KR20170114292A - Steam generation apparatus using induction heating, steam cleaning system - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유도가열을 이용한 스팀발생장치，이를 이용한 스팀 세정 시스템에 관한 것으로, 본 발명의 일실시예에 따른 유도가열을 이용한 스팀발생장치는, 외부로부터 공급된 순수를 가열하여 스팀을 발생시키는 제1 공간과 발생된 스팀을 재가열하는 제2 공간을 구분하고, 상기 제1 및 제2 공간을 유도 가열하기 위한 유도 가열부; 상기 유도 가열부에 전원을 공급하기 위한 전원공급부; 및 상기 유도 가열부의 온도 및 압력을 감지하여 상기 전원공급부를 제어하기 위한 제어부;를 포함한다.The present invention relates to a steam generator using induction heating and a steam cleaning system using the induction heating apparatus. The steam generator employing induction heating according to an embodiment of the present invention includes a steam generator for generating steam by heating pure water supplied from the outside, An induction heating unit for induction heating the first and second spaces by distinguishing a first space and a second space for reheating the generated steam; A power supply unit for supplying power to the induction heating unit; And a controller for sensing the temperature and pressure of the induction heating unit and controlling the power supply unit.

Description

유도가열을 이용한 스팀발생장치，이를 이용한 스팀 세정 시스템{STEAM GENERATION APPARATUS USING INDUCTION HEATING, STEAM CLEANING SYSTEM}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a steam generating apparatus using induction heating, and a steam cleaning system using the same. BACKGROUND ART [0002]

본 발명은 유도가열을 이용한 스팀발생장치，이를 이용한 스팀 세정 시스템 및 그 방법에 관한 것으로, 구체적으로는 유도 가열을 이용하여 미리 예열된 순수를 스팀으로 빠르게 발생시켜 세정 대상물로 분사함으로써, 순수로부터 스팀을 발생시키는 공간을 줄여 전체적인 스팀 세정 시스템의 규모를 소형화하기 위한, 유도가열을 이용한 스팀발생장치，이를 이용한 스팀 세정 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a steam generator using induction heating, a steam cleaning system using the steam generator, and a method thereof. More particularly, the present invention relates to a steam cleaning system using induction heating, And more particularly, to a steam generator using induction heating and a steam cleaning system using the same to reduce the size of the entire steam cleaning system.

반도체 웨이퍼(Semiconductor wafer), 평판디스플레이의 유리기판, 금속판 등과 같은 수많은 워크피스의 표면에는 제조공정 중에 많은 잔류물질(Residual organic materials), 미립자(Particle), 유기물, 무기물 등 오염물질이 존재하게 된다. 반도체 디바이스 제조공정에서는 웨이퍼에 패턴을 형성한 후 세정하는 세정 공정이 반복된다. 웨이퍼를 세정하는 이유는 포토레지스트막이나 폴리머막 등의 유기물이나 파티클 등을 제거하는 것이다. 유기물이나 파티클은 제품의 결함을 발생시키기 때문에 이를 제거하기 위한 세정공정(Cleaning process)의 중요성은 더욱 부각되고 있는 추세에 있다.There are a lot of contaminants such as residual organic materials, particles, organic matter, and inorganic substances on the surface of many workpieces such as semiconductor wafer, flat panel display glass substrate and metal plate. In the semiconductor device manufacturing process, a cleaning process is repeated in which a wafer is patterned and then cleaned. The reason for cleaning the wafer is to remove organic materials such as a photoresist film and a polymer film, particles and the like. Since the organic matter or particles generate defects in the product, the importance of the cleaning process for removing the organic matter and particles is increasing.

반도체와 같은 산업분야에서는 비용이 저렴하고 기술의 적합성이 검증되어 있는 습식 세정법이 광범위하게 사용되고 있다. 그런데 습식 세정은 독성이 매우 강한 강산과 강염기를 주로 사용하므로, 환경오염, 안전성 등의 문제로 사용이 규제되고 있다. 또한, 반도체 소자의 집적도가 증가되는 것에 따라 세정제와 초순수의 순도를 높게 유지해야 할 필요가 있으므로, 비용이 증가되고 있는 실정이다. 특히, 습식 세정은 진공장비들과 연계시켜 연속적인 공정을 수행하기 위한 클러스터 툴 시스템(Cluster tool system)에 적용하기 어렵다. 습식 세정법의 단점을 보완하고 해결하기 위하여 건식 세정법이 개발되어 적용되고 있다. 기상 세정이라 부르고도 있는 건식 세정에는 초음파 세정, 전리오존 세정, 엑시머 자외선(Excimer ultraviolet, EUV) 세정, 플라즈마(Plasma) 세정 등이 있다. 건식 세정장비는 구성이 복잡하고 차지하는 면적도 넓은 단점이 있다.In industrial applications such as semiconductors, wet cleaning methods, which are inexpensive and have proven technology compatibility, are widely used. However, since the wet cleaning mainly uses strong acids and strong bases which are very toxic, its use is regulated due to problems such as environmental pollution and safety. Further, as the degree of integration of semiconductor devices is increased, the purity of the cleaning agent and the ultra-pure water must be kept high, and the cost is increasing. In particular, wet cleaning is difficult to apply to a cluster tool system for performing continuous processes in conjunction with vacuum equipment. A dry cleaning method has been developed and applied to overcome and solve the drawbacks of the wet cleaning method. Dry cleaning, also referred to as vapor cleaning, includes ultrasonic cleaning, ionizing ozone cleaning, excimer ultraviolet (EUV) cleaning, and plasma cleaning. Dry cleaning equipment is complicated in configuration and has a wide area.

한편, 친환경적이면서 세정력이 우수한 고온고압의 스팀을 이용하는 스팀 세정장비가 개발되었다. 스팀세정장비는 히터를 이용하여 대용량 용기에 담긴 물을 가열하여 스팀을 발생시켜 이를 웨이퍼에 분사하여 세정하는 방식이다. On the other hand, steam cleaning equipment using an environmentally friendly high-temperature and high-pressure steam having excellent washing power has been developed. The steam cleaning equipment uses a heater to heat water contained in a large-capacity container to generate steam, which is sprayed onto the wafer to clean the wafer.

이와 같은 스팀세정장비는 대부분 대량으로 스팀을 생성하기 위해 대용량의 용기를 사용함으로써, 반도체 디바이스 제조 공정에서 일부를 차지하는 세정 시스템의 규모가 대형화될 수 밖에 없다.Most of such steam cleaning equipment uses a large capacity vessel to generate steam in large quantities, and thus the scale of the cleaning system, which occupies a part of the semiconductor device manufacturing process, is inevitably increased.

또한, 대형화된 스팀세정장비는 스팀을 발생시키는 지점부터 스팀을 분사시키는 지점까지의 스팀이송경로를 길어지게 만들기 때문에, 발생된 스팀을 온도 및 압력 조건을 유지시키면서 원하는 위치까지 이동시키기 위한 상당한 노력이 필요하다. 즉, 발생된 스팀은 스팀이송경로가 길어짐에 따라 온도변화로 인해 기체 상태의 스팀이 응축되어 액체 상태의 물로 변화될 수 있다. 이에 따라, 이러한 세정 시스템에서는 스팀 온도 및 압력 상태를 유지시키기 위한 추가적인 설비를 구비하거나 스팀의 온도와 압력을 제어하는 기술 적용이 요구될 수 있다.In addition, since the large-sized steam cleaning equipment makes the steam transfer path from the steam generating point to the steam injecting point long, it takes a considerable effort to move the generated steam to a desired position while maintaining the temperature and pressure conditions need. That is, as the steam transfer path becomes longer, the generated steam can be converted into the liquid state water by condensing the steam in the gaseous state due to the temperature change. Accordingly, in such a cleaning system, it may be necessary to provide an additional facility for maintaining the steam temperature and the pressure state, or to apply a technique for controlling the temperature and pressure of the steam.

또한, 물은 비열이 다른 물질보다 상대적으로 크기 때문에 온도변화가 크게 나타나지 않는다. 이러한 물의 특성으로 인해, 스팀세정장비는 히터를 이용하여 대용량의 용기에 담긴 물을 가열하여 스팀세정공정을 시작하기에 앞서 많은 양의 스팀을 준비해야 한다. Also, since the specific heat of water is relatively larger than that of other materials, the temperature change does not appear to be significant. Due to the nature of this water, the steam cleaning equipment must prepare a large amount of steam prior to starting the steam cleaning process by heating the water in a large capacity container using a heater.

다시 말해, 종래의 스팀세정장비는 물의 온도를 제어하기가 어렵기 때문에, 짧은 시간 내에 스팀을 발생시키기 곤란하다. 이는 스팀세정공정에서 짧은 시간 내에 스팀공정으로 들어오는 피처리대상(일례로, 웨어퍼, 글래스, 기판 등)을 대응하기 위해 대용량의 스팀을 사전에 준비해야 함을 의미한다.In other words, since conventional steam cleaning equipment is difficult to control the temperature of water, it is difficult to generate steam in a short time. This means that a large amount of steam must be prepared in advance in order to cope with the object to be treated (for example, a wiper, a glass, a substrate, etc.) coming into the steam process in a short time in the steam cleaning process.

아울러, 용기 내부에 파티클이 발생되면 발생된 스팀도 파티클에 의해 오염될 수 있는데, 스팀의 오염이 웨이퍼에 분사되면 웨이퍼의 세정력이 떨어지게 된다.In addition, steam generated when particles are generated inside the container may be contaminated by particles. When the contamination of the steam is sprayed onto the wafer, the cleaning ability of the wafer deteriorates.

