KR20180099326A - 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체 - Google Patents

파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체 Download PDF

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Abstract

본 발명의 일 측면에 따르면, 플라즈몬 메타표면 구조체에 있어서, 상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 직육면체로 형성된 메타표면 단위 셀들의 평면 배열 집합체로 형성되며, 상기 메타표면 단위 셀은, 상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 금속물질의 기판층; 상기 금속 기판층 상부에 형성되는 절연체층; 상기 절연체층 상부에 형성되는 금속물질로 이루어진 사다리꼴 형상의 나노 안테나 스트립; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체가 제공된다.

Description

파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체{Aluminum plasmonic metasurface device enabling wavelength insensitive phase gradient}
본 발명은 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체에 관한 기술이다.
메타물질은 광범위한 의미로, 기존에 존재하는 물질들을 이용하여 적절한 기하학적 주기 구조를 설계함으로써, 자연상에 존재하지 않은 인위적인 물성을 지니도록 설계 및 제작된 물질을 일컫는다.
종래의 메타물질은 상대적으로 훨씬 파장이 큰 마이크로파 대역에 맞추어 구조물들을 설계하는 일이 상대적으로 간단했기 때문에 마이크로파 대역에서 시작되었다.
최근에는 보다 정밀한 수준의 나노 공정 기술들이 확립되어 마이크로파 및 음파 대비 훨씬 파장이 짧은 광파에 대한 메타물질 설계가 진행되어 왔다.
물질 내 광파의 물성은 매질의 유전율(permittivity)과 투자율(permeability)에 의해 결정되므로, 임의의 유전율과 투자율을 가지는 물질을 설계하는 연구가 메타물질 분야에서 많이 이루어졌다.
최근에는 복잡한 3차원 메타물질 공정의 어려움과 실용성 등을 고려하여 2차원 박막 위에 물리적인 원리를 통해 설계된 단위 구조들을 배열하여 만들어지는 메타표면(metasurface) 구조들에 대한 연구가 이루어지고 있다.
메타표면이라는 용어는 메타물질에서 파생된 것으로, 최근 정밀한 나노 공정 기술을 요구하는 가시광 대역의 메타물질들이 점차 개발되며 사용되기 시작하였다. 메타물질 연구자들의 일각에서는 단위 구조를 3차원적으로 쌓아 만들어지는 메타물질 기술이 가지는 공정의 어려움과 비용적 측면을 고려하고, 굳이 3차원 적층 구조가 아닌 2차원 단일 박막면을 통해서도 자연계에 존재하지 않은 음굴절 물성 등을 구현해 낼 수 있다.
메타표면은, 박막 구조를 기반으로 하는 현 공정 방식들에 보다 적합하며, 다양한 물성을 나타내는 물질을 얇은 박막 구조를 통해 구현할 수 있다는 장점을 지닌다.
위상 구배 메타표면(phase gradient metasurfaces: PGM)에 있어서, 위상 조절은 나노안테나 또는 PBP(Pancharatnam-Berry phase) 기반 나노공진기 (nanoresonator)를 이용함으로써 주로 수행되는 것으로 알려져 있다. 전자는 일반적으로 분산식 위상구배 문제가 있는 반면, 후자는 분산은 없지만 원편광에 대해서만 작용한다.
컬러 프린팅, 컬러 디스플레이 및 이미지 센싱 등의 분야에서 필수적인 정교한 나노 구조의 정확한 재현(reproduction)은 특히 가시광 대역(visible band)에서는 구현되기가 곤란하다.
서브파장 나노안테나 또는 나노공진기의 배열을 기반으로 하는 2D 메타물질 시스템으로 불리는 메타표면은 편광, 강도 및 위상의 측면에서 유연하게 조절되는 광학특성으로 인해 큰 주목을 받고 있다.
이러한 메타표면은 기존의 부피가 큰 광학 성분보다 훨씬 뛰어나서 통합된 광시스템을 구축할 수 있도록 한다.
최근, 특히 공간 구배 위상(space-variant phase) 프로파일과 같은 다양한 타입의 위상 구배 메타표면(PGM)이 검토되었다. 이의 응용은 메타-홀로그램, 광학 볼텍스 생성, 파장판(waveplate), 메타표면 렌즈, 및 변칙적 광 벤딩 또는 스펙트럼 분리를 포함한다. PGM(phase gradient metasurfaces)을 이용하여 임의의 파면을 생성할 목적으로 위상을 조절하는 것은 2 π의 전체 범위를 우선적으로 충족시켜야 하는 것이고, 이는 주로 나노안테나 공진 또는 PB(Pancharatnam-Berry) 위상을 이용하여 수행된다.
자기 및 전기 쌍극자에 의해 매개되는 동시 공진(concurrent resonance)이 실리콘의 메타표면에서 시도되었으나(「Sun, S.; Yang, K. Y.; Wang, C. M.; Juan, T. K.; Chen, W. T.; Liao, C. Y.; He, Q.; Xiao, S.; Kung, W. T.; Guo, G. Y.; Zhou, L.; Tsai, D. P. Nano Lett. 2012, 12, 6223-6229.」, 「 Qin, F.; Ding, L.; Zhang, L.; Monticone, F.; Chum, C. C.; Deng, J.; Mei, S.; Li, Y.; Teng, J.; Hong, M.; Zhang, S.; Alu, A.; Qiu, C. W. Sci. Adv. 2016, 2, e1501168.」, 「 Li, Z.; Palacios, E.; Butun, S.; Aydin, K. Nano Lett. 2015, 15, 1615-1621.」), 2π 상 변이를 허용하는 스펙트럼 범위에는 상당하게 제한된다.
