KR20180073953A - Contaminant and dust collecting facility - Google Patents

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KR20180073953A
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이영곤
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주식회사 디에이피
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Abstract

The present invention relates to a contaminant and dust collection facility, which controls the flow rate, the speed, and a moving path of gas transferring a specimen so as to effectively remove contaminant and foreign matters generated from the specimen. According to one embodiment of the present invention, the contaminant and dust collection facility comprises: a jig formed on the upper part of a processing device in a plate shape; a blowing unit disposed on one side of the upper part of the jig to discharge gas to the other side; a suction unit disposed on the other side of the upper part of the jig to suck the gas and the foreign matters; and a gripper to fix the specimen disposed between the blowing unit and the suction unit in the jig. The blowing unit comprises gas discharge units disposed from a relatively lower position than that of the specimen to a high position to be spaced apart from each other.

Description

오염물질 집진설비{CONTAMINANT AND DUST COLLECTING FACILITY}{CONTAMINANT AND DUST COLLECTING FACILITY}

본 명세서에 개시된 내용은 레이저 가공 장치에서 발생되는 오염물질을 흡입하는 오염물질 집진설비에 관한 것이다.Disclosure of the Invention The present disclosure relates to a pollutant collecting apparatus for sucking pollutants generated in a laser processing apparatus.

본 명세서에서 달리 표시되지 않는 한, 이 식별항목에 설명되는 내용들은 이 출원의 청구항들에 대한 종래 기술이 아니며, 이 식별항목에 기재된다고 하여 종래 기술이라고 인정되는 것은 아니다.Unless otherwise indicated herein, the description set forth in this identification section is not prior art to the claims of this application and is not to be construed as prior art as described in this identification section.

최근에는 반도체 소자 및 기판이 고집적화되면서 레이저 가공장치에 의한 가공방식이 널리 사용되고 있지만 각종 레이저 가공 장치의 스테이지 상에 배치되는 시편을 가공하는 과정에서 분진이나 미세먼지가 발생하는 단점이 있다.2. Description of the Related Art [0002] In recent years, a semiconductor device and a substrate have become highly integrated, and a machining method using a laser machining apparatus has been widely used. However, there is a disadvantage that dust or fine dust is generated during processing of a specimen disposed on a stage of various laser machining apparatuses.

또한, 시편에서 발생되는 오염물질, 분진, 미세입자, 연기, 오염가스 및 냄새를 유발하는 물질을 포함하는 이물질은 가공 과정 중 레이저에 의해 다시 용해되어 가공 품질을 저하시키고, 시편에 밀착되어 탈착이 힘들며, 이물질을 탈착시킨 후에는 특정위치로 이동시켜 배출하기 어려운 단점이 있다.In addition, impurities including dust, fine particles, smoke, polluting gas, and odor generated from the specimen are dissolved again by the laser during the processing process to lower the processing quality, And it is difficult to move it to a specific position after it is detached and to discharge it.

이와 관련되어 한국 특허공개 제10-2000-0050098호는 레이저 가공시에 발생하는 유해가스를 집진하는 레이저 가공기 오염물질 집진설비를 개시하고 있고, 한국 실용신안등록 제20-0380212호는 인쇄회로기판을 라우팅하는 라우터의 오염물질 집진설비를 개시하고 있다.Korean Patent Laid-Open No. 10-2000-0050098 discloses a laser processing machine pollutant collecting apparatus for collecting harmful gas generated during laser processing, and Korean Utility Model Registration No. 20-0380212 discloses a laser processing machine And a pollutant collecting facility of a routing router.

그러나 종래 발명들은 시편의 가공시에 발생하는 이물질을 효과적으로 시편에서 탈착시켜 외부로 흡입 및 배출하는 발명은 제시하지 않고 있으며, 이를 해결하기 위하여 시편에서 발생하는 이물질을 탈착시킴과 동시에 제거하는 발명을 필요로 한다. However, the prior art does not disclose an invention that effectively removes foreign matter generated during processing of a specimen from a specimen and sucks and discharges the specimen to the outside. In order to solve this problem, there is a need for an invention for desorbing and removing foreign matters generated in a specimen .

시편을 이동하는 가스의 유량, 속도 및 이동경로를 제어하여 효과적으로 시편에서 발생하는 이물질을 제거하는 오염물질 집진설비를 제공함에 있다.The present invention provides a pollutant collecting apparatus that effectively removes foreign materials generated in a specimen by controlling a flow rate, a velocity, and a moving path of a gas moving the specimen.

또한, 상술한 바와 같은 기술적 과제들로 한정되지 않으며, 이하의 설명으로부터 또 다른 기술적 과제가 도출될 수도 있음은 자명하다.Further, it is obvious that the present invention is not limited to the above-described technical problems, and another technical problem may be derived from the following description.

