KR20180134560A - Surface treating Method of internal/external plastic material and internal/external plastic material comprising surface structure manufactured using the same - Google Patents

Surface treating Method of internal/external plastic material and internal/external plastic material comprising surface structure manufactured using the same Download PDF

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Abstract

A surface treating method of an internal/external plastic material according to the present invention comprises a step of heating the surface of an internal/external material to a temperature not higher than the deformation temperature of the internal/external plastic material to form an aluminum-based metal film, a step of forming an anodic oxidation coating layer by anodizing the aluminum-based metal film of an equiaxed crystal structure in an acidic or alkaline electrolytic solution, and a step of coloring and sealing the anodized film layer. The step of forming the aluminum-based metal film of the equiaxed crystal structure is characterized in that an MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) method using an organoaluminum compound as a precursor under atmospheric pressure or reduced pressure is used. A heat distortion temperature can be lowered by forming a thick aluminum metal film at a high speed.

Description

플라스틱 내외장재의 표면처리 방법 및 이를 이용하여 표면처리 된 내외장재 {Surface treating Method of internal/external plastic material and internal/external plastic material comprising surface structure manufactured using the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface treatment method for plastic inner and outer materials,

본 발명은 플라스틱 내외장재의 표면처리 방법 및 이를 이용하여 표면처리 된 표면구조를 가지는 플라스틱 내외장재에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 플라스틱 내외장재의 표면처리를 낮은 공정 온도에서 처리하는 방법과 이를 이용하여 표면처리 된 플라스틱 내외장재에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a surface treatment method of plastic inner and outer materials and a plastic inner and outer material having a surface structure surface treated therewith. More specifically, the present invention relates to a method of treating a surface treatment of a plastic inner and outer material at a low process temperature, Plastic inner and outer materials.

최근 금속 내외장재의 표면에 알루미늄계 금속 막을 형성하고, 이를 양극산화 처리한 후 착색 및 봉공 처리하여, 다양한 색상을 형성하며 내식성을 가지는 금속 내외장재의 표면 처리 방법이 알려져 있다.Recently, there has been known a surface treatment method of metal interior and exterior materials having an aluminum-based metal film formed on the surface of a metal interior and exterior material, anodizing, coloring and sealing to form various colors and having corrosion resistance.

내외장재의 표면 처리방법과 관련된 선행 특허문헌으로서, 한국등록특허공보 제10-1346014호(금속 내외장재의 표면처리 방법 및 이에 의하여 제조된 표면구조를 가지는 금속 내외장재)에는 금속 내외장재의 표면에 PVD(Physical Vapor Deposition) 방식인 이온 플레이팅(Ion plating)법을 이용하여 알루미늄 재질 층을 형성하여 양극산화 처리한 후 착색 및 봉공 처리하는 방법이 개시되어 있다.Korean Patent Registration No. 10-1346014 (a surface treatment method of a metal interior / exterior material and a metal interior / exterior material having a surface structure manufactured thereby), which is related to a surface treatment method of an interior and exterior material, Discloses a method of forming an aluminum material layer by using an ion plating method which is a deposition method, anodizing, coloring and sealing.

또한, 한국등록특허공보 제10-1545127호(금속 내외장재의 표면처리 방법 및 표면 처리된 금속 내외장재)에는 금속 내외장재에 PVD 방식을 이용하여 밸브 금속으로 이루어진 장벽층 및 알루미늄계 금속으로 표면층을 형성하여 양극산화 처리한 후 착색 및 봉공 처리하는 방법이 개시되어 있으며, 한국등록특허공보 제10-1473641호(CVD공정을 통해 알루미늄 등축정 조직을 형성하는 금속 내외장재의 표면처리 방법 및 이를 이 용하여 표면처리된 금속 내외장재)에는 473-623K의 온도에서 금속 내외장재에 MOCVD 방식을 이용하여 등축정 조직의 박막을 형성하고 양극산화 처리하여 착색 및 봉공 처리하는 방법이 개시되어 있다.In Korean Patent Registration No. 10-1545127 (surface treatment method of metal interior and exterior materials and surface-treated metal interior and exterior materials), a surface layer is formed of a barrier layer made of a valve metal and an aluminum-based metal, (Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-1473641) discloses a method of treating a surface of a metal inner and outer material which forms an aluminum isotropic crystal structure through a CVD process, and a surface-treated metal Discloses a method of forming a thin film of an equiaxed crystal structure on a metal inner and outer casing at a temperature of 473-623 K by using an MOCVD method and performing anodizing treatment to perform coloring and sealing treatment.

하지만 열에 취약한 플라스틱 내외장재의 경우에는 아직도 페인트 도장 방법이 널리 사용되고 있으며, 플라스틱 위에 금속 막을 올리고 양극산화 처리하는 방법이 알려져 있으나 실용성에 문제가 있다.However, in the case of plastic interior and exterior materials which are vulnerable to heat, paint coating methods are still widely used, and a method of raising a metal film and anodizing the plastic is known, but there is a practical problem.

일례로, 플라스틱에 티타늄 혹은 티타늄화합물을 코팅시키고 이를 양극산화 처리하는 방법이 시도되었으나, 티타늄화합물의 양극산화 피막층은 1㎛ 미만에 불과하며 여러 색상이 혼재된 간섭색이 구현되기 때문에 흑색 적색 등의 다양한 색상이 구현되지 않고 내식성에도 문제가 있다.For example, an attempt has been made to coat titanium with a plastic or titanium compound and to anodize the plastic. However, since the anodic oxidation coating layer of the titanium compound is only less than 1 mu m and an interfering color mixed with various colors is realized, Color is not implemented and corrosion resistance is also problematic.

또한, 플라스틱에 진공 증착법으로 알루미늄을 두껍게 형성하고 이를 양극산화 처리한 후 착색 및 봉공 처리하는 방법이 고안될 수 있지만, 진공 증착법은 고진공도에서 이루어지고, 복잡한 형상에 균일한 박막두께 형성이 곤란하며 박막의 밀착력이 낮아서 적용하기 힘들다. 이에 따라, 스퍼터링 증착법(Sputtering deposition)이나 이온 플레이팅법을 이용하여 플라스틱에 알루미늄계 금속 막을 증착하는 방법도 고안되었다. 하지만 고속으로 증착하는 경우, 많은 열에너지의 누적으로 인하여 변형이 발생하기 때문에 증착 속도를 낮춰야 하며, 이는 생산성이 낮은 방법이다.Further, a method of forming a thick aluminum film on an aluminum plate by a vacuum vapor deposition method and then subjecting it to anodization and coloring and sealing may be devised. However, the vacuum deposition method is performed at a high degree of vacuum and it is difficult to form a thin film uniformly in a complicated shape It is difficult to apply because the adhesion of the thin film is low. Accordingly, a method of depositing an aluminum-based metal film on a plastic by using a sputtering deposition method or an ion plating method has also been devised. However, in the case of high-speed deposition, it is necessary to lower the deposition rate because deformation occurs due to accumulation of a lot of heat energy, which is a low productivity method.

이러한, PVD 방식의 단점을 극복하는 방법으로 MOCVD(Metal organic chemical vapor deposition) 공정이 고안되었다. MOCVD 공정은 저진공도나 대기압 상태에서 알루미늄 유기화합물을 이용하여 균일하고 빠르게 증착하는 방법이다. 하지만 기존 알킬계 알루미늄 유기늄 화합물을 이용한 MOCVD 공정은 공정온도가 200℃에서 350℃로 높아서 열 변형온도가 낮은 플라스틱에 적용이 불가능하고, 또한 두께가 얇은 부위 에서 변형이 발생하는 문제가 있어 이를 개선하기 위한 기술이 요구된다. A metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) process has been devised to overcome the drawbacks of the PVD method. The MOCVD process is a method of uniformly and rapidly depositing aluminum organic compounds at low vacuum or atmospheric pressure. However, the MOCVD process using an alkyl-based aluminum organonium compound has a high process temperature of 200 ° C to 350 ° C, so that it can not be applied to a plastic having a low heat distortion temperature and a problem of deformation at a thin thickness Technology is required.

