KR20190042831A - Confidentiality feedthrough structure of electrostatic chuck and vacuum chamber - Google Patents

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KR20190042831A
KR20190042831A KR1020170134377A KR20170134377A KR20190042831A KR 20190042831 A KR20190042831 A KR 20190042831A KR 1020170134377 A KR1020170134377 A KR 1020170134377A KR 20170134377 A KR20170134377 A KR 20170134377A KR 20190042831 A KR20190042831 A KR 20190042831A
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정태환
이남희
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Abstract

Disclosed is an airtight structure for a feed-through of a vacuum chamber and an electrostatic chuck. The disclosed airtight structure for a feed-through of a vacuum chamber and an electrostatic chuck includes: an electrostatic chuck adsorbing and fixing a subject; a vacuum chamber providing a space to perform a process on the subject; a connector for a chuck, transferring high voltage of a high voltage device to the electrostatic chuck; a high voltage transferring member transferring the high voltage of the high voltage device into the electrostatic chuck; a connector for a chamber, transferring an electronic signal from the inside of the vacuum chamber; a feed-through for a chuck, connecting the high voltage transferring member and the connector for a chuck to each other; a feed-through for a chamber, connecting the vacuum chamber and the connector for a chamber to each other; a sealing member for a chuck, forming airtightness between the electrostatic chuck and the feed-through for a chuck; and a sealing member for a chamber, forming the airtightness between the vacuum chamber and the feed-through for a chamber. According to the present invention, the airtight structure for a feed-through of a vacuum chamber and an electrostatic chuck seals a connected part of the feed-through connected to the vacuum chamber and the electrostatic chuck and maintains the airtightness thereof.

Description

정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조{Confidentiality feedthrough structure of electrostatic chuck and vacuum chamber}[0001] The present invention relates to an electrostatic chuck and a vacuum chamber,

본 발명은 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a feedthrough airtight structure of an electrostatic chuck and a vacuum chamber.

정전척(ESC, Electro Static Chuck)이란 고전압을 인가하여 정전기력으로 디스플레이 패널, 웨이퍼와 같은 대상체를 흡착 고정하는 장치이고, 진공 챔버란 반도체 제조라인에 있어 그 내부에서 대상체에 공정을 실시할 수 있도록 공간을 제공하는 것으로, 특히 그 내부를 진공 상태로 만들 수 있다. 이러한 진공 챔버 내부에 앞에서 설명한 정전척이 배치될 수 있다.An electrostatic chuck (ESC) is a device for adsorbing and fixing objects such as a display panel and a wafer by electrostatic force by applying a high voltage. A vacuum chamber is a space in a semiconductor manufacturing line in which a space In particular, the inside thereof can be made into a vacuum state. The above-described electrostatic chuck can be disposed inside the vacuum chamber.

여기서, 정전척 및 진공 챔버에는 그 외부와의 접속을 위한 전선 연결, 또는 그 외부로의 가스나 액체 전달이나 배출과 같이 외부와 연결되는 부분이 필요하며 이때 사용되는 것이 피드스루(feedthrough)이다.Here, the electrostatic chuck and the vacuum chamber are required to be connected to the outside such as a wire connection for connection with the outside or gas or liquid transfer or discharge to the outside, and feedthrough is used at this time.

자세히, 피드스루란, 모든 형태의 서비스 기반 시설 및 소프트웨어, 신호를 진공 벽을 통해 전달하는 장치에 사용되는 것으로, 그 종류는 크게 전기, 가스, 액체, 광학용으로 나뉘고, 양면 간 접속(interface connection)이라고도 하며, 이러한 피드스루가 적용된 장치의 예로 제시될 수 있는 것이 아래에 제시된 특허문헌의 그 것들이다.More specifically, feedthroughs are used for all types of service infrastructure and software, and devices that transmit signals through vacuum walls. The types are largely divided into electricity, gas, liquid, and optical, and interface connections ), And those of the patent documents listed below that can be presented as an example of a device to which such feedthrough is applied.

여기서 종래의 피드스루를 포함한 아래의 특허문헌을 살펴보면, 피드스루와 장치가 단순히 연결되어 있어, 결합된 부분에 대한 밀폐가 제대로 되지 않는 단점이 있었다. 이로 인해 가스나 액체의 누출의 사고로도 이어지는 문제가 있었다.Here, the following patent documents including the conventional feedthrough have a disadvantage in that the feedthrough and the device are simply connected and the sealed portion is not sealed properly. This leads to an accident of gas or liquid leakage.

또한, 그 결합된 부분을 밀폐시켰다 할지라도 계속 그 기밀이 유지되고 있는지 확인이 불가하다는 단점이 있었다.Further, even if the joined portion is sealed, there is a disadvantage in that it is impossible to confirm whether or not the airtightness is maintained.

공개특허 제 10-2015-0003229호, 공개일자: 2015.01.08., 발명의 명칭: 피드스루 구조를 가진 기판 지지체Published Japanese Patent Application No. 10-2015-0003229, Publication date: 2015.01.08. Title of the invention: substrate support having a feedthrough structure 공개특허 제 10-2003-0018796호, 공개일자: 2003.03.06., 발명의 명칭: 반도체 제조 설비의 가스 피드 스루우Patent Publication No. 10-2003-0018796, Published on Mar. 03, 2003. Title of the Invention: Gas feedthrough of semiconductor manufacturing equipment

본 발명은 정전척 및 진공 챔버와 결합되는 피드스루의 그 결합된 부분이 밀폐되고 그에 대한 기밀이 유지되도록 하는 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.The object of the present invention is to provide an electrostatic chuck and a feedthrough gas tight structure of a vacuum chamber in which the combined portion of the feedthrough which is combined with the electrostatic chuck and the vacuum chamber is sealed and kept airtight.

본 발명의 일 측면에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조는 대상체를 흡착 고정하는 정전척; 그 내부에 상기 정전척이 배치되어 상기 대상체의 공정을 실시할 수 있도록 공간을 제공하는 진공 챔버; 상기 정전척 외부에 배치되되 상기 정전척과 외부의 고전압 장치를 연결하여 상기 정전척으로 상기 고전압 장치의 고전압을 전달하는 척용 커넥터; 상기 정전척 내부에 삽입되어 있고, 상기 척용 커넥터와 연결되어 상기 고전압 장치의 상기 고전압을 상기 정전척 내부로 전달하는 고압 전달 부재; 상기 진공 챔버의 외부에 배치되되 상기 진공 챔버와 연결되어 상기 진공 챔버 내의 전기적 신호를 전달하는 챔버용 커넥터; 상기 정전척에 밀착 고정되고, 상기 고압 전달 부재와 상기 척용 커넥터 사이에 개재되어 상기 고압 전달 부재와 상기 척용 커넥터를 서로 연결시키는 척용 피드스루; 상기 진공 챔버를 관통하고, 상기 진공 챔버와 상기 챔버용 커넥터 사이에 개재되어 상기 진공 챔버와 상기 챔버용 커넥터를 서로 연결시키는 챔버용 피드스루; 상기 정전척에 상기 척용 피드스루가 고정되는 부분의 상기 척용 피드스루 외주면을 둘러쌓아 상기 정전척과 상기 척용 피드스루 사이의 기밀이 형성되도록 하는 척용 실링 부재; 및 상기 진공 챔버에 상기 챔버용 피드스루가 관통된 부분의 상기 챔버용 피드스루 외주면을 둘러쌓아 상기 진공 챔버와 상기 챔버용 피드스루 사이의 기밀이 형성되도록 하는 챔버용 실링 부재;를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to one aspect of the present invention, an airtight seal structure of an electrostatic chuck and a vacuum chamber includes an electrostatic chuck for attracting and fixing a target object; A vacuum chamber in which the electrostatic chuck is disposed to provide a space for performing a process of the object; A chuck connector disposed outside the electrostatic chuck, the chuck connector connecting the electrostatic chuck to an external high voltage device to transfer a high voltage of the high voltage device to the electrostatic chuck; A high pressure transmitting member inserted into the electrostatic chuck and connected to the chuck connector to transmit the high voltage of the high voltage device into the electrostatic chuck; A chamber connector disposed outside the vacuum chamber and connected to the vacuum chamber to transmit an electrical signal in the vacuum chamber; A feedthrough for the chuck which is tightly fixed to the electrostatic chuck and interposed between the high pressure transmitting member and the chucking connector to connect the high pressure transmitting member and the chucking connector to each other; A feedthrough for the chamber passing through the vacuum chamber and interposed between the vacuum chamber and the chamber connector to connect the vacuum chamber and the chamber connector to each other; A chuck sealing member that surrounds the outer circumferential surface of the chuck feed-through portion at a portion where the chuck feed-through is fixed to the electrostatic chuck to form airtightness between the electrostatic chuck and the chuck feed-through; And a chamber sealing member surrounding the outer circumferential surface of the feedthrough for the chamber at a portion through which the feedthrough for the chamber penetrates into the vacuum chamber to form a hermetic seal between the vacuum chamber and the feedthrough for the chamber .

