KR20170126279A - High temperature substrate for manufacturing microstructure, microstructure and method for manufacturing thereof using the same - Google Patents

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KR20170126279A KR1020160056508A KR20160056508A KR20170126279A KR 20170126279 A KR20170126279 A KR 20170126279A KR 1020160056508 A KR1020160056508 A KR 1020160056508A KR 20160056508 A KR20160056508 A KR 20160056508A KR 20170126279 A KR20170126279 A KR 20170126279A
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정형일
리성국
마영호
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주식회사 주빅
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Abstract

The present invention relates to a high temperature substrate for manufacturing a microstructure which comprises a substrate for melting a solid for manufacturing a microstructure, wherein a temperature of the substrate is higher than a softening point of the solid; to the microstructure using the same; and a method for manufacturing the high temperature substrate.

Description

마이크로구조체 제조용 고온 기판, 이를 이용한 마이크로구조체 및 이의 제조방법{HIGH TEMPERATURE SUBSTRATE FOR MANUFACTURING MICROSTRUCTURE, MICROSTRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF USING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a high-temperature substrate for manufacturing a microstructure, a microstructure using the substrate, and a method of manufacturing the same. BACKGROUND OF THE INVENTION [0002]

본 발명은 마이크로구조체 제조용 고온 기판, 이를 이용한 마이크로구조체 및 이의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a high-temperature substrate for manufacturing a microstructure, a microstructure using the substrate, and a method of manufacturing the same.

일반적인 피하주사침은 많은 사람들의 선단공포증 및 사용시 통증을 유발하거나 외상을 남김으로 인해 임상에서 혈액 채취나 진단 및 약물주입 등 사용에 제한요소가 되고 있다. 이를 해결하기 위해 마이크로니들이 대안으로 제기되고 있다. Common hypodermic needles are a limiting factor in the use of blood sampling, diagnosis, and drug infusion in clinical practice, as many people develop phobias and pain during use and leave trauma. To solve this problem, micro needle is being proposed as an alternative.

이러한 마이크로니들로는 솔리드형 및 중공형이 있는데, 종래에 마이크로니들 중 중공형 마이크로니들을 제조하기 위해서는, 주로 경화시 기계적 물성이 우수하면서도, 점성 상태로 존재가 가능한 고가의 고분자인 SU-8 감광제를 이용하기 때문에, 제조 과정이 복잡하고 까다로운 온도 조절을 필요로 하는 한계점들이 존재한다.Conventionally, in order to produce hollow micro-needles among micro needles, SU-8 sensitizer, which is an expensive polymer capable of being present in a viscous state while having excellent mechanical properties upon curing, There are limitations that require complicated manufacturing processes and difficult temperature control.

이에, 점성 상태의 SU-8 감광제를 사용하지 않고도, 마이크로니들, 특히, 중공형 마이크로니들을 쉽게 제조하기 위한 방법이 요구되고 있는 실정이다. Thus, there is a need for a method for easily manufacturing micro needles, particularly hollow micro needles, without using a SU-8 photosensitive agent in a viscous state.

본 발명은 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 기판을 포함하고, 상기 기판의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 것을 특징으로 하는 마이크로구조체 제조용 고온 기판 등을 제공하고자 한다. The present invention provides a substrate for melting a solid for fabricating a microstructure, wherein a temperature of the substrate is higher than a softening point of the solid material.

그러나, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the technical problem to be solved by the present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other matters not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명은 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 기판을 포함하고, 상기 기판의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 것을 특징으로 하는 마이크로구조체 제조용 고온 기판을 제공한다. The present invention provides a high-temperature substrate for manufacturing a microstructure, which comprises a substrate for melting a solid for manufacturing a microstructure, wherein the temperature of the substrate is higher than the softening point of the solid.

상기 기판 상에 일체로 형성된 하나 이상의 필라를 추가로 포함할 수 있다.And at least one pillar integrally formed on the substrate.

상기 기판 또는 필라의 온도는 100℃ 이상일 수 있다.The temperature of the substrate or pillars may be 100 ° C or higher.

상기 고온 기판은 가열 기판 상에 배치될 수 있다.The high temperature substrate may be disposed on a heating substrate.

본 발명의 일 구현예로, (a) 상기 고온 기판을 준비하는 단계; (b) 하부 기판 상에 고형물을 형성시킨 후, 상기 고형물이 상기 고온 기판과 마주하도록 이격 배치하는 단계; (c) 상기 고온 기판의 기판 또는 필라를 통해 상기 고형물을 용융시키는 단계; 및 (d) 상기 용융된 고형물을 성형하는 단계를 포함하는 마이크로구조체의 제조방법을 제공한다. In one embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: (a) preparing the high-temperature substrate; (b) forming a solid on the lower substrate, and then placing the solids away from the hot substrate; (c) melting the solid through the substrate or pillar of the high temperature substrate; And (d) molding the molten solid material.

상기 고온 기판의 기판 또는 필라의 온도는 100℃ 이상일 수 있다.The temperature of the substrate or pillar of the high-temperature substrate may be 100 ° C or higher.

상기 고온 기판은 가열 기판 상에 배치되어 준비되는 것일 수 있다.The high-temperature substrate may be arranged on a heating substrate.

상기 고형물은 중량평균분자량이 5,000 내지 500,000일 수 있다.The solid may have a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000.

상기 고형물의 연화점은 50℃ 내지 150℃일 수 있다.The softening point of the solid may be from 50 캜 to 150 캜.

상기 고형물은 스티렌계 고분자, 아마이드계 고분자, 에틸렌계 고분자, 에스테르계 고분자, 아크릴계 고분자, 아세틸계 고분자, 테프론계 고분자, 염화비닐계 고분자, 우레탄계 고분자, 나일론계 고분자, 설폰계 고분자 및 에폭시계 고분자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.The solid material may be selected from the group consisting of a styrenic polymer, an amide polymer, an ethylene polymer, an ester polymer, an acrylic polymer, an acetyl polymer, a Teflon polymer, a vinyl chloride polymer, a urethane polymer, a nylon polymer, a sulfone polymer, And the like.

상기 성형은 연장 및 경화를 통해 수행되는 것일 수 있다.The molding may be performed through extension and curing.

상기 성형된 고형물의 유효 길이는 연장 속도에 따라 조절될 수 있다.The effective length of the formed solids can be adjusted according to the extension rate.

상기 성형된 고형물의 유효 길이는 상기 성형된 고형물 첨단부의 상단부를 고형물 용해를 위한 용매에 침지시키는 과정을 통해 연장될 수 있다.The effective length of the shaped solids can be extended by immersing the upper end of the molded solid tip in a solvent for solubilization of the solids.

