드러운 조직 가열을 유도하기 위한, 가끔은피부 또는 점막 조직으로의 전극 또는 디바이스 콘택이 없이 고주파수 교류 전기장 또는 자기장을 사용하는 디바이스를 가리킨다. 콜라겐 섬유 자극을 위하여, 통상적인 전기적 파라미터는 비한정적인 방식으로 약 6 초 동안 인가되는 약 1 MHz의 주파수를 포함할 수 있다.
"약"이라는 용어는 아래에서, 언급된 값보다 25% 상하의 범위를 가리킨다.
"물리적 조직 파라미터"라는 용어는 아래에서, 조직 온도, 전류, 조직 임피던스, 전자파 인체 흡수율(SAR), 처치 깊이 및 표피 근육 수축과 같은 파라미터를 가리킨다.
"혈관형성"이란 용어는 아래에서, 새로운 혈관이 생성되는 것을 가리킨다.
"구형파"란 용어는 아래에서, 그 사각형 형상 때문에 명명된 비-정현 파형을 가리킨다.
"삼각파"란 용어는 아래에서, 그 삼각형 형상 때문에 명명된 비-정현 파형을 가리킨다.
"International Electrotechnical Commission Standards(IEC) 60601-1"이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 기본적인 안전성 및 필수적 성능에 대한 일반적인 요건을 나타낸다.
" IEC 60601-1-1" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 안전성에 대한 일반적인 요건인 부수적(safety - Collateral) 표준: 의료용 전기 시스템에 대한 안전성 요건을 가리킨다. 표준들의 IEC 60601-1 세트는 세 개의 별개의 영역으로 나뉜다. 제 1 영역은 기본적인 표준 IEC 60601-1 이다. 이것은 모든 전기 기초 의료용 제품에 대한 일반적인 요건이다. 제 2 영역은 부수적인 표준으로서, 다른 디바이스를 가진 시스템으로의 결합, EMC, 방사선 보호, 및 프로그래밍가능 의료용 전자 시스템(소프트웨어, 펌웨어, 등)과 같은 광범위한 이슈에 걸쳐서 다룬다. 표준 번호는 각각 IEC 60601-1-1, -1-2, -1-3, 및 -1-4 이다. 제 3 영역은 특정 타입의 의료용 디바이스를 다루는 특정한 표준이다. 특정한 표준은 IEC 60601-2-XX 라고 식별되는데, XX는 특정 타입의 의료용 장비에 대한 특정 표준 번호를 식별한다. 한 예는 단파 치료 장비에 대한 특정 표준인 IEC 60601-2-3 일 것이다.
" IEC 60601-1-2" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 기본적인 안전성 및 필수적 성능에 대한 일반적인 요건인 부수적 표준: 전자파 적합성 - 요건 및 테스트를 가리킨다.
" IEC 60601-1-3" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 기본적인 안전성 및 필수적 성능에 대한 일반적인 요건인 - 부수적 표준: 진단 X-선 장비에서의 방사선 보호를 가리킨다.
" IEC 60601-1-4" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 안전성에 대한 일반적인 요건인 부수적 표준: 프로그램가능 전기 의료 시스템을 가리킨다.
" IEC 60601-1-6" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 기본적인 안전성 및 필수적 성능에 대한 일반적인 요건인 부수적 표준: 사용가능성을 가리킨다.
" IEC 60601-1-8" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 기본적인 안전성 및 필수적 성능에 대한 일반적인 요건인 부수적 표준: 의료용 전기 장비 및 의료용 전기 시스템 내의 경보 시스템에 대한 일반적인 요건, 테스트 및 가이드를 가리킨다.
" IEC 60601-2-3" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 단파 치료 장비의 안전성에 대한 특정 요건을 가리킨다.
" IEC 60601-2-9" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비를 가리킨다. 특히, 이것은 전기적으로 연결된 방사선 검출기를 사용한 방사선요법에서 사용되는 환자 접촉식 선량계의 안전성에 대한 특정 요건을 가리킨다.
" IEC 60601-2-29" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 방사선요법 시뮬레이터의 기본적인 안전성 및 필수적 성능에 대한 특정 요건을 가리킨다.
" IEC 60601-2-33" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 의학적 진단을 위한 자기 공진 장비의 안전성에 대한 특정 요건을 가리킨다.
" IEC 60601-2-35" 이란 용어는 아래에서, 의료용 전기 장비 표준을 가리킨다. 특히, 이것은 의료용으로 가열되는 이불, 패드 및 매트리스에 대한 특정한 요건을 가리킨다.
본 발명은 물리적 치료 방법 및 시스템에 관한 것이다. 이러한 시스템에서, 동적 전자기 펄스 및 전자기 가열 시스템이 함께 내장되어 물리적 치료를 하며, 특히 질 조직을 팽팽하게 하고 재활시킨다.
본 발명은 환자의 질 조직의 부위의 재활을 증가시키도록 구성되는 시스템을 제공한다. 이러한 시스템은 비한정적인 방식으로,
a. 전자기 펄스를 환자의 질 조직의 부위로 일정하게 제공하기 위한 펄스형 전자기장(PEMF) 주파수 발생기(2); 및,
b. 환자의 질 조직의 부위에 열을 인가하여, 환자의 질 조직을 온도 T까지 가열하는 조직 열치료 디바이스(4), 바람직하게는 RF 조직 열치료 디바이스를 포함한다.
시스템(10)은 열 및 PEMF를 환자의 질 조직의 상기 부위에 동시에 인가하도록 구성된다. 더욱이, 이러한 시스템은 조직 재활을 증가시켜, 증가량이 전자기 펄스에 의한 증가와 조직 열치료에 의한 증가의 합보다 크게 한다.
더욱이, 이러한 시스템은 부작용 및/또는 해로운 작용의 감소가 전자기 펄스의 효과의 감소 및/또는 조직 열치료의 효과의 감소의 합보다 크도록, 전자기 펄스 및/또는 상기 조직 열치료의 부작용 및/또는 해로운 작용 을 감소시킨다.
본 발명의 다른 목적은, 환자의 질 조직의 부위의 재활을 증가시키도록 구성되는 집적 시스템(20)을 제공하는 것이다. 이러한 시스템은 환자의 질 조직의 부위에 인접하게, 질 내에 배치되도록 구성되는 적어도 두 개의 전극을 포함한다. 전극 각각이 (i) 전자기 펄스를 환자의 질 조직의 부위에 제공하는 것 및, (ii) 환자의 질 조직의 부위에 온도 T에 달하는 열을 인가하는 것 양자 모두를 위하여 구성된다는 것이 강조된다. 실시예는: 전극 중 적어도 하나가 동시에 전자기 펄스를 환자의 질 조직의 부위에 제공하고 환자의 질 조직의 부위에 온도 T에 달하는 열을 인가하도록 구성된다는 것 전극 중 적어도 하나가 순차적으로 전자기 펄스를 환자의 질 조직의 부위에 인가하고, 온도 T에 달하는 열을 환자의 질 조직의 부위에 인가하여, 전자기펄스의 인가와 열의 인가의 패턴이 적어도 한 번 반복되게 하는 것 및 전극 중 적어도 하나가 별개로 전자기 펄스를 환자의 질 조직의 부위에 제공하고 온도 T에 달하는 열을 환자의 질 조직의 부위에 인가하여, 전자기 펄스 모두가 하나의 시간 기간 동안에 제공되고 모든 열의 인가가 다른 시간 기간 동안에 제공되게 하는 것으로서, 일부 변형예에서는 전자기 펄스를 제공하는 것이 먼저 이루어지고 다른 변형예에서는 열의 인가가 먼저 이루어지는 것을 포함한다.
일부 실시예들에서는, 일부 시간 기간 동안에 어떤 전극도 액티브 상태가 아니다.
복수 개의 전극이 액티브 상태인 시간 기간 동안, 다음의 인가 패턴이 사용될 수 있다: 모든 액티브 전극이 동시에 전자기 펄스를 제공하고 열을 인가하거나 전자기 펄스만 제공하거나 열만 인가하는 식으로 동일한 처치를 제공함 또는 적어도 하나의 전극이 적어도 하나의 다른 전극에 의해 제공되는 것과 다른 처치를 제공함.
조직 열치료의 부작용이 감소되는 것은 펄스형 전자기 주파수 치료의 치유 효과로부터 유래된다.
이제 피부 조직 재활을 증가시키기 위한 시스템(10)을 도시하는 도 1a 내지 도 1d 를 참조한다. 전술된 바와 같이, 그리고 도 1a 에 도시된 바와 같이, 시스템은 전자기 펄스를 환자의 피부 조직의 부위에 제공하기 위한 펄스형 전자기 주파수 발생기(2) 및, 조직의 온도를 온도 T까지 가열하기 위해서 환자의 피부 조직의 부위에 열을 인가하도록 구성되는 조직 열치료 디바이스(4), 바람직하게는 RF 조직 열치료 디바이스를 포함한다. 이러한 시스템이 전자기 펄스 증가에 기인한 재활 증가 및 조직 열치료에 기인한 재활 증가의 합보다 크게 질 조직의 재활을 증가시킨다는 것이 강조된다.
질 조직을 조절된 열 및 펄스형 전자기장의 조합에 노출시키면, 질 조직의 재활을 개선하는 상승작용을 일으키는 효과가 얻어진다.
