KR20180101177A - 디지털 오프셋 프린터를 위한 세정 시스템 및 방법 - Google Patents

Abstract

점도 제어 유닛은 이미징 부재로부터의 기판으로의 대부분의 잉크의 전사 후에 그리고 순차적인 잉크 도포를 이미징 부재에 적용하기 전에 이미징 부재로부터 개선되고 효율적인 잔류 잉크 제거를 제공한다. 점도 제어 유닛은 이미징 부재 상의 잔류 잉크를 경화시켜 경화된 잔류 잉크를 생성시킨다. 세정 스테이션에 의해 잔류 잉크가 제거되기 전에 잔류 잉크의 점도를 증가시킴으로써, 이미징 부재로부터의 잔류 잉크의 제거가 더 용이하게 그리고 더 효율적으로 된다.

Description

디지털 오프셋 프린터를 위한 세정 시스템 및 방법{CLEANING SYSTEM AND METHOD FOR DIGITAL OFFSET PRINTER}

본 발명은 일반적으로 잉크 기반 디지털 프린팅 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 이미징 부재로부터 잔류 잉크를 제거하기 전에 잔류 잉크 컨디셔닝 적용을 갖는 가변 리소그래픽 이미징 부재 세정 시스템에 관한 것이다.

종래의 리소그래픽 프린팅 기술은, 예를 들어 디지털 프린팅 시스템에 의해 가능해지는 바와 같이, 프린트될 이미지가 쇄(impression)마다 변하는 진정한 고속 가변 데이터 프린팅 프로세스를 수용할 수 없다. 그러나 리소그래픽 프로세스는 사용되는 잉크의 품질 및 색 영역으로 인해 매우 높은 품질의 프린팅을 제공하기 때문에 종종 의존된다. 리소그래픽 잉크는 또한 다른 잉크, 토너 및 기타 여러 유형의 프린팅 또는 마킹 재료보다 저렴하다.

잉크 기반 디지털 프린팅은 가변 데이터 리소그래피 인쇄 시스템, 또는 디지털 오프셋 프린팅 시스템, 또는 디지털 고급 리소그래피 이미징 시스템을 사용한다. "가변 데이터 리소그래피 시스템"은 리소그래픽 잉크를 사용하는 리소그래픽 프린팅용으고 구성되고 하나의 이미지에서 다음 이미지로 가변적일 수 있는 디지털 이미지에 기초한 시스템이다. "가변 데이터 리소그래피 프린팅" 또는 "디지털 잉크 기반 프린팅", 또는 "디지털 오프셋 프린팅", 또는 디지털 고급 리소그래피 이미징은 기판 상에 이미지를 생성하기 위한 가변 이미지 데이터의 리소그래픽 프린팅으로서, 이미지 형성 프로세스에서 기판 상에 이미지를 연속적으로 렌더링할 때마다 변경 가능하다.

예를 들어, 디지털 오프셋 프린팅 프로세스는 가변 이미지 데이터에 따라 축임 유체(damping fluid) 층으로 선택적으로 코팅된 이미지 부재(예를 들어, 플루오로실리콘 함유 이미징 부재, 이미징 블랭킷, 프린팅 플레이트)의 일부 상에 방사선 경화성 잉크를 전달하는 단계를 포함할 수 있다. 가변 데이터 리소그래피라 불리는 리소그래픽 기술에 따르면, 이미징 부재의 패턴화되지 않은 재이미징 가능한(reimageable) 표면은 초기에 축임 유체층으로 균일하게 코팅된다. 축임 유체의 일부 영역들은 포커싱된 방사선 공급원(예를 들어, 레이저 광원)에 노출되어 포켓을 형성함으로써 제거된다. 따라서 축임 유체 내의 일시적인 패턴이 프린팅 플레이트 상에 형성된다. 그 위에 도포된 잉크는 축임 유체를 제거함으로써 형성된 포켓 내에 보유된다. 그 후 잉크화된 표면은 전사 닙(transfer nip)에서 기판과 접촉하게 되고 잉크는 축임 유체층 내의 포켓으로부터 기판으로 전달된다. 그 후 축임 유체는 제거될 수 있고, 축임 유체의 새로운 균일한 층이 프린팅 플레이트에 도포되며, 프로세스는 반복된다.

디지털 프린팅은 이미지가 연속적으로 프린트된 이미지들 또는 페이지들 사이에서 변할 수 있는 가변 데이터 리소그래피의 시스템 및 방법을 지칭하는 것으로 일반적으로 이해된다. "가변 데이터 리소그래피 프린팅" 또는 "잉크 기반 디지털 프린팅" 또는 "디지털 오프셋 프린팅"은 일반적으로 복수의 이미지 수용 매체 기판 상에 이미지를 생성하기 위한 가변 이미지 데이터의 프린팅을 나타내는 용어로서, 이미지는 이미지 형성 프로세스에서 이미지 수용 매체 기판 상에 이미지 각각의 후속 렌더링과 함께 변경 가능하다. "가변 데이터 리소그래픽 프린팅"은 특수하게 만들어진 리소그래픽 잉크를 일반적으로 사용하는 잉크 이미지의 오프셋 프린팅을 포함하며, 상기 이미지는 예를 들어 재이미징 가능한 표면을 갖는 이미징 부재의 사이클 사이와 같이 이미지에서 이미지로 변화하는 디지털 이미지 데이터에 기초한다. 그 예들은 미국 특허 출원 제13/095,714호에 기초하여 2012년 5월 3일자로 공개된 미국 특허 출원 공개 제2012/0103212 A1호(212호 공보) 및 미국 특허 출원 제13/095,778호에 기초하여 2012년 5월 3일자로 공개된 미국 특허 출원 공개 제2012/0103221 A1호(221호 공보)에 개시되어 있다. 이들 출원들은 일반적으로 할당되며, 이들의 개시는 그 전체가 본원에 참고로 포함된다.