상기 성형 후, 상기 고온 기판의 기판 또는 필라의 온도를 상기 고형물의 연화점 보다 낮은 온도로 냉각시키는 단계를 추가로 포함할 수 있다.And cooling the substrate or the pillar of the high-temperature substrate to a temperature lower than the softening point of the solid after the molding.

(e) 상기 성형된 고형물 상에 금속을 증착한 후 도금하는 단계; 및 (f) 상기 성형된 고형물을 제거하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.(e) depositing a metal on the molded solid and then plating the metal; And (f) removing the molded solid.

본 발명의 다른 구현예로, 상기 방법으로 제조된 마이크로구조체를 제공한다. In another embodiment of the present invention, microstructures prepared by the above method are provided.

본 발명에 따른 고온 기판을 이용한 마이크로구조체의 제조방법은 고형물의 연화점 보다 높은 온도를 가지는 고온 기판의 기판 또는 필라를 통해 고형물을 용융시켜 고형물의 점성화를 유도할 수 있다. 또한, 상기 용융된 고형물의 성형 후, 상기 기판 또는 필라의 온도를 상기 고형물의 연화점 보다 낮은 온도로 냉각시킴으로써, 다양한 유효 길이 등 다양한 형태를 가지는 마이크로구조체를 최종 제조할 수 있다.The method of manufacturing a microstructure using a high-temperature substrate according to the present invention can induce the solidification of a solid material by melting the solid material through a substrate or a pillar of a high-temperature substrate having a temperature higher than the softening point of the solid material. Further, after the molten solid is formed, the microstructure having various shapes such as various effective lengths can be finally manufactured by cooling the temperature of the substrate or the pillars to a temperature lower than the softening point of the solid material.

본 발명에 따르면, 마이크로구조체의 생산성, 균일성 및 품질을 확보하면서, 대량 생산 및 생산 단가 절감이 가능한 이점이 있다.According to the present invention, it is possible to mass-produce and reduce the production cost while securing the productivity, uniformity and quality of the microstructure.

도 1은 본 발명의 다양한 구현예에 따른 마이크로구조체 제조용 고온 기판을 나타낸 그림이다.
도 2는 본 발명의 일 구현예에 따른 마이크로구조체의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
도 3은 본 발명의 다양한 구현예에 따른 마이크로구조체의 제조방법을 나타낸 그림이다.
도 4는 실시예 1에 따라 제조된 솔리드형 마이크로니들을 나타낸 사진이다.
1 illustrates a high temperature substrate for fabricating microstructures according to various embodiments of the present invention.
2 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a microstructure according to an embodiment of the present invention.
3 illustrates a method of fabricating a microstructure according to various embodiments of the present invention.
4 is a photograph showing solid type micro needles manufactured according to Example 1. Fig.

본 발명자들은 종래와 같이 점성 상태의 SU-8 감광제를 사용하지 않고, 높은 중량평균분자량을 가지는 고형물을 이용하더라도, 고온 기판을 통한 고형물의 용융 과정으로부터 고형물의 점성화를 유도하고, 이를 성형할 수 있음을 확인하고, 본 발명을 완성하였다. The present inventors have found that, even when a solid material having a high weight average molecular weight is used without using a SU-8 photosensitive agent in a viscous state as in the prior art, it is possible to induce the viscosity of the solid material from the melting process of the solid material through the high- And completed the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.In the drawings, the thickness is enlarged to clearly represent the layers and regions. In the drawings, for the convenience of explanation, the thicknesses of some layers and regions are exaggerated.

이하에서 기재의 “상 (또는 하)”에 임의의 구성이 형성된다는 것은, 임의의 구성이 상기 기재의 상 (또는 하)에 접하여 형성되는 것을 의미할 뿐만 아니라, 상기 기재와 기재 상 (또는 하) 형성된 임의의 구성 사이에 다른 구성을 포함하지 않는 것으로 한정하는 것은 아니다.Hereinafter, the formation of an arbitrary structure in the above-mentioned " upper (or lower) " means not only that an arbitrary structure is formed in contact with the upper (or lower) And the present invention is not limited to the configuration including any other configuration.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

마이크로구조체 제조용 고온 기판High Temperature Substrate for Microstructure Production

본 발명은 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 기판을 포함하고, 상기 기판의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 것을 특징으로 하는 마이크로구조체 제조용 고온 기판을 제공한다. 상기 기판 상에 일체로 형성된 하나 이상의 필라를 추가로 포함할 수 있다. 또한, 상기 마이크로구조체 제조용 고온 기판은 가열 기판 상에 배치될 수 있다. The present invention provides a high-temperature substrate for manufacturing a microstructure, which comprises a substrate for melting a solid for manufacturing a microstructure, wherein the temperature of the substrate is higher than the softening point of the solid. And at least one pillar integrally formed on the substrate. In addition, the high temperature substrate for manufacturing the microstructure may be disposed on the heating substrate.

이와 같은, 상기 마이크로구조체 제조용 고온 기판을 이용하여, 마이크로구조체를 제조할 수 있다. The microstructure can be manufactured by using the high-temperature substrate for manufacturing the microstructure.

도 1은 본 발명의 다양한 구현예에 따른 마이크로구조체 제조용 고온 기판을 나타낸 그림이다. 1 illustrates a high temperature substrate for fabricating microstructures according to various embodiments of the present invention.

도 1(a)~(b)에 나타난 바와 같이, 본 발명의 일 구현예에 따른 마이크로구조체 제조용 고온 기판은 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 기판(10)을 포함하고, 상기 기판(10)의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 것을 특징으로 한다. 이때, 도 1(a)에 나타난 바와 같이, 상기 마이크로구조체 제조용 고온 기판은 고온 상태로 유지를 위해 가열 기판(20) 상에 일체로 형성될 수도 있고, 도 1(b)에 나타난 바와 같이, 상기 마이크로구조체 제조용 고온 기판은 고온 상태로 유지를 위해 가열 기판(20) 상에 별개로 배치될 수도 있다. As shown in FIGS. 1 (a) and (b), a high-temperature substrate for manufacturing a microstructure according to an embodiment of the present invention includes a substrate 10 for melting a solid for manufacturing a microstructure, And the temperature is higher than the softening point of the solids. As shown in FIG. 1 (a), the high-temperature substrate for manufacturing the microstructure may be integrally formed on the heating substrate 20 for maintaining the high-temperature state, and as shown in FIG. 1 (b) The high temperature substrate for manufacturing the microstructure may be disposed separately on the heating substrate 20 for maintaining the high temperature state.

