KR20180013680A - Method and apparatus for laser processing substrate of brittle material - Google Patents

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켄이치 마에다
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미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤
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Abstract

Disclosed is a method for laser processing for a brittle material substrate, irradiating a laser from a surface of a brittle material substrate. Therefore, more heat injuries can be inhibited, and processing time can be shorter than ever before when processing a plurality of points of the other surface in the thickness direction. Moreover, processing in a limited pitch can be possible. When a plurality of holes are formed in the thickness direction from the other surface of the brittle material substrate by irradiating the laser beam from the surface of the brittle material substrate, the apparatus allows the laser beam to repeatedly switch the focus thereof from the other surface of the brittle material substrate in the thickness direction as far as the predetermined distance in order to focus on a new height position whenever irradiation of the laser beam at one height position of one object for processing is completed. Therefore, a plurality of holes can be gradually formed.

Description

취성재료 기판의 레이저 가공방법 및 레이저 가공장치{METHOD AND APPARATUS FOR LASER PROCESSING SUBSTRATE OF BRITTLE MATERIAL}METHOD AND APPARATUS FOR LASER PROCESSING SUBSTRATE OF BRITTLE MATERIAL BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001]

본 발명은 레이저를 사용한 취성재료 기판의 가공방법에 관한 것으로, 특히 복수 개소에서의 두께방향으로의 가공에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of processing a brittle material substrate using a laser, and more particularly to processing in a thickness direction at a plurality of locations.

예를 들어 유리기판, 사파이어기판, 알루미나기판 등으로 대표되는 취성재료 기판에 대해 관통구멍 혹은 비 관통구멍을 형성하는 천공 가공 등, 두께방향(깊이방향)으로의 가공을 실행하는 경우에 가공 수단으로 레이저를 사용하는 방법이 널리 실시되고 있다.For example, in the case of performing machining in the thickness direction (depth direction), such as a drilling process for forming a through hole or a non-through hole in a brittle material substrate typified by a glass substrate, a sapphire substrate or an alumina substrate, A method of using a laser is widely practiced.

그와 같은 레이저에 의한 천공 가공의 한 형태로 레이저를 동심원 형상으로 조사함으로써 레이저의 빔 스폿 지름(초점위치에서의 빔 지름, 집광 지름)에 비하여 큰 지름의 관통구멍 혹은 비 관통구멍을 형성하는 가공수법이 이미 공지되어 있다(예를 들어 특허문헌 1 참조).In this type of drilling with a laser, a laser is radially concentrically irradiated to form a through hole or non-through hole having a diameter larger than the beam spot diameter of the laser (beam diameter at the focus position, condensed diameter) (For example, refer to Patent Document 1).

일본국 특개2013-146780호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-146780

취성재료 기판의 복수 개소에 대해 레이저에 의해 두께방향으로 관통구멍 혹은 비 관통구멍을 형성하는 경우, 종래에는 하나하나의 관통구멍 혹은 비 관통구멍의 형성이 순차적으로 실시되고 있었다. 그러나 이와 같은 방법의 경우는 구멍의 형성이 완료할 때까지 동일한 영역에 지속적으로 레이저를 계속 조사하게 되므로, 당해 영역의 근방에서 열 손상(균열, 치핑(chipping)의 발생)이 발생하기 쉽다는 문제가 있었다.When a through hole or a non-through hole is formed in a thickness direction by laser with a plurality of portions of a brittle material substrate, conventionally, each through hole or non-through hole is sequentially formed. However, in the case of such a method, since the laser is continuously irradiated to the same region continuously until the formation of the hole is completed, there is a problem that thermal damage (occurrence of chipping and chipping) is likely to occur in the vicinity of the region .

또, 형성하려고 하는 구멍의 깊이가 깊은 경우, 개개의 구멍을 형성할 때마다 취성재료 기판의 두께방향으로의 이동이 필요하게 되므로 가공에 시간을 요한다는 문제도 있었다.In addition, when the depth of the hole to be formed is large, it is necessary to move the brittle material substrate in the thickness direction every time the individual hole is formed, so that it takes time to process.

또, 취성재료 기판의 표면 측으로부터 레이저를 조사함으로써 이면 측의 복수 개소에 구멍을 형성하는 경우, 구멍을 형성하려고 하는 영역의 피치가 작으면 하나의 영역에서의 구멍의 형성에 이어서 인접하는 영역에 구멍을 형성하려고 할 때에 레이저가 이미 인접 영역에 형성된 구멍과 간섭하게 되어서 관련 구멍의 형상이 붕괴되어 버리는 결함이 발생하는 경우가 있었다.In the case where holes are formed at a plurality of locations on the back surface side by irradiating a laser beam from the front surface side of the brittle material substrate, if the pitch of the areas to be formed holes is small, subsequent to the formation of holes in one area, There is a case where the laser interferes with the hole already formed in the adjacent area when the hole is to be formed, so that a defect that the shape of the relevant hole collapses may occur.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 취성재료 기판의 표면 측으로부터 레이저를 조사함으로써 이면 측의 복수 개소에서 두께방향으로의 가공을 실행하는 경우에 종래보다 열 손상을 억제하면서 가공시간을 단축하고, 나아가서는 좁은 피치에서의 가공을 실행할 수 있는 취성재료 기판의 레이저 가공방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a brittle material substrate which is capable of reducing the machining time while suppressing thermal damage And a laser processing method of a brittle material substrate capable of processing at a narrow pitch.

상기 과제를 해결하기 위해 청구항 1의 발명은, 레이저빔을 취성재료 기판의 표면 측에서 조사함으로써 상기 취성재료 기판의 이면으로부터 두께방향으로 복수의 구멍을 형성하는 취성재료 기판의 레이저 가공방법으로, 하나의 가공대상 개소에서의 하나의 높이위치에서의 레이저빔의 조사가 종료할 때마다 상기 하나의 높이 위치에서 가공대상 개소를 전환하고, 상기 하나의 높이위치에서의 모든 상기 가공대상 개소에서의 상기 레이저빔의 조사가 종료할 때마다 상기 레이저빔의 초점을 상기 취성재료 기판의 이면으로부터 두께방향으로 소정 거리 이동시켜서 상기 초점을 새로운 높이 위치로 하는 것을 반복함으로써 상기 복수의 구멍을 점차 형성하는 것을 특징으로 한다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a laser processing method of a brittle material substrate for forming a plurality of holes in a thickness direction from a back surface of a brittle material substrate by irradiating a laser beam from a surface side of the brittle material substrate, And the laser beam is irradiated to the laser beam at all of the positions to be processed at the one height position, The focus of the laser beam is moved by a predetermined distance in the thickness direction from the back surface of the brittle material substrate every time the irradiation of the beam is finished, do.

청구항 2의 발명은 청구항 1에 기재된 취성재료 기판의 레이저 가공방법으로, 상기 복수의 구멍이 둥근 구멍이고, 상기 가공대상 개소에서 상기 초점이 동심원 형상의 궤적을 그리도록 상기 레이저빔을 주사시키는 것을 특징으로 한다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a laser machining method for a brittle material substrate according to claim 1, characterized in that the laser beam is scanned so that the plurality of holes are round holes, .

청구항 3의 발명은 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 취성재료 기판의 레이저 가공방법으로, 상기 레이저빔의 피코 초 UV 레이저 혹은 피코 초 그린레이저인 것을 특징으로 한다.The invention of claim 3 is a laser machining method of a brittle material substrate according to claim 1 or 2, characterized in that it is a picosecond UV laser or a picosecond green laser of the laser beam.