본 발명은 2 개의 효과인, 열 효과 및 전자기 펄스 효과에 의존한다:
열 효과는 조직을 조직의 부상이 생기게 하도록 충분히 높은 온도로 가열하는 것을 포함한다. 더욱이, 진피 내에 열이 생성되면, 통상적으로 콜라겐 섬유가 수축하고 팽팽해진다. 이러한 효과들 각각은 결과적으로 질 조직의 전체가 팽해지고 재활된 외관을 갖게 할 것이다.
진피 내의 열은 제한된 열적 부상을 생성한다. 이러한 부상에 대한 인체의 자연적 응답은 부상 지점에 콜라겐을 생성하는 것이다. 그 결과 질 조직이 더 단단해지고, 두꺼워지며, 더 탄력적이 된다. 보통, 질 조직은 짧은 시간 기간 동안 약 섭씨 60 도 아래의 온도로 가열된다. 열 효과는 다음에 의해 생성될 수 있다:
1. RF 조직 열치료
2. 전기적 수단 - 조직을 통해서 전류를 통과시킴
3. 전자기 수단 - 전자기장을 조직으로 송출함, 조직의 표면에 전자기장을 유도함(전자기 유도를 사용), 또는 이러한 메커니즘의 조합
및 이들의 임의의 조합.
전자기 펄스(변동하는 RMS 평균 펄스 세기를 가진 동적 펄스거나, 일정한 RMS 평균 펄스 세기를 가지는 정적 펄스)는 부상에 응답하여 생기는 자연적 치유 과정(특히 조직 성장 인자의 방출을 통한 혈관형성 및 새 콜라겐 섬유의 생성)을 개시할 수 있다.
전자기장은 세포간 세포액 내의 하전된 분자(이온)가 이동되게 한다. 이러한 이동에 의해 앞서 논의된 열 효과를 강화시키는 열이 생성된다.
치유가 인체 내의 세포가 재생성되고 보수되어 손상된 영역의 크기를 감소시키는 과정이라는 것이 확인되었다. 치유는 괴저성 조직의 제거(파괴), 및 이러한 조직의 교체 양자 모두를 포함한다.
교체는 두 가지 방식으로 일어날 수 있다:
1. 재생성에 의함: 괴저성 세포가 원래 있었던 것과 동일한 조직으로 대체됨.
2. 보수에 의함: 손상된조직이 반흔 조직(scar tissue)으로 대체됨.
전술된 바와 같은 시스템(10)에 의해 인가되는 펄스형 전자기장(PEMF)은 직접적인 열 효과를 가지지 않고, 조직 성분 및 인가된 방사선에 대한 그들의 반응에 의존한다. 인가된 방사선에 대한 이러한 반응은 특정 주파수 및 그러한 주파수의 고조파에 대한 큰 하전된 분자, 세포 기능에 영향을 주고 호르몬 및 화학적 신호에 대한 세포 반응에 영향을 주는 세포막 내의 하전된 작은 이온, 세포외 공간 내의 하전된 작은 이온의 응답 및 다른 아직 명쾌하게 이해되지 않은 메커니즘에 기인할 수 있다.
더욱이, 방사선을 펄스로 인가하는 것도 비-열적 효과를 가지는 것이 발견되었다. 더 나아가, 주파수, 듀티 사이클 및 송신된 파워의 특정 조합만이 특정한 조직 반응을 얻는다.
전자기장(EMF) 또는 PEMF가 다양한 치유 과정을 개시할 수 있으며 표피 연조직 내의 통증 및 부종을 처치할 수 있다는 것이 현재 널리 인정되고 있다 20년 전에, FDA는 [Rosch, P.J., Markov, M.S., eds. Bioelectromagnetic Medicine, Marcel Dekker, 2004; NY, 251- 264]에서 통증 및 부종을 처치하기 위해 펄스형 무선주파수 전자기장을 사용하는 것을 허용했다.
본 발명은 PEMF를, 전술된 바와 같은 재활 및 치유 목적의 디바이스와 별개일 수도 있고 내장될 수도 있는 열원으로부터의 열과 결합하여 활용한다. 전술된 바와 같이, 특정한 필드 세기, 듀티 사이클 및 주파수에서 사용될 경우, PEMF는 피부 콜라겐 합성을 증가시킨다. 이러한 새롭게 형성된 콜라겐이 조직 탄력을 증가시키고, 피부 처치를 위하여 피부의 외관을 재활한다. 더욱이, PEMF는 내피 세포 조관 및 증식의 정도를 증가시키고, 주로 FGF-2의 내피 방출을 자극하여, 주변 조직 내의 파라크린 및 오토크린 변화를 유도함으로써 혈관형성을 증강한다. 새 혈관이 생성되는 혈관형성은 조직으로 가는 혈액 흐름을 증가시키고, 그러면 산소 및 영양 물질이 조직으로 전달되는 것을 증가시킨다. 이러한 효과는 손상된 조직에 대해서 가장 유익하며, 신속하고 개선된 치유를 촉진한다. 방출되는 성장 인자는 개선의 품질 및 속도 양자 모두에서 치유 과정을 더욱 향상시킨다.
다음으로 두 가지 결합 효과의 상세한 설명이 제공된다.
앞에서 개시된 바와 같이, 본 발명은 조절된 가열 수단 및 전자기 펄스 양자 모두를 내장하는 시스템(10)을 개시한다.
통상적으로, 열은 다음에 의해서 생성될 수 있다:
1. RF 파워
2. 전기적 수단 - 전류를 통과시킴.
3. 전자기 수단 - 처치된 조직에 전자기장을 송신 또는 유도함(전자기 유도). 이제 본 발명의 일부 실시예에 따르는 시스템(10)을 예시하는 도 1b 내지 도 1d 를 참조한다.
이러한 실시예에 따르면, 조직 열치료 디바이스(4)는,
a. 전류를 생성하도록 구성되는 적어도 하나의 전기 출력 디바이스; 및,
b. 전기 출력 디바이스에 전기적으로 커플링되고 환자의 피부 또는 점막 조직의 부위에 배치되는 적어도 두 개의 전극(41)을 포함한다.
일부 실시예에 따르면, 전극 전부는 전류를 동시에 피부 부위에 인가하도록 구성된다. 다른 실시예에 따르면, 전극의일부만이 임의의 주어진 시간에 액티브 상태이다.
도 1b 는, 조직 열치료 디바이스(4)가 4 개의 전극(41)을 포함하는, 외피 조직을 처치하기 위한 시스템(10)을 예시한다.
도 1c 를 참조하면, 질에 사용하기 위한 디바이스의 일회용 부분(2300)의 일 실시예가 도시된다. 일회용 부분은 질 내로 삽입되기 위한 부분이다 삽입 및 제거 시에(및 가능하게는 사용 중에) 디바이스를 잡기 위한 핸들 메커니즘, 파워를 일회용 부분으로 전달하는 것을 제어하기 위한 제어 메커니즘, 및 일부 실시예들에서는 가열 또는 냉각 유체를 전달하기 위한 메커니즘을 포함하는 재사용가능 부분은 도시되지 않는다.
냉각 수단은: 펠티에 효과 냉각 디바이스, 차가운 물을 사용한 급수(irrigation), 및 조직 전체에 공기를 송풍하기 위한 수단으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
일부 실시예들에서, 일회용 부분은 소독가능하고 재사용될 수 있다는 것에 주의해야 한다.
디바이스(2300)는 질 내로 삽입되기 위한 원위 섹션(2310), 삽입 깊이를 한정하기 위한 링(2320), 내측(medial) 부분(2330), 및 일회용 부분(2300)과 재사용가능 부분 사이를 연결하도록 구성되는 근위부(2340)를 포함한다. 근위부(2340)에 의해 제공되는 연결은 기계적 연결 및 전기적 소통을 포함한다 유체 연결도 포함될 수 있다.
도 1c 의 실시예는 길이방향 전극(2315)을 가진다.
도 1c 의 실시예는 네 개의 길이방향 전극(2315)을 가진다 길이방향 전극의 번호는 1 내지 약 20, 바람직하게는 약 4 내지 약 10 일 수 있다.
바람직한 변형예에서, 디바이스는 온도를 모니터링하기 위한 센서를 포함한다. 온도는 전극 중 적어도 일부의 온도, 전극의 부위에 인접한 조직의 온도, 및 이들의 임의의 조합일 수 있다.
이러한 실시예의 바람직한 변형예에서, 조직의 온도가 측정된다.
바람직하게는, 적어도 하나의 온도 센서가 있는 실시예들에서, 센서는 전극에 인접하거나 전극 내에 있어서, 온도 센서에 의해 측정되는 온도가 온도를 유도하는 것을 주로 담당하는 전극의 적어도 일부 내에 연관될 수 있게 할 것이다. 온도 센서가 있는 실시예의 바람직한 변형예에서, 각각의 전극에 인접한 적어도 하나의 온도 센서가 존재하고, 온도는 각각의 전극의 적어도 일부에 대해서 개별적이고 별개로 제어된다. 주어진 쌍의 전극의 임의의 선택된 부분의 온도는 같을 수도 있고, 다를 수도 있다. 바람직한 변형예에서, 온도는 다를 것이고, 전극의 원위부에 대해서는 온도가 높고 전극의 근위부에 대해서는 온도가 낮을 것이다.
외피 조직을 처치하기 위한 디바이스와 질 조직을 처치하기 위한 디바이스 사이의 차이점은, 내음순 및 외음순 조직이 질 조직보다 열에 훨씬 더 민감하다는 것이다. 그러므로, 디바이스의 원위의 섹션(2410)의 근위의 단부는 원위의 섹션(2410)의 나머지보다 적게 가열되는 것이 바람직하다.
