KR20170113149A

KR20170113149A - 방사선 촬상 장치, 방사선 촬상 시스템 및 방사선 촬상 장치를 동작시키는 방법

Info

Publication number: KR20170113149A
Application number: KR1020170035060A
Authority: KR
Inventors: 다쿠야 류; 도모유키 야기; 가츠로 다케나카; 히데유키 오카다; 에리코 사토; 신이치 다케다
Original assignee: 캐논 가부시끼가이샤
Priority date: 2016-03-29
Filing date: 2017-03-21
Publication date: 2017-10-12
Also published as: JP6417368B2; CN107242878B; CN107242878A; JP2017184218A

Abstract

방사선 촬상 장치는 화소 어레이, 복수의 모드 중 선택된 모드에 따라 화소 어레이의 복수의 행을 주사하기 위한 주사 회로 및 주사 회로에 의해 주사되는 선택된 행의 화소로부터 신호를 판독하도록 구성된 판독 회로를 포함한다. 복수의 모드는 제1 프레임 레이트에서 촬상을 수행하는 제1 모드와 상기 제1 프레임 레이트보다 낮은 제2 프레임 레이트에서 촬상을 수행하는 제2 모드를 포함한다. 상기 제2 모드의 하나의 프레임 기간에서 상기 주사 회로에 의한 상기 복수의 행의 주사 횟수는 상기 제1 모드의 하나의 프레임 기간에서 상기 주사 회로에 의한 상기 복수의 행의 주사 횟수보다 더 크다.

Description

방사선 촬상 장치, 방사선 촬상 시스템 및 방사선 촬상 장치를 동작시키는 방법{RADIATION IMAGING APPARATUS, RADIATION IMAGING SYSTEM, AND METHOD OF OPERATING RADIATION IMAGING APPARATUS}

본 발명은 방사선 촬상 장치, 방사선 촬상 시스템 및 방사선 촬상 장치를 동작시키는 방법에 관한 것이다.

최근 X 선을 사용한 의료 촬상 진단 또는 비파괴 검사에 사용되는 방사선 촬상 장치로서 반도체 재료로부터 형성된 FPD(평판 패널 검출기)를 사용한 방사선 촬상 장치가 널리 사용되고 있다. 이런 방사선 촬상 장치는 예로서 의료 촬상 진단에서 일반적 촬영 같은 정화상 촬영 및 투시촬영 같은 동화상 촬영을 위한 디지털 촬상 장치로서 사용될 수 있다. FPD는 방사선을 전기 신호로 변환하는 복수의 광전 변환 소자의 매트릭스를 갖는 검출기와 검출기로부터의 전기 신호를 판독하기 위한 판독 회로를 포함한다.

FPD에 의해 얻어진 이미지는 검출기의 용량 변동과 판독 회로의 오프셋 변동으로부터 유래되는 오프셋 성분(노이즈 성분)을 포함한다. 방사선 조사 없이 화상 판독을 수행함으로써 오프셋 화상을 획득하고 방사선 조사시 판독을 수행하여 방사선 화상을 획득하고 그후 방사선 화상으로부터 오프셋 화상을 차감함으로써 오프셋 성분을 제거하기 위한 화상 보정을 수행하는 방법이 이용가능하다. 이런 화상 보정은 오프셋 보정이라 지칭된다.

오프셋 화상 혼입에 대하여, 방사선 화상 획득 이전에 미리 오프셋 화상을 판독하고 미리 대응 정보를 저장하는 체계와, 방사선 화상 획득 직전 또는 직후에 오프셋 화상을 획득하는 체계를 이용할 수 있다. FPD를 사용한 동화상 획득 수행시, 방사선 화상의 취득 직전 및 직후에 오프셋 화상을 획득하는 체계는 2회의 촬상 간격을 필요로 하며, 오프셋 화상을 미리 획득하는 체계보다 2배의 노이즈를 유발한다. 더 낮은 노이즈 및 더 높은 프레임 레이트를 달성하기 위해 최근에 FPD를 사용한 동화상 촬영이 요구되고 있다. 이들 요건에 관하여, 미리 오프셋 화상을 획득하는 방법이 더욱 바람직하다. 이런 체계에서, 오프셋 화상은 각 촬상 모드에 대해 준비되고, 오프셋 화상은 촬상 모드에 따라 전환된다.

오프셋 성분이 촬상 모드가 전환된 직후 과도적으로 변한다는 것이 알려져 있다. 추가적으로, 이러한 과도 변화가 재현성이 높지 않기 때문에, 미리 획득된 오프셋 화상을 사용하여 촬상 모드 전환 직후 방사선 화상을 적절하게 보정하는 것이 어렵다. 이는 화상에 아티팩트의 중첩을 초래한다.

일본 특허 공개 제2014-108284호는 과도적으로 변하는 성분의 보정을 위해 미리 과도 오프셋 화상 데이터를 획득하고 이 과도 오프셋 화상 데이터를 사용하여 촬상 모드 전환 직후 예로서 다수의 방사선 화상을 보정하는 기술을 개시하고 있다.

그러나, 일본 특허 공개 제2014-108284호에 개시된 이 기술은 촬상 이전에 모든 촬상 모드 전환 패턴에 기초하여 미리 과도 오프셋 화상 데이터를 획득할 필요가 있다. 이러한 데이터의 획득에는 많은 시간이 소요된다. 추가적으로, 방대한 양의 과도 오프셋 화상 데이터가 요구된다.

본 발명은 모드 전환 직후 화상 품질의 열화를 억제하는 데 유리한 기술을 제공한다.

