KR20180092601A - Glucose sensor and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20180092601A
KR20180092601A KR1020170018510A KR20170018510A KR20180092601A KR 20180092601 A KR20180092601 A KR 20180092601A KR 1020170018510 A KR1020170018510 A KR 1020170018510A KR 20170018510 A KR20170018510 A KR 20170018510A KR 20180092601 A KR20180092601 A KR 20180092601A
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최봉진
금중한
윤주인
온정훈
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a glucose sensor and a manufacturing method thereof. The glucose sensor of the present invention comprises: a substrate; an electrode unit having a reference electrode unit formed on the substrate and a detection electrode unit formed on the substrate in a state of being spaced from the reference electrode unit; and a glucose reaction unit formed in an area including the electrode unit. Moreover, at least one of the reference electrode unit and the detection electrode unit, constituting the electrode unit, has a mesh structure. Accordingly, an electrode having the mesh structure can be used to increase the specific surface area of an electrode, thereby significantly increasing detection sensitivity with respect to glucose. Furthermore, a conductive oxide film can be formed on at least one area of an upper area and a lower area of a metal electrode so as to prevent oxidation of the metal electrode, thereby preventing deterioration of detection performance of the sensor.

Description

글루코스 센서 및 그 제조방법{GLUCOSE SENSOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}[0001] GLUCOSE SENSOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF [0002]

본 발명은 글루코스 센서 및 그 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 메쉬(mesh) 구조를 갖는 전극을 적용하여 전극의 비표면적(specific surface area)을 증가시킴으로써 글루코스에 대한 감지 민감도를 현저하게 높이고, 금속 전극의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 도전성 산화막을 형성하여 금속 전극의 산화를 방지함으로써 감지 성능의 열화를 방지할 수 있는 글루코스 센서 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a glucose sensor and a manufacturing method thereof. More specifically, the present invention applies electrodes with a mesh structure to increase the specific surface area of the electrodes, thereby significantly increasing the sensing sensitivity to glucose, and at least the upper and lower regions of the metal electrode And more particularly, to a glucose sensor capable of preventing deterioration of sensing performance by preventing oxidation of a metal electrode by forming a conductive oxide film in one region and a manufacturing method thereof.

글루코스(glucose)는 대부분 유기체의 광범위한 영양 공급원이며, 에너지 공급, 탄소 저장, 생합성 및 탄소 골격 및 세포벽 형성의 기초적인 역할을 수행하는 성분으로서, 전위차 또는 전류 측정을 통해 글루코스의 농도를 측정하는 글루코스 센서에 대한 연구가 활발히 수행되고 있다.Glucose is a broad nutrient source of most organisms and plays a fundamental role in energy supply, carbon storage, biosynthesis, and carbon skeleton and cell wall formation. Glucose sensor, which measures glucose concentration through potential difference or current measurement, Is being actively studied.

글루코스 센서에 대한 대부분의 연구들은 글루코스의 글루코노락톤 (gluconolactone)으로의 산화를 촉진하는 글루코스 산화효소(glucose oxidase) 또는 글루코스 탈수소효소와 같은 효소의 고정에 기반을 두고 있다.Most studies on glucose sensors are based on the fixation of enzymes such as glucose oxidase or glucose dehydrogenase, which catalyze the oxidation of glucose to gluconolactone.

한편, 이러한 글루코스 센서의 성능을 높이기 위해서는 구성요소인 전극의 비표면적을 증가시켜 글루코스에 대한 감응도를 높여야 하지만, 현재까지는 이를 위한 효율적인 구조가 제시되지 않고 있다.In order to improve the performance of the glucose sensor, the specific surface area of the electrode, which is a component, must be increased to increase the sensitivity to glucose. However, an effective structure for the glucose sensor has not been proposed so far.

또한, 종래의 글루코스 센서를 구성하는 금속 전극이 대기중에 노출되어 산화됨으로써, 글루코스 센서의 감지 성능이 저하되는 문제점이 있다.In addition, the metal electrode constituting the conventional glucose sensor is exposed to the atmosphere and oxidized, thereby deteriorating the sensing performance of the glucose sensor.

대한민국 등록특허공보 제10-1107506호(등록일자: 2012년 01월 12일, 명칭: 이산화티타늄-그래핀 복합체가 구비된 글루코스 센서)Korean Patent Registration No. 10-1107506 (registered date: January 12, 2012, name: glucose sensor equipped with titanium dioxide-graphene complex)

본 발명은 메쉬(mesh) 구조를 갖는 전극을 적용하여 전극의 비표면적(specific surface area)을 증가시킴으로써, 글루코스에 대한 감지 민감도를 현저하게 높일 수 있는 글루코스 센서 및 그 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.The present invention provides a glucose sensor capable of significantly increasing sensing sensitivity to glucose by applying an electrode having a mesh structure to increase the specific surface area of the electrode and a method of manufacturing the same. .

또한, 본 발명은 금속 전극의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 도전성 산화막을 형성하여 금속 전극의 산화를 방지함으로써, 감지 성능의 열화를 방지할 수 있는 글루코스 센서 및 그 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.The present invention also provides a glucose sensor capable of preventing deterioration of sensing performance by preventing the oxidation of a metal electrode by forming a conductive oxide film in at least one of an upper region and a lower region of the metal electrode and a method of manufacturing the same It is a technical task.

이러한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 글루코스 센서는 기판, 상기 기판 상에 형성된 기준 전극부 및 상기 기준 전극부와 이격된 상태로 상기 기판 상에 형성된 감지 전극부를 포함하는 전극부 및 상기 전극부를 포함하는 영역 상에 형성된 글루코스 반응부를 포함하고, 상기 전극부를 구성하는 기준 전극부와 감지 전극부 중에서 적어도 하나는 메쉬(mesh) 구조를 갖는다.According to an aspect of the present invention, there is provided a glucose sensor including a substrate, a reference electrode portion formed on the substrate, an electrode portion including a sensing electrode portion spaced apart from the reference electrode portion, And at least one of the reference electrode portion and the sensing electrode portion constituting the electrode portion has a mesh structure.

본 발명에 따른 글루코스 센서는 상기 전극부의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 형성된 도전성 산화막을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The glucose sensor according to the present invention may further include a conductive oxide film formed on at least one of an upper region and a lower region of the electrode unit.

본 발명에 따른 글루코스 센서에 있어서, 상기 도전성 산화막은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the glucose sensor according to the present invention, the conductive oxide film may include at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

본 발명에 따른 글루코스 센서에 있어서, 상기 감지 전극부는 Au, Ag, APC, Pt로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the glucose sensor according to the present invention, the sensing electrode unit may include at least one selected from the group consisting of Au, Ag, APC, and Pt.

본 발명에 따른 글루코스 센서에 있어서, 상기 글루코스 반응부는 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the glucose sensor according to the present invention, the glucose reaction unit may include a glucose oxidase or a glucose dehydrogenase.

본 발명에 따른 글루코스 센서는 상기 기판과 상기 전극부 사이에 형성된 분리층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The glucose sensor according to the present invention further comprises a separation layer formed between the substrate and the electrode.

본 발명에 따른 글루코스 센서는 상기 분리층과 상기 전극부 사이에 형성된 보호층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The glucose sensor according to the present invention further comprises a protective layer formed between the separation layer and the electrode.