따라서, 종래의 스팀세정장비는 스팀 시스템의 규모를 소형화시켜 별도의 스팀이송경로 없이 스팀을 제공할 뿐만 아니라, 짧은 시간 내에 스팀공정으로 들어오는 피처리대상에 대응할 수 있는 빠른 속도로 스팀을 생성할 수 있는 시스템이 제안될 필요성이 있다.Therefore, the conventional steam cleaning equipment can miniaturize the scale of the steam system to provide steam without a separate steam transfer path, and can generate steam at a high speed that can cope with the object to be processed in a short time There is a need to propose a system.

본 발명의 목적은 유도 가열을 이용하여 미리 예열된 순수를 스팀으로 빠르게 발생시켜 세정 대상물로 분사함으로써, 순수로부터 스팀을 발생시키는 공간을 줄여 전체적인 스팀 세정 시스템의 규모를 소형화하기 위한, 유도가열을 이용한 스팀발생장치，이를 이용한 스팀 세정 시스템을 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a steam cleaning system for reducing the space for generating steam from pure water by rapidly generating preheated pure water into steam using induction heating and spraying the pure water into the object to be cleaned, And a steam cleaning system using the same.

본 발명의 일실시예에 따른 스팀발생장치는, 외부로부터 공급된 순수를 가열하여 스팀을 발생시키는 제1 공간과 발생된 스팀을 재가열하는 제2 공간을 구분하고, 상기 제1 및 제2 공간을 유도 가열하기 위한 유도 가열부; 상기 유도 가열부에 전원을 공급하기 위한 전원공급부; 및 상기 유도 가열부의 온도 및 압력을 감지하여 상기 전원공급부를 제어하기 위한 제어부;를 포함한다.A steam generator according to an embodiment of the present invention may be configured to distinguish a first space for generating steam by heating pure water supplied from the outside and a second space for reheating the generated steam, An induction heating unit for induction heating; A power supply unit for supplying power to the induction heating unit; And a controller for sensing the temperature and pressure of the induction heating unit and controlling the power supply unit.

상기 유도 가열부는, 미리 가열된 순수를 외부로부터 공급받는다.The induction heating unit receives the preheated pure water from the outside.

상기 유도 가열부는, 상기 전원공급부로부터 교류전원을 공급받아 고주파 교류자계를 형성하기 위한 코일; 상기 코일에 의해 형성된 교류자계에 의해 외부로 공급된 순수로부터 스팀을 발생하기 위한 하나 이상의 하부 가열부; 상기 코일에 의해 형성된 교류자계에 의해 상기 하부 가열부에 의해 발생된 스팀을 재가열하기 위한 하나 이상의 상부 가열부; 및 상기 하부 및 상부 가열부를 내부에 위치시키고, 상기 코일을 둘레에 권선하기 위한 바디;를 포함한다.Wherein the induction heating unit includes: a coil for receiving a AC power from the power supply unit to form a high frequency AC magnetic field; At least one lower heating part for generating steam from pure water supplied externally by an AC magnetic field formed by the coil; At least one upper heating part for reheating steam generated by the lower heating part by an AC magnetic field formed by the coil; And a body for placing the lower and upper heating parts inside and winding the coil around the coil.

상기 하부 및 상부 가열부는, 금속판을 절연재로 감싸는 구조이다.The lower and upper heating portions are configured to surround the metal plate with an insulating material.

상기 코일은, 속이 빈 가늘고 긴 관 형태로 형성되어, 상기 관 내부를 냉각수의 통로로 이용한다.The coil is formed into a hollow elongated tube shape, and uses the inside of the tube as a passage of cooling water.

한편, 본 발명의 일실시예에 따른 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템은, 세정 대상물을 공급하기 위한 대상물 공급부; 상기 세정물 대상물을 스팀발생장치를 이용하여 스팀 세정을 수행하기 위한 대상물 처리부; 및 상기 세정 대상물의 처리 결과에 따라 상기 대상물 공급부와 상기 대상물 처리부로 로딩 또는 언로딩하는 대상물 로딩/언로딩부;를 포함하며, 상기 스팀발생장치는, 외부로부터 공급된 순수를 가열하여 스팀을 발생시키는 제1 공간과 발생된 스팀을 재가열하는 제2 공간을 구분하고, 상기 제1 및 제2 공간을 유도 가열하기 위한 유도 가열부; 상기 유도 가열부에 전원을 공급하기 위한 전원공급부; 및 상기 유도 가열부의 온도 및 압력을 감지하여 상기 전원공급부를 제어하기 위한 제어부;를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a steam cleaning system using a steam generator, comprising: a target supply unit for supplying a target to be cleaned; An object processing unit for performing steam cleaning on the object to be cleaned using the steam generator; And an object loading / unloading unit for loading or unloading the object to and from the object supply unit and the object processing unit in accordance with the processing result of the object to be cleaned. The steam generator generates steam by heating pure water supplied from the outside An induction heating unit for induction heating the first and second spaces by separating a first space for reheating the generated steam and a second space for reheating the generated steam; A power supply unit for supplying power to the induction heating unit; And a controller for sensing the temperature and pressure of the induction heating unit and controlling the power supply unit.

상기 유도 가열부는, 상기 전원공급부로부터 교류전원을 공급받아 고주파 교류자계를 형성하기 위한 코일; 상기 코일에 의해 형성된 교류자계에 의해 외부로 공급된 순수로부터 스팀을 발생하기 위한 하나 이상의 하부 가열부; 상기 코일에 의해 형성된 교류자계에 의해 상기 하부 가열부에 의해 발생된 스팀을 재가열하기 위한 하나 이상의 상부 가열부; 및 상기 하부 및 상부 가열부를 내부에 위치시키고, 상기 코일을 둘레에 권선하기 위한 바디;를 포함한다.Wherein the induction heating unit includes: a coil for receiving a AC power from the power supply unit to form a high frequency AC magnetic field; At least one lower heating part for generating steam from pure water supplied externally by an AC magnetic field formed by the coil; At least one upper heating part for reheating steam generated by the lower heating part by an AC magnetic field formed by the coil; And a body for placing the lower and upper heating parts inside and winding the coil around the coil.

상기 대상물 처리부는, 라인형 또는 회전형 구조이다.The object processing unit is a line-type or rotary-type structure.

상기 대상물 처리부는, 상기 세정 대상물에 UV 처리, 에어나이프 처리, 스팀 세정을 실시한다.The object processing unit performs UV treatment, air knife treatment, and steam cleaning on the object to be cleaned.

본 발명은 유도 가열을 이용하여 미리 예열된 순수를 스팀으로 빠르게 발생시켜 세정 대상물로 분사함으로써, 순수로부터 스팀을 발생시키는 공간을 줄여 전체적인 스팀 세정 시스템의 규모를 소형화할 수 있다.In the present invention, the preheated pure water is quickly generated by steam using induction heating and is sprayed to the object to be cleaned, thereby reducing the space for generating steam from the pure water, thereby miniaturizing the entire steam cleaning system.

또한, 본 발명은 유도 가열을 통해 짧은 시간 내에 스팀을 발생함으로써 대용량의 스팀 저장소를 마련할 필요가 없다.In addition, the present invention does not need to provide a large-capacity steam storage by generating steam in a short time through induction heating.

또한, 본 발명은 별도의 스팀이송경로 없이 발생된 스팀을 노즐을 통해 곧바로 세정 대상물로 분사할 수 있는 구조를 갖기 때문에 온도 변화에 따른 스팀의 응축현상을 방지할 수 있다.In addition, since the present invention has a structure in which steam generated without a separate steam transfer path can be directly sprayed to a cleaning object through a nozzle, condensation of steam due to temperature change can be prevented.

또한, 본 발명은 대용량의 용기를 마련할 필요가 없기 때문에 용기 내부의 파티클 발생을 방지하고, 그에 따라 파티클이 스팀에 포함됨에 따른 스팀의 웨이퍼 세정력 저하를 방지할 수 있다. Further, since it is not necessary to provide a large-capacity container, it is possible to prevent the generation of particles in the container, thereby preventing deterioration of wafer cleaning power of the steam as the particles are included in the steam.

또한, 본 발명은 짧은 시간 내에 스팀공정으로 들어오는 피처리대상에 대응할 수 있는 빠른 속도로 스팀을 생성할 수 있는 시스템을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a system capable of generating steam at a high speed that can cope with an object to be processed coming into the steam process within a short time.

또한, 본 발명은 스팀에 압축공기를 혼합하여 세정 대상물에 대한 세정하는 효율을 향상시킬 수 있다.In addition, the present invention can improve the efficiency of cleaning the object to be cleaned by mixing compressed air with steam.

또한, 본 발명은 스팀에 세정액을 혼합하여 추가적인 스팀의 양을 급속으로 증가시켜 대용량의 스팀을 발생시킬 수 있을 뿐만 아니라, 스팀의 온도를 조절하여 스팀 세정을 위한 최적 조건의 스팀을 발생시킬 수 있다.In addition, the present invention can mix steam with a cleaning liquid to rapidly increase the amount of steam to generate a large amount of steam, as well as regulate the temperature of the steam to generate steam of optimum conditions for steam cleaning .