개시된 내용의 일 실시예에 의하면, 오염물질 집진설비는 가공장치의 상부에 플레이트 형태로 형성되는 지그, 상기 지그 상부 일측에 배치되어 가스를 타측으로 토출하는 블로잉부, 상기 지그 상부의 타측에 배치되어 상기 가스 및 이물질을 흡입하는 석션부 및 상기 블로잉부와 석션부 사이에 배치되는 상기 시편을 상기 지그에 고정하는 그립퍼를 포함하고 상기 블로잉부는 상기 시편보다 상대적으로 낮은 위치에서 높은 위치까지 서로 이격되도록 배치되는 가스토출부들을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the pollutant collecting facility includes a jig formed in a plate shape on the upper portion of the processing apparatus, a blowing unit disposed on one side of the jig and discharging the gas to the other side, And a gripper for fixing the specimen disposed between the blowing unit and the suction unit to the jig, wherein the blowing unit is disposed to be spaced apart from a relatively low position to a high position relative to the specimen And gas discharge portions.

또한, 상기 가스는 상기 시편의 상부면을 지나면서 상기 이물질과 혼합되고, 혼합된 상태에서 상기 석션부에 형성되고 상기 가스토출부들 각각과 동일한 수평면상에 배치되는 가스흡입부들 각각에 흡입될 수 있다.The gas is mixed with the foreign matter passing through the upper surface of the specimen and may be sucked into each of the gas suction portions formed in the suction portion in a mixed state and arranged on the same horizontal plane as each of the gas discharge portions .

본 명세서에 개시된 내용의 일 실시예에 따르면, 오염물질 집진설비는 가스가 토출되는 위치에 따라 토출되는 가스의 속도를 다르게 설정하고 시편 주위에 양력을 발생시켜 시편에서 발생되는 이물질을 효과적으로 시편에서 탈착시킬 수 있다.According to an embodiment of the present disclosure, the pollutant collecting facility sets the velocity of discharged gas differently according to the position where the gas is discharged, generates lift force around the specimen, effectively removes foreign matter generated from the specimen .

또한, 시편으로 가스를 토출하는 양에 비해 상대적으로 높게 가스의 석션양을 증가시키면 시편을 지나가는 가스를 효과적으로 석션부에 흡입하여 시편 가공환경을 개선시킬 수 있다. In addition, if the amount of suction of the gas is increased relatively higher than the amount of gas discharged to the specimen, the gas passing through the specimen can be effectively sucked into the suction part, thereby improving the specimen processing environment.

또한, 시편과 가스가 토출되어 접근하는 위치에 양력부를 배치하여 효과적으로 시편이 위치한 곳에 양력을 발생시킬 수 있고, 양력부의 위치를 제어하여 다양한 크기와 종류의 시편에서 발생되는 이물질을 효과적으로 제거할 수 있다.In addition, it is possible to effectively generate the lift at the position where the specimen is positioned by disposing the lift portion at the position where the specimen and the gas are discharged, and to control the position of the lift portion, thereby effectively removing foreign matters generated in various sizes and types of specimens .

또한, 상기의 이물질 제거 및 흡입 기능을 포함하는 열거된 효과들 외에 다른 효과도 가질 수 있다.It is also possible to have other effects besides the enumerated effects including the foreign body removal and aspiration functions described above.

도 1은 본 명세서에 개시된 내용의 일 실시예에 따른 오염물질 집진설비를 나타내는 사시도.
도 2는 도 1의 오염물질 집진설비를 다른 방향에서 주시한 사시도.
도 3 및 4들은 도 1의 블로잉부와 석션부 사이를 이동하는 가스의 유동해석결과를 나타내는 그래프들.
도 5는 본 명세서의 다른 실시예에 의한 오염물질 집진설비를 나타내는 사시도.
도 6은 본 명세서의 또 다른 실시예에 의한 오염물질 집진설비를 나타내는 사시도.
도 7 및 8들은 도 6의 오염물질 집진설비를 I-I'를 따라 절단한 단면도들.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 is a perspective view of a pollutant collecting facility in accordance with an embodiment of the disclosure herein.
FIG. 2 is a perspective view of the pollutant collecting device of FIG. 1 viewed from another direction; FIG.
FIGS. 3 and 4 are graphs showing the results of the flow analysis of the gas moving between the blowing part and the suction part of FIG. 1. FIG.
5 is a perspective view showing a pollutant dust collecting apparatus according to another embodiment of the present invention;
6 is a perspective view showing a pollutant dust collecting apparatus according to another embodiment of the present invention;
Figures 7 and 8 are cross-sectional views taken along line I-I 'of the pollutant collection facility of Figure 6;

이하, 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예에 따른 오염물질 집진설비의 구성, 동작 및 작용효과에 대하여 살펴본다. 참고로, 이하 도면에서, 각 구성요소는 편의 및 명확성을 위하여 생략되거나 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 반영하는 것은 아니다, 또한 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭하며 개별 도면에서 동일 구성에 대한 도면 부호는 생략하기로 한다. Hereinafter, the configuration, operation, and effects of the pollutant dust collecting apparatus according to the preferred embodiment will be described with reference to the accompanying drawings. For reference, in the following drawings, each component is omitted or schematically shown for convenience and clarity, and the size of each component does not reflect the actual size, and the same reference numerals denote the same components throughout the specification. And reference numerals for the same components in individual drawings are omitted.

도 1은 본 명세서에 개시된 내용의 일 실시예에 따른 오염물질 집진설비를 나타내는 사시도를 도시한다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 shows a perspective view of a pollutant collection facility in accordance with an embodiment of the disclosure herein.

