KR20180088277A - Optical laminate and image display device - Google Patents

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KR20180088277A
KR20180088277A KR1020180002281A KR20180002281A KR20180088277A KR 20180088277 A KR20180088277 A KR 20180088277A KR 1020180002281 A KR1020180002281 A KR 1020180002281A KR 20180002281 A KR20180002281 A KR 20180002281A KR 20180088277 A KR20180088277 A KR 20180088277A
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peeling
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유 모리모토
유우스케 도야마
겐타로 이케시마
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

Provided is an optical laminate in which mark formation on a polarizing plate is suppressed when fixed on an adsorption table. Moreover, provided is an image display device. To this end, the optical laminate includes a surface protective film, a first adhesive layer, the polarizing plate, a second adhesive layer, and a release film in order. A is a product obtained by multiplying thickness and tensile elasticity modulus of the surface protective film, B is a product obtained by multiplying thickness and tensile elasticity modulus of the polarizing plate, and C is the product obtained by multiplying thickness and tensile elasticity modulus of the release film, wherein each satisfies the following, A > B + C.

Description

광학 적층체 및 화상 표시 장치{OPTICAL LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}Technical Field [0001] The present invention relates to an optical laminate and an image display device,

본 발명은 광학 적층체 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical laminate and an image display apparatus.

편광판은, 액정 셀 등의 광학 부재에 첩합되어, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 널리 사용되고 있다. 편광판을 액정 셀 등의 광학 부재에 첩합하는 공정에서는, 예를 들어, 표면 보호 필름과 편광판과 박리 필름을 이 순서로 갖는 광학 적층체를, 흡착 패드를 갖는 흡착대 상에 고정시키고, 박리 필름을 박리하여 편광판을 광학 부재에 첩합한다.The polarizing plate is bonded to an optical member such as a liquid crystal cell and is widely used in an image display apparatus such as a liquid crystal display apparatus. In the step of bonding the polarizing plate to an optical member such as a liquid crystal cell, for example, an optical laminate having a surface protective film, a polarizing plate and a peeling film in this order is fixed on an adsorption table having an adsorption pad, And the polarizing plate is peeled off and bonded to the optical member.

최근, 화상 표시 장치에 사용되는 광학 부재의 박형화의 요망에 수반하여, 박형 (예를 들어, 12 ㎛ 이하) 의 편광자를 포함하는 박형의 편광판을 얻는 기술이 알려져 있다. 그러나, 박형의 편광판은 탄력이 없어, 액정 셀 등의 광학 부재에 첩합하는 공정에 있어서, 컬이 생기거나, 첩합 불량이 생기거나 하는 등의 문제가 있다. 특허문헌 1 에는, 표면 보호 필름과 박형의 편광판과 박리 필름을 갖고, 편광판의 두께 (T1) 에 대한 표면 보호 필름의 두께 (T2) 의 비 (T2/T1) 를 0.8 ∼ 4 의 범위 내로 한 표면 보호 필름이 부착된 편광판이 기재되어 있다. 특허문헌 1 의 표면 보호 필름이 부착된 편광판은, 두께가 있고 탄력을 갖는 표면 보호 필름을 포함하고 있음으로써, 편광판의 박형화에 의해 생기는 상기의 문제를 해결할 수 있다.Description of the Related Art [0002] In recent years, there has been known a technique of obtaining a thin polarizing plate including a polarizer of a thin shape (for example, 12 탆 or less) along with a demand for thinning of an optical member used in an image display apparatus. However, the thin polarizing plate has no elasticity, and there is a problem such that curling occurs or fusion failure occurs in a process of adhering to an optical member such as a liquid crystal cell. Patent Document 1 discloses a surface protective film having a surface protective film, a thin polarizing plate and a peeling film and having a ratio (T2 / T1) of the thickness (T2) of the surface protective film to the thickness T1 of the polarizing plate within a range of 0.8 to 4 A polarizing plate having a protective film is described. The polarizing plate with the surface protective film of Patent Document 1 has a thickness and includes a surface protective film having elasticity, so that the above problem caused by the thinning of the polarizing plate can be solved.

일본 공개특허공보 2016-118771호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2016-118771

그러나, 특허문헌 1 등에 기재되는 종래의 광학 적층체는, 박리 필름을 박리하는 공정에 있어서 흡착대 상에 고정시켰을 때, 편광판에 흡착 패드의 흔적이 남는다는 문제가 있다.However, in the conventional optical laminate described in Patent Document 1 and the like, there is a problem that, when the release film is fixed on the adsorption table in the step of peeling, there is a trace of the adsorption pad on the polarizer.

본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 그 주된 목적은, 흡착대에 고정시켰을 때에 편광판에 흔적이 남는 것을 억제한 광학 적층체 및 광학 적층체의 편광판을 구비하는 화상 표시 장치를 제공하는 것에 있다.The main object of the present invention is to provide an image display apparatus provided with an optical laminate and a polarizing plate of the optical laminate suppressed from leaving traces on the polarizer plate when fixed to the adsorption table .

본 발명의 광학 적층체는, 표면 보호 필름과, 제 1 점착제층과, 편광판과, 제 2 점착제층과, 박리 필름을 이 순서로 갖고, 상기 표면 보호 필름의 인장 탄성률과 두께의 곱을 A 로 하고, 상기 편광판의 인장 탄성률과 두께의 곱을 B 로 하고, 상기 박리 필름의 인장 탄성률과 두께의 곱을 C 로 했을 때, A > B + C 를 만족시킨다.The optical laminate of the present invention has a surface protective film, a first pressure-sensitive adhesive layer, a polarizing plate, a second pressure-sensitive adhesive layer and a release film in this order, and the product of the tensile modulus and the thickness of the surface- B is the product of the tensile modulus of elasticity of the polarizing plate and the thickness, and C is the product of the tensile elastic modulus and the thickness of the release film.

일 실시형태에 있어서는, 상기 표면 보호 필름의 계기 박리력을 X (N/50 ㎜) 로 하고, 상기 박리 필름의 계기 박리력을 Y (N/50 ㎜) 로 했을 때, Y < X 를 만족시키고, 보다 바람직하게는 X - Y > 0.1 을 만족시킨다.In one embodiment, Y <X is satisfied when the instrument peeling force of the surface protective film is X (N / 50 mm) and the instrument peeling force of the release film is Y (N / 50 mm) , More preferably X - Y > 0.1.

일 실시형태에 있어서는, 상기 표면 보호 필름의 두께와, 상기 제 1 점착제층의 두께의 합계가 75 ㎛ 이상이고, 상기 박리 필름의 두께가 38 ㎛ 이하이다.In one embodiment, the total thickness of the surface protective film and the first pressure sensitive adhesive layer is 75 占 퐉 or more, and the thickness of the release film is 38 占 퐉 or less.

일 실시형태에 있어서는, 상기 편광판이, 편광자와, 상기 편광자의 상기 표면 보호 필름측에 적층된 보호층을 갖고, 상기 편광자의 두께가 12 ㎛ 이하이다.In one embodiment, the polarizing plate has a polarizer and a protective layer laminated on the surface protective film side of the polarizer, and the thickness of the polarizer is 12 占 퐉 or less.

본 발명의 다른 국면에 의하면, 화상 표시 장치가 제공된다. 이 화상 표시 장치는, 상기 광학 적층체의 상기 편광판과, 상기 제 2 점착제층을 개재하여 상기 편광판이 첩합된 광학 부재를 갖는다.According to another aspect of the present invention, an image display apparatus is provided. This image display apparatus has the polarizing plate of the optical laminate and the optical member in which the polarizing plate is bonded via the second pressure-sensitive adhesive layer.

본 발명에 의하면, 흡착대에 고정시켰을 때에 편광판에 흔적이 남는 것을 억제한 광학 적층체 및 광학 적층체의 편광판을 구비하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an image display apparatus provided with an optical laminate in which no marks are left on the polarizer when fixed to the adsorption table, and a polarizer of the optical laminate.

도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 광학 적층체의 개략 단면도이다.
도 2 는, 광학 적층체로부터 박리 필름이 박리되는 모습을 나타내는 개략 단면도이다.
도 3 은, 광학 적층체로부터 표면 보호 필름이 박리되는 모습을 나타내는 개략 단면도이다.
도 4 는, 본 발명의 다른 실시형태에 관련된 광학 적층체의 개략 단면도이다.
1 is a schematic sectional view of an optical laminate according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the release film is peeled off from the optical laminate.
3 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the surface protective film is peeled off from the optical laminate.
4 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태에는 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.

A. 광학 적층체의 전체 구성A. Overall construction of optical laminate

도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 광학 적층체의 개략 단면도이다. 광학 적층체 (100) 는, 표면 보호 필름 (10) 과, 제 1 점착제층 (20) 과, 편광판 (30) 과, 제 2 점착제층 (40) 과, 박리 필름 (50) 을 이 순서로 갖는다. 일 실시형태에 있어서는, 편광판 (30) 은, 편광자 (31) 와 편광자 (31) 의 표면 보호 필름 (10) 측에 적층된 제 1 보호층 (32) 을 갖는다. 편광자 (31) 의 두께는, 대표적으로는 12 ㎛ 이하이다. 표면 보호 필름 (10) 의 두께와 제 1 점착제층 (20) 의 두께의 합계는, 바람직하게는 75 ㎛ 이상이고, 박리 필름 (50) 의 두께는, 바람직하게는 38 ㎛ 이하이다. 도 2 는, 본 발명의 다른 실시형태에 관련된 광학 적층체의 개략 단면도이다. 본 실시형태에 있어서는, 편광판 (30) 은, 편광자 (31) 와 편광자 (31) 의 표면 보호 필름 (10) 측에 적층된 제 1 보호층 (32) 과 편광자 (31) 의 박리 필름 (50) 측에 적층된 제 2 보호층 (33) 을 갖는다. 본 실시형태의 광학 적층체 (101) 와 같이, 편광판 (30) 은, 편광자 (31) 의 양측에 보호층을 가지고 있어도 된다. 광학 적층체 (100) 및 광학 적층체 (101) 는, 표면 보호 필름 (10) 의 인장 탄성률과 두께의 곱을 A 로 하고, 편광판 (30) 의 인장 탄성률과 두께의 곱을 B 로 하고, 박리 필름 (50) 의 인장 탄성률과 두께의 곱을 C 로 했을 때, A > B + C 를 만족시킨다. 이와 같은 광학 적층체는, 흡착대에 고정시켰을 때에 편광판에 흔적이 남는 것이 억제될 수 있다. 또한, 편광판 (30) 의 인장 탄성률과 두께의 곱 B 는, 편광자 (31) 의 인장 탄성률과 두께의 곱 B1 과, 제 1 보호층 (32) 의 인장 탄성률과 두께의 곱 B2 와, 제 2 보호층 (33) 의 인장 탄성률과 두께의 곱 B3 (제 2 보호층이 존재하는 경우) 의 합에 의해 산출된다.1 is a schematic sectional view of an optical laminate according to an embodiment of the present invention. The optical laminate 100 has a surface protective film 10, a first pressure sensitive adhesive layer 20, a polarizing plate 30, a second pressure sensitive adhesive layer 40 and a release film 50 in this order . The polarizing plate 30 has the first protective layer 32 laminated on the side of the surface protective film 10 of the polarizer 31 and the polarizer 31. In this embodiment, The thickness of the polarizer 31 is typically 12 占 퐉 or less. The total thickness of the surface protective film 10 and the first pressure sensitive adhesive layer 20 is preferably 75 占 퐉 or more and the thickness of the release film 50 is preferably 38 占 퐉 or less. 2 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to another embodiment of the present invention. The polarizing plate 30 includes a first protective layer 32 laminated on the side of the surface protective film 10 of the polarizer 31 and the polarizer 31 and a peeling film 50 of the polarizer 31, And a second protective layer 33 laminated on the second protective layer 33 side. Like the optical laminate 101 of the present embodiment, the polarizing plate 30 may have a protective layer on both sides of the polarizer 31. [ The optical laminate 100 and the optical laminate 101 are formed such that the product of the tensile modulus of elasticity of the surface protective film 10 and the thickness is A and the product of the tensile modulus of elasticity of the polarizer 30 and the thickness is B, 50) satisfies A> B + C, where C is the product of the tensile modulus and thickness. Such an optical laminate can be suppressed from remaining on the polarizing plate when it is fixed to the adsorption table. The product B of the tensile modulus of elasticity of the polarizer 30 and the thickness of the polarizer 30 is calculated by multiplying the product B1 of the tensile modulus of elasticity of the polarizer 31 and the thickness B1 by the product B2 of the tensile modulus and thickness of the first protective layer 32, Is calculated by the product of the tensile modulus of elasticity of the layer 33 and the thickness B3 (when the second protective layer is present).