본 발명의 일 측면에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조에 의하면, 대상체를 흡착 고정하는 정전척; 그 내부에 상기 정전척이 배치되어 상기 대상체의 공정을 실시할 수 있도록 공간을 제공하는 진공 챔버; 상기 정전척 외부에 배치되되 상기 정전척과 외부의 고전압 장치를 연결하여 상기 정전척으로 상기 고전압 장치의 고전압을 전달하는 척용 커넥터; 상기 정전척 내부에 삽입되어 있고, 상기 척용 커넥터와 연결되어 상기 고전압 장치의 상기 고전압을 상기 정전척 내부로 전달하는 고압 전달 부재; 상기 진공 챔버의 외부에 배치되되 상기 진공 챔버와 연결되어 상기 진공 챔버 내의 전기적 신호를 전달하는 챔버용 커넥터; 상기 정전척에 밀착 고정되고, 상기 고압 전달 부재와 상기 척용 커넥터 사이에 개재되어 상기 고압 전달 부재와 상기 척용 커넥터를 서로 연결시키는 척용 피드스루; 상기 진공 챔버를 관통하고, 상기 진공 챔버와 상기 챔버용 커넥터 사이에 개재되어 상기 진공 챔버와 상기 챔버용 커넥터를 서로 연결시키는 챔버용 피드스루; 상기 정전척에 상기 척용 피드스루가 고정되는 부분의 상기 척용 피드스루 외주면을 둘러쌓아 상기 정전척과 상기 척용 피드스루 사이의 기밀이 형성되도록 하는 척용 실링 부재; 및 상기 진공 챔버에 상기 챔버용 피드스루가 관통된 부분의 상기 챔버용 피드스루 외주면을 둘러쌓아 상기 진공 챔버와 상기 챔버용 피드스루 사이의 기밀이 형성되도록 하는 챔버용 실링 부재;를 포함함으로써, 정전척 및 진공 챔버와 결합되는 피드스루의 그 결합된 부분이 밀폐되고 그에 대한 기밀이 유지되도록 하는 효과가 있다.According to one aspect of the present invention, there is provided an electrostatic chuck and a vacuum chamber having a feed-through airtight structure, comprising: an electrostatic chuck for attracting and fixing a target object; A vacuum chamber in which the electrostatic chuck is disposed to provide a space for performing a process of the object; A chuck connector disposed outside the electrostatic chuck, the chuck connector connecting the electrostatic chuck to an external high voltage device to transfer a high voltage of the high voltage device to the electrostatic chuck; A high pressure transmitting member inserted into the electrostatic chuck and connected to the chuck connector to transmit the high voltage of the high voltage device into the electrostatic chuck; A chamber connector disposed outside the vacuum chamber and connected to the vacuum chamber to transmit an electrical signal in the vacuum chamber; A feedthrough for the chuck which is tightly fixed to the electrostatic chuck and interposed between the high pressure transmitting member and the chucking connector to connect the high pressure transmitting member and the chucking connector to each other; A feedthrough for the chamber passing through the vacuum chamber and interposed between the vacuum chamber and the chamber connector to connect the vacuum chamber and the chamber connector to each other; A chuck sealing member that surrounds the outer circumferential surface of the chuck feed-through portion at a portion where the chuck feed-through is fixed to the electrostatic chuck to form airtightness between the electrostatic chuck and the chuck feed-through; And a chamber sealing member surrounding the outer circumferential surface of the feedthrough for the chamber at a portion of the vacuum chamber through which the feedthrough for the chamber penetrates to form a hermetic seal between the vacuum chamber and the feedthrough for the chamber, There is an effect that the combined portion of the feed through which the chuck and the vacuum chamber are sealed is sealed and the airtightness thereof is maintained.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조를 개략적으로 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 챔버용 커넥터와 결합된 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 진공 챔버의 일부분을 관통하고 그 사이에 챔버용 실링 부재가 기밀을 형성한 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 고압 전달 부재의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 고압 전달 부재와 척용 커넥터를 척용 피드스루가 연결한 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 척용 피드스루가 정전척에 밀착 고정되고, 척용 피드스루와 정전척 사이에서 척용 실링 부재가 기밀을 형성한 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 챔버용 커넥터와 결합된 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 진공 챔버의 일부분을 관통하고 그 사이에서 챔버용 실링 부재 내의 접착제가 흘러나오면서 기밀을 형성한 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 9는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 도 8의 A에 대한 확대도.
도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 고압 전달 부재와 척용 커넥터를 척용 피드스루가 연결한 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 11은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 챔버용 커넥터와 결합된 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 12는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 균헝 감지 부재의 구조를 개략적으로 나타낸 도면.
도 13은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 균형 마그넷이 기울어진 모습을 보이는 도면.
도 14는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 균형 마그넷이 균형 감지 접촉 센서에 접촉된 모습을 보이는 도면.
도 15는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 고압 전달 부재와 척용 커넥터를 척용 피드스루가 연결한 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 16은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 챔버용 커넥터와 결합된 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 17은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 진공 챔버의 일부분을 관통하고 그 사이에 챔버용 실링 부재가 기밀을 형성한 모습을 정면에서 바라본 단면도.
도 18은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 도 17의 B에 대한 확대도.
도 19는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 척용 피드스루가 정전척에 밀착 고정되고, 척용 피드스루와 정전척 사이에서 척용 실링 부재가 기밀을 형성한 모습을 정면에서 바라본 단면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic illustration of a feedthrough airtight structure of an electrostatic chuck and a vacuum chamber according to a first embodiment of the present invention. Fig.
FIG. 2 is a front view of a chamber through-feed through according to a first embodiment of the present invention; FIG.
FIG. 3 is a sectional view of a chamber according to the first embodiment of the present invention, in which a feedthrough for a chamber penetrates a portion of a vacuum chamber, and a sealing member for a chamber forms an airtight seal therebetween.
4 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a high-pressure transmitting member according to the first embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of a high pressure transmitting member according to a first embodiment of the present invention and a connector for a chuck connected to a feedthrough for a chuck.
6 is a front view of the chuck sealing member formed between the feed thru for the chuck and the electrostatic chuck so that the chuck sealing member is tightly fixed to the electrostatic chuck according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a front view of a chamber through-feed through according to a second embodiment of the present invention; FIG.
FIG. 8 is a sectional view of a chamber according to a second embodiment of the present invention, in which a feedthrough for a chamber penetrates a portion of a vacuum chamber, and an adhesive in the chamber sealing member flows therebetween to form an airtight seal.
Fig. 9 is an enlarged view of A of Fig. 8 according to a second embodiment of the present invention; Fig.
10 is a sectional view of a high pressure transmitting member according to a second embodiment of the present invention and a connector for a chuck connected to a feedthrough for a chuck in a front view.
11 is a cross-sectional view of a chamber-to-chamber connector in accordance with a third embodiment of the present invention as viewed from the front.
12 is a view schematically showing a structure of a balance detecting member according to a third embodiment of the present invention.
13 is a view showing a state in which the balance magnet according to the third embodiment of the present invention is inclined.
FIG. 14 is a view showing a balance magnet according to a third embodiment of the present invention in contact with a balance sensing contact sensor; FIG.
15 is a sectional view of the high pressure transmitting member and the connector for the chuck according to the third embodiment of the present invention as viewed from the front when the feedthrough for the chuck is connected.
FIG. 16 is a front view of a chamber through-feed through according to a fourth embodiment of the present invention combined with a connector for a chamber; FIG.
FIG. 17 is a front view of a chamber in which a feedthrough for a chamber according to a fourth embodiment of the present invention passes through a portion of the vacuum chamber and between which a sealing member for the chamber forms an airtight seal. FIG.
Figure 18 is an enlarged view of Figure 17B according to a fourth embodiment of the present invention;
Fig. 19 is a front view of the chuck sealing member formed between the feed thru for the chuck and the electrostatic chuck so that the chuck sealing member is tightly fixed to the electrostatic chuck according to the fourth embodiment of the present invention. Fig.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조에 대하여 설명한다.Hereinafter, the feed-through airtight structure of the electrostatic chuck and the vacuum chamber according to the embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 챔버용 커넥터와 결합된 모습을 정면에서 바라본 단면도이고, 도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 진공 챔버의 일부분을 관통하고 그 사이에 챔버용 실링 부재가 기밀을 형성한 모습을 정면에서 바라본 단면도이고, 도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 고압 전달 부재의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도이고, 도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 고압 전달 부재와 척용 커넥터를 척용 피드스루가 연결한 모습을 정면에서 바라본 단면도이고, 도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 척용 피드스루가 정전척에 밀착 고정되고, 척용 피드스루와 정전척 사이에서 척용 실링 부재가 기밀을 형성한 모습을 정면에서 바라본 단면도이다.FIG. 1 is a schematic view showing a feed-through hermetic structure of an electrostatic chuck and a vacuum chamber according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of a chamber connector according to a first embodiment of the present invention, FIG. 3 is a cross-sectional view of a combined view of the chamber according to the first embodiment of the present invention, in which the feedthrough for the chamber passes through a portion of the vacuum chamber, 5 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a high-pressure transmitting member according to a first embodiment of the present invention and a connector for a chuck according to a first embodiment of the present invention, Fig. 6 is a sectional view of the chuck feed through according to the first embodiment of the present invention closely attached to the electrostatic chuck, and between the feed thru for chuck and the electrostatic chuck, A cross-sectional view of the ring member as seen from the front, a state that forming an airtight.

도 1 내지 도 6을 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조(100)는 정전척(120)과, 진공 챔버(110)와, 고압 전달 부재(140)와, 척용 커넥터(130)와, 챔버용 커넥터(150)와, 척용 피드스루(170)와, 챔버용 피드스루(180)와, 척용 실링 부재(175)와, 챔버용 실링 부재(185)를 포함한다.1 through 6, the feed-through airtight structure 100 of the electrostatic chuck and the vacuum chamber according to the present embodiment includes an electrostatic chuck 120, a vacuum chamber 110, a high-pressure transmitting member 140, A chuck connector 130, a chamber connector 150, a chuck feedthrough 170, a chamber feedthrough 180, a chuck sealing member 175, and a chamber sealing member 185 do.

상기 정전척(120)은 고전압이 인가되어 대상체(10)를 흡착 고정시키는 것이다. 여기서 상기 대상체(10)는 상기 정전척(120)에 얹혀져 공정이 진행되는 것으로, 예를 들어 디스플레이 패널, 웨이퍼로 제공될 수 있다.The electrostatic chuck 120 is adapted to attract and fix the object 10 by applying a high voltage. Here, the object 10 is placed on the electrostatic chuck 120 and processed, and may be provided, for example, as a display panel or a wafer.

상기 진공 챔버(110)는 그 내부에 상기 정전척(120)이 배치되어 상기 대상체(10)의 공정을 실시할 수 있도록 공간을 제공하는 것으로, 후술 설명될 상기 챔버용 피드스루(180)가 관통될 수 있는 관통부(112)가 형성되어 있다.The electrostatic chuck 120 is disposed inside the vacuum chamber 110 to provide a space for performing the process of the object 10. The chamber feedthrough 180 to be described later is inserted A through-hole 112 is formed.

상기 척용 커넥터(130)는 상기 정전척(120) 외부에 배치되되 상기 정전척(120)과 외부의 미리 마련된 고전압 장치를 연결하여 상기 정전척(120)으로 상기 고전압 장치의 고전압을 전달하는 것으로, 척용 결합체(133)와, 척용 결합구(132)와, 척용 로드(131)를 포함하고, 후술 설명될 상기 척용 피드스루(170)와 연결된다.The chuck connector 130 is disposed outside the electrostatic chuck 120 and transmits a high voltage of the high voltage device to the electrostatic chuck 120 by connecting the electrostatic chuck 120 to a previously provided high voltage device, A chuck coupling 133 and a chuck coupling 132 and a chuck rod 131 and is connected to the chuck feedthrough 170 to be described later.