도 2는 도 1의 오염물질 집진설비를 다른 방향에서 주시한 사시도를 도시한다.FIG. 2 shows a perspective view of the pollutant collecting facility of FIG. 1 taken in another direction.

도 1 및 2에 도시된 바와 같이, 오염물질 집진설비(100)는 지그(200), 그립퍼(300), 블로잉부(400) 및 석션부(500)를 포함한다.1 and 2, the pollutant dust collecting apparatus 100 includes a jig 200, a gripper 300, a blowing unit 400, and a suction unit 500.

오염물질 집진설비(100)는 레이저 스캐너 가공 장치를 포함하는 시편 가공 장치가 구동되면서 시편에서 발생하는 이물질을 제거하는 장치이고, 일측에서 가스를 타측을 향해 가압 토출시켜 레이저 가공에서 발생하는 오염물질을 포함하는 이물질을 가스와 함께 타측에서 흡입한다.The pollutant collecting apparatus 100 is a device for removing foreign matter generated from a specimen while a specimen processing apparatus including a laser scanner processing apparatus is driven and pressurizes and discharges the gas toward the other side of the specimen, Incorporate foreign matter with the gas from the other side.

지그(200)는 상기 가공 장치의 상부에 플레이트 형태로 형성되고, 지그(200)의 상부에는 레이저로 가공하고자 하는 시편(10)이 배치되며, 시편(10)의 상부에는 레이저(20)를 반사시켜 시편(10)을 향해 레이저를 유도하는 갈바노미러(40), 갈바노미러(40)에서 반사된 레이저(20)가 통과하는 스캐너렌즈(50) 및 갈바노미러(40)를 커버하는 스캐닝헤드(30)가 배치된다.A jig 200 is formed in the form of a plate on the upper part of the processing apparatus and a specimen 10 to be processed by laser is disposed on the jig 200. A laser 20 is reflected on the specimen 10 A galvanometer mirror 40 for guiding a laser beam toward the specimen 10, a scanner lens 50 through which the laser beam 20 reflected by the galvanometer mirror 40 passes, The head 30 is disposed.

그립퍼(300)는 지그(200)의 상부에 배치되는 시편(10)을 고정시키도록 시편(10)의 양측에 배치되고, 블로잉부(400)는 지그(200)의 상부 일측에 배치되어 가스를 타측을 향해 가압 토출한다.The gripper 300 is disposed on both sides of the specimen 10 to fix the specimen 10 disposed on the upper portion of the jig 200 and the blowing portion 400 is disposed on one side of the upper portion of the jig 200, And pressurized toward the other side.

석션부(500)는 지그(200) 상부의 타측에 배치되고, 상기 가스가 시편(10)을 지나 이물질(60)과 함께 인접한 위치에 도달하면 상기 가스 및 이물질(60)을 함께 흡입하여 외부로 배출한다.The suction part 500 is disposed on the other side of the upper part of the jig 200. When the gas reaches the position adjacent to the specimen 10 with the foreign matter 60, the suction part 500 sucks the gas and the foreign matter 60 together, .

블로잉부(400)는 커버프레임(410), 제1 가스토출부(420) 및 제2 가스토출부(430)를 포함한다.The blowing unit 400 includes a cover frame 410, a first gas discharging unit 420, and a second gas discharging unit 430.

커버프레임(410)은 지그(200)의 일측 상부면을 가로지르도록 직육면체 형태로 형성되고, 제1 가스토출부(420)는 시편(10)의 상부면 보다 상대적으로 낮은 수평선상에 타측을 향해 배치되고, 제2 가스토출부(430)는 시편(10)의 상부면보다 상대적으로 높은 수평선상에 타측을 향해 배치된다.The cover frame 410 is formed in a rectangular parallelepiped shape so as to intersect the upper surface of one side of the jig 200. The first gas discharging portion 420 is arranged on the horizontal line relatively lower than the upper surface of the specimen 10 And the second gas discharging portion 430 is disposed toward the other side on a horizontal line relatively higher than the upper surface of the specimen 10. [

그리고, 블로잉부(400)는 제1 및 제2 가스토출부(420, 430)들 외에 시편(10)의 크기에 따라 가스토출부를 추가적으로 제1 및 제2 가스토출부(420, 430)들의 상부에 배치할 수 있다.In addition to the first and second gas discharging units 420 and 430, the blowing unit 400 may further include a gas discharging unit, depending on the size of the test piece 10, in addition to the upper and lower surfaces of the first and second gas discharging units 420 and 430 As shown in FIG.

제1 및 제2 가스토출부(420, 430)들 각각은 서로 동일한 수평선상에서 블로잉부(400)의 타측을 따라 서로 이격되도록 배치되는 제1 및 제2 가스토출공(421, 431)들 각각을 포함하고, 시편(10)의 크기에 따라 가스토출공들의 크기를 조정할 수 있다.Each of the first and second gas discharging units 420 and 430 includes first and second gas discharging holes 421 and 431 spaced from each other along the other side of the blowing unit 400 on the same horizontal line And the size of the gas discharge holes can be adjusted according to the size of the specimen 10.