금속-절연체-금속(MIM) 구성의 플라즈몬 공진기를 기반으로 하는 경우, 작동은 리플렉션 모드에서만 사용할 수 있기 때문에 근적외선 대역에서 최대 80 %의 효율을 제공할 수 있다.
또한, PB(Pancharatnam-Berry) 위상으로 들어갈 경우, 메타표면은 파면 뒤틀림을 야기시키지 않기 때문에 넓은 스펙트럼 대역에 걸쳐 파장-독립형 위상 구배를 허용한다(Huang, K.; Dong, Z.; Mei, S.; Zhang, L.; Liu, Y.; Liu, H.; Zhu, H.; Teng, J.; Luk'yanchuk, B.; Yang, J. K. W.; Qiu, C. W. Laser Photon. Rev. 2016, 10, 500-509. 참조). 그러나, 이 방법은 비교적으로 복잡한 구조를 요구하는 원편광에 대해서만 유용하다.
동일한 방향 또는 위치를 향하여 다수의 파장을 조종하기 위해 채택되는 비색수차 메타표면(achromatic metasurface)과는 반대로, 비-분산 PGM은 파장 불변 위상 구배를 나타내는 것으로 간주된다.
직선 편광(linearly polarized light)에 대한 스펙트럼 분리에 있어서, 특히 일정한 위상 구배를 일으키는 선형의 상 변이는 메타표면을 구성하는 단위 셀을 따라 유도되어야 한다. 이러한 목적을 위하여, 크기와 모양이 다르고 특정 파장에서 선형의 상 변이를 일으킬 수 있는 다수의 불연속 나노공진기로 구성된 단위 셀을 이용한 다양한 위상 구배 메타표면(PGM)이 연구되고 있다.
주어진 각도에 대하여 서로 상이한 파장 사이의 크로스 토크(crosstalk) 혼선을 방지하기 위하여 균일한 파면이 얻어져야 한다.
나노 공진기 원소의 본질적인 분산으로 인해 위상 구배는 파장에 따라 다르므로 파면은 고르지 않고 임의로 왜곡될 수 있다(Ni, X.; Emani, N. K.; Kildishev, A. V.; Boltasseva, A.; Shalaev, V. M. Science 2012, 335, 427. 참조).
불연속 나노 공진기 군을 포함하는 단위 셀의 대안으로 반연속(quasi-continuous) 메타표면이 하나의 MIM(metal-insulator-metal)으로 형성된 나노안테나를 포함하는 단위 셀 구조가 미래 연구과제로 채택될 수 있다.
이러한 MIM(metal-insulator-metal)으로 형성된 나노안테나 구조의 메타표면은 금(Au) 또는 은(Ag)과 같은 귀금속으로 만들어지기 때문에 비경제적이며, 상보성 금속 산화막 반도체(complementary-metal-oxide-semiconductor, CMOS)의 비용-효율적 프로세스와 양립할 수 없다.
또한, Au 및 Ag는 비교적 낮은 플라즈마 주파수 및 바람직하지 않은 분산 특성을 가짐으로 인해 실제적인 작동은 간헐적으로 가시광 대역(visible band)의 일부에서 허용된다.
이전에 가시광 대역 전체에서 빔 분리를 수행하는 것으로 제안되었던 메타표면에 있어서, 분리의 각(angle)은 매우 제한되어 있다. 그 결과, 이러한 장치는 광각(wide-angle) 빔 분리기, 초박형 광학 분광기 및 광 검출 및 측정 장치의 구현에는 적합하지 않다.
이에 따라 모든 가시광 대역을 커버하는 직선 편광된 가시광에 대해서 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 메타표면 구조체에 대한 필요성이 제기된다.
본 발명 기술에 대한 배경기술은 대한민국 공개특허공보 KR2009-0097399에 게시되어 있다.
대한민국 공개특허공보 KR2009-0097399(복수 개의 도파관을 사용하여 분산을 갖는 메타물질을 구현하는 기판)
T. U. Tumkur, J. K. Kitur, L. Gu, B. Chu, V. A. Podolskiy, E. E. Narimanov, M. A. Noginov, "Hyperbolic metamaterial platforms for tuning reflectance, transmittance and absorption", in Metamaterials: Fundamentals and Applications V, edited by A. D. Boardman, N. Engheta, M. A. Noginov, and N. I. Zheludev, Proceedings of SPIE Vol. 8455 (SPIE, Bellingham, WA 2012).
본 발명은 모든 가시광 대역을 커버하는 직선 편광된 가시광에 대해서 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체를 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 플라즈몬 메타표면 구조체에 있어서, 상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 직육면체로 형성된 메타표면 단위 셀들의 평면 배열 집합체로 형성되며, 상기 메타표면 단위 셀은, 상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 금속물질의 기판층; 상기 금속 기판층 상부에 형성되는 절연체층; 및 상기 절연체층 상부에 형성되는 금속물질로 이루어진 사다리꼴 형상의 나노 안테나 스트립; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체가 제공된다.
