KR20180088966A - Process for surface treatment of magnesium - Google Patents

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KR20180088966A
KR20180088966A KR1020170013267A KR20170013267A KR20180088966A KR 20180088966 A KR20180088966 A KR 20180088966A KR 1020170013267 A KR1020170013267 A KR 1020170013267A KR 20170013267 A KR20170013267 A KR 20170013267A KR 20180088966 A KR20180088966 A KR 20180088966A
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magnesium
magnesium material
anodic oxidation
acid
oxide film
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KR1020170013267A
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이상우
윤민욱
이재철
변성주
우새롬
김재민
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금오공과대학교 산학협력단
변성주
김재민
우새롬
윤민욱
이재철
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

The present invention relates to a surface treatment method of forming an oxide film on magnesium or magnesium alloy. The surface treatment method of the present invention comprises following steps of: preparing a magnesium material; mechanically polishing the surface of the magnesium material to remove a native oxide or contaminant from the surface of the magnesium material; immersing the magnesium material in acetone and applying ultrasonic waves to the magnesium material; acid treating the magnesium material with citric acid, sulfuric acid or oxalic acid at room temperature; forming the oxide film on the surface of the magnesium material by anodizing; and hydrating and sealing the surface of the magnesium material having the oxide film formed thereon.

Description

마그네슘의 표면 처리 방법{PROCESS FOR SURFACE TREATMENT OF MAGNESIUM}{PROCESS FOR SURFACE TREATMENT OF MAGNESIUM}

본 발명은 마그네슘 또는 마그네슘 합금의 표면 처리 방법에 관한 것으로, 구체적으로는 마그네슘 또는 마그네슘 합금의 표면에 양극 산화에 의해 산화 피막을 형성하는 방법에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a method for forming an oxide film on the surface of magnesium or magnesium alloy by anodic oxidation.

마그네슘 또는 마그네슘 합금은 밀도가 알루미늄합금의 2/3정도인 1.8g/cm 정도로서 상용 구조용 합금 중에서 최소의 밀도를 가짐과 동시에 우수한 비강도 및 비탄성 계수를 갖추고 있으며 주조성이나 절삭가공성, 치수 안정성 등이 우수하다. 또한 진동, 충격에 대한 흡수성이 탁월하고 전기 및 열전도도, 가공성 및 고온에서의 피로, 충격 특성 등이 우수하고 각종 전기 기기 부품 등에서 발생하는 전자파를 효율적으로 차폐할 수 있는 전자파 차폐 특성을 갖는다. The magnesium or magnesium alloy has a density of 1.8 g / cm, which is about two-thirds of that of the aluminum alloy. The magnesium or magnesium alloy has the lowest density among the commercial structural alloys and has excellent nodal strength and inelasticity coefficient. great. Also, it is excellent in absorbability against vibration and impact, has excellent electric and thermal conductivity, workability, fatigue at high temperature, impact property, and has an electromagnetic wave shielding property that can efficiently shield electromagnetic waves generated in various electric device parts.

이하, 이 명세서 전반에서 마그네슘과 마그네슘 합금을 통칭하여 마그네슘이라 칭하며, 마그네슘은 마그네슘 합금을 포함하는 것으로서 정의한다.Hereinafter, throughout this specification, magnesium and a magnesium alloy are collectively referred to as magnesium, and magnesium is defined as including a magnesium alloy.

이러한 마그네슘는 최근 컴퓨터, 휴대전화, 자동차 부품, 정밀 전자기기 부품 및 가전제품 등 경량화 제품에 광범위하게 적용되고 있다. Such magnesium has recently been widely applied to lightweight products such as computers, mobile phones, automobile parts, precision electronic device parts, and home appliances.

그러나 마그네슘은 표준전극전위가 2.37 V로 매우 낮은 활성 금속이기 때문에 산성에서 약알칼리성 영역에 걸쳐 쉽게 산화되며 표준전극전위가 높은 다른 금속과 접촉하면 부식되는 등 내식성이 약하고, 경도가 낮기 때문에 내마모성이 약한 것이 결점이다. However, since magnesium is an active metal having a very low standard electrode potential of 2.37 V, it is easily oxidized from an acidic to a weakly alkaline region. When magnesium is contacted with another metal having a high standard electrode potential, magnesium is weak in corrosion resistance and low in hardness, It is a drawback.

이러한 이유 때문에 마그네슘은 많은 장점을 갖고 있음에도 불구하고 단일 소재로서의 실용화가 크게 제한 받고 있다. 따라서 마그네슘을 상용화 소재로서 실용화하기 위해서는 제품의 표면을 화학적, 전기화학적 혹은 물리적으로 처리하여 부식 저항성을 높이는 내식성을 개선하는 표면처리가 요구된다.For these reasons, although magnesium has many advantages, practical use of magnesium as a single material is severely limited. Therefore, in order to commercialize magnesium as a commercialization material, it is required to treat the surface of the product chemically, electrochemically, or physically to improve the corrosion resistance by improving the corrosion resistance.

마그네슘의 표면처리는 크게 화학적 방법, 전기화학적 방법 그리고 물리적 방법으로 나눌 수 있다. The surface treatment of magnesium can be roughly divided into chemical method, electrochemical method and physical method.

화학적 방법으로는 마그네슘 제품을 화학 약품에 침지시키고 이때 표면에서 일어나는 화학반응에 의하여 내식성이 있는 표면 피막을 형성 시켜주는 화성처리 (chemical conversion) 법이 있다. The chemical method is a chemical conversion method in which a magnesium product is immersed in a chemical and the surface of the surface is chemically reacted to form a corrosion-resistant surface film.