석션부(500)는 커버프레임(510), 제1 가스흡입부(520) 및 제2 가스흡입부(530)를 포함한다.The suction part 500 includes a cover frame 510, a first gas suction part 520 and a second gas suction part 530.

커버프레임(510)은 지그(200)의 타측 상부면에 직육면체 형태로 형성되고, 제1 및 제2 가스흡입부(520, 530)들 각각은 커버프레임(510)의 내부에서 시편(10)을 향하도록 배치된다.The cover frame 510 is formed in a rectangular parallelepiped shape on the upper surface of the other side of the jig 200 and each of the first and second gas sucking portions 520 and 530 includes a specimen 10 Respectively.

제1 가스흡입부(520)는 제1 가스토출부(420)와 동일한 수평선상에 배치되고, 제2 가스흡입부(530)는 제2 가스토출부(430)와 동일한 수평선상에 배치되어 가스의 이동경로가 지그(200) 및 시편(10)과 수평을 이루도록 한다.The first gas suction part 520 is disposed on the same horizontal line as the first gas discharge part 420 and the second gas suction part 530 is disposed on the same horizontal line as the second gas discharge part 430, So that the moving path of the jig 200 and the test piece 10 are aligned with each other.

제1 및 제2 가스흡입부(520, 530)들 각각은 제1 가스토출공(421) 및 제2 가스토출공(431)들 각각과 동일한 수평선상에 배치되도록 형성되고, 제1 및 제2 가스흡입부(520, 530)들 각각에서 토출되는 가스는 제1 가스토출공(421) 및 제2 가스토출공(431)들 각각을 향해 이동한다.Each of the first and second gas sucking portions 520 and 530 is formed so as to be disposed on the same horizontal line as each of the first gas discharging hole 421 and the second gas discharging hole 431, The gas discharged from each of the gas suction units 520 and 530 moves toward the first gas discharge hole 421 and the second gas discharge holes 431, respectively.

따라서, 레이저(20)가 시편(10)을 가공하는 과정에서 블로잉부(400)의 제1 및 제2 가스토출부(420, 430)들 각각에서 가스가 시편(10)을 향해 토출되면, 가스는 시편(10)에서 발생되는 이물질(60)과 함께 제1 및 제2 가스흡입부(520, 530)들 각각으로 흡입되어 레이저 가공 환경이 개선되고, 시편(10)의 가공중 이물질(60)을 제거하여 가공되는 시편(10)의 품질이 개선되는 장점이 있다.Therefore, when gas is discharged toward the test piece 10 from the first and second gas discharging portions 420 and 430 of the blowing part 400 in the course of processing the test piece 10 by the laser 20, Is sucked into each of the first and second gas sucking portions 520 and 530 together with the foreign matter 60 generated in the specimen 10 to improve the laser processing environment and the foreign matter 60 during the processing of the specimen 10, The quality of the specimen 10 to be processed is improved.

도 3 및 4들은 도 1의 블로잉부와 석션부 사이를 이동하는 가스의 유동해석결과를 나타내는 그래프들이다.FIGS. 3 and 4 are graphs showing the flow analysis results of the gas moving between the blowing unit and the suction unit of FIG. 1. FIG.

도 3 및 4들에 나타난 바와 같이, 그래프들은 (주)Anflux의 전산유동해석기술을 통해 해석된 3D 유동해석 시뮬레이션 모델링으로서, 제1 및 제2 가스토출부(420, 430)들에 형성되는 제1 및 제2 가스토출공(421, 431)들에서 토출되는 가스는 시편(10)을 지나 석션부(500)로 이동하는 경로가 나타난다.As shown in FIGS. 3 and 4, the graphs are 3D flow simulation simulation models analyzed through the computational flow analysis technique of Anflux Co., 1 and the second gas discharging holes 421 and 431 move through the specimen 10 to the suction unit 500.

속도가 상대적으로 빠를수록 빨강색에 근접하도록 나타나고, 속도가 상대적으로 감소할수록 파란색에 근접한 색을 나타내며, 제1 및 제2 가스토출부(420, 430)들에서 가스들이 50m/s의 속도로 배출되면, 시편(10)에 도달하면서 15m/s로 속도가 줄어들고 석션부(500)에 인접한 위치에서는 속도가 현저히 감소한다. The closer to the red color the faster the speed is, the closer the color to the blue color as the speed is relatively decreased, and the gases are discharged at the rate of 50 m / s at the first and second gas discharge portions 420 and 430 The speed decreases to 15 m / s while reaching the specimen 10, and the speed significantly decreases at a position adjacent to the suction portion 500.

도 3을 참조하면, 속도가 감소된 가스들은 석션부(500)에 흡입되지만, 블로잉부(400)에서 토출되는 가스의 유량보다 석션부(500)에서 흡입하는 가스의 유량이 1.5배인 상태에서는 가스의 일부가 이탈가스경로(73)를 따라 석션부(500)에 흡입되지 않고 석션부(500)의 주위로 이탈한다.3, when the flow rate of the gas sucked by the suction unit 500 is 1.5 times the flow rate of the gas discharged from the blowing unit 400, the gas having the reduced speed is sucked into the suction unit 500, A part of the water is not sucked into the suction part 500 along the release gas path 73 but moves around the suction part 500.