도 1d 는 전극(2415)이 디바이스의 원위의 섹션(2410)을 둘러싸는 링형태인 질치료 디바이스(2400)의 일 실시예를 도시한다. 도 1d 의 디바이스는 디바이스가 질 내부로 과도하게 삽입되지 않게 하는 링(2420), 내측 부분(2430) 및 근위부(2440)를 가지는데, 근위부(2440)는 일회용 부분(2400)과 재사용가능 부분(미도시) 사이를 연결하도록 구성된다. 근위부(2440)에 의해 제공되는 연결은 기계적 연결 및 전기적 소통을 포함한다 유체 연결도 포함될 수 있다.
도 1d 의 실시예는 네 개의 링 전극(2415)을 가진다 링 전극의 번호는 1 내지 약 20, 바람직하게는 약 4 내지 약 10 일 수 있다.
바람직하게는, 적어도 하나의 온도 센서가 있는 실시예들에서, 센서는 전극에 인접하거나 전극 내에 있어서, 온도 센서에 의해 측정되는 온도가 온도를 유도하는 것을 주로 담당하는 전극의 적어도 일부 내에 연관될 수 있게 할 것이다.
바람직하게는, 온도 센서가 전극 온도가 아니라 조직 온도를 측정하도록 구성된다.
온도 센서가 있는 실시예의 바람직한 변형예에서, 각각의 전극에 인접한 적어도 하나의 온도 센서가 존재하고, 온도는 각각의 전극의 적어도 일부에 대해서 개별적이고 별개로 제어된다. 주어진 쌍의 전극의 임의의 선택된 부분의 온도는 같을 수도 있고, 다를 수도 있다. 바람직한 변형예에서, 온도는 다를 수 있고, 중앙 전극에 대해서는 온도가 높고 에지 전극에 대해서는 온도가 낮을 것이다.
본 발명의 통상적인 실시예에서, 펄스형 전자기 주파수는 핸들 또는 별개의 유닛 안에 있을 수 있는 파워 유닛과 통신하는 펄스형 전자기 주파수 발생기에 의해 생성된다. 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)는 처치된 조직 근처에 위치될 수 있고 환자의 조직에 전자기 펄스를 제공한다. 일부 실시예들에서, 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)는 주파수, RMS 평균 진폭, 펄스 폭, 및 듀티 사이클이 시간이 지나도 일정한 전자기장을 제공한다. 일부 실시예들에서, 펄스형전자기 주파수 발생기(2)는 주파수, RMS 평균 진폭, 펄스 폭, 및 듀티 사이클 중 적어도 하나가 시간에 따라 변하는 동적 전자기장을 제공한다.
펄스형 전자기 주파수 발생기는 비한정적인 예로서, 전자기장 발생기 또는 음향 트랜스듀서일 수 있다.
동적 자기장에서 변하는 특정한 아이템이 적용될 특정한 처치에 따라서 선택된다. 비한정적인 예로서, 혈관형성을 자극하기 위하여, 약 15 Hz의 주파수, 약 12 가우스의 세기 및 약 5 ms의 지속기간의 펄스가 생성된다. 다른 비한정적인 예에서는, 콜라겐 생성을 자극하기 위하여, 약 10 Hz 내지 약25 Hz의 주파수 및 약 20 가우스의 세기의 파 펄스가 생성된다.
조직 열치료 디바이스(4)는 환자의 진피의 부위에 열을 가해서 미리 결정된 온도 T까지 가열하도록 구성된다. 본 발명의 일부 실시예에 따르면, 열은 전류를 조직을 통과하게 흘려보냄으로써 인가된다. 전류는 다음 방식들의 임의의 조합으로 인가될 수 있다:
1. 조직과 직접적으로 물리적 접촉하는 적어도 하나의 전극을 통함
2. 조직과 물리적 접촉하지 않은 적어도 하나의 전극을 통하고, 전류는유도되어 전달됨.
3. 전자기 유도를 통해서 전류를 조직으로 전달하는 적어도 하나의 안테나를 통함.
이제 펄스형 전자기 주파수 발생기(2) 및 조직 열치료 디바이스(4)를 포함하고, 전자기 펄스, 조직 열치료 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 조절하도록 구성되는 제어 시스템(6)을 더 포함하는 본 발명의 일 실시예를 예시하는 도 2 를 참조한다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 처치는 안전 처치 파라미터(표 1) 내에서만 제공된다. 불안전 처치 파라미터(표 2)를 사용하는 것은 피한다.
안전 처치 파라미터는 표 1 의 파라미터에 의해 규정된다:
Figure pct00001
표 1: 안전 처치 파라미터
불안전 처치 파라미터는 표 2 의 파라미터에 의해 규정된다:
Figure pct00002
표 2: 불안전 처치 파라미터
일부 실시예들에서, 제어 시스템(6)은,
(a) 통신가능 데이터베이스에 (i) 안전 처치 파라미터 및 (ii) 불안전 처치 파라미터를 규정하는 미리 결정된 파라미터를 저장하도록 구성되는 프로세서 - 파라미터는, 처치의 총 지속기간 tt, PEMF가 인가되는 시간 tp, 처치된 조직이 가열되는 온도 T, 듀티 사이클 tp/tt, 주파수 F, 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 펄스에 의해 인가되는 파워 P, RF 열치료의 세기 I, 처치된 조직의 깊이 D, 자기장 세기 B, 조직 임피던스, 전자파 인체 흡수율(SAR), 표피 근육 수축 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택됨 -;
(b) 처치의 시간(지속기간) tt, 전자기 방사선 및/또는 열이 인가되는 시간 tp, 처치된 조직이 가열되는 온도 T, 듀티 사이클 tp/tt, 인가된전자기 또는 열 방사의 주파수 F, 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 펄스에 의해 인가되는 파워 P, RF 열치료의 세기 I, 처치된 조직의 깊이 D, 자기장 세기 B, 조직 임피던스, 전자파인체 흡수율(SAR), 표피 근육 수축 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 전자기 방사 및 가열 파라미터를 감지하도록 구성되는 감지 메커니즘; 및
(c) 파라미터가 안전 처치 파라미터의 범위 안에 있으면 펄스형 전자기 방사 및 열 방사를 허용하고, 방사 파라미터가 안전 처치 파라미터의 범위 밖에 있고, 따라서 불안전 처치 파라미터의 범위 안에 있으면 펄스형 전자기 방사를 중단시키도록 구성되는 조절 메커니즘을 더 포함한다.
일부 실시예들에서, 이러한 시스템은, 처치의 총 지속기간 tt, PEMF가 인가되는 시간 tp, 처치된 조직이 가열되는 온도 T, 듀티 사이클 tp/tt, PEMF의 주파수 F, 펄스형 전자기 주파수 발생기의 펄스에 의해 인가되는 파워 P, 처치된 조직의 깊이 D, 자기장 세기 B, 조직 임피던스, 전자파인체 흡수율(SAR), 표피 근육 수축 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 물리적 파라미터를 모니터링하기 위한 적어도 하나의 센서를 더 포함한다.
적어도 하나의 센서는 처치된 조직으로부터 적어도 하나의 파라미터를 수신한다. 수신된 파라미터로부터, 적어도 하나의 변화가 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)의 적어도 하나의 동작 파라미터, 조직 열치료 디바이스(4)의 적어도 하나의 동작 파라미터, 또는 양자 모두에 이루어질 수 있다. 적어도 하나의 동작 파라미터에 대한 변화는 조직에 해를 입히는 것을 피하면서, 펄스형 전자기장의 효과를 최적화하고, 조직 열치료의 효과를 최적화하며, 양자 모두의 성분의 시너지 효과를 증강시키며, 그리고 이들의 임의의 조합을 위해서 이루어질 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 전자기 펄스의 형상은 비한정적인 방식으로 구형파, 사인 파, 삼각파, 톱니파, 램프파, 스파이크파 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
일부 실시예들에서, 앞에서 규정된 바와 같은 시스템은 약 15-16 Hz의 주파수에서, 시간이 지남에 따라서 약 0 내지 약 12 가우스에서 변하는 펄스 RMS 평균 세기의 전자기 펄스를 제공하도록 구성된다. 이러한 실시예의 일부 변형예에서, 펄스 RMS 평균 세기는 시간이 지남에 따라서 약 0 에서 약 12 가우스로 증가한 후 약 0 가우스로 감소되며, 이러한 사이클이 반복된다. 이러한 실시예의 일부 변형예에서, RMS 평균 세기는 비한정적인 예로서 점진적으로 감소하는데, 증가하는데 걸린 것과 거의 동일한 시간 동안에 감소된다. 다른 실시예들에서, 세기는 서너 개 이하, 바람직하게는 하나의 펄스 동안에 0까지 신속하게 감소한다.
일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 시스템은 약 15-16 Hz의 주파수에서 전자기 구형파 펄스를 제공하도록 구성되는데, 펄스의 RMS 평균 크기는 약 0 부터 약 12 가우스까지 반복적으로 증가한다.
콜라겐 생성을 자극하기 위한 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 시스템은 약 10 Hz 내지 약 25 Hz의 주파수 및 약 20 가우스의 상수 RMS 평균 세기의 파 펄스를 제공하도록 구성된다. 콜라겐 생성을 자극하기 위한 일부 실시예들에서, 파 펄스는 삼각파이다. 다른 실시예들에서, 본 명세서에서 개시된 바와 같은 다른 파형들이 사용된다.
