KR20170080311A - Flexible display device - Google Patents

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KR20170080311A
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박창범
문태형
나형일
김정준
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 발명의 플렉서블 표시장치는 외곽영역에 차단 패턴을 형성하여 크랙의 전파를 차단하는 동시에 표시영역의 어레이 구조를 이웃하는 서브-화소와 다르게 배치함으로써 벤딩 스트레스(bending stress)에 의한 표시영역 내부로 크랙이 전파되는 것을 방지하는 것을 특징으로 한다.
이에 따라 본 발명은, 벤딩 스트레스에 의한 소자 및 패널 내의 결함 발생을 방지함으로써 신뢰성을 개선할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 기존 인프라를 이용하여 플렉서블 표시장치를 위해 크게 구부릴 수 있는(highly bendable) 소자 및 백플레인(backplane) 기술을 확보할 수 있는 효과를 제공한다.
The flexible display device of the present invention can prevent a crack from occurring by forming a blocking pattern in an outer area and arrange the display area array structure differently from neighboring sub-pixels so that cracks are generated inside the display area due to bending stress, Thereby preventing propagation of the radio wave.
Accordingly, the present invention provides an effect of improving reliability by preventing the occurrence of defects in devices and panels due to bending stress.
In addition, it provides an advantage of securing highly bendable devices and backplane technology for flexible display devices using existing infrastructure.

Description

플렉서블 표시장치{FLEXIBLE DISPLAY DEVICE}[0001] FLEXIBLE DISPLAY DEVICE [0002]

본 발명은 플렉서블 표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라스틱과 같이 유연한 기판에 구현된 플렉서블 표시장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flexible display device, and more particularly, to a flexible display device implemented on a flexible substrate such as plastic.

최근의 정보화 사회에서 표시장치는 시각정보 전달매체로서 그 중요성이 더 한층 강조되고 있으며, 향후 주요한 위치를 점하기 위해서는 저소비전력화, 박형화, 경량화, 고화질화 등의 요건을 충족시켜야 한다.In recent information society, the importance of display devices as visual information delivery media is getting more emphasized, and in order to take a major position in the future, it is necessary to meet requirements such as low power consumption, thinning, light weight, and high image quality.

표시장치를 접거나 말아서 넣더라도 손상되지 않는 플렉서블(flexible) 표시장치가 표시장치 분야의 새로운 기술로 떠오를 전망이다.A flexible display device that is not damaged even if the display device is folded or rolled is expected to emerge as a new technology in the display device field.

플렉서블 표시장치는 두루말이 표시장치로 불리는데, 플라스틱과 같이 얇은 기판에 구현되어 종이처럼 접거나 말아도 손상되지 않는 것으로 차세대 표시장치의 하나이다. 현재는 1㎜ 이하로 얇게 만들 수 있는 박막 트랜지스터 액정표시장치나 유기전계발광 표시장치, 또는 전기영동 표시장치가 사용될 수 있다.The flexible display device is called a scroll display device. It is implemented on a thin substrate such as plastic, and is one of the next generation display devices in that it is not damaged when folded or rolled like paper. A thin film transistor liquid crystal display device, an organic light emitting display device, or an electrophoretic display device which can be made thin to 1 mm or less can be used.

액정표시장치는 액정의 광학적 이방성을 이용하여 이미지를 표현하는 장치이다. 액정표시장치는 기존의 브라운관에 비해 시인성이 우수하고 평균소비전력도 같은 화면크기의 브라운관에 비해 작을 뿐만 아니라 발열량도 작다.2. Description of the Related Art A liquid crystal display device is an apparatus that expresses an image using optical anisotropy of a liquid crystal. The liquid crystal display device has better visibility than the conventional cathode-ray tube, and the average power consumption is smaller than that of the cathode-ray tube having the same screen size, and the amount of heat generated is also small.

유기전계발광 표시장치는 자체가 스스로 빛을 내기 때문에 어두운 곳이나 외부 빛이 들어올 때도 시인성이 좋다. 또한, 모바일 표시장치의 성능을 판가름하는 중요한 기준인 응답속도가 빠르기 때문에 완벽한 동영상을 구현할 수 있다. 또한, 유기전계발광 표시장치는 초박형 디자인이 가능해 휴대폰 등 각종 모바일 기기를 슬림(slim)화할 수 있다.Since the organic electroluminescent display device itself emits light itself, visibility is good even when it enters a dark place or an outside light. In addition, since the response speed, which is an important criterion for judging the performance of the mobile display device, is fast, a complete moving image can be realized. In addition, the organic light emitting display device can be slim with a variety of mobile devices such as a mobile phone because it is possible to have an ultra-thin design.

이러한 플렉서블 표시장치의 구현을 위해서는 기판의 유연성 확보가 필요하며, 현재 이러한 기판 유연성 확보를 위해서 기존의 유리기판 대신 플라스틱의 플렉서블 기판을 사용하게 된다.In order to realize such a flexible display device, it is necessary to secure the flexibility of the substrate, and in order to secure such a substrate flexibility, a plastic flexible substrate is used instead of the conventional glass substrate.

이하, 유기전계발광 표시장치의 기본적인 구조 및 동작 특성에 대해서 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the basic structure and operating characteristics of the organic light emitting display will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 일반적인 유기발광다이오드의 발광원리를 설명하는 다이어그램이다.1 is a diagram for explaining the principle of light emission of a general organic light emitting diode.

일반적으로 유기전계발광 표시장치는 도 1과 같이, 유기발광다이오드를 구비한다.In general, an organic light emitting display device includes an organic light emitting diode as shown in FIG.

이때, 유기발광다이오드는 화소전극인 양극(anode)(18)과 공통전극인 음극(cathode)(28) 및 이들 사이에 형성된 유기 화합물층(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)으로 구성된다.The organic light emitting diode includes an anode 18 as a pixel electrode, a cathode 28 as a common electrode, and organic compound layers 30a, 30b, 30c, 30d and 30e formed therebetween.

그리고, 유기 화합물층(30a, 30b, 30c, 30d, 30e)은 정공수송층(30b)과 전자수송층(30d) 및 정공수송층(30b)과 전자수송층(30d) 사이에 개재된 발광층(30c)으로 구성된다.The organic compound layers 30a, 30b, 30c, 30d and 30e are composed of a hole transport layer 30b and an electron transport layer 30d, and a light emission layer 30c interposed between the hole transport layer 30b and the electron transport layer 30d .

이때, 발광 효율을 향상시키기 위해서 양극(18)과 정공수송층(30b) 사이에 정공주입층(30a)이 개재되며, 음극(28)과 전자수송층(30d) 사이에 전자주입층(30e)이 개재된다.A hole injection layer 30a is interposed between the anode 18 and the hole transport layer 30b and an electron injection layer 30e is interposed between the cathode 28 and the electron transport layer 30d in order to improve the luminous efficiency. do.

이렇게 구성되는 유기발광다이오드는 양극(18)과 음극(28)에 각각 양(+)과 음(-)의 전압이 인가되면, 정공수송층(30b)을 통과한 정공과 전자수송층(30d)을 통과한 전자가 발광층(30c)으로 이동되어 엑시톤(exciton)을 형성한다. 그리고, 그 엑시톤이 여기상태(excited state)에서 기저상태, 즉 안정한 상태(stable state)로 천이될 때 빛이 발생된다.When the positive and negative voltages are applied to the anode 18 and the cathode 28, the organic light emitting diode having the above structure passes through the hole transporting layer 30b and the electron transporting layer 30d One electron is moved to the light emitting layer 30c to form an exciton. Then, light is generated when the exciton transitions from an excited state to a ground state, that is, a stable state.

유기전계발광 표시장치는 전술한 구조의 유기발광다이오드를 가지는 서브-화소를 매트릭스 형태로 배열하고 그 서브-화소들을 데이터전압과 스캔전압으로 선택적으로 제어함으로써 화상을 표시한다.An organic light emitting display displays an image by arranging sub-pixels having organic light emitting diodes of the above-described structure in a matrix form and selectively controlling the sub-pixels with a data voltage and a scan voltage.

이때, 유기전계발광 표시장치는 수동 매트릭스(passive matrix) 방식 또는 스위칭소자로써 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT)를 이용하는 능동 매트릭스(active matrix) 방식으로 나뉘어진다. 이 중 능동 매트릭스 방식은 능동소자인 TFT를 선택적으로 턴-온(turn on)시켜 서브-화소를 선택하고 스토리지 커패시터에 유지되는 전압으로 서브-화소의 발광을 유지한다.At this time, the organic light emitting display device is divided into an active matrix method using a thin film transistor (TFT) as a passive matrix type or a switching element. The active matrix method selectively turns on the active element TFT to select the sub-pixel and maintains the emission of the sub-pixel with the voltage held in the storage capacitor.

이와 같이 구동되는 일반적인 유기전계발광 표시장치는 다수의 TFT와 유기발광다이오드가 형성된 기판과 기판 위에 형성되는 봉지층(encapsulation layer)으로 이루어진다.A typical organic light emitting display device driven in this manner includes a substrate on which a plurality of TFTs and organic light emitting diodes are formed, and an encapsulation layer formed on the substrate.

이러한 유기전계발광 표시장치를 플렉서블 표시장치로 제작하기 위해서는 통상 유연성을 가지는 재료를 기초로 하여 TFT 어레이와 유기발광다이오드를 형성하게 된다.In order to fabricate such an organic light emitting display device with a flexible display device, a TFT array and an organic light emitting diode are formed based on a material having flexibility.

플렉서블 표시장치의 기판 재료로는 PET(Polyethylene Terephthalate)이나 PEN 등의 플라스틱, 또는 메탈 포일(metal foil) 등을 적용하며, 유연성을 가지는 TFT 소자 재료로는 유기물(organic)이나 가용성 옥사이드(soluble oxide) 등을 활용할 수 있다.As the substrate material of the flexible display device, plastic such as PET (polyethylene terephthalate) or PEN, metal foil or the like may be used. As the flexible TFT device material, organic or soluble oxide may be used. And the like.

다만, 아직까지는 무기 소자 및 백플레인(backplane)을 이용한 플렉서블 패널의 제작 시 박형화 및 중립 면 이용 등의 기술 이외에 소자 및 어레이의 구조 변경을 적용하여 유연성을 높이는 기술은 매우 제한적이다.However, the technology for increasing the flexibility by applying structural modification of devices and arrays is very limited, in addition to the technology of thinning and neutral plane when manufacturing flexible panels using inorganic devices and backplanes.

전술한 바와 같이 플렉서블 표시장치 제작 시, 통상 플렉서블 기판 위에 유기 및 무기 재료를 이용하여 TFT를 제작하고 있으며, 이는 곧 전체적인 유연성 정도가 기판 자체의 유연성에 절대적으로 의존한다는 것을 보여준다. 또한, 소자 형성 전에 기판 자체의 유연성 향상이 전체적인 유연성을 극대화할 수 있는 방법임을 반증한다.As described above, when a flexible display device is manufactured, TFTs are usually formed on a flexible substrate using organic and inorganic materials, which indicates that the overall degree of flexibility is absolutely dependent on the flexibility of the substrate itself. It also proves that the flexibility of the substrate itself before the device formation is a way to maximize the overall flexibility.

다만, 플렉서블 기판 위에 소자를 제작할 때, 또는 제작 후 기판의 연속적인 벤딩 이후 발생하는 물리적인 스트레스는 기판 전체에 영향을 준다. 이는 다시 TFT 어레이 및 유기발광다이오드의 각 층에 스트레스로 작용하여 크랙 등 소자 내에 물리적인 결함을 발생시킬 수 있는 요인으로 작용한다.However, when manufacturing devices on a flexible substrate, or after bending the substrate after fabrication, physical stresses affect the entire substrate. This again acts as a stress on the respective layers of the TFT array and the organic light emitting diode, thereby causing a physical defect in the device such as a crack.

