KR20180017015A - Adhesive composition and connector - Google Patents

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Abstract

본 발명은 (a) 열 가소성 수지, (b) 라디칼 중합성 화합물, 및 (c) 라디칼 중합 개시제를 함유하는 접착제 조성물이며, 상기 (b) 라디칼 중합성 화합물은, 이소시아네이트기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 또는 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 포함하는, 접착제 조성물에 관한 것이다.The present invention provides an adhesive composition comprising (a) a thermoplastic resin, (b) a radically polymerizable compound, and (c) a radical polymerization initiator, wherein the radical polymerizing compound (b) is a radically polymerizable compound having an isocyanate group And a radically polymerizable compound having a structure in which an isocyanate group is formed by heating.

Description

접착제 조성물 및 접속체Adhesive composition and connector

본 발명은 접착제 조성물 및 접속체에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive composition and a connecting body.

반도체 소자 또는 액정 표시 소자에 있어서, 소자 중의 다양한 부재를 결합시키는 목적으로 종래부터 다양한 접착제 조성물이 회로 접속 재료로서 사용되고 있다. 이 접착제 조성물에는, 접착성을 비롯하여, 내열성, 고온 고습 상태에 있어서의 신뢰성 등의 다양한 특성이 요구된다.BACKGROUND ART In a semiconductor device or a liquid crystal display device, various adhesive compositions have conventionally been used as circuit connecting materials for the purpose of bonding various members in the device. This adhesive composition is required to have various properties such as adhesiveness, heat resistance, and reliability in a high temperature and high humidity state.

접착되는 피착체는, 프린트 배선판, 폴리이미드 필름 등의 유기 재료, 구리, 알루미늄 등의 금속, ITO, SiN, SiO2 등의 금속 화합물과 같은 다양한 재료로 형성된 다양한 표면을 갖는다. 그로 인하여, 접착제 조성물은, 각 피착체에 맞춰서 설계된다.The adherend to be adhered has various surfaces formed of various materials such as organic materials such as printed wiring boards and polyimide films, metals such as copper and aluminum, and metal compounds such as ITO, SiN and SiO 2 . Therefore, the adhesive composition is designed in accordance with each adherend.

반도체 소자 또는 액정 표시 소자용의 접착제 조성물로서 고접착성이면서 또한 고신뢰성을 나타내는 에폭시 수지 등의 열경화성 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조). 이러한 접착제 조성물은, 일반적으로, 에폭시 수지, 에폭시 수지와 반응하는 페놀 수지 등의 경화제 및 에폭시 수지와 경화제와의 반응을 촉진하는 열잠재성 촉매를 함유한다. 이 중 열잠재성 촉매는, 경화 온도 및 경화 속도를 결정하는 중요한 인자이다. 그로 인하여, 열잠재성 촉매로서, 실온에서의 저장 안정성 및 가열 시의 경화 속도의 관점으로부터 여러가지 화합물이 사용되고 있다. 이 접착제 조성물은, 일반적으로 170 내지 250℃의 온도에서 1 내지 3시간 가열함으로써 경화하여 원하는 접착성을 발휘한다.As an adhesive composition for a semiconductor element or a liquid crystal display element, there is known a thermosetting resin composition comprising a thermosetting resin such as an epoxy resin exhibiting high adhesiveness and high reliability (see, for example, Patent Document 1). Such an adhesive composition generally contains an epoxy resin, a curing agent such as a phenol resin reacting with the epoxy resin, and a thermal latent catalyst for promoting the reaction between the epoxy resin and the curing agent. Among them, the thermal latent catalyst is an important factor for determining the curing temperature and the curing rate. Therefore, various compounds have been used as thermal latent catalysts from the viewpoints of storage stability at room temperature and curing rate upon heating. The adhesive composition is generally cured by heating at a temperature of 170 to 250 DEG C for 1 to 3 hours to exhibit desired adhesiveness.

또한, (메트)아크릴레이트 유도체와 과산화물을 포함하는, 라디칼 경화형 접착제가 주목받고 있다(예를 들어, 특허문헌 2 참조). 라디칼 경화형 접착제는, 반응 활성종인 라디칼이 반응성이 많기 때문에, 단시간 경화의 관점에서 유리하다.Further, a radical-curing adhesive containing a (meth) acrylate derivative and a peroxide has attracted attention (see, for example, Patent Document 2). Radical curing type adhesives are advantageous from the viewpoint of short-time curing because the reactive radicals are highly reactive.

일본 특허 공개 평1-113480호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 1-113480 국제 공개 제98/44067호WO 98/44067

최근의 반도체 소자의 고집적화 및 액정 소자의 고정밀화에 수반하여, 소자간 및 배선간 피치가 협소화하고 있어, 회로 접속을 위한 경화 시의 가열이 주변 부재에 악영향을 미칠 가능성이 높아지고 있다.In recent years, along with the high integration of semiconductor devices and the high-definition of liquid crystal devices, pitches between devices and interconnections have narrowed, and heating during curing for circuit connection has a high possibility of adversely affecting peripheral members.

또한, 저비용화를 위해서는, 스루풋을 향상시킬 필요성이 있고, 보다 저온이며 또한 단시간에 경화하는 접착제 조성물, 바꾸어 말하면, 「저온 속경화」의 접착제 조성물의 개발이 요구되고 있다.In addition, in order to achieve low cost, there is a need to improve the throughput, to develop an adhesive composition that is cured at a lower temperature and in a shorter time, in other words, an adhesive composition of " low temperature curing ".

접착제 조성물의 저온 속경화를 달성하기 위해서, 예를 들어 상기 열경화성 수지 조성물에 있어서, 활성화 에너지가 낮은 열잠재성 촉매가 사용되는 경우도 있지만, 이 경우, 실온 부근에서의 저장 안정성을 유지하는 것이 매우 어렵다.In order to achieve the low-temperature curing of the adhesive composition, for example, in the thermosetting resin composition, a thermal latent catalyst having a low activation energy may be used. In this case, it is very difficult to maintain the storage stability near room temperature it's difficult.

이에 대하여 라디칼 경화형 접착제는, 실용상 문제 없는 레벨의 저장 안정성을 가지면서, 저온 속경화를 달성할 수 있다. 그러나, 라디칼 경화형 접착제를 사용한 경우에 있어서도, 종래와 비교하여 더욱 저온(예를 들어, 140℃ 이하)의 조건으로 경화시킨 경우, 접착제 중의 라디칼 중합성 화합물이 대부분 반응하고 있음에도 불구하고, 피착체와 접착제의 접착 강도를 얻을 수 없는 경우가 있다. 이것은, 저온 조건에서 피착체와 접착제의 상호 작용이 충분히 발현하지 않기 때문이라고 생각된다.On the other hand, the radical-curing adhesive can attain low-temperature fast curing while having storage stability at a level at which no problem occurs in practical use. However, even in the case of using a radical-curing adhesive, in the case of curing under the condition of a lower temperature (for example, 140 ° C or less) as compared with the conventional one, although the radical polymerizing compound in the adhesive mostly reacts, The adhesive strength of the adhesive may not be obtained. This is presumably because the interaction between the adherend and the adhesive under a low-temperature condition is not sufficiently manifested.

본 발명은 상기 종래 기술이 갖는 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 라디칼 경화형 접착제에 있어서, 종래와 비교하여 더욱 저온(예를 들어, 140℃ 이하)의 조건에 있어서도, 피착체와 접착제의 접착 강도를 충분히 발현할 수 있는 접착제 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a radical curing type adhesive which can sufficiently exhibit the adhesive strength between an adherend and an adhesive, even under a condition at a lower temperature (for example, And to provide an adhesive composition which is capable of exhibiting the above properties.

본 발명은 (a) 열 가소성 수지, (b) 라디칼 중합성 화합물, 및 (c) 라디칼 중합 개시제를 함유하는 접착제 조성물이며, (b) 라디칼 중합성 화합물은, 이소시아네이트기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 또는 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 포함하는, 접착제 조성물을 제공한다. 이러한 접착제 조성물에 의하면, 종래와 비교하여 더욱 저온(예를 들어, 140℃ 이하)의 조건에서도, 피착체와 접착제의 접착 강도를 충분히 발현할 수 있다.The present invention provides an adhesive composition comprising (a) a thermoplastic resin, (b) a radically polymerizable compound, and (c) a radical polymerization initiator, wherein the radical polymerizing compound (b) is a radically polymerizable compound having an isocyanate group, And a radically polymerizable compound having a structure in which an isocyanate group is formed by a radical polymerization initiator. According to such an adhesive composition, the adhesive strength between an adherend and an adhesive can be sufficiently exhibited even at a lower temperature (for example, 140 DEG C or less) as compared with conventional adhesives.

이소시아네이트기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 또는 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, (a) 열 가소성 수지, 및 (b) 라디칼 중합성 화합물의 총량 100질량부에 대하여, 2 내지 12질량부인 것이 바람직하다. 함유량을 이 범위로 함으로써, 상술한 효과가 보다 커진다.The content of the radically polymerizable compound having an isocyanate group or the structure in which an isocyanate group is formed by heating is preferably 2 to 2 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the thermoplastic resin (a) and the radically polymerizable compound (b) To 12 parts by mass. By setting the content in this range, the above-mentioned effect is further enhanced.

본 발명의 접착제 조성물은, (d) 도전성 입자를 더 함유하고 있을 수도 있다. 도전성 입자를 더욱 함유함으로써, 접착제 조성물에 도전성 또는 이방 도전성을 부여할 수 있기 때문에, 접착제 조성물을 회로 접속 재료로서 보다 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 당해 접착제 조성물을 통하여 전기적으로 접속한 회로 전극간의 접속 저항을, 보다 용이하게 저감시킬 수 있다.The adhesive composition of the present invention may further contain (d) conductive particles. By further containing conductive particles, it is possible to impart conductivity or anisotropic conductivity to the adhesive composition, so that the adhesive composition can be more suitably used as a circuit connecting material. Further, the connection resistance between the circuit electrodes electrically connected through the adhesive composition can be more easily reduced.

본 발명은 또한, 제1 회로 기판의 주면 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판의 주면 상에 제2 회로 전극이 형성되고, 제2 회로 전극과 제1 회로 전극이 대향하도록 배치된 제2 회로 부재와, 제1 회로 부재와 제2 회로 부재 사이에 설치되어, 제1 회로 부재와 제2 회로 부재를 전기적으로 접속하는 접속 부재를 구비하고, 당해 접속 부재가, 본 발명의 접착제 조성물의 경화물인, 접속체를 제공한다. 또한, 여기서, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 한쪽이 플렉시블 기판인 것이 바람직하다.The present invention is also characterized in that a first circuit member having a first circuit electrode formed on the main surface of the first circuit substrate and a second circuit electrode formed on the main surface of the second circuit substrate, And a connecting member which is provided between the first circuit member and the second circuit member and electrically connects the first circuit member and the second circuit member to each other, And a cured product of the adhesive composition of the present invention. It is preferable that one of the first circuit board and the second circuit board is a flexible board.