청구항 4의 발명은, 레이저빔을 취성재료 기판의 표면 측에서 조사함으로써 상기 취성재료 기판의 이면 측을 가공하는 레이저 가공장치로, 상기 취성재료 기판이 지지 고정되는 스테이지와, 상기 레이저빔을 출사하는 광원과, 상기 광원으로부터 출사된 상기 레이저빔을 상기 스테이지에 탑재된 취성재료 기판에 대해 조사하는 헤드를 구비하고, 하나의 가공대상 개소에서의 하나의 높이 위치에서의 레이저빔의 조사가 종료할 때마다 상기 헤드가 상기 하나의 높이 위치에서 가공대상 개소를 전환하며, 상기 하나의 높이 위치에서의 모든 상기 가공대상 개소에서의 상기 레이저빔의 조사가 종료할 때마다 상기 스테이지를 상기 헤드에 대해 상대이동시킴으로써 상기 레이저빔의 초점을 상기 취성재료 기판의 이면으로부터 두께방향으로 소정 거리 이동시켜서 상기 초점을 새로운 높이 위치로 하는 것을 반복함으로써 복수의 구멍을 점차 형성하는 것을 특징으로 한다.According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a laser machining apparatus for processing a back side of a brittle material substrate by irradiating a laser beam from a surface side of the brittle material substrate, the stage comprising: a stage on which the brittle material substrate is supported and fixed; And a head for irradiating the brittle material substrate mounted on the stage with the laser beam emitted from the light source. When the irradiation of the laser beam at one height position at one processing target position ends The stage is moved relative to the head every time the irradiation of the laser beam is finished at all of the machining target positions at the one height position, The focal point of the laser beam is moved a predetermined distance in the thickness direction from the back surface of the brittle material substrate By repeated turning on to the focus to a new height position characterized in that gradually formed a plurality of holes.

청구항 5의 발명은 청구항 4에 기재된 레이저 가공장치로, 상기 복수의 구멍이 둥근 구멍이고, 상기 헤드는 상기 가공대상 개소에서 상기 초점이 동심원 형상의 궤적을 그리도록 상기 레이저빔을 주사하는 것을 특징으로 한다.According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a laser machining apparatus as set forth in the fourth aspect, wherein the plurality of holes are round holes, and the head scans the laser beam so that the focal point forms a locus of concentric circles at the target portion do.

청구항 6의 발명은 청구항 4 또는 청구항 5에 기재된 레이저 가공장치로, 상기 레이저빔이 피코 초 UV 레이저 혹은 피코 초 그린레이저인 것을 특징으로 한다.The invention of claim 6 is the laser machining apparatus according to claim 4 or claim 5, characterized in that the laser beam is a picosecond UV laser or a picosecond green laser.

청구항 1 내지 청구항 6의 발명에 의하면, 취성재료 기판의 이면의 복수 개소에서의 두께방향으로의 천공 가공을 복수의 구멍을 병행하여 조금씩 형성하는 점차 가공의 수법으로 실시하도록 함으로써, 취성재료 기판의 열 손상을 억제할 수 있고, 또한, 개개의 구멍을 순차적으로 형성하는 순차 가공을 실행하는 경우에 비해 가공시간을 단축할 수 있다. 나아가, 순차 가공에서는 실시할 수 없는 좁은 피치로, 또한, 깊이가 큰 복수의 구멍의 형성을 실행할 수 있다.According to the invention of Claims 1 to 6, the perforation of the back surface of the brittle material substrate in the thickness direction at a plurality of places is carried out by a gradual processing method in which a plurality of holes are formed little by little in parallel, The machining time can be shortened as compared with the case where sequential machining is performed to sequentially form individual holes. Further, it is possible to form a plurality of holes having a narrow pitch and a large depth which can not be performed in sequential processing.

도 1은 레이저 가공장치(100)의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 천공 가공에서의 레이저빔(LB)의 주사형태에 대해 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 순차 가공의 순서를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 점차 가공의 순서를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 순차 가공과 점차 가공에서의 좁은 피치에서의 가공의 차이를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 점차 가공과 순차 가공에 의해 복수의 둥근 구멍을 형성한 유리기판에 대한 둥근 구멍의 위쪽에서의 촬상 화상이다.
Fig. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a laser machining apparatus 100. Fig.
Fig. 2 is a view for explaining the scanning form of the laser beam LB in the drilling process.
3 is a diagram for explaining the sequence of sequential machining.
Fig. 4 is a diagram for explaining the order of gradual processing.
Fig. 5 is a view for explaining a difference in machining at a narrow pitch in progressive machining and gradual machining.
Fig. 6 is a picked-up image of a glass substrate on which a plurality of round holes are formed by gradual machining and sequential machining from above the round holes.

<레이저 가공장치의 개요><Outline of Laser Processing Apparatus>

도 1은 본 발명의 실시형태에서 취성재료 기판(W)의 가공에 사용하는 레이저 가공장치(100)의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다. 개략적으로, 레이저 가공장치(100)는 광원(1)으로부터 출사된 레이저빔(LB)을 스테이지(2)에 탑재 고정된 취성재료 기판(W)에 조사함으로써 취성재료 기판(W)에 대해 소정의 가공을 실행하도록 구성되어 있다.Fig. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a laser machining apparatus 100 used for processing a brittle material substrate W in an embodiment of the present invention. The laser processing apparatus 100 roughly irradiates the brittle material substrate W with the laser beam LB emitted from the light source 1 by irradiating the brittle material substrate W fixedly mounted on the stage 2, So as to execute machining.

가공의 대상이 되는 취성재료 기판(W)으로는 유리기판, 사파이어기판, 알루미나기판 등을 예시할 수 있다.Examples of the brittle material substrate W to be processed include a glass substrate, a sapphire substrate, and an alumina substrate.

레이저 가공장치(100)는 광원(1) 및 스테이지(2)에 더하여, 취성재료 기판(W)에 대한 레이저빔(LB)의 직접 조사원(照射源)이 되는 헤드(3)와, 광원(1)에 부수하여 광원(1)으로부터의 레이저빔(LB)의 출사를 ON/OFF 시키는 셔터(4)와, 광원(1)으로부터 조사된 레이저빔(LB)을 소정의 각도로 반사시킴으로써 헤드(3)에 이르기까지의 레이저빔(LB)의 광로를 결정하는 미러(5)와, 레이저 가공장치(100)의 각부의 동작을 제어하는 제어부(10)를 주로 구비한다. 또한, 도 1에서는 2개의 미러(5)가 설치되어 있으나, 이것은 어디까지나 예시이며, 미러(5)의 개수 및 배치 위치는 도 1에 나타내는 형태에 한정되지는 않는다.The laser processing apparatus 100 includes a head 3 which is a direct irradiation source of a laser beam LB to a brittle material substrate W and a head 3 which is a light source 1 And a laser beam LB emitted from the light source 1 is reflected at a predetermined angle so as to be incident on the head 3 And a control section 10 for controlling the operation of each part of the laser processing apparatus 100. The laser processing apparatus 100 includes a mirror 5 for determining the optical path of the laser beam LB, In FIG. 1, two mirrors 5 are provided, but this is only an example, and the number and position of the mirrors 5 are not limited to those shown in FIG.

레이저빔(LB)은 가공 대상이 되는 취성재료 기판(W)의 재질 등에 따라서 적절하게 선택하면 좋으나, 예를 들어 피코 초 UV 레이저나 피코 초 그린레이저 등이 적절하다. 광원(1)으로는 가공에 사용하는 레이저빔(LB)에 적합한 것을 채용되면 좋다. 광원(1)에서의 레이저빔(LB)의 발생 동작 및 셔터(4)의 ON/OFF 동작은 제어부(10)에 의해 제어된다.The laser beam LB may be appropriately selected depending on the material of the brittle material substrate W to be processed. For example, a picosecond UV laser or a picosecond green laser is suitable. As the light source 1, a laser beam LB used for processing may be employed. The operation of generating the laser beam LB in the light source 1 and the ON / OFF operation of the shutter 4 are controlled by the control unit 10. [

스테이지(2)는 가공시 취성재료 기판(W)이 수평으로 탑재 고정되는 부위이다. 스테이지(2)에 대한 취성재료 기판(W)의 고정은 취성재료 기판(W)의 단부를 소정의 협지수단으로 협지(挾持)함으로써 고정된다. 또, 스테이지(2)는 이와 같은 고정 상태에서 취성재료 기판의 아래쪽에 공극부(2a)가 설치되도록 구성되어 있다. 그 이유는 후술하는 형태로 가공이 이루어질 때 취성재료 기판(W)에서 발생하는 가공 부스러기를 이 공극부(2a)에 떨어뜨리기 위해서이다. 또한, 이 가공찌꺼기는 도시하지 않은 제거수단에 의해 적절하게 제거된다.The stage 2 is a portion where the brittle material substrate W is horizontally mounted and fixed at the time of processing. The fixing of the brittle material substrate W to the stage 2 is fixed by sandwiching the end portion of the brittle material substrate W by a predetermined clamping means. The stage 2 is configured such that the air gap portion 2a is provided below the brittle material substrate in such a fixed state. The reason for this is to drop the processing debris generated in the brittle material substrate W to the void portion 2a when the processing is performed in the form described later. In addition, the processing residue is suitably removed by a removal means not shown.