본 발명자들은 예의 검토를 거듭한 결과, 상기와 같은 광학 적층체는, 편광판에 흔적이 남는 것이 억제되는 한편, 박리 필름을 단부 (端部) 로부터 박리하고자 했을 때에 편광판이 표면 보호 필름 계면으로부터 박리되어 버린다는 새로운 과제를 알아내었다. 상기의 과제를 해결하기 위해, 일 실시형태에 있어서, 광학 적층체 (100) 및 광학 적층체 (101) 는, 표면 보호 필름 (10) 의 계기 박리력을 X (N/50 ㎜) 로 하고, 박리 필름 (50) 의 계기 박리력을 Y (N/50 ㎜) 로 했을 때, 바람직하게는 Y < X 를 만족시키고, 보다 바람직하게는 X - Y > 0.1 을 만족시킨다. 일반적으로, 필름을 단부로부터 일정한 박리 속도로 박리하는 경우, 필름의 박리력은, 박리 개시 직후는 박리 길이에 따라 증대되고, 피크를 맞아 감소하고, 소정 시간 경과 후에 일정한 값으로 안정화된다. 본 명세서에 있어서, 필름의 계기 박리력이란 박리 개시 직후에 있어서의 박리력의 피크값 (최대값) 을 의미하고, 필름의 통상 박리력이란 박리 개시로부터 소정 시간 경과 후의 안정화된 박리력을 의미하는 것으로 한다. 광학 적층체 (100) (및 광학 적층체 (101)) 는, 도 3 에 나타내는 바와 같이 박리 필름 (50) 을 박리하고, 제 2 점착제층 (40) 을 개재하여 편광판 (30) 을 다른 광학 부재 (예를 들어, 액정 셀) 에 첩합할 때에 사용될 수 있다. 예를 들어 인장 탄성률이 높은 표면 보호 필름을 갖는 광학 적층체, 또는 박리 필름의 계기 박리력이 표면 보호 필름의 계기 박리력보다 큰 광학 적층체는, 박리 필름 (50) 을 단부로부터 박리하고자 했을 때, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 박리 필름 (50) 이 박리되지 않고 표면 보호 필름 (10) 및 제 1 점착제층 (20) 이 편광판 (30) 으로부터 박리되어 버려 (박리 필름 (50) 이 편광판 (30) 마다 제 1 점착제층 (20) 으로부터 박리되어 버려), 박리 불량이 될 수 있다. 이에 대해, 일 실시형태의 광학 적층체 (100) 는, 상기한 바와 같이, 박리 필름 (50) 의 계기 박리력 (Y) 은, 표면 보호 필름 (10) 의 계기 박리력 (X) 보다 작다. 이로써, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 표면 보호 필름 (10) 및 제 1 점착제층 (20) 이 편광판 (30) 으로부터 박리되지 않고 박리 필름 (50) 이 제 2 점착제층 (40) 으로부터 박리될 수 있다.As a result of intensive investigations, the inventors of the present invention have found that the above optical laminate suppresses the remnant of the polarizing plate, and when the release film is peeled off from the end, the polarizing plate is peeled from the surface protective film interface I found a new assignment to throw away. In order to solve the above problem, in one embodiment, the optical laminated body 100 and the optical laminated body 101 are formed such that the instrument peeling force of the surface protective film 10 is X (N / 50 mm) When the separating force of the peeling film 50 is Y (N / 50 mm), preferably satisfies Y <X, more preferably satisfies X - Y> 0.1. In general, when the film is peeled from the end portion at a constant peeling rate, the peeling force of the film increases with the peeling length immediately after the peeling start, decreases with the peak, and stabilizes at a constant value after a predetermined time has elapsed. In the present specification, the instrument peeling force of the film means the peak value (maximum value) of the peeling force immediately after the peeling is started, and the normal peeling force of the film means a stable peeling force after a predetermined time from the peeling start . The optical laminate 100 (and the optical laminate 101) is peeled off the release film 50 as shown in Fig. 3, and the polarizer 30 is separated from the other optical member 30 via the second pressure- (For example, a liquid crystal cell). For example, when an optical laminate having a surface protective film with a high tensile modulus or an optical laminate in which the instrument peel strength of the peel film is larger than the instrument peel strength of the surface protective film is used for peeling the peel film 50 from the end The surface protective film 10 and the first pressure sensitive adhesive layer 20 are peeled from the polarizing plate 30 without peeling the peeling film 50 as shown in Fig. 4 (the peeling film 50 is peeled off from the polarizing plate 30 ) Of the first pressure sensitive adhesive layer 20), so that peeling failure may occur. On the other hand, in the optical laminate 100 of the embodiment, the instrument peeling force Y of the peeling film 50 is smaller than the instrument peeling force X of the surface protective film 10, as described above. 3, the surface protective film 10 and the first pressure-sensitive adhesive layer 20 are not peeled off from the polarizing plate 30, and the peeling film 50 can be peeled from the second pressure-sensitive adhesive layer 40 .

광학 적층체 (100) 및 광학 적층체 (101) 는, 매엽상 (枚葉狀) 이어도 되고, 장척상이어도 된다.The optical laminated body 100 and the optical laminated body 101 may be in the form of a single sheet or a laminate.

B. 표면 보호 필름B. Surface Protective Film

표면 보호 필름은, 편광판의 일방의 표면에 제 1 점착제층을 개재하여 적층되고, 편광판의 보호 필름으로서 기능할 수 있다. 표면 보호 필름은, 대표적으로는, 등방성을 갖는 투명 필름이다. 표면 보호 필름은, 편광판을 제 2 점착제층을 개재하여 다른 광학 부재에 첩합한 후의 임의의 적절한 시점에서 박리·제거될 수 있다.The surface protective film is laminated on one surface of the polarizing plate with the first pressure sensitive adhesive layer interposed therebetween, and can function as a protective film of the polarizing plate. The surface protective film is typically a transparent film having isotropy. The surface protective film can be peeled off at any appropriate point after the polarizing plate is bonded to the other optical member via the second pressure-sensitive adhesive layer.

표면 보호 필름의 두께는, 바람직하게는 25 ㎛ ∼ 250 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 50 ㎛ ∼ 200 ㎛ 이고, 특히 바람직하게는 70 ㎛ ∼ 150 ㎛ 이다. 충분한 두께 및 강성을 갖는 표면 보호 필름을 사용함으로써, 편광판을 액정 셀 등의 광학 부재에 첩합하는 공정에 있어서 컬의 발생을 억제할 수 있고, 나아가서는, 광학 적층체를 구성하는 각 층을 반송하면서 적층하는 경우에, 적층체의 반송성이 향상되고, 그 결과, 광학 적층체의 제조 효율이 향상될 수 있다.The thickness of the surface protective film is preferably 25 탆 to 250 탆, more preferably 50 탆 to 200 탆, and particularly preferably 70 탆 to 150 탆. By using a surface protective film having sufficient thickness and rigidity, it is possible to suppress the occurrence of curling in the step of bonding the polarizing plate to an optical member such as a liquid crystal cell, and further, while conveying each layer constituting the optical laminate In the case of lamination, the transportability of the laminate is improved, and as a result, the production efficiency of the optical laminate can be improved.

표면 보호 필름의 인장 탄성률은, 바람직하게는 2000 ㎫ ∼ 5000 ㎫ 이고, 보다 바람직하게는 2500 ㎫ ∼ 4500 ㎫ 이고, 특히 바람직하게는 3000 ㎫ ∼ 4000 ㎫ 이다.The tensile modulus of elasticity of the surface protective film is preferably 2000 MPa to 5000 MPa, more preferably 2500 MPa to 4500 MPa, and particularly preferably 3000 MPa to 4000 MPa.

표면 보호 필름을 구성하는 재료로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등의 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, 아크릴계 수지를 들 수 있다. 이들 중에서도 폴리에스테르계 수지가 바람직하다.Examples of the material constituting the surface protective film include a polyester resin such as a polyethylene terephthalate film, a cellulose resin, an acetate resin, a polyether sulfone resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, Based resin, a mid-based resin, a polyolefin-based resin, and an acrylic-based resin. Among these, a polyester resin is preferable.

C. 편광판C. polarizer

편광판은, 적어도 편광자를 포함한다. 바람직하게는, 편광판은, 편광자의 적어도 편측에 보호층을 갖는다.The polarizing plate includes at least a polarizer. Preferably, the polarizing plate has a protective layer on at least one side of the polarizer.

C-1. 편광자C-1. Polarizer

편광자의 두께는, 상기한 바와 같이 바람직하게는 12 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 10 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 3 ㎛ ∼ 8 ㎛ 이다. 편광자의 인장 탄성률은, 바람직하게는 300 ㎫ ∼ 1000 ㎫ 이고, 보다 바람직하게는 400 ㎫ ∼ 900 ㎫ 이고, 특히 바람직하게는 500 ㎫ ∼ 800 ㎫ 이다.The thickness of the polarizer is preferably 12 占 퐉 or less, more preferably 1 占 퐉 to 10 占 퐉, and still more preferably 3 占 퐉 to 8 占 퐉, as described above. The tensile modulus of the polarizer is preferably 300 MPa to 1000 MPa, more preferably 400 MPa to 900 MPa, and particularly preferably 500 MPa to 800 MPa.

편광자는, 바람직하게는, 파장 380 ㎚ ∼ 780 ㎚ 중 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 일 실시형태에 있어서는, 편광자의 파장 589 ㎚ 의 투과율 (단체 투과율이라고도 한다) 은, 바람직하게는 42.0 % ∼ 46.0 % 이고, 보다 바람직하게는 44.5 % ∼ 46.0 % 이다. 편광자의 편광도는, 바람직하게는 97.0 % 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0 % 이상이고, 더욱 바람직하게는 99.9 % 이상이다. 다른 실시형태에 있어서는, 편광자는, 바람직하게는, 투과율 T 가 42.3 % 미만일 때, 편광도 P 가 -(100.929T-42.4 - 1) × 100 % 보다 크고, 투과율 T 가 42.3 % 이상일 때, 편광도 P 가 99.9 % 이상이다.The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength from 380 nm to 780 nm. In one embodiment, the transmittance (also referred to as a unit transmittance) of the wavelength of 589 nm of the polarizer is preferably 42.0% to 46.0%, and more preferably 44.5% to 46.0%. The degree of polarization of the polarizer is preferably 97.0% or more, more preferably 99.0% or more, and further preferably 99.9% or more. In another embodiment, the polarizer is preferably configured so that when the transmittance T is less than 42.3%, the polarization degree P is larger than - (10 0.929T-42.4-1 ) 100% and the transmittance T is 42.3% P is more than 99.9%.