상기 고전압 장치와 상기 척용 커넥터(130)는 동축 케이블로 연결될 수 있다.The high voltage device and the connector 130 for the chuck may be connected by a coaxial cable.

상기 척용 결합체(133)는 내부가 빈 것으로 후술 설명될 상기 척용 로드(131)가 그 내부에 삽입되어 있으며, 상기 척용 결합구(132)에 의해 상기 척용 피드스루(170)와 연결된다.The chucking body 133 has a hollow interior and is inserted into the chucking rod 131 to be described later and is connected to the chucking feedthrough 170 by the chucking coupling 132.

상기 척용 결합구(132)는 상기 척용 결합체(133)가 상기 척용 피드스루(170)와 연결되도록 상기 척용 결합체(133)를 상기 척용 피드스루(170)에 밀착시킬 때, 상기 척용 결합체(133)와 상기 척용 피드스루(170)를 관통하여 상기 척용 결합체(133)를 상기 척용 피드스루(170)에 고정시키는 것으로, 예를 들어 고정 나사가 될 수 있다.The chucking coupling member 132 is connected to the chucking coupling member 133 when the chucking coupling member 133 is brought into close contact with the chucking feedthrough 170 so that the chucking coupling member 133 is connected to the chucking feed- And the chucking body 133 is fixed to the chuck feedthrough 170 by passing through the chuck feedthrough 170, for example, as a fixing screw.

상기 척용 로드(131)는 그 일부가 상기 척용 피드스루(170) 내부를 관통하도록 상기 척용 결합체(133) 내부에 삽입되고 상기 고압 전달 부재(140)로 전기적 신호를 전달하는 것이다. 상기 척용 로드(131)가 상기 고압 전달 케이블(141)와 연결되어 전기적 신호를 전달할 수 있다. The chucking rod 131 is inserted into the chucking coupling 133 so that a part of the chucking rod 131 passes through the inside of the chucking feedthrough 170 and transmits an electrical signal to the high-pressure transmitting member 140. The chuck rod 131 may be connected to the high-pressure transfer cable 141 to transmit an electrical signal.

상기 고압 전달 부재(140)는 상기 정전척(120) 내부에 삽입되어 있고, 후술 설명될 상기 척용 피드스루(170)에 결착되어 상기 척용 커넥터(130)와 연결되고, 상기 고전압 장치의 상기 고전압을 상기 정전척(120) 내부로 전달하는 것으로, 고압 전달 케이블(141)과, 케이블용 하우징(142)과, 고전압 커넥터(143)와, 결착 하우징(144)과, 하우징용 실링 부재(145)를 포함한다.The high pressure transmitting member 140 is inserted into the electrostatic chuck 120 and is connected to the chuck connector 130 by being coupled to the chuck feed through 170 to be described later, The high voltage transmission cable 141, the cable housing 142, the high voltage connector 143, the coupling housing 144, and the housing sealing member 145 are connected to the electrostatic chuck 120, .

상기 척용 피드스루(170)는 상기 정전척(120)에 밀착 고정되고, 상기 고압 전달 부재(140)와 상기 척용 커넥터(130) 사이에 개재되어 상기 고압 전달 부재(140)와 상기 척용 커넥터(130)를 서로 연결시키는 것으로, 상기 고전압 장치에서 상기 척용 커넥터(130)로 전달된 고전압을 상기 고압 전달 부재(140)로 전달한다. The chuck feed through 170 is tightly fixed to the electrostatic chuck 120 and is interposed between the high pressure transmitting member 140 and the chuck connector 130 so that the high pressure transmitting member 140 and the chuck connector 130 To the high-voltage transmitting member 140. The high-voltage transmitting member 140 is connected to the high-voltage device.

상기 고압 전달 케이블(141)은 일정 길이 길게 형성되어 상기 정전척(120) 내부에 삽입된 것으로, 상기 정전척(120)에 인가되는 고전압이 유지될 수 있도록 상기 고전압 커넥터(143)의 고전압을 상기 정전척(120)으로 전달한다.The high voltage transfer cable 141 is formed to have a predetermined length and is inserted into the electrostatic chuck 120. The high voltage transmission cable 141 is connected to the electrostatic chuck 120 by a high voltage connector 143, And transfers it to the electrostatic chuck 120.

상기 케이블용 하우징(142)은 상기 정전척(120) 내부에 삽입되고 남은 상기 고압 전달 케이블(141)의 외주면을 보호하는 것으로, 그 내부에는 상기 고압 전달 케이블(141)의 말단부가 삽입되어 있다. 이러한 상기 케이블용 하우징(142)은 상기 고전압 커넥터(143)와 연결되도록 후술 설명될 상기 결착 하우징(144) 내부에 삽입되거나 일체 형성된다.The cable housing 142 protects the outer circumferential surface of the remaining high-voltage transfer cable 141 inserted into the electrostatic chuck 120, and the distal end of the high-voltage transfer cable 141 is inserted into the housing 142. The cable housing 142 is inserted into or integrally formed with the coupling housing 144 to be described later to be connected to the high voltage connector 143.

상기 고전압 커넥터(143)는 상기 케이블용 하우징(142) 내의 상기 고압 전달 케이블(141)과 연결되어 상기 고압 전달 케이블(141)로 상기 고전압을 전달하는 것으로, 일측은 상기 고압 전달 케이블(141)에 연결되고 타측은 상기 고전압 장치와 연결되도록 상기 척용 피드스루(170)와 연결된다.The high voltage connector 143 is connected to the high voltage transmission cable 141 in the cable housing 142 and transmits the high voltage to the high voltage transmission cable 141. One end of the high voltage connector 143 is connected to the high voltage transmission cable 141 And the other end is connected to the chuck feedthrough 170 to be connected to the high voltage device.

상기 결착 하우징(144)은 상기 고전압 커넥터(143)의 외주면을 보호하고 상기 척용 피드스루(170)와 결착되는 것으로, 상기 척용 피드스루(170) 내부로 삽입되어 고정되며, 상기 척용 피드스루(170) 내부로 삽입되는 외주면에는 후술 설명될 상기 하우징용 실링 부재(145)가 끼워지는 실링 홈(46)이 형성되어 있다.The binding housing 144 is inserted and secured into the chuck feedthrough 170 to protect the outer circumferential surface of the high voltage connector 143 and to engage the chuck feedthrough 170, A sealing groove 46 is formed on the outer circumferential surface to be inserted into the housing sealing member 145 to be described later.

상기 하우징용 실링 부재(145)는 상기 실링 홈(46)에 끼워지고, 상기 척용 피드스루(170)와 상기 결착 하우징(144)의 결착되는 부분에서 상기 척용 피드스루(170)와 상기 결착 하우징(144) 사이의 기밀을 형성하는 것이다.The sealing member 145 for housing is fitted in the sealing groove 46 and connected to the chuck feed-through 170 and the coupling housing 144 at a portion where the chuck feed- 144).

이러한 상기 하우징용 실링 부재(145)는 예를 들어 고무 재질의 탄성을 지닌 오링(O-ring)으로 형성될 수 있다.The housing sealing member 145 may be formed of, for example, an O-ring having elasticity of rubber.

종래에는 상기 정전척(120)에 인가되는 고전압이 진공인 상태에서 인가되어야 했는데 상기 척용 피드스루(170)와 상기 결착 하우징(144) 사이의 밀폐가 제대로 이루어지지 않아 고압 방전이 발생되는 문제가 있었다. 그러나 상기와 같이 상기 하우징용 실링 부재(145)가 상기 척용 피드스루(170)와 상기 결착 하우징(144) 사이에 형성되면, 상기 정전척(120)의 고압 방전을 방지할 수 있어 상기 정전척(120)에 인가되는 고전압이 잘 유지될 수 있다는 장점이 있다.Conventionally, a high voltage applied to the electrostatic chuck 120 has to be applied in a vacuum state, but there is a problem in that a high-pressure discharge is generated due to insufficient sealing between the chuck feed-through 170 and the binding housing 144 . However, when the housing sealing member 145 is formed between the chuck feed through 170 and the binding housing 144 as described above, it is possible to prevent the high voltage discharge of the electrostatic chuck 120, 120 can be maintained well.

상기 척용 실링 부재(175)는 상기 정전척(120)에 상기 척용 피드스루(170)가 고정되는 부분의 상기 척용 피드스루(170) 외주면을 둘러쌓아 상기 정전척(120)과 상기 척용 피드스루(170) 사이의 기밀이 형성되도록 하는 것으로, 예를 들어 고무 재질의 탄성을 지닌 오링으로 형성될 수 있고, 상기 정전척(120)과 상기 척용 피드스루(170) 사이를 밀봉시키는 작용을 한다.The chuck sealing member 175 surrounds the outer circumferential surface of the chuck feedthrough 170 at a portion where the chuck feedthrough 170 is fixed to the electrostatic chuck 120 so that the electrostatic chuck 120 and the chuck feedthrough 170, for example, by an O-ring having elasticity of a rubber material, and acts to seal between the electrostatic chuck 120 and the chuck feed-through 170.

종래에는 상기 정전척(120)에 인가되는 고전압이 진공인 상태에서 인가되어야 했는데 상기 척용 피드스루(170)와 상기 정전척(120) 사이의 밀폐가 제대로 이루어지지 않아 고압 방전이 발생되는 문제가 있었다. 그러나 상기와 같이 상기 척용 실링 부재(175)가 상기 척용 피드스루(170)와 상기 정전척(120) 사이에 형성되면, 상기 정전척(120)의 고압 방전을 방지할 수 있어 상기 정전척(120)에 인가되는 고전압이 잘 유지될 수 있다는 장점이 있다.Conventionally, a high voltage applied to the electrostatic chuck 120 has to be applied in a vacuum state. However, there is a problem in that high-pressure discharge is generated due to insufficient sealing between the chuck feedthrough 170 and the electrostatic chuck 120 . However, when the chuck sealing member 175 is formed between the chuck feed through 170 and the electrostatic chuck 120 as described above, it is possible to prevent the high voltage discharge of the electrostatic chuck 120, ) Can be maintained well.