또한, 상기 기판층 및 상기 나노 안테나 스트립은 Al 재질로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 절연체층은 SiO2 재질로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 나노 안테나 스트립의 사다리꼴 형상은 짧은 폭 50(±5%)nm, 긴 폭 150(±5%)nm, 길이 500(±5%)nm로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 나노 안테나 스트립의 두께는 20(±5%)nm, 상기 절연층의 두께는 50(±5%)nm, 상기 기판층의 두께는 130(±5%)nm로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 메타표면 단위 셀의 평면 크기는 200(±5%) ⅹ　720(±5%) nm로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 플라즈몬 메타표면 구조체에서, y 방향으로 편광된 전기장과 함께 입사된 입사광이 상기 메타표면 단위 셀에 의해 반사된 반사광의 위상은, 상기 나노안테나 스트립 폭의 선형적 변화에 따라, x방향에 따른 위치에 따라 변하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 입사광에 대한 반사광이 42(±5%)°의 각 분리 범위를 가지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 400nm 내지 700nm의 스펙트럼 범위의 입사광에 대한 반사광을 34(±5%)°에서 76(±5%)°의 각도로 반사시키는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 300(±5%) × 200(±5%)㎛2 면적으로 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 플라즈몬 메타표면 구조체에서 반사되는 반사광의 위상 구배의 특성은 가시광 대역에 걸쳐서 입사광의 파장 크기에 관계없이 일정한 선형 특성을 가지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 플라즈몬 메타표면 구조체에서, 입사광에 의해 여기된 갭 표면 플라즈몬 공진모드의 위치는 상기 입사광의 파장 크기에 따라 상기 사다리꼴 형상의 나노 안테나 스트립의 넓은 폭의 길이 방향으로 이동하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체는 400nm 내지 700nm 스펙트럼 범위의 입사광에 대하여 이상적인 반사를 통해서 높은 각도로 분해되어 42°만큼 큰 분리각을 제공한다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체는 가시광 대역에 걸쳐 거의 파장에 무관한 위상 구배 특성을 나타낸다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 구조체에서의 파장에 무관한 위상 구배 특성은 잘 정의된 균일한 파면(planar wavefront)에 의하여 주어진 각도에서 상이한 파장들 사이의 혼선을 억제하는 효과를 가진다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)을 이용하여 x 방향을 따라 반사된 빛에 대해 시뮬레이션 된 위상 변화를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)을 이용하여, 직선 편광에 대해 반사된 반사광에 대한 시뮬레이션 된 스펙트럼 위상 응답을 도시한 것이다.
도 4, 5는 각각 본 발명의 또 다른 실시 예로서, 플라즈몬 메타표면 구조체(1)에서 알루미늄(Al) 대신 Au 및 Ag를 적용한 플라즈몬 메타표면 구조체에서 직선 편광에 대해 반사된 빛에 대해 시뮬레이션 된 스펙트럼 위상 응답을 도시한 것이다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)을 이용하여 시뮬레이션 된 반사각의 정규화된 원거리 전계 강도 |E|2를 나타낸 것이다.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)의 입사광에 대한 시뮬레이션에서 450nm, 550nm, 및 650nm의 파장에 대해서 반사된 Ey성분 프로파일을 도시한 것이다.
도 8은 본 발명의 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)를 이용한 광변환 반응 측정 장치(100)의 예를 도시한 것이다.
도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 표면 패턴에 대한 SEM 이미지를 도시한 것이다.
도 10은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)로부터 반사된 반사 스펙트럼의 등고선도를 각도에 관하여 나타낸 것이다.
도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)로부터 반사각이 35°에서 70°로 5°씩 변경될 때 반사된 빔의 스펙트럼을 도시한 것이다.
도 12는 반사각도에 관련하여 시뮬레이션 된 계산 결과를 그래프로 도시한 것이다.
도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 Al 나노 안테나 스트립의 폭과 산란 단면적과의 관계를 도시한 것이다.
도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 전계 프로파일의 변화를 관찰하기 위한 관찰면(XY, XZ, YZ)을 도시한 것이다.
도 15는 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 550nm 공진 파장에 대한 중앙 YZ 평면(x = 360nm)에서의 E- field 분포를 도시한 것이다.
도 16은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 550nm 공진 파장에 대한 중앙 YZ 평면(x = 360 nm)에서의 H- field 분포를 도시한 것이다.
도 17은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 입사된 주파수에 대한 절연체의 중간에서 여기된 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons)에 의한 |Ez| 분포를 도시한 것이다.
도 18은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 XY 평면 및 XZ 평면 (y = 150nm) 간의 교차점을 따라 모니터링된 파장에 따른 |Ez| 프로파일을 나타낸 것이다.
도 19는 또 다른 실시 예에 따른 금속물질을 각각 (a) Au 및 (b) Ag 기반으로 한 사다리꼴 나노 안테나의 메타표면 단위 셀 내의 XY 평면(z = 155nm) 및 XZ 평면 (y = 150nm)의 교차점에서 x-방향의 파장 및 위치에 따른 |Ez| 분포의 등고선도를 도시한 것이다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
본 출원에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서 전체에서, "상에"라 함은 대상 부분의 위 또는 아래에 위치함을 의미하는 것이며, 반드시 중력 방향을 기준으로 상 측에 위치하는 것을 의미하는 것이 아니다.