또한, 도 1(c)~(d)에 나타난 바와 같이, 본 발명의 일 구현예에 따른 마이크로구조체 제조용 고온 기판은 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 기판(10) 및 상기 기판 상에 일체로 형성된 하나 이상의 필라(15)를 포함하고, 상기 필라(15)의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 것을 특징으로 한다. 이때, 도 1(c)에 나타난 바와 같이, 상기 마이크로구조체 제조용 고온 기판은 고온 상태로 유지를 위해 가열 기판(20) 상에 일체로 형성될 수도 있고, 도 1(d)에 나타난 바와 같이, 상기 마이크로구조체 제조용 고온 기판은 고온 상태로 유지를 위해 가열 기판(20) 상에 별개로 배치될 수도 있다.1 (c) to 1 (d), a high-temperature substrate for manufacturing a microstructure according to an embodiment of the present invention includes a substrate 10 for melting a solid material for manufacturing a microstructure, And at least one pillar (15), wherein the temperature of the pillar (15) is higher than the softening point of the solid. 1 (c), the high-temperature substrate for manufacturing the microstructure may be integrally formed on the heating substrate 20 to maintain the high-temperature state, and as shown in FIG. 1 (d) The high temperature substrate for manufacturing the microstructure may be disposed separately on the heating substrate 20 for maintaining the high temperature state.

먼저, 본 발명에 따른 마이크로구조체 제조용 고온 기판은 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 기판을 포함하고, 상기 기판의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 것을 특징으로 한다. 상기 기판 상에 일체로 형성된 하나 이상의 필라를 추가로 포함할 수 있다. First, a high-temperature substrate for fabricating a microstructure according to the present invention includes a substrate for melting a solid for fabricating a microstructure, wherein a temperature of the substrate is higher than a softening point of the solid. And at least one pillar integrally formed on the substrate.

본 명세서 내에서 “기판”은 평탄한 표면 형상을 가지는 기재 뿐만 아니라, 다양한 표면 형상을 가지는 기재를 포함하는 개념으로 사용된다. As used herein, the term " substrate " is used not only as a substrate having a flat surface shape but also as a concept including a substrate having various surface shapes.

상기 기판은 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 것으로, 상기 기판을 이용하여 고형물로부터 첨단부를 가지는 마이크로구조체를 제조하기 위해서는, 상기 고형물은 하부 기판 상에 부분적으로 형성되는 것이 바람직하다. Preferably, the substrate is used for melting a solid for fabricating a microstructure. In order to manufacture a microstructure having a tip from a solid material using the substrate, the solid material is preferably partially formed on the lower substrate.

또한, 본 명세서 내에서 “필라(pillar)”는 협의의 의미인 기둥을 포함하는 기재 뿐만 아니라, 광의의 의미인 돌출부를 포함하는 기재를 아우르는 개념으로 사용된다. Also, in this specification, the term "pillar" is used not only as a substrate including a column as a synonym, but also a concept including a substrate including a protrusion in the broad sense.

상기 필라 역시 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 것으로, 상기 기판 상에 일체로 형성될 수 있다. 이때, 상기 필라는 상기 기판 상에 일체로 형성되되, 일정 간격으로 복수개 형성될 수도 있다. The pillar may also be formed integrally on the substrate for melting the solid for manufacturing the microstructure. At this time, the pillars are integrally formed on the substrate, and a plurality of pillars may be formed at regular intervals.

상기 필라를 이용하여 고형물로부터 첨단부를 가지는 마이크로구조체를 제조하기 위해서는, 상기 고형물은 하부 기판 상에 필라에 대응되도록(필라와 접촉 또는 비접촉을 통해 대응되는 영역을 포함하도록) 부분적으로 형성될 수도 있고, 전체적으로 형성될 수도 있다. In order to produce a microstructure having a tip from a solid material using the pillar, the solid material may be partially formed on the lower substrate so as to correspond to the pillar (including a corresponding region through contact with or contact with the pillar) Or may be formed as a whole.

상기 기판 상에 복수개의 필라가 일체로 형성되면, 복수개의 필라를 통해 고형물의 복수개의 스팟을 용융시킬 수 있다. 따라서, 복수개의 마이크로구조체를 최종 제조할 수 있어, 어레이 형태의 마이크로구조체의 제조가 가능한바, 마이크로구조체의 대량 생산이 가능한 이점이 있다.When a plurality of pillars are integrally formed on the substrate, a plurality of spots of the solid material can be melted through the plurality of pillars. Therefore, a plurality of microstructures can be finally manufactured, and an array-type microstructure can be manufactured, which enables the mass production of microstructures.

상기 필라는 원기둥, 다각기둥, 원뿔대, 다각뿔대, 원뿔, 다각뿔, 반구형 등 다양한 형상을 가질 수 있다.The pillar may have various shapes such as a cylinder, a polygonal column, a truncated cone, a polygonal prism, a cone, a polygonal pyramid, a hemispherical shape, and the like.

또한, 본 명세서 내에서 “고형물의 용융”은 고형물이 가열에 의해 변형이 일어나는 것을 의미하는 것으로, 고형물의 연화 및 용융을 모두 포함하는 개념으로 사용된다. Also, in the present specification, the term " melting of a solid substance " means that a solid substance is deformed by heating and is used as a concept including both softening and melting of the solid substance.

상기 기판 또는 필라는 가열 기판을 통해 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시킬 수 정도의 고온 상태를 유지할 수 있는데, 상기 기판 또는 필라의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 것이 바람직하고, 구체적으로, 상기 기판 또는 필라의 온도는 100℃ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 100℃ 내지 200℃인 것이 더욱 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. The substrate or the pillars can maintain a high temperature state such that the solids for manufacturing the microstructure can be melted through the heating substrate. The temperature of the substrate or the pillars is preferably higher than the softening point of the solid material. Specifically, More preferably 100 deg. C or higher, and more preferably 100 deg. C to 200 deg. C, but is not limited thereto.

예를 들어, 마이크로구조체 제조용 고형물로 연화점이 123~128℃인 폴리스티렌을 사용한 경우, 상기 기판 또는 필라의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 온도인 약 130℃ 이상일 수 있다.For example, when a polystyrene having a softening point of 123 to 128 ° C is used as a solid for producing a microstructure, the temperature of the substrate or the pillar may be about 130 ° C or more, which is a temperature higher than the softening point of the solid.

또한, 본 발명에 따른 마이크로구조체 제조용 고온 기판은 가열 기판 상에 배치될 수 있다. In addition, the high temperature substrate for manufacturing a microstructure according to the present invention may be disposed on a heating substrate.

