KR20170063088A - Toxic gas removal device automatically - Google Patents
Toxic gas removal device automatically Download PDFInfo
- Publication number
- KR20170063088A KR20170063088A KR1020150169054A KR20150169054A KR20170063088A KR 20170063088 A KR20170063088 A KR 20170063088A KR 1020150169054 A KR1020150169054 A KR 1020150169054A KR 20150169054 A KR20150169054 A KR 20150169054A KR 20170063088 A KR20170063088 A KR 20170063088A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- air
- unit
- exhaust
- exhaust pipe
- sterilizing
- Prior art date
Links
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 claims abstract description 46
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 37
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 29
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 238000004887 air purification Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002048 multi walled nanotube Substances 0.000 claims description 2
- 239000002109 single walled nanotube Substances 0.000 claims description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 abstract description 12
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 abstract description 7
- 244000052616 bacterial pathogen Species 0.000 abstract description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 2
- 230000001473 noxious effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 25
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 10
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 9
- 230000000249 desinfective effect Effects 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000036541 health Effects 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 239000000809 air pollutant Substances 0.000 description 1
- 231100001243 air pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000023504 respiratory system disease Diseases 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 239000008223 sterile water Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
- H01L21/02046—Dry cleaning only
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L9/00—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
- A61L9/16—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using physical phenomena
- A61L9/18—Radiation
- A61L9/20—Ultraviolet radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D46/00—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours
- B01D46/0027—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours with additional separating or treating functions
- B01D46/0028—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours with additional separating or treating functions provided with antibacterial or antifungal means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
- B01D47/06—Spray cleaning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/002—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by condensation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/30—Controlling by gas-analysis apparatus
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/70—Organic compounds not provided for in groups B01D2257/00 - B01D2257/602
- B01D2257/708—Volatile organic compounds V.O.C.'s
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2258/00—Sources of waste gases
- B01D2258/02—Other waste gases
- B01D2258/0216—Other waste gases from CVD treatment or semi-conductor manufacturing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/60—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation
- H01L2021/60007—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation involving a soldering or an alloying process
- H01L2021/60022—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation involving a soldering or an alloying process using bump connectors, e.g. for flip chip mounting
- H01L2021/60097—Applying energy, e.g. for the soldering or alloying process
- H01L2021/60172—Applying energy, e.g. for the soldering or alloying process using static pressure
- H01L2021/60187—Isostatic pressure, e.g. degassing using vacuum or pressurised liquid
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
- Y02A50/2351—Atmospheric particulate matter [PM], e.g. carbon smoke microparticles, smog, aerosol particles, dust
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
Abstract
본 발명은 반도체 생산현장을 포함한 각종 산업현장의 밀폐된 공간에서 발생하는 유해가스를 자동 제거할 수 있는 공기 정화장치에 관한 것으로, 각종 미세먼지 및 분진 등의 여과 뿐 아니라 VOC 가스와 같은 생산현장의 공기 중 유해요소를 열촉매 반응을 통해 1차적으로 제거하며, 살균수 공급 및 자외선 광 조사를 통해 공기 중 유해한 바이러스 및 세균을 2차 및 3차적으로 제거하여 쾌적한 실내 공기를 유지하고 대기오염을 방지할 수 있는 산업용 공기 정화장치를 제공하는 것이다.
본 발명은 실내에서 실외로 연장 설치되는 배기관로(110); 상기 배기관로(110)의 배출단 어느 한 부위에 설치되는 배기팬(120); 상기 배기관로(110)의 어느 한 부위에 내장 설치되어 공기 흐름 방향을 제어하기 위해 개폐 동작하는 메인댐퍼(130); 상기 배기관로(110)의 어느 한 부위에 설치되어 유해가스 발생 여부를 감지하는 가스감지센서(140);를 포함하는 배기덕트부(100); 상기 배기관로(110)로부터 공기 유통이 가능하도록 연결 설치되는 것으로, 유해성분이 함유된 공기를 공급받는 흡기부(211) 및 유해성분이 제거된 공기를 배출하는 배기부(212)가 일체로 형성된 '⊃'자형의 분기관로(210); 상기 흡기부(211)에 설치되어 개폐 동작하는 흡기댐퍼(220); 상기 배기부(212)에 설치되어 개폐 동작하는 배기댐퍼(230); 상기 분기관로(210) 내부에서 촉매필터부(250)의 양측 단부에 설치되는 미세금속필터(240); 상기 한 쌍의 미세금속필터(240) 사이에 배치되고 흡착제 및 촉매류가 충진되어 열촉매반응을 통해 흡착제에 포집된 유해성분을 제거하는 촉매필터부(250); 상기 촉매필터부(250)에 열을 전달하는 히팅수단(260); 상기 촉매필터부(250) 둘레를 감싸도록 형성된 단열수단(270); 상기 분기관로(210) 어느 한 위치에서 스프레이 방식으로 살균수를 분사하여 살균 처리하는 살균수공급부(280); 상기 분기관로(210) 어느 한 위치에서 자외선 광을 조사함으로 살균 처리하는 자외선살균부(290);를 포함하는 공기정화부(200); 유해가스 자동 제거장치의 전체적인 동작을 제어하는 제어부(300); 를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치.
The present invention relates to an air purifier capable of automatically removing noxious gases generated in a closed space of various industrial sites including a semiconductor production site, and more particularly, to an air purifier for filtering various fine dusts and dusts, It removes harmful elements in the air through thermal catalytic reaction. Secondly and tertiaryly removes harmful viruses and germs from the air through sterilized water supply and ultraviolet light irradiation to maintain pleasant indoor air and prevent air pollution. And to provide an industrial air purification device that can be used.
