KR20180008635A - Improved fixed array ACF with multi-tier partially embedded particle morphology and method of making same - Google Patents

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KR20180008635A
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롱-창 량
제인 선
하워드 호 만 츄
멩-춘 리
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트릴리온 사이언스 인코포레이티드
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Abstract

이방성 전도 필름(ACF)으로서, 기판; 상기 기판의 표면 상의 접착제 층; 상기 접착제 층에 매립된 비-무작위형 어레이로 배열된 전도성 입자의 제1 티어로서, 상기 제1 티어는, 스티칭 라인을 갖는 캐리어 벨트로부터 상기 접착제 층의 표면으로 전도성 입자를 전달함으로써 형성되며, 상기 스티칭 라인에 상응하는 상기 제1 티어의 부분은 전도성 입자가 없거나 본질적으로 없는, 전도성 입자의 제1 티어; 및 상기 접착제 층에 또한 매립된 비-무작위형 어레이로 배열되고 상기 스티칭 라인에 상응하는 상기 제1 티어의 부분을 오버코팅하는 전도성 입자의 제2 티어를 포함하는, ACF. 상기 티어는 접착제 층 내에서 동일하거나 상이한 깊이일 수 있다. 전도성 입자의 2종 이상의 티어가 ACF 내에 존재할 수 있다.An anisotropic conductive film (ACF), comprising: a substrate; An adhesive layer on the surface of the substrate; A first tier of conductive particles arranged in a non-random array embedded in the adhesive layer, the first tier being formed by transferring conductive particles from a carrier belt having a stitching line to a surface of the adhesive layer, The portion of the first tier corresponding to the stitching line is a first tier of conductive particles without or essentially free of conductive particles; And a second tier of conductive particles arranged in a non-random array embedded in the adhesive layer and overcoating a portion of the first tier corresponding to the stitching line. The tiers may be the same or different depths in the adhesive layer. Two or more tiers of conductive particles may be present in the ACF.

Description

멀티-티어 부분적으로 매립된 입자 모폴로지를 갖는 개선된 고정식 어레이 ACF 및 이의 제조 방법Improved fixed array ACF with multi-tier partially embedded particle morphology and method of making same

관련 특허들에 대한 상호 참조Cross-reference to related patents

본원은 2012년 11월 16일자로 출원된 미국 출원 제13/678,935호(TS-023) 및 2011년 9월 15일자로 출원된 허여된 미국 출원 제13/233,360호(TS-011)의 조합된 일부 계속 출원이다. 이들 출원은 둘 다 이의 전문이 본원에 참조로 인용된다.This application is a continuation-in-part of U.S. Application No. 13 / 678,935 (TS-023) filed on November 16, 2012 and US Application No. 13 / 233,360 (TS-011) filed on September 15, Some are still filing. Both of these applications are incorporated herein by reference in their entirety.

이방성 전도 필름(anisotropic conductive film)(ACF)은 평판 디스플레이 드라이버 집적 회로(integrated circuit)(IC) 본딩에 일반적으로 사용된다. 통상적인 ACF 본딩 공정은, ACF를 패널 유리의 전극 위에 부착시키는 제1 단계, 드라이버 IC 본딩 패드를 패널 전극과 정렬시키는 제2 단계, 및 본딩 패드에 압력과 열을 가하여 ACF를 용융 및 경화시키는 제3 단계를 포함한다. ACF의 전도성 입자는 패널 전극과 드라이버 IC 사이에 이방성 전기 전도성을 부여한다. ACF는 또한 플립 칩 본딩(flip chip bonding) 및 광전지 모듈 어셈블리(photovoltaic module assembly)와 같은 어플리케이션에 널리 사용되어 오고 있다.Anisotropic conductive film (ACF) is commonly used for flat panel display driver IC (integrated circuit) bonding. A typical ACF bonding process includes a first step of attaching an ACF onto an electrode of a panel glass, a second step of aligning the driver IC bonding pad with the panel electrode, and a second step of applying and heating the bonding pad to melt and cure the ACF It includes three steps. The conductive particles of the ACF impart anisotropic electrical conductivity between the panel electrode and the driver IC. ACF has also been widely used in applications such as flip chip bonding and photovoltaic module assembly.

리앙(Liang) 등의 미국 공개 출원 제2010/0101700호("리앙 '700")는 무작위로 분산된 전도성 입자를 갖는 ACF의 단점 중 일부를 극복하는 기술을 개시한다. 리앙(Liang)은 전도성 입자가 고정식 어레이 ACF(fixed-array ACF)(FACF)에 소정의 어레이 패턴으로 배열되어 있는 것으로 기재하였다. 이러한 전도성 입자의 비-무작위형 어레이(non-random array)는 동일한 단락 가능성 없이 초미세 피치 본딩(pitch bonding)이 가능하다. 반면, 고정식 어레이 ACF의 전도성 입자는 접착제 표면에 미리 배열되어 있으며 기존 ACF보다 더 낮은 입자 농도에서 상당히 더 높은 입자 포획율을 보여준다. 전도성 입자는 통상적으로 중합체 코어를 갖는 좁게 분산되어 있는 고가의 Au 입자이기 때문에, 고정식 어레이 ACF는 기존 ACF보다 우수한 성능을 갖는 상당히 저비용의 용액을 제공한다.US Published Application No. 2010/0101700 ("Liang '700") by Liang et al. Discloses a technique to overcome some of the disadvantages of ACFs with randomly dispersed conductive particles. Liang describes that the conductive particles are arranged in a predetermined array pattern on a fixed-array ACF (FACF). Non-random arrays of such conductive particles are capable of ultra-fine pitch bonding without the possibility of the same short circuit. On the other hand, the conductive particles of the stationary array ACF are pre-arrayed on the adhesive surface and exhibit significantly higher particle capture rates at lower particle concentrations than conventional ACFs. Because conductive particles are typically narrowly dispersed, expensive Au particles with a polymeric core, a fixed array ACF provides a significantly lower cost solution with better performance than conventional ACFs.

미국 출원 제13/233,360호(최근 허여됨)는 캐리어 웹(carrier web)으로서 하나의 표면에 형성된 전도성 입자를 운반하는 미세공동(microcavity)의 어레이를 갖는 연속 벨트(belt) 또는 루프(loop)를 사용하여 ACF를 제조하는 방법을 개시한다. 벨트는 리앙 '700에 기재된 공정에서의 웹과 유사한 방식으로 사용된다. 벨트는 웹의 단부 표면에 맞닿으며, 이들을 압력 감응성 접착제 및 UV 또는 열 경화성 접착제와 같은 접착제로 고정함으로써 형성된다. 캐리어 웹의 맞닿은 단부는 경사각, 즉, (웹의 종 방향 엣지에 대해 측정시) 90˚ 미만일 수 있는 스티칭 라인(stitching line)을 형성한다. 스티칭 라인을 갖는 연속 벨트를 사용하여 ACF를 제조하는 데에 있어서의 한 가지 문제점은, 미세공동이 스티칭 라인의 영역에서 접착제로 충전되기 때문에, 스티칭 라인의 영역의 벨트 상에서 전도성 입자가 거의 운반될 수 없다는 점이다. ACF의 교차 기계 방향(cross-machine direction)과 평행하게 배향된 전극(예를 들면, 마이크로칩과 같은 디바이스 내의 전극)이 회로를 완성하기에 충분한 개수의 전도성 입자와 접촉하지 않는 빈도수를 최소화하기 위해, 스티칭 라인은 경사각으로 배향될 수 있다.US Application No. 13 / 233,360 (recently granted) discloses a continuous belt or loop having an array of microcavities carrying conductive particles formed on one surface as a carrier web, ≪ / RTI > to produce an ACF. The belt is used in a manner similar to webs in the process described in Liang '700. The belt abuts the end surface of the web and is formed by securing them with an adhesive such as a pressure sensitive adhesive and a UV or thermosetting adhesive. The abutted end of the carrier web forms a stitching line, which can be less than 90 degrees (measured relative to the longitudinal edge of the web). One problem with the production of ACFs using continuous belts with stitching lines is that conductive particles can almost be carried on the belt in the region of the stitching line because the microcavities are filled with the adhesive in the region of the stitching line It is not. In order to minimize the frequency at which electrodes (e.g., electrodes in a device such as a microchip) oriented parallel to the cross-machine direction of the ACF do not contact a sufficient number of conductive particles to complete the circuit , The stitching line can be oriented at an angle of inclination.

용어 "멀티-티어(multi-tier)"는 전도성 입자의 어레이(들)가 부분적으로 또는 전체적으로 ACF의 표면에 매립되어 있는 전도성 입자 어레이의 2종 이상의 티어들을 의미한다. 용어 "깊이(depth)"는 ACF 접착제의 상부 표면 아래에 있는 전도성 입자 직경의 부분을 지칭한다. 입자는 접착제 층에 완전히 및/또는 부분적으로 매립될 수 있다. 용어 "스티칭 라인에 상응하는" 및 이의 변형태는 ACF를 포함하는 접착제 층의 표면의 부분을 지칭하며, 이는, 캐리어 웹의 맞닿은 단부가 본딩되어 있는 캐리어 웹의 부분에 의해 형성되기 때문에, 전도성 입자를 전혀 또는 거의 함유하지 않는다는 것을 특징으로 한다(예를 들면, 미국 출원 제13/233,360호에 기재된 바와 같다). 캐리어 웹의 당해 부분에서의 미세공동은 전도성 입자를 유지시키기 위해 잘 적응되지는 않는다. 스티칭 라인은 벨트 상의 미세공동 어레이, 및 이어서, ACF의 표면 상의 전도성 입자의 어레이를 방해한다. 스티칭 라인이 벨트에 대해 90˚, 즉 벨트의 교차 기계 방향과 평행한 방향으로 배향되는 경우, 벨트로부터 전도성 입자를 전달하여 생성된 ACF의 전도성 입자 어레이는, 스티칭 라인에 상응하는 영역에서 전도성 입자를 포함하지 않는다. 그러나, 스티칭 라인에 상응하는 접착제 층의 영역에 전도성 입자를 도포함으로써, 스티칭 라인은 직각 뿐만 아니라 경사각을 포함하는 기판의 기계 방향에 대해 임의의 각도를 가질 수 있다. 제2 전달의 구현은 스티칭 라인 영역에서 접속 전도성(접속 전기 저항 감소)을 상당히 향상시키며 IC 본딩 수율을 향상시킨다. 이는 또한 스티칭 공정에서 더 넓은 허용오차(tolerance)를 허용한다. 제2 전달에 의해, 특히 고해상도 IC 본딩 어플리케이션의 높은 수율을, 넓은 범위의 스티칭 라인 폭과 각도로 얻을 수 있다. 제2 전달이 없으면, 본딩된 영역에서 누락되는 전도성 입자를 최소화하기 위해, 패턴화된 전극(통상적으로 10 내지 1000마이크론) 또는 IC 범프(통상적으로 10 내지 50마이크론)의 치수만큼 좁은 스티칭 라인이 요구될 것이다. 그러나, 고해상도 IC 접속의 경우, IC 범프 크기의 범위에서 좁은 스티칭 라인은, 기판 두께와 대략 동일한 깊이 또는 스텝 높이를 갖는 높은 종횡비의 트렌치(trench)를 갖는 미세공동 루프를 초래하는 경향이 있다(통상적으로 50 내지 150마이크론). 원치 않은 단락을 방지하기 위한 IC 범프를 연결하기 위해 통상적으로 사용되는 소형 전도성 입자(직경 2 내지 5마이크론)는 미세유체(microfluidic) 입자 충전 및 전달 과정에서 딥 트렌치(deep trench) 내부에 갇혀 응집체를 형성하는 경향이 있다. 전도성 입자 응집체를 갖는 ACF는 전기 회로 연결부에서 단선 또는 단락을 일으켜서 고해상도 연결에 매우 바람직하지 않다. 미세공동 루프의 2개의 스티칭 단부의 엣지는 조심스럽게 연마되고 테이퍼링되어, 갇힌 입자 및 응집체를 감소시키는데 도움을 줄 수 있다. 그러나, 테이퍼링된 엣지 접근법은 상당히 넓은 스티칭 라인을 초래하고 테이퍼링된 라인에 따른 미세공동 어레이의 잠재적인 손상을 초래하는 경향이 있다. 두 가지 절충안(trade-off) 모두 고해상도 어플리케이션을 위해 스티칭 라인에 따라 전도성 입자가 없어지고 연결성이 불량하게 될 것이다. 대안적으로, 트렌치는 UV 또는 열 경화된 접착제와 같은 내구성 접착제로 충전될 수 있다. 불행하게도, 높은 종횡비의 좁은 트렌치에 접착제를 충전하고 경화시키는 것은 매우 어려우며 시간 소모적인 과정이다. 충전된 트렌치의 표면 평활도와 내구성은 고정식 어레이 ACF의 제조와 관련된 중부하(heavy duty) 미세유체 입자 전달 과정에서 종종 허용 가능하지 않게 된다. 하이 엔드 IC 어플리케이션을 위한 초미세 피치 ACF를 생성시키기 위한 저비용 구조 및 이의 제조 공정이 명백하게 요구되고 있다.The term "multi-tier" refers to two or more tiers of conductive particle arrays in which the array (s) of conductive particles are partially or wholly embedded in the surface of the ACF. The term "depth" refers to the portion of the conductive particle diameter below the top surface of the ACF adhesive. The particles can be completely and / or partially embedded in the adhesive layer. The term "corresponding to the stitching line" and its variants refers to that portion of the surface of the adhesive layer comprising the ACF, which is formed by the portion of the carrier web to which the abutment end of the carrier web is bonded, (For example, as described in U.S. Application Serial No. 13 / 233,360). The microcavities in this part of the carrier web are not well adapted to retain the conductive particles. The stitching lines interfere with the microcopy array on the belt, and then the array of conductive particles on the surface of the ACF. When the stitching line is oriented at 90 [deg.] With respect to the belt, i.e. in a direction parallel to the cross-machine direction of the belt, the conductive particle array of ACFs produced by transferring the conductive particles from the belt, do not include. However, by applying the conductive particles to the area of the adhesive layer corresponding to the stitching line, the stitching line can have any angle with respect to the machine direction of the substrate including not only the right angle but also the tilt angle. The implementation of the second transmission significantly improves the connection conductivity (reduction in connection resistance) in the stitching line region and improves the IC bonding yield. This also allows a wider tolerance in the stitching process. By the second transmission, a high yield of a high-resolution IC bonding application can be obtained with a wide range of stitching line widths and angles. Without a second transfer, a stitching line that is as narrow as the dimensions of patterned electrodes (typically 10 to 1000 microns) or IC bumps (typically 10 to 50 microns) is required to minimize conductive particles missing in the bonded area Will be. However, for high resolution IC connections, narrow stitching lines in the range of IC bump sizes tend to result in micro-cavity loops with high aspect ratio trenches with depths or step heights approximately equal to the substrate thickness 50 to 150 microns). Small conductive particles (2 to 5 microns in diameter) commonly used to connect IC bumps to prevent unwanted shorting are trapped inside a deep trench during microfluidic particle charging and transfer, . ACFs with conductive particle agglomerates are very undesirable for high resolution connections due to disconnection or shorting at electrical circuit connections. The edges of the two stitching ends of the fine cavity loop can be carefully polished and tapered to help reduce trapped particles and agglomerates. However, tapered edge approaches tend to result in significantly wider stitching lines and potential damage to the microcoupling array along the tapered line. For both high-resolution applications, both trade-offs will result in the disappearance of conductive particles along the stitching line and poor connectivity. Alternatively, the trench may be filled with a durable adhesive, such as a UV or thermoset adhesive. Unfortunately, filling and hardening glue on narrow trenches with a high aspect ratio is a very difficult and time consuming process. The surface smoothness and durability of the filled trenches are often not acceptable in the heavy duty microfluidic particle transfer process associated with the fabrication of stationary array ACFs. There is a clear need for a low cost structure and its manufacturing process for creating ultrafine pitch ACFs for high-end IC applications.