이하 본 발명의 구현에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체에 대하여 상세하게 설명한다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체는 직선 편광에 대하여 모든 가시광 대역에서 파장에 무관한 위상 구배 특성을 가진다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 구조체는 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons) 모드를 생성하는 메타표면 단위 셀의 평면 배열 집합체로 조성된다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 단위 셀은 Al-SiO2-Al 조성층을 기반으로 한다.
입사 가시광은 거의 균일한 파면을 나타내도록 비 분산 메타표면에 의해 시작되는 변칙적 반사에 의해 효율적으로 각 분해가 될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체를 도시한 것이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)는 직육면체로 이루어진 메타표면 단위 셀(10) 들의 평면 배열 집합체로 형성된다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 단위 셀(10)은 금속 기판층(14) 상부에 형성되는 절연체층(12) 상기 절연체층(12) 상부에 형성되는 나노안테나 스트립(11)을 포함한다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)은 사다리꼴 형상의 Al로 이루어진 나노안테나 스트립(11), 실리카(SiO2)로 이루어진 절연체층(12), Al로 이루어진 기판층(14)으로 형성된 MIM(metal-insulator-metal) 구조로 형성된다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 기판층(14)은 입사된 빛을 투과시키지 않기 위한 최소한의 광학적 두께를 가진다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면은 절연체층(12) 상에 형성된 나노안테나 스트립(11)을 포함한다.
금속 표면 근처의 자유 전자의 전하 발진인 표면 플라즈몬은 광 및 물질과의 상호작용으로부터 나타나고, 전도체-유전체 계면에서 발생된다.
이러한 메타표면은 플라즈몬 메타표면으로 정의된다.
Al은 Au 및 Ag와 같은 귀금속과 비교하여 비교적으로 높은 플라즈마 진동수(plasma frequency)를 가지며, Al은 모든 가시 스펙트럼을 다루기에 충분한 플라즈몬 물질 특성을 가지는 것으로 분석된다.
도 1을 참조하면, y 방향으로 편광된 전기장과 함께 입사된 입사광(21)에 의해 반사된 반사광(22)의 위상은, 나노안테나 스트립(11) 폭의 선형적 변화에 따라, x방향에 따른 위치에 따라 변한다.
따라서, 반사광(22)은 입사광(21)으로부터 θr각도에 변칙적 반사 구조를 가진다.
도 1에서 도시된 바와 같이, 메타표면 단위 셀(10)에 대한 구조적 변수는 목표 변칙적 반사(anomalous reflection)에 대한 각도 범위가 최대가 되도록 세로방향으로 최대 2π 위상 이동이 되도록 결정된다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)에서 나노안테나 스트립(11)　및 스페이서(spacer) 역할을 하는 절연체층(12) 두께는 표면 플라즈몬 현상이 발생될 수 있는 최적의 두께로서 H1 = 20(±5%)nm　및 H2= 50(±5%)nm가 적용된다.
또한, 기판층(14)의 두께는 빛을 투과시키지 않을 정도의 광학적 두께 이상에서 최소 두께로 적용되었으며, 바람직한 크기는 H3 = 130(±5%)nm가 적용된다.
절연체층(12) 및 기판층(14)의 두께가 H2 = 50(±5%)nm, 및 H3 = 130(±5%)nm 보다 작을 경우에는 반사광의 변위가 불안정하게 되며, 상기 크기보다 두꺼울 경우에는 전체 구조가 커지게 되어 비경제적이다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 단위 셀(10)의 경우, x 및 y 방향에 따른 주기(period) 크기는 2π 위상 이동이 될 수 있는 최소 간격으로 각각 Px = 720(±5%) nm 및 Py = 200(±5%) nm이 적용된다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 나노안테나 스트립(11)의 경우, 길이는 Lx = 500 (±5%)nm로 고정된 상태에서 바람직한 폭은 선형으로 W1 = 50(±5%)nm에서 W2 = 150(±5%)nm로 조절된다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)는 제조 과정에서 ±5%의 오차를 가질 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)을 이용하여 x 방향을 따라 반사된 빛에 대해 시뮬레이션 된 위상 변화를 도시한 것이다.
도 2는 파장에 관하여 메타표면 단위 셀(10)에 의해 부여된 반사 위상을 엄격하게 특성화하기 위하여, 도구를 이용하여 FDTD(finite-difference time-domain) 기반의 시뮬레이션이 수행된 결과를 도시한 것이다.
도 2를 참조하면, x 방향의 위상 프로파일은 세 개의 대표적인 파장, (a) 450nm, (b) 550nm, 및 (c) 650 nm에 대한 수직 입사 하에서 측정되었다.
도 2를 참조하면, 실선은 (a) 450nm, (b) 550nm 및 (c) 650nm의 파장에 대해 메타표면 단위 셀(10)의 x 방향을 따라 반사된 빛에 대해 시뮬레이션 된 위상 변화를 나타내며, 점선은 분산없는 메타 표면의 선형 위상 변화를 나타낸다.
도 2에 도시된 바와 같이, 최대 위상 이동이 2π인 것이 선명하게 관찰되었다.
