KR20170108837A - Substrate for display device, manufacturing method of the substrate for display device, and display device - Google Patents

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KR20170108837A
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마사토 오모테
케이 다나카
타카히로 가와이
다이고 이치노헤
코우지 가시시타
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제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

The present invention provides a substrate for a display device having a chromatic color pattern and a black color spacer with an excellent color property, provides a manufacturing method of the substrate for a display device, and provides a display device with high display quality. The substrate for a display device (1) comprises a switching active device (8), a color filter layer (13), the black color spacer (10), and an alignment layer (26). The color filter layer (13) has the chromatic color pattern formed with a chromatic color composite. The black color spacer (10) is a pillar shaped spacer and formed with a composite for forming the black color spacer containing a black color coloring. The alignment layer (26) is one of a polymer having an optical orientation group or a polymer not having the optical orientation group, and is formed by using a liquid crystal alignment material containing a first polymer initiator. A liquid crystal display device is composed as the display device from the substrate for the display device (1).

Description

표시 소자용 기판, 표시 소자용 기판의 제조 방법 및 표시 소자{SUBSTRATE FOR DISPLAY DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF THE SUBSTRATE FOR DISPLAY DEVICE, AND DISPLAY DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a substrate for a display element, a method of manufacturing a substrate for a display element,

본 발명은, 표시 소자용 기판, 표시 소자용 기판의 제조 방법 및 표시 소자에 관한 것으로, 특히, 동일 기판 상에 스위칭 능동 소자와 컬러 필터를 갖는 표시 소자용 기판, 표시 소자용 기판의 제조 방법 및 그 표시 소자용 기판을 이용한 표시 소자에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate for a display element, a method of manufacturing a substrate for a display element, and a display element, and more particularly to a display element substrate having a switching active element and a color filter on the same substrate, And a display element using the display element substrate.

최근, 박형(薄型) 경량이며 고(高)표시 품위의 표시 소자가 요구되고 있고, 예를 들면, 액정 표시 소자의 개발이 활발하게 진행되고 있다. 액정 표시 소자 등의 표시 소자는, 고표시 품위의 컬러 표시를 실현하기 위해 컬러 필터를 사용할 수 있다.BACKGROUND ART [0002] In recent years, thin, lightweight, and high display quality display devices have been demanded. For example, liquid crystal display devices have been actively developed. In a display element such as a liquid crystal display element, a color filter can be used to realize color display of a high display quality.

이 컬러 필터에 의한 컬러화 기술은, 백색 발광층을 이용한 유기 EL(Electro Luminescence) 소자나, 전자 페이퍼 등의 컬러 표시에도 이용할 수 있다. 또한, CCD(Charge Coupled Deⅵce) 이미지 센서, CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor) 이미지 센서 등의 고체 촬상 소자의 컬러 촬영도 가능하게 한다.The colorization technique using this color filter can be used for an organic EL (Electro Luminescence) device using a white light emitting layer, and for color display of an electronic paper or the like. Further, color imaging of solid-state image pickup devices such as CCD (Charge Coupled Durace) image sensors and CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensors is also possible.

도 6은, 종래의 액정 표시 소자의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다.6 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a conventional liquid crystal display element.

도 6에 나타내는 종래의 액정 표시 소자(100)는, 박막 트랜지스터(TFT: Thin Film Transister)형의 TN(Twisted Nematic) 모드 컬러 액정 표시 소자이다. 액정 표시 소자(100)는, 구동용의 어레이 기판(101)과 컬러 필터 기판(102)을 갖고, 그들이 TN 액정으로 이루어지는 액정층(103)을 사이에 두고 대향하는 구조를 갖는다.The conventional liquid crystal display element 100 shown in Fig. 6 is a TN (Twisted Nematic) mode color liquid crystal display element of a thin film transistor (TFT) type. The liquid crystal display element 100 has a driving array substrate 101 and a color filter substrate 102 and has a structure in which they face each other with a liquid crystal layer 103 made of a TN liquid crystal therebetween.

어레이 기판(101)을 구성하는 투명한 기판(104) 상에는, 액정층(103)과 접하는 측에, 소스 전극(105)과, 드레인 전극(106)과, 게이트 전극(107)과, 스위칭 능동 소자(108)와, 화소 전극을 구성하는 투명 전극(109)이 형성되어 있다.A source electrode 105, a drain electrode 106, a gate electrode 107, and a switching active element (not shown) are formed on a transparent substrate 104 constituting the array substrate 101 on the side in contact with the liquid crystal layer 103 108 and a transparent electrode 109 constituting a pixel electrode are formed.

컬러 필터 기판(102)을 구성하는 투명한 기판(111) 상에는, 액정층(103)에 접하는 측에, 적색, 녹색 및 청색의 미소한 유채색 패턴(112)과, 블랙 매트릭스(113)가 배치되어 있다. 적색, 녹색 및 청색의 유채색 패턴(112)은, 격자 형상 등의 규칙적인 형상을 취하여 배열된다. 유채색 패턴(112)과 블랙 매트릭스(113)의 위에는 투명한 공통 전극(114)이 형성되어 있다.On the transparent substrate 111 constituting the color filter substrate 102, a minute chromatic color pattern 112 of red, green and blue and a black matrix 113 are arranged on the side in contact with the liquid crystal layer 103 . The red, green, and blue achromatic patterns 112 are arranged in a regular shape such as a lattice shape. A transparent common electrode 114 is formed on the chromatic pattern 112 and the black matrix 113.

기판(104)과 기판(111)의 액정층(103)과 접하는 면에는, 각각, 배향막(115)이 형성되어 있다. 배향막(115)은, 액정 배향제를 이용하여 형성할 수 있다. 그리고, 배향막(115)을 러빙 처리 등의 배향 처리를 함으로써, 기판(104)과 기판(111)의 사이에 협지된 액정층(103)의 균일한 트위스트 배향을 실현할 수 있다.On the surfaces of the substrate 104 and the substrate 111 that are in contact with the liquid crystal layer 103, alignment films 115 are formed, respectively. The alignment film 115 can be formed using a liquid crystal aligning agent. Uniform alignment of the liquid crystal layer 103 sandwiched between the substrate 104 and the substrate 111 can be realized by performing alignment treatment such as rubbing treatment of the alignment film 115. [

액정 표시 소자(100)에 있어서, 어레이 기판(101)을 구성하는 기판(104) 및 컬러 필터 기판(102)을 구성하는 기판(111) 각각의, 액정층(103)에 접하는 측과 반대의 측에는, 한 쌍의 편광판(116)이 배치되어 있다. 그리고, 도 6에 있어서, 부호 117은, 액정 표시 소자(100)의 광원이 되는 백라이트 유닛(도시되지 않음)으로부터 액정층(103)을 향해 조사된 백라이트 광을 나타내고 있다.On a side of the substrate 104 constituting the array substrate 101 and the substrate 111 constituting the color filter substrate 102 opposite to the side in contact with the liquid crystal layer 103 in the liquid crystal display element 100 And a pair of polarizing plates 116 are disposed. 6, reference numeral 117 denotes a backlight irradiated from the backlight unit (not shown) serving as a light source of the liquid crystal display element 100 toward the liquid crystal layer 103. In FIG.

종래의 액정 표시 소자(100)에 있어서, 어레이 기판(101)을 구성하는 기판(104) 및 컬러 필터 기판(102)을 구성하는 기판(111)의 간격은, 통상, 2㎛ 이상 10㎛ 이하, 즉, 2㎛∼10㎛이고, 이들은, 주변부에 형성된 시일재(도시되지 않음)에 의해 서로 고정되어 있다.The distance between the substrate 104 constituting the array substrate 101 and the substrate 111 constituting the color filter substrate 102 in the conventional liquid crystal display element 100 is usually 2 μm or more and 10 μm or less, That is, 2 mu m to 10 mu m, and they are fixed to each other by a sealing material (not shown) formed at the peripheral portion.

그리고, 최근에는, 기판(104)과 기판(111)의 사이에, 기둥 형상의 스페이서(도시되지 않음)를 설치하는 기술이 개발되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1을 참조). 이러한 기둥 형상의 스페이서는, 감광성의 수지 등을 포함하는 수지 조성물을 이용하여 컬러 필터 기판(102)의 위에 형성하는 것이 가능하고, 액정층(103)을 협지하는 기판(104)과 기판(111)의 간격을 소정의 값으로 유지하도록 기능한다. 또한, 최근에는, 이 스페이서를, 감광성의 수지 등 외에 흑색의 착색제를 포함하는 흑색 조성물을 이용하여 형성하여 흑색 스페이서로 하고, 표시 품위를 향상시키는 기술 등도 검토되고 있다(예를 들면, 특허문헌 2를 참조).In recent years, a technique has been developed in which columnar spacers (not shown) are provided between the substrate 104 and the substrate 111 (see, for example, Patent Document 1). The columnar spacer can be formed on the color filter substrate 102 by using a resin composition containing a photosensitive resin or the like and the substrate 104 and the substrate 111 for sandwiching the liquid crystal layer 103, To a predetermined value. Recently, a technique of forming the spacer by using a black composition containing a black coloring agent in addition to a photosensitive resin to form a black spacer and improving the display quality has been studied (see, for example, Patent Document 2 ).

이러한 구조를 구비한 종래의 액정 표시 소자(100)에 있어서, 컬러 필터 기판(102)의 제조 방법으로서는, 다음의 방법이 알려져 있다. 예를 들면, 투명 기판 상 또는 소망하는 패턴의 블랙 매트릭스가 형성된 투명 기판 상에, 적당한 조사선에 감응하는 유채색 조성물을 도포한다. 유채색 조성물로서는, 착색제에 적이나 녹이나 청의 안료를 포함하는, 안료 분산형의 착색 감방사선성 조성물을 이용할 수 있다.In the conventional liquid crystal display device 100 having such a structure, the following method is known as a method of manufacturing the color filter substrate 102. [ For example, on a transparent substrate or on a transparent substrate on which a black matrix of a desired pattern is formed, a chromatic composition responsive to a suitable irradiation line is applied. As the chromatic color composition, a pigment-dispersed coloring and radiation-sensitive composition containing a pigment such as rust or blue coloring agent may be used.

이어서, 도막을 건조한 후, 마스크를 통하여 건조 도막에 방사선을 조사(이하, 「노광」이라고 함)하여, 현상 처리를 실시한다. 그리고, 230℃ 정도의 고온에서의 경화를 행하여, 정착된 유채색 패턴을 얻을 수 있다(예를 들면, 특허문헌 3 또는 특허문헌 4를 참조).Subsequently, after drying the coated film, the dried coating film is irradiated with radiation (hereinafter referred to as " exposure ") through a mask, and development processing is performed. Then, curing at a high temperature of about 230 deg. C is performed to obtain a fixed chromatic color pattern (see, for example, Patent Document 3 or Patent Document 4).

최근, 표시 소자는, 더 한층의 표시 품위의 향상이 요구되고 있고, 예를 들면, 액정 표시 소자의 표시 품위의 향상에는, 고휘도화나 고정세화(高精細化)나 고콘트라스트화 등이 요구되고 있다.In recent years, display devices are required to have further improved display quality. For example, higher luminance, higher definition, higher contrast, and the like are required to improve the display quality of liquid crystal display elements .

액정 표시 소자 등의 표시 소자의 표시 품위를 향상시키는 방법으로서는, 컬러 필터의 성능의 개선이 유효해진다.As a method of improving the display quality of a display element such as a liquid crystal display element, the improvement of the performance of the color filter is effective.

표시 소자의 고휘도화 및 고콘트라스트화의 외, 고체 촬상 소자의 고정세화를 실현하는 데에는, 컬러 필터의 유채색 패턴의 형성에 이용되는 착색제에 염료를 이용하는 것이 유효하다고 되어 있다(예를 들면, 특허문헌 5∼특허문헌 7을 참조).It is said that it is effective to use a dye as a coloring agent used for forming a chromatic color pattern of a color filter in order to realize high definition and high contrast of a display element and high definition of a solid state image pickup device (for example, 5 to Patent Document 7).

그러나, 염료를 포함하는 유채색 조성물을 이용하여 형성된 유채색 패턴은, 안료를 포함하는 유채색 조성물을 이용한 유채색 패턴에 비해, 신뢰 성능, 특히, 내열성이 뒤떨어진다는 문제를 갖고 있다. 그 때문에, 유채색 패턴의 제조 공정에 있어서, 전술한 바와 같은 높은 온도에서의 경화가 필요하게 되는 경우, 염료를 포함하는 종래의 유채색 조성물을 사용하는 것은 어렵다고 되어 있다.However, the chromatic pattern formed by using the chromatic composition containing the dye has a problem that the reliability performance, particularly, the heat resistance is inferior to the chromatic pattern using the chromatic composition containing the pigment. Therefore, it has been said that it is difficult to use a conventional chromatic composition containing a dye when curing at a high temperature as described above is required in the production process of a chromatic color pattern.

또한, 표시 소자의 표시 품위의 향상에 대하여, 표시 소자의 구조의 개선도 유효하다. 예를 들면, 종래의 액정 표시 소자에 대해서는, 저(低)개구율과 그의 개선에 의한 고휘도화가 과제로 되어 있다.Further, improvement of the structure of the display element is effective for improvement of the display quality of the display element. For example, with respect to the conventional liquid crystal display device, there is a problem of a low aperture ratio and a high brightness due to its improvement.

즉, 전술한 종래의 TFT형의 액정 표시 소자(100)에 있어서는, 어레이 기판(101)과 컬러 필터 기판(102)을 서로 겹치는 공정에 있어서, 위치 어긋남의 우려가 있다. 그 때문에, 위치 어긋남을 미연에 막기 위해, 설계의 단계에 있어서, 컬러 필터 기판(102) 상에 형성되어 있는 블랙 매트릭스(113)의 패턴 폭을 넓게 하는 방법이 취해지고 있다. 이와 같이 함으로써, 액정 표시 소자(100)에 있어서는, 기판을 서로 겹칠 때의 위치 어긋남 마진을 넓힐 수는 있지만, 화소의 개구율은 저하해 버린다. 그 결과, 액정 표시 소자의 휘도는 저하하고, 표시는 어두운 것이 된다.That is, in the above-described conventional TFT type liquid crystal display element 100, there is a fear of positional deviation in the step of overlapping the array substrate 101 and the color filter substrate 102. Therefore, in order to prevent the positional deviation from occurring, a method of widening the pattern width of the black matrix 113 formed on the color filter substrate 102 in the design stage is taken. In this manner, in the liquid crystal display element 100, although the position deviation margin when the substrates are overlapped with each other can be widened, the aperture ratio of the pixels is lowered. As a result, the luminance of the liquid crystal display element decreases and the display becomes dark.

그래서, 이러한 액정 표시 소자의 낮은 개구율을 개선하기 위해, 어레이 기판 상에 컬러 필터를 형성하여 표시 소자용 기판을 구성하고, 서로 겹칠 때에 얼라인먼트를 불필요하게 한 컬러 필터 온 어레이 구조의 개발이 행해지고 있다(예를 들면, 특허문헌 8 또는 특허문헌 9를 참조).Therefore, in order to improve the low aperture ratio of such a liquid crystal display element, a color filter-on-array structure in which a color filter is formed on an array substrate to form a substrate for a display element and alignment is unnecessary when overlapping each other has been developed See, for example, Patent Document 8 or Patent Document 9).

이 컬러 필터 온 어레이 구조는, 컬러 필터가 형성된 어레이 기판인 표시 소자용 기판과, 전체 면에 전극이 형성된 대향 기판의 사이의 얼라인먼트를 불필요하게 하여, 기판을 서로 겹칠 때의 위치 어긋남 불량을 없앨 수 있다. 그리고, 얼라인먼트 작업이 불필요해짐으로써, 제조 공정을 간략화할 수 있다. 또한, 액정을 협지하는 상하 기판을 서로 겹칠 때의 위치 어긋남의 문제가 발생하지 않기 때문에, 위치 어긋남을 고려한 패턴의 설계는 불필요해져, 액정 표시 소자의 개구율 향상을 실현할 수 있다.This color filter-on-array structure makes alignment unnecessary between the substrate for a display element, which is an array substrate on which a color filter is formed, and the counter substrate on which an electrode is formed on the entire surface, thereby eliminating the defective position deviation have. Further, since the alignment operation is not required, the manufacturing process can be simplified. Further, since there is no problem of positional deviation when the upper and lower substrates sandwiching the liquid crystal are overlapped with each other, the design of the pattern considering the positional deviation is not required, and the aperture ratio of the liquid crystal display element can be improved.

이상에 의해, 컬러 필터를 개선하여, 더욱 소자 구조를 개선함으로써, 액정 표시 소자 등의 표시 소자는, 표시 품위의 개선이 가능한 것을 알 수 있다. 보다 구체적으로는, 컬러 필터 온 어레이 구조의 액정 표시 소자에 있어서, 염료를 포함하는 유채색 조성물을 이용한 유채색 패턴을 이용할 수 있으면, 액정 표시 소자의 표시 품위를 보다 향상시킬 수 있다.From the above, it can be seen that the display quality of a display element such as a liquid crystal display element can be improved by improving the color filter and further improving the device structure. More specifically, when a chromatic color pattern using a chromatic composition containing a dye can be used in a liquid crystal display element of a color filter-on-array structure, the display quality of the liquid crystal display element can be further improved.

또한, 컬러 필터 온 어레이 구조의 액정 표시 소자에 있어서는, 전술한 기둥 형상의 스페이서(이하, 단순히 「스페이서」라고 하는 경우가 있음)를 갖는 구조를 구비하는 것이 바람직하다. 컬러 필터 온 어레이 구조의 액정 표시 소자에서는, 기둥 형상의 스페이서를 설치함으로써, 액정을 협지하는 한 쌍의 기판 간의 간격을 소정의 값으로 유지하고, 액정의 두께를 고정밀도로 제어하는 것이 가능해져, 더 한층의 표시 품위의 향상이 가능해진다.Further, in the liquid crystal display element of the color filter-on-array structure, it is preferable that the liquid crystal display element has a structure having the aforementioned columnar spacer (hereinafter sometimes simply referred to as " spacer "). In the liquid crystal display element of the color filter-on-array structure, by providing the columnar spacer, it is possible to maintain the gap between the pair of substrates sandwiching the liquid crystal at a predetermined value and to control the thickness of the liquid crystal with high precision, It is possible to improve the display quality of one layer.

그리고, 액정 표시 소자에 있어서, 스페이서로서, 흑색의 착색제를 포함하는 흑색 조성물로 형성된 흑색 스페이서를 사용할 수 있으면, 표시의 콘트라스트비(比)가 향상되어, 더 한층의 표시 품위의 향상도 가능해진다.Further, in the liquid crystal display element, if a black spacer formed of a black composition containing a black coloring agent can be used as a spacer, the contrast ratio of the display can be improved and the display quality can be further improved.

일본공개특허공보 평11-344700호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 11-344700 일본공개특허공보 2015-135476호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2015-135476 일본공개특허공보 평2-144502호Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2-144502 일본공개특허공보 평3-53201호Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-53201 일본공개특허공보 2005-99584호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-99584 일본공개특허공보 2007-219466호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-219466 일본공개특허공보 2007-316179호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-316179 일본공개특허공보 2002-357828호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-357828 일본공개특허공보 2008-146004호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-146004

그러나, 컬러 필터 온 어레이 구조의 액정 표시 소자의 경우, 컬러 필터의 착색제에 염료를 사용하면, 염료의 내열성이 부족하기 때문에, 제조 공정에 있어서 고온의 가열 경화 공정을 형성하는 것이 어렵다.However, in the case of a liquid crystal display element of a color filter-on-array structure, when a dye is used as a coloring agent for a color filter, heat resistance of the dye is insufficient, and therefore it is difficult to form a high temperature curing step in the production process.

그 때문에, 수지 조성물을 이용하여 기둥 형상의 스페이서의 형성을 행하는 경우, 스페이서의 충분한 경화를 실현할 수 없어, 소망하는 고신뢰성의 스페이서를 형성할 수 없는 경우가 있다.Therefore, when the columnar spacer is formed by using the resin composition, sufficient curing of the spacer can not be realized, and a desired high reliability spacer may not be formed.

특히, 전술한 흑색 스페이서의 경우, 저광 투과율이다. 그 때문에, 노광 공정에서의 충분한 경화가 어렵고, 노광 공정 후에 가열 경화 공정이 필요해지는 경우가 많다. 그러한 경우에, 컬러 필터의 착색제에 염료를 사용하면, 염료의 내열성이 부족하기 때문에, 고온의 가열 경화를 행할 수 없다. 그 결과, 소망하는 고신뢰성의 흑색 스페이서를 형성할 수 없는 경우가 있다.Particularly, in the case of the above-mentioned black spacer, it is a low light transmittance. Therefore, sufficient curing in the exposure process is difficult, and a heat curing process is often required after the exposure process. In such a case, when a dye is used for the coloring agent of the color filter, the heat resistance of the dye is insufficient, so that heat curing at a high temperature can not be performed. As a result, a desired high reliability black spacer may not be formed.

이상에 의해, 스위칭 능동 소자와, 염료를 포함하는 착색제를 함유하는 유채색 조성물로 형성되어 이루어지는 유채색 패턴을 구비하고, 추가로 기둥 형상의 흑색 스페이서를 갖고, 고신뢰성을 실현하는 표시 소자용 기판의 제공이 강하게 요구되고 있다. 또한, 그 표시 소자용 기판을 갖고 컬러 필터 온 어레이 구조를 갖는 액정 표시 소자 등의, 고표시 품위의 표시 소자의 제공이 강하게 요구되고 있다.As described above, there is provided a display element substrate which has a chromatic pattern formed of a chromatic composition containing a switching active element and a coloring agent containing a dye, further has a columnar black spacer and realizes high reliability Is strongly required. In addition, it is strongly desired to provide a display element having a high display quality such as a liquid crystal display element having the substrate for a display element and having a color filter-on-array structure.

본 발명은, 이상과 같은 과제를 감안하여 이루어진 것이다. 즉, 본 발명의 목적은, 스위칭 능동 소자, 유채색 패턴 및 기둥 형상의 흑색 스페이서를 갖고, 고신뢰성의 표시 소자용 기판을 제공하고, 표시 소자용 기판의 제조 방법을 제공하고, 그 표시 소자용 기판을 갖는 고표시 품위의 표시 소자를 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in view of the above problems. That is, an object of the present invention is to provide a substrate for a display device having a switching active element, a chromatic pattern and a columnar black spacer, a highly reliable display device, and a method of manufacturing a substrate for a display device, And a display element having a high display quality.

본 발명자는, 예의 검토한 결과, 스위칭 능동 소자가 형성된 표시 소자용 기판에 있어서, 유채색 조성물을 이용하여 유채색 패턴을 형성하고, 흑색 스페이서를 형성하고, 추가로, 중합 개시제를 함유하는 액정 배향제를 이용하여 배향막을 형성함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견했다.As a result of intensive investigations, the inventors of the present invention have found that, in a substrate for a display device on which a switching active element is formed, a chromatic color pattern is formed using a chromatic composition, a black spacer is formed, and further, a liquid crystal aligning agent containing a polymerization initiator Is used to form an alignment film, the above problems can be solved.

본 발명의 제1 태양은, 스위칭 능동 소자, 유채색 패턴, 흑색 스페이서 및 배향막을 갖는 표시 소자용 기판으로서,A first aspect of the present invention is a substrate for a display element having a switching active element, a chromatic pattern, a black spacer, and an alignment film,

상기 흑색 스페이서는 흑색 착색제를 포함하고,Wherein the black spacer comprises a black colorant,

상기 배향막은, 제1 중합 개시제를 함유하는 액정 배향제로 형성되는 것인 것을 특징으로 하는 표시 소자용 기판에 관한 것이다.Wherein the alignment film is formed of a liquid crystal aligning agent containing a first polymerization initiator.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 제1 중합 개시제는, 광 라디칼 발생제, 광 산 발생제, 광 염기 발생제, 열 산 발생제 및 열 라디칼 발생제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, the first polymerization initiator is preferably at least one selected from the group consisting of a photo-radical generator, a photo-acid generator, a photo-base generator, a thermal acid generator and a heat radical generator Do.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 배향막은, 광 배향성기를 갖는 중합체 및 광 배향성기를 갖지 않는 중합체 중 어느 것, 그리고 상기 제1 중합 개시제를 함유하는 상기 액정 배향제로 형성되는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the alignment film is formed of any one of the polymer having a photo aligning group and the polymer having no photo aligning group, and the liquid crystal aligning agent containing the first polymerization initiator.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 흑색 스페이서는, 막두께 1㎛당의 OD(Optical Density)값이 0.3∼4인 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the black spacer has an OD (Optical Density) value of 0.3 to 4 per 1 m of the film thickness.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 흑색 착색제가, 하기식 (B-1)로 나타나는 화합물, 페릴렌 블랙 및 카본 블랙으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the black colorant contains at least one kind selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (B-1), perylene black and carbon black.

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 (B-1) 중, X는 이중 결합을 나타내고, 기하 이성체로서 각각 독립적으로 E체 또는 Z체이고, Ra는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 니트로기, 메톡시기, 브롬 원자, 불소 원자, 카복실기, 또는 술폰기를 나타내고, Rb는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 또는 페닐기를 나타내고, Rc는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 또는 염소 원자를 나타냄)(In the formula (B-1), X represents a double bond, and each of the geometric isomers is independently E or Z form, and each R a independently represents a hydrogen atom, a methyl group, a nitro group, a methoxy group, R b represents a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group, and R c represents, independently of each other, a hydrogen atom, a methyl group, or a chlorine atom)

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 흑색 스페이서는, 흑색 착색제를 포함하는 착색제, 제1 알칼리 가용성 수지 및, 제2 중합 개시제를 함유하는 흑색 조성물로 형성되는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the black spacer is formed of a black composition containing a colorant containing a black colorant, a first alkali-soluble resin, and a second polymerization initiator.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 흑색 스페이서는, 흑색 착색제를 포함하는 착색제, 제1 알칼리 가용성 수지 및, 제2 중합 개시제를 함유하는 흑색 조성물로 형성되는 것이고, 상기 제2 중합 개시제는, O-아실옥심 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, the black spacer is formed of a black composition containing a colorant containing a black colorant, a first alkali-soluble resin and a second polymerization initiator, and the second polymerization initiator is O -Acyloxime compounds.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 유채색 패턴은 염료를 포함하는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the chromatic pattern includes a dye.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 유채색 패턴은 염료를 포함하고, 상기 염료는, 아조 염료, 트리아릴메탄 염료, 안트라퀴논 염료, 잔텐 염료, 퀴놀린 염료, 니트로 염료, 프탈로시아닌 염료, 메틴 염료, 디피로메텐 염료, 시아닌 염료, 퀴노프탈론 염료, 쿠마린 염료, 피라졸론 염료 및 퀴논이민 염료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, the chromatic pattern includes a dye, and the dye is selected from the group consisting of azo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, nitro dyes, phthalocyanine dyes, It is preferably at least one member selected from the group consisting of lomentene dyes, cyanine dyes, quinophthalone dyes, coumarin dyes, pyrazolone dyes and quinone imine dyes.

본 발명의 제1 태양에 있어서, 상기 유채색 패턴은, 착색제, 제2 알칼리 가용성 수지, 중합성 화합물 및, 제3 중합 개시제를 함유하는 유채색 조성물로 형성되는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the chromatic pattern is formed of a chromatic composition containing a colorant, a second alkali-soluble resin, a polymerizable compound, and a third polymerization initiator.

본 발명의 제2 태양은, 유채색 패턴과 흑색 스페이서와 배향막을 갖는 표시 소자용 기판의 제조 방법으로서,A second aspect of the present invention is a method for manufacturing a substrate for a display element having a chromatic pattern, a black spacer and an alignment film,

적어도 하기의 공정 [1]∼[5]를 포함하는, 표시 소자용 기판의 제조 방법에 관한 것이다.And at least the following steps [1] to [5].

[1] 유채색 조성물의 도막을 기판 상에 형성하는 공정,[1] A process for forming a coating film of a chromatic color composition on a substrate,

[2] 상기 유채색 조성물의 도막을 경화시켜, 유채색 패턴을 형성하는 공정,[2] a step of curing the coating film of the chromatic color composition to form a colored pattern,

[3] 흑색 조성물의 도막을, 유채색 패턴을 갖는 기판 상에 형성하는 공정,[3] A process for forming a coating film of a black composition on a substrate having a chromatic pattern,

[4] 상기 흑색 조성물의 도막을 경화시켜, 흑색 스페이서를 형성하는 공정,[4] a step of curing the coating film of the black composition to form a black spacer,

[5] 상기 흑색 스페이서가 형성된 기판 상에 배향막을 형성하는 공정.[5] A process for forming an alignment film on a substrate on which the black spacer is formed.

본 발명의 제3 태양은, 본 발명의 제1 태양의 표시 소자용 기판을 갖는 것을 특징으로 하는 표시 소자에 관한 것이다.A third aspect of the present invention relates to a display element having a display element substrate according to the first aspect of the present invention.

본 발명에 의하면, 고신뢰성의 표시 소자용 기판이 제공되고, 고신뢰성의 표시 소자용 기판을 제조하는 표시 소자용 기판의 제조 방법이 제공되고, 고표시 품위의 표시 소자가 제공된다.According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a substrate for a display device, in which a substrate for a display device with high reliability is provided, and a substrate for a display device with high reliability is produced.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판의 주요부 구조를 나타내는 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판의 개략적인 전극 배선도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판의 다른 예의 주요부 구조를 나타내는 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 다른 예의 개략적인 단면도이다.
도 6은 종래의 액정 표시 소자의 구조를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic cross-sectional view showing a main part structure of a display element substrate according to a first embodiment of the present invention. Fig.
2 is a schematic electrode wiring diagram of a display element substrate according to the first embodiment of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view showing a main part structure of another example of the substrate for a display element according to the first embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display element according to a second embodiment of the present invention.
5 is a schematic cross-sectional view of another example of the liquid crystal display element according to the second embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a conventional liquid crystal display element.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Mode for carrying out the invention)

본 발명의 실시 형태에 대해서, 이하에서 설명한다.Embodiments of the present invention will be described below.

또한, 본 발명에 있어서, 노광시에 있어서 조사되는 「방사선」이란, 가시광선, 자외선, 원자외선, X선, 하전 입자선 등을 포함하는 개념이다.In the present invention, the term " radiation " irradiated at the time of exposure is a concept including visible light, ultraviolet light, far ultraviolet ray, X-ray, charged particle ray and the like.

실시 형태 1.Embodiment 1

<표시 소자용 기판>&Lt; Substrate for display element &

본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판은, 스위칭 능동 소자, 유채색 패턴, 흑색 스페이서 및 배향막을 갖고 있고, 표시 소자의 구성에 이용할 수 있다. 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판에 있어서, 유채색 패턴, 흑색 스페이서 및 배향막은, 컬러 필터를 구성한다.The substrate for a display element according to the first embodiment of the present invention has a switching active element, a chromatic pattern, a black spacer, and an alignment film, and can be used for the constitution of a display element. In the substrate for a display element according to the first embodiment of the present invention, the chromatic pattern, the black spacer and the alignment film constitute a color filter.

또한, 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판에 있어서는, 유채색 패턴, 흑색 스페이서 및 배향막과 함께, 필요에 따라서 투명 전극을 형성하여, 컬러 필터를 구성하는 것도 가능하다. 그리고, 예를 들면, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판은, 컬러 필터 온 어레이 구조를 갖는 액정 표시 소자로서, 컬러 표시가 가능하고 액티브 구동의 액정 표시 소자의 구성에 이용되는 것이 바람직하다.In the display element substrate according to the first embodiment of the present invention, it is also possible to form a color filter by forming transparent electrodes as necessary in addition to a chromatic pattern, a black spacer and an alignment film. For example, the substrate for a display element of the present embodiment is preferably a liquid crystal display element having a color filter-on-array structure, which is capable of color display and is used for the constitution of an active-drive liquid crystal display element.

이하, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판에 대해서, 도면을 이용하여 설명한다.Hereinafter, the display element substrate of the present embodiment will be described with reference to the drawings.

도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판의 주요부 구조를 나타내는 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing a main part structure of a substrate for a display element according to a first embodiment of the present invention.

도 2는, 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판의 개략적인 전극 배선도이다.2 is a schematic electrode wiring diagram of a display element substrate according to a first embodiment of the present invention.

도 1에 나타내는 표시 소자용 기판(1)은, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판의 일 예이다. 표시 소자용 기판(1)은, 투명한 기판(4)의 한쪽의 면에, 소스 전극(5)과, 드레인 전극(6)과, 게이트 전극(7)과, 스위칭 능동 소자(8)와, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 각 색의 유채색 패턴(12)을 배치한 구조를 갖는다. 각 색의 유채색 패턴(12)은 컬러 필터층(13)을 구성한다.The display element substrate 1 shown in Fig. 1 is an example of the display element substrate of the present embodiment. A substrate 1 for a display element is provided with a source electrode 5, a drain electrode 6, a gate electrode 7, a switching active element 8, (R), green (G), and blue (B) color chromatic patterns 12 are arranged. The chromatic pattern 12 of each color constitutes a color filter layer 13.

즉, 각 색의 유채색 패턴을 배열하여 구성되는 층을, 컬러 필터층이라고 칭한다. 또한, 본 발명에 있어서, 이 컬러 필터층은, 나중에 상술하는 바와 같이, 각 색의 유채색 패턴을 덮도록 형성된 절연막을 포함할 수 있다. 그리고, 유채색 패턴(12)의 위에는, 투명 전극(9)이 배치된다. 투명 전극(9)의 위에는, 스위칭 능동 소자(8)의 상방에 대응하는 위치에 기둥 형상의 흑색 스페이서(10)가 세워 설치되어 있다.That is, the layer formed by arranging the chromatic patterns of the respective colors is referred to as a color filter layer. Further, in the present invention, the color filter layer may include an insulating film formed so as to cover the chromatic pattern of each color, as described later. On the chromatic pattern 12, a transparent electrode 9 is disposed. On the transparent electrode 9, a columnar black spacer 10 is installed at a position corresponding to the upper side of the switching active element 8.

컬러 필터층(13)의 유채색 패턴(12)에 형성된 오목부 구조는, 콘택트홀(17)이고, 이 부분에서 투명 전극(9)과 드레인 전극(6)이 전기적으로 접속한다. 그리고, 도 2에 나타내는 바와 같이, 표시 소자용 기판(1) 상에서는, 소스 배선(18)과 게이트 배선(19)이 매트릭스 형상으로 형성된다. 소스 배선(18)과 게이트 배선(19)의 교차부 근방에, 스위칭 능동 소자(8)가 형성되고, 소스 전극(5)은 소스 배선(18)에 접속하고, 게이트 전극(7)은 게이트 배선(19)에 접속한다. 이렇게 하여, 표시 소자용 기판(1) 상에 구획된 각 화소가 구성된다.The concave structure formed in the chromatic pattern 12 of the color filter layer 13 is the contact hole 17 and the transparent electrode 9 and the drain electrode 6 are electrically connected to each other at this portion. 2, on the display element substrate 1, the source wiring 18 and the gate wiring 19 are formed in a matrix shape. A switching active element 8 is formed in the vicinity of the intersection of the source wiring 18 and the gate wiring 19. The source electrode 5 is connected to the source wiring 18, (19). In this manner, each pixel partitioned on the substrate for a display element 1 is constituted.

또한, 유채색 패턴(12)의 색에 대해서는, 상기의 RGB 3색에 한정되는 것은 아니고, 다른 색을 선택하는 것이나, RGB 3색에 황색(Y)을 더하여 4색 유채색 패턴으로 하는 것도 가능하다. 그리고, 각 색의 유채색 패턴(12)을 배열하여, 전술한 바와 같이, 표시 소자용 기판(1)의 컬러 필터층(13)이 형성된다.The color of the chromatic pattern 12 is not limited to the three colors R, G, and B, but may be a different color, or a four-color chromatic pattern by adding yellow (Y) to three RGB colors. Then, the chromatic color patterns 12 of the respective colors are arranged to form the color filter layer 13 of the display element substrate 1 as described above.

또한, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)에서는, 흑색 스페이서(10)를 형성한 후, 액정 배향용으로 사용할 수 있는 배향막(26)이 형성된다. 즉, 표시 소자용 기판(1)은, 스위칭 능동 소자(8), 유채색 패턴(12)을 포함하는 컬러 필터층(13) 및 흑색 스페이서(10)에 더하여, 배향막(26)을 갖고 구성된다. 그리고, 유채색 패턴(12)을 포함하는 컬러 필터층(13), 흑색 스페이서(10) 및 배향막(26)은, 투명 전극(9)과 함께, 표시 소자용 기판(1)의 컬러 필터(15)를 구성한다.In the display device substrate 1 of the present embodiment, after the black spacer 10 is formed, an alignment film 26 that can be used for liquid crystal alignment is formed. That is, the display element substrate 1 is configured to include the alignment film 26 in addition to the switching active element 8, the color filter layer 13 including the chromatic pattern 12, and the black spacer 10. The color filter layer 13 including the chromatic pattern 12, the black spacer 10 and the alignment film 26 are formed by the color filter 15 of the display element substrate 1 together with the transparent electrode 9 .

