KR20190006892A - Light emitting device package - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a light emitting device package which can realize various colors, and is small in size and easy to mount. The light emitting device package according to one embodiment of the present invention includes: a plurality of light emitting chips configured to emit light having different wavelengths and arranged in a flip-chip structure; a molding member integrally formed to cover upper surfaces and side surfaces of the light emitting chips, in which a bottom surface of the molding member includes a first region where the plurality of light emitting chips are arranged and a second region surrounding the first region; a plurality of individual wirings disposed on a lower surface of the molding member and directly making contact with each of the first electrodes of the plurality of light emitting chips in the first region; a common wiring which is disposed on the lower surface of the molding member and commonly connected to and directly in contact with the second electrodes of the plurality of light emitting chips in the first region; and a plurality of electrode pads arranged in a second region of the lower surface of the molding member and connected to the plurality of individual wirings and the common wiring, respectively.

Description

발광소자 패키지{LIGHT EMITTING DEVICE PACKAGE}[0001] LIGHT EMITTING DEVICE PACKAGE [0002]

본 발명의 기술적 사상은 발광소자 패키지에 관한 것이다.Technical aspects of the present invention relate to a light emitting device package.

반도체 발광다이오드(LED)는 조명 장치용 광원뿐만 아니라, 다양한 전자 제품의 광원으로 사용되고 있다. 특히, TV, 휴대폰, PC, 노트북 PC, PDA 등과 같은 각종 디스플레이 장치들을 위한 광원으로 널리 사용되고 있다. Semiconductor light emitting diodes (LEDs) are used not only as light sources for lighting devices, but also as light sources for various electronic products. In particular, it is widely used as a light source for various display devices such as a TV, a mobile phone, a PC, a notebook PC, and a PDA.

종래의 디스플레이 장치는 주로 액정 디스플레이(LCD)로 구성된 디스플레이 패널과 백라이트로 구성되었으나, 최근에는 LED 소자를 그대로 하나의 픽셀로서 사용하여 백라이트가 별도로 요구되지 않는 형태로도 개발되고 있다. 이러한 디스플레이 장치는 컴팩트화할 수 있을 뿐만 아니라, 기존 LCD에 비해 광효율도 우수한 고휘도 디스플레이를 구현될 수 있다. 또한, 디스플레이 화면의 종횡비를 자유롭게 바꾸고 대면적으로 구현할 수 있으므로 다양한 형태의 대형 디스플레이로 제공할 수 있다.The conventional display device is mainly composed of a display panel composed of a liquid crystal display (LCD) and a backlight. In recent years, however, a backlight is not separately required by using an LED element as a pixel as it is. Such a display device can not only be made compact, but also can realize a high luminance display which is superior in light efficiency compared to the conventional LCD. In addition, since the aspect ratio of the display screen can be changed freely and can be implemented in a large area, it can be provided as a large display of various forms.

본 발명의 기술적 사상이 이루고자 하는 기술적 과제 중 하나는, 다양한 색을 구현할 수 있는 소형화되고, 실장이 용이한 발광소자 패키지를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION One of the technical problems to be solved by the technical idea of the present invention is to provide a light emitting device package that can realize various colors and can be miniaturized and is easy to mount.

본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지는, 서로 다른 파장의 광을 방출하고, 플립칩 형태로 배치된 복수의 발광칩들, 상기 복수의 발광칩들의 상면들 및 측면들을 덮으며 일체로 형성된 몰딩 부재 - 여기서, 상기 몰딩 부재의 하면은 상기 복수의 발광칩들이 배열된 제1 영역과 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함함 -, 상기 몰딩 부재의 하면에 배치되고, 상기 제1 영역에서 상기 복수의 발광칩들의 제1 전극들 각각에 직접 접촉하는 복수의 개별 배선들, 상기 몰딩 부재의 하면에 배치되고, 상기 제1 영역에서 상기 복수의 발광칩들의 제2 전극들에 공통적으로 연결되고 직접 접촉하는 공통 배선, 및 상기 몰딩 부재의 하면의 제2 영역에 배치되고, 상기 복수의 개별 배선들 및 상기 공통 배선에 각각 연결된 복수의 전극 패드들을 포함한다.A light emitting device package according to an exemplary embodiment of the present invention includes a plurality of light emitting chips arranged in a flip chip shape, emitting light having different wavelengths, a plurality of light emitting chips Molding member, wherein a lower surface of the molding member includes a first region in which the plurality of light emitting chips are arranged and a second region surrounding the first region, the first region being disposed on a lower surface of the molding member, A plurality of individual wirings disposed on the lower surface of the molding member and contacting the first electrodes of the plurality of light emitting chips directly in the region, And a plurality of electrode pads disposed in a second region of the lower surface of the molding member and connected to the plurality of individual wirings and the common wirings, respectively.

본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지는, m x n의 행렬로 배치된 복수의 픽셀 영역들(m 및 n은 1보다 큰 정수이고, 상기 복수의 픽셀 영역들은 각각 제1 영역과 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함함), 상기 복수의 픽셀 영역들 내에 배치되는 복수의 발광소자 유닛들, 및 상기 복수의 발광소자 유닛들을 덮으며, 일체로 형성된 몰딩 부재를 포함한다. 상기 복수의 발광소자 유닛들은 각각 상기 제1 영역에 플립칩 형태로 배치된 적색 발광칩, 녹색 발광칩, 및 청색 발광칩, 상기 몰딩 부재의 하면에 배치되고, 상기 적색 발광칩, 상기 녹색 발광칩, 및 상기 청색 발광칩에 각각 직접 연결되는 3개의 개별 배선들, 상기 몰딩 부재의 하면에 배치되고 상기 적색 발광칩, 상기 녹색 발광칩 및 상기 청색 발광칩에 공통으로 직접 연결되는 1개의 공통 배선; 및 상기 개별 배선들 및 상기 공통 배선에 각각 연결되고, 상기 픽셀 영역의 상기 제2 영역에 배치되는 4개의 전극 패드들을 포함한다. A light emitting device package according to an embodiment of the present invention includes a plurality of pixel regions m and n arranged in a matrix of mxn, wherein m and n are integers larger than 1, and the plurality of pixel regions are respectively a first region and a first region A plurality of light emitting element units disposed in the plurality of pixel regions, and a molding member integrally formed to cover the plurality of light emitting element units. Wherein the plurality of light emitting element units are respectively disposed on a lower surface of the molding member, a red light emitting chip, a green light emitting chip, and a blue light emitting chip arranged in a flip chip form in the first region, And one common wiring directly connected to the red light emitting chip, the green light emitting chip, and the blue light emitting chip, respectively, the three separate wirings being directly connected to the blue light emitting chip, respectively; And four electrode pads connected to the individual wirings and the common wirings, respectively, and disposed in the second region of the pixel region.

본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지는, 제1 픽셀 영역, 제2 픽셀 영역, 제3 픽셀 영역 및 제4 픽셀 영역 - 상기 제1 내지 제4 픽셀 영역은 각각 제1 영역과 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함함-, 상기 제1 내지 제4 픽셀 영역들의 상기 제1 영역들 각각에 플립칩 형태로 배치되는 발광칩들, 및 상기 제1 내지 제4 픽셀 영역들의 상기 발광칩들을 덮으며, 일체로 형성된 몰딩 부재;를 포함하되, 여기서, 상기 제1 픽셀 영역은 상기 제2 영역에 배치되고 상기 발광칩들에 연결되는 4개의 전극 패드들을 포함하고, 상기 제2 픽셀 영역은 상기 제2 영역에 배치되고 상기 발광칩들 중 적어도 일부에 연결되는 2개의 전극 패드들을 포함하고, 상기 제1 픽셀 영역은 인접한 상기 제2 픽셀 영역과 2개의 전극 패드들을 공유한다. A light emitting device package according to an embodiment of the present invention includes a first pixel region, a second pixel region, a third pixel region, and a fourth pixel region, each of the first to fourth pixel regions having a first region and a second region, Emitting chips arranged in a flip chip form in each of the first regions of the first to fourth pixel regions, and a second region surrounding the first to fourth pixel regions, Wherein the first pixel region includes four electrode pads disposed in the second region and connected to the light emitting chips, and the second pixel region includes a second pixel region, Includes two electrode pads disposed in the second region and connected to at least a portion of the light emitting chips, wherein the first pixel region shares two second electrode pads with the adjacent second pixel region.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 다양한 색을 구현할 수 있는 소형화되고, 실장이 용이한 발광소자 패키지를 제공할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide a light emitting device package that can be miniaturized and can be easily mounted, which can realize various colors.

본 발명의 다양하면서도 유익한 장점과 효과는 상술한 내용에 한정되지 않으며, 본 발명의 구체적인 실시예를 설명하는 과정에서 보다 쉽게 이해될 수 있을 것이다.The various and advantageous advantages and effects of the present invention are not limited to the above description, and can be more easily understood in the course of describing a specific embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 사시도이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 평면도 및 배면도이다.
도 3a, 도 3b 및 도 3c는 각각 도 2a에 도시된 발광소자 패키지의 I-I'선, II-II'선 및 III-III'선 에 따른 단면도이다.
도 4는 몰딩 재료의 두께 대 투과율의 변화를 나타낸 도면이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지에 채용되는 발광소자들을 나타내는 도면들이다.
도 7a 내지 도 7h는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지의 제조방법을 설명하는 주요 공정별 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 사시도이다.
도 9는 도 8의 발광소자 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 사시도이다.
도 11은 도 10의 발광소자 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 사시도이다.
도 13a 및 도 13b는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 평면도 및 배면도이다.
도 14a, 도 14b 및 도 14c는 각각 도 13a에 도시된 발광소자 패키지의 I-I'선, II-II'선 및 III-III'선 에 따른 단면도이다.
도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 평면도이다.
도 16는 도 15의 발광소자 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 18은 도 17의 발광소자 패키지를 나타내는 단면도이다.
도 19a 및 도 19b는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 평면도 및 단면도이다.
도 20은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 평면도이다.
도 21은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지의 픽셀 셋트의 회로도이다.
도 22는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 평면도이다.
도 23은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지의 픽셀 셋트의 회로도이다.
도 24는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 평면도이다.
도 25는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지의 픽셀 셋트의 회로도이다.
도 26은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 나타내는 평면도이다.
도 27은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지의 픽셀 셋트의 회로도이다.
도 28a 내지 도 28d는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지의 제조방법을 설명하는 주요 공정별 단면도이다.
도 29는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지를 포함하는 디스플레이 패널을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 30은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치의 구성을 나타내는 블럭도이다.
1 is a perspective view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
2A and 2B are a plan view and a rear view of a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
3A, 3B and 3C are cross-sectional views taken along line I-I ', line II-II' and line III-III ', respectively, of the light emitting device package shown in FIG. 2A.
4 is a graph showing the change of the thickness of the molding material versus the transmittance.
5 and 6 are views illustrating light emitting devices employed in a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
7A to 7H are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
8 is a perspective view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
9 is a cross-sectional view showing the light emitting device package of Fig.
10 is a perspective view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
11 is a cross-sectional view showing the light emitting device package of Fig.
12 is a perspective view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
13A and 13B are a plan view and a rear view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
14A, 14B, and 14C are sectional views taken along line I-I ', line II-II', and line III-III ', respectively, of the light emitting device package shown in FIG. 13A.
15 is a plan view showing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
16 is a cross-sectional view showing the light emitting device package of Fig.
17 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
18 is a cross-sectional view showing the light emitting device package of Fig.
19A and 19B are a plan view and a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
20 is a plan view showing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
21 is a circuit diagram of a pixel set of a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
22 is a plan view showing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
23 is a circuit diagram of a pixel set of a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
24 is a plan view showing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
25 is a circuit diagram of a pixel set of a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
26 is a plan view showing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
27 is a circuit diagram of a pixel set of a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
28A to 28D are cross-sectional views illustrating major steps of a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
29 is a schematic view of a display panel including a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.
30 is a block diagram showing a configuration of a display device according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(1)를 나타내는 사시도이다. 도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(1)를 나타내는 평면도 및 배면도이다. 도 3(a), 도 3(b) 및 도 3(c)는 각각 도 2a에 도시된 발광소자 패키지(1)의 I-I'선, II-II'선 및 III-III'선 에 따른 단면도이다.1 is a perspective view showing a light emitting device package 1 according to an embodiment of the present invention. 2A and 2B are a plan view and a rear view illustrating a light emitting device package 1 according to an embodiment of the present invention. 3 (a), 3 (b) and 3 (c) are cross-sectional views taken along lines I-I ', II-II' and III-III 'of the light emitting device package 1 shown in FIG. Sectional view.

도 1 내지 도 3(c)을 함께 참조하면, 발광소자 패키지(1)는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3), 몰딩 부재(41), 복수의 개별 배선들(21, 22, 23), 공통 배선(24), 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34), 및 절연층(43)을 포함할 수 있다. 1 to 3 (c), the light emitting device package 1 includes a plurality of light emitting chips C1, C2, and C3, a molding member 41, a plurality of individual wirings 21, 22, and 23 A common wiring 24, a plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34, and an insulating layer 43. [

복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 서로 다른 광을 방출하고 이격되어 배치될 수 있다. The plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 may be disposed apart from each other to emit different light.

복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 각각 적색광, 녹색광, 청색광을 방출할 수 있다. 발광칩(C1)은 적색 발광칩이고, 발광칩(C2)은 녹색 발광칩이고, 발광칩(C3)은 청색 발광칩일 수 있다. 발광칩(C1)은 적색광을 방출하는 반도체 적층체를 포함할 수 있고, 발광칩(C2)은 녹색광을 방출하는 반도체 적층체를 포함할 수 있고, 발광칩(C3)은 청색광을 방출하는 반도체 적층체를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 발광칩들(C1, C2, C3)은 청색광 또는 UV광을 방출하는 반도체 적층체를 포함할 수 있고, 발광칩(C1)은 적색광을 방출하는 파장 변환층을 포함할 수 있고, 발광칩(C2)은 녹색광을 방출하는 파장 변환층을 포함할 수 있고, 발광칩(C3)은 청색광을 방출하는 파장 변환층을 포함할 수 있다.The plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 may emit red light, green light, and blue light, respectively. The light emitting chip C1 may be a red light emitting chip, the light emitting chip C2 may be a green light emitting chip, and the light emitting chip C3 may be a blue light emitting chip. The light emitting chip C 1 may include a semiconductor stack that emits red light and the light emitting chip C 2 may include a semiconductor stack that emits green light. The light emitting chip C 3 may include a semiconductor stack May include sieves. In one embodiment, the light emitting chips Cl, C2, and C3 may include a semiconductor stack that emits blue light or UV light, and the light emitting chip Cl may include a wavelength converting layer that emits red light , The light emitting chip C2 may include a wavelength conversion layer that emits green light, and the light emitting chip C3 may include a wavelength conversion layer that emits blue light.

복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 한 방향을 따라 일렬로 배열될 수 있다. 복수의 발광칩들(C1, C2, C3) 사이의 칩 간격(d1)은 10㎛ 이상, 또는 50㎛ 이상일 수 있다. 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 플립칩 형태로 배치될 수 있다. 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 주된 광방출면이 위쪽 방향을 향하고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제1 및 제2 전극들은 아래쪽을 향하도록 배치될 수 있다. 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제1 전극들은 각각 복수의 개별 배선들(21, 22, 23)에 연결되고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제2 전극들은 공통 배선(24)에 공통적으로 연결될 수 있다. 플립칩 형태로 배치되는 경우, 각각의 발광칩들(C1, C2, C3)은 160°이상의 지향각을 가질 수 있다. The plurality of light emitting chips C1, C2, C3 may be arranged in a line along one direction. The chip distance d1 between the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 may be 10 占 퐉 or more, or 50 占 퐉 or more. The plurality of light emitting chips C1, C2, C3 may be arranged in a flip chip form. The main light emitting surfaces of the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 face upward and the first and second electrodes of the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 can be arranged to face downward have. The first electrodes of the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 are connected to a plurality of individual wirings 21, 22 and 23 and the second electrodes of the plurality of light emitting chips C1, May be connected to the common wiring 24 in common. When arranged in the form of a flip-chip, each of the light-emitting chips C1, C2, C3 may have an orientation angle of 160 DEG or more.

몰딩 부재(41)는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 상면들 및 측면들을 덮을 수 있다. 몰딩 부재(41)는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)를 보호하고, 지지하는 기능을 할 수 있다. 몰딩 부재(41)는 2.0 GPa 이상의 탄성계수(elastic modulus)를 가지는 것이 바람직하다. 그리고, 몰딩 부재(41)는 유리전이 온도(Tg) 이하의 열팽창 계수가 40 ppm/℃ 이하인 것이 바람직하다. The molding member 41 may cover the upper surfaces and side surfaces of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3. The molding member 41 can function to protect and support the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3. The molding member 41 preferably has an elastic modulus of 2.0 GPa or more. The molding member 41 preferably has a coefficient of thermal expansion of 40 ppm / 占 폚 or lower, which is equal to or lower than the glass transition temperature Tg.

