KR20170085184A - Laser crystalling apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치는, P 편광 및 S편광을 포함하는 레이저 빔을 발생시키는 적어도 하나의 레이저 발생기와, 상기 레이저 빔을 전부 반사시키는 적어도 하나의 미러(mirror)와, 상기 레이저 빔의 일부는 반사시키고, 상기 레이저 빔의 일부는 투과시키는 적어도 하나의 스플리터(splitter)를 포함하여 상기 레이저 빔을 광변환시키는 광학계, 및 상기 광변환된 레이저 빔이 조사되어 레이저 결정화되는 대상 기판이 탑재되는 스테이지를 포함한다.A laser crystallization apparatus according to an embodiment of the present invention includes at least one laser generator for generating a laser beam including P polarized light and S polarized light, at least one mirror for totally reflecting the laser beam, An optical system including at least one splitter for reflecting part of the laser beam and transmitting a part of the laser beam so as to photoelectrically convert the laser beam, And a stage on which the wafer is mounted.

Description

레이저 결정화 장치{LASER CRYSTALLING APPARATUS}[0001] LASER CRYSTALLING APPARATUS [0002]

본 기재는 레이저 결정화 장치에 관한 것으로서, 엑시머 레이저(Excimer Laser)를 사용하여 비정질 실리콘 박막을 다결정 실리콘 박막으로 결정화하는 레이저 결정화 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laser crystallization apparatus, and relates to a laser crystallization apparatus for crystallizing an amorphous silicon thin film into a polycrystalline silicon thin film by using an excimer laser.

저온 결정화 공정에 사용되는 엑시머 레이저(Excimer laser) 설비는 기체 레이저를 사용한다. 엑시머 레이저는 튜브(tube) 안에 기체가 채워져 있으며, 이 기체를 고전압으로 방전하여 여기(excite)되는 기체 원자가 안정화 상태로 돌아갈 때의 에너지 차이가 빛으로 나오는 원리를 이용한다. The excimer laser equipment used in the low-temperature crystallization process uses a gas laser. Excimer lasers are based on the principle that a gas is filled in a tube and the gas is discharged to a high voltage so that excited gaseous atoms return to the stabilized state.

그러나, 레이저 사용 시간이 증가할수록 기체의 발진되는 효율이 떨어져 발진 에너지의 불균일을 야기시키고, 또한 레이저 사용 시간이 증가할수록 레이저 튜브를 앞뒤로 실링(sealing)하는 레이저 윈도우에 튜브 내의 미세한 불순물이 증착되면서 빔 모양의 균일성을 떨어뜨리게 된다. 따라서, 레이저 사용 일정 주기마다 레이저 튜브 내의 기체를 교체하고, 튜브 앞뒤의 레이저 윈도우도 교체해 주어야 안정적인 에너지로 결정화 공정을 진행할 수 있다. 이러한 교체 작업을 'PM(Process Maintenance)'라고 한다. However, as the laser use time increases, the oscillation efficiency of the gas is lowered and the oscillation energy becomes uneven. Further, as the laser use time increases, fine impurities in the tube are deposited in the laser window sealing the laser tube back and forth, The uniformity of the shape is lowered. Therefore, it is necessary to replace the gas in the laser tube every predetermined period of laser use, and to change the laser window before and after the tube, so that the crystallization process can be performed with stable energy. This replacement work is called 'PM (Process Maintenance)'.

교체 작업 시간 비중은 전체 레이저 발진 시간 대비, 적게는 10%, 많게는 20% 이상이 소요되며, 이 교체 시간 동안에는 결정화 공정을 진행할 수 없기 때문에, 설비 자체 효율 손실(loss)이 클 뿐 아니라, 전체 생산에도 막대한 손실을 끼치는 것이 엑시머 레이저 설비의 치명적인 문제이다. The replacement work time proportion is less than 10% of the total laser oscillation time and more than 20%, and since the crystallization process can not be performed during the replacement time, the loss of the equipment itself is large, Is a fatal problem in excimer laser equipment.

빔 사이즈를 증가시키기 위해, 여러 가지 레이저를 결합(combine)시켜 사용하는데, 일정 사용 주기가 지나면, 여러 개의 레이저를 동시에 PM을 실시하거나, 약간의 시차를 두어 순차적으로 PM을 실시한다. 여러 개의 레이저 중 하나의 레이저만 발진을 하지 않더라도 공정 진행이 불가능하기 때문에 멀티(multi) 레이저의 경우, PM 시간이 더 증가한다. In order to increase the beam size, various lasers are combined and used. After a certain period of use, several lasers are subjected to PM at the same time, or PM is sequentially performed with a little time difference. In the case of a multi laser, the PM time is further increased because the process can not proceed even if only one of the lasers does not oscillate.

튜브 내 기체 및 레이저 윈도우 뿐 아니라, 튜브 자체도 장시간 사용할 경우, 튜브 내 파트(전극, 선전리 핀(preionizer pin) 등)의 열화로 인해 에너지 균일성이 약화되기 때문에 정기적으로 교체해 주어야 한다. 튜브 교체 시간은 짧게는 한 번의 PM 주기 시간, 길게는 2번 이상의 PM 주기 시간이 되기 때문에 가스 및 레이저 윈도우 교체의 PM과 더불어 설비 가동율을 떨어뜨리는 큰 요인이 된다. In addition to the gas and laser windows in the tube, the tube itself must be replaced regularly, as long as the energy uniformity is reduced due to deterioration of parts (electrodes, preionizer pins, etc.) in the tube. Since the tube replacement time is one PM cycle time for a short time and PM cycle time for a long time, it is a great factor for reducing the operation rate of the facility together with the PM of gas and laser window replacement.

또한, 멀티 레이저에서, 정기적인 교체 PM이 아니더라도, 공정 진행 중 특정 레이저에서 문제가 발생할 경우, 해당 레이저 발생기를 정지(down)시켜 조치를 진행하는데, 이 기간 동안에도 결정화 공정에 설비를 사용할 수 없는 문제가 있다.In addition, in a multi-laser, even if it is not a regular replacement PM, if there is a problem in a certain laser during the process, the laser generator is stopped down to take measures. During this period, the facility can not be used for the crystallization process there is a problem.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 엑시머 레이저의 기체 및레이저 윈도우 교체, 레이저 튜브의 교체, 그리고 비이상적 설비 이상에 따른 레이저 설비의 정지 시간을 제로(zero)화할 수 있는, 설비 가동 효율을 극대화할 수 있는 엑시머 레이저 결정화 장치를 제공하고자 한다.In order to solve the above-mentioned problems, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide an apparatus and method for operating a facility, such as an excimer laser capable of replacing gas and laser windows, replacing a laser tube, And to provide an excimer laser crystallization apparatus capable of maximizing the crystallization efficiency.

본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치는, P 편광 및 S편광을 포함하는 레이저 빔을 발생시키는 적어도 하나의 레이저 발생기와, 상기 레이저 빔을 전부 반사시키는 적어도 하나의 미러(mirror)와, 상기 레이저 빔의 일부는 반사시키고, 상기 레이저 빔의 일부는 투과시키는 적어도 하나의 스플리터(splitter)를 포함하여 상기 레이저 빔을 광변환시키는 광학계, 및 상기 광변환된 레이저 빔이 조사되어 레이저 결정화되는 대상 기판이 탑재되는 스테이지를 포함한다.A laser crystallization apparatus according to an embodiment of the present invention includes at least one laser generator for generating a laser beam including P polarized light and S polarized light, at least one mirror for totally reflecting the laser beam, An optical system including at least one splitter for reflecting part of the laser beam and transmitting a part of the laser beam so as to photoelectrically convert the laser beam, And a stage on which the wafer is mounted.

상기 광학계는, 상기 미러 및 상기 스플리터로부터 입사되는 레이저 빔의 크기를 확대하는 텔레스코프 렌즈(telescope lens)와, 상기 텔레스코프 렌즈를 통과한 상기 레이저 빔을 균일화시키는 호모지나이저(homogenizer), 및 상기 호모지나이저를 통과한 상기 레이저 빔의 크기와 초점을 조절하여 선형 레이저 빔을 형성하는 복수의 원주 렌즈(cylindrical lens)를 포함할 수 있다. The optical system includes a telescope lens for enlarging a size of a laser beam incident from the mirror and the splitter, a homogenizer for homogenizing the laser beam passed through the telescope lens, And a plurality of cylindrical lenses for adjusting a size and a focus of the laser beam passing through the homogenizer to form a linear laser beam.

본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기 및 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기를 포함하고, 상기 광학계는, 상기 제1 레이저 빔 또는 상기 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터와, 상기 제1 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔 또는 상기 제1 스플리터에서 투과된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러, 및 상기 제2 레이저 발생기에서 입사된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러를 포함한다.In the laser crystallization apparatus according to an embodiment of the present invention, the laser generator includes a first laser generator for generating a first laser beam and a second laser generator for generating a second laser beam, A first splitter which reflects a part of the first laser beam or a part of the second laser beam and transmits the remaining part of the second laser beam or a part of the second laser beam reflected by the first splitter or the second laser beam transmitted through the first splitter, And a second fixed mirror for reflecting all of the second laser beam incident from the second laser generator.

본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기, 및 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기를 포함하고, 상기 광학계는, 상기 제1 레이저 빔, 상기 제2 레이저 빔, 또는 상기 제3 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터와, 상기 제1 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔, 상기 제1 스플리터에서 투과된 제2 레이저 빔, 또는 상기 제1 스플리터에서 투과 또는 반사된 제3 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러와, 상기 제2 레이저 발생기에서 입사된 제2 레이저 빔 또는 상기 제3 레이저 발생기에서 입사된 제3 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러와, 상기 제3 레이저 발생기에서 입사된 제3 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제3 고정 미러와, 상기 제1 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제1 이동 미러, 및 상기 제2 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제2 이동 미러를 포함한다.In the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, the laser generator includes a first laser generator for generating a first laser beam, a second laser generator for generating a second laser beam, and a second laser generator for generating a third laser beam 3 laser generator, wherein the optical system includes: a first splitter for reflecting part of the first laser beam, the second laser beam, or the third laser beam and transmitting the remaining part; A first fixed mirror for reflecting all of the first laser beam transmitted or reflected by the first splitter, the second laser beam transmitted by the first splitter, or the third laser beam transmitted or reflected by the first splitter, A second fixed mirror for reflecting all of the first laser beam incident on the first laser generator or the second laser beam incident on the first laser generator or the third laser beam incident on the third laser generator, A third moving mirror positioned at a front end of the first laser generator and being moved on the path of the first laser beam, and a third moving mirror positioned at a front end of the first laser generator, And a second moving mirror positioned at the front end and being moved on the path of the second laser beam.

상기 제1 이동 미러는, 상기 제1 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제2 이동 미러는, 상기 제2 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동될 수 있다.Wherein the first moving mirror is moved on the path of the first laser beam when the first laser generator is PM progressed and the second moving mirror is moved on the path of the first laser beam when the second laser generator is PM- Can be moved along the path of the beam.