상기 가열 기판은 상기 고온 기판을 지지하면서, 이를 고온 상태를 유지하기 위한 용도로 사용되는데, 상기 가열 기판은 상기 고온 기판과 일체로 형성될 수도 있고, 상기 고온 기판과 별개로 배치될 수도 있다. The heating substrate is used for supporting the high-temperature substrate and maintaining the high-temperature substrate. The heating substrate may be formed integrally with the high-temperature substrate, or may be disposed separately from the high-temperature substrate.

구체적으로, 상기 가열 기판은 다양한 표면 형상을 가질 수 있고, 상기 가열 기판은 열선 등 공지의 다양한 가열 수단을 포함하는 핫플레이트일 수 있다. Specifically, the heating substrate may have various surface shapes, and the heating substrate may be a hot plate including various heating means such as hot wire.

마이크로구조체의 제조방법Method of manufacturing microstructure

본 발명은 (a) 상기 고온 기판을 준비하는 단계; (b) 하부 기판 상에 고형물을 형성시킨 후, 상기 고형물이 상기 고온 기판과 마주하도록 이격 배치하는 단계; (c) 상기 고온 기판의 기판 또는 필라를 통해 상기 고형물을 용융시키는 단계; 및 (d) 상기 용융된 고형물을 성형하는 단계를 포함하는 마이크로구조체의 제조방법을 제공한다. 이때, 제조된 마이크로구조체는 솔리드형 마이크로구조체이다. (A) preparing the high temperature substrate; (b) forming a solid on the lower substrate, and then placing the solids away from the hot substrate; (c) melting the solid through the substrate or pillar of the high temperature substrate; And (d) molding the molten solid material. At this time, the manufactured microstructure is a solid type microstructure.

선택적으로, (e) 상기 성형된 고형물 상에 금속을 증착한 후 도금하는 단계; 및 (f) 상기 성형된 고형물을 제거하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 이때, 제조된 마이크로구조체는 중공형 마이크로구조체이다. (E) depositing a metal on the shaped solid and then plating the metal; And (f) removing the molded solid. At this time, the manufactured microstructure is a hollow microstructure.

도 2 및 도 3은 본 발명의 일 구현예에 따른 마이크로구조체의 제조방법을 나타낸 것이다.2 and 3 illustrate a method of fabricating a microstructure according to an embodiment of the present invention.

도 2 및 도 3에 나타난 바와 같이, 본 발명의 일 구현예에 따른 마이크로구조체의 제조방법은 상기 고온 기판을 준비하는 단계[(a) 단계]; 하부 기판 상에 고형물을 형성시킨 후, 상기 고형물이 상기 고온 기판과 마주하도록 이격 배치하는 단계[(b) 단계]; 상기 고온 기판의 기판 또는 필라를 통해 상기 고형물을 용융시키는 단계[(c) 단계]; 및 상기 용융된 고형물을 성형하는 단계[(d) 단계]를 포함하고, 선택적으로, 상기 성형된 고형물 상에 금속을 증착한 후 도금하는 단계[(e) 단계]; 및 상기 성형된 고형물을 제거하는 단계[(f) 단계]를 추가로 포함할 수 있다. 이때, (a) 단계 내지 (d) 단계에 따라 제조된 마이크로 구조체는 솔리드형 마이크로 구조체이고, (a) 단계 내지 (f) 단계에 따라 제조된 마이크로 구조체는 중공형 마이크로 구조체이다.As shown in FIGS. 2 and 3, the method for fabricating a microstructure according to an embodiment of the present invention includes the steps of: (a) preparing the high-temperature substrate; (Step (b) of forming a solid on the lower substrate and then disposing the solids so as to face the high-temperature substrate; Melting the solid material through the substrate or the pillar of the high-temperature substrate (step (c)); And a step (d) of molding the molten solids, optionally, a step of depositing a metal on the molded solid and then plating (step (e)); And removing the molded solid (step (f)). At this time, the microstructures prepared according to steps (a) to (d) are solid microstructures, and the microstructures prepared according to steps (a) to (f) are hollow microstructures.

구체적으로, 도 3(a)에 나타난 바와 같이, 상기 고온 기판이 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 기판을 포함하는 경우, 상기 (b) 단계에서 고형물은 하부 기판 상에 부분적으로 형성됨으로써[도 3(a) 참고], 상기 고형물로부터 첨단부를 가지는 마이크로구조체를 제조할 수 있다. 3 (a), when the high-temperature substrate includes a substrate for melting a solid for fabricating a microstructure, the solid material in the step (b) is partially formed on the lower substrate (a)], a microstructure having a tip portion from the solid material can be produced.

또한, 도 3(b) 및 도 3(c)에 나타난 바와 같이, 상기 고온 기판이 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 기판 및 필라를 포함하는 경우, 상기 (b) 단계에서 고형물은 하부 기판 상에 필라에 대응되도록(필라와 접촉 또는 비접촉을 통해 대응되는 영역을 포함하도록) 부분적으로 형성되거나[도 3(b) 참고], 전체적으로 형성됨으로써[도 3(c) 참고], 상기 고형물로부터 첨단부를 가지는 마이크로구조체를 제조할 수 있다.3 (b) and 3 (c), when the high-temperature substrate includes a substrate and a pillar for melting a solid for fabricating a microstructure, the solid material in the step (b) (Refer to FIG. 3 (c)), or a part of the solid part is formed so as to correspond to the pillar (including the corresponding area through contact or non-contact with the pillar) Microstructures can be produced.

한편, 도 3(a)~(c)에 나타난 바와 같이, 본 발명의 일 구현예에 따른 마이크로구조체의 제조방법에서 상기 용융된 고형물을 성형하는 단계[(d) 단계]는 구체적으로, 상기 용융된 고형물을 연장 및 경화를 통해 성형하고, 상기 성형된 고형물을 고온 기판으로부터 분리시킨 후, 상기 분리된 고형물 첨단부의 상단부를 고형물 용해를 위한 용매에 침지시키는 단계를 포함할 수 있다. 3 (a) to 3 (c), in the method of manufacturing a microstructure according to an embodiment of the present invention, the step of molding the molten solid material (step (d) And extruding the solid material from the high-temperature substrate and separating the solid material from the high-temperature substrate, and immersing the upper end of the separated solid material tip in a solvent for dissolving solids.

먼저, 본 발명에 따른 마이크로구조체의 제조방법은 상기 고온 기판을 준비하는 단계[(a) 단계]를 포함한다. First, a method of manufacturing a microstructure according to the present invention includes a step of preparing the high-temperature substrate (step (a)).

상기 고온 기판은 마이크로구조체 제조하기 위한 용도로, 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 기판을 포함하고, 상기 기판의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 것을 특징으로 한다. The high-temperature substrate is used for producing a microstructure, and includes a substrate for melting a solid for producing a microstructure, wherein the temperature of the substrate is higher than the softening point of the solid.