본 발명에 따른 글루코스 센서에 있어서, 상기 기판은 플렉서블 특성을 갖는 기재 필름인 것을 특징으로 한다.In the glucose sensor according to the present invention, the substrate is characterized by being a base film having a flexible property.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법은 캐리어 기판 상에 분리층을 형성하는 분리층 형성단계, 상기 분리층 상에 기준 전극부 및 상기 기준 전극부와 이격된 감지 전극부를 포함하는 전극부를 형성하는 전극 형성단계, 상기 전극부를 포함하는 영역 상에 글루코스 반응부를 형성하는 글루코스 반응부 형성단계, 상기 캐리어 기판을 분리하여 상기 분리층을 노출시키는 캐리어기판 분리단계 및 상기 분리층에 기재 필름을 접합하는 기재필름 접합단계를 포함하고, 상기 전극 형성단계에서는, 상기 전극부를 구성하는 기준 전극부와 감지 전극부 중에서 적어도 하나를 메쉬(mesh) 구조화한다.A method of manufacturing a glucose sensor according to the present invention includes: forming a separation layer on a carrier substrate; forming an electrode portion including a reference electrode portion and a sensing electrode portion spaced apart from the reference electrode portion on the separation layer; Forming a glucose reaction part on a region including the electrode part, separating the carrier substrate to expose the separation layer, separating the carrier substrate from the substrate, separating the carrier substrate from the carrier substrate, Wherein at least one of the reference electrode portion and the sensing electrode portion constituting the electrode portion is mesh-structured.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법에 있어서, 상기 전극부는 Au, Ag, APC, Pt로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 단일층 또는 복층 구조를 갖는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a glucose sensor according to the present invention, the electrode unit may have a single layer or a multi-layer structure including at least one selected from the group consisting of Au, Ag, APC, and Pt.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법은 상기 전극부의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 도전성 산화막을 형성하는 도전성 산화막 형성단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The method for fabricating a glucose sensor according to the present invention is characterized by further comprising the step of forming a conductive oxide film on at least one of an upper region and a lower region of the electrode portion.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법에 있어서, 상기 도전성 산화막은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method for manufacturing a glucose sensor according to the present invention, the conductive oxide film may include at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법에 있어서, 상기 글루코스 반응부는 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method for manufacturing a glucose sensor according to the present invention, the glucose reaction unit may include a glucose oxidase or a glucose dehydrogenase.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법은 상기 전극 형성단계 이전에, 상기 분리층과 상기 전극부 사이에 보호층을 형성하는 보호층 형성단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The method for manufacturing a glucose sensor according to the present invention may further comprise forming a protective layer between the separation layer and the electrode before the electrode formation step.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법에 있어서, 상기 보호층은 상기 분리층의 측벽을 둘러싸도록 형성되는 것을 특징으로 한다.In the method for manufacturing a glucose sensor according to the present invention, the protective layer is formed so as to surround the side wall of the separation layer.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법은 상기 캐리어기판 분리단계 이전에, 상기 전극부에 접합제가 도포된 보호 필름을 접합하는 보호필름 접합단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The method of manufacturing a glucose sensor according to the present invention may further include a protective film bonding step of bonding a protective film coated with a bonding agent to the electrode unit before the carrier substrate separation step.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법에 있어서, 상기 접합제는 압력 감응 접합제인 것을 특징으로 한다.In the method for manufacturing a glucose sensor according to the present invention, the bonding agent is a pressure sensitive bonding agent.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법에 있어서, 상기 캐리어기판 분리단계에서는, 상기 보호 필름을 그립(grip)한 상태에서 상기 캐리어 기판에 물리력을 인가하여 상기 캐리어 기판을 분리하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a glucose sensor according to the present invention, in the step of separating the carrier substrate, physical force is applied to the carrier substrate while gripping the protective film, thereby separating the carrier substrate.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법에 있어서, 상기 보호필름 접합단계에서는, 상기 보호 필름을 롤투롤(Roll-To-Roll)을 이용한 라미네이션(Lamination) 방식으로 상기 전극부에 접합하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a glucose sensor according to the present invention, the protective film is bonded to the electrode unit by a lamination method using a roll-to-roll method.

본 발명에 따른 글루코스 센서 제조방법에 있어서, 상기 기재필름 접합단계에서는, 상기 기재 필름을 롤투롤을 이용한 라미네이션 방식으로 상기 분리층에 접합하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a glucose sensor according to the present invention, in the base film bonding step, the base film is bonded to the separation layer by a lamination method using a roll-to-roll method.

본 발명에 따르면, 메쉬(mesh) 구조를 갖는 전극을 적용하여 전극의 비표면적(specific surface area)을 증가시킴으로써, 글루코스에 대한 감지 민감도를 현저하게 높일 수 있는 글루코스 센서 및 그 제조방법이 제공되는 효과가 있다.According to the present invention, there is provided a glucose sensor capable of significantly increasing sensing sensitivity to glucose by applying an electrode having a mesh structure to increase the specific surface area of the electrode, and a method of manufacturing the same .

또한, 금속 전극의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 도전성 산화막을 형성하여 금속 전극의 산화를 방지함으로써, 감지 성능의 열화를 방지할 수 있는 글루코스 센서 및 그 제조방법이 제공되는 효과가 있다.The present invention also provides a glucose sensor capable of preventing the deterioration of sensing performance by preventing the oxidation of the metal electrode by forming a conductive oxide film in at least one of an upper region and a lower region of the metal electrode.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서의 단면도이고,
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서를 구성하는 전극부가 2 전극 구조를 갖는 경우의 예시적인 평면 형상을 나타내는 도면이고,
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서를 구성하는 전극부가 3 전극 구조를 갖는 경우의 예시적인 평면 형상을 나타내는 도면이고,
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서 제조방법의 공정 순서도이고,
도 5 내지 도 15는 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서 제조방법의 예시적인 공정 단면도들이다.
1 is a cross-sectional view of a glucose sensor according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a view showing an exemplary planar shape in a case where an electrode part constituting a glucose sensor according to an embodiment of the present invention has a two-electrode structure,
FIG. 3 is a view showing an exemplary planar shape in the case where an electrode part constituting a glucose sensor according to an embodiment of the present invention has a three-electrode structure,
FIG. 4 is a flowchart of a method of manufacturing a glucose sensor according to an embodiment of the present invention,
5 to 15 are exemplary process cross-sectional views of a method of manufacturing a glucose sensor according to an embodiment of the present invention.

본 명세서에 개시되어 있는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.It is to be understood that the specific structural or functional description of embodiments of the present invention disclosed herein is for illustrative purposes only and is not intended to limit the scope of the inventive concept But may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments set forth herein.

본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.The embodiments according to the concept of the present invention can make various changes and can take various forms, so that the embodiments are illustrated in the drawings and described in detail herein. It should be understood, however, that it is not intended to limit the embodiments according to the concepts of the present invention to the particular forms disclosed, but includes all modifications, equivalents, or alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

제1 또는 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만, 예컨대 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 벗어나지 않은 채, 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고 유사하게 제2구성 요소는 제1구성 요소로도 명명될 수 있다.The terms first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The terms may be named for the purpose of distinguishing one element from another, for example, without departing from the scope of the right according to the concept of the present invention, the first element may be referred to as a second element, The component may also be referred to as a first component.

어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that no other element exists in between. Other expressions that describe the relationship between components, such as "between" and "between" or "neighboring to" and "directly adjacent to" should be interpreted as well.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there are features, numbers, steps, operations, elements, parts or combinations thereof described herein, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 나타낸다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the meaning of the context in the relevant art and, unless explicitly defined herein, are to be interpreted as ideal or overly formal Do not.

이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서의 단면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서를 구성하는 전극부가 2 전극 구조를 갖는 경우의 예시적인 평면 형상을 나타내는 도면이고, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서를 구성하는 전극부가 3 전극 구조를 갖는 경우의 예시적인 평면 형상을 나타내는 도면이다.FIG. 1 is a cross-sectional view of a glucose sensor according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view showing an exemplary planar shape in the case where an electrode portion constituting a glucose sensor according to an embodiment of the present invention has a two- And FIG. 3 is a view showing an exemplary planar shape in the case where the electrode portion constituting the glucose sensor according to an embodiment of the present invention has a three-electrode structure.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서는 기판(90), 분리층(20), 보호층(30), 전극부(40), 도전성 산화막(52, 54), 글루코스 반응부(60) 및 보호 필름(80)을 포함한다.1 to 3, a glucose sensor according to an embodiment of the present invention includes a substrate 90, a separation layer 20, a protection layer 30, an electrode unit 40, conductive oxide films 52 and 54, A glucose reaction unit 60, and a protective film 80.