상기 제1 이동 미러 및 제2 이동 미러는, 상기 제1 레이저 발생기 및 제2 레이저 발생기의 PM 시작 신호에 대응하여 이동될 수 있다. The first moving mirror and the second moving mirror may be moved corresponding to the PM start signals of the first laser generator and the second laser generator.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기, 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기, 및 제4 레이저 빔을 발생시키는 제4 레이저 발생기를 포함하고, 상기 광학계는, 상기 제1 레이저 빔 또는 상기 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터와, 상기 제1 레이저 빔, 상기 제2 레이저 빔, 상기 제3 레이저 빔, 또는 상기 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제2 스플리터와, 상기 제1 레이저 빔, 상기 제2 레이저 빔, 상기 제3 레이저 빔, 또는 상기 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제3 스플리터와, 상기 제3 레이저 빔 또는 상기 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제4 스플리터와, 상기 제1 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔, 상기 제1 스플리터에서 투과된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러와, 상기 제2 레이저 발생기에서 입사된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러와, 상기 제4 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔 또는 상기 제4 스플리터에서 반사된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제3 고정 미러와, 상기 제4 레이저 발생기에서 입사된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제4 고정 미러와, 상기 제2 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔, 또는 상기 제2 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔과 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제5 고정 미러, 및 상기 제3 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔, 또는 상기 제3 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔과 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제6 고정 미러를 포함한다.In the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, the laser generator includes a first laser generator for generating a first laser beam, a second laser generator for generating a second laser beam, a second laser generator for generating a third laser beam, And a fourth laser generator for generating a fourth laser beam, wherein the optical system comprises: a first splitter for reflecting part of the first laser beam or a part of the second laser beam and transmitting the remaining part; A second splitter for reflecting part of the first laser beam, the second laser beam, the third laser beam, or the fourth laser beam and transmitting the remaining part; and a second splitter for reflecting the first laser beam, A third splitter for reflecting part of the third laser beam or the fourth laser beam and transmitting the remaining part, and a third splitter for reflecting the third laser beam or the fourth laser beam, A first fixed mirror for reflecting all of the first laser beam reflected by the first splitter, the second laser beam transmitted by the first splitter, and a second fixed mirror for reflecting all of the first laser beam reflected by the first splitter, A second fixed mirror for reflecting all the second laser beams incident on the second laser generator and a third laser beam transmitted through the fourth splitter or a fourth laser beam reflected from the fourth splitter, A fourth fixed mirror for reflecting all of the fourth laser beam incident from the fourth laser generator, and a third fixed mirror for reflecting the first laser beam and the second laser beam reflected by the second splitter, A fifth fixed mirror for reflecting all of the third laser beam and the fourth laser beam transmitted from the second splitter, and a second fixed mirror for reflecting the first laser beam and the second laser beam reflected from the third splitter, Includes a sixth fixed mirror for reflecting the whole of the third laser beam and the fourth laser beam transmitted from the third splitter.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기, 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기, 제4 레이저 빔을 발생시키는 제4 레이저 발생기, 및 제5 레이저 빔을 발생시키는 제5 레이저 발생기를 포함하고, 상기 광학계는, 상기 제1 레이저 빔 또는 상기 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터와, 상기 제1 레이저 빔, 상기 제2 레이저 빔, 상기 제3 레이저 빔, 상기 제4 레이저 빔, 또는 상기 제5 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제2 스플리터와, 상기 제1 레이저 빔, 상기 제2 레이저 빔, 상기 제3 레이저 빔, 상기 제4 레이저 빔, 또는 상기 제5 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제3 스플리터와, 상기 제3 레이저 빔, 상기 제4 레이저 빔, 또는 상기 제5 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제4 스플리터와, 상기 제1 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔, 상기 제1 스플리터에서 투과된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러와, 상기 제2 레이저 발생기에서 입사된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러와, 상기 제4 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔, 상기 제4 스플리터에서 반사된 제4 레이저 빔, 또는 상기 제4 스플리터에서 반사된 제5 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제3 고정 미러와, 상기 제4 레이저 발생기에서 입사된 제4 레이저 빔 또는 상기 제5 레이저 발생기에서 입사된 제5 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제4 고정 미러와, 상기 제2 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔과 제5 레이저 빔, 또는 상기 제2 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔, 제4 레이저 빔, 제5 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제5 고정 미러와, 상기 제3 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔 또는 상기 제3 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔, 제4 레이저 빔, 제5 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제6 고정 미러와, 상기 제1 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제1 이동 미러와, 상기 제2 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제2 이동 미러와, 상기 제3 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제3 이동 미러, 및 상기 제4 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제4 이동 미러를 포함한다. In the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, the laser generator includes a first laser generator for generating a first laser beam, a second laser generator for generating a second laser beam, a second laser generator for generating a third laser beam, A third laser generator for generating a fourth laser beam, and a fifth laser generator for generating a fifth laser beam, wherein the optical system is arranged such that the first laser beam or a part of the second laser beam And reflects a part of the first laser beam, the second laser beam, the third laser beam, the fourth laser beam, or the fifth laser beam and reflects a part of the first laser beam, the second laser beam, A portion of the first laser beam, the second laser beam, the third laser beam, the fourth laser beam, or the fifth laser beam, A fourth splitter for reflecting a part of the third laser beam, the fourth laser beam, or the fifth laser beam and transmitting the remaining part of the third laser beam, the fourth laser beam, or the fifth laser beam; A first fixed mirror for reflecting all of the reflected first laser beam, a second laser beam transmitted by the first splitter, and a second fixed mirror for reflecting all of the second laser beam incident from the second laser generator, A third fixed mirror for reflecting all of the third laser beam transmitted by the fourth splitter, the fourth laser beam reflected by the fourth splitter, or the fifth laser beam reflected by the fourth splitter, A fourth fixed mirror for reflecting all of the fourth laser beam incident on the fourth laser generator or the fifth laser beam incident on the fifth laser generator, A fifth fixed mirror for reflecting all of the reflected first laser beam and the fifth laser beam or the third laser beam transmitted through the second splitter, the fourth laser beam, and the fifth laser beam; A sixth fixed mirror for reflecting all of the reflected first laser beam and the second laser beam or the third laser beam transmitted through the third splitter, the fourth laser beam, and the fifth laser beam, A second moving mirror positioned at a front end of the first laser beam and moved on the path of the first laser beam, a second moving mirror positioned at a front end of the second laser generator, A third moving mirror positioned at a front end of the third laser generator and moved on a path of the third laser beam and a third moving mirror positioned at a front end of the fourth laser generator, My 4 moving mirrors.

상기 제1 이동 미러는, 상기 제1 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제2 이동 미러는, 상기 제2 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제3 이동 미러는, 상기 제3 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제4 이동 미러는, 상기 제4 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동될 수 있다.Wherein the first moving mirror is moved on the path of the first laser beam when the first laser generator is PM progressed and the second moving mirror is moved on the path of the first laser beam when the second laser generator is PM- And the third moving mirror is moved on the path of the third laser beam when the third laser generator is advanced, and the fourth moving mirror is moved on the path of the fourth laser beam, And may be moved on the path of the fourth laser beam when the PM progresses.

상기 제1 이동 미러 내지 제4 이동 미러는, 상기 제1 레이저 발생기 내지 제4 레이저 발생기의 PM 시작 신호에 대응하여 이동될 수 있다.The first to fourth moving mirrors may be moved corresponding to the PM start signals of the first to fourth laser generators.

상기 레이저 발생기에서 발생되는 레이저 빔은 랜덤 편광성일 수 있다. The laser beam generated from the laser generator may be randomly polarized.

상기 스플리터는 상기 레이저 빔의 50%의 P편광은 투과시키고, 50%의 S편광은 반사시킬 수 있다. The splitter transmits 50% of the P-polarized light of the laser beam, and reflects 50% of the S-polarized light.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기, 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기, 제4 레이저 빔을 발생시키는 제4 레이저 발생기, 제5 레이저 빔을 발생시키는 제5 레이저 발생기, 제6 레이저 빔을 발생시키는 제6 레이저 발생기, 및 제7 레이저 빔을 발생시키는 제7 레이저 발생기를 포함하고, 상기 광학계는, 상기 제1 레이저 빔 또는 상기 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터와, 상기 상기 제3 레이저 빔 또는 상기 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제2 스플리터와, 상기 상기 제3 레이저 빔, 상기 제5 레이저 빔, 상기 제6 레이저 빔, 또는 상기 제7레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제3 스플리터와, 상기 제3 레이저 빔, 상기 제4 레이저 빔, 상기 제5 레이저 빔, 제6 레이저 빔, 또는 제7 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제4 스플리터와, 상기 제5 레이저 빔, 상기 제6 레이저 빔, 또는 상기 제7 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제5 스플리터와, 상기 제1 레이저 발생기에서 입사된 제1 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러와, 상기 제1 스플리터에서 반사된 제2 레이저 빔과 상기 제1 스플리터에서 투과된 제1레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러와, 상기 제2 스플리터에서 반사된 제3 레이저 빔과 상기 제2 스플리터에서 투과된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제3 고정 미러와, 상기 제4 레이저 발생기에서 입사된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제4 고정 미러와, 상기 제5 스플리터에서 투과된 제5 레이저 빔과 상기 제5 스플리터에서 반사된 제6 레이저 빔과 상기 제5 스플리터에서 반사된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제5 고정 미러와, 상기 제6 레이저 발생기에서 입사된 제6 레이저 빔과 상기 제7 레이저 발생기에서 입사된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제6 고정 미러와, 상기 제3 스플리터에서 반사된 제3 레이저 빔과, 상기 제5 스플리터에서 반사된 제5 레이저 빔과, 상기 제5 스플리터에서 투과된 제6 레이저 빔과, 상기 제5 스플리터에서 투과된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제7 고정 미러와, 상기 제4 스플리터에서 반사된 제3 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터에서 반사된 제4 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터에서 투과된 제5 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터에서 투과된 제6 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터에서 투과된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제8 고정 미러와, 상기 제7 레이저 발생기에서 입사된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제9 고정 미러와, 상기 제1 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제1 이동 미러와, 상기 제2 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제2 이동 미러와, 상기 제3 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제3 이동 미러와, 상기 제4 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제4 이동 미러와, 상기 제5 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제5 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제5 이동 미러, 및 상기 제6 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제6 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제6 이동 미러를 포함한다.In the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, the laser generator includes a first laser generator for generating a first laser beam, a second laser generator for generating a second laser beam, a second laser generator for generating a third laser beam, A third laser generator for generating a third laser beam, a third laser generator for generating a fourth laser beam, a fifth laser generator for generating a fifth laser beam, a sixth laser generator for generating a sixth laser beam, Wherein the optical system includes a first splitter for reflecting a part of the first laser beam or a part of the second laser beam and transmitting the remaining part of the second laser beam or a part of the third laser beam or a part of the fourth laser beam A second laser beam, a fifth laser beam, a sixth laser beam, or the second laser beam, A third laser beam, a fourth laser beam, a fifth laser beam, a sixth laser beam, or a part of the seventh laser beam is reflected A fifth splitter for reflecting a part of the fifth laser beam, the sixth laser beam, or the seventh laser beam and transmitting the remaining part, and a fourth splitter for transmitting a part of the fifth laser beam, the sixth laser beam, A first fixed mirror for reflecting all of the incident first laser beam, a second fixed mirror for reflecting all of the second laser beam reflected by the first splitter and the first laser beam transmitted through the first splitter, A third fixed mirror for reflecting all of the third laser beam reflected by the second splitter and the fourth laser beam transmitted by the second splitter, A fourth fixed mirror for reflecting all of the captured fourth laser beam, a fifth laser beam transmitted by the fifth splitter, a sixth laser beam reflected by the fifth splitter, and a seventh laser beam reflected by the fifth splitter, A sixth fixed mirror for reflecting all of the seventh laser beam incident from the seventh laser generator and the sixth laser beam incident from the sixth laser generator; A third laser beam reflected by the third splitter, a fifth laser beam reflected by the fifth splitter, a sixth laser beam transmitted by the fifth splitter, and a third laser beam reflected by the fifth laser beam transmitted from the fifth splitter, A fourth laser beam reflected by the fourth splitter, a fourth laser beam reflected by the fourth splitter, and a fifth laser beam reflected by the fourth splitter, An eighth fixed mirror that reflects all of the sixth laser beam transmitted from the fourth splitter and the seventh laser beam transmitted from the fourth splitter, and an eighth fixed mirror that reflects all of the seventh laser beam incident from the seventh laser generator, A first moving mirror positioned at a front end of the first laser generator and being moved on a path of the first laser beam, a second moving mirror positioned at a front end of the second laser generator, A third moving mirror positioned at a front end of the third laser generator and being moved on a path of the third laser beam; a second moving mirror positioned on a front end of the fourth laser generator, A fifth moving mirror positioned at a front end of the fifth laser generator and moved on a path of the fifth laser beam, And a sixth moving mirror positioned at a front end of the sixth laser generator and moved on a path of the sixth laser beam.

상기 제1 이동 미러는, 상기 제1 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제2 이동 미러는, 상기 제2 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제3 이동 미러는, 상기 제3 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제4 이동 미러는, 상기 제4 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제5 이동 미러는, 상기 제5 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제5 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제6 이동 미러는, 상기 제6 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제6 레이저 빔의 경로 상으로 이동될 수 있다. Wherein the first moving mirror is moved on the path of the first laser beam when the first laser generator is PM progressed and the second moving mirror is moved on the path of the first laser beam when the second laser generator is PM- And the third moving mirror is moved on the path of the third laser beam when the third laser generator is advanced, and the fourth moving mirror is moved on the path of the fourth laser beam, The fifth moving mirror is moved on the path of the fifth laser beam when the fifth laser generator is PM progressed, and the sixth moving mirror is moved on the path of the sixth laser beam when the PM advances, May be moved on the path of the sixth laser beam when the sixth laser generator is advanced by PM.

상기 제1 이동 미러 내지 제6 이동 미러는, 상기 제1 레이저 발생기 내지 제6 레이저 발생기의 PM 시작 신호에 대응하여 이동될 수 있다. The first to sixth moving mirrors may be moved corresponding to the PM start signals of the first to sixth laser generators.

본 발명의 실시예들에 따르면, 레이저 결정화 장치의 정기 PM(튜브 내 가스교체, 레이저 윈도우 교체)에 의한 설비의 정지 시간을 제로화할 수 있다. According to the embodiments of the present invention, it is possible to zero the stoppage time of the facility by the regular PM (gas replacement in the tube, laser window replacement) of the laser crystallization apparatus.

또한, 총 에너지 발진량은 변화가 없으면서, 정기 PM 시간 및 튜브 내 가스 패시베이션 시간을 확보할 수 있어, 튜브 성능의 장기 신뢰성을 확보할 수 있다. 즉, 튜브 교체 주기를 늘릴 수 있다. Further, the periodic PM time and the gas passivation time in the tube can be ensured without changing the total energy oscillation amount, and long-term reliability of the tube performance can be ensured. That is, the tube replacement cycle can be increased.