상기 챔버용 커넥터(150)는 상기 진공 챔버(110)의 외부에 배치되되 상기 진공 챔버(110)와 연결되어 상기 진공 챔버(110) 내의 전기적 신호를 전달하는 것으로, 챔버용 결합체(154)와, 챔버용 결합구(153)와, 챔버용 로드(151)와, 로드용 실링 부재(152)를 포함한다.The chamber connector 150 is disposed outside the vacuum chamber 110 and communicates with the vacuum chamber 110 to transmit an electrical signal in the vacuum chamber 110. The chamber connector 150 includes a chamber coupling body 154, A chamber coupling member 153, a chamber rod 151, and a sealing member 152 for a rod.

상기 챔버용 피드스루(180)는 상기 진공 챔버(110)의 상기 관통부(112)를 관통하고, 상기 진공 챔버(110)와 상기 챔버용 커넥터(150) 사이에 개재되어 상기 진공 챔버(110)와 상기 챔버용 커넥터(150)를 서로 연결시키는 것으로, 헤드부(182)와 결합부(183)로 형성된다.The chamber feedthrough 180 penetrates the penetration portion 112 of the vacuum chamber 110 and is interposed between the vacuum chamber 110 and the chamber connector 150 so that the vacuum chamber 110, And the chamber connector 150, and is formed of a head part 182 and a coupling part 183.

상기 헤드부(182)는 상기 관통부(112)를 관통하여 상기 진공 챔버(110) 내측에 배치되는 것이고, 상기 결합부(183)는 상기 진공 챔버(110)에 걸려 상기 관통부(112)를 관통하지 못하고 상기 진공 챔버(110) 외측에 배치되어 상기 챔버용 커넥터(150)와 결합되는 것이다.The head part 182 is disposed inside the vacuum chamber 110 through the penetration part 112 and the coupling part 183 is hooked to the vacuum chamber 110 to penetrate the penetration part 112 And is disposed outside the vacuum chamber 110 and coupled to the chamber connector 150 without passing through the chamber.

상기 챔버용 결합체(154)는 내부가 빈 것으로, 후술 설명될 상기 챔버용 로드(151)가 그 내부에 삽입되어 있으며, 상기 챔버용 결합구(153)에 의해 상기 챔버용 피드스루(180)와 연결된다. The chamber coupling member 154 is hollow and has a rod 151 for the chamber to be described later inserted therein. The chamber coupling member 153 is provided with the chamber feedthrough 180 .

상기 챔버용 결합구(153)는 상기 챔버용 결합체(154)가 상기 챔버용 피드스루(180)와 연결되도록 상기 챔버용 결합체(154)를 상기 챔버용 피드스루(180)에 밀착시킬 때, 상기 챔버용 결합체(154)와 상기 챔버용 피드스루(180)의 밀착된 부분에서 상기 챔버용 결합체(154)를 관통하고 이어서 상기 챔버용 피드스루(180)를 관통하여 상기 챔버용 결합체(154)를 상기 챔버용 피드스루(180)에 고정시키는 것으로, 예를 들어, 고정 나사가 될 수 있다. When the chamber coupling member 154 is brought into close contact with the chamber feedthrough 180 so that the chamber coupling member 154 is connected to the chamber feedthrough 180, Through the chamber coupling body 154 at the close contact of the chamber coupling body 154 and the chamber feedthrough 180 and then through the chamber feed through 180 to connect the chamber coupling body 154 And is fixed to the feedthrough for chamber 180, for example, can be a fixing screw.

상기 챔버용 로드(151)는 그 일부가 상기 챔버용 피드스루(180) 내부를 관통하도록 상기 챔버용 결합체(154) 내부에 삽입되어 있고, 상기 진공 챔버(110) 내부로 전기적 신호를 전달하는 것으로 일정길이 길게 형성되어 상기 헤드부(182)의 내부 공간에 배치된다. 그러면, 상기 진공 챔버(110) 내에서 그 외부로 전기적 신호를 전달하기 위해 형성되는 신호 전달 케이블이 상기 헤드부(182)에 결합되어 상기 챔버용 로드(151)에 연결될 수 있다. 여기서, 상기 신호 전달 케이블은 동축 케이블로 형성될 수 있다.The chamber rod 151 is partially inserted into the chamber coupling member 154 so as to pass through the inside of the chamber feed through 180 and transmits an electrical signal to the inside of the vacuum chamber 110 And is disposed in the inner space of the head portion 182. [ A signal transmission cable for transmitting an electrical signal to the outside of the vacuum chamber 110 may be coupled to the head rod 182 and connected to the rod 151 for the chamber. Here, the signal transmission cable may be formed of a coaxial cable.

상기 로드용 실링 부재(152)는 상기 챔버용 로드(151)와 상기 챔버용 피드스루(180) 사이의 기밀을 형성하는 것으로, 예를 들어 고무 재질의 탄성을 지닌 오링으로 형성될 수 있고, 상기 챔버용 로드(151)와 상기 챔버용 피드스루(180) 사이를 밀봉시키는 작용을 한다.The rod sealing member 152 forms an airtight seal between the chamber rod 151 and the chamber feed-through member 180, and may be formed of, for example, an O-ring having elasticity of rubber, And serves to seal between the chamber rod 151 and the chamber feedthrough 180. [

상기 챔버용 실링 부재(185)는 상기 진공 챔버(110)에 상기 챔버용 피드스루(180)가 관통된 부분의 상기 챔버용 피드스루(180) 외주면을 둘러쌓아 상기 진공 챔버(110)와 상기 챔버용 피드스루(180) 사이의 기밀이 형성되도록 하는 것으로, 예를 들어 고무 재질의 탄성을 지닌 오링으로 형성될 수 있고, 상기 진공 챔버(110)와 상기 챔버용 피드스루(180) 사이를 밀봉시키는 작용을 한다.The chamber sealing member 185 surrounds the outer circumferential surface of the chamber feed-through 180 at a portion of the vacuum chamber 110 through which the chamber feed-through hole 180 passes. The chamber sealing member 185 surrounds the vacuum chamber 110, For example, a rubber-like elastic O-ring, and is configured to seal between the vacuum chamber 110 and the feed-through for the chamber 180 .

종래에는 상기 진공 챔버(110)와 상기 챔버용 피드스루(180)의 밀봉이 제대로 이루어지지 않아 상기 정전척(120)의 고전압 아크 방전이 쉽게 발생하는 문제가 있었다. 그러나 상기와 같이 상기 챔버용 실링 부재(185)가 상기 챔버용 피드스루(180)와 상기 진공 챔버(110) 사이에 형성되면, 상기 진공 챔버(110)와 상기 챔버용 피드스루(180) 사이를 밀봉하여 상기 고전압 아크 방전을 방지할 수 있다는 장점이 있다.Conventionally, the vacuum chamber 110 and the chamber feedthrough 180 are not properly sealed, and thus the high voltage arc discharge of the electrostatic chuck 120 is easily generated. However, when the chamber sealing member 185 is formed between the vacuum chamber 110 and the chamber-side feed-through member 180, the gap between the vacuum chamber 110 and the chamber-side feed- And the high voltage arc discharge can be prevented by sealing.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조에 대하여 설명한다. 이러한 설명을 수행함에 있어서 상기된 본 발명의 일 실시예에서 이미 기재된 내용과 중복되는 설명은 그에 갈음하고 여기서는 생략하기로 한다.Hereinafter, the feed-through airtight structure of the electrostatic chuck and the vacuum chamber according to another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In carrying out the above description, the description overlapping with the content already described in the embodiment of the present invention described above will be omitted and it will be omitted here.

도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 챔버용 커넥터와 결합된 모습을 정면에서 바라본 단면도이고, 도 8은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 진공 챔버의 일부분을 관통하고 그 사이에서 챔버용 실링 부재 내의 접착제가 흘러나오면서 기밀을 형성한 모습을 정면에서 바라본 단면도이고, 도 9는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 도 8의 A에 대한 확대도이고, 도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 고압 전달 부재와 척용 커넥터를 척용 피드스루가 연결한 모습을 정면에서 바라본 단면도이다.FIG. 7 is a cross-sectional view of a chamber in which a feedthrough for a chamber according to a second embodiment of the present invention is combined with a connector for a chamber. FIG. 8 is a cross- And FIG. 9 is an enlarged view of FIG. 8 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line A-A of FIG. 10 is a cross-sectional view of a high pressure transmitting member according to a second embodiment of the present invention and a connector for a chuck connected to a feedthrough for a chuck.

도 7 내지 도 10을 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조는 정전척과, 진공 챔버(210)와, 고압 전달 부재(240)와, 척용 커넥터(230)와, 챔버용 커넥터(250)와, 척용 피드스루(270)와, 챔버용 피드스루(280)와, 척용 실링 부재(275)와, 챔버용 실링 부재(285)를 포함한다.Referring to FIGS. 7 to 10, the feed-through airtight structure of the electrostatic chuck and the vacuum chamber according to the present embodiment includes an electrostatic chuck, a vacuum chamber 210, a high-pressure transmitting member 240, a chuck connector 230, A chamber connector 250, a chuck feedthrough 270, a chamber feedthrough 280, a chucking sealing member 275, and a chamber sealing member 285.

상기 척용 실링 부재(275)는 상기 정전척에 상기 척용 피드스루(270)가 고정되는 부분의 상기 척용 피드스루(270) 외주면을 둘러쌓아 상기 정전척과 상기 척용 피드스루(270) 사이의 기밀이 형성되도록 하는 것으로, 예를 들어 고무 재질의 탄성을 지닌 오링으로 형성될 수 있고, 상기 정전척과 상기 척용 피드스루(270) 사이를 밀봉시키는 작용을 한다.The chuck sealing member 275 surrounds the outer circumferential surface of the chuck feed through 270 at a portion where the chuck feed through 270 is fixed to the electrostatic chuck so that airtightness is formed between the electrostatic chuck and the chuck feed through 270 For example, an O-ring having elasticity of a rubber material, and functions to seal between the electrostatic chuck and the chuck feed-through 270.

이러한 상기 척용 실링 부재(275)에는 상기 척용 실링 부재(275)가 압착되면 터질 수 있는 척용 접착막(277)이 형성되어 있고, 상기 척용 접착막(277) 내측에는 척용 접착제(276)가 저장되어 있다.The chuck sealing member 275 is formed with a chucking adhesive film 277 that can be ruptured when the chucking sealing member 275 is pressed and the chucking adhesive 276 is stored inside the chucking adhesive film 277 have.