발광소자 패키지(1)가 디스플레이 패널의 픽셀(pixel)로 이용되는 경우, 높은 콘트라스트 비를 얻기 위해, 몰딩 부재(41)는 반투명한(translucent) 수지로 이루어질 수 있다. 몰딩 부재(41)는 두께 50㎛ 기준으로 460㎚ 내지 480㎚ 파장의 광에 대해 30% 이상이고 89% 이하인 투과율을 가질 수 있다. 몰딩 부재(41)는 두께 50㎛ 기준으로 530㎚ 파장의 광에 대해 30% 이상이고 89% 이하인 투과율을 가질 수 있다. 높은 콘트라스트 비를 얻기 위해, 몰딩 부재(41)는 100이하의 명도를 가질 수 있다. 몰딩 부재(41)는 바람직하게 40이하의 명도를 가질 수 있다. 발광소자 패키지(1)가 실장되는 검정 인쇄회로기판(black PCB)의 명도가 20정도인 데, 몰딩 부재(41)의 명도가 40이하인 경우에는 꺼진 상태(off 상태)에서 발광소자 패키지(1)와 검정 인쇄회로기판의 명도 차이를 육안으로 인지하기 어렵다. When the light emitting device package 1 is used as a pixel of a display panel, in order to obtain a high contrast ratio, the molding member 41 may be made of translucent resin. The molding member 41 may have a transmittance of 30% or more and 89% or less with respect to light having a wavelength of 460 nm to 480 nm on the basis of a thickness of 50 탆. The molding member 41 may have a transmittance of 30% or more and 89% or less with respect to light having a wavelength of 530 nm on the basis of a thickness of 50 탆. In order to obtain a high contrast ratio, the molding member 41 may have a brightness of 100 or less. The molding member 41 may preferably have a lightness of 40 or less. The brightness of the black PCB on which the light emitting device package 1 is mounted is about 20 and when the brightness of the molding member 41 is 40 or less, the light emitting device package 1 is turned off (turned off) It is difficult to visually recognize the difference in brightness of the black printed circuit board.

몰딩 부재(41)는 에폭시 수지(epoxy resin), 실리콘 수지(silicone resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin), 폴리에스테르(polyester) 등의 투명 소재를 기본적으로 포함할 수 있다. 투과율 및 명도를 조절하기 위해, 몰딩 부재(41)는 0.005 wt% 이상이고 1 wt% 이하의 카본 블랙(carbon black)을 포함할 수 있다. 상기 카본 블랙은 빛을 흡수할 수 있고, 단파장일수록 흡수가 크다. 바람직하게 몰딩 부재(41)는 0.005 wt% 이상이고 0.3 wt% 이하의 카본 블랙을 포함할 수 있다. 열팽창 계수나 탄성계수(elastic modulus)를 조절하기 위해 몰딩 부재(41)는 무기질 필러(inorganic filler)를 더 포함할 수 있다. 상기 무기질 필러는 퓨즈드 실리카(fused silica) 입자 또는 실리콘 산화물(SiO2) 입자를 포함할 수 있다. 상기 무기질 필러는 100㎛ 이하의 최대 입자 크기를 가지는 것이 바람직하다. 상기 무기질 필러가 50 wt% 이상 포함되면, 광 산란에 의해 투과율이 저하된다. The molding member 41 may basically include a transparent material such as an epoxy resin, a silicone resin, a polyimide resin, and a polyester. In order to adjust transmittance and brightness, the molding member 41 may comprise 0.005 wt% or more and 1 wt% or less of carbon black. The carbon black can absorb light, and the shorter the wavelength, the greater the absorption. Preferably, the molding member 41 may comprise 0.005 wt% or more and 0.3 wt% or less of carbon black. The molding member 41 may further include an inorganic filler to control the thermal expansion coefficient and the elastic modulus. The inorganic filler may include fused silica particles or silicon oxide (SiO 2 ) particles. The inorganic filler preferably has a maximum particle size of 100 mu m or less. When the inorganic filler is contained in an amount of 50 wt% or more, the light transmittance is lowered by light scattering.

수지의 종류 및 무기질 필러의 함량에 따라 몰딩 부재(41)에 포함되는 카본 블랙의 적절한 함유량이 달라질 수 있다. 몰딩 부재(41)가 무기질 필러를 50 wt% 함유한 실리콘 수지인 경우, 몰딩 부재(41)는 0.04 wt% 이상이고 0.3 wt% 이하의 카본 블랙, 더욱 바람직하게 0.06 wt% 이상이고 0.2 wt% 이하의 카본 블랙을 포함할 수 있다. 몰딩 부재(41)가 무기질 필러를 50 wt% 함유한 에폭시 수지인 경우, 몰딩 부재(41)는 0.04 wt% 이상이고 0.2 wt% 이하의 카본 블랙을 포함할 수 있고, 더욱 바람직하게 0.06 wt% 이상이고 0.12 wt% 이하의 카본 블랙을 포함할 수 있다. 아래 표 1에 평가 데이터의 일부를 나타냈었다. The appropriate content of the carbon black contained in the molding member 41 may vary depending on the kind of the resin and the content of the inorganic filler. When the molding member 41 is a silicone resin containing 50 wt% of the inorganic filler, the molding member 41 is 0.04 wt% or more and 0.3 wt% or less of carbon black, more preferably 0.06 wt% or more and 0.2 wt% or less Of carbon black. When the molding member 41 is an epoxy resin containing 50 wt% of the inorganic filler, the molding member 41 may contain 0.04 wt% or more and 0.2 wt% or less of carbon black, more preferably 0.06 wt% or more And 0.12 wt% or less of carbon black. Part of the evaluation data is shown in Table 1 below.

도 4에는 몰딩 부재를 이루는 재료(이하, 몰딩 재료)의 두께 대 투과율의 변화가 도시되어 있다. 도 4에는 카본 블랙의 함유량에 따라 몰딩 재료의 투과율 변화가 도시되어 있다. 그리고, 도 4는 퓨즈드 실리카를 50 wt% 함유한 실리콘 수지를 포함하는 몰딩 재료에 대한 것이다. 도 4의 투과율은 520㎚ 파장의 광에 대 값들이다. 투과율은 카본 블랙의 함유량이 늘어날수록 감소한다. 투과율은 몰딩 재료의 두께가 증가함에 따라 급격히 감소한다. 카본 블랙의 함유량이 더 많은 경우, 투과율은 몰딩 재료의 두께가 증가함에 따라 더 급격히 감소한다. 예를 들어, 카본 블랙을 0.15wt% 함유한 경우, 몰딩 재료의 두께가 50㎛이면 투과율은 59.1%이고, 200㎛이면 투과율은 12.6%이다. Fig. 4 shows a change in thickness versus transmittance of a material (hereinafter referred to as a molding material) constituting a molding member. Fig. 4 shows the change in the transmittance of the molding material depending on the content of carbon black. And Figure 4 is for a molding material comprising a silicone resin containing 50 wt% of fused silica. The transmittance of FIG. 4 is a value for light of 520 nm wavelength. The transmittance decreases as the content of carbon black increases. The transmittance sharply decreases as the thickness of the molding material increases. When the content of carbon black is greater, the transmittance decreases more sharply as the thickness of the molding material increases. For example, in the case of containing 0.15 wt% of carbon black, the transmittance is 59.1% when the thickness of the molding material is 50 탆, and the transmittance is 12.6% when the thickness is 200 탆.

몰딩
재료
molding
material
색상/색도Color / Color 채도saturation 명도brightness RR GG BB 측정 파장별 투과율Transmittance by measurement wavelength
470㎚470 nm 530㎚530 nm 620㎚620 nm 1One 123123 189189 1818 44 3232 3434 15.815.8 17.417.4 19.819.8 22 4040 88 7575 8282 8282 7777 29.229.2 33.333.3 38.738.7 33 160160 00 00 00 00 00 4.04.0 4.64.6 5.35.3 44 110110 1010 8787 8888 9696 9494 24.824.8 26.426.4 28.028.0 55 138138 3131 104104 9696 112112 125125 22.922.9 24.324.3 25.925.9 66 139139 1919 126126 124124 134134 143143 35.235.2 37.237.2 39.439.4 77 138138 2727 135135 131131 145145 156156 32.832.8 34.534.5 36.336.3 88 138138 2121 154154 156156 165165 172172 43.443.4 45.445.4 47.847.8 99 128128 2626 4444 4242 5050 5252 -- -- --

* Black PCB의 명도는 20임.* Black PCB has a brightness of 20.

* 상기 표의 데이터들(색상/색도, 채도, 명도, R, G, B 좌표값)은 각각의 몰딩 재료에 백색광을 반사시켜서 얻은 광학 이미지를 분석하여 얻은 결과임.* The data in the above table (color / chroma, saturation, brightness, R, G, B coordinate values) are obtained by analyzing the optical image obtained by reflecting white light on each molding material.

* 상기 표의 투과율은 각각의 몰딩 재료에 470㎚, 530㎚, 620㎚ 파장의 광을 투과시켜 얻은 결과임.* The transmittance of the above table is the result obtained by transmitting light of wavelengths of 470 nm, 530 nm and 620 nm to each molding material.

몰딩 재료 1- Epoxy resin + silica 50wt% + Carbon 0.08wt%, 두께 200㎛Molding material 1 Epoxy resin + silica 50 wt% + Carbon 0.08 wt%, thickness 200 탆

몰딩 재료 2- Epoxy resin + silica 50wt% + Carbon 0.04wt%, 두께 200㎛Molding material 2- Epoxy resin + silica 50 wt% + Carbon 0.04 wt%, thickness 200 탆

몰딩 재료 3- Epoxy resin 또는 Silicon resin + silica 50wt% + Carbon 1wt% 이상, 두께 200㎛Molding material 3- Epoxy resin or Silicon resin + silica 50wt% + Carbon 1wt% or more, Thickness 200㎛

몰딩 재료 4- Silicone resin + silica 50wt% + Carbon 0.08wt%, 두께 200㎛Molding material 4-Silicone resin + silica 50wt% + Carbon 0.08wt%, thickness 200m

몰딩 재료 5- Silicone resin + silica 50wt% + Carbon 0.04wt%, 두께 300㎛Molding material 5-Silicone resin + silica 50 wt% + Carbon 0.04 wt%, thickness 300 탆

몰딩 재료 6- Silicone resin + silica 50wt% + Carbon 0.04wt%, 두께 200㎛Molding material 6- Silicone resin + silica 50wt% + Carbon 0.04wt%, thickness 200m

몰딩 재료 7- Silicone resin + silica 50wt% + Carbon 0.02wt%, 두께 300㎛Molding material 7- Silicone resin + silica 50 wt% + Carbon 0.02 wt%, thickness 300 탆

몰딩 재료 8- Silicone resin + silica 50wt% + Carbon 0.02wt%, 두께 200㎛Molding material 8- Silicone resin + silica 50wt% + Carbon 0.02wt%, thickness 200m

몰딩 재료 9- Epoxy resin + silica 87wt% + Carbon 0.3wt%, 두께 200㎛Molding material 9- Epoxy resin + silica 87wt% + Carbon 0.3wt%, thickness 200㎛

경우에 따라, 몰딩 부재(41)는 상기 카본 블랙을 포함하지 않고, 무기질 필러를 포함할 수 있다. 몰딩 부재(41)는 카본 블랙(carbon black) 및 무기질 필러 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. In some cases, the molding member 41 does not include the carbon black, and may include an inorganic filler. The molding member 41 may include at least one of carbon black and an inorganic filler.

몰딩 부재(41)는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)를 둘러싸는 다면체 형상, 예를 들어, 육면체 형상을 가질 수 있다. 몰딩 부재(41)는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)를 완전히 덮도록 형성된다. 몰딩 부재(41)는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 상면들 및 측면들을 덮으며, 일체로 형성될 수 있다. 몰딩 부재(41)의 전체 두께(c)는 500 ㎛ 이하일 수 있다. 보다 바람직하게, 몰딩 부재(41)의 전체 두께(c)는 20㎛ 이상이고 300㎛ 이하일 수 있고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 상면에 형성된 몰딩 부재(41)의 상부 두께(b)는 10㎛ 이상이고 200㎛이하일 수 있다. 예를 들어, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 칩 두께(a)가 10㎛ 정도인 경우, 몰딩 부재(41)의 전체 두께(c)는 20㎛ 이상이고 130㎛이하일 수 있고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 상면에 형성된 몰딩 부재(41)의 상부 두께(b)는 10㎛ 이상이고 120㎛이하일 수 있다. 예를 들어, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 칩 두께(a)가 100㎛ 정도인 경우, 몰딩 부재(41)의 전체 두께(c)는 110㎛ 이상이고 220㎛ 이하일 수 있고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 상면에 형성된 몰딩 부재(41)의 상부 두께(b)는 20㎛ 이상이고 120㎛이하일 수 있다. The molding member 41 may have a polyhedral shape, for example, a hexahedral shape, surrounding the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3. The molding member 41 is formed so as to completely cover the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3. The molding member 41 covers upper surfaces and side surfaces of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3, and may be integrally formed. The total thickness c of the molding member 41 may be 500 탆 or less. More preferably, the total thickness c of the molding member 41 may be 20 탆 or more and 300 탆 or less, and the upper thickness of the molding member 41 formed on the upper surface of the plurality of light emitting chips C1, (b) may be 10 占 퐉 or more and 200 占 퐉 or less. For example, when the chip thickness a of the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 is about 10 占 퐉, the entire thickness c of the molding member 41 may be 20 占 퐉 or more and 130 占 퐉 or less , The upper thickness b of the molding member 41 formed on the upper surface of the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 may be 10 占 퐉 or more and 120 占 퐉 or less. For example, when the chip thickness a of the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 is about 100 占 퐉, the total thickness c of the molding member 41 may be 110 占 퐉 or more and 220 占 퐉 or less , The upper thickness b of the molding member 41 formed on the upper surface of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 may be 20 占 퐉 or more and 120 占 퐉 or less.

복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 상면에 형성된 몰딩 부재(41)의 상부 두께(b)를 20㎛ 이상이고 120㎛이하로 얇게 조절함으로써, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 상부로 방출되는 광의 손실을 줄일 수 있다. 반면, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 측면에 형성된 몰딩 부재(41)의 두께는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 상면에 형성된 몰딩 부재(41)의 두께보다 두꺼우므로, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 측면으로 방출되는 광의 투과율은 상대적으로 훨씬 낮다. 따라서, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 주변은 어두우므로, 콘트라스트가 증가할 수 있다. 그리고, 발광소자 패키지(1)가 디스플레이 패널의 픽셀(pixel)로 이용되는 경우 이웃한 발광소자 패키지들(1), 즉 픽셀들 간의 크로스 토크(cross-talk)도 발생하지 않는다. A plurality of light emitting chips C1, C2, C3 may be formed by thinly adjusting the upper thickness b of the molding member 41 formed on the upper surface of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 to 20 占 퐉 or more and 120 占 퐉 or less, The loss of the light emitted to the upper portion of the light sources C3 and C3 can be reduced. On the other hand, the thickness of the molding member 41 formed on the side surfaces of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 is greater than the thickness of the molding member 41 formed on the upper surfaces of the plurality of light emitting chips C1, The transmittance of the light emitted to the side surfaces of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 is relatively much lower. Therefore, since the periphery of the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 is dark, the contrast can be increased. Also, when the light emitting device package 1 is used as a pixel of a display panel, cross talk between neighboring light emitting device packages 1, i.e., pixels, does not occur.

몰딩 부재(41)의 상면은 2㎛ 이상의 최고값 거칠기(Rmax)를 가지는 표면 거칠기(요철 구조)를 포함할 수 있다. 몰딩 부재(41)의 하면은 상기 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)이 배열된 제1 영역과 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함할 수 있다. 상기 제1 영역은 예를 들어, 사각형 구조의 영역일 수 있다. 상기 제2 영역은 사각 링 구조의 영역일 수 있다.The upper surface of the molding member 41 may include a surface roughness (concavo-convex structure) having a maximum value roughness Rmax of 2 탆 or more. The lower surface of the molding member 41 may include a first region in which the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 are arranged and a second region surrounding the first region. The first region may be, for example, a rectangular region. The second region may be a region of a rectangular ring structure.

복수의 개별 배선들(21, 22, 23)은 몰딩 부재(41)의 하면에 배치되고, 상기 제1 영역에서 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제1 전극들 각각에 연결되고, 상기 제1 영역에서 상기 제2 영역으로 연장될 수 있다. 복수의 개별 배선들(21, 22, 23)은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제1 전극들과 직접 접촉할 수 있다. 공통 배선(24)은 몰딩 부재(41)의 하면에 배치되고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제2 전극들에 공통적으로 연결되며 상기 제1 영역에서 상기 제2 영역으로 연장될 수 있다. 공통 배선(24)은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제2 전극들과 직접 접촉할 수 있다. 복수의 개별 배선들(21, 22, 23) 및 공통 배선(24)은 금속 물질로 이루어질 수 있다. 상기 금속 물질은 예를 들어, 금, 은, 구리, 알루미늄 등을 포함할 수 있다. The plurality of individual wirings 21, 22 and 23 are disposed on the lower surface of the molding member 41 and connected to the first electrodes of the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 in the first region , And extend from the first region to the second region. The plurality of individual wirings 21, 22, 23 can directly contact the first electrodes of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3. The common wiring 24 is disposed on the lower surface of the molding member 41 and is commonly connected to the second electrodes of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 and extends from the first region to the second region . The common wiring 24 can directly contact the second electrodes of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3. The plurality of individual wirings 21, 22, and 23 and the common wirings 24 may be made of a metal material. The metal material may include, for example, gold, silver, copper, aluminum, and the like.