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 유도가열을 이용한 스팀발생장치에 대한 도면,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 유도 가열부 및 노즐에 대한 도면,
도 3a는 상기 도 2의 유도 가열부 외부를 나타낸 도면,
도 3b는 상기 도 2의 유도 가열부의 바디 단면을 나타낸 도면,
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템에 대한 도면,
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템에 대한 도면,
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일실시예에 따른 노즐의 출구 형상을 나타낸 도면,
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 일실시예에 따른 노즐의 스팀 등을 분사하는 구조를 나타낸 도면,
도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 일실시예에 따른 세정 대상물의 배치 구조를 나타낸 도면,
도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 노즐 주변 구조를 나타낸 도면,
도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 조절밸브의 구조를 나타낸 도면이다.1 is a view of a steam generator using induction heating according to an embodiment of the present invention,
2 is a view of an induction heating unit and a nozzle according to an embodiment of the present invention,
FIG. 3A is an illustration showing the outside of the induction heating unit of FIG. 2,
FIG. 3B is a cross-sectional view of the body of the induction heating unit of FIG. 2,
4 is a view of a steam cleaning system using a steam generator according to an embodiment of the present invention.
5 is a view of a steam cleaning system using a steam generator according to another embodiment of the present invention.
FIGS. 6A to 6C are views showing an outlet shape of a nozzle according to an embodiment of the present invention;
7A to 7C are views showing a structure for spraying steam or the like of a nozzle according to an embodiment of the present invention,
8A to 8C are views showing the arrangement structure of the object to be cleaned according to an embodiment of the present invention,
9 is a view illustrating a structure around a nozzle according to an embodiment of the present invention;
10 is a view showing the structure of a regulating valve according to an embodiment of the present invention.

본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공 되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 부재는 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.For a better understanding of the present invention, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention may be modified into various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described in detail below. The present embodiments are provided to enable those skilled in the art to more fully understand the present invention. Therefore, the shapes and the like of the elements in the drawings can be exaggeratedly expressed to emphasize a clearer description. It should be noted that in the drawings, the same members are denoted by the same reference numerals. Detailed descriptions of well-known functions and constructions which may be unnecessarily obscured by the gist of the present invention are omitted.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 유도가열을 이용한 스팀발생장치에 대한 도면이다.1 is a view of a steam generator using induction heating according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 유도가열을 이용한 스팀발생장치(이하 "스팀발생장치"라 함, 100)는, 유도 가열을 이용하여 미리 예열된 순수를 스팀으로 빠르게 발생시켜 세정 대상물로 분사함으로써, 순수로부터 스팀을 발생시키는 공간을 줄여 전체적인 스팀 세정 시스템의 규모를 소형화할 수 있다. 즉, 스팀발생장치(100)는 대용량 저장소에 저장된 순수를 가열하여 스팀을 발생시키고 발생된 스팀을 소정의 이송경로를 거쳐 세정 대상물까지 공급하는 구조가 아니라, 발생된 스팀을 노즐(3)을 통해 곧바로 세정 대상물(50)로 분사할 수 있는 구조를 갖기 때문이다. 여기서, 세정 대상물(50)은 반도체 공정의 웨이퍼(wafer), 디스플레이 공정의 글래스 기판 뿐만 아니라, 인쇄 회로 기판(Printed Circuit Board, PCB), 글래스 기판, 금속 및 기판 등일 수 있다.As shown in FIG. 1, a steam generating apparatus (hereinafter referred to as "steam generating apparatus") 100 using induction heating according to an embodiment of the present invention rapidly preheats preheated pure water to steam using induction heating The space for generating steam from the pure water is reduced, and the scale of the entire steam cleaning system can be reduced. That is, the steam generator 100 does not have a structure in which pure water stored in the large-capacity reservoir is heated to generate steam, and the generated steam is supplied to the object to be cleaned through a predetermined transfer path, This is because it has a structure capable of being sprayed directly onto the object 50 to be cleaned. Here, the object 50 to be cleaned may be a wafer of a semiconductor process, a glass substrate of a display process, a printed circuit board (PCB), a glass substrate, a metal substrate and the like.

또한, 스팀발생장치(100)는 세정 대상물(50)에 가열된 스팀뿐만 아니라, 고온의 압축공기 또는 세정액을 선택적으로 세정 대상물(50)에 분사할 수도 있다.In addition, the steam generator 100 may selectively spray not only heated steam to the object 50 to be cleaned, but also high-temperature compressed air or cleaning liquid to the object 50 to be cleaned.

이를 위해, 스팀발생장치(100)는 예열부(10), 유도 가열부(20), 전원공급부(30), 제어부(40)를 포함한다. The steam generator 100 includes a preheating unit 10, an induction heating unit 20, a power supply unit 30, and a control unit 40.

예열부(10)는 유도 가열부(20)로 순수를 공급하기에 앞서, 외부로부터 공급된 순수(DI water)를 스팀이 발생하기 직전의 온도(일례로, 85℃ 내지 95℃)로 예열하여 유도 가열부(20)로 공급한다. 이는 상온 상태의 순수를 유도 가열부(20)로 공급하는 것이 아니라 유도 가열부(20)에서 스팀이 발생하기 직전의 최적 온도 상태를 갖는 순수를 유도 가열부(20)로 공급하기 위함이다. 즉, 유도 가열부(20)는 상온 상태의 순수를 스팀이 발생하기 직전의 온도로 가열하는 과정을 생략함으로써, 순수를 공급받아 가열하기 위한 공간을 구비하지 않더라도 순수가 공급되는 즉시 스팀을 발생할 수 있다. 이러한 유도 가열부(20)는 예열부(10)로부터 공급된 순수를 즉시 스팀으로 변환시켜 세정 대상물(50)로 분사하기 때문에 소형화 구조로 설계할 수 있다.The preheating unit 10 preheats DI water supplied from the outside to a temperature (for example, 85 ° C to 95 ° C) just before steam is generated, before supplying pure water to the induction heating unit 20 And supplies it to the induction heating unit 20. This is to supply the pure water having the optimum temperature state immediately before the steam is generated in the induction heating unit 20 to the induction heating unit 20, instead of supplying the pure water in the normal temperature state to the induction heating unit 20. [ That is, the induction heating unit 20 omits the process of heating pure water at a normal temperature to a temperature just before the steam is generated, so that even if there is no space for heating by receiving pure water, have. Since the pure water supplied from the preheating unit 10 is immediately converted into steam and is sprayed to the object 50 to be cleaned, the induction heating unit 20 can be designed in a miniaturized structure.

또한, 예열부(10)는 전원공급부(30)로부터 전원을 공급받아, 전기저항을 이용하여 직/간접으로 가열하는 저항 가열 방식(resistance heating)으로 순수를 예열한다. 여기서, 저항 가열의 발열체는 금속 발열체(철/크롬/알루미늄계, 니켈/크롬계 합금, 단일 금속 등), 비금속 발열체(탄화규소, 이산화몰리브덴, 탄탄크로마이트, 카폰/그래파이트 등), 시즈 히터, 세라믹 히터 등이 이용될 수 있다. 이러한 예열부(10)는 전원공급부(30)로부터 공급되는 전원의 세기에 따라 순수의 온도를 조절할 수 있다.In addition, the preheating unit 10 preheats the pure water by resistance heating method in which the power is supplied from the power supply unit 30 and directly or indirectly heated using electric resistance. Here, the heating element of the resistance heating may be a metal heating element (iron / chrome / aluminum system, nickel / chrome system alloy or single metal), a non-metallic heating element (silicon carbide, molybdenum dioxide, tantalum chromite, A ceramic heater or the like may be used. The preheating unit 10 can adjust the temperature of the pure water according to the intensity of the power supplied from the power supply unit 30. [

예열부(10)는 외부로부터 공급된 순수를 소정의 용기에 담아 직/간접으로 저항 가열하거나, 외부로부터 공급된 순수를 소정의 관(일례로, 접촉면적을 크게 하는 지그재그형 관 등)을 통해 흐를 때 직/간접으로 저항 가열할 수 있다.The preheating unit 10 is constructed by placing pure water supplied from the outside in a predetermined container and directly or indirectly heating it by resistance heating or supplying pure water supplied from the outside to a predetermined pipe (for example, a zigzag tube or the like having a large contact area) Directly / indirectly resistive heating when flowing.

유도 가열부(20)는 예열부(10)로부터 공급된 순수를 유도 가열 방식으로 가열하여 스팀을 발생한다. 여기서, 유도 가열 방식은 전자 유도 현상을 이용한 것으로서, 가열 코일에 고주파 교류 전류가 흐를 때 발생하는 고주파 교류 자계 중에 도전성의 금속 물질을 위치시키면 금속 물질의 표면에 유도 와전류(Eddy current)가 발생하여 금속 물질의 표피 저항에 의한 주울(Joule)열이 발생하게 되는 원리를 이용하는 가열 방식이다. 이때, 유도 가열부(20)는 상온 상태의 순수를 가열하여 스팀을 발생시키는 것이 아니라 예열부(10)에 의해 미리 예열된 순수를 유도 가열하여 스팀을 발생시키기 때문에, 스팀 발생을 위한 공간이 크지 않더라도 예열부(10)로부터 순수가 공급되자마자 스팀을 발생시켜 발생된 스팀을 가열할 수 있다. 유도 가열부(20)는 전원공급부(30)로부터 공급되는 전원의 세기에 따라 스팀 온도를 조절할 수 있다.The induction heating unit 20 generates steam by heating the pure water supplied from the preheating unit 10 by an induction heating method. Here, the induction heating method utilizes electromagnetic induction phenomenon. When a conductive metal material is placed in the high frequency AC magnetic field generated when a high frequency alternating current flows through the heating coil, induced eddy current is generated on the surface of the metal material, It is a heating method that utilizes the principle that joule heat is generated by the skin resistance of a material. At this time, since the induction heating unit 20 generates steam by induction heating the preheated pure water by the preheating unit 10 instead of heating the pure water at a normal temperature to generate steam, the space for generating steam is large It is possible to generate steam as soon as pure water is supplied from the preheating unit 10 and to heat the generated steam. The induction heating unit 20 can adjust the steam temperature according to the intensity of the power supplied from the power supply unit 30. [