본 발명은, 전도성 입자가 ACF 전도성 접착제 층의 표면 내에 2개 이상의 티어들로 배열되고, 하나의 티어 내의 스티칭 라인에 상응하는 전도성 층의 입자 결핍 영역이, 접착제 층 내의 상이한 깊이로 전도성 입자의 적어도 하나의 추가 티어로부터의 전도성 입자로 오버코트되는 ACF를 제공함으로써, 미국 출원 제13/233,360호의 고정식 어레이 ACF를 증가시킨다. 미국 출원 제13/111,300호("리앙 '300")는 전도성 입자가 접착제 수지에 부분적으로 매립될 수 있어 상기 입자의 적어도 일부(예를 들면, 직경의 약 1/3 내지 3/4)가 접착제에 의해 커버되지 않게 되는 것을 기재하고 있지만, 당해 멀티-티어 어레이는 입자 포획율을 추가로 개선시키고, 계층화된(tiered) 입자 구조가 없는 고정식 어레이 ACF에 비해 접촉 저항이 더 낮으며 박리력이 더 높은 것으로 밝혀졌다.The present invention relates to a method of manufacturing a conductive particle, wherein the conductive particles are arranged in two or more tiers in the surface of the ACF conductive adhesive layer and the particle depletion region of the conductive layer corresponding to the stitching line in one tier is at least By providing an ACF that is overcoated with conductive particles from one additional tier, the fixed array ACF of US Application No. 13 / 233,360 is increased. No. 13 / 111,300 ("Liang '300") discloses that conductive particles can be partially embedded in the adhesive resin such that at least a portion of the particles (e.g., about 1/3 to 3/4 of the diameter) But the multi-tier array further improves the particle capture rate and provides a lower contact resistance and more peeling force than a fixed array ACF without a tiered particle structure. ≪ RTI ID = 0.0 > High.

본 발명은 ACF 구성을 포함하며, 이때 이들 추가의 티어들 중의 1종 이상은, 적어도 스티칭 라인에 상응하는 제1 티어의 영역에서 전도성 입자를 도포하도록 제공된다. 단일 평면 모폴로지와 비교하여, 2종-티어 비-무작위성 고정식 어레이 입자 모폴로지를 사용하는, 이용 가능한 멀티-티어 효과의 한 가지 예가 하기 표에 나타나 있다.The present invention includes an ACF arrangement wherein at least one of these additional tiers is provided to apply conductive particles in a region of a first tier at least corresponding to a stitching line. One example of the available multi-tier effects, using a two-tier non-random fixed array particle morphology, as compared to a single plane morphology, is shown in the table below.

Figure pct00001
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입자 밀도가 약간 더 낮더라도, 2종-티어 입자 모폴로지를 갖는 ACF는 입자 포획율이 현저히 더 높고, 접촉 저항이 더 우수하고 (더 낮고), 박리력이 더 높으며, 다른 성능은 본질적으로 동일하게 유지되었음이 표 1로부터 명백하다. 2종-티어 입자 모폴로지는 또한 샘플이 정상 저장 조건하에 3개월 이상 에이징된 후에도 잘 유지되었다. 이론에 한정되는 것은 아니지만, 주어진 고정식 어레이 ACF에서 다른 것들보다도 더욱 접착제에 매립된 입자들 중 일부에 의해, 본딩 동안 접착제의 용융 유동에 의해 야기된 원치 않는 난류 효과가 감소되고, 접촉 입자가 겪는 효과적인 국부 본딩 압력이 증가한다. 그 결과, 연결 전극에서 방출되는 입자가 적어지고 이어서 포획율이 높아지고 접촉 저항이 낮아지고 접착 강도가 높아진다. 더욱이, 동일한 입자 밀도에 대해, 다중 입자 전달 단계들에 의해 생성된 멀티-티어를 갖는 ACF는 입자 밀도의 표준 편차가 더욱 낮아서 더욱 균일한 입자 분포를 나타내어, 더 높은 성공율의 디바이스를 얻는 경향이 있는 것으로 밝혀졌다. 이론에 한정되지 않고, 두 가지 이상의 연이은 저밀도(예를 들면, 약 9,000pcs/㎟의 입자 밀도에 있어서 11.5㎛ 피치의 입자 어레이를 사용하여)에 의해 생성된 입자 어레이의 정확히 동일한 지점에 누락된 입자가 있을 가능성에 있어서, 입자 충전 및 전달 과정은 단일 고밀도 어레이(예를 들면, 입자 밀도가 약 18,000pcs/㎟인 경우 8㎛ 피치의 입자 어레이)보다 훨씬 낮다. 제1 입자 전달 과정에서 일부 누락된 입자 영역이 생성되더라도, 입자는 해당 영역에 효과적으로 충전될 수 있으며, 후속 전달 과정에 의해 전달되어, 입자 밀도의 표준 편차가 낮은 멀티-티어 고정식 어레이 ACF를 형성할 수 있다.Although the particle density is slightly lower, ACFs with two-tier particle morphology have significantly higher particle capture rates, better contact resistance (lower), higher peel strengths, and other performance is essentially the same It is clear from Table 1 that it is maintained. The two-tier particle morphology also maintained well after the samples were aged for more than 3 months under normal storage conditions. By way of non-limiting example, by some of the particles embedded in the adhesive more than others in a given fixed array ACF, the unwanted turbulence effects caused by the melt flow of the adhesive during bonding are reduced and the effective The local bonding pressure increases. As a result, fewer particles are emitted from the connecting electrode, and the capturing rate is increased, the contact resistance is lowered, and the bonding strength is increased. Moreover, for the same particle densities, ACFs with multi-tiers produced by multiparticulate delivery steps have a lower standard deviation of particle density, resulting in a more uniform particle distribution, which tends to result in higher success rate devices . Without being limited by theory, it is believed that missing particles (e.g., at exactly the same point in a particle array produced by two or more successive low densities (e.g., using a particle array of 11.5 占 퐉 pitch for a particle density of about 9,000 pcs / , The process of particle filling and transfer is much lower than in a single high density array (e.g., a particle array of 8 um pitch with a particle density of about 18,000 pcs / mm < 2 >). Even if some missing particle regions are created in the first particle transfer process, the particles can be effectively filled in the area and transferred by a subsequent transfer process to form a multi-tier fixed array ACF having a low standard deviation of particle density .

요약하면, 본 발명의 하나의 양태에서, 임의의 양태에서, 접착제 층은, 이의 표면에, 비-무작위형 어레이로 전달된 입자 이외에도 그의 내부에 분산되어 있는 전도성 입자를 포함할 수 있다. 다른 양태에서, 접착제 층은 그의 내부에 분산되어 있는 전도성 입자를 함유하지 않을 수 있다. 또한, 스티칭 라인에 상응하는 영역을 오버코팅하는 전도성 입자의 티어는, 스티칭 라인에 상응하는 영역만을 오버코팅할 수 있거나, 스티칭 라인 및 스티칭 라인에 상응하는 영역에 인접한 영역을 오버코팅할 수 있거나, 상기 전도성 접착제 층의 전체 표면의 전부 또는 일부를 오버코팅할 수 있다.In summary, in one embodiment of the present invention, in certain embodiments, the adhesive layer may include conductive particles dispersed within the surface of the adhesive layer in addition to the particles delivered in a non-random array. In other embodiments, the adhesive layer may not contain conductive particles dispersed therein. In addition, the tier of conductive particles over-coating the area corresponding to the stitching line can overcoat only the area corresponding to the stitching line, or overcoat the area adjacent to the area corresponding to the stitching line and the stitching line, All or a part of the entire surface of the conductive adhesive layer may be overcoated.

본 발명의 하나의 양태는, (a) 접착제 층, 및 (b) 상기 접착제 층에 개별적으로 접착된 복수의 전도성 입자를 포함하는 이방성 전도 필름(ACF)으로서, 상기 전도성 입자는 상기 접착제 층 내의 제1 및 제2 깊이로 매립된 입자들의 비-무작위형 어레이의 제1 및 제2 티어를 포함하며, 여기서 제1 어레이 및 제2 어레이가 접착제에 매립되어 있는 깊이는 동일하거나 상이할 수 있다(예를 들면, 입자의 직경을 기준으로 하여 약 10% 이상의 차이; 직경 3㎛의 입자에 대해 약 0.3um 이상의 차이). 티어들의 매립된 깊이의 차이는 깊이 방향으로 입자 직경의 20% 이상, 30% 이상, 심지어 80% 이상일 수 있으며, 티어들 중의 하나는 스티칭 층에 상응하는 접착제 층의 전도성 입자의 제1(예를 들면, 더 깊은) 티어의 일부를 적어도 커버하며, 그렇지 않은 경우 전도성 입자는 거의 없거나 전혀 없다.One aspect of the present invention is an anisotropic conductive film (ACF) comprising: (a) an adhesive layer; and (b) a plurality of conductive particles individually bonded to the adhesive layer, 1 and first and second tiers of non-random arrays of particles embedded at a second depth, wherein the depths at which the first array and the second array are embedded in the adhesive can be the same or different (e.g., For example, a difference of about 10% or more based on the diameter of the particles; a difference of about 0.3 [mu] m or more for particles of 3 [mu] m in diameter. The difference in embedded depths of the tiers may be at least 20%, at least 30%, even at least 80% of the particle diameter in the depth direction, and one of the tiers may be a first (e.g., At least some of the tears), otherwise there is little or no conductive particles.

따라서, 본 발명은, ACF에서 하나 이상의 깊이로 매립된 전도성 입자의 2종 이상의 고정식 또는 비-무작위형 어레이를 포함하는 ACF를 제공하며, 여기서 하나의 티어 내의 입자는 다른 티어의 스티칭 라인에 상응하는 영역을 적어도 오버코팅하고, 여기서 상기 오버코트에 있어서, 캐리어 벨트에서의 스티칭 라인의 존재로 인해 전도성 입자는 전혀 또는 거의 없을 것이다. 보다 특별한 양태에서, 접착제 층 자체는 캐리어 벨트로부터 전달된 입자 이외에도 그의 내부에 분산되어 있는 전도성 입자를 함유한다. 또 다른 양태에서, 접착제 층은 그의 내부에 분산되어 있는 전도성 입자를 함유하지 않는다. 무작위로 분산된 전도성 입자를 함유하는 접착제 층과 비-무작위형 어레이로 배열된 전도성 입자의 제1 티어와의 조합은, 스티칭 라인에 상응하는 영역에서 단일 티어의 전도성 입자를 갖고 스티칭 라인에 상응하는 영역 외부의 영역에서 2종 티어의 입자를 갖는 ACF를 제공한다.Accordingly, the present invention provides an ACF comprising two or more fixed or non-random arrays of conductive particles embedded in one or more depths in an ACF, wherein the particles in one tier correspond to the stitching lines of the other tier Region, where there will be no or substantially no conductive particles in the overcoat due to the presence of stitching lines in the carrier belt. In a more particular embodiment, the adhesive layer itself contains conductive particles dispersed therein as well as particles delivered from the carrier belt. In another embodiment, the adhesive layer does not contain conductive particles dispersed therein. The combination of an adhesive layer containing randomly dispersed conductive particles and a first tier of conductive particles arranged in a non-random array has a single tier of conductive particles in a region corresponding to the stitching line, And provides an ACF having particles of two tiers in the region outside the region.

또 다른 양태에서, ACF는, 전도성 입자가 ACF의 접착제 층의 표면에 동일하거나 상이한 깊이로 부분적으로 매립되어 있는 고정식 또는 비-무작위형 어레이의 2종의 티어들을 포함할 수 있으며, 상기 ACF는, 하나의 티어가 스티칭 라인의 영역에 존재하지 않는 입자 및 나머지 티어가 상기 제1 티어의 스티칭 라인에 상응하는 영역에 적어도 존재하는 입자를 갖는다. 당해 양태에서, 접착제 층은 또한 그의 내부에 무작위로 분산되어 있는 전도성 입자를 임의로 함유할 수 있다.In another aspect, the ACF may comprise two tiers of a fixed or non-random array in which the conductive particles are partially embedded at the same or different depths on the surface of the adhesive layer of the ACF, One tier has particles not present in the region of the stitching line and the remaining tiers have particles at least present in the region corresponding to the stitching line of the first tier. In this embodiment, the adhesive layer may also optionally contain conductive particles that are randomly dispersed within it.

또 다른 양태에서, 하나의 티어는 접착제 층으로의 전달에 의해 매립된 전도성 입자의 고정식 또는 비-무작위형 어레이이고, 제2 티어는 접착제 층에 분산되어 있는 전도성 입자의 무작위 분산이며, 여기서 상기 입자의 고정식 또는 비-무작위형 어레이가 매립된다. 제2 및 제3 티어와 같은 입자 어레이의 추가의 티어를 포함하는 다른 양태도 가능하다.In another embodiment, one tier is a fixed or non-random array of conductive particles embedded by transfer to an adhesive layer, and the second tier is a random dispersion of conductive particles dispersed in the adhesive layer, Lt; / RTI > array of fixed or non-random arrays. Other aspects involving additional tiers of particle arrays, such as the second and third tiers, are also possible.