편광자로는, 임의의 적절한 편광자가 채용될 수 있다. 예를 들어, 편광자를 형성하는 수지 필름은, 단층의 수지 필름이어도 되고, 2 층 이상의 적층체이어도 된다.As the polarizer, any suitable polarizer may be employed. For example, the resin film forming the polarizer may be a single-layer resin film or a laminate of two or more layers.

단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체예로는, 폴리비닐알코올 (PVA) 계 필름, 부분 포르말화 PVA 계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA 의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 광학 특성이 우수한 점에서, PVA 계 필름을 요오드로 염색하고 1 축 연신하여 얻어진 편광자가 사용된다.As specific examples of the polarizer composed of the single-layer resin film, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol (PVA) film, a partially formalized PVA film, and an ethylene / vinyl acetate copolymerization system partially saponified film, Dyes such as dyestuffs, and polyene-based oriented films such as dehydrated PVA and dehydrochlorinated polyvinyl chloride films. Preferably, a polarizer obtained by dying a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching is used from the viewpoint of excellent optical characteristics.

상기 요오드에 의한 염색은, 예를 들어, PVA 계 필름을 요오드 수용액에 침지시킴으로써 실시된다. 상기 1 축 연신의 연신 배율은, 바람직하게는 3 ∼ 7 배이다. 연신은, 염색 처리 후에 실시해도 되고, 염색하면서 실시해도 된다. 또, 연신하고 나서 염색해도 된다. 필요에 따라, PVA 계 필름에, 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예를 들어, 염색 전에 PVA 계 필름을 물에 침지시켜 수세함으로써, PVA 계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있을 뿐만 아니라, PVA 계 필름을 팽윤시켜 염색 불균일 등을 방지할 수 있다.The dyeing by iodine is carried out, for example, by immersing a PVA-based film in an iodine aqueous solution. The stretching ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 to 7 times. The stretching may be performed after the dyeing treatment, or may be performed while dyeing. Further, it may be dyed after stretching. If necessary, swelling treatment, crosslinking treatment, washing treatment, drying treatment and the like are performed on the PVA film. For example, by dipping the PVA film in water before dying, the PVA film can be cleaned, and the PVA film can be swollen, thereby preventing uneven dyeing.

적층체를 사용하여 얻어지는 편광자의 구체예로는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA 계 수지층 (PVA 계 수지 필름) 의 적층체, 혹은 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA 계 수지층의 적층체를 사용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA 계 수지층의 적층체를 사용하여 얻어지는 편광자는, 예를 들어, PVA 계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 상에 PVA 계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA 계 수지층의 적층체를 얻는 것 ; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA 계 수지층을 편광자로 하는 것에 의해 제조될 수 있다. 본 실시형태에 있어서는, 연신은, 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한 연신은, 필요에 따라, 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온 (예를 들어, 95 ℃ 이상) 에서 공중 연신하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 이와 같은 편광자의 제조 방법의 자세한 것은, 예를 들어 일본 공개특허공보 2012-73580호에 기재되어 있다. 당해 공보는, 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 사용해도 된다 (즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 해도 된다).Specific examples of the polarizer obtained by using the laminate include a laminate of a resin substrate and a PVA resin layer (PVA resin film) laminated on the resin substrate, or a laminate of a resin substrate and a PVA resin layer And a polarizer obtained by using a laminate of A polarizer obtained by using a laminate of a resin substrate and a PVA resin layer formed on the resin substrate can be produced by, for example, applying a PVA resin solution to a resin substrate and drying to form a PVA resin layer on the resin substrate To obtain a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer; And stretching and dyeing the laminate to prepare a PVA resin layer as a polarizer. In the present embodiment, the stretching typically involves immersing the laminate in an aqueous solution of boric acid and stretching. Further, the stretching may further include, if necessary, air-stretching the laminate at a high temperature (for example, 95 ° C or more) before stretching in an aqueous solution of boric acid. Details of the method for producing such a polarizer are described, for example, in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-73580. This publication is incorporated herein by reference in its entirety. The laminate of the obtained resin substrate / polarizer may be used as is (that is, the resin substrate may be a protective layer of a polarizer).

C-2. 보호층C-2. Protective layer

보호층 (제 1 보호층 및 제 2 보호층) 은, 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로는, 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나, 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르술폰계, 폴리술폰계, 폴리스티렌계, 폴리노르보르넨계, 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지 등을 들 수 있다. 또, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 이 밖에도, 예를 들어, 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2001-343529호 (WO01/37007) 에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로는, 예를 들어, 측사슬에 치환 또는 비치환의 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측사슬에 치환 또는 비치환의 페닐기 그리고 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 사용할 수 있고, 예를 들어, 이소부텐과 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교호 공중합체와, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 갖는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은, 예를 들어, 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다. 제 1 보호층의 구성 재료와 제 2 보호층의 구성 재료는 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.The protective layers (the first protective layer and the second protective layer) are formed of any suitable film that can be used as a protective layer of the polarizer. Specific examples of the material constituting the main component of the film include cellulose-based resins such as triacetylcellulose (TAC), polyester-based resins, polyvinyl alcohol-based resins, polycarbonate-based resins, polyamide-based resins, polyimide- (Meth) acrylate, acetate and the like, and the like can be given as examples of the transparent resin such as polyolefin resin, polystyrene resin, polynorbornene resin, polyolefin resin, Further, thermosetting resins such as (meth) acrylic resins, urethane resins, (meth) acrylurethane resins, epoxy resins and silicon resins, and ultraviolet curable resins may also be used. In addition, for example, glassy polymers such as siloxane-based polymers may be mentioned. A polymer film described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-343529 (WO01 / 37007) may also be used. As a material of this film, for example, a resin composition containing a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in a side chain and a thermoplastic resin having a phenyl group and a substituted or unsubstituted phenyl group and a nitrile group in the side chain can be used. For example, a resin composition having an alternating copolymer composed of isobutene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile-styrene copolymer may be mentioned. The polymer film may be, for example, an extrusion molded article of the resin composition. The constituent material of the first protective layer and the constituent material of the second protective layer may be the same or different.

보호층에는, 필요에 따라, 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.The protective layer may be subjected to surface treatment such as hard coat treatment, antireflection treatment, anti-sticking treatment, and antiglare treatment, if necessary.

보호층의 두께는, 대표적으로는 5 ㎜ 이하이고, 바람직하게는 1 ㎜ 이하, 보다 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 500 ㎛, 더욱 바람직하게는 5 ㎛ ∼ 150 ㎛ 이다. 또한, 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 보호층의 두께는, 표면 처리층의 두께를 포함한 두께이다. 제 1 보호층의 두께와 제 2 보호층의 두께는 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 보호층을 구성하는 보호 필름의 인장 탄성률은, 바람직하게는 1500 ㎫ ∼ 3800 ㎫ 이고, 보다 바람직하게는 2000 ㎫ ∼ 3300 ㎫ 이고, 특히 바람직하게는 2300 ㎫ ∼ 3000 ㎫ 이다.The thickness of the protective layer is typically 5 mm or less, preferably 1 mm or less, more preferably 1 to 500 占 퐉, and further preferably 5 to 150 占 퐉. When the surface treatment is carried out, the thickness of the protective layer includes the thickness of the surface treatment layer. The thickness of the first protective layer and the thickness of the second protective layer may be the same or different. The tensile modulus of elasticity of the protective film constituting the protective layer is preferably 1500 MPa to 3800 MPa, more preferably 2000 MPa to 3300 MPa, and particularly preferably 2300 MPa to 3000 MPa.

D. 박리 필름D. Peeling film

박리 필름은, 편광판의 표면 보호 필름과는 반대측에 제 2 점착제층을 개재하여 적층되고, 편광판을 제 2 점착제층을 개재하여 다른 광학 부재에 첩합할 때에 박리·제거된다.The release film is laminated on the opposite side to the surface protective film of the polarizing plate with the second pressure sensitive adhesive layer interposed therebetween, and is peeled and removed when the polarizing plate is bonded to the other optical member via the second pressure sensitive adhesive layer.

박리 필름의 두께는, 바람직하게는 5 ㎛ ∼ 200 ㎛, 보다 바람직하게는 10 ㎛ ∼ 100 ㎛, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 50 ㎛ 이다. 박리 필름의 인장 탄성률은, 바람직하게는 2000 ㎫ ∼ 5000 ㎫ 이고, 보다 바람직하게는 2500 ㎫ ∼ 4500 ㎫ 이고, 특히 바람직하게는 3000 ㎫ ∼ 4000 ㎫ 이다.The thickness of the release film is preferably 5 탆 to 200 탆, more preferably 10 탆 to 100 탆, and still more preferably 20 to 50 탆. The tensile modulus of elasticity of the release film is preferably 2000 MPa to 5000 MPa, more preferably 2500 MPa to 4500 MPa, and particularly preferably 3000 MPa to 4000 MPa.

박리 필름은, 대표적으로는, 플라스틱 필름과, 플라스틱 필름의 편측에 형성된 박리 부여층으로 구성된다. 플라스틱 필름으로는, 예를 들어, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등의 폴리에스테르 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 폴리에스테르 필름이 바람직하다. 박리 부여층은, 실리콘계, 장사슬 알킬계, 불소계 등의 임의의 적절한 박리제로 코팅한 층일 수 있다.The release film is typically composed of a plastic film and a release imparting layer formed on one side of the plastic film. Examples of the plastic film include a polyester film such as a polyethylene film, a polypropylene film, a polybutene film, a polybutadiene film, a polymethylpentene film, a polyvinyl chloride film, a vinyl chloride copolymer film and a polyethylene terephthalate film, A polybutylene terephthalate film, a polyurethane film, and an ethylene-vinyl acetate copolymer film. Among these, a polyester film is preferable. The release-imparting layer may be a layer coated with a suitable releasing agent such as a silicone system, a long-chain alkyl system, or a fluorine system.

박리 필름은, 상기 박리 부여층 상에 제 2 점착제층을 구성하는 점착제를 도포하고, 건조시킨 후, 편광판에 첩합된다.The peeling film is applied to the polarizing plate by applying a pressure-sensitive adhesive constituting the second pressure-sensitive adhesive layer on the peeling-imparting layer, drying it.

E. 점착제층E. Pressure-sensitive adhesive layer

점착제층을 구성하는 점착제로는, 임의의 적절한 점착제를 사용할 수 있다. 이와 같은 점착제로는, 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리비닐알코올계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제, 셀룰로오스계 점착제 등을 들 수 있다. 이들 점착제 중에서도, 광학적 투명성이 우수하고, 적절히 젖음성과 응집성과 접착성의 점착 특성을 나타내고, 내후성이나 내열성 등이 우수한 것이 바람직하게 사용된다. 이와 같은 특징을 나타내는 것으로서 아크릴계 점착제가 바람직하게 사용된다.As the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer, any suitable pressure-sensitive adhesive can be used. Examples of such a pressure-sensitive adhesive include rubber-based pressure-sensitive adhesives, acrylic pressure-sensitive adhesives, silicone pressure-sensitive adhesives, urethane pressure-sensitive adhesives, vinyl alkyl ether pressure-sensitive adhesives, polyvinyl alcohol pressure-sensitive adhesives, polyvinylpyrrolidone pressure-sensitive adhesives, polyacrylamide pressure-sensitive adhesives, and cellulosic pressure- have. Among these pressure-sensitive adhesives, those having excellent optical transparency, suitably exhibiting wettability, cohesiveness and adhesiveness with adhesiveness, and excellent weather resistance and heat resistance are preferably used. An acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably used to exhibit such characteristics.