후술하는 바와 같이, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)에 있어서, 컬러 필터층(13)을 구성하는 유채색 패턴(12)은, 기판(4) 상에, 후술하는 본 발명의 제3 실시 형태의 유채색 조성물을 도포하여, 패터닝을 행한 후, 경화되어 형성된다. 기판(4)은, 소스 전극(5) 등의 전극과 스위칭 능동 소자(8)가 형성된 기판이다.As described later, in the display element substrate 1 of the present embodiment, the chromatic color pattern 12 constituting the color filter layer 13 is formed on the substrate 4 in the third embodiment of the present invention Is applied, patterned, and then cured. The substrate 4 is a substrate on which an electrode such as a source electrode 5 and a switching active element 8 are formed.

본 발명의 제3 실시 형태의 유채색 조성물은, 후술하는 바와 같이, 착색제, 제2 알칼리 가용성 수지, 중합성 화합물 및, 제3 중합 개시제를 함유하여 이루어진다. 그리고, 본 발명의 제3 실시 형태의 유채색 조성물의 성분인 착색제는, 염료를 포함할 수 있다. 따라서, 컬러 필터층(13)을 구성하는 유채색 패턴(12)은, 염료를 이용하여 형성된 것이 될 수 있다.The chromatic color composition of the third embodiment of the present invention comprises a colorant, a second alkali-soluble resin, a polymerizable compound, and a third polymerization initiator as described later. The colorant that is a component of the chromatic color composition of the third embodiment of the present invention may include a dye. Therefore, the chromatic color pattern 12 constituting the color filter layer 13 can be formed using a dye.

또한, 흑색 스페이서(10)는, 본 발명의 제4 실시 형태의 흑색 스페이서 형성용 조성물을 도포하여, 패터닝을 행한 후, 경화를 행하여 형성할 수 있다.The black spacer 10 can be formed by applying the composition for forming a black spacer according to the fourth embodiment of the present invention, performing patterning, and then performing curing.

형성된 흑색 스페이서(10)는, 막두께 1㎛당의 OD값이 0.3 이상 4 이하, 즉, 0.3∼4인 것이 바람직하다. 여기에서, OD(Optical Density)값이란 광학 농도를 의미하고 있고, 차광 능력을 평가하는 데에 사용할 수 있는 파라미터이다. 막두께 1㎛당의 OD값이 클수록, 흑색 스페이서(10)는 높은 차광성을 나타내게 된다.The formed black spacer 10 preferably has an OD value of 0.3 to 4, that is, 0.3 to 4, per 1 mu m of thickness. Here, the OD (Optical Density) value means an optical density, and is a parameter that can be used to evaluate the light shielding ability. The larger the OD value per 1 μm of the film thickness, the higher the light shielding property of the black spacer 10 is.

막두께 1㎛당의 OD값이 0.3∼4인 흑색 스페이서(10)는, 우수한 차광성을 갖고 있다. 따라서, 막두께 1㎛당의 OD값이 0.3∼4인 흑색 스페이서(10)는, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)에 적용되어, 표시 소자용 기판(1)을 갖는 표시 소자의 고표시 품위화에 유효하게 기여할 수 있다.The black spacer 10 having an OD value of 0.3 to 4 per 1 mu m of film thickness has excellent light shielding properties. Therefore, the black spacer 10 having an OD value of 0.3 to 4 per 1 mu m of thickness is applied to the display element substrate 1 of the present embodiment, so that the display device having the display element substrate 1 And can contribute effectively to dignification.

또한, 배향막(26)은, 광 배향성기를 갖는 중합체 및 광 배향성기를 갖지 않는 중합체 중 어느 것과, 제1 중합 개시제를 함유하는 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제를 이용하여 형성할 수 있다. 즉, 배향막(26)은, 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제의 도막을 형성하고, 필요에 따라서 노광이나 가열을 행하여 형성할 수 있다.The alignment film 26 can be formed using any of the polymer having photo aligning group and the polymer having no photo aligning group and the liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention containing the first polymerization initiator. That is, the alignment film 26 can be formed by forming a coating film of the liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention, and performing exposure or heating as required.

이상의 구조를 구비한 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)은, 컬러 필터 온 어레이 구조의 액정 표시 소자의 구성에 적합하게 이용할 수 있다. 따라서, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)은, 고휘도화나 고콘트라스트화 등을 실현하여 고표시 품위의 액정 표시 소자의 구성에 이용할 수 있다. 즉, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)은, 후술하는 고표시 품위의 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 구성에 이용할 수 있다.The display element substrate 1 of the present embodiment having the above structure can be suitably used for the configuration of the liquid crystal display element of the color filter on array structure. Therefore, the display element substrate 1 of the present embodiment can realize high brightness and high contrast, and can be used in the construction of liquid crystal display elements of high display quality. In other words, the display element substrate 1 of the present embodiment can be used for the constitution of the liquid crystal display element of the second embodiment of the present invention with a high display quality described later.

또한, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)에서는, 배향막을 형성하기 위한 액정 배향제가, 광 배향성기를 갖는 중합체 및 광 배향성기를 갖지 않는 중합체 중 어느 것 외에, 제1 중합 개시제를 함유하여 구성된다.In addition, in the substrate 1 for a display device of the present embodiment, a liquid crystal aligning agent for forming an alignment film, a polymer having a photo-aligning group, and a polymer having no photo-aligning group, as well as a first polymerization initiator .

그 때문에, 흑색 스페이서(10)를 형성한 후, 배향막(26)의 형성을 위해 액정 배향제의 도막을 형성함에 있어서, 액정 배향제 중에 함유되는 제1 중합 개시제의 일부가, 흑색 스페이서(10)의 표면으로부터 그의 내부로 확산된다고 생각된다.Therefore, in forming the coating film of the liquid crystal aligning agent for forming the alignment film 26 after the black spacer 10 is formed, a part of the first polymerization initiator contained in the liquid crystal aligning agent is contained in the black spacer 10, To the inside thereof.

그 결과, 제1 중합 개시제로서 광 중합 개시제를 이용한 경우에는, 액정 배향제의 도막을 노광 처리할 때의 빛으로 흑색 스페이서(10)의 경화를 보다 진행할 수 있다고 생각된다. 또한, 제1 중합 개시제로서 열 중합 개시제를 이용한 경우에는, 액정 배향제의 도막을 가열 처리할 때에, 흑색 스페이서(10)의 경화를 보다 진행할 수 있다고 생각된다.As a result, it is considered that when the photopolymerization initiator is used as the first polymerization initiator, the black spacer 10 can be further cured by the light when the coating film of the liquid crystal aligning agent is exposed. Further, when a thermal polymerization initiator is used as the first polymerization initiator, it is considered that the hardening of the black spacer 10 can be further promoted when the coating film of the liquid crystal aligning agent is heat-treated.

즉, 액정 배향제에 포함되는 제1 중합 개시제의 작용에 의해, 흑색 스페이서(10)의 보다 충분한 경화가 가능해진다고 생각된다.That is, it is considered that the black spacer 10 can be sufficiently cured by the action of the first polymerization initiator contained in the liquid crystal aligning agent.

따라서, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)은, 신뢰 성능이 우수하여, 고신뢰성의 액정 표시 소자의 구성에 이용할 수 있다. 즉, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)은, 후술하는 고신뢰성의 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 구성에 이용할 수 있다.Therefore, the display element substrate 1 of the present embodiment is excellent in the reliability performance and can be used in the construction of a liquid crystal display element of high reliability. In other words, the display element substrate 1 of the present embodiment can be used for the configuration of the liquid crystal display element of the second embodiment of the invention which is highly reliable, which will be described later.

도 3은, 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판의 다른 예의 주요부 구조를 나타내는 개략적인 단면도이다.3 is a schematic cross-sectional view showing a main part structure of another example of the substrate for a display element according to the first embodiment of the present invention.

도 3에 나타내는 표시 소자용 기판(31)은, 전술한 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)과는 다른 예가 되는 표시 소자용 기판이다. 따라서, 전술한 표시 소자용 기판(1)과 공통되는 구성 요소에 대해서는, 공통되는 부호를 이용하고, 중복되는 설명은 생략한다.The display element substrate 31 shown in Fig. 3 is a display element substrate which is an example different from the above-described display element substrate 1 of the first embodiment of the present invention. Therefore, the constituent elements common to the above-described display element substrate 1 are denoted by the same reference numerals, and redundant explanations are omitted.

표시 소자용 기판(31)은, 유채색 패턴(32) 상에 절연막(33)을 갖는다. 따라서, 컬러 필터층(34)은, 유채색 패턴(32)과 절연막(33)으로 구성된다. 즉, 표시 소자용 기판(31)은, 기판(4) 상에 스위칭 능동 소자(8)와, 유채색 패턴(32) 및 절연막(33)으로 이루어지는 컬러 필터층(34)을 갖는다. 투명 전극(9)은, 컬러 필터층(34)의 절연막(33)의 위에 배치되고, 또한, 흑색 스페이서(10)는 투명 전극(9) 상에 세워 설치된다.The substrate 31 for a display element has an insulating film 33 on a chromatic pattern 32. Therefore, the color filter layer 34 is composed of the chromatic color pattern 32 and the insulating film 33. That is, the display element substrate 31 has a switching active element 8 on the substrate 4, and a color filter layer 34 composed of a chromatic pattern 32 and an insulating film 33. The transparent electrode 9 is disposed on the insulating film 33 of the color filter layer 34 and the black spacer 10 is set up on the transparent electrode 9.

그리고, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(31)에서는, 흑색 스페이서(10)를 형성한 후, 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제를 이용하여, 액정 배향용으로 사용할 수 있는 액정 배향막, 즉, 배향막(26)이 형성된다. 즉, 표시 소자용 기판(31)은, 스위칭 능동 소자(8), 유채색 패턴(32) 및 절연막(33)으로 이루어지는 컬러 필터층(34), 흑색 스페이서(10), 그리고, 배향막(26)을 갖고 구성된다. 그리고, 컬러 필터층(34), 흑색 스페이서(10) 및 배향막(26)은, 투명 전극(9)과 함께, 표시 소자용 기판(31)의 컬러 필터(35)를 구성한다.In the display device substrate 31 of the present embodiment, after the black spacer 10 is formed, a liquid crystal alignment film that can be used for alignment of liquid crystals using the liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention, That is, the alignment film 26 is formed. That is, the display element substrate 31 has the color filter layer 34 composed of the switching active element 8, the colored pattern 32 and the insulating film 33, the black spacer 10, and the alignment film 26 . The color filter layer 34, the black spacer 10 and the alignment film 26 together with the transparent electrode 9 constitute the color filter 35 of the substrate 31 for a display device.

표시 소자용 기판(31)에 있어서, 유채색 패턴(32)은, 전술한 표시 소자용 기판(1)에 있어서의 유채색 패턴(12)과 동일하게, 본 발명의 제3 실시 형태의 유채색 조성물을 이용하여, 동일한 방법에 따라서 형성된다.The chromatic color pattern 32 of the substrate 31 for a display element is formed by using the chromatic color composition of the third embodiment of the present invention in the same manner as the chromatic color pattern 12 of the above- And is formed by the same method.

절연막(33)은, 유채색 패턴(32)을 보호하고, 한편으로 우수한 특성의 투명 전극(9)을 형성하도록 형성된다. 절연막(33)은, 후술하는 바와 같이 절연막 형성용 조성물을 이용하여 형성된다. 이 절연막 형성용 조성물은, 일본공개특허공보 2013-015795호에 기재된 절연막 형성용의 감방사선성 수지 조성물(제2 감방사선성 수지 조성물)을 사용할 수 있다. 그리고, 절연막(33)은, 유채색 패턴(32)과 동일하게, 이 절연막 형성용 조성물을 도포·패터닝한 후, 경화하여 형성된다.The insulating film 33 is formed to protect the chromatic pattern 32 and to form the transparent electrode 9 having excellent characteristics on the one hand. The insulating film 33 is formed using a composition for forming an insulating film as described later. The radiation-sensitive resin composition (second radiation-sensitive resin composition) for forming an insulating film described in JP-A-2013-015795 can be used as the composition for forming an insulating film. The insulating film 33 is formed by applying and patterning the composition for forming an insulating film and then curing the same in the same manner as the chromatic color pattern 32.

이상의 구조를 구비한 표시 소자용 기판(31)은, 전술한 표시 소자용 기판(1)과 동일하게, 컬러 필터 온 어레이 구조의 액정 표시 소자의 구성에 적합하게 이용할 수 있다. 따라서, 표시 소자용 기판(31)은, 고휘도화나 고콘트라스트화 등을 실현하여 고표시 품위의 액정 표시 소자의 구성에 이용할 수 있다. 즉, 표시 소자용 기판(31)은, 후술하는 고표시 품위의 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 구성에 이용할 수 있다.The display device substrate 31 having the above structure can be suitably used for the configuration of the liquid crystal display device of the color filter on array structure similarly to the display device substrate 1 described above. Therefore, the substrate 31 for a display element can realize high brightness and high contrast, and can be used in the construction of a liquid crystal display element of high display quality. In other words, the display element substrate 31 can be used in the configuration of the liquid crystal display element of the second embodiment of the present invention with a high display quality described later.

또한, 표시 소자용 기판(31)에서는, 전술한 표시 소자용 기판(1)과 동일하게, 배향막(26)이 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제를 이용하여 형성된다. 따라서, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(31)은, 전술한 표시 소자용 기판(1)과 동일하게, 신뢰 성능이 우수하여, 고신뢰성의 액정 표시 소자의 구성에 이용할 수 있다. 즉, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판(31)은, 후술하는 고신뢰성의 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 구성에 이용할 수 있다.In the display element substrate 31, similarly to the above-described display element substrate 1, an alignment film 26 is formed using the liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention. Therefore, the display-element substrate 31 of the present embodiment is excellent in the reliability performance and can be used for the construction of a highly reliable liquid-crystal display element, like the display-element substrate 1 described above. In other words, the display element substrate 31 of the present embodiment can be used for the configuration of a liquid crystal display element of the second embodiment of the present invention which is highly reliable, which will be described later.

실시 형태 2.Embodiment 2 Fig.

<액정 표시 소자><Liquid crystal display element>

본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자는, 액정을 이용하여 구성된 표시 소자이다. 본 실시 형태의 액정 표시 소자는, 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판을 갖고, 컬러 필터 온 어레이 구조의 컬러 액정 표시 소자로 할 수 있어, 액티브 구동이 가능한, 박막 트랜지스터형으로 할 수 있다.The liquid crystal display element according to the second embodiment of the present invention is a display element constructed using liquid crystal. The liquid crystal display element of the present embodiment can be a thin film transistor type which can be a color liquid crystal display element of a color filter on array structure and can be actively driven with the display element substrate of the first embodiment of the present invention have.

그리고, 본 실시 형태의 액정 표시 소자는, 스위칭 능동 소자, 전극, 유채색 패턴, 흑색 스페이서 및 배향막이 형성된, 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판과, 투명 전극이 형성된 다른 기판이, 액정층을 통하여 대향하는 구조로 할 수 있다. 이하, 본 실시 형태의 액정 표시 소자에 대해서, 도면을 이용하여 설명한다.The liquid crystal display element of the present embodiment has the substrate for a display element according to the first embodiment of the present invention and the other substrate on which the transparent electrode is formed, on which the switching active element, the electrode, the chromatic pattern, the black spacer, Layer structure. Hereinafter, the liquid crystal display element of the present embodiment will be described with reference to the drawings.

도 4는, 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 개략적인 단면도이다.4 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display element according to a second embodiment of the present invention.

도 4에 나타내는 액정 표시 소자(21)는, 본 실시 형태의 액정 표시 소자의 일 예이다.The liquid crystal display element 21 shown in Fig. 4 is an example of the liquid crystal display element of the present embodiment.

액정 표시 소자(21)는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 예를 들면, 박막 트랜지스터형의 TN(Twisted Nematic) 모드 액정 표시 소자이고, 전술한 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)과 대향 기판(22)이, TN 액정으로 이루어지는 액정층(23)을 통하여 대향하는 구조를 가질 수 있다. 즉, 액정 표시 소자(21)는, 전술한 도 1의 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판(1)을 갖고 있고, 공통되는 구성 요소에 대해서는, 공통되는 부호를 이용하는 것으로 하고, 중복되는 설명은 생략한다.4, the liquid crystal display element 21 is, for example, a TN (Twisted Nematic) mode liquid crystal display element of the thin film transistor type and includes the substrate 1 for display element 1 of the first embodiment of the present invention And the counter substrate 22 are opposed to each other through the liquid crystal layer 23 made of TN liquid crystal. That is, the liquid crystal display element 21 has the above-described display element substrate 1 of the first embodiment of the present invention shown in Fig. 1, and common elements are used for common elements, And the description thereof will be omitted.

표시 소자용 기판(1)은, 도 4에 나타내는 바와 같이, 투명한 기판(4)의 액정층(23)측의 면에, 소스 전극(5)과, 드레인 전극(6)과, 게이트 전극(7)과, 스위칭 능동 소자(8)와, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 각 색의 유채색 패턴(12)을 배치한 구조를 갖는다. 유채색 패턴(12)은, 후술하는 본 발명의 제3 실시 형태의 유채색 조성물을 이용하여 형성할 수 있고, 착색제로서 염료를 함유할 수 있다. 각 색의 유채색 패턴(12)은, 컬러 필터층(13)을 구성한다.4, the display element substrate 1 is provided with a source electrode 5, a drain electrode 6 and a gate electrode 7 on the surface of the transparent substrate 4 on the liquid crystal layer 23 side A switching active element 8 and chromatic patterns 12 of red (R), green (G) and blue (B) colors are arranged. The chromatic pattern 12 can be formed using the chromatic color composition of the third embodiment of the present invention to be described later, and may contain a dye as a coloring agent. The chromatic pattern 12 of each color constitutes a color filter layer 13. [

그리고, 유채색 패턴(12)의 위에는 투명 전극(9)이 형성되어 있다. 투명 전극(9)의 위에는, 표시 소자용 기판(1)과 대향 기판(22)의 사이의 간격을 유지하여 액정층(23)의 두께를 소망하는 값으로 유지하도록 흑색 스페이서(10)가 세워 설치되어 있다.On the chromatic pattern 12, a transparent electrode 9 is formed. The black spacer 10 is set up on the transparent electrode 9 so as to maintain the thickness of the liquid crystal layer 23 at a desired value by maintaining the interval between the display element substrate 1 and the counter substrate 22 .

한편, 대향 기판(22)에는, 투명한 기판(24)의 액정층(23)측의 면에, 투명한 공통 전극(25)이 형성되어 있다.On the other hand, on the counter substrate 22, a transparent common electrode 25 is formed on the surface of the transparent substrate 24 on the liquid crystal layer 23 side.

표시 소자용 기판(1)과 대향 기판(22)의 각각에 있어서, 액정층(23)과 접하는 면에는 액정 배향용의 배향막(26)이 형성되어 있다. 배향막(26)은, 전술한 바와 같이, 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제를 이용하여 형성할 수 있다.On the surfaces of the display element substrate 1 and the counter substrate 22 which face the liquid crystal layer 23, an alignment film 26 for liquid crystal alignment is formed. The alignment film 26 can be formed using the liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention as described above.

그리고, 배향막(26)은, 필요하면, 예를 들면, 러빙 처리 등의 배향 처리가 실시되어, 표시 소자용 기판(1)과 대향 기판(22)의 사이에 협지된 액정층(23)의 균일한 배향을 실현한다. 그리고, 액정 표시 소자(21)의 표시 소자용 기판(1)에 있어서는, 유채색 패턴(12)을 포함하는 컬러 필터층(13), 흑색 스페이서(10) 및 배향막(26)이, 투명 전극(9)과 함께, 컬러 필터(15)를 구성하고 있다.The orientation film 26 is subjected to alignment treatment such as rubbing treatment if necessary to form a uniform liquid crystal layer 23 sandwiched between the display element substrate 1 and the counter substrate 22 Thereby achieving one orientation. In the display element substrate 1 of the liquid crystal display element 21, the color filter layer 13, the black spacer 10 and the alignment film 26 including the chromatic pattern 12 are formed on the transparent electrode 9, And a color filter 15 are formed.

액정 표시 소자(21)에 있어서, 액정층(23)을 통하여 대향하는 표시 소자용 기판(1)과 대향 기판(22)의 사이의 거리는, 전술한 바와 같이, 표시 소자용 기판(1)의 흑색 스페이서(10)에 의해 유지되어 있고, 통상, 2㎛∼10㎛이다. 이 표시 소자용 기판(1)의 흑색 스페이서(10)는, 전술한 바와 같이, 높은 차광성을 갖고 있다.The distance between the display element substrate 1 and the counter substrate 22 opposed to each other through the liquid crystal layer 23 in the liquid crystal display element 21 is set to be larger than the distance between the display element substrate 1 and the counter substrate 22, Is held by the spacer 10, and is usually 2 m to 10 m. The black spacer 10 of the display element substrate 1 has a high light shielding property as described above.

그리고, 표시 소자용 기판(1)과 대향 기판(22)은, 주변부에 형성된 시일재(도시되지 않음)에 의해 서로 고정되어 있다. 또한, 액정 표시 소자(21)에 있어서, 표시 소자용 기판(1) 및 대향 기판(22) 각각의, 액정층(23)과 접하는 측과 반대의 측에는, 한 쌍의 편광판(28)이 배치되어 있다.The display element substrate 1 and the counter substrate 22 are fixed to each other by a sealing material (not shown) formed at the peripheral portion. In the liquid crystal display element 21, a pair of polarizing plates 28 are arranged on the side of the display element substrate 1 and the opposite substrate 22 opposite to the side in contact with the liquid crystal layer 23 have.

도 4에 있어서, 부호 27은, 액정 표시 소자(21)의 광원이 되는 백라이트 유닛(도시되지 않음)으로부터 액정층(23)을 향하여 조사된 백라이트 광이다. 전술한 백라이트 유닛으로서는, 예를 들면, 냉음극 형광관(CCFL: Cold Cathode Fluorescent Lamp) 등의 형광관과, 산란판이 조합된 구조의 것을 이용할 수 있다.4, reference numeral 27 denotes a backlight irradiated from a backlight unit (not shown) serving as a light source of the liquid crystal display element 21 toward the liquid crystal layer 23. [ As the above-mentioned backlight unit, for example, a structure having a combination of a fluorescent tube such as a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) and a scattering plate can be used.

또한, 백색 LED를 광원으로 하는 백라이트 유닛을 이용할 수도 있다. 백색 LED로서는, 예를 들면, 적색 LED와, 녹색 LED와, 청색 LED를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED; A backlight unit using a white LED as a light source may also be used. As the white LED, for example, a white LED that combines a red LED, a green LED, and a blue LED to obtain white light by mixing colors;

청색 LED와, 적색 LED와, 녹색 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED; A white LED that combines a blue LED, a red LED, and a green phosphor to obtain white light by mixing;

청색 LED와, 적색 발광 형광체와, 녹색 발광 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED; A white LED that combines a blue LED, a red light emitting phosphor, and a green light emitting phosphor to obtain white light by mixing color;

청색 LED와, YAG계 형광체와의 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED; A white LED for obtaining white light by mixing blue LED and YAG-base phosphor;

청색 LED와, 주황색 발광 형광체와, 녹색 발광 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED; A white LED that combines a blue LED, an orange light emitting phosphor and a green light emitting phosphor to obtain white light by mixing;

자외선 LED와, 적색 발광 형광체와, 녹색 발광 형광체와, 청색 발광 형광체를 조합하여 혼색에 의해 백색광을 얻는 백색 LED 등을 들 수 있다.And a white LED that combines an ultraviolet LED, a red light-emitting fluorescent substance, a green light-emitting fluorescent substance, and a blue light-emitting fluorescent substance to produce white light by mixing color.

본 실시 형태의 액정 표시 소자(21)의 액정 모드에 대해서는, 전술한 TN 모드 외에, STN(Super Twisted Nematic), IPS(In-Planes Switching), VA(Vertical Alignment) 또는 OCB(Optically Compensated Birefringence) 등의 액정 모드로 할 수도 있다.The liquid crystal mode of the liquid crystal display element 21 of the present embodiment may be a TN mode or a super twisted nematic (STN), an in-plane switching (IPS) mode, a vertical alignment (VA) mode or an optically compensated birefringence Of the liquid crystal display mode.

그 경우, 배향막(26)에 대해서는, 각 액정 모드에 최적한 액정층의 배향을 실현하는 배향막이 선택된다. 예를 들면, 본 실시 형태의 액정 표시 소자가 VA 모드의 액정 표시 소자인 경우, 배향막에는, 수직 배향형의 배향막이 사용된다. 단, 배향막(26)의 형성에는, 전술한 바와 같이, 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제가, 함유 성분을 최적화함으로써 사용된다.In this case, for the alignment film 26, an alignment film for realizing alignment of the liquid crystal layer optimal for each liquid crystal mode is selected. For example, when the liquid crystal display element of the present embodiment is a VA mode liquid crystal display element, a vertically aligned type orientation film is used for the orientation film. However, as described above, the liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention is used for forming the alignment film 26 by optimizing the contained components.

도 5는, 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 다른 예의 개략적인 단면도이다.5 is a schematic cross-sectional view of another example of the liquid crystal display element according to the second embodiment of the present invention.

도 5에 나타내는 액정 표시 소자(51)는, 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 다른 예이고, 박막 트랜지스터형의 TN(Twisted Nematic) 모드 액정 표시 소자이다. 액정 표시 소자(51)는, 전술한 본 실시 형태의 액정 표시 소자(21)와 동일하게, 표시 소자용 기판(31)과 대향 기판(22)이, TN 액정으로 이루어지는 액정층(23)을 통하여 대향한 구조를 갖는다. 그리고, 표시 소자용 기판(1)을 대신하여 표시 소자용 기판(31)을 이용한 것 이외에는, 전술한 액정 표시 소자(21)와 동일한 구조를 갖는다. 따라서, 전술한 액정 표시 소자(21)와 공통되는 구성 요소에 대해서는, 공통되는 부호를 이용하고, 중복되는 설명은 생략한다.The liquid crystal display element 51 shown in Fig. 5 is another example of the liquid crystal display element according to the second embodiment of the present invention, and is a thin film transistor TN (Twisted Nematic) mode liquid crystal display element. In the liquid crystal display element 51, the substrate 31 for a display element and the counter substrate 22 are bonded to each other through a liquid crystal layer 23 made of a TN liquid crystal, similarly to the liquid crystal display element 21 of the present embodiment described above Facing structure. The liquid crystal display element 21 has the same structure as the liquid crystal display element 21 except that the display element substrate 31 is used instead of the display element substrate 1. [ Therefore, the constituent elements common to the above-described liquid crystal display element 21 are denoted by the same reference numerals, and redundant explanations are omitted.

액정 표시 소자(51)는, 표시 소자용 기판(31)의 유채색 패턴(32) 상에 형성된 절연막(33)을 갖는다. 따라서, 유채색 패턴(32)과 절연막(33)으로부터 컬러 필터층(34)이 구성된다. 즉, 액정 표시 소자(51)의 표시 소자용 기판(31)은, 기판(4) 상에 스위칭 능동 소자(8)와, 유채색 패턴(32) 및 절연막(33)으로 이루어지는 컬러 필터층(34)과, 흑색 스페이서(10)를 갖는다.The liquid crystal display element 51 has an insulating film 33 formed on the chromatic color pattern 32 of the substrate 31 for a display element. Therefore, the color filter layer 34 is formed from the chromatic color pattern 32 and the insulating film 33. [ That is, the display element substrate 31 of the liquid crystal display element 51 includes a switching element 8, a color filter layer 34 composed of a chromatic pattern 32 and an insulating film 33, , And a black spacer (10).

액정 표시 소자(51)에 있어서, 투명 전극(9)은, 유채색 패턴(32) 및 절연막(33)으로 이루어지는 컬러 필터층(34)의 절연막(33)의 위에 배치된다. 투명 전극(9)의 위에는 흑색 스페이서(10)가 세워 설치되고 있다. 유채색 패턴(32)은, 후술하는 본 발명의 제3 실시 형태인 유채색 조성물을 이용하여 형성할 수 있고, 착색제로서 염료를 함유할 수 있다. 절연막(33)은, 유채색 패턴(32)을 보호하고, 한편으로 우수한 특성의 투명 전극(9)을 형성하도록 형성되어 있다.In the liquid crystal display element 51, the transparent electrode 9 is disposed on the insulating film 33 of the color filter layer 34 composed of the chromatic color pattern 32 and the insulating film 33. On the transparent electrode 9, a black spacer 10 is installed upright. The chromatic pattern 32 can be formed using a chromatic color composition which is a third embodiment of the present invention to be described later, and can contain a dye as a colorant. The insulating film 33 is formed to protect the chromatic pattern 32 and to form the transparent electrode 9 having excellent characteristics.

흑색 스페이서(10)는, 액정층(23)을 통하여 대향하는 표시 소자용 기판(31)과 대향 기판(22)의 사이의 거리를 규정하고, 액정층(23)의 두께는 소망하는 값으로 유지되어 있다. 이 흑색 스페이서(10)는, 전술한 바와 같이, 높은 차광성을 갖고 있다. 그리고, 액정 표시 소자(51)의 표시 소자용 기판(31)에 있어서는, 유채색 패턴(32) 및 절연막(33)으로 이루어지는 컬러 필터층(34), 흑색 스페이서(10) 및 배향막(26)이, 투명 전극(9)과 함께, 컬러 필터(35)를 구성하고 있다.The black spacer 10 defines the distance between the opposing substrate 31 and the opposing substrate 22 through the liquid crystal layer 23 and the thickness of the liquid crystal layer 23 is maintained at a desired value . The black spacer 10 has a high light shielding property as described above. In the display element substrate 31 of the liquid crystal display element 51, the color filter layer 34, the black spacer 10, and the alignment film 26, which are composed of the chromatic pattern 32 and the insulating film 33, Together with the electrodes 9, constitute a color filter 35. [

이상과 같이, 본 실시 형태의 액정 표시 소자(21, 51)에서는, 스위칭 능동 소자(8)를 포함하는 표시 소자용 기판(1, 31)이, 유채색 패턴(12, 32)을 포함하여 구성되는 컬러 필터(15, 35)를 가짐으로써, 컬러 필터 온 어레이 구조를 갖는다. 따라서, 본 실시 형태의 액정 표시 소자(21, 51)는, 고휘도화나 고콘트라스트화 등을 실현하여 우수한 표시 품위를 가질 수 있다.As described above, in the liquid crystal display elements 21 and 51 of the present embodiment, the display element substrates 1 and 31 including the switching active element 8 are configured to include the chromatic color patterns 12 and 32 By having color filters 15 and 35, it has a color filter on array structure. Therefore, the liquid crystal display elements 21 and 51 of the present embodiment can realize high brightness and high contrast, and can have excellent display quality.

또한, 본 실시 형태의 액정 표시 소자(21, 51)는, 표시 소자용 기판(1, 31)의 배향막(26)이, 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제를 이용하여 형성된다. 따라서, 본 실시 형태의 액정 표시 소자(21, 51)에서는, 표시 소자용 기판(1, 31)의 흑색 스페이서(10)의 경화가 충분히 이루어져, 신뢰 성능이 우수하다.The liquid crystal display elements 21 and 51 of the present embodiment are formed by using the liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention in the orientation film 26 of the display element substrates 1 and 31. Therefore, in the liquid crystal display elements 21 and 51 of this embodiment, the black spacer 10 of the display element substrates 1 and 31 is sufficiently cured, and the reliability performance is excellent.

실시 형태 3.Embodiment 3:

<유채색 조성물>&Lt;

본 발명의 제3 실시 형태인 유채색 조성물은, 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판 및 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 컬러 필터층의 유채색 패턴의 형성에 이용할 수 있다.The chromatic color composition according to the third embodiment of the present invention can be used for forming the chromatic color pattern of the color filter layer of the liquid crystal display element of the display element substrate and the display element substrate of the first embodiment of the present invention.

본 발명의 제3 실시 형태인 유채색 조성물은, 착색제, 제2 알칼리 가용성 수지, 중합성 화합물 및, 제3 중합 개시제를 함유한다. 또한, 본 발명의 효과를 해치지 않는 한 그 외의 임의 성분을 함유해도 좋다. 이하, 유채색 조성물에 함유되는 각 성분에 대해서 설명한다.The chromatic color composition of the third embodiment of the present invention contains a colorant, a second alkali-soluble resin, a polymerizable compound, and a third polymerization initiator. Further, other optional components may be contained as long as the effect of the present invention is not impaired. Hereinafter, each component contained in the chromatic color composition will be described.

(착색제)(coloring agent)

본 발명의 제3 실시 형태의 유채색 조성물은 착색제를 함유하지만, 이 착색제로서는, 염료를 포함하는 착색제가 바람직하다.The chromatic color composition of the third embodiment of the present invention contains a colorant, but as the colorant, a colorant containing a dye is preferable.

전술한 염료로서는, 발색단의 관점으로 분류하면, 아조 염료, 트리아릴메탄 염료, 디아릴메탄 염료, 안트라퀴논 염료, 잔텐 염료, 퀴놀린 염료, 니트로 염료, 프탈로시아닌 염료, 포르피린 염료, 메틴 염료, 디피로메텐 염료, 시아닌 염료, 스쿠아릴륨 염료, 퀴노프탈론 염료, 쿠마린 염료, 피라졸론 염료, 퀴논이민 염료, 시아노아크릴산 에스테르 염료 등을 들 수 있다. 아조 염료로서는 추가로, 피리돈아조 염료, 피라졸론아조 염료, 디아조 염료 등을 들 수 있다. 이들 중, 아조 염료, 트리아릴메탄 염료, 안트라퀴논 염료, 잔텐 염료, 퀴놀린 염료, 니트로 염료, 프탈로시아닌 염료, 메틴 염료, 디피로메텐 염료, 시아닌 염료, 퀴노프탈론 염료, 쿠마린 염료, 피라졸론 염료 및 퀴논이민 염료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, 아조 염료, 트리아릴메탄 염료, 안트라퀴논 염료, 잔텐 염료, 프탈로시아닌 염료, 디피로메텐 염료, 시아닌 염료 및 퀴노프탈론 염료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이 보다 바람직하다.Examples of the above-mentioned dyes include azo dyes, triarylmethane dyes, diarylmethane dyes, anthraquinone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, nitro dyes, phthalocyanine dyes, porphyrine dyes, Dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, quinophthalone dyes, coumarin dyes, pyrazolone dyes, quinone imine dyes, and cyanoacrylate ester dyes. Examples of the azo dye include pyridone azo dyes, pyrazolone azo dyes, and diazo dyes. Of these, azo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, nitro dyes, phthalocyanine dyes, methine dyes, dipyrromethene dyes, cyanine dyes, quinophthalone dyes, coumarin dyes, pyrazolone dyes and Quinone imine dyes, and is preferably at least one selected from the group consisting of azo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, dyestuff dyes, phthalocyanine dyes, dipyrromethene dyes, cyanine dyes and quinophthalone dyes Is preferable to at least one selected paper.

또한, 본 실시 형태의 유채색 조성물은, 착색제로서 안료도 함유할 수 있다. 이러한 안료로서는, 예를 들면 일본공개특허공보 2009-175288호의 단락〔0012〕∼〔0017〕에 기재되어 있는 유기 안료나 무기 안료를 들 수 있다. 또한 안료로서, 예를 들면, 일본공개특허공보 2013-218207호의 단락〔0021〕에 기재되어 있는 바와 같은 레이크 안료를 이용할 수도 있다.The chromatic color composition of the present embodiment may also contain a pigment as a coloring agent. Examples of such pigments include organic pigments and inorganic pigments described in paragraphs [0012] to [0017] of JP-A No. 2009-175288. As the pigment, for example, a lake pigment as described in paragraph [0021] of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-218207 may be used.

이들 중에서도, 컬러 인덱스(C.I.)명으로, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 264, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 58, C.I. 피그먼트 그린 59, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 16, C.I. 피그먼트 블루 79, C.I. 피그먼트 블루 80, C.I. 피그먼트 옐로우 83, C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 180, C.I. 피그먼트 옐로우 185, C.I. 피그먼트 옐로우 211, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 바이올렛 19, C.I. 피그먼트 바이올렛 23을 바람직한 안료로서 들 수 있다. 이 외, 일본공표특허공보 2011-523433호의 식(Ic)로 나타나는 브로모화 디케토피롤로피롤 안료를 적색 안료로서 사용할 수도 있다.Among them, the color index (C.I.) name, the C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 264, C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 58, C.I. Pigment Green 59, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment Blue 16, C.I. Pigment Blue 79, C.I. Pigment Blue 80, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 180, C.I. Pigment Yellow 185, C.I. Pigment Yellow 211, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Violet 19, C.I. Pigment Violet 23 can be mentioned as a preferable pigment. In addition, the brominated diketopyrrolopyrrole pigment represented by the formula (Ic) of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-523433 may be used as a red pigment.

본 실시 형태의 유채색 조성물에 있어서, 안료를 사용하는 경우, 안료를, 재결정법, 재침전법, 용매 세정법, 승화법, 진공 가열법 또는 이들의 조합에 의해 정제하여 사용할 수도 있다. 또한, 안료는, 소망에 의해, 그의 입자 표면을 수지로 개질하여 사용해도 좋다.When a pigment is used in the chromatic color composition of the present embodiment, the pigment may be purified and used by a recrystallization method, a reprecipitation method, a solvent cleaning method, a sublimation method, a vacuum heating method, or a combination thereof. The pigment may be used by modifying its particle surface with a resin, if desired.