즉, 기존 방법은 일정 정도의 벤딩 스트레스에 유연할 수 있는 백플레인을 제공할 수는 있으나, 극도의 벤딩 스트레스에 대한 소자의 신뢰성의 확보가 어렵다는 단점을 내재하고 있다.That is, although the conventional method can provide a backplane that is flexible to a certain level of bending stress, it has a disadvantage that it is difficult to secure reliability of the device against extreme bending stress.

본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 패널 및 백플레인 벤딩 시 발생하는 기계적인 스트레스에 의한 소자 및 패널 내의 결함 발생을 방지할 수 있는 플렉서블 표시장치를 제공하는데 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide a flexible display device capable of preventing the occurrence of defects in devices and panels due to mechanical stress that occurs during panel and backplane bending.

기타, 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 후술되는 발명의 구성 및 특허청구범위에서 설명될 것이다.Other objects and features of the present invention will be described in the following description of the invention and the claims.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 기판의 비표시영역의 외곽에 배치되어 크랙 발생 시 크랙의 전파를 차단하는 다수의 차단 패턴 및 상기 서브-화소에 구비되되, 이웃하는 서브-화소와 다른 배치를 가지는 TFT와 전계발광(EL)영역을 포함하여 구성될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a flexible display device including: a plurality of barrier patterns disposed at a periphery of a non-display area of a substrate to block crack propagation when cracks occur; A TFT having a layout different from the neighboring sub-pixels, and an electroluminescent (EL) region.

이때, 상기 차단 패턴은 다수의 열을 구성하도록 배치될 수 있다.At this time, the blocking pattern may be arranged to form a plurality of rows.

이때, 상기 차단 패턴은 이웃하는 열의 차단 패턴에 대해 엇갈리게 배치될 수 있다.At this time, the blocking pattern may be staggered with respect to the blocking pattern of the neighboring rows.

홀수 번째 열의 차단 패턴 및 짝수 번째 열의 차단 패턴 각각은 동일한 배치를 이루며, 상기 홀수 번째 열의 차단 패턴과 상기 짝수 번째 열의 차단 패턴이 서로 엇갈리게 배치될 수 있다.The odd-numbered row blocking pattern and the even-numbered row blocking pattern are arranged in the same arrangement, and the blocking pattern of the odd-numbered column and the blocking pattern of the even-numbered column may be staggered from each other.

상기 차단 패턴은 열을 구성하지 않고 무작위로 배치될 수 있다.The blocking pattern may be randomly arranged without forming a column.

상기 차단 패턴은 앞 열의 차단 패턴들 사이의 공간에 대응하는 위치에 뒤 열의 차단 패턴들이 배치될 수 있다.The blocking patterns may be arranged in the rear row at positions corresponding to spaces between the blocking patterns in the front row.

상기 차단 패턴은 상기 TFT를 구성하는 게이트 배선이나 데이터 배선과 동일 층상에 동일 물질로 이루어질 수 있다.The blocking pattern may be formed of the same material on the same layer as the gate wiring and the data wiring constituting the TFT.

상기 서브-화소는, 홀수 번째 열의 서브-화소의 게이트전극이 홀수 번째 행의 게이트라인에 연결되도록 구성되며, 짝수 번째 열의 서브-화소의 게이트전극이 짝수 번째 행의 게이트라인에 연결되도록 구성될 수 있다.The sub-pixel may be configured such that the gate electrode of the odd-numbered column sub-pixel is connected to the gate line of the odd-numbered row, and the gate electrode of the even-numbered column sub-pixel is connected to the gate line of the even- have.

상기 EL영역은 짝수 번째 열의 EL영역이 홀수 번째 열의 EL영역에 대해 뒤집어진 형태를 가질 수 있다.The EL region may have a shape in which the EL region of the even-numbered column is inverted with respect to the EL region of the odd-numbered column.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 백플레인 제작 후 벤딩 스트레스(bending stress)에 의한 표시영역 내부로 크랙이 전파되는 것을 방지하는 것을 특징으로 한다.As described above, the flexible display device according to an embodiment of the present invention is characterized in that cracks are prevented from propagating into the display area due to bending stress after fabrication of the backplane.

이에 따라 본 발명은, 벤딩 스트레스에 의한 소자 및 패널 내의 결함 발생을 방지함으로써 신뢰성을 개선할 수 있는 효과를 제공한다.Accordingly, the present invention provides an effect of improving reliability by preventing the occurrence of defects in devices and panels due to bending stress.

또한, 기존 인프라를 이용하여 플렉서블 표시장치를 위해 크게 구부릴 수 있는(highly bendable) 소자 및 백플레인 기술을 확보할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, the present invention provides an effect of securing a highly bendable device and a backplane technology for a flexible display device using an existing infrastructure.

도 1은 일반적인 유기발광다이오드의 발광원리를 설명하는 다이어그램.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치를 예로 들어 보여주는 블록도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 구조를 개략적으로 보여주는 사시도.
도 4는 모기판에 플렉서블 표시장치용 패널이 다수 배치되는 상태를 예시적으로 보여주는 도면.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 구조를 예시적으로 보여주는 단면도.
도 6은 도 5에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치에 있어, 유기 화합물층의 구조를 예시적으로 보여주는 단면도.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 단면 구조 일부를 개략적으로 보여주는 도면.
도 8은 도 3 및 도 4에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치에 있어, 외곽영역의 일부(E1)를 예시적으로 보여주는 평면도.
도 9a 및 도 9b는 도 3 및 도 4에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치에 있어, 표시영역의 일부(E2)에 대한 회로구성들을 예시적으로 보여주는 도면.
도 10은 플렉서블 표시장치의 서브-화소에 대한 회로 구성을 보여주는 예시도.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram for explaining a principle of light emission of a general organic light emitting diode. FIG.
2 is a block diagram illustrating an example of a flexible display device according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view schematically showing a structure of a flexible display device according to an embodiment of the present invention.
Fig. 4 is an exemplary view showing a state in which a plurality of panels for a flexible display device are arranged on a mother substrate; Fig.
5 is a cross-sectional view illustrating a structure of a flexible display device according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view exemplarily showing a structure of an organic compound layer in a flexible display device according to an embodiment of the present invention shown in Fig. 5;
FIG. 7 is a schematic view showing a part of a cross-sectional structure of a flexible display device according to an embodiment of the present invention; FIG.
FIG. 8 is a plan view exemplarily showing a part E1 of an outer area in the flexible display device according to the embodiment of the present invention shown in FIGS. 3 and 4. FIG.
FIGS. 9A and 9B illustrate circuit configurations for a portion E2 of a display area in a flexible display device according to an embodiment of the present invention shown in FIGS. 3 and 4. FIG.
10 is an exemplary diagram showing a circuit configuration for a sub-pixel of a flexible display device;

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 플렉서블 표시장치의 바람직한 실시예를 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the flexible display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다. 도면에서 층 및 영역들의 크기 및 상대적인 크기는 설명의 명료성을 위해 과장될 수 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but is capable of many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. The dimensions and relative sizes of the layers and regions in the figures may be exaggerated for clarity of illustration.

소자(element) 또는 층이 다른 소자 또는 "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 다른 소자 또는 층의 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않는 것을 나타낸다.It will be understood that when an element or layer is referred to as being another element or "on" or "on ", it includes both intervening layers or other elements in the middle, do. On the other hand, when a device is referred to as "directly on" or "directly above ", it does not intervene another device or layer in the middle.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below, beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용 시, 또는 동작 시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)" 또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다.The terms spatially relative, "below," "lower," "above," "upper," and the like, And may be used to easily describe the correlation with other elements or components. Spatially relative terms should be understood to include, in addition to the directions shown in the drawings, terms that include the different directions of the elements in use, or in operation. For example, when inverting an element shown in the figures, an element described as "below" or "beneath" of another element may be placed "above" another element. Thus, the exemplary term "below" can include both downward and upward directions.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며, 따라서 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. &Quot; comprise "and / or" comprising ", as used in the specification, means that the presence of stated elements, Or additions.

본 명세서에서 상부발광(top emission) 방식의 유기전계발광 표시장치는 유기발광다이오드에서 발광된 빛이 유기전계발광 표시장치 상부로 방출되는 유기전계발광 표시장치를 의미하는 것이다. 이는 유기발광다이오드에서 발광된 빛이 유기전계발광 표시장치를 구동하기 위한 박막 트랜지스터가 형성된 기판의 상면 방향으로 방출되는 유기전계발광 표시장치를 의미한다.In this specification, a top emission type organic light emitting display device refers to an organic light emitting display device in which light emitted from an organic light emitting diode is emitted to an upper part of an organic light emitting display device. Here, the organic light emitting display device refers to an organic light emitting display device in which light emitted from an organic light emitting diode is emitted in a direction of a top surface of a substrate on which a thin film transistor for driving an organic light emitting display device is formed.

본 명세서에서 하부발광(bottom emission) 방식의 유기전계발광 표시장치는 유기발광다이오드에서 발광된 빛이 유기전계발광 표시장치 하부로 방출되는 유기전계발광 표시장치를 의미하는 것이다. 이는 유기발광다이오드에서 발광된 빛이 유기전계발광 표시장치를 구동하기 위한 박막 트랜지스터가 형성된 기판의 하면 방향으로 방출되는 유기전계발광 표시장치를 의미한다.In this specification, a bottom emission type organic light emitting display device refers to an organic light emitting display device in which light emitted from an organic light emitting diode is emitted to a lower portion of an organic light emitting display device. This means that an organic light emitting display device in which light emitted from an organic light emitting diode is emitted in a direction of a lower surface of a substrate on which a thin film transistor for driving an organic light emitting display device is formed.

본 명세서서 플렉서블 표시장치는 연성이 부여된 표시장치를 의미하는 것으로서, 굽힘이 가능한(bendable) 표시장치, 롤링이 가능한(rollable) 표시장치, 깨지지 않는(unbreakable) 표시장치, 접힘이 가능한(foldable) 표시장치 등과 동일한 의미로 사용될 수 있다. 본 명세서에서 유기전계발광 표시장치는 다양한 플렉서블 표시장치 중 하나의 예이다.As used herein, the flexible display device refers to a flexible display device, which includes a bendable display device, a rollable display device, an unbreakable display device, a foldable display device, Display device, and the like. In this specification, the organic light emitting display is one example of various flexible display devices.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치를 예로 들어 보여주는 블록도이다. 이때, 도 2는 플렉서블 표시장치로 유기전계발광 표시장치를 예로 들고 있다.2 is a block diagram illustrating an example of a flexible display device according to an embodiment of the present invention. At this time, FIG. 2 shows an organic electroluminescence display device as an example of a flexible display device.

도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치에는 영상처리부(115), 데이터변환부(114), 타이밍제어부(113), 데이터구동부(112), 게이트구동부(111) 및 표시패널(116)이 포함될 수 있다.2, a flexible display device according to an embodiment of the present invention includes an image processing unit 115, a data conversion unit 114, a timing control unit 113, a data driving unit 112, a gate driving unit 111, (116) may be included.