요약하면, ACF는, 스티칭 라인에 상응하는 영역을 포함하는 캐리어 벨트로부터의 전달에 의해 접착제 층의 표면 상에 침착된 비-무작위형 어레이로 배열된 전도성 입자의 제1 티어를 포함하는 것을 특징으로 한다. 당해 제1 티어의 비-무작위형 어레이는 스티칭 라인에 상응하는 영역에 전도성 입자를 함유하지 않거나 본질적으로 전혀 또는 거의 함유하지 않는다. ACF를 고해상도 IC 본딩과 같은 초미세 피치 어플리케이션에 사용하기에 적합하게 하기 위해, 입자는, 스티칭 라인에 상응하는 제1 티어의 영역에서 적어도 ACF에 도포되는 비-무작위형 어레이의 전도성 입자의 제2 티어로서의 전달에 의해 스티칭 라인에 상응하는 영역에 제공된다. 제1 및 제2 티어는 각각 동일한 크기 또는 상이한 크기의 입자로 이루어질 수 있다. 각각의 티어를 구성하는 입자는 동일한 깊이 또는 상이한 깊이로 있을 수 있으며 이들은 상이한 피치들의 동일한 피치를 가질 수 있다.In summary, the ACF is characterized by comprising a first tier of conductive particles arranged in a non-random array deposited on the surface of the adhesive layer by transmission from a carrier belt comprising an area corresponding to the stitching line do. The non-random array of said first tier contains no, or essentially no or substantially no conductive particles in the region corresponding to the stitching line. To make the ACF suitable for use in ultrafine pitch applications, such as high resolution IC bonding, the particles may be applied to at least a portion of the second tier of the non-random array conductive particles And is provided in an area corresponding to the stitching line by transfer as a tier. The first and second tiers may each consist of particles of the same size or different sizes. The particles constituting each tier can be at the same depth or at different depths and they can have the same pitch of different pitches.

초미세 피치 어플리케이션에 적합한 ACF를 제공하는 본 발명의 추가의 양태에서, ACF는 기판, 기판의 표면 상에 무작위로 분산된 전도성 입자를 임의로 함유하는 접착제 층, 및 스티칭 라인을 포함하는 캐리어 벨트로부터의 전달에 의해 접착제에 도포되며 비-무작위형 어레이로 배열된 전도성 입자들의 하나 이상의 티어를 포함한다. 각각의 티어의 스티칭 라인에 상응하는 영역이 중첩되지 않도록 티어를 두거나 놓음으로써, 미세 피치를 요구하는 ACF 어플리케이션에 적합한 ACF가 제공된다.In a further aspect of the present invention, which provides an ACF suitable for ultrafine pitch applications, the ACF comprises a substrate, an adhesive layer optionally containing randomly dispersed conductive particles on the surface of the substrate, One or more tiers of conductive particles arranged in a non-random array and applied to the adhesive by transmission. By placing or releasing tiers so that the areas corresponding to the stitching lines of each tier do not overlap, an ACF suitable for ACF applications requiring fine pitch is provided.

본 발명의 또 다른 양태는, (a) 실질적으로 균일한 두께를 갖는 접착제 층; 및 (b) 상기 접착제 층에 개별적으로 접착된 복수의 전도성 입자를 포함하는 이방성 전도 필름(ACF)으로서, 상기 전도성 입자는, 접착제 층 내의 제1 깊이로 부분적으로 매립된 입자들의 제1 비-무작위형 어레이, 및 접착제 층 내의 동일하거나 제2 깊이로 부분적으로 매립된 전도성 입자의 제2 비-무작위형 어레이를 포함하며, 상기 제2 어레이는 상기 제1 어레이 내의 스티칭 라인의 영역을 커버한다.Another aspect of the present invention is a laminate comprising: (a) an adhesive layer having a substantially uniform thickness; And (b) an anisotropic conductive film (ACF) comprising a plurality of conductive particles individually adhered to the adhesive layer, the conductive particles having a first non-random Type array, and a second non-random array of conductive particles partially embedded in the adhesive layer at the same or second depth, the second array covering an area of the stitching line in the first array.

티어는, 또 다른 티어의 스티칭 라인에 상응하는 영역에, 또는 스티칭 라인을 커버하는 영역에, 및 스티칭 라인에 인접하거나 접착제 층의 전체 표면을 커버하는 영역에만 전도성 입자를 도포하도록 놓일 수 있음을 이해할 것이다.It is understood that a tier may be placed to apply conductive particles only to an area corresponding to the stitching line of another tier or to an area covering the stitching line and to an area covering the entire surface of the adhesive layer, will be.

하나의 양태에 따르면, 멀티-티어 ACF는 다음의 단계들을 포함하는 다중 전달 프로세스를 사용하여 생성된다:According to one aspect, a multi-tier ACF is created using a multiple delivery process that includes the following steps:

(a) 스티칭 라인에 상응하는 영역을 제외하고, 입자의 제1 고정식 어레이를 접착제 층으로 전달하는 단계;(a) transferring a first fixed array of particles to an adhesive layer, except for a region corresponding to a stitching line;

(b) 예를 들면 가열 및/또는 가압 롤러 또는 캘린더링을 사용하여 제1 어레이를 원하는 매립 정도로 임의로 가공하는 단계;(b) optionally processing the first array to a desired level of embedding using, for example, heating and / or pressure rollers or calendaring;

(c) 적어도, 스티칭 라인에 상응하는 제1 어레이의 영역에 걸쳐 입자의 제2 고정식 어레이를 접착제에 전달하는 단계; 및(c) transferring at least the second fixed array of particles over the area of the first array corresponding to the stitching line to the adhesive; And

(d) 상기 제1 어레이가 상기 제2 어레이보다 큰 정도로 상기 접착제에 매립되도록 상기 입자들의 2종의 어레이를 원하는 매립 정도로 임의로 가압하는 단계.(d) optionally pressurizing the two arrays of particles to a desired degree of embedding such that the first array is buried in the adhesive to a greater extent than the second array.

또 다른 양태에 따르면, 멀티-티어 ACF는 다음의 단계들을 포함하는 다중 전달 프로세스를 사용하여 생성된다:According to another aspect, a multi-tier ACF is created using a multiple delivery process that includes the following steps:

(a) 상기 스티칭 라인의 어레이를 제외한 전도성 입자의 제1 고정식 또는 비-무작위형 어레이를, 내부에 분산된 전도성 입자를 갖는 접착제로 코팅된 기판을 갖는 ACF로 전달하는 단계; 및(a) transferring a first fixed or non-random array of conductive particles except the array of stitching lines to an ACF having a substrate coated with an adhesive having conductive particles dispersed therein; And

(b) 예를 들면 가열 및/또는 가압 롤러 또는 캘린더링을 사용하여 제1 어레이를 원하는 매립 정도로 가공하는 단계.(b) processing the first array to a desired level of embedding using, for example, heating and / or pressure rollers or calendering.

스티칭 라인을 갖는 ACF는, 시트 또는 연속 필름일 수 있거나 릴(reel) 또는 롤(roll) 형태의 연속 필름일 수 있는 본원에 기술된 멀티-티어 입자 모폴로지로 형성될 수 있다. 하나의 양태에서, ACF는 플라스틱 홀더 사이에 권취된 약 1.0 내지 2.0mm(폭)의 롤로서 약 10 내지 300m(길이)만큼 공급될 수 있다. 또 다른 양태에서, ACF는 선택 영역이 본원에 기재된 바와 같은 멀티-티어 모폴로지를 갖는 연속 필름 또는 릴 일 수 있다.The ACF having a stitching line may be a sheet or a continuous film, or may be formed of the multi-tier particle morphology described herein, which may be a continuous film in the form of a reel or a roll. In one embodiment, the ACF can be fed from about 10 to 300 m (length) as a roll of about 1.0 to 2.0 mm (width) wound between plastic holders. In another embodiment, the ACF may be a continuous film or a reel having a multi-tier morphology as described herein.

도 1a는 미국 출원 제13/233,360호의 도 8이며, 스티칭 라인에 상응하는 40㎛ 입자 비함유 갭을 갖는 ACF로 본딩된 후의 일련의 20㎛(폭)×1000㎛(길이) 전극에 대한 전도성 입자의 분포를 보여주는, 본딩된 전자 디바이스의 400배 현미경 사진이다. 도 1b는 10㎛, 20㎛ 및 40㎛ 폭의 스티칭 라인을 갖는 고정식 어레이 ACF로 본딩된 20㎛(폭)×20 내지 50㎛(길이)의 일련의 IC 범프를 포함하는 시뮬레이션된 테스트 키트의 개략적인 그래프이다.
도 2는, 2종-티어 입자 모폴로지 및 입자 매립 깊이의 상응하는 분포를 갖는 동일한 피치 크기의 2012년 11월 16일자로 출원된 미국 출원 제13/678,935호의 도 4에 상응하는 2종-티어 입자 모폴로지를 갖는 2개의 고정식 어레이 ACF의 개략적인 그래프이다.
도 3은 2종-티어 고정식 어레이 ACF의 개략도로서, 여기서 고정식 어레이 입자의 2종의 티어들의 전달에 사용되는 미세공동은 2012년 11월 16일자로 출원된 미국 출원 제13/678,935호의 도 5에 상응하는 상이한 피치 크기를 갖는다.
도 4는 임의의 오버코트를 포함하는 2종 티어 고정식 어레이를 갖는 ACF의 개략도이다.
도 5a는 본 발명에 따른 전도성 입자의 2종 티어 구조를 도시하는 현미경사진(도 5c)을 갖는 ACF 릴 또는 롤의 개략도이며, 여기서 제2 티어는 스티칭 라인의 영역 및 인접한 경계 영역으로 전달된다. 도 5b는 예를 들면 매끄러운 표면을 갖는 내구성 접착 테이프로 스티치된 미세공동 캐리어 벨트의 개략도이다.
도 6은 본 발명에 따른 전도성 입자의 2종 티어 구조를 포함하는 ACF의 개략적인 단면도이며, 여기서 제2 티어는 스티칭 라인의 영역으로 한정된다.
도 7은 본 발명에 따른 전도성 입자의 2종 티어 구조를 포함하는 ACF의 개략적인 단면도이며, 여기서 제2 티어는 스티칭 라인의 면적을 완전히 전환시키며 제1 티어 구조의 일부와 중첩된다.
FIG. 1A is an illustration of FIG. 8 of US Application No. 13 / 233,360, which illustrates the use of conductive particles for a series of 20 micron (width) x 1000 micron (length) electrodes after being bonded to an ACF having a 40 micron particle- Lt; / RTI > is a 400x micrograph of a bonded electronic device, showing the distribution of < RTI ID = 0.0 > Figure 1b shows a schematic of a simulated test kit comprising a series of IC bumps of 20 占 퐉 (width) 占 20 to 50 占 퐉 (length) bonded with a fixed array ACF having stitching lines of 10 占 퐉, 20 占 퐉 and 40 占 퐉 width .
Figure 2 shows a two-tier particle morphology and a two-tier particle corresponding to Figure 4 of U.S. Application No. 13 / 678,935, filed November 16, 2012, having the same pitch size with a corresponding distribution of particle buried depth Lt; RTI ID = 0.0 > ACF < / RTI >
3 is a schematic diagram of a two-tier fixed array ACF, wherein the microcavities used for the transfer of the two tiers of stationary array particles are shown in FIG. 5 of US Application No. 13 / 678,935, filed November 16, And have correspondingly different pitch sizes.
Figure 4 is a schematic diagram of an ACF with a two tiered fixed array that includes an optional overcoat.
5A is a schematic view of an ACF reel or roll with a micrograph (FIG. 5C) showing a two-tier structure of conductive particles according to the invention, wherein the second tier is transferred to the area of the stitching line and to the adjacent boundary area. 5B is a schematic view of a micro-cavity carrier belt stitched with a durable adhesive tape having, for example, a smooth surface.
Figure 6 is a schematic cross-sectional view of an ACF comprising a two-tier structure of conductive particles according to the present invention, wherein the second tier is confined to the area of the stitching line.
Figure 7 is a schematic cross-sectional view of an ACF comprising a dual tier structure of conductive particles according to the present invention, wherein the second tier fully switches the area of the stitching line and overlaps with a portion of the first tier structure.

리앙 등에 의해 2011년 5월 19일자로 출원된 미국 공개 출원 제2010/0101700호 및 미국 특허 출원 제13/111,300호는 전문이 본원에 참조로 인용된다.U.S. Published Application No. 2010/0101700 and U.S. Patent Application No. 13 / 111,300, filed May 19, 2011 by Liang et al., Are hereby incorporated by reference in their entirety.

전도성 입자를 접착제 층의 표면으로 전달하는데 유용한 약 6㎛(직경)×4㎛(깊이)×3㎛(파티션)의 미세공동을 함유하는 캐리어 시트 또는 벨트는, 대략 2 내지 5mil의 열안정화 폴리이미드(PI) 또는 PET와 같은 폴리에스테르 필름 상의 레이저 절삭(laser ablation)에 의해 미세공동 캐리어를 형성한다. 미세공동 어레이 웹은 예를 들면 매끄러운 로드(rod), 닥터 블레이드(doctor blade) 또는 슬롯 다이(slot die)를 사용하여 전도성 입자 분산액으로 코팅함으로써 충전된다. 충전되지 않은 미세공동을 보장하기(assure) 위해 하나 이상의 충진(filling)이 사용될 수 있다. 리앙 '300 및 리앙 '700을 참조한다.A carrier sheet or belt containing microcavities of about 6 占 퐉 (diameter) 占 4 占 퐉 (depth) 占 3 占 퐉 (partition), which is useful for delivering conductive particles to the surface of the adhesive layer, is preferably about 2 to 5 mil of a thermally stabilized polyimide To form a microcavity carrier by laser ablation on a polyester film such as polyimide (PI) or PET. The microcoupler array web is filled, for example, by coating with a conductive particle dispersion using a smooth rod, a doctor blade, or a slot die. One or more filling can be used to assure the unfilled microcavity. See Liang '300 and Liang' 700.