디지털 오프셋 프린팅 잉크는 이미징 부재 표면이 한 번만 인쇄되고 이어서 리프레쉬되는 이미지를 지지하는 습윤화(wetting) 및 전사를 포함하여, 시스템 구성 요소 재료와 양립할 수 있고 서브시스템 구성 요소의 기능적 요구를 충족시키면서 가변 데이터 리소그래픽 프린팅 프로세스에 의해 부과되는 까다로운 유변학적(rheological) 요건을 충족시켜야 하므로 종래의 잉크와 상이하다. 이미징 부재가 이미지를 프린팅 매체 또는 기판에 전사할 때마다, 이미징 부재 표면 상에 남아있는 이미지의 모든 히스토리는 고스팅(ghosting)을 방지하기 위해 제거되어야 한다. 필연적으로 전사 닙에서 잉크의 일부 필름-분할(film splitting)이 발생하여 잔류 잉크가 남아있을 수 있기 때문에 프린트 매체로의 완전한 잉크 전사가 보장될 수 없다. 이러한 문제점은 다음 프린트 이미지의 형성 전에 이미징 부재의 재이미징 가능한 표면으로부터 후 이송 잔류 잉크를 연속적으로 제거하는 전사 닙 다음으로 세정 서브시스템을 필요로 이들 시스템과 함께 오프셋 프린팅 산업에서 오랫동안 느껴지는 필요성이다. 발명자는 경험적 테스트 및 재료 분석을 면밀히 조사하여 더 효율적이고 효과적인 잔류 잉크 제거를 위한 특정 재료 및 시스템 레이아웃 가이드라인을 찾아내어 처방하였다.

다음은 본 교시내용의 하나 이상의 실시예 또는 예시의 일부 관점의 기본적인 이해를 제공하기 위한 간략화된 요약을 제시한다. 이 요약은 광범위한 개요는 아니며, 본 교시의 주요한 또는 임계적인 요소를 식별하거나 개시의 범위를 기술하기 위한 것이 아니다. 오히려 요약의 주된 목적은 나중에 제시되는 상세한 설명의 서곡으로서 단순한 형태로 하나 이상의 개념을 단순히 제시하는 것이다. 추가적인 목적 및 이점은 도면의 설명, 개시의 상세한 설명 및 청구범위에서 보다 명백해질 것이다.

본 개시에서 구체화된 상기 및/또는 다른 관점 및 유틸리티는 이미징 부재, 잉크 전달 유닛, 잉크 이미지 전사 스테이션, 점도 제어 유닛 및 세정 스테이션을 포함하는 잉크 프린팅에 유용한 잉크-기반 디지털 프린팅 시스템을 제공함으로써 달성될 수 있다. 잉크 전달 유닛은 이미징 부재의 이미징 가능한 표면 위에 UV 경화성 잉크를 침착(deposit)시켜 잉크 이미지를 형성한다. 잉크 이미지 전사 스테이션은 이미징 가능한 표면으로부터 이미지 수용 매체 기판으로 잉크 이미지를 전사하고, 이미징 가능한 표면은 잉크 이미지의 전사 후에 표면 상에 남아 있는 잔류 잉크를 갖는다. 점도 제어 유닛은 이미징 가능한 표면 상의 잔류 잉크를 경화시켜 경화된(hardened) 잔류 잉크를 생성시키도록 구성된다. 세정 스테이션은 이미징 가능한 표면으로부터 경화된 잔류 잉크를 제거시키도록 구성되고, 세정 스테이션은 경화된 잔류 잉크와 물리적으로 접촉하여 이미징 가능한 표면으로부터 경화된 잔류 잉크를 제거한다.

본 명세서에 기술된 관점에 따르면, 가변 리소그래픽 이미징 부재 세정 시스템은 점도 제어 유닛 및 세정 스테이션을 포함할 수 있다. 점도 제어 유닛은 프린터 프로세스 방향으로 잉크 전달 스테이션 하류의 가변 리소그래픽 이미징 부재 실리콘 재이미징 가능한 표면에 인접하여 위치할 수 있으며, 상기 잉크 이미지 전사 스테이션은 패턴화된 UV 경화성 잉크의 잉크 이미지를 잉크 이미지의 전사 후 재이미징 가능한 표면 상에 잔류하는 잔류 잉크를 갖는 재이미징 가능한 표면으로부터 매체 기판으로 전사하도록 구성된다. 점도 제어 유닛은 재이미징 가능한 표면 상의 잔류 잉크를 경화시켜 경화된 잔류 잉크를 생성시키도록 구성된다. 세정 스테이션은 프린터 프로세스 방향으로 점도 제어 유닛의 하류에, 그리고 재이미징 가능한 표면 상에 UV 경화성 잉크의 다음 잉크 이미지를 침착시키도록 구성된 잉크 전달 유닛 전에 위치할 수 있다. 세정 스테이션은 다음 잉크 이미지의 침착 전에 재이미징 가능한 표면으로부터 경화된 잔류 잉크를 제거시키도록 구성된다.

본 명세서에 도시된 관점에 따르면, 잉크 프린팅을 위한 잉크 기반 디지털 프린팅 방법은 잉크 전달 유닛을 사용하여 이미징 부재의 이미징 가능한 표면 상에 UV 경화성 잉크를 침착시켜 잉크 이미지를 형성하는 단계, 프로세스 방향으로 잉크 전사 유닛의 하류에 위치된 잉크 이미지 전사 스테이션을 통해 상기 이미징 가능한 표면으로부터 이미지 수용 매체 기판으로 잉크 이미지를 전사하되, 상기 이미징 가능한 표면은 형성된 잉크 이미지의 전사 후 표면 상에 남아있는 잔류 잉크를 갖는 단계, 상기 프로세스 방향으로 잉크 이미지 전사 스테이션의 하류에 위치된 점도 제어 유닛을 사용하여 상기 이미징 가능한 표면 상의 잔류 잉크를 경화시켜 경화된 잔류 잉크를 생성시키는 단계, 및 상기 프로세스 방향으로 점도 제어 유닛의 하류에 위치된 세정 스테이션을 사용하여 상기 이미징 가능한 표면으로부터 경화된 잔류 잉크를 제어하는 단계를 포함한다.

예시적인 실시예들이 본 명세서에서 기술된다. 그러나, 본 명세서에 기술된 장치 및 시스템의 특징을 포함하는 임의의 시스템은 예시적인 실시예의 범위 및 사상에 포함된다.

개시된 장치, 메커니즘 및 방법의 다양한 예시적인 실시예가 아래의 도면을 참조하여 상세히 설명될 것이며, 동일한 부호는 유사하거나 동일한 요소를 나타낸다.
도 1은 종래의 가변 리소그래픽 프린팅 시스템의 측면도;
도 2는 실시예의 일 예에 따른 점도 제어 유닛과 함께 사용 가능한 롤러 기반 세정 스테이션을 구비한 가변 리소그래픽 프린팅 시스템의 측면도; 및
도 3은 예시적인 가변 리소그래픽 프린팅 시스템의 동작을 도시하는 흐름도.