본 발명의 제1 양태는 방사선 촬상 장치를 제공하며, 이는 복수의 행과 복수의 열을 형성하도록 배열된 복수의 화소를 갖는 화소 어레이; 복수의 모드 중 선택된 모드에 따라 화소 어레이의 복수의 행을 주사하도록 구성된 주사 회로; 및 주사 회로에 의한 주사시 선택된 행 상의 화소로부터 신호를 판독하도록 구성되는 판독 회로를 포함하고, 복수의 모드는 제1 프레임 레이트에서 촬상을 수행하는 제1 모드 및 제1 프레임 레이트보다 낮은 제2 프레임 레이트에서 촬상을 수행하는 제2 모드를 포함하고, 제2 모드에서의 하나의 프레임 기간 내에 주사 회로에 의해 복수의 행을 주사하는 횟수는 제1 모드에서 하나의 프레임 기간 내에 주사 회로에 의해 복수의 행을 주사하는 횟수보다 많은 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제2 양태는 방사선 촬상 시스템을 제공하며, 이는 방사선을 발생시키도록 구성된 방사선 소스; 및 제1 양태에 규정된 바와 같은 방사선 촬상 장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제3 양태는 방사선 촬상 장치를 동작시키는 방법을 제공하며, 방사선 촬상 장치는 복수의 행과 복수의 열을 형성하도록 배열된 복수의 화소를 갖는 화소 어레이, 복수의 모드 중의 선택된 모드에 따라 화소 어레이의 복수의 행을 주사하도록 구성된 주사 회로 및 주사 회로에 의한 주사시 선택된 행 상의 화소로부터 신호를 판독하도록 구성된 판독 회로를 포함하고, 상기 방법은 복수의 모드가 제1 프레임 레이트에서 촬상을 수행하는 제1 모드 및 제1 프레임 레이트보다 낮은 제2 프레임 레이트에서 촬상을 수행하는 제2 모드를 포함하고, 제2 모드에서 하나의 프레임 기간 내에 주사 회로에 의해 복수의 행을 주사하는 횟수는 제1 모드에서 하나의 프레임 기간 내에 주사 회로에 의해 복수의 행을 주사하는 횟수보다 많은 것을 특징으로 한다.

첨부 도면을 참조하는 예시적 실시예에 대한 후속 설명으로부터 본 발명의 다른 특징을 명백히 알 수 있을 것이다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 방사선 촬상 시스템의 배열을 도시하는 블록도이다.
도 2는 도 1의 방사선 촬상 시스템의 방사선 촬상 장치의 촬상부의 등가 회로를 예시적으로 도시하는 회로도이다.
도 3은 도 1의 방사선 촬상 장치 및 방사선 촬상 시스템을 동작시키는 방법을 예시적으로 도시하는 흐름도이다.
도 4는 모드 전환에 동반되는 오프셋 성분의 과도 변화를 예시적으로 도시하는 그래프이다.
도 5는 제1 모드에서의 동작을 예시적으로 도시하는 타이밍 차트이다.
도 6은 제2 모드에서의 동작을 예시적으로 도시하는 타이밍 차트이다.
도 7은 제3 모드에서의 동작을 예시적으로 도시하는 타이밍 차트이다.

첨부 도면을 참조로 예시적 실시예를 통해 본 발명을 후술한다. 방사선은 X 선에 추가로 α 선, β 선 및 γ 선을 포함한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 방사선 촬상 시스템(RIS)의 배열을 도시한다. 방사선 촬상 시스템(RIS)은 X 선 같은 방사선으로 대상물을 조사하고 대상물을 투과한 X 선을 검출함으로써 대상물의 방사선 화상을 획득한다. 방사선 촬상 시스템(RIS)은 예로서 방사선 소스(112), 노광 제어기(113), 제어기(111) 및 방사선 촬상 장치(100)를 포함할 수 있다. 노광 제어기(113)는 조작자에 의해 발령된 노광 명령에 응답하여 방사선 소스(112)가 방사선을 발생시키게 한다. 제어기(111)는 방사선 촬상 장치(100)를 제어하고 방사선 촬상 장치(100)로부터 방사선 화상을 획득한다. 제어기(111)는 또한 노광 제어기(113)를 제어한다.

방사선 촬상 장치(100)는 방사선 화상을 촬영하는 촬상부(104), 제어기(111)와 통신을 수행하는 통신부(107), 촬상부(104)를 제어하는 제어기(106) 및 촬상부(104)에 전력을 공급하는 급전부(108)를 포함할 수 있다. 방사선 촬상 장치(100)는 또한 촬상부(104)로부터의 화상 출력을 해석하는 해석부(109) 및 화상을 연산 처리하는 프로세서(105)를 포함할 수 있다. 방사선 촬상 장치(100)의 구성 요소 중 일부는 제어기(111)에 통합될 수 있다. 대안적으로, 방사선 촬상 장치(100)와 제어기(111)는 통합될 수 있다. 예로서, 도 1에 도시된 경우에, 해석부(109)와 프로세서(105)는 방사선 촬상 장치(100)에 통합된다. 그러나, 해석부(109) 및 프로세서(105)는 제어기(111)에 통합될 수 있다.

촬상부(104)는 예로서, 화소 어레이(101), 주사 회로(102) 및 판독 회로(103)를 포함할 수 있다. 화소 어레이(101)는 복수의 행과 복수의 열을 형성하도록 배열된 복수의 화소를 갖는다. 주사 회로(102)는 복수의 모드(촬상 모드)로부터 선택된 모드에 따라 화소 어레이(101)의 복수의 행을 주사한다. 판독 회로(103)는 화소 어레이(101)로부터 신호를 판독한다. 더 구체적으로, 판독 회로(103)는 주사 동작에서 주사 회로(102)에 의해 선택된 화소 어레이(101)의 복수의 행 중의 행 상의 화소로부터 신호를 판독한다. 화소 어레이(101)로부터 신호를 판독하는 것은 화소 어레이(101)로부터의 출력된 신호를 처리하고 처리된 신호에 대응하는 신호를 출력하는 것이다.

도 2는 촬상부(104)의 등가 회로를 예시적으로 도시한다. 화소(PIX)는 방사선 또는 광을 전하로 변환하는 변환 소자(201) 및 전하에 대응하는 전기 신호를 출력하는 스위치 소자(202)를 포함할 수 있다. 예로서, 변환 소자(201)는 변환 소자(201)에 조사되는 광을 전하로 변환하는 광전 변환 소자이고, 유리 기판 같은 절연 기판 상에 배열되고 주 재료로서 비정질 실리콘으로 이루어진 PIN 광다이오드 또는 MIS 광다이오드이다. 추가적으로, 변환 소자(201)로서 광전 변한 소자에 의해 검출될 수 있는 파장 영역의 광으로 방사선을 변환하는 파장 변환기를 포함하는 간접 변환 소자 또는 방사선을 전하로 직접 변환하는 직접 변환 소자를 사용하는 것이 가능하다.