The present invention relates to an exhaust pipe (110) extending from an indoor to an outdoor space; An exhaust fan 120 installed at a part of a discharge end of the exhaust pipe 110; A main damper (130) installed in one part of the exhaust pipe (110) and opened and closed to control an air flow direction; And a gas detection sensor (140) installed on a part of the exhaust pipe (110) to detect whether or not a noxious gas is generated. A suction unit 211 for receiving air containing harmful substances and a discharge unit 212 for discharging air from which harmful substances have been removed are formed integrally with each other so as to be able to circulate air from the exhaust pipe 110. [ Shaped manifold 210; An intake damper 220 installed in the intake unit 211 to open and close the intake damper 220; An exhaust damper (230) installed in the exhaust part (212) and operated to open and close; A fine metal filter (240) installed at both ends of the catalytic filter part (250) inside the branch conduit (210); A catalytic filter part 250 disposed between the pair of fine metal filters 240 and filled with an adsorbent and a catalyst to remove harmful components captured by the adsorbent through a thermal catalytic reaction; A heating unit 260 for transmitting heat to the catalytic filter unit 250; A heat insulating means 270 formed to surround the catalytic filter portion 250; A sterilization water supply unit 280 for sterilizing sterilized water by spraying the sterilized water at a certain position in the branch conduit 210; And an ultraviolet sterilizing unit (290) sterilizing the ultraviolet light by irradiating ultraviolet light at a position of the branch duct (210). A control unit 300 for controlling the overall operation of the harmful gas automatic cleaner; And a VOC gas removal function of the semiconductor production site.
Description
본 발명은 반도체 생산현장에서 발생하는 VOC(Volatile Organic Compounds ; 휘발성유기화합물) 등의 유해성분 제거 기능을 갖는 공기정화장치에 관한 기술로서, 보다 상세하게 설명하면 공조용 배기 덕트에 복수개의 댐퍼(damper)가 설치되어 배기가스의 흐름을 제어하고, 배기관로의 한 부위에는 촉매필터를 구비하여 열촉매 반응을 통해 VOC 등의 공기 중 유해성분을 1차적으로 제거하며, 살균수공급부 및 자외선살균부를 통해 각종 유해 세균 및 바이러스를 2차 및 3차 살균처리하여 쾌적한 실내공기를 유지하고, 유해가스로 인한 작업자의 안전사고를 미연에 방지할 수 있도록 한 공기 정화장치에 관한 기술이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an air cleaning apparatus having a function of removing harmful components such as VOC (Volatile Organic Compounds) And a catalytic filter is provided at one portion of the exhaust pipe to remove harmful components in the air such as VOCs through a thermal catalytic reaction. The sterilizing water supply unit and the ultraviolet sterilizer The present invention relates to an air purification apparatus capable of maintaining a pleasant indoor air by disinfection of various harmful bacteria and viruses by secondary and tertiary disinfection and preventing a safety accident of an operator due to harmful gas in advance.
산업기술의 발달은 인간의 편익을 증진시키지만 각종 대기오염을 가중시키는 문제점이 있고, 최근에는 미세먼지와 각종 바이러스로 인한 호흡기 질환이 증가하는 문제점도 증가하고 있는 실정으로 이에 대한 해결은 시급한 과제이다.The development of industrial technology promotes the benefits of humans, but it has the problem of increasing various air pollution. In recent years, the problem of increased respiratory diseases due to fine dust and various viruses is also increasing.
특히, 반도체 생산현장에서 발생하는 VOC(Volatile Organic Compounds ; 휘발성유기화합물) 등의 유해가스는 작업자의 안전과 건강을 위협하고, 실내 및 대기오염을 발생시키는 문제점으로 작용하고 있다.Particularly, harmful gases such as volatile organic compounds (VOC) generated in a semiconductor production site threaten the safety and health of workers and cause indoor and air pollution.
종래의 반도체 생산현장에서는 공조용 덕트 및 댐퍼를 이용한 흡기 및 배기 시스템으로부터 산업설비(공장, 챔버)의 밀폐된 공간에서 발생한 유해가스 및 분진 등을 외부로 배기하고, 외부공기를 내부 공간으로 흡기하여 순환시키는 역할을 통해 내부 공기를 쾌적하게 유지하였다. 하지만, 공조용 덕트 및 댐퍼를 이용한 흡ㆍ배기 시스템은 공기 중의 유해한 성분 자체를 제거하지 않고 그대로 방출하기에 대기오염을 발생시키는 문제가 있었고, 외부공기를 내부 공간으로 흡기하는 과정에서 오염된 외부공기가 다시 유입될 수 있어 작업자의 안전과 건강을 위협하는 문제점이 있었다.In the conventional semiconductor production site, exhaust gas and dust generated in the closed space of the industrial facility (factory, chamber) are exhausted from the intake and exhaust system using air duct and damper to the outside, and external air is sucked into the internal space The air circulation was pleasantly maintained through the role of circulation. However, the air intake and exhaust system using air ducts and dampers for air conditioning has a problem in that it does not remove the harmful components in the air but emits air pollutants. In the process of sucking the outside air into the inside space, There is a problem that safety and health of workers are threatened.
상기와 같은 문제해결을 위해 일부 작업장에서는 실내 공기정화장치를 사용하고도 있으나, 이는 해파필터를 이용한 단순 여과기능으로부터 분진 등의 미세먼지를 제거할 뿐 공기 중의 유해한 성분 자체를 실질적으로 제거할 수는 없었고, 해파필터의 관리가 소홀하면 필터에 축적된 유해성분이 오히려 공기오염을 가중시키는 문제점으로 작용하기도 하였다.In order to solve the above-mentioned problem, some indoor air purification apparatuses are used, but it is necessary to remove fine dust such as dust from the simple filtration function using a wave filter and to remove the harmful components in the air itself If the management of the wave filter is poor, the harmful component accumulated in the filter may cause the air pollution to be increased.
이에 반도체 생산현장을 포함한 각종 산업현장의 밀폐된 공간에서 발생하는 휘발성유기화합물 등의 유해성분 자체를 제거할 수 있는 공기 정화장치가 필요한 실정이다.