기판(90)은 글루코스 센서를 구성하는 구성요소들의 구조적인 기지(base)를 제공하는 기능을 한다.The substrate 90 serves to provide a structural base of the components that make up the glucose sensor.

예를 들어, 기판(90)은 플렉서블 특성을 갖는 기재 필름(90)일 수 있으며, 구체적인 예로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 또는 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 수지; 염화비닐계 수지; 나일론, 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 수지; 이미드계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 술폰계 수지; 폴리에테르에테르케톤계 수지; 황화 폴리페닐렌계 수지; 비닐알코올계 수지; 염화비닐리덴계 수지; 비닐부티랄계 수지; 알릴레이트계 수지; 폴리옥시메틸렌계 수지; 에폭시계 수지 등과 같은 열가소성 수지로 구성된 필름을 들 수 있으며, 상기 열가소성 수지의 블렌드물로 구성된 필름도 사용할 수 있다. 또한, (메타)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지로 된 필름을 이용할 수도 있다. 이와 같은 투명 광학 필름의 두께는 적절히 결정될 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박층성 등을 고려하여, 1 ∼ 500㎛로 결정될 수 있다. 특히 1 ∼ 300㎛가 바람직하고, 5 ∼ 200㎛가 보다 바람직하다.For example, the substrate 90 may be a base film 90 having a flexible property, and specific examples thereof include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene naphthalate and polybutylene terephthalate; Cellulose-based resins such as diacetylcellulose and triacetylcellulose; Polycarbonate resin; Acrylic resins such as polymethyl (meth) acrylate and polyethyl (meth) acrylate; Styrene resins such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymer; Polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, cyclo- or norbornene-structured polyolefins, ethylene-propylene copolymers; Vinyl chloride resin; Amide resins such as nylon and aromatic polyamide; Imide resin; Polyether sulfone type resin; Sulfone based resin; Polyether ether ketone resin; A sulfided polyphenylene resin; Vinyl alcohol-based resin; Vinylidene chloride resins; Vinyl butyral resin; Allylate series resin; Polyoxymethylene type resin; Epoxy resin, and the like, and a film composed of the blend of the thermoplastic resin may also be used. Further, a film made of a thermosetting resin such as (meth) acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone or a film made of an ultraviolet curable resin may be used. The thickness of such a transparent optical film can be suitably determined, but in general, it can be determined to be 1 to 500 占 퐉 in consideration of workability such as strength and handling property, thin layer property, and the like. Particularly preferably 1 to 300 mu m, and more preferably 5 to 200 mu m.

이러한 기재 필름(90)은 적절한 1종 이상의 첨가제가 함유된 것일 수도 있다. 첨가제로는, 예컨대 자외선흡수제, 산화방지제, 윤활제, 가소제, 이형제, 착색방지제, 난연제, 핵제, 대전방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다. 기재 필름(90)은 필름의 일면 또는 양면에 하드코팅층, 반사방지층, 가스배리어층과 같은 다양한 기능성층을 포함하는 구조일 수 있으며, 기능성층은 전술한 것으로 한정되는 것은 아니며, 용도에 따라 다양한 기능성층을 포함할 수 있다.Such a base film 90 may contain one or more suitable additives. Examples of the additive include an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, a plasticizer, a release agent, a coloring inhibitor, a flame retardant, a nucleating agent, an antistatic agent, a pigment and a colorant. The base film 90 may be a structure including various functional layers such as a hard coating layer, an antireflection layer, and a gas barrier layer on one side or both sides of the film. The functional layer is not limited to the above, Layer.

또한, 필요에 따라 기재 필름(90)은 표면 처리된 것일 수 있다. 이러한 표면 처리로는 플라즈마(plasma) 처리, 코로나(corona) 처리, 프라이머(primer) 처리 등의 건식 처리, 검화 처리를 포함하는 알칼리 처리 등의 화학 처리 등을 들 수 있다.Further, if necessary, the base film 90 may be surface-treated. Examples of the surface treatment include a chemical treatment such as a plasma treatment, a corona treatment, a dry treatment such as a primer treatment, and an alkali treatment including a saponification treatment.

분리층(20)은 기판(90) 상에 형성되어 있으며, 글루코스 센서를 제조하는 과정에서, 캐리어 기판(10)에 형성한 전극부(40)를 포함하는 구성요소들을 캐리어 기판(10)으로부터 박리하기 위해 형성되는 층이다. 분리층(20)은 상부에 형성되는 전극부(40)를 감싸서 피복하고 이를 절연시키는 기능을 아울러 수행할 수 있다.The separating layer 20 is formed on the substrate 90. In the course of manufacturing the glucose sensor, the constituent elements including the electrode portion 40 formed on the carrier substrate 10 are peeled off from the carrier substrate 10 Layer. The separation layer 20 may cover the electrode portion 40 formed on the upper portion and may function to insulate the electrode portion 40 from the upper portion.

예를 들어, 일정 수준의 박리력을 제공하는 조건을 충족시키면 분리층(20)의 소재는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 분리층(20)은 폴리이미드(polyimide)계 고분자, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol)계 고분자, 폴리아믹산(polyamic acid)계 고분자, 폴리아미드(polyamide)계 고분자, 폴리에틸렌(polyethylene)계 고분자, 폴리스타일렌(polystylene)계 고분자, 폴리노보넨(polynorbornene)계 고분자, 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer)계 고분자, 폴리아조벤젠(polyazobenzene)계 고분자, 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide)계 고분자, 폴리에스테르(polyester)계 고분자, 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate)계 고분자, 폴리아릴레이트(polyarylate)계 고분자, 신나메이트(cinnamate)계 고분자, 쿠마린(coumarin)계 고분자, 프탈리미딘(phthalimidine)계 고분자, 칼콘(chalcone)계 고분자, 방향족 아세틸렌계(aromatic acetylene) 고분자 물질로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 물질을 포함할 수 있다.For example, the material of the separation layer 20 is not particularly limited as long as the condition of providing a certain level of peeling force is satisfied. For example, the separation layer 20 may be formed of a polyimide-based polymer, a poly vinyl alcohol-based polymer, a polyamic acid-based polymer, a polyamide-based polymer, a polyethylene- Based polymer, a polystyrene-based polymer, a polynorbornene-based polymer, a phenylmaleimide copolymer-based polymer, a polyazobenzene-based polymer, a polyphenylenephthalamide-based polymer, Based polymer, a polymethyl methacrylate-based polymer, a polyarylate-based polymer, a cinnamate-based polymer, a coumarin-based polymer, a phthalimidine-based polymer, ) Based polymer, a chalcone-based polymer, and an aromatic acetylene polymer material, .

분리층(20)의 박리력은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 0.001 내지 1N/25mm일 수 있으며, 바람직하게는 0.005 내지 0.2N/25mm일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 글루코스 센서의 제조공정에서, 캐리어 기판(10)으로부터 잔여물 없이 용이하게 박리될 수 있으며, 박리시 발생하는 장력에 의한 컬(curl) 및 크랙을 저감할 수 있다.The peeling force of the separation layer 20 is not particularly limited, but may be, for example, 0.001 to 1 N / 25 mm, and preferably 0.005 to 0.2 N / 25 mm. When the above range is satisfied, it is possible to easily peel off the residue from the carrier substrate 10 in the manufacturing process of the glucose sensor, and curl and crack due to the tensile force generated at peeling can be reduced.