일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 시스템은 약 1 MHz의 주파수에서 교류 전류(AC)를 제공하도록 구성된다.
일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 시스템은 약 80 J/cm2s초의 세기를 제공하도록 구성된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 펄스형 전자기 주파수 발생기에 의해 인가되는 각각의 펄스의 지속기간은 약 3 ms 내지 약 1000 ms의 범위 안에 있다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 펄스형 전자기 주파수 발생기의 펄스의 주파수 F는 약 1 Hz 내지 약 1 MHz의 범위 안에 있다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 펄스형 전자기 주파수 발생기의 펄스에 의해 인가되는 파워 P는 펄스당 약 1 W 내지 펄스당 약 100 W의 범위 안에 있다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 조직 열치료 디바이스(4)는 전기적 열치료, RF 열치료 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군으로부터 비한정적인 방식으로 선택된다. 본 발명의 일부 실시예들에서, 조직 열치료 디바이스(4)는 전자기 유도 디바이스, 단파 RF 열치료 디바이스, 또는 피하 조직을 온도 T까지 제어가능하도록 가열하는 임의의 다른 수단으로 구성된 군으로부터 비한정적인 방식으로 선택된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 조직이 가열되는 온도 T는 약 섭씨 30 도 내지 약 섭씨 80 도의 범위 안에 있다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 시스템은 조직을 냉각시키기 위한 메커니즘을 포함한다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 펄스형 전자기 주파수 발생기(2) 및 조직 열치료 디바이스(4)는 두 개 이상의 인체 부분을 동시에 처치하기 위한 두 개 이상의 인가기를 가진다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)는 정전기 실드를 가진다.
실시예들 중 임의의 것에서 규정된 바와 같은 시스템이 다음 시간 스케일 각각에서 시너지 결과를 이룬다는 것이 강조되어야 한다: 단기(약 일 주일보다 짧음), 중간 기간(약 2주 내지 3주) 및 장기(약 한 달 이상).
단기에서, 콜라겐 섬유가 수축되고 팽팽해지는데, 그 결과 질 조직 전체가 팽팽해진다.
중간 기간 동안, 새로운 표피 세포 및 새로운 콜라겐 섬유가 생성된다.
장기로, 셀룰라이트가 퍼진다.
본 명세서에 개시된 본 발명의 또 다른 실시예에서, 전극 중 적어도 하나는 피하 조직 내로 관통하기 위한 피하 주사기를 더 포함한다. 이러한 주사기를 이용하여, 적절한 활동성을 가지는 물질이 처치 중에 조직 내로 주입될 수 있다. 이러한 물질의 비한정적인 예는 근육 이완제, 국소 마취제, 등을 포함한다.
조직에 재활을 제공하는 방법으로서, (a) 펄스형 전자기 주파수 생성 또는 조직 열치료 중 적어도 하나를 제어하기 위한, 미리 결정된 파형, 주파수, 진폭, 및 상대 위상의 N 개의 독립 신호를 생성하는 단계 - N은 전극의 개수 또는 전극의 쌍의 개수임 -; (b) N개의 독립 신호 각각을 적어도 하나의 전극으로 송신하는 단계 (c) 전극 중 적어도 하나를 적어도 처치될 조직에 인접하게 배치하는 단계 및 (d) 신호에 의해 운반되는 파워를 조직으로 송신하는 단계를 포함하는 방법을 개시하는 것도 본 발명의 범위 안에 있다. 바람직한 실시예들에서, N 개의 독립 신호는 서로에 대하여 위상-천이된다. 이러한 방법은 본 명세서에서 설명되는 실시예 중 임의의 것에 따르거나 또는 본 명세서에서 설명되는 디바이스의 임의의 변형예의 디바이스를 사용하여 수행될 수 있다.
N 개의 독립 신호를 생성하는 단계가, N 개의 독립 신호 중 m번째의 시간-의존적 진폭 A t, m 이 관계식
Figure pct00003
에 의해 주어지도록 N 개의 독립적 펄스형 전자기장을 생성하는 단계를 더 포함하는 것도 본 발명의 범위 안에 있는데, 여기에서 A 0, m은 1 이상인 미리 결정된 상수이고, F m 은 시간의 미리 결정된 주기 함수이며, ω m 은 m번째 신호의 각주파수이고, f m 은 m번째 신호의 미리 결정된 위상 천이이다. 비록 이러한 방법의 바람직한 실시예들에서, N 개의 독립 신호를 생성하는 단계가, 모든 N 개의 신호에 대하여 A 0, m, F m , 및 ω m 이 실질적으로 동일하고, f m 이 신호 m 및 m+1 의 임의의 두 개의 쌍에 대하여 동일한 단계를 포함하지만, 이러한 제한 사항은 절대로 필수적인 것이 아니며, 이들 중 임의의 것 또는 모두가 모든 N 개의 신호에 대하여 동일하지 않은 방법을 개시하는 것도 본 발명의 범위에 속한다. f m 이 신호 m 및 m+1 의 모든 쌍에 대하여 실질적으로 동일한 방법의 바람직한 실시예들에서, 이러한 방법은 N 개의 독립 신호 각각에 대하여 관계식 fm=πk(j-1)/N에 따라서 위상 천이 f m 을 제공하는 단계를 더 포함하는데, 여기에서 0 = k = 1 이고, m = 1, 2, 3... N 이며 j =1,2, 3... 이고 N은 전극의 개수이다. 예를 들어, 네 개의(N=4) 세트 중 하나의 전극에 대하여, k=1 이고 위상은 135 도인 반면에, 네 개의 세트 중 다른 전극에 대해서 위상은 45 도인 식일 것이다.
이러한 방법의 일부 실시예들에서, 방법은, 사인, 코사인, 탄젠트, 코탄젠트(cot), 톱니파, 삼각파, 구형파, 직사각형 파, 사다리꼴 파, 스파이크파, 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군으로부터 F m 을 선택하는 단계를 더 포함한다.
본 명세서에 개시된 본 발명의 또 다른 실시예에서, 전극 중 적어도 하나는 피하 조직 내로 관통하기 위한 피하 주사기를 더 포함한다. 이러한 주사기를 이용하여, 적절한 활동성을 가지는 물질이 처치 중에 조직 내로 주입될 수 있다. 이러한 물질의 비한정적인 예는 근육 이완제, 국소 마취제, 등을 포함한다.
처치된 조직에 재활을 제공하는 방법으로서, (a) 펄스형 전자기 주파수 생성 또는 조직 열치료 중 적어도 하나를 제어하기 위한, 미리 결정된 파형, 주파수, 진폭, 및 상대 위상의 N 개의 독립 신호를 생성하는 단계 - N은 전극의 개수 또는 전극의 쌍의 개수임 -; (b) N개의 독립 신호 각각을 적어도 하나의 전극으로 송신하는 단계 (c) 전극 중 적어도 하나를 적어도 처치될 조직에 인접하게 배치하는 단계 및 (d) 신호에 의해 운반되는 파워를 조직으로 송신하는 단계를 포함하는 방법을 개시하는 것도 본 발명의 범위 안에 있다. 바람직한 실시예들에서, N 개의 독립 신호는 서로에 대하여 위상-천이된다. 이러한 방법은 본 명세서에서 설명되는 실시예 중 임의의 것에 따르거나 또는 본 명세서에서 설명되는 디바이스의 임의의 변형예의 디바이스를 사용하여 수행될 수 있다.
N 개의 독립 신호를 생성하는 단계가, N 개의 독립 신호 중 m번째의 시간-의존적 진폭 A t, m 이 관계식
Figure pct00004
에 의해 주어지도록 N 개의 독립적 펄스형 전자기장을 생성하는 단계를 더 포함하는 것도 본 발명의 범위 안에 있는데, 여기에서 A 0, m은 1 이상인 미리 결정된 상수이고, F m 은 시간의 미리 결정된 주기 함수이며, ω m 은 m번째 신호의 각주파수이고, f m 은 m번째 신호의 미리 결정된 위상 천이이다. 비록 이러한 방법의 바람직한 실시예들에서, N 개의 독립 신호를 생성하는 단계가, 모든 N 개의 신호에 대하여 A 0, m, F m , 및 ω m 이 실질적으로 동일하고, f m 이 신호 m 및 m+1 의 임의의 두 개의 쌍에 대하여 동일한 단계를 포함하지만, 이러한 제한 사항은 절대로 필수적인 것이 아니며, 이들 중 임의의 것 또는 모두가 모든 N 개의 신호에 대하여 동일하지 않은 방법을 개시하는 것도 본 발명의 범위에 속한다. f m 이 신호 m 및 m+1 의 모든 쌍에 대하여 실질적으로 동일한 방법의 바람직한 실시예들에서, 이러한 방법은 N 개의 독립 신호 각각에 대하여 관계식 fm=πk(j-1)/N에 따라서 위상 천이 f m 을 제공하는 단계를 더 포함하는데, 여기에서 0 = k = 1 이고, m = 1, 2, 3... N 이며 j =1,2, 3... 이고 N은 전극의 개수이다. 예를 들어, 네 개의(N=4) 세트 중 하나의 전극에 대하여, k=1 이고 위상은 135 도인 반면에, 네 개의 세트 중 다른 전극에 대해서 위상은 45 도인 식일 것이다.
이러한 방법의 바람직한 실시예들에서, 방법은, 사인, 코사인, 탄젠트, 코탄젠트(cot), 톱니파, 삼각파, 구형파로 구성된 군으로부터 F m 을 선택하는 단계를 더 포함한다.