한국등록특허공보 제10-1346014호Korean Patent Registration No. 10-1346014 한국등록특허공보 제10-1545127호Korean Patent Registration No. 10-1545127 한국등록특허공보 제10-1473641호Korean Patent Registration No. 10-1473641

본 발명은 낮은 공정온도에서 MOCVD 공정을 이용하여 알루미늄 금속 막을 고속으로 두껍게 형성하여, 열 변형온도가 낮은 플라스틱 내외장재 물질에도 알루미늄 양극산화 처리가 가능하도록 한다.The present invention forms an aluminum metal film at a high speed and at a high thickness by using an MOCVD process at a low process temperature, so that aluminum anodic oxidation treatment of a plastic inner and outer material having a low heat distortion temperature is enabled.

본 발명은 인덕션 히팅이 불가능한 플라스틱 내외장재에 인덕션 히팅이 가능한 물질을 형성하여 MOCVD 공정을 적용할 수 있도록 한다.In the present invention, a material capable of induction heating is formed on a plastic inner and outer material which can not be subjected to induction heating, so that an MOCVD process can be applied.

본 발명의 일 실시예에 의한 플라스틱 내외장재의 표면처리 방법은, 플라스틱 내외장재의 표면을 상기 플라스틱 내외장재의 변형 온도 이하의 온도로 가열하고, 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 형성하는 단계, 상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 산성 또는 알칼리성 전해액에서 양극산화처리 하여 양극산화 피막층을 형성하는 단계, 및 상기 양극산화 피막층을 착색하고 봉공 처리하는 단계를 포함하고, 상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 형성하는 단계는, 대기압 또는 감압 조건에서 유기알루미늄 화합물을 전구체(precursor)로 하는 MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)법을 이용하는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method for surface treatment of a plastic inner and outer material, comprising the steps of: heating a surface of a plastic inner and outer material to a temperature not higher than a deformation temperature of the plastic inner and outer material; Forming an anodic oxidation coating layer by anodic oxidation treatment in an acidic or alkaline electrolytic solution; and coloring and sealing the anodic oxidation coating layer, wherein the step of forming the aluminum- Is characterized by using MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) in which an organoaluminum compound is used as a precursor under atmospheric pressure or reduced pressure.

일 실시예에 있어서, 상기 유기알루미늄 화합물은, TEAA(triethylamine alane), TMAA(trimethylamine alane), DMEAA(dimethylamine alane), MPA(methylpyrrolidone alane) 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the organoaluminum compound is one of TEAA (trimethylamine alane), TMAA (trimethylamine alane), DMEAA (dimethylamine alane), and MPA (methylpyrrolidone alane).

일 실시예에 있어서, 상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 형성하는 단계 이전에, 상기 플라스틱 내외장재의 표면에 인덕션 히팅(Induction Heating)이 가능한 중간층을 형성하는 단계를 포함한다.In one embodiment, an intermediate layer capable of induction heating may be formed on the surface of the plastic inner casing before forming the aluminum-based metal film of the equiaxed crystal structure.

일 실시예에 있어서, 상기 플라스틱 내외장재의 표면은 상기 인덕션 히팅 방식으로 가열되는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the surface of the plastic interior / exterior material is heated by the induction heating method.

일 실시예에 있어서, 상기 중간층을 형성하는 단계는, 상기 중간층을 PVD(Physical Vapor Deposition) 방식 혹은 무전해 습식도금을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the intermediate layer may be formed by using a PVD (Physical Vapor Deposition) method or electroless wet plating.

일 실시예에 있어서, 상기 양극산화 피막층을 형성하는 단계는, 상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 알칼리성 전해액에서 플라즈마 전해 산화 처리하여 백색피막을 제작하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the step of forming the anodized film layer includes a step of plasma-electrolytically oxidizing the aluminum-based metal film of the equiaxed texture with an alkaline electrolytic solution to produce a white film.

일 실시예에 있어서, 상기 양극산화 피막층의 두께가 5㎛ 내지 100㎛인 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the thickness of the anodized film layer is 5 占 퐉 to 100 占 퐉.

일 실시예에 있어서, 상기 중간층은 철, 니켈, 코발트 중 적어도 하나 이상의 물질 또는 적어도 하나 이상의 물질과 그 이외의 원소와의 결합으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the intermediate layer is formed of at least one of iron, nickel, and cobalt, or a combination of at least one material and other elements.

일 실시예에 있어서, 상기 중간층의 두께는 0.1㎛ 내지 10㎛ 인 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the thickness of the intermediate layer is 0.1 to 10 μm.

일 실시예에 있어서, 상기 착색하고 봉공 처리하는 단계는, 백색금속화합물 안료 반응 생성물을 이용하여 착색하는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the coloring and sealing process is characterized by coloring using a white metal compound pigment reaction product.

본 발명의 일 실시예에 의한 플라스틱 내외장재는, 플라스틱 내외장재 표면에 형성되는 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막, 상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 산성 또는 알칼리성 전해액에서 양극산화 처리하여 형성된 양극산화 피막층을 포함하며, 상기 양극산화 피막층이 착색되고 봉공 처리되는 것을 특징으로 한다.The plastic interior and exterior material according to one embodiment of the present invention is characterized by comprising an anodic oxidation coating layer formed by anodic oxidation treatment of an aluminum-based metal film of equiaxed tetragonal structure and an aluminum-based metal film of the equiaxed titanium structure formed on the surface of plastic inner and outer material And the anodized film layer is colored and sealed.

일 실시예에 있어서, 상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막은 상기 플라스틱 내외장재의 변형 온도 이하의 온도로 가열되어 대기압 또는 감압 조건에서 유기알루미늄 화합물을 전구체로 하는 MOCVD법에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the aluminum-based metal film of the equiaxed crystal structure is formed by MOCVD using an organoaluminum compound as a precursor under atmospheric pressure or reduced pressure by heating to a temperature lower than the deformation temperature of the plastic inner and outer material.

일 실시예에 있어서, 상기 유기알루미늄 화합물은, TEAA(triethylamine alane), TMAA(trimethylamine alane), DMEAA(dimethylamine alane), MPA(methylpyrrolidone alane) 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the organoaluminum compound is one of TEAA (trimethylamine alane), TMAA (trimethylamine alane), DMEAA (dimethylamine alane), and MPA (methylpyrrolidone alane).

일 실시예에 있어서, 상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막이 형성되기 전에, 인덕션 히팅(Induction Heating)이 가능한 중간층이 형성되는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, an intermediate layer capable of induction heating is formed before the aluminum-based metal film of the equiaxed crystal structure is formed.

일 실시예에 있어서, 상기 내외장재의 표면은 상기 인덕션 히팅 방식으로 가열되는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the surface of the inside / outside material is heated by the induction heating method.

일 실시예에 있어서, 상기 양극산화 피막층의 두께가 5㎛ 내지 100㎛인 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the thickness of the anodized film layer is 5 占 퐉 to 100 占 퐉.

일 실시예에 있어서, 상기 중간층은 상기 중간층은 철, 니켈, 코발트 중 적어도 하나 이상의 물질 또는 적어도 하나 이상의 물질과 그 이외의 원소와의 결합으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the intermediate layer is characterized in that the intermediate layer is formed of at least one of iron, nickel, and cobalt, or at least one of the materials and a combination of other elements.

일 실시예에 있어서, 상기 중간층의 두께는 0.1㎛ 내지 10㎛ 인 것을 특징으로 한다. In one embodiment, the thickness of the intermediate layer is 0.1 to 10 μm.

일 실시예에 있어서, 상기 양극산화 피막층은, 상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 알칼리성 전해액에서 플라즈마 전해 산화 처리하여 형성된 백색피막인 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the anodized film layer is a white film formed by plasma electrolytic oxidation of the aluminum-based metal film of the equiaxed texture with an alkaline electrolytic solution.

일 실시예에 있어서, 상기 양극산화 피막층은, 백색금속화합물 안료 반응 생성물을 이용하여 백색으로 착색되는 것을 특징으로 한다.In one embodiment, the anodic oxide coating layer is colored white by using a white metal compound pigment reaction product.

본 발명에 의하면, 열 변형온도가 낮은 플라스틱 내외장재에도 MOCVD 공정을 통해 알루미늄 금속 막을 저온으로 용이하게 증착하고, 양극산화 피막층을 형성하여 착색 및 봉공 처리를 통해 미려하고 다양한 색상의 플라스틱 내외장재의 표면을 형성할 수 있다.According to the present invention, the aluminum metal film can be easily deposited at a low temperature through the MOCVD process even in plastic interior and exterior materials having a low heat distortion temperature, and an anodic oxidation coating layer is formed to form a surface of a plastic interior and exterior material of various colors can do.