상기 고온 기판의 기판 또는 필라의 온도는 100℃ 이상일 수 있고, 상기 고온 기판은 가열 기판 상에 배치되어 준비되는 것일 수 있다. The temperature of the substrate or pillar of the high-temperature substrate may be 100 ° C or higher, and the high-temperature substrate may be arranged on the heating substrate.

상기 고온 기판을 이루는 구성의 구체적인 내용에 대해서는 “마이크로구조체 제조용 고온 기판”에서 전술한 바와 같다.The details of the constitution of the high-temperature substrate are as described above in " High-temperature substrate for manufacturing microstructure ".

다음으로, 본 발명에 따른 마이크로구조체의 제조방법은 하부 기판 상에 고형물을 형성시킨 후, 상기 고형물이 상기 고온 기판과 마주하도록 이격 배치하는 단계[(b) 단계]를 포함한다.Next, a method of manufacturing a microstructure according to the present invention includes a step (b) of forming a solid material on a lower substrate and disposing the solid material so as to face the high-temperature substrate.

상기 하부 기판은 마이크로구조체를 최종적으로 제조하기 위한 것으로, 상기 제조된 마이크로구조체를 지지하기 위한 용도로 사용된다. 구체적으로, 상기 하부 기판은 제2 필라의 형성 없이 상기 기판 상에 바로 마이크로구조체를 지지할 수도 있고, 상기 하부 기판 상에 마이크로구조체를 지지하기 위한 원기둥, 다각기둥, 원뿔대, 다각뿔대, 원뿔, 다각뿔, 반구형 등 다양한 형상을 가진 하나의 제2 필라를 형성함으로써 마이크로구조체를 지지하여, 마이크로구조체를 피부 내로 투과하는 경우, 전달 정도를 조절할 수도 있다.The lower substrate is used for finally fabricating a microstructure and is used for supporting the fabricated microstructure. Specifically, the lower substrate may support the microstructure directly on the substrate without forming the second pillar, and may be formed of a cylinder, a prism, a truncated cone, a cone, a polygonal pyramid, , Hemispherical shape, and the like, thereby supporting the microstructure and controlling the degree of delivery when the microstructure is penetrated into the skin.

이때, 상기 하부 기판은 다양한 표면 형상을 가질 수 있으며, 금속, 고분자 물질 등 다양한 재질로 형성될 수 있다. At this time, the lower substrate may have various surface shapes, and may be formed of various materials such as metal and polymer materials.

상기 고형물은 상기 하부 기판 상에 코팅 등 공지의 다양한 방법에 의해 전체적으로 또는 부분적으로 형성되는 것으로, 상기 고형물은 종래 점성 조성물과는 구별되는 개념이다. 상기 고형물은 수분이 증발된 상태로 고형분 함량이 70% 이상인 것이 바람직하고, 90% 이상인 것이 더욱 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 상기 고형물은 상기 범위의 고형분 함량을 유지함으로써 종래 점성 조성물의 점도 조절의 어려움에 따른 문제점을 해결하기 위해 사용될 수 있어, 마이크로구조체의 생산성, 균일성 및 품질을 확보할 수 있다. The solid material is formed on the lower substrate in whole or in part by various methods known in the art, such as coating, and the solid material is a concept distinct from conventional viscous compositions. The solids content is preferably 70% or more, more preferably 90% or more, in a state where moisture is evaporated, but is not limited thereto. The solids can be used to solve the problems due to the difficulty in controlling the viscosity of the conventional viscous compositions by maintaining the solid content in the above range, thereby ensuring the productivity, uniformity and quality of the microstructure.

상기 고형물은 높은 중량평균분자량을 가질 수 있고, 중량평균분자량이 5,000 내지 500,000인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 구체적으로, 상기 고형물의 연화점은 50℃ 내지 150℃인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 구체적으로, 상기 고형물은 스티렌계 고분자, 아마이드계 고분자, 에틸렌계 고분자, 에스테르계 고분자, 아크릴계 고분자, 아세틸계 고분자, 테프론계 고분자, 염화비닐계 고분자, 우레탄계 고분자, 나일론계 고분자, 설폰계 고분자 및 에폭시계 고분자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 특히, 이러한 고분자 재질은 종래 SU-8 감광제에 비해, 가격적인 이점을 가지는바, 마이크로구조체의 생산 단가 절감이 가능한 이점이 있다. The solid material may have a high weight average molecular weight and a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000, but is not limited thereto. Specifically, the softening point of the solid material is preferably 50 to 150 ° C, but is not limited thereto. Specifically, the solid material may be selected from the group consisting of a styrenic polymer, an amide polymer, an ethylene polymer, an ester polymer, an acrylic polymer, an acetyl polymer, a Teflon polymer, a vinyl chloride polymer, a urethane polymer, a nylon polymer, Based polymer, but it is not limited thereto. In particular, such a polymer material has an advantage over a conventional SU-8 photosensitive material in that it has a cost advantage, and thus it has an advantage that a production cost of a microstructure can be reduced.

상기 고형물은 상기 고온 기판과 마주하도록 이격 배치되는데, 상기 고온 기판에서 필라와 접촉 또는 비접촉을 통해 대응하는 영역을 고형물의 스팟이라고 한다. The solid material is disposed to face the high-temperature substrate, and the corresponding region through contact or non-contact with the pillars on the high-temperature substrate is referred to as a solid spot.

다음으로, 본 발명에 따른 마이크로구조체의 제조방법은 상기 고온 기판의 기판 또는 필라를 상기 고형물을 용융시키는 단계[(c) 단계]를 포함한다.Next, a method of manufacturing a microstructure according to the present invention includes a step (c) of melting the solid material on the substrate or pillar of the high-temperature substrate.

상기 고온 기판의 기판 또는 필라를 통해 상기 고형물을 용융시키기 위해서, 상기 고온 기판에서 기판 또는 필라와 상기 고형물을 접촉시키거나 비접촉시킬 수 있다. 구체적으로, 상기 고온 기판에서 기판 또는 필라에 대응되는 영역인 고형물의 스팟을 용융시켜 고형물의 스팟의 점성화를 유도할 수 있다. In order to melt the solid material through the substrate or pillar of the high-temperature substrate, the substrate or pillar and the solid material may be brought into contact with or contacted with the high-temperature substrate. Specifically, the spot of the solid material corresponding to the substrate or the pillar can be melted in the high-temperature substrate to induce the viscosity of the spot of the solid material.