영상처리부(115)는 RGB 데이터신호(RGB)를 이용하여 평균화상레벨에 따라 최대 휘도를 구현하도록 감마전압을 설정하는 등 다양한 영상처리를 수행한 후 RGB 데이터신호(RGB)를 출력한다. 영상처리부(115)는 RGB 데이터신호(RGB)는 물론 수직 동기신호(Vsync), 수평 동기신호(Hsync), 데이터 인에이블 신호(DES) 및 클럭신호(CLK) 중 하나 이상을 포함하는 구동신호를 출력한다.The image processing unit 115 performs various image processing such as setting a gamma voltage to realize the maximum luminance according to the average image level using the RGB data signals RGB, and then outputs RGB data signals RGB. The image processor 115 generates a driving signal including at least one of the RGB data signal RGB as well as the vertical synchronizing signal Vsync, the horizontal synchronizing signal Hsync, the data enable signal DES and the clock signal CLK Output.

타이밍제어부(113)는 영상처리부(115) 또는 데이터변환부(114)로부터 수직 동기신호(Vsync), 수평 동기신호(Hsync), 데이터 인에이블 신호(DES) 및 클럭신호(CLK) 중 하나 이상을 포함하는 구동신호를 공급받는다. 타이밍제어부(113)는 구동신호에 기초하여 게이트구동부(111)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 게이트 타이밍 제어신호(GCS)와 데이터구동부(112)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 데이터 타이밍 제어신호(DCS)를 출력한다.The timing controller 113 receives one or more of the vertical synchronization signal Vsync, the horizontal synchronization signal Hsync, the data enable signal DES and the clock signal CLK from the image processing unit 115 or the data conversion unit 114 And is supplied with a drive signal. The timing control section 113 generates a gate timing control signal GCS for controlling the operation timing of the gate driving section 111 and a data timing control signal DCS for controlling the operation timing of the data driving section 112, .

타이밍제어부(113)는 게이트 타이밍 제어신호(GCS)와 데이터 타이밍 제어신호(DCS)에 대응하여 데이터신호(DATA)를 출력한다.The timing controller 113 outputs the data signal DATA corresponding to the gate timing control signal GCS and the data timing control signal DCS.

데이터구동부(112)는 타이밍제어부(113)로부터 공급된 데이터 타이밍 제어신호(DCS)에 응답하여 타이밍제어부(113)로부터 공급되는 데이터신호(DATA)를 샘플링하고 래치(latch)하여 감마 기준전압으로 변환하여 출력한다. 데이터구동부(112)는 데이터라인들(DL1 ~ DLm)을 통해 변환된 데이터신호(DATA)를 출력한다. 데이터구동부(112)는 IC(Integrated Circuit) 형태로 형성된다.The data driver 112 samples and latches the data signal DATA supplied from the timing controller 113 in response to the data timing control signal DCS supplied from the timing controller 113, And outputs it. The data driver 112 outputs the converted data signal DATA through the data lines DL1 to DLm. The data driver 112 is formed in the form of an IC (Integrated Circuit).

게이트구동부(111)는 타이밍제어부(113)로부터 공급된 게이트 타이밍 제어신호(GCS)에 응답하여 게이트전압의 레벨을 시프트 시키면서 게이트신호를 출력한다. 게이트구동부(111)는 게이트라인들(GL1 ~ GLn)을 통해 게이트신호를 출력한다. 게이트구동부(111)는 IC 형태로 형성되거나 표시패널(116)에 게이트-인-패널(Gate In Panel; GIP) 방식으로 형성된다.The gate driving unit 111 outputs the gate signal while shifting the level of the gate voltage in response to the gate timing control signal GCS supplied from the timing control unit 113. [ The gate driver 111 outputs a gate signal through the gate lines GL1 to GLn. The gate driver 111 may be formed in the form of an IC or a gate-in-panel (GIP) method in the display panel 116.

표시패널(116)은 일 예로, 적색 서브-화소(SPr)와, 녹색 서브-화소(SPg) 및 청색 서브-화소(SPb)를 포함하는 서브-화소 구조로 구현될 수 있다. 즉, 하나의 화소(P)는 RGB 서브-화소(SPr, SPg, SPb)로 이루어진다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 백색 서브-화소를 포함할 수도 있다.The display panel 116 may be implemented with a sub-pixel structure including, for example, a red sub-pixel SPr and a green sub-pixel SPg and a blue sub-pixel SPb. That is, one pixel P is composed of RGB sub-pixels SPr, SPg, SPb. However, the present invention is not limited thereto, and may include a white sub-pixel.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 구조를 개략적으로 보여주는 사시도이다. 이때, 도 3은 연성 회로기판이 체결된 상태의 유기전계발광 표시장치를 예로 들어 보여주고 있다. 또한, 도 3은 벤딩 되지 않는 상태의 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 구조를 보여준다.3 is a perspective view schematically showing a structure of a flexible display device according to an embodiment of the present invention. 3 illustrates an organic light emitting display device in which a flexible circuit board is fastened. 3 shows a structure of a flexible display device according to an embodiment of the present invention in a state in which the flexible display device is not bent.

도 4는 모기판에 플렉서블 표시장치용 패널이 다수 배치되는 상태를 예시적으로 보여주는 도면이다.FIG. 4 is an exemplary view showing a state in which a plurality of panels for a flexible display device are arranged on a mother substrate.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 구조를 예시적으로 보여주는 단면도로써, A-A선에 따라 절단한 단면을 예시적으로 보여준다. 이때, 도 5에는 편의상 기판 위에 발광층만이 구비된 상태를 예시적으로 보여주고 있다.5 is a cross-sectional view illustrating an exemplary structure of a flexible display device according to an exemplary embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view taken along line A-A of FIG. 5 illustrates a state in which only the light emitting layer is provided on the substrate for the sake of convenience.

도 6은 도 5에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 유기전계발광 표시장치에 있어, 유기 화합물층의 구조를 예시적으로 보여주는 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating the structure of an organic compound layer in an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention shown in FIG.

그리고, 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 단면 구조 일부를 개략적으로 보여주는 도면으로써, 표시영역과, 비표시영역 및 외곽영역의 일부 단면이 도시되어 있다. 표시영역은 평면상에서 볼 때 다수의 서브-화소가 매트릭스 형태로 배열되어 있는데, 각 서브-화소는 적색을 발광하는 적색 서브-화소와, 녹색을 발광하는 녹색 서브-화소 및 청색을 발광하는 청색 서브-화소를 포함할 수 있다. 도 7에서는 설명의 편의를 위해 하나의 서브-화소의 단면 구조만을 예로 들어 도시하고 있다.FIG. 7 is a schematic view showing a part of a cross-sectional structure of a flexible display device according to an embodiment of the present invention, and shows a display region and a partial cross-section of a non-display region and an outer region. The display region includes a plurality of sub-pixels arranged in a matrix in a plan view, each sub-pixel including a red sub-pixel emitting red light, a green sub-pixel emitting green light, and a blue sub- - pixels. In FIG. 7, for convenience of explanation, only one sub-pixel has a cross-sectional structure as an example.

또한, 도 7에서는 비표시영역 이외에 외곽영역을 따로 도시하고 있으며, 외곽영역이 비표시영역보다 더 넓은 것으로 도시되었으나, 이는 설명의 편의를 위한 것으로, 실제로는 외곽영역은 비표시영역보다 상당히 좁은 영역에 해당할 수 있다.7, the outer area is shown separately from the non-display area, and the outer area is shown to be wider than the non-display area. However, this is for the sake of convenience of description. Actually, the outer area is a region .

도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 크게 영상을 표시하는 패널(100)과 패널(100)에 연결되는 연성 회로기판(150)을 포함한다.Referring to FIG. 3, the flexible display device according to the embodiment of the present invention includes a panel 100 for displaying an image and a flexible circuit board 150 connected to the panel 100.

패널(100)은 기판(101) 위에 구비되며, 액티브영역(AA)과 패드영역(PA)으로 구분되는 패널부(110) 및 액티브영역(AA)의 일부를 덮으면서 패널부(110) 위에 구비되는 박막 봉지층(140)을 포함한다.The panel 100 is provided on the substrate 101 and includes a panel part 110 divided into an active area AA and a pad area PA and a part of the active area AA, And a thin film encapsulation layer 140 formed on the substrate.

액티브영역(AA)은 다수의 서브-화소들이 배치되어 실제로 영상을 표시하는 표시영역(display area)(DA)과 표시영역(DA)의 외곽에 형성되어 외부로부터 인가되는 신호를 표시영역(DA)에 전달하는 비표시영역(non-display area)(NA)으로 구분할 수 있다. 이때, 박막 봉지층(140)은 표시영역(DA)과 비표시영역(NA) 일부를 덮으면서 패널부(110) 위에 형성될 수 있다.The active area AA is formed in a display area DA where a plurality of sub-pixels are disposed and actually displays an image and a display area DA formed outside the display area DA, And a non-display area (NA) that transmits the display area (NA). At this time, the thin film sealing layer 140 may be formed on the panel part 110 while covering a part of the display area DA and the non-display area NA.

이때, 박막 봉지층(140)에 의해 덮이지 않고 노출되는 패널부(110)는 패드가 형성되는 패드부(PA)를 구성한다.At this time, the panel part 110 exposed without being covered by the thin film sealing layer 140 constitutes a pad part PA where the pad is formed.

비표시영역(NA)은 표시영역(DA) 주변 또는 에지부에 위치하고, 화상을 표시하기 위한 다양한 회로들이 배치되므로 주변영역, 주변회로영역, 에지영역, 또는 베젤영역으로도 지칭될 수 있다.The non-display area NA is located around the edge of the display area DA or may be referred to as a peripheral area, a peripheral circuit area, an edge area, or a bezel area since various circuits for displaying an image are arranged.

즉, 비표시영역(NA)에는 화상을 표시하지 않는 다양한 구성요소(elements)들이 배치될 수 있다.That is, various elements that do not display an image may be disposed in the non-display area NA.

비표시영역(NA)에 배치되는 구성요소들로는 게이트 드라이버 IC 또는 데이터 드라이버 IC와 같은 다양한 IC 및 구동회로부 등이 포함될 수 있다. 여기서, 다양한 IC 및 구동회로부는 기판(101)에 GIP(Gate in Panel)로 실장 되거나, TCP(Tape Carrier Package) 또는 COF(Chip on Film) 방식으로 기판(101)에 연결될 수 있다.The components arranged in the non-display area NA may include various ICs and drive circuitry such as a gate driver IC or a data driver IC. The various ICs and driving circuit portions may be mounted on the substrate 101 in a GIP (gate in panel) or connected to the substrate 101 in a TCP (Tape Carrier Package) or a COF (Chip on Film) method.

기판(101)은 가요성 있는 플렉서블 기판일 수 있다. 이때, 플렉서블 기판은 내열성 및 내구성이 우수한 플라스틱을 소재로 사용할 수 있다.The substrate 101 may be a flexible flexible substrate. At this time, the flexible substrate can be made of plastic having excellent heat resistance and durability.

일 예로, 기판(101)은 폴리에스터계 고분자, 실리콘계 고분자, 아크릴계 고분자, 폴리올레핀계 고분자, 및 이들의 공중합체로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함하는 필름 형태일 수 있다. 구체적으로, 기판(101)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리실란(polysilane), 폴리실록산(polysiloxane), 폴리실라잔(polysilazane), 폴리카르보실란(polycarbosilane), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리메타크릴레이트(polymethacrylate), 폴리메틸아크릴레이트(polymethylacrylate), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmetacrylate), 폴리에틸아크릴레이트(polyethylacrylate), 폴리에틸메타크릴레이트(polyethylmetacrylate), 사이클릭 올레핀 코폴리머(COC), 사이클릭 올레핀 폴리머(COP), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리이미드(PI), 폴리스타이렌(PS), 폴리아세탈(POM), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리에스테르설폰(PES), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리카보네이트(PC), 폴리비닐리덴플로라이드(PVDF), 퍼플루오로알킬 고분자(PFA), 스타이렌아크릴나이트릴코폴리머(SAN) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 하나를 포함할 수 있다.For example, the substrate 101 may be in the form of a film including one selected from the group consisting of a polyester-based polymer, a silicon-based polymer, an acrylic polymer, a polyolefin-based polymer, and copolymers thereof. Specifically, the substrate 101 may be formed of a material selected from the group consisting of polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polysilane, polysiloxane, polysilazane, polycarbosilane, But are not limited to, polyacrylate, polymethacrylate, polymethylacrylate, polymethylmetacrylate, polyethylacrylate, polyethylmetacrylate, (PEEK), polypropylene (PP), polyimide (PI), polystyrene (PS), polyacetal (POM), polyetheretherketone (PEEK), olefin copolymer (COC), cyclic olefin polymer , Polyethersulfone (PES), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC), polyvinylidene fluoride (PVDF), perfluoroalkyl polymer Acrylonitrile-butadiene-acrylonitrile polymer (SAN), and combinations thereof.