본 발명에 의하면, 인덕션 히팅이 불가능한 플라스틱 내외장재에 인덕션 히팅이 가능한 물질을 형성하도록 하여 경제성 높고 용이하게 MOCVD 공정을 적용할 수 있다.According to the present invention, a material capable of induction heating can be formed on a plastic inner and outer material which can not be subjected to induction heating, so that the MOCVD process can be easily and economically applied.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법의 순서를 개략적으로 나타낸 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 의한 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법의 순서를 개략적으로 나타낸 흐름도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 표면처리 된 플라스틱 내외장재의 단면을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
1 is a flowchart schematically showing a procedure of a surface treatment method of a plastic internal and external material according to an embodiment of the present invention.
2 is a flowchart schematically showing a procedure of a surface treatment method of a plastic internal and external material according to another embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of a surface treated plastic inner and outerwear according to an embodiment of the present invention.

이하에서 본 발명의 기술적 사상을 명확화하기 위하여 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하도록 한다. 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 또는 구성요소에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 도면들 중 실질적으로 동일한 기능구성을 갖는 구성요소들에 대하여는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 참조번호들 및 부호들을 부여하였다. 설명의 편의를 위하여 필요한 경우에는 장치와 방법을 함께 서술하도록 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings in order to clarify the technical idea of the present invention. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a block diagram of a computer system according to an embodiment of the present invention; Fig. For convenience of explanation, the apparatus and method are described together when necessary.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법의 순서를 개략적으로 나타낸 흐름도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 표면처리 된 플라스틱 내외장재의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 1 및 도 3을 참조하면, 플라스틱 내외장재(10)의 표면을 플라스틱 내외장재의 변형온도 즉, 플라스틱 변형온도 이하의 온도로 가열하고, 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막(20)을 형성한다(S110).FIG. 1 is a flowchart schematically showing a procedure of a surface treatment method of a plastic inner and outerwear according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a view schematically showing a cross section of a surface treated plastic inner and outerwear according to an embodiment of the present invention . 1 and 3, the surface of the plastic innerwear material 10 is heated to a temperature not lower than the deformation temperature of the plastic inner and outerwear material, that is, the plastic deformation temperature to form an aluminum-based metal film 20 having an equiaxed texture (S110 ).

금속 막을 형성하는 방식에는 PVD(Physical vapor deposition), CVD(Chemical vapor deposition) 방식으로 구분될 수 있다. PVD 방식은 CVD 방식보다 고 진공도에서 작업하기 때문에 평균 자유 경로가 길고, 높은 접착계수로 인하여 가시선(line of sight) 공정의 일종이다. 즉 소스를 바라보는 부위와 소스를 바라보지 않는 부위 간에 두께의 편차가 높고, 보통 피처리물의 운동, 치구를 이용한 자전 공전으로 두께 균일도를 향상시킨다. 반면에 CVD 방식은 저진공, 대기압에서도 증착이 가능한 공정으로 평균 자유 경로가 PVD 방식에 비하여 짧아 전구체가 반응로에 투입되어 표면에 도달하기 전에 수 많은 충돌을 일으킨다. 이러한 충돌현상과 더불어 분자들의 낮은 접착계수 그리고 가열된 모재에 의한 강화된 표면 확산으로 보다 균일한 박막 두께로 코팅될 수 있도록 한다.Methods for forming a metal film can be classified into physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). The PVD method is a kind of line of sight process because of the long average free path and high adhesion coefficient because it works at higher vacuum than CVD method. That is, there is a high variation in the thickness between the source-facing region and the source-facing region, and the thickness uniformity is improved by the rotation of the object to be processed and the jig using the jig. On the other hand, the CVD method is a process which can deposit even at low vacuum and atmospheric pressure, and the average free path is shorter than the PVD method, so that the precursor is injected into the reaction path and causes many collisions before reaching the surface. In addition to this collision phenomenon, the low adhesion coefficient of the molecules and the enhanced surface diffusion by the heated base material enable coating with a more uniform film thickness.

실시예에 따라, 알루미늄계 금속 막(20)은 다양한 색상을 구현하기 위해서 최소 5㎛의 두께일 수 있다. 초기에는 저온에서 고속으로 형성 가능한 진공 증착법을 이용하였다. 하지만 진공 증착법은 두께를 올려도 온도가 거의 올라가지 않은 대신, 3차원 형상을 가진 내외장재(10)의 경우에 각 부위별로 금속 막의 두께 차이가 크고, 내외장재(10)와 금속 막의 밀착력도 떨어지는 문제가 있다.According to the embodiment, the aluminum-based metal film 20 may be at least 5 탆 thick to realize various colors. Initially, a vacuum deposition method capable of forming at low temperature and high speed was used. However, in the vacuum deposition method, the temperature does not substantially increase even when the thickness is increased. In the case of the three-dimensional inner and outer casing 10, the difference in thickness of the metal film between the inner and outer casing 10 and the metal film is low.

이를 위해, 진공 증착법의 작업 진공도인 0.01-0.1mTorr보다 저진공도인 1-20mTorr 영역에서 이루어지는 스퍼터링법, 이온 플레이팅법이 검토 되었다. 하지만 변형온도가 낮은 피처리물일 경우에 증착되는 금속 입자의 운동에너지로 인한 열의 누적으로 피처리물이 변형되었다. 이와 같은 문제점을 해결하기 위해 수 회에 걸쳐 증착을 하면 원하는 두께를 확보하고, 피처리물의 변형도 막을 수 있지만, 이는 경제성이 없는 방법이며, 증착 속도를 감소시킬 경우 역시 경제성이 없다.For this purpose, a sputtering method and an ion plating method in a range of 1-20 mTorr, which is a vacuum degree lower than 0.01-0.1 mTorr which is a working vacuum degree of the vacuum vapor deposition method, were examined. However, in the case of a workpiece having a low strain temperature, the workpiece is deformed due to heat accumulation due to the kinetic energy of the metal particles to be deposited. In order to solve such a problem, deposition can be carried out several times to secure a desired thickness and to prevent deformation of the object to be processed. However, this method is not economical.

따라서, 본 발명에서는 CVD 방식인 MOCVD 공정을 이용하며, 3차원 물체에 금속 막을 형성하는 경우, CVD 방식이 PVD 방식보다 모든 부위에 균일한 두께의 박막을 형성할 수 있다.Accordingly, in the present invention, when a metal film is formed on a three-dimensional object using a MOCVD process, which is a CVD method, a thin film having a uniform thickness can be formed in all portions of the CVD method than in the PVD method.

일 실시예에서, 대기압 또는 감압 조건에서 하나 또는 둘 이상의 유기알루미늄 화합물을 전구체로 사용하는 MOCVD 공정을 이용한다. 종래에는 유기알루미늄 화합물 전구체로 알킬 알루미늄인 TMA(trimethyl aluminium), TEA(triethyl aluminium), TIBA(triisobutyl aluminium) 및 DIBAH(diisobutyl aluminium hydride) 또는 이들 알킬알루미늄과 헵탄(heptane)의 혼합물이 사용되었다. 하지만 250℃ 이하의 온도에서 알루미늄계 금속 막이 잘 형성되지 않으며 공기와의 접촉에서 폭발적으로 반응하여 사용상 어려움이 있다. In one embodiment, a MOCVD process is used that uses one or more organoaluminum compounds as precursors under atmospheric or reduced pressure conditions. Conventionally, a mixture of alkyl aluminum TMA (trimethyl aluminum), TEA (triethyl aluminum), TIBA (triisobutyl aluminum) and DIBAH (diisobutyl aluminum hydride) or alkyl aluminum and heptane was used as an organoaluminum compound precursor. However, the aluminum-based metal film is not well formed at a temperature of 250 ° C or less, and it is difficult to use due to explosive reaction in contact with air.

이에, 유기알루미늄 화합물 전구체로는 145℃ 이하의 온도에서도 알루미늄계 막을 형성할 수 있는 것으로, TEAA(triethylamine alane), TMAA(trimethylamine alane), DMEAA(dimethylamine alane), MPA(methylpyrrolidone alane)와 같은 amine-alane 계열 화합물 중에서 선택되는 어느 하나 이상이 될 수 있다. 여기서 alane은 Aluminium hydride으로 알루미늄 수화물의 착물을 의미한다.As the precursor of the organoaluminum compound, an aluminum-based film can be formed at a temperature of 145 ° C or lower. The amine-based precursor can be an amine-amine precursor such as triethylamine alane, trimethylamine aluminum (TMAA), dimethylamine alane (DMEAA), or methylpyrrolidone alane and alane-based compounds. Here, alane refers to a complex of aluminum hydrate with an aluminum hydride.