도 1은 18㎛(폭)×1000㎛(길이)의 라인 전극의 본딩된 세트의 400배 현미경 사진이다. 영역(188')은 전도성 입자(112)를 함유하지 않는 40㎛ 스티칭 갭(stitching gap)을 갖는 60° 스티칭 라인에 상응한다. 이러한 특정 예에서, 전도성 입자의 평균 직경은 3.2㎛이고 스티칭 라인을 가로지르는 입자들 사이의 거리 또는 갭은 전극을 따라 측정하면 80㎛이며 이는 1,000㎛ 스티칭 라인 길이의 10% 미만을 나타낸다. 스티칭 라인을 가로지르지 않는 전극과 접촉하는 약 64 내지 66개의 입자들과 비교하여, 스티칭 라인을 가로지르는 전극과는 약 58 내지 60개의 입자가 접촉한다. 상기 약 58 내지 60개의 입자는, 신뢰할 수 있는 전기적 접촉을 확립하는데 필요한 입자의 최소 개수보다 훨씬 많으며, 일반적으로 전극당 약 5 내지 10개의 입자이다. 경사 스티칭 라인에 전도성 입자가 부재하다는 것은, 명백하게, 길고 넓은 전극에 대한 연결에 영향을 끼치지 않으며, 그 이유는, 상당히 충분한 전도성 입자가 여전히 포획될 것이기 때문이다. 그러나, 고해상도 IC 칩 본딩의 경우, IC 범프 치수는 통상적으로 10 내지 30㎛(폭)×20 내지 50㎛(길이)로 작고, 범프 면적은 300 내지 1000㎛2 이하에 상응한다. 고품질의 연결을 위해서는, 적어도 3 내지 5개의 포획된 전도성 입자가 통상적으로 각각의 범프에 요구된다.Figure 1 is a 400x micrograph of a bonded set of line electrodes of 18 占 퐉 (width) 占 1000 占 퐉 (length). Region 188 ' corresponds to a 60 " stitching line with a stitching gap of 40 [mu] m that does not contain conductive particles 112. [ In this particular example, the average diameter of the conductive particles is 3.2 占 퐉 and the distance or gap between the particles across the stitching line is 80 占 퐉 as measured along the electrode, which represents less than 10% of the 1,000 占 stitching line length. About 58 to 60 particles are in contact with the electrode across the stitching line, compared to about 64 to 66 particles in contact with the electrode not crossing the stitching line. The about 58 to 60 particles are much larger than the minimum number of particles required to establish a reliable electrical contact and are generally about 5 to 10 particles per electrode. The absence of conductive particles in the oblique stitching line obviously does not affect the connection to the long and wide electrodes, since reasonably sufficient conductive particles will still be trapped. However, in the case of high-resolution IC chip bonding, the IC bump dimensions are typically as small as 10 to 30 μm (width) × 20 to 50 μm (length), and the bump area corresponds to 300 to 1000 μm 2 or less. For high quality connections, at least 3 to 5 trapped conductive particles are typically required for each bump.

도 1b는 평면 치수가 각각 20㎛×20㎛, 20㎛×30㎛, 20㎛×40㎛ 및 20㎛×50㎛인 4개 시리즈의 칩 범프(302, 303, 304 및 305)를 포함하는 시뮬레이션된 테스트 키트 또는 필름(300)이다. 테스트 키트는, 각각 10㎛, 20㎛ 및 40㎛의 폭을 갖는 3개의 가상의 45° 스티칭 갭(310, 320 및 340)을 포함하는 시뮬레이션된 고정식 어레이 ACF로 본딩된다. 당해 도면에서, 전도성 입자는 스티칭 라인(310, 320 및 340)에 상응하는 갭으로 전달되는 것으로 도시되어 있지 않다. 도 1b로부터 볼 수 있듯이, 스티칭 갭(320)(20㎛ 갭) 및 스티칭 갭(340)(40㎛ 갭)에 대해, 가장 큰 범프 크기(305)(20㎛×50㎛ 또는 1000㎛2)를 갖는 경우에도 임의의 포획된 전도성 입자를 본질적으로 함유하지 않는 IC 범프가 존재한다. 20㎛보다 넓은 스티칭 라인을 갖는 고정식 어레이 ACF의 최상의 달성 가능한 해상도는 1000㎛2 이하일 것이다. 스티칭 갭(310)(10㎛ 갭)을 갖는 ACF의 해상도가 더 우수하지만, 범프(305)(1000㎛2)보다 작은 범프에 대해, 특히 범프(304)(800㎛2)보다 작은 범프에 대해 불충분하게 포획된 입자를 갖는 범프가 관찰될 수 있다.1B shows a simulation including four series of chip bumps 302, 303, 304, and 305 having planar dimensions of 20 탆 20 탆, 20 탆 30 탆, 20 탆 40 탆, and 20 탆 50 탆, (300). ≪ / RTI > The test kits are bonded to a simulated fixed array ACF that includes three hypothetical 45 ° stitching gaps 310, 320, and 340 having widths of 10, 20, and 40 microns, respectively. In the figures, the conductive particles are not shown to be transferred to the gaps corresponding to the stitching lines 310, 320 and 340. 1b, the largest bump size 305 (20 占 퐉 50 占 퐉 or 1000 占 퐉 2 ) for the stitching gap 320 (20 占 퐉 gap) and the stitching gap 340 (40 占 퐉 gap) There are IC bumps that are essentially free of any trapped conductive particles. The best achievable resolution of a fixed array ACF with a stitching line wider than 20 占 퐉 would be 1000 占 퐉 2 or less. Stitching the gap (310) (10㎛ gap) of the ACF is more excellent in resolution has, however, a bump 305 for the small bumps than (1000㎛ 2), in particular for a small bump more bumps (304) (800㎛ 2) Bumps with insufficiently trapped particles can be observed.

경사 스티칭 라인을 갖는 높은 입자 밀도(≥30,000pcs/㎟)의 ACF에서도 2 내지 10㎛의 협소한 스티칭 라인 폭이 요구되는 것으로 밝혀졌다. 그러나, 이와 같이 협소한 스티칭 라인을 갖는 내구성 및 고해상도 미세공동 루프를 제조하는 것은 극히 어려우며, 후속 미세유체 입자 충전 및 전달 단계에서의 입자 응집을 종종 초래한다. 입자 응집은 결과적으로 본딩된 디바이스에 바람직하지 않은 단락을 초래한다It has been found that narrow stitch line widths of 2 to 10 mu m are required even in ACFs with high grain density (≥30,000 pcs / mm2) with oblique stitching lines. However, it is extremely difficult to produce a durable and high-resolution micro-cavity loop having such narrow stitching lines, and it often results in particle aggregation in subsequent microfluidic particle filling and delivery steps. Particle aggregation results in an undesirable short circuit in the bonded device

도 2는 ACF 접착제(24)에 제1 거리(예를 들면, d1)로 매립된 전도성 입자(22)의 제1 어레이 및 ACF에 더 얕은 제2 거리(예를 들면, d2)로 매립된 전도성 입자(26)의 제2 어레이를 포함하는 ACF를 개략적으로 도시한다. 특정 어레이(즉, 점선 육각형(28)에 의해 지정된 제1 어레이 및 점선 육각형(29)에 의해 지정된 제2 어레이) 내의 인접 입자들 사이의 피치 또는 거리는 동일한 피치를 갖는다. 도 2에 삽입된 도면은 매립 깊이의 분포를 도시하는 그래프이다. 당해 그래프는, 당해 분포가, 명백하게 상이한 매립된 깊이(d1 및 d2)에 있는 두 개의 입자 어레이를 포함하는, 2-모드형(bimodal)임을 보여준다.Figure 2 shows a first array of conductive particles 22 embedded at a first distance (e.g., d 1 ) in the ACF adhesive 24 and a second array of conductive particles 22 embedded in the ACF at a second shallower distance (e.g., d 2 ) Lt; RTI ID = 0.0 > 26 < / RTI > The pitch or distance between adjacent particles in a particular array (i.e., the first array designated by dashed hexagon 28 and the second array designated by dashed hexagon 29) has the same pitch. 2 is a graph showing the distribution of the depth of embedding. The graph shows that the distribution is bimodal, including two particle arrays at distinctly different embedded depths (d 1 and d 2 ).

도 3은, ACF(40)가 제1 깊이에서 ACF 접착제(44)에 매립되어 있는 입자(42)의 제1 어레이 및 더 얕은 깊이에서 ACF 접착제에 매립되어 있는 입자(46)의 제2 어레이를 포함하는, 미국 출원 제13/678,935호로부터의 추가의 양태를 도시한다. 도 3의 ACF(40)는, 제1 및 제2 어레이를 구성하는 입자들의 피치가 상이하다는 점에서, 도 2에 도시된 ACF(20)와는 상이하다. 입자(46)의 제2 어레이의 피치를 나타내는 점선(48)은 입자(42)의 더 깊은 제1 어레이 내의 인접한 입자들(42)을 연결하는 점선(49)보다 짧다.3 shows a first array of particles 42 in which ACF 40 is embedded in ACF adhesive 44 at a first depth and a second array of particles 46 that are embedded in ACF adhesive at a shallower depth US patent application Ser. No. 13 / 678,935, which is incorporated herein by reference. The ACF 40 of FIG. 3 differs from the ACF 20 shown in FIG. 2 in that the pitches of the particles constituting the first and second arrays are different. The dotted line 48 representing the pitch of the second array of particles 46 is shorter than the dotted line 49 connecting adjacent particles 42 in the deeper first array of particles 42.

2종-티어(또는 멀티-티어) ACF는 미국 특허 제13/233,360호에 기재된 스티칭 라인을 갖는 연속 캐리어 벨트를 사용하는 전달 공정에 의해 얻어진다. 미세공동 캐리어 벨트는 동일하거나 상이한 미세공동 패턴 및 피치를 가질 수 있다. 전도성 입자가 제1 미세공동 벨트에 충전되며, 상기 공동의 외부의 과량의 입자는, 예를 들면 미세공동 필름과 고무 와이퍼 또는 고무 롤러 사이의 간격 및 압력 또는 장력을 조심스럽게 조절하는 고무 와이퍼 또는 고무 롤러를 사용하여 제거된다. 예를 들면, 충전된 미세공동 필름을 이형 라이너 상에 사전 코팅된 에폭시 접착제로 라미네이팅함으로써, 미세공동 필름의 전도성 입자가 에폭시 접착제로 전달된다. 라미네이팅 단계의 일부로서 또는 별도의 단계로서, 이와 같이 전달된 입자는 예를 들면, 캘린더링, 라미네이팅 또는 가압하 또는 전단하의 가열에 의해 접착제 필름으로 추가로 가압되어, 접착제 층의 표면 위로 노출된 입자 직경의 약 0%(즉, 완전히 매립된) 내지 95%(즉, 부분적으로 매립된)(더욱 특히, 접착제 표면 위로 노출된 입자 직경의 약 0% 내지 80%)가 허용되거나 허용될 수 있다. 입자 충전 및 전달 공정은 제2 미세공동 필름으로 반복되어, 도 4에 도시된 바와 같이, 2종-티어 또는 멀티-티어 입자 모폴로지를 생성하며, 이때 2종-티어(62 및 64) 입자 모폴로지를 포함하는 ACF(60)의 상부 표면을 커버하는 임의의 오버코트 접착제(50)가 또한 보여진다. 스티칭 라인으로 인해, 제1 전달에서 약간의 (존재하는 경우) 입자가 스티칭 라인의 영역에 존재한다. 제2 전달이 스티칭 라인의 전체 영역을 커버하는 경우, ACF는, 스티칭 라인에 단일 층의 전도성 입자 및 ACF의 균형(balance)에 걸친 전도성 입자의 이중 층을 포함한다.The two-tier (or multi-tier) ACF is obtained by a transfer process using a continuous carrier belt having stitching lines as described in U.S. Patent No. 13 / 233,360. The micro-cavity carrier belt may have the same or different micro-cavity pattern and pitch. Conductive particles are filled in the first micro-cavity belt, and the excess particles outside the cavity are, for example, a rubber wiper or rubber which carefully adjusts the gap and the pressure or tension between the micro-cavity film and the rubber wiper or rubber roller It is removed using a roller. For example, by laminating the filled microcavity film with an epoxy adhesive precoated onto the release liner, conductive particles of the microcavity film are transferred to the epoxy adhesive. As part of the laminating step or as a separate step, the thus delivered particles are further pressed into an adhesive film, for example by calendering, laminating or heating under pressure or shear, Approximately 0% of the diameter (i. E., Fully buried) to 95% (i. E. Partially buried) (more particularly about 0% to 80% of the particle diameter exposed on the adhesive surface) may be allowed or allowed. The particle filling and transfer process is repeated with a second microcavity film to produce a two-tier or multi-tier particle morphology, as shown in Figure 4, wherein two-tier (62 and 64) Any overcoat adhesive 50 covering the top surface of the containing ACF 60 is also shown. Due to the stitching line, some (if any) particles are present in the area of the stitching line in the first transmission. When the second transmission covers the entire area of the stitching line, the ACF includes a single layer of conductive particles in the stitching line and a double layer of conductive particles over the balance of ACF.

도 5a는 제1 입자 어레이를 갖는 영역(112), 제2 티어 입자 어레이를 갖는 스티칭 라인 영역(106), 및 제1 및 제2 입자 어레이 둘 다를 갖는 중첩 영역(110)을 포함하는 ACF 롤 또는 릴(70)의 개략도이다. 도 5c는, 도 5a의 직사각형 A에 의해 개략적으로 보여진, 2종-티어 구조의 전이를 도시하는 영역(112, 110 및 106) 및 상응하는 경계 영역(111)(좌측) 및 (113)(우측)의 광학 현미경 사진이다. 도 5b는, 예를 들면, 폐쇄 루프를 형성하기 위한 매끄러운 표면을 갖는 내구성 접착 테이프(106T)로 스티치된 미세공동 캐리어 벨트의 스티칭 영역의 개략도를 도시한다. 미국 특허 제13/233,360호에 기재된 바와 같이, 전도성 입자를 미세공동에 충전시키고, 이형 라이너 상에 사전 코팅된 접착제 층 위로 전달하여, 스티칭 테이프(106T)에 의해 커버된 영역에 상응하는 입자-비함유 스티칭 영역(106) 및 제1 티어 입자를 포함하는 영역(112)을 포함하는 ACF를 형성하였다. 이어서, 스티칭 라인(106)을 포함하는 접착제 층의 표면에 걸쳐 전도성 입자의 연속 층이 존재하도록, 스티칭 라인(106)은 전도성 입자의 제2 티어에 의해 오버코팅된다.5A shows an ACF roll comprising an area 112 having a first grain array, a stitching line area 106 having a second tier grain array, and an overlap area 110 having both first and second grain arrays, Is a schematic view of a reel (70). Figure 5c shows regions 112, 110 and 106 and the corresponding boundary regions 111 (left) and 113 (right) of the two-tier structure shown schematically by the rectangle A of Figure 5a ). ≪ / RTI > Fig. 5B shows a schematic view of the stitching area of the microcavity carrier belt stitched, for example, with a durable adhesive tape 106T having a smooth surface for forming a closed loop. As described in U.S. Patent No. 13 / 233,360, conductive particles are filled into microcavities and transferred onto a precoated adhesive layer on a release liner to provide a particle-to-particle ratio corresponding to the area covered by the stitching tape 106T, Containing stitching region 106 and a region 112 comprising the first tear particles. The stitching line 106 is then overcoated with a second tier of conductive particles such that there is a continuous layer of conductive particles over the surface of the adhesive layer comprising the stitching line 106. [