또한, 안정적인 빔 에너지를 발진시킬 수 있으므로 기판 품질이 향상될 수 있다. Further, stable beam energy can be oscillated, so that the substrate quality can be improved.

또한, 레이저 튜브 교체시에도 설비 정지 없이 지속적인 생산이 가능하다.Also, when the laser tube is replaced, continuous production is possible without stopping the equipment.

또한, 레이저 이상 발생에 의한 점검 및 조치 시에도 설비 정지 없이 지속적인 생산이 가능하다.In addition, continuous production without stopping the facility is possible even in the case of the inspection and the action by the occurrence of the laser abnormality.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제2 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제1 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제3 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제2 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제1 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제4 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제3 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제2 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제1 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제5 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제4 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제2 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 14는 도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제7 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제6 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 16은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제2 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.1 is a schematic view of a laser crystallization apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a view schematically showing an example in which PM is performed in a second laser generator in a laser crystallization apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a diagram schematically illustrating an example in which PM is performed in the first laser generator in the laser crystallization apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the third laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
5 is a view schematically showing an example in which PM is performed in a second laser generator in a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
6 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the first laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
7 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the fourth laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
8 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the third laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
9 is a view schematically showing an example in which PM is performed in a second laser generator in a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
10 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the first laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
11 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the fifth laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
12 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the fourth laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
13 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the second laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
FIG. 14 is a view schematically showing an example in which PM is performed in a seventh laser generator in a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
15 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the sixth laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.
16 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the second laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 일 실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예들에서는 일 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.In addition, in the various embodiments, elements having the same configuration are denoted by the same reference numerals, and only other configurations will be described in the other embodiments.

도면들은 개략적이고 축적에 맞게 도시되지 않았다는 것을 일러둔다. 도면에 있는 부분들의 상대적인 치수 및 비율은 도면에서의 명확성 및 편의를 위해 그 크기에 있어 과장되거나 감소되어 도시되었으며, 임의의 치수는 단지 예시적인 것이지 한정적인 것은 아니다. 그리고, 둘 이상의 도면에 나타나는 동일한 구조물, 요소 또는 부품에는 동일한 참조 부호가 유사한 특징을 나타내기 위해 사용된다. 어느 부분이 다른 부분의 "위에" 또는 "상에" 있다고 언급하는 경우, 이는 바로 다른 부분의 위에 있을 수 있거나 그 사이에 다른 부분이 수반될 수도 있다.The drawings are schematic and illustrate that they are not drawn to scale. The relative dimensions and ratios of the parts in the figures are shown exaggerated or reduced in size for clarity and convenience in the figures, and any dimensions are merely illustrative and not restrictive. Also, to the same structure, element, or component appearing in more than one of the figures, the same reference numerals are used to denote similar features. When referring to a portion as being "on" or "on" another portion, it may be directly on the other portion or may be accompanied by another portion therebetween.

본 발명의 실시예는 본 발명의 한 실시예를 구체적으로 나타낸다. 그 결과, 도해의 다양한 변형이 예상된다. 따라서 실시예는 도시한 영역의 특정 형태에 국한되지 않으며, 예를 들면 제조에 의한 형태의 변형도 포함한다.The embodiments of the present invention specifically illustrate one embodiment of the present invention. As a result, various variations of the illustration are expected. Thus, the embodiment is not limited to any particular form of the depicted area, but includes modifications of the form, for example, by manufacture.

이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에 관하여 설명한다. Hereinafter, a laser crystallization apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. FIG.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제2 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제1 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.FIG. 1 is a view schematically showing a laser crystallization apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 schematically shows an example in which PM is performed in a second laser generator in a laser crystallization apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is a view schematically showing an example in which PM is performed in a first laser generator in a laser crystallization apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치는, 입사 레이저 빔(L1)을 발생시키는 레이저 발생기(150)와, 입사 레이저 빔(L1)을 광변환시켜 출사 레이저 빔(L1')을 만드는 광학계(200), 및 출사 레이저 빔(L1')이 조사되어 레이저 결정화되는 대상 박막(110)이 형성된 대상 기판(100)이 탑재되는 스테이지(300)를 포함한다. 1, a laser crystallization apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention includes a laser generator 150 for generating an incident laser beam L1, and an excitation laser beam L1 And a stage 300 on which a target substrate 100 on which a thin film 110 to be laser crystallized is irradiated by an output laser beam L 1 'is mounted.

레이저 발생기(150)에서 발생되는 입사 레이저 빔(L1)은 P편광 및 S편광을 포함하며, 대상 박막(110)의 상 변이를 유도하는 엑시머 레이저 빔 등으로서 출사 레이저 빔(L1')으로 변환되어 대상 기판(100)에 형성된 대상 박막(110)을 결정화시킨다. 대상 박막(110)은 비정질 실리콘층일 수 있으며, 이는 저압화학 증착법, 상압화학 증착법, PECVD법(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), 스퍼터링법, 진공증착법(vacuum evaporation) 등의 방법으로 형성될 수 있다. The incident laser beam L1 generated by the laser generator 150 includes P polarized light and S polarized light and is converted into an emergent laser beam L1 'as an excimer laser beam or the like that induces a phase shift of the target thin film 110 The target thin film 110 formed on the target substrate 100 is crystallized. The target thin film 110 may be an amorphous silicon layer and may be formed by a low pressure chemical vapor deposition method, an atmospheric pressure chemical vapor deposition method, a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method, a sputtering method, or a vacuum evaporation method.

광학계(200)는 레이저 빔(L1)을 전부 반사시키는 적어도 하나의 미러(mirror)를 포함한다. 또한, 레이저 빔(L1)의 일부는 반사시키고, 레이저 빔(L1)의 일부는 투과시키는 적어도 하나의 스플리터(splitter)를 포함한다. The optical system 200 includes at least one mirror for totally reflecting the laser beam L1. Further, at least one splitter for reflecting a part of the laser beam L1 and transmitting a part of the laser beam L1 is included.

레이저 빔(L1)은 랜덤 편광성일 수 있으며, 스플리터는 레이저 빔(L1)의 50%의 P편광은 투과시키고, 50%의 S편광은 반사시키는 것일 수 있다. The laser beam L1 may be randomly polarized, and the splitter may transmit 50% of the P polarized light of the laser beam L1 and reflect 50% of the S polarized light.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기(210) 및 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기(220)를 포함한다. 2 and 3, in the laser crystallization apparatus according to the embodiment of the present invention, the laser generator includes a first laser generator 210 for generating a first laser beam and a second laser generator 210 for generating a second laser beam. Generator < / RTI >

또한, 광학계(200)는 제1 레이저 빔 또는 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터(312)를 포함한다. 또한, 제1 스플리터(312)에서 반사된 제1 레이저 빔 또는 제1 스플리터(312)에서 투과된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러(212)와, 제2 레이저 발생기(220)에서 입사된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러(222)를 포함한다. In addition, the optical system 200 includes a first splitter 312 that reflects part of the first laser beam or the second laser beam and transmits the remaining part. A first fixed mirror 212 that reflects all of the first laser beam reflected from the first splitter 312 or the second laser beam transmitted from the first splitter 312, And a second fixed mirror 222 that reflects all of the second laser beam incident on the first laser beam.

또한, 광학계(200)는, 미러와 스플리터 후단에 차례대로 위치하는 텔레스코프 렌즈(telescope lens)(400)와, 호모지나이저(homogenizer)(500), 및 원주 렌즈(cylindrical lens)(600, 700)를 포함한다. The optical system 200 further includes a telescope lens 400, a homogenizer 500, and a cylindrical lens 600 and 700 ).

텔레스코프 렌즈(400)는 미러 및 스플리터를 통과한 레이저 빔의 크기를 확대하여, 원하는 빔의 크기로 형성하며, 호모지나이저(500)는 텔레스코프 렌즈(400)를 통과한 레이저 빔을 균일화시켜 빔 에너지 밀도가 고르게 분포되도록 한다. 또한, 원주 렌즈(600, 700)는 복수로 구비될 수 있으며, 호모지나이저(500)를 통과한 레이저 빔의 크기와 초점을 조절하여 선형 레이저 빔(LB)을 형성한다. The telescope lens 400 enlarges the size of the laser beam passing through the mirror and the splitter to form a desired beam size. The homogenizer 500 uniformizes the laser beam passing through the telescope lens 400 So that the beam energy density is evenly distributed. In addition, a plurality of cylindrical lenses 600 and 700 may be provided, and the size and focus of the laser beam passing through the homogenizer 500 may be adjusted to form a linear laser beam LB.

도 2를 참조하면, 제2 레이저 발생기(220)에서 PM이 실시되는 경우, 제1 레이저 발생기(210)에서 입사된 제1 레이저 빔은 제1 스플리터(312)에서 반사되어 50%는 제1 고정 미러(212)로 진행하고, 텔레스코프 렌즈(400)로 진행되며, 제1 레이저 빔의 나머지 50%는 제1 스플리터(312)를 투과하여 텔레스코프 렌즈(400)로 바로 진행된다. 또한, 레이저 빔은 텔레스코프 렌즈(400)를 지나, 호모나이저(500), 및 원주 렌즈(600, 700)를 통과하여 선형 레이저빔(LB)을 형성한다. Referring to FIG. 2, when PM is performed in the second laser generator 220, the first laser beam incident on the first laser generator 210 is reflected by the first splitter 312, and 50% Proceeds to the mirror 212 and proceeds to the telescope lens 400 where the remaining 50% of the first laser beam passes through the first splitter 312 and proceeds directly to the telescope lens 400. The laser beam passes through the telescope lens 400 and passes through the homogenizer 500 and the cylindrical lenses 600 and 700 to form a linear laser beam LB.

도 3을 참조할 때, 제1 레이저 발생기(210)에서 PM이 실시되는 경우, 제2 레이저 발생기(220)에서 입사된 제2 레이저 빔은 제2 고정 미러(222)에서 반사되어 제1 스플리터(312)로 진행된다. 제1 스플리터(312)에서 제2 레이저 빔의 50%는 투과하여 제1 고정 미러(212)로 진행되고, 반사되어 텔레스코프 렌즈(400)로 진행된다. 또한, 제1 스플리터(312)에서 제2 레이저 빔의 50%는 반사되어 텔레스코프 렌즈(400)로 진행된다. 3, when PM is applied to the first laser generator 210, the second laser beam incident on the second laser generator 220 is reflected by the second fixed mirror 222 to be incident on the first splitter 312). 50% of the second laser beam is transmitted through the first splitter 312 to the first fixed mirror 212, reflected and traveled to the telescope lens 400. In the first splitter 312, 50% of the second laser beam is reflected and travels to the telescope lens 400.

제1 레이저 발생기(210) 및 제2 레이저 발생기(220) 중 어느 하나에서 PM이 실시되는 경우 다른 하나에서 레이저 발진이 계속되므로, PM에 따른 설비 중지 없이 지속적인 결정화 공정이 가능하다.In the case where PM is performed in any one of the first laser generator 210 and the second laser generator 220, the laser oscillation continues in the other one, so that a continuous crystallization process is possible without stopping the equipment according to the PM.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제3 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제2 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이며, 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제1 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.FIG. 4 is a view schematically showing an example in which PM is performed in a third laser generator in a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a schematic view of a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, FIG. 6 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the first laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention. FIG.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기(210)와, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기(220), 및 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기(230)를 포함한다. 4 to 6, the laser generator includes a first laser generator 210 for generating a first laser beam, a second laser generator 220 for generating a second laser beam, And a third laser generator 230 for generating a laser beam.

광학계(202)는, 제1 스플리터(312)와, 제1 고정 미러(212)와, 제2 고정 미러(222)와, 제3 고정 미러(232)와, 제1 이동 미러(211), 및 제2 이동 미러(221)를 포함한다. The optical system 202 includes a first splitter 312, a first fixed mirror 212, a second fixed mirror 222, a third fixed mirror 232, a first movable mirror 211, And a second moving mirror 221.

제1 스플리터(312)는 제1 레이저 빔, 제2 레이저 빔, 또는 제3 레이저 빔의 일부는 반사시키고, 나머지 일부는 투과시킨다. 또한, 제1 고정 미러(212)는 제1 스플리터(312)에서 반사된 제1 레이저 빔, 제1 스플리터(312)에서 투과된 제2 레이저 빔, 또는 제1 스플리터(312)에서 투과 또는 반사된 제3 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. 또한, 제2 고정 미러(222)는 제2 레이저 발생기(220)에서 입사된 제2 레이저 빔 또는 제3 레이저 발생기(230)에서 입사된 제3 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. 또한, 제3 고정 미러(232)는 제3 레이저 발생기(230)에서 입사된 제3 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. The first splitter 312 reflects part of the first laser beam, the second laser beam, or the third laser beam, and transmits the remaining part. Further, the first fixed mirror 212 may be a first laser beam reflected by the first splitter 312, a second laser beam transmitted by the first splitter 312, or a second laser beam transmitted or reflected by the first splitter 312 And reflects all of the third laser beam. The second fixed mirror 222 reflects all of the second laser beam incident on the second laser generator 220 or the third laser beam incident on the third laser generator 230. The third fixed mirror 232 reflects all of the third laser beam incident on the third laser generator 230.