실시예에 따라, TMAA가 기판 위에서 알루미늄계 막으로 증착되는 과정을 설명하면, 열분해 되지 않은 상태로 기판 위까지 확산해온 TMAA가 기판 표면에 흡착된 후, 기판의 온도에 의해 에너지를 받아 Trimethylamine과 alane으로 분해된다. 이러한 과정은 속도 결정단계로, 분리된 Trimethylamine은 쉽게 탈착되어 나가고 표면반응에 의해 alane (AlH3)에서도 수소가 떨어져 H2분자로 탈착되면 기판 위에는 알루미늄만 남아 금속결정을 이루게 된다. 모든 amine-alane 화합물의 결정성장 반응기구는 이와 유사하며 종래의 알킬알루미늄화합물보다 공기와의 반응 안정성이 개선되었고 낮은 반응온도에서 용이하게 등축정 조직의 알루미늄계 막을 증착할 수 있다.According to the embodiment, a process of depositing TMAA on an aluminum-based film on a substrate will be described. TMAA diffused into the substrate without pyrolysis is adsorbed on the substrate surface, . This process is a rate determining step. When the separated trimethylamine is easily desorbed and the hydrogen is also released from the alane (AlH 3 ) due to the surface reaction, H 2 molecules are desorbed to form a metal crystal on the substrate. The crystal growth mechanism of all amine-alane compounds is similar, and the stability of the reaction with air is improved compared with the conventional alkyl aluminum compound, and the aluminum-based film of the equiaxed crystal structure can be easily deposited at a low reaction temperature.

실시예에 따라, 등축정 조직의 알루미늄 금속 막(20)을 제작하는 방법은 PVD(Physical Vapor Deposition)공정과 CVD(Chemical Vapor Deposition)공정으로 제작될 수 있다. 일반적으로 PVD공정으로 코팅 시 온도에 따라 박막조직이 변하는 것이 알려져 있다. 낮은 온도에서 코팅하면 주상정 조직으로 형성되고 온도를 코팅물질 융점의 2/3 이상의 온도에서 코팅하면 등축정 조직으로 형성된다. 이 때 주상정 조직의 경우 미소기공이 존재하므로 특히 외장재에 후술하는 중간층을 형성할 경우 다음 단계인 양극 산화 단계에서 기공을 통하여 양극 산화액이 중간층과 접촉되어 부식이 일어나는 문제가 있다. 따라서 주상정 조직 보다는 상대적으로 조직이 치밀한 등축정 조직으로 알루미늄 박막층을 형성하는 것이 바람직하다. 알루미늄의 융점은 660℃이고 켈빈온도로 환산하면 933°K이며, 2/3 온도는 622°K이고 이를 다시 섭씨온도로 환산하면 349℃가 되므로, PVD공정으로 코팅시에는 350℃(623°K) 이상의 온도에서 형성해야 등축정 조직으로 박막이 형성될 수 있다. 이러한 PVD공정에는 형성물의 밀착력 등을 감안하였을 때 스퍼터링 또는 음극 진공 아크법 등을 예시될 수 있다. 하지만, 이러한 예시들은 350℃ 이상의 온도 조건 하에서 수행되는 고온 공정에 해당하므로 열 변형온도가 낮은 플라스틱 내외장재의 경우 제품이 녹는 등 문제가 있다. 하지만 상기 TEAA, TMAA, DMEAA, MPA와 같은 amine-alane 계열 유기화합물을 전구체로 MOCVD 공정을 이용할 경우 플라스틱 변형 온도 이하에서 알루미늄 막은 등축정 조직을 보인다.According to the embodiment, the method of manufacturing the aluminum metal film 20 of the equiaxed crystal structure can be manufactured by a PVD (Physical Vapor Deposition) process and a CVD (Chemical Vapor Deposition) process. It is generally known that the thin film structure changes with the temperature during the coating in the PVD process. Coatings at low temperatures are formed into columnar structures and are formed into equiaxed crystals when the temperature is coated at 2/3 or more of the melting point of the coating material. In this case, since the micropores exist in the columnar structure, there is a problem that the anodic oxidation liquid contacts with the intermediate layer through the pores in the anodic oxidation step, which is the next step in the case of forming the intermediate layer described later on the exterior material. Therefore, it is preferable to form an aluminum thin film layer with an equilibrium structure having a relatively dense structure rather than a columnar structure. Aluminum has a melting point of 660 ° C, 933 ° K in terms of Kelvin temperature, 622 ° K in 2/3 temperature and 349 ° C in terms of Kelvin temperature, so it is 350 ° C (623 ° K ), The thin film may be formed in an equiaxed crystal structure. In the PVD process, sputtering or an anode vacuum arc method can be exemplified in view of the adhesion of the formed product. However, these examples correspond to a high-temperature process performed under a temperature condition of 350 ° C or higher, and therefore, there is a problem such as melting of a plastic inner and outerwear material having a low heat distortion temperature. However, when MOCVD process is used as an amine-alane-based organic compound such as TEAA, TMAA, DMEAA, MPA, the aluminum film shows an equiaxed crystal structure below the plastic deformation temperature.

실시예에 따라, 공정온도 범위는 80-250℃가 될 수 있다. 공정의 온도가 250℃를 넘어가면 본 발명의 실시예인 폴리카보네이트 뿐만 아니라 다른 내열 플라스틱도 변형이 발생되며, 공정의 온도가 80℃ 미만이면 유기알루미늄 전구체의 휘발온도보다 낮아 반응이 일어나지 않는다. MPA의 휘발온도는 65-80℃이기 때문에 약 50℃이하의 온도로 유지하면 그 표면에는 반응이 일어나지 않는다. 따라서 반응로 외부에 냉각라인을 설치하면 반응로 내벽은 코팅되지 않는다. Depending on the embodiment, the process temperature range may be 80-250 占 폚. When the temperature of the process exceeds 250 ° C., not only the polycarbonate of the present invention but also other heat resistant plastics are deformed. If the temperature of the process is lower than 80 ° C., the reaction temperature is lower than the volatilization temperature of the organic aluminum precursor. Since the volatilization temperature of MPA is 65-80 ° C, if the temperature is kept below 50 ° C, the reaction does not occur on its surface. Therefore, if the cooling line is installed outside the reactor, the inner wall of the reactor is not coated.

실시예에 따라, 전구체 물질의 투입형태는 증기상으로 투입하거나 미세스프레이 노즐을 이용하여 안개화시켜 투입할 수 있다.According to an embodiment, the form of the precursor material may be injected into the vapor phase or fogged using a fine spray nozzle.

일 실시예에서, 알루미늄계 금속 막을 형성하고, 상기 양극산화 피막층을 형성하기 이전에, 내외장재(10)의 표면을 전해연마, 화학연마, 기계연마, 표면가공 중 어느 하나의 방식을 이용하여 가공 처리할 수 있다. 여기서 표면가공은 샌딩, 헤어라인을 포함한다.In one embodiment, the aluminum-based metal film is formed and the surface of the internal and external material 10 is subjected to a processing process using any one of electrolytic polishing, chemical polishing, mechanical polishing, and surface processing before forming the anodic oxide coating layer can do. Here, the surface machining includes sanding and hair line.

알루미늄계 금속 막(20)을 형성하고, 알루미늄계 금속 막(20)의 전부 또는 일부를 양극산화 처리하여 양극산화 피막층(21)을 형성한다(S120). 양극산화 (Anodizing)는 전기화학적인 피막 형성방법 중 하나로서, 일반적으로 황산, 수산, 크롬산 또는 이들의 혼합액 등의 산성 전해액을 사용하며, 양극산화의 종류에 따라 알칼리성 전해액을 사용할 수 있다. 알루미늄을 양극으로 하여 일정한 전해액에서 분극시켜 기계적, 전기적, 화학적 특성이 우수한 다공질성 산화 알루미늄 피막층을 형성하는 공정이다. 이러한 양극산화 처리법에 의해 형성된 피막층은 대단히 단단하고 내식성이 크며 다양한 색으로 염색 가능하다.The aluminum-based metal film 20 is formed, and all or a part of the aluminum-based metal film 20 is anodized to form an anodic oxide coating layer 21 (S120). Anodizing is one of electrochemical film forming methods. In general, an acidic electrolytic solution such as sulfuric acid, hydrochloric acid, chromic acid or a mixture thereof is used, and an alkaline electrolytic solution may be used depending on the type of anodic oxidation. Aluminum is polarized in a certain electrolytic solution as an anode to form a porous aluminum oxide coating layer having excellent mechanical, electrical and chemical properties. The coating layer formed by such anodizing treatment is extremely hard, has high corrosion resistance, and can be dyed in various colors.