분리층(20)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 10 내지 1,000nm일 수 있으며, 바람직하게는 50 내지 500nm일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 박리력이 안정되고, 균일한 패턴을 형성할 수 있다.The thickness of the separation layer 20 is not particularly limited, but may be, for example, 10 to 1,000 nm, preferably 50 to 500 nm. When the above range is satisfied, the peeling force is stabilized and a uniform pattern can be formed.

보호층(30)은 분리층(20) 상에 형성되어 있으며, 분리층(20)과 함께 전극부(40)를 피복하여 보호하며, 전극부(40)를 형성하는 제조 과정에서 분리층(20)이 전극부(40) 형성을 위한 에천트(etchant)에 노출되지 않도록 하는 기능을 수행한다. 보호층(30)은 필요에 따라 생략될 수 있는 선택적인 구성요소이다.The protective layer 30 is formed on the separation layer 20 and covers and protects the electrode part 40 together with the separation layer 20. In the manufacturing process of forming the electrode part 40, Is not exposed to an etchant for forming the electrode unit 40. [ The protective layer 30 is an optional component that can be omitted if necessary.

예를 들어, 보호층(30)은 분리층(20)의 측면의 적어도 일부 영역을 덮도록 형성될 수 있다. 분리층(20)의 측면은 분리층(20)의 가장자리 측벽이다. 이와 같이 구성하면, 글루코스 센서를 구성하는 전극부(40)에 대한 패터닝 등의 공정 중에 분리층(20)의 측면이 에천트 등에 노출되는 것을 최소화할 수 있다. 분리층(20)의 측면 노출을 완전히 차단한다는 측면에서, 보호층(30)이 분리층(20)의 측면 전부를 덮도록 구성하는 것이 바람직하다.For example, the protective layer 30 may be formed to cover at least a part of the side surface of the separation layer 20. The side surface of the separation layer 20 is the side wall of the separation layer 20. With this configuration, it is possible to minimize the exposure of the side surface of the separation layer 20 to the etchant or the like during the process such as patterning of the electrode section 40 constituting the glucose sensor. It is preferable that the protective layer 30 covers all the side surfaces of the separation layer 20 in terms of completely shielding the side surface of the separation layer 20 from being exposed.

보호층(30)의 소재로는 당 기술분야에 공지된 고분자가 제한없이 사용될 수 있으며, 예를 들면 유기 절연막이 적용될 수 있으며, 그 중에서도 폴리올(polyol) 및 멜라민(melamine) 경화제를 포함하는 경화성 조성물로 형성된 것일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. As the material of the protective layer 30, a polymer known in the art can be used without limitation, for example, an organic insulating film can be applied, and in particular, a curable composition including a polyol and a melamine curing agent But the present invention is not limited thereto.

폴리올의 구체적인 종류로는 폴리에테르 글리콜(polyether glycol) 유도체, 폴리에스테르 글리콜(polyester glycol) 유도체, 폴리카프로락톤 글리콜(polycaprolactone glycol) 유도체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of polyols include, but are not limited to, polyether glycol derivatives, polyester glycol derivatives, and polycaprolactone glycol derivatives.

멜라민 경화제의 구체적인 종류로는 메톡시 메틸 멜라민(methoxy methyl melamine) 유도체, 메틸 멜라민(methyl melamine) 유도체, 부틸 멜라민(butyl melamine) 유도체, 이소부톡시 멜라민(isobutoxy melamine) 유도체 및 부톡시 멜라민(butoxy melamine) 유도체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the melamine curing agent include methoxy methyl melamine derivatives, methyl melamine derivatives, butyl melamine derivatives, isobutoxy melamine derivatives and butoxy melamine derivatives, Derivatives, and the like, but the present invention is not limited thereto.

다른 예로, 보호층(30)은 유무기 하이브리드 경화성 조성물로 형성될 수 있으며, 유기 화합물과 무기 화합물을 동시에 사용하는 경우, 박리시 발생하는 크랙(crack)을 저감할 수 있다는 점에서 바람직하다.As another example, the protective layer 30 can be formed of an organic-inorganic hybrid curable composition, and when an organic compound and an inorganic compound are used at the same time, it is preferable from the viewpoint of reducing a crack generated during peeling.

유기 화합물로는 전술한 성분이 사용될 수 있고, 무기물로는 실리카계 나노 입자, 실리콘계 나노 입자, 유리 나노 섬유 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.As the organic compound, the above-described components can be used. Examples of the inorganic substance include silica-based nanoparticles, silicon-based nanoparticles, glass nanofibers, and the like, but are not limited thereto.

전극부(40)는 기판(90) 상에 형성된 기준 전극부(42, 47) 및 기준 전극부(42, 47)와 이격된 상태로 기판(90) 상에 형성된 감지 전극부(44, 46, 48, 49)를 포함하며, 전극부(40)를 구성하는 기준 전극부(42, 47)와 감지 전극부(44, 46, 48, 49) 중에서 적어도 하나는 메쉬(mesh) 구조를 갖도록 구성된다.The electrode unit 40 includes the sensing electrode units 44, 46, and 46 formed on the substrate 90 in a state spaced apart from the reference electrode units 42 and 47 and the reference electrode units 42 and 47 formed on the substrate 90, 48 and 49 and at least one of the reference electrode portions 42 and 47 and the sensing electrode portions 44, 46, 48 and 49 constituting the electrode portion 40 is configured to have a mesh structure .

보다 구체적으로, 기판(90)에는 분리층(20), 보호층(30)이 순차적으로 형성되고, 전극부(40)를 구성하는 기준 전극부(42, 47)와 감지 전극부(44, 46, 48, 49)는 보호층(30)에 형성될 수 있다.More specifically, the separation layer 20 and the protection layer 30 are sequentially formed on the substrate 90 and the reference electrode portions 42 and 47 and the sensing electrode portions 44 and 46 , 48, and 49 may be formed in the protective layer 30.

기준 전극부(42, 47)와 감지 전극부(44, 46, 48, 49)는 후술하는 글루코스 반응부(60)를 구성하는 물질과 측정 대상 물질에 포함되어 있는 글루코스의 반응에 의해 발생된 전기적 신호를 감지한다. 예를 들어, 측정 대상 물질은 인체로부터 생성된 땀, 체액 등일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.The reference electrode portions 42 and 47 and the sensing electrode portions 44, 46, 48 and 49 are electrically connected to the electrodes of the glucose reacting portion 60, which will be described later, Signal. For example, the substance to be measured may be, but is not limited to, sweat, body fluids, etc. generated from the human body.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 전극부(40)를 구성하는 기준 전극부(42, 47)와 감지 전극부(44, 46, 48, 49) 중에서 적어도 하나는 메쉬(mesh) 구조를 갖기 때문에, 비표면적(specific surface area)이 크게 증가하며, 이에 따라 글루코스에 대한 감지 민감도가 크게 높아진다.According to an embodiment of the present invention, at least one of the reference electrode portions 42 and 47 and the sensing electrode portions 44, 46, 48 and 49 constituting the electrode portion 40 has a mesh structure , The specific surface area is greatly increased, and thus the sensitivity to glucose is greatly increased.

예를 들어, 감지 전극부(44, 46, 48, 49)는 Au, Ag, APC, Pt로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하도록 구성될 수 있다.For example, the sensing electrode portions 44, 46, 48, and 49 may be configured to include at least one selected from the group consisting of Au, Ag, APC, and Pt.

도전성 산화막(52, 54)은 전극부(40)의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 형성되어 있으며, 대기 중에서의 전극부(40)의 산화를 방지한다.The conductive oxide films 52 and 54 are formed in at least one of an upper region and a lower region of the electrode unit 40 to prevent oxidation of the electrode unit 40 in the atmosphere.