전기화학적 방법으로는 용액 중에서 전기를 가하여 표면에 내식성이 있는 산화피막을 형성시켜주는 양극산화법(anodizing) 과 표면에 내식성이 있는 금속피막을 입혀 주는 도금법이 있다.Electrochemical methods include anodizing, which forms an oxide film with corrosion on the surface by applying electricity in a solution, and a plating method of applying a corrosion-resistant metal film on the surface.

물리적 표면처리 방법으로는 표면에 보호성 고분자 층을 입혀 주는 도장법이 있다.As a physical surface treatment method, there is a coating method for applying a protective polymer layer on the surface.

이러한 방법들 중에서 화학적, 전기화학적 방법에 해당하는 화성처리법, 양극산화법 및 도금법이 가장 발전된 마그네슘의 표면처리법으로 알려져 있으며, 처리방법이나 원리적 측면에 있어서 고도의 기술과 지식을 필요로 하는 분야로서 현재 많은 연구들이 활발하게 진행되고 있다.Among these methods, the chemical treatment method, the anodic oxidation method and the plating method corresponding to the chemical and electrochemical methods have been known as the most advanced surface treatment methods of magnesium, and as a field requiring a high level of skill and knowledge in the treatment method and the principle aspect, Many studies have been actively conducted.

양극 산화법이란 표면 처리하고자 하는 금속 소재를 전해액에서 양극으로 하고 전기화학적 방법에 의해 그 금속 산화물의 피막을 생성하는 방법을 말한다. 양극산화의 가장 대표적인 소재는 알루미늄이고 그 외 Mg, Zn, Ti, Hf, Nb의 금속 소재 상에도 양극 산화 리를 할 수 있으며, 최근에는 마그네슘과 티타늄 소재상의 양극 산화 처리도 점차 그 용도가 늘어 가고 있다. The anodic oxidation method refers to a method in which a metallic material to be surface-treated is made into an anode in an electrolytic solution and a coating film of the metal oxide is produced by an electrochemical method. The anodic oxidation is the most typical material of the anodic oxidation, and anodic oxidation can be performed on metal materials such as Mg, Zn, Ti, Hf and Nb. In recent years, the anodic oxidation treatment of magnesium and titanium materials is also increasingly used have.

양극산화를 통해 얻어지는 피막은 대단히 단단하고, 내식성이 크며 극히 작은 유공성, 섬유상이 되어 원하는 색으로 착색을 할 수 있어, 내식. 내마모성의 실용성과 미관상의 처리로 쓰인다.The film obtained through the anodic oxidation is extremely hard, has a high corrosion resistance, becomes extremely porosity and fibrous, and can be colored with a desired color. It is used for the practicality of abrasion resistance and cosmetic treatment.

여러 종류의 전해액을 이용한 양극산화 공정에서 피막의 구조는 달라진다. 양극산화 반응에 의한 anode와 cathode에서의 반응은 다음과 같다.The structure of the film is different in the anodic oxidation process using various electrolytes. The reactions at anode and cathode by anodic oxidation are as follows.

Figure pat00001
Figure pat00001

마그네슘을 양극산화하기 위해서는 양극 전류를 가해 아주 낮은 전압에서 마그네슘 수산화물이 미세한 막을 형성하고 약 10V의 전압이 걸리면 마그네슘 산화층이 형성된다. 산화층이 형성되면 저항이 증가되어 마그네슘 산화층에 내부 응력이 집중되고 약 70V 전압에서 산화층이 파괴되며, 다시 전압을 올려주면 제2의 다공성 산화층이 형성된다. 마그네슘의 양극 산화는 알루미늄의 양극 산화에 비해 더 높은 전압이 필요하다. To anodize magnesium, an anodic current is applied to form a minute film of magnesium hydroxide at a very low voltage, and when a voltage of about 10 V is applied, a magnesium oxide layer is formed. When the oxide layer is formed, resistance is increased, internal stress is concentrated on the magnesium oxide layer, the oxide layer is destroyed at a voltage of about 70 V, and a second porous oxide layer is formed when the voltage is raised again. The anodic oxidation of magnesium requires higher voltage than the anodic oxidation of aluminum.

이러한 양극 산화에 의해 마그네슘 표면에 산화 피막을 형성하면, 내식성이 향상되고, 양극 산화 피막의 광택성에 의해 마그네슘 제품의 외관이 개선되며, 마그네슘의 단점이 약한 내마모성이 향상된다. 또한, 단단히 밀착되는 양극 산화 피막은 모든 페인트 시스템에서 화학적으로 활성표면을 제공하여 도장성을 향상시킨다. 또한, 양극 산화 피막에 유기염료를 피막의 기공 속에 흡착시켜 다양한 색상으로 착색할 수 있으므로, 도장성이 향상된다. When an anodized film is formed on the magnesium surface by the anodic oxidation, the corrosion resistance is improved, the appearance of the magnesium product is improved by the gloss of the anodized film, and the wear resistance of the magnesium is weak. In addition, tightly anodized coatings provide a chemically active surface in all paint systems to improve paintability. In addition, since the organic dye can be adsorbed in the pores of the coating film in the anodic oxide coating, coloring can be performed in various colors, so that the paintability is improved.

그러나, 표면 처리 전의 마그네슘 소재는 기계 가공이나 주조, 소성 가공 등의 공정에서 발생한 각종 오염물이나 고온 산화물 및 대기 중에서 자연적으로 형성된 표면산화피막이 존재한다. 이러한 오염물 등은 양극 산화에 의한 유용한 산화 피막의 형성을 저해하므로 표면 처리 전에 이들을 제거할 필요가 있다.However, before the surface treatment, the magnesium material has various contaminants, high-temperature oxides, and naturally formed surface oxide films formed in processes such as machining, casting, and plastic working. These contaminants impair the formation of a useful oxide film by anodic oxidation and therefore need to be removed prior to surface treatment.