본 명세서에 개시된 장치, 시스템 및 방법의 예시적인 예가 아래에 제공된다. 장치, 시스템, 및 방법의 일 실시예는 아래에 설명된 예 중 임의의 하나 이상 및 임의의 조합을 포함할 수 있다. 그러나, 본 발명은 많은 상이한 형태로 구체화될 수 있으며, 이하에서 설명되는 실시예에 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 오히려, 이러한 예시적인 실시예는 본 개시가 철저하고 완전하게 이루어질 수 있도록 제공되며, 당업자에게 본 발명의 범위를 충분히 전달할 것이다. 따라서, 예시적인 실시예는 본 명세서에서 설명된 장치, 메커니즘 및 방법의 사상 및 범위 내에 포함될 수 있는 모든 대안, 변형 및 등가물을 포함하도록 의도된다.

양과 관련하여 사용된 수식어 "약(about)"은 명시된 값을 포함하고, 문맥에 의해 지시된 의미를 갖는다(예를 들어, 적어도 특정 양의 측정과 관련된 에러의 정도를 포함한다). 특정 값과 함께 사용되는 경우, 그것은 또한 그 값을 공개하는 것으로 간주되어야 한다. 예를 들어, 용어 "약 2"는 또한 값 "2"를 개시하고 "약 2 내지 약 4"는 "범위 "2 내지 4"를 개시한다.

212호 공보는 가변 데이터 리소그래픽 및 오프셋 리소그래픽 또는 이미지 수용 매체 마킹을 제공하는 시스템 및 방법을 제안한다. 212호 공보에 개시된 시스템 및 방법은 효과적인 진정한 가변 디지털 데이터 리소그래픽 이미지 형성을 달성하기 위해 댐핑 용액(예를 들어, 축임 유체)의 가변 패턴화에 기초한 이전에 시도된 가변 데이터 디지털 이미징 리소그래픽 마킹 개념의 다양한 관점에 대한 개선에 관한 것이다.

212호 공보는, 예를 들어, 도 1에 도시된 것과 같은 예시적인 가변 데이터 리소그래피 시스템(100)을 필수적으로 상세히 설명한다. 도 1에 도시된 예시적인 시스템(100)의 일반적인 설명이 여기에 제공된다. 도 1의 예시적인 시스템(100)에 도시된 개별 구성 요소 및/또는 서브시스템에 관한 추가적인 세부사항은 212호 공보에서 찾을 수 있다.

도 1에 도시된 바와 같이, 예시적인 시스템(100)은 이미징 부재(110)를 포함할 수 있다. 도 1에 도시된 실시예의 이미징 부재(110)는 드럼(drum)이지만, 이 예시적인 묘사는 이미징 부재(110)가 플레이트 또는 벨트이거나, 또는 다른 공지된 구성을 배제하는 방식으로 읽혀서는 안 된다. 상기 이미징 부재(110)는 전사 닙(112)의 이미지 수용 매체 기판(114)으로 잉크처리된 이미지를 도포하는 데 사용된다. 전사 닙(112)은 이미지 전사 메커니즘(160)의 일부로서, 이미징 부재(110)의 방향으로 압력을 가하는 임프레션(impression) 롤러(118)에 의해 생성된다. 이미지 수용 매체 기판(114)은 예를 들어, 종이, 플라스틱, 또는 복합 시트 필름과 같은 임의의 특정 조성물로 제한되는 것으로 간주되어서는 안 된다. 예시적인 시스템(100)은 다양한 이미지 수용 매체 기판 상에 이미지를 생성하는 데 사용될 수 있다. 212호 공보는 또한 안료 밀도가 10%를 초과하는 마킹 재료를 포함하여 사용될 수 있는 마킹(프린팅) 재료의 광범위한 위도를 설명한다. 212호 공보에서와 같이, 본 개시는 잉크, 안료, 및 예시적인 시스템(100)에 의해 이미지 수용 매체 기판(114) 상에 출력 이미지를 생성하기 위해 도포될 수 있는 기타 재료들인 것으로 일반적으로 이해되는 것을 포함하여 광범위한 프린팅 또는 마킹 재료를 지칭하기 위해 잉크라는 용어를 사용할 것이다.

212호 공보는 예를 들어 원통형 코어 또는 원통형 코어 상의 하나 이상의 구조적 층일 수 있는 구조적 실장층 위에 형성된 재이미징 가능한 표면층으로 구성된 (이미징 부재(110)를 포함하는) 이미징 부재(110)의 세부 사항을 묘사하고 설명한다. 상기 재이미징 가능한 표면은 실장층 위의 비교적 얇은 층으로 형성될 수 있으며, 비교적 얇은 층의 두께는 프린팅 또는 마킹 성능, 내구성 및 제조 가능성의 균형을 맞추도록 선택된다.

예시적인 시스템(100)은 제어되는 층의 두께로 축임 유체의 균일한 층으로 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면을 균일하게 습윤시키기 위한 일련의 롤러를 일반적으로 포함하는 축임 유체 서브시스템(120)을 포함한다. 축임 유체는, 이후에 상세히 설명되는 바와 같이, 소량의 아이소프로필 알코올 또는 에탄올을 첨가하여 표면 장력을 감소시키고 후속하는 레이저 패턴화를 지지하는 데 필요한 증발 에너지를 감소시키기 위해 선택적으로 물을 포함할 수 있다. 실험적 조사는 또한 휘발성 실리콘 오일과 같은 낮은 표면 에너지 용제가 축임 유체로 작용할 수 있음을 보여주었다.

축임 유체가 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면 상으로 계량되면, 층의 두께는 축임 유체 서브시스템(120)에 의해 재이미징 가능한 표면 상으로의 축임 유체의 계량을 제어하도록 피드백을 제공할 수 있는 센서(125)를 사용하여 측정될 수 있다.