안료의 입자 표면을 개질하는 수지로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 2001-108817호에 기재된 비히클 수지, 또는 시판의 각종의 안료 분산용의 수지를 들 수 있다. 카본 블랙 표면의 수지 피복 방법으로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 평9-71733호, 일본공개특허공보 평9-95625호, 일본공개특허공보 평9-124969호 등에 기재된 방법을 채용할 수 있다. 또한, 유기 안료는, 소위 솔트 밀링에 의해, 1차 입자를 미세화하여 사용해도 좋다. 솔트 밀링의 방법으로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 평08-179111호에 개시되어 있는 방법을 채용할 수 있다.Examples of the resin for modifying the particle surface of the pigment include the vehicle resin described in JP 2001-108817 A, or a resin for dispersing various pigments commercially available. As the resin coating method for the surface of carbon black, for example, the methods described in JP-A-9-71733, JP-A-9-95625, JP-A-9-124969 and the like can be adopted . The organic pigment may be used by finely grinding primary particles by so-called salt milling. As a method of the salt milling, for example, a method disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 08-179111 can be adopted.

본 실시 형태의 유채색 조성물에 있어서, 다른 착색제로서 안료를 사용하는 경우, 추가로 공지의 분산제 및 분산조제를 함유시킬 수도 있다. 공지의 분산제로서는, 예를 들면, 우레탄계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르계 분산제, 폴리에틸렌글리콜디에스테르계 분산제, 소르비탄 지방산 에스테르계 분산제, 폴리에스테르계 분산제, 아크릴계 분산제 등을, 분산조제로서는 안료 유도체 등을 들 수 있다.When a pigment is used as the other coloring agent in the chromatic color composition of the present embodiment, a known dispersing agent and a dispersing aid may be further contained. Examples of known dispersants include urethane dispersants, polyethyleneimine dispersants, polyoxyethylene alkyl ether dispersants, polyoxyethylene alkyl phenyl ether dispersants, polyethylene glycol diester dispersants, sorbitan fatty acid ester dispersants, polyester Based dispersing agent, an acrylic-based dispersing agent and the like, and as a dispersing aid, a pigment derivative and the like.

이러한 분산제는 상업적으로 입수할 수 있고, 예를 들면, 일본공개특허공보 2014-139312호의 단락〔0020〕에 기재되어 있는 분산제를 이용할 수 있다.Such a dispersant is commercially available, for example, a dispersant described in paragraph [0020] of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-139312 can be used.

또한, 전술한 안료 유도체로서는, 구체적으로는, 구리 프탈로시아닌, 디케토피롤로피롤, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체 등을 들 수 있다.Specific examples of the above-mentioned pigment derivatives include copper phthalocyanine, diketopyrrolopyrrole, and sulfonic acid derivatives of quinophthalone.

본 실시 형태의 유채색 조성물에 있어서 착색제는, 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the chromatic color composition of this embodiment, the colorant may be used alone or in combination of two or more.

본 실시 형태의 유채색 조성물에 있어서, 착색제의 함유 비율은, 내용매성, 휘도가 높고 색 순도도 우수한 유채색 패턴을 형성하는 점에서, 유채색 조성물의 고형분 중에 5질량%∼70질량%, 바람직하게는 10질량%∼60질량%이다. 여기에서 고형분이란, 후술하는 용매 이외의 성분이다.In the chromatic composition of the present embodiment, the content of the colorant is preferably 5% by mass to 70% by mass, more preferably 10% by mass, and more preferably 10% by mass, in terms of forming a chromatic pattern having high solvent resistance, high brightness and high color purity. Mass% to 60 mass%. Here, the solid content is a component other than the solvent described later.

(제2 알칼리 가용성 수지)(Second alkali-soluble resin)

본 발명의 제3 실시 형태인 유채색 조성물에 있어서의 제2 알칼리 가용성 수지는, 알칼리 현상성을 갖는 수지이고, 또한 소위, 바인더 수지로서의 기능도 하는 수지이다.The second alkali-soluble resin in the chromatic color composition according to the third embodiment of the present invention is a resin having alkali developability and also functions as a so-called binder resin.

제2 알칼리 가용성 수지는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 카복실기, 페놀성 수산기 등의 산성 관능기를 갖는 수지인 것이 바람직하다. 그 중에서도, 카복실기를 갖는 중합체(이하, 「카복실기 함유 중합체」라고도 칭함)가 바람직하고, 예를 들면, 1개 이상의 카복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체(이하, 「불포화 단량체 (b1)」라고도 칭함)와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체(이하, 「불포화 단량체 (b2)」라고도 칭함)의 공중합체를 들 수 있다.The second alkali-soluble resin is not particularly limited, but is preferably a resin having an acidic functional group such as a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group. Among them, a polymer having a carboxyl group (hereinafter also referred to as a &quot; carboxyl group-containing polymer &quot;) is preferable, and an ethylenically unsaturated monomer having at least one carboxyl group (hereinafter also referred to as &quot; unsaturated monomer (b1) And another copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter also referred to as &quot; unsaturated monomer (b2) &quot;).

상기 불포화 단량체 (b1)로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산, 말레인산, 무수 말레인산, 숙신산 모노〔2-(메타)아크릴로일옥시에틸〕, ω-카복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, p-비닐벤조산 등을 들 수 있다. 이들 불포화 단량체 (b1)는, 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the unsaturated monomer (b1) include unsaturated monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], omega-carboxypolycaprolactone mono p-vinylbenzoic acid and the like. These unsaturated monomers (b1) may be used alone or in admixture of two or more.

또한, 상기 불포화 단량체 (b2)로서는, 예를 들면, N-페닐말레이미드, N-사이클로헥실말레이미드 등의 N-위치 치환 말레이미드; Examples of the unsaturated monomer (b2) include N-substituted maleimide such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide;

스티렌, α-메틸스티렌, p-하이드록시스티렌, p-하이드록시-α-스티렌, p-비닐벤질글리시딜에테르, 아세나프틸렌 등의 방향족 비닐 화합물;Aromatic vinyl compounds such as styrene,? -Methylstyrene, p-hydroxystyrene, p-hydroxy-? -Styrene, p-vinylbenzyl glycidyl ether and acenaphthylene;

메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 알릴(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(중합도 2∼10)메틸에테르(메타)아크릴레이트, 폴리프로피렌글리콜(중합도 2∼10)메틸에테르(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(중합도 2∼10)모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(중합도 2∼10)모노(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 디사이클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 글리세롤모노(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시페닐(메타)아크릴레이트, 파라큐밀페놀의 에틸렌옥사이드 변성 (메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 3-〔(메타)아크릴로일옥시메틸〕옥세탄, 3-〔(메타)아크릴로일옥시메틸〕-3-에틸옥세탄 등의 (메타)아크릴산 에스테르;Acrylates such as methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate of polyethylene glycol (polymerization degree: 2 to 10), methyl ether (meth) acrylate of polypropylene glycol (polymerization degree: 2 to 10) (Meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl (meth) acrylate, Acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, 4-hydroxyphenyl (meth) acrylate, ethylene oxide-modified (meth) ) Acrylate, 3,4-epoxy (Meth) acrylate esters such as cyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3 - [(meth) acryloyloxymethyl] oxetane and 3- [(meth) acryloyloxymethyl] ;

사이클로헥실비닐에테르, 이소보닐비닐에테르, 트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일비닐에테르, 펜타사이클로펜타데카닐비닐에테르, 3-(비닐옥시메틸)-3-에틸옥세탄 등의 비닐에테르;Cyclohexyl vinyl ether, isobornyl vinyl ether, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl vinyl ether, pentacyclopentadecanyl vinyl ether, 3- (vinyloxymethyl) Of vinyl ether;

폴리스티렌, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메타)아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메타)아크릴로일기를 갖는 매크로 폴리머 등을 들 수 있다.And a macromolecule having a mono (meth) acryloyl group at the end of a polymer molecular chain such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate and polysiloxane.

이들 불포화 단량체 (b2)는, 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These unsaturated monomers (b2) may be used singly or in combination of two or more.

불포화 단량체 (b1)과 불포화 단량체 (b2)의 공중합체에 있어서, 당해 공중합체 중의 불포화 단량체 (b1)의 공중합 비율은, 바람직하게는 5질량%∼50질량%, 더욱 바람직하게는 10질량%∼40질량%이다. 이러한 범위에서 불포화 단량체 (b1)을 공중합시킴으로써, 알칼리 현상성 및 보존 안정성이 우수한 본 실시 형태의 유채색 조성물을 얻을 수 있다.In the copolymer of the unsaturated monomer (b1) and the unsaturated monomer (b2), the copolymerization ratio of the unsaturated monomer (b1) in the copolymer is preferably 5 mass% to 50 mass%, more preferably 10 mass% 40% by mass. By copolymerizing the unsaturated monomer (b1) in such a range, the chromatic composition of the present embodiment having excellent alkali developability and storage stability can be obtained.

불포화 단량체 (b1)과 불포화 단량체 (b2)의 공중합체의 구체예로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 평7-140654호, 일본공개특허공보 평8-259876호, 일본공개특허공보 평10-31308호, 일본공개특허공보 평10-300922호, 일본공개특허공보 평11-174224호, 일본공개특허공보 평11-258415호, 일본공개특허공보 2000-56118호, 일본공개특허공보 2004-101728호 등에 개시되어 있는 공중합체를 들 수 있다.As specific examples of the copolymer of the unsaturated monomer (b1) and the unsaturated monomer (b2), for example, JP-A-7-140654, JP-A-8-259876, JP-A-10-31308 Japanese Unexamined Patent Application Publication Nos. 10-300922, 11-174224, 11-258415, 2000-56118, 2004-101728, etc. Include the disclosed copolymers.

또한, 본 실시 형태의 유채색 조성물에 있어서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 평5-19467호, 일본공개특허공보 평6-230212호, 일본공개특허공보 평7-207211호, 일본공개특허공보 평09-325494호, 일본공개특허공보 평11-140144호, 일본공개특허공보 2008-181095호 등에 개시되어 있는 바와 같이, 측쇄에 (메타)아크릴로일기 등의 중합성 불포화 결합을 갖는 카복실기 함유 중합체를, 제2 알칼리 가용성 수지로서 사용할 수도 있다.Further, in the chromatic color composition of this embodiment, for example, JP-A-5-19467, JP-A-6-230212, JP-A-7-207211, JP- As disclosed in JP-A-09-325494, JP-A-11-140144, and JP-A-2008-181095, a carboxyl group-containing polymer having a polymerizable unsaturated bond such as a (meth) May be used as the second alkali-soluble resin.

본 실시 형태에 있어서의 제2 알칼리 가용성 수지는, 겔 투과 크로마토그래피(이하, GPC로 생략함)(용출 용매: 테트라하이드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)이, 통상, 1000∼100000, 바람직하게는 3000∼50000이다.The second alkali-soluble resin in the present embodiment has a weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as GPC) (elution solvent: tetrahydrofuran) To 100000, preferably 3000 to 50000.

또한, 본 실시 형태에 있어서의 제2 알칼리 가용성 수지의 중량 평균 분자량(Mw)과, 수 평균 분자량(Mn)의 비(Mw/Mn)는, 바람직하게는 1.0∼5.0, 보다 바람직하게는 1.0∼3.0이다. 또한, 여기에서 말하는, Mw 및 Mn은, GPC(용출 용매: 테트라하이드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 및 수 평균 분자량을 말한다.The ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) of the second alkali-soluble resin in the present embodiment is preferably 1.0 to 5.0, 3.0. Here, Mw and Mn refer to weight average molecular weight and number average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC (elution solvent: tetrahydrofuran).

본 실시 형태에 있어서의 제2 알칼리 가용성 수지는, 공지의 방법에 의해 제조할 수 있지만, 예를 들면, 일본공개특허공보 2003-222717호, 일본공개특허공보 2006-259680호, 국제공개공보 제07/029871호 팸플릿 등에 개시되어 있는 방법에 의해, 그의 구조나 Mw, Mw/Mn을 제어할 수도 있다.The second alkali-soluble resin in the present embodiment can be produced by a known method. For example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2003-222717, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-259680, International Publication No. 07 The structure, Mw, and Mw / Mn can also be controlled by a method disclosed in the publication pamphlet or the like.

본 실시 형태인 유채색 조성물에 있어서, 제2 알칼리 가용성 수지의 함유량은, 전술한 착색제 100질량부에 대하여, 통상, 10질량부∼1000질량부, 바람직하게는 20질량부∼500질량부이다. 이와 같이 함으로써, 알칼리 현상성, 보존 안정성이 우수한 유채색 조성물이 얻어지고, 또한, 얻어지는 유채색 패턴의 색도 특성, 내용매성도 우수한 것이 된다.In the chromatic color composition of this embodiment, the content of the second alkali-soluble resin is usually 10 parts by mass to 1000 parts by mass, preferably 20 parts by mass to 500 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the above-mentioned colorant. By doing so, a chromatic composition having excellent alkali developability and storage stability can be obtained, and the obtained chromatic color pattern exhibits excellent chromaticity characteristics and solvent resistance.

본 실시 형태인 유채색 조성물에 있어서, 제2 알칼리 가용성 수지는, 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the chromatic color composition of this embodiment, the second alkali-soluble resin may be used singly or in a mixture of two or more kinds.

(중합성 화합물)(Polymerizable compound)

본 발명의 제3 실시 형태의 유채색 조성물에 있어서의 중합성 화합물은, 소위, 가교제로서의 기능도 하는 화합물이다.The polymerizable compound in the chromatic composition of the third embodiment of the present invention is a compound which also functions as a so-called crosslinking agent.

전술한 중합성 화합물로서는, 가교제로서의 기능을 하기 위해, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물인 것이 바람직하다. 그리고, 2개 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물이 보다 바람직하고, 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이 더욱 바람직하다.The above-mentioned polymerizable compound is preferably a polymerizable compound having an ethylenic unsaturated bond in order to function as a crosslinking agent. Further, a compound having two or more ethylenic unsaturated groups is more preferable, and a compound having two or more (meth) acryloyl groups is more preferable.

전술한 바와 같은 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 폴리하이드록시 화합물과 (메타)아크릴산의 반응물인 다관능 (메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성된 다관능 (메타)아크릴레이트, 알킬렌옥사이드 변성된 다관능 (메타)아크릴레이트, 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트와 다관능 이소시아네이트의 반응물인 다관능 우레탄(메타)아크릴레이트, 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트와 산 무수물의 반응물인 카복실기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the polymerizable compound as described above include polyfunctional (meth) acrylate which is a reaction product of an aliphatic polyhydroxy compound and (meth) acrylic acid, polyfunctional (meth) acrylate modified with caprolactone, alkylene oxide modified Polyfunctional urethane (meth) acrylate which is a reaction product of a (meth) acrylate having a hydroxyl group and a polyfunctional isocyanate, a polyfunctional urethane (meth) acrylate having a carboxyl group as a reaction product of (meth) acrylate having a hydroxyl group and an acid anhydride Polyfunctional (meth) acrylate, and the like.

여기에서, 상기 지방족 폴리하이드록시 화합물로서는, 예를 들면, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜과 같은 2가의 지방족 폴리하이드록시 화합물; Examples of the aliphatic polyhydroxy compound include divalent aliphatic polyhydroxy compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, polyethylene glycol and polypropylene glycol;

글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨과 같은 3가 이상의 지방족 폴리하이드록시 화합물을 들 수 있다.And tri- or higher-valent aliphatic polyhydroxy compounds such as glycerin, trimethylol propane, pentaerythritol, and dipentaerythritol.

상기 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 글리세롤디메타크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylate having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol Penta (meth) acrylate, and glycerol dimethacrylate.

상기 다관능 이소시아네이트로서는, 예를 들면, 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 디페닐메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional isocyanate include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate.

산 무수물로서는, 예를 들면, 무수 숙신산, 무수 말레인산, 무수 글루타르산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 헥사하이드로 무수 프탈산과 같은 2염기산의 무수물, 무수 피로멜리트산, 비페닐테트라카본산 2무수물, 벤조페논테트라카본산 2무수물과 같은 4염기산 2무수물을 들 수 있다.Examples of the acid anhydride include anhydrides of dibasic acids such as succinic anhydride, maleic anhydride, anhydrous glutaric acid, itaconic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, anhydride pyromellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid dianhydride , Tetrabasic acid dianhydride such as benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride.

또한, 상기 카프로락톤 변성된 다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 평11-44955호의 단락〔0015〕∼〔0018〕에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.Examples of the caprolactone-modified polyfunctional (meth) acrylate include compounds described in paragraphs [0015] to [0018] of JP-A No. 11-44955.

상기 알킬렌옥사이드 변성된 다관능 (메타)아크릴레이트로서는, 비스페놀 A의 에틸렌옥사이드 및 비스페놀 A의 프로필렌옥사이드로부터 선택되는 적어도 1종에 의해 변성된 디(메타)아크릴레이트, 이소시아누르산의 에틸렌옥사이드 및 이소시아누르산의 프로필렌옥사이드로부터 선택되는 적어도 1종에 의해 변성된 트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판의 에틸렌옥사이드 및 트리메틸올프로판의 프로필렌옥사이드로부터 선택되는 적어도 1종에 의해 변성된 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨의 에틸렌옥사이드 및 펜타에리트리톨의 프로필렌옥사이드로부터 선택되는 적어도 1종에 의해 변성된 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨의 에틸렌옥사이드 및 펜타에리트리톨의 프로필렌옥사이드로부터 선택되는 적어도 1종에 의해 변성된 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨의 에틸렌옥사이드 및 디펜타에리트리톨의 프로필렌옥사이드로부터 선택되는 적어도 1종에 의해 변성된 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨의 에틸렌옥사이드 및 디펜타에리트리톨의 프로필렌옥사이드로부터 선택되는 적어도 1종에 의해 변성된 헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the alkylene oxide-modified polyfunctional (meth) acrylate include di (meth) acrylate modified with at least one selected from ethylene oxide of bisphenol A and propylene oxide of bisphenol A, ethylene oxide of isocyanuric acid (Meth) acrylate modified with at least one member selected from the group consisting of ethylene oxide and propylene oxide of isocyanuric acid, tri (meth) acrylate modified with at least one member selected from ethylene oxide of trimethylolpropane and propylene oxide of trimethylolpropane Tri (meth) acrylate modified with at least one member selected from the group consisting of ethylene oxide of pentaerythritol, propylene oxide of pentaerythritol, ethylene oxide of pentaerythritol, and propylene oxide of pentaerythritol. Lt; RTI ID = 0.0 &gt; (Meth) acrylate modified with at least one member selected from tetra (meth) acrylate, ethylene oxide of dipentaerythritol and propylene oxide of dipentaerythritol, ethylene oxide and dipentaerythritol of dipentaerythritol And hexa (meth) acrylate modified with at least one member selected from propylene oxide of lithol.

이들 중합성 화합물 중, 3가 이상의 지방족 폴리하이드록시 화합물과 (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 다관능 (메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성된 다관능 (메타)아크릴레이트, 다관능 우레탄(메타)아크릴레이트, 카복실기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트가 바람직하다. 3가 이상의 지방족 폴리하이드록시 화합물과 (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 다관능 (메타)아크릴레이트 중에서는, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트가, 카복실기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트 중에서는, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트와 무수 숙신산을 반응시켜 얻어지는 화합물, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 무수 숙신산을 반응시켜 얻어지는 화합물이, 유채색 패턴의 강도가 높고, 유채색 패턴의 내용매성이나 표면 평활성이 우수하고, 또한 미노광부의 기판 상 등에 표면 얼룩, 막 잔사 등을 발생시키기 어려운 점에서 특히 바람직하다.Of these polymerizable compounds, polyfunctional (meth) acrylates obtained by reacting tri- or higher aliphatic polyhydroxy compounds with (meth) acrylic acid, caprolactone-modified polyfunctional (meth) acrylates, polyfunctional urethane (meth) (Meth) acrylate having a carboxyl group are preferable. Among the polyfunctional (meth) acrylates obtained by reacting tri- or higher aliphatic polyhydroxy compounds with (meth) acrylic acid, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, di Among the polyfunctional (meth) acrylates having a carboxyl group, pentaerythritol hexaacrylate is preferably a compound obtained by reacting pentaerythritol triacrylate with succinic anhydride, a compound obtained by reacting dipentaerythritol pentaacrylate with succinic anhydride Compound is particularly preferable because it has a high intensity of a chromatic pattern and is excellent in the solvent resistance and surface smoothness of a chromatic pattern and is difficult to cause surface stains and film residue on a substrate of an unexposed portion.

본 실시 형태인 유채색 조성물에 있어서, 중합성 화합물은, 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the chromatic composition of this embodiment, the polymerizable compounds may be used alone or in combination of two or more.

본 실시 형태인 유채색 조성물에 있어서의 중합성 화합물의 함유량은, 전술한 착색제 100질량부에 대하여, 10질량부∼1000질량부가 바람직하고, 특히 20질량부∼500질량부가 바람직하다. 중합성 화합물의 함유량을 상기 범위 내로 함으로써, 내용매성을 향상시킬 수 있다.The content of the polymerizable compound in the chromatic composition of the present embodiment is preferably 10 parts by mass to 1000 parts by mass, particularly preferably 20 parts by mass to 500 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the above-mentioned colorant. When the content of the polymerizable compound is within the above range, the solvent resistance can be improved.

(제3 중합 개시제)(Third polymerization initiator)

본 실시 형태인 유채색 조성물에 함유되는 제3 중합 개시제는, 방사선에 감응하여, 전술한 중합성 화합물의 중합을 개시할 수 있는 활성종을 발생하는 성분이다. 이러한 제3 중합 개시제로서는, O-아실옥심 화합물, 아세토페논 화합물, 비이미다졸 화합물, 티오크산톤계 화합물, 트리아진계 화합물, 오늄염계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 디아조계 화합물, 이미드술포네이트계 화합물, 오늄염계 화합물 등을 들 수 있다.The third polymerization initiator contained in the chromatic composition of the present embodiment is a component that generates active species capable of initiating polymerization of the above-mentioned polymerizable compound in response to radiation. Examples of such a third polymerization initiator include an O-acyloxime compound, an acetophenone compound, a biimidazole compound, a thioxanthone compound, a triazine compound, an onium salt compound, a benzoin compound, a benzophenone compound, , Polynuclear quinone compounds, diazo compounds, imidosulfonate compounds, onium salt compounds, and the like.

이들 화합물은, 단독으로 사용해도 좋고 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다. 그 중에서도, O-아실옥심 화합물, 아세토페논 화합물 및 비이미다졸 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이 바람직하다.These compounds may be used singly or in combination of two or more kinds. Among them, at least one member selected from the group consisting of O-acyloxime compounds, acetophenone compounds and imidazole compounds is preferable.

전술한 O-아실옥심 화합물로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 2014-58672호의 단락〔0094〕에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있고, 그 중에서도 1,2-옥탄디온 1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)], 에탄온-1-〔9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-〔9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라하이드로푸라닐메톡시벤조일)-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심), 에탄온-1-〔9-에틸-6-{2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥소라닐)메톡시벤조일}-9H-카르바졸-3-일〕-1-(O-아세틸옥심)이 바람직하다.Examples of the above-mentioned O-acyloxime compound include compounds described in paragraph [0094] of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-58672, among which 1,2-octanedione 1- [4- (phenyl (O-benzoyloxime)], ethanone- 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol- , 9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O- acetyloxime), ethanone- Methoxybenzoyl} -9H-carbazol-3-yl] -1- (O) -2-methyl- -Acetyloxime) is preferred.

전술한 아세토페논 화합물로서는, 예를 들면, α-아미노케톤 화합물, α-하이드록시케톤 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone compound described above include an? -Amino ketone compound,? -Hydroxy ketone compound and the like.

전술한 α-아미노케톤 화합물로서는, 예를 들면, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the aforementioned? -Amino ketone compound include 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2- Methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1-one, .

전술한 α-하이드록시케톤 화합물로서는, 예를 들면, 1-페닐-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-i-프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-하이드록시에톡시)페닐-(2-하이드록시-2-프로필)케톤, 1-하이드록시사이클로헥실페닐 케톤 등을 들 수 있다.Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-i-propylphenyl) -2-hydroxy-2- Methylpropane-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone.

이들 중, α-아미노케톤 화합물이 바람직하고, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온이 보다 바람직하다.Of these,? -Aminoketone compounds are preferable, and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) Methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1-one is more preferable Do.

전술한 비이미다졸 화합물로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 2014-58672호의 단락〔0081〕에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있고, 그 중에서도 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 또는 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하고, 그 중에서 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 보다 바람직하다.Examples of the aforementioned imidazole compound include compounds described in paragraph [0081] of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-58672, among which 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4 , 4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl- , 2'-biimidazole or 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole Among them, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole is more preferable.

제3 중합 개시제의 함유 비율로서는, 전술한 제2 알칼리 가용성 수지 100질량부에 대하여, 1질량부∼40질량부가 바람직하고, 5질량부∼30질량부가 보다 바람직하다. 제3 중합 개시제의 사용 비율을 1질량부∼40질량부로 함으로써, 본 실시 형태의 유채색 조성물은, 저노광량의 경우에서도 높은 내용매성 등을 갖는 유채색 패턴 및 컬러 필터층을 형성할 수 있다.The content of the third polymerization initiator is preferably 1 part by mass to 40 parts by mass, more preferably 5 parts by mass to 30 parts by mass, per 100 parts by mass of the second alkali-soluble resin. By setting the ratio of the third polymerization initiator to 1 part by mass to 40 parts by mass, the chromatic color composition of the present embodiment can form a chromatic pattern and a color filter layer having high solvent resistance even at a low exposure dose.

(용매)(menstruum)

본 발명의 제3 실시 형태인 유채색 조성물은, 전술한 착색제 등의 필수의 성분 및, 임의적으로 더해지는 그 외의 임의 성분을 함유하는 것이지만, 통상, 용매를 배합하여 액상 조성물로서 조제된다. 상기 용매로서는, 유채색 조성물을 구성하는 착색제 등의 필수의 성분이나 그 외의 임의 성분을 분산 또는 용해하고, 또한 이들 성분과 반응하지 않고, 적당한 휘발성을 갖는 것인 한, 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.The chromatic color composition according to the third embodiment of the present invention contains essential components such as the above-mentioned coloring agents and optionally other optional components, but is usually formulated as a liquid composition by mixing a solvent. The solvent may be appropriately selected and used as long as it does not disperse or dissolve essential components such as a coloring agent constituting the chromatic color composition and other optional components and does not react with these components and has appropriate volatility.

이러한 용매로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 2014-58672호의 단락〔0098〕∼〔0100〕에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 용해성, 안료 분산성, 도포성 등의 관점에서, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 사이클로헥산온, 2-헵탄온, 3-헵탄온, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산디올디아세테이트, 락트산 에틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산 에틸 등이 바람직하다.Examples of such a solvent include the compounds described in paragraphs [0098] to [0100] of JP-A No. 2014-58672. Among them, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-ethylhexanone, and the like are preferable from the viewpoints of solubility, pigment dispersibility, Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 1,3-butylene glycol diacetate, 1,6-hexanediol di Acetate, ethyl lactate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, n-butyl acetate, amyl acetate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate and ethyl pyruvate.

본 실시 형태인 유채색 조성물에 있어서, 용매는, 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the chromatic color composition of this embodiment, the solvents may be used alone or in combination of two or more.

용매의 함유량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 유채색 조성물의 용매를 제외한 각 성분의 합계 농도가, 5질량%∼50질량%가 되는 양이 바람직하고, 10질량%∼40질량%가 되는 양이 보다 바람직하다. 이러한 실시 형태으로 함으로써, 분산성, 안정성이 양호한 착색제 분산액, 그리고 도포성, 안정성이 양호한 유채색 조성물을 얻을 수 있다.The content of the solvent is not particularly limited, but it is preferable that the total concentration of each component except for the solvent of the chromatic composition is 5% by mass to 50% by mass, and the amount of 10% by mass to 40% desirable. By such an embodiment, it is possible to obtain a colorant dispersion having good dispersibility and stability, and a chromatic color composition having good coatability and stability.

(그 외 임의 성분)(Other optional components)

본 발명의 제3 실시 형태의 유채색 조성물은, 필요에 따라서, 첨가제로서, 그 외 임의 성분을 함유할 수도 있다.The chromatic color composition of the third embodiment of the present invention may optionally contain other optional components as an additive.

그 외 임의 성분으로서는, 예를 들면, 유리, 알루미나 등의 충전제; Examples of other optional components include fillers such as glass and alumina;

폴리비닐알코올, 폴리(플루오로알킬아크릴레이트)류 등의 고분자 화합물; High molecular compounds such as polyvinyl alcohol and poly (fluoroalkyl acrylate);

불소계 계면 활성제, 실리콘계 계면 활성제 등의 계면 활성제; Surfactants such as fluorine-based surfactants and silicone-based surfactants;

비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제; Vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclo Hexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like Adhesion promoters;

2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등의 산화 방지제;Antioxidants such as 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butylphenol;

2-(3-t-부틸-5-메틸-2-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논류 등의 자외선 흡수제; Ultraviolet absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones;

폴리아크릴산 나트륨 등의 응집 방지제; An anti-aggregation agent such as sodium polyacrylate;

말론산, 아디프산, 이타콘산, 시트라콘산, 푸마르산, 메사콘산, 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 5-아미노-1-펜탄올, 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올 등의 잔사 개선제; Amino-1-pentanol, 3-amino-1,2-propane, 3-amino-1-pentanol, Diol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol and the like;

숙신산 모노〔2-(메타)아크릴로일옥시에틸〕, 프탈산 모노〔2-(메타)아크릴로일옥시에틸〕, ω-카복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 현상성 개선제 등을 들 수 있다.A developing agent such as mono [2- (meth) acryloyloxyethyl succinate], mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] phthalate, and ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) .

본 발명의 제3 실시 형태인 유채색 조성물은, 적절한 방법에 의해 조제할 수 있고, 그의 조제 방법으로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 2008-58642호, 일본공개특허공보 2010-132874호 등에 개시되어 있는 방법을 들 수 있다. 착색제로서 염료와 안료의 양쪽을 사용하는 경우, 일본공개특허공보 2010-132874호에 개시되어 있는 바와 같이, 염료 용액을 제1 필터에 통과시킨 후, 제1 필터를 통과한 염료 용액을, 별도 조제한 안료 분산액 등과 혼합하고, 얻어진 유채색 조성물을 제2 필터에 통과시킴으로써 조제하는 방법을 채용할 수 있다.The chromatic color composition as the third embodiment of the present invention can be prepared by an appropriate method, and examples of the preparation method thereof include those disclosed in JP-A-2008-58642 and JP-A-2010-132874 There is a way. When both the dye and the pigment are used as the colorant, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-132874, the dye solution is passed through the first filter, and the dye solution having passed through the first filter is separately prepared A pigment dispersion or the like, and passing the resulting colored composition through a second filter.

또한, 염료와, 전술한 제2 알칼리 가용성 수지 등의 필수의 성분, 그리고 필요에 따라서 사용하는 그 외의 임의 성분을 용매에 용해하고, 얻어진 용액을 제1 필터에 통과시킨 후, 제1 필터를 통과한 용액을, 별도 조제한 안료 분산액과 혼합하고, 얻어진 조성물을 제2 필터에 통과시킴으로써 조제하는 방법도 채용할 수 있다. 또한, 염료 용액을 제1 필터에 통과시킨 후, 제1 필터를 통과한 염료 용액과, 전술한 제2 알칼리 가용성 수지 등의 필수의 성분, 그리고 필요에 따라서 사용하는 그 외 임의 성분을 혼합·용해하고, 얻어진 용액을 제2 필터에 통과시키고, 추가로 제2 필터를 통과한 용액을, 별도 조제한 안료 분산액과 혼합하고, 얻어진 조성물을 제3 필터에 통과시킴으로써 조제하는 방법도 채용할 수 있다.In addition, the dye, the essential components such as the above-mentioned second alkali-soluble resin, and other optionally used components are dissolved in a solvent, the obtained solution is passed through a first filter, and then passed through a first filter A method in which one solution is mixed with a separately prepared pigment dispersion and the resulting composition is passed through a second filter may be employed. After the dye solution is passed through the first filter, the dye solution which has passed through the first filter and the essential components such as the above-mentioned second alkali-soluble resin and other optional components to be used are mixed and dissolved , Passing the obtained solution through a second filter, further mixing the solution having passed through the second filter with a separately prepared pigment dispersion, and passing the obtained composition through a third filter.

실시 형태 4.Embodiment 4.

<흑색 스페이서 형성용 조성물><Composition for forming black spacer>

본 발명의 제4 실시 형태인 흑색 스페이서 형성용 조성물(이하, 단순히 「흑색 조성물」이라고 칭하는 경우가 있음)은, 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판 및 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 흑색 스페이서의 형성에 이용할 수 있다.The composition for forming a black spacer (hereinafter, simply referred to as &quot; black composition &quot;) which is the fourth embodiment of the present invention is a substrate for a display element according to the first embodiment of the present invention and a liquid crystal display element Of the black spacer.

본 발명의 제4 실시 형태의 흑색 조성물은, 흑색 착색제를 포함하는 착색제, 제1 알칼리 가용성 수지 및, 제2 중합 개시제를 함유한다. 또한, 본 발명의 효과를 해치지 않는 한 그 외의 임의 성분을 함유해도 좋다. 이하, 흑색 조성물에 함유되는 각 성분에 대해서 설명한다.The black composition of the fourth embodiment of the present invention contains a colorant containing a black colorant, a first alkali-soluble resin, and a second polymerization initiator. Further, other optional components may be contained as long as the effect of the present invention is not impaired. Hereinafter, each component contained in the black composition will be described.

(제1 알칼리 가용성 수지)(First alkali-soluble resin)

본 발명의 제4 실시 형태의 흑색 조성물에 있어서의 제1 알칼리 가용성 수지는, 알칼리 현상성을 갖는 수지이다. 제1 알칼리 가용성 수지는, 알칼리 현상성을 갖는 수지이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 구체적으로는, 전술한 유채색 조성물이 함유하는 제2 알칼리 가용성 수지로서 예시한 것과 동일한 것 외, 에폭시아크릴레이트 수지를 들 수 있다. 그 중에서도, 후술하는 에폭시아크릴레이트 수지 (α1), 에폭시아크릴레이트 수지 (α2)를 바람직하게 이용할 수 있다.The first alkali-soluble resin in the black composition of the fourth embodiment of the present invention is a resin having alkali developability. The first alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it is a resin having alkali developability. Concretely, there are the same epoxy acrylate resins as those exemplified as the second alkali-soluble resin contained in the above-mentioned chromatic color composition. Among them, an epoxy acrylate resin (? 1) and an epoxy acrylate resin (? 2) to be described later can be preferably used.

[에폭시아크릴레이트 수지 (α1)][Epoxy acrylate resin (? 1)]

상기 에폭시아크릴레이트 수지 (α1)는, 에폭시 수지에 α,β-불포화 모노카본산 또는 에스테르 부분에 카복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카본산 에스테르를 부가시키고, 추가로, 다염기산 무수물을 반응시킴으로써 합성되는 에폭시아크릴레이트 수지이다.The epoxy acrylate resin (? 1) is obtained by adding an?,? - unsaturated monocarboxylic acid or an?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group in the ester moiety to an epoxy resin and further reacting a polybasic acid anhydride Lt; / RTI &gt;

이러한 반응에 의해 합성된 에폭시아크릴레이트 수지 (α1)은, 화학 구조상, 실질적으로 에폭시기를 갖지 않고, 또한 「아크릴레이트」로 한정되는 것은 아니지만, 에폭시 수지가 원료이고, 또한 「아크릴레이트」가 대표예이기 때문에, 본 발명에 있어서는, 관용에 따라 이와 같이 칭하고 있다.The epoxy acrylate resin (? 1) synthesized by this reaction has no chemical structure and substantially no epoxy group and is not limited to "acrylate", but epoxy resin is a raw material and "acrylate" Therefore, in the present invention, this is referred to according to the common usage.

에폭시아크릴레이트 수지 (α1)을 얻기 위한 원료가 되는 에폭시 수지로서, (o,m,p-)크레졸노볼락형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 트리스페놀메탄형 에폭시 수지, 하기에 나타나는 플루오렌 골격 등의 카도 구조를 갖는 에폭시 수지 등을 적합하게 이용할 수 있다(일본특허 제2878486호 명세서 참조). 에폭시 수지의 분자량은, GPC로 측정한 중량 평균 분자량으로서, 통상 200∼200000, 바람직하게는 300∼100000의 범위이다.(O, m, p-) cresol novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and the like are used as raw materials for obtaining the epoxy acrylate resin , A trisphenol methane type epoxy resin, an epoxy resin having a caro structure such as the fluorene skeleton shown below, and the like can be suitably used (see Japanese Patent No. 2878486). The molecular weight of the epoxy resin is a weight average molecular weight measured by GPC, usually in the range of 200 to 200000, preferably 300 to 100000.

Figure pat00002
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전술한 α,β-불포화 모노카본산 및 에스테르 부분에 카복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카본산 에스테르로서는, 예를 들면, 일본특허 제4442292호 명세서의 단락〔0036〕에 기재된 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, α,β-불포화 모노카본산으로서는 아크릴산 및 메타크릴산이 바람직하고, 특히 아크릴산이 반응성이 풍부하기 때문에 바람직하다.Examples of the above-mentioned?,? - unsaturated monocarboxylic acid and?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group at the ester moiety include the compounds described in paragraph [0036] of the specification of Japanese Patent No. 4442292 . Among them, acrylic acid and methacrylic acid are preferred as the?,? - unsaturated monocarboxylic acid, and acrylic acid is particularly preferable because of its high reactivity.