본 발명에 관한 접속체는, 제1 회로 부재와 제2 회로 부재를 전기적으로 접속하는 접속 부재가, 상기 본 발명의 접착제 조성물의 경화물에 의해 구성되어 있기 때문에, 각 회로 부재와 접착제 조성물의 경화물의 접착 강도가 충분히 발현되어 있다.Since the connection member for electrically connecting the first circuit member and the second circuit member to each other is constituted by the cured product of the adhesive composition of the present invention, The adhesive strength of water is sufficiently expressed.

본 발명에 따르면, 종래와 비교하여 더욱 저온(예를 들어, 140℃ 이하)의 조건에 있어서도, 피착체와 접착제의 접착 강도가 충분히 발현되며, 또한 충분히 높은 접속 신뢰성이 얻어지는 접착제 조성물을 제공할 수 있다. 또한, 이러한 접착제 조성물에 의하면, 피착체와 접착한 후에 고온 고습 처리한 경우에도 접착 강도 및 접속 신뢰성의 저하가 충분히 억제되며, 나아가 가용 시간이 우수하다.According to the present invention, it is possible to provide an adhesive composition which can sufficiently exhibit the adhesive strength between an adherend and an adhesive even under the condition of a lower temperature (for example, 140 DEG C or less) as compared with conventional adhesives, have. Further, according to such an adhesive composition, the deterioration of the adhesive strength and the connection reliability is sufficiently suppressed even when the adhesive composition is subjected to high temperature and high humidity treatment after bonding to the adherend, and further, the time for use is excellent.

도 1은 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물을 포함하는 필름상 접착제의 일 실시 형태를 나타내는 모식 단면도이다.
도 2는 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물이 경화물을 포함하는 접속 부재를 구비하는 접속체의 일 실시 형태를 나타내는 모식 단면도이다.
도 3은 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물에 의해 접속체를 제조하는 일 실시 형태를 개략 단면도에 의해 도시하는 공정도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a film-like adhesive containing an adhesive composition according to the present embodiment. Fig.
Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a connection member having a connection member including a cured product, according to an embodiment of the present invention. Fig.
Fig. 3 is a process diagram showing an embodiment for manufacturing a connector by an adhesive composition according to the present embodiment, with a schematic sectional view. Fig.

이하, 경우에 따라 도면을 참조하면서, 본 발명의 적합한 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시 형태에 한정되지 않는다. 도면 중, 동일하거나 또는 상당 부분에는 동일 부호를 부여하고, 중복되는 설명은 적절히 생략한다. 또한, 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴산은 아크릴산 또는 거기에 대응하는 메타크릴산을 의미한다. (메트)아크릴레이트 등의 다른 유사 표현에 대하여서도 동일하다.Best Mode for Carrying Out the Invention Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the drawings, the same or equivalent portions are denoted by the same reference numerals and redundant explanations are appropriately omitted. Further, in the present specification, (meth) acrylic acid means acrylic acid or the corresponding methacrylic acid. (Meth) acrylate, and the like.

본 실시 형태에 관한 접착제 조성물은, (a) 열 가소성 수지, (b) 라디칼 중합성 화합물, 및 (c) 라디칼 중합 개시제를 함유한다.The adhesive composition according to the present embodiment contains (a) a thermoplastic resin, (b) a radically polymerizable compound, and (c) a radical polymerization initiator.

상기 (a) 열 가소성 수지로서는, 예를 들어 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 페녹시 수지, 폴리(메트)아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르우레탄 수지, 및 폴리비닐부티랄 수지로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 수지를 들 수 있다. 그 중에서도 (a) 열 가소성 수지로서, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 페녹시 수지, 폴리(메트)아크릴 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르우레탄 수지 또는 폴리비닐부티랄 수지를 포함하는 것이 바람직하다.Examples of the thermoplastic resin (a) include polyimide resin, polyamide resin, phenoxy resin, poly (meth) acrylic resin, polyester resin, polyurethane resin, polyester urethane resin, and polyvinyl butyral resin And one kind or two or more kinds of resins selected from the above. Among them, (a) a thermoplastic resin preferably includes a polyimide resin, a polyamide resin, a phenoxy resin, a poly (meth) acrylic resin, a polyurethane resin, a polyester urethane resin or a polyvinyl butyral resin.

열 가소성 수지의 중량 평균 분자량의 하한값은, 5000 이상일 수도 있고, 10000 이상일 수도 있고, 25000 이상일 수도 있다. 열 가소성 수지의 중량 평균 분자량이 5000 이상이면 접착제 조성물의 접착 강도가 향상되는 경향이 있다. 한편, 열 가소성 수지의 중량 평균 분자량의 상한값은, 400000 이하일 수도 있고, 200000 이하일 수도 있고, 150000 이하일 수도 있다. 열 가소성 수지의 중량 평균 분자량이 400000 이하이면 다른 성분의 양호한 상용성이 얻어지기 쉬운 경향이 있고, 접착제의 유동성이 얻어지기 쉬운 경향이 있다. 상기의 관점에서, 열 가소성 수지의 중량 평균 분자량은, 5000 내지 400000이 바람직하고, 5000 내지 200000이 보다 바람직하고, 10000 내지 150000이 더욱 바람직하고, 25000 내지 150000이 특히 바람직하다.The lower limit value of the weight average molecular weight of the thermoplastic resin may be 5000 or more, 10000 or more, and 25000 or more. If the weight average molecular weight of the thermoplastic resin is 5000 or more, the adhesive strength of the adhesive composition tends to be improved. On the other hand, the upper limit of the weight average molecular weight of the thermoplastic resin may be 400000 or less, 200000 or less, or 150000 or less. If the thermoplastic resin has a weight average molecular weight of 400000 or less, good compatibility of other components tends to be obtained, and the fluidity of the adhesive tends to be easily obtained. From the above viewpoint, the weight average molecular weight of the thermoplastic resin is preferably 5000 to 400000, more preferably 5000 to 200000, further preferably 10000 to 150000, and particularly preferably 25000 to 150000.

열 가소성 수지로서, 응력 완화 및 접착성 향상을 목적으로서, 고무 성분을 사용할 수도 있다.As the thermoplastic resin, a rubber component may be used for the purpose of stress relaxation and adhesion improvement.

열 가소성 수지의 함유량은, (a)성분 및 (b)성분의 총량 100질량부에 대하여, 20 내지 80질량부인 것이 바람직하고, 30 내지 70질량부인 것이 보다 바람직하고, 35 내지 65질량부인 것이 더욱 바람직하다. 열 가소성 수지의 함유량이 20질량부 이상이면 접착 강도가 향상되거나, 접착제 조성물의 필름 형성성이 향상하거나 하기 쉬운 경향이 있고, 80질량부 이하이면 접착제의 유동성을 얻기 쉬운 경향이 있다.The content of the thermoplastic resin is preferably 20 to 80 parts by mass, more preferably 30 to 70 parts by mass, and more preferably 35 to 65 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total amount of the component (a) and the component (b) desirable. If the content of the thermoplastic resin is 20 parts by mass or more, the adhesive strength tends to be improved or the film-forming property of the adhesive composition tends to be improved. When the content is 80 parts by mass or less, the fluidity of the adhesive tends to be easily obtained.

본 실시 형태에 관한 접착제 조성물은, (b) 라디칼 중합성 화합물로서, 이소시아네이트기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 또는 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 포함한다.The adhesive composition according to the present embodiment includes (b) a radically polymerizable compound having an isocyanate group or a radically polymerizable compound having a structure in which an isocyanate group is formed by heating as the radically polymerizable compound.

상기 라디칼 중합성 화합물은, 이소시아네이트기 또는 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조와, 라디칼 중합성의 불포화기를 갖는 화합물을 적어도 1종 포함하는 것이 바람직하다. 라디칼 중합성의 불포화기는, 바람직하게는 (메트)아크릴로일기, 보다 바람직하게는 (메트)아크릴로일옥시기이다.The radically polymerizable compound preferably contains at least one compound having a structure in which an isocyanate group is produced by an isocyanate group or heating and a compound having a radically polymerizable unsaturated group. The radical polymerizable unsaturated group is preferably a (meth) acryloyl group, more preferably a (meth) acryloyloxy group.

이소시아네이트기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물을 제조하는 방법으로는, 일본 특허 공개 제2006-232797호 공보에 기재되는 대로, (메트)아크릴산과 아미노알코올의 에스테르의 염과 포스겐을 반응시키는 방법, 이소프로페닐옥사졸린과 포스겐을 반응시키는 방법, 이소시아네이트기를 갖는 3-클로로프로피온산에스테르 유도체를 탈염화수소시키는 방법 등을 들 수 있다.Examples of a method for producing a compound having an isocyanate group and a (meth) acryloyloxy group include a method of reacting a salt of an ester of (meth) acrylic acid and an amino alcohol with phosgene as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-232797 , A method of reacting isopropenyl oxazoline with phosgene, and a method of dehydrochlorinating a 3-chloropropionic acid ester derivative having an isocyanate group.

이소시아네이트기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물의 분자량은 150 이상 1000 미만인 것이 바람직하다. 상기 분자량이 150 이상이면 접착제 조성물의 제조 공정에 있어서 화합물이 휘발하기 어려워지는 경향이 있다. 상기 분자량이 1000 미만이면 가열 시에 충분한 유동성이 얻어지기 쉬운 경향이 있다.The molecular weight of the compound having an isocyanate group and a (meth) acryloyloxy group is preferably 150 or more and less than 1,000. If the molecular weight is 150 or more, the compound tends to be less volatile in the process of producing the adhesive composition. If the molecular weight is less than 1000, sufficient fluidity tends to be obtained at the time of heating.

이소시아네이트기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물에 있어서, 분자 중의 이소시아네이트기 및 (메트)아크릴로일옥시기의 수에 특별히 제한은 없지만, 각각 독립적으로 1 내지 5개 정도인 것이 실용적이다.In the compound having an isocyanate group and a (meth) acryloyloxy group, the number of the isocyanate group and the number of the (meth) acryloyloxy group in the molecule is not particularly limited, but it is practically practically each independently about 1 to 5.

이소시아네이트기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물로서는, 예를 들어 2-(메트)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 2-(메트)아크릴로일옥시메틸이소시아네이트, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필이소시아네이트, 1,1-(비스아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the compound having an isocyanate group and a (meth) acryloyloxy group include 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, 2- (meth) acryloyloxymethyl isocyanate, 2- Propyl isocyanate, and 1,1- (bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate.