상기와 같이 형성된 상태에서 상기 척용 실링 부재(275)가 일정압력 이상을 받아 압착되면, 상기 척용 접착막(277)이 파손되어 그 내부에 저장된 척용 접착제(276)가 흘러나온다. 자세히, 상기 척용 실링 부재(275)가 상기 정전척과 상기 척용 피드스루(270) 사이에서 압착되면 상기 척용 접착막(277)이 파손되어 상기 척용 접착제(276)가 외부로 흘러나오고 상기 척용 접착제(276)가 상기 정전척과 상기 척용 피드스루(270) 사이의 틈에 채워진 채 굳게 된다. 그러면 상기 척용 접착제(276)에 의해 상기 정전척과 상기 척용 피드스루(270) 사이가 밀폐되어 기밀이 형성되며, 상기 정전척과 상기 척용 피드스루(270)의 임의 분리되는 현상을 방지시킬 수 있다.When the chuck sealing member 275 receives a certain pressure or more, the chuck adhesive film 277 is broken and the chuck adhesive 276 stored therein flows out. When the chuck sealing member 275 is pressed between the electrostatic chuck and the chuck feed through 270, the chuck adhesive 277 breaks and the chuck adhesive 276 flows out to the outside, and the chuck adhesive 276 ) Is filled in the gap between the electrostatic chuck and the chuck feed through (270) and hardened. The electrostatic chuck and the chuck feed through 270 are hermetically sealed by the chuck adhesive 276 to prevent any separation between the electrostatic chuck and the chuck feed through 270.

상기 챔버용 실링 부재(285)는 상기 진공 챔버(210)에 상기 챔버용 피드스루(280)가 관통된 부분의 상기 챔버용 피드스루(280) 외주면을 둘러쌓아 상기 진공 챔버(210)와 상기 챔버용 피드스루(280) 사이의 기밀이 형성되도록 하는 것으로, 예를 들어 고무 재질의 탄성을 지닌 오링으로 형성될 수 있고, 상기 진공 챔버(210)와 상기 챔버용 피드스루(280) 사이를 밀봉시키는 작용을 한다.The chamber sealing member 285 surrounds the outer circumferential surface of the chamber feedthrough 280 at a portion of the vacuum chamber 210 through which the chamber feedthrough 280 penetrates to separate the vacuum chamber 210, For example, a rubber-like elastic O-ring, and is configured to seal between the vacuum chamber 210 and the chamber feed-through 280, .

이러한 상기 챔버용 실링 부재(285)에는 상기 챔버용 실링 부재(285)가 압착되면 터질 수 있는 챔버용 접착막(287)이 형성되어 있고, 상기 챔버용 접착막(287) 내측에는 챔버용 접착제(286)가 저장되어 있다.The chamber sealing member 285 is formed with an adhesive film 287 for the chamber which can be detached when the chamber sealing member 285 is pressed and the chamber adhesive film 287 is provided with a chamber adhesive 286 are stored.

상기와 같이 형성된 상태에서 상기 챔버용 실링 부재(285)가 일정압력 이상을 받아 압착되면, 상기 챔버용 접착막(287)이 파손되어 그 내부에 저장된 챔버용 접착제(286)가 흘러나온다. 자세히, 상기 챔버용 실링 부재(285)가 상기 진공 챔버(210)와 상기 챔버용 피드스루(280) 사이에서 압착되면 상기 챔버용 접착막(287)이 파손되어 상기 챔버용 접착제(286)가 외부로 흘러나오고 상기 챔버용 접착제(286)가 상기 진공 챔버(210)와 상기 챔버용 피드스루(280) 사이의 틈에 채워진 채 굳게 된다. 그러면 상기 챔버용 접착제(286)에 의해 상기 진공 챔버(210)와 상기 챔버용 피드스루(280) 사이가 밀폐되어 기밀이 형성되며, 상기 진공 챔버(210)와 상기 챔버용 피드스루(280)의 임의 분리되는 현상을 방지시킬 수 있다.When the chamber sealing member 285 receives a pressure higher than a certain pressure, the bonding film 287 for the chamber is broken and the adhesive 286 for chambers stored therein flows out. When the chamber sealing member 285 is pressed between the vacuum chamber 210 and the chamber feed through 280, the chamber adhesive film 287 is broken and the chamber adhesive 286 is adhered to the outside And the adhesive 286 for the chamber is filled in the gap between the vacuum chamber 210 and the chamber feed-through 280 and hardened. The gap between the vacuum chamber 210 and the chamber feed-through 280 is sealed by the adhesive 286 for chambers to form a hermetic seal between the vacuum chamber 210 and the chamber feed- It is possible to prevent the phenomenon of random separation.

도 11은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 챔버용 커넥터와 결합된 모습을 정면에서 바라본 단면도이고, 도 12는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 균헝 감지 부재의 구조를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 13은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 균형 마그넷이 기울어진 모습을 보이는 도면이고, 도 14는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 균형 마그넷이 균형 감지 접촉 센서에 접촉된 모습을 보이는 도면이고, 도 15는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 고압 전달 부재와 척용 커넥터를 척용 피드스루가 연결한 모습을 정면에서 바라본 단면도이다.FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a state in which a feedthrough for a chamber according to a third embodiment of the present invention is combined with a connector for a chamber, FIG. 12 is a schematic view showing a structure of a balance detection member according to a third embodiment of the present invention, FIG. 13 is a view showing a state in which the balance magnet according to the third embodiment of the present invention is inclined, and FIG. 14 is a view in which the balance magnet according to the third embodiment of the present invention is in contact with the balance sensing contact sensor And FIG. 15 is a cross-sectional view of a high pressure transmitting member according to a third embodiment of the present invention and a feed through for a chuck connector connected to each other.

도 11 내지 도 15를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조는 정전척과, 진공 챔버와, 고압 전달 부재(340)와, 척용 커넥터(330)와, 챔버용 커넥터(350)와, 척용 피드스루(370)와, 챔버용 피드스루(380)와, 척용 실링 부재(375)와, 챔버용 실링 부재(375)와, 균형 감지 부재(360)를 포함한다.11 through 15, the feed-through airtight structure of the electrostatic chuck and the vacuum chamber according to the present embodiment includes an electrostatic chuck, a vacuum chamber, a high-pressure transmitting member 340, a chuck connector 330, A connector 350, a feedthrough 370 for the chuck, a feedthrough 380 for the chamber, a sealing member 375 for the chuck, a sealing member 375 for the chamber, and a balance sensing member 360.

상기 균형 감지 부재(360)는 상기 척용 피드스루(370) 또는 상기 챔버용 피드스루(380) 둘중 하나 이상에 개재되어 개재된 상기 척용 피드스루(370) 또는 상기 챔버용 피드스루(380)의 수직도를 감지하는 것으로, 케이스(361)와, 회동 연결 링(362)과, 회동체(363)와, 회동 마그넷(364)과, 균형 감지 홀 센서(366)와, 균형 감지 접촉 센서(365)를 포함한다.The balance sensing member 360 may be positioned between the chuck feedthrough 370 or the chamber feedthrough 380 interposed between at least one of the chuck feedthrough 370 or the chamber feedthrough 380, A rotary magnet 364, a balance sensing hole sensor 366, a balance sensing contact sensor 365, and a balance sensing sensor 365. The case 361, the rotation connecting ring 362, the rotary body 363, .

상기 케이스(361)는 내부가 빈 원형 실린더 형태로 형성된 것이고, 상기 회동 연결 링(362)은 상기 케이스(361) 내부의 상단에서 반구형으로 돌출된 것이고, 상기 회동체(363)는 상기 회동 연결 링(362)에 회동 가능하게 걸려 중력 방향으로 향하도록 회동될 수 있고 상기 회동 연결 링(362)과 멀어지는 말단부 쪽으로 갈수록 상대적으로 점차 커지도록 형성되는 것이고, 상기 회동 마그넷(364)은 상기 회동체(363)의 말단부에 배치되는 것이고, 상기 균형 감지 홀 센서(366)는 상기 케이스(361) 내부의 저면에 배치되어 상기 회동체(363)에 매달려 회동되는 상기 회동 마그넷(364)의 자력 변화를 감지하는 것이고, 상기 균형 감지 접촉 센서(365)는 상기 케이스(361) 내부의 하측면에 배치되어 상기 회동체(363)에 매달려 회동되는 상기 회동 마그넷(364)의 접촉을 감지할 수 있는 것으로 예를 들어 압력 감지 센서 등으로 형성된다.The rotation coupling ring 362 protrudes in a hemispherical shape from the upper end of the inside of the case 361, and the rotary body 363 is protruded in a semispherical shape from the upper end inside the case 361, And the rotation magnet 364 is formed so as to be relatively rotatable in the direction of the gravity direction and to be gradually increased toward the distal end portion remote from the rotation connection ring 362. The rotation magnet 364 is rotatably supported by the rotary body 363 The balance sensing hall sensor 366 is disposed at the bottom of the case 361 and senses a magnetic force change of the rotation magnet 364 that is suspended from the rotary body 363 And the balance sensing contact sensor 365 is disposed on the lower side of the inside of the case 361 and is capable of sensing the contact of the rotation magnet 364 which is pivotally suspended from the rotary body 363 The example is formed of a pressure sensitive sensor or the like.

상기 회동 마그넷(364)은 상기 균형 감지 홀 센서(366)에 감지될 수 있도록 자성을 띄는 자성체로 형성된다.The rotation magnet 364 is formed of a magnetic material magnetized so as to be sensed by the balance sensing hall sensor 366.

상기 회동체(363)와 상기 회동 마그넷(364)은 자중에 의해 상기 회동 연결 링(362)에 연결된 상태로 항상 중력 방향을 향하게 된다.The rotary member 363 and the rotary magnet 364 are always connected to the rotary connection ring 362 by their own weight and are always oriented in the direction of gravity.

감지 효과를 증진하기 위하여 상기 균형 감지 홀 센서(366)는 상기 케이스(361) 내부의 저면 상의 중앙과 그 양측으로 일정 간격 이격되도록 세 개 이상으로 설치된다.In order to enhance the sensing effect, the balance sensing hall sensor 366 is installed at three or more intervals so as to be spaced apart from the center on the bottom surface inside the case 361 and both sides thereof.