보다 구체적으로, 전극부(40)의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 도전성 산화막(52, 54)을 형성하면, 전극부(40)가 대기와 직접 접촉하는 것을 방지하여 전극부(40)를 구성하는 금속 성분의 산화를 방지할 수 있기 때문에, 감지 데이터 즉, 전극부(40)에 의해 감지되는 전기적 신호의 신뢰성이 높아진다.More specifically, if the conductive oxide films 52 and 54 are formed on at least one of the upper and lower regions of the electrode unit 40, the electrode unit 40 is prevented from being in direct contact with the atmosphere, The reliability of the sensing data, that is, the electrical signal sensed by the electrode unit 40, is enhanced.

예를 들어, 도전성 산화막(52, 54)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.For example, the conductive oxide films 52 and 54 may include at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

글루코스 반응부(60)는 전극부(40)를 포함하는 영역 상에 형성되어 있으며, 측정 대상 물질에 포함되어 있는 글루코스와 반응하는 구성요소이다.The glucose reaction unit 60 is formed on a region including the electrode unit 40 and is a component that reacts with glucose contained in the measurement target substance.

예를 들어, 글루코스 반응부(60)는 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소를 포함할 수 있다.For example, the glucose reaction unit 60 may include a glucose oxidase or a glucose dehydrogenase.

글루코스 반응부(60)에서의 반응 및 전극부(40)의 신호 감지 원리를 예시적으로 설명하면 다음과 같다.The reaction in the glucose reaction unit 60 and the signal detection principle of the electrode unit 40 will be exemplified as follows.

측정 대상 물질인 시료를 글루코스 센서에 주입하면, 시료에 포함되어 있는 글루코스가 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소에 의하여 산화되고, 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소는 환원된다. 이때, 전자전달매개체는 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소를 산화시키고, 자신은 환원된다. 환원된 전자전달매개체는 일정 전압이 가해진 전극 표면에서 전자를 잃고 전기화학적으로 다시 산화된다. 시료 내의 글루코스 농도는 전자전달매개체가 산화되는 과정에서 발생되는 전류량에 비례하므로, 이 전류량을 측정함으로써 글루코스 농도를 측정할 수 있다.When a sample to be measured is injected into a glucose sensor, the glucose contained in the sample is oxidized by a glucose oxidase or a glucose dehydrogenase, and a glucose oxidase or a glucose dehydrogenase is reduced. At this time, the electron transfer mediator oxidizes glucose oxidase or glucose dehydrogenase and itself is reduced. The reduced electron transfer mediator loses electrons at the surface of the electrode to which a constant voltage is applied and is electrochemically reoxidized. The glucose concentration in the sample is proportional to the amount of current generated in the course of the oxidation of the electron transport mediator. Thus, the glucose concentration can be measured by measuring this amount of current.

보호 필름(80)은 접합제(70)를 매개로 전극부(40) 또는 글루코스 반응부(60)에 접합되어 있다. 이러한 보호 필름(80)은 필요에 따라 적용되거나 배제될 수 있는 선택적인 구성요소이다.The protective film 80 is bonded to the electrode portion 40 or the glucose reaction portion 60 via the bonding agent 70. The protective film 80 is an optional component that can be applied or excluded as needed.

도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서 제조방법의 공정 순서도이고, 도 5 내지 도 15는 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서 제조방법의 예시적인 공정 단면도들이다.FIG. 4 is a process flow chart of a method of manufacturing a glucose sensor according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 5 to 15 are exemplary process sectional views of a method of manufacturing a glucose sensor according to an embodiment of the present invention.

도 4 내지 도 15를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 글루코스 센서 제조방법은 분리층 형성단계(S10), 보호층 형성단계(S20), 전극 형성단계(S30), 도전성 산화막 형성단계(S40), 글루코스 반응부 형성단계(S50), 보호필름 접합단계(S60), 캐리어기판 분리단계(S70) 및 기재필름 접합단계(S80)를 포함한다.4 to 15, a method of manufacturing a glucose sensor according to an embodiment of the present invention includes forming a separation layer S10, a protective layer forming step S20, an electrode forming step S30, a conductive oxide film forming step (S50), a protective film bonding step (S60), a carrier substrate separation step (S70), and a base film bonding step (S80).

도 5를 참조하면, 분리층 형성단계(S10)에서는, 캐리어 기판(10) 상에 분리층(20)을 형성하는 과정이 수행된다.Referring to FIG. 5, in the separation layer forming step (S10), a process of forming the separation layer 20 on the carrier substrate 10 is performed.

예를 들어, 캐리어 기판(10)으로는 공정 중에 쉽게 휘거나 뒤틀리지 않고 고정될 수 있도록 적정 강도를 제공하며 열이나 화학 처리에 영향이 거의 없는 재료라면 특별한 제한이 없이 사용될 수 있다. 예를 들면 유리, 석영, 실리콘 웨이퍼, 서스(SUS) 등이 사용될 수 있다.For example, the carrier substrate 10 may be used without any particular limitation if it is a material that provides adequate strength to be fixed without being bent or twisted during the process, and has little effect on heat or chemical treatment. For example, glass, quartz, silicon wafer, stainless steel (SUS), or the like can be used.

분리층(20)은 후술하는 공정을 통해 캐리어 기판(10)에 형성한 전극부(40)를 포함하는 구성요소들을 캐리어 기판(10)으로부터 박리하기 위해 형성되는 층이다. 분리층(20)은 상부에 형성되는 전극부(40)를 감싸서 피복하고 이를 절연시키는 기능을 아울러 수행할 수 있다.The separation layer 20 is a layer formed for separating the components including the electrode portion 40 formed on the carrier substrate 10 from the carrier substrate 10 through the process described below. The separation layer 20 may cover the electrode portion 40 formed on the upper portion and may function to insulate the electrode portion 40 from the upper portion.

예를 들어, 일정 수준의 박리력을 제공하는 조건을 충족시키면 분리층(20)의 소재는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 분리층(20)은 폴리이미드(polyimide)계 고분자, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol)계 고분자, 폴리아믹산(polyamic acid)계 고분자, 폴리아미드(polyamide)계 고분자, 폴리에틸렌(polyethylene)계 고분자, 폴리스타일렌(polystylene)계 고분자, 폴리노보넨(polynorbornene)계 고분자, 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer)계 고분자, 폴리아조벤젠(polyazobenzene)계 고분자, 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide)계 고분자, 폴리에스테르(polyester)계 고분자, 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate)계 고분자, 폴리아릴레이트(polyarylate)계 고분자, 신나메이트(cinnamate)계 고분자, 쿠마린(coumarin)계 고분자, 프탈리미딘(phthalimidine)계 고분자, 칼콘(chalcone)계 고분자, 방향족 아세틸렌계(aromatic acetylene) 고분자 물질로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 물질을 포함할 수 있다.For example, the material of the separation layer 20 is not particularly limited as long as the condition of providing a certain level of peeling force is satisfied. For example, the separation layer 20 may be formed of a polyimide-based polymer, a poly vinyl alcohol-based polymer, a polyamic acid-based polymer, a polyamide-based polymer, a polyethylene- Based polymer, a polystyrene-based polymer, a polynorbornene-based polymer, a phenylmaleimide copolymer-based polymer, a polyazobenzene-based polymer, a polyphenylenephthalamide-based polymer, Based polymer, a polymethyl methacrylate-based polymer, a polyarylate-based polymer, a cinnamate-based polymer, a coumarin-based polymer, a phthalimidine-based polymer, ) Based polymer, a chalcone-based polymer, and an aromatic acetylene polymer material, .

분리층(20)의 박리력은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 0.001 내지 1N/25mm일 수 있으며, 바람직하게는 0.005 내지 0.2N/25mm일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 글루코스 센서의 제조공정에서, 캐리어 기판(10)으로부터 잔여물 없이 용이하게 박리될 수 있으며, 박리시 발생하는 장력에 의한 컬(curl) 및 크랙을 저감할 수 있다.The peeling force of the separation layer 20 is not particularly limited, but may be, for example, 0.001 to 1 N / 25 mm, and preferably 0.005 to 0.2 N / 25 mm. When the above range is satisfied, it is possible to easily peel off the residue from the carrier substrate 10 in the manufacturing process of the glucose sensor, and curl and crack due to the tensile force generated at peeling can be reduced.