축임 유체 서브 시스템(120)에 의해 정밀하고 균일한 양의 축임 유체가 재이미징 가능한 표면 상으로 제공되고, 광학적 패턴화 서브시스템(130)은 예를 들어 레이저 에너지를 사용하여 축임 유체층을 이미지 방식으로 패턴화함으로써 균일한 축임 유체층에 잠상을 선택적으로 형성하는 데 사용될 수 있다. 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면은 광학적 패턴화 서브시스템(130)으로부터 방출된 레이저 에너지의 대부분을 표면에 가깝게 흡수하여 축임 유체를 가열할 때 낭비되는 에너지를 최소화하고 높은 공간적 해상도를 유지하기 위해 열의 측면 퍼짐을 최소화한다. 대안적으로, 입사 방사 레이저 에너지의 흡수를 돕기 위해 적절한 방사 감응 요소가 축임 유체에 추가될 수 있다. 광학 패턴화 서브시스템(130)이 레이저 에미터인 것으로 상술되었지만, 축임 유체를 패턴화하기 위한 광 에너지를 전달하기 위해 다양한 상이한 시스템이 사용될 수 있음을 이해해야 한다.

예시적인 시스템(100)의 광학적 패턴화 서브시스템(130)에 의해 수행된 패턴화 프로세스에서의 작업시의 메카닉스는 212호 공보에서 도 5를 참조하여 상세히 설명된다. 간략하게, 광학적 패턴화 서브시스템(130)으로부터의 광학적 패턴화 에너지의 인가는 축임 유체층의 일부의 선택적 증발을 초래한다.

광학적 패턴화 서브시스템(130)에 의한 축임 유체층의 패턴화 후에, 재이미징 가능한 표면 위의 패턴화된 층은 잉커(inker) 서브시스템(140)에 제시된다. 잉커 서브시스템(140)은 축임 유체층 및 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면층 위에 균일한 잉크 층을 도포하는 데 사용된다. 잉커 서브시스템(140)은 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면층과 접촉하는 하나 이상의 잉크 형성 롤러 상에 오프셋 리소그래픽 잉크를 계량하기 위해 아닐록스 롤러(anilox roller)를 사용할 수 있다. 잉커 서브시스템(140)은 재이미징 가능한 표면의 이미징된 부분을 나타내는 포켓에 잉크를 침착시키지만, 축임 유체의 포맷되지 않은 부분에 침착된 잉크는 이들 부분의 소수성 및/또는 소유성(oleophobic)에 기초하여 부착되지 않을 수 있다.

재이미징 가능한 층에 존재하는 잉크의 응집력(cohesiveness) 및 점도는 다수의 메커니즘에 의해 변형될 수 있다. 이러한 메커니즘 중 하나는 유변성(rheology)(복합 점탄성 모듈러스(complex viscoelastic modulus)) 제어 서브시스템(150)의 사용을 포함할 수 있다. 유변성 제어 서브시스템(150)은 예를 들어 재이미징 가능한 표면층에 비해서 잉크 응집 강도(cohesive strength)를 증가시키기 위해 이미징 가능한 표면 상에 잉크의 부분 가교결합 코어(crosslinking core)를 형성할 수 있다. 경화 메커니즘은 광학적 또는 광 경화, 열 경화, 건조, 또는 다양한 형태의 화학적 경화를 포함할 수 있다. 냉각은 화학적 냉각을 통하는 것뿐만 아니라 다수의 물리적 냉각 메커니즘을 통해서도 유변성을 변경시키는 데 사용될 수 있다.

그 후 잉크는 전사 서브시스템(160)을 사용하여 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면으로부터 이미지 수용 매체(114)의 기판에 전사된다. 전사는 기판(114)이 이미징 부재(110)와 임프레션 롤러(118) 사이의 전사 닙(112)을 통과하여 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면의 공극 내의 잉크가 기판(114)과 물리적으로 접촉하게 될 때 일어난다. 유변성 제어 시스템(150)에 의해 변경된 잉크의 접착력으로 인해, 잉크의 변경된 접착력은 잉크가 기판(114)에 부착되게 하고 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면으로부터 분리되게 한다. 전사 닙(112)에서 온도 및 압력 조건을 주의깊게 제어하면 전사 효율이 95%를 초과할 수 있다. 일부 축임 유체 또한 기판(114)을 축이는 것이 가능할 수도 있지만, 그러한 축임 유체의 부피는 최소화될 것이고 기판(114)에 의해 급격하게 증발되거나 흡수될 것이다.

전사 닙(112)에서 기판(114)으로 대부분의 잉크가 전사된 후에, 임의의 잔류 잉크 및/또는 잔류 축임 유체는 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면으로부터 제거되어 재이미징 가능한 표면이 디지털 이미징 작업을 반복하도록 준비되어야 한다. 이러한 제거는 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면을 긁거나 마모시키지 않고 수행되는 것이 바람직하다. 에어 나이프 또는 다른 유사한 비접촉 장치가 잔류 축임 유체를 제거하기 위해 적용될 수 있다. 그러나 잉크 잔류량이 어느 정도 남아있을 수 있다. 그러한 남아있는 잉크 잔류물의 제거는 소정 형태의 세정 서브시스템(170)의 사용을 통해 달성될 수 있다. 212호 공보는 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면과 물리적으로 접촉하는 접착성 또는 점착성 부재와 같은 적어도 제1 세정 부재를 포함하는 세정 서브시스템(170)의 세부 사항을 기술하는데, 상기 접착성 또는 점착성 부재는 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면의 축임 유체로부터 잔류 잉크 및 남아있는 소량의 계면 활성제 화합물을 제거한다. 접착성 또는 점착성 부재는 접착성 또는 점착성의 부재로부터 잔류 잉크가 전사될 수 있는 매끄러운 롤러와 접촉하게 될 수 있으며, 잉크는 예를 들어 닥터 블레이드(doctor blade) 또는 다른 유사한 장치에 의해 매끄러운 롤러로부터 제거되어 폐기물로서 모아진다.

212호 공보는 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면의 세정이 용이해질 수 있는 다른 메커니즘을 상세하게 기술한다. 그러나, 세정 메커니즘에 관계없이, 잔류 잉크 및 축임 유체를 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면으로부터 세정하는 것은 이미지가 변화함에 따라 후속하는 이미징 작업에서 고스팅(ghosting)을 방지하는 데 필수적이다. 일단 세정되면, 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면은 다시 축임 유체 서브시스템(120)에 제공되어 축임 유체의 새로운 층이 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면에 공급되고, 프로세스가 반복된다.