상기 균형 감지 부재(360)가 형성된 상기 척용 피드스루(370) 또는 상기 챔버용 피드스루(380)가 흔들리지 않고 정상적인 자세를 유지하는 동안, 도 12에 도시된 바와 같이, 상기 회동 마그넷(364)은 복수 개의 상기 균형 감지 홀 센서(366) 중 중앙의 것에 의해 감지되는 상태를 유지한다.As shown in FIG. 12, while the balance feed-through 370 for the chuck or the feed-through for the chamber 380 formed with the balance sensing member 360 maintains a normal posture without shaking, the pivoting magnet 364 And a state of being sensed by the center of the plurality of balance sensing hall sensors 366 is maintained.

그러다가, 상기 균형 감지 부재(360)가 형성된 상기 척용 피드스루(370) 또는 상기 챔버용 피드스루(380)가 임의로 기울어지기 시작하면, 기울어진 상기 척용 피드스루(370) 또는 상기 챔버용 피드스루(380)의 기울어진 정도만큼 도 13에 도시된 바와 같이 상기 회동체(363)가 중력에 의해 회동되면서 상기 회동 마그넷(364)의 위치가 변동됨에 따라 상기 균형 감지 홀 센서(366)에 의해 감지되는 자력이 변화됨으로써, 상기 균형 감지 부재(360)가 형성된 상기 척용 피드스루(370) 또는 상기 챔버용 피드스루(380)가 기울어지기 시작함이 감지될 수 있다.Then, when the chuck feedthrough 370 or the chamber feedthrough 380 at which the balance sensing member 360 is formed begins to arbitrarily tilt, the slanted chuck feedthrough 370 or the feedthrough for the chamber The rotating body 363 is rotated by the gravity as shown in FIG. 13 by a tilted degree of the rotating magnet 364, and is detected by the balance detecting hall sensor 366 as the position of the rotating magnet 364 is changed It can be sensed that the magnetic force is changed so that the chuck feedthrough 370 or the chamber feedthrough 380 in which the balance sensing member 360 is formed starts to be inclined.

그러다가 기울어지고 있는 상기 균형 감지 부재(360)가 형성된 상기 척용 피드스루(370) 또는 상기 챔버용 피드스루(380)가 최대 값으로 기울어지면 도 14에 도시된 바와 같이, 상기 회동 마그넷(364)의 위치 변동에 따른 자력 변화 최대값이 상기 균형 감지 홀 센서(366)에 의해 감지됨과 함께, 상기 회동 마그넷(364)이 상기 균형 감지 접촉 센서(365)와 접촉됨으로써, 상기 균형 감지 부재(360)가 형성된 상기 척용 피드스루(370) 또는 상기 챔버용 피드스루(380)의 최대 기울어짐이 감지될 수 있게 된다.When the chuck feedthrough 370 or the chamber feedthrough 380 in which the balance sensing member 360 is tilted is tilted to a maximum value, as shown in FIG. 14, the rotation of the rotation magnet 364 The maximum value of the magnetic force change due to the positional change is sensed by the balance sensing hall sensor 366 and the rotation sensing magnet 364 is brought into contact with the balance sensing contact sensor 365, The maximum tilting of the formed chuck feedthrough 370 or the feedthrough for the chamber 380 can be detected.

상기와 같은 상기 균형 감지 부재(360)가 형성된 상기 척용 피드스루(370) 또는 상기 챔버용 피드스루(380)의 기울어짐과 그 기울어지는 정도에 대한 정보는 상기 진공 챔버 외부에 마련된 제어 시스템에 전달될 수 있다.The information about the inclination of the chuck feed through 370 or the feedthrough 380 for the chamber formed with the balance sensing member 360 and the degree of inclination thereof is transmitted to a control system provided outside the vacuum chamber .

상기 제어 시스템은 상기 정보를 작업자에게 알람 또는 모니터링 등의 방식으로 알려줄 수 있는 것이다.The control system can inform the operator of the information by an alarm or a monitoring method.

도 11에 도시된 바와 같이 상기 챔버용 피드스루(380)에 상기 균형 감지 부재(360)가 형성된 상태에서 상기 챔버용 피드스루(380)가 기울거나 흔들리면, 상기 챔버용 피드스루(380)와 상기 진공 챔버의 연결이 풀리거나 그 사이에 틈이 발생할 수 있는데, 상기와 같이 상기 균형 감지 부재(360)가 구성됨으로써, 상기 챔버용 피드스루(380)의 임의적인 기울어짐과 그 기울어지는 정도가 신속하게 감지될 수 있어, 기울어짐이 감지됨에 따라그 기울어짐이 더이상 진행되지 않도록 조취를 취하거나 상기 챔버용 피드스루(380)와 상기 진공 챔버 사이의 기밀이 안전하게 유지되고 있는지 확인하도록 할 수 있다.As shown in FIG. 11, when the feedthrough for chamber 380 is inclined or shaken while the balance sensing member 360 is formed on the chamber feedthrough 380, the chamber feedthrough 380 and the chamber- The balance sensing member 360 is configured as described above so that the arbitrary inclination of the chamber feedthrough 380 and the degree of inclination thereof are quick So that the tilting can be prevented from progressing as the tilting is detected or the airtightness between the chamber feed-through 380 and the vacuum chamber can be securely maintained.

도 16은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 챔버용 커넥터와 결합된 모습을 정면에서 바라본 단면도이고, 도 17은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 챔버용 피드스루가 진공 챔버의 일부분을 관통하고 그 사이에 챔버용 실링 부재가 기밀을 형성한 모습을 정면에서 바라본 단면도이고, 도 18은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 도 17의 B에 대한 확대도이고, 도 19는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 척용 피드스루가 정전척에 밀착 고정되고, 척용 피드스루와 정전척 사이에서 척용 실링 부재가 기밀을 형성한 모습을 정면에서 바라본 단면도이다.FIG. 16 is a cross-sectional view of a chamber in which a feedthrough for a chamber according to a fourth embodiment of the present invention is combined with a connector for a chamber, FIG. 17 is a cross-sectional view of the feedthrough for the chamber according to the fourth embodiment of the present invention, FIG. 18 is an enlarged view of FIG. 17B according to the fourth embodiment of the present invention, and FIG. 19 is an enlarged view of the chamber sealing member shown in FIG. Sectional view of the chucking sealing member formed between the feedthrough for chuck and the electrostatic chuck to form an airtight seal in a state in which the feedthrough of the chuck according to the fourth embodiment of the present invention is tightly fixed to the electrostatic chuck.

도 16 내지 도 19를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조는 정전척(420)과, 진공 챔버(410)와, 척용 커넥터(430)와, 고압 전달 부재(440)와, 챔버용 커넥터(450)와, 척용 피드스루(470)와, 챔버용 피드스루(480)와, 척용 실링 부재(475)와, 챔버용 실링 부재(485)를 포함한다.16 through 19, the feed-through airtight structure of the electrostatic chuck and the vacuum chamber according to the present embodiment includes an electrostatic chuck 420, a vacuum chamber 410, a chuck connector 430, A chamber connector 450, a chuck feedthrough 470, a chamber feedthrough 480, a chucking sealing member 475, and a chamber sealing member 485. [

상기 진공 챔버(410)는 그 내부에 상기 정전척(420)이 배치되어 대상체의 공정을 실시할 수 있도록 공간을 제공하는 것으로, 상기 챔버용 피드스루(480)가 관통될 수 있는 관통부(412)와, 상기 관통부(412)로 상기 챔버용 피드스루(480)가 관통되어 고정될 때 상기 챔버용 피드스루(480)에 접하는 부분에 형성되어 후술 설명될 챔버용 감지 센싱부(488)에서 감지되는 챔버용 감지 소자(412)를 포함한다.The electrostatic chuck 420 is disposed in the vacuum chamber 410 to provide a space for performing a process of a target object. The vacuum chamber 410 includes a through hole 412 through which the chamber feedthrough 480 can pass And a sensor sensing portion 488 for a chamber to be described later, which is formed at a portion in contact with the chamber feedthrough 480 when the chamber feedthrough 480 penetrates and is fixed to the penetration portion 412 And a sensing element 412 for the chamber to be sensed.

상기 챔버용 피드스루(480)는 상기 진공 챔버(410)의 상기 관통부(412)를 관통하고 상기 진공 챔버(410)와 상기 챔버용 커넥터(450) 사이에 개재되어 상기 진공 챔버(410)와 상기 챔버용 커넥터(450)를 서로 연결시키는 것으로, 헤드부(482)와 결합부(483)로 형성된다.The chamber feedthrough 480 penetrates through the penetration portion 412 of the vacuum chamber 410 and is interposed between the vacuum chamber 410 and the chamber connector 450 so that the vacuum chamber 410, The chamber connector 450 is connected to the head part 482 and the coupling part 483.

상기 헤드부(482)는 상기 관통부(412)를 관통하여 상기 진공 챔버(410) 내측에 배치되는 것이고, 상기 결합부(483)는 상기 진공 챔버(410)에 걸려 상기 관통부(412)를 관통하지 못하고 상기 진공 챔버(410) 외측에 배치되어 상기 챔버용 커넥터(450)와 결합되는 것이다.The head part 482 is disposed inside the vacuum chamber 410 through the penetrating part 412 and the engaging part 483 is hooked to the vacuum chamber 410 to penetrate the penetrating part 412 And is disposed outside the vacuum chamber 410 to be coupled to the chamber connector 450 without passing therethrough.

상기 헤드부(482)의 상기 관통부(412)에 관통되어 상기 진공 챔버(410)에 고정되는 부분에 상기 챔버용 감지 소자(412)를 인식할 수 있는 상기 챔버용 감지 센싱부(488)가 형성되어 있다.The chamber sensing sensing unit 488 capable of recognizing the chamber sensing unit 412 is provided at a portion of the head unit 482 that penetrates through the penetration unit 412 and is fixed to the vacuum chamber 410 Respectively.

상기 챔버용 감지 센싱부(488)는 상기 챔버용 감지 소자(412)의 이송되는 위치를 센싱할 수 있도록 일정길이로 형성된다.The chamber sensing sensing unit 488 is formed to have a predetermined length so as to sense the position of the chamber sensing unit 412.