상기 고온 기판의 기판 또는 필라는 상기 가열 기판에 의해 마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시킬 수 정도의 고온 상태를 유지할 수 있는데, 상기 고온 기판의 기판 또는 필라의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 것이 바람직하고, 구체적으로, 상기 고온 기판의 기판 또는 필라의 온도는 100℃ 내지 150℃인 것이 더욱 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. The substrate or pillar of the high-temperature substrate may be maintained at a high-temperature state such that the solid for manufacturing the microstructure can be melted by the heating substrate. The temperature of the substrate or the pillar of the high-temperature substrate is preferably higher than the softening point of the solid, Specifically, the temperature of the substrate or the pillar of the high-temperature substrate is more preferably 100 ° C to 150 ° C, but is not limited thereto.

예를 들어, 마이크로구조체 제조용 고형물로 연화점이 123~128℃인 폴리스티렌을 사용한 경우, 상기 고온 기판의 기판 또는 필라의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 온도인 약 130℃ 이상일 수 있다.For example, when polystyrene having a softening point of 123 to 128 ° C is used as a solid for manufacturing a microstructure, the temperature of the substrate or pillars of the high-temperature substrate may be about 130 ° C or more, which is a temperature higher than the softening point of the solid.

다음으로, 본 발명에 따른 마이크로구조체의 제조방법은 상기 용융된 고형물을 성형하는 단계[(d) 단계]를 포함한다.Next, a method of manufacturing a microstructure according to the present invention includes a step (d) of molding the molten solid material.

상기 성형은 상기 용융된 고형물로부터 마이크로구조체를 제조하기 위한 것으로, 몰딩, 연장, 송풍, 흡입, 원심력 인가, 자기장 인가 등 공지의 다양한 방법으로 수행될 수 있다.The molding is for producing a microstructure from the molten solid, and may be carried out by various known methods such as molding, extrusion, blowing, suction, centrifugal force, and magnetic field application.

바람직하게, 상기 성형은 연장 및 경화를 통해 수행될 수 있다. 이후, 성형된 고형물을 고온 기판으로부터 분리시킬 수 있다. Preferably, the shaping can be carried out through extension and curing. The molded solid can then be separated from the hot substrate.

상기 연장의 속도를 조절함에 따라, 상기 성형된 고형물의 유효 길이를 조절할 수 있는데, 상기 연장 속도는 5mm/s 내지 15mm/s인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. By adjusting the speed of the extension, the effective length of the formed solid can be adjusted, but the extension speed is preferably 5 mm / s to 15 mm / s, but is not limited thereto.

상기 성형된 고형물의 유효 길이는 연장 속도에 따라 조절될 수 있다. 연장 속도가 빠를수록 성형된 고형물(마이크로구조체)의 유효 길이는 길어지고, 연장 속도가 느릴수록 성형된 고형물(마이크로구조체)의 유효 길이는 짧아진다. The effective length of the formed solids can be adjusted according to the extension rate. The longer the extension speed, the longer the effective length of the molded solid (microstructure), and the slower the extension speed, the shorter the effective length of the formed solid (microstructure).

또한, 상기 성형된 고형물의 첨단부 하단부 직경은 점성화 면적에 따라 조절될 수 있다. 점성화 면적이 넓을수록 성형된 고형물(마이크로구조체)의 하단부 직경은 커지고, 점성화 면적이 좁을수록 성형된 고형물(마이크로구조체)의 하단부 직경은 작아진다.Further, the diameter of the tip end lower end portion of the molded solid can be adjusted according to the toughening area. The larger the viscous area, the larger the diameter of the lower end of the formed solid (microstructure) becomes, and the lower the diameter of the lower end of the formed solid (microstructure) becomes smaller as the viscous area becomes narrower.

상기 성형 후, 상기 고온 기판의 기판 또는 필라의 온도를 상기 고형물의 연화점 보다 낮은 온도로 냉각시키는 단계를 추가로 포함할 수 있어, 다양한 유효 길이 등 다양한 형태를 가지는 마이크로구조체를 최종 제조할 수 있다.And cooling the substrate or the pillar of the high-temperature substrate to a temperature lower than the softening point of the solid material after the molding, so that the microstructure having various shapes such as various effective lengths can be finally manufactured.

예를 들어, 마이크로구조체 제조용 고형물로 연화점이 123~128℃인 폴리스티렌을 사용한 경우, 상기 고온 기판의 기판 또는 필라의 온도를 상기 고형물의 연화점 보다 낮은 온도인 약 120℃ 이하로 냉각시킬 수 있다. For example, when polystyrene having a softening point of 123 to 128 ° C is used as a solid for manufacturing a microstructure, the temperature of the substrate or the pillar of the high-temperature substrate may be cooled to about 120 ° C or lower, which is lower than the softening point of the solid.

상기 성형된 고형물의 유효 길이는 상기 성형된 고형물 첨단부의 상단부를 고형물 용해를 위한 용매에 침지시키는 과정을 통해 연장될 수 있다. The effective length of the shaped solids can be extended by immersing the upper end of the molded solid tip in a solvent for solubilization of the solids.

상기 고형물 용해를 위한 용매는 상기 고형물을 용해시킬 수 있는 것이면 어느 것이나 사용가능하고, 예를 들어, 상기 고형물로 폴리스티렌을 사용한 경우, 상기 고형물 용해를 위한 용매로 아세톤을 사용할 수 있다. The solvent for dissolving the solids may be any solvent capable of dissolving the solids. For example, when the solids are polystyrene, acetone may be used as a solvent for dissolving the solids.

선택적으로, 본 발명에 따른 마이크로구조체의 제조방법은 상기 성형된 고형물 상에 금속을 증착한 후 도금하는 단계[(e) 단계]; 및 상기 성형된 고형물을 제거하는 단계[(f) 단계]를 추가로 포함한다.Alternatively, the method for fabricating a microstructure according to the present invention may include the steps of: (a) depositing a metal on the molded solid and then plating the metal; And removing the molded solid (step (f)).

상기 도금을 위한 금속은 생체 적용 가능한 금속으로, 독성 또는 발암성이 없고, 인체 거부 반응이 없고, 인장강도 및 탄성률, 내마모성 등 기계적 성질이 양호하며, 인체 내 부식 환경에 견딜 수 있는 내부식성을 가지는 금속이면 당업계에 알려진 모든 금속을 사용할 수 있다. 구체적으로, 상기 도금을 위한 금속은 스테인레스강, 알루미늄, 크롬, 니켈, 금, 은, 구리, 티타늄, 코발트 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. The metal for plating is a bio-applicable metal. It has no toxicity or carcinogenicity, has no human rejection reaction, has good mechanical properties such as tensile strength, elastic modulus and abrasion resistance, and has corrosion resistance Any metal known in the art can be used as the metal. Specifically, the metal for plating is preferably at least one selected from the group consisting of stainless steel, aluminum, chromium, nickel, gold, silver, copper, titanium, cobalt and alloys thereof, but is not limited thereto.