복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)은 몰딩 부재(41)의 하면의 상기 제2 영역에 배치될 수 있다. 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)은 몰딩 부재(41)의 하면의 꼭지점들에 인접하도록 배치될 수 있다. 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)과 몰딩 부재(41)의 측면 사이의 패키지 간격(d3)은 500㎛ 이하, 보다 바람직하게 200㎛ 이하일 수 있다. 발광칩(C1, C3)과 몰딩 부재(41)의 측면 사이의 간격은 520㎛ 이하, 보다 바람직하게 220㎛ 이하일 수 있다. 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)은 각각 복수의 개별 배선들(21, 22, 23) 및 공통 배선(24)에 연결될 수 있다. 구체적으로, 전극 패드(31)는 개별 배선(21)과 직접 접촉하고, 전극 패드(32)는 개별 배선(22)과 직접 접촉되고, 전극 패드(33)는 개별 배선(23)과 직접 접촉할 수 있다. 그리고, 전극 패드(34)는 공통 배선(24)과 직접 접촉할 수 있다. 전극 패드(34)는 공통 패드로 지칭될 수 있다. The plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 may be disposed in the second region of the lower surface of the molding member 41. The plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 may be disposed adjacent to the vertexes of the lower surface of the molding member 41. The package distance d3 between the plurality of electrode pads 31, 32, 33 and 34 and the side surfaces of the molding member 41 may be 500 mu m or less, more preferably 200 mu m or less. The distance between the side surfaces of the light emitting chips C1 and C3 and the molding member 41 may be 520 占 퐉 or less, and more preferably 220 占 퐉 or less. The plurality of electrode pads 31, 32, 33 and 34 may be connected to a plurality of individual wirings 21, 22 and 23 and a common wiring 24, respectively. Specifically, the electrode pad 31 is in direct contact with the individual wiring 21, the electrode pad 32 is in direct contact with the individual wiring 22, and the electrode pad 33 is in direct contact with the individual wiring 23 . Then, the electrode pad 34 can directly contact the common wiring 24. The electrode pad 34 may be referred to as a common pad.

복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)은 적어도 일 방향에서 50 ㎛이상의 패드 간격(d2)을 가질 수 있다. 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)은 예를 들어, 50 ㎛×50 ㎛ 이상의 패드 크기(PDS)를 가질 수 있다. 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)들은 금속 물질로 이루어질 수 있다. 상기 금속 물질은 예를 들어, 금, 은, 구리, 알루미늄 등을 포함할 수 있다. The plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 may have a pad interval d2 of at least 50 mu m in at least one direction. The plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 may have a pad size (PDS) of, for example, 50 μm × 50 μm or more. The plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 may be made of a metal material. The metal material may include, for example, gold, silver, copper, aluminum, and the like.

복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)은 자성 금속 물질로 이루어질 수 있다. 상기 자성 금속 물질은 철, 니켈, 코발트 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 자성 금속 물질은 Fe 합금, Ni-Fe-Mo, Fe-Si-Al 등을 포함할 수 있다. 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)은 자성을 가지지 않는 상기 금속 물질 및 상기 금속 물질의 적어도 일부 표면에 상기 자성 금속 물질이 코팅된 적층 구조를 가질 수 있다. 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)이 자성 금속 물질을 포함하므로, 인쇄회로기판(PCB) 모듈에 발광소자 패키지(1)를 손쉽게 탈부착할 수 있다. 따라서, 발광소자 패키지(1)를 인쇄회로기판(PCB) 모듈에 표면 실장하는 공정이 간단하고 쉽게 이루어질 수 있고, 고장 난 발광소자 패키지(1)를 선택적으로 쉽게 교체할 수 있다. 인쇄회로기판(PCB) 모듈은 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)이 부착되는 금속 패드들을 포함하고, 상기 금속 패드들은 자성 금속 물질을 포함할 수 있다. The plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 may be formed of a magnetic metal material. The magnetic metal material may include at least one of iron, nickel, and cobalt. For example, the magnetic metal material may include an Fe alloy, Ni-Fe-Mo, Fe-Si-Al, or the like. The plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 may have a laminated structure in which the magnetic metal material having no magnetism and the magnetic metal material are coated on at least a part of the surface of the metal material. Since the plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 include the magnetic metal material, the light emitting device package 1 can be easily attached to and detached from the printed circuit board (PCB) module. Therefore, the process of surface mounting the light emitting device package 1 on the PCB module can be simple and easy, and the failed light emitting device package 1 can be selectively and easily replaced. The printed circuit board (PCB) module includes metal pads to which a plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 are attached, and the metal pads may include a magnetic metal material.

절연층(43)은 몰딩 부재(41)의 하면에서 배선들(21, 22, 23, 24)을 덮을 수 있고, 전극 패드들(31, 32, 33, 34)이 각각 배선들(21, 22, 23, 24)과 접촉할 수 있도록 오픈 영역을 가질 수 있다. 절연층(43)은 복수의 개별 배선들(21, 22, 23) 및 공통 배선(24)은 각각 콘택 영역을 가지며, 복수의 개별 배선들(21, 22, 23) 및 공통 배선(24)의 콘택 영역이 개방되도록 몰딩 부재(41)의 하면에 배치될 수 있다. The insulating layer 43 may cover the wirings 21, 22, 23 and 24 on the lower surface of the molding member 41 and the electrode pads 31, 32, 33 and 34 may cover the wirings 21 and 22 , 23, 24). The insulating layer 43 has a plurality of individual wirings 21, 22 and 23 and common wirings 24 each having a contact area and a plurality of individual wirings 21, 22 and 23 and common wirings 24 And can be disposed on the lower surface of the molding member 41 such that the contact area is opened.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 인쇄회로기판(PCB) 및 리드 프레임(lead-frame)을 사용하지 않으므로, 인쇄회로기판(PCB) 및 리드 프레임(lead-frame)에 발광 칩들을 실장하는 발광소자 패키지에 비해, 본 발명의 발광소자 패키지(1)의 두께가 훨씬 얇다. 발광소자 패키지(1)의 두께는 30 ~ 500㎛ 범위 또는 100 ~ 300㎛ 일 수 있다. According to an embodiment of the present invention, since a printed circuit board (PCB) and a lead-frame are not used, a light emitting device for mounting light emitting chips on a printed circuit board (PCB) and a lead- The thickness of the light emitting device package 1 of the present invention is much thinner than that of the package. The thickness of the light emitting device package 1 may range from 30 to 500 mu m or from 100 to 300 mu m.

발광소자 패키지(1)의 패키지 크기(PKS)는 예를 들어, 700㎛일 수 있다. The package size (PKS) of the light emitting device package 1 may be, for example, 700 mu m.

도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지에 채용가능한 발광칩들을 나타내는 도면들이다.5 and 6 are views showing light emitting chips that can be employed in a light emitting device package according to an embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 발광칩(120)은, 광투과성 기판(121)과, 광투과성 기판(121) 상에 배치된 반도체 적층체(125)를 포함할 수 있다. The light emitting chip 120 shown in Fig. 5 may include a light-transmitting substrate 121 and a semiconductor stacked body 125 disposed on the light-transmitting substrate 121. Fig.

광투과성 기판(121)은 사파이어와 같은 절연성 기판일 수 있다. 하지만, 이에 한정되지 않으며, 광투과성 기판(121)은 절연성 기판 외에도 광투과성을 보장할 수 있는 도전성 또는 반도체 기판일 수 있다. 광투과성 기판(121)의 상면은 주된 광방출면일 수 있다. 광투과성 기판(121)의 상면에는 요철(D)이 형성될 수 있다. 요철(D)은 광추출 효율을 개선하면서 성장되는 단결정의 품질을 향상시킬 수 있다.The light-transmitting substrate 121 may be an insulating substrate such as sapphire. However, the present invention is not limited thereto, and the light-transmitting substrate 121 may be a conductive or semiconductor substrate that can ensure light transmission in addition to an insulating substrate. The upper surface of the light-transmitting substrate 121 may be a main light-emitting surface. Irregularities D may be formed on the upper surface of the light-transmitting substrate 121. The unevenness D can improve the quality of the grown single crystal while improving the light extraction efficiency.

반도체 적층체(125)는 광투광성 기판(121) 상에 순차적으로 배치된 제1 도전형 반도체층(125a), 활성층(125b) 및 제2 도전형 반도체층(125c)을 포함할 수 있다. 광투과성 기판(121)과 제1 도전형 반도체층(125a) 사이에 버퍼층(122)을 배치시킬 수 있다.The semiconductor laminated body 125 may include a first conductive semiconductor layer 125a, an active layer 125b and a second conductive semiconductor layer 125c sequentially disposed on the light-transmitting substrate 121. [ The buffer layer 122 may be disposed between the light-transmitting substrate 121 and the first conductivity type semiconductor layer 125a.

버퍼층(122)은 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1)일수 있다. 예를 들어, 버퍼층(122)은 GaN, AlN, AlGaN, InGaN일 수 있다. 필요에 따라, 복수의 층을 조합하거나, 조성을 점진적으로 변화시켜 사용할 수도 있다.The buffer layer 122 may be In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1). For example, the buffer layer 122 may be GaN, AlN, AlGaN, InGaN. If necessary, a plurality of layers may be combined, or the composition may be gradually changed.

제1 도전형 반도체층(125a)은 n형 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x<1, 0≤y<1, 0≤x+y<1)을 만족하는 질화물 반도체일 수 있으며, n형 불순물은 Si일 수 있다. 예를 들어, 제1 도전형 반도체층(125a)은 n형 GaN을 포함할 수 있다. 제2 도전형 반도체층(125c)은 p형 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x<1, 0≤y<1, 0≤x+y<1)을 만족하는 질화물 반도체층일 수 있으며, p형 불순물은 Mg일 수 있다. 예를 들어, 제2 도전형 반도체층(125c)은 단층 구조로 구현될 수도 있으나, 서로 다른 조성을 갖는 다층 구조를 가질 수 있다. 활성층(125b)은 양자우물층과 양자장벽층이 서로 교대로 적층된 다중 양자우물(MQW) 구조일 수 있다. 예를 들어, 상기 양자우물층과 양자장벽층은 서로 다른 조성을 갖는 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)일 수 있다. 특정 예에서, 양자우물층은 InxGa1 - xN (0<x≤1)이며, 상기 양자장벽층은 GaN 또는 AlGaN일 수 있다. 활성층(125b)은 다중양자우물구조에 한정되지 않고, 단일양자우물 구조일 수 있다. The first conductivity type semiconductor layer 125a is a nitride semiconductor semiconductor that satisfies n-type In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X <1, 0? Y <1, 0? X + y < And the n-type impurity may be Si. For example, the first conductivity type semiconductor layer 125a may include n-type GaN. The second conductivity type semiconductor layer 125c may be a nitride semiconductor layer that satisfies a relationship of p-type In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X <1, 0? Y <1, 0? X + y < And the p-type impurity may be Mg. For example, the second conductive semiconductor layer 125c may have a single-layer structure, but may have a multi-layer structure having different compositions. The active layer 125b may be a multiple quantum well (MQW) structure in which quantum well layers and quantum barrier layers are alternately stacked. For example, the quantum well layer and the quantum barrier layer may have In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? 1) . In a particular example, the quantum well layer may be In x Ga 1 - x N (0 < x &lt; = 1 ) and the quantum barrier layer may be GaN or AlGaN. The active layer 125b is not limited to a multiple quantum well structure, but may be a single quantum well structure.

반도체 적층체(125)는 InAlGaN계의 질화물 반도체 물질로 이루어지는 것으로 설명하였으나, 이에 한정되지 않는다.The semiconductor stacked body 125 is made of an InAlGaN-based nitride semiconductor material, but is not limited thereto.

제1 및 제2 전극(127, 128)은, 동일한 면(제1 면)에 위치하도록, 제1 도전형 반도체층(125a)의 메사 에칭된 영역과 제2 도전형 반도체층(125c)에 각각 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 전극(127)은 Al, Au, Cr, Ni, Ti, Sn 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 제2 전극(128)은 반사성 금속으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제2 전극(128)은 Ag, Ni, Al, Cr, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au 등의 물질을 포함할 수 있으며, 단일층 또는 2층 이상의 구조로 채용될 수 있다. The first and second electrodes 127 and 128 are formed on the mesa-etched region of the first conductivity type semiconductor layer 125a and the second conductivity type semiconductor layer 125c on the same surface (first surface) . For example, the first electrode 127 may include at least one of Al, Au, Cr, Ni, Ti, and Sn. The second electrode 128 may be formed of a reflective metal. For example, the second electrode 128 may include a material such as Ag, Ni, Al, Cr, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, As shown in FIG.

반도체 적층체(125)가 청색광이나 UV광을 방출하는 경우에, 광투과성 기판(121) 상에 형광체 또는 양자점을 포함하는 파장 변환층이 더 구비될 수 있다. In the case where the semiconductor laminate 125 emits blue light or UV light, a wavelength conversion layer including a phosphor or a quantum dot may be further provided on the light-transmitting substrate 121.

도 6에 도시된 발광칩(130)은 광투과성 기판(131)의 일면에 배치된 반도체 적층체(135)를 포함한다. 반도체 적층체(135)는 제1 도전형 반도체층(135a), 활성층(135b) 및 제2 도전형 반도체층(135c)을 포함할 수 있다. The light emitting chip 130 shown in FIG. 6 includes a semiconductor stacked body 135 disposed on one surface of the light transmitting substrate 131. The semiconductor stack 135 may include a first conductive semiconductor layer 135a, an active layer 135b, and a second conductive semiconductor layer 135c.

발광칩(130)은 제1 및 제2 도전형 반도체층(135a, 135c)에 각각 접속된 제1 및 제2 전극(137, 138)을 포함한다. 제1 전극(137)은 제2 도전형 반도체층(135c) 및 활성층(135b)을 관통하여 제1 도전형 반도체층(135a)과 접속된 도전성 비아와 같은 연결 전극(137a)과, 연결 전극(137a)에 연결된 제1 전극 패드(137b)를 포함할 수 있다. 연결 전극(137a)은 절연부(133)에 의하여 둘러싸여 활성층(135b) 및 제2 도전형 반도체층(135c)과 전기적으로 분리될 수 있다. 연결 전극(137a)은 반도체 적층체(135)가 식각된 영역에 배치될 수 있다. 연결 전극(137a)은 접촉 저항이 낮아지도록 개수, 형상, 피치 또는 제1 도전형 반도체층(135a)과의 접촉 면적 등을 적절히 설계할 수 있다. 또한, 연결 전극(137a)은 반도체 적층체(125) 상에 행과 열을 이루도록 배열됨으로써 전류 흐름을 개선시킬 수 있다. 제2 전극(138)은 제2 도전형 반도체층(135c) 상의 오믹 콘택층(138a) 및 제2 전극 패드(138b)를 포함할 수 있다.The light emitting chip 130 includes first and second electrodes 137 and 138 connected to the first and second conductivity type semiconductor layers 135a and 135c, respectively. The first electrode 137 includes a connection electrode 137a such as a conductive via which is connected to the first conductivity type semiconductor layer 135a through the second conductivity type semiconductor layer 135c and the active layer 135b, And a first electrode pad 137b connected to the first electrode pad 137a. The connection electrode 137a may be surrounded by the insulating portion 133 and electrically separated from the active layer 135b and the second conductivity type semiconductor layer 135c. The connection electrode 137a may be disposed in an area where the semiconductor stacked body 135 is etched. The number, shape, pitch, or contact area between the connection electrode 137a and the first conductivity type semiconductor layer 135a can be appropriately designed so that the contact resistance is lowered. Further, the connection electrode 137a is arranged in rows and columns on the semiconductor stacked body 125, thereby improving the current flow. The second electrode 138 may include an ohmic contact layer 138a and a second electrode pad 138b on the second conductive semiconductor layer 135c.