또한, 에스테르 부분에 카복실기를 갖는 α,β-불포화 모노카본산 에스테르로서는, 아크릴산-2-말레이노일옥시에틸 및 아크릴산-2-프탈로일옥시에틸이 바람직하고, 특히 아크릴산-2-말레이노일옥시에틸이 바람직하다.As the?,? - unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group in the ester moiety, acrylic acid-2-maleinyloyloxyethyl and acrylic acid-2-phthaloyloxyethyl are preferable and acrylic acid-2-maleonyloxyethyl .

α,β-불포화 모노카본산 또는 그의 에스테르와 에폭시 수지의 부가 반응은, 공지의 수법을 이용할 수 있다. 에폭시아크릴레이트 수지 (α1)을 얻기 위한 α,β-불포화 모노카본산 또는 그의 에스테르의 사용량은, 원료가 되는 에폭시 수지의 에폭시기 1당량에 대하여 0.5당량∼1.2당량의 범위가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.7당량∼1.1당량의 범위이다.The addition reaction of the?,? - unsaturated monocarboxylic acid or its ester with the epoxy resin can be carried out by a known method. The amount of the?,? - unsaturated monocarboxylic acid or ester thereof for obtaining the epoxy acrylate resin (? 1) is preferably in the range of 0.5 to 1.2 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin as the raw material, Is in the range of 0.7 equivalents to 1.1 equivalents.

에폭시아크릴레이트 수지 (α1)을 얻기 위해, α,β-불포화 모노카본산 또는 그의 에스테르가 부가한 에폭시 수지에, 추가로 부가시키는 다염기산 무수물로서는, 예를 들면, 일본특허 제4442292호 명세서의 단락〔0039〕에 기재된 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는, 무수 말레인산, 무수 숙신산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 무수 테트라하이드로프탈산, 무수 헥사하이드로프탈산, 무수 피로멜리트산, 무수 트리멜리트산, 비페닐테트라카본산 2무수물이고, 특히 바람직한 화합물은, 무수 테트라하이드로프탈산 및 비페닐테트라카본산 2무수물이다.Examples of the polybasic acid anhydrides to which the α, β-unsaturated monocarboxylic acid or its ester is added in addition to the epoxy acrylate resin (α1) include polybasic acid anhydrides such as those described in Japanese Patent No. 4442292 0039] and preferable examples thereof include compounds selected from the group consisting of maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, Carbonic acid dianhydride, and particularly preferred compounds are anhydrous tetrahydrophthalic acid and biphenyltetracarboxylic acid dianhydride.

전술한 다염기산 무수물의 부가 반응에 관해서도 공지의 수법을 이용할 수 있다. 다염기산 무수물의 부가량은, 생성하는 에폭시아크릴레이트 수지의 산가(酸價)가 10㎎KOH/g∼150㎎KOH/g의 범위가 되는 것이 바람직하고, 또한 20㎎KOH/g∼140㎎KOH/g가 보다 바람직하다. 여기에서, 본 발명에 있어서 「산가」란, 분산제 용액의 용매를 제외한 불휘발분 1g을 중화하는데 필요한 KOH의 ㎎수이다.With respect to the addition reaction of the above-mentioned polybasic acid anhydride, a known method may be used. The addition amount of the polybasic acid anhydride preferably ranges from 10 mgKOH / g to 150 mgKOH / g in the acid value of the resulting epoxy acrylate resin, more preferably from 20 mgKOH / g to 140 mgKOH / g is more preferable. Here, in the present invention, "acid value" means the number of mg of KOH required to neutralize 1 g of non-volatile matter excluding the solvent of the dispersant solution.

[에폭시아크릴레이트 수지 (α2)][Epoxy acrylate resin (? 2)]

또한, 상기 에폭시아크릴레이트 수지 (α2)는, 에폭시아크릴레이트 수지 (α1)를 제외하는 에폭시아크릴레이트 수지로서, 하기 (B-1)∼(B-3) 중 어느 것의 에폭시아크릴레이트 수지를 포함한다.The epoxy acrylate resin (? 2) is an epoxy acrylate resin excluding the epoxy acrylate resin (? 1), and includes an epoxy acrylate resin of any one of the following (B-1) to .

(B-1) 하기 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 화합물 (a)와 불포화기 함유 카본산 (b)의 반응물을, 다염기산 무수물 (d)와 반응시킴으로써 얻어지는, 산가가 10㎎-KOH/g 이상인 에폭시아크릴레이트 수지.(B-1) A polyester resin obtained by reacting a reaction product of an epoxy compound (a) represented by the following formula (1) and an unsaturated group-containing carboxylic acid (b) with a polybasic acid anhydride (d) Epoxy acrylate resin.

(B-2) 하기 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 화합물 (a) 및/또는 하기 일반식 (1A)로 나타나는 에폭시 화합물 (a')와, 불포화기 함유 카본산 (b)의 반응물을, 다가 알코올 (c)와 혼합한 후, 다염기산 무수물 (d)와 반응시킴으로써 얻어지는, 산가가 10㎎-KOH/g 이상인 에폭시아크릴레이트 수지.(B-2) A reaction product of an epoxy compound (a) represented by the following general formula (1) and / or an epoxy compound (a ') represented by the following general formula (1A) and an unsaturated group- An epoxy acrylate resin having an acid value of 10 mg-KOH / g or more, obtained by mixing with an alcohol (c) and then reacting with a polybasic acid anhydride (d).

(B-3) 하기 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 화합물 (a) 및/또는 하기 일반식 (1A)로 나타나는 에폭시 화합물 (a')와 불포화기 함유 카본산 (b)의 반응물을, 4염기산 무수물 및/또는 2염기산 무수물과, 3염기산 무수물을 함유하는 다염기산 무수물 (d)와 반응시킴으로써 얻어지는, 산가가 10㎎-KOH/g 이상인 에폭시아크릴레이트 수지.(B-3) A reaction product of an epoxy compound (a) represented by the following general formula (1) and / or an epoxy compound (a ') represented by the following general formula (1A) with an unsaturated group- An acid value of 10 mg-KOH / g or more, obtained by reacting an acid anhydride and / or a dibasic acid anhydride with a polybasic acid anhydride (d) containing a dibasic acid anhydride.

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 일반식 (1)에 있어서, X는 하기 일반식 (2a) 또는 (2b)로 나타나는 연결기를 나타낸다. 단, 분자 구조 중에, 하나 이상의 아다만탄 구조를 포함한다. 1은, 2 또는 3의 정수를 나타낸다.In the above general formula (1), X represents a linking group represented by the following general formula (2a) or (2b). However, in the molecular structure, it includes at least one adamantane structure. 1 represents an integer of 2 or 3;

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 일반식 (2a) 및 (2b)에 있어서, R1∼R4, R13∼R15는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 좋은 아다만틸기, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 좋은 페닐기를 나타낸다.In formulas (2a) and (2b), R 1 to R 4 and R 13 to R 15 each independently represent an adamantyl group which may have a substituent, a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1- An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a phenyl group which may have a substituent.

또한, 상기 일반식 (2a) 및 (2b)에 있어서, *는, 일반식 (1)에 있어서의 글리시딜옥시기와의 결합 부위를 나타낸다.In the formulas (2a) and (2b), * represents a bonding site with a glycidyloxy group in the general formula (1).

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 일반식 (1A)에 있어서, X'는 하기 일반식 (3)으로 나타나는 연결기를 나타낸다. 단, 분자 구조 중에, 하나 이상의 아다만탄 구조를 포함한다. 1은, 2 또는 3의 정수를 나타낸다.In the general formula (1A), X 'represents a linking group represented by the following general formula (3). However, in the molecular structure, it includes at least one adamantane structure. 1 represents an integer of 2 or 3;

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 일반식 (3)에 있어서, R5∼R12는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 좋은 페닐기를 나타낸다. Y는, 치환기를 갖고 있어도 좋은, 아다만탄 구조를 포함하는 2가의 연결기를 나타낸다.In the general formula (3), R 5 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, or a phenyl group which may have a substituent. Y represents a divalent linking group containing an adamantane structure which may have a substituent.

상기 일반식 (3)에 있어서, *는, 일반식 (1A)에 있어서의 글리시딜옥시기와의 결합 부위를 나타낸다.In the general formula (3), * represents a bonding site with a glycidyloxy group in the general formula (1A).

[에폭시 화합물 (a), (a')][Epoxy compounds (a), (a ')]

상기 일반식 (3)에 있어서, Y는, 하기 일반식 (4) 또는 (5)로 나타나는 연결기인 것이 바람직하다.In the general formula (3), Y is preferably a linking group represented by the following general formula (4) or (5).

Figure pat00007
Figure pat00007

상기식 (4), 식 (5)는 치환기를 갖고 있어도 좋고, *는 일반식 (3)에 있어서의 벤젠환과의 결합 부위를 나타낸다.The above formulas (4) and (5) may have a substituent, and * represents a bonding site with the benzene ring in the formula (3).

또한, 상기 일반식 (2a), (2b)로 나타나는 X는, 아다만탄 구조를 2 이상 4 이하 갖는 것이 바람직하다. 아다만탄 구조가 1에서는 내(耐)현상액성이 저하하여 해상력이 뒤떨어지는 경향이 있다.X in the formulas (2a) and (2b) preferably has 2 to 4 adamantane structures. When the adamantane structure is 1, the resistance to developing is lowered, and the resolution tends to be poor.

특히, 상기 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 화합물 (a)는, 하기 일반식 (7)로 나타나는 것이 바람직하고, 상기 일반식 (1A)로 나타나는 에폭시 화합물 (a')는 하기 일반식 (6)으로 나타나는 것이 바람직하다.In particular, the epoxy compound (a) represented by the general formula (1) is preferably represented by the following general formula (7), and the epoxy compound (a ') represented by the general formula (1A) Lt; / RTI &gt;

Figure pat00008
Figure pat00008

상기 일반식 (6)에 있어서, R16∼R23은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 좋은 페닐기를 나타낸다.In the general formula (6), R 16 to R 23 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, or a phenyl group which may have a substituent.

상기 일반식 (7)에 있어서, R24, R25는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 좋은 아다만틸기, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 좋은 페닐기를 나타낸다.In the general formula (7), R 24 and R 25 each independently represent an adamantyl group which may have a substituent, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, Phenyl group.

상기 일반식 (6), (7)에 나타나는 아다만틸기는 치환기를 갖고 있어도 좋다.The adamantyl group represented by the general formulas (6) and (7) may have a substituent.

상기 일반식 (2a), (2b), (3), (6), (7)에 있어서의 R1∼R25의 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, 바람직하게는 탄소수 1∼10의 알킬기를 들 수 있다.The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 1 to R 25 in the general formulas (2a), (2b), (3), (6) and (7) is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms .

또한, 이들 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1∼10의 알콕실기, 탄소수 2∼10의 알케닐기, 페닐기, 카복실기, 술파닐기, 포스피노기, 아미노기, 니트로기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent which these alkyl groups may have include a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a carboxyl group, a sulfanyl group, a phosphino group, .

또한, 상기 일반식 (2a), (2b), (3), (6), (7)에 있어서의 R1∼R25의 페닐기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1∼10의 알콕실기, 탄소수 2∼10의 알케닐기, 페닐기, 카복실기, 술파닐기, 포스피노기, 아미노기, 니트로기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent which the phenyl group of R 1 to R 25 in the general formulas (2a), (2b), (3), (6) and (7) may have) include a halogen atom, a hydroxyl group, An alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a carboxyl group, a sulfanyl group, a phosphino group, an amino group and a nitro group.

또한, 상기 일반식 (2a), (2b)에 있어서의 R1∼R4, R13∼R15의 아다만틸기, 일반식 (3)의 Y에 포함되는 아다만탄환, 일반식 (6)에 있어서의 아다만탄환, 일반식 (7)에 있어서의 아다만틸기, 일반식 (7)에 있어서의 R24, R25의 아다만틸기, 식 (4), (5)의 아다만탄환이 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 할로겐 원자, 수산기, 탄소수 1∼10의 알콕실기, 탄소수 2∼10의 알케닐기, 페닐기, 카복실기, 술파닐기, 포스피노기, 아미노기, 니트로기 등을 들 수 있다.The adamantyl group in R 1 to R 4 , R 13 to R 15 in the general formulas (2a) and (2b), the adamantane ring in the general formula (3) , The adamantyl group in the formula (7), the R 24 in the formula (7), the adamantyl group in the R 25 , the adamantane ring in the formula (4) Examples of the substituent which may be present include a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a carboxyl group, a sulfanyl group, a phosphino group, an amino group and a nitro group.

상기 일반식 (6)에 있어서, R16∼R23은, 특히, 알킬기, 할로겐 원자, 알콕실기, 알케닐기, 또는 페닐기인 것이 바람직하다.In the general formula (6), R 16 to R 23 are preferably an alkyl group, a halogen atom, an alkoxyl group, an alkenyl group, or a phenyl group.

또한, 상기 일반식 (7)에 있어서, R24, R25는, 특히, 알킬기, 할로겐 원자, 알콕실기, 알케닐기, 또는 페닐기인 것이 바람직하다.In the general formula (7), R 24 and R 25 are preferably an alkyl group, a halogen atom, an alkoxyl group, an alkenyl group or a phenyl group.

상기 일반식 (1)로 나타나는 X 및 일반식 (1A)에 나타나는 X'의 분자량은, 200 이상 1000 이하인 것이 바람직하다. X 및 X'의 분자량이 200 미만에서는 내약품성이 뒤떨어지는 경향이 있고, 1000을 초과하면 저감도가 될 가능성이 있다.The molecular weight of X represented by the general formula (1) and X 'represented by the general formula (1A) is preferably 200 or more and 1000 or less. When the molecular weight of X and X 'is less than 200, the chemical resistance tends to be poor, and when it exceeds 1000, there is a possibility that the sensitivity is low.

또한, 일반식 (1)로 나타나는 에폭시 화합물 (a) 및 일반식 (1A)로 나타나는 에폭시 화합물 (a')의 에폭시 당량은, 210 이상인 것이 바람직하고, 230 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 이 에폭시 당량은 450 이하인 것이 바람직하고, 400 이하인 것이 보다 바람직하다.The epoxy equivalent of the epoxy compound (a) represented by the general formula (1) and the epoxy compound (a ') represented by the general formula (1A) is preferably 210 or more, and more preferably 230 or more. The epoxy equivalent is preferably 450 or less, and more preferably 400 or less.

에폭시 화합물 (a)은, 1종을 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다. 또한, 에폭시 화합물 (a')에 대해서도, 1종을 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다. 에폭시 화합물 (a)의 1종 또는 2종 이상과, 에폭시 화합물 (a')의 1종 또는 2종 이상을 병용해도 좋다.The epoxy compound (a) may be used alone, or two or more epoxy compounds may be used in combination. In addition, the epoxy compound (a ') may be used alone or in combination of two or more. One or more of the epoxy compounds (a) and one or two or more of the epoxy compounds (a ') may be used in combination.

에폭시 화합물 (a) 및 에폭시 화합물 (a')은, 시판의 것을 이용해도 좋고, 예를 들면, 일본특허 제5169422호 명세서의 단락〔0093〕∼단락〔0100〕에 기재된 방법에 따라 합성하여 이용해도 좋다.The epoxy compound (a) and the epoxy compound (a ') may be commercially available or may be synthesized according to the method described in paragraphs [0093] to [0100] of Japanese Patent No. 5169422 good.

[불포화기 함유 카본산 (b)][Carbonic acid containing unsaturated group (b)]

전술한 불포화기 함유 카본산 (b)로서는, 에틸렌성 불포화기를 갖는 불포화 카본산을 들 수 있고, 구체예로서는, 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노카본산; Examples of the unsaturated group-containing unsaturated carboxylic acid (b) include unsaturated carboxylic acids having an ethylenic unsaturated group. Specific examples thereof include monocarboxylic acids having an ethylenic unsaturated group;

2염기산의 (메타)아크릴로일옥시알킬에스테르; (Meth) acryloyloxyalkyl esters of dibasic acids;

(메타)아크릴산과 락톤류의 반응물; (Meth) acrylic acid and lactones;

(메타)아크릴산 다이머; (Meth) acrylic acid dimer;

수산기 함유 불포화 화합물과 산 무수물의 반응물을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 일본특허 제5169422호 명세서의 단락〔0101〕에 기재된 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, (메타)아크릴산이 바람직하다.And a reaction product of an unsaturated hydroxyl group-containing compound and an acid anhydride. More specifically, the compound described in paragraph [0101] of the specification of Japanese Patent No. 5169422 can be mentioned. Among them, (meth) acrylic acid is preferable.

이들은 1종을 단독으로 이용해도 좋고, 또는, 2종 이상을 혼합하여 이용해도 좋다.These may be used singly or in combination of two or more kinds.

전술한, 에폭시 화합물 (a) 및/또는 에폭시 화합물 (a') 중의 에폭시기와 불포화기 함유 카본산 (b)를 반응시키는 방법으로서는 공지의 수법을 이용할 수 있다.As a method for reacting the epoxy group and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b) in the epoxy compound (a) and / or the epoxy compound (a ') described above, a known technique may be used.

에폭시 화합물 (a) 및/또는 에폭시 화합물 (a')의 에폭시기에 불포화기 함유 카본산 (b)를 부가시키는 비율은, 통상 90몰%∼100몰%이다.The ratio of adding the unsaturated group-containing carboxylic acid (b) to the epoxy group of the epoxy compound (a) and / or the epoxy compound (a ') is usually 90 mol% to 100 mol%.

[다가 알코올 (c)][Polyhydric alcohol (c)]

전술한 다가 알코올 (c)로서는, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리메틸올에탄, 1,2,3-프로판트리올 중으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 다가 알코올인 것이 바람직하다.As the above-mentioned polyhydric alcohol (c), one or more kinds selected from among trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, trimethylolethane and 1,2,3-propanetriol It is preferably a polyhydric alcohol.

다가 알코올 (c)를 이용함으로써, 에폭시아크릴레이트 수지 (α2)의 분자량을 증대시켜, 분자 중에 분기(分岐)를 도입할 수 있고, 분자량과 점도의 밸런스를 잡을 수 있다. 또한, 분자 중으로의 산기의 도입률을 늘릴 수 있어, 감도나 밀착성 등의 밸런스가 맞는 유기 결합제를 얻을 수 있다.By using the polyhydric alcohol (c), the molecular weight of the epoxy acrylate resin (? 2) can be increased, branching (branching) can be introduced into the molecule, and a balance between molecular weight and viscosity can be obtained. In addition, the introduction rate of an acid group into the molecule can be increased, and an organic binder having a balance of sensitivity and adhesion can be obtained.

다가 알코올 (c)의 사용량은, 에폭시 화합물 (a) 및/또는 에폭시 화합물 (a')과 불포화기 함유 카본산 (b)의 반응물에 대하여 통상 0.01중량배∼0.5중량배 정도, 바람직하게는 0.02중량배∼0.2중량배 정도이다.The amount of the polyhydric alcohol (c) to be used is usually about 0.01 to 0.5 parts by weight, preferably about 0.02 to 0.5 parts by weight, based on the reaction product of the epoxy compound (a) and / or the epoxy compound (a ') and the unsaturated group- Weight to about 0.2 times the weight.

[다염기산 무수물 (d)][Polybasic acid anhydride (d)]

전술한 다염기산 무수물 (d)로서는, 2염기산 무수물, 3염기산 무수물, 4염기산 무수물 등을 이용할 수 있다.As the above-mentioned polybasic acid anhydride (d), dibasic acid anhydride, tribasic acid anhydride, tetrabasic acid anhydride and the like can be used.

전술한 2염기산 무수물(디카본산 무수물), 3염기산 무수물(트리카본산 무수물) 및 4염기산 무수물(테트라카본산 2무수물)로서는 공지의 것을 사용할 수 있고, 예를 들면, 일본공개특허공보 2014-98140호의 단락〔0067〕에 기재된 화합물을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 이용해도 좋고, 또는, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다.As the dibasic acid anhydride (dicarboxylic anhydride), tribasic acid anhydride (tricarboxylic acid anhydride) and tetrabasic acid anhydride (tetracarboxylic dianhydride) described above, known ones can be used, 0.0 &gt; [0067], &lt; / RTI &gt; These may be used singly or in combination of two or more.

그 중에서도, 2염기산 무수물로서는 테트라하이드로 무수 프탈산, 무수 숙신산이 바람직하고, 3염기산 무수물로서는 무수 트리멜리트산, 무수 헥사하이드로트리멜리트산이 바람직하고, 4염기산 무수물로서는 비페닐테트라카본산 무수물이 바람직하다.Among them, preferable as the dibasic acid anhydride is tetrahydrophthalic anhydride and succinic anhydride, and as the tribasic acid anhydride, trimellitic anhydride and hexahydrotrimellitic acid are preferable, and as the tetrabasic acid anhydride, biphenyltetracarboxylic anhydride .

에폭시아크릴레이트 수지 (α2)의 산가의 하한값은, 통상 10㎎-KOH/g 이상, 바람직하게는 50㎎-KOH/g 이상이고, 산가의 상한값은 200㎎-KOH/g 이하인 것이 바람직하고, 150㎎-KOH/g 이하인 것이 보다 바람직하다.The lower limit of the acid value of the epoxy acrylate resin (? 2) is usually 10 mg-KOH / g or more, preferably 50 mg-KOH / g or more and the upper limit of the acid value is preferably 200 mg- Mg-KOH / g or less.

본 실시 태양에 따른 에폭시아크릴레이트 수지 (α2)의 중량 평균 분자량은, 1500 이상인 것이 바람직하고, 2000 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 20000 이하인 것이 바람직하고, 10000 이하인 것이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight of the epoxy acrylate resin (? 2) according to this embodiment is preferably 1500 or more, more preferably 2000 or more. Further, it is preferably 20,000 or less, more preferably 10,000 or less.

(제2 중합 개시제)(Second polymerization initiator)

본 실시 형태인 흑색 조성물에 함유되는 제2 중합 개시제는, 방사선에 감응하여, 흑색 조성물에 함유되는 중합성의 화합물의 중합을 개시할 수 있는 활성종을 발생하는 성분이다. 이러한 제2 중합 개시제로서는, 유채색 조성물에 함유되는 제3 중합 개시제로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.The second polymerization initiator contained in the black composition of the present embodiment is a component which generates active species capable of initiating polymerization of the polymerizable compound contained in the black composition in response to radiation. The second polymerization initiator may be the same as those exemplified as the third polymerization initiator contained in the chromatic composition.

그 중에서도, 제2 중합 개시제는, O-아실옥심 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, O-아실옥심 화합물은, 1종을 단독으로 사용해도 좋고 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.Among them, the second polymerization initiator preferably contains an O-acyloxime compound. The O-acyloxime compounds may be used singly or in combination of two or more.

제2 중합 개시제의 함유 비율로서는, 제1 알칼리 가용성 수지 100질량부에 대하여, 1질량부∼40질량부가 바람직하고, 5질량부∼30질량부가 보다 바람직하다. 제2 중합 개시제의 함유 비율을 1질량부∼40질량부로 함으로써, 흑색 조성물은, 높은 내용매성을 갖는 흑색 스페이서를 형성할 수 있다.The content of the second polymerization initiator is preferably 1 part by mass to 40 parts by mass, more preferably 5 parts by mass to 30 parts by mass, per 100 parts by mass of the first alkali-soluble resin. By setting the content of the second polymerization initiator to 1 part by mass to 40 parts by mass, the black composition can form a black spacer having a high solvent resistance.

(흑색 착색제)(Black coloring agent)

본 실시 형태인 흑색 조성물에 함유되는 흑색 착색제는, 흑색 조성물로 형성되는 스페이서를 흑색으로 하기 위한 성분이다.The black colorant contained in the black composition of this embodiment is a component for making the spacer formed of the black composition black.

흑색 착색제로서는, 무채색의 색재를 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋고, 적, 녹, 청 등의 유채색의 색재의 혼합에 의해 흑색으로 하는 것이라도 좋고, 혹은 무채색의 색재와 유채색의 색재의 혼합이라도 좋다. 또한, 이들 색재는 무기 또는 유기의 안료, 염료 중으로부터 적절히 선택할 수 있다.As the black colorant, achromatic coloring materials may be used singly or in combination of two or more, or may be made black by mixing coloring materials of chromatic colors such as red, green, and blue, or may be formed of achromatic coloring materials and chromatic coloring materials It may be a mixture of ashes. These coloring materials can be appropriately selected from inorganic or organic pigments and dyes.

전술한 유채색의 색재로서는, 제3 실시 형태인 유채색 조성물이 함유하는 착색제로서 예시한 것과 동일한 것 외, 예를 들면 일본특허 5169422호 명세서의 단락〔0072〕∼단락〔0073〕에 기재된 색재를 들 수 있다.As the chromatic color material described above, the same as those exemplified as the coloring agent contained in the chromatic color composition of the third embodiment, for example, the coloring materials described in paragraphs [0072] to [0073] of the specification of Japanese Patent No. 5169422 have.

또한, 무채색의 색재로서는, 하기식 (B-1)로 나타나는 화합물, 카본 블랙, 페릴렌 블랙, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철흑, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙 등을 들 수 있다.Examples of the achromatic coloring material include compounds represented by the following formula (B-1), carbon black, perylene black, acetylene black, lamp black, main black, graphite, iron black, aniline black, cyanine black, have.

Figure pat00009
Figure pat00009

상기식 (B-1) 중, X는 이중 결합을 나타내고, 기하 이성체로서 각각 독립적으로 E체 또는 Z체이고, Ra는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 니트로기, 메톡시기, 브롬 원자, 불소 원자, 카복실기, 또는 술폰기를 나타내고, Rb는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 또는 페닐기를 나타내고, Rc는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 또는 염소 원자를 나타낸다.In the formula (B-1), X represents a double bond, and each of the geometric isomers is independently E or Z, and R a independently represents a hydrogen atom, a methyl group, a nitro group, a methoxy group, , R b represents a hydrogen atom, a methyl group or a phenyl group, and R c represents, independently of each other, a hydrogen atom, a methyl group or a chlorine atom.

또한, 상기식 (B-1)에 있어서, Ra는 디하이드로인돌론환의 6위치에 결합하는 것이 바람직하고, Rc는 디하이드로인돌론환의 4위치에 결합하는 것이 바람직하다.In the formula (B-1), R a is preferably bonded to the 6-position of the dihydroindolone ring, and R c is preferably bonded to the 4-position of the dihydroindolone ring.

그리고, 상기식 (B-1)로 나타나는 화합물에 있어서, Ra, Rb, Rc는, 바람직하게는 수소 원자이다.In the compound represented by the above formula (B-1), R a , R b and R c are preferably hydrogen atoms.

상기식 (B-1)로 나타나는 화합물은, 예를 들면, 국제공개 제2000/24736호 팸플릿, 국제공개 제2010/081624호 팸플릿에 기재된 방법에 의해 제조할 수 있다.The compound represented by the above formula (B-1) can be produced, for example, by the method described in the pamphlet of International Publication No. 2000/24736 and International Patent Publication No. 2010/081624.

전술한 카본 블랙의 예로서는, 예를 들면, 일본특허 4442292호 명세서의 단락〔0023〕∼단락〔0026〕에 기재된 시판품을 들 수 있다.Examples of the above-mentioned carbon black include commercially available products described in paragraphs [0023] to [0026] of Japanese Patent No. 4442292, for example.

흑색 착색제의 함유량은, 흑색 조성물 중의 전체 고형분량에 대하여, 통상, 1질량%∼70질량%의 범위에서 선택할 수 있다. 이 범위 중에서는, 10질량%∼70질량%가 보다 바람직하고, 그 중에서도 20질량%∼60질량%가 특히 바람직하다.The content of the black colorant may be selected in the range of usually 1% by mass to 70% by mass, based on the total solid content in the black composition. In this range, 10 mass% to 70 mass% is more preferable, and 20 mass% to 60 mass% is particularly preferable.

흑색 조성물로 형성되는 흑색 스페이서는, 막두께 1㎛당의 OD(Optical Density)값이 통상 0.3∼4이지만, 0.4∼3인 것이 바람직하고, 0.5∼2인 것이 보다 바람직하다. 통상, 흑색 조성물로부터 흑색 스페이서를 형성하는 경우, 막두께 1㎛당의 OD값이 높아질수록, 형성되는 흑색 스페이서의 저부에 방사선이 닿기 어려워져, 흑색 스페이서 저부의 경화가 불충분해지기 쉽다.The black spacer formed of the black composition has an OD (Optical Density) value per 1 탆 of film thickness, usually 0.3 to 4, preferably 0.4 to 3, more preferably 0.5 to 2. Generally, when a black spacer is formed from a black composition, the higher the OD value per 1 μm of the film thickness becomes, the harder the radiation reaches the bottom of the black spacer to be formed, and the hardening of the black spacer bottom tends to become insufficient.

방사선 조사 후에 행하는 가열 처리에 있어서, 그의 온도를 높게 하면 흑색 스페이서 저부의 경화는 진행된다. 그러나, 유채색 패턴이 염료를 함유하는 경우, 염료는 일반적으로 내열성이 뒤떨어진다고 하는 문제를 갖고 있기 때문에, 고온에서의 가열 처리가 어렵다.When the temperature is raised in the heat treatment performed after the irradiation of radiation, the hardening of the black spacer bottom proceeds. However, when the chromatic pattern contains a dye, the dye generally has a problem that the heat resistance is poor, so that the heat treatment at a high temperature is difficult.

이에 대하여 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판은, 액정 배향제에 함유되는 중합 개시제(제1 중합 개시제)의 일부가 흑색 스페이서 저부의 표면으로부터 그의 내부로 확산하여, 가열 처리나 노광 처리에 의해 흑색 스페이서의 경화를 보다 진행시킬 수 있다고 생각된다. 따라서, 흑색 스페이서의 막두께 1㎛당의 OD값이 높을수록, 보다 적합하게 본 발명을 이용하여 표시 소자용 기판을 제조할 수 있다.On the other hand, in the substrate for a display device of the first embodiment of the present invention, a part of the polymerization initiator (first polymerization initiator) contained in the liquid crystal aligning agent diffuses from the surface of the black spacer bottom into the inside thereof, It is considered that the curing of the black spacer can be further promoted. Therefore, the higher the OD value per 1 mu m of the film thickness of the black spacer, the more favorably the substrate for a display device can be manufactured using the present invention.

또한, 흑색 조성물에 있어서, 제1 알칼리 가용성 수지의 흑색 착색제에 대한 양은, 통상 20질량%∼500질량%, 바람직하게는 30질량%∼300질량%, 보다 바람직하게는 50질량%∼200질량%의 범위이다.The amount of the first alkali-soluble resin to the black coloring agent in the black composition is usually 20% by mass to 500% by mass, preferably 30% by mass to 300% by mass, more preferably 50% by mass to 200% .

이상에서 예시한 흑색 착색제 중에서, 보다 바람직한 흑색 착색제로서는, 상기식 (B-1)로 나타나는 화합물, 페릴렌 블랙 및 카본 블랙을 들 수 있다. 따라서, 본 실시 형태의 흑색 조성물은, 흑색 착색제가, 상기식 (B-1)로 나타나는 화합물, 페릴렌 블랙 및 카본 블랙으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 이러한 흑색 착색제를 함유함으로써, 흑색 조성물은, 소망하는 흑색화가 높은 레벨로 실현된 고신뢰성의 흑색 스페이서를 형성할 수 있다.Among the black colorants exemplified above, a more preferable black colorant includes a compound represented by the formula (B-1), perylene black and carbon black. Therefore, it is more preferable that the black colorant of the present embodiment contains at least one kind selected from the group consisting of the compound represented by the formula (B-1), perylene black and carbon black. By containing such a black coloring agent, the black composition can form a black spacer of high reliability realized with a desired level of blackening at a high level.

(용매)(menstruum)

본 발명의 제4 실시 형태인 흑색 조성물은, 전술한 제1 알칼리 가용성 수지나 흑색 착색제 등의 필수의 성분 및, 임의적으로 더해지는 그 외의 임의 성분을 함유하는 것이지만, 통상, 용매를 배합하여 액상 조성물로서 조제된다. 상기 용매로서는, 흑색 조성물을 구성하는 제1 알칼리 가용성 수지 및 흑색 착색제 등의 필수의 성분이나 그 외의 임의 성분을 분산 또는 용해하고, 또한 이들 성분과 반응하지 않고, 적당한 휘발성을 갖는 것인 한, 적절히 선택하여 사용할 수 있다.The black composition according to the fourth embodiment of the present invention contains essential components such as the above-described first alkali-soluble resin and a black coloring agent, and optionally other optional components. Usually, a solvent is added to form a liquid composition It is prepared. The solvent is not particularly limited as long as it does not disperse or dissolve the essential components such as the first alkali-soluble resin and the black coloring agent constituting the black composition or other optional components and does not react with these components and has appropriate volatility You can choose to use it.

이러한 용매로서는, 제3 실시 형태인 유채색 조성물이 함유하는 용매로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 용매의 종류도 전술과 동일하다.Examples of such a solvent include those exemplified as the solvents contained in the chromatic color composition of the third embodiment, and the preferable kinds of the solvents are the same as described above.

용매의 함유량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 흑색 조성물의 용매를 제외한 각 성분의 합계 농도가, 5질량%∼50질량%가 되는 양이 바람직하고, 10질량%∼40질량%가 되는 양이 보다 바람직하다. 이러한 실시 형태으로 함으로써, 분산성, 안정성이 양호한 착색제 분산액, 그리고 도포성, 안정성이 양호한 흑색 조성물을 얻을 수 있다.The content of the solvent is not particularly limited, but is preferably an amount such that the total concentration of each component other than the solvent of the black composition is from 5% by mass to 50% by mass, more preferably from 10% by mass to 40% desirable. By such an embodiment, it is possible to obtain a colorant dispersion having good dispersibility and stability, and a black composition having good applicability and stability.

(그 외 임의 성분)(Other optional components)

본 발명의 제4 실시 형태인 흑색 조성물은, 필요에 따라서, 첨가제로서, 그 외 임의 성분을 함유할 수도 있다.The black composition according to the fourth embodiment of the present invention may optionally contain other optional components as an additive.

그 외 임의 성분으로서는, 제3 실시 형태인 유채색 조성물이 함유하여도 좋은 그 외 임의 성분으로서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.Other optional components include those exemplified as other optional components that may be contained in the chromatic color composition of the third embodiment.

본 발명의 제4 실시 형태인 흑색 조성물은, 적절한 방법에 의해 조제할 수 있다.The black composition according to the fourth embodiment of the present invention can be prepared by an appropriate method.

그리고, 흑색 착색제는, 미리 페인트 컨디셔너, 샌드 그라인더, 볼 밀, 롤 밀, 스톤 밀, 제트 밀, 호모게나이저 등을 이용하여 분산 처리하는 것이 바람직하다.The black colorant is preferably dispersed in advance using a paint conditioner, a sand grinder, a ball mill, a roll mill, a stone mill, a jet mill, a homogenizer, or the like.

전술한 분산 처리는, 통상, 흑색 착색제, 용매 및, 제1 알칼리 가용성 수지의 일부 또는 전부를 병용한 계(系)에서 행하는 것이 바람직하다.The above-described dispersion treatment is preferably carried out in a system in which a black coloring agent, a solvent and a part or all of the first alkali-soluble resin are used in combination.

다음으로 전술한 분산 처리에 의해 얻어진 조성물과, 흑색 조성물의 성분으로서 필요한 전술한 다른 성분을 첨가, 혼합하여 균일한 액상 조성물로 한다. 얻어진 액상의 흑색 조성물은 필터 등에 의해 여과 처리하는 것이 바람직하다.Next, the composition obtained by the above-mentioned dispersion treatment and the above-mentioned other components required as components of the black composition are added and mixed to obtain a homogeneous liquid composition. The black composition obtained in the liquid phase is preferably subjected to filtration treatment with a filter or the like.

실시 형태 5.Embodiment 5:

<액정 배향제><Liquid Crystal Aligner>

본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제는, 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판 및 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 배향막의 형성에 이용할 수 있고, 제1 중합 개시제를 함유할 수 있다. 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제는 제1 중합 개시제를 필수 성분으로서 함유하고, 통상은 추가로, 광 배향성기를 갖는 중합체 또는 광 배향성기를 갖지 않는 중합체를 주요한 성분으로서 함유하고, 그 외의 성분을 함유할 수 있다. 이하, 그들 성분에 대해서 설명한다.The liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention can be used for forming a display element substrate of the first embodiment of the present invention and an orientation film of the liquid crystal display element of the second embodiment, . The liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention contains a first polymerization initiator as an essential component and usually further contains a polymer having a photo aligning group or a polymer having no photo aligning group as main components, &Lt; / RTI &gt; Hereinafter, these components will be described.

(제1 중합 개시제)(First polymerization initiator)

본 실시 형태의 액정 배향제는, 제1 중합 개시제를 함유한다.The liquid crystal aligning agent of the present embodiment contains a first polymerization initiator.