반면, 도 4를 참조하면, 석션부(500)의 흡입 유량을 블로잉부(400)의 토출유량보다 3배로 설정한 경우, 석션부(500)의 주위로 이탈하는 가스의 경로는 파악되지 않고, 가스가 석션부(500)에 모두 흡입되는 것을 나타낸다.4, when the suction flow rate of the suction section 500 is set to be three times the discharge flow rate of the blowing section 400, the path of the gas deviating to the vicinity of the suction section 500 is not recognized, Indicating that the gas is sucked into the suction unit 500.

따라서, 블로잉부(400)는 50m/s의 속도 이상으로 가스를 시편(10)을 향해 토출하고, 석션부(500)는 블로잉부(400)에서 토출되는 가스의 토출유량의 3배 이상의 흡입유량을 설정하여 효과적으로 시편(10)에서 발생되는 이물질(60)을 제거할 수 있다.Therefore, the blowing unit 400 discharges the gas toward the test piece 10 at a speed of 50 m / s or more, and the suction unit 500 discharges the suction flow rate 3 times or more of the discharge flow rate of the gas discharged from the blowing unit 400 So that the foreign substances 60 generated in the test piece 10 can be effectively removed.

도 5는 본 명세서의 다른 실시예에 의한 오염물질 집진설비를 나타내는 사시도를 도시한다.5 shows a perspective view of a pollutant collecting facility according to another embodiment of the present invention.

본 실시예에 따른 오염물질 집진설비(120)는 시편(10)의 위치를 제외하면, 도 1의 오염물질 집진설비(100)와 실질적으로 동일하므로, 동일한 참조번호와 명칭을 사용하고 중복된 설명은 생략한다.The pollutant collecting facility 120 according to the present embodiment is substantially the same as the pollutant collecting facility 100 shown in FIG. 1 except for the location of the specimen 10, and therefore, the same reference numerals and names are used, Is omitted.

도 5에 도시된 바와 같이, 오염물질 집진설비(120)의 시편(10)은 그립퍼(300)를 통해 상부로 이동하여 지그(200)와 소정의 간격을 두고 서로 평행하게 이격되도록 배치된다.5, the specimen 10 of the pollutant collecting apparatus 120 is moved upward through the gripper 300 and is disposed to be spaced apart from the jig 200 at a predetermined interval in parallel to each other.

지그(200)와 시편(10) 사이에는 가스가 블로잉부(400)에서 석션부(500)로 이동할 수 있는 통공(80)이 형성되고, 제1 및 제2 가스토출부(420, 430)들 각각에서 토출되는 가스들 각각이 통공(80)을 통과하는 제1 가스이동경로(71) 및 시편(10)의 상부를 이동하는 제2 가스이동경로(72)를 따라 이동한다.A through hole 80 is formed between the jig 200 and the specimen 10 so that the gas can move from the blowing unit 400 to the suction unit 500. The first and second gas discharging units 420 and 430 Each of the gases discharged from each of them moves along a first gas movement path 71 passing through the through hole 80 and a second gas movement path 72 moving above the specimen 10. [

이 경우, 레이저(20)가 시편(10)을 가공하여 시편(10)의 상하부를 관통하는 홀들이 형성되면, 홀들을 통해 이물질(60)이 시편(10)의 하부 및 상부로 이동하고, 시편(10)의 상하부에서 이동하는 가스를 통해 효과적으로 이물질(60)을 제거할 수 있다.In this case, when the laser 20 forms the holes passing through the upper and lower portions of the specimen 10 by processing the specimen 10, the foreign material 60 moves through the holes to the lower portion and the upper portion of the specimen 10, It is possible to effectively remove the foreign matter 60 through the gas moving at the upper and lower portions of the body 10.

또한, 제2 가스토출부(430)의 가스 토출속도를 상대적으로 제1 가스토출부(420)의 속도보다 감소시키면, 베르누이의 원리에 따라 상부를 향해 양력이 발생되어 이물질(60)이 시편(10)과 효과적으로 탈착되고, 제2 가스이동경로(72)를 따라 석션부(500)로 이동한다.When the gas discharging speed of the second gas discharging part 430 is relatively lower than the speed of the first gas discharging part 420, lift is generated toward the upper part according to the Bernoulli principle, 10 and moves to the suction part 500 along the second gas moving path 72. [

반대로, 제1 가스토출부(420)의 가스 토출속도를 제2 가스토출부(430)의 가스 토출속도보다 상대적으로 감소시켜 설정하면, 양력 및 중력이 하부를 향해 발생하여 이물질(60)이 통공(80)에서 제1 가스이동경로(71)를 따라 석션부(500)에 흡입된다.On the contrary, if the gas discharge speed of the first gas discharge portion 420 is set to be lower than the gas discharge speed of the second gas discharge portion 430, lifting force and gravity are generated toward the lower portion, Is sucked into the suction part (500) along the first gas moving path (71).