연결 전극(137a) 및 오믹 콘택층(138a)은 각각 제1 및 제2 도전형 반도체층(135a, 135b)과 오믹 특성을 갖는 도전성 물질이 1층 또는 다층 구조를 포함할 수 있다. 예를 들어, Ag, Al, Ni, Cr, 투명 도전성 산화물(TCO) 등의 물질 중 하나 이상을 증착하거나 스퍼터링하는 등의 공정으로 형성될 수 있다. 제1 및 제2 전극 패드(137b, 138b)는 각각 상기 연결 전극(137a) 및 오믹 콘택층(138a)에 각각 접속되어 발광칩(130)의 외부 단자로 기능할 수 있다. 예를 들어, 제1 및 제2 전극 패드(137b, 138b)는 Au, Ag, Al, Ti, W, Cu, Sn, Ni, Pt, Cr, NiSn, TiW, AuSn 또는 이들의 공융 금속을 포함할 수 있다. 절연부(133)는 예를 들어, SiO2, SiOxNy, SixNy 등의 실리콘 산화물, 실리콘 질화물을 포함할 수 있다. 절연부(133)는 높은 반사율을 확보하기 위해서, 광투과성 물질 내에 광 반사성 필러를 분산시키거나 분산 브래그 반사경(DBR) 구조를 도입할 수 있다. The connection electrode 137a and the ohmic contact layer 138a may include a single layer or a multi-layer structure of the conductive material having ohmic characteristics with the first and second conductivity type semiconductor layers 135a and 135b, respectively. For example, a process of vapor-depositing or sputtering at least one of Ag, Al, Ni, Cr, and a transparent conductive oxide (TCO). The first and second electrode pads 137b and 138b may be respectively connected to the connection electrode 137a and the ohmic contact layer 138a to function as an external terminal of the light emitting chip 130. [ For example, the first and second electrode pads 137b and 138b may include Au, Ag, Al, Ti, W, Cu, Sn, Ni, Pt, Cr, NiSn, TiW, AuSn, . The insulating portion 133 may include, for example, silicon oxide such as SiO 2 , SiO x N y , Si x N y , or silicon nitride. The insulating portion 133 may disperse the light reflective filler in the light-transmitting material or introduce a distributed Bragg reflector (DBR) structure to secure a high reflectance.

반도체 적층체(135)가 청색광이나 UV광을 방출하는 경우에, 광투과성 기판(131) 상에 형광체 또는 양자점을 포함하는 파장 변환층이 더 구비될 수 있다. When the semiconductor laminate 135 emits blue light or UV light, a wavelength conversion layer including a phosphor or a quantum dot may be further provided on the light-transmitting substrate 131.

도 7a 내지 도 7h는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(1)의 제조방법을 설명하는 주요 공정별 단면도이다. 제조방법은 웨이퍼 레벨에서 진행되며, 도 7a 내지 도 7h에서는 하나의 발광소자 패키지 영역 위주로 설명한다.7A to 7H are cross-sectional views of major processes illustrating a method of manufacturing the light emitting device package 1 according to an embodiment of the present invention. The manufacturing method is performed at the wafer level, and in FIGS. 7A to 7H, one light emitting device package region will be described.

도 7a를 참조하면, 캐리어 웨이퍼(11) 상에 접착 테이프(12)를 붙인 다음, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)를 원하는 간격으로 배열한다. 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 서로 다른 파장의 광을 방출할 수 있다. 접착 테이프(12)는 예를 들어, 열박리 테이프일 수 있다. 캐리어 웨이퍼(11)가 UV를 투과시키는 성질을 가진 경우, UV박리 테이프일 수 있다. 접착 테이프(12)는 이에 제한되지 않는다. 7A, an adhesive tape 12 is stuck on a carrier wafer 11, and a plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 are arranged at desired intervals. The plurality of light emitting chips (C1, C2, C3) can emit light of different wavelengths. The adhesive tape 12 may be, for example, a heat peeling tape. When the carrier wafer 11 has a property of transmitting UV, it may be a UV peeling tape. The adhesive tape 12 is not limited thereto.

도 7b를 참조하면, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)을 완전히 덮도록 몰딩 부재(41)를 형성한다. 몰딩 부재(41)는 예를 들어, 도포 공정 및 경화 공정을 통해 형성될 수 있다. Referring to FIG. 7B, the molding member 41 is formed to completely cover the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3. The molding member 41 may be formed, for example, through a coating process and a curing process.

도 7c를 참조하면, 캐리어 웨이퍼(14)를 접착 테이프(13)를 이용하여 몰딩 부재(41)의 상면에 부착한다. 예를 들어, 캐리어 웨이퍼(14)는 UV를 투과시키는 유리 기판일 수 있고, 접착 테이프(13)는 UV박리 테이프일 수 있다. 이와 달리, 접착 테이프(13)는 열박리 테이프일 수 있다. Referring to Fig. 7C, the carrier wafer 14 is attached to the upper surface of the molding member 41 using the adhesive tape 13. Fig. For example, the carrier wafer 14 may be a glass substrate that transmits UV, and the adhesive tape 13 may be a UV peeling tape. Alternatively, the adhesive tape 13 may be a heat peeling tape.

도 7d를 참조하면, 캐리어 웨이퍼(11)를 제거한다. 예를 들어, 접착 테이프(12)가 열박리 테이프인 경우, 열을 가하여 캐리어 웨이퍼(11)를 제거할 수 있다. 몰딩 부재(41)의 일면에 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제1 및 제2 전극들이 노출될 수 있다. 7D, the carrier wafer 11 is removed. For example, when the adhesive tape 12 is a heat peeling tape, the carrier wafer 11 can be removed by applying heat. The first and second electrodes of the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 may be exposed on one surface of the molding member 41. [

도 7e를 참조하면, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제1 전극들에 각각 연결되는 개별 배선들(21, 22, 23) 및 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제2 전극들에 공통적으로 연결되는 공통 배선(24)을 형성한다. 그리고, 개별 배선들(21, 22, 23) 및 공통 배선(24)을 덮는 절연층(43)을 형성한다. 절연층(43)은 개별 배선들(21, 22, 23) 및 공통 배선(24)의 콘택 영역들을 노출시키는 오픈 영역을 가진다. 그리고, 상기 콘택 영역들에 접촉하는 전극 패드들(31, 32, 33, 34)을 형성할 수 있다. 캐리어 웨이퍼(14) 상에 복수의 발광소자 패키지들이 형성될 수 있다. Referring to FIG. 7E, the individual wirings 21, 22, 23 and the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 connected to the first electrodes of the plurality of light emitting chips C1, C2, A common wiring 24 is formed which is commonly connected to the second electrodes of the TFT array substrate. Then, the insulating layer 43 covering the individual wirings 21, 22, 23 and the common wiring 24 is formed. The insulating layer 43 has open regions for exposing the contact regions of the individual wirings 21, 22, 23 and the common wirings 24. The electrode pads 31, 32, 33, and 34 that contact the contact regions may be formed. A plurality of light emitting device packages may be formed on the carrier wafer 14.

도 7f를 참조하면, 캐리어 웨이퍼(14)를 제거하기 위해, 상기 복수의 발광소자 패키지들의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)을 덮도록 테이프(15)를 부착한다.7F, a tape 15 is attached to cover the electrode pads 31, 32, 33, and 34 of the plurality of light emitting device packages in order to remove the carrier wafer 14.

도 7g를 참조하면, 캐리어 웨이퍼(14)를 제거한다. 예를 들어, 접착 테이프(13)가 UV박리 테이프인 경우, UV를 조사하여 캐리어 웨이퍼(14)를 제거할 수 있다.Referring to FIG. 7G, the carrier wafer 14 is removed. For example, when the adhesive tape 13 is a UV peeling tape, the carrier wafer 14 can be removed by irradiating UV light.

도 7h를 참조하면, 상기 복수의 발광소자 패키지들을 다이싱 테이프(16)에 전사한 다음, 원하는 크기로 절단하여 예를 들어, 3개의 발광칩들(C1, C2, C3)를 포함하는 크기로 절단하여 개별 발광소자 패키지를 제조할 수 있다. 7H, the plurality of light emitting device packages are transferred to the dicing tape 16 and then cut into a desired size, for example, to a size including three light emitting chips C1, C2, and C3 So that individual light emitting device packages can be manufactured.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(1A)를 나타내는 사시도이다. 도 9는 도 8의 발광소자 패키지(1A)를 나타내는 단면도이다. 도 9는 도 3의 I-I'선에 따른 단면도에 대응된다.8 is a perspective view showing a light emitting device package 1A according to an embodiment of the present invention. 9 is a sectional view showing the light emitting device package 1A of Fig. Fig. 9 corresponds to a cross-sectional view taken along the line I-I 'in Fig.

도 8 및 도 9를 참조하면, 발광소자 패키지(1A)는 발광소자 패키지(1)와 비교하여, 몰딩 부재(41a)의 상면에 배치된 금속층(51)을 더 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 8 and 9, the light emitting device package 1A may further include a metal layer 51 disposed on the upper surface of the molding member 41a, as compared with the light emitting device package 1. FIG.

금속층(51)은 티타늄, 크롬 또는 이들의 조합 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 금속층(51)은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)로부터 방출된 광의 적어도 일부가 투과할 수 있는 정도의 얇은 두께로 형성된 박막이다. 금속층(51)은 물리적 기상 증착(PVD) 공정이나 화학적 기상 증착(CVD) 공정에 의해 형성될 수 있다. 본 실시예에서, 몰딩 부재(41a)는 에폭시 수지(epoxy resin), 실리콘 수지(silicone resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin), 폴리에스테르(polyester) 등의 투명 소재만으로 이루어질 수 있다. 투명한 몰딩 부재(41a)의 상면에 금속층(51)을 형성함으로써, 발광소자 패키지(1A)가 디스플레이 패널의 픽셀(pixel)로 이용되는 경우, 높은 콘트라스트 비를 얻을 수 있다. The metal layer 51 may comprise any one of titanium, chromium, or combinations thereof. The metal layer 51 is a thin film formed to a thickness such that at least a part of the light emitted from the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 can transmit. The metal layer 51 may be formed by a physical vapor deposition (PVD) process or a chemical vapor deposition (CVD) process. In this embodiment, the molding member 41a may be made of only a transparent material such as an epoxy resin, a silicone resin, a polyimide resin, or a polyester. By forming the metal layer 51 on the upper surface of the transparent molding member 41a, a high contrast ratio can be obtained when the light emitting device package 1A is used as a pixel of a display panel.

도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(1B)를 나타내는 사시도이다. 도 11은 도 10의 발광소자 패키지(1B)를 나타내는 단면도이다. 도 11은 도 3의 I-I'선에 따른 단면도에 대응된다.10 is a perspective view showing a light emitting device package 1B according to an embodiment of the present invention. 11 is a cross-sectional view showing the light emitting device package 1B of Fig. 11 corresponds to a cross-sectional view taken along a line I-I 'in Fig.

도 10 및 도 11을 참조하면, 발광소자 패키지(1B)는 발광소자 패키지(1)와 비교하여, 몰딩 부재(41a)의 하면 상에 배치된 하부층(53)을 더 포함할 수 있다. 10 and 11, the light emitting device package 1B may further include a lower layer 53 disposed on the lower surface of the molding member 41a, as compared with the light emitting device package 1. As shown in FIG.

하부층(53)은 예를 들면, 크롬 또는 흑색 안료(black pigment)를 포함하는 블랙 매트릭스 등의 흑색 수지로 형성될 수 있다. 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 하부층(53)은 가시광선을 흡수할 수 있는 적절한 재료를 포함할 수 있다. 하부층(53)은 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)을 노출시키며 절연층(43)을 덮도록 배치될 수 있다. The lower layer 53 may be formed of, for example, a black resin such as a black matrix containing chromium or a black pigment. The present invention is not limited thereto, and the lower layer 53 may comprise a suitable material capable of absorbing visible light. The lower layer 53 may be disposed to cover the insulating layer 43, exposing a plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34.

본 실시예에서, 몰딩 부재(41a)는 에폭시 수지(epoxy resin), 실리콘 수지(silicone resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin), 폴리에스테르(polyester) 등의 투명 소재만으로 이루어질 수 있다. 투명한 몰딩 부재(41a)의 하면에 하부층(53)을 형성함으로써, 발광소자 패키지(1B)가 디스플레이 패널의 픽셀(pixel)로 이용되는 경우, 높은 콘트라스트 비를 얻을 수 있다. In this embodiment, the molding member 41a may be made of only a transparent material such as an epoxy resin, a silicone resin, a polyimide resin, or a polyester. By forming the lower layer 53 on the lower surface of the transparent molding member 41a, a high contrast ratio can be obtained when the light emitting device package 1B is used as a pixel of a display panel.

도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(1C)를 나타내는 사시도이다. 도 13a 및 도 13b는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(1C)를 나타내는 평면도 및 배면도이다. 도 14a, 도 14b 및 도 14c는 각각 도 13a에 도시된 발광소자 패키지(1C)의 I-I'선, II-II'선 및 III-III'선 에 따른 단면도이다.12 is a perspective view showing a light emitting device package 1C according to an embodiment of the present invention. 13A and 13B are a plan view and a rear view illustrating a light emitting device package 1C according to an embodiment of the present invention. 14A, 14B, and 14C are sectional views taken along line I-I ', line II-II', and line III-III ', respectively, of the light emitting device package 1C shown in FIG. 13A.

도 12 내지 도 14c를 참조하면, 발광소자 패키지(1C)는 발광소자 패키지(1)와 비교하여, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)를 둘러싸는 격벽 구조(55)를 더 포함할 수 있다. 격벽 구조(55)는 블랙 매트릭스 등의 흑색 수지로 형성될 수 있다. 또한, 격벽 구조(55)는 표면에 티타늄, 크롬, 또는 이들의 조합이 코팅된 금속 구조체일 수 있다. 상기 금속 구조체는 예를 들어, 구리, 알루미늄 등으로 형성될 수 있다. 또한, 격벽 구조(55)는 글래스 프릿(glass frit) 등의 세라믹 소재로 형성될 수 있다. 발광소자 패키지(1C)가 격벽 구조(55)를 더 포함하면, 몰딩 부재(41)만을 가지는 발광소자 패키지(1)에 비해 발광소자 패키지(1C)는 더 높은 탄성계수(2 GPa 이상) 및 더 낮은 열팽창계수(30 ppm/℃ 이하)를 가질 수 있다. 인쇄회로기판의 열팽창계수가 10~20 ppm/℃이므로, 발광소자 패키지(1C)가 상기 인쇄회로기판에 실장 되었을 때, 열팽창 계수의 미스매치(mismatch)가 감소되어 제품의 신뢰성이 향상될 수 있다. 그리고, 발광소자 패키지(1C)는 더 높은 강성을 가질 수 있다. 몰딩 부재(41)를 이루는 수지(resin)는 30 ~ 100 ppm/℃ 정도의 열팽창 계수를 가진다. 격벽 구조(55)가 금속 구조체인 경우, 히트 싱크로서 기능하고, 2 GPa 이상의 높은 탄성 계수 및 10 ~ 30 ppm/℃ 범위의 낮은 열팽창계수를 가질 수 있다. 격벽 구조(55)가 글래스 프릿으로 이루어진 경우, 2 GPa 이상의 높은 탄성 계수 및 10 ~ 30 ppm/℃ 범위의 열팽창계수를 가질 수 있다.12 to 14C, the light emitting device package 1C further includes a partition wall structure 55 surrounding the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 in comparison with the light emitting device package 1 . The barrier rib structure 55 may be formed of a black resin such as a black matrix. Further, the barrier rib structure 55 may be a metal structure whose surface is coated with titanium, chromium, or a combination thereof. The metal structure may be formed of, for example, copper, aluminum, or the like. The barrier rib structure 55 may be formed of a ceramic material such as glass frit. When the light emitting device package 1C further includes the partition wall structure 55, the light emitting device package 1C has a higher elastic modulus (2 GPa or more) and a higher elastic modulus And may have a low coefficient of thermal expansion (30 ppm / DEG C or less). Since the thermal expansion coefficient of the printed circuit board is 10 to 20 ppm / 占 폚, when the light emitting device package 1C is mounted on the printed circuit board, the mismatch of the thermal expansion coefficient is reduced and the reliability of the product can be improved . Further, the light emitting device package 1C can have a higher rigidity. The resin forming the molding member 41 has a thermal expansion coefficient of about 30 to 100 ppm / ° C. When the barrier structure 55 is a metal structure, it can function as a heat sink and have a high modulus of elasticity of 2 GPa or more and a low thermal expansion coefficient of 10 to 30 ppm / 占 폚. When the barrier rib structure 55 is made of glass frit, it can have a high elastic modulus of 2 GPa or more and a thermal expansion coefficient of 10 to 30 ppm / 占 폚.

격벽 구조(55)는 도시된 바와 달리, 경사진 측벽을 가질 수 있다. 격벽 구조(55)의 높이(PT)는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 칩 두께(a)보다 클 수 있다. 격벽 구조(55)의 높이(PT)는 예를 들어, 80㎛ 이상일 수 있다. 격벽 구조(55)의 상면은 몰딩 부재(41)의 상면보다 낮을 수 있다. 즉, 몰딩 부재(41)는 격벽 구조(55)를 덮을 수 있다. The barrier structure 55 may have a sloped side wall, as shown. The height PT of the partition wall structure 55 may be larger than the chip thickness a of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3. The height PT of the barrier rib structure 55 may be, for example, 80 占 퐉 or more. The upper surface of the partition wall structure 55 may be lower than the upper surface of the molding member 41. That is, the molding member 41 may cover the partition structure 55.