파란색, 녹색 및 빨간색의 점선은 관련된 선형의 상 변이를 나타내고, 이상적인 비-분산 메타표면에 대한 일정한 위상 구배로 변환되었음을 확인할 수 있다.
계산된 상 변이와 완전한 상 변이 사이의 불일치는, 각각 0.305 rad, 0.183 rad, 및 0.266 rad으로 측정되었다. 이는 이전에 수행된 연구 결과(Li, Z.; Huang, L.; Lu, K.; Sun, Y.; Min, L. Appl. Phys. Express 2014, 7, 112001. 참조)에 비하여 현저하게 작게 나타난 결과이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)을 이용하여, 직선 편광에 대해 반사된 반사광에 대한 시뮬레이션된 스펙트럼 위상 응답을 도시한 것이다.
도 3은 파장과 x 방향을 따른 위치의 관점에서 위상 등고선 λ = 450nm, 550nm 및 650 nm에 대해 나타낸다
x = 0에서 시작하는 위상 등고선은 점선으로 표시된다.
도 3을 참조하면, x = 0로부터 시작하는 대표 파장과 관련하여 위상 등고선이 모두 거의 선형이며 서로 평행하고, 가시광 대역에 걸쳐 입사광의 파장에 따라 위상 구배의 선형 특성에 영향을 거의 받지 않는 파장에 무관한 위상 구배 특성을 나타낸다.
즉, 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체에서 반사되는 반사광의 위상 구배의 특성은 가시광 대역에 걸쳐서 입사광의 파장 크기에 관계없이 일정한 선형 특성을 가지는 것을 특징으로 한다.
도 4, 5는 각각 본 발명의 또 다른 실시 예로서, 플라즈몬 메타표면 구조체(1)에서 Al 대신 Au 및 Ag를 적용한 플라즈몬 메타표면 구조체에서 직선 편광에 대해 반사된 빛에 대한 시뮬레이션된 스펙트럼 위상 응답을 도시한 것이다.
도 4, 5를 참조하면, 플라즈몬 메타표면 구조체(1)에서 채택된 금속이 Au 또는 Ag로 대체되었을 때는 본 발명의 바람직한 실시 예인 도 3과 대조하여, 위상 구배가 상당히 파장에 의존적이 되는 것을 알 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)의 위상-구배 메타표면(phase gradient metasurfaces)의 경우, 정상적인 입사광에 대한 반사각은 일반 스넬 법칙(Snell's law)을 고려하여 보정된 회절 방정식에 의해 지배될 수 있다.
Figure pat00001
여기서, Px는 메타표면 단위 셀(10)의 가로 길이, θr는 반사각, λ0는 자유 공간의 파장, m은 회절차수, m0는 기존의 회절 차수, 및 dΦ/dx는 세로 방향을 따라 메타표면에 의해 유도된 위상 구배를 나타낸다.
메타표면 단위 셀(10)이 2π에 걸쳐 선형의 상 변이를 나타내는 것으로 가정하면, 반사각은 m으로 표시되는 업그레이드된 회절 차수를 통해 간단히 나타낼 수 있다. 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 메타표면 단위 셀(10)의 설계된 메타표면에 대해 0.55 < λ0/Px < 1의 조건하에서, 최대 3개의 회절 차수 (m = -1, 0 및 1)가 존재한다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)을 이용하여 시뮬레이션된 반사각의 정규화된 원거리 전계 강도 |E|2를 나타낸 것이다.
도 6에서 정규화된 원거리 전계 강도 |E|2는 파장의 관점에서 |Er|2/|Ei|2로 정의된 를 나타낸 것이며, |Er|2는 메타표면에서 나오는 변칙적 반사광의 E 전계 강도이고, |Ei|2는 메타표면 없는 기판으로부터 반사에 따른 전계 강도를 의미한다.
도 6을 참조하면, 입사광은 m = 1의 회절 차수에 따른 변칙적 반사에 주로 결합하여 모니터되는 반면, m = 0 및 m = -1의 다른 차수와 비교하여 원하는 변칙적 반사에 대한 강도는 각각 550nm의 파장에서 13 및 48에까지 이르게 된다.
수학식 1로부터 예상되는 반사각은 점선으로 표시되었고, 이는 시뮬레이션된 결과와 계산된 결과 간에 우수한 상관관계가 있음을 나타내고 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따라 제안된 플라즈몬 메타표면 구조체(1)는 위상-구배 메타표면(phase gradient metasurfaces)에 의해 변칙적으로 반사되어 400nm 내지 700nm의 스펙트럼 범위의 입사광이 34(±5%)o 에서 76(±5%)o의 각도에서 전파되어 42(±5%)°의 각 분리 범위를 가진다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 42o의 각 분리 범위는 이전 연구(Li, Z.; Aydin, K. EPJ Appl. Metamat. 2015, 2, 2. 참조)와 비교하여 2배 향상을 나타냄을 알 수 있다.
이는 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)가 파면과 연계되어 향상된 빔 형상을 가능하게 하고 가시광 대역(visible band)에 걸쳐 눈에 띄는 뒤틀림을 일으키지 않는다는 것이 구체적으로 입증된 것이라 할 것이다.
반사광의 경우, 파면은 입사광과 동일한 E전계 성분(Ey)에 대하여 조사하였으며, 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면은 편광 변환이 일어나지 않는 것으로 분석되었다.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)의 입사광에 대한 시뮬레이션에서 450nm, 550nm, 및 650nm의 파장에 대해서 반사된 Ey 성분 프로파일을 도시한 것이다.