Accordingly, there is a need for an air purification device capable of removing harmful components such as volatile organic compounds generated in a closed space of various industrial sites including a semiconductor production site.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 반도체 생산현장을 포함한 각종 산업현장의 밀폐된 공간에서 발생하는 유해가스를 자동 제거할 수 있는 공기 정화장치에 관한 것으로, 각종 미세먼지 및 분진 등의 여과 뿐 아니라 VOC 가스와 같은 생산현장의 공기 중 유해요소를 열촉매 반응을 통해 1차적으로 제거하며, 살균수 공급 및 자외선 광 조사를 통해 공기 중 유해한 바이러스 및 세균을 2차 및 3차적으로 제거하여 쾌적한 실내 공기를 유지하고 대기오염을 방지할 수 있는 공기 정화장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
Disclosure of Invention Technical Problem [8] Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and an object of the present invention is to provide an air purifier capable of automatically removing noxious gas generated in a closed space of various industrial sites, Dust, etc., as well as harmful elements in the air of the production site such as VOC gas are firstly removed through a thermal catalytic reaction, and harmful viruses and bacteria in the air are sterilized by secondary sterilization So as to maintain a comfortable indoor air and to prevent air pollution.
본 발명은 상기와 같은 소기의 목적을 실현하고자, 반도체 생산현장을 포함한 산업용 공기 정화장치를 제공하는 것으로, 실내에서 실외로 연장 설치되는 배기관로; 상기 배기관로의 배출단 어느 한 부위에 설치되는 배기팬; 상기 배기관로의 어느 한 부위에 내장 설치되어 공기 흐름 방향을 제어하기 위해 개폐 동작하는 메인댐퍼; 상기 배기관로의 어느 한 부위에 설치되어 유해가스 발생 여부를 감지하는 가스감지센서;를 포함하는 배기덕트부; 상기 배기관로로부터 공기 유통이 가능하도록 연결 설치되는 것으로, 유해성분이 함유된 공기를 공급받는 흡기부 및 유해성분이 제거된 공기를 배출하는 배기부가 일체로 형성된 '⊃'자형의 분기관로; 상기 흡기부에 설치되어 개폐 동작하는 흡기댐퍼; 상기 배기부에 설치되어 개폐 동작하는 배기댐퍼; 상기 분기관로 내부에서 촉매필터부의 양측 단부에 설치되는 미세금속필터; 상기 한 쌍의 미세금속필터 사이에 배치되고 흡착제 및 촉매류가 충진되어 열촉매반응을 통해 흡착제에 포집된 유해성분을 제거하는 촉매필터부; 상기 촉매필터부에 열을 전달하는 히팅수단; 상기 촉매필터부 둘레를 감싸도록 형성된 단열수단; 상기 분기관로 어느 한 위치에서 스프레이 방식으로 살균수를 분사하여 살균 처리하는 살균수공급부; 상기 분기관로 어느 한 위치에서 자외선 광을 조사함으로 살균 처리하는 자외선살균부;를 포함하는 공기정화부; 유해가스 자동 제거장치의 전체적인 동작을 제어하는 제어부;를 포함하는 구성을 적용한다.
An object of the present invention is to provide an industrial air purification apparatus including a semiconductor production site in order to realize the above-mentioned purpose, and an exhaust pipe extending from an indoor to an outdoor space; An exhaust fan installed at one of the exhaust ends of the exhaust pipe; A main damper installed in a part of the exhaust pipe to open and close to control an air flow direction; And a gas detection sensor installed on a part of the exhaust pipe to detect whether or not a noxious gas is generated; A '?' -Shaped branch pipe connected to the exhaust pipe so as to allow air to flow therethrough, wherein an intake unit for receiving air containing harmful components and an exhaust unit for exhausting air from which harmful components are removed is integrally formed; An intake damper installed in the intake unit and operated to open and close; An exhaust damper installed at the exhaust part and opened and closed; A fine metal filter installed at both side ends of the catalytic filter portion inside the branch pipe; A catalytic filter part disposed between the pair of fine metal filters and filled with an adsorbent and a catalyst to remove harmful components captured by the adsorbent through a thermal catalytic reaction; A heating unit for transmitting heat to the catalytic filter unit; A heat insulating means formed to surround the catalytic filter portion; A sterilizing water supply unit for sterilizing the sterilizing water by spraying the sterilizing water at a certain position with the spray tube; And an ultraviolet sterilizer for sterilizing the ultraviolet light by irradiating the ultraviolet light at a certain position with the branch tube; And a control unit for controlling the overall operation of the automatic harmful gas removing apparatus.
본 발명에 따른 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치에 의하면, 반도체 생산현장을 포함한 각종 산업현장에서 발생하는 미세먼지 및 분진 등의 여과 뿐 아니라 열촉매 반응을 통해 VOC 가스 등의 유해성분을 제거할 수 있으며, 공기 중 각종 유해한 바이러스 및 세균을 동시에 제거할 수 있어 쾌적한 실내 공기를 유지하고, 작업장에서 누출된 유해가스 제거를 통해 작업자의 안전사고를 방지하며, 유해성분이 제거된 배기가스를 외부로 방출하면서 대기오염을 방지할 수 있는 효과가 있다.
According to the air purification apparatus having the VOC gas removal function of the semiconductor production site according to the present invention, not only the fine dust and dust which are generated at various industrial sites including the semiconductor production site but also the harmful of the VOC gas It is possible to remove harmful viruses and germs in the air at the same time, thereby maintaining a pleasant indoor air, preventing worker's safety accident through removal of harmful gas leaking from the workplace, So that the air pollution can be prevented.
도 1은 본 발명의 제 1실시예에 따른 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치를 도시한 전체 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제 1실시예에 따른 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치에서 메인댐퍼의 구성을 개략적으로 도시한 측면도이다.
도 3은 본 발명의 제 1실시예에 따른 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치에서 촉매필터부의 주요 구성을 도시한 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치의 동작에서 유해가스가 감지되지 않았을 경우 공기의 흐름을 나타낸 것이다.
도 5는 본 발명에 따른 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치의 동작에서 유해가스가 감지되었을 경우 공기의 흐름을 나타낸 것이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an overall schematic view showing an air purifier having a VOC gas removal function in a semiconductor production site according to a first embodiment of the present invention; FIG.