격벽 구조(55)의 높이가 낮으면 지향각이 증가하고, 격벽 구조(55)의 높이가 높으면 지향각은 감소하나 COA(color over angle)이 감소될 수 있다. When the height of the barrier rib structure 55 is low, the directivity angle increases. When the height of the barrier rib structure 55 is high, the directivity angle is reduced but the color over angle (COA) can be reduced.

도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(2)를 나타내는 단면도이다. 도 16은 도 15에 도시된 발광소자 패키지(2)의 IV-IV'에 따른 단면도이다. 15 is a sectional view showing a light emitting device package 2 according to an embodiment of the present invention. 16 is a cross-sectional view taken along IV-IV 'of the light emitting device package 2 shown in FIG.

발광소자 패키지(2)는 m×n의 행렬로 배치된 복수의 픽셀 영역들(PX)을 포함할 수 있다. 여기서, m과 n은 1보다 큰 정수이다. 복수의 픽셀 영역들(PX)에는 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명한 발광소자 패키지(1)에 대응되는 구조들이 반복적으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 발광소자 패키지(2)는 3×4의 행렬로 배치된 복수의 픽셀 영역들(PX)을 포함할 수 있다. The light emitting device package 2 may include a plurality of pixel regions PX arranged in a matrix of m x n. Where m and n are integers greater than one. The structures corresponding to the light emitting device package 1 described with reference to Figs. 1 to 3 may be repeatedly arranged in the plurality of pixel regions PX. For example, the light emitting device package 2 may include a plurality of pixel regions PX arranged in a 3x4 matrix.

설명의 편의상, 발광소자 패키지(1)에서 몰딩 부재(41) 및 절연층(43)을 제외한 나머지 구성 요소들(복수의 발광칩들(C1, C2, C3), 복수의 개별 배선들(21, 22, 23), 공통 배선(24), 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34))을 발광소자 유닛(LU)으로 지칭한다. For convenience of explanation, the remaining components (the plurality of light emitting chips C1, C2, C3), the plurality of individual wirings 21, 22, and 23, except for the molding member 41 and the insulating layer 43, 22, and 23, the common wiring 24, and the plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34) are referred to as a light emitting element unit (LU).

복수의 픽셀 영역들(PX)에는 복수의 발광소자 유닛들(LU)이 배치되고, 몰딩 부재(241)는 복수의 발광소자 유닛들(LU)을 덮도록 일체로 형성될 수 있다. The plurality of light emitting element units LU may be disposed in the plurality of pixel regions PX and the molding member 241 may be integrally formed to cover the plurality of light emitting element units LU.

픽셀 영역(PX)은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)이 배열되는 제1 영역과 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함할 수 있다. The pixel region PX may include a first region in which a plurality of light emitting chips C1, C2, C3 are arranged and a second region surrounding the first region.

발광소자 유닛(LU)은, 픽셀 영역(PX)의 상기 제1 영역에 배치된 복수의 발광칩들(C1, C2, C3), 몰딩 부재(241)의 하면에 배치되고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21, 22, 23), 몰딩 부재(241)의 하면에 배치되고 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24) 및 픽셀 영역(PX)의 상기 제2 영역에 배치된 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)을 포함할 수 있다. 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)는 픽셀 영역(PX)의 꼭지점들에 인접하게 배치될 수 있다. The light emitting element unit LU is disposed on the lower surface of the molding member 241 and includes a plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 arranged in the first region of the pixel region PX, Three individual wirings 21, 22 and 23 respectively connected to the light emitting chips C1, C2 and C3 and a plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 which are arranged on the lower surface of the molding member 241, And a plurality of electrode pads 31, 32, 33, 34 disposed in the second region of the pixel region PX. The plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 may be disposed adjacent to the vertices of the pixel region PX.

복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 예를 들어, 각각 적색 발광칩, 녹색 발광칩, 청색 발광칩일 수 있다. The plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 may be, for example, a red light emitting chip, a green light emitting chip, and a blue light emitting chip, respectively.

발광소자 패키지(2)는 도 7a 내지 도 7g의 공정을 수행한 다음, 도 7h의 공정에서, 상기 복수의 발광소자 패키지들을 다이싱 테이프(16)에 전사한 다음, 원하는 크기로 절단하여 예를 들어, 3×4의 행렬의 발광소자 유닛들(LU)을 포함하는 크기로 절단하여 개별 발광소자 패키지(2)를 제조할 수 있다. 7A to 7G. In the process of FIG. 7H, the plurality of light emitting device packages are transferred to the dicing tape 16, and then cut into a desired size, For example, the individual light emitting device package 2 can be manufactured by cutting to a size including the light emitting device units (LU) of the matrix of 3 × 4.

도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(2A)를 나타내는 단면도이다. 도 18은 도 17에 도시된 발광소자 패키지(2A)의 IV-IV'에 따른 단면도이다. 17 is a sectional view showing a light emitting device package 2A according to an embodiment of the present invention. 18 is a cross-sectional view taken along line IV-IV 'of the light emitting device package 2A shown in Fig.

도 17 및 도 18을 참조하면, 발광소자 패키지(2A)는 발광소자 패키지(2)와 비교하여 격벽 구조(255)를 더 포함할 수 있다. Referring to FIGS. 17 and 18, the light emitting device package 2A may further include a barrier structure 255 as compared with the light emitting device package 2.

격벽 구조(255)는 복수의 발광소자 유닛들(LU) 사이에 배치될 수 있다. 격벽 구조(255)는 블랙 매트릭스 등의 흑색 수지로 형성될 수 있다. 또한, 격벽 구조(255)는 표면에 티타늄, 크롬, 또는 이들의 조합이 코팅된 금속 구조체일 수 있다. 상기 금속 구조체는 예를 들어, 구리, 알루미늄 등으로 형성될 수 있다.The barrier rib structure 255 may be disposed between the plurality of light emitting element units (LU). The barrier rib structure 255 may be formed of a black resin such as a black matrix. Further, the barrier rib structure 255 may be a metal structure whose surface is coated with titanium, chromium, or a combination thereof. The metal structure may be formed of, for example, copper, aluminum, or the like.

격벽 구조(255)는 도시된 바와 달리, 경사진 측벽을 가질 수 있다. 격벽 구조(255)의 높이(PT)는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 칩 두께(a)보다 클 수 있다. 몰딩 부재(241)는 격벽 구조(255)를 덮을 수 있다. 격벽 구조(255)의 높이(PT)는 예를 들어, 80㎛ 이상일 수 있다. 격벽 구조(255)의 상면은 몰딩 부재(241)의 상면보다 낮을 수 있다. 격벽 구조(255)의 폭(PW)은 50㎛ 이상이고, 수학식'패키지 크기(PKS)-(발광칩 크기(CS)×3 + 칩 간격(d1)×2 + 50㎛)'에 의해 도출된 값보다 작을 수 있다. 상기 패키지 크기(PKS)는 피치(pitch)일 수 있다.The barrier structure 255 may have a sloped side wall, as shown. The height PT of the barrier rib structure 255 may be larger than the chip thickness a of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3. The molding member 241 may cover the partition structure 255. The height PT of the barrier rib structure 255 may be, for example, 80 占 퐉 or more. The upper surface of the barrier rib structure 255 may be lower than the upper surface of the molding member 241. The width PW of the barrier rib structure 255 is 50 μm or more and is derived by the formula 'package size (PKS) - (light emitting chip size CS 3 × chip spacing d 1 × 2 + 50 μm) Lt; / RTI &gt; The package size (PKS) may be a pitch.

격벽 구조(255)의 높이가 낮으면 지향각이 증가하고, 격벽 구조(255)의 높이가 높으면 지향각은 감소하나 COA(color over angle)이 감소될 수 있다. When the height of the barrier rib structure 255 is low, the directivity angle increases. When the height of the barrier rib structure 255 is high, the directivity angle decreases but the color over angle (COA) can be reduced.

도 19a 및 도 19b는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(3)를 나타내는 평면도 및 단면도이다.19A and 19B are a plan view and a sectional view showing a light emitting device package 3 according to an embodiment of the present invention.

도 19a 및 도 19b를 참조하면, 발광소자 패키지(3)는 발광소자 패키지(1)와 비교하여, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 배열이 다르다. 일렬로 배열된 것이 아니라, 소형화에 유리하도록 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)이 삼각형 형태로 배열될 수 있다. 발광소자 패키지(3)는 발광소자 패키지(1)에 비해 더 작은 사이즈를 가질 수 있다. 예를 들어, 발광소자 패키지(1)는 700㎛ × 700㎛의 사이즈를 가지고, 발광소자 패키지(3)는 500㎛ × 500㎛의 사이즈를 가질 수 있다. 발광소자 패키지(3)는 고화질(예를 들어, 4K UHD, 8K UHD)의 디스플레이에서 요구되는 미세 피치(fine pitch)를 구현하기가 용이할 수 있다.19A and 19B, the light emitting device package 3 differs from the light emitting device package 1 in the arrangement of the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3. The plurality of light emitting chips C1, C2, C3 may be arranged in a triangular shape so as to be advantageous for miniaturization, instead of being arranged in a line. The light emitting device package 3 may have a smaller size than the light emitting device package 1. [ For example, the light emitting device package 1 may have a size of 700 mu m x 700 mu m, and the light emitting device package 3 may have a size of 500 mu m x 500 mu m. The light emitting device package 3 may be easy to realize a fine pitch required in a display of high picture quality (for example, 4K UHD, 8K UHD).

복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 배열이 변경됨에 따라, 복수의 개별 배선들(21, 22, 23)의 형상이 변경되고, 길이가 짧아질 수 있다. 공통 배선(24)의 형상 및 길이도 변경될 수 있다. 복수의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)의 크기도 작아질 수 있다. 예를 들어, 도 2a 및 도 2b의 발광소자 패키지(1)와 달리, 복수의 개별 배선들(21, 22, 23) 및 공통 배선(24)은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)가 배열된 몰딩 부재(41)의 하면의 상기 제1 영역 내에 배치될 수 있다. 상기 제1 영역은 예를 들어, 사각형 구조의 영역일 수 있다. As the arrangement of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 is changed, the shape of the plurality of individual wirings 21, 22, 23 can be changed and the length can be shortened. The shape and length of the common wiring 24 can also be changed. The sizes of the plurality of electrode pads 31, 32, 33, and 34 can be reduced. For example, unlike the light emitting device package 1 of Figs. 2A and 2B, the plurality of individual wirings 21, 22, 23 and the common wirings 24 are formed by a plurality of light emitting chips C1, C2, May be disposed in the first region of the lower surface of the molding member 41 arranged. The first region may be, for example, a rectangular region.

일 실시예에서, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 배열은 'Y'자 형태로 배열될 수 있다.In one embodiment, the arrangement of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 may be arranged in a 'Y' shape.

도 20은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(4)를 나타내는 단면도이다. 도 21은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(4)의 픽셀 셋트(PS)의 회로도이다. 20 is a sectional view showing a light emitting device package 4 according to an embodiment of the present invention. 21 is a circuit diagram of a pixel set PS of a light emitting device package 4 according to an embodiment of the present invention.

도 20 및 도 21을 참조하면, 발광소자 패키지(4)는 m×n의 행렬로 배치된 복수의 픽셀 영역들(PX1, PX2)을 포함할 수 있다. 여기서, m과 n은 1보다 큰 정수이다. 예를 들어, 발광소자 패키지(4)는 4×4의 행렬로 배치된 복수의 픽셀 영역들(PX1, PX2)을 포함할 수 있다. 발광소자 패키지(4)는 패시브 매트릭스(passive matrix) 방식으로 구동될 수 있다. 20 and 21, the light emitting device package 4 may include a plurality of pixel regions PX1 and PX2 arranged in an m × n matrix. Where m and n are integers greater than one. For example, the light emitting device package 4 may include a plurality of pixel regions PX1 and PX2 arranged in a 4x4 matrix. The light emitting device package 4 may be driven in a passive matrix manner.

복수의 픽셀 영역들(PX1, PX2)은 각각 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)이 배열되는 제1 영역과 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함할 수 있다. 복수의 픽셀 영역들(PX1, PX2)은 복수의 픽셀 세트들(PS)이 반복적으로 배치된 것일 수 있다. 복수의 픽셀 세트들(PS)은 각각 제1 픽셀 영역(PX1) 및 제2 픽셀 영역(PX2)을 포함할 수 있다. 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 각각의 픽셀 영역(PX1, PX2)에서 "-11" 형태로 배치될 수 있다. 즉, 각각의 픽셀 영역(PX1, PX2)에서 발광칩(C1)이 나머지 발광칩들(C2, C3)과 달리, 90도 회전된 방향으로 배치될 수 있다. The plurality of pixel regions PX1 and PX2 may include a first region where a plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 are arranged, and a second region surrounding the first region. The plurality of pixel areas PX1 and PX2 may be a plurality of pixel sets PS repeatedly arranged. The plurality of pixel sets PS may include a first pixel region PX1 and a second pixel region PX2, respectively. The plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 may be arranged in the shape of "-11" in each of the pixel regions PX1 and PX2. That is, in each of the pixel regions PX1 and PX2, the light emitting chip C1 may be arranged in a direction rotated by 90 degrees, unlike the remaining light emitting chips C2 and C3.

제1 픽셀 영역(PX1)은 상기 제1 영역에 배치된 복수의 발광칩들(C1, C2, C3), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21a, 22a, 23a), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24a) 및 상기 제2 영역에 배치되고 개별 배선들(21a, 22a, 23a) 및 공통 배선(24a)에 각각 연결되는 4개의 전극 패드들(31a, 32a, 33a, 34a)을 포함할 수 있다. 4개의 전극 패드들(31a, 32a, 33a, 34a)는 제1 픽셀 영역(PX1)의 꼭지점들에 인접하게 배치될 수 있다.The first pixel region PX1 is disposed on the lower surface of the molding member 341 and the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 arranged in the first region. And three common wirings 21a, 22a and 23a connected to the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3, respectively, arranged on the lower surface of the molding member 341, And four electrode pads 31a, 32a, 33a, and 34a disposed in the second region and connected to the individual wirings 21a, 22a, and 23a and the common wiring 24a, respectively. The four electrode pads 31a, 32a, 33a, and 34a may be disposed adjacent to the vertices of the first pixel region PX1.

제2 픽셀 영역(PX2)은 상기 제1 영역에 배치된 복수의 발광칩들(C1, C2, C3), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21b, 22b, 23b), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24b) 및 상기 제2 영역에 배치되고 개별 배선(22b) 및 공통 배선(24b)에 각각 연결되는 2개의 전극 패드들(32b, 34b)을 포함할 수 있다. The second pixel region PX2 is disposed on the lower surface of the molding member 341 and the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 arranged in the first region, Three common wirings 21b, 22b and 23b respectively connected to the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 and three common wirings 21b, And two electrode pads 32b and 34b disposed in the second region and connected to the individual wiring 22b and the common wiring 24b, respectively.

제1 픽셀 영역(PX1)은 인접한 제2 픽셀 영역(PX2)과 2개의 전극 패드들을 공유할 수 있다. 제2 픽셀 영역(PX2)의 제1 발광칩(C1)에 연결된 개별 배선(21b)은 제1 픽셀 영역(PX1)의 전극 패드(31a)에 연결될 수 있다. 그리고, 제2 픽셀 영역(PX2)의 제3 발광칩(C3)에 연결된 개별 배선(23b)은 제1 픽셀 영역(PX1)의 전극 패드(33a)에 연결될 수 있다. 전극 패드(31a)는 제1 픽셀 영역(PX1)의 제1 발광칩(C1)과 제2 픽셀 영역(PX2)의 제1 발광칩(C1)에 공통적으로 연결될 수 있다. 전극 패드(33a)는 제1 픽셀 영역(PX1)의 제3 발광칩(C3)과 제2 픽셀 영역(PX2)의 제3 발광칩(C3)에 공통적으로 연결될 수 있다.The first pixel region PX1 may share two electrode pads with the adjacent second pixel region PX2. The individual wirings 21b connected to the first light emitting chip C1 of the second pixel region PX2 may be connected to the electrode pads 31a of the first pixel region PX1. The individual wirings 23b connected to the third light emitting chip C3 of the second pixel region PX2 may be connected to the electrode pads 33a of the first pixel region PX1. The electrode pad 31a may be connected to the first light emitting chip C1 of the first pixel region PX1 and the first light emitting chip C1 of the second pixel region PX2. The electrode pad 33a may be commonly connected to the third light emitting chip C3 of the first pixel region PX1 and the third light emitting chip C3 of the second pixel region PX2.