개시된 실시예는 이미징 부재로부터 기판으로의 대부분의 잉크의 전사 다음에 그리고 축임 층의 새로운 층을 이미징 부재의 재이미징 가능한 표면에 도포하기 전에 이미징 부재로부터의 개선되고 효율적인 잔류 잉크 제거를 위한 시스템 및 방법을 포괄하도록 의도된 예들이다. 상기 예들은 잉크 기반 디지털 프린팅 시스템(예를 들어, 가변 데이터 디지털 리소그래픽 프린터)에서의 잉크(예를 들어, 자외선(UV) 경화성 잉크)용 예비 세정 장치를 포함한다. 전사 닙에서 두 개의 롤러 사이에서 압착될 때, UV 잉크는 필름 분할되는 경향이 있다. 즉, UV 잉크가 응집에 실패하여 두 개의 결합 표면 사이에서 잉크가 분리된다. 개시된 실시예는 보다 완전하게 싱글 패스 세정을 촉진하는 상태로 잔류 잉크를 중합시키기 위해 이미징 부재의 후 전사 이미지 섹션을 주어진 양의 UV 방사선(광자의 수)에 노출시킨다. UV 잉크는 UV 방사선에 노출될 때 경화된다. 세정 스테이션에 의해 잔류 잉크가 제거되기 전에 잔류 잉크의 점도를 증가시킴으로써 이미징 부재로부터의 잔류 잉크의 제거가 보다 쉽고 효율적이게 된다. 예를 들어, 점도 예비 세정을 증가시킴으로써 잔류 잉크의 점착성 결합이 증가하는 본 발명의 범위 내에서 다른 잉크가 고려되기 때문에, 예시들은 UV 방사 후 전사 및 예비 세정에 노출된 UV 잉크에 한정되지 않는다는 것을 유의해야 한다. 발명자들은 이미징 부재로부터의 잔류 잉크 예비 세정의 점착성 결합을 증가시키는 것이 이미징 부재의 표면의 효과적인 세정을 개선하는 것을 알아냈다. 일단 경화된 잉크는 더 이상 분리되지 않으며, 세정 시스템이나 메커니즘으로 완전히 제거될 수도 있다. 또한, 본 발명의 범위는 롤러, 브러시, 웹(web), 점착 롤러, 버프 휠(buffing wheel) 등을 포함하는 예시적인 세정 메커니즘을 갖는 임의의 세정 메커니즘에 한정되지 않는다. 또한, 필요한 경화(curing)/ 증점(thickening)/ 경화(hardening)의 수준은 선택된 세정 메커니즘의 유형에 따라 달라질 수 있음을 이해한다.

도 2는 본 개시에 따른 가변 데이터 디지털 리소그래픽 이미지 형성 장치(200)를 포함하는 잉크-기반 디지털 프린팅 시스템의 제1 예시적인 실시예의 개략적인 도시를 나타낸다. 도 2에 도시된 바와 같이, 가변 데이터 디지털 리소그래픽 이미지 형성 장치는 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면(예를 들어, 패턴 전사 드럼, 이미징 블랭킷) 상에 제어/방출제(예를 들어, 실리콘 오일) 층을 패턴화하는 데 적용될 수 있다. 재이미징 가능한 순응성 표면(reimageable conformable surface)은, 예를 들어, 원통형 코어 또는 원통형 코어 상의 하나 이상의 구조적 층일 수 있는 구조적 장착층 위에 형성된 플루오로엘라스토머의 순응성 표면층을 포함할 수 있다. 도 1에 도시된 가변 데이터 리소그래피 시스템과 관련된 특정 구성 요소는 명확을 기하기 위하여 도 2에서 생략될 수 있음을 주목한다.

예시적인 시스템(200)은 이미징 부재(110)의 표면 상에 축임 유체층을 침착하도록 구성된 축임 유체 서브시스템(120)을 포함한다. 특정 구성에 한정되지는 않지만, 예시적인 축임 유체 서브시스템은 제어되고 있는 층의 두께로, 균일한 축임 유체층을 갖는 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면을 균일하게 습윤시키기 위한 일련의 롤러 또는 스프레이를 포함할 수 있다. 위에서 언급한 바와 같이, 축임 유체는, 아래에서 더욱 상세하게 설명되는 바와 같이 표면 장력을 감소시키고 후속되는 레이저 패턴화를 지지하는 데 필요한 증발 에너지를 낮추기 위해 첨가된 소량의 아이소프로필 알코올 또는 에탄올과 함께 물을 포함할 수 있다. 휘발성 오일과 같이 표면 에너지가 낮은 용매 또한 축임 유체의 역할을 할 수 있다. 축임 유체층의 두께는 축임 유체 서브시스템(120)에 의해 재이미징 가능한 표면 상으로의 축임 유체의 계량을 제어하도록 피드백을 제공할 수 있는 센서(125)를 사용하여 측정될 수 있다.

광학적 패턴화 서브시스템(130)은 프로세스 방향으로 축임 유체 서브시스템(120)의 하류에 위치하여, 예를 들어, 레이저 에너지를 사용하여 축임 유체층을 이미지 방식으로 패턴화함으로써 축임 유체층의 잠상을 선택적으로 패턴화한다. 광학적 패턴화 서브시스템(130)이 레이저 에미터인 것으로 상술되었지만, 축임 유체를 패턴화하기 위해 광 에너지를 전달하는 데 다양한 상이한 시스템이 사용될 수 있음을 이해해야 한다.

광학적 패턴화 서브시스템(130)에 의한 축임 유체층의 패턴화에 이어서, 재이미징 가능한 표면 상의 패턴화된 층이 잉커 서브시스템(140)에 제공된다. 잉커 서브시스템(140)은 광학적 패턴화 서브시스템의 하류에 위치하여 축임 유체층 및 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면층 위에 균일한 잉크층을 도포한다. 특정 구성에 한정되지 않지만, 상기 잉커 서브시스템은 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면층과 접촉하는 하나 이상의 잉크 형성 롤러상으로의 오프셋 리소그래픽 잉크를 계량하기 위한 아닐록스 롤러를 사용할 수 있다. 잉커 서브시스템(140)은 재이미징 가능한 표면의 이미징된 부분을 나타내는 포켓에 잉크를 침착시킬 수 있지만, 축임 유체의 포맷되지 않은 부분에 침착된 잉크는 그들 부분의 소수성 및/또는 소유성을 기초로 하여 부착되지 않을 것이다.