상기 도금 두께를 조절함으로써, 최종 제조되는 중공형 마이크로니들의 다양한 형태 및 기계적 성질을 조절할 수 있다.By adjusting the plating thickness, various shapes and mechanical properties of the hollow micro-needles to be finally produced can be controlled.

또한, 상기 성형된 고형물의 제거를 통해, 중공형 마이크로구조체를 최종 제조할 수 있는데, 상기 성형된 고형물의 제거는 유기용매를 사용하여 용해시키거나, 연소시키거나, 또는 물리적으로 제거할 수 있다. In addition, through the removal of the molded solid, a hollow microstructure can be finally produced, which can be dissolved, burned, or physically removed using an organic solvent.

이후, 최종 제조되는 중공형 마이크로구조체의 팁 부분의 공극 형성을 위해, 상단부를 절삭하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.Thereafter, in order to form voids in the tip portion of the hollow microstructure to be finally produced, it may further include cutting the upper end portion.

마이크로구조체Microstructure

본 발명은 상기 방법으로 제조되거나, 상기 고온 기판을 이용하여 제조될 수 있다. The present invention can be manufactured by the above method or can be manufactured using the high temperature substrate.

상기 마이크로구조체는 마이크로니들 외에, 마이크로블레이드, 마이크로나이프, 마이크로파이버, 마이크로스파이크, 마이크로프로브, 마이크로발브(microbarb), 마이크로어레이 또는 마이크로전극 등으로 사용 가능하다.The microstructure may be used as a micro-blade, a micro-knife, a micro-fiber, a micro-spike, a micro-probe, a microbarb, a microarray or a microelectrode.

상기 방법으로 제조되거나, 상기 고온 기판을 이용하여 제조된 마이크로구조체는 다양한 유효 길이 등 다양한 형태를 가질 수 있다. 이때, 상기 마이크로구조체의 유효 길이는 성형시 연장 속도 또는 성형후 용매 침지를 통해 조절될 수 있고, 상기 마이크로구조체의 첨단부의 하단부 직경은 점성화 면적에 따라 조절될 수 있다. The microstructures manufactured by the above method or manufactured using the high-temperature substrate may have various shapes such as various effective lengths. At this time, the effective length of the microstructure can be controlled by an elongation rate during molding or immersion of the solvent after molding, and the diameter of the lower end of the tip portion of the microstructure can be adjusted according to the tackifying area.

본원 명세서 내 “유효길이”란 첨단부의 상단부로부터 제3 기판 표면까지의 수직길이를 의미하며, 100~10,000㎛, 200~10,000㎛, 300~8,000㎛ 또는 500~5,000㎛ 길이일 수 있다. The term " effective length " in this specification means a vertical length from the upper end of the tip to the surface of the third substrate, and may be 100 to 10,000 m, 200 to 10,000 m, 300 to 8,000 m or 500 to 5,000 m.

또한, 본원 명세서 내 “첨단부의 상단부(tip)”란 최소직경을 갖는 첨단부의 일 말단부를 의미하며, 1~500㎛, 2~300㎛ 또는 5~100㎛ 직경일 수 있다. 또한, 본원 명세서 내 “첨단부의 하단부”란 최대직경을 갖는 첨단부의 일 말단부를 의미하며, 50~1,000㎛일 수 있다. The term " tip of the tip portion " in the present specification means one end portion of the tip portion having the smallest diameter, and may be 1 to 500 탆, 2 to 300 탆 or 5 to 100 탆 in diameter. The term " lower end of the tip portion " in the present specification means one end portion of the tip portion having the largest diameter, and may be 50 to 1,000 탆.

상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 고온 기판을 이용한 마이크로구조체의 제조방법은 고형물의 연화점 보다 높은 온도를 가지는 고온 기판의 기판 또는 필라를 통해 고형물을 용융시켜 고형물의 점성화를 유도할 수 있다. 또한, 상기 용융된 고형물의 성형 후, 상기 기판 또는 필라의 온도를 상기 고형물의 연화점 보다 낮은 온도로 냉각시킴으로써, 다양한 유효 길이 등 다양한 형태를 가지는 마이크로구조체를 최종 제조할 수 있다.As described above, the method of manufacturing a microstructure using the high-temperature substrate according to the present invention can induce the solidification of the solid material by melting the solid material through the substrate or the pillar of the high-temperature substrate having a temperature higher than the softening point of the solid material. Further, after the molten solid is formed, the microstructure having various shapes such as various effective lengths can be finally manufactured by cooling the temperature of the substrate or the pillars to a temperature lower than the softening point of the solid material.

본 발명에 따르면, 마이크로구조체의 생산성, 균일성 및 품질을 확보하면서, 대량 생산 및 생산 단가 절감이 가능한 이점이 있다.According to the present invention, it is possible to mass-produce and reduce the production cost while securing the productivity, uniformity and quality of the microstructure.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 하기 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in order to facilitate understanding of the present invention. However, the following examples are provided only for the purpose of easier understanding of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

[[ 실시예Example ]]

실시예Example 1 One

핫플레이트 상에 배치되고, 일정 간격으로 형성된 복수개의 알루미늄 재질 필라(130℃ 이상)(필라 직경: 250㎛, 필라 높이: 3mm, 필라 간의 간격: 2mm)가 형성된 가로 4cm×세로 4cm의 기판을 포함하는 고온 기판을 준비하였다. 한편, 유리 재질의 기판 상에 폴리스티렌 고분자 재질의 고형물(Mw=35,000)(연화점=123~128℃)을 전체적으로 코팅하였고, 고형물이 고온 기판과 마주하도록 이격 배치하였다. 이후, 고형물을 고온 기판의 필라에 약 2초 동안 접촉시킴으로써, 대응되는 고형물 스팟을 용융시켜 고형물의 점성화를 유도하였다. 이후, 용융된 고형물을 120℃ 이하의 저온에서 약 10mm/s의 속도로 연장하면서 경화시킨 후, 분리함으로써 성형하였다. 성형된 고형물의 첨단부의 상단부를 아세톤 용매에 침지시킴으로써 성형된 고형물의 유효길이를 연장하여, 유리 재질의 기판 상에 솔리드형 마이크로니들 어레이를 최종 제조하였다(유효 길이=약 2455~3508mm, 첨단부의 상단부(tip) 직경=약 83~87㎛, 첨단부의 하단부 직경=200~300㎛)(도 4 참조). A substrate having a width of 4 cm and a length of 4 cm formed on a hot plate and formed of a plurality of aluminum material pillars (130 ° C or higher) (pillar diameter: 250 μm, pillar height: 3 mm, pillar spacing: 2 mm) Was prepared. On the other hand, a solid material of polystyrene polymer (Mw = 35,000) (softening point = 123 ~ 128 ° C) was entirely coated on a glass substrate, and the solid material was arranged to face the high temperature substrate. Thereafter, the solids were contacted with the pillars of the hot substrate for about 2 seconds to melt the corresponding solids spots to induce toughening of the solids. Thereafter, the molten solid was cured while extending at a low temperature of 120 DEG C or lower at a speed of about 10 mm / s, and then molded by separation. A solid type micro needle array was finally prepared on a glass substrate by extending the effective length of the molded solid by immersing the upper end of the tip of the molded solid in an acetone solvent (effective length = about 2455 to 3508 mm, (tip) diameter = about 83 to 87 mu m, and the diameter of the lower end of the tip portion = 200 to 300 mu m) (see Fig. 4).