전원공급부(30)는 예열부(10)와 유도 가열부(20) 각각에 필요한 전원을 공급한다. 즉, 전원공급부(30)는 예열부(10)에 상용 교류 전원 또는 직류 전원을 공급하고, 유도 가열부(20)에 고주파 교류 전원(또는 RF 전원)을 공급한다. 특히, 전원공급부(30)는 임피던스 매칭을 위한 임피던스 매칭 네트워크(30a)를 통해 고주파 교류 전원을 유도 가열부(20)에 공급할 수 있다. 이와 같이 전원공급부(30)는 예열부(10)와 유도 가열부(20) 각각에 필요한 개별 구성으로 구비되어 전원을 공급하거나, 하나의 구성에서 각각에 대응되는 조건에 따라 전원을 공급할 수 있다. The power supply unit 30 supplies necessary power to the preheating unit 10 and the induction heating unit 20, respectively. That is, the power supply unit 30 supplies the commercial AC power or the DC power to the preheating unit 10 and supplies the high frequency AC power (or RF power) to the induction heating unit 20. In particular, the power supply unit 30 may supply the high frequency AC power to the induction heating unit 20 through the impedance matching network 30a for impedance matching. In this way, the power supply unit 30 may be provided in a separate configuration required for the preheating unit 10 and the induction heating unit 20, respectively, to supply power or to supply power according to conditions corresponding to the respective configurations.

제어부(40)는 전원공급부(30)를 통해 예열부(10)와 유도 가열부(20)의 동작을 제어한다. 구체적으로, 제어부(40)는 전원공급부(30)를 통해 예열부(10)와 유도 가열부(20) 각각에 공급되는 전원의 세기를 제어함으로써, 예열부(10)에 의해 가열되는 순수 온도와 유도 가열부(20)에 의해 발생되는 스팀 온도를 제어할 수 있다. 또한, 제어부(40)는 전원공급부(30)를 통해 예열부(10)와 유도 가열부(20)의 온/오프(on/off) 동작을 제어한다.The control unit 40 controls the operation of the preheating unit 10 and the induction heating unit 20 through the power supply unit 30. Specifically, the control unit 40 controls the intensity of the power supplied to the preheating unit 10 and the induction heating unit 20 through the power supply unit 30, so that the pure temperature, which is heated by the preheating unit 10, The steam temperature generated by the induction heating unit 20 can be controlled. The control unit 40 controls the on / off operation of the preheating unit 10 and the induction heating unit 20 through the power supply unit 30.

아울러, 제어부(40)는 예열부(10), 유도 가열부(20), 제1 조절밸브(1), 제2 조절밸브(2)의 온도 및 압력을 감지하여 전원공급부(30)를 제어할 수 있다. 예를 들어, 제어부(40)는 예열부(10), 유도 가열부(20), 제1 조절밸브(1), 제2 조절밸브(2) 중 어느 한 지점의 온도 및 압력이 기 설정된 온도 및 압력 이상으로 감지되는 경우에, 전원공급부(30)를 통해 예열부(10)와 유도 가열부(20) 각각에 공급되는 전원의 세기를 조절한다.The control unit 40 detects the temperature and pressure of the preheating unit 10, the induction heating unit 20, the first control valve 1 and the second control valve 2 to control the power supply unit 30 . For example, the control unit 40 controls the temperature and the pressure of the preheating unit 10, the induction heating unit 20, the first regulating valve 1, and the second regulating valve 2 to a predetermined temperature and / The power supply unit 30 adjusts the intensity of power supplied to the preheating unit 10 and the induction heating unit 20, respectively.

그리고, 제어부(40)는 예열부(10), 유도 가열부(20), 제1 조절밸브(1), 제2 조절밸브(2)의 온도 및 압력을 감지하여 사용자에게 알려줄 수 있다. The control unit 40 senses the temperature and pressure of the preheating unit 10, the induction heating unit 20, the first control valve 1, and the second control valve 2 to inform the user.

또한, 제어부(40)는 제1 조절밸브(1)와 제2 조절밸브(2)의 개폐를 제어할 수도 있다. 이를 통해, 제1 조절밸브(1)는 개폐 정도에 따라 예열부(10)로부터 공급된 순수, 압축공기, 세정액(순수 또는 초순수)의 혼합비를 조절할 수 있다. 마찬가지로, 제2 조절밸브(2)는 개폐 정도에 따라 유도 가열부(20)로부터 공급되는 스팀, 압축공기, 세정액(순수 또는 초순수)의 혼합비를 조절할 수 있다. 여기서는 제1 조절밸브(1) 및 제2 조절밸브(2)가 여러 경로를 통해 인입되는 유체를 하나의 밸브를 이용하여 흐름을 조절하고 있지만, 필요에 따라서 인입되는 유체별로 개별 밸브를 이용하여 흐름을 조절할 수도 있다. In addition, the control unit 40 may control the opening and closing of the first control valve 1 and the second control valve 2. Accordingly, the first control valve 1 can control the mixing ratio of the pure water, the compressed air, and the cleaning liquid (pure water or ultra-pure water) supplied from the preheating unit 10 according to the degree of opening and closing. Similarly, the second control valve 2 can control the mixing ratio of steam, compressed air, and cleaning liquid (pure water or ultra-pure water) supplied from the induction heating unit 20 according to the degree of opening and closing. Here, although the first control valve 1 and the second control valve 2 control the flow of the fluid drawn through the various paths by using a single valve, .

여기서, 스팀에 압축공기를 혼합하는 것은 스팀의 분사속도를 조절하여 스팀이 세정 대상물(50)을 세정하는 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 스팀에 세정액을 혼합하는 것은 고온의 스팀에 세정액이 섞일 때 발생하는 추가적인 스팀의 양을 급속으로 증가시켜 대용량의 스팀을 발생시킬 수 있다. 이는 스팀의 온도를 조절하여 스팀 세정을 위한 최적 조건의 스팀을 발생시킬 수 있다.Here, mixing compressed air with steam can improve the efficiency of cleaning the object to be cleaned 50 by controlling the injection speed of the steam. Further, mixing of the cleaning liquid with steam can rapidly increase the amount of additional steam generated when the cleaning liquid is mixed with the high-temperature steam, thereby generating a large amount of steam. This can regulate the temperature of steam to generate steam of optimum conditions for steam cleaning.

전술한 바와 같이, 제어부(40)는 예열부(10), 유도 가열부(20), 제1 조절밸브(1) 및 제2 조절밸브(2)를 제어함으로써, 세정 대상물(50)에 스팀을 분사하여 세정 작업을 수행할 수 있을 뿐만 아니라, 세정 대상물(50)을 건조시키는 고온 압축 공기를 분사하거나 세정 대상물(50)을 세정하기 위한 세정액을 분사할 수 있다. 예를 들어, 제어부(40)는 제1 조절밸브(1)를 통해 압축공기가 인입되는 경로만 전부 개방하고, 제2 조절밸브(2)를 통해 스팀이 분사되는 경로를 전부 개방하면, 유도 가열부(20)를 통해 가열된 고온 압축 공기가 세정 대상물(50)을 향해 분사시킬 수 있다. 마찬가지로, 제어부(40)는 제1 조절밸브(1)를 통해 세정액이 인입되는 경로만 전부 개방하고, 제2 조절밸브(2)를 통해 스팀이 분사되는 경로를 전부 개방한 후 유도 가열부(20)를 오프시키면, 상온의 세정액이 세정 대상물(50)을 향해 분사시킬 수 있다. 이와 같이, 제어부(40)는 예열부(10), 유도 가열부(20), 제1 조절밸브(1) 및 제2 조절밸브(2)를 다양한 조합으로 제어하여 세정 대상물(50)에 따라 최적의 세정 공정 조건을 만족시키는 환경을 제공할 수 있다.As described above, the control unit 40 controls the preheating unit 10, the induction heating unit 20, the first control valve 1, and the second control valve 2 to apply steam to the object 50 to be cleaned Not only can the cleaning operation be performed by spraying, but also the high temperature compressed air for drying the object to be cleaned 50 can be sprayed or the cleaning liquid for cleaning the object 50 to be cleaned can be sprayed. For example, when the control unit 40 fully opens only the path through which the compressed air is introduced through the first regulating valve 1 and completely blows the steam through the second regulating valve 2, The hot compressed air heated through the portion 20 can be sprayed toward the object 50 to be cleaned. Similarly, the control unit 40 opens all the paths through which the cleaning liquid is introduced through the first control valve 1, opens all the paths through which the steam is sprayed through the second control valve 2, The cleaning liquid at room temperature can be jetted toward the object 50 to be cleaned. The control unit 40 controls the preheating unit 10, the induction heating unit 20, the first control valve 1 and the second control valve 2 in various combinations to optimize It is possible to provide an environment that satisfies the cleaning process condition of the cleaning process.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 유도 가열부 및 노즐에 대한 도면이고, 도 3a는 상기 도 2의 유도 가열부 외부를 나타낸 도면이고, 도 3b는 상기 도 2의 유도 가열부의 바디 단면을 나타낸 도면이다.FIG. 2 is a view of an induction heating unit and a nozzle according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 (a) is a view showing the outside of the induction heating unit of FIG. 2, Fig.

먼저, 유도 가열부(20)에 대해 설명한다.First, the induction heating unit 20 will be described.