또, 스테이지(2)는 구동기구(2m)에 의해 수직방향으로 이동이 자유롭게 구성되어 이루어진다. 구동기구(2m)가 제어부(10)에 의해 제어됨으로써 레이저 가공장치(100)에서는 가공 시 취성재료 기판(W)을 그 두께방향으로 상하 이동시킬 수 있게 되어 있다. 또한, 구동기구(2m)는 스테이지(2)를 수평 일축 방향 혹은 이축 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있어도 좋고, 또한, 스테이지(2) 중 적어도 취성재료 기판(W)의 지지 개소를 수평면 내에서 회전 가능하게 설치해도 좋다. 이에 의해 가공위치의 조정이나 변경을 적절하게 실시할 수 있다.The stage 2 is configured to be movable in the vertical direction by the driving mechanism 2m. By controlling the drive mechanism 2m by the control unit 10, the laser machining apparatus 100 can move the brittle material substrate W up and down in its thickness direction during processing. The driving mechanism 2m may be provided so that the stage 2 can be moved in the horizontal uniaxial direction or the biaxial direction and at least the supporting point of the brittle material substrate W among the stages 2 can be rotated It may be installed as much as possible. As a result, the machining position can be adjusted or changed appropriately.

헤드(3)는 갈바노 미러(3a)와 fθ 렌즈(3b)를 구비하고 있다. 갈바노 미러(3a)는 제어부(10)에 의해 그 자세가 제어됨으로써 입사한 레이저빔(LB)을 소정의 범위 내에서 임의의 방향으로 출사할 수 있게 되어 있다. 또, fθ 렌즈(3b)는 스테이지(2)의 상방에서 수평으로, 또한, 갈바노 미러(3a)에서 출사된 레이저빔(LB)이 입사 가능하게 배치되어 있으며, 갈바노 미러(3a)에서 출사된 레이저빔(LB)은 fθ 렌즈(3b)를 통과함으로써 스테이지(2)에 수평으로 탑재 고정된 취성재료 기판(W)에 대해 수직 상방에서 조사되게 되어 있다. 이에 의해 레이저 가공장치(100)에는 제어부(10)에 의한 제어에 따라서 갈바노 미러(3a)의 자세를 연속적으로 변화시킴으로써 스테이지(2)에 탑재 고정된 취성재료 기판(W)에서의 레이저빔(LB)의 조사 위치를 연속적으로 다르게 할 수 있게 되어 있다. 결과적으로, 레이저빔(LB)에 의해 취성재료 기판(W)을 상방에서 주사할 수 있게 되어 있다.The head 3 has a galvanometer mirror 3a and an f? Lens 3b. The galvanometer mirror 3a is controlled in its posture by the control unit 10 so that the incident laser beam LB can be emitted within a predetermined range in an arbitrary direction. The f? Lens 3b is horizontally disposed above the stage 2 and is arranged so that the laser beam LB emitted from the galvanometer mirror 3a can enter the galvanometer mirror 3a, The laser beam LB is irradiated vertically above the brittle material substrate W horizontally mounted and fixed to the stage 2 by passing through the f? Lens 3b. Thereby, the laser processing apparatus 100 is caused to perform laser beam irradiation on the brittle material substrate W mounted and fixed on the stage 2 by continuously changing the attitude of the galvanometer mirror 3a under the control of the control unit 10 LB can be successively different from each other. As a result, the brittle material substrate W can be scanned from above by the laser beam LB.

단, 스테이지(2)에 지지 고정된 취성재료 기판(W)에 대한 레이저빔(LB)의 조사가능범위는 갈바노 미러(3a)의 사이즈나 자세변경범위에 따라서 미리 정해진다. 이와 같은 조사가능범위 밖의 가공을 실행하는 경우에는 구동기구(2m)에 의해 스테이지(2)를 이동시켜서 새로운 조사가능범위를 대상으로 가공을 실행하도록 할 필요가 있다.The irradiation range of the laser beam LB with respect to the brittle material substrate W supported and fixed on the stage 2 is predetermined in accordance with the size and attitude change range of the galvanometer mirror 3a. It is necessary to move the stage 2 by the drive mechanism 2m to perform the machining on the new irradiable range.

또, 스테이지(2)에 구동기구(2m)를 설치하는 대신 헤드(3)에 도시하지 않은 구동기구를 설치하여 헤드(3)를 스테이지(2)에 대해 이동시키는 형태라도 좋다.Instead of installing the drive mechanism 2m on the stage 2, a drive mechanism (not shown) may be provided on the head 3 to move the head 3 relative to the stage 2. [

제어부(10)는 예를 들어 범용의 컴퓨터에 의해 실현된다. 도시하지 않은 제어 프로그램이 제어부(10)에서 실행됨으로써 레이저 가공장치(100)에서의 여러 동작, 예를 들어 광원(1)으로부터의 레이저빔(LB)의 출사나 스테이지(2)의 이동이나 갈바노 미러(3a)의 자세 변경 등이 실현되어 이루어진다.The control unit 10 is implemented by, for example, a general-purpose computer. A control program not shown is executed in the control unit 10 to perform various operations in the laser machining apparatus 100 such as the emission of the laser beam LB from the light source 1 or the movement of the stage 2, And the attitude change of the mirror 3a is realized.

<천공 가공의 개요><Overview of drilling>

다음에, 취성재료 기판(W)에 대해 앞에서 설명한 레이저 가공장치(100)를 사용하여 실시하는 본 실시형태에 관한 천공 가공에 대해서 1개소에 가공을 실행하는 경우를 예로 하여 설명한다. 본 실시형태에서는 취성재료 기판(W)의 상방에서(표면 측에서) 입사시킨 레이저빔(LB)에 의해 취성재료 기판(W)의 이면 측에 천공 가공을 실행한다. 또한, 이와 같은 형태로 천공 가공을 실행하는 경우, 대상이 되는 취성재료 기판(W)은 사용하는 레이저빔(LB)에 대해 투명한 재질의 것이 된다. 도 2는 이와 같은 천공 가공에서의 레이저빔(LB)의 주사 형태에 대해서 설명하기 위한 도면이다.Next, a description will be given of an example in which machining is performed at one place for the drilling process according to the present embodiment, which is performed using the laser machining apparatus 100 described above with respect to the brittle material substrate W. FIG. In the present embodiment, the drilling process is performed on the back side of the brittle material substrate W by the laser beam LB incident on the brittle material substrate W (from the front side). Further, in the case of performing the boring process in this form, the brittle material substrate W to be the object is made of a material transparent to the laser beam LB to be used. Fig. 2 is a view for explaining a scanning form of the laser beam LB in such drilling.