한편, 제1 이동 미러(211)는 제1 레이저 발생기(210)의 전단에 위치하며, 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되도록 구비된다. 또한, 제2 이동 미러(221)는 제2 레이저 발생기(220)의 전단에 위치하며, 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되도록 구비된다.On the other hand, the first moving mirror 211 is located at the front end of the first laser generator 210 and is provided to move on the path of the first laser beam. Also, the second moving mirror 221 is located at the front end of the second laser generator 220 and is provided to move on the path of the second laser beam.

도 4를 참조하면, 제3 레이저 발생기(230)에서 PM이 실시되는 경우, 제1 레이저 발생기(210)에서 입사된 제1 레이저 빔은 제1 스플리터(312)에서 반사되어 50%는 제1 고정 미러(212)로 진행하고, 텔레스코프 렌즈(402)로 진행되고, 제1 레이저 빔의 나머지 50%는 제1 스플리터(312)를 투과하여 텔레스코프 렌즈(402)로 바로 진행된다.Referring to FIG. 4, when PM is performed in the third laser generator 230, the first laser beam incident on the first laser generator 210 is reflected by the first splitter 312, and 50% Proceeds to the mirror 212 and proceeds to the telescope lens 402 where the remaining 50% of the first laser beam passes through the first splitter 312 and proceeds directly to the telescope lens 402.

제2 레이저 발생기(220)에서 입사된 제2 레이저 빔은 제2 고정 미러(222)에서 반사되어 제1 스플리터(312)로 진행된다. 제1 스플리터(312)에서 제2 레이저 빔의 50%는 투과하여 제1 고정 미러(212)로 진행되고, 반사되어 텔레스코프 렌즈(402)로 진행된다. 또한, 제1 스플리터(312)에서 제2 레이저 빔의 50%는 반사되어 텔레스코프 렌즈(402)로 진행된다. The second laser beam incident on the second laser generator 220 is reflected by the second fixed mirror 222 and proceeds to the first splitter 312. 50% of the second laser beam is transmitted through the first splitter 312 to the first fixed mirror 212, reflected, and then proceeds to the telescope lens 402. Further, 50% of the second laser beam in the first splitter 312 is reflected and travels to the telescope lens 402.

이 때, 제1 이동 미러(211) 및 제2 이동 미러(221)는 레이저 빔의 경로를 방해하지 않도록 레이저 빔의 경로를 벗어나도록 위치해 있다. At this time, the first moving mirror 211 and the second moving mirror 221 are located out of the path of the laser beam so as not to obstruct the path of the laser beam.

또한, 레이저 빔은 텔레스코프 렌즈(402)를 지나, 호모나이저(502), 및 원주 렌즈(602, 702)를 통과하여 선형 레이저빔(LB)을 형성한다.Further, the laser beam passes through the telescope lens 402, passes through the homogenizer 502, and the cylindrical lenses 602 and 702 to form a linear laser beam LB.

도 5를 참조하면, 제2 레이저 발생기(220)에서 PM이 실시되는 경우, 제1 레이저 발생기(210)에서 입사된 제1 레이저 빔은 제1 스플리터(312)에서 반사되어 50%는 제1 미러로 진행하고, 텔레스코프 렌즈(402)로 진행되고, 제1 레이저 빔의 나머지 50%는 제1 스플리터(312)를 투과하여 텔레스코프 렌즈(402)로 바로 진행된다.5, when PM is performed in the second laser generator 220, the first laser beam incident from the first laser generator 210 is reflected by the first splitter 312, and 50% Proceeds to the telescope lens 402 and the remaining 50% of the first laser beam passes through the first splitter 312 and proceeds directly to the telescope lens 402.

제1 이동 미러(211)는 제1 레이저 빔의 경로를 벗어나도록 위치하며, 제2 이동 미러(221)는 제2 레이저 빔의 경로 상에 위치한다. 제3 레이저 발생기(230)에서 입사된 제3 레이저 빔은 제3 고정 미러(232), 제2 이동 미러(221), 및 제2 고정 미러(222)에서 반사되어 제1 스플리터(312)로 진행된다. 제3 레이저 빔의 50%는 제1 스플리터(312)에서 투과되어 제1 고정 미러(212)로 진행되고, 반사되어 텔레스코프 렌즈(402)로 진행되며, 제3 레이저 빔의 50%는 제1 스플리터(312)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(402)로 진행된다. The first moving mirror 211 is positioned to be out of the path of the first laser beam and the second moving mirror 221 is located on the path of the second laser beam. The third laser beam incident on the third laser generator 230 is reflected by the third fixed mirror 232, the second moving mirror 221, and the second fixed mirror 222 and is transmitted to the first splitter 312 do. 50% of the third laser beam is transmitted by the first splitter 312 to proceed to the first fixed mirror 212 and is reflected and travels to the telescope lens 402. 50% Reflected by the splitter 312, and proceeds to the telescope lens 402.

도 6을 참조하면, 제1 이동 미러(211)는 제1 레이저 빔의 경로 상에 위치하며, 제2 이동 미러(221)는 제2 레이저 빔의 경로를 벗어나도록 위치한다. 제2 레이저 발생기(220)에서 입사된 제2 레이저 빔은 제2 고정 미러(222)에서 반사되어 제1 스플리터(312)로 진행된다. 제2 레이저 빔의 50%는 제1 스플리터(312)에서 투과되고 제1 고정 미러(212)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(402)로 진행된다. 또한, 제3 레이저 발생기(230)에서 입사된 제3 레이저 빔은 제3 고정 미러(232), 제1 이동 미러(211)에서 반사되어 제1 스플리터(312)로 진행된다. 제3 레이저 빔의 50%는 제1 스플리터(312)에서 투과되어 텔레스코프 렌즈(400)로 진행되고, 제3 레이저 빔의 50%는 제1 스플리터(312)에서 반사되고 제1 고정 미러(212)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(402)로 진행된다. Referring to FIG. 6, the first moving mirror 211 is located on the path of the first laser beam, and the second moving mirror 221 is located on the path of the second laser beam. The second laser beam incident on the second laser generator 220 is reflected by the second fixed mirror 222 and proceeds to the first splitter 312. 50% of the second laser beam is transmitted by the first splitter 312 and reflected by the first fixed mirror 212 to proceed to the telescope lens 402. The third laser beam incident on the third laser generator 230 is reflected by the third fixed mirror 232 and the first moving mirror 211 and proceeds to the first splitter 312. 50% of the third laser beam is transmitted by the first splitter 312 to the telescope lens 400, 50% of the third laser beam is reflected by the first splitter 312 and the first fixed mirror 212 And then proceeds to the telescope lens 402. [0053]

한편, 제1 이동 미러(211) 및 제2 이동 미러(221)는, 제1 레이저 발생기(210) 및 제2 레이저 발생기(220)의 PM 시작 신호에 대응하여 자동 이동될 수 있다.The first moving mirror 211 and the second moving mirror 221 can be automatically moved in response to the PM start signals of the first laser generator 210 and the second laser generator 220. [

이와 같이, 제1 레이저 발생기(210), 제2 레이저 발생기(220), 및 제3 레이저 발생기(230) 중 어느 하나의 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 경우 다른 두 레이저 발생기에서 레이저 발진이 계속되므로, PM에 따른 설비 중지 없이 지속적인 결정화 공정이 가능하다.In this way, when PM is performed in any one of the first, second and third laser generators 210, 220 and 230, the laser oscillation continues in the other two laser generators, Continuous crystallization process is possible without facility interruption due to PM.

도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제4 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제3 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이며. 도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제2 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이며, 도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제1 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다 FIG. 7 is a view schematically showing an example in which PM is performed in a fourth laser generator in a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a schematic view of a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention , And FIG. 3 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the third laser generator. FIG. 9 is a schematic view illustrating an example in which PM is performed in a second laser generator in a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 10 is a schematic view of a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention And schematically shows an example in which PM is performed in the first laser generator

도 7 내지 도 10을 참조하면, 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기(210)와, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기(220)와, 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기(230), 및 제4 레이저 빔을 발생시키는 제4 레이저 발생기(240)를 포함한다. 7 to 10, the laser generator includes a first laser generator 210 for generating a first laser beam, a second laser generator 220 for generating a second laser beam, A third laser generator 230 for generating a fourth laser beam, and a fourth laser generator 240 for generating a fourth laser beam.

광학계(203)는, 제1 스플리터(312)와, 제2 스플리터(314)와, 제3 스플리터(316)와, 제4 스플리터(332)와, 제1 고정 미러(212)와, 제2 고정 미러(222)와, 제3 고정 미러(232)와, 제4 고정 미러(242)와, 제5 고정 미러(214), 및 제6 고정 미러(216)를 포함한다. The optical system 203 includes a first splitter 312, a second splitter 314, a third splitter 316, a fourth splitter 332, a first fixed mirror 212, A third stationary mirror 232, a fourth stationary mirror 242, a fifth stationary mirror 214, and a sixth stationary mirror 216, as shown in FIG.

제1 스플리터(312)는 제1 레이저 빔 또는 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시킨다. 또한, 제2 스플리터(314) 및 제3 스플리터(316)는 제1 레이저 빔, 제2 레이저 빔, 제3 레이저 빔, 또는 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시킨다. 또한, 제4 스플리터(332)는 제3 레이저 빔 또는 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시킨다. The first splitter 312 reflects part of the first laser beam or the second laser beam and transmits the remaining part. Further, the second splitter 314 and the third splitter 316 reflect a part of the first laser beam, the second laser beam, the third laser beam, or the fourth laser beam and transmit the remaining part. Further, the fourth splitter 332 reflects part of the third laser beam or the fourth laser beam and transmits the remaining part.

제1 고정 미러(212)는 제1 스플리터(312)에서 반사된 제1 레이저 빔, 제1 스플리터(312)에서 투과된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키며, 제2 고정 미러(222)는 제2 레이저 발생기(220)에서 입사된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키며, 제3 고정 미러(232)는 제4 스플리터(332)에서 투과된 제3 레이저 빔 또는 제4 스플리터(332)에서 반사된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키며, 제5 고정 미러(214)는 제2 스플리터(314)에서 반사된 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔, 또는 상기 제2 스플리터(314)에서 투과된 제3 레이저 빔과 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키며, 제6 고정 미러(216)는 제3 스플리터(316)에서 반사된 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔, 또는 상기 제3 스플리터(316)에서 투과된 제3 레이저 빔과 제4 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. The first fixed mirror 212 reflects all of the first laser beam reflected by the first splitter 312 and the second laser beam transmitted through the first splitter 312. The second fixed mirror 222 reflects 2 laser generator 220 and the third fixed mirror 232 reflects the third laser beam transmitted from the fourth splitter 332 or the third laser beam reflected from the fourth splitter 332 And the fifth fixed mirror 214 reflects the entirety of the fourth laser beam, and the fifth fixed mirror 214 reflects the entirety of the third laser beam reflected by the second splitter 314 and the third laser beam reflected from the third splitter 314, The sixth fixed mirror 216 reflects the entirety of the laser beam and the fourth laser beam, and the sixth fixed mirror 216 reflects the first laser beam and the second laser beam reflected from the third splitter 316, And reflects all of the third laser beam and the fourth laser beam.

도 7을 참조하면, 제4 레이저 발생기(240)에서 PM이 실시되는 경우, 제1 레이저 발생기(210)에서 입사된 제1 레이저 빔은 제1 스플리터(312)에서 반사되어 50%는 제1 고정 미러(212)로 진행되고 제3 스플리터(316)를 투과하여 텔레스코프 렌즈(403)로 진행된다. Referring to FIG. 7, when PM is performed in the fourth laser generator 240, the first laser beam incident on the first laser generator 210 is reflected by the first splitter 312, and 50% Proceeds to the mirror 212, passes through the third splitter 316, and proceeds to the telescope lens 403.

제2 레이저 발생기(220)에서 입사된 제2 레이저 빔은 제2 고정 렌즈에서 반사되어 50%는 제1 스플리터(312)에서 투과되고 제1 고정 미러(212)에서 반사되며 제3 스플리터(316)에서 투과되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행된다. 또한, 제2 레이저 빔의 50%는 제1 스플리터(312)에서 반사되어 제2 스플리터(314)로 진행되며 제2 스플리터(314)에서 25%는 반사되고 제5 고정 미러(214)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행되며, 25%는 투과되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행된다. The second laser beam incident on the second laser generator 220 is reflected by the second fixed lens so that 50% is transmitted by the first splitter 312, reflected by the first fixed mirror 212, reflected by the third splitter 316, And proceeds to the telescope lens 403. 50% of the second laser beam is reflected by the first splitter 312 to the second splitter 314, reflected by the second splitter 314 by 25%, reflected by the fifth fixed mirror 214 Progresses to the telescope lens 403, and 25% is transmitted through the telescope lens 403.