스위치 소자(202)로서 제어기 단자와 두 개의 주 단자를 갖는 트랜지스터, 예로서, TFT(박막 트랜지스터)를 사용하는 것이 가능하다. 변환 소자(201)의 하나의 전극은 스위치 소자(202)의 주 단자 중 하나에 전기적으로 접속되고, 다른 전극은 공통 바이어스 라인(Vs)을 거쳐 전력 공급부(108)에 전기적으로 접속된다. 도 2를 참조하면, 변환 소자(201)를 서로 구분하기 위해 각 변환 소자(201)에는 부호 "Sij"(i는 행 번호를 나타내고, j는 열 번호를 나타냄)가 할당되어 있다. 추가적으로, 스위치 소자(202)를 서로 구별하기 위해, 각 스위치 소자(202)에는 부호 "Tij"(i는 행 번호를 나타내고, j는 열 번호를 나타냄)가 할당되어 있다.

하나의 행을 구성하는 복수의 화소(PIX)의 스위치 소자(202)의 제어 단자는 대응 행의 구동 라인(Gi)(i는 행 번호를 나타냄)에 접속되어 있다. 예로서, 제1 행을 구성하는 복수의 화소(PIX)의 스위치 소자(T11 내지 T1n)의 제어 단자는 제1 행의 구동 라인(G1)에 전기적으로 접속되어 있다. 따라서, 주사 회로(102)에 의해 구동되는 화소 어레이(101)의 복수의 화소(PIX)의 최소 단위는 하나의 행을 구성하는 화소(PIX)이다.

하나의 열을 구성하는 복수의 화소(PIX)의 스위치 소자(202) 각각의 다른 주 단자는 대응 열의 신호 라인(Sigj)(j는 열 번호를 나타냄)에 접속된다. 예로서, 제1 열을 구성하는 복수의 화소(PIX)의 스위치 소자(T11 내지 Tm1)의 주 단자는 제1 열의 신호 라인(Sig1)에 전기적으로 접속된다. 스위치 소자(202)가 전도 상태에 있는 동안, 변환 소자(201)의 전하에 대응하는 전기 신호가 신호 라인(Sigj)을 거쳐 판독 회로(103)에 출력된다. 복수의 신호 라인(Sig1 내지 Sign)은 판독 회로(103)에 전기적으로 접속된다.

판독 회로(103)는 복수의 신호 라인(Sig1 내지 Sign)을 거쳐 화소 어레이(101)로부터 병렬적으로 출력되는 복수의 전기 신호를 각각 증폭하는 복수의 증폭 회로(200)를 포함한다. 각 증폭 회로(200)는 적분 증폭기(203), 가변 증폭기(204), 샘플/유지 회로(205) 및 버퍼 증폭기(206)를 포함할 수 있다. 적분 증폭기(203)는 신호 라인(Sigj)을 통한 전기 신호 출력을 증폭한다. 가변 증폭기(204)는 적분 증폭기(203)로부터의 전기 신호를 증폭한다. 샘플/유지 회로(205)는 가변 증폭기(204)로부터의 전기 신호를 샘플링 및 유지한다. 버퍼 증폭기(206)는 샘플/유지 회로(205)로부터의 전기 신호를 버퍼링한다.

적분 증폭기(203)는 예로서, 연산 증폭기(211), 적분 용량(212) 및 리셋 스위치(213)를 포함할 수 있다. 연산 증폭기(211)는 신호 라인(Sigj)을 거쳐 제공되는 전기 신호를 수신하는 반전 입력 단자, 기준 전력 공급부(110)로부터 기준 전압(Vref)을 수신하는 비반전 입력 단자 및 출력 단자를 갖는다. 적분 용량(212) 및 리셋 스위치(213)는 반전 입력 단자와 출력 단자 사이에 병렬로 배열된다. 적분 용량(212)은 가변 용량값(Cf)을 가질 수 있다. 샘플/유지 회로(205)는 예로서 샘플링 스위치(221) 및 샘플링 용량(222)에 의해 구성될 수 있다.

판독 회로(103)는 멀티플렉서(207), 버퍼 증폭기(208) 및 A/D 변환기(209)를 더 포함할 수 있다. 멀티플렉서(207)는 복수의 증폭 회로(200)로부터 병렬로 출력되는 전기 신호를 순차 선택하고 이들을 화상 신호로서 출력한다. 버퍼 증폭기(208)는 멀티플렉서(207)로부터 출력된 화상 신호를 임피던스 변환하고 아날로그 전기 신호를 화상 신호(Vout)로서 출력한다. A/D 변환기(209)는 버퍼 증폭기(208)로부터 출력된 화상 신호(Vout)를 디지털 화상 데이터로 변환하고, 이를 프로세서(105) 및 해석부(109)에 제공한다.

주사 회로(102)는 구동 신호(Gi)를 발생시키고, 이들을 제어기(106)로부터 공급되는 제어 신호(D-CLK, OE 및 DIO)에 따라 구동 라인(Gi)에 출력한다. 본 명세서에서, 각 신호 라인 및 신호 라인에 출력된 신호에는 동일한 참조 부호가 할당되어 있음을 유의하여야 한다. 각 구동 신호(Gi)는 화소(PIX)의 스위치 소자(202)를 전도 상태로 설정하는 전도 전압(Vcom) 및 스위치 소자(202)를 비전도 상태로 설정하는 비전도 전압(Vss)을 갖는다.

예로서, 주사 회로(102)는 시프트 레지스터를 포함할 수 있다. 제어 신호 D-CLK는 시프트 레지스터가 시프트 동작을 수행하게 하는 시프트 클록이다. 제어 신호 DIO는 시프트 레지스터에 의해 전달되는 펄스이다. 제어 신호 OE는 시프트 레지스터의 출력 단자를 제어하기 위한 신호이다. 추가적으로, 제어기(106)는 제어 신호(RC, SH, CLK)를 판독 회로(103)에 공급함으로써 판독 회로(103)를 제어한다. 이러한 경우에, 제어 신호 RC는 적분 증폭기(203)의 리셋 스위치(213)를 제어하고, 제어 신호 SH는 샘플/유지 회로(205)의 샘플링 스위치(221)를 제어하며, 제어 신호 CLK는 멀티플렉서(207)를 제어한다.