열은 피하 조직에 의해 흡수되는 전류를 전극을 통해서 인가하거나, 조직에 인가되는 RF 파워에 의하여, 처치된 조직에 제공될 수 있다.
이제 환자의 피부 또는 점막 조직의 부위의 재활을 증가시키는 방법(400)의 일 실시예를 개략적으로 예시하는 도 3 을 참조한다. 이러한 방법은, 특히 (i) 펄스형 전자기 주파수 발생기 및, (ii) 조직 열치료 디바이스를 획득하는 단계(401) 해당 부위 내의 피하 조직에 열을 가열하고, 해당 부위를 미리 결정된 온도 T까지 가열하는 단계(402) 중에서 선택된 단계를 포함하는데, 온도 T는 새로운 콜라겐을 생성하고 피부 증식을 초래하고 및 현존하는 콜라겐을 수축시키기 위해 최적화된다. 콜라겐이 수축하면 질 조직이 즉시 팽팽해지지만, 피부 증식 및 새로운 콜라겐 생성의 효과는 추후 발현될 것이다. 다음 단계는 성장 인자 생성 및 시토킨(cytokine) 방출 및, 최종적으로 혈관형성을 포함하는 치유 메커니즘을 가열된 조직 내에 생성하는, 추가적 펄스형 전자기장을 인가하는 단계(403)이다.
이제 본 발명의 바람직한 방법의 일 실시예를 예시하는 도 4 를 참조한다. 이러한 실시예에 따르면, 방법(400)은, 부위 내의 피하 조직으로의 열의 인가를 모니터링하고, 해당 부위 내의 피하 조직으로의 열의 인가를 제어하며, 펄스형 전자기 치료의 해당 부위로의 인가를 모니터링하고, 해당 부위에 펄스형 전자기 치료가 인가되는 것을 제어하는 것 중 적어도 하나를 포함하는 단계(404)를 더 포함한다.
이제 환자의 질 조직의 부위 내의 조직 재활을 증가시키는 방법(410)의 일실시예를 개략적으로 예시하는 도 5 를 참조한다. 이러한 방법은, 특히, (i) 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 (ii) 조직 열치료 디바이스를 획득하는 것(411) 성장 인자 및 시토킨의 방출과 최종적으로 혈관형성을 포함하는 치유 메커니즘을 조직 내에 생성하는, 펄스형 전자기장을 인가하는 것(412) 및, 마지막으로, 해당 부위 내의 피하 조직에 열을 인가하여 피하 조직을 온도 T까지 가열하는 것(413) 중에서 선택된 단계를 포함하는데, 온도 T는 새로운 콜라겐을 생성하고 피부 증식을 야기하며 콜라겐을 수축시키기 위해서 최적화된다. 콜라겐이 수축하면 해당 조직이 팽팽해지지만, 피부 증식 및 새로운 콜라겐 생성의 효과는 추후 발현될 것이다.
이제 본 발명의 방법의 다른 실시예를 예시하는 도 6 을 참조한다. 이러한 실시예에 따르면, 방법(410)은, 부위 내의 피하 조직으로의 열의 인가를 모니터링하고, 해당 부위 내의 피하 조직으로의 열의 인가를 제어하며, 펄스형 전자기 치료의 해당 부위로의 인가를 모니터링하고, 해당 부위에 펄스형 전자기 치료가 인가되는 것을 제어하는 것 중 적어도 하나를 포함하는 단계(414)를 더 포함한다.
이제 피부 또는 점막 조직의 부위의 재활을 증가시키는 방법(420)의 일 실시예를 개략적으로 예시하는 도 7 을 참조한다. 이러한 방법은 특히 (i) 펄스형 전자기 주파수 발생기 및, (ii) 조직 열치료 디바이스를 획득하는 것(421) 및 해당 부위 내의 피하 조직에 열을 인가함과 동시에 펄스형 전자기장을 인가하여, 해당 조직을 온도 T까지 가열하는 것(422) 중에서 선택된 단계를 포함한다. 전자기 펄스는 성장 인자 생성 및 시토킨 방출 및, 최종적으로 혈관형성을 포함하는 치유 메커니즘을 가열된 조직 내에 생성한다. 온도 T는 새로운 콜라겐을 생성하고 피부 증식을 초래하며 콜라겐을 수축시키도록 최적화된다. 콜라겐이 수축하면 영향 받은 조직이 즉시 팽팽해지지만, 피부 증식 및 새로운 콜라겐 생성의 효과는 추후 발현될 것이다.
이제 본 발명의 방법의 바람직한 실시예를 예시하는 도 8 을 참조한다. 이러한 실시예에 따르면, 방법(420)은, 부위 내의 피하 조직으로의 열의 인가를 모니터링하고, 해당 부위 내의 피하 조직으로의 열의 인가를 제어하며, 펄스형 전자기 치료의 해당 부위로의 인가를 모니터링하고, 해당 부위에 펄스형 전자기 치료가 인가되는 것을 제어하는 것 중 적어도 하나를 포함하는 단계(424)를 더 포함한다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 방법들 각각은 온도 T가 약 섭씨 30 도 내지 약 섭씨 80 도의 범위 안에 있도록 선택하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 방법들 각각은 동적 전자기장을 상기 부위 내에 인가하는 단계를 더 포함하는데, 전자기장의 피크 세기는 시간이 지남에 따라 변한다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 규정된 바와 같은 방법들 각각은,
a. (i) 안전 처치 파라미터 및 (ii) 불안전 처치 파라미터를 규정하는 미리 결정된 파라미터를 통신가능 데이터베이스에 저장하는 단계 - 파라미터는 처치의 총 지속기간 tt, PEMF가 인가되는 시간 tp, 처치된 조직의 온도 T, 듀티 사이클 tp/tt, 주파수 F, 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 펄스에 의해 인가되는 파워 P, 상기 처치된 조직의 깊이 D, 자기장 세기 B, 조직 임피던스, 전자파 인체 흡수율(SAR), 표피 근육 수축 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군으로부터 선택됨 -;
b. 처치의 총 지속기간 tt, PEMF가 인가되는 시간 tp, 처치된 조직의 온도 T, 듀티 사이클 tp/tt, 인가된 방사선의 주파수 F, 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 펄스에 의해 인가되는 파워 P, 열세기 I, 처치된 조직의 깊이 D, 자기장 세기 B, 조직 임피던스, 전자파 인체 흡수율(SAR), 표피 근육 수축 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군으로부터 선택되는 전자기 방사 및 가열 파라미터를 감지하는 단계;
c. 파라미터가 상기 안전 처치 파라미터 내에 있으면 전자기 방사 및 가열을 허용하고 파라미터가 불안전 처치 파라미터 내에 있으면 전자기 방사 및 가열을 중단하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 열을 인가하는 단계는 전자기 유도 디바이스, 직사 열을 인가하도록 구성되는 디바이스, 또는 피하 조직을 온도 T까지 가열하는 임의의 다른 수단으로 구성된 군으로부터 선택된 디바이스에 의해서 수행된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 방법들 각각은, 펄스형 전자기 치료를 해당 부위에 인가하는 단계 중에 인가되는 펄스의 주파수가 약 1 Hz 내지 약 1 MHz의 범위 안에 있도록 선택하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 방법들 각각은 펄스형 전자기 치료를 해당 부위에 인가하는 단계 중에 인가되는 파워 P가 펄스당 약 1 W 내지 펄스당 약 100 W의 범위 안에 있도록 선택하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 방법들 각각에서, 열을 인가하는 단계는 약 0.01 분 내지 약 100 분의 범위 동안 유지된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 방법들 각각에서, 펄스형 전자기장은 약 0.01 분 내지 약 100 분의 범위 안에 있는 시간 동안 인가된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 방법들 각각에서, 열을 인가하는 단계 및 펄스형 전자기 치료를 인가하는 단계는, 동시에, 순차적으로(열을 인가하는 것과 펄스형 전자기 치료를 인가하는 것을 교변함) 또는 별개로(처치의 한 과정 중에는 열을 인가하고 처치의 별개의 과정 중에는 펄스형 전자기 치료를 인가함)로 구성된 군으로부터 선택되는 방식으로 수행된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 방법들 각각에서, 이러한 방법은 각각의 처치에서 1 회 내지 100 회 반복된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 펄스형 전자기 주파수 발생기(4)를 위한 통상적 프로토콜은, 비한정적인 예로서, 약 50%의 듀티 사이클 약 250 μs까지의 휴지기가 있는 약 1 μs 펄스의 미리 설정된 개수를 포함한다. 이러한 타입의 프로토콜에서, 파워는 펄스들의 미리 설정된 개수가 인가되는 기간 동안에 조직에 인가된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 펄스형 전자기 주파수 발생기(4)를 위한 통상적 프로토콜은, 비한정적인 예로서, 약 50%의 듀티 사이클 및 약 512 μs까지의 미리 설정된 휴지기를 가지는 약 1 μs 주기의 약 10 개의 펄스를 포함한다. 이러한 타입의 프로토콜에서, 파워는 펄스들의 미리 설정된 개수가 인가되는 기간 동안에 조직에 인가된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 펄스형 전자기 주파수 발생기(4)를 위한 통상적 프로토콜은, 비한정적인 예로서, 이전의 프로토콜의 변형예를 포함하는데, 부여되는 펄스의 개수는 약 10 개의 배수이다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 방법들 각각에서, 처치는 두 번 이상 반복된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, 앞서 규정된 바와 같은 방법들 각각은 구형파, 사인 파, 삼각파, 톱니파, 램프파, 스파이크파 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군으로부터 전자기 펄스의 형상을 선택하는 단계를 더 포함한다.