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

Claims (16)

마이크로구조체 제조용 고형물을 용융시키기 위한 기판을 포함하고,
상기 기판의 온도는 상기 고형물의 연화점 보다 높은 것을 특징으로 하는
마이크로구조체 제조용 고온 기판.
And a substrate for melting the solid for manufacturing the microstructure,
Characterized in that the temperature of the substrate is higher than the softening point of the solid
High temperature substrates for manufacturing microstructures.
제1항에 있어서,
상기 기판 상에 일체로 형성된 하나 이상의 필라를 추가로 포함하는
마이크로구조체 제조용 고온 기판.
The method according to claim 1,
Further comprising at least one pillar integrally formed on the substrate
High temperature substrates for manufacturing microstructures.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 기판 또는 필라의 온도는 100℃ 이상인
마이크로구조체 제조용 고온 기판.
3. The method according to claim 1 or 2,
The temperature of the substrate or pillar is 100 DEG C or higher
High temperature substrates for manufacturing microstructures.
제1항에 있어서,
상기 고온 기판은 가열 기판 상에 배치되는
마이크로구조체 제조용 고온 기판.
The method according to claim 1,
The high temperature substrate is disposed on a heating substrate
High temperature substrates for manufacturing microstructures.
(a) 제1항 또는 제2항에 따른 고온 기판을 준비하는 단계;
(b) 하부 기판 상에 고형물을 형성시킨 후, 상기 고형물이 상기 고온 기판과 마주하도록 이격 배치하는 단계;
(c) 상기 고온 기판의 기판 또는 필라를 통해 상기 고형물을 용융시키는 단계; 및
(d) 상기 용융된 고형물을 성형하는 단계를 포함하는
마이크로구조체의 제조방법.
(a) preparing a high-temperature substrate according to claim 1 or 2;
(b) forming a solid on the lower substrate, and then placing the solids away from the hot substrate;
(c) melting the solid through the substrate or pillar of the high temperature substrate; And
(d) molding said molten solids.
A method of manufacturing a microstructure.
제5항에 있어서,
상기 고온 기판의 기판 또는 필라의 온도는 100℃ 이상인
마이크로구조체의 제조방법.
6. The method of claim 5,
Wherein the temperature of the substrate or pillar of the high-temperature substrate is 100 占 폚 or higher
A method of manufacturing a microstructure.
제5항에 있어서,
상기 고온 기판은 가열 기판 상에 배치되어 준비되는 것인
마이크로구조체의 제조방법.
6. The method of claim 5,
Wherein the high-temperature substrate is prepared and arranged on a heating substrate
A method of manufacturing a microstructure.
제5항에 있어서,
상기 고형물은 중량평균분자량이 5,000 내지 500,000인
마이크로구조체의 제조방법.
6. The method of claim 5,
The solid has a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000
A method of manufacturing a microstructure.
제5항에 있어서,
상기 고형물의 연화점은 50℃ 내지 150℃인
마이크로구조체의 제조방법.
6. The method of claim 5,
The softening point of the solid is from 50 캜 to 150 캜
A method of manufacturing a microstructure.
제5항에 있어서,
상기 고형물은 스티렌계 고분자, 아마이드계 고분자, 에틸렌계 고분자, 에스테르계 고분자, 아크릴계 고분자, 아세틸계 고분자, 테프론계 고분자, 염화비닐계 고분자, 우레탄계 고분자, 나일론계 고분자, 설폰계 고분자 및 에폭시계 고분자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는
마이크로구조체의 제조방법.
6. The method of claim 5,
The solid material may be selected from the group consisting of a styrenic polymer, an amide polymer, an ethylene polymer, an ester polymer, an acrylic polymer, an acetyl polymer, a Teflon polymer, a vinyl chloride polymer, a urethane polymer, a nylon polymer, a sulfone polymer, Comprising at least one member selected from the group consisting of
A method of manufacturing a microstructure.
제5항에 있어서,
상기 성형은 연장 및 경화를 통해 수행되는 것인
마이크로구조체의 제조방법.
6. The method of claim 5,
The molding is carried out by extension and curing.
A method of manufacturing a microstructure.
제11항에 있어서,
상기 성형된 고형물의 유효 길이는 연장 속도에 따라 조절되는
마이크로구조체의 제조방법.
12. The method of claim 11,
The effective length of the shaped solids is controlled according to the extension rate
A method of manufacturing a microstructure.
제5항에 있어서,
상기 성형된 고형물의 유효 길이는 상기 성형된 고형물 첨단부의 상단부를 고형물 용해를 위한 용매에 침지시키는 과정을 통해 연장되는
마이크로구조체의 제조방법.
6. The method of claim 5,
The effective length of the shaped solids extends through the process of immersing the upper end of the molded solid tip in a solvent for solid solubilization
A method of manufacturing a microstructure.
제5항에 있어서,
상기 성형 후, 상기 고온 기판의 기판 또는 필라의 온도를 상기 고형물의 연화점 보다 낮은 온도로 냉각시키는 단계를 추가로 포함하는
마이크로구조체의 제조방법.
6. The method of claim 5,
Further comprising cooling the substrate or pillar of the high temperature substrate to a temperature below the softening point of the solid after the molding
A method of manufacturing a microstructure.
제5항에 있어서,
(e) 상기 성형된 고형물 상에 금속을 증착한 후 도금하는 단계; 및
(f) 상기 성형된 고형물을 제거하는 단계를 추가로 포함하는
마이크로구조체의 제조방법.
6. The method of claim 5,
(e) depositing a metal on the molded solid and then plating the metal; And
(f) removing the molded solids
A method of manufacturing a microstructure.
제5항에 따른 방법으로 제조된 마이크로구조체. A microstructure produced by the method of claim 5.
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