따라서, 제1 가스토출부(420) 및 제2 가스토출부(430)의 속도를 조정하여 이물질(60)이 발산하는 방향을 조정하고 효과적으로 흡입할 수 있으며, 제1 및 제2 가스토출부(420, 430)들 각각의 제1 및 제2 가스토출공(421, 431)들 각각의 속도를 조정하여 정밀하게 가스의 이동경로를 수정하고 이물질(60)의 흡입 경로를 조정할 수 있다.Therefore, it is possible to adjust the speed of the first gas discharging part 420 and the second gas discharging part 430 so as to adjust the divergence direction of the foreign substance 60 and effectively suck it, and the first and second gas discharging parts 420, and 430 by adjusting the speed of each of the first and second gas discharge holes 421 and 431, respectively, to precisely adjust the movement path of the gas and adjust the suction path of the foreign matter 60.

도 6은 본 명세서의 또 다른 실시예에 의한 오염물질 집진설비를 나타내는 사시도를 도시한다.6 shows a perspective view of a pollutant collecting facility according to another embodiment of the present invention.

도 7 및 8들은 도 6의 오염물질 집진설비를 I-I'를 따라 절단한 단면도들을 도시한다.Figures 7 and 8 show cross-sectional views of the pollutant collection facility of Figure 6 taken along line I-I '.

본 실시예에 따른 오염물질 집진설비(140)는 양력부(600) 및 양력부 그립퍼(610)를 제외하면, 도 4의 오염물질 집진설비(120)와 실질적으로 동일하므로, 동일한 참조번호와 명칭을 사용하고 중복된 설명은 생략한다.The pollutant collecting facility 140 according to the present embodiment is substantially the same as the pollutant collecting facility 120 of FIG. 4 except for the lifting unit 600 and the lifting unit gripper 610, And redundant description is omitted.

도 6 내지 8들에 도시된 바와 같이, 오염물질 집진설비(140)는 양력부(600) 및 양력부 그립퍼(610)를 더 포함한다.6 to 8, the pollutant collecting facility 140 further includes a lifting unit 600 and a lifting unit gripper 610. As shown in FIG.

양력부(600)는 블로잉부(400)와 시편(10) 사이에 배치되고, 일단은 시편(10)과 밀착되며, 타단은 블로잉부(400)를 향해 두께가 증가하도록 연장되며, 타단의 양측에는 양력부(600)를 고정하고 지그(200)와 양력부(600)간의 거리를 조정하는 양력부 그립퍼(610)가 형성된다.The lifting unit 600 is disposed between the blowing unit 400 and the specimen 10 and has one end in close contact with the specimen 10 and the other end extending to increase in thickness toward the blowing unit 400, A lifting unit gripper 610 for fixing the lifting unit 600 and adjusting the distance between the jig 200 and lifting unit 600 is formed.

양력부(600)의 하부면은 시편(10)의 하부면과 동일한 수평선상을 유지하도록 블로잉부(400)를 향해 연장되고, 상부면은 시편(10)의 상부면에서 블로잉부(400)를 향해 경사지게 연장되도록 형성된다.The lower surface of the lift part 600 extends toward the blowing part 400 so as to maintain the same horizontal line as that of the lower surface of the specimen 10 and the upper surface extends from the upper surface of the specimen 10 to the blowing part 400 As shown in FIG.

양력부(600)를 통해 블로잉부(400)에서 토출되는 가스는 양력부(600)의 상부면을 따라 시편(10)의 상부면에 밀착되면서 이동하고, 가스의 이동경로가 시편(10)의 상부면에 밀착되면서 효과적으로 이물질(60)과 혼합되어 석션부(500)에서 흡입이 가능하다.The gas discharged from the blowing unit 400 through the lifting unit 600 moves along the upper surface of the lifting unit 600 while being closely attached to the upper surface of the test piece 10, And can be effectively sucked in the suction part (500) by mixing with the foreign material (60) while being in close contact with the upper surface.

제1 가스토출부(420)에서 시편(10)을 향해 토출되는 가스의 속도는 제2 가스토출부(430)에서 시편(10)을 향해 토출되는 가스보다 상대적으로 낮은 속도로 토출되고, 시편(10)의 상부면에서 이동하는 가스의 속도가 상대적으로 빨라서 시편(10)에 생성되는 이물질(60)이 양력에 의해 시편(10)과 효과적으로 탈착된다.The velocity of the gas discharged from the first gas discharging portion 420 toward the test piece 10 is discharged at a relatively lower rate than the gas discharged toward the test piece 10 from the second gas discharging portion 430, The foreign matter 60 generated in the test piece 10 is effectively detached from the test piece 10 by lifting force because the velocity of the gas moving on the upper surface of the test piece 10 is relatively fast.

따라서, 오염물질 집진설비(140)는 양력부(600)를 통해 가스의 이동경로를 조정하여 시편(10)의 상부면을 따라 이동하는 가스의 유량을 증가시키고, 효과적으로 이물질(60)을 시편(10)에서 탈착 가능하다.Accordingly, the pollutant collecting facility 140 adjusts the flow path of the gas through the lifting unit 600 to increase the flow rate of the gas moving along the upper surface of the specimen 10, effectively transferring the foreign material 60 to the specimen 10).