도 2, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 유도 가열부(20)는 코일(21), 바디(body, 22), 하부 가열부(23), 상부 가열부(24), 순수 공급부(25), 스팀조절밸브(26), 노즐 연결부(26a)를 포함한다. 2, 3A and 3B, the induction heating unit 20 includes a coil 21, a body 22, a lower heating unit 23, an upper heating unit 24, a pure water supply unit 25, A steam control valve 26, and a nozzle connecting portion 26a.

코일(21)은 전원공급부(30)와 연결되어 고주파 교류전원이 공급된다. 이로 인해, 코일(21)은 전원공급부(30)로부터 고주파 교류전원을 공급받아 고주파 교류 자계를 형성한다. 이때, 전원공급부(30)는 임피던스 매칭을 위한 매칭 네트워크(30a)를 통해 코일(21)에 전원을 공급한다.The coil 21 is connected to the power supply unit 30 to supply high frequency AC power. Accordingly, the coil 21 receives a high frequency AC power from the power supply unit 30 and forms a high frequency AC magnetic field. At this time, the power supply unit 30 supplies power to the coil 21 through the matching network 30a for impedance matching.

한편, 코일(21)은 바디(22)의 둘레(즉, 전면, 후면, 측면)을 따라 권선된다. 이때, 바디(22)의 둘레에는 코일(21)을 지지하여 고정하고, 코일(21)의 권선 경로를 가이드하여 다회 권선할 때 각 권선 간 간격을 일정하게 유지시키기 위한 지지부가 장착될 수 있다. On the other hand, the coil 21 is wound around the periphery of the body 22 (i.e., front, rear, and side surfaces). At this time, a coil 21 is supported and fixed around the body 22, and a supporting portion for maintaining a constant interval between the windings when the multi-winding is conducted by guiding the winding path of the coil 21 can be installed.

또한, 코일(21)은 속이 빈 가늘고 긴 관 형태(즉, 파이프 또는 튜브 형태)일 수 있다. 이러한 코일(21)은 관 내부를 냉각수의 통로로 이용하여 코일 자체에 발생하는 열을 식힌다. 바람직하게는 코일(21)은 전도성이 90% 이상의 동관(copper pipe)이다.In addition, the coil 21 may be in the form of a hollow elongated tube (i.e., in the form of a pipe or tube). The coil 21 uses the inside of the tube as a passage for cooling water to cool the heat generated in the coil itself. Preferably, the coil 21 is a copper pipe having a conductivity of 90% or more.

바디(22)는 석영(quartz) 또는 테프론 재질일 수 있다. 바디(22)는 내부에 하부 및 상부 가열부(23,24)를 배치한다. 이때, 하부 및 상부 가열부(23,24)는 각각의 금속판(23a,24a)을 절연재(23b,24b)로 감싼 형태로 구성한다. 여기서, 순수는 하부 가열부(23)가 잠기는 높이로 채워진다. 즉, 순수는 바디(22)의 중간 지점까지 채워진다. 이는 하부 가열부(23)에 의해 스팀을 발생하고, 상부 가열부(24)에 의해 발생된 스팀을 가열하기 위함이다. 순수는 바디(22)의 하부측에 위치하는 순수 공급부(25)를 통해 공급된다. 또한, 바디(22)는 직육면체로 형성될 수 있다. 하부 및 상부 가열부(23,24)는 바디 길이 방향을 따라 길게 형성된다. 하부 및 상부 가열부(23,24) 각각은 적어도 하나 이상 형성될 수 있다.The body 22 may be made of quartz or Teflon. The body 22 places the lower and upper heating portions 23, 24 therein. At this time, the lower and upper heating parts 23 and 24 are formed by wrapping the respective metal plates 23a and 24a with insulating materials 23b and 24b. Here, the pure water is filled with the height at which the lower heating portion 23 is locked. That is, the pure water is filled up to the middle point of the body 22. This is to generate steam by the lower heating unit 23 and to heat the steam generated by the upper heating unit 24. [ Pure water is supplied through the pure water supply unit 25 located on the lower side of the body 22. [ In addition, the body 22 may be formed as a rectangular parallelepiped. The lower and upper heating portions 23 and 24 are elongated along the body longitudinal direction. At least one or more of the lower and upper heating sections 23 and 24 may be formed.

구체적으로, 하부 및 상부 가열부(23,24)는 전자 유도 현상에 의해 코일(21)에 고주파 교류 전류가 흐를 때 발생하는 고주파 교류 자계로 인해 금속판(23a,24a)의 표면에 유도 와전류가 발생하여 표피 저항에 의한 주울열이 발생한다. 이로 인해, 하부 및 상부 가열부(23,24)는 예열부(10)로부터 공급된 순수를 가열하여 스팀을 발생시킬뿐만 아니라 스팀을 재가열한다. 즉, 하부 가열부(23)는 순수를 가열하여 스팀을 발생시키고, 상부 가열부(24)는 발생된 스팀을 재가열하여 고온의 스팀을 발생시킨다. 이와 같이, 바디(22)는 스팀을 발생시키는 공간과 스팀을 가열하는 공간이 내부에 형성된다.Specifically, the lower and upper heating sections 23 and 24 generate induction eddy currents on the surfaces of the metal plates 23a and 24a due to the high frequency AC magnetic field generated when the high frequency alternating current flows through the coil 21 due to the electromagnetic induction phenomenon Joule heat is generated by the skin resistance. Thus, the lower and upper heating sections 23 and 24 heat the pure water supplied from the preheating section 10 to generate steam and reheat steam. That is, the lower heating unit 23 generates pure steam to generate steam, and the upper heating unit 24 reheats the generated steam to generate high-temperature steam. As described above, the body 22 has a space for generating steam and a space for heating steam therein.

부가적으로, 하부 및 상부 가열부(23,24)는 별도의 전원을 인가하여 자체의저항을 이용한 저항 가열로 추가적인 온도를 높일 수도 있다.In addition, the lower and upper heating sections 23 and 24 may apply additional power to increase the temperature by resistance heating using its own resistance.

바디(22)는 상부측에 스팀조절밸브(26)와 노즐 연결부(26a)를 형성할 수 있다. 스팀조절밸브(26)는 바디(22) 내부에서 발생된 스팀의 외부 분사량을 조절한다. 스팀조절밸브(26)는 노즐(3)에 연결하기 위한 노즐 연결부(26a)를 포함할 수 있다. 이때, 스팀조절밸브(26)는 바디(22)에 하나 이상으로 형성할 수 있는데, 스팀조절밸브(26) 각각에 노즐 연결부(26a)도 각각 형성하거나 스팀조절밸브(26) 각각을 하나로 또는 몇개의 그룹으로 묶어서 노즐 연결부(26a)와 연결할 수도 있다. 이러한 스팀조절밸브(26)는 제어부(40)에 의해 제어될 수 있다.The body 22 may form a steam control valve 26 and a nozzle connecting portion 26a on the upper side. The steam control valve 26 controls the amount of external injection of steam generated in the body 22. The steam control valve 26 may include a nozzle connection portion 26a for connection to the nozzle 3. [ At this time, one or more steam control valves 26 may be formed on the body 22, and the nozzle connection portions 26a may be formed in each of the steam control valves 26, And may be connected to the nozzle connecting portion 26a. The steam control valve 26 may be controlled by the control unit 40. [

다음으로, 노즐(3)에 대해 설명한다.Next, the nozzle 3 will be described.

도 2, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 노즐(3)은 노즐 바디(3a), 제1 노즐밸브(3a-1), 제2 노즐밸브(3a-2), 유도 가열부 연결부(3a-3), 노즐 유로(3b), 유로 분배부(3b-1), 노즐 가열부(3c)를 포함한다.2, 3A and 3B, the nozzle 3 includes a nozzle body 3a, a first nozzle valve 3a-1, a second nozzle valve 3a-2, an induction heating part connection 3a- 3, a nozzle flow path 3b, a flow path distribution portion 3b-1, and a nozzle heating portion 3c.

노즐 바디(3a)는 상부측에 제1 노즐밸브(3a-1), 제2 노즐밸브(3a-2), 유도 가열부 연결부(3a-3)를 형성한다. 제1 노즐밸브(3a-1)은 유도 가열부 연결부(3a-3)를 통해 공급되는 스팀에 혼합시키기 위한 압축공기의 공급을 조절할 수 있고, 제2 노즐밸브(3a-2)는 유도 가열부 연결부(3a-3)를 통해 공급되는 스팀에 혼합시키기 위한 세정액(즉, 초순수 또는 순수)의 공급을 조절할 수 있다. 여기서, 유도 가열부 연결부(3a-3)는 유도 가열부(20)의 노즐 연결부(26a)에 연결된다. 여기서, 제1 노즐밸브(3a-1)는 압축공기 대신에 질소 가스의 공급을 조절할 수도 있다.The nozzle body 3a forms a first nozzle valve 3a-1, a second nozzle valve 3a-2, and an induction heating portion connection 3a-3 on the upper side. The first nozzle valve 3a-1 can regulate the supply of compressed air for mixing with the steam supplied through the induction heating portion connection 3a-3, and the second nozzle valve 3a-2 can regulate the supply of the compressed air to the induction heating portion 3a- The supply of the cleaning liquid (i.e., the ultra-pure water or the pure water) for mixing the steam supplied through the connection portion 3a-3 can be adjusted. Here, the induction heating portion connecting portion 3a-3 is connected to the nozzle connecting portion 26a of the induction heating portion 20. [ Here, the first nozzle valve 3a-1 may regulate the supply of nitrogen gas instead of compressed air.