이 제1 중합 개시제로서는, 저분자의 광 라디칼 발생제, 광 산 발생제, 광 염기 발생제 등의 광 중합 개시제 및 열 산 발생제, 열 라디칼 발생제 등의 열 중합 개시제를 들 수 있는 것 외에 중합 개시제로서 기능하는 부분 구조를 갖는 중합체를 이용할 수도 있다. 즉, 본 실시 형태의 액정 배향제는, 제1 중합 개시제로서 광 라디칼 발생제, 광 산 발생제, 광 염기 발생제, 열 산 발생제 및 열 라디칼 발생제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 기능을 갖는 화합물을 함유한다. 이들 제1 중합 개시제는, 후술하는 표시 소자용 기판의 제조 방법에 있어서의 [5]공정을 고려하여, 적절하게 선택할 수 있다.Examples of the first polymerization initiator include a photo-polymerization initiator such as a low-molecular photo-radical generator, a photo-acid generator, a photo-base generator, and a thermal polymerization initiator such as a thermal acid generator and a thermal radical generator. Polymers having a partial structure functioning as an initiator may also be used. That is, the liquid crystal aligning agent of the present embodiment has at least one function selected from the group consisting of a photo-radical generator, a photo acid generator, a photo-base generator, a thermal acid generator and a thermal radical generator as the first polymerization initiator &Lt; / RTI &gt; These first polymerization initiators can be appropriately selected in consideration of the step [5] in the production method of a display element substrate described later.

[광 라디칼 발생제][Photo radical generator]

광 라디칼 발생제로서는, 자외선에 의해 라디칼을 발생시키는 것이면 특별히 제한은 없고, 예를 들면, tert-부틸퍼옥시-iso-프탈레이트, 2,5-디메틸-2,5-비스(벤조일디옥시)헥산, 1,4-비스[α-(tert-부틸디옥시)-iso-프로폭시]벤젠, 디-tert-부틸퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-비스(tert-부틸디옥시)헥센하이드로퍼옥사이드, α-(iso-프로필페닐)-iso-프로필하이드로퍼옥사이드, 2,5-디메틸헥산, tert-부틸 하이드로퍼옥사이드, 1,1-비스(tert-부틸디옥시)-3,3,5-트리메틸사이클로헥산, 부틸-4,4-비스(tert-부틸디옥시)발레레이트, 사이클로헥산온퍼옥사이드, 2,2',5,5'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3',4,4-테트라(tert-아밀퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라(tert-헥실퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3'-비스(tert-부틸퍼옥시카르보닐)-4,4'-디카복시벤조페논, tert-부틸퍼옥시벤조에이트, 디-tert-부틸디퍼옥시이소프탈레이트 등의 유기 과산화물이나, 9, 10-안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,2-벤즈안트라퀴논 등의 퀴논류, 벤조인메틸, 벤조인에틸에테르, α-메틸벤조인, α-페닐벤조인 등의 벤조인 유도체 등을 들 수 있다.The photo radical generator is not particularly limited as long as it generates radicals by ultraviolet rays, and examples thereof include tert-butylperoxy-iso-phthalate, 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoyldioxy) (Tert-butyldioxy) -isopropoxy] benzene, di-tert-butyl peroxide, 2,5-dimethyl- Propyl hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane, tert-butyl hydroperoxide, 1,1-bis (tert-butyldioxy) -3, (Tert-butyldioxy) valerate, cyclohexanone peroxide, 2,2 ', 5,5'-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) Benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4-tetra (tert-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3 ', 4,4'-tetra (tert-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'-bis (tert-butylperoxy Butyl peroxybenzoate, and di-tert-butyl diperoxyisophthalate; organic peroxides such as 9,10-anthraquinone, 1-chloro anthraquinone, Quinones such as 2-chloroanthraquinone, octamethylanthraquinone and 1,2-benzanthraquinone, and benzoin derivatives such as benzoinmethyl, benzoin ethyl ether,? -Methylbenzoin and? -Phenylbenzoin, .

[광 산 발생제 및 광 염기 발생제][Photo acid generator and photobase generator]

광 산 발생제 및 광 염기 발생제로서는, 자외선에 의해 산 또는 염기를 발생시키는 것이면 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 트리아진계 화합물, 아세토페논 유도체 화합물, 디술폰계 화합물, 디아조메탄계 화합물, 술폰산 유도체 화합물, 디아릴요오도늄염, 트리아릴술포늄염, 트리아릴포스포늄염, 철 아렌 착체 등을 들 수 있다.The photo acid generator and photo-base generator are not particularly limited as far as they generate an acid or a base by ultraviolet rays, and examples thereof include a triazine-based compound, an acetophenone derivative compound, a disulfone-based compound, a diazomethane- Derivative compounds, diaryl iodonium salts, triarylsulfonium salts, triarylphosphonium salts, and iron arene complexes.

보다 구체적으로는, 국제공개 제2014/171493호 팸플릿의 단락〔0101〕에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.More specifically, the compounds described in paragraph [0101] of International Publication No. 2014/171493 pamphlet can be mentioned.

이들 광 중합 개시제 중에서는, 액정층과 배향막의 밀착성을 높이는 효과가 높은 점에서, 광 라디칼 발생제를 이용하는 것이 바람직하다.Of these photopolymerization initiators, it is preferable to use a photo-radical generator in view of the high effect of enhancing the adhesion between the liquid crystal layer and the alignment film.

[열 산 발생제][Thermal acid generator]

열 산 발생제로서는, 술포늄염, 벤조티아졸늄염, 암모늄염, 포스포늄염 등의 오늄염 등을 들 수 있다. 구체예로서는, 일본공개특허공보 2009-215328호의 단락〔0051〕 및 단락〔0057〕에 기재되어 있는 것을 적합하게 사용할 수 있다.Examples of the thermal acid generator include onium salts such as sulfonium salts, benzothiazolium salts, ammonium salts, and phosphonium salts. As specific examples, those described in paragraph [0051] and paragraph [0057] of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2009-215328 can be suitably used.

[열 라디칼 발생제][Thermal Radical Generators]

열 라디칼 발생제로서는, 알킬 과산화물, 아실 과산화물, 케톤 과산화물, 알킬하이드로 과산화물, 퍼옥시 2탄산염, 술포닐 과산화물 등의 유기 과산화물류, 무기 과산화물류, 아조니트릴 등의 아조 화합물류, 설핀산류, 비스아자이드류, 디아조 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the thermal radical generator include organic peroxides such as alkyl peroxides, acyl peroxides, ketone peroxides, alkyl hydroperoxides, peroxydicarbonates and sulfonyl peroxides, inorganic peroxide peroxide, azo compounds such as azonitrile, sulfinic acids, Diazo compounds, and diazo compounds.

구체예로서는, 큐멘하이드로퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 과산화 벤조일, 과산화 라우로일, 펠옥소 2락트산염, 과산화수소, 과황산칼륨, 과황산 암모늄, 과붕산염, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 1,1'-아조비스(1-사이클로헥산-1-카보니트릴), 디메틸-2,2'-아조이소비스부틸레이트, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판) 2탄산염, 아조비스시아노발레르산 나트륨, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스〔2-(2-이미다졸린-2-일)프로판〕, 2,2'-아조비스[2-메틸-N-〔1,1-비스(하이드록시메틸)-2-하이드록시에틸〕프로피온아미드], 2,2'-아조비스[2-메틸-N-〔1,1-비스(하이드록시메틸)에틸〕프로피온아미드], 2,2'-아조비스〔2-메틸-N-(2-하이드록시에틸)프로피온아미드〕, 2,2'-아조비스(2-시아노프로판올), 2,2'-아조비스(2,4,4-트리메틸펜탄), p-톨루엔설핀산 나트륨 등을 적합하게 사용할 수 있다.Specific examples include cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, feloxo 2 lactate, hydrogen peroxide, potassium persulfate, ammonium persulfate Azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 1,1'-azobis (1-cyclohexane-1-carbonitrile), dimethyl- Azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2'-azobis (2-amidinopropane) 2 carbonate, sodium azobisisovalerate, sodium 2,2'-azobis Azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2'-azobis [2-methyl- Bis (hydroxymethyl) ethyl] propionamide], 2,2'-azobis [2-methyl-N- 2'-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2'- And the like crude bis (2-cyano-propanol), 2,2'-azobis (2,4,4-trimethylpentane), p- toluene sulfonic acid sodium can be suitably used.

본 실시 형태의 액정 배향제 중의 제1 중합 개시제의 함유량으로서는, 모든 중합체 성분 100질량부에 대하여, 0.01질량부∼50질량부인 것이 바람직하다. 그 중에서도, 0.01질량부∼30질량부인 것이 바람직하고, 특히 바람직한 것은, 0.1질량부∼20질량부이다.The content of the first polymerization initiator in the liquid crystal aligning agent of the present embodiment is preferably 0.01 part by mass to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of all the polymer components. Among them, the amount is preferably 0.01 part by mass to 30 parts by mass, particularly preferably 0.1 parts by mass to 20 parts by mass.

(액정 배향제에 함유되는 중합체)(Polymer contained in the liquid crystal aligning agent)

본 실시 형태의 액정 배향제에 함유되는 중합체는 액정 배향막으로서 기능하고, 주골격으로서, 예를 들면, 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리오르가노실록산, 셀룰로오스 유도체, 폴리아세탈 유도체, 폴리스티렌 유도체, 폴리(스티렌-페닐말레이미드) 유도체, 폴리(메타)아크릴레이트 유도체 등으로 이루어지는 골격을 갖는 중합체인 것이 바람직하다. 이러한 중합체에는, 광 배향성기를 갖는 중합체 및 광 배향성기를 갖지 않는 중합체가 포함되고, 각각 대해서 설명한다.The polymer contained in the liquid crystal aligning agent of the present embodiment functions as a liquid crystal alignment film and is used as a main skeleton such as polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, polyester, polyamide, polyorganosiloxane, It is preferably a polymer having a skeleton composed of a polyacetal derivative, a polystyrene derivative, a poly (styrene-phenylmaleimide) derivative, a poly (meth) acrylate derivative and the like. Such a polymer includes a polymer having a photo aligning group and a polymer having no photo aligning group, and each will be described.

[광 배향성기를 갖는 중합체][Polymer Having Photo Orientation Group]

광 배향성기는, 광 조사에 의해 막에 이방성을 부여하는 관능기이고, 본 실시 형태에서는, 특히, 광이성화 반응 및 광이량화 반응 중 적어도 어느 하나를 발생시킴으로써 막에 이방성을 부여하는 기이다.The photo-aligning group is a functional group that imparts anisotropy to the film by light irradiation. In the present embodiment, in particular, it is a group that imparts anisotropy to the film by generating at least one of a photo-isomerization reaction and a photo-dimerization reaction.

광 배향성기로서 구체적으로는, 아조벤젠, 스틸벤, α-이미노-β-케토에스테르, 스피로파이란, 스피로옥사진, 신남산, 칼콘, 스틸바조르, 벤질리덴프탈이미딘, 쿠마린, 디페닐아세릴렌 및 안트라센으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 화합물 유래의 구조를 갖는 기이다. 전술한 광 배향성기로서는, 이들 중에서도, 신남산 유래의 구조를 갖는 기가 특히 바람직하다.Specific examples of the photo-aligning group include azobenzene, stilbene,? -Imino-? -Ketoester, spiropyran, spirooxazine, cinnamic acid, chalcone, stilbazole, benzylidene phthalimidine, coumarin, And a group having a structure derived from at least one compound selected from the group consisting of serylene and anthracene. As the photo-alignment group described above, among these groups, a group having a structure derived from cinnamic acid is particularly preferable.

광 배향성기를 갖는 중합체로서는, 전술한 광 배향성기가 직접 또는 연결기를 통하여 결합된 중합체인 것이 바람직하다. 그러한 중합체로서는, 예를 들면, 폴리암산 및 폴리이미드 중 적어도 어느 것의 중합체에 전술한 광 배향성기가 결합한 것, 폴리암산 및 폴리이미드와는 다른 중합체에 전술한 광 배향성기가 결합한 것을 들 수 있다.As the polymer having a photo-orientable group, it is preferable that the above-mentioned photo-orientable group is a polymer bonded directly or via a linking group. As such a polymer, for example, there may be mentioned a polymer in which at least one of the polyamic acid and the polyimide is bonded with the photo-alignment group, and a polymer different from the polyamic acid and the polyimide is bonded to the photo-orienting group.

후자의 경우, 광 배향성기를 갖는 중합체의 기본 골격으로서는, 예를 들면, 폴리(메타)아크릴산 에스테르, 폴리(메타)아크릴아미드, 폴리비닐에테르, 폴리올레핀, 폴리오르가노실록산 등을 들 수 있다.In the latter case, examples of the basic skeleton of the polymer having a photo-orientable group include poly (meth) acrylic acid ester, poly (meth) acrylamide, polyvinyl ether, polyolefin, and polyorganosiloxane.

전술한 광 배향성기를 갖는 중합체로서는, 폴리암산, 폴리이미드 또는 폴리오르가노실록산을 기본 골격으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 이들 중에서도, 폴리오르가노실록산이 특히 바람직하고, 예를 들면, 국제공개 제2009/025386호 팸플릿에 기재된 방법에 의해 얻을 수 있다.As the polymer having the above-mentioned photo-orientable group, it is preferable that the basic skeleton is polyamic acid, polyimide or polyorganosiloxane. Among them, a polyorganosiloxane is particularly preferable and can be obtained, for example, by the method described in WO 2009/025386.

[광 배향성기를 갖지 않는 중합체][Polymer Having No Photo Orientation Group]

광 배향성기를 갖지 않는 중합체로서는, 광 배향성기를 갖지 않는 폴리이미드를 바람직하게 이용할 수 있다.As the polymer having no photo-aligning group, polyimide having no photo-aligning group can be preferably used.

이러한 광 배향성기를 갖지 않는 폴리이미드는, 광 배향성기를 갖지 않는 폴리암산을 탈수 폐환하여 이미드화함으로써 얻을 수 있다. 이러한 폴리암산은, 예를 들면, 테트라카본산 2무수물과, 디아민을 반응시킴으로써 얻을 수 있고, 일본공개특허공보 2010-97188호에 기재되어 있는 바와 같이 하여 얻을 수 있다.The polyimide having no photo-aligning group can be obtained by dehydrating and ring-closure of a polyamic acid having no photo-aligning group to imidize it. Such a polyamic acid can be obtained, for example, by reacting a tetracarboxylic acid dianhydride with a diamine, and can be obtained as described in JP-A-2010-97188.

전술한 폴리이미드는, 그의 전구체인 폴리암산이 갖고 있던 암산 구조의 모두를 탈수 폐환한 완전 이미드화물이라도 좋고, 암산 구조의 일부만을 탈수 폐환하여, 암산 구조와 이미드환 구조가 병존하는 부분 이미드화물이라도 좋다. 전술한 폴리이미드는, 그의 이미드화율이 30% 이상인 것이 바람직하고, 50%∼99%인 것이 보다 바람직하고, 65%∼99%인 것이 더욱 바람직하다.The above-mentioned polyimide may be a completely imidized product obtained by dehydrating and ring closure of all of the arboric acid structure of the polyamic acid which is a precursor thereof. The polyimide may be subjected to dehydration ring closure of only a part of the arboric acid structure to form a partial imide Cargo is good. The above-mentioned polyimide preferably has an imidization rate of 30% or more, more preferably 50% to 99%, and still more preferably 65% to 99%.

이 이미드화율은, 폴리이미드의 암산 구조의 수와 이미드환 구조의 수의 합계에 대한 이미드환 구조의 수가 차지하는 비율을 백분율로 나타낸 것이다. 여기에서, 이미드환의 일부가 이소이미드환이라도 좋고, 예를 들면, 일본공개특허공보 2010-97188호에 기재되어 있는 바와 같이 하여 얻을 수 있다.The imidization rate is expressed as a percentage of the ratio of the number of imide ring structures to the sum of the number of amide structure and the number of imide ring structure of polyimide. Here, a part of the imide ring may be an isoimide ring and may be obtained, for example, as described in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2010-97188.

[중합 개시제로서 기능하는 부분 구조를 갖는 중합체][Polymer having a partial structure functioning as a polymerization initiator]

중합 개시제로서 기능하는 부분 구조를 갖는 중합체로서는, 하기식 (101)∼(108), 하기식 (101-1) 및 하기식 (101-2)로 나타나는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 부분 구조(이하, 「특정 부분 구조」라고도 칭함)를 갖는 중합체가 바람직하다.Examples of the polymer having a partial structure functioning as a polymerization initiator include at least one partial structure selected from the group consisting of the following formulas (101) to (108), the following formulas (101-1) Hereinafter, also referred to as &quot; specific partial structure &quot;).

Figure pat00010
Figure pat00010

(식 (101)∼(108) 중,(Of the formulas (101) to (108)

Z는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 수산기, 시아노기, 니트로기, 탄소 원자수 1∼6의 알킬기, 탄소 원자수 1∼6의 알콕시기를 나타내고,Z each independently represent a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms,

a는 0∼4의 정수이고,a is an integer of 0 to 4,

b는 0∼3의 정수이고,b is an integer of 0 to 3,

c는 0∼5의 정수이고,c is an integer of 0 to 5,

R101, R102, R104, R105, R106, R107 및 R108은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소 원자수 1∼20의 알킬기, 탄소 원자수 1∼20의 알콕시기, 탄소 원자수 6∼30의 아릴기, 탄소 원자수 7∼30의 아릴알킬기, 탄소 원자수 2∼12의 알케닐기, 탄소 원자수 2∼12의 알케닐옥시기를 나타내고, R101 및 R102는 연결하여 3∼6원환의 환상 알칸 또는 복소환기를 형성해도 좋고, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴알킬기, 알케닐기, 알케닐옥시기, 환상 알킬기, 복소환기는 치환기를 갖고 있어도 좋고,R 101 , R 102 , R 104 , R 105 , R 106 , R 107 and R 108 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, An aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, R 101 and R The alkyl group, alkoxy group, aryl group, arylalkyl group, alkenyl group, alkenyloxy group, cyclic alkyl group, and heterocyclic group may have a substituent,

R103은 수산기, 치환 또는 무치환의 탄소 원자수 1∼20의 알콕시기, 또는 하기식 (110)으로 나타나는 기로부터 선택되는 기를 나타낸다.R 103 represents a hydroxyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or a group selected from the group represented by the following formula (110).

Figure pat00011
Figure pat00011

(식 (110) 중, Y2는 메틸렌기,-NR, 산소 원자, 황 원자이고, R은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자수 1∼4의 알킬기이고, Z 및 c는 상기와 동일함)으로 나타나는 어느 것의 기를 나타내고, 알콕시기는 치환기를 갖고 있어도 좋고,(In the formula (110), Y 2 represents a methylene group, -NR 2 , an oxygen atom, a sulfur atom, each R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and Z and c are as defined above ), The alkoxy group may have a substituent,

*는 결합손을 나타낸다.)* Indicates a combined hand.)

Figure pat00012
Figure pat00012

(식 (101-1), (식 101-2) 중,(Of the formulas (101-1) and (101-2)

Z, a, R101, R102, R103 및 *는, 상기와 동일하고, d는 1∼5의 정수이고, R109, R110는, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소 원자수 1∼20의 알킬기, 탄소 원자수 1∼20의 알콕시기, 탄소 원자수 6∼30의 아릴기, 탄소 원자수 7∼30의 아릴알킬기, 탄소 원자수 2∼12의 알케닐기, 탄소 원자수 2∼12의 알케닐옥시기를 나타내고, R101 및 R102는 연결하여 3∼6원환의 환상 알칸 또는 복소환기를 형성해도 좋고, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴알킬기, 알케닐기, 알케닐옥시기, 환상 알킬기, 복소환기는 치환기를 갖고 있어도 좋다. Z, a, R 101, R 102, R 103 And * is as defined above, and d is an integer of 1~5, R 109, R 110 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group of a halogen atom, a hydroxyl group, the number of carbon atoms from 1 to 20, carbon atoms, 1 to An aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, or an alkenyloxy group having 2 to 12 carbon atoms, and R 101 And R 102 may be connected to form a 3- to 6-membered cyclic alkane or heterocyclic group, and the alkyl group, alkoxy group, aryl group, arylalkyl group, alkenyl group, alkenyloxy group, cyclic alkyl group or heterocyclic group may have a substituent .

단 R109, R110의 군으로부터 선택되는 적어도 하나는, 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 탄소 원자수 2∼12의 알케닐기 또는 탄소 원자수 2∼12의 알케닐옥시기를 나타낸다.)Provided that at least one selected from the group consisting of R 109 and R 110 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 12 carbon atoms.

중합 개시제로서 기능하는 부분 구조인, 특정 부분 구조에 대해서 설명한다.The specific partial structure which is a partial structure functioning as a polymerization initiator will be described.

상기식 (101)∼(108), 상기식 (101-1) 및 상기식 (101-2)에 따른 특정 구조에 있어서, 알킬기, 알콕시기, 알케닐기, 알케닐옥시기, 환상 알킬기, 복소환기의 치환기로서는, 수산기, 카복실기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 니트로기라도 좋다.In the specific structure according to the formulas (101) to (108), the formulas (101-1) and (101-2), an alkyl group, an alkoxy group, an alkenyl group, an alkenyloxy group, a cyclic alkyl group, The substituent may be a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, a cyano group or a nitro group.

아릴기의 치환기로서는, 탄소 원자수 1∼4의 알킬기, 수산기, 카복실기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 니트로기라도 좋다.The substituent of the aryl group may be an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, a cyano group or a nitro group.

아릴알킬기의 치환기로서는, 탄소 원자수 1∼4의 알킬기, 수산기, 탄소 원자수 1∼4의 알콕시기, 아미노기, 탄소 원자수 1∼4의 알킬티오기, 카복실기, 할로겐 원자, 시아노기 혹은 니트로기라도 좋다.Examples of the substituent of the arylalkyl group include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an amino group, an alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms, a carboxyl group, a halogen atom, It is also good.

알킬기, 알콕시기, 알케닐기, 환상 알킬기는 분기 구조를 갖고 있어도 좋다.The alkyl group, alkoxy group, alkenyl group and cyclic alkyl group may have a branched structure.

탄소 원자수 1∼20의 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, s-부틸, t-부틸, 아밀, 이소아밀, t-아밀, 헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 2-에틸헥실, t-옥틸, 노닐, 이소노닐, 데실, 이소데실, 운데실, 도데실, 테트라데실, 헥사데실, 옥타데실, 이코실, 사이클로펜틸, 사이클로펜틸메틸, 사이클로펜틸에틸, 사이클로헥실, 사이클로헥실메틸, 사이클로헥실에틸 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, Isohexyl, isohexyl, isohexyl, isohexyl, isohexyl, 2-ethylhexyl, t-octyl, nonyl, iso nonyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, Ethyl, cyclohexyl, cyclohexylmethyl, cyclohexylethyl and the like.

탄소 원자수 1∼20의 알콕시기로서는, 예를 들면, 메톡시, 에톡시, 프로필옥시, 이소프로필옥시, 부톡시 등을 들 수 있다.The alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms includes, for example, methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy and the like.

탄소 원자수 6∼30의 아릴기로서는, 예를 들면, 페닐기, 나프틸기, 비페닐렌기 등을 들 수 있다.Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms include a phenyl group, a naphthyl group and a biphenylene group.

탄소 원자수 7∼30의 아릴알킬기로서는, 예를 들면, 벤질, α-메틸벤질, α, α-디메틸벤질, 페닐에틸, 9-플루오레닐메틸 등을 들 수 있다.Examples of the arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms include benzyl,? -Methylbenzyl,?,? - dimethylbenzyl, phenylethyl and 9-fluorenylmethyl.

탄소 원자수 2∼12의 알케닐기로서는, 비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 이소프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1-옥테닐기, 1-데세닐기 등의 기를 들 수 있다.Examples of the alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms include vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl, isopropenyl, 1-butenyl, 2-butenyl, Decenyl, and the like.

탄소 원자수 2∼12의 알케닐옥시기로서는, 비닐옥시기, 1-프로페닐옥시기 등의 기를 들 수 있다.Examples of the alkenyloxy group having 2 to 12 carbon atoms include vinyloxy group, 1-propenyloxy group and the like.

3∼6원환의 환상 알칸으로서는, 예를 들면, 사이클로펜탄환, 사이클로헥산환 등을 들 수 있다.Examples of the 3- to 6-membered cyclic alkane include cyclopentane rings, cyclohexane rings and the like.

복소환기로서는, 상기 환상 알칸의 탄소 원자의 하나가 질소 원자로 치환된 기 등을 들 수 있다.Examples of the heterocyclic group include groups in which one of the carbon atoms of the cyclic alkane is substituted with a nitrogen atom.

다음으로, 중합 개시제로서 기능하는 부분 구조가 결합하는 중합체에 대해서 설명한다. 중합 개시제로서 기능하는 부분 구조는, 중합체의 폴리머로서 또는 말단기로서 도입할 수 있다.Next, a polymer to which a partial structure functioning as a polymerization initiator binds will be described. The partial structure functioning as a polymerization initiator can be introduced as a polymer of the polymer or as a terminal group.

중합체로서는, 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리오르가노실록산, 셀룰로오스 유도체, 폴리아세탈 유도체, 폴리스티렌 유도체, 폴리(스티렌-페닐말레이미드)유도체, 폴리(메타)아크릴레이트 유도체 등으로 이루어지는 골격을 갖는 중합체인 것이 바람직하고, 폴리오르가노실록산, 폴리암산, 폴리암산 에스테르, 폴리이미드, 폴리아미드가 보다 바람직하다. 이러한 중합체의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 1,000∼500,000이고, 보다 바람직하게는 5,000∼300,000이다.Examples of the polymer include polyamides, polyimides, polyamic acid esters, polyesters, polyamides, polyorganosiloxanes, cellulose derivatives, polyacetal derivatives, polystyrene derivatives, poly (styrene-phenylmaleimide) Derivatives, and the like, and polyorganosiloxane, polyamic acid, polyamic acid ester, polyimide, and polyamide are more preferable. The weight average molecular weight of such a polymer is preferably 1,000 to 500,000, more preferably 5,000 to 300,000.

중합 개시제로서 기능하는 부분 구조를 갖는 중합체는, 예를 들면 이하의 중합체 (ⅰ)∼(ⅸ)가 바람직하고, 중합체 (ⅰ)∼(ⅲ), (ⅶ)이 보다 바람직하다.The polymer having a partial structure functioning as a polymerization initiator is preferably, for example, the following polymers (i) to (f), more preferably polymers (i) to (iii) and (f).

(ⅰ) 에폭시기 함유 폴리오르가노실록산과, 특정 부분 구조를 갖는 카본산과의 반응 생성물인, 폴리오르가노실록산. 여기에서, 에폭시기 함유 폴리오르가노실록산은, 예를 들면 에폭시기를 갖는 가수분해성 실란 화합물을 포함하는 실란 화합물의 가수분해 축합물이라도 좋다.(I) a polyorganosiloxane which is the reaction product of an epoxy group-containing polyorganosiloxane and a carbonic acid having a specific partial structure. Here, the epoxy group-containing polyorganosiloxane may be, for example, a hydrolysis-condensation product of a silane compound containing a hydrolyzable silane compound having an epoxy group.

(ⅱ) 특정 부분 구조를 갖는 가수분해성 실란을 포함하는 실란 화합물의 가수분해 축합물인, 폴리오르가노실록산.(Ii) a polyorganosiloxane which is a hydrolytic condensate of a silane compound containing a hydrolyzable silane having a specific partial structure.

(ⅲ) 테트라카본산 2무수물과, 특정 부분 구조를 갖는 디아민의 반응 생성물인 폴리암산.(Iii) polyamic acid which is the reaction product of tetracarboxylic acid dianhydride and a diamine having a specific partial structure.

(ⅳ) 상기 (ⅲ)의 폴리암산과 에스테르화제의 반응 생성물인 폴리암산 에스테르.(Iv) a polyamic acid ester which is a reaction product of the polyamic acid and the esterifying agent of (iii) above.

(ⅴ) 테트라카본산 디에스테르와 특정 부분 구조를 갖는 디아민의 반응 생성물인 폴리암산 에스테르.(V) A polyamic acid ester which is the reaction product of a tetracarboxylic acid diester and a diamine having a specific partial structure.

(ⅵ) 테트라카본산 디에스테르디할로겐화물과 특정 부분 구조를 갖는 디아민과의 반응 생성물인 폴리암산 에스테르.(Vi) a polyamic acid ester which is the reaction product of a tetracarboxylic acid diester dihalide with a diamine having a specific partial structure.

(ⅶ) 상기 (ⅲ)의 폴리암산의 탈수 폐환물인 폴리이미드.(Iii) a polyimide which is a dehydration condensate of the polyamic acid of the above (iii).

(ⅷ) 디카본산과 특정 부분 구조를 갖는 디아민의 반응 생성물인 폴리아미드.(Ⅷ) Polyamide which is the reaction product of dicarboxylic acid and diamine having a specific partial structure.

(ⅸ) 디아민과 특정 부분 구조를 갖는 디카본산의 반응 생성물인 폴리아미드.(Iii) Polyamides which are reaction products of diamines and dicarboxylic acids having a specific partial structure.

(그 외의 성분)(Other components)

본 실시 형태의 액정 배향제는, 전술한 성분 이외의 그 외의 성분을 함유할 수 있다. 그 외의 성분으로서는, 예를 들면, 경화제, 경화 촉매, 경화 촉진제, 중합 개시제, 에폭시 화합물, 관능성 실란 화합물, 계면 활성제, 광 증감제 등을 들 수 있다.The liquid crystal aligning agent of the present embodiment may contain other components other than the above-mentioned components. Examples of the other components include a curing agent, a curing catalyst, a curing accelerator, a polymerization initiator, an epoxy compound, a functional silane compound, a surfactant, and a photosensitizer.

본 실시 형태의 액정 배향제는, 액정 배향제의 도포 방법이나 목적으로 하는 도막의 막두께를 얻는다는 관점에서, 적절히 용매를 선택하여 함유할 수 있다.The liquid crystal aligning agent of the present embodiment may suitably contain a solvent in view of obtaining the coating film of the liquid crystal aligning agent or the intended coating film.

본 실시 형태인 액정 배향제 중의 용매의 함유량은, 전술한 액정 배향제의 도포 방법이나 목적으로 하는 도막의 막두께를 얻는다는 관점에서, 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 도포에 의해 균일한 배향막을 형성한다는 관점에서, 액정 배향제 중의 용매의 함유량은 50질량%∼99.9질량%인 것이 바람직하다.The content of the solvent in the liquid crystal aligning agent of the present embodiment can be appropriately selected from the viewpoint of obtaining the above-described coating method of the liquid crystal aligning agent and the intended coating film thickness. For example, the content of the solvent in the liquid crystal aligning agent is preferably 50% by mass to 99.9% by mass from the viewpoint of forming a uniform alignment film by coating.

그 중에서도, 60질량%∼99질량%가 바람직하고, 특히 바람직하게는, 65질량%∼99질량%이다. 또한, 액정 배향제에 이용하는 용매는, 액정 배향제에 함유되는 중합체, 제1 중합 개시제 및 임의로 사용되는 그 외의 성분을 용해시키는 용매이면 특별히 한정되지 않는다.In particular, it is preferably 60% by mass to 99% by mass, and particularly preferably 65% by mass to 99% by mass. The solvent used in the liquid crystal aligning agent is not particularly limited as long as it is a solvent for dissolving the polymer contained in the liquid crystal aligning agent, the first polymerization initiator, and optionally other components used.

실시 형태 6.Embodiment 6:

<표시 소자용 기판의 제조 방법>&Lt; Manufacturing Method of Substrate Substrate &

다음으로, 본 발명의 제6 실시 형태인 표시 소자용 기판의 제조 방법에 대해서 설명한다.Next, a manufacturing method of a display element substrate according to a sixth embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 제6 실시 형태인 표시 소자용 기판의 제조에 있어서는, 전술한 본 발명의 제3 실시 형태인 유채색 조성물로부터 유채색 패턴을 형성하는 공정과, 전술한 본 발명의 제4 실시 형태인 흑색 조성물로부터 흑색 스페이서를 형성하는 공정과, 전술한 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제로부터 배향막을 형성하는 공정이 주요한 제조 공정으로서 포함된다. 그리고, 유채색 패턴을 포함하는 전술한 컬러 필터층과 흑색 스페이서와 배향막을 갖고 구성되는 컬러 필터를 제조할 수 있다.In the production of the substrate for a display element according to the sixth embodiment of the present invention, the step of forming a chromatic color pattern from the chromatic color composition which is the third embodiment of the present invention described above, and the step of forming the chromatic color pattern, which is the fourth embodiment of the above- And a step of forming an alignment film from the liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention described above as main manufacturing steps. Then, a color filter constituted by the above-described color filter layer including a chromatic color pattern, a black spacer and an alignment film can be manufactured.

또한, 각 색의 유채색 패턴을 배열하여 구성되는 컬러 필터층을 형성하는 공정에서, 컬러 필터층의 위에 투명 전극을 형성할 수 있고, 그에 따라, 전술한 유채색 패턴, 흑색 스페이서 및 배향막과 함께, 투명 전극을 갖는 컬러 필터를 제조할 수 있다.In addition, in the step of forming the color filter layer constituted by arranging the chromatic patterns of the respective colors, the transparent electrode can be formed on the color filter layer, and the transparent electrode can be formed with the chromatic pattern, the black spacer, Can be manufactured.

그리고 또한, 유채색 패턴의 위에 절연막을 형성하여, 유채색 패턴과 절연막을 포함하는 컬러 필터층을 구성하는 것도 가능하다. 그 경우, 상기에 더하여, 추가로, 절연막을 형성하기 위한 공정이, 주요한 제조 공정으로서 포함되게 된다. 이하, 표시 소자용 기판의 제조 방법에 대해서 설명한다.It is also possible to form a color filter layer including a chromatic pattern and an insulating film by forming an insulating film on the chromatic pattern. In this case, in addition to the above, a process for forming an insulating film is further included as a main manufacturing process. Hereinafter, a method for manufacturing a display element substrate will be described.

본 실시 형태의 표시 소자용 기판의 제조 방법에서는, 유채색 패턴을 포함하는 컬러 필터층과 흑색 스페이서가 형성되고, 적어도 하기의 공정 [1]∼공정 [5]를 포함하는 것이 바람직하다.In the method of manufacturing a substrate for a display device of the present embodiment, it is preferable that a color filter layer including a chromatic color pattern and a black spacer are formed and include at least the following steps [1] to [5].

[1] 유채색 조성물의 도막을, 스위칭 능동 소자나 전극 등(소스 전극, 드레인 전극, 게이트 전극, 소스 배선 및, 게이트 배선 등. 이하, 「전극 등」이라고 칭하는 경우가 있음)의 형성된 기판 상에 형성하는 공정(이하, 「[1]공정」이라고 칭하는 경우가 있음)[1] A coating film of a chromatic color composition is formed on a substrate on which a switching active element, an electrode, etc. (source electrode, drain electrode, gate electrode, source wiring, gate wiring, etc., (Hereinafter sometimes referred to as &quot; [1] step &quot;),

[2] [1]공정에서 얻어진 유채색 조성물의 도막을 경화시켜, 유채색 패턴을 형성하는 공정(이하, 「[2]공정」이라고 칭하는 경우가 있음)[2] A process for curing a coating film of a chromatic composition obtained in the process [1] to form a chromatic pattern (hereinafter sometimes referred to as "process [2]")

[3] 흑색 조성물의 도막을, [2]공정에서 얻어진 유채색의 유채색 패턴을 갖는 기판 상에 형성하는 공정(이하, 「[3]공정」이라고 칭하는 경우가 있음)[3] A process for forming a coating film of a black composition on a substrate having a chromatic color pattern obtained in the process [2] (hereinafter sometimes referred to as "process [3]")

[4] [3]공정에서 얻어진 흑색 조성물의 도막을 경화시켜, 흑색 스페이서를 형성하는 공정(이하, 「[4]공정」이라고 칭하는 경우가 있음)[4] The step of curing the coating film of the black composition obtained in the step [3] to form a black spacer (hereinafter sometimes referred to as "step [4]")

[5] [4]공정에서 얻어진 흑색 스페이서가 형성된 기판 상에, 액정 배향제를 이용하여 배향막을 형성하는 공정[5] A process for forming an alignment film using a liquid crystal aligning agent on a substrate formed with the black spacer obtained in the process [4]

그리고, 다른 예로서, 유채색 패턴의 위에 절연막을 형성하여, 유채색 패턴과 절연막을 포함하는 컬러 필터층을 구성하는 경우, 상기 [2]공정과 상기 [3]공정의 사이에, 하기의 공정 [a]∼[d]를 하기의 순서로 포함할 수 있다.As another example, in the case of forming a color filter layer including a chromatic pattern and an insulating film by forming an insulating film on a chromatic pattern, the following process [a] is performed between the process [2] To [d] in the following order.

[a] 절연막 형성용 조성물의 도막을, [2]공정 후의 기판 상의 경화된 유채색 패턴의 위에 형성하는 공정(이하, 「[a]공정」이라고 칭하는 경우가 있음)(a) a step of forming a coating film of a composition for forming an insulating film on the cured colored pattern on the substrate after the step [2] (hereinafter sometimes referred to as "the step [a]")

[b] [a]공정에서 형성된 절연막 형성용 조성물의 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정(이하, 「[b]공정」이라고 칭하는 경우가 있음)(b) a step of irradiating at least a part of the coating film of the composition for forming an insulating film formed in the step [a] (hereinafter sometimes referred to as "step [b]")

[c] [b]공정에서 방사선이 조사된 도막을 현상하는 공정(이하, 「[c]공정」이라고 칭하는 경우가 있음)a step of developing the coating film irradiated with the radiation in the [c] [b] step (hereinafter sometimes referred to as &quot; [c] step &quot;

[d] [c]공정에서 현상된 도막을 경화하는 공정(이하, 「[d]공정」이라고 칭하는 경우가 있음)[d] Step of curing the developed coating film in the step [c] (hereinafter sometimes referred to as &quot; [d] step &quot;)

이상의 각 공정을 포함하는, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판의 제조 방법에 의해, 전술한 유채색 조성물을 이용하여, 스위칭 능동 소자나 전극 등이 형성된 기판 상에, 유채색 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 전술한 흑색 조성물을 이용하여 흑색 스페이서를 형성할 수 있다. 그리고, 흑색 스페이서가 형성된 기판의 위에 배향막을 형성할 수 있다.By the manufacturing method of the substrate for a display element according to the present embodiment including each of the above processes, the chromatic color composition can be used to form a chromatic pattern on a substrate on which a switching active element, an electrode, and the like are formed. In addition, the black spacer described above can be used to form a black spacer. Then, an alignment film can be formed on the substrate on which the black spacer is formed.