도 6의 단면도에 추가로 도시된 바와 같이, ACF는 기판(100), 기판(100)의 표면 상의 접착제 층(102), 내부에 전도성 입자가 임의로 분산된 접착제, 비-무작위형 어레이로 배열된 전도성 입자(104)의 적어도 하나의 티어를 포함하며, 상기 티어는 스티칭 라인을 갖는 캐리어 벨트로부터 접착제 층의 표면으로 전도성 입자를 전달함으로써 형성되며, 이때 스티칭 라인(106)에 상응하는 접착제 층의 표면의 일부는, 스티칭 라인에 상응하는 제1 티어의 적어도 일부(106)를 커버하는 캐리어 벨트로부터의 전달에 의해, 비-무작위형 어레이에 배열된 전도성 입자(108)의 제2 티어로 오버코트된다. 제2 전달이 도 6에 도시된 바와 같이 스티칭 라인의 영역에만 선택적으로 가해지는 경우, ACF는 전도성 입자의 단일 층을 포함하며, 스티칭 라인 외부의 입자는 제1 전달에서 도포되고, 스티칭 라인의 영역의 입자는 제2 전달시에 도포된다. 도 6은 전도성 입자가 완전하게 매립되고 상이한 깊이로 있는 양태를 도시하지만, 본 발명은 입자가 부분적으로 매립되고/되거나 상이한 깊이로 있는 ACF를 포함한다. 추가로, 2종의 티어만이 도시되어 있지만, 본 발명은 2종, 3종, 4종, 5종 또는 그 이상의 티어들이 동일하거나 상이한 깊이로 존재하는 양태를 포함한다.6, the ACF includes a substrate 100, an adhesive layer 102 on the surface of the substrate 100, an adhesive in which conductive particles are optionally dispersed, a non-random array of non- Wherein at least one tier of conductive particles 104 is formed by transferring conductive particles from a carrier belt having a stitching line to a surface of an adhesive layer wherein the surface of the adhesive layer corresponding to the stitching line 106 Is overcoated with a second tier of conductive particles 108 arranged in a non-random array by transmission from a carrier belt covering at least a portion 106 of the first tier corresponding to the stitching line. 6, the ACF comprises a single layer of conductive particles, particles outside the stitching line are applied in the first transmission, and the area of the stitching line Are applied at the time of the second transfer. Figure 6 shows an embodiment wherein the conductive particles are completely buried and at different depths, but the invention includes ACFs in which the particles are partially buried and / or have different depths. In addition, although only two tiers are shown, the present invention encompasses embodiments in which two, three, four, five or more tiers are present at the same or different depths.

도 7은 추가의 양태를 도시한다. 도 7에 도시된 바와 같이, 제2 티어(108A)가 스티칭 라인(106)의 영역 및 스티칭 라인에 인접한 오버랩 영역(110)에 걸쳐 선택적으로 도포되면, ACF는 스티칭 라인(106)의 영역에서 입자의 단일 층, 제1 전달과 제2 전달이 중첩되는 영역(110) 내의 입자의 이중 층, 및 스티칭 라인의 영역 외부의 제1 전달의 영역 내의 입자의 단일 층(112)을 포함한다.Figure 7 shows a further embodiment. 7, when the second tier 108A is selectively applied over the overlap region 110 adjacent to the area of the stitching line 106 and the stitching line, A double layer of particles in the region 110 where the first transmission and the second transmission overlap, and a single layer 112 of particles in the region of the first transmission outside the region of the stitching line.

본 발명의 추가의 양태에 따르면, 전술한 구조들 중 임의의 것을 갖는 ACF는, 전극에 대한 ACF의 점착성 또는 부착성을 향상시키기 위해 도 4에 도시된 바와 같이 접착제 층(50)으로 오버코팅되며, 여기서, 접착제(50) 오버코트가, 전도성 입자의 제1 티어(62) 및 제2 티어(64)를 포함하는 전도성 접착제 층(60) 위로 침착 또는 라미네이팅된다. 당해 접착제는 하기 보다 상세히 설명되는 바와 같이 ACF의 표면 상의 접착제와 동일할 수 있다. 이러한 오버레이어 접착제는 전도성 입자를 필요로 하지는 않지만, 필요하다면, 전도성 입자가 접착제에 포함될 수 있다.According to a further aspect of the present invention, an ACF having any of the foregoing structures is overcoated with an adhesive layer 50 as shown in Fig. 4 to improve the tackiness or adhesion of the ACF to the electrode Where an adhesive 50 overcoat is deposited or laminated onto a conductive adhesive layer 60 comprising a first tier 62 and a second tier 64 of conductive particles. The adhesive may be the same as the adhesive on the surface of the ACF as described in more detail below. Such an overlay adhesive does not require conductive particles, but conductive particles can be included in the adhesive, if necessary.

또 다른 양태에서, ACF는, 전도성 입자의 고정된 어레이의 하나 이상의 티어를, 전도성 입자가 무작위로 분산되고 전도성 접착제 층에 완전히 매립되어 있는 접착제 층 위로 전달시킴으로써 얻어질 수 있다. 예를 들면, 대안으로서, 접착제에 무작위로 분산된 전도성 입자를 갖는 접착제 층을 형성하고, 입자의 고정식 비-무작위형 어레이를 해당 ACF 접착제의 표면에 전달하고, 이들 입자를 목적하는 매립 깊이로 접착제 층에 제1 티어로서 매립함으로써, 2종-티어 ACF가 제조될 수 있다. ACF에서 사용하기 위해 이전에 교시된 전도성 입자들 중의 임의의 것이 본 개시의 실시에 사용될 수 있다. 하나의 양태에서, 금 코팅된 입자가 사용된다. 하나의 양태에서, 전도성 입자는 표준 편차 10% 미만, 바람직하게는 5% 미만, 더욱 더 바람직하게는 3% 미만의 좁은 입자 크기 분포를 갖는다. 입자 크기는 바람직하게는 약 1 내지 250㎛, 더욱 바람직하게는 약 2 내지 50㎛, 더욱 더 바람직하게는 약 2.5 내지 10㎛ 범위이다. 본 발명에 유용한 2개 타입의 상업적으로 입수 가능한 전도성 입자로는, 배급사 JCI USA(미국 뉴욕주), 니폰 케미칼 인더스트리얼 컴퍼니, 리미티드(Nippon Chemical Industrial Co., Ltd.)의 자회사(미국 뉴욕주 화이트 플레인스)를 통해 니폰 케미칼(Nippon Chemical)로부터 공급되는 Ni/Au 입자, 및 인코 스페셜 프러덕츠(Inco Special Products)(미국 뉴저지주 윅오프)로부터의 Ni 입자가 있다. 하나의 양태에서 전도성 입자는 2-모드형 또는 다중모드형(multimodal) 입자 크기 분포를 가질 수 있다. 하나의 양태에서, 미세공동 및 전도성 입자의 크기는, 각각의 미세공동이 오직 하나의 전도성 입자만을 함유하기 위한 제한된 공간을 갖도록 선택된다. 특정 양태에서, 전기 전도성 입자 또는 미세공동은 약 1 내지 약 20㎛ 범위의 직경 또는 깊이를 갖는다. 또 다른 양태에서, 전기 전도성 입자 또는 미세공동은 약 2 내지 약 5㎛ 범위의 직경 또는 깊이를 갖는다. 또 다른 양태에서, 전기 전도성 입자 또는 미세공동은 표준 편차가 약 10% 미만인 직경 또는 깊이를 갖는다. In another aspect, an ACF can be obtained by delivering one or more tiers of a fixed array of conductive particles onto a layer of adhesive where the conductive particles are randomly dispersed and completely embedded in the conductive adhesive layer. For example, alternatively, an adhesive layer having randomly dispersed conductive particles in the adhesive may be formed, a fixed, non-random array of particles may be delivered to the surface of the ACF adhesive, Lt; RTI ID = 0.0 > tier < / RTI > ACF. Any of the previously taught conductive particles for use in an ACF may be used in the practice of the present disclosure. In one embodiment, gold coated particles are used. In one embodiment, the conductive particles have a narrow particle size distribution with a standard deviation of less than 10%, preferably less than 5%, even more preferably less than 3%. The particle size is preferably in the range of about 1 to 250 mu m, more preferably about 2 to 50 mu m, even more preferably about 2.5 to 10 mu m. Two types of commercially available conductive particles useful in the present invention include those sold by the company JCI USA (New York, USA), a subsidiary of Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. Ni particles available from Nippon Chemical through Inco Special Products (WickOff, New Jersey, USA), and Ni particles available from Inco Special Products (Wick Off, New Jersey, USA). In one embodiment, the conductive particles may have a 2-mode or multimodal particle size distribution. In one embodiment, the sizes of the microcavity and the conductive particles are selected such that each microcavity has a limited space for containing only one conductive particle. In certain embodiments, the electrically conductive particles or microcavities have a diameter or depth ranging from about 1 to about 20 mu m. In another embodiment, the electrically conductive particles or microcavities have a diameter or depth ranging from about 2 to about 5 mu m. In another embodiment, the electrically conductive particles or microcavities have a diameter or depth with a standard deviation of less than about 10%.

또 다른 바람직한 양태에서, 전기 전도성 입자 또는 미세공동은 표준 편차가 약 5% 미만인 직경 또는 깊이를 갖는다. 또 다른 바람직한 양태에서, 접착제 층은 열가소성, 열경화성, 또는 이들의 전구체를 포함한다.In another preferred embodiment, the electrically conductive particles or microcavities have a diameter or depth with a standard deviation of less than about 5%. In another preferred embodiment, the adhesive layer comprises a thermoplastic, thermosetting, or precursor thereof.

하나의 양태에서, 중합체 코어 및 금속 쉘을 포함하는 전도성 입자가 사용된다. 유용한 중합체 코어는 폴리스티렌, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리비닐, 에폭시 수지, 폴리우레탄, 폴리아미드, 페놀류, 폴리디엔, 폴리올레핀; 멜라민포름알데히드, 우레아 포름알데히드, 벤조구아나민 포름알데히드와 같은 아미노플라스틱; 및 이의 올리고머, 공중합체, 블렌드 또는 복합체를 포함하지만 이에 한정되지 않는다. 복합 재료가 코어로 사용되는 경우, 탄소, 실리카, 알루미나, BN, TiO2 및 점토의 나노입자 또는 나노튜브가 코어의 충전제로서 바람직하다. 금속 쉘에 적합한 재료는 Au, Pt, Ag, Cu, Fe, Ni, Sn, Al, Mg 및 이들의 합금을 포함하지만 이에 한정되지 않는다. Ni/Au, Ag/Au, Ni/Ag/Au와 같은 상호침투 금속 쉘을 갖는 전도성 입자는 경도, 전도도 및 내식성에 대해 유용하다. Ni, 탄소, 그래파이트와 같은 강성의 스파이크(spike)를 갖는 입자는, 존재하는 경우 부식성 필름으로 침투하여 부식되기 쉬운 전극의 연결의 신뢰성을 향상시키는 데 유용하다. 이러한 입자는 상표명 MICROPEARL하에 세키수이 케이케이(Sekisui KK)(일본)로부터, 상표명 BRIGHT하에 니폰 케미칼 인더스트리얼 컴퍼니(Nippon Chemical Industrial Co.)(일본)로부터, 상표명 DYNOSPHERES하에 다이노 에이.에스.(Dyno A.S.)(노르웨이)로부터 입수 가능하다.In one embodiment, conductive particles comprising a polymeric core and a metal shell are used. Useful polymer cores include, but are not limited to, polystyrene, polyacrylates, polymethacrylates, polyvinyls, epoxy resins, polyurethanes, polyamides, phenols, polydienes, polyolefins; Aminoplastics such as melamine formaldehyde, urea formaldehyde, benzoguanamine formaldehyde; And oligomers, copolymers, blends or complexes thereof. When the composite material is used as a core, nanoparticles or nanotubes of carbon, silica, alumina, BN, TiO 2 and clay are preferred as fillers in the core. Suitable materials for the metal shell include but are not limited to Au, Pt, Ag, Cu, Fe, Ni, Sn, Al, Mg and alloys thereof. Conductive particles with interpenetrating metal shells such as Ni / Au, Ag / Au, and Ni / Ag / Au are useful for hardness, conductivity and corrosion resistance. Particles having a spike of rigidity, such as Ni, carbon, graphite, are useful for enhancing the reliability of the connection of the electrode which, if present, permeates the corrosive film and is susceptible to corrosion. These particles are available from Sekisui KK under the trade designation MICROPEARL under the trade designation DYNOSPHERES by Dyno AS from Nippon Chemical Industrial Co. under the trade designation BRIGHT, (Norway).

또 다른 양태에서, 전도성 입자는 이른바 스파이크형 표면을 가질 수 있다. 상기 스파이크는, Ni의 무전해 도금 단계 전에 실리카와 같은 소량의 외래 입자를 라텍스 입자 상에 도핑 또는 침착하고 이어서 Ni 층을 Au로 부분적으로 대체함으로써 형성될 수 있다. 전술된 출원에서 보다 상세하게 설명된 바와 같은 하나의 양태에서, 전도성 입자는 스파이크로 형성된다. 이러한 스파이크는 예리한 스파이크, 결절(nodular), 노치(notch), 쐐기(wedge), 또는 홈(groove)으로서 비제한적으로 형성될 수 있다. 또 다른 양태에서, 얇은 절연 층, 바람직하게는 본딩 온도에 가깝거나 더 낮은 용융 유동 온도를 갖는 절연성 중합체 층으로 사전 코팅될 수 있다.In another embodiment, the conductive particles may have a so-called spiked surface. The spikes can be formed by doping or depositing a small amount of foreign particles, such as silica, onto the latex particles before the electroless plating step of Ni and then partially replacing the Ni layer with Au. In one embodiment as described in more detail in the aforementioned application, the conductive particles are formed into spikes. These spikes may be formed without limitation as sharp spikes, nodular, notch, wedge, or groove. In yet another embodiment, a thin insulating layer may be precoated with an insulating polymer layer, preferably with a melt flow temperature close to or lower than the bonding temperature.