스팀에 압축공기 또는 세정액을 혼합시키기 위해서는, 압축공기의 분사량을 조절하는 제1 노즐밸브(3a-1)와 세정액의 분사량을 조절하는 제2 노즐밸브(3a-2)와 같이 각각을 배치할 수도 있지만, 제2 조절밸브(2)의 개폐정도를 이용하여 스팀, 압축공기, 세정액 각각의 혼합량을 조절할 수도 있다.In order to mix the compressed air or the cleaning liquid with the steam, the first nozzle valve 3a-1 for controlling the injection amount of the compressed air and the second nozzle valve 3a-2 for controlling the injection amount of the cleaning liquid may be disposed However, the mixing amount of steam, compressed air, and cleaning liquid may be adjusted by using the opening / closing degree of the second control valve 2.

노즐 바디(3a)는 내부에 노즐 유로(3b)를 형성한다. 스팀은 노즐 유로(3b)를 따라 세정 대상물(50)로 분사된다. 또한, 노즐 유로(3b)는 내부에 유로 분배부(3b-1)를 형성하는데, 스팀, 압축공기, 세정액 등이 잘 섞이면서 스팀의 밀도를 균일하게 유지시키고, 물로 다시 액화(재결합)되는 것을 방지할 수 있다. 노즐 바디(3a)는 원통형 단면 또는 다각형 단면을 갖는 구조로 다양하게 설계할 수 있다. The nozzle body 3a forms a nozzle flow path 3b therein. The steam is sprayed onto the object to be cleaned 50 along the nozzle flow path 3b. In addition, the nozzle flow path 3b forms the flow path distribution portion 3b-1 therein, and the steam, the compressed air, the cleaning liquid and the like are mixed well to uniformly maintain the density of the steam and prevent it from being liquefied can do. The nozzle body 3a can be variously designed in a structure having a cylindrical cross section or a polygonal cross section.

노즐 바디(3a)는 둘레에 노즐 가열부(3c)를 설치할 수 있다. 노즐 가열부(3c)는 노즐 유로(3b)를 통해 분사되는 노즐의 온도 저하로 인한 응축을 방지할 수 있다.The nozzle body 3a can be provided with a nozzle heating portion 3c around the nozzle body 3a. The nozzle heating unit 3c can prevent condensation due to the temperature drop of the nozzle injected through the nozzle flow path 3b.

노즐 가열부(3a)는 스팀, 압축공기, 세정액이 서로 잘 섞일 수 있는 진동부(미도시)로 대체할 수 있다. 이러한 진동부(미도시)는 소정의 주파수로 진동을 발생시켜 노즐 바디(3a)를 흔들어 스팀, 압축공기, 세정액의 혼합이 잘 일어날 수 있도록 한다. 노즐 가열부(3a)는 전원공급부(30)로부터 전원을 공급받는다.The nozzle heating unit 3a can be replaced with a vibrating unit (not shown) in which steam, compressed air, and cleaning liquid can be mixed well. Such a vibration unit (not shown) generates vibration at a predetermined frequency to shake the nozzle body 3a so that mixing of steam, compressed air, and cleaning liquid can be performed well. The nozzle heating unit 3a is supplied with power from the power supply unit 30.

노즐(3)은 소정 간격으로 이격되어 적어도 하나 이상 형성될 수 있다. 이때, 노즐(3)은 세정 대상물(50)로 스팀을 직접 분사한다.At least one or more nozzles 3 may be formed at a predetermined distance. At this time, the nozzle 3 directly injects the steam to the object 50 to be cleaned.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템에 대한 도면이고, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템에 대한 도면이다.FIG. 4 is a view of a steam cleaning system using a steam generator according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a diagram illustrating a steam cleaning system using a steam generator according to another embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템(이하 "제1 스팀 세정 시스템"이라 함, 200)은, 라인형 구조로서, 제1 대상물 공급부(210), 제1 대상물 로딩/언로딩부(220), 제1 대상물 처리부(230)를 포함한다. 이때, 제1 대상물 처리부(230)는 제1 UV 처리부(231), 제1 및 제2 에어나이프 처리부(232,234), 제1 스팀 세정부(233)를 포함한다.Referring to FIG. 4, a steam cleaning system (hereinafter referred to as a "first steam cleaning system") 200 using a steam generator according to an embodiment of the present invention includes a first object supply unit 210, A first object loading / unloading unit 220, and a first object processing unit 230. The first object processing unit 230 includes a first UV processing unit 231, first and second air knife processing units 232 and 234, and a first steam cleaning unit 233.

여기서, 제1 스팀 세정 시스템(200)는 적어도 하나 이상의 라인을 설치하여 다수의 세정 시스템으로 형성할 수 있다.Here, the first steam cleaning system 200 may be formed of a plurality of cleaning systems by installing at least one line.

또한, 도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템(이하 "제2 스팀 세정 시스템"이라 함, 300)은, 회전형 구조로서, 제2 대상물 공급부(310), 제2 대상물 로딩/언로딩부(320), 제2 대상물 처리부(330)를 포함한다. 이때, 제2 대상물 처리부(330)는 제2 UV 처리부(331), 제3 및 제4 에어나이프(332,334), 제2 스팀 세정부(333)를 포함한다.5, a steam cleaning system (hereinafter referred to as a "second steam cleaning system") 300 using a steam generator according to another embodiment of the present invention includes a second object supply unit 310, a second object loading / unloading unit 320, and a second object processing unit 330. The second object processing unit 330 includes a second UV processing unit 331, third and fourth air knives 332 and 334, and a second steam cleaning unit 333.

여기서, 제2 스팀 세정 시스템(300)는 적어도 하나 이상의 라인을 설치하여 다수의 세정 시스템으로 형성할 수 있다.Here, the second steam cleaning system 300 may be formed of a plurality of cleaning systems by installing at least one line.

한편, 도 4 및 도 5에 도시된 제1 및 제2 스팀 세정 시스템(200,300)은 디스플레이 공정분야의 세정 대상물(일례로, 유리기판 등)을 세정하기 위한 세정 시스템으로 적용될 수 있으나, 반도체 공정분야의 세정 대상물(일례로, 웨어퍼 등)을 세정하기 위한 세정 시스템으로도 적용될 수 있다. 특히, 제1 및 제2 스팀 세정 시스템(200,300)은 반도체 식각 공정 후 포토레지스터를 제거하는 애셔(Asher) 장비와 결합하여 습식 세정 공정으로 적용될 수 있다.Meanwhile, the first and second steam cleaning systems 200 and 300 shown in FIGS. 4 and 5 can be applied as a cleaning system for cleaning a cleaning object (for example, a glass substrate or the like) in the field of display processes, (For example, a wiper, etc.) of the cleaning object (e.g., a cleaning apparatus). In particular, the first and second steam cleaning systems 200, 300 may be applied in a wet cleaning process in conjunction with Asher equipment to remove the photoresist after a semiconductor etch process.

제1 및 제2 대상물 공급부(210,310)는 미처리된 세정 대상물(50)을 제1 및 제2 대상물 로딩/언로딩부(220,320)로 전달하고, 기처리된 세정 대상물(50)을 제1 및 제2 대상물 로딩/언로딩부(220,320)로부터 전달받는다.The first and second object supply units 210 and 310 deliver the unprocessed object 50 to the first and second object loading / unloading units 220 and 320, 2 object loading / unloading units 220 and 320, respectively.

제1 및 제2 대상물 로딩/언로딩부(220,320)는 회전 운동을 하는 이송로봇으로 세정 대상물(50)을 로딩 및 언로딩하기 위한 동작을 수행한다. 즉, 제1 및 제2 대상물 로딩/언로딩부(220,320)는 제1 및 제2 대상물 공급부(210,310)로부터 전달된 미처리된 세정 대상물(50)을 로딩하여 제1 및 제2 대상물 처리부(230,330)에 언로딩한다. 또한, 제1 및 제2 대상물 로딩/언로딩부(220,320)는 제1 및 제2 대상물 처리부(230,330)로부터 전달된 기처리된 세정 대상물(50)을 로딩하여 제1 및 제2 대상물 공급부(210,310)에 언로딩한다.The first and second object loading / unloading units 220 and 320 perform an operation for loading and unloading the object 50 to be cleaned by the transfer robot performing the rotational motion. That is, the first and second object loading / unloading units 220 and 320 load the unprocessed object to be cleaned 50 delivered from the first and second object supplying units 210 and 310 to the first and second object processing units 230 and 330, Lt; / RTI > The first and second object loading and unloading units 220 and 320 load the pre-processed cleaning object 50 delivered from the first and second object processing units 230 and 330 to the first and second object supply units 210 and 310 ).

제1 대상물 처리부(230)는 직선 왕복운동을 하면서, 미처리된 세정 대상물(50)을 이송하여 제1 UV 처리부(231), 제1 에어나이프 처리부(232), 제1 스팀 세정부(233), 제2 에어나이프 처리부(234)를 통해 세정 대상물(50)의 오염물을 세정한다. The first object processing unit 230 transfers the unprocessed object to be cleaned 50 in a linear reciprocating motion to form a first UV processing unit 231, a first air knife processing unit 232, a first steam cleaning unit 233, The contaminants in the object 50 to be cleaned are cleaned through the second air knife processing unit 234. [

마찬가지로, 제2 대상물 처리부(330)는 회전운동을 하면서, 미처리된 세정 대상물(50)을 이송하여 제2 UV 처리부(331), 제3 에어나이프 처리부(332), 제2 스팀 세정부(333), 제4 에어나이프 처리부(334)를 통해 세정 대상물(50)의 오염물을 세정한다.Similarly, the second object processing unit 330 transfers the unprocessed object to be cleaned 50 while rotating, and the second UV processing unit 331, the third air knife processing unit 332, the second steam cleaning unit 333, , And the fourth air knife processing unit 334 to clean the contaminants of the object 50 to be cleaned.