도 7을 참조하면, 450nm, 550nm, 및 650nm의 파장에 대해서 (a), (b), (c)는 각각 화살표로 표시된 39o, 50o 및 65o 반사각을 나타낸다.
도 2 내지 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 메타표면 단위 셀(10)의 경우, 파면은 평면파와 관련이 있으며, λ= 480nm 이하에서도 높은 빔 품질을 전달하는 효과를 나타낸다. 이는 분산적 위상 구배에 의해 바람직하지 않은 영향을 받는 것으로 생각되던 이전의 연구 결과들과는 대조적으로 증진된 효과를 가진다.
본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 바람직한 플라즈몬 메타표면 구조체(1)는 리프트-오프 공정(lift-off process)에 의해 Al 기판 상에 300(±5%)×200(±5%)㎛2 면적을 차지하도록 제조되었다.
도 8은 본 발명의 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)를 이용한 광변환 반응 측정 장치(100)의 예를 도시한 것이다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 광변환 반응 측정 장치(100)는 광원(110), 포커싱 렌즈(120), 포커싱된 파장을 편광시키는 편광판(140), 입사파장에 따라 반사광을 형성시키는 플라즈몬 메타표면 구조체(1), 회전스테이지(130)에 장착되어 플라즈몬 메타표면 구조체(1)에서 반사된 광을 측정하는 반사광 디텍터(150)를 포함한다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)는 회전 스테이지의 중앙 공간에 장착되며, 선형의 편광판(140)을 통해 할로겐 램프 광원(110)에 의해 방출되는 정상 입사 평행 빔에 의해 조사된다. 분광계(USB4000, Ocean Optics)가 포함된 반사광 디텍터(150)는 광변환 반응 측정 장치(100)에서 반사되는 빛을 캡처하는데 사용된다.
도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 표면 패턴에 대한 SEM(scanning electron microscope) 이미지를 도시한 것이다.
도 10은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)로부터 반사된 반사 스펙트럼의 등고선도를 각도에 관하여 나타낸 것이다.
반사 신호는 30o의 입사각에서 메타표면을 포함하지 않는 기판으로부터 얻어진 기준 경우에 대해 표준화된다.
도 10을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)로부터 반사각에 따른 측정된 반사 스펙트럼의 등고선은 도 6에 도시된 시뮬레이션 결과와 일치함을 알 수 있다.
따라서 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)는 전체 가시광이 효율적으로 분해될 수 있음을 알 수 있다.
도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)로부터 반사각이 35o 에서 70o 로 5o씩 변경될 때 반사된 빔의 스펙트럼을 도시한 것이다.
도 11에서 내부도는 서로 다른 각도에서 관측된 색상을 나타낸다.
도 10, 11을 참조하면, 각각의 반사 스펙트럼에 대하여 반치전폭(full width at half maximum, 어떤 측정량에 대해 피크가 관찰되었을 때 피크값의 절반값에서의 피크 폭 FWHM) 대역이 30nm 정도로 측정되었으며, λ= 550nm 부근에서 약 30%의 피크 효율을 보인다.
도 6에서 도시된 시뮬레이션 결과에 의해 예측된 바와 같이, 나머지 빛은 주로 메타표면에 의해 흡수된 것으로 분석된다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 절연층의 두께를 H2=50(±5%)nm 보다 더 증가시킴으로써 반사가 향상될 수 있으나, 시뮬레이션 결과 2π 상변이 및 파장 둔감성 위상 구배가 불안정해 져서 불합리적인 것으로 분석된다.
도 11을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)에서, 반사된 빔에 대한 컬러 이미지는 40o에서 60o까지, 진한 파란색, 녹색, 노란색, 빨간색의 선명한 색상으로 나타나는 특징을 가진다.
도 12는 반사각도에 관련하여 시뮬레이션된 계산 결과를 그래프로 도시한 것이다.
도 11 및 도 12를 참조하면, 도 11의 측정 결과는 도 12에서 계산된 결과와 일치하는 것으로 나타난다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 위상 구배 메타표면(phase-gradient metasurfaces)이 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons) 모드를 지원하는 MIM(metal-insulator-metal) 구조의 사다리꼴 나노안테나 스트립(11)를 포함하는 구성으로 형성되어 효율적으로 파장에 무관한　위상 구배　특성이 구현될 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons) 모드는 금속-절연체 인터페이스를 따라 전파되는 일종의 유도 전자파로 간주되어, 두 금속 박막 사이의 절연체 주위에서 효과적으로 국한된다. 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons)이 metal-insulator-metal 구조의 종단에서 반사될 경우, 강화된 정재파(standing wave)와 동등한 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons) 모드가 공진적으로 생성될 수 있다.
기본 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons) 공진모드는 일반적으로 절연층 내부의 강화된 자기장과 동등한 자기 쌍극자(magnetic dipole, MD)의 형태로 나타난다.
일반적인 패브리 페롯 에탈론(Fabry-Perot etalon)의 역할을 하는 것으로 알려진 대칭의 원뿔형의 MIM 구조의 경우, 다음의 조건하에서 공진이 일어난다.