좁게 분산된 중합체 입자는 예를 들면 미국 특허 제4,247,234호, 제4,877,761호, 제5,216,065호에 교시된 바와 같은 시드 에멀젼(seed emulsion) 중합 및 문헌[Adv., Colloid Interface Sci., 13, 101 (1980); J. Polym. Sci., 72, 225 (1985) and "Future Directions in Polymer Colloids", ed. El-Aasser and Fitch, p. 355 (1987), Martinus Nijhoff Publisher]에 기재된 우겔슈타트(Ugelstad) 팽윤 입자법에 의해 제조될 수 있다. 하나의 양태에서, 약 5㎛ 직경의 단분산된 폴리스티렌 라텍스 입자가 변형 가능한 탄성 코어(deformable elastic core)로 사용된다. 상기 입자는 먼저 온화한 교반하에 메탄올에서 처리하여, 과량의 계면활성제를 제거하고 폴리스티렌 라텍스 입자 상에 미세다공성 표면을 생성시킨다. 이어서, 이렇게 처리된 입자를 PdCl2, HCl 및 SnCl2를 포함하는 용액에서 활성화시킨 후, 물로 세척 및 여과하여 Sn4+를 제거하고, 이어서 Ni 착물과 하이드로포스파이트(hydrophosphite)를 포함하는 무전해 Ni 도금액(예를 들면, 서페이스 테크놀로지 인코포레이티드(Surface Technology Inc)(미국 뉴저지주 트렌턴)로부터의)에 90℃에서 약 30 내지 약 50분 동안 침지시킨다. Ni 도금의 두께는 도금액 농도 및 도금 온도 및 시간에 의해 제어된다.The narrowly dispersed polymer particles can be prepared, for example, by seed emulsion polymerization as taught in U.S. Patent Nos. 4,247,234, 4,877,761 and 5,216,065, and by the method described in Adv., Colloid Interface Sci., 13, 101 ); J. Polym. Sci ., 72, 225 (1985) and "Future Directions in Polymer Colloids ", ed. El-Aasser and Fitch, p. 355 (1987), Martinus Nijhoff Publisher]. In one embodiment, monodisperse polystyrene latex particles of about 5 탆 diameter are used as a deformable elastic core. The particles are first treated in methanol with gentle agitation to remove excess surfactant and create a microporous surface on the polystyrene latex particles. The thus treated particles are then activated in a solution containing PdCl 2 , HCl and SnCl 2 , then washed with water and filtered to remove Sn 4+ , and then electroless, including Ni complexes and a hydrophosphite Ni plating solution (for example, from Surface Technology Inc. (Trenton, NJ)) at 90 占 폚 for about 30 to about 50 minutes. The thickness of the Ni plating is controlled by the plating solution concentration and the plating temperature and time.

접착제 층 위로의 전도성 입자의 전달을 향상시키기 위해, 이형층을 미세공동 상에 도포할 수 있다. 이형층은 플루오로중합체 또는 올리고머, 실리콘 오일, 플루오로실리콘, 폴리올레핀, 왁스, 폴리(에틸렌옥사이드), 폴리(프로필렌옥사이드), 장쇄 소수성 블럭 또는 분지를 갖는 계면활성제, 또는 이들의 공중합체 또는 블렌드를 포함하는 목록으로부터 선택될 수 있다. 이형층은 코팅, 인쇄, 분무, 기상 침착, 플라즈마 중합 또는 가교를 포함하지만 이에 한정되지 않는 방법에 의해 미세공동 어레이의 표면에 도포된다. 리앙 '300 출원에 예시된 바와 같이, 또 다른 양태에서, 당해 방법은 미세공동 어레이이 폐쇄 루프를 사용하는 단계를 추가로 포함한다. 또 다른 양태에서, 당해 방법은 입자 전단 단계 이후에 잔여 접착제 또는 입자를 미세공동 어레이로부터 제거하기 위해 세정 장치를 사용하는 단계를 추가로 포함한다. 상이한 양태에서, 당해 방법은 입자 충전 단계 이전에 이형층을 미세공동 어레이 위로 도포하는 단계를 추가로 포함한다. 또 다른 양태에서, X-Y 평면에서의 단락의 위험을 추가로 줄이기 위해, 전도성 입자는 열가소성 또는 열경화성 절연층으로 캡슐화 또는 코팅될 수 있으며, 이는 미국 특허 제6,632,532호; 제7,291,393호; 제7,410,698호; 제7,566,494호; 제7,815,999호; 제7,846,547호 및 미국 특허 출원 제2006/0263581호; 제2007/0212521호; 및 제2010/0327237호에 기재된 바와 같다. 하나의 양태에 따르면, 전도성 입자는 커플링제로 처리/코팅된다. 커플링제는 전도성 입자의 내식성 뿐만 아니라 전극 표면에 금속-OH 또는 금속 산화물 모이어티(moiety)를 갖는 전극에 대한 상기 입자의 습윤 접착력 또는 습윤 조건에서의 결합력을 향상시켜, 전도성 입자가 접착제에 부분적으로만 매립되게 하여, 전도성 입자는 전기 장치 본딩을 위해 용이하게 입수가능하게 된다. 보다 중요하게는, 표면 처리된 전도성 입자는 비접촉 영역 또는 전극들 사이의 간격 영역(spacing area)의 접착제에서 응집되는 위험을 줄이면서 보다 양호하게 분산될 수 있다. 결과적으로, X-Y 평면에서의 단락 위험성은 현저히 감소하며, 특히 미세 피치 어플리케이션에서 그러하다.In order to improve the transfer of conductive particles onto the adhesive layer, the release layer may be applied on the microcavity. The release layer may comprise a fluoropolymer or oligomer, a silicone oil, a fluorosilicon, a polyolefin, a wax, a poly (ethylene oxide), a poly (propylene oxide), a surfactant with a long chain hydrophobic block or branch, or a copolymer or blend thereof May be selected from the list containing. The release layer is applied to the surface of the microcavity array by methods including but not limited to coating, printing, spraying, vapor deposition, plasma polymerization or crosslinking. As illustrated in Liang '300 application, in another embodiment, the method further comprises the step of using a microcostal array closed loop. In another embodiment, the method further comprises the step of using a cleaning device to remove residual adhesive or particles from the microcavity array after the particle shear step. In a different embodiment, the method further comprises the step of applying the release layer onto the microcavity array prior to the particle filling step. In yet another aspect, to further reduce the risk of shorting in the X-Y plane, the conductive particles may be encapsulated or coated with a thermoplastic or thermosetting insulating layer, as described in U.S. Patent Nos. 6,632,532; 7,291, 393; 7,410,698; 7,566,494; 7,815,999; 7,846,547 and U.S. Patent Application 2006/0263581; 2007/0212521; And 2010/0327237. According to one embodiment, the conductive particles are treated / coated with a coupling agent. The coupling agent improves not only the corrosion resistance of the conductive particles but also the wetting or wetting of the particles to electrodes having metal-OH or metal oxide moieties on the electrode surface, So that the conductive particles are readily available for electrical device bonding. More importantly, the surface treated conductive particles can be better dispersed while reducing the risk of agglomeration in the non-contact area or the adhesive in the spacing area between the electrodes. As a result, the risk of shorting in the X-Y plane is significantly reduced, especially in fine pitch applications.

전도성 입자의 전처리에 유용한 커플링제의 예로는 티타네이트, 지르코네이트, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 감마-머캅토프로필트리메톡시실란, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)테트라설파이드 및 비스(3-트리에톡시실릴프로필)디설파이드를 포함하는 오가노트리알콕시실란과 같은 실란 커플링제("SCA")가 포함된다. 티올, 디설파이드 및 테트라설파이드 작용기를 함유하는 커플링제는 온화한 반응 조건에서도 Au-S 결합을 형성시키기 때문에 Au 입자를 전처리하는데 특히 유용하다. 예를 들면 문헌[J. Am. Chem.Soc., 105 , 4481 (1983) Adsorption of Bifunctional Organic Disulfides on Gold Surfaces]을 참조한다. 커플링제는, 표면 피복율(surface coverage)의 약 5% 내지 100%, 더욱 특히 표면 피복율의 약 20% 내지 100%, 더욱 더 특히 표면 피복율의 50% 내지 100%의 양으로 전도성 입자의 표면에 도포될 수 있다. 문헌[J. Materials Sci., Lett., 8 99], 1040 (1989); Langmuir, 9 (11), 2965-2973 (1993); Thin Solid Films, 242 (1-2), 142 (1994); Polymer Composites, 19 (6), 741 (1997); and "Silane Coupling Agents", 2nd Ed., by E.P. Plueddemann, Plenum Press, (1991) 및 이들의 참조문헌]을 참조한다.Examples of coupling agents useful for the pretreatment of conductive particles include titanate, zirconate, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, gamma-mercapto ("SCA") such as organotrialkoxysilane comprising bis (3-triethoxysilylpropyl) tetrasulfide and bis (3-triethoxysilylpropyl) do. Coupling agents containing thiol, disulfide and tetrasulfide functional groups are particularly useful for pretreating Au particles because they form Au-S bonds even under mild reaction conditions. See, for example, J. Am. Chem. Soc., 105 , 4481 (1983) Adsorption of Bifunctional Organic Disulfides on Gold Surfaces. The coupling agent may be present in an amount of about 5% to 100% of the surface coverage, more particularly about 20% to 100% of the surface coverage, and more particularly 50% to 100% of the surface coverage Can be applied to the surface. J. Materials Sci., Lett., 8, 99], 1040 (1989); Langmuir , 9 (11), 2965-2973 ( 1993 ); Thin Solid Films, 242 (1-2), 142 (1994); Polymer Composites, 19 (6), 741 (1997); see and "Silane Coupling Agents", 2 nd Ed., by EP Plueddemann, Plenum Press, (1991) and those of the reference document.

미세공동 어레이는 캐리어 웹 상에 직접 형성되거나 캐리어 웹 상에 사전 코팅된 공동-형성층(cavity-forming layer) 상에 형성될 수 있다. 웹에 적합한 재료로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 및 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN)와 같은 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리아미드, 폴리아크릴레이트, 폴리설폰, 폴리에테르, 폴리이미드, 및 액정 중합체 및 이들의 블렌드, 복합체, 라미네이트 또는 샌드위치 필름이 포함되지만 이에 한정되지 않는다. 공동-형성층을 위한 적합한 재료로는 열가소성 재료, 열경화성 재료 또는 이의 전구체, 포지티브 또는 네거티브 포토레지스트, 또는 무기 재료가 비제한적으로 포함될 수 있다. 높은 입자 전달 수율을 달성하기 위해, 캐리어 웹은 바람직하게는 미세공동 캐리어 웹과 접착제 층 사이의 접착력을 감소시키기 위한 이형 재료의 박층으로 처리될 수 있다. 이형층은 미세공동-형성 단계 전 또는 후에 코팅, 인쇄, 분무, 기상 침착, 열전사, 또는 플라즈마 중합/가교 결합에 의해 도포될 수 있다. 이형층에 적합한 재료로는 플루오로중합체 또는 올리고머, 실리콘 오일, 플루오로실리콘, 폴리올레핀, 왁스, 폴리(에틸렌옥사이드), 폴리(프로필렌옥사이드), 장쇄 소수성 블럭 또는 분지를 갖는 계면활성제, 또는 이들의 공중합체 또는 블렌드가 포함되지만 이에 한정되지 않는다.The microcaval array may be formed directly on the carrier web or on a cavity-forming layer that is pre-coated on the carrier web. Suitable materials for the web include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate, polyamide, polyacrylate, polysulfone, polyether, polyimide, and liquid crystal polymers and blends thereof , Composites, laminates, or sandwich films. Suitable materials for the cavity-forming layer may include, but are not limited to, a thermoplastic material, a thermoset material or precursor thereof, a positive or negative photoresist, or an inorganic material. To achieve a high particle delivery yield, the carrier web may preferably be treated with a thin layer of release material to reduce the adhesion between the microcavity carrier web and the adhesive layer. The release layer can be applied by coating, printing, spraying, vapor deposition, thermal transfer, or plasma polymerization / crosslinking before or after the micro-cavitation step. Suitable materials for the release layer include fluoropolymers or oligomers, silicone oils, fluorosilicones, polyolefins, waxes, poly (ethylene oxide), poly (propylene oxides), surfactants with long chain hydrophobic blocks or branches, But are not limited to, coalescence or blends.

하나의 양태에서, 각각의 전도성 입자가 하나의 미세공동 내로 포획되는, 유체 입자 분포 및 포획 공정을 적용함으로써 입자 침착이 수행될 수 있다. 다수의 포획 공정이 사용될 수 있다. 예를 들면, 리앙' 700에 기재된 하나의 양태에서, 롤-투-롤(roll-to-roll) 연속 유체 입자 분포 공정은 단지 하나의 전도성 입자를 각각의 미세공동에 포획하기 위해 사용될 수 있다. 이어서, 포획된 입자는 미세공동 어레이로부터 접착제 층 위의 소정의 위치로 전달될 수 있다. 통상적으로, 이들 전달된 전도성 입자들 사이의 거리는, 전도성 입자가 응집하는 밀도 임계치(density threshold)인 퍼콜레이션(percolation) 임계치보다 커야 한다.In one embodiment, particle deposition can be performed by applying a fluid particle distribution and trapping process, wherein each conductive particle is entrapped into one microcavity. A number of capture processes can be used. For example, in one embodiment described in Liang '700, a roll-to-roll continuous fluid particle distribution process can be used to capture only one conductive particle into each microcavity. The entrapped particles can then be transferred from the microcavity array to a predetermined location on the adhesive layer. Typically, the distance between these transferred conductive particles must be greater than the percolation threshold, which is the density threshold at which the conductive particles agglomerate.

미세공동의 각종 패턴 치수, 형상 및 간격은 리앙(Liang)의 미국 특허 공개 US 2006/0280912 및 리앙 '700에 기재되어 있다. 고정식 어레이 패턴은 다양할 수 있다. 원형 미세공동의 경우, 패턴은 X-Y로 나타낼 수 있으며, 이때 X는 공동의 직경이고, Y는 인접한 공동들 사이의 엣지 사이의 거리를 마이크론으로 나타낸 것이다. 통상의 미세공동 패턴 피치는 4-3, 5-3, 5-5, 5-7 및 6-2 패턴을 포함한다. 선택된 패턴은 각각의 전극에 요구되는 입자 수에 부분적으로 의존한다. 전극의 최소 본딩 공간을 줄이기 위해 미세공동 패턴은 엇갈리게 배치될 수 있다.The various pattern dimensions, shapes and spacings of the microcavities are described in US Patent Publication US 2006/0280912 to Liang and Liang '700. Fixed array patterns can vary. In the case of a circular microcavity, the pattern can be represented by X-Y, where X is the diameter of the cavity and Y is the distance between the edges between adjacent cavities in microns. Typical fine cavity pattern pitches include 4-3, 5-3, 5-5, 5-7, and 6-2 patterns. The selected pattern depends in part on the number of particles required for each electrode. The micro-cavity pattern can be staggered to reduce the minimum bonding space of the electrodes.