2 is a side view schematically illustrating the configuration of a main damper in an air cleaning apparatus having a VOC gas removal function in a semiconductor production site according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 3 shows a main configuration of a catalytic filter unit in an air purification apparatus having a VOC gas removal function in a semiconductor production site according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 4 shows the flow of air when no harmful gas is detected in the operation of the air purifier having the function of removing VOC gas at the semiconductor production site according to the present invention.
FIG. 5 shows the flow of air when noxious gas is detected in the operation of the air purifier having the function of removing VOC gas at the semiconductor production site according to the present invention.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 제 1실시예에 따른 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치를 나타낸 것으로, 내부공기를 흡기하여 외부로 배기하는 구성의 배기덕트부(100)와, 상기 배기덕트부(100)의 일 부분에 연결되어 공기 중 VOC 가스 등의 유해성분을 1차로 열촉매 반응을 통해 제거하고, 공기 중 각종 유해 세균 및 바이러스를 2차로 살균수를 통해 제거하며, 이후 자외선 살균을 통해 3차로 각종 세균을 살균처리하는 공기정화부(200)와, 유해가스 자동 제거장치의 전체 동작을 컨트롤하는 제어부(300)를 포함하여 구성된다.
1 to 3 illustrate an air purifying apparatus having a VOC gas removing function in a semiconductor production site according to a first embodiment of the present invention. The air purifying apparatus includes an
배기덕트부(100)는 산업설비의 챔버 또는 밀폐된 작업장 내부의 오염된 공기를 외부로 배기하는 기능으로서, 실내에서 실외로 연장 설치되는 배기관로(110)와, 상기 배기관로(110)의 배출단 어느 한 부위에 설치되어 공기를 강제 배기시키는 배기팬(120)과, 상기 배기관로(110)의 어느 한 부위에 내장 설치되어 공기 흐름 방향을 제어하기 위해 개폐 동작하는 메인댐퍼(130)와, 상기 배기관로(110)의 어느 한 부위에 설치되어 유해가스(VOC) 발생 여부를 감지하는 가스감지센서(140)를 포함하여 구성된다.The
상기 메인댐퍼(130)의 구성은 도 2에 도시한 바와 같이, 배기관로(110)의 내경과 대응되는 원판형의 디스크(131)가 배기관로(110) 내부에 설치되고, 상기 디스크(131)는 회전축(132)으로부터 90°각도로 회전 동작하되 회전력은 배기관로(110) 외부에 설치된 구동모터(133)로부터 전달받는다.
2, a
공기정화부(200)는 상기 배기관로(110)의 어느 한 부위에 연장 설치되는 것으로, 배기관로(110)의 내측을 지나는 유해성분이 함유된 공기(유해가스)를 공급받아 열촉매 작용을 통해 유해성분을 1차적으로 제거하고, 이후 살균수 공급 및 자외선 광 조사를 통해 공기 중 각종 유해한 세균 등 바이러스를 2차적으로 살균 처리하여 깨끗한 공기를 다시 배기관로(110)에 투입하여 실내로 공급하거나 외부로 배기시키는 것이다.The
이와 같은 공기정화부(200)는 도 1 및 도 3에 도시한 바와 같이, 분기관로(210)와, 흡기댐퍼(220) 및 배기댐퍼(230)와, 미세금속필터(240)와, 촉매필터부(250)와, 히팅수단(260)과, 단열수단(270)과, 살균수공급부(280)와, 자외선살균부(290)를 포함하여 이루어진다.1 and 3, the
분기관로(210)는, 배기관로(110)에서 유해성분이 함유된 공기를 공급받은 후 촉매작용을 통해 유해성분이 제거된 맑은 공기를 형성하여 다시 배기관로(110)에 공급하는 구성에 대한 전체적인 공기이송관로에 해당하는 것으로, 전체적인 형상은 내측에 공간부가 형성된 '⊃'자형의 관로로 이루어진다. 이와 같은 '⊃'자형의 분기관로(210)는 상기 배기관로(110)의 측방향에서 공기 유통이 가능하도록 연결 설치되는데, 어느 한 단부는 배기관로(110)에서 유해성분이 함유된 공기를 공급받는 흡기부(211)에 해당되고, 또 다른 단부는 유해성분이 제거된 맑은 공기를 배출하는 배기부(212)에 해당된다. 이때, 상기 흡기부(211)는 '⊃'자형의 분기관로(210)의 하부에 형성되고 상기 배기부(212)는 '⊃'자형의 분기관로(210)의 상부에 형성됨이 공기 유체의 흐름상 바람직하다.The branch tractor 210 forms a clean air from which harmful components are removed through catalytic action after supplying air containing harmful components in the
흡기댐퍼(220)는 '⊃'자형의 분기관로(210)의 흡기부(211)에 설치되고, 배기댐퍼(230)는 '⊃'자형의 분기관로(210)의 배기부(212)에 각각 설치되어 공기 흐름의 차단 및 개방을 제어할 수 있도록 개폐 동작한다. 상기 흡기댐퍼(220) 및 배기댐퍼(230)의 상세한 구성은 상기 메인댐퍼(130)와 동일하므로 이하 상세한 구조 설명은 생략하기로 한다.The
미세금속필터(240)는 다수개의 미세한 통공을 형성하여 유통되는 공기 중의 각종 먼지 및 분진을 여과하는 것으로, 분기관로(210) 내부에 형성된 촉매필터부(250)의 양측 단부에 설치된다. 이러한 미세금속필터(240)는 열에 의한 변형이 일어나지 않도록 금속소재로 형성된다.The