문헌 1: 특허공보 제10-1440555호Document 1: Patent Publication No. 10-1440555 문헌 2: 공개특허공보 제10-2011-0100848호Document 2: Published Patent Application No. 10-2011-0100848

본 발명은 부식성이 큰 마그네슘의 내부식성을 높이기 위한 표면 처리 방법을 제공하려는 것이다.The present invention provides a surface treatment method for enhancing the corrosion resistance of magnesium having high corrosion resistance.

특히, 본 발명은 마그네슘의 내부식성을 높이는 하나의 방법으로서 양극 산화 처리에 수반되어 표면의 각종 오염물이나 산화 피막의 형성을 저해하는 요인을 제거하기 위한 전 처리 방법을 제공하려는 것이다.Particularly, the present invention aims to provide a pretreatment method for eliminating factors that inhibit the formation of various contaminants or oxide films on the surface accompanied by anodizing treatment as one method of enhancing corrosion resistance of magnesium.

본 발명의 발명자들은 전술한 과제의 해결을 위하여 다양한 실험과 연구를 하는 과정에서 마그네슘의 양극 산화에 의한 산화 피막의 형성 전에 다양한 전처리를 행함으로써 마그네슘의 양극 산화에 의해 양질의 산화 피막을 얻을 수 있다는 결론에 도달하였다. 그러한 전처리는 기계적 연마와 산 처리를 수반하는 것이다.The inventors of the present invention have conducted various experiments and researches to solve the above-mentioned problems, so that it is possible to obtain a good quality oxide film by anodic oxidation of magnesium by performing various pretreatments before formation of an oxide film by anodic oxidation of magnesium The conclusion is reached. Such pretreatment involves mechanical polishing and acid treatment.

본 발명에 따른 마그네슘에 산화 피막을 형성하는 표면 처리 방법은, 마그네슘 소재를 준비하는 단계; 마그네슘 소재의 표면을 기계 연마하여 자연산화막 또는 오염물을 마그세슘 소재의 표면으로부터 제거하는 단계; 마그네슘 소재를 아세톤에 침지하고 초음파를 인가하여 세척하는 단계; 마그네슘 소재를 상온에서 구연산, 황산 또는 옥살산으로 산 처리하는 단계; 마그네슘 소재의 표면에 양극 산화 처리에 의해 산화 피막을 형성하는 단계; 및 산화 피막이 형성된 마그네슘 소재의 표면을 수화봉공 처리하는 단계를 포함한다.A surface treating method for forming an oxide film on magnesium according to the present invention comprises the steps of: preparing a magnesium material; Mechanically polishing the surface of the magnesium material to remove the native oxide or contaminant from the surface of the magnesium material; Immersing the magnesium material in acetone and washing by applying ultrasonic waves; Treating the magnesium material with citric acid, sulfuric acid or oxalic acid at room temperature; Forming an oxide film on the surface of the magnesium material by an anodic oxidation treatment; And hydrating and sealing the surface of the magnesium material having the oxide film formed thereon.

본 발명에 따른 마그네슘의 표면 처리 방법에서 마그네슘 표면을 기계 연마하고 구연산으로 산처리한 후에 양극 산화에 의해 산화 피막을 형성함으로써, 우수한 품질의 산화 피막이 형성된다.In the magnesium surface treatment method according to the present invention, an oxide film of excellent quality is formed by mechanically polishing the magnesium surface and acid-treating it with citric acid and then forming an oxide film by anodic oxidation.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따라 처리한 마그네슘 합금의 표면 상태를 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따라 처리한 마그네슘 합금 시편에 대한 X선회절 분석의 그래프이다.
1 is a view showing a surface state of a magnesium alloy processed according to an embodiment of the present invention.
2 is a graph of X-ray diffraction analysis of a magnesium alloy specimen processed according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용으로서, 본 발명에서 제시하는 표면 처리 방법 및 이에 대조되는 비교예의 표면 처리 방법에 따라 마그네슘 시편에 대한 산화 피막을 형성하는 과정 및 그에 따라 형성된 마그네슘의 산화 피막에 대한 테스트 결과를 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. A method of forming an oxide film on a magnesium specimen according to a surface treatment method of the present invention and a surface treatment method of a comparative example The test results for the oxide film of magnesium will be described.

마그네슘 시편의 준비Preparation of Magnesium Specimens

마그네슘 시편은 다음의 조성을 갖는 AZ31B 합금으로서, 두께 1mm 을 갖는 판재를 70mm x 40mm 의 크기로 절단하여 사용하였으며 40mm x 40mm의 면적을 노출시켜 산 처리 유무에 따라 양극산화를 실시하였다. 음극으로서는 STS304 시편을 역시 70mm x 40mm 의 크기로 절단하여 사용하였다. The magnesium specimen was an AZ31B alloy with the following composition: a plate with a thickness of 1 mm was cut into a size of 70 mm x 40 mm, exposed to an area of 40 mm x 40 mm, and subjected to anodic oxidation with or without acid treatment. For the cathode, the STS304 specimen was also cut into a size of 70 mm x 40 mm.