본 실시 형태에 관한 접착제 조성물은, (b) 라디칼 중합성 화합물로서, 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 함유하고 있을 수도 있다. 이러한 화합물을 사용함으로써 접착제의 가용 시간을 더 향상시킬 수 있다.The adhesive composition according to the present embodiment may contain (b) a radically polymerizable compound having a structure in which an isocyanate group is formed by heating, as a radical polymerizing compound. By using such a compound, the usable time of the adhesive can be further improved.

가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조는, 이소시아네이트기를 블록제 등에 의해 화학적으로 블록시킴으로써 합성할 수 있다. 블록제로서는, 예를 들어 디메틸피라졸, 디메틸말로네이트, 디에틸말로네이트, 메틸에틸케톤옥심 및 카프로락탐을 들 수 있다. 블록제의 종류에 따라 블록제가 해리하는 온도를 제어할 수 있다는 점에서, 이들 블록제는, 실용 온도에 맞추고, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The structure in which an isocyanate group is generated by heating can be synthesized by chemically blocking an isocyanate group with a block agent or the like. Examples of the blocking agent include dimethyl pyrazole, dimethyl malonate, diethyl malonate, methyl ethyl ketone oxime and caprolactam. These block agents can be used singly or in combination of two or more kinds in accordance with the practical temperature in that the temperature at which the block agent dissociates can be controlled according to the type of the block agent.

상기의 방법에 의해 합성된, 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물로서는, 예를 들어 상술한 이소시아네이트기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물을 상기 블록제로 블록된 화합물을 들 수 있다. 그의 구체예로서는, (메트)아크릴산 2-(0-[1'-메틸프로필리덴아미노]카르복시아미노)에틸을 들 수 있다.As the compound synthesized by the above-mentioned method and having a structure in which an isocyanate group is produced by heating and a (meth) acryloyloxy group, for example, a compound having an isocyanate group and a (meth) acryloyloxy group, Blocked compounds. Specific examples thereof include 2- (0- [1'-methylpropylideneamino] carboxyamino) ethyl (meth) acrylate.

이소시아네이트기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 또는 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 총 함유량은, (a)성분 및 (b)성분의 총량 100질량부를 기준으로 하여, 2 내지 12질량부인 것이 바람직하고, 3.5 내지 10질량부인 것이 보다 바람직하고, 4 내지 9질량부인 것이 더욱 바람직하다. 상기 함유량이 2질량부 이상이면 피착체와의 접착 강도가 보다 높아지는 경향이 있다. 상기 함유량이 12질량부 이하이면 접착제의 가용 시간이 더 향상되는 경향이 있고, 또한, 경화 후의 기포의 발생을 억제할 수 있어서 보다 양호한 접속 신뢰성을 얻을 수 있다.The total content of the radically polymerizable compound having an isocyanate group or the radical polymerizable compound having a structure in which an isocyanate group is formed by heating is preferably from 2 to 12 mass parts based on 100 parts by mass of the total amount of the component (a) and the component (b) More preferably 3.5 to 10 parts by mass, and still more preferably 4 to 9 parts by mass. When the content is 2 parts by mass or more, the bonding strength with an adherend tends to be higher. When the content is 12 parts by mass or less, the time for which the adhesive is used tends to be further improved. Further, generation of bubbles after curing can be suppressed, and better connection reliability can be obtained.

본 실시 형태에 관한 접착제 조성물은, 상기 이소시아네이트기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 또는 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물에 첨가하고, (b) 라디칼 중합성 화합물로서, 라디칼 중합성의 관능기를 갖는 임의의 다른 화합물을 포함하고 있을 수도 있다. 상기 다른 화합물은, 예를 들어 후술하는 화합물의 모노머 및 올리고머 중 어느 것이어도 되며, 양자를 병용하는 것일 수도 있다.The adhesive composition according to the present embodiment is prepared by adding a radically polymerizable compound having an isocyanate group or a radically polymerizable compound having a structure in which an isocyanate group is formed by heating to a radical polymerizable compound having (b) a radically polymerizable functional group And the like. The other compound may be, for example, any of monomers and oligomers of the compounds described later, or both of them may be used in combination.

상기 화합물로서는, 2개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 1종 또는 2종 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물이 바람직하다. 이러한 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들어 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에테르(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 폴리알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산 변성 2관능 (메트)아크릴레이트 및 이소시아누르산 변성 3관능 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 상기 에폭시(메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 비스페놀플루오렌디글리시딜에테르의 2개의 글리시딜기에 (메트)아크릴산을 부가시킨 에폭시(메트)아크릴레이트 및 비스페놀플루오렌디글리시딜에테르의 2개의 글리시딜기에 에틸렌글리콜 및/또는 프로필렌글리콜을 부가시킨 화합물에 (메트)아크릴로일옥시기를 도입한 화합물을 들 수 있다. 이들 화합물은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As such a compound, one or more polyfunctional (meth) acrylate compounds having two or more (meth) acryloyloxy groups are preferable. Examples of such (meth) acrylate compounds include epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (Meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate such as polyethylene glycol di (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, isocyanuric acid-modified bifunctional (meth) acrylate and isocyanuric acid-modified trifunctional (meth) acrylate. Examples of the epoxy (meth) acrylate include epoxy (meth) acrylates obtained by adding (meth) acrylic acid to two glycidyl groups of bisphenol fluorene diglycidyl ether and bisphenol fluorene diglycidyl ether (Meth) acryloyloxy group is introduced into a compound obtained by adding ethylene glycol and / or propylene glycol to two glycidyl groups. These compounds may be used singly or in combination of two or more.

또한, 접착제 조성물은 유동성의 조절 등을 목적으로 (b) 라디칼 중합성 화합물로서, 단관능 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함하고 있을 수도 있다. 단관능 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들어 펜타에리트리톨(메트)아크릴레이트, 2-시아노에틸(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 2-(2-에톡시에톡시)에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-라우릴(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸포스페이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트, 복수의 글리시딜기를 갖는 에폭시 수지의 글리시딜기 하나를 (메트)아크릴산과 반응시킴으로써 얻어지는 글리시딜기 함유 (메트)아크릴레이트 및 (메트)아크릴로일모르폴린을 들 수 있다. 이들 화합물은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The adhesive composition may also contain a monofunctional (meth) acrylate compound as the radically polymerizable compound (b) for the purpose of controlling the flowability and the like. Examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include pentaerythritol (meth) acrylate, 2-cyanoethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) (Meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, isobornyl Acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2- Methacryloyloxyethyl phosphate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate obtained by reacting one glycidyl group of an epoxy resin having a plurality of glycidyl groups with (meth) acrylic acid, and a (meth) acrylate containing a glycidyl group obtained by reacting Meth) acryloylmorpholine. These compounds may be used singly or in combination of two or more.

또한, 접착제 조성물은 가교율의 향상 등을 목적으로 하여, (b) 라디칼 중합성 화합물로서, 알릴기, 말레이미드기, 비닐기 등의 라디칼 중합성의 관능기를 갖는 화합물을 포함하고 있을 수도 있다.The adhesive composition may also contain a radically polymerizable compound (b) having a radically polymerizable functional group such as an allyl group, a maleimide group or a vinyl group for the purpose of improving the crosslinking rate or the like.

접착제 조성물은, 접착 강도의 향상을 목적으로 하여, (b) 라디칼 중합성 화합물로서, 인산기를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. 인산기를 갖는 라디칼 중합성 화합물로서는, 예를 들어 하기 식 (1), (2) 또는 (3)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.The adhesive composition preferably contains a radically polymerizable compound having a phosphoric acid group as the radically polymerizable compound (b) for the purpose of improving the adhesive strength. Examples of the radically polymerizable compound having a phosphoric acid group include compounds represented by the following formula (1), (2) or (3).

Figure pct00001
Figure pct00001

식 (1) 중, R5는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R6은 (메트)아크릴로일옥시기를 나타내고, w 및 x는 각각 독립적으로 1 내지 8의 정수를 나타낸다. 또한, 동일 분자 중의 복수의 R5, R6, w 및 x는, 각각 동일해도 되고 상이할 수도 있다.In the formula (1), R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 6 represents a (meth) acryloyloxy group, and w and x each independently represent an integer of 1 to 8. Further, a plurality of R 5 , R 6 , w and x in the same molecule may be the same or different.

Figure pct00002
Figure pct00002

식 (2) 중, R7은 (메트)아크릴로일옥시기를 나타내고, y 및 z는 각각 독립적으로 1 내지 8의 정수를 나타낸다. 동일 분자 중의 복수의 R7, y 및 z는, 각각 동일해도 되고 상이할 수도 있다.In the formula (2), R 7 represents a (meth) acryloyloxy group, and y and z each independently represent an integer of 1 to 8. A plurality of R 7 , y and z in the same molecule may be the same or different.

Figure pct00003
Figure pct00003

식 (3) 중, R8은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R9는 (메트)아크릴로일옥시기를 나타내며, b 및 c는 각각 독립적으로 1 내지 8의 정수를 나타낸다. 동일 분자 중의 복수의 R8 및 b는 동일해도 되고 상이할 수도 있다.In the formula (3), R 8 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 9 represents a (meth) acryloyloxy group, and b and c each independently represent an integer of 1 to 8. A plurality of R 8 and b in the same molecule may be the same or different.

인산기를 갖는 라디칼 중합성 화합물로서는, 예를 들어 애시드포스포옥시에틸(메트)아크릴레이트, 애시드포스포옥시프로필(메트)아크릴레이트, 애시드포스포옥시폴리옥시에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 애시드포스포옥시폴리옥시프로필렌글리콜모노(메트)아크릴레이트, 2,2'-디(메트)아크릴로일옥시디에틸포스페이트, EO(에틸렌옥사이드) 변성 인산 디(메트)아크릴레이트, 인산 변성 에폭시(메트)아크릴레이트 및 인산비닐을 들 수 있다. 이들 화합물은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the radically polymerizable compound having a phosphoric acid group include acid phosphooxyethyl (meth) acrylate, acid phosphoxypropyl (meth) acrylate, acid phosphoxypolyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate, (Meth) acrylate, phosphoric acid modified epoxy (meth) acrylate, phosphoric acid modified epoxy (meth) acrylate, phosphonium oxypropylene glycol mono (meth) acrylate, 2,2'- Acrylate, and vinyl phosphate. These compounds may be used singly or in combination of two or more.