제3 레이저 발생기(230)에서 입사된 제3 레이저 빔은 제4 스플리터(332)에서 50%는 반사되어 제2 스플리터(314)로 진행되며, 제2 스플리터(314)에서 25%는 투과되고 제5 고정 미러(214)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행되고, 25%는 반사되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행된다. 제4 스플리터(332)에서 제3 레이저 빔의 50%는 투과되어 제3 고정 미러(232)에서 반사되며, 제3 스플리터(316)에서 25%는 투과되고 제6 고정 미러(216)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행하며, 25%는 제3 스플리터(316)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행된다. The third laser beam incident from the third laser generator 230 is reflected by the fourth splitter 332 at 50% and proceeds to the second splitter 314. 25% of the third laser beam is transmitted through the second splitter 314, 5 fixed mirror 214 to proceed to the telescope lens 403, and 25% is reflected to proceed to the telescope lens 403. [ 50% of the third laser beam is transmitted through the fourth splitter 332 and is reflected by the third fixed mirror 232. 25% of the third laser beam is transmitted through the third splitter 316 and is reflected by the sixth fixed mirror 216 25% travels to the telescope lens 403 after being reflected by the third splitter 316. The telescope lens 403 is a telescope lens.

또한, 레이저 빔은 텔레스코프 렌즈(403)를 지나, 호모나이저(503), 및 원주 렌즈(603, 703)를 통과하여 선형 레이저빔(LB)을 형성한다.The laser beam passes through the telescope lens 403 and passes through the homogenizer 503 and the cylindrical lenses 603 and 703 to form a linear laser beam LB.

도 8을 참조하면, 제3 레이저 발생기(230)에서 PM이 실시되는 경우, 제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔의 진행 경로는 도 7에 도시된 실시예와 동일하다. 제4 레이저 발생기(240)에서 입사된 제4 레이저 빔은 제4 고정 미러(242)에서 반사되어 제4 스플리터(332)로 진행된다. 제4 스플리터(332)에서 제4 레이저 빔의 50%는 투과하고 제2 스플리터(314)에서 25%가 투과하여 제5 고정 미러(214)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행된다. 나머지 25%는 제2 스플리터(314)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행된다. 제4 스플리터(332)에서 제4 레이저 빔의 50%는 반사되고 제3 고정 미러(232)에서 반사되며, 제3 스플리터(316)에서 25%는 투과하여 제6 고정 미러(216)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행되며, 나머지 25%는 제3 스플리터(316)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(403)로 진행된다. Referring to FIG. 8, when the PM is performed in the third laser generator 230, the traveling path of the first laser beam and the second laser beam is the same as the embodiment shown in FIG. The fourth laser beam incident on the fourth laser generator 240 is reflected by the fourth fixed mirror 242 and proceeds to the fourth splitter 332. 50% of the fourth laser beam is transmitted by the fourth splitter 332, 25% is transmitted by the second splitter 314, reflected by the fifth fixed mirror 214, and travels to the telescope lens 403. The remaining 25% is reflected by the second splitter 314 and travels to the telescope lens 403. In the fourth splitter 332, 50% of the fourth laser beam is reflected and reflected by the third fixed mirror 232, 25% is transmitted through the third splitter 316 and reflected by the sixth fixed mirror 216 And the remaining 25% is reflected by the third splitter 316 and travels to the telescope lens 403. The telescope lens 403,

도 9를 참조하면, 제2 레이저 발생기(220)에서 PM이 실시되는 경우이며, 도 10을 참조하면, 제1 레이저 발생기(210)에서 PM이 실시되는 경우이다. 앞서 도 7 및 도 8에서 설명한 바와 같이, 제1 레이저 빔, 제2 레이저 빔, 제3 레이저 빔, 및 제4 레이저 빔의 이동 경로는 도 9 및 도 10에서도 동일하므로 이하, 설명은 생략한다. Referring to FIG. 9, PM is performed in the second laser generator 220, and in FIG. 10, PM is performed in the first laser generator 210. As described above with reference to FIGS. 7 and 8, the movement paths of the first laser beam, the second laser beam, the third laser beam, and the fourth laser beam are the same in FIGS. 9 and 10, and a description thereof will be omitted.

이와 같이, 제1 레이저 발생기(210), 제2 레이저 발생기(220), 제3 레이저 발생기(230), 및 제4 레이저 발생기(240) 중 어느 하나의 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 경우 다른 세 레이저 발생기에서 레이저 발진이 계속되므로, PM에 따른 설비 중지 없이 지속적인 결정화 공정이 가능하다.As described above, when PM is performed in any one of the first, second, third, and fourth laser generators 210, 220, 230, 240, Since the laser oscillation continues at the generator, a continuous crystallization process is possible without facility interruption due to PM.

도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제5 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제4 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이며, 도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제2 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다. FIG. 11 is a view schematically showing an example in which PM is performed in a fifth laser generator in a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 12 is a schematic view of a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention And FIG. 13 is a view schematically showing an example in which PM is performed in the second laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. to be.

도 11 내지 도 13을 참조하면, 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기(210)와, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기(220)와, 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기(230)와, 제4 레이저 빔을 발생시키는 제4 레이저 발생기(240), 및 제5 레이저 빔을 발생시키는 제5 레이저 발생기(250)를 포함한다. 11 to 13, the laser generator includes a first laser generator 210 for generating a first laser beam, a second laser generator 220 for generating a second laser beam, A fourth laser generator 240 for generating a fourth laser beam, and a fifth laser generator 250 for generating a fifth laser beam.

광학계(204)는, 제1 스플리터(312)와, 제2 스플리터(314)와, 제3 스플리터(316)와, 제4 스플리터(332)와, 제1 고정 미러(212)와, 제2 고정 미러(222)와, 제3 고정 미러(232)와, 제4 고정 미러(242)와, 제5 고정 미러(214)와, 제6 고정 미러(216)와, 제7 고정 미러(252)와, 제1 이동 미러(211)와, 제2 이동 미러(221)와, 제3 이동 미러(231), 및 제4 이동 미러(241)를 포함한다. The optical system 204 includes a first splitter 312, a second splitter 314, a third splitter 316, a fourth splitter 332, a first fixed mirror 212, A third fixed mirror 232, a fourth fixed mirror 242, a fifth fixed mirror 214, a sixth fixed mirror 216, a seventh fixed mirror 252, A first moving mirror 211, a second moving mirror 221, a third moving mirror 231, and a fourth moving mirror 241. The first moving mirror 211, the second moving mirror 221,

제1 스플리터(312)는, 제1 레이저 빔 또는 상기 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시킨다. 제2 스플리터(314) 및 제3 스플리터(316)는, 제1 레이저 빔, 제2 레이저 빔, 제3 레이저 빔, 제4 레이저 빔, 또는 제5 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시킨다. 제4 스플리터(332)는, 제3 레이저 빔, 제4 레이저 빔, 또는 제5 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시킨다. The first splitter 312 reflects part of the first laser beam or the second laser beam and transmits the other part. The second splitter 314 and the third splitter 316 reflect part of the first laser beam, the second laser beam, the third laser beam, the fourth laser beam, or the fifth laser beam and transmit the remaining part . The fourth splitter 332 reflects part of the third laser beam, the fourth laser beam, or the fifth laser beam and transmits the remaining part.

제1 고정 미러(212)는, 상기 제1 스플리터(312)에서 반사된 제1 레이저 빔, 상기 제1 스플리터(312)에서 투과된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. 제2 고정 미러(222)는 상기 제2 레이저 발생기(220)에서 입사된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. 제3 고정 미러(232)는 상기 제4 스플리터(332)에서 투과된 제3 레이저 빔, 상기 제4 스플리터(332)에서 반사된 제4 레이저 빔, 또는 상기 제4 스플리터(332)에서 반사된 제5 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. 제4 고정 미러(242)는 상기 제4 레이저 발생기(240)에서 입사된 제4 레이저 빔 또는 상기 제5 레이저 발생기(250)에서 입사된 제5 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. 제5 고정 미러(214)는 상기 제2 스플리터(314)에서 반사된 제1 레이저 빔과 제5 레이저 빔, 또는 상기 제2 스플리터(314)에서 투과된 제3 레이저 빔, 제4 레이저 빔, 제5 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. 제6 고정 미러(216)는 상기 제3 스플리터(316)에서 반사된 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔 또는 상기 제3 스플리터(316)에서 투과된 제3 레이저 빔, 제4 레이저 빔, 제5 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. 제7 고정 미러(252)는, 상기 제5 레이저 발생기(250)에서 입사된 제5 레이저 빔의 전부를 반사시킨다. The first fixed mirror 212 reflects all of the first laser beam reflected from the first splitter 312 and the second laser beam transmitted from the first splitter 312. [ The second fixed mirror 222 reflects all of the second laser beam incident on the second laser generator 220. The third fixed mirror 232 is arranged between the third laser beam transmitted by the fourth splitter 332 and the fourth laser beam reflected by the fourth splitter 332 or the fourth laser beam reflected by the fourth splitter 332 5 Reflects all of the laser beam. The fourth fixed mirror 242 reflects all of the fourth laser beam incident on the fourth laser generator 240 or the fifth laser beam incident on the fifth laser generator 250. The fifth fixed mirror 214 is disposed between the first laser beam reflected by the second splitter 314 and the fifth laser beam or the third laser beam transmitted from the second splitter 314, 5 Reflects all of the laser beam. The sixth fixed mirror 216 reflects the first laser beam and the second laser beam reflected by the third splitter 316 or the third laser beam transmitted through the third splitter 316, And reflects all of the laser beam. The seventh fixed mirror 252 reflects all of the fifth laser beam incident from the fifth laser generator 250.

제1 이동 미러(211)는 상기 제1 레이저 발생기(210)의 전단에 위치하며, 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되도록 구비된다. 제2 이동 미러(221)는 상기 제2 레이저 발생기(220)의 전단에 위치하며, 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되도록 구비된다. 제3 이동 미러(231)는 상기 제3 레이저 발생기(230)의 전단에 위치하며, 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되도록 구비된다. 제4 이동 미러(241)는 상기 제4 레이저 발생기(240)의 전단에 위치하며, 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동되도록 구비된다. The first moving mirror 211 is located at the front end of the first laser generator 210 and is provided to move on the path of the first laser beam. The second moving mirror 221 is located at the front end of the second laser generator 220 and is arranged to move on the path of the second laser beam. The third moving mirror 231 is located at the front end of the third laser generator 230 and is provided to move on the path of the third laser beam. The fourth moving mirror 241 is located at the front end of the fourth laser generator 240 and is provided to move on the path of the fourth laser beam.

한편, 상기 제1 이동 미러(211) 내지 제4 이동 미러(241)는, 상기 제1 레이저 발생기(210) 내지 제4 레이저 발생기(240)의 PM 시작 신호에 대응하여 자동 이동될 수 있다. Meanwhile, the first to fourth moving mirrors 211 to 241 may be automatically moved in response to the PM start signals of the first to fourth laser generators 210 to 240.

도 11을 참조하면, 제5 레이저 발생기(250)에서 PM이 실시되는 경우, 제1 이동 미러(211) 내지 제4 이동 미러(241)는 각각의 레이저 빔의 경로를 벗어나도록 위치하며, 제1 레이저 발생기(210) 내지 제4 레이저 발생기(240)에서 입사되는 레이저 빔의 경로는 도 7 내지 도 10에서 설명한 각각의 레이저 빔의 경로와 동일하므로 이하 설명은 생략한다. 11, when PM is performed in the fifth laser generator 250, the first to fourth moving mirrors 211 to 241 are positioned to deviate from the paths of the respective laser beams, The path of the laser beam incident from the laser generator 210 to the fourth laser generator 240 is the same as that of each of the laser beams described with reference to FIG. 7 to FIG.

레이저 빔은 텔레스코프 렌즈(404)를 지나, 호모나이저(504), 및 원주 렌즈(604, 704)를 통과하여 선형 레이저빔(LB)을 형성한다.The laser beam passes through the telescope lens 404, the homogenizer 504, and the cylindrical lenses 604 and 704 to form a linear laser beam LB.

도 12를 참조하면, 제4 레이저 발생기(240)에서 PM이 실시되는 경우, 제1 이동 미러(211) 내지 제3 이동 미러(231)는 각각의 레이저 빔의 경로를 벗어나도록 위치하며, 제4 이동 미러(241)는 제4 레이저 빔의 경로 상에 위치한다. Referring to FIG. 12, when PM is performed in the fourth laser generator 240, the first to third moving mirrors 211 to 231 are positioned to deviate from the paths of the respective laser beams, The moving mirror 241 is located on the path of the fourth laser beam.