점착제층의 두께는, 바람직하게는 7 ㎛ ∼ 30 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 10 ㎛ ∼ 25 ㎛ 이다. 제 1 점착제층의 두께와 제 2 점착제층의 두께는 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 7 占 퐉 to 30 占 퐉, and more preferably 10 占 퐉 to 25 占 퐉. The thickness of the first pressure sensitive adhesive layer and the thickness of the second pressure sensitive adhesive layer may be the same or different.

F. 화상 표시 장치F. Image display device

A 항 내지 E 항에 기재된 광학 적층체는, 액정 표시 장치 및 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 포함되는 광학 부재에 편광판을 첩합할 때에 사용될 수 있다. 따라서, 본 발명의 광학 적층체는, 상기 편광판을 사용한 화상 표시 장치를 포함한다. 본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 광학 적층체의 편광판과, 제 2 점착제층을 개재하여 편광판이 첩합된 광학 부재를 포함한다.The optical laminate described in the items A to E can be used when a polarizing plate is attached to an optical member included in an image display device such as a liquid crystal display device and an organic EL display device. Therefore, the optical laminate of the present invention includes the image display apparatus using the polarizing plate. The image display apparatus of the present invention includes a polarizing plate of the optical laminate of the present invention and an optical member in which a polarizing plate is bonded via a second pressure-sensitive adhesive layer.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 특성의 측정 방법 및 평가 방법은 이하와 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The measuring method and the evaluation method of each characteristic are as follows.

(1) 두께(1) Thickness

디지털 마이크로미터 (안리츠사 제조 KC-351C) 를 사용하여 측정하였다.And measurement was performed using a digital micrometer (KC-351C manufactured by Anritsu).

(2) 인장 탄성률(2) Tensile modulus

측정 대상의 필름 또는 편광판을, JIS K6734 : 2000 에 기초하여 평행부 폭 10 ㎜, 길이 40 ㎜ 의 인장 시험 덤벨로 성형하고, JIS K7161 : 1994 에 준거하여 인장 시험을 실시하여, 인장 탄성률을 구하였다.The film or the polarizing plate to be measured was formed into a tensile test dumbbell having a parallel portion width of 10 mm and a length of 40 mm on the basis of JIS K6734: 2000 and subjected to a tensile test according to JIS K7161: 1994 to obtain a tensile modulus .

(3) 표면 보호 필름의 통상 박리력(3) Normal peel force of the surface protective film

장척상의 광학 적층체의 장변측의 단부를, 광학 적층체의 장변이 측정용 샘플의 단변에 대응하도록 50 ㎜ × 100 ㎜ 의 크기로 절단하여 측정용 샘플로 하였다. 측정용 샘플로부터 박리 필름을 박리하고, 박리면의 점착제층을 평판상의 박리 지그에 첩합하였다.The long side of the elongated optical laminate was cut into a size of 50 mm x 100 mm so that the long side of the optical laminate corresponded to the short side of the sample for measurement. The release film was peeled off from the sample for measurement, and the pressure-sensitive adhesive layer on the release surface was bonded to a peel-off jig.

이어서, 측정용 샘플의 단변으로부터 편광판 계면과 제 1 점착제층을 박리하고, 표면 보호 필름과 제 1 점착제층을 척하고, 인장 시험기를 사용하여 인장하여, 박리력 (N/50 ㎜) 의 측정을 실시하였다 (인장 방향 : 광학 적층체의 표면에 대해 180°, 인장 속도 : 300 ㎜/min). 5 개의 측정용 샘플에 대해 박리력을 측정하고, 각 측정용 샘플에서의 측정값의 평균값을 표면 보호 필름의 통상 박리력으로서 채용하였다.Subsequently, the polarizing plate interface and the first pressure-sensitive adhesive layer were peeled from the short side of the sample for measurement, and the surface protective film and the first pressure-sensitive adhesive layer were chucked and tensile was measured using a tensile tester to measure the peeling force (N / 50 mm) (Tensile direction: 180 DEG with respect to the surface of the optical laminate, tensile rate: 300 mm / min). The peeling force was measured for five measurement samples and the average value of the measured values in each measurement sample was adopted as the normal peeling force of the surface protective film.

(4) 표면 보호 필름의 계기 박리력(4) Gauge peel force of surface protective film

장척상의 광학 적층체의 장변측의 단부를, 광학 적층체의 장변이 측정용 샘플의 단변에 대응하도록 50 ㎜ × 100 ㎜ 의 크기로 절단하여 측정용 샘플로 하였다. 측정용 샘플로부터 박리 필름을 박리하고, 박리면의 점착제층을 평판상의 박리 지그에 첩합하였다.The long side of the elongated optical laminate was cut into a size of 50 mm x 100 mm so that the long side of the optical laminate corresponded to the short side of the sample for measurement. The release film was peeled off from the sample for measurement, and the pressure-sensitive adhesive layer on the release surface was bonded to a peel-off jig.

이어서, 19 ㎜ 폭의 폴리에스테르 점착 테이프 (닛토 전공 주식회사 제조, 제품명 「No.31B」) 를, 상기 박리 지그에 접촉하지 않게 측정용 샘플의 단변 (광학 적층체의 장변에 대응하는 변) 측의 단부에 있어서의 표면 보호 필름에 첩합하고, 또한 폴리에스테르 기재 점착 테이프 (닛토 전공 주식회사 제조, 제품명 「No.343B」) 를 상기 폴리에스테르 점착 테이프에 첩합하였다.Subsequently, a 19 mm wide polyester adhesive tape (product name: "No.31B", manufactured by Nitto Corporation) was placed on the short side of the sample for measurement (side corresponding to the long side of the optical laminate) And a polyester base adhesive tape (product name: "No.343B", manufactured by Nitto Corporation) was applied to the above-mentioned polyester adhesive tape.

이어서, 상기 폴리에스테르 기재 점착 테이프를 척하고, 인장 시험기를 사용하여 인장하고, 박리력 (N/50 ㎜) 의 측정을 실시하여 (인장 방향 : 광학 적층체의 표면에 대해 90°, 인장 속도 : 300 ㎜/min, 인장 거리 : 60 ㎜), 박리력의 피크값 (최대값) 을 표면 보호 필름의 「계기 박리력 (N/50 ㎜)」 으로 하였다. 5 개의 측정용 샘플에 대해 계기 박리력을 측정하고, 각 측정용 샘플에서의 측정값의 평균값을 표면 보호 필름의 계기 박리력으로서 채용하였다. 또한, 상기 표면 보호 필름의 계기 박리력의 측정에서는, 표면 보호 필름은 제 1 점착제층과 편광판 사이를 박리 계면으로 하여 박리한다 (표면 보호 필름 및 제 1 점착제층이 편광판으로부터 박리된다).Subsequently, the above polyester base adhesive tape was chucked and subjected to tensile test using a tensile tester to measure peeling force (N / 50 mm) (tensile direction: 90 DEG to the surface of the optical laminate, tensile rate: 300 mm / min, and tensile distance of 60 mm), and the peak value (maximum value) of the peeling force was defined as the "peel strength (N / 50 mm)" of the surface protective film. The instrument peeling force was measured for five measurement samples and the average value of the measurement values in each measurement sample was adopted as the instrument peeling force of the surface protective film. In the measurement of the instrument peeling force of the surface protective film, the surface protective film is peeled off (the surface protective film and the first pressure sensitive adhesive layer are peeled from the polarizing plate) as a peeling interface between the first pressure sensitive adhesive layer and the polarizing plate.

(5) 박리 필름의 통상 박리력(5) Normal peeling force of peeling film

장척상의 광학 적층체의 장변측의 단부를, 광학 적층체의 장변이 측정용 샘플의 단변에 대응하도록 50 ㎜ × 100 ㎜ 의 크기로 절단하여 측정용 샘플로 하였다. 측정용 샘플을, 표면 보호 필름측을 아래로 하고, 아크릴계 점착제를 개재하여 평판상의 박리 지그에 첩합하였다.The long side of the elongated optical laminate was cut into a size of 50 mm x 100 mm so that the long side of the optical laminate corresponded to the short side of the sample for measurement. A sample for measurement was bonded to a peeling jig on a flat plate via an acrylic pressure-sensitive adhesive with the surface protective film side facing downward.

이어서, 측정용 샘플의 단변으로부터 박리 필름 계면과 제 2 점착제층을 박리하고, 박리 필름을 척하고, 인장 시험기를 사용하여 인장하여, 박리력 (N/50 ㎜) 의 측정을 실시하였다 (인장 방향 : 광학 적층체의 표면에 대해 180°, 인장 속도 : 300 ㎜/min). 5 개의 측정용 샘플에 대해 박리력을 측정하고, 각 측정용 샘플에서의 측정값의 평균값을 박리 필름의 통상 박리력으로서 채용하였다.Then, the peeling film interface and the second pressure-sensitive adhesive layer were peeled from the short side of the sample for measurement, and the peeling film was chucked and stretched using a tensile tester to measure the peeling force (N / 50 mm) : 180 DEG with respect to the surface of the optical laminate, tensile rate: 300 mm / min). The peeling force was measured for five measurement samples, and the average value of the measured values in each measurement sample was adopted as a normal peeling force of the peeled film.

(6) 박리 필름의 계기 박리력(6) Detaching force of peeling film

장척상의 광학 적층체의 장변측의 단부를, 광학 적층체의 장변이 측정용 샘플의 단변에 대응하도록 50 ㎜ × 100 ㎜ 의 크기로 절단하여 측정용 샘플로 하였다. 측정용 샘플을, 표면 보호 필름측을 아래로 하고, 아크릴계 점착제를 개재하여 평판상의 박리 지그에 첩합하였다.The long side of the elongated optical laminate was cut into a size of 50 mm x 100 mm so that the long side of the optical laminate corresponded to the short side of the sample for measurement. A sample for measurement was bonded to a peeling jig on a flat plate via an acrylic pressure-sensitive adhesive with the surface protective film side facing downward.

이어서, 19 ㎜ 폭의 폴리에스테르 점착 테이프 (닛토 전공 주식회사 제조, 제품명 「No.31B」) 를, 상기 박리 지그에 접촉하지 않게 측정용 샘플의 단변 (광학 적층체의 장변에 대응하는 변) 측의 단부에 있어서의 박리 필름에 첩합하고, 또한 폴리에스테르 기재 점착 테이프 (닛토 전공 주식회사 제조, 제품명 「No.343B」) 를 상기 폴리에스테르 점착 테이프에 첩합하였다.Subsequently, a 19 mm wide polyester adhesive tape (product name: "No.31B", manufactured by Nitto Corporation) was placed on the short side of the sample for measurement (side corresponding to the long side of the optical laminate) And the polyester base adhesive tape (product name: "No.343B", manufactured by Nitto Corporation) was applied to the above polyester adhesive tape.