다만, 본 발명이 이에 한정되지 않으며, 가요성 있는 다양한 소재가 사용될 수 있다.However, the present invention is not limited thereto, and various flexible materials may be used.

도 3에서는 기판(101)이 직육면체 형상인 것으로 도시하였으나, 기판(101)의 형상은 이에 한정되지 않고 다양하게 형성될 수 있다.Although the substrate 101 is shown in FIG. 3 as having a rectangular parallelepiped shape, the shape of the substrate 101 is not limited thereto and may be variously formed.

화상이 기판(101)방향으로 구현되는 하부발광 방식의 경우 기판(101)은 투명한 재질로 형성해야 한다. 그러나, 화상이 기판(101)의 반대방향으로 구현되는 상부발광 방식의 경우 기판(101)은 반드시 투명한 재질로 형성할 필요는 없다. 이 경우 금속으로 기판(101)을 형성할 수 있다. 금속으로 기판(101)을 형성할 경우, 기판(101)은 탄소, 철, 크롬, 망간, 니켈, 티타늄, 몰리브덴 및 스테인레스스틸로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 금속을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the case of the bottom emission type in which an image is realized in the direction of the substrate 101, the substrate 101 must be formed of a transparent material. However, in the case of the top emission type in which the image is implemented in the direction opposite to the substrate 101, the substrate 101 does not necessarily have to be formed of a transparent material. In this case, the substrate 101 can be formed of metal. When the substrate 101 is formed of metal, the substrate 101 may include at least one metal selected from the group consisting of carbon, iron, chromium, manganese, nickel, titanium, molybdenum and stainless steel, no.

기판(101)의 상면에는 패널부(110)가 배치된다. 본 명세서에서 언급되는 패널부(110)라는 용어는 유기발광다이오드 및 이를 구동하기 위한 TFT 어레이를 통칭하는 것으로, 화상을 표시하는 액티브영역(AA)과 화상을 표시하기 위한 패드영역(PA)을 함께 의미하는 것이다. 또한, 기판(101)과 기판(101) 위에 구비되는 TFT 어레이를 백플레인으로 통칭할 수 있다.On the upper surface of the substrate 101, a panel portion 110 is disposed. The term " panel unit 110 " referred to in this specification collectively refers to an organic light emitting diode and a TFT array for driving the same, and includes an active area AA for displaying an image and a pad area PA for displaying an image It means. Further, the TFT array provided over the substrate 101 and the substrate 101 can be collectively referred to as a backplane.

이때, 도시하지 않았지만, 액티브영역(AA)에는 화소들이 매트릭스 형태로 배치되며, 액티브영역(AA)의 외측에는 화소들을 구동시키기 위한 스캔 드라이버와 데이터 드라이버 등의 구동소자 및 기타 부품들이 위치한다.At this time, although not shown, pixels are arranged in a matrix form in the active area AA, and driving elements and other parts such as a scan driver and a data driver for driving the pixels are located outside the active area AA.

기판(101) 상면에는 패널부(110)의 일부를 덮도록 박막 봉지층(140)이 형성된다. 패널부(110)에 포함된 유기발광다이오드는 유기물로 구성되어 외부의 수분이나 산소에 의해 쉽게 열화 된다. 따라서, 이러한 유기발광다이오드를 보호하기 위해 패널부(110)를 밀봉해야 한다. 박막 봉지층(140)은 패널부(110)를 밀봉하는 수단으로 다수의 무기막들 및 유기막들을 교번 하여 적층한 구조를 갖는다. 이렇게 패널부(110)를 밀봉 기판이 아닌 박막 봉지층(140)으로 밀봉함으로써 유기전계발광 표시장치의 박형화 및 플렉서블화가 가능하다.On the upper surface of the substrate 101, a thin film encapsulation layer 140 is formed to cover a part of the panel part 110. The organic light emitting diode included in the panel unit 110 is made of an organic material and easily deteriorated by external moisture or oxygen. Therefore, the panel unit 110 must be sealed to protect the organic light emitting diode. The thin film encapsulation layer 140 has a structure in which a plurality of inorganic films and organic films are alternately laminated by a means for sealing the panel part 110. By sealing the panel part 110 with the thin film sealing layer 140 instead of the sealing substrate, the organic light emitting display device can be made thin and flexible.

이때, 박막 봉지층(140)에 의해 덮이지 않고 노출되는 부분은 전술한 패드영역(PA)을 구성한다.At this time, the portion that is not covered by the thin film encapsulation layer 140 and is exposed forms the pad region PA described above.

이렇게 구성된 패널(100)의 패드영역(PA)에는 칩-온-글라스(Chip On Glass; COG) 방식으로 집적회로 칩(미도시)이 실장(mount)될 수 있다.An integrated circuit chip (not shown) may be mounted on the pad area PA of the panel 100 constructed in this manner by a chip on glass (COG) method.

연성 회로기판(150)에는 구동 신호를 처리하기 위한 전자 소자(미도시)들이 칩-온-필름(Chip On Film; COF) 방식으로 실장되고, 외부 신호를 연성 회로기판(150)으로 전송하기 위한 커넥터(미도시)가 설치될 수 있다.On the flexible circuit board 150, electronic elements (not shown) for processing a driving signal are mounted by a chip on film (COF) method, and an external signal is supplied to the flexible circuit board 150 A connector (not shown) may be installed.

이러한 연성 회로기판(150)은 패널(100)의 뒤쪽으로 접혀 연성 회로기판(150)이 패널(100)의 배면과 마주하도록 구성할 수 있다. 이때, 패널부(110)의 단자부와 연성 회로기판(150)의 접속부가 서로 전기적으로 접속하기 위하여 이방성 도전필름(미도시)을 이용할 수 있다.The flexible circuit board 150 may be folded rearward of the panel 100 so that the flexible circuit board 150 faces the rear surface of the panel 100. At this time, an anisotropic conductive film (not shown) may be used to electrically connect the terminal portion of the panel portion 110 and the connection portion of the flexible circuit board 150 with each other.

이렇게 구성된 플렉서블 표시장치는 도 4에 도시된 바와 같이, 대면적의 모기판(200)에 형성될 수 있다. 다시 말해서, 대면적의 모기판(200)에 다수의 표시영역(DA)이 정의되고, 표시영역(DA) 각각에 TFT 어레이 및 유기발광다이오드가 형성될 수 있다. 이후, 대면적의 모기판(200)은 스크라이브 라인(SL)을 따라 절단되어 다수의 패널(100)로 분리될 수 있다.The flexible display device constructed as described above can be formed on the large-sized mother board 200 as shown in FIG. In other words, a plurality of display areas DA are defined in the large-sized mother substrate 200, and a TFT array and an organic light emitting diode can be formed in each of the display areas DA. Thereafter, the large-sized mother board 200 may be cut along the scribe line SL and separated into a plurality of panels 100. FIG.

이때, 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 비표시영역(NA), 즉 패널(100) 외곽의 외곽영역에 차단 패턴을 형성하여 크랙의 전파를 일차적으로 차단하는 동시에 표시영역(DA)의 어레이 구조를 이웃하는 서브-화소와 다르게 배치하는 것을 특징으로 한다. 이 경우 백플레인 제작 후 벤딩 스트레스(bending stress)에 의한 표시영역(DA) 내부로 크랙이 전파되는 것을 방지할 수 있다.At this time, the flexible display device according to the embodiment of the present invention forms a blocking pattern in the non-display area (NA), that is, the outer area outside the panel 100 to primarily block the propagation of cracks, And the array structure is arranged differently from the neighboring sub-pixels. In this case, it is possible to prevent a crack from propagating into the display area DA due to bending stress after manufacturing the backplane.

즉, 본 발명의 실시예에서는 플렉서블 백플레인 제작 시 외곽영역에 차단 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다. 이때, 차단 패턴은 앞 열의 차단 패턴들 사이의 공간에 대응하는 위치에 뒤 열의 차단 패턴들이 배치되는 등의 배치를 통해 크랙의 전파를 차단할 수 있다. 이는 플렉서블 기판(101) 위에 소자를 제작할 때, 또는 제작 후 기판(101)의 연속적인 벤딩으로 기계적인 응력이 인가될 때 스크라이브 라인(SL)으로부터 비표시영역(NA) 및 표시영역(DA) 내부로 크랙이 전파되는 것을 방지할 수 있다.That is, in the embodiment of the present invention, a cutoff pattern is formed in the outer area when fabricating the flexible backplane. At this time, the cutoff pattern can block crack propagation through arrangements such as arranging the cutoff patterns of the back row at positions corresponding to the space between the cutoff patterns of the front row. This is because when the mechanical stress is applied by the continuous bending of the substrate 101 after the fabrication of the device on the flexible substrate 101 or after the fabrication of the substrate 101 from the scribe line SL to the non-display area NA and the display area DA It is possible to prevent the crack from propagating.

또한, 본 발명의 실시예에서는 표시영역(DA)에 어레이 구조를 이웃하는 서브-화소와 다르게 배치하여 표시영역(DA) 내부에서의 패턴 규칙성에 따라 전파되는 크랙 진행을 최소화하는 것을 특징으로 한다.Further, in the embodiment of the present invention, the array structure is arranged differently from the neighboring sub-pixels in the display area DA to minimize crack propagation propagated according to pattern regularity in the display area DA.

도 5 내지 도 7을 참조하면, 전술한 바와 같이 표시영역(DA) 내의 각각의 화소는 적색과, 녹색 및 청색 서브-화소를 포함하여 구성될 수 있다.Referring to Figs. 5 to 7, as described above, each pixel in the display area DA may be configured to include red, green, and blue sub-pixels.

그리고, 각각의 서브-화소는 유기발광다이오드 및 유기발광다이오드와 전기적으로 연결된 전자 소자를 포함한다. 전자 소자는 적어도 2개 이상의 TFT, 스토리지 커패시터 등을 포함할 수 있다. 전자 소자는 배선들과 전기적으로 연결되어 패널부 외부의 구동소자로부터 전기적인 신호를 전달받아 구동한다. 이렇게 유기발광다이오드와 전기적으로 연결된 전자 소자 및 배선들의 배열을 TFT 어레이라 지칭한다.Each sub-pixel includes an organic light emitting diode and an electronic element electrically connected to the organic light emitting diode. The electronic device may include at least two or more TFTs, storage capacitors, and the like. The electronic device is electrically connected to the wirings and is driven by receiving an electrical signal from a driving element outside the panel portion. The array of electronic elements and wirings electrically connected to the organic light emitting diode is referred to as a TFT array.