도 3은 방사선 촬상 장치(100) 및 방사선 촬상 시스템(RIS)을 동작시키는 방법을 예시적으로 도시한다. 방사선 촬상 장치(100)의 전력 공급이 온 상태로 전환되면 방사선 촬상 장치(100)는 단계 S301에서 방사선 촬상 장치(100)의 동작을 안정화하기 위한 시동 동작을 수행한다. 제어기(106)는 이러한 동작을 제어할 수 있다. 시동 동작에서, 리셋 동작이 수행되어 암전류(dark current)로부터 유래되어 축적된 전하를 제거한다. 리셋 동작은 스위치 소자(202)를 전도 상태로 설정함으로써 변환 소자(201)에 축적된 전하를 리셋하는 동작이다. 리셋 동작은 주사 회로(102)가 주사하게 함으로써 적어도 화소 어레이(101)를 구성하는 복수의 행 각각에 대해 수행된다. 예로서, 리셋 동작에서, 리셋 스위치(213)가 전도 상태로 설정되어 연산 증폭기(211)를 전압 종동 상태로 설정하고, 그에 의해, 신호 라인(Sigj)을 기준 전압(Vref)으로 고정한다. 이러한 상태에서, 스위치 소자(202)를 전도 상태로 설정하는 것은 변환 소자(201)에 축적된 전하를 제거하고 변환 소자(201)의 전압을 리셋할 것이다.

단계 S302에서, 오프셋 화상이 획득된다. 제어기(106)는 이러한 동작을 제어할 수 있다. 오프셋 화상은 방사선으로 방사선 촬상 장치(100)를 조사하지 않고 촬상 동작을 수행함으로써 얻어진다. 오프셋 화상은 복수회(예를 들어, 30회) 촬상을 수행하고, 획득된 화상을 처리(예로서, 평균화)함으로써 얻어진다. 촬상 동작은 화소 어레이(101)의 복수의 화소(PIX)에 전하를 축적하고, 주사 회로(102)가 화소 어레이(101)의 복수의 행을 순차 선택(주사)하게 하고, 판독 회로(103)가 각 선택된 행의 화소(PIX)로부터 신호를 판독하게 하는 것을 포함한다.

방사선 촬상 장치(100)는 복수의 모드(촬상 모드)를 갖는다. 제어기(106)는 조작자에 의해 조작되는 제어기(111)를 거쳐 모드를 지정하기 위한 정보를 통지받을 수 있다. 복수의 모드는 적어도 프레임 레이트(단위 시간당 얻어지는 프레임의 수(촬상 횟수)), 판독 회로(103)의 신호 증폭 인자(이득), 화소 합(비닝(binning)) 또는 촬상 범위가 다르다. 복수의 모드는 예로서 제1 프레임 레이트에서 방사선 화상을 촬영하는 제1 모드와 제1 프레임 레이트보다 낮은 제2 프레임 레이트에서 방사선 화상을 촬영하는 제2 모드를 포함한다. 달리 말하면, 제1 모드는 제1 기간에 1 프레임 방사선 화상을 포착하는 모드이고, 제2 모드는 제1 기간보다 긴 제2 기간에 1 프레임 방사선 화상을 촬영하는 모드이다. 복수의 모드는 제1 및 제2 모드 이외에 하나 또는 복수의 모드를 포함할 수 있다.

오프셋 화상은 각각의 모드에 대해 얻어진다. 예로서, 제어기(106)는 제1 모드가 설정된 동안 오프셋 화상을 획득하고 제2 모드가 설정된 동안 오프셋 화상을 획득하도록 제어를 실행한다.

오프셋 화상이 단계 S302에서 획득된 이후, 제어기(106)는 단계 S303에서 조작자에 의해 설정된 모드에서 투시촬영(동화상 촬영)을 실행한다. 더 구체적으로, 제어기(106)는 조작자에 의해 설정된 모드에 규정된 프레임 레이트, 신호 증폭 인자(이득), 화소 합(비닝) 및 촬상 범위에 따라서 촬상 동작을 반복한다. 투시촬영에서, 방사선 촬상 장치(100)는 방사선 소스(112)로부터의 방사선으로 간헐적으로 조사되어 방사선 조사와 동기화하여 촬상 동작을 반복한다.

이 경우에, 장시간에 걸쳐 투시촬영을 수행할 때, 방사선 촬상 장치(100)에 의해 촬영된 화상에 포함된 오프셋 성분이 환경적 온도 등의 변화에 따라 변하여 적절한 오프셋 보정을 수행할 수 없게 한다. 결과적으로, 아티팩트가 화상에 형성될 수 있다. 단계 S305에서, 제어기(106)는 오프셋 화상을 갱신할지 여부를 판정한다. 제어기(106)는 투시촬영 시간, 온도 등에 따라, 또는, 조작자로부터의 명령에 따라 오프셋 화상을 갱신할 것을 판단할 수 있다. 오프셋 화상을 갱신하기로 판정시, 프로세스는 단계 S302로 복귀되어 다시 오프셋 화상을 획득한다. 오프셋 화상을 다시 획득할 때, 방사선 소스(112)는 방사선의 간헐적 조사를 중단한다. 오프셋 화상 재획득 완료시, 프로세스는 단계 S303에서의 투시촬영으로 복귀된다.

투시촬영은 임의의 시간에 종결될 수 있다. 또한, 투시촬영 동안 모드를 전환하는 것도 가능하다. 투시촬영의 종결시, 방사선 소스(112)는 방사선의 간헐적 조사를 중단하고, 방사선 촬상 장치(100)는 촬상 동작을 중단한다. 조작자가 모드 전환 명령을 발령할 때, 제어기(111)는 모드 전환을 요청하는 커멘드를 방사선 촬상 장치(100)의 제어기(106)에 전송한다. 단계 S307에서, 제어기(106)는 제어기(111)로부터의 커멘드에 따라서 모드를 전환한다. 추가적으로, 조작자가 제어기(111)에 모드 전환을 위한 명령을 발령할 때, 제어기(111)는 방사선 소스(112)가 방사선 발생을 일시적으로 중지하게 하는 커멘드를 노광 제어기(113)에 전송하고, 방사선 발생을 일시적으로 정지시킨다. 방사선 촬상 장치(100)가 투시촬영이 재개되는 상태를 설정하도록 모드를 전환할 때, 제어기(111)는 방사선 소스(112)가 방사선 조사를 개시하게 하는 커멘드를 노광 제어기(113)에 관하여 전송한다. 단계 S303에서, 투시촬영은 새로운 모드에서 개시된다. 방사선 촬상 장치(100)의 제어기(106)가 판독 회로(103)로부터 주어진 프레임의 화상을 판독하는 동안 모드 전환에 대한 커멘드를 수신하면, 제어기(106)는 프레임의 화상의 판독시 모드를 전환한다.