도 2에서는 z=z0이 취성재료 기판(W)의 이면(아랫면)의 위치이고, 레이저빔(LB)의 조사위치를 취성재료 기판(W)의 두께방향(z방향)에서 z=z0에서부터 z=z1의 위치까지 다르게 함으로써, 취성재료 기판(W)의 표면으로부터 두께방향으로 지름 D의 소정 깊이의 대략 원통 형상의 비 관통구멍(둥근 구멍)을 형성하는 경우를 상정하고 있다. 여기서, 지름 D는 레이저빔(LB)의 초점(빔 스폿, F)의 지름(빔 스폿 지름)(d1)보다 큰 값이다. 이하에서는 지름 D는 취성재료 기판(W)의 표면에서의, 즉 z=z0에서의 값으로 한다.2, z = z0 is the position of the back surface (lower surface) of the brittle material substrate W and the irradiation position of the laser beam LB is changed from z = z0 to z = Z1 so that a substantially cylindrical non-through hole (round hole) having a predetermined depth D in diameter in the thickness direction is formed from the surface of the brittle material substrate W. [ Here, the diameter D is a value larger than the diameter (beam spot diameter) d1 of the focal spot (beam spot F) of the laser beam LB. Hereinafter, the diameter D is set to a value at the surface of the brittle material substrate W, that is, at z = z0.

먼저, 초점(F)이 취성재료 기판(W)의 이면(z=z0)에 일치하도록 취성재료 기판(W)을 지지 고정한 스테이지(2)의 높이 위치를 조정하는 동시에 광원(1)으로부터의 레이저빔(LB)의 출력(이하, 레이저 출력)을 소정의 값으로 설정한다. 그 후에, 갈바노 미러(3a)의 자세를 제어함으로써 z=z0에서 초점(F)의 중심(C)이 지름 D와 동축이고, 또한, 지름이 서로 다른 복수의 동심원 형상의 궤적을 그리도록 레이저빔(LB)을 주사한다. 다시 말해, 지름을 다르게 하면서 복수 회의 주회 주사(周回走査)가 이루어진다. 또한, 이하에서는 초점(F)의 중심(C)의 궤적을 단순히 레이저빔(LB)의 궤적으로 칭하는 경우가 있다.First, the height position of the stage 2 supporting and fixing the brittle material substrate W is adjusted so that the focal point F coincides with the back surface (z = z0) of the brittle material substrate W, And the output of the beam LB (hereinafter referred to as the laser output) is set to a predetermined value. Thereafter, by controlling the attitude of the galvanometer mirror 3a, the center C of the focus F is coaxial with the diameter D at z = z0, and a plurality of concentric circles of different diameters The beam LB is scanned. In other words, a plurality of rounds of scanning are performed with different diameters. In the following description, the locus of the center C of the focus F is simply referred to as the locus of the laser beam LB.

도 2에 나타내는 경우에는 4개의 동심원 형상의 궤적(TR1, TR2, TR3, TR4)이 외측으로부터 순차적으로 각각 시계반대방향으로 그려지도록 레이저 출력 E0로 레이저빔(LB)이 주사된다. 이와 같은 주사에 의해 취성재료 기판(W)의 표면 근방이 가공되어 오목부(凹部)가 형성된다. 또한, 도 2에서는 4개의 궤적(TR1, TR2, TR3, TR4)이 독립하여 기재되어 있으나, 실제의 가공 시에는 레이저빔(LB)에 의한 하나의 주회 주사가 거의 완료한 시점에서 당해 레이저빔(LB)의 출력 상태를 유지한 채로 다음의 주회 주사로 이행하도록 해도 좋다.In the case shown in Fig. 2, the laser beam LB is scanned with the laser output E0 such that four concentric traces TR1, TR2, TR3 and TR4 are sequentially drawn counterclockwise from the outside. By such scanning, the vicinity of the surface of the brittle material substrate W is processed to form a concave portion. In FIG. 2, four trajectories TR1, TR2, TR3, and TR4 are described independently. However, at the time of actual machining, when one round of scanning by the laser beam LB is almost completed, LB may be maintained while maintaining the output state of the next main scan.

상술한 형태에서 z=z0에서의 레이저빔(LB)에 의한 주사가 종료하면, 스테이지(2)를 소정의 피치(△z)만큼 하강시킨 후에, 즉, 레이저빔(LB)의 초점(F)의 위치를 z=z0으로부터 거리 △z 만큼 취성재료 기판(W)의 깊이 방향으로 시프트시킨 다음, 상술한 것과 같은 동심원 형상의 주사를 실행한다. 또한, 먼저 형성된 오목부의 깊이와 피치(△z)는 반드시 일치하지 않아도 좋다. 이후, 레이저빔(LB)의 초점(F)이 위치 z=z1에 도달하고, 당해 위치에서의 동심원 형상의 주사가 실시될 때까지 스테이지(2)의 이동과 레이저빔(LB)에 의한 동심원 형상의 주사를 반복하도록 한다. 다시 말해, 각각의 높이 위치에서, 동심원 형상으로 복수의 주회 주사가 이루어진다. 또한, △z 및 z1의 값은 취성재료 기판(W)의 재질이나 형성하려고 하는 둥근 구멍의 깊이에 따라서 결정된다. 통상, z=z1이 되는 위치는 취성재료 기판(W)의 이면에서 보았을 때 둥근 구멍의 저부가 되는 위치보다도 얕은 위치에 결정된다.When the scanning by the laser beam LB at z = z0 in the above-described mode is completed, the stage 2 is moved down by the predetermined pitch? Z, i.e., the focus F of the laser beam LB, Is shifted in the depth direction of the brittle material substrate W by the distance DELTA z from z = z0, and then the concentric scanning as described above is performed. In addition, the depth of the concave portion formed first and the pitch [Delta] z may not always coincide with each other. Thereafter, until the focal point F of the laser beam LB reaches the position z = z1 and the movement of the stage 2 and the concentric circular shape by the laser beam LB are performed until the concentric scanning at this position is performed Is repeated. In other words, at each height position, a plurality of main scanning is performed in a concentric shape. The values of DELTA z and z1 are determined according to the material of the brittle material substrate W and the depth of the round hole to be formed. Usually, the position where z = z1 is determined to be shallower than the position where the bottom of the round hole is viewed from the back of the brittle material substrate W.

이에 의해 서로 다른 깊이 위치에서의 레이저빔(LB)의 동심원 형상의 주사가 반복될 때마다 취성재료 기판(W)의 두께방향으로의 오목부의 형성이 진행되며, 최종적으로 원하는 깊이의 둥근 구멍이 형성된다.Thus, every time the concentric scanning of the laser beam LB at the different depth positions is repeated, the formation of the concave portion in the thickness direction of the brittle material substrate W proceeds, and finally, a round hole of a desired depth is formed do.

여기서, 레이저빔(LB)의 주사 궤적의 최대지름(궤적 TR1의 지름)(d2) 및 주사 궤적의 개수(즉, 주사의 횟수)는 형성하려고 하는 둥근 구멍의 지름 D와, 빔 스폿 지름(d1)과, 갈바노 미러(3a)의 자세변경범위에 기초하여 미리 실험적으로 혹은 경험적으로 결정하면 좋다. 예를 들어 형성하려고 하는 둥근 구멍의 지름이 50㎛이고, 빔 스폿 지름(d1)이 15㎛인 경우라면 d2=30㎛로 하여 5회의 동심원 형상의 주사를 실행함으로써 원하는 둥근 구멍을 형성할 수 있다.The diameter D of the round hole to be formed and the diameter d1 of the beam spot L2 are set so that the maximum diameter (the diameter of the locus TR1) d2 and the number of scan loci (i.e., the number of scans) ) And the attitude change range of the galvanometer mirror 3a may be determined experimentally or empirically in advance. For example, in the case where the diameter of the round hole to be formed is 50 mu m and the beam spot diameter d1 is 15 mu m, a desired round hole can be formed by performing 5 times of concentric circular scanning with d2 = 30 mu m .

또한, 도 2에서는 동심원 형상의 복수 회의 주회 주사가 외측으로부터 순서대로 실시되나, 이 대신에 내측으로부터 순서대로 실시되도록 해도 좋다. 혹은 초점(F)의 깊이 위치가 변할 때마다 주사 순서를 바꾸도록 해도 좋다. 나아가서는 초점(F)의 깊이 위치에 따라서 레이저 출력을 다르게 해도 좋다.In Fig. 2, a plurality of concentric circles of main scanning are sequentially performed from the outside, but they may be sequentially arranged from the inside. Or the scanning order may be changed every time the depth position of the focus F changes. Further, the laser output may be different depending on the depth position of the focus F.