몰딩 부재(341)는 복수의 픽셀 영역들(PX1, PX2)에 일체로 형성될 수 있다. 몰딩 부재(341)는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 상면들 및 측면들을 덮을 수 있다. 몰딩 부재(341)는 상술한 몰딩 부재(41)와 동일할 수 있다. The molding member 341 may be formed integrally with the plurality of pixel regions PX1 and PX2. The molding member 341 may cover upper surfaces and side surfaces of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3. The molding member 341 may be the same as the molding member 41 described above.

복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 예를 들어, 각각 적색 발광칩, 녹색 발광칩, 청색 발광칩일 수 있다. The plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 may be, for example, a red light emitting chip, a green light emitting chip, and a blue light emitting chip, respectively.

이웃한 픽셀 영역들이 일부의 전극 패드를 공통으로 이용하는 발광소자 패키지(4)는 발광소자 패키지(2)에 비해 전극 패드들의 개수가 감소된 구조를 가지고 있으므로, 전극 패드들이 차지하는 면적이 감소될 수 있다. 따라서, 발광소자 패키지(4)는 더 작은 사이즈의 픽셀 영역들을 가지는 발광소자 패키지를 제조하는 데 유리할 수 있다. 발광소자 패키지(4)는 고화질(예를 들어, 4K UHD, 8K UHD)의 디스플레이에서 요구되는 미세 피치(fine pitch)를 구현하기가 용이할 수 있다.The light emitting device package 4 in which neighboring pixel regions commonly use some electrode pads has a structure in which the number of electrode pads is reduced compared to the light emitting device package 2, . Accordingly, the light emitting device package 4 may be advantageous for manufacturing a light emitting device package having pixel regions of a smaller size. The light emitting device package 4 may be easy to implement a fine pitch required in a display of high picture quality (for example, 4K UHD, 8K UHD).

일 실시예에서, 도 20과 달리, 하나의 픽셀 세트(PS)가 하나의 발광소자 패키지를 구성할 수 있다. In one embodiment, unlike FIG. 20, one pixel set PS may constitute one light emitting device package.

도 22는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(4A)를 나타내는 단면도이다. 도 23은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(4A)의 픽셀 셋트(PS')의 회로도이다.22 is a sectional view showing a light emitting device package 4A according to an embodiment of the present invention. 23 is a circuit diagram of a pixel set PS 'of a light emitting device package 4A according to an embodiment of the present invention.

도 22 및 23을 참조하면, 발광소자 패키지(4A)는 m×n의 행렬로 배치된 복수의 픽셀 영역들(PX1, PX2, PX3, PX4)을 포함할 수 있다. 여기서, m과 n은 1보다 큰 정수이다. 예를 들어, 발광소자 패키지(4A)는 4×4의 행렬로 배치된 복수의 픽셀 영역들(PX1, PX2, PX3, PX4)을 포함할 수 있다. 발광소자 패키지(4A)는 패시브 매트릭스(passive matrix) 방식으로 구동될 수 있다.22 and 23, the light emitting device package 4A may include a plurality of pixel regions PX1, PX2, PX3, and PX4 arranged in an m × n matrix. Where m and n are integers greater than one. For example, the light emitting device package 4A may include a plurality of pixel regions PX1, PX2, PX3, and PX4 arranged in a 4x4 matrix. The light emitting device package 4A may be driven in a passive matrix manner.

복수의 픽셀 영역들(PX1, PX2, PX3, PX4)은 각각 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)이 배열되는 제1 영역과 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함할 수 있다. 복수의 픽셀 영역들(PX1, PX2, PX3, PX4)은 복수의 픽셀 세트들(PS')이 반복적으로 배치된 것일 수 있다. 복수의 픽셀 세트들(PS')은 각각 제1 픽셀 영역(PX1), 제2 픽셀 영역(PX2), 제3 픽셀 영역(PX3) 및 제4 픽셀 영역(PX4)을 포함할 수 있다. 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 각각의 픽셀 영역(PX1, PX2)에서 "-11" 형태로 배치될 수 있다. 즉, 각각의 픽셀 영역(PX1, PX2)에서 발광칩(C1)이 나머지 발광칩들(C2, C3)과 달리, 90도 회전된 방향으로 배치될 수 있다.The plurality of pixel regions PX1, PX2, PX3 and PX4 may include a first region in which a plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 are arranged and a second region surrounding the first region, respectively . The plurality of pixel regions PX1, PX2, PX3, PX4 may be a plurality of pixel sets PS 'repeatedly arranged. The plurality of pixel sets PS 'may include a first pixel region PX1, a second pixel region PX2, a third pixel region PX3, and a fourth pixel region PX4, respectively. The plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 may be arranged in the shape of "-11" in each of the pixel regions PX1 and PX2. That is, in each of the pixel regions PX1 and PX2, the light emitting chip C1 may be arranged in a direction rotated by 90 degrees, unlike the remaining light emitting chips C2 and C3.

제1 픽셀 영역(PX1)은 상기 제1 영역에 배치된 복수의 발광칩들(C1, C2, C3), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21a, 22a, 23a), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24a) 및 상기 제2 영역에 배치되고 개별 배선들(21a, 22a, 23a) 및 공통 배선(24a)에 각각 연결되는 4개의 전극 패드들(31a, 32a, 33a, 34a)을 포함할 수 있다. 4개의 전극 패드들(31a, 32a, 33a, 34a)는 제1 픽셀 영역(PX1)의 꼭지점들에 인접하게 배치될 수 있다.The first pixel region PX1 is disposed on the lower surface of the molding member 341 and the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 arranged in the first region. And three common wirings 21a, 22a and 23a connected to the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3, respectively, arranged on the lower surface of the molding member 341, And four electrode pads 31a, 32a, 33a, and 34a disposed in the second region and connected to the individual wirings 21a, 22a, and 23a and the common wiring 24a, respectively. The four electrode pads 31a, 32a, 33a, and 34a may be disposed adjacent to the vertices of the first pixel region PX1.

제2 픽셀 영역(PX2)은 상기 제1 영역에 배치된 복수의 발광칩들(C1, C2, C3), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21b, 22b, 23b), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24b) 및 상기 제2 영역에 배치되고 개별 배선(22b) 및 공통 배선(24b1)에 각각 연결되는 2개의 전극 패드들(32b, 34b)을 포함할 수 있다. The second pixel region PX2 is disposed on the lower surface of the molding member 341 and the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 arranged in the first region, Three common wirings 21b, 22b and 23b respectively connected to the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 and three common wirings 21b, And two electrode pads 32b and 34b disposed in the second region and connected to the individual wiring 22b and the common wiring 24b1, respectively.

제1 픽셀 영역(PX1)은 인접한 제2 픽셀 영역(PX2)과 2개의 전극 패드들을 공유할 수 있다. 제2 픽셀 영역(PX2)의 제1 발광칩(C1)에 연결된 개별 배선(21b)은 제1 픽셀 영역(PX1)의 전극 패드(31a)에 연결될 수 있다. 그리고, 제2 픽셀 영역(PX2)의 제3 발광칩(C3)에 연결된 개별 배선(23b)은 제1 픽셀 영역(PX1)의 전극 패드(33a)에 연결될 수 있다. 전극 패드(31a)는 제1 픽셀 영역(PX1)의 제1 발광칩(C1)과 제2 픽셀 영역(PX2)의 제1 발광칩(C1)에 공통적으로 연결될 수 있다. 전극 패드(33a)는 제1 픽셀 영역(PX1)의 제3 발광칩(C3)과 제2 픽셀 영역(PX2)의 제3 발광칩(C3)에 공통적으로 연결될 수 있다.The first pixel region PX1 may share two electrode pads with the adjacent second pixel region PX2. The individual wirings 21b connected to the first light emitting chip C1 of the second pixel region PX2 may be connected to the electrode pads 31a of the first pixel region PX1. The individual wirings 23b connected to the third light emitting chip C3 of the second pixel region PX2 may be connected to the electrode pads 33a of the first pixel region PX1. The electrode pad 31a may be connected to the first light emitting chip C1 of the first pixel region PX1 and the first light emitting chip C1 of the second pixel region PX2. The electrode pad 33a may be commonly connected to the third light emitting chip C3 of the first pixel region PX1 and the third light emitting chip C3 of the second pixel region PX2.

제3 픽셀 영역(PX3)은 상기 제1 영역에 배치된 복수의 발광칩들(C1, C2, C3), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21c, 22c, 23c), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24c) 및 상기 제2 영역에 배치되고 개별 배선들(21c, 22c, 23c) 및 공통 배선(24c)에 각각 연결되는 4개의 전극 패드들(31c, 32c, 33c, 34c)을 포함할 수 있다. 4개의 전극 패드들(31c, 32c, 33c, 34c)는 제3 픽셀 영역(PX3)의 꼭지점들에 인접하게 배치될 수 있다.The third pixel region PX3 is disposed on the lower surface of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 and the molding member 341 disposed in the first region, and the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 And three common wirings 21c, 22c and 23c connected to the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3, respectively, arranged on the lower surface of the molding member 341, And four electrode pads 31c, 32c, 33c, and 34c disposed in the second region and connected to the individual wirings 21c, 22c, and 23c and the common wiring 24c, respectively. The four electrode pads 31c, 32c, 33c, and 34c may be disposed adjacent to the vertices of the third pixel region PX3.

제4 픽셀 영역(PX4)은 상기 제1 영역에 배치된 복수의 발광칩들(C1, C2, C3), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21d, 22d, 23d), 몰딩 부재(341)의 하면에 배치되고 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24d) 및 개별 배선(22d)에 연결되는 1개의 전극 패드(32d)를 포함할 수 있다. The fourth pixel region PX4 is disposed on a lower surface of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 and the molding member 341 disposed in the first region, and the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 Three common wires 21d, 22d and 23d respectively connected to the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 and three common wires 21d, 24d and one electrode pad 32d connected to the individual wiring 22d.

제3 픽셀 영역(PX3)은 인접한 제4 픽셀 영역(PX4)과 2개의 전극 패드들을 공유할 수 있다. 제4 픽셀 영역(PX2)의 제1 발광칩(C1)에 연결된 개별 배선(21d)은 제3 픽셀 영역(PX3)의 전극 패드(31c)에 연결될 수 있다. 그리고, 제4 픽셀 영역(PX4)의 제3 발광칩(C3)에 연결된 개별 배선(23d)는 제3 픽셀 영역(PX3)의 전극 패드(33c)에 연결될 수 있다. 전극 패드(31c)는 제3 픽셀 영역(PX3)의 제1 발광칩(C1)과 제4 픽셀 영역(PX4)의 제1 발광칩(C1)에 공통적으로 연결될 수 있다. 전극 패드(33c)는 제3 픽셀 영역(PX3)의 제3 발광칩(C3)과 제4 픽셀 영역(PX4)의 제3 발광칩(C3)에 공통적으로 연결될 수 있다.The third pixel region PX3 may share two electrode pads with the adjacent fourth pixel region PX4. The individual wiring 21d connected to the first light emitting chip C1 of the fourth pixel region PX2 may be connected to the electrode pad 31c of the third pixel region PX3. The individual wiring 23d connected to the third light emitting chip C3 of the fourth pixel region PX4 may be connected to the electrode pad 33c of the third pixel region PX3. The electrode pad 31c may be commonly connected to the first light emitting chip C1 of the third pixel region PX3 and the first light emitting chip C1 of the fourth pixel region PX4. The electrode pad 33c may be commonly connected to the third light emitting chip C3 of the third pixel region PX3 and the third light emitting chip C3 of the fourth pixel region PX4.

제2 픽셀 영역(PX2)은 인접한 제4 픽셀 영역(PX4)과 1개의 전극 패드를 공유할 수 있다. 제4 픽셀 영역(PX2)의 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 연결된 공통 배선(24d)은 제2 픽셀 영역(PX2)의 전극 패드(34b)에 연결될 수 있다. 전극 패드(34b)는 제2 픽셀 영역(PX2)의 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)과 제4 픽셀 영역(PX4)의 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통적으로 연결될 수 있다.The second pixel region PX2 may share one electrode pad with the adjacent fourth pixel region PX4. The common wiring 24d connected to the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 of the fourth pixel region PX2 may be connected to the electrode pad 34b of the second pixel region PX2. The electrode pads 34b are formed on the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 of the second pixel region PX2 and the plurality of light emitting chips C1, C2, C3 of the fourth pixel region PX4 Can be connected.

몰딩 부재(341)는 복수의 픽셀 영역들(PX1, PX2)에 일체로 형성될 수 있다. 몰딩 부재(341)는 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 상면들 및 측면들을 덮을 수 있다. 몰딩 부재(341)는 상술한 몰딩 부재(41)와 동일할 수 있다. The molding member 341 may be formed integrally with the plurality of pixel regions PX1 and PX2. The molding member 341 may cover upper surfaces and side surfaces of the plurality of light emitting chips C1, C2, C3. The molding member 341 may be the same as the molding member 41 described above.

복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 예를 들어, 각각 적색 발광칩, 녹색 발광칩, 청색 발광칩일 수 있다. The plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 may be, for example, a red light emitting chip, a green light emitting chip, and a blue light emitting chip, respectively.

이웃한 픽셀 영역들이 일부의 전극 패드를 공통으로 이용하는 발광소자 패키지(4A)는 발광소자 패키지(2)에 비해 전극 패드들의 개수가 감소된 구조를 가지고 있으므로, 전극 패드들이 차지하는 면적이 감소될 수 있다. 따라서, 발광소자 패키지(4A)는 더 작은 사이즈의 픽셀 영역들을 가지는 발광소자 패키지를 제조하는 데 유리할 수 있다. 발광소자 패키지(4A)는 고화질(예를 들어, 4K UHD, 8K UHD)의 디스플레이에서 요구되는 미세 피치(fine pitch)를 구현하기가 용이할 수 있다.The light emitting device package 4A in which neighboring pixel regions commonly use some electrode pads has a structure in which the number of electrode pads is reduced compared to the light emitting device package 2, . Accordingly, the light emitting device package 4A can be advantageous for manufacturing a light emitting device package having pixel regions of a smaller size. The light emitting device package 4A may be easy to implement a fine pitch required in a display of high picture quality (for example, 4K UHD, 8K UHD).

일 실시예에서, 도 22과 달리, 하나의 픽셀 세트(PS')가 하나의 발광소자 패키지를 구성할 수 있다. In one embodiment, unlike FIG. 22, one pixel set PS 'may constitute one light emitting device package.

도 24는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(4B)를 나타내는 단면도이다. 도 25는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(4B)의 픽셀 셋트(PS'')의 회로도이다. 24 is a sectional view showing a light emitting device package 4B according to an embodiment of the present invention. 25 is a circuit diagram of a pixel set PS '' of a light emitting device package 4B according to an embodiment of the present invention.

도 24 및 도 25를 참조하면, 발광소자 패키지(4B)는 발광소자 패키지(4)와 비교하면, 제1 픽셀 영역(PX1') 및 제2 픽셀 영역(PX2')의 전극 패드들의 배치가 다르다. 이하에서 차이점 위주로 설명한다. 24 and 25, in the light emitting device package 4B, the arrangement of the electrode pads of the first pixel region PX1 'and the second pixel region PX2' is different from that of the light emitting device package 4 . The difference will be explained below.

복수의 픽셀 세트들(PS')은 각각 제1 픽셀 영역(PX1') 및 제2 픽셀 영역(PX2')을 포함할 수 있다. The plurality of pixel sets PS 'may include a first pixel region PX1' and a second pixel region PX2 ', respectively.

제1 픽셀 영역(PX1')은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21a, 22a, 23a), 및 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24a)을 포함할 수 있다. 개별 배선들(22a, 23a) 및 공통 배선(24a)에 각각 연결되는 3개의 전극 패드들(32a, 33a, 34a)을 포함할 수 있다. 전극 패드(34a)는 제1 픽셀 영역(PX1') 및 제2 픽셀 영역(PX2')의 경계와 중첩되도록 배치될 수 있다. 즉, 전극 패드(34a)의 일부분은 제2 픽셀 영역(PX2')에 배치될 수 있다. The first pixel region PX1 'includes three individual wirings 21a, 22a and 23a respectively connected to the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 and a plurality of light emitting chips C1, And one common wiring 24a commonly connected to the common wiring 24a. And three electrode pads 32a, 33a, and 34a connected to the individual wirings 22a and 23a and the common wiring 24a, respectively. The electrode pad 34a may be disposed so as to overlap the boundaries of the first pixel region PX1 'and the second pixel region PX2'. That is, a portion of the electrode pad 34a may be disposed in the second pixel region PX2 '.

제2 픽셀 영역(PX2')은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21b, 22b, 23b) 및 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24b)을 포함할 수 있다. 개별 배선(21b, 22b) 및 공통 배선(24b)에 각각 연결되는 3개의 전극 패드들(31b, 32b, 34b)을 포함할 수 있다. 전극 패드(32b)는 제1 픽셀 영역(PX1') 및 제2 픽셀 영역(PX2')의 경계와 중첩되도록 배치될 수 있다. 즉, 전극 패드(32b)의 일부분은 제1 픽셀 영역(PX1')에 배치될 수 있다. The second pixel region PX2 'includes three individual wirings 21b, 22b, and 23b and a plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 connected to the plurality of light emitting chips C1, C2, And one common wiring 24b commonly connected to each other. Three electrode pads 31b, 32b, and 34b connected to the individual wirings 21b and 22b and the common wiring 24b, respectively. The electrode pad 32b may be disposed to overlap the boundaries of the first pixel region PX1 'and the second pixel region PX2'. That is, a portion of the electrode pad 32b may be disposed in the first pixel region PX1 '.