상기 양태에서 기재된 입자 충전 절차를 채택하여, 6㎛(개구)×2㎛(간격)×4㎛(깊이) 어레이 구성을 갖는 표면-처리된 폴리이미드(PI) 미세공동 시트를 입자로 충전하였다. 에폭시 필름을 약 15㎛의 목표 두께로 준비하였다. 미세공동 시트와 에폭시 필름을 강판에 면대면으로 부착하였다. 강판은 씽크 앤드 씽커(Think & Tinker)로부터 상업적으로 입수 가능한 HRL 4200 건식 필름 롤 라미네이터를 통과시켜 밀어 넣었다. 적층 압력 및 라미네이션 속도는 조절되어, 입자들의 이러한 제1 어레이가 미세공동 캐리어로부터 접착 필름으로 양호한 효율(약 90% 초과, 바람직하게는 약 95% 초과) 및 원하는 매립율(예를 들면, 예를 들면 약 40 내지 90%)로 임의로 이후 캘린더링 또는 가열 공정을 사용하여 전달되어, 더 높은 수준의 매립이 허용된다. 이어서 입자의 제2 어레이가 필름으로 전달되고, 적층 압력 및 적층 속도가 원하는 매립 정도를 얻도록 조정된다. 입자의 제2 고정식 어레이의 전달은 조건에 따라 입자의 제1 어레이를 접착제로 추가로 매립할 수 있다. 제2 어레이 라미네이션의 압력, 온도 및 속도는, 제1 및 제2 어레이가 입자의 제1 어레이 및 제2 어레이에 대해 상이한 원하는 상이한 깊이들로 에폭시 접착제에 매립되도록 조정된다. 이러한 방식으로 매립 깊이를 계층화(tiering)함으로써, 향상된 연결 성능이 달성된다. 하나의 양태에서, 제1 어레이는 해당 입자의 직경의 약 40 내지 90%, 보다 통상적으로는 약 50 내지 80%로 매립된다. 제2 어레이는 해당 입자의 직경의 약 10 내지 60%, 보다 통상적으로는 약 30 내지 60%로 매립되며, 매립 퍼센트는 나머지 어레이보다 하나의 어레이에서 더 크다. 특히, 제1 어레이 입자가 제2 어레이 입자의 매립 깊이에 비해 접착제 내에 적어도 약 20%, 바람직하게는 30% 더 깊히 매립되는 것이 바람직하다.Adopting the particle filling procedure described in this embodiment, a surface-treated polyimide (PI) microcavity sheet having an array configuration of 6 mu m (open) x 2 mu m (spacing) x 4 mu m (depth) was filled with the particles. An epoxy film was prepared to a target thickness of about 15 mu m. The microporous sheet and the epoxy film were attached to the steel sheet face to face. The steel sheet was pushed through a commercially available HRL 4200 dry film roll laminator from Think & Tinker. The lamination pressure and lamination rate are adjusted such that this first array of particles has a good efficiency (greater than about 90%, preferably greater than about 95%) and a desired filling rate (e.g., For example about 40 to 90%), optionally using a calendaring or heating process, to allow a higher level of landfill. The second array of particles is then transferred to the film and the deposition pressure and deposition rate are adjusted to obtain the desired degree of embedding. The delivery of the second fixed array of particles may be further filled with an adhesive as a first array of particles according to the conditions. The pressure, temperature and velocity of the second array lamination are adjusted such that the first and second arrays are embedded in the epoxy adhesive at different desired different depths for the first and second arrays of particles. By tiering the depth of embedding in this manner, improved connection performance is achieved. In one embodiment, the first array is filled to about 40 to 90%, more typically about 50 to 80%, of the diameter of the particle. The second array is buried at about 10 to 60%, more typically about 30 to 60%, of the diameter of the particle, and the buried percentage is larger in one array than the remaining array. In particular, it is preferred that the first array particles are embedded in the adhesive by at least about 20%, preferably 30% deeper, than the depth of embedding of the second array particles.

ACF에 사용되는 접착제는 열가소성, 열경화성, 또는 이들의 전구체일 수 있다. 유용한 접착제로는 압력 감응성 접착제, 핫멜트 접착제, 열 또는 방사선 경화성 접착제가 포함되지만 이에 한정되지 않는다. 접착제는, 예를 들면, 에폭사이드, 페놀 수지, 아민-포름알데히드 수지, 폴리벤족사진, 폴리우레탄, 시아네이트 에스테르, 아크릴, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 비닐 중합체, 폴리(스티렌-코-부타디엔) 및 이의 블럭 공중합체와 같은 고무, 폴리올레핀, 폴리에스테르, 불포화 폴리에스테르, 비닐 에스테르, 폴리카프로락톤, 폴리에스테르, 및 폴리아미드를 포함할 수 있다. 에폭사이드, 시아네이트 에스테르 및 다관능성 아크릴레이트가 특히 유용하다. 잠재성 경화제를 포함하는 촉매 또는 경화제는 접착제의 경화 동력을 제어하는데 사용될 수 있다. 에폭시 수지에 유용한 경화제로는 디시아노디아미드(DICY), 아디픽 디하이드라지드, 2-메틸이미다졸 및 이의 캡슐화된 생성물, 예를 들면, 아시히 케미컬 인더스트리(Asahi Chemical Industry)로부터의 액체 비스페놀 A 에폭시 중의 Novacure HX 분산액; 에틸렌 디아민, 디에틸렌 트리아민, 트리에틸렌 테트라아민, BF3 아민 부가물, 아지노모토 컴퍼니 인코포레이티드(Ajinomoto Co. Inc.)로부터의 Amicure와 같은 아민; 디아미노디페닐설폰, p-하이드록시페닐 벤질 메틸 설포늄 헥사플루오로안티모네이트와 같은 설포늄염이 포함되지만 이에 한정되지 않는다. 하나의 양태에서, 입자는 커플링제로 코팅될 수 있다. 티타네이트, 지르코네이트 및 실란 커플링제, 예를 들면 글리시독시프로필 트리메톡시실란 및 3-아미노프로필 트리메톡시실란이 포함되지만 이에 한정되지 않는 커플링제가 또한 ACF의 내구성을 향상시키기 위해 사용될 수 있다. 에폭시계 ACF의 성능에 있어서의 경화제 및 커플링제의 효과는 문헌[S. Asai, et al, J. Appl. Polym. Sci., 56, 769 (1995)]에서 찾을 수 있다. 문헌 전문이 본원에 참조로 인용된다. 건식 접착제 두께는 통상적으로 5 내지 30㎛ 범위, 바람직하게는 10 내지 20㎛ 범위이다. The adhesive used in the ACF may be thermoplastic, thermoset, or a precursor thereof. Useful adhesives include, but are not limited to, pressure sensitive adhesives, hot melt adhesives, heat or radiation curable adhesives. The adhesive may be, for example, an epoxy, a phenol resin, an amine-formaldehyde resin, a polybenzoxazine, a polyurethane, a cyanate ester, an acrylate, an acrylate, a methacrylate, a vinyl polymer, a poly (styrene- And block copolymers thereof, polyolefins, polyesters, unsaturated polyesters, vinyl esters, polycaprolactones, polyesters, and polyamides. Epoxides, cyanate esters and polyfunctional acrylates are particularly useful. Catalysts or curing agents comprising latent curing agents may be used to control the curing power of the adhesive. Curing agents useful in epoxy resins include dicyanodiamide (DICY), adipic dihydrazide, 2-methylimidazole and its encapsulated products, such as liquids from Asahi Chemical Industry Novacure HX dispersion in bisphenol A epoxy; Ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, BF3 amine adducts, amines such as Amicure from Ajinomoto Co. Inc.; But are not limited to, sulfonium salts such as diaminodiphenylsulfone, p-hydroxyphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, and the like. In one embodiment, the particles may be coated with a coupling agent. Coupling agents including, but not limited to, titanates, zirconates and silane coupling agents such as glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-aminopropyltrimethoxysilane may also be used to improve the durability of ACFs . The effect of the curing agent and coupling agent on the performance of the epoxy-based ACF is described in [S. Asai, et al., J. Appl. Polym. Sci., 56, 769 (1995). A literature review is incorporated herein by reference. The dry adhesive thickness is typically in the range of 5 to 30 mu m, preferably in the range of 10 to 20 mu m.

디스플레이 재료의 기판 또는 웹의 리세스 영역 또는 홀 내로의 IC 칩 또는 솔더 볼의 유체 어셈블리는 예를 들면 미국 특허 제6,274,508호, 제6,281,038호, 제6,555,408호, 제6,566,744호 및 제6,683,663호에 개시되어 있다. 엠보싱된 웹의 마이크로컵 내로의 전기영동 유체 또는 액정 유체의 충전 및 상부 밀봉은 예를 들면 미국 특허 제6,672,921호, 제6,751,008호, 제6,784,953호, 제6,788,452호, 및 제6,833,943호에 기재되어 있다. 엠보싱된 캐리어 웹의 리세스로 충전함으로써 정확한 간격을 갖는 연마재 제품, 경화성 결합제 전구체에 분산되어 있는 복수의 연마재 입자들을 포함하는 연마 복합 슬러리의 제조는 예를 들면 미국 특허 제5,437,754호, 제5,820,450호 및 제5,219,462호에 기재되어 있다. 전술된 모든 미국 특허들은 이들의 전문이 본원에 참조로 인용된다. 전술된 분야에서, 리세스, 홀 또는 마이크로컵은 예를 들면 엠보싱, 스탬핑 또는 리소그래피 공정에 의해 기판 상에 형성되었다. 이어서 액티브 매트릭스 박막 트랜지스터(AM TFT), 볼 그리드 어레이(BGA), 전기영동 및 액정 디스플레이를 포함하는 다양한 어플리케이션을 위한 다양한 디바이스를 리세스 또는 홀에 충전하였다. 특정 양태에서, ACF는, 각각의 미세공동 또는 리세스 내의 단지 하나의 전도성 입자 및 중합체 코어 및 금속 쉘을 포함하는 전도성 입자의 유체 충전에 의해 형성되고 이는 미국 특허 출원 제20150072109호, 제20120295098호 및 이들의 참조문헌에 교시된 바와 같으며, 금속 쉘은 절연 중합체로 캡슐화되거나 커플링제, 보다 구체적으로는 실란 커플링제로 코팅되고, 입자는 ACF 접착제 층에 부분적으로 매립된다.Fluid assemblies of IC chips or solder balls into recessed regions or holes of a substrate or web of display material are disclosed, for example, in U.S. Patent Nos. 6,274,508, 6,281,038, 6,555,408, 6,566,744 and 6,683,663 have. Charging and top sealing of electrophoretic fluid or liquid crystal fluid into microcups of an embossed web is described, for example, in U.S. Patent Nos. 6,672,921, 6,751,008, 6,784,953, 6,788,452, and 6,833,943. The preparation of abrasive composite slurries comprising a plurality of abrasive particles dispersed in a precisely spaced abrasive article, a curable binder precursor, by filling the recesses of the embossed carrier web is described, for example, in U.S. Patent Nos. 5,437,754, 5,820,450, 5,219,462. All of the aforementioned U.S. patents are incorporated herein by reference in their entirety. In the aforementioned field, recesses, holes or microcups have been formed on the substrate by, for example, embossing, stamping or lithography processes. Subsequently, various devices for various applications including active matrix thin film transistor (AM TFT), ball grid array (BGA), electrophoresis and liquid crystal display were filled in recesses or holes. In a particular embodiment, the ACF is formed by fluid filling of conductive particles comprising only one conductive particle and a polymeric core and a metal shell in each microcavity or recess, as described in U.S. Patent Nos. 20150072109, 20120295098, As taught in these references, wherein the metal shell is encapsulated with an insulating polymer or coated with a coupling agent, more specifically a silane coupling agent, and the particles are partially embedded in the ACF adhesive layer.

미세공동은 추가의 공동-형성층을 갖거나 갖지 않는 플라스틱 웹 기판 상에 직접 형성될 수 있다. 또는, 미세공동은 엠보싱 금형 없이, 예를 들면, 레이저 절삭에 의해 또는 포토레지스트를 사용한 리소그래피 공정에 의해, 이어서 현상 및 임의로 에칭 또는 전기주조(electroforming) 단계에 의해 형성될 수 있다. 공동-형성층에 적합한 재료로는 열가소성 재료, 열경화성 재료 또는 이의 전구체, 포지티브 또는 네가티브 포토레지스트, 또는 무기 또는 금속 재료가 포함될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 레이저 절삭에 있어서, 하나의 양태는, 약 0.1Hz 내지 약 500Hz의 펄스 주파수를 사용하여 약 1펄스 내지 약 100펄스를 인가하는 약 0.1W/㎠ 내지 약 200W/㎠ 또는 그 이상의 범위의 전력을 갖는 절삭을 위한 엑시머 레어지 빔을 생성시킨다. 바람직한 양태에서, 레이저 절삭 전력은 약 1W/㎠ 내지 약 100W/㎠ 범위이며, 약 1Hz 내지 약 100Hz의 펄스 주파수를 사용하고 약 10펼스 내지 약 50펄스를 사용한다. 또한, 잔여물을 제거하기 위해 진공하에 캐리어 가스를 공급하는 것이 바람직하다.The microcavity can be formed directly on a plastic web substrate with or without additional co-forming layer. Alternatively, the microcavity can be formed without an embossing mold, for example, by laser cutting or by a lithography process using a photoresist, followed by development and optionally etching or electroforming. Suitable materials for the cavity-forming layer may include, but are not limited to, a thermoplastic material, a thermoset material or precursor thereof, a positive or negative photoresist, or an inorganic or metallic material. In laser cutting, one aspect has a power ranging from about 0.1 W / cm < 2 > to about 200 W / cm < 2 > or more, applying from about 1 pulse to about 100 pulses using a pulse frequency of about 0.1 Hz to about 500 Hz Thereby generating an excimer laser beam for cutting. In a preferred embodiment, the laser cutting power is in the range of about 1 W / cm 2 to about 100 W / cm 2, using a pulse frequency of about 1 Hz to about 100 Hz and using about 10 pulses to about 50 pulses. It is also preferable to supply the carrier gas under vacuum to remove the residue.

전사 효율을 향상시키기 위해, 전도성 입자의 직경 및 공동의 직경은 특정한 허용오차를 갖는다. 높은 전달 속도를 달성하기 위해, 공동의 직경은 바람직하게는 약 5% 내지 약 10% 미만의 특정 허용오차를 가지며 표준 편차 요건은 미국 특허 공개 제2010/0101700호에 기재된 근거를 기초로 한다.In order to improve the transfer efficiency, the diameter of the conductive particles and the diameter of the cavity have specific tolerances. In order to achieve a high delivery rate, the diameter of the cavity preferably has a specific tolerance of from about 5% to less than about 10%, and the standard deviation requirement is based on the basis described in U.S. Patent Application Publication No. 2010/0101700.