인산기를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량은, (a)성분 및 (b)성분의 총량 100질량부에 대하여, 0.1 내지 15질량부인 것이 바람직하고, 0.5 내지 10질량부인 것이 보다 바람직하고, 1 내지 5질량부인 것이 더욱 바람직하다. 인산기를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량이 0.1질량부 이상이면, 높은 접착 강도가 얻어지기 쉬운 경향이 있고, 15질량부 이하이면, 경화 후의 접착제 조성물의 물성 저하가 발생되기 어렵고, 신뢰성 향상의 효과가 양호해진다.The content of the radical polymerizing compound having a phosphoric acid group is preferably 0.1 to 15 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, and more preferably 1 to 5 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total amount of the component (a) Mass part is more preferable. When the content of the radically polymerizable compound having a phosphoric acid group is 0.1 parts by mass or more, a high adhesive strength tends to be obtained. When the content is 15 parts by mass or less, the physical properties of the adhesive composition after curing are hardly lowered, .

접착제 조성물에 포함되는 (b) 라디칼 중합성 화합물의 총 함유량은, (a)성분 및 (b)성분의 총량 100질량부에 대하여, 20 내지 80질량부인 것이 바람직하고, 30 내지 70질량부인 것이 보다 바람직하고, 35 내지 65질량부인 것이 더욱 바람직하다. 이 총 함유량이 20질량부 이상이면, 내열성이 향상되는 경향이 있고, 80질량부 이하이면, 고온 고습 환경에 방치 후의 박리 억제의 효과가 커지는 경향이 있다.The total content of the radically polymerizable compound (b) contained in the adhesive composition is preferably 20 to 80 parts by mass, more preferably 30 to 70 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the components (a) and (b) And more preferably 35 to 65 parts by mass. When the total content is 20 parts by mass or more, heat resistance tends to be improved. When the total content is 80 parts by mass or less, the effect of suppressing peeling after leaving in a high temperature and high humidity environment tends to increase.

(c) 라디칼 중합 개시제는, 과산화물 및 아조 화합물 등의 화합물로부터 임의로 선택할 수 있다. 안정성, 반응성 및 상용성의 관점에서, 1분간 반감기 온도가 90 내지 175℃이고, 또한 분자량이 180 내지 1000인 과산화물이 바람직하다. 「1분간 반감기 온도」란, 과산화물의 반감기가 1분인 온도를 의미한다. 「반감기」란, 소정의 온도에서 화합물의 농도가 초기값의 절반으로 감소할 때까지의 시간을 의미한다.The radical polymerization initiator (c) may be selected from compounds such as peroxides and azo compounds. From the viewpoints of stability, reactivity and compatibility, peroxides having a half-life temperature for one minute of 90 to 175 DEG C and a molecular weight of 180 to 1000 are preferred. The "one-minute half-life temperature" means a temperature at which the half-life of peroxide is one minute. The term " half-life period " means a period of time until the concentration of the compound decreases to half of the initial value at a predetermined temperature.

라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들어 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카르보네이트, 쿠밀퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 디라우로일퍼옥사이드, 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시네오헵타노에이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디-t-부틸퍼옥시 헥사히드로 테레프탈레이트, t-아밀퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, 3-히드록시-1,1-디메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-아밀퍼옥시네오데카노에이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 3-메틸벤조일퍼옥사이드, 4-메틸벤조일퍼옥사이드, 디(3-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드, 2,2'-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 1,1'-아조비스(1-아세톡시-1-페닐에탄), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 디메틸-2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산), 1,1'-아조비스(1-시클로헥산카르보니트릴), t-헥실퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시말레산, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, 2,5-디메틸-2,5-디(3-메틸벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실모노카르보네이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 디부틸퍼옥시트리메틸아디페이트, t-아밀퍼옥시노르말옥토에이트, t-아밀퍼옥시이소노나노에이트 및 t-아밀퍼옥시벤조에이트로부터 선택되는 1 이상의 화합물이다.Examples of the radical polymerization initiator include 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxyneodecanoate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di (2-ethylhexyl) 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxyneodecanoate, dilauryl peroxide, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxyneodecane, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxyneodecanoate, T-butyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate Butyl peroxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, t-butylperoxy neoheptanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-amylperoxy-3,5,5-trimethylhexano 3-hydroxy-1,1-di T-butylperoxy neodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxy neodecanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexa (3-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoyl peroxide, di (4-methylbenzoyl) peroxide, 2,2'-azobis- Azobis (1-acetoxy-1-phenylethane), 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2- Azobis (4-cyanobalenoic acid), 1,1'-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile), dimethyl- ), t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxymaleic acid, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, 2,5 -Dimethyl-2,5-di (3-methylbenzoylperoxy) hexane, t-butylperoxy-2-ethylhexylmonocar Hexylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxybenzoate, dibutylperoxytrimethyladipate, t- Octoate, t-amyl peroxyisonanoate and t-amyl peroxybenzoate.

라디칼 중합 개시제의 함유량은, (a)성분 및 (b)성분의 총량 100질량부에 대하여, 1 내지 15질량부인 것이 바람직하고, 2.5 내지 10질량부인 것이 보다 바람직하고, 3 내지 8질량부인 것이 더욱 바람직하다.The content of the radical polymerization initiator is preferably 1 to 15 parts by mass, more preferably 2.5 to 10 parts by mass, and more preferably 3 to 8 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total amount of the components (a) and (b) desirable.

본 실시 형태에 관한 접착제 조성물은, 실란 커플링제를 함유하고 있을 수도 있다. 실란 커플링제는, 바람직하게는 하기 식 (4)로 표시되는 화합물이다.The adhesive composition according to the present embodiment may contain a silane coupling agent. The silane coupling agent is preferably a compound represented by the following formula (4).

Figure pct00004
Figure pct00004

식 (4) 중, R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시카르보닐기 또는 아릴기를 나타낸다. R1, R2 및 R3 중 적어도 하나는 알콕시기이다. R4는 (메트)아크릴로일기, (메트)아크릴로일옥시기, 비닐기, 이소시아나토기, 이미다졸기, 머캅토기, 아미노알킬기로 치환되어 있어도 되는 아미노기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 벤질 아미노기, 페닐아미노기, 시클로헥실아미노기, 모르폴리노기, 피페라지노기, 우레이드기, 글리시딜기 또는 글리시독시기를 나타낸다. a는 0 내지 10의 정수를 나타낸다.In formula (4), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an aryl group. At least one of R 1 , R 2 and R 3 is an alkoxy group. R 4 represents an amino group optionally substituted with a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, a vinyl group, an isocyanato group, an imidazole group, a mercapto group or an aminoalkyl group, a methylamino group, a dimethylamino group, , A phenylamino group, a cyclohexylamino group, a morpholino group, a piperazino group, a ureide group, a glycidyl group, or a glycidoxy group. a represents an integer of 0 to 10;

식 (4)의 실란 커플링제로서는, 예를 들어 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-우레이드프로필트리에톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 및 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란을 들 수 있다. 이들 화합물은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the silane coupling agent of the formula (4) include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3- ( (Meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3- Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, and 3-aminopropyltrimethoxysilane. 3-isocyanatopropyltriethoxysilane. These compounds may be used singly or in combination of two or more.

실란 커플링제의 함유량은, (a)성분 및 (b)성분의 총량 100질량부에 대하여, 0.1 내지 10질량부인 것이 바람직하고, 0.25 내지 5질량부인 것이 보다 바람직하다. 실란 커플링제의 함유량이 0.1질량부 이상이면, 회로 부재와 회로 접속 재료의 계면 박리 및 기포의 발생을 억제하는 효과가 보다 커지는 경향이 있고, 실란 커플링제의 함유량이 10질량부 이하이면, 접착제 조성물의 가용 시간이 길어지는 경향이 있다.The content of the silane coupling agent is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.25 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the total amount of the component (a) and the component (b). When the content of the silane coupling agent is 0.1 parts by mass or more, the effect of suppressing the interface separation between the circuit member and the circuit connecting material and the generation of air bubbles tends to become greater. When the content of the silane coupling agent is 10 parts by mass or less, The usable time of the battery pack tends to be longer.

본 실시 형태에 관한 접착제 조성물은, (d) 도전성 입자를 더 함유하고 있을 수도 있다. 도전성 입자를 함유하는 접착제 조성물은, 이방 도전성 접착제로서 특히 바람직하게 사용할 수 있다.The adhesive composition according to the present embodiment may further contain (d) conductive particles. The adhesive composition containing conductive particles can be particularly preferably used as the anisotropic conductive adhesive.

도전성 입자로서는, 예를 들어 Au, Ag, Pd, Ni, Cu, 땜납 등의 금속 입자, 카본 입자 등을 들 수 있다. 또한, 도전성 입자는, 유리, 세라믹, 플라스틱 등의 비도전성 재료를 포함하는 핵체 입자와, 해당 핵체 입자를 피복하는 금속, 금속 입자, 카본 등의 도전층을 갖는 복합 입자일 수도 있다. 금속 입자는, 구리 입자 및 해당 구리 입자를 피복하는 은층을 갖는 입자일 수도 있다. 복합 입자의 핵체 입자는, 바람직하게는 플라스틱 입자이다.Examples of the conductive particles include metal particles such as Au, Ag, Pd, Ni, Cu, and solder, and carbon particles. The conductive particles may be composite particles having core particles containing non-conductive materials such as glass, ceramics, and plastics, and conductive layers such as metal, metal particles, and carbon covering the core particles. The metal particles may be copper particles and particles having a silver layer covering the copper particles. The core particle of the composite particle is preferably a plastic particle.

상기 플라스틱 입자를 핵체 입자로 하는 복합 입자는, 가열 및 가압에 의해 변형되는 변형성을 가지므로, 회로 부재끼리를 접착할 때에 해당 회로 부재가 갖는 회로 전극과 도전성 입자의 접촉 면적을 증가시킬 수 있다. 그로 인하여, 이들 복합 입자를 도전성 입자로서 함유하는 접착제 조성물에 의하면, 접속 신뢰성의 관점에서 보다 한층 우수한 접속체가 얻어진다.Since the composite particles comprising the plastic particles as core particles have deformability that is deformed by heating and pressing, when the circuit members are bonded to each other, the contact area between the circuit electrodes of the circuit member and the conductive particles can be increased. Therefore, according to the adhesive composition containing these composite particles as the conductive particles, a connecting material having a better connection reliability can be obtained.

상기 도전성 입자와, 그 표면의 적어도 일부를 피복하는 절연층 또는 절연성 입자를 갖는 절연 피복 도전성 입자를, 접착제 조성물이 함유하고 있을 수도 있다. 절연층은, 하이브리다이제이션 등의 방법에 의해 설치할 수 있다. 절연층 또는 절연성 입자는, 고분자 수지 등의 절연성 재료로 형성된다. 이러한 절연 피복 도전성 입자를 사용함으로써 인접하는 도전성 입자끼리에 의한 단락이 발생하기 어려워진다.The adhesive composition may contain an insulating coating conductive particle having an insulating layer or insulating particles covering the conductive particles and at least a part of the surface of the conductive particles. The insulating layer can be provided by a method such as hybridization. The insulating layer or insulating particles are formed of an insulating material such as a polymer resin. By using such insulating coated conductive particles, it is difficult for short-circuiting between adjacent conductive particles to occur.