비록 본 명세서에서 잉크가 UV 경화성 잉크로 논의되었지만, 개시된 실시예는 이러한 구조에 한정되지 않는다. 잉크는 UV-경화성 잉크 또는 UV 방사선에 노출될 때 경화되는 다른 잉크일 수 있다. 잉크는 예를 들어 점도를 증가시킴으로써 증가하는 점착성 결합을 갖는 다른 잉크일 수 있다. 예를 들어, 잉크는 열적 냉각기에 노출될 때 경화되는 용매 잉크 또는 수성 잉크일 수 있다. 다른 예로서, 잉크를 적어도 부분적으로 건조시키기 위해 히터가 사용될 수 있으며, 이는 수성 잉크의 점착성 결합을 증가시키기 위해 바람직할 수 있다.

프로세스 방향으로 잉크 전달 유닛의 하류는 잉크 이미지를 이미징 부재 표면으로부터 이미지 수용 매체(114)의 기판으로 전사하는 잉크 이미지 전사 스테이션에 상주한다. 전사는 기판(114)이 이미징 부재(110)와 임프레션 롤러(118) 사이의 전사 닙(112)을 통과하여 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면의 공극(void) 내의 잉크가 기판(114)과 물리적으로 접촉할 때 일어난다.

위에서 논의된 바와 같이, 잉크 이미지를 이미지 수용 매체 기판으로 전사하기 전에 잉크 이미지의 잉크의 점도를 증가시킬 수 있는 유변학적 컨디셔닝 시스템(150)을 포함하는 이전의 최선의 노력에도 불구하고, 모든 잉크가 전사 닙(112)에서 기판으로 전사될 수 있는 것은 아니다. 따라서, 이미징 부재의 재이미징 가능한 표면은 형성된 잉크 이미지의 전사 후 그 위에 남아있는 잔류 잉크를 가질 것이다. 세정 스테이션(170)에 의한 잔류 잉크 제거를 최대화시키기 위해, 프로세스 방향으로 잉크 이미지 전사 스테이션의 하류에 위치된 점도 제어 유닛(180)은 이미징 부재 표면 상에 잔류 잉크 응집 강도를 증가시켜 경화된 잔류 잉크를 생성시킨다. 점도 제어 유닛은, 예를 들어, 재이미징 가능한 표면층에 비해서 잉크 응집 강도를 증가시키기 위해 재이미징 가능한 표면 상에 잉크의 부분 가교결합 코어를 형성하는 예비 세정 장치로서 전사 닙(112)과 세정 스테이션(170) 사이에 놓인 유변학적 컨디셔닝 시스템일 수 있다. 특히, 점도 제어 유닛은, 예를 들어 잔류 잉크를 경화시킴으로써 이미징 부재로부터 잔류 잉크를 제거하기 전에 잔류 잉크를 세정하여 재이미징 가능한 표면층에 비해서 잔류 잉크 점착 강도를 증가시킨다. 당업자는 본 발명의 범위 내의 점도 제어 유닛이 방사선 경화, 광학적 또는 광 경화, 열 경화, 건조, 또는 다양한 형태의 화학적 경화를 포함할 수 있음을 인식할 것이다. 예를 들어, 물리적 및/또는 화학적 냉각 메커니즘을 통해 유변성을 변경시키기 위해 점도 조절 유닛에 의한 냉각이 사용될 수 있다.

도 2에 도시된 점도 제어 유닛(180)은 이미징 부재 표면 상의 잔류 잉크를 UV 광의 양(예를 들어, 광자 방사선의 수)에 노출시켜 보다 완전한 단일 패스 세정을 촉진하는 상태로 잔류 잉크를 중합시키는 UV 경화 램프(예를 들어, 표준 레이저, UV 레이저, 고출력 UV LED 광원)를 갖는 UV 노광 스테이션이다. 다시 말해, 점도 제어 유닛은 이미징 부재 재이미징 가능한 표면 상에 남아있는 잔류 잉크 오염을 능동적으로 경화시켜 오염물을 부서지기 쉽고 제거하기 쉽게 만든다. 경화된 잔류 잉크는 더 이상 분리되지 않는데, 이는 이미징 부재 표면에 남아있거나 완전히 제거됨을 의미한다.

잔류 잉크를 경화시키기에 충분한 UV 광량의 수준은 잉크 제제(예를 들어, UV 광 개시제 유형, 농도), UV 램프 스펙트럼, 프린터 처리 속도 및 이미징 부재(110) 표면 상에 남아있는 잔류 잉크의 양과 같은 몇몇 요인에 의해 좌우될 수 있다. 특정 범위로 한정되지 않지만, 예시적인 UV 경화 램프(예컨대, 약 395㎚ LED)에 대해서, 본 발명자들은 광범위한 실험을 통해 약 30mJ/㎠ 내지 600mJ/㎠의 UV 광자 범위가 후속 제거를 위한 이미징 부재 표면 상의 잔류 잉크의 점도를 충분히 증가시킬 수 있다는 것을 발견하였다.

프로세스 방향으로 점도 제어 유닛의 하류에 위치된 세정 스테이션(170)은 잉커 서브시스템(140)에 의해 다음 잉크 이미지 전사 또는 침착 이전에 재이미징 가능한 표면으로부터 경화된 잔류 잉크를 제거한다. 세정 스테이션(170)은 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면과 물리적으로 접촉하는 접착성 또는 점착성 부재와 같은 제1 세정 부재를 적어도 포함하되, 상기 접착성 또는 점착성 부재는 이미징 부재(110)의 재이미징 가능한 표면의 축임 유체로부터 경화된 잔류 잉크 및 잔여 소량의 계면 활성제 화합물을 제거한다. 그 후 접착성 또는 점착성 부재는 상기 접착성 또는 점착성 부재로부터 잔류 잉크가 전사될 수 있는 매끄러운 롤러와 접촉하게 될 수 있으며, 잉크는 예를 들어 닥터 블레이드 또는 다른 유사한 장치에 의해 매끄러운 롤러로부터 순차적으로 제거되어 폐기물로 모아진다.

세정 스테이션(170)은 수많은 유형의 세정 스테이션 중 하나이며, 디지털 프린팅 시스템 이미징 부재의 재이미징 가능한 표면으로부터 잔류 잉크를 제거시키도록 설계된 다른 세정 스테이션이 상기 실시예의 범위 내에서 고려되는 것으로 이해된다. 예를 들어, 세정 스테이션은 당업자가 잘 이해하는 바와 같이, 적어도 하나의 롤러, 브러시, 웹, 점착 롤러, 버핑 휠 등을 포함할 수 있다. 또한, 경화(curing) 또는 경화(hardening) 수준은 선택된 세정 스테이션의 유형에 따라 예측 가능하게 좌우될 수 있음을 이해한다.