또, 도 2에 나타내는 경우에는 초점(F)의 높이 위치가 △z씩 달라짐으로써 주회 주사를 실행하는 개소도 두께방향에서 거리 △z씩 떨어지고 있으나, 이 대신에 초점(F)의 높이 위치를 연속적으로 변화시켜 초점(F)이 두께방향으로 거리 △z 이동하는 사이에 상술한 동심원 형상의 복수 회의 주회 주사에 상당하는 복수 회의 주회 주사를 연속적으로 실시하는 형태(나선형 주사)라도 좋다. In the case shown in Fig. 2, the height position of the focus F is changed by DELTA z so that the portion where the main scanning is performed is also decreased by the distance DELTA z in the thickness direction, but instead the height position of the focus F is continuously (Spiral scanning) in which a plurality of times of main scanning in a manner corresponding to the main scanning in a plurality of concentric circles described above are continuously performed while the focus F is shifted by a distance DELTA z in the thickness direction.

또, 여기까지의 설명에서는 비 관통구멍을 형성하는 경우를 예로 하고 있으나, 관통구멍을 형성하는 경우에도 동일한 수법을 채용할 수 있다. 즉, 취성재료 기판(W)의 표면으로부터의 레이저빔(LB)의 초점(F)의 총 이동거리를 충분히 크게 한 경우에는 관통구멍의 형성이 가능해지게 된다. 이와 같은 경우에도 비 관통구멍을 형성하는 경우와 마찬가지로 구체적인 가공조건은 취성재료 기판(W)의 두께나 레이저빔(LB)의 조사조건 등에 따라서 결정하면 좋다.In the above description, the case of forming the non-through hole is described as an example, but the same method can be adopted even in the case of forming the through hole. That is, when the total movement distance of the focus F of the laser beam LB from the surface of the brittle material substrate W is made sufficiently large, the through hole can be formed. In this case as well, the specific processing conditions may be determined in accordance with the thickness of the brittle material substrate W and the irradiation conditions of the laser beam LB, as in the case of forming the non-through holes.

또, 여기까지의 설명에서는 레이저빔(LB)을 주회 주사시킴으로써 둥근 구멍을 형성하는 형태에 대해서 설명하고 있으나, 형성하려고 하는 둥근 구멍의 지름 D가 작은 경우에는 주회 주사는 필수는 아니다.In the above explanation, the circular holes are formed by scanning the laser beam LB in the main scanning direction. However, when the diameter D of the circular holes to be formed is small, the main scanning is not essential.

<복수의 구멍의 가공>&Lt; Processing of a plurality of holes &

다음에, 레이저 가공장치(100)를 사용하여 실시하는 하나의 취성재료 기판(W)의 표면으로부터 두께방향으로 복수의 구멍을 형성하는 가공에 대해서 설명한다. 이와 같은 복수의 구멍의 가공은 단순하게는 개개의 구멍을 순차적으로 형성해가는 수법(이하, 순차 가공이라 칭한다)에 의해 실현 가능하나, 본 실시형태에서는 점차 가공으로 칭하는 수법으로 실시한다. 점차 가공이란, 개략적으로는 앞에서 설명한 수법을 이용하면서도, 하나의 가공대상 개소에서의 하나의 높이 위치에서의 레이저빔(LB)의 조사가 종료할 때마다 가공대상 개소를 바꿈으로써 복수의 구멍을 병행하여 조금씩 형성해가는 가공수법이다.Next, processing for forming a plurality of holes in the thickness direction from the surface of one brittle material substrate W to be carried out by using the laser machining apparatus 100 will be described. The machining of such a plurality of holes can be realized simply by a method of sequentially forming individual holes (hereinafter referred to as a sequential machining), but in the present embodiment, the machining is called gradual machining. Gradually, by using the above-described technique, while changing the portion to be processed each time the irradiation of the laser beam LB at one height position in one machining target position is completed, So that it is formed in small increments.

도 3은 순차 가공의 순서를 설명하기 위한 도면이다. 지금, 취성재료 기판(W)의 두께방향으로 깊이 h의 복수의 둥근 구멍(비 관통구멍)을 피치 p로 형성하는 경우를 생각한다. 또, 하나의 높이 위치에서의 레이저빔(LB)의 조사는 상술한 주회 주사에 의해 실시하는 것으로 한다. 도 3 (a)에서는 개개의 둥근 구멍의 형성예정영역(H0) 중 서로 이웃하는 4개의 영역 a, b, c, d를 나타내고 있다. 또한, 도 3에서는 도면 도시의 사정상 한 방향으로 서로 이웃하는 형성예정영역(H0) 만을 나타내고 있으나, 실제의 가공에서는 형성예정영역(H0)은 이차원적으로 결정해도 좋다.3 is a diagram for explaining the sequence of sequential machining. Now, a case will be considered in which a plurality of round holes (non-through holes) having a depth h in the thickness direction of the brittle material substrate W are formed with pitch p. It should be noted that irradiation of the laser beam LB at one height position is performed by the main scanning described above. Fig. 3 (a) shows four neighboring regions a, b, c, and d among the to-be-formed regions H0 of individual round holes. In Fig. 3, only the planned formation regions H0 adjacent to each other in the direction of the oblique view are shown, but in the actual processing, the planned formation region H0 may be determined two-dimensionally.

순차 가공에서는, 먼저 레이저빔(LB)의 초점(F)을 취성재료 기판(W)의 이면의 높이(z=z0)로 조정하고, 도 3에 나타내는 것과 같이 영역 a를 대상으로, 도 2에 나타낸 형태로 동심원 형상의 주회 주사와 레이저빔(LB)의 초점(F)의 높이 위치의 시프트를 반복함으로써 천공 가공을 실행한다. 이에 의해, 도 3 (c)에 나타내는 것과 같이 영역 a에 둥근 구멍(Ha)이 형성되면, 이어서, 영역 b에서 마찬가지로 동심원 형상의 주회 주사와 레이저빔(LB)의 초점(F)의 높이 위치의 시프트를 반복해서 도 3 (d)에 나타내는 것과 같이 영역 b에도 둥근 구멍(Hb)을 형성한다. 이와 같은 둥근 구멍(Hb)의 형성이 종료하면, 이어서, 영역 c→영역 d의 순으로 모든 형성예정영역(H0)에 대해 가공을 실행하면 최종적으로는 도 3 (e)에 나타내는 것과 같이 각각의 형성예정영역(H0)(영역 a, b, c, d)에 원하는 복수의 둥근 구멍 H(Ha, Hb, Hc, Hd)이 형성된다.In the sequential processing, first, the focal point F of the laser beam LB is adjusted to the height (z = z0) of the back surface of the brittle material substrate W, and as shown in Fig. 3, The drilling process is performed by repeating the main scan of concentric circles and the shift of the height position of the focus F of the laser beam LB in the form shown. 3 (c), when a round hole Ha is formed in the region a, the laser beam LB is focused on the laser beam LB in the same manner as in the case of the concentric circular main scanning in the region b The round holes Hb are formed in the region b repeatedly as shown in Fig. 3 (d). After the formation of the round hole Hb is completed, processing is then performed on all of the to-be-formed regions H0 in the order of region c → region d. Finally, as shown in FIG. 3 (e) A desired plurality of round holes H (Ha, Hb, Hc and Hd) are formed in the to-be-formed region H0 (regions a, b, c and d).