도전성 입자의 평균 입경은, 양호한 분산성 및 도전성을 얻는 관점에서, 1 내지 18㎛인 것이 바람직하다.The average particle diameter of the conductive particles is preferably 1 to 18 mu m from the viewpoint of obtaining good dispersibility and conductivity.

도전성 입자의 함유량은, 접착제 조성물의 전체 부피를 기준으로 하여, 0.1 내지 30 부피%인 것이 바람직하고, 0.1 내지 10 부피%인 것이 보다 바람직하고, 0.5 내지 7.5 부피%인 것이 더욱 바람직하다. 도전성 입자의 함유량이 0.1 부피% 이상이면, 도전성이 향상되는 경향이 있다. 도전성 입자의 함유량이 30 부피% 이하이면 회로 전극간의 단락이 발생하기 어려워진다는 경향이 있다. 도전성 입자의 함유량(부피%)은, 경화 전의 접착제 조성물을 구성하는 각 성분의 23℃에서의 부피에 기초하여 결정된다. 각 성분의 부피는, 비중을 이용하여 질량을 부피에 환산함으로써 구할 수 있다. 부피를 측정하려고 하는 성분을 용해하거나 팽윤시키거나 하지 않고, 그 성분을 잘 적시는 적당한 용매(물, 알코올 등)를 메스실린더 등에 넣고, 거기에 측정 대상의 성분을 투입하여 증가한 부피를 그 성분의 부피로서 구할 수도 있다.The content of the conductive particles is preferably 0.1 to 30% by volume, more preferably 0.1 to 10% by volume, and still more preferably 0.5 to 7.5% by volume based on the total volume of the adhesive composition. When the content of the conductive particles is 0.1% by volume or more, the conductivity tends to be improved. When the content of the conductive particles is 30% by volume or less, short circuit between the circuit electrodes tends to be less likely to occur. The content (volume%) of the conductive particles is determined based on the volume of each component constituting the adhesive composition before curing at 23 캜. The volume of each component can be obtained by converting mass to volume using specific gravity. A suitable solvent (water, alcohol, or the like) for sufficiently wetting the component is put into a measuring cylinder without dissolving or swelling the component whose volume is to be measured, It can also be obtained as a volume.

접착제 조성물은, 도전성 입자 이외에도, 절연성의 유기 또는 무기 미립자를 함유하고 있을 수도 있다. 무기 미립자로서는, 예를 들어 실리카 미립자, 알루미나 미립자, 실리카-알루미나 미립자, 티타니아 미립자, 지르코니아 미립자 등의 금속 산화물 미립자 외에도, 질화물 미립자 등을 들 수 있다. 유기 미립자로서는, 예를 들어 실리콘 미립자, 메타크릴레이트-부타디엔-스티렌 미립자, 아크릴-실리콘 미립자, 폴리아미드 미립자, 폴리이미드 미립자 등을 들 수 있다. 이들 미립자는, 균일한 구조를 갖고 있어도 되고, 코어-쉘형 구조를 갖고 있을 수도 있다.The adhesive composition may contain insulating organic or inorganic fine particles in addition to the conductive particles. Examples of the inorganic fine particles include nitride fine particles and the like as well as metal oxide fine particles such as silica fine particles, alumina fine particles, silica-alumina fine particles, titania fine particles and zirconia fine particles. Examples of the organic fine particles include silicon fine particles, methacrylate-butadiene-styrene fine particles, acrylic-silicon fine particles, polyamide fine particles, and polyimide fine particles. These fine particles may have a uniform structure or may have a core-shell type structure.

유기 미립자 및 무기 미립자의 함유량은, (a)성분 및 (b)성분의 총량 100질량부에 대하여, 5 내지 30질량부인 것이 바람직하고, 7.5 내지 20질량부인 것이 보다 바람직하다. 유기 미립자 및 무기 미립자의 함유량이 5질량부 이상이면, 상대한 전극간의 전기적 접속을 유지하는 것이 비교적 용이해지는 경향이 있어, 30질량부 이하이면 접착제 조성물의 유동성이 향상되는 경향이 있다.The content of the organic fine particles and the inorganic fine particles is preferably 5 to 30 parts by mass, more preferably 7.5 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the total amount of the components (a) and (b). When the content of the organic fine particles and the inorganic fine particles is 5 parts by mass or more, it is relatively easy to maintain the electrical connection between the electrodes. When the content is 30 parts by mass or less, the fluidity of the adhesive composition tends to be improved.

접착제 조성물은, 각종 첨가제를 함유할 수도 있다.The adhesive composition may contain various additives.

본 실시 형태에 관한 접착제 조성물은, 상온(25℃)에서 액상인 경우에는, 페이스트상 접착제로서 사용할 수 있다. 접착제 조성물이 상온에서 고체인 경우에는, 가열하여 사용해도 되고, 용제를 가함으로써 페이스트화하여 사용할 수도 있다. 페이스트화를 위하여 사용하는 용제는, 접착제 조성물(첨가제도 포함함)의 반응성을 실질적으로 갖지 않고, 또한 접착제 조성물을 충분히 용해 가능한 것이면 특별히 제한되지 않는다.The adhesive composition according to the present embodiment can be used as a paste-like adhesive when it is liquid at room temperature (25 캜). When the adhesive composition is a solid at room temperature, it may be heated or may be used as a paste by adding a solvent. The solvent used for paste-making is not particularly limited as long as it has substantially no reactivity of the adhesive composition (including additives) and can sufficiently dissolve the adhesive composition.

본 실시 형태에 관한 접착제 조성물은, 필름상으로 성형하고, 필름상 접착제로서 사용할 수도 있다. 필름상 접착제는, 예를 들어 접착제 조성물에 필요에 따라 용제 등을 가하는 등을 하여 얻어진 용액을, 불소 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 이형지 등의 박리성 지지체 상에 도포하거나, 용제 등을 제거하는 방법에 의해 얻을 수 있다. 필름상 접착제는, 취급 등의 관점에서 한층 편리하다.The adhesive composition according to the present embodiment may be molded into a film and used as an adhesive on a film. The film-like adhesive can be obtained, for example, by applying a solution obtained by adding a solvent or the like to the adhesive composition as required, for example, on a releasable support such as a fluororesin film, a polyethylene terephthalate film or a release paper, Can be obtained by the method. The film-like adhesive is more convenient in terms of handling and the like.

도 1은, 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물을 포함하는 필름상 접착제의 일 실시 형태를 나타내는 모식 단면도이다. 도 1에 도시하는 적층 필름(100)은, 지지체(8)와, 지지체(8) 상에 박리 가능하게 적층된 필름상 접착제(40)를 구비한다. 필름상 접착제(40)는, 절연성 접착제층(5)과, 절연성 접착제층(5) 중에 분산한 도전성 입자(7)로 구성된다. 절연성 접착제층(5)은, 상술한 접착제 조성물 중 도전성 입자 이외의 성분으로 구성된다. 이 필름상 접착제에 의하면, 취급이 용이하고, 피착체에 용이하게 설치할 수 있고, 접속 작업을 용이하게 행할 수 있다. 필름상 접착제는, 2종 이상의 층을 포함하는 다층 구성을 갖고 있을 수도 있다. 필름상 접착제가 도전성 입자를 함유하는 경우, 필름상 접착제를 이방 도전성 필름으로서 적합하게 사용할 수 있다.1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a film-like adhesive containing the adhesive composition according to the present embodiment. The laminated film 100 shown in Fig. 1 has a support 8 and a film-like adhesive 40 that is peelably laminated on the support 8. The film adhesive 40 is composed of an insulating adhesive layer 5 and conductive particles 7 dispersed in the insulating adhesive layer 5. [ The insulating adhesive layer 5 is composed of components other than the conductive particles in the above-mentioned adhesive composition. According to this film-like adhesive, it is easy to handle, can be easily installed on an adherend, and can be easily connected. The film-like adhesive may have a multilayer structure including two or more layers. When the film-like adhesive contains conductive particles, a film-like adhesive may be suitably used as the anisotropic conductive film.

본 실시 형태에 관한 접착제 조성물 및 필름상 접착제에 의하면, 통상 가열 및 가압을 병용하여 피착체끼리를 접착시킬 수 있다. 가열 온도는, 바람직하게는 100 내지 250℃이다. 압력은, 피착체에 손상을 끼치지 않는 범위이면 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로는 0.1 내지 10MPa인 것이 바람직하다. 이들 가열 및 가압은 0.5 내지 120초간의 범위에서 행하는 것이 바람직하다. 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물 및 필름상 접착제에 의하면, 예를 들어 140℃, 3MPa 정도의 조건에서, 5초간의 단시간의 가열 및 가압에서도 피착체끼리를 충분히 접착시키는 것이 가능하다.According to the adhesive composition and the film-like adhesive according to the present embodiment, adherends can be adhered to each other by commonly using heating and pressurization. The heating temperature is preferably 100 to 250 ° C. The pressure is not particularly limited as long as it does not cause damage to the adherend, but it is generally preferably 0.1 to 10 MPa. These heating and pressurization are preferably performed in the range of 0.5 to 120 seconds. According to the adhesive composition and the film-like adhesive according to the present embodiment, it is possible to sufficiently adhere adherends even under short-term heating and pressurization for 5 seconds at, for example, 140 deg. C and 3 MPa or so.

본 실시 형태에 관한 접착제 조성물 및 필름상 접착제는, 열 팽창 계수의 다른 이종의 피착체 접착제로서 사용할 수 있다. 구체적으로는, 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물 및 필름상 접착제는, 이방 도전 접착제 외에도, 은 페이스트, 은 필름 등 회로 접속 재료, CSP용 엘라스토머, CSP용 언더필재, LOC 테이프 등의 반도체 소자 접착 재료로서 사용할 수 있다.The adhesive composition and the film-like adhesive according to the present embodiment can be used as different kinds of adherend adhesives having different thermal expansion coefficients. Specifically, the adhesive composition and the film-like adhesive according to the present embodiment can be used not only as an anisotropic conductive adhesive but also as a semiconductor device adhesive material such as a circuit connecting material such as silver paste and silver film, an elastomer for CSP, an underfill material for CSP, Can be used.

이하, 본 실시 형태에 관한 필름상 접착제를 이방 도전성 필름으로서 사용하고, 회로 기판 및 회로 기판의 주면 상에 형성된 회로 전극을 갖는 회로 부재끼리를 피착체로서 접속하고, 접속체를 제조하는 일례에 대하여 설명한다.Hereinafter, an example in which the film-like adhesive according to the present embodiment is used as an anisotropic conductive film, circuit members having circuit electrodes and circuit electrodes formed on the main surface of a circuit board are connected to each other as an adherend, Explain.