개시된 실시예는 잔류 잉크 컨디셔닝 및 세정 장치/ 기술을 이용한 가변 데이터 침착 및 이미지 형성 프로세스를 구현하는 예시적인 잉크 기반 디지털 프린팅 방법을 포함할 수 있다. 도 3은 그러한 예시적인 방법의 흐름도를 도시한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 방법의 동작은 단계 S300에서 시작하여 단계 S310으로 진행된다.

단계 S310에서, 축임 유체 서브시스템을 사용하여 축임 유체층이 이미징 부재의 표면 상에 침착될 수 있다. 이미징 부재의 표면은 플루오로엘라스토머를 포함하는 재이미징 가능한 순응성 표면층일 수 있다. 상기 방법의 동작은 단계 S320으로 진행하는데, 프로세스 방향으로 축임 유체 서브시스템의 하류에 위치된 광학적 패턴화 서브시스템을 사용하여 축임 유체층에 잠상을 선택적으로 패턴화할 수 있다. 상기 방법의 동작은 단계 S330으로 진행한다.

단계 S330에서, 이미징 서브시스템의 하류에 위치된 잉크 공급 유닛에 의해 UV 경화성 잉크는 이미징 부재의 재이미징 가능한 표면 상에 침착되어 잉크 이미지를 형성할 수 있다. 상기 방법의 동작은 단계 S340으로 진행하는데, 잉크 이미지는 프로세스 방향으로 잉크 전달 유닛의 하류에 위치된 잉크 이미지 전사 스테이션을 통해 이미징 부재 표면으로부터 이미지 수용 매체 기판으로 전사될 수 있으며, 이 동작은 형성된 잉크 이미지의 전사 후에 이미징 부재 표면 상에 잔류물을 남길 수 있다. 상기 방법의 동작은 단계 S350으로 진행한다.

단계 S350에서, 이미징 부재 표면 상의 잔류 잉크는 경화된 잔류 잉크를 생성하기 위해 프로세스 방향으로 잉크 이미지 전사 스테이션의 하류에 위치된 점도 제어 유닛을 사용하여 경화되거나 취약하게 될 수 있다. 잔류 잉크의 경화는 이미징 부재의 표면층에 비해서 잔류 잉크 응집 강도를 증가시키는 것을 포함할 수 있다. 상기 방법의 동작은 단계 S360으로 진행한다.

단계 S360에서, 경화된 잔류 잉크는 프로세스 방향으로 점도 제어 유닛과 잉크 전달 유닛 사이에 위치한 세정 스테이션을 통해 이미징 부재 표면으로부터 제거될 수 있다. 물론, 세정 스테이션은 축임 유체 서브시스템 및 광학적 패턴화 서브시스템 앞에 위치할 수 있다. 이미징 부재 표면으로부터 경화된 잔류 잉크를 제거하는 단계는 경화된 잔류 잉크와 접촉하는 세정 스테이션을 이용하여 상기 표면으로부터 경화된 잔류 잉크를 물리적으로 스크러빙(scrubing)하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 방법의 동작은 단계 S370에서 중단되거나, 단계 S310으로 돌아가 반복될 수 있는데, 새로운 축임 유체층이 이미징 부재의 표면 상에 침착될 수 있다.

상술한 예시적인 시스템 및 방법은 특정 통상적인 화상 형성장치 구성 요소를 참조하여, 개시된 방식을 지원하는 가변 데이터 디지털 제어/이형제 층 침착 프로세스를 수행하도록 적용될 수 있는 화상 형성방법의 간략한 배경 설명을 제공할 수 있다. 가변 데이터 디지털 리소그래피 부분 또는 잔류 잉크 컨디셔닝 시스템의 모듈의 특정 구성에 특별한 제한이 위에서 묘사되고 설명된 예시적인 요소들의 설명에 기초하여 해석되어서는 안 된다.

당업자는 개시된 주제의 다른 실시예들이 많은 상이한 구성들에서 리소그래픽 이미지 형성 시스템들에 공통인 많은 유형의 이미지 형성 요소들로 실시될 수 있음을 이해할 것이다. 이들은 개시된 방식에 따라 수행될 수 있는 변형의 비 제한적인 예임을 이해해야 한다. 즉, 상기 설명 및 첨부 도면으로부터 특정의 제한적인 구성이 함축되어서는 안 된다.

실행가능한 방법 단계들의 예시적으로 묘사된 순서는 단계들에서 설명된 기능을 구현하기 위한 동작들의 대응하는 수순의 일례를 나타낸다. 예시적으로 묘사된 단계들은 개시된 실시예의 목적을 수행하기 위해 임의의 합리적인 순서로 실행될 수 있다. 임의의 특정 단계가 임의의 다른 방법 단계의 실행에 필요한 전제 조건인 것으로 고려되는 경우를 제외하고, 본 방법의 개시된 단계에 대한 특정 순서는 도 3의 설명 및 첨부된 설명에 의해 반드시 암시되지는 않는다. 예를 들어, 잔류 잉크 세정 단계 S350는 이미지 전사 단계 S340 이후 및 단계 S360에서 잔류 잉크가 이미지 부재 표면으로부터 제거되기 전에 일어난다. 개별 방법 단계는 동시 또는 거의 동시의 타이밍에서 순차적으로 또는 병렬로 수행될 수 있다. 또한, 기술된 모든 방법 단계가 개시에 따른 임의의 특정 방법에 포함될 필요는 없다.

상기 개시된 다른 다양한 특징 및 기능, 또는 이들의 대안은 많은 다른 시스템 또는 애플리케이션으로 바람직하게 결합될 수 있음을 이해할 것이다. 또한, 당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 현재 예측할 수 없거나 예상치 못한 다양한 대안, 수정, 변형 또는 개선이 이루어질 수 있다.