방법 및 장치의 전술된 설명이, 당업자에게 공지된 이러한 방법을 수행하기 위한 장치 및 임의의 타입의 장치를 사용하는 방법을 포함하는 것으로 해석되어야 하고, 이들은 당업자가 본 발명을 실시하게 하기 위해서 본 명세서에서 더 상세히 설명될 필요가 없다는 것이 또한 이해되어야 한다.
본 발명의 주된 실시예의 경우, 타입 및 모델의 특정한 선택은 중요하지 않지만, 특히 그렇다고 인식되는 경우에는 관련성이 있을 수 있다. 본 발명은 예를 들어 제공되었으며 본 발명의 범위를 한정하려는 것이 아닌 실시예의 상세한 설명을 사용하여 설명된 바 있다. 일반적으로, 한정어 또는 "할 수 있다", "해야 한다", "바람직하게는", "반드시 그러하다", 또는 중요성 또는 동기의 정도를 나타내는 다른 용어를 사용하는 것은, 청구항들 또는 그들의 균등물의 범위를 이러한 청구항에서 그 범위에 대한 문헌적인 한정어가 명시적으로 존재하지 않는 한 제한하는 것으로 간주되어서는 안 된다. 일 실시예에 대해서 설명된 피쳐 및 단계가 다른 실시예에서 사용될 수 있으며, 본 발명의 실시예 모두가 특정 도면에 도시되거나 실시예들 중 하나에 대해서 설명된 피쳐 및/또는 단계 모두를 가지는 것은 아니라는 것이 이해되어야 한다. 즉, 본 명세서는 각 구성 요소의 서로 다른 실시예와 함께 개시되는 것으로 간주되는 각각의 구성 요소의 각각의 실시예와 함께 조합될 경우에만(사실상 동일한 구성 요소의 변형예의 호환가능한 구현예의 다양한 조합에서) 완성되는 것으로 간주되어야 한다. 설명된 실시예들의 변형예는 당업자에게 명백할 것이다. 더욱이, "포함(comprise)", "포함(include)", "가진다(have)" 및 그 변형은, 청구항에서 사용되면 "포함하지만 그것들로 제한되지는 않음"을 의미할 것이다. 청구항에서 단수형으로 존재하는 각 구성 요소는 청구되는 바와 같은 하나 이상의 구성 요소를 의미할 것이고, 어떤 그룹 중 하나 이상에 대해서 옵션이 주어지면, 이것은해당 청구항이 다양한 옵션 중에서 선택된 오직 하나의 원소만을 요구하고 각각의 옵션 중 하나를 요구하지 않는다는 것을 의미하도록 해석될 것이다. 요약서는 본 출원 또는 청구항의 범위를 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다.
전술된 실시예 중 일부가 발명자에 의해 고찰되는 최선의 모드를 기술하며 따라서 본 발명에 필수적이지 않을 수 있고 예로서만 설명되는 구조, 동작 또는 구조 및 동작의 세부사항을 포함할 수 있다는 것에 주의한다. 본 명세서에서 설명되는 구조 및 동작은 구조 또는 동작이 상이하다 하더라도 당업계에 공지된 바와 같이 동일한 기능을 수행하는 균등물에 의해 교체가능하다. 그러므로, 본 발명의 범위는 청구항에서 사용되는 구성 요소와 한정어에 의해서만 한정된다.
도 9 는 디바이스(2410)의 원위의 섹션을 둘러싸는 6 개의 링 전극(2415)을 가지는 디바이스의 단면을 도시하는데 디바이스가 질 내로 과도하게 삽입되는 것을 막기 위한 링(2420)도 도시되고, 온도 센서(2417)가 각각의 링 전극(2415)에 인접하게 도시된다.
링 전극을 가지는 디바이스의 바람직한 실시예들에서, 미리 정의된 온도 프로파일이 질 내에 생성될 수 있다. 통상적으로, 적어도 하나의 미리 정의된 온도 프로파일은 프로세서와 통신하는 데이터베이스에 저장될 수 있고, 프로세서는 적어도 하나의 온도 센서 및 적어도 하나의 파워 서플라이와 통신한다 파워 서플라이는 전극에 파워를 제공한다.
바람직한 실시예들에서, PEMF 및 열 양자 모두가 조직 열치료, 전류, 유도성 전자기장 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 가열 메커니즘을 통해 전극으로 공급된다. 바람직한 실시예들에서, 가열 메커니즘은 RF 조직 열치료이다.
온도는 디바이스의 원위의 섹션(2410)을 따라 길이 방향으로, 디바이스의 원위의 섹션(2410) 주위에서 방사상으로 및 이들의 임의의 조합으로 변할 수 있다. 통상적으로, 온도 프로파일은, 각각의 센서에 의해 측정된 온도와 미리 정의된 온도 사이의 비교를 포함하는 피드백을 통해 생성되고, 저장된 온도 프로파일은 각각의 전극에 인가되는 파워를 조절하기 위하여 사용된다.
도 10 은 예시적인 온도 프로파일을 예시하는데, 온도는 디바이스의 원위의 섹션(2410)을 따라서 길이 방향으로 변한다. 숫자 1 내지 6 은 도 9 에 도시된 6 개의 전극을 가리키고, 1 은 가장 가까운 전극이고 6 은 가장 먼 전극이다. 온도는 열에 민감한 외음순과 내음순에 가장 가까운 전극 1 에서 가장 낮다. 이러한 예에서, 가장 먼 전극인 전극 6 에서의 온도도 중앙 전극의 온도보다는 낮다,
피드백 제어를 사용하면서, 질 내에 요구되는 온도 프로파일을 유지하기 위해서 더 많은 RF 파워가 전극 3, 4 및 5 에 공급될 것이고 더 적은 파워가 전극 1, 2 및 6 에 공급될 것이다.
일부 실시예들에서, 질 내의 온도는 처치 중에 약 섭씨 30 도 내지 약 섭씨 80 도, 바람직하게는 약 섭씨 40 도 내지 약 섭씨 50 도일 것이다.
도 1b, 도 1c, 도 1d 및 도 9 로부터 알수 있는 바와 같이, 전극 및 센서는 이들을 요구되는 위치에 유지하기 위해서 플랫폼 내에 밀봉될 수 있다. 이와 유사하게, 프로세서 및 조절 수단이 플랫폼 내에 밀봉될 수 있다. 프로세서/조절 메커니즘 플랫폼은, 거꾸로 연결되거나 영구적으로 연결된 전극/센서 플랫폼과 같을 수 있다. 이들 플랫폼 모두는 파워 서플라이를 더 포함할 수 있다.
일부 실시예들에서, 디바이스는 부분적 PEMF 및 부분적 조직 열치료 중 적어도 하나를 제공할 수 있고, 그러면 임의의 한 번에는 전극의 일부만이 활성화된다. 그러면 처치 중에 환자가 느끼는 불편함이 줄어들 수 있다.
일부 실시예들에서, 디바이스는 조직의 적어도 일부가 디바이스와 접촉하게 유지하기 위하여 석션을 유도하는 메커니즘을 더 포함할 수 있다. 일부 실시예들에서, 디바이스는 적어도 하나의 포트를 포함할 것이다. 디바이스의 사용 시에, 포트 중 적어도 하나에 석션이 적용되어 조직이 디바이스와 가깝게 접촉하도록 유도되게 하며, 포트가 디바이스 내의 리세스로 개방되면 조직이 디바이스 내의 리세스 내로 유도되게 된다. 바람직한 실시예들에서, 조직은 포트 및 그 주위에 배치된 임의의 전극 또는 트랜스듀서와 물리적으로 접촉하기에 충분한 정도로 유도된다.
석션 유닛은 연속적으로 또는 펄스식으로 동작하도록 구성되어, 일정한 석션, 또는 펄스형 석션 중 어느 하나를 조직에 전달한다.
도 11 은 디바이스의 가능한 기하학적 구조의 비한정적인 예시를 제공하는 디바이스의 다섯 개의 예시적인 실시예의 개략적인 단면도를 제공한다. 이러한 예시도가 단면의 평면에 배치된 구성 요소 및 하우징 내로 유도된 조직(500)에 의해 감춰진 제한된 개수의 구성 요소의 감춤 그림만을 제공하지만, 사용될 수 있는 조직 열치료 디바이스 및 펄스형 전자기 주파수 발생기의 개수에 대한 유일한 한정 요소는 하우징의 물리적인 크기 및 단락을 방지하기 위해서 필요한 최소 거리라는 것이 강조된다. 도시된 실시예에서, 조직 열치료 디바이스 및 펄스형 전자기 주파수 발생기는 별개인 것으로 도시된다 일부 실시예들에서, 동일한 전극이 조직 열치료 디바이스 및 펄스형 전자기장 양자 모두를 생성한다.
도 11a 는 단일 포트(400)가 있는 일 실시예를 도시한다 화살표는 디바이스가 진공 소스와 유체 연결 상태일 경우의 공기 흐름의 방향을 나타낸다. 조직 열치료 디바이스(200)는 하우징의 립 및 내부 표면에 배치되는 반면에, 펄스형 전자기 주파수 발생기(300)는 하우징의 내부 표면에 배치된다. 도 11b 는 조직 열치료 디바이스 및 트랜스듀서가 도 11a 에서와 같이 배치되지만, 복수 개의 포트(400)가 제공되는 일 실시예를 도시한다. 화살표는 디바이스가 진공 소스와 유체 연결 상태에 있고 처치가 완료된 후에 공기가 다시 유입되는 경우의 공기 흐름의 방향을 나타낸다.