촉매필터부(250)는 상기 분기관로(210) 내부에 설치되어 열촉매 반응을 통해 공기 중의 VOC(휘발성유기화합물) 가스 등을 제거하는 것으로, 상기 촉매필터부(250)는 한 쌍의 미세금속필터(240) 사이에 배치됨이 바람직하다. 또한, 상기 촉매필터부(250) 내부에는 단일벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브, 활성탄, 그래핀, 제올라이트 중 어느 하나에 해당하는 흡착제와, 백금, 파라듐, 금속산화물 중 어느 하나에 해당하는 촉매류가 충진되는 것으로, 이는 열을 가하였을시 촉매반응을 통해 흡착제에 포집된 유해성분이 제거되는 것이다.The
상기 촉매필터부(250)에 충진되는 흡착제 및 촉매류의 비율은, 흡착제 100중량부를 기준으로 촉매류는 1~10중량부가 혼합되는 것으로, 상기에서 촉매류가 1중량부 미만으로 포함되면 촉매반응이 미미하여 유해성분의 제거가 잘 이루어지지 않으며, 촉매류가 10중량부를 초과하여 포함되면 촉매반응은 좋으나 경제적이지 못하여 바람직하지 않다.The amount of the adsorbent and the catalyst to be charged in the
히팅수단(260)은 촉매효과의 활성화를 위해 열을 발생시킨 후 상기 촉매필터부(250)에 열을 전달하는 것으로, 히팅수단(260)의 가열조건은 120~200℃가 바람직하다. 상기에서 가열조건이 120℃ 미만이면 촉매활성화가 미약하여 좋지 못하고, 가열조건이 200℃를 초과하면 흡착제가 연소되는 문제가 발생하여 좋지 못하다.The heating means 260 generates heat to activate the catalytic effect and then transmits heat to the
본 발명의 제 1실시예에 따른 히팅수단(260)은 히팅봉(261) 다수개가 촉매필터부(250) 내부에 삽입 형성되는데, 이때, 순간적으로 고온에 도달하는 히팅봉(261)에 흡착제가 연소될 수 있는 우려를 방지하고, 히팅봉(261) 주변만 집중적으로 가열되는 우려를 방지하고자, 상기 히팅봉(261) 외측에는 열 전도율이 좋은 금속소재로 형성되고 둘레에는 다수개의 열전도핀(262a)이 돌출 형성된 열분산수단(262)이 결합된다.In the
또한, 본 발명의 제 2실시예에 의하면 상기 히팅수단(260)은 면상발열체가 적용될 수 있으며, 이와 같은 면상발열체는 촉매필터부(250) 둘레를 감싸면서 배치된 구조로부터 열을 전달할 수 있도록 한다. In addition, according to the second embodiment of the present invention, the
또한, 본 발명의 제 3실시예에 의하면 상기 히팅수단(260)은 열선이 적용될 수 있으며, 이와 같은 열선은 촉매필터부(250) 둘레를 감싸면서 배치된 구조로부터 열을 전달할 수 있도록 한다. Also, according to the third embodiment of the present invention, the heating means 260 can be applied with a heat ray, and the heat rays can transmit heat from the structure disposed while surrounding the
단열수단(270)은 상기 촉매필터부(250) 둘레를 감싸도록 형성되어 히팅수단(260)에 의해 발열된 열의 방출을 차단하는 기능을 한다.The heat insulating means 270 is formed to surround the
살균수공급부(280)는 상기 촉매필터부(250)에 인접 설치되어 촉매필터부(250)를 통과한 공기에 살균수를 분사함으로 각종 유해 세균 및 바이러스를 2차적으로 살균 처리하는 것으로, 이와 같은 살균수공급부(280)는 공기가 이동하는 관로 내부에 설치되어 살균수를 분사하는 살균수분사노즐(281)과, 분사된 살균수를 재사용하기 위해 수용하는 살균수저수조(282)와, 상기 살균수저수조(282)에 수용된 살균수를 순환시켜 살균수분사노즐(281)에 재공급하는 순환펌프(283)를 포함하여 구성된다.The sterilizing
자외선살균부(290)는 살균수공급부(280)에 인접 설치되어 살균수공급부(280)를 통과한 공기에 자외선 광을 조사함으로 다시 한 번 각종 유해 세균 및 바이러스를 3차적으로 살균 처리하는 것으로, 이와 같은 자외선살균부(290)는 관로 내부공간을 길이 방향으로 다수 분할하는 공간분할격벽(291)과, 상기 공간분할격벽(291)에 설치되는 다수의 자외선LED(292)를 포함하여 구성된다. 이때, 공간분할격벽(291)은 관로 내부공간에서 관로의 길이 방향으로 설치되는 것으로 이는 공기 유체의 흐름에 저항 발생을 최소화하면서 다수의 자외선LED(292)를 설치할 수 있도록하여 살균 효율을 증대시킬 수 있도록 한 것이다.
The ultraviolet sterilizing
제어부(300)는 본 발명 공기 정화장치의 전체적인 동작을 제어하는 것으로, 유속제어, 유해가스 제거를 위한 동작제어, 온도제어, 살균수 공급량 제어, 자외선LED의 출력제어 등의 기능을 수행한다. The
상기 유속제어는 배기팬(120)의 속도 제어를 통해 배기량을 제어할 수 있는 것이다.The flow rate control can control the amount of exhaust through the speed control of the
또한, 유해가스 제거를 위한 동작제어는, 가스감지센서(140)의 감지신호 발생 여부에 따라 유해가스가 감지되지 않을 경우 메인댐퍼(130)를 개방하고 흡기댐퍼(220) 및 배기댐퍼(230)를 차단하여 내부 공기를 직접 외부로 방출하고, 유해가스가 감지되었을 경우 메인댐퍼(130)를 차단하면서 흡기댐퍼(220) 및 배기댐퍼(230)를 개방하여 공기정화부(200)로 유해가스가 우회하면서 공기 중 유해성분을 제거하도록 한다.The operation control for removing the harmful gas is performed by opening the
또한, 온도제어는 히팅수단(260)에 인접 설치된 온도센서(310)를 통해 현재 온도를 감지하고 히팅수단(260)의 on/off 제어를 통한 설정온도를 유지할 수 있도록 제어한다. Also, the temperature control controls the current temperature to be sensed through the
또한, 살균수 공급량 제어는 살균수공급부(280)의 순환펌프(283) 동작 제어를 통해 살균수 분사량을 조절할 수 있도록 한다.In addition, the sterilized water supply amount control allows the sterilized water supply amount to be adjusted through the operation control of the
또한, 자외선LED의 출력제어는 자외선살균부(290)의 자외선LED(292)에 공급전원 제어를 통해 자외선 광 출력량을 제어할 수 있도록 한다.