한편, 도 4는 본 실시형태에서 채용하는 점차 가공의 순서를 설명하기 위한 도면이다. 지금, 도 3에 나타낸 순차 가공의 경우와 마찬가지로 취성재료 기판(W)의 두께방향으로 깊이 h의 복수의 둥근 구멍(비 관통구멍)을 피치 p로 형성하는 경우를 생각한다. 도 4 (a)에서도 개개의 둥근 구멍의 형성예정영역(H0) 중 서로 이웃하는 4개의 영역(a, b, c, d)을 나타내고 있다. 물론, 점차 가공의 경우에도 형성예정영역(H0)은 이차원적으로 결정해도 좋다.On the other hand, Fig. 4 is a diagram for explaining the gradual processing procedure adopted in the present embodiment. Now, it is assumed that a plurality of round holes (non-through holes) having a depth h in the thickness direction of the brittle material substrate W are formed with pitch p as in the case of the sequential machining shown in Fig. 4 (a) also shows four neighboring regions a, b, c, and d among the to-be-formed regions H0 of individual round holes. Of course, also in the case of processing gradually, the to-be-formed region H0 may be determined two-dimensionally.

먼저, 도 4 (b)에 나타내는 것과 같이, 레이저빔(LB)의 초점(F)을 취성재료 기판(W)의 이면의 높이(z=z0)로 조정한 다음, 영역 a를 대상으로 레이저빔(LB)에 의한 주회 주사를 실행한다. 이에 의해, 도 4(c)에 나타내는 것과 같이, 영역 a에 오목부가 형성된다. 이어서, 순차 가공의 경우와는 달리 점차 가공에서는 초점(F)의 높이 위치를 z=z0로 유지한 채로 영역 b를 대상으로 하는 주회 주사를 실행한다. 이에 의해, 도 4 (d)에 나타내는 것과 같이, 영역 a에 이어서 영역 b에도 오목부가 형성된다. 그리고 이어서 영역 c를 대상으로 하는 주회 주사를 실행한다.First, as shown in Fig. 4 (b), the focal point F of the laser beam LB is adjusted to the height (z = z0) of the back surface of the brittle material substrate W, (LB). As a result, as shown in Fig. 4 (c), a concave portion is formed in the region a. Subsequently, unlike sequential machining, gradual machining is performed in the region b while keeping the height position of the focus F at z = z0. As a result, as shown in Fig. 4 (d), a recess is formed in the region b following the region a. Subsequently, main scanning is performed on the area c.

이와 같이, 초점(F)의 높이 위치를 z=z0으로 유지한 채로 주회 주사를 도 4 (e)에 나타내는 것과 같이 모든 형성예정영역(H0)에 대해(도 4에서는 영역 a, b, c, d에 대해) 실시하여 각 영역에 오목부를 형성한 후, 초점(F)의 높이 위치를 거리 △z 만큼 시프트시켜서 다시 영역 a에 대한 주회 주사를 실행한다. 이에 의해, 도 4(f)에 나타내는 것과 같이 영역 a에서의 오목부의 형성이 진행된다. 이와 같은 주회 주사가 종료하면, 이어서, 초점(F)의 높이 위치를 바꾸지 않고 영역 b→영역 c→영역 d의 순으로, 모든 형성예정영역(H0)에 대해 주회 주사를 실행하여 각각의 영역에서의 오목부의 형성을 진행시킨다. 이후 마찬가지로, 초점(F)의 높이 위치의 거리 △z의 시프트와, 영역 a→영역 b→영역 c→영역 d의 순으로의 주회 주사를 소정의 둥근 구멍의 깊이(h)에 따른 소정 위치(z=z1)까지 반복한다. 최종적으로, 도 4 (g)에 나타내는 것과 같이 각각의 형성예정영역(H0)(영역 a, b, c, d)에 소망의 복수의 둥근 구멍 H(Ha, Hb, Hc, Hd)가 형성된다.Thus, the main scanning is performed for all the to-be-formed regions H0 (regions a, b, c, and d in Fig. 4) as shown in Fig. 4 (e) while maintaining the height position of the focus F at z = d), a recess is formed in each region, the height position of the focal point F is shifted by the distance DELTA z, and the main scanning is executed again for the region a. As a result, as shown in Fig. 4 (f), the formation of the recess in the region a proceeds. When the main scanning is completed, main scanning is performed on all the to-be-formed regions H0 in the order of region b? Region c? Region d without changing the height position of the focus F, As shown in Fig. Similarly, the shift of the distance DELTA z at the height position of the focus F and the main scanning in the order of the region a, the region b, the region c, and the region d are performed at a predetermined position along the depth h of the predetermined round hole z = z1). Finally, a desired plurality of round holes H (Ha, Hb, Hc and Hd) are formed in the respective to-be-formed regions H0 (regions a, b, c and d) .

이상의 순차 가공과 점차 가공을 대비하면, 순차 가공의 경우는 1개의 형성예정영역에서의 구멍의 형성이 완료할 때까지 당해 영역에 지속적으로 레이저를 계속 조사하게 되므로, 당해 영역 근방에서의 온도가 상승하여 열 손상(균열, 치핑의 발생)이 발생하기 쉽다. 이에 대해, 점차 가공의 경우는 각각의 형성예정영역에서의 1회당 가공시간이 짧으며, 게다가 가공 대상이 되는 형성예정영역이 차례로 바뀌어 가게 되므로 각각의 형성예정영역에서의 온도 상승은 발생하기 어렵다. 그러므로 열 손상(균열, 치핑의 발생)은 발생하기 어렵게 되어 있다.If the sequential processing and the gradual machining are compared, the laser is continuously irradiated to the region until the formation of the hole in the one to-be-formed region is completed, so that the temperature in the vicinity of the region is raised So that thermal damage (cracking, occurrence of chipping) is likely to occur. On the other hand, in the case of gradual processing, the processing time per processing time in each of the formation scheduled regions is short, and the planned formation regions to be processed are changed in turn, so that the temperature rise in each of the planned formation regions is unlikely to occur. Therefore, thermal damage (generation of cracks and chipping) is hard to occur.

또, 순차 가공의 경우는 각각의 가공 대상 영역에서 가공을 실행할 때마다 스테이지(2)를 승강시킴으로써 레이저빔(LB)의 초점(F)을 취성재료 기판(W)의 이면 z=z0으로부터 z=z1까지 이동시킬 필요가 있는데 반해, 점차 가공의 경우는 이면 z=z0으로부터 z=z1까지의 초점(F)의 이동은 가공 시작에서부터 가공 종료까지의 사이에 단 한 번 단속적으로 이루어질 뿐이다. 이것은 순차 가공보다 점차 가공 쪽이 가공 시간이 단축된다는 것을 의미한다. 게다가, 이와 같은 시간 단축의 효과는 천공하려고 하는 구멍의 개수가 많을수록 현저하다.In the case of the sequential machining, the stage 2 is moved up and down every time the machining is performed in each of the processing target areas so that the focal point F of the laser beam LB is shifted from the z = z0 side of the brittle material substrate W to z = z1, while in the case of gradual processing, the movement of the focus F from z = z0 to z = z1 is only intermittent from the start of machining to the end of machining. This means that the machining time is shorter than the sequential machining. In addition, the effect of shortening the time is remarkable as the number of holes to be drilled is larger.

<좁은 피치에서의 가공><Processing at Narrow Pitch>

상술한 점차 가공은 취성재료 기판(W)의 이면 측에 복수의 구멍을 좁은 피치로 형성하는 경우에 적합하다. 도 5는 순차 가공과 점차 가공의 좁은 피치에서의 가공의 차이를 설명하기 위한 도면이다.The gradual processing described above is suitable for forming a plurality of holes at a narrow pitch on the back side of the brittle material substrate W. [ Fig. 5 is a view for explaining a difference in machining at a narrow pitch between progressive machining and gradual machining.

지금, 도 5 (a)에 나타내는 것과 같이 피치 p가 도 3 (a) 및 도 4 (a)에서 나타낸 경우보다 작고, 또한, 깊이 h가 도 3 (a) 및 도 4 (a)에서 나타낸 경우보다 큰 복수의 비 관통구멍을 형성하는 경우를 생각한다.Now, as shown in Fig. 5 (a), when the pitch p is smaller than that shown in Figs. 3 (a) and 4 (a) A case of forming a plurality of larger non-through holes is considered.