일 실시예에서, 양극산화 피막층(21)의 두께는 5㎛ 내지 100㎛의 범위일 수 있다. 이와 같이 두께를 제한한 것은 5㎛ 미만이면 후속 단계인 착색공정에서 다양한 색상을 만들지 못하고, 100㎛를 초과하면 공정시간이 과도하게 길어져 생산성이 저하될 뿐만 아니라 다른 조립품과의 조립에 문제가 생길 수 있기 때문이다.In one embodiment, the thickness of the anodized coating layer 21 may range from 5 占 퐉 to 100 占 퐉. If the thickness is less than 5 탆, various colors can not be formed in the subsequent coloring step. If the thickness is more than 100 탆, the process time becomes excessively long, which lowers the productivity and may cause problems in assembly with other assemblies It is because.

착색으로 색상을 구현할 때 이 알루미늄 양극산화 피막층(21)의 깊이에 따라 구현할 수 있는 색상이 결정된다 양극산화 피막층(21)이 얇으면 흑색층이 구현되지 않고 아이보리류의 색상만 착색가능하고 더 얇으면 색상을 구현할 수 없다.When the color is realized by coloring, a color which can be implemented can be determined according to the depth of the aluminum anodized coating layer 21. When the anodized coating layer 21 is thin, the black layer is not realized and only the color of the ivory- The color can not be realized.

양극산화 피막층(21)이 형성되면 염료를 착색하고 봉공 처리한다(S130). 착색 및 봉공처리의 과정은, 일반적인 알루미늄의 착색 그리고 봉공정리와 동일한 공정일 수 있다. 양극산화 피막층(21)의 내부에 존재하는 다공질층에 염료, 안료, 식용 색소 등을 착색시켜 다양한 색상을 만들 수 있다. 이렇게 착색으로 다양한 색상을 구현할 수 있으며, 핑크색, 청색, 녹색, 골드, 적색, 흑색의 순서대로 필요한 양극산화 피막층(21)의 두께가 커지며, 5-30㎛ 범위일 수 있다. 염료를 착색하는 방법은 유기물 착색, 무기물 착색, 전해 착색 방법 등을 사용할 수 있다. 착색 후 구멍을 막는 봉공처리를 할 수 있는데, 봉공처리를 통하여 착색이 흘러나오지 않도록 하고 착색의 내구성 및 화학적 내식성을 개선할 수 있다. 실시예에 따라, 봉공처리는 수화봉공, 금속성 봉공, 유기물봉공, 저온 봉공 등의 널리 알려진 방법을 사용할 수 있다.When the anodized film layer 21 is formed, the dye is colored and sealed (S130). The process of the coloring and sealing process may be the same process as the coloring and sealing arrangement of general aluminum. Dyes, pigments, food colors and the like may be colored in the porous layer existing inside the anodic oxide coating layer 21 to make various colors. Various colors can be realized by this coloration, and the thickness of the anodized film layer 21 required in order of pink, blue, green, gold, red, and black is increased in the order of 5-30 mu m. As a method for coloring the dye, organic material coloring, inorganic coloring, electrolytic coloring method and the like can be used. It is possible to perform a sealing process for closing the hole after coloring, and it is possible to prevent the coloring from flowing through the sealing process and improve the durability and chemical corrosion resistance of the coloring. According to the embodiment, the sealing process may be a known method such as a hydration seal, a metallic seal, an organic seal, or a low-temperature seal.

백색 애노다이징에 대한 수요가 증가함에 따라, 있는데 본 발명에서도 플라스틱 내외장재(10)에 알루미늄계 금속 막(20)을 MOCVD 공정으로 증착하고, 백색피막을 제조할 수 있다. 일 실시예에서, 산성 전해액을 이용하여 양극 산화 처리하여 다공성 알루미나 층을 형성하고, 순차적으로, 형성된 다공성 알루미나 층을 제1 전해질과 제2 전해질 용액에 침지시켜 백색금속화합물 안료 반응 생성물을 형성하여 백색피막을 제조할 수 있다. 실시예에 따라, 백색 금속 화합물 안료 반응 생성물은 수산화 알루미늄, 인산 알루미늄, 규산 알루미늄, 안티몬, 수산화 바륨, 탄산 바륨, 옥살산 바륨, 황산 바륨, 티탄산 바륨, 탄산 칼슘, 옥살산 칼슘, 황산 칼슘, 규산 칼슘, 규산 마그네슘, 탄산 마그네슘, 수산화 마그네슘, 실버 클로라이드, 실버 옥살산, 산화주석, 산화 아연, 인산 아연, 황화 아연 중의 어느 하나일 수 있다. 또한, 제 1반응 물질은 백색금속 화합물 안료 반응 생성물의 금속 성분의 염화물, 질산염, 황산염 중의 하나이고 상기 제2 반응 물질은 백색 금속 화합물 안료 반응 생성물의 금속 성분의 수산화물, 인산염, 탄산염, 규산염을 포함 또는 옥살산염 중의 하나일 수 있다.As the demand for white anodizing increases, the aluminum-based metal film 20 can be deposited on the plastic inner and outer casing 10 by the MOCVD process to produce a white film. In one embodiment, an anodic oxidation process is performed to form a porous alumina layer using an acidic electrolyte, and the porous alumina layer formed is sequentially immersed in a first electrolyte and a second electrolyte solution to form a white metal compound pigment reaction product, A coating film can be produced. According to an embodiment, the white metal compound pigment reaction product may be selected from the group consisting of aluminum hydroxide, aluminum phosphate, aluminum silicate, antimony, barium hydroxide, barium carbonate, barium oxalate, barium sulfate, barium titanate, calcium carbonate, calcium oxalate, calcium sulfate, Magnesium silicate, magnesium carbonate, magnesium hydroxide, silver chloride, silver oxalic acid, tin oxide, zinc oxide, zinc phosphate, and zinc sulfide. Also, the first reactant is one of chloride, nitrate and sulfate of the metal component of the white metal compound pigment reaction product, and the second reactant includes hydroxide, phosphate, carbonate and silicate of the metal component of the white metal compound pigment reaction product Or oxalate.

일 실시예에서, 플라스틱 내외장재(10)에 알루미늄계 금속 막(20)을 MOCVD 공정으로 증착하고, 알칼리 전해액에서 플라즈마 전해 산화법으로 산화하여 백색 피막을 제작할 수 있다. 플라즈마 전해 산화법에 이용되는 전해액은 수산화칼륨, 규산나트륨, 불화칼륨, 알루민산나트륨, 붕산나트륨, 불화리튬, 알루민산나트륨, 과인산칼슘, 수산화칼륨, 과인산칼슘 중 적어도 하나를 함유할 수 있다.In one embodiment, the aluminum-based metal film 20 is deposited on the plastic inner and outer casing 10 by an MOCVD process, and oxidized by an electrolytic oxidation method using an alkaline electrolyte to form a white film. The electrolytic solution used in the plasma electrolytic oxidation method may contain at least one of potassium hydroxide, sodium silicate, potassium fluoride, sodium aluminate, sodium borate, lithium fluoride, sodium aluminate, calcium perphosphate, potassium hydroxide and calcium perphosphate.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 의한 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법의 순서를 개략적으로 나타낸 흐름도이다. 도 2를 참조하면, 플라스틱 내외장재(10)의 표면을 인덕션 히팅을 이용하여 가열하고자 할 때에 인덕션 히팅이 가능한 중간층을 형성한다(S200).2 is a flowchart schematically showing a procedure of a surface treatment method of a plastic internal and external material according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, when the surface of the plastic inner and outer casing 10 is to be heated by induction heating, an intermediate layer capable of induction heating is formed (S200).