알루미늄(Al): 2.5 - 3.5 중량%Aluminum (Al): 2.5 - 3.5 wt%

구리(Cu) : 0.05 중량% 이하Copper (Cu): not more than 0.05% by weight

철(Fe): 0.005 중량% 이하Iron (Fe): 0.005 wt% or less

마그네슘(Mg): BalanceMagnesium (Mg): Balance

망간(Mn): 0.2 중량% 이상Manganese (Mn): not less than 0.2% by weight

니켈(Ni): 0.005 중량% 이하Nickel (Ni): 0.005 wt% or less

실리콘(Si): 0.1 중량% 이하Silicon (Si): 0.1% by weight or less

아연(Zn): 0.6 - 1.4 중량%Zinc (Zn): 0.6 - 1.4 wt%

마그네슘 합금 중에서 AZ91 계열의 합금은 양극 산화에 대한 많은 연구가 이루어지고 있으나, AZ31 계열의 합금은 높은 연신율을 보여서 각종 부품의 소재로서 적합한 것이지만 상대적으로 양극 산화에 대한 연구가 덜 이루어지고 있는 합금이다.Among the magnesium alloys, AZ91 series alloys have been extensively studied for anodic oxidation, but alloys of AZ31 series are suitable as materials for various parts due to their high elongation, but are relatively less studied for anodic oxidation.

양극 산화 처리Anodic oxidation treatment

마그네슘 시편은 #1000, 2000의 SiC 연마지로 표면을 연마하여 소재 표면의 산화막 및 오염물을 물리적으로 제거 하였다. 이어서, 연마된 마그네슘 시편을 아세톤에 침지하여 표면에서 자연 산화가 발생하는 것을 방지하도록 조치한 상태에서 1분간 초음파 세척을 진행하였다. Magnesium specimens were polished with # 1000, 2000 SiC abrasive paper to physically remove oxide films and contaminants from the surface of the material. Then, the polished magnesium specimen was immersed in acetone so as to prevent natural oxidation on the surface, and ultrasonic washing was conducted for 1 minute.

세척에는 산 처리, 양극산화 및 실링을 순차로 진행하였다. 각 공정 사이에서는 앞선 공정에서 마그네슘 표면에 잔류 용액을 제거하기 위해 역삼투된 순수한 물로 10초간 세척하였다.For the cleaning, acid treatment, anodic oxidation and sealing were carried out sequentially. Between each step, the previous step was rinsed with reverse osmosis pure water for 10 seconds to remove residual solution on the magnesium surface.

Anodizing 후 실링은 100℃ 증류수에 10분간 침지시켜 Sealing하였으며 실링을 마친 후 자연 건조를 통하여 건조시켰다.After anodizing, the sealing was immersed in distilled water at 100 ° C for 10 minutes, and after sealing, it was dried through natural drying.

산 처리 및 양극 산화공정에서 사용된 약품의 농도 및 처리 조건은 표 1에 표시하였다.Concentrations and treatment conditions of the chemicals used in the acid treatment and the anodizing process are shown in Table 1.

공정fair 조성Furtherance 농도.
(g/L)
density.
(g / L)
온도
(℃)
Temperature
(° C)
침지 시간(분)Immersion time (min)
산 세척Pickling oxalic acid dehydrate, 99.5% (비교예 1)oxalic acid dehydrate, 99.5% (Comparative Example 1) 1010 2525 6060 citric acid Monohydrate, 99.5% (본 실시예)citric acid Monohydrate, 99.5% (this example) Sulfuric acid, 98.0% (비교예 2)Sulfuric acid, 98.0% (Comparative Example 2) 양극 산화Anodic oxidation Potassium hydroxide Flake, 93.0%, Potassium hydroxide Flake, 93.0%, 5050 2525 900900 실링shilling D.I water 0.2μm filterD.I water 0.2 μm filter 100100 600600

양극 산화는 다음의 표 2와 같이 조건을 달리 하여 복수 회 수행하였다.The anodic oxidation was performed a plurality of times with different conditions as shown in Table 2 below.