이어서, 상기 폴리에스테르 기재 점착 테이프를 척하고, 인장 시험기를 사용하여 인장하고, 박리력 (N/50 ㎜) 의 측정을 실시하여 (인장 방향 : 광학 적층체의 표면에 대해 90°, 인장 속도 : 300 ㎜/min, 인장 거리 : 60 ㎜), 박리력의 피크값 (최대값) 을 박리 필름의 「계기 박리력 (N/50 ㎜)」 으로 하였다. 5 개의 측정용 샘플에 대해 계기 박리력을 측정하고, 각 측정용 샘플에서의 측정값의 평균값을 박리 필름의 계기 박리력으로서 채용하였다.Subsequently, the above polyester base adhesive tape was chucked and subjected to tensile test using a tensile tester to measure peeling force (N / 50 mm) (tensile direction: 90 DEG to the surface of the optical laminate, tensile rate: 300 mm / min, tensile distance: 60 mm), and the peak value (maximum value) of the peeling force was taken as the "peeling force (N / 50 mm)" of the peeled film. The instrument peeling force was measured for five measurement samples, and the average value of the measurement values in each measurement sample was adopted as the instrument peeling force of the peeling film.

(7) 박리 필름의 박리 시험(7) Peeling test of peeling film

장척상의 광학 적층체를 1215 ㎜ × 684 ㎜ 의 크기로 절단하여 박리 시험용 샘플로 하였다. 박리 시험용 샘플을, 표면 보호 필름측을 아래로 하고, 흡착 패드를 갖는 흡착대 상에 올리고 고정시켰다. 이어서, 직경 20 ㎜ 의 박리 롤을 박리 시험용 샘플의 정점 부분에 닿게 하고, 박리 롤을 회전시킴으로써 박리 필름을 박리하였다 (박리 방향 : 광학 적층체의 표면에 대해 180°, 또한 측정용 샘플의 장변 및 단변에 대해 45°, 박리 속도 : 300 ㎜/min).The elongated optical laminate was cut into a size of 1215 mm x 684 mm to prepare a sample for peeling test. The sample for peeling test was placed on the adsorption table having the adsorption pad with the surface protective film side down and fixed. Then, the peeling film was peeled off by peeling the peeling roll having a diameter of 20 mm against the peaks of the sample for peeling test and rotating the peeling roll (peeling direction: 180 占 with respect to the surface of the optical stacked body, 45 DEG with respect to the short side, peeling speed: 300 mm / min).

박리 필름을 박리할 때에 편광판이 표면 보호 필름으로부터 박리되지 않고, 박리 필름만을 박리한 경우에는 박리 성공으로 하고, 박리 필름을 박리할 때에 편광판이 표면 보호 필름으로부터 박리된 경우에는 박리 실패로 하였다.In the case where the polarizing plate was not peeled from the surface protective film at the time of peeling off the peeling film, peeling succeeded. In the case where the peeling film was peeled off, peeling failure occurred when the polarizing plate peeled from the surface protective film.

10 개의 박리 시험용 샘플에 대해 박리 필름을 박리하고, 박리 필름의 박리성을 이하의 기준으로 평가하였다.The peeling films were peeled from the samples for ten peeling tests, and the peeling properties of the peeling films were evaluated according to the following criteria.

◎…90 % 이상의 박리 시험용 샘플에 대해 박리 성공이었다.◎ ... The peeling test was successful for 90% or more peel test samples.

○…60 % 이상 90 % 미만의 박리 시험용 샘플에 대해 박리 성공이었다.○ ... Peeling success was 60% or more and less than 90% for the peel test sample.

△…30 % 이상 60 % 미만의 박리 시험용 샘플에 대해 박리 성공이었다.△ ... The peeling success was 30% or more and less than 60% for the peel test sample.

× …30 % 미만의 박리 시험용 샘플에 대해 박리 성공이었다.× ... The peeling test was successful for less than 30% peel test sample.

또한 첩합 롤을 사용하여, 박리 필름을 박리한 후의 광학 적층체를, 제 2 점착제층을 개재하여 액정 셀에 첩합하였다. 이어서, 표면 보호 필름을 박리하고, 편광판의 외관을 검사하였다. 10 개의 샘플에 대해 외관 검사하고, 외관의 양부 (良否) 를 이하의 기준으로 평가하였다.Further, the optical laminate after peeling off the release film was bonded to the liquid crystal cell via the second pressure-sensitive adhesive layer using a bonding roll. Then, the surface protective film was peeled off, and the appearance of the polarizing plate was inspected. Ten samples were visually inspected and evaluated for good or bad appearance on the basis of the following criteria.

○…편광판에 흡착 패드에 의한 흡착흔이 없다.○ ... There is no adsorption on the polarizing plate by the adsorption pad.

×…편광판에 흡착 패드에 의한 흡착흔이 있다.× ... Adsorption marks due to adsorption pads on the polarizer.

<제조예 1>&Lt; Preparation Example 1 &

두께가 약 550 ㎛ 인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (미츠비시 수지 주식회사 제조 MRF38CK) 을 85 ℃ 에서 세로 방향으로 3.7 배 연신하고, 100 ℃ 에서 가로 방향으로 3.9 배 연신하고, 210 ℃ 에서 열처리하여, 두께 38 ㎛ 의 2 축 연신 폴리에스테르 필름을 얻었다.A polyethylene terephthalate film (MRF38CK, manufactured by Mitsubishi Plastics Co., Ltd.) having a thickness of about 550 占 퐉 was stretched 3.7 times in the longitudinal direction at 85 占 폚, stretched 3.9 times in the transverse direction at 100 占 폚 and heat-treated at 210 占 폚, To give a biaxially stretched polyester film.

상기 2 축 연신 폴리에스테르 필름의 표면에, 하기에 나타내는 이형제 조성 A 로 이루어지는 이형제를 도포량 (건조 후) 이 0.12 g/㎡ 가 되도록 리버스 그라비아 코트 방식에 의해 도포하고 건조시킴으로써, 실리콘계 박리제로 박리 처리된 통상형의 박리 필름 A (두께 38 ㎛, 인장 탄성률 3500 ㎫) 를 얻었다.A releasing agent comprising the releasing agent composition A shown below was applied to the surface of the biaxially oriented polyester film by a reverse gravure coating method so that the coating amount (after drying) became 0.12 g / m 2 and dried to obtain a peeling-treated To obtain a conventional release film A (thickness 38 占 퐉, tensile elastic modulus 3500 MPa).

(이형제 조성 A)(Release agent composition A)

·a1 : 메틸기와 헥세닐기와 페닐기의 비가 100 : 1 : 0.1 인 일반식 (I) 의 경화형 실리콘 수지 (분자량 200000) 를 24 중량부A1: 24 parts by weight of a curing-type silicone resin (molecular weight: 200,000) represented by the general formula (I) having a ratio of methyl group and hexenyl group to phenyl group of 100:

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

·a2 : 메틸기와 비닐기의 비가 100 : 0.2 인 일반식 (II) 의 경화형 실리콘 수지 (분자량 200000) 를 33 중량부A2: 33 parts by weight of a curing-type silicone resin (molecular weight: 200,000) represented by the general formula (II) wherein the ratio of the methyl group and the vinyl group is 100:

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

·a3 : 메틸기와 하이드로실릴기의 비가 100 : 1.5 인 일반식 (III) 의 경화형 실리콘 수지 (분자량 200000) 를 8 중량부A3: 8 parts by weight of a curing-type silicone resin (molecular weight: 200,000) represented by the general formula (III) wherein the ratio of the methyl group and the hydrosilyl group is 100:

[화학식 3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

·a4 : 메틸기와 하이드로실릴기의 비가 100 : 0.4 인 상기 일반식 (III) 의 경화형 실리콘 수지 (분자량 200000) 를 33 중량부A4: 33 parts by weight of a curable silicone resin (molecular weight: 200,000) of the above-mentioned general formula (III) in which the ratio of the methyl group and the hydrosilyl group was 100: 0.4

·b1 : 일반식 (IV) 의 미반응성 실리콘 수지 (분자량 80000) 를 1 중량부B1: 1 part by weight of an unreactive silicone resin (molecular weight: 80000) represented by the general formula (IV)

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

·c1 : 부가형 백금 촉매 (PL-50T : 신에츠 화학 공업 제조) 를 1 중량부C1: 1 part by weight of an addition type platinum catalyst (PL-50T: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

MEK/톨루엔 혼합 용매 (혼합 비율은 1 : 1)MEK / toluene mixed solvent (mixing ratio is 1: 1)

<제조예 2>&Lt; Preparation Example 2 &

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 연신 배율을 세로 방향으로 5.1 배, 가로 방향으로 5.3 배로 한 것 이외에는 제조예 1 과 동일하게 하여, 실리콘계 박리제로 박리 처리된 통상형의 박리 필름 B (두께 25 ㎛, 인장 탄성률 3500 ㎫) 를 얻었다.(Thickness: 25 占 퐉; tensile modulus: 3500 占 퐉) having a thickness of 25 占 퐉 and peeled with a silicone-based releasing agent in the same manner as in Production Example 1, except that the stretching magnification of the polyethylene terephthalate film was changed to 5.1 times in the longitudinal direction and 5.3 times in the transverse direction. MPa).

<제조예 3>&Lt; Preparation Example 3 &

이형제로서 하기에 나타내는 이형제 조성 B 로 이루어지는 이형제를 사용한 것 이외에는 제조예 1 과 동일하게 하여, 실리콘계 박리제로 박리 처리된 중박리형의 박리 필름 C (두께 38 ㎛, 인장 탄성률 3500 ㎫) 를 얻었다.(Thickness: 38 mu m, tensile elastic modulus: 3500 MPa) having been stripped with a silicone-based stripper was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that a release agent comprising the release agent composition B shown below was used as a release agent.

(이형제 조성 B)(Release agent composition B)

·a1 : 메틸기와 헥세닐기와 페닐기의 비가 100 : 1 : 0.1 인 상기 일반식 (I) 의 경화형 실리콘 수지 (분자량 200000) 를 32 중량부A1: 32 parts by weight of a curing-type silicone resin (molecular weight: 200,000) of the above-mentioned general formula (I) in which the ratio of the methyl group and the hexenyl group to the phenyl group was 100:

·a2 : 메틸기와 비닐기의 비가 100 : 0.2 인 상기 일반식 (II) 의 경화형 실리콘 수지 (분자량 200000) 를 66 중량부A2: 66 parts by weight of a curing-type silicone resin (molecular weight: 200,000) of the above-mentioned general formula (II) in which the ratio of methyl group and vinyl group is 100:

·b1 : 상기 일반식 (IV) 의 미반응성 실리콘 수지 (분자량 80000) 를 1 중량부B1: 1 part by weight of the unreactive silicone resin (molecular weight: 80,000) represented by the general formula (IV)

·c1 : 부가형 백금 촉매 (PL-50T : 신에츠 화학 공업 제조) 를 1 중량부C1: 1 part by weight of an addition type platinum catalyst (PL-50T: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

MEK/톨루엔 혼합 용매 (혼합 비율은 1 : 1)MEK / toluene mixed solvent (mixing ratio is 1: 1)

<제조예 4>&Lt; Preparation Example 4 &

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 연신 배율을 세로 방향으로 5.1 배, 가로 방향으로 5.3 배로 한 것 이외에는 제조예 3 과 동일하게 하여, 실리콘계 박리제로 박리 처리된 중박리형의 박리 필름 D (두께 25 ㎛, 인장 탄성률 3500 ㎫) 를 얻었다.(Having a thickness of 25 占 퐉 and a tensile modulus of 3500 占 퐉) having been peeled off with a silicone-based releasing agent in the same manner as in Production Example 3 except that the stretching magnification of the polyethylene terephthalate film was changed to 5.1 times in the longitudinal direction and 5.3 times in the transverse direction MPa).

<제조예 5>&Lt; Production Example 5 &

이형제로서 하기에 나타내는 이형제 조성 C 로 이루어지는 이형제를 사용한 것 이외에는 제조예 1 과 동일하게 하여, 실리콘계 박리제로 박리 처리된 경박리형의 박리 필름 E (두께 38 ㎛, 인장 탄성률 3500 ㎫) 를 얻었다.(Thickness: 38 mu m, tensile elastic modulus: 3500 MPa), which had been peeled off with a silicone-based releasing agent, was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that a releasing agent comprising the releasing agent composition C shown below was used as a releasing agent.

(이형제 조성 C)(Release agent composition C)

·a1 : 메틸기와 헥세닐기와 페닐기의 비가 100 : 1 : 0.1 인 상기 일반식 (I) 의 경화형 실리콘 수지 (분자량 200000) 를 16 중량부A1: 16 parts by weight of a curing-type silicone resin (molecular weight: 200,000) of the above-mentioned general formula (I) in which the ratio of methyl group and hexenyl group to phenyl group was 100:

·a2 : 메틸기와 비닐기의 비가 100 : 0.2 인 상기 일반식 (II) 의 경화형 실리콘 수지 (분자량 200000) 를 33 중량부A2: 33 parts by weight of a curing-type silicone resin (molecular weight: 200,000) of the general formula (II) in which the ratio of the methyl group and the vinyl group is 100:

·a3 : 메틸기와 하이드로실릴기의 비가 100 : 1.5 인 상기 일반식 (III) 의 경화형 실리콘 수지 (분자량 200000) 를 16 중량부A3: 16 parts by weight of a curable silicone resin (molecular weight: 200,000) of the above-mentioned general formula (III) in which the ratio of the methyl group and the hydrosilyl group is 100:

·a4 : 메틸기와 하이드로실릴기의 비가 100 : 0.4 인 상기 일반식 (III) 의 경화형 실리콘 수지 (분자량 200000) 를 33 중량부A4: 33 parts by weight of a curable silicone resin (molecular weight: 200,000) of the above-mentioned general formula (III) in which the ratio of the methyl group and the hydrosilyl group was 100: 0.4

·b1 : 상기 일반식 (IV) 의 미반응성 실리콘 수지 (분자량 80000) 를 1 중량부B1: 1 part by weight of the unreactive silicone resin (molecular weight: 80,000) represented by the general formula (IV)

·c1 : 부가형 백금 촉매 (PL-50T : 신에츠 화학 공업 제조) 를 1 중량부C1: 1 part by weight of an addition type platinum catalyst (PL-50T: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

MEK/톨루엔 혼합 용매 (혼합 비율은 1 : 1)MEK / toluene mixed solvent (mixing ratio is 1: 1)

<제조예 6>&Lt; Production Example 6 &

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 연신 배율을 세로 방향으로 5.1 배, 가로 방향으로 5.3 배로 한 것 이외에는 제조예 5 와 동일하게 하여, 실리콘계 박리제로 박리 처리된 경박리형의 박리 필름 F (두께 25 ㎛, 인장 탄성률 3500 ㎫) 를 얻었다.(Thickness: 25 占 퐉, tensile modulus: 3500 占 퐉) having a thickness of 25 占 퐉 and having a thickness of 25 占 퐉 and peeled with a silicone-based releasing agent were prepared in the same manner as in Production Example 5 except that the stretching magnifications of the polyethylene terephthalate film were changed to 5.1 times in the longitudinal direction and 5.3 times in the transverse direction. MPa).

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

1. 편광판의 제조1. Preparation of Polarizer

장척상의 비정질 폴리에틸렌테레프탈레이트 (A-PET) 필름 (미츠비시 수지사 제조, 상품명 「노바클리어」, 두께 : 100 ㎛) 을 기재로서 준비하고, 상기 기재의 편면에, 폴리비닐알코올 (PVA) 수지 (닛폰 합성 화학 공업사 제조, 상품명 「고세놀 (등록상표) NH-26」) 의 수용액을 60 ℃ 에서 도포 및 건조시켜, 두께 7 ㎛ 의 PVA 계 수지층을 형성하였다. 이와 같이 하여 얻어진 적층체를, 액온 30 ℃ 의 불용화욕에 30 초간 침지시켰다 (불용화 공정). 이어서, 액온 30 ℃ 의 염색욕에 60 초간 침지시켰다 (염색 공정). 이어서, 액온 30 ℃ 의 가교욕에 30 초간 침지시켰다 (가교 공정). 그 후, 적층체를, 액온 60 ℃ 의 붕산 수용액에 침지시키면서, 주속이 상이한 롤 사이에서 세로 방향 (장척 방향) 으로 1 축 연신을 실시하였다. 붕산 수용액에 대한 침지 시간은 120 초이고, 적층체가 파단하기 직전까지 연신하였다. 그 후, 적층체를 세정욕에 침지시킨 후, 60 ℃ 의 온풍으로 건조시켰다 (세정·건조 공정). 이와 같이 하여, 기재 상에 두께 5 ㎛ 의 편광자가 형성된 장척상의 편광자 적층체를 얻었다.(A-PET) film (trade name: NovaClear, thickness: 100 占 퐉) was prepared as a base material and a polyvinyl alcohol (PVA) resin (manufactured by Mitsui Chemicals, Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: GOSEENOL (registered trademark) NH-26) was applied at 60 DEG C and dried to form a PVA resin layer having a thickness of 7 mu m. The laminate thus obtained was immersed in a insolubilizing bath at a liquid temperature of 30 DEG C for 30 seconds (insolubilization step). Subsequently, the substrate was immersed in a dyeing bath at a temperature of 30 DEG C for 60 seconds (dyeing step). Subsequently, the substrate was immersed in a crosslinking bath at 30 占 폚 for 30 seconds (crosslinking step). Thereafter, while the laminate was immersed in an aqueous boric acid solution at a liquid temperature of 60 占 폚, uniaxial stretching was performed in the longitudinal direction (longitudinal direction) between rolls different in the main circumferential direction. The immersion time for the boric acid aqueous solution was 120 seconds, and the laminate was stretched just before fracture. Thereafter, the laminate was immersed in a cleansing bath and then dried with warm air at 60 DEG C (cleaning and drying step). Thus, a long-axis-direction polarizer laminate having a polarizer with a thickness of 5 탆 was formed on the substrate.

이어서, 보호층을 구성하는 보호 필름으로서 두께 40 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 필름을 준비하고, 상기 보호 필름의 접착 용이 처리면에 코로나 처리를 실시하고, 편광자 적층체의 편광자측의 면에 코로나 처리를 실시한 상기 보호 필름을 첩합하고, 편광자로부터 기재를 박리함으로써, 보호층 (두께 : 40 ㎛, 인장 탄성률 : 2650 ㎫)/편광자 (두께 : 5 ㎛, 인장 탄성률 : 650 ㎫) 의 층 구성을 갖는 장척상의 편광판을 얻었다.Subsequently, a (meth) acrylic resin film having a lactone ring structure with a thickness of 40 탆 was prepared as a protective film constituting the protective layer, and the corona treatment was performed on the easy-to-adhere treated surface of the protective film to obtain a polarizer side (Thickness: 40 占 퐉, tensile elastic modulus: 2650 MPa) / polarizer (thickness: 5 占 퐉, tensile elastic modulus: 650 MPa) by peeling the substrate from the polarizer by peeling the substrate with the protective film Thereby obtaining a long-axis polarizer having a layered structure.

2. 박리 필름의 첩합2. Adhesion of release film

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4 구 플라스크에, 부틸아크릴레이트 99 부 및 아크릴산4-하이드록시부틸 1 부를 함유하는 모노머 혼합물을 주입하였다. 또한 상기 모노머 혼합물 (고형분) 100 부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1 부를 아세트산에틸과 함께 주입하고, 천천히 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액온을 60 ℃ 부근으로 유지하고 7 시간 중합 반응을 실시하였다. 그 후, 얻어진 반응액에, 아세트산에틸을 첨가하고, 고형분 농도 30 % 로 조정한, 중량 평균 분자량 140 만의 아크릴계 폴리머 (A-1) 의 용액을 조제하였다.A four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas introducing tube and a condenser was charged with a monomer mixture containing 99 parts of butyl acrylate and 1 part of 4-hydroxybutyl acrylate. Further, 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was introduced into 100 parts of the above monomer mixture (solid content) together with ethyl acetate, and nitrogen gas was introduced while slowly stirring to displace the inside of the flask The polymerization reaction was carried out for 7 hours while maintaining the liquid temperature at around 60 캜. Thereafter, a solution of an acrylic polymer (A-1) having a weight average molecular weight of 1,400,000 was prepared by adding ethyl acetate to the reaction solution and adjusting the solid concentration to 30%.

얻어진 아크릴계 폴리머 (A-1) 용액의 고형분 100 부에 대하여, 가교제로서, 트리메틸올프로판자일릴렌디이소시아네이트 (상품명 : 타케네이트 D110N, 미츠이 화학 (주) 제조) 0.095 부와, 디벤조일퍼옥사이드 (상품명 : 나이퍼 BMT40SV, 닛폰 유지 (주) 제조) 0.3 부, 티올계 실란 커플링제 (C1) 로서, 메틸기 및 메르캅토기 함유 알콕시실릴 수지 (상품명 : X-41-1810, 신에츠 화학 공업 (주) 제조) 0.2 부, 아세토아세틸기 함유 실란 커플링제 (C2) 로서, 아세토아세틸기 함유 실란 커플링제 (상품명 : A-100, 소켄 화학 (주) 제조) 0.2 부를 배합하여, 아크릴계 점착제 용액 A 를 조제하였다.0.095 part of trimethylolpropane xylylene diisocyanate (trade name: Takenate D110N, manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd.) as a crosslinking agent, 0.075 parts of dibenzoyl peroxide (trade name: (Trade name: X-41-1810, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a thiol-based silane coupling agent (C1) And 0.2 part of a silane coupling agent containing an acetoacetyl group (trade name: A-100, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) as an acetoacetyl group-containing silane coupling agent (C2) were blended to prepare an acrylic pressure-sensitive adhesive solution A.

이어서, 박리 필름 A 의 표면에, 상기 아크릴계 점착제 용액 A 를 파운틴 코터로 균일하게 도포하고, 155 ℃ 의 공기 순환식 항온 오븐으로 2 분간 건조시켜, 박리 필름 A 의 표면에 두께 20 ㎛ 의 점착제층을 형성하였다. 이어서, 상기 편광판의 편광자측에, 점착제층을 개재하여 박리 필름 A 를 첩합함으로써, 박리 필름이 부착된 편광판을 제조하였다.Then, the acrylic pressure-sensitive adhesive solution A was uniformly coated on the surface of the release film A by using a fountain coater and dried in an air circulating thermostat oven at 155 캜 for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 20 탆 on the surface of the release film A. . Then, a release film A was stuck to the polarizer side of the polarizer plate with a pressure-sensitive adhesive layer interposed therebetween to manufacture a polarizer plate having a release film.

이어서, 상기 박리 필름을 첩합한 상기 편광판으로부터 박리 필름을 박리하고 (박리 공정), 상기 편광판의 상기 편광자측의 면에 박리한 박리 필름을 다시 첩합함으로써 (재첩합 공정), 장척상의 박리 필름이 부착된 편광판을 제조하였다.Subsequently, the release film is peeled from the polarizing plate to which the release film is laminated (release step), and the release film peeled off on the polarizer side of the polarizer is again bonded (rejoining step) To prepare a polarizing plate.

3. 표면 보호 필름의 첩합3. Adhesion of surface protective film

교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4 구 플라스크에, 2-에틸헥실아크릴레이트 (2EHA) 94 질량부, N,N-디에틸아크릴아미드 (DEAA) 1 질량부, 에톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트 (EDE) 1 질량부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 (HBA) 4 질량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.2 질량부, 아세트산에틸 150 질량부를 주입하고, 천천히 교반하면서 질소 가스를 도입하고, 플라스크 내의 액온을 60 ℃ 부근으로 유지하고 5 시간 중합 반응을 실시하여, 아크릴계 폴리머 (A-2) 의 용액 (40 질량%) 을 조제하였다. 아크릴계 폴리머 (A-2) 의 중량 평균 분자량은 57 만, 유리 전이 온도 (Tg) 는 -68 ℃ 이었다.In a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas introducing tube and a condenser, 94 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 1 part by mass of N, N-diethylacrylamide (DEAA) , 1 part by mass of glycol acrylate (EDE), 4 parts by mass of 4-hydroxybutyl acrylate (HBA), 0.2 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator, and 150 parts by mass of ethyl acetate, (40% by mass) of the acryl-based polymer (A-2) was prepared by introducing nitrogen gas while slowly stirring and maintaining the liquid temperature in the flask at around 60 ° C for 5 hours. The weight average molecular weight of the acrylic polymer (A-2) was 570,000, and the glass transition temperature (Tg) was -68 占 폚.

아크릴계 폴리머 (A-2) 용액 (40 질량%) 을 아세트산에틸로 20 질량% 로 희석시키고, 이 용액 500 질량부 (고형분 100 질량부) 에, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체 (닛폰 폴리우레탄 공업사 제조, 콜로네이트 HX : C/HX) 2 질량부 (고형분 2 질량부), 가교 촉매로서 디라우르산디부틸주석 (1 질량% 아세트산에틸 용액) 2 질량부 (고형분 0.02 질량부) 를 첨가하고, 혼합 교반을 실시하여, 아크릴계 점착제 용액 B 를 조제하였다.A solution (40% by mass) of the acrylic polymer (A-2) was diluted to 20% by mass with ethyl acetate, and 500 parts by mass (solid content: 100% by mass) of isocyanurate of hexamethylene diisocyanate 2 parts by mass (solids content: 2 parts by mass) and 2 parts by mass (solid content: 0.02 parts by mass) of dibutyltin dilaurate (1% by mass ethyl acetate solution) as a crosslinking catalyst were added , And the mixture was stirred to prepare an acrylic pressure-sensitive adhesive solution B.

표면 보호 필름으로서 두께 75 ㎛ 의 투명한 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (폴리에스테르 필름) 을 준비하였다. 상기 PET 필름에 상기 아크릴계 점착제 용액 B 를 도포하고, 130 ℃ 에서 1 분간 가열하여, 두께 15 ㎛ 의 점착제층을 형성하였다. 이어서, 상기 점착제층의 표면에, 편면에 실리콘 처리를 실시한 세퍼레이터인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (두께 25 ㎛) 의 실리콘 처리면을 첩합하여, 점착 시트 (세퍼레이터가 부착된 표면 보호 필름) 를 제조하였다.A transparent polyethylene terephthalate (PET) film (polyester film) having a thickness of 75 탆 was prepared as a surface protective film. The acrylic pressure-sensitive adhesive solution B was coated on the PET film and heated at 130 占 폚 for 1 minute to form a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 占 퐉. Subsequently, a siliconized surface of a polyethylene terephthalate film (thickness: 25 占 퐉) as a separator which was subjected to a silicone treatment on one side was adhered to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer to prepare a pressure-sensitive adhesive sheet (surface protective film with a separator attached thereto).

상기 점착 시트로부터 세퍼레이터를 박리하고, 상기 표면 보호 필름 (두께 : 75 ㎛, 인장 탄성률 : 3500 ㎫) 을 상기 박리 필름이 부착된 편광판의 상기 박리 필름과는 반대측의 면에 첩합함으로써, 장척상의 광학 적층체 1 을 제조하였다. 상기 광학 적층체 1 은, 표면 보호 필름/제 1 점착제층/편광판/제 2 점착제층/박리 필름의 층 구성을 갖는다.The separator was peeled off from the pressure-sensitive adhesive sheet, and the surface protective film (thickness: 75 m, tensile elastic modulus: 3500 MPa) was bonded to a surface of the polarizing plate having the release film opposite to the release film, Sieve 1 was prepared. The optical laminate 1 has a layer structure of a surface protective film / first pressure-sensitive adhesive layer / polarizing plate / second pressure-sensitive adhesive layer / release film.

얻어진 광학 적층체 1 을 박리력 및 박리 시험의 평가에 제공하였다. 또, 이하의 식 (1) 로 나타내는 탄력 지표 (X) 를 산출하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.The obtained optical laminate 1 was provided for evaluation of peel strength and peeling test. Further, the elasticity index X represented by the following formula (1) was calculated. The results are shown in Tables 1 and 2.

X = A - B - C (1)X = A - B - C (One)

A : 표면 보호 필름의 인장 탄성률 (㎫) × 표면 보호 필름의 두께 (㎛)A: tensile modulus (MPa) of surface protective film x thickness (mu m) of surface protective film

B : 편광판의 인장 탄성률 (㎫) × 편광판의 두께 (㎛)B: tensile modulus (MPa) of polarizer x thickness (占 퐉) of polarizer

C : 박리 필름의 인장 탄성률 (㎫) × 박리 필름의 두께 (㎛)C: tensile modulus of elasticity of the release film (MPa) x thickness of release film (占 퐉)

또한, 편광판이 제 1 보호층 및 제 2 보호층을 갖는 경우에는, 상기 식 (1) 중의 B 의 값은 이하의 식 (2) 에 기초하여 산출하는 것으로 한다.In the case where the polarizing plate has the first protective layer and the second protective layer, the value of B in the above formula (1) is calculated based on the following formula (2).

B = B1 + B2 + B3 (2)B = B1 + B2 + B3 (2)

B1 : 편광자의 인장 탄성률 (㎫) × 편광자의 두께 (㎛)B1: tensile modulus of the polarizer (MPa) x thickness of the polarizer (占 퐉)

B2 : 제 1 보호층의 인장 탄성률 (㎫) × 제 1 보호층의 두께 (㎛)B2: tensile modulus of elasticity of the first protective layer (MPa) x thickness of the first protective layer (mu m)

B3 : 제 2 보호층의 인장 탄성률 (㎫) × 제 2 보호층의 두께 (㎛)B3: tensile modulus of elasticity of the second protective layer (MPa) x thickness of the second protective layer (mu m)

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

박리 필름으로서, 박리 필름 B 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 2 를 제조하였다. 광학 적층체 2 를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the release film B was used as the release film. The optical laminate 2 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

박리 필름으로서, 박리 필름 C 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 3 을 제조하였다. 광학 적층체 3 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the release film C was used as the release film. The optical laminate 3 was provided in the same evaluation as in Example 1. [ The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 4><Example 4>

박리 필름으로서, 박리 필름 D 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 4 를 제조하였다. 광학 적층체 4 를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the release film D was used as the release film. Optical laminate 4 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 5>&Lt; Example 5 >

박리 필름으로서, 박리 필름 E 를 사용한 것과, 장척상의 박리 필름이 부착된 편광판을 제조할 때에 박리 공정 및 재첩합 공정을 실시하지 않았던 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 5 를 제조하였다. 광학 적층체 5 를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.The elongated optical laminate 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the peeling film E was used as the peeling film and the peeling process and the repacking process were not performed when the polarizing plate with the elongated film peeling film was produced Respectively. Optical laminate 5 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 6>&Lt; Example 6 >

박리 필름으로서, 박리 필름 F 를 사용한 것과, 장척상의 박리 필름이 부착된 편광판을 제조할 때에 박리 공정 및 재첩합 공정을 실시하지 않았던 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 6 을 제조하였다. 광학 적층체 6 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.The elongated optical laminate 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that the peeling film F was used as the peeling film and the peeling process and the repacking process were not performed when the polarizing plate with the elongated film peeling film was produced Respectively. The optical laminate 6 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 7>&Lt; Example 7 >

박리 필름으로서, 박리 필름 E 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 7 을 제조하였다. 광학 적층체 7 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 7 was produced in the same manner as in Example 1 except that the release film E was used as the release film. The optical laminate 7 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 8>&Lt; Example 8 >

박리 필름으로서, 박리 필름 F 를 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 8 을 제조하였다. 광학 적층체 8 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 8 was produced in the same manner as in Example 1 except that the release film F was used as the release film. The optical laminate 8 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 9>&Lt; Example 9 >

장척상의 박리 필름이 부착된 편광판을 제조할 때에 박리 공정 및 재첩합 공정을 실시하지 않았던 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 9 를 제조하였다. 광학 적층체 9 를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 9 was produced in the same manner as in Example 1, except that the peeling process and the repacking process were not carried out in the production of the polarizing plate with the elongated film peeling film. Optical laminate 9 was provided in the same evaluation as Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 10>&Lt; Example 10 >

장척상의 박리 필름이 부착된 편광판을 제조할 때에 박리 공정 및 재첩합 공정을 실시하지 않았던 것 이외에는 실시예 2 와 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 10 을 제조하였다. 광학 적층체 10 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 10 was produced in the same manner as in Example 2 except that the peeling process and the repacking process were not carried out in the production of the polarizing plate with the elongated film peeling film. Optical laminate 10 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 11>&Lt; Example 11 >

장척상의 박리 필름이 부착된 편광판을 제조할 때에 박리 공정 및 재첩합 공정을 실시하지 않았던 것 이외에는 실시예 3 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 11 을 제조하였다. 광학 적층체 11 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 11 was produced in the same manner as in Example 3, except that the peeling process and the repacking process were not carried out in the production of the polarizing plate having the elongated film peeling film. The optical laminate 11 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 12>&Lt; Example 12 >

장척상의 박리 필름이 부착된 편광판을 제조할 때에 박리 공정 및 재첩합 공정을 실시하지 않았던 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 12 를 제조하였다. 광학 적층체 12 를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 12 was produced in the same manner as in Example 4 except that the peeling process and the repacking process were not carried out in the production of the polarizing plate with the elongated film peeling film. The optical laminate 12 was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 13>&Lt; Example 13 >

보호층 (제 1 보호층) 을 구성하는 보호 필름으로서 두께 20 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 필름을 사용하여, 상기 보호 필름의 접착 용이 처리면에 코로나 처리를 실시하고, 편광자 적층체의 편광자측의 면에 코로나 처리를 실시한 상기 보호 필름을 첩합하고, 편광자로부터 기재를 박리하였다. 이어서, 보호층 (제 2 보호층) 을 구성하는 보호 필름으로서 두께 20 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 필름을 사용하여, 상기 보호 필름의 접착 용이 처리면에 코로나 처리를 실시하고, 편광자의 기재 박리면에 코로나 처리를 실시한 상기 보호 필름을 첩합함으로써, 제 1 보호층 (두께 : 20 ㎛, 인장 탄성률 : 2650 ㎫)/편광자 (두께 : 5 ㎛, 인장 탄성률 : 650 ㎫)/제 2 보호층 (두께 : 20 ㎛, 인장 탄성률 : 2650 ㎫) 의 층 구성을 갖는 편광판을 얻었다.(Meth) acrylic resin film having a lactone ring structure with a thickness of 20 탆 was used as the protective film constituting the protective layer (first protective layer), the corona treatment was performed on the easy-adhesion treated surface of the protective film, The protective film, which had been corona-treated on the side of the polarizer side of the body, was laminated, and the substrate was peeled off from the polarizer. Then, a corona treatment was performed on the easy-adhesion treated surface of the protective film using a (meth) acrylic resin film having a lactone ring structure with a thickness of 20 mu m as a protective film constituting the protective layer (second protective layer) (Thickness: 20 占 퐉, tensile elastic modulus: 2650 MPa) / polarizer (thickness: 5 占 퐉, tensile elastic modulus: 650 MPa) / the second protective film To obtain a polarizing plate having a layer structure of a protective layer (thickness: 20 m, tensile elastic modulus: 2650 MPa).