한편, 도 6의 블로잉부(400) 및 석션부(500)는 각각의 상부에 블로잉부(400) 및 석션부(500)를 추가적으로 상부에 배치하여 시편(10)의 상부를 이동하는 가스의 이동속도를 증가시켜 이물질(60)의 탈착효과를 증가시킬 수 있고, 제1 및 제2 가스토출부(420, 430)에서 토출되는 가스의 속도는 제어가능하여 시편(10)에 작용하는 양력의 위치를 반대로 변경하거나 양력 발생을 정지할 수 있다.6, the blowing unit 400 and the suction unit 500 are additionally disposed on the upper portion of each of the blowing unit 400 and the suction unit 500 to move the gas moving on the upper portion of the specimen 10 The velocity of the gas discharged from the first and second gas discharging portions 420 and 430 can be controlled and the position of the lift acting on the specimen 10 can be controlled Or stop the generation of lift.

도 7 및 8들을 참조하면, 제1 가스토출부(420)에서 토출되는 가스는 제3 가스이동경로(73)를 따라 양력부(600)의 하부에 형성되는 통공(80)으로 이동하고, 제2 가스토출부(430)에서 토출되는 가스는 제4 가스이동경로(74)를 따라 양력부(600)의 상부면과 밀착 이동하고, 다시 시편(10)의 상부면으로 이동한다.7 and 8, the gas discharged from the first gas discharging portion 420 moves to the through hole 80 formed in the lower portion of the lifting portion 600 along the third gas moving path 73, The gas discharged from the second gas discharging portion 430 moves along the fourth gas moving path 74 in close contact with the upper surface of the lifting portion 600 and then to the upper surface of the specimen 10 again.

가스는 양력부(600)를 통해 시편(10)의 상부면 및 하부면과 밀착 이동하고, 제4 가스이동경로(74)를 따라 이동하는 가스의 속도는 제3 가스이동경로(73)를 따라 이동하는 가스의 속도보다 상대적으로 빠르게 이동하여 시편(10)의 가공중에 형성되는 홀(11)에 발생하는 이물질(60)을 상부로 작용하는 양력을 통해 용이하게 탈착시킬 수 있다.The gas is moved in close contact with the upper surface and the lower surface of the specimen 10 through the lift portion 600 and the velocity of the gas moving along the fourth gas movement path 74 is increased along the third gas movement path 73 The foreign matter 60 generated in the hole 11 formed during the machining of the test piece 10 can be easily detached through the upward force acting on the upper part.

탈착된 이물질(60)은 홀(11)의 상부 또는 하부로 이동하여 가스와 혼합된 상태로 제3 및 제4 가스이동경로(73, 74)들을 따라 석션부(500)로 이동하고, 외부로 배출된다. The desorbed foreign matter 60 moves to the upper part or the lower part of the hole 11 and moves to the suction part 500 along the third and fourth gas movement paths 73 and 74 while being mixed with the gas, .

따라서, 양력부(600)는 가스를 시편(10)의 상부면으로 집중하도록 가이드하여 시편(10)에 효과적으로 양력을 발생시킬 수 있고, 양력부 그립퍼(610)에 결합되는 양력부(600)의 일단을 상하부로 이동시켜 가스의 이동경로를 조정하면 시편의 종류나 크기에 따라 다양한 위치에서 발생되는 이물질(60)을 효율적으로 제거할 수 있다.Therefore, the lifting portion 600 can guide the gas to the upper surface of the specimen 10 to effectively generate lifting force on the specimen 10, and the lift portion 600 coupled to the lifting portion gripper 610 By moving one end to the upper and lower parts and adjusting the moving path of the gas, the foreign matter 60 generated at various positions can be efficiently removed depending on the type and size of the specimen.

또한, 양력부 그립퍼(610)에 결합된 양력부(600)의 위치를 상부 또는 하부로 이동시켜 양력부(600)와 지그(200)가 이격되어 형성되는 공간의 크기를 조정할 수 있고, 상기 공간의 크기에 따라 시편(10)의 상하부로 이동하는 가스의 속도를 편리하게 조절할 수 있으며, 양력이 향하는 위치를 변경할 수 있다.The lifting unit 600 coupled to the lifting unit gripper 610 may be moved upward or downward to adjust the size of the space formed between the lifting unit 600 and the jig 200, The velocity of the gas moving to the upper and lower portions of the specimen 10 can be conveniently adjusted according to the size of the specimen 10 and the position of the lift can be changed.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken in conjunction with the present invention. It is to be understood that various equivalents and modifications may be substituted for those at the time of the present application. It is to be understood, therefore, that the above description is intended to be illustrative, and not restrictive, and that the scope of the present invention will be defined by the appended claims rather than by the foregoing description, All changes or modifications that come within the scope of the equivalent concept are to be construed as being included within the scope of the present invention.