실험 차수Experimental order 공정fair 비고Remarks 1차Primary 양극산화 KOH전해액, 25℃, 20min , 60V
시편-(산세 x 구연산 옥살산 황산),(1T의 두께에 40mm X 40mm)
(구연산 : 2g/200mL , 옥살산 : 2g/200mL , 황산 : 2g/200mL)
Anodic oxidation KOH electrolyte, 25 DEG C, 20 min, 60 V
Specimen - (pickling x oxalic acid sulfuric acid citrate), (40 mm x 40 mm to 1T thickness)
(Citric acid: 2 g / 200 mL, oxalic acid: 2 g / 200 mL, sulfuric acid: 2 g / 200 mL)
육안으로 확인시 불균일
멀티미터로 확인시 Anodizing 처리는 확인
Irregularity when visually confirmed
Anodizing process confirms with multimeter
2차Secondary 양극산화 KOH전해액, 25℃, 30min , 60V
시편-(산세 x 구연산 옥살산 황산), (1T의 두께에 40mm X 40mm)
(구연산 : 2g/200mL , 옥살산 : 2g/200mL , 황산 : 2g/200mL)
Anodic oxidation KOH electrolyte, 25 DEG C, 30 min, 60 V
Specimen - (pickling x oxalic acid sulfuric acid citrate), (40 mm x 40 mm to 1T thickness)
(Citric acid: 2 g / 200 mL, oxalic acid: 2 g / 200 mL, sulfuric acid: 2 g / 200 mL)
육안으로 확인시 불균일Irregularity when visually confirmed
3차Third 양극산화 KOH전해액, 25℃, 30min , 10V
시편-(산세 x 구연산 옥살산 황산), (1T의 두께에 40mm X 40mm)
(구연산 : 2g/200mL , 옥살산 : 2g/200mL , 황산 : 2g/200mL)
Anodic oxidation KOH electrolyte, 25 DEG C, 30 min, 10 V
Specimen - (pickling x oxalic acid sulfuric acid citrate), (40 mm x 40 mm to 1T thickness)
(Citric acid: 2 g / 200 mL, oxalic acid: 2 g / 200 mL, sulfuric acid: 2 g / 200 mL)
저전압은 매우 얇은 산화층만 생김.
재료연구소에서 Anodizing 시 120V에서 시편 용융
Low voltage results in very thin oxide layers.
Melting of Specimen at 120V when Anodizing in Materials Laboratory
4차Fourth 양극산화 KOH전해액, 25℃, 15min , 120V
시편-(산세 x 구연산 옥살산 황산), (1T의 두께에 40mm X 40mm)
(구연산 : 2g/200mL , 옥살산 : 2g/200mL , 황산 : 2g/200mL)
Anodic oxidized KOH electrolyte, 25 DEG C, 15 min, 120 V
Specimen - (pickling x oxalic acid sulfuric acid citrate), (40 mm x 40 mm to 1T thickness)
(Citric acid: 2 g / 200 mL, oxalic acid: 2 g / 200 mL, sulfuric acid: 2 g / 200 mL)
파워서플라이 협조하여
교내에서 120V로 실시.
아크 발생으로 100V로 변환
By cooperating with power supply
120V in the school.
Convert to 100V with arc generation
5차5th 양극산화 KOH전해액, 25℃, 15min , 100V
시편-(산세 x 구연산 옥살산 황산), (1T의 두께에 40mm X 40mm)
(구연산 : 2g/200mL , 옥살산 : 2g/200mL , 황산 : 2g/200mL)
Anodic oxidation KOH electrolyte, 25 DEG C, 15 min, 100 V
Specimen - (pickling x oxalic acid sulfuric acid citrate), (40 mm x 40 mm to 1T thickness)
(Citric acid: 2 g / 200 mL, oxalic acid: 2 g / 200 mL, sulfuric acid: 2 g / 200 mL)
육안으로 불 균일은 없으나 앞면 뒷면이 서로 다름There is no unevenness in the naked eye, but the front and back sides are different.
6치Six 양극산화 KOH전해액, 25℃, 15min , 100V
시편-(산세 x 구연산 옥살산 황산), (1T의 두께에 10mm X 40mm)
(구연산 : 2g/200mL , 옥살산 : 2g/200mL , 황산 : 2g/200mL)
Anodic oxidation KOH electrolyte, 25 DEG C, 15 min, 100 V
Specimen - (pickling x oxalic acid sulfuric acid citrate), (10mm X 40mm in thickness of 1T)
(Citric acid: 2 g / 200 mL, oxalic acid: 2 g / 200 mL, sulfuric acid: 2 g / 200 mL)
시편의 크기를 바꾸어 실시-육안으로 같은 것을 확인Change the size of the specimen - Check the same thing with the naked eye
7차Seventh 양극산화 KOH전해액, 25℃, 30min , 100V
시편-(산세 x 구연산 옥살산 황산), (1T의 두께에 10mm X 40mm)
(구연산 : 2g/200mL , 옥살산 : 2g/200mL , 황산 : 2g/200mL)
Anodic oxidized KOH electrolyte, 25 DEG C, 30 min, 100 V
Specimen - (pickling x oxalic acid sulfuric acid citrate), (10mm X 40mm in thickness of 1T)
(Citric acid: 2 g / 200 mL, oxalic acid: 2 g / 200 mL, sulfuric acid: 2 g / 200 mL)
Anodizing 피막은 Island성장기구
시간을 늘려서 실험
Anodizing film is an island growth mechanism
Experiment by increasing the time
8차8th car 7차와 동일한 조건으로 Coloring 실시Carrying out coloring under the same condition as 7th 비등수에 의한 Coloring 확인Check coloring by boiling water

마그네슘 합금 AZ31B를 산 처리 유무에 따라 나눈 후 Anodizing을 실시하였으며 표면에 대한 분석은 Scanning Electron Microscopy (SEM; JSM- 6500F, JEOL, Japan) 및 X-ray diffraction (XRD; Siemens D-5005,)를 사용하여 화성피막의 형태를 X1000배율에서 관찰하였으며, 피막의 결정 구조는 분당 2°의 속도로 측정 및 분석하였다. 피막의 두께는 도막측정기(CM-8826FN)를 사용하여 비자성 코팅막을 와전류를 이용하여 측정하였다. Anodizing was performed after dividing the magnesium alloy AZ31B according to the acid treatment. The surface was analyzed by Scanning Electron Microscopy (SEM; JSM-6500F, JEOL, Japan) and X-ray diffraction (XRD; Siemens D-5005) The morphology of the film was observed at X1000 magnification and the crystal structure was measured and analyzed at a rate of 2 ° per minute. The thickness of the film was measured by using an eddy current using a film thickness meter (CM-8826FN).