도 7에서는 각 서브-화소별로 유기발광다이오드와 유기발광다이오드를 구동하는 구동 TFT만 도시되어 있는데, 이는 설명의 편의를 위한 것일 뿐 본 발명은 도시된 바에 한정되지 않으며, 다수의 TFT, 스토리지 커패시터 및 각종 배선들이 더 포함될 수 있다.In FIG. 7, only the driving TFTs for driving the organic light emitting diode and the organic light emitting diode are illustrated for each sub-pixel. However, the present invention is not limited to the illustrated embodiment, but may be applied to a plurality of TFTs, storage capacitors, Various wires may be further included.

도 7에 도시된 TFT는 탑 게이트(top gate) 방식이고, 액티브층(124)과, 게이트전극(121) 및 소오스/드레인전극(122, 123)을 순차적으로 포함한다. 본 발명은 도시된 TFT의 탑 게이트 방식에 한정되지 않고, 다양한 방식의 TFT가 채용될 수 있다.The TFT shown in FIG. 7 is a top gate type and includes an active layer 124, a gate electrode 121, and source / drain electrodes 122 and 123 sequentially. The present invention is not limited to the top gate type of the TFT shown in the drawings, but various types of TFTs can be employed.

TFT는 기본적으로 스위칭 트랜지스터와 구동 트랜지스터를 포함한다.The TFT basically includes a switching transistor and a driving transistor.

도시하지 않았지만, 스위칭 트랜지스터는 스캔라인과 데이터라인에 연결되고, 스캔라인에 입력되는 스위칭 전압에 따라 데이터라인에 입력되는 데이터 전압을 구동 트랜지스터로 전송한다. 스토리지 커패시터는 스위칭 트랜지스터와 전원 라인에 연결되며, 스위칭 트랜지스터로부터 전송 받은 전압과 전원라인에 공급되는 전압의 차이에 해당하는 전압을 저장한다.Although not shown, the switching transistor is connected to a scan line and a data line, and transmits a data voltage input to the data line to the driving transistor according to a switching voltage input to the scan line. The storage capacitor is connected to the switching transistor and the power supply line, and stores a voltage corresponding to a difference between a voltage received from the switching transistor and a voltage supplied to the power supply line.

구동 트랜지스터는 전원 라인과 스토리지 커패시터에 연결되어 스토리지 커패시터에 저장된 전압과 문턱 전압의 차이의 제곱에 비례하는 출력 전류를 유기발광다이오드로 공급하고, 유기발광다이오드는 출력 전류에 의해 발광한다.The driving transistor is connected to the power supply line and the storage capacitor to supply the organic light emitting diode with an output current proportional to the square of the difference between the voltage stored in the storage capacitor and the threshold voltage, and the organic light emitting diode emits light by the output current.

구동 트랜지스터는 액티브층(124)과, 게이트전극(121) 및 소오스/드레인전극(122, 123)을 포함하며, 유기발광다이오드의 제 1 전극(118)이 구동 트랜지스터의 드레인전극(123)에 연결될 수 있다.The driving transistor includes an active layer 124, a gate electrode 121 and source / drain electrodes 122 and 123, and the first electrode 118 of the organic light emitting diode is connected to the drain electrode 123 of the driving transistor .

즉, 구동 트랜지스터는 기판(101) 위에 형성된 버퍼층(115a)과, 버퍼층 위에 형성된 액티브층(124) 및 액티브층(124)이 형성된 기판(101) 위에 형성된 제 1 절연층(115b)을 포함한다. 또한, 제 1 절연층(115b) 위에 형성된 게이트전극(121) 및 게이트전극(121)이 형성된 기판(101) 위에 형성된 제 2 절연층(115c)을 포함한다. 또한, 제 2 절연층(115c) 위에 형성되어 제 1 콘택홀을 통해 액티브층(124)의 소오스/드레인영역과 전기적으로 접속하는 소오스/드레인전극(122, 123)을 포함한다.That is, the driving transistor includes a buffer layer 115a formed on the substrate 101, and a first insulating layer 115b formed on the substrate 101 on which the active layer 124 and the active layer 124 formed on the buffer layer are formed. And a second insulating layer 115c formed on the substrate 101 having the gate electrode 121 and the gate electrode 121 formed on the first insulating layer 115b. And source / drain electrodes 122 and 123 formed on the second insulating layer 115c and electrically connected to the source / drain regions of the active layer 124 through the first contact holes.

이때, 버퍼층(115a)은 단층이나 2층 이상의 다중층으로 이루어질 수 있으며, 기판(101)으로부터 유출되는 알칼리 이온과 같은 불순물로부터 후속 공정에서 형성되는 TFT를 보호하기 위해서 형성될 수 있다.At this time, the buffer layer 115a may be formed of a single layer or multiple layers of two or more layers, and may be formed to protect a TFT formed in a subsequent process from impurities such as alkali ions flowing out from the substrate 101. [

액티브층(124)은 산화물 반도체로 형성할 수 있다.The active layer 124 may be formed of an oxide semiconductor.

산화물 반도체를 이용하여 액티브층(124)을 형성하는 경우 높은 이동도와 정전류 테스트 조건을 만족하는 한편 균일한 특성이 확보되어 대면적 디스플레이에 적용 가능한 장점을 가지고 있다.When the active layer 124 is formed using an oxide semiconductor, it has a merit that it can be applied to a large-area display while ensuring uniform characteristics while satisfying high mobility and constant current test conditions.

또한, 최근 투명 전자회로에 관심과 활동이 집중되고 있는데, 산화물 반도체를 액티브층(124)으로 적용한 산화물 TFT는 높은 이동도를 가지는 한편 저온에서 제작이 가능함에 따라 투명 전자회로에 사용될 수 있는 장점이 있다.In recent years, interest and activity have been concentrated on transparent electronic circuits. An oxide TFT using an oxide semiconductor as an active layer 124 has an advantage of being used in a transparent electronic circuit since it has high mobility and can be manufactured at a low temperature have.

다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 액티브층(124)은 비정질 실리콘막이나 비정질 실리콘을 결정화한 다결정 실리콘막, 또는 유기물 반도체 등으로 구성될 수 있다.However, the present invention is not limited thereto. The active layer 124 may be formed of an amorphous silicon film, a polycrystalline silicon film obtained by crystallizing amorphous silicon, an organic semiconductor or the like.

게이트전극(121)은 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금(Al alloy) 등 알루미늄 계열 금속, 은(Ag)이나 은 합금 등 은 계열 금속, 구리(Cu)나 구리 합금 등 구리 계열 금속, 몰리브덴(Mo)이나 몰리브덴 합금 등 몰리브덴 계열 금속, 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta), 티타늄(Ti)과 같은 저저항 불투명 도전물질을 사용할 수 있다. 그러나, 이들은 물리적 성질이 다른 2개의 도전막을 포함하는 다층막 구조를 가질 수 있다.The gate electrode 121 may be formed of an aluminum-based metal such as aluminum (Al) or an aluminum alloy, a copper-based metal such as copper (Cu) or a copper alloy, molybdenum (Mo) And a low resistance opaque conductive material such as chromium (Cr), tantalum (Ta), and titanium (Ti) can be used. However, they may have a multilayer structure including two conductive films having different physical properties.

제 1 절연층(115b)과 제 2 절연층(115c)은 실리콘질화막(SiNx)이나 실리콘산화막(SiO2)과 같은 무기절연물질로 이루어진 단일 층, 또는 실리콘질화막과 실리콘산화막으로 이루어진 이중의 층으로 이루어질 수 있다.A first insulating layer (115b) and the second insulation layer (115c) is in a dual layer made of a single layer, or a silicon nitride film and a silicon oxide film made of an inorganic insulating material such as silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiO 2) Lt; / RTI >

소오스전극(122)과 드레인전극(123)은 알루미늄이나 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열 금속, 은이나 은 합금 등 은 계열 금속, 구리나 구리 합금 등 구리 계열 금속, 몰리브덴이나 몰리브덴 합금 등 몰리브덴 계열 금속, 크롬, 탄탈륨, 티타늄과 같은 저저항 불투명 도전물질을 사용할 수 있다. 그러나, 이들은 물리적 성질이 다른 2개의 도전막을 포함하는 다층막 구조를 가질 수 있다.The source electrode 122 and the drain electrode 123 may be formed of an aluminum-based metal such as aluminum or an aluminum alloy, a copper-based metal such as copper or a copper alloy, Low resistance opaque conductive materials such as tantalum and titanium can be used. However, they may have a multilayer structure including two conductive films having different physical properties.

다만, 이러한 TFT의 구성은 전술한 예에 한정되지 않으며 다양하게 변형 가능하다.However, the structure of such a TFT is not limited to the above-described example, and can be variously modified.

이렇게 구성된 구동 트랜지스터가 형성된 기판(101) 위에는 제 3 절연층(115d)이 형성되며, 제 3 절연층(115d)은 실리콘질화막이나 실리콘산화막과 같은 무기절연물질로 형성될 수 있다.The third insulating layer 115d may be formed on the substrate 101 on which the driving transistor is formed and the third insulating layer 115d may be formed of an inorganic insulating material such as a silicon nitride film or a silicon oxide film.

이때, 제 3 절연층(115d) 위에는 소정의 유기 절연물질로 이루어진 평탄화층(115e)이 형성될 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 제 3 절연층(115d)이 평탄화층(115e)의 역할을 할 수도 있다.At this time, a planarizing layer 115e made of a predetermined organic insulating material may be formed on the third insulating layer 115d. However, the present invention is not limited thereto, and the third insulating layer 115d may serve as the planarization layer 115e.

구동 트랜지스터의 드레인전극(123)은 제 3 절연층(115d)과 평탄화층(115e)에 형성된 제 2 컨택홀을 통해 제 1 전극(118)과 전기적으로 접속된다.The drain electrode 123 of the driving transistor is electrically connected to the first electrode 118 through the third insulating layer 115d and the second contact hole formed in the planarization layer 115e.

그리고, 평탄화층(115e) 상부의 서브-화소들의 경계에는 뱅크(115f)가 형성될 수 있다. 뱅크(115f)는 각각의 서브-화소를 구획하여 인접하는 서브-화소에서 출력되는 특정 컬러의 광이 혼합되어 출력되는 것을 방지하기 위한 것이다.A bank 115f may be formed at the boundary of sub-pixels above the planarization layer 115e. The bank 115f divides each sub-pixel and prevents the light of a specific color outputted from the adjacent sub-pixel from being mixed and outputted.

그리고, 유기발광다이오드는 제 1 전극(118)과, 유기 화합물층(130) 및 제 2 전극(128)을 포함하여 구성될 수 있다.The organic light emitting diode may include a first electrode 118, an organic compound layer 130, and a second electrode 128.

이때, 유기 화합물층(130)은 실제 발광이 이루어지는 발광층(130c) 이외에 정공 또는 전자의 캐리어를 발광층(130c)까지 효율적으로 전달하기 위한 다양한 유기층(130a, 130b, 130d, 130e)들을 더 포함할 수 있다.The organic compound layer 130 may further include various organic layers 130a, 130b, 130d, and 130e for efficiently transporting carriers of holes or electrons to the light-emitting layer 130c in addition to the light- .

유기층(130a, 130b, 130d, 130e)들은 제 1 전극(118)과 발광층(130c) 사이에 위치하는 정공주입층(130a) 및 정공수송층(130b), 제 2 전극(128)과 발광층(130c) 사이에 위치하는 전자주입층(130e) 및 전자수송층(130d)을 포함할 수 있다.The organic layers 130a, 130b, 130d and 130e are formed by sequentially stacking a hole injection layer 130a, a hole transport layer 130b, a second electrode 128 and a light emitting layer 130c between the first electrode 118 and the light emitting layer 130c. An electron injection layer 130e and an electron transport layer 130d which are positioned between the electron injection layer 130d and the electron injection layer 130d.