도 2는, 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물이 경화물을 포함하는 접속 부재를 구비하는 접속체의 일 실시 형태를 나타내는 모식 단면도이다. 도 2에 도시하는 접속체(1)는, 대향 배치된 제1 회로 부재(20) 및 제2 회로 부재(30)를 구비하고 있다. 제1 회로 부재(20)와 제2 회로 부재(30) 사이에는, 이들을 접착 및 접속하는 접속 부재(10)가 설치되어 있다.Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a connection body in which the adhesive composition according to the embodiment is provided with a connection member including a cured product. Fig. The connector 1 shown in Fig. 2 is provided with a first circuit member 20 and a second circuit member 30 arranged to face each other. Between the first circuit member 20 and the second circuit member 30, a connecting member 10 for bonding and connecting them is provided.

제1 회로 부재(20)는, 제1 회로 기판(21)과, 제1 회로 기판(21)의 주면(21a) 상에 형성된 제1 회로 전극(22)을 구비한다. 제1 회로 기판(21)의 주면(21a) 상에는, 절연층이 형성되어 있을 수도 있다.The first circuit member 20 includes a first circuit substrate 21 and a first circuit electrode 22 formed on the main surface 21a of the first circuit substrate 21. The first circuit member 21 has a first circuit electrode 22, An insulating layer may be formed on the main surface 21a of the first circuit substrate 21. [

제2 회로 부재(30)는, 제2 회로 기판(31)과, 제2 회로 기판(31)의 주면(31a) 상에 형성된 제2 회로 전극(32)을 구비한다. 제2 회로 기판(31)의 주면(31a) 상에도, 절연층이 형성되어 있을 수도 있다.The second circuit member 30 has a second circuit board 31 and a second circuit electrode 32 formed on the main surface 31a of the second circuit board 31. [ An insulating layer may also be formed on the main surface 31a of the second circuit board 31. [

제1 회로 부재(20) 및 제2 회로 부재(30)는, 전기적 접속을 필요로 하는 회로 전극을 갖는 것이면 특별히 제한은 없다. 제1 회로 기판(21) 및 제2 회로 기판(31)으로서는, 예를 들어 반도체, 유리, 세라믹 등의 무기 재료의 기판, 폴리이미드, 폴리카르보네이트 등의 유기 재료의 기판, 유리/에폭시 등의 무기물과 유기물을 포함하는 기판을 들 수 있다. 제1 회로 기판(21)이 유리 기판이며, 제2 회로 기판(31)이 플렉시블 기판(바람직하게는, 폴리이미드 필름 등의 수지 필름)일 수도 있다.The first circuit member 20 and the second circuit member 30 are not particularly limited as long as they have circuit electrodes that require electrical connection. Examples of the first circuit substrate 21 and the second circuit substrate 31 include substrates of inorganic materials such as semiconductor, glass and ceramics, substrates of organic materials such as polyimide and polycarbonate, glass / epoxy And a substrate including an inorganic material and an organic material. The first circuit substrate 21 may be a glass substrate and the second circuit substrate 31 may be a flexible substrate (preferably, a resin film such as a polyimide film).

접속되는 회로 부재의 구체예로서는, 액정 디스플레이에 사용되고 있는, ITO(indium tin oxide) 막 등의 전극이 형성되어 있는 유리 또는 플라스틱 기판, 프린트 배선판, 세라믹 배선판, 플렉시블 배선판, 반도체 실리콘 칩 등을 들 수 있다. 이들은 필요에 따라 조합하여 사용된다. 이와 같이, 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물에 의하면, 프린트 배선판 및 폴리이미드 필름 등의 유기 재료로부터 형성된 표면을 갖는 부재 외에도, 구리, 알루미늄 등의 금속, ITO, 질화규소(SiNx), 이산화규소(SiO2) 등의 무기 재료로 형성된 표면을 갖는 부재와 같이, 다종 다양한 표면 상태를 갖는 회로 부재를 접착하기 위하여 사용할 수 있다.Specific examples of the circuit member to be connected include a glass or plastic substrate on which an electrode such as an indium tin oxide (ITO) film is formed, a printed wiring board, a ceramic wiring board, a flexible wiring board, and a semiconductor silicon chip used in a liquid crystal display . These are used in combination as needed. As described above, according to the adhesive composition of this embodiment, in addition to members having a surface formed from organic materials such as printed wiring boards and polyimide films, metals such as copper, aluminum, ITO, silicon nitride (SiN x ), silicon dioxide 2 ), or the like having a surface formed of an inorganic material such as a polyimide resin or a polyimide resin.

예를 들어, 한쪽 회로 부재가, 핑거 전극, 버스 바 전극 등의 전극을 갖는 태양 전지 셀이며, 다른 쪽 회로 부재가 탭 선일 때, 이들을 접속하여 얻어지는 접속체는, 태양 전지 셀, 탭 선 및 이들을 접착하는 접속 부재(접착제 조성물의 경화물)를 구비하는 태양 전지 모듈이다.For example, when one circuit member is a solar cell having electrodes such as finger electrodes and bus bar electrodes, and the other circuit member is a tap line, the connecting member obtained by connecting them is a solar cell, a tab line, (A cured product of an adhesive composition) to be adhered to each other.

접속 부재(10)는, 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물이 경화물을 포함한다. 접속 부재(10)는, 절연층(11) 및 절연층(11) 중에 분산한 도전성 입자(7)를 함유하고 있다. 도전성 입자(7)는 대향하는 제1 회로 전극(22)과 제2 회로 전극(32) 사이 뿐만 아니라, 주면(21a, 31a) 사이에도 배치되어 있다. 제1 회로 전극(22) 및 제2 회로 전극(32)은, 도전성 입자(7)를 통하여 전기적으로 접속되어 있기 때문에, 제1 회로 전극(22) 및 제2 회로 전극(32) 사이의 접속 저항이 충분히 저감된다. 그래서, 제1 회로 전극(22) 및 제2 회로 전극(32) 사이의 전류 흐름을 원활하게 할 수 있고, 회로가 갖는 기능을 충분히 발휘할 수 있다. 접속 부재가 도전성 입자를 함유하고 있지 않은 경우에는, 제1 회로 전극(22)과 제2 회로 전극(32)이 접촉함으로써, 전기적으로 접속된다.The connecting member 10 includes the cured product of the adhesive composition according to the present embodiment. The connecting member 10 contains the insulating layer 11 and the conductive particles 7 dispersed in the insulating layer 11. The conductive particles 7 are disposed not only between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 but also between the main surfaces 21a and 31a. Since the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 are electrically connected through the conductive particles 7, the connection resistance between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 Is sufficiently reduced. Thus, the current flow between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 can be smoothly performed, and the function of the circuit can be sufficiently exhibited. When the connecting member does not contain conductive particles, the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 are brought into contact with each other to be electrically connected.

접속 부재(10)가 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물의 경화물에 의해 형성되어 있다는 점에서, 제1 회로 부재(20) 및 제2 회로 부재(30)에 대한 접속 부재(10)의 접착 강도는 충분히 높다. 그로 인하여, 신뢰성 시험(고온 고습 시험) 후에 있어서도 접착 강도의 저하 및 접속 저항의 증대를 충분히 억제할 수 있다.The bonding strength of the connecting member 10 to the first circuit member 20 and the second circuit member 30 is set to be higher than that of the connecting member 10 in that the connecting member 10 is formed of the cured product of the adhesive composition of the present embodiment It is high enough. Therefore, even after the reliability test (high temperature and high humidity test), the decrease of the bonding strength and the increase of the connection resistance can be sufficiently suppressed.

접속체(1)는, 예를 들어 회로 전극을 가져 대향 배치된 한 쌍의 회로 부재를, 접착제 조성물을 포함하는 필름상 접착제를 사이에 두고 배치하는 공정과, 한 쌍의 회로 부재 및 필름상 접착제를, 필름상 접착제의 두께 방향으로 가압하면서 가열하여 경화함으로써, 한 쌍의 회로 부재를 접착제 조성물의 경화물을 통하여 접착하는 공정(본 접속 공정)을 구비하는 방법에 의해, 제조할 수 있다.The connection member 1 includes, for example, a step of arranging a pair of circuit members disposed opposite to each other with a circuit electrode therebetween through a film-like adhesive containing an adhesive composition, a pair of circuit members and a film- (A connecting step) of adhering a pair of circuit members to each other through a cured product of an adhesive composition, while heating the adhesive in a thickness direction of the film-like adhesive and curing the adhesive.

도 3은, 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물에 의해 접속체를 제조하는 일 실시 형태를 개략 단면도에 의해 도시하는 공정도이다. 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 필름상 접착제(40)가, 제1 회로 부재(20)의 제1 회로 전극(22)측의 주면 상에 적재된다. 필름상 접착제(40)가 상술한 지지체 상에 설치되어 있는 경우, 필름상 접착제(40)가 제1 회로 부재(20)측에 위치하는 방향에서, 필름상 접착제 및 지지체의 적층체가 회로 부재에 적재된다. 필름상 접착제(40)는, 필름상이기 때문에취급이 용이하다. 이로 인해, 제1 회로 부재(20)와 제2 회로 부재(30) 사이에 필름상 접착제(40)를 용이하게 개재시킬 수 있고, 제1 회로 부재(20)와 제2 회로 부재(30)의 접속 작업을 용이하게 행할 수 있다.Fig. 3 is a process diagram showing an embodiment in which a connector is manufactured by the adhesive composition according to the present embodiment, with a schematic sectional view. 3 (a), a film-like adhesive 40 is stacked on the main surface of the first circuit member 20 on the first circuit electrode 22 side. When the film-like adhesive 40 is provided on the above-mentioned support, in the direction in which the film-like adhesive 40 is located on the first circuit member 20 side, a laminate of the film- do. The film-like adhesive 40 is easy to handle since it is in the form of a film. This makes it possible to easily interpose the film adhesive 40 between the first circuit member 20 and the second circuit member 30 and to prevent the adhesive between the first circuit member 20 and the second circuit member 30 The connection operation can be easily performed.