전술한 바와 같이, 모드 전환 직후 오프셋 성분은 과도적으로 변한다는 것이 알려져 있다. 추가적으로, 과도 변화가 비교적 긴 시간 동안 지속되기 때문에, 오프셋 화상이 과도 상태에서의 오프셋 보정을 위해 준비되더라도, 적절한 오프셋 보정을 수행하기가 어렵다. 출력 이미지에 아티팩트가 중첩된다.

본 발명자는 과도적으로 변하는 오프셋 성분이 모드 전환 전후의 프레임 레이트 사이의 차이(변화량)와 상관관계를 갖는다는 것을 확인하였다. 더 구체적으로, 모드 전환 이전과 이후의 프레임 레이트 사이의 차이가 크면, 과도적으로 변하는 오프셋 성분이 크고, 과도 변화의 종료까지 긴 시간이 소요된다. 이에 대조적으로, 모드 전환 이전과 이후의 프레임 레이트 사이의 차이가 작으면, 과도적으로 변하는 오프셋 성분이 작고, 과도 변화의 종료까지 짧은 시간이 소요된다.

도 4는 모드 전환에 동반되는 오프셋 성분의 과도 변화를 예시적으로 도시하는 그래프이다. 모드 A 및 C는 동일한 프레임 레이트를 갖는 고 프레임 레이트 모드이다. 모드 B는 모드 A 및 C보다 낮은 프레임 레이트를 갖는 저 프레임 레이트 모드이다. 모드 A에서 모드 B로의 전환 직후 및 모드 B에서 모드 A로의 전환 직후 오프셋 성분의 과도 변화가 크고, 변화의 종료까지 긴 시간이 소요된다. 이에 대조적으로, 모드 A가 모드 C로 전환될 때, 이는 프레임 레이트의 변화가 없는 모드 전환이고, 오프셋 성분의 과도 변화가 작으며, 변화의 종료까지 짧은 시간을 소요한다. 모드 A 및 모드 C는 예로서 화소 합(비닝) 또는 판독 회로(103)의 신호 증폭 인자(이득)가 다르지만 동일한 프레임 레이트를 갖는 모드이다.

상술한 결과로부터 모드 전환에 동반되는 오프셋 성분의 과도 변화의 크기는 단위 시간당 각 스위치 소자(202)의 토글 카운트, 달리 말하면, 단위 시간당 주사 회로(102)에 의한 화소 어레이(101) 상의 주사 횟수와 강한 상관관계를 갖는다. 스위치 소자(202)의 토글링은 스위치 소자(202)의 온/오프 동작을 나타낸다. 주사 회로(102)가 화소 어레이(101)를 주사하게 하는 것은 화소 어레이(101)의 복수의 행을 순차 선택하고 각 선택된 행 상의 화소(PIX)의 스위치 소자(202)를 오프 상태(비전도 상태)로부터 온 상태(전도 상태)로 전환하는 것이다.

즉, 단위 시간당 주사 회로(102)에 의해 화소 어레이(101)를 주사하는 횟수가 모드 전환에 동반되어 변화하는 것을 방지함으로써 모드 전환에 동반되는 오프셋 성분의 변화를 억제할 수 있다. 주사 회로(102)는 화소(PIX)(변환 소자(201))를 리셋할 때 및 화소(PIX)로부터 신호를 판독할 때 양자 모두의 경우에 화소 어레이(101)를 주사한다. 이 때문에, 저 프레임 레이트 모드에서 프레임당 리셋 횟수의 증가는 프레임 레이트의 변화에 동반되는 모드 전환에 의해 유발되는 오프셋 성분의 변화를 적어도 감소시킬 수 있다.

도 5 및 도 6은 상술한 개념에 기초한 두 가지 모드의 동작을 예시적으로 도시한다. 여기서, 제1 프레임 레이트에서 방사선 화상을 촬영하는 제1 모드와 제1 프레임 레이트보다 낮은 제2 프레임 레이트에서 방사선 화상을 촬영하는 제2 모드를 고려한다. 도 5는 제1 모드에서의 동작을 예시적으로 도시한다. 도 6은 제2 모드에서의 동작을 예시적으로 도시한다. 제1 모드에서의 동작을 먼저 설명한다. 제1 모드에서 하나의 프레임 기간은 인가된 방사선에 대응하는 신호가 복수의 화소(PIX)에 축적되는 축적 기간과 주사 회로(102)가 복수의 행을 주사하는 동안 판독 회로(103)가 화소 어레이(101)로부터 하나의 프레임에 대응하는 신호를 판독하는 판독 기간을 포함한다. 축적 기간의 동작은 축적 동작이라 지칭된다. 판독 기간의 동작은 판독 동작이라 지칭된다. 축적 기간 동안, 비전도 전압(Vss)이 모든 화소(PIX)의 스위치 소자(202)에 인가되고, 따라서, 모든 화소(PIX)의 스위치 소자(202)가 비전도 상태가 된다. 축적 기간이 끝나면, 기간은 판독 기간으로 변한다. 판독 기간 동안, 판독 회로(103)는 주사 회로(102)가 화소 어레이(101)의 복수의 행을 주사하는 동안 화소 어레이(101)의 복수의 화소(PIX)로부터 신호를 판독한다. 주사 회로(102)에 의해 수행되는 주사는 제1 행의 구동 라인(G1)으로부터 m번째 행의 구동 라인(Gm)까지 구동 라인을 순차 선택하는 동작이다. 즉, 판독 기간 동안, 주사 회로(102)는 제1 행의 구동 라인(G1)으로부터 m번째 행의 구동 라인(Gm)까지 구동 라인에 전도 전압(Vcom)을 순차 공급하고(즉, 행들은 제1 행부터 m번째 행까지 순차 선택됨), 판독 회로(103)가 각 선택된 행의 화소(PIX)로부터 신호를 판독한다. 상술한 방식에서, 제1 모드에서, 하나의 프레임 기간 동안 화소 어레이(101)의 복수의 행 상에 단 한번의 주사가 수행된다.