제1 및 제2 UV 처리부(231,331)는 세정 대상물(50)에 대해 UV 세정을 실시한다.The first and second UV treatment units 231 and 331 perform UV cleaning on the object 50 to be cleaned.

또한, 제1 및 제2 에어나이프 처리부(232,334)는 제1 스팀 세정부(233) 사이에 배치하여 스팀 세정시에 발생하는 부산물들이 외부로 나가는 것을 방지하고, 스팀 세정에 의해 기처리된 세정 대상물(50)을 건조시키는 역할을 수행한다. 상술한 바와 같이, 제3 및 제4 에어나이프 처리부(332,334)도 제2 스팀 세정부(333) 사이에 배치하게 된다.The first and second air knife processing units 232 and 334 are disposed between the first steam cleaning units 233 to prevent the byproducts generated during the steam cleaning from escaping to the outside, (50). As described above, the third and fourth air knife processing units 332 and 334 are also disposed between the second steam washing units 333.

또한, 제1 및 제2 스팀 세정부(233,333)는 전술한 스팀발생장치(100)를 이용하여 세정 대상물(50)에 대한 스팀 세정을 실시한다.Further, the first and second steam washing sections 233 and 333 perform steam washing on the object 50 to be cleaned by using the above-described steam generating apparatus 100.

도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일실시예에 따른 노즐의 출구 형상을 나타낸 도면이다. FIGS. 6A to 6C are views illustrating an outlet shape of a nozzle according to an embodiment of the present invention.

도 6a 내지 도 6c를 참조하면, 노즐(3)은 제2 조절밸브(2)에 연결되어 세정 대상물(50)을 향해 스팀발생장치(100)에 의해 발생된 스팀뿐만 아니라, 고온의 압축공기 또는 세정액을 분사한다. 이러한 노즐(3)은 스팀 등을 세정 대상물(50)에 고르게 분사하기 위해 다양한 형상의 출구 형상을 구비한다. 예를 들어, 노즐(3)은 가늘고 긴 형태의 타원형 구멍을 적어도 하나의 행(row)으로 배치하는 노즐 형상(도 6a 참조), 다각형 또는 원형의 구멍을 적어도 하나의 행(row)으로 배치하는 노즐 형상(도 6b 및 도 6c 참조)일 수 있다. 이때, 노즐 형상의 서로 다른 행에 배치된 각 구멍은 지그 재그로 배치하여 어느 일측에 스팀 등이 쏠리는 현상을 방지할 수 있다. 6A to 6C, the nozzle 3 is connected to the second control valve 2 so as to discharge not only steam generated by the steam generator 100 toward the object to be cleaned 50 but also high- The cleaning liquid is sprayed. The nozzle 3 has an outlet shape of various shapes in order to uniformly spray steam or the like onto the object 50 to be cleaned. For example, the nozzle 3 may have a nozzle shape (see FIG. 6A) in which at least one row of elongated elliptical holes is arranged, at least one row of polygonal or circular holes Nozzle shape (see Figs. 6B and 6C). At this time, the holes arranged in different rows of the nozzle shape are arranged in the jig as the jig, thereby preventing a phenomenon in which steam or the like is tilted to one side.

한편, 노즐(3)은 전술한 바와 같은 노즐 형상을 단독으로 적용할 수도 있으나, 필요에 따라 서로 결합하여 복합적으로 적용할 수도 있다.On the other hand, the nozzle 3 may apply the nozzle shape as described above alone, but may be combined and combined as necessary.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 일실시예에 따른 노즐의 스팀 등을 분사하는 구조를 나타낸 도면이다. 7A to 7C are views showing a structure for spraying steam or the like of a nozzle according to an embodiment of the present invention.

도 7a 내지 도 7c를 참조하면, 노즐(3)은 세정 대상물(50)에 스팀 등을 효과적으로 분사하기 위해 다양한 각도로 스팀 등을 분사하는 구조를 가질 수 있다.7A to 7C, the nozzle 3 may have a structure for spraying steam or the like at various angles to effectively spray steam or the like to the object 50 to be cleaned.

즉, 노즐(3)은 세정 대상물(50)에 스팀 등을 수직으로 분사하는 구조(도 7a 참조)를 가질 수도 있으나, 세정 대상물(50)의 이물질이 보다 효과적으로 분리될 수 있도록 스팀 등을 소정의 각도(α)를 가지고 분사시키는 구조(도 7b 또는 도 7c 참조)를 가질 수도 있다. 이때, 소정의 각도(α)를 가지고 분사하는 구조는 노즐(3) 자체를 소정의 각도(α)로 기울이거나(도 7b 참조), 노즐(3) 내부의 경로를 소정의 각도(α)로 기울일 수 있다(도 7c 참조).That is, the nozzle 3 may have a structure (see FIG. 7A) that vertically injects steam or the like to the object 50 to be cleaned. However, (See Fig. 7B or Fig. 7C) for ejecting with an angle [alpha]. At this time, the structure for spraying with the predetermined angle? Tilts the nozzle 3 itself to a predetermined angle? (See Fig. 7b), or the path inside the nozzle 3 is changed to a predetermined angle? (See FIG. 7C).

이와 같이 노즐(3)은 스팀 등을 분사시키는 각도를 하나의 방향으로 스팀 등을 분사할 수도 있지만, 스팀 등을 분사시키는 각도를 다양하게 결합하여 다수의 방향으로 스팀을 분사할 수도 있다. In this way, the nozzle 3 may inject steam or the like in a single direction at an angle of spraying steam or the like, but it is also possible to spray steam in a plurality of directions by variously combining angles for spraying steam or the like.

도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 일실시예에 따른 세정 대상물의 배치 구조를 나타낸 도면이다.8A to 8C are views showing an arrangement structure of a cleaning object according to an embodiment of the present invention.

도 8a 내지 도 8c를 참조하면, 세정 대상물(50)은 노즐(3)에 대해 소정의 각도(α)를 갖도록 배치할 수 있다.8A to 8C, the object to be cleaned 50 may be arranged to have a predetermined angle alpha with respect to the nozzle 3. [

세정 대상물(50)은 노즐(3)로부터 수직 방향으로 스팀 등이 분사되도록 배치될 수도 있으나(도 8a 참조), 노즐(3)로부터 소정의 각도(α)를 갖는 기울어진 방향으로 스팀 등이 분사되도록 배치될 수도 있다(도 8b 또는 도 8c 참조). 이때, 세정 대상물(50)은 노즐(3)로부터 소정의 각도(α)를 갖도록 배치되면, 세정 공정시 이물질이 분리되어 흘러나가기 쉬운 구조로 배치된다.The object to be cleaned 50 may be arranged so that steam or the like is sprayed from the nozzle 3 in a vertical direction (see FIG. 8A), but steam or the like is sprayed from the nozzle 3 in a tilted direction with a predetermined angle? (See FIG. 8B or FIG. 8C). At this time, if the object 50 to be cleaned is arranged to have a predetermined angle? From the nozzle 3, foreign substances are arranged in a structure that is easy to separate and flow out during the cleaning process.

이때, 세정 대상물(50)은 세정 공정을 진행할 때 어느 하나의 배치 구조로 고정될 수도 있지만, 도 8a 내지 도 8c의 배치 구조로 변환하면서 세정 공정을 진행할 수도 있다.At this time, the object to be cleaned 50 may be fixed to any one of the arrangement structures when the cleaning process is performed, but the cleaning process may be performed while changing to the arrangement structure of FIGS. 8A to 8C.

도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 노즐 주변 구조를 나타낸 도면이다.FIG. 9 is a view illustrating a structure around a nozzle according to an embodiment of the present invention.

도 9에 도시된 바와 같이, 노즐(3)은 이물질 흡입부(4)를 주변에 설치한다. 이물질 흡입부(4)는 스팀 분사시에 발생되는 이물질 등을 흡입하여 외부로 방출함으로써, 세정이 완료된 부분의 재오염을 방지할 뿐만 아니라, 세정시 발생하는 오염물을 외부로 방출한다. 즉, 이물질 흡입부(4)는 스팀 등이 노즐(3)을 통해 분사되어 세정 대상물(50)에 직접 닿는 부분을 제외한 주변 영역을 흡입함으로써, 세정 대상물(50)로부터 이탈된 오염물과 세정 대상물(50)에 부딪혀 주변으로 흩어지는 스팀 등의 확산을 방지한다. As shown in Fig. 9, the nozzle 3 is provided around the foreign matter suction part 4. The foreign matter suction unit 4 sucks foreign substances generated during steam injection and discharges the foreign substances to the outside, thereby preventing re-contamination of the cleaned portion, and also discharging contaminants generated during cleaning. That is, the foreign matter suction unit 4 sucks the peripheral area excluding the portion where the steam or the like is sprayed through the nozzle 3 and directly touches the object 50 to be cleaned and the object to be cleaned 50) to prevent diffusion of steam and the like scattered around.