상기와 같이 형성된 상기 챔버용 감지 센싱부(488)는 상기 챔버용 감지 소자(412)를 감지할 수 있는 감지 센서로 형성될 수 있고, 예를 들어 터치 센서, 마그네틱 센서, 적외선 센서 등으로 형성될 수 있으며, 상기 챔버용 감지 소자(412)는 상기 챔버용 감지 센싱부(488)에 감지되도록 자성을 띄는 자성체나, 마그네틱 등으로 형성될 수 있다. The chamber sensing sensing unit 488 may be formed as a sensing sensor capable of sensing the chamber sensing unit 412 and may be formed of a touch sensor, a magnetic sensor, an infrared sensor, or the like The sensing device 412 for the chamber may be formed of a magnetic substance magnetized to be sensed by the sensing sensing portion 488 for the chamber, or magnetism.

상기 챔버용 실링 부재(485)는 상기 진공 챔버(410)에 상기 챔버용 피드스루(480)가 관통된 부분의 상기 챔버용 피드스루(480) 외주면을 둘러 쌓아 상기 진공 챔버(410)와 상기 챔버용 피드스루(480) 사이의 기밀이 형성되도록 하는 것으로, 예를 들어 고무 재질의 탄성을 지닌 오링으로 형성될 수 있고, 상기 진공 챔버(410)와 상기 챔버용 피드스루(480) 사이를 밀봉시키는 작용을 한다. 자세히, 상기 챔버용 피드스루(480)의 상기 헤드부(482)가 상기 진공 챔버(410)를 관통되어 고정될 때, 상기 챔버용 실링 부재(485)가 상기 결합부(483) 쪽으로 점차 밀리게 되고 탄성에 의해 압착되면서 상기 진공 챔버(410)와 상기 챔버용 피드스루(480) 사이의 기밀을 형성한다.The chamber sealing member 485 surrounds the outer circumferential surface of the chamber feed-through 480 in the vacuum chamber 410 through which the chamber feed-through 480 passes, For example, a rubber-like elastic O-ring, and is provided between the vacuum chamber 410 and the chamber feed-through 480 so as to seal the space between the vacuum chamber 410 and the chamber feed- . More specifically, when the head portion 482 of the chamber feedthrough 480 is fixed through the vacuum chamber 410, the chamber sealing member 485 is gradually pushed toward the engaging portion 483 And is compressed by the elasticity to form airtightness between the vacuum chamber 410 and the chamber feedthrough 480.

여기서, 상기 헤드부(482)가 상기 진공 챔버(410)를 관통되어 상기 챔버용 실링 부재(485)가 상기 결합부(483) 쪽으로 점차 밀리게 되고 탄성에 의해 압착된 상태로 고정되었을 때 상기 챔버용 감지 센싱부(488)에서 감지되는 상기 챔버용 감지 소자(412)의 위치를 초기 값으로 지정한다.Here, when the head part 482 penetrates the vacuum chamber 410 and the chamber sealing member 485 is gradually pushed toward the engaging part 483 and is fixed in a compressed state by elasticity, And the position of the chamber sensing element 412 detected by the chamber sensing sensing unit 488 is designated as an initial value.

상기와 같이 형성된 상태에서 일정 시간이 경과되면 상기 챔버용 실링 부재(485)가 마모되거나 탄성이 줄어들어 상기 챔버용 실링 부재(485)가 더욱 압착된다. 그러면 상기 챔버용 감지 소자(412)가 상기 결합부(483) 쪽으로 더 밀리게 되고, 상기 챔버용 감지 센싱부(488)에서 상기 챔버용 감지 소자(412)를 센싱하는 위치가 변동되었음을 인식할 수 있다. 그러면 별도로 구비된 알람 장비로 작업자에게 상기 챔버용 실링 부재(485)의 기능이 현저히 떨어졌음을 알릴 수 있다.When the sealing member 485 is formed in the above-described state, the chamber sealing member 485 is worn or the elasticity is reduced, and the chamber sealing member 485 is further compressed. Then, the chamber sensing device 412 is further pushed toward the coupling part 483, and the chamber sensing sensing part 488 recognizes that the position for sensing the chamber sensing device 412 has changed have. Then, it is possible to inform the operator that the function of the chamber sealing member 485 is remarkably lowered by the separately provided alarm equipment.

여기서 상기 알람 장비는 부저나 모니터링 시스템이나 엘이디 표시등으로 형성될 수 있다.The alarm device may be a buzzer, a monitoring system, or an LED indicator.

상기 척용 피드스루(470)는 상기 정전척(420)에 밀착 고정되고, 상기 고압 전달 부재(440)와 상기 척용 커넥터(430) 사이에 개재되어 상기 고압 전달 부재(440)와 상기 척용 커넥터(430)를 서로 연결시키는 것으로, 고전압 장치에서 상기 척용 커넥터(430)로 전달된 고전압을 상기 고압 전달 부재(440)로 전달한다.The chuck feedthrough 470 is fixedly attached to the electrostatic chuck 420 and is interposed between the high pressure transmitting member 440 and the chuck connector 430 so that the high pressure transmitting member 440 and the chuck connector 430 To transmit the high voltage transferred from the high voltage apparatus to the chuck connector 430 to the high pressure transmitting member 440. [

상기 척용 실링 부재(475)는 상기 정전척(420)에 상기 척용 피드스루(470)가 고정되는 부분의 상기 척용 피드스루(470) 외주면을 둘러쌓아 상기 정전척(420)과 상기 척용 피드스루(470) 사이의 기밀이 형성되도록 하는 것으로, 예를 들어 탄성을 지닌 고무 재질의 오링으로 형성될 수 있고, 상기 정전척(420)과 상기 척용 피드스루(470) 사이를 밀봉시키는 작용을 한다.The chuck sealing member 475 surrounds the outer circumferential surface of the chuck feedthrough 470 at a portion where the chuck feedthrough 470 is fixed to the electrostatic chuck 420 so that the electrostatic chuck 420 and the chuck feedthrough 470). For example, it may be formed of an elastic O-ring made of a rubber material and serves to seal between the electrostatic chuck 420 and the chuck feed-through 470.

상기 척용 실링 부재(475)로 둘러쌓인 상기 척용 피드스루(470)의 외주면에는 상기 정전척(420)의 일부분을 감지하는 척용 감지 센싱부(478)가 형성되어 있고, 상기 정전척(420)에는 상기 정전척(420)으로 상기 척용 피드스루(470)가 삽입 고정될 때 상기 척용 감지 센싱부(478)의 외측에 배치되고, 상기 척용 감지 센싱부(478)의 길이보다 상대적으로 작게 형성된 척용 감지 소자(422)가 형성되어 있다.A sensing sensing unit 478 for sensing a portion of the electrostatic chuck 420 is formed on an outer circumferential surface of the chuck feed through 470 surrounded by the chuck sealing member 475, A chuck sensing part 478 disposed outside the chuck sensing sensing part 478 when the chuck feedthrough 470 is inserted and fixed into the electrostatic chuck 420 and is formed to be relatively smaller than the length of the chucking sensing sensing part 478, A device 422 is formed.

상기와 같이 형성된 상기 척용 감지 센싱부(478)는 상기 척용 감지 소자(422)를 감지할 수 있는 감지 센서로 형성될 수 있고, 예를 들어 터치 센서, 마그네틱 센서, 적외선 센서 등으로 형성될 수 있으며, 상기 척용 감지 소자(422)는 상기 척용 감지 센싱부(478)에 감지되도록 자성을 띄는 자성체나, 마그네틱 등으로 형성될 수 있다. The chuck sensing sensing unit 478 may be formed as a sensing sensor capable of sensing the chuck sensing device 422, and may be a touch sensor, a magnetic sensor, an infrared sensor, or the like. The chucking sensing element 422 may be formed of a magnetic body magnetized to be sensed by the chucking sensing sensing unit 478, or magnetic.

상기와 같이 형성되면, 상기 척용 피드스루(470)가 상기 정전척(420)에 삽입되어 고정될 때, 상기 척용 실링 부재(475)가 상기 척용 커넥터(430) 쪽으로 점차 밀리게 되고 탄성에 의해 압착되면서 상기 정전척(420)과 상기 척용 피드스루(470) 사이의 기밀을 형성한다.The chuck sealing member 475 is gradually pushed toward the chuck connector 430 when the chuck feedthrough 470 is inserted into and fixed to the electrostatic chuck 420 and the chuck sealing member 475 is compressed Thereby forming airtightness between the electrostatic chuck 420 and the chuck feedthrough 470.

여기서, 상기 척용 실링 부재(475)가 상기 정전척(420)과 상기 척용 피드스루(470) 사이에서 압착된 상태로 고정되었을 때 상기 척용 감지 센싱부(478)에서 감지되는 상기 척용 감지 소자(422)의 위치를 초기 값으로 지정한다.When the chuck sealing member 475 is fixed in a compressed state between the electrostatic chuck 420 and the chuck feed through 470, the chuck sensing element 422 sensed by the chuck sensing sensing portion 478, ) As the initial value.

상기와 같이 형성된 상태에서 일정 시간이 경과되면, 상기 척용 실링 부재(475)가 마모되거나 탄성이 줄어들어 더욱 압착된다. 그러면 상기 척용 감지 소자(422)가 상기 척용 커넥터(430) 쪽으로 더 밀리게 되고, 상기 척용 감지 센싱부(478)에서 상기 척용 감지 소자(422)를 센싱하는 위치가 변동되었음을 인식할 수 있다. 그러면 별도로 구비된 상기 알람 장비로 상기 작업자에게 상기 척용 실링 부재(475)의 기능이 현저히 떨어졌음을 알릴 수 있다.When a predetermined time has elapsed in the state as described above, the chuck sealing member 475 is worn or the elasticity is reduced and further compressed. The chucking sensing element 422 is further pushed toward the chuck connector 430 and it is recognized that the sensing position of the chucking sensing element 422 has been changed by the chucking sensing sensing part 478. Then, it is possible to inform the operator that the function of the chuck sealing member 475 is remarkably reduced by the alarm device provided separately.

상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and detail may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the following claims And can be changed. However, it is intended that the present invention covers the modifications and variations of this invention provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents.