제2 모드에서의 동작을 설명한다. 제2 모드에서 하나의 프레임 기간은 인가된 방사선에 대응하는 신호가 복수의 화소(PIX)에 축적되는 축적 기간과 주사 회로(102)가 복수의 행을 주사하는 동안 판독 회로(103)가 화소 어레이(101)로부터 하나의 프레임에 대응하는 신호를 판독하는 판독 기간을 포함한다. 제2 모드에서의 하나의 프레임 기간은 하나 또는 복수의 리셋 기간을 포함한다. 하나의 리셋 기간은 주사 회로(102)가 화소 어레이(101)의 복수의 행을 주사하여 화소 어레이(101)의 복수의 화소(PIX)를 리셋하는 기간이다. 리셋 기간에서의 동작은 리셋 동작이라 지칭된다.

제2 모드에서의 축적 기간은 제1 모드에서의 축적 기간보다 더 길다. 이 때문에, 제2 모드에서의 프레임 레이트는 제1 모드에서의 프레임 레이트보다 낮다. 따라서, 제2 모드에서의 하나의 프레임 기간이 축적 기간과 판독 기간만을 포함하는 경우, 단위 시간당 화소 어레이(101)의 주사 횟수는 제1 모드에서의 주사 횟수보다 작다. 따라서, 제2 모드에서, 하나의 프레임 기간은 축적 기간과 판독 기간에 추가로 리셋 기간을 포함한다. 결과적으로, 제2 모드에서 하나의 프레임 기간의 주사 회로(102)에 의한 화소 어레이(101)의 복수의 행의 주사 횟수는 제1 모드에서 하나의 프레임 기간의 주사 회로(102)에 의한 화소 어레이(101)의 복수의 행의 주사 횟수보다 더 크다.

동화상 촬영에서, 복수의 프레임 기간이 연속되기 때문에, 리셋 기간은 판독 기간 이후 또는 축적 기간 이전에 제공될 수 있다. 제2 모드에서 판독 기간의 판독 동작은 제1 모드에서 판독 동작과 유사하다. 리셋 기간 동안, 주사 회로(102)는 제1 행의 구동 라인(G1)으로부터 m번째 행의 구동 라인(Gm)까지 구동 라인을 주사한다. 즉, 리셋 기간 동안, 주사 회로(102)는 제1 행의 구동 라인(G1)으로부터 m번째 행의 구동 라인(Gm)까지 구동 라인에 전도 전압(Vcom)을 순차 공급하여(즉, 행들은 제1 행부터 m번째 행까지 순차 선택됨) 각 선택된 행의 화소(PIX)의 변환 소자(201)를 리셋한다.

제2 모드에서의 하나의 프레임 기간이 복수의 리셋 기간을 포함할 때, 복수의 리셋 기간의 최종 리셋 기간에서의 주사 시간(화소 어레이(101)의 복수의 행을 주사하기 위해 주사 회로(102)에 요구되는 시간)은 바람직하게는 제2 모드에서 판독 기간의 주사 시간(주사 회로(102)가 화소 어레이(101)의 복수의 행을 주사하기 위해 요구되는 시간)과 동일하다. 더 구체적으로, 리셋 기간에서 동시에 선택된 행의 수는 판독 기간에서 동시에 선택된 행의 수와 동일한 것이 바람직하고, 리셋 기간에서 주어진 행의 선택의 개시부터 다음 행의 선택의 개시까지의 시간(라인 시간)은 판독 기간의 라인 시간과 동일한 것이 바람직하다.

최종 리셋 기간에서의 주사 시간이 후속 판독 기간에서의 주사 시간과 다른 경우, 최종 리셋 기간에서 i번째 행의 리셋으로부터 후속 판독 기간에서 i번째 행의 판독까지의 시간은 복수의 행 사이에서 변한다. 이 때문에, 시간 적분에 의해 중첩되는 아티팩트 성분(예로서, 암전류 및 잔류 화상)은 각각의 행 사이에서 변한다. 결과적으로, 아티팩트가 화상 상에 중첩되거나 아티팩트 보정의 수행이 어려워지게 된다.

아티팩트는 후속 판독 기간에서의 주사 시간과 최종 리셋 기간에서의 주사 시간을 균등화함으로써 감소 또는 쉽게 보정될 수 있다. 이는 고품질 화상의 제공을 가능하게 한다.

추가적으로, 하나의 프레임 기간에서의 복수의 리셋 기간 중 최종 리셋 기간 이전의 리셋 기간의 주사 시간은 최종 리셋 기간의 주사 시간 보다 짧은 것이 바람직하다. 예로서, 하나의 프레임 기간에서의 복수의 리셋 기간 중 최종 리셋 기간 이전의 리셋 기간의 주사 시간은 최종 리셋 기간의 주사 시간의 1/5 이하인 것이 바람직하다. 대안적으로, 주사 회로(102)는 하나의 프레임 기간의 복수의 리셋 기간 중 최종 리셋 기간 이전의 리셋 기간에서 적어도 두 개의 행을 증분으로 화소 어레이(101)의 복수의 행을 주사할 수 있다. 이런 제어는 주사 시간 단축 및 주사 횟수 증가에 유리하고, 모드 사이의 단위 시간당 주사 횟수의 차이를 감소시키는 데 유리하다.

모드들 사이에서 단위 시간당 주사 횟수에 차이가 없는 것이 이상적이다. 그러나, 저 프레임 레이트 모드에서 하나의 프레임 기간에 리셋 기간을 삽입함으로써 고 프레임 레이트를 갖는 제1 모드와 저 프레임 레이트를 갖는 제2 모드 사이의 단위 시간당 주사 횟수의 차이가 감소되는 경우, 대등한 효과가 얻어질 수 있다.

전술한 바와 같이, 모드 사이의 단위 시간당 주사 횟수의 차이를 감소시키도록 다른 모드 보다 낮은 프레임 레이트를 갖는 모드에서 프레임 기간에 리셋 기간을 삽입함으로써 모든 전환시 오프셋 성분의 과도 변화를 감소시키는 것이 가능하다. 이는 과도 변화의 시간에 화상에 대한 오프셋 보정을 위해 더 많은 양의 오프셋 화상을 획득하기 위해 필요한 시간을 단축시키고, 오프셋 화상을 보유하기 위해 요구되는 메모리 영역을 감소시키는 것을 가능하게 한다.