100, 120, 140: 오염물질 집진설비 200: 지그
300: 그립퍼 400: 블로잉부
500: 석션부 600: 양력부
100, 120, 140: pollutant collecting facility 200: jig
300: gripper 400: blowing part
500: Suction part 600: Lifting part

Claims (9)

시편을 가공하면 발생하는 이물질을 제거하는 오염물질 집진설비에 있어서,
가공장치의 상부에 플레이트 형태로 형성되는 지그;
상기 지그 상부 일측에 배치되어 가스를 타측으로 토출하는 블로잉부;
상기 지그 상부의 타측에 배치되어 상기 가스 및 이물질을 흡입하는 석션부;
상기 블로잉부와 석션부 사이에 배치되는 상기 시편을 상기 지그에 고정하는 그립퍼를 포함하고,
상기 블로잉부는 상기 시편보다 상대적으로 낮은 위치에서 높은 위치까지 서로 이격되도록 배치되는 가스토출부들을 포함하는 것을 특징으로 하는 오염물질 집진설비.
A pollutant collecting apparatus for removing foreign substances generated by processing a specimen,
A jig formed in the form of a plate on the upper portion of the processing apparatus;
A blowing unit disposed at one side of the jig and discharging gas to the other side;
A suction unit disposed on the other side of the upper portion of the jig and sucking the gas and foreign matter;
And a gripper for fixing the specimen disposed between the blowing unit and the suction unit to the jig,
Wherein the blowing part includes gas discharging parts arranged to be spaced apart from a relatively lower position to a higher position than the specimen.
제1항에 있어서,
상기 가스는 상기 시편의 상부면을 지나면서 상기 이물질과 혼합되고, 혼합된 상태로 상기 석션부에 형성되고 상기 가스토출부들 각각과 동일한 수평면상에 배치되는 가스흡입부들 각각에 흡입되는 것을 특징으로 하는 오염물질 집진설비.
The method according to claim 1,
The gas is mixed with the foreign matter passing through the upper surface of the specimen and is sucked into each of the gas suction portions formed on the suction portion in a mixed state and arranged on the same horizontal plane as each of the gas discharge portions Pollutant collection facilities.
제2항에 있어서, 상기 가스토출부들 각각은,
서로 동일한 수평선상에서 상기 블로잉부의 타측을 따라 서로 이격되도록 배치되는 가스토출공들을 포함하는 것을 특징으로 하는 오염물질 집진설비.
3. The fuel cell system according to claim 2,
And gas discharge holes arranged on the same horizontal line so as to be spaced apart from each other along the other side of the blowing unit.
제2항에 있어서, 상기 석션부는,
상기 가스 및 이물질을 흡입하는 흡입유량을 상기 블로잉부의 상기 가스를 토출시키는 토출유량의 3배 이상으로 설정하는 것을 특징으로 하는 오염물질 집진설비.
The suction device according to claim 2,
Wherein the suction flow rate for sucking the gas and the foreign matter is set to three times or more of the discharge flow rate for discharging the gas of the blowing unit.
제1항에 있어서, 상기 그립퍼는,
상기 시편과 상기 지그가 이격되도록 상기 시편의 양측 일부를 고정하여 통공을 형성하는 것을 특징으로 하는 오염물질 집진설비.
The gripper according to claim 1,
Wherein a part of both sides of the specimen is fixed to separate the specimen and the jig, thereby forming a through hole.
제5항에 있어서,
상기 블로잉부에서 토출되는 상기 가스는 상기 통공에서 이동하는 유속보다 상대적으로 높은 유속으로 상기 시편의 상부를 이동하면서 상부를 향해 상승하는 상기 이물질들과 함께 상기 석션부에 흡입되는 것을 특징으로 하는 오염물질 집진설비.
6. The method of claim 5,
Wherein the gas discharged from the blowing portion is sucked into the suction portion together with the foreign substances rising toward the upper portion while moving the upper portion of the specimen at a flow rate relatively higher than the flow rate flowing through the through hole. Dust collection facility.
제6항에 있어서,
상기 블로잉부와 상기 시편사이에 배치되고, 일단은 상기 시편과 밀착되며, 타단은 상기 블로잉부를 향해 두께가 증가하도록 연장되는 양력부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오염물질 집진설비.
The method according to claim 6,
Further comprising a lifting portion disposed between the blowing portion and the specimen, the lifting portion having one end in close contact with the specimen and the other end extending to increase in thickness toward the blowing portion.
제7항에 있어서, 상기 양력부는,
하부면은 상기 시편의 하부면과 동일한 수평선상을 유지하도록 타단을 향해 연장되며, 상부면은 상기 시편의 상부면에서 타단 상부를 향해 경사지게 연장되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 오염물질 집진설비.
8. The apparatus according to claim 7,
Wherein the lower surface extends toward the other end so as to maintain the same horizontal line as the lower surface of the specimen and the upper surface extends obliquely toward the upper end of the specimen.
제8항에 있어서,
상기 시편의 상하부를 관통하는 홀들에서 발생하는 이물질은 상기 통공과 상기 시편의 상부에서 상부를 향해 작용하는 양력에 의해 상부로 이동하고, 상기 이물질 및 가스는 상기 석션부에 흡입되는 것을 특징으로 하는 오염물질 집진설비.
9. The method of claim 8,
Wherein the foreign matter generated in the holes passing through the upper and lower portions of the specimen moves upward by the upward movement of the through hole and the upper portion of the specimen and the foreign matter and gas are sucked into the suction portion. Material collection facility.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN115302080A (en) * 2022-10-11 2022-11-08 四川智龙激光科技有限公司 Convection type metal dust particle recovery device for material reducing machine tool

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