분리층(20)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, 10 내지 1,000nm일 수 있으며, 바람직하게는 50 내지 500nm일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 박리력이 안정되고, 균일한 패턴을 형성할 수 있다.The thickness of the separation layer 20 is not particularly limited, but may be, for example, 10 to 1,000 nm, preferably 50 to 500 nm. When the above range is satisfied, the peeling force is stabilized and a uniform pattern can be formed.

도 6을 참조하면, 보호층 형성단계(S20)에서는, 분리층(20) 상에 보호층(30)을 형성하는 과정이 수행된다.Referring to FIG. 6, in the protective layer forming step S20, a process of forming the protective layer 30 on the isolation layer 20 is performed.

보호층(30)은 분리층(20)과 함께 전극부(40)를 피복하여 보호하며, 전극부(40)를 형성하는 제조 과정에서 분리층(20)이 전극부(40) 형성을 위한 에천트(etchant)에 노출되지 않도록 하는 기능을 수행한다. 보호층(30)은 필요에 따라 생략될 수 있는 선택적인 구성요소이다.The protective layer 30 covers and protects the electrode portion 40 together with the separation layer 20 and the separating layer 20 is formed on the electrode layer 40 for forming the electrode portion 40 in the process of forming the electrode portion 40. [ So that it is not exposed to the etchant. The protective layer 30 is an optional component that can be omitted if necessary.

예를 들어, 보호층(30)은 분리층(20)의 측면의 적어도 일부 영역을 덮도록 형성될 수 있다. 분리층(20)의 측면은 분리층(20)의 가장자리 측벽이다. 이와 같이 구성하면, 글루코스 센서를 구성하는 전극부(40)에 대한 패터닝 등의 공정 중에 분리층(20)의 측면이 에천트 등에 노출되는 것을 최소화할 수 있다. 분리층(20)의 측면 노출을 완전히 차단한다는 측면에서, 보호층(30)이 분리층(20)의 측면 전부를 덮도록 구성하는 것이 바람직하다.For example, the protective layer 30 may be formed to cover at least a part of the side surface of the separation layer 20. The side surface of the separation layer 20 is the side wall of the separation layer 20. With this configuration, it is possible to minimize the exposure of the side surface of the separation layer 20 to the etchant or the like during the process such as patterning of the electrode section 40 constituting the glucose sensor. It is preferable that the protective layer 30 covers all the side surfaces of the separation layer 20 in terms of completely shielding the side surface of the separation layer 20 from being exposed.

보호층(30)의 소재로는 당 기술분야에 공지된 고분자가 제한없이 사용될 수 있으며, 예를 들면 유기 절연막이 적용될 수 있으며, 그 중에서도 폴리올(polyol) 및 멜라민(melamine) 경화제를 포함하는 경화성 조성물로 형성된 것일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. As the material of the protective layer 30, a polymer known in the art can be used without limitation, for example, an organic insulating film can be applied, and in particular, a curable composition including a polyol and a melamine curing agent But the present invention is not limited thereto.

폴리올의 구체적인 종류로는 폴리에테르 글리콜(polyether glycol) 유도체, 폴리에스테르 글리콜(polyester glycol) 유도체, 폴리카프로락톤 글리콜(polycaprolactone glycol) 유도체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of polyols include, but are not limited to, polyether glycol derivatives, polyester glycol derivatives, and polycaprolactone glycol derivatives.

멜라민 경화제의 구체적인 종류로는 메톡시 메틸 멜라민(methoxy methyl melamine) 유도체, 메틸 멜라민(methyl melamine) 유도체, 부틸 멜라민(butyl melamine) 유도체, 이소부톡시 멜라민(isobutoxy melamine) 유도체 및 부톡시 멜라민(butoxy melamine) 유도체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the melamine curing agent include methoxy methyl melamine derivatives, methyl melamine derivatives, butyl melamine derivatives, isobutoxy melamine derivatives and butoxy melamine derivatives, Derivatives, and the like, but the present invention is not limited thereto.

다른 예로, 보호층(30)은 유무기 하이브리드 경화성 조성물로 형성될 수 있으며, 유기 화합물과 무기 화합물을 동시에 사용하는 경우, 박리시 발생하는 크랙(crack)을 저감할 수 있다는 점에서 바람직하다.As another example, the protective layer 30 can be formed of an organic-inorganic hybrid curable composition, and when an organic compound and an inorganic compound are used at the same time, it is preferable from the viewpoint of reducing a crack generated during peeling.

유기 화합물로는 전술한 성분이 사용될 수 있고, 무기물로는 실리카계 나노 입자, 실리콘계 나노 입자, 유리 나노 섬유 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.As the organic compound, the above-described components can be used. Examples of the inorganic substance include silica-based nanoparticles, silicon-based nanoparticles, glass nanofibers, and the like, but are not limited thereto.

도 7 내지 도 10을 참조하면, 전극 형성단계(S30)에서는, 보호층(30) 상에 기준 전극부(42, 47) 및 이 기준 전극부(42, 47)와 이격된 감지 전극부(44, 46, 48, 49)를 포함하는 전극부(40)를 형성하는 과정이 수행된다. 전극 형성단계(S30)에서는, 전극부(40)를 구성하는 기준 전극부(42, 47)와 감지 전극부(44, 46, 48, 49) 중에서 적어도 하나를 메쉬(mesh) 구조화하도록 구성된다. 또한, 도전성 산화막 형성단계(S40)에서는, 전극부(40)의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 도전성 산화막(52, 54)을 형성하는 과정이 수행된다.7 to 10, in the electrode forming step S30, reference electrode portions 42 and 47 and sensing electrode portions 44 and 47 spaced apart from the reference electrode portions 42 and 47 are formed on the protection layer 30, , 46, 48, and 49 are formed on the surface of the electrode part 40. At least one of the reference electrode portions 42 and 47 and the sensing electrode portions 44, 46, 48, and 49 constituting the electrode portion 40 is formed in a mesh structure in the electrode formation step S30. In the conductive oxide film forming step S40, a process of forming the conductive oxide films 52 and 54 in at least one of the upper region and the lower region of the electrode unit 40 is performed.

도 7 내지 도 10에 개시된 예에 따르면, 보호층(30) 상에 하부 도전성 산화막(52)을 형성하고, 하부 도전성 산화막(52) 상에 메쉬 구조의 전극부(40)를 형성하고, 메쉬 구조의 전극부(40) 상에 상부 도전성 산화막(54)을 형성하는 3층 구조가 예시되어 있지만, 전극과 산화막 형성 방식이 이에 한정되지는 않는다. 예를 들어, 산화막이 전극부(40)의 하부 영역 즉, 보호층(30) 상에만 형성되거나, 전극부(40)의 상부 영역 즉, 전극부(40) 상에만 형성되는 2층 구조가 적용 가능하다.7 to 10, a lower conductive oxide film 52 is formed on the protection layer 30, an electrode portion 40 having a mesh structure is formed on the lower conductive oxide film 52, Layer structure in which the upper conductive oxide film 54 is formed on the electrode portion 40 of the substrate 40. However, the method of forming the electrode and the oxide film is not limited thereto. For example, a two-layer structure in which the oxide film is formed only on the lower region of the electrode portion 40, that is, on the protective layer 30, or only on the upper region of the electrode portion 40, that is, It is possible.