제1 픽셀 영역(PX1')과 제2 픽셀 영역(PX2')은 2개의 전극 패드들을 공유할 수 있다. 제1 픽셀 영역(PX1')의 제1 발광칩(C1)에 연결된 개별 배선(21a)은 제2 픽셀 영역(PX2')의 전극 패드(31b)에 연결될 수 있다. 그리고, 제2 픽셀 영역(PX2')의 제3 발광칩(C3)에 연결된 개별 배선(23b)은 제1 픽셀 영역(PX1')의 전극 패드(33a)에 연결될 수 있다. 전극 패드(31b)는 제1 픽셀 영역(PX1')의 제1 발광칩(C1)과 제2 픽셀 영역(PX2')의 제1 발광칩(C1)에 공통적으로 연결될 수 있다. 전극 패드(33a)는 제1 픽셀 영역(PX1')의 제3 발광칩(C3)과 제2 픽셀 영역(PX2')의 제3 발광칩(C3)에 공통적으로 연결될 수 있다.The first pixel region PX1 'and the second pixel region PX2' may share two electrode pads. The individual wirings 21a connected to the first light emitting chip C1 of the first pixel region PX1 'may be connected to the electrode pads 31b of the second pixel region PX2'. The individual wiring 23b connected to the third light emitting chip C3 of the second pixel region PX2 'may be connected to the electrode pad 33a of the first pixel region PX1'. The electrode pad 31b may be connected to the first light emitting chip C1 of the first pixel region PX1 'and the first light emitting chip C1 of the second pixel region PX2'. The electrode pad 33a may be commonly connected to the third light emitting chip C3 of the first pixel region PX1 'and the third light emitting chip C3 of the second pixel region PX2'.

일부의 전극 패드를 이웃한 픽셀 영역들이 공통으로 이용하는 발광소자 패키지(4B)는 발광소자 패키지(2)에 비해 전극 패드들의 개수가 감소된 구조를 가지고 있으므로, 전극 패드들이 차지하는 면적이 감소될 수 있다. 따라서, 발광소자 패키지(4B)는 더 작은 사이즈의 픽셀 영역들을 가지는 발광소자 패키지를 제조하는 데 유리할 수 있다. 발광소자 패키지(4B)는 고화질(예를 들어, 4K UHD, 8K UHD)의 디스플레이에서 요구되는 미세 피치(fine pitch)를 구현하기가 용이할 수 있다.The light emitting device package 4B in which a part of the electrode pads commonly use adjacent pixel regions has a structure in which the number of electrode pads is reduced compared to the light emitting device package 2, . Therefore, the light emitting device package 4B can be advantageous for manufacturing a light emitting device package having pixel regions of a smaller size. The light emitting device package 4B may be easy to implement a fine pitch required in a display of high picture quality (for example, 4K UHD, 8K UHD).

일 실시예에서, 도 24와 달리, 하나의 픽셀 세트(PS'')가 하나의 발광소자 패키지를 구성할 수 있다. In one embodiment, unlike FIG. 24, one pixel set PS &quot; may constitute one light emitting device package.

도 26은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(4C)를 나타내는 단면도이다. 도 27은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지(4C)의 픽셀 셋트(PS''')의 회로도이다.26 is a sectional view showing a light emitting device package 4C according to an embodiment of the present invention. 27 is a circuit diagram of a pixel set PS '' 'of a light emitting device package 4C according to an embodiment of the present invention.

도 26 및 도 27을 참조하면, 발광소자 패키지(4C)는 발광소자 패키지(4A)와 비교하면, 제1 픽셀 영역(PX1'), 제2 픽셀 영역(PX2'), 제3 픽셀 영역(PX3'), 제4 픽셀 영역(PX4')의 전극 패드들의 배치가 다르다. 이하에서 차이점 위주로 설명한다. Referring to FIGS. 26 and 27, the light emitting device package 4C includes a first pixel region PX1 ', a second pixel region PX2', a third pixel region PX3 ' , And the arrangement of the electrode pads of the fourth pixel region PX4 'is different. The difference will be explained below.

복수의 픽셀 세트들(PS''')은 각각 제1 픽셀 영역(PX1'), 제2 픽셀 영역(PX2'), 제3 픽셀 영역(PX3') 및 제4 픽셀 영역(PX4')을 포함할 수 있다. The plurality of pixel sets PS '' 'include a first pixel region PX1', a second pixel region PX2 ', a third pixel region PX3', and a fourth pixel region PX4 ' can do.

제1 픽셀 영역(PX1')은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21a, 22a, 23a), 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24a) 및 개별 배선들(22a, 23a)과 공통 배선(24a)에 각각 연결되는 3개의 전극 패드들(32a, 33a, 34a)을 포함할 수 있다. 전극 패드(34a)는 제1 픽셀 영역(PX1') 및 제2 픽셀 영역(PX2')의 경계와 중첩되도록 배치될 수 있다. 즉, 전극 패드(34a)의 일부분은 제2 픽셀 영역(PX2')에 배치될 수 있다.The first pixel region PX1 'includes three individual wirings 21a, 22a, and 23a, a plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 connected to the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3, And three electrode pads 32a, 33a, and 34a connected to the common wiring 24a and the common wiring 24a, respectively, which are commonly connected to the common wiring 24a and the common wiring 24a. The electrode pad 34a may be disposed so as to overlap the boundaries of the first pixel region PX1 'and the second pixel region PX2'. That is, a portion of the electrode pad 34a may be disposed in the second pixel region PX2 '.

제2 픽셀 영역(PX2')은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21b, 22b, 23b) 및 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24b)을 포함할 수 있다. 개별 배선(21b, 22b) 및 공통 배선(24b)에 각각 연결되는 3개의 전극 패드들(31b, 32b, 34b)을 포함할 수 있다. 전극 패드(32b)는 제1 픽셀 영역(PX1') 및 제2 픽셀 영역(PX2')의 경계와 중첩되도록 배치될 수 있다. 즉, 전극 패드(32b)의 일부분은 제1 픽셀 영역(PX1')에 배치될 수 있다. The second pixel region PX2 'includes three individual wirings 21b, 22b, and 23b and a plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 connected to the plurality of light emitting chips C1, C2, And one common wiring 24b commonly connected to each other. Three electrode pads 31b, 32b, and 34b connected to the individual wirings 21b and 22b and the common wiring 24b, respectively. The electrode pad 32b may be disposed to overlap the boundaries of the first pixel region PX1 'and the second pixel region PX2'. That is, a portion of the electrode pad 32b may be disposed in the first pixel region PX1 '.

제1 픽셀 영역(PX1')과 제2 픽셀 영역(PX2')은 2개의 전극 패드들을 공유할 수 있다. 제1 픽셀 영역(PX1')의 제1 발광칩(C1)에 연결된 개별 배선(21a)은 제2 픽셀 영역(PX2')의 전극 패드(31b)에 연결될 수 있다. 그리고, 제2 픽셀 영역(PX2')의 제3 발광칩(C3)에 연결된 개별 배선(23b)은 제1 픽셀 영역(PX1')의 전극 패드(33a)에 연결될 수 있다. 전극 패드(31b)는 제1 픽셀 영역(PX1')의 제1 발광칩(C1)과 제2 픽셀 영역(PX2')의 제1 발광칩(C1)에 공통적으로 연결될 수 있다. 전극 패드(33a)는 제1 픽셀 영역(PX1')의 제3 발광칩(C3)과 제2 픽셀 영역(PX2')의 제3 발광칩(C3)에 공통적으로 연결될 수 있다.The first pixel region PX1 'and the second pixel region PX2' may share two electrode pads. The individual wirings 21a connected to the first light emitting chip C1 of the first pixel region PX1 'may be connected to the electrode pads 31b of the second pixel region PX2'. The individual wiring 23b connected to the third light emitting chip C3 of the second pixel region PX2 'may be connected to the electrode pad 33a of the first pixel region PX1'. The electrode pad 31b may be connected to the first light emitting chip C1 of the first pixel region PX1 'and the first light emitting chip C1 of the second pixel region PX2'. The electrode pad 33a may be commonly connected to the third light emitting chip C3 of the first pixel region PX1 'and the third light emitting chip C3 of the second pixel region PX2'.

제3 픽셀 영역(PX3')은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21c, 22c, 23c), 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24c) 및 개별 배선들(22c, 23c)과 공통 배선(24c)에 각각 연결되는 3개의 전극 패드들(32c, 33c, 34c)을 포함할 수 있다. 전극 패드(34c)는 제3 픽셀 영역(PX3') 및 제4 픽셀 영역(PX4')의 경계와 중첩되도록 배치될 수 있다. 즉, 전극 패드(34c)의 일부분은 제4 픽셀 영역(PX4')에 배치될 수 있다.The third pixel region PX3 'includes three individual wirings 21c, 22c, and 23c, a plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 connected to the plurality of light emitting chips C1, C2, And three electrode pads 32c, 33c, and 34c connected to the common wiring 24c and the individual wirings 22c and 23c and common wiring 24c, respectively, which are commonly connected to the common wiring 24c. The electrode pad 34c may be disposed so as to overlap the boundary between the third pixel region PX3 'and the fourth pixel region PX4'. That is, a portion of the electrode pad 34c may be disposed in the fourth pixel region PX4 '.

제4 픽셀 영역(PX4')은 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 각각 연결되는 3개의 개별 배선들(21d, 22d, 23d) 및 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통으로 연결되는 1개의 공통 배선(24d)을 포함할 수 있다. 개별 배선(21d, 22d)에 각각 연결되는 2개의 전극 패드들(31d, 32d)을 포함할 수 있다. 전극 패드(32d)는 제3 픽셀 영역(PX3') 및 제4 픽셀 영역(PX4')의 경계와 중첩되도록 배치될 수 있다. 즉, 전극 패드(32d)의 일부분은 제3 픽셀 영역(PX3')에 배치될 수 있다. The fourth pixel region PX4 'includes three individual wirings 21d, 22d, and 23d and a plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 connected to the plurality of light emitting chips C1, C2, And one common wiring 24d commonly connected to each other. And two electrode pads 31d and 32d connected to the individual wirings 21d and 22d, respectively. The electrode pad 32d may be disposed so as to overlap the boundary between the third pixel region PX3 'and the fourth pixel region PX4'. That is, a portion of the electrode pad 32d may be disposed in the third pixel region PX3 '.

제3 픽셀 영역(PX3')과 제4 픽셀 영역(PX4')은 2개의 전극 패드들을 공유할 수 있다. 제3 픽셀 영역(PX3')의 제1 발광칩(C1)에 연결된 개별 배선(21c)은 제4 픽셀 영역(PX4')의 전극 패드(31d)에 연결될 수 있다. 그리고, 제4 픽셀 영역(PX4')의 제3 발광칩(C3)에 연결된 개별 배선(23d)는 제3 픽셀 영역(PX3')의 전극 패드(33c)에 연결될 수 있다. 전극 패드(31d)는 제3 픽셀 영역(PX3')의 제1 발광칩(C1)과 제4 픽셀 영역(PX4')의 제1 발광칩(C1)에 공통적으로 연결될 수 있다. 전극 패드(33c)는 제3 픽셀 영역(PX3')의 제3 발광칩(C3)과 제4 픽셀 영역(PX4')의 제3 발광칩(C3)에 공통적으로 연결될 수 있다.The third pixel region PX3 'and the fourth pixel region PX4' may share two electrode pads. The individual wiring 21c connected to the first light emitting chip C1 of the third pixel region PX3 'may be connected to the electrode pad 31d of the fourth pixel region PX4'. The individual wiring 23d connected to the third light emitting chip C3 of the fourth pixel region PX4 'may be connected to the electrode pad 33c of the third pixel region PX3'. The electrode pad 31d may be commonly connected to the first light emitting chip C1 of the third pixel region PX3 'and the first light emitting chip C1 of the fourth pixel region PX4'. The electrode pad 33c may be commonly connected to the third light emitting chip C3 of the third pixel region PX3 'and the third light emitting chip C3 of the fourth pixel region PX4'.

제2 픽셀 영역(PX2')은 인접한 제4 픽셀 영역(PX4')과 1개의 전극 패드를 공유할 수 있다. 제4 픽셀 영역(PX2')의 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 연결된 공통 배선(24d)은 제2 픽셀 영역(PX2')의 전극 패드(34b)에 연결될 수 있다. 전극 패드(34b)는 제2 픽셀 영역(PX2')의 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)과 제4 픽셀 영역(PX4')의 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)에 공통적으로 연결될 수 있다.The second pixel region PX2 'may share one electrode pad with the adjacent fourth pixel region PX4'. The common wiring 24d connected to the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 of the fourth pixel region PX2 'may be connected to the electrode pad 34b of the second pixel region PX2'. The electrode pad 34b is connected to the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 of the second pixel region PX2 'and the plurality of light emitting chips C1, C2 and C3 of the fourth pixel region PX4' Can be connected in common.

일부의 전극 패드를 이웃한 픽셀 영역들이 공통으로 이용하는 발광소자 패키지(4C)는 발광소자 패키지(2)에 비해 전극 패드들의 개수가 감소된 구조를 가지고 있으므로, 전극 패드들이 차지하는 면적이 감소될 수 있다. 따라서, 발광소자 패키지(4B)는 더 작은 사이즈의 픽셀 영역들을 가지는 발광소자 패키지를 제조하는 데 유리할 수 있다. 발광소자 패키지(4B)는 고화질(예를 들어, 4K UHD, 8K UHD)의 디스플레이에서 요구되는 미세 피치(fine pitch)를 구현하기가 용이할 수 있다.The light emitting device package 4C in which a portion of the electrode pads commonly use neighboring pixel regions has a structure in which the number of electrode pads is reduced compared to the light emitting device package 2, . Therefore, the light emitting device package 4B can be advantageous for manufacturing a light emitting device package having pixel regions of a smaller size. The light emitting device package 4B may be easy to implement a fine pitch required in a display of high picture quality (for example, 4K UHD, 8K UHD).

일 실시예에서, 도 26과 달리, 하나의 픽셀 세트(PS''')가 하나의 발광소자 패키지를 구성할 수 있다. In one embodiment, unlike FIG. 26, one pixel set PS '' 'may constitute one light emitting device package.

도 28a 내지 도 28d는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광소자 패키지의 제조방법을 설명하는 주요 공정별 단면도이다. 본 실시예에 따른 제조방법은 복수의 발광소자 패키지들을 제조하는 것이지만, 설명의 편의상 도 28a 내지 도 28d에서는 하나의 발광소자 패키지 영역을 위주로 설명한다.28A to 28D are cross-sectional views illustrating major steps of a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment of the present invention. Although the manufacturing method according to the present embodiment is for manufacturing a plurality of light emitting device packages, for convenience of description, one light emitting device package region will be mainly described in FIGS. 28A to 28D.

도 28a를 참조하면, 제1 접착 테이프(112)에 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)를 원하는 간격 및 원하는 배열로 부착한다. 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)은 서로 다른 파장의 광을 방출할 수 있다. 제1 접착 테이프(112)는 예를 들어, 열박리 테이프 또는 UV박리 테이프일 수 있다. 제1 접착 테이프(112)는 이에 제한되지 않는다. Referring to Fig. 28A, a plurality of light emitting chips C1, C2, C3 are attached to a first adhesive tape 112 at a desired interval and in a desired arrangement. The plurality of light emitting chips (C1, C2, C3) can emit light of different wavelengths. The first adhesive tape 112 may be, for example, a heat peeling tape or a UV peeling tape. The first adhesive tape 112 is not limited thereto.

도 28b를 참조하면, 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)을 완전히 덮도록 몰딩 부재(41)를 형성한다. 몰딩 부재(41)는 예를 들어, 도포 공정 및 경화 공정을 통해 형성될 수 있다. 몰딩 부재(41)는 상술한 바와 같이 카본 블랙을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 28B, the molding member 41 is formed so as to completely cover the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3. The molding member 41 may be formed, for example, through a coating process and a curing process. The molding member 41 may include carbon black as described above.