실시예에 따라, MOCVD 공정을 이용하기 위해 플라스틱 내외장재(10)의 표면을 플라스틱의 변형 온도 이하의 온도로 가열하는데, 플라스틱 내외장재(10)의 표면을 가열하는 방식은 다양한 방식이 적용될 수 있다.According to the embodiment, in order to use the MOCVD process, the surface of the plastic inner casing member 10 is heated to a temperature lower than the deformation temperature of the plastic, and various methods can be applied to the method of heating the surface of the plastic inner casing member 10.

예를 들어, 시즈 히터(Sheath Heater)를 내부에 사용할 경우, 반응로 외부를 냉각시켜 반응로 내벽을 일정온도 이하로 유지시킬 수는 있지만 시즈 히터 자체는 냉각시킬 수 없으므로 공정온도 이상으로 증가되어 히터 표면에서 많은 코팅이 이루어진다. 따라서 주기적으로 표면에 코팅된 알루미늄을 제거해야 하며, 히터와 피처리물의 공간적인 상대 위치에 따른 온도 균일 차이를 해소하기 위하여 복잡한 공자전 운동이 필요하다.For example, when a sheath heater is used inside, it is possible to keep the inner wall of the reactor under a certain temperature by cooling the outside of the reactor, but since the sheath heater itself can not be cooled, Many coatings are made on the surface. Therefore, it is necessary to periodically remove the aluminum coated on the surface, and a complicated confronting motion is required to solve the temperature uniformity difference according to the spatial relative positions of the heater and the object to be processed.

할로겐 히터를 내부에 사용할 경우, 할로겐 히터 표면에 알루미늄이 코팅되므로 사용하기가 곤란하고 외부에 사용할 경우에는 적외선이 투과되는 투명한 반응로를 사용하여야 하지만 투명한 반응로를 냉각시키는 것이 어렵다.When a halogen heater is used inside, it is difficult to use because it is coated with aluminum on the surface of the halogen heater, and when it is used outside, it is necessary to use a transparent reaction furnace through which infrared rays are transmitted, but it is difficult to cool a transparent reaction furnace.

마이크로웨이브를 이용한 내부 가열은 플라스틱 표면에는 가능하지만 금속 막이 형성되면 표면에서 아크 현상이 발생되므로 사용이 불가능하다.Internal heating using microwaves is possible on plastic surfaces, but when a metal film is formed, an arc phenomenon occurs on the surface, which is unusable.

일반 저항 가열식 히터를 내부에 사용할 경우에도 히터 표면에 알루미늄이 증착되어 전압 전류특성이 변화되어 공정 온도의 일관적인 조절이 용이하지 않고 주기적으로 히터 표면의 알루미늄을 제거해야 한다.Even when a general resistance heater is used inside, aluminum is deposited on the surface of the heater to change the voltage and current characteristics, so it is not easy to adjust the process temperature consistently and aluminum of the heater surface must be removed periodically.

일반적으로 MOCVD 공정을 이용하기 위해서 상술한 가열 방법을 이용해도 문제되지 않았지만, 3차원 형상을 가진 내외장재를 다량으로 수십 ㎛의 증착막을 형성시키고자 할 경우에는 다른 가열방식이 요구된다.Generally, there is no problem even if the above-described heating method is used to use the MOCVD process. However, when a large amount of the inner and outer materials having a three-dimensional shape is desired to form a deposition film of several tens of micrometers, another heating method is required.

일 실시예에서, 내외장재(10)의 표면은 인덕션 히팅(Induction Heating)이 가능한 중간층을 형성한 후 인덕션 히팅 방식을 이용하여 가열될 수 있다. 이를 위해, 반응로의 재질을 알루미늄, SUS304, 구리, 유리 등과 같이 인덕션 히팅이 불가능한 재질로 구성하고, 반응로 내외부에 구리관 코일을 설치하고 물로 냉각시키면서 인덕션 히팅하면, 반응로는 냉각되고 반응로 내부에 위치한 인덕션 히팅이 가능한 피처리물만 가열이 가능하다. 따라서 MOCVD 공정에서 유기알루미늄 화합물을 투입하면 반응온도에 도달된 피처리물에만 증착이 되고 반응로 내벽에는 증착이 되지 않을 수 있다In one embodiment, the surface of the inner and outer material 10 may be heated using an induction heating method after forming an intermediate layer capable of induction heating. For this purpose, the reaction furnace is made of a material such as aluminum, SUS304, copper, glass, etc., which is incapable of induction heating, and a copper tube coil is provided inside and outside the reaction furnace. When induction heating is performed while cooling with water, Only the in-situ heatable material can be heated. Therefore, when the organoaluminum compound is added in the MOCVD process, deposition may be performed only on the object to be treated which has reached the reaction temperature, and deposition may not be performed on the inner wall of the reaction furnace

일 실시예에서, 중간층은 철, 니켈, 코발트와 같은 강자성 물질이거나, 철, 니켈, 코발트 중 적어도 하나 이상의 물질과 그 외의 원소와의 결합으로 이루어진 합금일 수 있다.In one embodiment, the intermediate layer may be a ferromagnetic material such as iron, nickel, cobalt, or an alloy consisting of a combination of at least one of iron, nickel, and cobalt with other elements.

일 실시예에서, 중간층은 PVD(Physical Vapor Deposition) 방식으로 형성할 수 있으며, 이 외에도 전해도금, 무전해도금의 방식으로 형성할 수 있다. 경제적인 면에서는 전해도금, 무전해도금과 같은 습식도금이 유리할 수 있다. 니켈을 사용하는 무전해도금의 경우, 전해도금과는 달리 순수 니켈이 아니라 인 또는 보론과의 합금 형태로, 자성을 가질 수 있도록 조성되는 것이 바람직하다.In one embodiment, the intermediate layer may be formed by a PVD (Physical Vapor Deposition) method, or may be formed by electrolytic plating or electroless plating. In terms of economy, wet plating such as electrolytic plating and electroless plating may be advantageous. In the case of electroless plating using nickel, unlike electrolytic plating, it is preferable to be formed so as to have magnetism in the form of an alloy with phosphorus or boron instead of pure nickel.

실시예에 따라, 중간층을 PVD 방식으로 제작할 경우, 인덕션 히팅이 가능한 물질의 하부에 밀착력을 향상시킬 수 있는 물질을 증착할 수 있으며, 상부에 양극산화 처리 시 더 이상의 산화를 방지할 수 있는 물질을 증착할 수 있다.According to the embodiment, when the intermediate layer is formed by the PVD method, a substance capable of improving adhesion can be deposited on the bottom of the substance capable of induction heating, and a substance capable of further preventing oxidation Can be deposited.

다른 실시예에서, 내외장재가 폴리카보네이트인 경우, 인덕션 히팅이 아닌 쉬스히터를 이용하여 140℃까지 가열하고 CVD 공정을 이용할 수 있다. 이 후 유기알루미늄 전구체만을 투입하거나 비반응성 가스를 동시에 일정한 유량으로 투입하여 알루미늄 금속 막을 형성할 수 있다.In another embodiment, when the interior and exterior materials are polycarbonate, it is possible to use a sheath heater, not induction heating, to heat up to 140 占 폚 and use a CVD process. Thereafter, only the organoaluminum precursor may be added or an unreactive gas may be simultaneously introduced at a constant flow rate to form an aluminum metal film.

실시예에 따라, 인덕션 히팅이 가능한 물질을 형성하고도 인덕션 히팅이 아닌 다른 가열방법을 사용하는 것이 가능하지만 이는 상술한 바와 같은 문제가 있어 경제적이지 못하다. 따라서 인덕션 히팅이 가능한 물질이 형성되면 플라스틱 내외장재 표면의 가열 방법은 인덕션 히팅으로 하는 것이 바람직하다.According to the embodiment, it is possible to use a heating method other than induction heating to form a material capable of induction heating, but this is not economical due to the above-described problems. Therefore, if a material capable of induction heating is formed, it is preferable that the surface of the plastic inner and outer material is heated by induction heating.

중간층을 형성한 이후 플라스틱 내외장재를 처리하는 단계(S210-S230)는 도 1에서 상술한 과정과 동일하기에 생략하도록 한다.The steps S210 - S230 of processing the plastic inner and outer material after forming the intermediate layer are the same as those described above with reference to FIG. 1, and thus will not be described.