전극부(40)의 예시적인 평면 형상을 나타내는 도 2를 추가적으로 참조하면, 전극부(40)를 구성하는 기준 전극부(42, 47)와 감지 전극부(44, 46, 48, 49)는 후술하는 글루코스 반응부(60)를 구성하는 물질과 측정 대상 물질에 포함되어 있는 글루코스의 반응에 의해 발생된 전기적 신호를 감지한다. 예를 들어, 측정 대상 물질은 인체로부터 생성된 땀, 체액 등일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.2, which shows an exemplary planar shape of the electrode portion 40, the reference electrode portions 42 and 47 and the sensing electrode portions 44, 46, 48, and 49, which constitute the electrode portion 40, And an electric signal generated by the reaction of glucose contained in the substance to be measured and the substance constituting the glucose reaction unit 60. For example, the substance to be measured may be, but is not limited to, sweat, body fluids, etc. generated from the human body.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 전극부(40)를 구성하는 기준 전극부(42, 47)와 감지 전극부(44, 46, 48, 49) 중에서 적어도 하나는 메쉬(mesh) 구조를 갖기 때문에, 비표면적(specific surface area)이 크게 증가하며, 이에 따라 글루코스에 대한 감지 민감도가 크게 높아진다.According to an embodiment of the present invention, at least one of the reference electrode portions 42 and 47 and the sensing electrode portions 44, 46, 48 and 49 constituting the electrode portion 40 has a mesh structure , The specific surface area is greatly increased, and thus the sensitivity to glucose is greatly increased.

예를 들어, 감지 전극부(44, 46, 48, 49)는 Au, Ag, APC, Pt로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하도록 구성될 수 있다.For example, the sensing electrode portions 44, 46, 48, and 49 may be configured to include at least one selected from the group consisting of Au, Ag, APC, and Pt.

도전성 산화막(52, 54)은 전극부(40)의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 형성되어 있으며, 대기 중에서의 전극부(40)의 산화를 방지한다.The conductive oxide films 52 and 54 are formed in at least one of an upper region and a lower region of the electrode unit 40 to prevent oxidation of the electrode unit 40 in the atmosphere.

보다 구체적으로, 전극부(40)의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 도전성 산화막(52, 54)을 형성하면, 전극부(40)가 대기와 직접 접촉하는 것을 방지하여 전극부(40)를 구성하는 금속 성분의 산화를 방지할 수 있기 때문에, 감지 데이터 즉, 전극부(40)에 의해 감지되는 전기적 신호의 신뢰성이 높아진다.More specifically, if the conductive oxide films 52 and 54 are formed on at least one of the upper and lower regions of the electrode unit 40, the electrode unit 40 is prevented from being in direct contact with the atmosphere, The reliability of the sensing data, that is, the electrical signal sensed by the electrode unit 40, is enhanced.

예를 들어, 도전성 산화막(52, 54)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.For example, the conductive oxide films 52 and 54 may include at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

도 11을 참조하면, 글루코스 반응부 형성단계(S50)에서는, 전극부(40)를 포함하는 영역 상에 글루코스 반응부(60)를 형성하는 과정이 수행된다.Referring to FIG. 11, in the glucose reaction part forming step (S50), a process of forming a glucose reaction part 60 on a region including the electrode part 40 is performed.

글루코스 반응부(60)는 측정 대상 물질에 포함되어 있는 글루코스와 반응하는 구성요소이다.The glucose reaction unit 60 is a component that reacts with glucose contained in the measurement target substance.

예를 들어, 글루코스 반응부(60)는 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소를 포함할 수 있다.For example, the glucose reaction unit 60 may include a glucose oxidase or a glucose dehydrogenase.

글루코스 반응부(60)에서의 반응 및 전극부(40)의 신호 감지 원리를 예시적으로 설명하면 다음과 같다.The reaction in the glucose reaction unit 60 and the signal detection principle of the electrode unit 40 will be exemplified as follows.

측정 대상 물질인 시료를 글루코스 센서에 주입하면, 시료에 포함되어 있는 글루코스가 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소에 의하여 산화되고, 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소는 환원된다. 이때, 전자전달매개체는 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소를 산화시키고, 자신은 환원된다. 환원된 전자전달매개체는 일정 전압이 가해진 전극 표면에서 전자를 잃고 전기화학적으로 다시 산화된다. 시료 내의 글루코스 농도는 전자전달매개체가 산화되는 과정에서 발생되는 전류량에 비례하므로, 이 전류량을 측정함으로써 글루코스 농도를 측정할 수 있다.When a sample to be measured is injected into a glucose sensor, the glucose contained in the sample is oxidized by a glucose oxidase or a glucose dehydrogenase, and a glucose oxidase or a glucose dehydrogenase is reduced. At this time, the electron transfer mediator oxidizes glucose oxidase or glucose dehydrogenase and itself is reduced. The reduced electron transfer mediator loses electrons at the surface of the electrode to which a constant voltage is applied and is electrochemically reoxidized. The glucose concentration in the sample is proportional to the amount of current generated in the course of the oxidation of the electron transport mediator. Thus, the glucose concentration can be measured by measuring this amount of current.

도 12를 참조하면, 보호필름 접합단계(S60)에서는, 접합제(70)가 도포된 보호 필름(80)을 전극부(40)에 접합하는 과정이 수행된다.12, in the protective film bonding step S60, a process of bonding the protective film 80 applied with the bonding agent 70 to the electrode unit 40 is performed.

예를 들어, 보호 필름(80)은 롤투롤(Roll-To-Roll)을 이용한 라미네이션(Lamination) 방식으로 전극부(40)에 접합될 수 있다.For example, the protective film 80 may be bonded to the electrode portion 40 by a lamination method using a roll-to-roll method.

또한, 예를 들어, 접합제(70)는 인가되는 압력에 반응하는 압력 감응 접합제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.Also, for example, the bonding agent 70 may be, but is not limited to, a pressure sensitive adhesive (PSA) responsive to the applied pressure.

도 13을 참조하면, 글루코스 센서를 제품 단위로 커팅(cutting)하는 과정이 수행된다.Referring to FIG. 13, a process of cutting a glucose sensor into product units is performed.

도 14를 참조하면, 캐리어기판 분리단계(S70)에서는, 캐리어 기판(10)을 분리하여 분리층(20)을 노출시키는 과정이 수행된다.Referring to FIG. 14, in the carrier substrate separation step (S70), a process of separating the carrier substrate 10 and exposing the separation layer 20 is performed.

예를 들어, 캐리어기판 분리단계(S70)에서는, 디라미네이션(Delamination)을 위한 기구물이 보호 필름(80)을 그립(grip)한 상태에서 물리력을 통해 캐리어 기판(10)을 분리층(20)으로부터 박리하여 분리하도록 구성될 수 있다.For example, in the carrier substrate separation step (S70), a mechanism for delamination removes the carrier substrate 10 from the separation layer 20 through the physical force in a state gripping the protection film 80 Peeled and separated.

도 15를 참조하면, 기재필름 접합단계(S80)에서는, 분리층(20)에 기재 필름(90)을 접합하는 과정이 수행된다.Referring to FIG. 15, in the base film bonding step S80, a process of bonding the base film 90 to the separation layer 20 is performed.

예를 들어, 기재 필름(90)은 롤투롤을 이용한 라미네이션 방식으로 분리층(20)에 접합될 수 있다.For example, the base film 90 may be bonded to the separation layer 20 in a lamination manner using a roll-to-roll method.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 메쉬(mesh) 구조를 갖는 전극을 적용하여 전극의 비표면적(specific surface area)을 증가시킴으로써, 글루코스에 대한 감지 민감도를 현저하게 높일 수 있는 글루코스 센서 및 그 제조방법이 제공되는 효과가 있다.As described in detail above, according to the present invention, a glucose sensor capable of significantly increasing sensing sensitivity to glucose by applying an electrode having a mesh structure to increase the specific surface area of the electrode, and There is an effect that a manufacturing method is provided.

또한, 금속 전극의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 도전성 산화막을 형성하여 금속 전극의 산화를 방지함으로써, 감지 성능의 열화를 방지할 수 있는 글루코스 센서 및 그 제조방법이 제공되는 효과가 있다.The present invention also provides a glucose sensor capable of preventing the deterioration of sensing performance by preventing the oxidation of the metal electrode by forming a conductive oxide film in at least one of an upper region and a lower region of the metal electrode.