상술한 설명에 따르면, 저 프레임 모드에서 하나의 프레임 기간 내에 리셋 기간을 삽입하는 것은 높은 프레임 레이트를 갖는 제1 모드와 낮은 프레임 레이트를 갖는 제2 모드 사이의 단위 시간당 주사 횟수의 차이를 감소시킬 것이다. 그러나, 유사한 효과는 하나의 프레임 기간 내에 더미 판독 기간을 삽입하는 것에 의해서도 얻어질 수 있다. 더미 판독 기간은 정상적 판독 기간과 동일할 수 있지만, 더미 판독 기간에 판독 회로(103)에 의해 판독되는 신호는 일반적으로 사용되지 않을 것이다. 대안적으로, 화소(PIX)를 리셋하지 않고 복수의 행이 주사되는 주사 기간이 하나의 프레임 기간에 삽입될 수 있다. 대안적으로, 리셋 기간, 더미 판독 기간 및 주사 기간 중 적어도 하나가 하나의 프레임 기간 내에 삽입될 수 있다. 대안적으로, 더미 판독 기간 및 주사 기간 중 적어도 하나가 하나의 프레임 기간에 삽입될 수 있고, 리셋 기간이 그후 삽입될 수 있다.

셋 이상의 모드를 갖는 방사선 촬상 장치의 동작을 후술한다.

먼저 제1, 제2 및 제3 모드를 갖는 방사선 촬상 장치(100)의 동작을 설명하며, 각 모드의 프레임 레이트 사이의 크기 관계는 제1 모드 > 제3 모드 > 제2 모드로 표현된다. 제1 및 제2 모드가 전술한 관계를 갖는다고 가정한다. 도 7은 제3 모드에서의 동작을 예시적으로 도시한다. 제3 모드에서, 리셋 횟수는 1회이다. 제3 모드에서 하나의 프레임 기간에서의 리셋 횟수는 바람직하게는 제1 모드에서 하나의 프레임 기간 내의 것보다는 작고 제2 모드에서 하나의 프레임 기간 내의 것보다는 크다. 리셋 횟수는 제1, 제2 및 제3 모드 사이에서 단위 시간당 주사 횟수의 차이를 감소 또는 바람직하게는 제거하도록 판정된다. 도 7에 도시된 제3 모드에서 리셋 횟수는 1회이고, 리셋 기간의 주사 시간은 바람직하게는 판독 기간의 주사 시간과 같다. 더 구체적으로, 리셋 기간에서 주사시 동시에 선택된 행의 수는 판독 기간에서 동시에 선택된 행의 수와 동일한 것이 바람직하고, 리셋 기간에서 주어진 행의 선택의 개시부터 다음 행의 선택의 개시까지의 시간(라인 시간)은 판독 기간의 라인 시간과 동일한 것이 바람직하다. 전술한 바와 같이, 이런 제어는 아티팩트를 감소시키고 이들의 보정을 용이하게 하며, 고 품질 화상의 제공에 유리하다.

다음에, 제1, 제2 및 제4 모드를 갖는 방사선 촬상 장치(100)의 동작을 설명하며, 각 모드의 프레임 레이트 사이의 크기 관계는 제1 모드 ≒ 제4 모드 > 제2 모드로 표현된다. 제1 및 제2 모드가 전술한 관계를 갖는다고 가정한다. 제4 모드에서의 동작은 기본적으로 제1 모드의 것과 동일하며, 제2 모드에서 실행되는 것과 유사한 어떠한 리셋 동작도 필요하지 않다. 이는 제1 모드로부터 제4 모드로 모드 전환이 수행될 때에도 프레임 레이트 차이를 감소시키는 것이 또한 과도 변화 성분으로부터 유래되는 아티팩트를 감소시킬 것이기 때문이다.

다른 실시예

본 발명의 실시예(들)는 또한 상술된 실시예(들) 중 하나 이상의 기능들을 수행하도록 기억 매체(더욱 완전하게는 '비-일시적 컴퓨터 판독가능 기억 매체'로도 지칭될 수 있음)에 기록된 컴퓨터 실행가능 명령어(예를 들어, 하나 이상의 프로그램)를 판독하여 실행하는 그리고/또는 상술한 실시예(들) 중 하나 이상의 기능들을 수행하기 위한 하나 이상의 회로(예를 들어, 용도 특정 집적 회로(ASIC))를 포함하는 시스템 또는 장치의 컴퓨터에 의해, 그리고 예를 들어, 상술된 실시예(들) 중 하나 이상의 기능들을 수행하도록 기억 매체로부터의 컴퓨터 실행가능 명령어를 판독하여 실행함으로써 그리고/또는 상술된 실시예(들) 중 하나 이상의 기능들을 수행하도록 하나 이상의 회로를 제어함으로써 시스템 또는 장치의 컴퓨터에 의해 수행되는 방법에 의해 실현될 수 있다. 컴퓨터는 하나 이상의 프로세서(예를 들어, 중앙 처리 장치(CPU), 마이크로 처리 장치(MPU))를 포함할 수 있고 컴퓨터 실행가능 명령어들을 판독하여 실행하는 별도의 컴퓨터 또는 별도의 프로세서의 네트워크를 포함할 수 있다. 컴퓨터 실행가능 명령어는 예를 들어, 네트워크 또는 기억 매체로부터 컴퓨터에 제공될 수 있다. 기억 매체는 예를 들어, 하드 디스크, 랜덤-액세스 메모리(RAM), 리드 온리 메모리(ROM), 분산 컴퓨팅 시스템의 저장 장치, 광학 디스크(예를 들어, 컴팩트 디스크(CD), 디지털 다기능 디스크(DVD), 또는 블루 레이 디스크(BD™)), 플래시 메모리 디바이스, 메모리 카드 등의 하나 이상을 포함할 수 있다.

(기타의 실시예)

본 발명은, 상기의 실시형태의 1개 이상의 기능을 실현하는 프로그램을, 네트워크 또는 기억 매체를 개입하여 시스템 혹은 장치에 공급하고, 그 시스템 혹은 장치의 컴퓨터에 있어서 1개 이상의 프로세서가 프로그램을 읽어 실행하는 처리에서도 실현가능하다.

또한, 1개 이상의 기능을 실현하는 회로(예를 들어,ASIC)에 의해서도 실행가능하다.

본 발명이 예시적인 실시예를 참조하여 설명되었지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시예에 제한되지 않는다는 점이 이해되어야 한다. 이하의 청구항의 범위는 그러한 변경예 및 등가적 구조예 및 기능예 모두를 포함하도록 가장 광의의 해석에 따라야 한다.