양극 산화 공정을 거친 AZ31B의 산화 피막에 대한 전기화학적 분석은 25℃의 3.5 wt% NaCl 수용액에 16cm2 노출하여 침지 실험을 진행하였다. 24시간 단위로 3일간 무게변화율을 이용하여 분석을 실시하였다. 또한 부동태 피막의 저항을 측정하기 위해 Impedance/gain-phase Analyzer (SI1260, SCHLUMBERGER Solartron)을 이용하여 주파수범위를 1 KHz에서 1000 KHz 사이에서 행하였으며 10mV 값으로 전류를 인가하여 측정하였다. 마지막으로 Anodizing 피막의 생성유무를 검증하고자 마이크로 비커스 시험기를 이용하여 경도 실험을 하였다. The electrochemical analysis of the oxide film of AZ31B which had been subjected to the anodic oxidation process was carried out by immersing it in an aqueous solution of 3.5 wt% NaCl at 25 ° C for 16 cm 2 . The analysis was carried out using the weight change rate for 3 days in 24 hour unit. In order to measure the resistance of the passive film, the frequency range was measured from 1 KHz to 1000 KHz using Impedance / gain-phase analyzer (SI1260, SCHLUMBERGER Solartron) and the current was applied at 10 mV. Finally, the hardness test was conducted using a micro Vickers tester to verify the formation of anodizing film.

AZ31B합금과 Anodizing을 실시한 AZ31B 합금의 저항을 측정하여 Anodizing의 성공 여부를 판단하였다.The resistance of AZ31B alloy and AZ31B alloy subjected to anodizing were measured to determine the success of anodizing.

Anodizing을 실시한 시편에서는 저항값이 매우 높아 0.00Ω으로 측정 되었으며, 대조군에서는 0.029Ω을 나타내었다. 멀티미터를 이용하여 Anodizing의 성공을 확인하였다. 후에 정확한 저항을 측정하기 위하여 4 Point Probe로 측정하였으며, AZ31B 대조군의 저항은 측정이 되었으나 Anodizing 처리 된 시편의 경우 KΩ까지 측정되는 4 Point Probe로 측정이 불가하였다. Coloring의 경우 Red color로 실시하였으며 양극산화 후에 바로 실시하였으며, 염료를 25g/L 의 비율로 수용액을 만들어 침지하였다. 처음에는 25℃의 D.I Water에 염료를 풀어 실시하였으나 색이 빠지고 깨끗하지 못한 형상을 만들었으며 후에 100℃의 비등수에 염료를 풀어 실험을 실시하여 성공하였다.In anodized specimens, the resistance value was very high, 0.00 Ω, and 0.029 Ω in the control group. We confirmed the success of anodizing using a multimeter. The resistivity of AZ31B control was measured, but it was impossible to measure with 4 point probe measured up to KΩ for anodizing treated specimen. Coloring was carried out in red color and immediately after the anodic oxidation, the dye was dipped in the aqueous solution at a rate of 25 g / L. Initially, the dye was dissolved in D.I Water at 25 ° C, but the color was lost and the shape was not clear. Successful experiments were conducted by dissolving the dye in boiling water at 100 ° C.

이어서, 전자주사현미경을 이용하여 산화 처리된 표면을 분석하였다. Subsequently, the oxidized surface was analyzed using a scanning electron microscope.

먼저, 90V 산세 유무에 따른 표면 형상을 도 1에 도시하였다. (a)는 산 세척을 하지 않은 시편, (b)는 본 발명에 따라 구연산으로 산 세척을 한 시편, (c)는 비교예 1에 따라 옥살산으로 처리한 시편, (d)는 비교예 2에 따라 황산 처리한 시편을 보여준다.First, the surface shape according to the presence or absence of 90 V pickling is shown in Fig. (c) is a specimen treated with oxalic acid according to Comparative Example 1, and (d) is a specimen treated with oxalic acid according to Comparative Example 2, Sulfuric acid treated specimens are shown.

도 1에 도시한 주사현미경 사진을 보면 모든 시편에 Outer layer와 Inner layer가 있음을 확인할 수 있기 때문에 표면이 울퉁불퉁하며, Inner layer는 양극산화 초기단기에 생성되고 Outer layer에 비해 조밀하다는 것을 알 수 있다.1, it can be seen that all the specimens have an outer layer and an inner layer, so that the surface is uneven and the inner layer is formed in the short period of anodic oxidation and is denser than the outer layer .

산 처리에 따라 비교를 해보면 산 처리를 한 시편과 하지 않은 시편은 SEM사진을 통해 육안으로 구별 할 수 있을 정도로 표면 거칠기 차이가 난다. 그 이유로 산 처리를 통해 Anodizing 중 수소기체 발생을 억제시켜 조밀한 피막을 형성할 수 있고, 표면에 존재하는 산화물, 가공유 또는 물에 용해되지 않거나 유화되지 않는 이물질들이 제거되어 요철이 상대적으로 줄어들어 표면 거칠기 차이를 보였다.Compared with the acid treatment, the surface roughness of the acid treated and non-acid treated specimens varies to such an extent that they can be distinguished visually by SEM photographs. For this reason, it is possible to form a dense film by inhibiting the generation of hydrogen gas during anodizing through an acid treatment, and foreign substances which are not dissolved or not emulsified in the oxide, the processing oil or water present on the surface are removed and the irregularities are relatively reduced, Respectively.

다음으로 각 시편에 대해 X선 회절 분석을 하였으며, 그 결과는 도 2의 그래프로 도시하였다. 도 2는 마그네슘의 각 대조군, 산세 미처리, 황산, 구연산, 옥살산, 처리한 시편의 XRD 피크 결과를 보여준다.Next, X-ray diffraction analysis was performed on each specimen, and the results are shown in the graph of FIG. Figure 2 shows the XRD peak results for each control group of magnesium, untreated, sulfuric, citric, oxalic acid, and treated specimens.

검정색이 산세처리 하지 않은 마그네슘 시편의 피크이고 다른 색들은 산 처리를 각 다른 산들을 이용해서 양극산화한 시편들이다. 가장 높게 솟아있는 피크들이 마그네슘의 피크인데 검정색에 비해서 색을 가진 피크들은 마그네슘 함량이 줄었다는 것을 알 수 있다. The black is the peak of the untreated magnesium specimen, and the other colors are the anodized samples using the different acids. The highest peaks are the peaks of magnesium, and peaks with a color as compared to black show a decrease in magnesium content.