필름상 접착제(40)는, 필름상으로 형성된 상술한 접착제 조성물(회로 접속 재료)이며, 도전성 입자(7) 및 절연성 접착제층(5)을 가진다. 접착제 조성물은, 도전성 입자를 함유하지 않는 경우도, 회로 전극끼리를 직접 접속시킴으로써, 전기적으로 접속하기 위한 회로 접속 재료로서 사용할 수 있다. 도전성 입자를 함유하지 않는 회로 접속 재료는, NCF(Non-Conductive-FILM) 또는 NCP(Non-Conductive-Paste)라고 불리는 경우도 있다. 접착제 조성물이 도전성 입자를 갖는 경우, 이를 사용한 회로 접속 재료는, ACF(Anisotropic Conductive FILM) 또는 ACP(Anisotropic Conductive Paste)라고 불리는 경우도 있다.The film-like adhesive 40 is the above-described adhesive composition (circuit connecting material) formed in a film form, and has the conductive particles 7 and the insulating adhesive layer 5. The adhesive composition can be used as a circuit connecting material for electrical connection by directly connecting the circuit electrodes to each other even when the conductive particles are not contained. A circuit connecting material not containing conductive particles may be referred to as NCF (Non-Conductive-FILM) or NCP (Non-Conductive-Paste). When the adhesive composition has conductive particles, the circuit connecting material using the conductive particles may be referred to as ACF (Anisotropic Conductive FILM) or ACP (Anisotropic Conductive Paste).

필름상 접착제(40)의 두께는, 10 내지 50㎛인 것이 바람직하다. 필름상 접착제(40)의 두께가 10㎛ 이상이면, 제1 회로 전극(22) 및 제2 회로 전극(32) 사이가, 접착제에 의해 충전되기 쉬워지는 경향이 있다. 필름상 접착제의 두께가 50㎛ 이하이면 제1 회로 전극(22) 및 제2 회로 전극(32) 사이의 접착제 조성물을 충분히 배제할 수 있고, 제1 회로 전극(22) 및 제2 회로 전극(32) 사이의 도통을 용이하게 확보할 수 있다.The thickness of the film-like adhesive 40 is preferably 10 to 50 mu m. If the thickness of the adhesive agent 40 on the film is 10 m or more, the gap between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 tends to be easily filled with the adhesive. The adhesive composition between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 can be sufficiently removed and the thickness of the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 Can be easily ensured.

필름상 접착제(40)의 두께 방향으로, 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이 압력 A, B를 가함으로써, 필름상 접착제(40)가 제1 회로 부재(20)에 임시 접속된다(도 3의 (b)를 참조). 이때, 가열하면서 가압할 수도 있다. 단, 가열 온도는 필름상 접착제(40) 중의 접착제 조성물이 경화되지 않는 온도, 즉 라디칼 중합 개시제가 라디칼을 급격하게 발생하는 온도보다도 충분히 낮은 온도로 설정된다.The film adhesive 40 is temporarily connected to the first circuit member 20 by applying the pressures A and B in the thickness direction of the film adhesive 40 as shown in Figure 3 (a) 3 (b)). At this time, it may be pressurized while heating. However, the heating temperature is set at a temperature at which the adhesive composition in the film-like adhesive 40 is not cured, that is, a temperature sufficiently lower than a temperature at which the radical polymerization initiator abruptly generates radicals.

계속해서, 도 3의 (c)에 도시된 바와 같이, 제2 회로 부재(30)를, 제2 회로 전극이 제1 회로 부재(20) 측에 위치하는 방향으로 필름상 접착제(40) 상에 적재한다. 필름상 접착제(40)가 지지체 상에 설치되어 있는 경우는, 지지체를 박리하고 나서 제2 회로 부재(30)를 필름상 접착제(40) 상에 적재한다.Subsequently, as shown in Fig. 3 (c), the second circuit member 30 is placed on the film-like adhesive 40 in the direction in which the second circuit electrode is positioned on the first circuit member 20 side Load. When the film-like adhesive 40 is provided on the support, the second circuit member 30 is placed on the adhesive 40 on the film after the support is peeled off.

그 후, 필름상 접착제(40)를, 그 두께 방향으로 압력 A, B를 가하면서, 가열한다. 이때의 가열 온도는, 라디칼 중합 개시제가 라디칼을 충분히 발생하는 온도로 설정된다. 이에 의해, 라디칼 중합 개시제로부터 라디칼이 발생하고, 라디칼 중합성 화합물의 중합이 개시된다. 본 접속에 의해, 도 2에 도시하는 접속체가 얻어진다. 필름상 접착제(40)를 가열함으로써, 제1 회로 전극(22)과 제2 회로 전극(32) 사이의 거리를 충분히 작게 한 상태에서 절연성 접착제가 경화되어 절연층(11)을 형성한다. 그 결과, 제1 회로 부재(20)와 제2 회로 부재(30)가 절연층(11)을 포함하는 접속 부재(10)를 통하여 견고하게 접속된다.Thereafter, the film-like adhesive 40 is heated while applying pressure A and pressure B in the thickness direction thereof. The heating temperature at this time is set to a temperature at which the radical polymerization initiator sufficiently generates radicals. As a result, radicals are generated from the radical polymerization initiator and polymerization of the radical polymerizable compound is initiated. By this connection, the connection body shown in Fig. 2 is obtained. The insulating adhesive 11 is formed by heating the adhesive agent 40 on the film so that the distance between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 is sufficiently small. As a result, the first circuit member 20 and the second circuit member 30 are firmly connected through the connecting member 10 including the insulating layer 11.

본 접속은, 가열 온도가 100 내지 250℃, 압력이 0.1 내지 10MPa, 가압 시간이 0.5 내지 120초의 조건에서 행하여지는 것이 바람직하다. 이러한 조건은, 사용하는 용도, 접착제 조성물, 회로 부재에 의해 적절히 선택된다. 본 실시 형태에 관한 접착제 조성물에 의하면, 140℃ 이하와 같은 저온 조건에서도, 충분한 신뢰성을 갖는 접속체를 얻을 수 있다. 본 접속 후, 필요에 따라, 후 경화를 행할 수도 있다.The connection is preferably performed under the conditions of a heating temperature of 100 to 250 DEG C, a pressure of 0.1 to 10 MPa, and a pressing time of 0.5 to 120 seconds. These conditions are appropriately selected depending on the application to be used, the adhesive composition, and the circuit member. According to the adhesive composition of this embodiment, it is possible to obtain a connector having sufficient reliability even under a low-temperature condition such as 140 占 폚 or less. After the connection, post curing may be performed as necessary.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 들어, 본 발명에 대하여 보다 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

<우레탄 아크릴레이트의 합성><Synthesis of urethane acrylate>

온도계, 교반기, 불활성 가스 도입구 및 환류 냉각기를 장착한 2리터의 4구 플라스크에, 폴리카르보네이트디올(알드리치사제, 수 평균 분자량 Mn=2000) 4000질량부와, 2-히드록시에틸아크릴레이트 238질량부와, 히드로퀴논모노메틸에테르 0.49질량부와, 주석계 촉매 4.9질량부를 투입하여 반응액을 제조했다. 70℃에서 가열한 반응액에 대하여, 이소포론디이소시아네이트(IPDI) 666질량부를 3시간에 걸쳐 균일하게 적하하고, 반응시켰다. 적하 완료 후, 15시간 반응을 계속하고, 전위차 자동 적정 장치(상품명 AT-510, 교토 덴시 고교 가부시키가이샤제)에서 NCO 함유량이 0.2질량%가 된 것을 확인한 시점에서 반응을 종료하고, 우레탄 아크릴레이트를 얻었다. GPC(겔 투과 크로마토그래피)에 의한 분석의 결과, 우레탄 아크릴레이트의 중량 평균 분자량은 8500(표준 폴리스티렌 환산값)이었다. 또한, GPC에 의한 분석은, 이하의 표 1에 나타내는 조건으로 행했다.4000 parts by mass of a polycarbonate diol (number-average molecular weight Mn = 2000, manufactured by Aldrich Co.) was added to a 2-liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, an inert gas inlet and a reflux condenser, and 2-hydroxyethyl acrylate , 0.49 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether, and 4.9 parts by mass of a tin catalyst were added. 666 parts by mass of isophorone diisocyanate (IPDI) was uniformly added dropwise to the reaction liquid heated at 70 占 폚 over 3 hours and reacted. After completing the dropwise addition, the reaction was continued for 15 hours. When the NCO content was confirmed to be 0.2 mass% in the potentiometric automatic titration apparatus (trade name: AT-510, manufactured by Kyoto Denshi Kogyo K.K.), the reaction was terminated and the urethane acrylate . As a result of analysis by GPC (gel permeation chromatography), the weight average molecular weight of the urethane acrylate was 8500 (in terms of standard polystyrene). The analysis by GPC was carried out under the conditions shown in Table 1 below.

Figure pct00005
Figure pct00005

<도전성 입자의 제작>&Lt; Preparation of conductive particles &

폴리스티렌 입자의 표면에, 두께 0.2㎛의 니켈층을 형성하고, 또한 이들 니켈층의 외측에, 두께 0.04㎛의 금층을 형성시켰다. 이와 같이 하여 평균 입경 4㎛의 도전성 입자를 제작했다.A nickel layer having a thickness of 0.2 占 퐉 was formed on the surface of polystyrene particles and a gold layer having a thickness of 0.04 占 퐉 was formed on the outside of these nickel layers. Thus, conductive particles having an average particle diameter of 4 탆 were produced.

<필름상 접착제의 제작>&Lt; Preparation of film-like adhesive &

표 2에 나타내는 원료를, 표 2에 나타내는 질량비로 혼합했다. 거기에 상기 도전성 입자를 1.5 부피%의 비율로 분산시키고, 필름상 접착제를 형성하기 위한 도공액을 얻었다. 이 도공액을 두께 50㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름에 도공 장치를 이용하여 도포했다. 도막을 70℃에서 10분간 열풍 건조하고, 두께 18㎛의 필름상 접착제를 형성시켰다.The raw materials shown in Table 2 were mixed at a mass ratio shown in Table 2. The conductive particles were dispersed therein in a proportion of 1.5% by volume to obtain a coating solution for forming a film-like adhesive agent. This coating solution was applied to a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 50 탆 by using a coating apparatus. The coated film was hot-air dried at 70 캜 for 10 minutes to form a film-like adhesive having a thickness of 18 탆.

표 2에 나타내는 각 수치는, 고형분의 질량부를 나타낸다. 또한, 표 2에 기재한 각 원료의 구체적 물질은, 이하에 나타내는 바와 같다.Each numerical value shown in Table 2 represents the mass part of the solid content. Specific materials of the respective materials shown in Table 2 are as follows.