Figure pat00002
여기서, w는 공진기의 너비이고, λ는　자유공간의　파장이며, neff는 공진모드의 유효굴절률(effective refractive index)이고, q는 공진 차수(resonance order)이며, Φ는 공진기 구조의 종단에서의 반사에 의해 발생된 부가의 위상 이동을 의미한다.
반사광은 공진기의 측면 치수 조정을 통해 공진 파장 주변에서 2π에 해당하는 위상 이동을 일으킬 것으로 예측된다.
Au 또는 Ag와 같은 물질을 기반으로 하는 MIM 구성의 경우, 산란 단면(scattering cross section, SCS)과 금속의 폭 사이는 거의 선형의 관계가 존재하는 것으로 보고된 바 있다. SCS는 입사파에 대한 단위 면적 당 전력에 대한 폐쇄된 표면을 통해 산란된 전력의 비율로 이해될 것이다.
도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 Al 나노 안테나 스트립의 폭과 산란 단면적과의 관계를 도시한 것이다.
도 13을 참조하면, 산란 전력과 소스 강도의 비율로 정의되는 산란 단면적 (σscs)은 나노안테나 스트립의 폭(11)에 정규화되며, 금속 폭이 증가할수록 공진 파장은 선형적으로 적색 시프트(red-shift)된다.
도 13에 도시된 바와 같이 본 발명의 일 실시 예에 따른 플라즈몬 메타표면 구조체(1)의 경우 산란 단면(scattering cross section, SCS)과 금속의 폭 사이의 유사한 선형의 관계가 대해 명백하게 구현될 수 있다.
도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 전계 프로파일의 변화를 관찰하기 위한 관찰면(XY, XZ, YZ)을 도시한 것이다.
본 발명의 일 실시 예에서는 도 14에 도시된 바와 같이 메타 표면 단위 셀(10)의 일부 대표 위치에서 전계 프로파일의 변화를 관찰함으로써, 본 발명의 일 실시 예에 따른 위상 구배 메타표면(phase-gradient metasurfaces)과 관련한 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons) 모드가 분석될 수 있다.
도 15는 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 550nm 공진 파장에 대한 중앙 YZ 평면(x = 360nm)에서의 E- field 분포를 도시한 것이다.
도 16은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 550nm 공진 파장에 대한 중앙 YZ 평면(x = 360nm)에서의 H- field 분포를 도시한 것이다.
λ= 550nm에 대한 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons) 공진 모드의 여기(excitation)는 Al 나노 안테나 스트립(11) 양쪽의 향상된 전기장과 함께 절연체 내부의 강화된 자기장에 의해 입증될 수 있다. 이는 금속 - 유전체 계면에서의 역 병렬 전기 변위 전류의 현상과도 관련이 있다.
갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons) 모드의 여기는 실질적으로 SiO2 절연체 내의 증가된 자기장 및 Al 나노안테나 스트립의 양면에서의 증가된 전기장에 의해 보장되고, 이는 도 15의 화살표에 의해 표시된 바와 같이, 금속-절연체 인터페이스를 따라 반-병렬전기 변위 전류(anti-parallel electric displacement current)를 발생시킨다.
도 17은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 입사된 주파수에 대한 절연체의 중간에서 여기된 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons)에 의한 |Ez| 분포를 도시한 것이다.
도 17은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 λ= 450nm, 550nm 및 650nm에 대한 스페이서(spacer) 역할을 하는 절연체의 중간에서 XY 평면 (z = 155nm)에서 관찰된 것처럼 여기된 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons)에 의한 |Ez| 분포를 도시한 것이다.
도 17을 참조하면, Ez프로파일에서 입사광에 의해 여기된 갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons) 공진모드의 위치는 파장 크기에 따라 함께 메타표면 단위 셀(10)의 사다리꼴 형상의 나노 안테나 스트립의 넓은 폭의 길이 방향으로 점진적으로 이동하는 것이 관찰되었다.
갭 표면 플라즈몬(gap surface plasmons) 공진모드의 존재는 본 발명의 일 실시 예에 따른 Al 플라즈몬 메타표면의 2π 위상 조절을 해석하는데 중요한 역할을 하고, 이는 특히 파장에 무관한 위상 구배 특성이 두드러진다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 단위 셀(10)의 경우, 일정한 위상 구배를 얻기 위하여, 공진 특성은 사다리꼴 Al 나노안테나의 측면 크기에 선형적으로 의존된다.
메타표면 단위 셀(10)의 x방향을 따르는 위치에 대한 공진 파장의 의존성은 사다리꼴 Al 나노안테나 스트립(11)의 양면을 따라 전계 분포를 그래프화함으로써 분석될 수 있다.
도 18은 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타 표면 단위 셀에서 XY 평면 및 XZ 평면 (y = 150nm) 간의 교차점을 따라 모니터링된 파장에 따른 |Ez| 프로파일을 나타낸 것이다.
도 18을 참조하면, 사다리꼴 Al 나노 안테나 스트립의 폭이 x 방향을 따라 증가하여 넓어짐에 따라 해당 스펙트럼이 점차 적색-시프트되는 것으로 나타난다.
즉, 본 발명의 일 실시 예에 따른 사다리꼴 Al 나노안테나 스트립의 경우 선형관계가 의도된 대로 구현되는 것으로 분석된다.