제1 레이저 발생기(210) 내지 제3 레이저 발생기(230)에서 입사되는 레이저 빔의 경로는 도 7 내지 도 10에서 설명한 각각의 레이저 빔의 경로와 동일하므로, 이하 설명은 생략한다. 제5 레이저 발생기(250)에서 입사되는 제5 레이저 빔은 제7 고정 미러(252)에 의해 전부 반사되고 제4 이동 미러(241)와 제4 고정 미러(242)에서 반사된다. 제4 고정 미러(242)에서 반사된 제5 레이저 빔의 50%는 제4 스플리터(332)에서 투과되고, 50%는 반사된다. 투과된 제5 레이저 빔은 제2 스플리터(314)에서 25%는 투과하여 제5 고정 미러(214)에서 반사되어 텔레스코프 렌즈(404)로 진행되며, 25%는 반사되어 텔레스코프 렌즈(404)로 진행된다. 제4 스플리터(332)에서 반사된 제5 레이저 빔은 제3 고정 미러(232)에서 전부 반사되며, 제3 스플리터(316)에서 25%는 투과되어 제6 고정 미러(216)에 의해 반사되어 텔레스코프 렌즈(404)로 진행되며 25%는 반사되어 텔레스코프 렌즈(404)로 진행된다. The path of the laser beam incident on the first to third laser generators 210 to 230 is the same as that of each of the laser beams described with reference to FIG. 7 to FIG. The fifth laser beam incident on the fifth laser generator 250 is totally reflected by the seventh fixed mirror 252 and reflected by the fourth movable mirror 241 and the fourth fixed mirror 242. 50% of the fifth laser beam reflected by the fourth fixed mirror 242 is transmitted by the fourth splitter 332, and 50% is reflected. The transmitted fifth laser beam is transmitted through the second splitter 314 by 25% and reflected by the fifth fixed mirror 214 to the telescope lens 404. 25% is reflected by the telescope lens 404, Lt; / RTI > The fifth laser beam reflected by the fourth splitter 332 is totally reflected by the third fixed mirror 232 and 25% transmitted by the third splitter 316 and reflected by the sixth fixed mirror 216, Scope lens 404 proceeds and 25% is reflected back to telescope lens 404.

도 13을 참조하면, 제2 레이저 발생기(220)에서 PM이 실시되는 경우, 제1 이동 미러(211), 제3 이동 미러(231), 및 제4 이동 미러(241)는 각각의 레이저 빔의 경로를 벗어나도록 위치하며, 제2 이동 미러(221)는 제2 레이저 빔의 경로 상에 위치한다. 제1 레이저 빔, 제3 레이저 빔 내지 제5 레이저 빔의 경로는 도 7 내지 도 12에서 설명한 각각의 레이저 빔의 경로와 동일하므로, 이하 설명은 생략한다.13, when the PM is performed in the second laser generator 220, the first moving mirror 211, the third moving mirror 231, and the fourth moving mirror 241 are arranged in the order of the respective laser beams And the second moving mirror 221 is located on the path of the second laser beam. The paths of the first laser beam, the third laser beam, and the fifth laser beam are the same as the paths of the laser beams described with reference to FIGS. 7 to 12, and the description thereof will be omitted.

도 14는 도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제7 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제6 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이며, 도 16은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 제2 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 예를 개략적으로 나타내는 도면이다.FIG. 14 is a view schematically showing an example in which a PM is implemented in a seventh laser generator in a laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 15 is a schematic view of a laser according to another embodiment of the present invention FIG. 16 is a schematic view showing an example in which PM is performed in the sixth laser generator in the crystallization apparatus, and FIG. 16 is a schematic diagram showing an example in which PM is performed in the second laser generator in the laser crystallization apparatus according to another embodiment of the present invention. Fig.

도 14 내지 도 16을 참조하면, 상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기(210), 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기(220), 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기(230), 제4 레이저 빔을 발생시키는 제4 레이저 발생기(240), 제5 레이저 빔을 발생시키는 제5 레이저 발생기(250), 제6 레이저 빔을 발생시키는 제6 레이저 발생기(260), 및 제7 레이저 빔을 발생시키는 제7 레이저 발생기(270)를 포함한다. 14 to 16, the laser generator includes a first laser generator 210 for generating a first laser beam, a second laser generator 220 for generating a second laser beam, a second laser generator 220 for generating a third laser beam, A third laser generator 230 for generating a third laser beam, a fourth laser generator 240 for generating a fourth laser beam, a fifth laser generator 250 for generating a fifth laser beam, a sixth laser generator for generating a sixth laser beam 260, and a seventh laser generator 270 for generating a seventh laser beam.

상기 광학계(205)는, 상기 제1 레이저 빔 또는 상기 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터(312)와, 상기 상기 제3 레이저 빔 또는 상기 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제2 스플리터(332)와, 상기 상기 제3 레이저 빔, 상기 제5 레이저 빔, 상기 제6 레이저 빔, 또는 상기 제7 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제3 스플리터(334)와, 상기 제3 레이저 빔, 상기 제4 레이저 빔, 상기 제5 레이저 빔, 제6 레이저 빔, 또는 제7 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제4 스플리터(336)와, 상기 제5 레이저 빔, 상기 제6 레이저 빔, 또는 상기 제7 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제5 스플리터(338)를 포함한다.The optical system 205 includes a first splitter 312 for reflecting part of the first laser beam or the second laser beam and transmitting the remaining part of the second laser beam and a part of the third laser beam or a part of the fourth laser beam A second laser beam, a fifth laser beam, a sixth laser beam, or a part of the seventh laser beam and reflects a part of the third laser beam, the sixth laser beam, or the seventh laser beam, A fourth splitter 334 for reflecting a part of the third laser beam, the fourth laser beam, the fifth laser beam, the sixth laser beam, or the seventh laser beam, And a fifth splitter 338 that reflects part of the fifth laser beam, the sixth laser beam, or the seventh laser beam and transmits the remaining part of the fifth laser beam, the sixth laser beam, or the seventh laser beam.

또한, 상기 광학계(205)는, 상기 제1 레이저 발생기(210)에서 입사된 제1 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러(212)와, 상기 제1 스플리터(312)에서 반사된 제2 레이저 빔과 상기 제1 스플리터(312)에서 투과된 제1 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러(222)와, 상기 제2 스플리터(332)에서 반사된 제3 레이저 빔과 상기 제2 스플리터(332)에서 투과된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제3 고정 미러(232)와, 상기 제4 레이저 발생기(240)에서 입사된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제4 고정 미러(242)와, 상기 제5 스플리터(338)에서 투과된 제5 레이저 빔과 상기 제5 스플리터(338)에서 반사된 제6 레이저 빔과 상기 제5 스플리터(338)에서 반사된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제5 고정 미러(252)와, 상기 제6 레이저 발생기(260)에서 입사된 제6 레이저 빔과 상기 제7 레이저 발생기(270)에서 입사된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제6 고정 미러(262)와, 상기 제3 스플리터(334)에서 반사된 제3 레이저 빔과, 상기 제5 스플리터(338)에서 반사된 제5 레이저 빔과, 상기 제5 스플리터(338)에서 투과된 제6 레이저 빔과, 상기 제5 스플리터(338)에서 투과된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제7 고정 미러(214)와, 상기 제4 스플리터(336)에서 반사된 제3 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터(336)에서 반사된 제4 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터(336)에서 투과된 제5 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터(336)에서 투과된 제6 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터(336)에서 투과된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제8 고정 미러(216)와, 상기 제7 레이저 발생기(270)에서 입사된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제9 고정 미러(272)를 포함한다.The optical system 205 includes a first fixed mirror 212 for reflecting all of the first laser beam incident from the first laser generator 210 and a second fixed mirror 212 for reflecting the second laser beam reflected from the first splitter 312. [ A second fixed mirror 222 for reflecting all of the laser beam and the first laser beam transmitted from the first splitter 312 and a second fixed mirror 222 for reflecting the third laser beam reflected from the second splitter 332 and the second splitter 332. [ A third fixed mirror 232 that reflects all of the fourth laser beam transmitted through the third laser beam generator 332 and a fourth fixed mirror 242 that reflects all of the fourth laser beam incident from the fourth laser generator 240 A fifth laser beam transmitted by the fifth splitter 338, a sixth laser beam reflected by the fifth splitter 338, and a seventh laser beam reflected by the fifth splitter 338, A fifth fixed mirror 252 that reflects the laser beam from the sixth laser generator 260, A sixth fixed mirror 262 for reflecting all of the seventh laser beam incident from the seventh laser generator 270, a third laser beam reflected from the third splitter 334, Which reflects all of the fifth laser beam reflected from the fifth splitter 338, the sixth laser beam transmitted from the fifth splitter 338, and the seventh laser beam transmitted from the fifth splitter 338, A third laser beam reflected by the fourth splitter 336, a fourth laser beam reflected by the fourth splitter 336, and a fourth laser beam reflected by the fourth splitter 336, An eighth fixed mirror 216 for reflecting all of the seventh laser beam transmitted by the fourth splitter 336 and the sixth laser beam transmitted by the fourth splitter 336, 7 includes a ninth fixed mirror 272 that reflects all of the seventh laser beam incident from the laser generator 270 .

또한, 상기 광학계(205)는, 상기 제1 레이저 발생기(210)의 전단에 위치하며, 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제1 이동 미러(211)와, 상기 제2 레이저 발생기(220)의 전단에 위치하며, 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제2 이동 미러(221)와, 상기 제3 레이저 발생기(230)의 전단에 위치하며, 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제3 이동 미러(231), 및 상기 제4 레이저 발생기(240)의 전단에 위치하며, 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제4 이동 미러(241)와, 상기 제5 레이저 발생기(250)의 전단에 위치하며, 상기 제5 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제5 이동 미러(251), 및 상기 제6 레이저 발생기(260)의 전단에 위치하며, 상기 제6 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제6 이동 미러(261)를 포함한다.The optical system 205 includes a first moving mirror 211 positioned at a front end of the first laser generator 210 and moving on the path of the first laser beam, A second moving mirror 221 positioned at a front end of the third laser beam 230 and moving on the path of the second laser beam, A fourth moving mirror 241 positioned at the front end of the fourth laser generator 240 and moved on the path of the fourth laser beam, A fifth moving mirror 251 located at a front end of the fifth laser beam 250 and being moved on the path of the fifth laser beam and a fourth moving mirror 252 located at a front end of the sixth laser beam generator 260, And a sixth movable mirror 261 which is moved on the second movable mirror 261.

상기 제1 이동 미러(211)는, 상기 제1 레이저 발생기(210)가 PM 진행되는 경우 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제2 이동 미러(221)는, 상기 제2 레이저 발생기(220)가 PM 진행되는 경우 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제3 이동 미러(231)는, 상기 제3 레이저 발생기(230)가 PM 진행되는 경우 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제4 이동 미러(241)는, 상기 제4 레이저 발생기(240)가 PM 진행되는 경우 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제5 이동 미러(251)는, 상기 제5 레이저 발생기(250)가 PM 진행되는 경우 상기 제5 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고, 상기 제6 이동 미러(261)는, 상기 제6 레이저 발생기(260)가 PM 진행되는 경우 상기 제6 레이저 빔의 경로 상으로 이동될 수 있다. The first moving mirror 211 is moved on the path of the first laser beam when the first laser generator 210 is advanced by PM and the second moving mirror 221 is moved on the path of the first laser beam, The third moving mirror 231 moves on the path of the third laser beam when the third laser generator 230 moves in the PM direction, And the fourth moving mirror 241 is moved on the path of the fourth laser beam when the fourth laser generator 240 moves in the PM direction and the fifth moving mirror 251 is moved on the path of the fourth laser beam, When the fifth laser generator 250 is moved in the PM direction, the sixth moving mirror 261 moves on the fifth laser beam path, and when the sixth laser generator 260 moves in the PM direction, 6 < / RTI > laser beam.

레이저 빔은 텔레스코프 렌즈(405)를 지나, 호모나이저(505), 및 원주 렌즈(605, 705)를 통과하여 선형 레이저빔(LB)을 형성한다.The laser beam passes through the telescope lens 405, passes through the homogenizer 505, and the cylindrical lenses 605 and 705 to form a linear laser beam LB.

상기 제1 이동 미러 내지 제6 이동 미러(211, 221, 231, 241, 251, 261)는, 상기 제1 레이저 발생기 내지 제6 레이저 발생기(210, 220, 230, 240, 250, 260)의 PM 시작 신호에 대응하여 이동될 수 있다.The first moving mirror to the sixth moving mirror 211, 221, 231, 241, 251, and 261 are disposed at positions corresponding to the PMs of the first to sixth laser generators 210, 220, 230, 240, May be moved in response to the start signal.

각 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 경우, 레이저 발생기가 홀수인 경우인 도 4 내지 도 6, 및 도 11 내지 도 13의 경우와 유사하게 각 레이저 빔의 경로가 형성되므로, 이하 레이저 빔의 경로 설명은 생략한다.Since the path of each laser beam is formed similarly to the cases of FIGS. 4 to 6 and 11 to 13, in which the laser generator is PM, the laser beam path description is as follows. It is omitted.

한편, 또 다른 실시예에 따른 레이저 결정화 장치에서, 레이저 발생기의 수는 7개를 초과하여 구비하도록 구성할 수 있으며, 레이저 발생기의 수가 홀 수인 경우 도 4 내지 도 6, 및 도 11 내지 도 16의 구성과 유사하게, 복수의 고정 미러 및 복수의 이동 미러를 포함하도록 구성할 수 있다. 또한, 레이저 발생기의 수가 짝 수인 경우, 도 2 내지 도 3, 및 도 7 내지 도 10의 구성과 유사하게, 복수의 고정 미러를 포함하도록 구성할 수 있다. 또한, 레이저 발생기의 수가 늘어날수록 최종 선형 레이저 빔의 크기는 증가될 수 있으며, 단위 면적당 빔 에너지 밀도는 동일할 수 있다. On the other hand, in the laser crystallization apparatus according to another embodiment, the number of the laser generators may be more than seven, and when the number of the laser generators is a multiple of four, Similar to the configuration, can be configured to include a plurality of fixed mirrors and a plurality of movable mirrors. Further, when the number of laser generators is even, it can be configured to include a plurality of fixed mirrors similarly to the configurations of Figs. 2 to 3 and Figs. 7 to 10. Further, as the number of the laser generators increases, the size of the final linear laser beam can be increased, and the beam energy density per unit area can be the same.

이와 같이, 제1 레이저 발생기(210) 내지 제5 레이저 발생기(250) 중 어느 하나의 레이저 발생기에서 PM이 실시되는 경우 다른 네 레이저 발생기에서 레이저 발진이 계속되므로, PM에 따른 설비 중지 없이 지속적인 결정화 공정이 가능하다.As described above, when PM is performed in any one of the first to fifth laser generators 210 to 250, laser oscillation continues in the other four laser generators. Therefore, the continuous crystallization process This is possible.

본 발명의 실시예들에 따르면, 레이저 결정화 장치의 정기 PM(튜브 내 가스교체, 레이저 윈도우 교체)에 의한 설비의 정지 시간을 제로화할 수 있다. According to the embodiments of the present invention, it is possible to zero the stoppage time of the facility by the regular PM (gas replacement in the tube, laser window replacement) of the laser crystallization apparatus.

또한, 총 에너지 발진량은 변화가 없으면서, 정기 PM 시간 및 튜브 내 가스 패시베이션 시간을 확보할 수 있어, 튜브 성능의 장기 신뢰성을 확보할 수 있다. 즉, 튜브 교체 주기를 늘릴 수 있다. Further, the periodic PM time and the gas passivation time in the tube can be ensured without changing the total energy oscillation amount, and long-term reliability of the tube performance can be ensured. That is, the tube replacement cycle can be increased.

또한, 안정적인 빔 에너지를 발진시킬 수 있으므로 기판 품질이 향상될 수 있다. Further, stable beam energy can be oscillated, so that the substrate quality can be improved.

또한, 레이저 튜브 교체시에도 설비 정지 없이 지속적인 생산이 가능하다.Also, when the laser tube is replaced, continuous production is possible without stopping the equipment.

또한, 레이저 이상 발생에 의한 점검 및 조치 시에도 설비 정지 없이 지속적인 생산이 가능하다.In addition, continuous production without stopping the facility is possible even in the case of the inspection and the action by the occurrence of the laser abnormality.

본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the following claims. Those who are engaged in the technology field will understand easily.

150: 레이저 발생기 200: 광학계
300: 스테이지 100: 대상 기판
110: 대상 박막
400, 401, 402, 403, 404, 405: 텔레스코프 렌즈
500, 501, 502, 503, 504, 505: 호모지나이저
600, 601, 602, 603, 604, 605, 701, 702, 703, 704, 705: 원주 렌즈
210: 제1 레이저 발생기 220: 제2 레이저 발생기
230: 제3 레이저 발생기 240: 제4 레이저 발생기
250: 제5 레이저 발생기 260: 제6 레이저 발생기
270: 제7 레이저 발생기
312: 제1 스플리터 314: 제2 스플리터
316: 제3 스플리터 332: 제4 스플리터
338: 제5 스플리터
212: 제1 고정 미러 222: 제2 고정 미러
232: 제3 고정 미러 242: 제4 고정 미러
214: 제5 고정 미러 216: 제6 고정 미러
252: 제7 고정 미러
211: 제1 이동 미러 221: 제2 이동 미러
231: 제3 이동 미러 241: 제4 이동 미러
251: 제5 이동 미러 261: 제6 이동 미러150: laser generator 200: optical system
300: stage 100: target substrate
110: target thin film
400, 401, 402, 403, 404, 405: telescope lens
500, 501, 502, 503, 504, 505: Homogenizer
600, 601, 602, 603, 604, 605, 701, 702, 703, 704, 705:
210: first laser generator 220: second laser generator
230: third laser generator 240: fourth laser generator
250: fifth laser generator 260: sixth laser generator
270: seventh laser generator
312: first splitter 314: second splitter
316: Third splitter 332: Fourth splitter
338: fifth splitter
212: first fixed mirror 222: second fixed mirror
232: third fixed mirror 242: fourth fixed mirror
214: fifth fixed mirror 216: sixth fixed mirror
252: seventh fixed mirror
211: first moving mirror 221: second moving mirror
231: Third moving mirror 241: Fourth moving mirror
251: fifth moving mirror 261: sixth moving mirror

Claims (15)