10: 캐리어 기판
20: 분리층
30: 보호층
40: 전극부
42, 47: 기준 전극부
44, 46, 48, 49: 감지 전극부
52, 54: 도전성 산화막
60: 글루코스 반응부
70: 접합제
80: 보호 필름
90: 기판, 기재 필름
S10: 분리층 형성단계
S20: 보호층 형성단계
S30: 전극 형성단계
S40: 도전성 산화막 형성단계
S50: 글루코스 반응부 형성단계
S60: 보호필름 접합단계
S70: 캐리어기판 분리단계
S80: 기재필름 접합단계
10: carrier substrate
20: Separation layer
30: Protective layer
40:
42, 47: Reference electrode part
44, 46, 48, 49:
52, 54: conductive oxide film
60: glucose reaction unit
70: Bonding agent
80: protective film
90: substrate, substrate film
S10: Separation layer formation step
S20: Step of forming protective layer
S30: Electrode formation step
S40: conductive oxide film forming step
S50: Glucose reaction part formation step
S60: Protection film bonding step
S70: Carrier substrate separation step
S80: Substrate film bonding step

Claims (20)

기판;
상기 기판 상에 형성된 기준 전극부 및 상기 기준 전극부와 이격된 상태로 상기 기판 상에 형성된 감지 전극부를 포함하는 전극부; 및
상기 전극부를 포함하는 영역 상에 형성된 글루코스 반응부를 포함하고,
상기 전극부를 구성하는 기준 전극부와 감지 전극부 중에서 적어도 하나는 메쉬(mesh) 구조를 갖는, 글루코스 센서.
Board;
An electrode unit including a reference electrode unit formed on the substrate and a sensing electrode unit formed on the substrate while being spaced apart from the reference electrode unit; And
And a glucose reaction part formed on a region including the electrode part,
Wherein at least one of the reference electrode portion and the sensing electrode portion constituting the electrode portion has a mesh structure.
제1항에 있어서,
상기 전극부의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 형성된 도전성 산화막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서.
The method according to claim 1,
And a conductive oxide film formed on at least one of an upper region and a lower region of the electrode portion.
제2항에 있어서,
상기 도전성 산화막은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서.
3. The method of claim 2,
Wherein the conductive oxide film comprises at least one selected from the group consisting of ITO (Indium Tin Oxide) and IZO (Indium Zinc Oxide).
제1항에 있어서,
상기 감지 전극부는 Au, Ag, APC, Pt로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서.
The method according to claim 1,
Wherein the sensing electrode unit includes at least one selected from the group consisting of Au, Ag, APC, and Pt.
제1항에 있어서,
상기 글루코스 반응부는 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소를 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서.
The method according to claim 1,
Wherein the glucose reaction unit comprises a glucose oxidase or a glucose dehydrogenase.
제1항에 있어서,
상기 기판과 상기 전극부 사이에 형성된 분리층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서.
The method according to claim 1,
And a separating layer formed between the substrate and the electrode portion.
제6항에 있어서,
상기 분리층과 상기 전극부 사이에 형성된 보호층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서.
The method according to claim 6,
And a protective layer formed between the separation layer and the electrode.
제1항에 있어서,
상기 기판은 플렉서블 특성을 갖는 기재 필름인 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서.
The method according to claim 1,
Wherein the substrate is a substrate film having flexible characteristics.
캐리어 기판 상에 분리층을 형성하는 분리층 형성단계;
상기 분리층 상에 기준 전극부 및 상기 기준 전극부와 이격된 감지 전극부를 포함하는 전극부를 형성하는 전극 형성단계;
상기 전극부를 포함하는 영역 상에 글루코스 반응부를 형성하는 글루코스 반응부 형성단계;
상기 캐리어 기판을 분리하여 상기 분리층을 노출시키는 캐리어기판 분리단계; 및
상기 분리층에 기재 필름을 접합하는 기재필름 접합단계를 포함하고,
상기 전극 형성단계에서는,
상기 전극부를 구성하는 기준 전극부와 감지 전극부 중에서 적어도 하나를 메쉬(mesh) 구조화하는, 글루코스 센서 제조방법.
A separation layer forming step of forming a separation layer on the carrier substrate;
Forming an electrode portion including a reference electrode portion on the separation layer and a sensing electrode portion spaced apart from the reference electrode portion;
A glucose reaction part forming step of forming a glucose reaction part on a region including the electrode part;
Separating the carrier substrate to expose the separation layer; And
And a base film bonding step of bonding a base film to the separation layer,
In the electrode forming step,
Wherein at least one of the reference electrode portion and the sensing electrode portion constituting the electrode portion is mesh-structured.
제9항에 있어서,
상기 전극부는 Au, Ag, APC, Pt로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 단일층 또는 복층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
10. The method of claim 9,
Wherein the electrode unit has a single layer or a multi-layer structure including at least one selected from the group consisting of Au, Ag, APC, and Pt.
제9항에 있어서,
상기 전극부의 상부 영역과 하부 영역 중에서 적어도 한 영역에 도전성 산화막을 형성하는 도전성 산화막 형성단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
10. The method of claim 9,
And forming a conductive oxide film on at least one of an upper region and a lower region of the electrode unit.
제11항에 있어서,
상기 도전성 산화막은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the conductive oxide film comprises at least one selected from the group consisting of ITO (Indium Tin Oxide) and IZO (Indium Zinc Oxide).
제9항에 있어서,
상기 글루코스 반응부는 글루코스 산화효소 또는 글루코스 탈수소효소를 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
10. The method of claim 9,
Wherein the glucose reaction unit comprises a glucose oxidase or a glucose dehydrogenase.
제9항에 있어서,
상기 전극 형성단계 이전에,
상기 분리층과 상기 전극부 사이에 보호층을 형성하는 보호층 형성단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
10. The method of claim 9,
Before the electrode forming step,
And forming a protective layer between the separation layer and the electrode portion.
제14항에 있어서,
상기 보호층은 상기 분리층의 측벽을 둘러싸도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the protective layer is formed to surround the sidewall of the separation layer.
제9항에 있어서,
상기 캐리어기판 분리단계 이전에,
상기 전극부에 접합제가 도포된 보호 필름을 접합하는 보호필름 접합단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
10. The method of claim 9,
Before the carrier substrate separation step,
And a protective film bonding step of bonding a protective film coated with a bonding agent to the electrode portion.
제16항에 있어서,
상기 접합제는 압력 감응 접합제인 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
17. The method of claim 16,
Wherein the bonding agent is a pressure sensitive bonding agent.
제16항에 있어서,
상기 캐리어기판 분리단계에서는,
상기 보호 필름을 그립(grip)한 상태에서 상기 캐리어 기판에 물리력을 인가하여 상기 캐리어 기판을 분리하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
17. The method of claim 16,
In the carrier substrate separation step,
And applying a physical force to the carrier substrate while gripping the protective film to separate the carrier substrate.
제16항에 있어서,
상기 보호필름 접합단계에서는,
상기 보호 필름을 롤투롤(Roll-To-Roll)을 이용한 라미네이션(Lamination) 방식으로 상기 전극부에 접합하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
17. The method of claim 16,
In the protective film bonding step,
Wherein the protective film is bonded to the electrode part by a lamination method using a roll-to-roll method.
제9항에 있어서,
상기 기재필름 접합단계에서는,
상기 기재 필름을 롤투롤을 이용한 라미네이션 방식으로 상기 분리층에 접합하는 것을 특징으로 하는, 글루코스 센서 제조방법.
10. The method of claim 9,
In the base film bonding step,
Wherein the base film is bonded to the separation layer by a lamination method using a roll-to-roll method.
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