·우레탄 아크릴레이트: 상술한 바와 같이 합성한 것,Urethane acrylate: a composition synthesized as described above,

·라디칼 중합성 화합물 A: 메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트(분자량 155.15, 순도 99%),Radical polymerizable compound A: Methacryloyloxyethyl isocyanate (molecular weight 155.15, purity 99%),

·라디칼 중합성 화합물 B: 메타크릴산 2-(0-[1'-메틸프로필리덴아미노]카르복시아미노)에틸(분자량 240.00, 순도 99%),Radical polymerizable compound B: 2- (0- [1'-methylpropylideneamino] carboxyamino) ethyl methacrylate (molecular weight 240.00, purity 99%),

·라디칼 중합성 화합물 C: 단관능 아크릴레이트 화합물(상품명 아릭스 CHA, 도아 고세 가부시키가이샤제: 시클로헥실아크릴레이트),Radical Polymerizable Compound C: monofunctional acrylate compound (trade name: ARIX CHA, manufactured by TOAGOSEI CO., LTD .: cyclohexyl acrylate),

·페녹시 수지: PKHC(유니온카바이드사제, 상품명: 평균 분자량 45000) 40g을 메틸에틸케톤 60g에 용해하여 제조한 40질량%의 용액,Phenoxy resin: 40% by mass of a solution prepared by dissolving 40 g of PKHC (trade name, manufactured by Union Carbide, average molecular weight: 45000) in 60 g of methyl ethyl ketone,

·인산에스테르: 2-메타크릴로일옥시에틸애시드포스페이트(상품명 라이트 에스테르 P-2M, 교에이샤 가가꾸 가부시키가이샤제),Phosphoric ester: 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate (trade name: LIGHT ESTER P-2M, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

·실란 커플링제: 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란(상품명 KBM-503, 신에쓰 가가꾸 고교 가부시키가이샤제),Silane coupling agent: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name: KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

·과산화물: 라우로일퍼옥시드(상품명 퍼로일 L, 니찌유 가부시키가이샤제: 분자량 398.6),Peroxide: Lauroyl peroxide (product name: Peroyl L, manufactured by Nippon Oil Co., Ltd., molecular weight: 398.6)

·무기 미립자: 실리카 입자(상품명 R104, 닛본 에어로실 가부시키가이샤제) 10g을 톨루엔 45g 및 아세트산에틸 45g의 혼합 용매에 분산시켜 제조한 10질량%의 분산액.10% by mass dispersion prepared by dispersing 10 g of silica fine particles (trade name: R104, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) in a mixed solvent of 45 g of toluene and 45 g of ethyl acetate.

Figure pct00006
Figure pct00006

<접속체의 제작><Fabrication of Connecting Body>

상기 필름상 접착제를 회로 접속 재료로서 사용하고, 라인 폭 75㎛, 피치 150㎛ 및 두께 18㎛의 구리 회로를 2200개 갖는 플렉시블 회로판(FPC)과, 유리 기판 및 유리 기판 상에 형성된 두께 0.2㎛의 산화인듐(ITO)의 박층을 갖는 ITO 기판(두께 1.1㎜, 표면 저항 20Ω/□)을 접속했다. 접속은, 열 압착 장치(가열 방식: 콘스탄트히트형, 도레이 엔지니어링 가부시키가이샤제)를 이용하여, 140℃, 3MPa로 5초간의 가열 및 가압에 의해 행했다. 이에 의해, 폭 1.5㎜에 걸쳐서 FPC와 ITO 기판이 필름상 접착제의 경화물에 의해 접속된 접속체를 제작했다.(FPC) having 2200 copper circuits each having a line width of 75 mu m, a pitch of 150 mu m and a thickness of 18 mu m using the film-like adhesive as a circuit connecting material, and a flexible circuit board An ITO substrate (thickness: 1.1 mm, surface resistance: 20? /?) Having a thin layer of indium oxide (ITO) was connected. The connection was performed by heating and pressing at 140 DEG C and 3 MPa for 5 seconds using a thermocompression bonding apparatus (heating method: Constant heat type, manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.). As a result, a connection body in which an FPC and an ITO substrate were connected to each other by a cured product of a film-like adhesive over a width of 1.5 mm was produced.

<접속 저항, 접착 강도의 측정>&Lt; Measurement of connection resistance and adhesive strength >

얻어진 접속체의 인접 회로간의 저항값(접속 저항)을, 멀티미터로 측정했다. 저항값은, 인접 회로간의 저항 37점의 평균으로 나타냈다. 또한, 이 접속체의 접착 강도를, JIS-Z0237에 준하여 90도 박리법으로 측정했다. 접착 강도의 측정 장치로서, 텐실론 UTM-4(도요 볼드윈 가부시키가이샤제, 상품명, 박리 강도 50㎜/min, 25℃)를 사용했다. 접속 저항 및 접착 강도는, 접속 직후 및 85℃, 85%RH의 항온 항습조 중에 250시간 유지한 후의 접속체에 대하여 측정했다. 평가 결과를 표 3에 나타낸다.The resistance value (connection resistance) between adjacent circuits of the obtained connecting member was measured by a multimeter. The resistance value was expressed as an average of 37 points of resistance between adjacent circuits. Further, the adhesive strength of the connector was measured by a 90 degree peeling method in accordance with JIS-Z0237. Tensilon UTM-4 (trade name, manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd., peeling strength: 50 mm / min, 25 캜) was used as a measuring device for the adhesive strength. The connection resistance and the bonding strength were measured for the connection body immediately after connection and after holding for 250 hours in a constant temperature and humidity bath at 85 DEG C and 85% RH. The evaluation results are shown in Table 3.

<가용 시간의 평가>&Lt; Evaluation of available time &

40℃에서 3일간 처리한 상기 필름상 접착제를 회로 접속 재료로서 사용하고, 상기와 마찬가지의 방법에 의해 접속체를 제작하고, 접속 저항 및 접착 강도를 상기의 방법에 의해 측정했다. 평가 결과를 표 3에 나타낸다.The above-mentioned film-like adhesive treated at 40 占 폚 for 3 days was used as a circuit connecting material, and a connection member was prepared by the same method as above, and the connection resistance and the adhesive strength were measured by the above method. The evaluation results are shown in Table 3.

Figure pct00007
Figure pct00007

각 실시예의 필름상 접착제에 의하면, 저온 또한 단시간의 경화 조건에 의해, 접속 직후, 고온 고습 시험 후 및 40℃에서 3일간 처리 후의 모든 경우도, 양호한 접속 저항(5Ω 이하) 및 접착 강도(6N/㎝ 이상)를 나타내는 것이 확인되었다. 특히, 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 포함하는 필름상 접착제를 사용한 실시예 5에서는, 40℃에서 3일간 처리 후의 접착 강도가 보다 우수하고, 가용 시간을 더 향상시킬 수 있는 일이 확인되었다.With the film-like adhesive of each of the examples, a good connection resistance (5 Ω or less) and an adhesive strength (6N / cm) were obtained in all the cases immediately after the connection, after the high temperature and high humidity test, Cm or more). Particularly, in Example 5 using a film-like adhesive containing a radical polymerizable compound having a structure in which an isocyanate group was formed by heating, the adhesive strength after treatment at 40 占 폚 for 3 days was more excellent and the usable time was further improved The work was confirmed.

이에 대하여, 라디칼 중합성 화합물로서, 이소시아네이트기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 또는 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 완전히 포함하지 않는 비교예 1의 필름상 접착제의 경우, 접속 직후, 고온 고습 시험 후 및 40℃에서 3일간 처리 후의 모든 경우도, 각 실시예와 비교하여 충분한 접착 강도를 얻지 못하는 경우가 확인되었다.On the other hand, in the case of the film-type adhesive of Comparative Example 1 which does not completely contain a radically polymerizable compound having an isocyanate group or a radically polymerizable compound having a structure in which an isocyanate group is formed by heating as a radically polymerizable compound, It was confirmed that sufficient adhesion strength could not be obtained in all the cases after the high humidity test and after 3 days of treatment at 40 占 폚 as compared with the respective examples.

1: 접속체
5: 절연성 접착제층
7: 도전성 입자
8: 지지체
10: 접속 부재
11: 절연층
20: 제1 회로 부재
21: 제1 회로 기판
21a: 주면
22: 제1 회로 전극
30: 제2 회로 부재
31: 제2 회로 기판
31a: 주면
32: 제2 회로 전극
40: 필름상 접착제
100: 적층 필름
1:
5: Insulating adhesive layer
7: conductive particles
8: Support
10:
11: Insulating layer
20: first circuit member
21: first circuit board
21a:
22: first circuit electrode
30: second circuit member
31: second circuit board
31a:
32: second circuit electrode
40: adhesive on film
100: laminated film

Claims (5)

(a) 열 가소성 수지,
(b) 라디칼 중합성 화합물, 및
(c) 라디칼 중합 개시제
를 함유하는 접착제 조성물이며,
상기 (b) 라디칼 중합성 화합물은, 이소시아네이트기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 또는 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물을 포함하는, 접착제 조성물.
(a) a thermoplastic resin,
(b) a radical polymerizing compound, and
(c) a radical polymerization initiator
&Lt; / RTI &gt;
(B) the radically polymerizable compound comprises a radically polymerizable compound having an isocyanate group or a radically polymerizable compound having a structure in which an isocyanate group is formed by heating.
제1항에 있어서, 상기 이소시아네이트기를 갖는 라디칼 중합성 화합물 또는 가열에 의해 이소시아네이트기가 생성되는 구조를 갖는 라디칼 중합성 화합물의 함유량이, 상기 (a) 열 가소성 수지 및 (b) 라디칼 중합성 화합물의 총량 100질량부에 대하여, 2 내지 12질량부인, 접착제 조성물.The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the radical polymerizing compound having an isocyanate group or the radical polymerizing compound having a structure in which an isocyanate group is formed by heating is contained in the total amount of the thermoplastic resin (a) and the radical polymerizing compound (b) Is 2 to 12 parts by mass relative to 100 parts by mass of the adhesive composition. 제1항 또는 제2항에 있어서, (d) 도전성 입자를 더 함유하는, 접착제 조성물.The adhesive composition according to claim 1 or 2, further comprising (d) conductive particles. 제1 회로 기판의 주면 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와,
제2 회로 기판의 주면 상에 제2 회로 전극이 형성되고, 상기 제2 회로 전극과 상기 제1 회로 전극이 대향하도록 배치된 제2 회로 부재와,
상기 제1 회로 부재와 상기 제2 회로 부재 사이에 설치되어, 상기 제1 회로 부재와 상기 제2 회로 부재를 전기적으로 접속하는 접속 부재
를 구비하고,
상기 접속 부재가 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물의 경화물인, 접속체.
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a main surface of the first circuit board,
A second circuit member having a second circuit electrode formed on a main surface of the second circuit board, the second circuit electrode being disposed so as to face the first circuit electrode,
A connecting member provided between the first circuit member and the second circuit member for electrically connecting the first circuit member and the second circuit member;
And,
Wherein the connecting member is a cured product of the adhesive composition according to any one of claims 1 to 3.
제4항에 있어서, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 한쪽이 플렉시블 기판인, 접속체.5. The connector according to claim 4, wherein one of the first circuit board and the second circuit board is a flexible board.
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