도 11c 는 적어도 하나의 트랜스듀서가 하우징의 실질적으로 닫힌 단부 주위에 배치되는 일 실시예를 도시한다. 도 11d 는 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 조직 열치료 디바이스 양자 모두가 하우징의 립 주위에 배치되고 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 조직 열치료 디바이스 양자 모두가 그 내부 표면 주위에 배치되는 일 실시예 도시한다. 이러한 실시예에서, 적어도 하나의 조직 열치료 디바이스는 하우징의 실질적으로 닫힌 단부 주위에 배치된다. 도 11c 및 도 11d 에 도시된 실시예에서, 포트는 하우징의 중앙 축으로부터 변위되고, 따라서 도면에는 도시되지 않는다.
도 11e 는 본 발명의 일 실시예의 개략도를 제공한다. 이러한 실시예에서, 하우징은 컵모양의 성형된 하우징이 아니라 일반적으로 원통형이고, 펄스형 전자기 주파수 발생기는 도면에 도시된 바와 같이 하우징의 측면의 내부 표면 주위에 배치된다.
도 11f 는 원통형 하우징이 있는 본 발명의 일 실시예의 원위의 단부의 개략적인 예시도를 제공하는데, 길이방향 전극(2315)이 하우징의 외부에 있고 포트(400)가 전극들(2315) 사이에 있다. 흡입되게 하는 공기흐름은 화살표(420)로 개략적으로 표시된다.
일부 실시예들에서, 디바이스는 피부 또는 점막 조직의 표면에 맞닿아 또는 그 근처에 배치되도록 구성되는 리세스를 더 포함한다.
일부 실시예에서, 조직은 리세스의 내부 표면 주위에 배치된 임의의 조직 열치료 인가기 또는 펄스형 전자기 주파수 전극, 및 포트 자체와 물리적 접촉이 이루어지기에 충분한 깊이까지 리세스 내로 유도된다.
일부 실시예에서, 조직은 하우징의 내부 표면 주위에 배치된 임의의 조직 열치료 인가기 또는 펄스형 전자기 주파수 전극과 물리적으로 접촉하지 않으면서 리세스 내로 유도된다.

Claims (22)

  1. 점막 조직의 적어도 하나의 부위를 재활(rejuvenate)하는 디바이스로서,
    펄스형 전자기장 요법을 점막 조직의 상기 부위에 적용하기 위한 펄스형 전자기 주파수 발생기;
    RF 조직 열치료 디바이스와 통신하는 복수 개의 전극을 포함하고,
    상기 RF 조직 열치료 디바이스는 상기 전극을 통해 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위를 가열하는, 재활 디바이스.
  2. 제 1 항에 있어서,
    a. 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부가 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 다른 적어도 일부는 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1 은 T2와 동일하거나 상이함;
    b. 상기 디바이스는 상기 복수 개의 전극 중 적어도 하나에 인접한 적어도 하나의 온도 센서를 더 포함함;
    c. 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위는 질 내에 있음; 및
    d. 상기 디바이스는 상기 적어도 하나의 온도 센서 및 데이터베이스와 통신하는 프로세서를 더 포함하고, 상기 적어도 하나의 온도 센서는 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택됨;
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 재활 디바이스.
  3. 제 2 항에 있어서,
    a. 상기 프로세서는, 상기 온도 프로파일이 상기 디바이스 외부의 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 유지가능하도록, 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스로의 RF 출력을 피드백 제어하도록 구성됨; 및,
    b. 각각의 상기 적어도 하나의 온도는 점막 조직의 상기 부위의 상기 적어도 하나의 부분 내에서 측정가능함;
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 재활 디바이스.
  4. 제 1 항에 있어서,
    a. 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 펄스의 지속기간은 약 3 ms 내지 약 1000 ms의 범위 안에 있음;
    b. 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 상기 펄스의 주파수 F는 약 1 Hz 내지 약50 Hz의 범위 안에 있음; 및
    c. 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기로부터 나온 펄스형 전자기 파워는 콜라겐 생성을 자극하도록 구성됨;
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 재활 디바이스.
  5. 제 1 항에 있어서,
    a. 상기 펄스형 전자기 파워는 혈관형성을 유도하도록 구성됨; 및
    b. 상기 펄스형 전자기 파워는 약 15 Hz의 주파수 F 및 약 12 가우스의 자기장 세기 B의 펄스를 포함함;
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 재활 디바이스.
  6. 제 1 항에 있어서,
    온도 프로파일 내의 상기 적어도 하나의 온도, 미리 결정된 온도 범위 T1, 미리 결정된 온도 범위 T2 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 원소는, 섭씨 30 도 내지 약 섭씨 80 도 및 약 섭씨 40 도 내지 약 섭씨 50 도로 이루어진 군에서 선택된 범위 안에 있는, 재활 디바이스.
  7. 환자의 점막 조직의 적어도 하나의 부위의 재활을 증가시키는 집적 시스템으로서,
    상기 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 배치되도록 구성되는 적어도 두 개의 전극;
    전자기장 펄스를 발생시키고 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 상기 전자기장 펄스를 인가하도록 구성되는 전자기장 발생기; 및,
    제어 시스템을 포함하고,
    상기 전극 중 어느 것도 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위를 관통하도록 구성되지 않고
    상기 전극 각각은 상기 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 RF를 통전시키도록 구성되며, 전극은 상기 점막 조직을 섭씨 30 도 내지 섭씨 80 도의 범위 내의 온도 T까지 가열하도록 구성되고,
    상기 제어 시스템은 상기 전자기장 발생기 및 상기 전극에 의한 상기 열의 인가를 제어하도록 구성되는, 집적 시스템.
  8. 제 7 항에 있어서,
    a. 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분은 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1 은 T2와 동일하거나 상이함;
    b. 상기 적어도 하나의 점막 조직 부위는 질 내에 있음; 및
    c. 상기 시스템은 적어도 하나의 온도 프로파일을 저장하도록 구성되는 데이터베이스를 더 포함하고, 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 미리 결정된 부분을 포함함;
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 집적 시스템.
  9. 제 8 항에 있어서,
    a. 상기 시스템은 상기 데이터베이스 및 적어도 하나의 온도 센서와 통신하는 프로세서를 더 포함함;
    b. 상기 제어 시스템(6)은 물리적 조직 파라미터를 모니터링하고, 상기 인가된 열, 상기 전자기 펄스 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 상응하도록 변경함;
    c. 상기 시스템에 의해 인가되는 각각의 펄스의 지속기간은 약3 ms 내지 약 1000 ms의 범위를 가짐;
    d. 상기 시스템의 전자기 펄스에 의해 인가되는 주파수 F는 약 1 Hz 내지 약 50 Hz의범위를 가짐;
    e. 상기 시스템의 RF 펄스에 의해 인가되는 주파수는 약 200 kHz 내지 약 10 MHz의 범위를 가짐; 및
    f. 상기 시스템의 상기 RF에 의해 인가되는 파워 P는 약 1 W 내지 약 100 W RMS 평균 파워의 범위를 가짐;
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 집적 시스템.
  10. 제 9 항에 있어서,
    a. 각각의 상기 적어도 하나의 온도 센서는 상기 환자의 상기 적어도 하나의 점막 부위의 상기 미리 결정된 부분의 적어도 하나의 온도를 측정하도록 구성됨 및
    b. 상기 적어도 하나의 온도 센서는 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택됨
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 집적 시스템.
  11. 환자의 점막 조직의 적어도 하나의 부위의 재활을 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위로의 열 및 펄스형 전자기장(PEMF)의 시너지 인가(synergistic application)에 의하여 증가시키도록 구성되는 시스템(10)으로서,
    미리 결정된 프로토콜에 따라 상기 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위로 전자기 펄스를 제공하기 위한 펄스형 전자기장(PEMF) 주파수(2)를 생성하기 위한 펄스형 전자기장 발생기; 및
    복수 개의 전극을 동작시키도록 구성되는 RF 발생기 - 상기 전극의 상기 동작은 조직 열치료를 유도하도록 구성됨 -;를 포함하고,
    상기 시스템은 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 재활을 상기 PEMF 및 상기 조직 열치료의 시너지 조합을 통해 제공하도록 구성되며,
    상기 복수 개의 전극(41)은 상기 환자의 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 배치될 수 있도록 구성되는, 재활 시스템.
  12. 제 11 항에 있어서,
    a. 점막 조직의 적어도 하나의 상기 부위는 질 내에 있음;
    b. 상기 시스템은 적어도 하나의 온도 센서를 더 포함하고, 상기 적어도 하나의 온도 센서는 서미스터, 열전대 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택됨;
    c. 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분은 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1 은 T2와 동일하거나 상이함;
    d. 상기 시스템은 적어도 하나의 온도 프로파일을 저장하도록 구성되는 데이터베이스를 더 포함하고, 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 상기 점막 조직 부위의 적어도 하나의 부분을 포함함;
    e. 제어 시스템(6)은 점막 조직의 상기 부위를 냉각하기 위한 냉각 메커니즘을 포함함; 및
    f. 상기 시스템(10)은 적어도 하나의 플랫폼 내에 둘러싸임(encased);
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 재활 시스템.