하나의 양태에서, 비-무작위형 ACF 미세공동 어레이 내의 입자는 대략 단일 평균 입자 크기 값, 통상적으로 약 2㎛ 내지 약 6㎛으로 분포된 입자 크기 범위를 가질 수 있으며, 평균 입자 크기로부터 약 10% 미만의 표준 편차를 갖는 좁은 입자 크기 분포를 갖는다. 좁은 분포를 특징으로 하는 다른 양태에서, 좁은 입자 크기 분포는 평균 입자 크기로부터 약 5% 미만의 표준 편차를 갖는 것이 바람직할 수 있다. 통상적으로, 선택된 공동 크기를 갖는 공동은, 선택된 공동 크기보다 약간 작은 선택된 입자 크기를 갖는 입자를 수용하도록 형성된다. ACF에서 입자 클러스터가 형성되는 것을 방지하기 위해, 바람직하게는, 공동 개구의 평균 직경은 입자 직경보다 약간 크지만 입자 직경의 2배보다는 작다. 더욱 바람직하게는, 공동 개구의 평균 직경은 입자 직경의 1.5배보다 크지만 입자 직경의 2배보다는 작다.In one embodiment, the particles in the non-random ACF microcavity array may have a particle size range that is approximately a single average particle size value, typically distributed from about 2 [mu] m to about 6 [mu] m, Lt; RTI ID = 0.0 > standard deviation. ≪ / RTI > In other embodiments characterized by a narrow distribution, it may be desirable for the narrow particle size distribution to have a standard deviation of less than about 5% from the average particle size. Typically, cavities having a selected cavity size are formed to accommodate particles having a selected particle size that is slightly smaller than the selected cavity size. To prevent the formation of particle clusters in the ACF, preferably, the average diameter of the cavity openings is slightly larger than the particle diameter but less than twice the particle diameter. More preferably, the average diameter of the cavity openings is greater than 1.5 times the particle diameter but less than twice the particle diameter.

따라서, 하나의 양태에서, 비-무작위형 ACF 미세공동 어레이 내의 미세공동은 대략 단일 평균 공동 크기 값, 통상적으로 약 2㎛ 내지 약 6㎛로 분포된 공동 크기 범위를 가질 수 있으며, 좁은 분포를 특징으로 하는 양태는 평균 입자 크기로부터 약 10% 미만의 표준 편차를 갖는 좁은 공동 크기 분포를 포함한다. 좁은 분포를 특징으로 하는 다른 양태에서, 좁은 공동 크기 분포는 평균 공동 크기로부터 5% 미만의 표준 편차를 갖는 것이 바람직할 수 있다.Thus, in one embodiment, the microcavities in the non-random ACF microcavity arrays can have a coarse size range generally distributed at a single average cavity size value, typically from about 2 microns to about 6 microns, Include a narrow cavity size distribution with an average particle size of less than about 10% standard deviation. In other embodiments characterized by a narrow distribution, it may be desirable for the narrow cavity size distribution to have a standard deviation of less than 5% from the average cavity size.

특정 양태에서, 본 발명은 전자 장치의 제조 방법을 추가로 기재한다. 상기 방법은, 커플링제 또는 절연층 및 코어 재료로 표면 처리되거나 코팅된 전기 전도성 쉘을 포함하는 복수의 전기 전도성 입자를 미세공동의 어레이에 놓는 단계, 이어서 충전된 미세공동 위에 접착제 층을 오버코팅 또는 라미네이팅하는 단계를 포함한다. 하나의 양태에서, 복수의 표면 처리된 전도성 입자를 미세공동의 어레이에 놓는 단계는, 각각의 전도성 입자를 단일 미세공동 내로 포획하기 위해 유체 입자 분포 공정을 사용하는 단계를 포함한다.In particular aspects, the present invention further describes a method of making an electronic device. The method comprises the steps of placing a plurality of electrically conductive particles in an array of microcavities comprising a coupling agent or an electrically conductive shell surface treated or coated with an insulating layer and a core material and then overcoating the layer of adhesive over the filled microcavity or And laminating. In one embodiment, placing the plurality of surface treated conductive particles in the array of microcavities includes using a fluid particle distribution process to trap each conductive particle into a single microcavity.

상기 설명, 도면 및 예에 따르면, 본 발명은, 소정의 2종의 계층화된(two-tiered) 비-무작위형 입자 위치에 접착제 층 내의 비-무작위형 고정식 어레이로서 배치되고, 복수의 전기 전도성 표면 처리된 입자를 포함하는 이방성 전도 필름(ACF)을 기재하며, 이때 상기 비-무작위형 입자 위치는, 전기 전도성 입자를 접착제 층으로 운반하고 전달하기 위한 미세공동의 어레이의 복수의 소정의 미세공동 위치에 상응한다. 전도성 입자는 제1 및 제2 어레이에서 접착제 층으로 순차적으로 전달되어 상이한 깊이로 매립된다.According to the above description, drawings and examples, the present invention is directed to a non-random fixed array in an adhesive layer at a predetermined two-tiered non-randomized particle location, (ACF) comprising treated particles, wherein the non-randomized particle position is selected from the group consisting of a plurality of predetermined microcostal positions of an array of microcavities for transporting and delivering the electroconductive particles to the adhesive layer ≪ / RTI > Conductive particles are sequentially transferred to the adhesive layer in the first and second arrays and are buried at different depths.

상기 양태 이외에도, 본 발명은 본 발명의 ACF와 연결된 전자 부품을 갖는 전자 장치를 추가로 기재한다. 특정 양태에서, 전자 장치는 디스플레이 장치를 포함한다. 또 다른 양태에서, 전자 장치는 반도체 칩을 포함한다. 또 다른 양태에서, 전자 장치는 인쇄된 와이어를 갖는 인쇄 회로 기판을 포함한다. 또 다른 바람직한 양태에서, 전자 장치는 인쇄된 와이어를 갖는 가요성 인쇄 회로 기판을 포함한다.In addition to the above aspect, the present invention further describes an electronic device having an electronic part connected to the ACF of the present invention. In certain embodiments, the electronic device includes a display device. In another aspect, an electronic device includes a semiconductor chip. In another aspect, an electronic device includes a printed circuit board having printed wires. In another preferred embodiment, the electronic device comprises a flexible printed circuit board having printed wires.

본 발명을 이의 특정 양태를 참조하여 상세히 설명하였지만, 이하의 청구범위의 범위로부터 벗어나지 않으면서도 다수의 변형 및 수정이 가능하다는 것은 자명할 것이다.Although the present invention has been described in detail with reference to specific embodiments thereof, it will be apparent that many modifications and variations are possible without departing from the scope of the following claims.

Claims (16)

이방성 전도 필름(anisotropic conductive film)(ACF)으로서,
기판; 상기 기판의 표면 상의 접착제 층; 상기 접착제 층에 매립된 비-무작위형 어레이(non-random array)로 배열된 전도성 입자의 제1 티어(tier)로서, 상기 제1 티어는, 스티칭 라인(stitching line)을 갖는 캐리어 벨트(carrier belt)로부터 상기 접착제 층의 표면으로 전도성 입자를 전달함으로써 형성되며, 상기 스티칭 라인에 상응하는 상기 제1 티어의 부분은 전도성 입자가 없거나 본질적으로 없는, 전도성 입자의 제1 티어; 및 상기 접착제 층에 또한 매립된 비-무작위형 어레이로 배열되고 상기 스티칭 라인에 상응하는 상기 제1 티어의 부분을 오버코팅하는 전도성 입자의 제2 티어를 포함하는, ACF.
As an anisotropic conductive film (ACF)
Board; An adhesive layer on the surface of the substrate; A first tier of conductive particles arranged in a non-random array embedded in the adhesive layer, the first tier comprising a carrier belt having a stitching line, ) Of the conductive particles to the surface of the adhesive layer, the portion of the first tier corresponding to the stitching line being essentially or essentially free of conductive particles; And a second tier of conductive particles arranged in a non-random array embedded in the adhesive layer and overcoating a portion of the first tier corresponding to the stitching line.
제1항에 있어서, 상기 ACF가, 상기 접착제 층 내의 제1 깊이로 부분적으로 또는 전체적으로 매립된 입자의 제1 비-무작위형 어레이, 및 상기 접착제 층 내의 동일하거나 제2 깊이로 부분적으로 또는 전체적으로 매립된 전도성 입자의 제2 비-무작위형 어레이를 포함하는, ACF.2. The method of claim 1, wherein the ACF comprises a first non-random array of particles partially or entirely embedded in the adhesive layer at a first depth, and a second non-random array of particles partially or entirely embedded at the same or second depth in the adhesive layer. Lt; RTI ID = 0.0 > ACF < / RTI > 제2항에 있어서, 상기 제1 또는 상기 제2 어레이에서, 입자의 직경을 기준으로 하여, 상기 부분적으로 매립된 전도성 입자의 적어도 약 10%가 상기 접착제 층의 표면 상에 노출되어 있는, ACF.3. The ACF of claim 2, wherein in the first or second array, at least about 10% of the partially buried conductive particles are exposed on the surface of the adhesive layer, based on the diameter of the particles. 제3항에 있어서, 상기 부분적으로 매립된 입자의 적어도 약 30%가 상기 접착제 층의 표면 상에 노출되어 있는, ACF.4. The ACF of claim 3, wherein at least about 30% of the partially buried particles are exposed on the surface of the adhesive layer. 제2항에 있어서, 상기 전도성 입자의 상기 제1 어레이가 약 40 내지 90% 매립되고 상기 전도성 입자의 상기 제2 어레이가 약 10 내지 60% 매립되며, 단, 상기 제1 및 제2 어레이의 깊이가 명백하게 상이한, ACF.3. The method of claim 2, wherein the first array of conductive particles is about 40-90% embedded and the second array of conductive particles is about 10-60% embedded, with the depth of the first and second arrays Apparently different, ACF. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 티어 내의 입자 이외에도, 상기 접착제 층이 그의 내부에 분산되어 있는 전도성 입자를 함유하는, ACF.2. The ACF of claim 1, wherein in addition to the particles in the first and second tiers, the adhesive layer contains conductive particles dispersed therein. 제6항에 있어서, 상기 ACF가, 전도성 입자의 고정식 어레이의 제1 티어를 스티칭 라인의 영역을 제외한 ACF의 접착제 층의 표면으로 전달하고 전도성 입자의 고정식 어레이의 제2 티어를 적어도 상기 스티칭 라인의 영역의 ACF의 접착제 층의 표면으로 전달함으로써 수득되는, ACF.7. The method of claim 6, wherein the ACF transfers a first tier of a stationary array of conductive particles to a surface of an adhesive layer of an ACF, excluding a region of the stitching line, and at least a second tier of a stationary array of conductive particles, Lt; RTI ID = 0.0 > ACF < / RTI > 제6항에 있어서, 상기 ACF가, 전도성 입자의 티어에 중첩된 별도의 비전도성 접착제 층을 추가로 포함하는, ACF.7. The ACF of claim 6, wherein the ACF further comprises a separate, non-conductive adhesive layer superimposed on a tier of conductive particles. 제1항에 있어서, 접착제 층이 직교의 X 및 Y 방향을 갖고, 고정식 비-무작위형 어레이 내의 상기 입자가 X 및/또는 Y 방향에서 약 3 내지 30㎛의 피치를 갖는, ACF.The ACF of claim 1, wherein the adhesive layer has orthogonal X and Y directions, and wherein the particles in the stationary, non-random array have a pitch of about 3 to 30 micrometers in the X and / or Y direction. 제9항에 있어서, 상기 입자 부위가, X 및/또는 Y 방향에서 약 4 내지 12㎛의 피치를 갖는 어레이로 배열되는, ACF.10. The ACF of claim 9, wherein the particle sites are arranged in an array having a pitch of about 4 to 12 micrometers in the X and / or Y direction. 제3항에 있어서, 상기 제1 및 제2 티어가 적어도 부분적으로 중첩되는, ACF.4. The ACF of claim 3 wherein the first and second tiers are at least partially overlaid. 제11항에 있어서, 상기 접착제 층이 약 5 내지 30㎛ 두께인, ACF.12. The ACF of claim 11, wherein the adhesive layer is about 5 to 30 占 퐉 thick. 제12항에 있어서, 상기 접착제 층이 약 10 내지 25㎛ 두께인, ACF.13. The ACF of claim 12, wherein the adhesive layer is about 10 to 25 占 퐉 thick. 제2항에 있어서, 전도성 입자의 2종 이상의 티어가 존재하는, ACF.3. The ACF of claim 2 wherein two or more tiers of conductive particles are present. 제2항에 있어서, 상기 제1 및 제2 티어의 깊이가 상이한, ACF.3. The ACF of claim 2, wherein the depths of the first and second tiers are different. 제2항에 있어서, 상기 제1 및 제2 티어의 깊이가 동일한, ACF.3. The ACF of claim 2, wherein the depths of the first and second tiers are the same.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102322222B1 (en) * 2017-09-28 2021-11-05 주식회사 엘지에너지솔루션 Pouch-Type Battery Case Comprising Metal Layer Having Concavo-convex Structure Surface
CN110277186B (en) * 2019-06-27 2021-04-30 陈先彬 ACF with fixed array and processing method thereof
CN113840474A (en) * 2021-09-27 2021-12-24 信利半导体有限公司 Binding method of FPC and TFT and display module

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010008169A1 (en) * 1998-06-30 2001-07-19 3M Innovative Properties Company Fine pitch anisotropic conductive adhesive
KR101056435B1 (en) * 2009-10-05 2011-08-11 삼성모바일디스플레이주식회사 Anisotropic conductive film and display device including same
KR20110075226A (en) * 2009-12-28 2011-07-06 주식회사 효성 Anisotropic conductive adhesive film and method for manufacturing the same
US20120295098A1 (en) * 2011-05-19 2012-11-22 Trillion Science, Inc. Fixed-array anisotropic conductive film using surface modified conductive particles
US9102851B2 (en) * 2011-09-15 2015-08-11 Trillion Science, Inc. Microcavity carrier belt and method of manufacture
US20140141195A1 (en) * 2012-11-16 2014-05-22 Rong-Chang Liang FIXED ARRAY ACFs WITH MULTI-TIER PARTIALLY EMBEDDED PARTICLE MORPHOLOGY AND THEIR MANUFACTURING PROCESSES
KR101375298B1 (en) * 2011-12-20 2014-03-19 제일모직주식회사 Conductive microspheres and an anisotropic conductive film comprising the same
KR102125464B1 (en) * 2013-10-17 2020-06-23 삼성디스플레이 주식회사 Display device having an anisotropic conductive film and manufactring method thereof

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