P 편광 및 S편광을 포함하는 레이저 빔을 발생시키는 적어도 하나의 레이저 발생기;
상기 레이저 빔을 전부 반사시키는 적어도 하나의 미러(mirror)와, 상기 레이저 빔의 일부는 반사시키고, 상기 레이저 빔의 일부는 투과시키는 적어도 하나의 스플리터(splitter)를 포함하여 상기 레이저 빔을 광변환시키는 광학계; 및
상기 광변환된 레이저 빔이 조사되어 레이저 결정화되는 대상 기판이 탑재되는 스테이지를 포함하는 레이저 결정화 장치.At least one laser generator for generating a laser beam including P polarized light and S polarized light;
At least one mirror for totally reflecting the laser beam and at least one splitter for reflecting a part of the laser beam and transmitting a part of the laser beam so that the laser beam is photo- Optical system; And
And a stage on which a target substrate to be laser-crystallized by irradiating the photo-converted laser beam is mounted. 제 1 항에서,
상기 광학계는,
상기 미러 및 상기 스플리터로부터 입사되는 레이저 빔의 크기를 확대하는 텔레스코프 렌즈(telescope lens);
상기 텔레스코프 렌즈를 통과한 상기 레이저 빔을 균일화시키는 호모지나이저(homogenizer); 및
상기 호모지나이저를 통과한 상기 레이저 빔의 크기와 초점을 조절하여 선형 레이저 빔을 형성하는 복수의 원주 렌즈(cylindrical lens)를 포함하는 레이저 결정화 장치.The method of claim 1,
The optical system includes:
A telescope lens for enlarging a size of a laser beam incident from the mirror and the splitter;
A homogenizer for homogenizing the laser beam passed through the telescope lens; And
And a plurality of cylindrical lenses for adjusting a size and a focus of the laser beam passing through the homogenizer to form a linear laser beam. 제 1 항에서,
상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기 및 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기를 포함하고,
상기 광학계는,
상기 제1 레이저 빔 또는 상기 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터와,
상기 제1 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔 또는 상기 제1 스플리터에서 투과된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러, 및
상기 제2 레이저 발생기에서 입사된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러를 포함하는 레이저 결정화 장치.The method of claim 1,
Wherein the laser generator comprises a first laser generator for generating a first laser beam and a second laser generator for generating a second laser beam,
The optical system includes:
A first splitter for reflecting part of the first laser beam or the second laser beam and transmitting the remaining part,
A first fixed mirror for reflecting all of the first laser beam reflected by the first splitter or the second laser beam transmitted by the first splitter,
And a second fixed mirror for reflecting all of the second laser beam incident from the second laser generator. 제 1 항에서,
상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기, 및 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기를 포함하고,
상기 광학계는,
상기 제1 레이저 빔, 상기 제2 레이저 빔, 또는 상기 제3 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터와,
상기 제1 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔, 상기 제1 스플리터에서 투과된 제2 레이저 빔, 또는 상기 제1 스플리터에서 투과 또는 반사된 제3 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러와,
상기 제2 레이저 발생기에서 입사된 제2 레이저 빔 또는 상기 제3 레이저 발생기에서 입사된 제3 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러와,
상기 제3 레이저 발생기에서 입사된 제3 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제3 고정 미러와,
상기 제1 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제1 이동 미러, 및
상기 제2 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제2 이동 미러를 포함하는 레이저 결정화 장치.The method of claim 1,
Wherein the laser generator comprises a first laser generator for generating a first laser beam, a second laser generator for generating a second laser beam, and a third laser generator for generating a third laser beam,
The optical system includes:
A first splitter for reflecting part of the first laser beam, the second laser beam, or the third laser beam and transmitting the remaining part,
A first fixed mirror for reflecting all of a first laser beam reflected by the first splitter, a second laser beam transmitted by the first splitter, or a third laser beam transmitted or reflected by the first splitter,
A second fixed mirror for reflecting all of the second laser beam incident from the second laser generator or the third laser beam incident from the third laser generator,
A third fixed mirror for reflecting all of the third laser beam incident from the third laser generator,
A first moving mirror positioned at a front end of the first laser generator and being moved on a path of the first laser beam,
And a second moving mirror positioned at a front end of the second laser generator and moved on a path of the second laser beam. 제 4 항에서,
상기 제1 이동 미러는,
상기 제1 레이저 발생기가 교체 작업(PM) 진행되는 경우 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고,
상기 제2 이동 미러는,
상기 제2 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 레이저 결정화 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the first moving mirror comprises:
The first laser generator is moved on the path of the first laser beam when the replacement work (PM) proceeds,
Wherein the second moving mirror comprises:
And moves on the path of the second laser beam when the second laser generator advances. 제 4 항에서,
상기 제1 이동 미러 및 제2 이동 미러는,
상기 제1 레이저 발생기 및 제2 레이저 발생기의 PM 시작 신호에 대응하여 이동되는 레이저 결정화 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the first moving mirror and the second moving mirror comprise:
Wherein the laser beam is moved in response to a PM start signal of the first laser generator and the second laser generator. 제 1 항에서,
상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기, 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기, 및 제4 레이저 빔을 발생시키는 제4 레이저 발생기를 포함하고,
상기 광학계는,
상기 제1 레이저 빔 또는 상기 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터와,
상기 제1 레이저 빔, 상기 제2 레이저 빔, 상기 제3 레이저 빔, 또는 상기 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제2 스플리터와,
상기 제1 레이저 빔, 상기 제2 레이저 빔, 상기 제3 레이저 빔, 또는 상기 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제3 스플리터와,
상기 제3 레이저 빔 또는 상기 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제4 스플리터와,
상기 제1 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔, 상기 제1 스플리터에서 투과된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러와,
상기 제2 레이저 발생기에서 입사된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러와,
상기 제4 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔 또는 상기 제4 스플리터에서 반사된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제3 고정 미러와,
상기 제4 레이저 발생기에서 입사된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제4 고정 미러와,
상기 제2 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔, 또는 상기 제2 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔과 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제5 고정 미러, 및
상기 제3 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔, 또는 상기 제3 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔과 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제6 고정 미러를 포함하는 레이저 결정화 장치.The method of claim 1,
The laser generator includes a first laser generator for generating a first laser beam, a second laser generator for generating a second laser beam, a third laser generator for generating a third laser beam, and a fourth laser generator for generating a fourth laser beam, A laser generator,
The optical system includes:
A first splitter for reflecting part of the first laser beam or the second laser beam and transmitting the remaining part,
A second splitter for reflecting part of the first laser beam, the second laser beam, the third laser beam, or the fourth laser beam and transmitting the remaining part;
A third splitter for reflecting part of the first laser beam, the second laser beam, the third laser beam, or the fourth laser beam and transmitting the remaining part;
A fourth splitter for reflecting part of the third laser beam or the fourth laser beam and transmitting the remaining part,
A first fixed mirror for reflecting all of the first laser beam reflected by the first splitter, the second laser beam transmitted by the first splitter,
A second fixed mirror for reflecting all of the second laser beam incident from the second laser generator,
A third fixed mirror for reflecting all of the third laser beam transmitted by the fourth splitter or the fourth laser beam reflected by the fourth splitter,
A fourth fixed mirror for reflecting all of the fourth laser beam incident from the fourth laser generator,
A fifth fixed mirror for reflecting all of the third laser beam and the fourth laser beam reflected by the second splitter or the second laser beam or the second laser beam reflected by the second splitter,
And a sixth fixed mirror for reflecting the entirety of the third laser beam and the fourth laser beam reflected by the third splitter or the second laser beam or the third laser beam reflected by the third splitter. 제 1 항에서,
상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기, 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기, 제4 레이저 빔을 발생시키는 제4 레이저 발생기, 및 제5 레이저 빔을 발생시키는 제5 레이저 발생기를 포함하고,
상기 광학계는,
상기 제1 레이저 빔 또는 상기 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터와,
상기 제1 레이저 빔, 상기 제2 레이저 빔, 상기 제3 레이저 빔, 상기 제4 레이저 빔, 또는 상기 제5 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제2 스플리터와,
상기 제1 레이저 빔, 상기 제2 레이저 빔, 상기 제3 레이저 빔, 상기 제4 레이저 빔, 또는 상기 제5 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제3 스플리터와,
상기 제3 레이저 빔, 상기 제4 레이저 빔, 또는 상기 제5 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제4 스플리터와,
상기 제1 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔, 상기 제1 스플리터에서 투과된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러와,
상기 제2 레이저 발생기에서 입사된 제2 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러와,
상기 제4 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔, 상기 제4 스플리터에서 반사된 제4 레이저 빔, 또는 상기 제4 스플리터에서 반사된 제5 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제3 고정 미러와,
상기 제4 레이저 발생기에서 입사된 제4 레이저 빔 또는 상기 제5 레이저 발생기에서 입사된 제5 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제4 고정 미러와,
상기 제2 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔과 제5 레이저 빔, 또는 상기 제2 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔, 제4 레이저 빔, 제5 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제5 고정 미러와,
상기 제3 스플리터에서 반사된 제1 레이저 빔과 제2 레이저 빔 또는 상기 제3 스플리터에서 투과된 제3 레이저 빔, 제4 레이저 빔, 제5 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제6 고정 미러와,
상기 제5 레이저 발생기에서 입사된 제5 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제7 고정 미러와
상기 제1 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제1 이동 미러와,
상기 제2 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제2 이동 미러와,
상기 제3 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제3 이동 미러, 및
상기 제4 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제4 이동 미러를 포함하는 레이저 결정화 장치.The method of claim 1,
The laser generator includes a first laser generator for generating a first laser beam, a second laser generator for generating a second laser beam, a third laser generator for generating a third laser beam, a fourth laser for generating a fourth laser beam, And a fifth laser generator for generating a fifth laser beam,
The optical system includes:
A first splitter for reflecting part of the first laser beam or the second laser beam and transmitting the remaining part,
A second splitter for reflecting part of the first laser beam, the second laser beam, the third laser beam, the fourth laser beam, or the fifth laser beam and transmitting the remaining part;
A third splitter that reflects part of the first laser beam, the second laser beam, the third laser beam, the fourth laser beam, or the fifth laser beam and transmits the remaining part;
A fourth splitter that reflects part of the third laser beam, the fourth laser beam, or the fifth laser beam and transmits a part of the third laser beam,
A first fixed mirror for reflecting all of the first laser beam reflected by the first splitter, the second laser beam transmitted by the first splitter,
A second fixed mirror for reflecting all of the second laser beam incident from the second laser generator,
A third fixed mirror for reflecting all of the third laser beam transmitted by the fourth splitter, the fourth laser beam reflected by the fourth splitter, or the fifth laser beam reflected by the fourth splitter,
A fourth fixed mirror for reflecting all of the fourth laser beam incident from the fourth laser generator or the fifth laser beam incident from the fifth laser generator,
A fifth fixed mirror that reflects all of the third laser beam, the fourth laser beam, and the fifth laser beam reflected by the second splitter, the fifth laser beam reflected by the second splitter, or the fifth laser beam reflected by the second splitter,
A sixth fixed mirror for reflecting all of the third laser beam, the fourth laser beam, and the fifth laser beam reflected by the third splitter and transmitted by the second laser beam or the third splitter,
A seventh fixed mirror for reflecting all of the fifth laser beam incident from the fifth laser generator,
A first moving mirror positioned at a front end of the first laser generator and moved on a path of the first laser beam,
A second moving mirror positioned at a front end of the second laser generator and moved on a path of the second laser beam,
A third moving mirror positioned at a front end of the third laser generator and moved on a path of the third laser beam,
And a fourth moving mirror positioned at a front end of the fourth laser generator and being moved on a path of the fourth laser beam. 제 8 항에서,
상기 제1 이동 미러는,
상기 제1 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고,
상기 제2 이동 미러는,
상기 제2 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고,
상기 제3 이동 미러는,
상기 제3 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고,
상기 제4 이동 미러는,
상기 제4 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 레이저 결정화 장치.9. The method of claim 8,
Wherein the first moving mirror comprises:
Wherein when the first laser generator is advanced, the laser beam is moved along the path of the first laser beam,
Wherein the second moving mirror comprises:
Wherein when the second laser generator is advanced, the laser beam is moved along a path of the second laser beam,
Wherein the third moving mirror comprises:
Wherein when the third laser generator is advanced, the laser beam is moved along the path of the third laser beam,
Wherein the fourth moving mirror comprises:
And moves on the path of the fourth laser beam when the fourth laser generator progresses through PM. 제 8 항에서,
상기 제1 이동 미러 내지 제4 이동 미러는,
상기 제1 레이저 발생기 내지 제4 레이저 발생기의 PM 시작 신호에 대응하여 이동되는 레이저 결정화 장치.9. The method of claim 8,
The first moving mirror to the fourth moving mirror,
Wherein the laser beam is moved corresponding to a PM start signal of the first to fourth laser generators. 제 1 항에서,
상기 레이저 발생기에서 발생되는 레이저 빔은 랜덤 편광성인 레이저 결정화 장치. The method of claim 1,
Wherein the laser beam generated from the laser generator is randomly polarized. 제 1 항에서,
상기 스플리터는 상기 레이저 빔의 50%의 P편광은 투과시키고, 50%의 S편광은 반사시키는 레이저 결정화 장치.The method of claim 1,
Wherein said splitter transmits 50% of P-polarized light of said laser beam and reflects 50% of S-polarized light. 제 1 항에서,
상기 레이저 발생기는 제1 레이저 빔을 발생시키는 제1 레이저 발생기, 제2 레이저 빔을 발생시키는 제2 레이저 발생기, 제3 레이저 빔을 발생시키는 제3 레이저 발생기, 제4 레이저 빔을 발생시키는 제4 레이저 발생기, 제5 레이저 빔을 발생시키는 제5 레이저 발생기, 제6 레이저 빔을 발생시키는 제6 레이저 발생기, 및 제7 레이저 빔을 발생시키는 제7 레이저 발생기를 포함하고,
상기 광학계는,
상기 제1 레이저 빔 또는 상기 제2 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제1 스플리터와,
상기 상기 제3 레이저 빔 또는 상기 제4 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제2 스플리터와,
상기 상기 제3 레이저 빔, 상기 제5 레이저 빔, 상기 제6 레이저 빔, 또는 상기 제7레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제3 스플리터와,
상기 제3 레이저 빔, 상기 제4 레이저 빔, 상기 제5 레이저 빔, 제6 레이저 빔, 또는 제7 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제4 스플리터와,
상기 제5 레이저 빔, 상기 제6 레이저 빔, 또는 상기 제7 레이저 빔의 일부는 반사시키고 나머지 일부는 투과시키는 제5 스플리터와,
상기 제1 레이저 발생기에서 입사된 제1 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제1 고정 미러와,
상기 제1 스플리터에서 반사된 제2 레이저 빔과 상기 제1 스플리터에서 투과된 제1레이저 빔의 전부를 반사시키는 제2 고정 미러와,
상기 제2 스플리터에서 반사된 제3 레이저 빔과 상기 제2 스플리터에서 투과된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제3 고정 미러와,
상기 제4 레이저 발생기에서 입사된 제4 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제4 고정 미러와,
상기 제5 스플리터에서 투과된 제5 레이저 빔과 상기 제5 스플리터에서 반사된 제6 레이저 빔과 상기 제5 스플리터에서 반사된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제5 고정 미러와,
상기 제6 레이저 발생기에서 입사된 제6 레이저 빔과 상기 제7 레이저 발생기에서 입사된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제6 고정 미러와,
상기 제3 스플리터에서 반사된 제3 레이저 빔과, 상기 제5 스플리터에서 반사된 제5 레이저 빔과, 상기 제5 스플리터에서 투과된 제6 레이저 빔과, 상기 제5 스플리터에서 투과된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제7 고정 미러와,
상기 제4 스플리터에서 반사된 제3 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터에서 반사된 제4 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터에서 투과된 제5 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터에서 투과된 제6 레이저 빔과, 상기 제4 스플리터에서 투과된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제8 고정 미러와,
상기 제7 레이저 발생기에서 입사된 제7 레이저 빔의 전부를 반사시키는 제9 고정 미러와,
상기 제1 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제1 이동 미러와,
상기 제2 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제2 이동 미러와,
상기 제3 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제3 이동 미러와,
상기 제4 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제4 이동 미러와,
상기 제5 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제5 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제5 이동 미러, 및
상기 제6 레이저 발생기의 전단에 위치하며, 상기 제6 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 제6 이동 미러를 포함하는 레이저 결정화 장치.The method of claim 1,
The laser generator includes a first laser generator for generating a first laser beam, a second laser generator for generating a second laser beam, a third laser generator for generating a third laser beam, a fourth laser for generating a fourth laser beam, A fifth laser generator for generating a fifth laser beam, a sixth laser generator for generating a sixth laser beam, and a seventh laser generator for generating a seventh laser beam,
The optical system includes:
A first splitter for reflecting part of the first laser beam or the second laser beam and transmitting the remaining part,
A second splitter that reflects part of the third laser beam or the fourth laser beam and transmits a part of the third laser beam or the fourth laser beam,
A third splitter that reflects part of the third laser beam, the fifth laser beam, the sixth laser beam, or the seventh laser beam and transmits a part of the third laser beam,
A fourth splitter for reflecting part of the third laser beam, the fourth laser beam, the fifth laser beam, the sixth laser beam, or the seventh laser beam,
A fifth splitter for reflecting part of the fifth laser beam, the sixth laser beam, or the seventh laser beam, and transmitting the remaining part;
A first fixed mirror for reflecting all of the first laser beam incident from the first laser generator,
A second fixed mirror for reflecting all of the second laser beam reflected by the first splitter and the first laser beam transmitted by the first splitter,
A third fixed mirror for reflecting all of the third laser beam reflected by the second splitter and the fourth laser beam transmitted by the second splitter,
A fourth fixed mirror for reflecting all of the fourth laser beam incident from the fourth laser generator,
A fifth fixed mirror for reflecting all of the fifth laser beam transmitted by the fifth splitter, the sixth laser beam reflected by the fifth splitter, and the seventh laser beam reflected by the fifth splitter,
A sixth fixed mirror for reflecting all of the sixth laser beam incident on the sixth laser generator and the seventh laser beam incident on the seventh laser generator,
A third laser beam reflected by the third splitter, a fifth laser beam reflected by the fifth splitter, a sixth laser beam transmitted by the fifth splitter, and a seventh laser beam transmitted by the fifth splitter, A seventh fixed mirror for reflecting all of the light beam,
A fourth laser beam reflected by the fourth splitter, a fourth laser beam reflected by the fourth splitter, a fifth laser beam transmitted by the fourth splitter, and a sixth laser beam transmitted by the fourth splitter, An eighth fixed mirror for reflecting all of the seventh laser beam transmitted from the fourth splitter,
A ninth fixed mirror for reflecting all of the seventh laser beam incident from the seventh laser generator,
A first moving mirror positioned at a front end of the first laser generator and moved on a path of the first laser beam,
A second moving mirror positioned at a front end of the second laser generator and moved on a path of the second laser beam,
A third moving mirror positioned at a front end of the third laser generator and moved on a path of the third laser beam,
A fourth moving mirror positioned at a front end of the fourth laser generator and moved on a path of the fourth laser beam,
A fifth moving mirror positioned at the front end of the fifth laser generator and moved on the path of the fifth laser beam,
And a sixth moving mirror positioned at a front end of the sixth laser generator and moved on a path of the sixth laser beam. 제 13 항에서,
상기 제1 이동 미러는,
상기 제1 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제1 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고,
상기 제2 이동 미러는,
상기 제2 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제2 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고,
상기 제3 이동 미러는,
상기 제3 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제3 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고,
상기 제4 이동 미러는,
상기 제4 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제4 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고,
상기 제5 이동 미러는,
상기 제5 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제5 레이저 빔의 경로 상으로 이동되고,
상기 제6 이동 미러는,
상기 제6 레이저 발생기가 PM 진행되는 경우 상기 제6 레이저 빔의 경로 상으로 이동되는 레이저 결정화 장치.The method of claim 13,
Wherein the first moving mirror comprises:
Wherein when the first laser generator is advanced, the laser beam is moved along the path of the first laser beam,
Wherein the second moving mirror comprises:
Wherein when the second laser generator is advanced, the laser beam is moved along a path of the second laser beam,
Wherein the third moving mirror comprises:
Wherein when the third laser generator is advanced, the laser beam is moved along the path of the third laser beam,
Wherein the fourth moving mirror comprises:
Wherein when the fourth laser generator is advanced, the laser beam is moved along the path of the fourth laser beam,
Wherein the fifth moving mirror comprises:
Wherein when the fifth laser generator is advanced, the laser beam is moved along the path of the fifth laser beam,
Wherein the sixth moving mirror comprises:
And moves on the path of the sixth laser beam when the sixth laser generator proceeds through PM. 제 13 항에서,
상기 제1 이동 미러 내지 제6 이동 미러는,
상기 제1 레이저 발생기 내지 제6 레이저 발생기의 PM 시작 신호에 대응하여 이동되는 레이저 결정화 장치.The method of claim 13,
The first moving mirror to the sixth moving mirror may include:
Wherein the laser beam is moved corresponding to a PM start signal of the first to sixth laser generators.
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