  13. 제 12 항에 있어서,
    a. 상기 시스템은 상기 적어도 하나의 온도 센서 및 상기 데이터베이스와 통신하는 프로세서를 더 포함함; 및
    b. 상기 온도, 상기 온도 범위 T1, 상기 온도 범위 T2 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소는 약 섭씨 30 도보다 높고 약 섭씨 80 도보다 낮음;
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 재활 시스템.
  14. 제 13 항에 있어서,
    a. 상기 프로세서는 상기 온도 프로파일이 디바이스 외부의 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 유지될 수 있도록 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 발생기를 피드백 제어하도록 구성됨; 및,
    b. 각각의 상기 적어도 하나의 온도는 점막 조직의 상기 부위의 상기 적어도 하나의 부분 내에서 측정가능함;
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 재활 시스템.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 전극 모두는 상기 RF 파워를 점막 조직의 상기 부위에 동시에 인가하도록 구성되는, 재활 시스템.
  16. 환자의 점막 조직의 적어도 하나의 부위의 점막 조직 재활을 증가시키는 방법(400)으로서,
    a. (i) 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 (ii) RF 조직 열치료 디바이스를 획득하는 단계 및,
    b. 동시에 또는 배치(batch)식으로, (a) 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위 내의 점막 조직의 적어도 일부에 온도 T까지 열을 (b) 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부에 전자기장의 펄스를 및 이들의 임의의 조합을 인가하는 단계를 포함하고,
    점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 상기 재활의 상기 증가는, 상기 점막 조직에 열을 인가하는 상기 단계에 기인한 증가 및 펄스 전자기 치료를 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 인가하는 상기 단계에 기인한 증가의 합보다 큰, 재활 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    a. 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부를 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지하면서 점막 조직의 상기 부위의 적어도 하나의 다른 부분을 미리 결정된 온도 범위 T2에 적어도 일시적으로 유지하는 단계 - T1은 T2와 동일하거나 상이함 -;
    b. 점막 조직의 상기 부위가 질 내에 있도록 선택하는 단계;
    c. 상기 펄스형 전자기장 및 상기 열을 동시에 인가하는 것, 상기 펄스형 전자기장 및 상기 열을 순차적으로 인가하는 것 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 단계;
    d. (a) 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기(2)에 의해 인가되는 각각의 펄스의 지속기간이 약 3 ms보다 길고 1000 ms보다 짧음 (b) 펄스형 전자기 치료를 상기 부위에 인가하는 상기 단계에 의해 인가된 각각의 펄스의 자기장 세기 B는 0 내지 15 가우스의 범위 안에 있음 (c) 펄스형 전자기 치료를 상기 부위에 인가하는 상기 단계에 의해 인가된 펄스에 의해 인가된 주파수 F는 약 1 Hz보다 높고 50 Hz보다 낮음 (d) 펄스형 전자기 치료를 상기 부위에 인가하는 상기 단계에 의해 인가된 파워 P는 약 1 W보다 크고 100 W RMS 평균 파워보다 작음 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나의 파라미터를 선택하는 단계;
    e. 상기 열의 인가에 대한 지속기간이 약 0.01 분 내지 약 60 분의 범위 내에 있도록 선택하는 단계; 및
    f. 상기 열 및 상기 펄스형 전자기 치료를 인가하는 방식을, 동시에, 순차적으로, 별개로 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택하는 단계 중 적어도 하나를 더 포함하고,
    g. 조직에 열을 인가하는 상기 단계는,
    i. 적어도 두 개의 전극을 상기 RF 조직 열치료 디바이스에 전기적으로 커플링하는 단계;
    ii. 상기 적어도 두 개의 전극을 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 배치하는 단계; 및,
    iii. 상기 전자기 펄스, 상기 전극 중 적어도 하나를 통한 상기 RF 파워, 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 점막 조직의 상기 적어도 하나의 부위에 인가하는 단계를 포함하는, 재활 방법.
  18. 제 16 항에 있어서,
    a. (a) 적어도 하나의 온도 프로파일을 포함하는 데이터베이스를 제공하는 단계 - 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 점막 조직의 적어도 하나의 미리 결정된 부위를 포함함 -; (b) 점막 조직의 상기 적어도 하나의 미리 결정된 부위에서 상기 적어도 하나의 온도를 측정하는 단계 및 (c) 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기 및 상기 RF 조직 열치료 디바이스로의 RF 출력을 피드백 제어하여 상기 적어도 하나의 미리 결정된 부위 내에서 상기 온도 프로파일을 유지하는 단계를 포함하는 단계들의 세트; 및
    b. (a) 원위부 및 근위부를 포함하는 질치료 디바이스를 제공하는 단계 - 상기 원위부 및 상기 근위부는 거꾸로 연결가능하고, 상기 근위부는 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기, 상기 RF 조직 열치료 디바이스 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소와 통신하며, 상기 원위부는 적어도 두 개의 전극을 포함함 -; (b) 상기 원위부를 적어도 부분적으로 상기 질 내에 배치하는 단계 (c) 상기 원위부의 적어도 일부를 약 1 분 내지 약 20 분의 범위 내의 시간 기간 동안 상기 질 내에 실질적으로 정지되게 유지하는 단계 (d) 상기 시간 기간의 적어도 일부 동안, 상기 펄스형 전자기 주파수 발생기, 상기 RF 조직 열치료 디바이스 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 활성화시키는 단계 - 상기 활성화시키는 단계는 펄스형 전자기장, 열 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 상기 질 내의 조직에 인가함 -; 및 (e) 상기 시간 기간의 적어도 일부 동안, 상기 질 내의 상기 조직의 온도를 측정하는 단계를 포함하는 단계들의 세트 중 적어도 하나를 포함하는, 재활 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 방법은,
    (a) 상기 원위부에 적어도 두 개의 쌍의 전극을 제공하는 단계 및 (b) 각각의 쌍을 별개로 제어하여, 상기 질의 적어도 일부 내에서 상기 온도 프로파일을 유지하는 단계를 더 포함하는, 재활 방법.
  20. 환자의 적어도 하나의 부위의 재활을 증가시키는 집적 시스템으로서,
    상기 적어도 하나의 부위는 상기 환자의 피부, 상기 환자의 점막 조직 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되고, 상기 집적 시스템은,
    상기 환자의 상기 적어도 하나의 부위에 배치되도록 구성되는 적어도 두 개의 전극;
    전자기장 펄스를 생성하도록 구성되는 전자기장 발생기;
    RF 파워를 생성하도록 구성되는 발생기; 및
    제어 시스템을 포함하며,
    상기 적어도 두 개의 전극 중 어느 것도 상기 적어도 하나의 부위를 관통하도록 구성되지 않고,
    상기 적어도 두 개의 전극 각각은 상기 적어도 하나의 부위에 RF 펄스를 제공하도록 구성되며, 상기 RF 파워는 약 섭씨 30 도 내지 약 섭씨 80 도의 범위 내의 온도 T까지 열을 인가하도록 구성되고
    상기 제어 시스템은, 상기 전자기장 발생기, 상기 전극에 의한 상기 열의 인가 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소를 제어하도록 구성되며,
    동시에, 순차적으로, 별개로 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 방식으로, 상기 전자기 펄스는 상기 적어도 하나의 부위에 인가될 수 있고 상기 열은 상기 적어도 하나의 부위에 인가될 수 있는, 집적 시스템.
  21. 제 20 항에 있어서,
    a. 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 부분이 미리 결정된 온도 범위 T1에서 적어도 일시적으로 유지가능한 반면에 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 하나의 다른 부분은 미리 결정된 온도 범위 T2에서 적어도 일시적으로 유지가능하고, T1 은 T2와 동일하거나 상이함;
    b. 상기 환자의 상기 적어도 하나의 부위는 질 내에 있음;
    c. 상기 시스템은 적어도 하나의 온도 프로파일을 저장하도록 구성되는 데이터베이스를 더 포함하고, 상기 온도 프로파일은 적어도 하나의 온도 및 상기 환자의 적어도 하나의 미리 결정된 부위를 포함함;
    d. 상기 환자의 상기 부위에 인가되는 상기 열은 조직에 의해 흡수되는 RF 방사선을 방출하거나 전류를 생성함을 통하여 획득가능함;
    e. 상기 시스템은 상기 전자기 펄스의 크기가 시간에 따라 변할 수 있도록 동적 자기장을 제공하도록 구성됨;
    f. 물리적 조직 파라미터가 상기 제어 시스템(6)에 의해 모니터링될 수 있고, 상기 인가된 열, 상기 전자기 펄스 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군의 원소는 상응하여 변경될 수 있음;
    g. 상기 시스템에 의해 인가되는 각각의 펄스의 지속기간은 약3 ms 내지 약 1000 ms의 범위를 가짐;
    h. 상기 시스템의 펄스에 의해 인가되는 주파수 F는 약 200 kHz 내지 약 1MHz의 범위를 가짐; 및
    i. 상기 시스템의 펄스에 의해 인가되는 파워 P는 약 1 W 내지 약 100 W RMS 평균 파워의 범위를 가짐;
    중 적어도 하나가 진실로서 유지되는, 집적 시스템.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 시스템은,
    상기 데이터베이스 및 적어도 하나의 온도 센서와 통신하는 프로세서를 더 포함하고,
    상기 적어도 하나의 온도 센서는 상기 환자의 상기 적어도 하나의 부위의 적어도 일부에서 적어도 하나의 온도를 측정하도록 구성되며,
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