이와 같은 형성을 순차 가공으로 실시하려고 하는 경우, 예를 들어 하나의 형성예정영역(H0)(영역 a)에 대한 구멍(Ha)의 형성에 이어서 서로 이웃하는 형성예정영역(H0)(영역 b)에 대한 구멍의 형성을 실행하려고 하는 경우, 피치(p) 및 깊이(h)의 크기에 따라서는, 도 5 (b)에 나타내는 것과 같이, 영역 b에서 주회 주사시키고 있는 레이저빔(LB)이 일부 영역(I)에서 구멍 Ha와 간섭하는 경우가 있다. 이와 같은 간섭이 발생하면 먼저 형성된 구멍(H)의 형상이 찌그러지는 등의 결함이 발생한다.In the case where such a formation is to be carried out by sequential processing, for example, formation of a hole Ha in one to-be-formed region H0 (region a) followed by formation of a to-be-formed region H0 (region b) The laser beam LB to be scanned in the area b in the region b is partly reflected by the portion p as shown in Fig. 5 (b), depending on the size of the pitch p and the depth h, And may interfere with the hole Ha in the region (I). When such interference occurs, defects such as collapsing the shape of the hole H formed first occur.

이에 대해, 점차 가공의 경우는 도 5 (c)에 나타내는 것과 같이 영역 a에서의 오목부의 형성에 이어서 영역 b에 오목부를 형성할 영역 B에서 레이저빔(LB)을 주회 주사시켰다고 해도 레이저빔(LB)의 초점(F)과 영역 A에 형성된 오목부의 저부의 높이 차이가 작으므로 레이저빔(LB)이 영역 A에 형성된 오목부와 간섭하는 일은 없다. 이는 점차 가공이 도 5 (c)에 나타내는 경우에서 더 진행하였다고 해도 마찬가지이다. 그러므로 최종적으로는 도 5 (d)에 나타내는 것과 같은 순차 가공에서는 실현될 수 없는, 피치(p)가 작고, 또한, 깊이(h)가 큰 복수의 구멍의 형성을 실현할 수 있다.On the other hand, in the case of gradual processing, as shown in Fig. 5 (c), even if the laser beam LB is scanned in the area B where the concave part is to be formed in the area b after the formation of the concave part in the area a, The laser beam LB does not interfere with the concave portion formed in the region A since the difference in height between the focus F of the laser beam LB and the bottom portion of the concave portion formed in the region A is small. This is true even if the processing progresses further in the case shown in Fig. 5 (c). Therefore, the formation of a plurality of holes having a small pitch p and a large depth h, which can not be realized by the sequential machining as shown in Fig. 5 (d), can be realized finally.

이상 설명한 것과 같이, 본 실시형태에 의하면 취성재료 기판(W)의 이면의 복수 개소에서의 두께방향으로의 천공 가공을 복수의 구멍을 병행하여 조금씩 형성해 가는 점차 가공의 수법으로 실시하도록 함으로써, 취성재료 기판에서의 열 손상을 억제할 수 있고, 또한, 개개의 구멍을 순차적으로 형성하는 순차 가공을 실행하는 경우에 비해 가공시간을 단축할 수 있다. 또한, 순차 가공에서는 얻을 수 없는 좁은 피치에서 깊이가 깊은 복수의 구멍의 형성을 실행할 수 있다.As described above, according to the present embodiment, the perforation in the thickness direction at a plurality of places on the back surface of the brittle material substrate W is carried out by a gradual processing method in which a plurality of holes are formed little by little in parallel, Thermal damage on the substrate can be suppressed and the machining time can be shortened as compared with the case where sequential machining for forming individual holes sequentially is performed. Further, it is possible to form a plurality of holes having a deep depth at a narrow pitch that can not be obtained by sequential processing.

<변형 예><Modifications>

앞에서 설명한 실시형태에서는 일정한 가공 조건하에서의 구멍의 형성을 전제로 한 설명을 하였으나, 도중의 깊이까지 가공이 진행된 시점에서 가공조건이 변경되는 형태라도 좋다.In the above-described embodiment, the description is given on the premise that the hole is formed under a certain machining condition. However, the machining condition may be changed at the time the machining proceeds to the depth in the middle.

또, 앞에서 설명한 실시형태에서는 병렬 가공과 순차 가공을 택일적으로 사용하는 것을 전제로 한 설명을 하였으나, 병렬 가공과 순차 가공을 조합한 형태라도 좋다. 예를 들어 일정한 깊이까지는 병렬 가공을 하고, 그 후 각각의 오목부를 대상으로 순차 가공을 실행하는 형태라도 좋다. 이와 같은 형태에 의해서도 좁은 피치에서의 가공은 실현 가능하다.In the above-described embodiment, it is assumed that the parallel processing and the sequential processing are used alternatively. However, the parallel processing and the sequential processing may be combined. For example, parallel processing may be performed up to a certain depth, and then sequential processing may be performed on each concave portion. With this configuration, machining at a narrow pitch can be realized.

앞에서 설명한 실시형태에서는 둥근 구멍의 가공을 예로 들어서 복수의 구멍의 형성을 순차 가공으로 실시하는 형태에 대해서 설명을 하였으나, 복수의 구멍의 형성에 대한 순차 가공의 적용은 둥근 구멍 이외에 임의의 형상으로 깊이 방향으로 가공을 실행하는 경우에도 적용 가능하다. 예를 들어 각형 구멍이나 홈의 형성에도 적용할 수 있다. 또한, 전자의 경우는 하나의 높이 위치의 레이저빔(LB)의 주사는 서로 다른 크기의 직사각형 형상의 궤적이 동축으로 형성되도록 주회 주사를 실행하도록 해도 좋고, 소정의 피치로 평행한 복수의 궤적이 형성되도록 해도 좋다. 또, 후자의 경우는 소정 피치로 평행한 복수의 궤적이 형성되도록 하면 좋다.In the above-described embodiment, a description has been given of a mode in which the formation of a plurality of holes is sequentially performed by taking round hole processing as an example. However, the application of the sequential machining to the formation of a plurality of holes is not limited to a circular hole, The present invention is also applicable to a case where machining is performed in a direction For example, it can be applied to the formation of square holes and grooves. In the case of the former case, scanning of the laser beam LB at one height position may be performed by performing the main scanning so that rectangular trajectories of different sizes are coaxially formed, and a plurality of loci parallel to each other at a predetermined pitch . In the latter case, a plurality of loci parallel to each other at a predetermined pitch may be formed.

[실시 예][Example]

각각의 형상이 동일한 복수의 둥근 구멍의 가공을 점차 가공과 순차 가공의 양방의 방법으로 실시하였다.The machining of a plurality of round holes having the same shape was gradually carried out by both the machining and the sequential machining.

구체적으로는, 취성재료 기판(W)으로 두께가 1.1mm의 소다 유리기판을 준비하고, 지름 D가 100㎛인 25개의 둥근 구멍을 5×5의 정방 격자 형상으로 피치(p)를 115㎛로 하여 형성하였다. 즉, 둥근 구멍과 둥근 구멍의 간극이 최소 15㎛라는 좁은 피치의 조건에서 복수의 둥근 구멍을 형성하도록 하였다. 또, 레이저빔(LB)으로는 피코 초 그린레이저를 사용하였다. 피코 초 그린레이저의 스펙은 이하와 같다.Specifically, a soda glass substrate having a thickness of 1.1 mm was prepared as a brittle material substrate W, and 25 round holes having a diameter D of 100 占 퐉 were formed in a 5 占 5 square lattice shape to have a pitch p of 115 占 퐉 . That is, a plurality of round holes were formed under a condition of a narrow pitch that the gap between the round hole and the round hole was at least 15 μm. As the laser beam LB, a picosecond green laser was used. The specifications of the picosecond green laser are as follows.

파장 : 532nm;Wavelength: 532 nm;

반복 주파수 : 20kHz;Repetition frequency: 20kHz;

출력 : 초기값 0.08W→최종값 0.1W;Output: Initial value 0.08W → Final value 0.1W;

주사속도 : 100nm/s;Scanning speed: 100 nm / s;

펄스 에너지 : 4μJ→5μJ;Pulse energy: 4 占 →? 5 占;;

펄스 플루언스(pulse fluence) : 5J/㎠→6.3J/㎠;Pulse fluence: 5J / cm2? 6.3J / cm2;

펄스 주기 : 5㎛;Pulse period: 5 占 퐉;

펄스 폭 : 50ps.Pulse width: 50ps.