Further, the output control of the ultraviolet LED enables the
상기와 같은 구성으로 이루어진 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치의 동작은 다음과 같다. 도 4는 본 발명에 따른 공기 정화장치의 동작에서 유해가스가 감지되지 않았을 경우 공기의 흐름을 나타낸 것이며, 도 5는 본 발명에 따른 공기 정화장치의 동작에서 유해가스가 감지되었을 경우 공기의 흐름을 나타낸 것이다.The operation of the air purifier having the function of removing VOC gas at the semiconductor production site having the above-described configuration is as follows. FIG. 4 is a graph showing the flow of air when noxious gas is not detected in the operation of the air purifying apparatus according to the present invention. FIG. 5 is a graph showing the flow of air when noxious gas is detected in the operation of the air purifying apparatus according to the present invention. .
먼저, 도 4에 도시한 바와 같이, 배기팬(120)의 동작으로부터 실내 공기는 배기관로(110)를 거치면서 외부로 배기된다. 이때, 가스감지센서(140)에서 공기 중 VOC 등 유해성분이 감지되지 않을 경우에는 메인댐퍼(130)를 개방하고, 흡기댐퍼(220) 및 배기댐퍼(230)를 차단하여 내부 공기가 직접 외부로 방출하도록 동작한다.First, as shown in FIG. 4, the indoor air is exhausted to the outside through the
만약, 가스감지센서(140)에서 배출되는 공기 중 VOC 등 유해성분이 감지되었을 경우에는 도 5에 도시한 바와 같이 메인댐퍼(130)를 차단하면서 흡기댐퍼(220) 및 배기댐퍼(230)를 개방하여 공기정화부(200)로 유해가스가 우회하도록 동작한다. 이때, 공기정화부(200)로 유입된 공기는 촉매필터부(250)를 통과하면서 열촉매 반응으로부터 VOC 등의 공기 중 유해성분이 제거되며, 공기 중 유해성분이 1차적으로 제거된 공기는 살균수공급부(280) 측으로 공급된다.5, the
이후, 살균수공급부(280)에서는 유해 세균 및 바이러스의 살균을 위해 분기관로(210) 내부에 설치된 살균수분사노즐(281)로부터 살균수가 스프레이 방식으로 공급되고, 공기 유체는 상기 스프레이 방식으로 분사되는 살균수를 통과하면서 2차적으로 이물질제거 및 살균 과정이 이루어진다.In the sterilization
이후, 살균수공급부(280)를 통과한 공기 유체는 최종적으로 자외선살균부(290)를 통과하는데, 여기서는 다수의 자외선LED(292)가 자외선 광을 조사함에 따라 3차적으로 각종 유해 세균 및 바이러스에 대한 살균 과정이 이루어진다. Thereafter, the air fluid that has passed through the sterilizing
이와 같이 촉매필터부(250), 살균수공급부(280), 자외선살균부(290)를 통과한 공기 유체는 VOC 성분을 포함한 공기 중 유해세균 및 바이러스 대부분이 살균된 상태로 이러한 맑은 공기는 다시 배기관로(110)에 유입되어 실내로 순환시키거나 외부로 배기시킬 수 있다.
As described above, in the air fluid passing through the
상기와 같은 구성 및 동작하는 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치는, 산업현장에서 발생하는 각종 미세먼지 및 산업용 분진을 여과할 뿐 아니라, 열촉매 반응을 통해 VOC 성분 등 각종 유해성분을 제거할 수 있으며, 살균수 공급 및 자외선 광 조사를 통해 유해 세균 및 바이러스 대부분을 살균할 수 있는 것이다. 이는 작업자의 유해가스로 인한 안전사고를 방지하고, 쾌적한 실내 공기를 유지하며, 더불어 대기오염을 방지할 수 있는 것이다.The air purifying apparatus having the above-described structure and operating the VOC gas removing function of the semiconductor production site not only filters various fine dusts and industrial dusts generated at the industrial site, but also various harmful components such as VOC components And it is possible to sterilize most harmful bacteria and viruses through sterilized water supply and ultraviolet light irradiation. This prevents safety accidents caused by harmful gases of workers, maintains pleasant indoor air, and prevents air pollution.
상기에서 본 발명의 바람직한 실시예를 참고로 설명 하였으며, 상기의 실시예에 한정되지 아니하고, 상기의 실시예를 통해 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변경으로 실시할 수 있는 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It is possible to carry out various changes in the present invention.