Claims

방사선 촬상 장치이며,
복수의 행과 복수의 열을 형성하도록 배열된 복수의 화소를 갖는 화소 어레이와,
복수의 모드 중 선택된 모드에 따라 상기 화소 어레이의 상기 복수의 행을 주사하도록 구성된 주사 회로와,
상기 주사 회로에 의한 주사시 선택된 행 상의 화소로부터 신호를 판독하도록 구성된 판독 회로를 포함하고,
상기 복수의 모드는 제1 프레임 레이트에서 촬상을 수행하는 제1 모드와 상기 제1 프레임 레이트보다 낮은 제2 프레임 레이트에서 촬상을 수행하는 제2 모드를 포함하고,
상기 제2 모드의 하나의 프레임 기간에서 상기 주사 회로에 의한 상기 복수의 행의 주사 횟수는, 상기 제1 모드의 하나의 프레임 기간에서 상기 주사 회로에 의한 상기 복수의 행의 주사 횟수보다 더 큰 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치.
제1항에 있어서,
상기 제1 모드의 하나의 프레임 기간은, 인가된 방사선에 대응하는 신호를 상기 복수의 화소가 축적하는 축적 기간과, 상기 주사 회로가 상기 복수의 행을 주사하는 동안 상기 판독 회로가 상기 화소 어레이로부터 하나의 프레임에 대응하는 신호를 판독하는 판독 기간을 포함하고,
상기 제2 모드의 하나의 프레임 기간은, 인가된 방사선에 대응하는 신호를 상기 복수의 화소가 축적하는 축적 기간과, 상기 주사 회로가 상기 복수의 행을 주사하는 동안 상기 판독 회로가 상기 화소 어레이로부터 하나의 프레임에 대응하는 신호를 판독하는 판독 기간과, 상기 복수의 화소를 리셋하도록 상기 주사 회로가 상기 복수의 행을 주사하는 리셋 기간을 포함하는 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치.
제2항에 있어서,
상기 제2 모드의 하나의 프레임 기간은 상기 리셋 기간을 포함하는 복수의 리셋 기간을 포함하는 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치.
제3항에 있어서,
상기 제2 모드의 상기 복수의 리셋 기간 중 최종 리셋 기간에서 상기 주사 회로가 상기 복수의 행을 주사하기 위해 요구되는 시간은, 상기 제2 모드의 상기 판독 기간에서 상기 주사 회로가 상기 복수의 행을 주사하기 위해 요구되는 시간과 동일한 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치.
제4항에 있어서,
상기 주사 회로에 의해 동시에 선택되는 행의 수는, 상기 주사 회로가 상기 제2 모드의 상기 복수의 리셋 기간 중 상기 최종 리셋 기간에서 상기 복수의 행을 주사할 때와 상기 주사 회로가 상기 제2 모드의 판독 기간에서 상기 복수의 행을 주사할 때 동일하게 유지되는 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치.
제4항에 있어서,
주어진 행의 선택의 개시부터 다음 행의 선택의 개시까지의 시간은, 상기 주사 회로가 상기 제2 모드의 상기 복수의 리셋 기간 중 상기 최종 리셋 기간에서 상기 복수의 행을 주사하는 경우와 상기 주사 회로가 상기 제2 모드의 상기 판독 기간에서 상기 복수의 행을 주사하는 경우 사이에서 동일하게 유지되는 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치.
제3항에 있어서,
상기 복수의 리셋 기간 중 최종 리셋 기간 이전의 리셋 기간에서 상기 주사 회로가 상기 복수의 행을 주사하기 위해 요구되는 시간은, 상기 최종 리셋 기간에서 상기 주사 회로가 상기 복수의 행을 주사하기 위해 요구되는 시간보다 짧은 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치.
제4항에 있어서,
상기 주사 회로는 상기 복수의 리셋 기간 중 상기 최종 리셋 기간 이전의 리셋 기간에서 2행 이상의 증분으로 상기 복수의 행을 주사하는 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
동화상 촬상시 상기 제1 모드와 상기 제2 모드 중 하나를 상기 제1 모드와 상기 제2 모드 중 나머지로 전환하도록 구성되는 제어기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치.
방사선 촬상 시스템이며,
방사선을 발생시키도록 구성된 방사선 소스와,
제1항에 기재된 방사선 촬상 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 시스템.
방사선 촬상 장치를 동작시키는 방법으로서, 상기 방사선 촬상 장치는 복수의 행과 복수의 열을 형성하도록 배열된 복수의 화소를 갖는 화소 어레이, 복수의 모드 중의 선택된 모드에 따라 상기 화소 어레이의 상기 복수의 행을 주사하도록 구성된 주사 회로, 및 상기 주사 회로에 의한 주사시 선택된 행 상의 화소로부터 신호를 판독하도록 구성된 판독 회로를 포함하는, 방사선 촬상 장치를 동작시키는 방법이며,
상기 복수의 모드는 제1 프레임 레이트에서 촬상을 수행하는 제1 모드와 상기 제1 프레임 레이트보다 낮은 제2 프레임 레이트에서 촬상을 수행하는 제2 모드를 포함하고,
상기 제2 모드의 하나의 프레임 기간에서 상기 주사 회로에 의한 상기 복수의 행의 주사 횟수는 상기 제1 모드의 하나의 프레임 기간에서 상기 주사 회로에 의한 상기 복수의 행의 주사 횟수보다 더 큰 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치를 동작시키는 방법.
제11항에 있어서,
상기 제1 모드의 하나의 프레임 기간은, 인가된 방사선에 대응하는 신호를 상기 복수의 화소가 축적하는 축적 기간과, 상기 주사 회로가 상기 복수의 행을 주사하는 동안 상기 판독 회로가 상기 화소 어레이로부터 하나의 프레임에 대응하는 신호를 판독하는 판독 기간을 포함하고,
상기 제2 모드의 하나의 프레임 기간은, 인가된 방사선에 대응하는 신호를 상기 복수의 화소가 축적하는 축적 기간과, 상기 주사 회로가 상기 복수의 행을 주사하는 동안 상기 판독 회로가 상기 화소 어레이로부터 하나의 프레임에 대응하는 신호를 판독하는 판독 기간과, 상기 복수의 화소를 리셋하도록 상기 주사 회로가 상기 복수의 행을 주사하는 리셋 기간을 포함하는 것을 특징으로 하는, 방사선 촬상 장치를 동작시키는 방법.