또한, 컬러 필터층에 있어서 절연막을 형성하는 경우는, 절연막 형성용 조성물을 이용하여, 얻어진 유채색 패턴의 위에 절연막을 형성할 수 있다. 그 결과, 색 특성이 우수하여, 내열성, 내약품성, 전압 보전율 등이 양호한 컬러 필터를 갖고, 고신뢰성의 표시 소자용 기판을 형성할 수 있다.When an insulating film is formed in the color filter layer, an insulating film can be formed on the obtained chromatic color pattern by using a composition for forming an insulating film. As a result, it is possible to form a substrate for a display device having a color filter having excellent color characteristics, good heat resistance, chemical resistance, voltage preservation ratio, and the like and having high reliability.

이하, 각 공정에 대해서 상술한다.Each step will be described in detail below.

[[1]공정][[1] Process]

본 공정에서는 전술한 유채색 조성물의 도막을 기판 상에 형성한다. 이 기판에는, 스위칭 능동 소자, 소스 전극, 드레인 전극, 게이트 전극, 소스 배선 및, 게이트 배선 등이 형성되어 있다. 이들 스위칭 능동 소자 등은, 기판 상, 통상의 반도체막 성막과, 절연막 성막과, 포토리소그래피법에 의한 에칭을 반복함으로써 형성된 것이다.In this step, a coating film of the above-described chromatic color composition is formed on a substrate. A switching active element, a source electrode, a drain electrode, a gate electrode, a source wiring, a gate wiring, and the like are formed on this substrate. These switching active elements and the like are formed by repeating etching on a substrate by a normal semiconductor film forming film, an insulating film forming film, and a photolithography method.

이 기판의 스위칭 능동 소자 등의 형성면에, 예를 들면, 적색의 염료 등을 포함하는 유채색 조성물을 도포한 후, 예비 가열(이하, 「프리베이킹」이라고도 칭함)을 행하여 용매를 증발시켜, 도막을 형성한다. 기판 상에 도막을 형성하는 다른 방법으로서는, 일본공개특허공보 평7-318723호, 일본공개특허공보 2000-310706호 등에 개시되어 있는 잉크젯 방식에 의해 각 색의 화소를 얻는 방법을 채용할 수 있다.A chromatic composition containing, for example, a red dye is coated on the surface of the substrate such as a switching active element or the like, and then preliminary heating (hereinafter also referred to as "prebaking") is performed to evaporate the solvent, . As another method of forming a coating film on a substrate, a method of obtaining pixels of respective colors by an inkjet method disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 7-318723 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-310706 can be adopted.

이 방법에서는, 우선 기판의 표면 상에, 차광 기능도 겸한 격벽을 형성한다. 이어서, 형성된 격벽 내에, 예를 들면, 적색의 염료 등을 함유하는 유채색 조성물을, 잉크젯 장치에 의해 토출한 후, 프리베이킹를 행하여 용매를 증발시킴으로써, 도막을 형성한다.In this method, first, a partition wall serving also as a light shielding function is formed on the surface of the substrate. Next, a chromatic composition containing, for example, a red dye or the like is ejected by an ink jet apparatus in the partition wall formed, and then pre-baked to evaporate the solvent to form a coating film.

기판의 재료로서는, 예를 들면, 소다 라임 유리나 무알칼리 유리 등의 유리, 실리콘, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트, 방향족 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드 등을 들 수 있다. 또한, 이들 기판에는, 소망에 의해 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅, 스퍼터링, 기상(氣相) 반응법, 진공 증착 등의 적절한 전(前) 처리를 실시해 둘 수도 있다.Examples of the material of the substrate include glass such as soda lime glass and alkali-free glass, silicon, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, . These substrates may be subjected to a suitable pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, vapor phase reaction, vacuum deposition or the like, if desired.

유채색 조성물을 기판에 도포하는 방법으로서는, 스프레이법, 롤 코팅법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿 다이 도포법, 바 도포법 등을 들 수 있다. 이들 중, 스핀 코팅법, 슬릿 다이 도포법이 바람직하다.Examples of the method of applying the chromatic composition on a substrate include a spray method, a roll coating method, a rotation coating method (spin coating method), a slit die coating method, and a bar coating method. Of these, the spin coating method and the slit die coating method are preferable.

프리베이킹은, 통상 70℃∼110℃에서 1분간∼10분간 정도이다.The prebaking is usually carried out at 70 ° C to 110 ° C for 1 minute to 10 minutes.

건조(프리베이킹) 후의 막두께로서는, 통상 0.6㎛∼8.0㎛, 바람직하게는 1.2㎛∼5.0㎛이다.The film thickness after drying (pre-baking) is usually 0.6 탆 to 8.0 탆, preferably 1.2 탆 to 5.0 탆.

후술하는 [2]공정의 전에, 건조 후의 도막의 일부를 제거해도 좋다.Before the step [2] to be described later, a part of the coated film after drying may be removed.

예를 들면, 포토 마스크를 통하여 건조 후의 도막에 방사선을 조사(노광)하고, 알칼리 현상액을 이용하여 현상하여, 도막의 미노광부를 용해 제거함으로써, 소정의 패턴을 갖는 도막을 형성할 수 있다.For example, a coated film having a predetermined pattern can be formed by irradiating (irradiating) a dried coating film through a photomask and developing it using an alkali developing solution to dissolve and remove the unexposed portion of the coating film.

보다 구체적으로는, 예를 들면, 적색의 유채색 조성물의 도막을 기판 상에 도포한 후, 프리베이킹, 노광, 현상의 순서로 조작하여, 적색의 도막 패턴이 소정의 배열로 배치된 기판이 형성된다.More specifically, for example, a coating film of a red colored composition is coated on a substrate, and then the substrate is processed in the order of prebaking, exposure, and development to form a substrate in which red coating film patterns are arranged in a predetermined arrangement .

또한, 상기 격벽은, 스퍼터나 증착에 의해 성막한 크롬 등의 금속 박막을, 포토리소그래피법을 이용하여 소망의 패턴으로 함으로써 형성할 수 있지만, 흑색의 착색제를 함유하는 경화성 조성물을 이용하여, 상기 도막 패턴의 형성의 경우와 동일하게 하여 형성할 수 있다.The barrier rib can be formed by forming a thin metal film such as chromium film formed by sputtering or vapor deposition into a desired pattern by using a photolithography method. However, by using a curable composition containing a black coloring agent, Can be formed in the same manner as in the formation of the pattern.

방사선의 광원으로서는, 예를 들면, 제논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 중압 수은등, 저압 수은등 등의 램프 광원이나 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, XeCl 엑시머 레이저, 질소 레이저 등의 레이저 광원 등을 들 수 있다. 파장이 190nm∼450nm의 범위에 있는 방사선이 바람직하다. 노광 광원으로서, 자외선 LED를 사용할 수도 있다. 방사선의 노광량은, 10J/㎡∼10,000J/㎡가 바람직하다.Examples of the light source of radiation include a lamp light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium pressure mercury lamp or a low pressure mercury lamp, or a lamp light source such as argon ion laser, YAG laser, XeCl excimer laser, And a laser light source such as a laser. Radiation with a wavelength in the range of 190 nm to 450 nm is preferred. As an exposure light source, an ultraviolet LED may be used. The exposure dose of the radiation is preferably 10 J / m 2 to 10,000 J / m 2.

알칼리 현상액으로서는, 탄산 나트륨, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드, 콜린, 1,8-디아자바이사이클로-[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자바이사이클로-[4.3.0]-5-노넨이 바람직하다.Examples of the alkali developing solution include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7- undecene, 1,5-diazabicyclo- [4.3 0.0 &gt; 0] -5-nonene. &Lt; / RTI &gt;

알칼리 현상액에는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기용매나 계면 활성제 등을 적량 첨가할 수 있다. 또한, 알칼리 현상 후는 통상, 물 세정한다. 현상 처리법으로서는, 샤워 현상법, 스프레이 현상법, 딥(침지) 현상법, 퍼들(교련) 현상법 등을 적용할 수 있다. 현상 조건으로서는, 상온에서 5초∼300초가 바람직하다.A water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, etc. may be added in an appropriate amount to the alkali developing solution. After the alkali development, water washing is usually carried out. As the development processing method, a shower development method, a spray development method, a dip (immersion) development method, a puddle (drilling) development method, and the like can be applied. The development conditions are preferably 5 seconds to 300 seconds at room temperature.

또한, 알칼리 현상법을 대신하여, 용매 현상법을 이용할 수도 있다. 용매 현상법은, 알칼리 현상법에 있어서의 알칼리 현상액을 대신하여, 유기 용매를 이용하는 것 이외에는 알칼리 현상법과 동일하게 행할 수 있다. 보다 구체적인 방법에 대해서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 2014-199272호를 참작할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 조입된다.In place of the alkali developing method, a solvent developing method may also be used. The solvent developing method can be carried out in the same manner as in the alkali developing method except that an organic solvent is used instead of the alkali developing solution in the alkali developing method. As for a more specific method, for example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-199272 can be taken into consideration, the contents of which are incorporated herein by reference.

[[2]공정][[2] Process]

[1]공정에서 소정의 패턴을 갖고 있어도 좋은 도막을 형성한 후, 도막을 경화시킴으로써, 유채색 패턴을 형성한다. 도막을 경화시키는 데에는, 통상, 소성(이하, 「포스트베이킹」이라고도 칭함)을 행한다. 포스트베이킹의 온도는, 예를 들면, 180℃∼280℃이다. 포스트베이킹의 시간은, 예를 들면, 10분간∼60분간이다.After forming a coating film which may have a predetermined pattern in the [1] process, the coating film is cured to form a chromatic pattern. In order to harden the coating film, usually baking (hereinafter also referred to as "post baking") is performed. The post baking temperature is, for example, 180 to 280 占 폚. The post baking time is, for example, 10 minutes to 60 minutes.

이와 같이 하여 형성되는 유채색 패턴의 막두께로서는, 통상 0.5㎛∼5㎛, 바람직하게는 1.0㎛∼3㎛이다.The film thickness of the chromatic color pattern formed in this way is usually 0.5 탆 to 5 탆, preferably 1.0 탆 to 3 탆.

유채색 패턴을 형성한 후에, 당해 유채색 패턴의 일부를 제거해도 좋다. 유채색 패턴의 일부를 제거하는 방법으로서는, 에칭법을 들 수 있다.After forming the chromatic pattern, a part of the chromatic pattern may be removed. As a method of removing a part of the chromatic pattern, an etching method can be mentioned.

에칭법에서는, 예를 들면, 도막을 경화시켜 얻어진 유채색 패턴 상에 포토 레지스트층을 형성하고, 이 포토 레지스트층을 패턴 형상으로 제거하여 레지스트 패턴을 형성하고, 이 레지스트 패턴을 에칭 마스크로서 드라이 에칭에 의해 에칭하고, 에칭 후에 잔존하는 레지스트 패턴을 제거함으로써, 소정의 패턴을 갖는 유채색 패턴을 형성할 수 있다. 보다 구체적인 방법에 대해서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 2008-241744호를 참작할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 조입된다.In the etching method, for example, a photoresist layer is formed on a chromatic pattern obtained by curing a coating film, the photoresist layer is removed in a pattern to form a resist pattern, and the resist pattern is subjected to dry etching And by removing the resist pattern remaining after etching, a chromatic pattern having a predetermined pattern can be formed. As for a more specific method, for example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-241744 can be considered, and the contents thereof are incorporated herein.

이상과 같이 하여, [2]공정에서는, 유채색 조성물로부터 유채색 패턴을 형성할 수 있다.As described above, in step [2], a chromatic color pattern can be formed from a chromatic color composition.

또한 필요에 따라서, [1]공정 및 [2]공정에 의해 적색의 유채색 패턴을 형성한 후, 녹색 또는 청색의 각 유채색 조성물을 이용하여, [1]공정 및 [2]공정과 동일하게 하여, 녹색의 유채색 패턴 및 청색의 유채색 패턴을 동일 기판 상에 순차 형성할 수 있다.Further, if necessary, a chromatic color pattern of red is formed by the process [1] and the process [2], and then each of the chromatic color compositions of green or blue is used, A green colored pattern and a blue colored pattern can be sequentially formed on the same substrate.

이에 따라, 적색, 녹색 및 청색의 삼원색의 유채색 패턴을 기판 상에 배치할 수 있다. 즉, 적색, 녹색 및 청색의 삼원색의 유채색 패턴을 포함하는 컬러 필터층을 형성할 수 있다. 단, 각 색의 유채색 패턴을 형성하는 순서 및 색 수는, 상기의 것에 한정되지 않는다.Accordingly, a chromatic pattern of three primary colors of red, green, and blue can be disposed on the substrate. That is, a color filter layer including a chromatic pattern of three primary colors of red, green, and blue can be formed. However, the order and the number of colors for forming the chromatic pattern of each color are not limited to those described above.

[2]공정에 있어서는, 유채색 패턴을 형성한 후, 스퍼터링법 등을 이용하여, 예를 들면, 유채색 패턴의 위에, ITO로 이루어지는 투명 도전층을 형성할 수 있다. 이어서, 포토리소그래피법을 이용하여 이 투명 도전층을 에칭하여, 유채색 패턴의 위에 투명 전극을 형성할 수 있다.In the process [2], after forming a chromatic pattern, a transparent conductive layer made of ITO can be formed on a chromatic pattern, for example, by sputtering. Subsequently, the transparent conductive layer is etched by photolithography to form a transparent electrode on the chromatic pattern.

[[3]공정][3] Process

[2]공정에서 얻어진 유채색의 유채색 패턴을 갖는 기판 상에 있어, 투명 전극의 위에 흑색 조성물의 도막을 형성한다.On the substrate having the chromatic color pattern obtained in the step [2], a coating film of the black composition is formed on the transparent electrode.

도포법에 의해 도막을 형성하는 경우, 유채색 패턴 등이 형성된 기판 상에 흑색 조성물의 용액을 도포한 후, 바람직하게는 도포면을 예비 가열(프리베이킹)함으로써, 도막을 형성할 수 있다. 흑색 조성물의 도포 방법으로서는, 예를 들면, 스프레이법, 롤 코팅법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿 도포법(슬릿 다이 도포법), 바 도포법, 잉크젯 도포법 등의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 이들 중, 스핀 코팅법 또는 슬릿 도포법이 바람직하다.In the case of forming a coating film by a coating method, a coating film can be formed by applying a solution of a black composition onto a substrate having a chromatic pattern or the like formed thereon, preferably by pre-heating (prebaking) the coating surface. As a method for applying the black composition, suitable methods such as spraying, roll coating, spin coating (coating method), slit coating (slit die coating), bar coating, can do. Of these, a spin coating method or a slit coating method is preferable.

전술한 프리베이킹의 조건으로서는, 각 성분의 종류, 배합 비율 등에 따라 상이하지만, 70℃∼120℃가 바람직하고, 1분간∼15분간 정도이다. 도막의 프리베이킹 후의 막두께는, 0.5㎛∼10㎛가 바람직하고, 1.0㎛∼7.0㎛ 정도가 보다 바람직하다.The conditions of the above-described prebaking vary depending on the kind of each component, the mixing ratio, etc., but are preferably 70 deg. C to 120 deg. C, and are about 1 minute to 15 minutes. The thickness of the coating film after pre-baking is preferably 0.5 to 10 mu m, more preferably 1.0 to 7.0 mu m.

이어서, 소망하는 위치에 흑색 스페이서를 형성하기 위해, 상기 예비 가열(프리베이킹) 후의 도막의 일부를 제거할 수 있다. 도막의 일부를 제거하는 방법으로서는, 예를 들면, 소정의 패턴을 갖는 포토마스크를 통하여 도막의 일부에 방사선을 조사하고, 이어서 당해 도막을 현상하는 방법에 의한 것이 가능하다.Subsequently, in order to form a black spacer at a desired position, a part of the coating film after the preheating (prebaking) can be removed. As a method of removing a part of the coating film, for example, it is possible to irradiate a part of the coating film with a radiation through a photomask having a predetermined pattern, followed by developing the coating film.

조사하는 방사선의 광원으로서는 [1]공정에 대해서 기재한 것과 동일한 것을 들 수 있지만, 조사되는 방사선의 파장 365nm에 있어서의 강도는, 100J/㎡∼5,000J/㎡가 바람직하고, 200J/㎡∼3,000J/㎡가 보다 바람직하다.The intensity of the irradiated radiation at a wavelength of 365 nm is preferably from 100 J / m 2 to 5,000 J / m 2, more preferably from 200 J / m 2 to 3,000 J / m &lt; 2 &gt; is more preferable.

다음으로, 방사선 조사 후의 흑색 조성물의 도막을 현상함으로써, 불필요한 부분을 제거하여, 소정의 패턴을 갖는 흑색 패턴을 형성한다.Next, the coating film of the black composition after the irradiation with radiation is developed to remove unnecessary portions to form a black pattern having a predetermined pattern.

현상에 사용되는 현상액 및 현상 방법으로서는, [1]공정에 기재한 것과 동일한 현상액 및 현상 방법을 채용할 수 있다.As the developing solution and developing method used for development, the same developing solution and developing method as those described in the [1] step may be employed.

[[4]공정][4] Process

[3]공정에서 소정의 패턴을 갖고 있어도 좋은 도막을 형성한 후, 도막을 경화시킴으로써, 흑색 스페이서를 형성한다. 도막을 경화시키는 데에는, 통상, 소성(포스트베이킹)을 행한다. 포스트베이킹의 온도로서는, 예를 들면, 150℃∼280℃이지만, 유채색 패턴이 함유하는 염료의 내열성을 고려하여, 160∼230℃로 하는 것이 바람직하고, 170∼220℃로 하는 것이 보다 바람직하고, 180∼210℃로 하는 것이 더욱 바람직하다. 포스트베이킹의 시간은, 예를 들면, 5분간∼180분간이다.After forming a coating film which may have a predetermined pattern in the process [3], a black spacer is formed by curing the coating film. In order to harden the coating film, usually, baking (post baking) is performed. The post baking temperature is, for example, 150 to 280 DEG C, but preferably 160 to 230 DEG C, more preferably 170 to 220 DEG C in consideration of the heat resistance of the dye contained in the chromatic color pattern, More preferably 180 to 210 캜. The post baking time is, for example, from 5 minutes to 180 minutes.

[[5]공정][5] Process

전술한 [4]공정 후에 얻어진, 유채색 패턴 및 흑색 패턴을 갖는 기판을 이용하여, 흑색 스페이서가 형성된 투명 전극 상에, 전술한 액정 배향제를, 예를 들면, 롤 코터법, 스피너법, 인쇄법, 잉크젯법 등의 적절한 도포 방법에 의해 도포한다. 이어서, 액정 배향제가 도포된 기판을 프리베이킹하고, 그 후, 포스트베이킹함으로써 도막을 형성한다.The above liquid crystal aligning agent is applied onto a transparent electrode on which a black spacer is formed by using a substrate having a chromatic pattern and a black pattern obtained after the above-mentioned [4] process, for example, by a roll coater method, a spinner method, , An ink jet method, or the like. Subsequently, the substrate coated with the liquid crystal aligning agent is pre-baked, and thereafter baked to form a coated film.

프리베이킹 온도는, 바람직하게는 30℃∼200℃이고, 보다 바람직하게는 40℃∼150℃이고, 특히 바람직하게는 40℃∼100℃이다. 프리베이킹 시간은, 바람직하게는 0.25분간∼10분간이고, 보다 바람직하게는 0.5분간∼5분간이다. 포스트베이킹 온도는, 바람직하게는 80℃∼300℃이고, 보다 바람직하게는 120℃∼250℃이다.The prebaking temperature is preferably 30 ° C to 200 ° C, more preferably 40 ° C to 150 ° C, and particularly preferably 40 ° C to 100 ° C. The prebaking time is preferably 0.25 minutes to 10 minutes, and more preferably 0.5 minutes to 5 minutes. The post-baking temperature is preferably 80 ° C to 300 ° C, more preferably 120 ° C to 250 ° C.

포스트베이킹 시간은, 바람직하게는 5분∼200분이고, 보다 바람직하게는 10분∼100분이다. 포스트베이킹 후의 도막의 막두께는, 바람직하게는 0.001㎛∼1㎛이고, 보다 바람직하게는 0.005㎛∼0.5㎛이다.The post baking time is preferably 5 minutes to 200 minutes, and more preferably 10 minutes to 100 minutes. The film thickness of the coated film after post-baking is preferably 0.001 mu m to 1 mu m, more preferably 0.005 mu m to 0.5 mu m.

사용되는 액정 배향제의 고형분 농도(액정 배향제의 용매 이외의 성분의 합계 중량이 액정 배향제의 전체 중량에 차지하는 비율)는, 점성, 휘발성 등을 고려하여 적절하게 선택되지만, 바람직하게는 1질량%∼10질량%의 범위이다.The solid concentration of the liquid crystal aligning agent used (the ratio of the total weight of components other than the solvent of the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent) is appropriately selected in consideration of viscosity, volatility, etc., % To 10% by mass.

액정 배향제로서, 광 배향성기를 갖는 중합체를 포함하는 경우는, 전술한 도막에, 직선 편광 혹은 부분 편광된 방사선, 또는, 비편광의 방사선을 조사함으로써, 액정 배향능을 부여한다. 이러한 방사선의 조사는, 배향막의 배향 처리에 대응한다.When a polymer having a photo-orientable group is contained as a liquid crystal aligning agent, the above-mentioned coating film is irradiated with linearly polarized light, partially polarized radiation, or unpolarized radiation, thereby imparting liquid crystal aligning ability. Such irradiation of radiation corresponds to alignment treatment of the alignment film.

여기에서, 방사선으로서는, 예를 들면, 150nm∼800nm의 파장의 빛을 포함하는 자외선 및 가시광선을 이용할 수 있다. 특히, 방사선으로서, 300nm∼400nm의 파장의 빛을 포함하는 자외선을 이용하는 것이 바람직하다. 사용하는 방사선이 직선 편광 또는 부분 편광하고 있는 경우에는, 조사는 기판면에 수직의 방향으로부터 행하여도, 프리틸트각을 부여하기 위해 경사 방향으로부터 행해도 좋고, 또한, 이들을 조합하여 행해도 좋다. 비편광의 방사선을 조사하는 경우에는, 조사의 방향은 경사 방향일 필요가 있다.As the radiation, for example, ultraviolet rays and visible rays including light having a wavelength of 150 nm to 800 nm can be used. Particularly, as the radiation, it is preferable to use ultraviolet rays including light having a wavelength of 300 nm to 400 nm. When the radiation to be used is linearly polarized light or partially polarized light, the irradiation may be performed from a direction perpendicular to the substrate surface, or may be performed from an oblique direction to give a pretilt angle, or may be performed in combination. In the case of irradiating non-polarized radiation, the irradiation direction needs to be inclined.

방사선의 조사량으로서는, 바람직하게는 1J/㎡ 이상 10,000J/㎡ 미만이고, 보다 바람직하게는 10J/㎡∼5,000J/㎡이다.The irradiation dose of the radiation is preferably 1 J / m 2 or more and less than 10,000 J / m 2, and more preferably 10 J / m 2 to 5,000 J / m 2.

액정 배향제에 이용되는 중합체가 광 배향성기를 갖지 않는 중합체를 포함하는 경우는, 포스트베이킹 후의 도막을 배향막으로서 사용하는 것도 가능하다. 그리고, 필요에 따라서, 포스트베이킹 후의 도막에 대하여, 예를 들면, 나일론, 레이온, 코튼 등의 섬유로 이루어지는 천을 감은 롤로 일정 방향으로 문지르는 처리(러빙 처리)를 실시하여, 액정 배향능을 부여하는 것도 가능하다.When the polymer used in the liquid crystal aligning agent contains a polymer having no photo-aligning group, it is also possible to use a coating film after post-baking as an alignment film. If necessary, the coating film after post-baking may be subjected to a rubbing treatment (rubbing treatment) in a certain direction with a roll of cloth made of fibers such as nylon, rayon or cotton to give a liquid crystal aligning ability It is possible.

이상과 같이, 흑색 스페이서가 형성된 기판 상에 배향막을 형성하는 경우, 흑색 스페이서를 형성한 후, 액정 배향제의 도막을 형성함에 있어서, 액정 배향제 중에 함유되는 제1 중합 개시제의 일부가, 흑색 스페이서의 표면으로부터 그의 내부로 확산한다고 생각된다.As described above, in the case where the alignment film is formed on the substrate on which the black spacer is formed, a part of the first polymerization initiator contained in the liquid crystal aligning agent in forming the coating film of the liquid crystal aligning agent after the formation of the black spacer is a black spacer Is diffused from the surface to the inside thereof.

그 결과, 제1 중합 개시제로서 열 중합 개시제를 이용한 경우에는, 액정 배향제의 도막을 가열 처리할 때에, 흑색 스페이서 경화를 보다 진행할 수 있다고 생각된다. 또한, 제1 중합 개시제로서 광 중합 개시제를 이용한 경우에는, 액정 배향제의 도막을 노광 처리할 때의 빛으로 흑색 스페이서의 경화를 보다 진행할 수 있다고 생각된다.As a result, when a thermal polymerization initiator is used as the first polymerization initiator, it is considered that the black spacer curing can be further promoted when the coating film of the liquid crystal aligning agent is heat-treated. When a photopolymerization initiator is used as the first polymerization initiator, it is considered that the black spacer can be further cured by the light when the coating film of the liquid crystal aligning agent is exposed to light.

즉, 액정 배향제에 포함되는 제1 중합 개시제의 작용에 의해, 유채색 패턴이 함유해도 좋은 염료의 고표시 품위를 유지하면서, 흑색 스페이서의 보다 충분한 경화가 가능해진다고 생각된다.That is, it is considered that by the action of the first polymerization initiator contained in the liquid crystal aligning agent, the black spacer can be cured more sufficiently while maintaining a high display quality of the dye which may contain a chromatic pattern.

따라서, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판의 제조 방법에 있어서 제조된 컬러 필터는, 신뢰 성능이 우수하여 표시 소자용 기판의 구성에 이용할 수 있다. 그 결과, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판의 제조 방법에 있어서 제조된 표시 소자용 기판은, 신뢰 성능이 우수하여 고신뢰성의 액정 표시 소자의 구성에 이용할 수 있다. 즉, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판은, 전술한 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 구성에 이용할 수 있어, 그의 고신뢰화에 기여한다.Therefore, the color filter manufactured in the manufacturing method of the substrate for a display element of the present embodiment is excellent in the reliability performance and can be used for the constitution of the display element substrate. As a result, the display element substrate manufactured in the method for manufacturing a display element substrate of the present embodiment has excellent reliability and can be used for the construction of a highly reliable liquid crystal display element. That is, the display element substrate of the present embodiment can be used in the constitution of the liquid crystal display element of the second embodiment of the present invention described above, contributing to its high reliability.

또한, 본 실시 형태의 표시 소자용 기판이, 유채색 패턴의 위에 절연막을 갖는 경우는, 상기 [2]공정 후에 있어 투명 전극의 형성 전에, 이하의 [a]공정으로부터 [d]공정을 실시하여 절연막을 형성한다.In the case where the substrate for a display element of the present embodiment has an insulating film on a chromatic pattern, the following steps [a] to [d] are performed before the transparent electrode is formed after the step [2] .

[[a]공정][[a] Process]

[2]공정 후, 그 유채색 패턴이 형성된 기판에 있어서, 유채색 패턴의 위에 절연막 형성용 조성물의 도막을 형성한다.After the step [2], a coating film of a composition for forming an insulating film is formed on the chromatic pattern on the substrate having the chromatic pattern formed thereon.

사용하는 절연막 형성용 조성물로서는, 전술한 바와 같이, 예를 들면, 일본공개특허공보 2013-015795호에 기재된 절연막 형성용의 감방사선성 수지 조성물( 제2 감방사선성 수지 조성물)을 들 수 있다.As the insulating film forming composition to be used, for example, the radiation sensitive resin composition (second radiation sensitive resin composition) for forming an insulating film described in JP-A-2013-015795 can be mentioned as described above.

그리고, 도포법에 의해 이 절연막 형성용 조성물을 도포하고, 이어서, 바람직하게는 도포면을 프리베이킹함으로써, 도막을 형성할 수 있다.Then, a coating film can be formed by applying the composition for forming an insulating film by a coating method, and then preferably by pre-baking the coated surface.

[[b]공정][[b] Process]

이어서, [a]공정에서 형성된 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사한다. 이 때, 도막의 일부에만 조사할 때에는, 예를 들면, 소정의 패턴을 갖는 포토마스크를 통하여 조사하는 방법에 의한 것이 가능하다.Then, at least a part of the coating film formed in the step [a] is irradiated with radiation. At this time, when irradiating only a part of the coating film, for example, it is possible to irradiate through a photomask having a predetermined pattern.

[[c]공정][[c] Process]

다음으로, 방사선 조사 후의 도막을 현상함으로써, 불필요한 부분을 제거하여, 소정의 패턴을 형성한다.Next, the coating film after irradiation with the radiation is developed to remove unnecessary portions to form a predetermined pattern.

[[d]공정][[d] Process]

이어서, 얻어진 패턴 형상 도막을, 핫 플레이트, 오븐 등의 적당한 가열 장치에 의해 경화함으로써, 경화막으로서 절연막이 얻어진다. 도막을 경화시키는 데에는, 통상, 소성(포스트베이킹)을 행한다. 포스트베이킹의 온도로서는, 예를 들면, 180℃∼280℃가 바람직하고, 포스트베이킹의 시간은, 예를 들면, 5분간∼180분간이다.Subsequently, the obtained patterned coating film is cured by a suitable heating device such as a hot plate or an oven to obtain an insulating film as a cured film. In order to harden the coating film, usually, baking (post baking) is performed. The post-baking temperature is preferably, for example, 180 ° C to 280 ° C, and the post-baking time is, for example, 5 minutes to 180 minutes.

그리고, 절연막의 형성 후에 스퍼터링법 등을 이용하여, 절연막의 위에, 예를 들면, ITO로 이루어지는 투명 도전층을 형성할 수 있다. 이어서, 포토리소그래피법을 이용하여 이 투명 도전층을 에칭하고, 절연막 상에 투명 전극을 형성할 수 있다.After formation of the insulating film, a transparent conductive layer made of, for example, ITO can be formed on the insulating film by sputtering or the like. Subsequently, the transparent conductive layer is etched by photolithography, and a transparent electrode can be formed on the insulating film.

이상의 제조 방법에 따라, 유채색 패턴을 제조하고, 그 위에 절연막을 형성하여 컬러 필터층을 형성함으로써, 유채색 패턴 및 절연막을 가지며 색 특성이 우수한 컬러 필터층과, 흑색 스페이서와, 배향막을 구비한 컬러 필터를 제조할 수 있다. 그리고, 본 발명의 제1 실시 형태의 표시 소자용 기판의 예로서, 고신뢰성의 표시 소자용 기판을 제조할 수 있다.According to the above manufacturing method, a color filter having an achromatic pattern and an insulating film and having excellent color characteristics, a black spacer, and an alignment film is manufactured by manufacturing a chromatic pattern and forming an insulating film thereon to form a color filter layer can do. As a display device substrate according to the first embodiment of the present invention, a highly reliable display device substrate can be manufactured.

실시 형태 7.Embodiment 7:

<PSA 모드 액정 표시 소자용 기판의 제조 방법>&Lt; Method of manufacturing substrate for PSA mode liquid crystal display element >

전술한 본 발명의 제6 실시 형태의 표시 소자용 기판의 제조 방법에 의해 제조된 표시 소자용 기판은, PSA(Polymer Sustained Alignment) 모드 액정 표시 소자용 기판으로서 바람직하게 이용할 수 있다.The display element substrate manufactured by the method for manufacturing a display element substrate according to the sixth embodiment of the present invention described above can be preferably used as a substrate for a PSA (Polymer Sustained Alignment) mode liquid crystal display element.

PSA 모드는, 광 중합성 폴리머 등의 중합성 화합물을, 액정층을 구성하는 액정 화합물 등으로 이루어지는 액정 재료 중에 혼입해 두고, 한 쌍의 기판 간에 그 액정층을 협지하여 액정 표시 소자의 액정 셀을 조립한 후, 그 액정층을 사이에 두는 한 쌍의 전극 간에 전압을 인가한 상태로 액정 셀에 광 조사함으로써, 그 중합성 화합물을 중합시켜 액정층의 액정 분자의 분자 배향을 제어하는 기술이다. 이 기술에 의하면, 액정 표시 소자에 있어서, 시야각의 확대나 고속 응답화를 도모할 수 있다는 것과 같은 이점이 있다.In the PSA mode, a polymerizable compound such as a photopolymerizable polymer is mixed in a liquid crystal material such as a liquid crystal compound constituting a liquid crystal layer, and the liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates to form a liquid crystal cell After assembling, the liquid crystal cell is irradiated with light by applying a voltage between a pair of electrodes sandwiching the liquid crystal layer, thereby polymerizing the polymerizable compound to control the molecular orientation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer. According to this technique, there is an advantage that the viewing angle can be increased and the response speed can be improved in the liquid crystal display element.

이하, 본 발명의 제7 실시 형태의 PSA 모드 액정 표시 소자용 기판의 제조 방법에 대해서 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a substrate for a PSA mode liquid crystal display element according to a seventh embodiment of the present invention will be described.

PSA 모드 액정 표시 소자용 기판을 제조하는 방법은, 이하의 (ⅰ)∼(ⅲ)을 포함하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다.The method for producing the substrate for the PSA mode liquid crystal display element can be manufactured through a process including the following (i) to (iii).

(i) 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제를, 투명 전극을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 투명 전극 상에 각각 도포하고, 이어서 이를 가열하여 도막을 형성하는 공정(이하, 「(i)공정」이라고 하는 경우가 있음)(i) a step of applying a liquid crystal aligning agent according to the fifth embodiment of the present invention onto a transparent electrode of a pair of substrates each having a transparent electrode, and thereafter heating it to form a coating film (hereinafter referred to as " Process "in some cases)

(ⅱ) 당해 도막을 형성한 한 쌍의 기판을, 액정성 화합물을 포함하는 액정층을 통하여 도막이 상대하도록 대향 배치하여 액정 셀을 구축하는 공정(이하, 「(ⅱ)공정」이라고 하는 경우가 있음)(Ii) a step (hereinafter referred to as &quot; step (ii)) &quot; in which a pair of substrates on which a coating film is formed is opposed to the coating film through a liquid crystal layer containing a liquid crystalline compound so as to face each other )

(ⅲ) 한 쌍의 기판이 갖는 투명 전극 간에 전압을 인가한 상태에서 액정 셀에 광 조사 하는 공정(이하, 「(ⅲ)공정」이라고 하는 경우가 있음)(Iii) a step of irradiating light to the liquid crystal cell in a state in which a voltage is applied between transparent electrodes of a pair of substrates (hereinafter referred to as &quot; step (iii)

이하, 이들 각 공정에 대해서 설명한다.Each of these steps will be described below.

[(ⅰ)공정][(I) Process]

본 공정에서는 본 발명의 제5 실시 형태의 액정 배향제의 도막을, 투명 전극을 갖는 한 쌍의 기판 상에 각각 도포한 후, 프리베이킹를 행하고, 추가로 포스트베이킹를 행함으로써, 배향막인 도막 또한 배향막이 되는 도막을 형성한다.In this step, the coating film of the liquid crystal aligning agent of the fifth embodiment of the present invention is applied onto a pair of substrates each having a transparent electrode, followed by pre-baking and further post baking, Is formed.

전술한 한 쌍의 기판으로서는, 전술한 본 발명의 제6 실시 형태의 표시 소자용 기판의 제조 방법의 [1]공정∼[4]공정을 포함하는 제조 공정에 의해 제조된, 유채색 패턴 및 흑색 스페이서가 형성된 기판과, 전술한 본 발명의 제2 실시 형태의 액정 표시 소자의 구성에 이용된 투명 전극이 형성된 다른 기판을 이용할 수 있다.As the pair of substrates described above, there are used a chromatic pattern and a black spacer, which are manufactured by a manufacturing process including the steps [1] to [4] of the manufacturing method of a substrate for a display device according to the sixth embodiment of the present invention described above And the other substrate on which the transparent electrode used in the structure of the liquid crystal display element of the second embodiment of the present invention described above is formed can be used.

그 결과, 본 (ⅰ)공정에 의해, PSA 모드 액정 표시 소자에 적합하게 되는 표시 소자용 기판을 제조할 수 있다.As a result, the substrate for a display device suitable for the PSA mode liquid crystal display element can be manufactured by the present step (i).