100 : 배기덕트부
110 : 배기관로
120 : 배기팬
130 : 메인댐퍼
131 : 디스크
132 : 회전축
133 : 구동모터
140 : 가스감지센서
200 : 공기정화부
210 : 분기관로
211 : 흡기부
212 : 배기부
220 : 흡기댐퍼
230 : 배기댐퍼
240 : 미세금속필터
250 : 촉매필터부
260 : 히팅수단
261 : 히팅봉
262 : 열분산수단
262a : 열전도핀
270 : 단열수단
280 : 살균수공급부
281 : 살균수분사노즐
282 : 살균수저수조
283 : 순환펌프
290 : 자외선살균부
291 : 공간분할격벽
292 : 자외선LED
300 : 제어부
310 : 온도센서100: exhaust duct part
110: By exhaust pipe
120: Exhaust fan
130: main damper
131: disk
132:
133: Driving motor
140: Gas sensor
200: air purifier
210: into the branch tube
211:
212:
220: intake damper
230: exhaust damper
240: fine metal filter
250: catalyst filter section
260: Heating means
261: Heating rod
262: heat dissipation means
262a: thermally conductive pin
270:
280: sterilization water supply part
281: Sterile water injection nozzle
282: sterilization water reservoir
283: circulation pump
290: Ultraviolet sterilizer
291: Spatial partitioning bulkhead
292: Ultraviolet LED
300:
310: Temperature sensor
Claims (2)
실내에서 실외로 연장 설치되는 배기관로(110); 상기 배기관로(110)의 배출단 어느 한 부위에 설치되는 배기팬(120); 상기 배기관로(110)의 어느 한 부위에 내장 설치되어 공기 흐름 방향을 제어하기 위해 개폐 동작하는 메인댐퍼(130); 상기 배기관로(110)의 어느 한 부위에 설치되어 유해가스 발생 여부를 감지하는 가스감지센서(140);를 포함하는 배기덕트부(100);
상기 배기관로(110)로부터 공기 유통이 가능하도록 연결 설치되는 것으로, 유해성분이 함유된 공기를 공급받는 흡기부(211) 및 유해성분이 제거된 공기를 배출하는 배기부(212)가 일체로 형성된 '⊃'자형의 분기관로(210); 상기 흡기부(211)에 설치되어 개폐 동작하는 흡기댐퍼(220); 상기 배기부(212)에 설치되어 개폐 동작하는 배기댐퍼(230); 상기 분기관로(210) 내부에서 촉매필터부(250)의 양측 단부에 설치되는 미세금속필터(240); 상기 한 쌍의 미세금속필터(240) 사이에 배치되고 흡착제 및 촉매류가 충진되어 열촉매반응을 통해 흡착제에 포집된 유해성분을 제거하는 촉매필터부(250); 상기 촉매필터부(250)에 열을 전달하는 히팅수단(260); 상기 촉매필터부(250) 둘레를 감싸도록 형성된 단열수단(270); 상기 분기관로(210) 어느 한 위치에서 스프레이 방식으로 살균수를 분사하여 살균 처리하는 살균수공급부(280); 상기 분기관로(210) 어느 한 위치에서 자외선 광을 조사함으로 살균 처리하는 자외선살균부(290);를 포함하는 공기정화부(200);
유해가스 자동 제거장치의 전체적인 동작을 제어하는 제어부(300);
를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치.
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an air purification apparatus for a semiconductor production site,
An exhaust pipe (110) extending from the room to the outside; An exhaust fan 120 installed at a part of a discharge end of the exhaust pipe 110; A main damper (130) installed in one part of the exhaust pipe (110) and opened and closed to control an air flow direction; And a gas detection sensor (140) installed on a part of the exhaust pipe (110) to detect whether or not a noxious gas is generated.
A suction unit 211 for receiving air containing harmful substances and a discharge unit 212 for discharging air from which harmful substances have been removed are formed integrally with each other so as to be able to circulate air from the exhaust pipe 110. [ Shaped manifold 210; An intake damper 220 installed in the intake unit 211 to open and close the intake damper 220; An exhaust damper (230) installed in the exhaust part (212) and operated to open and close; A fine metal filter (240) installed at both ends of the catalytic filter part (250) inside the branch conduit (210); A catalytic filter part 250 disposed between the pair of fine metal filters 240 and filled with an adsorbent and a catalyst to remove harmful components captured by the adsorbent through a thermal catalytic reaction; A heating unit 260 for transmitting heat to the catalytic filter unit 250; A heat insulating means 270 formed to surround the catalytic filter portion 250; A sterilization water supply unit 280 for sterilizing sterilized water by spraying the sterilized water at a certain position in the branch conduit 210; And an ultraviolet sterilizing unit (290) sterilizing the ultraviolet light by irradiating ultraviolet light at a position of the branch duct (210).
A control unit 300 for controlling the overall operation of the harmful gas automatic cleaner;
And a VOC gas removal function of the semiconductor production site.
상기 히팅수단(260)은 120~200℃ 온도 조건을 유지할 수 있는 최소 하나 이상의 히팅봉(261)과, 다수개의 열전도핀(262a)이 돌출 형성된 열분산수단(262)이 결합 형성되고,
상기 촉매필터부(250)는 단일벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브, 활성탄, 그래핀, 제올라이트 중 어느 하나에 해당하는 흡착제와, 백금, 파라듐, 금속산화물 중 어느 하나에 해당하는 촉매류가 충진되어 촉매반응을 통해 흡착제에 포집된 유해성분을 제거하는 것이며,
상기 살균수공급부(280)는 살균수분사노즐(281)과, 살균수저수조(282)와, 순환펌프(283)를 포함하여 구성되고,.
상기 자외선살균부(290)는 내부공간을 길이 방향으로 다수 분할하는 공간분할격벽(291)과, 상기 공간분할격벽(291)에 설치되는 다수의 자외선LED(292)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치.The method according to claim 1,
The heating means 260 is formed with at least one heating rod 261 capable of maintaining a temperature condition of 120 to 200 ° C and a heat dissipating means 262 having a plurality of thermally conductive fins 262a protruded thereon,
The catalytic filter unit 250 may include an adsorbent corresponding to one of single-walled carbon nanotubes, multi-walled carbon nanotubes, activated carbon, graphene, and zeolite, and catalysts corresponding to one of platinum, palladium, And the harmful components captured by the adsorbent are removed through a catalytic reaction,
The sterilizing water supply unit 280 includes a sterilizing water spray nozzle 281, a sterilizing water reservoir 282, and a circulation pump 283.