도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 조절밸브의 구조를 나타낸 도면이다.10 is a view showing the structure of a regulating valve according to an embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 조절밸브(5)는 밸브의 개폐 정도(즉, 회전 정도)에 따라 인입되는 적어도 하나 이상의 흐름에 대한 혼합비를 조절할 수 있다. 이때, 조절밸브(5)는 회전부재(a)와 연결관(b)의 단면적의 크기 차이를 이용하여 흐름의 양을 조절할 수 있다. 즉, 회전부재(a)와 연결관(b)은 회전부재(a)의 단면적 크기가 연결관(b)의 단면적 크기 보다 작은 경우(a>b), 회전부재(a)의 단면적 크기가 연결관(b)의 단면적 크기와 같은 경우(a=b), 회전부재(a)의 단면적 크기가 연결관(b)의 단면적 크기 보다 큰 경우(a<b)와 같이 형성하여 흐름의 혼합비를 조절한다. Referring to FIG. 10, the control valve 5 may control the mixing ratio for at least one flow that is introduced depending on the opening / closing degree (i.e., the degree of rotation) of the valve. At this time, the control valve 5 can control the amount of flow using the difference in size of the sectional areas of the rotating member a and the connecting pipe b. That is, when the cross-sectional area of the rotary member (a) is smaller than the cross-sectional area of the connection pipe (b) (a> b) (A) is equal to the sectional area size of the pipe (b), and when the sectional area size of the rotating member (a) is larger than the sectional area size of the connecting pipe (b) do.

이에 따라, 제1 조절밸브(1)는 밸브의 개폐 정도에 따라 예열부(10)로부터 공급된 순수, 압축공기, 세정액의 혼합비를 조절할 수 있다. 마찬가지로, 제2 조절밸브(2)는 밸브의 개폐 정도에 따라 유도 가열부(20)로부터 공급되는 스팀, 압축공기, 세정액의 혼합비를 조절할 수 있다. 이때, 제1 및 제2 조절밸브(1,2)는 회전부재(a)와 연결관(b) 간의 단면적의 크기 차이을 전술한 바와 같이 형성할 수 있다.Accordingly, the first control valve 1 can control the mixing ratio of the pure water, the compressed air, and the cleaning liquid supplied from the preheating unit 10 according to the opening and closing degree of the valve. Similarly, the second control valve 2 can control the mixing ratio of steam, compressed air, and cleaning liquid supplied from the induction heating unit 20 according to the opening and closing degree of the valve. At this time, the first and second control valves 1 and 2 can form the difference in size of the sectional area between the rotating member a and the connecting pipe b as described above.

이상에서 설명된 본 발명의 유도가열을 이용한 스팀발생장치，이를 이용한 스팀 세정 시스템 및 그 방법의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 그럼으로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The embodiments of the steam generating system using the induction heating of the present invention, the steam cleaning system and the method using the steam generating system of the present invention described above are merely illustrative, and those skilled in the art will appreciate that various modifications, It will be appreciated that variations and equivalents of other embodiments are possible. Accordingly, it is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiments. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims. It is also to be understood that the invention includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

1 : 제1 조절밸브 2 : 제2 조절밸브
3 : 노즐 3a : 노즐 바디
3a-1 : 제1 노즐밸브 3a-2 : 제2 노즐밸브
3a-3 : 유로 가열부 연결부 3b : 노즐 유로
3b-1 : 유로 분배부 3c : 노즐 가열부
10 : 예열부 20 : 유도 가열부
21 : 코일 22 : 바디
23 : 하부 가열부 24 : 상부 가열부
25 : 순수 공급부 26 : 스팀조절밸브
26a : 노즐 연결부 30 : 전원공급부
40 : 제어부 50 : 세정 대상물1: first control valve 2: second control valve
3: Nozzle 3a: Nozzle body
3a-1: First nozzle valve 3a-2: Second nozzle valve
3a-3: Connection part of the passage heating part 3b:
3b-1: channel distribution portion 3c: nozzle heating portion
10: preheating part 20: induction heating part
21: coil 22: body
23: lower heating part 24: upper heating part
25: pure water supply 26: steam control valve
26a: nozzle connection part 30: power supply part
40: control unit 50: object to be cleaned

Claims (9)

외부로부터 공급된 순수를 가열하여 스팀을 발생시키는 제1 공간과 발생된 스팀을 재가열하는 제2 공간을 구분하고, 상기 제1 및 제2 공간을 유도 가열하기 위한 유도 가열부;
상기 유도 가열부에 전원을 공급하기 위한 전원공급부; 및
상기 유도 가열부의 온도 및 압력을 감지하여 상기 전원공급부를 제어하기 위한 제어부;
를 포함하는 유도가열을 이용한 스팀발생장치.
An induction heating unit for separating the first space for generating steam by heating pure water supplied from the outside and the second space for reheating the generated steam, and for induction heating the first and second spaces;
A power supply unit for supplying power to the induction heating unit; And
A controller for sensing the temperature and pressure of the induction heating unit and controlling the power supply unit;
Wherein the steam generator is a steam generator.
제 1 항에 있어서,
상기 유도 가열부는, 미리 가열된 순수를 외부로부터 공급받는 유도가열을 이용한 스팀발생장치.
The method according to claim 1,
Wherein the induction heating unit uses induction heating in which preheated pure water is supplied from outside.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 유도 가열부는,
상기 전원공급부로부터 교류전원을 공급받아 고주파 교류자계를 형성하기 위한 코일;
상기 코일에 의해 형성된 교류자계에 의해 외부로 공급된 순수로부터 스팀을 발생하기 위한 하나 이상의 하부 가열부;
상기 코일에 의해 형성된 교류자계에 의해 상기 하부 가열부에 의해 발생된 스팀을 재가열하기 위한 하나 이상의 상부 가열부; 및
상기 하부 및 상부 가열부를 내부에 위치시키고, 상기 코일을 둘레에 권선하기 위한 바디;
를 포함하는 유도가열을 이용한 스팀발생장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
The induction heating unit includes:
A coil for receiving the AC power from the power supply unit to form a high frequency AC magnetic field;
At least one lower heating part for generating steam from pure water supplied externally by an AC magnetic field formed by the coil;
At least one upper heating part for reheating steam generated by the lower heating part by an AC magnetic field formed by the coil; And
A body for locating said lower and upper heating portions therein and for winding said coil around said coil;
Wherein the steam generator is a steam generator.
제 3 항에 있어서,
상기 하부 및 상부 가열부는, 금속판을 절연재로 감싸는 구조인 유도가열을 이용한 스팀발생장치.
The method of claim 3,
Wherein the lower and upper heating portions are configured to surround the metal plate with an insulating material.
제 4 항에 있어서,
상기 코일은,
속이 빈 가늘고 긴 관 형태로 형성되어, 상기 관 내부를 냉각수의 통로로 이용하는 유도가열을 이용한 스팀발생장치.
5. The method of claim 4,
Wherein:
The steam generator according to any one of claims 1 to 3, wherein the steam generator is an induction heating type steam generator.
세정 대상물을 공급하기 위한 대상물 공급부;
상기 세정물 대상물을 스팀발생장치를 이용하여 스팀 세정을 수행하기 위한 대상물 처리부; 및
상기 세정 대상물의 처리 결과에 따라 상기 대상물 공급부와 상기 대상물 처리부로 로딩 또는 언로딩하는 대상물 로딩/언로딩부;를 포함하며,
상기 스팀발생장치는,
외부로부터 공급된 순수를 가열하여 스팀을 발생시키는 제1 공간과 발생된 스팀을 재가열하는 제2 공간을 구분하고, 상기 제1 및 제2 공간을 유도 가열하기 위한 유도 가열부;
상기 유도 가열부에 전원을 공급하기 위한 전원공급부; 및
상기 유도 가열부의 온도 및 압력을 감지하여 상기 전원공급부를 제어하기 위한 제어부;
를 포함하는 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템.
An object supply unit for supplying an object to be cleaned;
An object processing unit for performing steam cleaning on the object to be cleaned using the steam generator; And
And an object loading / unloading unit for loading or unloading the object to be supplied to the object supply unit and the object processing unit according to the processing result of the object to be cleaned,
The steam generator includes:
An induction heating unit for separating the first space for generating steam by heating pure water supplied from the outside and the second space for reheating the generated steam, and for induction heating the first and second spaces;
A power supply unit for supplying power to the induction heating unit; And
A controller for sensing the temperature and pressure of the induction heating unit and controlling the power supply unit;
The steam cleaning system comprising: a steam generator;
제 6 항에 있어서,
상기 유도 가열부는,
상기 전원공급부로부터 교류전원을 공급받아 고주파 교류자계를 형성하기 위한 코일;
상기 코일에 의해 형성된 교류자계에 의해 외부로 공급된 순수로부터 스팀을 발생하기 위한 하나 이상의 하부 가열부;
상기 코일에 의해 형성된 교류자계에 의해 상기 하부 가열부에 의해 발생된 스팀을 재가열하기 위한 하나 이상의 상부 가열부; 및
상기 하부 및 상부 가열부를 내부에 위치시키고, 상기 코일을 둘레에 권선하기 위한 바디;
를 포함하는 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템.
The method according to claim 6,
The induction heating unit includes:
A coil for receiving the AC power from the power supply unit to form a high frequency AC magnetic field;
At least one lower heating part for generating steam from pure water supplied externally by an AC magnetic field formed by the coil;
At least one upper heating part for reheating steam generated by the lower heating part by an AC magnetic field formed by the coil; And
A body for locating said lower and upper heating portions therein and for winding said coil around said coil;
The steam cleaning system comprising: a steam generator;
제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
상기 대상물 처리부는, 라인형 또는 회전형 구조인 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템.
8. The method according to claim 6 or 7,
Wherein the object processing unit is a line or rotary type steam generating system.
제 8 항에 있어서,
상기 대상물 처리부는, 상기 세정 대상물에 UV 처리, 에어나이프 처리, 스팀 세정을 실시하는 스팀발생장치를 이용한 스팀 세정 시스템.
9. The method of claim 8,
Wherein the object processing unit includes a steam generating device that performs UV treatment, air knife treatment, and steam cleaning on the object to be cleaned.
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