액정 배향제를 도포하는 방법으로서는, 바람직하게는 오프셋 인쇄법, 스핀 코팅법, 롤 코터법 또는 잉크젯 인쇄법에 의해 행할 수 있다. 프리베이킹 및 포스트베이킹의 조건은, 전술한 본 발명의 제6 실시 형태의 [5]공정과 동일하다.As a method for applying the liquid crystal aligning agent, it is preferably performed by an offset printing method, a spin coating method, a roll coater method, or an inkjet printing method. The conditions of pre-baking and post-baking are the same as those of the above-described [5] process of the sixth embodiment of the present invention.

이와 같이 하여 형성된 도막은, 이를 그대로 배향막으로 하여, 이하의 (ⅱ)공정에 제공해도 좋고, 필요에 따라서 도막면에 대한 러빙 처리를 행한 후에, 배향막으로 하여 (ⅱ)공정에 제공해도 좋다. 이 러빙 처리는, 도막면에 대하여, 예를 들면, 나일론, 레이온, 코튼 등의 섬유로 이루어지는 천을 감은 롤로 일정 방향으로 문지름으로써 행할 수 있다.The coating film thus formed may be provided as an alignment film as it is in the following step (ii), or may be provided in the step (ii) as an orientation film after rubbing treatment on the coating film surface if necessary. This rubbing treatment can be performed by rubbing the coating film surface in a predetermined direction with a roll of cloth made of fibers such as nylon, rayon, or cotton.

[(ⅱ)공정][(Ii) Process]

상기와 같이 하여 배향막이 형성된 기판을 2장 준비하고, 대향 배치한 2장의 기판 간에, 액정 화합물 및 광 중합성 화합물을 포함하는 액정층을 배치함으로써 액정 셀을 제조한다. 액정 셀을 제조하는 데에는, 예를 들면, 진공 주입 방식이나 ODF(One Drop Fill) 방식을 채용할 수 있다.Two liquid crystal cells are prepared by arranging two liquid crystal layers containing a liquid crystal compound and a photopolymerizable compound between two substrates arranged opposite to each other in the manner described above. For example, a vacuum injection method or an ODF (One Drop Fill) method can be used to manufacture the liquid crystal cell.

구체적인 방법은, 예를 들면, 일본공개특허공보 2015-99344호의 단락〔0086〕∼〔0088〕을 참고로 할 수 있다. 이와 같이 하여 제조시키는 액정 셀의 액정층의 두께는, 1㎛∼5㎛로 하는 것이 바람직하다.As a specific method, for example, reference can be made to paragraphs [0086] to [0088] of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2015-99344. The thickness of the liquid crystal layer of the liquid crystal cell to be manufactured in this way is preferably 1 to 5 mu m.

최근에는, PSA 모드의 액정 표시 소자의 더 한층의 고속 응답화가 검토되고 있고, 이러한 기술로서, 알케닐기 및 플루오로알케닐기 중 어느 것을 1개 갖는 단관능성의 액정성 화합물을 액정층에 도입하는 시도가 이루어지고 있다.In recent years, a further high-speed response of the liquid crystal display element of the PSA mode has been investigated. As this technique, attempts have been made to introduce a monofunctional liquid crystal compound having one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group into a liquid crystal layer .

이러한, 알케닐기 및 플루오로알케닐기 중 어느 것을 1개 갖는 단관능성의 액정성 화합물로서는, 예를 들면, 일본공개특허공보 2015-99344호의 단락〔0087〕에 기재의 화합물이나, 일본공개특허공보 2010-285499호, 일본공개특허공보 평9-104644호, 일본공개특허공보 평6-108053호에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.Examples of monofunctional liquid crystalline compounds having any one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group include compounds described in paragraph [0087] of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2015-99344 and Japanese Laid- -285499, JP-A-9-104644, and JP-A-6-108053.

[(ⅲ)공정][(Iii) Process]

(ⅱ)공정에 의해 액정 셀을 조립한 후, 한 쌍의 기판이 갖는 투명 전극 간에 전압을 인가한 상태로 액정 셀에 광 조사한다. 여기에서 인가하는 전압은, 예를 들면, 5V∼50V의 직류 또는 교류로 할 수 있다. 또한, 조사하는 빛으로서는, 예를 들면, 150nm∼800nm의 파장의 빛을 포함하는 자외선 및 가시광선을 이용할 수 있지만, 300nm∼400nm의 파장의 빛을 포함하는 자외선이 바람직하다.After the liquid crystal cell is assembled by the step (ii), the liquid crystal cell is irradiated with light while a voltage is applied between the transparent electrodes of the pair of substrates. The voltage applied here may be, for example, 5V to 50V, DC or AC. As the light to be irradiated, for example, ultraviolet rays and visible rays including light having a wavelength of 150 nm to 800 nm can be used, but ultraviolet rays including light having a wavelength of 300 nm to 400 nm are preferable.

조사광의 광원으로서는, 예를 들면, 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 중수소 램프, 메탈할라이드 램프, 아르곤 공명 램프, 제논 램프, 엑시머 레이저 등을 사용할 수 있다. 또한, 전술의 바람직한 파장 영역의 자외선은, 광원을, 예를 들면 필터 회절 격자 등과 병용하는 수단 등에 의해 얻을 수 있다. 빛의 조사량으로서는, 바람직하게는 1,000J/㎡ 이상 200,000J/㎡ 미만이고, 보다 바람직하게는 1,000J/㎡∼100,000J/㎡이다.As the light source of the irradiation light, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp and an excimer laser can be used. The ultraviolet light of the above-mentioned preferable wavelength range can be obtained by a means for using the light source in combination with, for example, a filter diffraction grating or the like. The dose of light is preferably 1,000 J / m 2 or more and less than 200,000 J / m 2, and more preferably 1,000 J / m 2 to 100,000 J / m 2.

이상에 의해, PSA 모드 액정 표시 소자를 얻을 수 있다. 즉, 이상의 (i)∼(ⅲ)을 포함하는 공정을 거쳐, PSA 모드 액정 표시 소자용의 기판을 제조할 수 있다.Thus, a PSA mode liquid crystal display element can be obtained. That is, the substrate for the PSA mode liquid crystal display element can be manufactured through the steps including (i) to (iii) above.

그리고, 제조된 PSA 모드 액정 표시 소자에서는, 광 조사 후의 액정 셀의 외측 표면에 한 쌍의 편광판을 접합할 수 있다. 여기에서 사용하는 편광판으로서는, 폴리비닐알코올을 연신 배향시키면서 요오드를 흡수시킨 「H막」이라고 칭해지는 편광막을 아세트산 셀룰로오스 보호막으로 사이에 끼운 편광판 또는 H막 그 자체로 이루어지는 편광판을 들 수 있다.In the manufactured PSA mode liquid crystal display element, a pair of polarizing plates can be bonded to the outer surface of the liquid crystal cell after light irradiation. Examples of the polarizing plate used herein include a polarizing plate in which a polarizing film called "H film" in which iodine is absorbed while polyvinyl alcohol is oriented in a stretched state, a polarizing plate sandwiched by a cellulose acetate protective film, or a polarizing plate made of H film itself.

(실시예)(Example)

이하, 실시예에 기초하여 본 발명의 실시 형태를 상술하지만, 이 실시예에 의해 본 발명이 한정적으로 해석되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail on the basis of examples, but the present invention is not limited to these examples.

<유채색 조성물의 조제><Preparation of chromatic color composition>

조제예 1Preparation Example 1

하기의 표 1에 기재된 각 성분을 혼합한 후, 공경 0.5㎛의 밀리포어 필터로 여과함으로써, 적색의 유채색 조성물(r-1)을 조제했다.The components shown in the following Table 1 were mixed and then filtered through a Millipore filter having a pore size of 0.5 탆 to prepare a red colored composition (r-1).

조제예 2∼13Preparation examples 2 to 13

조제예 1에 있어서, 혼합하는 각 성분의 종류를 표 1에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는 조제예 1과 동일하게 하여, 유채색 조성물(r-2)∼(r-4), (g-1)∼(g-4), (b-1)∼(b-5)를 조제했다. 유채색 조성물(r-2)∼(r-4)는 적색의 조성물이고, 유채색 조성물(g-1)∼(g-4)는 녹색의 조성물이고, 유채색 조성물(b-1)∼(b-5)는 청색의 조성물이다. 또한, 표 1에 기재된 수치는, 질량부이다.(R-2) to (r-4) and (g-1) were obtained in the same manner as in Preparation Example 1, except that the kinds of the components to be mixed were changed as shown in Table 1, ) To (g-4), (b-1) to (b-5) were prepared. (B-2) to (r-4) are red, and the chromatic compositions (g-1) to ) Is a blue composition. The values shown in Table 1 are parts by mass.

Figure pat00013
Figure pat00013

<흑색 조성물의 조제>&Lt; Preparation of black composition >

조제예 101Preparation Example 101

표 2에 기재된 각 성분을 혼합한 후, 공경 1㎛의 멤브레인 필터(어드밴텍 가부시키가이샤 제조)로 여과함으로써, 흑색 조성물(bk-1)을 조제했다.The components shown in Table 2 were mixed and then filtered through a membrane filter with a pore size of 1 占 퐉 (manufactured by Advantech Corporation) to prepare a black composition (bk-1).

조제예 102∼104Preparation examples 102 to 104

조제예 101에 있어서, 혼합하는 각 성분의 종류를 하기표 2에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는 조제예 101과 동일하게 하여, 흑색 조성물(bk-2)∼(bk-4)를 조제했다. 또한, 표 2에 기재된 수치는 질량부이다. 또한, 1.0㎛ 두께의 OD값을, 하기의 방법으로 측정했다.Black compositions (bk-2) to (bk-4) were prepared in the same manner as in Preparation Example 101, except that the kinds of the components to be mixed were changed as shown in Table 2 below. The values shown in Table 2 are parts by mass. The OD value of the thickness of 1.0 mu m was measured by the following method.

Figure pat00014
Figure pat00014

OD값은, X-rite 361T(ⅵsual) densitometer를 이용하여 하기의 관계식으로부터 구한 것이다.The OD value was obtained from the following relationship using an X-rite 361T (vial) densitometer.

OD값 =log10(I0/I)OD value = log 10 (I 0 / I)

여기에서, I0은 입사광 강도, I는 투과광 강도이다. 또한, OD값은 막두께에 비례하기 때문에, 본 발명에서는 1.0㎛당의 OD값으로서 나타내고 있다.I 0 is the incident light intensity, and I is the transmitted light intensity. Further, since the OD value is proportional to the film thickness, it is expressed as an OD value per 1.0 mu m in the present invention.

<액정 배향제의 조제>&Lt; Preparation of liquid crystal aligning agent &

합성예 1Synthesis Example 1

테트라카본산 2무수물로서 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물(이하, 「TCA」라고 함) 34.8g, 디아민으로서 3-(2,4-디아미노페녹시) 콜레스탄 15.6g, 3,5-디아미노벤조산 12.0g 및, 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-5-아민 12.6g을 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 300g에 용해하여, 60℃에 있어서 6시간 반응을 행하여, 폴리암산을 함유하는 용액을 얻었다. 얻어진 폴리암산 용액을 소량 분취하여 측정한 용액 점도는 약 1,405mPa·s였다.34.8 g of 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride (hereinafter referred to as "TCA") as tetracarboxylic dianhydride, 15.6 g of 3- (2,4-diaminophenoxy) cholestane as a diamine, 12.6 g of 3,5-diaminobenzoic acid and 12.6 g of 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-inden- -Pyrrolidone (NMP), and the reaction was carried out at 60 DEG C for 6 hours to obtain a solution containing polyamic acid. The solution viscosity measured by taking a small amount of the obtained polyamic acid solution was about 1,405 mPa · s.

이어서, 얻어진 폴리암산 용액에 NMP 125g을 추가하고, 피리딘 7.7g 및 무수 아세트산 25g을 첨가하여 110℃에 있어서 4시간 탈수 폐환 반응을 행했다. 이 용액을 대량의 메탄올 중에 투입하여, 얻어진 백색 침전을 여과 분리, 건조하고, 백색의 폴리이미드 분말을 얻었다. 얻어진 폴리이미드 분말(폴리이미드 (PI-1))의 이미드화율을 측정한 바, 72%였다.Subsequently, 125 g of NMP was added to the resulting polyamic acid solution, and 7.7 g of pyridine and 25 g of acetic anhydride were added, and the dehydration ring-closure reaction was carried out at 110 DEG C for 4 hours. This solution was poured into a large amount of methanol, and the obtained white precipitate was separated by filtration and dried to obtain white polyimide powder. The imidization ratio of the obtained polyimide powder (polyimide (PI-1)) was measured and found to be 72%.

조제예 201Preparation Example 201

폴리이미드 (PI-1) 1.70g에, NMP 13.5g, 부틸셀로솔브(BC) 13.5g 및 γ-부티로락톤 13.5g을 더하여 용해했다. 여기에, 중합 개시제로서 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노)-부탄-1-온(BASF 제조, 상품명 Irgacure 369)을 0.085g 첨가했다. 이 용액을 공경 0.45㎛의 필터로 여과함으로써, 액정 배향제 1을 조제했다.13.5 g of NMP, 13.5 g of butyl cellosolve (BC) and 13.5 g of? -Butyrolactone were added to and dissolved in 1.70 g of polyimide (PI-1). There was added 0.085 g of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino) -butan-1-one (Irgacure 369 manufactured by BASF) as a polymerization initiator. This solution was filtered with a filter having a pore diameter of 0.45 mu m to prepare a liquid crystal alignment agent 1. [

조제예 202∼206Preparation examples 202 to 206

조제예 201에 있어서, 혼합하는 각 성분의 종류를 하기의 표 3에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는 조제예 201과 동일하게 하여, 액정 배향제 2∼6을 조제했다. 또한, 표 3에 기재한 수치는 질량부이다.Liquid crystal aligning agents 2 to 6 were prepared in the same manner as in Preparation Example 201 except that the kinds of the components to be mixed were changed as shown in Table 3 below. The values shown in Table 3 are parts by mass.

Figure pat00015
Figure pat00015

조제예 207Preparation Example 207

1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물(이하, 「CBDA」라고 함) 1.86g(10.0mmol), 하기식 (DA-1)로 나타나는 디아민 화합물 2.51g(7.0mmol), 하기식 (DA-6)으로 나타나는 디아민 화합물 1.14g(3.0mmol)을 NMP 22.1g 중에서 10시간 반응시킨 후, NMP 36.8g과 BC 27.6g을 더하여 5시간 교반시켜, 제1 중합 개시제로서 기능하는 액정 배향제(A)를 얻었다.1.86 g (10.0 mmol) of 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride (hereinafter referred to as "CBDA"), 2.51 g (7.0 mmol) of a diamine compound represented by the following formula (DA- 1.14 g (3.0 mmol) of the diamine compound represented by the formula (DA-6) was reacted in 22.1 g of NMP for 10 hours, and then 36.8 g of NMP and 27.6 g of BC were added and stirred for 5 hours to obtain a liquid crystal alignment (A).

또한, 상기 제1 중합 개시제로서 기능하는 액정 배향제(A) 10.0g에 대하여, 하기식 (RM1)로 나타나는 중합성 화합물을 0.06g(고형분에 대하여 10질량%) 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하여 용해시켜, 액정 배향제 7을 조제했다.Further, to 10.0 g of the liquid crystal aligning agent (A) functioning as the first polymerization initiator, 0.06 g (10% by mass based on the solid content) of a polymerizable compound represented by the following formula (RM1) was added and stirred at room temperature for 3 hours To thereby prepare liquid crystal aligning agent 7.

또한, 상기 제1 중합 개시제로서 기능하는 액정 배향제(A) 10.0g에 대하여, 하기식 (RM2)로 나타나는 중합성 화합물을 0.06g(고형분에 대하여 10질량%) 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하여 용해시켜, 액정 배향제 8을 조제했다.Further, to 10.0 g of the liquid crystal aligning agent (A) functioning as the first polymerization initiator, 0.06 g (10% by mass based on the solid content) of a polymerizable compound represented by the following formula (RM2) was added and stirred at room temperature for 3 hours To prepare Liquid Crystal Alignment Agent 8.

조제예 208Preparation Example 208

트리멜리트산 무수물(이하, 「PMDA」라고 함) 0.65g(3.0mmol), 3,5-디아미노벤조산 0.46g(3.0mmol), 하기식 (DA-2)로 나타나는 디아민 화합물 0.73g(2.0mmol), 하기식 (DA-3)으로 나타나는 디아민 화합물 0.93g(2.0mmol), 하기식 (DA-9)로 나타나는 디아민 화합물 1.20g(3.0mmol)을 NMP 15.9g 중에서 30분 반응시킨 후, CBDA 1.31g(7.0mmol), NMP 5.3g을 더하여 추가로 10시간 반응시켰다. NMP 35.2g과 BC 26.4g을 더하여 5시간 교반시켜, 제1 중합 개시제로서 기능하는 액정 배향제(C)를 얻었다.(3.0 mmol) of trimellitic anhydride (hereinafter referred to as "PMDA"), 0.46 g (3.0 mmol) of 3,5-diaminobenzoic acid and 0.73 g (2.0 mmol) of a diamine compound represented by the following formula (DA- ), 0.93 g (2.0 mmol) of a diamine compound represented by the following formula (DA-3) and 1.20 g (3.0 mmol) of a diamine compound represented by the following formula (DA-9) were reacted in 15.9 g of NMP for 30 minutes, g (7.0 mmol) of NMP, and 5.3 g of NMP were further added thereto, followed by further reaction for 10 hours. 35.2 g of NMP and 26.4 g of BC were added and stirred for 5 hours to obtain a liquid crystal aligning agent (C) functioning as a first polymerization initiator.

또한, 상기 제1 중합 개시제로서 기능하는 액정 배향제(C) 10.0g에 대하여 하기식 (RM1)로 나타나는 중합성 화합물을 0.06g(고형분에 대하여 10질량%) 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하여 용해시켜, 액정 배향제 9를 조제했다.Further, to 10.0 g of the liquid crystal aligning agent (C) functioning as the first polymerization initiator, 0.06 g (10% by mass relative to solid content) of a polymerizable compound represented by the following formula (RM1) was added and stirred at room temperature for 3 hours To prepare Liquid Crystal Alignment Agent 9.

조제예 209Preparation Example 209

바이사이클로[3,3,0]옥탄-2,4,6,8-테트라카본산 2무수물(이하, 「BODA」라고 함) 2.38g(10.0mmol), 하기식 (DA-2)로 나타나는 디아민 화합물 4.39g(13.0mmol), 하기식 (DA-9)로 나타나는 디아민 화합물 2.28g(6.0mmol)을 NMP 32.4g 중에서 용해하여, 60℃에서 5시간 반응시킨 후, CBDA 1.75g(9.0mmol)과 NMP 10.8g을 더하여, 40℃에서 10시간 반응시켜 폴리암산 용액을 얻었다.2.38 g (10.0 mmol) of bicyclo [3,3,0] octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid dianhydride (hereinafter referred to as "BODA") and the diamine represented by the following formula (DA-2) 2.28 g (6.0 mmol) of a diamine compound represented by the following formula (DA-9) was dissolved in 32.4 g of NMP and reacted at 60 ° C for 5 hours. Then, 1.75 g (9.0 mmol) 10.8 g of NMP was added and reacted at 40 占 폚 for 10 hours to obtain a polyamic acid solution.

이 폴리암산 용액 50g에 NMP를 더하여 6질량%로 희석한 후, 이미드화 촉매로서 무수 아세트산 5.4g 및, 피리딘 2.8g을 더하여, 50℃에서 3시간 반응시켰다. 이 반응 용액을 메탄올 700mL에 투입하여, 얻어진 침전물을 여과 분리했다. 이 침전물을 메탄올로 세정하고, 100℃에서 감압 건조하여, 제1 중합 개시제로서 기능하는 폴리이미드 분말(D)을 얻었다. 이 폴리이미드의 이미드화율은 51%이고, 수 평균 분자량은 17,000, 중량 평균 분자량은 38,000이었다.NMP was added to 50 g of the polyamic acid solution to dilute it to 6 mass%, then 5.4 g of acetic anhydride and 2.8 g of pyridine as an imidation catalyst were added, and the mixture was reacted at 50 ° C for 3 hours. This reaction solution was poured into 700 mL of methanol, and the obtained precipitate was separated by filtration. This precipitate was washed with methanol and dried under reduced pressure at 100 ° C to obtain a polyimide powder (D) which served as a first polymerization initiator. The imidization ratio of the polyimide was 51%, the number average molecular weight was 17,000, and the weight average molecular weight was 38,000.

얻어진 제1 중합 개시제로서 기능하는 폴리이미드 분말(D) 6.0g에 NMP 44.0g을 더하여, 50℃에서 5시간 교반하여 용해시켰다. 이 용액에 3-피콜릴아민의 1wt% NMP용액 6.0g, NMP 14.0g, BC 30.0g을 더하여, 실온에서 5시간 교반함으로써 액정 배향제(D1)을 얻었다.To 6.0 g of the polyimide powder (D) functioning as the first polymerization initiator thus obtained, 44.0 g of NMP was added and dissolved by stirring at 50 캜 for 5 hours. 6.0 g of a 1 wt% NMP solution of 3-picolylamine, 14.0 g of NMP and 30.0 g of BC were added to this solution, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours to obtain a liquid crystal aligning agent (D1).

또한, 상기의 액정 배향제(D1) 10.0g에 대하여 하기식 (RM1)로 나타나는 중합성 화합물을 0.06g(고형분에 대하여 10질량%) 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하여 용해시켜, 액정 배향제 10을 조제했다.Further, 0.06 g (10% by mass relative to solid content) of a polymerizable compound represented by the following formula (RM1) was added to 10.0 g of the above liquid crystal aligning agent (D1) and dissolved by stirring at room temperature for 3 hours to obtain a liquid crystal aligning agent 10.

조제예 210Preparation Example 210

BODA 2.38(10.0mmol), 3,5-디아미노벤조산 0.87g(6.0mmol), 하기식 (DA-2)로 나타나는 디아민 화합물 1.26g(4.0mmol), 하기식 (DA-3)으로 나타나는 디아민 화합물 1.77g(4.0mmol), 하기식 (DA-9)로 나타나는 디아민 화합물 2.28g(6.0mmol)을 NMP 30.7g 중에서 용해하여, 60℃에서 5시간 반응시킨 후, CBDA 1.68g(9.0mmol)과 NMP 10.2g을 더하여, 40℃에서 10시간 반응시켜 폴리암산 용액을 얻었다.A diamine compound represented by the following formula (DA-3) represented by the following formula (DA-3), a diamine compound represented by the following formula (DA- 2.28 g (6.0 mmol) of the diamine compound represented by the following formula (DA-9) was dissolved in 30.7 g of NMP and reacted at 60 ° C for 5 hours. Then, 1.68 g (9.0 mmol) And the mixture was reacted at 40 DEG C for 10 hours to obtain a polyamic acid solution.

이 폴리암산 용액 45g에 NMP를 더하여 6질량%로 희석한 후, 이미드화 촉매로서 무수 아세트산 5.1g 및, 피리딘 2.6g을 더하여, 50℃에서 3시간 반응시켰다. 이 반응 용액을 메탄올 650mL에 투입하여, 얻어진 침전물을 여과 분리했다. 이 침전물을 메탄올로 세정하고, 60℃에서 감압 건조하여, 제1 중합 개시제로서 기능하는 폴리이미드 분말 (E)를 얻었다. 이 폴리이미드의 이미드화율은 52%이고, 수 평균 분자량은 13,000, 중량 평균 분자량은 27,000이었다.NMP was added to 45 g of this polyamic acid solution to dilute it to 6 mass%, 5.1 g of acetic anhydride and 2.6 g of pyridine were added as an imidization catalyst, and the reaction was carried out at 50 DEG C for 3 hours. This reaction solution was poured into 650 mL of methanol, and the resulting precipitate was separated by filtration. The precipitate was washed with methanol, and dried under reduced pressure at 60 캜 to obtain a polyimide powder (E) serving as a first polymerization initiator. The imidization ratio of the polyimide was 52%, the number average molecular weight was 13,000, and the weight average molecular weight was 27,000.

얻어진 제1 중합 개시제로서 기능하는 폴리이미드 분말(E) 6.0g에 NMP 44.0g을 더하여, 50℃에서 5시간 교반하여 용해시켰다. 이 용액에 3-피콜릴아민의 1wt% NMP 용액 6.0g, NMP 14.0g, BC 30.0g을 더하여, 실온에서 5시간 교반함으로써 액정 배향제(E1)을 얻었다.To 6.0 g of the polyimide powder (E) serving as the first polymerization initiator thus obtained, 44.0 g of NMP was added and dissolved by stirring at 50 DEG C for 5 hours. To this solution, 6.0 g of a 1 wt% NMP solution of 3-picolylamine, 14.0 g of NMP and 30.0 g of BC were added and stirred at room temperature for 5 hours to obtain a liquid crystal aligning agent (E1).

또한, 상기의 액정 배향제(E1) 10.0g에 대하여, 하기식 (RM1)로 나타나는 중합성 화합물을 0.06g(고형분에 대하여 10질량%) 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하여 용해시켜, 액정 배향제 11을 조제했다.Further, to 10.0 g of the above liquid crystal aligning agent (E1), 0.06 g (10% by mass relative to solid content) of a polymerizable compound represented by the following formula (RM1) was added and dissolved by stirring at room temperature for 3 hours, Article 11 was prepared.

또한, 상기의 액정 배향제(E1) 10.0g에 대하여, 하기식 (RM2)로 나타나는 중합성 화합물을 0.06g(고형분에 대하여 10질량%) 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하여 용해시켜, 액정 배향제 12를 조제했다.Further, to 10.0 g of the above liquid crystal aligning agent (E1), 0.06 g (10% by mass relative to solid content) of a polymerizable compound represented by the following formula (RM2) was added and dissolved by stirring at room temperature for 3 hours, Article 12 was prepared.

조제예 211Preparation Example 211

TCA 2.13g(10.0mmol), 3,5-디아미노-N-(피리딘-3-일메틸)벤즈아미드 1.84g(8.0mmol), 하기식 (DA-1)로 나타나는 디아민 화합물 2.04g(6.0mmol), 하기식 (DA-8)로 나타나는 디아민 화합물 2.98g(6.0mmol)을 NMP 32.0g 중에서 용해하여, 80℃에서 5시간 반응시킨 후, CBDA 1.68g(9.0mmol)과 NMP 10.7g을 더하여, 40℃에서 10시간 반응시켜 폴리암산 용액을 얻었다.(8.0 mmol) of TCA, 1.84 g (8.0 mmol) of 3,5-diamino-N- (pyridin-3-ylmethyl) benzamide and 2.04 g ) And 2.98 g (6.0 mmol) of a diamine compound represented by the following formula (DA-8) were dissolved in 32.0 g of NMP and reacted at 80 ° C for 5 hours. Then, 1.68 g (9.0 mmol) of CBDA and 10.7 g of NMP were added, And reacted at 40 DEG C for 10 hours to obtain a polyamic acid solution.

이 폴리암산 용액 45g에 NMP를 더하여 6질량%로 희석한 후, 이미드화 촉매로서 무수 아세트산 4.9g 및, 피리딘 2.5g을 더하여, 50℃에서 3시간 반응시켰다. 이 반응 용액을 메탄올 650mL에 투입하여, 얻어진 침전물을 여과 분리했다. 이 침전물을 메탄올로 세정하고, 60℃에서 감압 건조하여, 제1 중합 개시제로서 기능하는 폴리이미드 분말 (F)를 얻었다. 이 폴리이미드의 이미드화율은 50%이고, 수 평균 분자량은 16,000, 중량 평균 분자량은 33,000이었다.NMP was added to 45 g of the polyamic acid solution to dilute it to 6 mass%, then 4.9 g of acetic anhydride and 2.5 g of pyridine were added as an imidization catalyst, and the reaction was carried out at 50 ° C for 3 hours. This reaction solution was poured into 650 mL of methanol, and the resulting precipitate was separated by filtration. The precipitate was washed with methanol, and dried under reduced pressure at 60 ° C to obtain a polyimide powder (F) serving as a first polymerization initiator. The imidization ratio of the polyimide was 50%, the number average molecular weight was 16,000, and the weight average molecular weight was 33,000.

얻어진 제1 중합 개시제로서 기능하는 폴리이미드 분말(F) 6.0g에 NMP 44.0g을 더하여, 50℃에서 5시간 교반하여 용해시켰다. 이 용액에 3-피콜릴아민의 1wt% NMP 용액 6.0g, NMP 14.0g, BC 30.0g을 더하여, 실온에서 5시간 교반함으로써 액정 배향제(F1)을 얻었다.To 6.0 g of the polyimide powder (F) functioning as the first polymerization initiator thus obtained, 44.0 g of NMP was added and dissolved by stirring at 50 캜 for 5 hours. 6.0 g of a 1 wt% NMP solution of 3-picolylamine, 14.0 g of NMP and 30.0 g of BC were added to this solution, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours to obtain a liquid crystal aligning agent (F1).

또한, 상기의 액정 배향제(F1) 10.0g에 대하여, 하기식 (RM1)로 나타나는 중합성 화합물을 0.06g(고형분에 대하여 10질량%) 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하여 용해시켜, 액정 배향제 13을 조제했다.Further, 0.06 g (10% by mass relative to solid content) of a polymerizable compound represented by the following formula (RM1) was added to 10.0 g of the above liquid crystal aligning agent (F1) and dissolved by stirring at room temperature for 3 hours, Article 13 was prepared.

Figure pat00016
Figure pat00016

Figure pat00017
Figure pat00017

상기식 (DA-1), (DA-2)로 나타나는 디아민 화합물은 각각, 국제공개 2015/033921호 팸플릿의 합성예 1, 합성예 2에 따라 합성할 수 있다.The diamine compounds represented by the above formulas (DA-1) and (DA-2) can be synthesized according to Synthesis Example 1 and Synthesis Example 2 of International Publication No. 2015/033921, respectively.

Figure pat00018
Figure pat00018

조제예 212Preparation Example 212

교반기, 온도계, 적하 깔때기 및 환류 냉각관을 구비한 반응 용기에, 가수분해성 실란 화합물로서 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란(이하, 「ECETS」라고 함) 197g 및 하기식 (S-1-1)로 나타나는 화합물 151g(ECETS: 하기식 (S-1-1)로 나타나는 화합물=80:20(몰비)), 용매로서 메틸이소부틸케톤 500g, 촉매로서 트리에틸아민 10.0g을 투입하고, 실온에서 혼합했다.197 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as &quot; ECETS &quot;) as a hydrolyzable silane compound was added to a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a reflux condenser, (ECETS: compound represented by the following formula (S-1-1) = 80: 20 (molar ratio)), 500 g of methyl isobutyl ketone as a solvent, triethylamine 10.0 as a catalyst g, and mixed at room temperature.

이어서, 탈이온수 100g을 적하 깔때기로부터 30분에 걸쳐 적하한 후, 교반하면서, 환류하, 80℃에서 6시간 반응을 행했다. 반응 종료 후, 유기층을 취출하여, 0.2질량% 질산 암모늄 수용액에 의해 세정 후의 물이 중성이 될 때까지 세정한 후, 감압하에서 용매 및 물을 증류 제거함으로써, 에폭시기를 갖는 가수분해 축합물을 점조(點調)한 투명 액체로서 얻었다.Subsequently, 100 g of deionized water was added dropwise from the dropping funnel over 30 minutes, and the mixture was reacted under reflux at 80 DEG C for 6 hours while stirring. After the completion of the reaction, the organic layer was taken out and washed with a 0.2 mass% ammonium nitrate aqueous solution until the washed water became neutral. Then, the solvent and water were distilled off under reduced pressure to obtain a hydrolysis-condensation product having an epoxy group As a transparent liquid.

이 가수분해 축합물에 대해서, 1H-NMR 분석을 행한 결과, 화학 시프트(δ)=3.2ppm 부근에 에폭시기에 귀속되는 피크가 이론 강도대로 얻어져, 반응 중에 에폭시기의 부반응이 일어나고 있지 않은 것이 확인되었다.As a result of 1 H-NMR analysis of the hydrolysis-condensation product, it was confirmed that a peak belonging to the epoxy group was obtained in the vicinity of the chemical shift (?) = 3.2 ppm in accordance with the theoretical intensity, and no side reaction of the epoxy group occurred during the reaction .

이어서, 200mL의 3구 플라스크에, 상기에서 얻은 에폭시기를 갖는 가수분해 축합물을 투입함과 함께, 용매로서 메틸이소부틸케톤 30.0g, 카본산으로서 4-옥틸옥시벤조산 75.1g(원료로서 이용한 가수분해성 실란 화합물의 합계에 대하여 30몰%, 상기 가수분해 축합물이 갖는 에폭시기에 대하여 38몰%에 상당함) 및 11-(4-사이클로헥실페녹시)운데칸산 36.1g(원료로서 이용한 가수분해성 실란 화합물의 합계에 대하여 10몰%에 상당함), 촉매로서 UCAT 18X(상품명, 산아프로(주) 제조, 에폭시 화합물의 경화 촉진제) 0.10g을 투입하여, 100℃에서 48시간 교반하에 반응을 행했다.Subsequently, a 200-mL three-necked flask was charged with the above-obtained hydrolyzed condensate having an epoxy group, and 30.0 g of methyl isobutyl ketone as a solvent and 75.1 g of 4-octyloxybenzoic acid as a carbonic acid 30 mol% based on the total amount of the silane compound and 38 mol% based on the epoxy group of the hydrolyzed condensate) and 36.1 g of 11- (4-cyclohexylphenoxy) undecanoic acid (the hydrolyzable silane compound , And 0.10 g of UCAT 18X (trade name, a curing accelerator of an epoxy compound manufactured by San A Pro Co., Ltd.) as a catalyst were added thereto, and the reaction was carried out at 100 ° C for 48 hours with stirring.

반응 종료 후, 반응 혼합물에 아세트산 에틸을 더하여, 얻은 유기층을 3회 물 세정하고, 황산 마그네슘을 이용하여 건조한 후, 용매를 증류제거함으로써, 제1 중합 개시제로서 기능하는 폴리오르가노실록산 (S-1)을 367.4g 얻었다. 이 폴리오르가노실록산 (S-1)에 대해서, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)은 8,000이었다.After completion of the reaction, ethyl acetate was added to the reaction mixture, and the resulting organic layer was washed with water three times, dried with magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off to obtain a polyorganosiloxane (S-1 ). The weight average molecular weight (Mw) of the polyorganosiloxane (S-1) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) was 8,000.

한편, 테트라카본산 2무수물로서 TCA 220g(1.0몰), 디아민으로서 3-(2, 4-디아미노페녹시)콜레스탄 74g(0.15몰), 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-5-아민 40g(0.15몰) 및, 3,5-디아미노벤조산 110g(0.7몰)을 NMP 1,800g에 용해하고, 60℃에 있어서 6시간 반응을 행하여, 폴리암산을 함유하는 용액을 얻었다. 얻어진 폴리암산 용액을 소량 분취하여 측정한 용액 점도는 약 1,300mPa·s였다.On the other hand, 220 g (1.0 mol) of TCA as tetracarboxylic dianhydride, 74 g (0.15 mol) of 3- (2,4-diaminophenoxy) cholestane as diamine, 40 g (0.15 mol) of dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-inden-5-amine and 110 g (0.7 mol) of 3,5-diaminobenzoic acid were dissolved in 1,800 g of NMP, Time reaction was carried out to obtain a solution containing polyamic acid. The solution viscosity of the obtained polyamic acid solution was measured by collecting a small amount of the polyamic acid solution, which was about 1,300 mPa · s.

이어서, 얻어진 폴리암산 용액에 NMP 2,200g을 추가하고, 피리딘 120g 및 무수 아세트산 150g을 첨가하여, 110℃에 있어서 4시간 탈수 폐환 반응을 행했다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 더 한층의 NMP로 용매 치환함으로써, 폴리이미드 (P-3)을 약 15질량% 함유하는 용액을 얻었다. 얻어진 폴리이미드 (P-3)의 이미드화율은 약 67%이었다.Then, 2,200 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 120 g of pyridine and 150 g of acetic anhydride were added, and the dehydration ring-closure reaction was carried out at 110 DEG C for 4 hours. After the dehydration ring-closure reaction, the solvent in the system was further replaced with NMP by a solvent to obtain a solution containing about 15 mass% of the polyimide (P-3). The imidization rate of the obtained polyimide (P-3) was about 67%.