산화피막이 너무 얇고 그 양이 마그네슘에 비해 너무 적어서 그 물질이 무엇인지 어느 정도 있는지는 XRD 피크로는 알지 못했지만 마그네슘의 양이 줄었다는 것을 보아 마그네슘이 다른 물질과 결합하여 화합물을 형성하였고 그로 인해 검정색 피크에 비해 마그네슘의 양이 줄었다는 것을 추측할 수 있다.The oxidation film is too thin and its amount is too small compared to magnesium, so it is not known what XRD peak is, but the amount of magnesium is reduced, so that magnesium combines with other substances to form a compound, It can be inferred that the amount of magnesium is reduced.

또한 양극산화 시 옥살산의 경우 물에 대한 용해도가 다른 두 개의 산에 비해 상대적으로 낮으며, 이때 옥살산이 마그네슘 표면에 착 이온화(킬레이트화)되어 양극산화시 피막이 마그네슘 시편에 잘 묻지 않아 양극산화가 잘 이루어지지 않는다. XRD의 Intensity가 시편의 정량에 상대적으로 비례한다. 아래의 XRD 그래프에서 보듯이 옥살산의 XRD Intensity가 다른 산 처리한 XRD Intensity 보다 상대적으로 높으므로, 옥살산으로 산세 처리한 마그네슘은 상대적으로 양극산화가 잘되지 않아 Mg의 양이 많음으로 생각된다.In the case of anodic oxidation, the solubility of oxalic acid in water is relatively lower than that of the other two acids. In this case, oxalic acid is ionized (chelated) on the magnesium surface and the anodic oxidation film is not well adhered to the magnesium specimen. Is not achieved. The intensity of XRD is proportional to the quantity of the specimen. As shown in the XRD graph below, the XRD intensities of oxalic acid are relatively higher than those of other acid-treated XRD intensities. Therefore, it is believed that magnesium oxalate treated with oxalic acid has a relatively high amount of Mg due to anodic oxidation.

다음으로 도막 측정기를 사용하여 양극 산화 피막의 두께를 측정하였다. AZ31B합금의 기지와 Anodizing의 전류특성 차이를 이용하였으며, 세부결과는 다음의 표 3과 같다. Next, the thickness of the anodized film was measured using a film thickness meter. The difference between the base of the AZ31B alloy and the current characteristics of anodizing was used, and the detailed results are shown in Table 3 below.

시편/차수Psalm / Order 1One 22 33 44 55 평균Average Mg 대조Mg control 5.1 ㎛5.1 탆 6.1 ㎛6.1 ㎛ 8.5 ㎛8.5 탆 11.3 ㎛11.3 탆 5.1 ㎛5.1 탆 7.22 ㎛7.22 탆 산세 미시행Sansome City 14.5 ㎛14.5 탆 24.1 ㎛24.1 탆 26.2 ㎛26.2 탆 14.6 ㎛14.6 탆 22.2 ㎛22.2 탆 20.32 ㎛20.32 탆 황산 체척Sulfate column 21.2 ㎛21.2 탆 25.1 ㎛25.1 탆 18.9 ㎛18.9 탆 22.0 ㎛22.0 탆 24.6 ㎛24.6 탆 22.36 ㎛22.36 탆 옥살산 세척Oxalic acid wash 28.3 ㎛28.3 탆 32.3 ㎛32.3 탆 29.4 ㎛29.4 탆 16.5 ㎛16.5 탆 26.9 ㎛26.9 탆 26.68 ㎛26.68 탆 구연산 세척Citric acid wash 26.2 ㎛26.2 탆 27.2 ㎛27.2 탆 23.0 ㎛23.0 탆 26.6 ㎛26.6 탆 30.4 ㎛30.4 탆 26.68 ㎛26.68 탆

두께 측정 결과 Mg 대조군에서 가장 낮은 두께를 보였으며 다른 Anodizing 된 시편의 경우 피막의 두께가 증가한 것을 확인 할 수 있었다. 그러나 산세 용액에 따른 비교에서 표준편차가 심하여 산세용액에 따라 피막의 두께의 정확도는 떨어진다고 판단하였다.Thickness measurements showed the lowest thickness in the Mg control group, and the thickness of the other anodized specimens increased. However, it was concluded that the standard deviation was large in the comparison with the pickling solution, and the accuracy of the coating thickness was deteriorated depending on the pickling solution.

시편에 대한 전기화학적 분석으로서, 25℃의 3.5 wt% NaCl 수용액에 16cm2 노출하여 침지 실험을 진행하였다. 24시간 단위로 3일간 무게변화율을 이용하여 분석을 실시하였다. 무게의 감소량과 평균을 표 4에 나타내었다.As an electrochemical analysis of the specimens, immersion experiments were carried out by exposure to 16 cm 2 of a 3.5 wt% NaCl aqueous solution at 25 ° C. The analysis was carried out using the weight change rate for 3 days in 24 hour unit. Weight reduction and averages are shown in Table 4.

NaCl 3.5wt% 수용액 침지 실험 시 실험대조군과 비교하여 양극산화 처리한 마그네슘 시편은 무게 감소량이 적었다. 양극산화된 마그네슘 시편은 세라믹 층으로 피막 층이 형성되어 산화가 적게 된 것으로 보인다. 이를 통해 마그네슘의 내식성이 향상됨을 알 수 있었다. In the immersion experiment of NaCl 3.5 wt% aqueous solution, the anodized magnesium specimen showed less weight loss than the experimental control. The anodized magnesium specimen appears to have less oxidation due to the formation of a coating layer with a ceramic layer. As a result, the corrosion resistance of magnesium was improved.