The ultraviolet sterilizing unit 290 includes a space division barriers 291 for dividing the internal space into a plurality of lengthwise spaces and a plurality of ultraviolet LEDs 292 installed on the space division barriers 291 Air purifier with VOC gas removal function at semiconductor production site.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150169054A KR101832849B1 (en) | 2015-11-30 | 2015-11-30 | Toxic gas removal device automatically |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150169054A KR101832849B1 (en) | 2015-11-30 | 2015-11-30 | Toxic gas removal device automatically |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20170063088A true KR20170063088A (en) | 2017-06-08 |
| KR101832849B1 KR101832849B1 (en) | 2018-02-27 |
Family
ID=59221359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020150169054A KR101832849B1 (en) | 2015-11-30 | 2015-11-30 | Toxic gas removal device automatically |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101832849B1 (en) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108999275A (en) * | 2018-07-04 | 2018-12-14 | 合肥欧语自动化有限公司 | A kind of Intellectualized sewage water drainage system |
| KR20190071327A (en) * | 2017-12-14 | 2019-06-24 | 한국생산기술연구원 | Sensor material deposited with a metal oxide and gas sensors including the same |
| KR20190128951A (en) * | 2018-05-09 | 2019-11-19 | (주)평화엔지니어링 | Movable emergency harmful chemical gas exhausting system |
| KR20200021236A (en) * | 2018-08-20 | 2020-02-28 | 주식회사 칸필터 | Air purifying apparatus |
| KR20200051492A (en) * | 2018-11-02 | 2020-05-13 | 디에이에스 인바이런멘탈 엑스퍼트 게엠베하 | Apparatus and method for wet cleaning a gas stream |
| KR102319167B1 (en) * | 2021-03-26 | 2021-10-29 | 국방과학연구소 | Purification module and helmet comprising the same |
| KR20210131158A (en) * | 2020-04-23 | 2021-11-02 | 주식회사 칸필터 | An air purifying device |
| CN114887087A (en) * | 2022-05-05 | 2022-08-12 | 上海甄徽网络科技发展有限公司 | Indoor mobile robot with ultraviolet disinfection function |
| KR102501961B1 (en) * | 2021-10-07 | 2023-02-21 | 코아텍주식회사 | Adsorbent Hazardous Gas Treatment Device Sealed Damper |
| US11885527B2 (en) | 2018-08-20 | 2024-01-30 | Khanfilter, Inc. | Air purification device |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102241806B1 (en) | 2018-11-13 | 2021-04-19 | 한국생산기술연구원 | Self-heating flexible device based on textile for volatile organic compound removal and manufacturing method thereof |
| KR20220125084A (en) | 2021-03-04 | 2022-09-14 | 삼성전자주식회사 | filter and filtering system including the same |
| KR102600090B1 (en) * | 2023-06-15 | 2023-11-07 | 윤현수 | Cylinder Structure Fixed Dust Collector |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005034708A (en) * | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Sefutetsuku:Kk | Treatment/removal device for carbon monoxide and others |
| KR101543364B1 (en) * | 2014-04-09 | 2015-08-21 | 이엠씨(주) | Toxic gas removal device automatically |
-
2015
- 2015-11-30 KR KR1020150169054A patent/KR101832849B1/en active IP Right Grant
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190071327A (en) * | 2017-12-14 | 2019-06-24 | 한국생산기술연구원 | Sensor material deposited with a metal oxide and gas sensors including the same |
| KR20190128951A (en) * | 2018-05-09 | 2019-11-19 | (주)평화엔지니어링 | Movable emergency harmful chemical gas exhausting system |
| CN108999275A (en) * | 2018-07-04 | 2018-12-14 | 合肥欧语自动化有限公司 | A kind of Intellectualized sewage water drainage system |
| KR20200021236A (en) * | 2018-08-20 | 2020-02-28 | 주식회사 칸필터 | Air purifying apparatus |
| US11885527B2 (en) | 2018-08-20 | 2024-01-30 | Khanfilter, Inc. | Air purification device |
| KR20200051492A (en) * | 2018-11-02 | 2020-05-13 | 디에이에스 인바이런멘탈 엑스퍼트 게엠베하 | Apparatus and method for wet cleaning a gas stream |
| KR20210131158A (en) * | 2020-04-23 | 2021-11-02 | 주식회사 칸필터 | An air purifying device |
| KR102319167B1 (en) * | 2021-03-26 | 2021-10-29 | 국방과학연구소 | Purification module and helmet comprising the same |
| KR102501961B1 (en) * | 2021-10-07 | 2023-02-21 | 코아텍주식회사 | Adsorbent Hazardous Gas Treatment Device Sealed Damper |
| CN114887087A (en) * | 2022-05-05 | 2022-08-12 | 上海甄徽网络科技发展有限公司 | Indoor mobile robot with ultraviolet disinfection function |
| CN114887087B (en) * | 2022-05-05 | 2023-08-18 | 上海甄徽网络科技发展有限公司 | Indoor mobile robot with ultraviolet disinfection function |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101832849B1 (en) | 2018-02-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101832849B1 (en) | Toxic gas removal device automatically | |
| CN1317040C (en) | Air decontamination devices | |
| JP5174823B2 (en) | Air purifier | |
| US20040047776A1 (en) | Mobile air decontamination method and device | |
| ES2661740T3 (en) | Method and device for cleaning air | |
| WO2007022703A1 (en) | A water-spraying air purifying apparatus and the purifying process thereof | |
| KR20190024390A (en) | Air purifier using ceramic filter and photocatalyst | |
| KR101663962B1 (en) | Air purifying device of air cleaner | |
| JP2008302348A (en) | Exhaust gas treatment monitor/monitoring method, exhaust gas treating device | |
| KR20170063083A (en) | Toxic gas removal device automatically | |
| CA2676654C (en) | Air decontamination system | |
| KR101463216B1 (en) | Apparatus for omitting bad smell having improved efficiency | |
| KR100812265B1 (en) | The air purification apparatus with plasma lamp | |
| KR100848969B1 (en) | Ozone-cleaning heat recovery ventilation system and apparatus therein | |
| KR101373177B1 (en) | A air cleaner using pressurization | |
| KR101806404B1 (en) | Air purification and offensive odor treatment system | |
| KR101467820B1 (en) | Air Cleaner having a Bactericidal Function | |
| KR20110007266U (en) | Wellbeing air washer clearing | |
| KR101700431B1 (en) | Control apparatus and method for hybrid sterilizing system with cluster ionizer and water catch | |
| KR100564648B1 (en) | Circulating Range Hood equipped with Air Cleaner | |
| KR102293419B1 (en) | Eco-friendly ventilation device | |
| CN103657325A (en) | Hospital medical waste gas treatment and safe discharge system | |
| JP5290782B2 (en) | Air pollutant removal equipment in circulation type ventilation system | |
| KR101379414B1 (en) | Filter for air cleaning | |
| KR100976169B1 (en) | Air sterilizing system |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |