KR20180075758A - 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 스퍼터링 휠 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 휠에 코팅층을 형성하여 내식성과 내마모성을 개선 시키기 위한 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 스퍼터링 휠에 관한 것이다. 본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법은 금속 모재의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 금속 박막을 증착하는 단계, 금속 박막의 표면에 금속 타겟을 통해 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용하여 스퍼터링으로 희생 금속 산화막을 형성하는 단계를 포함하여, 도금막이 휠로부터 박리되는 문제점을 야기하는 비이상적인 금속 산화 반응을 억제시킴으로써 내식성과 내마모성이 우수한 코팅층을 형성할 수 있다.
Description
본 발명은 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 자동차, 오토바이 또는 자전거 등의 바퀴에 포함되는 휠에 코팅층을 형성하여 내식성과 내마모성을 개선 시키기 위한 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 스퍼터링 휠에 관한 것이다.
자동차 알루미늄 휠 제조 산업은 나름대로 비교적 큰 시장이 형성되어 고급브랜드를 형성하기에 이르렀다. 그러나 21세기 들어서면서 환경 친화적인 공정과 제품 규격을 요구하기에 이르러 습식 기반의 자동차 휠 도금 기술은 더 이상 실생활에 적용하는데 한계상황에 이르렀고 대부분의 습식 도금 공정과 관련된 기업들이 환경 규제에 제약이 적은 중국이나 중남미로 이전하고 있다.
최근에는 진공 증착 기술이 발전함에 따라 스퍼터링 방법으로 금속 박막을 증착하는 건식 코팅 방법이 개발되어 자동차용 알루미늄 휠에 응용되고 있다.
한편 한국등록특허 제10-0789766호에는 상술한 바와 같이 스퍼터링 방법을 사용하는 "자동차용 알루미늄 휠 건식 도금 방법"에 대하여 개시하고 있다.
개시된 자동차용 알루미늄 휠 건식 도금 방법은 알루미늄 휠에 액체 프라이머 하도와 중도 코팅제를 도포한 후 금속 박막을 스퍼터링 진공 증착하고, 최종적으로 고투명 아크릴 수지를 코팅하여 기존 습식 도금방식에 의해서는 재현할 수 없었던 다양한 색상을 구현할 수 있는 자동차용 휠 제조 방법을 제시하고 있다.
이러한 스퍼터링 건식 도금 방법을 이용한 휠 제조 공정은 기존 습식 도금 방법의 생산단가에 비해 30% 정도 저렴하며, 습식 도금 공정 시 문제가 되는 폐수와 같은 산업 부산물 발생이 없어 친환경적이며, 대부분의 소재에 적용이 가능하기 때문에 알루미늄 휠 뿐만 아니라 습식 도금 막이 요구되는 거의 모든 산업에 응용 가능하다는 장점을 가지고 있다.
더 나아가 한국등록특허 제10-0936141호에는 기존의 스퍼터링 건식 도금 공정을 연속적으로 진공배기, 스퍼터링 금속 증착, 배출을 자동으로 이루어질 수 있는 인라인(in-line)시스템 설비로 변경하여 자동차용 휠 생산성을 대폭 향상되게 한 "인라인 방식의 자동차용 알루미늄 휠 도금방법"을 제시하고 있다.
한국등록특허 제10-0789766호와 한국등록특허 제10-0936141호에 개시된 방법에 의해 제조된 스퍼터링 휠의 경우, 시간이 경과함에 따라 스퍼터링 된 금속 박막과 공기중에 포함된 산소가 반응하여 산화 반응을 일으킴으로써 금속 박막 내 금속 산화물이 형성되는데 이러한 금속 산화 반응은 온도와 습도가 증가할수록 촉진되는 특징이 있다. 이에 따라, 장시간 고온 다습한 환경에서 사용할 경우, 비이상적으로 금속 산화막이 금속 박막 내 형성되어 도금막이 휠로부터 박리되는 문제점을 유발한다. 또한 금속 박막과 산소와의 산화 반응이 불균일하게 발생되기 때문에, 스퍼터링 된 금속 박막 내 산화막이 형성되는 위치와 양을 예측할 수 없어, 스퍼터링 도금 기술로 제조된 알루미늄 휠의 내구성과 신뢰성을 크게 저하 시키는 문제점이 발생한다.
이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 한국등록특허 제10-1078912호에는 자동차용 알루미늄 휠 제조 시 스퍼터링 된 금속 박막 표면에 산화규소(SiO2)막을 코팅하는 후 처리 방법을 개시하고 있다.
그러나 금속 박막 표면에 산화규소막을 코팅하는 방법은 산화규소를 증착하기 위해서 별도의 산화규소 타겟을 이용하여 스퍼터링 하거나, 전자빔 증착기 또는 화학기상증착기와 같은 별도의 증착 설비를 이용하여야 하기 때문에, 추가적인 증착 설비가 필요하여 생산 단가를 증가시키고, 생산성을 저하시키는 문제점이 있었다.
따라서 본 발명의 목적은 별도의 증착 설비 없이, 간단한 방법으로 스퍼터링 된 금속 박막과 산소와의 산화 반응에 따른 내식성과, 내마모성을 개선 시킬 수 있는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 스퍼터링 휠을 제공하는 데 있다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법은 금속 모재의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 금속 박막을 증착하는 단계, 상기 금속 박막의 표면에 상기 금속 타겟을 통해 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용하여 스퍼터링으로 희생 금속 산화막을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 있어서, 상기 금속 박막을 증착하는 단계에서, 상기 제1 플라즈마는 아르곤(Ar) 기체, 질소(N) 기체 또는 제논(Xe) 기체 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 있어서, 상기 금속 타겟은 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 류세늄(Ru), 마그네시윰(Mg), 니켈(Ni), 타이타늄(Ti), 탄탈늄(Ta), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 몰리브데니늄(Mo), 텅스텐(W), 납(Pb), 세슘(Cs), 하프늄(Hf), 벨릴늄(Be), 아연(Zn) 또는 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 있어서, 상기 희생 금속 산화막을 형성하는 단계는, 상기 금속 박막을 증착하는 단계에 연속적으로 동일한 상기 금속 타겟을 통해 반응 플라즈마를 상기 제2 플라즈마로 변경하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 있어서, 상기 금속 모재는 휠 모재인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 있어서, 상기 금속 박막을 증착하는 단계 이전에, 상기 금속 모재의 표면에 존재하는 오염물을 제거하는 전처리 단계, 전처리된 상기 금속 모재의 표면에 하도 도막을 코팅하는 단계, 상기 하도 도막의 표면에 상도 도막을 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 있어서, 상기 하도 도막을 코팅하는 단계는, 폴리에스테르수지 또는 에폭시수지 중 적어도 하나를 포함하는 도료를 이용하여 정전스프레이건으로 토출시켜, 양전하를 띤 접지된 상기 금속 소재 표면에 도포하고, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 있어서, 상기 중도 도막을 코팅하는 단계는, 아크릴변성폴리부타디엔(polybuta dine)계 수지를 포함하는 도료를 이용하여 에어건으로 토출시켜, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 있어서, 상기 금속 박막을 증착하는 단계 및 상기 희생 금속 산화막을 형성하는 단계에서, 상기 스퍼터링은 상기 하도 도막 및 상기 중도 도막의 경화 온도 이하의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 있어서, 상기 희생 금속 산화막을 형성하는 단계 이후에, 상기 희생 금속 산화막의 표면에 상도 도막을 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법에 있어서, 상기 상도 도막을 코팅하는 단계는, 아크릴 도료를 포함하는 도료를 상기 희생 금속 산화막의 표면에 도포하고, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층은 금속 모재의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 증착되는 금속 박막, 상기 금속 박막의 표면에 상기 금속 타겟을 통해 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용하여 스퍼터링으로 형성되는 희생 금속 산화막을 포함한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 스퍼터링 휠은 휠 모재, 상기 휠 모재의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 증착되는 금속 박막, 상기 금속 박막의 표면에 상기 금속 타겟을 통해 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용하여 스퍼터링으로 형성되는 희생 금속 산화막을 포함한다.
본 발명에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층의 제조 방법은 금속 모재의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 금속 박막을 증착하고, 동일한 금속 타겟을 통해 연속적으로 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용한 스퍼터링으로 희생 금속 산화막을 형성함으로써, 도금막이 휠로부터 박리되는 문제점을 야기하는 비이상적인 금속 산화 반응을 억제하여 내식성과 내마모성이 우수한 코팅층을 형성할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 스퍼터링 휠을 나타낸 모식도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층의 제조 방법을 나타낸 순서도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 스퍼터링 휠의 X선 광전자 분광(XPS, X-ray photoelectron Spectroscopy) 결과이다.
도 4는 하도 도막 및 중도 도막의 균열이 진행중인 모습을 보여주는 주사전자현미경(SEM, Scanning Electron Microscope) 사진이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층의 제조 방법을 나타낸 순서도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 스퍼터링 휠의 X선 광전자 분광(XPS, X-ray photoelectron Spectroscopy) 결과이다.
도 4는 하도 도막 및 중도 도막의 균열이 진행중인 모습을 보여주는 주사전자현미경(SEM, Scanning Electron Microscope) 사진이다.
하기의 설명에서는 본 발명의 실시예를 이해하는데 필요한 부분만이 설명되며, 그 이외 부분의 설명은 본 발명의 요지를 흩트리지 않도록 생략될 것이라는 것을 유의하여야 한다.
이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념으로 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층을 나타낸 모식도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 스퍼터링 휠(200)은 금속 모재(10) 및 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층(100)을 포함한다.
금속 모재(10)는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층(100)이 코팅되는 금속으로, 자동차, 오토바이 또는 자전거 타이어의 주요 부품인 휠 모재가 될 수 있다. 여기서 금속 모재(10)가 휠 모재인 경우, 알루미늄을 포함하는 재질로 형성될 수 있으며, 이 밖에도 코팅층(100)을 필요로 하는 다양한 금속 재질이 될 수 있다. 이하 본 발명의 실시예에서는 금속 모재(10)가 휠 모재인 것으로 가정하에 설명하도록 한다.
이러한 금속 모재(10)는 코팅층(100)이 형성되기 전에, 휠 형상으로 가공한 상태에서 표면에 쇼트볼을 쏘아 표면에 이물질을 제거하여 코팅층(100)의 부착성을 향상시킬 수 있다. 즉 금속 모재(10)는 표면에 묻은 여러가지 이물질을 쇼트볼로 타격하여 제거함으로써, 코팅층(100)의 부착성을 높일 수 있다. 이후 금속 모재(10)는 표면을 정삭하는 정삭 공정을 추가함으로써 코팅층(100)의 부착성을 더욱 향상 시킬 수 있다. 이밖에도 금속 모재(10)는 표면에 화학약품을 분사하여 표면의 오염물을 화학적 반응을 통해 제거하는 방법을 사용하여 표면 처리 할 수 있다.
한편 본 발명의 실시예에 따른 코팅층(100)은 하도 도막(20), 중도 도막(30), 금속 박막(40), 희생 금속 산화막(50) 및 상도 도막(60)을 포함한다.
하도 도막(20)은 금속 모재(10)의 표면에 폴리에스테르수지 또는 에폭시수지 중 적어도 하나를 포함하는 도료를 이용하여 정전스프레이건으로 토출시켜, 양전하를 띤 접지된 상기 금속 소재 표면에 도포하고, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시켜 형성할 수 있다. 여기서 하도 도막(20)의 두께는 0.1 ~ 200㎛가 될 수 있다.
중도 도막(20)은 하도 도막(20)의 표면에 코팅되는 막으로 하도 도막(20)의 도료가 금속 모재(10)의 표면에 도장된 후 건조된 상태에서 코팅될 수 있다. 이러한 중도 도막(20)은 금속 모재(10)의 표면의 레벨링(Leveling) 개선 즉, 매끄럽고, 부드럽게 함과 동시에 스퍼터링 휠(200)의 광택성을 발휘하도록 할 수 있다. 여기서 중도 도막(20)의 두께는 0.1 ~ 200㎛가 될 수 있다.
이러한 중도 도막(20)은 아크릴변성폴리부타디엔(polybuta dine)계 수지를 포함하는 도료를 이용하여 에어건으로 토출시켜, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시켜 형성될 수 있다.
금속 박막(40)은 중도 도막(20)의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 증착될 수 있다. 여기서 제1 플라즈마는 아르곤(Ar) 기체, 질소(N) 기체 또는 제논(Xe) 기체 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 그리고 금속 타겟은 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 류세늄(Ru), 마그네시윰(Mg), 니켈(Ni), 타이타늄(Ti), 탄탈늄(Ta), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 몰리브데니늄(Mo), 텅스텐(W), 납(Pb), 세슘(Cs), 하프늄(Hf), 벨릴늄(Be), 아연(Zn) 또는 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 즉 금속 박막(40)은 제1 플라즈마로 금속 타겟의 구성 성분을 분출시켜 중도 도막(20) 상부에 금속 타겟의 구성 성분이 도달하여 0.001 ~ 200㎛ 두께로 형성될 수 있다. 이때 금속 박막(40)의 스퍼터링 온도는 하도 도막 및 중도 도막의 경화 온도보다 낮은 온도에서 수행될 수 있다.
희생 금속 산화막(50)은 금속 박막의 표면에 금속 타겟을 통해 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용하여 스퍼터링으로 형성된다. 여기서 금속 타겟은 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 류세늄(Ru), 마그네시윰(Mg), 니켈(Ni), 타이타늄(Ti), 탄탈늄(Ta), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 몰리브데니늄(Mo), 텅스텐(W), 납(Pb), 세슘(Cs), 하프늄(Hf), 벨릴늄(Be), 아연(Zn) 또는 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이때, 희생 금속 산화막(50)은 금속 박막(40)을 증착한 후에 연속적으로 동일한 스퍼터링 장치에서 동일한 금속 타겟으로 진행된다. 즉 희생 금속 산화막(50) 형성은 금속 박막(40) 증착 후에, 제공되는 플라즈마를 제1 플라즈마에서 제2 플라즈마로 달리 제공하여 진행된다. 이때 제2 플라즈마는 산소를 포함된 가스가 사용될 수 있다. 즉 희생 금속 산화막(50)은 금속 타겟을 사용하여 스퍼터링을 수행함에도 불구하고, 플라즈마 내에 포함된 산소 원자와 스퍼터링되는 금속 원자와의 반응에 의해 금속 박막(40)의 표면에 균일하게 형성될 수 있다. 또한 희생 금속 산화막(50)은 0.001 ~ 200㎛ 두께로 형성될 수 있다.
상도 도막(60)은 희생 금속 산화막(50)의 표면에 형성되어 최종적으로 투명 코팅하는 막을 의미한다. 여기서 상도 도막(60)은 아크릴 도료를 포함하는 도료를 희생 금속 산화막(50)의 표면에 도포하고, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시켜 형성할 수 있다. 여기서 상도 도막(60)의 두께는 0.1 ~ 200㎛가 될 수 있다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층의 제조 방법을 나타낸 순서도이다.
도 2를 참조하면, 먼저 S10 단계에서, 금속 모재의 전처리를 실시한다. S10 단계에서는 금속 모재의 표면에 존재하는 오염물을 제거하여 코팅층의 부착력을 향상시키고, 금속 모재의 표면을 매끄럽게 만들어 광택을 향상시키는 역할을 할 수 있다. 이때 S10 단계에서는 쇼트볼을 금속 모재에 분사하여 오염물을 물리적으로 제거하는 방법과, 화학약품을 사용하여 오염물을 화학적으로 제거하는 방법을 포함할 수 있다.
다음으로 S20 단계에서 S10 단계에서 전처리된 금속 모재의 표면에 하도 도막을 코팅한다. 즉 S20 단계에서는 금속 모재(10)의 표면에 폴리에스테르수지 또는 에폭시수지 중 적어도 하나를 포함하는 도료를 이용하여 정전스프레이건으로 토출시켜, 양전하를 띤 접지된 금속 소재 표면에 도포하고, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시켜 0.1 ~ 200㎛ 두께의 하도 도막을 형성할 수 있다.
다음으로 S30 단계에서 하도 도막의 도료가 금속 모재의 표면에 도장된 후 건조된 상태에서 중도 도막을 코팅할 수 있다. S30 단계에서는 금속 모재(20)의 표면의 레벨링(Leveling) 개선 즉, 매끄럽고, 부드럽게 함과 동시에 스퍼터링 휠(200)의 광택성을 발휘하도록 할 수 있다. 여기서 중도 도막의 두께는 0.1 ~ 200㎛가 될 수 있다. 상세하게 S30 단계에서는 아크릴변성폴리부타디엔(polybuta dine)계 수지를 포함하는 도료를 이용하여 에어건으로 토출시켜, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시켜 중도 도막을 형성할 수 있다.
다음으로 S40 단계에서 중도 도막의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 금속 박막을 증착한다. 즉 S40 단계에서는 진공 챔버내에서 아르곤(Ar) 기체, 질소(N) 기체 또는 제논(Xe) 기체 중 적어도 하나를 포함하는 제1 플라즈마를 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 류세늄(Ru), 마그네시윰(Mg), 니켈(Ni), 타이타늄(Ti), 탄탈늄(Ta), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 몰리브데니늄(Mo), 텅스텐(W), 납(Pb), 세슘(Cs), 하프늄(Hf), 벨릴늄(Be), 아연(Zn) 또는 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함하는 금속 타겟에 충돌시켜, 금속 타겟의 원자들이 튀어나와 중도 도막의 표면에 증착됨으로써 금속 박막을 형성시킬 수 있다. 한편 S40 단계에서 스퍼터링 조건은 하도 도막 및 중도 도막의 열팽창 계수 차이로 인한 응력에 의해 균일이 발생할 수 있기 때문에 하도 도막 및 중도 도막의 경화 온도 이하의 온도에서 금속 박막을 스퍼터링 증착할 수 있다.
다음으로 S50 단계에서 금속 박막의 표면에 금속 타겟을 통해 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용하여 스퍼터링으로 희생 금속 산화막을 형성할 수 있다. 이때, 희생 금속 산화막은 금속 박막을 증착한 후에 연속적으로 동일한 스퍼터링 장치에서 동일한 금속 타겟으로 진행된다. 즉 희생 금속 산화막은 금속 박막 증착 후에, 제공되는 플라즈마를 제1 플라즈마에서 제2 플라즈마로 달리 제공하여 진행된다. 이때 제2 플라즈마는 산소를 포함된 가스가 사용될 수 있다. 즉 희생 금속 산화막은 금속 타겟을 사용하여 스퍼터링을 수행함에도 불구하고, 플라즈마 내에 포함된 산소 원자와 스퍼터링되는 금속 원자와의 반응에 의해 금속 박막의 표면에 형성될 수 있다. S50 단계에서 스퍼터링 조건은 스퍼터링 조건은 하도 도막 및 중도 도막의 열팽창 계수 차이로 인한 응력에 의해 균일이 발생할 수 있기 때문에 하도 도막 및 중도 도막의 경화 온도 이하의 온도에서 희생 금속 산화막을 스퍼터링 증착할 수 있다.
그리고 S60 단계에서는 희생 금속 산화막의 표면에 최종적으로 투명 코팅하는 상도 도막을 형성한다. 여기서 상도 도막은 아크릴 도료를 포함하는 도료를 희생 금속 산화막(50)의 표면에 도포하고, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시켜 0.1 ~ 200㎛ 두께로 형성할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층의 제조 방법은 금속 모재의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 금속 박막을 증착하고, 동일한 금속 타겟을 통해 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용하여 스퍼터링으로 희생 금속 산화막을 형성함으로써, 도금막이 휠로부터 박리되는 문제점을 야기하는 비이상적인 금속 산화 반응을 억제하여 내식성과 내마모성이 우수한 코팅층을 형성할 수 있다.
한편 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 스퍼터링 휠의 X선 광전자 분광(XPS, X-ray Photoelectron Spectroscopy) 결과이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 희생 금속 산화막을 이용한 스퍼터링 휠에서 알루미늄 타겟을 이용한 금속 박막 상부에, 금속 박막 형성 조건과 동일한 조건에서 동일한 알루미늄 타겟을 사용하여 산소 플라즈마 상태에서 스퍼터링 할 경우, 알루미늄 상부에 알루미늄 산화막이 형성됨을 확인할 수 있었다.
한편 도 4는 하도 도막 및 중도 도막의 균열이 진행중인 모습을 보여주는 주사전자현미경(SEM, Scanning Electron Microscope) 사진이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 하도 도막 및 중도 도막의 열팽창 계수 차이로 인한 응력에 의해 균일이 발생될 수 있다. 따라서 본 발명의 실시예에서는 하도 도막 및 중도 도막의 경화 온도 이하의 온도에서 금속 박막 및 희생 금속 산화막의 스퍼터링 공정을 수행함으로써, 하도 도막 및 중도 도막의 균열을 방지할 수 있다.
한편, 본 도면에 개시된 실시예는 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시예 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 자명한 것이다.
10 : 금속 모재
20 : 하도 도막
30 : 중도 도막 40 : 금속 박막
50 : 희생 금속 산화막 60 : 상도 도막
100 : 코팅층 200 : 스퍼터링 휠
30 : 중도 도막 40 : 금속 박막
50 : 희생 금속 산화막 60 : 상도 도막
100 : 코팅층 200 : 스퍼터링 휠
Claims (13)
- 금속 모재의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 금속 박막을 증착하는 단계;
상기 금속 박막의 표면에 상기 금속 타겟을 통해 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용하여 스퍼터링으로 희생 금속 산화막을 형성하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 금속 박막을 증착하는 단계에서,
상기 제1 플라즈마는 아르곤(Ar) 기체, 질소(N) 기체 또는 제논(Xe) 기체 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 금속 타겟은 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 류세늄(Ru), 마그네시윰(Mg), 니켈(Ni), 타이타늄(Ti), 탄탈늄(Ta), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 몰리브데니늄(Mo), 텅스텐(W), 납(Pb), 세슘(Cs), 하프늄(Hf), 벨릴늄(Be), 아연(Zn) 또는 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 희생 금속 산화막을 형성하는 단계는,
상기 금속 박막을 증착하는 단계에 연속적으로 동일한 상기 금속 타겟을 통해 반응 플라즈마를 상기 제2 플라즈마로 변경하는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 금속 모재는 휠 모재인 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 제1항에 있어서,
상기 금속 박막을 증착하는 단계 이전에,
상기 금속 모재의 표면에 존재하는 오염물을 제거하는 전처리 단계;
전처리된 상기 금속 모재의 표면에 하도 도막을 코팅하는 단계;
상기 하도 도막의 표면에 상도 도막을 코팅하는 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 제6항에 있어서,
상기 하도 도막을 코팅하는 단계는,
폴리에스테르수지 또는 에폭시수지 중 적어도 하나를 포함하는 도료를 이용하여 정전스프레이건으로 토출시켜, 양전하를 띤 접지된 상기 금속 소재 표면에 도포하고, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시키는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 제7항에 있어서,
상기 중도 도막을 코팅하는 단계는,
아크릴변성폴리부타디엔(polybuta dine)계 수지를 포함하는 도료를 이용하여 에어건으로 토출시켜, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시키는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 제8항에 있어서,
상기 금속 박막을 증착하는 단계 및 상기 희생 금속 산화막을 형성하는 단계에서,
상기 스퍼터링은 상기 하도 도막 및 상기 중도 도막의 경화 온도 이하의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 제6항에 있어서,
상기 희생 금속 산화막을 형성하는 단계 이후에,
상기 희생 금속 산화막의 표면에 상도 도막을 코팅하는 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 제10항에 있어서,
상기 상도 도막을 코팅하는 단계는,
아크릴 도료를 포함하는 도료를 상기 희생 금속 산화막의 표면에 도포하고, 건조로에서 300℃ 이하로 100분 이내로 경화시키는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층 제조 방법. - 금속 모재의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 증착되는 금속 박막;
상기 금속 박막의 표면에 상기 금속 타겟을 통해 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용하여 스퍼터링으로 형성되는 희생 금속 산화막;
을 포함하는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 코팅층. - 휠 모재;
상기 휠 모재의 표면에 제1 플라즈마를 이용하여 금속 타겟을 통해 스퍼터링으로 증착되는 금속 박막;
상기 금속 박막의 표면에 상기 금속 타겟을 통해 산소를 포함하는 제2 플라즈마를 이용하여 스퍼터링으로 형성되는 희생 금속 산화막;
을 포함하는 것을 특징으로 하는 희생 금속 산화막을 이용한 스퍼터링 휠.
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