상기에서 얻은 제1 중합 개시제로서 기능하는 폴리오르가노실록산 (S-1)을 NMP에 용해한 용액과, 폴리이미드 (P-3)을 약 15질량% 함유하는 용액을, 각각의 고형분 중량이 폴리이미드 (P-3):폴리오르가노실록산 (S-1)=90:5가 되도록 혼합했다. 이어서, NMP 및 BC를 더한 후, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄을 폴리오르가노실록산 (S-1)과 동량(중량) 더하여, 용매 조성이 NMP:BC=50:50(중량비), 고형분 농도 6.0질량%인 용액으로 했다. 이 용액을 공경 1㎛인 필터를 이용하여 여과함으로써 액정 배향제 14를 조제했다.A solution in which polyorganosiloxane (S-1) serving as the first polymerization initiator obtained above was dissolved in NMP and a solution containing about 15 mass% of polyimide (P-3) (P-3): polyorganosiloxane (S-1) = 90: 5. Subsequently, NMP and BC were added, and N, N, N ', N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane was added to the polyorganosiloxane (S-1) , A solvent composition of NMP: BC = 50: 50 (weight ratio), and a solid content concentration of 6.0% by mass. This solution was filtered using a filter having a pore size of 1 m to prepare liquid crystal aligning agent 14. [

Figure pat00019
Figure pat00019

조제예 213Preparation Example 213

조제예 212의 폴리오르가노실록산 (S-1)의 합성에 있어서, 이용하는 가수분해성 실란 화합물을 ECETS 246g으로 변경하고, 또한 이용하는 카본산을 4-(4-펜틸사이클로헥실)벤조산 109.8g(원료로서 이용한 가수분해성 실란 화합물의 합계에 대하여 40몰%) 및 하기식 (C-1-2)로 나타나는 화합물 52.9g(원료로서 이용한 가수분해성 실란 화합물의 합계에 대하여 10몰%)으로 변경한 것 이외에는 폴리오르가노실록산 (S-1)의 합성과 동일하게 조작하고, 제1 중합 개시제로서 기능하는 폴리오르가노실록산 (S-3)을 326.9g 얻었다. 이 폴리오르가노실록산 (S-3)에 대해서, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)은 8, 100이었다.In the synthesis of the polyorganosiloxane (S-1) of Preparation Example 212, the hydrolyzable silane compound used was changed to 246 g of ECETS, and the carbonic acid used was changed to 109.8 g of 4- (4-pentylcyclohexyl) (40 mol% based on the total amount of the hydrolyzable silane compounds used) and 52.9 g of the compound represented by the following formula (C-1-2) (10 mol% based on the total amount of the hydrolyzable silane compounds used as raw materials) The operation was carried out in the same manner as in the synthesis of the organosiloxane (S-1) to obtain 326.9 g of a polyorganosiloxane (S-3) functioning as a first polymerization initiator. The weight average molecular weight (Mw) of the polyorganosiloxane (S-3) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) was 8, 100.

한편, 테트라카본산 2무수물로서 TCA 220g(1.0몰), 디아민으로서 3-(2,4-디아미노페녹시)콜레스탄 150g(0.3몰), 하기식 (DA-1-1)로 나타나는 화합물 93g(0.2몰) 및, 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-5-아민 133g(0.5몰)을 NMP 2,200g에 용해하고, 60℃에 있어서 6시간 반응을 행하여, 폴리암산을 함유하는 용액을 얻었다. 얻어진 폴리암산 용액을 소량 분취하여 측정한 용액 점도는 약 1,450 mPa·s였다.On the other hand, 220 g (1.0 mol) of TCA as tetracarboxylic acid dianhydride, 150 g (0.3 mol) of 3- (2,4-diaminophenoxy) cholestane as diamine and 93 g (0.5 mol) of 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-inden-5-amine were dissolved in 2,200 g of NMP, The reaction was carried out at 60 占 폚 for 6 hours to obtain a solution containing polyamic acid. The solution viscosity measured by taking a small amount of the obtained polyamic acid solution was about 1,450 mPa s.

이어서, 얻어진 폴리암산 용액에 NMP 2,800g을 추가하고, 피리딘 79g 및 무수 아세트산 100g을 첨가하여 110℃에 있어서 4시간 탈수 폐환 반응을 행했다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 더 한층의 NMP로 용매 치환(본 조작에 의해 탈수 폐환 반응에 사용한 피리딘 및 무수 아세트산을 계 외로 제거했음)함으로써, 폴리이미드 (P-1)을 약 15질량% 함유하는 용액을 얻었다. 얻어진 폴리이미드 (P-1)의 이미드화율은 약 51%이었다.Then, 2,800 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 79 g of pyridine and 100 g of acetic anhydride were added, and the dehydration ring-closure reaction was carried out at 110 DEG C for 4 hours. After the dehydration ring closure reaction, the solvent in the system was replaced with a further NMP (pyridine and anhydrous acetic acid used in the dehydration ring closure reaction were removed from the system by this operation) to obtain polyimide (P-1) in an amount of about 15 mass% Was obtained. The imidization rate of the obtained polyimide (P-1) was about 51%.

상기에서 얻은 제1 중합 개시제로서 기능하는 폴리오르가노실록산 (S-3)을 NMP에 용해한 용액과, 폴리이미드 (P-1)을 약 15질량% 함유하는 용액을, 각각의 고형분 중량이 폴리이미드 (P-1):폴리오르가노실록산 (S-3)=95:5가 되도록 혼합했다. 이어서, 이 혼합 용액에 NMP 및 BC를 더하여, 용매 조성이 NMP:BC=50:50(중량비), 고형분 농도 6.0질량%인 용액으로 했다. 이 용액을 공경 1㎛인 필터를 이용하여 여과함으로써, 액정 배향제 15를 조제했다.A solution in which polyorganosiloxane (S-3) serving as the first polymerization initiator obtained above was dissolved in NMP and a solution containing about 15 mass% of polyimide (P-1) (P-1): polyorganosiloxane (S-3) = 95: 5. Next, NMP and BC were added to this mixed solution to obtain a solution having a solvent composition of NMP: BC = 50: 50 (weight ratio) and a solid content concentration of 6.0% by mass. This solution was filtered using a filter having a pore size of 1 탆 to prepare liquid crystal aligning agent 15.

Figure pat00020
Figure pat00020

조제예 214Preparation Example 214

조제예 201에 있어서, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노)-부탄-1-온을 포함하지 않는 것 이외에는 조제예 201과 동일하게 하여, 액정 배향제 16을 조제했다.A liquid crystal aligning agent 16 was prepared in the same manner as in Preparation Example 201 except that 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino) did.

상기의 표 1∼표 3에 있어서, 각 성분은 다음과 같다.In the above Tables 1 to 3, the respective components are as follows.

BrDPP: 하기식 (BrDPP)로 나타나는 안료BrDPP: pigment represented by the following formula (BrDPP)

R254: C.I. 피그먼트 레드 254R254: C.I. Pigment Red 254

R177: C.I. 피그먼트 레드 177R177: C.I. Pigment Red 177

Y138: C.I. 피그먼트 옐로우 138Y138: C.I. Pigment Yellow 138

Y139: C.I. 피그먼트 옐로우 139Y139: C.I. Pigment Yellow 139

Y185: C.I. 피그먼트 옐로우 185Y185: C.I. Pigment Yellow 185

G7: C.I. 피그먼트 그린 7G7: C.I. Pigment Green 7

G58: C.I. 피그먼트 그린 58G58: C.I. Pigment Green 58

G59: C.I. 피그먼트 그린 59G59: C.I. Pigment Green 59

B15:6: C.I. 피그먼트 블루 15:6B15: 6: C.I. Pigment Blue 15: 6

B16: C.I. 피그먼트 블루 16B16: C.I. Pigment Blue 16

V23: C.I. 피그먼트 바이올렛 23V23: C.I. Pigment Violet 23

AR52: C.I. 애시드 레드 52(잔텐 염료)AR52: C.I. Acid Red 52 (xanthine dye)

Cya-1: 하기식 (Cya-1)로 나타나는 화합물(시아닌 염료)Cya-1: Compound represented by the following formula (Cya-1) (cyanine dye)

Cya-2: 하기식 (Cya-2)로 나타나는 화합물(시아닌 염료)Cya-2: The compound (cyanine dye) represented by the following formula (Cya-2)

Pyr-1: 일본공개특허공보 2015-044982호에 기재되어 있는 식 (Pzo)로 나타나는 화합물(피라졸론 염료)Pyr-1: a compound (pyrazolone dye) represented by the formula (Pzo) described in JP-A-2015-044982;

BG1: C.I. 베이직 그린 1(트리아릴메탄 염료) BG1: C.I. Basic Green 1 (triarylmethane dye)

BY28: C.I. 베이직 옐로우 28(메틴 염료)BY28: C.I. Basic Yellow 28 (methine dye)

Cou-1: 하기식 (Cou-1)로 나타나는 화합물(쿠마린 염료)Cou-1: A compound represented by the following formula (Cou-1) (coumarin dye)

Pht-1: 하기식 (Pht-1)로 나타나는 화합물(프탈로시아닌 염료. 일본공개특허공보 2014-177502호에 기재되어 있는 화합물 No.A-1)Pht-1: A compound represented by the following formula (Pht-1) (phthalocyanine dye, compound No. A-1 described in JP-A No. 2014-177502)

Met-1: 하기식 (Met-1)로 나타나는 화합물(메틴 염료)Met-1: a compound represented by the following formula (Met-1) (methine dye)

Dip-1: 하기식 (Dip-1)로 나타나는 화합물(디피로메텐 염료)Dip-1: A compound represented by the following formula (Dip-1) (dipyrromethene dye)

Ant-1: 일본특허 5693016호 명세서의 단락〔0145〕에 기재된 방법에 따라 합성한, C.I. 애시드 블루 112와 디알킬디메틸암모늄클로라이드(알킬이 C14∼C18)의 조염 화합물(안트라퀴논 염료)Salt forming compound in a synthesis according to the method described in paragraph [0145] of Japanese Patent No. 5693016 specification, CI Acid Blue 112 and a dialkyl dimethyl ammonium chloride (alkyl is C 14 ~C 18) (anthraquinone dye): Ant-1

Xan-1: 일본특허 4492760호 명세서의 단락〔0136〕에 기재된 방법에 따라 합성한, C.I. 애시드 레드 52와 디알킬디메틸암모늄클로라이드(알킬이 C14∼C18)의 조염 화합물(잔텐 염료)Xan-1: salt forming compound in a synthesis according to the method described in paragraph [0136] of Japanese Patent Application No. 4.49276 million specification, CI Acid Red 52 and dialkyl dimethyl ammonium chloride (alkyl is C 14 ~C 18) (xanthene dye)

BB7: C.I. 베이직 블루 7(트리아릴메탄 염료)BB7: C.I. Basic Blue 7 (triarylmethane dye)

BK1: Irgaphor Black S0100 CF(BASF사 제조. 상기 식 (B-1)로 나타나는 화합물)BK1: Irgaphor Black S0100 CF (manufactured by BASF, the compound represented by the above formula (B-1))

BK7: C.I. 피그먼트 블랙 7(카본 블랙)BK7: C.I. Pigment Black 7 (carbon black)

BK32: C.I. 피그먼트 블랙 32(페릴렌 블랙)BK32: C.I. Pigment Black 32 (perylene black)

Figure pat00021
Figure pat00021

Figure pat00022
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Resin-1: 국제공개 2014/192973호 팸플릿의 「수지(B-1)의 합성」에 기재된 방법에 따라 합성한, 하기의 반복 단위(불포화 카본산의 반복 단위와 에폭시기를 갖는 불포화 화합물의 반복 단위)를 갖는 알칼리 가용성 수지.Resin-1: The following repeating unit (repeating unit of unsaturated carboxylic acid and repeating unit of unsaturated compound having epoxy group) synthesized according to the method described in "Synthesis of Resin (B-1)" of International Publication No. 2014/192973 ). &Lt; / RTI &gt;

Figure pat00023
Figure pat00023

Resin-2: 메타크릴산/트리사이클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일메타크릴레이트/메틸메타크릴레이트/스티렌/메타크릴산 글리시딜=16/16/38/10/20(질량비)의 공중합체인 알칼리 가용성 수지. Mw=8,000, Mw/Mn=2.3.Resin-2: methacrylic acid / tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl methacrylate / methyl methacrylate / styrene / glycidyl methacrylate = 16/16/38/10/20 (Mass ratio) of an alkali-soluble resin. Mw = 8,000, Mw / Mn = 2.3.

Resin-3: 상기 Resin-2가 갖는 에폭시기의 100몰%에 메타크릴산을 반응시켜 얻어지는, 측쇄에 메타크릴로일옥시기를 갖는 알칼리 가용성 수지.Resin-3: An alkali-soluble resin having a methacryloyloxy group in its side chain, obtained by reacting methacrylic acid with 100 mol% of the epoxy group of Resin-2.

Resin-4: 일본공개특허공보 2008-287246호의 합성예 3에 기재된 방법에 따라 합성한 에폭시아크릴레이트 수지. (전술한 일반식 (6)으로 나타나는 에폭시 화합물과 아크릴산의 반응 생성물, 비페닐테트라카본산 2무수물 및 테트라하이드로프탈산 무수물의 반응 생성물)Resin-4: An epoxy acrylate resin synthesized according to the method described in Synthesis Example 3 of JP-A-2008-287246. (The reaction product of the reaction product of an epoxy compound and acrylic acid represented by the above-mentioned general formula (6), biphenyltetracarboxylic acid dianhydride and tetrahydrophthalic anhydride)

DPHA: KAYARAD DPHA(닛폰카야쿠 가부시키가이샤 제조, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물)DPHA: KAYARAD DPHA (a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

DPEA-12: KAYARAD DPEA-12(닛폰카야쿠 가부시키가이샤 제조, 에틸렌옥사이드 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트)DPEA-12: KAYARAD DPEA-12 (ethylene oxide-modified dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

TO-1382: 아로닉스 TO-1382(토아고세 가부시키가이샤 제조. 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 숙신산의 모노 에스테르화물, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 그리고 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물)TO-1382: Aronix TO-1382 (manufactured by TOAGOSE KOGYO Co., Ltd., a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and monoesters of succinic acid, dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate)

M1: 글리세롤메타크릴레이트M1: glycerol methacrylate

M2: 하기식 (M2)로 나타나는 화합물M2: a compound represented by the following formula (M2)

M3 : 펜타에리트리톨트리아크릴레이트M3: pentaerythritol triacrylate

OXE02: 에탄올-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심)(BASF사 제조, 상품명 IRGACURE OXE02)OXE02: Ethanol-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-

NCI-930: 아데카 아클즈 NCI-930(가부시키가이샤 ADEKA사 제조)NCI-930: Adeka Ariz NCI-930 (manufactured by ADEKA Corporation)

NCI-831: 아데카 아클즈 NCI-831(가부시키가이샤 ADEKA사 제조)NCI-831: Adeka Ariz NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation)

Irg369: 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온(BASF 제조, 상품명 Irgacure 369)Irg 369: 2-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one (Irgacure 369,

Irg907: 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온(BASF 제조, 상품명 Irgacure 907)Irg 907: 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one (Irgacure 907,

OXE01: 1,2-옥탄디온, 1-〔4-(페닐티오)페닐〕-,2-(O-벤조일옥심)(BASF사 제조, 상품명 Irgacure OXE01)OXE01: 1,2- octanedione, 1- [4- (phenylthio) phenyl] -, 2- (O-benzoyloxime) (trade name Irgacure OXE01,

Ini-1: 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸Ini-1: 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-tetraphenyl-

Irg379EG: 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부탄온(BASF 제조, 상품명 Irgacure 379EG)Irg 379EG: 2- (dimethylamino) -2 - [(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone (trade name Irgacure 379EG,

Ini-2: 2-메틸-1,2-디페닐-1-프로판온Ini-2: 2-methyl-1,2-diphenyl-1-propanone

Dis-1: BYK-LPN21116(빅-케미(BYK)사 제조, (메타)아크릴계 분산제, 고형분 농도 40질량%)Dis-1: BYK-LPN21116 (a (meth) acrylic dispersant manufactured by BYK, solid content concentration: 40% by mass)

Dis-2: BYK-LPN6919(빅-케미(BYK)사 제조, (메타)아크릴계 분산제, 고형분 농도 60질량%)Dis-2: BYK-LPN6919 (a (meth) acrylic dispersant, a solid content concentration of 60% by mass, manufactured by BYK)

F-554: 메가팩 F-554(DIC 가부시키가이샤 제조. 불소계 계면 활성제)F-554: Megafack F-554 (a fluorochemical surfactant manufactured by DIC Corporation)

FTX-218: 프터젠트 FTX-218(가부시키가이샤 네오스 제조. 불소계 계면 활성제)FTX-218: Fotogen FTX-218 (manufactured by NEOS Co., Ltd., fluorinated surfactant)

SH8400 : 토레이 실리콘 SH8400(토레 다우코닝 가부시키가이샤 제조. 실리콘계 계면 활성제)SH8400: Toray Silicone SH8400 (manufactured by Toray Dow Corning Toray Silicone Surfactant)

F781-F: 메가팩 F781-F(DIC 가부시키가이샤 제조. 불소계 계면 활성제)F781-F: Megafac F781-F (fluorochemical surfactant manufactured by DIC Corporation)

RS-56: 메가팩 RS-56(DIC 가부시키가이샤 제조. 불소계 계면 활성제)RS-56: Megapack RS-56 (a fluorochemical surfactant manufactured by DIC Corporation)

CW-1: CW-1(제네카 가부시키가이샤 제조. 불소계 계면 활성제)CW-1: CW-1 (a fluorochemical surfactant manufactured by Zeneca)

Irg1010: Irgacure 1010(BASF사 제조. 힌더드페놀계 산화 방지제)Irg1010: Irgacure 1010 (manufactured by BASF, hindered phenol-based antioxidant)

add-1: 하기식 (add-1)로 나타나는, 아조 결합을 갖는 배위자를 갖는 크롬 착체 화합물add-1: a chromium complex compound having a ligand having an azo bond represented by the following formula (add-1)

add-2: 하기식 (add-2)로 나타나는, 테트라아자포르피린 화합물add-2: a tetraazaporphyrin compound represented by the following formula (add-2)

K1: 하기식 (K1)로 나타나는 화합물K1: a compound represented by the following formula (K1)

PGMEA: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

PGME: 프로필렌글리콜모노메틸에테르PGME: Propylene glycol monomethyl ether

CHN: 사이클로헥산온CHN: cyclohexanone

DAA: 디아세톤알코올DAA: diacetone alcohol

MBA: 3-메톡시부틸아세테이트MBA: 3-methoxybutylacetate

EL: 락트산 에틸EL: Ethyl lactate

NMP: N-메틸-2-피롤리돈NMP: N-methyl-2-pyrrolidone

BC: 부틸셀로솔브BC: butyl cellosolve

GBL: γ-부티로락톤GBL:? -Butyrolactone

EEP: 3-에톡시프로피온산 에틸EEP: ethyl 3-ethoxypropionate

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실시예 1Example 1

<유채색 패턴, 흑색 스페이서 및 배향막을 갖는 표시 소자용 기판의 작성><Preparation of Substrate for Display Element Having a Chromatic Pattern, Black Spacer and Orientation Layer>

각 색 유채색 조성물을 사용하여, 스위칭 능동 소자나 전극 등이 형성된 기판 상에 컬러 필터층을 형성했다. 이 기판에는, 스위칭 능동 소자, 소스 전극, 드레인 전극, 게이트 전극, 소스 배선 및, 게이트 배선 등이 형성되어 있다. 이들 능동 소자 등은, 기판 상, 통상의 반도체막 성막과, 공지의 절연막 성막과, 포토리소그래피법에 의한 에칭을 반복함으로써 형성된 것이다. 그리고, 컬러 필터층은, 유채색 패턴의 위에 절연막을 갖는다.A color filter layer was formed on a substrate on which a switching active element, an electrode, and the like were formed by using each chromatic color composition. A switching active element, a source electrode, a drain electrode, a gate electrode, a source wiring, a gate wiring, and the like are formed on this substrate. These active elements and the like are formed by repeating etching on a substrate by a normal semiconductor film forming film, a known insulating film forming film, and a photolithography method. The color filter layer has an insulating film on the chromatic pattern.

우선, 적색의 유채색 조성물(r-1)을 스위칭 능동 소자 등이 형성된 기판 상에, 슬릿 다이 코터에 의해 도포하고, 핫 플레이트 상에서 90℃, 2분간 프리베이킹 하여 도막을 형성했다. 그 후, 소정의 패턴 마스크를 통하여, 노광기 Canon PLA501F(캐논사)를 이용하여 ghi선(파장 436nm, 405nm, 365nm의 강도비=2.7:2.5:4.8)을 i선 환산으로 1,000J/㎡의 노광량으로 조사하고, 0.05질량% 수산화 칼륨 수용액을 이용하여 현상하고, 초순수로 60초간 린스한 후, 추가로 오븐 중에서 220℃에서 60분간 가열 처리하여, 막두께가 2.0㎛인 적색의 스트라이프 형상의 유채색 패턴(패턴폭 100㎛)을 형성했다.First, a red colored composition (r-1) was applied on a substrate having a switching active element or the like formed thereon by a slit die coater and prebaked on a hot plate at 90 캜 for 2 minutes to form a coating film. Thereafter, an exposure amount of 1,000 J / m &lt; 2 &gt; in an i-line conversion was measured using a Canon PLA501F (Canon Inc.) through a predetermined pattern mask using a ghi line (intensity ratio of 436 nm, 405 nm, , Rinsed with ultrapure water for 60 seconds, and further heat-treated in an oven at 220 占 폚 for 60 minutes to obtain a red stripe-like colored pattern having a thickness of 2.0 占 퐉 (Pattern width 100 mu m).

이어서, 동일하게 조작하여, 녹색의 유채색 조성물(g-1)을 이용하여 기판 상에 녹색의 유채색 패턴을 형성했다. 또한, 청색의 유채색 조성물(b-1)을 이용하여 청색의 유채색 패턴을 형성하고, 기판 상에 적, 녹 및, 청의 3색의 유채색 패턴(패턴 폭 100㎛)을 형성했다.Subsequently, the same procedure was followed to form a green colored pattern on the substrate using the green colored composition (g-1). Further, a chromatic color pattern of blue was formed using a blue chromatic composition (b-1), and chromatic patterns (pattern width 100 m) of three colors of red, green and blue on the substrate were formed.

다음으로, 얻어진 3색의 유채색 패턴의 위에, 공지의 절연막 형성용 조성물을 슬릿 다이 코터로 도포했다. 이어서, 핫 플레이트 상에서 90℃, 5분간 프리베이킹하여 도막을 형성했다. 이어서, 얻어진 도막에 고압 수은 램프를 이용하여 노광량 700J/㎡로 하여 방사선 조사를 행하고, 방사선 조사 후의 도막을 현상함으로써, 불필요한 부분을 제거하고, 소정의 형상의 도막을 형성했다. 추가로 오븐 중에서 180℃에서 60분간 가열 처리하여, 3색의 유채색 패턴의 상면으로부터의 막두께가 2.0㎛인 절연막을 형성했다.Next, a known composition for forming an insulating film was applied on the resulting three-color chromatic pattern by a slit die coater. Subsequently, the coating film was prebaked on a hot plate at 90 DEG C for 5 minutes to form a coating film. Subsequently, the obtained coating film was irradiated with a high-pressure mercury lamp at an exposure dose of 700 J / m 2, and the coating film after irradiation with radiation was developed to remove unnecessary portions to form a coating film having a predetermined shape. Further, the film was heat-treated in an oven at 180 캜 for 60 minutes to form an insulating film having a film thickness of 2.0 탆 from the upper surface of the chromatic color patterns of three colors.

이어서, 유채색 패턴 상에 절연막이 형성된 기판에 대해서, 스퍼터링법을 이용하여, 절연막의 위에 ITO로 이루어지는 투명 도전층을 형성하여, 포토리소그래피법을 이용하여 투명 도전층을 에칭하여, 절연막 상에 투명 전극을 형성했다.Subsequently, a transparent conductive layer made of ITO is formed on the insulating film on the substrate having the insulating film formed on the chromatic pattern by sputtering, and the transparent conductive layer is etched by photolithography to form a transparent electrode .

다음으로, 흑색 조성물(bk-1)을 투명 전극 상에 슬릿 다이 코터로 도포했다. 이어서, 100℃의 핫 플레이트 상에서 2분간 프리베이킹함으로써 막두께 6.0㎛인 도막을 형성했다. 이어서, 얻어진 도막에 고압 수은 램프를 이용하여 노광량 700J/㎡로 하여 방사선 조사를 행했다. 그 후, 이 기판에 대하여 23℃의 0.04질량% 수산화 칼륨 수용액으로 이루어지는 현상액을 현상압 1kgf/㎠(노즐 지름 1mm)로 토출함으로써, 샤워 현상을 행하여 기판 상에 흑색 스페이서의 패턴을 형성했다. 이어서, 오븐 중에서 180℃의 경화 온도 및 30분간의 경화 시간으로 포스트베이킹를 행했다. 이렇게 하여, ITO 전극의 위에 흑색 스페이서를 형성했다. 흑색 스페이서는, 투명 전극의 위의, 스위칭 능동 소자의 형성 영역에 대응하는 영역에 형성되어 있다.Next, the black composition (bk-1) was coated on the transparent electrode with a slit die coater. Subsequently, the coating film was prebaked on a hot plate at 100 DEG C for 2 minutes to form a coating film having a film thickness of 6.0 mu m. Subsequently, the obtained coating film was irradiated with a high-pressure mercury lamp at an exposure dose of 700 J / m 2. Subsequently, a developer composed of 0.04 mass% aqueous potassium hydroxide solution at 23 占 폚 was ejected onto the substrate at a developing pressure of 1 kgf / cm2 (nozzle diameter: 1 mm) to form a black spacer pattern on the substrate by performing showering. Subsequently, post baking was performed in an oven at a curing temperature of 180 캜 and a curing time of 30 minutes. Thus, a black spacer was formed on the ITO electrode. The black spacer is formed in a region above the transparent electrode corresponding to the formation region of the switching active element.

다음으로, 유채색 패턴 및 흑색 스페이서가 형성된 기판의 투명 전극 상에, 액정 배향제 1을 스피너에 의해 도포했다. 이어서, 80℃의 핫 플레이트에서 1분간 프리베이킹를 행한 후, 내부를 질소 치환한 오븐 중, 180℃에서 1시간 가열하여 막두께 80nm의 도막을 형성했다. 이어서, 이 도막 표면에, Hg-Xe 램프 및 글랜테일러 프리즘을 이용하여 313nm의 휘선을 포함하는 편광 자외선 200J/㎡를, 기판 표면에 수직한 방향에 대하여 40° 경사진 방향으로부터 조사했다. 이와 같이 하여, 유채색 패턴, 흑색 스페이서, 그리고 배향막을 갖는 표시 소자용 기판을 제조했다.Next, on the transparent electrode of the substrate on which the chromatic pattern and the black spacer were formed, the liquid crystal aligning agent 1 was applied by a spinner. Subsequently, pre-baking was performed on a hot plate at 80 DEG C for 1 minute, and then heated in an oven where the inside was replaced with nitrogen at 180 DEG C for 1 hour to form a coating film having a thickness of 80 nm. Subsequently, 200J / m &lt; 2 &gt; of polarized ultraviolet rays including a bright line of 313 nm was irradiated onto the surface of the coating film using a Hg-Xe lamp and a Glane Taylor prism from a direction inclined by 40 DEG with respect to the direction perpendicular to the substrate surface. Thus, a display element substrate having a chromatic pattern, a black spacer, and an alignment film was produced.

<대향 기판의 작성 및, 액정 표시 소자의 작성 및 평가><Fabrication of Opposing Substrate and Preparation and Evaluation of Liquid Crystal Display Element>

대향 기판으로서, 투명한 기판 상에 투명한 공통 전극을 설치한 기판을 준비하고, 그 공통 전극의 위에, 상기와 동일한 액정 배향제(액정 배향제 1)를 이용하여 배향막을 형성하고, 배향막이 형성된 대향 기판을 준비했다.As a counter substrate, a substrate provided with a transparent common electrode on a transparent substrate was prepared, and an alignment film was formed on the common electrode using the same liquid crystal aligning agent (liquid crystal aligning agent 1) as described above. .

이와 같이 하여 얻어진 표시 소자용 기판 및 대향 기판을 이용하여, TN 액정층을 협지하여, 컬러 필터 온 어레이 구조의 액정 표시 소자를 제조했다. 본 실시예의 컬러 필터 온 어레이 구조의 액정 표시 소자는, 색 특성이 우수하고, 또한 고신뢰성을 나타냈다.The TN liquid crystal layer was sandwiched between the display substrate and the counter substrate thus obtained to produce a liquid crystal display element having a color filter on array structure. The liquid crystal display element of the color filter-on-array structure of this embodiment exhibited excellent color characteristics and high reliability.

실시예 2∼36 및 비교예 1∼4Examples 2 to 36 and Comparative Examples 1 to 4

실시예 1에 있어서, 적색의 유채색 조성물, 녹색의 유채색 조성물, 청색의 유채색 조성물, 흑색 조성물 및 액정 배향제로서 하기의 표 4∼6에 기재된 것을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 유채색 패턴, 흑색 스페이서 및 배향막을 갖는 표시 소자용 기판, 그리고 대향 기판을 작성하고, 이어서, 실시예 1과 동일하게 하여 액정 표시 소자를 작성하여 평가를 행했다. 그 결과, 실시예 2∼36의 액정 표시 소자는 모두, 비교예 1∼4의 액정 표시 소자와의 대비에서 색 특성이 우수하고, 또한 고신뢰성을 나타냈다.In the same manner as in Example 1 except that the red chromatic composition, the green chromatic composition, the blue chromatic composition, the black composition and the liquid crystal aligning agent described in Tables 4 to 6 were used in Example 1, A substrate for a display element having a black spacer and an alignment film, and an opposing substrate were prepared. Then, a liquid crystal display element was prepared in the same manner as in Example 1 and evaluated. As a result, all of the liquid crystal display devices of Examples 2 to 36 exhibited excellent color characteristics in comparison with the liquid crystal display devices of Comparative Examples 1 to 4, and showed high reliability.

Figure pat00025
Figure pat00025

Figure pat00026
Figure pat00026

Figure pat00027
Figure pat00027

(산업상의 이용 가능성)(Industrial availability)

본 발명의 표시 소자용 기판은, 색 특성이 우수하고 또한, 고신뢰성을 갖는다. 따라서, 본 발명의 표시 소자용 기판은, 우수한 표시 품위와 신뢰성이 요구되는 대형 액정 TV용 등에 적합하게 사용할 수 있다.The display element substrate of the present invention has excellent color characteristics and high reliability. Therefore, the substrate for a display element of the present invention can be suitably used for a large liquid crystal TV which requires excellent display quality and reliability.

1, 31 : 표시 소자용 기판
4, 24, 104, 111 : 기판
5, 105 : 소스 전극
6, 106 : 드레인 전극
7, 107 : 게이트 전극
8, 108 : 스위칭 능동 소자
9, 109 : 투명 전극
10 : 흑색 스페이서
12, 32, 112 : 유채색 패턴
13, 34 : 컬러 필터층
15, 35 : 컬러 필터
17 : 콘택트홀
18 : 소스 배선
19 : 게이트 배선
21, 51, 100 : 액정 표시 소자
22 : 대향 기판
23, 103 : 액정층
25, 114 : 공통 전극
26, 115 : 배향막
27, 117 : 백라이트 광
28, 116 : 편광판
33 : 절연막
101 : 어레이 기판
102 : 컬러 필터 기판
113 : 블랙 매트릭스
1, 31: substrate for display element
4, 24, 104 and 111: substrate
5, 105: source electrode
6, 106: drain electrode
7, 107: gate electrode
8, 108: Switching active element
9, 109: transparent electrode
10: Black spacer
12, 32, 112: chromatic pattern
13, 34: Color filter layer
15, 35: Color filter
17: Contact hole
18: source wiring
19: gate wiring
21, 51, 100: liquid crystal display element
22: opposing substrate
23, 103: liquid crystal layer
25, 114: common electrode
26, 115: alignment film
27, 117: backlight light
28, 116: polarizer
33: Insulating film
101: array substrate
102: Color filter substrate
113: Black Matrix

Claims (12)

스위칭 능동 소자, 유채색 패턴, 흑색 스페이서 및 배향막을 갖는 표시 소자용 기판으로서,
상기 흑색 스페이서는 흑색 착색제를 포함하고,
상기 배향막은, 제1 중합 개시제를 함유하는 액정 배향제로 형성되는 것인 것을 특징으로 하는 표시 소자용 기판.
1. A substrate for a display element having a switching active element, a chromatic pattern, a black spacer, and an orientation film,
Wherein the black spacer comprises a black colorant,
Wherein the alignment film is formed of a liquid crystal aligning agent containing a first polymerization initiator.
제1항에 있어서,
상기 제1 중합 개시제는, 광 라디칼 발생제, 광 산 발생제, 광 염기 발생제, 열 산 발생제 및 열 라디칼 발생제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, 표시 소자용 기판.
The method according to claim 1,
Wherein the first polymerization initiator is at least one selected from the group consisting of a photo-radical generator, a photo-acid generator, a photo-base generator, a thermal acid generator, and a thermal radical generator.
제1항에 있어서,
상기 배향막은, 광 배향성기를 갖는 중합체 및 광 배향성기를 갖지 않는 중합체 중 어느 것, 그리고 상기 제1 중합 개시제를 함유하는 상기 액정 배향제로 형성되는 것인, 표시 소자용 기판.
The method according to claim 1,
Wherein the alignment film is formed of any one of a polymer having a photo aligning group and a polymer having no photo aligning group and the liquid crystal aligning agent containing the first polymerization initiator.
제1항에 있어서,
상기 흑색 스페이서는, 막두께 1㎛당의 OD(Optical Density)값이 0.3∼4인, 표시 소자용 기판.
The method according to claim 1,
Wherein the black spacer has an OD (Optical Density) value of 0.3 to 4 per 1 mu m thickness.
제1항에 있어서,
상기 흑색 착색제가, 하기식 (B-1)로 나타나는 화합물, 페릴렌 블랙 및 카본 블랙으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는, 표시 소자용 기판:
Figure pat00028

(식 (B-1) 중, X는 이중 결합을 나타내고, 기하 이성체로서 각각 독립적으로 E체 또는 Z체이고, Ra는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 니트로기, 메톡시기, 브롬 원자, 불소 원자, 카복실기, 또는 술폰기를 나타내고, Rb는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 또는 페닐기를 나타내고, Rc는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 또는 염소 원자를 나타냄).
The method according to claim 1,
Wherein the black colorant comprises at least one member selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (B-1), perylene black and carbon black:
Figure pat00028

(In the formula (B-1), X represents a double bond, and each of the geometric isomers is independently E or Z form, and each R a independently represents a hydrogen atom, a methyl group, a nitro group, a methoxy group, R b represents a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group, and R c represents, independently of each other, a hydrogen atom, a methyl group, or a chlorine atom), a fluorine atom, a carboxyl group or a sulfone group.
제1항에 있어서,
상기 흑색 스페이서는, 흑색 착색제를 포함하는 착색제, 제1 알칼리 가용성 수지 및, 제2 중합 개시제를 함유하는 흑색 조성물로 형성되는 것인, 표시 소자용 기판.
The method according to claim 1,
Wherein the black spacer is formed of a black composition containing a colorant containing a black colorant, a first alkali-soluble resin, and a second polymerization initiator.
제6항에 있어서,
상기 제 2 중합 개시제는, O-아실옥심 화합물을 포함하는, 표시 소자용 기판.
The method according to claim 6,
Wherein the second polymerization initiator comprises an O-acyloxime compound.
제1항에 있어서,
상기 유채색 패턴은 염료를 포함하는, 표시 소자용 기판.
The method according to claim 1,
Wherein the chromatic pattern comprises a dye.
제8항에 있어서,
상기 염료가, 아조 염료, 트리아릴메탄 염료, 안트라퀴논 염료, 잔텐 염료, 퀴놀린 염료, 니트로 염료, 프탈로시아닌 염료, 메틴 염료, 디피로메텐 염료, 시아닌 염료, 퀴노프탈론 염료, 쿠마린 염료, 피라졸론 염료 및 퀴논이민 염료로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, 표시 소자용 기판.
9. The method of claim 8,
Wherein the dye is selected from the group consisting of azo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, nitro dyes, phthalocyanine dyes, methine dyes, dipyrromethene dyes, cyanine dyes, quinophthalone dyes, coumarin dyes, pyrazolone dyes And a quinone imine dye.
제1항에 있어서,
상기 유채색 패턴은, 착색제, 제2 알칼리 가용성 수지, 중합성 화합물 및, 제3 중합 개시제를 함유하는 유채색 조성물로 형성되는 것인, 표시 소자용 기판.
The method according to claim 1,
Wherein the chromatic pattern is formed of a chromatic composition containing a colorant, a second alkali-soluble resin, a polymerizable compound, and a third polymerization initiator.
유채색 패턴과 흑색 스페이서와 배향막을 갖는 표시 소자용 기판의 제조 방법으로서,
적어도 하기의 공정 [1]∼[5]를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 소자용 기판의 제조 방법:
[1] 유채색 조성물의 도막을 기판 상에 형성하는 공정,
[2] 상기 유채색 조성물의 도막을 경화시켜, 유채색 패턴을 형성하는 공정,
[3] 흑색 조성물의 도막을, 유채색 패턴을 갖는 기판 상에 형성하는 공정,
[4] 상기 흑색 조성물의 도막을 경화시켜, 흑색 스페이서를 형성하는 공정,
[5] 상기 흑색 스페이서가 형성된 기판 상에 배향막을 형성하는 공정.
A manufacturing method of a display element substrate having a chromatic pattern, a black spacer and an alignment film,
A method of manufacturing a substrate for a display element, comprising at least the following steps [1] to [5]:
[1] A process for forming a coating film of a chromatic color composition on a substrate,
[2] a step of curing the coating film of the chromatic color composition to form a colored pattern,
[3] A process for forming a coating film of a black composition on a substrate having a chromatic pattern,
[4] a step of curing the coating film of the black composition to form a black spacer,
[5] A process for forming an alignment film on a substrate on which the black spacer is formed.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 표시 소자용 기판을 갖는 것을 특징으로 하는 표시 소자.A display element comprising the display element substrate according to any one of claims 1 to 10.
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