이와 같이 TFT 어레이가 구비된 기판(101) 위에 제 1 전극(118)이 형성되며, 제 1 전극(118) 위에는 순차적으로 유기 화합물층(130) 및 제 2 전극(128)이 적층될 수 있다.The first electrode 118 is formed on the substrate 101 having the TFT array and the organic compound layer 130 and the second electrode 128 are sequentially stacked on the first electrode 118.

발광층(130c)은 전계발광(Electro Luminescence; EL)에 의해 발광하는 유기 재료 및/또는 무기 나노 입자를 가지는 EL 발광층이며, 제 1 전극(118)과 제 2 전극(128) 사이에 개재된다. 일 예로, 뱅크(115f)에 의해 구획되는 서브-화소 영역은 특정 컬러의 광이 방출되는 EL영역이라 할 수 있다.The light emitting layer 130c is an EL light emitting layer having an organic material and / or inorganic nanoparticles that emit light by electroluminescence (EL), and is interposed between the first electrode 118 and the second electrode 128. [ For example, the sub-pixel region partitioned by the bank 115f may be referred to as an EL region in which light of a specific color is emitted.

발광층(130c)은 단층이나 2층 이상의 다중층으로 구성될 수 있다.The light emitting layer 130c may be composed of a single layer or multiple layers of two or more layers.

발광층(130c)은 적색과, 녹색 및 청색 서브-화소에 대응하여 각각 적색과, 녹색 및 청색의 빛을 발광하는 적색과, 녹색 및 청색 발광층(130cr, 130cg, 130cb)으로 구성될 수 있다.The light emitting layer 130c may include red, green, and blue light emitting layers 130cr, 130cg, and 130cb that emit red, green, and blue light corresponding to the red, green, and blue sub-pixels, respectively.

이때, EL 재료로는 유기 재료, 또는 무기 재료가 있으며, 유기 EL 재료를 이용하는 경우에는 고분자 계의 유기 EL 재료, 또는 저분자 계의 유기 EL 재료가 있다. 유기 EL 재료는 1종, 또는 2종 이상의 호스트 재료와 발광성 화합물인 발광 재료를 포함할 수 있다.At this time, as the EL material, there is an organic material or an inorganic material. When the organic EL material is used, there is a high molecular organic EL material or a low molecular organic EL material. The organic EL material may include one or more than two kinds of host materials and a luminescent material which is a luminescent compound.

그리고, 제 1 전극(118)과 제 2 전극(128)은 EL 재료를 갖는 발광층(130c)에 정공과 전자를 공급하기 위한 전극이다.The first electrode 118 and the second electrode 128 are electrodes for supplying holes and electrons to the light-emitting layer 130c having an EL material.

제 1 전극(118)은 양극으로서 금속, 도전성 산화물, 도전성 고분자 등의 박막이 이용될 수 있다. 일 예로, 인듐-틴-옥사이드(Indium Tin Oxide; ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(Indium Zinc Oxide; IZO) 등의 투명 도전막과, 금, 크롬과 같은 홀 주입성이 양호한 일 함수가 큰 금속 및 폴리 아닐린, 폴리 아세틸렌, 폴리 알킬 티오펜 유도체, 폴리실란 유도체와 같은 도전성 고분자 등을 들 수 있다.As the first electrode 118, a thin film of metal, conductive oxide, conductive polymer, or the like may be used as an anode. For example, a transparent conductive film such as Indium Tin Oxide (ITO) or Indium Zinc Oxide (IZO), and a metal having a good workability for hole injection such as gold and chromium And conductive polymers such as polyaniline, polyacetylene, polyalkyl thiophene derivatives and polysilane derivatives.

제 2 전극(128)은 음극으로서 금속, 도전성 산화물, 도전성 고분자 등의 박막이 이용될 수 있다. 일 예로, MgAg 등의 마그네슘 합금, AlLi, AlCa, AlMg 등의 알루미늄 합금, Li, Ca를 시작으로 하는 알칼리 금속류, 알칼리 금속류의 합금과 같은 전자 주입성이 양호한 일 함수가 작은 금속 등을 들 수 있다.As the second electrode 128, a thin film of metal, conductive oxide, conductive polymer, or the like may be used as the cathode. For example, magnesium alloys such as MgAg, aluminum alloys such as AlLi, AlCa, and AlMg, alkali metals such as Li and Ca, alloys of alkali metals, .

이러한 구조를 기반으로 유기발광다이오드는 제 1 전극(118)에서 주입되는 정공과 제 2 전극(128)에서 주입되는 전자가 각각의 수송을 위한 수송층을 경유하여 발광층(130c)에서 결합한 후 낮은 에너지 준위로 이동하면서 발광층(130c)에서의 에너지 차에 해당하는 파장의 빛을 생성하게 된다.Based on this structure, the organic light emitting diode has a structure in which holes injected from the first electrode 118 and electrons injected from the second electrode 128 are coupled to each other in the light emitting layer 130c via the transport layer for transportation, And light of a wavelength corresponding to the energy difference in the light emitting layer 130c is generated.

유기 화합물층(130)은 뱅크(115f) 사이의 제 1 전극(118) 위에 아일랜드(island) 형태로 형성될 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 발광층(130c) 이외의 유기층(130a, 130b, 130d, 130e)들은 FMM(Fine Metal Mask)을 사용하지 않고 기판(101) 전면에 증착될 수 있다.The organic compound layer 130 may be formed in the form of an island on the first electrode 118 between the banks 115f. However, the present invention is not limited thereto, and the organic layers 130a, 130b, 130d, and 130e other than the light emitting layer 130c may be deposited on the entire surface of the substrate 101 without using FMM (Fine Metal Mask).

제 2 전극(128)이 형성된 표시영역(DA)의 기판(101) 상부에는 다층으로 구성된 박막 봉지층(140)이 형성될 수 있다.A multilayer thin film encapsulation layer 140 may be formed on the substrate 101 in the display area DA where the second electrode 128 is formed.

패널부에 포함된 유기발광다이오드는 유기물로 구성되어 외부의 수분이나 산소에 의해 쉽게 열화 된다. 따라서, 이러한 유기발광다이오드를 보호하기 위해 패널부를 밀봉해야 한다. 박막 봉지층(140)은 패널부를 밀봉하는 수단으로 다수의 무기막들 및 유기막들을 교번 하여 적층한 구조를 가질 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 이렇게 패널부를 밀봉 기판이 아닌 박막 봉지층(140)으로 밀봉함으로써 하이브리드 표시장치의 박형화 및 플렉서블화가 가능하다.The organic light emitting diode included in the panel portion is composed of an organic material and easily deteriorated by external moisture or oxygen. Therefore, the panel portion must be sealed to protect such an organic light emitting diode. The thin film sealing layer 140 may have a structure in which a plurality of inorganic films and organic films are alternately stacked by means of sealing the panel portion. However, the present invention is not limited thereto. By sealing the panel portion with the thin film sealing layer 140 instead of the sealing substrate, the hybrid display device can be made thin and flexible.

이때, 박막 봉지층(140)에 의해 덮이지 않고 노출되는 부분은 전술한 패드영역을 구성하게 된다.At this time, the portions that are not covered by the thin film encapsulation layer 140 and are exposed form the above-described pad regions.

박막 봉지층(140)을 구체적으로 설명하면, 일 예로 유기발광다이오드가 형성된 기판(101) 상부에는 봉지수단으로 1차 보호막(140a)과 유기막(140b) 및 2차 보호막(140c)이 차례대로 형성되어 박막 봉지층(140)을 구성한다. 다만, 전술한 바와 같이 박막 봉지층(140)을 구성하는 무기막들과 유기막들의 수는 이에 한정되지 않는다.The first passivation layer 140a, the organic layer 140b and the second passivation layer 140c are sequentially formed on the substrate 101 on which the organic light emitting diode is formed, Thereby forming the thin film encapsulation layer 140. However, the number of the inorganic films and the organic films constituting the thin film encapsulation layer 140 is not limited thereto.

본 발명은 패널부를 밀봉하는 방식으로 전술한 페이스 실(Face Seal) 방식 이외에 메탈캔(Metal Can) 봉지, 유리캔(Glass Can) 봉지, 또는 박막 봉지(Thin Film Encapsulation; TFE) 등을 사용할 수 있다.The present invention can use a metal can bag, a glass can bag, a thin film encapsulation (TFE), or the like in addition to the above-described face seal method in a manner of sealing the panel portion .

그리고, 2차 보호막(140c)을 포함하는 기판(101) 전면에는 봉지를 위해 다층으로 이루어진 보호필름(145)이 대향하여 위치하게 되며, 기판(101)과 보호필름(145) 사이에는 투명하며 접착 특성을 갖는 점착제(146)가 개재될 수 있다.A multilayer protective film 145 is placed opposite to the entire surface of the substrate 101 including the secondary protective film 140c so that the substrate 101 and the protective film 145 are transparent, A pressure-sensitive adhesive 146 may be interposed.

이때, 보호필름(145)은 커버 글라스로 구성될 수 있다.At this time, the protective film 145 may be composed of a cover glass.

보호필름(145) 위에는 외부로부터 입사된 광의 반사를 막기 위한 원형 편광판(150)이 부착될 수 있다.On the protective film 145, a circular polarizer 150 may be attached to prevent reflection of light incident from the outside.

기판(101) 상에는 패드부(116)가 형성될 수 있다. 패드부(116)는 표시영역(DA)의 기판(101)에 형성될 수 있다. 도 7에서는 설명의 편의를 위해, 패드부(116)가 표시영역(DA)의 기판(101)에서 제 1 절연층(115b) 위에 형성되는 것으로 도시하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 패드부(116)는 기판(101) 위에, 또는 버퍼층(115a) 위에 형성될 수도 있다.A pad portion 116 may be formed on the substrate 101. The pad portion 116 may be formed on the substrate 101 of the display area DA. 7, the pad portion 116 is formed on the first insulating layer 115b in the substrate 101 of the display area DA, but the present invention is not limited thereto. The pad portion 116 may be formed on the substrate 101 or on the buffer layer 115a.

패드부(116)는 게이트라인과 그 게이트라인에 게이트 신호를 인가하는 게이트 드라이버 IC를 연결하기 위한 구성으로, 게이트전극(121)과 동일 층상에 동일 물질로 형성할 수 있다. 다른 실시예로 패드부(116)가 데이터라인과 그 데이터라인에 데이터 신호를 인가하는 데이터 드라이버 IC를 연결하기 위한 구성인 경우, 패드부(116)는 소오스전극(122) 및 드레인전극(123)과 동일 층상에 동일 물질로 형성될 수 있다.The pad portion 116 may be formed of the same material as the gate electrode 121 on the same layer as the gate line 121 and a gate driver IC for applying a gate signal to the gate line. The pad portion 116 is connected to the source electrode 122 and the drain electrode 123 in the case where the pad portion 116 is configured to connect the data line and the data driver IC that applies the data signal to the data line, The same material may be formed on the same layer.

다음으로, 비표시영역(NA)의 기판(101)에는 배선(126)이 형성될 수 있다. 배선(126)은 표시영역(DA)의 패드부(116)와 비표시영역(NA)의 구동회로부 또는 게이트 드라이버 IC, 데이터 드라이버 IC를 전기적으로 연결하여 신호를 전달할 수 있다. 도 7에서는 배선(126)이 소오스전극(122) 및 드레인전극(123)과 동일한 물질로 형성되는 것으로 도시하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 배선(126)은 게이트전극(121)과 동일 물질로 형성할 수도 있으며, 패드부(116)와 동일 층상에 일체로 형성될 수도 있다.Next, a wiring 126 may be formed on the substrate 101 in the non-display area NA. The wiring 126 can transmit a signal by electrically connecting the pad portion 116 of the display area DA with the driving circuit part of the non-display area NA or the gate driver IC and the data driver IC. 7, the wiring 126 is formed of the same material as the source electrode 122 and the drain electrode 123, but the present invention is not limited thereto. The wiring 126 may be formed of the same material as the gate electrode 121 or may be integrally formed on the same layer as the pad portion 116.