도 28c를 참조하면, 제2 접착 테이프(113)를 몰딩 부재(41)의 상면에 부착한 후, 제1 접착 테이프(112)를 제거한다. 제2 접착 테이프(113)는 제1 접착 테이프(112)보다 높은 접착력을 가진다. 제2 접착 테이프(13)는 UV박리 테이프일 수 있다. 접착 테이프(13)는 열박리 테이프일 수 있다. 제1 접착 테이프(112)를 제거하면, 몰딩 부재(41)의 일면에 복수의 발광칩들(C1, C2, C3)의 제1 및 제2 전극들이 노출될 수 있다. Referring to Fig. 28C, after attaching the second adhesive tape 113 to the upper surface of the molding member 41, the first adhesive tape 112 is removed. The second adhesive tape 113 has a higher adhesive force than the first adhesive tape 112. The second adhesive tape 13 may be a UV peeling tape. The adhesive tape 13 may be a heat peeling tape. When the first adhesive tape 112 is removed, the first and second electrodes of the plurality of light emitting chips C1, C2, and C3 may be exposed to one surface of the molding member 41. [

프린팅 기법을 이용하여 개별 배선들(21, 22, 23), 공통 배선(24), 및 전극 패드들(31, 32, 33, 34)을 형성한다. 개별 배선들(21, 22, 23), 공통 배선(24), 및 전극 패드들(31, 32, 33, 34)은 동시에 형성될 수 있다. 그리고, 선택적으로, 개별 배선들(21, 22, 23), 공통 배선(24), 및 전극 패드들(31, 32, 33, 34) 주변을 절연물질로 채울 수 있다. The individual wirings 21, 22, 23, the common wiring 24, and the electrode pads 31, 32, 33, 34 are formed by using the printing technique. The individual wirings 21, 22, 23, the common wiring 24, and the electrode pads 31, 32, 33, 34 can be formed at the same time. The periphery of the individual wirings 21, 22, 23, the common wirings 24, and the electrode pads 31, 32, 33, 34 can be optionally filled with an insulating material.

도 28d를 참조하면, 블레이드 또는 레이저를 이용하여 복수의 발광소자 패키지들을 원하는 크기로 절단함으로써, 예를 들어, 3개의 발광칩들(C1, C2, C3) 및 4개의 전극 패드들(31, 32, 33, 34)을 포함하는 크기로 절단함으로써, 개별 발광소자 패키지를 제조할 수 있다. Referring to FIG. 28D, for example, three light emitting chips C1, C2, and C3 and four electrode pads 31 and 32 are formed by cutting a plurality of light emitting device packages to a desired size using a blade or a laser , 33, and 34, the individual light emitting device package can be manufactured.

도 29은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 패널을 개략적으로 나타낸 도면이다.29 is a view schematically showing a display panel according to an embodiment of the present invention.

도 29를 참조하면, 디스플레이 패널(1000)은 회로 기판(1200)과 매트릭스 형태로 회로 기판(1200) 상에 실장된 여러 개의 픽셀들(1100)을 포함할 수 있다. 도 29에서 픽셀들(1100)이 9 x 16의 행렬로 배치되는 것으로 도시되어 있으나, 이는 예시적인 것일 뿐이다. 디스플레이 패널(1000)의 해상도 및 크기에 따라 실장되는 픽셀들(1100)의 갯수는 다양하게 변형될 수 있다. 본 발명의 실시예들에 따른 발광소자 패키지들(1, 1A, 1B, 1C, 2, 2A, 3, 4, 4A, 4B, 4C)은 픽셀들(1100)을 구성할 수 있다. 본 발명의 실시예들에 발광소자 패키지들(1, 1A, 1B, 1C, 2, 2A, 3, 4, 4A, 4B, 4C)이 채용되는 경우, 디스플레이 패널(1000)을 제조하기 위한 표면 실장 공정의 횟수가 줄어들고, 표면 실장 공정의 시간이 단축될 수 있다. 본 발명의 실시예들에 따른 발광소자 패키지들(1, 1A, 1B, 1C, 2, 2A, 3, 4, 4A, 4B, 4C)의 발광칩들(C1, C2, C3)은 디스플레이 패널(1000)의 서브 픽셀들을 구성할 수 있다. Referring to FIG. 29, a display panel 1000 may include a plurality of pixels 1100 mounted on a circuit board 1200 in a matrix form with a circuit board 1200. In Figure 29, pixels 1100 are shown as being arranged in a 9 x 16 matrix, but this is only an example. The number of pixels 1100 mounted according to the resolution and size of the display panel 1000 can be variously modified. The light emitting device packages 1, 1A, 1B, 1C, 2, 2A, 3, 4, 4A, 4B and 4C according to the embodiments of the present invention may constitute the pixels 1100. When the light emitting device packages 1, 1A, 1B, 1C, 2, 2A, 3, 4, 4A, 4B, 4C are employed in the embodiments of the present invention, The number of processes can be reduced, and the time of the surface mounting process can be shortened. The light emitting chips C1, C2 and C3 of the light emitting device packages 1, 1A, 1B, 1C, 2, 2A, 3, 4, 4A, 4B and 4C according to the embodiments of the present invention, 1000). &Lt; / RTI &gt;

회로 기판(1200)은 디스플레이 패널(1000)의 서브 픽셀들(예를 들어, R, G, B 서브 픽셀)이 독립적으로 구동하도록 구성된 구동 회로(TFT 어레이 등)를 포함할 수 있다.The circuit board 1200 may include a driving circuit (such as a TFT array) configured such that the sub pixels (e.g., R, G, B sub pixels) of the display panel 1000 are driven independently.

디스플레이 패널(1000)은 픽셀들(1100)을 외부로부터 보호하기 위한 보호층을 더 구비할 수 있다. 그리고, 디스플레이 패널(1000)은 픽셀들(1100)로부터 방출되는 광의 방향을 조절해 화면을 맑고 뚜렷하게 하기 위한 편광층을 더 구비할 수 있다. The display panel 1000 may further include a protective layer for protecting the pixels 1100 from the outside. In addition, the display panel 1000 may further include a polarizing layer for adjusting the direction of light emitted from the pixels 1100 to make the screen clear and sharp.

도 30은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 장치의 구성을 나타내는 블럭도이다. 30 is a block diagram showing a configuration of a display device according to an embodiment of the present invention.

도 30을 참조하면, 도 29에 도시된 디스플레이 패널(1000)은 패널 구동부(1020) 및 제어부(1050)와 함께 디스플레이 장치를 구성할 수 있다. 여기서, 디스플레이 장치는 전광판, 비디오 월(video wall), TV, 전자 칠판, 전자 테이블, LFD(Large Format Display), 스마트폰, 태블릿, 데스크탑 PC, 노트북 등과 같은 다양한 전자 장치의 디스플레이로 구현될 수 있다. Referring to FIG. 30, the display panel 1000 shown in FIG. 29 may constitute a display device together with the panel driver 1020 and the controller 1050. Here, the display device can be implemented as a display of various electronic devices such as an electric signboard, a video wall, a TV, an electronic board, an electronic table, a large format display (LFD), a smart phone, a tablet, a desktop PC, .

패널 구동부(1020)는 디스플레이 패널(1000)을 구동할 수 있으며, 제어부(1050)는 패널 구동부(1020)를 제어할 수 있다. 제어부(1050)를 통해 제어되는 패널 구동부(1020)는 R(Red), G(Green), B(Blue)를 포함하는 복수의 서브 픽셀 각각이 독립적으로 턴 온/오프 되도록 구성될 수 있다. The panel driving unit 1020 can drive the display panel 1000 and the control unit 1050 can control the panel driving unit 1020. The panel driver 1020 controlled through the controller 1050 may be configured such that each of a plurality of subpixels including R (Red), G (Green), and B (Blue) is independently turned on / off.

예를 들어, 패널 구동부(1020)는 복수의 서브 픽셀 각각에 상기 특정한 구동 주파수를 갖는 클락 신호를 전송하여 복수의 서브 픽셀 각각을 턴 온/오프 시킬 수 있다. 제어부(1050)는 입력된 영상 신호에 따라 복수의 서브 픽셀이 설정된 그룹 단위로 턴 온 되도록 패널 구동부(1020)를 제어함으로써 원하는 영상을 디스플레이 패널(1000)에 표시할 수 있다.For example, the panel driver 1020 may turn on / off each of the plurality of subpixels by transmitting a clock signal having the specific driving frequency to each of the plurality of subpixels. The controller 1050 controls the panel driver 1020 to turn on the plurality of subpixels according to the input video signal so that a desired image can be displayed on the display panel 1000.

이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예에는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative and not restrictive in every respect.

1, 1A, 1B, 1C, 2, 2A, 3, 4, 4A, 4B, 4C: 발광소자 패키지
C1, C2, C3: 발광칩
21, 22, 23: 개별 배선
24: 공통 배선
31, 32, 33, 34: 전극 패드
41, 241: 몰딩 부재
43: 절연층
51: 금속층
53: 하부층
1, 1A, 1B, 1C, 2, 2A, 3, 4, 4A, 4B,
C1, C2, C3: light emitting chip
21, 22, 23: Individual wiring
24: Common wiring
31, 32, 33, 34: electrode pads
41, 241: Molding member
43: Insulating layer
51: metal layer
53:

Claims (10)

서로 다른 파장의 광을 방출하고, 플립칩 형태로 배치된 복수의 발광칩들;
상기 복수의 발광칩들의 상면들 및 측면들을 덮으며 일체로 형성된 몰딩 부재 - 상기 몰딩 부재의 하면은 상기 복수의 발광칩들이 배열된 제1 영역과 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함함 -;
상기 몰딩 부재의 하면에 배치되고, 상기 제1 영역에서 상기 복수의 발광칩들의 제1 전극들 각각에 직접 접촉하는 복수의 개별 배선들;
상기 몰딩 부재의 하면에 배치되고, 상기 제1 영역에서 상기 복수의 발광칩들의 제2 전극들에 공통적으로 연결되고 직접 접촉하는 공통 배선; 및
상기 몰딩 부재의 하면의 제2 영역에 배치되고, 상기 복수의 개별 배선들 및 상기 공통 배선에 각각 연결된 복수의 전극 패드들;을 포함하는 발광소자 패키지.
A plurality of light emitting chips emitting light of different wavelengths and arranged in a flip chip form;
A molding member integrally formed to cover upper surfaces and sides of the plurality of light emitting chips, the lower surface of the molding member including a first region in which the plurality of light emitting chips are arranged and a second region surrounding the first region -;
A plurality of individual wirings disposed on a lower surface of the molding member and in direct contact with the first electrodes of the plurality of light emitting chips in the first region;
A common wiring disposed on a lower surface of the molding member and connected in common to the second electrodes of the plurality of light emitting chips in the first region and in direct contact therewith; And
And a plurality of electrode pads disposed in a second region of the lower surface of the molding member and connected to the plurality of individual wirings and the common wirings, respectively.
제1항에 있어서,
상기 몰딩 부재는 530㎚ 파장의 광에 대해 30% 이상 89%이하의 투과율을 가지고, 명도가 40이하인 반투명한(translucent) 물질로 이루어지는 발광소자 패키지.
The method according to claim 1,
Wherein the molding member is made of a translucent material having a transmittance of 30% or more and 89% or less with respect to light having a wavelength of 530 nm and a lightness of 40 or less.
제2항에 있어서,
상기 몰딩 부재는 0.06wt%이상이고 0.02wt%이하인 카본 블랙(carbon black)을 포함하는 발광소자 패키지.
3. The method of claim 2,
Wherein the molding member comprises 0.06 wt% or more and 0.02 wt% or less of carbon black.
제3항에 있어서,
상기 복수의 발광칩들의 상면에서 상기 몰딩 부재의 두께는 10㎚ 이상이고 120㎛이하인 발광소자 패키지.
The method of claim 3,
Wherein a thickness of the molding member on the upper surface of the plurality of light emitting chips is 10 nm or more and 120 占 퐉 or less.
제1항에 있어서,
상기 몰딩 부재의 상면에 배치된 금속 박막을 더 포함하는 발광소자 패키지.

The method according to claim 1,
And a metal thin film disposed on an upper surface of the molding member.

제1항에 있어서,
상기 복수의 전극 패드들을 노출시키며 상기 몰딩 부재를 덮도록 배치되는 하부층을 더 포함하고, 상기 하부층은 흑색 수지로 이루어지는 발광소자 패키지.
The method according to claim 1,
And a lower layer disposed to cover the molding member while exposing the plurality of electrode pads, wherein the lower layer is made of a black resin.
제1항에 있어서,
상기 복수의 발광칩들의 주변에 배치되고, 상기 복수의 발광칩들보다 높은 높이를 가지는 격벽 구조를 더 포함하고,
상기 몰딩 부재는 상기 격벽 구조를 덮는 발광소자 패키지.
The method according to claim 1,
Further comprising a barrier structure disposed around the plurality of light emitting chips and having a higher height than the plurality of light emitting chips,
And the molding member covers the barrier rib structure.
m x n의 행렬로 배치된 복수의 픽셀 영역들- m 및 n은 1보다 큰 정수이고, 상기 복수의 픽셀 영역들은 각각 제1 영역과 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함함;
상기 복수의 픽셀 영역들 내에 배치되는 복수의 발광소자 유닛들; 및
상기 복수의 발광소자 유닛들을 덮으며, 일체로 형성된 몰딩 부재;를 포함하고,
상기 복수의 발광소자 유닛들은 각각,
상기 제1 영역에 플립칩 형태로 배치된 적색 발광칩, 녹색 발광칩, 및 청색 발광칩;
상기 몰딩 부재의 하면에 배치되고, 상기 적색 발광칩, 상기 녹색 발광칩, 및 상기 청색 발광칩에 각각 직접 연결되는 3개의 개별 배선들;
상기 몰딩 부재의 하면에 배치되고 상기 적색 발광칩, 상기 녹색 발광칩 및 상기 청색 발광칩에 공통으로 직접 연결되는 1개의 공통 배선; 및
상기 개별 배선들 및 상기 공통 배선에 각각 연결되고, 상기 픽셀 영역의 상기 제2 영역에 배치되는 4개의 전극 패드들;을 포함하는 발광소자 패키지.
a plurality of pixel regions arranged in a matrix of mxn-m and n are integers greater than 1, the plurality of pixel regions each comprising a first region and a second region surrounding the first region;
A plurality of light emitting element units disposed in the plurality of pixel regions; And
And a molding member integrally formed to cover the plurality of light emitting element units,
Wherein each of the plurality of light emitting element units includes:
A red light emitting chip, a green light emitting chip, and a blue light emitting chip arranged in a flip chip form in the first region;
Three individual wirings disposed on the lower surface of the molding member and directly connected to the red light emitting chip, the green light emitting chip, and the blue light emitting chip, respectively;
One common wiring disposed on the lower surface of the molding member and directly connected to the red light emitting chip, the green light emitting chip and the blue light emitting chip in common; And
And four electrode pads respectively connected to the individual wirings and the common wirings and disposed in the second region of the pixel region.
제1 픽셀 영역, 제2 픽셀 영역, 제3 픽셀 영역 및 제4 픽셀 영역 - 상기 제1 내지 제4 픽셀 영역은 각각 제1 영역과 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함함;
상기 제1 내지 제4 픽셀 영역들의 상기 제1 영역들 각각에 플립칩 형태로 배치되는 발광칩들; 및
상기 제1 내지 제4 픽셀 영역들의 상기 발광칩들을 덮으며, 일체로 형성된 몰딩 부재;를 포함하되,
상기 제1 픽셀 영역은 상기 제2 영역에 배치되고 상기 발광칩들에 연결되는 4개의 전극 패드들을 포함하고,
상기 제2 픽셀 영역은 상기 제2 영역에 배치되고 상기 발광칩들 중 적어도 일부에 연결되는 2개의 전극 패드들을 포함하고,
상기 제1 픽셀 영역은 인접한 상기 제2 픽셀 영역과 2개의 전극 패드들을 공유하는 발광소자 패키지.
A first pixel region, a second pixel region, a third pixel region, and a fourth pixel region, the first through fourth pixel regions each including a first region and a second region surrounding the first region;
Light emitting chips arranged in a flip chip manner in each of the first regions of the first to fourth pixel regions; And
And a molding member integrally formed to cover the light emitting chips of the first to fourth pixel regions,
The first pixel region includes four electrode pads disposed in the second region and connected to the light emitting chips,
The second pixel region includes two electrode pads disposed in the second region and connected to at least a portion of the light emitting chips,
Wherein the first pixel region shares two adjacent electrode pads with the second pixel region.
제9항에 있어서,
상기 제3 픽셀 영역은 상기 제2 영역에 배치되고 상기 발광칩들에 연결되는 4개의 전극 패드들을 포함하고,
상기 제4 픽셀 영역은 상기 제2 영역에 배치되고 상기 발광칩들 중 적어도 하나에 연결되는 1개의 전극 패드를 포함하고,
상기 제3 픽셀 영역은 인접한 상기 제4 픽셀 영역과 2개의 전극 패드들을 공유하고,
상기 제2 픽셀 영역은 인접한 상기 제4 픽셀 영역과 1개의 전극 패드를 공유하는 발광소자 패키지.
10. The method of claim 9,
The third pixel region includes four electrode pads disposed in the second region and connected to the light emitting chips,
And the fourth pixel region includes one electrode pad disposed in the second region and connected to at least one of the light emitting chips,
Wherein the third pixel region shares two adjacent electrode pads with the fourth pixel region,
Wherein the second pixel region shares one electrode pad with the fourth pixel region adjacent thereto.
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