상기 편광판을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 13 을 제조하였다. 광학 적층체 13 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 13 was produced in the same manner as in Example 1 except that the polarizing plate was used. The optical laminate 13 was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 14>&Lt; Example 14 >

보호층 (제 1 보호층) 을 구성하는 보호 필름으로서 두께 25 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 필름을 사용한 것, 및 보호층 (제 2 보호층) 을 구성하는 보호 필름으로서 두께 13 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 13 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 14 를 제조하였다. 광학 적층체 14 를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.(Meth) acrylic resin film having a lactone ring structure with a thickness of 25 mu m was used as the protective film constituting the protective layer (first protective layer), and a protective film constituting the protective layer (second protective layer) Mu] m of a (meth) acrylic resin film having a lactone ring structure was used in place of the (meth) acrylic resin film having a lactone ring structure. The optical laminate 14 was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 15>&Lt; Example 15 >

보호층 (제 1 보호층) 을 구성하는 보호 필름으로서 두께 20 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 필름을 사용하여, 상기 보호 필름의 접착 용이 처리면에 코로나 처리를 실시하고, 편광자 적층체의 편광자측의 면에 코로나 처리를 실시한 상기 보호 필름을 첩합하고, 편광자로부터 기재를 박리하였다. 이어서, 보호층 (제 2 보호층) 을 구성하는 보호 필름으로서 두께 20 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 필름을 사용하여, 상기 보호 필름의 접착 용이 처리면에 코로나 처리를 실시하고, 편광자의 기재 박리면에 코로나 처리를 실시한 상기 보호 필름을 첩합함으로써, 제 1 보호층 (두께 : 20 ㎛, 인장 탄성률 : 2650 ㎫)/편광자 (두께 : 5 ㎛, 인장 탄성률 : 650 ㎫)/제 2 보호층 (두께 : 20 ㎛, 인장 탄성률 : 2650 ㎫) 의 층 구성을 갖는 편광판을 얻었다.(Meth) acrylic resin film having a lactone ring structure with a thickness of 20 탆 was used as the protective film constituting the protective layer (first protective layer), the corona treatment was performed on the easy-adhesion treated surface of the protective film, The protective film, which had been corona-treated on the side of the polarizer side of the body, was laminated, and the substrate was peeled off from the polarizer. Then, a corona treatment was performed on the easy-adhesion treated surface of the protective film using a (meth) acrylic resin film having a lactone ring structure with a thickness of 20 mu m as a protective film constituting the protective layer (second protective layer) (Thickness: 20 占 퐉, tensile elastic modulus: 2650 MPa) / polarizer (thickness: 5 占 퐉, tensile elastic modulus: 650 MPa) / the second protective film To obtain a polarizing plate having a layer structure of a protective layer (thickness: 20 m, tensile elastic modulus: 2650 MPa).

상기 편광판을 사용한 것 이외에는 실시예 9 와 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 15 를 제조하였다. 광학 적층체 15 를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 15 was produced in the same manner as in Example 9 except that the above polarizing plate was used. The optical laminate 15 was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<실시예 16>&Lt; Example 16 >

보호층 (제 1 보호층) 을 구성하는 보호 필름으로서 두께 25 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 필름을 사용한 것, 및 보호층 (제 2 보호층) 을 구성하는 보호 필름으로서 두께 13 ㎛ 의 락톤 고리 구조를 갖는 (메트)아크릴 수지 필름을 사용한 것 이외에는 실시예 15 와 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 16 을 제조하였다. 광학 적층체 16 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.(Meth) acrylic resin film having a lactone ring structure with a thickness of 25 mu m was used as the protective film constituting the protective layer (first protective layer), and a protective film constituting the protective layer (second protective layer) (Meth) acrylic resin film having a lactone ring structure was used in place of the (meth) acrylic resin film having a lactone ring structure. The optical laminate 16 was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

표면 보호 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (두께 : 38 ㎛, 인장 탄성률 : 3500 ㎫) 을 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 17 을 제조하였다. 광학 적층체 17 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 17 was produced in the same manner as in Example 5 except that a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 38 m, tensile elastic modulus: 3500 MPa) was used as the surface protective film. The optical laminate 17 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<비교예 2>&Lt; Comparative Example 2 &

표면 보호 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (두께 : 50 ㎛, 인장 탄성률 : 3500 ㎫) 을 사용한 것 이외에는 실시예 5 와 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 18 을 제조하였다. 광학 적층체 18 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 18 was produced in the same manner as in Example 5 except that a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 50 m, tensile elastic modulus: 3500 MPa) was used as the surface protective film. The optical laminate 18 was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<비교예 3>&Lt; Comparative Example 3 &

표면 보호 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (두께 : 38 ㎛, 인장 탄성률 : 3500 ㎫) 을 사용한 것 이외에는 실시예 9 와 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 19 를 제조하였다. 광학 적층체 19 를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 19 was produced in the same manner as in Example 9 except that a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 38 mu m, tensile elastic modulus: 3500 MPa) was used as the surface protective film. The optical laminate 19 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<비교예 4>&Lt; Comparative Example 4 &

표면 보호 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (두께 : 50 ㎛, 인장 탄성률 : 3500 ㎫) 을 사용한 것 이외에는 실시예 9 와 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 20 을 제조하였다. 광학 적층체 20 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 20 was produced in the same manner as in Example 9 except that a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 50 m, tensile elastic modulus: 3500 MPa) was used as the surface protective film. The optical laminate 20 was subjected to the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<비교예 5>&Lt; Comparative Example 5 &

표면 보호 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (두께 : 38 ㎛, 인장 탄성률 : 3500 ㎫) 을 사용한 것 이외에는 실시예 11 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 21 을 제조하였다. 광학 적층체 21 을 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 21 was produced in the same manner as in Example 11 except that a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 38 mu m, tensile elastic modulus: 3500 MPa) was used as the surface protective film. The optical laminate 21 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

<비교예 6>&Lt; Comparative Example 6 >

표면 보호 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (두께 : 50 ㎛, 인장 탄성률 : 3500 ㎫) 을 사용한 것 이외에는 실시예 11 과 동일하게 하여 장척상의 광학 적층체 22 를 제조하였다. 광학 적층체 22 를 실시예 1 과 동일한 평가에 제공하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타낸다.An elongated optical laminate 22 was produced in the same manner as in Example 11 except that a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 50 m, tensile elastic modulus: 3500 MPa) was used as the surface protective film. The optical laminate 22 was provided in the same evaluation as in Example 1. The results are shown in Tables 1 and 2.

Figure pat00005
Figure pat00005

Figure pat00006
Figure pat00006

표 1 및 표 2 로부터 분명한 바와 같이, 탄력 지표가 정의 값인 실시예 1 ∼ 16 의 광학 적층체는, 편광판에 흡착흔이 남지 않았다. 박리 필름의 계기 박리력 (Y) 이 표면 보호 필름의 계기 박리력 (X) 보다 작은 실시예의 광학 적층체는, 박리 필름의 박리성이 높고, X - Y 가 0.1 보다 큰 실시예의 광학 적층체는, 박리 필름의 박리성이 특히 높다.As is clear from Tables 1 and 2, in the optical laminate of Examples 1 to 16, in which the elasticity index is a positive value, there was no adsorbed trace on the polarizing plate. The optical laminate of the example in which the peeling force Y of the peel film is smaller than the instrument peel force X of the surface protective film has the following characteristics: the peelability of the peel film is high, and the optical laminate of the embodiment having X- , The peelability of the release film is particularly high.

본 발명의 광학 적층체는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 바람직하게 사용된다.The optical laminate of the present invention is preferably used for an image display device such as a liquid crystal display device, an organic EL display device and the like.

10 표면 보호 필름
20 제 1 점착제층
30 편광판
31 편광자
32 제 1 보호층
33 제 2 보호층
40 제 2 점착제층
50 박리 필름
100 광학 적층체
101 광학 적층체
10 Surface Protective Film
20 first pressure-sensitive adhesive layer
30 polarizer
31 polarizer
32 First protective layer
33 Second protective layer
40 second pressure-sensitive adhesive layer
50 release film
100 optical stack
101 optical laminate

Claims (6)

표면 보호 필름과, 제 1 점착제층과, 편광판과, 제 2 점착제층과, 박리 필름을 이 순서로 갖고,
상기 표면 보호 필름의 인장 탄성률과 두께의 곱을 A 로 하고, 상기 편광판의 인장 탄성률과 두께의 곱을 B 로 하고, 상기 박리 필름의 인장 탄성률과 두께의 곱을 C 로 했을 때,
A > B + C
를 만족시키는, 광학 적층체.
A surface protective film, a first pressure-sensitive adhesive layer, a polarizing plate, a second pressure-sensitive adhesive layer, and a release film in this order,
When the product of the tensile modulus of elasticity of the surface protective film and the thickness is A and the product of the tensile modulus and thickness of the polarizing plate is B and the product of the tensile elastic modulus and the thickness of the release film is C,
A> B + C
Satisfies the following conditional expression.
제 1 항에 있어서,
상기 표면 보호 필름의 계기 박리력을 X (N/50 ㎜) 로 하고, 상기 박리 필름의 계기 박리력을 Y (N/50 ㎜) 로 했을 때,
Y < X
를 만족시키는, 광학 적층체.
The method according to claim 1,
When the instrument peel force of the surface protective film is X (N / 50 mm) and the instrument peel force of the release film is Y (N / 50 mm)
Y <X
Satisfies the following conditional expression.
제 2 항에 있어서,
X - Y > 0.1
을 만족시키는, 광학 적층체.
3. The method of claim 2,
X - Y > 0.1
.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 표면 보호 필름의 두께와, 상기 제 1 점착제층의 두께의 합계가 75 ㎛ 이상이고,
상기 박리 필름의 두께가 38 ㎛ 이하인, 광학 적층체.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The total thickness of the surface protective film and the first pressure sensitive adhesive layer is 75 占 퐉 or more,
And the thickness of the peeling film is 38 占 퐉 or less.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 편광판이, 편광자와, 상기 편광자의 상기 표면 보호 필름측에 적층된 보호층을 갖고,
상기 편광자의 두께가 12 ㎛ 이하인, 광학 적층체.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the polarizing plate has a polarizer and a protective layer laminated on the surface protective film side of the polarizer,
Wherein the thickness of the polarizer is 12 占 퐉 or less.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체의 상기 편광판과, 상기 제 2 점착제층을 개재하여 상기 편광판이 첩합된 광학 부재를 갖는, 화상 표시 장치.An image display device comprising the polarizing plate of the optical laminate according to any one of claims 1 to 3 and an optical member in which the polarizing plate is bonded via the second pressure-sensitive adhesive layer.
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