이하에서는 본 발명의 플라스틱 내외장재의 표면처리 방법 및 이를 이용하여 표면처리 된 플라스틱 내외장재에 대한 실시예를 살펴본다. 실시예에서 폴리카보네이트를 설명하지만, 이는 변형온도가 낮은 재질에도 적용이 가능하다는 것을 보여주는 예일 뿐이며, 폴리카보네이트에만 한정 짓는 것이 아니다.Hereinafter, the surface treatment method of the plastic inner and outerwear according to the present invention and examples of the plastic inner and outer material surface-treated using the method will be described. Although polycarbonate is described in the examples, this is only an example showing that it is applicable to materials having a low strain temperature, and is not limited to polycarbonate.

[실시예 1][Example 1]

사출된 폴리카보네이트 소재 표면을 핵산을 이용하여 세척한다. 감압 조건인 200mTorr 압력을 알곤가스와 펌프로 유지하면서, 쉬스히터를 사용하여 피처리물의 온도를 폴리카보네이트 변형온도인 145℃ 이하인 135℃로 유지한다. 알곤가스의 공급을 중단하고 동시에 MPA만 휘발시켜 공급하면서 압력을 유지한다. 50분의 증착 시간으로 40㎛의 등축정 조직의 알루미늄계 막이 증착되었다.The surface of the injected polycarbonate material is washed with nucleic acid. While maintaining the pressure of 200 mTorr under a reduced pressure condition with an argon gas and a pump, the temperature of the object to be treated is kept at 135 DEG C, which is 145 DEG C or less, which is the polycarbonate deformation temperature, using a sheath heater. The supply of argon gas is stopped and at the same time the pressure is maintained while MPA is volatilized and supplied. And an aluminum-based film having an equiaxed texture of 40 mu m was deposited at a deposition time of 50 minutes.

표면의 광택도를 증가시키기 위하여 화학연마를 실시하고 황산을 전해액으로 양극산화 처리한다.Chemical polishing is performed to increase the gloss of the surface, and anodic oxidation of sulfuric acid with an electrolytic solution is performed.

양극산화 시간에 따라 5-30㎛의 양극산화 피막층을 형성할 수 있었고 아이보리류의 색상은 5㎛의 양극산화 피막층에서도 용이하게 착색되었고 흑색의 경우에는 20㎛ 이상의 양극산화 피막층에서 용이하게 착색되었다.The anodic oxidation coat layer of 5-30 mu m could be formed depending on the anodization time, and the color of the ivory-type was easily colored even in the anodic oxide coating layer of 5 mu m, and in the case of black, it was easily colored in the anodic oxide coating layer of 20 mu m or more.

양극산화 피막층을 제1 반응물질로 염화바륨 용액을 사용하고 제 1반응물질로 황산나트륨을 사용하여 순서대로 침지시켜 기공내에 황산바륨의 백색화합물을 만들고 수증기를 이용하여 봉공처리를 통하여 백색피막을 얻었다.The anodic oxide coating layer was immersed in order using the barium chloride solution as the first reactant and sodium sulfate as the first reactant to form a white compound of barium sulphate in the pores and a white coating was obtained by sealing with water vapor.

[실시예 2] [Example 2]

사출된 폴리카보네이트 소재 표면을 핵산을 이용하여 세척한다. 대기압 조건에서 쉬스히터를 사용하여 폴리카보네이트 변형온도인 145℃ 이하인 135℃로 유지시킨다. 분당 15g의 MPA와 10L/min의 비반응성 질소가스를 각각의 유량계, 미세스프레이 장치를 이용하여 안개화시키면서 반응로 내부로 투입한다. 30분의 증착 시간으로 40㎛의 등축정 조직의 알루미늄계 막이 증착되었다.The surface of the injected polycarbonate material is washed with nucleic acid. The temperature is kept at 135 DEG C, which is 145 DEG C or lower, which is the deformation temperature of the polycarbonate using a sheath heater under atmospheric pressure conditions. 15 g of MPA per minute and 10 L / min of non-reactive nitrogen gas are injected into the reactor while fogging them by using a flow meter and a fine spray device. And an aluminum-based film having an equiaxed texture of 40 mu m was deposited at a deposition time of 30 minutes.

표면의 광택도를 증가시키기 위하여 화학연마를 실시하고 황산을 전해액으로 양극산화 처리한다.Chemical polishing is performed to increase the gloss of the surface, and anodic oxidation of sulfuric acid with an electrolytic solution is performed.

양극산화 시간에 따라 30㎛의 양극산화 피막층을 형성할 수 있었고 염료를 착색하고 봉공처리를 통하여 핑크색, 청색, 녹색, 골드, 적색, 흑색까지 모든 색상이 미려하게 구현되었다.The anodic oxidation layer of 30 μm could be formed according to the anodization time, and dyeing was performed, and all colors ranging from pink, blue, green, gold, red and black were realized through the sealing process.

백색을 얻기 위하여 황산 대신에 인산, 인산염, 암모니아 중 하나를 이용하는 알칼리성 수산화물을 포함하고, 7 내지 10의 pH 값을 갖는 알칼리 용액에서 PEO법으로 백색피막을 제작하였다. 알칼리성 수산화물은 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨으로부터 선택된다. 암모니아, 알칼리 수산화물은 바람직하게는 45 내지 60g/ℓ로 이루어지는 농도이고, 상기 인산은 바람직하게는 15 내지 20g/ l로 이루어진 농도이다.A white coating was prepared by the PEO method in an alkaline solution containing an alkaline hydroxide using one of phosphoric acid, phosphate and ammonia instead of sulfuric acid to obtain white, and having a pH value of 7 to 10. The alkaline hydroxide is selected from lithium hydroxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide. The concentration of ammonia and alkali hydroxide is preferably 45 to 60 g / l, and the phosphoric acid is preferably a concentration of 15 to 20 g / l.

[실시예 3] [Example 3]

사출된 폴리카보네이트 내외장재 표면에 무전해 니켈도금을 3㎛ 형성하고 자석에 붙여본 결과 자성체이었다.An electroless nickel plating was formed on the surface of the polycarbonate inner and outer casing material to be 3 탆 and attached to the magnet to obtain a magnetic body.

감압 분위기인 300mTorr 압력을 알곤가스와 펌프로 유지하면서 피처리물의 온도를 인덕션 히팅에 의하여 가열시켜 140℃로 유지한다. MPA만 휘발시켜 반응로에 공급하면서 알곤가스의 공급을 중단시키고 압력을 유지한다. 40분의 증착 시간으로 36㎛의 알루미늄계 금속 막이 형성되었고 표면의 광택도를 증가시키기 위하여 화학연마를 실시하고 황산을 전해액으로 양극산화 처리하였다.The temperature of the object to be treated is heated by induction heating while keeping the reduced pressure atmosphere of 300 mTorr with argon gas and pump, and maintained at 140 캜. Only the MPA is volatilized and supplied to the reactor while the supply of argon gas is stopped and the pressure is maintained. An aluminum-based metal film having a thickness of 36 탆 was formed at a deposition time of 40 minutes, and chemical polishing was performed to increase the gloss of the surface, and sulfuric acid was anodized with an electrolytic solution.

양극산화 시간에 따라 20㎛의 양극산화 피막층을 형성할 수 있었고 염료를 착색하고 봉공처리를 통하여 핑크색, 청색, 녹색, 골드, 적색, 흑색까지 모든 색상이 미려하게 구현되었다.The anodic oxidation layer of 20 μm could be formed according to the anodization time, and dyeing was performed and the color was completed by the sealing process, and all the colors ranging from pink, blue, green, gold, red and black were realized.

지금까지 본 발명에 대하여 도면에 도시된 바람직한 실시예들을 중심으로 상세히 살펴보았다. 이러한 실시예들은 이 발명을 한정하려는 것이 아니라 예시적인 것에 불과하며, 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 전술한 설명이 아니라 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해서 정해져야 할 것이다. 비록 본 명세서에 특정한 용어들이 사용되었으나 이는 단지 본 발명의 개념을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 본 발명의 각 단계는 반드시 기재된 순서대로 수행되어야 할 필요는 없고, 병렬적, 선택적 또는 개별적으로 수행될 수 있다. 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 본질적인 기술사상에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형 형태 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 균등물은 현재 공지된 균등물뿐만 아니라 장래에 개발될 균등물 즉 구조와 무관하게 동일한 기능을 수행하도록 발명된 모든 구성요소를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The present invention has been described in detail with reference to the preferred embodiments shown in the drawings. These embodiments are to be considered as illustrative rather than limiting, and should be considered in an illustrative rather than a restrictive sense. The true scope of protection of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims rather than the above description. Although specific terms are used herein, they are used for the purpose of describing the concept of the present invention only and are not used to limit the scope of the present invention described in the claims or the claims. Each step of the present invention need not necessarily be performed in the order described, but may be performed in parallel, selectively, or individually. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It is to be understood that the equivalents include all components that are invented in order to perform the same function irrespective of the currently known equivalents as well as the equivalents to be developed in the future.