Claims (10)

1. 잉크 기반 디지털 프린팅 시스템으로서,
   이미징 가능한 표면을 갖는 이미징 부재;
   상기 이미징 가능한 표면 상에 잉크를 침착(deposit)시켜 잉크 이미지를 형성하는 잉크 전달 유닛;
   상기 이미징 가능한 표면으로부터 이미지 수용 매체 기판으로 상기 잉크 이미지를 전사시키는 프로세스 방향으로 상기 잉크 전달 유닛의 하류에 위치된 잉크 이미지 전사 스테이션으로서, 상기 이미징 가능한 표면은 형성된 상기 잉크 이미지의 상기 전사 후에 상기 표면 상에 남아있는 잔류 잉크를 갖는, 상기 잉크 이미지 전사 스테이션;
   상기 프로세스 방향으로 상기 잉크 이미지 전사 스테이션의 하류에 위치되고 상기 이미징 가능한 표면 상의 상기 잔류 잉크의 점도를 변화시켜 경화된 잔류 잉크를 생성시키도록 구성된 점도 제어 유닛; 및
   상기 프로세스 방향으로 상기 점도 제어 유닛의 하류에 위치된 세정 스테이션으로서, 상기 이미징 가능한 표면으로부터 상기 경화된 잔류 잉크를 제거시키도록 구성되며, 상기 경화된 잔류 잉크와 물리적으로 접촉하여 상기 이미징 가능한 표면으로부터 상기 경화된 잔류 잉크를 제거시키는, 상기 세정 스테이션을 포함하는, 잉크 기반 디지털 프린팅 시스템.
2. 제1항에 있어서, 상기 프로세스 방향으로 상기 잉크 전달 유닛의 상류에 위치된 축임 유체 서브시스템(dampening fluid subsystem)을 더 포함하되, 상기 축임 유체 서브시스템은 상기 이미징 부재의 상기 이미징 가능한 표면 상에 축임 유체의 층을 침착시키도록 구성된, 잉크 기반 디지털 프린팅 시스템.
3. 제2항에 있어서, 상기 프로세스 방향으로 상기 축임 유체 서브시스템과 상기 잉크 전달 유닛 사이에 광학적 패턴화 서브시스템을 더 포함하되, 상기 광학적 패턴화 서브시스템은 상기 축임 유체층 내의 잠상을 선택적으로 패턴화하도록 구성되며, 상기 잉크 전달 유닛은 상기 잠상에 상기 잉크를 침착시켜 상기 잉크 이미지를 형성하도록 구성되는, 잉크 기반 디지털 프린팅 시스템.
4. 제1항에 있어서, 상기 이미징 부재의 상기 이미징 가능한 표면은 재이미징 가능한 순응성 표면층(reimageable conformable surface layer)인, 잉크 기반 디지털 프린팅 시스템.
5. 잉크 기반 디지털 프린팅 방법으로서,
   잉크 전달 유닛을 이용하여 이미징 부재의 이미징 가능한 표면 상에 잉크를 침착시켜 잉크 이미지를 형성하는 단계;
   프로세스 방향으로 상기 잉크 전달 유닛의 하류에 위치된 잉크 이미지 전사 스테이션을 통해 상기 이미징 가능한 표면으로부터 이미지 수용 매체 기판으로 상기 잉크 이미지를 전사하는 단계로서, 상기 이미징 가능한 표면은 형성된 상기 잉크 이미지의 상기 전사 후에 상기 표면 상에 남아있는 잔류 잉크를 갖는, 상기 잉크 이미지를 전사하는 단계;
   상기 프로세스 방향으로 상기 잉크 이미지 전사 스테이션의 하류에 위치된 점도 제어 유닛을 이용하여, 상기 이미징 가능한 표면 상의 상기 잔류 잉크의 점도를 변화시켜 경화된 잔류 잉크를 생성시키는 단계; 및
   상기 프로세스 방향으로 상기 점도 제어 유닛 하류에 위치된 세정 스테이션을 이용하여 상기 이미징 가능한 표면으로부터 상기 경화된 잔류 잉크를 제거하는 단계를 포함하는, 잉크 기반 디지털 프린팅 방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 프로세스 방향으로 상기 잉크 전달 유닛의 상류에 위치된 축임 유체 서브시스템을 이용하여 상기 이미징 부재의 상기 이미징 가능한 표면 상에 축임 유체층을 침착시키는 단계를 더 포함하는, 잉크 기반 디지털 프린팅 방법.
7. 제6항에 있어서, 상기 프로세스 방향으로 상기 축임 유체 서브시스템과 상기 잉크 전달 유닛 사이의 광학적 패턴화 서브시스템을 이용하여 상기 축임 유체층의 잠상을 선택적으로 패턴화하는 단계를 더 포함하되, 상기 잉크 전달 유닛은 상기 잠상에 상기 잉크를 침착시켜 상기 잉크 이미지를 형성시키도록 구성된, 잉크 기반 디지털 프린팅 방법.
8. 가변 리소그래픽 이미징 부재 세정 시스템으로서,
   프린터 프로세스 방향으로 잉크 이미지 전사 스테이션 하류의 가변 리소그래픽 이미징 부재 실리콘 재이미징 가능한 표면에 인접하여 위치된 점도 제어 유닛으로서, 상기 잉크 이미지 전사 스테이션은 상기 재이미징 가능한 표면으로부터 잉크 이미지의 전사 후에 상기 재이미징 가능한 표면 상에 남아있는 잔류 잉크를 갖는 상기 재이미징 가능한 표면을 갖는 매체 기판으로 패턴화된 UV 경화성 잉크의 잉크 이미지를 전사하도록 구성되며, 상기 점도 제어 유닛은 상기 재이미징 가능한 표면 상의 상기 잔류 잉크를 경화시켜 경화된 잔류 잉크를 생성시키도록 구성된, 상기 점도 제어 유닛; 및
   상기 프린터 프로세스 방향으로 상기 점도 제어 유닛의 하류에 그리고 상기 재이미징 가능한 표면 상에 UV 경화성 잉크의 다음 잉크 이미지를 침착시키도록 구성된 잉크 전달 유닛 앞에 위치하는 세정 스테이션으로서, 상기 다음 잉크 이미지의 상기 침착 이전에 상기 재이미징 가능한 표면으로부터 상기 경화된 잔류 잉크를 제거시키도록 구성된, 상기 세정 스테이션을 포함하는, 가변 리소그래픽 이미징 부재 세정 시스템.
9. 제8항에 있어서, 상기 점도 제어 유닛은 상기 재이미징 가능한 표면층에 대한 잔류 잉크 응집 강도(cohesive strength)를 증가시키도록 구성된, 가변 리소그래픽 이미징 부재 세정 시스템.
10. 제8항에 있어서, 상기 세정 스테이션은 상기 재이미징 가능한 표면으로부터 상기 경화된 잔류 잉크를 제거시키기 위해 상기 경화된 잔류 잉크와 물리적으로 접촉하는, 가변 리소그래픽 이미징 부재 세정 시스템.
    

Images