배선(126)은 다른 배선 패턴(116p)에 연결될 수 있다. 배선 패턴(116p)은 게이트전극(121)과 동일 층상에 동일 물질로 형성할 수 있다.The wiring 126 may be connected to another wiring pattern 116p. The wiring pattern 116p can be formed of the same material as the gate electrode 121 on the same layer.

이때, 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 비표시영역(NA) 외측의 외곽영역(EA)에 다수의 차단 패턴(160)이 형성되는 것을 특징으로 한다.Here, the flexible display device according to the embodiment of the present invention is characterized in that a plurality of blocking patterns 160 are formed in the outer area EA outside the non-display area NA.

도 7에서는 설명의 편의를 위해, 차단 패턴(160)이 외곽영역(EA)의 기판(101)에서 버퍼층(115a) 위에 형성되는 것으로 도시하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 차단 패턴(160)은 기판(101) 위에, 또는 제 1 절연층(115b)이나 제 2 절연층(115c) 위에 형성될 수도 있다.7, the shielding pattern 160 is formed on the buffer layer 115a in the substrate 101 of the outer region EA, but the present invention is not limited thereto. The shielding pattern 160 may be formed on the substrate 101 or on the first insulating layer 115b or the second insulating layer 115c.

차단 패턴(160)은 게이트 배선, 즉 게이트전극(121) 및 게이트라인과 동일 층상에 동일 물질로 형성할 수 있다. 다른 실시예로 차단 패턴(160)은 데이터 배선, 즉 소오스전극(122)과, 드레인전극(123) 및 데이터라인과 동일 층상에 동일 물질로 형성될 수도 있다.The blocking pattern 160 may be formed of the same material on the same layer as the gate wiring, that is, the gate electrode 121 and the gate line. In another embodiment, the blocking pattern 160 may be formed of the same material on the same layer as the data line, that is, the source electrode 122, the drain electrode 123, and the data line.

차단 패턴(160)과, 배선(126) 및 배선 패턴(116p)은 제 3 절연층(115d)에 의해 보호될 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.The interconnection pattern 160 and the interconnection 126 and the interconnection pattern 116p may be protected by the third insulating layer 115d, but the present invention is not limited thereto.

이러한 차단 패턴(160)은 벤딩 스트레스에 의한 크랙이 표시영역(DA) 내부로 전파되는 것을 효과적으로 차단하기 위해 이웃하는 열에 대해 엇갈리게 배치되거나 불규칙하게 배치될 수 있는데, 이를 도면을 참조하여 상세히 설명한다.The blocking pattern 160 may be staggered or irregularly arranged with respect to neighboring rows to effectively prevent cracks due to bending stress from propagating into the display area DA, which will be described in detail with reference to the drawings.

도 8은 도 3 및 도 4에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치에 있어, 외곽영역의 일부(E1)를 예시적으로 보여주는 평면도이다.FIG. 8 is a plan view illustrating a portion E1 of an outer area in the flexible display device according to the embodiment of the present invention shown in FIGS. 3 and 4. FIG.

반면에, 도 9a 및 도 9b는 도 3 및 도 4에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치에 있어, 표시영역의 일부(E2)에 대한 회로구성을 예시적으로 보여주는 평면도이다.On the other hand, Figs. 9A and 9B are plan views showing, by way of example, a circuit configuration for a portion E2 of the display area in the flexible display device according to the embodiment of the present invention shown in Figs. 3 and 4. Fig.

그리고, 도 10은 플렉서블 표시장치의 서브-화소에 대한 회로 구성을 보여주는 예시도이다.10 is an exemplary diagram showing a circuit configuration for a sub-pixel of a flexible display device.

이때, 도 9a와, 도 9b 및 도 10에 도시된 서브-화소는 스위칭 트랜지스터, 구동 트랜지스터, 커패시터 및 유기발광다이오드를 포함하는 2T(Transistor)1C(Capacitor) 구조로 구성된 경우를 예로 들고 있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 보상회로가 추가된 경우에는 3T1C, 4T2C, 5T2C 등 다양하게 구성될 수 있다.Here, the sub-pixel shown in FIGS. 9A, 9B, and 10 includes a transistor 1C (Capacitor) structure including a switching transistor, a driving transistor, a capacitor, and an organic light emitting diode. However, the present invention is not limited to this, and when a compensation circuit is added, it can be configured in various ways such as 3T1C, 4T2C, 5T2C, and the like.

먼저, 도 8을 참조하면, 스크라이브 라인(SL)으로부터 전파되는 크랙(도시된 화살표 참조)은 본 발명의 실시예에 따라 외곽영역(EA)에 배치된 차단 패턴(160)에 의해 일차적으로 차단될 수 있다.8, cracks (see the arrows) propagating from the scribe line SL are firstly blocked by the blocking pattern 160 disposed in the outer area EA according to the embodiment of the present invention .

전술한 바와 같이 플렉서블 기판 위에 소자를 제작할 때, 또는 제작 후 기판 자체에 가해지는 물리적인 벤딩 스트레스는 소자 내에 결함을 발생시킬 수 있는 요인으로 작용한다. 즉, 플렉서블 기판 위에 무기 소자를 형성한 후에 연속적인 벤딩 스트레스의 인가 시 무기막의 크랙 및 이로 인한 소자 불량을 유발할 수 있다. 이는 곧 플렉서블 표시장치의 소자 및 패널 신뢰성 측면에서 벤딩 스트레스에 보다 강건한(robust) 특성을 확보할 수 있는 플렉서블 표시장치가 필요함을 시사한다.As described above, the physical bending stress applied to the substrate itself when the device is fabricated on the flexible substrate or after the fabrication acts as a factor that can cause defects in the device. That is, when the bending stress is continuously applied after the inorganic element is formed on the flexible substrate, cracks of the inorganic film and device failure due to the crack can be caused. This suggests that a flexible display device capable of ensuring robust characteristics in terms of bending stress in view of device and panel reliability of the flexible display device is required.

이에 본 발명에서는 플렉서블 기판 위에 소자 제작 시, TFT의 성능을 유지하며 벤딩 스트레스에 의한 백플레인 결함 발생을 최소화할 수 있는 방안으로 외곽영역(EA)에 크랙의 전파를 차단하는 차단 패턴(160)을 형성하는 것을 특징으로 한다. 이러한 차단 패턴(160)은 이웃하는 열에 대해 엇갈리게 배치되거나, 앞 열의 차단 패턴(160)들 사이의 공간에 대응하는 위치에 뒤 열의 차단 패턴(160)들이 배치될 수 있다. 또한, 차단 패턴(160)은 열을 구성하지 않고 무작위로 배치될 수도 있다.In the present invention, in order to minimize the occurrence of backplane defects due to bending stress while maintaining the performance of the TFT at the time of manufacturing a device on a flexible substrate, a shielding pattern 160 for blocking propagation of cracks is formed in the outer region EA . The blocking patterns 160 may be staggered with respect to neighboring rows or the blocking patterns 160 of the rear row may be disposed at positions corresponding to spaces between the blocking patterns 160 of the front row. In addition, the blocking pattern 160 may be randomly arranged without forming a column.

즉, 본 출원인은 벤딩 스트레스에 의한 크랙이 스크라이브 라인(SL)으로부터 GIP를 포함하는 비표시영역(NA) 및 표시영역(DA) 내부로 전파되는 현상을 관찰하였다. 따라서, 본 발명은 이를 차단 패턴(160)을 통해 억제하여 백플레인 내부의 기계적인 스트레스에 의한 손상을 최소화하기 위한 것이다.That is, the applicant observed a phenomenon in which a crack due to bending stress propagated from the scribe line SL into the non-display area NA including the GIP and the display area DA. Thus, the present invention is to suppress this through the blocking pattern 160 to minimize damage due to mechanical stress inside the backplane.

전술한 바와 같이 이러한 차단 패턴(160)은 다수의 열을 구성하도록 배치될 수 있다. 또한, 차단 패턴(160)은 이웃하는 열의 차단 패턴(160)에 대해 서로 엇갈리게 배치될 수 있다.As described above, this blocking pattern 160 may be arranged to form a plurality of rows. In addition, the blocking patterns 160 may be staggered with respect to the blocking patterns 160 of neighboring rows.

이때, 도 8에서는 홀수 번째 열의 차단 패턴(160) 및 짝수 번째 열의 차단 패턴(160) 각각이 서로 동일한 배치를 이루며, 홀수 번째 열의 차단 패턴(160)과 짝수 번째 열의 차단 패턴(160)이 서로 엇갈리게 배치되는 것을 도시하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.In this case, in each of the odd-numbered row blocking patterns 160 and the even-numbered row blocking patterns 160, the odd-numbered row blocking patterns 160 and the even-numbered row blocking patterns 160 are staggered The present invention is not limited thereto.

차단 패턴(160)은 열을 구성하지 않도록 무작위로 배치될 수 있으며, 또는 불규칙하게 배치될 수 있다.The blocking patterns 160 may be randomly arranged so as not to form a row, or they may be irregularly arranged.

또한, 차단 패턴(160)은 홀수 번째 열의 차단 패턴(160) 및 짝수 번째 열의 차단 패턴(160) 각각이 서로 다른 배치를 이룰 수도 있다.In addition, the blocking pattern 160 may have a different arrangement from the blocking patterns 160 of the odd-numbered columns and the blocking patterns 160 of the even-numbered columns.

즉, 본 발명의 실시예에 따른 차단 패턴(160)은 앞 열의 차단 패턴(160)들 사이의 공간에 대응하는 위치에 뒤 열의 차단 패턴(160)들이 배치되어 크랙의 전파를 차단, 또는 감소시킬 수 있기만 하면, 어떠한 배치라도 가능하다.That is, in the shield pattern 160 according to the embodiment of the present invention, the shield patterns 160 of the rear row are arranged at positions corresponding to the spaces between the shield patterns 160 of the front row to block or reduce the propagation of the cracks Any arrangement is possible, if at all possible.

또한, 본 출원인은 크랙의 전파가 표시영역(DA) 내부의 패턴의 규칙성에 따라 보다 쉽게 전파되는 것을 확인할 수 있었으며, 이에 표시영역(DA) 내부의 서브-화소 구조를 비규칙적이거나 불규칙적으로 배치하는 것을 제안한다.In addition, the applicant of the present invention can confirm that the propagation of the crack propagates more easily according to the regularity of the pattern in the display area DA, and accordingly, the sub-pixel structure in the display area DA is irregularly or irregularly arranged Lt; / RTI >

도 9a와, 도 9b 및 도 10을 참조하면, 플렉서블 표시장치로 유기전계발광 표시장치는 제 1 방향으로 배열된 게이트라인(GL) 및 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 서로 이격하여 배열된 데이터라인(DL)과 구동 전원라인(VDDL)에 의해 서브-화소(P11, P12, P13, P14, P21, P22, P23, P24)가 정의된다.9A, 9B, and 10, the flexible organic EL display device includes a gate line GL arranged in a first direction and a gate line GL arranged in a second direction crossing the first direction Pixels P11, P12, P13, P14, P21, P22, P23 and P24 are defined by the data line DL and the driving power supply line VDDL.