또, 레이저빔(LB)의 빔 스폿 지름(d1)은 10㎛로 하고, 레이저빔(LB)의 주사 궤적의 최대 지름(d2)은 96㎛로 하며, 하나의 높이 위치에서의 주사 회수는 7회로 하고, △z는 5㎛로 하며, 두께방향으로의 초점(F)의 이동거리(z1-z0)는 850㎛로 하였다.The beam spot diameter d1 of the laser beam LB is 10 m, the maximum diameter d2 of the scan locus of the laser beam LB is 96 m, and the number of scans at one height position is 7 , And? Z was 5 占 퐉, and the moving distance (z1-z0) of the focus F in the thickness direction was 850 占 퐉.

도 6은 각각의 가공수법에 의해 복수의 둥근 구멍을 형성한 유리기판에 대한 둥근 구멍의 위쪽에서의 촬상 화상이다. 도 6(a)가 점차 가공인 경우의 화상이고, 도 5(b)가 순차 가공인 경우의 화상이다.Fig. 6 is a picked-up image of a glass substrate on which a plurality of round holes are formed by respective machining methods from above the round holes. 6 (a) is an image in the case of gradual processing, and FIG. 5 (b) is an image in the case of progressive processing.

2개의 화상을 대비하면, 도 6 (a)에 나타내는 점차 가공인 경우의 화상에서는 모든 둥근 구멍이 윗면 측에서 보아서 거의 진원 형상으로 형성되어 있는 것이 확인되는데 반해, 도 6 (b)에 나타내는 순차 가공인 경우의 화상에서는 예를 들어 화살표로 나타내는 둥근 구멍을 비롯하여 많은 둥근 구멍에서 그 형상에 삐뚤어지거나 뒤틀림이 발생하였다.When the two images are compared with each other, it is confirmed that all round holes are formed in a nearly round shape in the image in the gradual processing as shown in Fig. 6 (a) The image is distorted or warped in many round holes including a circular hole indicated by an arrow, for example.

이상의 결과는 점차 가공 쪽이 순차 가공보다 좁은 피치에서의 복수의 천공 가공에 적합하다는 것을 나타내고 있다.The above results indicate that the machining side is more suitable for a plurality of drilling operations at a narrower pitch than the sequential machining.

1 광원
2 스테이지
2m 구동기구
3 헤드
3a 갈바노 미러
3b 렌즈
4 셔터
5 미러
10 제어부
100 레이저 가공장치
C 초점의 중심
D 둥근 구멍의 지름
F 초점
H0(a, b, c, d) (둥근 구멍) 형성예정영역
H(Ha, Hb, Hc, Hd) 둥근 구멍
LB 레이저빔
W 취성재료 기판
d1 빔 스폿 지름
h (둥근 구멍의) 깊이
p (둥근 구멍의) 피치
1 light source
2 stage
2m drive mechanism
3 head
3a Galvano Mirror
3b lens
4 Shutter
5 mirror
10 control unit
100 laser processing equipment
C Center of focus
D Diameter of round hole
F Focus
H0 (a, b, c, d) (round hole)
H (Ha, Hb, Hc, Hd) Round hole
LB laser beam
W brittle material substrate
d1 Beam spot diameter
h (depth of round hole)
p (pitch of round hole)

Claims (6)

레이저빔을 취성재료 기판의 표면 측에서 조사함으로써 상기 취성재료 기판의 이면으로부터 두께방향으로 복수의 구멍을 형성하는 취성재료 기판의 레이저 가공방법으로,
하나의 가공대상 개소에서의 하나의 높이위치에서의 레이저빔의 조사가 종료할 때마다 상기 하나의 높이 위치에서 가공대상 개소를 전환하고, 상기 하나의 높이위치에서의 모든 상기 가공대상 개소에서의 상기 레이저빔의 조사가 종료할 때마다 상기 레이저빔의 초점을 상기 취성재료 기판의 이면으로부터 두께방향으로 소정 거리 이동시켜서 상기 초점을 새로운 높이 위치로 하는 것을 반복함으로써 상기 복수의 구멍을 점차 형성하는 것을 특징으로 하는 취성재료 기판의 레이저 가공방법.
A laser processing method of a brittle material substrate for forming a plurality of holes in a thickness direction from a back surface of a brittle material substrate by irradiating a laser beam from a surface side of the brittle material substrate,
Wherein the machining target position is switched at the one height position every time the irradiation of the laser beam at one height position in one machining target position is completed, The focal point of the laser beam is moved from the back surface of the brittle material substrate by a predetermined distance in the thickness direction every time the irradiation of the laser beam is finished, Of the brittle material substrate.
제 1 항에 있어서,
상기 복수의 구멍이 둥근 구멍이고,
상기 가공대상 개소에서 상기 초점이 동심원 형상의 궤적을 그리도록 상기 레이저빔을 주사시키는 것을 특징으로 하는 취성재료 기판의 레이저 가공방법.
The method according to claim 1,
Wherein the plurality of holes are round holes,
And the laser beam is scanned so that the focal point forms a locus of concentric circles in the portion to be processed.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 레이저빔이 피코 초 UV 레이저 혹은 피코 초 그린레이저인 것을 특징으로 하는 취성재료 기판의 레이저 가공방법.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the laser beam is a picosecond UV laser or a picosecond green laser.
레이저빔을 취성재료 기판의 표면 측에서 조사함으로써 상기 취성재료 기판의 이면 측을 가공하는 레이저 가공장치로,
상기 취성재료 기판이 지지 고정되는 스테이지와,
상기 레이저빔을 출사하는 광원과,
상기 광원으로부터 출사된 상기 레이저빔을 상기 스테이지에 탑재된 취성재료 기판에 대해 조사하는 헤드를 구비하고,
하나의 가공대상 개소에서의 하나의 높이 위치에서의 레이저빔의 조사가 종료할 때마다 상기 헤드가 상기 하나의 높이 위치에서 가공대상 개소를 전환하며, 상기 하나의 높이 위치에서의 모든 상기 가공대상 개소에서의 상기 레이저빔의 조사가 종료할 때마다 상기 스테이지를 상기 헤드에 대해 상대이동시킴으로써 상기 레이저빔의 초점을 상기 취성재료 기판의 이면으로부터 두께방향으로 소정 거리 이동시켜서 상기 초점을 새로운 높이 위치로 하는 것을 반복함으로써 복수의 구멍을 점차 형성하는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
A laser processing apparatus for processing a back side of a brittle material substrate by irradiating a laser beam from a front side of the brittle material substrate,
A stage on which the brittle material substrate is supported and fixed,
A light source for emitting the laser beam;
And a head for irradiating the laser beam emitted from the light source to a brittle material substrate mounted on the stage,
Each time the irradiation of the laser beam at one height position in one machining target position ends, the head switches over the machining target portion at the one height position, and all the machining target portions at the one height position The focal point of the laser beam is shifted a predetermined distance in the thickness direction from the back surface of the brittle material substrate so that the focal point is set at a new height position by moving the stage relative to the head every time the irradiation of the laser beam in the brittle material substrate is completed And a plurality of holes are gradually formed by repeating the above-described steps.
제 4 항에 있어서,
상기 복수의 구멍이 둥근 구멍이고,
상기 헤드는 상기 가공대상 개소에서 상기 초점이 동심원 형상의 궤적을 그리도록 상기 레이저빔을 주사시키는 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the plurality of holes are round holes,
Wherein the head scans the laser beam so that the focal point draws a concentric trajectory on the portion to be processed.
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
상기 레이저빔이 피코 초 UV 레이저 혹은 피코 초 그린레이저인 것을 특징으로 하는 레이저 가공장치.
The method according to claim 4 or 5,
Wherein the laser beam is a picosecond UV laser or a picosecond green laser.
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