10: 플라스틱 내외장재
20: 알루미늄계 금속 막
21: 양극산화 피막층
10: plastic interior and exterior material
20: Aluminum based metal film
21: Anodic oxidation coating layer

Claims (20)

플라스틱 내외장재의 표면을 상기 플라스틱 내외장재의 변형 온도 이하의 온도로 가열하고, 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 형성하는 단계;
상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 산성 또는 알칼리성 전해액에서 양극산화처리 하여 양극산화 피막층을 형성하는 단계; 및
상기 양극산화 피막층을 착색하고 봉공 처리하는 단계를 포함하며,
상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 형성하는 단계는, 대기압 또는 감압 조건에서 유기알루미늄 화합물을 전구체(precursor)로 하는 MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)법을 이용하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법.
Heating the surface of the plastic internal and external material to a temperature not higher than the deformation temperature of the plastic internal and external material to form an aluminum based metal film of equiaxed crystal structure;
Forming an anodic oxidation coating layer by anodizing the aluminum-based metal film of the equiaxed crystal structure in an acidic or alkaline electrolytic solution; And
And coloring and sealing the anodized film layer,
Wherein the step of forming the aluminum-based metal film of the equiaxed crystal structure comprises using a metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) method in which an organoaluminum compound is used as a precursor under atmospheric pressure or reduced pressure, .
제1항에 있어서,
상기 유기알루미늄 화합물은, TEAA(triethylamine alane), TMAA(trimethylamine alane), DMEAA(dimethylamine alane), MPA(methylpyrrolidone alane) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the organoaluminum compound is one selected from the group consisting of TEAA (trimethylamine alane), TMAA (trimethylamine alane), DMEAA (dimethylamine alane), and MPA (methylpyrrolidone alane).
제1항에 있어서,
상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 형성하는 단계 이전에,
상기 플라스틱 내외장재의 표면에 인덕션 히팅(Induction Heating)이 가능한 중간층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법.
The method according to claim 1,
Before the step of forming the aluminum-based metal film of the equiaxed texture,
And forming an intermediate layer capable of induction heating on the surface of the plastic internal and external material.
제3항에 있어서,
상기 플라스틱 내외장재의 표면은 상기 인덕션 히팅 방식으로 가열되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법.
The method of claim 3,
Wherein the surface of the plastic inner and outer casing is heated by the induction heating method.
제3항에 있어서,
상기 중간층을 형성하는 단계는,
상기 중간층을 PVD(Physical Vapor Deposition) 방식 혹은 무전해 습식도금을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법.
The method of claim 3,
Wherein forming the intermediate layer comprises:
Wherein the intermediate layer is formed using a PVD (Physical Vapor Deposition) method or electroless wet plating.
제1항에 있어서,
상기 양극산화 피막층을 형성하는 단계는,
상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 알칼리성 전해액에서 플라즈마 전해 산화 처리하여 백색피막을 제작하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of forming the anodic oxide coating layer comprises:
And subjecting the aluminum-based metal film of the equiaxed texture to a plasma electrolytic oxidation treatment in an alkaline electrolytic solution to produce a white coating film.
제1항에 있어서,
상기 양극산화 피막층의 두께가 5㎛ 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재 표면 처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the anodized film layer is 5 占 퐉 to 100 占 퐉.
제3항에 있어서,
상기 중간층은 철, 니켈, 코발트 중 적어도 하나 이상의 물질 또는 적어도 하나 이상의 물질과 그 이외의 원소와의 결합으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법.
The method of claim 3,
Wherein the intermediate layer comprises at least one of iron, nickel, and cobalt, or a combination of at least one substance and other elements.
제3항에 있어서
상기 중간층의 두께는 0.1㎛ 내지 10㎛ 인 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재 표면 처리방법.
The method of claim 3, wherein
Wherein the intermediate layer has a thickness of 0.1 占 퐉 to 10 占 퐉.
제1항에 있어서,
상기 착색하고 봉공 처리하는 단계는,
백색금속화합물 안료 반응 생성물을 이용하여 착색하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재의 표면 처리방법.
The method according to claim 1,
The coloring and sealing process may comprise:
Wherein the pigment is colored using a white metal compound pigment reaction product.
플라스틱 내외장재 표면에 형성되는 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막; 및
상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 산성 또는 알칼리성 전해액에서 양극산화 처리하여 형성된 양극산화 피막층을 포함하며,
상기 양극산화 피막층이 착색되고 봉공 처리되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재.
An aluminum-based metal film of an equiaxed texture formed on the surface of a plastic inner and outer material; And
And an anodic oxidation coating layer formed by subjecting the aluminum-based metal film of the equiaxed crystal structure to an anodic oxidation treatment in an acidic or alkaline electrolytic solution,
Wherein the anodized film layer is colored and sealed.
제11항에 있어서,
상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막은 상기 플라스틱 내외장재의 변형 온도 이하의 온도로 가열되어 대기압 또는 감압 조건에서 유기알루미늄 화합물을 전구체로 하는 MOCVD법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재.
12. The method of claim 11,
Wherein the aluminum-based metal film of the equiaxed crystal structure is formed by MOCVD using an organoaluminum compound as a precursor under atmospheric pressure or reduced pressure by heating at a temperature not higher than the deformation temperature of the plastic innerwear.
제11항에 있어서,
상기 유기알루미늄 화합물은, TEAA(triethylamine alane), TMAA(trimethylamine alane), DMEAA(dimethylamine alane), MPA(methylpyrrolidone alane) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재.
12. The method of claim 11,
Wherein the organoaluminum compound is any one of TEAA (triethylamine alane), TMAA (trimethylamine alane), DMEAA (dimethylamine alane), and MPA (methylpyrrolidone alane).
제11항에 있어서,
상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막이 형성되기 전에, 인덕션 히팅(Induction Heating)이 가능한 중간층이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재.
12. The method of claim 11,
Wherein an intermediate layer capable of induction heating is formed before the aluminum-based metal film of the equiaxed crystal structure is formed.
제14항에 있어서,
상기 내외장재의 표면은 상기 인덕션 히팅 방식으로 가열되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재.
15. The method of claim 14,
Wherein the surface of the inside / outside material is heated by the induction heating method.
제11항에 있어서,
상기 양극산화 피막층의 두께가 5㎛ 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재.
12. The method of claim 11,
Wherein the thickness of the anodized film layer is 5 占 퐉 to 100 占 퐉.
제14항에 있어서,
상기 중간층은 상기 중간층은 철, 니켈, 코발트 중 적어도 하나 이상의 물질 또는 적어도 하나 이상의 물질과 그 이외의 원소와의 결합으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재.
15. The method of claim 14,
Wherein the intermediate layer comprises at least one of iron, nickel, and cobalt, or at least one substance and the other element.
제14항에 있어서,
상기 중간층의 두께는 0.1㎛ 내지 10㎛ 인 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재.
15. The method of claim 14,
Wherein the thickness of the intermediate layer is 0.1 占 퐉 to 10 占 퐉.
제11항에 있어서,
상기 양극산화 피막층은,
상기 등축정 조직의 알루미늄계 금속 막을 알칼리성 전해액에서 플라즈마 전해 산화 처리하여 형성된 백색피막인 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재.
12. The method of claim 11,
The anodic oxide coating layer may be formed,
Wherein the coating film is a white coating film formed by plasma electrolytic oxidation treatment of the aluminum-based metal film of the equiaxed crystal structure with an alkaline electrolytic solution.
제11항에 있어서,
상기 양극산화 피막층은,
백색금속화합물 안료 반응 생성물을 이용하여 백색으로 착색되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 내외장재.
12. The method of claim 11,
The anodic oxide coating layer may be formed,
Wherein the pigment is colored white by using a white metal compound pigment reaction product.
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