도 19는 또 다른 실시 예에 따른 금속물질을 각각 (a) Au 및 (b) Ag 기반으로 한 사다리꼴 나노 안테나의 메타표면 단위 셀 내의 XY 평면(z = 155nm) 및 XZ 평면 (y = 150nm)의 교차점에서 x-방향의 파장 및 위치에 따른 |Ez| 분포의 등고선도를 도시한 것이다.
도 18 및 19를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 Al 플라즈몬 사다리꼴 메타표면과는 대조적으로, 도 19에 도시된 (a) Au 및 (b) Ag의 경우 파장에 굉장히 민감한 상 변이가 일어나는 것을 알 수 있다.
또한, 또 다른 실시 예에 따른 금속물질을 각각 Au 및 Ag-기반으로 한 사다리꼴 나노 안테나의 메타표면 단위 셀의 경우 공진 위치와 파장 간의 선형 관계는 없는 것으로 분석된다.
결론적으로, 비-분산 위상 구배 메타표면(phase gradient metasurfaces)은 본 발명의 일 실시 예에 따른 고도로 국부적인 gap surface plasmons 공진모드를 지원하는 사다리꼴 Al 나노안테나 스트립에 의한 MIM 구성의 메타표면 구조체(1)에 의해 구현될 수 있음을 알 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 구조체(1)는 모든 가시광 대역(visible band)에 걸쳐 선형 편광된 입사광은 변칙적 반사를 통해 안전하게 각 분리되었고 42(±5%)˚의 분리각을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 구조체(1)에서의 반사광은 다른 파장들 간의 크로스토크에 안전하고 잘-정의된 균일한 파면을 갖는 것으로 분석된다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 구조체(1)에서 gap surface plasmons 모드는 자기장 및 전기장 프로파일 및 전기변위 전류분포를 측정하여 확인될 수 있다.
파장에　무관한　위상 구배　특성은 gap surface plasmons 공진모드가 사다리꼴 Al 나노안테나의 측면 크기에 거의 직선적으로 의존하는지를 면밀히 관찰함으로써 해석되었다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 구조체(1)는 광각 빔 분리기, 초박형 광학 분광기 및 광 검출 및 측정 장치 등을 포함하는 광범위한 응용에 적용될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 따른 메타표면 구조체는 원편광에 의존하는 Pancharatnam-Berry(PB) 위상에 의거하는 기존의 비-분산 메타 표면에 대한 실행 가능한 대안이 될 수 있다.
1: 플라즈몬 메타표면 구조체
10: 메타표면 단위 셀
11: 나노안테나 스트립
12: 절연체층
14: 기판층
21: 입사광
22: 반사광
100 : 광변환 반응 측정 장치
110 : 광원
120 : 포커싱 렌즈
130 : 회전스테이지
140 : 편광판
150 : 반사광 디텍터

Claims (12)

  1. 플라즈몬 메타표면 구조체에 있어서,
    상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 직육면체로 형성된 메타표면 단위 셀들의 평면 배열 집합체로 형성되며,
    상기 메타표면 단위 셀은,
    상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 금속물질의 기판층;
    상기 금속 기판층 상부에 형성되는 절연체층; 및
    상기 절연체층 상부에 형성되는 금속물질로 이루어진 사다리꼴 형상의 나노 안테나 스트립; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기판층 및 상기 나노 안테나 스트립은 Al 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 절연체층은 SiO2 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 나노 안테나 스트립의 사다리꼴 형상은 짧은 폭 50(±5%)nm, 긴 폭 150(±5%)nm, 길이 500(±5%)nm로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 나노 안테나 스트립의 두께는 20(±5%)nm, 상기 절연층의 두께는 50(±5%)nm, 상기 기판층의 두께는 130(±5%)nm로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 메타표면 단위 셀의 평면 크기는 200(±5%) ⅹ　720(±5%) nm로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  7. 제3항에 있어서,
    상기 플라즈몬 메타표면 구조체에서, y 방향으로 편광된 전기장과 함께 입사된 입사광이 상기 메타표면 단위 셀에 의해 반사된 반사광의 위상은, 상기 나노안테나 스트립 폭의 선형적 변화에 따라, x 방향에 따른 위치에 따라 변하는 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  8. 제3항에 있어서,
    상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 입사광에 대한 반사광이 42(±5%)°의 각 분리 범위를 가지는 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  9. 제3항에 있어서,
    상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 400nm 내지 700nm의 스펙트럼 범위의 입사광에 대한 반사광을 34(±5%)°에서 76(±5%)°의 각도로 반사시키는 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  10. 제3항에 있어서,
    상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 300(±5%) × 200(±5%)㎛2 면적으로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  11. 제3항에 있어서,
    상기 플라즈몬 메타표면 구조체에서 반사되는 반사광의 위상 구배의 특성은 가시광 대역에 걸쳐서 입사광의 파장 크기에 관계없이 일정한 선형 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
  12. 제3항에 있어서
    상기 플라즈몬 메타표면 구조체에서, 입사광에 의해 여기된 갭 표면 플라즈몬 공진모드의 위치는 상기 입사광의 파장 크기에 따라 상기 사다리꼴 형상의 나노 안테나 스트립의 넓은 폭의 길이 방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는 파장에　무관하게　위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체.
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