본 발명의 일 측면에 따른 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조에 의하면, 정전척 및 진공 챔버와 결합되는 피드스루의 그 결합된 부분이 밀폐되고 그에 대한 기밀이 유지될 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.According to one aspect of the present invention, the feed-through airtight structure of the electrostatic chuck and the vacuum chamber allows the combined portion of the feedthrough to be coupled with the electrostatic chuck and the vacuum chamber to be sealed and air- It is highly likely to be used.

100 : 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조
110 : 진공 챔버
120 : 정전척
130 : 척용 커넥터
140 : 고압 전달 부재
150 : 챔버용 커넥터
170 : 척용 피드스루
175 : 척용 실링 부재
180 : 챔버용 피드스루
185 : 챔버용 실링 부재
260 : 균형 감지 부재100: Feedthrough airtight structure of electrostatic chuck and vacuum chamber
110: vacuum chamber
120: electrostatic chuck
130: connector for a chuck
140: High-pressure transmitting member
150: Connector for chamber
170: Feedthrough for chuck
175: sealing member for a chuck
180: Feedthrough for chamber
185: sealing member for chamber
260: Balance sensing member

Claims (4)

대상체를 흡착 고정하는 정전척;
그 내부에 상기 정전척이 배치되어 상기 대상체의 공정을 실시할 수 있도록 공간을 제공하는 진공 챔버;
상기 정전척 외부에 배치되되 상기 정전척과 외부의 고전압 장치를 연결하여 상기 정전척으로 상기 고전압 장치의 고전압을 전달하는 척용 커넥터;
상기 정전척 내부에 삽입되어 있고, 상기 척용 커넥터와 연결되어 상기 고전압 장치의 상기 고전압을 상기 정전척 내부로 전달하는 고압 전달 부재;
상기 진공 챔버의 외부에 배치되되 상기 진공 챔버와 연결되어 상기 진공 챔버 내의 전기적 신호를 전달하는 챔버용 커넥터;
상기 정전척에 밀착 고정되고, 상기 고압 전달 부재와 상기 척용 커넥터 사이에 개재되어 상기 고압 전달 부재와 상기 척용 커넥터를 서로 연결시키는 척용 피드스루;
상기 진공 챔버를 관통하고, 상기 진공 챔버와 상기 챔버용 커넥터 사이에 개재되어 상기 진공 챔버와 상기 챔버용 커넥터를 서로 연결시키는 챔버용 피드스루;
상기 정전척에 상기 척용 피드스루가 고정되는 부분의 상기 척용 피드스루 외주면을 둘러쌓아 상기 정전척과 상기 척용 피드스루 사이의 기밀이 형성되도록 하는 척용 실링 부재; 및
상기 진공 챔버에 상기 챔버용 피드스루가 관통된 부분의 상기 챔버용 피드스루 외주면을 둘러쌓아 상기 진공 챔버와 상기 챔버용 피드스루 사이의 기밀이 형성되도록 하는 챔버용 실링 부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조.An electrostatic chuck for adsorbing and fixing a target object;
A vacuum chamber in which the electrostatic chuck is disposed to provide a space for performing a process of the object;
A chuck connector disposed outside the electrostatic chuck, the chuck connector connecting the electrostatic chuck to an external high voltage device to transfer a high voltage of the high voltage device to the electrostatic chuck;
A high pressure transmitting member inserted into the electrostatic chuck and connected to the chuck connector to transmit the high voltage of the high voltage device into the electrostatic chuck;
A chamber connector disposed outside the vacuum chamber and connected to the vacuum chamber to transmit an electrical signal in the vacuum chamber;
A feedthrough for the chuck which is tightly fixed to the electrostatic chuck and interposed between the high pressure transmitting member and the chucking connector to connect the high pressure transmitting member and the chucking connector to each other;
A feedthrough for the chamber passing through the vacuum chamber and interposed between the vacuum chamber and the chamber connector to connect the vacuum chamber and the chamber connector to each other;
A chuck sealing member that surrounds the outer circumferential surface of the chuck feed-through portion at a portion where the chuck feed-through is fixed to the electrostatic chuck to form airtightness between the electrostatic chuck and the chuck feed-through; And
And a sealing member for a chamber that surrounds the outer circumferential surface of the feedthrough for the chamber at a portion of the chamber through which the feedthrough for the chamber penetrates, so that airtightness is formed between the vacuum chamber and the feedthrough for the chamber. Through airtight structure of the electrostatic chuck and the vacuum chamber. 제 1항에 있어서,
상기 고압 전달 부재는
일정 길이 길게 형성되어 상기 정전척 내부에 삽입된 고압 전달 케이블과,
상기 정전척 내부에 삽입되고 남은 상기 고압 전달 케이블의 외주면을 보호하는 케이블용 하우징과,
상기 케이블용 하우징 내의 상기 고압 전달 케이블과 연결되어 상기 고압 전달 케이블로 상기 고전압을 전달하는 고전압 커넥터와,
상기 고전압 커넥터의 외주면을 보호하고 상기 척용 피드스루와 결착되는 결착 하우징과,
상기 척용 피드스루와 상기 결착 하우징의 결착되는 부분에서 상기 척용 피드스루와 상기 결착 하우징 사이의 기밀을 형성하는 하우징용 실링 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조.The method according to claim 1,
The high-
A high-pressure transmission cable having a predetermined length and inserted into the electrostatic chuck;
A cable housing for protecting the outer peripheral surface of the high-voltage transmission cable inserted into the electrostatic chuck,
A high voltage connector connected to the high voltage transmission cable in the cable housing for transmitting the high voltage to the high voltage transmission cable,
A coupling housing for protecting the outer circumferential surface of the high voltage connector and being engaged with the feedthrough for the chuck,
And a sealing member for a housing forming a hermetic seal between the chuck feed-through and the binding housing at a portion where the chuck feed-through and the binding housing are engaged, the sealing member for the housing. 제 1항에 있어서,
상기 챔버용 커넥터는
내부가 빈 챔버용 결합체와,
그 일부가 상기 챔버용 피드스루 내부를 관통하도록 상기 챔버용 결합체 내부에 삽입되어 있고, 상기 진공 챔버 내부로 전기적 신호를 전달하는 챔버용 로드와,
상기 챔버용 로드와 상기 챔버용 피드스루 사이의 기밀을 형성하는 로드용 실링 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조.The method according to claim 1,
The chamber connector
An inner hollow chamber coupling body,
A chamber rod which is inserted in the chamber assembly so that a part thereof penetrates the inside of the feedthrough for the chamber and which transmits an electric signal to the inside of the vacuum chamber,
And a rod sealing member for forming a seal between the rod for the chamber and the feedthrough for the chamber. 제 1항에 있어서,
상기 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조는
상기 척용 피드스루 또는 상기 챔버용 피드스루 둘중 하나 이상에 개재되어 개재된 상기 척용 피드스루 또는 상기 챔버용 피드스루의 수직도를 감지하는 균형 감지 부재;를 포함하고,
상기 균형 감지 부재는 내부가 빈 원형 실린더 형태로 형성되는 케이스와, 상기 케이스 내부의 상단에서 반구형으로 돌출되는 회동 연결 링과, 상기 회동 연결 링에 회동 가능하게 걸려 중력 방향으로 향하도록 회동될 수 있고 상기 회동 연결 링과 멀어지는 말단부 쪽으로 갈수록 상대적으로 점차 커지도록 형성되는 회동체와, 상기 회동체의 말단부에 배치되는 회동 마그넷과, 상기 케이스 내부의 저면에 배치되어 상기 회동체에 매달려 회동되는 상기 회동 마그넷의 자력 변화를 감지하는 균형 감지 홀 센서와, 상기 케이스 내부의 하측면에 배치되어 상기 회동체에 매달려 회동되는 상기 회동 마그넷의 접촉을 감지할 수 있는 균형 감지 접촉 센서를 포함하고,
상기 균형 감지 부재가 개재된 상기 척용 피드스루 또는 상기 챔버용 피드스루가 기울어지기 시작하면, 기울어진 상기 척용 피드스루 또는 상기 챔버용 피드스루의 기울어진 정도만큼 상기 회동체가 회동되면서 상기 회동 마그넷의 위치가 변동됨에 따라 상기 균형 감지 홀 센서에 의해 감지되는 자력이 변화하므로써, 상기 척용 피드스루 또는 상기 챔버용 피드스루의 기울어지기 시작함이 감지될 수 있고,
상기 균형 감지 부재가 개재된 상기 척용 피드스루 또는 상기 챔버용 피드스루가 최대값으로 기울어지면, 상기 회동 마그넷의 위치 변동에 따른 자력 변화가 상기 균형 감지 홀 센서에 의해 감지됨과 함께 상기 회동 마그넷이 상기 균형 감지 접촉 센서와 접촉됨으로써, 상기 균형 감지 부재가 개재된 상기 척용 피드스루 또는 상기 챔버용 피드스루의 최대 기울어짐이 감지될 수 있는 것을 특징으로 하는 정전척 및 진공 챔버의 피드스루 기밀 구조.
The method according to claim 1,
The feed-through tightness of the electrostatic chuck and vacuum chamber
And a balance sensing member for sensing a verticality of the chuck feedthrough or the feedthrough for the chamber interposed in at least one of the chuck feedthrough or the chamber feedthrough,
The balance sensing member may include a case having an inner hollow cylindrical shape, a pivoting connection ring protruding hemispherically from an upper end of the case, a pivotable connection ring rotatably coupled to the pivoting connection ring, A rotary magnet disposed at a distal end of the rotary body, and a rotary magnet disposed on a bottom surface of the rotary body so as to be suspended from the rotary body, And a balance sensing contact sensor disposed on a lower side of the inside of the case and capable of sensing contact of the rotation magnet which is pivotally suspended from the rotary body,
When the chuck feedthrough or the chamber feedthrough having the balance sensing member starts to be inclined, the rotating body is rotated by an inclined degree of the inclined chuck feedthrough or the chamber feedthrough, and the position of the rotating magnet The magnetic force sensed by the balance sensing hall sensor changes so that the start of tilting of the feedthrough for the chuck or the feedthrough for the chamber can be sensed,
Wherein when the chuck feedthrough or the feedthrough for the chamber in which the balance sensing member is inclined is tilted to a maximum value, a magnetic force change due to a positional variation of the rotation magnet is sensed by the balance sensing hall sensor, Through contact with the balance sensing contact sensor, whereby a maximum tilt of the chuck feedthrough or the feedthrough for the chamber in which the balance sensing member is interposed can be sensed.
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