그리고 산세 처리한 시편들 중에서 옥살산으로 산세 처리한 시편이 다른 시편들보다 무게 변화율이 크게 나타나는 것으로 보인다. 이는 양극산화 시 옥살산의 경우 물에 대한 용해도가 다른 두 개의 산에 비해 상대적으로 낮으며, 이때 옥살산이 마그네슘 표면에 착 이온화되어 양극산화 시 피막이 마그네슘 시편에 잘 묻지 않게 된다. 그리하여 옥살산으로 산세 처리한 시편은 양극산화가 잘 이루어지지 않아, 부식 시 양극산화를 통해 형성된 세라믹 층 피막이 다른 시편에 비해 얇아 방식이 잘 이루어지지 않았다고 생각한다.The specimens pickled with oxalic acid seem to show a larger weight change than the other specimens. In the case of anodic oxidation, oxalic acid is relatively low in solubility in water compared to the other two acids. In this case, oxalic acid is ionized on the magnesium surface, and the anodic oxidation film is not easily adhered to the magnesium sample. Therefore, the specimens treated with oxalic acid do not have anodic oxidation well, and the corrosion of the ceramics layer formed through anodic oxidation is thinner than other specimens.

초기 무게Initial Weight 1일차
질량(감소량)
Day 1
Mass (decrease)
2일차
질량(감소량)
Day 2
Mass (decrease)
3일차
질량(감소량)
Day 3
Mass (decrease)
무게 감소량 평균Weight reduction average g/yearg / year
대조군Control group 5.479g5.479 g 5.471g
(0.008)
5.471 g
(0.008)
5.461g
(0.010)
5.461 g
(0.010)
5.440g
(0.021)
5.440 g
(0.021)
13 mg/day13 mg / day 4.7454.745
산세 미처리Pickling 5.208g5.208g 5.202g
(0.006)
5.202 g
(0.006)
5.196g
(0.004)
5.196 g
(0.004)
5.186g
(0.01)
5.186 g
(0.01)
7 mg/day7 mg / day 2.5552.555
황산 세척Sulfuric acid wash 5.228g5.228 g 5.226g
(0.002)
5.226 g
(0.002)
5.222g
(0.004)
5.222 g
(0.004)
5.220g
(0.002)
5.220 g
(0.002)
3 mg/day3 mg / day 1.0951.095
구연산 세척Citric acid wash 5.215g5.215 g 5.214g
(0.001)
5.214 g
(0.001)
5.211g
(0.003)
5.211 g
(0.003)
5.209g
(0.002)
5.209 g
(0.002)
2 mg/day2 mg / day 0.7300.730
옥살산 세척Oxalic acid wash 5.238g5.238 g 5.234g
(0.004)
5.234 g
(0.004)
5.230g
(0.004)
5.230 g
(0.004)
5.222g
(0.008)
5.222 g
(0.008)
5 mg/day5 mg / day 1.8251.825

이상의 실험 결과가 보여주듯이, 양극 산화에 의한 산화 피막의 형성에 앞선 산 세척에서는 구연산이 가장 탁월한 효과를 나타냈으며, 다음으로 황산, 옥살산 순으로 효과가 있음을 알 수 있다. 산세척 처리는 양극산화 결과에 매우 큰 영향을 미치며 내식성향상에 기여하는 것을 알 수 있다. As shown in the above results, citric acid showed the most excellent effect in the pickling prior to the formation of the oxide film by anodic oxidation, followed by sulfuric acid and oxalic acid in that order. The acid cleaning treatment has a great influence on the anodization and contributes to the improvement of corrosion resistance.

Claims (1)

마그네슘에 산화 피막을 형성하는 표면 처리 방법으로서,
마그네슘 소재를 준비하는 단계;
마그네슘 소재의 표면을 기계 연마하여 자연산화막 또는 오염물을 마그세슘 소재의 표면으로부터 제거하는 단계;
마그네슘 소재를 아세톤에 침지하고 초음파를 인가하여 세척하는 단계;
마그네슘 소재를 상온에서 구연산, 황산 또는 옥살산으로 산 처리하는 단계;
마그네슘 소재의 표면에 양극 산화 처리에 의해 산화 피막을 형성하는 단계; 및
산화 피막이 형성된 마그네슘 소재의 표면을 수화봉공 처리하는 단계
를 포함하는 것인 마그네슘의 표면 처리 방법.
A surface treatment method for forming an oxide film on magnesium,
Preparing a magnesium material;
Mechanically polishing the surface of the magnesium material to remove the native oxide or contaminant from the surface of the magnesium material;
Immersing the magnesium material in acetone and washing by applying ultrasonic waves;
Treating the magnesium material with citric acid, sulfuric acid or oxalic acid at room temperature;
Forming an oxide film on the surface of the magnesium material by an anodic oxidation treatment; And
A step of hydrating and sealing the surface of the magnesium material having the oxide film formed thereon
≪ / RTI >
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110100848A (en) 2010-03-05 2011-09-15 한양대학교 산학협력단 Manufacturing method of magnesium alloys having high corrosion resistance and hardness and magnesium alloys manufactured thereby
KR101440555B1 (en) 2010-12-27 2014-09-17 재단법인 포항산업과학연구원 A Surface Treatment Method of Aluminum Materials Having Superior Corrosion Resistance and of Aluminum Materials Which are Surface Treated Thereby

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