하나의 서브-화소(P11, P12, P13, P14, P21, P22, P23, P24)에는 스위칭 트랜지스터(SW), 구동 트랜지스터(DR), 커패시터(Cst), 보상회로(CC) 및 유기발광다이오드(OLED)가 포함될 수 있다.The switching transistor SW, the driving transistor DR, the capacitor Cst, the compensation circuit CC and the organic light emitting diode (OLED) are connected to one sub-pixel P11, P12, P13, P14, P21, P22, P23, OLED) may be included.

유기발광다이오드(OLED)는 구동 트랜지스터(DR)에 의해 형성된 구동 전류에 따라 빛을 발광하도록 동작한다.The organic light emitting diode OLED operates to emit light in accordance with the driving current generated by the driving transistor DR.

스위칭 트랜지스터(SW)는 게이트라인(GL)을 통해 공급된 게이트신호에 응답하여 데이터라인(DL)을 통해 공급되는 데이터신호가 커패시터(Cst)에 데이터전압으로 저장되도록 스위칭 동작한다.The switching transistor SW operates in response to a gate signal supplied through the gate line GL so that a data signal supplied through the data line DL is stored as a data voltage in the capacitor Cst.

구동 트랜지스터(DR)는 커패시터(Cst)에 저장된 데이터전압에 따라 구동 전원라인(VDDL)과 그라운드배선(GND) 사이로 구동 전류가 흐르도록 동작한다.The driving transistor DR operates so that a driving current flows between the driving power supply line VDDL and the ground wiring GND in accordance with the data voltage stored in the capacitor Cst.

보상회로(CC)는 구동 트랜지스터(DR)의 문턱전압 등을 보상한다. 보상회로(CC)는 하나 이상의 트랜지스터와 커패시터로 구성될 수 있다. 보상회로(CC)의 구성은 매우 다양한바 이에 대한 구체적인 예시 및 설명은 생략한다.The compensation circuit CC compensates the threshold voltage of the driving transistor DR and the like. The compensation circuit CC may consist of one or more transistors and capacitors. The configuration of the compensation circuit (CC) is very various, and a detailed illustration and description thereof are omitted.

이와 같은 구조를 갖는 본 발명의 실시예에 따른 플렉서블 표시장치는 전술한 바와 같이 표시영역(DA)에 어레이 구조를 이웃하는 서브-화소와 다르게 배치하여 표시영역(DA) 내부에서의 패턴 규칙성에 따라 전파되는 크랙 진행을 최소화하는 것을 특징으로 한다.As described above, the flexible display device according to an embodiment of the present invention having such a structure differs from the sub-pixels adjacent to the array structure in the display area DA according to the pattern regularity in the display area DA Thereby minimizing propagation of propagated cracks.

일 예로, 도 9a를 참조하면, 첫 번째 열의 서브-화소(P11, P21)의 게이트전극은 제 1 게이트라인(GL)에 연결되도록 구성하는 반면에 두 번째 열의 서브-화소(P12, P22)의 게이트전극은 제 2 게이트라인(GL)에 연결되도록 구성할 수 있다. 다음으로, 세 번째 열의 서브-화소(P13, P23)의 게이트전극은 제 1 게이트라인(GL)에 연결되도록 구성하는 반면에 네 번째 열의 서브-화소(P14, P24)의 게이트전극은 제 2 게이트라인(GL)에 연결되도록 구성할 수 있다.9A, the gate electrodes of the sub-pixels P11 and P21 of the first column are connected to the first gate line GL, while the gate electrodes of the sub-pixels P12 and P22 of the second column are connected to the first gate line GL. And the gate electrode may be connected to the second gate line GL. Next, the gate electrodes of the sub-pixels P13 and P23 in the third column are connected to the first gate line GL while the gate electrodes of the sub-pixels P14 and P24 in the fourth column are connected to the second gate And may be configured to be connected to the line GL.

즉, 홀수 번째 열의 서브-화소(P11,P21, P13,P23)는 홀수 번째 행의 게이트라인(GL)에 게이트전극이 연결되도록 구성하며, 짝수 번째 열의 서브-화소(P12,P22, P14,P24)는 짝수 번째 행의 게이트라인(GL)에 게이트전극이 연결되도록 구성할 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 본 발명은 홀수 번째 열의 서브-화소(P11,P21, P13,P23)는 짝수 번째 행의 게이트라인(GL)에 게이트전극이 연결되도록 구성하며, 짝수 번째 열의 서브-화소(P12,P22, P14,P24)는 홀수 번째 행의 게이트라인(GL)에 게이트전극이 연결되도록 구성할 수도 있다.In other words, the sub-pixels P11, P21, P13 and P23 of the odd-numbered columns are connected to the gate line GL of the odd-numbered row and the sub-pixels P12, P22, P14 and P24 May be configured so that the gate electrode is connected to the gate line GL of the even-numbered row. However, the present invention is not limited to this. In the present invention, the gate electrodes GL of the even-numbered rows are connected to the gate electrodes GL of the sub-pixels P11, P21, P13 and P23 of the odd- The sub-pixels P12, P22, P14, and P24 of the row may be configured so that the gate electrode is connected to the gate line GL of the odd-numbered row.

이 경우 짝수 번째 열의 전계발광(electroluminescence; EL)영역이 홀수 번째 열의 EL영역에 대해 뒤집어진 형태를 가질 수 있다.In this case, the electroluminescence (EL) region of the even-numbered column may have an inverted form with respect to the EL region of the odd-numbered column.

다른 예로, 도 9b를 참조하면, 같이 표시영역(DA)에 어레이 구조가 엇갈리게 배치, 즉 가로 방향으로 지그재그 형태로 배치될 수도 있다.As another example, referring to FIG. 9B, the array structures may be arranged in a staggered arrangement in the display area DA, that is, in a zigzag form in the horizontal direction.

이 경우 게이트라인(GL)이 가로 방향으로 지그재그 형태로 배치될 수 있다. 이때, 도 9b에는 짝수 번째 열의 TFT와 EL영역이 홀수 번째 열의 TFT와 EL영역에 대해 뒤집어진 형태가 도시되어 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 짝수 번째 열과 홀수 번째 열의 TFT와 EL영역이 서로 동일한 형태를 가질 수도 있다.In this case, the gate lines GL may be arranged in a zigzag manner in the horizontal direction. In this case, the TFTs and the EL regions in the even-numbered columns are inverted with respect to the TFTs and the EL regions in the odd-numbered columns, but the present invention is not limited thereto. They may have the same shape.

다만, 본 발명에 이에 한정되는 것은 아니며, 본 발명은 표시영역(DA) 내부의 서브-화소(P11, P12, P13, P14, P21, P22, P23, P24) 구조, 일 예로 TFT와 EL영역을 비규칙적이거나 불규칙적으로 배치하는 어떠한 경우라도 적용 가능하다.However, the present invention is not limited thereto. The present invention can be applied to a structure of sub-pixels P11, P12, P13, P14, P21, P22, P23 and P24 in the display area DA, It is applicable in any case where it is placed irregularly or irregularly.

상기한 설명에 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나 이것은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서 발명은 설명된 실시예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위에 균등한 것에 의하여 정하여져야 한다.While a great many are described in the foregoing description, it should be construed as an example of preferred embodiments rather than limiting the scope of the invention. Therefore, the invention should not be construed as limited to the embodiments described, but should be determined by equivalents to the appended claims and the claims.

101 : 기판 160 : 차단 패턴
DA : 표시영역 DL : 데이터라인
DR : 구동 트랜지스터 EA : 외곽영역
GL : 게이트라인 NA : 비표시영역
P11,P12,P13,P14,P21,P22,P23,P24 : 서브-화소
SL : 스크라이브 라인 SW : 스위칭 트랜지스터
VDDL : 구동 전원라인
101: Substrate 160: Breaking pattern
DA: Display area DL: Data line
DR: driving transistor EA: outer region
GL: Gate line NA: Non-display area
P11, P12, P13, P14, P21, P22, P23, P24:
SL: scribe line SW: switching transistor
VDDL: Power supply line

Claims (9)

다수의 서브-화소로 구성된 표시영역(display area)과 상기 표시영역 주위의 비표시영역으로 구분되는 기판;
상기 기판의 비표시영역의 외곽에 배치되어 크랙 발생 시 크랙의 전파를 차단하는 다수의 차단 패턴; 및
상기 서브-화소에 구비되되, 이웃하는 서브-화소와 다른 배치를 가지는 TFT와 전계발광(electroluminescence; EL)영역을 포함하는 플렉서블 표시장치.
A substrate divided into a display area composed of a plurality of sub-pixels and a non-display area around the display area;
A plurality of blocking patterns disposed on an outer periphery of the non-display area of the substrate to block crack propagation when cracks occur; And
And a TFT having an arrangement different from neighboring sub-pixels and an electroluminescence (EL) region provided in the sub-pixel.
제 1 항에 있어서, 상기 차단 패턴은 다수의 열을 구성하도록 배치되는 플렉서블 표시장치.The flexible display device according to claim 1, wherein the blocking pattern is arranged to form a plurality of rows. 제 2 항에 있어서, 상기 차단 패턴은 이웃하는 열의 차단 패턴에 대해 서로 엇갈리게 배치되는 플렉서블 표시장치.3. The flexible display device according to claim 2, wherein the cutoff patterns are staggered with respect to a cutoff pattern of neighboring rows. 제 2 항에 있어서, 홀수 번째 열의 차단 패턴 및 짝수 번째 열의 차단 패턴 각각은 동일한 배치를 이루며,
상기 홀수 번째 열의 차단 패턴과 상기 짝수 번째 열의 차단 패턴이 서로 엇갈리게 배치되는 플렉서블 표시장치.
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the blocking patterns of the odd-numbered columns and the blocking patterns of the even-numbered columns have the same arrangement,
Numbered column and the even-numbered column are arranged so as to be staggered from each other.
제 1 항에 있어서, 상기 차단 패턴은 열을 구성하지 않고 무작위로 배치되는 플렉서블 표시장치.The flexible display device according to claim 1, wherein the blocking pattern is randomly arranged without forming a column. 제 2 항 및 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 차단 패턴은 앞 열의 차단 패턴들 사이의 공간에 대응하는 위치에 뒤 열의 차단 패턴들이 배치되는 플렉서블 표시장치.The flexible display device according to any one of claims 2 and 4, wherein the blocking patterns are disposed at positions corresponding to spaces between the blocking patterns of the front row. 제 1 항에 있어서, 상기 차단 패턴은 상기 TFT를 구성하는 게이트 배선이나 데이터 배선과 동일 층상에 동일 물질로 이루어진 플렉서블 표시장치.The flexible display device according to claim 1, wherein the blocking pattern is made of the same material as the gate wiring and the data wiring constituting the TFT. 제 1 항에 있어서, 상기 서브-화소는,
홀수 번째 열의 서브-화소의 게이트전극이 홀수 번째 행의 게이트라인에 연결되도록 구성되며,
짝수 번째 열의 서브-화소의 게이트전극이 짝수 번째 행의 게이트라인에 연결되도록 구성되는 플렉서블 표시장치.
2. The method of claim 1, wherein the sub-
The gate electrode of the odd-numbered sub-pixel is connected to the gate line of the odd-numbered row,
And the gate electrode of the sub-pixel in the even-numbered column is connected to the gate line of the even-numbered row.
제 1 항에 있어서, 상기 EL영역은 짝수 번째 열의 EL영역이 홀수 번째 열의 EL영역에 대해 뒤집어진 형태를 가지는 플렉서블 표시장치.The flexible display device according to claim 1, wherein the EL region has a shape in which an EL region in an even-numbered column is inverted with respect to an EL region in an odd-numbered column.
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